JP2008230992A - PHOSPHORUS-CONTAINING SULFONE, SULFOXIDE DERIVATIVE AND METHOD FOR PRODUCING PHOSPHORUS-CONTAINING alpha-KETO ACID USING THE SAME AS INTERMEDIATE - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、除草剤L−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−ブタン酸(以下L−AMPBと略記する)の製造中間体である4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製法に関するものである。 The present invention relates to 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2, which is an intermediate for producing the herbicide L-2-amino-4- (hydroxymethylphosphinyl) -butanoic acid (hereinafter abbreviated as L-AMPB). -Relates to the production of oxobutanoic acid.
4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸は除草活性を有するL−AMPBの合成中間体であることはすでに知られている(特開平1−27485(特許文献1)、特開2003−528572(特許文献2)、特開昭59−184196(特許文献3)、J. Org. Chem., 56,1783-1788(1991)(非特許文献1))。 4- (Hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid is already known to be a synthetic intermediate of L-AMPB having herbicidal activity (JP-A-1-27485 (Patent Document 1), JP-A-2003-2003). -528572 (patent document 2), JP-A-59-184196 (patent document 3), J. Org. Chem., 56,1783-1788 (1991) (non-patent document 1)).
現在までに4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製法としては(アルコキシメチルホスフィニル)−プロピオン酸エステルを経由するベイリーらの方法(特開昭56−92897(特許文献4))が知られているだけであり、より効率の良い製法の確立が望まれている。 To date, as a method for producing 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid, the method of Bailey et al. Via (alkoxymethylphosphinyl) -propionic acid ester (Japanese Patent Laid-Open No. 56-92897 (Patent Document 4) )) Is only known, and establishment of a more efficient production method is desired.
活性メチレンのスルファニル化反応はすでに知られているがリンのような極性な置換基を有する化合物への反応に応用された例は報告されていない(Synthesis, 420 (1997)(非特許文献2))。 The sulfanylation reaction of active methylene is already known, but no example of application to a reaction with a compound having a polar substituent such as phosphorus has been reported (Synthesis, 420 (1997) (Non-patent Document 2). ).
有機硫黄化合物を利用したα−ケト酸の合成法としてはジチアンを用いた合成法が知られている(J. Org. Chem., 28, 961 (1963)(非特許文献3)、J. Org. Chem., 36, 3553 (1971)(非特許文献4)、J. Org. Chem., 37, 505 (1972)(非特許文献5))。しかし、リンのような極性な置換基を有する化合物への反応に応用された例は報告されていない。さらにスルホン誘導体を用いたα−ケト酸の合成法はほとんど報告がない。
本発明は、除草剤として有用であるL−AMPBの製造中間体である4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸を効率良く製造する方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for efficiently producing 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid, which is an intermediate for producing L-AMPB, which is useful as a herbicide.
本発明者は、スルホニル酢酸エステル誘導体がメチルビニルホスフィン酸エステルに塩基存在下、容易にマイケル付加反応し、2−スルホニル−4−(置換オキシメチルホスフィニル)−ブタン酸エステルを生成することを見出し、さらに得られた誘導体のα−スルファニル化反応を検討した結果、塩基存在下、チオスルホネートと反応させることにより容易に2−スルホニル−2−スルファニル−4−(置換オキシメチルホスフィニル)−ブタン酸エステルが生成することを見出した。次いで酸加水分解することにより4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸が効率良く得られることを見出し、本発明を完成した。 The present inventor has found that a sulfonylacetate derivative easily undergoes a Michael addition reaction to methylvinylphosphinate in the presence of a base to produce 2-sulfonyl-4- (substituted oxymethylphosphinyl) -butanoate. As a result of examining the α-sulfanylation reaction of the heading and the obtained derivative, 2-sulfonyl-2-sulfanyl-4- (substituted oxymethylphosphinyl)-was easily reacted with thiosulfonate in the presence of a base. It was found that butanoic acid ester was formed. Subsequently, it was found that 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid can be efficiently obtained by acid hydrolysis, and the present invention was completed.
すなわち本発明は、以下の通りである。 That is, the present invention is as follows.
本発明の第1の態様としては、4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製造中間体として有用な次式(3)で表される化合物を提供するものである。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a compound represented by the following formula (3) that is useful as an intermediate for producing 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid.
[式中、R1は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表し、
R2は、C1−4アルキル基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表し、
R3は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表し、nは、1あるいは2の整数を表す]
第2の態様としては、次式(5)で表される化合物を提供するものである。
[Wherein R 1 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group;
R 2 represents a C 1-4 alkyl group, an arylmethyl group or a substituted arylmethyl group,
R 3 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group, and n represents an integer of 1 or 2.
As a 2nd aspect, the compound represented by following formula (5) is provided.
[式中、R1、R2、R3およびnは、前記式(3)で定義したことと同一の意味を表し、
R4は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す]
また、本発明は、前記式(3)の化合物を製造する方法であって、次式(1)
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and n represent the same meaning as defined in the formula (3),
R 4 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group]
Moreover, this invention is a method of manufacturing the compound of said Formula (3), Comprising: following Formula (1)
[式中、R1、R2およびnは、式(3)で定義したことと同一の意味を表す]で表される化合物を塩基の存在下、次式(2) [Wherein R 1 , R 2 and n represent the same meaning as defined in formula (3)], in the presence of a base, the compound represented by the following formula (2)
[式中、R3は、式(3)で定義したことと同一の意味を表す]と反応させることによって式(3)の化合物を製造する、方法を提供するものである。 [Wherein R 3 represents the same meaning as defined in formula (3)] to provide a method for producing a compound of formula (3) by reaction.
また、別の本発明は、前記式(5)の化合物を製造する方法であって、次式(3) Another aspect of the present invention is a method for producing the compound of the formula (5), which is represented by the following formula (3):
[式中、R1、R2、R3およびnは、前記式(3)で定義したことと同一の意味を表す]で表される化合物と次式(4) [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and n represent the same meaning as defined in the above formula (3)] and the following formula (4)
〔式中、R4は、式(5)で定義したことと同一の意味を表し、
R5は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す〕で表される化合物を塩基の存在下に反応させることによって式(5)化合物を製造する、方法を提供するものである。
[Wherein R 4 represents the same meaning as defined in formula (5);
R 5 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group], and a compound represented by the formula (5) is reacted with each other in the presence of a base. To provide a method of manufacturing
さらにまた、本発明は、次式(6) Furthermore, the present invention provides the following formula (6)
で表される4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製造方法であって次式(5) A process for producing 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid represented by the following formula (5)
[式中、R1、R2、R3およびnは、前記式(3)で定義したことと同一の意味を表し、R4は、前記式(5)で定義したことと同一の意味を表す]で表される化合物を酸加水分解し、さらに水酸基およびアミノ基部分を脱保護することによる、方法を提供するものである。 [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and n represent the same meaning as defined in the above formula (3), and R 4 represents the same meaning as defined in the above formula (5). A method is provided by acid-hydrolyzing a compound represented by the above formula and further deprotecting a hydroxyl group and an amino group moiety.
本発明の中間体及びそれらを用いた製造法により除草剤として有用であるL−AMPBの製造中間体である4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸を製造することができる。本発明の製造法は、従来の製造法に比べて安価に、効率良く合成できる方法として優れている。 4- (Hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid, which is an intermediate for producing L-AMPB, which is useful as a herbicide, can be produced by the intermediates of the present invention and the production method using them. The production method of the present invention is excellent as a method that can be synthesized efficiently at a lower cost than conventional production methods.
式(1)〜式(5)で表される化合物においてR1、R2、R3、R4、R5で示される基について説明する。 In the compounds represented by formula (1) to formula (5), groups represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 will be described.
R1、R2、R3、R4、およびR5が表す基または基上のC1−4アルキル基は、炭素数1〜4の直鎖または分岐状のアルキル基を意味し、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などが挙げられる。 The C 1-4 alkyl group on the group or group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 means a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 2-butyl group, isobutyl group and t-butyl group.
R1、R2、R3、R4、およびR5が表す基または基上のアリール基としてはフェニル基、または、ナフチル基などが挙げられる。 Examples of the group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 or the aryl group on the group include a phenyl group and a naphthyl group.
R1、R2、R3、R4、およびR5が表すアリールメチル基とは、1〜3個のアリール基によって置換されているメチル基を意味し、より具体的にはベンジル基、ジフェニルメチル基、フルオレニル基、トリフェニルメチル基などが挙げられる。 The arylmethyl group represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 means a methyl group substituted with 1 to 3 aryl groups, and more specifically, a benzyl group, diphenyl Examples thereof include a methyl group, a fluorenyl group, and a triphenylmethyl group.
R1、R3、R4、およびR5が表す基または基上の置換アリール基とは、そのベンゼン環上の1以上の水素原子、好ましくは1〜3個の水素原子が置換されていることを意味し、具体的な置換基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基などの直鎖または分岐状のC1−4アルキル基、フッ素原子、クロル原子、ブロム原子などのハロゲン原子、メトキシ基などのC1−4アルコキシ基が挙げられる。R2が置換アリール基を表す場合、その置換基は、1以上のメトキシ基であることが好ましい。 The group represented by R 1 , R 3 , R 4 , and R 5 or the substituted aryl group on the group is substituted with one or more hydrogen atoms, preferably 1 to 3 hydrogen atoms, on the benzene ring. Specific examples of the substituent include linear or branched groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, 2-butyl group, isobutyl group, and t-butyl group. And a C 1-4 alkyl group, a halogen atom such as a fluorine atom, a chloro atom and a bromine atom, and a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group. When R 2 represents a substituted aryl group, the substituent is preferably one or more methoxy groups.
式(1)の化合物において、R1は、C1−4アルキル基、アリール基および置換アリール基が好ましく、R2は、C1−4アルキル基、アリールメチル基および置換アリールメチル基が好ましく、nは、2が好ましい。 In the compound of the formula (1), R 1 is preferably a C 1-4 alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group, and R 2 is preferably a C 1-4 alkyl group, an arylmethyl group and a substituted arylmethyl group, n is preferably 2.
式(1)で表される化合物の具体例としては、
メチルスルホニル酢酸メチルエステル、
エチルスルホニル酢酸エチルエステル、
フェニルスルホニル酢酸メチルエステル、
フェニルスルホニル酢酸エチルエステル、
p−トルエンスルホニル酢酸メチルエステル、
p−トルエンスルホニル酢酸エチルエステル、
メチルスルホニル酢酸ベンジルエステル、
エチルスルホニル酢酸ベンジルエステル、
フェニルスルホニル酢酸ベンジルエステル、
フェニルスルホニル酢酸ベンジルエステル、
p−トルエンスルホニル酢酸ベンジルエステル
p−トルエンスルホニル酢酸ベンジルエステル
メチルスルフィニル酢酸メチルエステル、
エチルスルフィニル酢酸エチルエステル、
フェニルスルフィニル酢酸メチルエステル、
フェニルスルフィニル酢酸エチルエステル、
p−トルエンスフィニル酢酸メチルエステル、
p−トルエンスルフィニル酢酸エチルエステル、
メチルスルフィニル酢酸ベンジルエステル、
エチルスルフィニル酢酸ベンジルエステル、
フェニルスルフィニル酢酸ベンジルエステル、
フェニルスルフィニル酢酸ベンジルエステル、
p−トルエンスルフィニル酢酸ベンジルエステルまたは、
p−トルエンスルフィニル酢酸ベンジルエステル
が挙げられ、好ましくは、フェニルスルホニル酢酸エチルエステルである。
Specific examples of the compound represented by the formula (1) include
Methylsulfonylacetic acid methyl ester,
Ethylsulfonylacetic acid ethyl ester,
Phenylsulfonylacetic acid methyl ester,
Phenylsulfonylacetic acid ethyl ester,
p-toluenesulfonylacetic acid methyl ester,
p-toluenesulfonylacetic acid ethyl ester,
Methylsulfonylacetic acid benzyl ester,
Ethylsulfonylacetic acid benzyl ester,
Phenylsulfonylacetic acid benzyl ester,
Phenylsulfonylacetic acid benzyl ester,
p-toluenesulfonylacetic acid benzyl ester p-toluenesulfonylacetic acid benzyl ester methylsulfinylacetic acid methyl ester,
Ethyl sulfinyl acetate ethyl ester,
Phenylsulfinyl acetic acid methyl ester,
Phenylsulfinyl acetic acid ethyl ester,
p-toluenesulfinyl acetic acid methyl ester,
p-toluenesulfinyl acetic acid ethyl ester,
Methylsulfinyl acetic acid benzyl ester,
Ethyl sulfinyl acetic acid benzyl ester,
Phenylsulfinyl acetic acid benzyl ester,
Phenylsulfinyl acetic acid benzyl ester,
p-toluenesulfinyl acetic acid benzyl ester, or
p-Toluenesulfinyl acetic acid benzyl ester is exemplified, and phenylsulfonylacetic acid ethyl ester is preferable.
式(1)の化合物は、ActaChem. Scand., B32, 193, (1978)、Synthesis, 420 (1997)、Tetrahedron lett., 3997 (1974)、Tetrahedron lett., 2841 (1975)、Chem. Rev., 78, 363 (1978)に記載されている方法により合成することができる。 Compounds of formula (1) are described in ActaChem. Scand., B32, 193, (1978), Synthesis, 420 (1997), Tetrahedron lett., 3997 (1974), Tetrahedron lett., 2841 (1975), Chem. Rev. , 78, 363 (1978).
式(2)の化合物において、R3は、C1−4アルキル基が好ましい。式(2)で表される化合物の具体例としては、
メチルビニルホスフィン酸メチルエステル、
メチルビニルホスフィン酸エチルエステル、
メチルビニルホスフィン酸プロピルエステル、
メチルビニルホスフィン酸イソプロピルエステル、
メチルビニルホスフィン酸ブチルエステル、
メチルビニルホスフィン酸フェニルエステルまたは、
メチルビニルホスフィン酸ベンジルエステルが挙げられる。
In the compound of formula (2), R 3 is preferably a C 1-4 alkyl group. Specific examples of the compound represented by the formula (2) include
Methyl vinylphosphinic acid methyl ester,
Methyl vinylphosphinic acid ethyl ester,
Methyl vinylphosphinic acid propyl ester,
Methyl vinylphosphinic acid isopropyl ester,
Methyl vinylphosphinic acid butyl ester,
Methyl vinylphosphinic acid phenyl ester or
And methyl vinylphosphinic acid benzyl ester.
式(2)の化合物は、(Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 20, 223 (1981)、Bull. Chem. Soc. Japan, 60, 1761 (1987))に記載されている方法により合成することができる。 The compound of formula (2) was synthesized by the method described in (Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 20, 223 (1981), Bull. Chem. Soc. Japan, 60, 1761 (1987)). can do.
式(3)の化合物において、R1は、C1−4アルキル基、アリール基および置換アリール基が好ましく、R2は、C1−4アルキル基、アリールメチル基および置換アリールメチル基が好ましく、R3は、C1−4アルキル基が好ましく、nは、2が好ましい。 In the compound of formula (3), R 1 is preferably a C 1-4 alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group, and R 2 is preferably a C 1-4 alkyl group, an arylmethyl group and a substituted arylmethyl group, R 3 is preferably a C 1-4 alkyl group, and n is preferably 2.
式(3)で表される化合物の具体例としては、 Specific examples of the compound represented by the formula (3) include
が挙げられる。具体例中、Phはフェニル基を表す。 Is mentioned. In specific examples, Ph represents a phenyl group.
式(4)の化合物においてR4はC1−4アルキル基、フェニル基およびベンジル基が好ましく、R5はC1−4アルキル基、フェニル基が好ましい。 In the compound of formula (4), R 4 is preferably a C 1-4 alkyl group, a phenyl group or a benzyl group, and R 5 is preferably a C 1-4 alkyl group or a phenyl group.
式(4)で表される化合物の具体例としては、
S-メチル メチルチオスルホネート、
S-エチル メチルチオスルホネート、
S-フェニル メチルチオスルホネート、
S-ベンジル メチルチオスルホネート、
S-メチル エチルチオスルホネート、
S-メチル フェニルチオスルホネート、
S-メチル ベンジルオスルホネート、
S-エチル フェニルチオスルホネート、
S-フェニル フェニルオスルホネートまたは、
S-ベンジル フェニルオスルホネートが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the formula (4) include
S-methyl methylthiosulfonate,
S-ethyl methylthiosulfonate,
S-phenyl methylthiosulfonate,
S-benzyl methylthiosulfonate,
S-methyl ethyl thiosulfonate,
S-methyl phenylthiosulfonate,
S-methyl benzyl osulfonate,
S-ethyl phenylthiosulfonate,
S-phenyl phenylosulfonate or
S-benzyl phenylosulfonate is mentioned.
式(5)の化合物においてR1は、C1−4アルキル基、アリール基および置換アリール基が好ましく、R2は、C1−4アルキル基、アリールメチル基および置換アリールメチル基が好ましく、R3は、C1−4アルキル基が好ましく、R4は、C1−4アルキル基、フェニル基およびベンジル基が好ましく、nは、2が好ましい。 In the compound of formula (5), R 1 is preferably a C 1-4 alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group, and R 2 is preferably a C 1-4 alkyl group, an arylmethyl group and a substituted arylmethyl group, 3 is preferably a C 1-4 alkyl group, R 4 is preferably a C 1-4 alkyl group, a phenyl group and a benzyl group, and n is preferably 2.
式(4)で表される化合物の具体例としては、 Specific examples of the compound represented by the formula (4) include
が挙げられる。具体例中、Phはフェニル基を表す。 Is mentioned. In specific examples, Ph represents a phenyl group.
式(1)の化合物と式(2)の化合物から式(3)の化合物を製造する方法において用いられる溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性有機溶媒または、メタノールなどの炭素数1〜4のアルカノール溶媒が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン、トルエン、N、N−ジメチルホルムアミドである。 Solvents used in the method for producing the compound of formula (3) from the compound of formula (1) and the compound of formula (2) include halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform, and aromatics such as benzene and toluene. Aromatic hydrocarbon solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran, dimethoxyethane and dioxane, aprotic polar organic solvents such as N, N-dimethylformamide and dimethyl sulfoxide, or alkanol solvents having 1 to 4 carbon atoms such as methanol Preferred are tetrahydrofuran, toluene, N, N-dimethylformamide.
塩基としては水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミドが挙げられ、好ましくは水素化ナトリウムである。塩基の使用量は式(1)化合物の量を基準にして1〜1.2当量用いる。式(2)で表される化合物の使用量は好ましくは、式(1)の化合物の量を基準にしてその等モルを用いる。反応温度としては0〜50℃で、好ましくは10〜30℃の範囲で行われる。反応時間は通常10分〜2時間、好ましくは30分〜1時間の範囲で行われる。 Examples of the base include sodium hydride, potassium hydride, sodium methoxide, potassium t-butoxide, and lithium diisopropylamide, preferably sodium hydride. The amount of the base used is 1 to 1.2 equivalents based on the amount of the compound of formula (1). The amount of the compound represented by formula (2) is preferably used in an equimolar amount based on the amount of the compound of formula (1). The reaction temperature is 0 to 50 ° C., preferably 10 to 30 ° C. The reaction time is usually 10 minutes to 2 hours, preferably 30 minutes to 1 hour.
式(3)の化合物と式(4)の化合物から式(5)の化合物を製造する方法において用いられる溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性有機溶媒または、メタノールなどの炭素数1〜4のアルカノール溶媒が挙げられ、好ましくは、ジメチルスルホキシドである。塩基としては水素化ナトリウム、水素化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミドが挙げられ、好ましくは水素化ナトリウムである。塩基の使用量は式(3)化合物の量を基準にして1〜1.2当量用いる。式(4)で表される化合物の使用量は好ましくは、式(3)の化合物の量を基準にしてその等モルを用いる。反応温度としては0〜50℃で、好ましくは10〜30℃の範囲で行われる。反応時間は通常10分〜2時間、好ましくは30分〜1時間の範囲で行われる。 Solvents used in the method for producing the compound of formula (5) from the compound of formula (3) and the compound of formula (4) include halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and chloroform, and aromatics such as benzene and toluene. Aromatic hydrocarbon solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran, dimethoxyethane and dioxane, aprotic polar organic solvents such as N, N-dimethylformamide and dimethyl sulfoxide, or alkanol solvents having 1 to 4 carbon atoms such as methanol Preferably, it is dimethyl sulfoxide. Examples of the base include sodium hydride, potassium hydride, sodium methoxide, potassium t-butoxide, and lithium diisopropylamide, preferably sodium hydride. The amount of the base used is 1 to 1.2 equivalents based on the amount of the compound of formula (3). The amount of the compound represented by the formula (4) is preferably used in an equimolar amount based on the amount of the compound of the formula (3). The reaction temperature is 0 to 50 ° C., preferably 10 to 30 ° C. The reaction time is usually 10 minutes to 2 hours, preferably 30 minutes to 1 hour.
式(5)の化合物から酸加水分解により化合物(6)を製造する方法において用いられる酸としては塩酸、硫酸が挙げられ、溶媒としては水が挙げられる。酸の濃度は通常、塩酸を用いる場合には6〜12Nであり、硫酸を用いる場合には2〜18Nの範囲である。反応温度は20〜150℃、好ましくは50〜120℃の範囲であり、反応時間は2〜12時間、好ましくは4〜8時間の範囲である。 Examples of the acid used in the method for producing the compound (6) by acid hydrolysis from the compound of the formula (5) include hydrochloric acid and sulfuric acid, and examples of the solvent include water. The concentration of the acid is usually 6 to 12N when hydrochloric acid is used, and 2 to 18N when sulfuric acid is used. The reaction temperature is in the range of 20 to 150 ° C., preferably 50 to 120 ° C., and the reaction time is in the range of 2 to 12 hours, preferably 4 to 8 hours.
化合物(6)は、例えばイオン交換樹脂(BIO-RAD(登録商標) Ag 1X2、溶離液1%トリフルオロ酢酸水溶液)を用いて単離精製することができる。 Compound (6) can be isolated and purified using, for example, an ion exchange resin (BIO-RAD (registered trademark) Ag 1X2, eluent 1% trifluoroacetic acid aqueous solution).
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。フェニルスルホニル酢酸エチルは東京化成から市販されているものを用いた。メチルビニルホスフィン酸メチルエステルはBull. Chem. Soc. Japan, 60, 1761 (1987)に記載されている方法に従って合成した。S−メチル メタンチオスルホネートはアルドリッチ社から市販されているものを用いた。 EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited to these Examples. Ethyl phenylsulfonyl acetate was commercially available from Tokyo Kasei. Methyl vinylphosphinic acid methyl ester was synthesized according to the method described in Bull. Chem. Soc. Japan, 60, 1761 (1987). S-methyl methanethiosulfonate was commercially available from Aldrich.
実施例1 エチル 2−フェニルスルホニル−4−(メトキシ(メチル)ホスフィニル)−ブタノエートの製造
60%水素化ナトリウム90mgをテトラヒドロフラン6mlに懸濁させた溶液に、氷冷下、フェニルスルホニル酢酸エチル519mgを加え、室温で30分攪拌した。次いでメチルビニルホスフィン酸メチルエステル300mgを加え室温で15時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液0.8mlを加え溶媒を減圧濃縮した。残渣にクロロホルムを加えろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール20:1)にて精製し、標記化合物314mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.13 (t, J=7.0Hz); 1.13 (t, J=7.0Hz) (合わせて3H), 1.47 (d, J=13.6Hz); 1.48 (d, J=13.6Hz)(合わせて3H), 1.78-1.88 (2H., m), 2.26-2.43 (2H, m), 3.69 (d, J=11.0Hz); 3.70 (d, J=10.7Hz)(合わせて3H), 4.05-4.15 (3H, m), 7.57-7.61 (2H, m), 7.68-7.73 (1H, m), 7.88-7.91 (2H, m).
APIMASS:m/z 349 [M+H]+.
Example 1 Preparation of ethyl 2-phenylsulfonyl-4- (methoxy (methyl) phosphinyl) -butanoate To a solution of 90 mg of 60% sodium hydride suspended in 6 ml of tetrahydrofuran, 519 mg of ethyl phenylsulfonylacetate was added under ice cooling. And stirred at room temperature for 30 minutes. Next, 300 mg of methyl vinylphosphinic acid methyl ester was added and stirred at room temperature for 15 hours. To the reaction solution, 0.8 ml of a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the solvent was concentrated under reduced pressure. Chloroform was added to the residue and filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (chloroform: methanol 20: 1) to obtain 314 mg of the title compound.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.13 (t, J = 7.0 Hz); 1.13 (t, J = 7.0 Hz) (3H in total), 1.47 (d, J = 13.6 Hz); 1.48 (d, J = 13.6Hz) (3H combined), 1.78-1.88 (2H., M), 2.26-2.43 (2H, m), 3.69 (d, J = 11.0Hz); 3.70 (d, J = 10.7Hz) (adjusted 3H), 4.05-4.15 (3H, m), 7.57-7.61 (2H, m), 7.68-7.73 (1H, m), 7.88-7.91 (2H, m).
APIMASS: m / z 349 [M + H] + .
実施例2 エチル 2−メチルスルファニル−2−フェニルスルホニル−4−(メトキシ(メチル)ホスフィニル)−ブタノエートの製造
60%水素化ナトリウム32mgをジメチルスルホキサイド5mlに懸濁させた溶液に、実施例1で得た化合物250mgを加え、室温で30分攪拌した。次いでS−メチル メタンチオスルホネート109mgを加え室温で3.5時間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液0.4mlを加え溶媒を減圧濃縮した。残渣にクロロホルムを加えろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール20:1)にて精製し、標記化合物171mgを得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.18 (t, J=7.1Hz); 1.19 (t, J=7.1Hz) (合わせて3H), 1.52 (d, J=13.6Hz); 1.52 (d, J=13.6Hz)(合わせて3H), 1.84-1.87 (1H., m), 1.89-2.05 (1H, m), 2.27 (3H, s), 2.38-2.45 (1H, m), 2.71-2.80 (1H, m), 3.73 (d, J=10.9Hz); 3.73 (d, J=11.0Hz)(合わせて3H), 4.09-4.20 (2H, m), 7.54-7.58 (2H, m), 7.68-7.72 (1H, m), 7.92-7.94 (2H, m).
FABMASS:m/z 395 [M+H]+.
Example 2 Preparation of ethyl 2-methylsulfanyl-2-phenylsulfonyl-4- (methoxy (methyl) phosphinyl) -butanoate
To a solution obtained by suspending 32 mg of 60% sodium hydride in 5 ml of dimethyl sulfoxide, 250 mg of the compound obtained in Example 1 was added and stirred at room temperature for 30 minutes. Subsequently, 109 mg of S-methyl methanethiosulfonate was added and stirred at room temperature for 3.5 hours. To the reaction solution, 0.4 ml of a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, and the solvent was concentrated under reduced pressure. Chloroform was added to the residue and filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (chloroform: methanol 20: 1) to obtain 171 mg of the title compound.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 1.18 (t, J = 7.1 Hz); 1.19 (t, J = 7.1 Hz) (3H in total), 1.52 (d, J = 13.6 Hz); 1.52 (d, J = 13.6Hz) (3H combined), 1.84-1.87 (1H., M), 1.89-2.05 (1H, m), 2.27 (3H, s), 2.38-2.45 (1H, m), 2.71-2.80 (1H , m), 3.73 (d, J = 10.9Hz); 3.73 (d, J = 11.0Hz) (3H combined), 4.09-4.20 (2H, m), 7.54-7.58 (2H, m), 7.68-7.72 (1H, m), 7.92-7.94 (2H, m).
FABMASS: m / z 395 [M + H] + .
実施例3 4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製造
実施例2で得た化合物164mgを濃塩酸4.5mlに溶解し、6時間、加熱還流した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をBIO-RAD Ag1X2(1%トリフルオロ酢酸水溶液)にて精製し、標記化合物47mgを得た。
1H-NMR(DMSO-d6)δ:1.30 (3H, d, J=14.2Hz), 1.78 (2H, dt, J=14.2, 7.8Hz), 2.98 (2H, dt, J=10.2, 7.8Hz).
LCMASS:m/z 181 [M+H]+.
Example 3 Production of 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid 164 mg of the compound obtained in Example 2 was dissolved in 4.5 ml of concentrated hydrochloric acid and heated to reflux for 6 hours. The reaction solution was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was purified with BIO-RAD Ag1X2 (1% aqueous trifluoroacetic acid solution) to obtain 47 mg of the title compound.
1 H-NMR (DMSO-d 6 ) δ: 1.30 (3H, d, J = 14.2Hz), 1.78 (2H, dt, J = 14.2, 7.8Hz), 2.98 (2H, dt, J = 10.2, 7.8Hz ).
LCMASS: m / z 181 [M + H] + .
Claims (5)
[式中、R1は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表し、
R2は、C1−4アルキル基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表し、
R3は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表し、nは1あるいは2の整数を表す]。 Compound represented by the following formula (3):
[Wherein R 1 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group;
R 2 represents a C 1-4 alkyl group, an arylmethyl group or a substituted arylmethyl group,
R 3 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group, and n represents an integer of 1 or 2.
[式中、R1、R2、R3およびnは、請求項1に記載の式(3)で定義したことと同一の意味を表し、
R4は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す]。 Compound represented by the following formula (5):
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and n represent the same meaning as defined in formula (3) according to claim 1,
R 4 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group or a substituted arylmethyl group].
[式中、R1、R2およびnは、式(3)で定義したことと同一の意味を表す]で表される化合物を塩基の存在下、次式(2)
[式中、R3は、式(3)で定義したことと同一の意味を表す]と反応させることによって式(3)の化合物を製造する、方法。 A process for producing a compound of formula (3) according to claim 1, wherein
[Wherein R 1 , R 2 and n represent the same meaning as defined in formula (3)], in the presence of a base, the compound represented by the following formula (2)
[Wherein R 3 represents the same meaning as defined in formula (3)] to produce a compound of formula (3).
[式中、R1、R2、R3およびnは、請求項1に記載の式(3)で定義したことと同一の意味を表す]で表される化合物と次式(4)
〔式中、R4は、式(5)で定義したことと同一の意味を表し、
R5は、C1−4アルキル基、アリール基、置換アリール基、アリールメチル基または、置換アリールメチル基を表す〕で表される化合物を塩基の存在下に反応させることによって式(5)化合物を製造する、方法。 A process for producing a compound of formula (5) according to claim 2, comprising the following formula (3)
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and n represent the same meaning as defined in formula (3) according to claim 1] and the following formula (4)
[Wherein R 4 represents the same meaning as defined in formula (5);
R 5 represents a C 1-4 alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an arylmethyl group, or a substituted arylmethyl group], and a compound represented by the formula (5) is reacted with each other in the presence of a base. Manufacturing method.
で表される4−(ヒドロキシメチルホスフィニル)−2−オキソブタン酸の製造方法であって次式(5)
[式中、R1、R2、R3およびnは、請求項1に記載の式(3)で定義したことと同一の意味を表し、R4は、請求項2に記載の式(5)で定義したことと同一の意味を表す]で表される化合物を酸加水分解し、さらに水酸基およびアミノ基部分を脱保護することによる、方法。 Formula (6)
A process for producing 4- (hydroxymethylphosphinyl) -2-oxobutanoic acid represented by the following formula (5)
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 and n represent the same meaning as defined in the formula (3) described in claim 1, and R 4 represents the formula (5 described in claim 2). Represents the same meaning as defined in the above)] by hydrolyzing the compound represented by [3] and further deprotecting the hydroxyl group and amino group moiety.
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JPS58131993A (en) * | 1982-01-29 | 1983-08-06 | Meiji Seika Kaisha Ltd | Preparation of "(3-amino-3-carboxy)-popyl-1"-phosphinic acid derivative |
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