JP2008159743A - Sealing material, and formation method and apparatus thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、封止材、電子部品用封止材、封止材の形成方法、及び封止材形成装置に関する。 The present invention relates to a sealing material, a sealing material for electronic components, a method for forming a sealing material, and a sealing material forming apparatus.
従来、回路基板に半導体チップやコンデンサ等の電子部品素子を配置した電子部品がある。このような電子部品は、セラミック回路基板上に電子部品素子を搭載し、その上部からペースト状の電子部品封止材を塗布し、この塗膜を熱硬化して電子部品封止材膜を形成していた。この封止材膜によって、電子部品素子や回路基板上に形成した配線パターンを外部からの衝撃や、湿気などから保護していた。 Conventionally, there are electronic components in which electronic component elements such as semiconductor chips and capacitors are arranged on a circuit board. Such an electronic component has an electronic component element mounted on a ceramic circuit board, a paste-like electronic component encapsulant is applied from the top, and the coating film is thermally cured to form an electronic component encapsulant film. Was. The sealing material film protects the wiring pattern formed on the electronic component element and the circuit board from external impacts, moisture, and the like.
特許文献1には、半導体素子の接合部にシリンジノズルから封止材を滴下して封止する方法が開示されている。この方法は、1液の特定した材料を滴下するため、位置精度、生産性に難点があるとともに、1液用のポッティング装置であるため、封止材の多機能化は装置上難しかった。 Patent Document 1 discloses a method of sealing by dropping a sealing material from a syringe nozzle onto a joint portion of a semiconductor element. In this method, since the specified material of one liquid is dropped, the position accuracy and productivity are difficult, and since it is a potting apparatus for one liquid, it is difficult to make the sealing material multifunctional.
特に電子部品用の封止材の必要機能は、耐衝撃性及び耐湿性などであるが、特許文献2には、耐衝撃性、耐湿性などを熱硬化樹脂を用いて改良する技術が開示されている。しかしながら熱硬化樹脂は、高温処理が必要なこと、反応時間(タクト時間)が長いことなどから電子部品に対する信頼性及び生産性が悪く問題であった。
In particular, the necessary functions of a sealing material for electronic parts are impact resistance and moisture resistance. However,
そこで、特許文献3には、量産性の観点から封止材に光硬化型樹脂を用いたインクジェットヘッドが開示されている。この特許文献3に開示されている方法では、室温硬化型封止材、光硬化型封止材を用いている。これらはそれぞれ、室温における熱により硬化する封止材と光励起により硬化する封止材でありため、硬化機構が相異し、硬化(反応)時間が異なる。そのためため製造方法に制約がある。これらの要因により、生産効率が悪く問題であった。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、耐衝撃性、耐湿性などに優れ、かつ生産性に優れた封止材及び電子部品用封止材を提供することである。また、当該封止材の形成方法及び形成装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and its solution is to provide a sealing material and an electronic component sealing material that are excellent in impact resistance, moisture resistance, etc., and excellent in productivity. It is. Moreover, it is providing the formation method and formation apparatus of the said sealing material.
本発明に係る上記課題は下記の手段により解決される。 The above-mentioned problem according to the present invention is solved by the following means.
1.光重合性化合物を含有する少なくとも2種の組成物を硬化させて形成される硬化物からなる封止材であって、第1の組成物を硬化させた後の硬化物の引張弾性率が1〜500MPaである第1の樹脂硬化部と、第2の組成物を硬化させた後の硬化物の吸水率が0〜1%である第2の樹脂硬化部を有することを特徴とする封止材。 1. A sealing material comprising a cured product formed by curing at least two kinds of compositions containing a photopolymerizable compound, and the cured product after the first composition is cured has a tensile modulus of 1 Sealing comprising: a first resin cured portion of ˜500 MPa; and a second resin cured portion having a water absorption of 0 to 1% after cured of the second composition Wood.
2.電子部品の封止材に用いられることを特徴とする前記1に記載の封止材。 2. 2. The sealing material according to 1 above, which is used as a sealing material for electronic parts.
3.前記光重合性化合物を含有する少なくとも2種の組成物が、少なくとも2種のインクジェット用インクであることを特徴とする前記1又は2に記載の封止材。 3. 3. The sealing material according to 1 or 2, wherein the at least two kinds of compositions containing the photopolymerizable compound are at least two kinds of inkjet inks.
4.前記1〜3のいずれか一項に記載の封止材の形成方法であって、インクジェット方式により封止材を形成することを特徴とする封止材の形成方法。 4). 4. The method for forming a sealing material according to claim 1, wherein the sealing material is formed by an inkjet method.
5.封止材を形成するためのインク及びインクジェット記録ヘッドの温度を35〜100℃に加熱した後、インクを吐出し、硬化させ、封止材を形成することを特徴とする前記4に記載の封止材の形成方法。 5. The sealing material according to 4 above, wherein the temperature of the ink for forming the sealing material and the inkjet recording head is heated to 35 to 100 ° C., and then the ink is discharged and cured to form the sealing material. Forming method of the stop material.
6.封止対象物上にインクが着弾した後、該インクに光を照射し、硬化させて、封止材を形成することを特徴とする前記4又は5に記載の封止材の形成方法。 6). 6. The method for forming a sealing material according to 4 or 5, wherein after the ink has landed on the object to be sealed, the ink is irradiated with light and cured to form a sealing material.
7.前記4〜6のいずれか一項に記載の封止材の形成方法に用いる封止材形成装置であって、光照射手段、インク温度を計測する手段、インクを加熱する手段、記録ヘッド毎に該インクの温度を制御する手段、電子部品の位置情報を検出する手段、及び位置情報に応じて記録ヘッドからのインク射出を制御する手段とを備えたことを特徴とする封止材形成装置。 7. A sealing material forming apparatus used in the method for forming a sealing material according to any one of 4 to 6 above, wherein the light irradiation means, the means for measuring ink temperature, the means for heating ink, and the recording head A sealing material forming apparatus comprising: means for controlling the temperature of the ink; means for detecting position information of an electronic component; and means for controlling ejection of ink from the recording head in accordance with the position information.
8.前記7に記載の封止材形成装置であって、電子部品を加熱する手段と、該電子部品の温度を制御する手段とを備えたことを特徴とする封止材形成装置。
8). 8. The sealing material forming apparatus according to
本発明の上記手段により、耐衝撃性、耐湿性などに優れ、かつ生産性に優れた封止材及び電子部品用封止材を提供することができる。また、当該封止材の形成方法及び形成装置を提供することができる。 By the above means of the present invention, it is possible to provide a sealing material and an electronic component sealing material which are excellent in impact resistance, moisture resistance and the like and excellent in productivity. Moreover, the formation method and formation apparatus of the said sealing material can be provided.
すなわち封止材として重要な機能・性能は、耐衝撃性、耐湿性び生産性などであるが、本発明において、耐衝撃性及び耐湿性の向上については、性能が異なる特殊光重合性化合物を含有する2種以上の組成物を用いることで達成することができる。また、生産性(タクト時間)の問題点の改善については、光により硬化する重合性化合物を含有する組成物を用いて硬化機構を統一化することにより、硬化機構の相異による問題を回避し、達成することができる。更に、当該組成物(例えば、インクジェット用インク組成物等)を用いてインクジェット方式による方法及び封止材形成装置により、電子部品上に位置精度良く封止材を形成することができる。これらによって、耐衝撃性、耐湿性などに優れ、かつ生産性に優れた封止材で保護され、性能安定化された電子部品を提供することができる。 In other words, important functions and performance as a sealing material are impact resistance, moisture resistance and productivity, etc., but in the present invention, for improvement of impact resistance and moisture resistance, special photopolymerizable compounds having different performances are used. It can achieve by using 2 or more types of compositions to contain. In addition, to improve the productivity (tact time) problem, by unifying the curing mechanism using a composition containing a polymerizable compound that is cured by light, problems due to differences in the curing mechanism are avoided. Can be achieved. Furthermore, a sealing material can be formed on an electronic component with high positional accuracy by a method using an inkjet method and a sealing material forming apparatus using the composition (for example, an ink composition for inkjet). Accordingly, it is possible to provide an electronic component that is protected by a sealing material that is excellent in impact resistance, moisture resistance, and the like and that is excellent in productivity, and whose performance is stabilized.
本発明の封止材は、重合性化合物を含有する少なくとも2種の組成物を硬化させて形成される硬化物からなる封止材であって、第1の組成物を硬化させた後の硬化物の引張弾性率が1〜500MPaである第1の樹脂硬化部と、第2の組成物を硬化させた後の硬化物の吸水率が0〜1%である第2の樹脂硬化部を有することを特徴とする。この特徴は、請求項1〜8に係る発明に共通する技術的特徴である。 The encapsulant of the present invention is an encapsulant comprising a cured product formed by curing at least two kinds of compositions containing a polymerizable compound, and curing after curing the first composition. A first resin cured part having a tensile modulus of 1 to 500 MPa, and a second resin cured part having a water absorption of 0 to 1% after the second composition is cured. It is characterized by that. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 8.
なお、本願において、「硬化物」とは、光重合性化合物や重合開始剤その他の化合物を含有する組成物を、光により重合や架橋反応等して硬化した組成物(樹脂を含む。)をいう。ここで、「光重合性化合物」には、後述するように、モノマー、オリゴマー、ポリマー(樹脂)等の化学構造形態を有するものが含まれる。 In the present application, the “cured product” refers to a composition (including a resin) obtained by curing a composition containing a photopolymerizable compound, a polymerization initiator and other compounds by polymerization or a crosslinking reaction with light. Say. Here, the “photopolymerizable compound” includes those having a chemical structure such as a monomer, an oligomer, and a polymer (resin) as described later.
また、本発明に係る組成物の硬化物の引張弾性率は「JIS K 7127」試験方法に準拠する測定により得られる測定値である。吸水率は「JIS K 6911」試験方法に準拠する測定により得られる測定値である。 Moreover, the tensile elasticity modulus of the hardened | cured material of the composition based on this invention is a measured value obtained by the measurement based on a "JISK7127" test method. The water absorption is a measured value obtained by measurement based on the “JIS K 6911” test method.
以下、本発明とその構成要素等について詳細な説明をする。 Hereinafter, the present invention and its components will be described in detail.
(本発明で用いられる光重合性化合物含有組成物)
本発明においては、光重合性化合物を含む少なくとも2種の組成物を用いること、及び第1の組成物を硬化させた後の硬化物の引張弾性率が1〜500MPaである第1の樹脂硬化部と、第2の組成物を硬化させた後の硬化物の吸水率が0〜1%である第2の樹脂硬化部を有することを特徴とする。
(Photopolymerizable compound-containing composition used in the present invention)
In the present invention, at least two kinds of compositions containing a photopolymerizable compound are used, and the first cured resin having a cured product having a tensile elastic modulus of 1 to 500 MPa after curing the first composition. Part and the 2nd resin hardening part whose water absorption of the hardened | cured material after hardening a 2nd composition is 0 to 1%, It is characterized by the above-mentioned.
本発明において用いられる組成物は、当該組成物に光を照射したときに、照射された光によって、当該組成物が重合反応を開始し、硬化し、硬化物(樹脂)を形成する組成物であることを要する。 The composition used in the present invention is a composition in which when the composition is irradiated with light, the composition initiates a polymerization reaction by the irradiated light and cures to form a cured product (resin). It needs to be.
なお、当該組成物は、後述する各種光重合性化合物を含有する組成物であることが好ましい。特に当該組成物が、インクジェット用インク(「インクジェット用インク組成物」、又は単に「インク組成物」ともいう。)であることが好ましい。 In addition, it is preferable that the said composition is a composition containing the various photopolymerizable compounds mentioned later. In particular, the composition is preferably an inkjet ink (also referred to as “inkjet ink composition” or simply “ink composition”).
ここで、照射する光としては、当該組成物の光吸収特性に応じて、適切な波長領域の光を選択することが好ましい。本発明において、特に好ましい光は、所謂「活性光線」である。すなわち、波長180〜500nmの紫外線乃至可視光線領域の光が好ましい。 Here, as light to irradiate, it is preferable to select the light of a suitable wavelength range according to the light absorption characteristic of the said composition. In the present invention, particularly preferred light is so-called “active light”. That is, light in the ultraviolet to visible light region having a wavelength of 180 to 500 nm is preferable.
光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、エキシマーランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、エキシマーレーザー、発光ダイオード(LED)、太陽光が挙げられる。 Examples of the light source include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a mercury-xenon lamp, an excimer lamp, a short arc lamp, a helium / cadmium laser, an argon laser, and an excimer. A laser, a light emitting diode (LED), and sunlight are mentioned.
本発明に係る組成物は、以下で詳述するラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物等の光重合性化合物のモノマー、オリゴマー又はポリマー、或いはこれらの混合物と、光ラジカル重合開始剤、及び光カチオン重合開始剤等を成分として含むことを要する。 The composition according to the present invention comprises a monomer, oligomer or polymer of a photopolymerizable compound such as a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound, or a mixture thereof, a photo radical polymerization initiator, and a photo cation described in detail below. It is necessary to contain a polymerization initiator or the like as a component.
光重合性組成物としては、光照射の際ラジカル反応によって重合する光ラジカル重合性組成物や、カチオン化学種が反応活性種となって重合するカチオン重合系のカチオン重合性組成物が知られている。これらは、例えば特開平7−159983号、特公平7−31399号、特開平8−224982号、特開平10−863号等の各号公報に記載されている。また、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も、例えば、特開平6−43633号、特開平8−324137等に公開されている。 As the photopolymerizable composition, a photo-radical polymerizable composition that is polymerized by a radical reaction upon light irradiation, and a cationic polymerizable composition that is polymerized by a cationic chemical species as a reactive species are known. Yes. These are described in, for example, JP-A-7-159983, JP-B-7-31399, JP-A-8-224982, and JP-A-10-863. In addition, recently, photocationic polymerization type photocurable resins sensitized to a long wavelength region longer than visible light are also disclosed in, for example, JP-A-6-43633 and JP-A-8-324137.
また、特開2005−153386号等では光硬化型ポリビニルアルコール誘導体の重合物が公開されている。マレイミド誘導体としては、特開昭61−250064号、特開昭62−79243号、特開平6−298817号、特開平11−124403号等が公開されている。本発明では、上記要件を満たす限り、いずれの材料も使用可能である。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-153386 discloses a photocured polyvinyl alcohol derivative polymer. As maleimide derivatives, JP-A-61-250064, JP-A-62-79243, JP-A-6-298817, JP-A-11-124403 and the like are disclosed. In the present invention, any material can be used as long as the above requirements are satisfied.
本発明においては、材料の人体への影響が少ない(皮膚刺激性等)、カチオン重合系、光硬化型ポリビニルアルコール誘導体、マレイミド等が好ましい。より好ましくはインクジェット用途において低粘度が必須であること、酸素による重合阻害受けにくく高分子量化したい耐薬品性、耐水性、高表面強度が期待できることより、カチオン重合系、光硬化型ポリビニルアルコール誘導体が好ましい。 In the present invention, the influence of the material on the human body (skin irritation, etc.), a cationic polymerization system, a photocurable polyvinyl alcohol derivative, maleimide and the like are preferable. More preferably, a low viscosity is essential for inkjet applications, and since it is difficult to receive polymerization inhibition by oxygen and chemical resistance, water resistance, and high surface strength that are desired to be increased in molecular weight can be expected, a cationic polymerization system and a photocurable polyvinyl alcohol derivative are used. preferable.
以下、本発明に係る組成物の各種成分について説明する。 Hereinafter, various components of the composition according to the present invention will be described.
<ラジカル重合性化合物>
ラジカル重合性化合物として好ましい化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物であればどのようなものでもよい。モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学構造形態を有するものが含まれる。ラジカル重合性化合物は1種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するため、任意の比率で2種以上を併用してもよい。
<Radically polymerizable compound>
A preferable compound as the radical polymerizable compound is a compound having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization and any compound having at least one ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization in the molecule. Good. Those having chemical structural forms such as monomers, oligomers, polymers and the like are included. Only one kind of radically polymerizable compound may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination at an arbitrary ratio in order to improve desired properties.
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。 Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, esters, urethanes, amides. And radically polymerizable compounds such as unsaturated monomers, acrylonitrile, styrene, various unsaturated polyesters, unsaturated polyethers, unsaturated polyamides, and unsaturated urethanes.
具体的には、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス(4−アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、N−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、2,2−ビス(4−メタクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。 Specifically, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, carbitol acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, bis (4-acryloxypolyethoxyphenyl) propane, neopentyl glycol Diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polypropylene glycol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaery Acrylic acid derivatives such as lithol tetraacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, oligoester acrylate, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, epoxy acrylate, methyl methacrylate, n-butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Lauryl methacrylate, allyl methacrylate, glycidyl methacrylate, benzyl methacrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, trimethylol Methacryl derivatives such as tan trimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, 2,2-bis (4-methacryloxypolyethoxyphenyl) propane, and other derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, triallyl trimellitate More specifically, Yamashita Junzo, “Crosslinker Handbook”, (1981 Taiseisha); Kato Kiyomi, “UV / EB Curing Handbook (Materials)” (1985, Polymer Publication) ); Rad-Tech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Commercially available products described in the above, or radically polymerizable or crosslinkable monomers known in the industry Oligomers and polymers can be used.
その他のラジカル重合系化合物としては、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられる。更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、(1981年大成社);加藤清視編、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」(1985年、高分子刊行会);ラドテック研究会編、「UV・EB硬化技術の応用と市場」、79頁、(1989年、シーエムシー);滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、(1988年、日刊工業新聞社)等に記載された周知のラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。 Examples of other radical polymerization compounds include derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether, diallyl phthalate, and triallyl trimellitate. More specifically, Shinzo Yamashita, “Crosslinker Handbook”, (1981 Taiseisha); Kato Kiyosumi, “UV / EB Curing Handbook (Materials)” (1985, Polymer Publications); Radtech Study Group, “Application and Market of UV / EB Curing Technology”, p. 79, (1989, CMC); written by Eiichiro Takiyama, “Polyester Resin Handbook”, (1988, Nikkan Kogyo Shimbun) Also known radically polymerizable or crosslinkable monomers, oligomers and polymers can be used.
本発明に係る光硬化性組成物(インクジェット用インク組成物等)に対するラジカル重合性化合物の添加量は1〜97質量%とすることが好ましい。 The addition amount of the radical polymerizable compound to the photocurable composition (inkjet ink composition or the like) according to the present invention is preferably 1 to 97% by mass.
<カチオン重合性化合物>
カチオン重合性化合物としては、カチオン重合により高分子化の起こるタイプである、例えばエポキシタイプの紫外線硬化性プレポリマーや1分子内にエポキシ基を2個以上含有するモノマーを適用することができる。このようなプレポリマーとしては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物類及びエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらのプレポリマーやモノマーは、その一種を単独で使用することもできるし、又その二種以上を混合して使用することもできる。
<Cationically polymerizable compound>
As the cationically polymerizable compound, for example, an epoxy type ultraviolet curable prepolymer or a monomer containing two or more epoxy groups in one molecule can be used, which is a type in which polymerization is caused by cationic polymerization. Examples of such prepolymers include alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycols, and polyglycidyls of aromatic polyols. Examples include ethers, hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of aromatic polyols, urethane polyepoxy compounds, and epoxidized polybutadienes. These prepolymers and monomers can be used alone or in a mixture of two or more.
カチオン重合系光硬化樹脂中に含有されるカチオン重合性組成物としては、他に例えば下記の(1)スチレン誘導体、(2)ビニルナフタレン誘導体、(3)ビニルエーテル類及び(4)N−ビニル化合物類、(5)オキセタン類等を挙げることができる。 Other examples of the cationic polymerizable composition contained in the cationic polymerization photocurable resin include (1) styrene derivatives, (2) vinyl naphthalene derivatives, (3) vinyl ethers, and (4) N-vinyl compounds described below. (5) Oxetanes and the like.
(1)スチレン誘導体
例えば、スチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、β−メチルスチレン、p−メチル−β−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−メトキシ−β−メチルスチレン等
(2)ビニルナフタレン誘導体
例えば、2−ビニルナフタレン、α−メチル−2−ビニルナフタレン、β−メチル−2−ビニルナフタレン、4−メチル−2−ビニルナフタレン、4−メトキシ−2−ビニルナフタレン等
(3)ビニルエーテル類
例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−O−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
(1) Styrene derivatives For example, styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, p-methoxy-β-methylstyrene, etc. (2) Vinyl naphthalene derivatives For example, 2-vinyl naphthalene, α-methyl-2-vinyl naphthalene, β-methyl-2-vinyl naphthalene, 4-methyl-2-vinyl naphthalene, 4-methoxy-2-vinyl naphthalene, etc. (3) Vinyl ether For example, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether , Di- or trivinyl ether compounds such as cyclohexanedimethanol divinyl ether and trimethylolpropane trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexane dimethanol mono Examples thereof include monovinyl ether compounds such as vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, isopropenyl ether-O-propylene carbonate, dodecyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, and octadecyl vinyl ether.
(4)N−ビニル化合物類
例えば、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルインドール、N−ビニルピロール、N−ビニルフェノチアジン、N−ビニルアセトアニリド、N−ビニルエチルアセトアミド、N−ビニルスクシンイミド、N−ビニルフタルイミド、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルイミダゾール等
(5)オキタセン化合物類
オキセタン環を有する化合物を意味し、例えば、特開2001−220526号、特開2001−310937号に記載されているような、公知のオキセタン化合物を使用することができる。本発明に係るオキセタン化合物は、オキセタン環を5個以上有する化合物を使用すると、インク組成物の粘度が高くなるため、取扱いが困難になったり、またインク組成物のガラス転移温度が高くなるため、得られる硬化物の粘着性が十分でなくなってしまう。オキセタン化合物はオキセタン環を1〜4個有する化合物が好ましい。
(4) N-vinyl compounds For example, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrolidone, N-vinylindole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylacetanilide, N-vinylethylacetamide, N-vinylsuccinimide , N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, N-vinylimidazole, etc. (5) Oxacene compounds Means compounds having an oxetane ring, and are described, for example, in JP-A Nos. 2001-220526 and 2001-310937. Known oxetane compounds can be used. When the compound having 5 or more oxetane rings is used as the oxetane compound according to the present invention, the viscosity of the ink composition becomes high, so that handling becomes difficult, and the glass transition temperature of the ink composition becomes high. The resulting cured product will not be sufficiently sticky. The oxetane compound is preferably a compound having 1 to 4 oxetane rings.
オキセタン化合物の具体例について説明するが、これらに限定されるものではない。1個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(1)で示される化合物が挙げられる。 Although the specific example of an oxetane compound is demonstrated, it is not limited to these. An example of the compound having one oxetane ring is a compound represented by the following general formula (1).
一般式(1)において、R1は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。R2は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基等の炭素数2〜6個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数2〜6個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数2〜6個のN−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、1個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。 In the general formula (1), R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an allyl group, or an aryl group. , Furyl group or thienyl group. R 2 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl- C2-C6 alkenyl group such as 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, phenyl group, benzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, phenoxyethyl group, etc. A group having an aromatic ring, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, and a butylcarbonyl group, an alkylcarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group; Alkoxycarbonyl group, ethylcarbamoyl group, propylcarbamoyl group, butylcarbamoyl group, pentylcarbamoyl Is N- alkylcarbamoyl group having a carbon number of 2-6 and the like. As the oxetane compound used in the present invention, it is particularly preferable to use a compound having one oxetane ring because the resulting composition has excellent tackiness, low viscosity and excellent workability.
2個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(2)で示される化合物等が挙げられる。 An example of a compound having two oxetane rings includes a compound represented by the following general formula (2).
一般式(2)において、R1は、上記一般式(1)におけるそれと同様の基である。R3は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ(エチレンオキシ)基、ポリ(プロピレンオキシ)基等の線状または分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。 In the general formula (2), R 1 is the same group as that in the general formula (1). R 3 is, for example, a linear or branched alkylene group such as an ethylene group, a propylene group or a butylene group, a linear or branched poly (alkyleneoxy) such as a poly (ethyleneoxy) group or a poly (propyleneoxy) group. ) Group, propenylene group, methylpropenylene group, butenylene group or other linear or branched unsaturated hydrocarbon group, alkylene group containing carbonyl group or carbonyl group, alkylene group containing carboxyl group, alkylene containing carbamoyl group Group.
また、R3としては、下記一般式(3)、(4)及び(5)で示される基から選択される多価基も挙げることができる。 Moreover, as R < 3 >, the polyvalent group selected from the group shown by the following general formula (3), (4) and (5) can also be mentioned.
一般式(3)において、R4は、水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。 In the general formula (3), R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, a nitro group, a cyano group, a mercapto group, a lower alkyl carboxyl group, a carboxyl group, or a carbamoyl group.
一般式(4)において、R5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、NH、SO、SO2、C(CF3)2、またはC(CH3)2を表す。 In the general formula (4), R 5 represents an oxygen atom, a sulfur atom, a methylene group, NH, SO, SO 2, C (CF 3 ) 2 , or C (CH 3 ) 2 .
一般式(5)において、R6は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。nは0〜2000の整数である。R7はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。R7としては、さらに、下記一般式(6)で示される基から選択される基も挙げることができる。 In General formula (5), R < 6 > is a C1-C4 alkyl group, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or an aryl group. n is an integer of 0-2000. R 7 is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an aryl group. R 7 may further include a group selected from the group represented by the following general formula (6).
一般式(6)において、R8は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1〜4個のアルキル基、またはアリール基である。mは0〜100の整数である。 In General formula (6), R < 8 > is a C1-C4 alkyl group, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, or an aryl group. m is an integer of 0-100.
2個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記例示化合物1、2が挙げられる。
Specific examples of the compound having two oxetane rings include the following exemplified
例示化合物1は、前記一般式(2)において、R1がエチル基、R3がカルボニル基である化合物である。また、例示化合物2は、前記一般式(2)において、R1がエチル基、R3が前記一般式(5)でR6及びR7がメチル基、nが1である化合物である。
Illustrative compound 1 is a compound in which R 1 is an ethyl group and R 3 is a carbonyl group in general formula (2).
2個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式(7)で示される化合物がある。一般式(7)において、R1は、前記一般式(1)のR1と同義である。 Among the compounds having two oxetane rings, preferred examples other than the above compounds include compounds represented by the following general formula (7). In general formula (7), R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (1).
また、3〜4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式(8)で示される化合物が挙げられる。 An example of a compound having 3 to 4 oxetane rings is a compound represented by the following general formula (8).
一般式(8)において、R1は、前記一般式(1)におけるR1と同義である。R9としては、例えば、下記A〜Cで示される基等の炭素数1〜12の分枝状アルキレン基、下記Dで示される基等の分枝状ポリ(アルキレンオキシ)基または下記Eで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。jは、3または4である。 In the general formula (8), R 1 is the same meaning as R 1 in the general formula (1). As R 9 , for example, a branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms such as groups represented by the following A to C, a branched poly (alkyleneoxy) group such as a group represented by the following D, or the following E And branched polysiloxy groups such as those shown. j is 3 or 4.
上記Aにおいて、R10はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Dにおいて、pは1〜10の整数である。 In the above A, R 10 is a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group or a propyl group. Moreover, in said D, p is an integer of 1-10.
4個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物3が挙げられる。 Illustrative compound 3 is an example of a compound having four oxetane rings.
さらに、上記説明した以外の1〜4個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式(9)で示される化合物が挙げられる。 Furthermore, examples of the compound having 1 to 4 oxetane rings other than those described above include compounds represented by the following general formula (9).
一般式(9)において、R8は前記一般式(6)のR8と同義である。R11はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、rは1〜4である。R1は前記一般式(6)のR1と同義である。 In the general formula (9), R 8 has the same meaning as R 8 in the general formula (6). R 11 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group or a trialkylsilyl group, and r is 1 to 4. R 1 has the same meaning as R 1 in the general formula (6).
本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す例示化合物4、5、6がある。
Preferred specific examples of the oxetane compound used in the present invention include the exemplified
上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン(D.B.Pattison,J.Am.Chem.Soc.,3455,79(1957))が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量1000〜5000程度の高分子量を有する1〜4個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。 The production method of each compound having an oxetane ring described above is not particularly limited, and may be a conventionally known method, for example, Pattison (DB Pattison, J. Am. Chem. Soc., 3455, 79). (1957)) discloses a method for synthesizing an oxetane ring from a diol. In addition to these, compounds having 1 to 4 oxetane rings having a high molecular weight of about 1000 to 5000 are also included. Examples of these specific compounds include the following compounds.
カチオン重合性組成物の光硬化型インクに対する添加量は1〜97質量%とすることが好ましい。 The addition amount of the cationic polymerizable composition to the photocurable ink is preferably 1 to 97% by mass.
<光硬化型ポリビニルアルコール誘導体>
光硬化型ポリビニルアルコール誘導体とは、ポリ酢酸ビニルのケン化物、ポリビニルアセタール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、または前記親水性樹脂の誘導体、ならびにこれらの共重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種であるか、またはその親水性樹脂に、光二量化型、光分解型、光重合型、光変性型、光解重合型などの変性基により変性したものである。
<Photocurable polyvinyl alcohol derivative>
Photocuring polyvinyl alcohol derivatives include saponified polyvinyl acetate, polyvinyl acetal, polyethylene oxide, polyalkylene oxide, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, or a derivative of the hydrophilic resin, and It is at least one selected from the group consisting of these copolymers, or the hydrophilic resin is modified with a modifying group such as a photodimerization type, a photodecomposition type, a photopolymerization type, a photo-denaturation type, or a photodepolymerization type It is a thing.
光二量化型の変性基としては、ジアゾ基、シンナモイル基、スチリルピリジニウム基、スチルキノリウム基を導入したものが好ましく、光二量化後アニオン染料等の水溶性染料により染色される樹脂が好ましい。このような樹脂としては、たとえば一級アミノ基ないし4級アンモニウム基等のカチオン性基を有する樹脂、たとえば特開昭62−283339号、特開平1−198615号、特開昭60−252341号、特開昭56−67309号、特開昭60−129742号等の公報に記載された感光性樹脂(組成物)、硬化処理によりアミノ基になるアジド基のような硬化後カチオン性になる樹脂、たとえば特開昭56−67309号等の公報に記載された感光性樹脂(組成物)があげられる。 As the photodimerization-type modifying group, those having a diazo group, a cinnamoyl group, a styrylpyridinium group, or a stilquinolium group introduced are preferable, and a resin dyed with a water-soluble dye such as an anionic dye after photodimerization is preferable. Examples of such resins include resins having a cationic group such as a primary amino group or a quaternary ammonium group, such as JP-A Nos. 62-283339, 1-198615, and 60-252341. Photosensitive resins (compositions) described in JP-A-56-67309, JP-A-60-129742, etc., resins that become cationic after curing, such as azide groups that become amino groups by curing treatment, such as Examples thereof include photosensitive resins (compositions) described in JP-A-56-67309.
光硬化型ポリビニルアルコール誘導体は光硬化型インクに対する添加量は1〜97質量%とすることが好ましい。 The addition amount of the photocurable polyvinyl alcohol derivative to the photocurable ink is preferably 1 to 97% by mass.
<マレイミド誘導体>
マレイミド誘導体としては公知の化合物が使用できる。例えば、特開昭61−250064号、特開昭62−64813号、特開昭62−79243号、特開平6−298817号、特開平11−124403号、特開平11−292874号、特開平11−302278号、特開2000−264922号、「Polymer Materials Science and Engineering」第72巻、第470〜472頁(1995年)、「Polymer Preprints」第37巻、第348〜349頁(1996年)、「第4回フュージョンUV技術セミナー」第43〜77頁(1996年)、「PolymerLetters」第6巻、第883〜888頁(1998年)、「第9回フュージョンUV技術セミナー」第5〜20頁(2001年)等に記載された化合物が使用できる。
<Maleimide derivative>
A known compound can be used as the maleimide derivative. For example, JP 61-250064, JP 62-64813, JP 62-79243, JP 6-298817, JP 11-124403, JP 11-292874, JP 11-11 -302278, JP 2000-264922, "Polymer Materials Science and Engineering" Vol. 72, 470-472 (1995), "Polymer Preprints" Vol. 37, 348-349 (1996), "The 4th Fusion UV Technology Seminar", pages 43-77 (1996), "Polymer Letters",
マレイミドは光硬化型インクに対する添加量は1〜97質量%とすることが好ましい。 The amount of maleimide added to the photocurable ink is preferably 1 to 97% by mass.
本発明では、上記前記カチオン重合性化合物、ラジカル重合性化合物は単独で光硬化型インク中に使用してもよく、混合しても良い。 In the present invention, the cationic polymerizable compound and the radical polymerizable compound may be used alone in a photocurable ink or may be mixed.
<光硬化促進剤:光重合開始剤等>
本発明に係る組成物(インクジェット用インク組成物等)に光照射によって重合性組成物の重合反応を開始させるための光重合開始剤、開始助剤、光硬化促進助剤を添加する必要がある。
<Photocuring accelerator: photopolymerization initiator, etc.>
It is necessary to add a photopolymerization initiator, an initiation aid, and a photocuring acceleration aid for initiating the polymerization reaction of the polymerizable composition by light irradiation to the composition according to the present invention (inkjet ink composition, etc.). .
光重合性組成物にはラジカル重合性組成物、カチオン重合性組成物、光硬化型ポリビニルアルコール誘導体からなる重合組成物、マレイミド誘導体からなる重合性組成物のそれぞれに適したものが適用される。 As the photopolymerizable composition, those suitable for each of a radically polymerizable composition, a cationic polymerizable composition, a polymerized composition made of a photocurable polyvinyl alcohol derivative, and a polymerizable composition made of a maleimide derivative are applied.
適用される光重合開始剤について特に制限はないが、一例としベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−N,N−ジメチルアミノベンゾフェノン、ビス−N,N−ジエチルアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、チオキサトン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロロチオキサントン等のチオキサントン類。エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類、アセトフェノン類。ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類、2,4,6−トリハロメチルトリアジン類、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール2量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−フェニルイミダゾール2量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2,−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェニルイミダゾール2量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体の2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体、ベンジルジメチルケタール、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−1−プロパノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、フェナントレンキノン、9,10−フェナンスレンキノン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾイン類、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9’−アクリジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体、チタノセン、ビスアシルフォスフィンオキサイド、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨ−ドニウム、スルホニウム、ホスホニウムとうからなるオニウム塩、ベンゾフェノンアンモニウム塩、スルホン化物、ハロゲン化物、鉄アーレン化合物、チタノセン化合物等等があげられる。上記は単独で使用しても混合して使用してもよい。 Although there is no restriction | limiting in particular about the photoinitiator to apply, As an example, benzophenone, hydroxybenzophenone, bis-N, N-dimethylamino benzophenone, bis-N, N-diethylamino benzophenone, 4-methoxy-4'- dimethylamino benzophenone And thioxanthones such as thiophenone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, chlorothioxanthone, and isopropoxychlorothioxanthone. Anthraquinones such as ethyl anthraquinone, benzanthraquinone, aminoanthraquinone and chloroanthraquinone, and acetophenones. Benzoin ethers such as benzoin methyl ether, 2,4,6-trihalomethyltriazines, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o- Chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-phenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5 -Phenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2, -di (p-methoxyphenyl) -5-phenylimidazole dimer, 2- (2, 2,4,5-triarylimidazole dimer of 4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, N-dimethylketal, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1- Propanone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one , Phenanthrenequinone, 9,10-phenanthrenequinone, methylbenzoin, benzoins such as ethylbenzoin, 9-phenylacridine, acridine derivatives such as 1,7-bis (9,9'-acridinyl) heptane, titanocene, bisacyl Phosphine oxide, diazonium, ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium and Onium salt consisting of benzophenone ammonium salts, sulfonated, halides, iron Aalen compounds, titanocene compounds, and the like. The above may be used alone or in combination.
光重合開始剤としては、上記の化合物の他に、「UV・EB硬化技術の応用と市場」(シーエムシー出版、田畑米穂監修/ラドテック研究会編集)、「イメ−ジング用有機材料」(有機エレクトロニクス材料研究会編、ぶんしん出版、1993年)の187〜192ページに記載等の文献で周知になっている化合物を適用することとしてもよい。 As photopolymerization initiators, in addition to the above-mentioned compounds, “Application and Market of UV / EB Curing Technology” (CMC Publishing Co., Ltd., edited by Yoneho Tabata, edited by Radtech Study Group), “Organic Materials for Imaging” ( It is good also as applying the compound known by literatures, such as the description on pages 187-192 of an organic electronics material study group edition, Bunshin publication, 1993).
光重合(硬化)反応を進めるために開始助剤、光硬化促進剤を用いることもできる。 Initiating aids and photocuring accelerators can also be used to advance the photopolymerization (curing) reaction.
ここで、「開始助剤」とは、光照射により、電子供与、電子吸引、熱の発生等により開始剤にエネルギーを供与して、開始剤のラジカルまたは酸の発生効率を向上させる増感色素として作用する物質であり、開始剤と組み合わせて適用される。 Here, the “initiating aid” is a sensitizing dye that improves the generation efficiency of radicals or acids of the initiator by donating energy to the initiator by light irradiation, electron donation, electron attraction, heat generation, etc. Is applied in combination with an initiator.
開始助剤としては、例えば、キサンテン、チオキサントン色素、ケトクマリン、チオキサンテン色素、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、ポルフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオレン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体等が適用できる。 Examples of the initiator include xanthene, thioxanthone dye, ketocoumarin, thioxanthene dye, cyanine, phthalocyanine, merocyanine, porphyrin, spiro compound, ferrocene, fluorene, fulgide, imidazole, perylene, phenazine, phenothiazine, polyene, azo compound, diphenylmethane , Triphenylmethane, polymethine acridine, coumarin, ketocoumarin, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compound, pyromethene compound, pyrazolotriazole compound, benzothiazole compound, barbituric acid derivative, thiobarbituric acid derivative and the like can be applied.
また、開始助剤としては、上述の化合物の他、「高分子添加剤の開発技術」(シーエムシー出版、大勝靖一監修)等の文献で増感色素として作用することが周知になっている物質を適用することとしてもよい。なお、開始助剤は開始剤の一部をなす構成要素とみなすこともできる。 In addition to the above-mentioned compounds, it is well known that the initiator acts as a sensitizing dye in documents such as “Development technology of polymer additives” (CMC Publishing Co., Ltd., supervised by Junichi Daikatsu). The substance may be applied. The initiation assistant can also be regarded as a constituent element that forms part of the initiator.
これらの光開始剤に加え、光重合(硬化)反応を促進するため促進助剤を添加することもできる。これらの例として、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等があげられる。 In addition to these photoinitiators, an accelerator aid may be added to accelerate the photopolymerization (curing) reaction. Examples of these include ethyl p-dimethylaminobenzoate, isoamyl p-dimethylaminobenzoate, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like.
光重合(硬化)促進剤は、0.1〜10質量%という添加量で添加することが好ましい。開始剤の添加量が0.1質量%を下回る場合、電子部品に着弾した光硬化型インクは速やかに硬化しないため、ドット径やドット形状の制御が困難になるという問題点が生ずる。 The photopolymerization (curing) accelerator is preferably added in an addition amount of 0.1 to 10% by mass. When the addition amount of the initiator is less than 0.1% by mass, the photocurable ink that has landed on the electronic component does not cure quickly, which causes a problem that it becomes difficult to control the dot diameter and the dot shape.
本発明に係る組成物(インクジェット用インク組成物等)は、電子部品の接合信頼性、表面保護(湿度依存性、強度等)のため、衝撃強度、耐湿性等に考慮した設形がなされている。一般的には接合信頼性、表面保護の両方を満たした組成物(インク組成物等)の材料がなく問題となっている。 The composition according to the present invention (inkjet ink composition, etc.) is shaped in consideration of impact strength, moisture resistance, etc., for bonding reliability of electronic parts and surface protection (humidity dependency, strength, etc.). Yes. In general, there is no material for a composition (ink composition or the like) satisfying both the bonding reliability and the surface protection, which is a problem.
そこで、本発明では、下記の特定物性を有する光硬化型インクジェット用インクを調製し、本発明の目的を達成することができた。 Therefore, in the present invention, a photocurable ink jet ink having the following specific physical properties was prepared, and the object of the present invention could be achieved.
(1)本発明に係るインク組成物の硬化物(樹脂)の引張弾性率は、耐衝撃性、電子部品の接合信頼性、表面保護特性(強度)のような機械的強度等の観点から、1〜500MPaであることを要するが、好ましくは、1〜300MPaである。1Mpa未満又は500Mpa超であると電子部品の接合信頼性、表面保護特性(強度)のような機械的強度が劣化し問題となる。 (1) The tensile modulus of the cured product (resin) of the ink composition according to the present invention is from the viewpoint of mechanical strength such as impact resistance, bonding reliability of electronic parts, surface protection characteristics (strength), and the like. Although it is required to be 1 to 500 MPa, it is preferably 1 to 300 MPa. If it is less than 1 Mpa or more than 500 Mpa, mechanical strength such as bonding reliability and surface protection characteristics (strength) of electronic components deteriorates, which becomes a problem.
上記インク組成物の硬化物(樹脂)の引張弾性率を1〜500MPaにするためには、前記光重合性化合物の他に、エポキシ系化合物、ウレタン系化合物、シリコン系化合物、ポリエステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニトリルゴム、熱可塑性エラストマー等の合成ゴム系化合物、ウレタン系化合物、脂環式化合物、長鎖アルキル系化合物、ゴム系化合物等を用いることができる。すなわち、これらを、単独または複数用いて所望の引張弾性率に調製することができる。なお、前記化合物は硬化速度を早くするために光重合(硬化)性化合物であることが好ましい。 In order to set the tensile elastic modulus of the cured product (resin) of the ink composition to 1 to 500 MPa, in addition to the photopolymerizable compound, an epoxy compound, a urethane compound, a silicon compound, a polyester compound, cyano Synthetic rubber compounds such as acrylate compounds, nitrile rubbers, thermoplastic elastomers, urethane compounds, alicyclic compounds, long chain alkyl compounds, rubber compounds, and the like can be used. That is, these can be adjusted to a desired tensile modulus by using one or more of them. The compound is preferably a photopolymerizable (curable) compound in order to increase the curing rate.
また、重合性化合物として、市販の重合性化合物を用いることができる。例えばラジカル重合性化合物としては、NK オリゴUA−160TM、NK オリゴU−108A、NK オリゴUA−4200(新中村化学工業(株))などのウレタン(メタ)アクリレート、NK エステルA−DCP、NK エステルA−IB、NK エステルA−BEPD(新中村化学工業(株))、ライトアクリレート1.6HX−A(共栄社化学(株))などのアルキル(メタ)クリレート、NK エステルA−PTMG65、NK エステルA−TMPT−3EO(新中村化学工業(株))、ライトアクリレートPTMGA−250(共栄社化学(株))などのグリコール系(メタ)アクリレート等を用いることができる。カチオン重合性化合物としては、OXT212、OXT101(東亞合成(株))、例示化合物6などのオキセタン化合物等を用いることができる。
Moreover, a commercially available polymerizable compound can be used as the polymerizable compound. For example, as the radical polymerizable compound, urethane (meth) acrylate such as NK Oligo UA-160TM, NK Oligo U-108A, NK Oligo UA-4200 (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), NK Ester A-DCP, NK Ester Alkyl (meth) acrylates such as A-IB, NK ester A-BEPD (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), light acrylate 1.6HX-A (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), NK ester A-PTMG65, NK ester A -TMPT-3EO (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), light acrylate PTMGA-250 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) glycol-type (meth) acrylates, etc. can be used. As the cationic polymerizable compound, oxetane compounds such as OXT212, OXT101 (Toagosei Co., Ltd.), exemplified
《引張弾性率》
本発明に係るインク組成物の硬化物(樹脂)の引張弾性率は、「JIS K 7127」或いは「ASTM D638」に規定されている試験方法に準じて測定できるが、本発明においては、「JIS K 7127」試験方法に準拠して測定した。
<Tensile modulus>
The tensile modulus of the cured product (resin) of the ink composition according to the present invention can be measured according to the test method defined in “JIS K 7127” or “ASTM D638”. Measured according to the “K 7127” test method.
なお、硬化物(樹脂)に外力を加えて変形させるとき、外力によって生ずる応力と、変形によって生ずるひずみとは、変形があまり大きくない範囲では比例する(フックの法則)。硬化物(樹脂)の引張弾性率は、このときの比例定数を弾性率として求める。すなわち、弾性率CはC=(応力)/(ひずみ)で表される。 When an external force is applied to the cured product (resin) to deform it, the stress caused by the external force and the strain caused by the deformation are proportional to each other in a range where the deformation is not so great (Hooke's law). The tensile elastic modulus of the cured product (resin) is obtained by using the proportional constant at this time as the elastic modulus. That is, the elastic modulus C is expressed by C = (stress) / (strain).
(2)本発明に係るインク組成物の硬化物(樹脂)の吸水率は、耐湿性等の観点から、0〜1%であることを要するが、好ましくは、0〜0.5%である。なお、当該吸水率は、「JIS K 6911」試験方法に準拠して測定して得た測定値である。 (2) The water absorption rate of the cured product (resin) of the ink composition according to the present invention needs to be 0 to 1% from the viewpoint of moisture resistance and the like, but is preferably 0 to 0.5%. . In addition, the said water absorption is a measured value obtained by measuring based on a "JIS K 6911" test method.
上記インク組成物の硬化物(樹脂)の吸水率を0〜1%にするためには、本発明の趣旨及び上記要件に反しない限り、前記重合性化合物等の一般に使用されている樹脂材を制限なく用いることができる。 In order to set the water absorption rate of the cured product (resin) of the ink composition to 0 to 1%, a resin material that is generally used such as the polymerizable compound is used as long as it does not violate the gist of the present invention and the above requirements. Can be used without limitation.
前記光重合性化合物の他に、例えばポリエステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニトリルゴム、熱可塑性エラストマー等の合成ゴム系化合物、アクリル系化合物、エポキシ系化合物、オレフィン系化合物、ポリカーボネート系化合物、ノルボルネン系化合物、シリコン系化合物、脂環式化合物、長鎖アルキル系化合物、パラフィン系ワックス、オレフィン系ワックス、ポリエチレン系ワックス、ポリプロピレン系ワックス、カルナバワックス等を用いることができる。すなわち、これらを、単独または複数用いて所望の吸水率に調製することができる。なお、硬化速度を早くするために光重合(硬化)性化合物であることを要する。なお、前記化合物は硬化速度を早くする為に光重合(硬化)性化合物であることが好ましい。 In addition to the photopolymerizable compounds, for example, polyester compounds, cyanoacrylate compounds, nitrile rubber, thermoplastic elastomers and other synthetic rubber compounds, acrylic compounds, epoxy compounds, olefin compounds, polycarbonate compounds, norbornene compounds Compounds, silicon compounds, alicyclic compounds, long-chain alkyl compounds, paraffin waxes, olefin waxes, polyethylene waxes, polypropylene waxes, carnauba waxes, and the like can be used. That is, these can be adjusted to a desired water absorption rate by using one or more of them. In order to increase the curing rate, it is necessary to be a photopolymerizable (curable) compound. The compound is preferably a photopolymerizable (curable) compound in order to increase the curing rate.
また、重合性化合物として、市販の重合性化合物を用いることができる。例えばラジカル重合性化合物としては、NK エステルA−DCP、NK エステルA−IB、NK エステルA−BEPD(新中村化学工業(株))、ライトアクリレート1.6HX−A(共栄社化学(株))などのアルキル(メタ)クリレート、NK エステルA−PTMG65、NKエステルA−TMPT−3EO(新中村化学工業(株))、ライトアクリレートPTMGA−250(共栄社化学(株))などのグリコール系(メタ)アクリレート等を用いることが出来る。カチオン重合性化合物としては、OXT212、OXT101(東亞合成(株))、例示化合物6などのオキセタン化合物等を用いることができる。
Moreover, a commercially available polymerizable compound can be used as the polymerizable compound. For example, as a radically polymerizable compound, NK ester A-DCP, NK ester A-IB, NK ester A-BEPD (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), light acrylate 1.6HX-A (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), etc. Glycol (meth) acrylates such as NK ester A-PTMG65, NK ester A-TMPT-3EO (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), light acrylate PTMGA-250 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Etc. can be used. As the cationic polymerizable compound, oxetane compounds such as OXT212, OXT101 (Toagosei Co., Ltd.), exemplified
なお、本発明においては、上記引張弾性率及び吸水率の要件を満たすことを要するが、その他の機能・特性を有するインクジェット用インクを別ユニットのインクタンクに入れ記録ヘッドから排出しても良い。たとえば、高温、高湿環境での耐久信頼性を得る為に、インク組成物の硬化物(樹脂)の線熱膨張率が、1.0×10-4/K以下となるようなインクを併用したり、インク硬化物の同士の密着性を良化させるために密着性を考慮したインクなどを用いてもよく特に制限はない。 In the present invention, it is necessary to satisfy the requirements for the tensile elastic modulus and the water absorption rate. However, ink jet ink having other functions and characteristics may be put in an ink tank of another unit and discharged from the recording head. For example, in order to obtain endurance reliability in a high temperature and high humidity environment, an ink whose linear thermal expansion coefficient of the cured product (resin) of the ink composition is 1.0 × 10 −4 / K or less is used in combination. There is no particular limitation, and an ink or the like considering the adhesion may be used in order to improve the adhesion between the cured inks.
本発明に係るインクジェット用インクには、必要に応じて塩基性化合物、高分子分散剤、粘度調整剤、重合禁止剤、酸化防止剤、界面活性剤、レベリング添加剤、有機溶剤などを添加してもよい。 To the ink-jet ink according to the present invention, a basic compound, a polymer dispersant, a viscosity modifier, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a surfactant, a leveling additive, an organic solvent, and the like are added as necessary. Also good.
インクジェット用インクの調製の際には、均一な分散液を得るために、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテーター、ヘンシェルミキサー、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。 When preparing ink jet ink, in order to obtain a uniform dispersion, ball mill, sand mill, attritor, roll mill, agitator, Henschel mixer, colloid mill, ultrasonic homogenizer, pearl mill, wet jet mill, paint shaker, etc. Can be used.
〈インクジェット用インクの吐出条件〉
本発明においては、封止材を形成するためのインク及びインクジェット記録ヘッドの温度を35〜100℃に加熱した後、インクを吐出することが、吐出安定性の点で好ましい。活性光線硬化型のインクは、温度変動による粘度変動幅が大きく、粘度変動はそのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、電子部品への位置精度を劣化したり、目的機能を劣化させたりし問題となる。インク温度を上げながらその温度を一定に保つことが必要である。インク温度の制御幅としては、設定温度±5℃、好ましくは設定温度±2℃、更に好ましくは設定温度±1℃である。
<Discharge conditions for inkjet ink>
In the present invention, it is preferable from the viewpoint of ejection stability that the ink for forming the sealing material and the temperature of the inkjet recording head are heated to 35 to 100 ° C. and then the ink is ejected. Actinic radiation curable ink has a large viscosity fluctuation range due to temperature fluctuation, and the viscosity fluctuation directly affects the droplet size and droplet ejection speed, thereby deteriorating the positional accuracy to electronic parts and the target function. It becomes a problem. It is necessary to keep the temperature constant while raising the ink temperature. The control range of the ink temperature is set temperature ± 5 ° C., preferably set temperature ± 2 ° C., more preferably set temperature ± 1 ° C.
また、本発明では、各ノズルより吐出する最小の液滴量が2〜30plであることが好ましい。本来、高位置精度を形成するためには、液滴量がこの範囲であることが必要であるが、この液滴量で吐出する場合、前述した吐出安定性が特に厳しくなる。 In the present invention, it is preferable that the minimum amount of liquid droplets discharged from each nozzle is 2 to 30 pl. Originally, in order to form a high position accuracy, it is necessary for the amount of droplets to be within this range, but when discharging with this amount of droplets, the aforementioned discharge stability becomes particularly severe.
〈インクジェット用インクの硬化条件〉
本発明においては、電子部品等の封止対象物上にインクが着弾した後、0.001〜5.0秒後に該インクに光を照射し、硬化させて、封止材を形成することが好ましい。
<Curing conditions for inkjet ink>
In the present invention, after the ink has landed on an object to be sealed such as an electronic component, the ink is irradiated with light after 0.001 to 5.0 seconds and cured to form a sealing material. preferable.
また、インク硬化のため光源部から照射され光線の、基材(電子部品)面における照度は、0.1〜1000mW/cm2の範囲内であることが好ましい。なお、本発明に係る上記要件を満たすインクにおいては硬化が速く、0.1〜500mW/cm2の照度で用いることができることから生産時間を短くするために好ましい。 Moreover, it is preferable that the illumination intensity in the base-material (electronic component) surface of the light ray irradiated from a light source part for ink hardening exists in the range of 0.1-1000 mW / cm < 2 >. The ink satisfying the above-mentioned requirements according to the present invention is preferable for shortening the production time because it is rapidly cured and can be used at an illuminance of 0.1 to 500 mW / cm 2 .
本発明では、電子部品上にインクが着弾し、光(活性光線)を照射して硬化した後の総インク膜厚が電子部品上に必要な機能を有するのであれば特に制限はない。但し、電子部品上へ過剰に形成してしまうと電子部品自身の形状、厚さに影響を与えてしまうので、過剰な膜厚のインク吐出は好ましくない。 In the present invention, there is no particular limitation as long as the total ink film thickness after the ink lands on the electronic component and is cured by irradiating light (active light) has the necessary function on the electronic component. However, since excessively forming on the electronic component affects the shape and thickness of the electronic component itself, it is not preferable to eject ink with an excessive film thickness.
活性光線の照射方法として、その基本的な方法が、特開昭60−132767号公報に開示されている。これによると、ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式でヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。 A basic method of actinic ray irradiation is disclosed in JP-A-60-132767. According to this, the light source is provided on both sides of the head unit, and the head and the light source are scanned by the shuttle method. Irradiation is performed after a certain period of time after ink landing. Further, the curing is completed by another light source that is not driven.
米国特許第6,145,979号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へUV光を照射する方法が開示されている。本発明においては、これらの何れの照射方法も用いることが出来る。 In US Pat. No. 6,145,979, as an irradiation method, a method using an optical fiber or a method of irradiating a recording unit with UV light by applying a collimated light source to a mirror surface provided on the side surface of the head unit is disclosed. Has been. In the present invention, any of these irradiation methods can be used.
(封止材形成装置)
本発明の封止材の形成方法は、インクジェット方式により封止材を形成する方法であるが、そのために用いる封止材形成装置としては、光照射手段(「光照射装置」ともいう。)、インク温度を計測する手段、インクを加熱する手段、記録ヘッド毎に該インクの温度を制御する手段、電子部品の位置情報を検出する手段、及び位置情報に応じて記録ヘッドからのインク射出を制御する手段とを備えていることが、本発明の封止材を作製する観点から好ましい。更に、電子部品を加熱する手段と、該電子部品の温度を制御する手段とを備えていることが、同じ観点から好ましい。
(Encapsulant forming device)
The method for forming a sealing material of the present invention is a method for forming a sealing material by an ink jet method. As a sealing material forming apparatus used for that purpose, a light irradiation means (also referred to as a “light irradiation apparatus”), Means for measuring ink temperature, means for heating ink, means for controlling the temperature of the ink for each recording head, means for detecting position information of an electronic component, and controlling ink ejection from the recording head according to the position information It is preferable from the viewpoint of producing the sealing material of the present invention. Furthermore, it is preferable from the same point of view to include means for heating the electronic component and means for controlling the temperature of the electronic component.
なお、「インクジェット方式」とは、ノズルからインクを吐出して記録するプリンタの印字・画像形成方式をいう。 The “inkjet method” refers to a printing / image forming method of a printer that records by discharging ink from nozzles.
以下、本発明に係る封止材形成装置について、図面を適宜参照しながら説明する。尚、図面の封止材形成装置はあくまでも本発明で好ましく用いることができる封止材形成装置の一態様であり、本発明では、ここで例示する封止材形成装置に限定されない。 Hereinafter, an encapsulant forming apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. Note that the sealing material forming apparatus shown in the drawings is an embodiment of a sealing material forming apparatus that can be preferably used in the present invention, and the present invention is not limited to the sealing material forming apparatus exemplified here.
なお、本発明の封止材及びその形成方法は種々の物品を封止の対象物として適用できるが、以下においては、封止の対象物として、本発明の封止材が好適に適用される電子部品を選び、本発明に係るインクジェット用インクを用いて、当該電子部品上に、インクを着弾させ、そのインクに光として紫外線を照射し、硬化させて、封止材を形成するための装置とそれを用いた封止材の形成方法について説明する。 In addition, although the sealing material of this invention and its formation method can apply various articles | goods as a sealing target object, below, the sealing material of this invention is applied suitably as a sealing target object. An apparatus for forming an encapsulant by selecting an electronic component, landing the ink on the electronic component using the ink-jet ink according to the present invention, irradiating the ink with ultraviolet rays, and curing the ink. And a method for forming a sealing material using the same.
図1は、本発明に係る封止材形成装置(電子部品ヒーターなし)で、シリアルプリント方式で用いる要部の構成の一例を示す正面図である。図2は当該装置の側面図である。 FIG. 1 is a front view showing an example of a configuration of a main part used in a serial printing method in a sealing material forming apparatus (without an electronic component heater) according to the present invention. FIG. 2 is a side view of the apparatus.
封止材形成装置1は、電子部品位置検出器(電子部品の位置情報を検出する手段)11、電子部品4の封止面を上側に搬送する搬送部材99、ヘッドキャリッジ14、記録ヘッド5,6,7,8、光照射手段9,10、平板プラテン部2を備えて構成される。プラテン2の前後には搬送機構としての搬送ローラ3a,3bがそれぞれ配設されている。各搬送ローラ3a,3bはプラテン2の前後で軸心回りの所定方向にそれぞれ回転するようになっており、各搬送ローラ3a,3bの回転に伴い搬送部材99は搬送方向Aに沿って電子部品を搬送するようになっている。尚、本発明では電子部品4と搬送部材99が別構成になっているが、搬送精度を良化させる為に、搬送部材と電子部品が一体化している基材を用いても良い。
The sealing material forming apparatus 1 includes an electronic component position detector (means for detecting position information of an electronic component) 11, a
封止材形成装置1は、図1に示すように、棒状のガイドレール12を有しており、このガイドレール12には、キャリッジ14が支持されている。このキャリッジ14は、キャリッジ駆動機構22(図5参照)によって走査方向Bをガイドレール12に沿って往復移動するようになっている。
As shown in FIG. 1, the sealing material forming apparatus 1 has a rod-shaped
キャリッジ14には、本発明に係るインクジェット用インクを電子部品上の記録面に向けてそれぞれ射出する4つの記録ヘッド5,6,7,8が搭載されており、4つの記録ヘッド5,6,7,8は同時にキャリッジ14の往復移動によって移動可能とされている。また、各記録ヘッド5,6,7,8の下部にはインクを液滴として射出する複数のノズル(図示省略)がそれぞれ配設されており、各ノズルから1回の吐出につき2pl〜30plのインクが吐出されるようになっている。なお、各ノズルから1回の吐出につき吐出される液滴量としては、2pl〜30plが最小液滴量となっていれば良く、それ以上の液滴量が吐出可能となっていても良い。
Mounted on the
尚、図1の記録ヘッド7,8は、更に必要機能を設ける場合の予備用記録ヘッドであり、記録ヘッドは図1に示したように4ヘッドに限りあるものではない。 Note that the recording heads 7 and 8 in FIG. 1 are preliminary recording heads when further necessary functions are provided, and the recording heads are not limited to four as shown in FIG.
さらに、キャリッジ14の左右両側には紫外線照射を行う2つの紫外線照射装置9,10がそれぞれ搭載されており、紫外線照射装置9,10も記録ヘッド5,6,7,8と同様に、キャリッジ14の往復移動によって移動可能とされている。各紫外線照射装置9,10には、紫外線光源9a,10a(図3に図示)がそれぞれ設けられており、各紫外線照射装置9,10は、紫外線光源9a,10aが点灯することにより電子部品上の記録面に向けてそれぞれ紫外線を照射することができるようになっている。紫外線光源としては、高圧水銀ランプ,メタルハライドランプ,ブラックライト,熱陰極管、冷陰極管,LED(Light Emitting Diode)等が適用される。
Further, two
なお、本実施の形態では、インク吐出速度、キャリッジ移動速度等を調整して、前記記録ヘッド5,6,7,8から吐出された紫外線硬化性インクが電子部品4上に着弾してから1秒以内に、当該インクに前記紫外線照射装置9,10から紫外線が照射されるようになっている。
In the present embodiment, the ink discharge speed, carriage movement speed, etc. are adjusted, and after the ultraviolet curable ink discharged from the recording heads 5, 6, 7, 8 has landed on the electronic component 4, 1 Within seconds, the ink is irradiated with ultraviolet rays from the
また、電子部品4としては、一般的な電子部品であり、回路基板に、ベアチップやチップコンデンサなどの電子部品素子を配置した電子部品のことを表す。 The electronic component 4 is a general electronic component and represents an electronic component in which an electronic component element such as a bare chip or a chip capacitor is arranged on a circuit board.
次に、図3を参照して封止材形成装置1における制御部について説明する。図3は封止材形成装置1の概略的な制御構成を示すブロック図である。 Next, the control part in the sealing material formation apparatus 1 is demonstrated with reference to FIG. FIG. 3 is a block diagram showing a schematic control configuration of the sealing material forming apparatus 1.
封止材形成装置1には、図3に示すように、各駆動部を制御する制御部30が設けられている。制御部30には、電子部品位置検出11、インクヒータ21(インクを加熱する手段)、電子部品4の搬送機構3′、記録ヘッド5,6,7,8、紫外線照射装置9,10の紫外線光源10a、10b、キャリッジ14のキャリッジ駆動機構22、封止材形成装置1の作動に必要な情報を記憶する記憶部31、電子部品4の種類等の封止形成時における指示が入力される入力部32等が電気的に接続されている。なお、制御部30には、これら以外にも封止材形成装置1の各駆動部などが接続されている。
As shown in FIG. 3, the sealing material forming apparatus 1 is provided with a
そして、このような構成により、制御部30は、電子部品位置検出11により得られた各電子部品の位置情報と入力部32からの封止形成材料の位置及び使用される材料種、インク温度などの指示に基づいて、記憶部31中に書き込まれている制御プログラムや制御データに従い各種機器を制御するようになっている。
And by such a structure, the
特に、前記制御部30は、記録ヘッド5,6,7,8内の圧力及びインク温度を調整するなどして、記録ヘッド5,6,7,8の各ノズルから吐出されるインクの最小液滴量が、1回の吐出につき2pl〜30plとなるように制御を行っている。
In particular, the
また、キャリッジ14の移動速度、インクの吐出タイミング等を調整して、電子部品4上での封止材量を制御している。
Further, the amount of sealing material on the electronic component 4 is controlled by adjusting the moving speed of the
さらに、インク吐出速度、キャリッジ移動速度等を調整して、インクが電子部品4上に着弾してから1秒以内に、紫外線照射装置9,10からインク着弾箇所に紫外線が照射されるように制御している。
Further, the ink ejection speed, carriage movement speed, and the like are adjusted, and control is performed so that ultraviolet rays are irradiated from the
次に、本実施の形態における封止材形成装置1の動作を説明する。
まず、封止材形成装置1における電子部品4の種類等の封止形成時における指示が入力部32から入力されると、制御部30では、当該画像形成に必要な情報を記憶部31から取り出し、封止材形成装置1での封止形成の動作を行う。
Next, operation | movement of the sealing material formation apparatus 1 in this Embodiment is demonstrated.
First, when an instruction at the time of sealing formation such as the type of electronic component 4 in the sealing material forming apparatus 1 is input from the input unit 32, the
封止材形成装置1の封止形成動作中においては、電子部品位置情報を検出しながら、各搬送ローラ3a,3bが作動して回転し、電子部品4が、プラテン2により封止形成面を上面にした状態で後方から前方へと搬送方向Aに沿って搬送される。他方では、キャリッジ14が作動して電子部品の直上を走査方向Bに沿って往復移動し、キャリッジ14に搭載されている4つの記録ヘッド5,6,7,8及び2つの紫外線照射装置9,10もキャリッジ14の往復移動によって移動する。
During the sealing forming operation of the sealing material forming apparatus 1, while the electronic component position information is detected, the
そして、キャリッジ14の移動中において、4つの記録ヘッド5,6,7,8が各ノズルから電子部品4の記録面に向かってインクを射出するとともに、2つの紫外線照射装置9,10が電子部品4の記録面に向かって紫外線を照射する。特に、キャリッジ14が図1中の左から右へと移動している最中には左側の紫外線照射装置9の紫外線光源9aが点灯し、キャリッジ14が図1中の右から左へと移動している最中には紫外線照射装置10の紫外線光源10aが点灯する。つまり、キャリッジ11の移動方向の記録ヘッド5,6,7,8よりも下流側の紫外線照射装置9の紫外線光源9a又は紫外線照射装置10の紫外線光源10aが点灯して紫外線を照射する。
During the movement of the
また、制御部30の制御により、記録ヘッド5,6,7,8内の圧力、キャリッジ11の移動速度、インクの吐出タイミング等を変化させることによって、記録ヘッド5,6,7,8の各ノズルから吐出されるインクの最小液滴量が、1回の吐出につき2pl〜30plとされ、電子部品4上での封止材量を制御する
さらに、制御部30の制御により、インク吐出速度、キャリッジ移動速度等を調整して、紫外線照射装置9,10は、インクが電子部品4に着弾してから1秒以内に、当該箇所に紫外線を照射するようになっている。これにより、各記録ヘッド5,6,7,8から射出されたインクは、電子部品4に着弾した直後に紫外線が照射されて即座に硬化し、電子部品4の記録面上に定着する。
Further, by controlling the
以降、封止材形成装置1が上記の各動作を繰り返し、各インクジェット用インクを1ドットまたは複のドットからなる所望インク量及び種類を選択し、電子部品4の記録面に順次記録される。その後、電子部品4が、搬送装置により搬送されて、排出トレイ(図示省略)に排出される。 Thereafter, the sealing material forming apparatus 1 repeats each of the above-described operations, selects each ink-jet ink with a desired ink amount and type consisting of one dot or a plurality of dots, and sequentially records them on the recording surface of the electronic component 4. Thereafter, the electronic component 4 is transported by a transport device and discharged to a discharge tray (not shown).
なお、本実施の形態では、シリアル方式の封止材形成装置を用いて説明したが、本発明はこれに限るものではなく、例えば、ライン方式の封止材形成装置に適用することも可能である。 In this embodiment, the serial type sealing material forming apparatus is described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, a line type sealing material forming apparatus. is there.
図4は、本発明で用いることのできる封止材形成装置1(電子部品ヒータ内蔵)で、シリアルプリント方式で用いる要部の構成の一例を示す正面図である。図5は当該装置の側面図である。 FIG. 4 is a front view showing an example of the configuration of the main part used in the serial printing method in the sealing material forming apparatus 1 (with built-in electronic component heater) that can be used in the present invention. FIG. 5 is a side view of the apparatus.
封止材形成装置1は、電子部品位置検出器11、電子部品用非接触温度計13、電子部品4の封止面を上側に搬送する搬送部材99、ヘッドキャリッジ14、記録ヘッド5,6,7,8、光照射手段9,10、平板プラテン部(ヒータ内蔵:電子部品を加熱する手段)2を備えて構成される。プラテン2の前後には搬送機構としての搬送ローラ3a,3bがそれぞれ配設されている。各搬送ローラ3a,3bはプラテン2の前後で軸心回りの所定方向にそれぞれ回転するようになっており、各搬送ローラ3a,3bの回転に伴い搬送部材99は搬送方向Aに沿って電子部品を搬送するようになっている。尚、本発明では電子部品4と搬送部材99が別構成になっているが、搬送精度を良化させる為に、搬送部材と電子部品が一体化している基材を用いても良い。
The sealing material forming apparatus 1 includes an electronic component position detector 11, an electronic component
平板プラテン部(ヒータ内蔵)2による電子部品4に対する加熱量を調整するようにしたが、加熱量の調整方法はこれに限るものではなく、例えば、平板プラテン部(ヒータ内蔵)2に対する印加電圧あるいは印加電圧幅を変更するようにしてもよい。また、平板プラテン部(ヒータ内蔵)2をヒートプレートのみの機能にしても良い。ヒータは遠赤外線、温風を吹き付ける温風装置を用いるようにしてもよい。 Although the heating amount for the electronic component 4 by the flat platen part (with built-in heater) 2 is adjusted, the method for adjusting the heating amount is not limited to this. For example, the applied voltage to the flat platen part (with built-in heater) 2 or The applied voltage width may be changed. Further, the flat platen portion (with built-in heater) 2 may be a function of only the heat plate. You may make it use the warm air apparatus which blows a far infrared ray and warm air for a heater.
本実施形態では、環境湿度に応じて、ヒータ11による電子部品4に対する加熱量を調整するようにしたが、環境温度に応じて加熱量を調整するようにしてもよい。 In the present embodiment, the heating amount for the electronic component 4 by the heater 11 is adjusted according to the environmental humidity. However, the heating amount may be adjusted according to the environmental temperature.
封止材形成装置1は、図4に示すように、棒状のガイドレール12を有しており、このガイドレール12には、キャリッジ14が支持されている。このキャリッジ14は、キャリッジ駆動機構22(図5参照)によって走査方向Bをガイドレール12に沿って往復移動するようになっている。
As shown in FIG. 4, the sealing material forming apparatus 1 has a rod-shaped
キャリッジ14には、本発明に係るインクジェット用インクを電子部品上の記録面に向けてそれぞれ射出する4つの記録ヘッド5,6,7,8が搭載されており、4つの記録ヘッド5,6,7,8は同時にキャリッジ14の往復移動によって移動可能とされている。また、各記録ヘッド5,6,7,8の下部にはインクを液滴として射出する複数のノズル(図示省略)がそれぞれ配設されており、各ノズルから1回の吐出につき2pl〜30plのインクが吐出されるようになっている。なお、各ノズルから1回の吐出につき吐出される液滴量としては、2pl〜30plが最小液滴量となっていれば良く、それ以上の液滴量が吐出可能となっていても良い。
Mounted on the
尚、図4記録ヘッド7,8は、更に必要機能を設ける場合の予備用記録ヘッドであり、記録ヘッドは図4に示したように4ヘッドに限りあるものではない。 Note that the recording heads 7 and 8 in FIG. 4 are preliminary recording heads when further necessary functions are provided, and the recording heads are not limited to four as shown in FIG.
さらに、キャリッジ14の左右両側には紫外線照射を行う2つの紫外線照射装置9,10がそれぞれ搭載されており、紫外線照射装置9,10も記録ヘッド5,6,7,8と同様に、キャリッジ14の往復移動によって移動可能とされている。各紫外線照射装置9,10には、紫外線光源9a,10a(図6に図示)がそれぞれ設けられており、各紫外線照射装置9,10は、紫外線光源9a,10aが点灯することにより電子部品上の記録面に向けてそれぞれ紫外線を照射することができるようになっている。紫外線光源としては、高圧水銀ランプ,メタルハライドランプ,ブラックライト,熱陰極管、冷陰極管,LED(Light Emitting Diode)等が適用される。
Further, two
なお、本実施の形態では、インク吐出速度、キャリッジ移動速度等を調整して、前記記録ヘッド5,6,7,8から吐出された紫外線硬化性インクが電子部品4上に着弾してから1秒以内に、当該インクに前記紫外線照射装置9,10から紫外線が照射されるようになっている。
In the present embodiment, the ink discharge speed, carriage movement speed, etc. are adjusted, and after the ultraviolet curable ink discharged from the recording heads 5, 6, 7, 8 has landed on the electronic component 4, 1 Within seconds, the ink is irradiated with ultraviolet rays from the
また、電子部品4としては、一般的な電子部品であり、回路基板に、ベアチップやチップコンデンサなどの電子部品素子を配置した電子部品のことを表す。 The electronic component 4 is a general electronic component and represents an electronic component in which an electronic component element such as a bare chip or a chip capacitor is arranged on a circuit board.
次に、図6を参照して封止材形成装置1における制御部について説明する。図6は封止材形成装置1の概略的な制御構成を示すブロック図である。 Next, the control unit in the sealing material forming apparatus 1 will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a block diagram showing a schematic control configuration of the sealing material forming apparatus 1.
封止材形成装置1には、図6に示すように、各駆動部を制御する制御部30が設けられている。制御部30には、電子部品位置検出11、電子部品用非接触温度計13、インクヒータ21、電子部品4の搬送機構3‘、記録ヘッド5,6,7,8、紫外線照射装置9,10の紫外線光源10a、10b、キャリッジ14のキャリッジ駆動機構22、封止材形成装置1の作動に必要な情報を記憶する記憶部31、電子部品4の種類等の封止形成時における指示が入力される入力部32等が電気的に接続されている。なお、制御部30には、これら以外にも封止材形成装置1の各駆動部などが接続されている。
As shown in FIG. 6, the sealing material forming apparatus 1 is provided with a
そして、このような構成により、制御部30は、電子部品位置検出11により得られた各電子部品の位置情報と電子部品温度検出13により得られた情報と各電子部品の位置情報、入力部32からの封止形成材料の位置及び使用される材料種、インク温度などの指示に基づいて、記憶部31中に書き込まれている制御プログラムや制御データに従い各種機器を制御するようになっている。
With such a configuration, the
特に、前記制御部30は、記録ヘッド5,6,7,8内の圧力及びインク温度、電子部品温度を搬送部材2やインクキャリッジに内蔵する温度制御機構(記録ヘッド毎に該インクの温度を制御する手段、電子部品の温度を制御する手段等)により調整するなどして、記録ヘッド5,6,7,8の各ノズルから吐出されるインクの最小液滴量が、1回の吐出につき2pl〜30plとなるように制御を行っている。
In particular, the
また、キャリッジ14の移動速度、インクの吐出タイミング等を調整して、電子部品4上での封止材量を制御している。
Further, the amount of sealing material on the electronic component 4 is controlled by adjusting the moving speed of the
さらに、インク吐出速度、キャリッジ移動速度等を調整して、インクが電子部品4上に着弾してから1秒以内に、紫外線照射装置9,10からインク着弾箇所に紫外線が照射されるように制御している。
Further, the ink ejection speed, carriage movement speed, and the like are adjusted, and control is performed so that ultraviolet rays are irradiated from the
次に、本実施の形態における封止材形成装置1(電子部品ヒータ内蔵)の動作を説明する。 Next, the operation of the sealing material forming apparatus 1 (built-in electronic component heater) in the present embodiment will be described.
まず、封止材形成装置1における電子部品4の種類等の封止形成時における指示が入力部32から入力されると、制御部30では、当該画像形成に必要な情報を記憶部31から取り出し、封止材形成装置1での封止形成の動作を行う。
First, when an instruction at the time of sealing formation such as the type of electronic component 4 in the sealing material forming apparatus 1 is input from the input unit 32, the
封止材形成装置1の封止形成動作中においては、電子部品位置情報を検出し、更に電子部品の温度制御をしながら各搬送ローラ3a,3bが作動して回転し、電子部品4が、プラテン2により封止形成面を上面にした状態で後方から前方へと搬送方向Aに沿って搬送される。他方では、キャリッジ14が作動して電子部品の直上を走査方向Bに沿って往復移動し、キャリッジ14に搭載されている4つの記録ヘッド5,6,7,8及び2つの紫外線照射装置9,10もキャリッジ14の往復移動によって移動する。
During the sealing forming operation of the sealing material forming apparatus 1, the electronic roller 4 is operated and rotated while detecting the electronic component position information and further controlling the temperature of the electronic component. The
そして、キャリッジ14の移動中において、4つの記録ヘッド5,6,7,8が各ノズルから電子部品4の記録面に向かってインクを射出するとともに、2つの紫外線照射装置9,10が電子部品4の記録面に向かって紫外線を照射する。特に、キャリッジ14が図1中の左から右へと移動している最中には左側の紫外線照射装置9の紫外線光源9aが点灯し、キャリッジ14が図1中の右から左へと移動している最中には紫外線照射装置10の紫外線光源10aが点灯する。つまり、キャリッジ11の移動方向の記録ヘッド5,6,7,8よりも下流側の紫外線照射装置9の紫外線光源9a又は紫外線照射装置10の紫外線光源10aが点灯して紫外線を照射する。
During the movement of the
また、制御部30の制御により、記録ヘッド5,6,7,8内の圧力、キャリッジ11の移動速度、インクの吐出タイミング等を変化させることによって、記録ヘッド5,6,7,8の各ノズルから吐出されるインクの最小液滴量が、1回の吐出につき2pl〜30plとされ、電子部品4上での封止材量を制御する
さらに、制御部30の制御により、インク吐出速度、キャリッジ移動速度等を調整して、紫外線照射装置9,10は、インクが電子部品4に着弾してから1秒以内に、当該箇所に紫外線を照射するようになっている。これにより、各記録ヘッド5,6,7,8から射出されたインクは、電子部品4に着弾した直後に紫外線が照射されて即座に硬化し、電子部品4の記録面上に定着する。
Further, by controlling the
以降、封止材形成装置1が上記の各動作を繰り返し、各インクジェット用インクを1ドットまたは複のドットからなる所望インク量及び種類を選択し、電子部品4の記録面に順次記録される。その後、電子部品4が、搬送装置により搬送されて、排出トレイ(図示省略)に排出される。 Thereafter, the sealing material forming apparatus 1 repeats each of the above-described operations, selects each ink-jet ink with a desired ink amount and type consisting of one dot or a plurality of dots, and sequentially records them on the recording surface of the electronic component 4. Thereafter, the electronic component 4 is transported by a transport device and discharged to a discharge tray (not shown).
なお、本実施の形態では、シリアル方式の封止材形成装置を用いて説明したが、本発明はこれに限るものではなく、例えば、ライン方式の封止材形成装置に適用することも可能である。 In this embodiment, the serial type sealing material forming apparatus is described. However, the present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, a line type sealing material forming apparatus. is there.
以下に本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
表1に示す光重合性化合物を含有する各種インクを用いて下記の実験を行った。なお、インクが光重合性化合物の混合物の場合、ステンレスビーカーに入れ、40℃のホットプレート上で加熱しながら1時間撹拌混合し、溶解させた。 The following experiments were conducted using various inks containing the photopolymerizable compounds shown in Table 1. When the ink was a mixture of photopolymerizable compounds, it was put in a stainless beaker, stirred and mixed for 1 hour while being heated on a hot plate at 40 ° C., and dissolved.
「封止材形成方法」
ピエゾ型インクジェットノズルを備えた図1、4記載の封止材形成装置に、上記調製した各インクセット1〜7を装填し封止を行った。インク供給系は、インクタンク、供給パイプ、ヘッド直前の前室インクタンク、フィルター付き配管、ピエゾヘッドからなり、前室タンクからヘッド部分まで断熱して50℃の加温を行った。ピエゾヘッドは、2〜30plのマルチサイズドットを吐出できるよう駆動して、各インクを連続吐出した。着弾した後、キャリッジ両脇のメタルハライドランプ(日本電池社製 MAL400NL 3kW電源)にて瞬時(着弾後0.5秒未満)に硬化した。記録後、総インク膜厚を測定したところ、2.0〜20μmの範囲であった。
"Encapsulant formation method"
Each of the ink sets 1 to 7 prepared above was loaded into a sealing material forming apparatus shown in FIGS. 1 and 4 equipped with a piezo-type inkjet nozzle and sealed. The ink supply system was composed of an ink tank, a supply pipe, a front chamber ink tank immediately before the head, a pipe with a filter, and a piezo head. The ink was insulated from the front chamber tank to the head portion and heated at 50 ° C. The piezo head was driven so that 2 to 30 pl multi-size dots could be ejected, and each ink was ejected continuously. After landing, it was cured instantaneously (less than 0.5 seconds after landing) with a metal halide lamp (MAL400NL 3 kW power source manufactured by Nippon Battery Co., Ltd.) on both sides of the carriage. After recording, the total ink film thickness was measured and found to be in the range of 2.0 to 20 μm.
尚、表2に示すように図4封止材形成装置を使用する場合、電子部品温度は40℃に保持し封止材の形成を行った。 As shown in Table 2, when the sealing material forming apparatus of FIG. 4 was used, the electronic material temperature was kept at 40 ° C. to form the sealing material.
表1にインクジェット用インクの内容、硬化物(樹脂)の引張弾性率及び吸水率をまとめて示す。なお、硬化物の引張弾性率は「JIS K 7127」試験方法に準拠する測定により得られる測定値である。また、吸水率は「JIS K 6911」試験方法に準拠する測定により得られる測定値である。表1に記載した化合物1〜7の添加量を示す数値は質量%を表す。 Table 1 summarizes the contents of the inkjet ink and the tensile modulus and water absorption rate of the cured product (resin). In addition, the tensile elasticity modulus of hardened | cured material is a measured value obtained by the measurement based on a "JISK7127" test method. Further, the water absorption is a measured value obtained by measurement based on the “JIS K 6911” test method. The numerical value which shows the addition amount of the compounds 1-7 described in Table 1 represents the mass%.
《インクジェット封止材の評価》
図7記載の電子部品上にインクジェット用インクで封止を行い、下記の各評価を行った。
<< Evaluation of inkjet sealing material >>
The electronic component shown in FIG. 7 was sealed with inkjet ink, and the following evaluations were performed.
<耐湿性>
仕上がった電子部品を、40℃/80%環境下に3日保管した後の、電子部品の通電性を評価した。評価はn50評価した。
× ;50%以上機能せず
△× ;50%の頻度で機能低下
△ ;30%の頻度で機能低下
○△ ;10%の頻度で機能低下
○ ;変化がない。
<Moisture resistance>
After the finished electronic component was stored in a 40 ° C./80% environment for 3 days, the electrical conductivity of the electronic component was evaluated. Evaluation evaluated n50.
×: Not functioning 50% or more Δ ×: Deteriorating function with 50% frequency Δ; Degrading function with 30% frequency ○ Δ; Degrading function with 10% frequency ○: No change
<耐衝撃性(封止位置信頼性)評価>
仕上がった電子部品強固に固定し、電子部品接続部に先端直径20mm、重さ50g重の重り(S45C鋼)を10cmの高さより受け台中心の電子部品接続部上に自由落下させた。試験後通電性を確認した。評価はn50評価した。
× ;50%以上機能せず
△× ;50%の頻度で機能低下
△ ;30%の頻度で機能低下
○△ ;10%の頻度で機能低下
○ ;変化がない。
<Impact resistance (sealing position reliability) evaluation>
The finished electronic component was firmly fixed, and a weight (S45C steel) having a tip diameter of 20 mm and a weight of 50 g was freely dropped onto the electronic component connecting portion from the height of 10 cm onto the electronic component connecting portion at the center of the cradle. The conductivity was confirmed after the test. Evaluation evaluated n50.
×: Not functioning 50% or more Δ ×: Deteriorating function with 50% frequency Δ; Degrading function with 30% frequency ○ Δ; Degrading function with 10% frequency ○: No change
上記評価結果を表2に示す。 The evaluation results are shown in Table 2.
表2に示した結果から明らかなように本発明に係るインクを用いて形成した封止材は、耐湿性及び耐衝撃性に優れていることが分かる。 As is clear from the results shown in Table 2, it can be seen that the sealing material formed using the ink according to the present invention is excellent in moisture resistance and impact resistance.
なお、上述した封止材の形成法及び装置の説明をも考慮に入れると、本発明によって、耐衝撃性、耐湿性などに優れ、かつ生産性に優れた封止材及び電子部品用封止材を提供することができることが分かる。また、当該封止材の形成方法及び形成装置を提供することができることが分かる。 In consideration of the above-described method of forming the sealing material and the description of the apparatus, the present invention provides a sealing material and electronic component sealing excellent in impact resistance, moisture resistance, etc., and excellent in productivity. It can be seen that the material can be provided. Moreover, it turns out that the formation method and formation apparatus of the said sealing material can be provided.
1 封止材形成装置
2 プラテン
3a,3b 搬送ローラ
4 電子部品
5,6,7,8 記録ヘッド
9 照射手段
10 紫外線光源
11 電子部品位置検出器
12 ガイドレール
13 電子部品用非接触温度計
14 キャリッジ
30 制御部
21 インクヒータ
22 キャリッジ駆動機構
31 記憶部
32 入力部
99 搬送部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sealing
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Family
ID=39660351
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
WO2023286747A1 (en) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 富士フイルム株式会社 | Electronic device and method for manufacturing electronic device |
-
2006
- 2006-12-22 JP JP2006345534A patent/JP2008159743A/en active Pending
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WO2023286747A1 (en) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | 富士フイルム株式会社 | Electronic device and method for manufacturing electronic device |
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