JP2008221601A - 補正値決定方法、露光装置および画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】画素の濃度を均一化し得る適切な補正値を決定する。
【解決手段】複数の発光素子Eの各々からの出射光のエネルギを補正するための補正値Aを決定する。第1過程においては、複数の発光素子Eからの出射光によって形成される複数のスポット領域の各々についてエネルギの強度のピーク値PXが測定される。第2過程においては、第1過程にて各発光素子Eについて測定されたピーク値PXが低いほど当該発光素子Eの補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値Aを決定する。
【選択図】図1
【解決手段】複数の発光素子Eの各々からの出射光のエネルギを補正するための補正値Aを決定する。第1過程においては、複数の発光素子Eからの出射光によって形成される複数のスポット領域の各々についてエネルギの強度のピーク値PXが測定される。第2過程においては、第1過程にて各発光素子Eについて測定されたピーク値PXが低いほど当該発光素子Eの補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値Aを決定する。
【選択図】図1
Description
本発明は、発光素子の出射光のエネルギを補正する技術に関する。
複数の発光素子を利用した露光によって感光体ドラムなどの像担持体の表面(以下「被露光面」という)に潜像を形成する電子写真方式の画像形成装置が従来から提案されている。各発光素子の特性やこれを駆動する能動素子の特性にバラツキ(設計値からの誤差や各素子間の相違)があると、被露光面のうち各発光素子からの出射光で照射される領域(以下「スポット領域」という)のサイズが発光素子ごとに相違して画像の濃度(階調)にムラが発生するという問題がある。以上の問題を解決するために、例えば特許文献1には、各発光素子が被露光面に形成するスポット領域内のエネルギの強度のピーク値に基づいて当該発光素子の補正値を決定する技術が開示されている。
特開平11−227254号公報
ところで、特許文献1の技術においては、スポット領域内のエネルギの強度のピーク値が小さいほど発光素子の出射光のエネルギが低減されるように補正値が決定される。しかし、以上の手順で決定された補正を適用した場合、画像を形成する処理の内容によっては、画像を構成する各画素の濃度の相違が拡大する場合もある。以上の事情に鑑みて、本発明は、画素の濃度を均一化し得る適切な補正値を決定するという課題の解決を目的としている。
以上の課題を解決するために、本発明に係る補正値決定方法は、複数の発光素子の各々からの出射光のエネルギを補正するための補正値を決定する方法であって、複数の発光素子からの出射光によって形成される複数のスポット領域の各々についてエネルギの強度のピーク値を測定する第1過程と、第1過程にて各発光素子について測定したピーク値が低いほど当該発光素子の補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値を決定する第2過程とを含む。
以上の方法においては、第1過程で測定したピーク値が低いほど発光素子の補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値が決定されるから、各発光素子が被露光面に付与するエネルギのピーク値を均一化して画素の濃度のムラを抑制することが可能である。
本発明の好適な態様に係る第2過程において、第1過程にて各発光素子について測定したピーク値に対する目標値の比(例えば「P0/PX」)に基づいて当該発光素子の補正値を決定する。本態様によれば、各発光素子が被露光面に付与するエネルギのピーク値を目標値に近づけることができる。
本発明の好適な態様に係る第2過程において、第1過程にて各発光素子について測定したピーク値に対する複数の発光素子のピーク値の平均値の比(例えばPave/PX)に基づいて当該発光素子の補正値を決定する。本態様によれば、各発光素子が被露光面に付与するエネルギのピーク値を複数の発光素子のピーク値の平均値に近づけることができる。
複数の発光素子の各々からの出射光が、複数の発光素子に沿って配列された複数の集光体を通過する構成を対象として補正値を決定する場合、第2過程において、複数の発光素子の各々の位置に対する各発光素子のピーク値の変動のうち各集光体の配列のピッチに対応した成分(例えば図6の特性F)を抽出し、当該成分のうち各発光素子の位置における成分値が低いほど当該発光素子の補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値を決定する。以上の態様によれば、ピーク値の測定の誤差による影響を低減して高精度に各スポット領域のピーク値を均一化することが可能である。
本発明の好適な態様に係る第2過程において、第1過程にて各発光素子について測定したピーク値に対する複数の発光素子のピーク値の最大値の比(例えばPX_MAX/PX)に基づいて当該発光素子の補正値を決定する。本態様によれば、各発光素子が被露光面に付与するエネルギのピーク値を複数の発光素子のピーク値の最大値に近づけることができる。したがって、各発光素子に指定される階調値と実際の画像の濃度との関係を直線的な関係(例えば図8の部分(a)における直線L)に近づけることが可能である。
本発明の好適な態様に係る第2過程において、第1過程にて各発光素子について測定したピーク値と当該発光素子に指定される階調値とに応じて補正値を決定する。本態様によれば、階調値に応じた最適な補正を各発光素子について実行することが可能となる。
本発明の別の態様は、以上の各態様に係る補正値決定方法によって決定された補正値に基づいて発光素子を駆動する露光装置である。ひとつの形態に係る露光装置は、被露光面を露光する複数の発光素子と、各発光素子について補正値を記憶する記憶回路とを具備し、各発光素子の出射光のエネルギを当該発光素子の補正値に応じて制御する露光装置であって、記憶回路に記憶された各補正値は、当該補正値に応じた補正を実行しない場合に被露光面に形成されるスポット領域のエネルギの強度のピーク値が低い発光素子ほど当該補正値に応じた補正によって出射光のエネルギが増加するように決定されている。以上の露光装置によれば、非補正時に各発光素子が被露光面に付与するエネルギのピーク値に基づいて決定された補正値に基づいて均一な露光を実現することが可能となる。
以上の態様に係る露光装置は各種の電子機器に利用される。本発明に係る電子機器のひとつの態様である画像形成装置は、本発明の露光装置と、露光装置による露光で潜像が形成される被露光面を有する像担持体(例えば感光体ドラム70)と、像担持体の潜像に対する現像材(例えばトナー)の付加によって顕像を形成する現像器とを具備する。本発明に係る露光装置によれば均一な露光が実現されるから、本発明に係る画像形成装置は、階調のムラが良好に抑制された高品位な画像を形成することが可能である。
もっとも、本発明に係る露光装置の用途は像担持体の露光に限定されない。例えば、スキャナなどの画像読取装置においては、本発明に係る露光装置を原稿の照明に利用することが可能である。この画像読取装置は、本発明に係る露光装置と、露光装置から出射して読取対象(原稿)で反射した光を電気信号に変換する受光装置(例えばCCD(Charge Coupled Device)素子などの受光素子)とを具備する。
<A:第1実施形態>
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像形成装置の部分的な構造を示す断面図である。同図に示すように、画像形成装置は、静電潜像が形成される被露光面(像形成面)70Aを外周面とする感光体ドラム70と、感光体ドラム70を露光することで被露光面70Aに静電潜像を形成する露光装置(ラインヘッド)Hと、露光装置Hの動作を制御する制御装置10とを具備する。感光体ドラム70は、X方向(主走査方向)に延在する回転軸に支持され、被露光面70Aを露光装置Hに対向させた状態で回転する。したがって、被露光面70Aのうち露光装置Hに対向する部分は、露光装置Hに対して相対的にY方向(副走査方向)に進行する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る画像形成装置の部分的な構造を示す断面図である。同図に示すように、画像形成装置は、静電潜像が形成される被露光面(像形成面)70Aを外周面とする感光体ドラム70と、感光体ドラム70を露光することで被露光面70Aに静電潜像を形成する露光装置(ラインヘッド)Hと、露光装置Hの動作を制御する制御装置10とを具備する。感光体ドラム70は、X方向(主走査方向)に延在する回転軸に支持され、被露光面70Aを露光装置Hに対向させた状態で回転する。したがって、被露光面70Aのうち露光装置Hに対向する部分は、露光装置Hに対して相対的にY方向(副走査方向)に進行する。
図1に示すように、露光装置Hは、発光装置30および集束性レンズアレイ40と、両者を保持する遮光性の保持部材50とを具備する。発光装置30は、X方向を長手とする姿勢に支持された光透過性の基板32と、基板32のうち感光体ドラム70とは反対側の表面にてX方向に配列する複数の発光素子Eと、基板32に固定されて各発光素子Eを封止する封止体34と、基板32に実装された駆動回路36とを具備する。
図1に示すように、集束性レンズアレイ40は発光装置30と感光体ドラム70との間隙に配置される。各発光素子Eからの出射光は、基板32を透過してから集束性レンズアレイ40によって集光されたうえで感光体ドラム70の被露光面70Aに到達する。被露光面70Aには、各発光素子Eからの出射光に応じた等倍の正立像が結像する。
図2は、集束性レンズアレイ40を感光体ドラム70側からみたときの構成を示す平面図である。同図に示すように、集束性レンズアレイ40は、相互に間隔をあけて対向する2枚のFRP(Fiber-Reinforced Plastics)板42と、各々の中心軸(光軸)をZ方向に向けて各FRP板42の間隙に配列された複数の屈折率分布型レンズ44と、各屈折率分布型レンズ44の間隙に充填された遮光性の充填材46(例えばシリコン)とを含む。屈折率分布型レンズ44は、中心軸から周縁に向かって離間した位置ほど屈折率が低下するように横断面内にて屈折率が分布する円柱状の集光体である。集束性レンズアレイ40としては、例えば日本板硝子株式会社から入手できるSLA(セルフォック・レンズ・アレイ)が好適に採用される。なお、「セルフォック/SELFOC」は日本板硝子株式会社の登録商標である。
図2に示すように、複数の屈折率分布型レンズ44はX方向に沿って2列かつ千鳥状に配列される。さらに詳述すると、各々の中心軸がX方向の直線LA1を通過するようにピッチdで配列する複数の屈折率分布型レンズ44の集合G1と、直線LA1に平行な直線LA2を各々の中心軸が通過するようにピッチdで配列する複数の屈折率分布型レンズ44の集合G2とが、X方向に沿ってピッチdの半分(d/2)だけずれた位置にて相互に接触するように配置される。ピッチdは、X方向に相隣接する各屈折率分布型レンズ44の光軸間(中心軸間)の距離として定義される。図2に白丸で示すように、複数の発光素子Eは、直線LA1と直線LA2とから等距離にあるX方向の直線LCに沿って直線状に配列する。
図3は、制御装置10および発光装置30の機能的な構成を示すブロック図である。発光素子Eは、相互に対向する陽極と陰極との間に有機EL(Electroluminescence)材料の発光層が介在する有機発光ダイオード素子である。駆動回路36は、制御装置10による制御のもとに駆動電流IDRを出力することで各発光素子Eを発光させる。なお、駆動回路36は、ICチップの形態で基板32に実装されてもよいし、発光素子Eとともに基板32の表面に形成された薄膜トランジスタで構成されてもよい。
図3に示すように、駆動回路36は、各々が別個の発光素子Eに対応する複数の単位回路Uを含む。各単位回路Uは、ひとつの発光素子Eに供給される駆動電流IDRを制御する回路であり、電流生成回路361とパルス駆動回路363とを含む。電流生成回路361は、制御装置10から指示される電流値aの駆動電流IDRを生成する。パルス駆動回路363は、所定の期間(例えば水平走査期間)のうち制御装置10から指示されるパルス幅bに相当する期間にて駆動電流IDRを発光素子Eに出力するとともに残余の期間にて駆動電流IDRの出力を停止する。
制御装置10は、記憶回路12と制御部14とを具備する。記憶回路12(例えばROM(Read Only Memory))は、複数の発光素子Eの各々について補正値Aを記憶する。補正値Aの意義や設定の方法については後述する。
制御部14には画像信号Vが供給される。画像信号Vは、各発光素子Eの階調値を指定する信号である。制御部14は、パルス幅設定部141と電流設定部143とを含む。パルス幅設定部141は、画像信号Vに応じたパルス幅bを発光素子Eごとに設定して各パルス駆動回路363に指示する。電流設定部143は、記憶回路12に記憶された補正値Aに応じた電流値aを発光素子Eごとに設定して各電流生成回路361に指示する。例えば電流設定部143は、所定の初期値に対して補正値Aを乗算することで電流値aを設定する。以上のように、補正値Aに基づいて補正された電流値aによって各発光素子Eの出射光のエネルギの強度が設定されるとともに各発光素子Eの発光の時間長が画像信号Vに応じたパルス幅bに制御(パルス幅変調)される。
次に、各発光素子Eの補正値Aを決定する方法について説明する。補正値Aの決定の手順は第1過程と第2過程とを含む。第1過程および第2過程は、発光装置30および集束性レンズアレイ40が保持部材50に固定された段階(画像形成装置には搭載されていない段階)の露光装置Hを対象として実行される。なお、以下では説明の便宜のために、補正値Aに応じた補正を実行しない場合(以下「非補正時」という)に複数の発光素子Eの各々からの出射光のエネルギが同等の強度である場合を想定する。
第1過程においては、各発光素子Eからの出射光が被露光面70Aに形成する各スポット領域についてエネルギの強度のピーク値PXが測定される。まず、露光装置Hと対向するように撮像装置が配置される。撮像装置の撮像面は、露光装置Hを画像形成装置に搭載した場合の露光装置Hと被露光面70Aとの間隔と同等の距離だけ露光装置Hから離間する(すなわち被露光面70Aが配置されるべき設計上の位置に配置される)。撮像装置は、撮像面に沿って平面的に配列された複数の受光素子(例えばCCD素子)を含む。
以上の状態で各発光素子Eを順番に発光させる。発光素子Eからの出射光は、集束性レンズアレイ40を通過して撮像面の複数の受光素子に到達する。総ての受光素子が受光したエネルギの強度のなかの最大値がスポット領域内のエネルギのピーク値PXとして特定される。
ところで、各発光素子Eおよび集束性レンズアレイ40の位置や形態(形状や寸法)には誤差が発生する場合がある。例えば、図2においては、発光素子EAおよびEBが直線LC上の初期の位置(白丸で図示された位置)からY方向に離間した位置にずれている様子が黒丸で図示されている。以上のように各発光素子Eと各屈折率分布型レンズ44との相対的な位置に誤差があると、複数の発光素子Eによる出射光のエネルギが仮に同等であっても、被露光面70Aに形成されるスポット領域のエネルギの分布が発光素子Eごとに相違する場合がある。各スポット領域のエネルギの分布のバラツキは、画像形成装置が形成する画像の濃度のムラ(特に副走査方向に沿った直線状のムラ)の原因となる。
図4は、発光素子EAからの出射光で撮像面に形成されるエネルギの分布DAを示すグラフであり、図5は、発光素子EBからの出射光で撮像面に形成されるエネルギの分布DBを示すグラフである。図4および図5においては、発光素子EAや発光素子EBが所期の位置にある場合(発光素子Eの位置に誤差がない場合)のエネルギの分布D0が対比のために破線で図示されている。なお、被露光面70A(撮像面)に到達した出射光のエネルギが所定の閾値THを上回る領域がスポット領域S(SA,SB)である。
図4および図5に示すように、スポット領域Sにおけるエネルギの強度のピーク値PX(PX_A,PX_B)は、各発光素子Eと各屈折率分布型レンズ44との位置の誤差に応じて変化する。例えば、発光素子EAが形成するスポット領域SA内のピーク値PX_Aは所期のピーク値P0よりも高く、発光素子EBが形成するスポット領域SB内のピーク値PX_Bは所期のピーク値P0よりも低い。ピーク値P0は、各発光素子Eと各屈折率分布型レンズ44との位置に誤差がない理想的な場合(分布D0)のピーク値(以下「目標値」という)である。
第2過程においては、第1過程にて各発光素子Eについて測定したピーク値PXが低いほど、補正値Aによる補正後の発光素子Eの出射光のエネルギが増加するように(ピーク値PXが高いほど補正後の出射光のエネルギが減少するように)、当該発光素子Eの補正値Aが決定される。さらに詳述すると、第2過程においては、第1過程にて測定されたピーク値PXに対する目標値P0の比(P0/PX)に基づいて補正値Aが決定される。
本形態においては、ピーク値PXに対する目標値P0の比と所定の係数α(0<α≦1)との乗算値(α・P0/PX)が補正値Aとして決定される。例えば、図4の発光素子EAの補正値Aは「α・P0/PX_A」に設定され、図5の発光素子EBの補正値Aは「α・P0/PX_B」に設定される。係数αは、スポット領域S内に付与されるエネルギのピーク値PXを補正によって目標値P0に近づける程度を調整するために予め設定される数値である。
各発光素子Eに供給される駆動電流IDRの電流値aは、初期値と補正値Aとの乗算値に設定されるから、補正値Aによる補正後には、第1過程にて測定されたピーク値PXが高い発光素子Eの駆動電流IDRほど電流値aが低下する。すなわち、補正値Aによる補正後に発光素子EAに供給される駆動電流IDRの電流値aは非補正時と比較して減少し、補正後に発光素子EBに供給される駆動電流IDRの電流値aは非補正時と比較して増加する。したがって、補正後に各発光素子Eが被露光面70Aに形成するスポット領域Sのエネルギのピーク値は目標値P0に近づく(係数αが「1」の場合には略一致する)。以上に説明したように、本形態においては各スポット領域Sのエネルギのピーク値が均一化されるから、画像の濃度のムラを充分に抑制することが可能である。
なお、第1過程での測定の結果から補正値Aを決定する方法は以上の例示に限定されない。例えば、第1過程で複数の発光素子Eについて測定されたピーク値PXの平均値Paveを目標値P0に設定して各発光素子Eの補正値Aを決定してもよい。例えば、各発光素子Eについて測定されたピーク値PXに対する平均値Paveの比(Pave/PX)と係数αとの乗算値(α・Pave/PX)が補正値Aとして決定される。平均値Paveが「1」となるように正規化した場合の各発光素子Eの相対ピーク値PXr(PXr=PX/Pave)に着目すると、係数αを相対ピーク値PXrで除算した数値(α/PXr)が補正値Aに設定される。
<B:第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、以下の各形態において作用や機能が第1実施形態と共通する要素については、以上と同じ符号を付して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。なお、以下の各形態において作用や機能が第1実施形態と共通する要素については、以上と同じ符号を付して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
図6は、各発光素子EのX方向における位置(横軸)と各発光素子Eについて第1過程で測定されたピーク値PX(縦軸)との関係を示すグラフである。図6においては、X方向に沿った配列の順番で各発光素子Eに付与された番号(素子番号)が横軸に付記されている。
図6の特性Fは、各発光素子Eの配列の順番にピーク値PXを連結した折れ線(図6に破線で示されるピーク値PXの変動)を平滑化した曲線である。特性Fから理解されるように、各発光素子EのX方向の位置に対してピーク値PXは周期的に変動する傾向がある。図6に示すように、ピーク値PXの変動の周期は、集束性レンズアレイ40における各屈折率分布型レンズ44の配列のピッチdに相当する。すなわち、特性Fは、各発光素子EのX方向の位置に対するピーク値PXの変動から各屈折率分布型レンズ44の配列のピッチdに対応した成分を抽出した曲線に相当する。
本形態においては特性Fに基づいて各発光素子Eの補正値Aが決定される。すなわち、第2過程においては、まず、第1過程にて各発光素子Eについて測定されたピーク値PXの集合から特性Fの成分が抽出される。特性Fは、例えば、各ピーク値PXを発光素子Eの配列の順番に連結した折れ線のうち特定の帯域に属する成分のみを通過させる(特に高域成分を除去する)フィルタ処理によって抽出される。
第2過程においては、特性Fの成分値に応じて各発光素子Eの補正値Aが決定される。すなわち、特性Fのうち各発光素子Eの位置における成分値が低いほど当該発光素子Eの補正後の出射光のエネルギが増加するように(成分値が高いほど補正後のエネルギが減少するように)補正値Aが決定される。例えば、図6において素子番号が「14」である発光素子Eについては、特性Fのうち当該発光素子Eの位置に対応した成分値pX_14に対する目標値p0の比と係数αとの乗算値(α・p0/pX_14)が補正値Aとして決定される。したがって、素子番号が「14」である発光素子Eの出射光のエネルギは、被露光面70Aに付与されるエネルギのピーク値が目標値p0に接近するように非補正時よりも増加する。目標値p0は、所定の数値であってもよいし複数の発光素子Eについてのピーク値PXの平均値であってもよい。
第1過程にて測定されるピーク値PXには、撮像装置の受光素子が出力する信号のノイズなど各種の外乱に起因して誤差が発生する場合がある。本形態においては、第1過程における測定値を平滑化した特性Fに基づいて各発光素子Eの補正値Aが決定されるから、第1過程における測定の誤差の影響を抑制して各スポット領域Sのエネルギのピーク値を高精度に均一化することが可能である。
また、画像に周期的に発生する副走査方向のムラは、画像に不規則に発生するムラと比較して顕著に知覚される傾向がある。本形態においては、屈折率分布型レンズ44のピッチdに対応した周期で変動する特性Fに基づいて補正値Aが決定されるから、画像に周期的に発生する濃度のムラを有効に抑制できるという利点がある。
<C:第3実施形態>
次に、本発明の第3実施形態について説明する。図7は、制御装置10および発光装置30の機能的な構成を示すブロック図である。同図に示すように、本形態における制御装置10は、図3の要素に加えて記憶回路16(例えばROM)を具備する。記憶回路16は、記憶回路12と一体の回路であっても別体の回路であってもよい。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。図7は、制御装置10および発光装置30の機能的な構成を示すブロック図である。同図に示すように、本形態における制御装置10は、図3の要素に加えて記憶回路16(例えばROM)を具備する。記憶回路16は、記憶回路12と一体の回路であっても別体の回路であってもよい。
記憶回路16には変換テーブルが格納される。変換テーブルは、補正値Aと各発光素子Eの階調値との組に対して電流値aを対応づけるテーブルである。電流設定部143は、各発光素子Eについて記憶回路12に格納された補正値Aと画像信号Vによって当該発光素子Eに指定される階調値とに対応する電流値aを変換テーブルから取得して駆動回路36に出力する。したがって、ひとつの発光素子Eに供給される駆動電流IDRの電流値a(さらには発光素子Eからの出射光のエネルギ)は、当該発光素子Eの補正値Aと階調値とに応じたレベルに制御される。各発光素子Eの補正値Aを決定する方法は以上の各形態と同様である。
各発光素子Eに供給される駆動電流IDRの電流値aの最適値は、当該発光素子Eに指定される階調値に応じて変動する場合がある。以上に説明したように本形態においては、補正値Aおよび階調値の双方に基づいて電流値aが設定されるから、補正値Aに応じた補正で階調のムラを抑制しながら、変換テーブルの内容を適宜に設定することで駆動電流IDRの電流値aを発光素子Eごとに最適化することが可能となる。
<D:第4実施形態>
次に、本発明の第4実施形態について説明する。図8の部分(a)は、各発光素子Eに指定される階調値(横軸)と実際に用紙に印刷される画像の濃度(縦軸)との関係を示すグラフである。同図に直線Lとして図示されるように、印刷の濃度は、理想的には階調値に対して直線的に変化する。しかし、複数の発光素子Eが被露光面70Aに形成するスポット領域Sの粗密に応じて印刷の濃度が制御される場合(面積階調)を想定すると、実際の印刷の濃度は、高階調側の範囲では理想値よりも高濃度となり、低階調側の範囲では理想値よりも低濃度となる傾向がある。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。図8の部分(a)は、各発光素子Eに指定される階調値(横軸)と実際に用紙に印刷される画像の濃度(縦軸)との関係を示すグラフである。同図に直線Lとして図示されるように、印刷の濃度は、理想的には階調値に対して直線的に変化する。しかし、複数の発光素子Eが被露光面70Aに形成するスポット領域Sの粗密に応じて印刷の濃度が制御される場合(面積階調)を想定すると、実際の印刷の濃度は、高階調側の範囲では理想値よりも高濃度となり、低階調側の範囲では理想値よりも低濃度となる傾向がある。
図8の部分(a)には、スポット領域S内のエネルギのピーク値が高い場合(曲線CH)とエネルギのピーク値が低い場合(曲線CL)とについて階調値と印刷濃度との関係が図示されている。図4および図5から理解されるように、スポット領域S内のエネルギのピーク値が高いほどスポット領域Sの直径は縮小する(ピークの先鋭度が高い)。したがって、図8の部分(a)に示すように、高階調が指定された場合には、各発光素子Eが被露光面70Aに付与するエネルギのピーク値が高いほど、各スポット領域Sが相互に離間することで印刷の濃度は低下する。一方、低階調が指定された場合、各発光素子Eが被露光面70Aに付与するエネルギのピーク値が低いほど各スポット領域Sの感光の程度が抑制される(ピーク値が高い場合にはスポット領域S内が確実に感光する)から、実際の印刷の濃度は低下する。すなわち、階調値と実際の濃度との関係は、被露光面70Aに付与されるエネルギのピーク値が高いほど、直線Lで示された理想的な関係に近づいていく。
以上の事情を考慮して、本形態においては、第1過程にて複数の発光素子Eについて測定されたピーク値PXのなかから最大値PX_MAXが抽出され、各発光素子Eについて測定されたピーク値PXに対する最大値PX_MAXの比(PX_MAX/PX)に基づいて補正値Aが決定される。さらに詳述すると、発光素子Eのピーク値PXに対する最大値PX_MAXの比と係数αとの乗算値(α・PX_MAX/PX)が当該発光素子Eの補正値Aとして決定される。
本形態における係数αは、発光素子Eに指定される階調値に応じて変化する。すなわち、図8の部分(b)に示すように、発光素子Eに指定された階調値が閾値THを上回る範囲では階調値が増加するほど係数αが増加し、階調値が閾値TLを下回る範囲では階調値が減少するほど係数αが増加する。以上のように階調値に応じて係数α(さらには補正値A)を制御することで、階調値に拘わらず印刷の濃度のムラを抑制することが可能となる。
次に、図9を参照して、階調値に応じて係数αを制御する機能を備えた制御装置10の構成を説明する。同図に示すように、制御装置10は、図3の記憶回路12と制御部14とに加えて補正値算定部18を具備する。記憶回路12は、第1過程で測定されたピーク値PXに対する最大値PX_MAXの比(PX_MAX/PX)を発光素子Eごとに記憶する。
補正値算定部18は、係数設定部181と演算部183とで構成される。係数設定部181は、画像信号Vが指定する各発光素子Eの階調値に応じて当該発光素子Eの係数αを設定する手段である。例えば、階調値と係数αとを対応づけるテーブルが係数設定部181として好適に採用される。また、画像信号Vが指定する階調値を変数とする所定の演算によって係数αを算定する回路を係数設定部181として採用してもよい。
演算部183は、記憶回路12が各発光素子Eについて記憶する数値(PX_MAX/PX)と係数設定部181が当該発光素子Eについて設定した係数αとに基づいて補正値Aを算定する手段である。本形態の演算部183は、記憶回路12に格納された数値(PX_MAX/PX)と係数αとの乗算値を補正値Aとして出力する乗算器である。制御部14は、補正値算定部18(演算部183)が算定した補正値Aに基づいて、第1実施形態と同様の方法で駆動電流IDRの電流値aを制御する。
以上の構成によれば、画像信号Vで指定される階調値と実際の印刷の濃度との関係を理想的な関係(図8の部分(a)における直線L)に近づけながら印刷の濃度のムラを抑制することが可能である。さらに、階調値に応じて係数αが制御されるから、階調値に拘わらず印刷の濃度のムラが有効に抑制されるという利点もある。
なお、以上の形態においては測定値PXの最大値PX_MAXに基づいて補正値Aを決定する場合を例示したが、最大値PX_MAXを別の数値に変更してもよい。ただし、ピーク値PXが高いほど階調値と印刷の濃度との関係が理想に近づくという傾向からすると、補正後に各発光素子Eが被露光面70Aに付与するエネルギのピーク値を、第1過程での測定値のうち相対的に高いピーク値PXに近づけることが望ましい。
<E:変形例>
以上の各形態には様々な変形を加えることができる。具体的な変形の態様を例示すれば以下の通りである。なお、以下の各態様を適宜に組み合わせてもよい。
以上の各形態には様々な変形を加えることができる。具体的な変形の態様を例示すれば以下の通りである。なお、以下の各態様を適宜に組み合わせてもよい。
(1)変形例1
以上の各形態においては駆動電流IDRの電流値aを補正値Aに応じて制御する構成を例示したが、補正値Aに応じた制御の対象は電流値aに限定されない。例えば、電流値aを制御する構成に代えて、または、この構成とともに、駆動電流IDRのパルス幅bを補正値Aに応じて制御する構成としてもよい。また、電圧(以下「駆動電圧」という)の印加によって発光する電圧駆動型の発光素子を利用した露光装置においては、駆動電圧の電圧値およびパルス幅の少なくとも一方を補正値Aに応じて制御する構成が採用される。
以上の各形態においては駆動電流IDRの電流値aを補正値Aに応じて制御する構成を例示したが、補正値Aに応じた制御の対象は電流値aに限定されない。例えば、電流値aを制御する構成に代えて、または、この構成とともに、駆動電流IDRのパルス幅bを補正値Aに応じて制御する構成としてもよい。また、電圧(以下「駆動電圧」という)の印加によって発光する電圧駆動型の発光素子を利用した露光装置においては、駆動電圧の電圧値およびパルス幅の少なくとも一方を補正値Aに応じて制御する構成が採用される。
(2)変形例2
第1実施形態や第2実施形態においても第4実施形態と同様に係数αを可変値としてもよい。係数αが可変である構成においては、第4実施形態に例示したように画像信号Vが指定する階調値に応じて係数αを設定してもよいし、例えば利用者が操作子に付与した操作の内容に応じて係数αを設定してもよい。また、補正値Aと階調値とに基づいて電流値aが決定される第3実施形態の構成を第4実施形態に適用してもよい。
第1実施形態や第2実施形態においても第4実施形態と同様に係数αを可変値としてもよい。係数αが可変である構成においては、第4実施形態に例示したように画像信号Vが指定する階調値に応じて係数αを設定してもよいし、例えば利用者が操作子に付与した操作の内容に応じて係数αを設定してもよい。また、補正値Aと階調値とに基づいて電流値aが決定される第3実施形態の構成を第4実施形態に適用してもよい。
(3)変形例3
以上の各形態に例示した方法と他の方法とを併用することで補正値Aを決定してもよい。例えば、第1に、各発光素子Eの特性の誤差に起因した各々の光量の相違が低減される(光量が均一化される)ように補正値Aの初期値を決定し、第2に、補正値Aの初期値を利用した補正後のスポット領域Sにおけるピーク値PXに基づいて補正値Aを調整する(すなわち以上の各形態に例示した条件を満たすように各発光素子Eの補正値Aを決定する)といった手順が採用される。
以上の各形態に例示した方法と他の方法とを併用することで補正値Aを決定してもよい。例えば、第1に、各発光素子Eの特性の誤差に起因した各々の光量の相違が低減される(光量が均一化される)ように補正値Aの初期値を決定し、第2に、補正値Aの初期値を利用した補正後のスポット領域Sにおけるピーク値PXに基づいて補正値Aを調整する(すなわち以上の各形態に例示した条件を満たすように各発光素子Eの補正値Aを決定する)といった手順が採用される。
(4)変形例4
発光素子Eや屈折率分布型レンズ44の配列の態様は適宜に変更される。例えば、複数の発光素子Eが複数列(例えば2列かつ千鳥状)に配列された構成や、複数の屈折率分布型レンズが3列以上に配列された構成としてもよい。
発光素子Eや屈折率分布型レンズ44の配列の態様は適宜に変更される。例えば、複数の発光素子Eが複数列(例えば2列かつ千鳥状)に配列された構成や、複数の屈折率分布型レンズが3列以上に配列された構成としてもよい。
(5)変形例5
有機発光ダイオード素子は発光素子の例示に過ぎない。例えば、無機EL素子やLED(Light Emitting Diode)素子やレーザダイオード素子など様々な発光素子を、以上の各形態における有機発光ダイオード素子に代えて採用することが可能である。
有機発光ダイオード素子は発光素子の例示に過ぎない。例えば、無機EL素子やLED(Light Emitting Diode)素子やレーザダイオード素子など様々な発光素子を、以上の各形態における有機発光ダイオード素子に代えて採用することが可能である。
<F:応用例>
次に、露光装置Hを利用した電子機器(画像形成装置)の具体的な形態を説明する。
図10は、画像形成装置の構成を示す断面図である。画像形成装置は、タンデム型のフルカラー画像形成装置であり、以上の形態に係る4個の露光装置H(HK,HC,HM,HY)と、各露光装置Hに対応する4個の感光体ドラム70(70K,70C,70M,70Y)とを具備する。図1に示したように、ひとつの露光装置Hは、当該露光装置Hに対応した感光体ドラム70の被露光面70A(外周面)と対向するように配置される。なお、各符号の添字「K」「C」「M」「Y」は、黒(K)、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の各顕像の形成に利用されることを意味している。
次に、露光装置Hを利用した電子機器(画像形成装置)の具体的な形態を説明する。
図10は、画像形成装置の構成を示す断面図である。画像形成装置は、タンデム型のフルカラー画像形成装置であり、以上の形態に係る4個の露光装置H(HK,HC,HM,HY)と、各露光装置Hに対応する4個の感光体ドラム70(70K,70C,70M,70Y)とを具備する。図1に示したように、ひとつの露光装置Hは、当該露光装置Hに対応した感光体ドラム70の被露光面70A(外周面)と対向するように配置される。なお、各符号の添字「K」「C」「M」「Y」は、黒(K)、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の各顕像の形成に利用されることを意味している。
図10に示すように、駆動ローラ711と従動ローラ712とには無端の中間転写ベルト72が巻回される。4個の感光体ドラム70は、相互に所定の間隔をあけて中間転写ベルト72の周囲に配置される。各感光体ドラム70は、中間転写ベルト72の駆動に同期して回転する。
各感光体ドラム70の周囲には、露光装置Hのほかにコロナ帯電器731(731K,731C,731M,731Y)と現像器732(732K,732C,732M,732Y)とが配置される。コロナ帯電器731は、これに対応する感光体ドラム70の被露光面70Aを一様に帯電させる。この帯電した被露光面70Aを各露光装置Hが露光することで静電潜像が形成される。各現像器732は、静電潜像に現像材(トナー)を付着させることで感光体ドラム70に顕像(可視像)を形成する。
以上のように感光体ドラム70に形成された各色(黒・シアン・マゼンタ・イエロー)の顕像が中間転写ベルト72の表面に順次に転写(一次転写)されることでフルカラーの顕像が形成される。中間転写ベルト72の内側には4個の一次転写コロトロン(転写器)74(74K,74C,74M,74Y)が配置される。各一次転写コロトロン74は、これに対応する感光体ドラム70から顕像を静電的に吸引することによって、感光体ドラム70と一次転写コロトロン74との間隙を通過する中間転写ベルト72に顕像を転写する。
シート(記録材)75は、ピックアップローラ761によって給紙カセット762から1枚ずつ給送され、中間転写ベルト72と二次転写ローラ77との間のニップに搬送される。中間転写ベルト72の表面に形成されたフルカラーの顕像は、二次転写ローラ77によってシート75の片面に転写(二次転写)され、定着ローラ対78を通過することでシート75に定着される。排紙ローラ対79は、以上の工程を経て顕像が定着されたシート75を排出する。
以上の画像形成装置は有機発光ダイオード素子を光源として利用しているので、レーザ走査光学系を利用した構成よりも装置が小型化される。なお、以上に例示した以外の構成の画像形成装置にも露光装置Hを適用することができる。例えば、ロータリ現像式の画像形成装置や、中間転写ベルトを使用せずに感光体ドラム70からシートに対して直接的に顕像を転写するタイプの画像形成装置、あるいはモノクロの画像を形成する画像形成装置にも露光装置Hを利用することが可能である。
なお、露光装置Hの用途は像担持体の露光に限定されない。例えば、露光装置Hは、原稿などの読取対象に光を照射する照明装置として画像読取装置に採用される。この種の画像読取装置としては、スキャナ、複写機やファクシミリの読取部分、バーコードリーダ、あるいはQRコード(登録商標)のような二次元画像コードを読む二次元画像コードリーダがある。
H……露光装置、10……制御装置、70……感光体ドラム、70A……被露光面、12,16……記憶回路、14……制御部、141……パルス幅設定部、143……電流設定部、30……発光装置、E……発光素子、36……駆動回路、U……単位回路、361……電流生成回路、363……パルス駆動回路、40……集束性レンズアレイ、44……屈折率分布型レンズ、S……スポット領域。
Claims (8)
- 複数の発光素子の各々からの出射光のエネルギを補正するための補正値を決定する方法であって、
前記複数の発光素子からの出射光によって形成される複数のスポット領域の各々についてエネルギの強度のピーク値を測定する第1過程と、
前記第1過程にて前記各発光素子について測定したピーク値が低いほど当該発光素子の補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値を決定する第2過程と
を含む補正値決定方法。 - 前記第2過程において、前記第1過程にて前記各発光素子について測定したピーク値に対する目標値の比に基づいて当該発光素子の補正値を決定する
請求項1の補正値決定方法。 - 前記第2過程において、前記第1過程にて前記各発光素子について測定したピーク値に対する前記複数の発光素子のピーク値の平均値の比に基づいて当該発光素子の補正値を決定する
請求項1の補正値決定方法。 - 前記複数の発光素子の各々からの出射光は、前記複数の発光素子に沿って配列された複数の集光体を通過し、
前記第2過程において、前記複数の発光素子の各々の位置に対する前記各発光素子のピーク値の変動のうち前記各集光体の配列のピッチに対応した成分を抽出し、当該成分のうち前記各発光素子の位置における成分値が低いほど当該発光素子の補正後の出射光のエネルギが増加するように補正値を決定する
請求項1の補正値決定方法。 - 前記第2過程において、前記第1過程にて前記各発光素子について測定したピーク値に対する前記複数の発光素子のピーク値の最大値の比に基づいて当該発光素子の補正値を決定する
請求項1の補正値決定方法。 - 前記第2過程において、前記第1過程にて前記各発光素子について測定したピーク値と当該発光素子に指定される階調値とに応じて補正値を決定する
請求項1の補正値決定方法。 - 被露光面を露光する複数の発光素子と、前記各発光素子について補正値を記憶する記憶回路とを具備し、前記各発光素子の出射光のエネルギを当該発光素子の補正値に応じて制御する露光装置であって、
前記記憶回路に記憶された各補正値は、当該補正値に応じた補正を実行しない場合に前記被露光面に形成されるスポット領域のエネルギの強度のピーク値が低い発光素子ほど当該補正値に応じた補正によって出射光のエネルギが増加するように決定されている
露光装置。 - 請求項7の露光装置と、
前記露光装置による露光で潜像が形成される前記被露光面を有する像担持体と、
前記像担持体の潜像に対する現像剤の付加によって顕像を形成する現像器と
を具備する画像形成装置。
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---|---|---|---|
JP2007062983A JP2008221601A (ja) | 2007-03-13 | 2007-03-13 | 補正値決定方法、露光装置および画像形成装置 |
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