JP2008203325A - 表示装置、ファインダ装置、カメラおよび表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】
引出線パターンの表示を抑制し得る表示装置および前記表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
一対の基板24a,24bの間に封入された光学材料層25と、前記一対の基板24a,24bの少なくとも一方の表面に形成され、前記光学材料層25に電圧を印加するための電極パターン40と、当該電極パターン40に電圧を供給する引出線パターン39とを有する電極部37とを有し、前記光学材料層25の前記引出線パターン39の位置に対応する第1の領域26の光散乱度が、前記電極パターン40の位置に対応する第2の領域27の光散乱度よりも低い表示装置。
【選択図】 図4
引出線パターンの表示を抑制し得る表示装置および前記表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
一対の基板24a,24bの間に封入された光学材料層25と、前記一対の基板24a,24bの少なくとも一方の表面に形成され、前記光学材料層25に電圧を印加するための電極パターン40と、当該電極パターン40に電圧を供給する引出線パターン39とを有する電極部37とを有し、前記光学材料層25の前記引出線パターン39の位置に対応する第1の領域26の光散乱度が、前記電極パターン40の位置に対応する第2の領域27の光散乱度よりも低い表示装置。
【選択図】 図4
Description
本発明は、表示装置および表示装置の製造方法、特にカメラやビデオカメラ等のファインダ表示に用いて好適である表示装置および表示装置の製造方法に関する。
従来から、カメラのファインダ視野内にマーク表示を行う表示装置として、特許文献1に示すものが知られている。これは、表面に電極が形成された基板上に、高分子分散型液晶材料を表示マークに対応する形に印刷することにより、光散乱度の異なる複数の領域が形成された複合領域型表示装置である。
このような構成とすることにより、基板上に全面電極を形成するだけで、所定のマーク表示を行うことができる。
一方で、一対の基板内に均一な光散乱度の光学材料層を有し、基板上の電極パターンにより所定のマーク表示を形成する単一領域型表示装置が知られている。しかし、単一領域型表示装置では、表示マークに対応する電極パターンと同時に、表示マークに電圧を供給する引出線パターンも表示してしまうという欠点を有する。
特開平10−282477
本発明の目的は、引出線パターンの表示を抑制し得る表示装置および表示装置の製造方法を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明に係る表示装置は、
一対の基板の間に封入された光学材料層と、
前記一対の基板の少なくとも一方の表面に形成され、前記光学材料層に電圧を印加するための電極パターンと、当該電極パターンに電圧を供給する引出線パターンとを有する電極部とを有し、
前記光学材料層の前記引出線パターンの位置に対応する第1の領域の光散乱度が、前記電極パターンの位置に対応する第2の領域の光散乱度よりも低いことを特徴とする。
一対の基板の間に封入された光学材料層と、
前記一対の基板の少なくとも一方の表面に形成され、前記光学材料層に電圧を印加するための電極パターンと、当該電極パターンに電圧を供給する引出線パターンとを有する電極部とを有し、
前記光学材料層の前記引出線パターンの位置に対応する第1の領域の光散乱度が、前記電極パターンの位置に対応する第2の領域の光散乱度よりも低いことを特徴とする。
例えば、本発明に係る表示装置において、前記電極パターンは、表示マークに対応する位置に形成されていても良い。
例えば、本発明に係る表示装置において、前記第1の領域の幅が5〜30μmであっても良い。
例えば、本発明に係る表示装置において、前記光学材料層が、高分子媒体中に液晶粒子が分散してある高分子分散液晶層であり、前記第1の領域では、前記第2の領域に対して分散されている液晶粒子が少なくても良い。
例えば、前記内部電極層は少なくとも一部が透明であっても良い。
例えば、本発明に係る表示装置において、前記一対の基板のうちの少なくとも一方が、少なくとも一部において透明であっても良い。
また、本発明に係るファインダ装置は、上に記載の表示装置のうちいずれかの表示装置が、カメラのファインダ内に配置してあり、前記ファインダ内を透過する被写体光が、前記表示装置を透過するように構成してあることを特徴とする。
また、本発明に係るカメラは、上に記載のファインダ装置を有する。
また、本発明に係る表示装置の製造方法は、
一対の基板における少なくともいずれかの表面に、電極パターンと、当該電極パターンに電圧を供給する引出線パターンとを有する電極部を形成する工程と、
一対の基板の間に、光学材料層を封入する工程と、
前記引出線パターンの位置に対応する前記光学材料層に対して第1エネルギーを有する光を照射する工程と、
少なくとも前記引出線パターン以外の位置に対応する前記光学材料層に対して第1エネルギーとは異なる第2エネルギーを有する光を照射する工程と、を有することを特徴とする。
一対の基板における少なくともいずれかの表面に、電極パターンと、当該電極パターンに電圧を供給する引出線パターンとを有する電極部を形成する工程と、
一対の基板の間に、光学材料層を封入する工程と、
前記引出線パターンの位置に対応する前記光学材料層に対して第1エネルギーを有する光を照射する工程と、
少なくとも前記引出線パターン以外の位置に対応する前記光学材料層に対して第1エネルギーとは異なる第2エネルギーを有する光を照射する工程と、を有することを特徴とする。
例えば、前記第1エネルギーを有する光は、前記第2エネルギーを有する光に対して狭い幅で照射しても良い。
例えば、前記第1エネルギーを有する光は、前記第2エネルギーを有する光に対して低エネルギーで照射しても良い。
本発明によれば、引出線パターンの表示を抑制することができる。
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図1は本発明の一実施形態に係る表示装置が内蔵されたファインダ装置を有するカメラの概略図、
図2は図4に示す表示装置のII−II線に沿う概略断面図、
図3は図4に示す表示装置のIII−III線に沿う概略断面図、
図4は本発明の一実施形態に係る表示装置の電極パターンと光学材料層の各領域とを表す概略平面図、
図5は本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を示す一連の概略断面図、
図6は本発明の一実施形態に係る表示装置の表示状態と、比較例に係る表示装置の表示状態を比較した図である。
第1実施形態
図1は本発明の一実施形態に係る表示装置が内蔵されたファインダ装置を有するカメラの概略図、
図2は図4に示す表示装置のII−II線に沿う概略断面図、
図3は図4に示す表示装置のIII−III線に沿う概略断面図、
図4は本発明の一実施形態に係る表示装置の電極パターンと光学材料層の各領域とを表す概略平面図、
図5は本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を示す一連の概略断面図、
図6は本発明の一実施形態に係る表示装置の表示状態と、比較例に係る表示装置の表示状態を比較した図である。
第1実施形態
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る一眼レフカメラ2は、カメラボディ4を有し、カメラボディ4には、撮影レンズ6を備えるレンズ鏡筒7が交換可能に装着されている。一眼レフカメラ2としては、記録媒体8として銀塩フィルムを用いるフィルム式カメラでも、記録媒体8としてCCDやCMOS等の撮像素子が用いられる一眼レフ方式のデジタルカメラでもよい。
撮影レンズ6と記録媒体8との間には、被写体14からの被写体光L1をファインダ光学系へと反射するクイックリターンミラー10が配設されている。なお、図示していないが、記録媒体8とクイックリターンミラー10との間にはシャッタが設けられている。
記録媒体8の画像結像面と光学的に共役な位置には、ファインダスクリーン12が配置されており、被写体14からの被写体光L1はクイックリターンミラー10に反射されてファインダスクリーン12上に結像する。さらに、後述する光学素子21上で、ファインダスクリーン12上に結像された被写体像と、光学素子21による液晶表示とが重ね合わされる。光学素子21上に形成された合成像は、ペンタプリズム16および接眼レンズ18を介して、撮影者に観察される。なお、撮影の際には、クイックリターンミラー10が被写体光L1の光路上から光路外へと移動され、記録媒体8上に被写体像が結像される。
カメラボディ4内には、ファインダ装置が内蔵してある。ファインダ装置は、ファインダスクリーン12と、ペンタプリズム16と、接眼レンズ18と、表示装置20とを有する。表示装置20は、光学素子21と光源22とを有する。
表示装置20の光学素子21は、ファインダスクリーン12に隣接して配置されている。光学素子21としては、この実施形態では、高分子分散型液晶光学素子が用いられている。光学素子21の側方には、光学素子21を照明するための光源22が配置されている。光源22としては、たとえばLED等が用いられる。
光学素子21は矩形平板形状を有し、その断面を図2に示す。この実施形態に係る光学素子21は、透明な第1基板24aと、それに対向する透明な第2基板24bとによってZ方向に挟まれた空間に、光学材料層25を封入してある。光学材料層25は、側面(XおよびY方向)を透明シール材28によって封止されている。
透明な基板24aおよび24bの内面に、透明電極で構成される内部電極層36,37が、光学材料層25を挟むように形成される。第1基板24aの内面には、上部電極層36が形成されている。この実施形態では、上部電極層36は、パターン化されていない全面電極となっているが、後述の下部電極層37と同一の平面形状にパターン化してあっても良い。
第2基板24bの内面には、図4に示す下部電極層37が形成されている。図4中白抜きになっている部分は下部電極層37が存在しない部分である。下部電極層37には、光学素子21の中央部付近に、略C字形状の2つの表示パターン部40が、X方向中央を通るY軸に対して鏡面対称に配置されている。さらに、前記2つの表示パターン部40の間には、それぞれの表示パターン部40をつないだ後、Yの負方向へ光学素子端部まで伸びている引出線パターン部39が、略T字形状に配置されている。引出線パターン部39の線幅W1は、表示パターン部40への導通が確保される範囲で、できるだけ狭く形成する。
図4には示していないが、引出線パターン部39は、図1に示した配線52に接続されている。さらに配線52は図1に示したように駆動回路50に接続されている。このようにして表示パターン部40は、引出線パターン部39および配線52を介して、駆動回路50より電圧を供給される。
また下部電極層37には、表示パターン部40および引出線パターン部39を囲むように、ただしそれらのパターン部と絶縁してバックグラウンドパターン部38が配置されている。バックグラウンドパターン部38も、配線52を介して駆動回路50に接続され、電圧を供給される。
図4に示す下部電極層37の上には、図2に示す光学材料層25が配置されている。光学材料層25は2つの領域から成り、図4において2点鎖線で囲まれた領域に第1領域26が配置され、その余の領域に第2領域27が配置されている。第1領域26は、引出線パターン部39を覆うように略T字形状に形成されている。T字を構成する第1領域26の線幅W2は、引出線パターン部39の線幅W1よりも広い。カメラ等のファインダ装置に使用される光学素子21では、前記第1領域26の線幅W2は概ね5〜30μmとすることが望ましい。
図2に示すように、この実施形態に係る光学材料層25は、高分子媒体中に液晶粒子54が分散してある高分子分散液晶層である。特に、光学材料層25の第2領域27は、内部電極層36,37により電圧が無印加である場合には入射光を散乱させるが、電圧が印加されると入射光を透過させる。
しかし、光学材料層25の第1領域26は、図2に示すように、第2領域27に対して比較的少ない数の液晶粒子54が分散してある。したがって、電圧無印加時において、第1領域26の光散乱度は、第2領域27の光散乱度より低い。このように、この実施形態に係る光学素子21は、光散乱度の異なる複数の領域を有する複合領域型光学素子である。
このような光学材料層25を有する光学素子21の製造方法の一例としては、まず、片面に内部電極層36,37を形成した一対の透明な基板24a,24bを用意する。内部電極層36,37は、例えば、前記透明な基板24a,24bの表面を所定のパターンにマスクした後に、ITO(Indium Tin Oxide)膜を蒸着等することによって形成される。
図5(A)に示すように、前記透明な基板24a、24bとシール材28とを用いてセル70を形成し、屈折率等方性を有する材料(高分子モノマー)と屈折率異方性を有する材料(液晶)との混合液を前記セル70中に充填する。その後紫外線等の第1エネルギー光56を、まず第1領域26に相当する部分(図5Aにおけるセル70の中央部付近)に照射する。
この実施形態では、第1エネルギー光56は、集光レンズ58等を用いて、その照射幅を狭められている。第1エネルギー光56のエネルギーは、前記混合液を硬化させるための適切な値に設定するが、さらに好ましくは、後述の第2エネルギー光57のエネルギーより低エネルギーに設定する。
第1エネルギー光56を照射すると、照射領域のモノマーが光重合によって硬化してポリマーを形成する。照射幅および照射エネルギーを適切に調整することにより、前記照射領域は、図5(A)に示すように、周辺のモノマーを引き寄せ、液晶粒子54を照射領域の外へ押し出す。その結果、図5(B)に示すように、周辺の領域より比較的少ない数の液晶粒子54が分散してあるポリマーが、第1領域26に形成される。
その後、図5(C)に示すように、第1エネルギー光56とはエネルギーの異なる第2エネルギー光57を、前記セル70全体を照射する。それによって、第2領域27には、第1領域26に比較して多くの液晶粒子54が分散しているポリマーが形成される。このようにして、図4に示すような、第1領域26と第2領域27とからな光学材料層25が形成される。
この実施形態に係る光学素子21において、マーク表示を点灯させる場合には、図4に示すバックグラウンドパターン部38から光学材料層25に電圧を印加するが、表示パターン部40および引出線パターン部39からは前記材料層25に電圧を印加しない。このときの光学材料層25の状態を、断面図等を用いながら説明する。
図3は、図4におけるIII-III線に沿った断面を表したものである。図3に示すように、光源22からの照明光L2が、素子側方(X方向)より光学材料層25に入射する。このとき、光源22と光学素子21の間にフィルタ60を配置してもよい。
照明光L2は、まず、上部電極層36とバックグラウンドパターン部38に挟まれた領域に入射する。この断面における光学材料層25は、液晶粒子54が比較的多く存在し、電圧無印加時の光散乱度の高い第2領域27のみで構成されている。しかしながら、バックグラウンドパターン部38からは電圧が印加されているので、バックグラウンドパターン部38上の領域では、照明光L2は散乱せず、透過する。このとき、バックグラウンドパターン部38上の領域では、被写体光L1は散乱せず、透過してペンタプリズム16の方向へと進む。
次に照明光L2は、上部電極層36と表示パターン部40に挟まれた領域に入射する。表示パターン部40からは電圧が印加されていないので、照明光L2の一部は散乱し、散乱光L3を発生する。図3に示す断面における下部電極層37は、バックグラウンドパターン部38と表示パターン部40が交互に繰り返されている。したがって、それぞれの表示パターン部40上の領域において、ペンタプリズム16方向に散乱光L3が発生する。このとき、表示パターン部40上の領域においては、被写体光L1も散乱し、ペンタプリズム16の方向へは透過しにくい。
これに対して図4におけるII-II線に沿った断面では、図2に示すように、光学材料層25のX方向中央部に、第1領域26が形成されている。なお、光学素子21に入射した照明光L2が、バックグラウンドパターン部38と上部電極層36に挟まれた第2領域27を透過するのは、図3と同様である。
図2に示す断面では、下部電極層37のX方向中央付近には、引出線パターン部39が配置されている。引出線パターン部39は、先述の表示パターン部40と導通しているため、その上部にある第1領域26には電圧が印加されていない。しかし図5で示したように、第1領域26中には液晶粒子54が少ないため、光散乱度が低い。したがって、第1領域26に入射した照明光L2は、ほとんど散乱光L3を発生することなく、透過する。第1領域26に入射した被写体光L1もほとんど散乱することなくペンタプリズム16方向に透過する。
断面図2および断面図3の状態を総合すると、光学素子21は、全体として図6(A)に示すような表示を行う。光学素子21の中央部付近に、下部電極層37の表示パターン部40の形状に対応するマーク表示がなされている。このマーク表示は、図3に示した散乱光L3によるものである。また、下部電極層37の引出線パターン部39上には表示がなされていない。
図6(B)は、光学材料層が均一な光散乱度で構成された単一領域型表示装置の光学素子21’の表示状態を示したものである。光学材料層以外は、本発明の第1実施形態に係る表示装置20と同様に構成してある。この光学素子21’では、表示パターン部40’上と同様に、引出線パターン部39’上でも照明光L2により散乱光が形成され、また、被写体光L1が透過しないため、引出線パターンが表示されてしまう。
以上に述べたように、本実施形態に係る表示装置20は、マーク表示時に起こる引出線パターンの表示を抑制できる。また、本実施形態によれば、そのような表示装置を製造することができる。
また、本実施形態に係る表示装置20は、表示マークのむらや欠けを抑制し、量産性に優れた表示装置を実現できる。また、本実施形態によれば、そのような表示装置を製造することができる。
その他の実施形態
その他の実施形態
被写体光L1が入射もしくは出射しない領域に対応する基板24a,24bおよび内部電極層36,37の構成部分は、不透明部材で構成することも可能である。表示装置20が被写体光L1の光路外に配置されている場合は、基板24a、24bのいずれか一方および内部電極層36,37のいずれか一方の全面を不透明部材で構成してもよい。このような構成とすることで、光学材料層25の中での意図しない光の散乱を抑制し、マーク表示のコントラストを向上させ得る。
21… 光学素子
25… 光学材料層
26… 第1領域
27… 第2領域
37… 下部電極層
39… 引出線パターン部
40… 表示パターン部
25… 光学材料層
26… 第1領域
27… 第2領域
37… 下部電極層
39… 引出線パターン部
40… 表示パターン部
Claims (11)
- 一対の基板の間に封入された光学材料層と、
前記一対の基板の少なくとも一方の表面に形成され、前記光学材料層に電圧を印加するための電極パターンと、当該電極パターンに電圧を供給する引出線パターンとを有する電極部とを有し、
前記光学材料層の前記引出線パターンの位置に対応する第1の領域の光散乱度が、前記電極パターンの位置に対応する第2の領域の光散乱度よりも低い表示装置。 - 前記電極パターンは、表示マークに対応する位置に形成されている請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1の領域の幅が5〜30μmである請求項1または2に記載の表示装置。
- 前記光学材料層が、高分子媒体中に液晶粒子が分散してある高分子分散液晶層であり、前記第1の領域では、前記第2の領域に対して分散されている液晶粒子が少ない請求項1〜3のいずれかに記載の表示装置。
- 前記電極部は少なくとも一部が透明である請求項1〜4のいずれかに記載の表示装置。
- 前記一対の基板のうちの少なくとも一方が、少なくとも一部において透明である請求項1〜5のいずれかに記載の表示装置。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の表示装置が、カメラのファインダ内に配置してあり、前記ファインダ内を透過する被写体光が、前記表示装置を透過するように構成してあるファインダ装置。
- 請求項7に記載のファインダ装置を有するカメラ。
- 一対の基板における少なくともいずれかの表面に、電極パターンと、当該電極パターンに電圧を供給する引出線パターンとを有する電極部を形成する工程と、
一対の基板の間に、光学材料層を封入する工程と、
前記引出線パターンの位置に対応する前記光学材料層に対して第1エネルギーを有する光を照射する工程と、
少なくとも前記引出線パターン以外の位置に対応する前記光学材料層に対して第1エネルギーとは異なる第2エネルギーを有する光を照射する工程と、を有する表示装置の製造方法。 - 前記第1エネルギーを有する光は、前記第2エネルギーを有する光に対して狭い幅で照射する請求項9に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1エネルギーを有する光は、前記第2エネルギーを有する光に対して低エネルギーで照射する請求項9または10に記載の表示装置。
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WO2010140493A1 (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-09 | 旭硝子株式会社 | 被観察物からの光透過機能を有する画像表示装置 |
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- 2007-02-16 JP JP2007036279A patent/JP2008203325A/ja active Pending
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