JP2008107792A - Antireflection laminate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection laminate having a refractive layer which is excellent in resistance to scuffing, has a refractive index of 1.45 or less and secures low reflectivity while being provided with hollow particles and solid particles with respect to the antireflection laminate principally used for displays of LCD, PDP or the like. <P>SOLUTION: In the antireflection laminate having the refractive layer with a refractive index of 1.45 or less, a refractive layer forming composition comprises: an ionizing radiation-curable resin; the cross-linking reactive hollow particles each of which comprises the porous or hollow interior surrounded by an outer-shell layer and the surface modified by cross-linking forming groups; and the cross-linking reactive solid particles each of which comprises the interior being neither porous nor hollow and the surface modified by cross-linking forming groups, wherein the cross-linking reactive groups comprise ionizing radiation-curable groups and, in both of the hollow particles and solid particles, have the same structure or extremely analogous structure and the refractive layer is obtained by irradiating the refractive layer forming composition with ionizing-radiation. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、LCDなどのディスプレイ(画像表示装置)の前面に設置する反射防止積層体に関するものである。   The present invention relates to an antireflection laminate that is installed in front of a display (image display device) such as an LCD.

液晶ディスプレイ(LCD)、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)等の画像表示装置における表示面は、蛍光灯等の外部光源から照射された光線による反射を少なくし、その視認性を高めることが求められる。このため、従来から、透明な物体の表面を屈折率の低い透明皮膜(低屈折率層)で被覆することにより反射性が小さくなるという現象を利用した反射防止膜を画像表示装置の表示面に設けることにより、表示面の反射性を低減させて視認性を向上させることが検討されている。   The display surface of an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display device (CRT), or a plasma display panel (PDP) reduces the reflection caused by light rays emitted from an external light source such as a fluorescent lamp, and its visibility. Is required. For this reason, conventionally, an antireflection film utilizing the phenomenon that the reflectivity is reduced by covering the surface of a transparent object with a transparent film (low refractive index layer) having a low refractive index is provided on the display surface of the image display device. By providing, it has been studied to improve the visibility by reducing the reflectivity of the display surface.

低屈折率にする方法は種々あるが、1つの方法として、屈折率が1である空気を膜内部に含有させることによって、膜全体の屈折率を低下させる方法が挙げられる。
この様な膜内部に空気を含有させた屈折率層として、例えば特許文献1では、低屈折率で且つ、機械強度に優れる反射防止膜を提供することを目的として、電離放射線硬化性樹脂組成物と、外殻層を有し、内部が多孔質又は空洞であるシリカ微粒子を含んでなり、電離放射線硬化性基を有するシランカップリング剤により、そのシリカ微粒子の表面の少なくとも一部を処理されてなる低屈折率層を有する反射防止膜が開示されている。
There are various methods for reducing the refractive index, but one method includes reducing the refractive index of the entire film by containing air having a refractive index of 1 inside the film.
As such a refractive index layer containing air inside the film, for example, in Patent Document 1, an ionizing radiation curable resin composition is provided for the purpose of providing an antireflection film having a low refractive index and excellent mechanical strength. And at least a part of the surface of the silica fine particle is treated with a silane coupling agent having an outer shell layer and having a porous or hollow interior and having an ionizing radiation curable group. An antireflection film having a low refractive index layer is disclosed.

また、特許文献2には、上記低屈折率層の反射防止性能を向上させることを目的として、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物又はそのオリゴマーと多孔質微粒子とを含む組成物からの硬化被膜を用いる技術が開示されている。
しかし、多孔質微粒子は無機物であるため、シランカップリング剤等の表面処理を行わなければ有機系のバインダー成分との親和性に劣る。そのため、当該多孔質微粒子が硬化膜中で凝集し、不均一に分布しやすくなる。その結果、面内の屈折率が場所によって異なったり、透明な部分と不透明な部分が混在した膜となる。斯かる不均一な膜構造を有する反射防止膜は、耐スチールウール性等の耐擦傷性が劣るという問題がある。
Patent Document 2 discloses a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule or an oligomer thereof and porous fine particles for the purpose of improving the antireflection performance of the low refractive index layer. Techniques using cured coatings from containing compositions are disclosed.
However, since the porous fine particles are inorganic, the affinity with the organic binder component is inferior unless surface treatment such as a silane coupling agent is performed. Therefore, the porous fine particles are aggregated in the cured film and are likely to be unevenly distributed. As a result, the in-plane refractive index differs depending on the location, or a film in which a transparent part and an opaque part are mixed is obtained. Such an antireflection film having a non-uniform film structure has a problem of poor scratch resistance such as steel wool resistance.

さらに、特許文献3には、屈折率層の被膜硬度の向上や当該層への帯電防止等の機能の付与を期待して、多孔質微粒子と、多孔質でない無機化合物微粒子と、硬化性化合物及び樹脂から選ばれるバインダー成分とを含む組成物からの硬化被膜を屈折率層として用いる技術が開示されている。   Further, Patent Document 3 discloses porous fine particles, non-porous inorganic compound fine particles, a curable compound, and an antireflective layer, with the expectation of improving the film hardness of the refractive index layer and imparting antistatic functions to the layer. A technique using a cured coating from a composition containing a binder component selected from resins as a refractive index layer is disclosed.

中実粒子は、粒子内部が多孔質でもなく、空洞でもなく、密であるため粒子自体の強度が中空粒子よりも高い。そのため、中実粒子を屈折率層に含有させることにより、屈折率層の膜厚方向(膜平面に対して垂直方向)の押圧力に対する強度の向上が期待できる。   Solid particles are not porous, hollow, or dense, so the strength of the particles themselves is higher than that of hollow particles. Therefore, by containing solid particles in the refractive index layer, an improvement in strength against the pressing force in the film thickness direction (direction perpendicular to the film plane) of the refractive index layer can be expected.

特開2005−99778号公報JP 2005-99778 A 特開2003−262703号公報JP 2003-262703 A 特開2003−266606号公報JP 2003-266606 A

しかしながら、本発明者の検討によれば、特許文献3に記載された方法を採用すると、上記期待に反して屈折率層の硬度が逆に低下する場合があることが判明した。具体的には、硬度の向上を狙って多孔質でない無機化合物粒子(中実粒子)を含有させると、屈折率層の耐擦傷性が悪くなり、表面硬度が寧ろ低下することがわかった。   However, according to the study of the present inventor, it has been found that if the method described in Patent Document 3 is adopted, the hardness of the refractive index layer may be reduced contrary to the above expectation. Specifically, it was found that when inorganic compound particles (solid particles) that are not porous are included for the purpose of improving the hardness, the scratch resistance of the refractive index layer is deteriorated and the surface hardness is rather lowered.

また、中実粒子は、内部が密で空気を含まないため中空粒子よりも屈折率が高い。そのため、膜強度を向上させる目的で屈折率層に多量の中実粒子を添加すると当該層の屈折率が高くなり、当該層からなる反射防止膜の反射防止性能が低下するという問題もある。   Solid particles have a higher refractive index than hollow particles because they are dense inside and do not contain air. For this reason, when a large amount of solid particles are added to the refractive index layer for the purpose of improving the film strength, the refractive index of the layer is increased, and there is a problem that the antireflection performance of the antireflection film made of the layer is lowered.

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、中空粒子及び中実粒子を有しながら、耐擦傷性に優れ、且つ屈折率が1.45以下となり、低反射性を確保した屈折率層を有する反射防止積層体を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has excellent scratch resistance and a refractive index of 1.45 or less while having hollow particles and solid particles to ensure low reflectivity. An object is to provide an antireflection laminate having a refractive index layer.

本発明に係る反射防止積層体は、屈折率が1.45以下の屈折率層を有する反射防止積層体であって、
前記屈折率層が、屈折率層形成用組成物を、電離放射線照射して得られる硬化物であって、
前記屈折率層形成用組成物は、電離放射線硬化性樹脂と、
外殻層に囲まれた内部が多孔質又は空洞であり、且つ、表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中空粒子と、
内部が多孔質でも空洞でもなく、且つ表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中実粒子とを含有し、
前記中空粒子表面の架橋形成基と、前記中実粒子表面の架橋形成基は、粒子表面に対する結合基、スペーサ部及び電離放射線硬化性基からなり、同一構造を有するか、又は、構造上の相違があるとしても、電離放射線硬化性基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、粒子表面に対する結合基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、スペーサ部については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分又は異種原子を含み水素を除く構成原子数が1〜3の官能基1つ分の有無が異なるのみの範囲内か、或いは、骨格の炭素鎖長が炭素原子1〜2個分異なるのみの範囲内である類似構造を有する架橋形成基であることを特徴とする。
The antireflection laminate according to the present invention is an antireflection laminate having a refractive index layer having a refractive index of 1.45 or less,
The refractive index layer is a cured product obtained by irradiating a composition for forming a refractive index layer with ionizing radiation,
The refractive index layer forming composition comprises an ionizing radiation curable resin,
Cross-linking reactive hollow particles whose interior surrounded by the outer shell layer is porous or hollow and whose surface is modified with a cross-linking group;
Containing solid cross-linking reactive particles whose interior is neither porous nor hollow, and whose surface is modified with a cross-linking group;
The crosslink forming group on the surface of the hollow particle and the crosslink forming group on the surface of the solid particle are composed of a bonding group to the particle surface, a spacer part, and an ionizing radiation curable group, and have the same structure or structural differences. Even if there is, the ionizing radiation curable group has a common skeleton and is within a range in which the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different, and is bonded to the particle surface. For the group, the skeleton is common, and the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different. For the spacer portion, the skeleton is common, and It is within the range where only one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or one functional group having 1 to 3 functional atoms containing different atoms and excluding hydrogen is different, or carbon of the skeleton Range in which the chain length only differs by 1 to 2 carbon atoms Characterized in that it is a bridging form having a similar structure is.

前記中空粒子は、当該粒子内部に空気を含み、空気の屈折率が1なので屈折率層中の電離放射線硬化性樹脂や中実粒子よりも屈折率が低い。このため、当該中空粒子を含有する屈折率層は低屈折率化が可能となり、本発明に係る反射防止積層体の反射性を低減させ、視認性を向上させることができる。   The hollow particles contain air inside the particles, and since the refractive index of air is 1, the refractive index is lower than that of the ionizing radiation curable resin or solid particles in the refractive index layer. For this reason, the refractive index layer containing the hollow particles can be lowered in refractive index, and the reflectivity of the antireflection laminate according to the present invention can be reduced and the visibility can be improved.

また、前記中実粒子は当該粒子内部に空隙を有しないため中空粒子に比べ、外部から粒子にかかる圧力(外圧)で潰れにくく、耐圧性に優れる。そのため、当該中実粒子を含有する屈折率層の耐擦傷性を向上させやすくなる。本明細書では、空隙とは空気を含む空洞又は多孔質構造体に含まれる空孔を意味する。   Further, since the solid particles do not have voids inside the particles, the solid particles are less likely to be crushed by pressure (external pressure) applied to the particles from the outside, and are excellent in pressure resistance, compared to hollow particles. Therefore, it becomes easy to improve the scratch resistance of the refractive index layer containing the solid particles. In the present specification, the void means a cavity containing air or a void contained in a porous structure.

更に、本発明に係る前記中空粒子及び前記中実粒子は、当該粒子表面を同一構造であるか又は1次構造の共通部分が極めて多い架橋形成基で修飾されている。当該架橋形成基は架橋反応性を有するため、中空粒子、中実粒子、及び電離放射線硬化性樹脂間で架橋結合を形成し得る。斯かる架橋結合により、当該粒子及び当該樹脂間の結びつきが従来の反射防止層に比べ強固になる。また、架橋形成基の共通部分が極めて多いため、従来に比べ、当該中空粒子と当該中実粒子との間の親和性が高く、前記中空粒子同士の凝集、及び前記中実粒子同士の凝集が起こり難く、前記中空粒子及び前記中実粒子が前記屈折率層中で均一、且つ、密に充填する。これにより、本発明に係る屈折率層は、当該層表面が滑らかとなり、当該層表面の引掻きに対する耐擦傷性(耐スチールウール性)を向上することが可能となる。   Furthermore, the hollow particles and the solid particles according to the present invention are modified on the surface of the particles with a cross-linking group having the same structure or having a large number of common parts of the primary structure. Since the cross-linking group has cross-linking reactivity, a cross-linking bond can be formed between the hollow particles, the solid particles, and the ionizing radiation curable resin. Such cross-linking bonds strengthen the bond between the particles and the resin compared to conventional antireflection layers. In addition, since the common part of the cross-linking group is very large, the affinity between the hollow particles and the solid particles is higher than before, and the aggregation between the hollow particles and the aggregation between the solid particles are It is difficult to occur, and the hollow particles and the solid particles are uniformly and densely packed in the refractive index layer. Thereby, the refractive index layer according to the present invention has a smooth surface, and can improve the scratch resistance (steel wool resistance) against scratching of the surface of the layer.

また、本発明に係る反射防止積層体は、前記中空粒子及び前記中実粒子が無機粒子であることが好ましい。無機粒子は硬度が高いため、電離放射線硬化性樹脂と混合して屈折率層を形成した際、当該層の耐擦傷性を向上することができる。   In the antireflection laminate according to the present invention, the hollow particles and the solid particles are preferably inorganic particles. Since the inorganic particles have high hardness, when the refractive index layer is formed by mixing with the ionizing radiation curable resin, the scratch resistance of the layer can be improved.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記中空粒子及び前記中実粒子が金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物及び金属ハロゲン化物からなる群から選ばれる少なくとも一つであることが、高強度で耐圧性が良好な粒子が安定して得られるため好ましい。   In the antireflection laminate according to the present invention, the hollow particles and the solid particles are at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, metal sulfides, and metal halides. It is preferable because particles having high strength and good pressure resistance can be obtained stably.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記中空粒子及び前記中実粒子の表面への架橋形成基の修飾は、粒子表面に対する結合性基、スペーサ部及び電離放射線硬化性基からなり、同一構造を有するか、又は、構造上の相違があるとしても、電離放射線硬化性基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、粒子表面に対する結合基については、その骨格が共通し、且つ、結合基に結合するスペーサ部以外の基は、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、スペーサ部については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分又は異種原子を含み水素を除く構成原子数が1〜3の官能基1つ分の有無が異なるのみの範囲内か、或いは、骨格の炭素鎖長が炭素原子1〜2個分異なるのみの範囲内である類似構造を有するカップリング剤を用いて行われることが生産性に優れるため好ましい。   In the antireflection laminate according to the present invention, the modification of the crosslink forming group on the surface of the hollow particle and the solid particle is composed of a binding group, a spacer part and an ionizing radiation curable group on the particle surface, and has the same structure Even if there are structural differences, the ionizing radiation curable groups have the same skeleton and differ only in the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. As for the bonding group to the particle surface, the group other than the spacer portion bonded to the bonding group is the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. Are different from each other, and the spacer portion has a common skeleton and has 1 to 3 hydrocarbon atoms having 1 to 3 carbon atoms, or 1 to 1 constituent atoms including heteroatoms and excluding hydrogen. The presence or absence of one functional group of 3 is different Or in the range of, or preferably for the carbon chain length of the backbone is carried out using a coupling agent having a similar structure are within the scope of different only 1-2 min carbon atoms is excellent in productivity.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記中空粒子100重量部に対して、前記カップリング剤を1重量部以上、200重量部以下、且つ、前記中実粒子100重量部に対して、前記カップリング剤を1重量部以上、200重量部以下用いて修飾することが好ましい。前記カップリング剤の使用量を1重量部以上とすることにより、主に有機成分からなる電離放射線硬化性樹脂に対する前記中空粒子及び前記中実粒子の親和性が向上し、塗工液や屈折率層中での当該中空粒子及び当該中実粒子の均一分散が安定的に行われ、当該カップリング剤の使用量を50重量部以下とすることにより、当該中空粒子及び当該中実粒子の処理に使用されなかった遊離のカップリング剤の発生を良好に抑制でき、前記屈折率層の柔らかさを確保できる。   In the antireflection laminate according to the present invention, the coupling agent is 1 part by weight or more, 200 parts by weight or less, and 100 parts by weight of the solid particles with respect to 100 parts by weight of the hollow particles. The coupling agent is preferably modified using 1 part by weight or more and 200 parts by weight or less. By making the use amount of the coupling agent 1 part by weight or more, the affinity of the hollow particles and the solid particles for the ionizing radiation curable resin mainly composed of organic components is improved, and the coating liquid and the refractive index are improved. Uniform dispersion of the hollow particles and the solid particles in the layer is stably performed, and the amount of the coupling agent used is 50 parts by weight or less, thereby treating the hollow particles and the solid particles. Generation | occurrence | production of the free coupling agent which was not used can be suppressed favorably, and the softness | flexibility of the said refractive index layer can be ensured.

本発明に係る反射防止積層体の一形態においては、前記中実粒子の平均粒径Aと、前記中空粒子の平均粒径Bとが、以下の関係:
10nm≦A≦40nm;
30nm≦B≦60nm;且つ
A≦B、
をもつことが好ましい。
また、前記積層体においては、前記屈折率層が、前記中実粒子100重量部に対し、前記中空粒子5重量部〜50重量部を含有することが好ましい。斯かる範囲とすることにより、前記屈折率層中における前記中空粒子間の隙間に前記中実粒子が入り込み、さらに密に充填するため、当該層表面の耐擦傷性、特に耐スチールウール性を向上させる効果が特に高い。
本発明において、平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの50%粒径(d50 メジアン径)を意味する。当該平均粒径は、日機装(株)製のMicrotrac粒度分析計を用いて測定することができる。また、膜中の平均粒径については、透過型電子顕微鏡(TEM;Transmission Electron Microscope)を用いて測定する。具体的には、50〜200万倍で粒子の観察を行い、観察した粒子100個の平均値をもって平均粒径とする。
In one form of the antireflection laminate according to the present invention, the average particle diameter A of the solid particles and the average particle diameter B of the hollow particles are as follows:
10 nm ≦ A ≦ 40 nm;
30 nm ≦ B ≦ 60 nm; and A ≦ B,
It is preferable to have
In the laminate, the refractive index layer preferably contains 5 to 50 parts by weight of the hollow particles with respect to 100 parts by weight of the solid particles. By adopting such a range, the solid particles enter the gaps between the hollow particles in the refractive index layer, and more densely packed, thereby improving the scratch resistance of the surface of the layer, particularly steel wool resistance. The effect is particularly high.
In the present invention, the average particle diameter means a 50% particle diameter (d50 median diameter) when particles in a solution are measured by a dynamic light scattering method and the particle diameter distribution is expressed by a cumulative distribution. The average particle size can be measured using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. In addition, the average particle diameter in the film is measured using a transmission electron microscope (TEM; Transmission Electron Microscope). Specifically, the particles are observed at a magnification of 500 to 2,000,000, and the average value of 100 observed particles is defined as the average particle diameter.

本発明に係る反射防止積層体の別の形態においては、前記中実粒子の平均粒径Aと、前記中空粒子の平均粒径Bとが、以下の関係:
30nm<A≦100nm;
30nm≦B≦60nm;且つ
A>B、
をもつことが好ましい。
また、前記積層体においては、前記屈折率層が、前記中実粒子100重量部に対し、前記中空粒子5重量部〜50重量部を含有することが好ましい。斯かる範囲とすることにより、前記屈折率層において、体積の大きな前記中実粒子が増え、製膜時に前記中実粒子と前記中空粒子の隙間が生じ、その隙間に空気が存在するため、前記屈折率層の反射率を低下させる効果が特に高い。
In another form of the antireflection laminate according to the present invention, the average particle diameter A of the solid particles and the average particle diameter B of the hollow particles are as follows:
30 nm <A ≦ 100 nm;
30 nm ≦ B ≦ 60 nm; and A> B,
It is preferable to have
In the laminate, the refractive index layer preferably contains 5 to 50 parts by weight of the hollow particles with respect to 100 parts by weight of the solid particles. By making such a range, in the refractive index layer, the solid particles having a large volume increase, a gap between the solid particles and the hollow particles is generated during film formation, and air exists in the gap. The effect of reducing the reflectance of the refractive index layer is particularly high.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記電離放射線硬化性樹脂の少なくとも一部が、一分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物で形成されることが好ましい。電離放射線硬化性樹脂が上記の様に水素結合形成基を有すると、加熱によって同種の官能基同士、又は異種の官能基間で重合反応や架橋反応等を進行させて硬化し、塗膜を形成することができる。また、前記電離放射線硬化性樹脂が上記の様に電離放射線硬化性基を有すると、電離放射線の照射によって当該硬化性基が重合反応や架橋反応等を進行させて硬化し、塗膜を形成することができる   In the antireflection laminate according to the present invention, at least a part of the ionizing radiation curable resin has at least one hydrogen bond forming group and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule. Preferably formed from a compound. When the ionizing radiation curable resin has a hydrogen bond-forming group as described above, it is cured by heating to cause a polymerization reaction or a crosslinking reaction between the same functional groups or between different functional groups to form a coating film. can do. In addition, when the ionizing radiation curable resin has an ionizing radiation curable group as described above, the curable group is cured by proceeding a polymerization reaction or a crosslinking reaction by irradiation with ionizing radiation to form a coating film. be able to

本発明に係る反射防止積層体においては、前記電離放射線硬化性基が、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基であることが好ましい。アクリロイル基及びメタクリロイル基は生産性に優れ、また、硬化後の屈折率層における機械強度のコントロールが容易である。   In the antireflection laminate according to the present invention, the ionizing radiation curable group is preferably an acryloyl group and / or a methacryloyl group. The acryloyl group and methacryloyl group are excellent in productivity, and the mechanical strength in the refractive index layer after curing can be easily controlled.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記電離放射線硬化性基を介して、前記電離放射線硬化性樹脂と前記中空粒子と前記中実粒子が共有結合していることが、前記屈折率層の耐擦傷性を向上させることができるため好ましい。   In the antireflection laminate according to the present invention, the ionizing radiation curable resin, the hollow particles, and the solid particles are covalently bonded via the ionizing radiation curable group. It is preferable because the scratch resistance can be improved.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記屈折率層の膜厚が、0.05μm以上、0.15μm以下であることが、当該屈折率層が十分な反射防止効果を得られるため好ましい。   In the antireflection laminate according to the present invention, the film thickness of the refractive index layer is preferably 0.05 μm or more and 0.15 μm or less because the refractive index layer can provide a sufficient antireflection effect.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記中実粒子の屈折率が、前記電離放射線硬化性樹脂の屈折率よりも小さいことが好ましい。中実粒子の屈折率を電離放射線硬化性樹脂の屈折率よりも小さくすれば、屈折率層の屈折率をより低減できる。   In the antireflection laminate according to the present invention, it is preferable that a refractive index of the solid particles is smaller than a refractive index of the ionizing radiation curable resin. If the refractive index of the solid particles is made smaller than that of the ionizing radiation curable resin, the refractive index of the refractive index layer can be further reduced.

本発明に係る反射防止積層体においては、光透過性基材の一面側に、前記屈折率層が最も屈折率が小さい低屈折率層として、直接又は他の層を介して設けられていることが好ましい。   In the antireflection laminate according to the present invention, the refractive index layer is provided directly or via another layer as a low refractive index layer having the lowest refractive index on one surface side of the light-transmitting substrate. Is preferred.

本発明に係る反射防止積層体においては、前記他の層が、ハードコート層であることが好ましい。   In the antireflection laminate according to the present invention, the other layer is preferably a hard coat layer.

本発明に係る反射防止積層体は、屈折率層において、前記中空粒子及び中実粒子が均一、且つ、密に充填するため、層強度が向上し、耐擦傷性に優れる。   In the antireflection laminate according to the present invention, since the hollow particles and solid particles are uniformly and densely packed in the refractive index layer, the layer strength is improved and the scratch resistance is excellent.

本発明に係る反射防止積層体は、屈折率が1.45以下の屈折率層を有する反射防止積層体であって、
前記屈折率層が、屈折率層形成用組成物を、電離放射線照射して得られる硬化物であって、
前記屈折率層形成用組成物は、電離放射線硬化性樹脂と、
外殻層に囲まれた内部が多孔質又は空洞であり、且つ、表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中空粒子と、
内部が多孔質でも空洞でもなく、且つ表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中実粒子とを含有し、
前記中空粒子表面の架橋形成基と、前記中実粒子表面の架橋形成基は、粒子表面に対する結合基、スペーサ部及び電離放射線硬化性基からなり、同一構造を有するか、又は、構造上の相違があるとしても、電離放射線硬化性基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、粒子表面に対する結合基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、スペーサ部については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分又は異種原子を含み水素を除く構成原子数が1〜3の官能基1つ分の有無が異なるのみの範囲内か、或いは、骨格の炭素鎖長が炭素原子1〜2個分異なるのみの範囲内である類似構造を有する架橋形成基であることを特徴とする。
The antireflection laminate according to the present invention is an antireflection laminate having a refractive index layer having a refractive index of 1.45 or less,
The refractive index layer is a cured product obtained by irradiating a composition for forming a refractive index layer with ionizing radiation,
The refractive index layer forming composition comprises an ionizing radiation curable resin,
Cross-linking reactive hollow particles whose interior surrounded by the outer shell layer is porous or hollow and whose surface is modified with a cross-linking group;
Containing solid cross-linking reactive particles whose interior is neither porous nor hollow, and whose surface is modified with a cross-linking group;
The crosslink forming group on the surface of the hollow particle and the crosslink forming group on the surface of the solid particle are composed of a bonding group to the particle surface, a spacer part, and an ionizing radiation curable group, and have the same structure or structural differences. Even if there is, the ionizing radiation curable group has a common skeleton and is within a range in which the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different, and is bonded to the particle surface. For the group, the skeleton is common, and the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different. For the spacer portion, the skeleton is common, and It is within the range where only one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or one functional group having 1 to 3 functional atoms containing different atoms and excluding hydrogen is different, or carbon of the skeleton Range in which the chain length only differs by 1 to 2 carbon atoms Characterized in that it is a bridging form having a similar structure is.

前記中空粒子は、屈折率が1の空気を当該粒子内部に含み、屈折率層中の電離放射線硬化性樹脂や中実粒子よりも屈折率が低い。このため、当該中空粒子を含有する屈折率層は低屈折率化が可能となり、本発明に係る反射防止積層体の反射性を低減させ、視認性を向上させることができる。尚、屈折率の測定は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。例えば、分光光度計で測定した反射率曲線からシミュレーションを用いて算出する方法や、エリプソメータを用いて測定する方法を挙げることができる。   The hollow particles contain air having a refractive index of 1 inside the particles, and have a refractive index lower than that of the ionizing radiation curable resin or solid particles in the refractive index layer. For this reason, the refractive index layer containing the hollow particles can be lowered in refractive index, and the reflectivity of the antireflection laminate according to the present invention can be reduced and the visibility can be improved. In addition, the measurement of a refractive index is not specifically limited, A conventionally well-known method can be used. For example, a method of calculating from a reflectance curve measured with a spectrophotometer using a simulation or a method of measuring using an ellipsometer can be given.

また、前記中実粒子は当該粒子内部に空隙を有しないため中空粒子に比べ、外部から粒子にかかる圧力(外圧)で潰れにくく、耐圧性に優れる。そのため、当該中実粒子を含有する屈折率層の耐擦傷性を向上させやすくなる。   Further, since the solid particles do not have voids inside the particles, the solid particles are less likely to be crushed by pressure (external pressure) applied to the particles from the outside, and are excellent in pressure resistance, compared to hollow particles. Therefore, it becomes easy to improve the scratch resistance of the refractive index layer containing the solid particles.

更に、本発明に係る前記中空粒子及び前記中実粒子は、当該粒子表面を同一構造であるか又は1次構造の共通部分が極めて多い架橋形成基で修飾されている。当該架橋形成基は架橋反応性を有するため、中空粒子、中実粒子、及び電離放射線硬化性樹脂間で架橋結合を形成し得る。斯かる架橋結合により、当該粒子及び当該樹脂間の結びつきが従来の反射防止層に比べ強固になる。また、架橋形成基の共通部分が極めて多いため、従来に比べ、当該中空粒子と当該中実粒子との間の親和性が高く、前記中空粒子同士の凝集、及び前記中実粒子同士の凝集が起こり難く、前記中空粒子及び前記中実粒子が前記屈折率層中で均一、且つ、密に充填する。これにより、本発明に係る屈折率層は、当該層表面が滑らかとなり、当該層表面の引掻きに対する耐擦傷性(耐スチールウール性)を向上することが可能となる。 Furthermore, the hollow particles and the solid particles according to the present invention are modified on the surface of the particles with a cross-linking group having the same structure or having a large number of common parts of the primary structure. Since the cross-linking group has cross-linking reactivity, a cross-linking bond can be formed between the hollow particles, the solid particles, and the ionizing radiation curable resin. Such cross-linking bonds strengthen the bond between the particles and the resin compared to conventional antireflection layers. In addition, since the common part of the cross-linking group is very large, the affinity between the hollow particles and the solid particles is higher than before, and the aggregation between the hollow particles and the aggregation between the solid particles are It is difficult to occur, and the hollow particles and the solid particles are uniformly and densely packed in the refractive index layer. Thereby, the refractive index layer according to the present invention has a smooth surface, and can improve the scratch resistance (steel wool resistance) against scratching of the surface of the layer.

以下、本発明に係る屈折率層を形成するための成分である屈折率層形成用組成物、及びそれを用いた反射防止積層体について順に説明する。   Hereinafter, a composition for forming a refractive index layer, which is a component for forming a refractive index layer according to the present invention, and an antireflection laminate using the composition will be described in order.

<1.屈折率層形成用組成物>
本発明に係る屈折率層形成用組成物とは、必須成分として、表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中空粒子、表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中実粒子、及び電離放射線硬化性樹脂を含む。以下、屈折率層形成用組成物の必須成分である、前記中空粒子、前記中実粒子、及び前記電離放射線硬化性樹脂、並びに必要に応じて用いられるその他の成分について説明する。
<1. Refractive index layer forming composition>
The composition for forming a refractive index layer according to the present invention includes, as an essential component, a cross-linking reactive hollow particle whose surface is modified with a cross-linking group, and a cross-linking reactivity whose surface is modified with a cross-linking group. Includes real particles and ionizing radiation curable resin. Hereinafter, the hollow particles, the solid particles, the ionizing radiation curable resin, and other components used as necessary, which are essential components of the composition for forming a refractive index layer, will be described.

<1−1−1.中空粒子>
本発明に係る中空粒子は、外殻層を有し、外殻層に囲まれた内部が多孔質組織又は空洞である粒子をいう。当該多孔質組織及び当該空洞には空気(屈折率:1)が含有されており、当該中空粒子を屈折率層に含有させることで、当該層の屈折率を低減することができる。
<1-1-1. Hollow particles>
The hollow particle according to the present invention refers to a particle having an outer shell layer, and the inside surrounded by the outer shell layer is a porous structure or a cavity. The porous structure and the cavity contain air (refractive index: 1), and the refractive index of the layer can be reduced by containing the hollow particles in the refractive index layer.

本発明に係る中空粒子の材料は、無機系、有機系のものを使用することができる。生産性や強度等を考慮し、無機材料であることが好ましい。この場合には、外殻層が無機材料で形成されることになる。   As the material for the hollow particles according to the present invention, inorganic and organic materials can be used. In consideration of productivity and strength, an inorganic material is preferable. In this case, the outer shell layer is formed of an inorganic material.

中空粒子を無機材料で形成する場合、中空粒子の材料は、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、及び金属ハロゲン化物からなる群から選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。中空粒子を上記材料とすれば、外殻が高強度で外圧により潰れにくい粒子が得られる。さらに好ましいのは、中空粒子の材料を、金属酸化物又は金属ハロゲン化物で形成することであり、特に好ましいのは、金属酸化物又は金属フッ化物で形成することである。これら材料を用いると、さらに高強度、且つ、低屈折率な中空粒子を得られる。   When the hollow particles are formed of an inorganic material, the material of the hollow particles is preferably at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, metal sulfides, and metal halides. If hollow particles are used as the material, particles having a high strength outer shell and are not easily crushed by external pressure can be obtained. More preferably, the hollow particle material is formed of a metal oxide or a metal halide, and particularly preferably formed of a metal oxide or a metal fluoride. When these materials are used, hollow particles having higher strength and lower refractive index can be obtained.

ここで、金属酸化物等に用いる金属元素としては、Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Si、Bが好ましく、Mg、Ca、Al及びSiがさらに好ましい。斯かる金属元素を用いることにより、低屈折率、且つ、他の元素に比べて製造が容易な中空粒子が得られる。上記金属元素は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Here, as a metal element used for a metal oxide etc., Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Si, and B are preferable, and Mg, Ca, Al, and Si are more preferable. By using such a metal element, hollow particles that have a low refractive index and are easier to manufacture than other elements can be obtained. The above metal elements may be used alone or in combination of two or more.

空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。   Specific examples of the organic fine particles having voids preferably include hollow polymer fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2002-80503.

本発明において中空粒子を金属酸化物で形成する場合、材料の屈折率や生産性を考慮し、シリカ(二酸化珪素:SiO)からなる中空粒子を用いることが特に好ましい。中空シリカ粒子は、微細な空隙を内部に有しており、屈折率1の空気が当該粒子内部に含まれている。そのため、当該粒子自体の屈折率が中実粒子及び電離放射線硬化性樹脂に比べて低く、当該粒子を含有する屈折率層の屈折率を低下させることができる。すなわち、空隙を有する中空シリカ粒子は、内部に気体を有しないシリカ粒子(屈折率n=1.46程度)に比べると、屈折率が1.20〜1.45と低く、屈折率層の屈折率を1.45以下にすることができる。 In the present invention, when the hollow particles are formed of a metal oxide, it is particularly preferable to use hollow particles made of silica (silicon dioxide: SiO 2 ) in consideration of the refractive index and productivity of the material. The hollow silica particles have fine voids inside, and air having a refractive index of 1 is contained inside the particles. Therefore, the refractive index of the particle itself is lower than that of the solid particle and the ionizing radiation curable resin, and the refractive index of the refractive index layer containing the particle can be reduced. That is, the hollow silica particles having voids have a refractive index as low as 1.20 to 1.45 compared to silica particles having no gas inside (refractive index n = 1.46 or so), and the refractive index of the refractive index layer The rate can be 1.45 or less.

<1−1−2.中空粒子の製造方法>
上記中空シリカ粒子の種類は、屈折率が1.44以下であればよく、特に限定されるものではない。斯かる中空シリカ粒子としては、特開平7−133105号公報、特開2001−233611号公報等に開示された複合酸化物ゾル又は中空シリカ微粒子を挙げることができる。斯かる中空シリカ微粒子は、具体的には、以下の第一乃至第三工程により製造することができ、さらに以下の第四工程を行ってもよい。
<1-1-2. Method for producing hollow particles>
The type of the hollow silica particles is not particularly limited as long as the refractive index is 1.44 or less. Examples of such hollow silica particles include composite oxide sols or hollow silica fine particles disclosed in JP-A Nos. 7-133105 and 2001-233611. Specifically, such hollow silica fine particles can be produced by the following first to third steps, and the following fourth step may be further performed.

すなわち、第一工程として、予めシリカ原料及びシリカ以外の無機酸化物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、又は、両原料を混合した水溶液を調製する。次に、目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、得られた上記水溶液を、pH10以上のアルカリ水溶液中に撹拌しながら徐々に添加する。こうして、複合酸化物からなるコロイド粒子を得る。尚、第一工程の代わりに、予めシード粒子を含む分散液を出発原料とすることも可能である。
ここでシード粒子とは、中空粒子の調製において、空洞又は多孔質組織を形成するために用いることができる粒子であり、当該粒子を種として粒子が成長して核粒子となる。続く第二工程で当該核粒子の全部又は一部が除去され、前記空洞又は前記多孔質組織を形成する。シード粒子を用いることで、成長粒子の粒径制御が容易となり、粒径が均一な核粒子を得ることができる。
That is, as the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic oxide raw material other than silica is separately prepared in advance, or an aqueous solution in which both raw materials are mixed is prepared. Next, according to the composite ratio of the target composite oxide, the obtained aqueous solution is gradually added to an alkaline aqueous solution having a pH of 10 or more while stirring. In this way, colloidal particles made of the complex oxide are obtained. Instead of the first step, a dispersion containing seed particles in advance can be used as a starting material.
Here, the seed particle is a particle that can be used to form a cavity or a porous structure in the preparation of the hollow particle, and the particle grows using the particle as a seed to become a core particle. In the subsequent second step, all or part of the core particles are removed to form the cavity or the porous structure. By using seed particles, it is easy to control the particle size of the grown particles, and core particles having a uniform particle size can be obtained.

次に、第二工程として、上記の工程で得られた複合酸化物からなるコロイド粒子から、珪素と酸素以外の元素の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的には、複合酸化物中の元素を、鉱酸若しくは有機酸を用いて溶解除去するか又は、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。こうして、一部元素が除去された複合酸化物のコロイド粒子を得る。   Next, as a second step, at least a part of elements other than silicon and oxygen is selectively removed from the colloidal particles made of the composite oxide obtained in the above step. Specifically, the elements in the composite oxide are dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or are contacted with a cation exchange resin and removed by ion exchange. Thus, composite oxide colloidal particles from which some elements have been removed are obtained.

続いて、第三工程として、上記の工程で得られた一部元素が除去された複合酸化物のコロイド粒子に、加水分解性の有機ケイ素化合物又はケイ酸液等を加えることにより、コロイド粒子の表面を加水分解性有機ケイ素化合物又はケイ酸液等の重合物で被覆する。この様にして、上記公報に記載の複合酸化物ゾルであるシリカ微粒子を得ることができる。   Subsequently, as a third step, by adding a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to the composite oxide colloidal particles from which some elements obtained in the above step have been removed, The surface is coated with a hydrolyzable organosilicon compound or a polymer such as silicic acid solution. In this manner, silica fine particles that are the composite oxide sol described in the above publication can be obtained.

加水分解性の有機珪素化合物としては、例えば、一般式RSi(OR’)4−n(ここで、R、R’:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2又は3)で表されるアルコキシシランを用いることができる。特に、テロラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。 Examples of hydrolyzable organosilicon compounds include, for example, the general formula R n Si (OR ′) 4-n (where R, R ′ are hydrocarbon groups such as alkyl groups, aryl groups, vinyl groups, acrylic groups, Alkoxysilanes represented by n = 0, 1, 2 or 3) can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as teramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、例えば、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリ又は酸を添加した溶液を、第二工程で得られた前記コロイド粒子に加え、アルコキシシランを加水分解して生成した珪酸重合物をコロイド粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に前記コロイド粒子中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることができる。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることができる。   As an addition method, for example, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the colloidal particles obtained in the second step, and alkoxysilane is added. The silicic acid polymer produced by hydrolyzing is deposited on the surface of the colloidal particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the colloidal particles. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

前記コロイド粒子の分散媒が、水単独、又は有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、珪酸液による被覆処理も可能である。珪酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属珪酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリした珪酸の低重合物の水溶液である。珪酸液を用いる場合には、前記コロイド粒子中に珪酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えて珪酸液を重合、ゲル化させ、珪酸重合物をコロイド粒子表面に沈着させる。尚、珪酸液と上記アルコキシシランを併用して被覆処理を行うことも可能である。有機珪素化合物又は珪酸液の添加量は、コロイド粒子の表面をそれぞれの重合物が十分に被覆できる程度とする。   When the dispersion medium of the colloidal particles is water alone or the ratio of water to the organic solvent is high, a coating treatment with a silicic acid solution is also possible. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low polymer of silicic acid obtained by dealkalizing an aqueous solution of alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the colloidal particles, and at the same time an alkali is added to polymerize and gel the silicic acid solution, thereby depositing the silicic acid polymer on the surface of the colloidal particles. In addition, it is also possible to perform a coating process by using the silicic acid solution and the alkoxysilane together. The amount of the organosilicon compound or silicic acid solution added is such that each polymer can sufficiently cover the surface of the colloidal particles.

更に、第四工程として、上記第三工程で得られたシリカ粒子を50〜300℃の範囲で水熱処理することが好ましい。水熱処理温度を50℃以上とすれば、最終的に得られるシリカ粒子又はシリカ粒子分散液中のアルカリ金属酸化物及び/又はアンモニアの含有量が効果的に低減して、塗工液の保存安定性や被膜強度が向上する。一方、水熱処理温度を300℃以下とすれば、塗工液の保存安定性や被膜強度が向上し、シリカ粒子の凝集が抑制される。   Furthermore, it is preferable to hydrothermally treat the silica particles obtained in the third step in the range of 50 to 300 ° C. as the fourth step. When the hydrothermal treatment temperature is set to 50 ° C. or higher, the content of alkali metal oxide and / or ammonia in the finally obtained silica particles or silica particle dispersion is effectively reduced, and the coating solution is stably stored. Property and film strength are improved. On the other hand, when the hydrothermal treatment temperature is 300 ° C. or lower, the storage stability of the coating liquid and the coating strength are improved, and aggregation of silica particles is suppressed.

第三工程までで得られたシリカ粒子は、当該粒子表面に、イオン性不純物として各種低分子化合物が存在する傾向が強い。前記イオン性不純物は、前記粒子の原料中に含まれていたものや、製造工程で加えられた添加物等に起因するものである。従って、第四工程において、前記イオン性不純物を水熱処理で除去することにより、前記シリカ粒子表面の不純物量を所定量以下にしやすくなる。   The silica particles obtained up to the third step tend to have various low-molecular compounds as ionic impurities on the particle surface. The ionic impurities are attributed to those contained in the raw material of the particles, additives added in the manufacturing process, and the like. Therefore, in the fourth step, by removing the ionic impurities by hydrothermal treatment, the amount of impurities on the surface of the silica particles can be easily reduced to a predetermined amount or less.

具体的には、シリカ粒子中のアルカリ金属酸化物の含有量を、好ましくは10ppm以下、さらに好ましくは5ppm以下、特に好ましくは2ppm以下とする。特に、アルカリ金属酸化物の含有量を5ppm以下とすることにより、シリカ粒子を含む塗工液の安定性が向上する。すなわち、塗工液を長期保存したような場合でも、塗工液の粘度上昇が抑えられ、優れた保存安定性が実現できる。また、アルカリ金属酸化物の含有量を上記範囲とすることにより、シリカ粒子表面とシランカップリング剤等の架橋形成基を導入するための化合物との反応がより強固に起こると推察され、結果的に屈折率層の強度も向上する(シランカップリング剤については後述する)。また、アルカリ金属酸化物の含有量を10ppm以下とすることにより、製膜性及び得られる膜の強度を向上することができる。尚、アルカリ金属酸化物の含有量は、MO(Mはアルカリ金属元素を表す)としての含有量を意味し、一般的な原子吸光法又はICP MS測定によって、含有量を測定できる。 Specifically, the content of the alkali metal oxide in the silica particles is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less, and particularly preferably 2 ppm or less. Particularly, when the content of the alkali metal oxide is 5 ppm or less, the stability of the coating solution containing silica particles is improved. That is, even when the coating solution is stored for a long period of time, an increase in the viscosity of the coating solution is suppressed, and excellent storage stability can be realized. In addition, by setting the content of the alkali metal oxide in the above range, it is speculated that the reaction between the surface of the silica particles and a compound for introducing a cross-linking group such as a silane coupling agent occurs more strongly. In addition, the strength of the refractive index layer is improved (the silane coupling agent will be described later). Moreover, film forming property and the intensity | strength of the film | membrane obtained can be improved by content of an alkali metal oxide being 10 ppm or less. The content of alkali metal oxides, M 2 O (M represents an alkali metal element) refers to the content of the by general AAS or ICP MS measurements can determine the content.

また、シリカ粒子中のアンモニア(アンモニウムイオンを含む)の含有量は、好ましくは2000ppm以下、さらに好ましくは1500ppm以下、特に好ましくは1000ppm以下である。特に、アンモニアの含有量を1500ppm以下とすることにより、シリカ粒子を含む塗工液の安定性が向上する。すなわち、塗工液を長期保存したような場合でも、塗工液の粘度上昇が抑えられ、優れた保存安定性を実現できる。また、アンモニアの含有量を上記の範囲とすることにより、シリカ粒子表面とシランカップリング剤等の架橋形成基を導入するための化合物との反応がより強固に起こると推察され、結果的に屈折率層の強度も向上する。また、アンモニアの含有量を2000ppm以下とすると、上記と同様に、製膜性及び得られる膜の強度を向上することができる。尚、シリカ粒子中のアンモニア(アンモニウムイオンを含む)の含有量は、NHとしての含有量を意味し、一般的な化学分析法によって、含有量を測定できる。 Further, the content of ammonia (including ammonium ions) in the silica particles is preferably 2000 ppm or less, more preferably 1500 ppm or less, and particularly preferably 1000 ppm or less. In particular, when the ammonia content is 1500 ppm or less, the stability of the coating liquid containing silica particles is improved. That is, even when the coating liquid is stored for a long period of time, an increase in the viscosity of the coating liquid is suppressed, and excellent storage stability can be realized. In addition, by setting the ammonia content within the above range, it is speculated that the reaction between the surface of the silica particles and a compound for introducing a cross-linking group such as a silane coupling agent will occur more strongly, resulting in refraction. The strength of the rate layer is also improved. Further, when the ammonia content is 2000 ppm or less, the film forming property and the strength of the obtained film can be improved in the same manner as described above. The content of ammonia (including ammonium ions) in the silica particles means the content as NH 3 , and the content can be measured by a general chemical analysis method.

シリカ粒子中の不純物化合物の含有量を上記範囲とするため、第四工程(水熱処理工程)を複数回繰り返しても良い。水熱処理を繰り返すことによって、得られるシリカ系粒子中のアルカリ金属酸化物及び/又はアンモニア(アンモニウムイオンを含む)の含有量を低減することができる。   In order to make the content of the impurity compound in the silica particles in the above range, the fourth step (hydrothermal treatment step) may be repeated a plurality of times. By repeating the hydrothermal treatment, the content of alkali metal oxide and / or ammonia (including ammonium ions) in the obtained silica-based particles can be reduced.

<1−2−1.中実粒子>
本発明に係る中実粒子は、当該粒子内部が多孔質でもなく空洞でもない粒子をいう。空隙を有しないため中空粒子に比べ、外部から粒子にかかる圧力(外圧)で潰れにくく、耐圧性に優れる。そのため、当該中実粒子を含有する屈折率層の耐擦傷性を向上させやすくなる。
<1-2-1. Solid particles>
The solid particle according to the present invention refers to a particle whose inside is neither porous nor hollow. Since it does not have voids, it is less likely to be crushed by pressure (external pressure) applied to the particles from the outside, and it has excellent pressure resistance compared to hollow particles. Therefore, it becomes easy to improve the scratch resistance of the refractive index layer containing the solid particles.

本発明に係る中実粒子の材料は、無機系、有機系のものを使用することができる。屈折率層の押圧力に対する強度の向上を考慮し、無機材料を用いることが好ましい。   As the material for the solid particles according to the present invention, inorganic or organic materials can be used. In consideration of improvement in strength against the pressing force of the refractive index layer, it is preferable to use an inorganic material.

中実粒子を無機材料で形成する場合、当該中実粒子の材料は、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、及び金属ハロゲン化物からなる群から選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。中実粒子を上記材料とすれば、高強度な粒子が安定して得られる。より好ましいのは、中実粒子の材料を、金属酸化物又は金属ハロゲン化物とすることであり、さらに好ましいのは、金属酸化物又は金属フッ化物とすることである。これら材料を用いると、さらに、屈折率が低く、反射防止層としての性能が良好となりやすい。   When the solid particles are formed of an inorganic material, the material of the solid particles is preferably at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, metal sulfides, and metal halides. If solid particles are used as the material, high-strength particles can be obtained stably. More preferably, the solid particle material is a metal oxide or a metal halide, and even more preferably a metal oxide or a metal fluoride. When these materials are used, the refractive index is low and the performance as an antireflection layer tends to be good.

前記金属酸化物等に用いる金属元素としては、Na、K、Mg、Ca、Ba、Al、Si、Bが好ましく、Mg、Ca、Al及びSiがさらに好ましい。斯かる金属元素を用いることにより、強度を高くし、屈折率を低くすることができる。前記金属元素は1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The metal element used for the metal oxide or the like is preferably Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Si, or B, and more preferably Mg, Ca, Al, or Si. By using such a metal element, the strength can be increased and the refractive index can be decreased. The metal elements may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、屈折率層の屈折率をより低減するために、中実粒子の屈折率は、電離放射線硬化性樹脂の屈折率よりも小さいことが好ましい。シリカ(SiO)の屈折率は1.42〜1.46であり、電離放射線硬化性樹脂として好ましく用いられるアクリル系樹脂の屈折率1.49〜1.55よりも低い。このため、中実粒子の材料は、シリカ(SiO)を用いることが特に好ましい。 In the present invention, in order to further reduce the refractive index of the refractive index layer, the refractive index of the solid particles is preferably smaller than the refractive index of the ionizing radiation curable resin. The refractive index of silica (SiO 2 ) is 1.42 to 1.46, which is lower than the refractive index of 1.49 to 1.55 of an acrylic resin preferably used as an ionizing radiation curable resin. For this reason, it is particularly preferable to use silica (SiO 2 ) as the solid particle material.

<1−2−2.中実粒子の製造方法>
中実粒子は、従来公知の製造方法で製造することができる。斯かる方法としては、例えば、化学的手法であるゾルゲル法、物理的方法であるガス中蒸着法等を挙げることができる。
<1-2-2. Production method of solid particles>
The solid particles can be produced by a conventionally known production method. As such a method, for example, a sol-gel method that is a chemical method, a gas evaporation method that is a physical method, and the like can be given.

<1−3.中空粒子と中実粒子の関係>
本発明に係る反射防止積層体の一形態においては、中実粒子の平均粒径A及び中空粒子の平均粒径Bは、以下の関係:
10nm≦A≦40nm;
30nm≦B≦60nm;且つ
A≦B、
をもつことが好ましく、A+10≦Bであることがさらに好ましい。
また、本発明に係る反射防止積層体においては、屈折率層が、前記中実粒子100重量部に対し、前記中空粒子5重量部〜50重量部を含有することが好ましい。上記範囲とすることにより、前記屈折率層中における前記中空粒子間の隙間に前記中実粒子が入り込み、さらに密に充填するため、当該層表面の耐擦傷性、特に耐スチールウール性を向上させる効果が特に高い。
<1-3. Relationship between hollow particles and solid particles>
In one form of the antireflection laminate according to the present invention, the average particle diameter A of the solid particles and the average particle diameter B of the hollow particles are as follows:
10 nm ≦ A ≦ 40 nm;
30 nm ≦ B ≦ 60 nm; and A ≦ B,
It is preferable that A + 10 ≦ B.
In the antireflection laminate according to the present invention, the refractive index layer preferably contains 5 to 50 parts by weight of the hollow particles with respect to 100 parts by weight of the solid particles. By setting it as the above range, the solid particles enter the gaps between the hollow particles in the refractive index layer and more closely fill them, thereby improving the scratch resistance of the surface of the layer, in particular, the steel wool resistance. The effect is particularly high.

本発明に係る反射防止積層体の別の形態においては、中実粒子の平均粒径A及び中空粒子の平均粒径Bは、以下の関係:
30nm<A≦100nm;
30nm≦B≦60nm;且つ
A>B、
をもつことが好ましく、A≧B+10であることがさらに好ましい。
また、本発明に係る反射防止積層体においては、屈折率層が、前記中実粒子100重量部に対し、前記中空粒子5重量部〜50重量部を含有することが好ましい。上記範囲とすることにより、前記屈折率層における前記中実粒子の体積占有率が大きくなり、前記屈折率層の反射率を低減させる効果が特に高い。
従来の表面処理による中空粒子及び中実粒子では、中実粒子が中空粒子に比べて大きい場合、異種粒子同士の親和性が低いため同種の粒子同士の凝集が起こりやすく、その結果、ヘイズが上がってしまっていた。それに対して、中空粒子及び中実粒子が本発明の表面処理を用いることにより、中実粒子が中空粒子に比べて大きい場合であっても、異種粒子間の親和性が高く、層内において均一、且つ、密に充填しやすい。また、粒径が大きい粒子同士を混合するため充填された粒子間の隙間が大きくなり、空気が存在する。そのため、上記範囲を有することにより本発明の低屈折率層は、反射率を低減する効果が特に高くなる。
In another form of the antireflection laminate according to the present invention, the average particle size A of the solid particles and the average particle size B of the hollow particles have the following relationship:
30 nm <A ≦ 100 nm;
30 nm ≦ B ≦ 60 nm; and A> B,
It is preferable that A ≧ B + 10.
In the antireflection laminate according to the present invention, the refractive index layer preferably contains 5 to 50 parts by weight of the hollow particles with respect to 100 parts by weight of the solid particles. By setting it as the said range, the volume occupation rate of the said solid particle in the said refractive index layer becomes large, and the effect of reducing the reflectance of the said refractive index layer is especially high.
In the case of hollow particles and solid particles by conventional surface treatment, when the solid particles are larger than the hollow particles, the affinity between the different types of particles is low and aggregation of the same kind of particles is likely to occur, resulting in an increase in haze. It was. On the other hand, by using the surface treatment of the present invention for hollow particles and solid particles, even when the solid particles are larger than the hollow particles, the affinity between different types of particles is high and uniform in the layer. And it is easy to pack densely. Further, since the particles having a large particle size are mixed with each other, a gap between the filled particles is increased, and air is present. Therefore, by having the above range, the low refractive index layer of the present invention has a particularly high effect of reducing the reflectance.

本発明に係る中空粒子の外殻層の厚みは、通常1nm以上、好ましくは2nm以上とする。外殻層の厚さを上記範囲とすると、粒子の被覆が良好に行われやすくなり、電離放射線硬化性樹脂等の他の成分が粒子内部に侵入しにくくなる。この結果、内部の空洞や多孔質構造の減少が低減され、低屈折率の効果が得やすくなる。一方、中空粒子の外殻層の厚みは、通常30nm以下、好ましくは20nm以下とする。外殻層の厚さを上記範囲とすると、粒子の多孔性が低下させることなく、低屈折率の効果が得られる。   The thickness of the outer shell layer of the hollow particles according to the present invention is usually 1 nm or more, preferably 2 nm or more. When the thickness of the outer shell layer is in the above range, the particles can be easily coated and other components such as ionizing radiation curable resin are less likely to enter the particles. As a result, the decrease in internal cavities and porous structure is reduced, and the effect of low refractive index is easily obtained. On the other hand, the thickness of the outer shell layer of the hollow particles is usually 30 nm or less, preferably 20 nm or less. When the thickness of the outer shell layer is within the above range, the effect of a low refractive index can be obtained without reducing the porosity of the particles.

<1−4.架橋形成基>
本発明に係る中空粒子及び中実粒子は、当該粒子表面を同一構造を有するか、又は、構造上の相違があるとしても、電離放射線硬化性基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、粒子表面に対する結合基については、その骨格が共通し、且つ、結合基に結合するスペーサ部以外の基は、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、スペーサ部については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分又は異種原子を含み水素を除く構成原子数が1〜3の官能基1つ分の有無が異なるのみの範囲内か、或いは、骨格の炭素鎖長が炭素原子1〜2個分異なるのみの範囲内である類似構造を有する架橋形成基で修飾されている。当該架橋形成基となる化合物としては、例えば、カップリング剤が挙げられ、当該カップリング剤としてはシランカップリング剤が好ましい。当該シランカップリング剤のシリルオキシ部分が加水分解により、前記結合基となり得る。
<1-4. Crosslink forming group>
The hollow particles and the solid particles according to the present invention have the same structure on the particle surface, or even if there are structural differences, the ionizing radiation curable groups have a common skeleton and carbon. The number of atoms of the hydrocarbon group having 1 to 3 atoms is within a range that is different, and the bonding group to the particle surface has a common skeleton and a group other than the spacer unit bonded to the bonding group. Is within a range in which the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different, and the spacer portion has a common skeleton and has 1 to 3 carbon atoms. Within a range in which the presence or absence of one group or one functional group containing 1 to 3 heterogeneous atoms and excluding hydrogen is different, or the skeleton has a carbon chain length of 1 to 2 carbon atoms Modified with cross-linking groups that have similar structures that are only within different ranges To have. As a compound used as the said bridge | crosslinking formation group, a coupling agent is mentioned, for example, As a coupling agent, a silane coupling agent is preferable. The silyloxy moiety of the silane coupling agent can become the bonding group by hydrolysis.

本発明で好適に用いられるシランカップリング剤としては、3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3‐アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3‐アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3‐メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、2‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、2‐メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。   Examples of the silane coupling agent preferably used in the present invention include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, Examples include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 2-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 2-methacryloxypropyltriethoxysilane.

<1−4−1.結合基>
結合基とは、前記架橋形成基が前記中空粒子及び前記中実粒子に結合する部位であり、前記中空粒子及び前記中実粒子と共有結合を形成し得る基を意味する。具体例として、上記シランカップリング剤の一つである3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを例とすると、下記化学式(1)において、シランカップリング剤1である3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの‐Si(OCH部分2が加水分解され、結合基である‐Si(OH)に変化し得る。
<1-4-1. Bonding group>
The binding group is a site where the cross-linking group is bonded to the hollow particles and the solid particles, and means a group capable of forming a covalent bond with the hollow particles and the solid particles. As a specific example, when 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane which is one of the silane coupling agents is taken as an example, in the following chemical formula (1), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane which is the silane coupling agent 1 The —Si (OCH 3 ) 3 moiety 2 can be hydrolyzed to change to the bonding group —Si (OH) 3 .

Figure 2008107792
Figure 2008107792

<1−4−2.スペーサ部>
本発明に係るスペーサ部とは、架橋形成基において、前記結合基と後述する電離放射線硬化性基を繋ぐ部位であり、当該架橋形成基に有機成分よりなる電離放射線硬化性樹脂との親和性を付与する機能も有する。具体例として上記シランカップリング剤の一つである3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを例とすると、上記化学式(1)において、シランカップリング剤1である3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの‐COO(CH部分3がスペーサ部に該当する。
<1−4−3.電離放射線硬化性基>
本発明に係る電離放射線硬化性基とは、屈折層を形成する必須成分である電離放射線硬化性樹脂と電離放射線の照射により、重合反応や架橋反応が進行し、硬化し得る官能基である。前記硬化性基は、前記樹脂と重合することで屈折率層の強度を向上させる機能を有する。
<1-4-2. Spacer>
The spacer portion according to the present invention is a site that connects the bonding group and an ionizing radiation curable group, which will be described later, in the crosslinking group, and has an affinity for the ionizing radiation curable resin made of an organic component to the crosslinking group. It also has a function to give. As a specific example, when 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, which is one of the silane coupling agents, is taken as an example, in the above chemical formula (1), -methacryloxypropyltrimethoxysilane— The COO (CH 2 ) 3 portion 3 corresponds to the spacer portion.
<1-4-3. Ionizing radiation curable groups>
The ionizing radiation curable group according to the present invention is a functional group that can be cured by a polymerization reaction or a crosslinking reaction by irradiation with an ionizing radiation curable resin, which is an essential component for forming a refractive layer, and ionizing radiation. The curable group has a function of improving the strength of the refractive index layer by polymerizing with the resin.

斯かる電離放射線硬化性基としては、例えば、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合のような重合反応、あるいは、光二量化を経て進行する付加重合又は縮重合等の反応形式により反応が進行するものが挙げられる。特に、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基は、紫外線や電子線等の電離放射線の照射により、直接又は開始剤の作用を受けて間接的に光ラジカル重合反応を生じさせることができるため、光硬化工程を含む取り扱いが比較的容易である。これらの中でも、生産性に優れ、また、硬化後の屈折率層における機械強度のコントロールが容易であることから、電離放射線硬化性基としては(メタ)アクリロイル基が好ましい。尚、本発明において(メタ)アクリロイルとは、アクリロイル及び/又はメタクリロイルを意味する。   As such ionizing radiation curable groups, for example, the reaction proceeds by a polymerization reaction such as photo radical polymerization, photo cation polymerization, photo anion polymerization, or addition reaction or condensation polymerization that proceeds through photodimerization. To do. In particular, a group having an ethylenically unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an allyl group is directly or indirectly subjected to the action of an initiator by irradiation with ionizing radiation such as an ultraviolet ray or an electron beam. Since a radical polymerization reaction can be caused, handling including a photocuring process is relatively easy. Among these, the (meth) acryloyl group is preferred as the ionizing radiation curable group because of excellent productivity and easy control of the mechanical strength in the refractive index layer after curing. In the present invention, (meth) acryloyl means acryloyl and / or methacryloyl.

具体例として上記シランカップリング剤の一つである3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを例とすると、上記化学式(1)において、シランカップリング剤1である3‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシランのCH=C(CH)‐部分4が電離放射線硬化性基に該当する。 As a specific example, when 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, which is one of the silane coupling agents, is taken as an example, in the chemical formula (1), CH of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, which is the silane coupling agent 1, is used. 2 = C (CH 3 ) -part 4 corresponds to an ionizing radiation curable group.

図1乃至図2は、架橋形成基となる化合物の一種であるシランカップリング剤を用いた場合を例とした、前記粒子表面の修飾の機構を模式的に示した図である。
図1では、第一段階として、シランカップリング剤101が、加水分解反応110により、結合基を有する架橋形成基102を生成し、
続いて第二段階として、前記架橋形成基102が、粒子表面の極性基103との水素結合111により、粒子表面の極性基と水素結合した架橋形成基104を形成する。
さらに第三段階として、前記水素結合した架橋形成基104が、加熱及び脱水反応112により、目的とする、架橋形成基により表面を修飾された粒子105が生成する。
FIGS. 1 and 2 are diagrams schematically showing the modification mechanism of the particle surface, taking as an example the case of using a silane coupling agent which is a kind of a compound that becomes a cross-linking group.
In FIG. 1, as a first step, the silane coupling agent 101 generates a crosslink forming group 102 having a bonding group by a hydrolysis reaction 110.
Subsequently, as a second step, the cross-linking group 102 forms a cross-linking group 104 that is hydrogen-bonded to the polar group on the particle surface by the hydrogen bond 111 to the polar group 103 on the particle surface.
Further, as the third step, the hydrogen-bonded cross-linking group 104 is heated and dehydrated 112 to produce the target particle 105 whose surface is modified with the cross-linking group.

図2は、第一段階として、シランカップリング剤101が、加水分解反応110により、結合基を有する架橋形成基102を生成し、
続いて第二段階として、前記架橋形成基102が、脱水縮合反応113により、脱水縮合した架橋形成基106を生成する。
さらに第三段階として、前記脱水縮合した架橋形成基106が粒子表面の極性基103と水素結合111により、粒子表面の極性基と水素結合した架橋形成基の脱水縮合体107を形成する。
第四段階として、前記脱水縮合体107が、加熱及び脱水反応112により、目的とする、脱水縮合した架橋形成基により表面を修飾された粒子108が生成する。
In FIG. 2, as a first step, the silane coupling agent 101 generates a cross-linking group 102 having a bonding group by a hydrolysis reaction 110,
Subsequently, as a second step, the cross-linking group 102 generates a dehydration-condensed cross-linking group 106 by a dehydration condensation reaction 113.
Further, as a third stage, the dehydration-condensation product 107 of the cross-linking group formed by hydrogen bonding with the polar group on the particle surface is formed by the dehydration-condensed cross-linking group 106 by the polar group 103 and the hydrogen bond 111 on the particle surface.
As a fourth step, the dehydrated condensate 107 is heated and dehydrated 112 to produce the desired particles 108 whose surfaces are modified by the dehydration-condensed cross-linking groups.

シリカ粒子の表面を架橋形成基により修飾するための一例として、シリカ粒子へのシランカップリング剤の処理量は、シリカ粒子に対して、好ましくは1重量%以上、より好ましくは2重量%以上とする。上記範囲とすれば、電離放射線硬化性樹脂組成物に対するシリカ粒子の親和性を良好にできる。一方、シリカ粒子へのシランカップリング剤の処理量は、シリカ粒子に対して好ましくは50重量%以下、より好ましくは30重量%以下とする。上記範囲とすれば、シリカ粒子の処理に使用されなかった遊離のシランカップリング剤の発生を良好に抑制でき、外部衝撃に対する復元性が向上し、割れや傷の発生が抑制される。   As an example for modifying the surface of the silica particles with a cross-linking group, the treatment amount of the silane coupling agent to the silica particles is preferably 1% by weight or more, more preferably 2% by weight or more with respect to the silica particles. To do. If it is the said range, the affinity of the silica particle with respect to an ionizing radiation curable resin composition can be made favorable. On the other hand, the treatment amount of the silane coupling agent to the silica particles is preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less based on the silica particles. If it is the said range, generation | occurrence | production of the free silane coupling agent which was not used for the process of a silica particle can be suppressed favorably, the restoring property with respect to an external impact improves, and generation | occurrence | production of a crack and a crack is suppressed.

シランカップリング剤によるシリカ粒子表面の修飾方法としては、有機溶剤への分散性と、電離放射線硬化性樹脂との親和性とを向上させることができれば、特に制限されず、従来の方法により処理することができる。例えば、シリカ粒子の分散液に所定量のシランカップリング剤を加え、必要に応じて、酸処理、アルカリ処理、又は加熱処理をすることにより、シリカ粒子の表面を修飾することができる。   The silica particle surface modification method using a silane coupling agent is not particularly limited as long as the dispersibility in an organic solvent and the affinity with an ionizing radiation curable resin can be improved. be able to. For example, the surface of the silica particles can be modified by adding a predetermined amount of a silane coupling agent to the dispersion of silica particles and performing an acid treatment, an alkali treatment, or a heat treatment as necessary.

また、上記した以外のシランカップリング剤を用いる場合、好適なものの見分け方としては、修飾後の前記粒子表面が疎水性、又は親水性かで見分ける。具体的な見分け方としては、当該シランカップリング剤を用いて前記粒子表面を修飾し、乾燥させた後にメノウ乳鉢等を用いて大きさ1mm以下の微粉末状としたものが水に浮くかどうかで見分ける。   In addition, when using a silane coupling agent other than those described above, a suitable way to distinguish is whether the particle surface after modification is hydrophobic or hydrophilic. Specifically, the surface of the particles is modified with the silane coupling agent, dried and then made into a fine powder with a size of 1 mm or less using an agate mortar or the like. Identify by.

本発明においては、全てのシランカップリング剤がシリカ粒子表面に導入されず、単量体又は縮合体として、電離放射線硬化性樹脂等を含む屈折率層形成用組成物中に存在してもよい。シランカップリング剤は、電離放射線硬化性樹脂やシリカ粒子との親和性に優れるため、シリカ粒子を屈折率層形成用組成物中で安定的に分散させることができる。また、シランカップリング剤は、電離放射線の照射や加熱による硬化の際に、膜中に取りこまれて架橋剤として作用するため、シランカップリング剤全量がシリカ粒子表面に導入された場合と比べて、屈折率層の性能が向上しやすくなる。   In the present invention, not all of the silane coupling agent is introduced into the surface of the silica particles, and may be present as a monomer or a condensate in the composition for forming a refractive index layer containing an ionizing radiation curable resin or the like. . Since the silane coupling agent is excellent in affinity with the ionizing radiation curable resin and the silica particles, the silica particles can be stably dispersed in the composition for forming a refractive index layer. In addition, the silane coupling agent is incorporated in the film and acts as a cross-linking agent when cured by irradiation with ionizing radiation or heating, so compared with the case where the entire amount of the silane coupling agent is introduced to the silica particle surface. Thus, the performance of the refractive index layer is easily improved.

上記は中空粒子及び中実粒子をシリカで形成した場合だが、シリカ以外の材料で当該粒子を形成する場合には、それぞれの材料に適した表面修飾を適宜行えばよい。   The above is a case where hollow particles and solid particles are formed of silica, but when the particles are formed of a material other than silica, surface modification suitable for each material may be appropriately performed.

また、上記カップリング剤以外の化合物でも、上記特性を具備するものであれば、本発明に係る架橋形成基を導入するための化合物として用いて良い。   Moreover, even if it is a compound other than the said coupling agent, as long as it has the said characteristic, you may use as a compound for introduce | transducing the bridge | crosslinking formation group which concerns on this invention.

<1−5.電離放射線硬化性樹脂>
本発明において、電離放射線硬化性樹脂とは、電離放射線の照射により反応し、硬化し得る樹脂である。生産性を考慮すると好ましい樹脂として、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、並びに熱、及び放射線を併用して硬化させ得る樹脂を挙げることができる。
<1-5. Ionizing radiation curable resin>
In the present invention, the ionizing radiation curable resin is a resin that can be reacted and cured by irradiation with ionizing radiation. In view of productivity, preferred resins include thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and resins that can be cured by using heat and radiation in combination.

上記電離放射線硬化性樹脂の屈折率層中の含有量は、好ましくは10重量%以上、さらに好ましくは20重量%以上、特に好ましくは30重量%以上である。一方、好ましくは70重量%以下、さらに好ましくは60重量%以下、特に好ましくは50重量%以下である。上記範囲内とすれば低屈折率でありながら実使用上問題が無い膜強度が発揮されやすい。   The content of the ionizing radiation curable resin in the refractive index layer is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, and particularly preferably 30% by weight or more. On the other hand, it is preferably 70% by weight or less, more preferably 60% by weight or less, and particularly preferably 50% by weight or less. If it is within the above range, it is easy to exhibit a film strength that is low in refractive index and causes no problem in actual use.

電離放射線硬化性樹脂は、反射防止性能を確保するための適切な屈折率を有し、光透過性基材との接着性が確保しやすく、屈折率層の機械的強度を確保しやすい材料であればよい。   The ionizing radiation curable resin has an appropriate refractive index for ensuring antireflection performance, is easy to ensure adhesion with a light-transmitting substrate, and is a material that easily secures the mechanical strength of the refractive index layer. I just need it.

電離放射線硬化性樹脂中に、1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基と、を有する化合物が含まれることが好ましい。これにより、電離放射線硬化性樹脂の少なくとも一部が、1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物で形成される。ここで、水素結合基とは、加熱によって同種の官能基同士、又は異種の官能基間で重合反応や架橋反応等を進行させて硬化し、塗膜を形成することができる官能基を意味する。   The ionizing radiation curable resin preferably contains a compound having at least one hydrogen bond forming group and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule. Thereby, at least a part of the ionizing radiation curable resin is formed of a compound having at least one hydrogen bond forming group and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule. Here, the hydrogen bonding group means a functional group capable of forming a coating film by curing by heating a polymerization reaction or a crosslinking reaction between the same functional groups or different functional groups by heating. .

電離放射線で硬化する電離放射線硬化性基、及び単独又は硬化剤との併用により熱硬化する水素結合形成基、を有する化合物を用いることにより、屈折率層形成用組成物を被塗工体の表面に塗布、乾燥し、電離放射線の照射と加熱とを併用して行った際に、塗膜内に架橋結合等の化学結合が形成され、塗膜を効率的に硬化させやすくなる。また、中空粒子及び中実粒子を無機粒子(特にシリカ)で形成した場合、当該粒子の表面に存在する水酸基と、上記化合物とが共有結合を形成しやすくなり、且つ、中空粒子及び/又は中実粒子と、放射線硬化性樹脂とが架橋結合を形成するため、屈折率層の強度の向上を図ることができる。   By using a compound having an ionizing radiation-curable group that is cured by ionizing radiation and a hydrogen bond-forming group that is thermally cured alone or in combination with a curing agent, the composition for forming a refractive index layer is applied to the surface of the object to be coated. When this is applied and dried, and combined with irradiation with ionizing radiation and heating, chemical bonds such as crosslinks are formed in the coating film, and the coating film is easily cured efficiently. In addition, when the hollow particles and solid particles are formed of inorganic particles (especially silica), the hydroxyl group present on the surface of the particles and the compound are likely to form a covalent bond, and the hollow particles and / or the middle particles are easily formed. Since the actual particles and the radiation curable resin form a cross-linked bond, the strength of the refractive index layer can be improved.

1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物に用いられる電離放射線硬化性基としては、例えば、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合等の重合反応、光二量化を経て進行する付加重合反応、又は縮重合反応が進行する官能基が挙げられる。特に、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基は、紫外線や電子線等の電離放射線の照射により、直接又は開始剤の作用を受けて間接的に光ラジカル重合反応を生じさせることができるため、光硬化工程を含む取り扱いが比較的容易である。斯かる官能基の中でも、(メタ)アクリロイル基は、生産性に優れ、また、硬化後の屈折率層における機械強度のコントロールが容易であるため好ましい。   Examples of the ionizing radiation curable group used in a compound having at least one hydrogen bond forming group and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule include photo radical polymerization, photo cation polymerization, photo Examples thereof include a functional group that undergoes a polymerization reaction such as anionic polymerization, an addition polymerization reaction that proceeds through photodimerization, or a condensation polymerization reaction. In particular, a group having an ethylenically unsaturated bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an allyl group is directly or indirectly subjected to the action of an initiator by irradiation with ionizing radiation such as an ultraviolet ray or an electron beam. Since a radical polymerization reaction can be caused, handling including a photocuring process is relatively easy. Among such functional groups, a (meth) acryloyl group is preferable because of excellent productivity and easy control of mechanical strength in the refractive index layer after curing.

1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物に用いられる水素結合形成基としては、例えば、アルコキシ基、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等を挙げることができる。斯かる官能基の中でも水酸基は、中空粒子や中実粒子を無機粒子(特にシリカ)で形成した場合に、これら無機粒子との親和性にも優れるため、無機粒子の屈折率層形成用組成物中での分散性を向上させることができる。水酸基は、前記化合物への導入が容易であり、また、中空粒子や中実粒子を無機粒子とした場合に、これら粒子表面の水酸基に吸着するため、前記屈折率層形成用組成物や膜中に均一に分散させることができる。従って、前記屈折率層形成用組成物の寿命が向上するとともに、中空粒子や中実粒子の凝集による膜の透明性低下や膜強度の低下が起こり難い膜を形成することができる。   Examples of the hydrogen bond-forming group used in a compound having at least one or more hydrogen bond-forming groups and three or more ionizing radiation-curable groups in one molecule include alkoxy groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, and amino groups. And epoxy groups. Among such functional groups, a hydroxyl group is excellent in affinity with these inorganic particles when hollow particles or solid particles are formed with inorganic particles (especially silica). Dispersibility in the inside can be improved. Hydroxyl groups are easily introduced into the compound, and when hollow particles or solid particles are used as inorganic particles, they are adsorbed on the hydroxyl groups on the surface of the particles. Can be uniformly dispersed. Therefore, the lifetime of the refractive index layer forming composition can be improved, and a film in which the transparency of the film and the film strength are not easily lowered due to aggregation of hollow particles and solid particles can be formed.

1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物としては、通常、水酸基等の水素結合形成基を持つものが用いられる。水素結合形成基は、合成時に副生され、モノマーの一部として混在するものであってもよい。具体的には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート等のジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート誘導体、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート等を挙げることができる。   As the compound having at least one hydrogen bond forming group and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule, those having a hydrogen bond forming group such as a hydroxyl group are usually used. The hydrogen bond-forming group may be produced as a by-product during synthesis and mixed as a part of the monomer. Specifically, di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate and pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate and tris such as pentaerythritol tri (meth) acrylate (Meth) acrylates: Polyfunctional (meth) acrylates such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate derivatives and dipentaerythritol penta (meth) acrylates.

これらに加え、水酸基残基を有するエポキシアクリレート樹脂(例えば、共栄社化学(株)製「エポキシエステル」や昭和高分子(株)製「リポキシ」等がある)や、ウレタンアクリレート樹脂(各種イソシアナートと水酸基を有するモノマーとが、ウレタン結合を介して重付加によって得られる樹脂。例えば、日本合成化学工業(株)製「紫光(登録商標)」や共栄社化学(株)製「ウレタンアクリレート」がある)等の、水素結合形成基を含有する数平均分子量(ゲル浸透クロマトグラフィー;GPC(Gel Permeation Chromatography)法で測定したポリスチレン換算数平均分子量)が2万以下のオリゴマー類も好ましく用いられる。   In addition to these, there are epoxy acrylate resins having a hydroxyl residue (for example, “Epoxy ester” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., “Lipoxy” manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.), urethane acrylate resins (various isocyanates and Resins obtained by polyaddition of a monomer having a hydroxyl group via a urethane bond (for example, “Shikou (registered trademark)” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. and “urethane acrylate” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)) Oligomers having a number average molecular weight (gel permeation chromatography; polystyrene-equivalent number average molecular weight measured by GPC (Gel Permeation Chromatography) method) containing a hydrogen bond-forming group such as 20,000 or less are also preferably used.

これらのモノマー類やオリゴマー類は、膜の架橋密度を高める効果に優れていることに加え、数平均分子量が2万以下と小さいので流動性が高く、塗工適性に優れる。   These monomers and oligomers are excellent in the effect of increasing the crosslink density of the film, and have a high fluidity and excellent coating suitability because the number average molecular weight is as small as 20,000 or less.

さらに、必要に応じて、水素結合形成基を有するモノマーを含む(共)重合体であって、主鎖や側鎖に(メタ)アクリレート基を有する数平均分子量2万以上の反応性ポリマー等も好ましく使用することができる。これらの反応性ポリマーは、例えば、「マクロモノマー」(東亞合成(株)製)等の市販品を使用することもでき、また、メタクリル酸メチルとグリシジルメタクリレートとの共重合体を予め重合しておき、後から共重合体のグリシジル基と、メタクリル酸やアクリル酸のカルボキシル基と縮合させることで、(メタ)アクリレート基を有する反応性ポリマーを得てもよい。尚、本発明において、(共)重合体とは、重合体及び/又は共重合体を意味する。   Furthermore, if necessary, a (co) polymer containing a monomer having a hydrogen bond-forming group, a reactive polymer having a number average molecular weight of 20,000 or more having a (meth) acrylate group in the main chain or side chain, etc. It can be preferably used. As these reactive polymers, for example, commercially available products such as “macromonomer” (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used, and a copolymer of methyl methacrylate and glycidyl methacrylate is polymerized in advance. Alternatively, a reactive polymer having a (meth) acrylate group may be obtained by condensing the glycidyl group of the copolymer with a carboxyl group of methacrylic acid or acrylic acid. In the present invention, the (co) polymer means a polymer and / or a copolymer.

本発明においては、数平均分子量が2万以下のモノマー及び/又はオリゴマーと数平均分子量が2万以上のポリマーを適宜組み合わせ、屈折率層の諸性質を容易に調節することが可能である。   In the present invention, it is possible to easily adjust various properties of the refractive index layer by appropriately combining a monomer and / or oligomer having a number average molecular weight of 20,000 or less and a polymer having a number average molecular weight of 20,000 or more.

1分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物の含有量は、電離放射線硬化性樹脂100重量部に対して、好ましくは10重量部以上、さらに好ましくは30重量部以上とする。一方、当該化合物の含有量は、当該樹脂100重量部に対して、好ましくは100重量部以下とする。上記範囲とすれば、屈折率層の機械的強度を強くすることができる。   The content of the compound having at least one hydrogen bond-forming group and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule is preferably 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin. More preferably, the content is 30 parts by weight or more. On the other hand, the content of the compound is preferably 100 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin. If it is the said range, the mechanical strength of a refractive index layer can be strengthened.

<1−6.その他の成分>
屈折率層を形成する屈折率層形成用組成物には、必要に応じて本発明の効果を損なわない限り、必須成分である上記電離放射線硬化性樹脂、中空粒子、及び中実粒子以外の成分も含まれていてもよい。当該電離放射線硬化性樹脂、中空粒子、及び中実粒子以外の成分としては、溶剤、重合開始剤、硬化剤、架橋剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)、及びその他の成分が挙げられる。上記材料のうち、一例として、表面調整剤(レベリング剤)、重合開始剤及び硬化剤について以下説明する。
<1-6. Other ingredients>
In the composition for forming a refractive index layer for forming the refractive index layer, components other than the ionizing radiation curable resin, hollow particles, and solid particles, which are essential components, as long as the effects of the present invention are not impaired as necessary. May also be included. Components other than the ionizing radiation curable resin, hollow particles, and solid particles include solvents, polymerization initiators, curing agents, crosslinking agents, UV blockers, UV absorbers, surface conditioners (leveling agents), and others. Of the ingredients. Of the above materials, as an example, a surface conditioner (leveling agent), a polymerization initiator, and a curing agent will be described below.

<1−6−1.表面調整剤(レベリング剤)>
屈折率層は、電離放射線硬化性樹脂、中空粒子及び中実粒子の何れに対しても相溶性を有する表面調整剤(レベリング剤)を含有してもよく、当該レベリング剤はケイ素系化合物が好ましい。斯かるケイ素系化合物を含有させることにより、膜表面を平坦化しやすくなり、また、反射防止積層体に必要とされる耐擦傷性の向上に寄与する滑り性を付与しやすくなる。尚、「相溶性」とは、ケイ素系化合物を、電離放射線硬化性樹脂、中空粒子及び中実粒子が存在する塗膜中に、当該塗膜の平坦性や滑り性の効果が確認できる程度の量を加えた場合でも、屈折率層の白濁やヘイズの上昇等による透明性の低下が確認できない程度の親和性を有することをいう。
<1-6-1. Surface conditioner (leveling agent)>
The refractive index layer may contain a surface conditioner (leveling agent) having compatibility with any of ionizing radiation curable resin, hollow particles and solid particles, and the leveling agent is preferably a silicon compound. . By including such a silicon-based compound, the film surface can be easily flattened, and slipperiness that contributes to the improvement of scratch resistance required for the antireflection laminate can be easily provided. “Compatibility” means that a silicon compound can be used to confirm the flatness and slipperiness of the coating film in the coating film containing the ionizing radiation curable resin, hollow particles and solid particles. Even when the amount is added, it means having an affinity to such an extent that a decrease in transparency due to white turbidity of the refractive index layer or an increase in haze cannot be confirmed.

本発明においては、ケイ素系化合物の少なくとも一部が、電離放射線硬化性樹脂と、化学反応により共有結合を形成して塗膜最表面に固定されていることが好ましい。これにより、滑り性を安定的に付与でき、反射防止積層体の長期に渡る耐擦傷性を維持できる。   In the present invention, it is preferable that at least a part of the silicon-based compound is fixed to the outermost surface of the coating film by forming a covalent bond with the ionizing radiation curable resin by a chemical reaction. Thereby, slipperiness can be stably provided and long-term scratch resistance of the antireflection laminate can be maintained.

上記ケイ素系化合物は、下記化学式(2)で示される構造を有することが好ましい。   The silicon compound preferably has a structure represented by the following chemical formula (2).

Figure 2008107792
化学式(2)中、Rはメチル基等の炭素数1〜20のアルキル基やフェニル基を示し、Rは非置換、もしくはアミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、又は(メタ)アクリロイル基で置換された炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、又はポリエーテル変性基を示し、各R、Rは互いに同一でも異なっていても良い。また、mは0〜200、nは0〜200の整数である。
Figure 2008107792
In the chemical formula (2), R a represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group or a phenyl group, and R b is unsubstituted, or an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, or (meth) acryloyl. A C1-C20 alkyl group substituted with a group, a C1-C3 alkoxy group, or a polyether-modified group, wherein each R a and R b may be the same or different from each other; M is an integer from 0 to 200, and n is an integer from 0 to 200.

上記一般式のような基本骨格を持つシリコーン化合物は、一般に表面張力が低く、撥水性や離型性に優れていることが知られているが、側鎖又は末端に種々の官能基を導入することで、更なる効果を付与できる。例えば、アミノ基、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基、アルコキシ基等を導入することにより反応性を付与でき、前記電離放射線硬化性樹脂との化学反応により共有結合を形成しやすくなる。   Silicone compounds having a basic skeleton like the above general formula are generally known to have low surface tension and excellent water repellency and releasability, but various functional groups are introduced into the side chain or terminal. Thus, further effects can be imparted. For example, reactivity can be imparted by introducing an amino group, an epoxy group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group, an alkoxy group, etc., and a covalent bond is easily formed by a chemical reaction with the ionizing radiation curable resin. Become.

このような化合物は、市販の製品として入手することができ、例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルTSF4460(商品名、GE東芝シリコーン(株)製)、X22−164E(商品名、信越シリコーン(株)製)等、目的に合わせて種々の変性シリコーンオイルを入手できる。   Such a compound can be obtained as a commercial product. For example, polyether-modified silicone oil TSF4460 (trade name, manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), X22-164E (trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) Various modified silicone oils can be obtained according to the purpose.

斯かるケイ素系化合物は、期待する効果の程度に応じて単独で用いても良く、2種以上を混合して用いても良い。これらの化合物を適宜組み合わせることにより、防汚染性、撥水撥油性、滑り性、耐擦傷性、耐久性、レベリング性等の諸性質を調節し、目的とする機能を発現させることができる。   Such silicon compounds may be used alone or in combination of two or more depending on the expected effect. By appropriately combining these compounds, various properties such as antifouling property, water / oil repellency, slipperiness, scratch resistance, durability, and leveling property can be adjusted to achieve the intended function.

上記ケイ素系化合物の含有量は、電離放射線硬化性樹脂、中空粒子及び中実粒子の総重量に対して、好ましくは1.5重量%以上、さらに好ましくは2重量%以上、一方、好ましくは5重量%以下、さらに好ましくは4重量%以下とする。含有量を2重量%以上とすれば、反射防止積層体に十分な滑り性を付与でき、また4重量%以下とすれば、塗膜の強度を確保しやすいからである。   The content of the silicon-based compound is preferably 1.5% by weight or more, more preferably 2% by weight or more, and preferably 5% by weight based on the total weight of the ionizing radiation curable resin, the hollow particles and the solid particles. % By weight or less, more preferably 4% by weight or less. This is because if the content is 2% by weight or more, sufficient slipperiness can be imparted to the antireflection laminate, and if it is 4% by weight or less, the strength of the coating film can be easily secured.

<1−6−2.重合開始剤>
重合開始剤は、本発明においては必ずしも必要ではない。しかしながら、電離放射線硬化性樹脂、架橋形成基により修飾された中空粒子及び架橋形成基により修飾された中実粒子、並びに任意成分である他の樹脂の電離放射線硬化性基が、電離放射線照射によって重合反応を生じ難い場合には、他の樹脂及び当該粒子の反応形式に合わせて、適切な開始剤を用いるのが好ましい。
<1-6-2. Polymerization initiator>
The polymerization initiator is not necessarily required in the present invention. However, ionizing radiation curable resins, hollow particles modified with crosslink forming groups and solid particles modified with crosslink forming groups, and ionizing radiation curable groups of other optional resins are polymerized by ionizing radiation irradiation. When reaction is difficult to occur, it is preferable to use an appropriate initiator in accordance with the reaction mode of the other resin and the particles.

例えば、電離放射線硬化性樹脂の電離放射線硬化性基が(メタ)アクリロイル基である場合には、光ラジカル重合開始剤を用いる。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、2,3‐ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物等を挙げることができる。より具体的には、1‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニル‐ケトン、2‐メチル‐1[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノプロパン‐1‐オン、ベンジルジメチルケトン、1‐(4‐ドデシルフェニル)‐2‐ヒドロキシ‐2‐メチルプロパン‐1‐オン、2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐1‐フェニルプロパン‐1−オン、1‐(4‐イソプロピルフェニル)‐2‐ヒドロキシ‐2‐メチルプロパン‐1‐オン、2‐ヒドロキシ‐1‐{4‐[4‐(2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐プロピオニル)‐ベンジル]‐フェニル}‐2‐メチル‐プロパン‐1‐オン、ベンゾフェノン等を挙げることができる。これらのうちでも、1‐ヒドロキシ‐シクロヘキシル‐フェニル‐ケトン、及び、2‐メチル‐1[4‐(メチルチオ)フェニル]‐2‐モルフォリノプロパン‐1‐オン、2‐ヒドロキシ‐1‐{4‐[4‐(2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐プロピオニル)‐ベンジル]‐フェニル}‐2‐メチル‐プロパン‐1‐オン、は、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し、促進するので好ましい。上記光ラジカル重合開始剤は、いずれか一方を単独で、又は、両方を組み合わせて用いることができる。これらは市販のものを用いてもよく、例えば、2‐ヒドロキシ‐1‐{4‐[4‐(2‐ヒドロキシ‐2‐メチル‐プロピオニル)‐ベンジル]‐フェニル}‐2‐メチル‐プロパン‐1‐オンは、イルガキュア127(Irgacure 127)の商品名(イルガキュア、Irgacureは登録商標)でチバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)から入手できる。   For example, when the ionizing radiation curable group of the ionizing radiation curable resin is a (meth) acryloyl group, a photo radical polymerization initiator is used. Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, thiuram compounds, fluoro An amine compound etc. can be mentioned. More specifically, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyldimethylketone, 1- (4-dodecyl) Phenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one, benzophenone, etc. Can do. Among these, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone and 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-Hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propan-1-one is preferred because even a small amount initiates and accelerates the polymerization reaction upon irradiation with ionizing radiation . Any one of the above radical photopolymerization initiators can be used alone, or both can be used in combination. These may be commercially available, for example, 2-hydroxy-1- {4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] -phenyl} -2-methyl-propane-1 -ON is available from Ciba Specialty Chemicals under the trade name Irgacure 127 (Irgacure 127, Irgacure is a registered trademark).

光ラジカル重合開始剤を用いる場合には、電離放射線硬化性樹脂を主体とする樹脂成分の合計100重量部に対して、光ラジカル重合開始剤を好ましくは3重量部以上15重量部以下の割合で配合する。   When using a radical photopolymerization initiator, the radical photopolymerization initiator is preferably used in a proportion of 3 parts by weight or more and 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin component mainly composed of ionizing radiation curable resin. Blend.

<1−6−3.硬化剤>
硬化剤は、通常、電離放射線硬化性樹脂の一部に含まれる水素結合形成基の熱硬化反応を促進するために配合される。また、中空粒子及び中実粒子をシリカで形成し、当該粒子の少なくとも一部を表面処理されたシリカ粒子とする場合には、表面に存在するシラノール基、表面処理に用いたシランカップリング剤、及び当該シランカップリング剤の縮合体の未反応部等の熱硬化反応を促進するために、硬化剤が配合される。
<1-6-3. Curing agent>
A hardening | curing agent is normally mix | blended in order to accelerate | stimulate the thermosetting reaction of the hydrogen bond forming group contained in some ionizing radiation curable resins. In addition, when hollow particles and solid particles are formed of silica, and at least a part of the particles are surface-treated silica particles, silanol groups present on the surface, the silane coupling agent used for the surface treatment, And in order to accelerate | stimulate thermosetting reactions, such as the unreacted part of the condensate of the said silane coupling agent, a hardening | curing agent is mix | blended.

熱硬化性極性基が水酸基である場合には、硬化剤としては、通常、メチロールメラミン等の塩基性基を有する化合物、又は、金属アルコキシド等の加水分解により水酸基を発生する加水分解性基を有する化合物を挙げることができる。塩基性基としては、アミン、ニトリル、アミド、イソシアネート基が好ましく用いられ、加水分解性基としては、アルコキシ基が好ましく用いられる。後者の場合は特に、下記化学式(3)で表されるアルミニウム化合物及び/又は当該化合物の誘導体が、水酸基との相性が良く、特に好ましく用いられる。   When the thermosetting polar group is a hydroxyl group, the curing agent usually has a compound having a basic group such as methylolmelamine, or a hydrolyzable group that generates a hydroxyl group by hydrolysis of a metal alkoxide or the like. A compound can be mentioned. As the basic group, an amine, nitrile, amide, or isocyanate group is preferably used, and as the hydrolyzable group, an alkoxy group is preferably used. In the latter case, in particular, an aluminum compound represented by the following chemical formula (3) and / or a derivative of the compound has good compatibility with a hydroxyl group, and is particularly preferably used.

化学式(3)
AlR
(化学式(3)中、残基Rは、同一でも異なってもよく、ハロゲン、炭素数10以下、好ましくは4以下のアルキル、アルコキシ、もしくはアシルオキシ、又はヒドロキシであり、これらの基は全部又は一部がキレート配位子により置き換えられていてもよい)
Chemical formula (3)
AlR 3
(In the chemical formula (3), the residues R 3 may be the same or different and are halogen, alkyl having 10 or less carbon atoms, preferably 4 or less, alkyl, alkoxy, acyloxy, or hydroxy, and these groups may be all or Some may be replaced by chelating ligands)

尚、上記化合物は、アルミニウム化合物及び/又は当該化合物から誘導されるオリゴマー及び/又は錯体、並びに無機酸のアルミニウム塩又は有機酸のアルミニウム塩の中から選定することができる。   The compound can be selected from an aluminum compound and / or an oligomer and / or complex derived from the compound, and an inorganic acid aluminum salt or an organic acid aluminum salt.

具体的には、アルミニウム‐sec‐ブトキシド、アルミニウム‐iso‐プロポキシド、及びそのアセチルアセトン、アセト酢酸エチル、アルカノールアミン類、グリコール類、及びその誘導体との錯体等を挙げることができる。   Specific examples include aluminum-sec-butoxide, aluminum-iso-propoxide, and complexes thereof with acetylacetone, ethyl acetoacetate, alkanolamines, glycols, and derivatives thereof.

硬化剤を用いる場合には、電離放射線硬化性樹脂を主体とする樹脂成分の合計100重量部に対して、硬化剤を好ましくは0.05重量部以上、30.0重量部以下の割合で配合する。   When a curing agent is used, the curing agent is preferably blended at a ratio of 0.05 parts by weight or more and 30.0 parts by weight or less with respect to a total of 100 parts by weight of the resin component mainly composed of ionizing radiation curable resin. To do.

<1−7.屈折率層>
上記各成分からなる屈折率層は、一般的には、溶剤に上記の必須成分の他、必要に応じてその他の各成分を含有させ、一般的な調製法に従って分散処理することにより屈折率層形成用組成物を作製する。そして、当該組成物を基材に塗布し、その後乾燥、硬化することにより屈折率層を形成できる。溶剤は上記各成分を混合した際の粘性、流動性に応じて必要となるため、当該溶剤を用いずに屈折率層形成用組成物を作成しても良い。以下、溶剤、屈折率層形成用組成物の調整方法、及び屈折率層の形成方法について説明する。
<1-7. Refractive index layer>
The refractive index layer composed of each of the above components is generally a refractive index layer obtained by adding a solvent to each of the other essential components in addition to the above-described essential components and performing a dispersion treatment according to a general preparation method. A forming composition is prepared. And a refractive index layer can be formed by apply | coating the said composition to a base material, and drying and hardening after that. Since the solvent is required depending on the viscosity and fluidity when the above components are mixed, the composition for forming a refractive index layer may be prepared without using the solvent. Hereinafter, the adjustment method of a solvent, the composition for refractive index layer formation, and the formation method of a refractive index layer are demonstrated.

<1−7−1.溶剤>
電離放射線硬化性樹脂を比較的多量に用いる場合には、樹脂中のモノマー及び/又はオリゴマーが、液状媒体としても機能し得るので、溶剤を用いなくても屈折率層形成用組成物の状態に調製できる場合がある。従って、適宜、固形成分を溶解分散し、濃度を調整して、塗工性に優れた屈折率層形成用組成物を調製するために溶剤を使用すれば良い。
<1-7-1. Solvent>
When the ionizing radiation curable resin is used in a relatively large amount, the monomer and / or oligomer in the resin can function as a liquid medium, so that the refractive index layer forming composition can be obtained without using a solvent. May be prepared. Accordingly, a solvent may be used in order to prepare a composition for forming a refractive index layer having excellent coating properties by appropriately dissolving and dispersing solid components and adjusting the concentration.

屈折率層の固形成分を溶解分散するために用いる溶剤は、特に制限されず、種々の有機溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、又はこれらの混合物を挙げることができる。   The solvent used for dissolving and dispersing the solid component of the refractive index layer is not particularly limited, and various organic solvents such as alcohols such as isopropyl alcohol, methanol and ethanol; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. An ester such as ethyl acetate and butyl acetate; a halogenated hydrocarbon; an aromatic hydrocarbon such as toluene and xylene; or a mixture thereof.

上記溶媒の中でも、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましい。ケトン系溶剤を用いて屈折率層形成用組成物を調製すると、光透過性基材や反射防止積層体の基材表面に容易に薄く均一に塗布しやすくなり、且つ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な厚さの大面積塗膜を容易に得やすくなる。   Among the above solvents, it is preferable to use a ketone-based organic solvent. When a composition for forming a refractive index layer is prepared using a ketone-based solvent, it becomes easy to apply thinly and uniformly on the surface of a light-transmitting substrate or the substrate of an antireflection laminate, and after coating, the solvent Since the evaporation rate is moderate and it is difficult to cause uneven drying, a large-area coating film having a uniform thickness can be easily obtained.

上記溶媒をケトン系の有機溶媒とすることが好ましいもう一つの理由は、表面に微少な凹凸を有するハードコート(耐擦傷機能)層の上に屈折率層を形成する場合においても、均一に塗工しやすくなるためである。具体的には、反射防止積層体の基材側の支持層としてハードコート層を用いた場合に、当該層に防眩層としての機能を付与するために、ハードコート層の表面を微細凹凸状に形成し、その上に、中屈折率層若しくは高屈折率層を介して、又は中屈折率層若しくは高屈折率層を介さずに、低屈折率層としての屈折率層を形成する場合がある。ケトン系溶剤を用いて屈折率層形成用組成物を調製すると、このような微細凹凸状の表面にも均一に塗工することができ、塗工むらを防止しやすくなる。尚、ハードコート層、中屈折率層、高屈折率層については後述する。   Another reason that the solvent is preferably a ketone-based organic solvent is that even when a refractive index layer is formed on a hard coat (scratch-resistant function) layer having fine irregularities on the surface, it is applied uniformly. It is because it becomes easy to work. Specifically, when a hard coat layer is used as the support layer on the substrate side of the antireflection laminate, the surface of the hard coat layer is finely uneven to give the layer a function as an antiglare layer. In some cases, a refractive index layer as a low refractive index layer is formed on the intermediate refractive index layer or the high refractive index layer, or without the intermediate refractive index layer or the high refractive index layer. is there. When a composition for forming a refractive index layer is prepared using a ketone solvent, it can be applied evenly on such a fine uneven surface, and uneven coating can be easily prevented. The hard coat layer, medium refractive index layer, and high refractive index layer will be described later.

ケトン系溶剤としては、1種のケトンからなる単独溶剤、2種以上のケトンからなる混合溶剤、及び1種又は2種以上のケトン系溶剤と共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性質を失っていない異種混合溶剤を挙げることができる。これらのうち、異種混合溶剤を用いることが好ましく、この場合、ケトン系溶剤は、溶剤全体の70重量%以上、特に80重量%以上含有させることが好ましい。   As a ketone solvent, it contains a single solvent composed of one kind of ketone, a mixed solvent composed of two or more kinds of ketone, and one or two or more kinds of ketone solvents, and loses the properties as a ketone solvent. Examples of such mixed solvents may be mentioned. Of these, it is preferable to use a mixed solvent of different types. In this case, the ketone solvent is preferably contained in an amount of 70% by weight or more, particularly 80% by weight or more of the whole solvent.

溶剤の量は、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後放置しても中空粒子や中実粒子が凝集せず、且つ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。この条件が満たされる範囲内で溶剤の添加量を少なくして高濃度の屈折率層形成用組成物を調製することが好ましい。これにより、容量を少なくした状態で保存でき、塗工作業時に適度な濃度に希釈して使用することができる。固形分と溶剤の合計量を100重量部とした時に、全固形分0.5〜50重量部に対して、溶剤を50〜95.5重量部、さらに好ましくは、全固形分10〜30重量部に対して、溶剤を70〜90重量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した屈折率層形成用組成物が得られる。   The amount of the solvent can be dissolved and dispersed uniformly in each component, and is adjusted as appropriate so that the hollow particles and solid particles do not aggregate even when left after preparation, and the concentration is not too dilute during coating. To do. It is preferable to prepare a high-concentration refractive index layer-forming composition by reducing the amount of the solvent added within a range that satisfies this condition. Thereby, it can preserve | save in the state which reduced the capacity | capacitance, It can dilute and use to a suitable density | concentration at the time of a coating operation. When the total amount of the solid content and the solvent is 100 parts by weight, the solvent is 50 to 95.5 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight based on the total solids of 0.5 to 50 parts by weight. By using the solvent in a proportion of 70 to 90 parts by weight with respect to parts, a composition for forming a refractive index layer that is particularly excellent in dispersion stability and suitable for long-term storage can be obtained.

<1−7−2.屈折率層形成用組成物の調製方法>
上記の各必須成分及び各所望成分を任意の順序で混合して、屈折率層形成用組成物を調製できる。中空粒子や中実粒子がコロイド状であれば、そのまま混合することが可能である。また、粉状であえば、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、屈折率層形成用組成物が得られる。
<1-7-2. Preparation Method of Refractive Index Layer Composition>
Each of the above essential components and each desired component can be mixed in any order to prepare a refractive index layer forming composition. If the hollow particles or solid particles are colloidal, they can be mixed as they are. If it is powdery, a medium such as beads is added to the obtained mixture, and the mixture is appropriately dispersed with a paint shaker, bead mill, or the like to obtain a composition for forming a refractive index layer.

<1−7−3.屈折率層の形成方法>
屈折率層を形成するには、上記のようにして得られた屈折率層形成用組成物を被塗工体の表面に塗布、乾燥した後、電離放射線の照射及び/又は加熱により硬化させる。
<1-7-3. Method for forming refractive index layer>
In order to form the refractive index layer, the composition for forming a refractive index layer obtained as described above is applied to the surface of the object to be coated, dried, and then cured by irradiation with ionizing radiation and / or heating.

屈折率層形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙げることができる。また、塗布後の、乾燥や電離放射線の照射及び/又は加熱は、周知の方法を適宜用いればよい。   Examples of the method for applying the refractive index layer forming composition include spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coater, meniscus coater, flexographic printing, screen printing, Examples thereof include a bead coater method. Moreover, what is necessary is just to use a well-known method suitably for drying, irradiation of ionizing radiation, and / or a heating after application | coating.

上記屈折率層形成用組成物を塗布して得られる屈折率層の膜厚は、0.05μm以上、0.15μm以下であることが好ましい。当該屈折率層の膜厚を0.05μm以上とすることにより、屈折率層としての十分な製膜性が得られる。また、当該屈折率層の膜厚を0.15μm以下とすることにより、材料費を低減することができる。   The thickness of the refractive index layer obtained by applying the composition for forming a refractive index layer is preferably 0.05 μm or more and 0.15 μm or less. When the film thickness of the refractive index layer is 0.05 μm or more, sufficient film forming properties as the refractive index layer can be obtained. Moreover, material cost can be reduced by making the film thickness of the said refractive index layer into 0.15 micrometer or less.

<2.反射防止積層体>
本発明に係る反射防止積層体は、透明樹脂基材及び屈折率層を必須要素とし、当該積層体の強度及び/又は光学特性の向上を図るため、ハードコート層、防眩層、帯電防止層等の機能層を形成しても良い。
<2. Antireflection laminate>
The antireflection laminate according to the present invention comprises a transparent resin substrate and a refractive index layer as essential elements, and in order to improve the strength and / or optical properties of the laminate, a hard coat layer, an antiglare layer, and an antistatic layer A functional layer such as the above may be formed.

<2−1.反射防止積層体の層構成>
本発明に係る反射防止積層体の一例の断面図を図3で概念的に示す。なお、図3以下の断面図において、説明の容易化のために、厚み方向(図の上下方向)を面方向(図の左右方向)の縮尺よりも大幅に拡大誇張して図示してある。図3に示す反射防止積層体10は、透明樹脂基材20の観察者80側の面に、透明樹脂基材20に近い側からハードコート層40と屈折率層(低屈折率層)30が形成されている。
本発明に係る反射防止積層体は、透明樹脂基材の一面側に、前記屈折率層が最も屈折率が小さい低屈折率層として、直接又は他の層を介して最表面に設けられていることが好ましい。また、当該他の層がハードコート層であることが好ましい。斯かる層構成とすることにより、反射防止積層体の最も観察者側の面に、屈折率が低く、且つ耐擦傷性に優れた前記屈折率層が設けられるため、表示面の反射性が低減され、良好な視認性を得られる。また、前記屈折率層がハードコート層を介して、透明樹脂基材の観察者側に設けられることにより、当該ハードコート層は、前記屈折率層が耐え得る以上の衝撃を受けた場合に、当該層の損傷面積を低減し、且つ、ディスプレイ側にある透明樹脂基材やその他の層を保護することができる。
以下、本発明に係る反射防止積層体を形成する、前記屈折率層以外の必須基材である透明樹脂基材、及び必要に応じて設けられるハードコート層等のその他の機能層を順に説明する。
<2-1. Layer structure of antireflection laminate>
A cross-sectional view of an example of the antireflection laminate according to the present invention is conceptually shown in FIG. In the cross-sectional views of FIG. 3 and subsequent figures, the thickness direction (vertical direction in the figure) is greatly enlarged and exaggerated from the scale in the plane direction (left and right direction in the figure) for ease of explanation. The antireflection laminate 10 shown in FIG. 3 has a hard coat layer 40 and a refractive index layer (low refractive index layer) 30 on the surface of the transparent resin substrate 20 on the viewer 80 side from the side close to the transparent resin substrate 20. Is formed.
In the antireflection laminate according to the present invention, the refractive index layer is provided on one surface side of the transparent resin base material as the low refractive index layer having the smallest refractive index, either directly or via another layer. It is preferable. Moreover, it is preferable that the said other layer is a hard-coat layer. By adopting such a layer configuration, since the refractive index layer having a low refractive index and excellent scratch resistance is provided on the most observer-side surface of the antireflection laminate, the reflectivity of the display surface is reduced. And good visibility can be obtained. Further, when the refractive index layer is provided on the observer side of the transparent resin substrate via the hard coat layer, the hard coat layer is subjected to an impact that the refractive index layer can withstand, The damaged area of the layer can be reduced, and the transparent resin substrate and other layers on the display side can be protected.
Hereinafter, the transparent resin base material, which is an essential base material other than the refractive index layer, and other functional layers such as a hard coat layer provided as necessary, which form the antireflection laminate according to the present invention, will be described in order. .

<2−2.透明樹脂基材>
反射防止積層体を構成する透明樹脂基材は、板状であってもフィルム(乃至シート。以下同様)状であっても良い。但し、屈折率層、ハードコート層等の機能層を積層することから当該基材は薄いものが好ましい。透明樹脂基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域380〜780nmにおける光線透過率が70%以上、より好ましくは80%以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
<2-2. Transparent resin substrate>
The transparent resin base material constituting the antireflection laminate may be a plate or a film (or a sheet; the same applies hereinafter). However, since the functional layers such as the refractive index layer and the hard coat layer are laminated, the substrate is preferably thin. The higher the transparency of the transparent resin substrate, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (for example, UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation) and a value measured in the air at room temperature.

好ましい前記基材としては、例えば、トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリロニトリル、環状ポリオレフィン等の各種樹脂で形成したフィルム等を挙げることができる。   Preferred examples of the base material include triacetate cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyether sulfone, acrylic resin, polyurethane resin, polyester, polycarbonate, polysulfone, and polyether. And films formed of various resins such as trimethylpentene, polyetherketone, (meth) acrylonitrile, and cyclic polyolefin.

前記基材の厚さは、好ましくは30μm以上、さらに好ましくは50μm以上、一方で当該基材の厚さは好ましくは200μm以下である。   The thickness of the substrate is preferably 30 μm or more, more preferably 50 μm or more, while the thickness of the substrate is preferably 200 μm or less.

上記放射線硬化性樹脂に熱硬化性を有する極性基を用いる場合には、前記屈折率層形成用組成物を被塗工体である前記透明樹脂基材の表面に直接又はハードコート層等の他の層を介して塗布、乾燥、及び硬化させることによって、上記極性基の作用により塗膜の被塗工体表面に対する優れた密着性が得られる。   When a polar group having thermosetting properties is used for the radiation curable resin, the composition for forming a refractive index layer is directly or directly on the surface of the transparent resin base material to be coated. By applying, drying, and curing through this layer, the adhesion of the coating film to the surface of the object to be coated can be obtained by the action of the polar group.

<2−3−1.ハードコート層>
本発明に係る反射防止積層体においては、前記屈折率層が、ハードコート層を介して、透明樹脂基材の観察者側に設けられることが好ましい。斯かる層構成とすることにより、当該ハードコート層は、前記屈折率層が耐え得る以上の衝撃を受けた場合に、当該屈折率層の損傷面積を低減し、且つ、ディスプレイ側にある透明樹脂基材やその他の層を保護する機能を有する。
ハードコート層は、通常、電離放射線硬化性樹脂を使用して形成する。なお、本明細書において、「ハードコート層」とは、JIS K5600−5−4:1999で示される鉛筆硬度試験でH以上の硬度を示すものをいう。
<2-3-1. Hard coat layer>
In the antireflection laminate according to the present invention, it is preferable that the refractive index layer is provided on the observer side of the transparent resin substrate via a hard coat layer. By adopting such a layer structure, the hard coat layer reduces the damage area of the refractive index layer when subjected to an impact that the refractive index layer can withstand, and is a transparent resin on the display side. It has a function of protecting the substrate and other layers.
The hard coat layer is usually formed using an ionizing radiation curable resin. In the present specification, the “hard coat layer” means a layer having a hardness of H or higher in a pencil hardness test shown in JIS K5600-5-4: 1999.

ハードコート層を形成する電離放射線硬化性樹脂としては、好ましくはアクリレート系の官能基を有するものを挙げることができる。具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール等を挙げることができる。また、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレートモノステアレート等のジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート;等の多官能化合物のモノマー類やエポキシアクリレートやウレタンアクリレート等のオリゴマー等を挙げることもできる。
また、透明性を損なわない範囲で表面が被覆された無機粒子又は有機粒子を用い、粒子とハードコート成分に共有結合を形成し、硬度を向上させたハードコート層を用いても良い。
As the ionizing radiation curable resin for forming the hard coat layer, a resin having an acrylate functional group is preferable. Specific examples include relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyether resins, and polyhydric alcohols. . Also, di (meth) acrylates such as ethylene glycol di (meth) acrylate and pentaerythritol di (meth) acrylate monostearate; tri (meth) such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate Examples of polyfunctional compounds such as acrylates; polyfunctional (meth) acrylates such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate derivatives and dipentaerythritol penta (meth) acrylate; and oligomers such as epoxy acrylate and urethane acrylate it can.
Further, a hard coat layer in which the inorganic particles or the organic particles whose surfaces are coated within a range not impairing the transparency, a covalent bond is formed between the particles and the hard coat component, and the hardness is improved may be used.

上記電離放射線硬化性樹脂と共に用いる光重合開始剤、製膜の方法等については、先に例示したものの中から適宜選定して使用する。   About the photoinitiator used with the said ionizing radiation curable resin, the method of film forming, etc., it selects from the thing illustrated previously suitably, and uses it.

ハードコート層は硬化後の膜厚は、好ましくは0.1μm以上、さらに好ましくは0.8μm以上、一方、当該膜厚は、好ましくは100μm以下、さらに好ましくは20μm以下とする。膜厚を0.1μm以上とすれば十分なハードコート性能が得られやすくなり、100μm以下とすれば、外部からの衝撃に対しも十分な強度を得やすい。   The film thickness after curing of the hard coat layer is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, while the film thickness is preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less. If the film thickness is 0.1 μm or more, sufficient hard coat performance can be easily obtained, and if it is 100 μm or less, sufficient strength can be easily obtained against external impact.

また、本発明においては、上記電離放射線硬化性樹脂からなるハードコート層が、後述する様な中屈折率層又は高屈折率層、帯電防止層の機能を兼ね備えるものであっても良い。   In the present invention, the hard coat layer made of the ionizing radiation curable resin may have the functions of a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and an antistatic layer as described later.

<2−3−2.防眩層>
防眩層は、通常、電離放射線硬化性樹脂と、防眩層用粒子とから構成される。防眩層用粒子を含むことで、耐擦傷性に加えて、防眩性能を付与することができる。
<2-3-2. Antiglare layer>
The antiglare layer is usually composed of an ionizing radiation curable resin and particles for the antiglare layer. By including particles for the antiglare layer, antiglare performance can be imparted in addition to scratch resistance.

電離放射線硬化性樹脂としては、前記ハードコート層に好ましく用いられるものの中から適宜選定することができる。   The ionizing radiation curable resin can be appropriately selected from those preferably used for the hard coat layer.

防眩層用粒子の形状は、例えば、球状のものを用いればよい。球状形状としては、例えば真球状、楕円状等を挙げることができる。好ましくは、真球状のものが用いられる。   As the shape of the particles for the antiglare layer, for example, a spherical shape may be used. Examples of the spherical shape include a true spherical shape and an elliptical shape. Preferably, a spherical shape is used.

防眩層用粒子の材料としては、無機系、有機系いずれのものであってもよい。防眩層用粒子は、通常、防眩性を発揮するものであり、透明性の材料を用いることが好ましい。このような防眩層用粒子としては、無機ビーズとしてはシリカビーズ等が挙げられ、有機ビーズとしては、プラスチックビーズが挙げられる。   The material for the antiglare layer particles may be either inorganic or organic. The particles for the antiglare layer usually exhibit antiglare properties, and it is preferable to use a transparent material. Examples of such particles for the antiglare layer include silica beads as inorganic beads, and plastic beads as organic beads.

プラスチックビーズを用いる場合には、屈折率1.40〜1.60のものを用いることが好ましい。プラスチックビーズの屈折率を上記範囲に限定する理由は以下の通りである。すなわち、電離放射線硬化性樹脂、特にアクリレート又はメタクリレート系樹脂の屈折率は通常1.45〜1.55であり、電離放射線硬化性樹脂の屈折率にできるだけ近い屈折率を持つプラスチックビーズを選択することにより、塗膜の透明性を損なわずに防眩性を向上させることができるからである。   When plastic beads are used, those having a refractive index of 1.40 to 1.60 are preferably used. The reason for limiting the refractive index of the plastic beads to the above range is as follows. That is, the refractive index of an ionizing radiation curable resin, particularly an acrylate or methacrylate resin is usually 1.45 to 1.55, and plastic beads having a refractive index as close as possible to the refractive index of the ionizing radiation curable resin should be selected. This is because the antiglare property can be improved without impairing the transparency of the coating film.

電離放射線硬化性樹脂の屈折率に近い屈折率を持つプラスチックビーズの具体例としては、ポリメチルメタクリレートビーズ等のアクリルビーズ(屈折率:1.49)、ポリカーボネートビーズ(屈折率:1.58)、ポリスチレンビーズ(屈折率:1.50)、スチレンビーズ(屈折率:1.59)、メラミンビーズ(屈折率:1.57)、ポリ塩化ビニルビーズ(屈折率:1.54)、ポリアクリルスチレンビーズ(屈折率:1.57)、アクリル‐スチレンビーズ(屈折率:1.54)、ポリエチレンビーズ(屈折率:1.53)等が挙げられる。屈折率が上記範囲にあれば、これ以外のものでも使用することができる。   Specific examples of plastic beads having a refractive index close to that of ionizing radiation curable resin include acrylic beads (refractive index: 1.49) such as polymethyl methacrylate beads, polycarbonate beads (refractive index: 1.58), Polystyrene beads (refractive index: 1.50), styrene beads (refractive index: 1.59), melamine beads (refractive index: 1.57), polyvinyl chloride beads (refractive index: 1.54), polyacryl styrene beads (Refractive index: 1.57), acrylic-styrene beads (refractive index: 1.54), polyethylene beads (refractive index: 1.53), and the like. As long as the refractive index is in the above range, other materials can be used.

これらの防眩層用粒子の粒径は、3μm以上、8μm以下のものが好適に用いられる。また、電離放射線硬化性樹脂100重量部に対して、防眩層用粒子の含有量は、好ましくは2重量部以上、さらに好ましくは10重量部以上、一方、当該含有量は、好ましくは30重量部以下、さらに好ましくは25重量部以下とする。   The particle diameter of these antiglare layer particles is preferably 3 μm or more and 8 μm or less. Further, the content of the particles for the antiglare layer is preferably 2 parts by weight or more, more preferably 10 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin, while the content is preferably 30 parts by weight. Part or less, more preferably 25 parts by weight or less.

塗工液を塗布、硬化させることにより防眩層を形成する場合には、塗工液内における防眩層用粒子の分散を確保することが好ましい。具体的には、電離放射線硬化性樹脂中に防眩層用粒子を混合した塗工液においては、使用時に沈殿した防眩層用粒子をよく攪拌して分散させる必要がある場合がある。このような不都合を無くすために、防眩層を形成するために塗工液に沈降防止剤として、粒径が、通常0.5μm以下、好ましくは0.1μm以上、0.25μm以下のシリカビーズを添加してもよい。尚、このシリカビーズは添加するほど有機フィラーの沈降防止に有効であるが、塗膜の透明性に影響を与える場合がある。従って、シリカビーズの含有量は、塗膜の透明性を損なわず、且つ、沈降防止することができる範囲とすることが好ましい。具体的には、電離放射線硬化性樹脂100重量部に対して0.1重量部未満程度シリカビーズを添加するのが好ましい。   When the antiglare layer is formed by applying and curing the coating liquid, it is preferable to ensure dispersion of the particles for the antiglare layer in the coating liquid. Specifically, in the coating liquid in which the particles for the antiglare layer are mixed in the ionizing radiation curable resin, it may be necessary to well agitate and disperse the particles for the antiglare layer that are precipitated during use. In order to eliminate such inconvenience, silica beads having a particle size of usually 0.5 μm or less, preferably 0.1 μm or more and 0.25 μm or less as an anti-settling agent in the coating solution to form an antiglare layer. May be added. In addition, although this silica bead is effective in preventing sedimentation of the organic filler as it is added, it may affect the transparency of the coating film. Therefore, it is preferable that the content of the silica beads is within a range that does not impair the transparency of the coating film and can prevent sedimentation. Specifically, it is preferable to add silica beads less than about 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin.

防眩層は硬化後の膜厚は、好ましくは0.1μm以上、さらに好ましくは0.8μm以上、一方、当該膜厚は好ましくは100μm以下、さらに好ましくは20μm以下とする。前記膜厚を0.1μm以上とすれば十分なハードコート性能が得られやすくなり、100μm以下とすれば、外部からの衝撃に対しも十分な強度を得やすい。   The film thickness after curing of the antiglare layer is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.8 μm or more, while the film thickness is preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less. If the film thickness is 0.1 μm or more, sufficient hard coat performance can be easily obtained, and if it is 100 μm or less, sufficient strength can be easily obtained against external impact.

防眩層は、防眩層用粒子の平均粒径をR(μm)とし、防眩層表面の凹凸の十点平均粗さをRz(μm)とし、防眩層の表面の凹凸平均間隔をSm(μm)とし、凹凸部の平均傾斜角をθaとした場合に、以下の4式の関係を同時に満たすものが好ましい。
30≦Sm≦200、
0.90≦Rz≦1.60、
1.3≦θa≦2.5、
0.3≦R≦10
In the antiglare layer, the average particle diameter of the particles for the antiglare layer is R (μm), the ten-point average roughness of the unevenness on the surface of the antiglare layer is Rz (μm), and the unevenness average interval on the surface of the antiglare layer is When Sm (μm) is set and the average inclination angle of the concavo-convex portion is θa, it is preferable to satisfy the following four expressions simultaneously.
30 ≦ Sm ≦ 200,
0.90 ≦ Rz ≦ 1.60,
1.3 ≦ θa ≦ 2.5,
0.3 ≦ R ≦ 10

また、防眩層の別の好ましい様態によれば、防眩層用粒子と電離放射線硬化性樹脂の屈折率をそれぞれ、n1、n2とした場合に、下記の式を満たすものであり、且つ、防眩層内部のヘイズ値が55%以下である防眩層が好ましい。
Δn=|n1−n2|<0.1
According to another preferred embodiment of the antiglare layer, when the refractive indexes of the antiglare layer particles and the ionizing radiation curable resin are n1 and n2, respectively, the following formula is satisfied: An antiglare layer having a haze value inside the antiglare layer of 55% or less is preferred.
Δn = | n1-n2 | <0.1

<2−3−3.帯電防止層>
反射防止積層体には、静電気の発生を抑えてゴミの付着を防止したり、液晶ディスプレイ等に組みこまれた際の外部からの静電気障害を防止するために、必要に応じて帯電防止層を形成してもよい。この場合の帯電防止層の性能としては反射防止積層体形成後の表面抵抗が1012Ω/□以下となることが好ましい。しかし、表面抵抗が1012Ω/□以上であっても、帯電防止層を設けることにより、帯電防止層を有しない反射防止積層体に比べて、埃付着が抑えられやすくなる。
<2-3-3. Antistatic layer>
The anti-reflective laminate has an anti-static layer as necessary to prevent the generation of static electricity and prevent the adhesion of dust, and to prevent external static electricity damage when it is assembled in a liquid crystal display. It may be formed. In this case, the antistatic layer preferably has a surface resistance of 10 12 Ω / □ or less after the formation of the antireflection laminate. However, even when the surface resistance is 10 12 Ω / □ or more, by providing the antistatic layer, it is easier to suppress the adhesion of dust than the antireflection laminate having no antistatic layer.

帯電防止層を樹脂で形成する場合においては、帯電防止層は、樹脂及び帯電防止剤を含有する。ここで、帯電防止層形成用樹脂としては、ハードコート層で用いるものと同様のものを用いればよい。   When the antistatic layer is formed of a resin, the antistatic layer contains a resin and an antistatic agent. Here, as the resin for forming the antistatic layer, the same resin as that used in the hard coat layer may be used.

帯電防止層形成用樹脂に含まれる帯電防止剤には、例えば、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性帯電防止剤;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン系帯電防止剤;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性帯電防止剤;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性の帯電防止剤;ポリアセチレンやポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性ポリマーにドーパントを組合せたもの(例えば3,4‐エチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等)の導電性ポリマー;スズやチタンのアルコキシドのような有機金属化合物やそれらのアセチルアセトナート塩の様な金属キレート化合物等の各種界面活性剤型帯電防止剤;さらには上記の如き帯電防止剤を高分子量化した高分子型帯電防止剤等が挙げられる。また、第3級アミノ基や第4級アンモニウム基、金属キレート部を有し電離放射線により重合可能なモノマーやオリゴマー、そして電離放射線により重合可能な官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性帯電防止剤を挙げることができる。   Examples of the antistatic agent contained in the antistatic layer-forming resin include various cationic antistatic agents having a cationic group such as a quaternary ammonium salt, a pyridinium salt, and first to third amino groups; sulfonic acid Anionic antistatic agents having anionic groups such as bases, sulfate ester bases, phosphate ester bases, phosphonate bases; amphoteric antistatic agents such as amino acids and aminosulfate esters; amino alcohols, glycerols, polyethylene glycols Nonionic antistatic agents such as those based on conductive polymers of conductive polymers such as polyacetylene, polyaniline, and polythiophene (for example, 3,4-ethylenedioxythiophene (PEDOT)); tin and titanium Such as organometallic compounds such as alkoxides and their acetylacetonate salts Various surfactant type antistatic agents such as genus chelate compounds; and the above-mentioned antistatic agent increasing the molecular weight of the polymeric antistatic agent and the like. In addition, a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, a monomer or oligomer having a metal chelate portion and polymerizable by ionizing radiation, and an organometallic compound such as a coupling agent having a functional group polymerizable by ionizing radiation And other polymerizable antistatic agents.

他の帯電防止剤として、粒径が100nm以下の微粒子、例えば酸化スズ、スズドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、インジウムドープ酸化亜鉛(AZO)、酸化アンチモン、酸化インジウム等を挙げることができる。特に、粒径を可視光線の波長以下の100nm以下とすることで、帯電防止層の透明性を確保しやすくなり、反射防止積層体の透明性が損なわれにくくなるという利点が発揮される。   Examples of other antistatic agents include fine particles having a particle size of 100 nm or less, such as tin oxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO), indium-doped zinc oxide (AZO), antimony oxide, and indium oxide. be able to. In particular, when the particle size is 100 nm or less, which is equal to or less than the wavelength of visible light, it is easy to ensure the transparency of the antistatic layer, and the advantage that the transparency of the antireflection laminate is hardly impaired is exhibited.

上記帯電防止剤を、上記ハードコート層や防眩層を形成する塗工液中に混合することにより、帯電防止性能とハードコート性能の2つの性質、又は帯電防止性能と防眩性能の2つの性質を同時に改善した塗膜を得やすくなる。   By mixing the antistatic agent in the coating liquid for forming the hard coat layer and the antiglare layer, two properties of antistatic performance and hard coat performance, or two properties of antistatic performance and antiglare performance are provided. It becomes easy to obtain a coating film having improved properties at the same time.

<2−3−4.高屈折率層及び中屈折率層(屈折率が1.46〜2.00の屈折率層)>
高屈折率層及び中屈折率層は、通常、電離放射線硬化性樹脂と屈折率調整用の粒子とを主に含有する。電離放射線硬化性樹脂としては、ハードコート層と同様のものを用いることができる。また、必要に応じて用いられる光重合開始剤、各種添加剤、形成方法等についてもハードコート層と同様とすればよい。
<2-3-4. High refractive index layer and medium refractive index layer (refractive index layer having a refractive index of 1.46 to 2.00)>
The high refractive index layer and the medium refractive index layer usually mainly contain an ionizing radiation curable resin and particles for adjusting the refractive index. As the ionizing radiation curable resin, the same as the hard coat layer can be used. Moreover, what is necessary is just to make it the same as a hard-coat layer also about the photoinitiator used as needed, various additives, a formation method, etc.

屈折率調整用の粒子としては、例えば、粒子径が100nm以下の微粒子を挙げることができる。このような微粒子としては、酸化亜鉛(屈折率:1.90)、チタニア(屈折率:2.3〜2.7)、セリア(屈折率:1.95)、スズドープ酸化インジウム(屈折率:1.95)、アンチモンドープ酸化スズ(屈折率:1.80)、イットリア(屈折率:1.87)、ジルコニア(屈折率:2.0)からなる群から選ばれた1種以上を挙げることができる。   Examples of the particles for adjusting the refractive index include fine particles having a particle diameter of 100 nm or less. Examples of such fine particles include zinc oxide (refractive index: 1.90), titania (refractive index: 2.3 to 2.7), ceria (refractive index: 1.95), and tin-doped indium oxide (refractive index: 1). .95), at least one selected from the group consisting of antimony-doped tin oxide (refractive index: 1.80), yttria (refractive index: 1.87), and zirconia (refractive index: 2.0). it can.

屈折率調整用の粒子は、電離放射線硬化性樹脂よりも屈折率が高いものを用いることが好ましい。屈折率は、高屈折率層及び中屈折率層中における屈折率調整用の粒子の含有率によって決まる。すなわち、屈折率調整用の粒子の含有量が多いほど屈折率が高くなるので、電離放射線硬化性樹脂と粒子の構成比率を変えることで、屈折率を1.46〜2.00の範囲で自由に制御することができる。   The particles for adjusting the refractive index are preferably those having a refractive index higher than that of the ionizing radiation curable resin. The refractive index is determined by the content of the particles for adjusting the refractive index in the high refractive index layer and the middle refractive index layer. That is, since the refractive index increases as the content of the particles for adjusting the refractive index increases, the refractive index can be freely adjusted in the range of 1.46 to 2.00 by changing the composition ratio of the ionizing radiation curable resin and the particles. Can be controlled.

また、中屈折率層及び高屈折率層は、化学蒸着法(CVD)や物理蒸着法(PVD)等の蒸着法により形成した酸化チタンや酸化ジルコニウムの様な屈折率の高い無機酸化物の蒸着膜としたり、又は、酸化チタンのような屈折率の高い無機酸化物粒子を分散させた塗膜とすることができる。中屈折率層としては、屈折率1.46〜1.80の範囲の光透過層を使用し、また、高屈折率層としては屈折率1.65以上の光透過層を使用することができる。   The medium refractive index layer and the high refractive index layer are vapor-deposited inorganic oxides having a high refractive index such as titanium oxide and zirconium oxide formed by vapor deposition methods such as chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD). It can be made into a film or a coating film in which inorganic oxide particles having a high refractive index such as titanium oxide are dispersed. As the medium refractive index layer, a light transmissive layer having a refractive index of 1.46 to 1.80 can be used, and as the high refractive index layer, a light transmissive layer having a refractive index of 1.65 or more can be used. .

本発明に係る反射防止積層体において、上記中屈折率層及び/又は高屈折率層を設ける場合は、前記屈折率層(低屈折率層)よりもディスプレイ側となる位置に当該中屈折率層及び/又は高屈折率層を設け、さらに中屈折率層及び高屈折率層を設ける場合は、反射性を低減するために、ディスプレイ側に近い位置から中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層を設ける。また、斯かる形態において、さらにハードコート層を設ける場合、当該ハードコート層は、前記中屈折率層の透明樹脂基材側の面に設ける。   In the antireflection laminate according to the present invention, when the above-described medium refractive index layer and / or high refractive index layer is provided, the medium refractive index layer is located at a position closer to the display side than the refractive index layer (low refractive index layer). When providing a high refractive index layer, and further providing a medium refractive index layer and a high refractive index layer, in order to reduce reflectivity, the medium refractive index layer, the high refractive index layer, and A low refractive index layer is provided. Moreover, in such a form, when providing a hard-coat layer further, the said hard-coat layer is provided in the surface at the side of the transparent resin base material of the said medium refractive index layer.

<2−4.反射防止積層体の層構成の変形例>
図4乃至図7は、本発明に係る反射防止積層体の層構成の他の例を模式的に示した断面図である。
図4には、透明樹脂基材20の観察者80側に、屈折率層(低屈折率層)が設けられた反射防止積層体10が図示されている。
図5には、透明樹脂基材20の観察者80側に、透明樹脂基材に近い側から、高屈折率層50、及び屈折率層(低屈折率層)がこの順に設けられた反射防止積層体10が図示されている。
図6には、透明樹脂基材20の観察者80側に、透明樹脂基材に近い側から、ハードコート層40、中屈折率層60、高屈折率層50、及び屈折率層(低屈折率層)30がこの順に設けられた反射防止積層体10が図示されている。
図7には、透明樹脂基材20の観察者80側に、透明樹脂基材に近い側から、帯電防止層70、ハードコート層40、高屈折率層50、及び屈折率層(低屈折率層)30がこの順に設けられた反射防止積層体10が図示されている。
<2-4. Modified example of layer structure of antireflection laminate>
4 to 7 are cross-sectional views schematically showing other examples of the layer configuration of the antireflection laminate according to the present invention.
FIG. 4 illustrates the antireflection laminate 10 in which a refractive index layer (low refractive index layer) is provided on the viewer 80 side of the transparent resin substrate 20.
In FIG. 5, the antireflective layer in which the high refractive index layer 50 and the refractive index layer (low refractive index layer) are provided in this order on the viewer 80 side of the transparent resin substrate 20 from the side close to the transparent resin substrate. A laminate 10 is illustrated.
In FIG. 6, the hard coat layer 40, the medium refractive index layer 60, the high refractive index layer 50, and the refractive index layer (low refractive index layer (low refractive index) are arranged on the viewer 80 side of the transparent resin substrate 20 from the side close to the transparent resin substrate. The antireflection laminate 10 in which the rate layer 30 is provided in this order is illustrated.
In FIG. 7, the antistatic layer 70, the hard coat layer 40, the high refractive index layer 50, and the refractive index layer (low refractive index layer) are arranged on the viewer 80 side of the transparent resin substrate 20 from the side close to the transparent resin substrate. The antireflection laminate 10 in which the (layer) 30 is provided in this order is illustrated.

本発明は、上記形態に限定されるものではない。上記形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and has the same operational effects can be used. Included in the technical scope.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention.

<3−1−1.表面修飾された中空粒子(表面修飾中空シリカ微粒子A)の調製>
中空粒子として、中空シリカ微粒子(触媒化成工業(株)製)のイソプロパノール分散液を、ロータリーエバポレーターを用いてイソプロピルアルコールからメチルイソブチルケトン(以下、MIBKという場合がある)に溶媒置換を行い、シリカ微粒子20重量%の分散液を得た。このメチルイソブチルケトン分散液100重量%に3‐メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量%添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された中空シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液を得た。
<3-1-1. Preparation of surface-modified hollow particles (surface-modified hollow silica fine particles A)>
As a hollow particle, an isopropanol dispersion of hollow silica fine particles (manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd.) is solvent-substituted from isopropyl alcohol to methyl isobutyl ketone (hereinafter sometimes referred to as MIBK) using a rotary evaporator, and silica fine particles are obtained. A 20% by weight dispersion was obtained. By adding 5% by weight of 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane to 100% by weight of this methyl isobutyl ketone dispersion and subjecting it to heat treatment at 50 ° C. for 1 hour, the surface-treated hollow silica fine particles 20% by weight of methyl isobutyl ketone A dispersion was obtained.

<3−1−2.表面修飾された中空粒子(表面修飾中空シリカ微粒子C)の調製>
中空粒子として、中空シリカ微粒子(触媒化成工業(株)製)のイソプロパノール分散液を、ロータリーエバポレーターを用いてイソプロピルアルコールからメチルイソブチルケトンに溶媒置換を行い、シリカ微粒子20重量%の分散液を得た。このメチルイソブチルケトン分散液100重量%に3‐グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量%添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された中空シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液を得た。
<3-1-2. Preparation of surface-modified hollow particles (surface-modified hollow silica fine particles C)>
As a hollow particle, an isopropanol dispersion of hollow silica fine particles (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd.) was subjected to solvent substitution from isopropyl alcohol to methyl isobutyl ketone using a rotary evaporator to obtain a dispersion of silica fine particles of 20% by weight. . By adding 5% by weight of 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane to 100% by weight of this methyl isobutyl ketone dispersion and heat-treating it at 50 ° C. for 1 hour, 20% by weight of methyl isobutyl having a surface-treated hollow silica fine particle was treated. A ketone dispersion was obtained.

<3−2−1.表面修飾された中実粒子(表面修飾中実シリカ微粒子A)の調製>
中実粒子として、メチルイソブチルケトン分散シリカゾル(MIBK−ST:商品名、日産化学工業(株)製。シリカ固形分20重量%)100重量部に3‐メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量%添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された中実シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液を得た。
<3-2-1. Preparation of surface-modified solid particles (surface-modified solid silica fine particles A)>
As solid particles, 5% by weight of 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane is added to 100 parts by weight of methyl isobutyl ketone-dispersed silica sol (MIBK-ST: trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., silica solid content 20% by weight). Then, a surface-treated solid silica fine particle 20% by weight methyl isobutyl ketone dispersion was obtained by heat treatment at 50 ° C. for 1 hour.

<3−2−2.表面修飾された中実粒子(表面修飾中実シリカ微粒子B)の調製>
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン7.8重量%、ジブチルスズジラウレート0.2重量%からなる溶液に対し、イソフォロンジイソシアネート20.6重量%を攪拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間攪拌した。これにペンタエリスリトールトリアクリレート71.4重量%を30℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱攪拌することで化合物(1)を得た。次に窒素気流下、メタノールシリカゾル(メタノール溶剤コロイダルシリカ分散液:商品名、日産化学工業(株)製。シリカ固形分30重量%)88.5重量%(固形分26.6重量%)、合成した化合物(1)8.5重量%、p‐メトキシフェノール0.01重量%の混合液を、60℃で4時間攪拌した。続いてこの反応混合液に化合物(2)としてメチルトリメトキシシラン3重量%を添加し、60℃、1時間攪拌した後、オルト蟻酸メチルエステル9重量%を添加し、さらに1時間同一温度で加熱処理することにより表面処理された中実シリカ微粒子35重量%のメタノール分散液を得た。
<3-2-2. Preparation of surface-modified solid particles (surface-modified solid silica fine particles B)>
To a solution consisting of 7.8% by weight of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.2% by weight of dibutyltin dilaurate in dry air, 20.6% by weight of isophorone diisocyanate was added dropwise at 50 ° C. over 1 hour with stirring. The mixture was stirred at 60 ° C. for 3 hours. To this, 71.4% by weight of pentaerythritol triacrylate was added dropwise at 30 ° C. over 1 hour, and then heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours to obtain Compound (1). Next, under nitrogen flow, methanol silica sol (methanol solvent colloidal silica dispersion: trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., silica solid content 30% by weight) 88.5% by weight (solid content 26.6% by weight), synthesis A mixed solution of 8.5% by weight of Compound (1) and 0.01% by weight of p-methoxyphenol was stirred at 60 ° C. for 4 hours. Subsequently, 3% by weight of methyltrimethoxysilane was added to the reaction mixture as compound (2), stirred at 60 ° C. for 1 hour, 9% by weight of orthoformate methyl ester was added, and heated at the same temperature for 1 hour. A methanol dispersion liquid of 35% by weight of solid silica fine particles whose surface was treated was obtained by the treatment.

<3−2−3.表面修飾された中実粒子(表面修飾中実シリカ微粒子C)の調製>
中実粒子として、メチルイソブチルケトン分散シリカゾル(MIBK−ST:商品名、日産化学工業(株)製。シリカ固形分20重量%)100重量部に3‐グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランを5重量%添加し、50℃で1時間加熱処理することにより、表面処理された中実シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン分散液を得た。
<3-2-3. Preparation of surface-modified solid particles (surface-modified solid silica fine particles C)>
As solid particles, methyl isobutyl ketone-dispersed silica sol (MIBK-ST: trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., silica solid content: 20% by weight) is added to 5% by weight of 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane in 100 parts by weight. By adding and heat-treating at 50 ° C. for 1 hour, a surface-treated solid silica fine particle 20 wt% methyl isobutyl ketone dispersion was obtained.

<実施例1>
<3−3−1.低屈折率層形成用組成物の調製>
下記組成の成分を混合して低屈折率層形成用組成物を調製した。
<Example 1>
<3-3-1. Preparation of composition for forming low refractive index layer>
Components having the following composition were mixed to prepare a composition for forming a low refractive index layer.

表面修飾中空シリカ微粒子A(中空シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン)
:15.0重量部
表面修飾中実シリカ微粒子A(中実シリカ微粒子20重量%のメチルイソブチルケトン)
:0.4重量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)
:1.2重量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
:0.4重量部
イルガキュア127(商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
:0.1重量部
X−22−164E(商品名、信越化学工業(株)製)
:0.15重量部
メチルイソブチルケトン
:83.5重量部
Surface-modified hollow silica fine particles A (20% by weight methyl isobutyl ketone hollow silica fine particles)
: 15.0 parts by weight of surface modified solid silica fine particles A (solid silica fine particles 20% by weight methyl isobutyl ketone)
: 0.4 parts by weight pentaerythritol triacrylate (PETA)
: 1.2 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA)
: 0.4 parts by weight Irgacure 127 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
: 0.1 part by weight X-22-164E (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
: 0.15 parts by weight Methyl isobutyl ketone: 83.5 parts by weight

<3−3−2.ハードコート層形成用組成物の調製>
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用組成物を調製した。
<3-3-2. Preparation of composition for forming hard coat layer>
The composition of the following composition was mix | blended and the composition for hard-coat layer formation was prepared.

表面修飾中実シリカ微粒子B(中実シリカ微粒子35重量%のメチルイソブチルケトン)
:25.0重量部
ウレタンアクリレート(紫光UV1700−B:商品名、日本合成化学工業(株)製)
:25.0重量部
イルガキュア184(商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
:0.2重量部
メチルエチルケトン
:49.8重量部
Surface-modified solid silica fine particle B (solid silica fine particle 35% by weight methyl isobutyl ketone)
: 25.0 parts by weight urethane acrylate (purple light UV1700-B: trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
: 25.0 parts by weight Irgacure 184 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
: 0.2 part by weight Methyl ethyl ketone: 49.8 parts by weight

<3−4.基材/ハードコート層/低屈折率層フィルムの作製>
厚み80μmのトリアセテートセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム(株)製)上に,上記組成のハードコート層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後,紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hパルプ)を用いて、照射線量10mJ/cmで紫外線照射を行い,ハードコート層を硬化させて、膜厚約15μmのハードコート層を有する、基材/ハードコート層フィルムを得た。
<3-4. Preparation of substrate / hard coat layer / low refractive index layer film>
On the 80 μm thick triacetate cellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), the composition for forming a hard coat layer having the above composition is bar-coated, and after removing the solvent by drying, an ultraviolet irradiation device (fusion UV) System Japan Co., Ltd., light source H pulp), substrate / hard coat having a hard coat layer with a film thickness of about 15 μm by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation dose of 10 mJ / cm 2 and curing the hard coat layer A layer film was obtained.

得られた基材/ハードコート層フィルム上に,上記の低屈折率層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥させることより溶剤を除去した後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン(株)、光源Hバルブ)を用いて,照射線量200mJ/cmで紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、基材/ハードコート層/低屈折率層の反射防止積層体を得た。
低屈折率層の膜厚は,島津製作所(株)製分光光度計(UV−3100PC)を用いて測定した反射率の極小値が波長550nm付近になるように設定した。
On the obtained base material / hard coat layer film, the above-mentioned composition for forming a low refractive index layer is bar-coated, and after removing the solvent by drying, an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan Co., Ltd., Using a light source H bulb), UV irradiation was performed at an irradiation dose of 200 mJ / cm 2 , and the coating film was cured to obtain an antireflection laminate of substrate / hard coat layer / low refractive index layer.
The film thickness of the low refractive index layer was set so that the minimum value of the reflectance measured using a spectrophotometer (UV-3100PC) manufactured by Shimadzu Corporation was around 550 nm.

なお、PETA、及びDPHAはほぼ全量が重合するので、上記電離放射線硬化性樹脂組成物に対する中実シリカ粒子の含有量は、電離放射線硬化性樹脂に対する中実シリカ粒子の含有量とほぼ同様と考えてよい。   Since PETA and DPHA are almost entirely polymerized, the content of solid silica particles in the ionizing radiation curable resin composition is considered to be substantially the same as the content of solid silica particles in the ionizing radiation curable resin. It's okay.

上記の様にして得られた、基材/ハードコート層/低屈折率層の反射防止積層体について、以下の4点の測定を行った。
<3−5−1.反射率測定>
島津製作所(株)製分光光度計(UV−3100PC)を用いて、入射角と反射角が夫々5°の時の最低反射率を測定した。
The following four points were measured for the antireflection laminate of the base material / hard coat layer / low refractive index layer obtained as described above.
<3-5-1. Reflectance measurement>
Using a spectrophotometer (UV-3100PC) manufactured by Shimadzu Corporation, the minimum reflectance when the incident angle and the reflection angle were 5 ° was measured.

<3−5−2.ヘイズ値測定>
JIS K7105:1981「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて、反射防止積層体の最表面のヘイズ値を測定した。
<3-5-2. Haze value measurement>
The haze value of the outermost surface of the antireflection laminate was measured according to JIS K7105: 1981 “Testing method for optical properties of plastic”.

<3−5−3.擦過性評価試験(耐スチールウール性)>
#0000のスチールウールを用い、荷重を変えて光学積層体表面を20往復した時の傷の有無を目視により確認した。評価基準は以下の通りとした。
<3-5-3. Scratch evaluation test (steel wool resistance)>
Using # 0000 steel wool, the presence or absence of scratches was visually confirmed when the load was changed and the surface of the optical laminate was reciprocated 20 times. The evaluation criteria were as follows.

○:傷がないもの
△:傷が数本(1〜10本)認められるもの
×:傷が多数(10本以上)認められるもの
○: No scratches △: Several scratches (1-10) are observed ×: Many scratches (10 or more) are observed

<3−5−4.硬度評価試験(鉛筆硬度測定)>
光学積層体の表面を、所定の鉛筆を用いて、500g荷重で5本線を引きその後の光学積層体表面の傷の有無を目視し評価した。傷のつかなかったときの鉛筆の硬度を確認した。結果を表−1に示す。
<3-5-4. Hardness evaluation test (pencil hardness measurement)>
The surface of the optical layered body was evaluated by visually observing the presence or absence of scratches on the surface of the optical layered body by drawing five lines under a load of 500 g using a predetermined pencil. The pencil hardness when not scratched was checked. The results are shown in Table-1.

<実施例2>
表面修飾中実シリカ微粒子Aの粒径を変えた以外は、実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表面修飾中実シリカ微粒子の粒径とともに、表−1に示す。
<Example 2>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of the surface-modified solid silica fine particles A was changed. The evaluation results are shown in Table 1 together with the particle diameters of the surface-modified solid silica fine particles.

<実施例3>
表面修飾中空シリカゾルAの粒径と、表面修飾中実シリカ微粒子Aの粒径を変えた以外は、実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表面修飾中空シリカゾルAの粒径と表面修飾中実シリカ微粒子Aの粒径とともに、表−1に示す。
<Example 3>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the particle diameter of the surface-modified hollow silica sol A and the particle diameter of the surface-modified solid silica fine particles A were changed. The evaluation results are shown in Table 1 together with the particle diameter of the surface-modified hollow silica sol A and the particle diameter of the surface-modified solid silica fine particles A.

<実施例4>
MIBK分散中空シリカ微粒子分散液とMIBK分散中実シリカゾルとを混合し、同時に表面修飾を行った以外は実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表面修飾中実シリカ微粒子の粒径とともに、表−1に示す。
<Example 4>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the MIBK-dispersed hollow silica fine particle dispersion and the MIBK-dispersed solid silica sol were mixed and surface-modified at the same time. The evaluation results are shown in Table 1 together with the particle diameters of the surface-modified solid silica fine particles.

<比較例1>
表面修飾中実シリカ微粒子Aを用いなかったこと以外は、実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表−1に示す。
<Comparative Example 1>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the surface-modified solid silica fine particles A were not used. The evaluation results are shown in Table-1.

<比較例2>
表面修飾中実シリカ微粒子Aの代わりに未処理のMIBK分散中実シリカゾルMIBK−STを用いた以外は、実施例1と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表−1に示す。
<Comparative example 2>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that untreated MIBK-dispersed solid silica sol MIBK-ST was used in place of the surface-modified solid silica fine particles A. The evaluation results are shown in Table-1.

<比較例3>
表面修飾中実シリカ微粒子Aの代わりに表面修飾中実シリカ微粒子Bを用いた以外は、実施例2と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表−1に示す。
<Comparative Example 3>
An antireflection laminate was produced in the same manner as in Example 2 except that the surface-modified solid silica fine particles B were used in place of the surface-modified solid silica fine particles A. The evaluation results are shown in Table-1.

<比較例4>
表面修飾中実シリカ微粒子Aの代わりに表面修飾中実シリカ微粒子Bを用いた以外は、実施例3と同様にして反射防止積層体を作製した。評価結果を表−1に示す。
<Comparative Example 4>
An antireflection laminate was prepared in the same manner as in Example 3 except that the surface-modified solid silica fine particles B were used in place of the surface-modified solid silica fine particles A. The evaluation results are shown in Table-1.

<比較例5>
表面修飾中実シリカ微粒子Aの代わりに表面修飾中実シリカ微粒子C、及び表面修飾中空シリカ微粒子Aの代わりに表面修飾中空シリカ微粒子Cとした以外は、実施例1と同様にして低屈折率層形成用組成物を作製した。組成物は白濁し、反射防止積層体作製時に膜面上に凝集物が認められた。
<Comparative Example 5>
Low refractive index layer in the same manner as in Example 1 except that the surface-modified solid silica fine particles C are used instead of the surface-modified solid silica fine particles A and the surface-modified hollow silica fine particles C are used instead of the surface-modified hollow silica fine particles A. A forming composition was prepared. The composition became cloudy, and aggregates were observed on the film surface when the antireflection laminate was produced.

Figure 2008107792
Figure 2008107792

図1は、本発明に係る架橋形成基による粒子表面の修飾の機構を模式的に示した図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing the mechanism of modification of the particle surface by the cross-linking group according to the present invention. 図2は、本発明に係る架橋形成基による粒子表面の修飾の別の機構を模式的に示した図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing another mechanism of modification of the particle surface by the cross-linking group according to the present invention. 図3は、本発明に係る反射防止積層体の一例を模式的に示した断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection laminate according to the present invention. 図4は、本発明に係る反射防止積層体の一例を模式的に示した断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection laminate according to the present invention. 図5は、本発明に係る反射防止積層体の一例を模式的に示した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection laminate according to the present invention. 図6は、本発明に係る反射防止積層体の一例を模式的に示した断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection laminate according to the present invention. 図7は、本発明に係る反射防止積層体の一例を模式的に示した断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing an example of the antireflection laminate according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 シランカップリング剤
2 結合基となる部分
3 スペーサ部
4 電離放射線硬化性基
10 反射防止積層体
20 透明樹脂基材
30 屈折率層(低屈折率層)
40 ハードコート層
50 高屈折率層
60 中屈折率層
70 帯電防止層
80 観察者
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silane coupling agent 2 Part used as coupling group 3 Spacer part 4 Ionizing radiation curable group 10 Antireflection laminated body 20 Transparent resin base material 30 Refractive index layer (low refractive index layer)
40 hard coat layer 50 high refractive index layer 60 middle refractive index layer 70 antistatic layer 80 observer

Claims (16)

屈折率が1.45以下の屈折率層を有する反射防止積層体であって、
前記屈折率層が、屈折率層形成用組成物を、電離放射線照射して得られる硬化物であって、
前記屈折率層形成用組成物は、電離放射線硬化性樹脂と、
外殻層に囲まれた内部が多孔質又は空洞であり、且つ、表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中空粒子と、
内部が多孔質でも空洞でもなく、且つ表面に架橋形成基が修飾されている架橋反応性の中実粒子とを含有し、
前記中空粒子表面の架橋形成基と、前記中実粒子表面の架橋形成基は、粒子表面に対する結合基、スペーサ部及び電離放射線硬化性基からなり、同一構造を有するか、又は、構造上の相違があるとしても、電離放射線硬化性基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、粒子表面に対する結合基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、スペーサ部については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分又は異種原子を含み水素を除く構成原子数が1〜3の官能基1つ分の有無が異なるのみの範囲内か、或いは、骨格の炭素鎖長が炭素原子1〜2個分異なるのみの範囲内である類似構造を有する架橋形成基であることを特徴とする反射防止積層体。
An antireflection laminate having a refractive index layer having a refractive index of 1.45 or less,
The refractive index layer is a cured product obtained by irradiating a composition for forming a refractive index layer with ionizing radiation,
The refractive index layer forming composition comprises an ionizing radiation curable resin,
Cross-linking reactive hollow particles whose interior surrounded by the outer shell layer is porous or hollow and whose surface is modified with a cross-linking group;
Containing solid cross-linking reactive particles whose interior is neither porous nor hollow, and whose surface is modified with a cross-linking group;
The crosslink forming group on the surface of the hollow particle and the crosslink forming group on the surface of the solid particle are composed of a bonding group to the particle surface, a spacer part, and an ionizing radiation curable group, and have the same structure or structural differences. Even if there is, the ionizing radiation curable group has a common skeleton and is within a range in which the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different, and is bonded to the particle surface. For the group, the skeleton is common, and the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different. For the spacer portion, the skeleton is common, and It is within the range where only one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms or one functional group having 1 to 3 functional atoms containing different atoms and excluding hydrogen is different, or carbon of the skeleton Range in which the chain length only differs by 1 to 2 carbon atoms Antireflection stack which is a crosslinking group having a similar structure is.
前記中空粒子及び前記中実粒子が無機粒子であることを特徴とする、請求項1に記載の反射防止積層体。   The antireflection laminate according to claim 1, wherein the hollow particles and the solid particles are inorganic particles. 前記中空粒子及び前記中実粒子が金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物及び金属ハロゲン化物からなる群から選ばれる少なくとも一つであることを特徴とする、請求項1又は2に記載の反射防止積層体。   The reflection according to claim 1 or 2, wherein the hollow particles and the solid particles are at least one selected from the group consisting of metal oxides, metal nitrides, metal sulfides, and metal halides. Prevention laminate. 前記中空粒子及び前記中実粒子の表面への架橋形成基の修飾は、粒子表面に対する結合性基、スペーサ部及び電離放射線硬化性基からなり、同一構造を有するか、又は、構造上の相違があるとしても、電離放射線硬化性基については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、粒子表面に対する結合基については、その骨格が共通し、且つ、結合基に結合するスペーサ部以外の基は、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分の有無が異なるのみの範囲内であり、スペーサ部については、その骨格が共通し、且つ、炭素原子数が1〜3の炭化水素基1つ分又は異種原子を含み水素を除く構成原子数が1〜3の官能基1つ分の有無が異なるのみの範囲内か、或いは、骨格の炭素鎖長が炭素原子1〜2個分異なるのみの範囲内である類似構造を有するカップリング剤を用いて行われることを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   The modification of the crosslink-forming group on the surface of the hollow particle and the solid particle consists of a binding group, a spacer part and an ionizing radiation curable group on the particle surface, and has the same structure or structural differences. Even if there is, the ionizing radiation curable group has a common skeleton and is in a range in which the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different, and is a bonding group to the particle surface. In terms of, the skeleton is common and the groups other than the spacer portion bonded to the bonding group are within the range in which the presence or absence of one hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms is different, and the spacer portion As for, the skeleton is common and the presence or absence of one functional group having 1 to 3 hydrocarbon groups having 1 to 3 carbon atoms or 1 to 3 functional atoms having different atoms and excluding hydrogen is different. Or the carbon chain length of the skeleton is Characterized in that it is carried out using a coupling agent having a similar structure are within the scope of atom 1-2 min only different antireflective laminate according to any one of claims 1 to 3. 前記中空粒子100重量部に対して、前記カップリング剤を1重量部以上、200重量部以下、且つ、前記中実粒子100重量部に対して、前記カップリング剤を1重量部以上、200重量部以下用いて修飾されたものであることを特徴とする、請求項4に記載の反射防止積層体。   1 to 200 parts by weight of the coupling agent with respect to 100 parts by weight of the hollow particles, and 1 to 200 parts by weight of the coupling agent with respect to 100 parts by weight of the solid particles. The antireflective laminate according to claim 4, wherein the antireflective laminate is modified by using a part or less. 前記中実粒子の平均粒径Aと、前記中空粒子の平均粒径Bとが、以下の関係:
10nm≦A≦40nm;
30nm≦B≦60nm;且つ
A≦B、
をもつことを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
The average particle size A of the solid particles and the average particle size B of the hollow particles have the following relationship:
10 nm ≦ A ≦ 40 nm;
30 nm ≦ B ≦ 60 nm; and A ≦ B,
The antireflection laminate according to any one of Claims 1 to 5, wherein
前記屈折率層が、前記中実粒子100重量部に対し、前記中空粒子5重量部〜50重量部を含有することを特徴とする、請求項6に記載の反射防止積層体。   The antireflective laminate according to claim 6, wherein the refractive index layer contains 5 to 50 parts by weight of the hollow particles with respect to 100 parts by weight of the solid particles. 前記中実粒子の平均粒径Aと、前記中空粒子の平均粒径Bとが、以下の関係:
30nm<A≦100nm;
30nm≦B≦60nm;且つ
A>B、
をもつことを特徴とする、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の反射防止積層体。
The average particle size A of the solid particles and the average particle size B of the hollow particles have the following relationship:
30 nm <A ≦ 100 nm;
30 nm ≦ B ≦ 60 nm; and A> B,
The antireflection laminate according to any one of Claims 1 to 5, wherein
前記屈折率層が、前記中実粒子100重量部に対し、前記中空粒子5重量部〜50重量部を含有することを特徴とする、請求項8に記載の反射防止積層体。   The antireflective laminate according to claim 8, wherein the refractive index layer contains 5 to 50 parts by weight of the hollow particles with respect to 100 parts by weight of the solid particles. 前記電離放射線硬化性樹脂の少なくとも一部が、一分子中に少なくとも1つ以上の水素結合形成基と、3つ以上の電離放射線硬化性基とを有する化合物で形成されることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   At least a part of the ionizing radiation curable resin is formed of a compound having at least one or more hydrogen bond forming groups and three or more ionizing radiation curable groups in one molecule, The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 9. 前記電離放射線硬化性基が、アクリロイル基及び/又はメタクリロイル基であることを特徴とする、請求項1乃至10のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   The antireflection laminate according to any one of claims 1 to 10, wherein the ionizing radiation curable group is an acryloyl group and / or a methacryloyl group. 前記電離放射線硬化性基を介して、前記電離放射線硬化性樹脂と前記中空粒子と前記中実粒子が共有結合していることを特徴とする、請求項1乃至11のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   The ionizing radiation curable resin, the hollow particles, and the solid particles are covalently bonded through the ionizing radiation curable group according to any one of claims 1 to 11. Antireflection laminate. 前記屈折率層の膜厚が、0.05μm以上、0.15μm以下であることを特徴とする、請求項1乃至12のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   13. The antireflection laminate according to claim 1, wherein a film thickness of the refractive index layer is 0.05 μm or more and 0.15 μm or less. 前記中実粒子の屈折率が、前記電離放射線硬化性樹脂の屈折率よりも小さいことを特徴とする、請求項1乃至13のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   14. The antireflection laminate according to claim 1, wherein a refractive index of the solid particles is smaller than a refractive index of the ionizing radiation curable resin. 光透過性基材の一面側に、前記屈折率層が最も屈折率が小さい低屈折率層として、直接又は他の層を介して設けられていることを特徴とする、請求項1乃至14のいずれか1項に記載の反射防止積層体。   15. The light-transmitting base material according to claim 1, wherein the refractive index layer is provided directly or via another layer as a low refractive index layer having the smallest refractive index. The antireflection laminate according to any one of the above. 前記他の層が、ハードコート層であることを特徴とする、請求項15に記載の反射防止積層体。   The antireflection laminate according to claim 15, wherein the other layer is a hard coat layer.
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Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010181613A (en) * 2009-02-05 2010-08-19 Nof Corp Antireflection film
WO2011046149A1 (en) * 2009-10-16 2011-04-21 大日本印刷株式会社 Optical film and display panel
JP2012066513A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate, front surface plate and image display device
JP2013043791A (en) * 2011-08-23 2013-03-04 Nof Corp Modified hollow silica microparticle
CN103275617A (en) * 2013-05-17 2013-09-04 涌奇材料技术(上海)有限公司 Preparation method and application of organosilicon photo-diffusion particle
JP2013231955A (en) * 2012-04-06 2013-11-14 Fujifilm Corp Optical film, polarizing plate and image display device using the same
JP2014048431A (en) * 2012-08-30 2014-03-17 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate film
JP2014525598A (en) * 2011-08-26 2014-09-29 エルジー・ケム・リミテッド Antireflection film
JP2014197135A (en) * 2013-03-29 2014-10-16 凸版印刷株式会社 Low refractive index layer-forming resin composition and anti-reflection film
JP2015215409A (en) * 2014-05-08 2015-12-03 王子ホールディングス株式会社 Total ray transmittance improving film having anti-sticking function
JP2017040936A (en) * 2011-11-25 2017-02-23 富士フイルム株式会社 Antistatic antireflection film, method for manufacturing antistatic antireflection film, polarizing plate, and image display apparatus
WO2017078428A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-11 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and manufacturing method therefor
KR101790240B1 (en) 2016-03-11 2017-10-26 주식회사 엘지화학 Anti-refractive film
KR101813707B1 (en) 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and preparation method of the same
JP2018002826A (en) * 2016-06-30 2018-01-11 Jsr株式会社 Composition for forming cured film and production method of the composition, cured film, light-diffusing laminate, and display device and method for manufacturing the same
US20180265710A1 (en) * 2016-02-19 2018-09-20 Lg Chem, Ltd. Photocurable coating composition for forming low refractive layer
US10222510B2 (en) 2016-03-09 2019-03-05 Lg Chem, Ltd Anti-reflective film
WO2020145373A1 (en) * 2019-01-10 2020-07-16 大日本印刷株式会社 Antireflective member, and polarizing plate, image display device and antireflective article each equipped with same
JP2020176266A (en) * 2016-03-22 2020-10-29 積水化成品工業株式会社 Hollow particle and use therefor
JP2020532765A (en) * 2018-06-26 2020-11-12 エルジー・ケム・リミテッド Anti-reflection film, polarizing plate and display device
JP2020535462A (en) * 2018-01-24 2020-12-03 エルジー・ケム・リミテッド Anti-reflective film, polarizing plate and display device
JP2021512352A (en) * 2018-06-29 2021-05-13 エルジー・ケム・リミテッド Optical laminate and display device
CN114879401A (en) * 2022-04-28 2022-08-09 Tcl华星光电技术有限公司 Display module
US11428848B2 (en) 2018-01-24 2022-08-30 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005227472A (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd Polarizing plate, liquid crystal display element, and liquid crystal display device using the same
JP2005283652A (en) * 2004-03-26 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2006257402A (en) * 2005-02-21 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd Coating composition for forming low refractive-index layer, reflection-preventing film, polarizing plate, and liquid crystal display device

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005227472A (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Fuji Photo Film Co Ltd Polarizing plate, liquid crystal display element, and liquid crystal display device using the same
JP2005283652A (en) * 2004-03-26 2005-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2006257402A (en) * 2005-02-21 2006-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd Coating composition for forming low refractive-index layer, reflection-preventing film, polarizing plate, and liquid crystal display device

Cited By (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010181613A (en) * 2009-02-05 2010-08-19 Nof Corp Antireflection film
US9158044B2 (en) 2009-10-16 2015-10-13 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical film and display panel
JP2011102977A (en) * 2009-10-16 2011-05-26 Dainippon Printing Co Ltd Optical film and display panel
CN102576095A (en) * 2009-10-16 2012-07-11 大日本印刷株式会社 Optical film and display panel
WO2011046149A1 (en) * 2009-10-16 2011-04-21 大日本印刷株式会社 Optical film and display panel
KR101378603B1 (en) 2009-10-16 2014-03-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Optical film and display panel
JP2012066513A (en) * 2010-09-24 2012-04-05 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate, front surface plate and image display device
JP2013043791A (en) * 2011-08-23 2013-03-04 Nof Corp Modified hollow silica microparticle
JP2014525598A (en) * 2011-08-26 2014-09-29 エルジー・ケム・リミテッド Antireflection film
US9482789B2 (en) 2011-08-26 2016-11-01 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective coating film
JP2017040936A (en) * 2011-11-25 2017-02-23 富士フイルム株式会社 Antistatic antireflection film, method for manufacturing antistatic antireflection film, polarizing plate, and image display apparatus
JP2013231955A (en) * 2012-04-06 2013-11-14 Fujifilm Corp Optical film, polarizing plate and image display device using the same
JP2014048431A (en) * 2012-08-30 2014-03-17 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminate film
JP2014197135A (en) * 2013-03-29 2014-10-16 凸版印刷株式会社 Low refractive index layer-forming resin composition and anti-reflection film
CN103275617A (en) * 2013-05-17 2013-09-04 涌奇材料技术(上海)有限公司 Preparation method and application of organosilicon photo-diffusion particle
JP2015215409A (en) * 2014-05-08 2015-12-03 王子ホールディングス株式会社 Total ray transmittance improving film having anti-sticking function
JP2018535440A (en) * 2015-11-04 2018-11-29 エルジー・ケム・リミテッド Antireflection film and method for producing the same
US10627548B2 (en) 2015-11-04 2020-04-21 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film and manufacturing method thereof
KR101813707B1 (en) 2015-11-04 2017-12-29 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and preparation method of the same
KR101907652B1 (en) 2015-11-04 2018-10-12 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and preparation method of the same
KR20180113483A (en) * 2015-11-04 2018-10-16 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and preparation method of the same
WO2017078428A1 (en) * 2015-11-04 2017-05-11 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and manufacturing method therefor
US11415726B2 (en) 2015-11-04 2022-08-16 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film and manufacturing method thereof
JP2019035991A (en) * 2015-11-04 2019-03-07 エルジー・ケム・リミテッド Anti-reflective film and manufacturing method thereof
KR102015050B1 (en) 2015-11-04 2019-08-27 주식회사 엘지화학 Anti-reflective film and preparation method of the same
US11680172B2 (en) 2016-02-19 2023-06-20 Lg Chem, Ltd. Photocurable coating composition for forming low refractive layer
US20180265710A1 (en) * 2016-02-19 2018-09-20 Lg Chem, Ltd. Photocurable coating composition for forming low refractive layer
EP3336604A4 (en) * 2016-02-19 2018-10-31 LG Chem, Ltd. Photocurable coating composition for forming low refractive layer
JP2018536886A (en) * 2016-02-19 2018-12-13 エルジー・ケム・リミテッド Photocurable coating composition for forming a low refractive layer
US11275199B2 (en) 2016-03-09 2022-03-15 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film
US10983252B2 (en) 2016-03-09 2021-04-20 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film
US10222510B2 (en) 2016-03-09 2019-03-05 Lg Chem, Ltd Anti-reflective film
US10802178B2 (en) 2016-03-09 2020-10-13 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film
US11262481B2 (en) 2016-03-09 2022-03-01 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film
US10627547B2 (en) 2016-03-09 2020-04-21 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film
US10895667B2 (en) 2016-03-09 2021-01-19 Lg Chem, Ltd. Antireflection film
KR101790240B1 (en) 2016-03-11 2017-10-26 주식회사 엘지화학 Anti-refractive film
JP2020176266A (en) * 2016-03-22 2020-10-29 積水化成品工業株式会社 Hollow particle and use therefor
JP6995938B2 (en) 2016-03-22 2022-01-17 積水化成品工業株式会社 Hollow particles and their uses
JP2018002826A (en) * 2016-06-30 2018-01-11 Jsr株式会社 Composition for forming cured film and production method of the composition, cured film, light-diffusing laminate, and display device and method for manufacturing the same
JP2020535462A (en) * 2018-01-24 2020-12-03 エルジー・ケム・リミテッド Anti-reflective film, polarizing plate and display device
US11506820B2 (en) 2018-01-24 2022-11-22 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus
US11428848B2 (en) 2018-01-24 2022-08-30 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus
JP2020532765A (en) * 2018-06-26 2020-11-12 エルジー・ケム・リミテッド Anti-reflection film, polarizing plate and display device
US11624857B2 (en) 2018-06-26 2023-04-11 Lg Chem, Ltd. Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus
JP2021512352A (en) * 2018-06-29 2021-05-13 エルジー・ケム・リミテッド Optical laminate and display device
WO2020145373A1 (en) * 2019-01-10 2020-07-16 大日本印刷株式会社 Antireflective member, and polarizing plate, image display device and antireflective article each equipped with same
CN114879401A (en) * 2022-04-28 2022-08-09 Tcl华星光电技术有限公司 Display module
CN114879401B (en) * 2022-04-28 2023-10-31 Tcl华星光电技术有限公司 display module

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