JP2008150660A - Method for manufacturing ornament, ornament and timepiece - Google Patents

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JP2008150660A JP2006339231A JP2006339231A JP2008150660A JP 2008150660 A JP2008150660 A JP 2008150660A JP 2006339231 A JP2006339231 A JP 2006339231A JP 2006339231 A JP2006339231 A JP 2006339231A JP 2008150660 A JP2008150660 A JP 2008150660A
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Atsushi Kawakami
淳 川上
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture ornaments excellent in durability and aesthetic appearance having stereoscopic feeling by a method causing little environmental load by repeatedly using, especially, a mask for forming a coating in the manufacture of many dial plates for timepieces, and to provide a method for manufacturing the ornaments, the ornaments and timepieces with the ornaments. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the ornament 1 includes the steps of: preparing a substrate 12 having a projecting part 121 on at least one surface; forming an oxide film 13 on the surface side provided with the projecting part 121 of the substrate 12; forming a metal film 14 by performing vapor-phase film deposition on the surface side provided with the projecting part 121 (surface side formed with the oxide film 13) of the substrate 12 in a state that a mask 21 having an opening part 2 provided at a part corresponding to the projecting part 121; and removing the mask 2. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、装飾品の製造方法、装飾品および時計に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a decorative article, a decorative article, and a watch.

一般に、時計用の文字板には、時刻を示す等の機能を有する文字・数字(いわゆる時字等)、目盛、記号や、各種マーク等の指標が用いられている。
このような指標の形成方法としては、広く、印刷が用いられている。
ところで、時計用文字板は、実用品としての機能(例えば、使用者等に、時刻を容易かつ正確に認識させる機能等)が求められるとともに、装飾品としての美的外観も求められる。
In general, a timepiece dial uses characters and numerals (so-called time characters, etc.), scales, symbols, and various marks having functions such as indicating time.
Printing is widely used as a method for forming such an index.
By the way, the timepiece dial is required to have a function as a practical product (for example, a function that allows a user or the like to recognize the time easily and accurately) and an aesthetic appearance as a decorative product.

このため、植字と称される植設材を取り付け固定することにより、印刷に比べて、より立体感のある指標を形成する方法が、特に、高級時計等で採用されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、植設材を取り付け固定する方法で製造された時計用文字板では、比較的大きな外力(衝撃力)等が加わると、植設材が文字板本体(基板)から脱離してしまうことがあった。また、また、このような方法で用いる植設材は、一般に、文字板本体に植設するための足部を有しているが、この足部は、他の部位に比べて細くなっている。このため、比較的大きな外力等が加わると、足部が折れてしまう等の問題点があった。上記のような問題は、植設材の高さが高いほど発生し易くなる傾向がある。
For this reason, a method of forming an index having a more three-dimensional feeling than printing by attaching and fixing a planting material referred to as a typesetting has been adopted particularly in high-class watches and the like (for example, patent documents) 1).
However, in a timepiece dial manufactured by attaching and fixing a planting material, when a relatively large external force (impact force) or the like is applied, the planting material may be detached from the dial body (substrate). there were. Moreover, the planting material used in such a method generally has a foot part for planting the dial body, but the foot part is thinner than other parts. . For this reason, when a comparatively large external force or the like is applied, there is a problem that the foot part breaks. The above problems tend to occur more easily as the height of the planting material is higher.

特開2003−247096号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-247096

本発明の目的は、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を提供すること、前記装飾品を製造することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a decorative article having excellent durability and a three-dimensional appearance and an excellent aesthetic appearance, providing a manufacturing method capable of manufacturing the decorative article, and including the decorative article. Is to provide a watch.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の装飾品の製造方法は、少なくとも一方の面に凸部を有する基板を準備する基板準備工程と、
前記基板の前記凸部が設けられた面側に、前記凸部に対応する部位に開口部が設けられたマスクを配した状態で、気相成膜を行うことにより、前記凸部上に被膜を形成する被膜形成工程と、
前記マスクを除去するマスク除去工程とを有することを特徴とする。
これにより、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を製造することができる製造方法を提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
The method for manufacturing a decorative article of the present invention includes a substrate preparation step of preparing a substrate having a convex portion on at least one surface,
A film is formed on the convex portion by performing vapor phase film formation in a state where a mask having an opening is provided in a portion corresponding to the convex portion on the surface side of the substrate on which the convex portion is provided. A film forming step of forming
And a mask removing process for removing the mask.
Thereby, the manufacturing method which can manufacture the decorative goods excellent in durability and excellent in the three-dimensional aesthetic appearance can be provided.

本発明の装飾品の製造方法では、前記凸部の高さは、100〜500μmであることが好ましい。
これにより、装飾品の耐久性を十分に優れたものとしつつ、装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記被膜の平均厚さは、0.005〜2.5μmであることが好ましい。
これにより、装飾品の耐久性を十分に優れたものとしつつ、装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, the height of the convex portion is preferably 100 to 500 μm.
Thereby, the aesthetic appearance of the decorative article can be made particularly excellent while the durability of the decorative article is sufficiently excellent.
In the method for producing a decorative article of the present invention, the average thickness of the coating is preferably 0.005 to 2.5 μm.
Thereby, the aesthetic appearance of the decorative article can be made particularly excellent while the durability of the decorative article is sufficiently excellent.

本発明の装飾品の製造方法では、前記開口部は、前記マスクの前記基板に対向する面からその反対側の面に向かって、断面積が増大する断面積増大部を有するものであることが好ましい。
これにより、装飾品の耐久性および美的外観を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記被膜形成工程は、前記マスクとして磁性材料を含む材料で構成されたものを用い、前記基板の前記マスクに対向する面とは反対の面側に配された磁石により、前記マスクと、前記被膜が形成されるべきワークとを密着させた状態で行うものであることが好ましい。
これにより、基板上において、目的以外の部位に成膜されるのをより確実に防止することができ、最終的に得られる装飾品の美的外観をより確実に優れたものとすることができる。
In the decorative article manufacturing method of the present invention, the opening has a cross-sectional area increasing portion in which a cross-sectional area increases from a surface facing the substrate of the mask toward a surface on the opposite side. preferable.
Thereby, the durability and aesthetic appearance of the decorative article can be made particularly excellent.
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, the film forming step uses a material including a magnetic material as the mask, and is disposed on the surface of the substrate opposite to the surface facing the mask. It is preferable that the step is performed in a state where the mask and the work on which the film is to be formed are brought into close contact with each other by a magnet.
Thereby, it can prevent more reliably that it forms into a film | membrane in parts other than the objective on a board | substrate, and can make the aesthetic appearance of the ornament finally obtained more excellent.

本発明の装飾品の製造方法では、前記被膜形成工程において、前記基板の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、前記被膜の構成材料で構成された気相成膜粒子を前記基板上に入射させることが好ましい。
これにより、より好適な形状の被膜を容易かつ確実に形成することができ、得られる装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができる。
In the method for producing a decorative article of the present invention, in the coating film forming step, the vapor phase composition composed of the constituent material of the coating film from a direction inclined by a predetermined angle θ with respect to the normal direction of the main surface of the substrate. It is preferable that the film particles are incident on the substrate.
Thereby, the film of a more suitable shape can be formed easily and reliably, and the aesthetic appearance of the resulting decorative article can be made particularly excellent.

本発明の装飾品の製造方法では、前記気相成膜粒子を複数の方向から入射させることが好ましい。
これにより、より好適な形状の被膜を容易かつ確実に形成することができ、得られる装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができる。また、装飾品を様々な方向から見た際における質感のばらつき等を抑制することができる。
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, the vapor-phase film-forming particles are preferably incident from a plurality of directions.
Thereby, the film of a more suitable shape can be formed easily and reliably, and the aesthetic appearance of the resulting decorative article can be made particularly excellent. In addition, it is possible to suppress variations in texture when the ornament is viewed from various directions.

本発明の装飾品の製造方法では、前記気相成膜粒子の入射方向を、経時的に変化させることが好ましい。
これにより、より好適な形状の被膜を確実に形成することができ、得られる装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができる。また、装飾品を様々な方向から見た際における質感のばらつき等を抑制することができる。
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, it is preferable that the incident direction of the vapor-phase film-forming particles is changed with time.
Thereby, the film of a more suitable shape can be formed reliably and the aesthetic appearance of the resulting decorative article can be made particularly excellent. In addition, it is possible to suppress variations in texture when the ornament is viewed from various directions.

本発明の装飾品の製造方法では、前記気相成膜粒子の入射方向が、前記基板の主面の法線を中心に回転するように、前記気相成膜粒子の入射方向を変化させることが好ましい。
これにより、得られる装飾品の美的外観をさらに優れたものとすることができる。また、装飾品を様々な方向から見た際における質感のばらつき等をより効果的に抑制することができる。
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, the incident direction of the vapor-phase film-forming particles is changed so that the incident direction of the vapor-phase film-forming particles rotates about the normal line of the main surface of the substrate. Is preferred.
Thereby, the aesthetic appearance of the obtained decorative article can be further improved. In addition, it is possible to more effectively suppress the variation in texture when the ornament is viewed from various directions.

本発明の装飾品の製造方法では、前記角度θが、1〜50°であることが好ましい。
これにより、装飾品の生産性を十分に優れたものとしつつ、得られる装飾品の美的外観を特に優れたものとすることができる。
本発明の装飾品の製造方法では、前記被膜は、少なくともその外表面付近が、主として金属材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、装飾品としての美的外観を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, the angle θ is preferably 1 to 50 °.
Thereby, the aesthetic appearance of the obtained decorative article can be made particularly excellent while sufficiently improving the productivity of the decorative article.
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, it is preferable that at least the outer surface of the coating is mainly composed of a metal material.
Thereby, the aesthetic appearance as a decorative article can be made especially excellent.

本発明の装飾品の製造方法では、前記基板上に、主として金属酸化物で構成された酸化物膜を形成する酸化物膜形成工程と、
前記酸化物膜上に、主として金属材料で構成された金属膜を形成する金属膜形成工程とを有することが好ましい。
これにより、基板と被膜との密着性をより優れたものとすることができ、結果として、装飾品の耐久性、信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a decorative article of the present invention, an oxide film forming step of forming an oxide film mainly composed of a metal oxide on the substrate;
It is preferable to have a metal film forming step of forming a metal film mainly composed of a metal material on the oxide film.
Thereby, the adhesiveness of a board | substrate and a film can be made more excellent, As a result, durability and reliability of a decorative article can be made especially excellent.

本発明の装飾品の製造方法では、前記装飾品は、時計用文字板であることが好ましい。
時計用文字板は、指標を有する各種装飾品の中でも、特に、優れた美的外観が求められるとともに、使用者等に時刻を容易かつ正確に認識させる等の実用性も求められるが、本発明によれば、立体感のある指標を好適に形成することができるため、美的外観の向上の観点からだけでなく、実用性の向上の観点からも好ましい。したがって、本発明による効果は、時計用文字板に適用した場合により顕著に発揮される。
In the decorative article manufacturing method of the present invention, the decorative article is preferably a watch dial.
The timepiece dial is required to have an excellent aesthetic appearance, among other various decorative items having indices, and also to have practicality such as making the user recognize the time easily and accurately. According to this, since a three-dimensional index can be suitably formed, it is preferable not only from the viewpoint of improving the aesthetic appearance but also from the viewpoint of improving practicality. Therefore, the effect by this invention is notably exhibited when applied to the timepiece dial.

本発明の装飾品は、本発明の方法を用いて製造したことを特徴とする。
これにより、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を提供することができる。
本発明の時計は、本発明の装飾品を備えたことを特徴とする。
これにより、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を備えた時計を提供することができる。
The decorative article of the present invention is manufactured using the method of the present invention.
Thereby, it is excellent in durability and can provide the ornament which was excellent in the aesthetic appearance with a three-dimensional effect.
The timepiece of the present invention is characterized by including the decorative article of the present invention.
Thereby, it is possible to provide a timepiece having a decorative article having excellent durability and a three-dimensional appearance and an excellent aesthetic appearance.

本発明によれば、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を提供すること、前記装飾品を製造することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供することができる。特に、被膜形成用のマスクを、多数個の時計用文字板の製造に、繰り返し用いることにより、環境負荷の小さい方法で、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を製造することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a decorative product having excellent durability and a three-dimensional appearance, and having an excellent aesthetic appearance, providing a manufacturing method capable of manufacturing the decorative product, and including the decorative product. Watch can be provided. In particular, by repeatedly using a mask for film formation in the production of a large number of timepiece dials, it is possible to produce decorative items that are superior in durability and have a three-dimensional appearance with a low environmental impact. can do.

以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
本発明において、装飾品は、装飾性を求められる物品(部材)であれば、いかなるものであってもよいが、以下の説明では、装飾品が時計用文字板である場合について、代表的に説明する。
<第1実施形態>
まず、本発明の装飾品、装飾品の製造方法の第1実施形態について説明する。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings.
In the present invention, the decorative article may be any article (member) that is required to have a decorative property. However, in the following description, the case where the decorative article is a timepiece dial is representatively shown. explain.
<First Embodiment>
First, a first embodiment of a decorative article and a method for manufacturing a decorative article according to the present invention will be described.

図1は、本発明の第1実施形態の装飾品を示す模式的な断面図、図2は、本発明の第1実施形態の装飾品の製造方法を示す模式的な断面図、図3は、金属膜(被膜)を形成する際の気相成膜粒子の進行方向を説明するための図である。なお、本明細書で参照する図面は、構成の一部を強調して示したものであり、実際の寸法等を正確に反映したものではない。
図1に示すように、本実施形態の装飾品(時計用文字板)1は、基板12と、酸化物膜13と、光を反射する機能を有する金属膜(被膜)14とを有している。
1 is a schematic cross-sectional view showing a decorative article according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing the decorative article according to the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining the traveling direction of vapor-phase film-forming particles when forming a metal film (film). Note that the drawings referred to in this specification show part of the configuration in an emphasized manner, and do not accurately reflect actual dimensions and the like.
As shown in FIG. 1, the ornament (clockface dial) 1 of this embodiment includes a substrate 12, an oxide film 13, and a metal film (coating) 14 having a function of reflecting light. Yes.

[基板]
基板12は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、各種熱可塑性樹脂、各種熱硬化性樹脂等のプラスチック材料で構成されたものであるのが好ましい。プラスチック材料は、一般に、成形性(成形の自由度)に優れており、種々の形状の装飾品1の製造に好適に適用することができる。また、基板12がプラスチック材料で構成されたものであると、装飾品1の製造コスト低減に有利である。また、プラスチック材料は、一般に、電磁波の透過性に優れているため、基板12がプラスチック材料で構成されたものであると、装飾品1をソーラー時計(太陽電池を備えた時計)、電波時計、ソーラー電波時計等に好適に適用することができる。以下の説明では、基板12がプラスチック材料で構成された例を、中心に説明する。
[substrate]
The substrate 12 may be composed of any material, but is preferably composed of plastic materials such as various thermoplastic resins and various thermosetting resins. The plastic material is generally excellent in moldability (freedom of molding), and can be suitably applied to the production of the decorative article 1 having various shapes. Further, if the substrate 12 is made of a plastic material, it is advantageous for reducing the manufacturing cost of the decorative article 1. Further, since plastic materials are generally excellent in electromagnetic wave permeability, if the substrate 12 is made of a plastic material, the decorative article 1 can be a solar watch (a watch equipped with solar cells), a radio wave watch, It can be suitably applied to a solar radio timepiece or the like. In the following description, an example in which the substrate 12 is made of a plastic material will be mainly described.

基板12を構成するプラスチック材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリパラキシリレン(poly-para-xylylene)、ポリモノクロロパラキシリレン(poly-monochloro-para-xylylene)、ポリジクロロパラキシリレン(poly-dichloro-para-xylylene)、ポリモノフルオロパラキシリレン(poly-monofluoro-para-xylylene)、ポリモノエチルパラキシリレン(poly-monoethyl-para-xylylene)等のポリパラキシリレン樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として)用いることができる。基板12は、上記のような材料の中でも特に、ポリカーボネート(PC)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)から選択される少なくとも1種を含む材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、装飾品1全体としての強度を特に優れたものとすることができる。また、装飾品1の製造時においては、基板12の成形の自由度が増す(成形のし易さが向上する)ため、より複雑な形状の装飾品1であっても、容易かつ確実に製造することができる。また、基板12がポリカーボネート(PC)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)から選択される少なくとも1種を含む材料で構成されたものであると、基板12と被膜との密着性(特に、酸化物膜13を介しての金属膜(被膜)14との密着性)を特に優れたものとすることができる。また、ポリカーボネートは、各種プラスチック材料の中でも比較的安価で、装飾品1の生産コストのさらなる低減に寄与することができる。また、ABS樹脂は、特に優れた耐薬品性も有しており、装飾品1全体としての耐久性をさらに向上されることができる。   Examples of the plastic material constituting the substrate 12 include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride. , Polystyrene, polyamide (eg, nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12, nylon 6-12, nylon 6-66), polyimide, polyamideimide, polycarbonate (PC), poly -(4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, polymethyl methacrylate, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin) Butadiene-styrene copolymer, polyoxymethylene, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT), etc. Polyester, polyether, polyetherketone (PEK), polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide, polyacetal (POM), polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, fragrance Polyester (liquid crystal polymer), polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin , Polyvinyl chloride, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, trans polyisoprene, fluororubber, chlorinated polyethylene, and other thermoplastic elastomers, epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamine resins , Unsaturated polyester, silicone resin, urethane resin, poly-para-xylylene, poly-monochloro-para-xylylene, poly-dichloro-xylylene para-xylylene), poly-monofluoro-para-xylylene, poly-monoethyl-para-xylylene and other polyparaxylylene resins, etc. Copolymer, blend, polymer alloy, etc., one or more of these Combination (e.g., blend resin, polymer alloy, as a laminate, etc.) may be used. The substrate 12 is preferably composed of a material containing at least one selected from polycarbonate (PC) and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin) among the above materials. . Thereby, the intensity | strength as the decoration 1 whole can be made especially excellent. In addition, since the degree of freedom in forming the substrate 12 is increased during manufacture of the decorative article 1 (the ease of forming is improved), even the decorative article 1 having a more complicated shape can be easily and reliably manufactured. can do. Further, when the substrate 12 is made of a material containing at least one selected from polycarbonate (PC) and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), the adhesion between the substrate 12 and the coating ( In particular, the adhesion with the metal film (coating film) 14 via the oxide film 13 can be made particularly excellent. Polycarbonate is relatively inexpensive among various plastic materials, and can contribute to further reduction in the production cost of the decorative article 1. The ABS resin also has particularly excellent chemical resistance, and the durability of the decorative article 1 as a whole can be further improved.

なお、基板12は、プラスチック材料以外の成分を含むものであってもよい。このような成分としては、例えば、可塑剤、酸化防止剤、着色剤(各種発色剤、蛍光物質、りん光物質等を含む)、光沢剤、フィラー等が挙げられる。
また、基板12は、少なくとも表面付近の一部(後述する酸化物膜13が形成される部位)が主としてプラスチック材料で構成されたものであればよく、例えば、プラスチック材料を含まない材料で構成された部位を有するものであってもよい。
In addition, the board | substrate 12 may contain components other than a plastic material. Examples of such components include plasticizers, antioxidants, colorants (including various color formers, fluorescent substances, phosphorescent substances, etc.), brighteners, fillers, and the like.
Further, the substrate 12 may be formed of a material that does not include a plastic material, for example, as long as at least a portion near the surface (a portion where an oxide film 13 described later is formed) is mainly formed of a plastic material. It may have a different part.

また、基板12は、各部位でその組成が実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、部位によって組成の異なるものであってもよい。例えば、基板12は、基部と、該基部上に設けられた表面層を有するものであってもよい。基板12がこのような構成のものである場合、少なくともその表面付近の一部(後述する酸化物膜13が形成される部位)が上述したような、主としてプラスチック材料で構成されたものであればよい。   In addition, the substrate 12 may have a substantially uniform composition at each site, or may have a different composition depending on the site. For example, the substrate 12 may have a base and a surface layer provided on the base. When the substrate 12 has such a configuration, at least a portion near the surface (a portion where an oxide film 13 described later is formed) is mainly composed of a plastic material as described above. Good.

また、基板12は、全体として、略板状をなすものであり、少なくともその一方の面(主面)に、凸部121を有している。凸部121は、時計用文字板(装飾品)1における、文字・数字(いわゆる時字等)、目盛、記号や、各種マーク等の指標15に対応する形状、大きさをなすものである。
凸部121の高さは、特に限定されないが、100〜500μmであるのが好ましく、200〜350μmであるのがより好ましく、220〜330μmであるのがさらに好ましい。凸部121の高さが前記範囲内の値であると、装飾品1の耐久性を十分に優れたものとしつつ、装飾品1の美的外観を特に優れたものとすることができる。
Moreover, the board | substrate 12 makes a substantially plate shape as a whole, and has the convex part 121 in the at least one surface (main surface). The convex portion 121 has a shape and a size corresponding to the index 15 such as letters / numbers (so-called time letters), scales, symbols, and various marks on the timepiece dial (decoration) 1.
Although the height of the convex part 121 is not specifically limited, It is preferable that it is 100-500 micrometers, It is more preferable that it is 200-350 micrometers, It is further more preferable that it is 220-330 micrometers. When the height of the convex portion 121 is a value within the above range, the aesthetic appearance of the decorative article 1 can be made particularly excellent while the durability of the decorative article 1 is sufficiently excellent.

また、基板12の形状、大きさは、特に限定されず、通常、装飾品1の形状、大きさに基づいて決定される。また、基板1は、平板状をなすものに限定されず、例えば、湾曲板状をなすものであってもよい。
また、基板12は、いかなる方法で成形されたものであってもよいが、基板12の成形方法としては、例えば、圧縮成形、押出成形、射出成形、光造形等が挙げられる。
The shape and size of the substrate 12 are not particularly limited, and are usually determined based on the shape and size of the decorative article 1. Moreover, the board | substrate 1 is not limited to what makes flat form, For example, what makes curved board shape may be sufficient.
The substrate 12 may be formed by any method, and examples of the method for forming the substrate 12 include compression molding, extrusion molding, injection molding, and stereolithography.

[酸化物膜]
基板12の表面には、酸化物膜13が設けられている。このように、本実施形態では、主としてプラスチック材料で構成された基板12の表面に、金属膜(被膜)14が直接設けられずに、基板12と金属膜14との間に酸化物膜13が介在している。これにより、基板12と金属膜14との密着性(酸化物膜13を介しての密着性)、特に、後述するような気相成膜により形成される金属膜14の密着性を向上させることができ、金属膜(被膜)14の浮きや剥がれ(剥離)等を効果的に防止することができる。その結果、装飾品1は耐久性に優れたものとなる。また、装飾品1は、金属膜14を有しているため、美的外観にも優れている。
[Oxide film]
An oxide film 13 is provided on the surface of the substrate 12. Thus, in this embodiment, the metal film (film) 14 is not directly provided on the surface of the substrate 12 mainly made of a plastic material, and the oxide film 13 is formed between the substrate 12 and the metal film 14. Intervene. This improves the adhesion between the substrate 12 and the metal film 14 (adhesion through the oxide film 13), particularly the adhesion of the metal film 14 formed by vapor deposition as described later. It is possible to effectively prevent the metal film (coating) 14 from floating or peeling off (peeling). As a result, the decorative article 1 is excellent in durability. Moreover, since the decorative article 1 has the metal film 14, it has an excellent aesthetic appearance.

酸化物膜13は、主として金属酸化物で構成されたものである。
酸化物膜13を構成する金属酸化物としては、各種金属の酸化物を用いることができ、好ましくは、Fe、Cu、Zn、Ni、Mg、Cr、Mn、Mo、Nb、Al、V、Zr、Sn、Au、Pd、Pt、Ag、Co、In、W、Ti、Rhの酸化物(複合酸化物を含む)が挙げられる。酸化物膜13が、酸化チタン(複合酸化物を含む)、酸化クロム(複合酸化物を含む)から選択される少なくとも1種を含む材料で構成されたものであると、基板12と金属膜14との密着性をより優れたものとすることができる。
The oxide film 13 is mainly composed of a metal oxide.
As the metal oxide constituting the oxide film 13, oxides of various metals can be used, preferably Fe, Cu, Zn, Ni, Mg, Cr, Mn, Mo, Nb, Al, V, Zr. , Sn, Au, Pd, Pt, Ag, Co, In, W, Ti, and Rh oxides (including complex oxides). When the oxide film 13 is made of a material containing at least one selected from titanium oxide (including composite oxide) and chromium oxide (including composite oxide), the substrate 12 and the metal film 14 are formed. It is possible to make the adhesiveness to be more excellent.

また、酸化物膜13の平均厚さは、特に限定されないが、0.005〜1.0μmであるのが好ましく、0.007〜0.5μmであるのがより好ましく、0.01〜0.3μmであるのがさらに好ましい。酸化物膜13の平均厚さが前記範囲内の値であると、装飾品1全体としての美的外観を特に優れたものとすることができるとともに、酸化物膜13の内部応力が高くなるのを十分に防止しつつ、基板12と金属膜14との密着性を特に優れたものとすることができる。これに対し、酸化物膜13の平均厚さが前記下限値未満であると、酸化物膜13、基板12、金属膜14の構成材料等によっては、基板12と金属膜14との密着性を向上させる機能が十分に発揮されない可能性がある。また、酸化物膜13の平均厚さが前記下限値未満であると、酸化物膜13の形成方法等によっては、酸化物膜13にピンホールが生じ易くなり、酸化物膜13を備えることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、酸化物膜13の平均厚さが前記上限値を超えると、酸化物膜13の各部位における膜厚のばらつきが大きくなる傾向を示す。また、酸化物膜13の平均厚さが特に大きい場合は、酸化物膜13の内部応力が高くなり、クラック等が発生し易くなる。   The average thickness of the oxide film 13 is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 1.0 μm, more preferably 0.007 to 0.5 μm, and 0.01 to 0.00. More preferably, it is 3 μm. When the average thickness of the oxide film 13 is within the above range, the aesthetic appearance of the decorative article 1 as a whole can be made particularly excellent, and the internal stress of the oxide film 13 is increased. Adhesion between the substrate 12 and the metal film 14 can be made particularly excellent while sufficiently preventing. On the other hand, when the average thickness of the oxide film 13 is less than the lower limit, the adhesion between the substrate 12 and the metal film 14 may be increased depending on the constituent material of the oxide film 13, the substrate 12, and the metal film 14. There is a possibility that the function to be improved is not fully exhibited. Further, when the average thickness of the oxide film 13 is less than the lower limit value, depending on the formation method of the oxide film 13 or the like, pinholes are easily generated in the oxide film 13, and the oxide film 13 is provided. The effect may not be fully demonstrated. Moreover, when the average thickness of the oxide film 13 exceeds the upper limit, the variation in film thickness at each portion of the oxide film 13 tends to increase. Further, when the average thickness of the oxide film 13 is particularly large, the internal stress of the oxide film 13 becomes high, and cracks and the like are likely to occur.

また、酸化物膜13の平均厚さは、後述する金属膜14の平均厚さよりも小さいものであるの好ましい。これにより、基板12と金属膜(被膜)14との密着性を十分に優れたものとしつつ、装飾品1の美的外観を特に優れたものとすることができる。特に、酸化物膜13の平均厚さをT[μm]、金属膜14の平均厚さをT[μm]としたとき、0.005≦T−T≦1.5の関係を満足するのが好ましく、0.007≦T−T≦1.0の関係を満足するのがより好ましく、0.01≦T−T≦0.5の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、上記のような効果はさらに顕著なものとして発揮される。 The average thickness of the oxide film 13 is preferably smaller than the average thickness of the metal film 14 described later. Thereby, while making the adhesiveness of the board | substrate 12 and the metal film (coating film) 14 excellent enough, the aesthetic appearance of the ornament 1 can be made especially excellent. In particular, when the average thickness of the oxide film 13 is T 1 [μm] and the average thickness of the metal film 14 is T 2 [μm], the relationship of 0.005 ≦ T 2 −T 1 ≦ 1.5 is satisfied. It is preferable that the relationship is satisfied, 0.007 ≦ T 2 −T 1 ≦ 1.0 is more preferable, and 0.01 ≦ T 2 −T 1 ≦ 0.5 is further satisfied. preferable. By satisfying such a relationship, the above-described effects can be exhibited more significantly.

また、酸化物膜13は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、そうでなくてもよい。例えば、酸化物膜13は、含有成分(組成)が厚さ方向に順次変化するもの(傾斜材料)であってもよい。また、酸化物膜13は、複数の層を有する積層体であってもよい。これにより、例えば、基板12および金属膜14との密着性をさらに向上させることができる。より具体的には、前記積層体の基板12と接触する側の層を基板12との密着性に優れる材料で構成し、前記積層体の金属膜14と接触する側の層を金属膜14との密着性に優れる材料で構成することにより、基板12および金属膜14との密着性をさらに向上させることができる。また、酸化物膜13が積層体である場合、例えば、実質的に金属酸化物を含まない材料で構成された層を有していてもよい。より具体的には、酸化物膜13は、金属酸化物で構成された2つの層の間に、プラスチック材料等で構成された層が介挿された構成を有するものであってもよい。   Further, the oxide film 13 may or may not have a uniform composition at each part. For example, the oxide film 13 may be one in which the contained component (composition) changes sequentially in the thickness direction (gradient material). The oxide film 13 may be a stacked body having a plurality of layers. Thereby, for example, the adhesion between the substrate 12 and the metal film 14 can be further improved. More specifically, the layer on the side of the laminate that contacts the substrate 12 is made of a material having excellent adhesion to the substrate 12, and the layer on the side of the laminate that contacts the metal film 14 is the metal film 14. By using a material having excellent adhesion, the adhesion between the substrate 12 and the metal film 14 can be further improved. Moreover, when the oxide film 13 is a laminated body, you may have the layer comprised with the material which does not contain a metal oxide substantially, for example. More specifically, the oxide film 13 may have a configuration in which a layer made of a plastic material or the like is interposed between two layers made of a metal oxide.

[金属膜(被膜)]
基板12の凸部121を被覆するように、金属膜(被膜)14が設けられている。特に、本実施形態では、酸化物膜13の表面(基板12と接触する面とは反対側の面)のうち、基板12の凸部121を被覆する部位に、金属膜(被膜)14が設けられている。
このように、装飾品(時計用文字板)1においては、凸部121上に、金属膜(被膜)14が設けられることにより、指標15をなしている。
[Metal film (film)]
A metal film (coating) 14 is provided so as to cover the convex portion 121 of the substrate 12. In particular, in the present embodiment, the metal film (coating film) 14 is provided on the surface of the oxide film 13 (the surface opposite to the surface in contact with the substrate 12) at a portion covering the convex portion 121 of the substrate 12. It has been.
Thus, in the decorative article (timepiece dial) 1, the metal film (coating) 14 is provided on the convex portion 121, thereby forming the index 15.

上記のように、金属膜14は、基板12の凸部121上に設けられているため、指標15は、優れた立体感を有している。また、金属膜14は、後に詳述するような方法により形成されたものであるため、目的とする部位に確実に設けられており、不本意な部分に金属膜14が設けられていない。
金属膜14は、主として金属材料で構成されたものである。金属膜14を構成する金属材料は、一般に、金属光沢を有しており、光(可視光)を反射する機能を有している。したがって、金属膜14は、光(可視光)を反射する反射膜として機能する。
As described above, since the metal film 14 is provided on the convex portion 121 of the substrate 12, the index 15 has an excellent stereoscopic effect. Further, since the metal film 14 is formed by a method that will be described in detail later, the metal film 14 is reliably provided at a target portion, and the metal film 14 is not provided at an unintended portion.
The metal film 14 is mainly composed of a metal material. The metal material constituting the metal film 14 generally has a metallic luster and has a function of reflecting light (visible light). Therefore, the metal film 14 functions as a reflective film that reflects light (visible light).

金属膜14を構成する金属材料としては、各種金属(合金を含む)を用いることができ、好ましくは、Fe、Cu、Zn、Ni、Mg、Cr、Mn、Mo、Nb、Al、V、Zr、Sn、Au、Pd、Pt、Ag、Co、In、W、Ti、Rhや、これらのうち少なくとも1種を含む合金が挙げられる。金属膜14は、上記のような材料の中でも特に、Ag、Cr、Au、Al、Ti、Sn、Inから選択される少なくとも1種を含む材料(合金を含む)で構成されたものであるのが好ましい。これにより、金属膜14と酸化物膜13との密着性を特に優れたものとするとともに、装飾品1の美的外観を特に優れたものとすることができる。なお、金属膜14は、金属材料以外の成分を含むものであってもよい。   Various metals (including alloys) can be used as the metal material constituting the metal film 14, and preferably Fe, Cu, Zn, Ni, Mg, Cr, Mn, Mo, Nb, Al, V, Zr. Sn, Au, Pd, Pt, Ag, Co, In, W, Ti, Rh, and alloys containing at least one of these. The metal film 14 is composed of a material (including an alloy) including at least one selected from Ag, Cr, Au, Al, Ti, Sn, and In, among the materials described above. Is preferred. As a result, the adhesion between the metal film 14 and the oxide film 13 can be made particularly excellent, and the aesthetic appearance of the decorative article 1 can be made particularly excellent. In addition, the metal film 14 may contain components other than a metal material.

また、金属膜14の構成材料は、酸化物膜13を構成する元素のうち少なくとも1種を含むものであってもよい。言い換えると、酸化物膜13と金属膜14とは、少なくともこれらが接触する部位において、互いに共通の元素を含む材料で構成されたものであってもよい。例えば、酸化物膜13がMOn/2の組成式(ただし、Mは金属元素を表し、nはMの価数を示す)で表される金属酸化物を含む場合、金属膜14は、Mを含むものであってもよい。これにより、酸化物膜13と金属膜14との密着性がさらに向上する。 Further, the constituent material of the metal film 14 may include at least one of the elements constituting the oxide film 13. In other words, the oxide film 13 and the metal film 14 may be composed of a material containing an element common to each other at least at a site where they are in contact with each other. For example, when the oxide film 13 includes a metal oxide represented by a composition formula of MO n / 2 (where M represents a metal element and n represents a valence of M), the metal film 14 has M May be included. Thereby, the adhesion between the oxide film 13 and the metal film 14 is further improved.

金属膜14の表面(基板12と対向する面とは反対側の面の表面)は、実質的に平坦(平滑)なもの、すなわち、鏡面であるのが好ましい。これにより、装飾品1の美的外観は特に優れたものとなる。より具体的には、金属膜14の表面粗さRa(基板12と対向する面とは反対側の面の表面粗さRa)は、特に限定されないが、0.001〜0.5μmであるのが好ましく、0.001〜0.1μmであるのがより好ましい。これにより、上記のような効果はさらに顕著なものとして発揮される。   The surface of the metal film 14 (the surface opposite to the surface facing the substrate 12) is preferably substantially flat (smooth), that is, a mirror surface. Thereby, the aesthetic appearance of the decorative article 1 is particularly excellent. More specifically, the surface roughness Ra of the metal film 14 (surface roughness Ra on the surface opposite to the surface facing the substrate 12) is not particularly limited, but is 0.001 to 0.5 μm. Is preferable, and it is more preferable that it is 0.001-0.1 micrometer. As a result, the above-described effects are exhibited more significantly.

金属膜(被膜)14の平均厚さは、特に限定されないが、0.005〜2.5μmであるのが好ましく、0.007〜0.9μmであるのがより好ましく、0.01〜0.5μmであるのがさらに好ましい。金属膜14の平均厚さが前記範囲内の値であると、金属膜14の内部応力が高くなるのを十分に防止しつつ、装飾品1の審美性を特に優れたものとすることができる。また、酸化物膜13と金属膜14との密着性を特に優れたものとすることができる。また、装飾品1全体としての電磁波(電波、光)の透過率を十分に大きいものとすることができる。これに対し、金属膜14の平均厚さが前記下限値未満であると、金属膜14の構成材料等によっては、金属膜14の光沢、色調等の特長を十分に発揮するのが困難となり、装飾品1全体としての審美性を十分に高めるのが困難になる可能性がある。また、金属膜14の平均厚さが前記下限値未満であると、金属膜14の形成方法等によっては、金属膜14にピンホールが生じ易くなる。また、金属膜14の平均厚さが前記下限値未満であると、指標15の立体感を十分に表現することが困難となり、装飾品(時計用文字板)1としての美的外観を十分に優れたものとするのが困難になる可能性がある。また、金属膜14、酸化物膜13の構成材料等によっては、酸化物膜13と金属膜14との密着性を十分に向上させるのが困難になる可能性がある。一方、金属膜14の平均厚さが前記上限値を超えると、金属膜14の各部位における膜厚のばらつきが大きくなる傾向を示す。また、金属膜14の平均厚さが特に大きい場合は、金属膜14の内部応力が高くなり、クラック等が発生し易くなる。また、金属膜14の平均厚さが前記上限値を超えると、装飾品1全体としての電磁波(電波、光)の透過率が減少する傾向を示す。   The average thickness of the metal film (coating) 14 is not particularly limited, but is preferably 0.005 to 2.5 μm, more preferably 0.007 to 0.9 μm, and 0.01 to 0.00. More preferably, it is 5 μm. When the average thickness of the metal film 14 is within the above range, the aesthetics of the decorative article 1 can be made particularly excellent while sufficiently preventing the internal stress of the metal film 14 from increasing. . Further, the adhesion between the oxide film 13 and the metal film 14 can be made particularly excellent. Moreover, the transmittance | permeability of the electromagnetic waves (radio wave, light) as the decoration 1 whole can be made large enough. On the other hand, if the average thickness of the metal film 14 is less than the lower limit value, depending on the constituent material of the metal film 14, it becomes difficult to fully exhibit the features such as gloss and color tone of the metal film 14, It may be difficult to sufficiently enhance the aesthetics of the decorative article 1 as a whole. Further, if the average thickness of the metal film 14 is less than the lower limit value, pinholes are likely to be generated in the metal film 14 depending on the formation method of the metal film 14 and the like. Further, if the average thickness of the metal film 14 is less than the lower limit value, it is difficult to sufficiently express the three-dimensional effect of the index 15, and the aesthetic appearance as a decorative article (timepiece dial) 1 is sufficiently excellent. Can be difficult to maintain. Further, depending on the constituent materials of the metal film 14 and the oxide film 13, it may be difficult to sufficiently improve the adhesion between the oxide film 13 and the metal film 14. On the other hand, when the average thickness of the metal film 14 exceeds the upper limit, the variation in film thickness at each part of the metal film 14 tends to increase. In addition, when the average thickness of the metal film 14 is particularly large, the internal stress of the metal film 14 becomes high and cracks and the like are likely to occur. Moreover, when the average thickness of the metal film 14 exceeds the said upper limit, the transmittance | permeability of the electromagnetic wave (radio wave, light) as the decoration 1 whole shows the tendency to reduce.

また、金属膜14は、各部位で均一な組成を有するものであってもよいし、そうでなくてもよい。例えば、金属膜14は、含有成分(組成)が厚さ方向に順次変化するもの(傾斜材料)であってもよい。また、金属膜14は、複数の層を有する積層体であってもよい。これにより、例えば、酸化物膜13との密着性を特に優れたものとしつつ、装飾品1としての審美性をさらに高めることができる。すなわち、前記積層体の酸化物膜13と接触する側の層を酸化物膜13との密着性に優れる材料で構成し、前記積層体の最外層(酸化物膜13から最も離れた側の層)を審美性に優れる材料で構成することにより、酸化物膜13との密着性を特に優れたものとしつつ、装飾品1としての審美性をさらに高めることができる。また、金属膜14が積層体である場合、例えば、実質的に金属材料を含まない材料で構成された層を有していてもよい。より具体的には、金属膜14は、金属材料で構成された2つの層の間に、金属酸化物等で構成された層が介挿された構成を有するものであってもよい。   Further, the metal film 14 may or may not have a uniform composition at each part. For example, the metal film 14 may be a material (gradient material) whose content (composition) changes sequentially in the thickness direction. Further, the metal film 14 may be a stacked body having a plurality of layers. Thereby, for example, the aesthetics as the decorative article 1 can be further enhanced while the adhesion with the oxide film 13 is particularly excellent. That is, the layer on the side of the laminate that is in contact with the oxide film 13 is made of a material having excellent adhesion to the oxide film 13, and the outermost layer of the laminate (the layer farthest from the oxide film 13). ) Is made of a material having excellent aesthetics, the aesthetics as the decorative article 1 can be further enhanced while the adhesion to the oxide film 13 is particularly excellent. Moreover, when the metal film 14 is a laminated body, you may have the layer comprised with the material which does not contain a metal material substantially, for example. More specifically, the metal film 14 may have a configuration in which a layer made of a metal oxide or the like is interposed between two layers made of a metal material.

また、前述した酸化物膜13の平均厚さと金属膜14の平均厚さとの和は、0.01〜2.5μmであるのが好ましく、0.014〜1.5μmであるのがより好ましく、0.02〜0.8μmであるのがさらに好ましい。酸化物膜13の平均厚さと金属膜14の平均厚さとの和が前記範囲内の値であると、酸化物膜13や金属膜14の内部応力が高くなるのを十分に防止しつつ、基板12、酸化物膜13、金属膜14の密着性を特に優れたものとすることができる。また、酸化物膜13の平均厚さと金属膜14の平均厚さとの和が前記範囲内の値であると、装飾品1全体としての電波の透過性が向上する。その結果、装飾品1を電波時計用部品により好適に適用することができる。   Further, the sum of the average thickness of the oxide film 13 and the average thickness of the metal film 14 is preferably 0.01 to 2.5 μm, more preferably 0.014 to 1.5 μm, More preferably, it is 0.02-0.8 micrometer. When the sum of the average thickness of the oxide film 13 and the average thickness of the metal film 14 is a value within the above range, the substrate can be sufficiently prevented from increasing the internal stress of the oxide film 13 and the metal film 14. 12, the adhesion of the oxide film 13 and the metal film 14 can be made particularly excellent. Further, when the sum of the average thickness of the oxide film 13 and the average thickness of the metal film 14 is a value within the above range, the radio wave permeability of the decorative article 1 as a whole is improved. As a result, the decorative article 1 can be more suitably applied to the radio timepiece component.

[装飾品]
以上説明したような装飾品1は、装飾性を備えた物品であればいかなるものでもよいが、例えば、置物等のインテリア、エクステリア用品、宝飾品、時計ケース(胴、裏蓋、胴と裏蓋とが一体化されたワンピースケース等)、時計バンド(バンド中留、バンド・バングル着脱機構等を含む)、時計用文字板、時計用針、ベゼル(例えば、回転ベゼル等)、りゅうず(例えば、ネジロック式りゅうず等)、ボタン、カバーガラス、ガラス縁、ダイヤルリング、見切板、パッキン等の時計用部品、ムーブメントの地板、歯車、輪列受け、回転錘等の時計用内装部品、メガネ(例えば、メガネフレーム)、ネクタイピン、カフスボタン、指輪、ネックレス、ブレスレット、アンクレット、ブローチ、ペンダント、イヤリング、ピアス等の装身具、ライターまたはそのケース、自動車のホイール、ゴルフクラブ等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハウジング等を含む各種機器部品、各種容器等に適用することができる。この中でも特に、装飾品1は、時計用文字板に適用されるものであるのが好ましい。時計用文字板は、時計を構成する各種部品の中でも、特に優れた美的外観が要求される部品である。また、時計用文字板は、一般に、各種装飾品の中でも、時字等の凹凸部となる部位を多く有するものであり、これにより、美的外観の向上の効果を効率よく得ることができる。すなわち、時計用文字板に適用することにより、本発明の効果をより顕著に発揮させることができる。また、時計用文字板においては、立体的な時字を有することにより、針(指針)による時刻表示を容易かつ正確に認識することができる。このため、本発明を時計用文字板に適用することにより、装飾品としての優れた美的外観を得るとともに、実用品としての機能を向上させることができる。
[Decoration]
The decorative item 1 as described above may be any item as long as it has a decorative property. For example, interiors such as figurines, exterior items, jewelry items, watch cases (body, back cover, case and back cover) , One-piece cases, etc.), watch bands (including band clasps, band / bangle attachment / detachment mechanisms, etc.), watch dials, watch hands, bezels (eg, rotating bezels), crowns (eg, , Screw lock-type crown, etc.), watch parts such as buttons, cover glass, glass edges, dial rings, parting plates, packing, etc., interior parts for watches, such as movement base plates, gears, train wheel supports, rotating weights, glasses ( For example, eyeglass frames), tie pins, cufflinks, rings, necklaces, bracelets, anklets, brooches, pendants, earrings, earrings and other accessories, la Tar or its case, car wheel, sporting goods such as golf club, nameplate, panel, Shohai, various other equipment parts, including housing, etc., can be applied to various types of containers and the like. Among these, the decorative article 1 is particularly preferably applied to a timepiece dial. The timepiece dial is a part that requires a particularly excellent aesthetic appearance among various parts constituting the timepiece. In addition, the timepiece dial generally has a large number of portions that become uneven portions such as time letters among various ornaments, and thereby, the effect of improving the aesthetic appearance can be obtained efficiently. That is, the effect of the present invention can be exhibited more remarkably by applying to a timepiece dial. Further, the timepiece dial has a three-dimensional time character, so that the time display by the hands (hands) can be easily and accurately recognized. Therefore, by applying the present invention to a timepiece dial, it is possible to obtain an excellent aesthetic appearance as a decorative product and to improve the function as a practical product.

次に、上述した装飾品1の製造方法について説明する。
図2は、本発明の第1実施形態の装飾品の製造方法を示す模式的な断面図である。
図2に示すように、本実施形態の装飾品の製造方法は、基板12を準備する基板準備工程(1a)と、基板12の表面に酸化物膜13を形成する酸化物膜形成工程(1b)と、酸化物膜13の表面(基板12上)に、基板12が有する凸部121に対応する部位に開口部21が設けられたマスク(気相成膜用マスク)2を配した状態で、気相成膜を行うことにより、凸部121上に金属膜14を形成する金属膜形成工程(被膜形成工程)(1c、1d)と、マスク2を除去するマスク除去工程(1e)とを有する。
Next, the manufacturing method of the ornament 1 mentioned above is demonstrated.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a decorative article according to the first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 2, the method for manufacturing a decorative article of this embodiment includes a substrate preparation step (1a) for preparing a substrate 12, and an oxide film formation step (1b) for forming an oxide film 13 on the surface of the substrate 12. ) And a mask (vapor phase deposition mask) 2 having an opening 21 provided in a portion corresponding to the convex portion 121 of the substrate 12 on the surface of the oxide film 13 (on the substrate 12). Then, a metal film forming step (film forming step) (1c, 1d) for forming the metal film 14 on the convex portion 121 by performing vapor phase film formation, and a mask removing step (1e) for removing the mask 2 are performed. Have.

[基板準備工程]
基板12としては、前述したようなものを用いることができる。
また、基板12の表面に対しては、例えば、鏡面加工、スジ目加工、梨地加工等の表面加工が施されてもよい。これにより、得られる装飾品1の表面の光沢具合にバリエーションを持たせることが可能となり、得られる装飾品1の装飾性をさらに向上させることができる。
[Board preparation process]
As the substrate 12, those described above can be used.
Further, the surface of the substrate 12 may be subjected to surface processing such as mirror surface processing, streak processing, and satin processing. Thereby, it becomes possible to give a variation in the glossiness of the surface of the obtained decorative article 1, and the decorativeness of the obtained decorative article 1 can be further improved.

また、このような表面加工を施した基板12を用いて製造される装飾品1は、酸化物膜13、金属膜14に対して、前記表面加工を施すことにより得られるものに比べて、金属膜14のギラツキ等が抑制されたものとなり、特に美的外観に優れたものとなる。また、基板12が、主としてプラスチック材料で構成されたものであると、上記のような表面加工も容易に行うことができる。また、酸化物膜13、金属膜14は、通常、比較的薄いものであるため、酸化物膜13、金属膜14に対して表面加工を施すと、当該表面処理を施した部位の酸化物膜13、金属膜14が完全に除去されてしまったり、その周囲の酸化物膜13、金属膜14も剥離してしまう等の問題が発生する可能性があるが、基板12に対して表面処理を行うことにより、このような問題の発生も効果的に防止することができる。   Moreover, the decorative article 1 manufactured using the substrate 12 that has been subjected to such surface processing is more metal than that obtained by performing the surface processing on the oxide film 13 and the metal film 14. Glare and the like of the film 14 are suppressed, and particularly, the aesthetic appearance is excellent. Further, when the substrate 12 is mainly composed of a plastic material, the surface processing as described above can be easily performed. In addition, since the oxide film 13 and the metal film 14 are usually relatively thin, when the surface treatment is performed on the oxide film 13 and the metal film 14, the oxide film at a portion where the surface treatment is performed. 13. The metal film 14 may be completely removed, or the surrounding oxide film 13 and the metal film 14 may be peeled off. By doing so, the occurrence of such a problem can be effectively prevented.

[酸化物膜形成工程]
基板12の表面に、主として金属酸化物で構成された酸化物膜13を形成する(1b)。
上述したように、酸化物膜13は、基板12および金属膜14との密着性に優れるものである。このような酸化物膜13を形成することにより、装飾品1全体としての耐久性を特に優れたものとすることができる。
[Oxide film forming step]
An oxide film 13 mainly composed of metal oxide is formed on the surface of the substrate 12 (1b).
As described above, the oxide film 13 has excellent adhesion with the substrate 12 and the metal film 14. By forming such an oxide film 13, the durability of the decorative article 1 as a whole can be made particularly excellent.

酸化物膜13の形成方法は、特に限定されず、例えば、スピンコート、ディッピング、刷毛塗り、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、電解めっき、浸漬めっき、無電解めっき等の湿式めっき法や、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の気相成膜法、溶射等が挙げられるが、気相成膜法が好ましい。酸化物膜13の形成方法として気相成膜法を適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基板12との密着性が特に優れた酸化物膜13を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品1の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、酸化物膜13の形成方法として気相成膜法を適用することにより、形成すべき酸化物膜13が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。また、後に詳述するように、金属膜14が気相成膜により形成されるものであるため、酸化物膜13の形成方法として気相成膜法を適用することにより、装飾品1の製造において、製造過程における基板12を気相成膜装置から一旦取り出すことなく、本工程と金属膜形成工程とを、引き続いて行うことができる。このため、装飾品1の生産性を特に優れたものとすることができる。また、上記のような気相成膜法の中でも、スパッタリングが特に好ましい。酸化物膜13の形成方法としてスパッタリングを適用することにより、上記のような効果はより顕著なものとなる。すなわち、酸化物膜13の形成方法としてスパッタリングを適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、基板12との密着性が特に優れた酸化物膜13をより確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品1の審美的外観、耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、酸化物膜13の形成方法としてスパッタリングを適用することにより、形成すべき酸化物膜13が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを特に小さいものとすることができる。なお、上記のような気相成膜法を適用する場合、例えば、酸化物膜13を構成する金属酸化物に対応する金属をターゲットとして用い、酸素ガスを含む雰囲気中で処理を行うことにより、酸化物膜13を容易かつ確実に形成することができる。また、酸化物膜13の形成は、異なる複数の方法、条件を組み合わせて行ってもよい。これにより、前述したような積層体で構成された酸化物膜13を好適に形成することができる。   The method for forming the oxide film 13 is not particularly limited. For example, wet coating such as spin coating, dipping, brush coating, spray coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, etc., electrolytic plating, immersion plating, electroless plating, etc. Examples include plating methods, chemical vapor deposition methods (CVD) such as thermal CVD, plasma CVD, and laser CVD, vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, and thermal spraying. preferable. By applying a vapor deposition method as a method for forming the oxide film 13, the oxide film 13 having a uniform film thickness, uniform, and particularly excellent adhesion to the substrate 12 is reliably formed. can do. As a result, the aesthetic appearance and durability of the finally obtained decorative article 1 can be made particularly excellent. In addition, by applying a vapor deposition method as a method for forming the oxide film 13, even if the oxide film 13 to be formed is relatively thin, the variation in film thickness is made sufficiently small. Can do. Further, as will be described in detail later, since the metal film 14 is formed by vapor phase film formation, the vapor phase film formation method is applied as the method for forming the oxide film 13 to manufacture the decorative article 1. In the manufacturing process, the present step and the metal film forming step can be carried out continuously without once removing the substrate 12 from the vapor phase film forming apparatus. For this reason, the productivity of the decorative article 1 can be made particularly excellent. Of the vapor phase film forming methods as described above, sputtering is particularly preferable. By applying sputtering as the method for forming the oxide film 13, the above effects become more prominent. That is, by applying sputtering as a method of forming the oxide film 13, the oxide film 13 having a uniform film thickness, uniform, and particularly excellent adhesion to the substrate 12 is more reliably formed. be able to. As a result, the aesthetic appearance and durability of the finally obtained decorative article 1 can be further improved. Further, by applying sputtering as a method for forming the oxide film 13, even if the oxide film 13 to be formed is relatively thin, the variation in film thickness can be made particularly small. In addition, when applying the above vapor phase film forming method, for example, by using a metal corresponding to the metal oxide constituting the oxide film 13 as a target and performing the treatment in an atmosphere containing oxygen gas, The oxide film 13 can be easily and reliably formed. In addition, the oxide film 13 may be formed by combining a plurality of different methods and conditions. Thereby, the oxide film 13 comprised by the laminated body as mentioned above can be formed suitably.

[金属膜形成工程(被膜形成工程)]
次に、酸化物膜13の表面(基板12上)に、基板12が有する凸部121に対応する部位に開口部21が設けられたマスク(気相成膜用マスク)2を配した状態で、気相成膜を行うことにより、凸部121上に金属膜14を形成する(1c、1d)。
このように、マスク2を配した状態で気相成膜を行うことにより、酸化物膜13で被覆された基板12の表面の、マスク2の開口部21に対応する部位に、選択的に金属膜14が被覆され、指標15が形成される。
[Metal film forming step (film forming step)]
Next, a mask (vapor phase film formation mask) 2 in which an opening 21 is provided in a portion corresponding to the convex portion 121 of the substrate 12 is arranged on the surface of the oxide film 13 (on the substrate 12). Then, the metal film 14 is formed on the convex portion 121 by performing vapor deposition (1c, 1d).
In this way, by performing vapor phase film formation with the mask 2 disposed, the surface of the substrate 12 covered with the oxide film 13 is selectively applied to a portion corresponding to the opening 21 of the mask 2. The membrane 14 is covered and the index 15 is formed.

また、このように、マスク2を配した状態で気相成膜を行うことにより、以下のような効果も得られる。
すなわち、従来の印刷を用いた方法や、植設材を取り付け固定する方法に比べて、指標の立体感を優れたものとしつつ、指標の基板に対する密着性を高いものとすることができる。
In addition, the following effects can be obtained by performing vapor phase film formation with the mask 2 disposed.
That is, compared to the conventional method using printing or the method of attaching and fixing the planting material, the three-dimensional effect of the index can be improved and the adhesion of the index to the substrate can be increased.

また、多数個の装飾品1の製造に、マスク2を繰り返し用いることができるため、装飾品1の生産性が向上するとともに、各装飾品1間での品質のばらつきを抑制することができる。すなわち、装飾品1の品質の信頼性が向上する。
また、形成すべき指標15に対応するパターン(反転したパターン)の開口部21を有するマスク2を用意することにより、金属膜14の形成条件を大きく変更することなく、多様なパターンの指標15を有する装飾品1の生産にも好適に対応することができる。また、気相成膜に用いる材料(気相成膜材料)や気相成膜の処理時間等を変更することで、まったく異なる外観を呈する多品種の装飾品1を、容易に製造することができる。すなわち、多品種生産にも効率良く対応することができる。
In addition, since the mask 2 can be repeatedly used for the production of a large number of ornaments 1, the productivity of the ornaments 1 can be improved and quality variations among the ornaments 1 can be suppressed. That is, the reliability of the quality of the decorative article 1 is improved.
Further, by preparing the mask 2 having the openings 21 of the pattern corresponding to the index 15 to be formed (inverted pattern), the index 15 of various patterns can be changed without largely changing the formation conditions of the metal film 14. It can respond suitably also to production of the ornament 1 which has. In addition, by changing the material used for vapor phase film formation (vapor phase film formation material), the processing time of vapor phase film formation, and the like, it is possible to easily manufacture a wide variety of decorative articles 1 having completely different appearances. it can. That is, it is possible to efficiently cope with multi-product production.

上記のように、金属膜14は、気相成膜により形成されるものである。金属膜14の形成に適用することができる気相成膜法としては、例えば、熱CVD、プラズマCVD、レーザーCVD等の化学蒸着法(CVD)、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等が挙げられる。金属膜14の形成方法として気相成膜法を適用することにより、均一な膜厚を有し(不本意な厚さのばらつきが抑制され)、均質で、かつ、酸化物膜13との密着性が特に優れた金属膜14を確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品1の審美的外観、耐久性を特に優れたものとすることができる。また、金属膜14の形成方法として気相成膜法を適用することにより、形成すべき金属膜14が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを十分に小さいものとすることができる。   As described above, the metal film 14 is formed by vapor deposition. Examples of the vapor deposition method that can be applied to the formation of the metal film 14 include chemical vapor deposition (CVD) such as thermal CVD, plasma CVD, and laser CVD, vacuum deposition, sputtering, and ion plating. . By applying a vapor deposition method as a method of forming the metal film 14, it has a uniform film thickness (suppressing unintentional thickness variation), is homogeneous, and is in close contact with the oxide film 13. It is possible to reliably form the metal film 14 with particularly excellent properties. As a result, the aesthetic appearance and durability of the finally obtained decorative article 1 can be made particularly excellent. Further, by applying a vapor deposition method as a method for forming the metal film 14, even if the metal film 14 to be formed is relatively thin, the variation in film thickness can be made sufficiently small. .

また、上記のような気相成膜法の中でも、スパッタリングが特に好ましい。金属膜14の形成方法としてスパッタリングを適用することにより、上記のような効果はより顕著なものとなる。すなわち、金属膜14の形成方法としてスパッタリングを適用することにより、均一な膜厚を有し、均質で、かつ、酸化物膜13との密着性が特に優れた金属膜14をより確実に形成することができる。その結果、最終的に得られる装飾品1の審美的外観、耐久性をさらに優れたものとすることができる。また、金属膜14の形成方法としてスパッタリングを適用することにより、形成すべき金属膜14が比較的薄いものであっても、膜厚のばらつきを特に小さいものとすることができる。   Of the vapor phase film forming methods as described above, sputtering is particularly preferable. By applying sputtering as a method for forming the metal film 14, the above effects become more prominent. That is, by applying sputtering as a method for forming the metal film 14, the metal film 14 having a uniform film thickness, uniform, and particularly excellent adhesion to the oxide film 13 is more reliably formed. be able to. As a result, the aesthetic appearance and durability of the finally obtained decorative article 1 can be further improved. Further, by applying sputtering as a method for forming the metal film 14, even if the metal film 14 to be formed is relatively thin, the variation in film thickness can be made particularly small.

なお、上記のような気相成膜では、例えば、金属膜14を構成する金属をターゲットとして用い、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気中で処理を行うことにより、金属膜14を容易かつ確実に形成することができる。また、上述した酸化物膜形成工程を気相成膜法により行う場合、例えば、気相成膜装置内(チャンバー内)の雰囲気ガスの組成を、酸素ガスを含むものから、不活性ガスに置換し、必要に応じて、ターゲットを変更することにより、同一装置内で、酸化物膜形成工程と金属膜形成工程とを、(基板12を装置内から取り出すことなく)引き続いて行うことができる。これにより、基板12、酸化物膜13、金属膜14の密着性が特に優れたものとなるとともに、装飾品1の生産性、信頼性も向上する。   In the vapor phase film formation as described above, for example, the metal film 14 is easily and reliably formed by performing processing in an inert gas atmosphere such as argon gas using the metal constituting the metal film 14 as a target. Can be formed. Further, when the oxide film forming process described above is performed by a vapor deposition method, for example, the composition of the atmospheric gas in the vapor deposition apparatus (in the chamber) is replaced with an inert gas from one containing oxygen gas. Then, if necessary, by changing the target, the oxide film forming step and the metal film forming step can be continuously performed in the same apparatus (without removing the substrate 12 from the apparatus). Thereby, the adhesion of the substrate 12, the oxide film 13, and the metal film 14 is particularly excellent, and the productivity and reliability of the decorative article 1 are also improved.

また、金属膜14の形成は、異なる複数の方法、条件を組み合わせて行ってもよい。これにより、前述したような積層体で構成された金属膜14を好適に形成することができる。
上述したように、金属膜形成工程(被膜形成工程)は、気相成膜により行うものであり、これにより、上記のような優れた効果が得られる。これに対し、気相成膜以外の方法で金属膜(被膜)14を形成した場合には、上記のような効果は得られない。例えば、開口部を備えたマスクを配した状態で、湿式めっきを行った場合、形成される金属膜(被膜)の厚さのばらつきを十分に小さくすることは困難である。特に、形成すべき被膜の厚さが比較的薄いものであると、各部位での厚さのばらつきや被膜表面の微小な凹凸は特に顕著なものとなり、装飾品の美的外観を十分に優れたものとすることができない。また、湿式めっきを行った場合、形成される被膜の内部や被膜が被覆される部材との界面付近にめっき液が残存する可能性がある。このように、めっき液が残存すると、装飾品の耐久性を著しく低下させる。また、湿式めっき後に洗浄を行った場合でも、完全にめっき液を除去するのは困難であり、特に、被膜が上記のように比較的薄いものであると、形成された被膜にダメージを与えることなく、めっき液を確実に除去するのは困難である。また、湿式めっきを行った場合、膜厚制御が困難で比較的被膜が厚くなる為、マスクの繰り返し使用が難しくなる(マスクの開口部寸法が小さくなる)という問題が生じる。
The formation of the metal film 14 may be performed by combining a plurality of different methods and conditions. Thereby, the metal film 14 comprised by the laminated body as mentioned above can be formed suitably.
As described above, the metal film formation step (film formation step) is performed by vapor phase film formation, and thus the above excellent effects can be obtained. On the other hand, when the metal film (film) 14 is formed by a method other than vapor phase film formation, the above effects cannot be obtained. For example, when wet plating is performed in a state where a mask having an opening is provided, it is difficult to sufficiently reduce variation in the thickness of the formed metal film (coating film). In particular, when the thickness of the coating to be formed is relatively thin, variations in thickness at each part and minute irregularities on the coating surface become particularly remarkable, and the aesthetic appearance of the decorative article is sufficiently excellent. It cannot be assumed. In addition, when wet plating is performed, there is a possibility that the plating solution remains in the inside of the formed film or in the vicinity of the interface with the member to be coated with the film. Thus, if the plating solution remains, the durability of the decorative article is significantly reduced. Moreover, even when washing is performed after wet plating, it is difficult to completely remove the plating solution. In particular, if the coating is relatively thin as described above, the formed coating may be damaged. In addition, it is difficult to reliably remove the plating solution. In addition, when wet plating is performed, it is difficult to control the film thickness and the film becomes relatively thick, so that there is a problem that repeated use of the mask becomes difficult (the size of the opening of the mask becomes small).

また、本実施形態において、マスク2は、基板12(酸化物膜13)に対向する面(主面)である第1の面22側から、その反対の面(主面)である第2の面23側に向かって開口部21の断面積が増大する断面積増大部212を有するものである。言い換えると、開口部21は、マスク2の主面に垂直な方向に対して所定角度だけ傾斜した傾斜面211によって、マスク2の基板12に対向する第1の面22側から第2の面23側に向かって、その断面積が増大する断面積増大部212を有するものとして設けられている。このようなマスク2を用いることにより、凸部121全体を確実に被覆するように、金属膜(被膜)14を形成することができる。言い換えると、凸部121の側面等にも、確実に気相成膜材料を付着させることができる。その結果、より確実に、装飾品1の美的外観を特に優れたものとすることができる。   In the present embodiment, the mask 2 is a second surface that is the opposite surface (main surface) from the first surface 22 side that is the surface (main surface) facing the substrate 12 (oxide film 13). A cross-sectional area increasing portion 212 in which the cross-sectional area of the opening 21 increases toward the surface 23 side is provided. In other words, the opening 21 is formed on the second surface 23 from the first surface 22 facing the substrate 12 of the mask 2 by an inclined surface 211 inclined by a predetermined angle with respect to a direction perpendicular to the main surface of the mask 2. A cross-sectional area increasing portion 212 whose cross-sectional area increases toward the side is provided. By using such a mask 2, the metal film (coating film) 14 can be formed so as to reliably cover the entire convex portion 121. In other words, the vapor deposition material can be reliably attached to the side surface of the convex portion 121 and the like. As a result, the aesthetic appearance of the decorative article 1 can be made particularly excellent.

マスク2の開口部21(断面積増大部212)において、開口部21の断面積が最小となる断面積最小部213での断面積(図示の構成では、第1の面22における開口部21の断面積)をS’[μm]、開口部21の断面積が最大となる断面積最大部214での断面積(図示の構成では、第2の面23における開口部21の断面積)をS’[μm]としたとき、0.10≦S’/S’≦0.95の関係を満足するのが好ましく、0.15≦S’/S’≦0.90の関係を満足するのがより好ましく、0.20≦S’/S’≦0.85の関係を満足するのがさらに好ましい。このような関係を満足することにより、凸部121全体を被覆するように、金属膜(被膜)14をより確実に形成することができる。これに対し、S’/S’の値が前記下限値未満であると、上記のような断面積増大部212を有することによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、S’/S’の値が前記下限値未満であると、形成する金属膜(被膜)14の厚さ等によっては、後述するマスク除去工程において、マスク2を除去する際に、マスク2とともに、形成された金属膜(被膜)14の少なくとも一部が、基板12上(酸化物膜13上)から除去されてしまい、最終的に得られる装飾品1の美的外観が低下してしまう可能性がある。また、マスク2の構成材料等によっては、マスク2の形状の安定性が低下し、金属膜14の形成時にマスク2が変形してしまう可能性がある。また、マスク2の耐久性が低下し、装飾品1の生産性が低下する傾向が顕著になる可能性がある。一方、S’/S’の値が前記上限値を超えると、マスク2の構成材料、金属膜14の構成材料等によっては、マスク2が断面積増大部212を有することによる効果が十分に発揮されず、装飾品1の美的外観を十分に優れたものとするのが困難になる可能性がある。 In the opening portion 21 (cross-sectional area increasing portion 212) of the mask 2, the cross-sectional area at the cross-sectional area minimum portion 213 that minimizes the cross-sectional area of the opening portion 21 (in the illustrated configuration, the opening portion 21 of the first surface 22 Cross-sectional area) is S 0 ′ [μm 2 ], and the cross-sectional area at the maximum cross-sectional area 214 where the cross-sectional area of the opening 21 is the maximum (in the configuration shown, the cross-sectional area of the opening 21 on the second surface 23). Is preferably S 1 ′ [μm 2 ], the relationship of 0.10 ≦ S 0 ′ / S 1 ′ ≦ 0.95 is preferably satisfied, and 0.15 ≦ S 0 ′ / S 1 ′ ≦ 0. It is more preferable to satisfy the relationship of 90, and it is even more preferable to satisfy the relationship of 0.20 ≦ S 0 ′ / S 1 ′ ≦ 0.85. By satisfying such a relationship, the metal film (film) 14 can be more reliably formed so as to cover the entire convex portion 121. On the other hand, if the value of S 0 ′ / S 1 ′ is less than the lower limit value, the effect of having the cross-sectional area increasing portion 212 as described above may not be sufficiently exhibited. Further, when the value of S 0 ′ / S 1 ′ is less than the lower limit value, depending on the thickness of the metal film (coating film) 14 to be formed, when removing the mask 2 in the mask removal step described later, Along with the mask 2, at least a part of the formed metal film (coating film) 14 is removed from the substrate 12 (on the oxide film 13), and the aesthetic appearance of the finally obtained decorative article 1 is deteriorated. There is a possibility. Further, depending on the constituent material of the mask 2, the stability of the shape of the mask 2 may be reduced, and the mask 2 may be deformed when the metal film 14 is formed. In addition, the durability of the mask 2 may decrease, and the tendency for the productivity of the decorative article 1 to decrease may become significant. On the other hand, when the value of S 0 ′ / S 1 ′ exceeds the upper limit value, the effect of having the cross-sectional area increasing portion 212 is sufficient depending on the constituent material of the mask 2, the constituent material of the metal film 14, and the like. It may be difficult to make the aesthetic appearance of the decorative article 1 sufficiently excellent.

開口部21は、指標15(形成すべき金属膜(被膜)14)に対応する形状、大きさ(平面視した際の形状、大きさ)を有するものであるが、開口部21の幅は、凸部121の幅(より正確には、酸化物膜13で被覆された凸部121の幅)よりも、やや大きいものであるのが好ましい。より具体的には、開口部21の幅W[μm]と凸部121の幅(より正確には、酸化物膜13で被覆された凸部121の幅)W[μm]との差(W−W)は、2〜50μmであるのが好ましく、5〜30μmであるのがより好ましい。これにより、凸部121全体を被覆するように、金属膜(被膜)14をより確実に形成することができる。なお、図示の構成のように、開口部21が断面積最小部213を有するものである場合、開口部21の幅Wとしては、断面積最小部213での幅を採用する。 The opening 21 has a shape and a size (a shape and a size when viewed in plan) corresponding to the index 15 (metal film (coating) 14 to be formed). It is preferable that the width is slightly larger than the width of the convex portion 121 (more precisely, the width of the convex portion 121 covered with the oxide film 13). More specifically, the difference between the width W O [μm] of the opening 21 and the width of the convex 121 (more precisely, the width of the convex 121 covered with the oxide film 13) W C [μm]. (W 2 O 3 -W C ) is preferably 2 to 50 μm, and more preferably 5 to 30 μm. Thereby, the metal film (coating) 14 can be more reliably formed so as to cover the entire convex portion 121. In the case where the opening 21 has the cross-sectional area minimum portion 213 as in the configuration shown in the drawing, the width at the cross-sectional area minimum portion 213 is adopted as the width W O of the opening 21.

マスク2の具体的な厚さは、形成すべき金属膜14の厚さ等にもよるが、30〜200μmであるのが好ましく、50〜150μmであるのがより好ましい。
このようなマスク2は、例えば、板上の部材を用意し、これに、エッチング等の化学的処理を施したり、レーザー光等のエネルギー線の照射、旋盤処理等の機械的処理(物理的処理)を施したりする等して、開口部21を形成することにより得ることができる。
The specific thickness of the mask 2 depends on the thickness of the metal film 14 to be formed, etc., but is preferably 30 to 200 μm, and more preferably 50 to 150 μm.
Such a mask 2 is prepared, for example, by a member on a plate and subjected to chemical processing such as etching, irradiation of energy rays such as laser light, and mechanical processing (physical processing) such as lathe processing. ) Or the like to form the opening 21.

マスク2はいかなる材料で構成されたものであってもよく、マスク2の構成材料としては、各種金属材料、各種セラミックス材料、各種プラスチック材料等が挙げられる。中でも、マスク2の構成材料としては、金属材料が好ましい。マスク2が金属材料で構成されたものであると、マスク2の耐久性を特に優れたものとすることができる。その結果、装飾品1の生産性を特に優れたものとすることができるとともに、多数個の装飾品1において品質のばらつきを抑制することができ、装飾品1の信頼性が向上する。また、金属材料は、一般に、適度な弾性を有しており、形状の追従性が高いものが多く、基板12(製造すべき装飾品1)が平板状のものに限らず、湾曲板状等のものであっても、好適に適用することができる。また、1種類のマスク2を異なる形状の基板12(例えば、平板状の基板12、湾曲板状の基板12)に対しても、共通して利用することができる。   The mask 2 may be made of any material, and examples of the constituent material of the mask 2 include various metal materials, various ceramic materials, various plastic materials, and the like. Among these, a metal material is preferable as the constituent material of the mask 2. When the mask 2 is made of a metal material, the durability of the mask 2 can be made particularly excellent. As a result, the productivity of the decorative article 1 can be made particularly excellent, and variations in quality among a large number of the decorative articles 1 can be suppressed, and the reliability of the decorative article 1 is improved. In addition, metal materials generally have moderate elasticity, and many have high shape followability, and the substrate 12 (decoration 1 to be manufactured) is not limited to a flat plate, but a curved plate or the like. Even if it is a thing, it can apply suitably. Further, one type of mask 2 can be used in common for substrates 12 having different shapes (for example, a flat substrate 12 and a curved plate substrate 12).

特に、本実施形態では、マスク2として、磁性材料(常磁性、強磁性を有する材料)を含む材料で構成されたものを用いている。そして、基板12のマスク2に対向する面とは反対の面側には図示しない磁石が配されており、これにより、マスク2と、被膜としての金属膜14が形成されるべきワークとしての基板12(酸化物膜13で被覆された基板12)とを、確実に密着させることができる。その結果、基板12上において、目的以外の部位に金属膜14が形成されるのをより確実に防止することができ、最終的に得られる装飾品1の美的外観を確実に優れたものとすることができる。すなわち、製造される装飾品1の信頼性を特に優れたものとすることができる。   In particular, in the present embodiment, the mask 2 is made of a material including a magnetic material (a material having paramagnetism and ferromagnetism). A magnet (not shown) is disposed on the surface of the substrate 12 opposite to the surface facing the mask 2, whereby the mask 2 and the substrate as a workpiece on which the metal film 14 as the coating is to be formed. 12 (the substrate 12 covered with the oxide film 13) can be reliably adhered. As a result, it is possible to more reliably prevent the metal film 14 from being formed on a portion other than the target on the substrate 12, and to make sure the aesthetic appearance of the finally obtained decorative article 1 is excellent. be able to. That is, the reliability of the manufactured decorative article 1 can be made particularly excellent.

磁石は、例えば、永久磁石であってもよいし、電磁石であってもよい。
上記のように、本実施形態において、マスク2は、磁性材料を含む材料で構成されたものであるが、マスク2は、例えば、実質的に磁性材料のみで構成されるものであってもよいし、他の成分を含むものであってもよい。
また、マスク2は、図示しない表面層を有するものであってもよい。これにより、例えば、マスク2の耐久性を特に優れたものとすることができたり、気相成膜時に、マスク2上に金属膜14の構成材料が強固に付着するのを効果的に防止することができる。このような表面層を構成する材料としては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、ダイヤモンド様炭素(DLC)等が挙げられる。
The magnet may be, for example, a permanent magnet or an electromagnet.
As described above, in the present embodiment, the mask 2 is composed of a material containing a magnetic material, but the mask 2 may be composed substantially of only a magnetic material, for example. However, it may contain other components.
The mask 2 may have a surface layer (not shown). Thereby, for example, the durability of the mask 2 can be made particularly excellent, and the constituent material of the metal film 14 can be effectively prevented from firmly adhering to the mask 2 during vapor deposition. be able to. Examples of the material constituting such a surface layer include fluorine resins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), silicone resins, diamond-like carbon (DLC), and the like.

また、マスク2は、基板12の凸部121に対応する部位に開口部21を有するものであればよく、例えば、基板12の凸部121に対応する部位以外の部位に開口部を有するものであってもよい。これにより、最終的に得られる装飾品1において、基板121の指標15が設けられた部位以外の部位において、所定のパターンの模様等を設けることができ、装飾品1の美的外観を更に優れたものとすることができる。   Moreover, the mask 2 should just have the opening part 21 in the site | part corresponding to the convex part 121 of the board | substrate 12, for example, has an opening part in parts other than the site | part corresponding to the convex part 121 of the board | substrate 12. There may be. Thereby, in the finally obtained ornament 1, a pattern having a predetermined pattern or the like can be provided in a portion other than the portion where the index 15 of the substrate 121 is provided, and the aesthetic appearance of the ornament 1 is further improved. Can be.

また、本工程を気相成膜により行う場合、気相成膜は、例えば、基板12の主面(金属膜14で被覆すべき主面)の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、金属膜14の構成材料で構成された気相成膜粒子(例えば、スパッタリングの場合はスパッタ粒子)を基板12上に入射させるように行ってもよい。これにより、凸部121全体を被覆するように、金属膜(被膜)14をより確実に形成することができる。   When this step is performed by vapor phase film formation, the vapor phase film formation is, for example, inclined by a predetermined angle θ with respect to the normal direction of the main surface of the substrate 12 (main surface to be covered with the metal film 14). From this direction, vapor deposition particles (for example, sputtering particles in the case of sputtering) made of the constituent material of the metal film 14 may be incident on the substrate 12. Thereby, the metal film (coating) 14 can be more reliably formed so as to cover the entire convex portion 121.

このような場合、気相成膜粒子の入射方向と基板12の主面の法線方向とでなす角度θは、特に限定されないが、1〜50°であるのが好ましく、3〜40°であるのがより好ましく、5〜30°であるのがさらに好ましい。角度θが前記範囲内の値であると、凸部121全体を被覆するように、金属膜(被膜)14をより確実に形成することができる。
また、気相成膜粒子は一方向からだけではなく、基板12に対し複数の方向から入射させるのが好ましい。これにより、好適な形状の金属膜14を、容易かつ確実に形成することができ、得られる装飾品1についての美的外観を特に優れたものとすることができる。また、装飾品1を、様々な方向から見た際における質感のばらつき等がより効果的に抑制されたものとして得ることができる。
In such a case, the angle θ formed by the incident direction of the vapor-phase film-forming particles and the normal direction of the main surface of the substrate 12 is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 °, preferably 3 to 40 °. More preferably, it is 5 to 30 °. When the angle θ is a value within the above range, the metal film (coating film) 14 can be more reliably formed so as to cover the entire convex portion 121.
Further, it is preferable that the vapor-phase film-forming particles are incident not only from one direction but also from a plurality of directions on the substrate 12. Thereby, the metal film 14 of a suitable shape can be formed easily and reliably, and the aesthetic appearance of the resulting decorative article 1 can be made particularly excellent. In addition, it is possible to obtain the decorative article 1 in which the variation in texture when viewed from various directions is more effectively suppressed.

複数の方向から気相成膜粒子を入射させる方法としては、例えば、複数の気相成膜用の材料である気相成膜源(ターゲット、蒸着源等)を用意し、これらを異なる部位に設置し、これら複数の気相成膜源から同時または順番に気相成膜粒子を発生させる方法も挙げられるが、例えば、基板12と気相成膜源とを相対的に移動(変位)させつつ、気相成膜源から気相成膜粒子を発生させる方法が挙げられる。基板12と気相成膜源とを相対的に移動(変位)させる方法としては、例えば、基板12を固定した状態で気相成膜源を移動(変位)させる方法、気相成膜源を固定した状態で基板12を移動(変位)させる方法、気相成膜源および基板12をともに移動(変位)させる方法が挙げられる。中でも、基板12を移動(変位)させる場合、気相成膜源を固定する従来の気相成膜装置をそのまま使用しやすいという効果が得られる。   As a method for injecting vapor-phase film-forming particles from a plurality of directions, for example, a plurality of vapor-phase film-formation sources (targets, vapor deposition sources, etc.), which are materials for vapor-phase film-formation, are prepared, There is also a method of installing and generating vapor deposition particles simultaneously or sequentially from the plurality of vapor deposition sources. For example, the substrate 12 and the vapor deposition source are relatively moved (displaced). On the other hand, there is a method of generating vapor-phase film-forming particles from a vapor-phase film-formation source. As a method of relatively moving (displacement) the substrate 12 and the vapor deposition source, for example, a method of moving (displacement) the vapor deposition source while the substrate 12 is fixed, Examples thereof include a method of moving (displacement) the substrate 12 in a fixed state, and a method of moving (displacement) both the vapor deposition source and the substrate 12. In particular, when the substrate 12 is moved (displaced), it is possible to obtain an effect that it is easy to use a conventional vapor deposition apparatus for fixing a vapor deposition source.

以下、基板12を移動(変位)させる方法について、図3を参照しつつ、より具体的に説明する。
図3に示す構成では、基板12の主面の法線と軸9の長手方向とのなす角が、所定の角度θを維持するように、基板12を、軸9上でこまのように回転させる構成になっている。言い換えると、図3に示す構成では、軸9の延長線が基板12の表面(入射面)に接触する部位における基板12の主面の法線が、軸9を中心とした円錐の周面を形成するように、基板12が回転する。このような構成であることにより、例えば、気相成膜粒子の入射方向に対して、基板12の主面の法線が角度θだけ傾斜した状態を維持しつつ、気相成膜粒子の入射方向を経時的に変化させることができる。これにより、好適な形状の金属膜14を、容易かつ確実に形成することができ、得られる装飾品1についての美的外観を特に優れたものとすることができる。また、装飾品1を、様々な方向から見た際における質感のばらつき等がより効果的に抑制されたものとして得ることができる。
Hereinafter, a method for moving (displacement) the substrate 12 will be described more specifically with reference to FIG.
In the configuration shown in FIG. 3, the substrate 12 is rotated on the shaft 9 so that the angle between the normal of the main surface of the substrate 12 and the longitudinal direction of the shaft 9 maintains a predetermined angle θ. It has a configuration to let you. In other words, in the configuration shown in FIG. 3, the normal of the main surface of the substrate 12 where the extension line of the shaft 9 is in contact with the surface (incident surface) of the substrate 12 is a conical circumferential surface about the shaft 9. The substrate 12 rotates to form. With such a configuration, for example, the incidence of the vapor-phase film-forming particles is maintained while the normal line of the main surface of the substrate 12 is inclined by the angle θ with respect to the incident direction of the vapor-phase film-formation particles. The direction can be changed over time. Thereby, the metal film 14 of a suitable shape can be formed easily and reliably, and the aesthetic appearance of the resulting decorative article 1 can be made particularly excellent. In addition, it is possible to obtain the decorative article 1 in which the variation in texture when viewed from various directions is more effectively suppressed.

角度θの値は、経時的に変化するものであってもよい。このように、角度θの値が経時的に変化する場合、その最大値が前述した範囲に含まれるものであるのが好ましい。また、例えば、気相成膜時に、角度θがゼロとなる時点が存在してもよい。
なお、角度θとしては、気相成膜源と金属膜を形成すべき基板とを結ぶ直線と、基板の法線とのなす角を採用することができる。
The value of the angle θ may change over time. Thus, when the value of the angle θ changes with time, it is preferable that the maximum value is included in the above-described range. Further, for example, there may be a time point when the angle θ becomes zero during vapor phase film formation.
As the angle θ, an angle formed by a straight line connecting a vapor deposition source and a substrate on which a metal film is to be formed and a normal line of the substrate can be employed.

[マスク除去工程]
次に、マスク2を除去する(1e)。これにより、基板12の酸化物膜13、金属膜13が被覆された側の面において、マスク2の開口部21に対応する部位は金属膜14で被覆された状態となり、それ以外の部位は酸化物膜13が露出した状態となる。
マスク2の除去は、酸化物膜13、金属膜14が設けられた基板12上から、マスク2を剥離することにより行うことができる。
このようにして、装飾品1が得られる。
[Mask removal process]
Next, the mask 2 is removed (1e). As a result, on the surface of the substrate 12 on the side coated with the oxide film 13 and the metal film 13, the portion corresponding to the opening 21 of the mask 2 is covered with the metal film 14, and the other portions are oxidized. The material film 13 is exposed.
The mask 2 can be removed by peeling the mask 2 from the substrate 12 provided with the oxide film 13 and the metal film 14.
In this way, the decorative article 1 is obtained.

<第2実施形態>
次に、本発明の装飾品、装飾品の製造方法の第2実施形態について説明する。
図4は、本発明の第2実施形態の装飾品を示す模式的な断面図、図5は、本発明の第2実施形態の装飾品の製造方法を示す模式的な断面図である。
以下、第2実施形態の装飾品および製造方法について、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the decorative article and the method for manufacturing the decorative article of the present invention will be described.
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a decorative article according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a schematic sectional view showing a method for manufacturing the decorative article according to the second embodiment of the present invention.
Hereinafter, the decorative article and the manufacturing method according to the second embodiment will be described with a focus on differences from the above-described embodiment, and description of similar matters will be omitted.

図4に示すように、本実施形態の装飾品1では、酸化物膜13が、金属膜14に対応する部位のみに設けられている。言い換えると、本実施形態の装飾品1では、酸化物膜13全体が、金属膜14により完全に被覆されている。
本実施形態のように、酸化物膜13が、金属膜14に対応する部位のみに設けられていると、例えば、酸化物膜13が有色の材料(特に、濃色の材料)で構成されたものであっても、酸化物膜13が装飾品1の外観に悪影響を及ぼすのを防止することができる。
As shown in FIG. 4, in the decorative article 1 of the present embodiment, the oxide film 13 is provided only at a portion corresponding to the metal film 14. In other words, in the decorative article 1 of this embodiment, the entire oxide film 13 is completely covered with the metal film 14.
When the oxide film 13 is provided only in a portion corresponding to the metal film 14 as in the present embodiment, for example, the oxide film 13 is made of a colored material (particularly, a dark material). Even if it is a thing, it can prevent the oxide film 13 having a bad influence on the external appearance of the ornament 1.

次に、本実施形態の装飾品1の製造方法について説明する。
図5は、本発明の第2実施形態の装飾品の製造方法を示す模式的な断面図である。
図5に示すように、本実施形態の装飾品の製造方法は、基板12を準備する基板準備工程(2a)と、基板12の表面に、基板12が有する凸部121に対応する部位に開口部21が設けられたマスク(気相成膜用マスク)2を配した状態で、気相成膜を行うことにより、凸部121上に酸化物膜13を形成する酸化物膜形成工程(2b、2c)と、酸化物膜13の表面(基板12上)に、マスク(気相成膜用マスク)2を配した状態で、気相成膜を行うことにより、凸部121上(酸化物膜13の表面)に金属膜14を形成する金属膜形成工程(被膜形成工程)(2d)と、マスク2を除去するマスク除去工程(2e)とを有する。すなわち、酸化物膜形成工程を、基板12の表面にマスク2を配した状態で行い、その後、引き続いて、金属膜形成工程を行う以外は、前述した第1実施形態と同様である。
Next, a method for manufacturing the decorative article 1 according to this embodiment will be described.
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a decorative article according to a second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 5, the decorative article manufacturing method according to the present embodiment includes a substrate preparation step (2 a) for preparing the substrate 12, and openings on the surface of the substrate 12 corresponding to the convex portions 121 included in the substrate 12. An oxide film forming step (2b) for forming the oxide film 13 on the convex portion 121 by performing vapor phase film formation in a state where the mask (vapor phase film formation mask) 2 provided with the portion 21 is disposed. 2c) and the surface of the oxide film 13 (on the substrate 12) with the mask (vapor phase film formation mask) 2 disposed on the surface of the oxide film 13, vapor phase film formation is performed on the convex portion 121 (oxide). A metal film forming step (film forming step) (2d) for forming the metal film 14 on the surface of the film 13 and a mask removing step (2e) for removing the mask 2 are provided. That is, the oxide film forming step is the same as that of the first embodiment described above except that the oxide film forming step is performed in a state where the mask 2 is arranged on the surface of the substrate 12 and the metal film forming step is subsequently performed.

このように、基板12の表面に配したマスク2を状態で、酸化物膜13および金属膜14を引き続いて形成することにより、酸化物膜13と金属膜14との位置ずれの発生を効果的に防止することができ、得られる装飾品1の美的外観を、より確実に優れたものとすることができる。また、酸化物膜13を被膜の一部として機能させることができる。すなわち、基板の凸部上に、酸化物膜と金属膜との積層体としての被膜を設けることができる。   In this way, by successively forming the oxide film 13 and the metal film 14 with the mask 2 disposed on the surface of the substrate 12 being generated, it is possible to effectively generate the positional deviation between the oxide film 13 and the metal film 14. Therefore, the aesthetic appearance of the resulting decorative article 1 can be more reliably improved. Further, the oxide film 13 can function as a part of the coating. That is, a film as a laminate of an oxide film and a metal film can be provided on the convex portion of the substrate.

<時計>
次に、上述したような本発明の装飾品を備えた本発明の時計について説明する。
本発明の時計は、上述したような本発明の装飾品を有するものである。なお、本発明の時計を構成する前記装飾品(本発明の装飾品)以外の部品としては、公知のものを用いることができるが、以下に、本発明の時計の構成の一例について説明する。
<Clock>
Next, the timepiece of the present invention provided with the decorative product of the present invention as described above will be described.
The timepiece of the present invention has the ornament of the present invention as described above. In addition, as a part other than the decorative article (the decorative article of the present invention) constituting the timepiece of the present invention, known parts can be used. Hereinafter, an example of the configuration of the timepiece of the present invention will be described.

図6は、本発明の時計(携帯時計)の好適な実施形態を示す模式的な部分断面図である。
図6に示すように、本実施形態の腕時計(携帯時計)100は、胴(ケース)72と、裏蓋73と、ベゼル(縁)74と、ガラス板(カバーガラス)75とを備えている。また、ケース72内には、前述したような本発明の装飾品としての時計用文字板1と、太陽電池88と、ムーブメント71とが収納されており、さらに、図示しない針(指針)等が収納されている。
FIG. 6 is a schematic partial sectional view showing a preferred embodiment of the timepiece (portable timepiece) of the present invention.
As shown in FIG. 6, a wristwatch (portable timepiece) 100 according to this embodiment includes a case (case) 72, a back cover 73, a bezel (edge) 74, and a glass plate (cover glass) 75. . Further, in the case 72, the timepiece dial plate 1, the solar battery 88, and the movement 71 as the ornaments of the present invention as described above are housed, and a hand (pointer) (not shown) or the like is further provided. It is stored.

ガラス板75は、通常、透明性の高い透明ガラスやサファイア等で構成されている。これにより、本発明の装飾品としての時計用文字板1の審美性を十分に発揮させることができるとともに、太陽電池88に十分な光量の光を入射させることができる。
ムーブメント71は、太陽電池88の起電力を利用して、指針を駆動する。
図6中では省略しているが、ムーブメント71内には、例えば、太陽電池88の起電力を貯蔵する電気二重層コンデンサー、リチウムイオン二次電池や、時間基準源として水晶振動子や、水晶振動子の発振周波数をもとに時計を駆動する駆動パルスを発生する半導体集積回路や、この駆動パルスを受けて輪列機構を1秒毎に指針を駆動するステップモーターや、ステップモーターの動きを指針に伝達する輪列機構等を備えている。
The glass plate 75 is usually made of transparent glass or sapphire having high transparency. Thereby, while being able to fully exhibit the aesthetics of the timepiece dial 1 as the ornament of the present invention, a sufficient amount of light can be incident on the solar cell 88.
The movement 71 uses the electromotive force of the solar cell 88 to drive the pointer.
Although omitted in FIG. 6, in the movement 71, for example, an electric double layer capacitor for storing the electromotive force of the solar cell 88, a lithium ion secondary battery, a crystal oscillator as a time reference source, a crystal vibration A semiconductor integrated circuit that generates a driving pulse that drives the clock based on the oscillation frequency of the child, a step motor that drives the wheel train mechanism every second in response to this driving pulse, and a movement of the step motor A train wheel mechanism for transmitting to the vehicle is provided.

また、ムーブメント71は、図示しない電波受信用のアンテナを備えている。そして、受信した電波を用いて時刻調整等を行う機能を有している。
太陽電池88は、光エネルギーを電気エネルギーに変換する機能を有する。そして、太陽電池88で変換された電気エネルギーは、ムーブメントの駆動等に利用される。
太陽電池88は、例えば、非単結晶シリコン薄膜にp型の不純物とn型の不純物とが選択的に導入され、さらにp型の非単結晶シリコン薄膜とn型の非単結晶シリコン薄膜との間に不純物濃度の低いi型の非単結晶シリコン薄膜を備えたpin構造を有している。
The movement 71 includes a radio wave receiving antenna (not shown). And it has the function to perform time adjustment etc. using the received electromagnetic wave.
The solar cell 88 has a function of converting light energy into electric energy. The electric energy converted by the solar battery 88 is used for driving the movement.
In the solar cell 88, for example, a p-type impurity and an n-type impurity are selectively introduced into a non-single-crystal silicon thin film, and a p-type non-single-crystal silicon thin film and an n-type non-single-crystal silicon thin film are used. It has a pin structure provided with an i-type non-single-crystal silicon thin film with a low impurity concentration in between.

胴72には巻真パイプ76が嵌入・固定され、この巻真パイプ76内にはりゅうず77の軸部771が回転可能に挿入されている。
胴72とベゼル74とは、プラスチックパッキン78により固定され、ベゼル74とガラス板75とはプラスチックパッキン79により固定されている。
また、胴72に対し裏蓋73が嵌合(または螺合)されており、これらの接合部(シール部)85には、リング状のゴムパッキン(裏蓋パッキン)84が圧縮状態で介挿されている。この構成によりシール部85が液密に封止され、防水機能が得られる。
A winding stem pipe 76 is fitted and fixed to the barrel 72, and a shaft 771 of a crown 77 is rotatably inserted into the winding stem pipe 76.
The body 72 and the bezel 74 are fixed by a plastic packing 78, and the bezel 74 and the glass plate 75 are fixed by a plastic packing 79.
Further, a back cover 73 is fitted (or screwed) to the barrel 72, and a ring-shaped rubber packing (back cover packing) 84 is inserted into the joint portion (seal portion) 85 in a compressed state. Has been. With this configuration, the seal portion 85 is sealed in a liquid-tight manner, and a waterproof function is obtained.

りゅうず77の軸部771の途中の外周には溝772が形成され、この溝772内にはリング状のゴムパッキン(りゅうずパッキン)83が嵌合されている。ゴムパッキン83は巻真パイプ76の内周面に密着し、該内周面と溝772の内面との間で圧縮される。この構成により、りゅうず77と巻真パイプ76との間が液密に封止され防水機能が得られる。なお、りゅうず77を回転操作したとき、ゴムパッキン83は軸部771と共に回転し、巻真パイプ76の内周面に密着しながら周方向に摺動する。   A groove 772 is formed in the outer periphery of the shaft 771 of the crown 77, and a ring-shaped rubber packing (crown packing) 83 is fitted in the groove 772. The rubber packing 83 is in close contact with the inner peripheral surface of the winding stem pipe 76 and is compressed between the inner peripheral surface and the inner surface of the groove 772. With this configuration, the space between the crown 77 and the winding stem pipe 76 is liquid-tightly sealed, and a waterproof function is obtained. When the crown 77 is rotated, the rubber packing 83 rotates together with the shaft portion 771 and slides in the circumferential direction while being in close contact with the inner peripheral surface of the winding stem pipe 76.

なお、上記の説明では、時計の一例として、腕時計(携帯時計)を挙げて説明したが、本発明は、腕時計以外の携帯時計、置時計、掛け時計等の他の種類の時計にも同様に適用することができる。
なお、上記の説明では、文字板として本発明の装飾品が適用されたものを用いるものとして説明したが、文字板以外の部品(装飾品)に本発明の装飾品が適用されてもよい。例えば、時計を構成する胴(ケース)、針等が本発明の装飾品で構成されたものであってもよい。また、時計を構成する複数の部品(装飾品)が本発明の装飾品で構成されたものであってもよい。
In the above description, a wristwatch (portable clock) is described as an example of a clock, but the present invention is similarly applied to other types of clocks such as a portable clock, a table clock, and a wall clock other than the wristwatch. be able to.
In the above description, the dial to which the ornament of the present invention is applied has been described. However, the ornament of the present invention may be applied to parts (decorations) other than the dial. For example, a case (case), hands, etc. constituting the timepiece may be constituted by the decorative article of the present invention. Further, a plurality of parts (decorative items) constituting the timepiece may be constituted by the ornamental items of the present invention.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の装飾品の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、被膜形成工程は、マスクとして磁性材料を含む材料で構成されたものを用い、基板のマスクに対向する面とは反対の面側に配された磁石により、マスクと、被膜が形成されるべきワークとを密着させた状態で行うものとして説明したが、被膜形成工程においては、磁石を用いなくてもよい。
As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these.
For example, in the method for manufacturing a decorative article of the present invention, an optional process can be added as necessary.
In the above-described embodiment, the film forming process uses a mask made of a material containing a magnetic material, and the mask is formed by a magnet disposed on the surface opposite to the surface facing the mask of the substrate. In the film forming process, a magnet need not be used. However, in the film forming process, the magnet is not used.

また、前述した実施形態では、マスクとして、断面積増大部を有するものとを用いるものとして説明したが、断面積増大部を有していないマスクを用いてもよい。
また、前述した実施形態では、基板と酸化物膜とが隣接し、酸化物膜と金属膜とが隣接するものとして説明したが、これらの間には、例えば、少なくとも1層の中間層があってもよい。
In the above-described embodiment, the mask having the cross-sectional area increasing portion is used as the mask. However, a mask having no cross-sectional area increasing portion may be used.
In the embodiment described above, the substrate and the oxide film are adjacent to each other, and the oxide film and the metal film are adjacent to each other. However, for example, there is at least one intermediate layer between them. May be.

また、前述した実施形態では、装飾品が、基板と、酸化物膜と、金属膜とを有するものとして説明したが、本発明の装飾品は、このような構成のものに限定されず、例えば、酸化物膜を有していないものであってもよい。
また、前述した実施形態では、被膜が主として金属材料で構成され、反射膜として機能するものとして説明したが、本発明において、被膜は、いかなる材料で構成されたものであってもよく、例えば、セラミックス材料、着色剤を含む樹脂材料等で構成されたものであってもよい。また、被膜は、反射膜として機能しないものであってもよい。
In the above-described embodiment, the decorative article has been described as having a substrate, an oxide film, and a metal film. However, the decorative article of the present invention is not limited to such a configuration, for example, The oxide film may not be provided.
In the above-described embodiment, the coating is mainly composed of a metal material and has been described as functioning as a reflective film. However, in the present invention, the coating may be composed of any material, for example, It may be composed of a ceramic material, a resin material containing a colorant, or the like. The coating may not function as a reflective film.

また、例えば、装飾品の外表面(被膜の外表面等)には、コート層が設けられていてもよい。これにより、例えば、光沢性、色調等を調整し、装飾品の美的外観をさらに優れたものにしたり、装飾品全体としての、耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐擦傷性、耐摩耗性、耐変色性等の各種特性を向上させたりすることができる。なお、このようなコート層は、例えば、装飾品の使用時等において除去されるものであってもよい。   Further, for example, a coat layer may be provided on the outer surface of the decorative article (such as the outer surface of the coating). As a result, for example, the glossiness, color tone, etc. are adjusted to further improve the aesthetic appearance of the decorative product, or the overall decorative product has corrosion resistance, weather resistance, water resistance, oil resistance, scratch resistance, abrasion resistance. Various properties such as color resistance and discoloration resistance can be improved. Such a coat layer may be removed, for example, when a decorative article is used.

次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.装飾品の製造
以下に示すような方法で、各実施例および各比較例について、100個ずつの装飾品(腕時計用外装部品(時計用文字板))を製造した。
(実施例1)
まず、白色顔料で着色したポリカーボネートを用いて、圧縮成形により、腕時計用外装部品(時計用文字板)の形状を有する基板を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。得られた基板は、略円盤状をなし、一方の面(主面)の指標が設けられるべき部位に、対応する形状の凸部を有するものであった。得られた基板は、その直径が27mmであり、凸部を除いた部位の厚さが0.5mmであった。また、凸部の高さは、いずれも、300μmであった。
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Manufacture of Decorative Items 100 decorative items (watch exterior parts (watch dials)) were manufactured for each Example and each Comparative Example by the method described below.
(Example 1)
First, a substrate having the shape of a wristwatch exterior part (watch dial) was prepared by compression molding using polycarbonate colored with a white pigment, and then necessary portions were cut and polished. The obtained substrate had a substantially disk shape, and had a convex portion of a corresponding shape at a portion where an index of one surface (main surface) was to be provided. The obtained substrate had a diameter of 27 mm, and the thickness of the portion excluding the convex portion was 0.5 mm. In addition, the height of each convex portion was 300 μm.

次に、この基板を洗浄した。基板の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行い、その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基板の凸部が設けられた側の表面に、TiOで構成される酸化物膜を、以下に説明するようなスパッタリングにより形成した(酸化物膜形成工程)。
Next, this substrate was cleaned. As the cleaning of the substrate, first, alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and cleaning with pure water for 10 seconds.
An oxide film composed of TiO 2 was formed by sputtering as described below on the surface of the substrate on which the convex portions of the substrate thus cleaned were provided (oxide film forming step).

まず、洗浄済みの基板をスパッタリング装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、スパッタリング装置内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
次に、アルゴン流量:40ml/分でアルゴンガスを導入するとともに、酸素流量:10ml/分で酸素を導入した。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、投入電力:1400W、処理時間:3.0分間という条件で放電を行うことにより、TiOで構成される酸化物膜を形成した。このようにして形成された酸化物膜の平均厚さは、0.01μmであった。
First, the cleaned substrate was mounted in a sputtering apparatus, and then the inside of the sputtering apparatus was exhausted (reduced pressure) to 3 × 10 −3 Pa while preheating the inside of the apparatus.
Next, while introducing argon gas at an argon flow rate: 40 ml / min, oxygen was introduced at an oxygen flow rate: 10 ml / min. In this state, Ti was used as a target, and discharge was performed under the conditions of input power: 1400 W and processing time: 3.0 minutes, whereby an oxide film composed of TiO 2 was formed. The average thickness of the oxide film thus formed was 0.01 μm.

引き続き、上記のようにして形成された酸化物膜の表面に、Agで構成される金属膜をスパッタリングにより形成した(金属膜形成工程(被膜形成工程))。
金属膜は、基板が有する凸部に対応する部位に開口部が設けられたマスクを、酸化物膜の表面に配した状態で、スパッタリングを行うことにより形成した。
マスクは、ステンレス鋼(SUS444)で構成されたものであり、その厚さは150μmであった。また、このマスクは、図2に示すように、基板に対向する第1の面側から反対側の第2の面側に向かって、その断面積が増大する断面積増大部が設けられたものであった。また、断面積増大部において開口部の断面積が最小となる断面積最小部での断面積S’[μm]と、開口部の断面積が最大となる断面積最大部での断面積S’[μm]との比率(S’/S’)は、0.70であった。また、マスクの開口部の幅W[μm]と、酸化物膜で被覆された凸部の幅W[μm]との差(W−W)は、10μmであった。
Subsequently, a metal film composed of Ag was formed on the surface of the oxide film formed as described above by sputtering (metal film formation step (film formation step)).
The metal film was formed by performing sputtering in a state where a mask provided with an opening in a portion corresponding to the convex portion of the substrate was disposed on the surface of the oxide film.
The mask was made of stainless steel (SUS444), and its thickness was 150 μm. In addition, as shown in FIG. 2, this mask is provided with a cross-sectional area increasing portion in which the cross-sectional area increases from the first surface facing the substrate toward the second surface on the opposite side. Met. Further, in the cross-sectional area increasing portion, the cross-sectional area S 0 ′ [μm 2 ] at the cross-sectional area minimum portion where the cross-sectional area of the opening is minimum and the cross-sectional area at the maximum cross-sectional area where the cross-sectional area of the opening is maximum. The ratio (S 0 ′ / S 1 ′) to S 1 ′ [μm 2 ] was 0.70. Further, the difference (W O −W C ) between the width W O [μm] of the opening of the mask and the width W C [μm] of the convex portion covered with the oxide film was 10 μm.

また、本工程は、基板のマスクに対向する面とは反対の面側に磁石を配し、この磁石により、酸化物膜が設けられた基板と、マスクとを密着させた状態で行った。
本工程でのスパッタリングは、以下のような条件で行った。
まず、装置内を3×10−3Paまで排気(減圧)し、その後、アルゴンガス流量:35ml/分でアルゴンガスを導入した。このような状態で、ターゲットとしてAgを用い、投入電力:1400W、処理時間:2.0分間という条件で放電を行うことにより、Agで構成される金属膜を形成した。このとき、図3に示すように、基板の主面の法線と軸の長手方向とのなす角が、15°を維持するように、基板を軸上でこまのように回転させることにより、基板の主面(金属膜で被覆すべき主面)の法線方向に対して15°(角度θ)だけ傾斜した方向から、金属膜の構成材料で構成された気相成膜粒子(スパッタ粒子)を基板上に入射させるようにした。このようにして形成された金属膜の平均厚さは、0.20μmであった。
次に、酸化物膜と金属膜とが設けられた基板を、スパッタリング装置内から取り出し、マスクを除去した(マスク除去工程)。これにより、図1に示すような装飾品を得た。
なお、凸部の高さ、酸化物膜、金属膜およびマスクの厚さは、JIS H 5821で規定される顕微鏡断面試験方法に従い測定した。
In addition, this step was performed in a state where a magnet was disposed on the surface of the substrate opposite to the surface facing the mask, and the substrate provided with the oxide film and the mask were in close contact with the magnet.
Sputtering in this step was performed under the following conditions.
First, the inside of the apparatus was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa, and then argon gas was introduced at an argon gas flow rate of 35 ml / min. In this state, Ag was used as a target, and discharge was performed under the conditions of input power: 1400 W and treatment time: 2.0 minutes, thereby forming a metal film composed of Ag. At this time, as shown in FIG. 3, the substrate is rotated on the shaft in such a manner that the angle formed between the normal line of the main surface of the substrate and the longitudinal direction of the shaft is maintained at 15 °. Vapor phase film-forming particles (sputtered particles) composed of the constituent material of the metal film from a direction inclined by 15 ° (angle θ) with respect to the normal direction of the main surface of the substrate (main surface to be coated with the metal film) ) On the substrate. The average thickness of the metal film thus formed was 0.20 μm.
Next, the substrate provided with the oxide film and the metal film was taken out from the sputtering apparatus, and the mask was removed (mask removal process). As a result, a decorative article as shown in FIG. 1 was obtained.
In addition, the height of the convex part, the thickness of the oxide film, the metal film, and the mask were measured according to a microscope cross-sectional test method defined in JIS H5821.

(実施例2〜7)
装飾品の製造に用いる基板の構成、マスクの構成を表1に示すようにするとともに、酸化物膜および金属膜が表1に示したような構成となるように各工程の処理条件を調整した以外は、前記実施例1と同様にして装飾品を製造した。
(実施例8)
金属膜形成工程において、基板の主面の垂線方向と、スパッタ粒子の進行方向がほぼ平行となるように、基板を固定した以外は、前記実施例4と同様にして装飾品を製造した。
(Examples 2 to 7)
The configuration of the substrate and the configuration of the mask used in the manufacture of the decorative product are as shown in Table 1, and the processing conditions of each process are adjusted so that the oxide film and the metal film have the configuration as shown in Table 1. Except for the above, an ornament was manufactured in the same manner as in Example 1.
(Example 8)
In the metal film forming step, a decorative article was manufactured in the same manner as in Example 4 except that the substrate was fixed so that the perpendicular direction of the main surface of the substrate and the traveling direction of the sputtered particles were substantially parallel.

(実施例9)
まず、前記実施例1と同様にして、洗浄した基板を用意した。
このようにして洗浄を行った基板の凸部が設けられた側の表面に、TiOで構成される酸化物膜を、スパッタリングにより形成した(酸化物膜形成工程)。
酸化物膜は、基板が有する凸部に対応する部位に開口部が設けられたマスクを、基板の表面(凸部が設けられた側の表面)に配した状態で、スパッタリングを行うことにより形成した。
Example 9
First, a cleaned substrate was prepared in the same manner as in Example 1.
An oxide film composed of TiO 2 was formed by sputtering on the surface of the substrate on which the convex portions of the substrate thus cleaned were provided (oxide film forming step).
The oxide film is formed by sputtering in a state where a mask having an opening provided in a portion corresponding to the convex portion of the substrate is arranged on the surface of the substrate (surface on the side where the convex portion is provided). did.

マスクは、ステンレス鋼(SUS444)で構成されたものであり、その厚さは150μmであった。また、このマスクは、図5に示すように、基板に対向する第1の面側から反対側の第2の面側に向かって、その断面積が増大する断面積増大部が設けられたものであった。また、マスクの開口部の幅W[μm]と、凸部の幅W[μm]との差(W−W)は、10μmであった。 The mask was made of stainless steel (SUS444), and its thickness was 150 μm. In addition, as shown in FIG. 5, this mask is provided with a cross-sectional area increasing portion in which the cross-sectional area increases from the first surface facing the substrate toward the second surface opposite to the substrate. Met. Further, the difference (W O −W C ) between the width W O [μm] of the opening of the mask and the width W C [μm] of the convex portion was 10 μm.

また、本工程は、基板のマスクに対向する面とは反対の面側に磁石を配し、この磁石により、基板と、マスクとを密着させた状態で行った。
スパッタリングは、以下に示すようにして行った。
まず、磁石によりマスクと密着させた状態で、洗浄済みの基板をスパッタリング装置内に取付け、その後、装置内を予熱しながら、スパッタリング装置内を3×10−3Paまで排気(減圧)した。
Moreover, this process was performed in the state which provided the magnet on the surface side opposite to the surface facing the mask of a board | substrate, and contact | adhered the board | substrate and the mask with this magnet.
Sputtering was performed as shown below.
First, the cleaned substrate was attached to the sputtering apparatus in a state of being in close contact with the mask with a magnet, and then the inside of the sputtering apparatus was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa while preheating the inside of the apparatus.

次に、アルゴン流量:40ml/分でアルゴンガスを導入するとともに、酸素流量:10ml/分で酸素を導入した。このような状態で、ターゲットとしてTiを用い、投入電力:1400W、処理時間:3.0分間という条件で放電を行うことにより、TiOで構成される酸化物膜を形成した。このとき、図3に示すように、基板の主面の法線と軸の長手方向とのなす角が、15°を維持するように、基板を軸上でこまのように回転させることにより、基板の主面(酸化物膜で被覆すべき主面)の法線方向に対して15°(角度θ)だけ傾斜した方向から、酸化物膜の構成材料で構成された気相成膜粒子(スパッタ粒子)を基板上に入射させるようにした。このようにして形成された酸化物膜の平均厚さは、0.01μmであった。 Next, while introducing argon gas at an argon flow rate: 40 ml / min, oxygen was introduced at an oxygen flow rate: 10 ml / min. In this state, Ti was used as a target, and discharge was performed under the conditions of input power: 1400 W and processing time: 3.0 minutes, whereby an oxide film composed of TiO 2 was formed. At this time, as shown in FIG. 3, the substrate is rotated on the shaft in such a manner that the angle formed between the normal line of the main surface of the substrate and the longitudinal direction of the shaft is maintained at 15 °. Vapor-phase film-forming particles composed of the constituent material of the oxide film (from the direction inclined by 15 ° (angle θ) with respect to the normal direction of the main surface of the substrate (main surface to be coated with the oxide film) ( Sputtered particles) were incident on the substrate. The average thickness of the oxide film thus formed was 0.01 μm.

引き続き、磁石により前記マスクを基板に密着させた状態で、上記のようにして形成された酸化物膜の表面に、Agで構成される金属膜をスパッタリングにより形成した(金属膜形成工程(被膜形成工程))。
本工程でのスパッタリングは、以下のような条件で行った。
まず、装置内を3×10−3Paまで排気(減圧)し、その後、アルゴンガス流量:35ml/分でアルゴンガスを導入した。このような状態で、ターゲットとしてAgを用い、投入電力:1400W、処理時間:2.0分間という条件で放電を行うことにより、Agで構成される金属膜を形成した。このとき、図3に示すように、基板の主面の法線と軸の長手方向とのなす角が、15°を維持するように、基板を軸上でこまのように回転させることにより、基板の主面(金属膜で被覆すべき主面)の法線方向に対して15°(角度θ)だけ傾斜した方向から、金属膜の構成材料で構成された気相成膜粒子(スパッタ粒子)を基板上に入射させるようにした。このようにして形成された金属膜の平均厚さは、0.20μmであった。
次に、酸化物膜と金属膜とが設けられた基板を、スパッタリング装置内から取り出し、マスクを除去した(マスク除去工程)。これにより、図4に示すような装飾品を得た。
なお、凸部の高さ、酸化物膜、金属膜およびマスクの厚さは、JIS H 5821で規定される顕微鏡断面試験方法に従い測定した。
Subsequently, a metal film composed of Ag was formed by sputtering on the surface of the oxide film formed as described above in a state where the mask was adhered to the substrate with a magnet (metal film formation step (film formation) Process)).
Sputtering in this step was performed under the following conditions.
First, the inside of the apparatus was evacuated (depressurized) to 3 × 10 −3 Pa, and then argon gas was introduced at an argon gas flow rate of 35 ml / min. In this state, Ag was used as a target, and discharge was performed under the conditions of input power: 1400 W and treatment time: 2.0 minutes, thereby forming a metal film composed of Ag. At this time, as shown in FIG. 3, the substrate is rotated on the shaft in such a manner that the angle formed between the normal line of the main surface of the substrate and the longitudinal direction of the shaft is maintained at 15 °. Vapor phase film-forming particles (sputtered particles) composed of the constituent material of the metal film from a direction inclined by 15 ° (angle θ) with respect to the normal direction of the main surface of the substrate (main surface to be coated with the metal film) ) On the substrate. The average thickness of the metal film thus formed was 0.20 μm.
Next, the substrate provided with the oxide film and the metal film was taken out from the sputtering apparatus, and the mask was removed (mask removal process). As a result, a decorative article as shown in FIG. 4 was obtained.
In addition, the height of the convex part, the thickness of the oxide film, the metal film, and the mask were measured according to a microscope cross-sectional test method defined in JIS H5821.

(実施例10〜15)
装飾品の製造に用いる基板の構成、マスクの構成を表1に示すようにするとともに、酸化物膜および金属膜が表1に示したような構成となるように各工程の処理条件を調整した以外は、前記実施例9と同様にして装飾品を製造した。
(実施例16)
金属膜形成工程において、基板の主面の垂線方向と、スパッタ粒子の進行方向がほぼ平行となるように、基板を固定した以外は、前記実施例12と同様にして装飾品を製造した。
(Examples 10 to 15)
The configuration of the substrate and the configuration of the mask used in the manufacture of the decorative product are as shown in Table 1, and the processing conditions of each process are adjusted so that the oxide film and the metal film have the configuration as shown in Table 1. Except for the above, an ornament was manufactured in the same manner as in Example 9.
(Example 16)
In the metal film formation step, a decorative article was manufactured in the same manner as in Example 12 except that the substrate was fixed so that the perpendicular direction of the main surface of the substrate and the traveling direction of the sputtered particles were substantially parallel.

(比較例1)
まず、前記実施例1で用いたのと同一の組成を有する材料(白色顔料で着色したポリカーボネート)を用いて、圧縮成形により、腕時計用外装部品(時計用文字板)の形状を有する基板を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。得られた基板は、略円盤状をなすものであり、表面が平滑なものであった。すなわち、前記実施例1で用いた基板のような凹凸を有さないものであった。得られた基板は、その直径が27mmであり、厚さが0.5mmであった。
(Comparative Example 1)
First, using a material having the same composition as that used in Example 1 (polycarbonate colored with a white pigment), a substrate having the shape of a wristwatch exterior part (watch dial) is produced by compression molding. After that, necessary portions were cut and polished. The obtained substrate was substantially disk-shaped and had a smooth surface. That is, the substrate used in Example 1 did not have unevenness. The obtained substrate had a diameter of 27 mm and a thickness of 0.5 mm.

次に、この基板を洗浄した。基板の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行い、その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基板の表面に、印刷(タコ印刷)を施すことにより、前記実施例1で指標を設けた部位に対応する部位に指標を形成し、装飾品を得た。指標の形成には、Ag微粒子とアクリル系樹脂とメチルエチルケトンとを含むインク(分散液)を用いた。形成された指標の厚さは40μmであった。
Next, this substrate was cleaned. As the cleaning of the substrate, first, alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and cleaning with pure water for 10 seconds.
By performing printing (octopus printing) on the surface of the substrate thus cleaned, an index was formed at a site corresponding to the site where the index was provided in Example 1 to obtain a decorative article. For forming the index, an ink (dispersion) containing Ag fine particles, an acrylic resin, and methyl ethyl ketone was used. The thickness of the formed indicator was 40 μm.

(比較例2)
印刷を繰り返し行うことにより、指標の厚さを250μmとした以外は、前記比較例1と同様にして装飾品を製造した。
(比較例3)
まず、前記実施例1で用いたのと同一の組成を有する材料(白色顔料で着色したポリカーボネート)を用いて、圧縮成形により、腕時計用外装部品(時計用文字板)の形状を有する基板を作製し、その後、必要箇所を切削、研磨した。また、この際、前記実施例1で指標を設けた部位に対応する複数の部位について、それらの中心付近に、各々、直径150μmの開口部を形成した。得られた基板は、略円盤状をなすものであり、表面が平滑なものであった。すなわち、前記実施例1で用いた基板のような凹凸を有さないものであった。得られた基板は、その直径が27mmであり、厚さが0.5mmであった。
(Comparative Example 2)
By repeatedly performing printing, a decorative article was manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 except that the thickness of the index was 250 μm.
(Comparative Example 3)
First, using a material having the same composition as that used in Example 1 (polycarbonate colored with a white pigment), a substrate having the shape of a wristwatch exterior part (watch dial) is produced by compression molding. After that, necessary portions were cut and polished. At this time, openings having a diameter of 150 μm were formed in the vicinity of the centers of a plurality of portions corresponding to the portions provided with the index in Example 1. The obtained substrate was substantially disk-shaped and had a smooth surface. That is, the substrate used in Example 1 did not have unevenness. The obtained substrate had a diameter of 27 mm and a thickness of 0.5 mm.

次に、この基板を洗浄した。基板の洗浄としては、まず、アルカリ浸漬脱脂を30秒間行い、その後、中和を10秒間、水洗を10秒間、純水洗浄を10秒間行った。
このようにして洗浄を行った基板の開口部に、足部を有する植設材を取り付け、接着剤で固定することにより、前記実施例1で指標を設けた部位に対応する部位に指標を形成し、装飾品を得た。植設材としては、基板と同一の組成を有する材料で構成された基部に、酸化物膜、金属膜を、この順で被覆したものを用いた。なお、酸化物膜、金属膜については、前記実施例1と同様の条件で形成した。植設材の足部は、その太さが直径150μm、その長さが1.0mmであった。また、植設材の足部を除いた部位の高さは、100μmであった。
Next, this substrate was cleaned. As the cleaning of the substrate, first, alkaline immersion degreasing was performed for 30 seconds, then neutralization was performed for 10 seconds, washing with water for 10 seconds, and cleaning with pure water for 10 seconds.
By attaching a planting material having a foot to the opening of the substrate thus cleaned and fixing with an adhesive, an index is formed at a site corresponding to the site where the index was provided in Example 1 And got an ornament. As the planting material, a base made of a material having the same composition as that of the substrate was coated with an oxide film and a metal film in this order. The oxide film and the metal film were formed under the same conditions as in Example 1. The foot part of the planting material had a thickness of 150 μm and a length of 1.0 mm. Moreover, the height of the site | part except the leg part of the planting material was 100 micrometers.

(比較例4)
植設材の足部を除いた部位の高さを、300μmとした以外は、前記比較例3と同様にして装飾品を製造した。
各実施例および各比較例の装飾品の製造に用いたマスクの構成、金属膜形成時における基板の主面の垂線方向と、スパッタリング粒子の進行方向とのなす角θ、装飾品の構成等を表1にまとめて示す。なお、表中、ポリカーボネートをPCで示し、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)をABS、ポリエチレンテレフタレートをPETで示した。また、表中、金属膜の表面粗さRa(基板と対向する面とは反対側の面の表面粗さRa)等もあわせて示した。
(Comparative Example 4)
A decorative article was manufactured in the same manner as in Comparative Example 3 except that the height of the portion excluding the foot portion of the planting material was set to 300 μm.
The configuration of the mask used in the manufacture of the ornaments of each example and each comparative example, the angle θ formed by the perpendicular direction of the main surface of the substrate when forming the metal film and the traveling direction of the sputtered particles, the configuration of the ornament, etc. Table 1 summarizes the results. In the table, polycarbonate is represented by PC, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin) is represented by ABS, and polyethylene terephthalate is represented by PET. In the table, the surface roughness Ra of the metal film (surface roughness Ra of the surface opposite to the surface facing the substrate) is also shown.

Figure 2008150660
Figure 2008150660

2.装飾品の外観評価
2−1.立体感評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、目視による観察を行い、これらの立体感を以下の5段階の基準に従い、評価した。
◎◎:極めて優良。
◎:優良。
○:良。
△:やや不良。
×:不良。
2. Appearance evaluation of ornaments 2-1. Evaluation of stereoscopic effect Each decorative product manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples was visually observed, and these stereoscopic effects were evaluated according to the following five-stage criteria.
A: Extremely excellent.
A: Excellent.
○: Good.
Δ: Slightly poor
X: Defect.

2−2.外観総合評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、目視および顕微鏡による観察を行い、これらの外観を以下の5段階の基準に従い、評価した。
◎◎:極めて優良。
◎:優良。
○:良。
△:やや不良。
×:不良。
2-2. Comprehensive Appearance Evaluation Each decorative product manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples was visually and microscopically observed, and their appearance was evaluated according to the following five criteria.
A: Extremely excellent.
A: Excellent.
○: Good.
Δ: Slightly poor
X: Defect.

3.耐久性評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、以下に示すような3種の試験を行い、装飾品の耐久性を評価した。
3−1.落下試験による評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、高さ3mから、ステンレス鋼製の厚さ10cmのブロック上に、50回繰り返し落下させた後の、時計用文字板の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の4段階の基準に従い、評価した。
◎:指標の損傷(ゆがみ、浮き、割れ、剥離等)が全く認められない。
○:指標の損傷(ゆがみ、浮き、割れ、剥離等)がほとんど認められない。
△:指標の損傷(ゆがみ、浮き、割れ、剥離等)がわずかに認められる。
×:指標の損傷(ゆがみ、浮き、割れ、剥離等)が顕著に認められる。
3. Durability Evaluation For each decorative article manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples, the following three types of tests were performed to evaluate the durability of the decorative article.
3-1. Evaluation by drop test Each of the ornaments manufactured in each of the above examples and comparative examples is a watch dial after being repeatedly dropped 50 times onto a 10 cm thick block made of stainless steel from a height of 3 m. The appearances of were visually observed, and these appearances were evaluated according to the following four criteria.
A: No damage (distortion, floating, cracking, peeling, etc.) of the index is observed at all.
○: Index damage (distortion, floating, cracking, peeling, etc.) is hardly observed.
(Triangle | delta): The damage (a distortion, a float, a crack, peeling, etc.) of a parameter | index is recognized slightly.
X: Index damage (distortion, floating, cracking, peeling, etc.) is noticeable.

3−2.折り曲げ試験による評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品について、直径4mmの鉄製の棒材を支点とし、装飾品の中心を基準に30°の折り曲げを行った後、装飾品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の4段階の基準に従い、評価した。折り曲げは、圧縮/引っ張りの両方向について行った。
◎:指標(被膜、植設材、塗料)の浮き、剥がれ等が全く認められない。
○:指標(被膜、植設材、塗料)の浮きがほとんど認められない。
△:指標(被膜、植設材、塗料)の浮きがはっきりと認められる。
×:指標(被膜、植設材、塗料)のひび割れ、剥離がはっきりと認められる。
3-2. Evaluation by Bending Test For each of the ornaments manufactured in each of the above examples and comparative examples, after bending at 30 ° with respect to the center of the ornament as a fulcrum with an iron bar having a diameter of 4 mm as a fulcrum, The appearance was visually observed, and the appearance was evaluated according to the following four-stage criteria. Bending was performed in both compression / tension directions.
A: No lifting or peeling of the indicators (coating, planting material, paint) is observed.
○: Floating indicators (film, planting material, paint) are hardly observed.
(Triangle | delta): The lift of a parameter | index (a film, a planting material, a paint) is recognized clearly.
X: Cracks and peeling of the indicators (coating, planting material, paint) are clearly recognized.

3−3.熱サイクル試験による評価
前記各実施例および各比較例で製造した各装飾品を、以下のような熱サイクル試験に供した。
まず、装飾品を、20℃の環境下に1.5時間、次いで、60℃の環境下に2時間、次いで、20℃の環境下に1.5時間、次いで、−20℃の環境下に3時間静置した。その後、再び、環境温度を20℃に戻し、これを1サイクル(8時間)とし、このサイクルを合計3回繰り返した(合計24時間)。
3-3. Evaluation by Thermal Cycle Test Each decorative article manufactured in each of the above Examples and Comparative Examples was subjected to the following thermal cycle test.
First, the decorative article is placed in a 20 ° C. environment for 1.5 hours, then in a 60 ° C. environment for 2 hours, then in a 20 ° C. environment for 1.5 hours, and then in a −20 ° C. environment. It was left for 3 hours. Thereafter, the environmental temperature was returned again to 20 ° C., which was set as one cycle (8 hours), and this cycle was repeated three times in total (24 hours in total).

その後、装飾品の外観を目視により観察し、これらの外観を以下の4段階の基準に従い、評価した。
◎:指標(被膜、植設材、塗料)の浮き、剥がれ等が全く認められない。
○:指標(被膜、植設材、塗料)の浮きがほとんど認められない。
△:指標(被膜、植設材、塗料)の浮きがはっきりと認められる。
×:指標(被膜、植設材、塗料)のひび割れ、剥離がはっきりと認められる。
これらの結果を表2に示す。
Then, the external appearance of the ornament was visually observed, and the external appearance was evaluated according to the following four criteria.
A: No lifting or peeling of the indicators (coating, planting material, paint) is observed.
○: Floating indicators (film, planting material, paint) are hardly observed.
(Triangle | delta): The lift of a parameter | index (a film, a planting material, a paint) is recognized clearly.
X: Cracks and peeling of the indicators (coating, planting material, paint) are clearly recognized.
These results are shown in Table 2.

Figure 2008150660
Figure 2008150660

表2から明らかなように、本発明の装飾品は、いずれも、立体感のある優れた美的外観を有するとともに、耐久性にも優れていた。
これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。すなわち、印刷により指標を形成した比較例1、2では立体感を十分にはっきさせることができなかった。また、立体感を向上させる目的で、印刷を繰り返し行った比較例2では、印刷層に重ねたインクの一部が基板の表面に流れ落ちてしまい、いわゆるダレを生じた状態となり、形成された指標は不鮮明なものとなっていた。また、植設材を用いて指標の形成を行った比較例3、4では、指標の密着性が劣っており、十分な耐久性を有していなかった。また、立体感を向上させる目的で、植設材の高さを高くした比較例4の装飾品は、耐久性が特に低いものであった。
また、各実施例および各比較例で得られた文字板(装飾品)を用いて、図6に示すような時計を組み立てた。このようにして得られた各時計について、上記と同様の試験、評価を行ったところ、上記と同様の結果が得られた。
As is clear from Table 2, all the decorative articles of the present invention had an excellent aesthetic appearance with a three-dimensional effect and were also excellent in durability.
On the other hand, in the comparative example, a satisfactory result was not obtained. That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which the index was formed by printing, the three-dimensional effect could not be sufficiently clear. Further, in Comparative Example 2 in which printing was repeatedly performed for the purpose of improving the three-dimensional effect, a part of the ink superimposed on the printing layer flowed down to the surface of the substrate, resulting in a so-called sagging state, and the formed index Was unclear. Moreover, in Comparative Examples 3 and 4 in which the index was formed using the planting material, the adhesiveness of the index was inferior and did not have sufficient durability. Further, the decorative article of Comparative Example 4 in which the height of the planting material was increased for the purpose of improving the three-dimensional effect was particularly low in durability.
Moreover, the timepiece as shown in FIG. 6 was assembled using the dials (decorative items) obtained in the respective examples and comparative examples. Each timepiece thus obtained was tested and evaluated in the same manner as described above, and the same results as described above were obtained.

本発明の第1実施形態の装飾品を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the ornament of 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態の装飾品の製造方法を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the manufacturing method of the ornament of 1st Embodiment of this invention. 金属膜(被膜)を形成する際の気相成膜粒子の進行方向を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the advancing direction of the gaseous-phase film-forming particle | grains at the time of forming a metal film (coating). 本発明の第2実施形態の装飾品を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the ornament of 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態の装飾品の製造方法を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the manufacturing method of the ornament of 2nd Embodiment of this invention. 本発明の時計(携帯時計)の好適な実施形態を示す模式的な部分断面図である。It is a typical fragmentary sectional view showing a suitable embodiment of a timepiece (portable timepiece) of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…装飾品(時計用文字板) 12…基板 121…凸部 13…酸化物膜 14…金属膜(被膜) 15…指標 2…マスク(気相成膜用マスク) 21…開口部 211…傾斜面 212…断面積増大部 213…断面積最小部 214…断面積最大部 22…第1の面 23…第2の面 9…軸 71…ムーブメント 72…胴(ケース) 73…裏蓋 74…ベゼル(縁) 75…ガラス板(カバーガラス) 76…巻真パイプ 77…りゅうず 771…軸部 772…溝 78…プラスチックパッキン 79…プラスチックパッキン 83…ゴムパッキン(りゅうずパッキン) 84…ゴムパッキン(裏蓋パッキン) 85…接合部(シール部) 88…太陽電池 100…腕時計(携帯時計)   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Decorative article (Watch dial) 12 ... Substrate 121 ... Protruding part 13 ... Oxide film 14 ... Metal film (coating) 15 ... Index 2 ... Mask (gas phase film forming mask) 21 ... Opening 211 ... Inclination Surface 212 ... Cross-sectional area increasing portion 213 ... Cross-sectional area minimum portion 214 ... Cross-sectional area maximum portion 22 ... First surface 23 ... Second surface 9 ... Shaft 71 ... Movement 72 ... Body (case) 73 ... Back cover 74 ... Bezel (Rim) 75 ... Glass plate (cover glass) 76 ... Winding pipe 77 ... Crown 771 ... Shaft portion 772 ... Groove 78 ... Plastic packing 79 ... Plastic packing 83 ... Rubber packing (crown packing) 84 ... Rubber packing (back) Lid packing) 85 ... Joint (seal part) 88 ... Solar cell 100 ... Wristwatch (portable watch)

Claims (15)

少なくとも一方の面に凸部を有する基板を準備する基板準備工程と、
前記基板の前記凸部が設けられた面側に、前記凸部に対応する部位に開口部が設けられたマスクを配した状態で、気相成膜を行うことにより、前記凸部上に被膜を形成する被膜形成工程と、
前記マスクを除去するマスク除去工程とを有することを特徴とする装飾品の製造方法。
A substrate preparation step of preparing a substrate having a convex portion on at least one surface;
A film is formed on the convex portion by performing vapor phase film formation in a state where a mask having an opening is provided in a portion corresponding to the convex portion on the surface side of the substrate on which the convex portion is provided. A film forming step of forming
And a mask removing step for removing the mask.
前記凸部の高さは、100〜500μmである請求項1に記載の装飾品の製造方法。   The method for manufacturing a decorative article according to claim 1, wherein the height of the convex portion is 100 to 500 μm. 前記被膜の平均厚さは、0.005〜2.5μmである請求項1または2に記載の装飾品の製造方法。   The method for producing a decorative article according to claim 1 or 2, wherein an average thickness of the coating is 0.005 to 2.5 µm. 前記開口部は、前記マスクの前記基板に対向する面からその反対側の面に向かって、断面積が増大する断面積増大部を有するものである請求項1ないし3のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The decoration according to any one of claims 1 to 3, wherein the opening includes a cross-sectional area increasing portion in which a cross-sectional area increases from a surface facing the substrate of the mask toward an opposite surface thereof. Product manufacturing method. 前記被膜形成工程は、前記マスクとして磁性材料を含む材料で構成されたものを用い、前記基板の前記マスクに対向する面とは反対の面側に配された磁石により、前記マスクと、前記被膜が形成されるべきワークとを密着させた状態で行うものである請求項1ないし4のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   In the film forming step, the mask is made of a material containing a magnetic material, and the mask and the film are formed by a magnet disposed on a surface of the substrate opposite to the surface facing the mask. The method for manufacturing a decorative article according to any one of claims 1 to 4, wherein the method is performed in a state where the workpiece is to be in close contact with the workpiece to be formed. 前記被膜形成工程において、前記基板の主面の法線方向に対して所定の角度θだけ傾斜した方向から、前記被膜の構成材料で構成された気相成膜粒子を前記基板上に入射させる請求項1ないし5のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   In the coating film forming step, vapor-phase film-forming particles made of a constituent material of the coating film are incident on the substrate from a direction inclined by a predetermined angle θ with respect to the normal direction of the main surface of the substrate. Item 6. A method for producing a decorative article according to any one of Items 1 to 5. 前記気相成膜粒子を複数の方向から入射させる請求項6に記載の装飾品の製造方法。   The method for manufacturing a decorative article according to claim 6, wherein the vapor-phase film-forming particles are incident from a plurality of directions. 前記気相成膜粒子の入射方向を、経時的に変化させる請求項6または7に記載の装飾品の製造方法。   The method for manufacturing a decorative article according to claim 6 or 7, wherein an incident direction of the vapor-phase film-forming particles is changed with time. 前記気相成膜粒子の入射方向が、前記基板の主面の法線を中心に回転するように、前記気相成膜粒子の入射方向を変化させる請求項6ないし8のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The incident direction of the vapor-phase film-forming particles is changed so that the incident direction of the vapor-phase film-forming particles rotates around a normal line of the main surface of the substrate. A method for manufacturing ornaments. 前記角度θが、1〜50°である請求項6ないし9のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The method for manufacturing a decorative article according to any one of claims 6 to 9, wherein the angle θ is 1 to 50 °. 前記被膜は、少なくともその外表面付近が、主として金属材料で構成されたものである請求項1ないし10のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The method for producing a decorative article according to any one of claims 1 to 10, wherein at least the outer surface of the coating is mainly composed of a metal material. 前記基板上に、主として金属酸化物で構成された酸化物膜を形成する酸化物膜形成工程と、
前記酸化物膜上に、主として金属材料で構成された金属膜を形成する金属膜形成工程とを有する請求項1ないし11のいずれかに記載の装飾品の製造方法。
An oxide film forming step of forming an oxide film mainly composed of a metal oxide on the substrate;
The method for manufacturing a decorative article according to any one of claims 1 to 11, further comprising a metal film forming step of forming a metal film mainly composed of a metal material on the oxide film.
前記装飾品は、時計用文字板である請求項1ないし12のいずれかに記載の装飾品の製造方法。   The method for manufacturing a decorative product according to any one of claims 1 to 12, wherein the decorative product is a timepiece dial. 請求項1ないし13のいずれかに記載の方法を用いて製造したことを特徴とする装飾品。   A decorative article manufactured using the method according to any one of claims 1 to 13. 請求項14に記載の装飾品を備えたことを特徴とする時計。   A timepiece comprising the decorative article according to claim 14.
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