JP2008151866A - Optical film, polarizing plate, image display device and method for manufacturing the optical film - Google Patents

Optical film, polarizing plate, image display device and method for manufacturing the optical film Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which has an excellent dustproof property, in which uneven interference is restrained from being caused and which has high hardness and is excellent in scratch resistance and other performances and to provide a polarizing plate and a display device in each of which the optical film is used. <P>SOLUTION: The optical film has an antistatic layer containing an electrically conductive particle and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer on a support. A layered zone having the refractive index intermediate between that of the antistatic layer and that of the adjacent layer is formed between the antistatic layer and the adjacent layer. The layered zone contains a binder having an aromatic group or an inorganic fine particle which is different from the electrically conductive particle and has ≥1.55 refractive index. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板、画像表示装置、及び光学フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, an image display device, and a method for producing an optical film.

近年、ディスプレイ装置は家庭で使用され一般ユーザーの取り扱いに対してもタフネスが要求されるようになってきている。例えば液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、SED(Surface-Conduction Electron-emitter Display)などのような様々な画像表示装置においては、その表面に用いられる光学フィルムには、高い物理強度(耐擦傷性など)、透明性、耐薬品性、耐候性(耐湿熱性、耐光性など)が要求される。また、外光の反射や像の映り込みによるコントラスト低下を防止するために、防眩性能や反射防止性能が要求されている。また、日常の取り扱いで表面に汚れや埃がつきにくい、防汚性や防塵性が要求されている。   In recent years, display devices have been used at home and demanded toughness for handling of general users. For example, in various image display devices such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), SED (Surface-Conduction Electron-emitter Display) The optical film used on the surface is required to have high physical strength (such as scratch resistance), transparency, chemical resistance, and weather resistance (such as moist heat resistance and light resistance). Further, in order to prevent a decrease in contrast due to reflection of external light or reflection of an image, antiglare performance and antireflection performance are required. In addition, antifouling properties and dustproof properties are required that are less likely to get dirt and dust on the surface during daily handling.

防塵性は、画像表示装置の最終形態での使用の観点と、画像表示装置の製造の観点の両面から重要であり、その重要性が高まっている。防塵性付与の方法として採用されている方法の一つに、導電性を有する微粒子を光学フィルムに導入して表面抵抗を下げる所謂帯電防止層を形成する方法がある(特許文献1)。しかし、一般に導電性を有する微粒子は屈折率が1.6〜2.2程度と高く、帯電防止層は屈折率の高い層となる。帯電防止層と光学薄膜で隣接する層との屈折率が異なると光学干渉を起こし、帯電防止層の膜厚の変動や微小な欠陥が、光学フィルムのムラとして観察されてしまうという課題があり、改良が求められていた。   Dustproofness is important from both the viewpoint of use in the final form of the image display apparatus and the viewpoint of manufacturing the image display apparatus, and the importance is increasing. One of the methods adopted as a method for imparting dust resistance is a method of forming a so-called antistatic layer for reducing surface resistance by introducing conductive fine particles into an optical film (Patent Document 1). However, in general, conductive fine particles have a high refractive index of about 1.6 to 2.2, and the antistatic layer is a layer having a high refractive index. If the refractive index of the antistatic layer and the adjacent layer in the optical thin film is different, optical interference occurs, and there is a problem that fluctuations in the thickness of the antistatic layer and minute defects are observed as unevenness in the optical film, Improvements were sought.

上記課題に対して、帯電防止層とそれに隣接する層との界面を混合することで干渉ムラを減少させる試みがなされている。例えば特許文献2には、帯電防止層と帯電防止の機能を有さない層とを未硬化の状態で塗り重ねてなる光学フィルムが開示されている。しかし、かかる光学フィルムでも、帯電防止層の粒子を拡散させて界面を混合させるため、粒子密度が減少して粒子同士の接触確率が減り、導電性が低下してしまい、十分な防塵性が得られないことがある。特にバインダー量を増して塗膜の強度を上げた場合や帯電防止層が薄い場合に導電性の目減りが大きいことがある。
要するに、従来提案されている光学フィルムでは、光学フィルムとして通常求められる性能を維持しつつ、十分に防塵性を向上させることはできていなかったのが現状である。
特開平11−326602号公報 特開2005−148444号公報
In order to solve the above-mentioned problems, attempts have been made to reduce interference unevenness by mixing the interface between the antistatic layer and the adjacent layer. For example, Patent Document 2 discloses an optical film in which an antistatic layer and a layer having no antistatic function are applied in an uncured state. However, even in such an optical film, since the particles of the antistatic layer are diffused and the interface is mixed, the particle density decreases, the contact probability between the particles decreases, the conductivity decreases, and sufficient dust resistance is obtained. It may not be possible. In particular, when the amount of the binder is increased to increase the strength of the coating film, or when the antistatic layer is thin, the conductive loss may be large.
In short, the conventionally proposed optical films have not been able to sufficiently improve the dust resistance while maintaining the performance normally required for optical films.
JP-A-11-326602 JP 2005-148444 A

本発明の目的は、防塵性に優れ、干渉ムラの発生が抑制され、他の性能にも優れた光学フィルムを提供することにある。更には高硬度で耐擦傷性に優れた光学フィルムを提供することにある。また、更にはそのような光学フィルムを用いた偏光板やディスプレイ装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an optical film that is excellent in dust resistance, suppresses occurrence of interference unevenness, and is excellent in other performances. Another object is to provide an optical film having high hardness and excellent scratch resistance. Furthermore, it is providing the polarizing plate and display apparatus using such an optical film.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、特定のバインダー形成化合物を用いて帯電防止層とそれに隣設する層とを両者の界面に両層とは異なる層領域が形成されるようにしてなる光学フィルムが上記目的を達成しうることを知見し、本発明を完成
するに至った。
すなわち、本発明は、以下の各構成からなるものである。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have formed a layer region different from both layers at the interface between the antistatic layer and the adjacent layer using a specific binder-forming compound. The present inventors have found that an optical film formed as described above can achieve the above object, and have completed the present invention.
That is, this invention consists of the following each structure.

1. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する光学フィルム(以下、この発明を「第1発明」という)。
2. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する光学フィルム(以下、この発明を「第2発明」という)。
3. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する光学フィルム(以下、この発明を「第3発明」という)。
4. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する光学フィルム(以下、この発明を「第4発明」という)。
5. 上記層領域は、上記帯電防止層と上記隣設層との界面で、両層を形成する重合性化合物及び/又は無機微粒子の組成が徐々に変化して形成されている1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。
6. 上記層領域は、上記帯電防止層と上記隣設層とが、それらの界面で更に別の界面混合層を形成することにより形成されている1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。
7. 上記層領域は、上記帯電防止層と上記隣設層とが、それらの界面で、両層の成分が海島構造又は共連続相を形成して形成されている1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 芳香族基を有するバインダーが、重合性官能基を少なくとも1つ有する含硫黄芳香族化合物から形成されている請求項1、3、5〜7の何れかに記載の光学フィルム。
9. 前記光学フィルムが更に低屈折率層を有する1〜8の何れかに記載の光学フィルム。
10. 偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、1〜9のいずれかに記載の光学フィルムである偏光板。
11. 1〜9に記載の光学フィルム、又は10に記載の偏光板を有する画像表示装置。
12. 支持体上に、帯電防止層とそれに隣設された少なくとも1層の隣設層とを有する光学フィルムの製造方法であって、帯電防止層が芳香族基を有するバインダーを含有し、帯電防止層と隣設層とを形成するに際して、先んじて塗設した層の重合性官能基の反応率が0%以上50%以下になるよう硬化させる光学フィルムの製造方法。
13. 支持体上に、帯電防止層とそれに隣設された少なくとも1層の隣設層とを有する光学フィルムの製造方法であって、帯電防止層が導電性粒子とは別の屈折率が1.55よりも大きな無機微粒子を含有し、帯電防止層と隣設層とを形成するに際して、先んじて塗設した層の重合性官能基の反応率が0%以上50%以下になるよう硬化させる光学フィルムの製造方法。
1. On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the intermediate refractive index of both layers is between the two layers. An optical film in which a layer region having a refractive index is present and the layer region contains a binder having an aromatic group (hereinafter, this invention is referred to as “first invention”).
2. On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the intermediate refractive index of both layers is between the two layers. An optical film in which a layer region having a refractive index exists and the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from conductive particles (hereinafter, this invention is referred to as “second invention”).
3. On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the constituent components of the antistatic layer between the two layers, An optical film in which a layer region formed by mixing the constituent components of the adjacent layer is present and the layer region contains a binder having an aromatic group (hereinafter, this invention is referred to as “third invention”).
4). On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the constituent components of the antistatic layer between the two layers, There is a layer region formed by mixing the constituent components of the adjacent layer, and the layer region is an optical film containing inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from the conductive particles (hereinafter referred to as this film). The invention is referred to as “fourth invention”).
5. The layer region is formed by gradually changing the composition of the polymerizable compound and / or inorganic fine particles forming both layers at the interface between the antistatic layer and the adjacent layer. The optical film described in 1.
6). The optical film according to any one of 1 to 4, wherein the layer region is formed by forming another interface mixed layer at the interface between the antistatic layer and the adjacent layer.
7). The layer region is formed by the antistatic layer and the adjacent layer being formed such that the components of both layers form a sea-island structure or a co-continuous phase at the interface between them. Optical film.
8). The optical film according to any one of claims 1, 3, and 5 to 7, wherein the binder having an aromatic group is formed of a sulfur-containing aromatic compound having at least one polymerizable functional group.
9. The optical film according to any one of 1 to 8, wherein the optical film further has a low refractive index layer.
10. A polarizing plate having a polarizing film and protective films provided on both sides of the polarizing film, wherein at least one of the protective films is the optical film according to any one of 1 to 9.
11. The image display apparatus which has an optical film of 1-9, or a polarizing plate of 10.
12 A method for producing an optical film having an antistatic layer and at least one adjacent layer adjacent thereto on a support, wherein the antistatic layer contains a binder having an aromatic group, and the antistatic layer And an adjacent layer, a method for producing an optical film is cured so that the reaction rate of the polymerizable functional group of the previously applied layer is 0% or more and 50% or less.
13. A method for producing an optical film having an antistatic layer and at least one adjacent layer adjacent thereto on a support, wherein the antistatic layer has a refractive index of 1.55 different from that of conductive particles. An optical film that contains larger inorganic fine particles and is cured so that the reaction rate of the polymerizable functional group of the previously applied layer is 0% or more and 50% or less when forming the antistatic layer and the adjacent layer. Manufacturing method.

本発明によれば、防塵性に優れ、干渉ムラの低減された光学フィルムが提供できる。また、防塵性に優れ、干渉ムラが低減されると共に高硬度で耐擦傷性に優れた、低反射であ
る光学フィルムが提供される。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can provide the optical film which was excellent in dustproof property and reduced the interference nonuniformity. In addition, an optical film having excellent dustproofness, reduced interference unevenness, high hardness, excellent scratch resistance, and low reflection is provided.

以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like.

〔第1〜4発明〕
第1発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する。
第2発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する。
第3発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する。
第4発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する。
[Inventions 1-4]
The optical film of the first invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and between the two layers. There is a layer region having a refractive index intermediate between the refractive indexes of both layers, and the layer region contains a binder having an aromatic group.
The optical film of the second invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and between the two layers. There is a layer region having a refractive index intermediate between the refractive indexes of both layers, and the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from the conductive particles.
The optical film of the third invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles, and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, between the layers. There is a layer region formed by mixing the constituent component of the antistatic layer and the constituent component of the adjacent layer, and the layer region contains a binder having an aromatic group.
The optical film of the fourth invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and between the two layers. There is a layer region formed by mixing the component of the antistatic layer and the component of the adjacent layer, and the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from the conductive particles. contains.

〔第1発明〕
まず、第1発明の光学フィルムについて説明する。
第1発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する。
好ましい態様は、上記層領域が、上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成されており、更に該領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する態様である。すなわち、本発明における最も好ましい態様は、第1発明〜第4発明の全てを満足する態様である。以下の第1発明の説明においては、この最も好ましい態様に基づいて説明する。
[First invention]
First, the optical film of the first invention will be described.
The optical film of the first invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and between the two layers. There is a layer region having a refractive index intermediate between the refractive indexes of both layers, and the layer region contains a binder having an aromatic group.
In a preferred embodiment, the layer region is formed by mixing the component of the antistatic layer and the component of the adjacent layer, and the region has a refractive index of 1.55 different from the conductive particles. This is an embodiment containing the above inorganic fine particles. That is, the most preferred embodiment in the present invention is an embodiment that satisfies all of the first to fourth inventions. In the following explanation of the first invention, explanation will be made based on this most preferred embodiment.

1.(光学フィルムの層構成)
本発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層(以後「AS層」と記す)とそれに隣設した隣設層(以後「N層」と記す)を少なくとも1層有し、更に両層の間に中間の屈折率の層領域を有し、該層領域に芳香族基を有するバインダーが含有されている。また、好ましくは更に導電性粒子とは別の屈折率が1.55よりも大きい無機微粒子が含有されている。
本発明において、AS層とN層の間に形成される上記層領域は、AS層とN層とを同時に両者の形成用塗布組成物を塗布して形成する方法や、何れか一方の層の形成用塗布組成物を塗布し重合率が低いまま他方の層の形成用塗布組成物を塗布する方法を用いて、隣設層に相互の成分を拡散させることにより製造することが好ましい。詳細については、後述する製造方法の欄で詳述する。
本発明の光学フィルムにおいて、AS層とN層と支持体との位置関係は、本発明の目的である、帯電防止性、ムラの低減、密着性の向上が達成される範囲においては、特に制限
はない。帯電防止性能の向上の点からは、支持体、N層、AS層の順で層が形成されるのが好ましい。
1. (Layer structure of optical film)
The optical film of the present invention has at least one antistatic layer containing conductive particles (hereinafter referred to as “AS layer”) and an adjacent layer adjacent thereto (hereinafter referred to as “N layer”) on a support. It has a layer, a layer region having an intermediate refractive index between both layers, and a binder having an aromatic group in the layer region. In addition, inorganic fine particles having a refractive index larger than 1.55, which is different from the conductive particles, are preferably contained.
In the present invention, the layer region formed between the AS layer and the N layer is formed by applying the forming composition for forming both the AS layer and the N layer at the same time. It is preferable to manufacture by diffusing each other component in the adjacent layer using a method of applying the forming coating composition and coating the other layer forming coating composition with a low polymerization rate. Details will be described in detail in the column of the manufacturing method described later.
In the optical film of the present invention, the positional relationship among the AS layer, the N layer, and the support is particularly limited as long as the object of the present invention is to achieve antistatic properties, reduction of unevenness, and improvement of adhesion. There is no. From the viewpoint of improving the antistatic performance, the layers are preferably formed in the order of the support, the N layer, and the AS layer.

本発明の光学フィルムは、帯電防止層を構築することで、光学フィルム表面に塵埃(埃など)が付着するのを防止すること、すなわち優れた防塵性を発現させることができる。防塵性は、光学フィルム表面の表面抵抗値を下げることで発現され、帯電防止層の導電性が高いほど高い効果が得られる。
本発明の光学フィルムにおいては、AS層側の表面の表面抵抗値が、1×1013Ω/□以下であることが好ましく、1×1012Ω/□以下であることが更に好ましく、特に好ましくは1×1011Ω/□以下で1×107Ω/□以上である。光学フィルムの表面抵抗は、25℃60%下で円電極法により測定することができる。
The optical film of the present invention can prevent dust (such as dust) from adhering to the surface of the optical film by constructing an antistatic layer, that is, can exhibit excellent dust resistance. The dust resistance is expressed by lowering the surface resistance value of the optical film surface, and the higher the conductivity of the antistatic layer, the higher the effect.
In the optical film of the present invention, the surface resistance value on the AS layer side surface is preferably 1 × 10 13 Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 12 Ω / □ or less, and particularly preferably. Is 1 × 10 11 Ω / □ or less and 1 × 10 7 Ω / □ or more. The surface resistance of the optical film can be measured by a circular electrode method at 25 ° C. and 60%.

本発明において中間の屈折率の領域とは、AS層形成用塗布組成物のみを塗設硬化した場合の屈折率をN(as)とし、N層形成用塗布組成物のみを塗設した硬化した場合の屈折率をN(n)とした場合に、N(n)とN(as)との間の屈折率になる領域である。
すなわち、「中間の屈折率」とは、N(n)とN(as)との平均値のみではなく、平均値の±0〜0.45×△Nの範囲の屈折率も含む意味である。ここで△N=|N(as)−N(n)|である。
また、屈折率は、反射率を測定して、屈折率と膜厚を光学薄膜干渉のシミュレーションにより算出することができる。しかしながら以下の態様で述べるように、一定の屈折率の層が一定膜厚で形成されていない場合もあるため、本発明においては、各層を構成する塗膜中の構成成分の組成を分析し、その分析組成の塗工液を作製し該塗工液を塗布硬化させた塗膜の屈折率を、各層の塗膜の屈折率とすることもできる。塗膜内の構成成分の分析は、超薄斜め切片を作製し、TOFSIMS(Time of flight secondary ion mass spectrometry;例えば、ION TOF社製のTOF−SIMS IV(製品名))を用いることで可能である。
In the present invention, the intermediate refractive index region is defined as the refractive index when only the AS layer forming coating composition is applied and cured, and N (as), and the N layer forming coating composition is applied. When the refractive index in this case is N (n), this is a region having a refractive index between N (n) and N (as).
That is, the “intermediate refractive index” means not only the average value of N (n) and N (as) but also the refractive index in the range of ± 0 to 0.45 × ΔN of the average value. . Here, ΔN = | N (as) −N (n) |.
The refractive index can be calculated by measuring the reflectance and calculating the refractive index and the film thickness by simulation of optical thin film interference. However, as described in the following embodiments, since the layer having a constant refractive index may not be formed with a constant film thickness, in the present invention, the composition of the constituent components in the coating film constituting each layer is analyzed, The refractive index of the coating film obtained by preparing a coating liquid having the analytical composition and applying and curing the coating liquid can be used as the refractive index of the coating film of each layer. Analysis of the components in the coating film is possible by preparing an ultrathin oblique section and using TOFSIMS (Time of flight secondary mass spectrometry; for example, TOF-SIMS IV (product name) manufactured by ION TOF). is there.

また、本発明においては、AS層形成用塗布組成物中の導電性粒子の隣設するN層形成用塗布組成物への拡散は、導電性粒子同士の膜内での接触が減少してAS層の導電性を下げる傾向にあるため、少ないほうが好ましい。AS層とN層の間に、両者の中間の屈折率の領域を形成するためには、導電性粒子より拡散しやすい芳香族基を有するバインダー及び/又は導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を用いることが好ましい。各層に使用できる素材については後に、光学フィルムの構成成分の欄で述べる。   Further, in the present invention, the diffusion of the conductive particles in the AS layer forming coating composition to the N layer forming coating composition adjacent to the AS layer forming coating reduces the contact between the conductive particles in the film. Less is preferred because it tends to lower the conductivity of the layer. In order to form a region having an intermediate refractive index between the AS layer and the N layer, a refractive index 1 different from that of the binder and / or conductive particles having an aromatic group that is more easily diffused than the conductive particles. It is preferable to use .55 or more inorganic fine particles. The materials that can be used for each layer will be described later in the column of constituent components of the optical film.

以下に、AS層とN層を含み、かつ両層の間に両者の中間の屈折率となる層領域を有する本発明の光学フィルムの好ましい態様について説明する。   Below, the preferable aspect of the optical film of this invention which has a layer area | region which contains AS layer and N layer and becomes a refractive index intermediate | middle of both between both layers is demonstrated.

好ましい第1の態様としては、図1に示すように、上記層領域が、AS層及びN層の両層の組成が徐々に変化している領域である態様が挙げられる。図1は、本発明の1実施形態としての光学フィルム1の要部である帯電防止層及び隣設層を示す模式図である。詳細には、図1に示すように、支持体(不図示)上にAS層2とN層4とは、層領域3を狭持して設けられている。そして層領域3は、特にAS層等とは別の組成の塗布組成物を塗工して形成したのではなく、例えば、AS層形成用の塗布組成物の上にN層形成用の塗布組成物を塗工することにより、AS層用の塗布組成物とN層用の塗布組成物とが相互に浸透し混合されて両者の濃度分布が生じた形態で形成された層領域を挙げることができる。ここで組成とは、重合性化合物及び/又は微粒子の硬化膜中の構成比率を言う。
該態様において、層領域の厚みは0.03μm〜3μmが好ましく、更に好ましくは0.05μm〜1.5μmである。AS層成分単独の屈折率とN層成分単独の屈折率とが0.05以上異なる場合には、層領域の厚みは0.05μm〜1μmであることが特に好ましい。そして本態様において層領域とは、その上端から下端の間で、組成がバルクのAS層の組成からバルクの隣設層(N層)の組成に徐々に変化する層である。
As a preferred first embodiment, as shown in FIG. 1, there is an embodiment in which the layer region is a region where the composition of both the AS layer and the N layer is gradually changed. FIG. 1 is a schematic diagram showing an antistatic layer and an adjacent layer, which are the main parts of an optical film 1 as one embodiment of the present invention. Specifically, as shown in FIG. 1, the AS layer 2 and the N layer 4 are provided on a support (not shown) with the layer region 3 interposed therebetween. The layer region 3 is not formed by coating a coating composition having a composition different from that of the AS layer or the like. For example, the coating composition for forming the N layer is formed on the coating composition for forming the AS layer. The layer region formed in such a manner that the coating composition for the AS layer and the coating composition for the N layer penetrate each other and are mixed to produce a concentration distribution of the two by coating the product. it can. Here, the composition refers to the constituent ratio of the polymerizable compound and / or fine particles in the cured film.
In this embodiment, the thickness of the layer region is preferably 0.03 μm to 3 μm, more preferably 0.05 μm to 1.5 μm. When the refractive index of the AS layer component alone is different from the refractive index of the N layer component alone by 0.05 or more, the thickness of the layer region is particularly preferably 0.05 μm to 1 μm. In this embodiment, the layer region is a layer in which the composition gradually changes from the composition of the bulk AS layer to the composition of the bulk adjacent layer (N layer) between the upper end and the lower end.

好ましい第2の態様としては、層領域が、AS層とN層とがその界面で更に別の界面混合層を形成することにより構成されている態様である。
詳細には、AS層、N層及び層領域の構成は、図1に示す形態と同じであるが、層領域がAS層形成用の塗料組成物とN層形成用の塗料組成物とが浸透して混合されているのではなく、両塗料組成物由来の成分が均一に混合されて形成されている形態である。
第2の態様においては、層領域である界面混合層の厚みは、0.05μm〜1μmが好ましく、更に好ましくは0.05μm〜0.5μmである。
In a preferred second embodiment, the layer region is formed by forming another interfacial mixed layer at the interface between the AS layer and the N layer.
Specifically, the configuration of the AS layer, the N layer, and the layer region is the same as that shown in FIG. 1, but the layer region penetrates the coating composition for forming the AS layer and the coating composition for forming the N layer. Rather than being mixed, the components derived from both coating compositions are uniformly mixed and formed.
In the second aspect, the thickness of the interfacial mixed layer which is a layer region is preferably 0.05 μm to 1 μm, more preferably 0.05 μm to 0.5 μm.

好ましい第3の態様としては、AS層とN層の成分が、その界面で海島構造又は共連続相を形成して、層領域を構成するものである。海島構造や共連続相を形成する相は、AS層やN層と同じ組成であってもよいが、更に別の組成の異なる相であってもよい。
図2及び図3は、それぞれ本発明の光学フィルムの1形態における層領域の構造を示す模式図であり、図2は、海島構造を示し、図3は、共連続相構造を示す。
具体的には、図2に示すように、本実施形態の海島構造の層領域3は、AS層形成用の塗布組成物により形成された海部分3bとN層形成用の塗布組成物により形成された島部分3aとにより形成されている。AS層形成用の塗布組成物により島部分を形成し、N層形成用の塗布組成物により海部分を形成してもよい。更に、それぞれ両者が異なる割合で混合された混合物により海部分及び島部分が形成されてもよい。
As a preferred third aspect, the components of the AS layer and the N layer form a sea-island structure or a co-continuous phase at the interface to constitute a layer region. The phase forming the sea-island structure or the co-continuous phase may have the same composition as the AS layer or the N layer, but may be a phase having a different composition.
2 and 3 are schematic views showing the structure of the layer region in one embodiment of the optical film of the present invention, FIG. 2 shows a sea-island structure, and FIG. 3 shows a co-continuous phase structure.
Specifically, as shown in FIG. 2, the sea island structure layer region 3 of the present embodiment is formed by the sea portion 3b formed by the AS layer forming coating composition and the N layer forming coating composition. And the island portion 3a formed. The island portion may be formed by the coating composition for forming the AS layer, and the sea portion may be formed by the coating composition for forming the N layer. Further, the sea portion and the island portion may be formed by a mixture in which both are mixed at different ratios.

図3は、本実施形態の共連続相の層領域を示す。着色部分および白色部分は異なる成分を表す。例えば、主としてAS層由来の成分からなる第1相(例えば、着色部分)と、主としてN層由来の成分からなる第2相(例えば、白色部分)により形成されている層領域が挙げられる。また、AS層およびN層由来のそれぞれ成分が混合して生じた第1相(例えば、着色部分)と、第一相とは異なる、AS層およびN層由来のそれぞれ成分が混合して生じた第2相(例えば、白色部分)により形成されている層領域が挙げられる。
第3の態様においては、島構造部分の球相当直径は、0.01μm〜1μmが好ましく、0.02〜0.3μmが更に好ましく、最も好ましくは0.02〜0.15μmである。また、層領域の厚みは、0.03〜3.0μmとするのが好ましく、0.05〜1.5μmとするのが更に好ましい。
FIG. 3 shows the layer region of the co-continuous phase of this embodiment. The colored portion and the white portion represent different components. For example, a layer region formed by a first phase mainly composed of components derived from the AS layer (for example, a colored portion) and a second phase mainly composed of components derived from the N layer (for example, a white portion) can be mentioned. Also, the first phase (for example, a colored portion) generated by mixing the components derived from the AS layer and the N layer, and the components derived from the AS layer and the N layer, which are different from the first phase, are generated. Examples include a layer region formed by the second phase (for example, a white portion).
In the third aspect, the equivalent sphere diameter of the island structure portion is preferably 0.01 μm to 1 μm, more preferably 0.02 to 0.3 μm, and most preferably 0.02 to 0.15 μm. In addition, the thickness of the layer region is preferably 0.03 to 3.0 μm, and more preferably 0.05 to 1.5 μm.

上述の各態様の中でも第1の態様が、ムラの防止、層間密着の観点で特に好ましい。本発明において、AS層の厚みは、0.1〜5.0μmが好ましく、更に好ましくは0.1〜3.0μm、最も好ましくは0.2〜3.0μmである。N層の厚みは、1.0〜30.0μmが好ましく、更に好ましくは2.0〜20.0μm、最も好ましくは2.0〜10.0μmである。   Among the above-described embodiments, the first embodiment is particularly preferable from the viewpoints of prevention of unevenness and interlayer adhesion. In the present invention, the thickness of the AS layer is preferably 0.1 to 5.0 μm, more preferably 0.1 to 3.0 μm, and most preferably 0.2 to 3.0 μm. The thickness of the N layer is preferably 1.0 to 30.0 μm, more preferably 2.0 to 20.0 μm, and most preferably 2.0 to 10.0 μm.

〔他の層〕
本発明において、AS層とN層に加えて、公知の光学機能層を加えた層構成をとることもできる。好ましくは、光学干渉によって反射率が減少するように、屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して一層以上の反射防止層が積層された構成が好ましい。
本発明の光学フィルムの好ましい層構成の例を下記に示すが本発明はこれらに限定されない。下記構成において基材フィルムは、支持体を意味する。
・基材フィルム/N層/AS層
・基材フィルム/N層/AS層/低屈折率層
・基材フィルム/N層/AS層/低屈折率層/防汚層
・基材フィルム/N層/AS層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/N層/AS層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/AS層/N層
・基材フィルム/AS層/N層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/N層/AS層
・基材フィルム/ハードコート層/N層/AS層/低屈折率層
・基材フィルム/ハードコート層/N層/AS層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
・基材フィルム/防眩層/N層/AS層
・基材フィルム/防眩層/N層/AS層/低屈折率層
・基材フィルム/光拡散層/N層/AS層
・基材フィルム/光拡散層/N層/AS層/低屈折率層
[Other layers]
In the present invention, a layer structure in which a known optical functional layer is added in addition to the AS layer and the N layer may be employed. Preferably, a structure in which one or more antireflection layers are stacked in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference is preferable.
Although the example of the preferable layer structure of the optical film of this invention is shown below, this invention is not limited to these. In the following configuration, the base film means a support.
-Base film / N layer / AS layer-Base film / N layer / AS layer / low refractive index layer-Base film / N layer / AS layer / low refractive index layer / antifouling layer-Base film / N Layer / AS layer / high refractive index layer / low refractive index layer-base film / N layer / AS layer / low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer-base film / AS layer / N layer Base film / AS layer / N layer / low refractive index layer • Base film / hard coat layer / N layer / AS layer • Base film / hard coat layer / N layer / AS layer / low refractive index layer • Base material Film / Hard coat layer / N layer / AS layer / Low refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer ・ Base film / Anti-glare layer / N layer / AS layer ・ Base film / Anti-glare layer / N Layer / AS layer / low refractive index layer-base film / light diffusion layer / N layer / AS layer-base film / light diffusion layer / N layer / AS layer / low refractive index layer

上記各層に使用できる素材、層の物性等については後述するが、防眩層及び光拡散層についてはそれぞれ通常この種の光学フィルムに用いられるものを特に制限無く用いることができる。   The materials that can be used for each of the above layers and the physical properties of the layers will be described later, but for the antiglare layer and the light diffusion layer, those usually used for this type of optical film can be used without any particular limitation.

2.(光学フィルムの各構成層)
以下、各層について説明する。
2. (Each component layer of optical film)
Hereinafter, each layer will be described.

2−1.(AS層の構成成分)
AS層は、導電性粒子と芳香族基を有するバインダー形成化合物とを主成分とする塗布組成物を塗工して形成される層である。
2-1. (Constituent component of AS layer)
The AS layer is a layer formed by applying a coating composition containing conductive particles and a binder-forming compound having an aromatic group as main components.

2−1−1.(導電性粒子)
AS層に用いられる上記導電性粒子としては、カーボン系微粒子、金属系微粒子、金属酸化物系微粒子、導電被覆系微粒子等が挙げられる。
カーボン系微粒子としては、カーボンブラック、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボン粉末、PAN系炭素繊維、ピッチ系炭素繊維等のカーボン繊維、膨張化黒鉛粉砕品のカーボンフレーク等が挙げられる。
金属系微粒子としては、アルミニウム、銅、金、銀、ニッケル、クロム、鉄、モリブデン、チタン、タングステン、タンタル等の金属、及び、それらの金属を含有する合金の粉末や、金属フレーク、鉄、銅、ステンレス、銀メッキ銅、黄銅等の金属繊維等が挙げられる。
金属酸化物系微粒子としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫(ATO)、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、酸化アンチモンなどが挙げられる。
2-1-1. (Conductive particles)
Examples of the conductive particles used in the AS layer include carbon-based fine particles, metal-based fine particles, metal oxide-based fine particles, and conductive coating-based fine particles.
Examples of the carbon-based fine particles include carbon powders such as carbon black, ketjen black, and acetylene black, carbon fibers such as PAN-based carbon fibers and pitch-based carbon fibers, and carbon flakes of pulverized expanded graphite.
Examples of metal-based fine particles include metals such as aluminum, copper, gold, silver, nickel, chromium, iron, molybdenum, titanium, tungsten, and tantalum, and powders of alloys containing these metals, metal flakes, iron, and copper. And metal fibers such as stainless steel, silver-plated copper and brass.
Examples of the metal oxide fine particles include tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide, and antimony oxide. .

導電被覆系微粒子としては、例えば、酸化チタン(球状、針状)、チタン酸カリウム、ホウ酸アルミニウム、硫酸バリウム、マイカ、シリカ等の各種微粒子表面を、酸化錫、ATO、ITO等の導電性粒子で被覆した導電性微粒子;金及び/又はニッケルなどの金属や金属酸化物で表面処理されたポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、ホルムアルデヒド樹脂等の樹脂ビーズなどが好ましい。これらは非導電性粒子の外表面に金属又は金属酸化物の導電性部分を形成してなる粒子であり、粒子内部に対して表面の方が導電性が高いという特徴を有している。表面処理に用いるものとしては金属及び金属酸化物であり、金属であることが好ましい。またその中でも導電性が高く、安定な金属である金、銀又はニッケルが好ましく、金であることが最も好ましい。
屈折率が低い導電性粒子として、多孔質シリカ系微粒子または内部に空洞を有するシリカ系微粒子に酸化アンチモンが被覆されてなる粒子を挙げることができる。具体的な調製方法は特開2005−119909号公報に記載されている。
Examples of the conductive coated fine particles include various fine particle surfaces such as titanium oxide (spherical, needle-shaped), potassium titanate, aluminum borate, barium sulfate, mica, silica, etc., and conductive particles such as tin oxide, ATO, and ITO. Conductive fine particles coated with: resin beads such as polystyrene, acrylic resin, epoxy resin, polyamide resin, polyurethane resin, melamine resin, and formaldehyde resin surface-treated with metal and metal oxide such as gold and / or nickel are preferable. . These are particles formed by forming a conductive portion of a metal or metal oxide on the outer surface of non-conductive particles, and have a feature that the surface has higher conductivity than the inside of the particles. The materials used for the surface treatment are metals and metal oxides, preferably metals. Of these, gold, silver or nickel, which are highly conductive and stable metals, are preferred, and gold is most preferred.
Examples of conductive particles having a low refractive index include particles obtained by coating porous silica-based fine particles or silica-based fine particles having cavities therein with antimony oxide. A specific preparation method is described in JP-A-2005-119909.

導電性粒子の一次粒子の質量平均粒径は1〜200nmであることが好ましく、より好
ましくは1〜150nm、さらに好ましくは1〜100nm、特に好ましくは1〜80nmである。導電性粒子の平均粒径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。また、分散された状態の2次粒子の質量平均粒子径は、1〜200nmであることが好ましく、好ましくは5〜150nmであり、さらに好ましくは10〜100nm、特に好ましくは10〜80nmである。導電性粒子を200nm以下に微細化することで透明性を損なわない帯電防止層を作製できる。
The primary particle mass average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 200 nm, more preferably 1 to 150 nm, still more preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 1 to 80 nm. The average particle diameter of the conductive particles can be measured by a light scattering method or an electron micrograph. The mass average particle diameter of the secondary particles in a dispersed state is preferably 1 to 200 nm, preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 100 nm, and particularly preferably 10 to 80 nm. By miniaturizing the conductive particles to 200 nm or less, an antistatic layer that does not impair transparency can be produced.

導電性粒子の比表面積は、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることがさらに好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The specific surface area of the conductive particles is preferably 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, and most preferably from 30 to 150 m 2 / g.

導電性粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、鱗片状、針状又は不定形状であることが好ましく、不定形状、針状、鱗片状であることが特に好ましい。
これら導電性粒子をバインダーに分散して帯電防止層を形成するには、帯電防止層の総構成成分に対して(AS層の固形分中)該導電性粒子の使用量は、5〜95質量%が好ましく、更に好ましくは、10〜90質量%、最も好ましくは30〜90%である。上記範囲だと導電性に優れ、膜強度の低下やヘイズの上昇などの弊害が少なく好ましい。
The shape of the conductive particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape, a scale shape, a needle shape, or an indefinite shape, and particularly preferably an indefinite shape, a needle shape, or a scale shape.
In order to form an antistatic layer by dispersing these conductive particles in a binder, the amount of the conductive particles used is 5 to 95 mass (in the solid content of the AS layer) with respect to the total components of the antistatic layer. %, More preferably 10 to 90% by mass, and most preferably 30 to 90%. The above range is preferable because it is excellent in conductivity and has less adverse effects such as a decrease in film strength and an increase in haze.

(導電性粒子の分散)
導電性粒子は、分散機を用いて分散することが好ましい。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例えば、ピン付きビーズミル)、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルなどが含まれる。サンドグラインダーミル、ダイノミルなどのメディア分散機が特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
(Dispersion of conductive particles)
The conductive particles are preferably dispersed using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (for example, a bead mill with pins), a dyno mill, a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor and a colloid mill. A media disperser such as a sand grinder mill or a dyno mill is particularly preferable. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

2−1−2.(芳香族基を有するバインダー)
AS層に用いられる上記芳香族基を有するバインダーとしては、芳香族基を含有するポリマーであれば特に制限無く用いることができるが、バインダーの屈折率を高くするためには、分子内に芳香族基に加えて、フッ素を除くハロゲン原子、イオウ原子などを含むことが好ましい。また、バインダー形成化合物は、分子内に重合性官能基を有することが好ましく、重合性官能基としては、エポキシ基、水酸基、シラノール基、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などの官能基を挙げることができる。なかでも、アクリロイル基又はメタクリロイル基を用いると、硬化して形成されるAS層が高硬度になり好ましい。すなわち、このような重合性官能基を有するバインダー形成化合物を用いた場合には、塗布組成物において低い分子量の化合物が、最終的な製品としての光学フィルムにおいては、重合反応により高分子量の重合体が形成され、高硬度の塗膜(AS層)が形成される。
2-1-2. (Binder with aromatic group)
As the binder having an aromatic group used in the AS layer, any polymer containing an aromatic group can be used without particular limitation. However, in order to increase the refractive index of the binder, an aromatic group is included in the molecule. In addition to the group, it preferably contains a halogen atom other than fluorine, a sulfur atom and the like. The binder-forming compound preferably has a polymerizable functional group in the molecule, and examples of the polymerizable functional group include functional groups such as an epoxy group, a hydroxyl group, a silanol group, a vinyl group, an acryloyl group, and a methacryloyl group. Can do. Among these, when an acryloyl group or a methacryloyl group is used, an AS layer formed by curing is preferable because of high hardness. That is, when a binder-forming compound having such a polymerizable functional group is used, a low molecular weight compound in the coating composition is converted into a high molecular weight polymer by a polymerization reaction in the final optical film. Is formed, and a high-hardness coating film (AS layer) is formed.

芳香族基を有するバインダー形成化合物の分子量としては、150以上2500以下が好ましく、更に好ましくは、300以上1500以下である。この領域の分子量にすることで、塗膜内での拡散性を付与することができ、塗膜からの揮散を抑制することができる。   The molecular weight of the binder-forming compound having an aromatic group is preferably 150 or more and 2500 or less, and more preferably 300 or more and 1500 or less. By setting it as the molecular weight of this area | region, the diffusibility in a coating film can be provided and the volatilization from a coating film can be suppressed.

本発明において、芳香族基を有するバインダーを形成する化合物として好ましく用いることのできる重合性官能基を有する化合物としては、分子内に芳香族基を有し、重合性官能基を1つ以上有する化合物であれば、特に制限はない。塗布・成膜時に拡散しAS層とN層の中間の屈折率層形成が容易でムラ防止に有効に働くため、屈折率が高い化合物が好ましく、分子内に複数の芳香族基又は硫黄原子、ハロゲン原子を含有する化合物が好ましい。本発明に好ましく用いることのできる化合物としては、以下の化合物を挙げることができる。   In the present invention, the compound having a polymerizable functional group that can be preferably used as a compound that forms a binder having an aromatic group includes a compound having an aromatic group in the molecule and having one or more polymerizable functional groups. If so, there is no particular limitation. A compound having a high refractive index is preferable because it diffuses during coating and film formation and easily forms an intermediate refractive index layer between the AS layer and the N layer and effectively works to prevent unevenness, and a plurality of aromatic groups or sulfur atoms in the molecule, Compounds containing halogen atoms are preferred. Examples of compounds that can be preferably used in the present invention include the following compounds.

(A)1分子内に2つのビニル基を有する含硫黄芳香族化合物
(B)1分子内に2つの(メタ)アクリロイル基を有する含硫黄芳香族化合物
(C)1分子内に2つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する含硫黄芳香族化合物
(D)1分子内に1つの(メタ)アクリロイル基を含有する含硫黄芳香族化合物
(A) Sulfur-containing aromatic compound having two vinyl groups in one molecule (B) Sulfur-containing aromatic compound having two (meth) acryloyl groups in one molecule (C) Two (meta) in one molecule ) Sulfur-containing aromatic compound having acryloyloxy group (D) Sulfur-containing aromatic compound having one (meth) acryloyl group in one molecule

以下、好ましい化合物について順次説明する。
(A)1分子内に2つのビニル基を有する含硫黄芳香族化合物
好ましい1つの態様として、下記一般式(I)で表される化合物が挙げられる。
Hereinafter, preferable compounds will be sequentially described.
(A) Sulfur-containing aromatic compound having two vinyl groups in one molecule A preferred embodiment is a compound represented by the following general formula (I).

一般式(I):
Formula (I):

式中、R1、R2、R3およびR4は、各々、同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは0〜10の整数を表す。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. n represents an integer of 0 to 10.

本発明における上記一般式(I)で表されるビニルスルフィド化合物におけるR1、R2、R3およびR4で表されるハロゲン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、炭素数1〜6のアルキル基としては、直鎖状、分枝状のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、ブチル、sec−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。好ましくは、R1〜R4はいずれも水素原子であり、nは0〜10、さらに好ましくは0〜2、特に、0である。かかるビニルスルフィド化合物としては、例えば、以下の化合物等を挙げることができる。 Examples of the halogen atom represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 in the vinyl sulfide compound represented by the general formula (I) in the present invention include chlorine, bromine, iodine, etc. Examples of the alkyl group of ˜6 include linear and branched alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, i-propyl, butyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl and the like. Preferably, R 1 to R 4 are all hydrogen atoms, and n is 0 to 10, more preferably 0 to 2, particularly 0. Examples of such vinyl sulfide compounds include the following compounds.

ビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジメチル−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラメチル−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ヘキシル−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジヘキシル−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−クロロ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジクロロ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラクロロ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ブロモ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジブロモ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラブロモ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、好ましくは、ビス(4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラクロロ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラブロモ−4−ビニルチオフェニル)スルフィド等である。   Bis (4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (3-methyl-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dimethyl-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6- Tetramethyl-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (3-hexyl-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dihexyl-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (3-chloro-4-vinyl) Thiophenyl) sulfide, bis (3,5-dichloro-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrachloro-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (3-bromo-4- Vinylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dibromo-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6) Tetrabromo-4-vinylthiophenyl) sulfide, preferably bis (4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrachloro-4-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2,3, 5,6-tetrabromo-4-vinylthiophenyl) sulfide and the like.

上記ビニルスルフィド化合物を製造する方法は特に限定するものではないが、例えば、アルカリの存在下、ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィドとジクロロエタンとを反応させた後、アルカリで脱塩化水素処理する方法等を挙げることができる。この場合、ジクロロエタンの使用量、仕込み方法等の反応条件を変えることにより、上記の一般式(I)のnの数が異なった化合物を得ることができる。   The method for producing the vinyl sulfide compound is not particularly limited. For example, after reacting bis (4-mercaptophenyl) sulfide with dichloroethane in the presence of an alkali, a method of dehydrochlorinating with an alkali, etc. Can be mentioned. In this case, compounds having different numbers of n in the above general formula (I) can be obtained by changing the reaction conditions such as the amount of dichloroethane used and the charging method.

(B)1分子内に2つの(メタ)アクリロイル基を有する含硫黄芳香族化合物
好ましい1つの態様として、下記一般式(II)で表される化合物が挙げられる。
(B) Sulfur-containing aromatic compound having two (meth) acryloyl groups in one molecule A preferred embodiment is a compound represented by the following general formula (II).

一般式(II):
General formula (II):

式中、R5、R6、R7およびR8は、各々、同一または異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す。 In the formula, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

上記一般式(II)で表されるメタクリル酸誘導体におけるR5、R6、R7およびR8で表されるハロゲン原子および炭素数1〜6のアルキル基としては、上記一般式(I)のR1〜R4と同様なものでよい。好ましくは、R5〜R8はいずれも水素原子である。かかるメタクリル酸誘導体としては、例えば、以下の化合物等を挙げることができる。 In the methacrylic acid derivative represented by the above general formula (II), the halogen atom represented by R 5 , R 6 , R 7 and R 8 and the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include those represented by the above general formula (I). It may be the same as R 1 to R 4 . Preferably, R 5 to R 8 are all hydrogen atoms. Examples of such methacrylic acid derivatives include the following compounds.

ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジメチル−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラメチル−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ヘキシル−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジヘキシル−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−クロロ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジクロロ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラクロロ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ブロモ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジブロモ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラブロモ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、好ましくは、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラクロロ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラブロモ−4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド等である。   Bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (3-methyl-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dimethyl-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6- Tetramethyl-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (3-hexyl-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (3,5-dihexyl-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (3-chloro-4-methacryloyl) Thiophenyl) sulfide, bis (3,5-dichloro-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrachloro-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (3-bromo-4- Methacryloylthiophenyl) sulfide, (3,5-dibromo-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrabromo-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, preferably bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrachloro-4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (2,3,5,6-tetrabromo-4-methacryloylthiophenyl) sulfide and the like.

(C)1分子内に2つの(メタ)アクリロイルオキシ基を有する含硫黄芳香族化合物
好ましい1つの態様として、下記一般式(III)で表されるビスチオフェノールスルフィドのアルキレンオキシド変性ジ(メタ)アクリレート系化合物が挙げられる。
(C) Sulfur-containing aromatic compound having two (meth) acryloyloxy groups in one molecule As a preferred embodiment, alkylene oxide modified di (meth) of bisthiophenol sulfide represented by the following general formula (III) Examples include acrylate compounds.

一般式(III):
General formula (III):

式中、R1,R2は水素又はメチル基を、Xはメチル基、塩素、臭素又はヨウ素を、tは0〜2の整数を、m,nはそれぞれ0〜3の整数を示す。 In the formula, R 1 and R 2 represent hydrogen or a methyl group, X represents a methyl group, chlorine, bromine or iodine, t represents an integer of 0 to 2, and m and n each represents an integer of 0 to 3.

一般式(III)において、mとnが共に0である化合物は結晶化しやすいので、m,nは1〜3の整数である化合物が好ましい。m,nが4以上である一般式(III)に類似の化合物を用いた場合には、耐熱性及び屈折率が低下するため好ましくない。   In general formula (III), a compound in which m and n are both 0 is easily crystallized, and therefore, a compound in which m and n are integers of 1 to 3 is preferable. When a compound similar to the general formula (III) in which m and n are 4 or more is used, it is not preferable because heat resistance and refractive index are lowered.

一般式(III)で示される化合物の具体例としては、ビス(4−メタクリロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシジエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシトリエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシトリエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシトリエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシジエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシジエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシ−3−クロロフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシエトキシ−3−クロロフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシジエトキシ−3−クロロフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシジエトキシ−3−クロロフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシ−3−ブロモフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシエトキシ−3−ブロモフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシジエトキシ−3−ブロモフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシジエトキシ−3−ブロモフェニル)スルフィド等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (III) include bis (4-methacryloxyphenyl) sulfide, bis (4-acryloxyphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) sulfide, bis (4- Acryloxyethoxyphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxydiethoxyphenyl) sulfide, bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxytriethoxyphenyl) sulfide, bis (4-acryloxytri) Ethoxyphenyl) sulfide, bis (4-acryloxytriethoxyphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxyethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4-acryloxyethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4 -Meta Liloxyethoxydiethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4-acryloxydiethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxyethoxy-3-chlorophenyl) sulfide, bis (4-acryloxyethoxy) -3-chlorophenyl) sulfide, bis (4-methacryloxyethoxydiethoxy-3-chlorophenyl) sulfide, bis (4-acryloxydiethoxy-3-chlorophenyl) sulfide, bis (4-methacryloxyethoxy-3-bromophenyl) ) Sulfide, bis (4-acryloxyethoxy-3-bromophenyl) sulfide, bis (4-methacryloxydiethoxy-3-bromophenyl) sulfide, bis (4-acryloxydiethoxy-3-bromophenyl) sulfide, etc. But It is below.

これらのうち、ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシジエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−メタクリロキシジエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロキシジエトキシ−3−メチルフェニル)スルフィドがより好ましい。   Among these, bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) sulfide, bis (4-acryloxyethoxyphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxyethoxydiethoxyphenyl) sulfide, bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) sulfide Bis (4-methacryloxyethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4-acryloxyethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4-methacryloxydiethoxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (4 -Acryloxydiethoxy-3-methylphenyl) sulfide is more preferred.

(D)1分子内に1つの(メタ)アクリロイル基を含有する含硫黄芳香族化合物
好ましくは、一般式(IV)及び一般式(V)で示される化合物が挙げられる。
(D) Sulfur-containing aromatic compound containing one (meth) acryloyl group in one molecule Preferably, the compound shown by general formula (IV) and general formula (V) is mentioned.

一般式(IV)
Formula (IV)

一般式(V)
General formula (V)

式中、R3は水素又はメチル基を、Yは塩素,臭素又はヨウ素を、R4は−O−CH2CH2−、−O−CH(CH3)CH2−、又は−O−CH2CH(OH)CH2−を、pは0〜5の整数、qは0〜4の整数、rは0〜3の整数を示す。 In the formula, R 3 represents hydrogen or a methyl group, Y represents chlorine, bromine or iodine, R 4 represents —O—CH 2 CH 2 —, —O—CH (CH 3 ) CH 2 —, or —O—CH. 2 CH (OH) CH 2 —, p is an integer of 0 to 5, q is an integer of 0 to 4, and r is an integer of 0 to 3.

一般式(IV)又は一般式(V)で示される化合物は、分子内に少なくとも1個の置換又は非置換のチオフェニル基、又は置換又は非置換のチオビフェニル基を有するアルキレンオキシド変性物のモノ(メタ)アクリレートである。   The compound represented by the general formula (IV) or the general formula (V) is a monoalkylene-modified product having at least one substituted or unsubstituted thiophenyl group or a substituted or unsubstituted thiobiphenyl group in the molecule ( (Meth) acrylate.

一般式(IV)又は(V)において、rが1以上であることで、化合物の安定性が向上し、光学フィルムの黄色変化が抑制される。また、rが3以下であることで耐湿熱性と屈折率を高めることができる。   In the general formula (IV) or (V), when r is 1 or more, the stability of the compound is improved, and yellowing of the optical film is suppressed. Moreover, when r is 3 or less, heat-and-moisture resistance and a refractive index can be improved.

一般式(IV)で示される化合物の具体例としては、フェニルチオエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオエトキシエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオジエトキシエチルチオ(メタ)アクリレート、フェニルチオ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオ−1−メチルエトキシ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、3−フェニルチオ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−クロロフェニルチオエチル(メタ)アクリレート、2−ブロモフェニルチオエチル(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモフェニルチオエチル(メタ)アクリレート、3−(2−ブロモフェニルチオ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−(2,4−ジブロモフェニルチオ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェニルチオエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (IV) include phenylthioethyl (meth) acrylate, phenylthioethoxyethyl (meth) acrylate, phenylthiodiethoxyethylthio (meth) acrylate, phenylthio-1-methylethyl ( (Meth) acrylate, phenylthio-1-methylethoxy-1-methylethyl (meth) acrylate, 3-phenylthio-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-chlorophenylthioethyl (meth) acrylate, 2-bromophenylthioethyl ( (Meth) acrylate, 2,4-dibromophenylthioethyl (meth) acrylate, 3- (2-bromophenylthio) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3- (2,4-dibromophenylthio) -2- Hydroxypropyl Meth) acrylate, 2-phenyl-phenylthioethyl (meth) acrylate.

また、一般式(V)で示される化合物の具体例としては、4−フェニルフェニルチオエチル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェニルチオ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、4−フェニルフェニルチオ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニルチオ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−(4−フェニルフェニルチオ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、等が挙げられる。   Specific examples of the compound represented by the general formula (V) include 4-phenylphenylthioethyl (meth) acrylate, 2-phenylphenylthio-1-methylethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenylthio-1 -Methylethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenylthio) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3- (4-phenylphenylthio) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc. .

これらのうち、フェニルチオエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオエトキシエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェニルチオ−1−メチルエトキシ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、3−フェニルチオ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェニルチオエチル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェニルチオ−1−メチルエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニルチオ)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートがより好ましい。   Among these, phenylthioethyl (meth) acrylate, phenylthioethoxyethyl (meth) acrylate, phenylthio-1-methylethyl (meth) acrylate, phenylthio-1-methylethoxy-1-methylethyl (meth) acrylate, 3- Phenylthio-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenylthioethyl (meth) acrylate, 2-phenylphenylthio-1-methylethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenylthio) -2-hydroxy Propyl (meth) acrylate is more preferred.

本発明において、芳香族としてフルオレン骨格を有する化合物も好ましく、重合性官能基としてエポキシアクリレートを含有する樹脂も好ましい。具体的化合物例は、特開平7−48424号公報記載の実施例1及び2の化合物を挙げることができる。
上記以外にも、高屈折率の光重合性樹脂して知られている、例えば特許第3218480号公報、特許第3363990号公報、特許第3397448号公報、特許第3441425号公報、特開平7−48424号公報、及び特開平9−111189号公報に記載の重合性芳香族化合物を用いることができる。
In the present invention, a compound having a fluorene skeleton as an aromatic is also preferable, and a resin containing epoxy acrylate as a polymerizable functional group is also preferable. Specific examples of the compound include the compounds of Examples 1 and 2 described in JP-A-7-48424.
In addition to the above, it is known as a photopolymerizable resin having a high refractive index. And polymerizable aromatic compounds described in JP-A-9-111189 can be used.

芳香族基を有するバインダーを形成する化合物の導電性粒子に対する使用量は、導電性粒子100質量部に対して3〜100質量部の範囲であることが、帯電防止層自身を高屈折率にし過ぎることなく、中間の屈折率領域を形成できる観点から好ましく、3〜60質量部の範囲であることがより好ましく、6〜30質量部であることが最も好ましい。   The amount of the compound forming the binder having an aromatic group used for the conductive particles is in the range of 3 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the conductive particles, so that the antistatic layer itself has an excessively high refractive index. In view of the ability to form an intermediate refractive index region, it is more preferably in the range of 3 to 60 parts by mass, and most preferably 6 to 30 parts by mass.

2−1−3.(屈折率1.55以上の無機微粒子)
また、上記AS層には実質導電性を有さない屈折率1.55以上の無機微粒子を含有するのが好ましい。実質導電性を有さないとは、体積抵抗が5000Ω/cm以上の無機粒子であることを意味し、チタン、ジルコニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモン、ケイ素、アルミニウムのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を含有することができる。該高屈折微粒子の平均粒子径は0.1〜100nmであることが好ましく、更に好ましくは0.5〜50nmであり、最も好ましくは1〜30nmである。
2-1-3. (Inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more)
Further, the AS layer preferably contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more that do not have substantial conductivity. Having no substantial conductivity means inorganic particles having a volume resistance of 5000 Ω / cm or more, and at least one selected from titanium, zirconium, indium, zinc, tin, antimony, silicon, and aluminum. The metal oxide can be contained. The average particle size of the highly refractive fine particles is preferably from 0.1 to 100 nm, more preferably from 0.5 to 50 nm, and most preferably from 1 to 30 nm.

このような高屈折率の無機微粒子の具体例としては、TiO2、ZrO2、Al23、等が挙げられる。ZrO2が高屈折率かつ分散安定性の点で特に好ましい。また、これら粒子とSiO2、がコアシエル型の構造となるか又は、混晶を形成していてもよい。これら無機微粒子の屈折率は1.55〜2.50が好ましく、より好ましくは1.58〜2.30である。この範囲より高屈折率の粒子を用いると、AS層自身の屈折率が高くなりすぎ隣設するN層との屈折率差が拡大して、かえって干渉ムラを増大させる傾向がある。また、この範囲より低い屈折率の粒子を用いると、粒子が拡散しても拡散した領域の屈折率を上昇させる効果が少なく、干渉ムラ低減の効果が低下する。 Specific examples of such high refractive index inorganic fine particles include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , and the like. ZrO 2 is particularly preferable from the viewpoint of high refractive index and dispersion stability. Further, these particles and SiO 2 may have a core shell type structure or may form a mixed crystal. The refractive index of these inorganic fine particles is preferably 1.55 to 2.50, more preferably 1.58 to 2.30. When particles having a refractive index higher than this range are used, the refractive index of the AS layer itself becomes too high, and the refractive index difference from the adjacent N layer increases, which tends to increase interference unevenness. Further, when particles having a refractive index lower than this range are used, the effect of increasing the refractive index of the diffused region is small even when the particles are diffused, and the effect of reducing interference unevenness is reduced.

TiO2を用いる場合には、TiO2単独では屈折率が高くなりすぎ好ましくないが、TiO2を主成分とする粒子に、Co(コバルト)、Al(アルミニウム)及びZr(ジルコニウム)から選ばれる少なくとも1つの元素を含有することで、屈折率を低下させることができる。またこれら方法によりTiO2が有する光触媒活性を抑えることができ、本発明のフィルムの耐候性を改良することができる。特に、好ましい元素はCo(コバルト)である。また2種類以上を併用することも好ましい。TiO2を主成分とする無機粒子は、表面処理により特開2001−166104号公報記載のごとく、コア/シェル構造を有していても良い。 In the case of using TiO 2 , TiO 2 alone is not preferable because the refractive index is too high, but the particles containing TiO 2 as the main component are at least selected from Co (cobalt), Al (aluminum), and Zr (zirconium). By containing one element, the refractive index can be lowered. Also it is possible to suppress the photocatalytic activity of TiO 2 has these methods, it is possible to improve the weather resistance of the film of the present invention. A particularly preferable element is Co (cobalt). It is also preferable to use two or more types in combination. The inorganic particles containing TiO 2 as a main component may have a core / shell structure by surface treatment as described in JP-A No. 2001-166104.

該無機微粒子の粒子サイズは、導電性粒子のそれよりも小さいほうが好ましく、導電性
粒子の平均粒子サイズの60%以下であると更に好ましい。無機微粒子の表面は、有機基により表面処理され無機粒子間の凝集性が低下していることで、無機微粒子同士の凝集による拡散性の低下が少なくなり好ましい。
無機微粒子の導電性粒子に対する使用量は、導電性粒子100質量部に対して3〜100質量部の範囲であることが好ましく、3〜60質量部の範囲であることがより好ましく、6〜30質量部であることが最も好ましい。
The particle size of the inorganic fine particles is preferably smaller than that of the conductive particles, and more preferably 60% or less of the average particle size of the conductive particles. The surface of the inorganic fine particles is preferably surface-treated with an organic group and the cohesiveness between the inorganic particles is reduced, so that the decrease in diffusibility due to the aggregation of the inorganic fine particles is reduced.
The amount of the inorganic fine particles used with respect to the conductive particles is preferably in the range of 3 to 100 parts by weight, more preferably in the range of 3 to 60 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the conductive particles, and 6 to 30. Most preferably, it is part by mass.

2−1−4.(導電性粒子の分散剤)
塗布組成物において導電性粒子は、分散剤の存在下で分散媒体中に分散することが好ましい。分散剤を用いて分散することにより、導電性粒子は極めて微細に分散することができ、透明な帯電防止層の作製を可能にする。
本発明に用いられる導電性粒子の分散には、アニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ基)、リン酸基(ホスホノ基)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、又はその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基又はその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。
2-1-4. (Dispersant for conductive particles)
In the coating composition, the conductive particles are preferably dispersed in a dispersion medium in the presence of a dispersant. By dispersing using a dispersant, the conductive particles can be dispersed very finely, making it possible to produce a transparent antistatic layer.
For dispersing the conductive particles used in the present invention, it is preferable to use a dispersant having an anionic group. As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo group), a phosphoric acid group (phosphono group), a sulfonamide group, or a salt thereof is effective. Group, phosphoric acid group or a salt thereof are preferred, and carboxyl group and phosphoric acid group are particularly preferred.

1分子当たりの分散剤に含有されるアニオン性基の数は1個以上であればよい。導電性粒子の分散性をさらに改良する目的で、分散剤にはアニオン性基が1分子当たり複数個含有されていてもよい。1分子当たり平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。   The number of anionic groups contained in the dispersant per molecule may be one or more. For the purpose of further improving the dispersibility of the conductive particles, the dispersant may contain a plurality of anionic groups per molecule. The average number per molecule is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more. Moreover, the anionic group contained in a dispersing agent may contain multiple types in 1 molecule.

アニオン性の極性基を有する分散剤としては、「ホスファノール」{PE−510、PE−610、LB−400、EC−6103、RE−410など;以上東邦化学工業(株)製}、“Disperbyk”(−110、−111、−116、−140、−161、−162、−163、−164、−170、−171など;以上ビックケミー・ジャパン社製)などが挙げられる。   Examples of the dispersant having an anionic polar group include “phosphanol” {PE-510, PE-610, LB-400, EC-6103, RE-410 and the like; manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.}, “Disperbyk” (-110, -111, -116, -140, -161, -162, -163, -164, -170, -171, etc .; as described above, manufactured by Big Chemie Japan).

分散剤は、さらに架橋性又は重合性の官能基を含有することが好ましい。架橋性又は重合性の官能基としては、ラジカル種による架橋反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基{例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等}、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。   The dispersant preferably further contains a crosslinkable or polymerizable functional group. Examples of the crosslinkable or polymerizable functional group include an ethylenically unsaturated group {for example, a (meth) acryloyl group, an allyl group, a styryl group, a vinyloxy group, etc.} that can undergo a crosslinking reaction / polymerization reaction with a radical species, a cationic polymerizable group (Epoxy group, oxatanyl group, vinyloxy group, etc.), polycondensation reactive group (hydrolyzable silyl group, N-methylol group) and the like can be mentioned, and a functional group having an ethylenically unsaturated group is preferred.

本発明における帯電防止層での導電性粒子の分散に用いる分散剤は、アニオン性基、及び、架橋性又は重合性の官能基を有し、且つ該架橋性又は重合性の官能基を側鎖に有する分散剤であることが特に好ましい。   The dispersant used for dispersing the conductive particles in the antistatic layer in the present invention has an anionic group and a crosslinkable or polymerizable functional group, and the crosslinkable or polymerizable functional group is a side chain. It is particularly preferable that the dispersant is included in

上記の、本発明において特に好ましい分散剤の質量平均分子量(Mw)は、特に限定されないが1000以上であることが好ましい。該分散剤のより好ましい質量平均分子量(Mw)は2000〜1000000であり、さらに好ましくは5000〜200000、特に好ましくは10000〜100000である。   The weight average molecular weight (Mw) of the above-described dispersant particularly preferable in the present invention is not particularly limited, but is preferably 1000 or more. The dispersant preferably has a mass average molecular weight (Mw) of 2,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 200,000, and particularly preferably 10,000 to 100,000.

分散剤の導電性粒子に対する使用量は、導電性粒子100質量部に対して1〜50質量部の範囲であることが好ましく、5〜30質量部の範囲であることがより好ましく、5〜20質量部であることが最も好ましい。また、分散剤は2種類以上を併用してもよい。   The amount of the dispersant used relative to the conductive particles is preferably in the range of 1 to 50 parts by weight, more preferably in the range of 5 to 30 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the conductive particles. Most preferably, it is part by mass. Two or more dispersants may be used in combination.

本発明においては、導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機粒子も導電性粒子と
同様に分散剤を用いて分散することができ、アニオン性基を有する分散剤が好ましい。また、無機粒子表面に強く相互作用するAl、Ti、Zrなどの原子を含むカップリング剤やオルガノシラン化合物で無機粒子の表面を処理し疎水的にすることが特に好ましい。これら処理剤を使用することで導電性粒子に比較して、塗布時の隣設層への粒子の拡散が容易となり本発明のムラ低減の効果が発現されやすい。Al、Ti、Zr系のカップリング剤は、特開2003−96400号公報の[0039]〜[0040]、特開2000−47004号公報の[0050]に記載の化合物が好ましい。オルガノシラン化合物は、例えば特開2005−307158号公報の[0025]〜[0031]、[0037]〜[0039]に記載の化合物や、特開平11−43319号公報の[0052]〜[0056]に記載の化合物が好ましい。
In the present invention, inorganic particles having a refractive index of 1.55 or more different from the conductive particles can be dispersed using a dispersant in the same manner as the conductive particles, and a dispersant having an anionic group is preferable. Further, it is particularly preferable to treat the surface of the inorganic particles with a coupling agent or an organosilane compound containing atoms such as Al, Ti and Zr that strongly interact with the surface of the inorganic particles to make them hydrophobic. By using these treatment agents, compared to the conductive particles, the diffusion of the particles to the adjacent layer at the time of coating becomes easy, and the effect of reducing unevenness of the present invention is easily exhibited. As the Al, Ti, Zr-based coupling agent, compounds described in JP-A 2003-96400 [0039] to [0040] and JP-A 2000-47004 [0050] are preferable. Examples of the organosilane compound include compounds described in [0025] to [0031] and [0037] to [0039] of JP-A No. 2005-307158, and [0052] to [0056] of JP-A No. 11-43319. Are preferred.

2−1−5.(導電性粒子の分散媒体)
分散媒体は、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例えば、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例えば、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例えば、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例えば、1−メトキシ−2−プロパノール)が含まれる。その他、プロピレングリコールモノアルキルエーテル(炭素数1〜4のアルキル基)、又は、プロピレングリコールモノアルキルエーテルエステル(炭素数1〜4のアルキル基)が分散性に優れ好ましい。この中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノール及びプロピレングリコールモノエチルエーテルが好ましい。
特に好ましい分散媒体は、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルである。
2-1-5. (Dispersion medium of conductive particles)
As the dispersion medium, a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. is preferably used. Examples of dispersion media include water, alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, Ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride) , Aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofurane) ), Ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol) are included. In addition, propylene glycol monoalkyl ether (alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) or propylene glycol monoalkyl ether ester (alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) is excellent in dispersibility and preferable. Among these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, butanol and propylene glycol monoethyl ether are preferable.
Particularly preferred dispersion media are methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monoethyl ether.

2−1−6.(他のバインダー)
AS層には、上記の芳香族基を有するバインダー以外に他のバインダーを用いることもできる。該他のバインダー形成用化合物としては、非硬化系の熱可塑性樹脂、又は熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のような硬化系樹脂等を用いることができる。塗膜の硬度上昇の点からは硬化性樹脂を用いることが好ましく、特に好ましくはラジカル重合性基を有する電離放射線硬化モノマー又はカチオン重合性モノマーである。
2-1-6. (Other binders)
Other binders can be used for the AS layer in addition to the binder having the aromatic group. As the other binder-forming compound, a non-curable thermoplastic resin, or a curable resin such as a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin can be used. From the viewpoint of increasing the hardness of the coating film, a curable resin is preferably used, and an ionizing radiation curable monomer or a cationic polymerizable monomer having a radical polymerizable group is particularly preferable.

以下ラジカル重合性基を有する電離放射線硬化樹脂について説明する。
ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。またラジカル重合性基には、分子内に2個以上のラジカル重合性基を有する多官能モノマーを含有することが好ましい。ラジカル重合性基を有する多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
The ionizing radiation curable resin having a radical polymerizable group will be described below.
Examples of the radical polymerizable group include ethylenically unsaturated groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyloxy group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. The radical polymerizable group preferably contains a polyfunctional monomer having two or more radical polymerizable groups in the molecule. Two or more kinds of polyfunctional monomers having a radical polymerizable group may be used in combination.

ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも2個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に2〜6個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体もしくはオリゴマー、又はそれらの混合物もしくはそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。   The radical polymerizable polyfunctional monomer is preferably selected from compounds having at least two terminal ethylenically unsaturated bonds. Preferably, it is a compound having 2 to 6 terminal ethylenically unsaturated bonds in the molecule. Such a compound group is widely known in the polymer material field, and these can be used without particular limitation in the present invention. These can have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers or oligomers, or mixtures or copolymers thereof.

ラジカル重合性モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類や、アミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の、親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類又はチオール類との反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えられた化合物群を使用することも可能である。   Examples of radically polymerizable monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, and amides, preferably Examples include esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds. In addition, unsaturated carboxylic acid esters having nucleophilic substituents such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amides, monofunctional or polyfunctional isocyanates, addition products of epoxies, polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a carboxylic acid is also preferably used. A reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent, such as an isocyanate group or an epoxy group, and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. . As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシトール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリトリトール、ソルビトール、ジペンタエリトリトール、トリペンタエリトリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物(モノエステル又はポリエステル)、例えば、特開2001−139663号公報段落番号[0026]〜[0027]記載の化合物が挙げられる。   Examples of the aliphatic polyhydric alcohol compound include alkanediol, alkanetriol, cyclohexanediol, cyclohexanetriol, inositol, cyclohexanedimethanol, pentaerythritol, sorbitol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, glycerin, diglycerin and the like. Polymerizable ester compounds (monoesters or polyesters) of these aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids, for example, compounds described in JP-A No. 2001-139663, paragraph numbers [0026] to [0027]. .

その他の重合性エステルの例としては、例えば、ビニル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレートや、特公昭46−27926号公報、特公昭51−47334号公報及び特開昭57−196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類、特開平2−226149号公報等に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を有するものなども好適に用いられる。   Examples of other polymerizable esters include, for example, vinyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, and JP-A-57-196231. The aliphatic alcohol esters described above, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149, and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス−(メタ)アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、特公昭54−21726号公報に記載のシクロヘキシレン構造を有するものなどを挙げることができる。   Specific examples of polymerizable amides formed from an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylene bis- (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene bis- (meth) acrylamide, diethylenetriamine tris ( Examples include meth) acrylamide, xylylene bis (meth) acrylamide, and those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物(特公昭48−41708号公報等)、ウレタンアクリレート類(特公平2−16765号公報、特開平2005−272702号公報 例示化合物 PETA−IPDI−PETA、PETA−TDI−PETA、HEA−IPDI−HEA、U−15HAなど)、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物(特公昭62−39418号公報等)、ポリエステルアクリレート類(特公昭52−30490号公報等)、更に、「日本接着協会誌」20巻7号300〜308頁(1984年)に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーも使用することができる。
特に高屈折率モノマーの例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4’−メトキシフェニルチオエーテル等を用いることができる。
Also, vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule (Japanese Patent Publication No. 48-41708), urethane acrylates (Japanese Patent Publication No. 2-16765, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-272702). Exemplary compounds PETA-IPDI-PETA, PETA-TDI-PETA, HEA-IPDI-HEA, U-15HA, etc.), urethane compounds having an ethylene oxide skeleton (Japanese Patent Publication No. 62-39418), polyester acrylates (special Further, photocurable monomers and oligomers described in “Journal of Japan Adhesion Association”, Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984) can also be used.
In particular, examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like.

モノマー自身の拡散性が低く、硬化膜の強度を上げるために、下記に記載のイソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレート(特開2005−103973号公報に記載)の化合物も好ましい。   In order to reduce the diffusibility of the monomer itself and increase the strength of the cured film, compounds of isocyanuric acid ethoxy-modified diacrylate (described in JP-A-2005-103973) described below are also preferable.

イソシアヌル酸アクリレート系化合物の具体化合物としては例えば、東亞合成(株)製のアロニックスM-215等が挙げられる。
上記化合物は、3官能以上のアクリレートと併用することで、低カールで耐擦傷性に優れる塗膜を形成することができる。
Specific examples of the isocyanuric acid acrylate compound include Aronix M-215 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
The above compound can form a coating film having low curl and excellent scratch resistance when used in combination with a trifunctional or higher functional acrylate.

また、分子量が高く耐拡散性に優れ、架橋基密度を高くすることができる化合物として、多分岐ポリマーを核とし、その分岐枝末端に硬化性反応基が結合された硬化性多分岐ポリマーを用いることも好ましい。具体的化合物は、特開2006−10829公報の段落番号0045〜0099に記載のものを用いることができる。   In addition, as a compound having a high molecular weight, excellent diffusion resistance, and a high crosslinking group density, a curable multi-branched polymer in which a multi-branched polymer is used as a nucleus and a curable reactive group is bonded to the end of the branched branch is used. It is also preferable. Specific compounds described in paragraph Nos. 0045 to 0099 of JP-A-2006-10829 can be used.

以下、別の好ましい態様であるカチオン重合性モノマーについて説明する。
カチオン重合性モノマーとしては、1分子中のカチオン重合性基の数は2〜10個が好ましく、特に好ましくは2〜5個である。該化合物の分子量は3000以下であることが好ましく、より好ましくは200〜2000の範囲、特に好ましくは400〜1500の範囲である。この範囲であれば、皮膜形成過程での揮発が問題となることなく、バインダー形成用化合物との相溶性の点でも問題なく、好ましい。
カチオン重合性モノマーの1つであるエポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物及び芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
Hereinafter, another preferred embodiment of the cationic polymerizable monomer will be described.
As the cationic polymerizable monomer, the number of cationic polymerizable groups in one molecule is preferably 2 to 10, particularly preferably 2 to 5. The molecular weight of the compound is preferably 3000 or less, more preferably in the range of 200 to 2000, particularly preferably in the range of 400 to 1500. If it is this range, volatilization in a film formation process does not become a problem, and there is no problem also in the point of compatibility with the compound for binder formation, and it is preferable.
Examples of the epoxy compound that is one of the cationic polymerizable monomers include aliphatic epoxy compounds and aromatic epoxy compounds.

脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレート等のホモポリマーやコポリマーなどを挙げることができる。さらに、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、或いは不飽和脂環族環(例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等)含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。   Examples of the aliphatic epoxy compound include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, homopolymers and copolymers such as glycidyl (meth) acrylate, and the like. be able to. In addition to the above epoxy compounds, for example, monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, butyl epoxide stearate, octyl epoxide stearate, epoxidized linseed oil, epoxidized polybutadiene, etc. Can be mentioned. Examples of the alicyclic epoxy compound include polyglycidyl ether of polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring, or unsaturated alicyclic ring (for example, cyclohexene, cyclopentene, dicyclooctene, tricyclodecene, etc. ) Cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compound obtained by epoxidizing the containing compound with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid.

また、芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも1個の芳香核を有する1価又は多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のモノ又はポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平11−242101号明細書中の段落番号[0084]〜[0086]記載の化合物、特開平10−158385号明細書中の段落番号[0044]〜[0046]記載の化合物等が挙げられる。   Examples of the aromatic epoxy compound include mono- or polyglycidyl ethers of mono- or polyhydric phenols having at least one aromatic nucleus or alkylene oxide adducts thereof. As these epoxy compounds, for example, compounds described in paragraphs [0084] to [0086] of JP-A No. 11-242101, paragraph numbers [0044] to [0046] of JP-A No. 10-158385, and the like. And the compounds described.

これらのエポキシ化合物のうち、迅速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の1種を単独で使用してもよいが、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。   Among these epoxy compounds, aromatic epoxides and alicyclic epoxides are preferable, and alicyclic epoxides are particularly preferable in consideration of rapid curability. In the present invention, one of the above epoxy compounds may be used alone, but two or more may be used in appropriate combination.

環状チオエーテル化合物を用いてもよく、上記のエポキシ環がチオエポキシ環となる化合物が挙げられる。   A cyclic thioether compound may be used, and examples thereof include compounds in which the epoxy ring is a thioepoxy ring.

環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物を用いてもよく、具体的には、例えば特開2000−239309号明細書中の段落番号[0024]〜[0025]に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用すること
が好ましい。
A compound containing an oxetanyl group as a cyclic ether may be used, and specific examples include the compounds described in paragraphs [0024] to [0025] of JP-A No. 2000-239309. These compounds are preferably used in combination with an epoxy group-containing compound.

スピロオルソエステル化合物を用いてもよく、例えば特表2000−506908号公報等記載の化合物を挙げることができる。   Spiro ortho ester compounds may be used, and examples thereof include compounds described in JP-T-2000-506908.

AS層に上記の他のバインダーを用いる場合、該他のバインダーの分子量は、好ましくは250〜5000、更に好ましくは400〜3000である。
また、上記の他のバインダーの使用量は、導電性粒子100質量部に対して10〜70質量部とするのが好ましく、15〜40質量部とするのが更に好ましい。
AS層の屈折率は、汎用の導電性粒子を使用して導電性を付加するという観点からは、1.53〜2.10とするのが好ましく、1.58〜1.80とするのが更に好ましい。
また、AS層の帯電防止性能を示すAS層の上に塗布層がない場合の表面抵抗値は、光学フイルムの電荷漏洩を速め、防塵性を付与する観点から、1×105Ω/□〜1×1012Ω/□とするのが好ましく、1×106Ω/□〜1×1011Ω/□とするのが更に好ましい。
When the other binder is used in the AS layer, the molecular weight of the other binder is preferably 250 to 5000, and more preferably 400 to 3000.
Moreover, it is preferable to set it as 10-70 mass parts with respect to 100 mass parts of electroconductive particles, and, as for the usage-amount of said other binder, it is still more preferable to set it as 15-40 mass parts.
The refractive index of the AS layer is preferably 1.53 to 2.10, and preferably 1.58 to 1.80 from the viewpoint of adding conductivity using general-purpose conductive particles. Further preferred.
Further, the surface resistance value when the coating layer is not formed on the AS layer showing the antistatic performance of the AS layer is from 1 × 10 5 Ω / □ to accelerate the charge leakage of the optical film and impart dust resistance. It is preferably 1 × 10 12 Ω / □, and more preferably 1 × 10 6 Ω / □ to 1 × 10 11 Ω / □.

2−1−7.(重合開始剤)
AS層には、電離放射線又は熱をトリガーとした重合開始剤を含有することができる。
2-1-7. (Polymerization initiator)
The AS layer can contain a polymerization initiator triggered by ionizing radiation or heat.

[光ラジカル重合開始剤]
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類(特開2001−139663号等)、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
[Photo radical polymerization initiator]
Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides (JP-A No. 2001-139663, etc.), 2, 3 -Dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins and the like.

これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159、及び、「紫外線硬化システム」 加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、p.65〜148にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
These initiators may be used alone or in combination.
“Latest UV Curing Technology”, Technical Information Association, 1991, p. 159, and “UV curing system” written by Kayo Kiyomi, 1989, General Technology Center, p. Various examples are also described in 65-148 and are useful in the present invention.

市販の光ラジカル重合開始剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX−S,BP−100,BDMK,CTX,BMS,2−EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,500,819,907,369,1173,1870,2959,4265,4263など)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等およびそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。   Commercially available radical photopolymerization initiators include KAYACURE (DETX-S, BP-100, BDKM, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. MCA, etc.), Irgacure (651, 184, 500, 819, 907, 369, 1173, 1870, 2959, 4265, 4263, etc.) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., Esacure (KIP100F, KB1, manufactured by Sartomer) EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) and the like and combinations thereof are preferred examples.

光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。   It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.

[熱開始剤]
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2'−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2'−アゾビ
ス(プロピオニトリル)、1,1'−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
[Thermal initiator]
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile) as azo compounds such as ammonium sulfate and potassium persulfate And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.

[光酸発生剤]
光酸発生剤としては、例えば、(1)ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等の各種オニウム塩;(2)β−ケトエステル、β−スルホニルスルホンとこれらのα−ジアゾ化合物等のスルホン化合物;(3)アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等のスルホン酸エステル類;(4)スルホンイミド化合物類;(5)ジアゾメタン化合物類;その他を挙げることができ、適宜使用することができる。
[Photoacid generator]
Examples of the photoacid generator include (1) various onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, ammonium salts, pyridinium salts; (2) β-ketoesters, β-sulfonylsulfones and their α -Sulfone compounds such as diazo compounds; (3) Sulfonic esters such as alkyl sulfonates, haloalkyl sulfonates, aryl sulfonates, imino sulfonates; (4) Sulfonimide compounds; (5) Diazomethane compounds; Others can be mentioned and can be used as appropriate.

光酸発生剤は、単独で、又は2種以上を併用することができ、さらに前記熱酸発生剤と併用することもできる。感光性酸発生剤の使用割合は、バインダー形成用化合物100質量部に対して、好ましくは0〜20質量部、さらに好ましくは0.1〜10質量部である。感光性酸発生剤の割合が該上限値以下であれば、得られる硬化膜の強度が優れたものとなり、透明性も良好なので好ましい。   The photoacid generator can be used alone or in combination of two or more, and can also be used in combination with the thermal acid generator. The use ratio of the photosensitive acid generator is preferably 0 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder-forming compound. If the ratio of the photosensitive acid generator is less than or equal to the upper limit, it is preferable because the resulting cured film has excellent strength and good transparency.

感光性酸発生剤の使用割合は、バインダー形成用化合物100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、さらに好ましくは0.1〜5質量部である。
その他、具体的な化合物や使用法として、例えば特開2005−43876号記載の内容などを用いることができる。
The use ratio of the photosensitive acid generator is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder-forming compound.
In addition, as specific compounds and methods of use, for example, the contents described in JP-A-2005-43876 can be used.

2−1−8.(面状改良剤)
支持体上のいずれかの層を作製するのに用いる塗布液には、面状故障(塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥など)を改良するために、フッ素系及びシリコーン系の少なくともいずれかの面状改良剤を添加することが好ましい。
2-1-8. (Surface improver)
The coating liquid used to produce any layer on the support has at least one of fluorine and silicone surfaces to improve surface defects (coating irregularities, drying irregularities, point defects, etc.) It is preferable to add a state improver.

面状改良剤は、塗布液の表面張力を1mN/m以上変化させることが好ましい。ここで、塗布液の表面張力が1mN/m以上変化するとは、面状改良剤を添加後の塗布液の表面張力が、塗布/乾燥時での濃縮過程を含めて、面状改良剤を添加してない塗布液の表面張力と比較して、1mN/m以上変化することを意味する。好ましくは、塗布液の表面張力を1mN/m以上下げる効果がある面状改良剤であり、更に好ましく2mN/m以上下げる面状改良剤、特に好ましくは3mN/m以上下げる面状改良剤である。   The surface improver preferably changes the surface tension of the coating solution by 1 mN / m or more. Here, when the surface tension of the coating liquid changes by 1 mN / m or more, the surface tension of the coating liquid after the addition of the surface conditioner is added, including the concentration process during coating / drying. It means that it changes by 1 mN / m or more as compared with the surface tension of the coating liquid that has not been applied. Preferably, it is a surface conditioner that has the effect of lowering the surface tension of the coating solution by 1 mN / m or more, more preferably a surface conditioner that lowers by 2 mN / m or more, and particularly preferably a surface conditioner that lowers by 3 mN / m or more. .

フッ素系の面状改良剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基を含有する化合物が挙げられる。好ましい化合物の例は、特開2005−115359号、特開2005−221963号、特開2005−234476号に記載の化合物を挙げることができる。   Preferable examples of the fluorine-based surface improver include compounds containing a fluoroaliphatic group. Examples of preferred compounds include those described in JP-A-2005-115359, JP-A-2005-221963, and JP-A-2005-234476.

2−1−9.(塗布溶剤)
本発明のAS層を形成するための塗布組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は2種類以上のものを混合して用いることができる。特に、乾燥負荷の観点から、常圧室温における沸点が100℃以下の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
2-1-9. (Coating solvent)
As a solvent used in the coating composition for forming the AS layer of the present invention, it is possible to dissolve or disperse each component, to easily form a uniform surface in the coating process and the drying process, and to ensure liquid storage stability. It is possible to use various solvents selected from the viewpoints of being able to be used and having an appropriate saturated vapor pressure.
Two or more kinds of solvents can be mixed and used. In particular, from the viewpoint of drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed.

沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C), ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ether) Ketones such as Luketone, 79.6 ° C, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.

沸点が100℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。   Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include, for example, octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), and chlorobenzene (131.7 ° C.). , Dioxane (101.3 ° C), dibutyl ether (142.4 ° C), isobutyl acetate (118 ° C), cyclohexanone (155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C) 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

2−2.(N層)
次に、N層について説明する。
N層は、上記AS層に隣設される、導電性がなく、更には硬化性バインダー形成化合物から形成される高硬度の層である。N層は光学フイルムの鉛筆硬度を上げるために、ハードコート層を兼ねることも好ましい。N層の硬化性バインダー形成化合物はAS層の(他のバインダー)の項で述べたものを用いることができる。特にN層においては、上記の他のバインダー形成化合物の好ましい分子量は、バインダー形成化合物に分子量が高い成分を共存させることでAS層からの必要以上の成分の拡散を抑制することができることから、300〜5000、更に好ましくは350〜5000、最も好ましくは400〜3000である。
また、N層の構成成分としては、AS層で述べた、重合開始剤、面状改良剤、希釈溶媒、無機・有機・有機無機ハイブリッドの粒子等を本発明の所望の効果を損なわない範囲で用いることができる。
2-2. (N layer)
Next, the N layer will be described.
The N layer is a high-hardness layer formed next to the AS layer, which is formed of a non-conductive and further curable binder-forming compound. The N layer also preferably serves as a hard coat layer in order to increase the pencil hardness of the optical film. As the N-layer curable binder-forming compound, those described in the section of (other binder) of the AS layer can be used. Particularly in the N layer, the preferable molecular weight of the other binder-forming compound is that the diffusion of an unnecessary component from the AS layer can be suppressed by allowing a component having a high molecular weight to coexist in the binder-forming compound. To 5000, more preferably 350 to 5000, and most preferably 400 to 3000.
In addition, as a constituent component of the N layer, the polymerization initiator, the surface conditioner, the diluting solvent, the inorganic / organic / organic / inorganic hybrid particles described in the AS layer, and the like within a range not impairing the desired effect of the present invention. Can be used.

N層の屈折率は、層の硬度向上の観点から、1.45〜1.53とするのが好ましく、1.48〜1.53とするのが更に好ましい。
また、N層の導電性能を示す表面抵抗は、N層自身を30μm厚でトリアセチルセルロースフイルムに塗布・硬化させて膜で測定し、1×1013Ω/□以上である。
The refractive index of the N layer is preferably 1.45 to 1.53, more preferably 1.48 to 1.53, from the viewpoint of improving the hardness of the layer.
Further, the surface resistance indicating the conductive performance of the N layer is 1 × 10 13 Ω / □ or more as measured by a film obtained by applying and curing the N layer itself to a triacetyl cellulose film with a thickness of 30 μm.

2−3.(層領域)
次に層領域について説明する。
層領域は、好ましくは上述のように第1〜第3の形態の何れかの形態の層であって、AS層の構成成分とN層の構成成分とが混合されて形成されている層である。導電性粒子に対する芳香族基を有するバインダーの質量比(AR/P)をAS層形成用塗布液自身と層領域で比較することにより、層領域中に芳香族基含有バインダー形成用化合物が導電性粒子よりも優先して拡散してきている程度を見積もることができる。AS層塗布液の(AR/P)に対する層領域中の(AR/P)は、1.10以上が好ましく、2.0以上100
0以下が更に好ましい。
また、層領域の屈折率は、干渉ムラ低減の観点から、N(n)+0.05△N 〜 N(n)+0.95△Nとするのが好ましく、N(n)+0.30△N 〜 N(n)+0.70△Nとするのが更に好ましい。
2-3. (Layer area)
Next, the layer region will be described.
The layer region is preferably a layer in any one of the first to third modes as described above, and is a layer formed by mixing the components of the AS layer and the components of the N layer. is there. By comparing the mass ratio (AR / P) of the binder having an aromatic group to the conductive particles in the AS layer forming coating solution itself and the layer region, the aromatic group-containing binder forming compound is conductive in the layer region. The degree of diffusion preferentially over the particles can be estimated. (AR / P) in the layer region with respect to (AR / P) of the AS layer coating solution is preferably 1.10 or more, and 2.0 or more and 100.
0 or less is more preferable.
The refractive index of the layer region is preferably N (n) + 0.05ΔN to N (n) + 0.95ΔN from the viewpoint of reducing interference unevenness, and N (n) + 0.30ΔN. It is more preferable that N (n) + 0.70ΔN.

3.(本発明の光学フィルムのその他構成層)
3−1.(ハードコート層)
本発明の光学フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、好ましくは支持体の一方の面にハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
3. (Other constituent layers of the optical film of the present invention)
3-1. (Hard coat layer)
In order to give the physical strength of the film to the optical film of the present invention, a hard coat layer can be preferably provided on one surface of the support. The hard coat layer may be composed of a laminate of two or more layers.

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常0.5μm〜50μm程度とし、好ましくは1μm〜20μm、さらに好ましくは2μm〜10μm、最も好ましくは3μm〜7μmである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
さらに、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
The film thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm to 10 μm, and most preferably 3 μm, from the viewpoint of imparting sufficient durability and impact resistance to the film. ~ 7 μm.
Further, the strength of the hard coat layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test.
Furthermore, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、(メタ)アクリロイル基が好ましい。また、光重合性官能基を有する多官能モノマーやオリゴマーを用いる場合には、後述する光ラジカル重合開始剤を併用するのが好ましい。
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, it can be formed by coating a coating composition containing an ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a support and causing the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction. .
The functional group of the ionizing radiation-curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer is preferably a light, electron beam, or radiation polymerizable group, and among them, a photopolymerizable functional group is preferable.
Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group is preferable. Moreover, when using the polyfunctional monomer and oligomer which have a photopolymerizable functional group, it is preferable to use together the photoradical polymerization initiator mentioned later.

上記の重合性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性の官能基をバインダーに導入してもよい。架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を有するモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋性官能基を有するバインダーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。   Instead of or in addition to the monomer having a polymerizable unsaturated group, a crosslinkable functional group may be introduced into the binder. Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydrides, cyanoacrylate derivatives, melamine, etherified methylol, esters and urethanes, and metal alkoxides such as tetramethoxysilane can also be used as monomers having a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition. The binder having these crosslinkable functional groups can form a crosslinked structure by heating after coating.

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、高屈折率モノマーまたは無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマーおよび/又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。   For the purpose of controlling the refractive index of the hard coat layer, a high refractive index monomer, inorganic particles, or both can be added to the binder of the hard coat layer. In addition to the effect of controlling the refractive index, the inorganic particles also have the effect of suppressing cure shrinkage due to the crosslinking reaction. In the present invention, a polymer formed by polymerizing the polyfunctional monomer and / or the high refractive index monomer after the hard coat layer is formed, and the inorganic particles dispersed therein are referred to as a binder.

ハードコート層のヘイズは、光学フィルムに付与させる機能によって異なる。
画像の鮮明性を維持し、表面の反射率を抑えて、ハードコート層の内部及び表面にて光散乱機能を付与しない場合は、ヘイズ値は低い程良く、具体的には10%以下が好ましく、更に好ましくは5%以下であり、最も好ましくは2%以下である。
The haze of the hard coat layer varies depending on the function imparted to the optical film.
In the case where the sharpness of the image is maintained, the reflectance of the surface is suppressed, and the light scattering function is not imparted inside and on the surface of the hard coat layer, the haze value is preferably as low as possible, specifically 10% or less is preferable. More preferably, it is 5% or less, and most preferably 2% or less.

また、ハードコート層の表面凹凸形状については、画像の鮮明性を維持する目的で、クリアな表面を得る為には、表面粗さを示す特性のうち、例えば中心線平均粗さ(Ra)を0.08μm以下とすることが好ましい。Raは、より好ましくは0.07μm以下であり、更に好ましくは0.06μm以下である。本発明のフィルムにおいては、フィルムの表面凹凸にはハードコート層の表面凹凸が支配的であり、ハードコート層の中心線平均粗さを調節することにより、反射防止フィルムの中心線平均粗さを上記範囲とすることができる。   In addition, for the surface irregularity shape of the hard coat layer, in order to obtain a clear surface for the purpose of maintaining the sharpness of the image, among the characteristics indicating the surface roughness, for example, the centerline average roughness (Ra) is set. It is preferable to be 0.08 μm or less. Ra is more preferably 0.07 μm or less, and still more preferably 0.06 μm or less. In the film of the present invention, the surface unevenness of the hard coat layer is dominant to the surface unevenness of the film, and the center line average roughness of the antireflection film is adjusted by adjusting the center line average roughness of the hard coat layer. It can be set as the said range.

また、ハードコート層の形成用組成物に、AS層で述べた、重合開始剤、面状改良剤、希釈溶媒等を本発明の所望の効果を損なわない範囲で用いることができる。   Further, the polymerization initiator, the surface conditioner, the diluent solvent, etc. described in the AS layer can be used in the composition for forming the hard coat layer as long as the desired effects of the present invention are not impaired.

3−2.(高屈折率層、中屈折率層)
本発明の光学フィルムには、高屈折率層、中屈折率層を設け、後述の低屈折率層とともに光学干渉を利用すると反射防止性を高めることができる。
以下の本明細書では、この高屈折率層と中屈折率層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、本発明において、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、透明支持体との関係で言えば屈性率は、透明支持体>低屈折率層、高屈折率層>透明支持体の関係を満たすことが好ましい。
また、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。
3-2. (High refractive index layer, medium refractive index layer)
When the optical film of the present invention is provided with a high refractive index layer and a medium refractive index layer and optical interference is used together with a low refractive index layer described later, the antireflection property can be enhanced.
In the following specification, the high refractive index layer and the medium refractive index layer may be collectively referred to as a high refractive index layer. In the present invention, “high”, “medium”, and “low” in the high refractive index layer, medium refractive index layer, and low refractive index layer represent the relative refractive index relationship between the layers. In terms of the relationship with the transparent support, the refractive index preferably satisfies the relationship of transparent support> low refractive index layer, high refractive index layer> transparent support.
In the present specification, the high refractive index layer, the middle refractive index layer, and the low refractive index layer may be collectively referred to as an antireflection layer.

高屈折率層の上に低屈折率層を構築して、反射防止フィルムを作製するためには、高屈折率層の屈折率は1.55〜2.40であることが好ましく、より好ましくは1.60〜2.20、更に好ましくは、1.65〜2.10、最も好ましくは1.80〜2.00である。   In order to construct an antireflection film by constructing a low refractive index layer on a high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.40, more preferably It is 1.60 to 2.20, more preferably 1.65 to 2.10, and most preferably 1.80 to 2.00.

支持体から近い順に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を塗設し、反射防止フィルムを作成する場合、高屈折率層の屈折率は、1.65乃至2.40であることが好ましく、1.70乃至2.20であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55乃至1.80であることが好ましい。   When an antireflective film is prepared by coating a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer in order from the support, the refractive index of the high refractive index layer is 1.65 to 2.40. Preferably, it is 1.70 to 2.20. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80.

高屈折率層および中屈折率層に用いられる無機粒子の具体例としては、TiO2、ZrO2、Al23、In23、ZnO、SnO2、Sb23、ITOとSiO2等が挙げられる。TiO2及びZrO2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは、表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。 Specific examples of the inorganic particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and SiO 2. Etc. TiO 2 and ZrO 2 are particularly preferable in terms of increasing the refractive index. The inorganic filler is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment on the surface, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.

高屈折率層における無機粒子の含有量は、高屈折率層の質量に対し10〜90質量%であることが好ましく、より好ましくは15〜80質量%、特に好ましくは15〜75質量%である。無機粒子は高屈折率層内で二種類以上を併用してもよい。
高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましい。
高屈折率層に、芳香環を含む電離放射線硬化性化合物、フッ素以外のハロゲン化元素(例えば、Br,I,Cl等)を含む電離放射線硬化性化合物、S,N,P等の原子を含む電離放射線硬化性化合物などの架橋又は重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
The content of the inorganic particles in the high refractive index layer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 15 to 80% by mass, and particularly preferably 15 to 75% by mass with respect to the mass of the high refractive index layer. . Two or more kinds of inorganic particles may be used in combination in the high refractive index layer.
When the low refractive index layer is provided on the high refractive index layer, the refractive index of the high refractive index layer is preferably higher than the refractive index of the transparent support.
The high refractive index layer contains an ionizing radiation curable compound containing an aromatic ring, an ionizing radiation curable compound containing a halogenated element other than fluorine (for example, Br, I, Cl, etc.), and atoms such as S, N, P, etc. A binder obtained by a crosslinking or polymerization reaction such as an ionizing radiation curable compound can also be preferably used.

高屈折率層の膜厚は用途により適切に設計することができる。高屈折率層を光学干渉層として用いる場合、30〜200nmが好ましく、より好ましくは50〜170nm、特に好ましくは60〜150nmである。   The film thickness of the high refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. When using a high refractive index layer as an optical interference layer, 30-200 nm is preferable, More preferably, it is 50-170 nm, Most preferably, it is 60-150 nm.

高屈折率層のヘイズは、防眩機能を付与する粒子を含有しない場合、低いほど好ましい。5%以下であることが好ましく、さらに好ましくは3%以下、特に好ましくは1%以下である。高屈折率層は、前記透明支持体上に直接、又は、他の層を介して構築することが好ましい。   The haze of the high refractive index layer is preferably as low as possible when it does not contain particles that impart an antiglare function. It is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less. The high refractive index layer is preferably constructed directly on the transparent support or via another layer.

また、高屈折率層、中屈折率層の形成用組成物に、AS層で述べた、重合開始剤、面状改良剤、希釈溶媒等を本発明の所望の効果を損なわない範囲で用いることができる。   In addition, the polymerization initiator, the surface conditioner, the diluting solvent, etc. described in the AS layer are used in the composition for forming the high refractive index layer and the middle refractive index layer as long as the desired effects of the present invention are not impaired. Can do.

3−3.(低屈折率層)
本発明の光学フィルムにおいては、光学フィルムの反射率を低減するため、低屈折率層を設けることが好ましい。
低屈折率層の屈折率は、1.20〜1.46であることが好ましく、1.25〜1.46であることがより好ましく、1.30〜1.40であることが特に好ましい。
低屈折率層の厚さは、50〜200nmであることが好ましく、70〜100nmであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズは、3%以下であることが好ましく、2%以下であることがさらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。具体的な低屈折率層の強度は、500g荷重の鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
また、光学フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が90度以上であることが好ましい。更に好ましくは95度以上であり、特に好ましくは100度以上である。
好ましい硬化物組成の態様としては、(1)架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーを含有する組成物、(2)含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物を主成分とする組成物、(3)2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物、が挙げられる。
3-3. (Low refractive index layer)
In the optical film of the present invention, it is preferable to provide a low refractive index layer in order to reduce the reflectance of the optical film.
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, and particularly preferably 1.30 to 1.40.
The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 200 nm, and more preferably 70 to 100 nm. The haze of the low refractive index layer is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and most preferably 1% or less. The specific strength of the low refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test under a 500 g load.
Further, in order to improve the antifouling performance of the optical film, it is preferable that the contact angle of water on the surface is 90 degrees or more. More preferably, it is 95 degrees or more, and particularly preferably 100 degrees or more.
Preferred embodiments of the cured product composition include (1) a composition containing a fluorine-containing polymer having a crosslinkable or polymerizable functional group, and (2) a hydrolysis condensate of a fluorine-containing organosilane material as a main component. And (3) a composition containing a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups and inorganic fine particles having a hollow structure.

(1)架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマー
架橋性若しくは重合性の官能基を有する含フッ素ポリマーとしては、含フッ素モノマーと架橋性または重合性の官能基を有するモノマーの共重合体を挙げることができる。含フッ素モノマーとしては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。
(1) Fluorine-containing polymer having a crosslinkable or polymerizable functional group As the fluorine-containing polymer having a crosslinkable or polymerizable functional group, a copolymer of a fluorine-containing monomer and a monomer having a crosslinkable or polymerizable functional group is used. Coalescence can be mentioned. Examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.), (meta ) Acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers and the like.

架橋性基付与のためのモノマーとしては、1つの態様としては、グリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する(メタ)アクリレートモノマーを挙げることができる。又別の態様としては、水酸基等の官能基を有するモノマーを用い含フッ素共重合体を合成後、さらにそれら置換基を修飾して架橋性若しくは重合性の官能基を導入するモノマーを使用する方法である。これらモノマーとしては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する(メタ)アクリレートモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート等)が挙げられる。後者の態様は特開平10−25388号公報および特開平10−147739号公報により開示されている。   As an example of the monomer for imparting a crosslinkable group, a (meth) acrylate monomer having a crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl methacrylate can be exemplified. In another embodiment, after synthesizing a fluorinated copolymer using a monomer having a functional group such as a hydroxyl group, the monomer is further modified to introduce a crosslinkable or polymerizable functional group by modifying the substituent. It is. These monomers include (meth) acrylate monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, etc.) Is mentioned. The latter embodiment is disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 10-25388 and 10-147739.

上記含フッ素共重合体には、溶解性、分散性、塗布性、防汚性、帯電防止性などの観点から、適宜共重合可能な成分を含むことができる。特に防汚性・滑り性付与のためには、シリコーンを導入することが好ましく、主鎖にも側鎖にも導入することができる。
主鎖へのポリシロキサン部分構造導入方法は、例えば特開平6−93100号公報に記載のアゾ基含有ポリシロキサンアミド(市販のものではVPS-0501、1001(商品名;和光純薬工業(株)社製))等のポリマー型開始剤を用いる方法が挙げられる。また、側鎖に導入する方法は、例えばJ.Appl.Polym.Sci.2000,78,1955、特開昭56−28219号公報等に記載のごとく、反応性基を片末端に有するポリシロキサン(例えばサイラプレーンシリーズ(チッソ株式会社製)など)を高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロマーを重合させる方法によって合成することができ、どちらの方法も好ましく用いることができる。
The fluorine-containing copolymer may contain a copolymerizable component as appropriate from the viewpoints of solubility, dispersibility, coating property, antifouling property, antistatic property and the like. In particular, for imparting antifouling properties and slipperiness, it is preferable to introduce silicone, and it can be introduced into both the main chain and the side chain.
The polysiloxane partial structure introduction method into the main chain is, for example, an azo group-containing polysiloxane amide described in JP-A-6-93100 (VPS-0501, 1001 (trade name; Wako Pure Chemical Industries, Ltd. And a method using a polymer-type initiator such as a company)). Further, the method of introducing into the side chain is, for example, as described in J. Appl. Polym. Sci. 2000, 78, 1955, JP-A-56-28219, etc. For example, a silaplane series (manufactured by Chisso Corporation) can be synthesized by a method of introducing a polymer reaction or a method of polymerizing a polysiloxane-containing silicon macromer, and both methods can be preferably used.

上記のポリマーに対しては特開2000−17028号公報に記載のごとく適宜重合性不飽和基を有する硬化剤を併用してもよい。また、特開2002−145952号に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。多官能の重合性不飽和基を有する化合物の例としては、上記の2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。また、特開2004−170901号公報に記載のオルガノランの加水分解縮合物も好ましく、特に(メタ)アクリロイル基を含有するオルガノシランの加水分解縮合物が好ましい。
これら化合物は、特にポリマー本体に重合性不飽和基を有する化合物を用いた場合に耐擦傷性改良に対する併用効果が大きく好ましい。
As described in JP 2000-17028 A, a curing agent having a polymerizable unsaturated group may be used in combination with the above polymer. Moreover, combined use with the compound which has a fluorine-containing polyfunctional polymerizable unsaturated group as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-145952 is also preferable. Examples of the compound having a polyfunctional polymerizable unsaturated group include the above-described monomers having two or more ethylenically unsaturated groups. Moreover, the hydrolysis-condensation product of the organolane described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-170901 is also preferable, and the hydrolysis-condensation product of the organosilane containing a (meth) acryloyl group is especially preferable.
These compounds are particularly preferred because they have a large combined effect for improving scratch resistance, particularly when a compound having a polymerizable unsaturated group is used in the polymer body.

ポリマー自身が単独で十分な硬化性を有しない場合には、架橋性化合物を配合することにより、必要な硬化性を付与することができる。例えばポリマー本体に水酸基含有する場合には、各種アミノ化合物を硬化剤として用いることが好ましい。架橋性化合物として用いられるアミノ化合物は、例えば、ヒドロキシアルキルアミノ基及びアルコキシアルキルアミノ基のいずれか一方又は両方を合計で2個以上含有する化合物であり、具体的には、例えば、メラミン系化合物、尿素系化合物、ベンゾグアナミン系化合物、グリコールウリル系化合物等を挙げることができる。これら化合物の硬化には、有機酸又はその塩を用いるのが好ましい。   When the polymer itself does not have sufficient curability, necessary curability can be imparted by blending a crosslinkable compound. For example, when the polymer body contains a hydroxyl group, various amino compounds are preferably used as the curing agent. The amino compound used as the crosslinkable compound is, for example, a compound containing one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group in total, specifically, for example, a melamine compound, Examples include urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like. For curing these compounds, an organic acid or a salt thereof is preferably used.

これら含フッ素ポリマーの具体例は、特開2003−222702号公報、特開2003−183322号公報等に記載されている。   Specific examples of these fluoropolymers are described in JP2003-222702A, JP2003-183322A, and the like.

(2)含フッ素のオルガノシラン材料の加水分解縮合物
含フッ素のオルガノシラン化合物の加水分解縮合物を主成分とする組成物も屈折率が低く、塗膜表面の硬度が高く好ましい。フッ素化アルキル基に対して片末端又は両末端に加水分解性のシラノールを含有する化合物とテトラアルコキシシランの縮合物が好ましい。具体的組成物は、特開2002−265866号公報、317152号公報に記載されている。
(2) Hydrolyzed condensate of fluorine-containing organosilane material A composition containing a hydrolyzed condensate of a fluorine-containing organosilane compound as a main component is also preferable because of its low refractive index and high hardness on the coating film surface. A condensate of a tetraalkoxysilane with a compound containing hydrolyzable silanol at one or both ends with respect to the fluorinated alkyl group is preferred. The specific composition is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-265866, 317152.

(3)2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと中空構造を有する無機微粒子を含有する組成物
更に別の好ましい態様として、低屈折率の粒子とバインダーからなる低屈折率層が挙げられる。低屈折率粒子としては、有機でも無機でも良いが、内部に空孔を有する粒子が好ましい。中空粒子の具体例は、特開2002−79616号公報に記載のシリカ系粒子に記載されている。粒子屈折率は1.15〜1.40が好ましく、1.20〜1.30が更に好ましい。バインダーとしては、上記ハードコート層の頁で述べた二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを挙げることができる。
(3) A composition containing a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups and inorganic fine particles having a hollow structure As yet another preferred embodiment, a low refractive index layer comprising low refractive index particles and a binder can be mentioned. . The low refractive index particles may be organic or inorganic, but particles having pores inside are preferable. Specific examples of the hollow particles are described in the silica-based particles described in JP-A-2002-79616. The particle refractive index is preferably 1.15 to 1.40, more preferably 1.20 to 1.30. Examples of the binder include monomers having two or more ethylenically unsaturated groups described on the hard coat layer page.

上記低屈折率層には、通常上述のラジカル重合性の化合物の重合に用いられる重合開始剤を添加することが好ましい。ラジカル重合性化合物を含有する場合には、該化合物に対して1〜10質量部、好ましくは1〜5質量部の重合開始剤を使用できる。   It is preferable to add a polymerization initiator usually used for polymerization of the above-mentioned radical polymerizable compound to the low refractive index layer. When a radically polymerizable compound is contained, 1 to 10 parts by mass, preferably 1 to 5 parts by mass of a polymerization initiator can be used with respect to the compound.

上記低屈折率層には、無機粒子を併用することができる。耐擦傷性を付与するために、低屈折率層の厚みの15%〜150%、好ましくは30%〜100%、更に好ましくは45%〜60%の粒径を有する微粒子を使用することができる。   In the low refractive index layer, inorganic particles can be used in combination. In order to impart scratch resistance, fine particles having a particle size of 15% to 150%, preferably 30% to 100%, more preferably 45% to 60% of the thickness of the low refractive index layer can be used. .

上記低屈折率層には、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することができる。   For the purpose of imparting antifouling properties, water resistance, chemical resistance, slipping properties, etc., known polysiloxane-based or fluorine-based antifouling agents, slipping agents, etc. are appropriately added to the low refractive index layer. be able to.

3−4.(支持体)
本発明の光学フィルムの支持体としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートや透明ガラスなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム(例えば、セルローストリアセテートフィルム(屈折率1.48)、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム)、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、(メタ)アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー(ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製(屈折率1.51))、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)(屈折率1.53)、)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
支持体の厚さは通常25μm〜1000μm程度のものを用いることができるが、好ましくは25μm〜250μmであり、30μm〜90μmであることがより好ましい。
支持体の巾は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は100〜5000mmのものが用いられ、800〜3000mmであることが好ましく、1000〜2000mmであることがさらに好ましい。支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常100m〜5000m、好ましくは500m〜3000mのものである。
支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さRaの値が1μm以下であることが好ましく、0.0001〜0.5μmであることが好ましく、0.001〜0.1μmであることがさらに好ましい。
3-4. (Support)
The support for the optical film of the present invention is not particularly limited, such as a transparent resin film, a transparent resin plate, a transparent resin sheet, and transparent glass. Transparent resin films include cellulose acylate films (for example, cellulose triacetate film (refractive index 1.48), cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film), polyethylene terephthalate film, polyethersulfone. Film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate film, polysulfone film, polyether film, polymethylpentene film, polyetherketone film, (meth) acrylonitrile film polyolefin, alicyclic structure Polymer (norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR (refractive index: 1.51)), amorphous polyolefin Emissions (ZEONEX trade name, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) (refractive index of 1.53),), and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polymers having an alicyclic structure are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable.
Although the thickness of a support body can use the thing of about 25 micrometers-1000 micrometers normally, Preferably it is 25 micrometers-250 micrometers, and it is more preferable that it is 30 micrometers-90 micrometers.
Any width of the support can be used, but from the viewpoint of handling, yield, and productivity, a width of 100 to 5000 mm is usually used, preferably 800 to 3000 mm, and preferably 1000 to 2000 mm. More preferably. The support can be handled in the form of a roll, and is usually 100 m to 5000 m, preferably 500 m to 3000 m.
The surface of the support is preferably smooth, and the average roughness Ra is preferably 1 μm or less, preferably 0.0001 to 0.5 μm, and 0.001 to 0.1 μm. Is more preferable.

<セルロースアシレートフィルム>
上記各種フィルムの中でも、透明性が高く、光学的に複屈折が少なく、製造が容易であり、偏光板の保護フィルムとして一般に用いられているセルロースアシレートフィルムが好ましい。
セルロースアシレートフィルムについては力学特性、透明性、平面性などを改良する目的のため、種々の改良技術が知られており、公開技報2001−1745に記載された技術は公知のものとして本発明のフィルムに用いることができる。
<Cellulose acylate film>
Among the various films described above, a cellulose acylate film having high transparency, optically low birefringence, easy production, and generally used as a protective film for polarizing plates is preferable.
For cellulose acylate films, various improvement techniques are known for the purpose of improving mechanical properties, transparency, flatness and the like, and the techniques described in the published technical reports 2001-1745 are known as the present invention. It can be used for the film.

〔第2〜4発明〕
以下、第2〜4発明について説明するが、第2〜4発明における層構成や構成成分、更には最も好ましい態様は上述の第1発明と同様であるので、上述した第1発明と異なる点について詳述する。
第2発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する。
すなわち、第2発明においては、芳香族基を有するバインダーが任意成分である代わりに無機微粒子が必須の構成成分である点において第1発明と異なる。
第3発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する。
すなわち、第3発明においては、層領域が特定の屈折率を有する代わりに特定の構成成分からなる点において第1発明と異なる。
第4発明の光学フィルムは、支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する。
すなわち、第4発明においては、層領域が特定の屈折率を有する代わりに特定の構成成分からなる点及び芳香族基を有するバインダーが任意成分である代わりに無機微粒子が必須の構成成分である点において第1発明と異なる。
[Second to Fourth Inventions]
Hereinafter, the second to fourth inventions will be described, but the layer configuration and constituent components in the second to fourth inventions, and the most preferable aspect are the same as those of the first invention described above. Detailed description.
The optical film of the second invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and between the two layers. There is a layer region having a refractive index intermediate between the refractive indexes of both layers, and the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from the conductive particles.
That is, the second invention is different from the first invention in that inorganic fine particles are essential constituent components instead of the binder having an aromatic group being an optional component.
The optical film of the third invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles, and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, between the layers. There is a layer region formed by mixing the constituent component of the antistatic layer and the constituent component of the adjacent layer, and the layer region contains a binder having an aromatic group.
That is, the third invention is different from the first invention in that the layer region is made of a specific component instead of having a specific refractive index.
The optical film of the fourth invention has, on a support, an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and between the two layers. There is a layer region formed by mixing the component of the antistatic layer and the component of the adjacent layer, and the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from the conductive particles. contains.
That is, in the fourth invention, the layer region is made of a specific constituent component instead of having a specific refractive index, and the inorganic fine particles are essential constituent components instead of the binder having an aromatic group being an optional component. However, it differs from the first invention.

4.(本発明の光学フィルムの製造方法)
次に、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
本発明の光学フィルムにおいて、AS層と「AS層とN層の間に中間の屈折率をもつ層領域」とに芳香族基を有するバインダー及び/又は導電性粒子とは異なる屈折率1.55以上の無機微粒子を含有せしめる方法としては、芳香族基を有するバインダー形成化合物及び/又は導電性粒子とは異なる屈折率1.55以上の無機微粒子を含有するAS層形成塗布組成物を調製し、AS層形成用塗布組成物とN層形成用塗布組成物とを隣接させて塗工し、乾燥、必要に応じて硬化させることにより、光学フィルムを形成し、芳香族基を有するバインダー形成化合物及び/又は導電性粒子とは異なる屈折率1.55以上の無機微粒子を拡散せしめることにより達成することができる。
4). (Method for producing optical film of the present invention)
Next, the manufacturing method of the optical film of this invention is demonstrated.
In the optical film of the present invention, the refractive index is 1.55 which is different from the binder and / or conductive particles having an aromatic group in the AS layer and the “layer region having an intermediate refractive index between the AS layer and the N layer”. As a method for containing the above inorganic fine particles, an AS layer forming coating composition containing inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from the binder-forming compound and / or conductive particles having an aromatic group, A coating composition for forming an AS layer and a coating composition for forming an N layer are applied adjacent to each other, dried, and cured as necessary to form an optical film, and a binder-forming compound having an aromatic group and This can be achieved by diffusing inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from conductive particles.

本発明において、AS層とN層の間に両者の中間の屈折率となる層領域を有する光学フィルムは、AS層形成用塗布組成物とN層形成用塗布組成物とを同時に塗布したり、いずれか1方の層の形成用塗布組成物の重合率が低いまま他方の層の形成用塗布組成物を塗布する方法を用いて製造することが好ましい。   In the present invention, an optical film having a layer region having an intermediate refractive index between the AS layer and the N layer is applied simultaneously with the AS layer forming coating composition and the N layer forming coating composition, It is preferable to produce using the method of apply | coating the coating composition for formation of the other layer, while the polymerization rate of the coating composition for formation of any one layer is low.

更に詳述すると、本発明の光学フィルムの製造方法は、支持体上に、帯電防止層とそれに隣設された少なくとも1層の隣設層とを有する光学フィルムの製造方法であって、帯電防止層が芳香族基を有するバインダーを含有し、帯電防止層と隣設層とを形成するに際して、先んじて塗設した層の重合性官能基の反応率が0%以上50%以下になるよう硬化させることにより実施できる。   More specifically, the method for producing an optical film of the present invention is a method for producing an optical film having, on a support, an antistatic layer and at least one adjacent layer adjacent thereto. When the layer contains a binder having an aromatic group and forms an antistatic layer and an adjacent layer, the reaction is performed so that the reaction rate of the polymerizable functional group of the previously applied layer is 0% or more and 50% or less. Can be implemented.

また、本発明の光学フィルムの別の製造方法は、支持体上に、帯電防止層とそれに隣設された少なくとも1層の隣設層とを有する光学フィルムの製造方法であって、帯電防止層が導電性粒子とは別の屈折率が1.55よりも大きな無機微粒子を含有し、帯電防止層と隣設層とを形成するに際して、先んじて塗設した層の重合性官能基の反応率が0%以上50%以下になるよう硬化させることにより実施できる。   Another method for producing the optical film of the present invention is a method for producing an optical film having, on a support, an antistatic layer and at least one adjacent layer adjacent thereto. Contains inorganic fine particles having a refractive index larger than 1.55, different from the conductive particles, and when forming the antistatic layer and the adjacent layer, the reaction rate of the polymerizable functional group of the layer applied earlier Can be carried out by curing so as to be 0% or more and 50% or less.

要するに、本発明の光学フィルムの製造方法は、上述のAS層及びN層形成用の塗布組成物を、これらのうち先に塗設した層(第1層)が未反応の重合性化合物を含有したまま
第2層を塗設し、その後に更に硬化を進め、これにより本発明の光学フィルムの上記層領域が形成される。
第2層を塗設する前の第1層の重合性化合物の重合率は0〜50%であり、最も好ましくは10〜30%である。上記範囲に重合率を調節することで、界面混合をコントロールでき、ムラ防止、界面密着強化が達成できる。重合率は、高分子分析ハンドブック(日本分析化学会高分子分析懇談会編)に記載されている方法を用いて算出することができる。具体的には、例えば(メタ)アクロイルオキシ基による重合反応の場合には、塗布済みのハードコート層中バインダーの(メタ)アクロイルオキシ基の炭素−炭素二重結合(C=C)起因の810cm-1付近の赤外吸収ピーク面積Aとアシル基(C=O)起因の1720cm-1付近の赤外吸収ピーク面積Bを重合反応前後で測定し、[(重合後のA/B)/(重合前のA/B)]×100により二重結合の消失度を算出し、これを重合率(%)とする。
In short, the method for producing an optical film of the present invention includes the above-described coating composition for forming an AS layer and an N layer, in which a layer (first layer) previously coated contains an unreacted polymerizable compound. The second layer is applied as it is, and then the curing is further advanced, whereby the above-described layer region of the optical film of the present invention is formed.
The polymerization rate of the polymerizable compound of the first layer before coating the second layer is 0 to 50%, and most preferably 10 to 30%. By adjusting the polymerization rate within the above range, interfacial mixing can be controlled, and unevenness prevention and interfacial adhesion reinforcement can be achieved. The polymerization rate can be calculated using the method described in the Polymer Analysis Handbook (edited by the Japan Society for Analytical Chemistry, Polymer Analysis Roundtable). Specifically, for example, in the case of a polymerization reaction with a (meth) acryloyloxy group, the carbon-carbon double bond (C = C) of the (meth) acryloyloxy group of the binder in the coated hard coat layer infrared absorption peak area a and acyl groups vicinity of 810 cm -1 in the (C = O) was measured before and after the polymerization reaction an infrared absorption peak area B in the vicinity of 1720 cm -1 of the resulting, [(a / B after polymerization) / (A / B before polymerization)] × 100, the disappearance of the double bond is calculated, and this is defined as the polymerization rate (%).

本発明の光学フィルムの製造方法において、導電性粒子を含有する層とそれに隣設した層を形成するに際し、支持体を巻き取ることなく、該2層が塗設されることが好ましい。   In the method for producing an optical film of the present invention, when forming a layer containing conductive particles and a layer adjacent thereto, the two layers are preferably coated without winding up the support.

本発明の光学フィルムの製造方法において、導電性粒子を含有する層用塗布組成物とそれに隣設する層用塗布組成物を同時に塗布することが好ましい。   In the method for producing an optical film of the present invention, it is preferable to simultaneously apply a layer coating composition containing conductive particles and a layer coating composition adjacent thereto.

4−1.(塗布液(塗布組成物)物性)
本発明の製造方法を実施するには、塗布液の物性により塗布可能な上限の速度が大きく影響を受けるため、塗布する瞬間の塗布液物性、特に粘度及び表面張力を制御することが好ましい。粘度については0.5〜10.0[mPa・sec]以下であることが好ましく、更に好ましくは0.5〜6.0[mPa・sec]である。塗布液によってはせん断速度により粘度が変化するものもあるため、上記の値は塗布される瞬間のせん断速度における粘度を示している。塗布液にチキソトロピー剤を添加して、高せん断のかかる塗布時は粘度が低く、塗布液にせん断が殆どかからない乾燥時は粘度が高くなると乾燥時のムラが発生しにくくなり、好ましい。
4-1. (Physical properties of coating solution (coating composition))
In carrying out the production method of the present invention, the upper limit speed that can be applied is greatly influenced by the physical properties of the coating liquid, and therefore it is preferable to control the physical properties of the coating liquid, particularly the viscosity and surface tension at the moment of application. The viscosity is preferably 0.5 to 10.0 [mPa · sec] or less, and more preferably 0.5 to 6.0 [mPa · sec]. Since there are some coating solutions whose viscosity changes depending on the shear rate, the above value indicates the viscosity at the shear rate at the moment of coating. When a thixotropic agent is added to the coating solution, the viscosity is low at the time of coating with high shear, and when the coating solution is hardly sheared, if the viscosity is high, unevenness during drying is less likely to occur, which is preferable.

塗布液の表面張力については、15〜36[mN/m]の範囲にあることが好ましい。レベリング剤を添加するなどして表面張力を低下させることは乾燥時のムラが抑止されるため好ましい。一方、表面張力が下がりすぎると塗布可能な上限の速度が低下してしまうため、17[mN/m]から32[mN/m]の範囲がより好まく、19[mN/m]から26[mN/m]の範囲が更に好ましい。   The surface tension of the coating solution is preferably in the range of 15 to 36 [mN / m]. It is preferable to reduce the surface tension by adding a leveling agent or the like because unevenness during drying is suppressed. On the other hand, if the surface tension is too low, the upper limit speed at which coating can be performed is reduced. Therefore, a range of 17 [mN / m] to 32 [mN / m] is more preferable, and 19 [mN / m] to 26 [mN / m]. mN / m] is more preferable.

4−2.(塗布)
本発明の光学フィルムの製造方法において各層を形成する際の塗布組成物の塗布方法は、特に制限されないが、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(ダイコート法)(米国特許2681294号明細書参照)、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
4-2. (Application)
The coating method of the coating composition when forming each layer in the method for producing an optical film of the present invention is not particularly limited, but is a dip coating method, an air knife coating method, a curtain coating method, a roller coating method, a wire bar coating method, Known methods such as a gravure coating method, an extrusion coating method (die coating method) (see US Pat. No. 2,681,294) and a micro gravure coating method are used, and among them, a micro gravure coating method and a die coating method are preferable.

特にAS層形成用の塗布組成物とN層形成用の塗布組成物とを隣接して塗設する場合は、一つの塗布装置で2層以上を同時に塗設する方法(特開2002−86050号、特開2003−260400号、特開平7−108213号明細書参照)や、塗布・乾燥・硬化装置を多段階に並べることで、1回の巻取りで2層以上塗布する方法(特開2003−205264号参照)が好ましい。   In particular, when coating a coating composition for forming an AS layer and a coating composition for forming an N layer adjacent to each other, a method of coating two or more layers simultaneously with a single coating apparatus (Japanese Patent Laid-Open No. 2002-86050) , JP 2003-260400 A, JP 7-108213 A) and a method of applying two or more layers in one winding by arranging the coating / drying / curing apparatus in multiple stages (JP 2003-26015 A). -205264) is preferred.

4−3.(硬化)
4−3−1.(硬化条件)
本発明の光学フィルムは溶剤の乾燥の後に、ウェブで電離放射線及び/又は熱により各塗膜を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することで最終的に得られる。
4-3. (Curing)
4-3-1. (Curing conditions)
The optical film of the present invention is finally obtained by drying the solvent, passing the zone through which the coating film is cured by ionizing radiation and / or heat on the web, and curing the coating film.

本発明における電離放射線種は特に制限されるものではなく、皮膜を形成する硬化性組成物の種類に応じて、紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、X線などから適宜選択することができるが、紫外線、電子線が好ましく、特に取り扱いが簡便で高エネルギーが容易に得られるという点で紫外線が好ましい。   The ionizing radiation species in the present invention is not particularly limited, and is appropriately selected from ultraviolet rays, electron beams, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays and the like according to the type of curable composition forming the film. Although it can be selected, ultraviolet rays and electron beams are preferred, and ultraviolet rays are particularly preferred because they are easy to handle and easily obtain high energy.

また、電子線も同様に使用できる。電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。   Moreover, an electron beam can be used similarly. As an electron beam, 50 to 1000 keV, preferably 100 to 100, emitted from various electron beam accelerators such as a cockroft Walton type, a bandegraph type, a resonance transformation type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type. An electron beam having an energy of 300 keV can be given.

照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は10mJ/cm2以上が好ましく、更に好ましくは、50mJ/cm2〜10000mJ/cm2であり、特に好ましくは、50mJ/cm2〜2000mJ/cm2である。 Irradiation conditions vary depending on each lamp, but the irradiation light quantity is preferably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 to 10000 mJ / cm 2 , and particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2. It is.

電離放射線を照射する時間については0.7秒以上60秒以下が好ましく、0.7秒以上10秒以下がより好ましい。0.5秒以下では、硬化反応が完了することができず、十分な硬化を行うことができない。また長時間低酸素条件を維持することは、設備が大型化し、多量の不活性ガスが必要であり好ましくない。   The time for irradiating with ionizing radiation is preferably from 0.7 seconds to 60 seconds, more preferably from 0.7 seconds to 10 seconds. If it is 0.5 seconds or less, the curing reaction cannot be completed, and sufficient curing cannot be performed. Also, maintaining low oxygen conditions for a long time is not preferable because the equipment becomes large and a large amount of inert gas is required.

酸素濃度は6体積%以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することが好ましく、更に好ましくは酸素濃度が4体積%以下、特に好ましくは酸素濃度が2体積%以下、最も好ましくは1体積%以下である。必要以上に酸素濃度を低減するためには、窒素などの不活性ガスの多量の使用量が必要であり、製造コストの観点から好ましくない。   The oxygen concentration is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound in an atmosphere of 6% by volume or less, more preferably 4% by volume or less, particularly preferably 2% by volume of oxygen. Hereinafter, it is most preferably 1% by volume or less. In order to reduce the oxygen concentration more than necessary, a large amount of inert gas such as nitrogen is required, which is not preferable from the viewpoint of production cost.

酸素濃度を10体積%以下にする手法としては、大気(窒素濃度約79体積%、酸素濃度約21体積%)を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換(窒素パージ)することである。   As a method of reducing the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace the atmosphere (nitrogen concentration of about 79% by volume, oxygen concentration of about 21% by volume) with another gas, particularly preferably replacement with nitrogen (nitrogen purge). It is to be.

硬化の際、フィルム面が40℃以上170℃以下で加熱されることが好ましい。40℃以下では加熱の効果は少なく、170℃以上では基材の変形などの問題が生じる。更に好ましい温度は60℃〜100℃である。フィルム面とは硬化しようとする層の膜面温度を指す。またフィルムが前記温度になる時間は、UV照射開始から0.1秒以上、300秒以下が好ましく、更に10秒以下が好ましい。フィルム面の温度を上記の温度範囲に保つ時間が短すぎると、皮膜を形成する硬化性組成物の反応を促進できず、逆に長すぎてもフィルムの光学性能が低下し、また設備が大きくなるなどの製造上の問題も生じる。   During curing, the film surface is preferably heated at 40 ° C. or higher and 170 ° C. or lower. Below 40 ° C, the effect of heating is small, and above 170 ° C, problems such as deformation of the substrate occur. A more preferable temperature is 60 ° C to 100 ° C. The film surface refers to the film surface temperature of the layer to be cured. The time for the film to reach the temperature is preferably 0.1 second or more and 300 seconds or less from the start of UV irradiation, and more preferably 10 seconds or less. If the time for maintaining the temperature of the film surface in the above temperature range is too short, the reaction of the curable composition that forms the film cannot be accelerated, and conversely, if it is too long, the optical performance of the film deteriorates and the equipment is large. Manufacturing problems such as

加熱する方法に特に限定はないが、ロールを加熱してフィルムに接触させる方法、加熱した窒素を吹き付ける方法、遠赤外線あるいは赤外線の照射などが好ましい。特許2523574号に記載の回転金属ロールに温水や蒸気・オイルなどの媒体を流して加熱する方法も利用できる。加熱の手段としては誘電加熱ロールなどを使用しても良い。   There is no particular limitation on the heating method, but a method of heating a roll to contact the film, a method of spraying heated nitrogen, irradiation with far infrared rays or infrared rays is preferable. A method of heating a rotating metal roll described in Japanese Patent No. 2523574 by flowing a medium such as hot water, steam or oil can also be used. As a heating means, a dielectric heating roll or the like may be used.

本発明では、支持体上に積層された少なくとも一層を複数回の電離放射線により硬化することができる。この場合、少なくとも2回の電離放射線が酸素濃度3体積%を超えることのない連続した反応室で行われることが好ましい。複数回の電離放射線照射を同一の低酸素濃度の反応室で行うことにより、硬化に必要な反応時間を有効に確保することができ
る。特に高生産性のため製造速度をあげた場合には、硬化反応に必要な電離放射線のエネルギーを確保するために複数回の電離放射線照射が必要となる。これにより、塗膜面内の硬化進行の均一性が保たれ、面状故障を減らすのに有効である。
In the present invention, at least one layer laminated on the support can be cured by multiple times of ionizing radiation. In this case, it is preferable that at least two ionizing radiations are performed in a continuous reaction chamber in which the oxygen concentration does not exceed 3% by volume. By performing multiple times of ionizing radiation irradiation in the same low oxygen concentration reaction chamber, the reaction time required for curing can be effectively ensured. In particular, when the production rate is increased for high productivity, ionizing radiation irradiation is required multiple times to ensure the energy of ionizing radiation necessary for the curing reaction. Thereby, the uniformity of the progress of curing in the coating film surface is maintained, and it is effective in reducing surface failure.

紫外線照射は、構成する複数の層それぞれに対して1層設ける毎に照射してもよいし、積層後照射してもよい。あるいはこれらを組み合わせて照射してもよい。生産性の点から、多層を積層後、紫外線を照射することが好ましい。   The ultraviolet irradiation may be performed every time one layer is provided for each of a plurality of constituent layers, or may be performed after lamination. Or you may irradiate combining these. From the viewpoint of productivity, it is preferable to irradiate ultraviolet rays after laminating multiple layers.

4−3−2.感光波長の異なる重合開始剤を使用する方法
本発明において、AS層形成用の塗布組成物やN層形成用の塗布組成物に含まれる重合性化合物における重合性官能基の反応率を制御する方法としては、以下に示す感光波長の異なる2種以上の重合開始剤を用いる方法をとることができる。本発明の光学フィルムの製造方法においては、「感光波長域での長波長側の吸収末端が異なる2種類以上の重合開始剤を含んでなる先に塗設して形成された第1塗布層を、該重合開始剤の少なくとも1種(a)が実質的に感光せず、且つ該重合開始剤の少なくとも1種(b)が感光する波長の電離放射線照射し硬化させ(工程1)、その後、該第1塗布層の上に、少なくとも1種の重合開始剤(c)を含む第2塗布層形成用の塗布液を塗布して、重合開始剤(a)及び(c)が感光する波長の電離放射線照射を行い(工程2)、第1層と第2層を硬化させる塗布・製造方法」を採用することが好ましい。すなわち、本発明の光学フィルムにおいては、AS層形成用の塗布組成物及びN層形成用の塗布組成物のうち製造段階で先に塗設する方の塗布組成物が感光波長域での長波長側の吸収末端が異なる2種類以上の重合開始剤を含有し、また、次いで塗設する方の塗布組成物が少なくとも一種の重合開始剤を含有するのが好ましい。
4-3-2. Method of using polymerization initiators having different photosensitive wavelengths In the present invention, a method of controlling the reaction rate of polymerizable functional groups in a polymerizable compound contained in a coating composition for forming an AS layer or a coating composition for forming an N layer For example, a method using two or more kinds of polymerization initiators having different photosensitive wavelengths as shown below can be used. In the method for producing an optical film of the present invention, “a first coating layer formed by coating first comprising two or more kinds of polymerization initiators having different absorption terminals on the long wavelength side in the photosensitive wavelength region” , At least one of the polymerization initiators (a) is substantially unsensitized and at least one of the polymerization initiators (b) is irradiated and cured with ionizing radiation (step 1); On the first coating layer, a coating solution for forming a second coating layer containing at least one polymerization initiator (c) is coated, and the polymerization initiators (a) and (c) have a wavelength at which the polymerization initiators (c) are exposed. It is preferable to employ a “coating / manufacturing method in which ionizing radiation irradiation is performed (step 2) and the first layer and the second layer are cured”. That is, in the optical film of the present invention, the coating composition to be coated first in the production stage among the coating composition for forming the AS layer and the coating composition for forming the N layer has a long wavelength in the photosensitive wavelength region. It is preferable that two or more kinds of polymerization initiators having different absorption ends on the side are contained, and the coating composition to be subsequently coated contains at least one kind of polymerization initiator.

実質的に感光しないとは、工程1で使用する電離放射線照射により減少する二重結合(A)と、工程1および2で使用する電離放射線照射により減少する二重結合(B)との比(A/B)が30%以下であることを意味する。この比は10%以下が好ましく、3%以下がより好ましい。二重結合量は、上記の赤外吸収ピーク面積比により測定、算出できる。   Substantially non-photosensitive means the ratio of the double bond (A) reduced by ionizing radiation used in step 1 to the double bond (B) reduced by ionizing radiation used in steps 1 and 2 ( A / B) means 30% or less. This ratio is preferably 10% or less, and more preferably 3% or less. The double bond amount can be measured and calculated by the above infrared absorption peak area ratio.

第2塗布層の硬化時に第1塗布層の開始剤も感光させることで、酸素による硬化阻害などの影響を受けにくくなり、層の硬化を充分に行うことを可能とし、硬度が上がり、耐擦傷性が向上する。
実際の好ましい態様の一つとして、例えば、工程1としてN層を第1塗布層として、N層形成用の塗布組成物に、近紫外線に感光領域のある重合開始剤(a)と主として紫外線に感光領域のある重合開始剤(b)とを併用し、該第1塗布層に近紫外線を照射し、次に、工程2として、近紫外線に感光領域のある重合開始剤と紫外線にのみ感光領域のある重合開始剤(c)を含む第2塗布層としてAS層を塗布し、近紫外線と紫外線を照射し、この2つの工程により、硬化させる方法が挙げられる。ここで、重合開始剤(c)は、重合開始剤(b)と同じものを用いることができる。
第1塗布層の重合開始剤(a)と(b)の絶対量及び割合を調節することで、工程1での第1塗布層の重合率及び工程2まで終了した後の重合率を制御することができる。例えば、層領域を本発明の所望の効果が奏される厚み等とするためには重合開始剤(a)100質量部に対して、重合開始剤(b)を100〜300質量部とするのが好ましい。
When the second coating layer is cured, the initiator of the first coating layer is also exposed to light so that it is not easily affected by the inhibition of curing by oxygen, etc., and the layer can be sufficiently cured, increasing the hardness and scratching resistance. Improve.
As one of the actual preferred embodiments, for example, in Step 1, the N layer is used as the first coating layer, the coating composition for forming the N layer, the polymerization initiator (a) having a photosensitive region in the near ultraviolet ray, and mainly the ultraviolet ray. In combination with the polymerization initiator (b) having a photosensitive region, the first coating layer is irradiated with near-ultraviolet rays, and then, in step 2, a polymerization initiator having a photosensitive region in the near-ultraviolet region and only the ultraviolet-sensitive region. There is a method in which an AS layer is applied as a second coating layer containing a polymerization initiator (c), and irradiated with near ultraviolet rays and ultraviolet rays, and cured by these two steps. Here, the same polymerization initiator (c) as the polymerization initiator (b) can be used.
By adjusting the absolute amounts and ratios of the polymerization initiators (a) and (b) of the first coating layer, the polymerization rate of the first coating layer in step 1 and the polymerization rate after finishing up to step 2 are controlled. be able to. For example, in order to make the layer region have a thickness or the like that achieves the desired effect of the present invention, the polymerization initiator (b) is 100 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerization initiator (a). Is preferred.

感光波長の異なる重合開始剤としては、以下の中から選ばれることが好ましい。なお、感光波長が近紫外領域にある重合開始剤及びこれとは感光波長域が異なっていて併用することができる重合開始剤は、いずれを重合開始剤(a)としてもよい。   The polymerization initiator having a different photosensitive wavelength is preferably selected from the following. The polymerization initiator having a photosensitive wavelength in the near-ultraviolet region and a polymerization initiator having a different photosensitive wavelength region and usable in combination may be used as the polymerization initiator (a).

感光波長が近紫外領域にある重合開始剤としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル
ジフェニルホスフィンオキシド{“DAROCUR TPO”(商品名);チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}、フェニレンビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−ホスフィンオキシド{“IRGACURE 819”(商品名);チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製};ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルホスフィンオキシドなどのホスフィンオキシド類、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンなどのチオキサントン、N−メチルアクリドン、ビス(ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン{“IRGACURE 369”(商品名);チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}などのケトン類、1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)−2,2−(O−ベンゾイルオキシム)]などのオキシム類などの、400nm付近まで吸収末端がある化合物が好ましい。ホスフィンオキシド類が、作製したフィルムの着色を少なく、照射後の消色が大きいため、特に好ましい。
As a polymerization initiator having a photosensitive wavelength in the near ultraviolet region, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide {“DAROCUR TPO” (trade name); manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.}, phenylenebis (2 , 4,6-trimethylbenzoyl) -phosphine oxide {"IRGACURE 819" (trade name); manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.}; bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl- Phosphine oxides such as pentylphosphine oxide, thioxanthone such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, N-methylacridone, bis (dimethylaminophenyl) ketone, 2-benzyl -2-dimethyl Ketones such as Mino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one {"IRGACURE 369" (trade name); manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.}, 1,2-octanedione-1- Compounds having an absorption terminal up to around 400 nm, such as oximes such as [4- (phenylthio) -2,2- (O-benzoyloxime)] are preferred. Phosphine oxides are particularly preferred because the produced film is less colored and the decolorization after irradiation is large.

上記の重合開始剤とは感光波長域が異なっていて併用することができる重合開始剤として、主に紫外域に吸収のある開始剤を挙げると、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン{“IRGACURE 651”(商品名);チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン{“IRGACURE 184”(商品名);チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン{“IRGACURE 907”(商品名);チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}などのアセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類などの公知の開始剤を挙げることができる。   As a polymerization initiator that has a photosensitive wavelength region different from that of the above polymerization initiator and can be used in combination, an initiator mainly absorbing in the ultraviolet region is 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane. -1-one {"IRGACURE 651" (trade name); manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.}, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone {"IRGACURE 184" (trade name); Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. Made}, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one {“IRGACURE 907” (Product name); Acetophenones and benzoins such as Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.} Benzophenones, ketals, can be mentioned publicly known initiator such as anthraquinones.

重合性官能基を有する重合性化合物100質量部に対する重合開始剤の量は、1質量部以上10質量部以下が好ましい。重合開始剤の量が該下限値以上であれば、反応が十分に進行して望ましい硬度を得ることができ、該上限値以下で有れば、得られる硬化層(以下、皮膜ともいう。)が着色したり、深さ方向に硬度が変化したりするなどの不具合が生じにくいので、この範囲で使用することが好ましい。   The amount of the polymerization initiator with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound having a polymerizable functional group is preferably 1 part by mass or more and 10 parts by mass or less. If the amount of the polymerization initiator is not less than the lower limit, the reaction can proceed sufficiently to obtain a desired hardness, and if it is not more than the upper limit, the resulting cured layer (hereinafter also referred to as a film). It is preferable to use in this range, since it is difficult to cause problems such as coloring or hardness changing in the depth direction.

前記近紫外領域に吸収のある重合開始剤と前記紫外域に吸収のある重合開始剤とを併用する場合に、両者の使用量の比(近紫外:紫外)は、上記添加量の範囲であれば、特に制限はない。   When a polymerization initiator having absorption in the near ultraviolet region and a polymerization initiator having absorption in the ultraviolet region are used in combination, the ratio of the amounts used (near ultraviolet: ultraviolet) should be within the range of the above addition amount. There is no particular limitation.

硬化の工程1に用いる電離放射線としては、用いる重合開始剤、硬化性組成物の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、近紫外領域の光を照射する場合には、400〜480nmの波長域の光を主に放射するランプ{放射ピークが400〜480nmにあるランプ、例えば、400〜480nm(好ましくは420nm±20nm)に放射ピークを持つように蛍光体を設けた熱陰極蛍光ランプ}からの放射光や、放射波長の分布が広いメタルハライドランプなどの光を、短波長カットフィルターで短波長側(例えば380nm以下)の発光をカットした光を用いることができる。近紫外線の照射量としては、30〜1000mJ/cm2が好ましく、50〜700mJ/cm2が更に好ましい。 The ionizing radiation used in the curing step 1 can be appropriately selected according to the type of polymerization initiator and curable composition used. For example, in the case of irradiating light in the near ultraviolet region, a lamp that mainly emits light in the wavelength region of 400 to 480 nm {a lamp having an emission peak at 400 to 480 nm, such as 400 to 480 nm (preferably 420 nm ± 20 nm) ) The light emitted from a hot cathode fluorescent lamp provided with a phosphor so as to have a radiation peak} or the light of a metal halide lamp having a wide distribution of radiation wavelengths, etc., is transmitted on the short wavelength side (for example, 380 nm or less) with a short wavelength cut filter. Can be used. The irradiation of the near ultraviolet, preferably 30~1000mJ / cm 2, more preferably 50~700mJ / cm 2.

工程2に用いる電離放射線としては、用いる重合開始剤、硬化性組成物の種類に応じて適宜選択することができる。重合開始剤(a)及び(c)が感光する波長のものであれば特に制限はないが、紫外線による照射が好ましい。重合速度が早く、設備をコンパクトにでき、選択できる化合物種が豊富で、且つ低価格であることから紫外線硬化が好ましい。紫外線の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等が利用できる。紫外線の照射量としては、30〜1000mJ/cm2が好ましく、50〜700mJ/cm2が更に好ましい。 The ionizing radiation used in step 2 can be appropriately selected according to the type of polymerization initiator and curable composition used. There is no particular limitation as long as the polymerization initiators (a) and (c) have a wavelength to be sensitized, but irradiation with ultraviolet rays is preferable. Ultraviolet curing is preferred because the polymerization rate is fast, the equipment can be made compact, the types of compounds that can be selected are abundant, and the price is low. In the case of ultraviolet rays, ultra-high pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, low pressure mercury lamps, carbon arcs, xenon arcs, metal halide lamps and the like can be used. The irradiation dose of ultraviolet rays is preferably 30~1000mJ / cm 2, more preferably 50~700mJ / cm 2.

〔偏光板〕
本発明の偏光板は、偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルムである。
また、偏光膜を本発明の光学フィルムとそれ以外の他の保護フィルムで狭持してなる構成とすることもできる。
他の保護フィルムとしては、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよいが、溶液製膜法で製造され、且つ10〜100%の延伸倍率でロールフィルム形態における巾方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いても良い。
更には、本発明の偏光板において、片面が本発明の光学フィルムであるのに対して他の保護フィルムが液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであっても良い。
また、本発明の偏光板において、片面が本発明の光学フィルムであるのに対して他の保護フィルムがReが0〜10nm、Rthが−20〜20nmであるフィルム(たとえば、特開2005−301227号公報段落番号[0095]参照)であっても良い。
〔Polarizer〕
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a polarizing film and protective films provided on both sides of the polarizing film, and at least one of the protective films is the optical film of the present invention.
Moreover, it can also be set as the structure formed by sandwiching a polarizing film with the optical film of this invention, and another protective film other than that.
As another protective film, a normal cellulose acetate film may be used, but a cellulose acetate film manufactured by a solution casting method and stretched in the width direction in a roll film form at a stretching ratio of 10 to 100% is used. May be.
Furthermore, in the polarizing plate of the present invention, one surface may be the optical film of the present invention, while the other protective film may be an optical compensation film having an optically anisotropic layer made of a liquid crystalline compound.
In addition, in the polarizing plate of the present invention, one side is the optical film of the present invention, while the other protective film is a film having Re of 0 to 10 nm and Rth of -20 to 20 nm (for example, JP 2005-301227 A). No. paragraph number [0095]).

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。   Examples of the polarizing film include an iodine polarizing film, a dye polarizing film using a dichroic dye, and a polyene polarizing film. The iodine polarizing film and the dye polarizing film are generally produced using a polyvinyl alcohol film.

上記の他の保護フィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム(位相差フィルム)は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開2001−100042号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
The other protective film is preferably an optical compensation film having an optical compensation layer comprising an optical anisotropic layer. The optical compensation film (retardation film) can improve the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen.
A known film can be used as the optical compensation film, but the optical compensation film described in JP-A-2001-100042 is preferable in terms of widening the viewing angle.

本発明の偏光板において本発明の光学フィルムは、液晶表示装置等とともに用いられる際には、液晶セルと反対側の視認側に配置することが好ましい。   In the polarizing plate of the present invention, the optical film of the present invention is preferably disposed on the viewing side opposite to the liquid crystal cell when used with a liquid crystal display device or the like.

〔画像表示装置〕
本発明の画像表示装置は、上記の本発明の光学フィルム又は上記の本発明の偏光板を有する。
すなわち、本発明の光学フィルム、偏光板は、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、ディスプレイの最表層に用いることが好ましい。
画像表示装置は、通常、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有し、液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。さらに、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置されることもある。ここで、本発明の偏光板が視認側にのみ設置されているのが好ましい。
(Image display device)
The image display device of the present invention has the optical film of the present invention or the polarizing plate of the present invention.
That is, the optical film and polarizing plate of the present invention can be advantageously used in an image display device such as a liquid crystal display device, and is preferably used as the outermost layer of the display.
An image display device usually has a liquid crystal cell and two polarizing plates arranged on both sides thereof, and the liquid crystal cell carries a liquid crystal between two electrode substrates. Furthermore, one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and both polarizing plates. Here, it is preferable that the polarizing plate of this invention is installed only in the visual recognition side.

液晶セルは、TNモード、VAモード、OCBモード、IPSモードまたはECBモードであることが好ましい。   The liquid crystal cell is preferably in TN mode, VA mode, OCB mode, IPS mode or ECB mode.

<TNモード>
TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに60〜120゜にねじれ配向している。
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
<TN mode>
In the TN mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and are twisted and aligned at 60 to 120 °.
The TN mode liquid crystal cell is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents.

<VAモード>
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of Tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
<VA mode>
In a VA mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied.
The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). 176625) (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of Tech. Papers (Proceedings) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (for MVA mode) in order to enlarge the viewing angle. ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).

<OCBモード>
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルであり、米国特許第4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend)液晶モードと呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
<OCB mode>
The OCB mode liquid crystal cell is a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystal molecules are aligned in substantially opposite directions (symmetrically) at the upper and lower portions of the liquid crystal cell. US Pat. No. 4,583,825, No. 5,410,422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

<IPSモード>
IPSモードの液晶セルは、ネマチック液晶に横電界をかけてスイッチングする方式であり、詳しくはProc.IDRC(Asia Display ’95),p.577−580及び同p.707−710に記載されている。
<IPS mode>
The IPS mode liquid crystal cell is a type in which a nematic liquid crystal is switched by applying a lateral electric field. IDRC (Asia Display '95), p. 577-580 and p. 707-710.

<ECBモード>
ECBモードの液晶セルは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向している。ECBモードは、最も単純な構造を有する液晶表示モードの一つであって、例えば特開平5−203946号公報に詳細が記載されている。
<ECB mode>
In the ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystalline molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied. The ECB mode is one of the liquid crystal display modes having the simplest structure, and is described in detail in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-203946.

<タッチパネル>
本発明の光学フィルムは、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載されるタッチパネルなどに応用することができる。
<Touch panel>
The optical film of the present invention can be applied to touch panels described in JP-A-5-127822 and JP-A-2002-48913.

<有機EL素子>
本発明の光学フィルムは、有機EL素子等の基板(基材フィルム)や保護フィルムとして用いることができる。
本発明の光学フィルムを有機EL素子等に用いる場合には、特開平11−335661号、特開平11−335368号、特開2001−192651号、特開2001−192652号、特開2001−192653号、特開2001−335776号、特開2001−247859号、特開2001−181616号、特開2001−181617号、特開2002−181816号、特開2002−181617号、特開2002−056976号等の各公報記載の内容を応用することができる。また、特開2001−148291号、特開2001−221916号、特開2001−231443号の各公報記載の内容と併せて用いることが好ましい。
<Organic EL device>
The optical film of the present invention can be used as a substrate (base film) such as an organic EL element or a protective film.
When the optical film of the present invention is used for an organic EL device or the like, JP-A-11-335661, JP-A-11-335368, JP-A-2001-192651, JP-A-2001-192652, JP-A-2001-192653. JP, 2001-335776, JP, 2001-247859, JP, 2001-181616, JP, 2001-181617, JP, 2002-181816, JP, 2002-181617, JP, 2002-056776, etc. The contents described in each publication can be applied. Moreover, it is preferable to use together with the content of each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-148291, Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-221916, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-231443.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

光学フィルムの作成例
(実施例1)
下記表に示すN層用塗布液(NL−1)〜(NL−3)、及びAS層用塗布液(ASL−1)〜(ASL−9)を調製した。
Example of production of optical film (Example 1)
N layer coating liquids (NL-1) to (NL-3) and AS layer coating liquids (ASL-1) to (ASL-9) shown in the following table were prepared.

[N層用塗布液の調製] [Preparation of coating solution for N layer]

───────────────────────────────────
N層用塗布液(NL−1)の組成
───────────────────────────────────
PET−30 47.0g
DPHA 50.0g
イルガキュア184 2.0g
イルガキュア369 1.0g
SP−13 0.01g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 70.0g
ブタノール 10.0g
MEK 20.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of N layer coating solution (NL-1) --------------------------
PET-30 47.0g
DPHA 50.0g
Irgacure 184 2.0g
Irgacure 369 1.0g
SP-13 0.01g
Propylene glycol monoethyl ether 70.0g
Butanol 10.0g
MEK 20.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
N層用塗布液(NL−2)の組成
───────────────────────────────────
PET−30 17.0g
DPHA 50.0g
M−215 30.0g
イルガキュア184 2.0g
イルガキュア369 1.0g
SP−13 0.01g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 49.0g
ブタノール 7.0g
MEK 14.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of N layer coating solution (NL-2) --------------------------
PET-30 17.0g
DPHA 50.0g
M-215 30.0g
Irgacure 184 2.0g
Irgacure 369 1.0g
SP-13 0.01g
49.0 g of propylene glycol monoethyl ether
Butanol 7.0g
MEK 14.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
N層用塗布液(NL−3)の組成
───────────────────────────────────
DPHA 50.0g
M−215 47.0g
イルガキュア184 2.0g
イルガキュア369 1.0g
SP−13 0.01g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 20.0g
MEK 10.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of N layer coating solution (NL-3) --------------------------
DPHA 50.0g
M-215 47.0g
Irgacure 184 2.0g
Irgacure 369 1.0g
SP-13 0.01g
Propylene glycol monoethyl ether 20.0g
MEK 10.0g
───────────────────────────────────

上記塗布液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過してN層用塗布液(NL−1)〜(NL−3)を調製した。
それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ DPHA:ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
・ PET−30:ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物[日本化薬(株)製]
・ M−215:イソシアヌル酸エトキシ変性ジアクリレート[東亜合成(株)製、アロニックスM−215]
・ イルガキュア184:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・ イルガキュア369:重合開始剤[チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製]
・ SP−13フッ素系表面改質剤
The coating liquid was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm to prepare N-layer coating liquids (NL-1) to (NL-3).
The compounds used are shown below.
DPHA: Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.]
PET-30: A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate [manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.]
M-215: Isocyanuric acid ethoxy modified diacrylate [manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M-215]
・ Irgacure 184: Polymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.]
・ Irgacure 369: Polymerization initiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.]
・ SP-13 Fluorine surface modifier

SP−13フッ素系表面改質剤
SP-13 Fluorine surface modifier

また、上記NL−1〜NL−3を乾燥硬化させたときの屈折率は1.51であった。   Further, the refractive index when the above NL-1 to NL-3 were dried and cured was 1.51.

[AS層用塗布液の調製]
帯電防止層用塗布液(ASL−1)の調製
市販の導電性微粒子ATO「アンチモンドープ酸化錫T−1」{比表面積80m2/g、三菱マテリアル(株)製}30.0部に、アニオン性基とメタアクリロイル基を有する下記の分散剤(B−1)4.0部、プロピレングリコールモノエチルエーテル67部を添加して撹拌した。
[Preparation of coating solution for AS layer]
Preparation of coating solution for antistatic layer (ASL-1) Commercially available conductive fine particles ATO “antimony-doped tin oxide T-1” {specific surface area 80 m 2 / g, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation} 30.0 parts 4.0 parts of the following dispersant (B-1) having a functional group and a methacryloyl group and 67 parts of propylene glycol monoethyl ether were added and stirred.

分散剤(B−1)
Dispersant (B-1)

メディア分散機(直径0.1mmのジルコニアビーズ使用)を用いて、上記液中のATO粒子を分散した。光散乱法で分散液中のATO粒子の質量平均粒径を評価した結果、50nmであった。このようにして、ATO分散液を作製した。   The ATO particles in the liquid were dispersed using a media disperser (using zirconia beads having a diameter of 0.1 mm). It was 50 nm as a result of evaluating the mass mean particle diameter of the ATO particle | grains in a dispersion liquid by the light-scattering method. In this way, an ATO dispersion was prepared.

上記ATO分散液100部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“DPHA”{日本化薬(株)製}15部、光重合開始剤「イルガキュア184」{チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}0.7部、光重合開始剤「イルガキュア369」{チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製}0.3部、フッ素系表面改質剤「SP−13」0.03部、及びMEKを19部添加して撹拌した。このようにして帯電防止層用塗布液(ASL−1)を調製した。
ASL−1の組成を以下に示す。
To 100 parts of the above ATO dispersion, 15 parts of a mixture of DPTA and dipentaerythritol hexaacrylate “DPHA” {manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.}, photopolymerization initiator “Irgacure 184” {Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.} 0.7 part, photopolymerization initiator “Irgacure 369” {Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.} 0.3 part, fluorine-based surface modifier “SP-13” 0.03 part, And 19 parts of MEK was added and stirred. In this way, an antistatic layer coating solution (ASL-1) was prepared.
The composition of ASL-1 is shown below.

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−1)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 15.0g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-1) -------------------------
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 15.0g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−2)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
DPSM 7.0g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-2) -------------------------
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
DPSM 7.0g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−3)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
ZrO2(平均粒子サイズ12nm) 7.0g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-3) -------------------------
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
ZrO 2 (average particle size 12 nm) 7.0 g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−4)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
ZrO2(平均粒子サイズ7nm) 7.0g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-4) -------------------------
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
ZrO 2 (average particle size 7 nm) 7.0 g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−5)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
ZrO2(平均粒子サイズ20nm) 7.0g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-5) ───────────────────────────────────
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
ZrO 2 (average particle size 20 nm) 7.0 g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−6)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
DPSM 3.5g
PTM 3.5g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-6) ───────────────────────────────────
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
DPSM 3.5g
PTM 3.5g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−7)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
DPSM 3.5g
ZrO2(平均粒子サイズ12nm) 3.5g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of AS layer coating solution (ASL-7) ───────────────────────────────────
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
DPSM 3.5g
ZrO 2 (average particle size 12 nm) 3.5 g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 19.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−8)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
ZrO2(平均粒子サイズ12nm) 7.0g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 5.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of AS layer coating solution (ASL-8) ───────────────────────────────────
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
ZrO 2 (average particle size 12 nm) 7.0 g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 5.0g
───────────────────────────────────

───────────────────────────────────
AS層用塗布液(ASL−9)の組成
───────────────────────────────────
ATO(T−1) 30.0g
分散剤(B−1) 4.0g
DPHA 8.0g
DPSM 3.5g
ZrO2(平均粒子サイズ12nm) 3.5g
イルガキュア184 0.7g
イルガキュア369 0.3g
SP−13 0.03g
プロピレングリコールモノエチルエーテル 67.0g
MEK 4.0g
───────────────────────────────────
───────────────────────────────────
Composition of coating liquid for AS layer (ASL-9) ───────────────────────────────────
ATO (T-1) 30.0g
Dispersant (B-1) 4.0 g
DPHA 8.0g
DPSM 3.5g
ZrO 2 (average particle size 12 nm) 3.5 g
Irgacure 184 0.7g
Irgacure 369 0.3g
SP-13 0.03g
Propylene glycol monoethyl ether 67.0g
MEK 4.0g
───────────────────────────────────

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
・ DPSM:ビス(4−メタクリロキシエトキシフェニル)スルフィド
・ PTM:フェニルチオエチルメタクリレート
・ ZrO2(平均12nm):(ZrO2のMEK分散液 住友大阪セメント製に対してAl系カップリング剤プレーンアクトAL−M(味の素株式会社製)を3質量%(対ZrO2)添加、ZrO2 粒子の屈折率2.2)
・ ZrO2(平均8nm):(上記ZrO2の粒子サイズ違い)
・ ZrO2(平均20nm):(上記ZrO2の粒子サイズ違い)
The compounds used are shown below.
DPSM: bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) sulfide PTM: phenylthioethyl methacrylate ZrO 2 (average 12 nm): (MEK dispersion of ZrO 2 Al coupling agent plain act AL for Sumitomo Osaka Cement -M (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) 3 mass% (vs. ZrO 2 ) added, refractive index of ZrO 2 particles 2.2)
ZrO 2 (average 8 nm): (difference in ZrO 2 particle size)
ZrO 2 (average 20 nm): (difference in ZrO 2 particle size)

また、上記AS層塗布液を乾燥・硬化させたときの屈折率は、ASL−1は1.62、ASL−2〜ASL−9は1.63であった。   The refractive index when the AS layer coating solution was dried and cured was 1.62 for ASL-1 and 1.63 for ASL-2 to ASL-9.

(光学フィルム(101)の作製)
ベース巻き出し/第1コーター/第1乾燥/第1UV照射/第2コーター/第2乾燥/第2UV照射/巻取りが連続してできる装置を使用して、180mm幅のロール状に加工した膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士フイルム(株)製}上に150mmの塗布幅で以下の条件で光学フィルムを作成した。
(Preparation of optical film (101))
Film processed into a roll with a width of 180 mm using an apparatus capable of continuous base unwinding / first coater / first drying / first UV irradiation / second coater / second drying / second UV irradiation / winding. An optical film was formed on a triacetylcellulose film “TAC-TD80U” {manufactured by FUJIFILM Corporation} having a thickness of 80 μm and a coating width of 150 mm under the following conditions.

塗布速度:10m/min
第1コーター:1スロット押し出しコーター
第1層塗布液:NL−1
第1乾燥:80℃90秒
第1UV照射:40mJ/cm2、窒素パージし酸素濃度0.1%以下
第2コーター:1スロット押し出しコーター
第2層塗布液:ASL−1
第2乾燥:80℃90秒
第2UV照射:120mJ/cm2、窒素パージし酸素濃度0.1%以下
Application speed: 10 m / min
First coater: 1 slot extrusion coater First layer coating solution: NL-1
First drying: 80 ° C. for 90 seconds First UV irradiation: 40 mJ / cm 2 , nitrogen purge, oxygen concentration 0.1% or less Second coater: 1 slot extrusion coater Second layer coating solution: ASL-1
Second drying: 80 ° C. for 90 seconds Second UV irradiation: 120 mJ / cm 2 , purged with nitrogen and oxygen concentration of 0.1% or less

第1層塗布液の流量は、乾燥硬化後の膜厚が3.0μm、第2層塗布液の流量は、乾燥硬化後の膜厚が1.0μmになるように調節し、光学フイルム101を作製した。
光学フィルム101の作製において、塗布液種、乾燥硬化膜厚、UV照射量を表1に示す様に変更した試料102〜124を作製した。
The flow rate of the first layer coating solution is adjusted so that the film thickness after drying and curing is 3.0 μm, and the flow rate of the second layer coating solution is adjusted so that the film thickness after drying and curing is 1.0 μm. Produced.
In the production of the optical film 101, samples 102 to 124 were produced in which the coating liquid type, the dry cured film thickness, and the UV irradiation amount were changed as shown in Table 1.

(光学フィルムの評価)
得られた光学フイルム101〜124に対して、以下の評価を行った。
(Evaluation of optical film)
The following evaluation was performed with respect to the obtained optical films 101-124.

(評価1)第1塗布層の重合率
第2塗布層を塗布する前の乾燥・硬化後の第1塗布層を用いて、本文に記載の方法で第1塗布層の重合率を測定した。
(Evaluation 1) Polymerization rate of 1st application layer The polymerization rate of the 1st application layer was measured by the method as described in the text using the 1st application layer after drying and hardening before applying the 2nd application layer.

(評価2)N層とAS層の界面観察
各試料の50nmの厚さの切片を作製し透過型電子顕微鏡で15万倍で写真を撮影し、導電性粒子や無機微粒子の界面での状態を観察した。また、各試料を支持体の水平面に対して5°の角度で斜め切削して、TOF−SIMSにより切削界面を観察し、芳香族基を有するバインダーに固有のシグナルの分布を観察し、界面での混合状態を観察した。界面の評価は以下の6つに分類して行った。
・ クリア:界面はクリアで、導電性粒子、導電性粒子とは別の屈折率≧1.55の粒子や芳香族基を含有したバインダーの拡散はほとんど認められない。
・ 徐変:界面付近で、導電性粒子とは別の屈折率≧1.55の粒子及び/又は芳香族基含有バインダーの濃度がN層又はAS層と異なる層が認められる。(本発明の態様1)
・ 乱混合:界面付近で、導電性粒子の濃度の異なる層が認められ、かつ層の厚さが一定せず乱れている。
・ 界面混合層:界面付近で、AS層でもN層でもない、別の組成の組成が膜厚方向に変化することのない層が形成されている。(本発明の態様2)
・ 海島構造:界面付近で導電性粒子とは別の屈折率≧1.55の粒子及び芳香族基含有バインダーを含む相が分散状態で存在し、海島構造になっている。(本発明の態様3)
・ 観察されず:界面は観察されない。
また、徐変、界面混合層及び乱混合については、導電性粒子とは別の屈折率≧1.55の粒子や芳香族基を含有したバインダーの濃度が変化している層の厚さを見積もった。界面混合層が形成された場合には、層の厚みを見積もった。海島構造については、分散された相の直径を見積もった。
(Evaluation 2) Observation of interface between N layer and AS layer A 50 nm thick section of each sample was prepared and photographed with a transmission electron microscope at a magnification of 150,000, and the state at the interface of conductive particles and inorganic fine particles was observed. Observed. In addition, each sample was obliquely cut at an angle of 5 ° with respect to the horizontal plane of the support, the cutting interface was observed with TOF-SIMS, the signal distribution specific to the binder having an aromatic group was observed, and The mixed state of was observed. The evaluation of the interface was classified into the following six.
Clear: The interface is clear, and diffusion of binders containing an aromatic group or particles having a refractive index ≧ 1.55 different from the conductive particles and conductive particles is hardly observed.
Slow change: Near the interface, particles having a refractive index ≧ 1.55 different from the conductive particles and / or a layer in which the concentration of the aromatic group-containing binder is different from the N layer or AS layer is observed. (Aspect 1 of the present invention)
-Random mixing: Layers with different concentrations of conductive particles are observed near the interface, and the layer thickness is not constant and is disturbed.
Interfacial mixed layer: In the vicinity of the interface, a layer that is neither an AS layer nor an N layer and in which the composition of another composition does not change in the film thickness direction is formed. (Aspect 2 of the present invention)
-Sea-island structure: A phase containing particles having a refractive index ≧ 1.55 different from the conductive particles and an aromatic group-containing binder exists in the vicinity of the interface in a dispersed state, and has a sea-island structure. (Aspect 3 of the present invention)
-Not observed: The interface is not observed.
For gradual change, interfacial mixed layer, and random mixing, the thickness of the layer having a refractive index ≧ 1.55 different from the conductive particles and the layer containing the aromatic group-containing binder is changing. It was. When the interfacial mixed layer was formed, the thickness of the layer was estimated. For the sea-island structure, the diameter of the dispersed phase was estimated.

(評価3)表面抵抗
表面抵抗値を本文に記載の円電極法で測定した。
(Evaluation 3) Surface Resistance The surface resistance value was measured by the circular electrode method described in the text.

(評価4)干渉ムラ
干渉ムラの指標として以下のうねり振幅を用いた。測定サンプルは裏面反射の影響をなくすために、測定面(AS層を設けた側の面)の反対側の表面(裏面)をサンドペーパーで粗面化した後、波長400〜600nmの可視光線平均透過率が5%以下となるように黒色マジックインキにて着色した。分光光度計“V−550”[日本分光(株)製]にアダプター”ARV−474”を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角−5゜の鏡面反射率を測定した。反射スペクトルの400nm〜650nmにおける反射率カーブのうねりの山頂部分を結んだ線(山頂線)とうねりの谷底部分を結んだ線(谷底線)について550nmにおける”(山頂線−谷底線)”を求めうねり振幅を算出した。
光学フィルム上に塗設された層の膜厚のムラにより干渉波長がずれると、うねり振幅が大きい試料は特定波長の反射率が大きく変化し、特に光源が輝線を有する蛍光灯光源下ではムラが目立ちやすい。うねり振幅は1.5%以下が好ましく、更に好ましくは1.0%以下である。
(Evaluation 4) Interference unevenness The following undulation amplitude was used as an index of interference unevenness. In order to eliminate the influence of reflection on the back surface of the measurement sample, the surface (back surface) opposite to the measurement surface (the surface on which the AS layer is provided) is roughened with sandpaper, and then the average of visible light with a wavelength of 400 to 600 nm is used. It was colored with black magic ink so that the transmittance was 5% or less. The spectrophotometer “V-550” (manufactured by JASCO Corporation) is equipped with an adapter “ARV-474”, and in the wavelength region of 380 to 780 nm, the specular reflectivity with an output angle of −5 ° at an incident angle of 5 ° Was measured. Obtain the “(mountain line-valley line)” at 550 nm for the line connecting the peaks of the undulations (peak line) and the line connecting the valleys of the undulation (valley line) in the reflectance spectrum at 400 nm to 650 nm. Waviness amplitude was calculated.
When the interference wavelength shifts due to the unevenness of the film thickness of the layer coated on the optical film, the reflectance of a specific wavelength greatly changes in a sample having a large undulation amplitude, and in particular, the unevenness occurs under a fluorescent light source where the light source has a bright line. Easy to stand out. The undulation amplitude is preferably 1.5% or less, and more preferably 1.0% or less.

(評価5)スチールウール耐擦傷性評価(SW耐擦傷性)
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行った。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール((株)日本スチールウール製、No.0000)を巻いて、動かないようバンド固定し
た。その上で下記条件の往復こすり運動を与えた。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm3、先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
(Evaluation 5) Steel wool scratch resistance evaluation (SW scratch resistance)
A rubbing test was conducted using a rubbing tester under the following conditions.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move. Then, the reciprocating rubbing motion under the following conditions was given.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 500 g / cm 3 , tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 10 round trips.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
○: Even when viewed very carefully, no scratches are visible.
○ △: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully.
Δ: A weak scratch is visible.
Δ ×: moderate scratches are visible.
X: There are scratches that can be seen at first glance.

(評価6)碁盤目密着性評価(クロスカット密着)
25℃、60%RHに24時間以上保管した試料を用い、JIS K−5400に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、各試料のAS層を塗設した側の面に1mm間隔で縦、横に11本の切れ目を入れ、1mm角の碁盤目を100個作り、この上にセロハン粘着テープを貼り付け、90°で素早く剥がす行為を5回繰り返した。剥がれずに残った碁盤目の数をカウントした。この数が80以上のものが実用可である。
評価結果を表1に合わせて示す。
(Evaluation 6) Cross-cut adhesion evaluation (cross-cut adhesion)
A cross-cut test based on JIS K-5400 was performed using a sample stored at 25 ° C. and 60% RH for 24 hours or more. More specifically, 11 cuts are made vertically and horizontally on the surface on which the AS layer of each sample is coated, and 100 1 mm square grids are made, and a cellophane adhesive tape is pasted thereon. The action of attaching and quickly peeling off at 90 ° was repeated 5 times. The number of grids remaining without peeling was counted. Those having this number of 80 or more are practical.
The evaluation results are shown in Table 1.

表1において、第1層と第2層の間の層領域の屈折率は、TOF−SIMSによる分析及び光学干渉のシミュレーションより見積もると、層領域が形成されているものは概ね1.55〜1.57付近であった。
表1に示す結果より以下のことが明らかである。
AS層に芳香族基を有するバインダーや、屈折率≧1.55の実質的に非導電性の粒子を含有し、第1層のN層の重合率を50%以下にしたものは、AS層の成分がN層側に拡散して、中間の屈折率の領域を有し、表面抵抗の低下が少なく、干渉ムラ、クロスカット密着、SW耐擦傷性が改善できることが分かる(試料101、104〜106、107と試料102、103の比較)。
また、芳香族基を有するバインダーを2種併用したり、芳香族基を有するバインダーと屈折率1.55以上の粒子を併用すると、干渉ムラが低減した(試料102と109、110の比較、)。また、第1層を硬化することなく、第2層を塗布する場合には、第1層のNL層のバインダーに高分子量の化合物を用いることにより、表面抵抗の上昇が少なく干渉ムラの改良の可能となった(試料112、113と114,115の比較)。
また、AS層に芳香族基を有するバインダーや屈折率≧1.55の無機微粒子を含有しない試料は、未硬化状態でN層とAS層を塗り重ねると界面の混合が大きく、特にAS層の膜厚の薄い場合には、ある程度干渉ムラは低減するものの、表面抵抗の目減りが大きくなる(試料111、118、122)。それに比較して、AS層に芳香族基を有するバインダーや屈折率≧1.55の無機微粒子を含有させN層に拡散せしめた本発明の試料は、干渉ムラ改良効果が大きく、表面抵抗の目減りも少ないことが分かる(試料112〜115、119、123)。
In Table 1, when the refractive index of the layer region between the first layer and the second layer is estimated from the analysis by TOF-SIMS and the simulation of optical interference, the layer region formed is approximately 1.55 to 1. Around 57.
From the results shown in Table 1, the following is clear.
The AS layer contains a binder having an aromatic group and substantially non-conductive particles with a refractive index of ≧ 1.55, and the N layer of the first layer has a polymerization rate of 50% or less. This component diffuses to the N layer side and has an intermediate refractive index region, so that there is little decrease in surface resistance, and interference unevenness, cross-cut adhesion, and SW scratch resistance can be improved (Samples 101, 104- 106, 107 and samples 102, 103).
Further, when two types of binders having an aromatic group were used in combination, or when a binder having an aromatic group and particles having a refractive index of 1.55 or more were used in combination, the interference unevenness was reduced (compare samples 102, 109 and 110). . In addition, when the second layer is applied without curing the first layer, a high molecular weight compound is used for the binder of the NL layer of the first layer, so that an increase in surface resistance is reduced and interference unevenness is improved. It became possible (comparison of samples 112, 113 and 114, 115).
In addition, a sample that does not contain a binder having an aromatic group or an inorganic fine particle having a refractive index of ≧ 1.55 in the AS layer has a large interfacial mixing when the N layer and the AS layer are overcoated in an uncured state. When the film thickness is small, the interference unevenness is reduced to some extent, but the surface resistance is greatly reduced (samples 111, 118, 122). In comparison, the sample of the present invention, which contains a binder having an aromatic group in the AS layer and inorganic fine particles having a refractive index of ≧ 1.55 and diffused in the N layer, has a large effect of improving interference unevenness and reduces surface resistance. (Samples 112 to 115, 119, and 123).

(実施例2)
(光学フィルム(201)の作製)
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士フイル
ム(株)製}をロール形態で巻き出して、図4に示すスロットダイを有するギーサーを用いて、N層用塗布液(NL−2)を31a、AS層用塗布液(ASL−8)を31bから塗出し、搬送速度15m/分の条件で塗布し、80℃で90秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量240mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ巻き取った。N層及びAS層の硬化後の膜厚がそれぞれ3.0μmおよび1.0μmになるように塗布量を調整した。
(Example 2)
(Preparation of optical film (201))
A triacetyl cellulose film “TAC-TD80U” {manufactured by FUJIFILM Corporation} with a film thickness of 80 μm is unrolled in a roll form, and an N-layer coating solution (NL- 2) 31a and AS layer coating solution (ASL-8) were applied from 31b, applied at a transfer speed of 15 m / min, dried at 80 ° C. for 90 seconds, and then air-cooled metal halide lamp (under nitrogen purge) Using an iGraphics Co., Ltd., the coating layer was cured by being irradiated with ultraviolet rays having an irradiation amount of 240 mJ / cm 2 and wound up. The coating amount was adjusted so that the thicknesses of the N layer and AS layer after curing were 3.0 μm and 1.0 μm, respectively.

図4に示されるスロットダイは、上流側リップランド長LUが0.5mm、中流リップランド長LMが0.5mm、下流側リップランド長LDが50μmで、2つのスロットの開口部のウェブ走行方向における長さは共に150μmのものを使用した。
上流側、中流側リップランドとウェブWの隙間を、下流側リップランドとウェブWの隙間よりも50μm長くし(以下、オーバーバイト長さ50μmと称する)、下流側リップランドとウェブWとの隙間GLを50μmに設定した。
The slot die shown in FIG. 4 has an upstream lip land length L U of 0.5 mm, a midstream lip land length L M of 0.5 mm, and a downstream lip land length L D of 50 μm. The length in the web running direction was 150 μm.
The gap between the upstream and middle lip lands and the web W is 50 μm longer than the gap between the downstream lip land and the web W (hereinafter referred to as an overbite length of 50 μm), and the gap between the downstream lip land and the web W GL was set to 50 μm.

光学フィルム201の作製において、塗布液種を表2に示す様に変更した試料202〜204を作製した。実施例1と同様の評価を行った結果を表2に合わせて示す。   In the production of the optical film 201, samples 202 to 204 were produced in which the coating liquid types were changed as shown in Table 2. The results of the same evaluation as in Example 1 are shown together in Table 2.

表2において、第1層と第2層の間の層領域の屈折率は、TOF−SIMSによる分析及び光学干渉のシミュレーションより見積もると、層領域が形成されているものは概ね1.55〜1.57付近であった。
表2によれば、AS層に芳香族基を有するバインダー又は屈折率1.55以上の実質的に非導電性の粒子を含有し、両層を同時に塗布した試料は、AS層の成分がN層側に拡散して、中間の屈折率の領域を有し、表面抵抗の低下が少なく、干渉ムラ、クロスカット密着、SW耐擦傷性が改善できることが分かる。また、芳香族基を有するバインダーと屈折率1.55以上の粒子を共に含有するAS層をN層と隣接させ同時に塗設すると、中間の屈折率領域が海島構造になることが解った。
In Table 2, when the refractive index of the layer region between the first layer and the second layer is estimated from the analysis by TOF-SIMS and the simulation of optical interference, the layer region formed is approximately 1.55-1. Around 57.
According to Table 2, the AS layer contains a binder having an aromatic group or a substantially non-conductive particle having a refractive index of 1.55 or more. It can be seen that it diffuses to the layer side, has an intermediate refractive index region, has little decrease in surface resistance, and can improve interference unevenness, cross-cut adhesion, and SW scratch resistance. Further, it was found that when an AS layer containing both a binder having an aromatic group and particles having a refractive index of 1.55 or more is adjacent to the N layer and coated simultaneously, the intermediate refractive index region has a sea-island structure.

(実施例3)
以下に示す低屈折率層用塗布液(LnL−1)〜(LnL−4)を調製した。
(Example 3)
The following coating solutions for low refractive index layer (LnL-1) to (LnL-4) were prepared.

(低屈折率層用塗布液(LnL−1)の調製)
熱架橋性含フッ素ポリマー(特開平11−189621公報実施例1に記載の含フッ素含シリコーン熱硬化ポリマー)4.52g、硬化剤(サイメル303;商品名、日本サイテックインダストリーズ(株)製)1.13g、硬化触媒(キャタリスト4050;商品名、日本サイテックインダストリーズ(株)製)0.11g、コロイダルシリカ分散液(MEK−ST−L;商品名、日産化学(株)、固形分濃度30%、平均粒子サイズ約50nm)1.5g、シリカ分散液B(中空シリカのシクロヘキサノン分散液、シリカに対して重合性官能基含有表面処理剤15%使用、固形分濃度23%)15.0g、ゾル液a2.5g、光重合開始剤(PM980M、分子量527、和光純薬製)0.60g、およびメチルエチルケトン114gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液(LnL−1)を調製した。この低屈折率層用塗布液を硬化させた膜の屈折率は1.36であった。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LnL-1))
Heat-crosslinkable fluorine-containing polymer (fluorine-containing silicone thermosetting polymer described in Example 1 of JP-A-11-189621) 4.52 g, curing agent (Cymel 303; trade name, manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd.) 13 g, curing catalyst (Catalyst 4050; trade name, manufactured by Nippon Cytec Industries Co., Ltd.) 0.11 g, colloidal silica dispersion (MEK-ST-L; trade name, Nissan Chemical Co., Ltd., solid content concentration 30%, 1.5 g of an average particle size of about 50 nm, 15.0 g of silica dispersion B (cyclohexanone dispersion of hollow silica, 15% polymerizable functional group-containing surface treatment agent relative to silica, 23% solid content), sol solution a2.5 g, photopolymerization initiator (PM980M, molecular weight 527, manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.60 g, and methyl ethyl ketone 114 g Pressurizing, after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 [mu] m, to prepare a coating solution for low refractive index layer (LnL-1). The refractive index of the film obtained by curing the coating solution for the low refractive index layer was 1.36.

(低屈折率層用塗布液(LnL−2)の調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)2.65g、シリカ分散液B(中空シリカ分散液、シリカに対して重合性官能基含有表面処理剤15%使用、固形分濃度23%)30.0g、ゾル液a2.93g、反応性シリコーンX−22−164C(商品名;信越化学工業社製)0.15g、含フッ素化合物F3035(商品名;日本油脂株式会社製、固形分濃度30%)0.15g、光重合開始剤(イルガキュア369(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、分子量367)0.20gおよびメチルエチルケトン103g、シクロヘキサノン3.5gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液(LnL−2)を調製した。この低屈折率層用塗布液を硬化させた膜の屈折率は1.42であった。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LnL-2))
2.65 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), silica dispersion B (hollow silica dispersion, surface treatment agent containing a polymerizable functional group with respect to silica) 15% used, solid content concentration 23%) 30.0 g, sol liquid 2.93 g, reactive silicone X-22-164C (trade name; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.15 g, fluorine-containing compound F3035 (trade name; Nippon Oil & Fat Co., Ltd., solid content concentration 30%) 0.15 g, photopolymerization initiator (Irgacure 369 (trade name), Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., molecular weight 367) 0.20 g and methyl ethyl ketone 103 g, cyclohexanone 3 .5g was added, stirred, and filtered through a polypropylene filter with a pore size of 1μm. Rate layer coating solution (LnL-2) was prepared. The refractive index of the film obtained by curing the coating solution for the low refractive index layer was 1.42.

(低屈折率層用塗布液(LnL−3)の調製)
ラジカル重合性含フッ素ポリマー(特開2003−222702号公報に記載の含フッ素含シリコーンラジカル重合性ポリマーP9)5.22g、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)0.50g、シリカ分散液B(中空シリカ分散液、固形分濃度23%)15.0g、ゾル液a4.4g、反応性シリコーンRMS−033(商品名;Gelest社製)0.15g、光重合開始剤イルガキュア369(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、分子量367)0.17gおよびメチルエチルケトン114g、シクロヘキサノン3.5gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液(LnL−3)を調製した。この低屈折率層用塗布液を硬化させた膜の屈折率は1.36であった。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LnL-3))
5.22 g of radically polymerizable fluorine-containing polymer (fluorinated silicone-containing radically polymerizable polymer P9 described in JP-A-2003-222702), a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku) 0.50 g, silica dispersion B (hollow silica dispersion, solid content concentration 23%) 15.0 g, sol liquid a 4.4 g, reactive silicone RMS-033 (trade name; manufactured by Gelest) 0 .15 g, 0.17 g of photopolymerization initiator Irgacure 369 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., molecular weight 367), 114 g of methyl ethyl ketone, and 3.5 g of cyclohexanone were added, stirred, and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm. The coating liquid for the low refractive index layer (LnL 3) was prepared. The refractive index of the film obtained by curing the coating solution for the low refractive index layer was 1.36.

(低屈折率層用塗布液(LnL−4)の調製)
コルコートN103(オルガノオルガノシロキサンオリゴマ−(平均分子量950、コルコート社製)(2%)245質量部、オプスターJTA105(含フッ素オルガノシロキサンオリゴマー(5%)、ポリエチレングリコール、ヘキサメチロールメラミン、酸発生剤含有、JSR社製)100質量部、オプスタ−JTA105A(硬化剤(5%)、JSR社製)1質量部、中空シリカ分散液A(30%)23質量部、酢酸ブチル365質量部を混合し、低屈折率層用塗布液(LnL−4)を調製した。この低屈折率層用塗布液を硬化させた膜の屈折率は1.36であった。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (LnL-4))
Colcoat N103 (organoorganosiloxane oligomer (average molecular weight 950, manufactured by Colcoat) (2%) 245 parts by mass, OPSTAR JTA105 (fluorinated organosiloxane oligomer (5%), polyethylene glycol, hexamethylolmelamine, acid generator contained, 100 parts by mass of JSR), 1 part by mass of OPSTA-JTA105A (curing agent (5%), made by JSR), 23 parts by mass of hollow silica dispersion A (30%), 365 parts by mass of butyl acetate, and low A coating liquid for refractive index layer (LnL-4) was prepared, and the refractive index of the film obtained by curing the coating liquid for low refractive index layer was 1.36.

使用した分散液を以下に示す。
中空シリカ分散液A:中空シリカ微粒子ゾル、平均粒子径65nm、シェル厚み8nm、シリカ粒子の屈折率1.28、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成、IPA分散液、固形分30%とした。
中空シリカ分散液B:中空シリカ分散液A中のシリカに対して、表面処理剤として3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン15質量部で表面修飾し、修飾後シクロヘキサノンに溶媒置換し固形分濃度を23%とした。
The dispersion used is shown below.
Hollow silica dispersion A: Hollow silica fine particle sol, average particle diameter 65 nm, shell thickness 8 nm, refractive index of silica particles 1.28, prepared by changing the size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616, IPA dispersion The solid content was 30%.
Hollow silica dispersion B: The silica in the hollow silica dispersion A is surface-modified with 15 parts by mass of 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane as a surface treatment agent, and after modification, the solvent is substituted with cyclohexanone to obtain a solid content concentration of 23. %.

続いて、実施例1の試料101〜103、114〜115、実施例2の試料201〜204の上に、上記低屈折率層を塗設し、表3に示す構成の試料を作成した。低屈折率層は下記の条件で硬化させた。   Subsequently, the low refractive index layer was coated on the samples 101 to 103 and 114 to 115 of Example 1 and the samples 201 to 204 of Example 2 to prepare samples having the configurations shown in Table 3. The low refractive index layer was cured under the following conditions.

(LnL−1、LnL−4を使用した光学フィルムの硬化条件)
90℃で150秒乾燥の後、110℃で10分の熱硬化を行った。その後に窒素パージ(酸素濃度0.05%以下)しながら、照射エネルギー量240mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。
(Curing conditions for optical film using LnL-1 and LnL-4)
After drying at 90 ° C. for 150 seconds, thermosetting was performed at 110 ° C. for 10 minutes. Thereafter, while applying a nitrogen purge (oxygen concentration of 0.05% or less), ultraviolet rays having an irradiation energy amount of 240 mJ / cm 2 were irradiated to cure the coating layer.

(LnL−2、LnL−3を使用した光学フィルムの硬化条件)
90℃で150秒乾燥の後、窒素パージ(酸素濃度0.05%以下)しながら、照射エネルギー量240mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。
(Curing conditions for optical films using LnL-2 and LnL-3)
After drying at 90 ° C. for 150 seconds, the coating layer was cured by irradiating with an ultraviolet ray having an irradiation energy amount of 240 mJ / cm 2 while purging with nitrogen (oxygen concentration 0.05% or less).

得られた試料は、実施例1に準じた評価に加え以下に示す鏡面反射率の評価を行った。
(評価7)鏡面反射率
干渉ムラの評価と同様に裏面を処理し裏面反射の影響をなくした試料を用い、分光光度計”V−550”[日本分光(株)製]にアダプター”ARV−474”を装着して、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における出射角−5゜の鏡面反射率を測定した。この波長領域での平均反射率を本発明の鏡面反射率とした。
評価結果を表3に合わせて示す。
In addition to the evaluation according to Example 1, the obtained sample evaluated the specular reflectance shown below.
(Evaluation 7) Specular Reflectance Using a sample whose back surface was processed to eliminate the influence of back surface reflection in the same manner as the interference unevenness evaluation, an adapter “ARV-” was attached to a spectrophotometer “V-550” [manufactured by JASCO Corporation]. 474 ″ was mounted, and the specular reflectance at an output angle of −5 ° at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. The average reflectance in this wavelength region was taken as the specular reflectance of the present invention.
The evaluation results are shown in Table 3.

表3に示す結果から、本発明に従えば、導電性に優れ、干渉ムラの発生が抑えられ、反射率の低い試料が得られることがわかる。   From the results shown in Table 3, it can be seen that according to the present invention, it is possible to obtain a sample having excellent conductivity, suppressing occurrence of interference unevenness, and low reflectance.

(実施例4)
環状オレフィン系樹脂フィルム(日本ゼオン社製、商品名:ZEONOR、厚み40μ)の一方の面にコロナ処理を施し、実施例3の層構成の試料を作成した。実施例3に準じた評価を行った結果、本発明に従えば、導電性に優れ、干渉ムラの発生が抑えられた試料が得られた。
Example 4
One surface of a cyclic olefin-based resin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name: ZEONOR, thickness 40 μ) was subjected to corona treatment, and a sample having a layer configuration of Example 3 was prepared. As a result of evaluation according to Example 3, according to the present invention, a sample having excellent conductivity and suppressing occurrence of interference unevenness was obtained.

(実施例5)
[光学フィルムの鹸化処理]
実施例3の試料の裏面を以下に示す条件で鹸化処理を行った。
アルカリ浴:1.5mol/dm3水酸化ナトリウム水溶液、55℃−120秒。
第1水洗浴:水道水、60秒。
中和浴:0.05mol/dm3硫酸、30℃−20秒。
第2水洗浴:水道水、60秒。
乾燥:120℃、60秒
(Example 5)
[Saponification of optical film]
The back surface of the sample of Example 3 was saponified under the following conditions.
Alkaline bath: 1.5 mol / dm 3 sodium hydroxide aqueous solution, 55 ° C.-120 seconds.
First washing bath: tap water, 60 seconds.
Neutralization bath: 0.05 mol / dm 3 sulfuric acid, 30 ° C.-20 seconds.
Second washing bath: tap water, 60 seconds.
Drying: 120 ° C, 60 seconds

[光学フィルム付き偏光板の作製]
延伸したポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。実施例3の鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、該反射防止フィルムの支持体(トリアセチルセルロース)側が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償層を有する視野角拡大フィルム「ワイドビューフィルムSA12B」{富士フイルム(株)製}を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
作製した本発明の偏光板を装着したTNモードの透過型液晶表示装置を評価した結果、視認性、防塵性、耐擦傷性に優れた表示装置が作製できることが確認された。
[Production of polarizing plate with optical film]
A polarizing film was prepared by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film. A saponified antireflection film of Example 3 was attached to one side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol-based adhesive so that the support (triacetylcellulose) side of the antireflection film was the polarizing film side. . A viewing angle widening film “Wide View Film SA12B” (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) having an optical compensation layer was saponified and attached to the other side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol-based adhesive. In this way, a polarizing plate was produced.
As a result of evaluating the TN mode transmissive liquid crystal display device equipped with the produced polarizing plate of the present invention, it was confirmed that a display device excellent in visibility, dust resistance and scratch resistance could be produced.

(実施例6)
実施例3の光学フィルムを、有機EL表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、干渉ムラが小さく、導電性に優れ、ガラス表面での反射が抑えられた、視認性の高い表示装置が得られた。
(Example 6)
When the optical film of Example 3 was bonded to the glass plate on the surface of the organic EL display device via an adhesive, the interference unevenness was small, the conductivity was excellent, and the reflection on the glass surface was suppressed. A high display device was obtained.

図1は、本発明の1実施形態としての光学フィルムの要部である帯電防止層及び隣設層を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an antistatic layer and an adjacent layer, which are the main parts of an optical film as one embodiment of the present invention. 図2は、本発明の光学フィルムの1形態における層領域の構造を示す模式図であり、海島構造を示す。FIG. 2 is a schematic view showing the structure of the layer region in one embodiment of the optical film of the present invention, and shows a sea-island structure. 図3は、本発明の光学フィルムの1形態における層領域の構造を示す模式図であり、共連続構造を示す。FIG. 3 is a schematic view showing the structure of the layer region in one embodiment of the optical film of the present invention, and shows a co-continuous structure. 本発明に望ましいコーターの断面図である。1 is a cross-sectional view of a coater desirable for the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 光学フィルム
2 帯電防止層
3 層領域
4 隣設層
W ウェブ
31a 上流側リップランド
31b 下流側リップランド
33 スロット
U 上流側リップランドのランド長さ
M 中流側リップランドのランド長さ
D 下流側リップランドのランド長さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical film 2 Antistatic layer 3 Layer area | region 4 Adjacent layer W Web 31a Upstream lip land 31b Downstream lip land 33 Slot L U Land length of upstream lip land L M Land length of midstream lip land L D Land length of downstream lip land

Claims (13)

支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する光学フィルム。   On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the intermediate refractive index of both layers is between the two layers. An optical film comprising a layer region having a refractive index, wherein the layer region contains a binder having an aromatic group. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に両層の屈折率の中間の屈折率をもつ層領域が存在し、該層領域が、導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する光学フィルム。   On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the intermediate refractive index of both layers is between the two layers. An optical film in which a layer region having a refractive index exists, and the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from conductive particles. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が芳香族基を有するバインダーを含有する光学フィルム。   On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the constituent components of the antistatic layer between the two layers, An optical film comprising a layer region formed by mixing the constituent components of the adjacent layer, wherein the layer region contains a binder having an aromatic group. 支持体上に、導電性粒子を含有する帯電防止層と、該帯電防止層に隣設された少なくとも1層の隣設層とを有し、両層の間に上記帯電防止層の構成成分と上記隣設層の構成成分とが混合されて形成された層領域が存在し、該層領域が導電性粒子とは別の屈折率1.55以上の無機微粒子を含有する光学フィルム。   On the support, it has an antistatic layer containing conductive particles and at least one adjacent layer adjacent to the antistatic layer, and the constituent components of the antistatic layer between the two layers, An optical film comprising a layer region formed by mixing the constituent components of the adjacent layer, wherein the layer region contains inorganic fine particles having a refractive index of 1.55 or more different from conductive particles. 上記層領域は、上記帯電防止層と上記隣設層との界面で、両層を形成する重合性化合物及び/又は無機微粒子の組成が徐々に変化して形成されている請求項1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。   The layer region is formed by gradually changing the composition of a polymerizable compound and / or inorganic fine particles forming both layers at the interface between the antistatic layer and the adjacent layer. The optical film in any one. 上記層領域は、上記帯電防止層と上記隣設層とが、それらの界面で更に別の界面混合層を形成することにより形成されている請求項1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。   5. The optical film according to claim 1, wherein the layer region is formed by forming the antistatic layer and the adjacent layer by forming another interface mixed layer at the interface between them. 上記層領域は、上記帯電防止層と上記隣設層とが、それらの界面で、両層の成分が海島構造又は共連続相を形成して形成されている請求項1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。   5. The layer region according to any one of claims 1 to 4, wherein the antistatic layer and the adjacent layer are formed such that components of both layers form a sea-island structure or a co-continuous phase at the interface between them. The optical film as described. 芳香族基を有するバインダーが、重合性官能基を少なくとも1つ有する含硫黄芳香族化合物から形成されている請求項1、3、5〜7の何れかに記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1, 3, and 5 to 7, wherein the binder having an aromatic group is formed from a sulfur-containing aromatic compound having at least one polymerizable functional group. 前記光学フィルムが更に低屈折率層を有する請求項1〜8の何れかに記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the optical film further has a low refractive index layer. 偏光膜と、該偏光膜の両側に設けられた保護フィルムとを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が、請求項1〜9のいずれかに記載の光学フィルムである偏光板。   The polarizing plate which has a polarizing film and the protective film provided in the both sides of this polarizing film, Comprising: At least one of this protective film is a polarizing plate which is an optical film in any one of Claims 1-9. 請求項1〜9に記載の光学フィルム、又は請求項10に記載の偏光板を有する画像表示装置。   The image display apparatus which has the optical film of Claims 1-9, or the polarizing plate of Claim 10. 支持体上に、帯電防止層とそれに隣設された少なくとも1層の隣設層とを有する光学フィルムの製造方法であって、帯電防止層が芳香族基を有するバインダーを含有し、帯電防止層と隣設層とを形成するに際して、先んじて塗設した層の重合性官能基の反応率が0%以上50%以下になるよう硬化させる光学フィルムの製造方法。   A method for producing an optical film having an antistatic layer and at least one adjacent layer adjacent thereto on a support, wherein the antistatic layer contains a binder having an aromatic group, and the antistatic layer And an adjacent layer, a method for producing an optical film is cured so that the reaction rate of the polymerizable functional group of the previously applied layer is 0% or more and 50% or less. 支持体上に、帯電防止層とそれに隣設された少なくとも1層の隣設層とを有する光学フィルムの製造方法であって、帯電防止層が導電性粒子とは別の屈折率が1.55よりも大きな無機微粒子を含有し、帯電防止層と隣設層とを形成するに際して、先んじて塗設した層の重合性官能基の反応率が0%以上50%以下になるよう硬化させる光学フィルムの製造方法。   A method for producing an optical film having an antistatic layer and at least one adjacent layer adjacent thereto on a support, wherein the antistatic layer has a refractive index of 1.55 different from that of conductive particles. An optical film that contains larger inorganic fine particles and is cured so that the reaction rate of the polymerizable functional group of the previously applied layer is 0% or more and 50% or less when forming the antistatic layer and the adjacent layer. Manufacturing method.
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