JP2008140400A - Electronic tag and its manufacturing method - Google Patents

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Michio Okamoto
道夫 岡本
Yuichi Morinaga
優一 森永
Yuji Ikeda
雄次 池田
Takeshi Saito
武志 齋藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To thin a noncontact type electronic tag, and to improve its reliability. <P>SOLUTION: An inlet 1 for the electronic tag is equipped with an antenna 3 comprising Cu foil stuck on one surface of a rectangular insulating film 2 comprising a polyimide resin film, and a semiconductor chip 5 connected to the antenna 3. A slit 7 whose one end reaches the fringe of the antenna 3 is formed approximately at the center of the antenna 3. Au bumps 9a, 9b and dummy Au bumps 9c, 9d constituting circuit terminals are formed on the main surface of the semiconductor chip 5, and the four Au bumps 9a, 9b, 9c and 9d are connected to a lead 10 formed integrally with the antenna 3. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、非接触型電子タグおよびその製造技術に関し、特に、電子タグの薄型化、高信頼化に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a non-contact type electronic tag and a manufacturing technique thereof, and more particularly, to a technique effective when applied to thinning and high reliability of an electronic tag.

非接触型の電子タグは、半導体チップ内のメモリ回路に所望のデータを記憶させ、マイクロ波を使ってこのデータを読み取るようにしたタグである。   A non-contact type electronic tag is a tag in which desired data is stored in a memory circuit in a semiconductor chip and this data is read using a microwave.

特開平10−13296号公報(特許文献1)には、この種の非接触型電子タグの一例が開示されている。この電子タグは、マイクロ波受信用のアンテナをリードフレームで構成し、このリードフレーム上に実装した半導体チップを樹脂封止した構成になっている。
特開平10−13296号公報
Japanese Patent Laid-Open No. 10-13296 (Patent Document 1) discloses an example of this type of non-contact type electronic tag. This electronic tag has a structure in which a microwave receiving antenna is constituted by a lead frame, and a semiconductor chip mounted on the lead frame is sealed with resin.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-13296

電子タグは、半導体チップ内のメモリ回路にデータを記憶させるため、バーコードを利用したタグなどに比べて大容量のデータを記憶できる利点がある。また、メモリ回路に記憶させたデータは、バーコードに記憶させたデータに比べて不正な改竄が困難であるという利点もある。   Since the electronic tag stores data in a memory circuit in the semiconductor chip, there is an advantage that a large amount of data can be stored as compared with a tag using a barcode. In addition, the data stored in the memory circuit has an advantage that unauthorized tampering is difficult as compared with the data stored in the barcode.

しかしながら、この種の電子タグは、バーコードを利用したタグなどに比べて構造が複雑であることから、その製造コストが高く、これが電子タグの普及を妨げる一因となっている。   However, since this type of electronic tag has a more complicated structure than a tag using a barcode or the like, its manufacturing cost is high, which is one factor hindering the spread of the electronic tag.

そこで、本発明者は、構造を単純化した安価な電子タグ用インレットの開発を進めている。このインレットは、リードフレームで構成したアンテナに半導体チップを実装し、アンテナと半導体チップをAuワイヤで電気的に接続すると共に、半導体チップとAuワイヤをポッティング樹脂で封止した構造になっている。   Accordingly, the present inventor has been developing an inexpensive electronic tag inlet having a simplified structure. This inlet has a structure in which a semiconductor chip is mounted on an antenna constituted by a lead frame, the antenna and the semiconductor chip are electrically connected by an Au wire, and the semiconductor chip and the Au wire are sealed with a potting resin.

しかしながら、上記インレットは、リードフレームで構成したアンテナと半導体チップをAuワイヤで接続しているため、半導体チップとAuワイヤをポッティング樹脂で封止すると、インレット全体の厚さが0.6mm前後まで厚くなってしまい、電子タグ用インレットに求められる薄型化を実現できないという問題や、アンテナ部の屈曲変形に対して十分な柔軟性が得られ難いという問題が生じている。   However, since the inlet connects the antenna composed of the lead frame and the semiconductor chip with an Au wire, if the semiconductor chip and the Au wire are sealed with potting resin, the thickness of the entire inlet increases to about 0.6 mm. As a result, there arises a problem that the thinning required for the inlet for the electronic tag cannot be realized and a problem that it is difficult to obtain sufficient flexibility against bending deformation of the antenna portion.

本発明の目的は、電子タグの薄型化、高信頼化を実現することができる技術を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique capable of realizing thinning and high reliability of an electronic tag.

本発明の他の目的は、薄型で柔軟性が高く、しかも低価格な電子タグを実現することができる技術を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a technology capable of realizing a low-priced electronic tag that is thin and highly flexible.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
(1)本発明の電子タグは、主面、前記主面と反対側の裏面、及び前記主面から前記裏面に達するデバイスホールを有する絶縁フィルムと、導体層から成り、主面、及び前記主面と反対側の裏面を有し、前記裏面が前記絶縁フィルムの前記主面と対向するように、前記絶縁フィルムの主面に貼り付けられたアンテナと、前記デバイスホールの内部に位置するように、前記アンテナの前記裏面に複数のバンプ電極を介して搭載された半導体チップと、前記半導体チップ、及び前記複数のバンプ電極を封止する樹脂とを含んでいる。
(2)本発明の電子タグの製造方法は、以下の工程を含んでいる。
(a)主面、前記主面と反対側の裏面、及び前記主面から前記裏面に達するデバイスホールを有する絶縁フィルムを準備する工程、
(b)導体層から成り、主面、前記主面と反対側の裏面、及び前記主面から前記裏面に達するスリットを有するアンテナを準備する工程、
(c)前記アンテナの前記裏面が前記絶縁フィルムの前記主面と対向するように、前記絶縁フィルムの主面に前記アンテナを貼り付ける工程、
(d)前記絶縁フィルムの前記裏面側から前記デバイスホールの内部に半導体チップを供給し、前記アンテナの前記裏面に複数のバンプ電極を介して前記半導体チップを搭載する工程、
(e)前記アンテナの前記主面側から前記アンテナの前記スリットを介して樹脂を供給し、前記半導体チップ、及び前記複数のバンプ電極を封止する工程。
Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
(1) The electronic tag of the present invention comprises a main surface, a back surface opposite to the main surface, an insulating film having a device hole reaching the back surface from the main surface, and a conductor layer. An antenna affixed to the main surface of the insulating film such that the back surface is opposite to the main surface of the insulating film, and is located inside the device hole. A semiconductor chip mounted on the back surface of the antenna via a plurality of bump electrodes, and a resin for sealing the semiconductor chip and the plurality of bump electrodes.
(2) The electronic tag manufacturing method of the present invention includes the following steps.
(A) preparing an insulating film having a main surface, a back surface opposite to the main surface, and a device hole reaching the back surface from the main surface;
(B) a step of preparing an antenna comprising a conductor layer and having a main surface, a back surface opposite to the main surface, and a slit reaching the back surface from the main surface;
(C) a step of attaching the antenna to the main surface of the insulating film such that the back surface of the antenna faces the main surface of the insulating film;
(D) supplying a semiconductor chip to the inside of the device hole from the back surface side of the insulating film, and mounting the semiconductor chip on the back surface of the antenna via a plurality of bump electrodes;
(E) A step of supplying a resin from the main surface side of the antenna through the slit of the antenna to seal the semiconductor chip and the plurality of bump electrodes.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

本発明の一態様によれば、薄型で曲げ強度が高い電子タグを低価格で実現することができる。   According to one embodiment of the present invention, a thin electronic tag with high bending strength can be realized at a low price.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Note that components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiment, and the repetitive description thereof will be omitted.

図1は、本実施形態の電子タグ用インレットを示す平面図(表面側)、図2は、図1の一部を拡大して示す平面図、図3は、本実施形態の電子タグ用インレットを示す側面図、図4は、本実施形態の電子タグ用インレットを示す平面図(裏面側)、図5は、図4の一部を拡大して示す平面図である。   FIG. 1 is a plan view (front side) showing an electronic tag inlet of this embodiment, FIG. 2 is a plan view showing a part of FIG. 1 in an enlarged manner, and FIG. 3 is an electronic tag inlet of this embodiment. FIG. 4 is a plan view (back side) showing the electronic tag inlet of the present embodiment, and FIG. 5 is an enlarged plan view showing a part of FIG.

本実施形態の電子タグ用インレット(以下、単にインレットという)1は、マイクロ波受信用のアンテナを備えた非接触型電子タグの主要部を構成するものである。このインレット1は、細長い長方形の絶縁フィルム2の一面に接着されたCu箔からなるアンテナ3と、表面および側面がポッティング樹脂4で封止された状態でアンテナ3に接続された半導体チップ5とを備えている。絶縁フィルム2の一面(アンテナ3が形成された面)には、アンテナ3や半導体チップ5を保護するためのカバーフィルム6が必要に応じてラミネートされる。   An electronic tag inlet (hereinafter simply referred to as an inlet) 1 of the present embodiment constitutes a main part of a non-contact type electronic tag provided with an antenna for receiving microwaves. The inlet 1 includes an antenna 3 made of a Cu foil adhered to one surface of an elongated rectangular insulating film 2 and a semiconductor chip 5 connected to the antenna 3 with the surface and side surfaces sealed with a potting resin 4. I have. A cover film 6 for protecting the antenna 3 and the semiconductor chip 5 is laminated on one surface of the insulating film 2 (surface on which the antenna 3 is formed) as necessary.

上記絶縁フィルム2の長辺方向に沿ったアンテナ3の長さは、例えば56mmであり、周波数2.45GHzのマイクロ波を効率よく受信できるように最適化されている。また、アンテナ3の幅は3mmであり、インレット1の小型化と強度の確保とが両立できるように最適化されている。   The length of the antenna 3 along the long side direction of the insulating film 2 is, for example, 56 mm, and is optimized so that microwaves with a frequency of 2.45 GHz can be received efficiently. Further, the width of the antenna 3 is 3 mm, and the antenna 3 is optimized so that both the downsizing of the inlet 1 and the securing of strength can be achieved.

アンテナ3のほぼ中央部には、その一端がアンテナ3の外縁に達する「L」字状のスリット7が形成されており、このスリット7の中途部には、ポッティング樹脂4で封止された半導体チップ5が実装されている。   An “L” -shaped slit 7 whose one end reaches the outer edge of the antenna 3 is formed at the substantially central portion of the antenna 3, and a semiconductor sealed with a potting resin 4 in the middle of the slit 7. Chip 5 is mounted.

図6および図7は、上記スリット7が形成されたアンテナ3の中央部付近を拡大して示す平面図であり、図6はインレット1の表面側、図7は裏面側をそれぞれ示している。なお、これらの図では、半導体チップ5を封止するポッティング樹脂4およびカバーフィルム6の図示は、省略してある。   6 and 7 are enlarged plan views showing the vicinity of the central portion of the antenna 3 in which the slit 7 is formed. FIG. 6 shows the front side of the inlet 1 and FIG. 7 shows the back side. In these drawings, illustration of the potting resin 4 and the cover film 6 for sealing the semiconductor chip 5 is omitted.

図示のように、スリット7の中途部には、絶縁フィルム2の一部を打ち抜いて形成したデバイスホール8が形成されており、前記半導体チップ5は、このデバイスホール8の中央部に配置されている。デバイスホール8の寸法は、例えば縦×横=0.8mm×0.8mmであり、半導体チップ5の寸法は、縦×横=0.48mm×0.48mmである。   As shown in the figure, a device hole 8 formed by punching out a part of the insulating film 2 is formed in the middle of the slit 7, and the semiconductor chip 5 is disposed at the center of the device hole 8. Yes. The size of the device hole 8 is, for example, length × width = 0.8 mm × 0.8 mm, and the size of the semiconductor chip 5 is length × width = 0.48 mm × 0.48 mm.

図6に示すように、半導体チップ5の主面上には、例えば4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dが形成されている。また、これらのAuバンプ9a、9b、9c、9dのそれぞれには、アンテナ3と一体に形成され、その一端がデバイスホール8の内側に延在するリード10が接続されている。   As shown in FIG. 6, on the main surface of the semiconductor chip 5, for example, four Au bumps 9a, 9b, 9c, 9d are formed. Each of the Au bumps 9 a, 9 b, 9 c, 9 d is connected to a lead 10 that is formed integrally with the antenna 3 and has one end extending inside the device hole 8.

上記4本のリード10のうち、2本のリード10は、スリット7によって2分割されたアンテナ3の一方からデバイスホール8の内側に延在し、半導体チップ5のAuバンプ9a、9cと電気的に接続されている。また、残り2本のリード10は、アンテナ3の他方からデバイスホール8の内側に延在し、半導体チップ5のAuバンプ9b、9dと電気的に接続されている。   Of the four leads 10, two leads 10 extend from one of the antennas 3 divided into two by the slit 7 to the inside of the device hole 8 and are electrically connected to the Au bumps 9 a and 9 c of the semiconductor chip 5. It is connected to the. The remaining two leads 10 extend from the other side of the antenna 3 to the inside of the device hole 8 and are electrically connected to the Au bumps 9 b and 9 d of the semiconductor chip 5.

図8は、上記半導体チップ5の主面に形成された4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dのレイアウトを示す平面図、図9は、Auバンプ9aの近傍の拡大断面図、図10は、Auバンプ9cの近傍の拡大断面図、図11は、半導体チップ5に形成された回路のブロック図である。   FIG. 8 is a plan view showing a layout of four Au bumps 9a, 9b, 9c, 9d formed on the main surface of the semiconductor chip 5, FIG. 9 is an enlarged sectional view in the vicinity of the Au bump 9a, and FIG. FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view in the vicinity of the Au bump 9 c, and FIG. 11 is a block diagram of a circuit formed on the semiconductor chip 5.

半導体チップ5は、厚さ=0.15mm程度の単結晶シリコン基板からなり、その主面には、図11に示すような整流・送信、クロック抽出、セレクタ、カウンタ、ROMなどからなる回路が形成されている。ROMは、128ビットの記憶容量を有しており、バーコードなどの記憶媒体に比べて大容量のデータを記憶することができる。また、ROMに記憶させたデータは、バーコードに記憶させたデータに比べて不正な改竄が困難であるという利点がある。   The semiconductor chip 5 is composed of a single crystal silicon substrate having a thickness of about 0.15 mm, and a circuit composed of rectification / transmission, clock extraction, selector, counter, ROM, etc. as shown in FIG. 11 is formed on the main surface. Has been. The ROM has a storage capacity of 128 bits and can store a large amount of data compared to a storage medium such as a barcode. In addition, the data stored in the ROM has an advantage that unauthorized tampering is difficult as compared with the data stored in the barcode.

上記回路が形成された半導体チップ5の主面上には、4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dが形成されている。これら4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dは、図8の二点鎖線で示す一対の仮想的な対角線上に位置し、かつこれらの対角線の交点(半導体チップ5の主面の中心)からの距離がほぼ等しくなるようにレイアウトされている。これらのAuバンプ9a、9b、9c、9dは、例えば周知の電解メッキ法を用いて形成されたもので、その高さは、例えば15μm程度である。   Four Au bumps 9a, 9b, 9c and 9d are formed on the main surface of the semiconductor chip 5 on which the circuit is formed. These four Au bumps 9a, 9b, 9c, 9d are located on a pair of virtual diagonal lines indicated by a two-dot chain line in FIG. 8, and the intersection of these diagonal lines (the center of the main surface of the semiconductor chip 5). It is laid out so that the distance from is almost equal. These Au bumps 9a, 9b, 9c, and 9d are formed using, for example, a well-known electrolytic plating method, and the height thereof is, for example, about 15 μm.

なお、これらAuバンプ9a、9b、9c、9dのレイアウトは、図8に示したレイアウトに限られるものではないが、チップ接続時の加重に対してバランスを取りやすいレイアウトであることが好ましく、例えば平面レイアウトにおいてAuバンプの接線によって形成される多角形が、チップの中心を囲む様に配置するのが好ましい。   The layout of these Au bumps 9a, 9b, 9c, and 9d is not limited to the layout shown in FIG. 8, but is preferably a layout that easily balances the weight at the time of chip connection. It is preferable that the polygon formed by the tangent line of the Au bump in the planar layout is arranged so as to surround the center of the chip.

上記4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dのうち、例えばAuバンプ9aは、前記図11に示す回路の入力端子を構成し、Auバンプ9bは、GND端子を構成している。また、残り2個のAuバンプ9c、9dは、上記回路には続されていないダミーのバンプを構成している。   Of the four Au bumps 9a, 9b, 9c, 9d, for example, the Au bump 9a constitutes an input terminal of the circuit shown in FIG. 11, and the Au bump 9b constitutes a GND terminal. The remaining two Au bumps 9c and 9d constitute dummy bumps not connected to the circuit.

図9に示すように、回路の入力端子を構成するAuバンプ9aは、半導体チップ5の主面を覆うパッシベーション膜20とポリイミド樹脂21とをエッチングして露出させた最上層メタル配線22の上に形成されている。また、Auバンプ9aと最上層メタル配線22との間には、両者の密着力を高めるためのバリアメタル膜23が形成されている。パッシベーション膜20は、例えば酸化シリコン膜と窒化シリコン膜との積層膜で構成され、最上層メタル配線22は、例えばAl合金膜で構成されている。また、バリアメタル膜23は、例えばAl合金膜に対する密着力が高いTi膜と、Auバンプ9aに対する密着力が高いPd膜との積層膜で構成されている。図示は省略するが、回路のGND端子を構成するAuバンプ9bと最上層メタル配線22との接続部も、上記と同様の構成になっている。一方、図10に示すように、ダミーのバンプを構成するAuバンプ9c(および9d)は、上記最上層メタル配線22と同一配線層に形成されたメタル層24に接続されているが、このメタル層24は、前記回路に接続されていない。   As shown in FIG. 9, the Au bump 9a constituting the input terminal of the circuit is formed on the uppermost metal wiring 22 exposed by etching the passivation film 20 covering the main surface of the semiconductor chip 5 and the polyimide resin 21. Is formed. In addition, a barrier metal film 23 is formed between the Au bump 9a and the uppermost metal wiring 22 to increase the adhesion between them. The passivation film 20 is composed of, for example, a laminated film of a silicon oxide film and a silicon nitride film, and the uppermost metal wiring 22 is composed of, for example, an Al alloy film. Further, the barrier metal film 23 is composed of a laminated film of, for example, a Ti film having a high adhesion to an Al alloy film and a Pd film having a high adhesion to the Au bump 9a. Although illustration is omitted, the connection part between the Au bump 9b and the uppermost metal wiring 22 constituting the GND terminal of the circuit has the same configuration as described above. On the other hand, as shown in FIG. 10, Au bumps 9c (and 9d) constituting dummy bumps are connected to a metal layer 24 formed in the same wiring layer as the uppermost metal wiring 22, but this metal Layer 24 is not connected to the circuit.

このように、本実施の形態のインレット1は、絶縁フィルム2の一面に形成したアンテナ3の一部に、その一端がアンテナ3の外縁に達するスリット7を設け、このスリット7によって2分割されたアンテナ3の一方に半導体チップ5の入力端子(Auバンプ9a)を接続し、他方に半導体チップ5のGND端子(Auバンプ9b)を接続する。この構成により、アンテナ3の実効的な長さを長くすることができるので、必要なアンテナ長を確保しつつ、インレット1の小型化を図ることができる。   As described above, the inlet 1 of the present embodiment is provided with a slit 7 having one end reaching the outer edge of the antenna 3 in a part of the antenna 3 formed on one surface of the insulating film 2, and divided into two by the slit 7. The input terminal (Au bump 9a) of the semiconductor chip 5 is connected to one side of the antenna 3, and the GND terminal (Au bump 9b) of the semiconductor chip 5 is connected to the other side. With this configuration, since the effective length of the antenna 3 can be increased, the inlet 1 can be reduced in size while ensuring the necessary antenna length.

また、本実施の形態のインレット1は、半導体チップ5の主面上に、回路の端子を構成するAuバンプ9a、9bとダミーのAuバンプ9c、9dとを設け、これら4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dをアンテナ3のリード10に接続する。この構成により、回路に接続された2個のAuバンプ9a、9bのみをリード10に接続する場合に比べて、Auバンプとリード10の実効的な接触面積が大きくなるので、Auバンプとリード10の接着強度、すなわち両者の接続信頼性が向上する。また、4個のAuバンプ9a、9b、9c、9dを図8に示したようなレイアウトで半導体チップ5の主面上に配置することにより、Auバンプ9a、9b、9c、9dにリード10を接続した際に、半導体チップ5が絶縁フィルム2に対して傾くことがない。これにより、半導体チップ5をポッティング樹脂4で確実に封止することができるので、インレット1の製造歩留まりが向上する。   Further, the inlet 1 of the present embodiment is provided with Au bumps 9a and 9b and dummy Au bumps 9c and 9d constituting circuit terminals on the main surface of the semiconductor chip 5, and these four Au bumps 9a. , 9b, 9c, 9d are connected to the lead 10 of the antenna 3. With this configuration, the effective contact area between the Au bump and the lead 10 becomes larger than when only the two Au bumps 9a and 9b connected to the circuit are connected to the lead 10, so that the Au bump and the lead 10 The adhesive strength, that is, the connection reliability between the two is improved. Further, by arranging the four Au bumps 9a, 9b, 9c, 9d on the main surface of the semiconductor chip 5 in the layout as shown in FIG. 8, the lead 10 is provided on the Au bumps 9a, 9b, 9c, 9d. The semiconductor chip 5 does not tilt with respect to the insulating film 2 when connected. Thereby, since the semiconductor chip 5 can be reliably sealed with the potting resin 4, the manufacturing yield of the inlet 1 is improved.

次に、上記のように構成されたインレット1の製造方法を図12〜図20を用いて説明する。   Next, the manufacturing method of the inlet 1 comprised as mentioned above is demonstrated using FIGS.

図12は、インレット1の製造に用いる絶縁フィルム2を示す平面図、図13は、図12の一部を拡大して示す平面図である。   FIG. 12 is a plan view showing the insulating film 2 used for manufacturing the inlet 1, and FIG. 13 is a plan view showing a part of FIG.

図に示すように、絶縁フィルム2は、リール25に巻き取られた状態でインレット1の製造工程に搬入される。この絶縁フィルム2の一面には、あらかじめ多数のアンテナ3が所定の間隔で形成されている。これらのアンテナ3を形成するには、例えば絶縁フィルム2の一面に厚さ18μm程度のCu箔を接着し、このCu箔をアンテナ3の形状にエッチングする。このとき、それぞれのアンテナ3に、前述したスリット7およびリード10を形成する。その後、リード10の表面にSn(錫)メッキを施す。絶縁フィルムおよびアンテナをさらに薄く形成するには、例えば厚さ38μm程度の絶縁フィルム表面に、第1のCu膜をスパッタリング法により形成し、前記第1のCu膜をシード層として電解メッキ法により、前記第1のCu膜よりも厚い第2のCu膜を形成し、これら第1および第2のCu膜をパターニングすればよい。   As shown in the drawing, the insulating film 2 is carried into the manufacturing process of the inlet 1 while being wound around the reel 25. A large number of antennas 3 are formed in advance on one surface of the insulating film 2 at a predetermined interval. In order to form these antennas 3, for example, a Cu foil having a thickness of about 18 μm is bonded to one surface of the insulating film 2, and this Cu foil is etched into the shape of the antenna 3. At this time, the above-described slit 7 and lead 10 are formed in each antenna 3. Thereafter, Sn (tin) plating is applied to the surface of the lead 10. In order to form the insulating film and the antenna further thinly, for example, a first Cu film is formed on the surface of the insulating film having a thickness of about 38 μm by a sputtering method, and the first Cu film is used as a seed layer by an electrolytic plating method. A second Cu film thicker than the first Cu film may be formed, and the first and second Cu films may be patterned.

上記絶縁フィルム2は、フィルムキャリアテープの規格に従ったもので、例えば幅50μmまたは70mm、厚さ75μmのポリイミド樹脂フィルムからなり、その一部には、前記図6、図7に示したデバイスホール8が形成されている。また、絶縁フィルム2の両側部には、絶縁フィルム2を搬送するためのスプロケットホール26が所定の間隔で形成されている。デバイスホール8およびスプロケットホール26は、絶縁フィルム2の一部をパンチで打ち抜くことによって形成される。   The insulating film 2 conforms to the standard of film carrier tape, and is made of, for example, a polyimide resin film having a width of 50 μm or 70 mm and a thickness of 75 μm, and a part of the device film shown in FIGS. 8 is formed. In addition, sprocket holes 26 for conveying the insulating film 2 are formed at both sides of the insulating film 2 at a predetermined interval. The device hole 8 and the sprocket hole 26 are formed by punching a part of the insulating film 2 with a punch.

次に、図14に示すように、ボンディングステージ31とボンディングツール32とを備えたインナーリードボンダ30にリール25を装着し、ボンディングステージ31の上面に沿って絶縁フィルム2を移動させながら、アンテナ3に半導体チップ5を接続する。   Next, as shown in FIG. 14, the reel 25 is mounted on the inner lead bonder 30 including the bonding stage 31 and the bonding tool 32, and the antenna 3 is moved while moving the insulating film 2 along the upper surface of the bonding stage 31. The semiconductor chip 5 is connected to.

アンテナ3に半導体チップ5を接続するには、図15(図14の要部拡大図)に示すように、100℃程度に加熱したボンディングステージ31の上に半導体チップ5を搭載し、この半導体チップ5の真上に絶縁フィルム2のデバイスホール8を位置決めした後、デバイスホール8の内側に突出したリード10の上面に400℃程度に加熱したボンディングツール32を押し当て、Auバンプ(9a〜9d)とリード10を接触させる。このとき、ボンディングツール32に所定の荷重を2秒程度印加することにより、リード10の表面に形成されたSnメッキとAuバンプ(9a〜9d)との界面にAu−Sn共晶合金層が形成され、Auバンプ(9a〜9d)とリード10が互いに接着する。   In order to connect the semiconductor chip 5 to the antenna 3, as shown in FIG. 15 (enlarged view of the main part of FIG. 14), the semiconductor chip 5 is mounted on a bonding stage 31 heated to about 100 ° C. After positioning the device hole 8 of the insulating film 2 directly above 5, the bonding tool 32 heated to about 400 ° C. is pressed against the upper surface of the lead 10 protruding inside the device hole 8, and Au bumps (9a to 9d) And lead 10 are brought into contact with each other. At this time, by applying a predetermined load to the bonding tool 32 for about 2 seconds, an Au—Sn eutectic alloy layer is formed at the interface between the Sn plating formed on the surface of the lead 10 and the Au bumps (9a to 9d). Then, the Au bumps (9a to 9d) and the lead 10 are bonded to each other.

次に、ボンディングステージ31の上に新たな半導体チップ5を搭載し、続いて絶縁フィルム2をアンテナ3の1ピッチ分だけ移動させた後、上記と同様の操作を行うことによって、この半導体チップ5をアンテナ3に接続する。以後、上記と同様の操作を繰り返すことによって、絶縁フィルム2に形成された全てのアンテナ3に半導体チップ5を接続する。半導体チップ5とアンテナ3の接続作業が完了した絶縁フィルム2は、リール25に巻き取られた状態で次の樹脂封止工程に搬送される。   Next, a new semiconductor chip 5 is mounted on the bonding stage 31. Subsequently, the insulating film 2 is moved by one pitch of the antenna 3, and then the same operation as described above is performed, whereby the semiconductor chip 5 Is connected to the antenna 3. Thereafter, the semiconductor chip 5 is connected to all the antennas 3 formed on the insulating film 2 by repeating the same operation as described above. The insulating film 2 for which the connection work between the semiconductor chip 5 and the antenna 3 has been completed is conveyed to the next resin sealing step while being wound around the reel 25.

なお、Auバンプ(9a〜9d)とリード10の接続信頼性を向上させるためには、図16に示すように、4本のリード10をアンテナ3の長辺方向と直交する方向に延在させた方がよい。図17に示すように、4本のリード10をアンテナ3の長辺方向と平行に延在させた場合は、完成したインレット1を折り曲げたときに、Auバンプ(9a〜9d)とリード10の接合部に強い引っ張り応力が働くので、両者の接続信頼性が低下する虞れがある。   In order to improve the connection reliability between the Au bumps (9a to 9d) and the lead 10, the four leads 10 are extended in a direction orthogonal to the long side direction of the antenna 3 as shown in FIG. Better. As shown in FIG. 17, when the four leads 10 are extended in parallel with the long side direction of the antenna 3, when the completed inlet 1 is bent, the Au bumps (9 a to 9 d) and the leads 10 are Since a strong tensile stress acts on the joint, there is a risk that the connection reliability between the two will be reduced.

半導体チップ5の樹脂封止工程では、図18および図19に示すように、デバイスホール8の内側に実装された半導体チップ5の上面および側面にディスペンサ33などを使ってポッティング樹脂4を供給し、その後、ポッティング樹脂4を加熱炉内でベークする。図示は省略するが、この樹脂封止工程においても、絶縁フィルム2を移動させながら、ポッティング樹脂4の供給およびベーク処理を行う。そして、樹脂封止作業が完了した絶縁フィルム2は、リール25に巻き取られた状態で次の検査工程に搬送され、半導体チップ5とアンテナ3の接続状態や外観の良否の検査が行われる。絶縁フィルム2に形成された多数のアンテナ3は、互いに電気的に分離された状態になっているので、個々のアンテナ3と半導体チップ5の導通試験は、容易に実施することができる。その後、絶縁フィルム2の一面(アンテナ3が形成された面)にカバーフィルム6(図3参照)をラミネートすることにより、インレット1の製造工程が完了する。   In the resin sealing process of the semiconductor chip 5, as shown in FIGS. 18 and 19, the potting resin 4 is supplied to the upper surface and the side surface of the semiconductor chip 5 mounted inside the device hole 8 using a dispenser 33, Thereafter, the potting resin 4 is baked in a heating furnace. Although illustration is omitted, also in this resin sealing step, the potting resin 4 is supplied and baked while the insulating film 2 is moved. Then, the insulating film 2 after the resin sealing operation is completed is transported to the next inspection process in a state of being wound on the reel 25, and the connection state and appearance quality of the semiconductor chip 5 and the antenna 3 are inspected. Since a large number of antennas 3 formed on the insulating film 2 are electrically separated from each other, the continuity test between the individual antennas 3 and the semiconductor chip 5 can be easily performed. Then, the manufacturing process of the inlet 1 is completed by laminating the cover film 6 (see FIG. 3) on one surface of the insulating film 2 (surface on which the antenna 3 is formed).

上記のようにして製造されたインレット1は、図20に示すように、リール25に巻き取られた状態で梱包され、顧客先に出荷される。   As shown in FIG. 20, the inlet 1 manufactured as described above is packed in a state of being wound around a reel 25 and shipped to a customer.

上記インレット1を購入した顧客は、絶縁フィルム2を切断することによって、前記図1〜図5に示すような個片化されたインレット1を得た後、このインレット1と他の部材とを組み合わせて電子タグを作製する。例えば図21は、インレット1の裏面に両面接着テープなどを貼り付けて電子タグを作製し、これを伝票34などの物品の表面に貼り付けた例を示している。   A customer who has purchased the inlet 1 cuts the insulating film 2 to obtain an individualized inlet 1 as shown in FIGS. 1 to 5, and then combines the inlet 1 with another member. To produce an electronic tag. For example, FIG. 21 shows an example in which a double-sided adhesive tape or the like is attached to the back surface of the inlet 1 to produce an electronic tag, which is attached to the surface of an article such as a slip 34.

上記した本実施の形態によれば、フレキシブルな絶縁フィルム2の一面に貼り付けた薄いCu箔によってアンテナ3を構成しているので、Cuを基材とするアンテナを有するインレットに比較して、薄型であり、かつ柔軟性に富むインレット1を実現することができる。また、アンテナ3と一体に形成されたリード10に半導体チップ5の端子(Auバンプ9a、9b)を直接接続しているので、ボンディングワイヤを使ってアンテナ3と半導体チップ5を接続する方式に比べると、ワイヤのループがない分、インレット1の厚さを薄くすることができる。   According to the above-described embodiment, since the antenna 3 is configured by the thin Cu foil attached to one surface of the flexible insulating film 2, it is thinner than an inlet having an antenna based on Cu. And the inlet 1 which is rich in flexibility can be realized. Further, since the terminals (Au bumps 9a and 9b) of the semiconductor chip 5 are directly connected to the leads 10 formed integrally with the antenna 3, the method is compared with a method in which the antenna 3 and the semiconductor chip 5 are connected using bonding wires. Then, the thickness of the inlet 1 can be reduced by the amount of no wire loop.

また、多数のアンテナ3を所定の間隔で形成した絶縁フィルム2を使用することにより、インレット1の製造、すなわちアンテナ3と半導体チップ5の接続、半導体チップ5の樹脂封止および検査とその後の出荷を一貫して行うことができる。   Further, by using the insulating film 2 in which a large number of antennas 3 are formed at predetermined intervals, the inlet 1 is manufactured, that is, the connection between the antenna 3 and the semiconductor chip 5, the resin sealing and inspection of the semiconductor chip 5, and the subsequent shipment. Can be done consistently.

また、半導体チップ5を絶縁フィルムのデバイスホール8内に配置し、デバイスホール8の内側でリード10と半導体チップ5の端子を接続しているので、リード10と端子の接続部の外観検査が容易であると共に、ポッティング樹脂4の充填によるリード10と端子の接続部の保護も容易である。   Further, since the semiconductor chip 5 is arranged in the device hole 8 of the insulating film and the lead 10 and the terminal of the semiconductor chip 5 are connected inside the device hole 8, the appearance inspection of the connecting portion between the lead 10 and the terminal is easy. In addition, it is easy to protect the connecting portion between the lead 10 and the terminal by filling the potting resin 4.

前記実施の形態では、デバイスホール8を形成した絶縁フィルム2を使用してインレット1を製造したが、例えば図22に示すように、デバイスホール8を有しない絶縁フィルム12の一面に前述した方法でアンテナ3およびリード10を一体形成し、このリード10に半導体チップ5の端子(Auバンプ9a、9b)を接続してもよい。この場合は、リード10と端子(Auバンプ9a、9b)を接続した後、図23に示すように、リード10と端子(Auバンプ9a、9b)の隙間にアンダーフィル樹脂13を充填する。   In the embodiment, the inlet 1 is manufactured using the insulating film 2 in which the device hole 8 is formed. For example, as shown in FIG. 22, the surface of the insulating film 12 that does not have the device hole 8 is formed by the method described above. The antenna 3 and the lead 10 may be integrally formed, and the terminals (Au bumps 9 a and 9 b) of the semiconductor chip 5 may be connected to the lead 10. In this case, after connecting the lead 10 and the terminal (Au bumps 9a, 9b), as shown in FIG. 23, the gap between the lead 10 and the terminal (Au bumps 9a, 9b) is filled with the underfill resin 13.

上記のような絶縁フィルム12を使用する場合は、デバイスホール8を形成した絶縁フィルム2を使用する場合に比べてリード10と端子(Auバンプ9a、9b)の接続を確実に行うことができるので、両者の接続信頼性が向上し、ダミーバンプ(9c、9d)を省略することも可能である。但し、絶縁フィルム12の裏面側からリード10と端子(Auバンプ9a、9b)の接続部を視認できないので、外観検査方法に工夫が必要となる。また、リード10と端子(Auバンプ9a、9b)の極めて狭い隙間にアンダーフィル樹脂13を確実に充填するための工夫が必要となる。   When the insulating film 12 as described above is used, the lead 10 and the terminals (Au bumps 9a and 9b) can be reliably connected as compared with the case where the insulating film 2 in which the device hole 8 is formed is used. The connection reliability between the two is improved, and the dummy bumps (9c, 9d) can be omitted. However, since the connection part of the lead 10 and the terminals (Au bumps 9a, 9b) cannot be visually recognized from the back surface side of the insulating film 12, a device is required for the appearance inspection method. In addition, a device for reliably filling the underfill resin 13 in a very narrow gap between the lead 10 and the terminals (Au bumps 9a and 9b) is required.

前記実施の形態では、ポリイミド樹脂からなる絶縁フィルム2に貼り付けたCu箔を使ってアンテナ3を構成したが、例えば絶縁フィルム2の一面に貼り付けたAl(アルミニウム)箔を使ってアンテナ3を構成したり、絶縁フィルム2をポリイミド樹脂よりも安価な樹脂(例えばポリエチレンテレフタレートなど)で構成したりすることにより、インレット1の材料コストを低減することができる。アンテナ3をAl箔で構成した場合、半導体チップ5のAuバンプ(9a〜9d)とアンテナ3との接続は、例えば超音波と加熱を併用したAu/Al接合の形成によって行うことが好ましい。   In the above-described embodiment, the antenna 3 is configured using the Cu foil attached to the insulating film 2 made of polyimide resin. For example, the antenna 3 is formed using an Al (aluminum) foil attached to one surface of the insulating film 2. The material cost of the inlet 1 can be reduced by configuring it or by configuring the insulating film 2 with a resin (for example, polyethylene terephthalate) cheaper than the polyimide resin. When the antenna 3 is made of an Al foil, the connection between the Au bumps (9a to 9d) of the semiconductor chip 5 and the antenna 3 is preferably performed, for example, by forming an Au / Al junction using both ultrasonic waves and heating.

本発明は、非接触型電子タグに適用することができる。   The present invention can be applied to a non-contact type electronic tag.

本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットを示す平面図(表面側)である。It is a top view (surface side) which shows the inlet for electronic tags which is one embodiment of the present invention. 図1の一部を拡大して示す平面図である。It is a top view which expands and shows a part of FIG. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットを示す側面図である。It is a side view which shows the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットを示す平面図(裏面側)である。It is a top view (back side) which shows the inlet for electronic tags which is one embodiment of the present invention. 図4の一部を拡大して示す平面図である。It is a top view which expands and shows a part of FIG. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの要部拡大平面図(表面側)である。It is a principal part enlarged plan view (surface side) of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの要部拡大平面図(裏面側)である。It is a principal part enlarged plan view (back side) of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットに実装された半導体チップの平面図である。It is a top view of the semiconductor chip mounted in the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 図8に示す半導体チップの主面に形成されたバンプ電極およびその近傍の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a bump electrode formed on the main surface of the semiconductor chip shown in FIG. 8 and its vicinity. 図8に示す半導体チップの主面に形成されたダミーバンプ電極およびその近傍の断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a dummy bump electrode formed on the main surface of the semiconductor chip shown in FIG. 8 and the vicinity thereof. 図8に示す半導体チップの主面に形成された回路のブロック図である。It is a block diagram of the circuit formed in the main surface of the semiconductor chip shown in FIG. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造に用いる長尺の絶縁フィルムの一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of elongate insulating film used for manufacture of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 図12に示す絶縁フィルムの一部を拡大して示す平面図である。It is a top view which expands and shows a part of insulating film shown in FIG. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップとアンテナの接続工程)を示すインナーリードボンダの概略図である。It is the schematic of the inner lead bonder which shows a part (semiconductor chip and antenna connection process) of the manufacturing process of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 図14に示すインナーリードボンダの要部を拡大して示す概略図である。It is the schematic which expands and shows the principal part of the inner lead bonder shown in FIG. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップとアンテナの接続工程)を示す絶縁フィルムの要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view of the insulating film which shows a part (semiconductor chip and antenna connection process) of the manufacturing process of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップとアンテナの接続工程)を示す絶縁フィルムの要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view of the insulating film which shows a part (semiconductor chip and antenna connection process) of the manufacturing process of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップの樹脂封止工程)を示す概略図である。It is the schematic which shows a part (resin sealing process of a semiconductor chip) of the manufacturing process of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップの樹脂封止工程)を示す絶縁フィルムの要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view of the insulating film which shows a part of manufacturing process of the inlet for electronic tags (resin sealing process of a semiconductor chip) which is one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットの製造に用いる絶縁フィルムをリールに巻き取った状態を示す側面図である。It is a side view which shows the state which wound up the insulating film used for manufacture of the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention on the reel. 本発明の一実施の形態である電子タグ用インレットを用いた電子タグの使用方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the usage method of the electronic tag using the inlet for electronic tags which is one embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップとアンテナの接続工程)を示す絶縁フィルムの要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the insulating film which shows a part (semiconductor chip and antenna connection process) of the manufacturing process of the inlet for electronic tags which is other embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態である電子タグ用インレットの製造工程の一部(半導体チップとアンテナの接続工程)を示す絶縁フィルムの要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view of the insulating film which shows a part (semiconductor chip and antenna connection process) of the manufacturing process of the inlet for electronic tags which is other embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 電子タグ用インレット
2 絶縁フィルム
3 アンテナ
4 ポッティング樹脂
5 半導体チップ
6 カバーフィルム
7 スリット
8 デバイスホール
9a、9b Auバンプ
9c、9d ダミーバンプ
10 リード
12 絶縁フィルム
13 アンダーフィル樹脂
20 パッシベーション膜
21 ポリイミド樹脂
22 最上層メタル配線
23 バリアメタル膜
24 メタル層
25 リール
26 スプロケットホール
30 インナーリードボンダ
31 ボンディングステージ
32 ボンディングツール
33 ディスペンサ
34 伝票
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inlet for electronic tags 2 Insulating film 3 Antenna 4 Potting resin 5 Semiconductor chip 6 Cover film 7 Slit 8 Device hole 9a, 9b Au bump 9c, 9d Dummy bump 10 Lead 12 Insulating film 13 Underfill resin 20 Passivation film 21 Polyimide resin 22 Most Upper metal wiring 23 Barrier metal film 24 Metal layer 25 Reel 26 Sprocket hole 30 Inner lead bonder 31 Bonding stage 32 Bonding tool 33 Dispenser 34 Voucher

Claims (6)

主面、前記主面と反対側の裏面、及び前記主面から前記裏面に達するデバイスホールを有する絶縁フィルムと、
導体層から成り、主面、及び前記主面と反対側の裏面を有し、前記裏面が前記絶縁フィルムの前記主面と対向するように、前記絶縁フィルムの主面に貼り付けられたアンテナと、
前記デバイスホールの内部に位置するように、前記アンテナの前記裏面に複数のバンプ電極を介して搭載された半導体チップと、
前記半導体チップ、及び前記複数のバンプ電極を封止する樹脂と、
を含むことを特徴とする電子タグ。
An insulating film having a main surface, a back surface opposite to the main surface, and a device hole reaching the back surface from the main surface;
An antenna made of a conductor layer, having a main surface and a back surface opposite to the main surface, the antenna being attached to the main surface of the insulating film such that the back surface faces the main surface of the insulating film; ,
A semiconductor chip mounted on the back surface of the antenna via a plurality of bump electrodes so as to be located inside the device hole;
A resin for sealing the semiconductor chip and the plurality of bump electrodes;
The electronic tag characterized by including.
前記アンテナは、前記アンテナと一体に形成され、前記デバイスホールの内部に延在する複数のリードを有し、
前記複数のバンプ電極は、前記アンテナの前記複数のリードとそれぞれ電気的に接続されていることを特徴とする請求項1記載の電子タグ。
The antenna is formed integrally with the antenna and has a plurality of leads extending inside the device hole;
The electronic tag according to claim 1, wherein the plurality of bump electrodes are electrically connected to the plurality of leads of the antenna, respectively.
前記アンテナは、スリットを有し、
前記アンテナは、前記スリットが前記絶縁フィルムの前記デバイスホールと平面的に重なるように、前記絶縁フィルムの前記主面に貼り付けられていることを特徴とする請求項1記載の電子タグ。
The antenna has a slit;
2. The electronic tag according to claim 1, wherein the antenna is attached to the main surface of the insulating film such that the slit overlaps the device hole of the insulating film in a planar manner.
以下の工程を含む電子タグの製造方法:
(a)主面、前記主面と反対側の裏面、及び前記主面から前記裏面に達するデバイスホールを有する絶縁フィルムを準備する工程、
(b)導体層から成り、主面、前記主面と反対側の裏面、及び前記主面から前記裏面に達するスリットを有するアンテナを準備する工程、
(c)前記アンテナの前記裏面が前記絶縁フィルムの前記主面と対向するように、前記絶縁フィルムの主面に前記アンテナを貼り付ける工程、
(d)前記絶縁フィルムの前記裏面側から前記デバイスホールの内部に半導体チップを供給し、前記アンテナの前記裏面に複数のバンプ電極を介して前記半導体チップを搭載する工程、
(e)前記アンテナの前記主面側から前記アンテナの前記スリットを介して樹脂を供給し、前記半導体チップ、及び前記複数のバンプ電極を封止する工程。
An electronic tag manufacturing method including the following steps:
(A) preparing an insulating film having a main surface, a back surface opposite to the main surface, and a device hole reaching the back surface from the main surface;
(B) a step of preparing an antenna comprising a conductor layer and having a main surface, a back surface opposite to the main surface, and a slit reaching the back surface from the main surface;
(C) a step of attaching the antenna to the main surface of the insulating film so that the back surface of the antenna faces the main surface of the insulating film;
(D) supplying a semiconductor chip to the inside of the device hole from the back surface side of the insulating film, and mounting the semiconductor chip on the back surface of the antenna via a plurality of bump electrodes;
(E) A step of supplying resin from the main surface side of the antenna through the slit of the antenna to seal the semiconductor chip and the plurality of bump electrodes.
前記アンテナは、前記アンテナと一体に形成され、前記デバイスホールの内部に延在する複数のリードを有し、
前記(d)工程では、前記アンテナの前記複数のリードと前記複数のバンプ電極をそれぞれ電気的に接続することを特徴とする請求項4記載の電子タグの製造方法。
The antenna is formed integrally with the antenna and has a plurality of leads extending inside the device hole;
5. The method of manufacturing an electronic tag according to claim 4, wherein in the step (d), the plurality of leads of the antenna and the plurality of bump electrodes are electrically connected to each other.
前記(c)工程では、前記アンテナを、前記スリットが前記絶縁フィルムの前記デバイスホールと平面的に重なるように、前記絶縁フィルムの前記主面に貼り付けることを特徴とする請求項4記載の電子タグの製造方法。   5. The electron according to claim 4, wherein, in the step (c), the antenna is attached to the main surface of the insulating film so that the slit is planarly overlapped with the device hole of the insulating film. Tag manufacturing method.
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