JP2008195428A - Sterilizer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ボトルの口を封冠するキャップの殺菌装置に関する。 The present invention relates to a cap sterilizer for sealing a mouth of a bottle.
飲料水や液体調味料等の充填物をボトルに充填する充填工場においては、ボトルに充填物を充填した後、キャップによりボトルの口を封冠するが、この封冠に先立ち、キャップの殺菌が行われる。 In filling factories that fill bottles with fillings such as drinking water and liquid seasonings, the bottle mouth is sealed with a cap after filling the bottle, but prior to this sealing, the cap is sterilized. Done.
キャップの殺菌には、過酸化水素や紫外線照射が多く用いられているが、近年、紫外線よりも殺菌力に勝る電子線照射による殺菌技術が注目され、鋭意開発が行われている(例えば特許文献1、2参照)。 Hydrogen peroxide and ultraviolet irradiation are often used for sterilization of caps, but in recent years, sterilization technology by electron beam irradiation, which has superior sterilizing power than ultraviolet rays, has attracted attention and has been intensively developed (for example, patent documents) 1 and 2).
キャップを殺菌するには、過不足のない量の電子線を照射する必要がある。電子線の照射量が少ないと十分な殺菌が行えず、また、特にプラスチック製のキャップの場合、過度な電子線の照射を行うと、キャップの変色や溶解といった不良にも繋がるからである。
また、電子線照射量が、キャップの部位によって大きくばらつかないよう、なるべく均一に電子線を照射するのが好ましい。そこで、例えば特許文献2に記載の技術においても、キャップを回転させながら電子線を照射することで、電子線照射量の均一化を図ろうとしているが、以下に示すような理由から、現状技術には課題が残されている。
In order to sterilize the cap, it is necessary to irradiate a sufficient amount of electron beams. This is because if the amount of electron beam irradiation is small, sufficient sterilization cannot be performed, and particularly in the case of a plastic cap, excessive irradiation of the electron beam leads to defects such as discoloration and dissolution of the cap.
Further, it is preferable to irradiate the electron beam as uniformly as possible so that the dose of the electron beam does not vary greatly depending on the part of the cap. Therefore, for example, even in the technique described in Patent Document 2, an attempt is made to equalize the electron beam irradiation amount by irradiating the electron beam while rotating the cap. There are still challenges.
図10(a)に示すように、キャップ1を殺菌する場合、キャップ1の内周面に電子線が照射されるよう、有底筒状のキャップ1の開口側1aを電子線照射側に向けている。このため、キャップ1の天面1bについては電子線がよく照射されるものの、キャップ1の側面1cについては、電子線照射方向がキャップ1の側面1cの高さ方向にも一致しているため、電子線の十分な照射が行いにくい。
そこで、従来より、反射板を設けて電子線を反射させてキャップ1の側面1cに照射されるようにしたり(例えば、特許文献3参照。)、電子線を磁界により変更させてキャップ1の内側から電子線が側面1cに照射されるようにする等の工夫がなされている(例えば、特許文献4参照。)。しかし、これについても、依然として更なる改善が必要となっている。
As shown in FIG. 10A, when the
Therefore, conventionally, a reflecting plate is provided to reflect the electron beam so that the
また、図10(b)に示すように、電子線によるキャップ1の殺菌は、磁界を印加することで一定の範囲内で電子線をスキャンさせながら、この範囲内をキャップ1を通過させることで行う。このとき、スキャン範囲の中央部において電子線がキャップ1の天面1bに直交して照射されるときには、前記のように天面1bに対して側面1cに電子線が照射されにくく、しかも側面1cの断面寸法が大きい高さ方向から電子線が照射されるため、側面1cに対する電子線照射量が少ない。これに対し、スキャン範囲の両端部においては、電子線はキャップ1に斜めから照射される。この場合、キャップ1の側面1cに斜めから電子線が照射されるため、従来よりもキャップ1の側面1cに対する電子線の照射量は増大する。一方、キャップ1の天面1bに対しては電子線が斜めから照射されるために、直交する方向から照射される場合に比較すると電子線の照射量は減少する。このように、スキャン範囲の端部と中央部とではキャップ1への電子線の照射状況が異なるため、照射の均一性を妨げることになる。
Further, as shown in FIG. 10B, the sterilization of the
また、このような電子線による殺菌は、キャップ1だけでなく、これと並行して搬送されるボトルについても行われる。この場合、一つの電子線発生源で発生した電子線を、ボトルに照射しながら、複数パルスに1回だけ、磁界を印加することで電子線を偏向させてキャップ1に照射する。つまり、キャップ1に対して電子線は間欠的に照射される。このため、電子線照射の均一化のためにキャップ1を回転しながら搬送していても、照射されるタイミングによっては、電子線が照射される毎にキャップの向きが同じ向きとなっていてキャップ1の特定部分にのみ繰り返し電子線が照射されることもあり、これでは照射の均一性が損なわれる。
Further, such sterilization with an electron beam is performed not only on the
この他、殺菌装置におけるキャップ殺菌の処理量を向上させるため、キャップ1を複数列に並列して搬送しながら電子線を照射する構成も考えられる。図10(c)に示すように、例えばキャップ1を2列に並列させる場合、電子線は2列のキャップ1の中間部を中心として照射される。すると、各列においては、電子線の照射中心に近い側では電子線照射量が多く、遠い側では電子線照射量が少なくなってしまい、これも照射の均一性を損なう要因となる。
このように、電子線をキャップ1に均一に照射するのは難しく、現状以上に電子線を均一に照射できる技術が要求されている。
本発明は、このような技術的課題に基づいてなされたもので、電子線をより均一に照射してキャップの殺菌を確実に行うことのできる殺菌装置を提供することを目的とする。
In addition, in order to improve the throughput of cap sterilization in the sterilization apparatus, a configuration in which the electron beam is irradiated while the
As described above, it is difficult to uniformly irradiate the
The present invention has been made based on such a technical problem, and an object of the present invention is to provide a sterilization apparatus that can sterilize a cap reliably by irradiating an electron beam more uniformly.
かかる目的のもとになされた本発明の殺菌装置は、容器のキャップに電子線を照射することでキャップを殺菌する殺菌装置であって、電子線を発生する電子線発生源と、電子線発生源で発生した電子線を予め定められた範囲内でスキャンさせる電子線スキャン部と、キャップを回転させながら前記の範囲を通過させるキャップ搬送部と、キャップに対する電子線の照射の均一性を高めるため、電子線スキャン部で電子線を前記の範囲内でスキャンさせる間に、電子線発生源にて電子線を発生させるための加速電圧を変動させるコントローラと、を備える。加速電圧を変動させることによって、前記の範囲内を電子線がスキャンする間に、電子線の照射量を変動させることができる。
電子線がスキャンするときに、前記範囲の中央部において電子線はキャップに対して直交する方向から照射されるのに対し、前記範囲の両端部においては電子線が斜めから照射されるため、キャップの側面における電子線の照射が多い。キャップに対する電子線の照射は、キャップの側面において特に不足する。これを補うため、コントローラでは、前記の範囲の両端部において加速電圧を増大させるのが好ましい。また、キャップの天面と側面との照射量のバランスを取るために、スキャン範囲の中央部において加速電圧を従来以上に減少させ、天面の照射量を相対的に抑えるのが好ましい。
The sterilization apparatus of the present invention made for such an object is a sterilization apparatus for sterilizing a cap by irradiating the cap of the container with an electron beam, an electron beam generation source for generating an electron beam, and an electron beam generation An electron beam scanning unit that scans an electron beam generated at a source within a predetermined range, a cap transport unit that passes the above range while rotating the cap, and the uniformity of electron beam irradiation on the cap And a controller that varies the acceleration voltage for generating the electron beam at the electron beam generation source while the electron beam scanning unit scans the electron beam within the above range. By varying the acceleration voltage, the electron beam irradiation amount can be varied while the electron beam scans within the above range.
When the electron beam is scanned, the electron beam is irradiated from the direction orthogonal to the cap at the center of the range, whereas the electron beam is irradiated obliquely at both ends of the range. There are many electron beam irradiations on the side surface. The irradiation of the electron beam to the cap is particularly insufficient on the side surface of the cap. In order to compensate for this, the controller preferably increases the acceleration voltage at both ends of the range. Further, in order to balance the irradiation amount between the top surface and the side surface of the cap, it is preferable to reduce the acceleration voltage at the center of the scan range more than before and relatively suppress the irradiation amount on the top surface.
また、このようにコントローラで加速電圧を変動させると、前記の範囲内で照射される電子線のスキャン軌跡が変動する。
キャップ搬送部においてキャップを複数列に並行して搬送する場合、この電子線のスキャン軌跡の変動を利用して、各列のキャップに対する電子線照射の均一性を向上できる。複数列に並行してキャップを搬送する場合、列間の中心に電子線の照射中心が位置するため、列の内側において特に強く電子線が照射されるためである。そこで、スキャン軌跡が変動する電子線が、各列のキャップに均等に照射されるよう、電子線スキャン部とキャップ搬送部の相対的な位置を設定するのが好ましい。この場合、各列のキャップに対する電子線の照射量を線量計で測定し、各列間で照射量が均一化されるように設定すればよい。このとき、電子線スキャン部に対するキャップ搬送部側の位置を機械的に設定しても良いし、電子線の偏向角度を変更させることでキャップ搬送部側に対する電子線のスキャン位置を変更しても良い。
Further, when the acceleration voltage is changed by the controller in this way, the scan locus of the electron beam irradiated within the above range is changed.
When the caps are transported in parallel in a plurality of rows in the cap transport unit, the uniformity of electron beam irradiation with respect to the caps in each row can be improved using the variation in the scan trajectory of the electron beams. This is because when the caps are transported in parallel to a plurality of rows, the electron beam irradiation center is located at the center between the rows, and therefore the electron beam is particularly intensely irradiated inside the rows. Therefore, it is preferable to set the relative positions of the electron beam scanning unit and the cap transporting unit so that the electron beams whose scan trajectory fluctuates are evenly applied to the caps in each column. In this case, the irradiation amount of the electron beam with respect to the cap of each column may be measured with a dosimeter, and the irradiation amount may be set to be uniform between the columns. At this time, the position on the cap conveyance unit side with respect to the electron beam scanning unit may be mechanically set, or the electron beam scan position on the cap conveyance unit side may be changed by changing the deflection angle of the electron beam. good.
電子線スキャン部で電子線を間欠的にスキャンすることによって、キャップは前記の範囲を通過する間に電子線が複数回照射される。キャップを回転しながら搬送していても、電子線がスキャンされる毎にキャップの角度が同じであれば、キャップに対して電子線は同じ方向(キャップ中心に対する角度)から照射されることになる。そこで、キャップ搬送部は、電子線がスキャンされる毎にキャップの角度が前回のスキャン時とは異なるようにキャップを回転させるのが好ましい。照射の均一性をさらに高めるには、電子線がスキャンされる毎にキャップがなるべく小さな角度で回転するのが好ましい。しかし、あまりに回転角度が小さいと照射に時間が掛かるため、前記の角度は60〜120°、好ましくは90°前後とするのが良い。
また、前記の範囲の両端部と中央部においては、キャップに対する電子線の照射方向が異なるため、特にキャップの側面に対する電子線の照射量が異なる。そこで、キャップ搬送部は、キャップが前記の範囲を通過する間に、少なくともキャップを3回転、つまり前記の範囲の両端部および中央部でそれぞれ少なくとも1回転させるのが好ましい。
By scanning the electron beam intermittently with the electron beam scanning unit, the cap is irradiated with the electron beam a plurality of times while passing through the range. Even if the cap is rotated and conveyed, if the angle of the cap is the same every time the electron beam is scanned, the electron beam is irradiated to the cap from the same direction (angle with respect to the cap center). . Therefore, it is preferable that the cap conveyance unit rotate the cap so that the angle of the cap is different from that at the previous scan every time the electron beam is scanned. In order to further improve the uniformity of irradiation, it is preferable to rotate the cap at an angle as small as possible every time the electron beam is scanned. However, if the rotation angle is too small, it takes time to irradiate. Therefore, the angle is preferably set to 60 to 120 °, preferably around 90 °.
Moreover, since the irradiation direction of the electron beam with respect to a cap differs in the both ends and center part of the said range, especially the irradiation amount of the electron beam with respect to the side surface of a cap differs. In view of this, it is preferable that the cap transport unit rotate the cap at least three times, that is, at least one rotation at both ends and the center of the range while the cap passes through the range.
また、キャップ搬送部の近傍に、キャップに照射されずに通過した電子線をキャップ側に反射する反射部材を設けるのが好ましい。 In addition, it is preferable to provide a reflecting member that reflects the electron beam that has passed through the cap without being irradiated to the cap side in the vicinity of the cap conveyance unit.
本発明は、容器のキャップに電子線を照射することでキャップを殺菌する殺菌装置であって、電子線を発生する電子線発生源と、電子線発生源で発生した電子線を予め定められた範囲内でスキャンさせる電子線スキャン部と、キャップを回転させながら前記の範囲を通過させるキャップ搬送部と、キャップに対する電子線の照射の均一性を高めるため、電子線スキャン部で電子線を前記の範囲内でスキャンさせる間に、電子線発生源にて電子線を発生させるための加速電圧、またはキャップ搬送部におけるキャップの搬送方向に直交する方向に電子線を偏向させるための電流を変動させ、電子線スキャン部における電子線のスキャン軌跡を変動させるコントローラと、を備えることを特徴とする殺菌装置とすることもできる。この場合、スキャン軌跡は、例えば「へ」の字型のほか、波型等、さまざまなものとすることが可能である。 The present invention is a sterilization apparatus for sterilizing a cap by irradiating the cap of the container with an electron beam, and the electron beam generating source for generating the electron beam and the electron beam generated by the electron beam generating source are predetermined. An electron beam scanning unit that scans within the range, a cap transport unit that passes through the range while rotating the cap, and an electron beam scanning unit that increases the uniformity of electron beam irradiation to the cap While scanning within the range, the acceleration voltage for generating the electron beam at the electron beam generation source, or the current for deflecting the electron beam in the direction perpendicular to the cap transport direction in the cap transport unit, is changed, It is also possible to provide a sterilizing apparatus comprising a controller that varies the scanning trajectory of the electron beam in the electron beam scanning unit. In this case, the scan trajectory can be various, for example, a wave shape in addition to the character shape of “he”.
また、本発明は、容器のキャップに電子線を照射することでキャップを殺菌する殺菌装置であって、電子線を発生する電子線発生源と、電子線発生源で発生した電子線を予め定められた範囲内でスキャンさせる電子線スキャン部と、キャップを回転させながら前記の範囲を通過させるキャップ搬送部と、を備え、電子線スキャン部で電子線を間欠的にスキャンすることによって、キャップは前記の範囲を通過する間に電子線が複数回照射され、キャップ搬送部は、キャップに対する電子線の照射の均一性を高めるため、電子線をスキャンされる毎にキャップの角度が前回のスキャン時とは異なるようにキャップを回転させることを特徴とする殺菌装置とすることもできる。 The present invention is also a sterilization apparatus for sterilizing a cap by irradiating the cap of the container with an electron beam, wherein an electron beam generating source for generating an electron beam and an electron beam generated by the electron beam generating source are determined in advance. An electron beam scanning unit that scans within the range, and a cap transport unit that passes the range while rotating the cap, and the cap is scanned by intermittently scanning the electron beam with the electron beam scanning unit. The electron beam is irradiated a plurality of times while passing through the above range, and the cap transport unit increases the uniformity of the electron beam irradiation on the cap. It is also possible to provide a sterilizer characterized in that the cap is rotated differently from the above.
本発明によれば、キャップに電子線をスキャンして照射させるにあたり、電子線を発生させるための加速電圧の変動、電子線のスキャン軌跡の変動、電子線の照射タイミングとキャップの回転角度の調整、反射板の設置等を行うことによって、キャップに対する電子線照射の均一性を向上させることができる。特に、加速電圧やスキャン軌跡のコントロールは、ハードウェア(配線)の変更やコントローラにおけるソフトウェアの変更で済むので、装置のハードウェア的な変更に比較すれば手間やコストも掛からないというメリットも有る。 According to the present invention, when scanning and irradiating an electron beam to a cap, fluctuations in acceleration voltage for generating the electron beam, fluctuations in the scanning trajectory of the electron beam, adjustment of the irradiation timing of the electron beam and the rotation angle of the cap The uniformity of the electron beam irradiation to the cap can be improved by installing a reflector or the like. In particular, the acceleration voltage and scan trajectory can be controlled by changing hardware (wiring) or software in the controller. Therefore, there is an advantage that labor and cost are not required as compared to hardware changes of the apparatus.
以下、添付図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳細に説明する。
図1は、本実施の形態におけるボトル・キャップ用の殺菌装置10の概略構成を説明するための図である。
この図1に示す殺菌装置10は、ボトル100に飲料を充填する充填装置の前段側に設けられるものである。この殺菌装置10は、ボトル100を搬送するボトル搬送機構20と、キャップ200を搬送するキャップ搬送機構(キャップ搬送部)30と、電子線を照射して殺菌を行う電子線照射部(電子線スキャン部)40とを備えて構成されている。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the accompanying drawings.
FIG. 1 is a view for explaining a schematic configuration of a
The
ボトル搬送機構20の構成について本発明で何らの限定を行う意図はないが、例えば無端状の搬送ベルト21を循環駆動させながら、搬送ベルト21上にボトル100を一定間隔ごとに割り出していくことにより、ボトル100を搬送ベルト21上に所定間隔で配列した状態で搬送していく構成のもの等が採用できる。ボトル搬送機構20については、これ以外にもいかなる構成のものを採用しても良い。なお、搬送ベルト21上で、ボトル100はその中心軸線を略鉛直方向に合致させて保持されるようになっている。
Although there is no intention to limit the configuration of the
本実施の形態の電子線照射部40では、電子線発生源41と、偏向用磁石42と、スキャン用磁石43と、ホーン44と、コントローラ50とを備える。
図2に示すように電子線発生源41では、ビーム状の電子線を発生し、これを、ボトル搬送機構20によって搬送されるボトル100、キャップ搬送機構30によって搬送されるキャップ200に照射する。
The electron
As shown in FIG. 2, the electron
本実施の形態において、電子線発生源41では、図3に示すように、例えば60Hzといった低周波のパルス電流I1により電子線を発生するようになっている。この、電子線発生源41を駆動するためのパルス電流I1は、コントローラ50によってその発生が制御される。このような電子線発生源41としては、いわゆる電子銃を用いることができ、コントローラ50においては、電子線発生源41において電子線を発生させるための加速電圧をも制御する。
In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the electron
ここで、以下の説明において、説明の理解を助けるため、ボトル搬送機構20、キャップ搬送機構30におけるボトル100、キャップ200の搬送方向をX軸、X軸に直交し、電子線発生源41におけるボトル100に対する電子線の照射方向をZ軸、これらX軸およびZ軸に直交する方向をY軸と定める。
Here, in the following description, in order to facilitate understanding of the description, the
さて、偏向用磁石42、スキャン用磁石43は、それぞれは、印加される電流に応じて発生する磁界が変化するものである。
偏向用磁石42は、電子線発生源41から照射される電子線を囲むように設けられ、発生する磁界によって電子線をX軸回りに所定角度偏向させるよう配置されている。この偏向用磁石42には、コントローラ50の制御により、電子線発生源41で電子線を発生するパルス電流I1に同期させて、パルス電流I1で予め定められた数のパルスを出力する毎に所定強度の電流I2が出力される。出力された電流I2により偏向用磁石42では磁界を発生し、この磁界により電子線を偏向させる。偏向用磁石42で磁界を発生していない場合、電子線はボトル搬送機構20上のボトル100に照射され、偏向用磁石42で磁界を発生したときには、電子線は偏向してキャップ搬送機構30上のキャップ200に照射されるようになっている。
Each of the
The
スキャン用磁石43は、偏向用磁石42の直下に配置され、偏向用磁石42で偏向を行っていないときの電子線の進路と、偏向を行っているときの電子線の進路の双方を囲むように設けられている。
スキャン用磁石43には、コントローラ50の制御により、電子線発生源41で電子線を発生するパルス電流I1の1パルスごとに、一定の変化幅で強度が連続的に変化する電流I3が印加される。このように、スキャン用磁石43に印加される電流I3が一定時間(パルス電流I1の1パルスに相当した時間)内に変化すると、スキャン用磁石43で発生する磁界強度が変化する。これによって、電子線の偏向量、すなわち電子線の偏向角度が連続的に変化し、電子線が一定範囲(一定角度)内をスキャンするのである。スキャン用磁石43は、このときの電子線のスキャン方向がX軸方向に合致するように配置される。
なお、電流I3の変化幅、変化開始時、変化終了時の電流強度については何ら限定する意図は無いが、電子線は当初Z軸方向に照射されるため、この照射方向を基準として、両側に等しい角度だけスキャンが行われるよう、変化開始時の磁界強度と、変化終了時の磁界強度を、正負で絶対値が等しくなるように調整するのが好ましい。
前記したように、このような電流I3によって行われる電子線のスキャンは、電子線発生源41で電子線を発生するパルス電流I1の1パルスごとに行われる。つまり、ボトル搬送機構20上のボトル100に向けて電子線を照射しているときはもちろん、前記の偏向用磁石42で数パルスに1回、キャップ搬送機構30上のキャップ200に向けて電子線を偏向させて照射しているときにも、電子線の一定幅でのスキャンが行われる。
The
Under the control of the
Although there is no intention to limit the change width of the current I3, the current intensity at the start of the change, and the current intensity at the end of the change, the electron beam is initially irradiated in the Z-axis direction. It is preferable to adjust the magnetic field intensity at the start of the change and the magnetic field intensity at the end of the change so that the absolute values are equal to each other so that the scan is performed at an equal angle.
As described above, the electron beam scan performed by the current I3 is performed for each pulse of the pulse current I1 that generates the electron beam by the electron
図2に示したように、ホーン44は、上記のように、偏向用磁石42による偏向、スキャン用磁石43によるスキャンを行っているときの電子線の照射範囲を取り囲むように設けられる。したがって、X軸方向からホーン44を側面視すると、ホーン44は、ボトル搬送機構20に向けて略鉛直下方に延びる第一ホーン部44aと、第一ホーン部44aから分岐するように形成されて、キャップ搬送機構30に向けて斜め下方に延びる第二ホーン部44bとを有し、第一ホーン部44a、第二ホーン部44bのそれぞれは、図1に示したように、Y軸方向から見たときに、偏向用磁石42およびスキャン用磁石43から下方に行くに従いその幅が漸次広がるテーパ形状をなしている。
As shown in FIG. 2, the
図4に示すように、キャップ搬送機構30は、キャップ200を例えば2列に並べて搬送する。このキャップ搬送機構30は、二本のスクリュー部材31A、31Bが間隔を隔てて互いに平行に配置され、キャップ200の天面200aに接触するよう設けられている。そして、これらスクリュー部材31A、31B上に位置する2列のキャップ200の両側と、2列のキャップ200の間には、ガイド部材32、33、34が設けられる。
As shown in FIG. 4, the
両側に位置するガイド部材32、33は、スクリュー部材31A、31B上のキャップ200の側面200bに対向するガイド面32a、33aに、ラックギア状の歯が連続して形成されている。
そして、キャップ200がスクリュー部材31A、31Bの外周面に形成されている螺旋状の溝31aの中に収まった状態で、ガイド部材32、33、34によってキャップ200の側方への移動が規制される。この状態でスクリュー部材31A、31Bを図示しないモータ等で回転駆動させると、キャップ200はガイド部材32、33、34に沿った方向に搬送される。このとき、スクリュー部材31A、31Bは、一方のスクリュー部材31Aと他方のスクリュー部材31Bで溝31aの巻き方向が互いに異なるように形成され、さらに図示しないモータ等で互いに異なる方向に回転駆動されて、スクリュー部材31A、31Bの上面側においてキャップ200を両側のガイド部材32、33に押し付ける。ガイド部材32、33には、前述したようにガイド面32a、33aにラックギア状の歯が形成されているため、ガイド部材32、33に押し付けられたキャップ200は、その外周面に形成された溝がガイド部材32、33の歯に噛み合い、ガイド部材32、33との間の摩擦が高まってキャップ200は確実に回転しながら搬送される。
なお、上記のキャップ搬送機構30は、キャップ200を確実に回転させながら搬送することができるのであれば、上記した以外のいかなる構成であっても良い。もちろん、2列で並列してキャップ200を搬送する構成に限らず、1列のみ、あるいは3列以上で並列して搬送するような構成とすることも可能である。
In the
Then, the movement of the
The
殺菌装置10においては、このようなキャップ搬送機構30によりガイド部材32、33に沿って回転しながら搬送されるキャップ200に対し、コントローラ50の制御によって電子線照射部40で電子線を一定のスキャン領域内でスキャンさせて照射することで、キャップ200の全体に均一に電子線を照射して殺菌を行う。ここで、コントローラ50においては、キャップ200に対する電子線照射の均一性をさらに向上させるため、以下に示すような構成を採用するのが好ましい。
In the
コントローラ50では、前述したように、電子線発生源41を駆動するためのパルス電流I1とともに、電子線発生源41において電子線を発生させるための加速電圧を制御している。ここで、コントローラ50では、図5に示すように、パルス電流I1によって電子線発生源41からキャップ200に対して電子線を1回照射する間に、加速電圧Eを変動させる。具体的には、図1における電子線のスキャン範囲の両端部P1、P2に近づくにつれて加速電圧Eを高め、スキャン範囲の中央部P3に近づくにつれて加速電圧Eを低下させる。したがって、加速電圧Eを、略V字状(あるいは略U字状)に連続的に変化させる。
As described above, the
これにより、スキャン範囲の両端部P1、P2においては、中央部P3よりも加速電圧Eが高められることによって、中央部P3で照射される電子線よりも電子線の照射量が増大する。前述したように、キャップ200に対しては、スキャン範囲の中央部P3においては天面200aの内側にほぼ直交する方向から電子線が照射されるため、天面200aに対する電子線の照射量をL1、側面200bに対する電子線の照射量をL2とすると、
L1>L2
となる。一方、スキャン範囲の両端部P1、P2においては、キャップ200に対して斜めから電子線が照射されるため、ここでの天面200aにおいては電子線の照射量L3が減り、
L3<L1
となる。一方、側面200bにおいては、電子線の照射量L4が増大し、
L4>L2
となる。しかも、両端部P1、P2において加速電圧Eが増大しているため、加速電圧Eを一定にする場合に比較して電子線の照射量L4はさらに大きくなっている。つまり、スキャン範囲の全体では、キャップ200の側面200bに対する電子線の照射量が増大し、側面200bの殺菌を確実に行うことが可能となる。
このとき、中央部P3における加速電圧Eを、従来の一定電圧を印加していたとき(図5中、二点鎖線で示した。)の電圧値よりも低く設定することで、キャップ200の天面200aに対する電子線照射量を抑えることができ、側面200bとの照射量のバランス化が図りやすくなる。
As a result, at both ends P1 and P2 of the scan range, the acceleration voltage E is higher than that at the central portion P3, so that the amount of electron beam irradiation is higher than that at the central portion P3. As described above, the
L1> L2
It becomes. On the other hand, since both ends P1 and P2 of the scanning range are irradiated with an electron beam obliquely with respect to the
L3 <L1
It becomes. On the other hand, on the
L4> L2
It becomes. In addition, since the acceleration voltage E increases at both ends P1, P2, the electron beam dose L4 is further increased as compared with the case where the acceleration voltage E is kept constant. That is, in the entire scanning range, the electron beam irradiation amount on the
At this time, the acceleration voltage E at the central portion P3 is set to be lower than the voltage value when the conventional constant voltage is applied (indicated by a two-dot chain line in FIG. 5). The amount of electron beam irradiation with respect to the
また、上記のように加速電圧Eを変化させると、図6に示すように、スキャン範囲における電子線のスキャン軌跡Sが、キャップ搬送機構30を電子線照射方向から見たときに、略「へ」の字状となる。これは、キャップ200に電子線を照射するときには、偏向用磁石42において磁界を発生して電子線を偏向させるが、磁界強度が一定(つまりパルス電流I1の電流値が一定)である場合、加速電圧Eが高いほど電子線は偏向しにくく、加速電圧Eが低いほど電子線は偏向しやすいからである。つまり、加速電圧Eが高いスキャン範囲の両端部P1、P2においては偏向量が少なく、電子線の照射位置はボトル搬送機構20側に近づき、加速電圧Eが低いスキャン範囲の中央部P3においては偏向量が多く、電子線の照射位置はボトル搬送機構20から遠ざかる。
Further, when the acceleration voltage E is changed as described above, as shown in FIG. 6, the scan trajectory S of the electron beam in the scan range is substantially “to” when the
これによって、キャップ200を2列で搬送するキャップ搬送機構30において、キャップ200の一方の列と他方の列のそれぞれに電子線の偏向角度を振ることができる。従来であれば、電子線は、2列の中心に向かって照射しており、それぞれの列においては、列の内側(ガイド部材34に近い側)で電子線の照射量が多く、列の外側では照射量が少なくなる。これに対し、前記のように加速電圧Eを変動させて電子線の偏向角度を変えることで、1回のスキャン中に、各列のキャップ200の中心に向けて電子線を照射することも可能となる。これによって、それぞれの列におけるキャップ200に対する電子線照射均一化を図ることができる。
As a result, in the
なお、電子線のスキャン軌跡Sが略「へ」の字状となる場合、スキャン範囲の両端部P1、P2において一方の列側に電子線が偏向し、中央部P3においては他方の列側に電子線が偏向する。このとき、一方の列と他方の列との間では、集中して電子線が照射される時間帯が異なり、両者の間でキャップ200に対する電子線の累計照射量に差がつくことも考えられる。この場合、加速電圧Eを全体的に上昇あるいは下降させることでスキャン軌跡Sをオフセットさせても良いし、キャップ搬送機構30における搬送列を一方の列側あるいは他方の列側にオフセットさせて設けるようにしても良い。これによって、2列の間でキャップ200に対する照射量の均等化を図ることができる。
When the scanning trajectory S of the electron beam is substantially "", the electron beam is deflected to one column side at both ends P1 and P2 of the scan range, and to the other column side at the central portion P3. The electron beam is deflected. At this time, the time zone in which the electron beam is irradiated in a concentrated manner is different between one column and the other column, and it is also conceivable that there is a difference in the total amount of electron beam irradiation to the
上記のように加速電圧Eを変動させることで、電子線の照射軌道をコントロールができると言える。そこで、上記のように「へ」の字状の軌跡に限らず、例えばスキャンしながら波形を描くようなスキャン軌跡Sとすることや、キャップ200の搬送方向に斜めに横切るようなスキャン軌跡S等とすることも可能である。
また、複数列で搬送されるそれぞれの列において照射量の均等化を図るという観点からすると、加速電圧Eではなく、偏向用磁石42において電子線の偏向のために流す電流I2の強度を、1回のスキャンの間に変動させるよう、コントローラ50で制御しても良い。これによっても上記と同様に電子線の照射軌道をコントロールすることが可能である。この場合、加速電圧Eは一定とする場合をも本発明は許容する。ただし、加速電圧Eを図5のように変動させることが、キャップ200に対する電子線照射量の均一化という観点からは好ましい。
It can be said that the electron beam irradiation trajectory can be controlled by varying the acceleration voltage E as described above. Therefore, the trajectory is not limited to the “he” -shaped trajectory as described above, for example, a scan trajectory S that draws a waveform while scanning, a scan trajectory S that crosses the
Further, from the viewpoint of equalizing the irradiation amount in each row transported in a plurality of rows, not the acceleration voltage E but the intensity of the current I2 flowing for deflecting the electron beam in the
さらに、例えばキャップ200を単列で搬送している場合等において、加速電圧Eを変動させることでスキャン範囲の両端部P1、P2と中央部P3で電子線の照射量をコントロールしつつ、電子線の偏向角度を変動させず直線的なスキャン軌跡Sとしたい場合には、加速電圧Eの変動と連動して偏向のための電流I2を変動させればよい。
Further, for example, when the
ところで、キャップ200に対する電子線のスキャン照射は、図3にも示したように、パルス電流I1の数パルスに一回、電子線を偏向することで行われる。したがって、キャップ200に対しては、電子線が間欠的に照射されることになる。
キャップ200は、キャップ搬送機構30によって回転しながら搬送されているため、キャップ200の回転と電子線の照射タイミングが同期していると、電子線を照射するときには毎回キャップ200が同じ向きとなっていて、同じ方向(キャップ200の中心に対する角度方向)から電子線が照射されてしまうことになる。したがって、図7に示すように、キャップ搬送機構30におけるキャップ200の搬送速度(キャップ200の回転速度)を調整し、間欠的に電子線を照射する毎にキャップ200の向きが異なるようにするのが好ましい。例えば、電子線を偏向して照射する毎にキャップ200が90°、あるいは120°回転するようにキャップ200の搬送速度を設定するのである。このようにすることで、キャップ200に対し、全周方向から電子線が照射され、均一な照射を行うことができる。なお、図7において、それぞれのキャップ200には、黒塗り部分が存在するが、これはキャップ200が回転していることを示すための印であり、実際のキャップ200においてはこのような印は不要である。
By the way, the scanning irradiation of the electron beam to the
Since the
また、前述したように、キャップ200に対する電子線の照射角度が、スキャン範囲の両端部P1、P2と中央部P3とで異なる。そこで、両端部P1、P2、中央部P3のそれぞれの領域において、キャップ200が少なくとも1回転、つまりスキャン範囲を通過する間にキャップ200が3回転するように、キャップ搬送機構30でキャップ200を搬送するのが好ましい。
これによっても、キャップ200に対する電子線の照射の均一性を向上できる。
Further, as described above, the irradiation angle of the electron beam with respect to the
Also by this, the uniformity of the electron beam irradiation to the
さらに、図8に示すように、キャップ搬送機構30の下方を囲むように反射板60を設け、キャップ200やキャップ搬送機構30に当たらずに通過した電子線を反射させてキャップ200に照射することができる。これによってキャップ200の外周面側から電子線を照射することもでき、これも電子線照射の均一性向上に寄与する。もちろん、照射した電子線を有効に利用することができ、また装置外に電子線が照射されるのを防ぐことができるので、装置外が電子線によって加熱されるのも回避できる。
また、図9に示したように、電子線のスキャン軌跡Sが略「へ」の字状となる場合、反射板60も、これに応じて平面視略「へ」の字状に形成するのが好ましい。
Further, as shown in FIG. 8, a
Further, as shown in FIG. 9, when the scanning locus S of the electron beam has a substantially “h” shape, the
このようにして、キャップ200にスキャン照射する電子線を発生させるための加速電圧の変動、電子線のスキャン軌跡Sの変動、電子線の照射タイミングとキャップ200の回転角度の調整、反射板60の設置等を行うことによって、キャップ200に対する電子線照射の均一性を向上させることができる。
特に、加速電圧やスキャン軌跡Sのコントロールは、ハードウェア(配線)の変更やコントローラ50におけるソフトウェア内容を調整するのみで済むので、装置の構造的な変更に比較すれば手間やコストも掛からないというメリットも有る。
In this way, fluctuations in the acceleration voltage for generating an electron beam for scanning irradiation to the
In particular, control of the acceleration voltage and scan trajectory S requires only changes in hardware (wiring) and adjustment of software contents in the
なお、上記実施の形態では、キャップ200の殺菌状態について説明を行ったが、ボトル100についても同様のモニタリングを行うのが好ましい。
また、殺菌装置10の構成について説明したが、本発明の主旨の範囲内であればいかなる構成の変更、追加、削除を行っても支障は無い。
これ以外にも、本発明の主旨を逸脱しない限り、上記実施の形態で挙げた構成を取捨選択したり、他の構成に適宜変更することが可能である。
In the above embodiment, the sterilization state of the
Moreover, although the structure of the
In addition to this, as long as it does not depart from the gist of the present invention, the configuration described in the above embodiment can be selected or changed to another configuration as appropriate.
10…殺菌装置、20…ボトル搬送機構、30…キャップ搬送機構(キャップ搬送部)、40…電子線照射部(電子線スキャン部)、41…電子線発生源、42…偏向用磁石、43…スキャン用磁石、50…コントローラ、60…反射板、100…ボトル、200…キャップ
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記電子線を発生する電子線発生源と、
前記電子線発生源で発生した前記電子線を予め定められた範囲内でスキャンさせる電子線スキャン部と、
前記キャップを回転させながら前記範囲を通過させるキャップ搬送部と、
前記キャップに対する前記電子線の照射の均一性を高めるため、前記電子線スキャン部で前記電子線を前記範囲内でスキャンさせる間に、前記電子線発生源にて前記電子線を発生させるための加速電圧を変動させるコントローラと、を備えることを特徴とする殺菌装置。 A sterilizer for sterilizing the cap by irradiating the cap of the container with an electron beam,
An electron beam generation source for generating the electron beam;
An electron beam scanning unit that scans the electron beam generated by the electron beam generation source within a predetermined range;
A cap transport section that passes through the range while rotating the cap;
Acceleration for generating the electron beam at the electron beam generation source while the electron beam scanning unit scans the electron beam within the range in order to improve the uniformity of irradiation of the electron beam to the cap. A sterilizer comprising: a controller that varies the voltage.
前記スキャン軌跡が変動する前記電子線が各列の前記キャップに均等に照射されるよう、前記電子線スキャン部と前記キャップ搬送部の相対的な位置が設定されていることを特徴とする請求項3に記載の殺菌装置。 The cap transport unit transports the caps in parallel to a plurality of rows,
The relative position between the electron beam scanning unit and the cap transporting unit is set so that the electron beam whose scanning trajectory fluctuates is evenly applied to the caps in each row. 3. The sterilizer according to 3.
前記キャップ搬送部は、前記電子線がスキャンされる毎に前記キャップの角度が前回のスキャン時とは異なるよう、前記キャップを回転させることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の殺菌装置。 By scanning the electron beam intermittently with the electron beam scanning unit, the cap is irradiated with the electron beam multiple times while passing through the range,
The said cap conveyance part rotates the said cap so that the angle of the said cap may differ from the time of the last scan whenever the said electron beam is scanned, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. Sterilizer.
前記電子線を発生する電子線発生源と、
前記電子線発生源で発生した前記電子線を予め定められた範囲内でスキャンさせる電子線スキャン部と、
前記キャップを回転させながら前記範囲を通過させるキャップ搬送部と、
前記キャップに対する前記電子線の照射の均一性を高めるため、前記電子線スキャン部で前記電子線を前記範囲内でスキャンさせる間に、前記電子線発生源にて前記電子線を発生させるための加速電圧、または前記キャップ搬送部における前記キャップの搬送方向に直交する方向に前記電子線を偏向させるための電流を変動させ、前記電子線スキャン部における前記電子線のスキャン軌跡を変動させるコントローラと、を備えることを特徴とする殺菌装置。 A sterilizer for sterilizing the cap by irradiating the cap of the container with an electron beam,
An electron beam generation source for generating the electron beam;
An electron beam scanning unit that scans the electron beam generated by the electron beam generation source within a predetermined range;
A cap transport section that passes through the range while rotating the cap;
Acceleration for generating the electron beam at the electron beam generation source while the electron beam scanning unit scans the electron beam within the range in order to improve the uniformity of irradiation of the electron beam to the cap. A controller that varies a voltage or a current for deflecting the electron beam in a direction orthogonal to the cap conveyance direction in the cap conveyance unit, and varies a scan locus of the electron beam in the electron beam scanning unit. A sterilizer characterized by comprising.
前記電子線を発生する電子線発生源と、
前記電子線発生源で発生した前記電子線を予め定められた範囲内でスキャンさせる電子線スキャン部と、
前記キャップを回転させながら前記範囲を通過させるキャップ搬送部と、を備え、
前記電子線スキャン部で前記電子線を間欠的にスキャンすることによって、前記キャップは前記範囲を通過する間に前記電子線が複数回照射され、
前記キャップ搬送部は、前記キャップに対する前記電子線の照射の均一性を高めるため、前記電子線をスキャンされる毎に前記キャップの角度が前回のスキャン時とは異なるように前記キャップを回転させることを特徴とする殺菌装置。 A sterilizer for sterilizing the cap by irradiating the cap of the container with an electron beam,
An electron beam generation source for generating the electron beam;
An electron beam scanning unit that scans the electron beam generated by the electron beam generation source within a predetermined range;
A cap transport unit that passes through the range while rotating the cap, and
By scanning the electron beam intermittently with the electron beam scanning unit, the cap is irradiated with the electron beam multiple times while passing through the range,
The cap transport unit rotates the cap so that the angle of the cap is different from that at the previous scan every time the electron beam is scanned in order to improve the uniformity of irradiation of the electron beam to the cap. A sterilizer characterized by.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2650022A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-16 | Krones AG | Method and device for radiation-based sterilisation of container closures |
JP2015157646A (en) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 岩崎電気株式会社 | Sterilization treatment system for container |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5078795A (en) * | 1973-11-16 | 1975-06-26 | ||
JPH11248900A (en) * | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Electron beam irradiation method and its device |
JP2002128030A (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-09 | Shibuya Kogyo Co Ltd | Cap sterilization device |
JP2003066198A (en) * | 2001-08-24 | 2003-03-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Cap sterilizer and sterilizing method |
JP2004347510A (en) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Device and method for irradiation with electron beam and object irradiated with electron beam |
JP2006204640A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | Electron beam sterilizing device and electron beam irradiation method of electron beam sterilizing device |
-
2007
- 2007-02-14 JP JP2007033032A patent/JP4925302B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5078795A (en) * | 1973-11-16 | 1975-06-26 | ||
JPH11248900A (en) * | 1998-02-27 | 1999-09-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Electron beam irradiation method and its device |
JP2002128030A (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-09 | Shibuya Kogyo Co Ltd | Cap sterilization device |
JP2003066198A (en) * | 2001-08-24 | 2003-03-05 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Cap sterilizer and sterilizing method |
JP2004347510A (en) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Device and method for irradiation with electron beam and object irradiated with electron beam |
JP2006204640A (en) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | Electron beam sterilizing device and electron beam irradiation method of electron beam sterilizing device |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2650022A1 (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-16 | Krones AG | Method and device for radiation-based sterilisation of container closures |
JP2013215579A (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-24 | Krones Ag | Apparatus and method for radiation-based disinfection for container lid |
CN103372223A (en) * | 2012-04-11 | 2013-10-30 | 克朗斯股份公司 | Method and device for radiation-based sterilisation of container closure |
US9107968B2 (en) | 2012-04-11 | 2015-08-18 | Krones, Ag | Apparatus and method of radiation-based sterilization of container closures |
JP2015157646A (en) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 岩崎電気株式会社 | Sterilization treatment system for container |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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