JP2008068521A - Laminated film and feed block - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、少なくとも2種類の熱可塑性樹脂からなる層を積層した積層フィルムとその製造に用いるフィードブロックに関するものである。 The present invention relates to a laminated film in which layers made of at least two kinds of thermoplastic resins are laminated and a feed block used for the production thereof.
2種類以上の樹脂を積層するという技術は、単一の樹脂からのみなるフィルムに様々な特性を付与することが可能である。例えば、耐候性の低い樹脂に対して別の樹脂を積層することにより耐候性の付与を行うことや、ガスバリア性の低い樹脂に対して別の樹脂を積層することでガスバリア性の付与を行うことが可能である。このように、基材となる樹脂に対して様々な特性を付与することが可能であることから、食品の包装材など上市されている製品の多くに本手法が用いられている。 The technique of laminating two or more kinds of resins can give various characteristics to a film made of only a single resin. For example, imparting weather resistance by laminating another resin to a resin having low weather resistance, or imparting gas barrier property by laminating another resin to a resin having low gas barrier properties Is possible. As described above, since various properties can be imparted to the resin as the base material, this method is used in many products on the market such as food packaging materials.
また、樹脂の積層数が11層以上である多層積層フィルムにおいては、上記の特性に加えて対引裂性の向上や光の干渉反射性の向上などの多層構造を持つことによる特異な性質を付与することも可能であり、例えば、多層に積層されたフィルムは耐引裂性に優れ、本フィルムをガラス表面に貼りつけることによりガラスの破損および飛散を大幅に防止できるものとして利用されている(たとえば特許文献1参照)。また、屈折率の異なる樹脂層を交互に積層することで光の干渉反射性が発現し、選択的に特定の波長を反射するフィルムを作成することが可能となる(たとえば特許文献2参照)。
In addition, in the multilayer laminated film with 11 or more layers of resin, in addition to the above characteristics, unique properties are provided by having a multilayer structure such as improved tear resistance and improved light interference reflectivity. For example, a multi-layered film is excellent in tear resistance, and is used as a material that can prevent breakage and scattering of glass by sticking the film to the glass surface (for example, Patent Document 1). In addition, by alternately laminating resin layers having different refractive indexes, it is possible to produce a film that expresses interference reflection of light and selectively reflects a specific wavelength (see
積層フィルムの製膜は、押出機を数台用いる共押出法やフィルム同士を張り合わせるラミネート法がある。その中でも、共押出法は、多数の層を1つの工程にて製膜すること可能であり、コストの面から非常に有利であるため、一般的に多層積層フィルムの製膜に用いられている。しかし、共押出では、積層する樹脂の融点、ガラス転移点、溶融粘度、親和性などの特性が異なる場合には、積層フィルムの厚みムラや積層された層の層厚みのムラが生じるという問題がある。このため、実際に積層できる樹脂の組合せは限られたものとなり、高い特性を有する積層フィルムを容易に製膜することが難しい。
積層フィルムの厚みムラや積層された層の層厚みムラの対策につながる手法として、最外層を厚くする多層フィルムが提案されている(特許文献3)。この手法は、フィルム厚みの調整によるハンドリング性の向上を目的として提案されているものであるが、最外層の厚膜化によるフィルムの厚みムラ、積層ムラの抑制に若干の効果を示している。しかし、樹脂の粘度特性の差が大きい場合には、依然として厚みムラ、積層ムラが生じ、また、この最外層は多層流の形成後に最外層用流路を通じて合流しており、最外層形成以前に発生する積層厚みのムラやフィルム厚みのムラには効果が無いため、さらなる改善手法が望まれている。
A multilayer film that thickens the outermost layer has been proposed as a technique that leads to countermeasures against uneven thickness of laminated films and uneven thickness of laminated layers (Patent Document 3). This method has been proposed for the purpose of improving the handleability by adjusting the film thickness, but has shown some effect on the suppression of film thickness unevenness and lamination unevenness due to the thickening of the outermost layer. However, if the difference in viscosity characteristics of the resin is large, uneven thickness and lamination will still occur, and this outermost layer joins through the outermost flow path after forming the multilayer flow, and before the outermost layer is formed Since there is no effect on the unevenness of the laminated thickness and the unevenness of the film thickness, a further improvement technique is desired.
本発明は、上記した従来技術の問題点を鑑み、樹脂の粘度特性や親和性の差の大きさによらず、積層精度に優れ、厚み均質性に優れたフィルムを提供することを課題とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a film having excellent lamination accuracy and excellent thickness uniformity regardless of the difference in viscosity characteristics and affinity of resins. .
上記課題を解決するため、11層以上積層されてなる積層フィルムであって、積層フィルムの各層は熱可塑性樹脂からなり、少なくとも片面の最表層(X)の層厚みが積層フィルム中で最も薄い層(Z)の層厚みの4倍以上であり、かつXと隣接する層(Y)の層厚みもZの層厚みの4倍以上であることを特徴とする In order to solve the above-mentioned problem, it is a laminated film in which 11 layers or more are laminated, each layer of the laminated film is made of a thermoplastic resin, and the layer thickness of the outermost layer (X) on at least one side is the thinnest layer in the laminated film. The layer thickness of (Z) is four times or more, and the layer thickness of the layer (Y) adjacent to X is also four times or more the layer thickness of Z.
本発明の積層フィルムは、11層以上積層されてなる積層フィルムであって、積層フィルムの各層は熱可塑性樹脂からなり、少なくとも片面の最表層(X)の層厚みが積層フィルム中で最も薄い層(Z)の層厚みの4倍以上であり、かつXと隣接する層(Y)の層厚みもZの層厚みの4倍以上であることを特徴とすることから、樹脂の粘度特性や親和性の差の大きさによらず、積層精度に優れ、厚み均質性に優れたフィルムを提供することが可能となる。 The laminated film of the present invention is a laminated film in which 11 or more layers are laminated, each layer of the laminated film is made of a thermoplastic resin, and the layer thickness of the outermost layer (X) on at least one side is the thinnest layer in the laminated film. Since the layer thickness of (Z) is 4 times or more and the layer thickness of the layer (Y) adjacent to X is also 4 times or more of the layer thickness of Z, the viscosity characteristics and affinity of the resin Regardless of the difference in properties, it is possible to provide a film having excellent lamination accuracy and excellent thickness uniformity.
上記目的を解決するため、本発明の積層フィルムは、11層以上積層されてなる積層フィルムであって、積層フィルムの各層は熱可塑性樹脂からなり、少なくとも片面の最表層(X)の層厚みが積層フィルム中で最も薄い層(Z)の層厚みの4倍以上であり、かつXと隣接する層(Y)の層厚みもZの層厚みの4倍以上でなければならない。 In order to solve the above object, the laminated film of the present invention is a laminated film in which 11 or more layers are laminated, each layer of the laminated film is made of a thermoplastic resin, and the layer thickness of at least one outermost layer (X) is at least one side. The layer thickness of the thinnest layer (Z) in the laminated film should be 4 times or more, and the layer thickness of the layer (Y) adjacent to X must also be 4 times or more the layer thickness of Z.
本発明の積層フィルムは、少なくとも片面のXの層厚みがZの層厚みの4倍以上であり、かつXと隣接する層Yの層厚みがZの層厚みの4倍以上である必要がある。積層フィルムの製膜において、積層される熱可塑性樹脂の溶融粘度の差や親和性の差は積層精度に大きく寄与することが知られている。筆者らは、鋭意検討の結果、11層以上の積層フィルムといえども、積層精度を乱すきっかけとなるのは、最表層および該最表層と隣接する層であることを見出し、少なくとも片面のXの層厚みおよびYの層厚みをZの層厚みと比較して4倍以上にすることにより、製膜された積層フィルム厚みのムラや層厚みのムラが低減されることを発見したものである。好ましくはフィルムの両面の最表層の層厚みがZの層厚みの4倍以上であり、かつ最表層と隣接するYの層厚みがZの層厚みの4倍以上である。より好ましくはフィルムの両面の最表層の層厚みがZの層厚みの10倍以上であり、かつ最表層と隣接するYの層厚みがZの層厚みの10倍以上である。この場合は、特に粘度差の大きな熱可塑性樹脂の組合せにおいても、積層精度が非常に高く、厚み均質性に優れたフィルムが容易に得られるようになる。
In the laminated film of the present invention, the layer thickness of X on at least one side needs to be 4 times or more of the layer thickness of Z, and the layer thickness of the layer Y adjacent to X needs to be 4 times or more of the layer thickness of Z. . In the production of a laminated film, it is known that the difference in melt viscosity and the difference in affinity of thermoplastic resins to be laminated greatly contribute to the lamination accuracy. As a result of intensive studies, the authors have found that, even for a laminated film of 11 layers or more, it is the outermost layer and the layer adjacent to the outermost layer that cause the lamination accuracy to be disturbed. It has been discovered that by making the layer thickness and the layer thickness of
本発明の積層フィルムにおいて、少なくともフィルムの片面の最表層から内層側第4層目までの各層の層厚みが、Zの層厚みの4倍以上であることはさらに好ましい。最表層から内層側第4層目までの各々の層厚みがZの層厚みの4倍以上であることにより、極端に流量が多い場合や、流路径が短い製膜装置を用いた場合でも、積層精度が非常に高く、厚み均質性に優れたフィルムが得られるようになる。 In the laminated film of the present invention, it is more preferable that the layer thickness of each layer from at least the outermost layer on one side of the film to the fourth layer on the inner layer side is at least four times the layer thickness of Z. When each layer thickness from the outermost layer to the fourth layer on the inner layer side is 4 times or more the layer thickness of Z, even when the flow rate is extremely high, or when using a film forming apparatus with a short channel diameter, A film having very high lamination accuracy and excellent thickness uniformity can be obtained.
本発明では、少なくとも2種類以上の熱可塑性樹脂が11層以上積層されてなる積層フィルムでなければならない。より好ましくは、11層以上30000層以下であり、さらに好ましくは11層以上3000層以下である。積層数の上限については特に限定するものではないが、装置の大型化などの理由から、実質的には30000層程度が限界である。 In the present invention, it must be a laminated film formed by laminating 11 or more layers of at least two types of thermoplastic resins. More preferably, they are 11 layers or more and 30000 layers or less, More preferably, they are 11 layers or more and 3000 layers or less. The upper limit of the number of stacked layers is not particularly limited, but for reasons such as an increase in the size of the device, the limit is substantially about 30000 layers.
本発明における熱可塑性樹脂としては、ホモ樹脂であってもよく、共重合または2種類以上のブレンドであってもよい。また、各樹脂中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、無機粒子、有機粒子、減粘剤、熱安定剤、滑剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、屈折率調整のためのドープ剤などが添加されていてもよい。 The thermoplastic resin in the present invention may be a homo resin, a copolymer or a blend of two or more. In each resin, various additives such as antioxidants, antistatic agents, crystal nucleating agents, inorganic particles, organic particles, viscosity reducers, thermal stabilizers, lubricants, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, A dopant for adjusting the refractive index may be added.
熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、脂環族ポリオレフィン樹脂、ナイロン6・ナイロン66などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリプロピレンテレフタレート・ポリブチルサクシネート・ポリエチレン−2,6−ナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、4フッ化エチレン樹脂・3フッ化エチレン樹脂・3フッ化塩化エチレン樹脂・4フッ化エチレン−6フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂、などを用いることができる。この中で、強度・耐熱性・透明性・溶融粘度の低さの観点から、特にポリエステルであることがより好ましい。
Examples of thermoplastic resins include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as
本発明で言うポリエステルとしては、ジカルボン酸成分骨格とジオール成分骨格との重縮合体であるホモポリエステルや共重合ポリエステルのことをいう。ここで、ホモポリエステルとしては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンジフェニルレートなどが代表的なものである。特にポリエチレンテレフタレートは、安価であるため、非常に多岐にわたる用途に用いることができ好ましい。 The polyester referred to in the present invention refers to a homopolyester or a copolyester that is a polycondensate of a dicarboxylic acid component skeleton and a diol component skeleton. Here, typical examples of the homopolyester include polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, and polyethylene diphenylate. In particular, polyethylene terephthalate is preferable because it is inexpensive and can be used in a wide variety of applications.
また、本発明における共重合ポリエステルとは、次にあげるジカルボン酸骨格を有する成分とジオール骨格を有する成分とより選ばれる少なくとも3つ以上の成分からなる重縮合体のことと定義される。ジカルボン酸骨格を有する成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、シクロヘキサンジカルボン酸とそれらのエステル誘導体などが挙げられる。グリコール骨格を有する成分としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタジオール、ジエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、2,2−ビス(4’−β−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、イソソルベート、1,4−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコールなどが挙げられる。
The copolyester in the present invention is defined as a polycondensate comprising at least three or more components selected from the following components having a dicarboxylic acid skeleton and components having a diol skeleton. Components having a dicarboxylic acid skeleton include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-
本発明の積層フィルムにおいては、少なくともフィルムの片面の最表層を形成する樹脂のせん断粘度Sが、同一温度で測定した隣接する層を形成する樹脂のせん断粘度Sよりも低いことが好ましい。ここで言うせん断粘度Sとは、回転粘度計を用いた動的粘弾性測定におけるせん断速度15s−1での複素粘性率の値である。また、測定を行う温度としては、積層されている全ての樹脂が溶融状態である温度であり、かつ積層されている全ての樹脂の融点のうち最も高い融点をTとしたときのT〜T+50℃の温度範囲にて測定される。製膜装置内での溶融樹脂の積層流動において、最壁面に位置する層の樹脂のせん断粘度Sが隣接する層のせん断粘度Sよりも低いと、積層精度が非常に高く、厚み均質性に優れたフィルムとなる。好ましくは、フィルム両面の最表層の樹脂のせん断粘度Sが隣接する層の樹脂のせん断粘度Sよりも低いことである。この場合、製膜装置内での溶融樹脂の積層流動において、両壁面において壁面に最も近い界面上でのせん断応力が低減されることになり、フィルム両面でのフィルム厚みのムラや積層厚みのムラを抑制することが可能となる。
本発明では、従来技術では困難であった、熱可塑性樹脂Aと熱可塑性樹脂Bを含んでなり、熱可塑性樹脂Aと熱可塑性樹脂Bの同一温度におけるせん断粘度Sの差が100Pa・s以上である場合にも、積層ムラが少なく、厚み均一性に優れたフィルムを得ることができる。より好ましくは、100Pa・s以上2000Pa・s以下である。2000Pa・s以上であると、積層ムラの低減することが困難となる。
In the laminated film of the present invention, it is preferable that the shear viscosity S of the resin that forms at least the outermost layer on one side of the film is lower than the shear viscosity S of the resin that forms adjacent layers measured at the same temperature. The shear viscosity S mentioned here is a value of the complex viscosity at a shear rate of 15 s −1 in dynamic viscoelasticity measurement using a rotational viscometer. The temperature at which the measurement is performed is a temperature at which all the laminated resins are in a molten state, and T to T + 50 ° C. where T is the highest melting point among the melting points of all the laminated resins. It is measured in the temperature range. In the laminating flow of the molten resin in the film forming apparatus, when the shear viscosity S of the resin located on the outermost wall is lower than the shear viscosity S of the adjacent layer, the laminating accuracy is very high and the thickness uniformity is excellent. Film. Preferably, the shear viscosity S of the resin on the outermost layer on both sides of the film is lower than the shear viscosity S of the resin in the adjacent layer. In this case, in the laminating flow of the molten resin in the film forming apparatus, the shear stress on the interface closest to the wall surface is reduced on both wall surfaces, and the film thickness unevenness and the lamination thickness unevenness on both surfaces of the film are reduced. Can be suppressed.
The present invention comprises thermoplastic resin A and thermoplastic resin B, which was difficult in the prior art, and the difference in shear viscosity S at the same temperature between thermoplastic resin A and thermoplastic resin B is 100 Pa · s or more. Even in some cases, it is possible to obtain a film with less lamination unevenness and excellent thickness uniformity. More preferably, it is 100 Pa · s or more and 2000 Pa · s or less. If it is 2000 Pa · s or more, it is difficult to reduce the stacking unevenness.
本発明の積層フィルムでは、熱可塑性樹脂Aと熱可塑性樹脂Bを含んでなり、熱可塑性樹脂Aと熱可塑性樹脂BのSP値の差の絶対値が0.5以上5以下であることが好ましい。SP値の差の絶対値が0.5以上である場合、従来技術では界面でのスリップが生じやすく、積層ムラが顕著となっていたが、本発明ではこれを克服したものである。一方、SP値の差が5より大きいと、積層フィルムでの層間剥離が非常に生じやすくなるとともに、積層ムラを低減することが困難となる。 In the laminated film of the present invention, the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B are included, and the absolute value of the SP value difference between the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B is preferably 0.5 or more and 5 or less. . When the absolute value of the difference in SP value is 0.5 or more, slip in the interface is likely to occur in the conventional technique and the stacking unevenness is remarkable, but this is overcome in the present invention. On the other hand, when the difference in SP value is larger than 5, delamination in the laminated film is very likely to occur, and it is difficult to reduce lamination unevenness.
本発明の積層フィルムでは、少なくとも片面の最表層と隣接する層の厚みが1μm以上30μm以下であり、フィルム中で最も薄い層の厚みが1nm以上500nm以下であることが好ましい。このような場合、層厚みがナノオーダーの層を多数含んでいても、高い積層精度で積層が可能である。より好ましくは両面の最表層と隣接する層の厚みが1μm以上10μm以下であり、フィルム中で最も薄い層の厚みが50nm以上500nm以下である。この場合、さらに高い積層精度での積層が可能となり、ナノオーダーでの高精度な積層が求められる干渉反射フィルムや光導波路フィルムに好適なものとなる。 In the laminated film of the present invention, the thickness of the layer adjacent to the outermost layer on at least one side is preferably 1 μm or more and 30 μm or less, and the thickness of the thinnest layer in the film is preferably 1 nm or more and 500 nm or less. In such a case, even if the layer thickness includes a large number of nano-order layers, the layers can be stacked with high stacking accuracy. More preferably, the thickness of the layer adjacent to the outermost layer on both sides is 1 μm or more and 10 μm or less, and the thickness of the thinnest layer in the film is 50 nm or more and 500 nm or less. In this case, lamination with higher lamination accuracy is possible, and it is suitable for interference reflection films and optical waveguide films that require high-precision lamination on the nano order.
次に、本発明の延伸フィルムの好ましい製造方法を以下に説明する。 Next, the preferable manufacturing method of the stretched film of this invention is demonstrated below.
2種類の樹脂AおよびBをペレットなどの形態で用意する。ペレットは、必要に応じて、熱風中あるいは真空下で乾燥された後、別々の押出機に供給される。押出機内において、融点以上に加熱溶融された樹脂は、ギヤポンプ等で樹脂の押出量を均一化され、フィルター等を介して異物や変性した樹脂などを取り除かれる。 Two types of resins A and B are prepared in the form of pellets. The pellets are dried in hot air or under vacuum as necessary, and then supplied to a separate extruder. In the extruder, the resin melted by heating to a temperature equal to or higher than the melting point is made uniform in the amount of resin extruded by a gear pump or the like, and foreign matter or denatured resin is removed through a filter or the like.
これらの2台以上の押出機を用いて異なる流路から送り出された樹脂は、次に多層積層装置に送り込まれる。多層積層装置としては、マルチマニホールドダイやフィードブロックやスタティックミキサー等を用いることができ、また、これらを任意に組み合わせても良い。本発明の特徴である少なくとも2種類以上の熱可塑性樹脂が11層以上積層されてなることを達成するためには、多数のスリットを有する部材を1個有するフィードブロックを用いることがより好ましい。スリットを有するフィードブロックを用いることにより、容易に11層以上の層を積層することが可能となる。さらに、積層数が500層以上である場合には、多数のスリットを有する部材を少なくとも別個に2個以上含むフィードブロックを用いることが好ましい。このようなフィードブロックを用いると、装置が極端に大型化することがないため、装置の製作コストという観点で有利であり、かつ熱劣化による異物が少なく、積層数が極端に多い場合でも高精度な積層が可能となる。また、幅方向の積層精度も従来技術に比較して格段に向上する。また、任意の層厚み構成を形成することも可能となる。 Resins sent from different flow paths using these two or more extruders are then sent to the multi-layer laminating apparatus. As the multi-layer laminating apparatus, a multi-manifold die, a feed block, a static mixer or the like can be used, and these may be arbitrarily combined. In order to achieve that 11 or more layers of at least two or more types of thermoplastic resins, which is a feature of the present invention, are achieved, it is more preferable to use a feed block having one member having many slits. By using a feed block having a slit, it is possible to easily stack 11 or more layers. Furthermore, when the number of stacked layers is 500 or more, it is preferable to use a feed block including at least two members having a large number of slits separately. Use of such a feed block is advantageous from the viewpoint of manufacturing cost of the device because the device does not become extremely large, and has high accuracy even when there are few foreign matters due to thermal deterioration and the number of layers is extremely large. Layering is possible. Also, the stacking accuracy in the width direction is significantly improved as compared with the prior art. It is also possible to form an arbitrary layer thickness configuration.
2種類の樹脂を多数のスリットを有する部材を1個有するフィードブロックについて詳しく以下に説明する。図1は当該フィードブロックロックにおいて別個に供給される樹脂A、Bから積層を形成する部分を示したものである。図1において、部材1〜5がこの順に重ねられ、積層装置6を形成する。図1の積層装置6は、樹脂導入部材2に設けられた樹脂導入口7から樹脂Aを、樹脂導入部材4に設けられた樹脂導入口8から樹脂Bを供給する。
The feed block having one member having two slits of two kinds of resins will be described in detail below. FIG. 1 shows a portion for forming a laminate from resins A and B supplied separately in the feed block lock. In FIG. 1,
樹脂導入部材2に導入された樹脂Aは、樹脂導入部材2に設けられた液溜部9に導かれスリット板3に導入される。同様に、樹脂Bも樹脂導入部材4に設けられた液溜部10に導かれた後スリット板3に導入される。スリット板3に導入された樹脂A、Bは、スリット板内にて積層され、その後スリット板出口11からダイへと導かれる。
The resin A introduced into the
本発明におけるスリット板の形状では、スリット板の少なくとも片側の最壁面側に位置するスリット(Sx)の形状およびSxに隣接して位置するスリット(Sy)の形状が、同一のスリット板中のSxとSyを除くいずれかのスリット(S)のうちの少なくとも1つのスリットの形状に対して下記式1および下記式2を満たすことが好ましい。ここでいうスリットとは、各層に対応する樹脂が導入される間隙のことをさし、スリットの長さとは図2におけるZ方向の長さ(L)に相当し、スリットの幅とは、図2におけるY方向の長さ(t)に相当する。スリットの形状は、該スリットから吐出される樹脂の量に関係し、ひいては層厚みに影響を与える。少なくとも片側の最壁面側のSxおよびSyの形状が残りのスリットのいずれかについて下記式1および下記式2を満たすことにより、少なくとも片面のXの層厚みがZの層厚みの4倍以上かつXとYの層厚みがZの層厚みの4倍以上である積層フィルムを作成することが可能となり、フィルムの厚みムラおよび積層ムラの抑制に効果がある。より好ましくは、スリット板の両最壁面側に位置するSxの形状およびSyの形状が、SxおよびSy以外のいずれかのスリット(S)の形状に対して下記式1および下記式2を満たすことである。この場合、製膜された積層フィルムの両面において最表層(X)の層厚みがフィルム中で最も薄い層(Z)の層厚みの4倍以上かつXと隣接する層(Y)の層厚みがZの層厚みの4倍以上となり、積層精度が高く、厚み均一性に優れたフィルムを製膜することが可能となる。
In the shape of the slit plate in the present invention, the shape of the slit (Sx) located on the outermost wall surface side of at least one side of the slit plate and the shape of the slit (Sy) located adjacent to Sx are the same as Sx in the same slit plate. It is preferable that the following
4L(Sx)/t(Sx)3 ≦ L’/t’3 (式1)
4L(Sy)/t(Sy)3 ≦ L’/t’3 (式2)
L(Sx):Sxの長さ(mm)
t(Sx):Sxの幅(mm)
L(Sy):Syの長さ(mm)
t(Sy):Syの幅(mm)
L’:Sの長さ(mm)
t’:Sの幅(mm)
スリットの形状としては、樹脂が導入される側のスリット面積と樹脂が導入されない側のスリット面積が同一ではないことが好ましい。このような構造とすると、樹脂が導入される側と樹脂が導入されない側での流量分布を低減できるため、幅方向の積層精度が向上する。さらには、(樹脂が導入されない側のスリット面積)/(樹脂が導入される側のスリット面積)が0.2以上0.9以下であることが好ましい。より好ましくは0.5以下である。また、フィードブロック内の圧力損失が1MPa以上となることが好ましい。また、スリット長(図1中Z方向スリット長さの内、長い方)を20mm以上とすることが好ましい。一方、スリットの間隙や長さを調整することにより、各層の厚みを制御することが可能である。
4L (Sx) / t (Sx) 3 ≦ L ′ / t ′ 3 (Formula 1)
4L (Sy) / t (Sy) 3 ≦ L ′ / t ′ 3 (Formula 2)
L (Sx): Sx length (mm)
t (Sx): Sx width (mm)
L (Sy): Sy length (mm)
t (Sy): Sy width (mm)
L ′: Length of S (mm)
t ′: S width (mm)
As the shape of the slit, it is preferable that the slit area on the side where the resin is introduced is not the same as the slit area on the side where the resin is not introduced. With such a structure, the flow rate distribution on the side where the resin is introduced and the side where the resin is not introduced can be reduced, so that the lamination accuracy in the width direction is improved. Further, (slit area on the side where no resin is introduced) / (slit area on the side where the resin is introduced) is preferably 0.2 or more and 0.9 or less. More preferably, it is 0.5 or less. Moreover, it is preferable that the pressure loss in a feed block will be 1 Mpa or more. Moreover, it is preferable that the slit length (the longer one of the Z-direction slit lengths in FIG. 1) is 20 mm or more. On the other hand, the thickness of each layer can be controlled by adjusting the gap and length of the slit.
また、各スリットに対応したマニホールドを有していることも好ましい。マニホールドにより、スリット内部での幅方向(図1中Y方向)の流速分布が均一化するため、積層されたフィルムの幅方向の積層比率を均一化することができ、大面積のフィルムでも精度良く積層することが可能となる。 It is also preferable to have a manifold corresponding to each slit. Because the manifold makes the flow velocity distribution in the width direction (Y direction in FIG. 1) uniform inside the slit, the lamination ratio in the width direction of the laminated films can be made uniform, and even a large area film can be accurately obtained. It becomes possible to laminate.
本発明のスリット板において、スリット先端角度が1°以上120°以下であることが好ましい。ここでいうスリット先端角度とは、スリットとスリットの間に設けられた隔壁の先端の角度のことであり、以下に記すとおりに決定される。隔壁の積層方向(図3中Y方向)での幅t’’が隔壁中で最も大きい箇所をa、a’とし、隔壁の幅がt’’の1/2となる箇所でかつ最も隔壁の先端(図3中Z方向の最大値をとる箇所)をb、b’とする。そのとき、aを通り壁面に平行な直線Cと点bを通り隔壁と接する直線とのなす角12とし、a’を通り壁面に平行な直線C’と点b’を通り隔壁に接する直線とのなす角12’とすると、スリット先端角度は12と12’の角度の和とする。(図3)。なお、この場合、12および12’の角度は0°以上180°未満として扱う。スリット先端角度を鋭角にすることにより、界面が形成される際の各々の樹脂の流速の差を抑えることが可能となるため、流動に乱れが生じにくくなり、積層精度が高く、厚み均一性に優れたフィルムを製膜することが可能となる。また、先端形状はスリット出口の積層方向での中心線13に対象であり、かつ先端bはスリット隔壁の積層方向の中心から中心線13の近い位置にあることが好ましい。スリットより押し出された樹脂は、直ちにスリットから離れた際に中心線13に向かい流動するため、先端bが中心線13に近い位置にあることにより、流動をよりスムーズにすることが可能である。より好ましくは、スリット先端角度が60°以上120°以下である。この場合、スリット板の装置先端の幅が十分に大きくなるため、スリット内での大きな圧力にも変形が生じることがなく、繰り返しの使用におけるメンテナンスによる変形も生じにくいため、長期の使用にわたり十分な積層精度を維持することが可能となる。
In the slit plate of the present invention, the slit tip angle is preferably 1 ° or more and 120 ° or less. The slit tip angle here is the angle of the tip of the partition provided between the slits, and is determined as described below. The locations where the width t ″ of the partition walls in the stacking direction (Y direction in FIG. 3) is the largest in the partition walls are designated as a and a ′, and the partition wall width is ½ of t ″ and the most of the partition walls. Let b and b ′ be the tips (locations where the maximum value in the Z direction in FIG. 3 is taken). At that time, an
本発明のスリット板においては、流路幅が厚み方向へ減少する箇所を有し、かつその縮流角度が15°以上80°以下であることが好ましい。ここでいう縮流角度について以下に示す。スリット板の中の全てのスリットよりも下流において、最も積層方向(図4中Y方向)における流路の幅が大きくなる点をd、d’とし、スリット板内にて最も積層方向における短管流路が小さくなる点をe、e’とする(d、eは同一側の壁面にあるものとし、d’、e’は同一側の壁面上にあるものとする)。このとき、点dを通り線分dd’に垂直な直線と線分deとのなす角(14)、および点d’を通り線分dd’に垂直な直線と線分d’e’とのなす角(14’)の角度を縮流角度とする。(図4)。また、14と‘14’の角度が異なる場合には、その平均値をとる。縮流角度が15°未満である場合、積層装置内での流路面積が大きくなり、製膜装置が大型化するため好ましくない。このことは、スリットの幅tを小さくすることにより対処できるが、この場合はスリットのサイズが小さくなるため、スリット加工の精度や耐久性という観点で問題があり、好ましくない。一方、縮流角度が80°よりも大きい場合には、流路が縮流する際の樹脂流動において渦や滞留などの流動乱れが発生する可能性があり好ましくない。したがって、縮流角度が15°以上80°以下であることにより、積層装置を小型化することが可能となり、かつフィルムの厚みムラや積層ムラの原因となる流動乱れを抑制することが可能となる。より好ましくは、縮流角度が30°以上60°以下である。この場合、積層装置のサイズを適当な大きさに収めることが可能であり、積層精度が高く、厚み均一性に優れたフィルムを製膜することが可能となる。 In the slit plate of the present invention, it is preferable that the flow path width has a portion that decreases in the thickness direction and the contraction angle is 15 ° or more and 80 ° or less. The contraction angle here is shown below. The points where the flow path width in the stacking direction (the Y direction in FIG. 4) becomes the largest downstream of all the slits in the slit plate are d and d ′, and the short tube in the stacking plate is the most in the stacking direction. The points where the flow path becomes small are denoted by e and e ′ (d and e are on the same wall surface, and d ′ and e ′ are on the same wall surface). At this time, the angle (14) formed by the straight line and the line segment de passing through the point d and the straight line segment dd ′, and the straight line passing through the point d ′ and the straight line segment dd ′ and the straight line segment d′ e ′. The angle formed by the angle (14 ′) is defined as the contraction angle. (FIG. 4). If the angles of 14 and ‘14’ are different, the average value is taken. When the contraction angle is less than 15 °, the flow passage area in the laminating apparatus becomes large and the film forming apparatus becomes large, which is not preferable. This can be dealt with by reducing the slit width t. In this case, however, the size of the slit becomes small, which is problematic in terms of accuracy and durability of slit processing, and is not preferable. On the other hand, if the contraction angle is larger than 80 °, flow turbulence such as vortex or stagnation may occur in the resin flow when the flow path contracts. Therefore, when the contraction angle is 15 ° or more and 80 ° or less, it is possible to reduce the size of the laminating apparatus, and it is possible to suppress the flow turbulence that causes the film thickness unevenness and the stacking unevenness. . More preferably, the contraction flow angle is 30 ° or more and 60 ° or less. In this case, the size of the laminating apparatus can be stored in an appropriate size, and a film having high lamination accuracy and excellent thickness uniformity can be formed.
また、本発明のスリット板においては、スリット板の最壁面側に位置する2つのスリットの先端を通る両壁面間を結ぶ線分(A)と、最も流路幅が短くなる位置を結ぶ線分(B)との間での流路の断面積が、A、Bを上辺、底辺とする四角形の面積の±20%以内であることが好ましい。ここでいう線分Aとは、最壁面側に位置するスリット隔壁の先端(図4中のZの値が最も大きくなる箇所)を通る直線と壁面との交点c、c’としたときの線分cc’であり、線分Bとは線分ee’であり、A、Bを上辺、底辺とする四角形とは四角形cc’e’eである。(図4)。スリットにて積層された流動は、スリット直後から中心線13の方向へと流動する。そのため、スリットから縮流が始まるまでの距離が長くなるにつれて最壁面側の層の流動面積が大きくなり、その層での渦や滞留などの流動乱れの原因となり好ましくない。また、流路の縮流が生じる箇所においては、流路の縮流率が一定であることにより流動をスムーズにすることができ、流動乱れに抑制に有効である。以上より、AとBとの間の流路の断面積がA、Bを上辺、底辺とする四角形の面積の±20%以内であることにより、フィルムの厚みムラや積層ムラの原因となる流動ムラの抑制に効果的である。より好ましくは、AとBとの間の流路の断面積がA、Bを上辺、底辺とする四角形の面積の±10%以内であり、この場合、積層精度が非常に高く、厚み均一性に優れたフィルムを製膜することが可能となる。
さて、このようにして所望の層構成に形成した溶融積層体は、次にダイにて目的の形状に成形された後、吐出される。そして、ダイから吐出された多層に積層されたシートは、キャスティングドラム等の冷却体上に押し出され、冷却固化され、キャスティングフィルムが得られる。この際、ワイヤー状、テープ状、針状あるいはナイフ状等の電極を用いて、静電気力によりキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させることが好ましい。また、スリット状、スポット状、面状の装置からエアーを吹き出してキャスティングドラム等の冷却体に密着させ急冷固化させたり、ニップロールにて冷却体に密着させ急冷固化させる方法も好ましい。
Moreover, in the slit plate of the present invention, a line segment (A) connecting between both wall surfaces passing through the tips of the two slits located on the outermost wall surface side of the slit plate and a line segment connecting the position where the flow path width becomes the shortest. It is preferable that the cross-sectional area of the flow channel with respect to (B) is within ± 20% of the area of a quadrangle having A and B as the upper side and the bottom side. Here, the line segment A is a line when the straight line passing through the end of the slit partition wall located on the outermost wall side (the place where the value of Z in FIG. 4 becomes the largest) and the wall surface are intersections c and c ′. The segment cc ′, the segment B is the segment ee ′, and the quadrangle having A and B as the upper side and the bottom side is the quadrangle cc′e′e. (FIG. 4). The flow stacked at the slit flows in the direction of the
The molten laminate formed in the desired layer configuration in this way is then formed into a desired shape by a die and then discharged. And the sheet | seat laminated | stacked in the multilayer discharged | emitted from die | dye is extruded on cooling bodies, such as a casting drum, and is cooled and solidified, and a casting film is obtained. At this time, it is preferable to use a wire-like, tape-like, needle-like, or knife-like electrode to be brought into close contact with a cooling body such as a casting drum by an electrostatic force and rapidly solidify. Also preferred is a method in which air is blown out from a slit-like, spot-like, or planar device to be brought into close contact with a cooling body such as a casting drum and rapidly cooled and solidified, or brought into close contact with a cooling body with a nip roll and rapidly solidified.
このようにして得られたキャスティングフィルムは、必要に応じて二軸延伸することが好ましい。二軸延伸とは、長手方向および幅方向に延伸することをいう。延伸は、逐次に二方向に延伸しても良いし、同時に二方向に延伸してもよい。また、さらに長手方向および/または幅方向に再延伸を行ってもよい。特に本発明では、面内の配向差を抑制できる点や、表面傷を抑制する観点から、同時二軸延伸を用いることが好ましい。 The casting film thus obtained is preferably biaxially stretched as necessary. Biaxial stretching refers to stretching in the longitudinal direction and the width direction. Stretching may be performed sequentially in two directions or simultaneously in two directions. Further, re-stretching may be performed in the longitudinal direction and / or the width direction. In particular, in the present invention, it is preferable to use simultaneous biaxial stretching from the viewpoint of suppressing in-plane orientation difference and suppressing surface scratches.
逐次二軸延伸の場合についてまず説明する。ここで、長手方向への延伸とは、フィルムに長手方向の分子配向を与えるための延伸を言い、通常は、ロールの周速差により施され、この延伸は1段階で行ってもよく、また、複数本のロール対を使用して多段階に行っても良い。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、2〜15倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、2〜7倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度+100℃が好ましい。 First, the case of sequential biaxial stretching will be described. Here, stretching in the longitudinal direction refers to stretching for imparting molecular orientation in the longitudinal direction to the film, and is usually performed by a difference in peripheral speed of the roll, and this stretching may be performed in one step. Alternatively, a plurality of roll pairs may be used in multiple stages. Although it changes with kinds of resin as a magnification of extending | stretching, 2 to 15 times is preferable normally, and when polyethylene terephthalate is used for either of the resin which comprises a laminated | multilayer film, 2 to 7 times are used especially preferably. Moreover, as extending | stretching temperature, the glass transition temperature-glass transition temperature +100 degreeC of resin which comprises a laminated | multilayer film are preferable.
このようにして得られた一軸延伸されたフィルムに、必要に応じてコロナ処理やフレーム処理、プラズマ処理などの表面処理を施した後、易滑性、易接着性、帯電防止性などの機能をインラインコーティングにより付与してもよい。 The uniaxially stretched film thus obtained is subjected to surface treatment such as corona treatment, flame treatment, and plasma treatment as necessary, and then functions such as slipperiness, easy adhesion, and antistatic properties are provided. It may be applied by in-line coating.
また、幅方向の延伸とは、フィルムに幅方向の配向を与えるための延伸を言い、通常は、テンターを用いて、フィルムの両端をクリップで把持しながら搬送して、幅方向に延伸する。延伸の倍率としては樹脂の種類により異なるが、通常、2〜15倍が好ましく、積層フィルムを構成する樹脂のいずれかにポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、2〜7倍が特に好ましく用いられる。また、延伸温度としては積層フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度〜ガラス転移温度+120℃が好ましい。 The stretching in the width direction refers to stretching for giving the film an orientation in the width direction. Usually, the tenter is used to convey the film while holding both ends of the film with clips, and the film is stretched in the width direction. Although it changes with kinds of resin as a magnification of extending | stretching, 2 to 15 times is preferable normally, and when polyethylene terephthalate is used for either of the resin which comprises a laminated | multilayer film, 2 to 7 times are used especially preferably. Moreover, as extending | stretching temperature, the glass transition temperature-glass transition temperature +120 degreeC of resin which comprises a laminated | multilayer film are preferable.
こうして二軸延伸されたフィルムは、平面性、寸法安定性を付与するために、テンター内で延伸温度以上融点以下の熱処理を行うのが好ましい。このようにして熱処理された後、均一に徐冷後、室温まで冷やして巻き取られる。また、必要に応じて、熱処理から徐冷の際に弛緩処理などを併用してもよい。 The biaxially stretched film is preferably subjected to a heat treatment at a temperature not lower than the stretching temperature and not higher than the melting point in the tenter in order to impart flatness and dimensional stability. After being heat-treated in this way, it is gradually cooled down uniformly, then cooled to room temperature and wound up. Moreover, you may use a relaxation process etc. together in the case of annealing from heat processing as needed.
本発明に使用した物性値の評価法を記載する。
(物性値の評価法)
(1)積層厚み、積層数、積層構造
フィルムの層構成は、ミクロトームを用いて断面を切り出したサンプルについて、電子顕微鏡観察により求めた。すなわち、透過型電子顕微鏡H−7100FA型((株)日立製作所製)を用い、加速電圧75kVでフィルムの断面を拡大観察し、断面写真を撮影、層構成および各層厚みを測定した。なお、拡大倍率は積層されている層厚みが1μm以上の場合には10000倍、1μm未満の場合には40000倍で撮影し、コントラストを高く得るために、公知のRuO4を使用した染色方法を用いた。
An evaluation method of physical property values used in the present invention will be described.
(Method for evaluating physical properties)
(1) Lamination thickness, the number of laminations, and lamination structure The layer structure of the film was obtained by observing an electron microscope with respect to a sample obtained by cutting a cross section using a microtome. That is, using a transmission electron microscope H-7100FA type (manufactured by Hitachi, Ltd.), the cross section of the film was enlarged and observed at an acceleration voltage of 75 kV, a cross-sectional photograph was taken, and the layer configuration and each layer thickness were measured. In addition, in order to obtain a high contrast by photographing at a magnification of 10,000 times when the laminated layer thickness is 1 μm or more, and when the layer thickness is less than 1 μm, a magnification method using a known RuO 4 is used. Using.
積層構造の具体的な求め方を、説明する。TEM写真画像を、CanonScanD123Uを用いて画像サイズ720dpiで取り込んだ。画像をJPEG形式で保存し、次いで画像処理ソフトImage−Pro Plus ver.4(販売元 プラネトロン(株))を用いて、このJPGファイルを開き、画像解析を行った。画像解析処理は、垂直シックプロファイルモードで、厚み方向位置と幅方向の2本のライン間で挟まれた領域の平均明るさとの関係を、数値データとして読み取った。表計算ソフト(Excel2000)を用いて、位置(nm)と明るさのデータに対してサンプリングステップ6(間引き6)、3点移動平均の数値処理を施した。さらに、この得られた周期的に明るさが変化するデータを微分し、VBAプログラムにより、その微分曲線の極大値と極小値を読み込み、隣り合うこれらの間隔を1層の層厚みとして層厚みを算出した。この操作を写真毎に行い、全ての層の層厚みを算出した。
(2)溶融粘度Sの測定
回転式粘度計 MR−300ソリキッドメーター(レオロジ製)を用いて動的粘弾性測定を行った。測定には、平行円板(直径18mm)を用い、N2雰囲気下、270℃、振幅1°、せん断速度0.6〜31s−1の条件で測定を行った。得られたデータのうち、せん断速度15−1での複素粘性率をせん断粘度Sとした。なお、実施例にて乾燥して製膜に用いた樹脂については、本測定においても同様の条件にて乾燥を行った。
(3)フィルムの厚みムラの測定
フィルムシックネステスタ「KG601A」および電子マイクロメータ「K306C」(共にアンリツ製)を用い、フィルム移動速度1.5m/minの速度にてフィルムを巻き取る際のフィルムの厚みを10Hz周期にて1分間測定した。得られたフィルムの全ての箇所でのフィルム厚みについて、その最大厚みをdmax、最小厚みをdmin、平均厚みをdavとし、厚みムラを(dmax−dmin)/davとした。測定はフィルムの長手方向に対して行い、測定箇所は幅方向に対して等間隔に5箇所について測定して得られたフィルム厚みのムラの中で最も大きな値をフィルムの厚みムラとする。表1には、フィルム厚みのムラが0.05未満のものを◎、0.05以上0.1未満のものを○、0.1以上0.2未満のものを△、0.2以上のものを×として記す。
(4)積層厚みのムラの定義 (3)の測定にてフィルム厚みムラの値が最も大きくなる幅方向での位置について、最もフィルム厚みが厚い箇所と最も薄い箇所のフィルムの流動方向への断面をそれぞれ作成し、(1)に記載の手法にて断面の層厚みプロファイルを作成した。得られた層厚みプロファイルを元に、積層されている各層について、フィルム厚みの大きい箇所での層の厚みをWmax、小さい箇所でのフィルム厚みをWminとし、その層の積層厚みのムラは(Wmax−Wmin)/(Wmax+Wmin)とする。積層ムラはすべての層について算出し、その中で最も大きな値をフィルムの積層厚みのムラとする。表1には、フィルム厚みのムラが0.1未満のものを◎、0.1以上0.2未満のものを○、0.2以上0.5未満のものを△、0.5以上のものを×として記す。
A specific method for obtaining the laminated structure will be described. TEM photographic images were captured using CanonScan D123U with an image size of 720 dpi. The image is saved in the JPEG format, and then image processing software Image-Pro Plus ver. 4 (sales company Planetron Co., Ltd.) was used to open this JPG file and perform image analysis. In the image analysis process, the relationship between the thickness in the thickness direction and the average brightness of the area sandwiched between the two lines in the width direction was read as numerical data in the vertical thick profile mode. Using the spreadsheet software (Excel2000), the position (nm) and brightness data were subjected to numerical processing of sampling step 6 (decimation 6) and 3-point moving average. Furthermore, the data obtained by periodically changing the brightness is differentiated, and the maximum value and the minimum value of the differential curve are read by the VBA program. Calculated. This operation was performed for each photograph, and the layer thicknesses of all layers were calculated.
(2) Measurement of melt viscosity S Dynamic viscoelasticity measurement was performed using a rotational viscometer MR-300 solid meter (manufactured by Rheology). For the measurement, a parallel disk (diameter 18 mm) was used, and measurement was performed under the conditions of 270 ° C., amplitude 1 °, and shear rate 0.6 to 31 s −1 under N 2 atmosphere. Among the obtained data, the complex viscosity at a shear rate of 15 −1 was defined as shear viscosity S. In addition, about the resin dried and used for film forming in the Example, it dried on the same conditions also in this measurement.
(3) Measurement of thickness unevenness of film Using a film thickness tester “KG601A” and an electronic micrometer “K306C” (both manufactured by Anritsu), the film thickness was measured when the film was wound at a speed of 1.5 m / min. The thickness was measured for 1 minute at a 10 Hz period. Regarding the film thickness at all locations of the obtained film, the maximum thickness was d max , the minimum thickness was d min , the average thickness was d av , and the thickness unevenness was (d max −d min ) / d av . The measurement is performed with respect to the longitudinal direction of the film, and the measurement position is the film thickness unevenness which is the largest value among the unevenness of the film thickness obtained by measuring 5 positions at equal intervals in the width direction. Table 1 shows that the film thickness non-uniformity is less than 0.05: ◎, 0.05 to less than 0.1: ◯, 0.1 to less than 0.2: Δ, 0.2 or more Things are marked as x.
(4) Definition of stacking thickness unevenness Regarding the position in the width direction where the value of the film thickness unevenness is the largest in the measurement of (3), the cross section in the flow direction of the film where the film thickness is the thickest and the thinnest And a layer thickness profile of the cross section was created by the method described in (1). Based on the obtained layer thickness profile, for each layer that is laminated, the layer thickness at the location where the film thickness is large is W max , the film thickness at the small location is W min , (W max −W min ) / (W max + W min ). Lamination unevenness is calculated for all layers, and the largest value among them is taken as the unevenness of the film lamination thickness. Table 1 shows that the film thickness non-uniformity is less than 0.1: 0.1, 0.1 to less than 0.2: ○, 0.2 to less than 0.5: Δ, 0.5 or more Things are marked as x.
(実施例1)
2種類の熱可塑性樹脂として、熱可塑性樹脂Aと熱可塑性樹脂Bを準備した。樹脂Aとして、ポリエチレンテレフタレート(PET)を真空下・180℃の条件で乾燥した後に用いた。該PET樹脂は、以下に記す方法にて重合されたものである。まず、ジメチルテレフタレート100重量部とエチレングリコール60重量部の混合物に、エステル交換反応触媒として酢酸カルシウムを添加し、加熱昇温してメタノールを留出させてエステル交換反応を行った。次いで、該エステル交換反応生成物に、重合触媒として三酸化アンチモン、熱安定剤としてリン酸を加え重縮合反応槽に移行した。次いで、加熱昇温しながら反応系を徐々に減圧し、290℃減圧下で内部を攪拌しメタノールを留出させながら重合し、PET樹脂を得た。また、樹脂Bとして、ポリプロピレン(PP)[住友化学製ノブレンWF836DG3]を未乾燥にて用いた。これらの樹脂を別々の押出機に供給した。
(Example 1)
A thermoplastic resin A and a thermoplastic resin B were prepared as two types of thermoplastic resins. As the resin A, polyethylene terephthalate (PET) was used after being dried under vacuum at 180 ° C. The PET resin is polymerized by the method described below. First, calcium acetate was added as a transesterification reaction catalyst to a mixture of 100 parts by weight of dimethyl terephthalate and 60 parts by weight of ethylene glycol, and the mixture was heated and heated to distill methanol to conduct a transesterification reaction. Subsequently, the transesterification product was added with antimony trioxide as a polymerization catalyst and phosphoric acid as a heat stabilizer, and transferred to a polycondensation reaction tank. Next, the reaction system was gradually depressurized while being heated and heated, and the inside was stirred at 290 ° C. under reduced pressure to polymerize while distilling methanol to obtain a PET resin. As the resin B, polypropylene (PP) [Nobrene WF836DG3 manufactured by Sumitomo Chemical] was used without being dried. These resins were fed to separate extruders.
樹脂AおよびBは、それぞれ、押出機にて270℃の溶融状態とし、ギヤポンプおよびフィルターを介した後、201層のフィードブロックにて合流させた。なお、ギアポンプから吐出される樹脂の量は両樹脂について同一とする。201層のフィードブロックとしては、図1に示したような装置を用いた。なお、該フィードブロックは、201個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(200)、S(201)としたときの、S(1)、S(2)、S(3)、S(4)、S(198)、S(199)、S(200)、S(201)のスリットの長さがL、幅が2.2t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に201層が積層され、かつフィルム両面の最表層から内層側第4層目までの層厚みがZの層厚みの約10倍となる。該フィードブロックを用いて積層された51層からなる積層体をシート状に成形し、静電印加にて表面温度25℃に保たれたキャスティングドラム上で急冷固化した後巻き取った。こうして得られたフィルムは、厚みが100μmであり、幅が600mmであった。得られた結果を表1に示す。 Resins A and B were each melted at 270 ° C. with an extruder, passed through a gear pump and a filter, and then merged in a 201-layer feed block. The amount of resin discharged from the gear pump is the same for both resins. As the 201-layer feed block, an apparatus as shown in FIG. 1 was used. The feed block includes one slit plate including 201 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. , S (200), S (201), S (1), S (2), S (3), S (4), S (198), S (199), S (200), The length of the slit of S (201) is L and the width is 2.2t, and the other slit shapes are the length L and the width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 100%. As a result, the formed film has 201 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the layer thickness from the outermost layer on both sides of the film to the fourth layer on the inner layer side. Is about 10 times the Z layer thickness. A laminate comprising 51 layers laminated using the feed block was formed into a sheet shape, rapidly cooled and solidified on a casting drum maintained at a surface temperature of 25 ° C. by electrostatic application, and wound up. The film thus obtained had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例2)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(2)、S(3)、S(4)、S(48)、S(49)、S(50)、S(51)のスリットの長さがL、幅が2.2t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面の最表層から内層側第4層目までの層厚みがZの層厚みの約10倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 2)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. S (1), S (2), S (3), S (4), S (48), S (49), S (50), S when S (50), S (51) The slit length of (51) is L, the width is 2.2 t, and the other slit shapes are the slit length L and the width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 100%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the layer thickness from the outermost layer on both sides of the film to the fourth layer on the inner layer side. Is about 10 times the Z layer thickness. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例3)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(2)、S(50)、S(51)のスリットの長さがL、幅が2.2t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面の最表層から内層側第4層目までの層厚みがZの層厚みの約10倍となる。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面の最表層から内層側第4層目までの層厚みがZの層厚みの約10倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 3)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. S (1), S (2), S (50), S (51) slit length is L, width is 2.2t, and S (50), S (51) The slit has a slit length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the layer thickness from the outermost layer on both sides of the film to the fourth layer on the inner layer side. Is about 10 times the Z layer thickness. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 100%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the layer thickness from the outermost layer on both sides of the film to the fourth layer on the inner layer side. Is about 10 times the Z layer thickness. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例4)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(2)、S(50)、S(51)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面のXおよびYの層厚みがZの層厚みの約4倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
Example 4
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. The length of the slits of S (1), S (2), S (50), and S (51) is L, the width is 1.6t, and other than that when S (50) and S (51) are set. The slit has a slit length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 100%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, and A, and the X and Y layer thicknesses on both sides of the film are about the Z layer thickness. 4 times. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例5)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、201個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(200)、S(201)としたときの、S(1)、S(2)、S(200)、S(201)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面のXおよびYの層厚みがZの層厚みの約4倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 5)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 201 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. The length of the slits of S (1), S (2), S (200), S (201) is L, the width is 1.6t, and other than that when S (200), S (201) The slit has a slit length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 100%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, and A, and the X and Y layer thicknesses on both sides of the film are about the Z layer thickness. 4 times. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例6)
下記に記すフィードブロックおよび合流装置を用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、スリット板を3枚含んでなり、該スリット板は267個のスリットを有する。各スリット板において、スリットをS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(266)、S(267)としたときの、S(1)、S(2)、S(266)、S(267)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。合流装置は、フィードブロックに続いて設置され、フィードブロックの3枚のスリット板の各々にて267層に積層された樹脂を積層方向にさらに積層することにより、計801層の積層流動を作製する装置である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に801層が積層され、かつフィルム両面のXおよびYの層厚みがZの層厚みの約4倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 6)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block and merging apparatus described below were used. The feed block used comprises three slit plates, which have 267 slits. In each slit plate, S (1), S (2), ..., S (N), ..., S (266), S (267), S (1), S In (2), S (266), and S (267), the slit length is L and the width is 1.6 t, and the other slit shapes are the slit length L and the width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 100%. The merging device is installed subsequent to the feed block, and a total of 801 layers of laminar flow is produced by further laminating the resin laminated in 267 layers in each of the three slit plates of the feed block in the laminating direction. Device. As a result, the formed film has 801 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the X and Y layer thicknesses on both sides of the film are about the Z layer thickness. 4 times. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例7)
樹脂Bとして、ポリカーボネート(PC)[出光興産製タフロンA2200]を空気中、120℃の条件で乾燥して用いた以外は、実施例4と同様の装置・条件にて製膜した。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 7)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 4 except that polycarbonate (PC) [Taflon A2200 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.] was used as the resin B after drying in air at 120 ° C. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例8)
樹脂Aとしてポリプロピレン(PP)[住友化学製ノブレンWF836DG3]を未乾燥で、樹脂Bとして、ポリエチレンテレフタレート(PET)[東レ製F20S]を真空下、180℃の条件で乾燥して用いた以外は、実施例4と同様の装置・条件にて製膜した。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 8)
Polypropylene (PP) [Nobrene WF836DG3 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.] was not dried as Resin A, and polyethylene terephthalate (PET) [F20S manufactured by Toray Industries, Inc.] was used as resin B after being dried under vacuum at 180 ° C. A film was formed using the same apparatus and conditions as in Example 4. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例9)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(2)、S(50)、S(51)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は180°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面のXおよびYの層厚みがZの層厚みの約4倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
Example 9
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. The length of the slits of S (1), S (2), S (50), and S (51) is L, the width is 1.6t, and other than that when S (50) and S (51) are set. The slit has a slit length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. Further, the slit tip angle of the slit plate is 180 °, the contraction angle is 45 °, and D / T is 100%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, and A, and the X and Y layer thicknesses on both sides of the film are about the Z layer thickness. 4 times. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例10)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(2)、S(50)、S(51)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は90°であり、D/Tが100%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面のXおよびYの層厚みがZの層厚みの約4倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 10)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. The length of the slits of S (1), S (2), S (50), and S (51) is L, the width is 1.6t, and other than that when S (50) and S (51) are set. The slit has a slit length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. Further, the slit tip angle of the slit plate is 90 °, the contraction angle is 90 °, and D / T is 100%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, and A, and the X and Y layer thicknesses on both sides of the film are about the Z layer thickness. 4 times. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(実施例11)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(2)、S(50)、S(51)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は90°であり、縮流角度は45°であり、D/Tが150%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面のXおよびYの層厚みがZの層厚みの約4倍となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Example 11)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. The length of the slits of S (1), S (2), S (50), and S (51) is L, the width is 1.6t, and other than that when S (50) and S (51) are set. The slit has a slit length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. The slit plate has a slit tip angle of 90 °, a contraction angle of 45 °, and a D / T of 150%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, and A, and the X and Y layer thicknesses on both sides of the film are about the Z layer thickness. 4 times. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(比較例1)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、51個のスリットを含むスリット板1枚を含んでなり、壁面に最も近いスリットからS(1)、S(2)、・・・、S(N)、・・・、S(50)、S(51)としたときの、S(1)、S(51)のスリットの長さがL、幅が1.6t、それ以外のスリットの形状がスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は180°であり、縮流角度は81°であり、D/Tが130%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつフィルム両面のXの層厚みがZの層厚みの約4倍、Yの層厚みがZと同じ厚みとなる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate including 51 slits, and S (1), S (2),..., S (N),. When S (50) and S (51) are set, the slit length of S (1) and S (51) is L, the width is 1.6 t, and the other slit shapes are the length of the slit L. , The width is t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. Further, the slit tip angle of the slit plate is 180 °, the contraction angle is 81 °, and D / T is 130%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the X layer thickness on both sides of the film is about 4 times the Z layer thickness. , Y has the same thickness as Z. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(比較例2)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例1と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、スリット板を1枚含んでなり、該スリット板は51個のスリットを有し、全てのスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は180°であり、縮流角度は81°であり、D/Tが130%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に51層が積層され、かつ全ての層が均一の厚みとなる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 1 except that the feed block described below was used. The used feed block includes one slit plate, and the slit plate has 51 slits, and all the slits have a length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. Further, the slit tip angle of the slit plate is 180 °, the contraction angle is 81 °, and D / T is 130%. As a result, the formed film has 51 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and all the layers have a uniform thickness. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(比較例3)
樹脂Bとして、ポリカーボネート(PC)[出光興産製タフロンA2200]を空気中、120℃の条件で乾燥して用いた以外は、比較例2と同様の装置・条件にて製膜した。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 3)
A film was formed in the same apparatus and conditions as in Comparative Example 2 except that polycarbonate (PC) [Taflon A2200 manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.] was used as the resin B after drying in air at 120 ° C. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
(比較例4)
下記に記すフィードブロックを用いた以外は実施例6と同様の装置・条件にて製膜した。用いたフィードブロックは、スリット板を3枚含んでなり、該スリット板は267個のスリットを有する。フィードブロックに含まれる全てのスリットの長さがL、幅がtである。また、該フィードブロックは、奇数番目のスリット板に樹脂Aが、偶数番目のスリットに樹脂Bが流れるように設計されている。また、該スリット板のスリット先端角度は180°であり、縮流角度は81°であり、D/Tが130%である。この結果、製膜されたフィルムはA、B、A、・・・、A、B、Aと交互に801層が積層され、かつ全ての層の厚みが均一となる。得られたフィルムは、厚み100μm、幅600mmであった。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 4)
A film was formed under the same apparatus and conditions as in Example 6 except that the feed block described below was used. The feed block used comprises three slit plates, which have 267 slits. All slits included in the feed block have a length L and a width t. The feed block is designed so that the resin A flows through the odd-numbered slit plates and the resin B flows through the even-numbered slits. Further, the slit tip angle of the slit plate is 180 °, the contraction angle is 81 °, and D / T is 130%. As a result, the formed film has 801 layers alternately laminated with A, B, A,..., A, B, A, and the thickness of all the layers becomes uniform. The obtained film had a thickness of 100 μm and a width of 600 mm. The obtained results are shown in Table 1.
1:側板
2:樹脂A供給部
3:スリット部
4:樹脂B供給部
5:側板
6:積層装置
7:樹脂A導入口
8:樹脂B導入部
9:樹脂A液溜部
10:樹脂B液溜部
11:スリット板出口
12:スリット先端角度
13:スリット出口の積層方向での中心線
14:縮流角度
14’:縮流角度
1: Side plate 2: Resin A supply unit 3: Slit unit 4: Resin B supply unit 5: Side plate 6: Laminating device 7: Resin A introduction port 8: Resin B introduction unit 9: Resin A liquid reservoir 10: Resin B liquid Reservoir 11: slit plate outlet 12: slit tip angle 13:
Claims (13)
4L(Sx)/t(Sx)3 ≦ L’/t’3 (式1)
4L(Sy)/t(Sy)3 ≦ L’/t’3 (式2)
L(Sx):Sxの長さ(mm)
t(Sx):Sxの幅(mm)
L(Sy):Syの長さ(mm)
t(Sy):Syの幅(mm)
L’:Sの長さ(mm)
t’:Sの幅(mm) It is a feed block comprising one or more slit plates having a large number of slits, and the shape of the slit (Sx) positioned on at least one side of one of the slit plates and the slit positioned adjacent to Sx ( The shape of Sy) satisfies the following formulas 1 and 2 with respect to the shape of at least one of the slits (S) other than Sx and Sy in the same slit plate: Feed block.
4L (Sx) / t (Sx) 3 ≦ L ′ / t ′ 3 (Formula 1)
4L (Sy) / t (Sy) 3 ≦ L ′ / t ′ 3 (Formula 2)
L (Sx): Sx length (mm)
t (Sx): Sx width (mm)
L (Sy): Sy length (mm)
t (Sy): Sy width (mm)
L ′: Length of S (mm)
t ′: S width (mm)
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Cited By (1)
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JP2009006706A (en) * | 2007-05-29 | 2009-01-15 | Toray Ind Inc | Fluid lamination apparatus and fluid lamination method, and apparatus and method for producing laminated film |
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2006
- 2006-09-14 JP JP2006249044A patent/JP2008068521A/en active Pending
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