JP2008165915A - Manufacture equipment of optical disk and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an optical disk which can easily form a light transmission layer with a uniform thickness on an entire optical disk surface. <P>SOLUTION: Manufacturing equipment S of the optical disk used to manufacturing the optical disk D which has a recording layer 4 and a light transmission layer 6 on a substrate 2, is provided with; a stage 11 which rotates the substrate 2; a resin dropping section 16 which drops ultraviolet curing resin on the substrate 2; a light source 18 which irradiates the substrate 2 mounted on the stage 11 with radiation of predetermined bandpass; and a filter 20a which is arranged movably between the light source 18 and the substrate 2 arranged on the stage 11 and cuts or absorbs a wavelength component of predetermined bandwidth in the radiation. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本願は、DVD(Digital Versatile Disc)等のような光ディスクの製造装置等に関する。   The present application relates to an apparatus for manufacturing an optical disc such as a DVD (Digital Versatile Disc).

近年、データ記憶媒体の一種として、DVD等の光ディスクが存在する。当該光ディスクは、例えば、基板上に記録層及び光透過層が順次積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われるものであり、当該光透過層は、紫外線硬化樹脂を用いて記録層が形成された基材の表面に硬化膜が形成されてなる。   In recent years, an optical disk such as a DVD exists as a kind of data storage medium. The optical disc is, for example, formed by sequentially laminating a recording layer and a light transmission layer on a substrate, and at least one of recording and reproduction of an information signal is performed by light incident from the light transmission layer side. The light transmission layer is formed by forming a cured film on the surface of a substrate on which a recording layer is formed using an ultraviolet curable resin.

光透過層は、例えば、スピンコート法、フィルム転写法、シート法などにより製造される。一例として、スピンコート法では、基材を回転させつつ、その基材の表面上に液状樹脂を滴下することで、回転の遠心力によって基材の表面全体に一様に引き延ばされて展延されることにより硬化膜が基材の片面全面に亘って形成されるようになっている。(例えば、特許文献1又は2)。   The light transmission layer is manufactured by, for example, a spin coating method, a film transfer method, a sheet method, or the like. As an example, in the spin coating method, a liquid resin is dropped on the surface of the base material while rotating the base material, so that the entire surface of the base material is uniformly stretched by the centrifugal force of rotation. By extending, the cured film is formed over the entire surface of one side of the substrate. (For example, patent document 1 or 2).

特開2003−33713号公報JP 2003-33713 A 特開2003−233936号公報JP 2003-233936 A

しかしながら、従来のスピンコート法では、製造環境等による紫外線硬化樹脂の粘度変化など種々の事情により、ディスク全面に亘って均等性を維持するのが困難でディスク全面に形成された硬化膜の膜厚が不均一となる傾向がある。そのため、記録再生時において、光学収差が発生し、安定して情報信号の再生又は記録ができないなどの不都合が生じていた。   However, in the conventional spin coating method, it is difficult to maintain uniformity over the entire disk surface due to various circumstances such as changes in the viscosity of the ultraviolet curable resin depending on the manufacturing environment, etc., and the film thickness of the cured film formed on the entire disk surface Tends to be non-uniform. For this reason, an optical aberration occurs during recording / reproduction, and there is a problem that information signals cannot be reproduced or recorded stably.

この解決方法の1つとして、樹脂を加熱することにより、樹脂の粘度を低くして拡散性を高める方法があるが、この場合のデメリットとして、大幅なシステム変更やそれに伴う設備投資の増大が挙げられる。   As one of the solutions, there is a method of increasing the diffusibility by lowering the viscosity of the resin by heating the resin. However, as a demerit in this case, there is a significant system change and accompanying increase in equipment investment. It is done.

そこで、このような課題の一例を解消するために、本願は、容易に光ディスク全面において光透過層の膜厚を均一に形成可能な光ディスクの製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, in order to solve an example of such a problem, the present application aims to provide a method of manufacturing an optical disc that can easily form a light transmission layer with a uniform thickness over the entire surface of the optical disc.

上述した課題を解決するため、本願請求項1に記載の光ディスクの製造装置は、円形基板(2)に記録層(4)及び光透過層(6)を有し、前記光透過層側から光が入射されて記録層に対する情報の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造装置(S)であって、基板が載置されて前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させるステージ(11)と、前記ステージに載置された基板に紫外線硬化樹脂を滴下する樹脂滴下部(16)と、前記ステージに載置された基板に対して紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を照射する光源(18)と、前記光源とステージ上に配置された基板との間に移動可能に配置され且つ前記放射線の紫外領域の波長成分をカット又は吸収するフィルタ(20a)と、を有することを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, an optical disk manufacturing apparatus according to claim 1 of the present application has a recording layer (4) and a light transmission layer (6) on a circular substrate (2), and light is transmitted from the light transmission layer side. Is an optical disk manufacturing apparatus (S) in which at least one of recording and reproduction of information is performed with respect to a recording layer, and a stage on which the substrate is placed and rotated about the center of the substrate as a rotation axis ( 11), a resin dropping unit (16) for dropping an ultraviolet curable resin on the substrate placed on the stage, and a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength longer than the ultraviolet region with respect to the substrate placed on the stage A filter that is movably disposed between a light source (18) that irradiates radiation including a wavelength component in a region, and a substrate disposed on the stage and that cuts or absorbs the wavelength component in the ultraviolet region of the radiation. And 20a), and having a.

また、本願請求項3に記載の光ディスクの製造装置は、円形基板に記録層及び光透過層を有し、前記光透過層側から光が入射されて記録層に対する情報の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造装置であって、基板が載置されて前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させるステージと、前記ステージに載置された基板に紫外線硬化樹脂を滴下する樹脂滴下部と、前記ステージに載置された基板に対して紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を照射する光源と、前記光源とステージ上に配置された基板との間に移動可能に配置され且つ前記放射線の紫外領域以外の波長成分をカット又は吸収する第1のフィルタと、紫外領域の波長成分をカット又は吸収する第2のフィルタと、を含んで構成されるフィルタ部(20)と、前記第1及び第2のフィルタを切り替える切り替え手段(30)と、を有することを特徴とする。   Further, the optical disk manufacturing apparatus according to claim 3 has a recording layer and a light transmission layer on a circular substrate, and at least one of recording and reproduction of information with respect to the recording layer when light is incident from the light transmission layer side. An optical disk manufacturing apparatus in which a substrate is placed and the substrate is rotated about the center of the substrate as a rotation axis, and an ultraviolet curable resin is dropped onto the substrate placed on the stage. And a light source for irradiating the substrate placed on the stage with radiation including a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region, the light source and the substrate disposed on the stage, And a second filter that cuts or absorbs wavelength components other than the ultraviolet region of the radiation, and a second filter that cuts or absorbs wavelength components in the ultraviolet region, Comprise configured filter unit (20), and said first and second switching means for switching the filter (30), characterized by having a.

また、本願請求項6に記載の光ディスクの製造方法は、基板上に記録層及び光透過層が順に積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造方法であって、前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下し、前記基板の表面の温度分布を加熱手段により制御しつつ、且つ前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させつつ前記紫外線硬化樹脂を前記記録面上に拡散させる第1工程と、紫外線照射手段により前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する第2工程と、を含み、前記加熱手段として紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を照射する光源と紫外領域の波長成分をカット又は吸収するフィルタとで構成される熱源を用いると共に前記紫外線照射手段として前記光源を用いることを特徴とする。   In the optical disk manufacturing method according to claim 6 of the present invention, a recording layer and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate, and information signals are recorded and reproduced by light incident from the light transmission layer side. A method of manufacturing an optical disc in which at least one of them is performed, wherein a liquid ultraviolet curable resin is dropped on a recording layer of the substrate, the temperature distribution on the surface of the substrate is controlled by a heating means, and the center of the substrate is centered. A first step of diffusing the ultraviolet curable resin on the recording surface while rotating the substrate as a rotation axis; and a second step of curing the diffused ultraviolet curable resin by an ultraviolet irradiation means to form the light transmission layer. A light source that irradiates radiation including a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region as the heating means and a wavelength component in the ultraviolet region. Characterized in that as said ultraviolet light irradiation means with use of a heat source constituted by the filter using said light source.

以下、本願の最良の実施形態について添付図面に基づいて説明する。   Hereinafter, the best embodiment of the present application will be described with reference to the accompanying drawings.

まず、本願の光ディスクの製造装置によって製造される光ディスクについて図1を用いて説明する。   First, an optical disk manufactured by the optical disk manufacturing apparatus of the present application will be described with reference to FIG.

図1に示すように、光ディスクDは、中心に孔部2aを有する円環状の基板2を有しており、当該基板2は、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリオレフィン樹脂等の樹脂材料又はガラス材料等にて形成されている。基板2の片面の表面には、射出成形により、情報信号に対応するピット及びグルーブの凹凸2bが形成され、当該ピット及びグルーブが形成されている面は記録面となっている。当該記録面上には、例えば、書換不能な光記録層、追記型光記録層、相変化型光記録層のいずれか1つからなる記録層4を有して構成されている。   As shown in FIG. 1, the optical disc D has an annular substrate 2 having a hole 2a in the center, and the substrate 2 is made of a resin material such as acrylic resin, polycarbonate (PC) resin, polyolefin resin, or the like. It is made of glass material or the like. On one surface of the substrate 2, pits and grooves unevenness 2b corresponding to information signals are formed by injection molding, and the surface on which the pits and grooves are formed is a recording surface. On the recording surface, for example, a recording layer 4 made of any one of an rewritable optical recording layer, a write once optical recording layer, and a phase change optical recording layer is provided.

また、当該記録層4の表面には、例えば、スピンコート法により、光透過層6が形成される。当該光透過層6は、紫外線硬化樹脂が当該光ディスクDの表面の全面に均一の膜厚で形成されている。   Further, the light transmission layer 6 is formed on the surface of the recording layer 4 by, for example, spin coating. In the light transmission layer 6, an ultraviolet curable resin is formed on the entire surface of the optical disk D with a uniform film thickness.

このような基板2上に記録層4及び光透過層6が順次積層されて形成された光ディスクDは、前記光透過層6側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われるようになっている。   The optical disc D formed by sequentially laminating the recording layer 4 and the light transmission layer 6 on the substrate 2 performs at least one of recording and reproduction of information signals by light incident from the light transmission layer 6 side. It has come to be.

次に、光透過層を形成するための光ディスク製造装置について図2及び図3を用いて説明する。   Next, an optical disk manufacturing apparatus for forming a light transmission layer will be described with reference to FIGS.

本実施形態の光ディスク製造装置Sは、記録層4が形成された基板2をその中心を回転軸として回転させつつ、当該基板2の表面に紫外線硬化樹脂からなる液状樹脂を滴下して光透過層6からなる硬化膜を光ディスクDの表面全面に亘って均一な膜厚で形成する装置である。   The optical disk manufacturing apparatus S of the present embodiment drops a liquid resin made of an ultraviolet curable resin onto the surface of the substrate 2 while rotating the substrate 2 on which the recording layer 4 is formed with the center as a rotation axis. 6 is a device for forming a cured film of 6 with a uniform film thickness over the entire surface of the optical disk D.

図2に示すように、この光ディスク製造装置Sは、記録層4が形成された基板2が載置されるステージ11と、このステージ11を回転させる回転機構部14と、基板2上に紫外線硬化樹脂を滴下する樹脂滴下部16と、基板2に対して放射線を照射する光源部18と、前記光源部18と基板2との間に移動可能に配置されるフィルタ20aを含むフィルタ部20と、を含んで構成されている。なお、各部14、16、18、20、25はシステム制御部30により統括してコントロールされる。   As shown in FIG. 2, the optical disc manufacturing apparatus S includes a stage 11 on which a substrate 2 on which a recording layer 4 is formed, a rotating mechanism unit 14 that rotates the stage 11, and UV curing on the substrate 2. A filter unit 20 including a resin dripping unit 16 for dripping resin, a light source unit 18 for irradiating the substrate 2 with radiation, and a filter 20a disposed movably between the light source unit 18 and the substrate 2; It is comprised including. Each unit 14, 16, 18, 20, 25 is controlled by the system control unit 30.

ステージ11は略円形状に形成され、その中心には基板2の内径とほぼ同形状に形成された突起が設けられている。この突起には、基板2を固定するための固定手段が設けられており、基板2が着脱可能に固定される。   The stage 11 is formed in a substantially circular shape, and a projection formed in substantially the same shape as the inner diameter of the substrate 2 is provided at the center thereof. The protrusion is provided with a fixing means for fixing the substrate 2, and the substrate 2 is detachably fixed.

回転機構部14は、当該ステージを回転させるためのスピンドルモータを含んで構成され、前記ステージ11と図示しない軸受けを介して接続されている。この回転機構部14は、システム制御部30により管理されて、スピンドルモータの回転速度を制御して当該ステージ11の回転速度を制御するようになっている。これによりシステム制御部30は基板2の回転状態を制御可能になっている。   The rotation mechanism unit 14 includes a spindle motor for rotating the stage, and is connected to the stage 11 via a bearing (not shown). The rotation mechanism unit 14 is managed by the system control unit 30 and controls the rotation speed of the spindle motor by controlling the rotation speed of the spindle motor. Thereby, the system control unit 30 can control the rotation state of the substrate 2.

樹脂滴下部16は、図示しない紫外線硬化樹脂を貯蔵するタンクと、当該紫外線硬化樹脂を基板の規定された位置まで導く供給ノズル16aと、図示しないタンクから所定量の紫外線硬化樹脂を供給ノズル16aへと供給する供給量調整手段と、を含んで構成される。この樹脂滴下部16は、システム制御部30により管理されて、当該供給量調整手段を制御して前記供給ノズル16aから基板2上に滴下される紫外線硬化樹脂の滴下量を制御するようになっている。これによりシステム制御部30は紫外線硬化樹脂の滴下状態を制御可能になっている。   The resin dripping unit 16 includes a tank for storing an ultraviolet curable resin (not shown), a supply nozzle 16a for guiding the ultraviolet curable resin to a specified position on the substrate, and a predetermined amount of the ultraviolet curable resin from the tank (not shown) to the supply nozzle 16a. And a supply amount adjusting means to be supplied. The resin dropping unit 16 is managed by the system control unit 30 and controls the supply amount adjusting means to control the dropping amount of the ultraviolet curable resin dropped onto the substrate 2 from the supply nozzle 16a. Yes. Thereby, the system control unit 30 can control the dripping state of the ultraviolet curable resin.

光源部18は、例えば、所定の光量の放射線を照射する照射手段と、光量を調整する調整手段と、基板2に対して上下方向に光源部18の本体を移動する移動手段と、を含んで構成され、前記基板2上に配置される。また、光源部18は、本体を基板2に対して遠ざけたり近づけたりすることによって、放射線の照射領域を変更可能になっている。   The light source unit 18 includes, for example, an irradiation unit that irradiates a predetermined amount of radiation, an adjustment unit that adjusts the light amount, and a moving unit that moves the main body of the light source unit 18 in the vertical direction with respect to the substrate 2. Configured and disposed on the substrate 2. The light source unit 18 can change the radiation irradiation region by moving the main body away from or close to the substrate 2.

また、放射線は、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外領域の波長成分及び前記基板2を加熱させる前記紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含んでいる。   Further, the radiation includes a wavelength component in an ultraviolet region for curing the ultraviolet curable resin and a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region for heating the substrate 2.

光源部18は、システム制御部30により管理されて、本体を基板2へ近づけたり遠ざけたりしつつ、基板2に対して放射線を照射することで、基板2の所定領域に所定の光量で放射線を照射可能となっている。   The light source unit 18 is managed by the system control unit 30, and irradiates the substrate 2 with radiation with a predetermined amount of light by irradiating the substrate 2 with the main body approaching or moving away from the substrate 2. Irradiation is possible.

フィルタ部20は、例えば、石英ガラスによって形成され前記放射線の特定帯域の波長成分のみをカット又は透過するフィルタ20aと、前記フィルタを基板2に対して左右方向に移動する移動手段と、前記フィルタ20aを収容する筐体と、を含んで構成されている。   The filter unit 20 includes, for example, a filter 20a formed of quartz glass that cuts or transmits only a wavelength component in a specific band of the radiation, a moving unit that moves the filter in the left-right direction with respect to the substrate 2, and the filter 20a. And a housing that houses the housing.

前記フィルタ20aは、例えば、放射線に含まれる紫外領域の波長成分(例えば、200〜400nm)が入射する際に反射又は吸収することで前記波長成分を透過させずにカットするようになっている。よって、前記フィルタ20aは、前記紫外領域以外の波長成分が透過するようになっている。具体的には、フィルタ20aは、石英ガラスの表面に酸化チタン等を成膜することにより形成される。また、フィルタ20aは、紫外領域以外の波長成分が内側の領域よりも外側の領域がより透過するように形成されている。   For example, the filter 20a is configured to cut without transmitting the wavelength component by reflecting or absorbing when the wavelength component (for example, 200 to 400 nm) in the ultraviolet region included in the radiation is incident. Therefore, the filter 20a transmits wavelength components other than the ultraviolet region. Specifically, the filter 20a is formed by depositing titanium oxide or the like on the surface of quartz glass. Further, the filter 20a is formed so that a wavelength component other than the ultraviolet region transmits more in the outer region than in the inner region.

フィルタ部20は、システム制御部30により管理されて、移動手段を制御し、フィルタ20aを基板2と光源部18との間に介在させたり、前記フィルタ20aを筐体内に移動させて基板2と光源部18との間から取り除いたりするようになっている。   The filter unit 20 is managed by the system control unit 30 to control the moving means, and the filter 20a is interposed between the substrate 2 and the light source unit 18, or the filter 20a is moved into the housing to It is removed from the space between the light source unit 18 and the like.

例えば、光源部18と基板2との間にフィルタ20aを介在させれば、紫外領域の波長成分をカットし、紫外領域以外の波長成分を透過させることが可能となり、結果として、基板2に対して紫外領域以外の波長成分のみを照射することが可能となっている。このようにすれば、基板2上に滴下された紫外線硬化樹脂を硬化させることなく、紫外線硬化樹脂(又は基板)を加熱することが可能となり、紫外線硬化樹脂の流動性を高めることが可能となる。また、フィルタ20aは、内側の領域よりも外側の領域の方が放射線が透過されやすくなっているため、基板2の外周領域が内周領域よりも加熱されるようになっている。これにより、基板2の内周領域よりも外周領域における紫外線硬化樹脂の流動性を高めることができ、より好適に紫外線硬化樹脂を基板2上に拡散させることが可能となる。   For example, if the filter 20a is interposed between the light source unit 18 and the substrate 2, the wavelength component in the ultraviolet region can be cut and the wavelength component other than the ultraviolet region can be transmitted. Therefore, it is possible to irradiate only wavelength components other than the ultraviolet region. In this way, it is possible to heat the ultraviolet curable resin (or the substrate) without curing the ultraviolet curable resin dropped on the substrate 2 and to improve the fluidity of the ultraviolet curable resin. . Further, in the filter 20a, the outer region is more easily transmitted with radiation than the inner region, so that the outer peripheral region of the substrate 2 is heated more than the inner peripheral region. Thereby, the fluidity of the ultraviolet curable resin in the outer peripheral region can be increased more than the inner peripheral region of the substrate 2, and the ultraviolet curable resin can be more suitably diffused on the substrate 2.

一方、移動手段によりフィルタ20aを筐体内に移動させて光源部18と基板2との間から取り除くことによって、基板2に対して紫外領域の波長成分を含む放射線を照射することが可能となる。このようにすれば、基板2上に滴下された紫外線硬化樹脂を硬化させることが可能となる。   On the other hand, by moving the filter 20a into the housing by the moving means and removing it from between the light source unit 18 and the substrate 2, it becomes possible to irradiate the substrate 2 with radiation including wavelength components in the ultraviolet region. If it does in this way, it will become possible to harden the ultraviolet curable resin dripped on the board | substrate 2. FIG.

システム制御部30は、主として演算機能を有するCPU(Central Processing Unit)、作業用RAM、及び各種データやプログラムを記憶するROMを備えて構成されている。当該CPUが、例えばROMに記憶された各種プログラムを実行することにより、各部14、16、18、20、を制御するとともに光ディスク製造装置S全体を統括制御する。   The system control unit 30 includes a central processing unit (CPU) having a calculation function, a working RAM, and a ROM that stores various data and programs. The CPU executes various programs stored in the ROM, for example, thereby controlling the units 14, 16, 18, and 20, and overall control of the optical disc manufacturing apparatus S.

システム制御部30は、予め定められた規定値でステージ11を回転制御しつつ、基板2上に滴下する紫外線硬化樹脂の供給量を調整するとともに、フィルタ20aを移動させ、且つ光源部18の光量を調整して基板2に対して所定の帯域の放射線を照射させる。   The system control unit 30 adjusts the supply amount of the ultraviolet curable resin dripped onto the substrate 2 while controlling the rotation of the stage 11 with a predetermined specified value, moves the filter 20a, and the light amount of the light source unit 18 The substrate 2 is irradiated with a predetermined band of radiation.

より具体的には、システム制御部30は、前記紫外線硬化樹脂を前記基板2上に拡散させる際、前記光源部18とステージ11上に配置された基板2との間に前記フィルタ20aを移動させ、紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を基板2上に照射することによって前記基板2の表面を所定の温度分布状態に設定(制御)するようになっている。また、システム制御部30は、前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層6を形成する際、前記光源部18とステージ11上に配置された基板2との間から前記フィルタ20aを取り除き、紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長の波長成分を含む放射線を基板2上に照射制御するようになっている。   More specifically, the system control unit 30 moves the filter 20 a between the light source unit 18 and the substrate 2 disposed on the stage 11 when diffusing the ultraviolet curable resin on the substrate 2. The surface of the substrate 2 is set (controlled) in a predetermined temperature distribution state by irradiating the substrate 2 with radiation containing a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region. In addition, when the system control unit 30 cures the diffused ultraviolet curable resin to form the light transmission layer 6, the filter 20 a is interposed between the light source unit 18 and the substrate 2 disposed on the stage 11. The substrate 2 is controlled to be irradiated with radiation containing a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength component having a longer wavelength than the ultraviolet region.

以上に説明したように、本実施形態の光ディスクDの製造装置Sによれば、光源部18と基板2との間に所定のタイミングでフィルタ20aを介在させたり、取り除いたりすれば良いので、大幅なシステム変更をすることなく、容易に光ディスクDを製造することが可能となるため、製造コストを抑えることが可能となる。また、紫外線硬化樹脂の加熱と硬化の工程を同一のコーター内で行うことができるため、省スペース化を図れる。   As described above, according to the optical disk D manufacturing apparatus S of the present embodiment, the filter 20a may be interposed or removed between the light source unit 18 and the substrate 2 at a predetermined timing. Since the optical disk D can be easily manufactured without changing the system, the manufacturing cost can be reduced. Moreover, since the process of heating and curing the ultraviolet curable resin can be performed in the same coater, space saving can be achieved.

なお、他の実施形態として、図3に示すように、フィルタ部20は、紫外領域以外の波長成分をカット又は吸収し紫外領域の波長成分のみを透過させる第1のフィルタ20aと、紫外領域の波長成分をカット又は吸収し紫外領域以外の波長成分のみを透過させる第2のフィルタ20bと、を用意し、システム制御部30によって、紫外線硬化樹脂を前記記録面上に拡散させる際には第2のフィルタ20bを移動し、当該第2のフィルタ20bを光源部18と基板2との間に介在させ、前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層6を形成する際には、前記第2のフィルタ20bを筐体内に移動させて光源部18と基板2との間から取り除き第1のフィルタ20aに切り替えて、当該第1のフィルタ20aを光源部18と基板2との間に介在させるように制御していても構わない。   As another embodiment, as shown in FIG. 3, the filter unit 20 includes a first filter 20 a that cuts or absorbs wavelength components other than the ultraviolet region and transmits only the wavelength components in the ultraviolet region, and an ultraviolet region. A second filter 20b that cuts or absorbs the wavelength component and transmits only the wavelength component other than the ultraviolet region. When the system control unit 30 diffuses the ultraviolet curable resin on the recording surface, the second filter 20b is prepared. When the second filter 20b is interposed between the light source unit 18 and the substrate 2 and the diffused ultraviolet curable resin is cured to form the light transmission layer 6, The second filter 20b is moved into the housing, removed from between the light source unit 18 and the substrate 2, and switched to the first filter 20a, and the first filter 20a is replaced with the light source unit 18 and the substrate 2. It may also be controlled so as to be interposed between.

このようにすれば、紫外線硬化樹脂を硬化させる際に、紫外領域以外の波長成分の放射線がカットされ紫外領域の波長成分のみの放射線が基板2に対して照射されるため、余計な熱を基板2等に与えることなく光ディスクDを製造できるので、熱の影響による基板2の反りなどを容易に抑えることが可能となる。   In this way, when the ultraviolet curable resin is cured, the radiation of the wavelength component other than the ultraviolet region is cut, and the radiation of only the wavelength component of the ultraviolet region is irradiated to the substrate 2, so that extra heat is applied to the substrate. Since the optical disk D can be manufactured without giving to 2 etc., it becomes possible to easily suppress the warpage of the substrate 2 due to the influence of heat.

なお、本実施形態の光源部18とフィルタ部20は、本願の加熱手段として機能し、本実施形態の光源部18は、本願の紫外線照射手段、及び光源として機能する。また、本実施形態のシステム制御部30は、本願の制御手段、フィルタ切り替え手段として機能する。   In addition, the light source part 18 and the filter part 20 of this embodiment function as a heating means of this application, and the light source part 18 of this embodiment functions as an ultraviolet irradiation means and a light source of this application. Further, the system control unit 30 of the present embodiment functions as a control unit and a filter switching unit of the present application.

次に、光ディスク製造装置を用いて光ディスクに光透過層を形成する一例について説明する。   Next, an example of forming a light transmission layer on an optical disc using an optical disc manufacturing apparatus will be described.

〈実施例1〉
本実施例1は、所定のタイミングで光源部18と基板2との間にフィルタ20aを介在させたり取り除いたりすることにより、紫外線硬化樹脂を加熱又は硬化させ、光ディスクDを製造するようになっている。
<Example 1>
In the first embodiment, the optical disk D is manufactured by heating or curing the ultraviolet curable resin by interposing or removing the filter 20a between the light source unit 18 and the substrate 2 at a predetermined timing. Yes.

まず、図2において、表面に凹凸部が形成された記録層4が成膜された基板2を、その成膜面を上にしてステージ11に取り付けた状態で、システム制御部30は、予め規定された回転数(低速)でスピンドルモータを駆動させ、基板2を回転させながら、樹脂滴下部16によって記録面上に滴下される液状の紫外線硬化樹脂の滴下量及び光源部18から照射される放射線の光量や照射時間を制御する。また、システム制御部は、フィルタを移動させ、当該フィルタ20aを光源部18と基板2との間に介在させる。これにより、基板2の記録層4上に液状の紫外線硬化樹脂が滴下され、基板2の回転による遠心力によって前記紫外線硬化樹脂が前記記録層4の表面に拡散される。   First, in FIG. 2, the system control unit 30 defines in advance a state in which the substrate 2 on which the recording layer 4 having a concavo-convex portion is formed is attached to the stage 11 with the film formation surface facing upward. The amount of liquid UV curable resin dripped onto the recording surface by the resin dripping unit 16 and the radiation irradiated from the light source unit 18 while rotating the substrate 2 while driving the spindle motor at the rotated speed (low speed). Control the amount of light and irradiation time. Further, the system control unit moves the filter, and interposes the filter 20 a between the light source unit 18 and the substrate 2. Thereby, a liquid ultraviolet curable resin is dropped on the recording layer 4 of the substrate 2, and the ultraviolet curable resin is diffused on the surface of the recording layer 4 by the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 2.

また、システム制御部30は、フィルタ20aの位置又は光源部18の位置を制御して光源部18からの放射線の照射による基板2の外周領域の温度が内周領域の温度よりも高くなるように制御するようになっている。   In addition, the system control unit 30 controls the position of the filter 20a or the position of the light source unit 18 so that the temperature of the outer peripheral region of the substrate 2 due to the irradiation of radiation from the light source unit 18 is higher than the temperature of the inner peripheral region. It comes to control.

次に、システム制御部30は、予め規定された回転数(高速)でモータを駆動させ、更に紫外線硬化樹脂を基板2の外側へと拡散させつつ、所定のタイミングでフィルタ20aを光源部18と基板2との間から退避させて取り除き、紫外線硬化樹脂を硬化させて光透過層6を形成し、処理を終了する。   Next, the system control unit 30 drives the motor at a predetermined number of rotations (high speed), and further diffuses the ultraviolet curable resin to the outside of the substrate 2, and the filter 20 a is connected to the light source unit 18 at a predetermined timing. The substrate is retracted and removed from the substrate 2, the ultraviolet curable resin is cured to form the light transmission layer 6, and the process is terminated.

〈実施例2〉
実施例1が1つのフィルタを光源部と基板との間に介在させたり又は取り除いたりすることによって、紫外線硬化樹脂を加熱又は硬化させるのに対し、実施例2は、2つのフィルタを用い、各フィルタを切り替えて光源部18と基板2との間に介在させることにより、紫外線硬化樹脂を加熱又は硬化させ、光ディスクDを製造するようになっている。
<Example 2>
While Example 1 heats or cures the ultraviolet curable resin by interposing or removing one filter between the light source part and the substrate, Example 2 uses two filters, The optical disk D is manufactured by heating or curing the ultraviolet curable resin by switching the filter and interposing between the light source unit 18 and the substrate 2.

まず、図3において、表面に凹凸部が形成された記録層4が成膜された基板2を、その成膜面を上にしてステージ11に取り付けた状態で、システム制御部30は、予め規定された回転数(低速)でスピンドルモータを駆動させ、基板2を回転させながら、樹脂滴下部16によって記録面上に滴下される液状の紫外線硬化樹脂の滴下量及び光源部18から照射される放射線の光量や照射時間を制御する。また、システム制御部30は、第2のフィルタ20bを移動させ、当該第2のフィルタ20bを光源部18と基板2との間に介在させる。これにより、基板2の記録層4上に液状の紫外線硬化樹脂が滴下され、基板2の回転による遠心力によって前記紫外線硬化樹脂が前記記録層4の表面に拡散される。   First, in FIG. 3, the system control unit 30 predefines the substrate 2 on which the recording layer 4 having a concavo-convex portion formed on the surface is attached to the stage 11 with the film formation surface facing upward. The amount of liquid UV curable resin dripped onto the recording surface by the resin dripping unit 16 and the radiation irradiated from the light source unit 18 while rotating the substrate 2 while driving the spindle motor at the rotated speed (low speed). Control the amount of light and irradiation time. Further, the system control unit 30 moves the second filter 20 b and interposes the second filter 20 b between the light source unit 18 and the substrate 2. Thereby, a liquid ultraviolet curable resin is dropped on the recording layer 4 of the substrate 2, and the ultraviolet curable resin is diffused on the surface of the recording layer 4 by the centrifugal force generated by the rotation of the substrate 2.

また、システム制御部30は、第2のフィルタ20bの位置又は光源部18の位置を制御して光源部18からの放射線の照射による基板2の外周領域の温度が内周領域の温度よりも高くなるように制御するようになっている。   Further, the system control unit 30 controls the position of the second filter 20b or the position of the light source unit 18 so that the temperature of the outer peripheral region of the substrate 2 due to the irradiation of radiation from the light source unit 18 is higher than the temperature of the inner peripheral region. It controls to become.

次に、システム制御部30は、予め規定された回転数(高速)でモータを駆動させ、更に紫外線硬化樹脂を基板2の外側へと拡散させつつ、所定のタイミングで第2のフィルタ20bから第1のフィルタ20aに切り替えて、当該第1のフィルタ20aを光源部18と基板2との間に介在させ、紫外線硬化樹脂を硬化させて光透過層6を形成し、処理を終了する。   Next, the system control unit 30 drives the motor at a predetermined number of rotations (high speed), and further diffuses the ultraviolet curable resin to the outside of the substrate 2, while at the predetermined timing from the second filter 20 b. Switching to the first filter 20a, the first filter 20a is interposed between the light source unit 18 and the substrate 2, the ultraviolet curable resin is cured to form the light transmission layer 6, and the process is terminated.

なお、本実施形態は一形態であって、この形態に限定されるものではない。例えば、本実施形態では、紫外線硬化樹脂を基板2上に拡散させる際に、フィルタ20aを移動させて、基板2の外周領域の温度が内周領域よりも高くなるように制御されているが、光源の位置を制御することによって、基板2の外周領域の温度が内周領域よりも高くなるように制御しても構わない。また、紫外領域以外の波長成分とは、紫外線硬化樹脂の種類などによって異なり、当該紫外線硬化樹脂が硬化しない周波数であればよい。また、適宜、各部を組み合わせて一体化したり、一般的に用いられている部品などに変更したりしても構わない。   In addition, this embodiment is one form and is not limited to this form. For example, in this embodiment, when the ultraviolet curable resin is diffused on the substrate 2, the filter 20a is moved so that the temperature of the outer peripheral region of the substrate 2 is controlled to be higher than the inner peripheral region. By controlling the position of the light source, the temperature of the outer peripheral region of the substrate 2 may be controlled to be higher than that of the inner peripheral region. Further, the wavelength component other than the ultraviolet region differs depending on the type of the ultraviolet curable resin, and may be a frequency at which the ultraviolet curable resin is not cured. In addition, the components may be appropriately combined and integrated, or may be changed to a commonly used component.

本願の光ディスク製造方法により製造される光ディスクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the optical disk manufactured by the optical disk manufacturing method of this application. 光ディスク製造装置の概略構成例を示す図である。It is a figure which shows the schematic structural example of an optical disk manufacturing apparatus. 光ディスク製造装置の他の実施例における概略構成例を示す図である。It is a figure which shows the schematic structural example in the other Example of the optical disk manufacturing apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

D 光ディスク
S 光ディスク製造装置
2 基板
4 記録層
6 光透過層
11 ステージ
16 樹脂滴下部
18 光源部
20a フィルタ
20 フィルタ部
30 システム制御部
D optical disk S optical disk manufacturing apparatus 2 substrate 4 recording layer 6 light transmission layer 11 stage 16 resin dropping unit 18 light source unit 20a filter 20 filter unit 30 system control unit

Claims (7)

円形基板に記録層及び光透過層を有し、前記光透過層側から光が入射されて記録層に対する情報の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造装置であって、
基板が載置されて前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させるステージと、
前記ステージに載置された基板に紫外線硬化樹脂を滴下する樹脂滴下部と、
前記ステージに載置された基板に対して紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を照射する光源と、
前記光源とステージ上に配置された基板との間に移動可能に配置され且つ前記放射線の紫外領域の波長成分をカット又は吸収するフィルタと、
を有することを特徴とする光ディスクの製造装置。
An optical disc manufacturing apparatus having a recording layer and a light transmission layer on a circular substrate, wherein light is incident from the light transmission layer side and at least one of information recording and reproduction is performed on the recording layer,
A stage on which the substrate is placed and rotates the substrate about the center of the substrate as a rotation axis;
A resin dropping section for dropping an ultraviolet curable resin on the substrate placed on the stage;
A light source for irradiating the substrate placed on the stage with radiation containing a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region;
A filter that is movably disposed between the light source and a substrate disposed on a stage and that cuts or absorbs a wavelength component in an ultraviolet region of the radiation;
An optical disk manufacturing apparatus comprising:
前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下して拡散させる際、前記光源と前記ステージ上に配置された基板との間に前記フィルタを移動させ、紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を基板上に照射することによって前記基板の表面を所定の温度分布状態に設定し、
前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する際、前記光源と回転ステージ上に配置された基板との間から前記フィルタを取り除き、紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長の波長成分を含む放射線を基板上に照射する制御手段を備えていることを特徴とする請求項1に記載の光ディスクの製造装置。
When the liquid ultraviolet curable resin is dropped and diffused on the recording layer of the substrate, the filter is moved between the light source and the substrate disposed on the stage, so that the wavelength in the wavelength region longer than the ultraviolet region. By setting the surface of the substrate to a predetermined temperature distribution state by irradiating the substrate with radiation containing components,
When the diffused ultraviolet curable resin is cured to form the light transmission layer, the filter is removed from between the light source and the substrate disposed on the rotation stage, and the wavelength component in the ultraviolet region and the ultraviolet region 2. The optical disk manufacturing apparatus according to claim 1, further comprising control means for irradiating the substrate with radiation containing a long wavelength wavelength component.
円形基板に記録層及び光透過層を有し、前記光透過層側から光が入射されて記録層に対する情報の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造装置であって、
基板が載置されて前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させるステージと、
前記ステージに載置された基板に紫外線硬化樹脂を滴下する樹脂滴下部と、
前記ステージに載置された基板に対して紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を照射する光源と、
前記光源とステージ上に配置された基板との間に移動可能に配置され且つ前記放射線の紫外領域以外の波長成分をカット又は吸収する第1のフィルタと、紫外領域の波長成分をカット又は吸収する第2のフィルタと、を含んで構成されるフィルタ部と、
前記第1及び第2のフィルタを切り替えるフィルタ切り替え手段と、
を有することを特徴とする光ディスクの製造装置。
An optical disc manufacturing apparatus having a recording layer and a light transmission layer on a circular substrate, wherein light is incident from the light transmission layer side and at least one of information recording and reproduction is performed on the recording layer,
A stage on which the substrate is placed and rotates the substrate about the center of the substrate as a rotation axis;
A resin dropping section for dropping an ultraviolet curable resin on the substrate placed on the stage;
A light source for irradiating the substrate placed on the stage with radiation containing a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region;
A first filter that is movably disposed between the light source and a substrate disposed on the stage and that cuts or absorbs wavelength components other than the ultraviolet region of the radiation, and cuts or absorbs wavelength components of the ultraviolet region. A filter unit including a second filter;
Filter switching means for switching between the first and second filters;
An optical disk manufacturing apparatus comprising:
前記紫外線硬化樹脂を前記記録面上に拡散させる際に、前記基板の外周領域の温度を内周領域の温度より高くなるように前記光源の位置が制御されることを特徴とする請求項2、又は3に記載の光ディスクの製造装置。   The position of the light source is controlled so that the temperature of the outer peripheral region of the substrate is higher than the temperature of the inner peripheral region when the ultraviolet curable resin is diffused on the recording surface. Or an optical disk manufacturing apparatus according to 3 above. 前記光源の紫外領域の波長成分は、200〜400nmの波長成分であることを特徴とする請求項1又は3に記載の光ディスクの製造装置。   The optical disk manufacturing apparatus according to claim 1 or 3, wherein the wavelength component of the light source in the ultraviolet region is a wavelength component of 200 to 400 nm. 基板上に記録層及び光透過層が順に積層されて形成され、前記光透過層側から入射される光によって情報信号の記録及び再生の少なくとも一方が行われる光ディスクの製造方法であって、
前記基板の記録層上に液状の紫外線硬化樹脂を滴下し、前記基板の表面の温度分布を加熱手段により制御しつつ、且つ前記基板の中心を回転軸として前記基板を回転させつつ前記紫外線硬化樹脂を前記記録面上に拡散させる第1工程と、
紫外線照射手段により前記拡散された紫外線硬化樹脂を硬化させて前記光透過層を形成する第2工程と、を含み、
前記加熱手段として紫外領域の波長成分及び紫外領域よりも長波長領域の波長成分を含む放射線を照射する光源と紫外領域の波長成分をカット又は吸収するフィルタとで構成される熱源を用いると共に前記紫外線照射手段として前記光源を用いることを特徴とする光ディスクの製造方法。
A method of manufacturing an optical disc, wherein a recording layer and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate, and at least one of recording and reproduction of an information signal is performed by light incident from the light transmission layer side,
A liquid ultraviolet curable resin is dropped on the recording layer of the substrate, the temperature distribution on the surface of the substrate is controlled by a heating means, and the ultraviolet curable resin is rotated while the substrate is rotated about the center of the substrate. A first step of diffusing on the recording surface;
A second step of forming the light transmission layer by curing the diffused ultraviolet curable resin by an ultraviolet irradiation means,
As the heating means, a heat source composed of a light source that irradiates radiation including a wavelength component in the ultraviolet region and a wavelength component in a longer wavelength region than the ultraviolet region and a filter that cuts or absorbs the wavelength component in the ultraviolet region and the ultraviolet light A method for producing an optical disc, wherein the light source is used as an irradiating means.
前記第1工程において、前記基板の外周領域の温度を内周領域の温度より高くなるように前記加熱手段の位置が制御されることを特徴とする請求項6に記載の光ディスクの製造方法。   7. The method of manufacturing an optical disc according to claim 6, wherein, in the first step, the position of the heating means is controlled so that the temperature of the outer peripheral region of the substrate is higher than the temperature of the inner peripheral region.
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