JP2008108995A - Organic light-emitting diode - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、有機発光ダイオードデバイスに関するものである。 The present invention relates to organic light emitting diode devices.
有機発光ダイオードデバイスは、比較的低駆動電圧で高輝度の発光があり、薄型軽量の発光デバイス化が可能となることから、フラットディスプレイへの適用が期待される。 The organic light emitting diode device emits light with high luminance at a relatively low driving voltage, and can be made into a thin and light light emitting device. Therefore, application to a flat display is expected.
有機発光ダイオードを低駆動電圧で効率よく発光させるために、発光層への電子注入効率を向上させるバッファが有機発光ダイオードの電子輸送層にドープされたり、有機発光ダイオードにバッファ層が設けられたりしている。バッファ材料としては、セシウムやリチウムなどのアルカリ金属やアルカリ金属化合物が常用されている。特許文献1には、フッ化リチウムのようなアルカリ金属化合物又はその熱分解生成物を含む電子注入性ドーパント源層を備えた有機発光ダイオードデバイスが開示されている。また、特許文献2には、ホスト材料であるAlq3にフッ化アルカリ又はアルカリ土類フッ化物をドープした成分からなるバッファ層と、貴金属からなる陰極とを備えた有機ELダイオードが開示されている。
In order to make the organic light emitting diode emit light efficiently at a low driving voltage, a buffer that improves the electron injection efficiency into the light emitting layer is doped in the electron transport layer of the organic light emitting diode, or a buffer layer is provided in the organic light emitting diode. ing. As the buffer material, alkali metals and alkali metal compounds such as cesium and lithium are commonly used.
しかし、アルカリ金属は大気中で不安定であるので、ドープする際にはアルカリディスペンサーと呼ばれる高価な蒸着源を用いなければならない。また、フッ化リチウムをバッファとしてドープする層は、膜厚0.5nmと極薄く積層する必要があり、膜厚の制御が困難である。 However, since alkali metals are unstable in the atmosphere, an expensive vapor deposition source called an alkali dispenser must be used for doping. In addition, the layer doped with lithium fluoride as a buffer needs to be stacked as thin as 0.5 nm, and it is difficult to control the thickness.
本発明は、より低電圧で駆動し、しかも高輝度かつ長寿命の発光を示す有機発光ダイオードデバイスを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide an organic light-emitting diode device which is driven at a lower voltage and which emits light with a high luminance and a long lifetime.
前記の目的を達成するためになされた、特許請求の範囲の請求項1に記載された有機発光ダイオードデバイスは、基板上に設けられた陽極と陰極との間に、少なくとも正孔輸送層と、発光層と、ピリジル基含有オキサジアゾール誘導体にアルカリ金属のフッ化物をドープした電子輸送層とを含むことを特徴とする。
An organic light-emitting diode device according to
請求項2に記載の有機発光ダイオードデバイスは、請求項1に記載されたもので、前記アルカリ金属のフッ化物がフッ化セシウムであることを特徴とする。 An organic light emitting diode device according to a second aspect is the one according to the first aspect, wherein the alkali metal fluoride is cesium fluoride.
請求項3に記載の有機発光ダイオードデバイスは、請求項1に記載されたもので、前記ピリジル基含有オキサジアゾール誘導体が、下記化学式
The organic light emitting diode device according to claim 3 is the one described in
請求項4に記載の有機発光ダイオードデバイスは、請求項1に記載されたもので、前記ピリジル基含有オキサジアゾール誘導体とアルカリ金属のフッ化物とのモル比が、1:1〜2:1であることを特徴とする。
The organic light-emitting diode device according to
請求項5に記載の有機発光ダイオードデバイスは、請求項1に記載されたもので、前記発光層が、アルミニウム トリス 8−ヒドロキシキノリン(Alq3)からなる層であることを特徴とする。 An organic light-emitting diode device according to a fifth aspect is the organic light-emitting diode device according to the first aspect, wherein the light-emitting layer is a layer made of aluminum tris 8-hydroxyquinoline (Alq 3 ).
請求項6に記載の有機発光ダイオードデバイスは、請求項1に記載されたもので、前記正孔輸送層が、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NPB)からなる層であることを特徴とする。
The organic light-emitting diode device according to
本発明の有機発光ダイオードデバイスは、ピリジル基を有するオキサジアゾール誘導体を電子輸送材料として、これにフッ化セシウムをドープした成分で電子輸送層を構成している。この構成によって、陰極と電子輸送層との間のエネルギーギャップが低くなる。その結果、本発明の有機発光ダイオードは、アルカリ金属をバッファとしてドープした発光ダイオードや、従来のバッファ層を備えた発光ダイオードと同等の低電圧で駆動し、しかも高輝度、長寿命の発光を得ることができる。 In the organic light-emitting diode device of the present invention, an oxadiazole derivative having a pyridyl group is used as an electron transport material, and an electron transport layer is constituted by a component doped with cesium fluoride. With this configuration, the energy gap between the cathode and the electron transport layer is lowered. As a result, the organic light-emitting diode of the present invention is driven at a low voltage equivalent to that of a light-emitting diode doped with an alkali metal as a buffer or a conventional light-emitting diode having a buffer layer, and obtains light emission with high brightness and long life. be able to.
前記フッ化セシウムは安定な化合物であるため扱いやすい。従って、有機発光ダイオードデバイスを作製する際、アルカリディスペンサーのような高価な蒸着源を必要としない。 Since the cesium fluoride is a stable compound, it is easy to handle. Therefore, when producing an organic light emitting diode device, an expensive vapor deposition source such as an alkaline dispenser is not required.
本発明の有機発光ダイオードデバイスは、ディスプレイ,照明等に利用することができる。 The organic light-emitting diode device of the present invention can be used for displays, lighting and the like.
以下、本発明の好ましい形態を図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings, but the scope of the present invention is not limited to these embodiments.
本発明の好ましい有機発光ダイオードデバイスの層構造は、図1に示すとおり、ガラス基板11/陽極12(ITO)/正孔輸送層13(NPB)/発光層14(Alq3)/電子輸送層15(BpyOXDm:フッ化セシウム)/陰極16(Al)である。 As shown in FIG. 1, the layer structure of the preferred organic light emitting diode device of the present invention is as follows: glass substrate 11 / anode 12 (ITO) / hole transport layer 13 (NPB) / light emitting layer 14 (Alq 3 ) / electron transport layer 15. (BpyOXDm: cesium fluoride) / cathode 16 (Al).
電子輸送層15は陰極から注入された電子を発光層へ送りこむ機能を示す層であり、ピリジル基含有オキサジアゾール誘導体であるBpyOXDm(1,3-bis[2-(2,2’-bipyridin-6-yl)-1,3,4-oxadiazol-5-yl]benzene)に、アルカリ金属のフッ化物であるフッ化セシウム(CsF)をドープした成分で構成されている。BpyOXDmは、下記化学式で示す構造である。 The electron transport layer 15 is a layer having a function of sending electrons injected from the cathode to the light emitting layer, and is a pyridyl group-containing oxadiazole derivative BpyOXDm (1,3-bis [2- (2,2'-bipyridin- 6-yl) -1,3,4-oxadiazol-5-yl] benzene) is composed of a component doped with cesium fluoride (CsF), which is an alkali metal fluoride. BpyOXDm has a structure represented by the following chemical formula.
前記電子輸送層は、真空蒸着法によりBpyOXDmを蒸着速度1Å/s,フッ化セシウムを蒸着速度0.03〜0.2Å/sとで共蒸着して得られる。BpyOXDmとフッ化セシウムとのドープ比率は、モル比で1:1〜2:1であると、より低電圧での駆動が得られるため、好ましい。また、前記電子輸送層の膜厚は、20〜50nmであるとよい。 The electron transport layer is obtained by co-depositing BpyOXDm at a deposition rate of 1 Å / s and cesium fluoride at a deposition rate of 0.03 to 0.2 Å / s by a vacuum deposition method. It is preferable that the doping ratio of BpyOXDm and cesium fluoride is 1: 1 to 2: 1 in terms of molar ratio because driving at a lower voltage can be obtained. The thickness of the electron transport layer is preferably 20 to 50 nm.
前記ピリジル基含有オキサジアゾール誘導体は、ピリジン環を有するものであれば特に限定はなく、ビピリジル基を有するものでもよい。ピリジル基含有オキサジアゾール誘導体として、前記BpyOXDm以外にも、
2,6-bis[2-(2,2’-bipyridin-6-yl)-1,3,4-oxadiazol-5-yl]pyridine
(Phpy-OXDm),1,3-bis[2-(2,2’-bipyridin-6-yl)-1,3,4-oxadiazol-5-yl]-5-cyanobenzene(CBPO)などを使用することができる。
The pyridyl group-containing oxadiazole derivative is not particularly limited as long as it has a pyridine ring, and may have a bipyridyl group. As a pyridyl group-containing oxadiazole derivative, in addition to the BpyOXDm,
2,6-bis [2- (2,2'-bipyridin-6-yl) -1,3,4-oxadiazol-5-yl] pyridine
(Phpy-OXDm), 1,3-bis [2- (2,2'-bipyridin-6-yl) -1,3,4-oxadiazol-5-yl] -5-cyanobenzene (CBPO) be able to.
発光層14は、その層内で正孔と電子とが再結合して発光する機能を示す層である。発光層を構成する材料としては、前記の機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、アルミニウム トリス 8−ヒドロキシキノリン(Alq3)であると好ましい。 The light emitting layer 14 is a layer having a function of emitting light by recombination of holes and electrons in the layer. The material constituting the light emitting layer is not particularly limited as long as it can exhibit the above functions, but aluminum tris 8-hydroxyquinoline (Alq 3 ) is preferable.
正孔輸送層13は、正孔を陽極から発光層へ送りこむ機能を示す層である。正孔輸送層を構成する材料としては、前記の機能を発揮できるものであれば特に限定されないが、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(NPB)であると好ましい。 The hole transport layer 13 is a layer having a function of sending holes from the anode to the light emitting layer. The material constituting the hole transport layer is not particularly limited as long as it can exhibit the above functions, but 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPB). Is preferable.
基板11としては、例えばガラス基板、石英基板のような透明性基板、または金属製基板、セラミック製基板のような不透明性基板を用いることができる。 As the substrate 11, for example, a transparent substrate such as a glass substrate or a quartz substrate, or an opaque substrate such as a metal substrate or a ceramic substrate can be used.
陽極12の材料としては仕事関数が大きなものが好ましく、例えば金、白金、ニッケル、パラジウム、コバルト、セレン、バナジウムのような金属の単体;これらの金属の合金;酸化錫、酸化亜鉛、酸化錫インジウム(ITO)、酸化亜鉛インジウムのような金属酸化物が挙げられる。中でもITOが好ましい。これらの陽極材料は、単独で陽極を構成してもよく、複数併用して構成してもよい。 The material of the anode 12 is preferably a material having a large work function, for example, a simple metal such as gold, platinum, nickel, palladium, cobalt, selenium, vanadium; an alloy of these metals; tin oxide, zinc oxide, indium tin oxide. (ITO), and metal oxides such as zinc indium oxide. Of these, ITO is preferable. These anode materials may constitute an anode alone or may be used in combination.
陰極16の材料としては仕事関数が小さなものが好ましく、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、銀のような金属の単体;これらの金属の合金が挙げられる。中でもアルミニウムが好ましい。これらの陰極材料は、単独で陰極を構成してもよく、複数併用して構成してもよい。 The material of the cathode 16 is preferably a material having a small work function, for example, simple metals such as lithium, sodium, potassium, calcium, magnesium, aluminum, indium and silver; and alloys of these metals. Of these, aluminum is preferable. These cathode materials may constitute a cathode alone or in combination.
前記正孔輸送層、前記発光層、前記陽極及び前記陰極の形成方法は特に限定されず、真空蒸着法のようなドライプロセス、スピンコート法やインクジェット法のようなウェットプロセス等、公知の方法を適宜用いることができる。 The formation method of the hole transport layer, the light emitting layer, the anode and the cathode is not particularly limited, and a known method such as a dry process such as a vacuum evaporation method, a wet process such as a spin coating method or an ink jet method is used. It can be used as appropriate.
本発明の有機発光ダイオードデバイスは、前記の各層に加えて、正孔注入層、正孔ブロック層、電子注入層等の層が設けられていてもよい。これらの層は、単層であっても多層であってもよい。 The organic light emitting diode device of the present invention may be provided with layers such as a hole injection layer, a hole blocking layer, and an electron injection layer in addition to the above layers. These layers may be a single layer or multiple layers.
本発明を適用する有機発光ダイオードデバイスを作製した例を実施例1〜2に、本発明を適用外の有機発光ダイオードデバイスを作製した例を比較例1に、それぞれ示す。 An example in which an organic light emitting diode device to which the present invention is applied is produced is shown in Examples 1 and 2, and an example in which an organic light emitting diode device to which the present invention is not applied is produced is shown in Comparative Example 1.
(実施例1)
実施例1の有機発光ダイオードデバイスの構成は、ガラス基板/ITO/NPB/Alq3/BpyOXDm:フッ化セシウム/Alである。
(Example 1)
The structure of the organic light emitting diode device of Example 1 is glass substrate / ITO / NPB / Alq 3 / BpyOXDm: cesium fluoride / Al.
ガラス基板上に、陽極として、ITOをスパッタ法にて膜厚150nmに成膜し、表面を洗浄、乾燥した。 On the glass substrate, ITO was formed into a film with a thickness of 150 nm by sputtering as an anode, and the surface was washed and dried.
次いで前記陽極の上に、正孔輸送層として、NPBを真空蒸着法にて膜厚50nmに成膜した。 Next, NPB was deposited on the anode as a hole transport layer to a thickness of 50 nm by a vacuum deposition method.
次いで前記正孔輸送層の上に、発光層として、Alq3を真空蒸着法にて膜厚20nmに成膜した。 Next, on the hole transport layer, Alq 3 was deposited to a thickness of 20 nm as a light emitting layer by vacuum deposition.
次いで前記発光層の上に、電子輸送層として、BpyOXDmとフッ化セシウムとを、モル比1:1となるように、真空蒸着法にてBpyOXDmの成膜速度1Å/s、フッ化セシウムの成膜速度0.1Å/sで真空度2.0×10−4Pa以で共蒸着して膜厚30nmに成膜した。 Next, on the light emitting layer, as an electron transport layer, BpyOXDm and cesium fluoride are formed at a deposition rate of 1 Py / s of BpyOXDm by vacuum deposition so that the molar ratio is 1: 1, and cesium fluoride is formed. Co-evaporation was performed at a film speed of 0.1 蒸 着 / s at a vacuum degree of 2.0 × 10 −4 Pa or more to form a film with a thickness of 30 nm.
次いで前記電子輸送層の上に、陰極としてアルミニウムを真空蒸着法にて膜厚200nmに成膜して乾燥し、実施例1のデバイスを得た。 Next, on the electron transport layer, aluminum as a cathode was formed into a film having a film thickness of 200 nm by a vacuum vapor deposition method and dried to obtain the device of Example 1.
(実施例2)
BpyOXDmとフッ化セシウムとのモル比を2:1にしたこと以外は実施例1と同様にして、実施例2のデバイスを得た。
(Example 2)
A device of Example 2 was obtained in the same manner as Example 1 except that the molar ratio of BpyOXDm to cesium fluoride was 2: 1.
(比較例1)
比較例1の有機発光ダイオードデバイスの構成は、ガラス基板/ITO/NPB/Alq3/BpyOXDm/LiF/Alである。
(Comparative Example 1)
The structure of the organic light emitting diode device of Comparative Example 1 is glass substrate / ITO / NPB / Alq 3 / BpyOXDm / LiF / Al.
ガラス基板上に、陽極としてITOをスパッタ法にて膜厚150nmに成膜し、表面を洗浄、乾燥した。 On the glass substrate, ITO was formed into a film with a thickness of 150 nm by sputtering as an anode, and the surface was washed and dried.
次いで前記陽極の上に、正孔輸送層としてNPBを真空蒸着法にて膜厚50nmに成膜した。 Subsequently, NPB was formed into a film thickness of 50 nm as a positive hole transport layer on the said anode by the vacuum evaporation method.
次いで前記正孔輸送層の上に、発光層としてAlq3を真空蒸着法にて膜厚20nmに成膜した。 Next, on the hole transport layer, Alq 3 was deposited as a light emitting layer to a thickness of 20 nm by vacuum deposition.
次いで前記発光層の上に、電子輸送層としてBpyOXDmを真空蒸着法にて膜厚30nmに成膜した。 Next, BpyOXDm was deposited as an electron transport layer on the light emitting layer to a thickness of 30 nm by vacuum deposition.
次いで前記電子輸送層の上に、バッファ層としてフッ化リチウム(LiF)を真空蒸着法にて膜厚0.5nmに成膜した。 Next, lithium fluoride (LiF) was deposited as a buffer layer on the electron transport layer to a thickness of 0.5 nm by a vacuum deposition method.
次いで前記バッファ層の上に、陰極としてアルミニウムを真空蒸着法にて膜厚200nmに成膜して乾燥し、比較例1のデバイスを得た。 Next, on the buffer layer, aluminum as a cathode was formed into a film having a film thickness of 200 nm by a vacuum vapor deposition method and dried to obtain a device of Comparative Example 1.
実施例1〜2および比較例1で作製したデバイスについて以下の測定を行い、物性を評価した。 The devices prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were subjected to the following measurements and evaluated for physical properties.
(電流密度測定)
有機EL発光効率測定装置EL1003(プレイサイズゲージ社製)を用い、各デバイスの電流密度を測定した。測定結果を図2に示す。
(Current density measurement)
The current density of each device was measured using an organic EL luminous efficiency measuring device EL1003 (manufactured by Play Size Gauge). The measurement results are shown in FIG.
図2から明らかなように、実施例のデバイスは、比較例のデバイスに比べてより低電圧で、比較例のデバイスと同等の電流密度を得ることができた。 As is clear from FIG. 2, the device of the example was able to obtain a current density equivalent to that of the device of the comparative example at a lower voltage than the device of the comparative example.
1は有機発光ダイオードデバイス、11は基板、12は陽極、13は正孔輸送層、14は発光層、15は電子輸送層、16は陰極である。 1 is an organic light emitting diode device, 11 is a substrate, 12 is an anode, 13 is a hole transport layer, 14 is a light emitting layer, 15 is an electron transport layer, and 16 is a cathode.
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