JP2008151270A - Metal diaphragm valve - Google Patents

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Eiji Matsumura
栄治 松村
Katsuhiko Honma
克彦 本間
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a metal diaphragm valve by which a raw material gas can be stably fed with a gap held constant between the metal diaphragm valve and a valve seat in a high-temperature environment. <P>SOLUTION: The metal diaphragm 15 which performs opening and closing operations of a valve by contacting with a valve seat 14 by a pressing force of a valve bar 16 to return flexibly to an original form by releasing the pressing force of the valve bar 16 is made Hv 500 or higher in Vickers hardness by applying aging heat hardening treatment. As a result, even in a high-temperature environment, the metal diaphragm 15 can be reduced in the deterioration of a reactive force (elastic force) and in a thermal expansion amount and thereby a gap α between the metal diaphragm 15 and the valve seat 14 is held constant, so that the raw material gas is stably fed. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、メタルダイヤフラム弁に関し、特に、半導体製造装置において、高温に加熱された半導体製造ガスの供給配管に取り付けられるメタルダイヤフラム弁に関する。   The present invention relates to a metal diaphragm valve, and more particularly, to a metal diaphragm valve attached to a supply pipe for a semiconductor manufacturing gas heated to a high temperature in a semiconductor manufacturing apparatus.

従来より、半導体製造装置等の配管系に用いられる開閉弁としては、弁内部流路に摩耗による微粒子(パーティクル)を生じるような摺動部がなく、かつデッドスペースのない弁が要求されている。この要求に応えるものとして、ダイヤフラム弁がある。   2. Description of the Related Art Conventionally, as an on-off valve used in a piping system of a semiconductor manufacturing apparatus or the like, a valve that does not have a sliding portion that generates fine particles (particles) due to wear in a valve internal flow path and has no dead space is required. . A diaphragm valve is available to meet this demand.

前記ダイヤフラム弁は、図7に示すように、弁箱1内の流入流路2と流出流路3とが連通する位置に設けられた弁座4と、この弁座4上に対向して設けられ、弾性変形可能で中央部が上方に膨出したダイヤフラム5と、このダイヤフラム5を弁座4に着座させるとともに、原形状に弾性復帰させて弁座4から離座させる弁棒6とを含んで構成されている。   As shown in FIG. 7, the diaphragm valve is provided on the valve seat 4 so as to face the valve seat 4 provided at a position where the inflow passage 2 and the outflow passage 3 in the valve box 1 communicate with each other. A diaphragm 5 that is elastically deformable and has a central portion bulging upward, and a valve rod 6 that seats the diaphragm 5 on the valve seat 4 and elastically returns to its original shape and separates from the valve seat 4. It consists of

前記弁棒6の先端面は、適宜な曲面形状となっていて、この先端面が空圧等の流体圧や磁力、あるいは手動によって下降することによって、ダイヤフラム5を押圧し、その中央部が下方に弾性変形し、弁座4に着座して弁閉される。一方、弁棒6を上昇し押圧を解除したときには、ダイヤフラム5の中央部は、元の形状に弾性復帰するように上昇し、弁座4より離座して弁開するようになっている。   The front end surface of the valve stem 6 has an appropriate curved shape, and the front end surface is lowered by a fluid pressure such as pneumatic pressure, a magnetic force, or manually, and thereby presses the diaphragm 5, and its central portion is downward. Is elastically deformed, and is seated on the valve seat 4 to be closed. On the other hand, when the valve stem 6 is lifted and the pressure is released, the central portion of the diaphragm 5 rises so as to elastically return to its original shape, and is separated from the valve seat 4 to open the valve.

近年では、半導体集積回路装置の高集積度化に伴ない、その製造過程では、多種多様の原料ガスが使用されるようになっている。原料ガスは、たとえば有機金属等の材料を高温加熱してガス化したものであり、原料ガスが供給の途中で再液化、固化しないように、供給配管は勿論、ダイヤフラム弁も高温加熱されている。   In recent years, with the increase in the degree of integration of semiconductor integrated circuit devices, a wide variety of source gases are used in the manufacturing process. The source gas is gasified by heating a material such as an organic metal at a high temperature, and the diaphragm valve is heated at a high temperature as well as the supply pipe so that the source gas is not re-liquefied and solidified during the supply. .

このようなダイヤフラム弁の高温化に対応するため、ダイヤフラム5および弁座4を、金属によって形成し、高温環境下での耐久性に優れ、多種にわたる原料ガスに対し耐食性にも優れ、しかもパーティクルの発生が少ない、いわゆるオールメタルのメタルダイヤフラム弁が主流になっている。以下、ダイヤフラム5をメタルダイヤフラム5と称す。このような従来技術は、以下に示す特許文献1に開示されている。
特開平5−296355号公報
In order to cope with the high temperature of such a diaphragm valve, the diaphragm 5 and the valve seat 4 are made of metal, have excellent durability under a high temperature environment, have excellent corrosion resistance against a wide variety of source gases, and have a particle structure. A so-called all-metal metal diaphragm valve, which is rarely generated, has become the mainstream. Hereinafter, the diaphragm 5 is referred to as a metal diaphragm 5. Such a conventional technique is disclosed in Patent Document 1 shown below.
JP-A-5-296355

前記メタルダイヤフラム弁では、弁棒6の押圧解除後は、メタルダイヤフラム5の弾性力、つまり反力によって、弁座4より離座し、メタルダイヤフラム5と弁座4との間の隙間(ギャップ)αを通じて半導体製造装置内に原料ガスが供給される。   In the metal diaphragm valve, after the pressure of the valve stem 6 is released, the metal diaphragm 5 is separated from the valve seat 4 by the elastic force of the metal diaphragm 5, that is, the reaction force, and the gap (gap) between the metal diaphragm 5 and the valve seat 4 is released. Source gas is supplied into the semiconductor manufacturing apparatus through α.

この場合、メタルダイヤフラム弁は、高温加熱されているため、メタルダイヤフラム5の反力の低下や熱膨張によって、図8に示すように、当該ギャップαが減少し、半導体製造装置への原料ガスの供給量が減少したり、最悪の場合は、ギャップαがなくなり、ガス供給ができなくなる恐れがある。かかる事態は、図9に示すように、半導体製造装置の内部が真空の場合に、特に顕著である。   In this case, since the metal diaphragm valve is heated at a high temperature, the gap α decreases as shown in FIG. 8 due to a decrease in the reaction force or thermal expansion of the metal diaphragm 5, and the raw material gas to the semiconductor manufacturing apparatus is reduced. There is a possibility that the supply amount decreases or, in the worst case, the gap α disappears and gas supply cannot be performed. Such a situation is particularly remarkable when the inside of the semiconductor manufacturing apparatus is in a vacuum as shown in FIG.

本発明の技術的課題は、前記のような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、高温環境下において、メタルダイヤフラムと弁座との間のギャップを一定に保ち、原料ガスを安定して供給することができるメタルダイヤフラム弁を提供することにある。   The technical problem of the present invention has been made in view of the circumstances as described above, and its purpose is to maintain a constant gap between the metal diaphragm and the valve seat in a high temperature environment, thereby stabilizing the raw material gas. An object of the present invention is to provide a metal diaphragm valve that can be supplied.

前記目的を達成するため、請求項1に係る発明は、弁箱内の流入流路と流出流路との間に設けられた弁座と、前記弁座上に設けられた弾性体のメタルダイヤフラムとを備え、前記メタルダイヤフラムを前記弁座に押圧接触させて弁閉し、押圧力の解除によって前記メタルダイヤフラムを原形状に弾性復帰させて弁開するメタルダイヤフラム弁において、前記メタルダイヤフラムは、時効硬化熱処理によってビッカース硬度をHv500以上にしたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is directed to a valve seat provided between an inflow channel and an outflow channel in a valve box, and an elastic metal diaphragm provided on the valve seat. A metal diaphragm valve that presses the metal diaphragm against the valve seat and closes the valve, and elastically returns the metal diaphragm to its original shape when the pressing force is released, thereby opening the valve. Vickers hardness is increased to Hv500 or higher by curing heat treatment.

請求項2に係る発明は、請求項1に記載の発明において、前記メタルダイヤフラムは、コバルト合金からなることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is the invention according to claim 1, wherein the metal diaphragm is made of a cobalt alloy.

請求項3に係る発明は、請求項2に記載の発明において、前記メタルダイヤフラムの材料組成比は、Co:25〜45%、Cr:8〜25%、Ni:20〜40%、Ti:0〜3%、Mo:4〜15%、Nb:0〜3%、W:0〜5%であることを特徴とする。   The invention according to claim 3 is the invention according to claim 2, wherein the material composition ratio of the metal diaphragm is Co: 25 to 45%, Cr: 8 to 25%, Ni: 20 to 40%, Ti: 0 -3%, Mo: 4-15%, Nb: 0-3%, W: 0-5%.

請求項4に係る発明は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明において、前記時効硬化熱処理を、350〜450℃で1〜2時間行うことを特徴とする。   The invention according to claim 4 is the invention according to any one of claims 1 to 3, wherein the age hardening heat treatment is performed at 350 to 450 ° C. for 1 to 2 hours.

請求項1に係る発明によれば、メタルダイヤフラムを、ビッカース硬度Hv500以上に硬化させたので、高温環境下であっても、メタルダイヤフラムの反力の低下や熱膨張量が抑えられる。よって、メタルダイヤフラムと弁座との間のギャップを一定に保たれ、半導体製造装置内に原料ガスを安定して供給することができる。
請求項2に係る発明によれば、コバルト合金からなるメタルダイヤフラムは、耐摩耗性、耐熱性、耐食性に優れて、高温下でもその特性を失うことがなく、硬度が維持される。
According to the first aspect of the invention, since the metal diaphragm is cured to a Vickers hardness of Hv500 or higher, the reaction force of the metal diaphragm can be reduced and the amount of thermal expansion can be suppressed even in a high temperature environment. Therefore, the gap between the metal diaphragm and the valve seat is kept constant, and the source gas can be stably supplied into the semiconductor manufacturing apparatus.
According to the invention which concerns on Claim 2, the metal diaphragm which consists of a cobalt alloy is excellent in abrasion resistance, heat resistance, and corrosion resistance, and does not lose the characteristic under high temperature, and hardness is maintained.

請求項3に係る発明によれば、メタルダイヤフラムの材料組成比を、Co:25〜45%、Cr:8〜25%、Ni:20〜40%、Ti:0〜3%、Mo:4〜15%、Nb:0〜3%、W:0〜5%としたコバルト合金は、その特性を最大限に引き出すことが可能で、より耐熱性に優れて、高温下でもその特性を失うことがなく、硬度が維持される。
請求項4に係る発明によれば、時効硬化熱処理は、350〜450℃の温度下で、1〜2時間の条件で行うのが最も効果的である。
According to the invention of claim 3, the material composition ratio of the metal diaphragm is Co: 25 to 45%, Cr: 8 to 25%, Ni: 20 to 40%, Ti: 0 to 3%, Mo: 4 to Cobalt alloy with 15%, Nb: 0-3%, W: 0-5% can maximize its properties, has better heat resistance, and can lose its properties even at high temperatures. And the hardness is maintained.
According to the invention of claim 4, it is most effective to perform the age hardening heat treatment at a temperature of 350 to 450 ° C. for 1 to 2 hours.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、本発明に係るメタルダイヤフラム弁の一実施の形態を示す縦断面図であり、図2は、図1のA部拡大図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of a metal diaphragm valve according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a portion A in FIG.

図1、2において、メタルダイヤフラム弁10は、ステンレス鋼等の金属材料により成形された弁箱11を有している。この弁箱11には、流入流路12および流出流路13が形成され、流出流路13の入口に連通する流入流路12の出口周縁に、弁箱11と一体形成された弁座14が設けられるとともに、弁座14上には、メタルダイヤフラム15が対向するように取り付けられている。   1 and 2, a metal diaphragm valve 10 has a valve box 11 formed of a metal material such as stainless steel. An inflow channel 12 and an outflow channel 13 are formed in the valve box 11, and a valve seat 14 integrally formed with the valve box 11 is formed at the outlet periphery of the inflow channel 12 communicating with the inlet of the outflow channel 13. In addition to being provided, a metal diaphragm 15 is mounted on the valve seat 14 so as to face each other.

前記メタルダイヤフラム15は、弾性変形可能なコバルト合金からなり、その中央部が上方に膨出した形状をなし、複数枚重ねて用いられる。なお、コバルト合金の材料組成比は、Co:25〜45%、Cr:8〜25%、Ni:20〜40%、Ti:0〜3%、Mo:4〜15%、Nb:0〜3%、W:0〜5%である。   The metal diaphragm 15 is made of a cobalt alloy that can be elastically deformed, and has a shape in which a central portion bulges upward. The material composition ratio of the cobalt alloy is Co: 25 to 45%, Cr: 8 to 25%, Ni: 20 to 40%, Ti: 0 to 3%, Mo: 4 to 15%, Nb: 0 to 3 %, W: 0 to 5%.

前記メタルダイヤフラム15は、打ち抜き成形の後、350〜450℃の温度下で、1〜2時間の時効硬化熱処理が行われ、硬度をビッカース硬さHv500以上、引張り強さ1777〜2420N/mm2にしたものである。   The metal diaphragm 15 was subjected to age hardening heat treatment for 1 to 2 hours at a temperature of 350 to 450 ° C. after punching, and the hardness was set to Vickers hardness Hv500 or more and the tensile strength was 1777 to 2420 N / mm 2. Is.

前記メタルダイヤフラム15上には、このメタルダイヤフラム15を、弁座14に着座させるとともに、原形状に弾性復帰させて、弁座14から離座させる弁棒16が昇降可能に設けられている。また、弁箱11には、弁棒16を下方の弁座14の方向に付勢するコイルばね17が張設されている。
メタルダイヤフラム15は、弁棒16によって加圧されない通常の状態では、上方に球面状に膨出し、弁座14から離れて、メタルダイヤフラム弁10は開かれている。
On the metal diaphragm 15, there is provided a valve rod 16 that can be moved up and down so that the metal diaphragm 15 is seated on the valve seat 14 and is elastically restored to the original shape to be separated from the valve seat 14. The valve box 11 is provided with a coil spring 17 that urges the valve rod 16 toward the lower valve seat 14.
In a normal state in which the metal diaphragm 15 is not pressurized by the valve rod 16, the metal diaphragm valve 10 bulges upward upward, away from the valve seat 14, and the metal diaphragm valve 10 is opened.

ここで、メタルダイヤフラム15は、弁棒16によって押圧されると、これに追従する形で、下方に押し出され、弁座14に押し付けられて密に接触する。これによって、メタルダイヤフラム弁10は閉鎖される。
また、弁棒16の押圧力が解消されるとき、メタルダイヤフラム15は、自身の弾性力により上方に球面状に膨らんで復元して弁座14より離れ、メタルダイヤフラム弁10は開かれる。原料ガスは、メタルダイヤフラム15と弁座14とのギャップαを通じて、半導体製造装置内に供給される。
Here, when the metal diaphragm 15 is pressed by the valve rod 16, it is pushed downward in such a manner as to follow this, and is pressed against the valve seat 14 to come into close contact. As a result, the metal diaphragm valve 10 is closed.
Further, when the pressing force of the valve stem 16 is released, the metal diaphragm 15 expands in a spherical shape upward due to its own elastic force and is restored from the valve seat 14, and the metal diaphragm valve 10 is opened. The source gas is supplied into the semiconductor manufacturing apparatus through the gap α between the metal diaphragm 15 and the valve seat 14.

次に、高温環境下での前記メタルダイヤフラム弁10の開弁状態を確認する実験を行なった。図3は、メタルダイヤフラム15の常温時における弁開状態を示し、図4は、メタルダイヤフラム15の高温時における弁開状態を示す。なお、メタルダイヤフラム15の硬さは、マイクロビッカース試験機によって3点測定を行い、その平均値とした。   Next, an experiment was conducted to confirm the open state of the metal diaphragm valve 10 in a high temperature environment. FIG. 3 shows the valve opening state of the metal diaphragm 15 at normal temperature, and FIG. 4 shows the valve opening state of the metal diaphragm 15 at high temperature. In addition, the hardness of the metal diaphragm 15 was measured at three points with a micro Vickers tester, and the average value was obtained.

実験の結果、図4に示すように、メタルダイヤフラム15と弁座シート14との間のギャップαは、図3に示す常温時に比べほとんど変化していないことが分かった。これは、時効硬化熱処理されたメタルダイヤフラム15では、その硬度(強度)が増加し、反力の低下が抑えられたことによる。メタルダイヤフラム15は、図5、6でも明らかなように、従来のメタルダイヤフラム(図8、9参照)に比べ、半導体製造装置内が大気圧の場合も真空の場合でも、各温度における反力の低下が抑えられていることが分かった。   As a result of the experiment, as shown in FIG. 4, it was found that the gap α between the metal diaphragm 15 and the valve seat 14 hardly changed compared to the normal temperature shown in FIG. 3. This is because the hardness (strength) of the metal diaphragm 15 subjected to age hardening heat treatment is increased, and the reaction force is prevented from lowering. As is apparent from FIGS. 5 and 6, the metal diaphragm 15, compared with the conventional metal diaphragm (see FIGS. 8 and 9), has a reaction force at each temperature regardless of whether the semiconductor manufacturing apparatus has an atmospheric pressure or a vacuum. It was found that the decrease was suppressed.

したがって、高温下にあっても、メタルダイヤフラム15の開弁時の弾性復帰が確実に行われるため、ギャップαの減少が回避され、ギャップαの大きさを、温度に関係なく、一定にすることが可能となる。   Therefore, even when the temperature is high, the elastic return when the metal diaphragm 15 is opened is surely performed, so that the reduction of the gap α is avoided and the size of the gap α is made constant regardless of the temperature. Is possible.

かかる現象は、メタルダイヤフラム15の硬度が向上したことにより、熱膨張量が減少したことにも起因していると考えられる。つまり、メタルダイヤフラム15の熱膨張量の減少によって、ギャップαを変動させる要因が排除されたからである。また、メタルダイヤフラム15の硬度が、Hv500より低い場合は、硬度が十分でなく、メタルダイヤフラム15の反力の低下が、許容範囲を逸脱して認められた。したがって、ギャップαが減少し、実用的でないことが分かった。   Such a phenomenon is considered to be caused by a decrease in the amount of thermal expansion due to an improvement in the hardness of the metal diaphragm 15. That is, the factor that fluctuates the gap α is eliminated by reducing the thermal expansion amount of the metal diaphragm 15. Further, when the hardness of the metal diaphragm 15 was lower than Hv500, the hardness was not sufficient, and a decrease in the reaction force of the metal diaphragm 15 was recognized outside the allowable range. Accordingly, it was found that the gap α was reduced and was not practical.

このように、本実施の形態では、メタルダイヤフラム15を、ビッカース硬度Hv500以上に硬化したことによって、メタルダイヤフラム15の反力の低下や熱膨張量が抑えられ、ギャップαが一定に保持される。したがって、高温環境下でも、原料ガスは、半導体装置内にスムーズかつ安定的に供給され、供給量の減少や供給ができなくなるといった事態が確実に回避される。
また、メタルダイヤフラム15は、コバルト合金からなるので、高温下でも、耐摩耗性、耐熱性、耐食性に優れ、硬度が維持される。
Thus, in the present embodiment, the metal diaphragm 15 is cured to a Vickers hardness of Hv500 or higher, so that the reaction force of the metal diaphragm 15 is reduced and the amount of thermal expansion is suppressed, and the gap α is kept constant. Therefore, even in a high temperature environment, the source gas is smoothly and stably supplied into the semiconductor device, and a situation where the supply amount is reduced or cannot be reliably supplied is avoided.
Further, since the metal diaphragm 15 is made of a cobalt alloy, it is excellent in wear resistance, heat resistance, and corrosion resistance and maintains hardness even at high temperatures.

この場合、メタルダイヤフラム15の材料組成比を、Co:25〜45%、Cr:8〜25%、Ni:20〜40%、Ti:0〜3%、Mo:4〜15%、Nb:0〜3%、W:0〜5%としたので、より耐熱性に優れて、高温下でもその特性を失うことがなく、硬度が維持される。
また、時効硬化熱処理は、350〜450℃の温度下で、1〜2時間の条件で行うことで、メタルダイヤフラム15を効果的に硬化することができる。
In this case, the material composition ratio of the metal diaphragm 15 is Co: 25 to 45%, Cr: 8 to 25%, Ni: 20 to 40%, Ti: 0 to 3%, Mo: 4 to 15%, Nb: 0 Since it is set to ˜3% and W: 0 to 5%, it is more excellent in heat resistance and maintains its hardness without losing its characteristics even at high temperatures.
In addition, the age-hardening heat treatment can be effectively cured at a temperature of 350 to 450 ° C. for 1 to 2 hours, thereby effectively curing the metal diaphragm 15.

以上、本発明の実施の形態について詳述したが、本発明は、前記実施の形態記載に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲に記載されている発明の精神を逸脱しない範囲で、種々の変更ができるものである。   The embodiment of the present invention has been described in detail above, but the present invention is not limited to the above-described embodiment, and the scope does not depart from the spirit of the invention described in the claims of the present invention. Thus, various changes can be made.

たとえば、弁座14は、弁箱11と一体に形成されたが、これに限定されず、弁座14を弁箱11と別体に形成してもよく、合成樹脂等からなる弁座を用いても構わない。
また、メタルダイヤフラムの時効硬化熱処理を、既存のメタルダイヤフラム弁に適用すれば、安価に本発明のメタルダイヤフラム弁を得ることができる。
For example, the valve seat 14 is formed integrally with the valve box 11, but the present invention is not limited to this, and the valve seat 14 may be formed separately from the valve box 11, and a valve seat made of synthetic resin or the like is used. It doesn't matter.
Moreover, if the age hardening heat treatment of a metal diaphragm is applied to an existing metal diaphragm valve, the metal diaphragm valve of the present invention can be obtained at low cost.

本発明の一実施の形態に係るメタルダイヤフラム弁の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the metal diaphragm valve which concerns on one embodiment of this invention. 図1のA部拡大図である。It is the A section enlarged view of FIG. 図1に示すメタルダイヤフラム弁の常温時における弁開状態を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the valve open state at the time of normal temperature of the metal diaphragm valve shown in FIG. 図1に示すメタルダイヤフラム弁の高温時における弁開状態を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the valve open state at the time of the high temperature of the metal diaphragm valve shown in FIG. 時効硬化熱処理したメタルダイヤフラムの内部大気圧における押し量と反力の特性図である。It is a characteristic diagram of the amount of pushing and reaction force in the internal atmospheric pressure of the age-hardening heat-treated metal diaphragm. 時効硬化熱処理したメタルダイヤフラムの内部真空における押し量と反力の特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram of the pressing amount and reaction force in an internal vacuum of an age hardening heat treated metal diaphragm. 従来のメタルダイヤフラム弁の高温時における弁開状態を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the valve open state at the time of the high temperature of the conventional metal diaphragm valve. 従来のメタルダイヤフラムの内部大気圧における押し量と反力の特性図である。It is a characteristic diagram of the pushing amount and reaction force in the internal atmospheric pressure of the conventional metal diaphragm. 従来のメタルダイヤフラムの内部真空における押し量と反力の特性図である。It is a characteristic diagram of the pressing amount and reaction force in the internal vacuum of the conventional metal diaphragm.

符号の説明Explanation of symbols

10 メタルダイヤフラム弁
11 弁箱
12 流入流路
13 流出流路
14 弁座
15 メタルダイヤフラム
16 弁棒
17 コイルばね
α ギャップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Metal diaphragm valve 11 Valve box 12 Inflow flow path 13 Outflow flow path 14 Valve seat 15 Metal diaphragm 16 Valve rod 17 Coil spring α Gap

Claims (4)

弁箱内の流入流路と流出流路との間に設けられた弁座と、前記弁座上に設けられた弾性体のメタルダイヤフラムとを備え、前記メタルダイヤフラムを前記弁座に押圧接触させて弁閉し、押圧力の解除によって前記メタルダイヤフラムを原形状に弾性復帰させて弁開するメタルダイヤフラム弁において、
前記メタルダイヤフラムは、時効硬化熱処理によってビッカース硬度をHv500以上にしたことを特徴とするメタルダイヤフラム弁。
A valve seat provided between an inflow passage and an outflow passage in the valve box; and an elastic metal diaphragm provided on the valve seat, wherein the metal diaphragm is pressed against the valve seat. In the metal diaphragm valve that closes the valve and opens the valve by elastically returning the metal diaphragm to the original shape by releasing the pressing force,
The metal diaphragm is characterized in that the Vickers hardness is Hv500 or more by age hardening heat treatment.
前記メタルダイヤフラムは、コバルト合金からなることを特徴とする請求項1に記載のメタルダイヤフラム弁。   The metal diaphragm valve according to claim 1, wherein the metal diaphragm is made of a cobalt alloy. 前記メタルダイヤフラムの材料組成比は、Co:25〜45%、Cr:8〜25%、Ni:20〜40%、Ti:0〜3%、Mo:4〜15%、Nb:0〜3%、W:0〜5%であることを特徴とする請求項2に記載のメタルダイヤフラム弁。   The material composition ratio of the metal diaphragm is Co: 25 to 45%, Cr: 8 to 25%, Ni: 20 to 40%, Ti: 0 to 3%, Mo: 4 to 15%, Nb: 0 to 3% W: 0 to 5%, The metal diaphragm valve according to claim 2. 前記時効硬化熱処理を、350〜450℃で1〜2時間行うことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のメタルダイヤフラム弁。   The metal diaphragm valve according to any one of claims 1 to 3, wherein the age hardening heat treatment is performed at 350 to 450 ° C for 1 to 2 hours.
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