JP2008159498A - Conductive paste and manufacturing method thereof - Google Patents

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慎悟 寺崎
Yumi Kanbe
由美 神戸
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of conductive paste that does not generate any aggregated blocks easily as compared with before and is capable of suppressing the mixture of unneeded constituents. <P>SOLUTION: The manufacturing method of conductive paste comprises: a process for heating solution containing metal salt and a first organic solvent, reducing the metal salt for generating a metal ultra-fine particle, and obtaining a composite solution containing the metal ultra-fine particle; a process for removing a first organic solvent and a reaction residue from the composite solution and obtaining a metal ultra-fine particle in a non-dried and non-hardened state; and a process for mixing the metal ultra-fine particle in a non-dried and non-hardened state with a second organic solvent for pasting. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性ペーストの製造方法および導電性ペーストに関し、さらに詳しくは、金属超微粒子を用いた導電性ペーストの製造方法、この製造方法により得られた導電性ペーストに関するものである。   The present invention relates to a method for producing a conductive paste and a conductive paste, and more particularly to a method for producing a conductive paste using ultrafine metal particles, and a conductive paste obtained by this production method.

従来、μmサイズ(以下、「ミクロンサイズ」ということがある。)の金属微粒子を用いた導電性ペーストは、例えば、プリント基板における電極、配線などの回路形成、層間接合などに使用する導電材料として広く知られている。   Conventionally, conductive paste using fine metal particles of μm size (hereinafter sometimes referred to as “micron size”) is used as, for example, a conductive material used for forming circuits such as electrodes and wiring on printed circuit boards and interlayer bonding. Widely known.

近年、プリント基板が組み込まれる電子機器は、高機能化、小型化されてきており、それに伴って配線回路は狭ピッチ化されてきている。そのため、ミクロンサイズの金属微粒子を用いた汎用の導電性ペーストでは、狭ピッチ化に十分に対応することができない状況になってきている。   In recent years, electronic devices in which printed boards are incorporated have become highly functional and miniaturized, and accordingly, wiring circuits have been narrowed. For this reason, general-purpose conductive pastes using micron-sized metal fine particles cannot cope with the narrow pitch sufficiently.

そこで、最近では、ミクロンサイズの金属微粒子を、nmサイズ(以下、「ナノサイズ」ということがある。)の金属超微粒子に代替する試みがなされている。   Therefore, recently, an attempt has been made to replace micron-sized metal fine particles with nano-sized metal ultrafine particles (hereinafter sometimes referred to as “nano-size”).

この種の金属超微粒子の合成法としては、例えば、本件出願人による特許文献1に、カプリン酸銀塩などの脂肪酸銀塩を、ヘキサノールなどの有機溶媒に溶解または分散させ、その状態でマイクロ波を照射し、銀超微粒子を生成させる方法が開示されている。   As a method for synthesizing this kind of ultrafine metal particles, for example, in Patent Document 1 by the present applicant, a fatty acid silver salt such as capric acid silver salt is dissolved or dispersed in an organic solvent such as hexanol, and in this state, a microwave is used. Has been disclosed to produce ultrafine silver particles.

これまでに、本件出願人は、銀超微粒子などの金属超微粒子を用いて導電性ペーストを製造するにあたり、金属超微粒子を合成した後、この合成液を乾固して金属超微粒子を回収し、これを適当な有機溶媒と混合し、ペースト化する方法を検討したことがある。   Up to now, the present applicant has synthesized metal ultrafine particles in the production of conductive paste using metal ultrafine particles such as silver ultrafine particles, and then dried the synthesized liquid to recover the metal ultrafine particles. The method of mixing this with an appropriate organic solvent to form a paste has been studied.

特開2004−353038号公報JP 2004-353038 A

しかしながら、従来の導電性ペーストの製造方法は、次のような問題があることが判明した。   However, it has been found that the conventional method for producing a conductive paste has the following problems.

すなわち、従来の導電性ペーストの製造方法では、合成した金属超微粒子を乾固して回収している。そのため、ペースト化時に、金属超微粒子の凝集塊を十分に粉砕し難く、その結果、導電性ペースト中に凝集塊が多数残存してしまうといった問題があった。導電性ペースト中に凝集塊が存在すると、例えば、スクリーン印刷による回路形成時などに、これが版に目詰まりするなどの不都合が生じる。   That is, in the conventional method for producing a conductive paste, the synthesized ultrafine metal particles are collected by drying. Therefore, it is difficult to sufficiently pulverize the agglomerates of ultrafine metal particles at the time of forming a paste, and as a result, there is a problem that a large number of agglomerates remain in the conductive paste. If the agglomerates are present in the conductive paste, for example, when a circuit is formed by screen printing, a problem such as clogging of the plate occurs.

凝集塊をなくそうとして、例えば、ペースト化時に、別途、凝集塊を粉砕したり、除去したりする工程を追加することも考えられるが、このようなことを行えば、導電性ペーストの生産性が低下してしまう。また、これによって凝集塊をほぼなくすことができるとも限らない。また、一度凝集してしまった粒子をきれいに再分散させることも困難である。   In order to eliminate the agglomerates, for example, when forming a paste, it may be possible to add a process for crushing or removing the agglomerates separately. Will fall. Moreover, this does not necessarily eliminate the agglomerates. It is also difficult to redisperse the particles once agglomerated cleanly.

さらに、合成液中には、合成された金属超微粒子以外に、合成溶媒や反応残渣(上記の場合、フリーの脂肪酸等)などの不要成分も多数残存している。   Furthermore, in addition to the synthesized ultrafine metal particles, many unnecessary components such as synthesis solvents and reaction residues (in the above case, free fatty acids, etc.) remain in the synthesis solution.

この合成液を乾固して金属超微粒子を回収した場合、不要成分も一緒にペースト中に取り込まれてしまうことになる。とりわけ、反応残渣は、導電性ペーストの焼結性を低下させ、導電特性を損なうなど、導電性ペーストの品質を低下させる原因になる。   When this synthetic solution is dried and the ultrafine metal particles are collected, unnecessary components are also taken into the paste. In particular, the reaction residue causes the quality of the conductive paste to deteriorate, such as reducing the sinterability of the conductive paste and impairing the conductive properties.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、従来に比較して、凝集塊が生じ難く、不要成分の混入も抑制可能な導電性ペーストの製造方法を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a method for producing a conductive paste that is less likely to cause an agglomerate and can suppress the mixing of unnecessary components as compared with the conventional art.

上記課題を解決するため、金属塩と第1の有機溶媒とを含む溶液を加熱し、上記金属塩を還元して金属超微粒子を生成させ、上記金属超微粒子を含む合成液を得る工程と、上記合成液から、上記第1の有機溶媒と反応残渣とを除去し、未乾固状態の金属超微粒子を得る工程と、上記未乾固状態の金属超微粒子と、第2の有機溶媒とを混合し、ペースト化する工程とを有することを要旨とする。   In order to solve the above problems, a step of heating a solution containing a metal salt and a first organic solvent, reducing the metal salt to produce ultrafine metal particles, and obtaining a synthetic solution containing the ultrafine metal particles; The step of removing the first organic solvent and the reaction residue from the synthesis solution to obtain undried metal ultrafine particles, the undried metal ultrafine particles, and the second organic solvent. And a step of mixing and pasting.

ここで、上記加熱は、外部熱源またはマイクロ波照射によると良い。   Here, the heating is preferably performed by an external heat source or microwave irradiation.

また、上記金属塩は、下記の化1で表される金属塩であると良い。
(化1)
(R−A)−M
(但し、Rは炭化水素基、AはCOO、OSO、SOまたはOPO、Mは金属、nはMの価数である。)
Further, the metal salt is preferably a metal salt represented by the following chemical formula 1.
(Chemical formula 1)
(R-A) n -M
(However, R is a hydrocarbon group, A is COO, OSO 3 , SO 3 or OPO 3 , M is a metal, and n is a valence of M.)

また、上記未乾固状態の金属超微粒子を得るには、上記第1の有機溶媒と上記反応残渣とを、第3の有機溶媒に置換して除去し、さらに、この第3の有機溶媒を除去することによると良い。   In addition, in order to obtain the undried metal ultrafine particles, the first organic solvent and the reaction residue are removed by substitution with a third organic solvent, and the third organic solvent is further removed. Good to be removed.

一方、本発明に係る導電性ペーストは、上記導電性ペーストの製造方法により得られたものである。   On the other hand, the conductive paste according to the present invention is obtained by the above-described method for producing a conductive paste.

本発明に係る導電性ペーストの製造方法では、金属超微粒子を含む合成液から、合成時に使用した有機溶媒と、原料の金属塩から生じた反応残渣とを除去し、未乾固状態の金属超微粒子を得る。そして、この未乾固状態の金属超微粒子と、ペースト化用の有機溶媒とを混合し、ペースト化して導電性ペーストを製造する。   In the method for producing a conductive paste according to the present invention, the organic solvent used during the synthesis and the reaction residue generated from the metal salt of the raw material are removed from the synthesis liquid containing the ultrafine metal particles, and the undried solid ultrafine metal is obtained. Get fine particles. Then, the undried metal ultrafine particles and an organic solvent for pasting are mixed and pasted to produce a conductive paste.

そのため、凝集塊が生じ難い。また、合成用有機溶媒や反応残渣などの不要成分の少ない導電性ペーストを製造することができる。したがって、この導電性ペーストを用いれば、信頼性の高い微細回路の形成、層間接合などを行えるなどの利点がある。また、導電性ペーストの粘度安定性も向上する。   Therefore, an agglomerate hardly occurs. In addition, a conductive paste with few unnecessary components such as organic solvents for synthesis and reaction residues can be produced. Therefore, the use of this conductive paste has advantages such as the formation of highly reliable microcircuits and interlayer bonding. Also, the viscosity stability of the conductive paste is improved.

ここで、上記溶液の加熱を、とりわけ、マイクロ波照射によって行った場合には、溶液を均一に加熱できるので、比較的短時間で金属超微粒子を合成でき、導電性ペーストの生産性に優れる。   Here, in particular, when the solution is heated by microwave irradiation, the solution can be heated uniformly, so that the metal ultrafine particles can be synthesized in a relatively short time, and the productivity of the conductive paste is excellent.

また、上記金属塩が、上記化1で表される特定の金属塩である場合には、低温焼成での分解性に優れることから、より低抵抗化を図りやすい導電性ペーストが得られる。   Moreover, when the said metal salt is a specific metal salt represented by the said Chemical formula 1, since it is excellent in the decomposability | decomposability in low-temperature baking, the electrically conductive paste which can aim at a lower resistance more easily is obtained.

また、上記第1の有機溶媒と上記反応残渣とを、第3の有機溶媒に置換して除去し、さらに、この第3の有機溶媒を除去することにより上記未乾固状態の金属超微粒子を得るようにした場合には、上記第1の有機溶媒と上記反応残渣とを一層除去しやすくなる利点がある。   Further, the first organic solvent and the reaction residue are removed by substitution with a third organic solvent, and the third organic solvent is further removed to remove the undried metal ultrafine particles. When obtained, there is an advantage that the first organic solvent and the reaction residue are more easily removed.

以下、本実施形態に係る導電性ペーストの製造方法(以下、「本製法」ということがある。)について詳細に説明する。   Hereinafter, a method for producing a conductive paste according to the present embodiment (hereinafter sometimes referred to as “the present production method”) will be described in detail.

本製法は、金属超微粒子を含む合成液を調製する合成液調製工程と、未乾固状態の金属超微粒子を回収する回収工程と、ペースト化工程とを少なくとも有している。以下、各工程について順に説明する。   This production method has at least a synthetic solution preparation step for preparing a synthetic solution containing ultrafine metal particles, a recovery step for collecting undried metallic ultrafine particles, and a pasting step. Hereinafter, each process is demonstrated in order.

1.合成液調製工程
本製法において、合成液調製工程は、金属塩と第1の有機溶媒とを含む溶液を加熱し、金属塩を還元して金属超微粒子を生成させ、金属超微粒子を含む合成液を得る工程である。
1. Synthetic liquid preparation process In this manufacturing method, the synthetic liquid preparation process heats the solution containing the metal salt and the first organic solvent, reduces the metal salt to produce ultrafine metal particles, and contains the ultrafine metal particles. It is the process of obtaining.

(溶液)
上記金属塩としては、具体的には、例えば、一般式(R−A)−M(但し、Rは炭化水素基、AはCOO、OSO、SOまたはOPO、Mは金属、nは金属Mがとりうる価数と同一であり、1以上の整数である。)で表されるもの、金属アルコキシド(金属イソプロポキシド、金属エトキシドなど)、金属のアセチルアセトン錯塩(金属アセチルアセトネートなど)などの有機金属化合物を例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。
(solution)
Specific examples of the metal salt include, for example, general formula (RA) n -M (where R is a hydrocarbon group, A is COO, OSO 3 , SO 3 or OPO 3 , M is a metal, n Is the same as the valence that the metal M can take and is an integer of 1 or more), metal alkoxide (metal isopropoxide, metal ethoxide, etc.), metal acetylacetone complex (metal acetylacetonate, etc.) ) And the like. These may be contained alone or in combination of two or more.

上記金属塩のうち、とりわけ、一般式(R−A)−Mで表されるものを好適に用いることができる。この金属塩は比較的安価であるので、コスト的に有利な導電性ペーストが得られる利点がある。また、この金属塩に由来する有機成分は、比較的低温で分解しやすいので、低温焼成による低抵抗化を図りやすい導電性ペーストが得られる利点がある。 Among the above metal salts, those represented by the general formula (R-A) n -M can be preferably used. Since this metal salt is relatively inexpensive, there is an advantage that a conductive paste advantageous in cost can be obtained. In addition, since the organic component derived from the metal salt is easily decomposed at a relatively low temperature, there is an advantage that a conductive paste that can easily reduce resistance by low-temperature firing can be obtained.

上記一般式(R−A)−Mにおいて、炭化水素基Rは、アルキル基などの飽和炭化水素基であっても良いし、アルケニル基などの不飽和炭化水素基であっても良い。また、その分子構造は、直鎖状であっても良いし、分岐状であっても良い。また、炭化水素基中の一部の水素は、得られる導電性ペーストの性質などに悪影響を与えない範囲内であれば、ハロゲン元素などの他の置換基に置換されていても良い。 In the general formula (RA) n -M, the hydrocarbon group R may be a saturated hydrocarbon group such as an alkyl group or an unsaturated hydrocarbon group such as an alkenyl group. The molecular structure may be linear or branched. Further, a part of hydrogen in the hydrocarbon group may be substituted with another substituent such as a halogen element as long as it does not adversely affect the properties of the obtained conductive paste.

上記炭化水素基の炭素数は、特に限定されるものではないが、炭素数が比較的小さくなるにつれ、本製法による効果を発揮しやすくなる。   The number of carbon atoms of the hydrocarbon group is not particularly limited, but as the number of carbon atoms becomes relatively small, the effects of the present production method are easily exhibited.

すなわち、この工程では、後述するように、基本的に、金属コア表面が脂肪酸基などにより表面修飾された金属超微粒子が生成する。従来方法によれば、炭素数が小さくなるにつれ、立体障害が少なくなって隣接する粒子同士が近接しやすくなり、凝集塊がより発生しやすい状況となる。本製法によれば、炭素数が比較的小さくても、凝集塊のほとんどない導電性ペーストを得やすくなる。そのため、炭素数が比較的小さくても、本製法による効果を発揮することができる。   That is, in this step, as will be described later, basically, ultrafine metal particles whose surface is modified with a fatty acid group or the like are generated. According to the conventional method, as the number of carbon atoms decreases, the steric hindrance decreases, and adjacent particles are likely to approach each other, and agglomerates are more likely to occur. According to this production method, even when the number of carbon atoms is relatively small, it becomes easy to obtain a conductive paste having almost no aggregate. Therefore, even if carbon number is comparatively small, the effect by this manufacturing method can be exhibited.

一方、炭素数が比較的大きくなると、導電性ペーストの低温焼結性が低下し、導通信頼性も低下しやすくなるなどの傾向が見られる。   On the other hand, when carbon number becomes comparatively large, the low-temperature sinterability of an electrically conductive paste falls and the tendency for conduction | electrical_connection reliability to fall easily is seen.

これらを勘案すると、上記炭化水素基の炭素数の下限値としては、好ましくは、1以上、より好ましくは、3以上、さらにより好ましくは、5以上である。上記炭化水素基の炭素数の上限値としては、好ましくは、17以下、より好ましくは、15以下、さらにより好ましくは、11以下である。   Taking these into account, the lower limit of the carbon number of the hydrocarbon group is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, and even more preferably 5 or more. The upper limit of the carbon number of the hydrocarbon group is preferably 17 or less, more preferably 15 or less, and even more preferably 11 or less.

上記一般式(R−A)−Mにおいて、Aには、とりわけ、COOを好適に用いることができる。 In the general formula (R-A) n -M, CO can be particularly preferably used as A.

上記一般式(R−A)−Mにおいて、Mは、基本的には、何れの種類の金属であっても良く、導電性ペーストの用途などに応じて適宜選択することができる。金属Mとしては、具体的には、例えば、銀、金、白金属(白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウム)、銅、ニッケル、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、インジウム、コバルト、亜鉛、カドミウム、アルミニウム、ガリウム、鉄、クロム、マンガン、イットリウムなど、これらの2種以上の組み合わせなどを例示することができる。 In the general formula (RA) n -M, M may basically be any kind of metal, and can be appropriately selected according to the use of the conductive paste. Specific examples of the metal M include, for example, silver, gold, white metal (platinum, palladium, iridium, rhodium, ruthenium, osmium), copper, nickel, zirconium, niobium, molybdenum, calcium, strontium, barium, indium, Examples include cobalt, zinc, cadmium, aluminum, gallium, iron, chromium, manganese, yttrium, and combinations of two or more thereof.

これらのうち、金属Mとしては、低抵抗、安全性、還元性などの観点から、とりわけ銀、金、白金属、銅、ニッケル、これらの2種以上の組み合わせなどを好適なものとして例示することができる。   Among these, as the metal M, silver, gold, white metal, copper, nickel, a combination of two or more of these, etc. are particularly preferable from the viewpoint of low resistance, safety, reducibility, etc. Can do.

このような金属塩としては、具体的には、脂肪酸金属塩、アルキルスルホン酸金属塩などを好適なものとして例示することができる。   Specific examples of such metal salts include fatty acid metal salts and alkylsulfonic acid metal salts.

上記第1の有機溶媒は、合成用の有機溶媒である。このような有機溶媒としては、上記金属塩を溶解または分散させうるものであれば、何れの種類の有機溶媒であっても用いることができる。   The first organic solvent is an organic solvent for synthesis. As such an organic solvent, any organic solvent can be used as long as it can dissolve or disperse the metal salt.

第1の有機溶媒としては、上記金属塩に対して還元性を示す還元性有機溶媒を好適に用いることができる。また、還元性有機溶媒は、水に対する溶解性が比較的低いものが良い。   As the first organic solvent, a reducing organic solvent exhibiting reducibility with respect to the metal salt can be suitably used. Further, the reducing organic solvent preferably has a relatively low solubility in water.

このような還元性有機溶媒としては、具体的には、例えば、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノールなどの炭素数3以上の一価アルコールなどを例示することができる。とりわけ、炭素数3〜30、好ましくは炭素数3〜20、より好ましくは炭素数3〜10、最も好ましくは炭素数4〜8の一価アルコールなどを好適なものとして例示することができる。これらは1種または2種以上含まれていても良い。   Specific examples of such a reducing organic solvent include monohydric alcohols having 3 or more carbon atoms such as propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, and octanol. In particular, a monohydric alcohol having 3 to 30 carbon atoms, preferably 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms, and most preferably 4 to 8 carbon atoms, and the like can be exemplified as suitable ones. These may be contained alone or in combination of two or more.

炭素数が上記範囲内にある場合には、上記金属塩が急激に還元され難く、適度の還元力で金属塩を還元させやすいからである。   This is because when the carbon number is within the above range, the metal salt is not easily reduced rapidly, and the metal salt can be easily reduced with an appropriate reducing power.

なお、上記金属塩が第1の有機溶媒中に溶解するか分散するかについては、選択した金属塩と第1の有機溶媒との組み合わせ、第1の有機溶媒に対する金属塩の量などによる。また、第1の有機溶媒の選択に当たっては、後述する加熱温度を考慮し、その加熱温度よりも沸点が高く、加熱時に揮発し難いものを選択するのが好ましい。   Note that whether the metal salt is dissolved or dispersed in the first organic solvent depends on the combination of the selected metal salt and the first organic solvent, the amount of the metal salt relative to the first organic solvent, and the like. In selecting the first organic solvent, it is preferable to select a solvent that has a boiling point higher than the heating temperature and hardly volatilizes during heating in consideration of the heating temperature described later.

上記溶液中には、上記金属塩、第1の有機溶媒以外にも、金属超微粒子の生成などに悪影響を及ぼさない範囲内で、例えば、触媒や還元剤などの添加剤が1種または2種以上適宜添加されていても良い。   In the solution, in addition to the metal salt and the first organic solvent, for example, one or two additives such as a catalyst and a reducing agent may be used within a range that does not adversely affect the formation of metal ultrafine particles. These may be added as appropriate.

(溶液の加熱)
本工程では、上記溶液を加熱することにより金属塩を還元する。ここで、加熱手法は、基本的には、溶液中の金属塩を還元させられる熱を与えられれば、特に限定されるものではない。加熱手法としては、具体的には、例えば、ヒーターなどによる電熱、熱せられたオイル、水などの熱媒体、バーナ火炎、熱風などの外部熱源により溶液を熱伝導などで加熱する方法、マイクロ波などの電磁波、高周波、レーザー光、電子線などを照射することにより溶液を加熱する方法などを例示することができる。なお、これら加熱手法は、単独で用いても良いし、2以上の手法を組み合わせて用いても良い。
(Heating the solution)
In this step, the metal salt is reduced by heating the solution. Here, the heating method is not particularly limited as long as it is given heat that can reduce the metal salt in the solution. Specific examples of the heating method include, for example, electric heating using a heater, heated oil, a heat medium such as water, a method of heating a solution by an external heat source such as a burner flame, hot air, etc., microwave, etc. Examples thereof include a method of heating a solution by irradiating an electromagnetic wave, a high frequency, a laser beam, an electron beam or the like. These heating methods may be used alone or in combination of two or more methods.

この際、溶液の加熱温度は、用いた金属塩の種類などにより異なる。また、上記加熱は、生成した金属超微粒子を酸化させないため、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気に溶液を存在させた状態で行うと良い。   At this time, the heating temperature of the solution varies depending on the type of metal salt used. In addition, the heating is preferably performed in a state where the solution is present in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon in order not to oxidize the generated ultrafine metal particles.

上記加熱手法のうち、好ましくは、外部熱源により溶液を加熱する方法、マイクロ波を照射することにより溶液を加熱する方法を用いると良い。より好ましくは、後者を用いると良い。溶液を均一に加熱することができ、短時間で金属超微粒子を合成できるなどの利点があるからである。   Of the above heating methods, a method of heating the solution with an external heat source or a method of heating the solution by irradiating microwaves is preferably used. More preferably, the latter is used. This is because there is an advantage that the solution can be heated uniformly and the metal ultrafine particles can be synthesized in a short time.

これらにより溶液の加熱を行うには、具体的には、例えば、以下のようにすれば良い。   In order to heat the solution using these, specifically, for example, the following may be performed.

前者の場合、溶液中の金属塩を還元させることが可能な温度に加熱された液体(例えば、オイル、水など)などの熱媒体に、溶液を入れた反応容器を接触させるもしくは近接させる、ヒーターやバーナ火炎などにより反応容器を加熱するなどすれば良い。   In the former case, a heater in which the reaction vessel containing the solution is brought into contact with or in proximity to a heating medium such as a liquid (eg, oil, water, etc.) heated to a temperature capable of reducing the metal salt in the solution. The reaction vessel may be heated by a burner flame or the like.

一方、後者の場合、用いるマイクロ波は、特に限定されるものでない。具体的には、例えば、通常、日本国内で多用されている、周波数2.45GHzのマイクロ波を利用すれば良い。以下、マイクロ波の照射条件については、この周波数2.45GHzのマイクロ波を選択した場合を前提としたものであるが、他のマイクロ波を選択した場合には、これに準じて適宜照射条件を変更すれば良い。   On the other hand, in the latter case, the microwave used is not particularly limited. Specifically, for example, a microwave with a frequency of 2.45 GHz, which is usually used frequently in Japan, may be used. Hereinafter, the microwave irradiation conditions are based on the assumption that a microwave with a frequency of 2.45 GHz is selected. However, when other microwaves are selected, the irradiation conditions are appropriately set according to this. Change it.

マイクロ波の照射強度は、一般に、溶液中の金属塩、第1の有機溶媒の種類などにより異なる。マイクロ波の照射強度が過度に小さくなると、加熱時間が長くなるなどの傾向が見られる。一方、マイクロ波の照射強度が過度に大きくなると、加熱時間が極端に短くなり、生成する金属超微粒子の粒径分布を制御しにくくなるなどの傾向が見られる。したがって、マイクロ波の照射強度の選択には、これらに留意すると良い。   In general, the irradiation intensity of microwaves varies depending on the metal salt in the solution, the type of the first organic solvent, and the like. When the irradiation intensity of the microwave is excessively decreased, a tendency such as a longer heating time is observed. On the other hand, when the irradiation intensity of the microwave is excessively increased, the heating time is extremely shortened, and it tends to be difficult to control the particle size distribution of the generated ultrafine metal particles. Therefore, these should be taken into account when selecting the microwave irradiation intensity.

上記マイクロ波の照射強度の上限値としては、好ましくは、24W/cm以下、より好ましくは、18W/cm以下、さらにより好ましくは、12W/cm以下である。 The upper limit value of the microwave irradiation intensity is preferably 24 W / cm 3 or less, more preferably 18 W / cm 3 or less, and even more preferably 12 W / cm 3 or less.

一方、上記マイクロ波の照射強度の下限値としては、好ましくは、1W/cm以上、より好ましくは、2W/cm以上、さらにより好ましくは、3W/cm以上である。なお、これらマイクロ波の照射強度は、マイクロ波出力(W)/反応溶液の体積(cm)で表される値である。 On the other hand, the lower limit value of the microwave irradiation intensity is preferably 1 W / cm 3 or more, more preferably 2 W / cm 3 or more, and even more preferably 3 W / cm 3 or more. The irradiation intensity of these microwaves is a value represented by microwave output (W) / volume of reaction solution (cm 3 ).

また、上述した何れの加熱手法とも、加熱時間は、一般に、溶液中の金属塩、第1の有機溶媒の種類、反応温度などにより異なる。加熱時間が過度に短くなると、十分に金属超微粒子が生成しないなどの傾向が見られる。一方、加熱時間が過度に長くなると、生産性が低下したり、副反応物の生成によって金属超微粒子の純度が低下したりするなどの傾向が見られる。したがって、加熱時間の選択には、これらに留意すると良い。   In any of the heating methods described above, the heating time generally varies depending on the metal salt in the solution, the type of the first organic solvent, the reaction temperature, and the like. When the heating time is excessively short, there is a tendency that metal ultrafine particles are not sufficiently generated. On the other hand, when the heating time is excessively long, productivity tends to decrease, and the purity of the metal ultrafine particles decreases due to the formation of by-products. Therefore, these should be noted in selecting the heating time.

上記加熱時間の上限値としては、好ましくは、2時間以下、より好ましくは、1.5時間以下、さらにより好ましくは、1時間以下である。   The upper limit of the heating time is preferably 2 hours or less, more preferably 1.5 hours or less, and even more preferably 1 hour or less.

一方、上記加熱時間の下限値としては、好ましくは、30秒以上、より好ましくは、1分以上、さらにより好ましくは、2分以上である。但し、マイクロ波加熱の場合には、反応温度までの昇温時間を、外部加熱に比較して短時間で行うことができる。   On the other hand, the lower limit of the heating time is preferably 30 seconds or longer, more preferably 1 minute or longer, and even more preferably 2 minutes or longer. However, in the case of microwave heating, the temperature raising time to the reaction temperature can be performed in a shorter time than external heating.

また、上述した何れの加熱手法とも、反応時の溶液の温度(反応温度)は、ほぼ一定となるように制御されていると良い。   In any of the heating methods described above, the temperature of the solution during the reaction (reaction temperature) is preferably controlled so as to be substantially constant.

上記反応温度の上限値としては、好ましくは、300℃以下、より好ましくは、275℃以下、さらにより好ましくは、250℃以下である。一方、上記反応温度の下限値としては、好ましくは、80℃以上、より好ましくは、100℃以上、さらにより好ましくは、120℃以上である。   The upper limit of the reaction temperature is preferably 300 ° C. or lower, more preferably 275 ° C. or lower, and even more preferably 250 ° C. or lower. On the other hand, the lower limit of the reaction temperature is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and even more preferably 120 ° C. or higher.

なお、マイクロ波加熱を行う場合、反応温度の制御は、例えば、上記溶液中に温度センサーを漬け、溶液の温度が一定になるように、マイクロ波の照射のオン/オフを繰り返すことなどにより行うことができる。また、マイクロ波の照射は、公知のマイクロ波照射装置を用いて行えば良い。   In the case of performing microwave heating, the reaction temperature is controlled by, for example, immersing a temperature sensor in the solution and repeating on / off of microwave irradiation so that the temperature of the solution becomes constant. be able to. Further, microwave irradiation may be performed using a known microwave irradiation apparatus.

(金属超微粒子)
本工程において、上記溶液の加熱により、溶液中の金属塩が還元されて生成する金属超微粒子は、基本的には、次のような構造を有している。
(Ultrafine metal particles)
In this step, the metal ultrafine particles produced by reducing the metal salt in the solution by heating the solution basically have the following structure.

すなわち、上記金属超微粒子は、上記金属塩に由来する金属成分から主として構成された金属コアと、上記金属塩に由来し、金属コアの周囲を覆う有機成分(以下、「被覆有機成分」ということがある。)とを有している。例えば、一般式(R−A)−Mで示される金属塩を用いた場合、金属コアは、銀などの金属Mであり、上記被覆有機成分は、脂肪酸基などのR−A−基である。 That is, the metal ultrafine particles include a metal core mainly composed of a metal component derived from the metal salt, and an organic component derived from the metal salt and covering the periphery of the metal core (hereinafter referred to as “coating organic component”). There is.) For example, when a metal salt represented by the general formula (RA) n -M is used, the metal core is a metal M such as silver, and the covering organic component is an RA group such as a fatty acid group. is there.

上記金属コアは、1種または2種以上の金属塩に由来する1種または2種以上の金属成分から構成されていて良い。また、上記被覆有機成分は、1種または2種以上の金属塩に由来する1種または2種以上の有機成分から構成されていて良い。   The metal core may be composed of one or more metal components derived from one or more metal salts. Moreover, the said covering organic component may be comprised from 1 type, or 2 or more types of organic components originating in 1 type or 2 or more types of metal salt.

なお、上記金属超微粒子のうち、金属コアの種類については、例えば、X線回折法などにより確認することができる。また、被覆有機成分の種類については、例えば、NMR(核磁気共鳴法)、GC/MS(ガスクロマトグラフィ/質量分析法)などにより確認することができる。   Among the ultrafine metal particles, the type of the metal core can be confirmed by, for example, an X-ray diffraction method. Moreover, about the kind of coating | coated organic component, it can confirm by NMR (nuclear magnetic resonance method), GC / MS (gas chromatography / mass spectrometry) etc., for example.

上記金属コアの平均粒径は、例えば、加熱温度や加熱時間を適宜選択することにより制御することができる。上記金属コアの平均粒径の上限値としては、好ましくは、100nm以下、より好ましくは、75nm以下、さらにより好ましくは、50nm以下である。   The average particle diameter of the metal core can be controlled, for example, by appropriately selecting the heating temperature and the heating time. The upper limit value of the average particle diameter of the metal core is preferably 100 nm or less, more preferably 75 nm or less, and even more preferably 50 nm or less.

一方、上記金属コアの平均粒径の下限値としては、好ましくは、1nm以上、より好ましくは、3nm以上、さらにより好ましくは、5nm以上である。   On the other hand, the lower limit of the average particle diameter of the metal core is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, and even more preferably 5 nm or more.

なお、上記平均粒径は、金属超微粒子の透過型電子顕微鏡(TEM)写真から、金属超微粒子(もっとも、TEMでは金属コアしか観察できない)を任意に100個抽出して粒子径を測定し、その直径の小さい方から順に数えた場合に、粒子数が50%となるときの粒径(D50)の値である。   In addition, the average particle diameter is obtained by arbitrarily extracting 100 ultrafine metal particles (although only a metal core can be observed with a TEM) from a transmission electron microscope (TEM) photograph of ultrafine metal particles, and measuring the particle diameter. This is the value of the particle size (D50) when the number of particles is 50% when counted in order from the smallest diameter.

2.回収工程
本工程は、上記調製した合成液から、第1の有機溶媒と反応残渣とを除去し、未乾固状態の金属超微粒子を回収する工程である。
2. Recovery Step This step is a step in which the first organic solvent and reaction residue are removed from the prepared synthetic solution to recover the undried metal ultrafine particles.

ここで、上記調製した合成液中には、生成した金属超微粒子以外にも、合成時に使用した有機溶媒や、原料である金属塩に由来する反応残渣(上記金属塩に由来し、上記金属超微粒子の合成後に残存する脂肪酸基などの残存有機成分など)などが存在している。   Here, in the prepared synthetic solution, in addition to the generated ultrafine metal particles, the organic solvent used at the time of synthesis and the reaction residue derived from the metal salt as the raw material (derived from the metal salt, Residual organic components such as fatty acid groups remaining after the synthesis of the fine particles).

これら有機溶媒や反応残渣は、導電性ペーストの品質や性状の安定性などの観点から、導電性ペースト中に実質的に残存していないことが好ましい。   It is preferable that these organic solvents and reaction residues do not substantially remain in the conductive paste from the viewpoint of the quality of the conductive paste and the stability of properties.

特に、反応残渣がペースト中に多量に含まれていると、導電性ペーストの焼結性が低下し、導通性能も低下しやすくなる。   In particular, when a large amount of reaction residue is contained in the paste, the sinterability of the conductive paste is lowered and the conduction performance is likely to be lowered.

この点、従来製法のように、合成液を加熱乾固し、金属超微粒子を回収すると、反応残渣など不要成分は、そのほとんどが金属超微粒子とともに回収されてしまう。これに対し、本製法の回収工程では、反応残渣などの不要成分を金属超微粒子から除去して、金属超微粒子を回収する。   In this regard, when the synthetic solution is heated to dryness and the metal ultrafine particles are recovered as in the conventional production method, most of the unnecessary components such as reaction residues are recovered together with the metal ultrafine particles. On the other hand, in the recovery step of this production method, unnecessary components such as reaction residues are removed from the ultrafine metal particles, and the ultrafine metal particles are recovered.

この工程では、反応残渣などの不要成分を金属超微粒子から実質的に除去することができれば良い。完全な除去は困難だからである。   In this step, it is sufficient that unnecessary components such as reaction residues can be substantially removed from the ultrafine metal particles. This is because complete removal is difficult.

さらに、この工程では、金属超微粒子を未乾固状態で回収する。後のペースト化工程におけるペースト化時に、凝集塊を生じ難くし、金属超微粒子の分散性を向上させるためである。   Further, in this step, the ultrafine metal particles are recovered in an undried state. This is to make it difficult for agglomerates to occur during pasting in the pasting step and improve the dispersibility of the ultrafine metal particles.

上記回収方法としては、具体的には、例えば、上記合成液を静置したり、遠心分離するなどして、合成液中の金属超微粒子を沈澱させた後、上澄み液を除去する方法などを例示することができる。   Specifically, the recovery method includes, for example, a method in which the synthetic solution is allowed to stand or centrifuged to precipitate the ultrafine metal particles in the synthetic solution, and then the supernatant is removed. It can be illustrated.

この際、上記沈澱物に、第1の有機溶媒と異なる種類の第3の有機溶媒を加えて再度撹拌し、金属超微粒子を再沈澱させた後、上澄み液を除去するなどしても良い。なお、この操作は複数回繰り返し行っても良い。   At this time, a third organic solvent of a type different from the first organic solvent may be added to the precipitate and stirred again to reprecipitate the ultrafine metal particles, and then the supernatant may be removed. This operation may be repeated a plurality of times.

上記のようにして、第1の有機溶媒と反応残渣とを、第3の有機溶媒に置換して除去し、さらに、この第3の有機溶媒を除去することにより、未乾固状態の金属超微粒子を回収した場合には、第1の有機溶媒と反応残渣とを一層除去しやすくなるので好ましい。   As described above, the first organic solvent and the reaction residue are removed by substitution with the third organic solvent. Further, by removing the third organic solvent, the undried state of the metal When the fine particles are collected, the first organic solvent and the reaction residue are more easily removed, which is preferable.

この場合、第3の有機溶媒は、主として、洗浄用の有機溶媒として機能するものである。第3の有機溶媒としては、後述するペースト化工程で使用する第2の有機溶媒よりも沸点が低いものを用いると良い。ペースト化工程において、エバポレータなどの減圧濃縮装置を利用すれば、回収工程で除去しきれなかった第3の有機溶媒を、沸点差を利用して、比較的容易に除去することができるからである。また、第3の有機溶媒は、上記金属超微粒子との相溶性が低い貧溶媒であると良い。   In this case, the third organic solvent mainly functions as an organic solvent for cleaning. As the third organic solvent, a solvent having a boiling point lower than that of the second organic solvent used in the pasting step described later may be used. This is because if a vacuum concentrator such as an evaporator is used in the pasting step, the third organic solvent that could not be removed in the recovery step can be removed relatively easily using the difference in boiling points. . Further, the third organic solvent is preferably a poor solvent having low compatibility with the ultrafine metal particles.

上記第3の有機溶媒としては、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、2−プロパノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテルなどのエーテル類、ヘキサン、ペンタン、ヘプタンなどの炭化水素類などを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the third organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol and 2-propanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran (THF) and diethyl ether, Examples thereof include hydrocarbons such as hexane, pentane and heptane. These may be used alone or in combination.

3.ペースト化工程
本工程では、上記回収工程で回収された未乾固状態の金属超微粒子と、第2の有機溶媒とを混合、ペースト化して、導電性ペーストを得る。
3. Pasting Step In this step, the undried metal ultrafine particles collected in the collecting step and the second organic solvent are mixed and pasted to obtain a conductive paste.

ここで、上記第2の有機溶媒は、ペースト化用の有機溶媒である。未乾固状態の金属超微粒子を分散させやすく、ペースト状態を維持できるものであれば、特に限定されるものではない。得られた導電性ペーストの用途などを考慮して選択することができる。具体的には、導電性ペーストの使用温度で容易に揮発し難く、ペーストの粘度を安定に維持しやすいなどの観点から、使用温度より高い沸点を有する有機溶媒を好適に選択することができる。   Here, the second organic solvent is an organic solvent for pasting. It is not particularly limited as long as it can easily disperse the undried metal ultrafine particles and can maintain the paste state. It can be selected in consideration of the use of the obtained conductive paste. Specifically, an organic solvent having a boiling point higher than the use temperature can be suitably selected from the viewpoint that it is difficult to volatilize easily at the use temperature of the conductive paste and the viscosity of the paste is easily maintained stably.

第2の有機溶媒としては、具体的には、例えば、テルピネオール、ジヒドロテルピネオール、デカノール、ヘキサノール、メタノール、エタノール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジオール類、グリコール類、ポリオール類などのアルコール類、ジメチルホルムアミド(DMF)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)などのアミン類、ヘキサン、トルエン、キシレン、オクタン、デカン、ウンデカン、テトラデカンなどの炭化水素類、メチルエチルケトン(MEK)、アセトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン(THF)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、酢酸エチル、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテートなどのエステル類などを例示することができる。これらは1種または2種以上混合されていても良い。   Specific examples of the second organic solvent include terpineol, dihydroterpineol, decanol, hexanol, methanol, ethanol, ethyl carbitol, butyl carbitol, diols, glycols, polyols and other alcohols, dimethyl Amines such as formamide (DMF) and N-methyl-2-pyrrolidone (NMP), hydrocarbons such as hexane, toluene, xylene, octane, decane, undecane and tetradecane, ketones such as methyl ethyl ketone (MEK) and acetone, Examples include ethers such as tetrahydrofuran (THF) and dipropylene glycol monomethyl ether, and esters such as ethyl acetate, ethyl carbitol acetate, and butyl carbitol acetate. These may be used alone or in combination.

上記第2の有機溶媒は、沸点の異なる有機溶媒を2種以上組み合わせた混合有機溶媒からなっていても良い。この場合、導電性ペーストの塗布膜の乾燥時に、相対的に沸点の低い有機溶媒が先に揮発するが、相対的に沸点の高い有機溶媒が残る。そのため、有機溶媒の揮発に起因する体積収縮時の応力が緩和され、亀裂の発生を抑制しやすくなるなどの利点があるからである。   The second organic solvent may be a mixed organic solvent in which two or more organic solvents having different boiling points are combined. In this case, when the conductive paste coating film is dried, the organic solvent having a relatively low boiling point volatilizes first, but the organic solvent having a relatively high boiling point remains. For this reason, the stress at the time of volume shrinkage due to the volatilization of the organic solvent is relieved, and there are advantages such as easy generation of cracks.

また、上記金属超微粒子の混合、ペースト化の手段は、特に限定されるものではない。上記手段としては、具体的には、例えば、超音波処理、ビーズミル、超臨界状態による分散処理、プロペラ型、乳鉢などのすり潰し式、回転型(自転・公転による回転)、振動型などの撹拌機、3本ロールなどの各種手段を例示することができる。これらは1種または2種以上併用しても構わない。   The means for mixing and pasting the metal ultrafine particles is not particularly limited. Specific examples of the above-mentioned means include, for example, ultrasonic treatment, bead mill, dispersion processing in a supercritical state, propeller type, grinding type such as a mortar, rotary type (rotation by rotation / revolution), vibration type, etc. Various means such as three rolls can be exemplified. These may be used alone or in combination of two or more.

また、回収工程において、第3の有機溶媒を使用した場合には、本工程において、例えば、エバポレータ、これと同等の機能を有する装置などを用い、上記第3の有機溶媒を実質的に除去するなどして、導電性ペーストの減圧濃縮処理を行っても良い。また、各種の脱泡装置を用い、脱泡処理なども必要に応じて行っても良い。   In addition, when a third organic solvent is used in the recovery step, the third organic solvent is substantially removed in this step using, for example, an evaporator or an apparatus having a function equivalent to this. For example, the conductive paste may be subjected to vacuum concentration treatment. Moreover, you may perform a defoaming process etc. as needed using various defoaming apparatuses.

また、導電性ペースト中に占める金属成分の含有量は、特に限定されることなく、用途などを考慮して適宜調節することができる。   In addition, the content of the metal component in the conductive paste is not particularly limited, and can be appropriately adjusted in consideration of the application.

上記金属成分の含有量の上限値としては、好ましくは、95重量%以下、より好ましくは、90重量%以下である。一方、上記金属成分の含有量の下限値としては、好ましくは、5重量%以上、より好ましくは、10重量%以上、さらにより好ましくは、30重量%以上である。   The upper limit of the content of the metal component is preferably 95% by weight or less, and more preferably 90% by weight or less. On the other hand, the lower limit of the content of the metal component is preferably 5% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, and still more preferably 30% by weight or more.

なお、上記混合時に、金属超微粒子の分散安定性を向上させる分散剤などの各種添加剤を1種または2種以上添加しても良い。   In addition, you may add 1 type, or 2 or more types of various additives, such as a dispersing agent which improves the dispersion stability of a metal ultrafine particle, at the time of the said mixing.

以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples.

1.実施例および比較例に係る導電性ペーストの作製
(実施例1)
<銀超微粒子を含む合成液の調製>
ヘキサン酸銀塩(C11COOAg)5mmolを、1−ヘキサノール30ml中に混合し、その後、超音波処理を行い、分散溶液を作製した。
1. Production of conductive paste according to examples and comparative examples (Example 1)
<Preparation of synthetic solution containing ultrafine silver particles>
Hexane silver (C 5 H 11 COOAg) 5mmol , were mixed in 1-hexanol 30 ml, then subjected to ultrasonic treatment, to prepare a dispersion solution.

次いで、マイクロ波照射装置(マイクロ電子(株)製、2,450MHzマイクロ波加熱装置「MMG−213VP」)を用いて、窒素雰囲気下中、6W/cmの照射強度でマイクロ波(周波数2.45GHz)を分散溶液に照射し、当該溶液の温度を157℃(反応温度)に制御しながら、11分間加熱し、合成液を得た。 Next, using a microwave irradiation apparatus (manufactured by Micro Electronics Co., Ltd., 2,450 MHz microwave heating apparatus “MMG-213VP”), a microwave (frequency 2.) is applied at an irradiation intensity of 6 W / cm 3 in a nitrogen atmosphere. (45 GHz) was irradiated to the dispersion solution and heated for 11 minutes while controlling the temperature of the solution at 157 ° C. (reaction temperature) to obtain a synthetic solution.

なお、反応温度の制御は、溶液中に温度センサーを漬け、溶液の温度が一定になるように、マイクロ波照射のオン/オフを繰り返すことにより行った。   The reaction temperature was controlled by immersing a temperature sensor in the solution and repeating on / off of microwave irradiation so that the temperature of the solution became constant.

ここで、合成液中に生成した生成物を特定するため、以下の確認試験を行った。なお、以下の確認試験は、単に生成物を特定するためのものであり、本発明に係る製造方法の一部を構成するものではない。   Here, in order to identify the product produced | generated in the synthetic | combination liquid, the following confirmation tests were done. In addition, the following confirmation tests are only for specifying a product, and do not constitute a part of the production method according to the present invention.

先ず、上記合成液をヘキサンに分散し、それをカーボンメッシュに滴下・乾燥して得た試料を、透過型電子顕微鏡((株)日立ハイテクノロジーズ製、「日立透過電子顕微鏡H−9000」)で観察した。その結果、ナノサイズの超微粒子が生成していた。   First, a sample obtained by dispersing the above synthetic solution in hexane and dropping and drying it on a carbon mesh was obtained with a transmission electron microscope (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, “Hitachi Transmission Electron Microscope H-9000”). Observed. As a result, nano-sized ultrafine particles were generated.

次に、上記合成液を遠心分離器にかけ、分離物をメタノールで洗浄し、回収した超微粒子を用いてX線回折を行った。その結果、銀が生成していた。したがって、上記超微粒子のコアを構成する金属は、銀であることが分かった。   Next, the synthesis solution was centrifuged, the separated product was washed with methanol, and X-ray diffraction was performed using the collected ultrafine particles. As a result, silver was produced. Therefore, it was found that the metal constituting the ultrafine particle core was silver.

次いで、回収した銀超微粒子について、GC/MS(ガスクロマトグラフィ/質量分析)分析を実施した。その結果、ヘキサン酸基が検出された。したがって、銀コアの周囲がヘキサン酸基により被覆されていることが分かった。   Next, GC / MS (gas chromatography / mass spectrometry) analysis was performed on the collected silver ultrafine particles. As a result, hexanoic acid groups were detected. Therefore, it was found that the periphery of the silver core was covered with hexanoic acid groups.

以上の確認試験の結果から、上記合成液中には、銀コア表面がヘキサン酸基で表面修飾された銀超微粒子(銀コアの平均粒径:35nm)が含まれていることが確認された。   From the results of the above confirmation test, it was confirmed that the above-mentioned synthetic solution contains silver ultrafine particles (silver core average particle diameter: 35 nm) whose surface is modified with hexanoic acid groups. .

<銀超微粒子の未乾固回収>
次に、上記合成液を6時間静置し、銀超微粒子を沈澱させた後、上澄み液を除去した。
<Undried collection of ultra-fine silver particles>
Next, the synthetic solution was allowed to stand for 6 hours to precipitate silver ultrafine particles, and then the supernatant was removed.

さらに、上記上澄み液を除去した後の沈澱物に、洗浄用の有機溶媒としてメタノール30mlを加えて撹拌し、1時間静置して銀超微粒子を沈澱させた後、上澄み液を除去した。その後、同様の操作を2回繰り返した。   Furthermore, 30 ml of methanol as an organic solvent for washing was added to the precipitate after the supernatant was removed, and the mixture was stirred and allowed to stand for 1 hour to precipitate ultrafine silver particles, and then the supernatant was removed. Thereafter, the same operation was repeated twice.

これにより、合成に使用したヘキサノール、反応残渣であるヘキサン酸基が実質的に除去された未乾固状態の銀超微粒子を得た。   As a result, hexanol used for the synthesis and hexanoic acid groups as the reaction residue were substantially removed to obtain an undried silver ultrafine particle.

<ペースト化>
次に、上記未乾固状態の銀超微粒子9.00gと、ペースト化用の有機溶媒としてのテルピネオール5.10gと、分散剤(和光純薬工業株製、「オクチルアミン」)0.54gとを、ロータリーエバポレータのナス型フラスコ中に入れた。なお、上記エバポレーターのウォーターバスの水温は30℃〜40℃に設定した。
<Paste>
Next, 9.00 g of the undried silver ultrafine particles, 5.10 g of terpineol as an organic solvent for pasting, 0.54 g of a dispersant (“Octylamine” manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), Was placed in an eggplant-shaped flask of a rotary evaporator. In addition, the water temperature of the water bath of the said evaporator was set to 30 to 40 degreeC.

次いで、上記エバポレータによる減圧濃縮により、上記未乾固状態の銀超微粒子に付着しているメタノールを除去した。   Next, methanol attached to the undried silver ultrafine particles was removed by vacuum concentration using the evaporator.

次いで、得られた混合物(銀濃度は60wt%である。)をガラス管に入れた状態で、超音波洗浄器(40℃)を用いて30分間超音波処理し、ペースト化した。これにより、実施例1に係る導電性ペーストを得た。   Next, the obtained mixture (silver concentration is 60 wt%) was sonicated for 30 minutes using an ultrasonic cleaner (40 ° C.) in a glass tube to form a paste. As a result, a conductive paste according to Example 1 was obtained.

(実施例2)
上記実施例1に係る導電性ペーストの作製時に、ヘキサン酸銀塩(C11COOAg)に代えて、ラウリン酸銀塩(C1123COOAg)を用いた点以外は同様にして、実施例2に係る導電性ペーストを得た。
(Example 2)
When the conductive paste according to Example 1 was prepared, the same procedure was performed except that silver laurate (C 11 H 23 COOAg) was used instead of silver hexanoate (C 5 H 11 COOAg). A conductive paste according to Example 2 was obtained.

(実施例3)
上記実施例1に係る導電性ペーストの作製時に、ヘキサン酸銀塩(C11COOAg)に代えて、オレイン酸銀塩(C1733COOAg)を用いた点以外は同様にして、実施例3に係る導電性ペーストを得た。
(Example 3)
When the conductive paste according to Example 1 was prepared, the same procedure was carried out except that silver oleate (C 17 H 33 COOAg) was used instead of silver hexanoate (C 5 H 11 COOAg). A conductive paste according to Example 3 was obtained.

(実施例4)
上記実施例1に係る導電性ペーストの作製時に、ヘキサン酸銀塩(C11COOAg)に代えて、プロパン酸銀塩(CCOOAg)を用いた点以外は同様にして、実施例4に係る導電性ペーストを得た。
Example 4
When the conductive paste according to Example 1 was prepared, the same procedure was performed except that silver propanoate (C 2 H 5 COOAg) was used instead of silver hexanoate (C 5 H 11 COOAg). A conductive paste according to Example 4 was obtained.

(比較例1)
上記実施例1に係る導電性ペーストの作製と同様にして、合成液を得た。次いで、この合成液にメタノールを投入し、3000rpmで10分間、遠心分離処理を行い、銀超微粒子を沈澱させた後、上澄み液を除去した。なお、この操作は、2回繰り返し実施した。
(Comparative Example 1)
A synthetic solution was obtained in the same manner as in the preparation of the conductive paste according to Example 1. Next, methanol was added to this synthesis solution, and centrifugation was performed at 3000 rpm for 10 minutes to precipitate silver ultrafine particles, and then the supernatant was removed. This operation was repeated twice.

次いで、得られた沈澱物を減圧乾燥(常温で180分間)することにより、乾固状態の銀超微粒子を得た。   Subsequently, the obtained precipitate was dried under reduced pressure (at room temperature for 180 minutes) to obtain dry silver ultrafine particles.

次いで、この乾固状態の銀超微粒子9.00gと、ペースト化用の有機溶媒としてのテルピネオール5.10gと、分散剤0.54gとを乳鉢上で1時間磨り潰しながら混合した後、この混合物(銀濃度は60wt%)を実施例1と同条件で超音波処理し、ペースト化した。これにより比較例1に係る導電性ペーストを得た。   Next, 9.00 g of the dried silver ultrafine particles, 5.10 g of terpineol as an organic solvent for pasting, and 0.54 g of a dispersant were mixed while grinding on a mortar for 1 hour, and then the mixture. (Silver concentration is 60 wt%) was subjected to ultrasonic treatment under the same conditions as in Example 1 to form a paste. This obtained the electrically conductive paste which concerns on the comparative example 1.

(比較例2)
上記実施例1に係る導電性ペーストの作製と同様にして、合成液を得た。次いで、この合成液にメタノールを投入し、3000rpmで10分間、遠心分離処理を行い、銀超微粒子を沈澱させた後、上澄み液を除去した。なお、この操作は、2回繰り返し実施した。
(Comparative Example 2)
A synthetic solution was obtained in the same manner as in the preparation of the conductive paste according to Example 1. Next, methanol was added to this synthesis solution, and centrifugation was performed at 3000 rpm for 10 minutes to precipitate silver ultrafine particles, and then the supernatant was removed. This operation was repeated twice.

次いで、得られた沈澱物を減圧乾燥(常温で180分間)することにより、乾固状態の銀超微粒子を得た。   Subsequently, the obtained precipitate was dried under reduced pressure (at room temperature for 180 minutes) to obtain dry silver ultrafine particles.

次いで、上記乾固状態の銀超微粒子9.00gと、ペースト化用の有機溶媒としてのテルピネオール5.10gと、上記分散剤0.54gと、希釈用の有機溶媒としてのメタノール10.4gとを、実施例1と同条件で超音波処理し、ペースト化した。なお、メタノールによる希釈を行ったのは、銀超微粒子の濃度が高いと、超音波による分散効果が得られないため、メタノールを添加して低粘度化し、上記効果が得られるようにしたものである。ここでは、メタノールによる希釈濃度は35重量%である。   Next, 9.00 g of the dried silver ultrafine particles, 5.10 g of terpineol as an organic solvent for pasting, 0.54 g of the dispersant, and 10.4 g of methanol as an organic solvent for dilution. Then, ultrasonic treatment was performed under the same conditions as in Example 1 to obtain a paste. Dilution with methanol is not possible because the dispersion effect by ultrasonic waves cannot be obtained when the concentration of the ultrafine silver particles is high, so that the above effect can be obtained by adding methanol to lower the viscosity. is there. Here, the dilution concentration with methanol is 35% by weight.

次いで、このペースト(銀濃度60wt%)を、上記ロータリーエバポレータのナス型フラスコ中に入れた。   Next, this paste (silver concentration 60 wt%) was placed in the eggplant-shaped flask of the rotary evaporator.

次いで、上記エバポレータによる減圧濃縮により、上記ペースト中に含まれているメタノールを除去した。   Subsequently, the methanol contained in the paste was removed by concentration under reduced pressure using the evaporator.

これにより比較例2に係る導電性ペーストを得た。   As a result, a conductive paste according to Comparative Example 2 was obtained.

2.各導電性ペーストの評価
各導電性ペーストを、スライドガラス上にバーコート法によりそれぞれ塗布(塗布厚50μm、塗布寸法76mm×20mm)した。その後、各塗布膜を100℃で60分間乾燥してテルピネオールを揮発させた後、大気雰囲気中にて所定温度で所定時間焼成し、各焼成膜とした。
2. Evaluation of each conductive paste Each conductive paste was applied onto a slide glass by a bar coating method (application thickness 50 μm, application dimension 76 mm × 20 mm). Thereafter, each coating film was dried at 100 ° C. for 60 minutes to volatilize terpineol, and then baked at a predetermined temperature in an air atmosphere for a predetermined time to obtain each baked film.

なお、各導電性ペーストの焼成温度、時間は、200℃、30分間である。   In addition, the firing temperature and time of each conductive paste are 200 ° C. and 30 minutes.

次に、光学顕微鏡(倍率450倍)を用い、得られた焼成膜の表面を観察し、凝集塊の有無を確認した。   Next, using an optical microscope (450 times magnification), the surface of the obtained fired film was observed to confirm the presence or absence of aggregates.

ここでは、任意に選択した1視野(543μm×677μm)中に含まれる10μm以上の凝集塊の数をそれぞれ数え、主にその数を相対比較することにより、各導電性ペーストを評価した。   Here, each conductive paste was evaluated by counting the number of agglomerates of 10 μm or more contained in one arbitrarily selected visual field (543 μm × 677 μm) and comparing the numbers mainly.

また、低抵抗測定器(4端子4探針法、(株)ダイアインスツルメンツ製、「ロレスタGP MCP−T610型」)を用い、上記各焼成膜の表面抵抗率を測定した後、触針式表面形状測定器((株)アルバック製、「Dektak」)で膜厚段差を測定し、膜厚を求めた。   Further, after measuring the surface resistivity of each fired film using a low resistance measuring device (4-terminal 4-probe method, manufactured by Dia Instruments Co., Ltd., “Loresta GP MCP-T610 type”), a stylus type surface The film thickness difference was determined by measuring the film thickness step with a shape measuring instrument ("Dektak" manufactured by ULVAC, Inc.).

そして得られた表面抵抗率と膜厚とから体積抵抗率を算出した。その結果、実施例1の焼成膜の体積抵抗率は、3.0×10−6Ω・cm、実施例2の焼成膜の体積抵抗率は、3.0×10−6Ω・cm、実施例3の焼成膜の体積抵抗率は、3.0×10−6Ω・cm、実施例4の焼成膜の体積抵抗率は、3.0×10−6Ω・cm、比較例1の焼成膜の体積抵抗率は、8.0×10−6Ω・cm、比較例2の焼成膜の体積抵抗率は、5.0×10−6Ω・cmであった。 The volume resistivity was calculated from the obtained surface resistivity and film thickness. As a result, the volume resistivity of the fired film of Example 1 was 3.0 × 10 −6 Ω · cm, and the volume resistivity of the fired film of Example 2 was 3.0 × 10 −6 Ω · cm. The volume resistivity of the fired film of Example 3 is 3.0 × 10 −6 Ω · cm, and the volume resistivity of the fired film of Example 4 is 3.0 × 10 −6 Ω · cm. The volume resistivity of the film was 8.0 × 10 −6 Ω · cm, and the volume resistivity of the fired film of Comparative Example 2 was 5.0 × 10 −6 Ω · cm.

なお、この表面抵抗率の測定、体積抵抗率の算出は、JIS K7194「導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法」に準拠して行った。但し、面積は、20mm×76mmで、測定装置は、(X,Y)=(15mm,5mm)、(15mm,15mm)、(38mm,10mm)、(60mm,5mm)、(60mm,15mm)の5点で補正係数を算出した上で、表面抵抗率を測定し、体積抵抗率を算出した。   The measurement of the surface resistivity and the calculation of the volume resistivity were performed in accordance with JIS K7194 “Resistivity test method for conductive plastics by 4-probe method”. However, the area is 20 mm × 76 mm, and the measuring devices are (X, Y) = (15 mm, 5 mm), (15 mm, 15 mm), (38 mm, 10 mm), (60 mm, 5 mm), (60 mm, 15 mm). After calculating the correction coefficient at 5 points, the surface resistivity was measured and the volume resistivity was calculated.

図1〜図3に、実施例1〜3に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡写真(倍率450倍)を示す。図4に、比較例1に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡(倍率450倍)写真を示す。図5に、比較例2に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡(倍率450倍)写真を示す。   1 to 3 show optical micrographs (450 magnifications) of fired films produced from the conductive pastes according to Examples 1 to 3. FIG. In FIG. 4, the optical microscope (450 times magnification) photograph of the baking film produced from the electrically conductive paste which concerns on the comparative example 1 is shown. In FIG. 5, the optical microscope (450 times magnification) photograph of the baking film produced from the electrically conductive paste which concerns on the comparative example 2 is shown.

図4から分かるように、比較例1に係る電性ペーストより作製した焼成膜では、50μm以下の凝集塊が多数確認された。これは、乾固状態の銀超微粒子を用いてペーストを作製しているのでペースト化時に銀超微粒子を十分に粉砕しきれなかったためであると考えられる。   As can be seen from FIG. 4, in the fired film produced from the electric paste according to Comparative Example 1, a large number of aggregates of 50 μm or less were confirmed. This is presumably because the silver ultrafine particles could not be sufficiently pulverized at the time of making a paste because the paste was prepared using dry silver ultrafine particles.

次に、比較例2の製造方法では、希釈溶媒を用いて粘度を低下させてペースト化している。そのため、比較例1の製造方法に比較して、超音波処理時の銀超微粒子の粉砕性が良くなると思われる。しかしながら、図5から分かるように、それでも10μm以上の凝集塊が4個程度確認された。また、10μm未満の凝集塊も確認された。   Next, in the manufacturing method of Comparative Example 2, the viscosity is lowered using a dilution solvent to make a paste. Therefore, compared with the manufacturing method of the comparative example 1, it seems that the grindability of the silver ultrafine particle at the time of ultrasonic treatment becomes good. However, as can be seen from FIG. 5, about 4 aggregates of 10 μm or more were still confirmed. Aggregates of less than 10 μm were also confirmed.

このことから、比較例2の製造方法は、比較例1の製造方法に比較して、大きな凝集塊を少なくできるものの、抜本的な凝集塊対策にはなっていないことが分かる。   From this, it can be seen that although the production method of Comparative Example 2 can reduce large agglomerates as compared with the production method of Comparative Example 1, it is not a drastic countermeasure against agglomerates.

これらに対し、図1〜図3などから分かるように、実施例1〜実施例4に係る製造方法による導電性ペーストによれば、10μm以上の凝集塊が全く見られないことが分かる。これは、未乾固状態で銀超微粒子を回収し、これを用いてペースト化しているため、ペースト化時における銀超微粒子の分散性が極めて高かったためであると考えられる。   On the other hand, as can be seen from FIGS. 1 to 3 and the like, according to the conductive paste produced by the manufacturing method according to Examples 1 to 4, it can be seen that aggregates of 10 μm or more are not seen at all. This is presumably because the silver ultrafine particles were collected in an undried state and made into a paste, and the dispersibility of the silver ultrafine particles at the time of pasting was extremely high.

また、実施例1〜4に係る製造方法では、反応残渣のヘキサン酸基や合成時に使用したヘキサノールは、銀超微粒子の回収時に除去される。そのため、ペースト中への混入も抑制することができると言える。   Moreover, in the manufacturing method which concerns on Examples 1-4, the hexanoic acid group of the reaction residue and the hexanol used at the time of a synthesis | combination are removed at the time of collection | recovery of silver ultrafine particles. Therefore, it can be said that mixing into the paste can also be suppressed.

以上、実施形態、実施例について説明したが、本発明は上記実施形態、実施例に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。   Although the embodiments and examples have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

実施例1に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡写真である。2 is an optical micrograph of a fired film produced from the conductive paste according to Example 1. 実施例2に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡写真である。4 is an optical micrograph of a fired film produced from a conductive paste according to Example 2. 実施例3に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡写真である。4 is an optical micrograph of a fired film produced from a conductive paste according to Example 3. 比較例1に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡写真である。4 is an optical micrograph of a fired film produced from a conductive paste according to Comparative Example 1. 比較例2に係る導電性ペーストより作製した焼成膜の光学顕微鏡写真である。5 is an optical micrograph of a fired film produced from a conductive paste according to Comparative Example 2.

Claims (5)

金属塩と第1の有機溶媒とを含む溶液を加熱し、前記金属塩を還元して金属超微粒子を生成させ、前記金属超微粒子を含む合成液を得る工程と、
前記合成液から、前記第1の有機溶媒と反応残渣とを除去し、未乾固状態の金属超微粒子を得る工程と、
前記未乾固状態の金属超微粒子と、第2の有機溶媒とを混合し、ペースト化する工程とを有することを特徴とする導電性ペーストの製造方法。
Heating a solution containing a metal salt and a first organic solvent, reducing the metal salt to produce ultrafine metal particles, and obtaining a synthetic liquid containing the ultrafine metal particles;
Removing the first organic solvent and reaction residue from the synthesis solution to obtain undried metal ultrafine particles;
A method for producing a conductive paste, comprising: mixing the undried metal ultrafine particles with a second organic solvent to form a paste.
前記加熱は、外部熱源またはマイクロ波照射によることを特徴とする請求項1に記載の導電性ペーストの製造方法。   The method for producing a conductive paste according to claim 1, wherein the heating is performed by an external heat source or microwave irradiation. 前記金属塩は、下記の化1で表されることを特徴とする請求項1または2に記載の導電性ペーストの製造方法。
(化1)
(R−A)−M
(但し、Rは炭化水素基、AはCOO、OSO、SOまたはOPO、Mは金属、nはMの価数である。)
The method for producing a conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the metal salt is represented by the following chemical formula (1).
(Chemical formula 1)
(R-A) n -M
(However, R is a hydrocarbon group, A is COO, OSO 3 , SO 3 or OPO 3 , M is a metal, and n is a valence of M.)
前記第1の有機溶媒と前記反応残渣とを、第3の有機溶媒に置換して除去し、さらに、この第3の有機溶媒を除去することにより、前記未乾固状態の金属超微粒子を得ることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載の導電性ペーストの製造方法。   The first organic solvent and the reaction residue are removed by substitution with a third organic solvent, and the third organic solvent is removed to obtain the undried metal ultrafine particles. The method for producing a conductive paste according to any one of claims 1 to 3, wherein: 請求項1から4の何れかに記載の導電性ペーストの製造方法により得られた導電性ペースト。   The electrically conductive paste obtained by the manufacturing method of the electrically conductive paste in any one of Claim 1 to 4.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012023082A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Yokohama Rubber Co Ltd:The Paste for solar cell electrode and solar cell
JP2012023081A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Yokohama Rubber Co Ltd:The Paste for solar cell electrode and solar cell
CN109663929A (en) * 2019-01-24 2019-04-23 兰州石化职业技术学院 A kind of preparation method of rule nanogold particle

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002121606A (en) * 2000-10-13 2002-04-26 Ulvac Corporate Center:Kk Metallic hyperfine grain dispersed solution and its production method
JP2004353038A (en) * 2003-05-29 2004-12-16 Tokai Rubber Ind Ltd Method for manufacturing ultra-fine particles
JP2006118010A (en) * 2004-10-22 2006-05-11 Toda Kogyo Corp Ag NANOPARTICLE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND DISPERSED SOLUTION OF Ag NANOPARTICLE

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002121606A (en) * 2000-10-13 2002-04-26 Ulvac Corporate Center:Kk Metallic hyperfine grain dispersed solution and its production method
JP2004353038A (en) * 2003-05-29 2004-12-16 Tokai Rubber Ind Ltd Method for manufacturing ultra-fine particles
JP2006118010A (en) * 2004-10-22 2006-05-11 Toda Kogyo Corp Ag NANOPARTICLE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND DISPERSED SOLUTION OF Ag NANOPARTICLE

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012023082A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Yokohama Rubber Co Ltd:The Paste for solar cell electrode and solar cell
JP2012023081A (en) * 2010-07-12 2012-02-02 Yokohama Rubber Co Ltd:The Paste for solar cell electrode and solar cell
CN109663929A (en) * 2019-01-24 2019-04-23 兰州石化职业技术学院 A kind of preparation method of rule nanogold particle
CN109663929B (en) * 2019-01-24 2021-07-23 兰州石化职业技术学院 Preparation method of regular nano gold particles

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