JP2008108765A - Tool and method for adjusting position, and method of manufacturing electronic equipment - Google Patents

Tool and method for adjusting position, and method of manufacturing electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a position adjustment tool capable of adjusting the position of a carrier machine precisely and quickly. <P>SOLUTION: The position adjustment tool 1 is used when a carrier container storing a substrate is suspended by the carrier machine for moving onto the load port of aimed manufacturing equipment and the position is adjusted so that a connection groove provided at the bottom of the carrier container is connected to a kinematic pin on the load port. The position adjustment tool 1 has: a flange 14 provided corresponding to a top flange on the carrier container and retained by the carrier machine; a body 16 connected to the flange 14; and a base plate 10 that is connected to the body, and has a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin with a surface corresponding to the bottom of the carrier container as a rear. The diameter of the through hole 12 is larger than that of the kinematic pin. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板等を収納する搬送容器の自動搬送に関し、特に搬送容器を製造装置に移載する搬送機の位置を調整する位置調整治具、位置調整方法及び電子装置の製造方法に関する。   The present invention relates to automatic transfer of a transfer container that stores a substrate or the like, and more particularly to a position adjusting jig, a position adjusting method, and an electronic device manufacturing method for adjusting the position of a transfer machine that transfers a transfer container to a manufacturing apparatus.

半導体装置の製造工程で用いられる半導体基板は、前面ドア付きポッド(FOUP)と称される密閉容器に収納されて搬送される。「FOUP」とは半導体製造装置材料協会(SEMI:Semiconductor Equipment and Materials Institute)の規格に準拠している300ミリウェハ用の密閉型搬送容器である。FOUPの寸法は、SEMI規格E1.9、E47.1、E57、E62等にて規定されている。FOUPを自動搬送する搬送機とのインターフェースとして、FOUP上面のトップフランジ、FOUP底面のV溝状のレセプタクルのセカンダリキネマティックピン位置、及びFOUP底面のコンベアレールがSEMI規格の中で規定されている。また、製造装置に設けられたロードポートとのキネマティックカプリングのインターフェイスとして、FOUP底面のレセプタクルのプライマリキネマティックピン位置が規定されている。   A semiconductor substrate used in a manufacturing process of a semiconductor device is housed and transported in an airtight container called a pod with a front door (FOUP). “FOUP” is a 300 mm wafer sealed transfer container that conforms to the standard of the Semiconductor Equipment and Materials Institute (SEMI). The dimensions of FOUP are defined by SEMI standards E1.9, E47.1, E57, E62, and the like. The SEMI standard defines the top flange on the top surface of the FOUP, the position of the secondary kinematic pin of the V-shaped receptacle on the bottom surface of the FOUP, and the conveyor rail on the bottom surface of the FOUP as interfaces with a transporter that automatically transports the FOUP. Further, the position of the primary kinematic pin of the receptacle on the bottom surface of the FOUP is defined as an interface for kinematic coupling with a load port provided in the manufacturing apparatus.

FOUPを高信頼性で自動搬送するために、FOUPのトップフランジ及びレセプタクルを基準に製造装置のロードポートに対する位置を搬送機に記憶させる必要がある。また、製造装置内でのFOUP搬送等において、レセプタクルのセカンダリキネマティックピン位置やコンベアレールと、レセプタクルのプライマリキネマティックピン位置とを基準に製造装置のロードポートに対する位置を搬送機に記憶させる必要がある。   In order to automatically transport the FOUP with high reliability, it is necessary to store the position of the manufacturing apparatus with respect to the load port on the basis of the top flange and the receptacle of the FOUP. In addition, in the FOUP conveyance in the manufacturing apparatus, it is necessary to store the position relative to the load port of the manufacturing apparatus on the basis of the position of the secondary kinematic pin of the receptacle, the conveyor rail, and the position of the primary kinematic pin of the receptacle. is there.

通常、搬送機にロードポート位置を記憶させるティーチング作業にFOUPが使用される。ティーチング作業において、搬送するFOUPとロードポートのプライマリキネマティックピンはSEMI規格に準拠していることが前提となる。しかし、SEMI規格には公差があり、FOUP毎の寸法誤差もある。特に、FOUPは樹脂製のため、金属や半導体等に比べて加工精度が劣る。そのため、ティーチングに使用するFOUPが必ずしもティーチングに適しているFOUPとは限らない。また、FOUPのレセプタクルに設けられたV溝はFOUP下面にある為に位置確認作業が困難である。   Normally, FOUP is used for teaching work for storing the load port position in the transport machine. In teaching work, it is assumed that the FOUP to be transported and the primary kinematic pins of the load port comply with the SEMI standard. However, there are tolerances in the SEMI standard, and there are dimensional errors for each FOUP. In particular, since FOUP is made of resin, its processing accuracy is inferior to that of metal or semiconductor. Therefore, the FOUP used for teaching is not necessarily a FOUP suitable for teaching. Further, since the V-groove provided in the FOUP receptacle is on the lower surface of the FOUP, it is difficult to confirm the position.

FOUPの位置調整について、位置調整治具を用いてロードポートのFOUP保持部と蓋開閉部との相対的な位置を調整しているものがある(例えば、特許文献1参照。)。しかし、ロードポートに対する搬送機の位置を調整する治具については開示されていない。
特開2000−269302号公報
Regarding the position adjustment of the FOUP, there is one in which the relative position between the FOUP holding part and the lid opening / closing part of the load port is adjusted using a position adjusting jig (see, for example, Patent Document 1). However, a jig for adjusting the position of the transfer machine with respect to the load port is not disclosed.
JP 2000-269302 A

本発明の目的は、搬送機の位置調整を高精度に短時間で実施することが可能な位置調整治具、位置調整方法及び電子装置の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a position adjusting jig, a position adjusting method, and an electronic device manufacturing method capable of performing position adjustment of a transport machine with high accuracy in a short time.

本発明の第1の態様によれば、(イ)搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて目的とする製造装置のロードポート上に移動し、搬送容器底部に設けられた結合溝がロードポート上のキネマティックピンと結合するように位置調整する際に用いる位置調整治具であって、(ロ)搬送容器上のトップフランジに対応して設けられた、搬送機により保持されるフランジ部と、(ハ)フランジ部に接続された本体部と、(ニ)搬送容器の底面に対応する面を裏面とし、本体部に接続され、キネマティックピンに対応する位置に設けられた貫通孔を有するベースプレートとを備え、(ホ)貫通孔の直径がキネマティックピンの直径より大きい位置調整治具が提供される。   According to the first aspect of the present invention, (a) the transfer container for storing the substrate is suspended by the transfer machine and moved onto the load port of the target manufacturing apparatus, and the coupling groove provided at the bottom of the transfer container is A position adjustment jig used when adjusting the position so as to be coupled with a kinematic pin on a load port, and (b) a flange portion provided corresponding to the top flange on the transfer container and held by the transfer machine And (c) a main body connected to the flange, and (d) a surface corresponding to the bottom surface of the transport container as a back surface, and a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin connected to the main body. And (e) a position adjusting jig in which the diameter of the through hole is larger than the diameter of the kinematic pin.

本発明の第2の態様によれば、(イ)搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて目的とする製造装置のロードポート上に移動し、搬送容器底部に設けられた結合溝とロードポート上のキネマティックピンと結合するように位置調整する位置調整方法であって、(ロ)搬送容器上のトップフランジに対応して設けられた、搬送機により保持されるフランジ部と、フランジ部に接続された本体部と、搬送容器の底面に対応する面を裏面とし、本体部に接続され、キネマティックピンに対応する位置に設けられた貫通孔を有するベースプレートとを備え、貫通孔の直径がキネマティックピンの直径より大きい位置調整治具により、ロードポート上の搬送機の搬送位置を調整する位置調整方法が提供される。   According to the second aspect of the present invention, (a) a transfer container for storing a substrate is suspended by a transfer machine and moved onto a load port of a target manufacturing apparatus, and a coupling groove provided at the bottom of the transfer container; A position adjustment method for adjusting a position so as to be coupled with a kinematic pin on a load port, (b) a flange portion provided corresponding to a top flange on a transport container and held by a transport machine; and a flange portion And a base plate having a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin and having a surface corresponding to the bottom surface of the transport container as the back surface, connected to the main body portion, and having a through hole diameter. A position adjustment method for adjusting the transfer position of the transfer machine on the load port is provided by a position adjustment jig whose diameter is larger than the diameter of the kinematic pin.

本発明の第3の態様によれば、(イ)複数の製造装置間を搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて搬送して、搬送容器に収納された基板を順次、対応する製造装置に転送して、複数の製造装置による一連の処理を行う電子装置の製造方法であって、(ロ)搬送容器上のトップフランジに対応して設けられた、搬送機により保持されるフランジ部と、フランジ部に接続された本体部と、搬送容器の底面に対応する面を裏面とし、本体部に接続され、キネマティックピンに対応する位置に設けられた貫通孔を有するベースプレートとを備え、貫通孔の直径がキネマティックピンの直径より大きい位置調整治具により、ロードポート上の搬送機の搬送位置を調整するステップと、(ハ)搬送位置を調整後に、搬送機により搬送容器を特定の工程の処理を終了した第1の製造装置から、次に予定されている工程を実行する第2の製造装置のロードポート上に移載するステップと、(ニ)搬送容器から基板を転送して第2の製造装置により予定されている工程を実施するステップとを含む電子装置の製造方法が提供される。   According to the third aspect of the present invention, (a) a transfer container for storing a substrate is hung and transferred between a plurality of manufacturing apparatuses by a transfer device, and the substrates stored in the transfer container are sequentially correspondingly manufactured. A method of manufacturing an electronic device that is transferred to a device and performs a series of processes by a plurality of manufacturing devices, and (b) a flange portion provided corresponding to the top flange on the transport container and held by the transporter And a base plate connected to the flange, and a base plate having a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin connected to the main body with the surface corresponding to the bottom surface of the transport container as the back surface, The step of adjusting the transfer position of the transfer machine on the load port with the position adjustment jig whose diameter of the through hole is larger than the diameter of the kinematic pin, and (c) After the transfer position is adjusted, the transfer container is specified by the transfer machine A step of transferring from the first manufacturing apparatus that has completed the process to the load port of the second manufacturing apparatus that executes the next scheduled process; and (d) transferring the substrate from the transfer container. A method of manufacturing an electronic device is provided that includes performing a process scheduled by a second manufacturing apparatus.

本発明によれば、搬送機の位置調整を高精度に短時間で実施することが可能な位置調整治具、位置調整方法及び電子装置の製造方法を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a position adjustment jig, a position adjustment method, and an electronic device manufacturing method capable of performing position adjustment of a transport machine with high accuracy in a short time.

以下図面を参照して、本発明の形態について説明する。以下の図面の記載において、同一または類似の部分には同一または類似の符号が付してある。但し、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、装置やシステムの構成等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な寸法や構成は以下の説明を参酌して判断すべきものである。また図面相互間においても互いの寸法の関係や構成等が異なる部分が含まれていることは勿論である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the configuration of the apparatus and the system, and the like are different from the actual ones. Therefore, specific dimensions and configurations should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is a matter of course that portions having different dimensional relationships and configurations are included between the drawings.

本発明の実施の形態に係る位置調整治具1は、図1及び図2に示すように、フランジ部14、本体部16、ベースプレート10を備える。位置調整治具1は、搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて目的とする製造装置のロードポート上に移動し、搬送容器底部に設けられた結合溝がロードポート上のキネマティックピンと結合するように位置調整する際に用いられる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the position adjustment jig 1 according to the embodiment of the present invention includes a flange portion 14, a body portion 16, and a base plate 10. The position adjusting jig 1 hangs the transfer container for storing the substrate by the transfer machine and moves it onto the load port of the target manufacturing apparatus, and the coupling groove provided at the bottom of the transfer container is connected to the kinematic pin on the load port. It is used when adjusting the position so that they are combined.

フランジ部14は、搬送容器上に設けられたトップフランジに対応する。本体部16は、フランジ部14に接続される。ベースプレート10は、本体部16に接続される。ベースプレート10は、搬送容器の底面に対応する面を裏面として、ロードポート上のキネマティックピンに対応する位置に設けられた3個の貫通孔12を有する。   The flange portion 14 corresponds to a top flange provided on the transport container. The main body portion 16 is connected to the flange portion 14. The base plate 10 is connected to the main body portion 16. The base plate 10 has three through holes 12 provided at positions corresponding to kinematic pins on the load port with the surface corresponding to the bottom surface of the transport container as the back surface.

ベースプレート10上において、各貫通孔12は三角形の頂点の位置に配置される。貫通孔12のなす三角形の一辺と平行なベースプレート10の端部が、搬送容器の蓋が取り付けられる前面に対応する。貫通孔12の直径はDhである。また、フランジ部14及びベースプレート10間の距離が搬送容器の裏面及びトップフランジ間の距離に対応するように、本体部16の高さが決定される。   On the base plate 10, each through hole 12 is disposed at the position of the apex of the triangle. The end of the base plate 10 parallel to one side of the triangle formed by the through hole 12 corresponds to the front surface to which the lid of the transport container is attached. The diameter of the through hole 12 is Dh. Further, the height of the main body portion 16 is determined so that the distance between the flange portion 14 and the base plate 10 corresponds to the distance between the back surface of the transport container and the top flange.

実施の形態に係る電子装置としての半導体装置の製造を実施する製造設備は、図3に示すように、複数の製造装置54a、・・・、54bと、保管庫58とを備える。各製造装置54a〜54bは、半導体装置の製造工程の流れに従い、各製造装置54a〜54b間に規定される複数の工程間搬送経路に沿って搬送される搬送容器60に収納された半導体基板を処理する。保管庫58は、搬送容器60を複数保存することが可能である。   A manufacturing facility for manufacturing a semiconductor device as an electronic device according to the embodiment includes a plurality of manufacturing apparatuses 54a, 54b, and a storage 58 as shown in FIG. Each of the manufacturing apparatuses 54a to 54b has a semiconductor substrate stored in a transfer container 60 that is transferred along a plurality of inter-process transfer paths defined between the manufacturing apparatuses 54a to 54b in accordance with the flow of the manufacturing process of the semiconductor device. To process. The storage 58 can store a plurality of transport containers 60.

更に、各製造装置54a〜54b間、及び保管庫58と各製造装置54a〜54bとの間の搬送には、天井吊り下げ式搬送(OHT)システムが用いられる。OHTシステムには、半導体基板を収納した搬送容器60を自動搬送可能なように構成された搬送機40、搬送レール52等を備える。各製造装置54a〜54bには、搬送された搬送容器60から半導体基板を転送するためのロードポート56a、・・・、56bが設けられる。保管庫58には、搬送容器60を収納するためのロードポート56cが設けられる。搬送機40は、搬送容器60を吊り下げて搬送レール52に沿って移動する。更に、搬送機40は、搬送容器60を各製造装置54a〜54b及び保管庫58のロードポート56a〜56c上に移載する。   Further, a ceiling suspended transfer (OHT) system is used for transfer between the manufacturing apparatuses 54a to 54b and between the storage 58 and the manufacturing apparatuses 54a to 54b. The OHT system includes a transfer machine 40, a transfer rail 52, and the like configured to be able to automatically transfer a transfer container 60 containing a semiconductor substrate. Each of the manufacturing apparatuses 54a to 54b is provided with load ports 56a,..., 56b for transferring the semiconductor substrate from the transport container 60 that has been transported. The storage 58 is provided with a load port 56 c for storing the transport container 60. The transporter 40 hangs the transport container 60 and moves along the transport rail 52. Further, the transporter 40 transfers the transport container 60 onto the manufacturing apparatuses 54 a to 54 b and the load ports 56 a to 56 c of the storage 58.

なお、製造装置54a〜54b及び保管庫58のそれぞれに、ロードポート56a〜56cが2個の設けられている。しかし、ロードポートは、1個、あるいは3個以上の複数個であってもよい。   Two load ports 56a to 56c are provided in each of the manufacturing apparatuses 54a to 54b and the storage 58. However, the load port may be one or a plurality of three or more.

製造装置54a〜54bには、例えば、反応性イオンエッチング(RIE)等のドライエッチング装置、ウェット処理装置、CVD装置、スパッタリング装置、蒸着装置、イオン注入装置、熱処理装置、拡散処理装置、フォトリソグラフィシステム、メッキ処理装置、ダイシング装置、ボンディング装置等が含まれる。また、製造装置54a〜54bには、干渉式膜厚計、エリプソメータ、接触式膜厚計、顕微鏡、抵抗測定装置等の種々の検査装置、測定装置も含まれる。   Examples of the manufacturing apparatuses 54a to 54b include dry etching apparatuses such as reactive ion etching (RIE), wet processing apparatuses, CVD apparatuses, sputtering apparatuses, vapor deposition apparatuses, ion implantation apparatuses, heat treatment apparatuses, diffusion processing apparatuses, and photolithography systems. , A plating apparatus, a dicing apparatus, a bonding apparatus, and the like. The manufacturing apparatuses 54a to 54b also include various inspection apparatuses and measuring apparatuses such as an interference film thickness meter, an ellipsometer, a contact film thickness meter, a microscope, and a resistance measuring device.

実施の形態に係る半導体装置の製造方法で用いる搬送容器60には、例えばFOUP等を用いる。図4(a)は、搬送容器60としてFOUPを用いた場合において、その前開きの蓋62が開けられた状態であり、容器本体61の内側に切られた溝(スロット)を介して、例えば1ロットの24枚のウェハ(半導体基板)63が容器本体61の内部に収納された状態を示している。一方、図4(b)は、図4(a)に対応し、搬送容器60の前開きの蓋62が閉じられ、密閉状態を示している。搬送容器60の上面には、搬送機40により保持されるトップフランジ64が設けられる。搬送容器60の底面には、ロードポート56a〜56cのキネマティックピンと結合するV溝を有するレセプタクル66が3個設けられる。図5に示すように、レセプタクル66は、幅WgのV字状の結合溝67を有する。なお、結合溝67は、U字状であってもよい。   For example, FOUP or the like is used for the transport container 60 used in the method for manufacturing a semiconductor device according to the embodiment. FIG. 4A shows a state in which the front opening lid 62 is opened when a FOUP is used as the transport container 60. For example, through a groove (slot) cut inside the container body 61, FIG. The figure shows a state where 24 wafers (semiconductor substrates) 63 of one lot are stored in the container body 61. On the other hand, FIG. 4 (b) corresponds to FIG. 4 (a) and shows a sealed state in which the front opening lid 62 of the transport container 60 is closed. A top flange 64 that is held by the transfer machine 40 is provided on the upper surface of the transfer container 60. Three receptacles 66 having V grooves that are coupled to the kinematic pins of the load ports 56a to 56c are provided on the bottom surface of the transport container 60. As shown in FIG. 5, the receptacle 66 has a V-shaped coupling groove 67 having a width Wg. The coupling groove 67 may be U-shaped.

図6は、図3に示した製造装置54a〜54b、ロードポート56a〜56bの中の特定の一組を代表として選び、それを包括的に製造装置54、ロードポート56として示した図である。ロードポート56の上面には、ロードポート56上で搬送容器60を位置決めして保持する3本のキネマティックピン30が設けられる。キネマティックピン30の直径Dpは、搬送容器60の結合溝67の幅Wgよりも小さい。   FIG. 6 is a diagram in which a specific set of the manufacturing apparatuses 54a to 54b and the load ports 56a to 56b illustrated in FIG. 3 is selected as a representative, and is comprehensively illustrated as the manufacturing apparatus 54 and the load port 56. . Three kinematic pins 30 for positioning and holding the transfer container 60 on the load port 56 are provided on the upper surface of the load port 56. The diameter Dp of the kinematic pin 30 is smaller than the width Wg of the coupling groove 67 of the transport container 60.

例えば、目的とする製造装置(k番目の製造装置:kは2以上の正の整数)54に半導体基板を収納した搬送容器を、工程の終了した他の製造装置((k−1)番目の製造装置)から搬送する場合、図7に示すように、搬送機40は、制御ユニット46の制御に基いて、チャック部42でトップフランジ64を保持することにより搬送容器60を吊り下げて搬送レール52の下を搬送レール52に従って走行する。制御ユニット46は、搬送レール52に設置された位置センサ(図示省略)の信号を検出して、搬送容器60をロードポート56へ移載するために搬送機40を目的とする製造装置54上方の定位置に停止させる。   For example, a transport container that houses a semiconductor substrate in a target manufacturing apparatus (k-th manufacturing apparatus: k is a positive integer equal to or greater than 2) 54 is replaced with another manufacturing apparatus ((k−1) -th) that has completed the process. When transporting from the manufacturing apparatus), as shown in FIG. 7, the transporter 40 suspends the transport container 60 by holding the top flange 64 by the chuck portion 42 based on the control of the control unit 46 and transports the transport rail. The vehicle travels under the conveyance rail 52 under the line 52. The control unit 46 detects a signal from a position sensor (not shown) installed on the transport rail 52 and moves the transport container 60 above the manufacturing apparatus 54 for the purpose of transferring the transport container 60 to the load port 56. Stop at a fixed position.

図8に示すように、搬送機40は、制御ユニット46の制御に基いて、定位置においてワイヤやベルト等のホイスト機構44を用いて搬送容器60をロードポート56に降下させる。図9に示すように、搬送容器60は、3個のレセプタクル66と3本のキネマティックピン30との3点キネマティックカプリングによりロードポート56上に移載される。その後、ホイスト機構44を巻き上げてチャック部42が搬送機40本体に収納される。   As shown in FIG. 8, the transport machine 40 lowers the transport container 60 to the load port 56 using a hoist mechanism 44 such as a wire or a belt at a fixed position based on the control of the control unit 46. As shown in FIG. 9, the transfer container 60 is transferred onto the load port 56 by a three-point kinematic coupling of three receptacles 66 and three kinematic pins 30. Thereafter, the hoist mechanism 44 is wound up, and the chuck portion 42 is accommodated in the main body of the transport device 40.

その後、ロードポート56で、図4に示した搬送容器60の蓋62が開けられる。クリーンエリアにより局所クリーン化された転送室(図示省略)を介して、製造装置54に搬送容器60から基板が転送される。製造装置54では、基板に対して所定の工程の処理がなされる。工程の処理が終了した基板は、転送室を介して、ロードポート56に転送される。ロードポート56で、基板が搬送容器60に収納される。更に、搬送容器60の蓋62が閉じられる。その後、ホイスト機構44により降下したチャック部42がトップフランジ64を保持する。ホイスト機構44を巻き上げてチャック部42で保持された搬送容器60が搬送機40本体に回収される。搬送レール52に従って、次の工程の製造装置((k+1)番目の製造装置)まで搬送機40が搬送容器60を搬送する。   Thereafter, the lid 62 of the transport container 60 shown in FIG. The substrate is transferred from the transfer container 60 to the manufacturing apparatus 54 via a transfer chamber (not shown) that is locally cleaned by the clean area. In the manufacturing apparatus 54, a predetermined process is performed on the substrate. The substrate for which the process has been completed is transferred to the load port 56 through the transfer chamber. The substrate is stored in the transfer container 60 by the load port 56. Further, the lid 62 of the transport container 60 is closed. Thereafter, the chuck portion 42 lowered by the hoist mechanism 44 holds the top flange 64. The hoist mechanism 44 is wound up and the transport container 60 held by the chuck portion 42 is collected in the main body of the transport machine 40. According to the transport rail 52, the transporter 40 transports the transport container 60 to the manufacturing device ((k + 1) th manufacturing device) for the next step.

なお、次の工程の製造装置が、他のロットの処理中、あるいはメンテナンス中で使用不可の場合は、搬送容器60は、次の工程の製造装置の直前の搬送レール52上で待機する。あるいは、次の工程の製造装置が長期間使用不可となると判断されれば、搬送容器60は、ロードポート56cに搬送され、ロードポート56cを介して保管庫58内に保管される。   When the manufacturing apparatus for the next process cannot be used during processing of another lot or during maintenance, the transport container 60 stands by on the transport rail 52 immediately before the manufacturing apparatus for the next process. Alternatively, if it is determined that the manufacturing apparatus for the next process is unusable for a long time, the transport container 60 is transported to the load port 56c and stored in the storage 58 via the load port 56c.

図10に示すように、搬送容器60の3個のレセプタクル66は、SEMI規格に基く3点キネマティックカプリングによりロードポート56の3本のキネマティックピン30に接して保持される。図5〜図7に示したように、レセプタクル66の結合溝67の幅Wgは、SEMI規格の公差を考慮してキネマティックピン30の直径Dpよりも大きくしてある。しかし、複数の搬送容器間には、搬送容器の製造誤差による寸法のばらつきがある。したがって、ロードポート56に対する搬送機40、特にチャック部42の位置を、製品としての搬送容器60を用いて位置調整すると、搬送容器60のロードポート56への移載の信頼性が劣化する。また、レセプタクル66が搬送容器60底面に設置されているため、目視による位置調整が困難となる。   As shown in FIG. 10, the three receptacles 66 of the transport container 60 are held in contact with the three kinematic pins 30 of the load port 56 by a three-point kinematic coupling based on the SEMI standard. As shown in FIGS. 5 to 7, the width Wg of the coupling groove 67 of the receptacle 66 is larger than the diameter Dp of the kinematic pin 30 in consideration of the SEMI standard tolerance. However, there is a variation in dimensions due to manufacturing errors of the transport containers between the transport containers. Therefore, when the position of the transport device 40, particularly the chuck portion 42, with respect to the load port 56 is adjusted using the transport container 60 as a product, the reliability of transfer of the transport container 60 to the load port 56 deteriorates. Further, since the receptacle 66 is installed on the bottom surface of the transport container 60, it is difficult to adjust the position by visual observation.

実施の形態では、図1及び図2に示した位置調整治具1を用いて、搬送機40の位置調整を行う。位置調整治具1のフランジ部14と貫通孔12との相対的な位置関係は、搬送容器60としてのFOUPのトップフランジ64とレセプタクル66のプライマリキネマティックピン位置とに規定されたSEMI規格の位置関係に準じている。位置調整治具1をフランジ部14で搬送機40に吊り下げる。貫通孔12の直径Dhは、キネマティックピン30の直径Dpよりも大きく、例えば、結合溝67の幅Wgと同程度にされる。作業者の目視により、キネマティックピン30がベースプレート10に触れることなく貫通孔12を通るように搬送機40の位置を調整する。ここで、「プライマリキネマティックピン位置」は、レセプタクル66の結合溝67における、キネマティックピン30との結合位置である。   In the embodiment, the position adjustment of the transport machine 40 is performed using the position adjustment jig 1 shown in FIGS. 1 and 2. The relative positional relationship between the flange portion 14 of the position adjustment jig 1 and the through-hole 12 is the SEMI standard position defined by the top flange 64 of the FOUP as the transport container 60 and the primary kinematic pin position of the receptacle 66. According to the relationship. The position adjusting jig 1 is suspended from the conveyor 40 by the flange portion 14. The diameter Dh of the through hole 12 is larger than the diameter Dp of the kinematic pin 30 and is, for example, approximately the same as the width Wg of the coupling groove 67. The position of the conveyor 40 is adjusted so that the kinematic pin 30 passes through the through hole 12 without touching the base plate 10 by visual observation of the operator. Here, the “primary kinematic pin position” is a coupling position with the kinematic pin 30 in the coupling groove 67 of the receptacle 66.

位置調整治具1は、樹脂製のFOUPに比べ精度よく加工することができる。したがって、実施の形態に係る位置調整治具1を用いて搬送機40の位置調整を行うと、搬送容器60のロードポート56への移載の信頼性が向上する。また、結合溝67のプライマリキネマティックピン位置に対応する貫通孔12により、ロードポート56のキネマティックピン30の位置を容易に目視することができる。その結果、位置調整時間を短縮することができる。このように、実施の形態に係る位置調整治具1によれば、位置調整の信頼性を向上させることが可能となる。   The position adjusting jig 1 can be processed with higher accuracy than a resin FOUP. Therefore, when the position adjustment of the transfer device 40 is performed using the position adjustment jig 1 according to the embodiment, the reliability of transfer of the transfer container 60 to the load port 56 is improved. Further, the position of the kinematic pin 30 of the load port 56 can be easily visually confirmed by the through hole 12 corresponding to the position of the primary kinematic pin of the coupling groove 67. As a result, the position adjustment time can be shortened. As described above, according to the position adjustment jig 1 according to the embodiment, it is possible to improve the reliability of the position adjustment.

次に、実施の形態に係る調整方法、及び半導体装置の製造方法を、図11〜図14に示す構成図、及び図15に示すフローチャートを用いて説明する。   Next, an adjustment method according to the embodiment and a method for manufacturing a semiconductor device will be described with reference to the configuration diagrams shown in FIGS. 11 to 14 and the flowchart shown in FIG.

(イ)ステップS100で、搬送機40は、チャック部42で位置調整治具1のフランジ部14を保持して位置調整治具1を吊り下げる。搬送機40は、制御ユニット46の制御に基いて、位置調整対象の製造装置54に向かって搬送レール52の下を搬送レール52に従って走行する。   (A) In step S <b> 100, the conveyor 40 holds the flange portion 14 of the position adjustment jig 1 with the chuck portion 42 and suspends the position adjustment jig 1. Under the control of the control unit 46, the transporter 40 travels under the transport rail 52 according to the transport rail 52 toward the manufacturing apparatus 54 that is a position adjustment target.

(ロ)ステップS101で、図11に示すように、制御ユニット46は、搬送レール52に設置された位置センサ(図示省略)の信号を検出して、製造装置54上方の定位置に搬送機40を停止させる。   (B) In step S101, as shown in FIG. 11, the control unit 46 detects a signal from a position sensor (not shown) installed on the transport rail 52, and moves the transport machine 40 to a fixed position above the manufacturing apparatus 54. Stop.

(ハ)ステップS102で、制御ユニット46は、搬送機40からホイスト機構44を用いて位置調整治具1をロードポート56の直上まで降下させる。作業者は、貫通孔12から目視によりキネマティックピン30の位置を確認する。貫通孔12とキネマティックピン30の位置がずれていれば、制御ユニット46に接続された入力装置(図示省略)から制御ユニット46にずれ量を入力する。例えば、搬送レール52に沿った方向の位置ずれに対しては、搬送機40又はホイスト機構44を移動させて調整する。搬送レール52に直交する方向や回転の位置ずれに対しては、ホイスト機構44でずれを調整する。   (C) In step S <b> 102, the control unit 46 lowers the position adjusting jig 1 from the transport device 40 to the position just above the load port 56 using the hoist mechanism 44. An operator visually confirms the position of the kinematic pin 30 from the through hole 12. If the positions of the through hole 12 and the kinematic pin 30 are deviated, an amount of deviation is input to the control unit 46 from an input device (not shown) connected to the control unit 46. For example, the positional deviation in the direction along the conveyance rail 52 is adjusted by moving the conveyance device 40 or the hoist mechanism 44. The hoist mechanism 44 adjusts the displacement with respect to the direction orthogonal to the transport rail 52 and the rotational displacement.

(ニ)ステップS103で、図13及び図14に示すように、キネマティックピン30がベースプレート10に触れることなく貫通孔12を通るように搬送機40あるいはホイスト機構44の位置が調整される。制御ユニット46は、調整位置を記憶する。位置調整治具1が、搬送機40から取り外される。   (D) In step S103, as shown in FIGS. 13 and 14, the position of the transporter 40 or the hoist mechanism 44 is adjusted so that the kinematic pin 30 passes through the through hole 12 without touching the base plate 10. The control unit 46 stores the adjustment position. The position adjusting jig 1 is removed from the transport machine 40.

(ホ)ステップS104で、搬送対象となる搬送容器60を搬送機40が保持する。ステップS105で、搬送機40は、搬送レール52を走行して製造装置54の定位置まで移動する。ステップS106で、搬送機40は、制御ユニット46に記憶された調整位置まで移動する。   (E) In step S104, the transfer machine 40 holds the transfer container 60 to be transferred. In step S <b> 105, the transporter 40 travels on the transport rail 52 and moves to the home position of the manufacturing apparatus 54. In step S <b> 106, the transport machine 40 moves to the adjustment position stored in the control unit 46.

(ヘ)ステップS107で、搬送機40は、制御ユニット46の制御に基いて、調整位置においてホイスト機構44を用いて搬送容器60をロードポート56に移載させる。ステップS108で、ロードポート56で、図4に示した搬送容器60の蓋62が開けられる。クリーンエリアにより局所クリーン化された転送室(図示省略)を介して、製造装置54に搬送容器60から基板が転送される。ステップS109で、製造装置54が、基板に対して所定の工程の処理を実施する。   (F) In step S <b> 107, the transport machine 40 transfers the transport container 60 to the load port 56 using the hoist mechanism 44 at the adjustment position based on the control of the control unit 46. In step S108, the lid 62 of the transport container 60 shown in FIG. The substrate is transferred from the transfer container 60 to the manufacturing apparatus 54 via a transfer chamber (not shown) that is locally cleaned by the clean area. In step S109, the manufacturing apparatus 54 performs a predetermined process on the substrate.

(ト)ステップS110で、工程の処理が終了した基板が、転送室を介して、ロードポート56に転送される。ロードポート56で、基板が搬送容器60に収納される。更に、搬送容器60の蓋62が閉じられる。ステップS111で、ホイスト機構44により降下したチャック部42がトップフランジ64を保持する。ホイスト機構44を巻き上げてチャック部42で保持された搬送容器60が搬送機40本体に回収される。ステップS112で、搬送レール52を介して、次の工程の製造装置まで搬送機40が搬送容器60を搬送する。   (G) In step S110, the substrate for which the process has been completed is transferred to the load port 56 through the transfer chamber. The substrate is stored in the transfer container 60 by the load port 56. Further, the lid 62 of the transport container 60 is closed. In step S <b> 111, the chuck portion 42 lowered by the hoist mechanism 44 holds the top flange 64. The hoist mechanism 44 is wound up and the transport container 60 held by the chuck portion 42 is collected in the main body of the transport machine 40. In step S <b> 112, the transporter 40 transports the transport container 60 through the transport rail 52 to the manufacturing apparatus for the next process.

このようにして、実施の形態に係る位置調整治具1を用いて位置調整された搬送機40が、搬送容器60を搬送して、半導体装置の製造が実施される。精度よく加工された位置調整治具1を用いて、搬送機40の位置調整が実施される。ロードポート56上のキネマティックピン30の位置は、貫通孔12から容易に目視することができる。そのため、調整時間を短縮することができる。このように、実施の形態によれば、調整コストを低減でき、位置調整の信頼性を向上させることが可能となる。   In this way, the transport machine 40 whose position is adjusted using the position adjusting jig 1 according to the embodiment transports the transport container 60 and manufacture of the semiconductor device is performed. Using the position adjusting jig 1 processed with high accuracy, the position adjustment of the transport machine 40 is performed. The position of the kinematic pin 30 on the load port 56 can be easily seen from the through hole 12. Therefore, the adjustment time can be shortened. Thus, according to the embodiment, the adjustment cost can be reduced, and the reliability of the position adjustment can be improved.

(第1の変形例)
本発明の実施の形態の第1の変形例に係る位置調整治具1aは、図16及び図17に示すように、ベースプレート10に重心調整部18を備える。重心調整部18は、ベースプレート10に設けられた溝19に嵌め合わされる。重心調整部18は、図4に示した搬送容器60の前開きの蓋62側に対応する前面側からベースプレート10の中央部に向かう方向で溝19に沿って移動可能である。
(First modification)
As shown in FIGS. 16 and 17, the position adjustment jig 1 a according to the first modification of the embodiment of the present invention includes a center of gravity adjustment unit 18 in the base plate 10. The center-of-gravity adjustment unit 18 is fitted into a groove 19 provided in the base plate 10. The center-of-gravity adjustment unit 18 is movable along the groove 19 in a direction from the front side corresponding to the front opening lid 62 side of the transport container 60 shown in FIG. 4 toward the center of the base plate 10.

実施の形態の第1の変形例では、重心調整部18を備える点が実施の形態と異なる。他の構成は、実施の形態と同様であるので、重複する記載は省略する。   The first modification of the embodiment is different from the embodiment in that the center of gravity adjustment unit 18 is provided. Other configurations are the same as those in the embodiment, and thus redundant description is omitted.

FOUP等の搬送容器60は、蓋62が搬送容器60の前面に取り付けられると重心が前面側に偏る。したがって、搬送機40に吊り下げられると、搬送容器60の前面側が下方に傾く。搬送容器60の傾きにより、調整位置にずれが生じる。位置調整治具1aにおいて、重心調整部18を溝19に沿って移動させることにより、搬送容器60の重心の偏りに一致させることができる。その結果、位置調整治具1aを搬送容器60と同じ傾きで搬送機40に保持させることができる。このように、実施の形態の第1の変形例に係る位置調整治具1aを用いて、より信頼性の高い位置調整が可能となる。   When the lid 62 is attached to the front surface of the transport container 60, the center of gravity of the transport container 60 such as FOUP is biased toward the front surface side. Therefore, when suspended from the transport device 40, the front side of the transport container 60 is inclined downward. The adjustment position is displaced due to the inclination of the transport container 60. In the position adjustment jig 1 a, the center of gravity adjustment unit 18 can be moved along the groove 19 to match the deviation of the center of gravity of the transport container 60. As a result, the position adjusting jig 1 a can be held by the transport machine 40 with the same inclination as the transport container 60. Thus, position adjustment with higher reliability is possible using the position adjustment jig 1a according to the first modification of the embodiment.

(第2の変形例)
本発明の実施の形態の第2の変形例に係る位置調整治具1bは、図18及び図19に示すように、貫通孔12に嵌合する環状の位置判定部20を備える。位置判定部20の開口部21の直径Whは、キネマティックピン30の直径Dpより大きい。また、位置判定部20は、ベースプレート10の表面側で貫通孔12より大きな直径を有する。位置判定部20はベースプレート10の上方に可動である。
(Second modification)
As shown in FIGS. 18 and 19, the position adjustment jig 1 b according to the second modification of the embodiment of the present invention includes an annular position determination unit 20 that fits into the through hole 12. The diameter Wh of the opening 21 of the position determination unit 20 is larger than the diameter Dp of the kinematic pin 30. The position determination unit 20 has a larger diameter than the through hole 12 on the surface side of the base plate 10. The position determination unit 20 is movable above the base plate 10.

実施の形態の第2の変形例に係る位置調整治具1bは、位置判定部20を有することが実施の形態と異なる。他の構成は、実施の形態と同様であるので、重複する記載は省略する。   The position adjustment jig 1b according to the second modification of the embodiment differs from the embodiment in that it includes a position determination unit 20. Other configurations are the same as those in the embodiment, and thus redundant description is omitted.

実施の形態の第2の変形例では、位置判定部20の開口部21の直径Whは、キネマティックピン30の直径Dpよりも大きく、例えば、結合溝67の幅Wgと同程度にされる。開口部21からの作業者の目視により、ロードポート56のキネマティックピン30が位置判定部20に触れることなく開口部21を通るように搬送機40の位置を調整する。   In the second modification of the embodiment, the diameter Wh of the opening 21 of the position determination unit 20 is larger than the diameter Dp of the kinematic pin 30 and is, for example, approximately the same as the width Wg of the coupling groove 67. The position of the conveyor 40 is adjusted so that the kinematic pin 30 of the load port 56 passes through the opening 21 without touching the position determination unit 20 by visual observation of the operator from the opening 21.

例えば、図20に示すように、ロードポート56のキネマティックピン30に対して位置判定部20が重なるように搬送機40の位置がずれているとする。このような場合、図21に示すように、位置調整治具1bをロードポート56に向かって降下させると、位置判定部20がキネマティックピン30と接触して位置判定部20がベースプレート10の上方に浮き上がる。したがって、搬送機40の位置ずれを容易に確認することができる。図22に示すように、キネマティックピン30が開口部21を通るように搬送機40の位置が調整される。   For example, as illustrated in FIG. 20, it is assumed that the position of the transport device 40 is shifted so that the position determination unit 20 overlaps the kinematic pin 30 of the load port 56. In such a case, as shown in FIG. 21, when the position adjusting jig 1 b is lowered toward the load port 56, the position determination unit 20 comes into contact with the kinematic pin 30 and the position determination unit 20 is located above the base plate 10. Float up. Therefore, it is possible to easily check the positional deviation of the transporter 40. As shown in FIG. 22, the position of the transporter 40 is adjusted so that the kinematic pin 30 passes through the opening 21.

実施の形態の第2の変形例によれば、ロードポート56上のキネマティックピン30の位置を開口部21から容易に目視することができる。更に、位置判定部20により搬送機40のキネマティックピン30に対する位置ずれを容易に確認することができる。このように、実施の形態の第2の変形例に係る位置調整治具1bを用いて、より信頼性の高い位置調整を、短時間で実施することが可能となる。   According to the second modification of the embodiment, the position of the kinematic pin 30 on the load port 56 can be easily visually observed from the opening 21. Further, the position determination unit 20 can easily confirm the positional deviation of the transport device 40 with respect to the kinematic pin 30. As described above, it is possible to perform position adjustment with higher reliability in a short time by using the position adjustment jig 1b according to the second modification of the embodiment.

(第3の変形例)
本発明の実施の形態の第3の変形例に係る位置調整治具1cは、図23及び図24に示すように、位置判定部20aを備える。位置判定部20aは、互いに直交する方向のそれぞれで対向する2組のゲージ26と、I字形状の基準ロッド22を有する。基準ロッド22は、ベースプレート10に接続された支持部24により支持される。基準ロッド22の下端部には、ゲージ26の蝕針28が接触している。基準ロッド22の下端部は、キネマティックピン30とほぼ同じ直径である。
(Third Modification)
The position adjustment jig 1c according to the third modification of the embodiment of the present invention includes a position determination unit 20a as shown in FIGS. The position determination unit 20a includes two sets of gauges 26 and an I-shaped reference rod 22 that face each other in directions orthogonal to each other. The reference rod 22 is supported by a support portion 24 connected to the base plate 10. An erosion needle 28 of a gauge 26 is in contact with the lower end portion of the reference rod 22. The lower end of the reference rod 22 has substantially the same diameter as the kinematic pin 30.

実施の形態の第3の変形例に係る位置調整治具1cは、位置判定部20aを有することが実施の形態と異なる。他の構成は、実施の形態と同様であるので、重複する記載は省略する。   The position adjustment jig 1c according to the third modification of the embodiment differs from the embodiment in that it includes a position determination unit 20a. Other configurations are the same as those in the embodiment, and thus redundant description is omitted.

実施の形態の第3の変形例では、基準ロッド22がキネマティックピン30と重なるように搬送機40の位置が調整される。位置調整のため、位置判定部20aのゲージ26により、貫通孔12内でキネマティックピン30の位置が測定される。   In the third modification of the embodiment, the position of the transporter 40 is adjusted so that the reference rod 22 overlaps the kinematic pin 30. In order to adjust the position, the position of the kinematic pin 30 is measured in the through hole 12 by the gauge 26 of the position determination unit 20a.

例えば、図25に示すように、キネマティックピン30に対して、基準ロッド22がずれているとする。このような場合、図26に示すように、位置調整治具1cをロードポート56に向かって降下させると、位置判定部20aの基準ロッド22がキネマティックピン30と接触して基準ロッド22がベースプレート10の上方に移動する。その結果、蝕針28がキネマティックピン30と接触する。ゲージ26から変位量を測定することにより、基準ロッド22の位置からのキネマティックピン30の位置ずれ量が求められる。図27に示すように、求めた位置ずれ量に基いて搬送機40を調整することにより、基準ロッド22がキネマティックピン30と重なるように位置合わせすることができる。   For example, as shown in FIG. 25, it is assumed that the reference rod 22 is displaced with respect to the kinematic pin 30. In such a case, as shown in FIG. 26, when the position adjusting jig 1c is lowered toward the load port 56, the reference rod 22 of the position determination unit 20a comes into contact with the kinematic pin 30, and the reference rod 22 is moved to the base plate. Move up 10. As a result, the erosive needle 28 comes into contact with the kinematic pin 30. By measuring the displacement amount from the gauge 26, the displacement amount of the kinematic pin 30 from the position of the reference rod 22 is obtained. As shown in FIG. 27, the reference rod 22 can be aligned with the kinematic pin 30 by adjusting the transporter 40 based on the obtained positional deviation amount.

実施の形態の第3の変形例によれば、ロードポート56上のキネマティックピン30の位置を貫通孔12から容易に目視することができる。更に、位置判定部20aの基準ロッド22に対するロードポート56上のキネマティックピン30の相対的な位置をゲージ26により容易に測定することができる。このように、実施の形態の第3の変形例に係る位置調整治具1cを用いて、より信頼性の高い位置調整を、短時間で実施することが可能となる。   According to the third modification of the embodiment, the position of the kinematic pin 30 on the load port 56 can be easily visually observed from the through hole 12. Furthermore, the relative position of the kinematic pin 30 on the load port 56 with respect to the reference rod 22 of the position determination unit 20a can be easily measured by the gauge 26. As described above, it is possible to perform position adjustment with higher reliability in a short time using the position adjustment jig 1c according to the third modification of the embodiment.

(その他の実施の形態)
上記のように、本発明の実施の形態を記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者にはさまざまな代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
(Other embodiments)
Although the embodiments of the present invention have been described as described above, it should not be understood that the descriptions and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

本発明の実施の形態においては、半導体装置の製造方法について説明したが、半導体装置に限定されず、液晶装置、磁気記録媒体、光記録媒体、薄膜磁気ヘッド、超伝導素子、音響電気変換素子、等の電子装置の製造方法においても、本発明が適用できることは、上記説明から容易に理解できるであろう。   In the embodiment of the present invention, a method for manufacturing a semiconductor device has been described. However, the present invention is not limited to a semiconductor device, but a liquid crystal device, a magnetic recording medium, an optical recording medium, a thin film magnetic head, a superconducting element, an acoustoelectric conversion element, It can be easily understood from the above description that the present invention can also be applied to a method for manufacturing an electronic device.

このように、本発明はここでは記載していないさまざまな実施の形態等を含むことは勿論である。したがって、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係わる発明特定事項によってのみ定められるものである。   As described above, the present invention naturally includes various embodiments that are not described herein. Accordingly, the technical scope of the present invention is defined only by the invention specifying matters according to the scope of claims reasonable from the above description.

本発明の実施の形態に係る位置調整治具の上面図である。It is a top view of the position adjustment jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る位置調整治具の側面図である。It is a side view of the position adjustment jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の説明に用いる製造設備の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the manufacturing equipment used for description of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る搬送容器の(a)前開きの蓋が開けられた状態を示す鳥瞰図、及び(b)前開きの蓋が閉じられた状態を示す鳥瞰図である。It is the bird's-eye view which shows the state in which the lid | cover of the front opening of the conveyance container which concerns on embodiment of this invention was opened, and (b) the bird's-eye view which shows the state in which the lid | cover of front opening was closed. 本発明の実施の形態に係る搬送容器の底面図である。It is a bottom view of the conveyance container which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の説明に用いる製造装置のロードポートの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the load port of the manufacturing apparatus used for description of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の説明に用いる搬送容器の搬送の一例を示す図(その1)である。It is a figure (the 1) which shows an example of conveyance of the conveyance container used for description of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の説明に用いる搬送容器の搬送の一例を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows an example of conveyance of the conveyance container used for description of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の説明に用いる搬送容器の搬送の一例を示す図(その3)である。It is FIG. (3) which shows an example of conveyance of the conveyance container used for description of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の説明に用いる搬送容器の搬送の一例を示す図(その4)である。It is FIG. (The 4) which shows an example of conveyance of the conveyance container used for description of embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る位置調整治具による搬送機の位置調整の一例を示す図(その1)である。It is FIG. (1) which shows an example of the position adjustment of the conveying machine by the position adjustment jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る位置調整治具による搬送機の位置調整の一例を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows an example of the position adjustment of the conveying machine by the position adjustment jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る位置調整治具による搬送機の位置調整の一例を示す図(その3)である。It is FIG. (3) which shows an example of the position adjustment of the conveying machine by the position adjustment jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る位置調整治具による搬送機の位置調整の一例を示す図(その4)である。It is FIG. (4) which shows an example of the position adjustment of the conveying machine by the position adjustment jig which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る位置調整方法及び電子装置の製造方法の一例を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining an example of the manufacturing method of the position adjustment method and electronic device which concern on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態の第1の変形例に係る位置調整治具の上面図である。It is a top view of the position adjustment jig which concerns on the 1st modification of embodiment of this invention. 図16に示した位置調整治具1のA−A断面を示す図である。It is a figure which shows the AA cross section of the position adjustment jig | tool 1 shown in FIG. 本発明の実施の形態の第2の変形例に係る位置調整治具の上面図である。It is a top view of the position adjustment jig which concerns on the 2nd modification of embodiment of this invention. 図18に示した位置調整治具のB−B断面を示す図である。It is a figure which shows the BB cross section of the position adjustment jig | tool shown in FIG. 本発明の実施の形態の第2の変形例に係る位置調整方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the position adjustment method which concerns on the 2nd modification of embodiment of this invention. 図20に示した位置判定部の位置調整前のC−C断面を示す図である。It is a figure which shows CC cross section before the position adjustment of the position determination part shown in FIG. 図20に示した位置判定部の位置調整後のC−C断面を示す図である。It is a figure which shows CC cross section after the position adjustment of the position determination part shown in FIG. 本発明の実施の形態の第3の変形例に係る位置調整治具の上面図である。It is a top view of the position adjustment jig which concerns on the 3rd modification of embodiment of this invention. 図23に示した位置調整治具のD−D断面を示す図である。It is a figure which shows DD cross section of the position adjustment jig | tool shown in FIG. 本発明の実施の形態の第3の変形例に係る位置調整方法の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the position adjustment method which concerns on the 3rd modification of embodiment of this invention. 図25に示した位置判定部の位置調整前のE−E断面を示す図である。It is a figure which shows the EE cross section before position adjustment of the position determination part shown in FIG. 図25に示した位置判定部の位置調整後のE−E断面を示す図である。It is a figure which shows the EE cross section after the position adjustment of the position determination part shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10…ベースプレート
12…貫通孔
14…フランジ部
16…本体部
18…重心調整部
20、20a…位置判定部
30…キネマティックピン
40…搬送機
52…搬送レール
54…製造装置
56…ロードポート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base plate 12 ... Through-hole 14 ... Flange part 16 ... Main-body part 18 ... Gravity center adjustment part 20, 20a ... Position determination part 30 ... Kinematic pin 40 ... Conveyor machine 52 ... Conveyance rail 54 ... Manufacturing apparatus 56 ... Load port

Claims (6)

搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて目的とする製造装置のロードポート上に移動し、前記搬送容器底部に設けられた結合溝が前記ロードポート上のキネマティックピンと結合するように位置調整する際に用いる位置調整治具であって、
前記搬送容器上のトップフランジに対応して設けられた、前記搬送機により保持されるフランジ部と、
前記フランジ部に接続された本体部と、
前記搬送容器の底面に対応する面を裏面とし、前記本体部に接続され、前記キネマティックピンに対応する位置に設けられた貫通孔を有するベースプレートとを備え、
前記貫通孔の直径が前記キネマティックピンの直径より大きいことを特徴とする位置調整治具。
The transfer container for storing the substrate is suspended by the transfer machine and moved onto the load port of the target manufacturing apparatus, and the coupling groove provided at the bottom of the transfer container is connected to the kinematic pin on the load port. A position adjustment jig used for adjustment,
Provided corresponding to the top flange on the transport container, a flange portion held by the transport machine,
A main body connected to the flange,
A base plate having a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin, connected to the main body portion, with a surface corresponding to the bottom surface of the transport container as a back surface,
The position adjusting jig, wherein a diameter of the through hole is larger than a diameter of the kinematic pin.
前記搬送容器の重心に一致するように重心位置を調整する、前記ベースプレットに設けられた重心調整部を備えることを特徴とする請求項1に記載の位置調整治具。   The position adjusting jig according to claim 1, further comprising: a center of gravity adjusting portion provided on the base tablet for adjusting the position of the center of gravity so as to coincide with the center of gravity of the transport container. 前記キネマティックピンの直径より内径が大きく、前記ベースプレートの表面の上方に可動なように前記貫通孔に嵌合する環状の位置判定部を前記ベースプレートに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置調整治具。   3. The base plate includes an annular position determination unit that has an inner diameter larger than the diameter of the kinematic pin and fits into the through hole so as to be movable above the surface of the base plate. The position adjustment jig described. 前記貫通孔内で前記キネマティックピンの位置を測定可能な互いに直交する方向のそれぞれで対向する2組のゲージを含む位置判定部を前記ベースプレートに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置調整治具。   The position determination unit including two sets of gauges facing each other in a direction orthogonal to each other capable of measuring the position of the kinematic pin in the through hole is provided in the base plate. Position adjustment jig. 搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて目的とする製造装置のロードポート上に移動し、前記搬送容器底部に設けられた結合溝と前記ロードポート上のキネマティックピンと結合するように位置調整する位置調整方法であって、
前記搬送容器上のトップフランジに対応して設けられた、前記搬送機により保持されるフランジ部と、前記フランジ部に接続された本体部と、前記搬送容器の底面に対応する面を裏面とし、前記本体部に接続され、前記キネマティックピンに対応する位置に設けられた貫通孔を有するベースプレートとを備え、前記貫通孔の直径が前記キネマティックピンの直径より大きい位置調整治具により、前記ロードポート上の前記搬送機の搬送位置を調整することを特徴とする位置調整方法。
The transfer container for storing the substrate is suspended by the transfer machine, moved onto the load port of the target manufacturing apparatus, and positioned so as to be connected to the coupling groove provided at the bottom of the transfer container and the kinematic pin on the load port. A position adjustment method to adjust,
Provided corresponding to the top flange on the transport container, a flange portion held by the transport machine, a main body connected to the flange portion, and a surface corresponding to the bottom surface of the transport container as the back surface, And a base plate having a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin and connected to the main body, and the load is adjusted by a position adjusting jig having a diameter of the through hole larger than the diameter of the kinematic pin. A position adjustment method comprising adjusting a transfer position of the transfer machine on a port.
複数の製造装置間を搬送機により基板を収納する搬送容器を吊り下げて搬送して、前記搬送容器に収納された基板を順次、対応する製造装置に転送して、前記複数の製造装置による一連の処理を行う電子装置の製造方法であって、
前記搬送容器上のトップフランジに対応して設けられた、前記搬送機により保持されるフランジ部と、前記フランジ部に接続された本体部と、前記搬送容器の底面に対応する面を裏面とし、前記本体部に接続され、前記キネマティックピンに対応する位置に設けられた貫通孔を有するベースプレートとを備え、前記貫通孔の直径が前記キネマティックピンの直径より大きい位置調整治具により、前記ロードポート上の前記搬送機の搬送位置を調整するステップと、
前記搬送位置を調整後に、前記搬送機により前記搬送容器を特定の工程の処理を終了した第1の製造装置から、次に予定されている工程を実行する第2の製造装置のロードポート上に移載するステップと、
前記搬送容器から前記基板を転送して前記第2の製造装置により前記予定されている工程を実施するステップ
とを含むことを特徴とする電子装置の製造方法。
A transfer container for storing a substrate is suspended and transferred between a plurality of manufacturing apparatuses by a transfer device, and the substrates stored in the transfer container are sequentially transferred to a corresponding manufacturing apparatus, and a series of the plurality of manufacturing apparatuses. An electronic device manufacturing method for performing
Provided corresponding to the top flange on the transport container, a flange portion held by the transport machine, a main body connected to the flange portion, and a surface corresponding to the bottom surface of the transport container as the back surface, And a base plate having a through hole provided at a position corresponding to the kinematic pin and connected to the main body, and the load is adjusted by a position adjusting jig having a diameter of the through hole larger than the diameter of the kinematic pin. Adjusting the transport position of the transport machine on the port;
After the transport position is adjusted, the transport container is placed on the load port of the second manufacturing apparatus that executes the next scheduled process from the first manufacturing apparatus that has finished processing the specific process by the transport machine. A transfer step;
And transferring the substrate from the transfer container and performing the scheduled process by the second manufacturing apparatus.
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