JP2008195074A - Polymer resin film and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymer resin film which does not generate coating unevenness when various types of functional layers are coated on the film surface in a transparent film for optical use, a film for supporting photographic material, and the like manufactured by the solution casting method, and a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The polymer resin film manufactured by the solution casting method is characterized in that the pitch a [cm] of periodic thickness unevenness in the web longitudinal direction and the thickness unevenness factor d satisfy the following formula (1). The formula (1) is represented by d≤0.46a<SP>3</SP>-0.91a<SP>2</SP>+0.60a+1.01, where a is within the range of 0.2<a<3. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、偏光板保護膜等の光学用途透明フィルム、写真感光材料用支持体フィルム等に用いることができる高分子樹脂フィルム及びその製造方法に関し、さらに詳しくは、フィルム表面に機能層を塗工した際、塗工ムラが発生しないようにした高分子樹脂フィルム及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a transparent film for optical use such as a protective film for polarizing plate, a polymer resin film that can be used for a support film for photographic light-sensitive materials and the like, and more specifically, a functional layer is applied to the film surface. The present invention relates to a polymer resin film in which coating unevenness is prevented from occurring and a method for producing the same.

一般に、光学用途透明フィルム、写真感光材料用支持体フィルム等のフィルムとしては、セルローストリアセテートフィルム等が用いられており、このセルローストリアセテートフィルム等は溶液製膜法により製造されている。溶液製膜法は、有機溶媒に溶かしたポリマー溶液をダイから支持体上に流延するとともに、ダイ近傍に設けた減圧チャンバーにより流延リボン(ダイ吐出口から支持体着地までの間の液膜。以下同様)を支持体に密接に接触させるものである。このような溶液製膜法としては、例えば、特公昭49−36946号公報においては、エアー同伴を防止するために2つの吸引室を持つ減圧チャンバーを設け液体組成物流とローラーとを密接に接触させる液体組成物のキャスト方法が提案されており、特公昭62−38133号公報及び特公昭63−57222号公報においては、隔離壁で2つの真空帯域を設けることにより端部ビードを安定化できるウェブの均一押しつけ装置が提案されており、特開平5−86212号公報等においては、良溶剤と貧溶剤とを特定の割合にしたドープを用いることによりカワバリの発生を防止した流延方法が提案されている。   In general, a cellulose triacetate film or the like is used as a film such as a transparent film for optical use or a support film for a photographic material, and the cellulose triacetate film or the like is manufactured by a solution casting method. In the solution casting method, a polymer solution dissolved in an organic solvent is cast from a die onto a support, and at the same time a casting ribbon (a liquid film between the die discharge port and the support landing) is provided by a decompression chamber provided near the die. The same applies hereinafter) to the support. As such a solution casting method, for example, in Japanese Examined Patent Publication No. 49-36946, a vacuum chamber having two suction chambers is provided in order to prevent air entrainment, and the liquid composition stream and the roller are brought into close contact with each other. A method of casting a liquid composition has been proposed. In Japanese Patent Publication No. 62-38133 and Japanese Patent Publication No. 63-57222, a web of a web that can stabilize an end bead by providing two vacuum zones with an isolation wall. A uniform pressing device has been proposed. In Japanese Patent Laid-Open No. 5-86212, etc., there is proposed a casting method that prevents the occurrence of burrs by using a dope having a specific ratio of a good solvent and a poor solvent. Yes.

しかしながら、上述した従来の溶液製膜法で製造された高分子樹脂フィルムは、減圧チャンバー内部の気柱振動、減圧のための吸引ダクトの気柱振動、ブロワーの振動が伝わった減圧チャンバーの振動等の風圧振動や機械振動による振動外乱により、流延リボンがある周波数で振動するので、フィルムの長手方向に微小な周期的な段状の厚みムラが発生するものであった。   However, the polymer resin film manufactured by the above-described conventional solution casting method includes the air column vibration inside the decompression chamber, the air column vibration of the suction duct for decompression, the vibration of the decompression chamber transmitted by the blower vibration, etc. The casting ribbon vibrates at a certain frequency due to vibration disturbance due to wind pressure vibration or mechanical vibration, and minute periodic stepwise thickness unevenness occurs in the longitudinal direction of the film.

特に、近年、液晶表示装置(以下、LCDという)の薄型化が進み、それぞれの素子も薄膜化が求められており、偏光板用保護膜も薄膜化が要求されているが、薄膜化することにより溶液製膜法の特徴であるレベリング効果が低減して種々の厚みムラが顕在化してくるものであった。   In particular, in recent years, thinning of liquid crystal display devices (hereinafter referred to as LCDs) has progressed, and each element has been required to be thin, and the protective film for polarizing plates has been required to be thin. As a result, the leveling effect, which is a feature of the solution casting method, is reduced, and various thickness irregularities become apparent.

ところで、光学用途透明フィルムは、例えばハードコートや反射防止機能を付与するためにアンチグレア層を塗工しているが、ベースに厚みムラが存在するとそれに起因する塗工ムラが発生し、光学用途のフィルムの外観価値や機能性を阻害するので、LCD等において品質上の大きな問題であった。   By the way, the transparent film for optical use is coated with an anti-glare layer, for example, to give a hard coat or an antireflection function. Since it hinders the appearance value and functionality of the film, it has been a major quality problem in LCDs and the like.

また、写真感光材料用支持体においても乳剤塗工において同様な問題が生じるものであった。   In addition, similar problems occur in emulsion coating in the photographic light-sensitive material support.

本発明は、以上の問題点を解決し、溶液製膜法で製造されたフィルムに各種機能層を塗工しても塗工ムラが発生しない高分子樹脂フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above problems and provides a polymer resin film in which coating unevenness does not occur even when various functional layers are applied to a film produced by a solution casting method and a method for producing the same. Objective.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究し、周期的な長手方向の厚みムラの所定範囲において、厚みムラのピッチと厚みムラとの関係が所定の領域にあると、高分子樹脂フィルムを塗工に供しても良好な外観品質を得ることを見出し、本発明を完成させたものである。   The present inventor has intensively studied to achieve the above object, and in a predetermined range of periodic longitudinal thickness unevenness, when the relationship between the thickness unevenness pitch and the thickness unevenness is in a predetermined region, the polymer resin It has been found that good appearance quality can be obtained even when a film is subjected to coating, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明による高分子樹脂フィルムは、溶液製膜法によって製膜されたものであって、ウェブ長手方向の周期的な厚みムラのピッチa[cm]と厚みムラ率d[%]とが以下の式(1)を満たすことを特徴として構成されている。
d≦0.46a−0.91a+0.60a+1.01……(1)
(但し、0.2<a<3)
That is, the polymer resin film according to the present invention is formed by a solution casting method, and has a periodic thickness unevenness pitch a [cm] and a thickness unevenness rate d [%] in the longitudinal direction of the web. It is characterized by satisfying the following formula (1).
d ≦ 0.46a 3 −0.91a 2 + 0.60a + 1.01 (1)
(However, 0.2 <a <3)

さらに、本発明者は、流延リボンの伸縮率と、流延速度及び伸縮周波数との関係が所定の領域にあると、高分子樹脂フィルムを塗工に供しても良好な外観品質を得ることを見出し、本発明を完成させたものである。   Furthermore, the present inventor obtains good appearance quality even when the polymer resin film is subjected to coating, when the relationship between the stretch rate of the casting ribbon, the casting speed and the stretching frequency is in a predetermined region. And the present invention has been completed.

すなわち、本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法は、高分子樹脂を有機溶媒に溶かした溶液をダイから支持体に流延してフィルムを製造する方法において、流延速度v[cm/s]、伸縮周波数f[1/s]及び伸縮率e[%]が、以下の式(3)を満たすことを特徴として構成されている。
e≦0.46(v/f)−0.91(v/f)+0.60(v/f)+1.01
……(3)
(但し、0.2<(v/f)<3)
That is, the method for producing a polymer resin film according to the present invention is a method for producing a film by casting a solution in which a polymer resin is dissolved in an organic solvent from a die to a support, and a casting speed v [cm / s]. The expansion / contraction frequency f [1 / s] and the expansion / contraction rate e [%] satisfy the following expression (3).
e ≦ 0.46 (v / f) 3 −0.91 (v / f) 2 +0.60 (v / f) +1.01
...... (3)
(However, 0.2 <(v / f) <3)

本発明は、溶液製膜法で製造したフィルムの長手方向に発生する周期的な厚みムラに対して、そのピッチと厚みムラとの関係が適切な領域に入るように設定することにより、該フィルムを塗工に供しても良好な外観品質を得ることができる。   The present invention sets the relationship between the pitch and the thickness unevenness in an appropriate region with respect to the periodic thickness unevenness generated in the longitudinal direction of the film manufactured by the solution casting method. Good appearance quality can be obtained even if the coating is used for coating.

本発明の高分子樹脂フィルムにおいては、ウェブ長手方向の厚みムラピッチa[cm]が0.2〜3cmの範囲にある段状の厚みムラに関し、厚みムラのピッチaと厚みムラ率d[%]とが、以下の式(1)を満たすものであり、
d≦0.46a−0.91a+0.60a+1.01……(1)
さらに、好ましくは以下の式(2)を満たすものである。
d≦0.19a−0.38a+0.25a+0.42……(2)
In the polymer resin film of the present invention, the thickness unevenness pitch a and the thickness unevenness ratio d [%] are related to the stepwise thickness unevenness in which the thickness unevenness pitch a [cm] in the longitudinal direction of the web is in the range of 0.2 to 3 cm. Satisfies the following formula (1):
d ≦ 0.46a 3 −0.91a 2 + 0.60a + 1.01 (1)
Furthermore, it preferably satisfies the following formula (2).
d ≦ 0.19a 3 −0.38a 2 + 0.25a + 0.42 (2)

すなわち、本発明者は、ウェブの長手方向の周期的な厚みムラのピッチa[cm]と厚みムラ率d[%]との関係と、塗工ムラの見え方の強弱とについて、図1に示すような結果を得た。図1において、曲線aは上記式(1)を示し、曲線bは上記式(2)を示し、曲線aより上の領域は、塗工ムラが強く見える領域であり、曲線aと曲線bとの間の領域は、塗工ムラが弱く見える領域であり、曲線bの下の領域は、塗工ムラが見えない領域である。このような塗工ムラの強弱は、目視観察により判断した。   That is, the inventor has shown in FIG. 1 the relationship between the pitch a [cm] of the periodic thickness unevenness in the longitudinal direction of the web and the thickness unevenness rate d [%] and the strength of the appearance of the coating unevenness. Results as shown were obtained. In FIG. 1, the curve a represents the above formula (1), the curve b represents the above formula (2), and the region above the curve a is a region where uneven coating appears strong, and the curves a and b The area between is an area where the coating unevenness appears weak, and the area under the curve b is an area where the coating unevenness is not visible. The intensity of such coating unevenness was determined by visual observation.

なお、厚みムラ率は、厚みムラの凹凸の最大値と最小値との差をフィルムの平均厚さで割った値である。厚みムラのピッチ及び厚みムラ率の測定は、フィルムの厚みを長手方向に連続測定し、そのチャートから周期的な厚みムラのピッチと厚みムラの最大値、最小値及び平均値を読み取る方法や、厚み変動値の周波数分析と最大ピーク値を読み取る方法により行うことができる。厚みの連続測定方法は、接触式連続厚み計や非接触式連続厚み計などにより行うことができる。   The thickness unevenness ratio is a value obtained by dividing the difference between the maximum value and the minimum value of unevenness of thickness unevenness by the average thickness of the film. The measurement of the thickness unevenness pitch and the thickness unevenness ratio is a method of continuously measuring the thickness of the film in the longitudinal direction, and reading the periodic thickness unevenness pitch and the thickness unevenness maximum, minimum and average values from the chart, This can be done by frequency analysis of thickness variation values and a method of reading the maximum peak value. The continuous thickness measuring method can be performed by a contact-type continuous thickness meter, a non-contact type continuous thickness meter, or the like.

厚みムラピッチ及び厚みムラを以上のような所定範囲に設定するには、溶液の送液量脈動、流延部の機械振動、支持体の速度ムラ、ダイリップ吐出リボン部の静圧変動及び動圧変動の抑制、適切なリボン長の設定等により達成することができる。   In order to set the thickness unevenness pitch and thickness unevenness to the predetermined ranges as described above, the solution flow rate pulsation, the mechanical vibration of the casting part, the speed unevenness of the support, the static pressure fluctuation and the dynamic pressure fluctuation of the die lip discharge ribbon part This can be achieved by suppressing the amount of ribbon and setting an appropriate ribbon length.

また、ウェブの長手方向の厚みムラのピッチが0.2cm以下において、厚みムラ率が2%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましい。厚みムラ率が2%を超えると、塗工ムラが強く見えることとなる。   Moreover, when the pitch of thickness unevenness in the longitudinal direction of the web is 0.2 cm or less, the thickness unevenness rate is preferably 2% or less, and more preferably 1% or less. If the thickness unevenness ratio exceeds 2%, coating unevenness will appear strong.

さらに、ウェブの長手方向の厚みムラのピッチが3cm以上において、厚みムラ率が7%以下であることが好ましく、2.8%以下であることがより好ましい。厚みムラ率が7%を超えると、塗工ムラが強く見えることとなる。   Furthermore, when the pitch of the thickness unevenness in the longitudinal direction of the web is 3 cm or more, the thickness unevenness ratio is preferably 7% or less, and more preferably 2.8% or less. If the thickness unevenness ratio exceeds 7%, the coating unevenness will appear strong.

本発明の高分子樹脂フィルの製造方法においては、流延速度を伸縮周波数で割った値が0.2〜3cmの範囲において、流延速度v[cm/s]、伸縮周波数f[1/s]及び流延リボンの伸縮率e[%]が、以下の式(3)を満たすものであり、
e≦0.46(v/f)−0.91(v/f)+0.60(v/f)+1.01
……(3)
さらに、好ましくは以下の式(4)を満たすものである。
e≦0.19(v/f)−0.38(v/f)+0.25(v/f)+0.42
……(4)
In the method for producing the polymer resin film of the present invention, the casting speed v [cm / s] and the stretching frequency f [1 / s are obtained when the casting speed divided by the stretching frequency is in the range of 0.2 to 3 cm. ] And the expansion ratio e [%] of the casting ribbon satisfy the following formula (3):
e ≦ 0.46 (v / f) 3 −0.91 (v / f) 2 +0.60 (v / f) +1.01
...... (3)
Furthermore, it preferably satisfies the following formula (4).
e ≦ 0.19 (v / f) 3 −0.38 (v / f) 2 +0.25 (v / f) +0.42
...... (4)

すなわち、本発明者は、流延リボンの伸縮率eと、流延速度v及び伸縮周波数fとについて、図2に示すような結果を得た。図2において、曲線cは上記式(3)を示し、曲線dは上記式(4)を示し、曲線cより上の領域は、塗工ムラが強く見える領域であり、曲線cと曲線dとの間の領域は、塗工ムラが弱く見える領域であり、曲線dの下の領域は、塗工ムラが見えない領域である。このような塗工ムラの強弱は、目視観察により判断した。   That is, the present inventor obtained the results as shown in FIG. 2 for the expansion ratio e, the casting speed v, and the expansion frequency f of the casting ribbon. In FIG. 2, the curve c represents the above equation (3), the curve d represents the above equation (4), and the region above the curve c is a region where coating unevenness appears strong, and the curve c, the curve d, The area between is an area where the coating unevenness appears weak, and the area under the curve d is an area where the coating unevenness is not visible. The intensity of such coating unevenness was determined by visual observation.

流延リボンの平均長さlは、流延ダイ吐出口から支持体着地までの液膜の長さである。流延リボンの平均長さlは、流延リボンをビデオ撮影し最大長さと最小長さを測定し、それらの平均値より求める。   The average length l of the casting ribbon is the length of the liquid film from the casting die discharge port to the support landing. The average length l of the casting ribbon is obtained from the average value obtained by taking a video of the casting ribbon and measuring the maximum length and the minimum length.

流延速度vは、支持体の移動速度である。支持体駆動モーターの回転数或いは、支持体の移動速度を接触又は非接触速度計により直接測定することにより求める。   The casting speed v is the moving speed of the support. The rotation speed of the support driving motor or the moving speed of the support is directly measured by a contact or non-contact speedometer.

伸縮周波数fは、1秒間の流延リボンの伸縮回数である。流延ビデオ画像より、流延リボンの長さの変化を連続測定し、周波数分析を行うことにより求める。   The expansion / contraction frequency f is the number of expansions / contractions of the casting ribbon for one second. The change in the length of the casting ribbon is continuously measured from the casting video image, and is obtained by performing frequency analysis.

伸縮率eは、流延リボンの最大長さと最小長さとの差を平均長さで割った値である。   The expansion / contraction rate e is a value obtained by dividing the difference between the maximum length and the minimum length of the casting ribbon by the average length.

これらの流延速度、伸縮周波数及び伸縮率を以上のような所定範囲に設定するには、溶液の送液量脈動、流延部の機械振動、支持体の速度ムラ、ダイリップ吐出リボン部の静圧変動及び動圧変動の抑制、適切なリボン長の設定等により達成することができる。   In order to set the casting speed, stretching frequency and stretching ratio within the predetermined ranges as described above, pulsation of the solution flow rate, mechanical vibration of the casting part, uneven speed of the support, static of the die lip discharge ribbon part This can be achieved by suppressing pressure fluctuation and dynamic pressure fluctuation, setting an appropriate ribbon length, and the like.

流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅は、2.4Pa以下であることが好ましく、2.0Pa以下であることがよりに好ましく、0.5Pa以下であることが最も好ましい。制圧変動幅が2.4Paを超えると、厚みムラが大きくなりすぎ実用化できない。静圧変動幅を上記2.4Pa以下にするには、送風ダクトの振動防止などにより行うことができる。静圧変動幅は、圧力センサーにより、静圧を連続測定し、そのチャートから周期的な静圧変動の周期と静圧変動の最大値、最小値を読み取る方法や、静圧変動値の周波数分析と最大ピーク値を読み取る方法により測定することができる。   The static pressure fluctuation range of the atmosphere including the casting ribbon is preferably 2.4 Pa or less, more preferably 2.0 Pa or less, and most preferably 0.5 Pa or less. When the suppression pressure fluctuation range exceeds 2.4 Pa, the thickness unevenness becomes too large to be put into practical use. The static pressure fluctuation width can be reduced to 2.4 Pa or less by preventing vibration of the air duct. Static pressure fluctuation range is a method of continuously measuring static pressure with a pressure sensor and reading the periodic static pressure fluctuation period and the maximum and minimum values of static pressure fluctuation from the chart, and frequency analysis of static pressure fluctuation values. And the maximum peak value can be measured by a method of reading.

本発明による高分子樹脂フィルムを製造する溶液製膜装置の例を図3〜図8を参照して説明する。   An example of a solution casting apparatus for producing a polymer resin film according to the present invention will be described with reference to FIGS.

図3は溶液製膜装置の流延ダイ部分の模試図である。図3においては、1は流延ダイ、2は支持体(流延バンド又は流延ドラム)、3は減圧チャンバーで、4は流延ダイ1から支持体(流延バンド又は流延ドラム)2に流延されている流延リボンである。   FIG. 3 is a schematic diagram of a casting die portion of the solution casting apparatus. In FIG. 3, 1 is a casting die, 2 is a support (casting band or casting drum), 3 is a decompression chamber, and 4 is a casting support from the casting die 1 (casting band or casting drum) 2. This is a casting ribbon cast on

溶液製膜装置としては、表面が鏡面処理された流延バンドを用いた溶液製膜装置であっても、流延ドラムを用いた溶液製膜装置であってもよい。流延バンドを用いた溶液製膜装置を図4に、流延ドラムを用いた溶液製膜装置を図5に示す。   The solution casting apparatus may be a solution casting apparatus using a casting band whose surface is mirror-finished or a solution casting apparatus using a casting drum. A solution casting apparatus using a casting band is shown in FIG. 4, and a solution casting apparatus using a casting drum is shown in FIG.

図4に示すバンド式の溶液製膜装置において、10は流延ダイで、この流延ダイ10に対向して回転ドラム20が設けられており、この回転ドラム20に流延バンド30が巻き掛けられて走行するようになっている。また、流延ダイ10に隣接して減圧チャンバー40が設けられ、この減圧チャンバー40は、吸引ダクト50及びバッファータンク60を介してブロワー70に連結されている。   In the band-type solution casting apparatus shown in FIG. 4, reference numeral 10 denotes a casting die, and a rotating drum 20 is provided facing the casting die 10, and a casting band 30 is wound around the rotating drum 20. It is supposed to run. A decompression chamber 40 is provided adjacent to the casting die 10, and the decompression chamber 40 is connected to the blower 70 via a suction duct 50 and a buffer tank 60.

図5に示すドラム式の溶液製膜装置において、80は流延ドラムで、バンド式の溶液製膜装置における回転ドラム20及び流延バンド30の代わりに設けられている。なお、減圧チャンバー40、吸引ダクト50、バッファータンク60及びブロワー70は同一に構成されている。   In the drum type solution casting apparatus shown in FIG. 5, reference numeral 80 denotes a casting drum, which is provided in place of the rotating drum 20 and the casting band 30 in the band type solution casting apparatus. The decompression chamber 40, the suction duct 50, the buffer tank 60, and the blower 70 are configured identically.

上記流延ダイとしては、図6、図7及び図8に示すようなものを用いることができる。   As the casting die, those shown in FIGS. 6, 7 and 8 can be used.

図6は、単層のフィルムを製膜する際に用いる流延ダイで、この流延ダイ10は、1つのマニホールド11が形成されている。図7は、マルチマニホールド型の共流延ダイで、この共流延ダイ10は、3つのマニホールド12が形成され3層構成のフィルムを製膜できるものである。図8は、フィードブロック型の共流延ダイで、この共流延ダイ10は、マニホールド13が形成されると共に、フィードブロック14が設けられ、フィードブロック13において合流させられて複数層(図8においては3層)になったドープを流延するものである。なお、以上の流延ダイにおいては、コートハンガーダイを使用しているが、これに限定されるものでなく、Tダイ等他の形状のダイであっても良い。   FIG. 6 shows a casting die used for forming a single-layer film. The casting die 10 has a single manifold 11 formed therein. FIG. 7 shows a multi-manifold type co-casting die. The co-casting die 10 is formed with three manifolds 12 and can form a film having a three-layer structure. FIG. 8 shows a feed block type co-casting die. The co-casting die 10 is provided with a manifold 13 and a feed block 14 which are joined together in the feed block 13 to form a plurality of layers (FIG. 8). In this case, the dope having three layers is cast. In the above casting die, a coat hanger die is used, but the present invention is not limited to this, and a die having another shape such as a T die may be used.

溶液製膜法におけるダイリップクリアランスc1は、通常0.2mmから3mmの範囲で設定し、好ましくは0.5mmから2.5mmの範囲で設定するのが良いが、これに限定されるものではない。   The die lip clearance c1 in the solution casting method is usually set in the range of 0.2 mm to 3 mm, preferably in the range of 0.5 mm to 2.5 mm, but is not limited thereto.

流延ダイと支持体の距離hは通常1mmから10mmの範囲で設定し、好ましくは1.5mmから6mmの範囲で設定するのが良いが、これに限定されるものではない。   The distance h between the casting die and the support is usually set in the range of 1 mm to 10 mm, preferably in the range of 1.5 mm to 6 mm, but is not limited thereto.

減圧チャンバーの減圧度pは、通常−500〜−10Paの範囲で設定し、好ましくは−400〜−20Paで設定するのが良いがこれに限定されるものではない。   The decompression degree p of the decompression chamber is usually set in the range of −500 to −10 Pa, and preferably set to −400 to −20 Pa, but is not limited thereto.

流延速度vは、通常3m/分〜150m/分の範囲で設定し、好ましくは10m/分〜100m/分の範囲で設定するのが良いが、これに限定されるものではない。   The casting speed v is usually set in the range of 3 m / min to 150 m / min, and preferably in the range of 10 m / min to 100 m / min, but is not limited thereto.

フィルムの厚みtは、20〜500μmが好ましく、30〜300μmがより好ましく、35〜200μmが最も好ましいが、これに限定されるものではない。   The thickness t of the film is preferably 20 to 500 μm, more preferably 30 to 300 μm, and most preferably 35 to 200 μm, but is not limited thereto.

溶液の送液量脈動は0.3%以下、流延ダイの振動変位量は、ダイと支持体の距離の0.02%以下、支持体の速度ムラは支持体平均速度に対し0.02%以下であることが好ましい。   The pulsation of the solution flow rate is 0.3% or less, the vibration displacement of the casting die is 0.02% or less of the distance between the die and the support, and the speed variation of the support is 0.02 with respect to the average speed of the support. % Or less is preferable.

溶液製膜装置の流延部近傍には、流延リボンに作用する動圧外乱を小さくできるので、遮風手段を設けることが好ましい。遮風手段としては、遮風板、遮風ブロック、遮風箱、遮風フィンを用いることができる。また、遮風手段には、遮風効果をより大きくするために、吸引手段(ブロワ−等)を設けることが好ましい。なお、これらの遮風手段及び吸引手段は、単独で用いても、任意に組み合わせて用いてもよい。   Since the dynamic pressure disturbance acting on the casting ribbon can be reduced in the vicinity of the casting portion of the solution casting apparatus, it is preferable to provide a wind shielding means. As the wind shield means, a wind shield plate, a wind shield block, a wind shield box, and wind shield fins can be used. Moreover, it is preferable to provide a suction means (blower etc.) in the wind-shielding means in order to increase the wind-shielding effect. These wind shielding means and suction means may be used alone or in any combination.

遮風手段を設けた溶液製膜装置の例を図9〜図33を参照して説明する。
図9に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側(流延リボン100の流れる方向側。以下同様)に密着して遮風板91が設けられている。図10に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流側(流延リボンの流れる方向側と反対方向側。以下同様)に密着して遮風板91が設けられている。図11に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に少しの間隔を隔てて遮風板91が設けられている。図12に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流側に少しの間隔を隔てて遮風板91が設けられている。図13に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に少しの間隔を隔てて2枚の遮風板91が設けられている。図14に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流側に少しの間隔を隔てて2枚の遮風板91が設けられている。
An example of a solution casting apparatus provided with a wind shielding means will be described with reference to FIGS.
The solution casting apparatus shown in FIG. 9 is provided with a wind shielding plate 91 in close contact with the downstream side of the casting die 10 (the direction in which the casting ribbon 100 flows; the same applies hereinafter). The solution casting apparatus shown in FIG. 10 is provided with a wind shielding plate 91 in close contact with the upstream side of the casting die 10 (the direction opposite to the direction in which the casting ribbon flows, the same applies hereinafter). In the solution casting apparatus shown in FIG. 11, a wind shielding plate 91 is provided on the downstream side of the casting die 10 with a small gap. In the solution film-forming apparatus shown in FIG. 12, a wind shielding plate 91 is provided on the upstream side of the casting die 10 with a small gap. In the solution casting apparatus shown in FIG. 13, two wind shielding plates 91 are provided on the downstream side of the casting die 10 with a slight gap therebetween. In the solution casting apparatus shown in FIG. 14, two wind shielding plates 91 are provided on the upstream side of the casting die 10 with a small gap therebetween.

図15に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に密着して遮風ブロック92が設けられている。図16に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流側に密着して遮風ブロック92が設けられている。図17に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に少しの間隔を隔てて遮風ブロック92が設けられている。図18に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に少しの間隔を隔てて遮風ブロック92が設けられている。   The solution casting apparatus shown in FIG. 15 is provided with a wind shielding block 92 in close contact with the downstream side of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 16 is provided with a wind shielding block 92 in close contact with the upstream side of the casting die 10. In the solution casting apparatus shown in FIG. 17, a wind shielding block 92 is provided on the downstream side of the casting die 10 with a small gap. In the solution casting apparatus shown in FIG. 18, wind shielding blocks 92 are provided on the downstream side of the casting die 10 with a small gap therebetween.

図19に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に密着して遮風箱93が設けられている.図20に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流側に密着して遮風箱93が設けられている。図21に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に密着して遮風箱93が設けられ、また、この遮風箱93に吸引用のブロワ−94が設けられている。図22に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流側に密着して遮風箱93が設けられ、また、この遮風箱93に吸引用のブロワ−94が設けられている。   The solution casting apparatus shown in FIG. 19 is provided with a wind shielding box 93 in close contact with the downstream side of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 20 is provided with a wind shielding box 93 in close contact with the upstream side of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 21 is provided with a wind shielding box 93 in close contact with the downstream side of the casting die 10, and the wind shielding box 93 is provided with a suction blower 94. The solution casting apparatus shown in FIG. 22 is provided with a wind shield box 93 in close contact with the upstream side of the casting die 10, and the wind shield box 93 is provided with a suction blower 94.

図23に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に密着して遮風フィン95が設けられている。図24に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流に密着して遮風フィン95が設けられている。図25に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の下流側に少しの間隔を隔てて背の低い遮風フィン95が設けられている。図26に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の上流に背の低い遮風フィン95が設けられている。   The solution casting apparatus shown in FIG. 23 is provided with wind shielding fins 95 in close contact with the downstream side of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 24 is provided with wind shielding fins 95 in close contact with the upstream side of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 25 is provided with a short wind-shielding fin 95 at a small interval on the downstream side of the casting die 10. In the solution casting apparatus shown in FIG. 26, a short wind-shielding fin 95 is provided upstream of the casting die 10.

図27に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に密着して遮風板91が設けられている。図28に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に少しの間隔を隔てて遮風板91が設けられている。図29に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に密着して遮風ブロック92が設けられている。図30に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に密着して遮風箱93が設けられている。図31に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に密着して遮風板93が設けられ、また、この遮風箱93にブロワ−94が設けられている。図32に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に密着して遮風フィン95が設けられている。図33に示す溶液製膜装置は、流延ダイ10の両側に少しの間隔を隔てて背の低い遮風フィン95が設けられている。   The solution casting apparatus shown in FIG. 27 is provided with wind shielding plates 91 in close contact with both sides of the casting die 10. In the solution casting apparatus shown in FIG. 28, wind shielding plates 91 are provided on both sides of the casting die 10 with a small gap therebetween. The solution casting apparatus shown in FIG. 29 is provided with wind shielding blocks 92 in close contact with both sides of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 30 is provided with wind shielding boxes 93 in close contact with both sides of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 31 is provided with wind shielding plates 93 in close contact with both sides of the casting die 10, and the wind shielding box 93 is provided with a blower 94. The solution casting apparatus shown in FIG. 32 is provided with wind shielding fins 95 in close contact with both sides of the casting die 10. The solution casting apparatus shown in FIG. 33 is provided with short wind-shielding fins 95 on both sides of the casting die 10 with a small gap therebetween.

本発明の高分子樹脂フィルムは溶液製膜法で製造されるものであるが、この溶液製膜法に用いられるポリマー溶液の素材ポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート等が用いられる。セルロースアシレートの詳細について、以下に記載する。好ましいセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式(1)〜(4)のすべてを満足するものである。
(1) 2.6≦A+B≦3.0
(2) 2.0≦A≦3.0
(3) 0≦B≦0.8
(4) 1.9<A−B
The polymer resin film of the present invention is produced by a solution casting method. Cellulose acylate, polycarbonate, or the like is used as a material polymer of the polymer solution used in this solution casting method. Details of the cellulose acylate are described below. Preferred cellulose acylates are those in which the substitution degree of the hydroxyl group of cellulose satisfies all of the following formulas (1) to (4).
(1) 2.6 ≦ A + B ≦ 3.0
(2) 2.0 ≦ A ≦ 3.0
(3) 0 ≦ B ≦ 0.8
(4) 1.9 <AB

ここで、式中A及びBはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換基を表し、Aはアセチル基の置換度、またBは炭素原子数3〜5のアシル基の置換度である。セルロースには1グルコース単位に3個の水酸基があり、上記の数字はその水酸基3.0に対する置換度を表すもので、最大の置換度が3.0である。セルローストリアセテートは一般にAの置換度が2.6以上3.0以下であり(この場合、置換されなかった水酸基が最大0.4もある)、B=0の場合がセルローストリアセテートである。本発明の溶液製膜方法のポリマー溶液に用いるセルロースアシレートは、アシル基が全部アセチル基のセルローストリアセテート、及びアセチル基が2.0以上で、炭素原子数が3〜5のアシル基が0.8以下、置換されなかった水酸基が0.4以下のものが好ましく、置換度2.6〜3.0のセルローストリアセテートが特に好ましい。なお、置換度は、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び炭素原子数3〜5の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって得られる。測定方法としては、ASTMのD−817−91に準じて実施することができる。   Here, A and B represent the substituent of the acyl group substituted by the hydroxyl group of cellulose, A is the substitution degree of an acetyl group, and B is the substitution degree of a C3-C5 acyl group. . Cellulose has three hydroxyl groups in one glucose unit, and the above number represents the degree of substitution with respect to the hydroxyl group 3.0, and the maximum degree of substitution is 3.0. Cellulose triacetate generally has a substitution degree of A of 2.6 or more and 3.0 or less (in this case, there is a maximum of 0.4 hydroxyl groups not substituted), and B = 0 is cellulose triacetate. The cellulose acylate used in the polymer solution of the solution film-forming method of the present invention is cellulose triacetate whose acyl groups are all acetyl groups, and an acetyl group of 2.0 or more and an acyl group of 3 to 5 carbon atoms is 0.00. It is preferably 8 or less and an unsubstituted hydroxyl group of 0.4 or less, particularly preferably cellulose triacetate having a substitution degree of 2.6 to 3.0. The degree of substitution can be obtained by calculation by measuring the degree of binding of acetic acid substituted with a hydroxyl group of cellulose and a fatty acid having 3 to 5 carbon atoms. As a measuring method, it can carry out according to ASTM D-817-91.

アセチル基の他の炭素原子数3〜5のアシル基はプロピオニル基(CCO−)、ブチリル基(CCO−)(n−、iso−)、バレリル基(CCO−)(n−、iso−、sec−、tert−)で、これらのうちn−置換のものがフィルムにした時の機械的強さ、溶解し易さ等から好ましく、特にn−プロピオニル基が好ましい。また、アセチル基の置換度が低いと機械的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原子数3〜5のアシル基の置換度が高いと有機溶剤への溶解性は向上するが、それぞれの置換度が前記の範囲であれば良好な物性を示す。 Other acyl groups having 3 to 5 carbon atoms such as acetyl group are propionyl group (C 2 H 5 CO—), butyryl group (C 3 H 7 CO—) (n-, iso-), valeryl group (C 4 H 9 CO-) (n-, iso-, sec-, tert-), among which n-substituted ones are preferred from the viewpoint of mechanical strength when formed into a film, ease of dissolution, etc., and in particular, n-propionyl Groups are preferred. Moreover, when the substitution degree of an acetyl group is low, mechanical strength and heat-and-moisture resistance deteriorate. When the degree of substitution of the acyl group having 3 to 5 carbon atoms is high, the solubility in an organic solvent is improved. However, if the degree of substitution is within the above range, good physical properties are exhibited.

セルロースアシレートの重合度(粘度平均)は200〜700が好ましく、特に250〜550のものが好ましい。粘度平均重合度(DP)は、オストワルド粘度計で求めることができ、測定されたセルロースアシレートの固有粘度[η]から下記式により求められる。
DP=[η]/Km(式中、Kmは定数6×10−4)
The degree of polymerization (average viscosity) of cellulose acylate is preferably from 200 to 700, particularly preferably from 250 to 550. The viscosity average degree of polymerization (DP) can be determined with an Ostwald viscometer, and is determined from the measured intrinsic viscosity [η] of cellulose acylate according to the following formula.
DP = [η] / Km (where Km is a constant 6 × 10 −4 )

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンターや木材パルプなどがあるが、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、また、これらを混合して使用してもよい。   Examples of cellulose as a cellulose acylate raw material include cotton linter and wood pulp. Any cellulose acylate obtained from any raw material cellulose may be used, or these may be used in combination.

セルロースアシレートを溶解する有機溶剤の例には、炭化水素(例:ベンゼン、トルエン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン)、ハロゲン化炭化水素(例:メチレンクロライド、クロロベンゼン)、アルコール(例:メタノール、エタノール、ジエチレングリコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、プロパノール、イソ−プロパノール、1−ブタノール、t−ブタノール、2−メチル−2−ブタノール、2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール)、ケトン(例:アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン)、エステル(例:酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ペンチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル及び2−エトキシ−エチルアセテート)及びエーテル(例:テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、アニソール、フェネトール)などがあげられる。   Examples of organic solvents that dissolve cellulose acylate include hydrocarbons (eg benzene, toluene, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane), halogenated hydrocarbons (eg methylene chloride, chlorobenzene), alcohols (eg : Methanol, ethanol, diethylene glycol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, propanol, iso-propanol, 1-butanol, t-butanol, 2-methyl-2-butanol, 2-methoxyethanol, 2-butoxyethanol ), Ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methylcyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, ethyl formate, Propyl acid, pentyl formate, butyl acetate, pentyl acetate and 2-ethoxy-ethyl acetate) and ethers (eg tetrahydrofuran, methyl cellosolve, diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, Anisole and phenetole).

炭素原子数1〜7のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく用いられる。セルロースアシレートの溶解性、支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械強度等、光学特性等の物性の観点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数1〜5のアルコールを一種、ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し2〜25質量%が好ましく、5〜20質量%がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール等があげられるが、メタノール、エタノール、n−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。   A halogenated hydrocarbon having 1 to 7 carbon atoms is preferably used, and methylene chloride is most preferably used. From the viewpoint of physical properties such as solubility of cellulose acylate, peelability from the support, mechanical strength of the film, optical properties, etc., in addition to methylene chloride, one or several alcohols having 1 to 5 carbon atoms are mixed. It is preferable. 2-25 mass% is preferable with respect to the whole solvent, and, as for content of alcohol, 5-20 mass% is more preferable. Specific examples of the alcohol include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, etc., but methanol, ethanol, n-butanol, or a mixture thereof is preferably used.

溶剤はセルロースエステルフィルムの形成において除去する。溶剤の残留量は一般に5質量%未満である。残留量は、1質量%未満であることが好ましく、0.5質量%未満であることがさらに好ましい。   The solvent is removed in the formation of the cellulose ester film. The residual amount of solvent is generally less than 5% by weight. The residual amount is preferably less than 1% by mass, and more preferably less than 0.5% by mass.

本発明の高分子樹脂フィルムの溶液製膜法に用いるポリマー溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤(例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、微粒子粉体、離型剤、光学特性調整剤、フッ素系界面活性剤)を加えることができる。またその添加する時期はポリマー溶液作製工程において何れでも添加しても良いが、ポリマー溶液調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。   The polymer solution used in the polymer resin film solution casting method of the present invention contains various additives (for example, plasticizers, ultraviolet absorbers, deterioration inhibitors, fine particle powders, release agents) according to the use in each preparation step. Molds, optical property modifiers, fluorosurfactants). Further, the addition may be performed at any time in the polymer solution preparation step, but may be performed by adding an additive to the final preparation step of the polymer solution preparation step.

前記可塑剤としては、リン酸エステル又はカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート(TPP)及びトリクレジルフォスフェート(TCP)、クレジルジフェニルフォスフェート、オクチルジフェニルフォスフェート、ジフェニルビフェニルフォスフェート、トリオクチルフォスフェート、トリブチルフォスフェート等があげられる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DMP)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジフェニルフタレート(DPP)及びジエチルヘキシルフタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステルの例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACTE)及びO−アセチルクエン酸トリブチル(OACTB)、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチルが含まれる。   As the plasticizer, phosphoric acid ester or carboxylic acid ester is used. Examples of phosphate esters include triphenyl phosphate (TPP) and tricresyl phosphate (TCP), cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, etc. Can be given. Representative examples of the carboxylic acid ester include phthalic acid esters and citric acid esters. Examples of phthalic acid esters include dimethyl phthalate (DMP), diethyl phthalate (DEP), dibutyl phthalate (DBP), dioctyl phthalate (DOP), diphenyl phthalate (DPP) and diethyl hexyl phthalate (DEHP). Examples of citrate esters include triethyl O-acetylcitrate (OACTE) and tributyl O-acetylcitrate (OACTB), acetyltriethyl citrate, and acetyltributyl citrate.

その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメチルトリメリテート等のトリメリット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどがある。   Examples of other carboxylic acid esters include trimellitic acid esters such as butyl oleate, methyl acetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, and trimethyl trimellitate. Examples of glycolic acid esters include triacetin, tributyrin, butyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, and butyl phthalyl butyl glycolate.

以上に例示した可塑剤の中でも、トリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートらを用いることが好ましい。特にトリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテートが好ましい。   Among the plasticizers exemplified above, triphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, tributyl phosphate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diethyl hexyl phthalate , Triacetin, ethyl phthalyl ethyl glycolate, trimethyl trimellitate and the like are preferably used. In particular, triphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate, diethyl phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, and trimethyl trimellitate are preferable.

以上のような可塑剤は1種でもよいし2種以上併用してもよい。可塑剤の添加量は、セルロースアシレートに対して0.1〜20質量%が好ましく、5〜15質量%がより好ましい。添加量が0.1質量%未満では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が20質量%を超えると、フィルム表面にブリードアウトする場合がある。   The above plasticizers may be used alone or in combination of two or more. 0.1-20 mass% is preferable with respect to a cellulose acylate, and, as for the addition amount of a plasticizer, 5-15 mass% is more preferable. When the addition amount is less than 0.1% by mass, the effect of addition cannot be sufficiently exhibited, and when the addition amount exceeds 20% by mass, the film surface may bleed out.

その他、本発明においてはその光学的異方性を小さくする可塑剤として、特開平11−124445号記載の(ジ)ペンタエリスリトールエステル類、特開平11−246704号記載のグリセロールエステル類、特開2000−63560号記載のジグリセロールエステル類、特開平11−92574号記載のクエン酸エステル類、特開平11−90946号記載の置換フェニルリン酸エステル類などが好ましく用いられる。   In addition, in the present invention, (di) pentaerythritol esters described in JP-A No. 11-124445, glycerol esters described in JP-A No. 11-246704, and JP-A No. 2000 are used as plasticizers for reducing the optical anisotropy. Diglycerol esters described in JP-A No.-63560, citric acid esters described in JP-A No. 11-92574, substituted phenyl phosphate esters described in JP-A No. 11-90946 are preferably used.

前記紫外線吸収剤は、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができるが、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系が好ましい。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−アセトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4,4’−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロキシ)プロポキシベンゾフェノン等をあげることができる。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、2(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール等をあげることができる。サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート等をあげることができる。これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジ−ヒドロキシ−4,4’−メトキシベンゾフェノン、2(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−5’−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。   The ultraviolet absorber can be selected from any type according to the purpose, and a salicylic acid ester-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, benzoate-based, cyanoacrylate-based, nickel complex-based absorber or the like is used. However, benzophenone series, benzotriazole series, and salicylic acid ester series are preferred. Examples of benzophenone ultraviolet absorbers include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-acetoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-di-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2, 2′-di-hydroxy-4,4′-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3- And methacryloxy) propoxybenzophenone. As a benzotriazole ultraviolet absorber, 2 (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) ) Benzotriazole, 2 (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-amylphenyl) benzotriazole, 2 (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5 And chlorobenzotriazole, 2 (2′-hydroxy-5′-tert-octylphenyl) benzotriazole, and the like. Examples of salicylic acid esters include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and p-tert-butylphenyl salicylate. Among these exemplified ultraviolet absorbers, in particular, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-di-hydroxy-4,4′-methoxybenzophenone, 2 (2′-hydroxy-3′-tert-butyl- 5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2 (2'-hydroxy-5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2 (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-amylphenyl) ) Benzotriazole, 2 (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole is particularly preferred.

紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不要な着色が少ないことから、好ましい。   As the ultraviolet absorber, it is preferable to use a combination of a plurality of absorbers having different absorption wavelengths because a high blocking effect can be obtained in a wide wavelength range. From the viewpoint of preventing deterioration of the liquid crystal, the ultraviolet absorbent for liquid crystal is preferably excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less, and from the viewpoint of liquid crystal display properties, the absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more is small. Examples include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, and the like. Particularly preferred ultraviolet absorbers are benzotriazole compounds and benzophenone compounds. Among these, a benzotriazole-based compound is preferable because unnecessary coloring with respect to the cellulose ester is small.

また、紫外線吸収剤については、特開昭60−235852号、特開平3−199201号、同5−1907073号、同5−194789号、同5−271471号、同6−107854号、同6−118233号、同6−148430号、同7−11056号、同7−11055号、同7−11056号、同8−29619号、同8−239509号、特開2000−204173号の各公報に記載がある。   As for the UV absorber, JP-A-60-235852, JP-A-3-199201, JP-A-51907073, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, JP-A-6-107854, JP-A-6-107854. 118233, 6-148430, 7-11056, 7-11055, 7-11056, 8-29619, 8-239509, JP-A-2000-204173 There is.

紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し0.001〜5質量%が好ましく、0.01〜1質量%がより好ましい。添加量が0.001質量%未満では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が5質量%を超えると、フィルム表面へ紫外線吸収剤がブリードアウトする場合がある。   0.001-5 mass% is preferable with respect to a cellulose acylate, and, as for the addition amount of a ultraviolet absorber, 0.01-1 mass% is more preferable. If the addition amount is less than 0.001% by mass, the effect of addition cannot be sufficiently exhibited. If the addition amount exceeds 5% by mass, the ultraviolet absorber may bleed out to the film surface.

また、紫外線吸収剤はセルロースアシレート溶解時に同時に添加しても良いし、溶解後のポリマー溶液に添加しても良い。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にポリマー溶液に紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。   Further, the ultraviolet absorber may be added at the same time as dissolving the cellulose acylate, or may be added to the polymer solution after dissolution. In particular, a mode in which a UV absorber solution is added to a polymer solution immediately before casting using a static mixer or the like is preferable because spectral absorption characteristics can be easily adjusted.

前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物(特開平8−325537号公報)、グアニジン化合物(特開平5−271471号公報)、ベンゾトリアゾール系UV吸収剤(特開平6−235819号公報)、ベンゾフェノン系UV吸収剤(特開平6−118233号公報)などの化合物がある。   The deterioration inhibitor can prevent cellulose triacetate and the like from deteriorating and decomposing. Examples of the deterioration preventing agent include butylamine, hindered amine compounds (JP-A-8-325537), guanidine compounds (JP-A-5-271471), benzotriazole-based UV absorbers (JP-A-6-235819), and benzophenone-based compounds. There are compounds such as UV absorbers (JP-A-6-118233).

このうち、ヒンダードアミン化合物の例としては、t−ブチルアミン、トリフェニルアミン、トリベンジルアミン等がある。また、グアニジン誘導体として、下記式(1a)、(1b)で示される化合物等がある。   Among these, examples of hindered amine compounds include t-butylamine, triphenylamine, and tribenzylamine. Examples of guanidine derivatives include compounds represented by the following formulas (1a) and (1b).

Figure 2008195074
Figure 2008195074

劣化防止剤の添加量は、0.001〜5%が好ましく、0.01〜1%がより好ましい。添加量が0.001%未満であると添加効果が少なく、添加量が5%を超えると、原料コストが上昇して不利である。   The addition amount of the deterioration preventing agent is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 1%. If the addition amount is less than 0.001%, the effect of addition is small, and if the addition amount exceeds 5%, the raw material cost increases, which is disadvantageous.

前記微粒子粉体としては、シリカ、カオリン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどを目的に応じ、任意に用いることができる。これら微粒子粉体はポリマー溶液に添加する前に、高速ミキサー、ボールミル、アトライター、超音波分散機等、任意の手段でバインダー溶液中に分散を行うことが好ましい。バインダーとしてはセルロースアシレートが好ましい。紫外線吸収剤等、他の添加物と共に分散を行うことも好ましい。分散溶媒は任意であるが、ポリマー溶液溶媒と近い組成であることが好ましい。   As the fine particle powder, silica, kaolin, talc, diatomaceous earth, quartz, calcium carbonate, barium sulfate, titanium oxide, alumina and the like can be arbitrarily used depending on the purpose. These fine particle powders are preferably dispersed in the binder solution by any means such as a high-speed mixer, a ball mill, an attritor, or an ultrasonic disperser before being added to the polymer solution. As the binder, cellulose acylate is preferable. It is also preferable to carry out dispersion together with other additives such as ultraviolet absorbers. The dispersion solvent is arbitrary, but a composition close to that of the polymer solution solvent is preferable.

微粒子粉体の数平均粒径は0.01〜100μmが好ましく、0.1〜10μmが特に好ましい。上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程に同時に添加しても良いし、任意の工程でポリマー溶液に添加できるが、紫外線吸収剤同様スタティックミキサ等を用い、流延直前に添加する形態が好ましい。   The number average particle size of the fine particle powder is preferably from 0.01 to 100 μm, particularly preferably from 0.1 to 10 μm. The above dispersion may be added simultaneously to the cellulose acylate dissolving step, or can be added to the polymer solution in any step, but it is preferable to add it just before casting using a static mixer or the like as with the ultraviolet absorber.

微粒子粉体の含有量は、セルロースアシレートに対して0.001〜5質量%であることが好ましく、0.01〜1質量%であることがより好ましい。添加量が0.001質量%未満では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が5質量%を超えると、外観面状が悪くなる場合がある。   The content of the fine particle powder is preferably 0.001 to 5% by mass, and more preferably 0.01 to 1% by mass with respect to the cellulose acylate. If the addition amount is less than 0.001% by mass, the effect of addition cannot be exhibited sufficiently, and if the addition amount exceeds 5% by mass, the appearance surface may be deteriorated.

前記離型剤としては、界面活性剤が有効であり、リン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニオン系、カチオン系など特に限定されない。これらは、例えば特開昭61−243837号などに記載されている。離型剤の添加量は、セルロースアシレートに対して0.001〜2質量%が好ましく、0.01〜1質量%がより好ましい。添加量が0.001質量%未満であれば添加効果を十分に発揮することができず、添加量が2質量%を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりすることがある。   As the mold release agent, a surfactant is effective, and is not particularly limited, such as a phosphoric acid type, a sulfonic acid type, a carboxylic acid type, a nonionic type, and a cationic type. These are described in, for example, JP-A-61-243837. 0.001-2 mass% is preferable with respect to a cellulose acylate, and, as for the addition amount of a mold release agent, 0.01-1 mass% is more preferable. If the addition amount is less than 0.001% by mass, the effect of addition cannot be sufficiently exerted, and if the addition amount exceeds 2% by mass, precipitation or insoluble matter may occur.

ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリエタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げることができる。   Nonionic surfactants include surfactants having nonionic hydrophilic groups such as polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, polyglycidyl and sorbitan, and specifically include polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl ethers, and polyoxyethylene alkyl ethers. Oxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene-polyoxypropylene glycol, polyhydric alcohol fatty acid partial ester, polyoxyethylene polyhydric alcohol fatty acid partial ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyglycerin fatty acid ester, fatty acid diethanolamide, triethanolamine Mention may be made of fatty acid partial esters.

アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であり、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、α−オレフィンスルフォン酸塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α−スルフォン化脂肪酸塩、N−メチルーNオレイルタウリン、石油スルフォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物などである。   Examples of the anionic surfactant include carboxylate, sulfate, sulfonate, and phosphate ester salt. Representative examples include fatty acid salt, alkylbenzene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, alkyl sulfonate, α-olefin sulfonate, dialkylsulfosuccinate, α-sulfonated fatty acid salt, N-methyl-N oleyl taurine, petroleum sulfonate, alkyl sulfate, sulfated oil, polyoxyethylene alkyl ether sulfate, poly Examples thereof include oxyethylene alkyl phenyl ether sulfate, polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate, alkyl phosphate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, and naphthalene sulfonate formaldehyde condensate.

カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、4級アンモニウム塩、ピリジュム塩などを挙げることができ、第一〜第3脂肪アミン塩、第4級アンモニウム塩(テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイミダゾリウム塩など)を挙げることができる。両性系界面活性剤としてはカルボキシベタイン、スルフォベタインなどであり、N−トリアルキル−N−カルボキシメチルアンモニウムベタイン、N−トリアルキル−N−スルフォアルキレンアンモニウムベタインなどである。   Examples of the cationic surfactant include amine salts, quaternary ammonium salts, pyridinium salts, and the like. Primary to tertiary fatty amine salts, quaternary ammonium salts (tetraalkyl ammonium salts, trialkylbenzyl ammonium salts, Alkyl pyridium salt, alkyl imidazolium salt, etc.). Examples of amphoteric surfactants include carboxybetaine and sulfobetaine, such as N-trialkyl-N-carboxymethylammonium betaine and N-trialkyl-N-sulfoalkyleneammonium betaine.

前記フッ素系界面活性剤を添加することにより、帯電防止効果を発揮することができる。フッ素系界面活性剤の添加量は、セルロースアシレートに対して0.002〜2質量%が好ましく、0.01〜0.5質量%がより好ましい。添加量が0.002質量%未満であれば添加効果を十分に発揮することができず、添加量が2質量%を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりすることがある。   By adding the fluorosurfactant, an antistatic effect can be exhibited. The addition amount of the fluorosurfactant is preferably 0.002 to 2% by mass and more preferably 0.01 to 0.5% by mass with respect to the cellulose acylate. If the addition amount is less than 0.002% by mass, the effect of addition cannot be sufficiently exhibited, and if the addition amount exceeds 2% by mass, precipitation or insoluble matter may occur.

本発明においては、レターデーション上昇剤(光学特性調整剤)を添加することができる。レターデーション上昇剤を添加することにより、光学異方性をコントロールすることができる。レターデーション上昇剤は、セルロースアシレートフイルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアシレート100質量部に対して、0.01〜20質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセレート100質量部に対して、0.05〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1〜10質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。   In the present invention, a retardation increasing agent (optical property adjusting agent) can be added. The optical anisotropy can be controlled by adding a retardation increasing agent. The retardation increasing agent is preferably an aromatic compound having at least two aromatic rings in order to adjust the retardation of the cellulose acylate film. An aromatic compound is used in 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of cellulose acylates. The aromatic compound is preferably used in the range of 0.05 to 15 parts by mass, and more preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cellulose acylate. Two or more aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound includes an aromatic hetero ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring.

芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び1,3,5−トリアジン環が含まれる。   The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring). The aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As the hetero atom, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring.

本発明においては、着色剤を添加することができる。着色剤を添加することにより、感光材料支持体等に用いる場合、ライトパイピングを防止することができる。着色剤の添加量は、セルロースアシレートに対する重量割合で10〜1000ppmが好ましく、50〜500ppmが更に好ましい。   In the present invention, a colorant can be added. By adding a colorant, light piping can be prevented when used for a photosensitive material support. The amount of the colorant added is preferably 10 to 1000 ppm, more preferably 50 to 500 ppm, by weight with respect to cellulose acylate.

また、本発明におけるポリマー溶液には、ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩などの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などを、必要に応じて適宜添加することができる。   In the polymer solution of the present invention, a heat stabilizer such as a salt of an alkaline earth metal such as lucium and magnesium, an antistatic agent, a flame retardant, a lubricant, an oil agent and the like can be appropriately added as necessary. .

本発明の溶液製膜方法により製造されるフィルムの光学特性について記す。まず、フィルムの面内のレターデーション(Re)について記すと、その測定法はエリプソメーター(偏光解析計AEP−100:島津製作所(株)製)を用いて、波長632.8nmにおける面内の縦横の屈折率差にフィルム膜厚さを乗じたものであり、下記の式で求められる。
Re=(nx−ny)×d
nx:横方向の屈折率
ny:縦方向の屈折率
It describes about the optical characteristic of the film manufactured by the solution casting method of this invention. First, the in-plane retardation (Re) of the film will be described. The measurement method uses an ellipsometer (Ellipsometer AEP-100: manufactured by Shimadzu Corporation), and the in-plane longitudinal and lateral directions at a wavelength of 632.8 nm. Is obtained by multiplying the difference in refractive index by the film thickness.
Re = (nx−ny) × d
nx: refractive index in the horizontal direction
ny: longitudinal refractive index

レターデーション(Re)は、小さいほど面内方向の光学異方性がないことを示し、0〜300nmの範囲で用途に応じて用いられる。また、フィルムの厚さ方向のレターデーション(Rth)も重要であり、波長632.8nmにおける厚さ方向の複屈折にフィルム膜厚さを乗じたものであり、下記の式で求められる。
Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
nx:横方向の屈折率
ny:縦方向の屈折率
nz:厚さ方向の屈折率
The smaller the retardation (Re) is, the smaller the optical anisotropy in the in-plane direction is, and it is used in the range of 0 to 300 nm depending on the application. The retardation in the thickness direction (Rth) of the film is also important, and is obtained by multiplying the birefringence in the thickness direction at a wavelength of 632.8 nm by the film thickness, and is obtained by the following formula.
Rth = {(nx + ny) / 2−nz} × d
nx: refractive index in the horizontal direction
ny: longitudinal refractive index
nz: refractive index in the thickness direction

厚さ方向の屈折率が小さいほど、厚さ方向の光学異方性がないことを示すが、その使用用途によって好ましい範囲は定まる。一般には、本発明により製造されたセルロースアシレートフィルムのRthは100μm当たり、0nm〜600nmであり、さらには0nm〜400nmで用いられる。   A smaller refractive index in the thickness direction indicates that there is no optical anisotropy in the thickness direction, but a preferable range is determined depending on the intended use. In general, the Rth of the cellulose acylate film produced according to the present invention is 0 nm to 600 nm per 100 μm, and further used at 0 nm to 400 nm.

本発明の高分子樹脂フィルムは、例えば、偏光板保護膜、光学補償シート、AR、LR、AG膜用支持体フィルム等の光学用途フィルム、写真感光材料用支持体フィルムとしても利用することができる。   The polymer resin film of the present invention can also be used as, for example, a polarizing plate protective film, an optical compensation sheet, an AR film, an LR film, an optical film such as an AG film support film, and a support film for a photographic material. .

本発明の高分子樹脂フィルムを光学補償シートに利用する場合、フイルムそのものを光学補償シートとして用いることができる。なお、フイルムそのものを光学補償シートとして用いる場合は、偏光板の透過軸と、光学補償シートの遅相軸とを実質的に平行又は垂直になるように配置することが好ましい。このような偏光板と光学補償シートとの配置については、特開平10−48420号公報に記載がある。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成を有している。   When the polymer resin film of the present invention is used as an optical compensation sheet, the film itself can be used as the optical compensation sheet. When the film itself is used as an optical compensation sheet, it is preferable to arrange the transmission axis of the polarizing plate and the slow axis of the optical compensation sheet so that they are substantially parallel or perpendicular. The arrangement of the polarizing plate and the optical compensation sheet is described in JP-A-10-48420. The liquid crystal display device comprises a liquid crystal cell having a liquid crystal supported between two electrode substrates, two polarizing plates disposed on both sides thereof, and at least one sheet between the liquid crystal cell and the polarizing plate. An optical compensation sheet is arranged.

液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは(透明電極層の接着に用いる)アンダーコート層(下塗り層)を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に50μm〜2mmの厚さを有する。   The liquid crystal layer of the liquid crystal cell is usually formed by sealing liquid crystal in a space formed by sandwiching a spacer between two substrates. The transparent electrode layer is formed on the substrate as a transparent film containing a conductive substance. The liquid crystal cell may further be provided with a gas barrier layer, a hard coat layer, or an undercoat layer (undercoat layer) (used for adhesion of the transparent electrode layer). These layers are usually provided on the substrate. The substrate of the liquid crystal cell generally has a thickness of 50 μm to 2 mm.

光学補償シートは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明によるセルロースアシレートフィルムそのものを、光学補償シートとして用いることができる。さらに反射防止層、防眩性層、λ/4層や2軸延伸セルロースアシレートフィルムとして機能を付与してもよい。また、液晶表示装置の視野角を改良するため、本技術のセルロースアシレートフィルムと、それとは(正/負の関係が)逆の複屈折を示すフィルムを重ねて光学補償シートとして用いてもよい。   The optical compensation sheet has birefringence and is used for the purpose of removing the color of the display screen of the liquid crystal display device or improving the viewing angle characteristics. The cellulose acylate film itself according to the present invention can be used as an optical compensation sheet. Further, the function may be imparted as an antireflection layer, an antiglare layer, a λ / 4 layer or a biaxially stretched cellulose acylate film. In addition, in order to improve the viewing angle of the liquid crystal display device, the cellulose acylate film of the present technology and a film exhibiting a birefringence opposite to that (a positive / negative relationship) may be used as an optical compensation sheet. .

また、支持体の上に液晶性化合物(特にディスコティック液晶性分子)を含む光学的異方性層を設けた光学補償シートも提案されている(特開平3−9325号、同6−148429号、同8−50206号、同9−26572号の各公報記載)。本発明の高分子樹脂フィルムそのような光学補償シートの支持体としても用いることができる。   In addition, optical compensation sheets in which an optically anisotropic layer containing a liquid crystal compound (particularly a discotic liquid crystal molecule) is provided on a support have been proposed (Japanese Patent Laid-Open Nos. 3-9325 and 6-148429). 8-50206 and 9-26572). The polymer resin film of the present invention can also be used as a support for such an optical compensation sheet.

前記偏光板の偏光素子には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。いずれの偏光素子も、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光板の保護膜は、25〜350μmの厚さを有することが好ましく、40〜200μmの厚さを有することがさらに好ましい。液晶表示装置には、表面処理膜を設けてもよい。表面処理膜の機能には、ハードコート、防曇処理、防眩処理及び反射防止処理が含まれる。   Examples of the polarizing element of the polarizing plate include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. Any polarizing element is generally manufactured using a polyvinyl alcohol film. The protective film of the polarizing plate preferably has a thickness of 25 to 350 μm, and more preferably 40 to 200 μm. The liquid crystal display device may be provided with a surface treatment film. The functions of the surface treatment film include hard coat, anti-fogging treatment, anti-glare treatment and anti-reflection treatment.

前記光学的異方性層は、負の一軸性を有し傾斜配向したディスコティック液晶性分子を含む層であることが好ましい。ディスコティック液晶性分子を含む層が、円盤面と支持体面とのなす角が光学的異方性層の深さ方向において変化したハイブリッド配向していても構わないし、円盤面が支持体面と平行なホメオトロピック配向、円盤面が支持体面と垂直なホモジニアス配向、又は、円盤面が光学的異方性層の深さ方向でねじれているツイスト配向を取っていても構わない。また、これらの配向が混在した配向(例えば、ハイブリッド配向+ツイスト配向)していても構わない。そのなかでもハイブリッド配向していることが好ましい。ディスコティック液晶性分子ひとつひとつの光軸は、円盤面の法線方向に存在する。しかし、ディスコティック液晶性分子がハイブリッド配向している層全体としては、光軸は存在しない。   The optically anisotropic layer is preferably a layer containing negatively uniaxially tilted and aligned discotic liquid crystal molecules. The layer containing the discotic liquid crystalline molecules may be hybrid-aligned in which the angle formed by the disk surface and the support surface changes in the depth direction of the optically anisotropic layer, and the disk surface is parallel to the support surface. Homeotropic alignment, homogeneous alignment in which the disk surface is perpendicular to the support surface, or twist alignment in which the disk surface is twisted in the depth direction of the optically anisotropic layer may be employed. Moreover, the orientation in which these orientations are mixed (for example, hybrid orientation + twist orientation) may be used. Among these, the hybrid orientation is preferable. The optical axis of each discotic liquid crystalline molecule exists in the normal direction of the disk surface. However, the optical axis does not exist in the entire layer in which the discotic liquid crystalline molecules are hybrid-aligned.

本発明の溶液製膜方法により製造されるフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。TN(Twisted
Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti−ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)及びHAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。セルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
The film produced by the solution casting method of the present invention can be used for liquid crystal cells in various display modes. TN (Twisted
Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), AFLC (Anti-Ferroelectric Liquid Crystal), OCB (Optically Compensated Bend) Various display modes such as Aligned Nematic) have been proposed. In addition, a display mode in which the above display mode is oriented and divided has been proposed. The cellulose acylate film is effective in any display mode liquid crystal display device. Further, it is effective in any of a transmissive type, a reflective type, and a transflective liquid crystal display device.

本発明の高分子樹脂フィルムをTNモードの液晶セルを有するTN型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。TNモードの液晶セルとTN型液晶表示装置については、古くから良く知られている。TN型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平3−9325号、同6−148429号、同8−50206号、同9−26572号の各公報に記載がある。また、モリ(Mori)他の論文(Jpn.J.Appl.Phys.Vol.36(1997)p.143や、Jpn.J.Appl.Phys.Vol.36(1997)p.1068)に記載がある。TN型液晶表示装置については、特開平10−123478号、WO9848320号、特許第3022477号の各公報に記載がある。   The polymer resin film of the present invention may be used as a support for an optical compensation sheet of a TN type liquid crystal display device having a TN mode liquid crystal cell. TN mode liquid crystal cells and TN type liquid crystal display devices have been well known for a long time. The optical compensation sheet used for the TN liquid crystal display device is described in JP-A-3-9325, JP-A-6-148429, JP-A-8-50206, and JP-A-9-26572. Moreover, it is described in Mori et al. (Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 36 (1997) p. 143 and Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 36 (1997) p. 1068). is there. The TN liquid crystal display device is described in JP-A-10-123478, WO98848320, and Japanese Patent No. 3022477.

本発明の高分子樹脂フィルムをSTNモードの液晶セルを有するSTN型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にSTN型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が90〜360度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性(Δn)とセルギャップ(d)との積(Δnd)が300〜1500nmの範囲にある。STN型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開2000−105316号公報に記載がある。   The polymer resin film of the present invention may be used as a support for an optical compensation sheet of an STN type liquid crystal display device having an STN mode liquid crystal cell. In general, in a STN type liquid crystal display device, rod-like liquid crystalline molecules in a liquid crystal cell are twisted in the range of 90 to 360 degrees, and the refractive index anisotropy (Δn) and cell gap (d) of the rod-like liquid crystalline molecules. Product (Δnd) is in the range of 300 to 1500 nm. The optical compensation sheet used in the STN type liquid crystal display device is described in JP-A-2000-105316.

本発明の高分子樹脂フィルムをVAモードの液晶セルを有するVA型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。VA型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。VA型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質は、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び光学的異方性層と支持体との配置により決定される。VA型液晶表示装置に光学補償シートを二枚使用する場合は、光学補償シートの面内レターデーションを、−5nm〜5nmの範囲内にすることが好ましい。従って、二枚の光学補償シートのそれぞれの面内レターデーションの絶対値は、0〜5とすることが好ましい。VA型液晶表示装置に光学補償シートを一枚使用する場合は、光学補償シートの面内レターデーションを、−10nm〜10nmの範囲内にすることが好ましい。   The polymer resin film of the present invention may be used as a support for an optical compensation sheet of a VA liquid crystal display device having a VA mode liquid crystal cell. In the optical compensation sheet used for the VA liquid crystal display device, it is preferable that the direction in which the absolute value of retardation is minimum does not exist in the plane of the optical compensation sheet or in the normal direction. The optical properties of the optical compensation sheet used in the VA liquid crystal display device are determined by the optical properties of the optically anisotropic layer, the optical properties of the support, and the arrangement of the optically anisotropic layer and the support. . When two optical compensation sheets are used in the VA liquid crystal display device, the in-plane retardation of the optical compensation sheet is preferably in the range of −5 nm to 5 nm. Therefore, the absolute value of the in-plane retardation of each of the two optical compensation sheets is preferably 0 to 5. When one optical compensation sheet is used in the VA liquid crystal display device, it is preferable that the in-plane retardation of the optical compensation sheet be in the range of −10 nm to 10 nm.

本発明の高分子樹脂フィルムを、OCBモードの液晶セルを有するOCB型液晶表示装置あるいはHANモードの液晶セルを有するHAN型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。OCB型液晶表示装置あるいはHAN型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。OCB型液晶表示装置あるいはHAN型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び光学的異方性層と支持体との配置により決定される。OCB型液晶表示装置あるいはHAN型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平9−197397号公報に記載がある。また、モリ(Mori)他の論文(Jpn.J.Appl.Phys.Vol.38(1999)p.2837)に記載がある。   The polymer resin film of the present invention may be used as a support for an optical compensation sheet of an OCB type liquid crystal display device having an OCB mode liquid crystal cell or a HAN type liquid crystal display device having a HAN mode liquid crystal cell. In the optical compensation sheet used for the OCB type liquid crystal display device or the HAN type liquid crystal display device, it is preferable that the direction in which the absolute value of retardation is minimum does not exist in the plane of the optical compensation sheet or in the normal direction. The optical properties of the optical compensation sheet used in the OCB type liquid crystal display device or the HAN type liquid crystal display device are also the optical properties of the optically anisotropic layer, the optical properties of the support, and the optically anisotropic layer and the support. Is determined by the arrangement of An optical compensation sheet used for an OCB type liquid crystal display device or a HAN type liquid crystal display device is described in JP-A-9-197397. Moreover, it is described in Mori et al. (Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 38 (1999) p. 2837).

本発明の高分子樹脂フィルムをASM(Axially Symmetric Aligned Microcell)モードの液晶セルを有するASM型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ASMモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、TNモードの液晶セルと同様である。ASMモードの液晶セルとASM型液晶表示装置については、クメ(Kume)外の論文(Kume et al.,SID 98 Digest 1089(1998))に記載がある。   The polymer resin film of the present invention may be used as a support for an optical compensation sheet of an ASM type liquid crystal display device having a liquid crystal cell of ASM (Axial Symmetrical Microcell) mode. The ASM mode liquid crystal cell is characterized in that the thickness of the cell is maintained by a resin spacer whose position can be adjusted. Other properties are the same as those of the TN mode liquid crystal cell. The ASM mode liquid crystal cell and the ASM type liquid crystal display device are described in a paper (Kume et al., SID 98 Digest 1089 (1998)) outside Kume.

溶液製膜工程において使用した原料は、以下の通りである。
セルローストリアセテート 100重量部
トリフェニルフォスフェート 10重量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート 5重量部
メチレンクロライド 315重量部
メタノール 60重量部
n−ブタノール 10重量部
乾燥後の製品厚み 40、80μm
減圧チャンバー減圧度 0〜500Pa
The raw materials used in the solution casting process are as follows.
Cellulose triacetate 100 parts by weight Triphenyl phosphate 10 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate 5 parts by weight Methylene chloride 315 parts by weight Methanol 60 parts by weight n-butanol 10 parts by weight Product thickness after drying 40, 80 μm
Decompression chamber decompression degree 0-500Pa

共流延時の副流ドープ組成
セルローストリアセテート 100重量部
トリフェニルフォスフェート 10重量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート 5重量部
メチレンクロライド 400重量部
メタノール 75重量部
n−ブタノール 13重量部
乾燥後の製品厚み合計 80μm
主流厚み 76μm
副流厚み(上下層) 各2μm
Side stream dope composition during co-casting Cellulose triacetate 100 parts by weight Triphenyl phosphate 10 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate 5 parts by weight Methylene chloride 400 parts by weight Methanol 75 parts by weight n-butanol 13 parts by weight Total product thickness after drying 80 μm
Mainstream thickness 76μm
Side flow thickness (upper and lower layers) 2μm each

前記図3に示す流延装置を用い、実施例の各条件にて、流延リボンの平均長さl、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp、厚みムラピッチa、厚みムラ率d、伸縮周波数f、流延リボンの伸縮率eを測定するとともに、製膜したフィルムの塗工ムラを目視観察により評価した。   Using the casting apparatus shown in FIG. 3, the average length l of the casting ribbon, the static pressure fluctuation width Δp of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a, the thickness unevenness rate d, under the conditions of the example, While measuring the expansion / contraction frequency f and the expansion / contraction rate e of the casting ribbon, the coating unevenness of the formed film was evaluated by visual observation.

[実施例1]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−200Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=0.9mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 1]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = −200 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 0.9mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=10mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=0.5Pa、厚みムラのピッチa=0.9cm、厚みムラ率d=0.3%、伸縮周波数f=93(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.3%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon l = 10 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 0.5 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 0.9 cm, and the thickness variation ratio d = 0.3%. The expansion / contraction frequency f = 93 (1 / s), and the expansion / contraction ratio e of the casting ribbon was 0.3%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

[実施例2]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−100Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=0.9mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 2]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = -100 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 0.9mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=14mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=0.4Pa、厚みムラのピッチa=1.6cm、厚みムラ率d=、0.4%、伸縮周波数f=52(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.4%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon l = 14 mm, the static pressure fluctuation range Δp = 0.4 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a = 1.6 cm, the thickness unevenness ratio d =, 0.4. %, Stretching frequency f = 52 (1 / s), stretching ratio e of the casting ribbon was 0.4%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

[実施例3]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−40Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=0.9mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 3]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = -40 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 0.9mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=19mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=0.4Pa、厚みムラのピッチa=2.4cm、厚みムラ率d=、0.9%、伸縮周波数f=34.7(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.9%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon l = 19 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 0.4 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a = 2.4 cm, and the thickness unevenness ratio d = 0.9. %, Stretching frequency f = 34.7 (1 / s), stretching ratio e of the casting ribbon e = 0.9%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

[実施例4]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=1.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=0Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=1.2mm
5)流延速度v=58.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 4]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance h = 1.5 mm between casting die and support
2) Decompression degree of the decompression chamber p = 0 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 1.2mm
5) Casting speed v = 58.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=12mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=0.2Pa、厚みムラのピッチa=1.8cm、厚みムラ率d=、0.7%、伸縮周波数f=32.4(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.7%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon l = 12 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 0.2 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 1.8 cm, the thickness variation ratio d =, 0.7 %, Stretching frequency f = 32.4 (1 / s), stretching ratio e = 0.7% of the casting ribbon.

この実施例は、図1において曲線aと曲線bの間の領域に入リ、また、図2において曲線cと曲線dの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。   This example entered the region between the curve a and the curve b in FIG. 1, and entered the region between the curve c and the curve d in FIG. 2, and although the coating unevenness was visible, it was weak.

[実施例5]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=10Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=1.5mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 5]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance h = 5 mm between casting die and support
2) Decompression degree of the decompression chamber p = 10 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 1.5mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=26mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=2.0Pa、厚みムラのピッチa=4.0cm、厚みムラ率d=9.0%、伸縮周波数f=20.8(1/s)、流延リボンの伸縮率e=9.0%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon 1 = 26 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 2.0 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 4.0 cm, and the thickness variation ratio d = 9.0%. The expansion / contraction frequency f = 20.8 (1 / s), and the expansion / contraction ratio e of the casting ribbon was 9.0%.

この実施例は、図1において曲線aと曲線bの間の領域に入リ、また、図2において曲線cと曲線dの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。   This example entered the region between the curve a and the curve b in FIG. 1, and entered the region between the curve c and the curve d in FIG. 2, and although the coating unevenness was visible, it was weak.

[実施例6]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=300Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=1.0mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 6]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = 300 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 1.0mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=7.0mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=2.0Pa、厚みムラのピッチa=0.7cm、厚みムラ率d=0.5%で、伸縮周波数f=119(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.5%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon l = 7.0 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 2.0 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a = 0.7 cm, and the thickness unevenness ratio d = 0. At 5%, the expansion / contraction frequency f = 119 (1 / s), and the expansion ratio e of the casting ribbon was 0.5%.

この実施例は、図1において曲線aと曲線bの間の領域に入リ、また、図2において曲線cと曲線dの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。   This example entered the region between the curve a and the curve b in FIG. 1, and entered the region between the curve c and the curve d in FIG. 2, and although the coating unevenness was visible, it was weak.

[実施例7]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=1.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=0Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=1.2mm
5)流延速度v=33.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 7]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance h = 1.5 mm between casting die and support
2) Decompression degree of the decompression chamber p = 0 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 1.2mm
5) Casting speed v = 33.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=12.0mm、リボン近傍の静圧変動周波数=170Hz、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=5.0Pa、厚みムラのピッチa=0.2cm、厚みムラ率d=0.4%、伸縮周波数f=166.5(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.4%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon 1 = 12.0 mm, the static pressure fluctuation frequency near the ribbon = 170 Hz, the static pressure fluctuation width Δp = 5.0 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, and the thickness unevenness pitch a = 0. 0.2 cm, thickness unevenness ratio d = 0.4%, stretching frequency f = 166.5 (1 / s), casting ribbon stretching ratio e = 0.4%.

この実施例は、図1において曲線aと曲線bの間の領域に入リ、また、図2において曲線cと曲線dの間の領域に入り、塗工ムラは見えたが弱かった。   This example entered the region between the curve a and the curve b in FIG. 1, and entered the region between the curve c and the curve d in FIG. 2, and although the coating unevenness was visible, it was weak.

[実施例8]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−300Pa
3)主流ドープ粘度μ=45Pa・s
副流ドープ粘度μs=20Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=1.0mm
5)流延速度v=133.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 8]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = −300 Pa
3) Mainstream dope viscosity μ = 45 Pa · s
Side flow dope viscosity μs = 20 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 1.0mm
5) Casting speed v = 133.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=8mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=0.2Pa、厚みムラのピッチa=1.2cm、厚みムラ率d=0.1%、伸縮周波数f=111(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.1%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon 1 = 8 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 0.2 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 1.2 cm, and the thickness variation ratio d = 0.1%. The expansion / contraction frequency f = 111 (1 / s), and the expansion / contraction ratio e of the casting ribbon was 0.1%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

[実施例9]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−200Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=0.9mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Example 9]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = −200 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 0.9mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=10mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=1.2Pa、厚みムラのピッチa=0.9cm、厚みムラ率d=0.7%、伸縮周波数f=92.6(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.7%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon 1 = 10 mm, the static pressure fluctuation range Δp = 1.2 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 0.9 cm, and the thickness variation ratio d = 0.7%. The expansion / contraction frequency f = 92.6 (1 / s), and the expansion / contraction rate e of the casting ribbon was 0.7%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

[比較例1]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−100Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=0.9mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Comparative Example 1]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = -100 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 0.9mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=14mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=2.4Pa、厚みムラのピッチa=1.6cm、厚みムラ率d=2.4%、伸縮周波数f=52(1/s)、流延リボンの伸縮率e=2.4%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon 1 = 14 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 2.4 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 1.6 cm, and the thickness variation ratio d = 2.4%. The stretching frequency f was 52 (1 / s), and the stretching ratio e of the casting ribbon was 2.4%.

この比較例は、図1において曲線bより上の領域に入リ、また、図2において曲線dより上の領域に入り、塗工ムラは強く見えた。   This comparative example entered the region above the curve b in FIG. 1, and entered the region above the curve d in FIG. 2, and the coating unevenness looked strong.

[比較例2]
下記の条件で製膜を行った。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=−40Pa
3)ドープ粘度μ=45Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=0.9mm
5)流延速度v=83.3cm/s
6)ベース厚みt=80μm
[Comparative Example 2]
Film formation was performed under the following conditions.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = -40 Pa
3) Dope viscosity μ = 45 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 0.9mm
5) Casting speed v = 83.3 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=19mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=2.4Pa、厚みムラのピッチa=2.4cm、厚みムラ率d=5.3%、伸縮周波数f=34.7(1/s)、流延リボンの伸縮率e=5.3%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon 1 = 19 mm, the static pressure fluctuation width Δp = 2.4 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a = 2.4 cm, and the thickness unevenness rate d = 5.3%. The stretching frequency f was 34.7 (1 / s), and the stretching ratio e of the casting ribbon was e = 5.3%.

この比較例は、図1において曲線bより上の領域に入リ、また、図2において曲線dより上の領域に入り、塗工ムラは強く見えた。   This comparative example entered the region above the curve b in FIG. 1, and entered the region above the curve d in FIG. 2, and the coating unevenness looked strong.

[実施例10]
ドープ処方を変えて、下記の条件で製膜を行った。
セルローストリアセテート 100重量部
トリフェニルフォスフェート 10重量部
ビフェニルジフェニルフォスフェート 5重量部
酢酸メチル 315重量部
エタノール 60重量部
n−ブタノール 10重量部
[Example 10]
Film formation was performed under the following conditions by changing the dope formulation.
Cellulose triacetate 100 parts by weight Triphenyl phosphate 10 parts by weight Biphenyl diphenyl phosphate 5 parts by weight Methyl acetate 315 parts by weight Ethanol 60 parts by weight n-butanol 10 parts by weight

溶媒にてセルローストリアセテートを30分間膨潤させ、−70℃にて冷却後50℃に加温溶解した。
1)流延ダイと支持体の距離h=3.5mm
2)減圧チャンバーの減圧度p=0Pa
3)ドープ粘度μ=30Pa・s
4)ダイリップクリアランスc1=1.2mm
5)流延速度v=16.7cm/s
6)ベース厚みt=80μm
Cellulose triacetate was swollen with a solvent for 30 minutes, cooled at -70 ° C, and heated to 50 ° C and dissolved.
1) Distance between casting die and support h = 3.5 mm
2) Decompression degree of the decompression chamber p = 0 Pa
3) Dope viscosity μ = 30 Pa · s
4) Die lip clearance c1 = 1.2mm
5) Casting speed v = 16.7 cm / s
6) Base thickness t = 80 μm

この時、流延リボンの平均長さl=10mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅Δp=0.5Pa、厚みムラのピッチa=1.0cm、厚みムラ率d=0.1%、伸縮周波数f=16.7(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.1%であった。   At this time, the average length l of the casting ribbon l = 10 mm, the static pressure fluctuation range Δp = 0.5 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness variation pitch a = 1.0 cm, and the thickness variation ratio d = 0.1%. The expansion / contraction frequency f = 16.7 (1 / s), and the expansion / contraction rate e of the casting ribbon was 0.1%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

[実施例11]
<セルローストリアセテート溶液の作製>
攪拌羽根を有するステンレス性溶解タンクに、下記の溶媒混合溶液によく攪拌しつつ、セルローストリアセテート粉体(平均サイズ2mm)を徐々に添加して仕込んだ。添加後、室温(25℃)にて3時間,25℃にて放置し、セルローストリアセテートを膨潤させた。なお、溶媒である酢酸メチルとシクロペンタノン、アセトン、メタノール及びエタノールは、すべてその含水率が0.2質量%以下のものを利用した。
[Example 11]
<Preparation of cellulose triacetate solution>
Cellulose triacetate powder (average size: 2 mm) was gradually added to a stainless steel dissolution tank having stirring blades while stirring well in the following solvent mixed solution. After the addition, the mixture was allowed to stand at room temperature (25 ° C.) for 3 hours at 25 ° C. to swell the cellulose triacetate. In addition, methyl acetate, cyclopentanone, acetone, methanol, and ethanol, which are solvents, all have a water content of 0.2% by mass or less.

セルローストリアセテート 16質量部
(置換度2.83、粘度平均重合度320、含水率0.4質量%、メチレンクロライド溶液中6質量%の粘度305mPa・s)
酢酸メチル 53質量部
シクロペンタン 10質量部
アセトン 5質量部
メタノール 5質量部
エタノール 5質量部
可塑剤A(ジペンタエリスリトールヘキサアセテート) 3質量部
可塑剤B(トリフェニルフォスフェート) 3質量部
微粒子粉体(シリカ(粒径20nm)) 0.1質量部
紫外線吸収剤a 0.1質量部
(2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン)
紫外線吸収剤b 0.1質量部
(2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール)
紫外線吸収剤c 0.1質量部
(2(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)−5−クロルベンゾトリアゾール
1225OCH2CH2O−P(=O)−(OK)2
0.05質量部
16 parts by mass of cellulose triacetate (degree of substitution 2.83, viscosity average degree of polymerization 320, water content 0.4% by mass, viscosity of 6% by mass in methylene chloride solution 305 mPa · s)
Methyl acetate 53 parts by weight Cyclopentane 10 parts by weight Acetone 5 parts by weight Methanol 5 parts by weight Ethanol 5 parts by weight Plasticizer A (dipentaerythritol hexaacetate) 3 parts by weight Plasticizer B (triphenyl phosphate) 3 parts by weight Fine particle powder (Silica (particle diameter 20 nm)) 0.1 part by mass UV absorber a 0.1 part by mass (2,4-bis- (n-octylthio) -6- (4-hydroxy-3,5-di-tert- Butylanilino) -1,3,5-triazine)
UV absorber b 0.1 parts by mass (2 (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole)
UV absorber c 0.1 parts by mass (2 (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-amylphenyl) -5-chlorobenzotriazole C 12 H 25 OCH 2 CH 2 O—P (═O )-(OK) 2
0.05 parts by mass

なお、後述する冷却溶解法で得られたこの溶液の粘度は160Pa・S(45℃)であった。   The viscosity of this solution obtained by the cooling dissolution method described later was 160 Pa · S (45 ° C.).

<セルローストリアセテート溶液の冷却溶解>
上述したセルローストリアセテート溶液をスクリュー押し出し機で送液して、−70℃で3分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−80℃の冷媒(3M社製,『フロリナート』)を用いて実施した。そして、冷却により得られた溶液は、静止型混合器を設置した熱交換器により120℃まで温度を上昇させ、3分間保持した後冷却し50℃としてステンレス製の容器に移送し、50℃で2時間撹拌し脱泡を行った。このように調製したセルローストリアセテート溶液を、絶対濾過精度0.01mmの濾紙(東洋濾紙(株)製,『#63』)で濾過し、さらに、絶対濾過精度0.0025mmの濾紙(ポール社製,『FH 025』)にて濾過した。
<Cooling dissolution of cellulose triacetate solution>
The cellulose triacetate solution described above was fed by a screw extruder and passed through the cooling part at −70 ° C. for 3 minutes. Cooling was performed using a refrigerant at −80 ° C. (3M, “Fluorinert”) cooled by a refrigerator. The solution obtained by cooling is heated to 120 ° C. by a heat exchanger provided with a static mixer, held for 3 minutes, cooled, transferred to a stainless steel container at 50 ° C., and heated at 50 ° C. The mixture was stirred for 2 hours for defoaming. The cellulose triacetate solution thus prepared was filtered with a filter paper having an absolute filtration accuracy of 0.01 mm (manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd., “# 63”), and further, a filter paper having an absolute filtration accuracy of 0.0025 mm (manufactured by Pall, (FH 025)).

<セルローストリアセテート溶液の流延製膜>
上記の方法により調製したセルローストリアセテート溶液は25Pa・sであった。この溶液を実施例10と同様な条件下で流延してセルローストリアセテートフィルムを得た。
<Casting of cellulose triacetate solution by casting>
The cellulose triacetate solution prepared by the above method was 25 Pa · s. This solution was cast under the same conditions as in Example 10 to obtain a cellulose triacetate film.

その結果、流延リボンの平均長さはl=9.5mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅ΔP=0.5Pa、厚みムラのピッチa=1.1mm、厚みムラ率d=0.1%、伸縮周波数17.5(1/s)、流延リボンの伸縮率e=0.1%であった。   As a result, the average length of the casting ribbon is l = 9.5 mm, the static pressure fluctuation range ΔP = 0.5 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a = 1.1 mm, and the thickness unevenness rate d = 0. 0.1%, stretching frequency 17.5 (1 / s), stretching rate e of the casting ribbon e = 0.1%.

この実施例は、図1において曲線bより下の領域に入リ、また、図2において曲線dより下の領域に入り、塗工ムラは見えなかった。   This example entered the region below the curve b in FIG. 1, and entered the region below the curve d in FIG. 2, and no coating unevenness was visible.

<反射防止膜>
上記条件にて製造したセルローストリアセテートフィルムを使って塗工による反射防止膜を下記の手順により作製した。
<Antireflection film>
Using the cellulose triacetate film produced under the above conditions, an antireflection film by coating was produced by the following procedure.

(防眩層用塗布液Aの調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(日本化薬(株)製,『DPHA』)125g、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド(住友精化(株)製,『MPSMA』)125gを、439gのメチルエチルケトン/シクロヘキサノン=50/50質量%の混合溶媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤(チバガイギー社製,『イルガキュア 907』)5.0g及び光増感剤(日本化薬(株)製,『カヤキュアー DETX』)3.0gを49gのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.60であった。
(Preparation of coating solution A for antiglare layer)
125 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., “DPHA”), bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide (Sumitomo Seika Co., Ltd., “MPSMA”) ) 125 g was dissolved in 439 g of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 50/50 mass% mixed solvent. Into the obtained solution, 5.0 g of a photopolymerization initiator (Ciba Geigy, “Irgacure 907”) and 3.0 g of photosensitizer (Nippon Kayaku Co., Ltd., “Kayacure DETX”) were added to 49 g of methyl ethyl ketone. The dissolved solution was added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.60.

さらに、この溶液に平均粒径2μmの架橋ポリスチレン粒子(綜研化学(株)製,商品名『SX−200H』)10gを添加して、高速ディスパにて5000rpmで1時間攪拌、分散した後、孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩層の塗布液を調製した。   Further, 10 g of a crosslinked polystyrene particle having an average particle diameter of 2 μm (trade name “SX-200H”, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was added to this solution, and the mixture was stirred and dispersed at 5000 rpm for 1 hour with a high-speed dispaper. An antiglare layer coating solution was prepared by filtration through a 30 μm polypropylene filter.

(ハードコート層用塗布液Dの調製)
紫外線硬化性ハードコート組成物(JSR(株),『デソライト KZ−7689』72質量%)250gを62gのメチルエチルケトン及び88gのシクロヘキサノンに溶解した溶液を加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.53であった。
(Preparation of coating liquid D for hard coat layer)
A solution obtained by dissolving 250 g of an ultraviolet curable hard coat composition (JSR Corporation, 72% by mass of “Desolite KZ-7689”) in 62 g of methyl ethyl ketone and 88 g of cyclohexanone was added. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.53.

さらに、この溶液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層の塗布液を調製した。   Further, this solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare a coating solution for a hard coat layer.

(低屈折率層用塗布液Eの調製)
屈折率1.42の熱架橋性含フッ素ポリマー(JSR(株)製,『TN−049』)200 93gにMEK−ST(平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%のSiOゾルのMEK分散物、日産化学(株)製)8g、及びメチルエチルケトン100gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating liquid E for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.42 (manufactured by JSR Co., Ltd., “TN-049”) 200 93 g of MEK-ST (average particle size of 10 to 20 nm, solid content concentration of 30% by mass of SiO 2 sol) 8 g of MEK dispersion (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) and 100 g of methyl ethyl ketone were added, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a coating solution for a low refractive index layer.

上記80μmの厚さのセルローストリアセテートフィルムに、上記のハードコート層用塗布液Dをバーコーターを用いて塗布し、120℃で乾燥の後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm、照射量300mJ/cmの紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ2.5μmのハードコート層を形成した。 The above-mentioned coating liquid D for hard coat layer is applied to the cellulose triacetate film having a thickness of 80 μm using a bar coater, dried at 120 ° C., and then air-cooled metal halide lamp (Igraphics Co., Ltd.) of 160 W / cm. The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays with an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 2.5 μm.

その上に、上記防眩層用塗布液Aをバーコーターを用いて塗布し、上記ハードコート層と同条件にて乾燥、紫外線硬化して、厚さ約1.5μmの防眩層を形成した。さらに、その上に、上記低屈折率層用塗布液Eをバーコーターを用いて塗布し、80℃で乾燥の後、さらに120℃で10分間熱架橋し、厚さ0.096μmの低屈折率層を形成した。   On top of that, the antiglare layer coating solution A was applied using a bar coater, dried and UV cured under the same conditions as the hard coat layer to form an antiglare layer having a thickness of about 1.5 μm. . Further, the coating liquid E for the low refractive index layer is applied thereon using a bar coater, dried at 80 ° C., and further thermally crosslinked at 120 ° C. for 10 minutes to have a low refractive index of 0.096 μm in thickness. A layer was formed.

[比較例3]
実施例11と同様なセルローストリアセテート溶液を用いて比較例1と同様な流延条件で流延した。
[Comparative Example 3]
The same cellulose triacetate solution as in Example 11 was used and cast under the same casting conditions as in Comparative Example 1.

その結果、流延リボンの平均長さはl=14.5mm、流延リボンを含む雰囲気の静圧変動幅ΔP=2.5Pa、厚みムラのピッチa=16mm、厚みムラ率d=2.5%、伸縮周波数53(1/s)、流延リボンの伸縮率e=2.5%であった。   As a result, the average length of the casting ribbon is 1 = 14.5 mm, the static pressure fluctuation range ΔP = 2.5 Pa of the atmosphere including the casting ribbon, the thickness unevenness pitch a = 16 mm, and the thickness unevenness ratio d = 2.5. %, Stretching frequency 53 (1 / s), stretching ratio e = 2.5% of the casting ribbon.

この比較例は、図1において曲線bより上の領域に入リ、また、図2において曲線dより上の領域に入り、塗工ムラは強く見えた。
また、実施例11と同様の方法で、反射防止膜を作製した。
This comparative example entered the region above the curve b in FIG. 1, and entered the region above the curve d in FIG. 2, and the coating unevenness looked strong.
In addition, an antireflection film was produced in the same manner as in Example 11.

[反射防止膜の評価]
実施例11及び比較例3により得られたセルローストリアセテートフィルムを用いた反射防止膜について、以下の項目の評価を行った。
[Evaluation of antireflection film]
The antireflection film using the cellulose triacetate film obtained in Example 11 and Comparative Example 3 was evaluated for the following items.

(1) 鏡面反射率及び色味
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプター ARV−474を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角−5度の鏡面反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出した。この反射率により、反射防止性を評価した。
さらに、測定された反射スペクトルから、CIE標準光源D65の5度入射光に対する正反射光の色味を表すCIE1976L*a*b*色空間のL*値、a*値、b*値を算出し、反射光の色味を評価した。
(1) Specular reflectance and tint A spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) is equipped with an adapter ARV-474, and an emission angle of -5 at an incident angle of 5 ° in a wavelength region of 380 to 780 nm. The specular reflectivity was measured, and an average reflectivity of 450 to 650 nm was calculated. The antireflection property was evaluated based on the reflectance.
Further, CIE 1976 L * a * b * color space L * value, a * value, and b * value representing the color of the specularly reflected light with respect to the 5 degree incident light of the CIE standard light source D65 are calculated from the measured reflection spectrum. The color of reflected light was evaluated.

(2) 積分反射率
分光光度計V−550(日本分光(株)製)にアダプター ILV−471を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分反射率を測定し、450〜650nmの平均反射率を算出した。この反射率により、反射防止性を評価した。
(2) Integral reflectance The spectrophotometer V-550 (manufactured by JASCO Corporation) is fitted with an adapter ILV-471, and the integral reflectance at an incident angle of 5 ° is measured in the wavelength region of 380 to 780 nm. An average reflectance of 450 to 650 nm was calculated. The antireflection property was evaluated based on the reflectance.

(3) ヘイズ
ヘイズメーター MODEL 1001DP(日本電色工業(株)製)を用いて測定した。
(3) Haze A haze meter was measured using MODEL 1001DP (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

(4) 鉛筆硬度評価
耐傷性の指標としてJIS K 5400に記載の鉛筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、JIS S 6006に規定する3Hの試験用鉛筆を用いて(荷重:1kg)、以下の基準で評価した。
n=5の評価において傷が全く認められない:○
n=5の評価において傷が1又は2つ :△
n=5の評価において傷が3つ以上 :×
(4) Pencil hardness evaluation Pencil hardness evaluation described in JIS K 5400 was performed as an index of scratch resistance. The antireflection film was conditioned at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH for 2 hours, and then evaluated using the 3H test pencil specified in JIS S 6006 (load: 1 kg) according to the following criteria.
No scratches are observed in the evaluation of n = 5: ○
In evaluation of n = 5, 1 or 2 scratches:
In evaluation of n = 5, 3 or more scratches: ×

(5) 接触角
温度25℃、湿度60%RHで2時間調湿した後、水に対する接触角を測定し、指紋付着性の指標とした。この指紋付着性は、表面の耐汚染性の指標として用いられる。
(5) Contact angle After conditioning for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH, the contact angle against water was measured and used as an index of fingerprint adhesion. This fingerprint adhesion is used as an index of surface contamination resistance.

(6) 動摩擦係数
表面滑り性の指標として動摩擦係数を用いた。動摩擦係数としては、反射防止膜を25℃、相対湿度60%で2時間調湿した後、HEIDON−14動摩擦測定機により5mmφステンレス鋼球、荷重100g、速度60cm/minにて測定した値を用いた。
(6) Dynamic friction coefficient The dynamic friction coefficient was used as an index of surface slipperiness. As the dynamic friction coefficient, the value measured at 5 mmφ stainless steel ball, load 100 g, speed 60 cm / min by HEIDON-14 dynamic friction measuring machine after conditioning the antireflection film at 25 ° C. and relative humidity 60% for 2 hours is used. It was.

(7) 防眩性評価
反射防止膜にルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m)を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからない :◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる :○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる:△
蛍光灯がほとんどぼけない :×
(7) Evaluation of antiglare property An exposed fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) without a louver was projected on the antireflection film, and the degree of blur of the reflected image was evaluated according to the following criteria.
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all: ◎
Slightly understand the outline of the fluorescent lamp: ○
The fluorescent light is blurred, but the outline can be identified:
Fluorescent lamp is hardly blurred: ×

(8)面状評価
目視により、表面を観察し、塗布ムラの有無により評価した。評価基準は以下の通りである。
反射像が一様に見える :◎
反射像が段状のムラに見える:×
以上の評価結果を表1に示す。
(8) Planar evaluation The surface was visually observed and evaluated by the presence or absence of coating unevenness. The evaluation criteria are as follows.
Reflected image looks uniform: ◎
Reflected image looks like stepped unevenness: ×
The above evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2008195074
Figure 2008195074

以上の結果、実施例11、比較例3とも防眩性、反射防止性に優れ、かつ色味が弱く、また、鉛筆硬度、指紋付着性(接触角)、動摩擦係数のような膜物性を反映する評価の結果も良好であった。   As a result of the above, both Example 11 and Comparative Example 3 are excellent in antiglare property and antireflection property and weak in color, and reflect film properties such as pencil hardness, fingerprint adhesion (contact angle), and dynamic friction coefficient. The evaluation results were also good.

しかしながら、比較例3においては、段状の塗布ムラが目視で確認でき反射防止膜としては使えないレベルであった。   However, in Comparative Example 3, the stepwise coating unevenness was visually confirmed, and it was a level that could not be used as an antireflection film.

[防眩性反射防止偏光板]
前記実施例11のセルローストリアセテートフィルムを用いて防眩性反射防止偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止膜を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有し、指紋付も良好であった。
[Anti-glare anti-reflection polarizing plate]
Using the cellulose triacetate film of Example 11, an antiglare antireflection polarizing plate was prepared. Using this polarizing plate, a liquid crystal display device in which an antireflection film was arranged on the outermost layer was produced. As a result, there was no reflection of external light, and an excellent contrast was obtained. Visibility was good and fingerprinting was good.

上記偏光板は、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光素子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記反射防止膜を、その遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように片側に貼り付けるとともに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光素子の反対側に貼り付けて作製した。   The polarizing plate is made by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film to produce a polarizing element, and using a polyvinyl alcohol-based adhesive, the anti-reflection film has a slow axis parallel to the transmission axis of the polarizing film. In addition to being attached to one side, a polyvinyl alcohol-based adhesive was used to attach to the opposite side of the polarizing element.

厚みムラ率と厚みムラピッチとの関係と、塗工ムラの視認率との関係を表す図である。It is a figure showing the relationship between the thickness nonuniformity rate and the thickness nonuniformity pitch, and the visual recognition rate of coating nonuniformity. 流延速度及び伸縮周波数と伸縮率との関係と、塗工ムラの視認率との関係を表す図である。It is a figure showing the relationship between the casting speed, the expansion-contraction frequency, and the expansion-contraction rate, and the visual recognition rate of coating nonuniformity. 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution casting apparatus which can be used for the manufacturing method of the polymer resin film by this invention. 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる溶液製膜装置の模式図である。It is a schematic diagram of the solution casting apparatus which can be used for the manufacturing method of the polymer resin film by this invention. 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる溶液製膜装置の模式図である。It is a schematic diagram of the solution casting apparatus which can be used for the manufacturing method of the polymer resin film by this invention. 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる流延ダイの模式断面図である。It is a schematic cross section of the casting die which can be used for the manufacturing method of the polymer resin film by this invention. 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる流延ダイの模式断面図である。It is a schematic cross section of the casting die which can be used for the manufacturing method of the polymer resin film by this invention. 本発明による高分子樹脂フィルムの製造方法に用いることができる流延ダイの模式断面図である。It is a schematic cross section of the casting die which can be used for the manufacturing method of the polymer resin film by this invention. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding block. 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding block. 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding block. 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding block. 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windbreak box. 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windbreak box. 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windbreak box. 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windbreak box. 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding fin. 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding fin. 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding fin. 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding fin. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風板を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windshield. 遮風ブロックを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding block. 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windbreak box. 遮風箱を設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the windbreak box. 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding fin. 遮風フィンを設けた溶液製膜装置の流延ダイ部分の模式図である。It is a schematic diagram of the casting die part of the solution film-forming apparatus provided with the wind-shielding fin.

符号の説明Explanation of symbols

1…流延ダイ
2…支持体
3…減圧チャンバー
4…リボン
10…流延ダイ
20…回転ドラム
30…流延バンド
40…減圧チャンバー
50…吸引ダクト
60…バッファータンク
70…ブロワー
80…流延ドラム
91…遮風板
92…遮風ブロック
93…遮風箱
94…ブロワ−
95…遮風フィン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Casting die 2 ... Support body 3 ... Decompression chamber 4 ... Ribbon 10 ... Casting die 20 ... Rotary drum 30 ... Casting band 40 ... Decompression chamber 50 ... Suction duct 60 ... Buffer tank 70 ... Blower 80 ... Casting drum 91 ... Wind shield plate 92 ... Wind shield block 93 ... Wind shield box 94 ... Blower
95 ... Wind shield fins

Claims (6)

高分子樹脂を有機溶媒に溶かした溶液が流延される支持体と、該溶液を支持体に流延する流延ダイと、該流延ダイの下流側又は上流側において流延ダイに密着して設けられた遮風ブロックとを有することを特徴とする溶液製膜装置。 A support in which a solution of a polymer resin dissolved in an organic solvent is cast, a casting die for casting the solution on the support, and a casting die in close contact with the casting die on the downstream side or upstream side of the casting die. And a wind shielding block provided. 高分子樹脂を有機溶媒に溶かした溶液が流延される支持体と、該溶液を支持体に流延する流延ダイと、該流延ダイの下流側において流延ダイに密着して設けられた遮風箱と、該遮風箱に設けられたブロワーとを有することを特徴とする溶液製膜装置。 A support in which a solution in which a polymer resin is dissolved in an organic solvent is cast, a casting die for casting the solution on the support, and a casting die on the downstream side of the casting die are provided in close contact with the casting die. A solution casting apparatus comprising: a windshield box; and a blower provided in the windshield box. 前記流延ダイのダイリップクリアランスが、0.2〜3mmの範囲であることを特徴とする請求項1又は2記載の溶液製膜装置。 The solution casting apparatus according to claim 1 or 2, wherein a die lip clearance of the casting die is in a range of 0.2 to 3 mm. 前記流延ダイのダイリップクリアランスが、0.5〜2.5mmの範囲であることを特徴とする請求項3記載の溶液製膜装置。 The solution casting apparatus according to claim 3, wherein a die lip clearance of the casting die is in a range of 0.5 to 2.5 mm. 前記支持体と流延ダイとの距離が、1〜10mmの範囲であることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の溶液製膜装置。 The solution casting apparatus according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein a distance between the support and the casting die is in a range of 1 to 10 mm. 前記支持体と流延ダイとの距離が、1.5〜6mmの範囲であることを特徴とする請求項5記載の溶液製膜装置。 6. The solution casting apparatus according to claim 5, wherein a distance between the support and the casting die is in a range of 1.5 to 6 mm.
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