JP2008058412A - Imaging optical system and imaging apparatus - Google Patents

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Hiroaki Okayama
裕昭 岡山
Kyoichi Mifuji
恭一 美藤
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imaging optical system including a prism in which the deterioration of definition of a picked-up image is suppressed without impairing characteristics of a thin film formed on the reflection surface, and to provide an imaging apparatus. <P>SOLUTION: In the imaging optical system at least including the prism 150 and a lens system which are arranged in this order from the object side toward the image surface side, the prism 150 is provided with a reflection surface which reflects light made incident, a thin film which is formed on the reflection surface and is composed of one layer and a metal film 155 formed on the thin film, wherein a film thickness of the thin film satisfies a conditional expression: p/10≤(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β≤p. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、撮像光学系及び撮像装置に関し、より特定的には反射面上に薄膜が形成されたプリズムを含む撮像光学系及び撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging optical system and an imaging apparatus, and more particularly to an imaging optical system and an imaging apparatus including a prism having a thin film formed on a reflecting surface.

近年、被写体の光学的な像を電気的な画像信号に変換して出力可能なデジタルスチルカメラ(以下、単にデジタルカメラという)が急速に普及している。特に最近では、高倍率ズームのデジタルカメラが要望される一方、さらに小型化・薄型化されたコンパクトなカメラが要望されている。   In recent years, digital still cameras (hereinafter simply referred to as digital cameras) capable of converting an optical image of a subject into an electrical image signal and outputting it have rapidly spread. In recent years, in particular, a digital camera with a high-magnification zoom is demanded, and a compact camera that is further reduced in size and thickness is demanded.

コンパクト化を実現するために、例えば撮像光学系に沈胴構造を用いたカメラが提案されている。しかしながら、沈胴構造を用いた場合、レンズ系を伸縮させるためのアクチュエータや機構部品が必要となり、レンズ鏡筒の構成が複雑になるという問題もあった。   In order to achieve compactness, for example, a camera using a retractable structure in an imaging optical system has been proposed. However, when the retractable structure is used, there is a problem that an actuator and a mechanism part for expanding and contracting the lens system are required, and the configuration of the lens barrel is complicated.

一方、コンパクト化を実現する他の手段として、撮像光学系に反射部材を設けて撮像光学系の光軸を折り曲げる技術が提案されている(例えば特許文献1、2)。特許文献1及び特許文献2は、ズームレンズ系を備える撮像装置において、最も物体側に配置されたレンズ群中に、光束を90°折り曲げる内部反射面を有するプリズムを配置した構成を開示している。特許文献1及び特許文献2に記載された撮像装置において、プリズムに入射する被写体光は、内部反射面で反射され撮像素子上に収束される。すなわち、特許文献1及び特許文献2に記載された撮像装置では、物体光を入射するレンズ群の光軸に対して垂直な面内で折り曲げることにより、撮像装置の厚みをプリズムとプリズムよりも物体側に配置されるレンズ素子とにより決定することができる。これにより特許文献1,2は厚みが低減された撮像装置を提供できるとしている。
特開2004−004533号公報 特開2003−202500号公報
On the other hand, as another means for realizing downsizing, a technique has been proposed in which a reflecting member is provided in the imaging optical system and the optical axis of the imaging optical system is bent (for example, Patent Documents 1 and 2). Patent Document 1 and Patent Document 2 disclose a configuration in which a prism having an internal reflection surface that bends a light beam by 90 ° is disposed in a lens group disposed closest to the object side in an imaging apparatus including a zoom lens system. . In the imaging devices described in Patent Literature 1 and Patent Literature 2, subject light incident on the prism is reflected by the internal reflection surface and converged on the imaging device. That is, in the imaging devices described in Patent Literature 1 and Patent Literature 2, the thickness of the imaging device is set to be larger than that of the prism and the prism by bending in a plane perpendicular to the optical axis of the lens group on which the object light is incident. It can be determined by the lens element arranged on the side. Thus, Patent Documents 1 and 2 are able to provide an imaging device with a reduced thickness.
JP 2004-004533 A JP 2003-202500 A

入射する光束をプリズム内部で折り曲げるために、例えばガラスからなるプリズム内部の反射面には金属膜が設けられる。金属膜は蒸着やスパッタリング等の方法によりガラス面に形成することができるが、ガラスと金属膜との密着性を高めるために、ガラス面と金属膜との間に保護膜が設けられることがある。   In order to bend the incident light beam inside the prism, a metal film is provided on the reflection surface inside the prism made of glass, for example. The metal film can be formed on the glass surface by a method such as vapor deposition or sputtering, but a protective film may be provided between the glass surface and the metal film in order to improve the adhesion between the glass and the metal film. .

また、全反射により光を反射させた場合と比べて金属膜の反射率は低くなるため、ガラスと金属膜との間に増反射膜を設けることも一般的に行われる。しかしながら、保護膜や増反射膜など、プリズムの反射面と金属面との間に厚みのある膜を設けると、撮像される画像の解像度が劣化するという問題があった。   Moreover, since the reflectance of a metal film becomes low compared with the case where light is reflected by total reflection, it is also generally performed to provide an increased reflection film between the glass and the metal film. However, when a thick film, such as a protective film or a reflection-enhancing film, is provided between the reflecting surface of the prism and the metal surface, there is a problem in that the resolution of an image to be captured is deteriorated.

そこで本発明の目的は、反射面上に形成される薄膜の特性を損なうことなく、撮像される画像の解像度の劣化が抑制されたプリズムを含む撮像光学系及び撮像装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an imaging optical system and an imaging apparatus including a prism in which degradation of resolution of an image to be captured is suppressed without impairing characteristics of a thin film formed on a reflecting surface.

本発明の目的は以下の構成を備えた撮像光学系により達成される。
被写体の光学的な像を撮像素子上に形成する撮像光学系であって、
少なくとも物体側から像面側に向かって順に配置されたプリズムとレンズ系とを含み、
前記プリズムは、
入射した光を反射する反射面と、
前記反射面上に形成され、1層から構成される薄膜と、
前記薄膜上に形成される金属膜とを備え、
前記薄膜の膜厚が、以下の条件式(1)を満たすことを特徴とする撮像光学系。
p/10≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β≦p
ただし、
λ:入射光の波長帯域うち使用する波長帯域の中央値
β:プリズムから像面側に配置されているレンズ系の像倍率
p:撮像素子の1画素の大きさ
d(λ):波長λにおける薄膜の膜厚
np(λ):波長λにおけるプリズムの屈折率
nA(λ):波長λにおける薄膜の屈折率
である。
The object of the present invention is achieved by an imaging optical system having the following configuration.
An imaging optical system that forms an optical image of a subject on an imaging device,
Including at least a prism and a lens system arranged in order from the object side to the image plane side,
The prism is
A reflective surface that reflects incident light;
A thin film formed on the reflecting surface and composed of one layer;
A metal film formed on the thin film,
An imaging optical system, wherein the thin film satisfies the following conditional expression (1).
p / 10 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β ≦ p
However,
λ: Median value of the wavelength band to be used among the wavelength bands of incident light β: Image magnification of the lens system arranged on the image plane side from the prism p: Size of one pixel of the image sensor d (λ): At wavelength λ Thin film thickness np (λ): Refractive index of prism at wavelength λ nA (λ): Refractive index of thin film at wavelength λ.

本発明により、反射面上に形成される薄膜の特性を損なうことなく、撮像される画像の解像度の劣化が抑制されたプリズムを含む撮像光学系及び撮像装置を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide an imaging optical system and an imaging apparatus including a prism in which degradation of resolution of an image to be captured is suppressed without impairing characteristics of a thin film formed on a reflective surface.

(実施の形態1)
図1は、実施の形態1におけるレンズ鏡筒の構成を示す概略図であり、図1(a)〜(d)はレンズ鏡筒100の上面図、正面図、底面図、断面側面図をそれぞれ表している。レンズ鏡筒100は、最物体側レンズ群L1を保持する第1保持部101と、プリズム150を含む反射光学ユニットL2を保持する第2保持部102と、像側レンズ群L3を保持する第3保持部103とから構成される。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of a lens barrel in the first embodiment. FIGS. 1A to 1D are a top view, a front view, a bottom view, and a cross-sectional side view of a lens barrel 100, respectively. Represents. The lens barrel 100 includes a first holding unit 101 that holds the most object side lens unit L1, a second holding unit 102 that holds the reflective optical unit L2 including the prism 150, and a third holding unit that holds the image side lens unit L3. And a holding unit 103.

図1(d)に示すようにレンズ鏡筒100の内部には、ズーム光学系Lと撮像素子110とが保持される。撮像素子110は、ズーム光学系Lが形成する光学的な像を電気的な画像信号に変換する、例えばCCD(Charge Coupled Device)である。なお、撮像素子はCMOS(Complementary Metal−Oxide Semiconductor)またはMOSセンサでもよい。   As shown in FIG. 1D, the zoom optical system L and the image sensor 110 are held inside the lens barrel 100. The image sensor 110 is, for example, a CCD (Charge Coupled Device) that converts an optical image formed by the zoom optical system L into an electrical image signal. Note that the imaging element may be a CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor) or a MOS sensor.

ズーム光学系Lは、被写体側から順に、最物体側レンズ群L1と反射光学ユニットL2と像側レンズ群L3とから構成される。ズーム光学系Lは、各レンズ群を光軸方向に移動させることによりズーミングおよびフォーカシングを行い、撮像素子110上に被写体の光学的な像を形成する。   The zoom optical system L includes, in order from the subject side, a most object side lens unit L1, a reflection optical unit L2, and an image side lens unit L3. The zoom optical system L performs zooming and focusing by moving each lens group in the optical axis direction, and forms an optical image of the subject on the image sensor 110.

最物体側レンズ群L1は、複数のレンズ素子を含み、入射した被写体光を反射光学ユニットL2へ導く。最物体側レンズ群L1を構成する各レンズ素子は、Z軸方向に沿って配置される。反射光学ユニットL2は、プリズム150と複数のレンズ素子とを含む。ここでプリズム150は、被写体からの光を反射面の内面で反射させ、その光軸を略90度に折り曲げる反射部材である。プリズム150の反射面には、後述する保護膜あるいは増反射膜、及び金属膜が施され、Z軸方向から入射した光の光軸を−Y軸方向に折り曲げる。   The most object side lens unit L1 includes a plurality of lens elements, and guides incident subject light to the reflection optical unit L2. Each lens element constituting the most object side lens unit L1 is arranged along the Z-axis direction. The reflective optical unit L2 includes a prism 150 and a plurality of lens elements. Here, the prism 150 is a reflecting member that reflects light from the subject on the inner surface of the reflecting surface and bends its optical axis to approximately 90 degrees. The reflective surface of the prism 150 is provided with a protective film or a reflective film, which will be described later, and a metal film, and the optical axis of light incident from the Z-axis direction is bent in the −Y-axis direction.

像側レンズ群L3は、複数のレンズ素子を含み、反射光学ユニットL2により反射された被写体光を撮像素子110上に集光する。像側レンズ群L3を構成する各レンズ素子は、Y軸方向に沿って配置され、その光軸はプリズム150の反射面に対して略45度の角度を成している。このようにズーム光学系Lは、反射光学ユニットL2を備えることにより、ズーム光学系の一部をY軸方向に配置することができるので、カメラ本体の薄型化・小型化を図ることができる。なお、上述のズーム光学系の配置は一例であり、例えばプリズム150はZ軸方向から入射した光の光軸をX軸方向に反射するように配置してもよい。かかる場合、像側レンズ群L3および撮像素子110はX軸方向に沿って配置される。   The image side lens unit L3 includes a plurality of lens elements, and condenses the subject light reflected by the reflection optical unit L2 on the image sensor 110. The lens elements constituting the image side lens unit L3 are arranged along the Y-axis direction, and the optical axis forms an angle of about 45 degrees with respect to the reflecting surface of the prism 150. As described above, since the zoom optical system L includes the reflection optical unit L2, a part of the zoom optical system can be arranged in the Y-axis direction, so that the camera body can be reduced in thickness and size. The arrangement of the zoom optical system described above is merely an example. For example, the prism 150 may be arranged so as to reflect the optical axis of light incident from the Z-axis direction in the X-axis direction. In such a case, the image side lens unit L3 and the image sensor 110 are arranged along the X-axis direction.

次に、反射光学ユニットL2の詳細な構成について説明する。図2は、反射光学ユニットL2を保持する第2保持部102の概略拡大図である。なお、図2ではプリズム150の位置を分かりやすくするために、プリズム150以外の構成要素およびレンズ鏡筒の一部を省略している。第2保持部102の内部にはプリズム150を含む反射光学ユニットL2が保持され、物体側には入射口201が設けられ、像側には射出口202が設けられている。   Next, a detailed configuration of the reflective optical unit L2 will be described. FIG. 2 is a schematic enlarged view of the second holding unit 102 that holds the reflective optical unit L2. In FIG. 2, components other than the prism 150 and a part of the lens barrel are omitted for easy understanding of the position of the prism 150. A reflection optical unit L2 including a prism 150 is held inside the second holding unit 102, an entrance port 201 is provided on the object side, and an exit port 202 is provided on the image side.

このように構成された第2保持部102において、入射口201から入射した光はプリズム150の反射面に対して略45度の入射角度で入射し、射出口202の方向に反射される。射出口202を通過した光は像側レンズ群L3に導かれ、撮像素子110上に被写体の光学的な像が形成される。   In the second holding unit 102 configured as described above, light incident from the incident port 201 is incident on the reflecting surface of the prism 150 at an incident angle of approximately 45 degrees and is reflected in the direction of the exit port 202. The light that has passed through the exit port 202 is guided to the image side lens unit L3, and an optical image of the subject is formed on the image sensor 110.

図3(a)は、第2保持部102の概略断面図であり、図3(b)は、A部の拡大図である。図4は、図3(b)の拡大図において光が入射した場合を示す。上図に示すように、本実施の形態ではプリズム150の反射面と金属膜155との間には密着性を高めるために保護膜152が設けられている。入射光604はプリズム150内を透過し、その一部がプリズム150と保護膜152の界面で反射され、反射光605として伝播する。また入射光線604の一部は、プリズム150内及び保護膜152を透過して保護膜152と金属膜155の界面で反射され、反射光606として伝播する。このため、保護膜152の膜厚に応じて、光線605と光線606の分離距離d´が変化することになる。保護膜の膜厚dと分離距離d´との関係を式で表すと以下のようになる。
d´(λ)=(np(λ)/nA(λ))×d(λ)・・・(1)
ただし、d´(λ):波長λにおける光線605と光線606の分離距離
d(λ):波長λにおける保護膜152の膜厚
np(λ):波長λにおけるプリズムの屈折率
nA(λ):波長λにおける保護膜の屈折率
である。
FIG. 3A is a schematic cross-sectional view of the second holding portion 102, and FIG. 3B is an enlarged view of the A portion. FIG. 4 shows a case where light is incident in the enlarged view of FIG. As shown in the upper diagram, in the present embodiment, a protective film 152 is provided between the reflecting surface of the prism 150 and the metal film 155 in order to improve adhesion. Incident light 604 is transmitted through the prism 150, part of which is reflected at the interface between the prism 150 and the protective film 152 and propagates as reflected light 605. Part of the incident light beam 604 is transmitted through the prism 150 and the protective film 152, reflected at the interface between the protective film 152 and the metal film 155, and propagates as reflected light 606. For this reason, the separation distance d ′ between the light beam 605 and the light beam 606 changes according to the film thickness of the protective film 152. The relationship between the thickness d of the protective film and the separation distance d ′ is expressed by the following equation.
d ′ (λ) = (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) (1)
Where d ′ (λ): separation distance of the light beam 605 and the light beam 606 at the wavelength λ
d (λ): film thickness of the protective film 152 at the wavelength λ
np (λ): Refractive index of prism at wavelength λ
nA (λ): the refractive index of the protective film at the wavelength λ.

また、プリズム150から像面側に配置されたレンズ系(すなわち像側レンズ群L3)の像倍率をβとしたとき、分離距離d´は以下の式を満たす。
p/4<d´×β<p・・・(2)
式(2)に式(1)を代入すると、
p/4≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β(λ)≦p・・・(3)
ただし、p:撮像素子の1画素の大きさ
である。保護膜152の膜厚dは式(3)を満たすように設定する。
Further, when the image magnification of the lens system (that is, the image side lens unit L3) disposed on the image plane side from the prism 150 is β, the separation distance d ′ satisfies the following expression.
p / 4 <d ′ × β <p (2)
Substituting equation (1) into equation (2),
p / 4 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β (λ) ≦ p (3)
Where p is the size of one pixel of the image sensor. The film thickness d of the protective film 152 is set so as to satisfy Expression (3).

d´×β及び(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β(λ)の値が式(2)、(3)の上限を超えると、分離距離d´は撮像素子の空間分解能を超えることになるので、大きなローパス効果が発生し解像性能を劣化させる。一方、下限は比較的成膜させやすい条件を設定している。しかしながら技術的な進歩により膜厚を薄くすることが可能であればp/4以下でもよい。また仮にp/10以下の場合であっても解像性能に影響はない。   When the values of d ′ × β and (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β (λ) exceed the upper limits of the expressions (2) and (3), the separation distance d ′ Therefore, a large low-pass effect is generated and the resolution performance is deteriorated. On the other hand, the lower limit is set so that the film can be formed relatively easily. However, p / 4 or less may be used if the film thickness can be reduced by technical advancement. Further, even if it is a case of p / 10 or less, the resolution performance is not affected.

より好ましくは、保護膜152の膜厚dは以下の式を満足するよう設定される。
p/4≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β(λ)≦p/2・・・(4)
式(4)を満たすように膜厚d(λ)を設定することにより、より解像度の劣化を抑制できる。
More preferably, the film thickness d of the protective film 152 is set so as to satisfy the following expression.
p / 4 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β (λ) ≦ p / 2 (4)
By setting the film thickness d (λ) so as to satisfy Expression (4), it is possible to further suppress the deterioration of resolution.

ここで、撮像素子110の1画素の大きさp=2.5μm、プリズムの屈折率np(λ)=1.88、保護膜の屈折率nA(λ)=1.45、像側レンズ群L3の像倍率β=1.5倍であるときの保護膜の膜厚d(λ)の条件は、式(3)から以下の範囲であることが望ましい。
0.32μm≦d≦1.29μm
さらに波長を考慮すると膜厚dは、
0.4λ≦d≦0.82λ
であることが望ましい。
Here, the size of one pixel of the image sensor 110 is p = 2.5 μm, the refractive index of the prism is np (λ) = 1.88, the refractive index of the protective film is nA (λ) = 1.45, and the image side lens unit L3. The condition of the film thickness d (λ) of the protective film when the image magnification β = 1.5 is preferably in the following range from the equation (3).
0.32 μm ≦ d ≦ 1.29 μm
Further considering the wavelength, the film thickness d is
0.4λ ≦ d ≦ 0.82λ
It is desirable that

また、式(4)から保護膜の膜厚d(λ)の条件は、
0.32μm≦d≦0.65μm
であることが望ましい。
Further, from the equation (4), the condition of the film thickness d (λ) of the protective film is
0.32 μm ≦ d ≦ 0.65 μm
It is desirable that

このように、本実施の形態で示した膜厚条件により保護膜を構成することにより、プリズムの反射面と金属膜との密着性を損なうことなく、解像度の劣化の少ないプリズム含む撮像光学系を提供できる。   In this way, by forming the protective film according to the film thickness conditions shown in this embodiment, an imaging optical system including a prism with little deterioration in resolution can be obtained without impairing the adhesion between the reflecting surface of the prism and the metal film. Can be provided.

なお、プリズム150及び保護膜152の屈折率は波長によって変化することから、本実施の形態で示した各式は実使用の波長帯域の屈折率と波長に合わせて適切な間隔を適宜変更されてもよい。   Note that since the refractive indexes of the prism 150 and the protective film 152 change depending on the wavelength, each formula shown in this embodiment is appropriately changed in accordance with the refractive index and wavelength of the wavelength band actually used. Also good.

(実施の形態2)
次に実施の形態2に係る撮像光学系について説明する。図5は、実施の形態2に含まれるプリズムの一部の拡大図である。本実施の形態のプリズムは、実施の形態1のプリズムとほぼ同様の構成を有するが、プリズムの反射面には保護膜152の代わりに反射率を向上させるための増反射膜160が設けられている点で異なる。また、本実施の形態では、反射面上には、2層の薄膜(増反射膜)が形成される。説明の便宜上、実施の形態1と同一の部分については同一の符号を付して説明する。
(Embodiment 2)
Next, an imaging optical system according to Embodiment 2 will be described. FIG. 5 is an enlarged view of a part of the prism included in the second embodiment. The prism according to the present embodiment has substantially the same configuration as the prism according to the first embodiment. However, the reflection surface of the prism is provided with an increased reflection film 160 for improving the reflectance instead of the protective film 152. Is different. In the present embodiment, a two-layer thin film (increased reflection film) is formed on the reflection surface. For convenience of explanation, the same parts as those in the first embodiment will be described with the same reference numerals.

図5において、入射光704はプリズム150内を透過し、透過した光の一部はプリズム150と第1層目の薄膜の界面で反射され、反射光705として伝播する。またプリズム内を透過した光の一部は、さらに第1層目及び第2層目の薄膜を透過した後、金属膜155との界面で反射されて反射光606として伝播する。このため、実施の形態1と同様に増反射膜160の膜厚d1及びd2に応じて、光線705と光線706の分離距離d´が変化することになる。   In FIG. 5, incident light 704 is transmitted through the prism 150, and part of the transmitted light is reflected at the interface between the prism 150 and the first thin film and propagates as reflected light 705. Further, a part of the light transmitted through the prism further passes through the first and second thin films, and then is reflected at the interface with the metal film 155 and propagates as reflected light 606. For this reason, as in the first embodiment, the separation distance d ′ between the light beam 705 and the light beam 706 changes according to the film thicknesses d1 and d2 of the increased reflection film 160.

本実施の形態では、プリズムと増反射膜と金属膜のそれぞれの界面における反射率についてシミュレーションを行った。なお、簡易的に計算するために、プリズムの材質を波長依存性を持たないガラス材料とし、薄膜材料についても波長依存性が小さいものとしてシミュレーションを行った。   In the present embodiment, a simulation was performed on the reflectance at each interface of the prism, the enhanced reflection film, and the metal film. In order to calculate simply, the simulation was performed on the assumption that the material of the prism was a glass material having no wavelength dependency, and the thin film material was also small in wavelength dependency.

図6(a)はプリズム150の一部の拡大図と反射特性を示す図である。プリズム150の反射面には増反射膜160aが設けられる。表1は増反射膜160aの膜構成を示す。図6(a)及び表1から、増反射膜160aは4層の薄膜が積層され、s偏光の反射率が高いのに対し、p偏光の反射率が低くなっている。このことから、s偏光の多くはプリズム150と増反射膜160aの界面近辺において反射され、p偏光は増反射膜160aを透過することが分かる。

Figure 2008058412
図6(b)は、プリズム150の一部の拡大図と反射特性を示す図である。図6(a)と異なりプリズム150の反射面には増反射膜160bと金属膜155が設けられる。表2は増反射膜160b及び金属膜155の膜構成を示す。図6(b)及び表2から、増反射膜160bは4層の薄膜と1層の金属膜が積層され、p偏光およびs偏光ともに約80%程度以上の反射率であることが分かる。図6(a)、(b)の結果から、プリズムと増反射膜との界面におけるp偏光の反射率は小さく、金属膜との界面における反射率は大きい。これに対して、プリズムと増反射膜との界面におけるs偏光の反射率は大きく、金属膜の界面に到達する光線強度は低い。このようにp偏光とs偏光の反射面は異なっており、反射面による光線分離が発生していることがわかる。
Figure 2008058412
FIG. 6A is an enlarged view of a part of the prism 150 and a reflection characteristic. The reflection surface of the prism 150 is provided with an increased reflection film 160a. Table 1 shows the film configuration of the enhanced reflection film 160a. As shown in FIG. 6A and Table 1, the reflective film 160a is formed by laminating four thin films, and the reflectance of p-polarized light is low while the reflectance of s-polarized light is high. From this, it can be seen that most of the s-polarized light is reflected in the vicinity of the interface between the prism 150 and the increased reflection film 160a, and the p-polarized light is transmitted through the increased reflection film 160a.
Figure 2008058412
FIG. 6B is an enlarged view of a part of the prism 150 and a diagram showing reflection characteristics. Unlike FIG. 6A, the reflective surface of the prism 150 is provided with an increased reflection film 160 b and a metal film 155. Table 2 shows the film configuration of the reflective reflection film 160b and the metal film 155. From FIG. 6B and Table 2, it can be seen that the reflective reflection film 160b is formed by laminating four layers of thin films and one layer of metal film, and has a reflectance of about 80% or more for both p-polarized light and s-polarized light. From the results of FIGS. 6A and 6B, the reflectance of p-polarized light at the interface between the prism and the increased reflection film is small, and the reflectance at the interface with the metal film is large. On the other hand, the reflectance of s-polarized light at the interface between the prism and the increased reflection film is large, and the light intensity reaching the interface between the metal films is low. Thus, it can be seen that the reflection surfaces of the p-polarized light and the s-polarized light are different, and the light beam is separated by the reflective surface.
Figure 2008058412

例えば設計中心波長λ=550nm、TiO2の屈折率nd=2.3、SiO2の屈折率nd=1.45の場合、増反射膜の合計厚さは、
1.0×0.55×2.3+0.5×0.55×1.45=1.66μmとなる。
表2の膜構成における光線の分離距離d´は、入射角度が45度の条件において
d´=1.5λ×2×sin45°=1.16μm
となる。
For example, when the design center wavelength λ = 550 nm, the refractive index nd = 2.3 of TiO 2 , and the refractive index nd = 1.45 of SiO 2 , the total thickness of the increased reflection film is
1.0 × 0.55 × 2.3 + 0.5 × 0.55 × 1.45 = 1.66 μm.
The separation distance d ′ of light rays in the film configuration of Table 2 is as follows: d ′ = 1.5λ × 2 × sin 45 ° = 1.16 μm under the condition where the incident angle is 45 degrees.
It becomes.

このため、プリズム150から像面側に位置する光学系の倍率が1.5〜2倍程度に拡大されると解像性能に影響が生じ、画質は劣化する。そこで、増反射膜の膜厚をより薄くすることが好ましく、例えば増反射膜は表3に示すように2層の薄膜を積層してもよい。図7(a)は表3の膜構成における反射特性を示す図である。図7(a)及び表3から、プリズムと増反射膜の界面におけるs偏光及びp偏光の反射率は40%以下である。したがって、入射光の多くは2層の薄膜を積層してなる増反射膜を透過する。

Figure 2008058412
For this reason, when the magnification of the optical system located on the image plane side from the prism 150 is enlarged to about 1.5 to 2 times, the resolution performance is affected, and the image quality deteriorates. Therefore, it is preferable to make the thickness of the increased reflection film thinner. For example, the increased reflection film may be formed by laminating two thin films as shown in Table 3. FIG. 7A is a diagram showing the reflection characteristics in the film configuration of Table 3. From FIG. 7A and Table 3, the reflectance of s-polarized light and p-polarized light at the interface between the prism and the increased reflection film is 40% or less. Therefore, most of the incident light is transmitted through the enhanced reflection film formed by laminating two thin films.
Figure 2008058412

表4は、表3の膜構成に加えて金属膜155をさらに設けた場合の膜構成である。図7(b)は、表4の膜構成における反射特性を示す図である。図7(b)及び表4から、s偏光およびp偏光の反射率は約80%以上であることが分かる。

Figure 2008058412
Table 4 shows a film configuration when a metal film 155 is further provided in addition to the film configuration of Table 3. FIG. 7B is a diagram showing the reflection characteristics in the film configuration of Table 4. From FIG. 7B and Table 4, it can be seen that the reflectance of s-polarized light and p-polarized light is about 80% or more.
Figure 2008058412

図7(a)、(b)から、2層の薄膜からなる増反射膜160と金属膜155とが積層されたプリズムに入射した光は、その多くが増反射膜160を透過し、金属膜155で反射される。すなわち、s偏光及びp偏光ともに金属膜で反射されることになるので、光線分離による画質劣化を抑制することができる。   7A and 7B, most of the light incident on the prism in which the two-layer thin reflection film 160 and the metal film 155 are laminated is transmitted through the reflection film 160, and the metal film. Reflected at 155. That is, since both s-polarized light and p-polarized light are reflected by the metal film, it is possible to suppress image quality deterioration due to light beam separation.

また、画質の劣化を抑制するためには、増反射膜の膜厚を薄くするだけでなく、さらにプリズムの材料を屈折率の高い材料に変更してもよい。表5は屈折率の高いプリズムを用いた場合の膜構成を示し、図8(a)は反射特性を示す図である。図8(a)及び表5から、s偏光及びp偏光ともに反射率は10%以下であり、入射した光の多くは増反射膜160を透過する。

Figure 2008058412
In order to suppress the deterioration of the image quality, not only the film thickness of the reflective reflection film is reduced, but the prism material may be changed to a material having a higher refractive index. Table 5 shows the film configuration when a prism having a high refractive index is used, and FIG. 8A shows the reflection characteristics. From FIG. 8A and Table 5, the reflectance is 10% or less for both s-polarized light and p-polarized light, and most of the incident light is transmitted through the increased reflection film 160.
Figure 2008058412

表6は、表5の膜構成に加えて金属膜をさらに設けた場合の膜構成である。図8(b)は、表6の膜構成における反射特性を示す図である。s偏光及びp偏光ともに反射率は70%以上であり、入射した光の多くは反射する。

Figure 2008058412
Table 6 shows a film configuration when a metal film is further provided in addition to the film configuration of Table 5. FIG. 8B is a diagram showing the reflection characteristics in the film configuration of Table 6. The reflectance of both s-polarized light and p-polarized light is 70% or more, and most of the incident light is reflected.
Figure 2008058412

図8(a)、(b)から、プリズムの材料を屈折率の高い材料に変更することにより、プリズムに入射した光は、その多くが増反射膜を透過し、金属膜で反射される。したがって、光線分離による画質劣化を抑制できる。このとき、増反射膜の膜厚は以下の条件を満足するよう設定することが望ましい。
0.1λ≦d≦1.0λ・・・(5)
ここで、dは薄膜の総厚(増反射膜の膜厚)である。
膜厚dが式(5)の下限以下になると、膜厚の制御が困難になるとともに密着性が悪化し、薄膜の耐環境性能に悪影響を及ぼす。一方、膜厚dが上限を超えると、光線分離により画質が劣化する。
As shown in FIGS. 8A and 8B, by changing the material of the prism to a material having a high refractive index, most of the light incident on the prism is transmitted through the increased reflection film and reflected by the metal film. Therefore, it is possible to suppress image quality deterioration due to light beam separation. At this time, it is desirable to set the film thickness of the reflective reflection film so as to satisfy the following conditions.
0.1λ ≦ d ≦ 1.0λ (5)
Here, d is the total thickness of the thin film (film thickness of the enhanced reflection film).
When the film thickness d is less than or equal to the lower limit of the formula (5), it becomes difficult to control the film thickness and the adhesion is deteriorated, which adversely affects the environmental resistance performance of the thin film. On the other hand, when the film thickness d exceeds the upper limit, the image quality deteriorates due to light beam separation.

膜厚dはさらに以下の式を満足することが望ましい。
0.5λ≦d≦1.0λ
The film thickness d preferably further satisfies the following formula.
0.5λ ≦ d ≦ 1.0λ

なお、入射光の波長帯域うち使用する波長帯域の中央値において、増反射膜のみを設けたプリズムにおけるs偏光の反射率は、増反射膜と金属膜を設けたプリズムにおけるs偏光の反射率よりも十分に小さくなる必要があり、例えば50%以下であることが望ましい。   It should be noted that the reflectance of s-polarized light in the prism provided with only the increased reflection film is higher than the reflectance of s-polarized light in the prism provided with the increased reflection film and the metal film at the median of the wavelength bands to be used among the wavelength bands of the incident light. Needs to be sufficiently small, for example, 50% or less is desirable.

また、実施の形態1と同様に以下の式を満足するように膜厚dを設定することにより解像度の劣化を抑制することができる。
p/10≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β(λ)≦p・・・(6)
ただし、d´(λ):波長λにおける光線の分離距離
d(λ):波長λにおける増反射膜の膜厚
np(λ):波長λにおけるプリズムの屈折率
nA(λ):波長λにおける増反射膜の屈折率の平均値
式(6)の上限を超えると、光線の分離距離は撮像素子の空間分解能を越えることとなり、大きなローパス効果が発生し解像性能は悪化する。
In addition, as in the first embodiment, resolution degradation can be suppressed by setting the film thickness d so as to satisfy the following expression.
p / 10 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β (λ) ≦ p (6)
Where d ′ (λ): separation distance of light rays at wavelength λ
d (λ): film thickness of the enhanced reflection film at wavelength λ
np (λ): Refractive index of prism at wavelength λ
nA (λ): When the upper limit of the average value expression (6) of the refractive index of the light-reflecting film at the wavelength λ is exceeded, the separation distance of the light beam exceeds the spatial resolution of the image pickup device, and a large low-pass effect is generated and resolution. Performance deteriorates.

一方、下限は比較的成膜させやすい条件を設定しているが、技術的な進歩により膜厚を薄くすることが可能であればこれに限られない。例えばp/10以下の場合であっても解像性能に影響はない。 On the other hand, the lower limit is set to a condition that makes it relatively easy to form a film, but is not limited to this as long as the film thickness can be reduced by technical progress. For example, even if it is p / 10 or less, the resolution performance is not affected.

さらに、膜厚dは以下の式を満足するように設定されることが好ましい。
p/4≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β(λ)≦p/2
Further, the film thickness d is preferably set so as to satisfy the following formula.
p / 4 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β (λ) ≦ p / 2

このように、本実施の形態で示した膜厚条件により増反射膜を構成することにより、増反射特性を損なうことなく、解像度の劣化の少ないプリズムを含む撮像光学系を提供できる。   As described above, by configuring the increased reflection film according to the film thickness condition described in this embodiment, it is possible to provide an imaging optical system including a prism with little deterioration in resolution without impairing the increased reflection characteristic.

(実施の形態3)
次に実施の形態3のデジタルスチルカメラ(以下、単にデジタルカメラという)について説明する。本実施の形態のデジタルカメラは、実施の形態1、2の撮像光学系を含む。説明の便宜上、実施の形態1及び2と同一の部分については同一の符号を付して説明を行う。
(Embodiment 3)
Next, a digital still camera (hereinafter simply referred to as a digital camera) of Embodiment 3 will be described. The digital camera according to the present embodiment includes the imaging optical system according to the first and second embodiments. For convenience of explanation, the same parts as those in the first and second embodiments will be described with the same reference numerals.

図9はデジタルカメラ1000の概略構成図であり、(a)は正面図、(b)は背面図である。図9において、デジタルカメラ1000は、筐体2と光学式ビューファインダ1103とストロボ1104とシャッタボタン1105とバッテリユニット1106と画像蓄積部1107と画像表示部1108とズーム位置切替部1109と、実施の形態1または2と同様の構成を有するズームレンズユニット1101及びレンズ鏡筒1110を備える。   FIG. 9 is a schematic configuration diagram of the digital camera 1000, where (a) is a front view and (b) is a rear view. In FIG. 9, a digital camera 1000 includes a housing 2, an optical viewfinder 1103, a strobe 1104, a shutter button 1105, a battery unit 1106, an image storage unit 1107, an image display unit 1108, a zoom position switching unit 1109, and an embodiment. The zoom lens unit 1101 and the lens barrel 1110 have the same configuration as that of 1 or 2.

レンズ鏡筒1110は、実施の形態1及び2とほぼ同様の構成を有する。すなわち、レンズ鏡筒1110は、最物体側レンズ群L1を保持する第1保持部とプリズム150を含む反射光学ユニットL2を保持する第2保持部と像側レンズ群L3を保持する第3保持部とから構成され、内部にズーム光学系Lと撮像素子110とを保持するが、上記実施の形態とは異なり、プリズム150はZ軸方向から入射した光の光軸をX軸方向に反射するように配置される   The lens barrel 1110 has substantially the same configuration as in the first and second embodiments. That is, the lens barrel 1110 includes a first holding unit that holds the most object side lens unit L1, a second holding unit that holds the reflective optical unit L2 including the prism 150, and a third holding unit that holds the image side lens unit L3. The zoom optical system L and the image sensor 110 are held inside, but unlike the above embodiment, the prism 150 reflects the optical axis of light incident from the Z-axis direction in the X-axis direction. Placed in

バッテリユニット1106は、例えば乾電池やリチウムイオン電池等の二次電池であり、デジタルカメラ1000に電源を供給する。画像蓄積部1107は、撮像素子110により電気信号に変換された画像信号を蓄積する、例えば半導体メモリ等である。なお、画像蓄積部1107は、筐体2から脱着可能な構成としてもよい。画像表示部1108は、撮像素子110から出力された画像信号や画像蓄積部1107に格納された画像信号を可視画像として表示する、例えば液晶モニタや有機ELモニタ等である。ズーム位置切替部1109は、ユーザにより操作され、ズーム光学系Lを望遠側あるいは広角側へ切り替える。   The battery unit 1106 is a secondary battery such as a dry battery or a lithium ion battery, for example, and supplies power to the digital camera 1000. The image storage unit 1107 is, for example, a semiconductor memory that stores the image signal converted into an electrical signal by the image sensor 110. Note that the image storage unit 1107 may be configured to be removable from the housing 2. The image display unit 1108 is, for example, a liquid crystal monitor or an organic EL monitor that displays the image signal output from the image sensor 110 or the image signal stored in the image storage unit 1107 as a visible image. The zoom position switching unit 1109 is operated by the user and switches the zoom optical system L to the telephoto side or the wide angle side.

この構成により、本実施の形態のデジタルカメラは厚みを低減することができ、コンパクトなデジタルカメラを提供できる。また、実施の形態1、2で示した条件で、レンズ鏡筒1110内のプリズム反射面に保護膜あるいは増反射膜を設けることにより、薄膜の特性を損なうことなく、撮像される画像の解像度の劣化が抑制されたデジタルカメラを提供できる。   With this configuration, the thickness of the digital camera of this embodiment can be reduced, and a compact digital camera can be provided. In addition, by providing a protective film or an increased reflection film on the prism reflection surface in the lens barrel 1110 under the conditions described in the first and second embodiments, the resolution of the image to be captured can be reduced without deteriorating the characteristics of the thin film. A digital camera in which deterioration is suppressed can be provided.

なお、本実施の形態のデジタルカメラは光学式ビューファインダを備えたが、液晶を用いた電子ビューファインダでもよい。あるいは、ファインダを設けることなく、かかる機能を画像表示部1108により実現されてもよい。   Although the digital camera of this embodiment includes an optical viewfinder, an electronic viewfinder using liquid crystal may be used. Alternatively, such a function may be realized by the image display unit 1108 without providing a finder.

なお、実施の形態1〜3ではズームレンズを用いた場合を例に説明したが、固定焦点であっても同様の効果を得ることができる。   In the first to third embodiments, the case where a zoom lens is used has been described as an example. However, the same effect can be obtained even with a fixed focus.

本発明の光学系及び光学系に含まれるプリズムは、高画質の撮影画像が要望されるデジタルカメラやデジタルビデオカメラ、カメラ機能付きの携帯電話端末やPDA、車載カメラ等に好適である。   The optical system of the present invention and the prism included in the optical system are suitable for a digital camera, a digital video camera, a mobile phone terminal with a camera function, a PDA, an in-vehicle camera, and the like that require a high-quality captured image.

実施の形態1におけるレンズ鏡筒の構成を示す概略図Schematic showing the configuration of the lens barrel in the first embodiment 実施の形態1における反射光学ユニットを保持する第2保持部の概略拡大図Schematic enlarged view of a second holding unit that holds the reflective optical unit in the first embodiment. 図3(a)は第2保持部の概略断面図であり、図3(b)はA部の拡大図3A is a schematic sectional view of the second holding portion, and FIG. 3B is an enlarged view of the A portion. 実施の形態1において光が入射したA部の拡大図The enlarged view of the A section in which light entered in Embodiment 1. 実施の形態2におけるプリズムの一部の拡大図Partial enlarged view of the prism in the second embodiment 図6(a)はプリズムの一部の拡大図と反射特性を示す図、図6(b)はプリズムの一部を拡大した図と反射特性を示す図6A is an enlarged view of a part of the prism and a diagram showing the reflection characteristics, and FIG. 6B is an enlarged view of a part of the prism and a diagram showing the reflection characteristics. 図7(a)は表3の膜構成における反射特性を示す図、図7(b)は表4の膜構成における反射特性を示す図FIG. 7A is a diagram showing the reflection characteristics in the film configuration of Table 3, and FIG. 7B is a diagram showing the reflection characteristics in the film configuration of Table 4. 図8(a)は反射特性を示す図、図8(b)は表6の膜構成における反射特性を示す図FIG. 8A shows the reflection characteristics, and FIG. 8B shows the reflection characteristics in the film configuration of Table 6. 実施の形態3におけるデジタルカメラの概略構成図Schematic configuration diagram of a digital camera according to Embodiment 3

符号の説明Explanation of symbols

100 レンズ鏡筒
101 第1保持部
102 第2保持部
103 第3保持部
110 撮像素子
150 プリズム
152 保護膜
155 金属膜
604 入射光
605、606 反射光

DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Lens barrel 101 1st holding | maintenance part 102 2nd holding | maintenance part 103 3rd holding | maintenance part 110 Image pick-up element 150 Prism 152 Protective film 155 Metal film 604 Incident light 605,606 Reflected light

Claims (4)

被写体の光学的な像を撮像素子上に形成する撮像光学系であって、
少なくとも物体側から像面側に向かって順に配置されたプリズムとレンズ系とを含み、
前記プリズムは、
入射した光を反射させる反射面と、
前記反射面上に形成され、1層から構成される薄膜と、
前記薄膜上に形成される金属膜とを備え、
前記薄膜の膜厚が、以下の条件式を満たすことを特徴とする撮像光学系。
p/10≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β≦p
ただし、
λ:入射光の波長帯域うち使用する波長帯域の中央値
β:プリズムから像面側に配置されているレンズ系の像倍率
p:撮像素子の1画素の大きさ
d(λ):波長λにおける薄膜の膜厚
np(λ):波長λにおけるプリズムの屈折率
nA(λ):波長λにおける薄膜の屈折率
である。
An imaging optical system that forms an optical image of a subject on an imaging device,
Including at least a prism and a lens system arranged in order from the object side to the image plane side,
The prism is
A reflecting surface that reflects incident light;
A thin film formed on the reflecting surface and composed of one layer;
A metal film formed on the thin film,
An imaging optical system, wherein the thickness of the thin film satisfies the following conditional expression:
p / 10 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β ≦ p
However,
λ: Median value of the wavelength band to be used among the wavelength bands of incident light β: Image magnification of the lens system arranged on the image plane side from the prism p: Size of one pixel of the image sensor d (λ): At wavelength λ Thin film thickness np (λ): Refractive index of prism at wavelength λ nA (λ): Refractive index of thin film at wavelength λ.
前記薄膜は、さらに複数層から構成され、
前記薄膜の膜厚が、以下の条件式をそれぞれ満たすことを特徴とする、請求項1に記載の撮像光学系。
0.1λ≦d(λ)≦1.0λ
p/10≦(np(λ)/nA(λ))×d(λ)×β≦p
ただし、
λ:入射光の波長帯域うち使用する波長帯域の中央値
β:プリズムから像面側に配置されているレンズ系の像倍率
p:撮像素子の1画素の大きさ
d(λ):波長λにおける薄膜の膜厚
np(λ):波長λにおけるプリズムの屈折率
nA(λ):波長λにおける薄膜の屈折率の平均値
である。
The thin film further comprises a plurality of layers,
The imaging optical system according to claim 1, wherein the thickness of the thin film satisfies the following conditional expressions.
0.1λ ≦ d (λ) ≦ 1.0λ
p / 10 ≦ (np (λ) / nA (λ)) × d (λ) × β ≦ p
However,
λ: Median value of the wavelength band to be used among the wavelength bands of incident light β: Image magnification of the lens system arranged on the image plane side from the prism p: Size of one pixel of the image sensor d (λ): At wavelength λ Thin film thickness np (λ): Refractive index of prism at wavelength λ nA (λ): Average value of refractive index of thin film at wavelength λ.
前記プリズムの反射面は、撮影光学系の光軸を略90度折り曲げるように入射した光を反射させる、請求項1に記載の撮像光学系。   The imaging optical system according to claim 1, wherein the reflecting surface of the prism reflects incident light so as to bend the optical axis of the imaging optical system by approximately 90 degrees. 請求項1または2に記載の撮像光学系と、
前記撮像光学系により形成された被写体の光学的な像を受光し、電気的な画像信号に変換して出力する撮像センサとを備える、撮像装置。

The imaging optical system according to claim 1 or 2,
An imaging apparatus comprising: an imaging sensor that receives an optical image of a subject formed by the imaging optical system, converts the optical image into an electrical image signal, and outputs the electrical image signal.

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