JP2008225166A - Optical film and method for manufacturing the same, polarizing plate and method for manufacturing the same, and liquid crystal display device - Google Patents

Optical film and method for manufacturing the same, polarizing plate and method for manufacturing the same, and liquid crystal display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film without causing deformation failure of an optical film raw fabric such as a horseback failure, a protrusion failure even when being stored for a long period of time period, and to provide a polarizing plate using the optical film and a liquid crystal display device using the polarizing plate. <P>SOLUTION: In the optical film having a cellulose ester, the optical film characteristically contains a compound represented by a general formula (1). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学フィルム、その製造方法、偏光板、その製造方法及び液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate, a manufacturing method thereof, and a liquid crystal display device.

近年、ノートパソコンの薄型軽量化、大型画面化、高精細化の開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置用の光学フィルムもますます薄膜化、広幅化、高品質化の要求が強くなってきている。   In recent years, notebook computers have been developed to be thinner and lighter, larger screens, and higher definition. Along with this, there has been an increasing demand for thinner, wider and higher quality optical films for liquid crystal display devices.

ところで、液晶表示装置用光学フィルムとしての偏光板保護フィルムには、一般的にセルロースエステルを用いた光学フィルムが広く使用されている。   By the way, in general, an optical film using cellulose ester is widely used as a polarizing plate protective film as an optical film for a liquid crystal display device.

これらの光学フィルムは通常巻芯に巻かれて光学フィルム原反となり、保存、輸送されている。   These optical films are usually wound around a core to form an optical film, which is stored and transported.

これらの光学フィルムは、これまで、専ら溶液流延法によって製造されてきた。溶液流延法とは、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延して光学フィルム形状を得た後、溶媒を蒸発・乾燥させて光学フィルムを得るといった製膜方法である。溶液流延法で製膜した光学フィルムは平面性が高いため、これを用いてムラのない高画質な液晶ディスプレイを得ることができる。   Until now, these optical films have been produced exclusively by the solution casting method. The solution casting method is a film forming method in which a solution in which cellulose ester is dissolved in a solvent is cast to obtain an optical film shape, and then the solvent is evaporated and dried to obtain an optical film. Since an optical film formed by the solution casting method has high flatness, a high-quality liquid crystal display without unevenness can be obtained using this optical film.

しかし、溶液流延法は多量の有機溶媒を必要とし、環境負荷が大きいことも課題となっていた。光学フィルムは、その溶解特性から、環境負荷の大きいハロゲン系溶媒を用いて製膜されているため、特に溶剤使用量の削減が求められており、溶液流延製膜によって光学フィルムを増産することは困難となってきている。   However, the solution casting method requires a large amount of an organic solvent and has a problem of a large environmental load. Because optical films are formed using halogen-based solvents with high environmental impact due to their dissolution characteristics, reduction of solvent usage is particularly required, and production of optical films should be increased by solution casting film formation. Has become difficult.

また、光学フィルム内部に残存する溶媒を除去しなければならないため、乾燥ライン、乾燥エネルギー、及び蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、製造ラインへの設備投資及び製造コストが膨大になっており、これらを削減することも重要な課題となっている。   In addition, since the solvent remaining inside the optical film must be removed, the capital investment and production cost for the production line such as the drying line, the drying energy, and the recovery and regeneration device for the evaporated solvent are enormous, Reducing these has become an important issue.

また、一方、セルロースエステルにヒンダードフェノール酸化防止剤、ヒンダードアミン光安定剤、酸掃去剤をある添加量比で加えることによって、分光特性、機械特性の改善を図った技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。可塑剤として多価アルコールエステル系可塑剤を用いる技術(例えば、特許文献2参照)、さらに多価アルコールエステル系可塑剤を特定の構造に限定した技術(例えば、特許文献3参照)も公開されている。また、有機材料の劣化を防止する技術として、各種安定剤と亜燐酸エステル類を含有する安定剤組成物が知られている(例えば、特許文献4参照)。   On the other hand, a technique for improving spectral characteristics and mechanical characteristics by adding a hindered phenol antioxidant, a hindered amine light stabilizer, and an acid scavenger to the cellulose ester at a certain addition amount ratio is disclosed ( For example, see Patent Document 1). A technique using a polyhydric alcohol ester plasticizer as a plasticizer (for example, see Patent Document 2) and a technique for limiting the polyhydric alcohol ester plasticizer to a specific structure (for example, see Patent Document 3) are also disclosed. Yes. Further, as a technique for preventing the deterioration of organic materials, a stabilizer composition containing various stabilizers and phosphites is known (for example, see Patent Document 4).

しかし、いずれにしても光学用途の光学フィルムについては、その製造工程での溶媒使用に伴う製造負荷、設備負荷があり、また光学特性、機械特性も不十分な状態にある。   However, in any case, an optical film for optical use has a production load and equipment load associated with the use of a solvent in the production process, and the optical properties and mechanical properties are insufficient.

近年、銀塩写真用あるいは偏光子保護フィルム用として、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行なわれているが、セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、かつ、ガラス転移温度も高いため、セルロースエステルを溶融してダイスから押出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレべリングがし難い、光学特性、機械特性が溶液流延光学フィルムよりも低いといった課題を有していることが判明している(例えば、特許文献5及び特許文献6参照)。   In recent years, attempts have been made to melt-form cellulose ester for silver salt photography or polarizer protective film. Cellulose ester is a polymer having a very high viscosity when melted, and has a glass transition temperature. Therefore, even if the cellulose ester is melted and extruded from a die and cast on a cooling drum or cooling belt, it is difficult to level, and the optical properties and mechanical properties are lower than those of a solution cast optical film. (See, for example, Patent Document 5 and Patent Document 6).

このため、溶融製膜された光学フィルムを巻芯に巻いた光学フィルム原反の状態で長期間保存すると、馬の背故障や光学フィルム原反の巻芯部分には巻芯転写と呼ばれる故障及び巻始めるときに光学フィルムにシワが発生しやすい問題があることが判明した。   For this reason, if the melted optical film is stored for a long time in the state of the original optical film wound on the core, the horse's spine failure or the core portion of the optical film original starts a failure called core transfer and winding. It has been found that there is a problem that the optical film is likely to be wrinkled.

馬の背故障とは、馬の背中のように光学フィルム原反がU字型に変形し、中央部付近に2〜3cm程度のピッチで帯状の凸部ができる故障で、光学フィルムに変形が残ってしまうため、偏光板に加工すると表面が歪んで見えてしまうため問題である。今まで、馬の背故障はベース同士の動摩擦係数を低くしたり、両サイドにあるナーリング加工(エンボス加工)の高さを調節することによって発生を低減させてきた。   A horse's back failure is a failure in which the original optical film is deformed into a U shape like a horse's back, and a belt-like convex part is formed at a pitch of about 2 to 3 cm in the vicinity of the center, and the optical film remains deformed. For this reason, when processed into a polarizing plate, the surface appears to be distorted. Until now, horse back failure has been reduced by reducing the coefficient of dynamic friction between the bases and adjusting the height of the knurling (embossing) on both sides.

また、巻芯転写は、巻芯や光学フィルムの凹凸によって発生する光学フィルム変形故障である。
このような光学フィルムの変形があると、偏光板に加工した場合、表面が歪んで見えてしまうため問題である。
Moreover, the core transfer is an optical film deformation failure caused by the irregularities of the core and the optical film.
Such deformation of the optical film is a problem because the surface appears distorted when processed into a polarizing plate.

また液晶ディスプレイの最表面に設置する光学フィルムは、クリアハード加工やアンチグレア加工、アンチリクレクション加工が施されている。これらの加工を行うとき、光学フィルムの表面が変形していると、塗布ムラや蒸着ムラとなり、製品収率を大幅に劣化させる原因となる。   The optical film installed on the outermost surface of the liquid crystal display is subjected to clear hard processing, anti-glare processing, and anti-recursion processing. When these processes are performed, if the surface of the optical film is deformed, coating unevenness or vapor deposition unevenness is caused, which causes the product yield to be greatly deteriorated.

従来の溶液流延で作製した光学フィルムではこれらの故障は、大きな問題にならなかったが、溶融製膜で作製した光学フィルムでは、光学フィルムの平面性が低いため大きな問題となることが分かった。   These failures did not become a big problem in the optical film produced by the conventional solution casting, but it turned out that the optical film produced by the melt film formation becomes a big problem because the flatness of the optical film is low. .

特に、近年、大型画面化に伴って、光学フィルム原反の幅は広く、巻長は長くすることが要望されている。   In particular, in recent years, with the increase in size of screens, it is desired that the width of the original optical film is wide and the winding length is long.

そのため、光学フィルム原反は幅広となり、光学フィルム原反荷重は増加する傾向にあり、これらの故障がより発生しやすい状況のため、改良が望まれている。
特開2003−192920号公報 特開2003−12823号公報 特開2003−96236号公報 特開平11−222493号公報 特表平6−501040号公報 特開2000−352620号公報
Therefore, the optical film original fabric becomes wide, and the optical film original fabric load tends to increase. Since these failures are more likely to occur, improvement is desired.
JP 2003-192920 A JP 2003-12823 A JP 2003-96236 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-222493 Japanese National Patent Publication No. 6-501040 JP 2000-352620 A

本発明は、上記問題を鑑みなされたものであり、本発明の目的は、長期間保存しても馬の背故障や凸状故障等の光学フィルム原反の変形故障が発生しない光学フィルム、その製造方法、偏光板、その製造方法及び液晶表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is an optical film that does not cause deformation failure of the original optical film, such as a horse back failure or a convex failure, even if stored for a long time, and a method for producing the same It is providing the polarizing plate, its manufacturing method, and a liquid crystal display device.

本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.セルロースエステルを有する光学フィルムにおいて、該光学フィルムが下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。   1. An optical film having a cellulose ester, wherein the optical film contains a compound represented by the following general formula (I).

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(式中、R1は置換基を表す。R2は水素原子または置換基を表す。R3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。R4は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。R5は水素原子または置換基を表す。R6は水素原子または置換基を表す。R7は水素原子または、炭素数1〜10のアルキル基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または、フェニル基を表す。nは1〜4の整数を表す。Aは1〜4価の基を表す。)
2.前記1に記載の光学フィルムが、セルロースエステルと下記一般式(I)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有する溶融物を用いて溶融流延法によって製造されることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
(Wherein R 1 represents a substituent; R 2 represents a hydrogen atom or a substituent; R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 4 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom) Represents an alkyl group of ˜8, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 8 Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, n represents an integer of 1 to 4, and A represents a 1 to 4 valent group.)
2. The optical film according to the item 1, wherein the optical film is produced by a melt casting method using a melt containing at least one selected from a cellulose ester and a compound represented by the following general formula (I): A method for producing a film.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(式中、R1は置換基を表す。R2は水素原子または置換基を表す。R3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。R4は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。R5は水素原子または置換基を表す。R6は水素原子または置換基を表す。R7は水素原子または、炭素数1〜10のアルキル基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または、フェニル基を表す。nは1〜4の整数を表す。Aは1〜4価の基を表す。)
3.前記1に記載の光学フィルム又は前記2に記載の光学フィルムの製造方法により得られた光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
(Wherein R 1 represents a substituent; R 2 represents a hydrogen atom or a substituent; R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 4 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom) Represents an alkyl group of ˜8, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 8 Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, n represents an integer of 1 to 4, and A represents a 1 to 4 valent group.)
3. A polarizing plate having the optical film according to 1 or the optical film obtained by the method for producing an optical film according to 2 above on at least one surface of a polarizer.

4.前記3に記載の偏光板をロール状の長尺に巻取り、その後巻き状態から繰り出して偏光子と貼り合わせることを特徴とする偏光板の製造方法。   4). A method for producing a polarizing plate, comprising: winding the polarizing plate according to 3 above into a roll-like long shape, then drawing out the wound state and attaching the polarizing plate to a polarizer.

5.前記3に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。   5. 4. A liquid crystal display device using the polarizing plate according to 3 above on at least one surface of a liquid crystal cell.

6.前記4に記載の偏光板の製造方法により得られた偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。   6). 5. A liquid crystal display device comprising a polarizing plate obtained by the method for producing a polarizing plate as described in 4 above, on at least one surface of a liquid crystal cell.

本発明の光学フィルム、その製造方法、偏光板、その製造方法及び液晶表示装置は、長期間保存しても馬の背故障や凸状故障等の光学フィルム原反の変形故障が発生がなく優れた効果を有する。   The optical film of the present invention, its manufacturing method, polarizing plate, its manufacturing method, and liquid crystal display device are excellent in that there is no deformation failure of the original optical film, such as horse back failure or convex failure, even if stored for a long period of time. Have

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定するものではない。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.

《一般式(1)で表される化合物》
本発明は、セルロースエステルを有してなる光学フィルムにおいて、該光学フィルムが前記一般式(1)で表される化合物を含有することが特徴である。
<< Compound Represented by Formula (1) >>
The present invention is characterized in that in the optical film having a cellulose ester, the optical film contains the compound represented by the general formula (1).

次に、詳細に本発明の一般式(1)の化合物について説明する。   Next, the compound of the general formula (1) of the present invention will be described in detail.

前記一般式(1)においてR1は置換基を表す。R1はそれぞれ同一でも異なっていても良く、置換基としては炭素数1〜25のアルキル基、炭素数2〜24のアルケニル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルケニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素数7〜9のフェニルアルキル基、または基:−CH2−S−X1が挙げられる。 In the general formula (1), R 1 represents a substituent. R 1 s may be the same or different, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. C5-C12 cycloalkyl group substituted with alkyl group, C5-C12 cycloalkenyl group, C5-C12 cycloalkenyl group substituted with C1-C4 alkyl group, phenyl group , A phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group: —CH 2 —S—X 1 .

1は炭素数1〜25のアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素数7〜9のフェニルアルキル基または−(CH2rCOO−Y1を表す。 X 1 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or 1 carbon atom. Represents a phenyl group substituted with an alkyl group of ˜4, a phenylalkyl group of 7 to 9 carbon atoms, or — (CH 2 ) r COO—Y 1 .

1は炭素数1〜25のアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素数7〜9のフェニルアルキル基を表す。 Y 1 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or 1 carbon atom. Represents a phenyl group substituted with an alkyl group of ˜4 or a phenylalkyl group of 7 to 9 carbon atoms.

前記一般式(1)において、R2は水素原子または置換基を表す。 In the general formula (1), R 2 represents a hydrogen atom or a substituent.

2はそれぞれ同一でも異なっていても良く、置換基としては炭素数1〜25のアルキル基、炭素数2〜24のアルケニル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルケニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素数7〜9のフェニルアルキル基、または基:−CH2−S−X1、−(CH2pCOO−X2または−(CH2qO−X3が挙げられる。 R 2 may be the same as or different from each other, and examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, C5-C12 cycloalkyl group substituted with alkyl group, C5-C12 cycloalkenyl group, C5-C12 cycloalkenyl group substituted with C1-C4 alkyl group, phenyl group , A phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group: —CH 2 —S—X 1 , — (CH 2 ) p COO—X 2 or — (CH 2) q O-X 3 can be mentioned.

1はR1におけるX1と同一である。 X 1 is identical to X 1 in R 1.

2は炭素数1〜25のアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素数7〜9のフェニルアルキル基を表す。 X 2 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or 1 carbon atom. Represents a phenyl group substituted with an alkyl group of ˜4 or a phenylalkyl group of 7 to 9 carbon atoms.

3は炭素数1〜25のアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換された炭素数5〜12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素数7〜9のフェニルアルキル基、炭素数1〜25のアルカノイル基、炭素数3〜25のアルケノイル基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素数3〜25のアルカノイル基、炭素数6〜9のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、炭素数1〜4のアルキル基で置換されたベンゾイル基、テノイル基またはフロイル基を表す。 X 3 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or 1 carbon atom. A phenyl group substituted with -4 alkyl groups, a phenylalkyl group with 7-9 carbon atoms, an alkanoyl group with 1-25 carbon atoms, an alkenoyl group with 3-25 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or> NY Represents an alkanoyl group having 3 to 25 carbon atoms, a cycloalkylcarbonyl group having 6 to 9 carbon atoms, a benzoyl group, a benzoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a tenoyl group or a furoyl group interrupted by 2 .

2は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。 Y 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

pは0、1または2を表し、qは0ないし8の整数を表す。   p represents 0, 1 or 2, and q represents an integer of 0 to 8.

前記一般式(1)において、R3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。Rはそれぞれ同一でも異なっていても良く、好ましくは水素原子である。 In the general formula (1), R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. R may be the same or different and is preferably a hydrogen atom.

前記一般式(1)においてR4は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。R4として好ましくは炭素数1〜4のアルキル基である。 In the general formula (1), R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

前記一般式(1)において、R5は水素原子または置換基を表す。置換基としては炭素原子数1ないし10のアルキル基、フェニル基、−CH2−COO−X4または−CNが挙げられる。 In the general formula (1), R 5 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, —CH 2 —COO—X 4 or —CN.

4は炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基で表される。 X 4 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group And a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

前記一般式(1)において、R6は水素原子または置換基を表す。置換基としては炭素原子数1ないし4のアルキル基、フェニル基、−COO−X5、−CNまたは−CON(X6)(X7)が挙げられる。 In the general formula (1), R 6 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, —COO—X 5 , —CN, or —CON (X 6 ) (X 7 ).

5は炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基で表される。 X 5 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group And a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

6およびX7はそれぞれ水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表される。 X 6 and X 7 are each a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, A phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms is represented.

前記一般式(1)においてR7は水素原子または、炭素数1〜10のアルキル基を表す。 In the general formula (1), R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

前記一般式(1)においてR8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または、フェニル基を表す。 In the general formula (1), R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group.

前記一般式(1)においてnは1〜4の整数を表す。   In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 4.

前記一般式(1)においてはAは1〜4価の基を表す。   In the general formula (1), A represents a 1 to 4 valent group.

nが1の時、Aは基:−O−Z1、−N(Z2)(Z3)、−NH(OZ4)、−O−N=C(Z5)(Z6)、−S(O)m7、−NH−Z8または−S−Z8を表すか、あるいはAはまた窒素原子において自由原子価をもつ未置換のまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された複素環基を表す。
mは1または2を表す。
When n is 1, A is a group: —O—Z 1 , —N (Z 2 ) (Z 3 ), —NH (OZ 4 ), —O—N═C (Z 5 ) (Z 6 ), — S (O) m Z 7 , —NH—Z 8 or —S—Z 8 , or A is also substituted with an unsubstituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms at the nitrogen atom. Represents a substituted heterocyclic group.
m represents 1 or 2.

1は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、5ないし20個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、7ないし20個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基、10ないし20個の炭素原子を含む三環式飽和炭化水素基、炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、フェニル環において炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基、テトラヒドロアビエチル基、炭素原子数1ないし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25のアルケノイル基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし25のアルカノイル基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたベンゾイル基、テノイル基、フロイル基または下記式IIaもしくは式IIbを表す。 Z 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom, or an alkyl group having 3 to 25 carbon atoms and an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 Monocyclic saturated hydrocarbon groups containing 5 to 20 carbon atoms, bicyclic saturated hydrocarbon groups containing 7 to 20 carbon atoms, and tricyclic saturated hydrocarbons containing 10 to 20 carbon atoms A cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, a phenyl ring A phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a tetrahydrofurfuryl group, a tetrahydroabiethyl group, Alkanoyl group having 1 to 25 atoms, alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms; oxygen atom, sulfur atom or alkanoyl group having 3 to 25 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , 6 to 9 carbon atoms A cycloalkylcarbonyl group, a benzoyl group, a benzoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a thenoyl group, a furoyl group, or the following formula IIa or formula IIb.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(式中、T1およびT2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または−CH2−S−X1基を表し;
3は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;T4は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−CH2−S−X1、−(CH2pCOO−X2または−(CH2qO−X3を表し;
5は水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基、O・、−OH、−NO、−CH2CN、炭素原子数1ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし12のシクロアルコキシ基、炭素原子数3ないし6のアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、フェニル環上炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基;炭素原子数1ないし8のアルカノイル基、炭素原子数3ないし8のアルケノイル基またはベンゾイル基を表す。wは0または1を表す。
Wherein T 1 and T 2 are each independently of each other a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, A carbon atom substituted with an alkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a —CH 2 —S—X 1 group; Representation;
T 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; T 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, or 5 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A substituted cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, —CH 2 —S— X 1 represents — (CH 2 ) p COO—X 2 or — (CH 2 ) q O—X 3 ;
T 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms substituted with an OH group, O., —OH, —NO, —CH 2 CN, 1 carbon atom. An alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkoxy group having 5 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms on the phenyl ring. And a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms substituted with an alkanoyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 8 carbon atoms, or a benzoyl group. w represents 0 or 1;

2は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし25のアルカノイル基、炭素原子数3ないし25のアルケノイル基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし25のアルカノイル基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたベンゾイル基、テノイル基、フロイル基、基:−(CH2pCOO−X2または式IIbで表される基である。 Z 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 25 carbon atoms substituted with an OH group, an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 12 carbon atoms. An alkyl group, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or 7 carbon atoms. A phenylalkyl group having 9 to 9 carbon atoms, an alkanoyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 25 carbon atoms; an alkanoyl group having 3 to 25 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, a sulfur atom or> N—Y 2 Benzoyl substituted with a cycloalkyl group having 6 to 9 carbon atoms, a benzoyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms Group, thenoyl group, furoyl group, group: — (CH 2 ) p COO—X 2 or a group represented by formula IIb.

3は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基で表される。 Z 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 25 carbon atoms substituted with an OH group, an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 12 carbon atoms. An alkyl group, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or 7 carbon atoms. Or a phenylalkyl group of 9 or a group represented by Formula IIb.

6は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基で表される。 T 6 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group And a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

6として好ましくはT6は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基である。 T 6 is preferably T 6 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. An alkyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

あるいはZ2およびZ3は一緒になって炭素原子数3ないし6のアルキレン基、炭素原子数3ないし6のオキソアルキレン基または酸素原子、硫黄原子もしくは>N−T6で中断された炭素原子数3ないし6のアルキレン基で表される。 Or Z 2 and Z 3 together represent an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms, an oxoalkylene group having 3 to 6 carbon atoms, or an oxygen atom, a sulfur atom or a carbon atom interrupted by> NT 6. It is represented by 3 to 6 alkylene groups.

4は炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基で表される。 Z 4 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group And a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

5およびZ6はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数2ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 Z 5 and Z 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms, and a carbon atom having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A cycloalkenyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

7は炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または基:−(CH2rCOO−Y1を表す。 Z 7 is an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group And a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms or a group: — (CH 2 ) r COO—Y 1 .

8は未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンズオキサゾリル基または未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンゾチアゾリル基で表される。 Z 8 is an unsubstituted or substituted 2-benzoxazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an unsubstituted or substituted 2-benzothiazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. expressed.

nが2の時、Aは下記式IIIa、式IIIb、式IIIc、式IIId、式IIIeまたは式IIIfを表す。   When n is 2, A represents the following formula IIIa, formula IIIb, formula IIIc, formula IIId, formula IIIe or formula IIIf.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

〔式中、G1およびG3はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−(CH2pCOO−X2基または式IIbで表される基を表し;
2は炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2中断された炭素原子数4ないし20のアルキレン基、炭素原子数4ないし20のアルケニレン基、炭素原子数4ないし20のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、2つの自由電子価をもちおよび7ないし30個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基、ナフチレン基、炭素原子数2ないし20のアルカンジオイル基、炭素原子数4ないし20のアルケンジオイル基またはカルボキシベンゾイル基を表し;
4およびG6はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表し;
5は炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし20のアルキレン基、炭素原子数4ないし20のアルケニレン基、炭素原子数4ないし20のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、2つの自由電子価をもちおよび7ないし30個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基を表し;
7は炭素原子数2ないし20のアルキレン基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし20のアルキレン基、炭素原子数4ないし20のアルケニレン基、炭素原子数4ないし20のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもち、且つ、5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、2つの自由電子価をもち、且つ7ないし30個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基、炭素原子数2ないし20のアルカンジオイル基、炭素原子数4ないし20のアルケンジオイル基、カルボキシベンゾイル基または式IVa、式IVbまたはIVcで表される基である。
[Wherein, G 1 and G 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a 7 to 9 carbon atom represents (CH 2) p COO-X 2 group or a group represented by the formula IIb - phenylalkyl group;
G 2 is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms; oxygen atom, sulfur atom, or> N—Y 2 interrupted alkylene group having 4 to 20 carbon atoms, alkenylene group having 4 to 20 carbon atoms, carbon atom number An alkynylene group having 4 to 20 carbon atoms, (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (alkylene having 1 to 4 carbon atoms), a group having two free electrons and containing 5 to 12 carbon atoms Cyclic saturated hydrocarbon group, bicyclic saturated hydrocarbon group having two free electron valences and containing 7 to 30 carbon atoms, phenylene group, phenylene group substituted by alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A naphthylene group, an alkanedioyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenedioyl group having 4 to 20 carbon atoms, or a carboxybenzoyl group;
G 4 and G 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or Represents a group of formula IIb;
G 5 is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenylene group having 4 to 20 carbon atoms, a carbon atom An alkynylene group having 4 to 20 carbon atoms, an (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) group, having two free electron valences and containing 5 to 12 carbon atoms Monocyclic saturated hydrocarbon group, bicyclic saturated hydrocarbon group having two free electron valences and containing 7 to 30 carbon atoms, phenylene group, phenylene substituted with alkyl group having 1 to 4 carbon atoms Represents a group or a naphthylene group;
G 7 is an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms; an oxygen atom, a sulfur atom or an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenylene group having 4 to 20 carbon atoms, a carbon atom An alkynylene group having 4 to 20 carbon atoms, (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (alkylene having 1 to 4 carbon atoms), two free electron valences, and 5 to 12 carbon atoms Substituted with a monocyclic saturated hydrocarbon group containing 2, a bicyclic saturated hydrocarbon group having two free electron valences and containing 7 to 30 carbon atoms, a phenylene group, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A phenylene group or a naphthylene group, an alkanedioyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkenedioyl group having 4 to 20 carbon atoms, a carboxybenzoyl group, or It is a group represented by formula IVa, formula IVb or IVc.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(式中、D1はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
置換基D2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
3およびD4はおのおの互いに独立して、水素原子、CF3、炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくはフェニル基を表すか、あるいはD3およびD4は結合している炭素原子と一緒になって無置換、もしくは炭素原子数1ないし4のアルキルで置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキリデン環を形成し得る。vは0または1を表す。)
8およびG10はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表し;
9およびG11は、炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし20のアルキレン基、炭素原子数4ないし20のアルケニレン基、炭素原子数4ないし20のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、2つの自由電子価をもちおよび7ないし30個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基を表し;
12は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表し;
置換基D1はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
置換基D2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
3およびD4はおのおの互いに独立して、水素原子、CF3、炭素原子数1ないし12のアルキル基もしくはフェニル基を表すか、あるいはD3およびD4は結合している炭素原子と一緒になって未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキルで置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキリデン環を形成し;tは1または2を表す。〕
nが3の時、Aは下記の式Va、式Vbまたは式Vcを表す。
(In the formula, each D 1 is independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms;
The substituents D 2 are each independently a carbon atom substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms;
D 3 and D 4 each independently represent a hydrogen atom, CF 3 , an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a phenyl group, or D 3 and D 4 together with the bonded carbon atom Thus, a cycloalkylidene ring having 5 to 12 carbon atoms which is unsubstituted or substituted by alkyl having 1 to 4 carbon atoms can be formed. v represents 0 or 1. )
G 8 and G 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or Represents a group of formula IIb;
G 9 and G 11 are alkylene groups having 2 to 12 carbon atoms; oxygen atoms, sulfur atoms or alkylene groups having 4 to 20 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , alkenylene having 4 to 20 carbon atoms Groups, alkynylene groups having 4 to 20 carbon atoms, (alkylenes having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (alkylenes having 1 to 4 carbon atoms) groups, two free electron valences and 5 to 12 carbon atoms A monocyclic saturated hydrocarbon group containing carbon atoms, a bicyclic saturated hydrocarbon group having two free electron valences and 7 to 30 carbon atoms, a phenylene group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms Represents a substituted phenylene group or naphthylene group;
G 12 is substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group represented by Formula IIb ;
Substituents D 1 are each independently of one another substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a cycloalkyl group having 5 to 12 atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms;
The substituents D 2 are each independently a carbon atom substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms;
D 3 and D 4 each independently represent a hydrogen atom, CF 3 , an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a phenyl group, or D 3 and D 4 together with the bonded carbon atom To form a cycloalkylidene ring having 5 to 12 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with an alkyl having 1 to 4 carbon atoms; t represents 1 or 2; ]
When n is 3, A represents the following formula Va, formula Vb or formula Vc.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(式中、E1は炭素原子数3ないし7のアルカントリイル基を表し;E2およびE3は炭素原子数2ないし8のアルキレン基を表す。)
nが4の時、Aは下記の式VI基を表す。
(In the formula, E 1 represents an alkanetriyl group having 3 to 7 carbon atoms; E 2 and E 3 represent an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms.)
When n is 4, A represents the following formula VI group.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(式中、E4は炭素原子数4ないし10のアルカンテトライル基または酸素原子で中断された炭素原子数4ないし10のアルカンテトライル基を表す。)
以下に、一般式(1)の化合物について、さらに詳細に説明する。
(In the formula, E 4 represents an alkanetetrayl group having 4 to 10 carbon atoms or an alkanetetrayl group having 4 to 10 carbon atoms interrupted by an oxygen atom.)
Below, the compound of General formula (1) is demonstrated in detail.

25個までの、好ましくは18個までの、最も好ましくは10個までの炭素原子のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル基、2−エチルブチル基、n−ペンチル基、第三ペンチル基、イソペンチル基、1−メチルペンチル基、1,3−ジメチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルヘキシル基、n−ヘプチル基、イソヘプチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、1−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、1,1,3−トリメチルヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、1−メチルウンデシル基、ドデシル基、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基またはドコシル基である。   An alkyl group of up to 25, preferably up to 18, most preferably up to 10 carbon atoms is, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, Isobutyl group, tertiary butyl group, 2-ethylbutyl group, n-pentyl group, tertiary pentyl group, isopentyl group, 1-methylpentyl group, 1,3-dimethylbutyl group, n-hexyl group, 1-methylhexyl group N-heptyl group, isoheptyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, 1-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 1,1,3- Trimethylhexyl group, 1,1,3,3-tetramethylpentyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, 1-methylundecyl group, dodecyl group, 1,1,3,3 , 5-hexamethylhexyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, eicosyl or docosyl.

1およびR2の好ましい意味の1つは、枝分かれした炭素原子数1ないし10のアルキル基、より特別には炭素原子数1ないし5のアルキル基、代表的にはメチル基、第三ブチル基および第三ペンチル基である。 One of the preferred meanings of R 1 and R 2 is a branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more particularly an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, typically a methyl group or a tertiary butyl group. And a tertiary pentyl group.

4の好ましい意味の1つは炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメチル基が好ましい。 One of the preferred meanings of R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a methyl group.

2の好ましい意味の1つは炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメチル基が好ましい
1およびZ2の好ましい意味の1つは炭素原子数1ないし18のアルキル基である。
One of the preferred meanings of Y 2 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a methyl group. One of the preferred meanings of Z 1 and Z 2 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.

7の好ましい基としては炭素原子数1ないし18のアルキル基であり、特に炭素素原子数1ないし10のアルキル基が好ましい。 Z 7 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

1、T2およびT4の好ましい基としては炭素原子数1ないし4のアルキル基、特に好ましくはメチル基および第三ブチル基である。 Preferred groups for T 1 , T 2 and T 4 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably a methyl group and a tertiary butyl group.

5の好ましい意味の1つは炭素原子数1ないし4のアルキル基、特にメチル基が好ましい。 One of the preferred meanings of T 5 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, particularly a methyl group.

6の好ましい基としては炭素原子数1ないし4のアルキル基である。 A preferred group for T 6 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数2ないし25のアルキレン基としては、CH3−O−CH2CH2−、CH3−CH2−O−CH2−CH2−CH2−O−、(CH32CH−O−CH2−CH2−、CH3−S−CH2CH2−、CH3−NH−CH2CH2−、CH3−N(CH3)−CH2CH2−、CH3−O−CH2CH2−O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、CH3−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−またはCH3−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−である。 Examples of the alkylene group having 2 to 25 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, a sulfur atom or> N—Y 2 include CH 3 —O—CH 2 CH 2 —, CH 3 —CH 2 —O—CH 2 —CH. 2 -CH 2 -O -, (CH 3) 2 CH-O-CH 2 -CH 2 -, CH 3 -S-CH 2 CH 2 -, CH 3 -NH-CH 2 CH 2 -, CH 3 -N (CH 3 ) —CH 2 CH 2 —, CH 3 —O—CH 2 CH 2 —O—CH 2 CH 2 —, CH 3 — (O—CH 2 CH 2 —) 2 O—CH 2 CH 2 —, CH 3 — (O—CH 2 CH 2 —) 3 O—CH 2 CH 2 — or CH 3 — (O—CH 2 CH 2 —) 4 O—CH 2 CH 2 —.

酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし25のアルキル基が好ましくおよび酸素原子で中断された炭素原子数3ないし10のアルキル基がより好ましい。 An oxygen atom or an alkyl group having 3 to 25 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 is preferable, and an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms interrupted by an oxygen atom is more preferable.

また、炭素原子数1ないし5のアルキル−(OCH2CH21-10および炭素原子数1ないし5のアルキル−(OCH2CH21-2−が特に好ましい。 Further, alkyl- (OCH 2 CH 2 ) 1-10 having 1 to 5 carbon atoms and alkyl- (OCH 2 CH 2 ) 1-2- having 1 to 5 carbon atoms are particularly preferable.

−OH基で置換された炭素原子数2ないし25のアルキル基、特に−OH基で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基は代表的には2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基または4−ヒドロキシブチル基である。   An alkyl group having 2 to 25 carbon atoms substituted with —OH group, particularly an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms substituted with —OH group is typically 2-hydroxyethyl group or 2-hydroxypropyl group. , 2-hydroxybutyl group or 4-hydroxybutyl group.

炭素原子数1ないし18のアルコキシ基は代表的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、オクトキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基またはオクタデシルオキシ基である。炭素原子数6ないし12のアルコキシ基は特にヘプチルオキシ基およびオクチルオキシ基が好ましい。   The alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms is typically a methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, pentoxy group, isopentoxy group, hexoxy group, heptoxy group, octoxy group. Decyloxy group, dodecyloxy group, tetradecyloxy group, hexadecyloxy group or octadecyloxy group. The alkoxy group having 6 to 12 carbon atoms is particularly preferably a heptyloxy group or an octyloxy group.

24個までの、好ましい18個までの炭素原子をもつアルケニル基は、代表的にはビニル基、プロペニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、イソブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、n−2−オクテニル基、n−2−ドデセニル基、イソドデセニル基、n−2−オクタデセニル基またはn−4−オクタデセニル基である。   The alkenyl group having up to 24, preferably up to 18 carbon atoms is typically vinyl, propenyl, 2-butenyl, 3-butenyl, isobutenyl, 3-methyl-2-butenyl, n-2-octenyl group, n-2-dodecenyl group, isododecenyl group, n-2-octadecenyl group or n-4-octadecenyl group.

1位の炭素原子が飽和されているアルケニル基が好ましい。炭素原子数3ないし18のアルケニル基が特に好ましい。   An alkenyl group in which the carbon atom at the 1-position is saturated is preferable. Particularly preferred are alkenyl groups having 3 to 18 carbon atoms.

無置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、代表的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロドデシル基、2−もしくは4−メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基または第三ブチルシクロヘキシル基である。未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、さらに特にシクロヘキシル基が好ましい。   A cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, typically a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclododecyl group, 2- or 4-methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, trimethylcyclohexyl group or tert-butylcyclohexyl group. Preference is given to a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms which is unsubstituted or substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more particularly a cyclohexyl group.

1の好ましい基としては、シクロヘキシル基である。 A preferred group for R 1 is a cyclohexyl group.

5ないし12個の炭素原子を有するシクロアルコキシ基としては、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基、シクロデシルオキシ基またはシクロドデシルオキシ基である。シクロペンチルオキシ基およびシクロヘキシルオキシ基が特に好ましい。   Examples of the cycloalkoxy group having 5 to 12 carbon atoms include a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, a cyclooctyloxy group, a cyclodecyloxy group, and a cyclododecyloxy group. A cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group are particularly preferred.

5ないし20個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基は代表的には、無置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基またはシクロアルキル基部分で炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された(炭素原子数5ないし12のシクロアルキル)−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基であり代表的にはシクロヘキシルメチル基、メチルシクロヘキシルメチル基またはジメチルシクロヘキシルメチル基である。   A monocyclic saturated hydrocarbon group containing 5 to 20 carbon atoms is typically unsubstituted or substituted with a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms or a cycloalkyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. An alkyl group moiety substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (cycloalkyl having 5 to 12 carbon atoms)-(alkyl having 1 to 4 carbon atoms), typically a cyclohexylmethyl group, A methylcyclohexylmethyl group or a dimethylcyclohexylmethyl group;

7ないし20個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基としては、代表的には下記のex−1〜ex−6である。   The bicyclic saturated hydrocarbon group containing 7 to 20 carbon atoms is typically the following ex-1 to ex-6.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

10ないし20個の炭素原子を含む三環式飽和炭化水素基としては代表的には下記のex−7、ex−8である。   Typical examples of the tricyclic saturated hydrocarbon group containing 10 to 20 carbon atoms are the following ex-7 and ex-8.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

無置換もしくは炭素原子1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルケニル基は、例えばシクロヘキセ−2−エニル基、シクロヘプテ−3−エニル基、4−第三ブチルシクロヘキセ−2−エニルである。中でも、シクロヘキセニル基が好ましい。   Examples of the cycloalkenyl group having 5 to 12 carbon atoms which are unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include, for example, a cyclohex-2-enyl group, a cyclohept-3-enyl group, a 4-tert-butylcyclohexene- 2-enyl. Of these, a cyclohexenyl group is preferable.

炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基は代表的には、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、第三ブチルフェニル基、ジ第三ブチルフェニル基またはメチル−ジ−第三ブチルフェニル基である。   The phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is typically a methylphenyl group, a dimethylphenyl group, a trimethylphenyl group, an ethylphenyl group, a diethylphenyl group, an isopropylphenyl group, or a tertiary butylphenyl group. Di-tert-butylphenyl group or methyl-di-tert-butylphenyl group.

無置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキリデン環としては、代表的には、下記のex−9,ex−10である。   Typical examples of the cycloalkylidene ring having 5 to 12 carbon atoms which are unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include the following ex-9 and ex-10.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

炭素原子数は、5ないし8のシクロアルキリデン環が好ましい。   A cycloalkylidene ring having 5 to 8 carbon atoms is preferred.

また、無置換またはフェニル基において、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基は、例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基および第三ブチルベンジル基である。   Moreover, in the unsubstituted or phenyl group, the phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms substituted by the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is, for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, α-methyl A benzyl group, an α, α-dimethylbenzyl group, a methylbenzyl group, a dimethylbenzyl group, a trimethylbenzyl group and a tert-butylbenzyl group;

25個までの炭素原子を含むアルカノイル基はメタノイル基、エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基またはエイコサノイル基であってよい。炭素原子数1ないし18のアルカノイル基が好ましい意味である。   Alkanoyl groups containing up to 25 carbon atoms are methanoyl, ethanoyl, propanoyl, butanoyl, pentanoyl, hexanoyl, heptanoyl, octanoyl, nonanoyl, decanoyl, undecanoyl, dodecanoyl, tridecanoyl, It may be a tetradecanoyl group, a pentadecanoyl group, a hexadecanoyl group, an octadecanoyl group, a nonadecanoyl group or an eicosanoyl group. An alkanoyl group having 1 to 18 carbon atoms is a preferred meaning.

酸素原子、硫黄原子または基:>N−Y2を有する炭素原子数3ないし25個のアルカノイル基は、代表的には−CO−CH2CH2−S−(炭素原子数1ないし10のアルキル)基、−CO−CH2CH2−O−(炭素原子数1ないし10のアルキル)基および−CO−CH2CH2−N(Y2)−(炭素原子数1ないし10のアルキル)基である。 An alkanoyl group having 3 to 25 carbon atoms having an oxygen atom, sulfur atom or group:> N—Y 2 is typically represented by —CO—CH 2 CH 2 —S— (alkyl having 1 to 10 carbon atoms). ) Group, —CO—CH 2 CH 2 —O— (C 1 -C 10 alkyl) group and —CO—CH 2 CH 2 —N (Y 2 ) — (C 1 -C 10 alkyl) group. It is.

酸素原子もしくは>N−Y2を有する炭素原子数3ないし25のアルカノイル基が好ましい。 An oxygen atom or an alkanoyl group having 3 to 25 carbon atoms having> N—Y 2 is preferred.

3ないし25個の炭素原子のアルケノイル基は代表的にはアクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基およびオレオイル基である。炭素原子数3ないし18のアルケノイル基が好ましい。   Alkenoyl groups of 3 to 25 carbon atoms are typically acryloyl, methacryloyl, crotonoyl, isocrotonoyl and oleoyl groups. Alkenoyl groups having 3 to 18 carbon atoms are preferred.

炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル基は、例えば、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、シクロヘプチルカルボニル基またはシクロオクチルカルボニル基である。   The cycloalkylcarbonyl group having 6 to 9 carbon atoms is, for example, a cyclopentylcarbonyl group, a cyclohexylcarbonyl group, a cycloheptylcarbonyl group, or a cyclooctylcarbonyl group.

炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたベンゾイル基は代表的にはメチルベンゾイル基または第三ブチルベンゾイル基である。   The benzoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is typically a methylbenzoyl group or a tert-butylbenzoyl group.

窒素原子において自由原子価をもつ、無置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換した複素環基のとしては下記のex−11〜ex−26で表される複素環基である。   Examples of the unsubstituted or substituted heterocyclic group having a free valence at the nitrogen atom and substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms are the heterocyclic groups represented by ex-11 to ex-26 below.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

5ないし7員複素単環式基および9ないし10員複素二環式基が好ましい。   5- to 7-membered heteromonocyclic groups and 9- to 10-membered heterobicyclic groups are preferred.

特に好ましいヘテロ原子は窒素原子である。   A particularly preferred heteroatom is a nitrogen atom.

好ましい基としては、無置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された1−ピロリル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された1−ピラゾリル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された1−イミダゾリル基、1−トリアゾリル基、未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された1−ベンズイミダゾリル基または1−ベンゾトリアゾリル基である。   Preferable groups include an unsubstituted 1-pyrrolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted 1-pyrazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an unsubstituted group. 1-imidazolyl group, 1-triazolyl group, substituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, substituted or 1-benzimidazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 -A benzotriazolyl group.

8としては、代表的には下記のex−27〜ex−30で表される基である。 Z 8 is typically a group represented by the following ex-27 to ex-30.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

20個までの、好ましくは12個までのもしくは6個までの炭素原子を含むアルキレン基は、代表的にはエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、2,2−ジメチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、トリメチルヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基またはドデカメチレン基である。   The alkylene groups containing up to 20, preferably up to 12 or up to 6 carbon atoms are typically ethylene, propylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, 2,2-dimethyl. A trimethylene group, a hexamethylene group, a heptamethylene group, a trimethylhexamethylene group, an octamethylene group, a decamethylene group, an undecamethylene group or a dodecamethylene group.

2、G5、G7、G9およびG11の好ましい意味の一つは炭素原子数2ないし8のアルキレン基である。 One of the preferred meanings of G 2 , G 5 , G 7 , G 9 and G 11 is an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms.

酸素原子、硫黄原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし20のアルキレン基は、代表的には−CH2CH2−O−CH2CH2−、−CH2CH2−S−CH2CH2−、−CH2CH2−NH−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−NH−CH2CH2CH2−、−CH2−CH2−CH2−NH−CH2−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−NH−CH2−CH2−CH2−、−(CH26−NH−(CH26−、−CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)2O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)3O−CH2CH2−、−CH2CH2−(O−CH2CH2−)4O−CH2CH2−、−CH2CH2CH2CH2−O−CH2CH2CH2CH2−O−CH2CH2CH2CH2−、−CH2CH2−NH−CH2CH2−NH−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−NH−CH2CH2−NH−CH2CH2CH2−または−CH2CH2CH2−NH−CH2CH2CH2CH2−NH−CH2CH2CH2−である。酸素原子または>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし20のアルキレン基が好ましく、−CH2CH2−O−CH2CH2−および−CH2CH2CH2CH2−O−CH2CH2CH2CH2−O−CH2CH2CH2CH2−は特に好ましい。 The alkylene group having 4 to 20 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, sulfur atom or> N—Y 2 is typically —CH 2 CH 2 —O—CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 —. S-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -NH-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -NH-CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 - NH-CH 2 -CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -CH 2 -CH 2 -NH-CH 2 -CH 2 -CH 2 -, - (CH 2) 6 -NH- (CH 2) 6 -, -CH 2 CH 2 -N (CH 3 ) -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -N (CH 3) -CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 - (O-CH 2 CH 2 -) 2 O- CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 - (O-CH 2 CH 2 -) 3 O-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 - (O-CH 2 C 2 -) 4 O-CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -O-CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -NH-CH 2 CH 2 -NH- CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -NH-CH 2 CH 2 -NH-CH 2 CH 2 CH 2 - or -CH 2 CH 2 CH 2 -NH -CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 -NH-CH 2 CH 2 CH 2 - is. An oxygen atom or an alkylene group having 4 to 20 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 is preferred, and —CH 2 CH 2 —O—CH 2 CH 2 — and —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —O— are preferred. CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —O—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 — is particularly preferred.

−N(Z2)(Z3)の好ましい基としては、モルホリノ基である。 A preferred group of —N (Z 2 ) (Z 3 ) is a morpholino group.

>N−T6で中断された炭素原子数3ないし6のアルキレン基は代表的には、−CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−N(CH3)−CH2CH2CH2−である。 An alkylene group having 3 to 6 carbon atoms interrupted by> N—T 6 is typically —CH 2 CH 2 —N (CH 3 ) —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —. N (CH 3 ) —CH 2 CH 2 CH 2 —.

炭素原子数3ないし6のオキソアルキレン基は代表的には−CO−CH2CH2CH2CH2−である。 The oxoalkylene group having 3 to 6 carbon atoms is typically —CO—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —.

炭素原子数4ないし20のアルケニレン基は代表的には2−ブト−1,4−エニレン基、3−ペント−1,5−エニレン基または2−ヘキシ−1,6−エニレン基である。   The alkenylene group having 4 to 20 carbon atoms is typically a 2-but-1,4-enylene group, a 3-pent-1,5-enylene group or a 2-hex-1,6-enylene group.

炭素原子数4ないし20のアルキニレン基は代表的には、2−ブチニレン基(−CH2−C=C−CH2−)、2−ペンチニレン基、2−ヘキシニレン基、3−ヘキシニレン基、3−ヘプチニレン基、2−デシニレン基、4−デシニレン基または8−オクタデシニレン基である。 The alkynylene group 20 C 4 -C Typically, 2-butynylene (-CH 2 -C = C-CH 2 -), 2- pentynylene group, 2-hexynylene group, 3-hexynylene group, 3- A heptynylene group, a 2-decynylene group, a 4-decynylene group or an 8-octadecylene group.

(炭素原子数1ないし4のアルキレン)フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基としては、代表的には、下記の基が挙げられる。   Typical examples of the (C1-C4 alkylene) phenylene- (C1-C4 alkylene) group include the following groups.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

2個の自由電子価をもち、5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基としては、代表的には、下記の基が挙げられる。   Typical examples of the monocyclic saturated hydrocarbon group having two free electron valences and containing 5 to 12 carbon atoms include the following groups.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

および、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基もしくはシクロオクチレン基のような炭素原子数5ないし12のシクロアルキレン基である。 And a cycloalkylene group having 5 to 12 carbon atoms such as a cyclopentylene group, a cyclohexylene group, a cycloheptylene group, or a cyclooctylene group.

2個の自由電子価をもち、7ないし30個の炭素原子を含む二環式飽和炭化水素基としては、代表的には、下記の基が挙げられる。   Typical examples of the bicyclic saturated hydrocarbon group having two free electron valences and containing 7 to 30 carbon atoms include the following groups.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基は代表的にはメチルフェニレン基または第三ブチルフェニレン基である。   The phenylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is typically a methylphenylene group or a tert-butylphenylene group.

炭素原子数2ないし20のアルカンジオイル基は代表的には、エタンジオイル基、プロパンジオイル基、ブタンジオイル基、ペンタンジオイル基、ヘキサンジオイル基、ヘプタンジオイル基、オクタンジオイル基、ノナンジオイル基またはデカンジオイル基である。   The alkanedioyl group having 2 to 20 carbon atoms is typically an ethanediol oil group, a propanediol oil group, a butanediol oil group, a pentanediol oil group, a hexanediol oil group, a heptanediol oil group, an octanediol oil group, or a nonanediol group. Or a decandioyl group.

炭素原子数2ないし10のアルカンジオイル基が好ましい。   Alkanedioyl groups having 2 to 10 carbon atoms are preferred.

炭素原子数4ないし20のアルケンジオイル基は代表的には、マレオイル基、フマロイル基、シトラコノイル基またはメサコノイル基である。   The alkenedioyl group having 4 to 20 carbon atoms is typically a maleoyl group, a fumaroyl group, a citraconoyl group or a mesaconoyl group.

炭素原子数3ないし7のアルカントリイル基としては、代表的には、下記の基が挙げられる。   Typical examples of the alkanetriyl group having 3 to 7 carbon atoms include the following groups.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

炭素原子数4ないし10のアルカンテトライル基または酸素原子を有する炭素原子数4ないし10のアルカンテトライル基としては、代表的には、下記の基が挙げられる。   Typical examples of the alkanetetrayl group having 4 to 10 carbon atoms or the alkanetetrayl group having 4 to 10 carbon atoms having an oxygen atom include the following groups.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

一般式(1)において、R5、R6、R7およびR8は好ましくは水素原子である。 In the general formula (1), R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are preferably hydrogen atoms.

変数nは好ましくは1または2である。   The variable n is preferably 1 or 2.

好ましい式Iで表される化合物は、式中、置換基R1はおのおの互いに独立して、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または−CH2−S−X1基を表す。 Preferred compounds of the formula I are those in which the substituents R 1 are each independently of each other an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, or 5 to 8 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A substituted cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or —CH 2 —S It represents the -X 1 group.

置換基R2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または基:−CH2−S−X1、−(CH2pCOO−X2または−(CH2qO−X3を表す。 The substituents R 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with 4 alkyl groups, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, and 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A cycloalkenyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group: —CH 2 —S—X 1 , — (CH 2 ) p COO-X 2 or - represents a (CH 2) q O-X 3.

置換基R3はおのおの互いに独立して、水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
4は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表し;
5は水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基またはフェニル基を表し;
6は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基を表し;
7は水素原子または炭素原子数1ないし10のアルキル基を表し;
8は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基を表し;
1は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または−(CH2rCOO−Y1を表し;
2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
3は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基を表す。
The substituents R 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms;
R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a phenyl group;
R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group;
R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms;
R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group;
X 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group Represents a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or — (CH 2 ) r COO—Y 1 ;
X 2 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group Represents a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms;
X 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group And a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, an alkanoyl group having 1 to 18 carbon atoms, and an alkenoyl group having 3 to 18 carbon atoms.

酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし18のアルカノイル基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたベンゾイル基、テノイル基またはフロイル基を表す。 Substituted with an oxygen atom or an alkanoyl group having 3 to 18 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , a cycloalkylcarbonyl group having 6 to 9 carbon atoms, a benzoyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A benzoyl group, a tenoyl group or a furoyl group is represented.

1は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 Y 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group Represents a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

2は水素原子または炭素原子数1ないし8のアルキル基を表す。 Y 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.

pは0、1または2を表し、qは0ないし8の整数を表す。   p represents 0, 1 or 2, and q represents an integer of 0 to 8.

rは1または2を表す。   r represents 1 or 2;

nは1ないし4の整数を表し、そしてnが1を表すとき、Aは基:−O−Z1、−N(Z2)(Z3)、−NH(OZ4)、−O−N=C(Z5)(Z6)、−S(O)m7、−NH−Z8または−S−Z8を表すか、あるいはAはまた窒素原子において自由原子価をもつ未置換のまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された複素環基を表し;
1は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、フェニル環において炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基、テトラヒドロアビエチル基、炭素原子数1ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし18のアルカノイル基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたベンゾイル基、テノイル基、フロイル基または式IIaもしくは式IIbで表される基を表し;Z2は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし18のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数3ないし18のアルカノイル基、炭素原子数6ないし9のシクロアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたベンゾイル基、テノイル基、フロイル基、基:−(CH2pCOO−X2または式IIbで表される基を表す。
n represents an integer of 1 to 4, and when n represents 1, A represents a group: —O—Z 1 , —N (Z 2 ) (Z 3 ), —NH (OZ 4 ), —O—N ═C (Z 5 ) (Z 6 ), —S (O) m Z 7 , —NH—Z 8 or —S—Z 8 , or A is also unsubstituted with a free valence at the nitrogen atom Or a heterocyclic group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
Z 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms; an oxygen atom or an alkyl group having 3 to 18 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a carbon atom A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 1 to 4 carbon atoms A cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a 7 to 9 carbon atom substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the phenyl ring. 9 phenylalkyl groups, tetrahydrofurfuryl groups, tetrahydroabiethyl groups, alkanoyl groups having 1 to 18 carbon atoms, 3 carbon atoms 18 alkenoyl groups; oxygen atoms or alkanoyl groups having 3 to 18 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , cycloalkylcarbonyl groups having 6 to 9 carbon atoms, benzoyl groups, 1 to 4 carbon atoms Represents a benzoyl group, a tenoyl group, a furoyl group or a group represented by the formula IIa or IIb substituted with an alkyl group; Z 2 is substituted with a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or an OH group 5 to 8 carbon atoms substituted by an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A cycloalkyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl having 7 to 9 carbon atoms An alkanoyl group of 1 to 18 carbon atoms, alkenoyl of 3 to 18 carbon atoms; an oxygen atom or> N-Y 2 in interrupted alkanoyl group having a carbon number of 3 to 18, 9 6 -C A cycloalkylcarbonyl group, a benzoyl group, a benzoyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a tenoyl group, a furoyl group, a group: — (CH 2 ) p COO-X 2 or a group represented by Formula IIb Represents.

3は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す。 Z 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms substituted with an OH group, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 8 carbon atoms. An alkyl group, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or 7 carbon atoms Or a phenylalkyl group of 9 or a group represented by formula IIb.

あるいはZ2およびZ3は一緒になって炭素原子数3ないし6のアルキレン基、炭素原子数3ないし6のオキソアルキレン基または酸素原子もしくは>N−T6で中断された炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表す。 Or Z 2 and Z 3 is an alkylene group of 6 C 3 -C together, C 3 -C interrupted by oxo alkylene group or an oxygen atom or> N-T 6 6 3 -C 6 Represents an alkylene group.

4は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 Z 4 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group Represents a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

5およびZ6はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 Z 5 and Z 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a carbon atom having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A cycloalkenyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

あるいはZ5およびZ6は結合している炭素原子と一緒になって、無置換もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形成し;Z7は炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または−(CH2rCOO−Y1基を表す。 Or Z 5 and Z 6 together with the carbon atoms to which they are attached form a cycloalkylidene ring having 5 to 8 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; 7 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, It represents a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms or a — (CH 2 ) r COO—Y 1 group.

8は無置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンズオキサゾリル基または未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンゾチアゾリル基を表す。 Z 8 represents an unsubstituted or substituted 2-benzoxazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an unsubstituted or substituted 2-benzothiazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. To express.

1およびT2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または基:−CH2−S−X1を表す。 T 1 and T 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a carbon atom having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A cycloalkenyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group: —CH 2 —S—X 1 .

3は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し、T4は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−CH2−S−X1、−(CH2pCOO−X2または−(CH2qO−X3基を表す。 T 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, T 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, or 5 to 8 carbon atoms. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms A substituted cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, —CH 2 —S— X 1 represents a — (CH 2 ) p COO—X 2 or — (CH 2 ) q O—X 3 group.

5は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、−OH、炭素原子数6ないし12のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表す。 T 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —OH, an alkoxy group having 6 to 12 carbon atoms, a cycloalkoxy group having 5 to 8 carbon atoms, an allyl group, a benzyl group, or an acetyl group. .

6は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表す。 T 6 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group Represents a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms.

mは1または2を表し、wは0または1を表し、nが2を表すとき;Aは式IIIa、IIIb、IIIc、IIId、IIIeまたはIIIfで表される基を表す。   m represents 1 or 2, w represents 0 or 1, and n represents 2; A represents a group represented by the formula IIIa, IIIb, IIIc, IIId, IIIe or IIIf.

1およびG3はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、基:−(CH2pCOO−X2または式IIbで表される基を表す。G2は炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数4ないし12のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基、炭素原子数2ないし18のアルカンジオイル基、炭素原子数4ないし18のアルケンジオイル基またはカルボキシベンゾイル基を表し;G4およびG6はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表し;G5は炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数4ないし12のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基を表す。 G 1 and G 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, represents a group represented by the group :-( CH 2) p COO-X 2 or formula IIb. G 2 is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms; an oxygen atom or an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenylene group having 4 to 12 carbon atoms, or 4 to 4 carbon atoms 12 alkynylene groups, (C1-C4 alkylene) -phenylene- (C1-C4 alkylene) groups, two free-electron valences and monocyclics containing 5-12 carbon atoms A saturated hydrocarbon group, a phenylene group, a phenylene group or a naphthylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkanedioyl group having 2 to 18 carbon atoms, and an alkenedioyl group having 4 to 18 carbon atoms or carboxy represents a benzoyl group; G 4 and G 6 are independently each other, hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 18 carbon atoms, An alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a carbon atom A phenyl group substituted by an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms or a group represented by formula IIb; G 5 is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms; an oxygen atom Or an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenylene group having 4 to 12 carbon atoms, an alkynylene group having 4 to 12 carbon atoms, (an alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -Phenylene- (C1-C4 alkylene) group, monocyclic saturated hydrocarbon group having 2 free electron valences and containing 5 to 12 carbon atoms Represents a phenylene group, a phenylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a naphthylene group.

7は炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数4ないし12のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基、炭素原子数2ないし18のアルカンジオイル基、炭素原子数4ないし18のアルケンジオイル基、カルボキシベンゾイル基を表す。 G 7 is an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms; an oxygen atom or an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenylene group having 4 to 12 carbon atoms, or 4 to 4 carbon atoms 12 alkynylene groups, (C1-C4 alkylene) -phenylene- (C1-C4 alkylene) groups, two free-electron valences and monocyclics containing 5-12 carbon atoms A saturated hydrocarbon group, a phenylene group, a phenylene group or a naphthylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkanedioyl group having 2 to 18 carbon atoms, and an alkenedioyl group having 4 to 18 carbon atoms Represents a carboxybenzoyl group.

8およびG10はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す。 G 8 and G 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 1 carbon atom. A cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 4 to 4 carbon atoms, a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or Represents a group represented by Formula IIb.

9およびG11は、炭素原子数2ないし12のアルキレン基;酸素原子もしくは>N−Y2で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のアルケニレン基、炭素原子数4ないし12のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし12個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニレン基またはナフチレン基を表し; G12は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す。 G 9 and G 11 are each an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms; an oxygen atom or an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by> N—Y 2 , an alkenylene group having 4 to 12 carbon atoms, carbon An alkynylene group having 4 to 12 atoms, an (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) group, two free electron valences and 5 to 12 carbon atoms; A monocyclic saturated hydrocarbon group, a phenylene group, a phenylene group or a naphthylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; G 12 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, carbon An alkenyl group having 3 to 18 atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and an alkyl group having 5 to 8 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. 8 cycloalkyl group and a phenyl group, a phenylalkyl group or a group of the formula IIb phenyl group substituted with an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, C 7 -C 9.

ならびにtは1または2を表す、化合物である。   And t is a compound representing 1 or 2.

同様に好ましいのは、式中、置換基R1はおのおの互いに独立して、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または基:−CH2−S−X1を表し、置換基R2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または基:−CH2−S−X1、−(CH2pCOO−X2または−(CH2qO−X3を表し;置換基R3は水素原子を表し;R4は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R5は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基を表し;R6は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基を表し;R7は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R8は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基を表す。 Preference is likewise given to those in which the substituents R 1 are, independently of one another, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms. Represents a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group: —CH 2 —S—X 1 , wherein the substituents R 2 are each independently of each other. Hydrogen atom, alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, phenyl group, carbon A phenylalkyl group having 7 to 9 atoms or a group: —CH 2 —S—X 1 , — (CH 2 ) p COO—X 2 or — (CH 2 ) q O—X 3 ; substituent R 3 Is water It represents an atom; R 4 represents an alkyl of 1 to 4 hydrogen or carbon atoms; R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 6 is a hydrogen atom, a carbon R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group; Represents.

1は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または−(CH2rCOO−Y1を表し;X2は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;X3は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし10のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基、酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18のアルカノイル基;またはベンゾイル基を表し、Y1は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;pは0、1または2を表し、qは0ないし8の整数を表し;rは1または2を表し;nは1ないし4の整数を表し、そしてnが1を表すとき、Aは基:−O−Z1、−N(Z2)(Z3)、−NH(OZ4)、−O−N=C(Z5)(Z6)、−S(O)m7、−NH−Z8または−S−Z8を表すか、あるいはAはまた窒素原子において自由原子価をもつ未置換のまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された複素環基を表す。 X 1 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or — (CH 2 ) r COO—Y 1 . X 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms; X 3 represents 1 to 10 carbon atoms; Alkyl group, cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, phenyl group, phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, alkanoyl group having 1 to 10 carbon atoms, alkenoyl group having 3 to 18 carbon atoms, oxygen An alkanoyl group having 3 to 18 carbon atoms interrupted by atoms; or a benzoyl group, wherein Y 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a carbon atom A cycloalkyl group having 5 to 8 children, a phenyl group or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms; p represents 0, 1 or 2; q represents an integer of 0 to 8; N represents an integer of 1 to 4, and when n represents 1, A represents a group: —O—Z 1 , —N (Z 2 ) (Z 3 ), —NH (OZ 4 ), -O-N = C (Z 5 ) (Z 6), - S (O) m Z 7, or represents -NH-Z 8, or -S-Z 8, or a a free valence in the nitrogen atom And an unsubstituted or substituted heterocyclic group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

1は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、テトラヒドロフルフリル基、炭素原子数1ないし10のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基、酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18のアルカノイル基;ベンゾイル基または式IIaもしくは式IIbで表される基を表す。 Z 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 3 to 18 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 8 carbon atoms. An alkyl group, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, a tetrahydrofurfuryl group, an alkanoyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 18 carbon atoms, An alkanoyl group having 3 to 18 carbon atoms interrupted by an oxygen atom; a benzoyl group or a group represented by formula IIa or formula IIb;

2は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし10のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、炭素原子数1ないし10のアルカノイル基、炭素原子数3ないし18のアルケノイル基アルケノイル基、酸素原子で中断された炭素原子数3ないし18のアルカノイル基;
ベンゾイル基、基:−(CH2pCOO−X2または式IIbで表される基を表し;
3は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし10のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表すか、あるいはZ2およびZ3は一緒になって炭素原子数3ないし6のアルキレン基、炭素原子数3ないし6のオキソアルキレン基または酸素原子で中断された炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表し;
4は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
5およびZ6はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基または炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表すか、あるいはZ5およびZ6は結合している炭素原子と一緒になって炭素原子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形成する。
Z 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an OH group, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 8 carbon atoms. Alkyl group, phenyl group, phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, alkanoyl group having 1 to 10 carbon atoms, alkenoyl group having 3 to 18 carbon atoms, alkenoyl group, 3 to 3 carbon atoms interrupted by oxygen atom 18 alkanoyl groups;
A benzoyl group, a group: — (CH 2 ) p COO—X 2 or a group represented by Formula IIb;
Z 3 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 10 carbon atoms substituted with an OH group, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, or a cyclohexane having 5 to 8 carbon atoms. Represents an alkyl group, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms or a group represented by formula IIb, or Z 2 and Z 3 together represent an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms, carbon Represents an oxoalkylene group having 3 to 6 atoms or an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms interrupted by an oxygen atom;
Z 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms;
Z 5 and Z 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 5 carbon atoms. Represents a cycloalkenyl group having 8 to 8 carbon atoms, a phenyl group, or a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or Z 5 and Z 6 together with the carbon atoms to which they are bonded, is a cyclohexane having 5 to 8 carbon atoms. Forms an alkylidene ring.

7は炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または−(CH2)−COO−Y1基を表す。 Z 7 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a — (CH 2 ) —COO—Y 1 group. To express.

8は無置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンズオキサゾリル基または未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンゾチアゾリル基を表し;
1およびT2はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、または−CH2−S−X1基を表す。
Z 8 represents an unsubstituted or substituted 2-benzoxazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an unsubstituted or substituted 2-benzothiazolyl group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Representation;
T 1 and T 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, or 5 carbon atoms. Represents a cycloalkenyl group having 8 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a —CH 2 —S—X 1 group.

3は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す。 T 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

4は水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数2ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−CH2−S−X1、−(CH2pCOO−X2または−(CH2qO−X3を表す。 T 4 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a cycloalkenyl group having 5 to 8 carbon atoms, or a phenyl group. Represents a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, —CH 2 —S—X 1 , — (CH 2 ) p COO—X 2 or — (CH 2 ) q O—X 3 .

5は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基、−OH、炭素原子数6ないし12のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシクロアルコキシ基、アリル基、ベンジル基またはアセチル基を表し;mは1または2を表し;wは0または1を表し;nが2を表すとき;Aは式IIIa、式IIIb、式IIIc、式IIId、式IIIeまたは式IIIfで表される基を表す。 T 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, —OH, an alkoxy group having 6 to 12 carbon atoms, a cycloalkoxy group having 5 to 8 carbon atoms, an allyl group, a benzyl group, or an acetyl group. M represents 1 or 2; w represents 0 or 1; when n represents 2; A represents a group represented by Formula IIIa, Formula IIIb, Formula IIIc, Formula IIId, Formula IIIe, or Formula IIIf; .

1およびG3はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−(CH2pCOO−X2基または式IIbで表される基を表し、G2は炭素原子数2ないし10のアルキレン基、酸素原子で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし10のアルケニレン基、炭素原子数4ないし10のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし10個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数2ないし10のアルカンジオイル基、炭素原子数4ないし10のアルケンジオイル基またはカルボキシベンゾイル基を表し;G4およびG6はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す。 G 1 and G 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, carbon Represents a phenylalkyl group having 7 to 9 atoms, — (CH 2 ) p COO—X 2 group or a group represented by the formula IIb, and G 2 is interrupted by an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms and an oxygen atom. An alkylene group having 4 to 12 carbon atoms, an alkenylene group having 4 to 10 carbon atoms, an alkynylene group having 4 to 10 carbon atoms, (alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (1 to 1 carbon atom) 4 alkylene) group, a monocyclic saturated hydrocarbon group having 2 free electron valences and 5 to 10 carbon atoms, a phenylene group, an aryl having 2 to 10 carbon atoms. A lucandioyl group, an alkenedioyl group having 4 to 10 carbon atoms or a carboxybenzoyl group; G 4 and G 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a carbon atom; It represents an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or a group represented by the formula IIb.

5は炭素原子数2ないし10のアルキレン基、酸素原子で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし10のアルケニレン基、炭素原子数4ないし10のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし10個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基またはフェニレン基を表し、G7は炭素原子数2ないし10のアルキレン基、酸素原子で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし10のアルケニレン基、炭素原子数4ないし10のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし10個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基、フェニレン基、炭素原子数2ないし10のアルカンジオイル基、炭素原子数4ないし10のアルケンジオイル基またはカルボキシベンゾイル基を表す。 G 5 is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, an alkenylene group having 4 to 10 carbon atoms, an alkynylene group having 4 to 10 carbon atoms, ( C1-C4 alkylene) -phenylene- (C1-C4 alkylene) group, monocyclic saturated hydrocarbon group or phenylene having two free electron valences and containing 5 to 10 carbon atoms G 7 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, an alkenylene group having 4 to 10 carbon atoms, or 4 to 10 carbon atoms. An alkynylene group (an alkylene having 1 to 4 carbon atoms) -phenylene- (an alkylene having 1 to 4 carbon atoms), and two free electron valences. And a monocyclic saturated hydrocarbon group containing 5 to 10 carbon atoms, a phenylene group, an alkanedioyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkenedioyl group having 4 to 10 carbon atoms, or a carboxybenzoyl group. To express.

8およびG10はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す。 G 8 and G 10 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, carbon It represents a phenylalkyl group having 7 to 9 atoms or a group represented by the formula IIb.

9およびG11は、炭素原子数2ないし10のアルキレン基、酸素原子で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし10のアルケニレン基、炭素原子数4ないし10のアルキニレン基、(炭素原子数1ないし4のアルキレン)−フェニレン−(炭素原子数1ないし4のアルキレン)基、2つの自由電子価をもちおよび5ないし10個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基またはフェニレン基を表し;G12は水素原子、炭素原子数1ないし10のアルキル基、炭素原子数3ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表し;ならびにtは1または2を表す、式Iで表される化合物である。
式中、nが1であり;Aが式:−N(Z2)(Z3)で表される基を表し;
2が水素原子を表し、およびZ3は水素原子、炭素原子数1ないし25のアルキル基、OH基で置換された炭素原子数2ないし25のアルキル基、炭素原子数3ないし24のアルケニル基、炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された炭素原子数5ないし12のシクロアルキル基、フェニル基、炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換されたフェニル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す、式Iの化合物もまた好ましい。
G 9 and G 11 are each an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, an alkenylene group having 4 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms. Alkynylene group, (C 1 -C 4 alkylene) -phenylene- (C 1 -C 4 alkylene) group, monocyclic saturated carbonization with two free electrons and 5 to 10 carbon atoms G 12 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a phenyl group, or a carbon atom; A phenylalkyl group of formulas 7 to 9 or a group of formula IIb; and t is a compound of formula I, which represents 1 or 2.
In the formula, n is 1; A represents a group represented by the formula: —N (Z 2 ) (Z 3 );
Z 2 represents a hydrogen atom, and Z 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 25 carbon atoms substituted with an OH group, and an alkenyl group having 3 to 24 carbon atoms. Substituted with a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a phenyl group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms Preference is also given to compounds of the formula I which represent a substituted phenyl group, a phenylalkyl group of 7 to 9 carbon atoms or a group of the formula IIb.

他の好ましい式Iの化合物は式中、nが1であり、Aが−O−Z1で表される基を表す。 Other preferred compounds of formula I are those wherein n is 1 and A represents a group represented by -O-Z 1 .

1が酸素原子で中断された炭素原子数1ないし25のアルキル基または式IIaで表される基を表し;およびwが1を表す化合物である。 A compound in which Z 1 represents an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms interrupted by an oxygen atom or a group represented by formula IIa; and w represents 1.

さらに好ましい本発明の実例は式中、置換基R1は同じでありおよび炭素原子数1ないし5のアルキル基または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表し、置換基R2は同じでありおよび炭素原子数1ないし5のアルキル基を表し;置換基R3は水素原子を表しおよびR4は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す、化合物である。 Further preferred examples of the present invention are those wherein the substituent R 1 is the same and represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and the substituent R 2 is the same. And an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; a substituent R 3 represents a hydrogen atom and R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

特に好ましい式Iの化合物は、式中、置換基R1は同じでありおよび炭素原子数1ないし5のアルキル基または炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表し、置換基R2は同じでありおよび炭素原子数1ないし5のアルキル基を表し;置換基R3は水素原子を表しおよびR4は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R5、R6、R7およびR8は水素原子を表し;nが1または2を表し、およびnが1を表すとき、Aは基:−O−Z1、−N(Z2)(Z3)、−NH(OZ4)、−O−N=C(Z5)(Z6)、−S(O)m7、−NH−Z8または−S−Z8を表すか、あるいはAはまた窒素原子において自由原子価をもつ未置換のまたは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された複素環基を表す。 Particularly preferred compounds of the formula I are those in which the substituents R 1 are the same and represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, and the substituents R 2 are the same Yes and represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; the substituent R 3 represents a hydrogen atom and R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 5 , R 6 , R 7 And R 8 represents a hydrogen atom; when n represents 1 or 2, and n represents 1, A represents a group: —O—Z 1 , —N (Z 2 ) (Z 3 ), —NH (OZ 4), - O-N = C (Z 5) (Z 6), - S (O) m Z 7, or represents -NH-Z 8, or -S-Z 8, or a is also at liberty nitrogen atom It represents an unsubstituted or unsubstituted heterocyclic group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

1は炭素原子数1ないし18のアルキル基、酸素原子で中断された炭素原子数3ないし10のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、テトラヒドロフルフリル基あるいは式IIaまたは式IIbで表される基を表す。 Z 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms interrupted by an oxygen atom, a cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms, a tetrahydrofurfuryl group, a formula IIa or a formula IIb. Represents a group represented by

2は炭素原子数1ないし18のアルキル基、−OH基で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基、−(CH2)−COO−X2基または式IIbで表される基を表す。 Z 2 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms substituted with an —OH group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, — (CH 2 ) —COO—X 2 groups or groups represented by formula IIb are represented.

3は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、−OH基で置換された炭素原子数2ないし4のアルキル基、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表すか;
あるいはZ2およびZ3は一緒になって炭素原子数3ないし6のオキソアルキレン基または酸素原子で中断された炭素原子数3ないし6のアルキレン基を表し;Z4は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基を表し;
5およびZ6は結合している炭素原子と一緒になって、炭素原子数5ないし8のシクロアルキリデン環を形成し;Z7は炭素原子数1ないし10のアルキル基を表し;Z8は未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンズオキサゾリル基または未置換のもしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で置換された2−ベンゾチアゾリル基を表し;
1、T2、T3およびT4はおのおの互いに独立しては水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;
5は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表す。
Z 3 is represented by a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 2 to 4 carbon atoms substituted with an —OH group, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms, or Formula IIb Represents a group;
Or Z 2 and Z 3 together represent an oxoalkylene group having 3 to 6 carbon atoms or an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms interrupted by an oxygen atom; Z 4 is a group having 7 to 9 carbon atoms; Represents a phenylalkyl group;
Z 5 and Z 6 together with the carbon atoms to which they are attached C 5 -C form a cycloalkylidene ring 8; Z 7 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Z 8 is Represents a 2-benzoxazolyl group which is unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a 2-benzothiazolyl group which is unsubstituted or substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
T 1 , T 2 , T 3 and T 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms;
T 5 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

2は炭素原子数1ないし10のアルキル基を表し;mは1または2を表し;pは1を表し;wは0または1を表し;ならびにnが2を表すとき;
Aは式IIIa、式IIIb、式IIIcまたは式IIIfを表し;G1およびG3はおのおの互いに独立して、水素原子、炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表し;
2は炭素原子数2ないし8のアルキレン基、2つの自由電子価をもちおよび10個の炭素原子を含む単環式飽和炭化水素基を表し;
7は炭素原子数2ないし8のアルキレン基または酸素原子で中断された炭素原子数4ないし12のアルキレン基を表し;
12は炭素原子数7ないし9のフェニルアルキル基または式IIbで表される基を表す。
X 2 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m represents 1 or 2; p represents 1; w represents 0 or 1; and n represents 2;
A represents formula IIIa, formula IIIb, formula IIIc or formula IIIf; G 1 and G 3 each independently represent a hydrogen atom, a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms or a group represented by formula IIb. Representation;
G 2 represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms, a monocyclic saturated hydrocarbon group having 2 free electron valences and containing 10 carbon atoms;
G 7 represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms or an alkylene group having 4 to 12 carbon atoms interrupted by an oxygen atom;
G 12 represents a phenylalkyl group having 7 to 9 carbon atoms or a group represented by the formula IIb.

以下に一般式(1)で表される化合物を具体的に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although the compound represented with General formula (1) below is shown concretely below, this invention is not limited to these.

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一般式(1)で表される化合物は後述のセルロースエステルに対して0.1〜10質量%添加することが好ましく、さらに0.2〜5質量%添加することが好ましく、さらに0.5〜2質量%添加することが好ましい。   The compound represented by the general formula (1) is preferably added in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, and more preferably 0.5 to It is preferable to add 2% by mass.

《セルロースエステル》
次に、本発明に用いられるセルロースエステルについて詳述する。
《Cellulose ester》
Next, the cellulose ester used in the present invention will be described in detail.

本発明の光学フィルムは、溶液流延法、または溶融流延法により製造される。   The optical film of the present invention is produced by a solution casting method or a melt casting method.

溶液流延法は、セルロースエステルを溶媒中に溶解した溶液(ドープ)を支持体上に流延し、溶媒を蒸発させて光学フィルムを形成する。   In the solution casting method, a solution (dope) in which a cellulose ester is dissolved in a solvent is cast on a support, and the solvent is evaporated to form an optical film.

本発明の請求項2に記載の光学フィルムの溶融流延法では、セルロースエステルを加熱により溶融したもの(メルト)を支持体上に流延して光学フィルムを形成する。   In the melt casting method for an optical film according to claim 2 of the present invention, an optical film is formed by casting a melted cellulose ester (melt) on a support.

溶融流延法は光学フィルム製造時の有機溶媒使用量を、大幅に少なくすることができるため、従来の有機溶媒を多量に使用する溶液流延法に比較して、環境適性が大幅に向上したフィルムが得られるため、溶融流延法により、光学フィルムを製造することが好ましい。   Since the melt casting method can significantly reduce the amount of organic solvent used in the production of optical films, environmental suitability has been greatly improved compared to conventional solution casting methods that use large amounts of organic solvents. Since a film is obtained, it is preferable to produce an optical film by a melt casting method.

本発明における溶融流延とは、実質的に溶媒を用いずにセルロースエステルを流動性を示す温度まで加熱溶融しこれを用いて製膜する方法であり、例えば流動性のセルロースエステルをダイスから押し出して製膜する方法である。   The melt casting in the present invention is a method in which a cellulose ester is heated and melted to a temperature showing fluidity without substantially using a solvent, and a film is formed using this, for example, extruding a fluid cellulose ester from a die. This is a method for forming a film.

なお溶融セルロースエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよいが、フィルム状に成形を行う溶融製膜プロセスにおいては実質的に溶媒を用いずに成形加工する。   In addition, although a solvent may be used in a part of the process of preparing the molten cellulose ester, in the melt film forming process in which the film is formed into a film, the forming process is substantially performed without using the solvent.

光学フィルムを構成するセルロースエステルとしては、溶融製膜可能なセルロースエステルであれば特に限定はされず、例えば芳香族カルボン酸エステル等も用いられるが、光学特性等の得られる光学フィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用するのが好ましい。   The cellulose ester constituting the optical film is not particularly limited as long as it is a meltable film-forming cellulose ester. For example, an aromatic carboxylic acid ester or the like is also used, but in consideration of the characteristics of the obtained optical film such as optical characteristics. And lower fatty acid esters of cellulose are preferably used.

本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が5以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。   In the present invention, the lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 5 or less carbon atoms. For example, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose pivalate and the like are preferable lower cellulose esters of cellulose. It is mentioned as a thing.

炭素原子数が6以上の脂肪酸で置換されたセルロースエステルでは、溶融製膜性は良好であるものの、得られる光学フィルムの力学特性が低く、実質的に光学フィルムとして用いることが難しいためである。   This is because the cellulose ester substituted with a fatty acid having 6 or more carbon atoms has good melt film-forming properties, but the resulting optical film has low mechanical properties and is substantially difficult to use as an optical film.

力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。   In order to achieve both mechanical properties and melt film-forming properties, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate may be used.

本発明において、光学フィルムを構成するセルロースエステルは、炭素数2以上の脂肪族アシル基を有するセルロースエステルであり、かつ、セルロースエステルのアシル基総炭素数が6.2〜7.5であるセルロースエステルである。   In the present invention, the cellulose ester constituting the optical film is a cellulose ester having an aliphatic acyl group having 2 or more carbon atoms, and the cellulose ester has a total acyl group carbon number of 6.2 to 7.5. Ester.

セルロースエステルのアシル基総炭素数は、好ましくは、6.5〜7.2であり、さらに好ましくは6.7〜7.1である。   The total number of acyl groups in the cellulose ester is preferably 6.5 to 7.2, and more preferably 6.7 to 7.1.

ただし、アシル基総炭素数は、セルロースエステル中の各アシル基の置換度と炭素数の積の総和である。さらに、脂肪族アシル基の炭素数は、セルロース合成の生産性、コストの観点から、2〜6が好ましい。   However, the total number of carbon atoms in the acyl group is the sum of the products of the substitution degree of each acyl group in the cellulose ester and the number of carbon atoms. Furthermore, the number of carbon atoms of the aliphatic acyl group is preferably 2 to 6 from the viewpoint of cellulose synthesis productivity and cost.

なお、アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することができる。   The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタネート基、ヘキサネート基等が挙げられ、セルロースエステルとしては、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースペンタネート等が挙げられる。   Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a pentanate group, and a hexanate group. Examples of the cellulose ester include cellulose propionate, cellulose butyrate, and cellulose pentanate.

また、上述の側鎖炭素数を満たせば、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートペンタネート等のように混合脂肪酸エステルでもよい。   Further, mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate pentanate may be used as long as the above-mentioned side chain carbon number is satisfied.

この中でも、特にセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましい。   Among these, cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate are particularly preferable.

なお溶液流延製膜で一般に用いられているセルロースエステルであるトリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースについては、側鎖炭素数の条件を満たさないため、本発明には含まない。   Note that triacetyl cellulose and diacetyl cellulose, which are cellulose esters generally used in solution casting film formation, do not satisfy the condition of the number of side chain carbon atoms, and thus are not included in the present invention.

一般に、セルロースエステルのアシル基の総置換度に対し、セルロースエステルフィルムの機械物性及びケン化性と、セルロースエステルの溶融製膜性は、トレードオフの関係にある。   In general, the mechanical properties and saponification properties of a cellulose ester film and the melt film-forming property of a cellulose ester are in a trade-off relationship with respect to the total substitution degree of acyl groups of the cellulose ester.

例えば、セルロースアセテートプロピオネートにおいて、アシル基の総置換度を上げると機械物性が低下し、溶融製膜性が向上するため、両立は困難である。本発明では、セルロースエステルのアシル基総炭素数を6.2〜7.2とすることで、光学フィルム機械物性、ケン化性、溶融製膜性を両立できることを見出した。この機構の詳細は不明であるが、アシル基の炭素数により、光学フィルム機械物性、ケン化性、溶融製膜性への影響が異なるためと推測される。   For example, in cellulose acetate propionate, when the total substitution degree of acyl groups is increased, mechanical properties are lowered and melt film-forming properties are improved. In this invention, it discovered that the optical film mechanical property, saponification property, and melt film-forming property can be made compatible by making the acyl group total carbon number of a cellulose ester into 6.2-7.2. The details of this mechanism are unknown, but it is assumed that the influence on the optical film mechanical properties, saponification properties, and melt film-forming properties varies depending on the carbon number of the acyl group.

すなわち、同置換度の場合、アセチル基よりもプロピオニル基、ブチリル基といった長鎖のアシル基の方が、より疎水性となり、溶融製膜性を向上させる。   That is, in the case of the same substitution degree, a long-chain acyl group such as a propionyl group or a butyryl group becomes more hydrophobic than an acetyl group, thereby improving melt film-forming properties.

従って、同じ溶融製膜性を達成する場合、プロピオニル基、ブチリル基の置換度はアセチル基よりも低置換度でよく、そのため機械物性、ケン化性の低下が抑えられると推測される。   Therefore, when achieving the same melt film-forming property, the substitution degree of propionyl group and butyryl group may be lower than that of acetyl group, so that it is presumed that the deterioration of mechanical properties and saponification properties can be suppressed.

本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.0〜5.5のものが用いられ、特に好ましくは1.4〜5.0であり、さらに好ましくは2.0〜3.0である。また、Mwは10万〜50万、中でも15万〜30万のものが好ましく用いられる。   The cellulose ester used in the present invention has a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.0 to 5.5, particularly preferably 1.4 to 5.0, and more preferably 2 0.0-3.0. Mw is preferably 100,000 to 500,000, and more preferably 150,000 to 300,000.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することができる。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出する。測定条件は以下の通りである。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using high performance liquid chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight are calculated. The measurement conditions are as follows.

溶媒:テトヒドロフラン
装置:HLC−8220(東ソー(株)製)
カラム:TSKgel SuperHM−M(東ソー(株)製)
カラム温度:40℃
試料温度:0.1質量%
注入量:10μl
流量:0.6ml/min
校正曲線:
標準ポリスチレン:PS−1(Polymer Laboratories社製)Mw=2,560,000〜580までの9サンプルによる校正曲線を使用した。
Solvent: Tetohydrofuran Device: HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel SuperHM-M (manufactured by Tosoh Corporation)
Column temperature: 40 ° C
Sample temperature: 0.1% by mass
Injection volume: 10 μl
Flow rate: 0.6ml / min
Calibration curve:
Standard polystyrene: A calibration curve with 9 samples from PS-1 (Polymer Laboratories) Mw = 2,560,000 to 580 was used.

本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。   The cellulose ester raw material cellulose used in the present invention may be wood pulp or cotton linter, and the wood pulp may be softwood or hardwood, but softwood is more preferred.

製膜の際の、剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。   Cotton linter is preferably used from the viewpoint of releasability during film formation.

これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、あるいは単独で使用することができる。   The cellulose ester made from these can be mixed suitably or can be used independently.

例えば、綿花リンター由来セルロースエステル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエステル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエステルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30で用いることができる。   For example, the ratio of cellulose ester derived from cellulose linter: cellulose ester derived from wood pulp (coniferous): cellulose ester derived from wood pulp (hardwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50:50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, 40:30:30.

セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び/または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び/またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。   The cellulose ester can be obtained, for example, by substituting the hydroxyl group of the raw material cellulose with acetic anhydride, propionic anhydride and / or butyric anhydride in the usual manner using an acetyl group, propionyl group and / or butyl group within the above range. .

このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平10−45804号あるいは特表平6−501040号に記載の方法を参考にして合成することができる。   The method for synthesizing such a cellulose ester is not particularly limited, and for example, it can be synthesized with reference to the method described in JP-A-10-45804 or JP-A-6-501040.

アセチル基、プロピオニル基、ブチル基等のアシル基の置換度は、ASTM−D817−96に準じて測定することができる。   The degree of substitution of acyl groups such as acetyl, propionyl and butyl groups can be measured according to ASTM-D817-96.

また、工業的にはセルロースエステルは硫酸を触媒として合成されているが、この硫酸は完全には除去されておらず、残留する硫酸が溶融製膜時に各種の分解反応を引き起こし、得られる光学フィルムの品質に影響を与えるため、本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で0.1〜40ppmの範囲であることが本発明の効果をより奏する点で好ましい。   In addition, industrially, cellulose esters are synthesized using sulfuric acid as a catalyst, but this sulfuric acid is not completely removed, and the remaining sulfuric acid causes various decomposition reactions during melt film formation, resulting in an optical film. In view of the effects of the present invention, the residual sulfuric acid content in the cellulose ester used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 40 ppm in terms of elemental sulfur.

これらは塩の形で含有していると考えられる。   These are considered to be contained in the form of salts.

これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。   This is not well understood, although an increase in the number of washings may affect the resin.

さらに0.1〜30ppmの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、同様にASTM−D817−96により測定することができる。   Furthermore, the range of 0.1-30 ppm is preferable. The residual sulfuric acid content can be similarly measured by ASTM-D817-96.

また、その他の残留酸(酢酸等)を含めたトータル残留酸量は1000ppm以下が好
ましく、500ppm以下がさらに好ましく、100ppm以下がより好ましい。
The total residual acid amount including other residual acids (such as acetic acid) is preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and even more preferably 100 ppm or less.

合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、さらに十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることができ、溶融流延法によって光学フィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れる光学フィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述するRt値、Ro値が良好な光学フィルムを得ることができる。   Compared to the case where the synthesized cellulose ester is washed in a solution casting method, the residual acid content can be made within the above range by manufacturing the optical film by the melt casting method. In this case, an optical film with reduced adhesion to the lip portion and excellent flatness can be obtained, and an optical film with good dimensional change, mechanical strength, transparency, moisture resistance, Rt value and Ro value described later can be obtained. be able to.

また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、あるいは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。   In addition to washing with water, the cellulose ester can be washed with a poor solvent such as methanol or ethanol, or as a result, a mixed solvent of a poor solvent and a good solvent can be used. Organic impurities in the molecule can be removed.

さらに、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。   Furthermore, washing of the cellulose ester is preferably performed in the presence of an antioxidant such as a hindered amine or a phosphite, which improves the heat resistance and film formation stability of the cellulose ester.

また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。   In order to improve the heat resistance, mechanical properties, optical properties, etc. of cellulose ester, it can be dissolved in a good solvent of cellulose ester and then reprecipitated in a poor solvent to remove low molecular weight components and other impurities of cellulose ester. it can. At this time, it is preferable to carry out in the presence of an antioxidant as in the case of washing the cellulose ester.

さらに、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマーあるいは低分子化合物を添加してもよい。   Furthermore, another polymer or a low molecular weight compound may be added after the cellulose ester reprecipitation treatment.

また、本発明に好ましく用いられるセルロースエステルは光学フィルムにした時の輝点異物が少ないので好ましい。   In addition, the cellulose ester preferably used in the present invention is preferable because it has few bright spot foreign matters when it is formed into an optical film.

輝点異物とは、2枚の偏光板を直交に配置し(クロスニコル)、この間に光学フィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面から光学フィルムを観察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。   Bright spot foreign matter is two polarizing plates placed at right angles (crossed Nicols), an optical film is placed between them, light from the light source is applied from one side, and the optical film is observed from the other side. This is the point where the light from the light source appears to leak.

このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。   At this time, the polarizing plate used for the evaluation is desirably composed of a protective film having no bright spot foreign matter, and a polarizing plate using a glass plate for protecting the polarizer is preferably used.

輝点異物はセルロースエステルに含まれる未酢化もしくは低酢化度のセルロースがその原因の1つと考えられ、輝点異物の少ないセルロースエステルを用いる(置換度の分散の小さいセルロースエステルを用いる)ことと、溶融したセルロースエステルを濾過すること、あるいはセルロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくともいずれかにおいて、一度溶液状態として同様に濾過工程を経由して輝点異物を除去することもできる。   One of the causes of bright spot foreign matter is the unacetylated or low acetylated cellulose contained in the cellulose ester. Use a cellulose ester with less bright spot foreign matter (use a cellulose ester with a small dispersion degree of substitution). And filtering the melted cellulose ester, or removing the bright spot foreign matters through the filtration process in the same way once in the solution state in at least one of the process of synthesizing the cellulose ester and the process of obtaining the precipitate You can also.

溶融樹脂は粘度が高いため、後者の方法の方が効率がよい。   Since the molten resin has a high viscosity, the latter method is more efficient.

光学フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、光学フィルムに含れるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があるが、輝点異物は、輝点の直径0.01mm以上が200個/cm2以下であることが好ましく、100個/cm2以下であることがより好ましく、50個/cm2以下であることがさらに好ましく、30個/cm2以下であることがさらにより好ましく、10個/cm2以下であることがさらに好ましいが、皆無であることが最も好ましい。 As the optical film thickness decreases, the number of bright spot foreign matter per unit area decreases, and as the cellulose ester content in the optical film decreases, the bright spot foreign matter tends to decrease. The diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 pieces / cm 2 or less, more preferably 100 pieces / cm 2 or less, further preferably 50 pieces / cm 2 or less, and 30 pieces / cm 2. More preferably, it is more preferably 10 or less / cm 2 , but most preferably none.

また、0.005〜0.01mm以下の輝点についても200個/cm2以下であることが好ましく、100個/cm2以下であることがより好ましく、50個/cm2以下であることがさらにより好ましく、30個/cm2以下であることがさらに好ましく、10個/cm2以下であることがさらに好ましいが、皆無であることが最も好ましい。 Moreover, it is preferable that it is 200 pieces / cm < 2 > or less also about the bright spot of 0.005-0.01 mm or less, It is more preferable that it is 100 pieces / cm < 2 > or less, It is 50 pieces / cm < 2 > or less. More preferably, it is more preferably 30 pieces / cm 2 or less, still more preferably 10 pieces / cm 2 or less, and most preferably none.

輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く好ましい。   When removing bright spot foreign matter by melt filtration, filtering the cellulose ester composition to which a plasticizer, a deterioration inhibitor, an antioxidant, etc. are added and mixed is more effective than filtering the melted cellulose ester alone. It is preferable because the removal efficiency of point foreign matters is high.

もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。   Of course, the cellulose ester may be dissolved in a solvent during the synthesis and reduced by filtration. What mixed the ultraviolet absorber and other additives suitably can be filtered.

濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が10000P以下で濾過されることが好ましく、5000P以下がより好ましく、1000P以下がさらに好ましく、500P以下であることがさらにより好ましい。   Filtration is preferably performed with a viscosity of the melt containing cellulose ester of 10,000 P or less, more preferably 5000 P or less, even more preferably 1000 P or less, and even more preferably 500 P or less.

濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂等の弗素樹脂等従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては50μm以下のものが好ましく用いられ、30μm以下のものがより好ましく、10μm以下のものがさらにより好ましく、5μm以下のものがさらに好ましく用いられる。   As the filter medium, conventionally known materials such as glass fibers, cellulose fibers, filter paper, fluorine resins such as tetrafluoroethylene resin are preferably used, and ceramics, metals and the like are particularly preferably used. The absolute filtration accuracy is preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, still more preferably 10 μm or less, and even more preferably 5 μm or less.

これらは適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。   These can be used in combination as appropriate. The filter medium can be either a surface type or a depth type, but the depth type is preferably used because it is relatively less clogged.

別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いてもよい。その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも1つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。   In another embodiment, a cellulose ester obtained by dissolving the raw material cellulose ester at least once in a solvent and then drying the solvent may be used. In that case, a cellulose ester which is dissolved in a solvent together with at least one of a plasticizer, an ultraviolet absorber, a deterioration inhibitor, an antioxidant and a matting agent and then dried is used.

溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることができ、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−20℃以下に冷却したり、80℃以上に加熱したりしてもよい。このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一にできることがある。   As the solvent, a good solvent used in a solution casting method such as methylene chloride, methyl acetate or dioxolane can be used, and a poor solvent such as methanol, ethanol or butanol may be used at the same time. You may cool to -20 degrees C or less in the process of dissolution, or you may heat to 80 degrees C or more. When such a cellulose ester is used, each additive in a molten state can be easily made uniform, and optical characteristics can be made uniform.

本発明の偏光板保護フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、光学フィルムにした時の透過率が80%以上、さらに好ましくは90%以上、さらに好ましくは92%以上であることが好ましい。   The polarizing plate protective film of the present invention may be appropriately mixed with polymer components other than cellulose ester. The polymer component to be mixed is preferably one having excellent compatibility with the cellulose ester, and the transmittance when formed into an optical film is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 92% or more.

《添加剤》
本発明の光学フィルムにおいては、セルロースエステルに前記一般式(1)の化合物の他、種々の添加剤を添加することができる。
"Additive"
In the optical film of the present invention, various additives other than the compound of the general formula (1) can be added to the cellulose ester.

《酸化防止剤》
セルロースエステルは高温下では熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては劣化防止剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。
"Antioxidant"
Since cellulose ester is decomposed not only by heat but also by oxygen at a high temperature, the optical film of the present invention preferably contains an antioxidant as a deterioration preventing agent.

本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素による溶融成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも有用な酸化防止剤としては、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でも、特にフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、ラクトン系化合物、アクリレート基及びフェノール性水酸基を有する化合物が好ましい。   The antioxidant useful in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound that suppresses deterioration of the melt molding material due to oxygen, but among the useful antioxidants, phenolic compounds, hindered amine compounds, Phosphorus compounds, sulfur compounds, heat-resistant processing stabilizers, oxygen scavengers, etc. are mentioned, among these, phenol compounds, hindered amine compounds, phosphorus compounds, lactone compounds, compounds having acrylate groups and phenolic hydroxyl groups, among others Is preferred.

これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、溶融成型時の熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。   By blending these antioxidants, it is possible to prevent coloring and strength reduction of the molded product due to heat during heat molding or deterioration due to thermal oxidation without lowering transparency, heat resistance and the like. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more.

これらの酸化防止剤を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、溶融成型時の熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。   By blending these antioxidants, it is possible to prevent coloring and strength reduction of the molded product due to heat during heat molding or deterioration due to thermal oxidation without lowering transparency, heat resistance and the like.

これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明に係るセルロースエステルの質量に対して、0.01質量%以上10質量%以下が好ましく、より好ましくは0.1質量%以上5.0質量%以下であり、更に好ましくは0.2質量%以上2.0質量%以下である。   These antioxidants can be used alone or in combination of two or more, and the blending amount thereof is appropriately selected within the range not impairing the object of the present invention. 0.01 mass% or more and 10 mass% or less is preferable with respect to mass, More preferably, it is 0.1 mass% or more and 5.0 mass% or less, More preferably, it is 0.2 mass% or more and 2.0 mass%. It is as follows.

(フェノール系酸化防止剤)
フェノール系酸化防止剤は既知の化合物であり、パラ−t−ブチルフェノール、パラ−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール等のアルキル基置換フェノールの他、例えば、米国特許第4,839,405号明細書の第12〜14欄に記載の、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物、所謂ヒンダードフェノール系化合物が挙げられるが、これらの中で、ヒンダードフェノール系化合物が好ましい。
(Phenolic antioxidant)
Phenol-based antioxidants are known compounds. In addition to alkyl group-substituted phenols such as para-t-butylphenol and para- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol, for example, US Pat. Examples include 2,6-dialkylphenol derivative compounds, so-called hindered phenol compounds, described in columns 12 to 14 of No. 839,405, and among these, hindered phenol compounds are preferable.

ヒンダードフェノールフェノール系化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバスペシャルティケミカルズから、”IRGANOX1076”及び”IRGANOX1010”という商品名で市販されている。   Specific examples of the hindered phenol phenol compound include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n-dodecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neo-dodecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl β (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, ethyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobuty Rate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (N-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (n-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenyl acetate, 2- ( n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- ( 2-hydroxyethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol bis- (3,5-di -T-butyl-4-hydroxy-phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, stearamide N, N-bis- [ Ethylene 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino N, N-bis- [ethylene 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) ) Propionate], 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 7- (3-methyl-5- t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,2-propylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl- -Hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentylglycol bis- [3- (3,5-di-t- Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), glycerin-1-n-octadecanoate-2,3-bis- ( 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), pentaerythritol tetrakis- [3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 1,1, 1-trimethylolethane-tris- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate Sorbitol hexa- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl 7- (3-methyl-5-tbutyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2-stearoyloxyethyl 7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediol-bis [(3 ', 5'-di-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) propionate], pentaerythritol tetrakis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate). The above type of phenolic compounds are commercially available from Ciba Specialty Chemicals under the trade names “IRGANOX1076” and “IRGANOX1010”, for example.

その他のヒンダードアミン化合物(HALS)としては、例えば、米国特許第4,619,956号明細書の第5〜11欄及び米国特許第4,839,405号明細書の第3〜5欄に記載されているように、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が好ましい。   Other hindered amine compounds (HALS) are described, for example, in columns 5 to 11 of US Pat. No. 4,619,956 and columns 3 to 5 of US Pat. No. 4,839,405. As shown, 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine compounds, or their acid addition salts or complexes of them with metal compounds are preferred.

市販品としては、LA52(旭電化社製)も挙げることができる。   As a commercial item, LA52 (Asahi Denka Co., Ltd. product) can also be mentioned.

(リン系酸化防止剤)
本発明において有用なリン系酸化防止剤として、ホスファイト系化合物、及びホスホナイト系化合物が挙げられる。ホスファイト系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(ジノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)ホスファイト、10−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン−10−オキサイド、6−[3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ]−2,4,8,10−テトラ−t−ブチルジベンズ[d,f][1.3.2]ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物;4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト)、4,4′−イソプロピリデン−ビス(フェニル−ジ−アルキル(C12〜C15)ホスファイト)等のジホスファイト系化合物;等が挙げられる。上記タイプのホスファイト系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”SumilizerGP”、旭電化工業株式会社からADK STAB PEP−24G”、”ADK STAB PEP−36”、”ADK STAB 3010”、”ADK STAB HP−10”及び”ADK STAB 2112”という商品名で市販されている。
(Phosphorus antioxidant)
Examples of phosphorus antioxidants useful in the present invention include phosphite compounds and phosphonite compounds. Specific examples of the phosphite compound include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (dinonylphenyl) phosphite, tris (2,4-di -T-butylphenyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) phosphite, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9, 10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 6- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10- Mono, such as tetra-t-butyldibenz [d, f] [1.3.2] dioxaphosphine, tridecyl phosphite Sphite compounds; 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenyl-di-tridecyl phosphite), 4,4'-isopropylidene-bis (phenyl-di-alkyl (C12- And diphosphite compounds such as C15) phosphite). The above-mentioned types of phosphite compounds are, for example, from Sumitomo Chemical Co., Ltd., "Sumizer GP", from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. It is commercially available under the trade names of “ADK STAB HP-10” and “ADK STAB 2112”.

ホスホナイト系化合物の具体例としては、ジメチル−フェニルホスホナイト、ジ−t−ブチル−フェニルホスホナイト、ジフェニル−フェニルホスホナイト、ジ−(4−ペンチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2−t−ブチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2−メチル−3−ペンチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2−メチル−4−オクチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(3−ブチル−4−メチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(3−ヘキシル−4−エチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,4,6−トリメチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,3−ジメチル−4−エチル−フェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,6−ジエチル−3−ブチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,3−ジプロピル−5−ブチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ジ−(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−フェニルホスホナイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)ビフェニル−4−イル−ホスホナイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4’−(ビス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェノキシ)ホスフィノ)ビフェニル−4−イル−ホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3,4−トリメチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジメチル−5−エチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジメチル−4−プロピルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジメチル−5−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジメチル−4−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジエチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジエチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4,5−トリエチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジエチル−4−プロピルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジエチル−6−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジエチル−5−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジエチル−6−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジプロピル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジプロピル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジプロピル−5−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジプロピル−6−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジプロピル−5−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−3−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3−ジブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−6−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,5−ジ−t−ブチル−6−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−3−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,6−ジ−t−ブチル−5−エチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,3,4−トリブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス(2,4,6−トリ−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられる。上記タイプのリン系化合物は、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社から”IRGAFOS P−EPQ”、堺化学工業株式会社から“GSY−P101”という商品名で市販されている。   Specific examples of the phosphonite compound include dimethyl-phenylphosphonite, di-t-butyl-phenylphosphonite, diphenyl-phenylphosphonite, di- (4-pentyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2- t-butyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2-methyl-3-pentyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2-methyl-4-octyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- ( 3-butyl-4-methyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (3-hexyl-4-ethyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2,4,6-trimethylphenyl) -phenylphosphonite, Di- (2,3-dimethyl-4-ethyl-phenyl) -phenylphosphonite, di- (2,6-diethi -3-butylphenyl) -phenylphosphonite, di- (2,3-dipropyl-5-butylphenyl) -phenylphosphonite, di- (2,4,6-tri-t-butylphenyl) -phenylphosphonite Bis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) biphenyl-4-yl-phosphonite, bis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4 '-(bis ( 2,4-di-tert-butyl-5-methylphenoxy) phosphino) biphenyl-4-yl-phosphonite, tetrakis (2,4-di-tert-butyl-phenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, Tetrakis (2,5-di-t-butyl-phenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (3,5-di-t-butyl-phenyl) -4,4'-bif Nylene diphosphonite, tetrakis (2,3,4-trimethylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,3-dimethyl-5-ethyl-phenyl) -4,4'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,3-dimethyl-4-propylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,3-dimethyl-5-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,5-dimethyl-4-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite, tetrakis (2,3-diethyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylene diphospho Knight, tetrakis (2,6-diethyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4,5-triethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-diethyl-4-propylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2, 5-diethyl-6-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-diethyl-5-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2, 5-diethyl-6-tert-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dipropyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2, 6-dipropyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-dipropyl-5- Tilphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dipropyl-6-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-dipropyl-5-butylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dibutyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-dibutyl-3-methylphenyl) -4 , 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-dibutyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-3-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-6-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-3- Methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-) t-butyl-6-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-3-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis ( 2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3-dibutyl-4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-dibutyl-3-ethylphenyl) -4 , 4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-dibutyl-4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-3-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4-di-t-butyl) -6-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-3-ethylphenyl) -4,4'- Phenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,5-di-t-butyl-6-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-3-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl) -4-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,6-di-t-butyl-5-ethylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,3 , 4-tributylphenyl) -4,4'-biphenylenediphosphonite, tetrakis (2,4,6-tri-t-butylphenyl) -4,4'-biphenylene Phosphonite, and the like. The phosphorus compound of the above type is commercially available from Ciba Specialty Chemicals, Inc. under the trade name “IRGAFOS P-EPQ” and from Sakai Chemical Industry Co., Ltd., as “GSY-P101”.

本発明において有用なリン系酸化防止剤として、ホスホナイト系化合物が好ましく、中でも、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−フェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイト等の4,4′−ビフェニレンジホスホナイト化合物が好ましく、特に好ましいものはテトラキス(2,4−ジ−t−ブチル−5−メチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホスホナイトである。   As the phosphorus antioxidant useful in the present invention, a phosphonite compound is preferable, and among them, 4,4 ′ such as tetrakis (2,4-di-t-butyl-phenyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite. -Biphenylene diphosphonite compounds are preferred, and tetrakis (2,4-di-t-butyl-5-methylphenyl) -4,4'-biphenylene diphosphonite is particularly preferred.

(ラクトン系化合物)
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、ラクトン系化合物が好ましい。
ラクトン系化合物としては、特開平7−233160号、特開平7−247278号記載の化合物が好ましく、下記、一般式(2)で表されるラクトン系化合物を含有することが特に好ましい。
(Lactone compound)
As one of the antioxidants useful in the present invention, a lactone compound is preferable.
As the lactone compound, compounds described in JP-A-7-233160 and JP-A-7-247278 are preferable, and a lactone compound represented by the following general formula (2) is particularly preferable.

Figure 2008225166
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前記一般式(2)において、R22〜R26はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、R22〜R26で表される置換基は、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基、4−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等)、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等)、アルキニル基(例えば、プロパルギル基等)、複素環基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基(例えば、フェニルスルフィニル基等)、ホスホノ基、アシル基(例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、シアノ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等)、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等)、アニリノ基(例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、イミド基、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。 In the general formula (2), R 22 to R 26 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituent represented by R 22 to R 26 is, for example, an alkyl group (for example, a methyl group, Ethyl group, propyl group, isopropyl group, t-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, dodecyl group, trifluoromethyl group, etc.), cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group etc.), aryl group ( For example, phenyl group, naphthyl group, etc.), acylamino group (eg, acetylamino group, benzoylamino group, etc.), alkylthio group (eg, methylthio group, ethylthio group, etc.), arylthio group (eg, phenylthio group, naphthylthio group, etc.) Alkenyl group (for example, vinyl group, 2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl-3-pro Nyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, 4-hexenyl group, cyclohexenyl group, etc.), halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom etc.), alkynyl group ( For example, propargyl group etc.), heterocyclic group (eg pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group etc.), alkylsulfonyl group (eg methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group etc.), arylsulfonyl group (eg phenyl) Sulfonyl group, naphthylsulfonyl group, etc.), alkylsulfinyl group (eg, methylsulfinyl group, etc.), arylsulfinyl group (eg, phenylsulfinyl group, etc.), phosphono group, acyl group (eg, acetyl group, pivaloyl group, benzoyl group, etc.) ), Carbamoyl groups (eg aminocarbo Nyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, butylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, Dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group), sulfonamide Groups (eg, methanesulfonamide groups, benzenesulfonamide groups, etc.), cyano groups, alkoxy groups (eg, methoxy groups, ethoxy groups, Group), aryloxy group (for example, phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), heterocyclic oxy group, siloxy group, acyloxy group (for example, acetyloxy group, benzoyloxy group, etc.), sulfonic acid group, sulfonic acid salt Aminocarbonyloxy group, amino group (for example, amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, etc.), anilino group (for example, phenylamino group) Chlorophenylamino group, toluidino group, anisidino group, naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc., imide group, ureido group (for example, methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, Dodecylureido group, Feni Ureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), alkoxycarbonylamino group (eg, methoxycarbonylamino group, phenoxycarbonylamino group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl) Etc.), aryloxycarbonyl groups (for example, phenoxycarbonyl groups, etc.), heterocyclic thio groups, thioureido groups, carboxyl groups, carboxylic acid salts, hydroxyl groups, mercapto groups, nitro groups and the like. These substituents may be further substituted with the same substituent.

前記一般式(2)において、nは1または2を表す。   In the general formula (2), n represents 1 or 2.

前記一般式(2)において、nが1であるとき、R21は置換基を表し、nが2であるとき、R21は2価の連結基を表す。 In the general formula (2), when n is 1, R 21 represents a substituent, and when n is 2, R 21 represents a divalent linking group.

21が置換基を表すとき、置換基としては、前記一般式(2)のR22〜R26が表す置換基と同様な基を挙げることができる。R61は2価の連結基を表すとき、2価の連結基として例えば、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、或いはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。 When R 21 represents a substituent, examples of the substituent include the same groups as the substituents represented by R 22 to R 26 in the general formula (2). When R 61 represents a divalent linking group, examples of the divalent linking group include an alkylene group that may have a substituent, an arylene group that may have a substituent, an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. Or a combination of these linking groups.

前記一般式(2)において、nは1が好ましい。   In the general formula (2), n is preferably 1.

次に、本発明における前記一般式(2)で表される化合物の具体例を示すが、本発明は 以下の具体例によって限定されるものではない。   Next, although the specific example of a compound represented by the said General formula (2) in this invention is shown, this invention is not limited by the following specific examples.

Figure 2008225166
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(その他の添加剤)
本発明の光学フィルムには、セルロースエステルと本発明の化合物、酸化防止剤の他に、可塑剤、安定化剤、滑り剤、マット剤、フィラー、無機高分子、有機高分子、染料、顔料、蛍光体、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、二色性色素、屈折率調整剤、リターデーション制御剤、ガス透過抑制剤、抗菌剤、導電性付与剤、生分解性付与剤、ゲル化防止剤、粘度調整剤等の各種の機能を有する添加剤を所望により添加しても良い。
(Other additives)
In addition to cellulose ester and the compound of the present invention and antioxidant, the optical film of the present invention includes a plasticizer, a stabilizer, a slip agent, a matting agent, a filler, an inorganic polymer, an organic polymer, a dye, a pigment, Phosphor, ultraviolet absorber, infrared absorber, dichroic dye, refractive index adjuster, retardation control agent, gas permeation inhibitor, antibacterial agent, conductivity imparting agent, biodegradability imparting agent, anti-gelling agent, Additives having various functions such as a viscosity modifier may be added as desired.

本発明のセルロースエステルは200〜250℃といった高温下で溶融して製膜されるため、従来の溶液留延製膜に比べてセルロースエステルの分解・劣化が起きやすいプロセスであるため、上記の添加剤の中でも安定化剤を光学フィルム形成材料中に添加されることが好ましい。   Since the cellulose ester of the present invention is melted and formed at a high temperature of 200 to 250 ° C., the cellulose ester is a process in which decomposition and deterioration of the cellulose ester are likely to occur as compared with conventional solution casting film formation. Among the agents, a stabilizer is preferably added to the optical film forming material.

安定化剤としては、例えば、酸捕捉剤、ヒンダードアミン光安定剤、紫外線吸収剤、過酸化物分解剤、ラジカル捕捉剤、金属不活性化剤、などが挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of the stabilizer include, but are not limited to, an acid scavenger, a hindered amine light stabilizer, an ultraviolet absorber, a peroxide decomposer, a radical scavenger, and a metal deactivator.

これらは、特開平3−199201号公報、特開平5−1907073号公報、特開平5−194789号公報、特開平5−271471号公報、特開平6−107854号公報などに記載がある。これらの中から選ばれる少なくとも1種を、光学フィルム形成材料中に含むことが好ましい。   These are described in JP-A-3-199201, JP-A-5-1907073, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, JP-A-6-107854, and the like. It is preferable that at least one selected from these is included in the optical film forming material.

また、偏光子保護フィルム、位相差フィルム等として本発明の光学フィルムを用いる場合、偏光子が紫外線に対して弱いため、少なくとも偏光子に対して光が入射する側の光学フィルムには紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。   Further, when the optical film of the present invention is used as a polarizer protective film, a retardation film, etc., since the polarizer is weak against ultraviolet rays, at least the optical film on the light incident side with respect to the polarizer has an ultraviolet absorber. It is preferable to contain.

また、本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合には、リターデーションを調節するための添加剤を含有させることができる。リターデーションを調節するために添加する化合物は、欧州特許911,656A2号明細書に記載されているようなリターデーション制御剤を使用することもできる。   Moreover, when using the optical film of this invention as a phase difference film, the additive for adjusting retardation can be contained. As the compound to be added for adjusting the retardation, a retardation controlling agent as described in European Patent No. 911,656A2 can also be used.

また、加熱溶融時の粘度制御や光学フィルム加工後の光学フィルム物性を調整するために、有機高分子または無機高分子を光学フィルムに添加することもできる。   In addition, an organic polymer or an inorganic polymer can be added to the optical film in order to control the viscosity at the time of heating and melting and adjust the physical properties of the optical film after processing the optical film.

セルロースエステル樹脂にこれらの添加剤を添加する際は、それらを含めた総量が、セルロース樹脂の質量に対して1〜30質量%であることが好ましい。1質量%以下では溶融製膜性が低下し、30質量%以上では得られる光学フィルムの力学特性や保存安定性などが確保できなくなることがあるためである。   When these additives are added to the cellulose ester resin, the total amount including them is preferably 1 to 30% by mass with respect to the mass of the cellulose resin. If it is 1% by mass or less, the melt film-forming property is lowered, and if it is 30% by mass or more, the mechanical properties and storage stability of the obtained optical film may not be ensured.

《酸捕捉剤》
セルロースエステルは溶融製膜が行われるような高温環境下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては安定化剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。
<Acid scavenger>
Cellulose ester is preferably decomposed by an acid in a high temperature environment where melt film formation is performed. Therefore, the optical film of the present invention preferably contains an acid scavenger as a stabilizer.

本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第4,137,201号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物が好ましい。   Any acid scavenger useful in the present invention can be used without limitation as long as it is a compound that reacts with an acid to inactivate the acid, and is described in U.S. Pat. No. 4,137,201. A compound having an epoxy group is preferred.

このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール1モル当たりに約8〜40モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物(例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(即ち、4,4′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル(特に、2〜22個の炭素原子の脂肪酸の4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルエポキシステアレート)等)、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等(例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等)の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油(これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12〜22個の炭素原子を含有している)が含まれる。また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、EPON 815C、及び下記一般式(3)の他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いることができる。   Epoxy compounds as such acid scavengers are known in the art and are derived by condensation of various polyglycol diglycidyl ethers, particularly about 8 to 40 moles of ethylene oxide per mole of polyglycol. Glycol, diglycidyl ether of glycerol, etc., metal epoxy compounds (such as those conventionally used in and with vinyl chloride polymer compositions), epoxidized ether condensation products, diphenols of bisphenol A Glycidyl ether (ie, 4,4'-dihydroxydiphenyldimethylmethane), epoxidized unsaturated fatty acid ester (especially an ester of an alkyl of about 4 to 2 carbon atoms of a fatty acid of 2 to 22 carbon atoms (for example, Butyl epoxy stearate) And epoxidized vegetable oils and other unsaturated natural oils (sometimes epoxies) that may be represented and exemplified by compositions of various epoxidized long chain fatty acid triglycerides and the like (eg, epoxidized soybean oil, epoxidized linseed oil, etc.) Natural fatty glycerides or unsaturated fatty acids, which generally contain 12 to 22 carbon atoms). Further, as a commercially available epoxy group-containing epoxide resin compound, EPON 815C and other epoxidized ether oligomer condensation products of the following general formula (3) can also be preferably used.

Figure 2008225166
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一般式(3)において、nは0〜12の整数である。   In General formula (3), n is an integer of 0-12.

用いることができるその他の酸捕捉剤としては、特開平5−194788号公報の段落87〜105に記載されているものが含まれる。   Other acid scavengers that can be used include those described in paragraphs 87 to 105 of JP-A-5-194788.

酸捕捉剤はセルロースエステルに対して0.1〜10質量%添加することが好ましく、さらに0.2〜5質量%添加することが好ましく、さらに0.5〜2質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   The acid scavenger is preferably added in an amount of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.2 to 5% by mass, and further preferably 0.5 to 2% by mass with respect to the cellulose ester. Two or more of these may be used in combination.

なお酸捕捉剤は、酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。   In addition, although an acid scavenger may be called an acid scavenger, an acid capture agent, an acid catcher, etc., in this invention, it can use without a difference by these names.

《紫外線吸収剤》
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。
<Ultraviolet absorber>
The ultraviolet absorber is excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizer and the display device with respect to ultraviolet rays, and has little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more from the viewpoint of liquid crystal display properties. Those are preferred. Examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, triazine compounds, and the like. However, benzophenone compounds, less colored benzotriazole compounds, and triazine compounds are preferable.

また、特開平10−182621号、同8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号、特開2003−113317号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。   Further, ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 10-182621 and 8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A Nos. 6-148430 and 2003-113317 may be used.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)−フェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(1−メチル−1−フェニルエチル)−5′−(1,1,3,3,−テトラメチルブチル)−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Specific examples of the benzotriazole ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzo Triazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) -5 Chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -tetrahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy- '-Tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-(2-octyloxycarbonylethyl) -phenyl) -5 -Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(1-methyl-1-phenylethyl) -5'-(1,1,3,3, -tetramethylbutyl) -phenyl) benzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H) -Benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro- H- benzotriazol-2-yl) can be mentioned mixtures of phenyl] propionate, and the like.

また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)900、チヌビン(TINUVIN)928、チヌビン(TINUVIN)360(いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製)、LA31(旭電化社製)、RUVA−100(大塚化学製)が挙げられる。   As commercially available products, TINUVIN 171, TINUVIN 900, TINUVIN 928, TINUVIN 360 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals), LA31 (manufactured by Asahi Denka), RUVA-100 (Made by Otsuka Chemical).

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, bis (2-methoxy-4-hydroxy- 5-benzoylphenylmethane) and the like, but are not limited thereto.

本発明においては、紫外線吸収剤は0.1〜5質量%添加することが好ましく、さらに0.2〜3質量%添加することが好ましく、さらに0.5〜2質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In the present invention, the ultraviolet absorber is preferably added in an amount of 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.2 to 3% by mass, and further preferably 0.5 to 2% by mass. Two or more of these may be used in combination.

またこれらのベンゾトリアゾール構造やトリアジン構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   These benzotriazole structures and triazine structures may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer, and the molecular structure of other additives such as plasticizers, antioxidants, and acid scavengers. Some may be introduced.

従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、RUVA−93(大塚化学製)を単独重合させたポリマー及びRUVA−93と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。具体的には、RUVA−93とメチルメタクリレートを3:7の比(質量比)で共重合させたPUVA−30M、5:5の比(質量比)で共重合させたPUVA−50M等が挙げられる。更には、特開2003−113317号公報に記載のポリマー等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a conventionally well-known ultraviolet absorptive polymer, For example, the polymer which homopolymerized RUVA-93 (made by Otsuka Chemical), the polymer which copolymerized RUVA-93, and another monomer, etc. are mentioned. . Specific examples include PUVA-30M obtained by copolymerization of RUVA-93 and methyl methacrylate at a ratio (mass ratio) of 3: 7, and PUVA-50M obtained by copolymerization at a ratio of 5: 5 (mass ratio). It is done. Furthermore, the polymer etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-113317 are mentioned.

《可塑剤》
本発明に係るセルロースエステルを有してなる光学フィルムの製造においては、光学フィルム成形材料中に少なくとも1種の可塑剤を添加することが好ましい。
《Plasticizer》
In the production of an optical film comprising the cellulose ester according to the present invention, it is preferable to add at least one plasticizer in the optical film molding material.

可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、セルロースエステル単独での溶融温度よりも溶融温度を低下させるため、また同じ加熱温度においてセルロース樹脂単独よりも可塑剤を含む光学フィルム構成材料の溶融粘度を低下させるために、可塑剤を添加する。また、セルロースエステルの親水性を改善し、光学フィルムの透湿度改善するためにも添加されるため透湿防止剤としての機能を有する。   Generally, a plasticizer is an additive having an effect of improving brittleness or imparting flexibility by being added to a polymer, but in the present invention, a cellulose ester alone is used. A plasticizer is added to lower the melting temperature than the melting temperature, and to lower the melt viscosity of the optical film constituting material containing the plasticizer than the cellulose resin alone at the same heating temperature. Moreover, since it adds also in order to improve the hydrophilic property of a cellulose ester and to improve the water vapor transmission rate of an optical film, it has a function as a moisture permeation preventive agent.

ここで、光学フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態の温度を意味する。セルロースエステルを溶融流動させるためには、少なくともガラス転移温度よりも高い温度に加熱する必要がある。   Here, the melting temperature of the optical film constituting material means a temperature at which the material is heated to exhibit fluidity. In order to melt and flow the cellulose ester, it is necessary to heat at least a temperature higher than the glass transition temperature.

ガラス転移温度以上においては、熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。   Above the glass transition temperature, the elastic modulus or viscosity decreases due to heat absorption, and fluidity is exhibited.

しかしセルロースエステルでは高温下では溶融と同時に熱分解によってセルロースエステルの分子量の低下が発生し、得られる光学フィルムの力学特性等に悪影響を及ぼすことがあるため、なるべく低い温度でセルロースエステルを溶融させる必要がある。   However, since the molecular weight of cellulose ester may decrease due to thermal decomposition at the same time as melting at high temperatures, it may adversely affect the mechanical properties of the resulting optical film, so it is necessary to melt the cellulose ester at as low a temperature as possible. There is.

光学フィルム構成材料の溶融温度を低下させるためには、セルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつ可塑剤を添加することで達成することができる。   In order to lower the melting temperature of the optical film constituting material, it can be achieved by adding a plasticizer having a melting point or glass transition temperature lower than the glass transition temperature of the cellulose ester.

本発明の光学フィルムは、可塑剤を好ましくは1〜25質量%含有することを特徴とする光学フィルムである。   The optical film of the present invention is preferably an optical film containing 1 to 25% by mass of a plasticizer.

1質量%よりも少ないと平面性改善の効果が認められず、25質量%よりも多いとブリードアウトが発生しやすくなり、光学フィルムの経時安定性が低下するために好ましくない。より好ましくは可塑剤を3〜20質量%含有する光学フィルムであり、さらに好ましくは5〜15質量%含有する光学フィルムである。   When the content is less than 1% by mass, the effect of improving the flatness is not recognized, and when the content is more than 25% by mass, bleeding out easily occurs and the temporal stability of the optical film is lowered, which is not preferable. More preferred is an optical film containing 3 to 20% by mass of a plasticizer, and further preferred is an optical film containing 5 to 15% by mass.

本発明においては、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く、好ましい。   In the present invention, an ester plasticizer composed of a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid, and an ester plasticizer composed of a polyvalent carboxylic acid and a monovalent alcohol have a high affinity with the cellulose ester and are preferred.

本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Examples of the polyhydric alcohol that is a raw material of the ester plasticizer preferably used in the present invention include the following, but the present invention is not limited thereto.

アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、グレセリン、ジグリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエチスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等を挙げることができる。特に、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。   Adonitol, arabitol, ethylene glycol, glycerin, diglycerin, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, trimethylolethane, pentaethysitol, dipentaerythritol, xylene Mention may be made of the toll and the like. In particular, ethylene glycol, glycerin, and trimethylolpropane are preferable.

多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤としては、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ4−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。   Specific examples of ethylene glycol ester plasticizers that are one of the polyhydric alcohol esters include ethylene glycol alkyl ester plasticizers such as ethylene glycol diacetate and ethylene glycol dibutyrate, and ethylene glycol dicyclopropyl. Examples thereof include ethylene glycol cycloalkyl ester plasticizers such as carboxylate and ethylene glycol dicyclohexylcarboxylate, and ethylene glycol aryl ester plasticizers such as ethylene glycol dibenzoate and ethylene glycol di4-methylbenzoate. These alkylate groups, cycloalkylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted.

またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   Further, it may be a mix of alkylate group, cycloalkylate group and arylate group, and these substituents may be covalently bonded.

さらにエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Further, the ethylene glycol part may be substituted, the ethylene glycol ester partial structure may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber, etc. It may be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤としては、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン4−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン3−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。   Specific examples of glycerin ester plasticizers that are one of the polyhydric alcohol esters include glycerol alkyl esters such as triacetin, tributyrin, glycerol diacetate caprylate, glycerol oleate propionate, and glycerol tricyclopropylcarboxylate. Glycerol glycerol esters such as glycerol tricyclohexyl carboxylate, glycerol aryl esters such as glycerol tribenzoate and glycerol 4-methylbenzoate, diglycerol tetraacetylate, diglycerol tetrapropionate, diglycerol acetate tricaprylate, diglycerol Tetralaurate, diglycerin alkyl ester, diglycerin tetracyclobutylcarboxylate, diglycerin tet Diglycerol cycloalkyl esters such as cyclopentyl carboxylate, diglycerin tetrabenzoate, diglycerin aryl ester such as diglycerin 3-methylbenzoate or the like. These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted.

またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   Further, it may be a mixture of alkylate group, cycloalkylcarboxylate group, and arylate group, and these substituents may be bonded by a covalent bond.

さらにグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Furthermore, the glycerin and diglycerin part may be substituted, the partial structure of the glycerin ester and the diglycerin ester may be part of the polymer or regularly pendant, and the antioxidant, acid scavenger, You may introduce | transduce into a part of molecular structure of additives, such as a ultraviolet absorber.

その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開2003−12823号公報の段落30〜33記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。   Specific examples of other polyhydric alcohol ester plasticizers include polyhydric alcohol ester plasticizers described in paragraphs 30 to 33 of JP-A No. 2003-12823.

これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   These alkylate groups, cycloalkylcarboxylate groups, and arylate groups may be the same or different, and may be further substituted. Further, it may be a mixture of alkylate group, cycloalkylcarboxylate group, and arylate group, and these substituents may be bonded by a covalent bond.

さらに多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   Furthermore, the polyhydric alcohol part may be substituted, and the partial structure of the polyhydric alcohol may be part of the polymer or regularly pendant, and may be an antioxidant, an acid scavenger, an ultraviolet absorber. May be introduced into a part of the molecular structure of the additive.

上記多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開2003−12823号公報の段落31記載例示化合物16が挙げられる。   Among the ester plasticizers composed of the polyhydric alcohol and the monovalent carboxylic acid, alkyl polyhydric alcohol aryl esters are preferred. Specifically, the above-mentioned ethylene glycol dibenzoate, glycerin tribenzoate, diglycerin tetrabenzoate, Exemplified compound 16 described in paragraph 31 of JP2003-12823A can be mentioned.

多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、ジドデシルマロネート(C1)、ジオクチルアジペート(C4)、ジブチルセバケート(C8)等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ4−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2,3−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−1,2−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−1,2−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−1,1−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ2−ナフチル−1,4−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ4−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。   Specific examples of the dicarboxylic acid ester plasticizer that is one of polyvalent carboxylic acid esters include alkyl dicarboxylic acids such as didodecyl malonate (C1), dioctyl adipate (C4), and dibutyl sebacate (C8). Alkyl ester plasticizers, alkyl dicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as dicyclopentyl succinate and dicyclohexyl adipate, and alkyl dicarboxylic acid aryl ester plastics such as diphenyl succinate and di-4-methylphenyl glutarate , Dicyclohexyl-1,4-cyclohexanedicarboxylate, didecylbicyclo [2.2.1] heptane-2,3-dicarboxylate and other cycloalkyldicarboxylic acid alkyl ester plasticizers, dicyclohexyl-1,2 -Cyclobutane Cycloalkyldicarboxylic acid cycloalkyl ester type plasticizers such as carboxylate and dicyclopropyl-1,2-cyclohexyldicarboxylate, diphenyl-1,1-cyclopropyldicarboxylate, di2-naphthyl-1,4- Cycloalkyldicarboxylic acid aryl ester plasticizers such as cyclohexane dicarboxylate, aryl dicarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as diethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, and di-2-ethylhexyl phthalate, dicyclopropyl Aryl dicarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as phthalate and dicyclohexyl phthalate, and aryl dicarboxylic acid esters such as diphenyl phthalate and di4-methylphenyl phthalate Ruesuteru based plasticizers.

これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基はさらに置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, may be mono-substituted, and these substituents may be further substituted. The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, and these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used. In addition, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or regularly pendant to the polymer, and may be part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, and UV absorbers. It may be introduced.

その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−meso−ブタン−1,2,3,4−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル2−ヒドロキシ−1,2,3−プロパントリカルボキシレート、テトラ3−メチルフェニルテトラヒドロフラン−2,3,4,5−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−1,3,5−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニル−1,2,3,4,5,6−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−1,2,4−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−1,2,4,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−1,3,5−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−1,2,3,5−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−1,3,5−テトラカルボキシレート、ヘキサ4−メチルフェニルベンゼン−1,2,3,4,5,6−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。   Examples of other polycarboxylic acid ester plasticizers include alkyl polycarboxylic acid alkyl esters such as tridodecyl tricarbarate and tributyl-meso-butane-1,2,3,4-tetracarboxylate. Plasticizers, alkylpolycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as tricyclohexyltricarbarate, tricyclopropyl-2-hydroxy-1,2,3-propanetricarboxylate, triphenyl 2-hydroxy- Alkyl polyvalent carboxylic acid aryl ester plasticizers such as 1,2,3-propanetricarboxylate, tetra-3-methylphenyltetrahydrofuran-2,3,4,5-tetracarboxylate, tetrahexyl-1,2, 3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tetrabu Cycloalkyl polycarboxylic acid alkyl ester plasticizers such as ru-1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylate, tetracyclopropyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylate, tricyclohexyl- Cycloalkyl polycarboxylic acid cycloalkyl ester plasticizers such as 1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, triphenyl-1,3,5-cyclohexyl tricarboxylate, hexa-4-methylphenyl-1,2, Cycloalkyl polycarboxylic acid aryl ester plasticizers such as 3,4,5,6-cyclohexylhexacarboxylate, tridodecylbenzene-1,2,4-tricarboxylate, tetraoctylbenzene-1,2,4 , 5-tetracarboxylate and other aryl polyvalent Rubinoic acid alkyl ester plasticizers, tricyclopentylbenzene-1,3,5-tricarboxylate, tetracyclohexylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylate and other aryl polyvalent carboxylic acid cycloalkyl esters Plasticizers of aryl polyvalent carboxylic acid aryl esters such as plasticizers triphenylbenzene-1,3,5-tetracarboxylate, hexa-4-methylphenylbenzene-1,2,3,4,5,6-hexacarboxylate Agents.

これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また1置換でもよく、これらの置換基はさらに置換されていてもよい。   These alkoxy groups and cycloalkoxy groups may be the same or different, and may be monosubstituted, and these substituents may be further substituted.

アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。さらにフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。   The alkyl group and cycloalkyl group may be mixed, and these substituents may be bonded together by a covalent bond. Furthermore, the aromatic ring of phthalic acid may be substituted, and a multimer such as a dimer, trimer or tetramer may be used.

またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。   In addition, the partial structure of phthalate ester may be part of the polymer or may be regularly pendant to the polymer, and introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, UV absorbers, etc. May be.

上記多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、アルキルジカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペートが挙げられる。   Among the ester plasticizers composed of the polyvalent carboxylic acid and the monohydric alcohol, alkyl dicarboxylic acid alkyl esters are preferable, and specific examples include the dioctyl adipate.

本発明に用いられるその他の可塑剤としては、燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。   Examples of other plasticizers used in the present invention include phosphate ester plasticizers, carbohydrate ester plasticizers, and polymer plasticizers.

燐酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等の燐酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等の燐酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等の燐酸アリールエステルが挙げられる。   Specific examples of the phosphoric acid ester plasticizer include phosphoric acid alkyl esters such as triacetyl phosphate and tributyl phosphate, phosphoric acid cycloalkyl esters such as tricyclobenthyl phosphate and cyclohexyl phosphate, triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, Examples thereof include phosphoric acid aryl esters such as cresylphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, trinaphthyl phosphate, trixylyl phosphate, tris ortho-biphenyl phosphate.

これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

また、エチレンビス(ジメチルホスフェート)、ブチレンビス(ジエチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアルキルホスフェート)、エチレンビス(ジフェニルホスフェート)、プロピレンビス(ジナフチルホスフェート)等のアルキレンビス(ジアリールホスフェート)、フェニレンビス(ジブチルホスフェート)、ビフェニレンビス(ジオクチルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアルキルホスフェート)、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)、ナフチレンビス(ジトルイルホスフェート)等のアリーレンビス(ジアリールホスフェート)等の燐酸エステルが挙げられる。   Also, alkylene bis (dialkyl phosphate) such as ethylene bis (dimethyl phosphate), butylene bis (diethyl phosphate), alkylene bis (diaryl phosphate) such as ethylene bis (diphenyl phosphate), propylene bis (dinaphthyl phosphate), phenylene bis (dibutyl) Phosphate), arylene bis (dialkyl phosphate) such as biphenylene bis (dioctyl phosphate), phosphate esters such as arylene bis (diaryl phosphate) such as phenylene bis (diphenyl phosphate) and naphthylene bis (ditoluyl phosphate).

これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、さらに置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。   These substituents may be the same or different, and may be further substituted. Moreover, the mix of an alkyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group may be sufficient, and substituents may couple | bond together by the covalent bond.

さらに燐酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、燐酸アリールエステル、アリーレンビス(ジアリールホスフェート)が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス(ジフェニルホスフェート)が好ましい。   Furthermore, the partial structure of the phosphate ester may be part of the polymer or may be regularly pendant, and may be introduced into part of the molecular structure of additives such as antioxidants, acid scavengers, and UV absorbers. It may be. Among the above-mentioned compounds, phosphoric acid aryl ester and arylene bis (diaryl phosphate) are preferable, and specifically, triphenyl phosphate and phenylene bis (diphenyl phosphate) are preferable.

次に、炭水化物エステル系可塑剤について説明する。炭水化物とは、糖類がピラノースまたはフラノース(6員環または5員環)の形態で存在する単糖類、二糖類または三糖類を意味する。炭水化物の非限定的例としては、グルコース、サッカロース、ラクトース、セロビオース、マンノース、キシロース、リボース、ガラクトース、アラビノース、フルクトース、ソルボース、セロトリオース及びラフィノース等が挙げられる。炭水化物エステルとは、炭水化物の水酸基とカルボン酸が脱水縮合してエステル化合物を形成したものを指し、詳しくは、炭水化物の脂肪族カルボン酸エステル、あるいは芳香族カルボン酸エステルを意味する。   Next, the carbohydrate ester plasticizer will be described. The carbohydrate means a monosaccharide, disaccharide or trisaccharide in which the saccharide is present in the form of pyranose or furanose (6-membered ring or 5-membered ring). Non-limiting examples of carbohydrates include glucose, saccharose, lactose, cellobiose, mannose, xylose, ribose, galactose, arabinose, fructose, sorbose, cellotriose and raffinose. The carbohydrate ester refers to an ester compound formed by dehydration condensation of a hydroxyl group of a carbohydrate and a carboxylic acid. Specifically, it means an aliphatic carboxylic acid ester or an aromatic carboxylic acid ester of a carbohydrate.

脂肪族カルボン酸として、例えば酢酸、プロピオン酸等を挙げることができ、芳香族カルボン酸として、例えば安息香酸、トルイル酸、アニス酸等を挙げることができる。炭水化物は、その種類に応じた水酸基の数を有するが、水酸基の一部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成しても、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成してもよい。   Examples of the aliphatic carboxylic acid include acetic acid and propionic acid, and examples of the aromatic carboxylic acid include benzoic acid, toluic acid, and anisic acid. Carbohydrates have a number of hydroxyl groups depending on the type, but even if a part of the hydroxyl group reacts with the carboxylic acid to form an ester compound, the whole hydroxyl group reacts with the carboxylic acid to form an ester compound. Also good.

本発明においては、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成するのが好ましい。   In the present invention, it is preferable that all of the hydroxyl groups react with the carboxylic acid to form an ester compound.

炭水化物エステル系可塑剤として、具体的には、グルコースペンタアセテート、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタブチレート、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエート等を好ましく挙げることができ、この内、サッカロースオクタアセテートがより好ましい。   Specific examples of the carbohydrate ester plasticizer include glucose pentaacetate, glucose pentapropionate, glucose pentabtylate, saccharose octaacetate, saccharose octabenzoate, and of these, saccharose octaacetate is more preferred. preferable.

ポリマー可塑剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−2−ヒドロキシエチルとの共重合体(例えば、共重合比1:99〜99:1の間の任意の比率)等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリN−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ4−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。   Specific examples of the polymer plasticizer include aliphatic hydrocarbon polymers, alicyclic hydrocarbon polymers, polyethyl acrylate, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate. Acrylic polymers such as polymers (for example, any ratio between 1:99 and 99: 1), vinyl polymers such as polyvinyl isobutyl ether and poly N-vinyl pyrrolidone, polystyrene, poly 4-hydroxystyrene Styrene polymers such as polybutylene succinate, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethers such as polyethylene oxide and polypropylene oxide, polyamides, polyurethanes and polyureas.

数平均分子量は1,000〜500,000程度が好ましく、特に好ましくは、5,000〜200,000である。1,000以下では揮発性に問題が生じ、500,000を超えると可塑化能力が低下し、光学フィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。これらポリマー可塑剤は1種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを2種以上併用して用いてもよい。   The number average molecular weight is preferably about 1,000 to 500,000, particularly preferably 5,000 to 200,000. If it is 1,000 or less, a problem occurs in volatility, and if it exceeds 500,000, the plasticizing ability is lowered, and the mechanical properties of the optical film are adversely affected. These polymer plasticizers may be a homopolymer composed of one type of repeating unit or a copolymer having a plurality of repeating structures. Two or more of the above polymers may be used in combination.

その他の可塑剤の添加量はセルロースエステル100質量部に対して、通常0.1〜50質量部、好ましくは1〜30質量部、さらに好ましくは3〜15質量部である。   The amount of the other plasticizer added is usually 0.1 to 50 parts by mass, preferably 1 to 30 parts by mass, and more preferably 3 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cellulose ester.

本発明の光学フィルムにおいて、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と1価のアルコールからなるエステル系可塑剤を1〜25質量%含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。   The optical film of the present invention preferably contains 1 to 25% by mass of an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid, and an ester plasticizer comprising a polyvalent carboxylic acid and a monohydric alcohol. , And may be used in combination with other plasticizers.

本発明の光学フィルムにおいて、多価アルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤が更に好ましく、3価以上のアルコールと1価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤がセルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができるので最も好ましい。   In the optical film of the present invention, an ester plasticizer comprising a polyhydric alcohol and a monovalent carboxylic acid is more preferred, and an ester plasticizer comprising a trivalent or higher alcohol and a monovalent carboxylic acid is compatible with the cellulose ester. Because it is high and can be added at a high addition rate, bleed-out does not occur even when other plasticizers and additives are used in combination, and other types of plasticizers and additives can be added as necessary. It is most preferable because it can be easily used together.

上記化合物は、少なくとも1種以上含有させることが好ましく、セルロースエステル樹脂の質量に対して、含有量は0.01〜5質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜3質量%であり、さらに好ましくは0.2〜2質量%である。   It is preferable to contain at least one of the above compounds, and the content is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 3% by mass with respect to the mass of the cellulose ester resin. Preferably it is 0.2-2 mass%.

上記化合物の含有量が上記範囲よりも少ないと、セルロースエステル樹脂の熱分解が生じやすく、また上記添加量の範囲よりも多いと樹脂への相溶性の観点から偏光板保護フィルムとしての透明性の低下を引き起こし、また光学フィルムが脆くなるために好ましくない。   When the content of the compound is less than the above range, the cellulose ester resin is likely to be thermally decomposed, and when the content is more than the range of the addition amount, transparency as a polarizing plate protective film from the viewpoint of compatibility with the resin. This is not preferable because it causes a decrease and the optical film becomes brittle.

(粘度低下剤)
本発明において、溶融粘度を低減する目的として、水素結合性溶媒を添加する事ができる。
(Viscosity reducing agent)
In the present invention, a hydrogen bonding solvent can be added for the purpose of reducing the melt viscosity.

水素結合性溶媒とは、J.N.イスラエルアチビリ著、「分子間力と表面力」(近藤保、大島広行訳、マグロウヒル出版、1991年)に記載されるように、電気的に陰性な原子(酸素、窒素、フッ素、塩素)と電気的に陰性な原子と共有結合した水素原子間に生ずる、水素原子媒介「結合」を生ずることができるような有機溶媒、すなわち、結合モーメントが大きく、かつ水素を含む結合、例えば、O−H(酸素水素結合)、N−H(窒素水素結合)、F−H(フッ素水素結合)を含むことで近接した分子同士が配列できるような有機溶媒をいう。   The hydrogen bonding solvent is J.I. N. As described in Israel Ativili, “Intermolecular Forces and Surface Forces” (Takeshi Kondo, Hiroyuki Oshima, Maglow Hill Publishing, 1991) and electrically negative atoms (oxygen, nitrogen, fluorine, chlorine) An organic solvent capable of producing a hydrogen atom-mediated “bond” between a hydrogen atom covalently bonded to an electronegative atom, ie, a bond having a large bond moment and containing hydrogen, such as O—H (Oxygen hydrogen bond), N—H (nitrogen hydrogen bond), and organic solvent that can arrange adjacent molecules by including F—H (fluorine hydrogen bond).

これらは、セルロース樹脂の分子間水素結合よりもセルロースとの間で強い水素結合を形成する能力を有するもので、本発明で行う溶融流延法においては、用いるセルロース樹脂単独のガラス転移温度よりも、水素結合性溶媒の添加によりセルロース樹脂組成物の溶融温度を低下する事ができる、または同じ溶融温度においてセルロース樹脂よりも水素結合性溶媒を含むセルロース樹脂組成物の溶融粘度を低下する事ができる。   These have the ability to form stronger hydrogen bonds with cellulose than intermolecular hydrogen bonds of cellulose resin. In the melt casting method performed in the present invention, the glass transition temperature of the cellulose resin used alone is higher than that. The melting temperature of the cellulose resin composition can be lowered by the addition of a hydrogen bonding solvent, or the melt viscosity of the cellulose resin composition containing a hydrogen bonding solvent can be lowered at the same melting temperature as the cellulose resin. .

水素結合性溶媒としては、例えば、アルコール類:例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、2−エチルヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、ドデカノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ヘキシルセロソルブ、グリセリン等、ケトン類:アセトン、メチルエチルケトン等、カルボン酸類:例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等、エーテル類:例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等、ピロリドン類:例えば、N−メチルピロリドン等、アミン類:例えば、トリメチルアミン、ピリジン等、等を例示することができる。   Examples of the hydrogen bonding solvent include alcohols: for example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, t-butanol, 2-ethylhexanol, heptanol, octanol, nonanol, dodecanol, ethylene glycol, Propylene glycol, hexylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, hexyl cellosolve, glycerin, etc., ketones: acetone, methyl ethyl ketone, etc., carboxylic acids: for example formic acid, acetic acid, propionic acid, Butyric acid, etc., ethers: eg, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc., Pyrrolidones: eg, N-methyl Pyrrolidone, etc., amines: for example, can be exemplified trimethylamine, pyridine, etc., and the like.

これら水素結合性溶媒は、単独で、又は2種以上混合して用いることができる。   These hydrogen bonding solvents can be used alone or in admixture of two or more.

これらのうちでも、アルコール、ケトン、エーテル類が好ましく、特にメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、オクタノール、ドデカノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランが好ましい。   Among these, alcohol, ketone, and ether are preferable, and methanol, ethanol, propanol, isopropanol, octanol, dodecanol, ethylene glycol, glycerin, acetone, and tetrahydrofuran are particularly preferable.

さらに、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、グリセリン、アセトン、テトラヒドロフランのような水溶性溶媒が特に好ましい。ここで水溶性とは、水100gに対する溶解度が10g以上のものをいう。   Furthermore, water-soluble solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, glycerin, acetone, and tetrahydrofuran are particularly preferable. Here, water-soluble means that the solubility in 100 g of water is 10 g or more.

(リターデーション制御剤)
本発明の光学フィルムを用いた光学用途フィルムにおいて配向膜を形成して液晶層を設け、光学フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化して光学補償能を付与した偏光板加工を行ってもよい。
(Retardation control agent)
In the optical use film using the optical film of the present invention, an alignment film may be formed to provide a liquid crystal layer, and polarizing plate processing may be performed by combining the optical film and the retardation derived from the liquid crystal layer to provide optical compensation ability. .

リターデーションを制御するために添加する化合物は、欧州特許第911,656A2号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物をリターデーション制御剤として使用することもできる。   The compound to be added to control the retardation is an aromatic compound having two or more aromatic rings as described in EP 911,656A2, which is used as a retardation control agent. You can also.

また2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。   Two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound includes an aromatic heterocyclic ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring.

芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に不飽和ヘテロ環である。中でも1,3,5−トリアジン環を有する化合物が特に好ましい。   An aromatic heterocyclic ring is particularly preferred, and the aromatic heterocyclic ring is generally an unsaturated heterocyclic ring. Of these, compounds having a 1,3,5-triazine ring are particularly preferred.

(マット剤)
本発明の光学フィルムは、滑り性や光学的、機械的機能を付与するためにマット剤を添加することができる。マット剤としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。
(Matting agent)
In the optical film of the present invention, a matting agent can be added in order to impart slipperiness, optical and mechanical functions. Examples of the matting agent include inorganic compound fine particles and organic compound fine particles.

マット剤の形状は、球状、棒状、針状、層状、平板状等の形状のものが好ましく用いられる。マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の金属の酸化物、リン酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。   The shape of the matting agent is preferably a spherical shape, a rod shape, a needle shape, a layer shape, a flat shape or the like. Examples of the matting agent include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, and calcium phosphate. Examples thereof include inorganic fine particles such as oxides, phosphates, silicates, and carbonates, and crosslinked polymer fine particles.

中でも、二酸化ケイ素が光学フィルムのヘイズを低くできるので好ましい。これらの微粒子は有機物により表面処理されていることが、光学フィルムのヘイズを低下できるため好ましい。   Among these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the optical film. These fine particles are preferably surface-treated with an organic substance because the haze of the optical film can be reduced.

表面処理は、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等で行うことが好ましい。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。また、微粒子の一次粒子の平均粒径は0.01〜1.0μmの範囲である。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は5〜50nmが好ましく、さらに好ましくは、7〜14nmである。これらの微粒子は、光学フィルム表面に0.01〜1.0μmの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。   The surface treatment is preferably performed with halosilanes, alkoxysilanes, silazane, siloxane, or the like. The larger the average particle size of the fine particles, the greater the sliding effect, and the smaller the average particle size, the better the transparency. The average primary particle size of the fine particles is in the range of 0.01 to 1.0 μm. The average particle diameter of primary particles of preferable fine particles is preferably 5 to 50 nm, and more preferably 7 to 14 nm. These fine particles are preferably used for generating irregularities of 0.01 to 1.0 μm on the optical film surface.

二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル(株)製のアエロジル(AEROSIL)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等を挙げることができ、好ましくはアエロジル200V、R972、R972V、R974、R202、R812である。これらの微粒子は2種以上併用してもよい。   Examples of the silicon dioxide fine particles include Aerosil 200, 200V, 300, R972, R972V, R974, R202, R812, OX50, TT600, etc. manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., preferably Aerosil 200V, R972. , R972V, R974, R202, R812. Two or more kinds of these fine particles may be used in combination.

2種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル200VとR972Vを質量比で0.1:99.9〜99.9:0.1の範囲で使用できる。   When using 2 or more types together, it can mix and use in arbitrary ratios. Fine particles having different average particle sizes and materials, for example, Aerosil 200V and R972V can be used in a mass ratio of 0.1: 99.9 to 99.9: 0.1.

これらのマット剤の添加方法は混練する等によって行うことが好ましい。また、別の形態として予め溶媒に分散したマット剤とセルロースエステル及び/または可塑剤及び/または紫外線吸収剤を混合分散させた後、溶媒を揮発または沈殿させた固形物を得て、これをセルロースエステル溶融物の製造過程で用いることが、マット剤がセルロース樹脂中で均一に分散できる観点から好ましい。   These matting agents are preferably added by kneading. Further, as another form, after mixing and dispersing a matting agent previously dispersed in a solvent and a cellulose ester and / or a plasticizer and / or an ultraviolet absorber, a solid material obtained by volatilizing or precipitating the solvent is obtained. It is preferable to use it in the production process of the ester melt from the viewpoint that the matting agent can be uniformly dispersed in the cellulose resin.

上記マット剤は、光学フィルムの機械的、電気的、光学的特性改善のために添加することもできる。   The matting agent can also be added to improve the mechanical, electrical and optical properties of the optical film.

なおこれらの微粒子を添加するほど、得られる光学フィルムの滑り性は向上するが、添加するほどヘイズが上昇するため、含有量は好ましくは0.001〜5質量%が好ましく、より好ましくは0.005〜1質量%であり、さらに好ましくは0.01〜0.5質量%である。   In addition, although the slipperiness of the optical film obtained improves, so that these microparticles | fine-particles are added, since haze raises, so that it adds, Preferably content is 0.001-5 mass%, More preferably, it is 0.00. It is 005-1 mass%, More preferably, it is 0.01-0.5 mass%.

なお本発明の光学フィルムとしては、ヘイズ値が1.0%を超えると光学用材料として影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は1.0%未満、より好ましくは0.5%未満である。ヘイズ値はJIS−K7136に基づいて測定することができる。   The optical film of the present invention preferably has an haze value of less than 1.0%, more preferably less than 0.5% because an optical material is affected when the haze value exceeds 1.0%. The haze value can be measured based on JIS-K7136.

(高分子材料)
本発明の光学フィルムはセルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーを適宜選択して混合してもよい。
(Polymer material)
In the optical film of the present invention, polymer materials and oligomers other than cellulose ester may be appropriately selected and mixed.

前述の高分子材料やオリゴマーはセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、光学フィルムにしたときの透過率が80%以上、更に好ましくは90%以上、更に好ましくは92%以上であることが好ましい。   The above-described polymer materials and oligomers are preferably those having excellent compatibility with the cellulose ester, and the transmittance when formed into an optical film is 80% or more, more preferably 90% or more, more preferably 92% or more. .

セルロースエステル以外の高分子材料やオリゴマーの少なくとも1種以上を混合する目的は、加熱溶融時の粘度制御や光学フィルム加工後の光学フィルム物性を向上するために行う意味を含んでいる。この場合は、上述のその他添加剤として含むことができる。   The purpose of mixing at least one of polymer materials and oligomers other than cellulose ester includes meaning to improve viscosity control at the time of heating and melting and optical film physical properties after optical film processing. In this case, it can contain as an above-mentioned other additive.

光学フィルム構成材料は溶融及び製膜工程において、揮発成分が少ないまたは発生しないことが求められる。   The optical film constituent material is required to have little or no volatile component in the melting and film forming process.

これは加熱溶融時に発泡して、光学フィルム内部の欠陥や光学フィルム表面の平面性劣化を削減または回避するためである。   This is for foaming during heating and melting to reduce or avoid defects inside the optical film and flatness deterioration of the optical film surface.

光学フィルム構成材料が溶融されるときの揮発成分の含有量は、1質量%以下、好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.2質量%以下、さらにより好ましくは0.1質量%以下であることが望まれる。   The content of the volatile component when the optical film constituting material is melted is 1% by mass or less, preferably 0.5% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or less, and still more preferably 0.1% by mass. It is desirable that

本発明においては、示差熱重量測定装置(セイコー電子工業社製TG/DTA200)を用いて、30℃から250℃までの加熱減量を求め、その量を揮発成分の含有量としている。   In the present invention, a heat loss from 30 ° C. to 250 ° C. is determined using a differential thermogravimetric measuring device (TG / DTA200 manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.), and the amount is defined as the content of volatile components.

用いる光学フィルム構成材料は、前記水分や前記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜する前に、または加熱時に除去することが好ましい。   It is preferable that the optical film constituent material used removes volatile components typified by the moisture and the solvent before film formation or during heating.

除去する方法は、公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行ってもよい。   A known drying method can be applied to the removal method, and it can be performed by a method such as a heating method, a reduced pressure method, a heated reduced pressure method, or the like, and may be performed in air or in an atmosphere where nitrogen is selected as an inert gas.

これらの公知の乾燥方法を行うとき、光学フィルム構成材料が分解しない温度領域で行うことが光学フィルムの品質上好ましい。   When performing these well-known drying methods, it is preferable on the quality of an optical film to carry out in the temperature range which an optical film constituent material does not decompose.

製膜前に乾燥することにより、揮発成分の発生を削減することができ、樹脂単独、または樹脂と光学フィルム構成材料の内、樹脂以外の少なくとも1種以上の混合物または相溶物に分割して乾燥することもできる。乾燥温度は70℃以上が好ましい。   By drying before film formation, the generation of volatile components can be reduced and divided into resin alone or at least one mixture or compatible material other than resin among resin and optical film constituent materials. It can also be dried. The drying temperature is preferably 70 ° C. or higher.

乾燥する材料にガラス転移温度を有する物が存在するときには、そのガラス転移温度よりも高い乾燥温度に加熱すると、材料が融着して取り扱いが困難になることがあるので、乾燥温度は、ガラス転移温度以下であることが好ましい。   When a material having a glass transition temperature is present in the material to be dried, heating to a drying temperature higher than the glass transition temperature may cause the material to melt and become difficult to handle. It is preferable that it is below the temperature.

複数の物質がガラス転移温度を有する場合は、ガラス転移温度が低い方のガラス転移温度を基準とする。より好ましくは70℃以上、(ガラス転移温度−5)℃以下、さらに好ましくは110℃以上、(ガラス転移温度−20)℃以下である。   When a plurality of substances have a glass transition temperature, the glass transition temperature with the lower glass transition temperature is used as a reference. More preferably, they are 70 degreeC or more and (glass transition temperature-5) degreeC or less, More preferably, they are 110 degreeC or more and (glass transition temperature-20) degreeC or less.

乾燥時間は、好ましくは0.5〜24時間、より好ましくは1〜18時間、さらに好ましくは1.5〜12時間である。乾燥温度が低くなりすぎると揮発成分の除去率が低くなり、また乾燥するのに時間にかかり過ぎることになる。   The drying time is preferably 0.5 to 24 hours, more preferably 1 to 18 hours, and further preferably 1.5 to 12 hours. If the drying temperature is too low, the removal rate of volatile components will be low, and it will take too much time to dry.

また、乾燥工程は2段階以上にわけてもよく、例えば、乾燥工程が、材料の保管のための予備乾燥工程と、製膜する直前〜1週間前の間に行う直前乾燥工程を含むものであってもよい。   Further, the drying process may be divided into two or more stages. For example, the drying process includes a preliminary drying process for storage of materials and a just-before drying process performed immediately before film formation to one week before film formation. Also good.

《溶融流延法》
本発明の請求項2記載の光学フィルムの製造方法は溶融流延によって形成することを特徴としている。
<Melt casting method>
The method for producing an optical film according to claim 2 of the present invention is characterized by being formed by melt casting.

溶液流延法において用いられる溶媒(例えば塩化メチレン等)を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。   The molding method by melt casting that heats and melts without using the solvent (for example, methylene chloride, etc.) used in the solution casting method, more specifically, melt extrusion molding method, press molding method, inflation method, injection molding method And can be classified into blow molding, stretch molding and the like.

これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる偏光板保護フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。   Among these, in order to obtain a polarizing plate protective film having excellent mechanical strength and surface accuracy, the melt extrusion method is excellent.

以下、溶融押し出し法を例にとり、本発明の請求項2に記載の光学フィルムの製造方法について説明する。   The method for producing an optical film according to claim 2 of the present invention will be described below by taking the melt extrusion method as an example.

図1は、本発明に係る光学フィルムの製造方法を実施する装置の全体構成を示す概略フローシートであり、図2は、流延ダイから冷却ロール部分の拡大図である。   FIG. 1 is a schematic flow sheet showing the overall configuration of an apparatus for carrying out the method for producing an optical film according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a cooling roll portion from a casting die.

図1と図2において、光学フィルムの製造方法は、セルロース樹脂等の光学フィルム材料を混合した後、押出し機1を用いて、流延ダイ4から第1冷却ロール5上に溶融押し出し、第1冷却ロール5に外接させるとともに、さらに、第2冷却ロール7、第3冷却ロール8の合計3本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化して光学フィルム10とする。   1 and 2, the optical film manufacturing method includes mixing an optical film material such as cellulose resin, and then using the extruder 1 to melt and extrude from the casting die 4 onto the first cooling roll 5. While circumscribing the cooling roll 5, it is further circumscribed by a total of three cooling rolls, ie, the second cooling roll 7 and the third cooling roll 8, in order to cool and solidify the optical film 10.

ついで、剥離ロール9によって剥離した光学フィルム10を、ついで延伸装置12により光学フィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻取り装置16により巻き取る。また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第1冷却ロール5表面に挟圧するタッチロール6が設けられている。   Next, the optical film 10 peeled off by the peeling roll 9 is then stretched in the width direction by holding both ends of the optical film by the stretching device 12, and then wound by the winding device 16. In addition, a touch roll 6 is provided that clamps the molten film on the surface of the first cooling roll 5 in order to correct the flatness.

このタッチロール6は表面が弾性を有し、第1冷却ロール5との間でニップを形成している。タッチロール6についての詳細は後述する。   The touch roll 6 has an elastic surface and forms a nip with the first cooling roll 5. Details of the touch roll 6 will be described later.

光学フィルムの製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行うことができる。   In the method for producing an optical film, the conditions for melt extrusion can be performed in the same manner as the conditions used for other thermoplastic resins such as polyester.

材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を1000ppm以下、好ましくは200ppm以下に乾燥させることが望ましい。   The material is preferably dried beforehand. It is desirable to dry the moisture to 1000 ppm or less, preferably 200 ppm or less by using a vacuum or reduced pressure drier or a dehumidifying hot air drier.

例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機1をいて、押し出し温度200〜300℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター2等で濾過し、異物を除去する。   For example, the cellulose ester-based resin dried under hot air, vacuum or reduced pressure is used in the extruder 1 and melted at an extrusion temperature of about 200 to 300 ° C. and filtered through a leaf disk type filter 2 or the like to remove foreign matters.

供給ホッパー(図示略)から押出し機1へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。   When introducing into the extruder 1 from a supply hopper (not shown), it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum, reduced pressure, or inert gas atmosphere.

可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー3等の混合装置を用いることが好ましい。   When additives such as a plasticizer are not mixed in advance, they may be kneaded in the middle of the extruder. In order to add uniformly, it is preferable to use a mixing apparatus such as a static mixer 3.

本発明において、セルロース樹脂と、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましい。セルロース樹脂と安定化剤を最初に混合することがさらに好ましい。   In the present invention, it is preferable that the cellulose resin and other additives such as a stabilizer added as necessary are mixed before melting. More preferably, the cellulose resin and the stabilizer are mixed first.

混合は、混合機等により行ってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、V型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー等、一般的な混合機を用いることができる。   Mixing may be performed by a mixer or the like, or may be mixed in the cellulose resin preparation process as described above. When a mixer is used, a general mixer such as a V-type mixer, a conical screw type mixer, a horizontal cylindrical type mixer, a Henschel mixer, a ribbon mixer, or the like can be used.

上記のように光学フィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機1を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、光学フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機1で溶融して製膜するようにしてもよい。   After mixing the optical film constituting material as described above, the mixture may be directly melted and formed into a film using the extruder 1, but once the optical film constituting material is pelletized, the pellet May be melted by the extruder 1 to form a film.

また、光学フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機1に投入して製膜することも可能である。   Further, when the optical film constituting material includes a plurality of materials having different melting points, a so-called braided semi-melt is once produced at a temperature at which only a material having a low melting point is melted, and the semi-melt is extruded into the extruder 1. It is also possible to form a film by putting it into the film.

光学フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。   If the optical film material contains materials that are easily pyrolyzed, in order to reduce the number of melting times, a method of directly forming a film without producing pellets, or making a braided semi-melt as described above A method of forming a film from is preferred.

押出し機1は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも2軸押出し機でもよい。   As the extruder 1, various commercially available extruders can be used, but a melt-kneading extruder is preferable, and a single-screw extruder or a twin-screw extruder may be used.

光学フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な混練度が必要であるため2軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。   When forming a film directly without forming pellets from optical film constituent materials, it is preferable to use a twin-screw extruder because an appropriate degree of kneading is required. However, even with a single-screw extruder, the screw shape can be changed to Maddock. By changing to a kneading type screw such as a mold, unimelt, dalmage, etc., moderate kneading can be obtained, which can be used.

光学フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも2軸押出し機でも使用可能である。   When a pellet or braided semi-melt is used as the optical film constituent material, it can be used with either a single screw extruder or a twin screw extruder.

押出し機1内及び押出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。   In the extruder 1 and the cooling step after extrusion, it is preferable to reduce the oxygen concentration by replacing with an inert gas such as nitrogen gas or reducing the pressure.

押出し機1内の光学フィルム構成材料の溶融温度は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、一般的には、光学フィルムのガラス転移温度Tgに対して、Tg以上、Tg+130℃以下、好ましくはTg+10℃以上、Tg+120℃以下である。押出し時の溶融粘度は、10〜100000ポイズ、好ましくは100〜10000ポイズである。   The melting temperature of the optical film constituent material in the extruder 1 varies depending on the viscosity and discharge amount of the optical film constituent material, the thickness of the sheet to be manufactured, etc., but generally the glass transition temperature Tg of the optical film. On the other hand, it is Tg or more and Tg + 130 ° C. or less, preferably Tg + 10 ° C. or more and Tg + 120 ° C. or less. The melt viscosity at the time of extrusion is 10 to 100,000 poise, preferably 100 to 10,000 poise.

また、押出し機1内での光学フィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、5分以内、好ましくは3分以内、より好ましくは2分以内である。滞留時間は、押出し機1の種類、押出す条件にも左右されるが、材料の供給量やL/D、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。   Further, the residence time of the optical film constituting material in the extruder 1 is preferably shorter, and is within 5 minutes, preferably within 3 minutes, and more preferably within 2 minutes. Although the residence time depends on the type of the extruder 1 and the extrusion conditions, it can be shortened by adjusting the material supply amount, L / D, screw rotation speed, screw groove depth, etc. It is.

押出し機1のスクリューの形状や回転数等は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機1でのせん断速度は、1/秒〜10000/秒、好ましくは5/秒〜1000/秒、より好ましくは10/秒〜100/秒である。   The shape, rotation speed, etc. of the screw of the extruder 1 are appropriately selected depending on the viscosity, discharge amount, etc. of the optical film constituting material. In the present invention, the shear rate in the extruder 1 is 1 / second to 10000 / second, preferably 5 / second to 1000 / second, more preferably 10 / second to 100 / second.

本発明に使用できる押出し機1としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。   The extruder 1 that can be used in the present invention is generally available as a plastic molding machine.

押出し機1から押し出された光学フィルム構成材料は、流延ダイ4に送られ、流延ダイ4のスリットから光学フィルム状に押し出される。流延ダイ4はシートや光学フィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。   The optical film constituting material extruded from the extruder 1 is sent to the casting die 4 and extruded from the slit of the casting die 4 into an optical film shape. The casting die 4 is not particularly limited as long as it is used for producing a sheet or an optical film.

流延ダイ4の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック(タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム)等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、#1000番手以降の砥石を用いるラッピング、#1000番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削(切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向)、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。   The material of the casting die 4 is sprayed or plated with hard chromium, chromium carbide, chromium nitride, titanium carbide, titanium carbonitride, titanium nitride, super steel, ceramic (tungsten carbide, aluminum oxide, chromium oxide), etc. Processing such as buffing, lapping using a # 1000 or higher grinding wheel, plane cutting using a # 1000 or higher diamond grinding wheel (the cutting direction is perpendicular to the resin flow direction), electrolytic polishing, electrolytic composite polishing, etc. And the like.

流延ダイ4のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ4と同様である。またリップ部の表面精度は0.5S以下が好ましく、0.2S以下がより好ましい。   A preferred material for the lip portion of the casting die 4 is the same as that of the casting die 4. The surface accuracy of the lip is preferably 0.5S or less, and more preferably 0.2S or less.

この流延ダイ4のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。   The slit of the casting die 4 is configured so that the gap can be adjusted.

これを図3に示す。流延ダイ4のスリット32を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ33であり、他方は固定リップ34である。そして、多数のヒートボルト35が流延ダイ4の幅方向すなわちスリット32の長さ方向に一定ピッチで配列されている。   This is shown in FIG. Of the pair of lips forming the slit 32 of the casting die 4, one is a flexible lip 33 having low rigidity and easily deformed, and the other is a fixed lip 34. A large number of heat bolts 35 are arranged at a constant pitch in the width direction of the casting die 4, that is, in the length direction of the slits 32.

各ヒートボルト5には、埋め込み電気ヒータ37と冷却媒体通路とを具えたブロック36が設けられ、各ヒートボルト35が各ブロック36を縦に貫通している。ヒートボルト35の基部はダイ本体31に固定され、先端はフレキシブルリップ33の外面に当接している。   Each heat bolt 5 is provided with a block 36 having an embedded electric heater 37 and a cooling medium passage, and each heat bolt 35 penetrates each block 36 vertically. The base of the heat bolt 35 is fixed to the die body 31, and the tip is in contact with the outer surface of the flexible lip 33.

そしてブロック36を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒータ37の入力を増減してブロック36の温度を上下させ、これによりヒートボルト35を熱伸縮させて、フレキシブルリップ33を変位させて光学フィルムの厚さを調整する。   While the block 36 is always air-cooled, the input of the embedded electric heater 37 is increased or decreased to raise or lower the temperature of the block 36, thereby causing the heat bolt 35 to thermally expand and contract, thereby displacing the flexible lip 33 to change the thickness of the optical film. Adjust.

ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。ヒートボルトは、好ましくは、長さ20〜40cm、直径7〜14mmを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ20〜40mmで配列されている。   Thickness gauges are installed at the required locations in the wake of the die, and the web thickness information detected thereby is fed back to the control device. The thickness information is compared with the set thickness information by the control device, and correction control comes from the same device. It is also possible to control the power or the ON rate of the heat bolt heating element by the amount signal. The heat bolt preferably has a length of 20 to 40 cm and a diameter of 7 to 14 mm, and a plurality of, for example, several tens of heat bolts are preferably arranged at a pitch of 20 to 40 mm.

ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常200〜1000μm、好ましくは300〜800μm、より好ましくは400〜600μmである。   Instead of the heat bolt, a gap adjusting member mainly composed of a bolt for adjusting the slit gap by manually moving back and forth in the axial direction may be provided. The slit gap adjusted by the gap adjusting member is usually 200 to 1000 μm, preferably 300 to 800 μm, more preferably 400 to 600 μm.

第1〜第3冷却ロールは、肉厚が20〜30mm程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上の光学フィルムから熱を吸収できるように構成されている。   The first to third cooling rolls are made of seamless steel pipe having a wall thickness of about 20 to 30 mm, and the surface is finished to a mirror surface. A pipe for flowing a cooling liquid is arranged inside the pipe, and the cooling liquid flowing through the pipe can absorb heat from the optical film on the roll.

この第1乃至第3冷却ロールの内、第1冷却ロール5が本発明の回転支持体に相当する。   Of the first to third cooling rolls, the first cooling roll 5 corresponds to the rotary support of the present invention.

一方、第1冷却ロール5に当接するタッチロール6は、表面が弾性を有し、第1冷却ロール5への押圧力によって第1冷却ロール5の表面に沿って変形し、第1ロール5との間にニップを形成する。すなわち、タッチロール6が本発明の挟圧回転体に相当する。   On the other hand, the touch roll 6 in contact with the first cooling roll 5 has an elastic surface and is deformed along the surface of the first cooling roll 5 by the pressing force to the first cooling roll 5. A nip is formed between the two. That is, the touch roll 6 corresponds to the pinching rotary body of the present invention.

図4に、タッチロール6の一実施形態(以下、タッチロールA)の概略断面を示す。図に示すように、タッチロールAは、可撓性の金属スリーブ41の内部に弾性ローラ42を配したものである。   In FIG. 4, the schematic cross section of one Embodiment (henceforth, touch roll A) of the touch roll 6 is shown. As shown in the drawing, the touch roll A has an elastic roller 42 disposed inside a flexible metal sleeve 41.

金属スリーブ41は厚さ0.3mmのステンレス製であり、可撓性を有する。金属スリーブ41が薄すぎると強度が不足し、逆に厚すぎると弾性が不足する。これらのことから、金属スリーブ41の厚さとしては、0.1〜1.5mmが好ましい。   The metal sleeve 41 is made of stainless steel having a thickness of 0.3 mm and has flexibility. If the metal sleeve 41 is too thin, the strength is insufficient, whereas if it is too thick, the elasticity is insufficient. For these reasons, the thickness of the metal sleeve 41 is preferably 0.1 to 1.5 mm.

弾性ローラ42は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒43の表面にゴム44を設けてロール状としたものである。   The elastic roller 42 is formed in a roll shape by providing a rubber 44 on the surface of a metal inner cylinder 43 that is rotatable via a bearing.

そして、タッチロールAが第1冷却ロール5に向けて押圧されると、弾性ローラ42が金属スリーブ41を第1冷却ロール5に押しつけ、金属スリープ41及び弾性ローラ42は第1冷却ロール5の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第1冷却ロールとの間にニップを形成する。金属スリーブ41の内部で弾性ローラ42との間に形成される空間には、冷却水45が流される。   When the touch roll A is pressed toward the first cooling roll 5, the elastic roller 42 presses the metal sleeve 41 against the first cooling roll 5, and the metal sleep 41 and the elastic roller 42 have the shape of the first cooling roll 5. It deforms corresponding to the familiar shape, and forms a nip with the first cooling roll. Cooling water 45 flows in a space formed between the metal sleeve 41 and the elastic roller 42.

図5、図6は挟圧回転体の別の実施形態であるタッチロールBを示している。タッチロールBは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製(厚さ4mm)の外筒51と、この外筒51の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒52とから概略構成されている。外筒51と内筒52との間の空間53には、冷却液54が流される。   5 and 6 show a touch roll B which is another embodiment of the pinching rotator. The touch roll B includes a flexible, seamless stainless steel pipe (thickness 4 mm) outer cylinder 51, and a highly rigid metal inner cylinder 52 arranged on the same axis as the inner side of the outer cylinder 51. It is roughly composed. A coolant 54 flows in the space 53 between the outer cylinder 51 and the inner cylinder 52.

詳しくは、タッチロールBは、両端の回転軸55a、55bに外筒支持フランジ56a、56bが取付けられ、これら両外筒支持フランジ56a、56bの外周部間に薄肉金属外筒51が取付けられている。   Specifically, in the touch roll B, outer cylinder support flanges 56a and 56b are attached to the rotation shafts 55a and 55b at both ends, and a thin metal outer cylinder 51 is attached between the outer peripheral portions of the both outer cylinder support flanges 56a and 56b. Yes.

また、一方の回転軸55aの軸心部に形成されて流体戻り通路57を形成する流体排出孔58内に、流体供給管59が同一軸心状に配設され、この流体供給管59が薄肉金属外筒51内の軸心部に配置された流体軸筒60に接続固定されている。   A fluid supply pipe 59 is disposed in the same axial center in a fluid discharge hole 58 formed in the axial center portion of one rotary shaft 55a and forming a fluid return passage 57. The fluid supply pipe 59 is thin-walled. It is connected and fixed to a fluid shaft cylinder 60 arranged at the axial center in the metal outer cylinder 51.

この流体軸筒60の両端部に内筒支持フランジ61a、61bがそれぞれ取付けられ、これら内筒支持フランジ61a、61bの外周部間から他端側外筒支持フランジ56bにわたって約15〜20mm程度の肉厚を有する金属内筒52が取付けられている。   Inner cylinder support flanges 61a and 61b are attached to both ends of the fluid shaft cylinder 60, respectively, and a thickness of about 15 to 20 mm between the outer periphery of the inner cylinder support flanges 61a and 61b and the other end side outer cylinder support flange 56b. A metal inner cylinder 52 having a thickness is attached.

そしてこの金属内筒52と薄肉金属外筒51との間に、例えば10mm程度の冷却液の流送空間53が形成され、また金属内筒52に両端部近傍には、流送空間53と内筒支持フランジ61a、61b外側の中間通路62a、62bとを連通する流出口52a及び流入口52bがそれぞれ形成されている。   A cooling liquid flow space 53 of, for example, about 10 mm is formed between the metal inner cylinder 52 and the thin metal outer cylinder 51, and the metal inner cylinder 52 has a flow space 53 and an inner space near both ends. An outlet 52a and an inlet 52b are formed to communicate with the intermediate passages 62a and 62b outside the cylinder support flanges 61a and 61b, respectively.

また、外筒51は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚t/ロール半径rで表されており、t/rが小さいほど可撓性が高まる。   Further, the outer cylinder 51 is thinned within a range in which the thin cylinder theory of elastic mechanics can be applied in order to have flexibility, flexibility, and resilience close to rubber elasticity. The flexibility evaluated by the thin-walled cylinder theory is expressed by the thickness t / roll radius r, and the flexibility increases as t / r decreases.

このタッチロールBではt/r≦0.03の場合に可撓性が最適の条件となる。通常、一般的に使用されているタッチロールは、ロール径R=200〜500mm(ロール半径r=R/2)、ロール有効幅L=500〜1600mmで、r/L<1で横長の形状である。   In this touch roll B, the flexibility is the optimum condition when t / r ≦ 0.03. Usually, the touch roll generally used has a roll diameter R = 200 to 500 mm (roll radius r = R / 2), a roll effective width L = 500 to 1600 mm, and a horizontally long shape with r / L <1. is there.

そして図6に示すように、例えばロール径R=300mm、ロール有効幅L=1200mmの場合、肉厚tの適正範囲は150×0.03=4.5mm以下であるが、溶融シート幅を1300mmに対して平均線圧を98N/cmで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒51の肉厚を3mmとすることで相当ばね定数も等しく、外筒51と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅kも約9mmで、このゴムロールのニップ幅約12mmとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。   As shown in FIG. 6, for example, when the roll diameter R = 300 mm and the roll effective width L = 1200 mm, the appropriate range of the wall thickness t is 150 × 0.03 = 4.5 mm or less, but the molten sheet width is 1300 mm. On the other hand, when the average linear pressure is clamped at 98 N / cm, the equivalent spring constant is equal by setting the wall thickness of the outer cylinder 51 to 3 mm compared to the rubber roll of the same shape. The nip width k in the roll rotation direction of the nip is also about 9 mm, which is almost the same as the nip width of this rubber roll of about 12 mm.

なお、このニップ幅kにおけるたわみ量は0.05〜0.1mm程度である。   The deflection amount at the nip width k is about 0.05 to 0.1 mm.

ここで、t/r≦0.03としたが、一般的なロール径R=200〜500mmの場合では、特に2mm≦t≦5mmの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工にる薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が2mm以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。   Here, t / r ≦ 0.03, but in the case of a general roll diameter R = 200 to 500 mm, flexibility is sufficiently obtained especially when the range of 2 mm ≦ t ≦ 5 mm is obtained. Thinning in processing can be easily performed, and is in a very practical range. If the wall thickness is 2 mm or less, high-precision processing cannot be performed due to elastic deformation during processing.

この2mm≦t≦5mmの換算値は、一般的なロール径に対して0.008≦t/r≦0.05となるが、実用にあたってはt/r≒0.03の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。例えばロール径:R=200ではt=2〜3mm、ロール径:R=500ではt=4〜5mmの範囲で選択する。   The converted value of 2 mm ≦ t ≦ 5 mm is 0.008 ≦ t / r ≦ 0.05 with respect to a general roll diameter, but in practical use, the roll diameter under the condition of t / r≈0.03. The wall thickness should be increased in proportion to For example, when roll diameter: R = 200, t = 2 to 3 mm, and when roll diameter: R = 500, t = 4 to 5 mm.

このタッチロールA、Bは不図示の付勢手段により第1冷却ロールに向けて付勢される。   The touch rolls A and B are urged toward the first cooling roll by urging means (not shown).

その付勢手段の付勢力をF、ニップにおける光学フィルムの、第1冷却ロール5の回転軸に沿った方向の幅Wを除した値F/W(線圧)は、9.8〜147N/cmに設定される。   The urging force of the urging means is F, and the value F / W (linear pressure) obtained by dividing the width W of the optical film in the nip along the rotation axis of the first cooling roll 5 is 9.8 to 147 N / Set to cm.

本実施の形態によれば、タッチロールA、Bと第1冷却ロール5との間にニップが形成され、当該ニップを光学フィルムが通過する間に平面性を矯正すればよい。   According to the present embodiment, a nip is formed between the touch rolls A and B and the first cooling roll 5, and the flatness may be corrected while the optical film passes through the nip.

従って、タッチロールが剛体で構成され、第1冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけて光学フィルムを挟圧するので、平面性をよ確実に矯正することができる。すなわち、線圧が9.8N/cmよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。   Accordingly, the optical film is sandwiched over a long time with a small linear pressure compared to the case where the touch roll is formed of a rigid body and a nip is not formed between the first cooling roll and the flatness is more reliably corrected. be able to. That is, when the linear pressure is smaller than 9.8 N / cm, the die line cannot be sufficiently eliminated.

逆に、線圧が147N/cmよりも大きいと、光学フィルムがニップを通過しにくくなり、光学フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。   On the other hand, if the linear pressure is greater than 147 N / cm, the optical film is difficult to pass through the nip, resulting in unevenness in place of the thickness of the optical film.

また、タッチロールA、Bの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールA、Bの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高い光学フィルムを得ることができる。   In addition, since the surfaces of the touch rolls A and B are made of metal, the surfaces of the touch rolls A and B can be made smoother than when the surface of the touch roll is rubber. Can be obtained.

なお、弾性ローラ42の弾性体44の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。   In addition, as a material of the elastic body 44 of the elastic roller 42, ethylene propylene rubber, neoprene rubber, silicon rubber, or the like can be used.

さて、タッチロール6によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。   Now, in order to eliminate the die line satisfactorily by the touch roll 6, it is important that the viscosity of the optical film when the touch roll 6 sandwiches the optical film is in an appropriate range.

また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。   Cellulose esters are known to have a relatively large change in viscosity with temperature.

従って、タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときのフィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。   Therefore, in order to set the viscosity when the touch roll 6 clamps the optical film to an appropriate range, it is important to set the temperature of the film when the touch roll 6 clamps the optical film to an appropriate range. Become.

そして光学フィルムのガラス転移温度をTgとしたとき、光学フィルムがタッチロール6に挟圧される直前の光学フィルムの温度Tを、Tg<T<Tg+110℃を満たすように設定することが好ましい。   And when the glass transition temperature of an optical film is set to Tg, it is preferable to set temperature T of the optical film just before an optical film is clamped by the touch roll 6 so that Tg <T <Tg + 110 degreeC may be satisfy | filled.

光学フィルム温度TがTgよりも低いと光学フィルムの粘度が高すぎて、ダイラインを矯正できなくなる。   If the optical film temperature T is lower than Tg, the viscosity of the optical film is too high and the die line cannot be corrected.

逆に、光学フィルムの温度TがTg+110℃よりも高いと、光学フィルム表面とロールが均一に接着せず、やはりダイラインを矯正することができない。好ましくはTg+10℃<T<Tg+90℃、さらに好ましくはTg+20℃<T<Tg+70℃である。   On the contrary, if the temperature T of the optical film is higher than Tg + 110 ° C., the surface of the optical film and the roll do not adhere uniformly, and the die line cannot be corrected. Tg + 10 ° C. <T <Tg + 90 ° C., more preferably Tg + 20 ° C. <T <Tg + 70 ° C.

タッチロール6が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ4から押し出された溶融物が第1冷却ロール5に接触する位置P1から第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップの、第1冷却ロール5の回転方向に沿った長さLを調整すればよい。   In order to set the temperature of the optical film when the touch roll 6 clamps the optical film to an appropriate range, the first cooling is performed from the position P1 at which the melt extruded from the casting die 4 contacts the first cooling roll 5. The length L of the nip between the roll 5 and the touch roll 6 along the rotation direction of the first cooling roll 5 may be adjusted.

本発明において、第1ロール5、第2ロール6に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして0.3S以下、より好ましくは0.01S以下とする。   In the present invention, preferred materials for the first roll 5 and the second roll 6 include carbon steel, stainless steel, resin, and the like. The surface accuracy is preferably increased, and the surface roughness is set to 0.3 S or less, more preferably 0.01 S or less.

本発明においては、流延ダイ4の開口部(リップ)から第1ロール5までの部分を70kPa以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果がより大きく発現することを発見した。好ましくは、減圧は50〜70kPaである。   In the present invention, it was discovered that the die line correction effect is more greatly manifested by reducing the pressure from the opening (lip) of the casting die 4 to the first roll 5 to 70 kPa or less. Preferably, the reduced pressure is 50 to 70 kPa.

流延ダイ4の開口部(リップ)から第1ロール5までの部分の圧力を70kPa以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ4からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。   Although there is no restriction | limiting in particular as a method of keeping the pressure of the part from the opening part (lip | rip) of the casting die 4 to the 1st roll 5 below 70 kPa, Cover the roll periphery from the casting die 4 with a pressure | voltage resistant member, and reduce pressure. There are methods.

このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒータで加熱する等の処置を施すことが好ましい。本発明では、吸引圧が小さすぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。   At this time, the suction device is preferably subjected to a treatment such as heating with a heater so that the device itself does not become a place where the sublimate is attached. In the present invention, if the suction pressure is too small, the sublimate cannot be sucked effectively, so it is necessary to set the suction pressure to an appropriate value.

本発明において、Tダイ4から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第1ロール(第1冷却ロール)5、第2冷却ロール7、及び第3冷却ロール8に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸の光学フィルム10を得る。   In the present invention, a film-like cellulose ester resin in a molten state is transferred from the T die 4 to the first roll (first cooling roll) 5, the second cooling roll 7, and the third cooling roll 8 in order and conveyed. While being cooled and solidified, an unstretched optical film 10 is obtained.

図1に示す本発明の実施形態では、第3冷却ロール8から剥離ロール9によって剥離した冷却固化された未延伸の光学フィルム10は、ダンサーロール(フィルム張力調整ロール)11を経て延伸機12に導き、そこで光学フィルム10を横方向(幅方向)に延伸する。   In the embodiment of the present invention shown in FIG. 1, the cooled and solidified unstretched optical film 10 peeled from the third cooling roll 8 by the peeling roll 9 passes through a dancer roll (film tension adjusting roll) 11 to a stretching machine 12. Then, the optical film 10 is stretched in the lateral direction (width direction).

この延伸により、光学フィルム中の分子が配向される。   By this stretching, the molecules in the optical film are oriented.

光学フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。   As a method for stretching the optical film in the width direction, a known tenter or the like can be preferably used.

特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂からなる光学フィルムの遅相軸は幅方向になる。   In particular, it is preferable to set the stretching direction to the width direction because lamination with a polarizing film can be performed in a roll form. By stretching in the width direction, the slow axis of the optical film made of the cellulose ester resin becomes the width direction.

一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。   On the other hand, the transmission axis of the polarizing film is also usually in the width direction. By incorporating a polarizing plate in which the transmission axis of the polarizing film and the slow axis of the optical film are parallel to each other into the liquid crystal display device, the display contrast of the liquid crystal display device can be increased and a good viewing angle can be obtained. Is obtained.

光学フィルム構成材料のガラス転移温度Tgは光学フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。光学フィルムとして位相差光学フィルムを作製する場合、Tgは120℃以上、好ましくは135℃以上とすることが好ましい。   The glass transition temperature Tg of the optical film constituting material can be controlled by making the material type constituting the optical film and the ratio of the constituting material different. When producing a retardation optical film as the optical film, Tg is preferably 120 ° C. or higher, and more preferably 135 ° C. or higher.

液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によって光学フィルムの温度環境が変化する。   In the liquid crystal display device, in the image display state, the temperature environment of the optical film changes due to the temperature rise of the device itself, for example, the temperature rise derived from the light source.

このとき光学フィルムの使用環境温度よりも光学フィルムのTgが低いと、延伸によって光学フィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリタデーション値及び光学フィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。   At this time, if the Tg of the optical film is lower than the use environment temperature of the optical film, the retardation value derived from the orientation state of the molecules fixed inside the optical film by stretching and the dimensional shape as the optical film are greatly changed. Become.

光学フィルムのTgが高過ぎると、光学フィルム構成材料を光学フィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、また光学フィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Tgは250℃以下が好ましい。   If the Tg of the optical film is too high, when the optical film constituent material is made into an optical film, the temperature becomes high, so that the energy consumption for heating becomes high, and the material itself is decomposed when it is made into an optical film, resulting in coloring. Therefore, Tg is preferably 250 ° C. or lower.

また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする光学光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。   The stretching step may be performed by known heat setting conditions, cooling, and relaxation treatment, and may be appropriately adjusted so as to have the characteristics required for the target optical optical film.

位相フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相フィルムの機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行われている。このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行うようにする。   In order to provide the physical properties of the phase film and the function of the phase film for expanding the viewing angle of the liquid crystal display device, the stretching step and the heat setting treatment are appropriately selected and performed. When such a stretching step and heat setting treatment are included, the heating and pressurizing step is performed before the stretching step and heat setting treatment.

光学フィルムとして位相差フィルムを製造し、さらに偏光板保護フィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行うことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。   When producing a retardation film as an optical film and further combining the functions of a polarizing plate protective film, it is necessary to control the refractive index. However, the refractive index can be controlled by a stretching operation. Is a preferred method. Hereinafter, the stretching method will be described.

位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の1方向に1.0〜2.0倍及び光学フィルム面内にそれと直交する方向に1.01〜2.5倍延伸することで、必要とされるリタデーションRo及びRtを制御することができる。   In the retardation film stretching process, it is required by stretching 1.0 to 2.0 times in one direction of the cellulose resin and 1.01 to 2.5 times in the direction perpendicular to the optical film plane. Retardation Ro and Rt can be controlled.

ここで、Roとは面内リタデーションを示し、面内の長手方向MDの屈折率と幅方向TDの屈折率との差に厚みを乗じたもの、Rtとは厚み方向リタデーションを示し、面内の屈折率(長手方向MDと幅方向TDの平均)と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。   Here, Ro indicates in-plane retardation, the difference between the refractive index in the longitudinal direction MD in the plane and the refractive index in the width direction TD is multiplied by the thickness, and Rt indicates the thickness direction retardation. The difference between the refractive index (average of the longitudinal direction MD and the width direction TD) and the refractive index in the thickness direction is multiplied by the thickness.

延伸は、例えば光学フィルムの長手方向及びそれと光学フィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも1方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。   Stretching can be performed, for example, sequentially or simultaneously in the longitudinal direction of the optical film and the direction orthogonal to the longitudinal direction of the optical film, that is, the width direction. At this time, if the stretching ratio in at least one direction is too small, a sufficient phase difference cannot be obtained, and if it is too large, stretching becomes difficult and film breakage may occur.

互いに直交する2軸方向に延伸することは、光学フィルムの屈折率nx、ny、nzを所定の範囲に入れるために有効な方法である。ここで、nxとは長手MD方向の屈折率、nyとは幅手TD方向の屈折率、nzとは厚み方向の屈折率である。   Stretching in biaxial directions perpendicular to each other is an effective method for putting the refractive indexes nx, ny, and nz of the optical film within a predetermined range. Here, nx is the refractive index in the longitudinal MD direction, ny is the refractive index in the width TD direction, and nz is the refractive index in the thickness direction.

例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、nzの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、光学フィルムの幅収縮を抑制、あるいは幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。   For example, when stretching in the melt casting direction, if the shrinkage in the width direction is too large, the value of nz becomes too large. In this case, it can be improved by suppressing the width shrinkage of the optical film or stretching in the width direction. When stretching in the width direction, the refractive index may be distributed in the width direction.

この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、光学フィルムを幅方向に延伸したことで、光学フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。   This distribution may appear when the tenter method is used. By stretching the optical film in the width direction, a contraction force is generated at the center of the optical film, and the phenomenon is caused by the end being fixed. The so-called Boeing phenomenon is considered. Even in this case, by stretching in the casting direction, the bowing phenomenon can be suppressed and the distribution of the phase difference in the width direction can be reduced.

互いに直行する2軸方向に延伸することにより、得られる光学フィルムの膜厚変動が減少できる。   By stretching in the biaxial directions perpendicular to each other, the film thickness variation of the obtained optical film can be reduced.

位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。   When the film thickness variation of the retardation film is too large, the retardation becomes uneven, and unevenness such as coloring may be a problem when used in a liquid crystal display.

光学フィルムの膜厚変動は、±3%、さらに±1%の範囲とすることが好ましい。   The film thickness variation of the optical film is preferably in the range of ± 3%, and more preferably ± 1%.

以上のような目的において、互いに直交する2軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する2軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に1.0〜2.0倍、幅方向に1.01〜2.5倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に1.01〜1.5倍、幅方向に1.05〜2.0倍に範囲で行うことが必要とされるリタデーション値を得るためにより好ましい。   For the purposes as described above, the method of stretching in the biaxial directions perpendicular to each other is effective, and the stretching ratio in the biaxial directions perpendicular to each other is finally 1.0 to 2.0 times in the casting direction. The width direction is preferably 1.01 to 2.5 times, the casting direction is 1.01 to 1.5 times, and the width direction is 1.05 to 2.0 times. It is more preferable to obtain the required retardation value.

長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。   When the absorption axis of the polarizer exists in the longitudinal direction, the transmission axis of the polarizer coincides with the width direction. In order to obtain a long polarizing plate, the retardation film is preferably stretched so as to obtain a slow axis in the width direction.

応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。   When cellulose ester that obtains positive birefringence with respect to stress is used, the slow axis of the retardation film can be provided in the width direction by stretching in the width direction from the above configuration.

この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、目的とするリタデーション値を得るためには、
式、(幅方向の延伸倍率)>(流延方向の延伸倍率)
の条件を満たすことが必要である。
In this case, in order to improve the display quality, the slow axis of the retardation film is preferably in the width direction, and in order to obtain the desired retardation value,
Formula (stretch ratio in the width direction)> (stretch ratio in the casting direction)
It is necessary to satisfy the following conditions.

延伸後、光学フィルムの端部をスリッター13により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング14及びバックロール15よりなるナール加工装置によりナール加工(エンボッシング加工)を光学フィルム両端部に施し、巻取り機16によって巻き取ることにより、光学フィルム(元巻き)F中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。   After stretching, the end of the optical film is slit to a product width by the slitter 13 and cut off, and then the knurling (embossing) is performed on the both ends of the optical film by the knurling device including the embossing ring 14 and the back roll 15. Application and winding by the winder 16 prevents sticking in the optical film (original winding) F and generation of scratches.

ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、光学フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、光学フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。   The knurling method can process a metal ring having an uneven pattern on its side surface by heating or pressing. In addition, since the grip part of the clip of the optical film both ends is deform | transforming normally and cannot be used as an optical film product, it is cut out and reused as a raw material.

次に、光学フィルムの巻取り工程は、円筒形巻き光学フィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながら光学フィルムを巻取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、光学フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。   Next, the winding process of the optical film is performed by keeping the shortest distance between the outer peripheral surface of the cylindrically wound optical film and the outer peripheral surface of the mobile transport roll immediately before the optical film as a winding roll. It is to be wound up. In addition, a means such as a static elimination blower for removing or reducing the surface potential of the optical film is provided in front of the winding roll.

本発明の光学フィルムの製造に係わる巻取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻取り方法で巻き取ることができる。なお、偏光板保護フィルムの巻取り時の初期巻取り張力が90.2〜300.8N/mであるのが好ましい。   The winder related to the production of the optical film of the present invention may be generally used, and it may be a winding method such as a constant tension method, a constant torque method, a taper tension method, or a program tension control method with a constant internal stress. Can be wound up. In addition, it is preferable that the initial winding tension at the time of winding of a polarizing plate protective film is 90.2-300.8 N / m.

本発明の方法における光学フィルムの巻取り工程では、温度20〜30℃、湿度20〜60%RHの環境条件にて、光学フィルムを巻き取ることが本発明の効果をより奏する点で好ましい。   In the winding process of the optical film in the method of the present invention, it is preferable that the optical film is wound under the environmental conditions of a temperature of 20 to 30 ° C. and a humidity of 20 to 60% RH in terms of achieving the effect of the present invention.

このように、光学フィルムの巻取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リタデーション(Rt)の湿度変化の耐性が向上する。   Thus, the tolerance of the humidity change of the thickness direction retardation (Rt) improves by prescribing | regulating the temperature and humidity in the winding process of an optical film.

光学フィルムの巻取り工程における温度が上記の温度範囲であれば、巻取り工程におけるシワの発生が無く、光学フィルムの品質向上の点で好ましい。   If the temperature in the winding process of the optical film is within the above temperature range, wrinkles are not generated in the winding process, which is preferable in terms of improving the quality of the optical film.

また、光学フィルムの巻取り工程における湿度が上記の範囲であれば、帯電しにくく、光学フィルムの巻品質、貼り付き故障、搬送性巻品質向上が可能で好ましい。   Moreover, if the humidity in the winding process of the optical film is in the above range, it is difficult to be charged, and it is preferable because it is possible to improve the winding quality, sticking failure, and transportable winding quality of the optical film.

偏光板保護フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。   When winding the polarizing plate protective film in a roll shape, the winding core may be any material as long as it is a cylindrical core, but is preferably a hollow plastic core, as a plastic material May be any heat-resistant plastic that can withstand the heat treatment temperature, and examples thereof include phenol resins, xylene resins, melamine resins, polyester resins, and epoxy resins.

またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。例えば、中空プラスチックコア:FRP製の外径6インチ(以下、インチは2.54cmを表す。)、内径5インチの巻きコアが用いられる。   A thermosetting resin reinforced with a filler such as glass fiber is preferred. For example, a hollow plastic core: a wound core made of FRP and having an outer diameter of 6 inches (hereinafter, inch represents 2.54 cm) and an inner diameter of 5 inches is used.

これらの巻きコアへの巻き数は、100巻き以上であることが好ましく、500巻き以上であることがさらに好ましく、巻き厚は5cm以上であることが好ましく、光学フィルム基材の幅は80cm以上であることが好ましく、1m以上であることが特に好ましい。   The number of turns to these winding cores is preferably 100 turns or more, more preferably 500 turns or more, the winding thickness is preferably 5 cm or more, and the width of the optical film substrate is 80 cm or more. It is preferable that it is 1 m or more.

《光学フィルム》
本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ELディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。
<Optical film>
In the present invention, the optical film is a functional film used for various display devices such as liquid crystal displays, plasma displays, and organic EL displays. Films, brightness enhancement films, hard coat films, antiglare films, antistatic films, optical compensation films such as viewing angle expansion, and the like are included.

本発明の光学フィルムの膜の厚さは、使用目的によって異なるが、仕上がり光学フィルムとして、10〜500μmが好ましい。特に、下限は20μm以上、好ましくは35μm以上である。上限は150μm以下、好ましくは120μm以下である。特に好ましい範囲は25〜90μmである。   Although the thickness of the film of the optical film of the present invention varies depending on the purpose of use, the finished optical film is preferably 10 to 500 μm. In particular, the lower limit is 20 μm or more, preferably 35 μm or more. The upper limit is 150 μm or less, preferably 120 μm or less. A particularly preferable range is 25 to 90 μm.

位相差フィルムが厚いと、偏光板加工後の偏光板が厚くなり過ぎ、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的に適さない。一方、位相差フィルムが薄いと、位相差フィルムとしてのリタデーションの発現が困難となり、加えて光学フィルムの透湿性が高くなり、偏光子を湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。   When the retardation film is thick, the polarizing plate after polarizing plate processing becomes too thick, and is not suitable for the purpose of thin and light in liquid crystal displays used for notebook personal computers and mobile electronic devices. On the other hand, if the retardation film is thin, it is difficult to develop retardation as a retardation film, and in addition, the moisture permeability of the optical film is increased, and the ability to protect the polarizer from humidity is reduced.

位相差フィルムの遅相軸または進相軸が光学フィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角度をθ1とすると、θ1は−1〜+1°、好ましくは−0.5〜+0.5°となるようにする。   When the slow axis or the fast axis of the retardation film exists in the optical film plane and the angle formed with the film forming direction is θ1, θ1 is −1 to + 1 °, preferably −0.5 to +0.5. To be °.

このθ1は配向角として定義でき、θ1の測定は、自動複屈折計KOBRA−21ADH(王子計測機器社製)を用いて行うことができる。   This θ1 can be defined as an orientation angle, and the measurement of θ1 can be performed using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments).

θ1が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現に寄与する。   When each θ1 satisfies the above relationship, it contributes to obtaining high luminance in a display image, suppressing or preventing light leakage, and contributing to faithful color reproduction in a color liquid crystal display device.

位相差フィルムがマルチドメイン化されたVAモードに用いられるとき、位相差フィルムの配置は、位相差フィルムの進相軸がθ1として上記領域に配置することで、表示画質の向上に寄与し、偏光板及び液晶表示装置としてMVAモードとしたとき、例えば図7に示される構成をとることができる。   When the retardation film is used for the multi-domain VA mode, the retardation film is arranged in the above region with the fast axis of the retardation film being θ1, which contributes to the improvement of display image quality. When the plate and the liquid crystal display device are in the MVA mode, for example, the configuration shown in FIG. 7 can be adopted.

図7において、21a、21bは保護フィルム、22a、22bは位相差フィルム、25a、25bは偏光子、23a、23bはフィルムの遅相軸方向、24a、24bは偏光子の透過軸方向、26a、26bは偏光板、27は液晶セル、29は液晶表示装置を示している。   In FIG. 7, 21a and 21b are protective films, 22a and 22b are retardation films, 25a and 25b are polarizers, 23a and 23b are slow axis directions of the film, 24a and 24b are transmission axis directions of the polarizer, 26a, Reference numeral 26b denotes a polarizing plate, 27 denotes a liquid crystal cell, and 29 denotes a liquid crystal display device.

光学フィルムの面内方向のリタデーションRo分布は、5%以下に調整することが好ましく、より好ましくは2%以下であり、特に好ましくは、1.5%以下である。   The retardation Ro distribution in the in-plane direction of the optical film is preferably adjusted to 5% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 1.5% or less.

また、光学フィルムの厚み方向のリタデーションRt分布を10%以下に調整することが好ましいが、さらに好ましくは、2%以下であり、特に好ましくは、1.5%以下である。   The retardation Rt distribution in the thickness direction of the optical film is preferably adjusted to 10% or less, more preferably 2% or less, and particularly preferably 1.5% or less.

位相差フィルムにおいて、リタデーション値の分布変動が小さい方が好ましく、液晶表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を用いるとき、該リタデーション分布変動が小さいことが色ムラ等を防止する観点で好ましい。   In the retardation film, it is preferable that the retardation value distribution fluctuation is small. When a polarizing plate including a retardation film is used in a liquid crystal display device, the retardation distribution fluctuation is preferably small from the viewpoint of preventing color unevenness and the like.

位相差フィルムを、VAモードまたはTNモードの液晶セルの表示品質の向上に適したリタデーション値を有するように調整し、特にVAモードとして上記のマルチドメインに分割してMVAモードに好ましく用いられるようにするには、面内リタデーションRoを30nmよりも大きく、95nm以下に、かつ厚み方向リタデーションRtを70nmよりも大きく、400nm以下の値に調整することが求められる。   The retardation film is adjusted so as to have a retardation value suitable for improving the display quality of the liquid crystal cell of VA mode or TN mode, and is preferably used in the MVA mode by dividing the retardation film into the above multi-domain as the VA mode. For this purpose, it is required to adjust the in-plane retardation Ro to a value greater than 30 nm and 95 nm or less, and the thickness direction retardation Rt to a value greater than 70 nm and 400 nm or less.

上記の面内リタデーションRoは、2枚の偏光板がクロスニコルに配置され、偏光板の間に液晶セルが配置された、例えば図7に示す構成であるときに、表示面の法線方向から観察するときを基準にしてクロスニコル状態にあるとき、表示面の法線から斜めに観察したとき、偏光板のクロスニコル状態からのずれが生じ、これが要因となる光漏れを、主に補償する。   The in-plane retardation Ro is observed from the normal direction of the display surface when the two polarizing plates are arranged in crossed Nicols and the liquid crystal cell is arranged between the polarizing plates, for example, in the configuration shown in FIG. When in a crossed Nicol state with respect to time, when observed obliquely from the normal line of the display surface, the polarizing plate deviates from the crossed Nicol state, and light leakage caused by this is mainly compensated.

厚さ方向のリタデーションは、上記TNモードやVAモード、特にMVAモードにおいて液晶セルが黒表示状態であるときに、同様に斜めから見たときに認められる液晶セルの複屈折を主に補償するために寄与する。   The retardation in the thickness direction mainly compensates for the birefringence of the liquid crystal cell similarly observed when viewed from an oblique direction when the liquid crystal cell is in the black display state in the TN mode or VA mode, particularly in the MVA mode. Contribute to.

図7に示すように、液晶表示装置において、液晶セルの上下に偏光板が二枚配置された構成である場合、図中の22a及び22bは、厚み方向リタデーションRtの配分を選択することができ、上記範囲を満たしかつ厚み方向リタデーションRtの両者の合計値が140nmよりも大きくかつ500nm以下にすることが好ましい。   As shown in FIG. 7, in the liquid crystal display device, when two polarizing plates are arranged above and below the liquid crystal cell, 22a and 22b in the figure can select the distribution of the thickness direction retardation Rt. The total value of both of the above-mentioned ranges and the thickness direction retardation Rt is preferably larger than 140 nm and 500 nm or less.

このとき22a及び22bの面内リタデーションRo、厚み方向リタデーションRtが両者同じであることが、工業的な偏光板の生産性向上において好ましい。特に好ましくは面内リタデーションRoが35nmよりも大きくかつ65nm以下であり、かつ厚み方向リタデーションRtが90nmよりも大きく180nm以下で、図7の構成でMVAモードの液晶セルに適用することである。   In this case, in-plane retardation Ro and thickness direction retardation Rt of 22a and 22b are preferably the same for improving productivity of an industrial polarizing plate. Particularly preferably, the in-plane retardation Ro is larger than 35 nm and not larger than 65 nm, and the thickness direction retardation Rt is larger than 90 nm and not larger than 180 nm, and is applied to the MVA mode liquid crystal cell in the configuration of FIG.

液晶表示装置において、一方の偏光板に例えば市販の偏光板保護フィルムとして面内リタデーションRo=0〜4nm及び厚み方向リタデーションRt=20〜50nmで厚さ35〜85μmのTACフィルムが、例えば図7の22bの位置で使用されている場合、他方の偏光板に配置される偏光フィルム、例えば、図7の22aに配置する位相差フィルムは、面内リタデーションRoが30nmよりも大きく95nm以下であり、かつ厚み方向リタデーションRtが140nmよりも大きく400nm以下であるものを使用するようにする。表示品質が向上し、かつ光学フィルムの生産面からも好ましい。   In the liquid crystal display device, a TAC film having an in-plane retardation Ro = 0 to 4 nm and a thickness direction retardation Rt = 20 to 50 nm and a thickness of 35 to 85 μm as, for example, a commercially available polarizing plate protective film on one polarizing plate, for example, FIG. When used at the position 22b, the polarizing film disposed on the other polarizing plate, for example, the retardation film disposed on 22a in FIG. 7, has an in-plane retardation Ro of more than 30 nm and not more than 95 nm, and The thickness direction retardation Rt is larger than 140 nm and 400 nm or less. The display quality is improved and it is preferable from the viewpoint of production of optical films.

《液晶表示装置》
本発明の偏光板保護フィルム(位相差フィルムを兼ねる)を含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができ、特にマルチドメイン型の液晶表示装置、より好ましくは複屈折モードによってマルチドメイン型の液晶表示装置への使用に適している。
<Liquid crystal display device>
A polarizing plate including the polarizing plate protective film (also serving as a retardation film) of the present invention can exhibit high display quality as compared with a normal polarizing plate, and more preferably a multi-domain liquid crystal display device, more preferably The birefringence mode is suitable for use in a multi-domain liquid crystal display device.

本発明の偏光板は、MVA(Multi−domain Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モード、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)モード、OCB(Optical Compensated Bend)モード等に用いることができ、特定の液晶モード、偏光板の配置に限定されるものではない。   The polarizing plate of the present invention can be used for MVA (Multi-domain Vertical Alignment) mode, PVA (Patterned Vertical Alignment) mode, CPA (Continuous Pinweal Alignment) mode, OCB (Optical Compensation specific mode, etc.). It is not limited to the mode and the arrangement of the polarizing plates.

液晶表示装置はカラー化及び動画表示用の装置としても応用されつつあり、本発明により表示品質が改良され、コントラストの改善や偏光板の耐性が向上したことにより、疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。   Liquid crystal display devices are being applied as devices for colorization and moving image display, and the display quality is improved by the present invention, and the improvement of contrast and the resistance of polarizing plates improve the display of moving images that are less fatigued and faithful. It becomes possible.

位相差フィルムを含む偏光板を少なくとも含む液晶表示装置においては、本発明の偏光板保護フィルムを含む偏光板を、液晶セルに対して、一枚配置するか、あるいは液晶セルの両側に二枚配置する。   In a liquid crystal display device including at least a polarizing plate including a retardation film, one polarizing plate including the polarizing plate protective film of the present invention is disposed on the liquid crystal cell, or two are disposed on both sides of the liquid crystal cell. To do.

このとき偏光板に含まれる本発明の偏光板保護フィルム側が液晶表示装置の液晶セルに面するように用いることで表示品質の向上に寄与できる。図7においては22a及び22bのフィルムが液晶表示装置の液晶セルに面することになる。   At this time, it can contribute to the improvement of display quality by using the polarizing plate protective film side of the present invention contained in the polarizing plate so as to face the liquid crystal cell of the liquid crystal display device. In FIG. 7, the films 22a and 22b face the liquid crystal cell of the liquid crystal display device.

このような構成において、本発明の偏光板保護フィルムは、液晶セルを光学的に補償することができる。本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合は、液晶表示装置の偏光板の内の少なくとも一つの偏光板を、本発明の偏光板とすればよい。本発明の偏光板を用いることで、表示品質が向上し、視野角特性に優れた液晶表示装置が提供できる。   In such a configuration, the polarizing plate protective film of the present invention can optically compensate the liquid crystal cell. When the polarizing plate of the present invention is used in a liquid crystal display device, at least one polarizing plate in the liquid crystal display device may be the polarizing plate of the present invention. By using the polarizing plate of the present invention, a liquid crystal display device with improved display quality and excellent viewing angle characteristics can be provided.

本発明の偏光板において、偏光子からみて本発明の偏光板保護フィルムとは反対側の面には、セルロース誘導体の偏光板保護フィルムが用いられ、汎用のTAC光学フィルム等を用いることができる。   In the polarizing plate of the present invention, a polarizing plate protective film of a cellulose derivative is used on the surface opposite to the polarizing plate protective film of the present invention as viewed from the polarizer, and a general-purpose TAC optical film or the like can be used.

液晶セルから遠い側に位置する偏光板保護フィルムは、表示装置の品質を向上する上で、他の機能性層を配置することも可能である。   The polarizing plate protective film located on the side far from the liquid crystal cell can be provided with another functional layer in order to improve the quality of the display device.

例えば、反射防止、防眩、耐キズ、ゴミ付着防止、輝度向上のためにディスプレイとしての公知の機能層を構成物として含む光学フィルムや、または本発明の偏光板表面に貼付してもよいがこれらに限定されるものではない。   For example, an anti-glare, anti-glare, scratch resistance, dust adhesion prevention, and an optical film containing a known functional layer as a display as a constituent for improving brightness, or may be attached to the polarizing plate surface of the present invention. It is not limited to these.

一般に位相差フィルムでは、上述のリタデーション値としてRoまたはRtの変動が少ないことが安定した光学特性を得るために求められている。特に複屈折モードの液晶表示装置は、これらの変動が画像のムラを引き起こす原因となることがある。   In general, a retardation film is required to obtain stable optical characteristics that the fluctuation of Ro or Rt is small as the retardation value. In particular, in a liquid crystal display device in a birefringence mode, these fluctuations may cause image unevenness.

本発明において、光学フィルムを有する偏光板保護フィルムを、ロール状の長尺に巻き取って、巻き状態から繰り出すとは、溶液流延法または溶融流延法で形成された光学フィルムを、巻きコア(円筒状のコア)を軸として、該巻きコアの外周面に10m以上の長尺に光学フィルム巻き回して、ロール状の巻物としたのち、巻き状態から繰り出して偏光板加工に供した光学フィルムを有する偏光板保護フィルムのことをさす。   In the present invention, a polarizing plate protective film having an optical film is wound into a roll-like long shape and fed out from a wound state means that an optical film formed by a solution casting method or a melt casting method is wound around a core An optical film wound around the outer periphery of the wound core with a (cylindrical core) as an axis is rolled into a length of 10 m or longer to form a roll-shaped roll, and then fed out from the wound state for polarizing plate processing. It refers to a polarizing plate protective film having

ロール状の長尺に巻取り、巻き状態から繰り出した光学フィルムを用いた場合、本発明により得られる効果が大きい。   When an optical film wound up in a roll-like long shape and fed out from a wound state is used, the effect obtained by the present invention is great.

本発明において製造された偏光板保護フィルムは、セルロースエステルを主体として構成されるため、セルロースエステル固有のケン化を活用してアルカリ処理工程を活用することができる。これは、偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールであるとき、従来の偏光板保護フィルムと同様に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光板保護フィルムと貼合することができる。   Since the polarizing plate protective film produced in the present invention is mainly composed of cellulose ester, the alkali treatment step can be utilized by utilizing saponification inherent to cellulose ester. When the resin which comprises a polarizer is polyvinyl alcohol, this can be bonded with a polarizing plate protective film using the completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution similarly to the conventional polarizing plate protective film.

このために本発明は、従来の偏光板加工方法が適用できる点で優れており、特に長尺状であるロール偏光板が得られる点で優れている。   For this reason, this invention is excellent in the point which can apply the conventional polarizing plate processing method, and is excellent especially in the point from which the roll polarizing plate which is elongate is obtained.

本発明により得られる製造的効果は、特に100m以上の長尺の巻物においてより顕著となり、1500m、2500m、5000mとより長尺化する程、偏光板製造の製造的効果を得る。   The production effect obtained by the present invention becomes more remarkable particularly in a long roll of 100 m or more, and the longer the length is 1500 m, 2500 m, or 5000 m, the more the production effect of polarizing plate production is obtained.

例えば、偏光板保護フィルム製造において、ロール長さは、生産性と運搬性を考慮すると、10〜5000m、好ましくは50〜4500mであり、このときの光学フィルムの幅は、偏光子の幅や製造ラインに適した幅を選択することができる。   For example, in the production of a polarizing plate protective film, the roll length is 10 to 5000 m, preferably 50 to 4500 m in consideration of productivity and transportability. The width of the optical film at this time is the width of the polarizer or the production. A width suitable for the line can be selected.

0.5〜4.0m、好ましくは0.6〜3.0mの幅で光学フィルムを製造してロール状に巻取り、偏光板加工に供してもよく、また、目的の倍幅以上の光学フィルムを製造してロールに巻き取った後、断裁して目的の幅のロールを得て、このようなロールを偏光板加工に用いるようにしてもよい。   An optical film having a width of 0.5 to 4.0 m, preferably 0.6 to 3.0 m, may be wound into a roll and used for polarizing plate processing. After the film is manufactured and wound on a roll, the film may be cut to obtain a roll having a desired width, and such a roll may be used for polarizing plate processing.

偏光板保護フィルム製造に際し、延伸の前及び/または後で帯電防止層、ハードコート層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。   In the production of the polarizing plate protective film, functional layers such as an antistatic layer, a hard coat layer, a slippery layer, an adhesive layer, an antiglare layer, and a barrier layer may be coated before and / or after stretching. At this time, various surface treatments such as corona discharge treatment, plasma treatment, and chemical treatment can be performed as necessary.

製膜工程において、カットされた光学フィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、あるいは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種の光学フィルム用原料としてまたは異なる品種の光学フィルム用原料として再利用してもよい。   In the film forming process, the clip gripping portions at both ends of the cut optical film are pulverized or granulated as necessary, and then used as raw materials for the same type of optical film or different types of optical film. It may be reused as a raw material.

前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースエステルを含む組成物を共押出しして、積層構造の光学フィルムを作製することもできる。   An optical film having a laminated structure can be prepared by co-extrusion of a composition containing cellulose esters having different additive concentrations such as the plasticizer, the ultraviolet absorber, and the matting agent.

例えば、スキン層/コア層/スキン層といった構成の光学フィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。   For example, an optical film having a structure of skin layer / core layer / skin layer can be produced. For example, the matting agent can be contained in the skin layer in a large amount or only in the skin layer. The plasticizer and the ultraviolet absorber can be contained in the core layer more than the skin layer, and may be contained only in the core layer.

また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び/または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、あるいは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。   In addition, the type of plasticizer and ultraviolet absorber can be changed between the core layer and the skin layer. For example, the skin layer contains a low-volatile plasticizer and / or an ultraviolet absorber, and the core layer has excellent plasticity. It is also possible to add a plasticizer or an ultraviolet absorber excellent in ultraviolet absorption.

スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。このとき、スキンとコアの両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Tgと定義して同様に扱うこともできる。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度>コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。   The glass transition temperature of the skin layer and the core layer may be different, and the glass transition temperature of the core layer is preferably lower than the glass transition temperature of the skin layer. At this time, the glass transition temperatures of both the skin and the core can be measured, and an average value calculated from these volume fractions can be defined as the glass transition temperature Tg and similarly handled. Also, the viscosity of the melt containing the cellulose ester during melt casting may be different between the skin layer and the core layer, and the viscosity of the skin layer> the viscosity of the core layer or the viscosity of the core layer ≧ the viscosity of the skin layer may be used.

本発明の光学フィルムは、寸度安定性が、23℃55%RHに24時間放置した光学フィルムの寸法を基準としたとき、80℃90%RHにおける寸法の変動値が±2.0%未満であり、好ましくは1.0%未満であり、さらに好ましくは0.5%未満である。   The dimensional stability of the optical film of the present invention is less than ± 2.0% when the dimensional stability at 80 ° C. and 90% RH is based on the dimensions of the optical film left at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours. Preferably, it is less than 1.0%, More preferably, it is less than 0.5%.

本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして偏光板保護フィルムに用いる際に、位相差フィルム自身に上記の範囲以上の変動を有すると、偏光板としてのリタデーションの絶対値と配向角が当初の設定とずれるために、表示品質の向上能の減少あるいは表示品質の劣化を引き起こすことがある。   When using the optical film of the present invention as a retardation film for a polarizing plate protective film, if the retardation film itself has a variation beyond the above range, the retardation absolute value and the orientation angle as the polarizing plate are initially set. The shift may cause a decrease in display quality improvement capability or a deterioration in display quality.

本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースエステルフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全鹸化ポリビニルアルコール水溶液を用いて、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを貼り合わせる方法があり、少なくとも片面に本発明の偏光板保護フィルムが偏光子に直接貼合する。   When using the optical film of this invention as a polarizing plate protective film, the preparation methods of a polarizing plate are not specifically limited, It can manufacture by a general method. The obtained cellulose ester film was treated with an alkali, and a polyvinyl alcohol film was immersed and drawn in an iodine solution. A polarizer film was attached to both sides of the polarizer using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution on both sides of the polarizer. The polarizing plate protective film of the present invention is directly bonded to the polarizer on at least one side.

上記アルカリ処理の代わりに特開平6−94915号公報、同6−118232号公報に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。   Instead of the alkali treatment, a polarizing plate may be processed by applying an easy adhesion process as described in JP-A-6-94915 and JP-A-6-118232.

偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。   The polarizing plate is composed of a polarizer and a protective film for protecting both surfaces of the polarizer, and can further be constructed by laminating a protective film on one surface of the polarizing plate and a separate film on the opposite surface. The protective film and the separate film are used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate and at the time of product inspection.

この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。   In this case, the protect film is bonded for the purpose of protecting the surface of the polarizing plate, and is used on the side opposite to the surface where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate. Moreover, a separate film is used in order to cover the contact bonding layer bonded to a liquid crystal board, and is used for the surface side which bonds a polarizing plate to a liquid crystal cell.

なお、偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。   The polarizer, which is the main component of the polarizing plate, is an element that passes only light having a plane of polarization in a certain direction, and a typical polarizer currently known is a polyvinyl alcohol polarizing film, There are a polyvinyl alcohol film dyed with iodine and a dichroic dye dyed.

偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光子の面上に、本発明の偏光板保護フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。   For the polarizer, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed into a film and dyed by uniaxial stretching or dyed or uniaxially stretched and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. One side of the polarizing plate protective film of the present invention is bonded to the surface of the polarizer to form a polarizing plate.

好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。偏光子の膜厚は10〜30μmのものが好ましく用いられる。   It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like. The film thickness of the polarizer is preferably 10 to 30 μm.

以下、実施例により本発明の態様を具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。   Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described specifically by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

《合成例》
合成例1:化合物101の製造(製法A)
2,2’−メチレンビス[6−第三ブチル−4−メチルフェノール]モノアクリレート7.2g(18mmol)をジクロロメタン70mlに溶解する。次にベンジルアミン2.17ml(20mmol)を室温でこの溶液に滴下でゆっくりと添加する。その後混合物をさらに室温で3時間攪拌する。溶媒を取り去りそして残渣をシリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン)にかけ、白色粉末として化合物101の6.63g(66%)を得る。融点は124〜126℃である。
<Synthesis example>
Synthesis Example 1: Production of Compound 101 (Production Method A)
Dissolve 7.2 g (18 mmol) of 2,2′-methylenebis [6-tert-butyl-4-methylphenol] monoacrylate in 70 ml of dichloromethane. Then 2.17 ml (20 mmol) of benzylamine are slowly added dropwise to this solution at room temperature. The mixture is then further stirred at room temperature for 3 hours. The solvent is removed and the residue is chromatographed on silica gel (eluent: hexane) to give 6.63 g (66%) of compound 101 as a white powder. The melting point is 124-126 ° C.

化合物102、103、104はこの合成例に記載した方法に従って製造される。   Compounds 102, 103, 104 are prepared according to the method described in this synthesis example.

合成例2:化合物105の製造(製法A)
ジクロロメタン150ml中の2,2’−メチレンビス[6−第三ブチル−4−メチルフェノール]モノアクリレート16.57g(42mmol)およびベンジルアミン2.17ml(20mmol)をマグネチックスターラーおよびコンデンサーを備えた丸底フラスコにアルゴン下で装填する。反応混合物を一夜還流しそして次に減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。
Synthesis Example 2: Production of Compound 105 (Production Method A)
Round bottom with a magnetic stirrer and condenser, 16.57 g (42 mmol) of 2,2′-methylenebis [6-tert-butyl-4-methylphenol] monoacrylate and 2.17 ml (20 mmol) of benzylamine in 150 ml of dichloromethane The flask is charged under argon. The reaction mixture is refluxed overnight and then concentrated on a vacuum rotary evaporator.

残渣のシリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン→ヘキサン/酢酸エチル80:1)により白色粉末としての化合物105の12.44g(69%)を得る。融点は70−76℃である。化合物106〜110はこの合成例に記載した方法に従って製造される。   Chromatography on the residue silica gel (eluent: hexane → hexane / ethyl acetate 80: 1) gives 12.44 g (69%) of compound 105 as a white powder. The melting point is 70-76 ° C. Compounds 106-110 are prepared according to the method described in this synthesis example.

合成例3:化合物111の製造(製法A)
2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三アミルフェノール]モノアクリレート4.6g(8.3mmol)およびN,N’−ジベンジルエチレンジアミン1g(4.16mmol)を140℃で4時間攪拌する。反応混合物を室温に冷却しそして粗生成物をシリカゲルを用いたクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン)にかけ、無定形の粉末として化合物111の5.15g(93%)を得る。融点は129−134℃である。
Synthesis Example 3: Production of Compound 111 (Production Method A)
4.6 g (8.3 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-amylphenol] monoacrylate and 1 g (4.16 mmol) of N, N′-dibenzylethylenediamine were added at 140 ° C. for 4 hours. Stir. The reaction mixture is cooled to room temperature and the crude product is chromatographed on silica gel (eluent: hexane) to give 5.15 g (93%) of compound 111 as an amorphous powder. The melting point is 129-134 ° C.

合成例4:化合物112の製造(製法C)
a)2,4−ジ−第三ブチル−6−[1−(3,5−ジ−第三ブチル−2−ヒドロキシフェニル)エチル]フェニル3−クロロプロピオネートの製造キシレン100mlの2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]21.9g(50mmol)および塩化3−クロロプロピル48ml(500mmol)をマグネチックスターラー、コンデンサーおよびバブルカウンターを備えた丸底フラスコに装填する。
Synthesis Example 4: Production of Compound 112 (Production Method C)
a) Preparation of 2,4-di-tert-butyl-6- [1- (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) ethyl] phenyl 3-chloropropionate 100 ml of xylene 2,2 21.9 g (50 mmol) of '-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] and 48 ml (500 mmol) of 3-chloropropyl chloride are charged into a round bottom flask equipped with a magnetic stirrer, condenser and bubble counter.

混合物を15時間還流する(HClの発生)。過剰の酸塩化物およびトルエンを蒸留により除去する。アセトニトリル中での残渣の結晶化により所望のモノエステル112aの15.8g(60%)を得る。融点は118℃〜121℃である。   The mixture is refluxed for 15 hours (HCl evolution). Excess acid chloride and toluene are removed by distillation. Crystallization of the residue in acetonitrile yields 15.8 g (60%) of the desired monoester 112a. The melting point is 118 ° C to 121 ° C.

元素分析:C% H% Cl%
計算値:74.90、9.33、6.70
実測値:75.10、9.29、6.13
b)モルホリン1.63g(18.7mmol)を、トルエン30ml中の化合物112a4.5g(8.5mmol)の攪拌される溶液に室温でおよび窒素下において滴下で添加する。反応混合物を70℃で1時間攪拌し、室温に冷却し、ハイフロ(Hyflo)を用いてろ過し、蒸発により濃縮する。ヘキサン中の残渣の結晶化により白色粉末として化合物112の3.9g(80%)を得る。融点は150〜152℃である。
Elemental analysis: C% H% Cl%
Calculated values: 74.90, 9.33, 6.70
Actual value: 75.10, 9.29, 6.13
b) 1.63 g (18.7 mmol) of morpholine are added dropwise to a stirred solution of compound 112a4.5 g (8.5 mmol) in 30 ml of toluene at room temperature and under nitrogen. The reaction mixture is stirred at 70 ° C. for 1 hour, cooled to room temperature, filtered using Hyflo and concentrated by evaporation. Crystallization of the residue in hexane yields 3.9 g (80%) of compound 112 as a white powder. The melting point is 150-152 ° C.

合成例5:化合物113の製造(製法A)
2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート(EP−A−500323に記載された調整試料)19.7g(0.04mol)およびオクチルアミン6.72g(0.052mol)の混合物を115℃に加熱する。このように得られた無色の溶液をこの温度で30分間攪拌し、次にエタノール50mlを添加する。バッチを室温に冷却すると、生成物は晶出する。結晶化生成物をろ過により分離し、そして真空下で乾燥させ、白色粉末として化合物113の21.9g(88%)を得る。融点は102−104℃である。化合物114、115および116は一般的なこの合成例に記載した方法に従って製造される。
Synthesis Example 5: Production of Compound 113 (Production Method A)
19.7 g (0.04 mol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate (prepared sample described in EP-A-500323) and 6.72 g of octylamine (0. 052 mol) is heated to 115 ° C. The colorless solution thus obtained is stirred for 30 minutes at this temperature and then 50 ml of ethanol are added. When the batch is cooled to room temperature, the product crystallizes out. The crystallized product is isolated by filtration and dried under vacuum to give 21.9 g (88%) of compound 113 as a white powder. The melting point is 102-104 ° C. Compounds 114, 115 and 116 are prepared according to the methods described in this general synthesis example.

合成例6:化合物117の製造(製法A)
2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート6.41g(13mmol)、塩酸グリシンエチルエステル2g(14.3mmol)および塩化エチレン50mlを、温度計、スターラー、還流コンデンサーおよび滴下ロートを備えた200mlスルホン化フラスコに窒素下で装填する。次にトリエチルアミン2ml(1.45g,14.3mmol)を滴下で加える。
Synthesis Example 6 Production of Compound 117 (Production Method A)
6.41 g (13 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate, 2 g (14.3 mmol) of glycine ethyl ester and 50 ml of ethylene chloride were added to a thermometer, a stirrer, a reflux condenser. And a 200 ml sulfonation flask equipped with a dropping funnel under nitrogen. Then 2 ml of triethylamine (1.45 g, 14.3 mmol) are added dropwise.

この添加が完了したとき、混合物を50℃に加熱してこの温度で5時間攪拌する。   When the addition is complete, the mixture is heated to 50 ° C. and stirred at this temperature for 5 hours.

得られた懸濁物をヘキサン25mlで希釈し、塩類をろ過によって除去する。   The resulting suspension is diluted with 25 ml of hexane and the salts are removed by filtration.

溶媒を減圧ロータリーエバポレーターで取り去りそして粗生成物をヘキサンから結晶化して、白色粉末として化合物117の3.7g(48%)を得る。融点は121−122℃である。   The solvent is removed on a vacuum rotary evaporator and the crude product is crystallized from hexane to give 3.7 g (48%) of compound 117 as a white powder. The melting point is 121-122 ° C.

合成例7:化合物118の製造(製法A)
酢酸エチル40ml中の2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート6.92g(14mmol)および1,6−ジアミノヘキサン0.89g(7.7mmol)を30分間還流する。溶媒を次に蒸発により除去する。アセトニトリルからの残渣の結晶化により、白色粉末として化合物118の5g(65%)を得る。融点は148℃である。
Synthesis Example 7: Production of Compound 118 (Production Method A)
6.92 g (14 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate and 0.89 g (7.7 mmol) of 1,6-diaminohexane in 40 ml of ethyl acetate are refluxed for 30 minutes. To do. The solvent is then removed by evaporation. Crystallization of the residue from acetonitrile yields 5 g (65%) of compound 118 as a white powder. The melting point is 148 ° C.

合成例8:化合物121の製造(製法B)
ジクロロメタン60ml中の3−[2−オキソ−ピペリジノ]プロピオン酸(Davo,G.P; Gellman,S.H.;J.Am.Chem.Soc.,116(3),1054−62,1994 参照)の2.05g(12mmol)、2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]4.4g(10mmol)およびジシクロヘキシルカルボジイミド2.06g(10mmol)およびジメチルアミノピリジン50mgの混合物を15時間還流する。沈澱した尿素をろ過により除去し、および溶媒を取り除く。
Synthesis Example 8 Production of Compound 121 (Production Method B)
3- [2-Oxo-piperidino] propionic acid in 60 ml of dichloromethane (see Davo, GP; Gellman, SH; J. Am. Chem. Soc., 116 (3), 1054-62, 1994) A mixture of 2.05 g (12 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] 4.4 g (10 mmol) and 2.06 g (10 mmol) of dicyclohexylcarbodiimide and 50 mg of dimethylaminopyridine. Reflux for hours. Precipitated urea is removed by filtration and the solvent is removed.

ヘキサン/酢酸エチルの1:1の混合物からの残渣の結晶化により、白色粉末として化合物121の2.6g(44%)を得る。融点は217〜223℃である。   Crystallization of the residue from a 1: 1 mixture of hexane / ethyl acetate gives 2.6 g (44%) of compound 121 as a white powder. The melting point is 217-223 ° C.

合成例9:化合物122の製造(製法A)
ジクロロエタン70ml中の2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート6.6g(13mmol)、塩酸O−ベンジルヒドロキシルアミン4g(23.5mmol)およびトリエチルアミン38ml(27mmol)を65℃で8時間還流する。反応混合物をヘキサン約10mlで希釈し、塩類をろ過により除去しおよび溶媒を減圧ロータリーエバポレーターにより留去する。メタノールからの残渣の結晶化により、白色粉末として化合物122の4.6g(55%)を得る。融点は123℃である。
Synthesis Example 9 Production of Compound 122 (Production Method A)
6.6 g (13 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate, 4 g (23.5 mmol) of O-benzylhydroxylamine hydrochloride and 38 ml (27 mmol) of triethylamine in 70 ml of dichloroethane. Reflux at 65 ° C. for 8 hours. The reaction mixture is diluted with about 10 ml of hexane, the salts are removed by filtration and the solvent is distilled off on a vacuum rotary evaporator. Crystallization of the residue from methanol gives 4.6 g (55%) of compound 122 as a white powder. The melting point is 123 ° C.

合成例10:化合物201の製造(製法A)
テトラヒドロフラン85ml中の4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン5.65g(33mmol)を窒素でブランケットされた250ml丸底フラスコに装填する。溶液を0℃に冷却し、ヘキサン中のブチルリチウムの1.6mol/L溶液5.6ml(9mmol)をゆっくり滴下で添加する。
Synthesis Example 10: Production of Compound 201 (Production Method A)
4.65 g (33 mmol) of 4-hydroxy-1,2,2,6,6-pentamethylpiperidine in 85 ml of tetrahydrofuran is charged to a 250 ml round bottom flask blanketed with nitrogen. The solution is cooled to 0 ° C. and 5.6 ml (9 mmol) of a 1.6 mol / L solution of butyllithium in hexane is slowly added dropwise.

得られた白色懸濁物を30分間攪拌し、そして次にテトラヒドロフラン85ml中の2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート11.84g(30mmol)の溶液をゆっくりと滴下で添加する。   The resulting white suspension was stirred for 30 minutes and then a solution of 11.84 g (30 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate in 85 ml of tetrahydrofuran was slowly added. Add dropwise.

黄色い溶液を3時間室温で攪拌する。   The yellow solution is stirred for 3 hours at room temperature.

反応混合物を次に蒸発により濃縮しおよび残渣を塩化アンモニウムの水性飽和溶液に注加する。酢酸エチルにより繰り返し抽出後、有機相を併せ、炭酸カリウムを用いて乾燥させそして減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。   The reaction mixture is then concentrated by evaporation and the residue is poured into an aqueous saturated solution of ammonium chloride. After repeated extraction with ethyl acetate, the organic phases are combined, dried using potassium carbonate and concentrated on a vacuum rotary evaporator.

残渣のクロマトグラフィー(SiO2:ヘキサン/酢酸エチル9:1→1:1)により白色粉末として化合物201の11.06g(65%)を得る。 Chromatography of the residue (SiO 2 : hexane / ethyl acetate 9: 1 → 1: 1) gives 11.06 g (65%) of compound 201 as a white powder.

融点は104〜105℃である。化合物202および203は一般的なこの合成例に記載した方法に従って製造される。   The melting point is 104-105 ° C. Compounds 202 and 203 are prepared according to the general procedure described in this synthesis example.

合成例11:化合物204の製造(製法B)
a)3−オクチルオキシプロピオン酸の製造
アクリロニトリル21.7ml(0.33mmol)をオクタノール39.1g(0.3mol)および水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム(水中40%溶液)の無色の溶液に室温で25分間かけておよびN2下、滴下で添加する(発熱反応:Ti40℃)。この添加が完了したとき、反応混合物を室温でさらに25分間攪拌する。
Synthesis Example 11 Production of Compound 204 (Production Method B)
a) Preparation of 3-octyloxypropionic acid 21.7 ml (0.33 mmol) of acrylonitrile in a colorless solution of 39.1 g (0.3 mol) of octanol and benzyltrimethylammonium hydroxide (40% solution in water) at room temperature for 25 minutes And added dropwise over N 2 (exothermic reaction: Ti 40 ° C.). When this addition is complete, the reaction mixture is stirred at room temperature for an additional 25 minutes.

過剰のアクリロニトリルを蒸留(減圧ロータリーエバポレーター)により除去する。   Excess acrylonitrile is removed by distillation (vacuum rotary evaporator).

得られた粗3−オクチルオキシプロピオニトリル(淡黄色液体:GC97%)を濃塩酸150mlおよび酢酸150mlに溶解し、そして溶液を85℃で3時間加熱する。   The resulting crude 3-octyloxypropionitrile (light yellow liquid: GC 97%) is dissolved in 150 ml concentrated hydrochloric acid and 150 ml acetic acid and the solution is heated at 85 ° C. for 3 hours.

混合物を冷却しそして水100mlに注加する。酢酸エチルによる抽出後、有機相を分離し、NaClの水性飽和溶液で洗浄し、Na2SO4を用いて乾燥させおよび減圧ロータリーエバポレーターで濃縮して、無色の液体として3−オクチルオキシプロピオン酸60gを得る(GC85%→85%収量)。 The mixture is cooled and poured into 100 ml of water. After extraction with ethyl acetate, the organic phase is separated off, washed with an aqueous saturated solution of NaCl, dried over Na 2 SO 4 and concentrated on a vacuum rotary evaporator to give 60 g of 3-octyloxypropionic acid as a colorless liquid. (GC 85% → 85% yield).

元素分析: C% H%
計算値:65.31 10.96
実測値:64.94 11.09
b)トルエン50ml中の3−オクチルオキシプロピオン酸(合成例11a参照)7.08g(35mmol)をアルゴン下でマグネチックスターラーおよびコンデンサーを備えた100ml丸底フラスコに装填する。
Elemental analysis: C% H%
Calculated value: 65.31 10.96
Actual value: 64.94 11.09
b) 7.08 g (35 mmol) of 3-octyloxypropionic acid (see Synthesis Example 11a) in 50 ml of toluene is charged under argon to a 100 ml round bottom flask equipped with a magnetic stirrer and condenser.

この溶液に塩化チオニル7.6ml(18.5g,105mmol)を添加する。混合物を90℃にゆっくりと加熱し(HClおよびSO2の発生)そしてこの温度で2時間攪拌する。攪拌をアルゴン流を導入しながらさらに30分間続ける。 To this solution is added 7.6 ml (18.5 g, 105 mmol) thionyl chloride. The mixture is slowly heated to 90 ° C. (generation of HCl and SO 2 ) and stirred at this temperature for 2 hours. Stirring is continued for an additional 30 minutes while introducing a stream of argon.

減圧下(20mbar)、過剰な塩化チオニルおよびトルエンを蒸留により除去する。残渣(塩化3−オクチルオキシプロピオニル7g)をトルエン50mlに溶解しそして2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]10.97g(25mmol)を添加する。   Excess thionyl chloride and toluene are removed by distillation under reduced pressure (20 mbar). The residue (7 g of 3-octyloxypropionyl chloride) is dissolved in 50 ml of toluene and 10.97 g (25 mmol) of 2,2'-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] are added.

次にトリエチルアミン4.9ml(35mmol)をこの溶液に10℃で滴下で添加する。反応混合物をセライトを用いてろ過し、そしてろ液を減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣をアクリロニトリル約30mlに溶解すると、化合物204が晶出する。生成物を吸引ろ過により集め、そして乾燥させ、白色粉末として化合物204の14.05g(90%)を得る。融点は114℃である。化合物205ないし214は一般的なこの合成例に記載した方法に従って製造される。   Then 4.9 ml (35 mmol) of triethylamine are added dropwise at 10 ° C. to this solution. The reaction mixture is filtered through celite and the filtrate is concentrated on a vacuum rotary evaporator. When the residue is dissolved in about 30 ml of acrylonitrile, compound 204 crystallizes out. The product is collected by suction filtration and dried to give 14.05 g (90%) of compound 204 as a white powder. The melting point is 114 ° C. Compounds 205-214 are prepared according to the general procedure described in this synthesis example.

合成例12:化合物204の製造(製法B)
2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]6.6g(15mmol)、3−オクチルオキシプロピオン酸3.8g(15mmol)およびヘプタン6mlをN2下で、温度計、スターラー、還流コンデンサーおよび滴下ロートを備えた100mlスルホン化フラスコに装填する。
Synthesis Example 12 Production of Compound 204 (Production Method B)
6.6 g (15 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol], 3.8 g (15 mmol) of 3-octyloxypropionic acid and 6 ml of heptane under N 2 , thermometer, stirrer Load into a 100 ml sulfonated flask equipped with a reflux condenser and dropping funnel.

次にトリエチルアミン4.4ml(31.5mmol)をこの懸濁物に滴下で添加し(懸濁物は溶液中に入る)、オキシ塩化リン0.96ml(10.5mmol)の滴下による添加(発熱反応:Ti60℃)を続いて行う。このように得られた懸濁物を80℃で1時間加熱する。室温に冷却後、水10mlを加える(塩類が溶解する)。有機相を分離し、水で洗浄し、Na2SO4を用いて乾燥しそして減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。アクリロニトリル20ml中の残渣(約10g)の結晶化により白色粉末として化合物204の6.8g(73%)を得る。融点は114−115℃である。 Next, 4.4 ml (31.5 mmol) of triethylamine is added dropwise to this suspension (the suspension enters the solution) and 0.96 ml (10.5 mmol) of phosphorus oxychloride is added dropwise (exothermic reaction). : Ti 60 ° C.) The suspension thus obtained is heated at 80 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, 10 ml of water is added (salts dissolve). The organic phase is separated, washed with water, dried with Na 2 SO 4 and concentrated on a vacuum rotary evaporator. Crystallization of the residue (about 10 g) in 20 ml of acrylonitrile gives 6.8 g (73%) of compound 204 as a white powder. The melting point is 114-115 ° C.

合成例13:化合物204の製造(製法B)
3−オクチルオキシプロピオン酸(GC83%)12.18g(0.05mol)、塩化チオニル4.7ml(0.065mol)および塩化ベンジルトリエチルアンモニウム0.11g(0.5mmol)をマグネチックスターラーおよびコンデンサーを備えた50ml丸底フラスコに装填する。
Synthesis Example 13 Production of Compound 204 (Production Method B)
3-octyloxypropionic acid (GC83%) 12.18 g (0.05 mol), thionyl chloride 4.7 ml (0.065 mol) and benzyltriethylammonium chloride 0.11 g (0.5 mmol) were equipped with a magnetic stirrer and condenser. Into a 50 ml round bottom flask.

無色の溶液を室温で10分間攪拌する(HCl+SO2の発生;発熱反応:Ti12℃)。次に反応混合物をN2の弱流下で65℃に加熱しそしてこの温度で45分間攪拌する。過剰な塩化チオニルを蒸留により除去する(70−80℃/40mbar;30分)。 The colorless solution is stirred for 10 minutes at room temperature (generation of HCl + SO 2 ; exothermic reaction: Ti 12 ° C.). The reaction mixture is then heated to 65 ° C. under a gentle stream of N 2 and stirred at this temperature for 45 minutes. Excess thionyl chloride is removed by distillation (70-80 ° C./40 mbar; 30 minutes).

得られた無色の液体(粗酸塩化物)を2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]18g(0.041mol)に添加する。   The resulting colorless liquid (crude acid chloride) is added to 18 g (0.041 mol) of 2,2'-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol].

混合物を140℃に加熱し(HClの発生)およびこの温度で30分間攪拌する。N2の弱流下で攪拌を1時間続ける。 The mixture is heated to 140 ° C. (generation of HCl) and stirred at this temperature for 30 minutes. The stirring in a weak stream of N 2 continued for 1 hour.

得られた褐色の液体を約100℃に冷却し、そしてエタノール70mlを加える。バッチを氷浴で冷却すると、生成物が晶出する。結晶化生成物をろ過により分離しそして高真空下で乾燥させ、白色粉末として化合物204の20g(78%)を得る。融点は115℃である。   The resulting brown liquid is cooled to about 100 ° C. and 70 ml of ethanol are added. The product crystallizes out when the batch is cooled in an ice bath. The crystallized product is isolated by filtration and dried under high vacuum to give 20 g (78%) of compound 204 as a white powder. The melting point is 115 ° C.

合成例14:化合物215の製造(製法B)
a)3−(2−ブトキシエトキシ)プロピオン酸の製造
ブチルリチウムの1.6N溶液2ml(3.2mmol,10mol%)をテトラヒドロフラン2ml中の2−ブトキシエタノール3.8g(32mmol)にN2下、10℃で添加する。溶液を10℃で5分間攪拌する。次にアクリロニトリル2.5ml(38mmol)を添加する。
Synthesis Example 14 Production of Compound 215 (Production Method B)
a) Preparation of 3- (2-butoxyethoxy) propionic acid 2 ml (3.2 mmol, 10 mol%) of a 1.6N solution of butyllithium was added to 3.8 g (32 mmol) of 2-butoxyethanol in 2 ml of tetrahydrofuran under N 2 . Add at 10 ° C. The solution is stirred at 10 ° C. for 5 minutes. Next, 2.5 ml (38 mmol) of acrylonitrile is added.

反応混合物を55℃に加熱し、そしてこの温度で2.5時間攪拌する。   The reaction mixture is heated to 55 ° C. and stirred at this temperature for 2.5 hours.

次にさらにアクリロニトリル0.25ml(3.8mmol)を添加しそして混合物をもう1時間攪拌する。反応混合物を室温に冷却しその後、水に注加する。   Then a further 0.25 ml (3.8 mmol) of acrylonitrile is added and the mixture is stirred for another hour. The reaction mixture is cooled to room temperature and then poured into water.

2mol/LHCl(2ml)で酸性にしおよびトルエンにより抽出後、有機相をNaClの水性飽和溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥しおよび減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。   After acidification with 2 mol / L HCl (2 ml) and extraction with toluene, the organic phase is washed with an aqueous saturated solution of NaCl, dried over magnesium sulphate and concentrated on a vacuum rotary evaporator.

粗3−(2−ブトキシエトキシ)プロピオニトリル(4.4g)を濃塩酸15mlに溶解し、そしてこの溶液を80℃に2.5時間加熱する。得られた褐色溶液を室温で冷却し、水で希釈しそして酢酸エチルでもう一度抽出する。有機相を合わせ、NaClの水性飽和溶液で洗浄し、MgSO4を用いて乾燥させ、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮しそして高真空下で乾燥して、淡褐色液体として3−(2−ブトキシエトキシ)プロピオン酸3.2g(53%)を得る。 Crude 3- (2-butoxyethoxy) propionitrile (4.4 g) is dissolved in 15 ml of concentrated hydrochloric acid and the solution is heated to 80 ° C. for 2.5 hours. The resulting brown solution is cooled at room temperature, diluted with water and extracted once more with ethyl acetate. The organic phases are combined, washed with an aqueous saturated solution of NaCl, dried over MgSO 4 , concentrated on a vacuum rotary evaporator and dried under high vacuum to give 3- (2-butoxyethoxy) propion as a light brown liquid. 3.2 g (53%) of acid are obtained.

1H−NMR(300MHz;CDCl3:δ(ppm)0.91(t,J=7.3Hz,3H);1.36(セクステット,J=7.6Hz,2H);1.57(クインテット,J=7.8Hz,2H);2.65(t,J=6.3Hz,2H);3.47(t,J=6.6Hz,2H);3.56−3.65(dxm,4H);3.77(t,J=6.3Hz,2H);9.6(s,ワイド,1H)
b)塩化エチレン10ml中のジシクロヘキシルカルボジイミド3.1g(15mmol)溶液を塩化エチレン60ml中2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]6.6g(15mmol)、3−(2−ブトキシエトキシ)−プロピオン酸3.76g(18mmol)およびジメチルアミノピリジン0.1g(0.8mmol,5mol%)の溶液に窒素下、室温で添加する。
1H-NMR (300 MHz; CDCl 3 : δ (ppm) 0.91 (t, J = 7.3 Hz, 3H); 1.36 (sexualt, J = 7.6 Hz, 2H); 1.57 (quintet, J = 7.8 Hz, 2H); 2.65 (t, J = 6.3 Hz, 2H); 3.47 (t, J = 6.6 Hz, 2H); 3.56-3.65 (dxm, 4H) 3.77 (t, J = 6.3 Hz, 2H); 9.6 (s, wide, 1H)
b) A solution of 3.1 g (15 mmol) of dicyclohexylcarbodiimide in 10 ml of ethylene chloride was dissolved in 6.6 g (15 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol], 3- (2 -Butoxyethoxy) -propionic acid is added to a solution of 3.76 g (18 mmol) and dimethylaminopyridine 0.1 g (0.8 mmol, 5 mol%) at room temperature under nitrogen.

反応混合物を室温で15時間攪拌する。沈澱した尿素をろ過により除去しおよび溶媒を蒸発により除去する。アセトニトリルからの残渣の結晶化により白色粉末として化合物215の5g(54%)を得る。融点は88〜91℃である。   The reaction mixture is stirred at room temperature for 15 hours. Precipitated urea is removed by filtration and the solvent is removed by evaporation. Crystallization of the residue from acetonitrile gives 5 g (54%) of compound 215 as a white powder. The melting point is 88-91 ° C.

合成例15:化合物216の製造(製法B)
a)トルエン100ml中の3−[3−(2−カルボキシエトキシ)プロポキシ]プロパノン酸(R.V.Christian and R.M.Hixon J.A.C.S.70,1333(1948)参照)10.02g(55mmol)を窒素下で250mlの丸底フラスコに装填する。この懸濁物に塩化チオニル13.2mol(180mmol)を加え、混合物を90℃にゆっくりと(40分間かけて)加熱し(HCl+SO2の発生)そしてこの温度で1時間攪拌する。
Synthesis Example 15: Production of Compound 216 (Production Method B)
a) 3- [3- (2-Carboxyethoxy) propoxy] propanoic acid in 100 ml of toluene (see RV Christian and RM Hixon JACS 70, 1333 (1948)) 10 .02 g (55 mmol) is charged to a 250 ml round bottom flask under nitrogen. To this suspension is added 13.2 mol (180 mmol) thionyl chloride, and the mixture is heated slowly (over 40 minutes) to 90 ° C. (generation of HCl + SO 2 ) and stirred at this temperature for 1 hour.

アルゴン流を導入しながら攪拌を90℃でさらに45分間続ける。過剰な塩化チオニルおよびトルエンの蒸留により、さらに直接使用される粗ビス−酸塩化物を得る。   Stirring is continued for an additional 45 minutes at 90 ° C. while introducing a stream of argon. Distillation of excess thionyl chloride and toluene gives the crude bis-acid chloride that is used further directly.

b)トルエン100ml中の合成例15aに記載したビス−酸塩化物(55mmol)および2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]43.87g(0.1mol)をアルゴン下で350mlのスルホン化フラスコに添加する。   b) The bis-acid chloride described in Synthesis Example 15a (55 mmol) and 43.87 g (0.1 mol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] in 100 ml of toluene under argon Add to a 350 ml sulfonation flask.

この溶液を10℃に冷却しそしてトリエチルアミン16.7ml(120mmol)をゆっくり滴下で加える。   The solution is cooled to 10 ° C. and 16.7 ml (120 mmol) of triethylamine are slowly added dropwise.

この添加が完了したとき(約50分後)、混合物を70℃に加熱し、そしてこの温度でさらに一夜攪拌する。沈澱した塩酸トリエチルアミンをろ過により除去しそしてろ液を蒸発により濃縮する。   When the addition is complete (after about 50 minutes), the mixture is heated to 70 ° C. and stirred further at this temperature overnight. The precipitated triethylamine hydrochloride is removed by filtration and the filtrate is concentrated by evaporation.

シリカゲルを用いた残渣のクロマトグラフィー(溶離液:Hex/EE40:1)により無定形の粉末として化合物216の21g(40%)を得る。融点は94℃である。化合物217および218は一般的なこの合成例に記載した方法に従って製造される。   Chromatography of the residue using silica gel (eluent: Hex / EE 40: 1) gives 21 g (40%) of compound 216 as an amorphous powder. The melting point is 94 ° C. Compounds 217 and 218 are prepared according to the general procedure described in this synthesis example.

合成例16:化合物219の製造(製法B)
a)3−(2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ)プロピオン酸の製造
アクリロニトリル6.2ml(94mmol)を2,4−ジ−第三ブチルフェノール9.7g(47mmol)および水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム(水中40%溶液)0.6ml(1.5mmol)の溶液に室温、窒素下で20分間かけて添加する。
Synthesis Example 16 Production of Compound 219 (Production Method B)
a) Preparation of 3- (2,4-di-tert-butylphenoxy) propionic acid 6.2 ml (94 mmol) of acrylonitrile, 9.7 g (47 mmol) of 2,4-di-tert-butylphenol and benzyltrimethylammonium hydroxide ( (40% solution in water) Add to 0.6 ml (1.5 mmol) solution at room temperature under nitrogen for 20 minutes.

この添加が完了したとき、反応混合物を65℃に加熱しそしてこの温度で2.5時間攪拌する。続いて過剰なアクリロニトリルを蒸留(減圧ロータリーエバポレーター)により除去する。   When the addition is complete, the reaction mixture is heated to 65 ° C. and stirred at this temperature for 2.5 hours. Subsequently, excess acrylonitrile is removed by distillation (vacuum rotary evaporator).

粗3−(2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ)プロピオニトリルを濃塩酸40mlおよび酢酸40mlに溶解しそして溶液を100℃に10時間加熱する。混合物を冷却し、水60mlに注加し、そしてヘキサン/酢酸エチル1:1混合物により抽出する。   Crude 3- (2,4-di-tert-butylphenoxy) propionitrile is dissolved in 40 ml concentrated hydrochloric acid and 40 ml acetic acid and the solution is heated to 100 ° C. for 10 hours. The mixture is cooled, poured into 60 ml of water and extracted with a 1: 1 mixture of hexane / ethyl acetate.

有機相を分離し、NaClの水性飽和溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥させおよび減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣の蒸留(60℃/0.1mbar)により白色がかったベージュ色粉末として所望の酸10g(77%)を得る。融点は105〜106℃である。   The organic phase is separated, washed with an aqueous saturated solution of NaCl, dried using magnesium sulfate and concentrated on a vacuum rotary evaporator. Distillation of the residue (60 ° C./0.1 mbar) gives 10 g (77%) of the desired acid as a whitish beige powder. The melting point is 105-106 ° C.

1H−NMR(300MHz;CDCl3:δ=0.89(t,J=6.2Hz,20H;−CH2−COOH−),4.27(t,J=6.2Hz,2H,A−O−CH2−)
b)3−(2,4−ジ−第三ブチルフェノキシ)プロピオン酸10g(36mmol)、2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]13.1g(30mmol)、ジメチルアミノピリジン0.2g(1.6mmol,5mol%)およびジクロロメタン180mlをマグネチックスターラーおよびコンデンサーを備えた丸底フラスコに装填する。
1H-NMR (300 MHz; CDCl 3 : δ = 0.89 (t, J = 6.2 Hz, 20H; —CH 2 —COOH—), 4.27 (t, J = 6.2 Hz, 2H, A—O) —CH 2 —)
b) 3- (2,4-di-tert-butylphenoxy) propionic acid 10 g (36 mmol), 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] 13.1 g (30 mmol), dimethylamino Charge 0.2 g (1.6 mmol, 5 mol%) pyridine and 180 ml dichloromethane to a round bottom flask equipped with a magnetic stirrer and condenser.

次にジクロエタン20ml中のジシクロヘキシルカルボジイミド6.2g(30mmol)溶液を室温でおよびN2下、滴下で添加する。 Then dicyclohexylcarbodiimide 6.2 g (30 mmol) solution at room temperature and under N 2 in dichloroethane 20 ml, is added dropwise.

混合物を室温で15時間攪拌する。沈澱した尿素をろ過により除去しおよび溶媒を蒸発により取り去る。ヘキサンからの残渣の結晶化により白色粉末として化合物219の10g(48%)を得る。融点は185℃である。   The mixture is stirred at room temperature for 15 hours. The precipitated urea is removed by filtration and the solvent is removed by evaporation. Crystallization of the residue from hexane gives 10 g (48%) of compound 219 as a white powder. The melting point is 185 ° C.

化合物220は市販の3−フェノキシプロピオン酸および2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]から合成例16bに記載した方法と同様に製造される。   Compound 220 is prepared in the same manner as described in Synthesis Example 16b from commercially available 3-phenoxypropionic acid and 2,2'-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol].

合成例17:化合物221の製造(製法B)
a)3−シクロヘキシリデンアミノキシプロピオン酸の製造
シクロヘキサノンオキシム32.8g(0.29mol)、エチルアクリレート26g(0.26mmol)、エタノール中KOHの2mol/L溶液26ml(0.052mol)およびエタノール150mlの混合物を60℃で96時間攪拌し、その後減圧ロータリーエバポレーターにより濃縮する。残渣(橙色油)をエタノール中KOHの10%溶液175g(0.31mol)に溶解し、そして溶液を60℃で1時間加熱する。
Synthesis Example 17 Production of Compound 221 (Production Method B)
a) Preparation of 3-cyclohexylideneaminoxypropionic acid 32.8 g (0.29 mol) of cyclohexanone oxime, 26 g (0.26 mmol) of ethyl acrylate, 26 ml (0.052 mol) of 2 mol / L solution of KOH in ethanol and 150 ml of ethanol The mixture is stirred at 60 ° C. for 96 hours and then concentrated on a vacuum rotary evaporator. The residue (orange oil) is dissolved in 175 g (0.31 mol) of a 10% solution of KOH in ethanol and the solution is heated at 60 ° C. for 1 hour.

溶媒を留去して固体残渣を水に吸収させる。濃塩酸約15mlにより酸性にしおよび酢酸エチルによる抽出後、有機相を水で洗浄し、Na2SO4を用いて乾燥させおよび減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。 The solvent is distilled off and the solid residue is taken up in water. After acidifying with about 15 ml of concentrated hydrochloric acid and extraction with ethyl acetate, the organic phase is washed with water, dried over Na 2 SO 4 and concentrated on a vacuum rotary evaporator.

残渣の蒸留により橙色液として所望の酸11.8g(25%)を得る。沸点は、135℃/0.05mbarである。b)3−シクロヘキシリデンアミノキシプロピオン酸8.03g(39mmol)および2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]15.34g(35mmol)から出発して合成例16bに記載した手順を行い白色粉末として化合物221の15.3g(72%)を得る。融点は118〜121℃(メタノール)である。化合物222−224は合成例13(製法B)に記載された方法と同様に製造される。化合物225は合成例14b(製法B)に記載された方法と同様に製造される。   Distillation of the residue gives 11.8 g (25%) of the desired acid as an orange liquid. The boiling point is 135 ° C./0.05 mbar. b) Starting from 8.03 g (39 mmol) of 3-cyclohexylideneaminoxypropionic acid and 15.34 g (35 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] to Synthesis Example 16b The described procedure is followed to obtain 15.3 g (72%) of compound 221 as a white powder. The melting point is 118 to 121 ° C. (methanol). Compounds 222-224 are produced in the same manner as described in Synthesis Example 13 (Production Method B). Compound 225 is produced in the same manner as described in Synthesis Example 14b (Production Method B).

合成例18:化合物301の製造(製法Aで得られたチオエーテルの酸化)
a)2−第三ブチル−6−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニルメチル)−4−メチルフェニル3−(オクチルチオ)プロピオネート200mlスルホン化フラスコにおいて、2,2’−メチレンビス[6−第三ブチルフェノール]モノアクリレート9.86g(25mmol)およびオクタンチオール4.02g(27.5mmol)をトルエン50mlに溶解する。
Synthesis Example 18 Production of Compound 301 (Oxidation of Thioether Obtained by Process A)
a) 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenylmethyl) -4-methylphenyl 3- (octylthio) propionate in a 200 ml sulfonation flask, 2,2′-methylenebis 9.86 g (25 mmol) of [6-tert-butylphenol] monoacrylate and 4.02 g (27.5 mmol) of octanethiol are dissolved in 50 ml of toluene.

次にトルエン中のカリウム第三ペンチレートの1.7mol/L溶液0.75ml(1.25mmol)を室温で滴下で添加する。反応混合物を約55℃に加熱した後、この温度で1時間攪拌する。混合物を室温に冷却しそして希塩酸(0.1mol/L)に注加する。   Next, 0.75 ml (1.25 mmol) of a 1.7 mol / L solution of potassium tert-pentylate in toluene is added dropwise at room temperature. The reaction mixture is heated to about 55 ° C. and then stirred at this temperature for 1 hour. The mixture is cooled to room temperature and poured into dilute hydrochloric acid (0.1 mol / L).

酢酸エチルにより繰り返し抽出後、有機相を併せ、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。未反応のビスフェノールを除去し(200℃/10mbarでバルブチューブ蒸留)、淡黄色油として所望の化合物11.35g(84%)を得る。   After repeated extraction with ethyl acetate, the organic phases are combined, dried using sodium sulfate, and concentrated on a vacuum rotary evaporator. Unreacted bisphenol is removed (bulb tube distillation at 200 ° C./10 mbar) to give 11.35 g (84%) of the desired compound as a pale yellow oil.

b)250mlスルホン化フラスコにおいて、合成例18aの化合物10.82g(20mmol)を窒素下でジクロロメタン130mlに溶解する。次にジクロロメタン70ml中のm−クロロ過安息香酸6.59g(21mmol)の溶液をこの溶液に−15℃で滴下で添加する。   b) In a 250 ml sulfonation flask, dissolve 10.82 g (20 mmol) of the compound of Synthesis Example 18a in 130 ml of dichloromethane under nitrogen. A solution of 6.59 g (21 mmol) of m-chloroperbenzoic acid in 70 ml of dichloromethane is then added dropwise to this solution at −15 ° C.

反応混合物を−15℃で30分間攪拌しそして炭酸水素ナトリウムの水性飽和溶液に注加する。ジクロロメタンにより繰り返し抽出後、有機相を併せ、水で洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させそして減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣を高真空下で乾燥させ、無色の高粘性油として化合物301の11.13g(100%)を得る。   The reaction mixture is stirred at −15 ° C. for 30 minutes and poured into an aqueous saturated solution of sodium bicarbonate. After repeated extraction with dichloromethane, the organic phases are combined, washed with water, dried with sodium sulfate and concentrated on a vacuum rotary evaporator. The residue is dried under high vacuum to give 11.13 g (100%) of compound 301 as a colorless highly viscous oil.

合成例19:化合物302の製造(製法Aで得られたチオエーテルの酸化)
250mlスルホン化フラスコにおいて、合成例18aの化合物10.82g(20mmol)を窒素下でジクロロメタン80mlに溶解する。ジクロロメタン120ml中のm−クロロ過安息香酸13.82g(42mmol)の溶液をこの溶液に−15℃で滴下で添加する。濃厚な懸濁物をさらに室温に温まるまで攪拌しそして炭酸水素ナトリウムの水性飽和溶液に注加する。
Synthesis Example 19 Production of Compound 302 (Oxidation of Thioether Obtained by Process A)
In a 250 ml sulfonation flask, 10.82 g (20 mmol) of the compound of Synthesis Example 18a is dissolved in 80 ml of dichloromethane under nitrogen. A solution of 13.82 g (42 mmol) of m-chloroperbenzoic acid in 120 ml of dichloromethane is added dropwise at −15 ° C. to this solution. The thick suspension is further stirred until warmed to room temperature and poured into an aqueous saturated solution of sodium bicarbonate.

ジクロロメタンにより繰り返し抽出後、有機相を併せ、水で洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ、減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。   After repeated extraction with dichloromethane, the organic phases are combined, washed with water, dried using sodium sulfate, and concentrated on a vacuum rotary evaporator.

イソプロパノールからの残渣の結晶化により、淡ベージュ色の粉末として化合物302の8.05g(70%)を得る。融点は108〜113℃である。   Crystallization of the residue from isopropanol gives 8.05 g (70%) of compound 302 as a light beige powder. The melting point is 108-113 ° C.

合成例20:化合物401の製造(製法A)
2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート12.3g(0.025mol)、1,2,4−トリアゾール2.07g(0.03mol)およびピリジンの数滴の混合物を150℃で3時間攪拌する。
Synthesis Example 20 Production of Compound 401 (Production Method A)
Of 12.2 g (0.025 mol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate, 2.07 g (0.03 mol) of 1,2,4-triazole and a few drops of pyridine. The mixture is stirred at 150 ° C. for 3 hours.

反応混合物を約100℃に冷却し、イソプロパノール約30mの添加後、熱時ろ過する。室温に冷却すると、化合物401が晶出する。   The reaction mixture is cooled to about 100 ° C., filtered after about 30 m of isopropanol and hot. Upon cooling to room temperature, compound 401 crystallizes out.

結晶化生成物を吸引ろ過で集めそして乾燥させて、白色粉末として化合物401の9.10g(65%)を得る。融点は160〜162℃である。   The crystallized product is collected by suction filtration and dried to give 9.10 g (65%) of compound 401 as a white powder. The melting point is 160-162 ° C.

化合物402は、反応を150℃の代わりに170℃で行うことを除いて、合成例20に記載された方法と同様に製造される。   Compound 402 is prepared in a manner similar to that described in Synthesis Example 20, except that the reaction is performed at 170 ° C. instead of 150 ° C.

合成例21:化合物403の製造(製法B)
塩化ホスホリル0.68ml(1.15g;7.5mmol)をテトラヒドロフラン40ml中の2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]4.39g(10mmol)、3−ベンゾトリアゾール−1−イル−プロピオン酸(Wiley et al;J.A.C.S.76,4933(1954)参照)2.5g(13mmol)およびトリエチルアミン2.02g(20mmol)の無色の溶液に50℃、N2下で滴下に添加する。反応体懸濁液を還流下で5時間攪拌する。
Synthesis Example 21 Production of Compound 403 (Production Method B)
0.68 ml (1.15 g; 7.5 mmol) of phosphoryl chloride was added to 4.39 g (10 mmol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] in 40 ml of tetrahydrofuran, 3-benzotriazole-1 -A colorless solution of 2.5 g (13 mmol) of yl-propionic acid (see Wiley et al; JASC 76, 4933 (1954)) and 2.02 g (20 mmol) of triethylamine at 50 ° C., N 2 Add to the drop below. The reactant suspension is stirred at reflux for 5 hours.

反応混合物を室温に冷却し、塩類をろ過して除去しそして減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣を水に注加し、酢酸エチルで2回抽出後、有機相を併せ、NaClの水性飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥させ減圧ロータリーエバポレーターで濃縮する。エタノールからの残渣の結晶化により白色粉末として化合物403の3.9g(80%)を得る。融点は174−178℃である。   The reaction mixture is cooled to room temperature, the salts are removed by filtration and concentrated on a vacuum rotary evaporator. The residue is poured into water and extracted twice with ethyl acetate, then the organic phases are combined, washed with an aqueous saturated solution of NaCl, dried over sodium sulfate and concentrated on a vacuum rotary evaporator. Crystallization of the residue from ethanol gives 3.9 g (80%) of compound 403 as a white powder. The melting point is 174-178 ° C.

合成例22:化合物404の製造(製法A)
ジクロロメタン25ml中の2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート14.78g(0.03mol)、2−メルカプトベンゾチアゾール5.02g(0.03mol)およびピリジンの数滴の混合物を還流下で15時間攪拌する。反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮する。
Synthesis Example 22 Production of Compound 404 (Production Method A)
Number of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate in 14.25 g (0.03 mol), 2-mercaptobenzothiazole 5.02 g (0.03 mol) and pyridine in 25 ml of dichloromethane The drop mixture is stirred at reflux for 15 hours. The reaction mixture is concentrated on a rotary evaporator.

クロマトグラフィー(SiO2;ヘキサン/酢酸エチル:40:1)による精製およびアセトニトリルからの結晶化により、白色粉末として化合物404の7.65g(39%)を得る。融点は123−128℃である。 Purification by chromatography (SiO 2 ; hexane / ethyl acetate: 40: 1) and crystallization from acetonitrile gives 7.65 g (39%) of compound 404 as a white powder. The melting point is 123-128 ° C.

合成例22a:化合物405の製造
ジクロロメタン25ml中の2,2’−エチリデンビス[4,6−ジ−第三ブチルフェノール]モノアクリレート14.78g(0.03mol)、2−メルカプトベンゾチアゾール5.02g(0.03mol)およびピリジンの数滴の混合物を還流下90℃で15時間攪拌する。反応混合物をロータリーエバポレーターで濃縮する。
Synthesis Example 22a: Preparation of Compound 405 14.78 g (0.03 mol) of 2,2′-ethylidenebis [4,6-di-tert-butylphenol] monoacrylate in 25 ml of dichloromethane, 5.02 g of 2-mercaptobenzothiazole ( 0.03 mol) and a few drops of pyridine are stirred at 90 ° C. under reflux for 15 hours. The reaction mixture is concentrated on a rotary evaporator.

クロマトグラフィー(SiO2;ヘキサン/酢酸エチル:40:1)により、無定形粉末として化合物405の7.7g(39%)を得る。アセトニトリルからの結晶化後、融点は123〜128℃である。 Chromatography (SiO 2 ; hexane / ethyl acetate: 40: 1) gives 7.7 g (39%) of compound 405 as an amorphous powder. After crystallization from acetonitrile, the melting point is 123-128 ° C.

実施例1
〔セルロースエステルを有してなる光学フィルム1の作製〕
下記のように、セルロースエステルと各種添加剤を用いて溶融流延により光学フィルム1を作製した。
Example 1
[Production of Optical Film 1 Containing Cellulose Ester]
As described below, an optical film 1 was produced by melt casting using a cellulose ester and various additives.

セルロースエステルC−1(後述参照) 100質量部
TMPTB 10質量部
IRGANOX−1010(チバスペシャルティケミカルズ社製) 0.5質量部
テトラキス(2,4−ジ−tert−ブチル−5−メチルフェニル)[1,1−ビフェニル]−4,4′−ジイルビスホスホナイト 0.25質量部
例示化合物1 0.7質量部
Tinuvin928(チバスペシャルティケミカルズ社製) 1.8質量部
セルロースエステルC−1を70℃、3時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、添加剤を混合した。
Cellulose ester C-1 (see later) 100 parts by mass TMPTB 10 parts by mass IRGANOX-1010 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.5 parts by mass tetrakis (2,4-di-tert-butyl-5-methylphenyl) [1 , 1-biphenyl] -4,4'-diylbisphosphonite 0.25 parts by mass Exemplary compound 1 0.7 parts by mass Tinuvin 928 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.8 parts by mass Cellulose ester C-1 at 70 ° C, After drying under reduced pressure for 3 hours and cooling to room temperature, the additives were mixed.

Figure 2008225166
Figure 2008225166

以上の混合物を2軸式押し出し機を用いて230℃で溶融混合しペレット化した。   The above mixture was melt-mixed at 230 ° C. using a twin-screw extruder and pelletized.

このペレットを用いて窒素雰囲気下、250℃にて溶融して流延ダイ4から第1冷却ロール5上に押し出し、第1冷却ロール5とタッチロール6との間に光学フィルムを挟圧して成形した。   Using this pellet, it is melted at 250 ° C. in a nitrogen atmosphere and extruded from the casting die 4 onto the first cooling roll 5, and an optical film is sandwiched between the first cooling roll 5 and the touch roll 6 to form it. did.

また押出し機1中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ粒子200V(日本アエロジル社製)を、0.5質量部となるよう添加した。   Further, 200 V of silica particles (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was added as a slip agent from the hopper opening in the middle of the extruder 1 so as to be 0.5 parts by mass.

流延ダイ4のギャップの幅が光学フィルムの幅方向端部から30mm以内では0.5mm、その他の場所では1mmとなるようにヒートボルトを調整した。   The heat bolt was adjusted so that the gap width of the casting die 4 was 0.5 mm within 30 mm from the end in the width direction of the optical film and 1 mm at other locations.

タッチロールとしては、タッチロールAを使用し、その内部に冷却水として80℃の水を流した。   The touch roll A was used as the touch roll, and 80 ° C. water was poured as cooling water therein.

流延ダイ4から押し出された樹脂が第1冷却ロール5に接触する位置P1から第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップの第1冷却ロール5回転方向上流端の位置P2までの、第1冷却ローラ5の周面に沿った長さLを20mmに設定した。   From the position P1 at which the resin extruded from the casting die 4 contacts the first cooling roll 5 to the position P2 at the upstream end in the rotation direction of the first cooling roll 5 in the nip between the first cooling roll 5 and the touch roll 6. 1 The length L along the peripheral surface of the cooling roller 5 was set to 20 mm.

その後、タッチロール6を第1冷却ロール5から離間させ、第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Tを測定した。   Thereafter, the touch roll 6 was separated from the first cooling roll 5, and the temperature T of the melted part immediately before being sandwiched between the first cooling roll 5 and the touch roll 6 was measured.

本実施例において、第1冷却ロール5とタッチロール6とのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Tは、ニップ上流端P2よりもさらに1mm上流側の位置で、温度計(安立計器株式会社製HA−200E)により測定した。   In the present embodiment, the temperature T of the melted portion immediately before being squeezed by the nip between the first cooling roll 5 and the touch roll 6 is a position 1 mm upstream from the nip upstream end P2, and a thermometer (an independent meter). It was measured by HA-200E manufactured by Co., Ltd.

本実施例では測定の結果、温度Tは141℃であった。タッチロール6の第1冷却ロール5に対する線圧は14.7N/cmとした。   As a result of the measurement in this example, the temperature T was 141 ° C. The linear pressure of the touch roll 6 against the first cooling roll 5 was 14.7 N / cm.

さらに、テンターに導入し、巾方向に160℃で1.3倍延伸した後、巾方向に3%緩和しながら30℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、光学フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻き取り張力220N/m、テーパー40%で巻芯に巻き取った。   Furthermore, after being introduced into a tenter and stretched 1.3 times at 160 ° C in the width direction, it was cooled to 30 ° C while relaxing 3% in the width direction, then released from the clip, the clip gripping part was cut off, and the optical film Both ends were knurled with a width of 10 mm and a height of 5 μm, and wound on a core with a winding tension of 220 N / m and a taper of 40%.

なお、光学フィルムは、厚さが80μmとなるように、押出し量及び引き取り速度を調整し、仕上がりの光学フィルム幅は、1430mm幅になるようにスリットし、巻き取った。巻芯の大きさは、内径152mm、外径165〜180mm、長さ1550mmであった。この巻芯母材として、エポキシ樹脂をガラス繊維、カーボン繊維に含浸させたプリプレグ樹脂を用いた。   In addition, the extrusion amount and the take-up speed were adjusted so that the optical film had a thickness of 80 μm, and the finished optical film was slit and wound so that the width of the finished optical film was 1430 mm. The winding core had an inner diameter of 152 mm, an outer diameter of 165 to 180 mm, and a length of 1550 mm. A prepreg resin obtained by impregnating glass fibers and carbon fibers with an epoxy resin was used as the core material for the core.

巻芯表面にはエポキシ導電性樹脂をコーティングし、表面を研磨して、表面粗さRaは0.3μmに仕上げた。なお、巻長は2500mとした。この本発明の光学フィルム原反試料を光学フィルム1とする。   The surface of the core was coated with an epoxy conductive resin, the surface was polished, and the surface roughness Ra was finished to 0.3 μm. The winding length was 2500 m. This optical film original fabric sample of the present invention is referred to as an optical film 1.

〔光学フィルム2〜25の作製〕
光学フィルム1の作製において、セルロースエステルの種類、あるいは例示化合物1に代わる添加剤を表1のように変更した以外は同様にして、光学フィルム2〜25を作製した。なお、使用したセルロースエステルC−1に代わるセルロースエステルの添加量は、セルロースエステルC−1と同じ質量部とし、また、使用した例示化合物1に代わる添加剤の添加量は、例示化合物1と同じ質量部とした。
[Preparation of optical films 2 to 25]
Optical films 2 to 25 were prepared in the same manner as in the production of the optical film 1 except that the type of cellulose ester or the additive replacing the exemplified compound 1 was changed as shown in Table 1. In addition, the addition amount of the cellulose ester substituted for the used cellulose ester C-1 is the same mass part as the cellulose ester C-1, and the addition amount of the additive substituted for the used exemplary compound 1 is the same as that of the exemplary compound 1. It was set as the mass part.

C−1:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.4、プロピオニル基置換度1.3、分子量Mn=86,000、Mw/Mn=2.5)
C−2:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.3、プロピオニル基置換度1.2、分子量Mn=66,000、Mw/Mn=3.0)
C−3:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.7、プロピオニル基置換度1.0、分子量Mn=73,000、Mw/Mn=2.9)
C−4:セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度2.0、プロピオニル基置換度0.7、分子量Mn=91,000、Mw/Mn=2.4)
〔光学フィルムの評価〕
得られた光学フィルムに対して、下記方法で評価を行った。評価の結果を表1に示す。
C-1: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.4, propionyl group substitution degree 1.3, molecular weight Mn = 86,000, Mw / Mn = 2.5)
C-2: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.3, propionyl group substitution degree 1.2, molecular weight Mn = 66,000, Mw / Mn = 3.0)
C-3: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.7, propionyl group substitution degree 1.0, molecular weight Mn = 73,000, Mw / Mn = 2.9)
C-4: Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 2.0, propionyl group substitution degree 0.7, molecular weight Mn = 91,000, Mw / Mn = 2.4)
[Evaluation of optical film]
The obtained optical film was evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 1.

(馬の背故障、巻芯転写)
巻き取った光学フィルムをポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で、25℃、50%の条件下で30日間保存した。その後、箱から取り出し、ポリエチレンシートを開け、光学フィルム表面に点灯している蛍光灯の管を反射させて映し、その歪みあるいは細かい乱れを観察し、馬の背故障を下記レベルにランク分けした。
(Horse spine failure, core transfer)
The wound optical film was wrapped twice with a polyethylene sheet, and stored for 30 days under conditions of 25 ° C. and 50% by the storage method shown in FIG. Then, it was taken out of the box, the polyethylene sheet was opened, the fluorescent lamp tube lit on the optical film surface was reflected and reflected, the distortion or fine disturbance was observed, and the horse back failure was ranked to the following level.

A:蛍光灯が真っすぐに見える
B:蛍光灯が部分的に曲がって見える
C:蛍光灯がまだらに映って見える
また、保存後の光学フィルムを巻き返して、50μm以上の点状の変形、または幅手方向の帯状の変形がはっきり見える巻芯転写が、巻芯部分より何mまで発生しているかを測定し、下記レベルにランク分けを行った。
A: Fluorescent lamps appear straight B: Fluorescent lamps appear to be bent partially C: Fluorescent lamps appear to be mottled In addition, the optical film after storage is rewound to form a spot-like deformation or width of 50 μm or more It was measured how many meters the core transfer, in which the band-like deformation in the hand direction was clearly visible, occurred from the core portion, and was ranked according to the following levels.

A:巻芯部分より15m未満
B:巻芯部分より15〜30m未満
C:巻芯部分より30〜50m未満
D:巻芯部分より50m以上
(巻始めシワ)
巻芯に原反光学フィルムを巻き取る作業を行い、巻始めでシワが発生して不良となった場合は巻芯から原反光学フィルムを取り外して、再度巻き取る作業を行った。この時の不良回数をカウントした。この作業を10回行い平均値を求め、下記レベルにランク分けを行った。
A: Less than 15 m from the core part B: Less than 15 to 30 m from the core part C: Less than 30 to 50 m from the core part D: 50 m or more from the core part (winding wrinkle)
When the original optical film was wound around the winding core, and wrinkles occurred at the beginning of the winding, the original optical optical film was removed from the winding core, and the winding operation was performed again. The number of defects at this time was counted. This operation was repeated 10 times, the average value was obtained, and the ranking was performed to the following levels.

A:0回以上1回未満
B:1回以上3回未満
C:3回以上5回未満
D:5回以上
A: 0 times or more and less than 1 time B: 1 time or more and less than 3 times C: 3 times or more and less than 5 times D: 5 times or more

Figure 2008225166
Figure 2008225166

表1より、本発明に係る一般式(1)で表される化合物を含有する光学フィルムNo.1〜19は、長期間保存しても馬の背故障、巻芯転写が少なく、巻始めシワ等の光学フィルム原反の変形故障が発生しにくい光学フィルムであることが分かる。つまり、光学フィルム原反の幅が広く、巻長が長いものでも故障を少なくすることができ、生産性を大幅に改良できることが判明した。   From Table 1, optical film No. containing the compound represented by General formula (1) based on this invention. It can be seen that Nos. 1 to 19 are optical films that are less susceptible to horse back failure and core transfer even when stored for a long period of time, and are less prone to deformation failures of the original optical film such as wrinkles at the beginning of winding. That is, it has been found that even when the optical film is wide and the winding length is long, the failure can be reduced and the productivity can be greatly improved.

実施例2
下記の組成物を調製した。
Example 2
The following composition was prepared:

(帯電防止層塗布組成物(1))
ポリメチルメタアクリレート(重量平均分子量55万、Tg:90℃) 0.5部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 60部
メチルエチルケトン 16部
乳酸エチル 5部
メタノール 8部
導電性ポリマー樹脂P−1(0.1〜0.3μm粒子) 0.5部
(Antistatic layer coating composition (1))
Polymethyl methacrylate (weight average molecular weight 550,000, Tg: 90 ° C.) 0.5 part Propylene glycol monomethyl ether 60 parts Methyl ethyl ketone 16 parts Ethyl lactate 5 parts Methanol 8 parts Conductive polymer resin P-1 (0.1-0. 3 μm particles) 0.5 parts

Figure 2008225166
Figure 2008225166

(ハードコート層塗布組成物(2))
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 6部
シリコーン系界面活性剤 1部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 75部
メチルエチルケトン 75部
(カール防止層塗布組成物(3))
アセトン 35部
酢酸エチル 45部
イソプロピルアルコール 5部
ジアセチルセルロース 0.5部
超微粒子シリカ2%アセトン分散液(アエロジル:200V、日本アエロジル(株)製) 0.1部
下記に従って、機能付与した偏光板保護フィルムを作製した。
(Hardcoat layer coating composition (2))
Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or higher component 20 parts Diethoxybenzophenone photoinitiator 6 parts Silicone surfactant 1 part Propylene Glycol monomethyl ether 75 parts Methyl ethyl ketone 75 parts (Anti-curl layer coating composition (3))
Acetone 35 parts Ethyl acetate 45 parts Isopropyl alcohol 5 parts Diacetyl cellulose 0.5 part Ultrafine silica 2% acetone dispersion (Aerosil: 200V, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0.1 part Functionalized polarizing plate protection according to the following A film was prepared.

(偏光板保護フィルム)
実施例1で作製した本発明の光学フィルム1をポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で25℃、50%RHの条件下で30日間、この後、40℃、80%RHの条件下で保存した。その後、それぞれポリエチレンシートを外して、それぞれの原反試料から巻き出した光学フィルムの片面に、カール防止層塗布組成物(3)をウェット膜厚13μmとなるようにグラビアコートし、乾燥温度80±5℃にて乾燥させた。これを試料1Aとする。
(Polarizing plate protective film)
The optical film 1 of the present invention produced in Example 1 is double wrapped with a polyethylene sheet, and stored for 30 days under conditions of 25 ° C. and 50% RH by the storage method as shown in FIG. It was stored under the condition of% RH. Thereafter, the polyethylene sheet was removed, and the anti-curl layer coating composition (3) was gravure-coated to a wet film thickness of 13 μm on one side of the optical film unwound from each original fabric sample, and the drying temperature was 80 ±. Dry at 5 ° C. This is designated as Sample 1A.

この光学フィルムのもう1方の面に帯電防止層塗布組成物(1)を28℃、82%RHの環境下でウェット膜厚で7μmとなるように光学フィルムの搬送速度30m/minで塗布幅1mで塗布し、次いで80±5℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約0.2μmの樹脂層を設け、帯電防止層付き光学フィルムを得た。これを試料1Bとする。   On the other side of the optical film, the antistatic layer coating composition (1) was coated at an optical film conveyance speed of 30 m / min so that the wet film thickness was 7 μm in an environment of 28 ° C. and 82% RH. The film was applied at 1 m and then dried in a drying section set at 80 ± 5 ° C. to provide a resin layer having a dry film thickness of about 0.2 μm to obtain an optical film with an antistatic layer. This is designated as Sample 1B.

さらに、この帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物(2)をウェット膜厚で13μmとなるように塗設し、乾燥温度90℃にて乾燥させた後、紫外線を150mJ/m2となるように照射して、乾燥膜厚で5μmのクリアハードコート層を設けた。これを試料1Cとする。 Further, the hard coat layer coating composition (2) was applied on the antistatic layer so as to have a wet film thickness of 13 μm, dried at a drying temperature of 90 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays at 150 mJ / m 2 . The clear hard coat layer having a dry film thickness of 5 μm was provided. This is designated as Sample 1C.

得られた本発明の光学フィルム試料1A、試料1B、試料1Cはともにブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。   The obtained optical film samples 1A, 1B, and 1C of the present invention did not cause brushing, no cracks were observed after drying, and the coating property was good.

光学フィルム1に代えて、本発明の光学フィルム2〜19に変更した以外は同様の方法で塗布行った。その結果、何れも良好な塗布性が確認された。   It replaced with the optical film 1, and it applied by the same method except having changed into the optical films 2-19 of this invention. As a result, good applicability was confirmed in all cases.

比較として、比較の光学フィルム20について、上記と同様な方法で塗布を行った。   For comparison, the comparative optical film 20 was coated by the same method as described above.

カール防止層塗布組成物(3)を塗布したものを試料2016A、さらに帯電防止層塗布組成物(1)を塗布したものを試料2016B、さらにこの帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物(2)を塗布したものを試料2016Cとした。   An anti-curl layer coating composition (3) coated sample 2016A, an antistatic layer coating composition (1) coated sample 2016B, and a hard coat layer coating composition ( The sample coated with 2) was designated as Sample 2016C.

その結果、高湿度環境で塗布したとき、試料2016Aでブラッシングが起こった。また、試料2016Bでは乾燥後微細な亀裂が認められることがあり、試料2016Cでは乾燥後微細な亀裂が明確に認められた。   As a result, brushing occurred in sample 2016A when applied in a high humidity environment. Further, in sample 2016B, fine cracks after drying were sometimes observed, and in sample 2016C, fine cracks after drying were clearly recognized.

(偏光板の作製と評価)
厚さ120μmのポリビニルアルコールフィルムを沃素1質量部、沃化カリウム2質量部、ホウ酸4質量部を含む水溶液に浸漬し50℃で4倍に延伸し偏光子を作製した。
(Production and evaluation of polarizing plate)
A 120 μm-thick polyvinyl alcohol film was immersed in an aqueous solution containing 1 part by mass of iodine, 2 parts by mass of potassium iodide, and 4 parts by mass of boric acid, and stretched 4 times at 50 ° C. to produce a polarizer.

実施例1で作製した本発明の光学フィルム1〜19及び比較の光学フィルム20をポリエチレンシートで2重に包み、図8に示すような保存方法で25℃、50%RHの条件下で30日間、この後、40℃、80%RHの条件下で保存した。その後、それぞれポリエチレンシートを外して、それぞれの原反試料から巻き出した光学フィルムを40℃の2.5mol/L水酸化ナトリウム水溶液で60秒間アルカリ処理し、さらに水洗乾燥して表面をアルカリ処理した。   The optical films 1 to 19 of the present invention produced in Example 1 and the comparative optical film 20 are double-wrapped with a polyethylene sheet, and stored for 30 days under conditions of 25 ° C. and 50% RH by the storage method as shown in FIG. Thereafter, it was stored under conditions of 40 ° C. and 80% RH. Thereafter, each polyethylene sheet was removed, and the optical film unwound from each original fabric sample was alkali-treated with a 2.5 mol / L sodium hydroxide aqueous solution at 40 ° C. for 60 seconds, and further washed with water and dried to alkali-treat the surface. .

前記偏光子の両面に、本発明の光学フィルム1〜19、及び比較の光学フィルムの20のアルカリ処理面を、完全鹸化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤として両面から貼合し、保護フィルムが形成された本発明の偏光板1〜19、及び比較の偏光板の20を作製した。   On both sides of the polarizer, the optically treated surfaces of the optical films 1 to 19 of the present invention and 20 of the comparative optical film were bonded from both sides using a completely saponified polyvinyl alcohol 5% aqueous solution as an adhesive, The formed polarizing plates 1 to 19 of the present invention and comparative polarizing plate 20 were produced.

得られた本発明の偏光板1〜19は比較の偏光板の20に対して、平面性、物理的に優れている保護フィルムで両面が保護されているため、非常に良好な偏光板の特性を有するという顕著に優れた効果を奏する。   Since the obtained polarizing plates 1 to 19 of the present invention are both protected by a protective film that is flat and physically superior to the comparative polarizing plate 20, very good polarizing plate characteristics It has a remarkably excellent effect of having

(液晶表示装置としての特性評価)
15型TFT型カラー液晶ディスプレーLA−1529HM(NEC製)の偏光板を剥がし、上記で作製した各々の偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板2枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、15型TFT型カラー液晶ディスプレーを作製し、光学フィルムの偏光板としての特性を評価したところ、本発明の偏光板1〜19は、比較の偏光板20に対してコントラストも高く、優れた表示性を示した。これにより、液晶ディスプレー等の画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。
(Characteristic evaluation as a liquid crystal display device)
The polarizing plate of 15-type TFT color liquid crystal display LA-1529HM (manufactured by NEC) was peeled off, and each of the polarizing plates prepared above was cut according to the size of the liquid crystal cell. A polarizing plate of an optical film was prepared by adhering the two polarizing plates produced so as to sandwich the liquid crystal cell so that the polarizing axes of the polarizing plates were not perpendicular to each other so as to be orthogonal to each other. As a result, the polarizing plates 1 to 19 of the present invention showed a high contrast with the comparative polarizing plate 20 and exhibited excellent display properties. Thereby, it was confirmed that it is excellent as a polarizing plate for an image display device such as a liquid crystal display.

本発明に係る光学フィルムの製造方法を実施する装置の1つの実施形態を示す概略フローシートである。It is a general | schematic flow sheet which shows one embodiment of the apparatus which enforces the manufacturing method of the optical film which concerns on this invention. 図1の製造装置の要部拡大フローシートである。It is a principal part expansion flow sheet of the manufacturing apparatus of FIG. 図3(a)は流延ダイの要部の外観図、図3(b)は流延ダイの要部の断面図である。3A is an external view of the main part of the casting die, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the main part of the casting die. 挟圧回転体の第1実施形態の断面図である。It is sectional drawing of 1st Embodiment of a pinching rotary body. 挟圧回転体の第2実施形態の回転軸に垂直な平面での断面図である。It is sectional drawing in the plane perpendicular | vertical to the rotating shaft of 2nd Embodiment of a pinching rotary body. 挟圧回転体の第2実施形態の回転軸を含む平面での断面図である。It is sectional drawing in the plane containing the rotating shaft of 2nd Embodiment of a pinching rotary body. 液晶表示装置の構成図の概略を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the outline of the block diagram of a liquid crystal display device. 光学フィルム原反の保管の状態を示す図である。It is a figure which shows the state of the optical film original fabric storage.

符号の説明Explanation of symbols

1 押出し機
2 フィルター
3 スタチックミキサー
4 流延ダイ
5 回転支持体(第1冷却ロール)
6 挟圧回転体(タッチロール)
7 回転支持体(第2冷却ロール)
8 回転支持体(第3冷却ロール)
9、11、13、14、15 搬送ロール
10 光学フィルム
16 巻取り装置
21a、21b 保護フィルム
22a、22b 位相差フィルム
23a、23b フィルムの遅相軸方向
24a、24b 偏光子の透過軸方向
25a、25b 偏光子
26a、26b 偏光板
27 液晶セル
29 液晶表示装置
31 ダイ本体
32 スリット
41 金属スリーブ
42 弾性ローラ
43 金属製の内筒
44 ゴム
45 冷却水
51 外筒
52 内筒
53 空間
54 冷却液
55a、55b 回転軸
56a、56b 外筒支持フランジ
60 流体軸筒
61a、61b 内筒支持フランジ
62a、62b 中間通路
110 巻芯本体
117 支え板
118 架台
120 光学フィルム原反
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Extruder 2 Filter 3 Static mixer 4 Casting die 5 Rotating support body (1st cooling roll)
6 Nipping pressure rotating body (touch roll)
7 Rotating support (second cooling roll)
8 Rotating support (3rd cooling roll)
9, 11, 13, 14, 15 Transport roll 10 Optical film 16 Winding device 21a, 21b Protective film 22a, 22b Phase difference film 23a, 23b Film slow axis direction 24a, 24b Polarizer transmission axis direction 25a, 25b Polarizers 26a, 26b Polarizing plate 27 Liquid crystal cell 29 Liquid crystal display device 31 Die body 32 Slit 41 Metal sleeve 42 Elastic roller 43 Metal inner cylinder 44 Rubber 45 Cooling water 51 Outer cylinder 52 Inner cylinder 53 Space 54 Coolant 55a, 55b Rotating shaft 56a, 56b Outer cylinder support flange 60 Fluid shaft cylinder 61a, 61b Inner cylinder support flange 62a, 62b Intermediate passage 110 Winding core body 117 Support plate 118 Base 120 Optical film original

Claims (6)

セルロースエステルを有する光学フィルムにおいて、該光学フィルムが下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
Figure 2008225166
(式中、R1は置換基を表す。R2は水素原子または置換基を表す。R3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。R4は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。R5は水素原子または置換基を表す。R6は水素原子または置換基を表す。R7は水素原子または、炭素数1〜10のアルキル基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または、フェニル基を表す。nは1〜4の整数を表す。Aは1〜4価の基を表す。)
An optical film having a cellulose ester, wherein the optical film contains a compound represented by the following general formula (I).
Figure 2008225166
(Wherein R 1 represents a substituent; R 2 represents a hydrogen atom or a substituent; R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 4 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom) Represents an alkyl group of ˜8, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 8 Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, n represents an integer of 1 to 4, and A represents a 1 to 4 valent group.)
請求項1に記載の光学フィルムが、セルロースエステルと下記一般式(I)で表される化合物から選ばれる少なくとも一種を含有する溶融物を用いて溶融流延法によって製造されることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
Figure 2008225166
(式中、R1は置換基を表す。R2は水素原子または置換基を表す。R3は水素原子または、炭素数1〜4のアルキル基を表す。R4は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表す。R5は水素原子または置換基を表す。R6は水素原子または置換基を表す。R7は水素原子または、炭素数1〜10のアルキル基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基または、フェニル基を表す。nは1〜4の整数を表す。Aは1〜4価の基を表す。)
The optical film according to claim 1 is produced by a melt casting method using a melt containing at least one selected from a cellulose ester and a compound represented by the following general formula (I). Manufacturing method of optical film.
Figure 2008225166
(Wherein R 1 represents a substituent; R 2 represents a hydrogen atom or a substituent; R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; R 4 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom) Represents an alkyl group of ˜8, R 5 represents a hydrogen atom or a substituent, R 6 represents a hydrogen atom or a substituent, R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 8 Represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a phenyl group, n represents an integer of 1 to 4, and A represents a 1 to 4 valent group.)
請求項1に記載の光学フィルム又は請求項2に記載の光学フィルムの製造方法により得られた光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising an optical film according to claim 1 or an optical film obtained by the method for producing an optical film according to claim 2 on at least one surface of a polarizer. 請求項3に記載の偏光板をロール状の長尺に巻取り、その後巻き状態から繰り出して偏光子と貼り合わせることを特徴とする偏光板の製造方法。 A method for producing a polarizing plate, comprising: winding the polarizing plate according to claim 3 into a roll-like long shape, then drawing out from the wound state and bonding to a polarizer. 請求項3に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate according to claim 3 on at least one surface of a liquid crystal cell. 請求項4に記載の偏光板の製造方法により得られた偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the polarizing plate obtained by the method for producing a polarizing plate according to claim 4 on at least one surface of a liquid crystal cell.
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