JP2008056756A - Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate - Google Patents

Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate Download PDF

Info

Publication number
JP2008056756A
JP2008056756A JP2006233089A JP2006233089A JP2008056756A JP 2008056756 A JP2008056756 A JP 2008056756A JP 2006233089 A JP2006233089 A JP 2006233089A JP 2006233089 A JP2006233089 A JP 2006233089A JP 2008056756 A JP2008056756 A JP 2008056756A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide film
metal
film
adhesive
polyimide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006233089A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Teshiba
敏博 手柴
Koichi Sawazaki
孔一 沢崎
Noriki Sugimoto
範己 杉本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Du Pont Toray Co Ltd
Original Assignee
Du Pont Toray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Du Pont Toray Co Ltd filed Critical Du Pont Toray Co Ltd
Priority to JP2006233089A priority Critical patent/JP2008056756A/en
Publication of JP2008056756A publication Critical patent/JP2008056756A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide film for metal lamination without giving an effect to an adhesive and obtaining excellent bonding property-improving effect stably and inexpensively, and a method for producing the same and a metal-laminated plate. <P>SOLUTION: This polyimide film for laminating the metal is obtained by laminating the adhesive on the scratch-treated surface of the polyimide film obtained by scratch-treating the surface to form strip-formed unevenness. Also, the method for producing the polyimide film for laminating the metal is provided by scratch-treating the surface of the polyimide film by using a grinding tape obtained by coating fine grinding material particles on its surface, and then laminating the adhesive on the scratch-treated surface of the polyimide. Further, the metal-laminated plate is obtained by laminating metal foil on the adhesive of the polyimide film for the metal lamination. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ポリイミドフィルムと金属箔との接着性を改善した金属積層用ポリイミドフィルム、製造方法およびそのポリイミドフィルムを用いた金属積層板に関し、更に詳しくは、接着剤に影響を与えず、優れた接着性改善効果が安定的かつ安価に得られる金属積層ポリイミドフィルム、製造方法およびそのポリイミドフィルムを用いた金属積層板に関する。   The present invention relates to a polyimide film for metal lamination with improved adhesion between a polyimide film and a metal foil, a production method and a metal laminate using the polyimide film, and more specifically, without affecting the adhesive and excellent The present invention relates to a metal-laminated polyimide film capable of stably and inexpensively improving the adhesiveness, a manufacturing method, and a metal laminate using the polyimide film.

ポリイミドフィルムは、絶縁性、耐熱性、電気特性、機械的特性に優れていることが知られていることから、電線の電気絶縁材、断熱材、フレキシブル回路基板(FPC)のベースフィルム、ICのテープオートメーティドボンディング(TAB)用キャリヤテープのベースフィルム、ICのリードフレーム固定用テープなどに広く利用されている。このうち,FPC、TAB用キャリヤテープ、リードフレーム固定用テープなどの用途においては、通常、種々の接着剤を介してポリイミドフィルムと銅箔とが接着されて用いられている。   Polyimide films are known to have excellent insulation, heat resistance, electrical properties, and mechanical properties. Therefore, electrical insulation materials for wires, heat insulation materials, flexible circuit board (FPC) base films, It is widely used as a base film for carrier tape for tape automated bonding (TAB), a tape for fixing IC lead frames, and the like. Among these, in applications such as FPC, TAB carrier tape, lead frame fixing tape, etc., a polyimide film and a copper foil are usually bonded to each other through various adhesives.

ところが、ポリイミドフィルムは、その化学構造及び高度な耐薬品(溶剤)安定性により、銅箔との接着性が不十分な場合が多いことから、現状ではポリイミドフィルムに後処理として各種の表面処理を施す必要があった。   However, due to its chemical structure and high chemical resistance (solvent) stability, polyimide films often have insufficient adhesion to copper foil. It was necessary to apply.

この表面処理の具体例としては、例えば、サンドブラスト処理(例えば、特許文献1参照)、コロナ放電処理(例えば、特許文献2参照)、プラズマ処理(例えば、特許文献3参照)、およびアルカリ処理(例えば、特許文献4参照)などが知られており、これらの処理を施した後、ポリイミドフィルムの処理面に接着剤を介して銅箔を接着していた。   Specific examples of the surface treatment include, for example, sandblasting (see, for example, Patent Document 1), corona discharge treatment (for example, see Patent Document 2), plasma processing (for example, see Patent Document 3), and alkali treatment (for example, Patent Document 1). In addition, after performing these treatments, a copper foil was adhered to the treated surface of the polyimide film via an adhesive.

しかしながら、例えばアルカリ処理、サンドブラスト処理などでは、ポリイミドフィルムの製膜後、アルカリ処理などの各処理を施した後、更に洗浄、乾燥などの別工程を要することから、生産性、安定性、コストの面だけでなく、環境保全面でも問題を含んでいた。   However, for example, in alkali treatment, sandblast treatment, etc., after the polyimide film is formed, each treatment such as alkali treatment is performed, and further steps such as washing and drying are required. Therefore, productivity, stability, and cost are reduced. The problem included not only the aspect but also the environmental preservation aspect.

また、最近では、コロナ放電処理、プラズマ処理が接着性改善の目的に提案されて相応の効果が得られてはするが、処理後の接着力の長期安定性に欠けるために、比較的短期間に使用するなどの制約やプラズマ処理においては高電圧のエネルギ−、雰囲気ガスとしてテトラフルオルトメタン、酸素、窒素、アルゴン、二酸化炭素及びこれらの混合気体等を使用するために、設備コスト面、ランニングコストの増加、処理の不均一化、環境保全面で問題があった。
特開平8−34866号公報 特開平7−330930号公報 特開平2003−55487号公報 特開平8−12779号公報
Recently, corona discharge treatment and plasma treatment have been proposed for the purpose of improving adhesiveness, and although the corresponding effect can be obtained, the long-term stability of the adhesive strength after the treatment is lacking. Use of high voltage energy and atmospheric gases such as tetrafluoromethane, oxygen, nitrogen, argon, carbon dioxide and mixed gas of these are used in plasma processing. There were problems in terms of increased costs, uneven processing, and environmental conservation.
JP-A-8-34866 JP 7-330930 A JP-A-2003-55487 Japanese Patent Laid-Open No. 8-12779

本発明は、上述した従来技術における問題点の解決を課題として検討した結果達成されたものである。   The present invention has been achieved as a result of studying the solution of the problems in the prior art described above as an issue.

したがって、本発明の目的は、接着剤に影響を与えず、優れた接着性改善効果が安定的かつ安価に得られる金属積層用ポリイミドフィルム、製造方法およびそのポリイミドフィルムを用いた金属積層板を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a polyimide film for metal lamination that can stably and inexpensively obtain an excellent adhesive improvement effect without affecting the adhesive, a manufacturing method, and a metal laminate using the polyimide film There is to do.

本発明者らは、上記の問題を解決すべく鋭意検討を行った結果、ボリイミドフィルムの表面にある特定の擦過処理を施すことにより、低コストで安定して実用的に十分な程度にまで接着力が改善された金属積層用ポリイミドフィルムが得られることを見出し、本発明に至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors have performed a specific rubbing treatment on the surface of the polyimide film, so that it is stable and practically sufficient at a low cost. It has been found that a polyimide film for metal lamination with improved adhesion can be obtained, and the present invention has been achieved.

すなわち、上記の目的を達成するために本発明によれば、表面を擦過処理することによりスジ状凹凸を形成してなるポリイミドフィルムの前記擦過処理面に、接着剤をを積層してなることを特徴とする金属積層用ポリイミドフィルムが提供される。   That is, in order to achieve the above object, according to the present invention, an adhesive is laminated on the rubbing surface of a polyimide film formed by rubbing the surface to form streaks. A featured polyimide film for metal lamination is provided.

なお、本発明の金属積層用ポリイミドフィルムにおいては、
前記擦過処理面のJIS B―0601(2001)に準じて測定したフィルム表面粗さRzが0.7〜10μmにあること、
前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の高低差が0.05〜10μmの範囲にあること、
前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の高低差の最大高さRyが4〜10μmの範囲にあること、
前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の最大幅が0.1〜20μmの範囲にあること、および
前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の数が0.1〜10000本/mmの範囲にあること
が、いずれも好ましい条件として挙げられる。
In the polyimide film for metal lamination of the present invention,
The film surface roughness Rz measured according to JIS B-0601 (2001) of the scratched surface is 0.7 to 10 μm,
The height difference of the stripe-like irregularities on the scratched surface is in the range of 0.05 to 10 μm,
The maximum height Ry of the height difference of the stripe-shaped unevenness on the scratched surface is in the range of 4 to 10 μm;
The maximum width of the stripe-like irregularities on the scratched surface is in the range of 0.1 to 20 μm, and the number of stripe-like irregularities on the scratched surface is in the range of 0.1 to 10,000 / mm, All are mentioned as preferable conditions.

また、上記本発明の金属積層用ポリイミドフィルムの製造方法は、
表面に微細な研磨材粒子がコーティングされた研磨テープでポリイミドフィルムの表面を擦過処理し、このポリイミドフィルムの擦過処理面に接着剤を介して金属箔を積層することを特徴とし、
前記研磨材粒子が、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化セリウム、ダイヤモンドの各粒子のいずれかであること、
前記研磨材粒子の粒度が0.1〜100μmであること、
1段階目で粒度0.1μm以上10μm未満の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理した後、2段階目で粒度10μm以上100μm以下の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理すること、および
1段階目で粒度10μm以上100μm以下の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理した後、2段階目で粒度0.1μm以上10μm未満の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理すること
が、いずれも好ましい条件である。
Moreover, the manufacturing method of the polyimide film for metal lamination according to the present invention is as follows.
The surface of the polyimide film is rubbed with a polishing tape coated with fine abrasive particles on the surface, and a metal foil is laminated on the rubbed surface of the polyimide film via an adhesive.
The abrasive particles are any of silicon carbide, aluminum oxide, chromium oxide, cerium oxide, diamond particles;
The abrasive particles have a particle size of 0.1 to 100 μm,
In the first stage, the surface of the polyimide film is abraded with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 0.1 μm or more and less than 10 μm are disposed, and then in the second stage, polyimide is coated with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 10 μm or more and 100 μm or less are disposed. Abrading the surface of the film and polishing the surface of the polyimide film with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 10 μm or more and 100 μm or less are arranged in the first stage, and then polishing the particle size of 0.1 μm or more and less than 10 μm in the second stage It is a preferable condition that the surface of the polyimide film is rubbed with a polishing tape on which material particles are arranged.

また、金属積層板としては、これらの金属積層用ポリイミドフィルムの接着剤層の上に金属箔を積層した金属積層板である。   Moreover, as a metal laminated board, it is a metal laminated board which laminated | stacked metal foil on the adhesive bond layer of these polyimide films for metal lamination.

本発明によれば、下記に説明するとおり、優れた接着性改善効果が安定的かつ安価に得られる金属積層用ポリイミドフィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the polyimide film for metal lamination which can obtain the outstanding adhesive improvement effect stably and cheaply can be provided as demonstrated below.

以下、本発明について詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で使用されるポリイミドフィルムの例としては、芳香族テトラカルボン酸としてピロメリット酸二無水物および芳香族ジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから得られるポリアミド酸から製造されたポリイミドフィルム、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルの4成分から得られるポリアミド酸から製造されたポリイミドフィルム、ピロメリット酸二無水物、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテルの3成分から得られるポリアミド酸から製造されたポリイミドフィルム、ピロメリット酸二無水物、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、p−フェニレンジアミンの3成分から得られるポリアミド酸から製造されたポリイミドフィルム、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物およびp−フェニレンジアミンから得られるポリアミド酸から製造されたポリイミドフィルム、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物および4,4’−オキシジアニリンから得られるポリアミド酸から製造されたポリイミドフィルム等が挙げられる。ポリアミド酸からポリイミドへの脱環化は化学的閉環法、熱的閉環法のいずれでも構わない。また加工性改善などを目的として10重量%以下の無機質または有機質の添加物を含有することも可能である。   As an example of the polyimide film used in the present invention, a polyimide film produced from a polyamic acid obtained from pyromellitic dianhydride as an aromatic tetracarboxylic acid and 4,4′-diaminodiphenyl ether as an aromatic diamine, 3 , 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, p-phenylenediamine, polyimide film produced from polyamic acid obtained from 4,4'-diaminodiphenyl ether , Pyromellitic dianhydride, 4,4′-diaminodiphenyl ether, polyimide film prepared from polyamic acid obtained from three components of 3,4′-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride, 4,4′- Diaminodiphenyl ether, p-phenylene A polyimide film produced from a polyamic acid obtained from three components of amine, a polyimide film produced from a polyamic acid obtained from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine, Examples thereof include a polyimide film produced from a polyamic acid obtained from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4′-oxydianiline. The decyclization of polyamic acid to polyimide may be either a chemical ring closure method or a thermal ring closure method. Further, for the purpose of improving workability, it is possible to contain 10% by weight or less of an inorganic or organic additive.

ポリイミドフィルムの厚みは3〜200μmであることが望ましい。厚みが3μm未満では形状を保持することが困難となり、また200μmを越えると屈曲性に欠けるため、フレキシブル回路基板用途には不向きである。またポリイミドフィルムの寸法安定性を向上させるために、アニール処理等により低熱収縮化処理を行っても良い。   The thickness of the polyimide film is desirably 3 to 200 μm. If the thickness is less than 3 μm, it is difficult to maintain the shape, and if it exceeds 200 μm, the flexibility is insufficient, so that it is not suitable for flexible circuit board applications. In order to improve the dimensional stability of the polyimide film, a low thermal shrinkage treatment may be performed by an annealing treatment or the like.

本発明で使用するポリイミドフィルムは、表面を擦過処理することによりスジ状凹凸を形成していることが必要である。   The polyimide film used in the present invention needs to form streak-like irregularities by rubbing the surface.

スジ状凹凸とは、フィルムの表面に凹部と凸部が連続して表面に存在することを言う。代表的な形状のスジ状凹凸を有するフィルムの断面図を図5に示す。図において、9は本来のフィルムの表面位置を示し、8は凹部、7は凸部である。凹凸の高低差5は凸部7の頂点と凹部8の頂点の長さを計測した値である。なお、図5の凹凸は凹部を長目に示して描いているが、凹凸のパターンはこれのみに限るものではなく、凸部が極めて低くフィルム表面位置9からあまり盛り上がらない場合もある。本発明のフィルムは、表面にこのようなスジ状凹凸が多数存在する。多数のスジ状凹凸の中には高低差の大きいもの(溝が深いもの)や高低差が小さいもの(溝が浅いもの)が存在するが、それらの高低差は0.05〜10μmの範囲にあることが必要である。スジ状凹凸の高低差が0.05μm未満のものが多数存在するとフィルムと金属箔との接着性が悪化し、また10μmを超えるものが存在するとフィルムの機械特性が悪化するという好ましくない傾向が招かれることがある。   A streak-like unevenness means that a concave portion and a convex portion are continuously present on the surface of the film. A cross-sectional view of a film having streak-like irregularities of a typical shape is shown in FIG. In the figure, 9 indicates the original surface position of the film, 8 is a concave portion, and 7 is a convex portion. The height difference 5 of the unevenness is a value obtained by measuring the length of the vertex of the convex portion 7 and the vertex of the concave portion 8. 5 is drawn with the concave portion long, but the concave / convex pattern is not limited to this, and the convex portion is extremely low and may not rise so much from the film surface position 9 in some cases. The film of the present invention has a large number of such streaks on the surface. There are a large number of stripe-shaped irregularities with large height differences (those with deep grooves) and small height differences (those with shallow grooves), but those height differences are in the range of 0.05 to 10 μm. It is necessary to be. The presence of a large number of stripes with a height difference of less than 0.05 μm deteriorates the adhesion between the film and the metal foil, and the presence of more than 10 μm causes an undesirable tendency to deteriorate the mechanical properties of the film. There are times.

本発明で使用するポリイミドフィルムは、JIS B−0601(2001)に準じて測定したフィルム表面粗さRzが0.7〜10μmであることが好ましく、2〜9μmがさらに好ましく、3〜8μmがよりさらに好ましい。ここで示すフィルム表面粗さRzとは、JIS B−0601(2001)「表面粗さ」に基づき、レーザー顕微鏡により測定した値であり、実際にはレーザーテック(株)製走査型レーザー顕微鏡「1LM15W」にて、ニコン製50倍レンズ(CF Plan Apo 50×/0.95 ∞/0 EPI)を用いて、「SURFACE2」モードにてフィルム表面を撮影後、三谷商事(株)製SALTにて、粗さ曲線を作成する時のカットオフ値を0.025mmに設定して、拡張表面粗さ0.01mm2以上の面積を解析し、Rz(十点平均粗さ)の値を読み取った値である。これらの特性は、フィルム表面上に特定のスジ状の凹凸を付与することによって得ることができる。   The polyimide film used in the present invention preferably has a film surface roughness Rz measured according to JIS B-0601 (2001) of 0.7 to 10 μm, more preferably 2 to 9 μm, and more preferably 3 to 8 μm. Further preferred. The film surface roughness Rz shown here is a value measured with a laser microscope based on JIS B-0601 (2001) “Surface roughness”, and actually a scanning laser microscope “1LM15W” manufactured by Lasertec Corporation. In Nikon 50x lens (CF Plan Apo 50 × / 0.95 ∞ / 0 EPI), the film surface was photographed in “SURFACE2” mode, and then roughed with Mitani Corporation SALT. This is a value obtained by reading the value of Rz (ten-point average roughness) by setting the cut-off value at the time of creating the height curve to 0.025 mm, analyzing the area having an extended surface roughness of 0.01 mm 2 or more. These characteristics can be obtained by providing specific streak-like irregularities on the film surface.

また、スジ状凹凸は、その高低差の最大高さRyが4〜10μmの範囲にあることが好ましい。ここでの最大高さRyは、具体的にはレーザーテック(株)製走査型レーザー顕微鏡「1LM15W」にて、ニコン製50倍レンズ(CF Plan Apo 50×/0.95 ∞/0 EPI)を用いて、「SURFACE2」モードで撮影後のSALTでの拡張表面粗さ0.01mm以上の面積での解析による最大高さRyで確認した値である。最大高さ4〜10μmのスジ状の凹凸が存在すると、フィルムと金属箔との接着性がさらに向上するので好ましい。 Moreover, it is preferable that the stripe-shaped unevenness | corrugation exists in the range whose maximum height Ry of the height difference is 4-10 micrometers. The maximum height Ry here is specifically determined by using a Nikon 50x lens (CF Plan Apo 50 × / 0.95∞ / 0 EPI) with a scanning laser microscope “1LM15W” manufactured by Lasertec Corporation. This is a value confirmed by the maximum height Ry by analysis in an area having an extended surface roughness of 0.01 mm 2 or more in SALT after photographing in the “SURFACE 2” mode. The presence of streak-like irregularities having a maximum height of 4 to 10 μm is preferable because the adhesion between the film and the metal foil is further improved.

さらに、スジ状の凹凸の幅は、0.1〜20μmの範囲に調整させることが好ましく、0.1〜10μmの範囲に調整させることがより好ましい。ここでのスジ状の凹凸の幅は図5の6を計測した値である。この範囲より下回るとフィルムと金属箔との接着性が悪化し、上回るとフィルムの機械特性が悪化するので好ましくない。   Furthermore, the width of the stripe-shaped unevenness is preferably adjusted to a range of 0.1 to 20 μm, and more preferably adjusted to a range of 0.1 to 10 μm. The width of the stripe-shaped unevenness here is a value obtained by measuring 6 in FIG. If it is below this range, the adhesion between the film and the metal foil is deteriorated, and if it exceeds, the mechanical properties of the film are deteriorated, which is not preferable.

殊さらには、スジ状の凹凸の数を、0.1〜10000本/mmの範囲に調整することが好ましく、10〜1000本/mmに調整することがより好ましく、100〜500本/mmに調整することがさらにより好ましい。この範囲を下回るとフィルムと金属箔との接着性が悪化するので好ましくなく、この範囲を上回るとフィルムの機械特性が悪化するので好ましくない。   In particular, the number of stripe-shaped irregularities is preferably adjusted to a range of 0.1 to 10000 / mm, more preferably 10 to 1000 / mm, and more preferably 100 to 500 / mm. It is even more preferable to adjust. If it is below this range, the adhesion between the film and the metal foil is deteriorated, which is not preferable, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the film are deteriorated.

ポリイミドフィルムの表面へ上記のスジ状凹凸を付与するに際しては、表面に微細な研磨材粒子がコーティングされた研磨テープでポリイミドフィルムの表面を擦過処理することが必要である。   When the above-mentioned stripe-like unevenness is imparted to the surface of the polyimide film, it is necessary to rub the surface of the polyimide film with an abrasive tape having fine abrasive particles coated on the surface.

例えば、図1〜図4に示すように、ポリイミドフィルムに研磨テープを接触させて走行させることによって、スジ状凹凸を形成することができる。   For example, as shown in FIG. 1 to FIG. 4, streak-like irregularities can be formed by running a polishing tape in contact with a polyimide film.

図1において、ポリイミドフィルムは巻出しロール1から送り出され、走行方向に対して逆方向に回転している研磨ロール3の表面を擦過しながら巻取りロール2に巻き取られる。   In FIG. 1, the polyimide film is fed from an unwinding roll 1 and wound around the winding roll 2 while rubbing the surface of the polishing roll 3 rotating in the direction opposite to the traveling direction.

図2では、巻出しロール1を出たポリイミドフィルムは逆方向に回転している研磨ロール3と押さえロール4との間を擦過しながら通り、巻取りロール2に巻き取られる。この時の面圧は1〜10kg/500mmが好ましい。   In FIG. 2, the polyimide film exiting the unwinding roll 1 is wound around the winding roll 2 while rubbing between the polishing roll 3 and the pressing roll 4 rotating in the opposite direction. The surface pressure at this time is preferably 1 to 10 kg / 500 mm.

図3では、巻出しロール1を出たポリイミドフィルムは2個の逆方向に回転している研磨ロール3、3’との間を擦過しながら通り、巻取りロール2に巻き取られる。ここでは面圧を高くするとフィルムの走行が困難となるので0.1〜5kg/500mmに面圧を設定しておくことが好ましい。   In FIG. 3, the polyimide film exiting the unwinding roll 1 is wound around the winding roll 2 while rubbing between two polishing rolls 3 and 3 ′ rotating in opposite directions. Here, if the surface pressure is increased, it becomes difficult to run the film. Therefore, the surface pressure is preferably set to 0.1 to 5 kg / 500 mm.

さらには、研磨処理を2回以上連続して処理する時には図4のように並べて処理することも可能である。   Furthermore, when the polishing process is continuously performed twice or more, the processes can be performed side by side as shown in FIG.

フィルムの片面のみを処理する場合は図1、図2あるいは図4のような方式で処理することができるが、図2あるいは図4の方が研磨ロールをフィルムに接触させる時の圧力をコントロールでき、効率的に凹凸を付与できるので好ましい。フィルムの両面を処理する場合は図3のように処理することによって得ることができる。これらの処理をする際にフィルムに与える張力としては10〜50N/mの範囲で調整することが好ましく、また処理速度は5〜40m/minの範囲で調整することが好ましい。   When processing only one side of the film, it can be processed by the method shown in FIG. 1, FIG. 2, or FIG. 4, but FIG. 2 or FIG. 4 can control the pressure when the polishing roll is brought into contact with the film. It is preferable because unevenness can be efficiently imparted. When processing both surfaces of a film, it can obtain by processing as shown in FIG. The tension applied to the film during these treatments is preferably adjusted in the range of 10 to 50 N / m, and the treatment speed is preferably adjusted in the range of 5 to 40 m / min.

研磨ロールは表面が硬く、粗い状態のものであればよいが、テープに研磨剤をコーティングした研磨テープを通常のロールに貼り付けたものも使用可能である。研磨テープとしては、例えばPETフィルムをベースとし、その上に研磨材粒子がコーティングされている形式のものが挙げられる。そのベースとなるPETフィルムの厚みは25〜75μmの範囲にあると取り扱いやすいので好ましい。研磨材粒子としては、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化セリウム、ダイヤモンドなどが挙げられ、これら研磨材粒子の粒度は粗面化したい程度に応じて0.1〜100μmの範囲にあることが好ましく、より好ましくは1〜50μmの範囲にあること、さらに好ましくは5〜40μmの範囲にあることである。この範囲より粒度が大きいとフィルムを荒らしすぎて強度などの機械特性を損ねる恐れがあったり、処理中にフィルムが破れたりして好ましくなく、この範囲より粒度が小さいと、フィルムと金属箔との接着性を改善する効果が低くなるので好ましくない。また、複数の研磨材による処理も可能であり、最初に粒度が10μm未満の研磨材を使用して、全面に細かいスジ状の凹凸を付けた後、次に粒度が10μm以上の研磨材を使用して、高低差が高く幅の大きいスジ状の凹凸を付ける方法もあり、またその逆も可能である。   The polishing roll has only to have a hard surface and a rough state, but a polishing tape in which a polishing agent is coated on a tape may be attached to a normal roll. Examples of the abrasive tape include a type in which a PET film is used as a base and abrasive particles are coated thereon. The thickness of the PET film as the base is preferably in the range of 25 to 75 μm because it is easy to handle. Examples of the abrasive particles include silicon carbide, aluminum oxide, chromium oxide, cerium oxide, and diamond. The particle size of these abrasive particles may be in the range of 0.1 to 100 μm depending on the degree of roughening. Preferably, it is in the range of 1 to 50 μm, and more preferably in the range of 5 to 40 μm. If the particle size is larger than this range, the film may be excessively roughened and the mechanical properties such as strength may be impaired, or the film may be broken during processing, and if the particle size is smaller than this range, the film and the metal foil may be damaged. Since the effect which improves adhesiveness becomes low, it is not preferable. In addition, it is possible to process with multiple abrasives. First, use an abrasive with a particle size of less than 10 μm, then apply fine streaks on the entire surface, then use an abrasive with a particle size of 10 μm or more. In addition, there is a method of providing streak-like irregularities having a high height difference and a large width, and vice versa.

スジ状の凹凸の方向は、フィルムの機械送り方向(MD)に平行に沿って付与させること、フィルムの幅方向(TD)に平行に沿って付与させること、また機械送り方向とは斜めに沿って付与させること等、どのように付与させても構わないが、図1〜4に示すようにフィルムの機械送り方向(MD)に平行に沿って付与させる方法が、最も工程的に簡易にできるので好ましい。   The direction of the stripe-shaped unevenness is given along the direction parallel to the machine feed direction (MD) of the film, given along the direction parallel to the width direction (TD) of the film, and obliquely with respect to the machine feed direction. However, as shown in FIGS. 1 to 4, the method of applying along the machine feed direction (MD) of the film can be simplified most easily. Therefore, it is preferable.

その他研磨方法については、研磨テープとして円盤状のディスクタイプのものを使用して、これをフィルム表面に回転させながら接触させることで、スジ状の凹凸をまったくのランダム方向に発生させても良い。なお、擦過処理の後にさらにプラズマ処理を施しても良い。   As for other polishing methods, a disc-shaped disk type may be used as the polishing tape, and this may be caused to contact the surface of the film while rotating, thereby causing streak-like irregularities to be generated in completely random directions. Note that plasma treatment may be further performed after the rubbing treatment.

本発明の金属積層用ポリイミドフィルムを製造するには、次いでポリイミドフィルムの擦過処理面に接着剤を積層するが、本発明においては、一般に公知の熱可塑性ポリイミド接着剤やエポキシ樹脂接着剤または、アクリル系接着剤が使用可能である。接着剤の積層方法としては、塗布、噴射、ラミネート等が挙げられる。   In order to produce the polyimide film for metal lamination of the present invention, an adhesive is then laminated on the scratched surface of the polyimide film. In the present invention, generally known thermoplastic polyimide adhesives, epoxy resin adhesives or acrylics are used. A system adhesive can be used. Examples of the method for laminating the adhesive include coating, spraying, and laminating.

更に、金属積層板を製造するには上記で得られた金属積層用ポリイミドフィルムの接着剤層の上に金属箔を積層する。このときの積層方法も公知の圧着、ラミネート等の方法が使用可能である。   Furthermore, in order to manufacture a metal laminated board, a metal foil is laminated | stacked on the adhesive bond layer of the polyimide film for metal lamination obtained above. As a lamination method at this time, a known method such as pressure bonding or lamination can be used.

このようにして擦過処理によりフィルム表面にスジ状の凹凸を付与することによって、このポリイミドフィルムの擦過処理面と銅箔に代表される金属箔とを接着剤を介して積層する際の接着性を著しく改善することが可能となる。   In this way, by applying streak-like irregularities to the film surface by rubbing treatment, the adhesiveness when laminating the rubbing surface of this polyimide film and a metal foil represented by copper foil via an adhesive is improved. Significant improvement is possible.

かくして、ポリイミドフィルムと金属箔との接着性が、接着剤の種類に関係なく実用的かつ十分に改善された金属積層板を得ることができる。   Thus, it is possible to obtain a metal laminate in which the adhesion between the polyimide film and the metal foil is practically and sufficiently improved regardless of the type of the adhesive.

以下に、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例中の各特性は、以下の方法により測定した値である。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In addition, each characteristic in an Example is the value measured with the following method.

[フィルムの表面粗さRzの測定]
JIS B−0601(2001)「表面粗さ」に基づき、レーザー顕微鏡により測定した。すなわちレーザーテック(株)製走査型レーザー顕微鏡「1LM15W」にて、ニコン製50倍レンズ(CF Plan Apo 50×/0.95 ∞/0 EPI)を用いて、「SURFACE2」モードにてフィルム表面を撮影後、三谷商事(株)製SALTにて、粗さ曲線を作成する時のカットオフ値を0.025mmに設定して、拡張表面粗さ0.01mm2以上の面積を解析し、Rz(十点平均粗さ)の値を読み取った。
[Measurement of surface roughness Rz of film]
Based on JIS B-0601 (2001) "Surface roughness", it was measured with a laser microscope. That is, the surface of the film was photographed in the “SURFACE2” mode using a scanning laser microscope “1LM15W” manufactured by Lasertec Co., Ltd. and using a Nikon 50 × lens (CF Plan Apo 50 × / 0.95∞ / 0 EPI). Later, at SALT manufactured by Mitani Shoji Co., Ltd., the cut-off value when creating the roughness curve was set to 0.025 mm, and the area with an extended surface roughness of 0.01 mm 2 or more was analyzed. The average roughness value was read.

[スジ状凹凸の高低差]
レーザーテック(株)製走査型レーザー顕微鏡「1LM15W」にて、ニコン製50倍レンズ(CF Plan Apo 50×/0.95 ∞/0 EPI)を用いて、「SURFACE1」モードにてフィルム表面を撮影・解析し得られたチャートから各スジ状凹凸の高低差(図5の5)を読み取った。代表値としては無作為に選んだ5点の平均値とし、最大値としては、「SURFACE2」モードで撮影後のSALTでの拡張表面粗さ0.01mm2以上の面積での解析による最大高さRyで確認した。
[Difference in the height of streaks]
Using the scanning laser microscope “1LM15W” manufactured by Lasertec Co., Ltd., using Nikon 50 × lens (CF Plan Apo 50 × / 0.95∞ / 0 EPI), the film surface was photographed in “SURFACE1” mode. The height difference (5 in FIG. 5) of each stripe-like unevenness was read from the chart obtained by analysis. The representative value is the average value of 5 points selected at random, and the maximum value is the maximum height Ry by analysis in the area of the extended surface roughness of 0.01 mm2 or more in SALT after photographing in the “SURFACE2” mode. Confirmed with.

[スジ状凹凸の幅]
レーザーテック(株)製走査型レーザー顕微鏡「1LM15W」にて、ニコン製50倍レンズ(CF Plan Apo 50×/0.95 ∞/0 EPI)を用いて、「SURFACE1」モードにてフィルム表面を撮影・解析し、各スジにLキー(左)とRキー(右)を定めてスジ幅(図5の6)を読み取った。この視野で見える中で最大幅のスジを代表値とした。
[Striped uneven width]
Using the scanning laser microscope “1LM15W” manufactured by Lasertec Co., Ltd., using Nikon 50 × lens (CF Plan Apo 50 × / 0.95∞ / 0 EPI), the film surface was photographed in “SURFACE1” mode. Analysis was performed, and the L key (left) and R key (right) were determined for each streak, and the streak width (6 in FIG. 5) was read. The maximum width streak that can be seen in this field of view was used as a representative value.

[スジ状凹凸の数(密度)]
レーザーテック(株)製走査型レーザー顕微鏡「1LM15W」にて、ニコン製50倍レンズ(CF Plan Apo 50×/0.95 ∞/0 EPI)を用いて、「SURFACE1」モードにてフィルム表面を撮影し、観察されているスジの数をカウントした。
[Number of stripe-shaped irregularities (density)]
The surface of the film was photographed in “SURFACE1” mode using a scanning laser microscope “1LM15W” manufactured by Lasertec Co., Ltd. and using a Nikon 50 × lens (CF Plan Apo 50 × / 0.95∞ / 0 EPI). The number of streaks that were observed was counted.

[接着力評価]
以下の3種類の接着剤を介して、ポリイミドフィルムの擦過処理面と銅箔(日鉱マテリアル(株)製電解銅箔BHY−13B−T 1oz)とを、以下に記載の条件で張り合わせた。
[Adhesive strength evaluation]
The rubbing process surface of a polyimide film and copper foil (Nikko Materials Co., Ltd. electrolytic copper foil BHY-13B-T 1oz) were bonded together on condition of the following through the following 3 types of adhesives.

1)熱可塑性ポリイミド接着剤(デュポン(株)製カプトン100KJ)・・成形温度330℃、成形時間30分で成形圧力10.2MPa(400mm□プレート)の条件で、ポリイミドフィルムの擦過処理面と銅箔とで接着剤を挟んで作製した。得られた積層板を10mm巾にカットし90°剥離を100mm/minで引っ張り測定を行った。   1) Thermoplastic polyimide adhesive (Kapton 100KJ, manufactured by DuPont Co., Ltd.) .. The surface of the polyimide film and the copper-treated surface are treated with a molding temperature of 330 ° C. and a molding time of 30 minutes and a molding pressure of 10.2 MPa (400 mm square plate). It was produced by sandwiching an adhesive with foil. The obtained laminate was cut to a width of 10 mm, and 90 ° peeling was measured at 100 mm / min.

2)アクリル系接着剤(デュポン(株)パイララックスLF010)・・上記熱可塑ポリイミド(カプトン100KJ)の代わりにこの接着剤を挟み込んで、160℃で30分のプレスを行い作製した。得られた積層板を10mmにカットし90°剥離を100mm/minで引っ張り測定を行った。   2) Acrylic adhesive (DuPont Co., Ltd. Pyrrax LF010). This adhesive was sandwiched in place of the thermoplastic polyimide (Kapton 100KJ), and pressed at 160 ° C. for 30 minutes. The obtained laminate was cut to 10 mm, and 90 ° peeling was measured at 100 mm / min.

3)エポキシ樹脂接着剤(東亜合成(株):アロンマイティBX−60)・・接着剤をバーコータでポリイミドフィルムの擦過加工面に塗布し、さらに接着剤の上に銅箔を載せて、100℃×2分乾燥しその後熱プレス(150℃×50kg/cmG×30分)硬化させ、得られた積層板を10mmにカットし90°剥離を100mm/minで引っ張り測定を行った。 3) Epoxy resin adhesive (Toa Gosei Co., Ltd .: Aronmighty BX-60) ··· Adhesive was applied to the rubbing surface of the polyimide film with a bar coater, and copper foil was further placed on the adhesive, and 100 ° C. After drying for 2 minutes and then curing with a hot press (150 ° C. × 50 kg / cm 2 G × 30 minutes), the obtained laminate was cut into 10 mm, and 90 ° peeling was measured at 100 mm / min.

[実施例1]
ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから得られるポリアミド酸に、平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ25μmのポリイミドフィルムに、粒度20μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して、図1の要領にて走行速度10m/minで擦過処理した。
[Example 1]
A polyamic acid obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether is mixed with about 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle size of 1 μm, and the resulting polyimide film having a thickness of 25 μm is mixed. Using a polishing tape using silicon carbide having a particle size of 20 μm as an abrasive, a rubbing treatment was performed at a running speed of 10 m / min in the manner shown in FIG.

得られたフィルムの静摩擦係数は0.46、表面粗さRzは、1.14μmであり、フィルム表面上に付与されたスジ状凹凸の高低差は0.54μm、最大高さRyは1.27μm、スジ状凹凸の最大幅は1.5μm、スジ状凹凸の数は219本/mm幅であった。   The resulting film had a static friction coefficient of 0.46, a surface roughness Rz of 1.14 μm, a height difference of streaks provided on the film surface of 0.54 μm, and a maximum height Ry of 1.27 μm. The maximum width of the stripe-shaped irregularities was 1.5 μm, and the number of the stripe-shaped irregularities was 219 / mm width.

アクリル系接着剤(パイララックス)を介してポリイミドフィルムの擦過処理面と積層した銅箔の接着強度を表1に示す。   Table 1 shows the adhesive strength of the copper foil laminated with the scratch-treated surface of the polyimide film via an acrylic adhesive (Pyralax).

[実施例2]
実施例1で得られたポリイミドフィルムの擦過処理面に、熱可塑性ポリイミドフィルムカプトン100KJ(Dupont製)を介し、330℃×30min×10.2MPa(400cm)の条件で銅箔をラミネートした。接着強度を表1に示す。
[Example 2]
Copper foil was laminated on the surface of the polyimide film obtained in Example 1 through a thermoplastic polyimide film Kapton 100KJ (manufactured by Dupont) under the conditions of 330 ° C. × 30 min × 10.2 MPa (400 cm 2 ). The adhesive strength is shown in Table 1.

[実施例3]
実施例1で得られたポリイミドフィルムの擦過処理面に、エポキシ樹脂接着剤(東亞合成製)を介し、150℃×50kg/cmG×30分の熱プレス条件で銅箔をラミネートした。接着強度を表1に示す。
[Example 3]
A copper foil was laminated on the scratch-treated surface of the polyimide film obtained in Example 1 through an epoxy resin adhesive (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) under hot pressing conditions of 150 ° C. × 50 kg / cm 2 G × 30 minutes. The adhesive strength is shown in Table 1.

[実施例4]
ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから得られるポリアミド酸に、平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ25μmのポリイミドフィルムに、粒度9μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して、実施例1と同様に図1の要領にて擦過処理した。
[Example 4]
A polyamic acid obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether is mixed with about 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle size of 1 μm, and the resulting polyimide film having a thickness of 25 μm is mixed. Using a polishing tape using silicon carbide having a particle size of 9 μm as an abrasive, the same as in Example 1 was rubbed as shown in FIG.

得られたフィルムの静摩擦係数は0.39、表面粗さRzは、1.39μmであり、フィルム表面上に付与されたスジ状凹凸の高低差は0.44μm、最大高さRyは1.12μm、スジ状凹凸の最大幅は1.1μm、スジ状凹凸の数は350本/mm幅であった。   The resulting film had a static friction coefficient of 0.39, a surface roughness Rz of 1.39 μm, a height difference of streaks formed on the film surface of 0.44 μm, and a maximum height Ry of 1.12 μm. The maximum width of the stripe-shaped irregularities was 1.1 μm, and the number of the stripe-shaped irregularities was 350 / mm width.

得られた擦過処理フィルム面に、アクリル系接着剤を介して銅箔を張り合わせ、接着強度を測定した結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of bonding the copper foil to the obtained scratch-treated film surface via an acrylic adhesive and measuring the adhesive strength.

[実施例5]
ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから得られるポリアミド酸に平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに、粒度9μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して、実施例1と同様に図1の要領にて擦過処理した。
[Example 5]
Polyimide film obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether is mixed with about 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle diameter of 1 μm to produce a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. In addition, a polishing tape using silicon carbide having a particle size of 9 μm as an abrasive was used to carry out a rubbing treatment in the same manner as in Example 1 as shown in FIG.

得られたフィルムの静摩擦係数は0.52、表面粗さRzは、1.18μmであり、フィルム表面上に付与されたスジ状凹凸の高低差は0.64μm、最大高さRyは1.32μm、スジ状凹凸の最大幅は1.7μm、スジ状凹凸の数は211本/mm幅であった。   The resulting film had a static friction coefficient of 0.52 and a surface roughness Rz of 1.18 μm. The height difference of streaks provided on the film surface was 0.64 μm and the maximum height Ry was 1.32 μm. The maximum width of the stripe-shaped irregularities was 1.7 μm, and the number of the stripe-shaped irregularities was 211 / mm width.

得られた擦過処理フィルム面に、アクリル系接着剤を介して銅箔を積層し、接着力を測定した結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of laminating a copper foil on the obtained scratch-treated film surface via an acrylic adhesive and measuring the adhesive force.

[実施例6]
ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから得られるポリアミド酸に平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに、粒度40μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して、図1の要領にて走行速度10m/min、処理面圧3kg/500mmで擦過処理した。
[Example 6]
Polyimide film obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether is mixed with about 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle diameter of 1 μm to produce a polyimide film having a thickness of 12.5 μm. In addition, a polishing tape using silicon carbide having a particle size of 40 μm as an abrasive was used for rubbing at a running speed of 10 m / min and a treatment surface pressure of 3 kg / 500 mm in the manner shown in FIG.

得られたフィルムの静摩擦係数は0.44、表面粗さRzは7.35μmであり、フィルム表面上に付与されたスジ状凹凸の高低差は2.38μm、最大高さRyは8.38μm、スジ状凹凸の最大幅は17.6μm、スジ状凹凸の数は180本/mm幅であった。   The resulting film had a coefficient of static friction of 0.44, a surface roughness Rz of 7.35 μm, a height difference of streaks provided on the film surface of 2.38 μm, a maximum height Ry of 8.38 μm, The maximum width of the stripe-shaped irregularities was 17.6 μm, and the number of stripe-shaped irregularities was 180 / mm width.

得られた擦過処理フィルム面に、アクリル系接着剤を介して銅箔を積層し、接着力を測定した結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of laminating a copper foil on the obtained scratch-treated film surface via an acrylic adhesive and measuring the adhesive force.

[実施例7]
ピロメリット酸二無水物70モル%、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物30モル%と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル80モル%、パラフェニレンジアミン20モル%とから得られるポリアミド酸に、平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ25μmのポリイミドフィルムに、粒度20μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して、実施例1と同様に図1の要領にて擦過処理した。
[Example 7]
From 70 mol% of pyromellitic dianhydride, 30 mol% of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 80 mol% of 4,4′-diaminodiphenyl ether, and 20 mol% of paraphenylenediamine. About 0.1 wt% of calcium hydrogen phosphate having an average particle diameter of 1 μm is mixed in the resulting polyamic acid, and a polishing tape using silicon carbide having a particle diameter of 20 μm as an abrasive material is manufactured on a polyimide film having a thickness of 25 μm. In the same manner as in Example 1, it was abraded in the manner shown in FIG.

得られたフィルムの静摩擦係数は0.33、表面粗さRzは、1.25μmであり、フィルム表面上に付与されたスジ状凹凸の高低差は0.72μm、最大高さRyは1.38μm、スジ状凹凸の最大幅は1.7μm、スジ状凹凸の数は225本/mm幅であった。   The resulting film had a coefficient of static friction of 0.33, a surface roughness Rz of 1.25 μm, a height difference of streaks formed on the film surface of 0.72 μm, and a maximum height Ry of 1.38 μm. The maximum width of the stripe-shaped irregularities was 1.7 μm, and the number of stripe-shaped irregularities was 225 / mm width.

得られた擦過処理フィルム面に、アクリル系接着剤を介して銅箔を積層し、接着力を測定した結果を表1に示す。   Table 1 shows the results of laminating a copper foil on the obtained scratch-treated film surface via an acrylic adhesive and measuring the adhesive force.

[実施例8]
実施例7の擦過処理フィルム面に、熱可塑ポリイミドを介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。
[Example 8]
A copper foil was laminated on the surface of the scratch-treated film of Example 7 via thermoplastic polyimide. The results are shown in Table 1.

[実施例9]
実施例7の擦過処理フィルム面に、エポキシ系接着剤を介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。
[Example 9]
A copper foil was laminated on the surface of the scratch-treated film of Example 7 via an epoxy adhesive. The results are shown in Table 1.

[実施例10]
ピロメリット酸二無水物70モル%、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物30モル%と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル80モル%、パラフェニレンジアミン20モル%とから得られるポリアミド酸に、平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ12.5μmのポリイミドフィルムに、図1の要領にて走行速度10m/min、処理面圧3kg/500mmで、最初に粒度5μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して擦過処理し、続いて粒度40μmの炭化ケイ素を研磨材として用いた研磨テープを使用して擦過処理した。
[Example 10]
From 70 mol% of pyromellitic dianhydride, 30 mol% of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 80 mol% of 4,4′-diaminodiphenyl ether, and 20 mol% of paraphenylenediamine. About 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle diameter of 1 μm is mixed in the obtained polyamic acid, and the resulting polyimide film having a thickness of 12.5 μm has a running speed of 10 m / min, as shown in FIG. First, the surface pressure is 3 kg / 500 mm, and the surface is first abraded with an abrasive tape using silicon carbide with a particle size of 5 μm as an abrasive, and then the abrasive tape using silicon carbide with a particle size of 40 μm as an abrasive is used. Scraping was performed.

得られたフィルムの静摩擦係数は0.35、表面粗さRzは5.34μmであり、フィルム表面上に付与されたスジ状凹凸の高低差は2.23μm、最大高さRyは6.67μm、スジ状凹凸の最大幅は9.5μm、スジ状凹凸の数は268本/mm幅であった。   The resulting film had a coefficient of static friction of 0.35, a surface roughness Rz of 5.34 μm, a height difference of streaks provided on the film surface of 2.23 μm, a maximum height Ry of 6.67 μm, The maximum width of the stripe-shaped unevenness was 9.5 μm, and the number of stripe-shaped unevenness was 268 / mm width.

得られた擦過フィルム面に、アクリル系接着剤を介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。   A copper foil was laminated on the obtained scratched film surface via an acrylic adhesive. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルから得られるポリアミド酸に、平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ25μmのポリイミドフィルムに、擦過処理を行わないでアクリル系接着剤を介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
A polyamic acid obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether is mixed with about 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle size of 1 μm, and the resulting polyimide film having a thickness of 25 μm is mixed. The copper foil was laminated through an acrylic adhesive without rubbing. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
比較例1のアクリル系接着剤の代わりに、熱可塑性ポリイミドを介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
Instead of the acrylic adhesive of Comparative Example 1, a copper foil was laminated via a thermoplastic polyimide. The results are shown in Table 1.

[比較例3]
比較例1のアクリル系接着剤の代わりに、エポキシ系接着剤を介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
Instead of the acrylic adhesive of Comparative Example 1, a copper foil was laminated via an epoxy adhesive. The results are shown in Table 1.

[比較例4]
ピロメリット酸二無水物70モル%、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物30モル%と4,4’−ジアミノジフェニルエーテル80モル%、パラフェニレンジアミン20モル%とから得られるポリアミド酸に、平均粒径1μmのリン酸水素カルシウムを約0.1重量%混入させ、製造された厚さ12.5μmをポリイミドフィルムに、擦過処理を行わないでアクリル系接着剤を介して銅箔を積層した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 4]
From 70 mol% of pyromellitic dianhydride, 30 mol% of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 80 mol% of 4,4′-diaminodiphenyl ether, and 20 mol% of paraphenylenediamine. The resulting polyamic acid is mixed with about 0.1% by weight of calcium hydrogen phosphate having an average particle diameter of 1 μm, and the produced thickness of 12.5 μm is applied to the polyimide film via an acrylic adhesive without rubbing. A copper foil was laminated. The results are shown in Table 1.

Figure 2008056756
Figure 2008056756

本発明の金属積層用ポリイミドフィルムは、優れた接着性改善効果を奏するため、FPC、TAB用キャリヤテープ、リードフレーム固定用テープなどの用途に対し好適に使用することができる。   Since the polyimide film for metal lamination of the present invention has an excellent adhesive improvement effect, it can be suitably used for applications such as FPC, TAB carrier tape, lead frame fixing tape and the like.

フィルム表面にスジ状の凹凸を形成させる方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the method of forming a stripe-shaped unevenness | corrugation on the film surface. フィルム表面にスジ状の凹凸を形成させる他の方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other method of forming a stripe-shaped unevenness | corrugation on the film surface. フィルム表面にスジ状の凹凸を形成させるさらに他の方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the further another method of forming a stripe-shaped unevenness | corrugation on the film surface. フィルム表面にスジ状の凹凸を形成させるまたさらに他の方法を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows another method of forming a stripe-shaped unevenness | corrugation on the film surface. フィルム表面のスジ状の凹凸を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the stripe-shaped unevenness | corrugation on the film surface.

符号の説明Explanation of symbols

1:巻出しロール
2:巻取りロール
3,3’:研磨ロール
4:押さえロール
5:スジ状凹凸の高低差
6:スジ状凹凸の幅
7:凸部
8:凹部
9:フィルム表面位置
1: Unwinding roll 2: Winding roll 3, 3 ′: Polishing roll 4: Pressing roll 5: Height difference of stripe-like unevenness 6: Width of stripe-like unevenness 7: Convex part 8: Concave part 9: Film surface position

Claims (12)

表面を擦過処理することによりスジ状凹凸を形成してなるポリイミドフィルムの前記擦過処理面に、接着剤を積層してなることを特徴とする金属積層用ポリイミドフィルム。 A metal-laminating polyimide film, wherein an adhesive is laminated on the rubbing-treated surface of a polyimide film in which streaks are formed by rubbing the surface. 前記擦過処理面のJIS B―0601(2001)に準じて測定したフィルム表面粗さRzが0.7〜10μmにあることを特徴とする請求項1に記載の金属積層用ポリイミドフィルム。 2. The polyimide film for metal lamination according to claim 1, wherein a film surface roughness Rz measured according to JIS B-0601 (2001) of the scratched surface is 0.7 to 10 μm. 前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の高低差が0.05〜10μmの範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の金属積層用ポリイミドフィルム。 3. The polyimide film for metal lamination according to claim 1, wherein the difference in level of the stripe-shaped unevenness on the scratched surface is in the range of 0.05 to 10 μm. 前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の高低差の最大高さRyが4〜10μmの範囲にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルム。 4. The metal-laminated polyimide film according to claim 1, wherein the maximum height Ry of the height difference of the stripe-shaped unevenness on the scratched surface is in the range of 4 to 10 μm. 前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の最大幅が0.1〜20μmの範囲にあることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルム。 5. The metal-laminated polyimide film according to claim 1, wherein the maximum width of the stripe-shaped unevenness on the scratched surface is in the range of 0.1 to 20 μm. 前記擦過処理面におけるスジ状凹凸の数が0.1〜10000本/mmの範囲にあることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルム。 The number of stripe-shaped unevenness | corrugations in the said rubbing process surface exists in the range of 0.1-10000 piece / mm, The polyimide film for metal lamination | stacking of any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 表面に微細な研磨材粒子がコーティングされた研磨テープでポリイミドフィルムの表面を擦過処理し、このポリイミドフィルムの擦過処理面に接着剤を積層することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルムの製造方法。 The surface of the polyimide film is rubbed with a polishing tape having fine abrasive particles coated on the surface, and an adhesive is laminated on the rubbed surface of the polyimide film. The manufacturing method of the polyimide film for metal lamination | stacking of clause. 前記研磨材粒子が、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化セリウム、ダイヤモンドの各粒子のいずれかであることを特徴とする請求項7に記載の金属積層用ポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a metal-laminated polyimide film according to claim 7, wherein the abrasive particles are any of silicon carbide, aluminum oxide, chromium oxide, cerium oxide, and diamond. 前記研磨材粒子の粒度が0.1〜100μmであることを特徴とする請求項7または8に記載の金属積層用ポリイミドフィルムの製造方法。 The method for producing a polyimide film for metal lamination according to claim 7 or 8, wherein the abrasive particles have a particle size of 0.1 to 100 µm. 1段階目で粒度0.1μm以上10μm未満の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理した後、2段階目で粒度10μm以上100μm以下の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルムの製造方法。 In the first stage, the surface of the polyimide film is abraded with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 0.1 μm or more and less than 10 μm are disposed, and then in the second stage, polyimide is coated with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 10 μm or more and 100 μm or less are disposed. The method for producing a polyimide film for metal lamination according to any one of claims 7 to 9, wherein the film surface is abraded. 1段階目で粒度10μm以上100μm以下の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理した後、2段階目で粒度0.1μm以上10μm未満の研磨材粒子を配置した研磨テープでポリイミドフィルム表面を擦過処理することを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルムの製造方法。 In the first stage, the surface of the polyimide film is abraded with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 10 μm or more and 100 μm or less are arranged, and then in the second stage, the polyimide is coated with an abrasive tape in which abrasive particles having a particle size of 0.1 μm or more and less than 10 μm are arranged. The method for producing a polyimide film for metal lamination according to any one of claims 7 to 9, wherein the film surface is abraded. 請求項1〜6のいずれか1項に記載の金属積層用ポリイミドフィルムの接着剤層の上に金属箔を積層したことを特徴とする金属積層板。 A metal laminate, wherein a metal foil is laminated on the adhesive layer of the polyimide film for metal lamination according to any one of claims 1 to 6.
JP2006233089A 2006-08-30 2006-08-30 Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate Pending JP2008056756A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006233089A JP2008056756A (en) 2006-08-30 2006-08-30 Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006233089A JP2008056756A (en) 2006-08-30 2006-08-30 Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008056756A true JP2008056756A (en) 2008-03-13

Family

ID=39239892

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006233089A Pending JP2008056756A (en) 2006-08-30 2006-08-30 Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008056756A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017137418A (en) * 2016-02-03 2017-08-10 東レ・デュポン株式会社 Adhesive-fitted polyimide film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017137418A (en) * 2016-02-03 2017-08-10 東レ・デュポン株式会社 Adhesive-fitted polyimide film

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2016170779A1 (en) Method for producing metal-clad laminate and metal-clad laminate using the same
US20090022939A1 (en) Adhesive Film
JP7192799B2 (en) stiffener
JP2008068406A (en) Flexible metal laminate and flexible printed circuit board
JP2010103269A (en) Multilayer circuit board and manufacturing method thereof
JP5095142B2 (en) Flexible printed wiring board substrate and manufacturing method thereof
JP2008056756A (en) Polyimide film for metal lamination, method for producing the same, and metal-laminated plate
JP4859462B2 (en) Method for producing flexible laminate
JP4525338B2 (en) Slippery metal laminate
JP6412012B2 (en) Multilayer flexible metal-clad laminate and manufacturing method thereof
JPWO2017010419A1 (en) Laminated body and method for producing the same
JP2008000978A (en) Easily slippable metal laminated body, and its manufacturing method
TW201902695A (en) Metal-clad laminated board and method of manufacturing metal-clad laminated board
JP4635603B2 (en) Polyimide film
JP2008001793A (en) Polyimide film and its manufacturing process
JP2017170728A (en) Polymer composite film
JP4470205B2 (en) Manufacturing method of slippery metal laminate
WO2007148395A1 (en) Slippery metal laminate and process for producing the same
WO2005063467A1 (en) Method for producing flexible laminate
JP4525337B2 (en) Manufacturing method of slippery polyimide film
WO2007148394A1 (en) Polyimide film and process for producing the same
KR20090023406A (en) Polyimide film and process for producing the same
KR20060124839A (en) Release film
KR20090021285A (en) Slippery metal laminate and process for producing the same
JP2013176931A (en) Single-sided metal-clad laminated sheet, and manufacturing method of the same