JP2008182143A - Semiconductor device, laser light-emitting device, and method of manufacturing semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、発光素子を備えて構成される半導体装置、レーザ発光装置および当該半導体装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a semiconductor device including a light emitting element, a laser light emitting device, and a method for manufacturing the semiconductor device.
近年、半導体装置の一つとして、半導体レーザ装置が広く知られている。半導体レーザ装置は、例えばディスクドライブ装置の光ピックアップを構成するレーザ発光装置に用いられる。 In recent years, semiconductor laser devices are widely known as one of semiconductor devices. The semiconductor laser device is used in, for example, a laser light emitting device that constitutes an optical pickup of a disk drive device.
このような半導体レーザ装置から出射されるビーム光は、光強度分布が一様ではなく、ビームの中心が高い光強度分布であることが知られている。そのため、半導体レーザ装置を用いてレーザ発光装置を構成する場合には、例えば図8に示すように、その半導体レーザ装置からのビーム光の光強度分布の中心位置を光学系(レンズ等)の中心に合致させて、そのビーム光の光利用効率を向上させるべく、半導体レーザ装置の傾きを調整することが提案されている(例えば、特許文献1、2参照)。
It is known that the light beam emitted from such a semiconductor laser device has a non-uniform light intensity distribution and a high light intensity distribution at the center of the beam. Therefore, when a laser light emitting device is configured using a semiconductor laser device, for example, as shown in FIG. 8, the center position of the light intensity distribution of the beam light from the semiconductor laser device is set to the center of the optical system (lens, etc.). It has been proposed to adjust the tilt of the semiconductor laser device in order to meet the above and improve the light utilization efficiency of the light beam (see, for example,
ところで、半導体レーザ装置から出射されるビーム光は、本来、被照射面におけるスポット形状が楕円形をしている。すなわち、半導体レーザ装置からは、例えば図9に示すように、縦横比が異なるスポット形状のビーム光が出射される。したがって、ビーム光の被照射面では、ラジアル(radial)方向とタンジェンシャル(tangenthial)方向とで光強度分布が均等にはならない。 By the way, the light beam emitted from the semiconductor laser device has an elliptical spot shape on the irradiated surface. That is, from the semiconductor laser device, for example, as shown in FIG. 9, spot-shaped light beams having different aspect ratios are emitted. Therefore, the light intensity distribution is not uniform in the radial direction and the tangential direction on the irradiated surface of the beam light.
このことは、ビーム光の光強度分布の中心位置を光学系の中心に合致させた場合にも生じる。つまり、単にビーム光の光強度分布の中心位置を光学系の中心に合致させただけでは、ビーム光の被照射面におけるラジアル方向とタンジェンシャル方向との光強度分布を均等にすることはできない。 This also occurs when the center position of the light intensity distribution of the beam light is matched with the center of the optical system. That is, the light intensity distribution in the radial direction and the tangential direction on the irradiated surface of the beam light cannot be made uniform by simply matching the center position of the light intensity distribution of the beam light with the center of the optical system.
その一方で、ビーム光の被照射面において、当該ビーム光のスポット形状を、ラジアル・タンジェンシャル方向長さが均等である最適なスポット形状とすることは、例えば光ディスクに記録するときに縦横均等な記録ピットを作ることに繋がり、当該光ディスクの記録密度向上や小型化等を図る上で非常に重要である。 On the other hand, the spot shape of the light beam on the surface irradiated with the light beam is an optimal spot shape having a uniform radial and tangential direction length. This leads to the creation of recording pits, and is extremely important for improving the recording density and miniaturization of the optical disc.
そこで、本発明は、縦横比が異なるスポット形状のビーム光を出射しても、当該ビーム光の被照射面において、ラジアル・タンジェンシャル方向が均等なスポット形状を得ることのできる半導体装置、レーザ発光装置および当該半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a semiconductor device and a laser emitting device capable of obtaining a spot shape having a uniform radial and tangential direction on the surface irradiated with the beam light even when the beam light having a spot shape having a different aspect ratio is emitted. An object is to provide a device and a method for manufacturing the semiconductor device.
本発明は、上記目的を達成するために案出された半導体装置で、縦横比が異なるスポット形状のビーム光を出射する発光素子と、前記発光素子が前記ビーム光の光軸を回転中心にして基準面に対し傾いた状態で取り付けられる素子搭載面とを備えることを特徴とする。 The present invention is a semiconductor device devised to achieve the above object, a light emitting element that emits spot-shaped light beams having different aspect ratios, and the light emitting element having an optical axis of the light beam as a rotation center. And an element mounting surface that is attached in an inclined state with respect to the reference surface.
上記構成の半導体装置では、発光素子を素子搭載面上に搭載すると、その発光素子がビーム光の光軸を回転中心にして傾いて取り付けられるので、ビーム光の被照射面に着目すると、発光素子が傾くのに合わせて、当該被照射面におけるビーム光のスポット形状も、当該ビーム光の光軸を回転中心にして傾くことになる。つまり、ビーム光の被照射面では、発光素子の傾きに合わせて、ビーム光のスポット形状の縦横比が変化する。したがって、発光素子が縦横比の異なるスポット形状のビーム光を出射しても、傾きの傾斜角を適宜設定することによって、当該ビーム光の被照射面におけるラジアル方向とタンジェンシャル方向との光強度分布を均等にし得るようになる。 In the semiconductor device having the above configuration, when the light emitting element is mounted on the element mounting surface, the light emitting element is attached to be inclined with the optical axis of the beam light as the rotation center. As the beam tilts, the spot shape of the beam light on the irradiated surface also tilts around the optical axis of the beam light. That is, the aspect ratio of the spot shape of the light beam changes on the surface irradiated with the light beam in accordance with the inclination of the light emitting element. Therefore, even if the light emitting element emits spot-shaped light beams having different aspect ratios, the light intensity distribution between the radial direction and the tangential direction on the irradiated surface of the light beams by appropriately setting the inclination angle of the light beam. Can be made even.
本発明によれば、発光素子からのビーム光の被照射面において、当該ビーム光のスポット形状を、ラジアル・タンジェンシャル方向長さが均等である最適なスポット形状とすることできる。したがって、例えば光ディスクに対する光ピックアップを構成する場合に、縦横均等な記録ピットを作ることが可能となり、結果として当該光ディスクの記録密度向上や小型化等を図る上で非常に有効なものとなる。 According to the present invention, the spot shape of the light beam on the surface irradiated with the light beam from the light emitting element can be an optimum spot shape having a uniform radial / tangential length. Therefore, for example, when configuring an optical pickup for an optical disc, it is possible to make recording pits that are uniform in length and width, and as a result, it is very effective in improving the recording density and miniaturization of the optical disc.
以下、図面に基づき本発明に係る半導体装置、レーザ発光装置および当該半導体装置の製造方法について説明する。 Hereinafter, a semiconductor device, a laser light emitting device, and a method for manufacturing the semiconductor device according to the present invention will be described with reference to the drawings.
先ず、半導体装置を用いて構成されるレーザ発光装置について説明する。レーザ発光装置としては、例えばディスクドライブ装置の光ピックアップとして用いられるものが挙げられる。 First, a laser light emitting device configured using a semiconductor device will be described. Examples of the laser light emitting device include those used as an optical pickup of a disk drive device.
図1は、光ピックアップの構成例を示す説明図である。図例の光ピックアップは、光ディスクに代表される情報記録媒体1に対してレーザ光を照射するとともに、その情報記録媒体1から得られる反射光の検出を行い得るように構成されたものである。そのために、光ピックアップでは、半導体レーザ装置10からのビーム光の出射方向に沿って、反射面のある偏光ビームスプリッタ20と、コリメータレンズや対物レンズ等を備えた光学系30とが順に配設されており、半導体レーザ装置10から出射されるビーム光が情報記録媒体1における被照射面上に集光されるようになっている。また、偏光ビームスプリッタ20の反射面で反射される反射光の光軸上には信号検出用光学素子等を有した信号検出器40が配設されており、当該信号検出器40が情報記録媒体1からの情報読み取りを行うように構成されている。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a configuration example of an optical pickup. The optical pickup shown in the figure is configured to irradiate an
続いて、以上のような構成のレーザ発光装置(光ピックアップ)にて用いられる半導体レーザ装置10、すなわち本発明に係る半導体装置の一具体例について説明する。 Next, a specific example of the semiconductor laser device 10 used in the laser light emitting device (optical pickup) having the above-described configuration, that is, a semiconductor device according to the present invention will be described.
図2は、半導体レーザ装置の構成例を示す説明図である。図例の半導体レーザ装置10は、ビーム光を出射する発光素子11がサブマウント12を介してベース13上に配設されてなり、さらにはそのベース13が基板パッケージ14に設けられたくぼみ14a内に位置するように配設されてなるものである。
発光素子11は、例えばIII−V族化合物半導体によって形成されるもので、縦横比が異なるスポット形状(例えば楕円形状)のレーザビーム光を出射するものである。
サブマウント12は、少なくとも素子搭載面とサブマウント設置面とを有しており、素子搭載面上に発光素子11が搭載されるとともに、サブマウント設置面が銀ペーストまたは半田等の熱伝導のよい接着剤を用いてベース13上に接合される。サブマウント12には、例えば炭化シリコン(SiC)、銅タングステン(CuW)、ダイヤモンド等の熱伝導率の大きい材料を選択することが考えられる。
ベース13は、銅(Cu)等の熱伝導性の良い金属材料によって形成されたもので、発光素子11が発する熱を当該発光素子11からサブマウント12を介して受け取り、当該発光素子11の冷却(高温化防止)に寄与するヒートシンクとして機能するものである。
基板パッケージ14は、セラミック材料によって形成されたもので、半導体レーザ装置10の基板として機能するものである。この基板パッケージ14については、セラミック材料を用いることによって、配線融通性を確保すること容易となる。例えば、発光素子11の電源ラインを、封止性が良いためセラミック材料内に埋め込んで、ベース13等が配されるくぼみ14a内まで配線するといった具合である。なお、基板パッケージ14には、発光素子11から出射されるビーム光の光軸位置に、そのビーム光を透過させるための開孔14bが設けられている。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a configuration example of the semiconductor laser device. In the semiconductor laser device 10 shown in the figure, a
The
The
The base 13 is formed of a metal material having good thermal conductivity such as copper (Cu), receives heat generated by the
The substrate package 14 is formed of a ceramic material and functions as a substrate of the semiconductor laser device 10. With respect to the substrate package 14, it is easy to ensure wiring flexibility by using a ceramic material. For example, the power source line of the
また、基板パッケージ14のくぼみ14a内に配された発光素子11、サブマウント12およびベース13は、金属キャップ15によって封止されている。すなわち、基板パッケージ14のくぼみ14aには、熱伝導性の良い金属材料によって形成された金属キャップ15が嵌まり込むように配されており、その金属キャップ15の周りが封止性の良い樹脂接着剤16で埋められている。なお、金属キャップ15は、ベース13と直接接触する部分を有するように配されているものとする。
Further, the
また、基板パッケージ14の開孔14bは、リッド17によって封止されている。すなわち、開孔14bには、光透過性を有したガラス材料等からなるリッド17が配設されているとともに、樹脂接着剤等で接合されている。そして、発光素子11から出射されたビーム光が、基板パッケージ14の開孔14bを通り、リッド17を透過し、金属キャップ15とは基板パッケージ14の反対側の面に配設された光学素子18方向に出射されるようになっている。なお、光学素子18は、発光素子11からのビーム光に所定の光学的特性を与えるためのものであるが、本実施形態の半導体レーザ装置10の主要部ではなく、また公知技術を利用して実現すればよいものであるため、ここではその説明を省略する。
Further, the opening 14 b of the substrate package 14 is sealed with a lid 17. That is, a lid 17 made of a light-transmitting glass material or the like is disposed in the opening 14b and bonded with a resin adhesive or the like. The light beam emitted from the
図3は、半導体レーザ装置の他の構成例を示す説明図である。図例の半導体レーザ装置10は、上述した構成例(図2参照)と、金属キャップ15の取り付けが異なる。すなわち、金属キャップ15は、基板パッケージ14のくぼみ14aに嵌まり込むのではなく、そのくぼみ14aの周囲に銀蝋等を用いて設置された金属材料等からなるリング19aを介して、そのリング19aと溶接接合することで、当該くぼみ14a内に配された発光素子11、サブマウント12およびベース13を完全気密状態とするように取り付けられている。ただし、このような取り付け態様では、くぼみ14aに嵌まり込む場合のように各構成部品の寸法誤差を吸収することが期待できず、金属キャップ15がベース13と直接接触し得るとは限らない。そこで、ベース13と金属キャップ15との間には、その隙間を埋めるように、高熱伝導性接着剤等からなる高伝熱材19bが配されており、これによりベース13と金属キャップ15との接触が確保されているものとする。
FIG. 3 is an explanatory view showing another configuration example of the semiconductor laser device. The semiconductor laser device 10 shown in the drawing is different from the above-described configuration example (see FIG. 2) in the attachment of the metal cap 15. That is, the metal cap 15 is not fitted into the
つまり、図2、3のいずれの構成においても、半導体レーザ装置10は、基板パッケージ14のくぼみ14a内に配された発光素子11、サブマウント12およびベース13が、金属キャップ15によって封止されている。そして、当該金属キャップ15は、ベース13と直接または高伝熱材19bを介して接触するように配されているのである。
That is, in any of the configurations of FIGS. 2 and 3, the semiconductor laser device 10 includes the
次に、以上のような半導体レーザ装置10における特徴的な構成について説明する。図4は、半導体レーザ装置の特徴的な構成の概要を示す説明図である。 Next, a characteristic configuration of the semiconductor laser device 10 as described above will be described. FIG. 4 is an explanatory diagram showing an outline of a characteristic configuration of the semiconductor laser device.
本実施形態で説明する半導体レーザ装置10は、図4(A)に示すように、発光素子11が出射するビーム光の光軸を回転中心にして、当該発光素子11が基準面に対し傾いた状態で取り付けられている点に大きな特徴がある。ここで「基準面」とは、従来と同様に発光素子が配設される場合、すなわち縦横比が異なるスポット形状(例えば楕円形状)のビーム光を出射する発光素子が、そのスポット形状の長軸方向が当該ビーム光の被照射面におけるラジアル方向に沿い、かつ、短軸方向が当該ビーム光の被照射面におけるタンジェンシャル方向に沿うように配設される場合の、当該発光素子の設置面に相当する仮想的な面のことをいう。
In the semiconductor laser device 10 described in the present embodiment, as shown in FIG. 4A, the
つまり、本実施形態における半導体レーザ装置10では、発光素子11からのビーム光の光軸を回転中心にして当該発光素子11が基準面に対して傾くような傾斜が与えられた素子搭載面上に、当該発光素子11が取り付けられているのである。基準面に対する素子搭載面の傾斜角、すなわち基準面と素子搭載面とがなす角度は、後述するように、発光素子11からのビーム光のスポット形状に応じて決定すればよいが、具体的には例えば40°程度とすることが考えられる。
That is, in the semiconductor laser device 10 according to the present embodiment, on the element mounting surface provided with an inclination such that the
このような傾斜角が与えられた素子搭載面上に発光素子11を搭載すると、その発光素子11は、ビーム光の光軸を回転中心にして傾いて取り付けられる。したがって、ビーム光の被照射面では、図4(B)に示すように、発光素子11が傾くのに合わせて、当該ビーム光のスポット形状が、当該ビーム光の光軸を回転中心にして傾くことになる。つまり、ビーム光の被照射面では、発光素子11の傾きに合わせて、当該ビーム光のスポット形状の縦横比が変化するのである。具体的には、図例のように、スポット形状の短軸方向の大きさが「b」で、長軸方向の大きさが「c」であり、これらが互いに異なり「b≠c」であっても、光軸を回転中心にして傾くことによって、ビーム光の被照射面におけるスポット形状のラジアル方向の大きさ「a」とタンジェンシャル方向の大きさ「a」とが略同等となる。
When the
これにより、本実施形態における半導体レーザ装置10では、したがって、発光素子11が縦横比の異なるスポット形状のビーム光を出射しても、素子搭載面の傾斜角を適宜設定することによって、図4(C)に示すように、当該ビーム光の被照射面におけるラジアル方向とタンジェンシャル方向との光強度分布(FFP;far field pattern)を均等にし得るのである。
Thus, in the semiconductor laser device 10 according to the present embodiment, therefore, even if the
以上のように、本実施形態における半導体レーザ装置10およびこれを用いたレーザ発光装置によれば、発光素子11からのビーム光の被照射面において、当該ビーム光のスポット形状を、ラジアル・タンジェンシャル方向長さが均等である最適なスポット形状とすることできる。したがって、例えばレーザ発光装置をディスクドライブ装置の光ピックアップとして用いる場合に、縦横均等な記録ピットを作ることが可能となり、結果として光ディスクの記録密度向上や小型化等を図る上で非常に有効なものとなる。しかも、単にビーム光の光軸を回転中心にして発光素子11を傾けるだけでよいため、簡素な構成で実現することが可能となり、装置の小型化や薄型化等への対応も容易となる。
As described above, according to the semiconductor laser device 10 and the laser light emitting device using the semiconductor laser device according to the present embodiment, the spot shape of the light beam on the irradiated surface of the light beam from the
続いて、以上のような発光素子11の傾きを実現するための構成について説明する。
Next, a configuration for realizing the inclination of the
図5は、半導体レーザ装置の要部構成例を示す説明図である。図例は、発光素子11が搭載されるサブマウント12に、当該発光素子11を傾いた状態とするための面傾斜角θが与えられている場合を示している。すなわち、サブマウント12には、発光素子11が搭載される素子搭載面12aと、当該サブマウント12をベース13上へ搭載するためのサブマウント設置面12bとが設けられている。そして、素子搭載面12aとサブマウント設置面12bとが面傾斜角θをなす関係となるように構成されている。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a configuration example of a main part of the semiconductor laser device. The illustrated example shows a case where the surface mount angle θ for making the
このような構成のサブマウント12を用いれば、素子搭載面12aとサブマウント設置面12bとが面傾斜角θをなす関係にあるので、サブマウント設置面12bをベース13における基準面と平行な面上へ搭載することで、素子搭載面12aには、発光素子11がビーム光の光軸を回転中心にして基準面に対して面傾斜角θの分だけ傾くような傾斜が与えられることになる。したがって、素子搭載面12aに搭載される発光素子11について、その傾きを容易かつ確実に実現することができるのである。
If the
なお、サブマウント12には、後述する理由により、素子搭載面12aおよびサブマウント設置面12bの他に、当該素子搭載面12aと平行な素子搭載時基準面12cを設けることが望ましい。
また、サブマウント12における素子搭載面12a以外の面には、発光素子11と電気的に接続するための接続端子12dを設けておくことが望ましい。
For the reasons described later, the
Further, it is desirable to provide a connection terminal 12 d for electrical connection with the
図6は、半導体レーザ装置の他の要部構成例を示す説明図である。図例は、発光素子11を搭載するサブマウント12が配設されるベース13に、当該発光素子11を傾いた状態とするための面傾斜角θが与えられている場合を示している。すなわち、ベース13には、長方体状または立方体状のサブマウント12における素子搭載面12aと平行なサブマウント搭載面13aと、基準面と平行なベース面13bとが設けられている。そして、サブマウント搭載面13aとベース面13bとが面傾斜角θをなす関係となるように構成されている。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing another configuration example of a main part of the semiconductor laser device. The illustrated example shows a case where a surface tilt angle θ for tilting the
このような構成のベース13を用いれば、サブマウント搭載面13aとベース面13bとが面傾斜角θをなす関係にあるので、そのサブマウント搭載面13aにサブマウント12のサブマウント設置面が相対するようにして、ベース13上へサブマウント12を搭載することで、そのサブマウント12における素子搭載面12aには、発光素子11がビーム光の光軸を回転中心にして基準面に対して面傾斜角θの分だけ傾くような傾斜が与えられることになる。したがって、素子搭載面12aに搭載される発光素子11について、その傾きを容易かつ確実に実現することができるのである。
If the base 13 having such a configuration is used, the submount mounting surface 13a and the base surface 13b are in a relation of forming a surface inclination angle θ, so that the submount mounting surface of the
なお、このような構成においても、サブマウント12における素子搭載面12a以外の面には、発光素子11と電気的に接続するための接続端子12dを設けておくことが望ましい。
Even in such a configuration, it is desirable that a connection terminal 12 d for electrical connection with the
以上、図5または図6を用いて説明したように、発光素子11の傾きは、サブマウント12またはベース13のいずれか一方に、面傾斜角θを与えることによって実現すればよく、これにより当該傾きの実現を容易かつ確実なものとすることができる。
As described above with reference to FIG. 5 or FIG. 6, the inclination of the
ところで、サブマウント12またはベース13における面傾斜角θによって発光素子11の傾きを実現する場合には、素子搭載面12a以外の面に接続端子12dを設けておけば、発光素子11との電気的接続を確保するために必要なワイヤボンディング処理が煩雑化してしまうのを抑制することができる。発光素子11に傾きを与えると、その傾きゆえに、発光素子11に繋がる接続端子とワイヤボンドの相手端子とが同じ面内に存在せず、ワイヤボンディング処理が煩雑化してしまうことが考えられるが、素子搭載面12a以外の面に接続端子12dを設けることで、ワイヤボンドの相手端子の形成面に当該接続端子12dが面するようにすることが実現可能となるからである。
By the way, when the inclination of the
また、サブマウント12またはベース13のいずれによって発光素子11の傾きを実現した場合でも、そのベース13に金属キャップ15が直接または高伝熱材19bを介して接触していれば、発光素子11、サブマウント12およびベース13の完全気密状態を維持しつつ、発光素子11で生じた熱がサブマウント12を介してベース13に伝わり、さらにはベース13から金属キャップ15に伝わるため、その金属キャップ15からダイレクトに放熱させることができる。つまり、ベース13をヒートシンクとして機能させつつ、金属キャップ15を放熱手段として活用することで、発光素子11等を金属キャップ15で封止した場合であっても、発光素子11における熱が問題となってしまうのを極力回避できるのである。
Even if the tilt of the
次に、以上のような半導体レーザ装置10を構成する場合の手順、すなわち当該半導体レーザ装置10の製造方法について説明する。ここでは、サブマウント12に面傾斜角θを与えることによって発光素子11の傾きを実現し、また当該サブマウント12に素子搭載時基準面12cが設けられている場合を例に挙げ、主にサブマウント12に発光素子11を搭載するときの手順について説明する。図7は、半導体レーザ装置の製造方法の一例を示す説明図である。
Next, a procedure for configuring the semiconductor laser device 10 as described above, that is, a method for manufacturing the semiconductor laser device 10 will be described. Here, the inclination of the light-emitting
サブマウント12上への発光素子11の搭載にあたっては、先ず、図7(A)に示すように、当該サブマウント12に設けられている素子搭載時基準面12cを、水平面上にセットする。これにより、素子搭載時基準面12cと平行な素子搭載面12aが水平となる状態で、サブマウント12についてのセットが行われることになる。
In mounting the
サブマウント12のセット後は、図7(B)に示すように、そのサブマウント12における素子搭載面12a上に発光素子11を載置してはんだ等による固定を行う。これにより、発光素子11は、サブマウント12の素子搭載面12a上に搭載されることになる。ただし、このとき、素子搭載面12aが水平状態にあるので、発光素子11の搭載は、従来と同様の設備(素子ハンドリングロボット等)、すなわち既存の設備を用いて行うことができる。
After the
そして、素子搭載面12a上に発光素子11を搭載すると、その後は、当該発光素子11を搭載したサブマウント12を、そのサブマウント12におけるサブマウント設置面12bがベース13におけるサブマウント搭載面13aと相対する状態で、当該ベース13上に載置して固定する。これにより、発光素子11は、ビーム光の光軸を回転中心にしてサブマウント設置面12bに対し面傾斜角θの分だけ傾いて取り付けられることになる。
Then, when the
なお、上述した工程以外の製造手順について、従来と同様の公知技術を用いればよいため、ここではその説明を省略する。 In addition, about the manufacturing procedure other than the process mentioned above, since it is sufficient to use a known technique similar to the conventional one, the description thereof is omitted here.
以上のような手順で半導体レーザ装置10を構成すれば、ビーム光の光軸を回転中心に発光素子11を傾けて取り付ける場合であっても、素子搭載時基準面12cを基準にすることで、素子搭載面12aが水平状態となるようにサブマウント12がセットされるので、発光素子11の搭載を既存の設備を用いて行うことができ、しかもその際に発光素子11の傾き角度に合わせた治具等を必要とすることもない。また、素子搭載時基準面12cは素子搭載面12aと平行な面なので、その形成精度を高く維持可能なことも期待できる。したがって、素子搭載時基準面12cを利用して発光素子11のサブマウント12上への搭載を行えば、ビーム光の光軸を回転中心に発光素子11を傾けた構成の半導体レーザ装置10を、容易かつ高精度に製造することが可能となるのである。
If the semiconductor laser device 10 is configured according to the procedure as described above, even when the
以上に説明した実施形態では、本発明の好適な実施具体例を説明したが、本発明はその内容に限定されるものではない。
例えば、本発明が適用可能な半導体レーザ装置は、本実施形態で例に挙げたIII−V族化合物半導体によって形成されるものに限定されることはなく、またレーザ発光装置(光ピックアップ)にて用いられるものに限定されることもない。
つまり、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
In the embodiment described above, the preferred specific example of the present invention has been described, but the present invention is not limited to the content.
For example, the semiconductor laser device to which the present invention is applicable is not limited to the one formed by the group III-V compound semiconductor exemplified in this embodiment, and is also a laser light emitting device (optical pickup). It is not limited to what is used.
That is, the present invention can be modified as appropriate without departing from the scope of the invention.
1…情報記録媒体、10…半導体レーザ装置、11…発光素子、12…サブマウント、12a…素子搭載面、12b…サブマウント設置面、12c…素子搭載時基準面、12d…接続端子、13…ベース、13a…サブマウント搭載面、13b…ベース面、14…基板パッケージ、15…金属キャップ、16…樹脂接着剤、17…リッド、19b…高伝熱材、20…偏光ビームスプリッタ、30…光学系、40…信号検出器、
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記発光素子が前記ビーム光の光軸を回転中心にして基準面に対し傾いた状態で取り付けられる素子搭載面と
を備えることを特徴とする半導体装置。 A light-emitting element that emits spot-shaped beam light having different aspect ratios;
An element mounting surface on which the light emitting element is mounted in an inclined state with respect to a reference plane with the optical axis of the beam light as a rotation center.
前記レーザ光として縦横比が異なるスポット形状のビーム光を出射する発光素子と、
前記発光素子が前記ビーム光の光軸を回転中心にして基準面に対し傾いた状態で取り付けられる素子搭載面と
を備えることを特徴とするレーザ発光装置。 A laser light emitting device for irradiating a surface to be irradiated with laser light,
A light-emitting element that emits spot-shaped beam light having different aspect ratios as the laser light;
A laser light emitting device comprising: an element mounting surface on which the light emitting element is attached in an inclined state with respect to a reference plane with the optical axis of the beam light as a rotation center.
前記発光素子が搭載される素子搭載面と、当該素子搭載面と所定角をなす関係にあるサブマウント設置面と、前記素子搭載面と平行な素子搭載時基準面と、が形成された前記サブマウントにおける前記素子搭載面上に、前記素子搭載時基準面を基準にして前記発光素子を搭載する素子搭載工程と、
前記発光素子の搭載後における前記サブマウントを、前記サブマウント設置面を基準にして前記ベース上に配設して、当該発光素子を前記ビーム光の光軸を回転中心にして前記サブマウント設置面に対し前記所定角の分だけ傾いた状態で取り付けるサブマウント搭載工程と
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 A light-emitting element that emits spot-shaped light beams having different aspect ratios is a method for manufacturing a semiconductor device, which is disposed on a base via a submount,
The sub in which an element mounting surface on which the light emitting element is mounted, a submount installation surface having a predetermined angle with the element mounting surface, and an element mounting reference plane parallel to the element mounting surface are formed. An element mounting step of mounting the light emitting element on the element mounting surface of the mount on the basis of the reference plane when the element is mounted;
The submount after the light emitting element is mounted is disposed on the base with respect to the submount installation surface, and the light emitting element is placed on the submount installation surface with the optical axis of the beam light as a rotation center. And a submount mounting step for mounting the device in a state inclined by the predetermined angle.
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