JP2008062468A - Line head and image forming apparatus using the line head - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique which enables achievement of good spot formation by suppressing a reduction in quantity of light of light beams related to the formation of spots corresponding to an outermost element. <P>SOLUTION: The line head comprises a transparent substrate which can pass the light beams, a plurality of light emitting element groups each with a plurality of light emitting elements formed on a rear face of the transparent substrate, and a plurality of imaging lenses formed on the front face of the transparent substrate correspondingly by one to one to the plurality of light emitting element groups. For each of the plurality of light emitting element groups, when the light emitting element most separated from an optical axis of the imaging lens is defined as the outermost element, and a region of the front face of the transparent substrate where the light beam ejected from the outermost element can pass without being totally reflected at the front face is defined as an outermost pass region, a radius of the imaging lens is larger than a distance between the optical axis and a position most separated from the optical axis of the imaging lens of the outermost pass region. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

この発明は、被走査面に対して光ビームを走査するラインヘッド及び該ラインヘッドを用いた画像形成装置に関するものである。   The present invention relates to a line head that scans a surface to be scanned with a light beam and an image forming apparatus using the line head.

この種のラインヘッドとしては、例えば特許文献1に記載のように、複数の発光素子を配置して構成される発光素子グループ(同特許文献における「発光素子アレイ」)を用いたものが提案されている。さらに、特許文献1記載のラインヘッドでは、複数の発光素子グループを並べて配置するとともに、該複数の発光素子グループに対して一対一で対応して複数の結像レンズを配置している。そして、発光素子グループの発光素子から射出された光ビームは、該発光素子グループに対向する結像レンズにより結像されて、被走査面にスポットが形成される。   As this type of line head, for example, as described in Patent Document 1, a head using a light emitting element group (a “light emitting element array” in the same patent document) configured by arranging a plurality of light emitting elements is proposed. ing. Furthermore, in the line head described in Patent Document 1, a plurality of light emitting element groups are arranged side by side, and a plurality of imaging lenses are arranged in one-to-one correspondence with the plurality of light emitting element groups. Then, the light beams emitted from the light emitting elements of the light emitting element group are imaged by the imaging lens facing the light emitting element group, and a spot is formed on the surface to be scanned.

特開2000−158705号公報JP 2000-158705 A

上述のようなラインヘッドにおいては、なるべく多くの光量でスポットを形成するという観点から、発光素子から射出される光ビームをできるだけ対応する結像レンズに入射させることが好適である。しかしながら、発光素子グループに属する発光素子のうち対応する結像レンズの光軸から最も離れた位置にある発光素子(最外素子)に関して、次のような問題が発生する場合があった。つまり、最外素子と該最外素子に対応する結像レンズの径との関係が適切でないことにより、最外素子から射出される光ビームのうち結像レンズに入射する光ビームの光量が減少する場合があった。そして、その結果、最外素子に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量が減少し、良好なスポット形成が実現できない場合があった。   In the above-described line head, it is preferable that the light beam emitted from the light emitting element is incident on the corresponding imaging lens as much as possible from the viewpoint of forming a spot with as much light as possible. However, among the light emitting elements belonging to the light emitting element group, the following problem may occur with respect to the light emitting element (outermost element) that is located farthest from the optical axis of the corresponding imaging lens. That is, the relationship between the outermost element and the diameter of the imaging lens corresponding to the outermost element is not appropriate, so that the amount of the light beam incident on the imaging lens among the light beams emitted from the outermost element is reduced. There was a case. As a result, the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element is reduced, and it may be impossible to realize good spot formation.

この発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、複数の発光素子から射出された光ビームを、該複数の発光素子に対応する結像レンズで被走査面に結像するラインヘッドにおいて、最外素子に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制して、良好なスポット形成の実現を可能にする技術を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems. In a line head that forms an image of a light beam emitted from a plurality of light emitting elements on a surface to be scanned by an imaging lens corresponding to the plurality of light emitting elements. It is an object of the present invention to provide a technique that makes it possible to realize good spot formation by suppressing a decrease in the amount of light beams associated with spot formation corresponding to an outer element.

この発明にかかるラインヘッドは、被走査面に光ビームを結像してスポットを形成するラインヘッドであって、上記目的を達成するために、光ビームを透過可能な透明基板と、それぞれが透明基板の裏面上に形成された発光素子を複数有する複数の発光素子グループと、透明基板の表面上に複数の発光素子グループに一対一で対応して形成されるとともに、それぞれが対応する発光素子グループに属する複数の発光素子から射出される光ビームを被走査面に結像する複数の結像レンズとを備え、複数の発光素子グループそれぞれについて、該発光素子グループに属する発光素子のうち該発光素子グループに対応する結像レンズの光軸から最も離れた発光素子を最外素子と定義し、透明基板の表面のうち該最外素子から射出された光ビームが該表面において全反射されることなく通過可能である領域を最外通過領域と定義したとき、該発光素子グループに対応する結像レンズの半径は、該最外通過領域のうち該結像レンズの光軸から最も離れた位置と該光軸との距離よりも大きいことを特徴としている。   A line head according to the present invention is a line head that forms a spot by forming an image of a light beam on a surface to be scanned, and in order to achieve the above object, a transparent substrate that can transmit the light beam, and each transparent substrate A plurality of light emitting element groups having a plurality of light emitting elements formed on the back surface of the substrate, and a plurality of light emitting element groups formed on the front surface of the transparent substrate in a one-to-one correspondence with each other, and each corresponding light emitting element group And a plurality of imaging lenses that form images of light beams emitted from the plurality of light emitting elements belonging to the scanning surface on the surface to be scanned, and for each of the plurality of light emitting element groups, the light emitting element among the light emitting elements belonging to the light emitting element group The light emitting element that is farthest from the optical axis of the imaging lens corresponding to the group is defined as the outermost element, and the light beam emitted from the outermost element on the surface of the transparent substrate is When an area that can pass without being totally reflected on the surface is defined as an outermost passing area, the radius of the imaging lens corresponding to the light emitting element group is the light of the imaging lens in the outermost passing area. It is characterized by being larger than the distance between the position farthest from the axis and the optical axis.

このように構成されたラインヘッドでは、結像レンズの半径が、最外通過領域のうち該結像レンズの光軸から最も離れた位置と該光軸との距離よりも大きくなるように構成されている。但し、最外通過領域とは、発光素子グループに属する発光素子のうち該発光素子グループに対応する結像レンズの光軸から最も離れた発光素子を最外素子と定義した場合における、透明基板の表面のうち該最外素子から射出された光ビームが該表面において全反射されることなく通過可能である領域をいう。つまり、本発明にかかるラインヘッドでは、透明基板の表面のうち最外素子から射出された光ビームが全反射されること無く通過可能である最外通過領域を対応する結像レンズが覆うように、最外素子と該最外素子に対応する結像レンズの径との関係が規定されている。よって、最外通過領域を通過する光ビームを略全て結像レンズに入射させて、最外素子から結像レンズに入射する光ビームの光量の減少を抑制することが可能となる。その結果、最外素子に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制して、良好なスポット形成の実現が可能となる。   The line head configured in this way is configured such that the radius of the imaging lens is larger than the distance between the optical axis of the outermost passing region and the position farthest from the optical axis of the imaging lens. ing. However, the outermost passing region is the light emitting element belonging to the light emitting element group, and the light emitting element farthest from the optical axis of the imaging lens corresponding to the light emitting element group is defined as the outermost element. A region of the surface where the light beam emitted from the outermost element can pass without being totally reflected on the surface. In other words, in the line head according to the present invention, the corresponding imaging lens covers the outermost passing region in which the light beam emitted from the outermost element of the surface of the transparent substrate can pass without being totally reflected. The relationship between the outermost element and the diameter of the imaging lens corresponding to the outermost element is defined. Therefore, substantially all of the light beam that passes through the outermost passage region can be incident on the imaging lens, and a reduction in the amount of light of the light beam incident on the imaging lens from the outermost element can be suppressed. As a result, it is possible to realize a good spot formation by suppressing a decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element.

また、透明基板の厚さがtであるとともに屈折率がnであるラインヘッドにあっては、次のように構成しても良い。つまり、複数の発光素子グループそれぞれについて、最外素子と該最外素子が属する発光素子グループに対応する結像レンズの光軸との距離をaと、該結像レンズの半径をRとしたとき、次式

Figure 2008062468
を満たすように、ラインヘッドを構成しても良い。このように構成されたラインヘッドでは、透明基板の表面のうち最外素子から射出された光ビームが全反射されること無く通過可能である最外通過領域を対応する結像レンズが覆うこととなる。よって、最外素子に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制して、良好なスポット形成の実現が可能となる。 A line head having a transparent substrate thickness t and a refractive index n may be configured as follows. That is, for each of a plurality of light emitting element groups, when the distance between the outermost element and the optical axis of the imaging lens corresponding to the light emitting element group to which the outermost element belongs is a, and the radius of the imaging lens is R ,
Figure 2008062468
The line head may be configured to satisfy the above. In the line head configured as described above, the corresponding imaging lens covers the outermost passage region in which the light beam emitted from the outermost element can pass without being totally reflected on the surface of the transparent substrate. Become. Therefore, it is possible to realize a favorable spot formation by suppressing a decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element.

また、複数の発光素子グループそれぞれについて、複数の発光素子が結像レンズの光軸に対して対称に配置されるように、ラインヘッドを構成しても良い。なんとなれば、対称配置により距離aが極小値をとり、上記不等式を満足させるのに有利に作用するからである。   Further, for each of the plurality of light emitting element groups, the line head may be configured such that the plurality of light emitting elements are arranged symmetrically with respect to the optical axis of the imaging lens. This is because the distance a takes the minimum value due to the symmetrical arrangement, and acts advantageously to satisfy the above inequality.

また、主走査方向に結像レンズを所定のレンズ間隔LSで並べたレンズ列を成すように、複数の結像レンズが配置されているラインヘッドにあっては、次のように構成しても良い。つまり、結像レンズの半径Rがレンズ間隔LSの半分よりも小さくなるように、ラインヘッドを構成しても良い。なんとなれば、主走査方向に隣り合う結像レンズの重複を抑制することが可能となり好適であるからである。   Further, a line head in which a plurality of imaging lenses are arranged so as to form a lens array in which imaging lenses are arranged at a predetermined lens interval LS in the main scanning direction may be configured as follows. good. That is, the line head may be configured such that the radius R of the imaging lens is smaller than half of the lens interval LS. This is because it is preferable because it is possible to suppress overlapping of imaging lenses adjacent in the main scanning direction.

また、レンズ列が主走査方向に略直交する副走査方向にm(mは2以上の自然数)列並ぶとともに、それぞれの主走査方向位置が互いに異なるように複数の結像レンズが配置されたラインヘッドにあっては、次のように構成しても良い。つまり、主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズの副走査方向位置が互いに異なるように、ラインヘッドを構成しても良い。なんとなれば、このように構成することで、主走査方向に隣り合う結像レンズ間距離を大きく取ることが可能となり、「結像レンズの半径Rがレンズ間隔LSの半分よりも小さい」という上記条件を満足させるのに有利に作用するからである。   A line in which a plurality of imaging lenses are arranged so that lens rows are arranged in m (m is a natural number of 2 or more) rows in the sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction, and the respective positions in the main scanning direction are different from each other. The head may be configured as follows. That is, the line head may be configured such that the positions of the two imaging lenses adjacent in the main scanning direction are different in the sub scanning direction. If this is the case, it is possible to increase the distance between the imaging lenses adjacent in the main scanning direction, and “the radius R of the imaging lens is smaller than half the lens interval LS”. This is because it works advantageously to satisfy the conditions.

そして、かかる上記条件を満足させるという観点から、次のように構成しても良い。つまり、主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズが互いに異なるレンズ列に属するように、ラインヘッドを構成しても良い。なんとなれば、このように構成することで、主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズの副走査方向位置が互いに異なることとなり、上記条件を満足させるのに有利に作用するからである。   From the viewpoint of satisfying the above conditions, the following configuration may be adopted. That is, the line head may be configured so that two imaging lenses adjacent in the main scanning direction position belong to different lens rows. This is because with such a configuration, the positions of the two imaging lenses adjacent in the main scanning direction are different from each other in the sub-scanning direction, which is advantageous for satisfying the above conditions. .

また、このように構成されたラインヘッドでは、主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズ間の主走査方向距離がLS/mに略等しくなるように構成した上で、更に、複数の発光素子グループそれぞれが有する発光素子の個数をk個と、複数の発光素子グループそれぞれが有する該k個の発光素子のうち主走査方向の両端に位置する2個の発光素子の間の主走査方向距離をbと、複数の結像レンズそれぞれの光学倍率の絶対値をhとしたとき、次式

Figure 2008062468
を満たすようにラインヘッドを構成しても良い。このように構成することで、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループそれぞれにより形成されるスポットの主走査方向への配列が良好となり好適である。 In the line head configured as described above, the main scanning direction distance between two imaging lenses whose adjacent positions in the main scanning direction are adjacent to each other is substantially equal to LS / m. The number of light emitting elements included in each light emitting element group is k, and the main scanning direction between two light emitting elements located at both ends in the main scanning direction among the k light emitting elements included in each of the plurality of light emitting element groups. When the distance is b and the absolute value of the optical magnification of each of the plurality of imaging lenses is h, the following formula
Figure 2008062468
The line head may be configured to satisfy the above. Such a configuration is preferable because the arrangement in the main scanning direction of the spots formed by each of the two light emitting element groups adjacent in the main scanning direction is favorable.

また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、その表面が副走査方向に搬送される潜像担持体と、潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する上記ラインヘッドと同一構成を有する露光手段とを備えることを特徴としている。よって、最外素子から結像レンズに入射する光ビームの光量の減少を抑制することが可能となる。その結果、最外素子に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制することができ、良好なスポットによる画像形成の実現が可能となる。   In order to achieve the above object, the image forming apparatus according to the present invention has a latent image carrier whose surface is conveyed in the sub-scanning direction, and the latent image carrier with the surface of the latent image carrier as the surface to be scanned. And an exposure unit having the same configuration as that of the line head for forming spots on the body surface. Accordingly, it is possible to suppress a decrease in the light amount of the light beam incident on the imaging lens from the outermost element. As a result, it is possible to suppress a decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element, and it is possible to realize image formation with a good spot.

図1は本発明にかかる画像形成装置の一実施形態を示す図である。また、図2は図1の画像形成装置における画像形成ステーションの配置を示す図である。さらに、図3は図1の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)およびブラック(K)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。この画像形成装置では、ホストコンピュータなどの外部装置から画像形成指令がCPUやメモリなどを有するメインコントローラMCに与えられると、このメインコントローラMCがエンジンコントローラECに制御信号を与え、これに基づき、エンジンコントローラECがエンジン部EGおよびヘッドコントローラHCなど装置各部を制御して所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどの記録材たるシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。   FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an image forming apparatus according to the present invention. FIG. 2 is a view showing the arrangement of image forming stations in the image forming apparatus of FIG. FIG. 3 is a diagram showing an electrical configuration of the image forming apparatus of FIG. This apparatus uses a color mode in which four color toners of yellow (Y), magenta (M), cyan (C) and black (K) are superimposed to form a color image, and only black (K) toner. Thus, the image forming apparatus can selectively execute a monochrome mode for forming a monochrome image. In this image forming apparatus, when an image forming command is given from an external device such as a host computer to a main controller MC having a CPU, a memory and the like, the main controller MC gives a control signal to the engine controller EC, and based on this, the engine controller EC The controller EC controls each part of the device such as the engine unit EG and the head controller HC to execute a predetermined image forming operation, and responds to an image forming command on a sheet as a recording material such as a copy sheet, a transfer sheet, a sheet, and an OHP transparent sheet. The image to be formed is formed.

この実施形態にかかる画像形成装置が有するハウジング本体3内には、電源回路基板、メインコントローラMC、エンジンコントローラECおよびヘッドコントローラHCを内蔵する電装品ボックス5が設けられている。また、画像形成ユニット2、転写ベルトユニット8および給紙ユニット7もハウジング本体3内に配設されている。また、図1においてハウジング本体3内右側には、二次転写ユニット12、定着ユニット13およびシート案内部材15が配設されている。なお、給紙ユニット7は、ハウジング本体3に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット7および転写ベルトユニット8については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。   In the housing main body 3 of the image forming apparatus according to this embodiment, an electrical component box 5 is provided that incorporates a power circuit board, a main controller MC, an engine controller EC, and a head controller HC. An image forming unit 2, a transfer belt unit 8, and a paper feed unit 7 are also disposed in the housing body 3. In FIG. 1, a secondary transfer unit 12, a fixing unit 13 and a sheet guide member 15 are disposed on the right side in the housing body 3. The paper feed unit 7 is configured to be detachable from the housing body 3. The paper feeding unit 7 and the transfer belt unit 8 can be removed and repaired or exchanged.

画像形成ユニット2は、複数の異なる色の画像を形成する4個の画像形成ステーション2Y(イエロー用)、2M(マゼンタ用)、2C(シアン用)および2K(ブラック用)を備えている。なお、図1においては、画像形成ユニット2の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号を付し、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。   The image forming unit 2 includes four image forming stations 2Y (for yellow), 2M (for magenta), 2C (for cyan) and 2K (for black) that form a plurality of images of different colors. In FIG. 1, since the image forming stations of the image forming unit 2 have the same configuration, only some of the image forming stations are denoted by reference numerals for convenience of illustration, and the reference numerals are omitted for other image forming stations. To do.

各画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2Kには、それぞれの色のトナー像がその表面に形成される感光体ドラム21が設けられている。各感光体ドラム21はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印D21の方向に所定速度で回転駆動される。また、感光体ドラム21の周囲には、その回転方向に沿って帯電部23、ラインヘッド29、現像部25および感光体クリーナ27が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作およびトナー現像動作が実行される。カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2Kで形成されたトナー像を転写ベルトユニット8に設けた転写ベルト81に重ね合わせてカラー画像を形成する。また、モノクロモード実行時は、画像形成ステーション2Kのみを動作させてブラック単色画像を形成する。   Each image forming station 2Y, 2M, 2C, and 2K is provided with a photosensitive drum 21 on which a toner image of each color is formed. Each photosensitive drum 21 is connected to a dedicated drive motor and is driven to rotate at a predetermined speed in the direction of arrow D21 in the figure. A charging unit 23, a line head 29, a developing unit 25, and a photoconductor cleaner 27 are disposed around the photoconductive drum 21 along the rotation direction thereof. Then, a charging operation, a latent image forming operation, and a toner developing operation are executed by these functional units. When the color mode is executed, the toner images formed by all the image forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K are superimposed on the transfer belt 81 provided in the transfer belt unit 8 to form a color image. When the monochrome mode is executed, only the image forming station 2K is operated to form a black monochrome image.

帯電部23は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム21の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム21の回転動作に伴って従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部(図示省略)に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部23と感光体ドラム21が当接する帯電位置で感光体ドラム21の表面を所定の表面電位に帯電させる。   The charging unit 23 includes a charging roller whose surface is made of elastic rubber. The charging roller is configured to rotate in contact with the surface of the photosensitive drum 21 at the charging position, and is driven to rotate as the photosensitive drum 21 rotates. The charging roller is connected to a charging bias generator (not shown). The charging roller is supplied with the charging bias from the charging bias generator and is charged at the charging position where the charging unit 23 and the photosensitive drum 21 come into contact with each other. The surface of 21 is charged to a predetermined surface potential.

ラインヘッド29は、感光体ドラム21の軸方向(図1の紙面に対して垂直な方向)に配列された複数の発光素子を備えており、感光体ドラム21に対向配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部23により帯電された感光体ドラム21の表面に向けて光を照射して該表面に静電潜像を形成する。   The line head 29 includes a plurality of light emitting elements arranged in the axial direction of the photosensitive drum 21 (a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1), and is disposed to face the photosensitive drum 21. Then, light is emitted from these light emitting elements toward the surface of the photosensitive drum 21 charged by the charging unit 23 to form an electrostatic latent image on the surface.

現像部25は、その表面にトナーが担持する現像ローラ251を有する。そして、現像ローラ251と電気的に接続された現像バイアス発生部(図示省略)から現像ローラ251に印加される現像バイアスによって、現像ローラ251と感光体ドラム21とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ251から感光体ドラム21に移動してその表面に形成された静電潜像が顕像化される。   The developing unit 25 has a developing roller 251 on which toner is carried. The charged toner is developed at a developing position where the developing roller 251 and the photosensitive drum 21 come into contact with each other by a developing bias applied to the developing roller 251 from a developing bias generator (not shown) electrically connected to the developing roller 251. Moves from the developing roller 251 to the photosensitive drum 21, and the electrostatic latent image formed on the surface thereof is visualized.

現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム21の回転方向D21に搬送された後、後に詳述する転写ベルト81と各感光体ドラム21が当接する一次転写位置TR1において転写ベルト81に一次転写される。   The toner image made visible at the developing position is conveyed in the rotational direction D21 of the photosensitive drum 21, and then is transferred to the transfer belt 81 at a primary transfer position TR1 where the photosensitive belt 21 comes into contact with the transfer belt 81 described later in detail. Primary transcription.

また、感光体ドラム21の回転方向D21の一次転写位置TR1の下流側で且つ帯電部23の上流側に、感光体ドラム21の表面に当接して感光体クリーナ27が設けられている。この感光体クリーナ27は、感光体ドラムの表面に当接することで一次転写後に感光体ドラム21の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。   A photoreceptor cleaner 27 is provided in contact with the surface of the photoreceptor drum 21 on the downstream side of the primary transfer position TR1 in the rotation direction D21 of the photoreceptor drum 21 and on the upstream side of the charging unit 23. The photoconductor cleaner 27 abuts on the surface of the photoconductor drum to remove the toner remaining on the surface of the photoconductor drum 21 after the primary transfer.

転写ベルトユニット8は、駆動ローラ82と、図1において駆動ローラ82の左側に配設される従動ローラ83(ブレード対向ローラ)と、これらのローラに張架され駆動ローラ82の回転により図示矢印D81の方向(搬送方向)へ循環駆動される転写ベルト81とを備えている。また、転写ベルトユニット8は、転写ベルト81の内側に、カートリッジ装着時において各画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2Kが有する感光体ドラム21各々に対して一対一で対向配置される、4個の一次転写ローラ85Y、85M、85Cおよび85Kを備えている。これらの一次転写ローラは、それぞれ一次転写バイアス発生部(図示省略)と電気的に接続される。   The transfer belt unit 8 includes a driving roller 82, a driven roller 83 (blade facing roller) disposed on the left side of the driving roller 82 in FIG. 1, and an arrow D81 illustrated in FIG. And a transfer belt 81 that is circulated in the direction (conveyance direction). Further, four transfer belt units 8 are arranged on the inner side of the transfer belt 81 so as to be opposed to each of the photosensitive drums 21 included in the image forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K when the cartridge is mounted. Primary transfer rollers 85Y, 85M, 85C and 85K. Each of these primary transfer rollers is electrically connected to a primary transfer bias generator (not shown).

カラーモード実行時は、図1および図2に示すように全ての一次転写ローラ85Y、85M、85Cおよび85Kを画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2K側に位置決めすることで、転写ベルト81を画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2Kそれぞれが有する感光体ドラム21に押し遣り当接させて、各感光体ドラム21と転写ベルト81との間に一次転写位置TR1を形成する。そして、適当なタイミングで一次転写バイアス発生部から一次転写ローラ85Y等に一次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する一次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写する。すなわち、カラーモードにおいては、各色の単色トナー像が転写ベルト81上において互いに重ね合わされてカラー画像が形成される。   When the color mode is executed, as shown in FIGS. 1 and 2, all the primary transfer rollers 85Y, 85M, 85C, and 85K are positioned on the image forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K, so that the transfer belt 81 is imaged. A primary transfer position TR1 is formed between each photosensitive drum 21 and the transfer belt 81 by being pushed and brought into contact with the photosensitive drum 21 included in each of the forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K. Then, by applying a primary transfer bias from the primary transfer bias generating unit to the primary transfer roller 85Y or the like at an appropriate timing, the toner images formed on the surface of each photosensitive drum 21 are respectively transferred to the corresponding primary transfer positions. Transfer is performed on the surface of the transfer belt 81 in TR1. That is, in the color mode, the single color toner images of the respective colors are superimposed on the transfer belt 81 to form a color image.

いわゆるタンデム方式の画像形成装置では、感光体ドラム21から転写ベルト81にトナー像が一次転写される一次転写位置は、各画像形成ステーションごとに異なった位置となる。この実施形態においては、イエロー用画像形成ステーション2Y、マゼンタ用画像形成ステーション2M、シアン用画像形成ステーション2Cおよびブラック用画像形成ステーション2Kが転写ベルト81の移動方向に沿ってこの順番に配置されている。したがって、イエロー一次転写位置TR1yとマゼンタ一次転写位置TR1mとは距離Lym、マゼンタ一次転写位置TR1mとシアン一次転写位置TR1cとは距離Lmc、シアン一次転写位置TR1cとブラック一次転写位置TR1kとは距離Lckだけ離隔している。   In the so-called tandem image forming apparatus, the primary transfer position where the toner image is primarily transferred from the photosensitive drum 21 to the transfer belt 81 is different for each image forming station. In this embodiment, the yellow image forming station 2Y, the magenta image forming station 2M, the cyan image forming station 2C, and the black image forming station 2K are arranged in this order along the moving direction of the transfer belt 81. . Accordingly, the yellow primary transfer position TR1y and the magenta primary transfer position TR1m are the distance Lym, the magenta primary transfer position TR1m and the cyan primary transfer position TR1c are the distance Lmc, and the cyan primary transfer position TR1c and the black primary transfer position TR1k are only the distance Lck. Separated.

一方、モノクロモード実行時は、4個の一次転写ローラのうち、一次転写ローラ85Y、85Mおよび85Cをそれぞれが対向する画像形成ステーション2Y、2Mおよび2Cから離間させるとともにブラック色に対応した一次転写ローラ85Kのみを画像形成ステーション2Kに当接させることで、モノクロ用の画像形成ステーション2Kのみを転写ベルト81に当接させる。その結果、一次転写ローラ85Kと画像形成ステーション2Kとの間にのみ一次転写位置TR1kが形成される。そして、適当なタイミングで一次転写バイアス発生部から一次転写ローラ85Kに一次転写バイアスを印加することで、画像形成ステーション2Kに設けられた感光体ドラム21の表面上に形成されたブラックトナー像を、一次転写位置TR1kにおいて転写ベルト81表面に転写してモノクロ画像を形成する。   On the other hand, when executing the monochrome mode, among the four primary transfer rollers, the primary transfer rollers 85Y, 85M, and 85C are separated from the image forming stations 2Y, 2M, and 2C that face each other, and the primary transfer rollers corresponding to the black color are used. By bringing only 85K into contact with the image forming station 2K, only the monochrome image forming station 2K is brought into contact with the transfer belt 81. As a result, the primary transfer position TR1k is formed only between the primary transfer roller 85K and the image forming station 2K. Then, by applying a primary transfer bias to the primary transfer roller 85K from the primary transfer bias generator at an appropriate timing, a black toner image formed on the surface of the photosensitive drum 21 provided in the image forming station 2K is obtained. A monochrome image is formed by transferring to the surface of the transfer belt 81 at the primary transfer position TR1k.

さらに、転写ベルトユニット8は、ブラック用一次転写ローラ85Kの下流側で且つ駆動ローラ82の上流側に配設された下流ガイドローラ86を備える。この下流ガイドローラ86は、一次転写ローラ85Kが画像形成ステーション2Kの感光体ドラム21に当接して形成する一次転写位置TR1での一次転写ローラ85Kとブラック用感光体ドラム21(K)との共通接線上において、転写ベルト81に当接するように構成されている。   Further, the transfer belt unit 8 includes a downstream guide roller 86 disposed on the downstream side of the black primary transfer roller 85K and on the upstream side of the driving roller 82. The downstream guide roller 86 is common to the primary transfer roller 85K and the black photosensitive drum 21 (K) at the primary transfer position TR1 formed by the primary transfer roller 85K contacting the photosensitive drum 21 of the image forming station 2K. It is configured to contact the transfer belt 81 on the tangent line.

また、下流ガイドローラ86に巻き掛けられた転写ベルト81の表面に対向してパッチセンサ89が設けられている。パッチセンサ89は例えば反射型フォトセンサからなり、転写ベルト81表面の反射率の変化を光学的に検出することにより、必要に応じて転写ベルト81上に形成されるパッチ画像の位置やその濃度などを検出する。   A patch sensor 89 is provided opposite to the surface of the transfer belt 81 wound around the downstream guide roller 86. The patch sensor 89 is composed of, for example, a reflection type photosensor, and optically detects a change in the reflectance of the surface of the transfer belt 81, so that the position and density of the patch image formed on the transfer belt 81 as necessary. Is detected.

給紙ユニット7は、シートを積層保持可能である給紙カセット77と、給紙カセット77からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ79とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ79により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対80によって給紙タイミングが調整された後、シート案内部材15に沿って、駆動ローラ82と二次転写ローラ121とが当接する二次転写位置TR2に給紙される。   The sheet feeding unit 7 includes a sheet feeding unit having a sheet feeding cassette 77 capable of stacking and holding sheets and a pickup roller 79 that feeds sheets one by one from the sheet feeding cassette 77. The sheet fed from the sheet feeding unit by the pickup roller 79 is adjusted in sheet feeding timing by the registration roller pair 80, and then the drive roller 82 and the secondary transfer roller 121 abut along the sheet guide member 15. Paper is fed to the secondary transfer position TR2.

二次転写ローラ121は、転写ベルト81に対して離当接自在に設けられ、二次転写ローラ駆動機構(図示省略)により離当接駆動される。定着ユニット13は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ131と、この加熱ローラ131を押圧付勢する加圧部132とを有している。そして、その表面に画像が二次転写されたシートは、シート案内部材15により、加熱ローラ131と加圧部132の加圧ベルト1323とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部132は、2つのローラ1321,1322と、これらに張架される加圧ベルト1323とで構成されている。そして、加圧ベルト1323の表面のうち、2つのローラ1321,1322により張られたベルト張面を加熱ローラ131の周面に押し付けることで、加熱ローラ131と加圧ベルト1323とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体3の上面部に設けられた排紙トレイ4に搬送される。   The secondary transfer roller 121 is provided so as to be able to come into contact with and separate from the transfer belt 81 and is driven to come into contact with and separate from a secondary transfer roller drive mechanism (not shown). The fixing unit 13 includes a heating roller 131 that includes a heating element such as a halogen heater and is rotatable, and a pressure unit 132 that presses and biases the heating roller 131. The sheet on which the image is secondarily transferred is guided to the nip formed by the heating roller 131 and the pressure belt 1323 of the pressure unit 132 by the sheet guide member 15, and in the nip, a predetermined value is formed. The image is heat-fixed at temperature. The pressure unit 132 includes two rollers 1321 and 1322 and a pressure belt 1323 stretched between them. A nip portion formed by the heating roller 131 and the pressure belt 1323 is formed by pressing the belt tension surface stretched by the two rollers 1321 and 1322 out of the surface of the pressure belt 1323 against the peripheral surface of the heating roller 131. Is configured to be widely taken. Further, the sheet thus subjected to the fixing process is conveyed to a paper discharge tray 4 provided on the upper surface portion of the housing body 3.

前記した駆動ローラ82は、転写ベルト81を図示矢印D81の方向に循環駆動するとともに、二次転写ローラ121のバックアップローラとしての機能も兼ねている。駆動ローラ82の周面には、厚さ3mm程度、体積抵抗率が1000kΩ・cm以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する二次転写バイアス発生部から二次転写ローラ121を介して供給される二次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ82に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、二次転写位置TR2へシートが進入する際の衝撃が転写ベルト81に伝達されることに起因する画質の劣化を防止することができる。   The drive roller 82 circulates and drives the transfer belt 81 in the direction of the arrow D81 in the figure, and also serves as a backup roller for the secondary transfer roller 121. A rubber layer having a thickness of about 3 mm and a volume resistivity of 1000 kΩ · cm or less is formed on the peripheral surface of the drive roller 82, and secondary transfer is omitted by grounding through a metal shaft. A conductive path of a secondary transfer bias supplied from the bias generation unit via the secondary transfer roller 121 is used. Thus, by providing the driving roller 82 with a rubber layer having high friction and shock absorption, image quality deterioration caused by transmission of the impact to the transfer belt 81 when the sheet enters the secondary transfer position TR2. Can be prevented.

また、この装置では、ブレード対向ローラ83に対向してクリーナ部71が配設されている。クリーナ部71は、クリーナブレード711と廃トナーボックス713とを有する。クリーナブレード711は、その先端部を転写ベルト81を介してブレード対向ローラ83に当接することで、二次転写後に転写ベルト81に残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス713に回収される。また、クリーナブレード711及び廃トナーボックス713は、ブレード対向ローラ83と一体的に構成されている。   Further, in this apparatus, a cleaner portion 71 is disposed to face the blade facing roller 83. The cleaner unit 71 includes a cleaner blade 711 and a waste toner box 713. The cleaner blade 711 removes foreign matters such as toner and paper dust remaining on the transfer belt 81 after the secondary transfer by bringing the tip of the cleaner blade 711 into contact with the blade facing roller 83 via the transfer belt 81. The foreign matter removed in this way is collected in a waste toner box 713. Further, the cleaner blade 711 and the waste toner box 713 are integrally formed with the blade facing roller 83.

なお、この実施形態においては、各画像形成ステーション2Y、2M、2Cおよび2Kの感光体ドラム21、帯電部23、現像部25および感光体クリーナ27を一体的にカートリッジとしてユニット化している。そして、このカートリッジが装置本体に対し着脱可能に構成されている。また、各カートリッジには、該カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラECと各カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各カートリッジに関する情報がエンジンコントローラECに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。これらの情報に基づき各カートリッジの使用履歴や消耗品の寿命が管理される。   In this embodiment, the photosensitive drum 21, the charging unit 23, the developing unit 25, and the photosensitive cleaner 27 of each of the image forming stations 2Y, 2M, 2C, and 2K are unitized as a unit. The cartridge is configured to be detachable from the apparatus main body. Each cartridge is provided with a nonvolatile memory for storing information related to the cartridge. Then, wireless communication is performed between the engine controller EC and each cartridge. Thus, information about each cartridge is transmitted to the engine controller EC, and information in each memory is updated and stored. Based on these pieces of information, the usage history of each cartridge and the lifetime of consumables are managed.

図4は、本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の概略を示す斜視図である。また、図5は、本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の副走査方向の断面図である。本実施形態におけるラインヘッド29(露光手段)は、主走査方向MDを長手方向とするケース291を備えるとともに、かかるケース291の両端には、位置決めピン2911とねじ挿入孔2912が設けられている。そして、かかる位置決めピン2911を、感光体ドラム21を覆うとともに感光体ドラム21に対して位置決めされた感光体カバー(図示省略)に穿設された位置決め孔(図示省略)に嵌め込むことで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔2912を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔(図示省略)にねじ込んで固定することで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決め固定される。   FIG. 4 is a perspective view schematically showing an embodiment of the line head according to the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view in the sub-scanning direction of one embodiment of the line head according to the present invention. The line head 29 (exposure means) in the present embodiment includes a case 291 whose longitudinal direction is the main scanning direction MD, and positioning pins 2911 and screw insertion holes 2912 are provided at both ends of the case 291. Then, the positioning pin 2911 covers the photosensitive drum 21 and is fitted into a positioning hole (not shown) formed in a photosensitive cover (not shown) positioned with respect to the photosensitive drum 21, thereby The head 29 is positioned with respect to the photosensitive drum 21. Further, the line head 29 is positioned and fixed with respect to the photosensitive drum 21 by screwing and fixing a fixing screw into a screw hole (not shown) of the photosensitive member cover through the screw insertion hole 2912.

ケース291は、その内部にガラス基板293を有する。そして、該ガラス基板293の表面には、感光体ドラム21の表面に対向してマイクロレンズアレイ299が形成されている。また、ガラス基板293の裏面(ガラス基板293が有する2つの面のうちマイクロレンズアレイ299が形成された面と逆側の面)には、複数の発光素子グループ295が設けられている。即ち、複数の発光素子グループ295は、ガラス基板293の裏面に、主走査方向MD及び副走査方向SDに互いに所定間隔だけ離れて2次元的に配置されている。ここで、複数の発光素子グループ295の各々は、複数の発光素子を2次元的に配列して構成されている。また、本実施形態では、発光素子として有機EL(Electro-Luminescence)を用いる。つまり、本実施形態では、ガラス基板293の裏面に有機ELを発光素子として配置している。そして、複数の発光素子それぞれから感光体ドラム21の方向に射出される光ビームは、ガラス基板293(透明基板)を介してマイクロレンズアレイ299へと向う。そして、かかるマイクロレンズアレイ299に入射した光ビームは、感光体ドラム21の表面にスポットとして結像されることとなる。   The case 291 has a glass substrate 293 therein. A microlens array 299 is formed on the surface of the glass substrate 293 so as to face the surface of the photosensitive drum 21. In addition, a plurality of light emitting element groups 295 are provided on the back surface of the glass substrate 293 (the surface opposite to the surface on which the microlens array 299 is formed among the two surfaces of the glass substrate 293). That is, the plurality of light emitting element groups 295 are two-dimensionally arranged on the back surface of the glass substrate 293 so as to be separated from each other by a predetermined distance in the main scanning direction MD and the sub scanning direction SD. Here, each of the plurality of light emitting element groups 295 is configured by two-dimensionally arranging a plurality of light emitting elements. In the present embodiment, organic EL (Electro-Luminescence) is used as the light emitting element. That is, in the present embodiment, the organic EL is disposed as a light emitting element on the back surface of the glass substrate 293. A light beam emitted from each of the plurality of light emitting elements toward the photosensitive drum 21 is directed to the microlens array 299 through the glass substrate 293 (transparent substrate). Then, the light beam incident on the microlens array 299 is imaged as a spot on the surface of the photosensitive drum 21.

図5に示すように、固定器具2914によって、裏蓋2913がガラス基板293を介してケース291に押圧されている。つまり、固定器具2914は、裏蓋2913をケース291側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋2913を押圧することで、ケース291の内部を光密に(つまり、ケース291内部から光が漏れないように、及び、ケース291の外部から光が侵入しないように)密閉している。なお、固定器具2914は、ケース291の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子グループ295は、封止部材294により覆われている。   As shown in FIG. 5, the back cover 2913 is pressed against the case 291 through the glass substrate 293 by the fixing device 2914. That is, the fixing device 2914 has an elastic force that presses the back cover 2913 toward the case 291, and presses the back cover 2913 with the elastic force, so that the inside of the case 291 is light-tight (that is, inside the case 291). From the outside of the case 291 so that no light leaks from the case 291). Note that a plurality of fixing devices 2914 are provided in the longitudinal direction of the case 291. The light emitting element group 295 is covered with a sealing member 294.

図6は、マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図である。また、図7は、マイクロレンズとガラス基板293の断面図である。マイクロレンズアレイ299は、ガラス基板293(透明基板)の表面に形成されている。より具体的には、マイクロレンズアレイ299は、ガラス基板293の表面に形成された複数のマイクロレンズMLにより構成されている。かかるマイクロレンズMLは、樹脂によりガラス基板293の表面に直接形成することができる。そして、これら複数のマイクロレンズMLは、発光素子グループ295の配置に対応して、主走査方向MD及び副走査方向SDに互いに所定間隔だけ離れて2次元的に配置されている。   FIG. 6 is a perspective view schematically showing the microlens array. FIG. 7 is a cross-sectional view of the microlens and the glass substrate 293. The microlens array 299 is formed on the surface of a glass substrate 293 (transparent substrate). More specifically, the microlens array 299 includes a plurality of microlenses ML formed on the surface of the glass substrate 293. Such microlenses ML can be directly formed on the surface of the glass substrate 293 by resin. The plurality of microlenses ML are two-dimensionally arranged at a predetermined distance from each other in the main scanning direction MD and the sub-scanning direction SD corresponding to the arrangement of the light emitting element groups 295.

複数のマイクロレンズMLのそれぞれは、対応する発光素子グループ295の発光素子2951からの光ビームを、所定の光学倍率で感光体ドラム21の表面に結像させる。このとき、発光素子2951から射出された光ビームは、マイクロレンズMLの光軸OAに対して180°回転して感光体ドラム21の表面に結像される。つまり、感光体ドラム21の表面には、発光素子2951の倒立像としてスポットが形成される。このように、光軸OAに対して反転した像を感光体ドラム21の表面に結像するマイクロレンズMLの特性を、本明細書では「反転特性」と称することとする。   Each of the plurality of microlenses ML forms an image of the light beam from the light emitting element 2951 of the corresponding light emitting element group 295 on the surface of the photosensitive drum 21 with a predetermined optical magnification. At this time, the light beam emitted from the light emitting element 2951 rotates 180 ° with respect to the optical axis OA of the microlens ML and forms an image on the surface of the photosensitive drum 21. That is, a spot is formed as an inverted image of the light emitting element 2951 on the surface of the photosensitive drum 21. In this specification, the characteristic of the microlens ML that forms an image inverted with respect to the optical axis OA on the surface of the photosensitive drum 21 is referred to as “inversion characteristic” in this specification.

図8は、発光素子グループ及びマイクロレンズの配置を示す図である。同図が示すように、本実施形態では、複数の発光素子グループ295が、主走査方向MD及び副走査方向SDに互いに所定間隔だけ離れて2次元的に配置されている。そして、複数の発光素子グループ295に一対一で対応して、複数のマイクロレンズML(結像レンズ)が配置されている。同図が示す通り、これら複数のマイクロレンズMLは、マイクロレンズMLを主走査方向MDにレンズ間隔LSで並べたレンズ列RMLを成すように、配置されている。そして、かかるレンズ列RMLは副走査方向SDに3列並ぶとともに、複数のマイクロレンズMLはそれぞれの主走査方向位置が異なるように配置されている。また、複数のマイクロレンズMLは、主走査方向位置が隣り合う2個のマイクロレンズMLの副走査方向位置が互いに異なるように、配置されている。つまり、主走査方向位置が隣り合う2個のマイクロレンズMLが互いに異なるレンズ列RMLに属するとともに、該2個のマイクロレンズMLの間の主走査方向距離がLS/mに略等しくなるように、複数のマイクロレンズMLは配置されている。ここで、値mは、副走査方向SDに並ぶレンズ列RMLの列数であり、本実施形態ではm=3となる。そして、マイクロレンズMLの半径Rは、レンズ間隔LSの半分よりも小さく設定されている。   FIG. 8 is a diagram showing the arrangement of light emitting element groups and microlenses. As shown in the figure, in the present embodiment, a plurality of light emitting element groups 295 are two-dimensionally arranged at a predetermined interval from each other in the main scanning direction MD and the sub-scanning direction SD. A plurality of microlenses ML (imaging lenses) are arranged in one-to-one correspondence with the plurality of light emitting element groups 295. As shown in the figure, the plurality of microlenses ML are arranged so as to form a lens row RML in which the microlenses ML are arranged in the main scanning direction MD at a lens interval LS. The lens rows RML are arranged in three rows in the sub-scanning direction SD, and the plurality of microlenses ML are arranged so that their positions in the main scanning direction are different. The plurality of microlenses ML are arranged such that the positions of the two microlenses ML adjacent in the main scanning direction are different from each other in the subscanning direction. That is, two microlenses ML adjacent in the main scanning direction position belong to different lens rows RML, and the main scanning direction distance between the two microlenses ML is substantially equal to LS / m. A plurality of microlenses ML are arranged. Here, the value m is the number of lens rows RML arranged in the sub-scanning direction SD, and in this embodiment, m = 3. The radius R of the microlens ML is set to be smaller than half the lens interval LS.

図9は、発光素子とマイクロレンズの径との関係を示す図である。同図が示すように、本実施形態では、発光素子グループ295は、8個の発光素子2951を2次元的に配置して成る。また、これら8個の発光素子2951は、マイクロレンズMLの光軸OAに対して対称に配置されている。そして、8個の発光素子2951のうちマイクロレンズMLの光軸OAから最も離れた発光素子である最外素子OM2951に対して、マイクロレンズMLの径を次のように構成している。即ち、マイクロレンズMLの半径Rを、最外通過領域OMTA(図9において破線で囲まれた領域)のうちマイクロレンズMLの光軸OAから最も離れた位置と該光軸OAとの距離Iよりも大きく設定している。ここで、最外通過領域OMTAとは、ガラス基板293の表面のうち最外素子OM2951から射出された光ビームが該表面において全反射されることなく通過可能な領域である。   FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the light emitting element and the diameter of the microlens. As shown in the figure, in the present embodiment, the light emitting element group 295 is configured by eight light emitting elements 2951 arranged two-dimensionally. Further, these eight light emitting elements 2951 are disposed symmetrically with respect to the optical axis OA of the microlens ML. And the diameter of the micro lens ML is comprised as follows with respect to the outermost element OM2951 which is a light emitting element most distant from the optical axis OA of the microlens ML among the eight light emitting elements 2951. That is, the radius R of the microlens ML is determined from the distance I between the optical axis OA and the position farthest from the optical axis OA of the microlens ML in the outermost passing region OMTA (the region surrounded by the broken line in FIG. 9). Is also set larger. Here, the outermost passing region OMTA is a region through which the light beam emitted from the outermost element OM2951 can pass without being totally reflected on the surface of the glass substrate 293.

図7を用いて、ガラス基板293(透明基板)と最外通過領域OMTAとの関係を説明する。ガラス基板293(透明基板)の厚さをtと屈折率をnとしたとき、最外通過領域OMTAの半径rは

Figure 2008062468
で与えられる。この理由について説明する。 The relationship between the glass substrate 293 (transparent substrate) and the outermost passage region OMTA will be described with reference to FIG. When the thickness of the glass substrate 293 (transparent substrate) is t and the refractive index is n, the radius r of the outermost passage region OMTA is
Figure 2008062468
Given in. The reason for this will be described.

最外通過領域OMTAの境界線上において、最外素子OM2951から射出された光ビームは全反射される。つまり、最外通過領域OMTAの同図右側端部である点Pにおいて、最外素子OM2951から射出された光ビームは全反射される。よって、ガラス基板293の表面の法線と最外素子OM2951から点Pに向う光ビームとが成す角度をθとすると、次式

Figure 2008062468
が成立する。 On the boundary line of the outermost passing region OMTA, the light beam emitted from the outermost element OM2951 is totally reflected. That is, the light beam emitted from the outermost element OM2951 is totally reflected at the point P which is the right end portion of the outermost passage region OMTA in the figure. Therefore, when the angle formed between the normal line of the surface of the glass substrate 293 and the light beam from the outermost element OM2951 toward the point P is θ,
Figure 2008062468
Is established.

ここで

Figure 2008062468
が成立することを利用すると、数4は次式のように変形できる。 here
Figure 2008062468
4 can be transformed as shown in the following equation.

Figure 2008062468
Figure 2008062468

そして、数6を半径rについて解くと、次式

Figure 2008062468
が導かれる。 And solving Equation 6 for radius r,
Figure 2008062468
Is guided.

よって、本実施形態では、図9に示すように、距離Iは、次式

Figure 2008062468
で与えられることとなる。ここで、値aは、最外素子OM2951と該最外素子OM2951が属する発光素子グループ295に対応するマイクロレンズMLの光軸OAとの距離である。 Therefore, in this embodiment, as shown in FIG.
Figure 2008062468
Will be given. Here, the value a is the distance between the outermost element OM2951 and the optical axis OA of the microlens ML corresponding to the light emitting element group 295 to which the outermost element OM2951 belongs.

つまり、本実施形態では、マイクロレンズML(結像レンズ)の半径Rが次式

Figure 2008062468
を満たすことで、マイクロレンズMLの半径Rが距離Iよりも大きくなるように構成されている。 That is, in this embodiment, the radius R of the microlens ML (imaging lens) is expressed by the following equation.
Figure 2008062468
By satisfying the above, the radius R of the microlens ML is configured to be larger than the distance I.

また、本実施形態では、レンズ間隔LSを次のように設定している。つまり、発光素子グループ295それぞれが有する発光素子2951の個数をk個(本実施形態ではk=8となる)と、発光素子グループ295が有するk個の発光素子2951のうち主走査方向MDの両端に位置する2個の発光素子2951の間の主走査方向距離をb(図9)と、マイクロレンズMLの光学倍率の絶対値をhとしたとき、

Figure 2008062468
が成立するように、レンズ間隔LSを設定している。また、上述の通り、マイクロレンズMLの半径Rは、レンズ間隔LSの半分よりも小さく設定されている。 In the present embodiment, the lens interval LS is set as follows. That is, the number of the light emitting elements 2951 included in each of the light emitting element groups 295 is k (in this embodiment, k = 8), and among the k light emitting elements 2951 included in the light emitting element group 295, both ends in the main scanning direction MD. When the distance in the main scanning direction between the two light emitting elements 2951 positioned at 2 is b (FIG. 9) and the absolute value of the optical magnification of the microlens ML is h,
Figure 2008062468
The lens interval LS is set so that. Further, as described above, the radius R of the microlens ML is set to be smaller than half of the lens interval LS.

よって、本実施形態では、マイクロレンズMLの半径Rは次の不等式

Figure 2008062468
を満たすこととなる。なお、レンズ間隔LSを上記のように設定する理由については後述する。 Therefore, in this embodiment, the radius R of the microlens ML is expressed by the following inequality.
Figure 2008062468
Will be satisfied. The reason for setting the lens interval LS as described above will be described later.

図10及び図11は、本実施形態におけるラインヘッドの動作説明図である。以下に、図3、図10、図11を用いて本実施形態におけるラインヘッド29によるスポット形成動作を説明する。また、発明の理解を容易にするため、ここでは主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを等間隔で並べて形成する場合について説明する。本実施形態では、感光体ドラム21(潜像担持体)の表面(被走査面)を副走査方向SDに搬送しながら、ヘッド制御モジュール54により複数の発光素子2951を所定のタイミングで発光させることで、主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。   10 and 11 are explanatory diagrams of the operation of the line head in the present embodiment. Hereinafter, the spot forming operation by the line head 29 in this embodiment will be described with reference to FIGS. 3, 10, and 11. In order to facilitate understanding of the invention, here, a case where a plurality of spots are formed side by side at equal intervals on a straight line extending in the main scanning direction MD will be described. In the present embodiment, a plurality of light emitting elements 2951 are caused to emit light at a predetermined timing by the head control module 54 while transporting the surface (scanned surface) of the photosensitive drum 21 (latent image carrier) in the sub scanning direction SD. Thus, a plurality of spots are formed side by side on a straight line extending in the main scanning direction MD.

つまり、本実施形態のラインヘッド29では、副走査方向位置SD1〜SD6の各位置に対応して、副走査方向SDに6個の発光素子列R2951が並べて配置されている(図10)。そこで、本実施形態では、同一の副走査方向位置にある発光素子列R2951は、略同一のタイミングで発光させるとともに、異なる副走査方向位置にある発光素子列R2951は、互いに異なるタイミングで発光させる。より具体的には、副走査方向位置SD1〜SD6の順番で、発光素子列R2951を発光させる。そして、感光体ドラム21の表面を副走査方向SDに搬送しながら、上述の順番で発光素子列R2951を発光させることで、該表面の主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。   That is, in the line head 29 of the present embodiment, six light emitting element rows R2951 are arranged side by side in the sub-scanning direction SD corresponding to each position of the sub-scanning direction positions SD1 to SD6 (FIG. 10). Therefore, in this embodiment, the light emitting element rows R2951 at the same sub-scanning direction position emit light at substantially the same timing, and the light emitting element rows R2951 at different sub-scanning direction positions emit light at different timings. More specifically, the light emitting element array R2951 is caused to emit light in the order of the sub scanning direction positions SD1 to SD6. A plurality of spots are formed side by side on a straight line extending in the main scanning direction MD on the surface by causing the light emitting element array R2951 to emit light in the order described above while transporting the surface of the photosensitive drum 21 in the sub scanning direction SD. To do.

かかる動作を、図10,11を用いて説明する。まず最初に、副走査方向SDに最上流の発光素子グループ295A1,295A2,295A3,…に属する副走査方向位置SD1の発光素子列R2951の発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズMLにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図11の「1回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。なお、同図において、白抜きの丸印は、未だ形成されておらず今後形成される予定のスポットを表す。また、同図において、符号295C1,295B1,295A1,295C2でラベルされたスポットは、それぞれに付された符号に対応する発光素子グループ295により形成されるスポットであることを示す。   Such an operation will be described with reference to FIGS. First, the light emitting elements 2951 of the light emitting element row R2951 in the sub scanning direction position SD1 belonging to the most upstream light emitting element groups 295A1, 295A2, 295A3,. The plurality of light beams emitted by the light emission operation are reversed and imaged on the surface of the photosensitive drum by the microlens ML having the above reversal characteristics. That is, a spot is formed at the position of the “first” hatching pattern in FIG. In the figure, white circles represent spots that have not yet been formed and are to be formed in the future. In the same figure, the spots labeled with reference numerals 295C1, 295B1, 295A1, and 295C2 indicate spots formed by the light emitting element groups 295 corresponding to the reference numerals assigned thereto.

次に、同発光素子グループ295A1,295A2,295A3,…に属する副走査方向位置SD2の発光素子列R2951の発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズMLにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図11の「2回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。ここで、感光体ドラム21の表面の搬送方向が副走査方向SDであるのに対して、副走査方向SDの下流側の発光素子列R2951から順番に(つまり、副走査方向位置SD1,SD2の順番に)発光させたのは、マイクロレンズMLが反転特性を有することに対応するためである。   Next, the light emitting elements 2951 of the light emitting element row R2951 in the sub scanning direction position SD2 belonging to the light emitting element groups 295A1, 295A2, 295A3,. The plurality of light beams emitted by the light emission operation are reversed and imaged on the surface of the photosensitive drum by the microlens ML having the above reversal characteristics. That is, a spot is formed at the position of the “second” hatching pattern in FIG. Here, while the conveyance direction of the surface of the photosensitive drum 21 is the sub-scanning direction SD, the light emitting element rows R2951 on the downstream side in the sub-scanning direction SD are sequentially (that is, at the sub-scanning direction positions SD1 and SD2). The reason why the light is emitted in order is that the microlens ML has a reversal characteristic.

次に、副走査方向上流側から2番目の発光素子グループ295B1,295B2,295B3,…に属する副走査方向位置SD3の発光素子列R2951の発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズMLにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図11の「3回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。   Next, the light emitting elements 2951 of the light emitting element row R2951 in the sub scanning direction position SD3 belonging to the second light emitting element group 295B1, 295B2, 295B3,. The plurality of light beams emitted by the light emission operation are reversed and imaged on the surface of the photosensitive drum by the microlens ML having the above reversal characteristics. That is, a spot is formed at the position of the “third” hatching pattern in FIG.

次に、同発光素子グループ295B1,295B2,295B3,…に属する副走査方向位置SD4の発光素子列R2951の発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズMLにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図11の「4回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。   Next, the light emitting elements 2951 of the light emitting element row R2951 in the sub scanning direction position SD4 belonging to the light emitting element groups 295B1, 295B2, 295B3,. The plurality of light beams emitted by the light emission operation are reversed and imaged on the surface of the photosensitive drum by the microlens ML having the above reversal characteristics. That is, a spot is formed at the position of the “fourth” hatching pattern in FIG.

次に、副走査方向最下流の発光素子グループ295C1,295C2,295C3,…に属する副走査方向位置SD5の発光素子列R2951の発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズMLにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図11の「5回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。   Next, the light emitting elements 2951 of the light emitting element row R2951 in the sub scanning direction position SD5 belonging to the light emitting element groups 295C1, 295C2, 295C3,. The plurality of light beams emitted by the light emission operation are reversed and imaged on the surface of the photosensitive drum by the microlens ML having the above reversal characteristics. That is, a spot is formed at the position of the “fifth” hatching pattern in FIG.

そして最後に、同発光素子グループ295C1,295C2,295C3,…に属する副走査方向位置SD6の発光素子列R2951の発光素子2951を発光させる。そして、かかる発光動作により射出される複数の光ビームは、上述の反転特性を有するマイクロレンズMLにより、反転されて感光体ドラム表面に結像される。つまり、図11の「6回目」のハッチングパターンの位置にスポットが形成される。このように、1〜6回目までの発光動作を実行することで、主走査方向MDに伸びる直線上に複数のスポットを並べて形成する。   Finally, the light emitting elements 2951 of the light emitting element row R2951 in the sub scanning direction position SD6 belonging to the light emitting element groups 295C1, 295C2, 295C3,. The plurality of light beams emitted by the light emission operation are reversed and imaged on the surface of the photosensitive drum by the microlens ML having the above reversal characteristics. That is, a spot is formed at the position of the “sixth” hatching pattern in FIG. In this way, by performing the first to sixth light emitting operations, a plurality of spots are formed side by side on a straight line extending in the main scanning direction MD.

このように本実施形態におけるラインヘッド29では、マイクロレンズMLの半径Rが次式

Figure 2008062468
を満たすように構成されている。そして、このように構成することで、マイクロレンズML(結像レンズ)の半径Rが、最外通過領域OMTAのうち該マイクロレンズMLの光軸OAから最も離れた位置と該光軸との距離Iよりも大きくなる。つまり、本実施形態におけるラインヘッド29では、ガラス基板293(透明基板)の表面のうち最外素子OM2951から射出された光ビームが全反射されること無く通過可能である最外通過領域OMTAを対応するマイクロレンズMLが覆うように、最外素子OM2951と該最外素子OM2951に対応するマイクロレンズMLの径との関係が規定されている。よって、最外通過領域OMTAを通過する光ビームの略全てをマイクロレンズMLに入射させて、最外素子OM2951からマイクロレンズMLに入射する光ビームの光量の減少を抑制することが可能となる。そして、その結果、最外素子OM2951に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制して、良好なスポット形成の実現が可能となっている。 Thus, in the line head 29 in the present embodiment, the radius R of the microlens ML is expressed by the following equation.
Figure 2008062468
It is configured to satisfy. With this configuration, the radius R of the micro lens ML (imaging lens) is the distance between the optical axis and the position farthest from the optical axis OA of the micro lens ML in the outermost passage region OMTA. Larger than I. That is, the line head 29 in the present embodiment corresponds to the outermost passing region OMTA in which the light beam emitted from the outermost element OM2951 can pass without being totally reflected on the surface of the glass substrate 293 (transparent substrate). The relationship between the outermost element OM2951 and the diameter of the microlens ML corresponding to the outermost element OM2951 is defined so as to cover the microlens ML. Therefore, almost all of the light beam that passes through the outermost passage region OMTA can be incident on the microlens ML, and the decrease in the amount of light of the light beam incident on the microlens ML from the outermost element OM2951 can be suppressed. As a result, it is possible to suppress the decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element OM2951, and to realize good spot formation.

また、本実施形態におけるラインヘッド29では、複数の発光素子2951が対応するマイクロレンズMLの光軸OAに対して対称に配置されており好適である。なんとなれば、これにより距離aが極小値をとり、数1を満足させるのに有利に作用するからである。   In the line head 29 in the present embodiment, a plurality of light emitting elements 2951 are preferably arranged symmetrically with respect to the optical axis OA of the corresponding microlens ML. This is because the distance a takes a local minimum value, which is advantageous for satisfying the equation (1).

また、本実施形態におけるラインヘッド29では、マイクロレンズMLの半径Rがレンズ間隔LSの半分よりも小さくなるように構成されており好適である。なんとなれば、主走査方向MDに隣り合うマイクロレンズMLの重複を抑制することが可能となるからである。   Further, the line head 29 in the present embodiment is preferably configured so that the radius R of the microlens ML is smaller than half the lens interval LS. This is because it is possible to suppress overlapping of the microlenses ML adjacent in the main scanning direction MD.

また、本実施形態では、主走査方向位置が隣り合う2個のマイクロレンズMLが互いに異なるレンズ列RMLに属するようにラインヘッド29を構成している。よって、主走査方向位置が隣り合う2個のマイクロレンズMLの副走査方向位置が互いに異なることとなり好適である。なんとなれば、このように構成することで、主走査方向MDに隣り合うマイクロレンズMLの間の距離を大きく取ることが可能となり、「マイクロレンズMLの半径Rがレンズ間隔LSの半分よりも小さい」という条件を満足させるのに有利に作用するからである。   In the present embodiment, the line head 29 is configured such that two microlenses ML whose positions in the main scanning direction are adjacent belong to different lens rows RML. Therefore, the sub-scanning direction positions of the two microlenses ML adjacent in the main scanning direction position are different from each other, which is preferable. If this is the case, it is possible to increase the distance between the adjacent microlenses ML in the main scanning direction MD. “The radius R of the microlens ML is smaller than half the lens interval LS. This is because it advantageously works to satisfy the condition "

また、本実施形態では、主走査方向位置が隣り合う2個のマイクロレンズML間の主走査方向距離がLS/mに略等しくなるように構成した上で、更に、複数の発光素子グループ295それぞれが有する発光素子2951の個数をk個と、複数の発光素子グループ295それぞれが有する該k個の発光素子2951のうち主走査方向の両端に位置する2個の発光素子2951の間の主走査方向距離をbと、複数のマイクロレンズML(結像レンズ)それぞれの光学倍率の絶対値をhとしたとき、次式

Figure 2008062468
を満たすようにラインヘッド29を構成している。よって、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループ295それぞれにより形成されるスポットの主走査方向MDへの配列が良好となり好適である。この理由を次に説明する。 In the present embodiment, the main scanning direction distance between two microlenses ML adjacent in the main scanning direction position is substantially equal to LS / m, and each of the plurality of light emitting element groups 295 is further configured. The number of the light emitting elements 2951 included in each of the plurality of light emitting element groups 295 and the k light emitting elements 2951 included in each of the plurality of light emitting element groups 295 is the main scanning direction between the two light emitting elements 2951 positioned at both ends in the main scanning direction. When the distance is b and the absolute value of the optical magnification of each of the plurality of microlenses ML (imaging lens) is h,
Figure 2008062468
The line head 29 is configured to satisfy the above. Therefore, the arrangement in the main scanning direction MD of the spots formed by each of the two light emitting element groups 295 whose main scanning direction positions are adjacent to each other is favorable. The reason for this will be described next.

図12は、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループによるスポット形成を示す図である。つまり、同図は、主走査方向位置が隣り合う発光素子グループ295A,295Bそれぞれにより、被走査面上に主走査方向MDに並べて形成されたスポットを示している。本実施形態では、m個のレンズ列RMLを副走査方向SDに並べるとともに、1つのレンズ列において主走査方向MDに隣り合うマイクロレンズMLのレンズ間隔はLSである。かかるレンズ間隔LSは、主走査方向MDに隣り合う発光素子グループ295の間隔と等しい。よって、主走査方向位置が隣り合う発光素子グループ295A,295Bの間隔は、LS/mとなる。   FIG. 12 is a diagram illustrating spot formation by two light emitting element groups whose positions in the main scanning direction are adjacent to each other. That is, the figure shows spots formed side by side in the main scanning direction MD on the surface to be scanned by the light emitting element groups 295A and 295B whose positions in the main scanning direction are adjacent to each other. In the present embodiment, m lens rows RML are arranged in the sub-scanning direction SD, and the lens interval between the microlenses ML adjacent to each other in the main scanning direction MD in one lens row is LS. The lens interval LS is equal to the interval between the light emitting element groups 295 adjacent in the main scanning direction MD. Therefore, the interval between the light emitting element groups 295A and 295B adjacent to each other in the main scanning direction is LS / m.

また、1つの発光素子グループ295が有する発光素子2951の個数はk個(本実施形態ではk=8)である。よって、1つの発光素子グループ295により、主走査方向MDにk個のスポットを並べたスポット列が、被走査面に形成される。ここで、本明細書では、1つの発光素子グループにより主走査方向MDに並べて形成されるk個のスポットをスポット列と称することとする。ところで、かかるスポット列の主走査方向端部に位置する2個のスポットの間の距離は、h・bで与えられる。よって、距離h・bがスポット(k−1)個分の長さに相当することを考慮すると、スポット列の主走査方向長さは、次式

Figure 2008062468
で与えられる。つまり、同図に示すように、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループ295A,295Bにより、長さが数10で与えられるスポット列が2個並べて形成されることとなる。 The number of light emitting elements 2951 included in one light emitting element group 295 is k (in this embodiment, k = 8). Accordingly, a spot row in which k spots are arranged in the main scanning direction MD is formed on the surface to be scanned by one light emitting element group 295. Here, in this specification, k spots formed by arranging one light emitting element group in the main scanning direction MD are referred to as a spot row. By the way, the distance between two spots positioned at the end of the spot row in the main scanning direction is given by h · b. Therefore, considering that the distance h · b corresponds to the length of (k−1) spots, the length of the spot row in the main scanning direction is given by
Figure 2008062468
Given in. That is, as shown in the figure, two spot rows having a length of several 10 are formed side by side by two light emitting element groups 295A and 295B whose positions in the main scanning direction are adjacent to each other.

そこで、本実施形態では、発光素子グループ295A,295Bの間隔LS/mが数10で与えられる値と等しくなるように、即ち、レンズ間隔LSが次式

Figure 2008062468
を満たすように、ラインヘッド29を構成している。このように構成した場合、1つのスポット列におけるスポット間隔と、主走査方向に隣り合うスポット列の間隔とが等しくなる。よって、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループ295A,295Bにより、主走査方向MDに並んで形成される複数のスポットのスポット間隔が全て等しくなる。したがって、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループ295それぞれにより形成されるスポットの主走査方向MDへの配列が良好となり好適である。 Therefore, in the present embodiment, the distance LS / m between the light emitting element groups 295A and 295B is equal to the value given by Equation 10, that is, the lens distance LS is expressed by the following equation.
Figure 2008062468
The line head 29 is configured to satisfy the above. When configured in this manner, the spot interval in one spot row is equal to the interval between adjacent spot rows in the main scanning direction. Therefore, the two light emitting element groups 295A and 295B whose positions in the main scanning direction are adjacent to each other make the spot intervals of a plurality of spots formed side by side in the main scanning direction MD all equal. Therefore, the arrangement of the spots formed by the two light emitting element groups 295 adjacent in the main scanning direction position in the main scanning direction MD is favorable.

また、本実施形態における画像形成装置は、感光体ドラム21(潜像担持体)の表面を被走査面としてスポットを形成する上記ラインヘッド29を露光手段として備えている。よって、最外素子OM2951からマイクロレンズMLに入射する光ビームの光量の減少を抑制することが可能となる。そして、その結果、最外素子OM2951に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制することができ、良好なスポットによる画像形成の実現が可能となっている。   The image forming apparatus according to the present embodiment includes the line head 29 as an exposure unit that forms spots with the surface of the photosensitive drum 21 (latent image carrier) as a surface to be scanned. Therefore, it is possible to suppress a decrease in the light amount of the light beam incident on the microlens ML from the outermost element OM2951. As a result, it is possible to suppress a decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element OM2951, and it is possible to realize image formation with a good spot.

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。つまり、上記実施形態では、主走査方向MDに発光素子2951を4個並べて構成される発光素子列R2951を副走査方向SDに2列並べて、発光素子グループ295を構成している(図9,10)。しかしながら、発光素子グループ295の構成態様はこれに限られず、次のように構成しても良い。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications other than those described above can be made without departing from the spirit of the present invention. In other words, in the above-described embodiment, the light emitting element group 295 is configured by arranging two light emitting element rows R2951 configured by arranging four light emitting elements 2951 in the main scanning direction MD in the sub scanning direction SD (FIGS. 9 and 10). ). However, the configuration of the light emitting element group 295 is not limited to this, and may be configured as follows.

図13は、本発明にかかるラインヘッドの別の実施形態を示す図である。図13に示すように、別の実施形態では、主走査方向MDに発光素子2951を並べて構成される発光素子列R2951を副走査方向SDに3列並べて、発光素子グループ295を構成している。詳述すると、図13に示す実施形態では、同図の上段と下段とに、5個の発光素子2951を主走査方向MDに並べて構成される発光素子列R2951を配置するとともに、同図中段に、6個の発光素子2951を主走査方向MDに並べて構成される発光素子列R2951を配置している。つまり、図13に示す実施形態では、16個の発光素子2951により発光素子グループ295を構成している。すなわち、図13に示す実施形態では1つの発光素子グループ295における発光素子数kが16に設定されている。   FIG. 13 is a diagram showing another embodiment of the line head according to the present invention. As shown in FIG. 13, in another embodiment, a light emitting element group 295 is configured by arranging three light emitting element rows R2951 arranged in the main scanning direction MD in the sub scanning direction SD. More specifically, in the embodiment shown in FIG. 13, a light emitting element row R2951 configured by arranging five light emitting elements 2951 in the main scanning direction MD is arranged in the upper stage and the lower stage of the figure, and in the middle stage of the figure. A light emitting element row R2951 configured by arranging six light emitting elements 2951 in the main scanning direction MD is arranged. That is, in the embodiment illustrated in FIG. 13, the light emitting element group 295 is configured by 16 light emitting elements 2951. That is, in the embodiment shown in FIG. 13, the number k of light emitting elements in one light emitting element group 295 is set to 16.

そして、図13に示す実施形態においても、マイクロレンズMLの半径Rが次式

Figure 2008062468
を満たすように構成されている。そして、このように構成することで、マイクロレンズML(結像レンズ)の半径Rが、最外通過領域OMTAのうち該マイクロレンズMLの光軸OAから最も離れた位置と該光軸との距離Iよりも大きくなる。つまり、図13に示す実施形態においても、最外通過領域OMTAを対応するマイクロレンズMLが覆うように、最外素子OM2951と該最外素子OM2951に対応するマイクロレンズMLの径との関係が規定されている。よって、最外通過領域OMTAを通過する光ビームの略全てをマイクロレンズMLに入射させて、最外素子OM2951からマイクロレンズMLに入射する光ビームの光量の減少を抑制することが可能となる。そして、その結果、最外素子OM2951に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制して、良好なスポット形成の実現が可能となっている。 Also in the embodiment shown in FIG. 13, the radius R of the microlens ML is given by
Figure 2008062468
It is configured to satisfy. With this configuration, the radius R of the micro lens ML (imaging lens) is the distance between the optical axis and the position farthest from the optical axis OA of the micro lens ML in the outermost passage region OMTA. Larger than I. That is, also in the embodiment shown in FIG. 13, the relationship between the outermost element OM2951 and the diameter of the microlens ML corresponding to the outermost element OM2951 is defined so that the corresponding microlens ML covers the outermost passage area OMTA. Has been. Therefore, almost all of the light beam that passes through the outermost passage region OMTA can be incident on the microlens ML, and the decrease in the amount of light of the light beam incident on the microlens ML from the outermost element OM2951 can be suppressed. As a result, it is possible to suppress the decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element OM2951, and to realize good spot formation.

また、図13に示す実施形態においても、複数の発光素子2951が対応するマイクロレンズMLの光軸OAに対して対称に配置されており好適である。なんとなれば、これにより距離aが極小値をとり、数1を満足させるのに有利に作用するからである。   Also in the embodiment shown in FIG. 13, a plurality of light emitting elements 2951 are preferably arranged symmetrically with respect to the optical axis OA of the corresponding microlens ML. This is because the distance a takes a local minimum value, which is advantageous for satisfying the equation (1).

また、図13に示す実施形態においても、発光素子グループが有するk個の発光素子2951のうち主走査方向MDの両端に位置する2個の発光素子2951の間の主走査方向距離をbが定義できる。よって、図8,9,10等で示した実施形態と同様に数2を満たすようにマイクロレンズMLを配置することで、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループ295それぞれにより形成されるスポットの主走査方向MDへの配列が良好となり好適である。   In the embodiment shown in FIG. 13, b defines the distance in the main scanning direction between two light emitting elements 2951 located at both ends of the main scanning direction MD among the k light emitting elements 2951 included in the light emitting element group. it can. Therefore, by arranging the microlens ML so as to satisfy Equation 2 as in the embodiments shown in FIGS. 8, 9, 10, etc., the positions in the main scanning direction are formed by two adjacent light emitting element groups 295, respectively. This is preferable because the arrangement of the spots in the main scanning direction MD is favorable.

また、上記実施形態では、透明基板をガラスで構成しているが、透明基板の材質がガラスに限られないことは言うまでもない。つまり、光ビームを透過可能である材質により透明基板を構成することができる。   Moreover, in the said embodiment, although the transparent substrate is comprised with glass, it cannot be overemphasized that the material of a transparent substrate is not restricted to glass. That is, the transparent substrate can be made of a material that can transmit a light beam.

また、上記実施形態では、発光素子グループ295に属するk個の発光素子2951を光軸OAに対して対称に配置しているが、かかる配置は本発明に必須の要件ではない。但し、このように配置することで、距離aが極小値となり、上記数1で表される不等式を満足させるのに有利に作用し、その結果、良好なスポット形成が簡易に実現されるという点で好適である。   In the above embodiment, the k light emitting elements 2951 belonging to the light emitting element group 295 are arranged symmetrically with respect to the optical axis OA. However, such arrangement is not an essential requirement for the present invention. However, by arranging in this way, the distance a becomes the minimum value, which advantageously works to satisfy the inequality represented by the above formula 1, and as a result, good spot formation is easily realized. It is suitable.

また、上記実施形態では、レンズ列RMLを副走査方向SDに3列並べているが、レンズ列RMLの配列数はこれに限られず、必要に応じて変更可能である。つまり、レンズ列RMLの配列数を1列または2列としても良いし、3列以上であっても良い。   In the above embodiment, three lens rows RML are arranged in the sub-scanning direction SD, but the number of lens rows RML is not limited to this, and can be changed as necessary. That is, the number of lens rows RML may be one or two, or three or more.

また、上記実施形態では、レンズ間隔LSが数2を満たすように構成したが、レンズ間隔LSが数2を満たすことは本発明に必須の要件ではない。ただし、このように構成した場合、主走査方向位置が隣り合う2個の発光素子グループ295それぞれにより形成されるスポットの主走査方向MDへの配列が良好となり好適であるという点は、上述の通りである。   Moreover, in the said embodiment, although comprised so that the lens space | interval LS might satisfy | fill several 2, it is not an essential requirement for this invention that the lens space | interval LS satisfy | fills several 2. However, in the case of such a configuration, the arrangement in the main scanning direction MD of the spots formed by the two light emitting element groups 295 whose positions in the main scanning direction are adjacent to each other is favorable and is preferable as described above. It is.

また、上記実施形態では、本発明にかかるラインヘッドを用いて、図11に示すような主走査方向MDに直線状に複数個のスポットを等間隔で並べて形成している。しかしながら、かかるスポット形成動作は、本発明にかかるラインヘッドの動作の一例を示すものであり、該ラインヘッドが実行可能な動作はこれに限られるものではない。つまり、ラインヘッド29の具体的動作に関わらず、最外通過領域OMTAを対応するマイクロレンズMLが覆うように、最外素子OM2951と該最外素子OM2951に対応するマイクロレンズMLの径との関係を規定することで、最外素子OM2951に対応するスポットの形成に関わる光ビームの光量の減少を抑制して良好なスポット形成を実現するという本発明の効果を奏することができる。   In the above embodiment, the line head according to the present invention is used to form a plurality of spots arranged in a straight line at equal intervals in the main scanning direction MD as shown in FIG. However, the spot forming operation is an example of the operation of the line head according to the present invention, and the operation that can be executed by the line head is not limited thereto. That is, regardless of the specific operation of the line head 29, the relationship between the outermost element OM2951 and the diameter of the microlens ML corresponding to the outermost element OM2951 so that the corresponding microlens ML covers the outermost passage area OMTA. By defining the above, it is possible to achieve the effect of the present invention that realizes favorable spot formation by suppressing the decrease in the light amount of the light beam related to the formation of the spot corresponding to the outermost element OM2951.

また、上記実施形態では、カラー画像形成装置に本発明が適用されているが、本発明の適用対象はこれに限定されるものではなく、いわゆる単色画像を形成するモノクロ画像形成装置に対しても本発明を適用することができる。   In the above-described embodiment, the present invention is applied to a color image forming apparatus. However, the application target of the present invention is not limited to this, and it is also applicable to a monochrome image forming apparatus that forms a so-called monochromatic image. The present invention can be applied.

本発明にかかる画像形成装置の一実施形態を示す図。1 is a diagram showing an embodiment of an image forming apparatus according to the present invention. 図1の画像形成装置における画像形成ステーションの配置を示す図。FIG. 2 is a diagram illustrating an arrangement of image forming stations in the image forming apparatus of FIG. 1. 図1の画像形成装置の電気的構成を示す図。FIG. 2 is a diagram illustrating an electrical configuration of the image forming apparatus in FIG. 1. 本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の概略を示す斜視図。1 is a perspective view schematically showing an embodiment of a line head according to the present invention. 本発明にかかるラインヘッドの一実施形態の副走査方向の断面図。Sectional drawing of the subscanning direction of one Embodiment of the line head concerning this invention. マイクロレンズアレイの概略を示す斜視図。The perspective view which shows the outline of a microlens array. マイクロレンズとガラス基板(透明基板)の断面図。Sectional drawing of a microlens and a glass substrate (transparent substrate). 発光素子グループ及びマイクロレンズの配置を示す図。The figure which shows arrangement | positioning of a light emitting element group and a micro lens. 発光素子とマイクロレンズの径との関係を示す図。The figure which shows the relationship between the diameter of a light emitting element and a micro lens. 本実施形態におけるラインヘッドの動作説明図。FIG. 6 is an operation explanatory diagram of the line head in the embodiment. 本実施形態におけるラインヘッドの動作説明図。FIG. 6 is an operation explanatory diagram of the line head in the embodiment. 主走査方向位置が隣り合う発光素子グループによるスポット形成を示す図。The figure which shows the spot formation by the light emitting element group where the main scanning direction position is adjacent. 本発明にかかるラインヘッドの別の実施形態を示す図。The figure which shows another embodiment of the line head concerning this invention.

符号の説明Explanation of symbols

21…感光体ドラム(潜像担持体)、 29…ラインヘッド(露光手段)、 295…発光素子グループ、 2951…発光素子、 OM2951…最外素子、 293…ガラス基板(透明基板)、 299…マイクロレンズアレイ、 ML…マイクロレンズ(結像レンズ)、 OMTA…最外通過領域、 OA…光軸、 RML…レンズ列、 MD…主走査方向、 SD…副走査方向、 t…透明基板の厚さ、 n…透明基板の屈折率、 a…最外素子と光軸との距離、 R…マイクロレンズの半径、 LS…レンズ間隔、 m…レンズ列の列数、 k…発光素子の個数、 h…マイクロレンズの光学倍率の絶対値、 r…最外通過領域の半径、 P…最外通過領域の端部にある点、 θ…ガラス基板(透明基板)の表面の法線と最外素子から点Pに向う光ビームとが成す角度   DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 ... Photosensitive drum (latent image carrier), 29 ... Line head (exposure means), 295 ... Light emitting element group, 2951 ... Light emitting element, OM2951 ... Outermost element, 293 ... Glass substrate (transparent substrate), 299 ... Micro Lens array, ML: Microlens (imaging lens), OMTA ... Outermost pass region, OA ... Optical axis, RML ... Lens array, MD ... Main scanning direction, SD ... Sub-scanning direction, t ... Thickness of transparent substrate, n: refractive index of transparent substrate, a: distance between outermost element and optical axis, R: radius of micro lens, LS: lens interval, m: number of lens rows, k: number of light emitting elements, h: micro Absolute value of optical magnification of lens, r: radius of outermost passage region, P: point at end of outermost passage region, θ: normal of surface of glass substrate (transparent substrate) and point P from outermost element Light toward Angle formed by the over-time

Claims (8)

被走査面に光ビームを結像してスポットを形成するラインヘッドにおいて、
光ビームを透過可能な透明基板と、
それぞれが前記透明基板の裏面上に形成された発光素子を複数有する複数の発光素子グループと、
前記透明基板の表面上に前記複数の発光素子グループに一対一で対応して形成されるとともに、それぞれが対応する前記発光素子グループに属する複数の発光素子から射出される光ビームを前記被走査面に結像する複数の結像レンズと
を備え、
前記複数の発光素子グループそれぞれについて、該発光素子グループに属する発光素子のうち該発光素子グループに対応する前記結像レンズの光軸から最も離れた発光素子を最外素子と定義し、前記透明基板の表面のうち該最外素子から射出された光ビームが該表面において全反射されることなく通過可能である領域を最外通過領域と定義したとき、該発光素子グループに対応する前記結像レンズの半径は、該最外通過領域のうち該結像レンズの光軸から最も離れた位置と該光軸との距離よりも大きいことを特徴とするラインヘッド。
In a line head that forms a spot by imaging a light beam on a surface to be scanned,
A transparent substrate capable of transmitting a light beam;
A plurality of light emitting element groups each having a plurality of light emitting elements formed on the back surface of the transparent substrate;
A light beam emitted from a plurality of light emitting elements belonging to the corresponding light emitting element group is formed on the surface of the transparent substrate in a one-to-one correspondence with the plurality of light emitting element groups. And a plurality of imaging lenses for imaging
For each of the plurality of light emitting element groups, out of the light emitting elements belonging to the light emitting element group, the light emitting element farthest from the optical axis of the imaging lens corresponding to the light emitting element group is defined as the outermost element, and the transparent substrate The imaging lens corresponding to the light emitting element group is defined as an outermost passing region where a light beam emitted from the outermost element can pass through the surface without being totally reflected on the surface. The line head is characterized in that the radius is larger than the distance between the optical axis of the outermost passing region and the position farthest from the optical axis of the imaging lens.
前記透明基板はその厚さがtであるとともにその屈折率がnである請求項1記載のラインヘッドであって、
前記複数の発光素子グループそれぞれについて、前記最外素子と該最外素子が属する前記発光素子グループに対応する前記結像レンズの光軸との距離をaと、該結像レンズの半径をRとしたとき、次式
Figure 2008062468
を満たすラインヘッド。
The line head according to claim 1, wherein the transparent substrate has a thickness t and a refractive index n.
For each of the plurality of light emitting element groups, a represents the distance between the outermost element and the optical axis of the imaging lens corresponding to the light emitting element group to which the outermost element belongs, and R represents the radius of the imaging lens. When
Figure 2008062468
Meet the line head.
前記複数の発光素子グループそれぞれについて、前記複数の発光素子は前記結像レンズの光軸に対して対称に配置されている請求項1または2記載のラインヘッド。   3. The line head according to claim 1, wherein, for each of the plurality of light emitting element groups, the plurality of light emitting elements are arranged symmetrically with respect to an optical axis of the imaging lens. 主走査方向に前記結像レンズを所定のレンズ間隔LSで並べたレンズ列を成すように、前記複数の結像レンズが配置されている請求項1乃至3のいずれかに記載のラインヘッドであって、
前記結像レンズの半径Rは、前記レンズ間隔LSの半分よりも小さいラインヘッド。
The line head according to any one of claims 1 to 3, wherein the plurality of imaging lenses are arranged so as to form a lens array in which the imaging lenses are arranged at a predetermined lens interval LS in the main scanning direction. And
A line head in which a radius R of the imaging lens is smaller than half of the lens interval LS.
前記レンズ列が前記主走査方向に略直交する副走査方向にm(mは2以上の自然数)列並ぶとともに、それぞれの主走査方向位置が互いに異なるように前記複数の結像レンズが配置された請求項4記載のラインヘッドであって、
主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズの副走査方向位置が互いに異なるラインヘッド。
The lens arrays are arranged in m (m is a natural number of 2 or more) in the sub-scanning direction substantially orthogonal to the main scanning direction, and the plurality of imaging lenses are arranged so that the positions in the main scanning direction are different from each other. The line head according to claim 4,
Line heads in which the positions of two imaging lenses adjacent in the main scanning direction are different in the sub scanning direction.
主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズが互いに異なる前記レンズ列に属する請求項5記載のラインヘッド。   The line head according to claim 5, wherein two imaging lenses adjacent in a main scanning direction position belong to different lens rows. 主走査方向位置が隣り合う2個の結像レンズ間の主走査方向距離がLS/mに略等しい請求項5または6記載のラインヘッドであって、
前記複数の発光素子グループそれぞれが有する前記発光素子の個数をk個と、前記複数の発光素子グループそれぞれが有する該k個の発光素子のうち前記主走査方向の両端に位置する2個の発光素子の間の主走査方向距離をbと、前記複数の結像レンズそれぞれの光学倍率の絶対値をhとしたとき、次式
Figure 2008062468
を満たすラインヘッド。
The line head according to claim 5 or 6, wherein a distance in the main scanning direction between two imaging lenses having adjacent positions in the main scanning direction is substantially equal to LS / m,
The number of the light emitting elements included in each of the plurality of light emitting element groups is k, and two light emitting elements positioned at both ends in the main scanning direction among the k light emitting elements included in each of the plurality of light emitting element groups. Where b is the distance in the main scanning direction and h is the absolute value of the optical magnification of each of the plurality of imaging lenses.
Figure 2008062468
Meet the line head.
その表面が前記副走査方向に搬送される潜像担持体と、
前記潜像担持体の表面を被走査面として該潜像担持体表面にスポットを形成する請求項1乃至7のいずれかに記載のラインヘッドと同一構成を有する露光手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
A latent image carrier whose surface is conveyed in the sub-scanning direction;
An exposure unit having the same configuration as the line head according to claim 1, wherein spots are formed on the surface of the latent image carrier using the surface of the latent image carrier as a surface to be scanned. Image forming apparatus.
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