JP2008203854A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method for manufacturing the same Download PDF

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Satoshi Shioda
聡 塩田
Mikiko Hojo
美貴子 北條
Kenji Ueda
健治 植田
Shunsuke Sega
俊介 瀬賀
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device which can cope with cell thickness increase under high temperature, and also can suppress a low temperature effervescence phenomenon in a liquid crystal layer under low temperature. <P>SOLUTION: In the liquid crystal display device which has a spacer to retain a gap between substrates, arranged on a liquid crystal holding region of at least one substrate, the spacer is composed of a hardened film of a photosensitive resin composition comprising: a copolymer resin the structural unit of which is a reaction product of a portion of a structural unit derived from (meth)acrylic acids and that derived from hydroxyalkyl (meth)acrylates with a (meth)acryloyl alkylisocyanate compound via their carboxyl groups or hydroxyl groups, and the content of the (meth)acryloyl group of which is 5-95 mol% and the acid value is 5-400 mg KOH/g; a polyfunctional, di- or more functional, photo-polymerizable acrylate monomer or oligomer; an epoxy resin; and an initiator. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、カラー液晶表示装置に関し、特に、液晶を挟持する基板の間隔の保持に特徴を有する液晶表示装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a color liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device characterized by maintaining a distance between substrates that sandwich liquid crystal, and a method for manufacturing the same.

液晶表示装置は、透明電極を設けたガラス等の透明な基板を1ないし10μm程度のギャップを設けてその間に液晶物質を封入し、電極間に印加した電圧によって液晶を一定の方向に配向させることによって形成される透明部分と不透明部分によって画像を表示している。カラー液晶表示装置はいずれかの透明電極基板上に光の三原色に対応する赤(R)、緑(G)、青(B)の三色および該三色間に適宜配置されるブラックマトリックス層(Bk)からなるカラーフィルターを設けており、液晶のシャッター作用によって3原色を加色して所望の色を表示している。   In a liquid crystal display device, a transparent substrate such as glass provided with a transparent electrode is provided with a gap of about 1 to 10 μm, and a liquid crystal substance is sealed therebetween, and the liquid crystal is aligned in a certain direction by a voltage applied between the electrodes. The image is displayed by the transparent part and the opaque part formed by the above. A color liquid crystal display device has three colors of red (R), green (G), and blue (B) corresponding to the three primary colors of light on any transparent electrode substrate, and a black matrix layer appropriately disposed between the three colors ( Bk) is provided, and the three primary colors are added by a liquid crystal shutter action to display a desired color.

カラー液晶表示装置用のカラーフィルターは、透明基板、着色層、保護膜、透明導電膜という順に積層されており、R、G、B、Bkの各位置に対向する電極あるいは薄膜トランジスタを形成した透明基板とを数μmの間隔を保持し、その間に液晶物質を封入して液晶表示装置を形成している。   A color filter for a color liquid crystal display device is a transparent substrate in which a transparent substrate, a colored layer, a protective film, and a transparent conductive film are laminated in this order, and an electrode or a thin film transistor facing each position of R, G, B, and Bk is formed. Are held at intervals of several μm, and a liquid crystal material is sealed between them to form a liquid crystal display device.

カラー液晶表示装置には、液晶の駆動方法によって単純マトリックス方式とアクティブマトリックス方式があるが、最近ではパーソナルコンピュータなどの表示装置用には画質に優れ、それぞれの画素を確実に制御することが可能であり、また動作速度も速いアクティブマトリックス方式の採用が進められている。   There are two types of color liquid crystal display devices, the simple matrix method and the active matrix method, depending on the liquid crystal driving method. Recently, the color liquid crystal display device has excellent image quality for display devices such as personal computers, and each pixel can be controlled reliably. In addition, the adoption of an active matrix system with a high operating speed is being promoted.

アクティブマトリックス方式の液晶表示装置では各画素毎に薄膜トランジスタ(TFT)素子をガラス基板上に形成し、各素子のスイッチング作用によって各画素の液晶のシャッター作用を制御している。これらの素子の対極には一様な透明電極が形成されている。   In an active matrix liquid crystal display device, a thin film transistor (TFT) element is formed on a glass substrate for each pixel, and the shutter action of the liquid crystal of each pixel is controlled by the switching action of each element. A uniform transparent electrode is formed on the counter electrode of these elements.

透明電極には、酸化錫、酸化インジウムおよびITOと称するこれらの複合酸化物が使用されている。透明電極の成膜方法には、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等の各種の方法があるが、カラーフィルターの透明電極の基体となる保護膜は合成樹脂で形成されているので保護膜の耐熱性の面から比較的低温での成膜が可能な方法が求められている。このためにカラーフィルター用の透明電極の製造にはスパッタリングが広く用いられている。   These composite oxides called tin oxide, indium oxide and ITO are used for the transparent electrode. There are various methods for forming a transparent electrode, such as vapor deposition, ion plating, and sputtering. The protective film that forms the base of the transparent electrode of the color filter is made of synthetic resin, so the heat resistance of the protective film Therefore, a method capable of forming a film at a relatively low temperature is demanded. For this reason, sputtering is widely used in the production of transparent electrodes for color filters.

TFTを用いた液晶表示装置の断面構造を図4に示すが、液晶表示装置41はカラーフィルター42とTFTを形成した対向基板43とを所定の間隔を設けて対向させ、カラーフィルターとTFT基板はエポキシ樹脂等に補強用の繊維を混合したシール剤44によって接合している。カラーフィルターとTFT基板で形成される空間には液晶45が封入されているが、カラーフィルターとTFT基板との間隔を正確に保持しないと、液晶層の厚みの相違により液晶の旋光特性の差が生じて液晶が着色をしたり、あるいは色のむらが生じて正しく表示されなくなるという現象が生じるので、液晶にスペーサー46と称する3μmないし10μmの合成樹脂、ガラス、アルミナ等からなる粒子あるいは棒状体を多数混合したり、パターニングされた光硬化性樹脂膜等のスペーサーを使用して、液晶挟持間隔の保持を図っていた。   FIG. 4 shows a cross-sectional structure of a liquid crystal display device using TFTs. A liquid crystal display device 41 has a color filter 42 and a counter substrate 43 on which TFTs are formed facing each other with a predetermined interval. They are joined together by a sealing agent 44 in which reinforcing fibers are mixed with epoxy resin or the like. Liquid crystal 45 is sealed in the space formed by the color filter and the TFT substrate, but if the distance between the color filter and the TFT substrate is not accurately maintained, the difference in the optical rotation characteristics of the liquid crystal is caused by the difference in the thickness of the liquid crystal layer. As a result, the liquid crystal may be colored, or color unevenness may occur and display may not be performed correctly. Therefore, a large number of particles or rods made of 3 to 10 μm synthetic resin, glass, alumina, etc., called spacers 46 may be present on the liquid crystal. A spacer such as a photo-curing resin film that has been mixed or patterned has been used to maintain the liquid crystal sandwiching interval.

スペーサーとして、粒子あるいは棒状体を使用するものにあっては、100個/mm2程度の大量の粒子を液晶に混合しているので、粘性の高い液晶と混合して挟持間隔内に注入した場合には、均一にスペーサーが分散せずに、スペーサーが一部にたまるという現象が生じることがある。このような現象が生じると、スペーサーが集まった部分の表示品質が悪化し、また間隔の正確な保持の面でも問題があった。また、カラーフィルター上にスペーサーをあらかじめ散布(湿式、乾式)する方式においても、散布時に密度分布を均一にする特別な工夫が必要であると同時に液晶注入時のスペーサー移動を抑える工夫が必要であった。 In the case of using particles or rods as spacers, a large amount of particles of about 100 particles / mm 2 are mixed with the liquid crystal, so when mixed with a highly viscous liquid crystal and injected into the sandwiching interval In some cases, the spacers are not uniformly dispersed and the spacers accumulate in a part. When such a phenomenon occurs, the display quality of the portion where the spacers gather is deteriorated, and there is a problem in terms of accurately maintaining the interval. Also, in the method of spraying spacers on the color filter in advance (wet or dry), a special device is required to make the density distribution uniform when spraying, and at the same time, a device that suppresses spacer movement during liquid crystal injection is required. It was.

また、パターニングされた硬化性樹脂膜等のスペーサーを使用する場合については、液晶セルは、その作製に際して120℃〜180℃の温度をかけて封止され形成されるが、この加熱圧着に際して所望とするセルギャップが確保されることが要請されると共に、液晶セルが作製された後にあっては、信頼性試験や作動時における液晶層の温度変化による光学的特性や層厚の変動を考慮し、高温下におけるセル厚増加に対応でき、また、低温下では液晶層における低温発泡現象を防止することが要請される。   Further, in the case of using a spacer such as a patterned curable resin film, the liquid crystal cell is sealed and formed at a temperature of 120 ° C. to 180 ° C. during its production. It is required that a cell gap be ensured, and after the liquid crystal cell is manufactured, taking into account fluctuations in optical characteristics and layer thickness due to temperature changes of the liquid crystal layer during reliability testing and operation, It is required to cope with the increase in cell thickness at high temperature and to prevent low temperature foaming phenomenon in the liquid crystal layer at low temperature.

本発明は、液晶表示装置のセル組の際の加熱圧着に際して、所望とするセルギャップが確保されると共に、液晶セルが作製された後にあっては、信頼性に優れ、高温下におけるセル厚増加に対応でき、また、低温下では液晶層における低温発泡現象を抑制することを可能とする液晶表示装置の提供を課題とする。   The present invention secures a desired cell gap upon thermocompression bonding in a cell set of a liquid crystal display device, and is excellent in reliability and increased in cell thickness at high temperatures after the liquid crystal cell is manufactured. It is another object of the present invention to provide a liquid crystal display device that can cope with the above-described problem and can suppress a low-temperature foaming phenomenon in a liquid crystal layer at a low temperature.

本発明の液晶表示装置は、2枚の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置であって、少なくとも一方の基板上の液晶挟持領域部分に基板の間隔を保持するスペーサーを設けた液晶表示装置において、該スペーサーが、下記一般式(1)、(2)で示される構成単位が、そのカルボキシル基または水酸基を介して(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物とそれぞれ一部が反応した生成物を構成単位とし、下記一般式(1)に由来する構成単位を5モル%〜55モル%、下記一般式(2)に由来する構成単位を5モル%〜95モル%含有し、(メタ)アクリロイル基を5モル%〜95モル%含み、酸価が5mgKOH/g〜400mgKOH/gであり、かつポリスチレン換算重量平均分子量が10,000〜1,000,000である共重合樹脂と、2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーまたはオリゴマーと、エポキシ樹脂と、開始剤とからなる感光性樹脂組成物の硬化膜からなることを特徴とする。   The liquid crystal display device of the present invention is a liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between two substrates, and a liquid crystal display device in which a spacer for holding a distance between the substrates is provided in a liquid crystal sandwiching region portion on at least one substrate In which the structural unit represented by the following general formulas (1) and (2) is a structural unit obtained by partially reacting with the (meth) acryloylalkylisocyanate compound via its carboxyl group or hydroxyl group. And 5 mol% to 55 mol% of a structural unit derived from the following general formula (1), 5 mol% to 95 mol% of a structural unit derived from the following general formula (2), and a (meth) acryloyl group 5 mol% to 95 mol% inclusive, acid value is 5 mg KOH / g to 400 mg KOH / g, and polystyrene equivalent weight average molecular weight is 10,000 to 1,000,000 And that the copolymer resin is a bifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable acrylate monomer or oligomer, an epoxy resin, characterized by comprising a cured film of the photosensitive resin composition comprising the initiator.

Figure 2008203854
Figure 2008203854

(式中、Rは水素、または炭素数1〜5のアルキル基、R1 は炭素数2〜4のアルキレン基を表わす。)
上記の共重合樹脂が、共重合成分として、さらに、下記一般式(3)で示される構成単位を0モル%〜75モル%、下記一般式(4)で示される構成単位を0モル%〜75モル%含有することを特徴とする。
(In the formula, R represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 1 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms.)
The copolymer resin further contains, as a copolymerization component, 0 mol% to 75 mol% of a structural unit represented by the following general formula (3), and 0 mol% to a structural unit represented by the following general formula (4). It is characterized by containing 75 mol%.

Figure 2008203854
Figure 2008203854

(式中、Rは水素、または炭素数1〜5のアルキル基、R2 は芳香族炭素環、R3 はアルキル基、またはアラルキル基を表わす。)
上記の光硬化性樹脂膜において、ダイナミック微小硬度計を用いた三角すい圧子による25℃での押し込み試験から得られる負荷時のダイナミック硬度(DH1)が30〜60であることを特徴とする。
(Wherein R represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents an aromatic carbocycle, and R 3 represents an alkyl group or an aralkyl group.)
The above-mentioned photocurable resin film is characterized in that a dynamic hardness (DH1) under load obtained from an indentation test at 25 ° C. with a triangular cone indenter using a dynamic microhardness meter is 30 to 60.

本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶表示装置の液晶を挟持する基板の少なくとも一方の液晶挟持領域部分に、上記一般式(1)、(2)で示される構成単位が、そのカルボキシル基または水酸基を介して(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物とそれぞれ一部が反応した生成物を構成単位とし、上記一般式(1)に由来する構成単位を5モル%〜55モル%、上記一般式(2)に由来する構成単位を5モル%〜95モル%含有し、(メタ)アクリロイル基を5モル%〜95モル%含み、酸価が5mgKOH/g〜400mgKOH/gであり、かつポリスチレン換算重量平均分子量が10,000〜1,000,000である共重合樹脂と、2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーまたはオリゴマーと、エポキシ樹脂と、開始剤とからなる感光性樹脂組成物をスペーサーの厚みに塗布した後に、スペーサー形成部分以外には光が照射されないフォトマスクを設けて露光し、現像し、スペーサーとして光硬化性樹脂膜からなる硬化膜を設けた後、セル組みに際して120℃〜180℃の温度で封止することを特徴とする。   In the method for producing a liquid crystal display device of the present invention, the structural unit represented by the above general formulas (1) and (2) is present in the carboxyl group in at least one liquid crystal sandwiching region portion of the substrate that sandwiches the liquid crystal of the liquid crystal display device. Alternatively, a product obtained by partial reaction with a (meth) acryloylalkylisocyanate compound via a hydroxyl group is used as a structural unit, and a structural unit derived from the general formula (1) is included in an amount of 5 mol% to 55 mol%. 2) containing 5 mol% to 95 mol% of the structural unit derived from 2), containing 5 mol% to 95 mol% of (meth) acryloyl group, having an acid value of 5 mgKOH / g to 400 mgKOH / g, and having a polystyrene equivalent weight A copolymer resin having an average molecular weight of 10,000 to 1,000,000, a bifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable acrylate monomer or oligomer, and an epoxy resin After a photosensitive resin composition comprising a resin and an initiator is applied to the thickness of the spacer, a photomask that is not irradiated with light other than the spacer forming portion is provided for exposure, development, and a photocurable resin film as a spacer. After providing the cured film, the cell is assembled and sealed at a temperature of 120 ° C. to 180 ° C.

上記の製造方法における共重合樹脂が、共重合成分として、さらに、上記一般式(3)で示される構成単位を0モル%〜75モル%、上記一般式(4)で示される構成単位を0モル%〜75モル%含有することを特徴とする。   The copolymer resin in the above production method further comprises, as a copolymerization component, 0 to 75 mol% of the structural unit represented by the general formula (3) and 0 to the structural unit represented by the general formula (4). It is characterized by containing mol% to 75 mol%.

上記の製造方法における光硬化性樹脂膜において、ダイナミック微小硬度計を用いた三角すい圧子による25℃での押し込み試験から得られる負荷時のダイナミック硬度(DH1)が30〜60であることを特徴とする。   In the photocurable resin film in the above production method, the dynamic hardness (DH1) at the time of loading obtained from an indentation test at 25 ° C. with a triangular pan indenter using a dynamic microhardness meter is 30-60. To do.

本発明の液晶表示装置は、加熱圧着に際して所望とするセルギャップが確保されると共に、液晶セルが作製された後にあっては、信頼性に優れ、高温下におけるセル厚増加に対応でき、また、低温下では液晶層における低温発泡現象を抑制することを可能とする。   The liquid crystal display device of the present invention secures a desired cell gap upon thermocompression bonding, and after the liquid crystal cell is manufactured, is excellent in reliability and can cope with an increase in cell thickness at high temperature. Under low temperature, it is possible to suppress the low temperature foaming phenomenon in the liquid crystal layer.

本発明の液晶表示装置、またその製造方法は、スペーサーに特徴を有する。本発明の液晶表示装置、またその製造方法において、そのスペーサーを規定する貯蔵弾性率、損失正接、ヤング率、ダイナミック硬度のものとするには、スペーサーの材質としては光重合性アクリレートオリゴマーに2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーまたはオリゴマー、エポキシ樹脂と光重合開始剤を添加した感光性樹脂組成物である。   The liquid crystal display device of the present invention and the manufacturing method thereof are characterized by spacers. In the liquid crystal display device of the present invention and the manufacturing method thereof, in order to make the storage elastic modulus, loss tangent, Young's modulus, and dynamic hardness that define the spacer, the spacer material is bifunctional with a photopolymerizable acrylate oligomer. This is a photosensitive resin composition to which the above polyfunctional photopolymerizable acrylate monomer or oligomer, epoxy resin and photopolymerization initiator are added.

光重合性アクリレートオリゴマーとしては、分子量1000〜2000程度のものが好ましく、ポリエステルアクリレートまたは、フェノールノボラックエポキシアクリレート、o−クレゾールノボラックエポキシアクリレート等のエポキシアクリレートあるいは、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴマアクリレート、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミンアクリレート等をあげることができるが、下記のごとき、特定の共重合樹脂が好ましい。   As the photopolymerizable acrylate oligomer, those having a molecular weight of about 1000 to 2000 are preferable. Epoxy acrylates such as polyester acrylate, phenol novolac epoxy acrylate, o-cresol novolac epoxy acrylate, polyurethane acrylate, polyether acrylate, oligomer acrylate, alkyd Acrylate, polyol acrylate, melamine acrylate and the like can be mentioned, and specific copolymer resins are preferable as described below.

下記のごとき特定の共重合樹脂を使用すると、スペーサーを規定する貯蔵弾性率、損失正接、ヤング率、ダイナミック硬度のものとできる他、アルカリ可溶性基や(メタ)アクリロイル基等のラジカル重合性基の含有量の制御可能で、硬化性、アルカリ可溶性、塗膜性に優れたるものとできる。   Using specific copolymer resins such as those listed below, the storage modulus that defines the spacer, loss tangent, Young's modulus, and dynamic hardness can be used, as well as radically polymerizable groups such as alkali-soluble groups and (meth) acryloyl groups. The content can be controlled, and the curability, alkali solubility, and coating properties can be excellent.

特定の共重合樹脂は、上記一般式(1)、(2)に(メタ)アクリロイル基が導入された構成単位を基本的に有するものであり、更に、必要に応じて一般式(3)、(4)を共重合成分とする。以下、(メタ)アクリロイル基は、メタクリロイル基、またはアクリロイル基を意味し、(メタ)アクリル酸はメタクリル酸、またはアクリル酸を意味する。   The specific copolymer resin basically has a structural unit in which a (meth) acryloyl group is introduced into the above general formulas (1) and (2), and, if necessary, the general formula (3), (4) is a copolymer component. Hereinafter, a (meth) acryloyl group means a methacryloyl group or an acryloyl group, and (meth) acrylic acid means methacrylic acid or acrylic acid.

上記一般式(1)〜(4)におけるRは、水素、または炭素数1〜5のアルキル基であり、アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基等が例示される。   R in the general formulas (1) to (4) is hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and n-butyl. Group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and the like.

一般式(1)で示される共重合成分は、アルカリ現像性に寄与する成分であり、この構造単位を導入するために使用される単量体としては、アクリル酸、メタクリル酸、2−カルボキシ−1−ブテン、2−カルボキシ−1−ペンテン、2−カルボキシ−1−ヘキセン、2−カルボキシ−1−ヘプテン等が例示される。この一般式(1)で示される共重合成分の含有量は、共重合樹脂に要求されるアルカリ可溶性の程度により調整され、5モル%〜55モル%、好ましくは10モル%〜25モル%とされる。   The copolymer component represented by the general formula (1) is a component that contributes to alkali developability, and examples of the monomer used to introduce the structural unit include acrylic acid, methacrylic acid, 2-carboxy- Examples include 1-butene, 2-carboxy-1-pentene, 2-carboxy-1-hexene, 2-carboxy-1-heptene, and the like. The content of the copolymerization component represented by the general formula (1) is adjusted depending on the degree of alkali solubility required for the copolymer resin, and is 5 mol% to 55 mol%, preferably 10 mol% to 25 mol%. Is done.

一般式(2)で示される共重合成分は、基本的には(メタ)アクリロイル基が導入される成分であり、R1 としてはエチレン基、プロピレン基、ブチレン基等である。この構造単位を導入するために使用される単量体としては、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルメタクリレート等が例示される。この一般式(2)で示される共重合成分は、水酸基を介して(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物と反応し、(メタ)アクリロイル基が導入される共重合成分であり、その含有量は共重合樹脂に要求される光重合性の程度により調整され、5モル%〜95モル%、好ましくは10モル%〜50モル%とされる。 The copolymer component represented by the general formula (2) is basically a component into which a (meth) acryloyl group is introduced, and R 1 is an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or the like. Monomers used to introduce this structural unit include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxy Examples include butyl methacrylate. The copolymerization component represented by the general formula (2) is a copolymerization component in which a (meth) acryloyl group is introduced through reaction with a (meth) acryloylalkylisocyanate compound via a hydroxyl group, and the content thereof is copolymerization. It is adjusted according to the degree of photopolymerization required for the resin, and is 5 mol% to 95 mol%, preferably 10 mol% to 50 mol%.

一般式(3)で示される共重合成分は、塗膜形成用とする際に、共重合樹脂に塗膜性を付与する成分であり、R2 としては、フェニル基、ナフチル基等の芳香族環が例示される。この構造単位を導入するために使用される単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン等であり、また、芳香族環は塩素、臭素等のハロゲン原子、メチル基、エチル基等のアルキル基、アミノ基、ジアルキルアミノ基等のアミノ基、シアノ基、カルボキシル基、スルフォン酸基、燐酸基等で置換されていてもよい。一般式(3)で示される共重合成分の含有量は0モル%〜75モル%、好ましくは5モル%〜50モル%とされる。 The copolymer component represented by the general formula (3) is a component that imparts coating properties to the copolymer resin when it is used for coating film formation, and R 2 is an aromatic group such as a phenyl group or a naphthyl group. A ring is exemplified. Monomers used for introducing this structural unit include styrene and α-methylstyrene, and the aromatic ring is a halogen atom such as chlorine or bromine, or an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group. , An amino group such as an amino group or a dialkylamino group, a cyano group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphoric acid group. The content of the copolymer component represented by the general formula (3) is 0 mol% to 75 mol%, preferably 5 mol% to 50 mol%.

更に、一般式(4)で示される共重合成分は、共重合樹脂をアルカリ現像型とする際に、アルカリ現像性を抑制する成分であり、R3 としては、炭素数1〜12のアルキル基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基が例示される。この構造単位を導入するために使用される単量体としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸イソボニル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェニルエチル等の(メタ)アクリル酸のエテスル類が例示される。そして、一般式(4)で示される共重合成分の含有量は0モル%〜75モル%、好ましくは5モル%〜50モル%とされる。 Furthermore, the copolymerization component represented by the general formula (4) is a component that suppresses alkali developability when the copolymer resin is made into an alkali development type, and R 3 is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. And aralkyl groups such as benzyl group and phenylethyl group. Monomers used to introduce this structural unit include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) acrylate-2-ethylhexyl, (meth ) Phenyl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, (meth ) Ethethles of (meth) acrylic acid such as phenylethyl acrylate are exemplified. And content of the copolymerization component shown by General formula (4) is 0 mol%-75 mol%, Preferably it is 5 mol%-50 mol%.

一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を導入するために使用される単量体は、それぞれ例示したものを単独でも、また混合して使用してもよい。   As the monomers used for introducing the structural units of the general formulas (1) to (4), those exemplified above may be used singly or as a mixture.

一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を有する特定の重合体を製造するために用いられる重合用溶媒としては、水酸基、アミノ基等の活性水素を有しない溶媒が好ましく、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のグリコールエーテル類、メチルセロソルブアセテート等のセロソルブエステル類やプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸−3−メトキシブチル等が挙げられ、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等も用いることができる。   As the polymerization solvent used for producing the specific polymer having the structural units of the general formulas (1) to (4), a solvent having no active hydrogen such as a hydroxyl group or an amino group is preferable. Ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, glycol ethers such as diethylene glycol methyl ethyl ether, cellosolv esters such as methyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, etc., and aromatics Hydrocarbons, ketones, esters and the like can also be used.

重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものを使用することができ、その具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、tert−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス−(tert−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物、および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を使用する場合には、これと還元剤とを組み合わせてレドックス型重合開始剤として使用してもよい。   As the polymerization initiator, those generally known as radical polymerization initiators can be used, and specific examples thereof include 2,2′-azobisisobutyronitrile and 2,2′-azobis. Azo compounds such as-(2,4-dimethylvaleronitrile) and 2,2'-azobis- (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile); benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, tert-butyl peroxypivalate, 1 , 1'-bis- (tert-butylperoxy) cyclohexane and the like, and hydrogen peroxide. When a peroxide is used as the radical polymerization initiator, it may be used as a redox polymerization initiator in combination with a reducing agent.

一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を有する特定の重合体の製造においては、重量平均分子量を調節するために、分子量調節剤を使用することができ、例えば、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類、n−ヘキシルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、tert−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類、ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類、ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。   In the production of the specific polymer having the structural unit represented by the general formula (1) to the general formula (4), a molecular weight regulator can be used to adjust the weight average molecular weight. Halogenated hydrocarbons such as carbonized carbon, mercaptans such as n-hexyl mercaptan, n-octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, tert-dodecyl mercaptan, thioglycolic acid, xanthogens such as dimethylxanthogen disulfide, diisopropylxanthogen disulfide, Examples include terpinolene and α-methylstyrene dimer.

一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を有する特定の重合体は、一般式(1)〜一般式(4)の単量体のランダム共重合体およびブロック共重合体のいずれであってよい。   The specific polymer having the structural units of the general formula (1) to the general formula (4) is any of a random copolymer and a block copolymer of the monomers of the general formula (1) to the general formula (4). It may be.

ランダム共重合体の場合には、各単量体、触媒からなる配合組成物を、溶剤を入れた重合槽中に80〜110℃の温度条件で2〜5時間かけて滴下し、熟成させることにより重合させることができる。   In the case of a random copolymer, the blended composition composed of each monomer and catalyst is dropped into a polymerization tank containing a solvent over a period of 2 to 5 hours at a temperature of 80 to 110 ° C., and then aged. Can be polymerized.

一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を有する特定の重合体のポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単に「重量平均分子量」または「Mw」という。)は、10,000〜1,000,000の範囲のものとされ、酸価が5mgKOH/g〜400mgKOH/g、水酸基価が5mgKOH/g〜400mgKOH/gのものである。   The polystyrene-converted weight average molecular weight (hereinafter, simply referred to as “weight average molecular weight” or “Mw”) of the specific polymer having the structural units of the general formula (1) to the general formula (4) is 10,000 to 1, The acid value is 5 mg KOH / g to 400 mg KOH / g, and the hydroxyl value is 5 mg KOH / g to 400 mg KOH / g.

特定の共重合樹脂は、上記した一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を有する特定の重合体に(メタ)アクリロイル含有イソシアネート化合物を反応させることにより得られる。(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物としては、(メタ)アクリロイル基が炭素数2〜6のアルキレン基を介してイソシアネート基(−NCO)と結合したもので、具体的には2−アクリロイルエチルイソシアネート、2−メタクリロイルエチルイソシアネート等が例示される。2−メタクリロイルエチルイソシアネートは、昭和電工(株)製「カレンズMOI」等で市販されている。   The specific copolymer resin can be obtained by reacting a specific polymer having the structural units represented by the general formulas (1) to (4) with a (meth) acryloyl-containing isocyanate compound. The (meth) acryloyl alkyl isocyanate compound is a compound in which a (meth) acryloyl group is bonded to an isocyanate group (—NCO) via an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, specifically 2-acryloylethyl isocyanate, 2 -A methacryloyl ethyl isocyanate etc. are illustrated. 2-Methacryloylethyl isocyanate is commercially available from “Karenz MOI” manufactured by Showa Denko K.K.

一般式(1)〜一般式(4)で示される構造単位を有する共重合体と(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物との反応は、イソシアネート化合物を少量の触媒の存在下、共重合体溶液中に滴下することにより行なわれる。触媒としてはラウリン酸ジブチル錫等が挙げられ、また、p−メトキシフェノール、ヒドロキノン、ナフチルアミン、tert−ブチルカテコール、2,3−ジ−tert−ブチルp−クレゾール等の重合禁止剤が必要に応じて使用される。   The reaction of the copolymer having the structural unit represented by the general formula (1) to the general formula (4) with the (meth) acryloylalkyl isocyanate compound is carried out by bringing the isocyanate compound into the copolymer solution in the presence of a small amount of a catalyst. This is done by dripping. Examples of the catalyst include dibutyltin laurate, and polymerization inhibitors such as p-methoxyphenol, hydroquinone, naphthylamine, tert-butylcatechol, and 2,3-di-tert-butyl p-cresol are optionally used. used.

(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物は、一般式(1)〜一般式(4)の構造単位を有する特定の重合体における一般式(2)の構造単位とは、付加しウレタン結合により結合し、また、一般式(1)の構造単位とは、その一部が炭酸ガスを放出してアミド結合により結合する。   The (meth) acryloylalkyl isocyanate compound is added to the structural unit of the general formula (2) in the specific polymer having the structural units of the general formula (1) to the general formula (4), and is bonded by a urethane bond. A part of the structural unit of the general formula (1) is bonded by an amide bond by releasing carbon dioxide.

すなわち、一般式(1)、一般式(2)で示される構造単位を有する共重合体と(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物との反応生成物は、下記一般式(5)で示される。   That is, a reaction product of a copolymer having a structural unit represented by general formula (1) or general formula (2) and a (meth) acryloylalkyl isocyanate compound is represented by the following general formula (5).

Figure 2008203854
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(式中、R、R1 は一般式(1)〜(4)と同義であり、R′は炭素数2〜6のアルキレン基、a1 +a2 は、一般式(1)のaと、また、b1 +b2 は、一般式(2)のbとそれぞれ同義である。)
(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物は、一般式(2)の構造単位における水酸基との反応が一般式(1)の構造単位におけるカルボキシル基との反応に比して20倍近くの反応速度を有する。そのため、(メタ)アクリロイル基は一般式(2)の構造単位に主として導入され、また、一般式(1)の構造単位にはそのカルボキシル基に一部(メタ)アクリロイル基が導入されるとしても、ほとんどのカルボキシル基が残存することとなる。
(In the formula, R and R 1 have the same meanings as in the general formulas (1) to (4), R ′ represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, and a 1 + a 2 represents a in the general formula (1); B 1 + b 2 has the same meaning as b in formula (2).)
The (meth) acryloylalkylisocyanate compound has a reaction rate of nearly 20 times the reaction with the hydroxyl group in the structural unit of the general formula (2) as compared with the reaction with the carboxyl group in the structural unit of the general formula (1). Therefore, the (meth) acryloyl group is mainly introduced into the structural unit of the general formula (2), and even if a (meth) acryloyl group is partially introduced into the carboxyl group of the structural unit of the general formula (1). Most of the carboxyl groups will remain.

そして、一般式(2)に由来する構成単位の5モル%〜95モル%のうち、b1 は0モル%〜10モル%、b2 は5モル%〜95モル%とでき、また、一般式(1)に由来する構成単位の5モル%〜55モル%のうち、a1 は5モル%〜55モル%、a2 は0モル%〜10モル%とでき、(メタ)アクリロイル基の導入量を調整することができる。 Then, the general formula (2) of 5 mol% to 95 mol% of structural units derived from a, b 1 is 0 mol% to 10 mol%, b 2 can be 5 mol% to 95 mol%, and generally of 5 mol% to 55 mol% of the constitutional unit derived from the formula (1), a 1 to 5 mol% to 55 mol%, a 2 can be 0 mol% to 10 mol%, of the (meth) acryloyl groups The amount introduced can be adjusted.

共重合樹脂においては、重量平均分子量が10,000〜1,000,000、好ましくは20,000〜100,000の範囲のものとされるのが好ましい。重量平均分子量が10,000より小さいと現像性が良すぎてパターン露光時のパターン形状を制御しにくく、また、パターンが作製できる場合も最終的な膜厚が減る(膜減り)等の問題があり、また、1,000,000より大きいとレジスト化した時の粘度が高くなりすぎ塗工適性が低下する、また、現像性が悪くなりパターンが抜けにくくなるなどの問題がある。   In the copolymer resin, the weight average molecular weight is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000, preferably 20,000 to 100,000. If the weight average molecular weight is less than 10,000, the developability is too good to control the pattern shape at the time of pattern exposure, and when the pattern can be produced, the final film thickness is reduced (film reduction). In addition, if it is larger than 1,000,000, there are problems that the viscosity at the time of resist formation becomes too high, the coating suitability is lowered, the developability is deteriorated and the pattern is difficult to be removed.

また、(メタ)アクリロイル基の導入量は、5モル%〜95モル%、好ましくは10モル%〜50モル%とするとよく、導入量が5モル%よりも少ないと光硬化性が低く、塗膜密着性、レジスト特性の改善効果が小さい。   The introduction amount of the (meth) acryloyl group is 5 mol% to 95 mol%, preferably 10 mol% to 50 mol%. If the introduction amount is less than 5 mol%, the photocurability is low, and the coating The effect of improving film adhesion and resist characteristics is small.

また、共重合樹脂の酸価は5mgKOH/g〜400mgKOH/g、好ましくは、10mgKOH/g〜200mgKOH/gとするとよく、酸価はアルカリ現像性と関係しており、酸価が低すぎると現像性が悪い、また、基板及びカラーフィルタ樹脂上への密着性が乏しい等の問題がある。また、酸価が高すぎると現像性が良すぎてパターン露光時のパターン形状を制御しにくい等の問題がある。また、共重合樹脂において、一般式(2)における水酸基は、必ずしも残す必要はなく、水酸基価0mgKOH/g〜200mgKOH/gとできるが、残す場合には、溶剤に対する溶解性を調節するのに有効である。   The acid value of the copolymer resin is 5 mg KOH / g to 400 mg KOH / g, preferably 10 mg KOH / g to 200 mg KOH / g. The acid value is related to alkali developability, and if the acid value is too low, development is performed. There are problems such as poor adhesion and poor adhesion to the substrate and the color filter resin. Further, if the acid value is too high, the developability is too good, and there is a problem that it is difficult to control the pattern shape during pattern exposure. Further, in the copolymer resin, the hydroxyl group in the general formula (2) does not necessarily need to be left, and can have a hydroxyl value of 0 mgKOH / g to 200 mgKOH / g, but in the case of leaving it, it is effective for adjusting the solubility in a solvent. It is.

特定の共重合樹脂について例示する。下記の共重合樹脂は、いずれも、一般式(1)で示される構成単位を2−ヒドロキシエチルメタアクリレート(HEMA)を単量体とし、また、一般式(2)で示される構成単位をアクリル酸(AA)を単量体とし、そのカルボキシル基または水酸基を介して2−メタクリロイルエチルイソシアネート(昭和電工(株)製「カレンズMOI」)とそれぞれ一部が反応した生成物を構成単位とするものであり、更に、一般式(3)で示される構成単位としてスチレン(St)を単量体とし、一般式(4)で示される構成単位としてベンジルメタクリレート(BzMA)を単量体とするものである。   Specific copolymer resins will be exemplified. In any of the following copolymer resins, the structural unit represented by the general formula (1) is 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA) as a monomer, and the structural unit represented by the general formula (2) is acrylic. Using acid (AA) as a monomer and a product obtained by partially reacting with 2-methacryloylethylisocyanate (“Karenz MOI” manufactured by Showa Denko KK) via its carboxyl group or hydroxyl group Further, styrene (St) is used as a monomer as a structural unit represented by the general formula (3), and benzyl methacrylate (BzMA) is used as a monomer as a structural unit represented by the general formula (4). is there.

下記の表1に共重合樹脂組成(モル%)、表2にそのアクリロイル基含有量(モル%)、酸価(mgKOH/g)、スチレン換算重量平均分子量(Mw)を示す。   Table 1 below shows the copolymer resin composition (mol%), and Table 2 shows the acryloyl group content (mol%), acid value (mg KOH / g), and styrene equivalent weight average molecular weight (Mw).

Figure 2008203854
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Figure 2008203854
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感光性樹脂組成物において、光重合性アクリレートオリゴマーや共重合樹脂は固形分比で5重量%〜80重量%、好ましくは10重量%〜50重量%含有される。80重量%より多いと粘度が高くなりすぎその結果流動性が低下し塗布性に問題が生じ、また、5重量%より少ないと粘度が低くなりすぎ塗布乾燥後の塗膜安定性が不充分であり、露光、現像適性を損なう等の問題がある。   In the photosensitive resin composition, the photopolymerizable acrylate oligomer or copolymer resin is contained in a solid content ratio of 5% by weight to 80% by weight, preferably 10% by weight to 50% by weight. If the amount is more than 80% by weight, the viscosity becomes too high, resulting in a decrease in fluidity and a problem in coating property. If the amount is less than 5% by weight, the viscosity becomes too low and the coating film stability after coating and drying is insufficient. There are problems such as loss of exposure and development suitability.

次に、感光性樹脂組成物における他の構成成分について説明する。   Next, other components in the photosensitive resin composition will be described.

2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーおよびオリゴマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETTA)、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)、トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)のエチレンオキシド3モル付加物、エチレンオキシド6モル付加物、プロピレンオキシド3モル付加物、プロピレンオキシド6モル付加物、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げられる。 2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーは、感光性樹脂組成物中に固形分比3重量%〜50重量%、好ましくは5重量%〜20重量%含有される。50重量%より多いと粘度が低くなりすぎ塗布乾燥後の塗膜安定性が不充分なため、露光、現像適性を損なう等の問題があり、また、3重量%より少ないと現像の未露光部の抜けが悪くなる等の問題がある。   Bifunctional or higher polyfunctional photopolymerizable acrylate monomers and oligomers include dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), pentaerythritol triacrylate (PETTA), and trimethylolpropane triacrylate (TMPTA). , Trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) ethylene oxide 3 mol adduct, ethylene oxide 6 mol adduct, propylene oxide 3 mol adduct, propylene oxide 6 mol adduct, 1,4-butanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neo Examples thereof include pentyl glycol diacrylate. The polyfunctional photopolymerizable acrylate monomer having two or more functions is contained in the photosensitive resin composition in a solid content ratio of 3 wt% to 50 wt%, preferably 5 wt% to 20 wt%. If it is more than 50% by weight, the viscosity becomes too low and the stability of the coating film after coating and drying is insufficient, so that there is a problem that the exposure and development suitability are impaired. There are problems such as poor omission.

エポキシ樹脂は、露光、現像後に存在する未反応の酸性基と反応し、これによってスペーサーに耐アルカリ性を付与するためのものである。使用するエポキシ樹脂としては、オルソクレゾールノボラック型、ビスフェノールAノボラック型、フェノールノボラック型、ビスフェノールA型のエポキシ樹脂、クレゾールノボラック型のエポキシ樹脂等を挙げることができ、例えば、フェノールノボラック型のエポキシ樹脂あるいはクレゾールノボラック型のエポキシ樹脂としては、以下に化学構造式1および化学構造式2で示すものを挙げることができる。   The epoxy resin reacts with unreacted acidic groups present after exposure and development, thereby imparting alkali resistance to the spacer. Examples of the epoxy resin to be used include an ortho cresol novolak type, a bisphenol A novolak type, a phenol novolak type, a bisphenol A type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, and the like. Examples of the cresol novolac type epoxy resin include those represented by chemical structural formula 1 and chemical structural formula 2 below.

Figure 2008203854
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このようなエポキシ樹脂は、感光性樹脂組成物中に固形分比1重量%〜20重量%、好ましくは3重量%〜15重量%で含有される。エポキシ樹脂の含有量が1重量%未満では、スペーサーに十分な耐アルカリ性を付与することができず、一方、エポキシ樹脂の含有量が20重量%を超えると、光硬化に供しないエポキシ樹脂量が多くなりすぎ、感光性樹脂組成物の保存安定性、現像適性が低下するので好ましくない。また、エポキシ樹脂は、感光性樹脂組成物の乾燥塗膜のタックを除去するためにも有効であり、添加量3重量%程度で十分な効果が発現する。感光性樹脂組成物に含有されるエポキシ樹脂が、露光、アルカリ現像後においても反応することなくスペーサー中に残存している酸性基と、加熱処理によって反応し、スペーサーに優れた耐アルカリ性を付与することになる。   Such an epoxy resin is contained in the photosensitive resin composition at a solid content ratio of 1 to 20% by weight, preferably 3 to 15% by weight. When the content of the epoxy resin is less than 1% by weight, sufficient alkali resistance cannot be imparted to the spacer. On the other hand, when the content of the epoxy resin exceeds 20% by weight, the amount of the epoxy resin that is not subjected to photocuring is low. This is not preferable because the storage stability and development suitability of the photosensitive resin composition are lowered. In addition, the epoxy resin is effective for removing the tack of the dry coating film of the photosensitive resin composition, and a sufficient effect is exhibited at an addition amount of about 3% by weight. The epoxy resin contained in the photosensitive resin composition reacts with the acidic group remaining in the spacer without reacting even after exposure and alkali development, and imparts excellent alkali resistance to the spacer by heat treatment. It will be.

開始剤としては、2−メチル−1−〔4−メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール、2,4−ジエチルチオキサントン、4,4−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられ、例えば、イルガキュアー184、イルガキュアー907、イルガキャアー651、イルガキュアー369(いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社商品名)、ダロキュアー(メルク社商品名)などが例示され、感光性樹脂組成物中に単独または混合して固形分比0.1重量%〜20重量%の範囲で含有されることが好ましい。   As the initiator, 2-methyl-1- [4-methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,4-diethylthioxanthone, 4,4-bisdiethylaminobenzophenone, etc. Examples include Irgacure 184, Irgacure 907, Irgacure 651, Irgacure 369 (all are trade names of Ciba Specialty Chemicals), Darocur (trade name of Merck), and the like. It is preferable to contain in the range of 0.1 to 20 weight% of solid content individually or in mixture.

また、感光性樹脂組成物には、界面活性剤や後述するシランカップリング剤が適宜添加されてもよい。   In addition, a surfactant or a silane coupling agent described later may be appropriately added to the photosensitive resin composition.

感光性樹脂組成物は、溶媒としてジエチレングリコールジメチルエーテル、3−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メチル−3−メトキシブタノール等を使用し、固形分濃度5重量%〜50重量%とされる。   The photosensitive resin composition uses diethylene glycol dimethyl ether, 3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methyl-3-methoxybutanol or the like as a solvent, and has a solid content concentration of 5 wt% to 50 wt%. .

本発明の液晶表示装置においては、上記感光性樹脂組成物を使用し、硬化させてスペーサーが形成される。液晶セルを作製するに際しては、120〜180℃(典型的には150℃)の温度で圧力をかけて封止されるが、その際には、所望とするセルギャップ間隔が維持できない程、塑性変形するものは好ましくなく、また、弾性変形成分もできるだけ変位が少なく方が目標とするセルギャップに合わせやすいことに着目し、スペーサーをその粘弾性により規定できることが見出された。   In the liquid crystal display device of the present invention, the photosensitive resin composition is used and cured to form a spacer. When a liquid crystal cell is produced, it is sealed by applying pressure at a temperature of 120 to 180 ° C. (typically 150 ° C.). It is not preferable to deform, and it has been found that the spacer can be defined by its viscoelasticity, focusing on the fact that the elastic deformation component has as little displacement as possible and can be easily adjusted to the target cell gap.

すなわち、動的粘弾性測定で得られる貯蔵弾性率(=弾性変形分/形状が元通りに戻る成分)が規定値以上であること、また、損失正接(=変形してしまう割合/大きい程塑性変形成分が多い)が規定値以下であることが必要である。また、応力−歪み曲線から導かれるヤング率が150℃において規定値以上であることが必要である。   That is, the storage elastic modulus (= elastic deformation / component whose shape returns to its original shape) obtained by dynamic viscoelasticity measurement is a specified value or more, and loss tangent (= ratio of deformation / larger plasticity) It is necessary that the amount of deformation component is not more than a specified value. Further, it is necessary that the Young's modulus derived from the stress-strain curve is not less than a specified value at 150 ° C.

また、液晶セルを作製した後に、信頼性試験があるが、液晶の熱膨張率に対してスペーサー形成樹脂の熱膨張率が大きいと、セルが対応できず、セル内が大気圧により真空となり、封止部分から空気が入り発泡現象を生じることがある。そのため、スペーサーに要求される物性は、液晶素子で一般的に信頼性が要求される−40℃〜80℃での範囲でのものが必要とされる。   In addition, after manufacturing the liquid crystal cell, there is a reliability test, but if the thermal expansion coefficient of the spacer-forming resin is large relative to the thermal expansion coefficient of the liquid crystal, the cell can not cope, the inside of the cell becomes a vacuum due to atmospheric pressure, Air may enter from the sealed portion and cause a foaming phenomenon. Therefore, the physical properties required for the spacer are required to be in the range of −40 ° C. to 80 ° C. where reliability is generally required for liquid crystal elements.

すなわち、上記の温度範囲での動的粘弾性測定で得られる貯蔵弾性率(=弾性変形分/形状が元通りに戻る成分)が規定値以下であること、但し、力学的に不安定となっても問題があるので、一定の値以上であること。また、損失正接(=変形してしまう割合/大きい程塑性変形成分が多い)が規定値以下であることが必要である。また、応力−歪み曲線から導かれるヤング率が25℃において規定値以下であることが必要である。但し、力学的に不安定となっも問題があるので、一定の値以上であること。また、ダイナミック硬度が一定の範囲にあること等が要求される。   That is, the storage elastic modulus (= elastic deformation / component whose shape returns to its original value) obtained by dynamic viscoelasticity measurement in the above temperature range is not more than a specified value, but it is unstable mechanically. But there is a problem, so it must be above a certain value. Further, it is necessary that the loss tangent (= the ratio of deformation / the larger the plastic deformation component is larger) is equal to or less than the specified value. Further, the Young's modulus derived from the stress-strain curve needs to be not more than a specified value at 25 ° C. However, it must be above a certain value because there is a problem even if it becomes unstable mechanically. Further, it is required that the dynamic hardness is in a certain range.

本発明の液晶表示装置は、スペーサーを形成する光硬化性樹脂膜の硬度を動的貯蔵弾性率、損失弾性率、損失正接により規定するものであり、−40℃〜80℃の範囲での動的粘弾性測定により得られる貯蔵弾性率(E′)が5.0×109 (Pa)以下、好ましくは1.0×107 (Pa)〜2.0×109 (Pa)であり、かつ、損失正接{tanδ=E″(損失弾性率)/E′}が0.1以下、好ましくは0.02以下であり、また、120℃〜180℃の範囲での貯蔵弾性率(E′)が5.0×107 (Pa)以上、好ましくは1.0×108 以上であり、かつ、損失正接{tanδ=E″(損失弾性率)/E′}が0.3以下、好ましくは0.2以下のものである。動的貯蔵弾性率、損失弾性率、損失正接は、下記の測定装置及び測定方法を採用する。 In the liquid crystal display device of the present invention, the hardness of the photocurable resin film forming the spacer is defined by a dynamic storage elastic modulus, a loss elastic modulus, and a loss tangent. Storage elastic modulus (E ′) obtained by dynamic viscoelasticity measurement is 5.0 × 10 9 (Pa) or less, preferably 1.0 × 10 7 (Pa) to 2.0 × 10 9 (Pa), The loss tangent {tan δ = E ″ (loss elastic modulus) / E ′} is 0.1 or less, preferably 0.02 or less, and the storage elastic modulus (E ′ in the range of 120 ° C. to 180 ° C.). ) Is 5.0 × 10 7 (Pa) or more, preferably 1.0 × 10 8 or more, and the loss tangent {tan δ = E ″ (loss elastic modulus) / E ′} is 0.3 or less, preferably Is 0.2 or less. The dynamic storage elastic modulus, loss elastic modulus, and loss tangent employ the following measuring device and measuring method.

測定用試料:PETフィルム面に感光性樹脂塑性物を塗工した後、90℃、3分間でプリベークし、次いで、紫外線を500mJ/cm2 パターン露光し、1重量%苛性ソーダ水溶液現像液中に1分間つけ置きして現像した後、200℃で30分間ポストベークし、厚さ50μm、幅5mm、長さ12mmの光硬化性樹脂膜を作製した。 Sample for measurement: after coating a photosensitive resin plastic on the PET film surface, pre-baking at 90 ° C. for 3 minutes, then exposing to UV light at 500 mJ / cm 2 pattern, 1 in 1% by weight aqueous caustic soda solution After developing for a minute, the film was post-baked at 200 ° C. for 30 minutes to produce a photocurable resin film having a thickness of 50 μm, a width of 5 mm, and a length of 12 mm.

測定装置: 固体粘弾性アナライザーRSA−II レオメトリックス製
測定アタッチメント(モード): フイルム引っ張り
測定周波数: 6.28rad/s
測定温度: −50℃〜250℃
測定方法:
(1) サンプルをフイルム引っ張り測定用治具にセットする。
Measuring device: Solid viscoelasticity analyzer RSA-II Rheometrics Measurement attachment (mode): Film tension Measurement frequency: 6.28 rad / s
Measurement temperature: −50 ° C. to 250 ° C.
Measuring method:
(1) Set the sample on the film tension measuring jig.

(2) −50℃〜250℃の温度領域で6.28rad/sでの温度依存性を測定し、温度依存性のデータから、−40℃〜80℃の温度領域、及び120℃〜180℃での動的貯蔵弾性率(E′、Pa)、動的損失弾性率(E″、Pa)を求め、動的損失弾性率(E″、Pa)/動的貯蔵弾性率(E′、Pa)=tanδを求める。   (2) The temperature dependence at 6.28 rad / s is measured in the temperature range of −50 ° C. to 250 ° C., and from the temperature dependence data, the temperature range of −40 ° C. to 80 ° C. and 120 ° C. to 180 ° C. The dynamic storage elastic modulus (E ′, Pa) and the dynamic loss elastic modulus (E ″, Pa) are calculated to obtain the dynamic loss elastic modulus (E ″, Pa) / dynamic storage elastic modulus (E ′, Pa). ) = Tan δ.

本発明の液晶表示装置は、スペーサーを形成する光硬化性樹脂膜の弾性率を、光硬化性樹脂膜の引っ張り試験から得られる応力−歪み曲線から導かれるヤング率により規定するものであり、25℃において10,000MPa以下、好ましくは500〜2000、また、150℃において10MPa以上、好ましくは30MPa以上のものである。   In the liquid crystal display device of the present invention, the elastic modulus of the photocurable resin film forming the spacer is defined by the Young's modulus derived from the stress-strain curve obtained from the tensile test of the photocurable resin film. It is 10,000 MPa or less, preferably 500 to 2000 at 150 ° C., and 10 MPa or more, preferably 30 MPa or more at 150 ° C.

測定用試料:PETフィルム面に感光性樹脂塑性物を塗工した後、90℃、3分間でプリベークし、次いで、紫外線を500mJ/cm2 パターン露光し、1重量%苛性ソーダ水溶液現像液中に1分間つけ置きして現像した後、200℃で30分間ポストベークし、厚さ50μm、幅5mm、長さ12mmの光硬化性樹脂膜を作製した。 Sample for measurement: after coating a photosensitive resin plastic on the PET film surface, pre-baking at 90 ° C. for 3 minutes, then exposing to UV light at 500 mJ / cm 2 pattern, 1 in 1% by weight aqueous caustic soda solution After developing for a minute, the film was post-baked at 200 ° C. for 30 minutes to produce a photocurable resin film having a thickness of 50 μm, a width of 5 mm, and a length of 12 mm.

25℃でのヤング率は、下記の測定装置及び測定方法を採用する。   The Young's modulus at 25 ° C. employs the following measuring device and measuring method.

測定装置: テンシロン万能試験機 RTA−100 ORIENTEC社製 測定モード: フイルム引っ張り試験
測定温度: 25℃
測定方法: サンプルをフイルム引っ張り測定用治具にセットし、上下方向に引っ張り弾性率を測定。
Measuring device: Tensilon universal testing machine RTA-100 ORIENTEC Co., Ltd. Measuring mode: Film tensile test Measuring temperature: 25 ° C
Measurement method: Place the sample on a film tensile measurement jig and measure the tensile modulus in the vertical direction.

150℃でのヤング率は、下記の測定装置及び測定方法を採用する。   The Young's modulus at 150 ° C. employs the following measuring device and measuring method.

測定装置: 固体粘弾性アナライザーRSA−II レオメトリックス製
測定モード: STRAIN RATE SWEEP
測定温度: 150℃
測定方法: サンプルをフイルム引っ張り測定用治具にセットし、上下方向に引っ張り弾性率を測定。
Measuring device: Solid viscoelasticity analyzer RSA-II Rheometrics Measurement mode: STRAIN RATE SWEEP
Measurement temperature: 150 ° C
Measurement method: Place the sample on a film tensile measurement jig and measure the tensile modulus in the vertical direction.

本発明の液晶表示装置は、スペーサーを形成する光硬化性樹脂膜の弾性率を、ダイナミック微小硬度計を用いた三角すい圧子による押し込み試験から得られる負荷時の変位深度(D1)と除荷時の変位深度(D2)により、下記式
DH=3.8584×P/(D×D)
D1、D2:変位深度(μm)
P:荷重(gf)
から計算されるダイナミック硬度(DH)により規定するものであり、負荷時のダイナミック硬度(DH1)が、30〜60、好ましくは40〜50であることを特徴とする。ダイナミック硬度は、下記の測定装置及び測定方法を採用する。
In the liquid crystal display device of the present invention, the elastic modulus of the photocurable resin film forming the spacer is determined by the displacement depth (D1) at the time of loading obtained from the indentation test using a triangular pyramid indenter using a dynamic microhardness meter and at the time of unloading. According to the displacement depth (D2) of the following formula, DH = 3.8854 × P / (D × D)
D1, D2: Displacement depth (μm)
P: Load (gf)
The dynamic hardness (DH1) under load is 30 to 60, preferably 40 to 50. The following hardness is used for the dynamic hardness.

測定用試料:ガラス面に感光性樹脂組成物を塗工した後、90℃、3分間でプリベークし、次いで、紫外線を500mJ/cm2 パターン露光し、1重量%苛性ソーダ水溶液現像液中に1分間つけ置きして現像した後、200℃で30分間ポストベークし、膜厚5μmの光硬化性樹脂膜を作製した。 Sample for measurement: After coating the photosensitive resin composition on the glass surface, pre-baked at 90 ° C. for 3 minutes, then exposed to UV light at 500 mJ / cm 2 pattern, and exposed to 1% by weight aqueous caustic soda solution for 1 minute. After being developed after being placed, it was post-baked at 200 ° C. for 30 minutes to produce a photocurable resin film having a thickness of 5 μm.

測定装置: ダイナミック超微小硬度計「DUH−201S」島津製作所製
測定アタッチメント:三角すい圧子 115℃
測定方法: 下記の設定荷重まで負荷を下記速度で与え、下記保持時間だけ荷重を保持した後、除荷を行ない、負荷時の押し込み変位深度(D1)と除荷時の変位深度(D2)を求める。
Measuring device: Dynamic micro hardness tester “DUH-201S” manufactured by Shimadzu Corporation Measurement attachment: Triangular pan indenter 115 ° C.
Measurement method: Apply the load up to the following set load at the following speed, hold the load for the following holding time, and then unload, and determine the indentation displacement depth during loading (D1) and the displacement depth during unloading (D2). Ask.

設定荷重:29.4mN(=3gf)、負荷速度:0.132390mN/sec、保持時間:10sec
この測定結果をもとに、上記の式により負荷時のダイナミック硬度(DH1)と除荷時のダイナミック硬度(DH2)を得る。負荷時のダイナミック硬度(DH1)が大きいということは、押し込み変位深度Dが小さいことに相当し、塑性変形部分も含んだ弾性部分が高いことを示す。除荷時のダイナミック硬度(DH2)は、塑性変形を起こしている量を示す値であり、完全に戻れば無限大となる。従って、大きいほど塑性変形量が少ないことに相当する。そのため、弾性変形成分と塑性変形成分の割合を、DH2/DH1にて表すことができ、本発明の目的ではこの値ができるだけ小さくなるスペーサー塗膜とすることが好ましい。
Set load: 29.4 mN (= 3 gf), load speed: 0.132390 mN / sec, holding time: 10 sec
Based on this measurement result, the dynamic hardness at the time of loading (DH1) and the dynamic hardness at the time of unloading (DH2) are obtained by the above formula. A large dynamic hardness (DH1) under load corresponds to a small indentation displacement depth D, and indicates that the elastic portion including the plastically deformed portion is high. The dynamic hardness (DH2) at the time of unloading is a value indicating the amount of plastic deformation, and becomes infinite when completely restored. Therefore, the larger the value, the smaller the amount of plastic deformation. Therefore, the ratio of the elastic deformation component and the plastic deformation component can be expressed by DH2 / DH1, and for the purpose of the present invention, it is preferable to use a spacer coating film in which this value is as small as possible.

本発明の液晶表示装置は、上記のごとくスペーサーを粘弾性により規定することにより、セル組み工程で変形が少なく、所望のセルギャップを維持でき、かつ熱膨張の差をスペーサーにおける粘弾性によっても吸収することができるので、低温での発泡現象を抑制しうるものとできる。   In the liquid crystal display device of the present invention, by defining the spacer by viscoelasticity as described above, there is little deformation in the cell assembling process, the desired cell gap can be maintained, and the difference in thermal expansion is also absorbed by the viscoelasticity in the spacer. Therefore, the foaming phenomenon at a low temperature can be suppressed.

次に、液晶表示装置について説明する。図1は、カラーフィルターにスペーサーを形成した液晶表示装置の1実施例を示す部分断面図である。液晶表示装置1はカラーフィルター2とこれに対向するTFT等の対向基板3から構成されており、カラーフィルターは、ガラス基板4上にクロム等の金属またはそれらの酸化物で形成するか、または樹脂及び遮光剤からなる樹脂ブラックマトリックスにより形成されるブラックマトリックス5が形成されており、ブラックマトリックスを境界にしてR(赤)、G(緑)、B(青)の3原色からなる着色層6が形成されている。   Next, a liquid crystal display device will be described. FIG. 1 is a partial sectional view showing an embodiment of a liquid crystal display device in which spacers are formed on a color filter. The liquid crystal display device 1 includes a color filter 2 and a counter substrate 3 such as a TFT facing the color filter 2, and the color filter is formed of a metal such as chromium or an oxide thereof on a glass substrate 4 or a resin. And a black matrix 5 formed of a resin black matrix made of a light-shielding agent, and a colored layer 6 composed of three primary colors of R (red), G (green), and B (blue) with the black matrix as a boundary. Is formed.

着色層上には、透明な合成樹脂からなる保護膜7が設けられており、保護膜上にはITO等からなる透明電極膜8を形成されている。また、透明電極膜上には光硬化性樹脂膜からなるスペーサー9が設けられる。そして、カラーフィルターと対向基板の液晶と接するそれぞれの面には配向膜12が形成されており、エポキシ樹脂等のシール材10によって接合され、カラーフィルターと対向基板の間には液晶11が封入される。   A protective film 7 made of a transparent synthetic resin is provided on the colored layer, and a transparent electrode film 8 made of ITO or the like is formed on the protective film. A spacer 9 made of a photocurable resin film is provided on the transparent electrode film. An alignment film 12 is formed on each surface of the color filter that contacts the liquid crystal of the counter substrate, and is bonded by a sealing material 10 such as an epoxy resin, and the liquid crystal 11 is sealed between the color filter and the counter substrate. The

また、図2には、カラーフィルターの一部の着色画素の平面図を示すが、カラーフィルター21の着色画素22は、ブラックマトリックス23で区画されており、着色画素の周囲には表示に有効でない部分が形成されているので、この部分にスペーサー24を設けることができる。着色画素の大きさは画面サイズと画質規格により異なるが、数10μm〜数100μm×数10μm〜数100μm程度、一例としては100μm×300μm程度の小さなものであるが、その一部には対向するTFT基板などに形成された素子が表示面から見えないようにするための領域が設けられることがある。スペーサーをそのような領域に設けるならば表示にはなんら障害とはならない。   FIG. 2 shows a plan view of some of the colored pixels of the color filter. The colored pixels 22 of the color filter 21 are partitioned by a black matrix 23 and are not effective for display around the colored pixels. Since the part is formed, the spacer 24 can be provided in this part. Although the size of the colored pixel varies depending on the screen size and image quality standard, it is a small pixel of about several tens of μm to several hundreds of μm × several tens of μm to several hundreds of μm, for example, about 100 μm × 300 μm. A region for preventing an element formed on the substrate or the like from being visible from the display surface may be provided. If a spacer is provided in such a region, there is no obstacle to the display.

更に、図3(A)〜(C)はカラーフィルターの着色層を利用したスペーサーの形成方法を示すものである。まず、図3(A)に示す方法は、カラーフィルター31の基板に、着色層とした赤、緑および青の3色の着色画素を形成する際に、図では赤の着色画素である第1色目の着色画素32を形成した上に、第2色目の着色画素33である緑が部分的に赤の着色画素を覆うフォトマスクを用いて露光して緑の着色画素を形成し、次いで第3色目の着色画素34である青のフォトマスクにもスペーサーを形成すべき箇所にも着色画素が形成可能となるようなフォトマスクを用いて、スペーサー形成箇所にも青の着色画素を形成する。ついで、ITO膜等の透明電極膜35を成膜し、最後にスペーサー36を形成してもよい。この方法によれば、着色画素の積み重ねによってスペーサーの高さを確保することができるので、透明電極膜上に形成するスペーサーの高さは厚みの薄いものでもよい。   Further, FIGS. 3A to 3C show a method for forming a spacer using a colored layer of a color filter. First, in the method shown in FIG. 3A, when forming colored pixels of three colors of red, green, and blue, which are colored layers, on the substrate of the color filter 31, the first colored pixel in FIG. After forming the colored pixel 32, the second colored pixel 33 is exposed to light using a photomask that partially covers the red colored pixel, thereby forming a green colored pixel. Blue colored pixels are also formed at the spacer formation positions by using a photomask that can form colored pixels at the positions where the spacers are to be formed as well as the blue photomask that is the colored pixels 34. Next, a transparent electrode film 35 such as an ITO film may be formed, and finally the spacer 36 may be formed. According to this method, since the height of the spacer can be ensured by stacking colored pixels, the spacer formed on the transparent electrode film may be thin.

また、図3(B)に示す方法は、カラーフィルター31の基板に、ブラックマスクBkをクロムを使用して成膜した後、着色画素B、G、Rを一部重ねて成膜し、画素間にスペーサー36を形成する方法であり、また、図3(C)に示す方法は、カラーフィルター31の基板に、樹脂を使用して成膜したブラックマスクBkを着色画素B、G、Rと共に成膜した後、ブラックマスクBk上にスペーサー36を形成する方法である。なお、図3(B)(C)では透明電極膜は省略してある。   In the method shown in FIG. 3B, the black mask Bk is formed on the substrate of the color filter 31 using chromium, and then the colored pixels B, G, and R are partially overlapped to form a pixel. A spacer 36 is formed between them, and the method shown in FIG. 3C is a method of forming a black mask Bk formed using a resin on the substrate of the color filter 31 together with the colored pixels B, G, and R. In this method, the spacer 36 is formed on the black mask Bk after the film formation. In FIGS. 3B and 3C, the transparent electrode film is omitted.

スペーサーは、4画素に1個、1画素に1個のごとく、適宜配置されるが、スペーサーとしての機能の観点からは、スペーサーの密度は、体積密度で0.1%〜5%、好ましくは0.3%〜2%であり、大きすぎると液晶注入工程での注入効率が低下するので好ましくなく、また、小さすぎるとセル組みに際して変形する原因となる。また、表面積密度としては、50〜2000μm2 /mm2 、好ましくは500〜1000μm2 /mm2 とするとよい。小さすぎるとセル組みに際して変形する原因となり、大きすぎると大きすぎると液晶注入工程での注入効率が低下するので好ましくない。 The spacers are arranged as appropriate, one for every four pixels, and one for every one pixel. From the viewpoint of the function as a spacer, the density of the spacer is 0.1% to 5% in volume density, preferably If it is 0.3% to 2%, and if it is too large, the injection efficiency in the liquid crystal injection process is lowered, which is not preferable. As the surface area density, 50 to 2000 m 2 / mm 2, it may preferably be a 500~1000μm 2 / mm 2. If it is too small, it will cause deformation when assembling the cells, and if it is too large, it is not preferable because the injection efficiency in the liquid crystal injection process will decrease.

現像により形成されるスペーサーの形状は、その高さが2μm〜10μmの、例えば台形状とされ、また、その端部は丸みを帯びた球状、角ばった矩形状等に形成されるが、球状とすることにより配向膜形成後に行なうラビング工程での配向等への影響を低減するために効果的である。   The spacer formed by development has a height of 2 μm to 10 μm, for example, a trapezoidal shape, and its end is formed in a rounded spherical shape, a rectangular shape, etc. This is effective for reducing the influence on the orientation and the like in the rubbing process performed after the formation of the orientation film.

また、100μm×300μmの着色画素に1個のスペーサーを設けるならば、1mm2 には約33個のスペーサーが形成可能である。この数は通常の液晶にスペーサーを混合した場合の数字である100個/mm2 という値に比べて小さいが、表示面全体にわたり均一に配置しているので、このような数のスペーサーによって充分に目的を達することが可能である。 Further, if one spacer is provided for a colored pixel of 100 μm × 300 μm, about 33 spacers can be formed in 1 mm 2 . This number is smaller than the value of 100 pieces / mm 2, which is the number when spacers are mixed in a normal liquid crystal, but it is arranged uniformly over the entire display surface. It is possible to achieve the purpose.

また、通常のスペーサー散布では、散布位置を制御することは極めて困難であるが、本発明では、所望とする位置に、所望サイズのスペーサーを固定した状態で作製できるので、画像品質等も優れたものとなる。   In addition, it is extremely difficult to control the spraying position in normal spacer spraying, but in the present invention, it is possible to produce a spacer with a desired size fixed at a desired position, so that the image quality is excellent. It will be a thing.

スペーサーを形成する場所は、着色層を区画するブラックマトリックス上に形成するのが表示品質に影響を与えないので好ましく、また、スペーサーを光硬化性透明樹脂膜とするのが好ましいが、透明に限定されず、着色して形成することも可能である。   The spacer is preferably formed on the black matrix that defines the colored layer because it does not affect the display quality. The spacer is preferably a photocurable transparent resin film, but is limited to being transparent. It is also possible to form by coloring.

図1に示す液晶表示装置の製造方法について説明する。   A method for manufacturing the liquid crystal display device shown in FIG. 1 will be described.

透明基板上に、まず、着色層を設け、その着色層上に、感光性樹脂組成物を、スピンナー法、ロール法、スプレイ法、スクリーン印刷法などの任意の塗布方法によって塗布し、所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射して必要な箇所を硬化し、紫外線が照射されなかった部分の未硬化の感光性樹脂をアルカリ水溶液溶剤で溶解除去することによって保護膜を形成する。   First, a colored layer is provided on a transparent substrate, and a photosensitive resin composition is applied on the colored layer by an arbitrary coating method such as a spinner method, a roll method, a spray method, or a screen printing method. A mask is used to irradiate ultraviolet rays to cure necessary portions, and a portion of the uncured photosensitive resin that has not been irradiated with ultraviolet rays is dissolved and removed with an alkaline aqueous solution to form a protective film.

次いで、保護膜上に、カラーフィルターの全面にわたり、DCマグネトロンスパッタリング法によって、電気抵抗などの特性に優れたITO膜を成膜する。   Next, an ITO film having excellent characteristics such as electric resistance is formed on the entire surface of the color filter by DC magnetron sputtering over the entire surface of the color filter.

次いで、ITO膜上に、本発明の感光性樹脂組成物をスピンナー法、ロール法、スプレイ法、スクリーン印刷法などの任意の塗布方法によって液晶層の挟持間隔に相当する厚みに塗布し、次いで、所定のフォトマスクを用いて紫外線を照射してスペーサーの形成箇所を硬化し、紫外線が照射されなかった部分の未硬化の感光性樹脂をアルカリ水溶液溶剤で溶解除去することにより、スペーサーを形成する。   Next, on the ITO film, the photosensitive resin composition of the present invention is applied to a thickness corresponding to the sandwiching interval of the liquid crystal layer by an arbitrary application method such as a spinner method, a roll method, a spray method, or a screen printing method, A spacer is formed by irradiating ultraviolet rays using a predetermined photomask to cure the formation portion of the spacer, and dissolving and removing the uncured photosensitive resin in a portion not irradiated with the ultraviolet ray with an alkaline aqueous solution solvent.

スペーサー用の光硬化性樹脂膜を設ける前に、シランカップリング剤などをITO膜上に塗布して密着性を高めることができる。シランカップリング剤としては、例えばビニルシラン、アクリルシラン、エポキシシラン、アミノシラン等を挙げることができる。より具体的には、ビニルシランとして、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等を使用することができる。また、アクリルシランとしては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等を挙げることができる。エポキシシランとしては、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトシキシラン等を挙げることができる。さらに、アミノシランとしては、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等を使用することができる。その他のシランカップリング剤として、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン等を使用することができる。   Before providing the photocurable resin film for the spacer, a silane coupling agent or the like can be applied on the ITO film to improve the adhesion. Examples of the silane coupling agent include vinyl silane, acrylic silane, epoxy silane, amino silane, and the like. More specifically, vinyltrichlorosilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, or the like can be used as vinylsilane. Examples of the acrylic silane include γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane. Examples of the epoxy silane include β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane and the like. Further, aminosilanes include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethylditrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N -Phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane or the like can be used. Other silane coupling agents include γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, and γ-chloropropylmethyldiethoxysilane. Can be used.

図1に示す液晶表示装置の他に、図1の液晶表示装置と同様に、透明基板上に、着色層、保護膜を形成した後、保護膜上にスペーサーを形成し、そのスペーサーも含め、ITO膜を形成し、液晶表示装置としてもよい。   In addition to the liquid crystal display device shown in FIG. 1, similarly to the liquid crystal display device of FIG. 1, after forming a colored layer and a protective film on a transparent substrate, a spacer is formed on the protective film, including the spacer, An ITO film may be formed to form a liquid crystal display device.

この場合には、保護膜を本発明の光硬化性樹脂膜と同一の材料によって形成することによって、下地層である保護膜との密着強度の大きなスペーサーを形成することも可能である。この場合には、スペーサー上にもITO膜が形成されて対極との間に導電接続が形成されるので、あらかじめスペーサー上をマスキング処理をしてスペーサー上にはITO膜が形成されないようにしたり、対向電極側に短絡を防止する手段を講ずるか、あるいは形成されたITO膜をエッチングによってスペーサー上から除去するとよい。   In this case, by forming the protective film with the same material as the photocurable resin film of the present invention, it is possible to form a spacer having a high adhesion strength with the protective film as the underlayer. In this case, since an ITO film is also formed on the spacer and a conductive connection is formed between the counter electrode, masking is performed on the spacer in advance so that the ITO film is not formed on the spacer, Means for preventing a short circuit may be provided on the counter electrode side, or the formed ITO film may be removed from the spacer by etching.

また、上記の液晶表示装置においては、保護膜を必須とする構成を示したが、図1の液晶表示装置と同様に、透明基板上に、着色層を形成した後、着色層上に直接ITO膜を形成し、そのITO膜面上にスペーサーを形成した構成の液晶表示装置としてもよい。   In the liquid crystal display device described above, a configuration in which a protective film is indispensable has been shown. However, like the liquid crystal display device in FIG. 1, after forming a colored layer on a transparent substrate, ITO is directly formed on the colored layer. It is good also as a liquid crystal display device of the structure which formed the film | membrane and formed the spacer on the ITO film | membrane surface.

また、後述する実施例で記載するように、図1の液晶表示装置と同様に、透明基板上に、着色層を形成した後、着色層上にスペーサーを形成し、次いでそのスペーサーも含め、ITO膜を形成し、液晶表示装置としてもよい。   Further, as described in the examples described later, as in the liquid crystal display device of FIG. 1, after forming a colored layer on a transparent substrate, a spacer is formed on the colored layer, and then the ITO including the spacer is also formed. A film may be formed to form a liquid crystal display device.

また、上述した液晶表示装置は、いずれも、カラーフィルター側にスペーサーを形成する方法をしめしたが、スペーサーを対向するTFT基板上に形成し、上記と同様に形成したカラーフィルターとセル組みしてもよい。   In addition, in all the liquid crystal display devices described above, a method of forming a spacer on the color filter side has been shown, but the spacer is formed on the opposing TFT substrate, and the cell is assembled with the color filter formed in the same manner as described above. Also good.

本発明は、液晶表示装置において、液晶層を挟持する少なくともいずれか一方の基板上に、両基板を所定の間隔を設けて保持することが可能であるスペーサーを形成するので、液晶中にはスペーサーの粒子等を分散させる必要はない。   According to the present invention, in the liquid crystal display device, a spacer is formed on at least one of the substrates sandwiching the liquid crystal layer so that the two substrates can be held at a predetermined interval. It is not necessary to disperse the particles.

以下に、本発明の実施例を示し、更に詳細に説明する。なお、実施例1で使用する共重合樹脂(1)は、下記の方法で合成する。
(共重合樹脂(1)の合成)
組成
・ベンジルメタクリレート ・・・ 264g(15モル%)
・スチレン ・・・ 385g(37モル%)
・アクリル酸 ・・・ 216g(30モル%)
・2−ヒドロキシエチルメタクリレート ・・・ 234g(18モル%)
をアゾビスイソブチロニトリル5gと共に650gの酢酸−3−メトキシブチルに溶解した溶液を、酢酸−3−メトキシブチル1000gを入れた重合槽中に、100℃で、6時間かけて滴下し、重合させ重合体溶液を得た。
Hereinafter, examples of the present invention will be shown and described in more detail. The copolymer resin (1) used in Example 1 is synthesized by the following method.
(Synthesis of copolymer resin (1))
Composition-Benzyl methacrylate ... 264 g (15 mol%)
・ Styrene: 385 g (37 mol%)
・ Acrylic acid 216g (30mol%)
・ 2-Hydroxyethyl methacrylate 234g (18mol%)
Of azobisisobutyronitrile together with 5 g of azobisisobutyronitrile was dropped into a polymerization tank containing 1000 g of acetic acid-3-methoxybutyl at 100 ° C. over 6 hours to polymerize. To obtain a polymer solution.

この重合体溶液の固形分は40重量%、粘度は1050mPa・s(30℃、B型粘度計)であり、重合体の酸価は152mgKOH/g、水酸基価は90mgKOH/g、重量平均分子量はポリスチレン換算で37,000であった。   The polymer solution has a solid content of 40% by weight and a viscosity of 1050 mPa · s (30 ° C., B-type viscometer). The acid value of the polymer is 152 mgKOH / g, the hydroxyl value is 90 mgKOH / g, and the weight average molecular weight is It was 37,000 in terms of polystyrene.

得られた共重合体は、スチレン単位15モル%、ベンジルメタクリレート単位37モル%、アクリル酸単位30モル%、2−ヒドロキシエチルメタクリレート単位18モル%からなるものである。   The obtained copolymer consists of 15 mol% of styrene units, 37 mol% of benzyl methacrylate units, 30 mol% of acrylic acid units, and 18 mol% of 2-hydroxyethyl methacrylate units.

次に、得られた重合体溶液に、組成
・2−メタクロイルエチルイソシアネート ・・・・ 270g
・ラウリン酸ジブチル錫 ・・・・ 1g
・酢酸−3−メトキシブチル ・・・・ 2230g
の混合物を5時間かけて滴下した。
Next, to the obtained polymer solution, composition · 2-methacryloylethylisocyanate ··· 270 g
・ Dibutyltin laurate ・ ・ ・ ・ 1g
-Acetic acid-3-methoxybutyl ... 2230g
Was added dropwise over 5 hours.

反応の進行はIR(赤外線吸収スペクトル)によりモニターしつつ、2200cm-1のイソシアネート基によるピークが消失した時点とした。 While the progress of the reaction was monitored by IR (infrared absorption spectrum), the peak due to the isocyanate group at 2200 cm −1 disappeared.

得られた反応溶液の固形分は26重量%、粘度は500mPa・s(30℃、B型粘度計)であり、重合体は、酸価は120mgKOH/g、水酸基価は5mgKOH/g、重量平均分子量はポリスチレン換算で45,000であり、また(メタ)アクリロイル基を17モル%含有していた。
(実施例1)
厚み1.1mmのガラス基板(旭硝子(株)製AL材)上に、金属クロムからなる厚み100nm、開口率50%、各画素の大きさ20μm×40μmのブラックマトリックスをスパッタリングにより形成した。
The obtained reaction solution had a solid content of 26% by weight and a viscosity of 500 mPa · s (30 ° C., B-type viscometer). The polymer had an acid value of 120 mgKOH / g, a hydroxyl value of 5 mgKOH / g, and a weight average. The molecular weight was 45,000 in terms of polystyrene and contained 17 mol% of (meth) acryloyl groups.
(Example 1)
On a glass substrate having a thickness of 1.1 mm (AL material manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), a black matrix made of metallic chromium having a thickness of 100 nm, an aperture ratio of 50%, and each pixel having a size of 20 μm × 40 μm was formed by sputtering.

その上に、下記の組成の赤色感光性樹脂をスピンコーティング法により塗布(塗布厚1.5μm)し、その後、70℃のオーブン中で30分間乾燥した。次いで、所定のパターンのフォトマスクを介して塗布面に水銀ランプを用いて露光を行い、水によるスプレー現像を1分間行って、赤色画素を形成すべき領域に赤色のレリーフパターンを形成した。さらに、その後、150℃で30分間加熱して硬化処理を施した。   On top of that, a red photosensitive resin having the following composition was applied by spin coating (application thickness: 1.5 μm), and then dried in an oven at 70 ° C. for 30 minutes. Next, the coated surface was exposed using a mercury lamp through a photomask having a predetermined pattern, and spray development with water was performed for 1 minute to form a red relief pattern in a region where a red pixel was to be formed. Furthermore, it was then heated at 150 ° C. for 30 minutes to perform a curing process.

次に、下記の組成の緑色感光性樹脂を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、緑色画素を形成すべき領域に緑色のレリーフパターンを形成した。   Next, using a green photosensitive resin having the following composition, a green relief pattern was formed in a region where a green pixel was to be formed, in the same process as that for forming a red relief pattern.

さらに、下記の組成の青色感光性樹脂を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、青色画素を形成すべき領域に青色のレリーフパターンを形成し、赤(R)、緑(G)、青(B)の3色からなる着色層を作成した。   Further, using a blue photosensitive resin having the following composition, a blue relief pattern is formed in a region where a blue pixel is to be formed in the same process as that for forming a red relief pattern, and red (R), green (G) A colored layer composed of three colors of blue (B) was prepared.

(赤色感光性樹脂の組成)
・ピラゾロンレッド(赤色顔料) … 10重量部
・ポリビニルアルコール/5%スチルバゾリウムキノリウム
(感光性樹脂) … 5重量部
・水 … 85重量部
(緑色感光性樹脂の組成)
・リオノールグリーン2Y−301(緑色顔料) … 9重量部
・ポリビニルアルコール/5%スチルバゾリウムキノリウム
(感光性樹脂) … 5重量部
・水 … 86重量部
(青色感光性樹脂の組成)
・ファストゲンブルー(青色顔料) … 3重量部
・ポリビニルアルコール/5%スチルバゾリウムキノリウム
(感光性樹脂) … 5重量部
・水 … 92重量部。
(Composition of red photosensitive resin)
・ Pyrazolone red (red pigment): 10 parts by weight ・ Polyvinyl alcohol / 5% stilbazolium quinolium (photosensitive resin): 5 parts by weight ・ Water: 85 parts by weight (composition of green photosensitive resin)
・ Lionol Green 2Y-301 (green pigment) 9 parts by weight Polyvinyl alcohol / 5% stilbazolium quinolium (photosensitive resin) 5 parts by weight Water 86 parts by weight (composition of blue photosensitive resin)
Fastogen blue (blue pigment) 3 parts by weight Polyvinyl alcohol / 5% stilbazolium quinolium (photosensitive resin) 5 parts by weight Water 92 parts by weight

次に、形成した着色層上に、下記の組成のスペーサー用感光性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布(乾燥膜厚5.0μm)した。   Next, a photosensitive resin composition for spacer having the following composition was applied on the formed colored layer by a spin coating method (dry film thickness: 5.0 μm).

(感光性樹脂組成物の調製)
下記組成
・上記で合成した共重合樹脂(1)(固形分26重量%)
… 45.7重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社製、SR399) … 9.1重量部
・オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製、エピコート180S70) … 5.2重量部
・2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1−ブタノン … 1.3重量部
・2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4′,5′−テトラフェニル−1,2′−ビイミダゾール … 1.0重量部
・ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(ノニオンHS−210、日本油脂(株)製) … 1.9重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル … 24.8重量部
・3−メトキシブチルアセテート … 12.9重量部
を室温で攪拌・混合。
(Preparation of photosensitive resin composition)
The following composition and copolymer resin synthesized above (1) (solid content: 26 wt%)
… 45.7 parts by weight • Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer, SR399)… 9.1 parts by weight • Ortho-cresol novolac type epoxy resin (Oilized Shell Epoxy, Epicoat 180S70)… 5.2 parts by weight 2-Benzyl-2-N, N-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone: 1.3 parts by weight · 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ', 5'-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole 1.0 part by weight, polyoxyethylene octylphenyl ether (Nonion HS-210, manufactured by NOF Corporation) 1.9 parts by weight, diethylene glycol dimethyl ether ... 24.8 parts by weight, 3-methoxybutyl acetate ... 12.9 parts by weight are stirred and mixed at room temperature.

(露光・現像工程)
感光性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離に、所望の形状、大きさで、所望の間隔になるように設計されたフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて、ブラックマトリックス上のスペーサーの形成領域にのみ紫外線を10秒間照射した。次いで、0.05%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、感光性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
(Exposure and development process)
An ultra-high pressure mercury lamp of 2.0 kW by a proximity aligner with a photomask designed to have a desired shape, size and desired spacing at a distance of 100 μm from the coating film of the photosensitive resin composition Was used to irradiate only the spacer formation region on the black matrix with ultraviolet rays for 10 seconds. Subsequently, it was immersed in 0.05% potassium hydroxide aqueous solution (liquid temperature 23 ° C.) for 1 minute and alkali-developed, and only the uncured portion of the coating film of the photosensitive resin composition was removed.

その後、基板を180℃の雰囲気中に30分間放置することにより加熱処理を施して固定スペーサーを形成し、カラーフィルターを形成した。   Thereafter, the substrate was left to stand in an atmosphere of 180 ° C. for 30 minutes to perform a heat treatment to form a fixed spacer, thereby forming a color filter.

次に、基板温度200℃でアルゴンと酸素を放電ガスとし、DCマグネトロンスパッタリング法によってITOをターゲットとして透明電極膜を固定スペーサーを含む表面に成膜した。   Next, a transparent electrode film was formed on the surface including the fixed spacer by a DC magnetron sputtering method using argon and oxygen as discharge gases at a substrate temperature of 200 ° C. and using ITO as a target.

次いで、ポリイミドよりなる配向膜を形成した後、エポキシ樹脂をシール材としてTFTを形成したガラス基板とを150℃で0.3kg/cm2 の圧力をかけて接合してセル組みし、TN液晶を封入して、本発明の液晶表示装置を作製した。 Next, after forming an alignment film made of polyimide, a cell substrate is assembled by bonding a glass substrate on which a TFT is formed with an epoxy resin as a sealant at 150 ° C. under a pressure of 0.3 kg / cm 2 , and a TN liquid crystal is formed. The liquid crystal display device of the present invention was produced by encapsulating.

(実施例2)
実施例1で得たガラス基板上に形成した着色層上に、基板温度200℃でアルゴンと酸素を放電ガスとし、DCマグネトロンスパッタリング法によってITOをターゲットとして透明電極膜を成膜した。
(Example 2)
On the colored layer formed on the glass substrate obtained in Example 1, a transparent electrode film was formed at a substrate temperature of 200 ° C. using argon and oxygen as discharge gases and using ITO as a target by a DC magnetron sputtering method.

次いで、透明電極膜上に、実施例1同様にしてスペーサーを形成し、次いで、ポリイミドよりなる配向膜を形成した後、エポキシ樹脂をシール材としてTFTを形成したガラス基板とを150℃で0.3kg/cm2 の圧力をかけて接合してセル組みし、TN液晶を封入して本発明の液晶表示装置を作製した。 Next, a spacer was formed on the transparent electrode film in the same manner as in Example 1, and then an alignment film made of polyimide was formed. A cell was assembled by applying a pressure of 3 kg / cm 2 , and TN liquid crystal was sealed to produce a liquid crystal display device of the present invention.

(比較例)
実施例1における感光性樹脂組成物に代えて、
・アルカリ可溶バインダー(ベンジルメタクリレート・スチレン・アクリル酸を主成分とする共重合物(分子量3000) … 30重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社製、SR399) … 20重量部
・オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製、エピコート180S70) … 5重量部
・2−メチル−1−〔4−メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1 … 3重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル … 30重量部
・3−メトキシブチルアセテート … 12重量部
を室温で攪拌・混合し、感光性樹脂組成物とした以外は、実施例1同様にして液晶表示装置を作製した。
(Comparative example)
Instead of the photosensitive resin composition in Example 1,
・ Alkali-soluble binder (copolymer based on benzyl methacrylate / styrene / acrylic acid (molecular weight 3000): 30 parts by weight / dipentaerythritol pentaacrylate (SR399, manufactured by Sartomer) 20 parts by weight / ortho-cresol novolak Type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd., Epicoat 180S70) 5 parts by weight 2-methyl-1- [4-methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 3 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether 30 parts by weight A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1 except that 12 parts by weight of 3-methoxybutylacetate was stirred and mixed at room temperature to obtain a photosensitive resin composition.

実施例1、実施例2、比較例で使用した感光性樹脂組成物について、上述した測定方法で、その動的貯蔵弾性率、損失弾性率、損失正接を測定した。実施例1、実施例2で使用した感光性樹脂組成物についての測定結果を図5に示し、比較例1で使用した感光性樹脂組成物についての測定結果を図6に示す。 About the photosensitive resin composition used by Example 1, Example 2, and the comparative example, the dynamic storage elastic modulus, loss elastic modulus, and loss tangent were measured with the measuring method mentioned above. The measurement result about the photosensitive resin composition used in Example 1 and Example 2 is shown in FIG. 5, and the measurement result about the photosensitive resin composition used in Comparative Example 1 is shown in FIG .

図5から、実施例1、2における光硬化性樹脂膜の−40℃〜80℃の範囲での動的粘弾性測定により得られる貯蔵弾性率(E′)は1.0×109 (Pa)〜5.0×109 (Pa)の範囲にあり、かつ、損失正接{tanδ=E″(損失弾性率)/E′}は0.01〜0.1の範囲にあり、また、120℃〜180℃の範囲での貯蔵弾性率(E′)は5.0×107 (Pa)〜1.0×109 (Pa)の範囲にあり、かつ損失正接{tanδ=E″(損失弾性率)/E′}が0.1〜0.3の範囲であることがわかる。 From FIG. 5, the storage elastic modulus (E ′) obtained by the dynamic viscoelasticity measurement in the range of −40 ° C. to 80 ° C. of the photocurable resin films in Examples 1 and 2 is 1.0 × 10 9 (Pa ) To 5.0 × 10 9 (Pa), and loss tangent {tan δ = E ″ (loss elastic modulus) / E ′} is in the range of 0.01 to 0.1, and 120 The storage elastic modulus (E ′) in the range of ℃ to 180 ° C. is in the range of 5.0 × 10 7 (Pa) to 1.0 × 10 9 (Pa), and the loss tangent {tan δ = E ″ (loss It can be seen that (elastic modulus) / E ′} is in the range of 0.1 to 0.3.

これに対して、図6からわかるように、比較例1における光硬化性樹脂膜の−40℃〜80℃の範囲での動的粘弾性測定により得られる貯蔵弾性率(E′)は5.0×108 (Pa)〜1.0×109 (Pa)の範囲にあり、かつ、損失正接{tanδ=E″(損失弾性率)/E′}は0.05〜0.15であり、また、120℃〜180℃の範囲での貯蔵弾性率(E′)は1.0×108 (Pa)〜1.0×109 (Pa)の範囲にあり、かつ、損失正接{tanδ=E″(損失弾性率)/E′}が0.1〜0.3の範囲にある。 On the other hand, as can be seen from FIG. 6, the storage elastic modulus (E ′) obtained by the dynamic viscoelasticity measurement in the range of −40 ° C. to 80 ° C. of the photocurable resin film in Comparative Example 1 is 5. 0 × 10 8 (Pa) to 1.0 × 10 9 (Pa), and loss tangent {tan δ = E ″ (loss elastic modulus) / E ′} is 0.05 to 0.15. The storage elastic modulus (E ′) in the range of 120 ° C. to 180 ° C. is in the range of 1.0 × 10 8 (Pa) to 1.0 × 10 9 (Pa), and the loss tangent {tan δ = E ″ (loss elastic modulus) / E ′} is in the range of 0.1 to 0.3.

すなわち、実施例1、2における光硬化性樹脂膜とは、−40℃〜80℃の範囲での損失正接において相違することがわかる。   That is, it can be seen that the loss tangent in the range of −40 ° C. to 80 ° C. is different from the photocurable resin films in Examples 1 and 2.

実施例1、実施例2、比較例で使用した感光性樹脂組成物について、上述した測定方法で、その引っ張り試験から得られる応力−歪み曲線から導かれる1%歪みにおけるヤング率(MPa)を測定した。その結果を下記の表3に示す。   For the photosensitive resin compositions used in Example 1, Example 2, and Comparative Example, the Young's modulus (MPa) at 1% strain derived from the stress-strain curve obtained from the tensile test was measured by the measurement method described above. did. The results are shown in Table 3 below.

Figure 2008203854
Figure 2008203854

表から、実施例1、2にあっては、25℃におけるヤング率(MPa)は、10,000以下の範囲に含まれ、また、150℃におけるヤング率(MPa)は、10MPa以上の範囲に含まれるのに対して、比較例のものは、150℃におけるヤング率(MPa)において外れるものであることがわかる。   From the table, in Examples 1 and 2, the Young's modulus (MPa) at 25 ° C. is included in the range of 10,000 or less, and the Young's modulus (MPa) at 150 ° C. is in the range of 10 MPa or more. In contrast, the comparative example is found to be out of the Young's modulus (MPa) at 150 ° C.

実施例1、実施例2、比較例で使用した感光性樹脂組成物について、上述した測定方法で、そのダイナミック硬度を測定した。その結果を下記表4に示す。   About the photosensitive resin composition used in Example 1, Example 2, and the comparative example, the dynamic hardness was measured with the measuring method mentioned above. The results are shown in Table 4 below.

Figure 2008203854
Figure 2008203854

表から、実施例1、2にあっては、25℃におけるダイナミック硬度は30〜60の範囲に含まれるのに対して、比較例のものは、外れるものであることがわかる。   From the table, it can be seen that in Examples 1 and 2, the dynamic hardness at 25 ° C. is included in the range of 30 to 60, while the comparative example is out of the range.

次に、実施例1、実施例2、比較例で作製した液晶表示装置について、その固定スペーサーサイズを顕微鏡で観察した。実施例1、2のものは、4画素に1個のスペーサーがブラックマトリックス上に形成され、上底100μm2 、下底は上底より10μmの太りが見られる台形の形状であることが観察され、また、5μmの膜厚に形成したものが、所望の厚みの4.7μmとなっていた。これに対して、比較例のものは4.3μmであり、所望の厚みとはならず、つぶれた形状となっていた。 Next, the fixed spacer size of the liquid crystal display devices manufactured in Example 1, Example 2, and Comparative Example was observed with a microscope. In Examples 1 and 2 , it is observed that one spacer for every four pixels is formed on the black matrix, and that the upper base is 100 μm 2 and the lower base has a trapezoidal shape with a thickness of 10 μm from the upper base. Moreover, what was formed in the film thickness of 5 micrometers was 4.7 micrometers of desired thickness. On the other hand, the thing of a comparative example is 4.3 micrometers, and it was not a desired thickness, but was a crushed shape.

実施例1、実施例2、比較例で作製した液晶表示装置について、耐低温発泡について、−30℃から−40℃で数日間冷却したところ、実施例1、2のものは変化は見られなかったが、比較例のものは点々と小さな泡が発生した。   About the liquid crystal display device produced in Example 1, Example 2, and the comparative example, about low temperature foaming, when it was cooled for several days from -30 degreeC to -40 degreeC, the thing of Example 1, 2 is not seen. However, small bubbles were generated in the comparative example.

また、実施例1、実施例2、比較例で作製した液晶表示装置について、セル内に液晶を封入した後、100℃〜120℃にアニールしたところ、実施例1、2のものは変化は見られなかったが、比較例のものはコントラストが低下した。   Moreover, about the liquid crystal display device produced in Example 1, Example 2, and the comparative example, after enclosing the liquid crystal in a cell and annealing at 100 to 120 degreeC, the thing of Example 1, 2 sees a change. Although not, the contrast of the comparative example was lowered.

また、実施例1、実施例2、比較例で作製した液晶表示装置について、−30℃→室温→+80℃をそれぞれ1日あたり100サイクル繰り返す、熱衝撃試験を実施したところ、実施例1、2のものは変化は見られなかったが、比較例のものはコントラストの低下と発泡が生じた。   Moreover, about the liquid crystal display device produced by Example 1, Example 2, and the comparative example, when the thermal shock test which repeats -30 degreeC-> room temperature-> +80 degreeC each 100 cycles per day was implemented, Example 1, 2 No change was observed in the case of Comparative Example, but a decrease in contrast and foaming occurred in the comparative example.

図1は、本発明の液晶表示装置の1実施例を示す部分断面図である。FIG. 1 is a partial sectional view showing an embodiment of a liquid crystal display device of the present invention. 図2は、スペーサーを形成したカラーフィルターを示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a color filter in which spacers are formed. 図3は、スペーサーを形成したカラーフィルターの他の実施例を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of a color filter in which spacers are formed. 図4は、従来の液晶表示装置の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device. 図5は、実施例1、実施例2で使用した感光性樹脂組成物についての動的貯蔵弾性率、損失弾性率、損失正接の測定結果である。FIG. 5 shows the measurement results of dynamic storage elastic modulus, loss elastic modulus, and loss tangent for the photosensitive resin compositions used in Examples 1 and 2. 図7は、比較例で使用した感光性樹脂組成物についての動的貯蔵弾性率、損失弾性率、損失正接の測定結果である。FIG. 7 shows the measurement results of the dynamic storage elastic modulus, loss elastic modulus, and loss tangent of the photosensitive resin composition used in the comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

1は液晶表示装置、2はカラーフィルター、3は対向基板、4はガラス基板、5はブラックマトリックス、6は着色層、7は保護膜、8は透明電極膜、9はスペーサー、10はシール材、11は液晶、12は配向膜、21はカラーフィルター、22は着色画素、23はブラックマトリックス、24はスペーサー、31はカラーフィルター、32は第1色目の着色画素、33は第2色目の着色画素、34は第2色目の着色画素、35は透明電極膜、36はスペーサー、41は液晶表示装置、42はカラーフィルター、43は対向基板、44はシール材、45は液晶、46はスペーサーである。 1 is a liquid crystal display device, 2 is a color filter, 3 is a counter substrate, 4 is a glass substrate, 5 is a black matrix, 6 is a colored layer, 7 is a protective film, 8 is a transparent electrode film, 9 is a spacer, 10 is a sealing material , 11 is a liquid crystal, 12 is an alignment film, 21 is a color filter, 22 is a colored pixel, 23 is a black matrix, 24 is a spacer, 31 is a color filter, 32 is a colored pixel of the first color, and 33 is colored of the second color. Pixel, 34 is a second color pixel, 35 is a transparent electrode film, 36 is a spacer, 41 is a liquid crystal display device, 42 is a color filter, 43 is a counter substrate, 44 is a sealing material, 45 is a liquid crystal, and 46 is a spacer. is there.

Claims (6)

2枚の基板の間に液晶を挟持した液晶表示装置であって、少なくとも一方の基板上の液晶挟持領域部分に基板の間隔を保持するスペーサーを設けた液晶表示装置において、該スペーサーが、下記一般式(1)、(2)で示される構成単位が、そのカルボキシル基または水酸基を介して(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物とそれぞれ一部が反応した生成物を構成単位とし、下記一般式(1)に由来する構成単位を5モル%〜55モル%、下記一般式(2)に由来する構成単位を5モル%〜95モル%含有し、(メタ)アクリロイル基を5モル%〜95モル%含み、酸価が5mgKOH/g〜400mgKOH/gであり、かつポリスチレン換算重量平均分子量が10,000〜1,000,000である共重合樹脂と、2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーまたはオリゴマーと、エポキシ樹脂と、開始剤とからなる感光性樹脂組成物の硬化膜からなることを特徴とする液晶表示装置。
Figure 2008203854
(式中、Rは水素、または炭素数1〜5のアルキル基、R1 は炭素数2〜4のアルキレン基を表わす。)
A liquid crystal display device in which a liquid crystal is sandwiched between two substrates, wherein a spacer for maintaining a distance between the substrates is provided in a liquid crystal sandwiching region portion on at least one substrate. The structural unit represented by the formula (1) or (2) is a product obtained by partially reacting with the (meth) acryloylalkyl isocyanate compound via the carboxyl group or hydroxyl group, and the following general formula (1) 5 mol% to 55 mol%, 5 mol% to 95 mol% of a structural unit derived from the following general formula (2), and 5 mol% to 95 mol% of (meth) acryloyl group A copolymer resin having an acid value of 5 mgKOH / g to 400 mgKOH / g and a weight average molecular weight in terms of polystyrene of 10,000 to 1,000,000, and bifunctional A liquid crystal display device comprising a polyfunctional photopolymerizable acrylate monomer or oligomer of above, an epoxy resin, that a cured film of the photosensitive resin composition comprising the initiator.
Figure 2008203854
(In the formula, R represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 1 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms.)
共重合樹脂が、共重合成分として、さらに、下記一般式(3)で示される構成単位を0モル%〜75モル%、下記一般式(4)で示される構成単位を0モル%〜75モル%含有することを特徴とする請求項4記載の液晶表示装置。
Figure 2008203854
(式中、Rは水素、または炭素数1〜5のアルキル基、R2 は芳香族炭素環、R3 はアルキル基、またはアラルキル基を表わす。)
As a copolymerization component, the copolymer resin further contains 0 to 75 mol% of a structural unit represented by the following general formula (3) and 0 to 75 mol of a structural unit represented by the following general formula (4). The liquid crystal display device according to claim 4, comprising:
Figure 2008203854
(Wherein R represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents an aromatic carbocycle, and R 3 represents an alkyl group or an aralkyl group.)
光硬化性樹脂膜において、ダイナミック微小硬度計を用いた三角すい圧子による25℃での押し込み試験から得られる負荷時のダイナミック硬度(DH1)が30〜60であることを特徴とする請求項1、または請求項2記載の液晶表示装置。 In the photocurable resin film, the dynamic hardness (DH1) under load obtained from an indentation test at 25 ° C. with a triangular cone indenter using a dynamic microhardness meter is 30 to 60, Or the liquid crystal display device of Claim 2. 液晶表示装置の液晶を挟持する基板の少なくとも一方の液晶挟持領域部分に、下記一般式(1)、(2)で示される構成単位が、そのカルボキシル基または水酸基を介して(メタ)アクリロイルアルキルイソシアネート化合物とそれぞれ一部が反応した生成物を構成単位とし、下記一般式(1)に由来する構成単位を5モル%〜55モル%、下記一般式(2)に由来する構成単位を5モル%〜95モル%含有し、(メタ)アクリロイル基を5モル%〜95モル%含み、酸価が5mgKOH/g〜400mgKOH/gであり、かつポリスチレン換算重量平均分子量が10,000〜1,000,000である共重合樹脂と、2官能以上の多官能光重合性アクリレートモノマーまたはオリゴマーと、エポキシ樹脂と、開始剤とからなる感光性樹脂組成物をスペーサーの厚みに塗布した後に、スペーサー形成部分以外には光が照射されないフォトマスクを設けて露光し、現像し、スペーサーとして光硬化性樹脂膜からなる硬化膜を設けた後、セル組みに際して120℃〜180℃の温度で封止することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Figure 2008203854
(式中、Rは水素、または炭素数1〜5のアルキル基、R1 は炭素数2〜4のアルキレン基を表わす。)
The structural unit represented by the following general formulas (1) and (2) is attached to at least one liquid crystal sandwiching region portion of the substrate sandwiching the liquid crystal of the liquid crystal display device via its carboxyl group or hydroxyl group (meth) acryloylalkyl isocyanate. A product partially reacted with the compound is used as a structural unit, the structural unit derived from the following general formula (1) is 5 mol% to 55 mol%, and the structural unit derived from the following general formula (2) is 5 mol%. -95 mol%, a (meth) acryloyl group is contained in an amount of 5 to 95 mol%, the acid value is 5 mgKOH / g to 400 mgKOH / g, and the polystyrene-equivalent weight average molecular weight is 10,000 to 1,000,000. A photosensitive resin comprising a copolymer resin having a molecular weight of 000, a polyfunctional photopolymerizable acrylate monomer or oligomer having two or more functions, an epoxy resin, and an initiator. After applying the composition to the thickness of the spacer, a photomask that is not irradiated with light other than the spacer formation portion is provided, exposed, developed, and a cured film made of a photocurable resin film is provided as a spacer, and then the cell assembly is performed. At this time, the liquid crystal display device is manufactured by sealing at a temperature of 120 ° C. to 180 ° C.
Figure 2008203854
(In the formula, R represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 1 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms.)
共重合樹脂が、共重合成分として、さらに、下記一般式(3)で示される構成単位を0モル%〜75モル%、下記一般式(4)で示される構成単位を0モル%〜75モル%含有することを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置の製造方法。
Figure 2008203854
(式中、Rは水素、または炭素数1〜5のアルキル基、R2 は芳香族炭素環、R3 はアルキル基、またはアラルキル基を表わす。)
As a copolymerization component, the copolymer resin further contains 0 to 75 mol% of a structural unit represented by the following general formula (3) and 0 to 75 mol of a structural unit represented by the following general formula (4). The manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 4 characterized by the above-mentioned.
Figure 2008203854
(Wherein R represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents an aromatic carbocycle, and R 3 represents an alkyl group or an aralkyl group.)
光硬化性樹脂膜において、ダイナミック微小硬度計を用いた三角すい圧子による25℃での押し込み試験から得られる負荷時のダイナミック硬度(DH1)が30〜60であることを特徴とする請求項4、または請求項5記載の液晶表示装置の製造方法。 The photocuring resin film has a dynamic hardness (DH1) under load obtained from an indentation test at 25 ° C. with a triangular cone indenter using a dynamic microhardness meter of 30 to 60, Or the manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 5.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005345521A (en) * 2004-05-31 2005-12-15 Toppan Printing Co Ltd Curing resin composition, and a color filter having photo-spacer formed by using the composition
WO2014042110A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-20 日東電工株式会社 Optical member, polarizing plate set, and liquid crystal display device
WO2018124023A1 (en) * 2016-12-27 2018-07-05 積水化学工業株式会社 Sealing agent for liquid crystal display elements, vertically conducting material and liquid crystal display element
CN110770646A (en) * 2017-06-30 2020-02-07 株式会社Lg化学 Substrate
CN111221170A (en) * 2018-11-23 2020-06-02 咸阳彩虹光电科技有限公司 Liquid crystal display panel and liquid crystal display

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6176521A (en) * 1984-09-21 1986-04-19 Nippon Soda Co Ltd Photo-setting resin composition for sealing
JPH0334119A (en) * 1989-06-29 1991-02-14 Victor Co Of Japan Ltd Information recording carrier
JPH04307519A (en) * 1991-04-05 1992-10-29 Seiko Epson Corp Liquid crystal element
JPH05295087A (en) * 1992-04-17 1993-11-09 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk Frame sealing agent composition for liquid crystal display
JPH07325298A (en) * 1994-05-31 1995-12-12 Hitachi Chem Co Ltd Color liquid crystal display device
JPH0876131A (en) * 1994-09-05 1996-03-22 Nippon Petrochem Co Ltd Display device
JPH117029A (en) * 1997-06-17 1999-01-12 Denso Corp Liquid crystal cell and its manufacture
JPH11349631A (en) * 1998-04-10 1999-12-21 Dainippon Printing Co Ltd Copolymer resin

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6176521A (en) * 1984-09-21 1986-04-19 Nippon Soda Co Ltd Photo-setting resin composition for sealing
JPH0334119A (en) * 1989-06-29 1991-02-14 Victor Co Of Japan Ltd Information recording carrier
JPH04307519A (en) * 1991-04-05 1992-10-29 Seiko Epson Corp Liquid crystal element
JPH05295087A (en) * 1992-04-17 1993-11-09 Kyoritsu Kagaku Sangyo Kk Frame sealing agent composition for liquid crystal display
JPH07325298A (en) * 1994-05-31 1995-12-12 Hitachi Chem Co Ltd Color liquid crystal display device
JPH0876131A (en) * 1994-09-05 1996-03-22 Nippon Petrochem Co Ltd Display device
JPH117029A (en) * 1997-06-17 1999-01-12 Denso Corp Liquid crystal cell and its manufacture
JPH11349631A (en) * 1998-04-10 1999-12-21 Dainippon Printing Co Ltd Copolymer resin

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005345521A (en) * 2004-05-31 2005-12-15 Toppan Printing Co Ltd Curing resin composition, and a color filter having photo-spacer formed by using the composition
JP4599484B2 (en) * 2004-05-31 2010-12-15 凸版印刷株式会社 Curable resin composition and color filter having photospacer formed using the same
WO2014042110A1 (en) * 2012-09-13 2014-03-20 日東電工株式会社 Optical member, polarizing plate set, and liquid crystal display device
JP2014224963A (en) * 2012-09-13 2014-12-04 日東電工株式会社 Optical member, polarizing plate set, and liquid crystal display device
CN104620142A (en) * 2012-09-13 2015-05-13 日东电工株式会社 Optical member, polarizing plate set, and liquid crystal display device
JP6391882B1 (en) * 2016-12-27 2018-09-19 積水化学工業株式会社 Sealant for liquid crystal display element, vertical conduction material, and liquid crystal display element
WO2018124023A1 (en) * 2016-12-27 2018-07-05 積水化学工業株式会社 Sealing agent for liquid crystal display elements, vertically conducting material and liquid crystal display element
JP2018163373A (en) * 2016-12-27 2018-10-18 積水化学工業株式会社 Sealant for liquid crystal display element and liquid crystal display element
JP2018194859A (en) * 2016-12-27 2018-12-06 積水化学工業株式会社 Sealant for liquid crystal display, vertical conduction material, and liquid crystal display
CN109196413A (en) * 2016-12-27 2019-01-11 积水化学工业株式会社 Sealing material for liquid crystal display device, upper and lower conductive material and liquid crystal display element
CN110770646A (en) * 2017-06-30 2020-02-07 株式会社Lg化学 Substrate
US11493807B2 (en) 2017-06-30 2022-11-08 Lg Chem, Ltd. Substrate
CN111221170A (en) * 2018-11-23 2020-06-02 咸阳彩虹光电科技有限公司 Liquid crystal display panel and liquid crystal display

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