JP2008111011A - Coating liquid for forming hydrophilic membrane and method for forming hydrophilic membrane - Google Patents

Coating liquid for forming hydrophilic membrane and method for forming hydrophilic membrane Download PDF

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志織 青木
Keijiro Shigeru
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating liquid for forming a hydrophilic membrane, excellent in corrosion resistance and storing stability, and a method for forming the hydrophilic membrane having high hardness, easy cleaning property, soil-preventing property, hot water resistance, alkali resistance and acid resistance, and also excellent in long term durability. <P>SOLUTION: This coating liquid for forming the hydrophilic membrane contains a chelate compound of a zirconium alkoxide and/or the chelate compound of the partial hydrolyzate of the zirconium alkoxide, a silicon alkoxide and/or the partial hydrolyzate of the silicon alkoxide, and a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、親水性膜形成用塗布液及び親水性膜の形成方法に関し、特に、金属、無機物、有機物等からなる基材の表面を保護するとともに、この表面を汚れ難くする膜を形成することが可能な親水性膜形成用塗布液、及び、この膜を得るための親水性膜の形成方法に関するものである。   The present invention relates to a coating solution for forming a hydrophilic film and a method for forming a hydrophilic film, and in particular, to form a film that protects the surface of a substrate made of a metal, an inorganic material, an organic material, etc., and makes the surface difficult to get dirty. The present invention relates to a coating solution for forming a hydrophilic film capable of forming a hydrophilic film and a method for forming a hydrophilic film for obtaining this film.

従来、基材の表面を保護したり、この表面に汚れ等が付着し難くしたり等の目的のために、基材の表面に親水性被膜を形成する技術が広く利用されている。
この親水性被膜の形成方法としては、既に以下に示す様々な方法が提案されている。
(1) 界面活性剤を塗布する方法。
(2) 吸水性樹脂を塗布する方法。
(3) 親水性光触媒を塗布する方法。
(4) 琺瑯びきやセラミックス溶射により、酸化ケイ素等の無機化合物からなる膜を形成する方法。
(5) 親水性成分を含有する樹脂コーティング剤を塗布する方法。
Conventionally, a technique for forming a hydrophilic film on the surface of a base material has been widely used for the purpose of protecting the surface of the base material or making it difficult for dirt or the like to adhere to the surface.
As a method for forming this hydrophilic film, various methods described below have already been proposed.
(1) A method of applying a surfactant.
(2) A method of applying a water absorbent resin.
(3) A method of applying a hydrophilic photocatalyst.
(4) A method of forming a film made of an inorganic compound such as silicon oxide by repelling or ceramic spraying.
(5) A method of applying a resin coating agent containing a hydrophilic component.

しかしながら、これらの方法で形成された親水性被膜には、以下に示すようにアルカリ溶液、熱水、洗剤等に対する耐久性等について問題があった。
すなわち、上記の(1)の方法では、界面活性剤からなる親水性被膜が形成されるが、この界面活性剤は水溶性である。したがって、得られた親水性被膜も水や洗剤に溶解し易く、短期間に親水性の効果が消失するという問題があった。
また、(2)の方法では、吸水性樹脂からなる親水性被膜が形成されるが、この吸水性樹脂は酸性またはアルカリ性の洗剤により劣化し易い。したがって、得られた親水性被膜も洗剤に対する耐久性に劣るという問題があった。
また、(3)の方法では、光触媒からなる親水性被膜が形成されるが、光触媒は光エネルギーの下で触媒作用を示すものであるから、暗所では光触媒効果が十分に得られないという問題があった。
特に、親水性光触媒を用いる場合、この親水性光触媒を固定するためにシリカ系のバインダを用いる必要があるが、このシリカ系のバインダはアルカリ性や中性の洗剤により劣化し易いものであるから、シリカ系のバインダを含む親水性被膜は、洗剤に対する耐久性に劣るという問題があった。
However, the hydrophilic films formed by these methods have problems with respect to durability against alkaline solutions, hot water, detergents and the like as described below.
That is, in the above method (1), a hydrophilic film made of a surfactant is formed, but this surfactant is water-soluble. Therefore, the obtained hydrophilic film is easily dissolved in water or detergent, and there is a problem that the hydrophilic effect disappears in a short time.
In the method (2), a hydrophilic film made of a water-absorbing resin is formed. This water-absorbing resin is easily deteriorated by an acidic or alkaline detergent. Therefore, there was a problem that the obtained hydrophilic film was also inferior in durability against detergents.
In the method (3), a hydrophilic film made of a photocatalyst is formed. However, since the photocatalyst exhibits a catalytic action under light energy, the photocatalytic effect cannot be sufficiently obtained in a dark place. was there.
In particular, when using a hydrophilic photocatalyst, it is necessary to use a silica-based binder to fix the hydrophilic photocatalyst, but this silica-based binder is easily deteriorated by an alkaline or neutral detergent. The hydrophilic coating containing a silica-based binder has a problem that it has poor durability against detergents.

また、(4)の方法では、琺瑯びきやセラミックス溶射に適用できる材料が耐熱性材料に限定されてしまうという問題、及び、形成された親水性被膜は衝撃に弱いという問題があった。
特に、親水性被膜がシリカ膜であった場合、このシリカ膜は、熱水またはアルカリ性の洗剤により劣化し易く、したがって、この親水性被膜は洗剤に対する耐久性に劣るという問題があった。
また、(5)の方法では、親水性成分を含有する樹脂コーティング剤により親水性被膜が形成されるが、この樹脂コーティング剤は酸性またはアルカリ性の洗剤により劣化し易い。したがって、この親水性被膜は洗剤に対する耐久性に劣るという問題があった。
Further, the method (4) has a problem that a material applicable to squeezing and ceramic spraying is limited to a heat-resistant material, and a problem that the formed hydrophilic film is vulnerable to impact.
In particular, when the hydrophilic film is a silica film, the silica film is easily deteriorated by hot water or an alkaline detergent, and therefore, the hydrophilic film has a problem that the durability against the detergent is poor.
In the method (5), a hydrophilic film is formed by a resin coating agent containing a hydrophilic component, but this resin coating agent is easily deteriorated by an acidic or alkaline detergent. Therefore, this hydrophilic film has a problem of poor durability against detergents.

そこで、このような問題を解決するために、本発明者等は、次のような親水性膜の形成方法を提案した(特許文献1)。
この親水性膜の形成方法は、面状の基材に、ケイ素とジルコニウムから構成される複酸化物とアルカリ土金属と水、あるいはケイ素酸化物とジルコニウム酸化物との混合物とアルカリ土金属と水、を含有する皮膜を形成する第1の工程と、この皮膜にケイ酸塩水溶液を接触させる第2の工程とを有する方法である。
この方法の第1の工程では、皮膜を形成する塗料として、ケイ素化合物とジルコニウム化合物とアルカリ土金属と水とを含有する塗料が用いられる。この塗料では、貯蔵安定性を確保するために、ケイ素化合物及びジルコニウム化合物の反応を抑制する必要がある。そこで、塩酸、硝酸等の強酸を添加している。
この親水性膜の形成方法によれば、優れた親水性を有すると共に、酸性、中性、アルカリ性の各種洗剤や薬剤に対して優れた耐久性を有し、かつ高い硬度を有する親水性膜を形成することができる。
特開2005−281443号公報
Therefore, in order to solve such problems, the present inventors have proposed the following method for forming a hydrophilic film (Patent Document 1).
This hydrophilic film is formed by forming a planar substrate on a double oxide composed of silicon and zirconium and an alkaline earth metal and water, or a mixture of silicon oxide and zirconium oxide, alkaline earth metal and water. , And a second step of bringing a silicate aqueous solution into contact with the coating.
In the first step of this method, a paint containing a silicon compound, a zirconium compound, an alkaline earth metal, and water is used as a paint for forming a film. In this coating material, it is necessary to suppress the reaction of the silicon compound and the zirconium compound in order to ensure storage stability. Therefore, strong acids such as hydrochloric acid and nitric acid are added.
According to this method for forming a hydrophilic film, a hydrophilic film having excellent hydrophilicity, excellent durability against various acidic, neutral and alkaline detergents and chemicals and having high hardness is obtained. Can be formed.
JP 2005-281443 A

しかしながら、本発明者等が提案した親水性膜の形成方法においても、次のような問題点が残されていた。
すなわち、この方法で用いられる塗料は、塩酸、硝酸等の強酸を含有しているために、塗料自体が腐食性を有するものであるから、銅、鉄等の腐食され易い金属基材には用いることができないという問題点があった。
また、この塗料を適用した製造工程では、塗料の塗布工程及び乾燥工程に係わる製造設備や排気設備が塗料に含まれる強酸により腐食する等の問題点があった。
However, the following problems still remain in the hydrophilic film forming method proposed by the present inventors.
That is, since the paint used in this method contains a strong acid such as hydrochloric acid or nitric acid, the paint itself is corrosive, so it is used for metal substrates that are easily corroded such as copper and iron. There was a problem that it was not possible.
In addition, in the manufacturing process using this paint, there are problems such that the manufacturing equipment and exhaust equipment related to the coating and drying processes of the paint are corroded by strong acid contained in the paint.

また、この塗料は、強酸を添加すことによってケイ素化合物及びジルコニウム化合物の反応を抑制したものであるから、安定化されてはいるものの、この反応抑制効果は必ずしも十分ではない。例えば、この塗料を室温下で貯蔵(あるいは保管)した場合、塗料内でゲル化が進行する虞があり、この塗料の貯蔵時における安定性(貯蔵安定性)という観点からは不十分なものである。
この塗料の反応抑制効果を十分に発揮させるためには、冷蔵貯蔵あるいは冷凍貯蔵する必要があるが、この場合、貯蔵庫に冷蔵設備や冷凍設備を別途設ける必要があり、貯蔵に係わるコストが上昇するという新たな問題点が生じる。
In addition, since this paint suppresses the reaction between the silicon compound and the zirconium compound by adding a strong acid, the effect of suppressing the reaction is not always sufficient although it is stabilized. For example, when this paint is stored (or stored) at room temperature, there is a risk of gelation in the paint, which is insufficient from the viewpoint of stability (storage stability) during storage of this paint. is there.
In order to fully exhibit the reaction-suppressing effect of the paint, it is necessary to store in a refrigerator or a refrigerator. In this case, it is necessary to separately provide a refrigerator or a refrigerator in the storage, which increases the cost of storage. A new problem arises.

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、対象とする基材を制限する必要がなく、基材や製造設備の腐食を防止することができ、さらには貯蔵安定性に優れた親水性膜形成用塗布液、及び、高硬度、易洗浄性及び防汚性を有し、熱水への耐久性、アルカリ洗剤等のアルカリ性溶液への耐久性、及び酸洗剤等の酸性溶液への耐久性が高く、しかも長期耐久性に優れた親水性膜の形成方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is not necessary to limit the target base material, and can prevent corrosion of the base material and manufacturing equipment, and further storage stability. Excellent coating solution for forming a hydrophilic film, and has high hardness, easy washing and antifouling properties, durability to hot water, durability to alkaline solutions such as alkaline detergents, and acid detergents An object of the present invention is to provide a method for forming a hydrophilic film that has high durability to acidic solutions and excellent long-term durability.

本発明者等は、上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、親水性膜形成用塗布液の貯蔵安定性に大きな影響を与えているのがジルコニウムアルコキシドの加水分解反応であることを見出し、そこで、親水性膜形成用塗布液をジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、溶媒とにより構成すれば、貯蔵安定性に優れ、しかも基材や製造設備が腐食する虞がないことを見出し、また、この親水性膜形成用塗布液を用いれば、高硬度、易洗浄性及び防汚性を有し、熱水への耐久性、アルカリ洗剤等のアルカリ性溶液への耐久性、及び酸洗剤等の酸性溶液への耐久性が高く、しかも長期耐久性に優れた親水性膜を容易かつ安価に形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the hydrolysis reaction of zirconium alkoxide has a great influence on the storage stability of the coating solution for forming a hydrophilic film. Therefore, a coating solution for forming a hydrophilic film is composed of a chelate compound of zirconium alkoxide and / or a chelate compound of zirconium alkoxide partial hydrolyzate, silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate, and a solvent. For example, it has been found that it has excellent storage stability and there is no risk of corrosion of the base material and manufacturing equipment, and if this hydrophilic film-forming coating solution is used, it has high hardness, easy washing and antifouling properties. However, it has high durability against hot water, durability against alkaline solutions such as alkaline detergents, and durability against acidic solutions such as acid detergents. It found that it is possible to make excellent hydrophilic membrane durability easily and inexpensively formed, and completed the present invention.

すなわち、本発明の親水性膜形成用塗布液は、親水性を有する膜を形成するための塗布液であって、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、溶媒とを含有してなることを特徴とする。   That is, the hydrophilic film-forming coating solution of the present invention is a coating solution for forming a hydrophilic film, which is a zirconium alkoxide chelate compound and / or a zirconium alkoxide partial hydrolyzate chelate compound, and silicon It contains an alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate and a solvent.

前記ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物は、ジルコニウムアルコキシドと、エタノールアミン、β−ジケトン、β−ケト酸エステル及びカルボン酸の群から選択される1種または2種以上の化合物との反応生成物であることが好ましい。
前記ジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物は、ジルコニウムアルコキシド部分加水分解物と、エタノールアミン、β−ジケトン、β−ケト酸エステル及びカルボン酸の群から選択される1種または2種以上の化合物との反応生成物であることが好ましい。
The zirconium alkoxide chelate compound is a reaction product of zirconium alkoxide and one or more compounds selected from the group consisting of ethanolamine, β-diketone, β-keto acid ester and carboxylic acid. preferable.
The chelate compound of the zirconium alkoxide partial hydrolyzate includes a zirconium alkoxide partial hydrolyzate and one or more compounds selected from the group consisting of ethanolamine, β-diketone, β-keto acid ester, and carboxylic acid. The reaction product is preferably.

本発明の親水性膜の形成方法は、本発明の親水性膜形成用塗布液を基材の表面に塗布し熱処理することにより、膜を形成する第1の工程と、この膜の上にケイ酸塩を含む水溶液を塗布し熱処理する第2の工程と、を有することを特徴とする。   The hydrophilic film forming method of the present invention comprises a first step of forming a film by applying the hydrophilic film-forming coating solution of the present invention to the surface of a substrate and heat-treating it, and a silica film on the film. And a second step of applying and heat-treating an aqueous solution containing an acid salt.

本発明の親水性膜形成用塗布液によれば、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、溶媒とを含有したので、ジルコニウムアルコキシドの加水分解反応を抑制することができ、貯蔵安定性を向上させることができる。したがって、室温保管が可能になる。
また、酸を含有していないので、対象とする基材を制限する必要が無くなり、基材や製造設備の腐食を防止することができる。
According to the coating solution for forming a hydrophilic film of the present invention, it contains a chelate compound of zirconium alkoxide and / or a chelate compound of zirconium alkoxide partial hydrolyzate, silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate, and a solvent. Therefore, the hydrolysis reaction of zirconium alkoxide can be suppressed, and the storage stability can be improved. Therefore, room temperature storage becomes possible.
Moreover, since it does not contain an acid, it is not necessary to limit the target base material, and corrosion of the base material and manufacturing equipment can be prevented.

本発明の親水性膜の形成方法によれば、本発明の親水性膜形成用塗布液を基材の表面に塗布し熱処理することにより、膜を形成する第1の工程と、この膜の上にケイ酸塩を含む水溶液を塗布し熱処理する第2の工程と、を有するので、高硬度、易洗浄性及び防汚性を有し、熱水への耐久性、アルカリ洗剤等のアルカリ性溶液への耐久性、及び酸洗剤等の酸性溶液への耐久性が高く、しかも長期耐久性に優れた親水性膜を容易かつ安価に形成することができる。   According to the method for forming a hydrophilic film of the present invention, the hydrophilic film-forming coating solution of the present invention is applied to the surface of a substrate and heat-treated, thereby forming a film on the surface of the substrate. A second step of applying an aqueous solution containing a silicate to the substrate and heat-treating it, so that it has high hardness, easy washing and antifouling properties, durability to hot water, and alkaline solutions such as alkaline detergents It is possible to easily and inexpensively form a hydrophilic film having high durability and durability to acidic solutions such as acid detergents and excellent long-term durability.

本発明の親水性膜形成用塗布液及び親水性膜の形成方法を実施するための最良の形態について説明する。
なお、この形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
The best mode for carrying out the coating solution for forming a hydrophilic film and the method for forming a hydrophilic film of the present invention will be described.
This embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the present invention unless otherwise specified.

「親水性膜形成用塗布液」
本発明の親水性膜形成用塗布液は、親水性を有する膜を形成するための塗布液であり、ジルコニウム(Zr)成分であるジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と、ケイ素(Si)成分であるケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、溶媒とを含有してなる塗布液である。
この親水性膜は、基材の表面に形成される単層の親水性膜の他、基材の表面と最上層の膜との間に形成される親水性を有する下地層も含まれる。
"Coating liquid for hydrophilic film formation"
The coating liquid for forming a hydrophilic film according to the present invention is a coating liquid for forming a hydrophilic film, and is a chelate compound of zirconium alkoxide and / or a zirconium alkoxide partial hydrolyzate that is a zirconium (Zr) component. A coating liquid comprising a compound, a silicon alkoxide that is a silicon (Si) component and / or a silicon alkoxide partial hydrolyzate, and a solvent.
The hydrophilic film includes a single layer hydrophilic film formed on the surface of the base material and a hydrophilic underlayer formed between the surface of the base material and the uppermost film.

ここで、ジルコニウム(Zr)成分として、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物を用いた理由は、ジルコニウムアルコキシドおよび/またはその部分加水分解物が非常に加水分解し易く、空気中の水分に触れただけで直ちに加水分解を引き起こし、ゲル化してしまうからである。
そこで、本発明の親水性膜形成用塗布液では、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物を用いる。これにより、ジルコニウムアルコキシドおよび/またはその部分加水分解物の加水分解反応を抑制し、塗布液の初期の状態を長期に亘って保持する。よって、塗布液の貯蔵安定性が向上し、室温保管(貯蔵)も可能になる。
Here, as the zirconium (Zr) component, a zirconium alkoxide chelate compound and / or a zirconium alkoxide partial hydrolyzate chelate compound is used because the zirconium alkoxide and / or its partial hydrolyzate is very easily hydrolyzed. This is because just by touching moisture in the air, it immediately causes hydrolysis and gels.
Therefore, in the coating solution for forming a hydrophilic film of the present invention, a chelate compound of zirconium alkoxide and / or a chelate compound of partial hydrolyzate of zirconium alkoxide is used. Thereby, the hydrolysis reaction of zirconium alkoxide and / or its partial hydrolyzate is suppressed, and the initial state of the coating liquid is maintained for a long period of time. Therefore, the storage stability of the coating liquid is improved, and room temperature storage (storage) is also possible.

上記のジルコニウムアルコキシドのキレート化合物としては、ジルコニウムアルコキシドと、エタノールアミン、β−ジケトン、β−ケト酸エステル及びカルボン酸の群から選択される1種または2種以上の化合物からなる加水分解抑制剤との反応生成物であることが好ましい。
また、上記のジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物としては、ジルコニウムアルコキシド部分加水分解物と、エタノールアミン、β−ジケトン、β−ケト酸エステル及びカルボン酸の群から選択される1種または2種以上の化合物からなる加水分解抑制剤との反応生成物であることが好ましい。
As the above-mentioned chelate compound of zirconium alkoxide, zirconium alkoxide and a hydrolysis inhibitor comprising one or more compounds selected from the group consisting of ethanolamine, β-diketone, β-keto acid ester and carboxylic acid; The reaction product is preferably.
Moreover, as a chelate compound of said zirconium alkoxide partial hydrolyzate, 1 type or 2 types selected from the group of a zirconium alkoxide partial hydrolyzate, ethanolamine, (beta) -diketone, (beta) -keto acid ester, and carboxylic acid It is preferable that it is a reaction product with the hydrolysis inhibitor which consists of the above compound.

ここで、ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド等を例示することができる。
また、ジルコニウムアルコキシド部分加水分解物としては、例えば、ジルコニウムテトラプロポキシド部分加水分解物、ジルコニウムテトラブトキシド部分加水分解物等を例示することができる。
Here, examples of the zirconium alkoxide include zirconium tetrapropoxide and zirconium tetrabutoxide.
Moreover, as a zirconium alkoxide partial hydrolyzate, a zirconium tetrapropoxide partial hydrolyzate, a zirconium tetrabutoxide partial hydrolyzate, etc. can be illustrated, for example.

また、上記の加水分解抑制剤は、ジルコニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物とキレート化合物を形成し、このキレート化合物の加水分解を抑制する作用を有する化合物のことであり、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のエタノールアミン、アセチルアセトン等のβ−ジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、マロン酸ジエチル、フェノキシ酢酸エチル等のβ−ケト酸エステル、酢酸、乳酸、クエン酸、安息香酸、リンゴ酸等のカルボン酸等を例示することができる。   The hydrolysis inhibitor is a compound that forms a chelate compound with zirconium alkoxide and / or a zirconium alkoxide partial hydrolyzate, and has an action of suppressing hydrolysis of the chelate compound. For example, monoethanol Amine, diethanolamine, ethanolamine such as triethanolamine, β-diketone such as acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, diethyl malonate, ethyl phenoxyacetate, etc., acetic acid, lactic acid, citric acid, benzoic acid Examples thereof include carboxylic acids such as acid and malic acid.

この加水分解抑制剤の添加量は、ジルコニウムアルコキシドおよび/またはその部分加水分解物に含まれるジルコニウム(Zr)の0.5モル倍以上かつ4モル倍以下が好ましい。
この加水分解抑制剤の添加量が0.5モル倍より少ないと、親水性膜形成用塗布液の安定性が不十分なものとなるからであり、一方、添加量が4モル倍を超えると、この親水性膜形成用塗布液を塗布して得られた親水性塗膜を熱処理した後においても、加水分解抑制剤が膜中に残留し、その結果、膜の硬度が低下するからである。
The addition amount of the hydrolysis inhibitor is preferably 0.5 mol times or more and 4 mol times or less of zirconium (Zr) contained in zirconium alkoxide and / or a partial hydrolyzate thereof.
If the addition amount of the hydrolysis inhibitor is less than 0.5 mol times, the stability of the coating solution for forming a hydrophilic film will be insufficient. On the other hand, if the addition amount exceeds 4 mol times, This is because the hydrolysis inhibitor remains in the film even after the hydrophilic coating obtained by applying the hydrophilic film-forming coating solution is heat-treated, and as a result, the hardness of the film decreases. .

なお、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物としては、ジルコニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物を上記の溶媒に溶解し、さらに上記の加水分解抑制剤を添加し、得られた溶液中にてキレート化を生じさせたものであってもよい。   In addition, as the chelate compound of zirconium alkoxide and / or the zirconium alkoxide partial hydrolyzate, the zirconium alkoxide and / or zirconium alkoxide partial hydrolyzate is dissolved in the above solvent, and the above hydrolysis inhibitor is further added. In addition, chelation may be caused in the obtained solution.

ただし、上記の溶液には、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物が存在していないことが必要である。その理由は、加水分解抑制剤を添加する際に、溶液中にケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物が存在していると、加水分解抑制剤はジルコニウムアルコキシドおよび/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物とキレート化反応を起こさずに、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と容易にキレート化反応を起こしてしまい、目的のキレート化合物が得られないからである。   However, it is necessary that the above solution does not contain silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate. The reason is that when adding a hydrolysis inhibitor, if a silicon alkoxide and / or a silicon alkoxide partial hydrolyzate is present in the solution, the hydrolysis inhibitor is converted into a zirconium alkoxide and / or a zirconium alkoxide partial hydrolysis. This is because a chelation reaction easily occurs with a silicon alkoxide and / or a silicon alkoxide partial hydrolyzate without causing a chelation reaction with the product, and the target chelate compound cannot be obtained.

このジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物を、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と共存させるためには、予めジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物と加水分解抑制剤とを反応させてキレート化合物を生成させておき、このキレート化合物を、シリコンアルコキシドおよび/またはその部分加水分解物を含む溶液に添加すればよい。   In order for the chelate compound of zirconium alkoxide and / or the chelate compound of the partial hydrolyzate of zirconium alkoxide to coexist with the silicon alkoxide and / or the partial hydrolyzate of silicon alkoxide, the chelate compound of zirconium alkoxide and / or the zirconium alkoxide moiety A hydrolyzate and a hydrolysis inhibitor are reacted to form a chelate compound, and this chelate compound may be added to a solution containing silicon alkoxide and / or a partial hydrolyzate thereof.

なお、ジルコニウム(Zr)成分として、上記のキレート化合物以外のジルコニウム化合物を、全ジルコニウム(Zr)成分、すなわち、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と上記のキレート化合物以外のジルコニウム化合物との全体量におけるジルコニウム(Zr)を酸化ジルコニウム(ZrO)に換算した場合の含有率で80モル%以下、好ましくは50モル%以下含有していてもよい。
このジルコニウム化合物の含有量が80モル%を超えると、膜に親水性、耐久性、汚れ等の付着防止等の特性を付与することができないので好ましくない。
このようなジルコニウム化合物としては、ジルコニアゾル、オキシ塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニル、酢酸ジルコニル等が挙げられる。
As the zirconium (Zr) component, a zirconium compound other than the above-mentioned chelate compound is used as a whole zirconium (Zr) component, that is, a chelate compound of zirconium alkoxide and / or a chelate compound of a partial hydrolyzate of zirconium alkoxide and the above chelate compound. Zirconium (Zr) in the total amount with other zirconium compounds may be 80 mol% or less, preferably 50 mol% or less in terms of the content when converted to zirconium oxide (ZrO 2 ).
When the content of the zirconium compound exceeds 80 mol%, it is not preferable because the film cannot be imparted with properties such as hydrophilicity, durability, and adhesion prevention such as dirt.
Examples of such zirconium compounds include zirconia sol, zirconium oxychloride, zirconyl nitrate, and zirconyl acetate.

この親水性膜形成用塗布液中の全ジルコニウム(Zr)成分の含有量は、酸化ジルコニウム(ZrO)換算で0.1質量%以上かつ9質量%以下が好ましい。その理由は、全ジルコニウム(Zr)成分の含有量が0.1質量%以上かつ9質量%以下の範囲外となると、膜に充分な耐水性を付与することが困難になるからである。 The total zirconium (Zr) component content in the hydrophilic film-forming coating solution is preferably 0.1% by mass or more and 9% by mass or less in terms of zirconium oxide (ZrO 2 ). The reason is that when the content of all zirconium (Zr) components is out of the range of 0.1% by mass or more and 9% by mass or less, it becomes difficult to impart sufficient water resistance to the film.

上記のケイ素アルコキシドとしては、例えば、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等を例示することができる。
また、ケイ素アルコキシド部分加水分解物としては、例えば、テトラエトキシシラン部分加水分解物、テトラメトキシシラン部分加水分解物等を例示することができる。
Examples of the silicon alkoxide include tetraethoxysilane and tetramethoxysilane.
Moreover, as a silicon alkoxide partial hydrolyzate, a tetraethoxysilane partial hydrolyzate, a tetramethoxysilane partial hydrolyzate, etc. can be illustrated, for example.

なお、ケイ素(Si)成分として、上記のケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物以外のケイ素化合物を、全ケイ素(Si)成分、すなわち、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、それ以外のケイ素化合物との全体量におけるケイ素(Si)を酸化ケイ素(SiO)に換算した場合の含有率で80モル%以下、好ましくは50モル%以下含有していてもよい。
このケイ素化合物の含有量が50モル%を超えると、膜に親水性、耐久性、汚れ等の付着防止等の特性を付与することができないので好ましくない。
このようなケイ素化合物としては、ケイ酸アルカリ、コロイダルシリカ(シリカゾル)等が挙げられる。
In addition, as a silicon (Si) component, a silicon compound other than the above silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate is converted into an all silicon (Si) component, that is, silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate, 80 mol% of silicon (Si) at a content when converted to silicon oxide (SiO 2) in the total amount of the other silicon compounds, preferably may contain less than 50 mole%.
If the content of the silicon compound exceeds 50 mol%, it is not preferable because the film cannot be imparted with properties such as hydrophilicity, durability, and adhesion prevention such as dirt.
Examples of such a silicon compound include alkali silicate and colloidal silica (silica sol).

この親水性膜形成用塗布液中の全ケイ素(Si)成分の含有量は、酸化ケイ素(SiO)換算で0.1質量%以上かつ9質量%以下が好ましい。その理由は、全ケイ素(Si)成分の含有量が0.1質量%以上かつ9質量%以下の範囲外となると、膜に充分な耐水性を付与することが困難になるからである。 The content of the total silicon (Si) component in the hydrophilic film forming coating solution is preferably 0.1% by mass or more and 9% by mass or less in terms of silicon oxide (SiO 2 ). The reason is that when the content of the total silicon (Si) component is out of the range of 0.1% by mass or more and 9% by mass or less, it becomes difficult to impart sufficient water resistance to the film.

この親水性膜形成用塗布液中における全ジルコニウム(Zr)成分と全ケイ素(Si)成分との質量比は、これらを全て酸化物に換算した場合の質量比(ZrO:SiO)で表した場合、1:9〜9:1の範囲内が好ましく、より好ましくは2:8〜5:5の範囲内である。
質量比(ZrO:SiO)が上記の範囲外となると、膜に親水性、耐久性、汚れ等の付着防止等の特性を付与することができなくなるからである。
The mass ratio of the total zirconium (Zr) component and the total silicon (Si) component in the hydrophilic film forming coating solution is expressed as a mass ratio (ZrO 2 : SiO 2 ) when all of these are converted into oxides. In this case, it is preferably in the range of 1: 9 to 9: 1, more preferably in the range of 2: 8 to 5: 5.
This is because, when the mass ratio (ZrO 2 : SiO 2 ) is out of the above range, it becomes impossible to impart properties such as hydrophilicity, durability, and adhesion prevention such as dirt to the film.

上記の溶媒としては、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物、及びケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物を溶解し得る溶媒であれば特に制限はなく、例えば、メタノール(沸点:65℃)、エタノール(沸点:78℃)、1−プロパノール(沸点:97℃)、2−プロパノール(沸点:82℃)等のアルコール類、アセトン(沸点:56℃)、メチルエチルケトン(沸点:80℃)、ジエチルケトン(沸点:102℃)等のケトン類等、沸点が約100℃以下の溶媒(低沸点溶媒)を例示することができる。   The solvent is not particularly limited as long as it is a solvent capable of dissolving the chelate compound of zirconium alkoxide and / or the chelate compound of zirconium alkoxide partial hydrolyzate, and the silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate. , Methanol (boiling point: 65 ° C.), ethanol (boiling point: 78 ° C.), alcohols such as 1-propanol (boiling point: 97 ° C.), 2-propanol (boiling point: 82 ° C.), acetone (boiling point: 56 ° C.), methyl ethyl ketone Examples include solvents (low boiling point solvents) having a boiling point of about 100 ° C. or lower, such as ketones such as (boiling point: 80 ° C.) and diethyl ketone (boiling point: 102 ° C.).

また、親水性膜形成用塗布液の塗布性を向上させるために、1−エトキシ−2−プロパノール(沸点:132℃)、1−メトキシ−2−プロパノール(沸点:120℃)、2−メトキシエチルアセタート(沸点:145℃)、2−エトキシエチルアセタート(沸点:156℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(沸点:153℃)、N−メチルホルムアミド(沸点:180℃)、2−エトキシエタノール(沸点:136℃)等の高沸点溶媒を上記の低沸点溶媒と共に用いることもできる。   In order to improve the coating property of the coating solution for forming a hydrophilic film, 1-ethoxy-2-propanol (boiling point: 132 ° C.), 1-methoxy-2-propanol (boiling point: 120 ° C.), 2-methoxyethyl Acetate (boiling point: 145 ° C), 2-ethoxyethyl acetate (boiling point: 156 ° C), N, N-dimethylformamide (boiling point: 153 ° C), N-methylformamide (boiling point: 180 ° C), 2-ethoxyethanol A high boiling point solvent such as (boiling point: 136 ° C.) can be used together with the above low boiling point solvent.

なお、上記の溶媒に水が含まれる場合には、親水性膜形成用塗布液における水の含有量を5質量%以下に抑えることが好ましい。この塗布液における水の含有量が5質量%を超えると、塗布液の安定性が低下し、1ヶ月を超える長期の室温保管が困難になるからである。   In addition, when water is contained in said solvent, it is preferable to restrain water content in the coating liquid for hydrophilic film formation to 5 mass% or less. This is because if the content of water in the coating solution exceeds 5% by mass, the stability of the coating solution is lowered, and long-term storage at room temperature exceeding 1 month becomes difficult.

この親水性膜形成用塗布液には、上記のジルコニウム(Zr)成分及びケイ素(Si)成分以外に、他の金属イオンを含有させることができる。
他の金属イオンの添加により、親水性膜の長期耐久性を向上させることが可能となる。このような金属イオンとしては、例えば、アルカリ土金属のような2価の金属イオン、アルミニウム、ホウ素のような3価の金属イオン、チタンのような4価の金属イオンを例示することができる。
このような金属イオンは、硝酸塩、塩化物、有機酸塩等の溶液の状態で親水性膜形成用塗布液に添加するのが好ましい。ただし、硝酸塩、塩化物等の状態で多量に添加しすぎると、基材や製造設備を腐食させる原因ともなるので、添加量に注意を要する。
In addition to the zirconium (Zr) component and the silicon (Si) component, this hydrophilic film forming coating solution may contain other metal ions.
By adding other metal ions, the long-term durability of the hydrophilic film can be improved. Examples of such metal ions include divalent metal ions such as alkaline earth metals, trivalent metal ions such as aluminum and boron, and tetravalent metal ions such as titanium.
Such metal ions are preferably added to the hydrophilic film-forming coating solution in the form of a solution of nitrate, chloride, organic acid salt or the like. However, if too much is added in the form of nitrates, chlorides, etc., it may cause corrosion of the base material and the production equipment, so care must be taken in the amount added.

この親水性膜形成用塗布液における上記の金属イオンの含有量は、10ppm以上かつ2質量%以下が好ましい。上記の金属イオンの含有量が10ppmよりも少ないと、膜の長期耐久性を向上させることが難しく、一方、上記の金属イオンの含有量が2質量%を越えると、基材に対して十分な密着性を有する膜を形成することができないからである。   The content of the metal ions in the hydrophilic film-forming coating solution is preferably 10 ppm or more and 2% by mass or less. If the content of the metal ions is less than 10 ppm, it is difficult to improve the long-term durability of the film. On the other hand, if the content of the metal ions exceeds 2% by mass, it is sufficient for the substrate. This is because a film having adhesion cannot be formed.

また、この親水性膜形成用塗布液に、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等の樹脂、あるいはRSi(OR)4−x(xは1〜3の整数)で表される有機シラン化合物、すなわちカップリング剤を適宜量添加してもよい。
このように、親水性膜形成用塗布液に樹脂やシランカップリング剤を添加すると、形成される膜と基材、特にプラスチックス基材との密着性が向上する。
Further, the hydrophilic film-forming coating liquid, an acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, silicone resin, and fluorine resin resin or R x Si (OR) 4- x (x is 1 to 3, An appropriate amount of an organosilane compound represented by (integer), that is, a coupling agent may be added.
Thus, when resin and a silane coupling agent are added to the coating liquid for hydrophilic film formation, the adhesiveness of the film | membrane formed and a base material, especially a plastics base material will improve.

また、この親水性膜形成用塗布液に、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等の各種界面活性剤を適宜量添加することが好ましい。このように、親水性膜形成用塗布液に界面活性剤を添加すると、この親水性膜形成用塗布液の基材への塗布性を向上させることができる。   Moreover, it is preferable to add an appropriate amount of various surfactants such as an anionic surfactant, a nonionic surfactant, and a cationic surfactant to the coating solution for forming a hydrophilic film. Thus, when a surfactant is added to the coating solution for forming a hydrophilic film, the coating property of the coating solution for forming a hydrophilic film on a substrate can be improved.

この親水性膜形成用塗布液における固形分、すなわち、樹脂やシランカップリング剤等の有機成分を含まない親水性膜形成成分の含有量は、特に制限はないが、酸化物換算で0.1質量%以上かつ10質量%以下が好ましい。固形分の含有量が0.1質量%を下回ると、親水性膜を形成するのが困難となり、一方、固形分の含有量が10質量%を超えると、親水性膜形成用塗布液の貯蔵安定性が低下するからである。   The solid content in the hydrophilic film-forming coating solution, that is, the content of the hydrophilic film-forming component not containing an organic component such as a resin or a silane coupling agent is not particularly limited, but is 0.1 in terms of oxide. The content is preferably not less than 10% by mass and not more than 10% by mass. When the solid content is less than 0.1% by mass, it becomes difficult to form a hydrophilic film. On the other hand, when the solid content exceeds 10% by mass, the hydrophilic film forming coating solution is stored. This is because the stability is lowered.

「親水性膜の形成方法」
本発明の親水性膜の形成方法は、本発明の親水性膜形成用塗布液を基材の表面に塗布し熱処理することにより、膜を形成する第1の工程と、この膜の上にケイ酸塩を含む水溶液を塗布し熱処理する第2の工程と、を有する方法である。
"Method of forming hydrophilic film"
The hydrophilic film forming method of the present invention comprises a first step of forming a film by applying the hydrophilic film-forming coating solution of the present invention to the surface of a substrate and heat-treating it, and a silica film on the film. And a second step of applying and heat-treating an aqueous solution containing an acid salt.

上記の基材としては、特に限定されず、ガラスや透光性アルミナ等のセラミックス、琺瑯、コンクリート、石材等の無機材料からなる基材、鉄、ステンレススチール、アルミニウム、金、銀、チタン、金属めっき製品等の金属材料からなる基材、プラスチック、繊維等の有機材料からなる基材等を例示することができる。
本発明の親水性膜形成用塗布液は、加水分解抑制剤としての酸を含有していないので、基材を腐食する虞が無く、したがって、金属基材にも適用することができる。
The base material is not particularly limited, and is made of a ceramic material such as glass or translucent alumina, a base material made of an inorganic material such as straw, concrete or stone, iron, stainless steel, aluminum, gold, silver, titanium, metal. Examples thereof include a base material made of a metal material such as a plated product, and a base material made of an organic material such as plastic and fiber.
Since the coating liquid for forming a hydrophilic film of the present invention does not contain an acid as a hydrolysis inhibitor, there is no possibility of corroding the base material, and therefore it can be applied to a metal base material.

この親水性膜形成用塗布液の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、刷毛塗り法等を用いることができる。
このようにして製膜された塗膜を熱処理し、膜を形成する。
As a coating method of the hydrophilic film forming coating solution, for example, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a bar coating method, a spray coating method, an ink jet method, a screen printing method, a brush coating method, or the like is used. Can do.
The coating film thus formed is heat-treated to form a film.

この熱処理における温度及び時間は、基材に悪影響を与えない範囲内で可能な限り高温かつ長時間であることが、膜の強度及び耐水性が高くなり、しかも加水分解抑制剤の残留を防止し得るので好適であるが、場合によっては、乾燥程度の温度での短時間の熱処理でも充分である。
具体的な熱処理温度としては、通常、基材がガラス基板等の無機材料の場合には、室温(25℃)〜500℃が好ましく、より好ましくは80℃〜500℃である。また、基材がプラスチック基板やプラスチックフィルムの場合には、室温(25℃)〜150℃が好ましく、より好ましくは80℃〜130℃である。また、基材が金属基板等の金属材料の場合には、室温(25℃)〜300℃が好ましく、より好ましくは80℃〜300℃である。
なお、熱処理時の雰囲気は特に限定されず、通常、大気中で行う。
The temperature and time in this heat treatment should be as high as possible and long as long as they do not adversely affect the substrate, which increases the strength and water resistance of the film and prevents the hydrolysis inhibitor from remaining. In some cases, a short heat treatment at a temperature of the degree of drying may be sufficient.
Specifically, when the base material is an inorganic material such as a glass substrate, the specific heat treatment temperature is preferably room temperature (25 ° C.) to 500 ° C., more preferably 80 ° C. to 500 ° C. Moreover, when a base material is a plastic substrate or a plastic film, room temperature (25 degreeC)-150 degreeC is preferable, More preferably, it is 80 degreeC-130 degreeC. Moreover, when a base material is metal materials, such as a metal substrate, room temperature (25 degreeC) -300 degreeC are preferable, More preferably, they are 80 degreeC-300 degreeC.
In addition, the atmosphere at the time of heat processing is not specifically limited, Usually, it carries out in air | atmosphere.

このようにして得られた膜の厚みは0.01μm以上かつ5μm以下が好ましい。膜の厚みが0.01μmより薄い場合には、親水性の効果が充分に得られず、硬度、耐摩耗性も劣ったものとなる。一方、膜の厚みが5μmより厚い場合には、基材との密着性が低下し、クラックも入り易くなるので好ましくない。   The thickness of the film thus obtained is preferably 0.01 μm or more and 5 μm or less. When the thickness of the film is less than 0.01 μm, a sufficient hydrophilic effect cannot be obtained, and the hardness and wear resistance are inferior. On the other hand, when the thickness of the film is thicker than 5 μm, the adhesion with the substrate is lowered and cracks are easily generated, which is not preferable.

次いで、この膜の上にケイ酸塩を含む水溶液を塗布する。
このケイ酸塩を含む水溶液としては、特に制限されるものではないが、例えば、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等の水溶液、またはこれらの水溶液の混合物を例示することができる。
この水溶液におけるケイ酸塩の濃度は、0.01質量%以上かつ50質量%以下が好ましい。ケイ酸塩濃度が0.01質量%を下回ると、膜の親水性や硬度を向上させることができず、一方、ケイ酸塩濃度が50質量%を越えると、膜厚が厚くなり過ぎてしまい、クラックや剥離が生じ易くなるからである。
Next, an aqueous solution containing silicate is applied onto the film.
Although it does not restrict | limit especially as aqueous solution containing this silicate, For example, aqueous solutions, such as lithium silicate, sodium silicate, potassium silicate, or a mixture of these aqueous solutions can be illustrated.
The concentration of silicate in this aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more and 50% by mass or less. If the silicate concentration is less than 0.01% by mass, the hydrophilicity and hardness of the film cannot be improved. On the other hand, if the silicate concentration exceeds 50% by mass, the film thickness becomes too thick. This is because cracks and peeling easily occur.

このケイ酸塩を含む水溶液は、コロイダルシリカを添加していることが好ましい。その理由は、コロイダルシリカを添加することにより、親水性膜の平滑性が向上し、汚れ防止効果が高くなるからである。このコロイダルシリカの添加量は、上記のケイ酸塩の0.25モル倍以上かつ4モル倍以下が好ましい。
このコロイダルシリカの添加量が0.25モル倍を下回ると、平滑性の向上が認められず、一方、添加量が4モル倍を越えると、親水性膜の硬度が低下するからである。
It is preferable that colloidal silica is added to the aqueous solution containing the silicate. The reason is that, by adding colloidal silica, the smoothness of the hydrophilic film is improved and the antifouling effect is enhanced. The amount of colloidal silica added is preferably 0.25 mol times or more and 4 mol times or less of the silicate.
This is because when the amount of colloidal silica added is less than 0.25 mol times, no improvement in smoothness is observed, whereas when the amount added exceeds 4 mol times, the hardness of the hydrophilic film is lowered.

このケイ酸塩を含む水溶液には、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤等の各種界面活性剤を適宜量、含有したことが好ましい。これらの界面活性剤をケイ酸塩を含む水溶液に添加すると、この水溶液の塗布性を向上させることができる。   The aqueous solution containing the silicate preferably contains an appropriate amount of various surfactants such as an anionic surfactant, a nonionic surfactant, and a cationic surfactant. When these surfactants are added to an aqueous solution containing a silicate, the coating properties of this aqueous solution can be improved.

このケイ酸塩を含む水溶液を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法、バーコート法、スプレーコート法、インクジェット法、スクリーン印刷法、刷毛塗り法等を用いることができる。
なお、このケイ酸塩を含む水溶液は、上記の膜に容易に浸透し、しかも膜中に浸透したケイ酸塩で十分な効果が得られるので、この水溶液を塗布した後、過剰の水溶液を水等で洗い流しても良い。
このようにして得られた膜を熱処理し、親水性膜を形成する。
As a method of applying the aqueous solution containing the silicate, for example, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a bar coating method, a spray coating method, an ink jet method, a screen printing method, a brush coating method, or the like is used. Can do.
An aqueous solution containing this silicate easily penetrates into the above-mentioned film, and a sufficient effect can be obtained with the silicate that has penetrated into the film. It may be washed away.
The film thus obtained is heat-treated to form a hydrophilic film.

この熱処理における温度及び時間は、基材に悪影響を与えない範囲内で可能な限り高温かつ長時間であることが、膜の強度及び耐水性が高くなり、しかも加水分解抑制剤の残留を防止し得るので好適であるが、場合によっては、乾燥程度の温度での短時間の熱処理でも充分である。
具体的な熱処理温度としては、通常、基材がガラス基板等の無機材料の場合には、室温(25℃)〜500℃が好ましく、より好ましくは80℃〜500℃である。また、基材がプラスチック基板やプラスチックフィルムの場合には、室温(25℃)〜150℃が好ましく、より好ましくは80℃〜130℃である。また、基材が金属基板等の金属材料の場合には、室温(25℃)〜300℃が好ましく、より好ましくは80℃〜300℃である。
なお、熱処理時の雰囲気は特に限定されず、通常、大気中で行う。
The temperature and time in this heat treatment should be as high as possible and long as long as they do not adversely affect the substrate, which increases the strength and water resistance of the film and prevents the hydrolysis inhibitor from remaining. In some cases, a short heat treatment at a temperature of the degree of drying may be sufficient.
Specifically, when the base material is an inorganic material such as a glass substrate, the specific heat treatment temperature is preferably room temperature (25 ° C.) to 500 ° C., more preferably 80 ° C. to 500 ° C. Moreover, when a base material is a plastic substrate or a plastic film, room temperature (25 degreeC)-150 degreeC is preferable, More preferably, it is 80 degreeC-130 degreeC. Moreover, when a base material is metal materials, such as a metal substrate, room temperature (25 degreeC) -300 degreeC are preferable, More preferably, they are 80 degreeC-300 degreeC.
In addition, the atmosphere at the time of heat processing is not specifically limited, Usually, it carries out in air | atmosphere.

このようにして得られた親水性膜は、次のような膜構造を有するものと考えられる。
(1)ケイ酸塩を含む水溶液の塗布量が少ないか、濃度が低濃度である場合には、水溶液が膜に浸透し、この膜の少なくとも表層部が親水性に富む層に改質される。
膜にケイ酸塩を含む水溶液を塗布すると、膜に水溶液が浸透し、この水溶液中のNa、K、Li等のアルカリ成分及び水により膜中に残存するアルコキシ基が更に加水分解され、この加水分解された金属アルコキシド間では脱水・脱アルコール反応が生じ、シリカとジルコニアからなる複合酸化物が生成する。よって、膜の少なくとも表層部は親水性に富む層に改質される。
The hydrophilic film thus obtained is considered to have the following film structure.
(1) When the amount of the aqueous solution containing the silicate is small or the concentration is low, the aqueous solution penetrates into the film, and at least the surface layer portion of the film is modified to a hydrophilic layer. .
When an aqueous solution containing silicate is applied to the membrane, the aqueous solution penetrates into the membrane, and the alkoxy groups remaining in the membrane are further hydrolyzed by alkali components such as Na, K, Li, etc. and water in the aqueous solution. Dehydration and dealcoholization reactions occur between the decomposed metal alkoxides, and a composite oxide composed of silica and zirconia is generated. Therefore, at least the surface layer portion of the film is modified to a hydrophilic layer.

さらに、膜中のシリカ成分および水溶液から供給されたケイ酸イオンは、膜中のジルコニウムイオン、その他の金属、水溶液から供給された水およびアルカリ等と反応して水和物を形成し、膜の表面に存在する孔を塞ぐ。その結果、得られた親水性膜は、より高い硬度を有し、また熱水やアルカリ性溶液に対する耐久性が向上する。   Furthermore, the silica component in the film and the silicate ions supplied from the aqueous solution react with zirconium ions in the film, other metals, water and alkali supplied from the aqueous solution, etc. to form a hydrate, Block the holes on the surface. As a result, the obtained hydrophilic film has higher hardness and improves durability against hot water and alkaline solution.

(2)ケイ酸塩を含む水溶液の塗布量が多いか、濃度が高濃度である場合には、下地層となる膜の上にケイ酸塩を主成分とする親水性に富む最表層が形成され、2層構造の被膜となる。
この下地層となる膜は、高い硬度を有し、また熱水やアルカリ性溶液に対する耐久性が向上している。さらに、このような特性を有する膜の上にケイ酸塩を主成分とする親水性に富む最表層が形成されると、膜全体、すなわち、親水性膜の親水性が向上し、膜厚も厚くなり、より高い硬度が得られ、磨耗に対する耐久性も向上する。
(2) When the application amount of the aqueous solution containing silicate is large or the concentration is high, the outermost layer rich in hydrophilicity mainly composed of silicate is formed on the film as the underlayer. Thus, the film has a two-layer structure.
The film serving as the underlayer has a high hardness and has improved durability against hot water and an alkaline solution. Furthermore, when a hydrophilic outermost layer mainly composed of silicate is formed on a film having such characteristics, the hydrophilicity of the entire film, that is, the hydrophilic film is improved, and the film thickness is also increased. Thicker, higher hardness is obtained, and durability against wear is also improved.

以上説明したように、本実施形態の親水性膜形成用塗布液によれば、ジルコニウムアルコキシドの加水分解反応を抑制することができ、貯蔵安定性を向上させることができる。したがって、長時間に亘って室温保管(貯蔵)を行うことができる。
また、酸を含有していないので、金属基材を対象外とする必要が無くなり、基材や製造設備の腐食を防止することができる。
As described above, according to the coating liquid for forming a hydrophilic film of the present embodiment, the hydrolysis reaction of zirconium alkoxide can be suppressed, and the storage stability can be improved. Therefore, room temperature storage (storage) can be performed for a long time.
Moreover, since it does not contain an acid, it is not necessary to exclude a metal base material, and corrosion of the base material and manufacturing equipment can be prevented.

また、本実施形態の親水性膜の形成方法によれば、高硬度、易洗浄性及び防汚性を有し、熱水への耐久性、アルカリ洗剤等のアルカリ性溶液への耐久性、及び酸洗剤等の酸性溶液への耐久性が高く、しかも長期耐久性に優れた単層または多層からなる親水性膜を容易かつ安価に形成することができる。   Further, according to the method for forming a hydrophilic film of the present embodiment, it has high hardness, easy washing and antifouling properties, durability to hot water, durability to an alkaline solution such as an alkaline detergent, and acid It is possible to easily and inexpensively form a hydrophilic film composed of a single layer or multiple layers having high durability against acidic solutions such as detergents and excellent long-term durability.

以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention concretely, this invention is not limited by these Examples.

「実施例1」
86質量部の2−プロパノールに4質量部のジルコニウムブトキシドを溶解し、更に3質量部のアセト酢酸メチルを添加し、室温にて30分攪拌することにより、ジルコニウムブトキシドとアセト酢酸メチルとのキレート化を行った。
次いで、このキレート化後の溶液に、6質量部のテトラエトキシシラン、および1質量部の硝酸カルシウムエタノール溶液(濃度:1質量%)を混合し、親水性膜形成用塗布液を得た。
"Example 1"
Chelating zirconium butoxide and methyl acetoacetate by dissolving 4 parts by weight of zirconium butoxide in 86 parts by weight of 2-propanol, adding 3 parts by weight of methyl acetoacetate and stirring at room temperature for 30 minutes. Went.
Next, 6 parts by mass of tetraethoxysilane and 1 part by mass of calcium nitrate ethanol solution (concentration: 1% by mass) were mixed with the chelated solution to obtain a coating solution for forming a hydrophilic film.

次いで、この親水性膜形成用塗布液をステンレス基板上にスプレーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて20分間熱処理し、下地層を形成した。このとき、下地層の膜厚が0.2μmとなるように塗布量を調整した。
次いで、この下地層の上に、20質量%のケイ酸ナトリウム水溶液をバーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて20分間熱処理し、実施例1の親水性膜を形成した。
Next, this hydrophilic film-forming coating solution was applied onto a stainless steel substrate by a spray coating method, and heat-treated at 200 ° C. for 20 minutes in the air to form a base layer. At this time, the coating amount was adjusted so that the film thickness of the underlayer was 0.2 μm.
Next, a 20 mass% sodium silicate aqueous solution was applied onto the underlayer by a bar coating method, and heat-treated at 200 ° C. for 20 minutes in the air to form the hydrophilic film of Example 1.

「実施例2」
86質量部の2−プロパノールに3質量部のジルコニウムブトキシドを溶解し、更に2質量部のトリエタノールアミンを添加し、室温にて30分攪拌することにより、ジルコニウムブトキシドとトリエタノールアミンとのキレート化を行った。
次いで、このキレート化後の溶液に、6質量部のテトラエトキシシラン、1質量部のシランカップリング剤(3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)、および2重量部の硝酸カルシウムエタノール溶液(硝酸カルシウム4水和物の10質量%エタノール溶液)を混合し、親水性膜形成用塗布液を得た。
"Example 2"
Chelating zirconium butoxide and triethanolamine by dissolving 3 parts by weight of zirconium butoxide in 86 parts by weight of 2-propanol, adding 2 parts by weight of triethanolamine, and stirring at room temperature for 30 minutes. Went.
Next, 6 parts by mass of tetraethoxysilane, 1 part by mass of a silane coupling agent (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane), and 2 parts by weight of a calcium nitrate ethanol solution (calcium nitrate) were added to the chelated solution. A tetrahydrate 10 mass% ethanol solution) was mixed to obtain a coating solution for forming a hydrophilic film.

次いで、この親水性膜形成用塗布液をアクリル基板上にスプレーコート法にて塗布し、大気中、80℃にて60分間熱処理し、下地層を形成した。このとき、下地層の膜厚が0.5μmとなるように塗布量を調整した。
次いで、この下地層が形成されたアクリル基板を、20質量%のケイ酸ナトリウム水溶液95質量部とコロイダルシリカ5重量部を混合して得られたケイ酸塩水溶液に浸漬し、次いで、このアクリル基板を水洗して過剰のケイ酸ナトリウムを除去し、その後、大気中、80℃にて60分間熱処理し、実施例2の親水性膜を形成した。
Next, this hydrophilic film-forming coating solution was applied onto an acrylic substrate by a spray coating method and heat-treated at 80 ° C. for 60 minutes in the air to form an underlayer. At this time, the coating amount was adjusted so that the film thickness of the underlayer was 0.5 μm.
Next, the acrylic substrate on which the underlayer was formed was immersed in an aqueous silicate solution obtained by mixing 95 parts by mass of a 20% by mass sodium silicate aqueous solution and 5 parts by weight of colloidal silica, and then the acrylic substrate. Was washed with water to remove excess sodium silicate, and then heat-treated in the atmosphere at 80 ° C. for 60 minutes to form the hydrophilic film of Example 2.

「実施例3」
82質量部の2−プロパノールに、6質量部のジルコニウムアルコキシドとアセチルアセトンとのキレート化合物(ジルコニウムアルコキシドとアセチルアセトンのモル比は1:1)を溶解し、ジルコニウムアルコキシドとアセチルアセトンとのキレート化合物が溶解した2−プロパノール溶液を得た。
次いで、この2−プロパノール溶液に、10質量部のテトラエトキシシラン、および2重量部の酢酸カルシウム水溶液(酢酸カルシウム4水和物の10質量%水溶液)を混合し、親水性膜形成用塗布液を得た。
"Example 3"
In 82 parts by mass of 2-propanol, 6 parts by mass of a chelate compound of zirconium alkoxide and acetylacetone (molar ratio of zirconium alkoxide to acetylacetone is 1: 1) was dissolved, and a chelate compound of zirconium alkoxide and acetylacetone was dissolved 2 A propanol solution was obtained.
Next, 10 parts by mass of tetraethoxysilane and 2 parts by weight of calcium acetate aqueous solution (10% by mass aqueous solution of calcium acetate tetrahydrate) are mixed with this 2-propanol solution, and a hydrophilic film forming coating solution is prepared. Obtained.

次いで、この親水性膜形成用塗布液を銅板上にスプレーコート法にて塗布し、大気中、120℃にて40分間熱処理し、下地層を形成した。このとき、下地層の膜厚が1μmとなるように塗布量を調整した。
次いで、この下地層の上に、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む20質量%ケイ酸ナトリウム水溶液をスプレーコート法にて塗布し、大気中、120℃にて40分間熱処理し、実施例3の親水性膜を形成した。
Next, this hydrophilic film-forming coating solution was applied onto a copper plate by a spray coating method, and heat-treated at 120 ° C. for 40 minutes in the air to form an underlayer. At this time, the coating amount was adjusted so that the film thickness of the underlayer was 1 μm.
Next, a 20% by mass sodium silicate aqueous solution containing sodium alkylbenzenesulfonate was applied on the underlayer by a spray coating method and heat-treated at 120 ° C. for 40 minutes in the atmosphere. The hydrophilic film of Example 3 Formed.

「比較例1」
6質量部のテトラエトキシシラン、4質量部のジルコニウムブトキシド、69質量部の2−プロパノール、20質量部の純水、1質量部の硝酸を混合し、親水性膜形成用塗布液を得た。
次いで、この親水性膜形成用塗布液をステンレス基板上にスプレーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて30分間熱処理し、下地層を形成した。このとき、下地層の膜厚が0.2μmとなるように塗布量を調整した。
次いで、この下地層の上に、20質量%のケイ酸ナトリウム水溶液をバーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて30分間熱処理し、比較例1の親水性膜を形成した。
"Comparative Example 1"
6 parts by mass of tetraethoxysilane, 4 parts by mass of zirconium butoxide, 69 parts by mass of 2-propanol, 20 parts by mass of pure water, and 1 part by mass of nitric acid were mixed to obtain a coating solution for forming a hydrophilic film.
Next, this hydrophilic film-forming coating solution was applied onto a stainless steel substrate by a spray coating method, and heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes in the atmosphere to form a base layer. At this time, the coating amount was adjusted so that the film thickness of the underlayer was 0.2 μm.
Next, a 20% by mass aqueous sodium silicate solution was applied onto the underlayer by a bar coating method, followed by heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes in the air to form the hydrophilic film of Comparative Example 1.

「比較例2」
6質量部のテトラエトキシシラン、4質量部のジルコニウムブトキシド、2重量部の硝酸カルシウムエタノール溶液(硝酸カルシウム4水和物の10質量%エタノール溶液)、88質量部の2−プロパノールを混合し、親水性膜形成用塗布液を得た。
次いで、この親水性膜形成用塗布液をステンレス基板上にスプレーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて30分間熱処理し、下地層を形成した。このとき、下地層の膜厚が0.2μmとなるように塗布量を調整した。
次いで、この下地層の上に、20質量%のケイ酸ナトリウム水溶液をバーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて30分間熱処理し、比較例2の親水性膜を形成した。
"Comparative Example 2"
6 parts by weight of tetraethoxysilane, 4 parts by weight of zirconium butoxide, 2 parts by weight of calcium nitrate ethanol solution (10% by weight ethanol solution of calcium nitrate tetrahydrate) and 88 parts by weight of 2-propanol were mixed to make hydrophilic. A coating solution for forming a conductive film was obtained.
Next, this hydrophilic film-forming coating solution was applied onto a stainless steel substrate by a spray coating method, and heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes in the atmosphere to form a base layer. At this time, the coating amount was adjusted so that the film thickness of the underlayer was 0.2 μm.
Next, a 20% by mass aqueous sodium silicate solution was applied onto the underlayer by a bar coating method, followed by heat treatment at 200 ° C. for 30 minutes in the air to form a hydrophilic film of Comparative Example 2.

「比較例3」
実施例1に準じて親水性膜形成用塗布液を得た。
次いで、この親水性膜形成用塗布液をステンレス基板上にスプレーコート法にて塗布し、大気中、200℃にて20分間熱処理し、比較例3の被膜を形成した。このとき、被膜の膜厚が0.2μmとなるように塗布量を調整した。
“Comparative Example 3”
A coating solution for forming a hydrophilic film was obtained according to Example 1.
Next, this hydrophilic film-forming coating solution was applied onto a stainless steel substrate by a spray coating method, and heat-treated at 200 ° C. for 20 minutes in the air to form a coating film of Comparative Example 3. At this time, the coating amount was adjusted so that the film thickness was 0.2 μm.

「親水性膜形成用塗布液の評価」
実施例1〜3及び比較例1〜3の親水性膜形成用塗布液の評価を行った。
評価項目は、50℃保管、腐食性の2項目とした。これらの評価項目の評価方法は下記のとおりである。
(1)50℃保管
恒温槽を用いて、親水性膜形成用塗布液を、途中経過を観察しながら50℃にて1ヶ月間保管した。
(2)腐食性
親水性膜形成用塗布液に銅板を浸漬した後、100℃にて乾燥させ、銅板の変色の有無を目視にて評価した。
"Evaluation of coating solution for hydrophilic film formation"
The coating liquids for forming a hydrophilic film in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 were evaluated.
The evaluation items were 50 ° C. storage and corrosive two items. The evaluation methods for these evaluation items are as follows.
(1) Storage at 50 ° C. Using a thermostatic bath, the coating solution for forming a hydrophilic film was stored at 50 ° C. for 1 month while observing the progress.
(2) Corrosivity After immersing the copper plate in the coating solution for forming a hydrophilic film, the copper plate was dried at 100 ° C., and the presence or absence of discoloration of the copper plate was visually evaluated.

「膜の評価」
実施例1〜3及び比較例1、2の親水性膜、及び比較例3の被膜の評価を行った。
評価項目は、膜外観、鉛筆硬度、易洗浄性、耐アルカリ性、耐熱水性の5項目とした。これらの評価項目の評価方法は下記のとおりである。
(1)膜外観
膜の表面状態を目視にて観察した。
(2)鉛筆硬度
日本工業規格JIS K 5600「塗料一般試験方法」に準拠して評価した。
"Evaluation of membrane"
The hydrophilic films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 and the coating film of Comparative Example 3 were evaluated.
The evaluation items were five items: film appearance, pencil hardness, easy cleaning, alkali resistance, and hot water resistance. The evaluation methods for these evaluation items are as follows.
(1) Film appearance The surface state of the film was visually observed.
(2) Pencil hardness It evaluated based on Japanese Industrial Standard JISK5600 "paint general test method".

(3)易洗浄性
油性ペンにて膜の上に書き込みを行って汚れとし、この汚れを水を含ませたスポンジにて擦り、この汚れが落ちるか否かを観察した。
(4)耐アルカリ性
膜を、室温(25℃)の温度の5質量%の水酸化ナトリウム水溶液に30日間、途中経過を観察しながら浸漬し、その後水洗して、膜の状態を目視にて観察した。
(5)耐熱水性
膜を、98℃の熱水に30日間、途中経過を観察しながら浸漬し、その後、膜の状態を目視にて観察した。
これらの評価結果を表1に示す。
(3) Easily washed The film was written on the film with an oil pen to make it dirty, and the dirt was rubbed with a sponge soaked in water, and it was observed whether or not the dirt was removed.
(4) Alkali resistance The membrane was immersed in a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at room temperature (25 ° C.) for 30 days while observing the course, then washed with water, and the state of the membrane was observed visually. did.
(5) Hot water resistance The membrane was immersed in hot water at 98 ° C. for 30 days while observing the progress, and then the state of the membrane was visually observed.
These evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2008111011
Figure 2008111011

本発明の親水性膜形成用塗布液は、ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、溶媒とを含有したことにより、高硬度、易洗浄性、防汚性、耐熱水性、耐アルカリ性、耐酸性が高く、しかも長期耐久性に優れた膜を形成することができたものであるから、耐環境性及び長期耐久性の双方が要求されるあらゆる技術分野で利用可能であり、その工業的意義は極めて大きいものである。   The coating solution for forming a hydrophilic film of the present invention contains a chelate compound of zirconium alkoxide and / or a chelate compound of zirconium alkoxide partial hydrolyzate, silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate, and a solvent. Can form a film with high hardness, easy cleaning, antifouling properties, hot water resistance, alkali resistance, acid resistance, and excellent long-term durability. It can be used in all technical fields that require both of its properties, and its industrial significance is extremely great.

Claims (4)

親水性を有する膜を形成するための塗布液であって、
ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物および/またはジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物と、ケイ素アルコキシドおよび/またはケイ素アルコキシド部分加水分解物と、溶媒とを含有してなることを特徴とする親水性膜形成用塗布液。
A coating solution for forming a hydrophilic film,
Zirconium alkoxide chelate compound and / or zirconium alkoxide partial hydrolyzate chelate compound, silicon alkoxide and / or silicon alkoxide partial hydrolyzate, and solvent-containing coating, liquid.
前記ジルコニウムアルコキシドのキレート化合物は、ジルコニウムアルコキシドと、エタノールアミン、β−ジケトン、β−ケト酸エステル及びカルボン酸の群から選択される1種または2種以上の化合物との反応生成物であることを特徴とする請求項1記載の親水性膜形成用塗布液。   The zirconium alkoxide chelate compound is a reaction product of zirconium alkoxide and one or more compounds selected from the group consisting of ethanolamine, β-diketone, β-keto acid ester and carboxylic acid. The coating solution for forming a hydrophilic film according to claim 1. 前記ジルコニウムアルコキシド部分加水分解物のキレート化合物は、ジルコニウムアルコキシド部分加水分解物と、エタノールアミン、β−ジケトン、β−ケト酸エステル及びカルボン酸の群から選択される1種または2種以上の化合物との反応生成物であることを特徴とする請求項1または2記載の親水性形成用塗布液。   The chelate compound of the zirconium alkoxide partial hydrolyzate includes a zirconium alkoxide partial hydrolyzate and one or more compounds selected from the group consisting of ethanolamine, β-diketone, β-keto acid ester, and carboxylic acid. The coating solution for forming a hydrophilic property according to claim 1 or 2, wherein 請求項1ないし3のいずれか1項記載の親水性膜形成用塗布液を基材の表面に塗布し熱処理することにより、膜を形成する第1の工程と、
この膜の上にケイ酸塩を含む水溶液を塗布し熱処理する第2の工程と、
を有することを特徴とする親水性膜の形成方法。
A first step of forming a film by applying the hydrophilic film-forming coating solution according to any one of claims 1 to 3 to a surface of a substrate and performing a heat treatment;
A second step in which an aqueous solution containing a silicate is applied on the film and heat-treated;
A method for forming a hydrophilic film, comprising:
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