JP2008050567A - Polyimide resin, polyimide resin layer using the same, and optical compensation member - Google Patents

Polyimide resin, polyimide resin layer using the same, and optical compensation member Download PDF

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Akio Matsutani
晃男 松谷
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匡俊 長谷川
Takahiro Akinaga
隆宏 秋永
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyimide layer exhibiting a small variation of retardation from a long wave length to a short wave length in the visible light region. <P>SOLUTION: The polyimide resin having high transparency and a small variation of retardation from a long wave length to a short wave length in a visible light region is composed of 4,4'-diamino-2,2'-bis(trifluoromethyl)biphenyl (TFMB) contained therein, an aliphatic acid dianhydride, and an aliphatic diamine for other parts. According to the polyimide resin, the coating resin layer can be provided by dissolving the optical material having excellent characteristcs inherent in a polyimide resin, and the above optical properties. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、優れた光学特性を有するポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、光学補償部材に関する。   The present invention relates to a polyimide resin having excellent optical characteristics, a polyimide resin layer using the same, and an optical compensation member.

近年、液晶表示装置には、光学補償を目的として位相差フィルムが使用されるのが一般的である。従来STN液晶の補償にポリカーボネートが使用されていたが、液晶がTFTモードへシフトしていくことにより、優れた高透明性を有し、可視光領域において長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さい(以下、この様な特性を低波長分散特性と言うことがある)光学補償部材が必要とされるようになってきた。また他の用途でもこの様な光学特性が望まれる場合が増えている。   In recent years, a retardation film is generally used in a liquid crystal display device for the purpose of optical compensation. Conventionally, polycarbonate was used for compensation of STN liquid crystal, but as the liquid crystal shifts to TFT mode, it has excellent high transparency and changes in retardation from long wavelength to short wavelength in the visible light region. An optical compensation member having a small amount (hereinafter, such a characteristic is sometimes referred to as a low wavelength dispersion characteristic) has been required. In addition, there are increasing demands for such optical characteristics in other applications.

この様な要求に対し、低波長分散特性に優れた、環状オレフィン系高分子が用いられている。但し、この高分子は、位相差発現性が小さいために、補償のために要するフィルムの膜厚が大きくなるという問題があった。   In response to such demands, cyclic olefin polymers having excellent low wavelength dispersion characteristics are used. However, this polymer has a problem that the film thickness required for compensation increases because of the small retardation development.

一方、従来位相差フィルムとして延伸処理した高分子フィルムが使用されてきたが、この代替として、例えばポリイミド樹脂を用いたコーティング層を使用することが提案されている(例えば、特許文献1,2参照)。フィルムをコーティング層とすることで、薄型化が可能な上、フィルム製造・偏光板への貼合工程が省略できることから、製造コストを抑えることが可能となる。   On the other hand, a stretched polymer film has been used as a conventional retardation film, but as an alternative, for example, a coating layer using a polyimide resin has been proposed (see, for example, Patent Documents 1 and 2). ). By using the film as a coating layer, it is possible to reduce the thickness, and the manufacturing process and the bonding process to the polarizing plate can be omitted, so that the manufacturing cost can be suppressed.

しかしながら、光学補償の際に、従来のポリイミド樹脂を用いてコーティング層を形成した場合、可視光領域において長波長から短波長までのレターデーションの変化量が大きく、上記の要求を満たすことができなかった。特に、このようなレターデーションの変化量の大きいポリイミド樹脂層を使った液晶表示装置で黒表示をすると、バックライトからの光を完全に遮光することができず、コントラストや諧調表示の低下を招くおそれがあった。
特表平8-511812号公報 特表2000−511296号公報
However, when a coating layer is formed using a conventional polyimide resin during optical compensation, the amount of retardation change from a long wavelength to a short wavelength in the visible light region is large, and the above requirement cannot be satisfied. It was. In particular, when black display is performed on a liquid crystal display device using such a polyimide resin layer having a large amount of retardation change, the light from the backlight cannot be completely blocked, resulting in a decrease in contrast and gradation display. There was a fear.
Japanese translation of PCT publication No. 8-511812 Special table 2000-511296

本発明は、従来技術が有する上記課題に鑑みてなされたものであり、可視光領域おいて長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さく、尚かつ位相差発現性の優れたポリイミド樹脂層を提供することを目的とする。更には特に短波長側の変化量の小さい性質を有するポリイミド樹脂層を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and is a polyimide resin that has a small amount of change in retardation from a long wavelength to a short wavelength in the visible light region and that has excellent retardation. The purpose is to provide a layer. It is another object of the present invention to provide a polyimide resin layer having a property that the change amount on the short wavelength side is particularly small.

そこで、本発明者らは鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
(i)下記数式1且つ、下記数式2を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂層。
As a result of intensive studies, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention
(I) A polyimide resin layer satisfying the following formula 1 and the following formula 2.

1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式2
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nx で表される値である。)
(ii)下記一般式(0)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、(i)記載のポリイミド樹脂層。
1.00 ≦ Re (450) / Re (550) ≦ 1.05: Formula 1
(Re (λ) is a layer formed by using a polyimide resin with the horizontal plane as the reference plane, and is inclined with respect to the reference plane by 40 ° about the fast axis of the layer, while the wavelength λnm (In-plane retardation (nm) in a plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the layer is formed, measured by irradiating measurement light from the direction perpendicular to the reference plane.)
0.010 ≦ Δn ≦ 0.060: Formula 2
(Here, birefringence (Δn) is the refractive index in the plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the polyimide layer is formed in the same manner as described above, nx and ny, and the refractive index in the direction perpendicular to this plane is nz. In this case, Δn = [(nx + ny) / 2] −nx.)
(Ii) The polyimide resin layer according to (i), which is formed by containing a unit represented by the following general formula (0).

Figure 2008050567
(Qは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているQの炭素が脂肪族炭素である。またPは2価の芳香族基又は脂肪族基である。)
(III) 下記一般式(1)で表されるユニット、及び/又は、下記一般式(2)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、(i)又は(ii)記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Q includes a ring in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of Q to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon. P is a divalent aromatic group or aliphatic carbon. A group.)
(III) It is formed by containing a unit represented by the following general formula (1) and / or a unit represented by the following general formula (2), (i) or (ii) The polyimide resin layer described.

Figure 2008050567
Figure 2008050567

Figure 2008050567
(ここでRは、炭素数が1〜20である炭化水素からなり、イミド基が結合している炭素が、脂肪族炭素であり、Rはイミド基が結合している炭素が芳香族炭素である炭化水素である。)
(iv) 一般式(2)が、下記一般式(4)であることを特徴とする、(iii)記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Here, R 1 is composed of a hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms, the carbon to which the imide group is bonded is aliphatic carbon, and R 2 is the carbon to which the imide group is bonded is aromatic. It is a hydrocarbon that is carbon.)
(Iv) The polyimide resin layer according to (iii), wherein the general formula (2) is the following general formula (4).

Figure 2008050567
(v) 一般式(1)で表されるユニットのモル分率をA、一般式(2)で表されるユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.10≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.90
が成り立つ(但し、0.6≦A+B≦1.0)ことを特徴とする(iii)または(iv)に記載のポリイミド樹脂層。
(vi) 一般式(1)で表されるユニットにおいて、Rが一般式群(5)で表される群から選ばれる1以上の構造であることを特徴とする(iii)〜(v)のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(V) When the molar fraction of the unit represented by the general formula (1) is represented as A and the molar fraction of the unit represented by the general formula (2) is represented as B,
0.10 ≦ A ≦ 0.50
and,
0.50 ≦ B ≦ 0.90
Is satisfied (provided that 0.6 ≦ A + B ≦ 1.0). The polyimide resin layer according to (iii) or (iv).
(Vi) In the unit represented by the general formula (1), R 1 is one or more structures selected from the group represented by the general formula group (5) (iii) to (v) The polyimide resin layer according to any one of the above.

Figure 2008050567
(但し、式中のXは、O、SO、CH、C(CH、C(CFから選ばれる置換基であり、式中のYはそれぞれ独立して、H、F、Cl、Br,CF、CCl、CBrから選ばれる置換基である。)
(vii) 一般式(1)で表されるユニットにおいて、Rが一般式(6)で表される構造であることを特徴とする(iii)〜(vi)のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Wherein, X is a substituent selected from O, SO 2 , CH 2 , C (CH 3 ) 2 , C (CF 3 ) 2 , and Y in the formula is independently H, This is a substituent selected from F, Cl, Br, CF 3 , CCl 3 and CBr 3. )
(Vii) The polyimide resin according to any one of (iii) to (vi), wherein in the unit represented by the general formula (1), R 1 has a structure represented by the general formula (6) layer.

Figure 2008050567
(viii) 一般式(1)で表されるユニットのモル分率をA、一般式(2)で表されるユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.15≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.85
が成り立つ(但し、0.65≦A+B≦1.0)ことを特徴とする(vii)に記載のポリイミド樹脂層。
(ix) 下記一般式(7)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする(i)または(ii)記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Viii) When the mole fraction of the unit represented by the general formula (1) is represented as A and the mole fraction of the unit represented by the general formula (2) is represented as B,
0.15 ≦ A ≦ 0.50
and,
0.50 ≦ B ≦ 0.85
Is satisfied (provided that 0.65 ≦ A + B ≦ 1.0). The polyimide resin layer according to (vii).
(Ix) The polyimide resin layer according to (i) or (ii), which is formed by containing a unit represented by the following general formula (7).

Figure 2008050567
(Rは、シクロブタンの炭素に結合しており、それぞれ独立した炭素数1〜12の脂肪族基又は芳香族基である。Cは、2価の芳香族基又は脂肪族基を表す。)
(x) さらに、下記一般式(8)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする(ix)記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(R is bonded to the carbon of cyclobutane and is an independent aliphatic group or aromatic group having 1 to 12 carbon atoms. C represents a divalent aromatic group or aliphatic group.)
(X) The polyimide resin layer according to (ix), further comprising a unit represented by the following general formula (8).

Figure 2008050567
(Dは、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているDの炭素が脂肪族炭素である。ただし、置換または無置換のシクロブタン残基を除く。Cは前記に同じ。)
(xi)
一般式(7)で表されるユニットにおいて、Rがメチル基であることを特徴とする、(ix)または(x)記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(D includes a cyclic group in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of D to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon, provided that a substituted or unsubstituted cyclobutane residue. (C is the same as above.)
(Xi)
The polyimide resin layer according to (ix) or (x), wherein in the unit represented by the general formula (7), R is a methyl group.

(xii) 下記一般式(9)で表されるユニットと、下記一般式群(10)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、(x)または(xi)記載のポリイミド樹脂層。   (Xii) It is formed by containing a unit represented by the following general formula (9) and a unit represented by the following general formula group (10), described in (x) or (xi) Polyimide resin layer.

Figure 2008050567
Figure 2008050567

Figure 2008050567
(Cは、2価の芳香族基又は脂肪族基を表す。)
(xiii)
厚さが1μm以上、40μm未満であることを特徴とする(i)〜(xii)のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
(xiv) (i)〜(xiii)の何れかに記載のポリイミド樹脂層と、プラスティックフィルム基盤からなることを特徴とする、積層体。
(xv) (xiv)に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を塗布、乾燥して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
(xvi) (xiv)に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を転写して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
(xvii) (i)〜(xvi)のいずれかに記載のポリイミド樹脂層又は積層体を含有して形成されることを特徴とする、光学補償部材。
(xviii) ポリイミド樹脂の固形成分濃度が25重量%であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、90℃で20分間乾燥後、さらに、200℃で20分間乾燥させて形成した膜厚11.9μmのコーティング層が、下記数式3且つ、下記数式4を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
Figure 2008050567
(C represents a divalent aromatic group or an aliphatic group.)
(Xiii)
Thickness is 1 micrometer or more and less than 40 micrometers, The polyimide resin layer in any one of (i)-(xii) characterized by the above-mentioned.
(Xiv) A laminate comprising the polyimide resin layer according to any one of (i) to (xiii) and a plastic film substrate.
(Xv) A method for producing a laminate, wherein the laminate according to (xiv) is formed by applying and drying a polyimide resin layer on a plastic film substrate.
(Xvi) A method for producing a laminate, wherein the laminate according to (xiv) is formed by transferring a polyimide resin layer onto a plastic film substrate.
(Xvii) An optical compensation member comprising the polyimide resin layer or laminate according to any one of (i) to (xvi).
(Xviii) A film thickness formed by applying a dimethylformamide solution having a polyimide resin solid component concentration of 25% by weight on a glass substrate, drying at 90 ° C. for 20 minutes, and further drying at 200 ° C. for 20 minutes. A polyimide resin characterized in that a coating layer of 11.9 μm satisfies the following formula 3 and the following formula 4.

1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式3
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式4
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nx で表される値である。)
に関する。
1.00 ≦ Re (450) / Re (550) ≦ 1.05: Formula 3
(Re (λ) is a layer formed by using a polyimide resin with the horizontal plane as the reference plane, and is inclined with respect to the reference plane by 40 ° about the fast axis of the layer, while the wavelength λnm (In-plane retardation (nm) in a plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the layer is formed, measured by irradiating measurement light from the direction perpendicular to the reference plane.)
0.010 ≦ Δn ≦ 0.060: Formula 4
(Here, birefringence (Δn) is the refractive index in the plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the polyimide layer is formed in the same manner as described above, nx and ny, and the refractive index in the direction perpendicular to this plane is nz. In this case, Δn = [(nx + ny) / 2] −nx.)
About.

本発明のポリイミド樹脂層は、可視光領域において長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さく、尚かつ位相差発現性が優れており、近年要求される光学特性を満たした光学層を提供することが可能となる。   The polyimide resin layer of the present invention is an optical layer that has a small amount of change in retardation from a long wavelength to a short wavelength in the visible light region, has excellent phase difference, and satisfies recently required optical characteristics. It becomes possible to provide.

特に本発明のポリイミド樹脂層を、液晶表示装置等の光学補償部材として使用した場合、黒表示時等におけるバックライトからの光の漏れを低減することができ(特に短波長側の色もれが大きくなることを抑制する効果がある)、コントラストや階調表示の低下を低減することが可能となり、有用である。   In particular, when the polyimide resin layer of the present invention is used as an optical compensation member for a liquid crystal display device or the like, leakage of light from the backlight during black display or the like can be reduced (especially color leakage on the short wavelength side). This is useful because it is possible to reduce the decrease in contrast and gradation display.

また、本発明のポリイミド樹脂層は、ポリイミド樹脂に由来する耐熱性、寸法安定性等の各種優れた特性をも有しており、有用である。   Moreover, the polyimide resin layer of the present invention is useful because it has various excellent properties such as heat resistance and dimensional stability derived from the polyimide resin.

本発明は、下記数式1を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂に関するものである。   The present invention relates to a polyimide resin characterized by satisfying the following mathematical formula 1.

1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
上記数式の上限は、更に好ましくは1.04以下、特に1.03以下であることが好ましい。数式1を満たしていることにより、可視光領域おいて長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さい性質を示す樹脂層となり、従来のポリイミド樹脂を使用して形成した層に比べ、液晶表示装置等の光学補償部材として使用した場合に、黒表示時等におけるバックライトからの光の漏れを低減することができ、コントラストや階調表示の低下を低減することが可能となる。
1.00 ≦ Re (450) / Re (550) ≦ 1.05: Formula 1
The upper limit of the above mathematical formula is more preferably 1.04 or less, and particularly preferably 1.03 or less. By satisfying Equation 1, the resin layer exhibits a property that changes in retardation from a long wavelength to a short wavelength in the visible light region is small, and compared with a layer formed using a conventional polyimide resin, When used as an optical compensation member for a display device or the like, leakage of light from the backlight during black display or the like can be reduced, and reduction in contrast and gradation display can be reduced.

尚、数式1で使用するレターデーション値(Re(λ))は、図1に示した様に水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、”層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)”を表す。ただし、ポリイミド樹脂を用いて形成した層は、無延伸の層であるため、層の遅相軸を軸として傾けた場合と、進相軸を軸として傾けた場合とでは測定値は同じであった。この値は、ポリイミド樹脂を液晶表示装置等の光学補償層として使用し、黒表示時をさせた際の、バックライトからの光の漏れを低減する性能を評価する為に有効な指標となる。尚、実際の測定には、Kobra−WR(王子計測)を使用した。   In addition, the retardation value (Re (λ)) used in Equation 1 is a layer formed using a polyimide resin when the horizontal plane is the reference plane as shown in FIG. Measured by irradiating measurement light with a wavelength of λ nm from the direction perpendicular to the reference plane, measured in a plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the layer is formed. Retardation (nm) ". However, since the layer formed using polyimide resin is an unstretched layer, the measured value is the same when tilted about the slow axis of the layer and tilted about the fast axis. It was. This value is an effective index for evaluating the performance of reducing leakage of light from the backlight when a polyimide resin is used as an optical compensation layer of a liquid crystal display device or the like and black display is performed. For actual measurement, Kobra-WR (Oji measurement) was used.

ここにおいて、”Re(450)/Re(550)”として表される値は、樹脂におけるレターデーションの波長依存性を示す指標として用いることができる。本発明においては、樹脂の組成を適宜選択することにより、所望の値に調整することができる。   Here, the value represented as “Re (450) / Re (550)” can be used as an index indicating the wavelength dependence of retardation in the resin. In this invention, it can adjust to a desired value by selecting the composition of resin suitably.

また、本発明のポリイミド樹脂は、上記数式1を満たすものであると同時に数式2を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂に関するものである。   Moreover, the polyimide resin of this invention is related with the polyimide resin characterized by satisfy | filling Numerical formula 2 simultaneously with satisfy | filling Numerical formula 1 above.

0.010≦△n≦0.060 :数式2
ここで複屈折(△n)とは、上記と同様にポリイミド樹脂層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、下記式で示される値である。尚、実際には、Kobra−WRにて、40°傾けた状態と傾けなかった状態で位相差値を求め、これを用いてKobra−RE(王子計測)により算出した。
0.010 ≦ Δn ≦ 0.060: Formula 2
Here, birefringence (Δn) is the refractive index in the plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the polyimide resin layer is formed in the same manner as described above, nx and ny, and the refractive index in the direction perpendicular to this plane When nz, it is a value represented by the following formula. Actually, the phase difference value was obtained with the Kobra-WR in a state where it was tilted by 40 ° and in a state where it was not tilted, and this was used to calculate the phase difference value using Kobra-RE (prince measurement).

△n=[(nx+ny)/2]−nz
本発明においては、樹脂の組成を適宜選択することにより、△nを所望の値に調整することができる。
Δn = [(nx + ny) / 2] −nz
In the present invention, Δn can be adjusted to a desired value by appropriately selecting the composition of the resin.

上記特性を有するポリイミド樹脂を提供する上で、本発明は、一般式(0)で表される構造を含有していることが好ましい。   When providing the polyimide resin which has the said characteristic, it is preferable that this invention contains the structure represented by General formula (0).

Figure 2008050567
(Qは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているQの炭素が脂肪族炭素である。またPは2価の芳香族基又は脂肪族基である。)
Qは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているQの炭素が脂肪族炭素であり、Pは2価の芳香族基又は脂肪族基であることで、ポリイミド樹脂層のRe(450)/Re(550)を1.00に近づけることができ、且つポリイミド樹脂層の複屈折(△n)を0.010≦△n≦0.060の範囲にすることが可能となる。
Figure 2008050567
(Q includes a ring in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of Q to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon. P is a divalent aromatic group or aliphatic carbon. A group.)
Q includes a ring in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, the carbon of Q to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon, and P is a divalent aromatic group or aliphatic group Therefore, Re (450) / Re (550) of the polyimide resin layer can be brought close to 1.00, and the birefringence (Δn) of the polyimide resin layer is 0.010 ≦ Δn ≦ 0.060. It becomes possible to be in the range.

Qに含まれる環式は、炭素原子で環を形成しているものであり、単環を少なくとも1種含んでいることが好ましい。ただし、環に二重結合を含有しても良いが、環を形成している炭素原子の半分以上が脂肪族炭素(隣接する原子との結合が全て一重結合である炭素原子)であることが好ましい。Qに含まれる環式としては、環を形成しているものであれば特に限定するものでは無いが、例えばシクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環等を挙げることができる。前記環式の環は二重結合を含有しても良いが、その二重結合は単独でも良く、隣接する芳香環の一部として組み込まれても良い。   The ring contained in Q forms a ring with carbon atoms, and preferably contains at least one monocycle. However, the ring may contain a double bond, but more than half of the carbon atoms forming the ring must be aliphatic carbon (a carbon atom in which all the bonds with adjacent atoms are single bonds). preferable. The cyclic group included in Q is not particularly limited as long as it forms a ring. For example, cyclobutane ring, cyclobutene ring, cyclopentane ring, cyclopentene ring, cyclohexane ring, cyclohexene ring, cycloheptane ring , Cycloheptene ring, cyclooctane ring, cyclooctene ring and the like. The cyclic ring may contain a double bond, but the double bond may be a single bond or may be incorporated as a part of an adjacent aromatic ring.

また、カルボニル炭素が結合しているQに含まれる炭素は、脂肪族炭素であることが好ましいが、カルボニル炭素が結合している炭素は、Qに含まれる環式の炭素に限定されるものでは無い。   The carbon contained in Q to which the carbonyl carbon is bonded is preferably an aliphatic carbon, but the carbon to which the carbonyl carbon is bonded is not limited to the cyclic carbon contained in Q. No.

また、Pは2価の芳香族基又は脂肪族基であることが好ましい。芳香族基は2価の結合を有する炭素が芳香族に含まれる炭素であることを示し、脂肪族基とは2価の結合を有する炭素が脂肪族に含まれる炭素であることを示す。   P is preferably a divalent aromatic group or an aliphatic group. An aromatic group indicates that carbon having a divalent bond is carbon contained in an aromatic group, and an aliphatic group indicates that carbon having a divalent bond is carbon contained in an aliphatic group.

上記一般式(0)を形成する方法としては、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合している炭素が脂肪族炭素であるテトラカルボン酸二無水物と2価の芳香族基または脂肪族基を有するジアミン(芳香族ジアミンまたは脂肪族ジアミンと称する)を反応させる方法(より具体的には、一度ポリアミド酸を合成した後、これを脱水閉環してポリイミド樹脂とする方法)が一般的である。   As a method of forming the above general formula (0), a tetracarboxylic acid dicarboxylic acid containing a cyclic group in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons and the carbon to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon. A method of reacting an anhydride with a diamine having a divalent aromatic group or aliphatic group (referred to as an aromatic diamine or an aliphatic diamine) (more specifically, after synthesizing a polyamic acid and then dehydrating and closing it) And a polyimide resin) is generally used.

環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合している炭素が脂肪族炭素であるテトラカルボン酸二無水物としては、3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物、1,2,4,5−シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2] −オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,1] −ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、3,4−ジカルボキシ−1−コハク酸二無水物等が挙げられる。また、シクロブタン環やシクロペンチル環を有するテトラカルボン酸二無水物として、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1−メチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1−エチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラフェニルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジアリール−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ジアリール−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物も挙げることができる。また、シクロブタン環のなかでも二置換のシクロブタン環を含有するテトラカルボン酸二無水物として、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジプロピル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジプロピル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジブチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジブチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジペンチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジペンチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジヘキシル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジヘキシル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジフェニル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジフェニル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジシクロペンチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジシクロペンチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。   A tetracarboxylic dianhydride in which more than half of the carbons forming the ring includes a cyclic group that is an aliphatic carbon and the carbon to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon includes 3,4-dicarboxytetralin- 1-succinic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4 '-Bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,1] -heptane-2, 3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,5 -Tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride, 3,4-dicarboxy Examples include -1-succinic dianhydride. Further, as tetracarboxylic dianhydrides having a cyclobutane ring or a cyclopentyl ring, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride Anhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1-ethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetraethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetraphenylcyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-diaryl- 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-diaryl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3 4- cyclopentane tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic dianhydride may also be mentioned. Among the cyclobutane rings, tetracarboxylic dianhydrides containing a disubstituted cyclobutane ring include 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-dimethyl. -1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-diethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-diethyl-1,2,3 , 4-Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dipropyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-dipropyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic Acid dianhydride, 1,3-dibutyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, 1,4-dibutyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid Water, 1,3-dipentyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-dipentyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3 -Dihexyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-dihexyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-diphenyl-1,2 , 3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-diphenyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dicyclopentyl-1,2,3,4 Examples thereof include cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 1,4-dicyclopentyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride.

芳香族ジアミンとしては、例えば、2,2´−ジメチル−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ジフルオロ−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ジクロロ−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノビフェニル、4,4´−ジアミノビフェニル、4,4´−ジアミノ−ベンゾフェノン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェニル)フルオレン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、1,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノジフェニルプロパン、2,2-ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル等が挙げられる。     Examples of the aromatic diamine include 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-bis ( Trichloromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (tribromomethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2 '-Dichloro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dibromo-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-benzophenone, 9,9-bis ( 4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis 4-amino-2-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis ( 4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenyl) fluorene, bis ( 4-aminophenyl) sulfone, 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 2,2- Bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,4'-diaminodiphenyl And ruether.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、エチレジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルプロパン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)スルホン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルエーテル、2,2´−ジメチル−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジフルオロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジクロロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2-ビス(4−アミノシクロへキシル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,3−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,7−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、1,2−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(アミノメチル)ベンゼン等が挙げられる。     Examples of the aliphatic diamine include ethylenediamine, hexamethylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexylpropane, bis (4-aminocyclohexyl) sulfone, 4,4'-diaminodicyclohexyl ether, 2,2'-dimethyl-4,4 '-Diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (trichloromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2 '-Bis (tribromomethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2, 2'-difluoro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dichloro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dibromo-4,4'-diaminodicyclohexane, 4,4 ' -Diaminodicyclohexane, 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,3-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,7-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (Aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,3-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2 .1] Heptane, 1 2- bis (aminomethyl) benzene, 1,3-bis (aminomethyl) benzene, 1,4-bis (aminomethyl) benzene.

この様な特性を有するポリイミド樹脂を提供する上で、例えば一般式(0)であらわらされる構造として、一般式(1)で表される構造をあげることができる。一般式(1)の構造をポリイミド樹脂に含有させることにより、従来のポリイミド樹脂とは異なり、可視光領域おいて長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さい性質を示すポリイミド樹脂とすることが可能となる。   In providing a polyimide resin having such characteristics, for example, the structure represented by the general formula (0) can be a structure represented by the general formula (1). By incorporating the structure of the general formula (1) into the polyimide resin, unlike a conventional polyimide resin, a polyimide resin having a property of small change in retardation from a long wavelength to a short wavelength in the visible light region is obtained. It becomes possible.

Figure 2008050567
(ここでRは、炭素数が1〜20である炭化水素からなり、イミド基が結合している炭素が、脂肪族炭素である。)
また、上記一般式(1)を形成する方法としては、ジアミンと3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物とを反応させる方法(より具体的には、一度ポリアミド酸を合成した後、これを脱水閉環してポリイミド樹脂とする方法)が一般的である。また、テトラカルボン酸二無水物として、カルボニル基が結合している炭素が、脂肪族炭素であるものを併用してもよい(以下、この様な酸二無水物を脂肪族テトラカルボン酸二無水物ということがある。)。ここで脂肪族炭素とは、隣接する原子との結合が全て一重結合である炭素原子のことである(即ち、ここでは脂肪族系の炭素のみならず、脂環式の炭素も含むものとする。)。本発明においては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物を使用することにより、ポリイミド樹脂の分子内共役及び電荷移動吸収が抑制され、結果として透明性を高め、また、波長変化によるレターデーションの変化量が大きいポリイミド樹脂となることを抑制しているものと推定される。
Figure 2008050567
(Here, R 1 is a hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms, and the carbon to which the imide group is bonded is an aliphatic carbon.)
Moreover, as a method of forming the general formula (1), a method of reacting a diamine with 3,4-dicarboxytetralin-1-succinic dianhydride (more specifically, a polyamic acid was synthesized once. Thereafter, a method of dehydrating and ring-closing this to obtain a polyimide resin is common. In addition, as the tetracarboxylic dianhydride, carbons to which the carbonyl group is bonded may be an aliphatic carbon (hereinafter, such an acid dianhydride is referred to as an aliphatic tetracarboxylic dianhydride). Sometimes called a thing.) Here, the aliphatic carbon is a carbon atom in which all the bonds to adjacent atoms are single bonds (that is, here, not only aliphatic carbon but also alicyclic carbon is included). . In the present invention, by using an aliphatic tetracarboxylic dianhydride, intramolecular conjugation and charge transfer absorption of the polyimide resin are suppressed, and as a result, transparency is improved, and the amount of change in retardation due to wavelength change It is estimated that it is suppressing that it becomes a polyimide resin with large.

上記脂肪族炭素を有し3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物と好適に使用出来るテトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,4,5−シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1−メチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1−エチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラエチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジフェニル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−テトラフェニルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,3−ジアリール−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ジアリール−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、ビシクロ[2,2,2] −オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,1] −ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2]−オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、3,4−ジカルボキシ−1−コハク酸二無水物等が挙げられる。尚、他の特性を調整する等の為に、これらの内複数の酸二無水物を併用して用いることも可能である。   Specific examples of tetracarboxylic dianhydride having aliphatic carbon and suitably used with 3,4-dicarboxytetralin-1-succinic dianhydride include 1,2,4,5-cyclohexane. Tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1-methyl-1,2,3,4 -Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetramethyl-1,2,3,4- Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1-ethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-diethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4 Traethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-diphenyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-tetraphenyl Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,3-diaryl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-diaryl-1,2,3,4-cyclobutanetetra Carboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, bicyclo [2,2,2] -octane-2, 3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,1] -heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -oct- 7-ene-2, , 5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,5-tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride, 3,4-dicarboxy-1-succinic acid dianhydride, and the like. It is also possible to use a plurality of these acid dianhydrides in combination for adjusting other characteristics.

特に、本件のポリイミド樹脂層においては、ポリイミド樹脂に溶解性を付与できる観点から、テトラカルボン酸二無水物として3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物を使用することが好ましい(尚、本発明の本質を損なわない範囲で、この酸二無水物内に置換基を導入することも可能である。)。   In particular, in the polyimide resin layer of the present case, it is preferable to use 3,4-dicarboxytetralin-1-succinic dianhydride as the tetracarboxylic dianhydride from the viewpoint of imparting solubility to the polyimide resin ( It is also possible to introduce a substituent into the acid dianhydride as long as the essence of the present invention is not impaired.

一方、本発明において、一般式(1)のユニットを形成するために使用するジアミンとして、アミノ基が結合している炭素が、脂肪族炭素であるジアミン(以下、この様なジアミンを脂肪族ジアミンということがある。)を好適に使用することができる。ここで脂肪族炭素とは、隣接する原子との結合が全て一重結合である炭素原子のことである(即ち、ここでは脂肪族系の炭素のみならず、脂環式の炭素も含むものとする。)。特に本発明においては、脂肪族ジアミンを使用することで、ポリイミド樹脂の分子内共役及び電荷移動吸収が抑制され、結果として透明性を高め、また、波長変化によるレターデーションの変化量が大きいポリイミド樹脂となることを抑制することが可能となっていると推定される。この様な脂肪族ジアミンで、特に一般式(1)のユニットを形成するために好適に用いることができるものとしては、例えば、前述した一般式(0)で表される構造を形成するために使用する脂肪族ジアミンと同様なものがあげられる。例示すると、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルプロパン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)スルホン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルエーテル、2,2´−ジメチル−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジフルオロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジクロロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2-ビス(4−アミノシクロへキシル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,3−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,7−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、1,2−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,3−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(アミノメチル)ベンゼン等が挙げられる。尚、他の特性を調整する等の為に、これらの内複数のジアミンを併用して用いることも可能である。   On the other hand, in the present invention, the diamine used for forming the unit of the general formula (1) is a diamine to which an amino group is bonded is an aliphatic carbon (hereinafter, such a diamine is referred to as an aliphatic diamine). Can be suitably used. Here, the aliphatic carbon is a carbon atom in which all the bonds to adjacent atoms are single bonds (that is, here, not only aliphatic carbon but also alicyclic carbon is included). . In particular, in the present invention, by using an aliphatic diamine, the intramolecular conjugation and charge transfer absorption of the polyimide resin are suppressed, resulting in an increase in transparency and a large amount of retardation change due to wavelength change. It is estimated that it is possible to suppress this. Examples of such aliphatic diamines that can be suitably used to form the unit of the general formula (1) include, for example, the formation of the structure represented by the general formula (0) described above. The thing similar to the aliphatic diamine to be used is mention | raise | lifted. For example, ethylenediamine, hexamethylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (Aminomethyl) cyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexylpropane, bis (4-aminocyclohexyl) sulfone, 4,4'-diaminodicyclohexyl ether, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminodicyclohexane 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (trichloromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (tri Bromomethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-difluoro- , 4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dichloro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dibromo-4,4'-diaminodicyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexane, 2, , 2-bis (4-aminocyclohexyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,3-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,7-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,3-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, , 2-bis (amino Chill) benzene, 1,3-bis (aminomethyl) benzene, 1,4-bis (aminomethyl) benzene. A plurality of these diamines can be used in combination for adjusting other characteristics.

これらの内、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルプロパン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)スルホン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルエーテル、2,2´−ジメチル−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジフルオロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジクロロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2-ビス(4−アミノシクロへキシル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,3−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,7−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、1,3−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(アミノメチル)ベンゼンが好ましい。尚、構造式で表すと、以下の様に表せる。   Among these, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexylmethane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclo Hexane, 4,4'-diaminodicyclohexylpropane, bis (4-aminocyclohexyl) sulfone, 4,4'-diaminodicyclohexyl ether, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2 ' -Bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (trichloromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (tribromomethyl) -4 , 4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-difluoro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2 ' -Dichloro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dibromo-4,4'-diaminodicyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,3-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,6 -Diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,7-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6 -Bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,3-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 1,3-bis (aminomethyl) benzene, 1, 4-bis (aminomethyl) ) Benzene is preferable. In addition, the structural formula can be expressed as follows.

Figure 2008050567
ここで、特に1,4−ジアミノシクロヘキサンが、複屈折発現性が優れており、好ましく使用できる。尚、構造式で表すと、以下の様に表せる。本発明者の推定によれば、1,4−ジアミノシクロヘキサンの様な剛直な構造が複屈折発現性が優れていると考えている。特にこの考えの元では、1,4−ジアミノシクロヘキサンの中でもtrans体を用いることが好ましい。
Figure 2008050567
Here, in particular, 1,4-diaminocyclohexane has excellent birefringence and can be preferably used. In addition, the structural formula can be expressed as follows. According to the inventor's estimation, a rigid structure such as 1,4-diaminocyclohexane is considered to have excellent birefringence. In particular, based on this idea, it is preferable to use a trans isomer among 1,4-diaminocyclohexane.

Figure 2008050567
また、本発明のポリイミド樹脂層を好適に与えるポリイミド樹脂として前述の一般式(0)として、下記一般式(2)のユニットを例示することもできる。
Figure 2008050567
Moreover, the unit of following General formula (2) can also be illustrated as above-mentioned General formula (0) as a polyimide resin which gives the polyimide resin layer of this invention suitably.

Figure 2008050567
ここでRとしてはイミド基が結合している炭素が芳香族炭素である炭化水素があげられるが、中でも、下記一般式群(3)で表される群から選ばれる1以上の構造であり、式中のXは、O、SO、CH、C(CH、C(CFから選ばれる置換基であり、式中のYはそれぞれ独立して、H、F、Cl、Br,CF、CCl、CBrから選ばれる置換基であるものが好ましい。
Figure 2008050567
Here, examples of R 2 include hydrocarbons in which the carbon to which the imide group is bonded is an aromatic carbon. Among these, one or more structures selected from the group represented by the following general formula group (3). X in the formula is a substituent selected from O, SO 2 , CH 2 , C (CH 3 ) 2 , and C (CF 3 ) 2 , and Y in the formula independently represents H, F, Those which are substituents selected from Cl, Br, CF 3 , CCl 3 and CBr 3 are preferred.

Figure 2008050567
上記一般式(2)のユニットに構成するのに好適に使用される酸二無水物としては、3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物があげられるが、一般式(1)の説明で例示したテトラカルボン酸二無水物を併用してもよい。
Figure 2008050567
Examples of the acid dianhydride suitably used for constituting the unit of the general formula (2) include 3,4-dicarboxytetralin-1-succinic acid dianhydride, and the general formula (1) The tetracarboxylic dianhydride exemplified in the description of may be used in combination.

また、一般式(2)のユニットを構成するのに使用されるジアミンとしては、そのイミド基が結合している炭素が、芳香族炭素であるジアミン(以下、芳香族ジアミンと言うことがある)が好適に使用できる。このように、芳香族ジアミンを含有してポリイミド樹脂を形成することにより、複屈折を発現しやすくする作用があり、所望の複屈折に調整する際に、好適に使用することができる。例えば、芳香族ジアミンとして、前述した一般式(0)で表される構造を形成するために使用する芳香族ジアミンと同様なものがあげられる。例示すると、2,2´−ジメチル−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ジフルオロ−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ジクロロ−4,4´−ジアミノビフェニル、2,2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノビフェニル、4,4´−ジアミノビフェニル、4,4´−ジアミノ−ベンゾフェノン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−トリフルオロメチルフェニル)フルオレン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、1,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノジフェニルプロパン、2,2-ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル等が挙げられる。   Moreover, as a diamine used to constitute the unit of the general formula (2), a diamine to which the imide group is bonded is an aromatic carbon (hereinafter sometimes referred to as an aromatic diamine). Can be suitably used. Thus, by forming a polyimide resin containing an aromatic diamine, there is an effect of easily developing birefringence, and it can be suitably used when adjusting to a desired birefringence. For example, examples of the aromatic diamine include those similar to the aromatic diamine used to form the structure represented by the general formula (0). For example, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-bis (trichloromethyl) -4 , 4'-diaminobiphenyl, 2,2'-bis (tribromomethyl) -4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-difluoro-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dichloro-4 , 4'-diaminobiphenyl, 2,2'-dibromo-4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-benzophenone, 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-alkyl) Rophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3- Chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-trifluoromethylphenyl) fluorene, bis (4-aminophenyl) sulfone 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) ) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 3,4'-diaminodiphenyl ether, etc. It is.

さらに、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノジフェニルプロパン、2,2-ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、または、フッ素基を導入した2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル(TFMB)を使用することが上記ポリイミド樹脂の溶解性、複屈折性を同時に付与させる目的で好ましく、さらに好ましくは、溶解性が特に高いことから2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル(TFMB)を使用することができる(これを用いて得られるユニットは、以下の一般式(4)の様に表すことができる。)。例えば、NMP(2−メチルピロリドン)、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)、DMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)等のアミド系溶媒等の特定の高沸点溶媒しか溶解しないポリイミド樹脂の系に対し、TFMB由来のユニットを挿入することで、各種低沸点溶媒に可溶とすることができ、コーティング法等を使用する際に有効である。   Furthermore, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3 -Hexafluoropropane, 3,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, or 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl (TFMB) introduced with a fluorine group ) Is preferable for the purpose of simultaneously imparting the solubility and birefringence of the polyimide resin, and more preferably 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4 because of its particularly high solubility. '-Diaminobiphenyl (TFMB) can be used (the unit obtained using this can be represented by the following general formula (4)) Door can be.). For example, for a polyimide resin system in which only a specific high-boiling solvent such as an amide solvent such as NMP (2-methylpyrrolidone), DMF (N, N-dimethylformamide), or DMAc (N, N-dimethylacetamide) is dissolved By inserting a unit derived from TFMB, it can be made soluble in various low-boiling solvents, which is effective when using a coating method or the like.

Figure 2008050567
一般式(2)のユニットを含有して形成されるポリイミド樹脂は一般式(2)単独でもよいが、一般式(1)と併用して使用することがより好ましい。
Figure 2008050567
The polyimide resin formed containing the unit of the general formula (2) may be the general formula (2) alone, but is more preferably used in combination with the general formula (1).

尚、例えば、一般式(1)で表されるユニットと、下記一般式(2)で表されるユニットを用いてポリイミド樹脂を形成する際には(但し、他のユニットが含まれていても構わない)、一般式(1)のモル分率をA、一般式(2)のモル分率をBで表した時に、
0.10≦A≦0.50
0.50≦B≦0.90
(但し0.6≦A+B≦1.0)
の関係が満たされていることが好ましく、更には、
0.15≦A≦0.50
0.50≦B≦0.85
(但し0.65≦A+B≦1.0)
であることが好ましい。
For example, when a polyimide resin is formed using a unit represented by the general formula (1) and a unit represented by the following general formula (2) (however, other units may be included). When the mole fraction of the general formula (1) is represented by A and the mole fraction of the general formula (2) is represented by B,
0.10 ≦ A ≦ 0.50
0.50 ≦ B ≦ 0.90
(However, 0.6 ≦ A + B ≦ 1.0)
It is preferable that the relationship of
0.15 ≦ A ≦ 0.50
0.50 ≦ B ≦ 0.85
(However, 0.65 ≦ A + B ≦ 1.0)
It is preferable that

モル分率Bが0.90より大きい場合、数式1を満たすことが難しく、可視光領域において長波長から短波長までのレターデーションの変化量が大きいポリイミド樹脂となりやすく、本発明の課題を達成することが困難となる。一方、モル分率Bが0.5より小さい場合、数式2を満たすことが難しく、複屈折の高いポリイミド樹脂を得ることが難しくなる。また、B(例えばTFMB)の含有率が低いと、DMFなどのアミド系溶媒には可溶ではあるものの、一般的な低沸点溶媒(乾燥が容易である為、コーティング樹脂として使用する際に有効である)に溶解することが困難となりやすく、好ましくない。   When the molar fraction B is greater than 0.90, it is difficult to satisfy Formula 1, and it is likely to be a polyimide resin having a large retardation change amount from a long wavelength to a short wavelength in the visible light region, thereby achieving the object of the present invention. It becomes difficult. On the other hand, when the molar fraction B is smaller than 0.5, it is difficult to satisfy Formula 2, and it is difficult to obtain a polyimide resin having high birefringence. Also, when the content of B (for example, TFMB) is low, it is soluble in amide solvents such as DMF, but is a general low boiling point solvent (because it is easy to dry, it is effective when used as a coating resin. It is difficult to dissolve in (a).

また、本発明においては、一般式(0)で表される化合物として、下記一般式(7)で表されるユニットを含有することが好ましい。   Moreover, in this invention, it is preferable to contain the unit represented by following General formula (7) as a compound represented by General formula (0).

Figure 2008050567
(Rは、シクロブタンの炭素に結合しており、それぞれ独立した炭素数1〜12の脂肪族基又は芳香族基である。Cは、2価の芳香族基又は脂肪族基を表す。)
一般式(7)を含有していれば、その他のユニットとしては特に制限されず、前述した一般式(0)で表されるその他の構造のものと複数のユニットを含んでいてもよい。また、中でも特に、本発明は、ポリイミド樹脂層を形成するポリイミド樹脂の構造が、一般式(7)で表されるユニットと、下記一般式(8)で表されるユニットを含有して形成されることがより好ましい。
Figure 2008050567
(R is bonded to the carbon of cyclobutane and is an independent aliphatic group or aromatic group having 1 to 12 carbon atoms. C represents a divalent aromatic group or aliphatic group.)
If it contains General formula (7), it will not restrict | limit especially as another unit, The thing of the other structure represented by General formula (0) mentioned above and a plurality of units may be included. In particular, the present invention is formed by including the unit represented by the general formula (7) and the unit represented by the following general formula (8) in the structure of the polyimide resin forming the polyimide resin layer. More preferably.

Figure 2008050567
(Dは、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているDの炭素が脂肪族炭素である。ただし、置換または無置換のシクロブタン残基を除く。Cは前記に同じ。)
本明細書でいう「置換または無置換のシクロブタン残基を除く」とは、一般式(8)で表されるユニットを製造するために、テトラカルボン酸二無水物として、前述したシクロブタン環(二置換のシクロブタン環も含む)を含有するテトラカルボン酸二無水物を使用しないことを表す。
Figure 2008050567
(D includes a cyclic group in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of D to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon, provided that a substituted or unsubstituted cyclobutane residue. (C is the same as above.)
As used herein, “excluding a substituted or unsubstituted cyclobutane residue” means that the above-mentioned cyclobutane ring (two dicarboxylic acids) is used as a tetracarboxylic dianhydride in order to produce a unit represented by the general formula (8). This means that no tetracarboxylic dianhydride containing a substituted cyclobutane ring is used.

式(7)、(8)で用いられる酸二無水物は、式(7)ではシクロブタン骨格を含むのに対して、式(2)ではシクロブタン骨格を含まない。これは、異なる構造をポリイミド主鎖内に組み込むことによって、秩序を乱し、ポリイミドへ溶解性を付与させることを可能とする。このため、置換シクロブタンテトラカルボン酸二無水物と立体的に構造が大きく異なるテトラカルボン酸二無水物から製造される一般式(7)で表されるユニットと一般式(8)で表されるユニットを含有するポリイミド樹脂層は、溶解性が付与されるためより好ましい。   The acid dianhydride used in the formulas (7) and (8) includes a cyclobutane skeleton in the formula (7), but does not include a cyclobutane skeleton in the formula (2). This allows disordering and imparting solubility to the polyimide by incorporating different structures into the polyimide backbone. For this reason, the unit represented by the general formula (7) and the unit represented by the general formula (8) produced from a tetracarboxylic dianhydride having a sterically different structure from the substituted cyclobutanetetracarboxylic dianhydride. The polyimide resin layer containing is more preferable because solubility is imparted.

上記一般式(7)及び一般式(8)の構造を形成する方法としては、一般式(0)と同様にジアミンとテトラカルボン酸二無水物を反応させ、ポリアミド酸を合成した後、これを脱水閉環してポリイミド樹脂とすることができる。   As a method of forming the structures of the general formula (7) and the general formula (8), a diamine and tetracarboxylic dianhydride are reacted in the same manner as in the general formula (0) to synthesize a polyamic acid. Dehydration and ring closure can be made into a polyimide resin.

一般式(7)で用いることができるテトラカルボン酸二無水物は、炭素数が1〜12個の置換基を二個含むシクロブタンテトラカルボン酸二無水物であれば、特に限定されるものでは無く、具体例としては、一般式(0)で表される構造を形成するために使用できるテトラカルボン酸二無水物として例示した二置換のシクロブタン環を含有するテトラカルボン酸二無水物と同じものを挙げることができる。また、二置換のシクロブタン環を含有するテトラカルボン酸二無水物は二種以上を併用してもよく、二個のRを有していれば、その立体配置や、置換基の位置は特に制限されず、各種異性体の混合物の状態で使用することもできる。さらにそれらの比率も特に制限されない。特に、1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,4−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、または、これらの混合物は、合成して得られるポリイミド樹脂に複屈折発現性と溶媒溶解性の両方を付与させるのに好ましい。   The tetracarboxylic dianhydride that can be used in the general formula (7) is not particularly limited as long as it is a cyclobutane tetracarboxylic dianhydride containing two substituents having 1 to 12 carbon atoms. As a specific example, the same tetracarboxylic dianhydride containing a disubstituted cyclobutane ring exemplified as a tetracarboxylic dianhydride that can be used to form the structure represented by the general formula (0) is used. Can be mentioned. Further, tetracarboxylic dianhydrides containing a disubstituted cyclobutane ring may be used in combination of two or more. If they have two Rs, the configuration and position of substituents are particularly limited. It can also be used in the form of a mixture of various isomers. Further, their ratio is not particularly limited. In particular, 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,4-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, or these The mixture is preferable for imparting both birefringence and solvent solubility to the polyimide resin obtained by synthesis.

Cは、2価の芳香族基又は脂肪族基を表し、1種であっても複数種であっても良い。また、一般式(7)に用いるCと一般式(8)に用いるCは異なっていても同じでもよいし、また、1種であっても複数種であってもよい。Cを含むジアミンとしては、2価の芳香族基又は脂肪族基を含むジアミンであれば、特に限定されるものでは無く、芳香族ジアミンとしては、一般式(0)を形成するために使用できる芳香族ジアミンとして例示したものと同様なものを具体例としてあげることができる。   C represents a divalent aromatic group or aliphatic group, and may be one kind or plural kinds. Further, C used in the general formula (7) and C used in the general formula (8) may be different or the same, or may be one kind or plural kinds. The diamine containing C is not particularly limited as long as it is a diamine containing a divalent aromatic group or aliphatic group. The aromatic diamine can be used to form the general formula (0). The thing similar to what was illustrated as an aromatic diamine can be mention | raise | lifted as a specific example.

特に、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル、4,4´−ジアミノジフェニルメタン、4,4´−ジアミノジフェニルプロパン、2,2-ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,4´−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル(TFMB)を使用することが上記ポリイミド樹脂の溶解性、ポリイミド樹脂層の複屈折性及び機械特性を同時に付与させる目的で好ましく、さらに好ましくは、溶解性が特に高いことから2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル(TFMB)を使用することができる。   In particular, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3 Use of hexafluoropropane, 3,4'-diaminodiphenyl ether, bis (4-aminophenyl) sulfone, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminobiphenyl (TFMB) It is preferable for the purpose of simultaneously imparting the solubility of the polyimide resin, the birefringence and mechanical properties of the polyimide resin layer, and more preferably 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4 because of its particularly high solubility. '-Diaminobiphenyl (TFMB) can be used.

脂肪族ジアミンとしては、一般式(0)を形成するために使用できる脂肪族ジアミンとして例示したものと同様なものを具体例としてあげることができる。   Specific examples of the aliphatic diamine include those similar to those exemplified as the aliphatic diamine that can be used to form the general formula (0).

特に、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,3−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロへキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルプロパン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)スルホン、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルエーテル、2,2´−ジメチル−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリクロロメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ビス(トリブロモメチル)−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジフルオロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジクロロ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2´−ジブロモ−4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、4,4´−ジアミノジシクロヘキサン、2,2-ビス(4−アミノシクロへキシル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,3−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,7−ジアミノビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,6−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3−ビス(アミノメチル)−ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、1,3−ビス(アミノメチル)ベンゼン、1,4−ビス(アミノメチル)ベンゼンがRe(450)/Re(550)の値と複屈折値の点で好ましい。   In particular, 1,4-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane 4,4'-diaminodicyclohexylpropane, bis (4-aminocyclohexyl) sulfone, 4,4'-diaminodicyclohexyl ether, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (Trifluoromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (trichloromethyl) -4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-bis (tribromomethyl) -4,4 '-Diaminodicyclohexane, 2,2'-difluoro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dic Loro-4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2'-dibromo-4,4'-diaminodicyclohexane, 4,4'-diaminodicyclohexane, 2,2-bis (4-aminocyclohexyl)- 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,3-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,6- Diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,7-diaminobicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,6- Bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 2,3-bis (aminomethyl) -bicyclo [2.2.1] heptane, 1,3-bis (aminomethyl) benzene, 1,4 -Bis (aminomethyl) Zen is preferred in terms of value and birefringence values of Re (450) / Re (550).

Cとして好ましくは下記一般式群(12)で表される群から選ばれる1種以上の構造であり、さらに、下記一般式(11)で表される構造を必須成分として含む場合がより好ましい。   C is preferably one or more structures selected from the group represented by the following general formula group (12), and more preferably includes a structure represented by the following general formula (11) as an essential component.

Figure 2008050567
Figure 2008050567

Figure 2008050567
Dは、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているDの炭素が脂肪族炭素である。ただし、置換または無置換のシクロブタン残基を除いたものである。Dを形成するテトラカルボン酸二無水物としては、特に制限されるものでは無いが、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2] −オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,3´,4,4´−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,1] −ヘプタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、2,3,4,5−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物は、溶媒溶解性の点で好ましく、3,3´,4,4´−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2,2,2] −オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物がさらに好ましい。
Figure 2008050567
D includes a cyclic structure in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of D to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon. However, a substituted or unsubstituted cyclobutane residue is excluded. The tetracarboxylic dianhydride that forms D is not particularly limited, but 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-cyclohexane Tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2,2,2] -octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride Bicyclo [2,2,1] -heptane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and 2,3,4,5-tetrahydrofuran tetracarboxylic dianhydride 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride and bicyclo [2,2,2] -octane-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride are more preferable. .

また、一般式(7)と一般式(8)のモル分率をA1とB1とした場合、0.05≦A1≦0.95、0.05≦B1≦0.95(但し、0.10≦A1+B1≦1.00)が好ましく、さらに好ましくは、0.50≦A1≦0.95、0.05≦B1≦0.50(但し、0.55≦A1+B1≦1.00)である。   Further, when the molar fractions of the general formula (7) and the general formula (8) are A1 and B1, 0.05 ≦ A1 ≦ 0.95, 0.05 ≦ B1 ≦ 0.95 (however, 0.10 ≦ A1 + B1 ≦ 1.00), more preferably 0.50 ≦ A1 ≦ 0.95 and 0.05 ≦ B1 ≦ 0.50 (provided that 0.55 ≦ A1 + B1 ≦ 1.00).

一般式(7)としては、Rがメチル基である下記一般式(9)で表される化合物が好ましく、一般式(8)としては、下記一般式群(10)で表される化合物が好ましい。   As the general formula (7), a compound represented by the following general formula (9) in which R is a methyl group is preferable, and as the general formula (8), a compound represented by the following general formula group (10) is preferable. .

Figure 2008050567
Figure 2008050567

Figure 2008050567
(式中、Cは前述の通りである。)
一方、本発明のポリイミド樹脂の重量平均分子量は、GPCのPEG(ポリエチレングリコール)換算で測定した値が20,000以上、200,000以下であることが好ましい。重量平均分子量が20,000未満では、耐久性に問題が生じることがある。また、重量平均分子量が200,000より大きい場合、有機溶媒への溶解性が低下するため、可溶性ポリイミド樹脂として有機溶媒へ溶解させて使用する用途では用いることが難しいことがある。
Figure 2008050567
(In the formula, C is as described above.)
On the other hand, the weight average molecular weight of the polyimide resin of the present invention is preferably 20,000 or more and 200,000 or less as measured by GPC PEG (polyethylene glycol) conversion. If the weight average molecular weight is less than 20,000, there may be a problem in durability. Moreover, since the solubility to an organic solvent will fall when a weight average molecular weight is larger than 200,000, it may be difficult to use it for the use melt | dissolved and used for an organic solvent as a soluble polyimide resin.

また、本発明におけるポリイミド樹脂は、各種有機溶剤に溶解可能であることが好ましい。ここで有機溶媒としては、ポリイミド樹脂を溶解させる溶媒であれば特に限定されないが、例えばコーティング法等により層を形成する場合を考慮すると、高分子から成る支持体フィルムへの影響(例えば、特性や均一性を損なう程度の溶解や膨潤)が少ないものを使用することが好ましい。例えば、NMP(2−メチルピロリドン)、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)、DMAc(N,N−ジメチルアセトアミド)等のアミド系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、ジオキソラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、MEK(メチルエチルケトン)、MIBK(メチルイソブチルケトン)、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒から選ばれる1以上の溶媒に、固形分濃度5重量%以上の濃度で溶解可能なポリイミド樹脂であることが特に好ましい(いわゆる可溶性ポリイミド樹脂であることが好ましい。)。   Moreover, it is preferable that the polyimide resin in this invention is soluble in various organic solvents. Here, the organic solvent is not particularly limited as long as it is a solvent that dissolves the polyimide resin. However, considering the case where the layer is formed by, for example, a coating method, the influence on the support film made of a polymer (for example, characteristics and It is preferable to use a material having a small amount of dissolution or swelling that impairs uniformity. For example, amide solvents such as NMP (2-methylpyrrolidone), DMF (N, N-dimethylformamide), DMAc (N, N-dimethylacetamide), ester solvents such as ethyl acetate, and halogen solvents such as chloroform and dichloromethane One or more solvents selected from solvents, ether solvents such as dioxolane and diethyl ether, ketone solvents such as MEK (methyl ethyl ketone), MIBK (methyl isobutyl ketone) and cyclohexanone, and aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene Particularly preferred is a polyimide resin that can be dissolved at a solid content concentration of 5% by weight or more (so-called soluble polyimide resin is preferred).

一方、コーティング法等を使用する際などに使用する溶媒としては、沸点が120度以下の低沸点溶媒を使用することが好ましい。この様な低沸点溶媒を使用すると、ポリイミド樹脂層に残存する揮発性成分の量を低減することが容易となり、例えば、揮発性成分の含有量が0.1重量%以下、好ましくは0.05%重量%以下とすることで長時間使用時における揮発性成分低下に伴う厚み方向のレターデーション値Rthの低下等を生じにくく、耐久性の優れたポリイミド樹脂層を提供できることとなる。一方、ポリイミド樹脂を溶解する範囲であれば、通常ポリイミド樹脂を溶解しない非溶媒又は溶解させにくい貧溶媒等を混合溶媒として適時混合して使用しても良い。   On the other hand, it is preferable to use a low boiling point solvent having a boiling point of 120 degrees or less as a solvent used when using a coating method or the like. When such a low boiling point solvent is used, it becomes easy to reduce the amount of the volatile component remaining in the polyimide resin layer. For example, the content of the volatile component is 0.1% by weight or less, preferably 0.05. When the content is less than or equal to% by weight, it is difficult to cause a decrease in retardation value Rth in the thickness direction due to a decrease in volatile components during long-time use, and a polyimide resin layer having excellent durability can be provided. On the other hand, as long as the polyimide resin is dissolved, a non-solvent that does not normally dissolve the polyimide resin or a poor solvent that is difficult to dissolve may be used as a mixed solvent in a timely manner.

本発明に係るポリイミド樹脂は、各種有機溶媒に溶解した溶液(製膜効率の点で、固形分濃度5重量%以上の濃度であることが好ましい。)を用いて、各種方法でポリイミド樹脂層とすることができる。例えば、フィルムとして一旦形成した上でプラスティックフィルム基盤に貼り付けてポリイミド樹脂層を得る方法、コーティング層等の様に直接プラスティックフィルム基盤上に層を形成する方法(以下、コーティング層と言うことがある。)、または一旦支持体上にコーティング層を形成した後にプラスティックフィルム基盤上に転写して層を形成する方法(以下、転写法ということがある。)などが挙げられる。特に この様にして得られたポリイミド樹脂層は、例えば光学補償部材として好適に用いることもできる。例えば、支持体フィルムとしてTAC(トリアセチルセルロース)等を使用し、これに対しポリイミド樹脂をコーティングして光学補償部材として用いることができる。尚、プラスティックフィルム基盤としては各種材料が使用できるが、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、脂環構造の環状オレフィン、セルロールアシレート、セルロースエーテル、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポリスチレン等が挙げられる。   The polyimide resin according to the present invention can be obtained by various methods using a solution dissolved in various organic solvents (in terms of film forming efficiency, preferably a solid content concentration of 5% by weight or more) by various methods. can do. For example, a method of forming a film once and then sticking it to a plastic film substrate to obtain a polyimide resin layer, a method of directly forming a layer on a plastic film substrate such as a coating layer (hereinafter sometimes referred to as a coating layer) Or a method in which a coating layer is once formed on a support and then transferred onto a plastic film substrate to form a layer (hereinafter sometimes referred to as a transfer method). In particular, the polyimide resin layer obtained in this way can be suitably used as an optical compensation member, for example. For example, TAC (triacetyl cellulose) or the like is used as the support film, and a polyimide resin can be coated on the support film to be used as an optical compensation member. Various materials can be used as the plastic film substrate, and examples thereof include polyester, polycarbonate, cycloolefin having an alicyclic structure, cellulose acylate, cellulose ether, polysulfone, polyarylate, and polystyrene.

ここで、形成するポリイミド樹脂層の厚みは、1μm以上、40μm未満であることが好ましく、1μm以上、20μm未満であることが更に好ましい。さらに好ましくは、1μm以上、10μm未満である。この様な厚みとすることにより、光学補償部材等の光学層として使用した際に、これを用いた装置を薄くすることができる。一方、この様な厚みを達成する為には、特に前記コーティング法、転写法等の方法が好適に使用できる。   Here, the thickness of the polyimide resin layer to be formed is preferably 1 μm or more and less than 40 μm, and more preferably 1 μm or more and less than 20 μm. More preferably, it is 1 μm or more and less than 10 μm. By setting it as such thickness, when using as optical layers, such as an optical compensation member, the apparatus using this can be made thin. On the other hand, in order to achieve such a thickness, methods such as the coating method and the transfer method can be preferably used.

また、ポリイミド樹脂層は延伸して用いることができる。延伸する場合は、製膜途中で延伸することも、ポリイミド樹脂層形成後に延伸することも可能である。延伸方法は、使用用途に合わせ、公知の技術を用いることができる。例えば、ポリイミド樹脂層単体を、ポリイミド樹脂層のガラス転移温度より高い温度雰囲気下で延伸する方法、支持体にポリイミド樹脂層を形成した後に支持体と一緒にポリイミド樹脂層のガラス転移温度より高い温度雰囲気下で延伸する方法等がある。しかし、要求特性が発現するのであれば、ポリイミド樹脂層は、ガラス転移温度より高い温度雰囲気下で延伸することが必須ではない。尚、延伸時のポリイミド樹脂層の実質的なガラス転移温度は、ポリイミド樹脂層に含まれる溶媒量、添加剤量により変化することがある。このため、その影響を考慮し決定することが好ましい。   Further, the polyimide resin layer can be stretched and used. When extending | stretching, it can also extend | stretch in the middle of film forming, and can also be extended after polyimide resin layer formation. As the stretching method, a known technique can be used in accordance with the intended use. For example, a method of stretching a polyimide resin layer alone in an atmosphere higher than the glass transition temperature of the polyimide resin layer, a temperature higher than the glass transition temperature of the polyimide resin layer together with the support after forming the polyimide resin layer on the support There is a method of stretching in an atmosphere. However, it is not essential that the polyimide resin layer is stretched in a temperature atmosphere higher than the glass transition temperature as long as required characteristics are exhibited. In addition, the substantial glass transition temperature of the polyimide resin layer at the time of extending | stretching may change with the solvent amount and additive amount contained in a polyimide resin layer. For this reason, it is preferable to determine in consideration of the influence.

本発明のポリイミド樹脂の使用用途は特に限定されるものではないが、光学材料として好適に使用することができる。また、特に好適に使用できる光学用途としては、レンズ用途、通信の光導波路用途、透明基板用途、液晶表示装置の光学補償用途、透明電極の封止剤用途などが挙げられる。この中でも特に、液晶表示装置等の光学補償部材として使用する際には、可視光領域において長波長から短波長までのレターデーションの変化量が小さい特性を有する(Re(450)/Re(550)が1.00に近い)ことで、従来の短波長ほどレターデーション値が大きな特性を有する―正の波長分散特性のポリイミド樹脂を用いたときより、黒表示時等におけるバックライトからの光の漏れを低減することができ、コントラストや階調表示の低下を低減することが可能となる。   Although the usage application of the polyimide resin of this invention is not specifically limited, It can use suitably as an optical material. Also, optical applications that can be used particularly suitably include lens applications, communication optical waveguide applications, transparent substrate applications, optical compensation applications for liquid crystal display devices, and transparent electrode sealant applications. Among these, particularly when used as an optical compensation member for a liquid crystal display device or the like, it has a characteristic that a change amount of retardation from a long wavelength to a short wavelength is small in a visible light region (Re (450) / Re (550)). Is close to 1.00), the longer the wavelength, the greater the retardation value-the light leakage from the backlight during black display, etc., compared to using a polyimide resin with positive wavelength dispersion characteristics It is possible to reduce the decrease in contrast and gradation display.

次にポリイミド樹脂の製造方法について説明する。ポリイミド樹脂の製造方法は、一般的には(1)ポリアミド酸の形成、(2)ポリアミド酸のイミド化(3)ポリイミド樹脂の抽出の三工程を含む(但し、これに限定されるものではない。)。以下、これらについて例を挙げて説明する。   Next, the manufacturing method of a polyimide resin is demonstrated. The method for producing a polyimide resin generally includes three steps (1) formation of polyamic acid, (2) imidation of polyamic acid, and (3) extraction of polyimide resin (however, the method is not limited thereto). .) Hereinafter, these will be described with examples.

(1)ポリアミド酸の形成
ポリアミド酸の製造方法は下記方法に特定されるものではなく、種々の方法を用いることが可能である。その一例を以下に示す。
(1) Formation of polyamic acid The method for producing polyamic acid is not limited to the following method, and various methods can be used. An example is shown below.

ジアミンを溶解した有機溶媒中に、酸二無水物を分散し、攪拌することで完全に溶解させ重合させる方法、酸二無水物を有機溶媒中に溶解及び/または分散させた後、ジアミンを用いて重合させる方法、酸二無水物とジアミンの混合物を有機溶媒中で反応させて重合する方法などがあるが、酸二無水物の有機溶媒への溶解性が乏しい場合、ジアミンを溶解した有機溶媒中に酸二無水物を分散させる方が均一に反応を進める点で好ましい。   Disperse acid dianhydride in an organic solvent in which diamine is dissolved, and completely dissolve and polymerize by stirring. After dissolving and / or dispersing acid dianhydride in organic solvent, use diamine. There is a method of polymerizing by polymerization, a method of polymerizing by reacting a mixture of acid dianhydride and diamine in an organic solvent, but if the solubility of acid dianhydride in the organic solvent is poor, the organic solvent in which the diamine is dissolved It is preferable to disperse the acid dianhydride therein because the reaction proceeds uniformly.

反応装置には、反応温度を制御するための温度調製装置を備えていることが好ましく、反応溶液温度として60℃以下が好ましく、さらに、40℃以下であることが反応を制御する点で好ましい。   The reaction apparatus is preferably equipped with a temperature adjusting apparatus for controlling the reaction temperature, and the reaction solution temperature is preferably 60 ° C. or less, and more preferably 40 ° C. or less in terms of controlling the reaction.

ポリアミド酸の重合に使用される有機溶媒としては、ポリアミド酸を溶解しポリアミド酸の重合反応が進行すれば特に制限されないが、例えば、テトラメチル尿素、N,N−ジメチルエチルウレアのようなウレア類、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホン、テトラメチルスルフォンのようなスルホキシドあるいはスルホン類、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N’−ジエチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、γ―ブチルラクトン、ヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド類、またはホスホリルアミド類の非プロトン性溶媒、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化アルキル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、フェノール、クレゾールなどのフェノール類、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、p−クレゾールメチルエーテルなどのエーテル類が挙げられることができ、通常これらの溶媒を単独で用いるが、必要に応じて2種以上を適宜組み合わせて用いても良い。これらのうちDMF、DMAc、NMPなどのアミド類が好ましく使用される。また、最終的に得られるポリイミド樹脂も十分溶解し得る有機溶媒が好ましい。   The organic solvent used for the polyamic acid polymerization is not particularly limited as long as the polyamic acid is dissolved and the polyamic acid polymerization reaction proceeds. For example, ureas such as tetramethylurea and N, N-dimethylethylurea are used. , Dimethyl sulfoxide, diphenyl sulfone, sulfoxide such as tetramethyl sulfone or sulfones, N, N-dimethylacetamide (DMAc), N, N-dimethylformamide (DMF), N, N′-diethylacetamide, N-methyl- Amides such as 2-pyrrolidone (NMP), γ-butyllactone, hexamethylphosphoric triamide, aprotic solvents such as phosphorylamides, alkyl halides such as chloroform and methylene chloride, aromatics such as benzene and toluene Group hydrocarbons, phenol, Examples include phenols such as resol, and ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, and p-cresol methyl ether. Usually, these solvents are used alone, but two or more kinds are appropriately used in combination as necessary. Also good. Of these, amides such as DMF, DMAc and NMP are preferably used. Moreover, the organic solvent which can fully melt | dissolve the polyimide resin finally obtained is preferable.

ポリアミド酸溶液中のポリアミド酸の重量%は、有機溶媒中に5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%であることが、取り扱い性の面から好ましい。   The weight% of the polyamic acid in the polyamic acid solution is preferably 5 to 50% by weight, and preferably 10 to 40% by weight in the organic solvent, from the viewpoint of handleability.

ポリアミド酸の重合に用いられる酸二無水物類とジアミン類の反応モル比率(使用する酸二無水物の全モル数/使用するジアミンの全モル数)は、0.9以上、1.5以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.95以上、1.3以下であることが好ましく、特に好ましくは、0.98以上、1.2以下であることがポリアミド酸溶液から得られるポリイミド樹脂中の未反応の酸二無水物やジアミンを減少させる上で好ましい。   Reaction molar ratio of acid dianhydrides and diamines used for polyamic acid polymerization (total number of moles of acid dianhydride used / total number of moles of diamine used) is 0.9 or more and 1.5 or less In the polyimide resin obtained from the polyamic acid solution, more preferably 0.95 or more and 1.3 or less, and particularly preferably 0.98 or more and 1.2 or less. It is preferable for reducing unreacted acid dianhydride and diamine.

(2)ポリアミド酸のイミド化
ポリアミド酸をイミド化する方法について記載する。ポリアミド酸をイミド化する方法として、公知の各種方法を使用することができる。例えば、熱的に脱水閉環する熱的イミド化法や、脱水剤を用いる化学的イミド化法が使用できる。
(2) Imidization of polyamic acid A method for imidizing polyamic acid is described. Various known methods can be used as a method for imidizing the polyamic acid. For example, a thermal imidation method that thermally dehydrates and closes a ring or a chemical imidization method that uses a dehydrating agent can be used.

熱的イミド化法は、イミド化反応時に生成する水と共沸するトルエン等の共沸溶媒をポリアミド酸溶液に添加後、加熱して行うことが一般的である。熱的イミド化法ではイミド化促進剤を併用することができる。   The thermal imidization method is generally performed by adding an azeotropic solvent such as toluene azeotropically with water generated during the imidation reaction to the polyamic acid solution and then heating. In the thermal imidization method, an imidization accelerator can be used in combination.

一般的に化学的イミド化法は、熱的イミド化法よりもイミド化反応が進行しやすく、加熱時のポリアミド酸の分解を抑制し、イミド化できる点で好ましい。   In general, the chemical imidization method is preferable in that the imidization reaction proceeds more easily than the thermal imidization method, the decomposition of the polyamic acid during heating is suppressed, and imidization can be performed.

化学的イミド化法ではイミド化促進剤を用いることが、反応を短時間で終了させる点で好ましい。
イミド化促進剤としては、各種三級アミンが使用可能であるが、特にピリジン、3−メチル−ピリジン、キノリン、イソキノリンなどの複素環式第3級アミン類などが高いイミド化率を有するポリイミド樹脂が得られる点で好ましい。
In the chemical imidization method, it is preferable to use an imidization accelerator in that the reaction is completed in a short time.
As the imidization accelerator, various tertiary amines can be used. In particular, a polyimide resin having a high imidation ratio such as heterocyclic tertiary amines such as pyridine, 3-methyl-pyridine, quinoline, and isoquinoline. Is preferable in that it is obtained.

化学的イミド化法で用いる脱水剤としては、無水酢酸などの脂肪族酸無水物や芳香族酸無水物などが挙げられる。無水酢酸を用いることがポリイミド樹脂の析出工程に適しているという点から好ましい。   Examples of the dehydrating agent used in the chemical imidization method include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride and aromatic acid anhydrides. It is preferable to use acetic anhydride from the viewpoint that it is suitable for the precipitation step of the polyimide resin.

ポリアミド酸に対するイミド化促進剤の添加量は、イミド化促進剤/ポリアミック酸中アミド基のモル比で0.5〜5、より好ましくは、1〜5、さらに好ましくは2〜4であるように用いることが好ましい。イミド化促進剤/ポリアミック酸中アミド基のモル比が小さすぎるとイミド化が十分に進行しない場合がある。逆に大きすぎると、ポリイミド樹脂粉体の析出で用いる貧溶媒にもよるが、イミド化率を低下させる傾向にある。   The addition amount of the imidization accelerator relative to the polyamic acid is 0.5 to 5, more preferably 1 to 5, and more preferably 2 to 4 in terms of a molar ratio of the imidization accelerator / amide group in the polyamic acid. It is preferable to use it. If the molar ratio of the imidization accelerator / amide group in the polyamic acid is too small, imidation may not proceed sufficiently. On the other hand, if it is too large, although it depends on the poor solvent used in the precipitation of the polyimide resin powder, it tends to reduce the imidization rate.

ポリアミド酸に対する脱水剤の添加量は、脱水剤/ポリアミド酸中のアミド基のモル比で1.2〜4.0となるよう用いることが好ましい。脱水剤の量が脱水剤/ポリアミック酸中のアミド基のモル比で1.2未満だとイミド化が十分に進行しない場合があり、逆に脱水剤/ポリアミド酸中のアミド基のモル比で4より大きいと分子量の低下や着色を引き起こすことがある。   The addition amount of the dehydrating agent relative to the polyamic acid is preferably used so that the molar ratio of dehydrating agent / amide group in the polyamic acid is 1.2 to 4.0. If the amount of the dehydrating agent is less than 1.2 in terms of the molar ratio of the dehydrating agent / amide group in the polyamic acid, imidation may not proceed sufficiently. Conversely, the molar ratio of the dehydrating agent / amide acid in the polyamic acid If it is larger than 4, it may cause a decrease in molecular weight or coloring.

(3)ポリイミド樹脂の抽出
イミド樹脂の析出方法について記載する。上記(1)(2)のようにして得られたポリイミド樹脂を含む溶液から、ポリイミド樹脂を析出する方法としては、公知の各種方法が選択できるが、例えば、ポリイミド樹脂、脱水剤、イミド化促進剤などを含有するポリイミド樹脂の溶液をポリイミド樹脂の貧溶媒中に投入すること、もしくはポリイミド樹脂の溶液に貧溶媒を投入することでポリイミド樹脂を固形状態で得ることができる。ポリイミド樹脂の溶液に貧溶媒を投入する方法としては、液滴で投入する方法や糸状に投入する方法などがあるが、貧溶媒中にポリイミド樹脂が沈殿するのであれば、特に制限するものではない。析出時の形状は、糸状、粉末状、フレーク状等、種々の形態で析出させることができる。また、これらを必要により粉砕して使用することができる。
(3) Extraction of polyimide resin The precipitation method of imide resin is described. As a method for precipitating the polyimide resin from the solution containing the polyimide resin obtained as described in (1) and (2) above, various known methods can be selected. For example, polyimide resin, dehydrating agent, imidization promotion The polyimide resin can be obtained in a solid state by introducing a polyimide resin solution containing an agent or the like into the poor solvent of the polyimide resin, or by introducing the poor solvent into the polyimide resin solution. As a method of adding the poor solvent to the polyimide resin solution, there are a method of adding it in droplets or a method of adding it in a thread form, but there is no particular limitation as long as the polyimide resin is precipitated in the poor solvent. . The shape at the time of precipitation can be deposited in various forms such as a thread, a powder, and a flake. Further, these can be used after being pulverized if necessary.

本発明で用いられるポリイミド樹脂の貧溶媒は、特に限定されるものではないが、ポリイミド樹脂を溶解する溶媒として使用した反応溶媒と混和するものが好ましく例えば水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、トリエチレングリコール、2−ブチルアルコール、2−プロピルアルコール、2−ヘキシルアルコール、シクロペンチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、フェノール、t−ブチルアルコールなどが挙げられる。上記アルコールの中でもイソプロピルアルコール、2−ブチルアルコール、2−ペンチルアルコール、フェノール、シクロペンチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、t−ブチルアルコール等の2級又は3級アルコールが、得られるポリイミド樹脂のイミド化率を高位に安定化させるという観点から好ましく、2−プロピルアルコールがさらに好ましい。貧溶媒量はポリイミド樹脂の溶液の2倍以上、さらに好ましくは3倍以上の量で抽出することが好ましい。   The poor solvent of the polyimide resin used in the present invention is not particularly limited, but is preferably mixed with a reaction solvent used as a solvent for dissolving the polyimide resin, for example, water, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, Examples include ethylene glycol, triethylene glycol, 2-butyl alcohol, 2-propyl alcohol, 2-hexyl alcohol, cyclopentyl alcohol, cyclohexyl alcohol, phenol, and t-butyl alcohol. Among the above alcohols, secondary or tertiary alcohols such as isopropyl alcohol, 2-butyl alcohol, 2-pentyl alcohol, phenol, cyclopentyl alcohol, cyclohexyl alcohol, and t-butyl alcohol increase the imidization ratio of the resulting polyimide resin. From the viewpoint of stabilization, 2-propyl alcohol is more preferable. The amount of the poor solvent is preferably extracted in an amount of 2 times or more, more preferably 3 times or more of the polyimide resin solution.

ポリイミド樹脂の溶液からポリイミド樹脂を析出させ分離するだけでは、乾燥後に所望の形状(有機溶媒に溶解しやすい形状)のポリイミド樹脂を得ることが難しいことがある。これはポリイミド樹脂に反応溶媒が多く含有されていることによるものであり、ポリイミド樹脂を前記貧溶媒で洗浄することで反応溶媒をほんど含有しない所望のポリイミド樹脂を得ることができる。   By simply depositing and separating the polyimide resin from the polyimide resin solution, it may be difficult to obtain a polyimide resin having a desired shape (a shape that is easily dissolved in an organic solvent) after drying. This is because the polyimide resin contains a large amount of reaction solvent. By washing the polyimide resin with the poor solvent, a desired polyimide resin containing almost no reaction solvent can be obtained.

本発明で凝固させた樹脂固形物の乾燥方法は、真空乾燥によってもよいし熱風乾燥によってもよい。ただし、光学用途に用いる場合、乾燥時の着色が問題となる場合があるので、150℃以下で行うことが望ましい。   The method for drying the solidified resin solidified in the present invention may be vacuum drying or hot air drying. However, when used for optical purposes, coloring at the time of drying may be a problem, so it is desirable to carry out at 150 ° C. or lower.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.

(合成例1)ジメチルシクロブタンテトラカルボン酸無水物(DMCBDA)の合成
反応器(3L)にシトラコン酸無水物(305.1g)、酢酸エチル(2.7L)を仕込み、アルゴン雰囲気下で攪拌した。その後、8℃にまで冷却し、高圧水銀ランプ(400W)で8.5時間反応させ、黄色白濁溶液を得た。前記黄色白濁溶液の溶媒を減圧除去(バス温度40℃)した後、固体をトルエン(300mL)で1時間洗浄し、ろ過で固体を得た。得られた個体をトルエン(100mL)で2回洗浄し、減圧乾燥(室温、終夜)でDMCBDA粗体(106.1gを得た。反応器に、得られたDMCBDA粗体(106.1g)、無水酢酸(550mL)を仕込み、アルゴン雰囲気下130℃で溶解させた後、5℃まで冷却させた。0〜5℃で2時間放置後、析出した固体をろ過し、無水酢酸(25mL)、トルエン(100mL)で固体を洗浄した。得られた固体を減圧乾燥(40℃、終夜)し、シクロブタン環に二個のメチル基を有するDMCBDA固体(63.6g)を得た。
(Synthesis Example 1) Synthesis of dimethylcyclobutanetetracarboxylic anhydride (DMCBDA) Citraconic anhydride (305.1 g) and ethyl acetate (2.7 L) were charged into a reactor (3 L), and the mixture was stirred under an argon atmosphere. Then, it cooled to 8 degreeC and made it react with a high pressure mercury lamp (400W) for 8.5 hours, and the yellow cloudy solution was obtained. After removing the solvent of the yellow cloudy solution under reduced pressure (bath temperature 40 ° C.), the solid was washed with toluene (300 mL) for 1 hour, and a solid was obtained by filtration. The obtained solid was washed twice with toluene (100 mL) and dried under reduced pressure (room temperature, overnight) to obtain a crude DMCBDA (106.1 g. The obtained DMCBDA crude (106.1 g) was added to the reactor. Acetic anhydride (550 mL) was charged and dissolved in an argon atmosphere at 130 ° C., and then cooled to 5 ° C. After standing at 0 to 5 ° C. for 2 hours, the precipitated solid was filtered, acetic anhydride (25 mL), toluene The solid was washed with (100 mL), and the obtained solid was dried under reduced pressure (40 ° C., overnight) to obtain a DMCBDA solid (63.6 g) having two methyl groups in the cyclobutane ring.

(実施例1)
(1−1)ポリアミド酸の形成
ポリテトラフルオロエチレン製シール栓付き攪拌器、窒素導入管を備えた容積300mLのガラス製セパラブルフラスコを備え、攪拌翼としては4枚羽根を備えた反応装置を用いてポリアミック酸を製造した。
(Example 1)
(1-1) Formation of Polyamic Acid A stirrer with a polytetrafluoroethylene seal stopper, a 300 mL glass separable flask equipped with a nitrogen inlet tube, and a reactor equipped with four blades as a stirring blade To produce a polyamic acid.

上記セパラブルフラスコに、trans−1,4−ジアミノシクロヘキサン(CHDA)1.97g(17.22ミリモル)と4,4‘−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル(TFMB)12.87g(40.2ミリモル)を入れ、重合用溶媒として脱水したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)70.0gを仕込み攪拌した後、この溶液に、TDA(3,4−ジカルボキシテトラリン−1−コハク酸二無水物、新日本理化(株)製、商品名リカジットTDA−100)17.234g(57.0ミリモル)を加え、25℃の水温下で攪拌した。それを、室温で60時間攪拌し、ポリアミド酸を得た。なお、この反応溶液における脂肪族ジアミン化合物及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して30重量%となっていた。   In the above separable flask, 1.97 g (17.22 mmol) of trans-1,4-diaminocyclohexane (CHDA) and 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl (TFMB) 12 were added. .87 g (40.2 mmol) was added, 70.0 g of dehydrated N, N-dimethylformamide (DMF) was charged as a polymerization solvent and stirred, and then TDA (3,4-dicarboxytetralin-1 -17.234 g (57.0 mmol) of succinic dianhydride, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name Rikagit TDA-100) was added and stirred at a water temperature of 25 ° C. It was stirred at room temperature for 60 hours to obtain polyamic acid. In addition, the preparation density | concentration of the aliphatic diamine compound and aliphatic tetracarboxylic dianhydride in this reaction solution was 30 weight% with respect to all the reaction liquids.

(1−2)ポリアミド酸のイミド化
上記溶液にDMFを14.56g加えた後、さらにイミド化触媒として3−メチル−ピリジンを21.38g(イミド化促進剤/ポリアミド酸中アミド基のモル比=2.0)添加して、完全に分散させた。分散させた溶液中に無水酢酸を14.063g(脱水剤/ポリアアミド酸中アミド基のモル比=1.2)を添加して攪拌し、100℃で20分間加熱後、室温に戻したうえで、4時間攪拌を行った。
(1-2) Imidization of polyamic acid After adding 14.56 g of DMF to the above solution, 21.38 g of 3-methyl-pyridine as an imidization catalyst (molar ratio of imidization accelerator / amide group in polyamic acid) = 2.0) was added and completely dispersed. In the dispersed solution, 14.063 g of acetic anhydride (molar ratio of dehydrating agent / amide in polyamic acid = 1.2) was added and stirred, heated at 100 ° C. for 20 minutes, and then returned to room temperature. Stirring was performed for 4 hours.

(1−3)ポリイミド樹脂の抽出
200回転以上に撹拌翼で撹拌したポリイミド樹脂溶液中に、穴の直径が約5mmの滴下漏斗から300mlの貧溶媒2−プロピルアルコールを、ポリイミド樹脂溶液中に滴下した。滴下後、攪拌翼を100回転に下げ、20分攪拌した。攪拌後、回転を止めこの樹脂固形分を静沈した後、溶媒をろ過した。さらに、残った樹脂固形成分を2-プロピルアルコール300mlで洗浄を行い、ジメチルホルムアミド及び3−メチル−ピリジンを除去した。洗浄を5回実施した後に、真空乾燥装置で100℃に加熱乾燥して、ポリイミド樹脂として取り出した。
(1-3) Extraction of polyimide resin 300 ml of poor solvent 2-propyl alcohol was dropped into a polyimide resin solution from a dropping funnel having a hole diameter of about 5 mm into a polyimide resin solution stirred with a stirring blade for 200 revolutions or more. did. After dropping, the stirring blade was lowered to 100 revolutions and stirred for 20 minutes. After stirring, the rotation was stopped and the resin solid content was allowed to settle, and then the solvent was filtered. Further, the remaining resin solid component was washed with 300 ml of 2-propyl alcohol to remove dimethylformamide and 3-methyl-pyridine. After carrying out washing 5 times, it was dried by heating to 100 ° C. with a vacuum drying device and taken out as a polyimide resin.

(評価方法)
(位相差値の波長分散)
得られたポリイミド樹脂をDMFに溶解してポリイミド樹脂が25重量%含有されているポリイミド樹脂溶液を作製し、マツナミカバーグラス(35×50mm)上に均一な膜厚を持ったポリイミド樹脂溶液膜として塗布した後、90℃で20分間乾燥させ、さらに、200℃で20分間乾燥させて作成した。
(Evaluation methods)
(Chromatic dispersion of retardation value)
The obtained polyimide resin is dissolved in DMF to prepare a polyimide resin solution containing 25% by weight of polyimide resin, and a polyimide resin solution film having a uniform film thickness on a pineapple cover glass (35 × 50 mm). After coating, it was dried at 90 ° C. for 20 minutes and further dried at 200 ° C. for 20 minutes.

このコーティングしたサンプルを、王子計測機器製自動複屈折計KOBRA−wRにより、位相差の波長分散を測定し、その測定値を元に装置付属のプログラムによりRe(450)、Re(550)を算出した。   This coated sample is measured for wavelength dispersion of phase difference by automatic birefringence meter KOBRA-wR manufactured by Oji Scientific Instruments, and Re (450) and Re (550) are calculated based on the measured value by the program attached to the device. did.

斜め方向(入射角40°)から入射したときのレターデーション値Re(λ)を表2に示した。   Table 2 shows the retardation value Re (λ) when incident from an oblique direction (incident angle 40 °).

(複屈折)
本発明における複屈折(△n)とは、ポリイミド層の面内の屈折率をnx、nyとし、厚み方向の屈折率をnzとした場合、式1で示される値である。
△n=[(nx+ny)/2]−nx ・・・数式1
複屈折は、ポリイミド層の鉛直方向を0°とした場合の40°の角度で入射させた光の位相差をKobra−WRで測定し、その位相差値を用い、Kobra−RE(王子計測)で得られた屈折率から複屈折(△n)を算出した。
(Birefringence)
The birefringence (Δn) in the present invention is a value represented by Formula 1 when the in-plane refractive index of the polyimide layer is nx and ny and the refractive index in the thickness direction is nz.
Δn = [(nx + ny) / 2] −nx Equation 1
Birefringence is measured by using Kobra-WR to measure the phase difference of light incident at an angle of 40 ° when the vertical direction of the polyimide layer is 0 °. Kobra-RE (Prince measurement) The birefringence (Δn) was calculated from the refractive index obtained in (1).

(分子量)
以下の条件にて重量平均分子量(Mw)を評価した。評価結果を表2に記載する。
(Molecular weight)
The weight average molecular weight (Mw) was evaluated under the following conditions. The evaluation results are shown in Table 2.

Figure 2008050567
(実施例2)
ジアミンの割合をCHDA:TFMB=50.0%:50.0%として、CHDA3.56g(31.2ミリモル)、TFMB9.98g(31.2ミリモル)、TDA18.71g(62.0ミリモル)用いること以外は実施例1と同様にして製造した。
Figure 2008050567
(Example 2)
CHDA 3.56 g (31.2 mmol), TFMB 9.98 g (31.2 mmol), TDA 18.71 g (62.0 mmol) are used with the ratio of diamine being CHDA: TFMB = 50.0%: 50.0%. Except for this, it was produced in the same manner as in Example 1.

実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。   Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

(実施例3)
(3−1)ポリアミド酸の形成
ポリテトラフルオロエチレン製シール栓付き攪拌器、窒素導入管を備えた容積300mLのガラス製セパラブルフラスコを備え、攪拌翼としては4枚羽根を備えた反応装置を用いてポリアミック酸を製造した。
(Example 3)
(3-1) Formation of polyamic acid A stirrer with a polytetrafluoroethylene seal stopper, a 300 mL glass separable flask equipped with a nitrogen inlet tube, and a reactor equipped with four blades as a stirring blade To produce a polyamic acid.

上記セパラブルフラスコに、trans−1,4−ジアミノシクロヘキサン(CHDA)0.91g(8.0ミリモル)と2,2´−ビス(トリフルオロメチル)−4,4´−ジアミノビフェニル(TFMB)10.13g(31.6ミリモル)を入れ、重合用溶媒として脱水したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)46.7gを仕込み攪拌した後、この溶液に、ビシクロ[2,2,2] −オクタン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物(BTA−H)1.00g(4.0ミリモル)と1,3−ジメチル−1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物(DMCBDA)7.98g(35.6ミリモル)を加え、25℃の水浴で攪拌した。それを146時間攪拌し、ポリアミド酸を得た。なお、この反応溶液における脂肪族ジアミン化合物及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物の仕込み濃度は、全反応液に対して30重量%となっていた。   In the above separable flask, 0.91 g (8.0 mmol) of trans-1,4-diaminocyclohexane (CHDA) and 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl (TFMB) 10 .13 g (31.6 mmol) was added, and 46.7 g of dehydrated N, N-dimethylformamide (DMF) was charged as a polymerization solvent and stirred, and then bicyclo [2,2,2] -octane- was added to this solution. 1.00 g (4.0 mmol) of 2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride (BTA-H) and 1,3-dimethyl-1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride (DMCBDA) 7.98 g (35.6 mmol) was added, and the mixture was stirred in a 25 ° C. water bath. It was stirred for 146 hours to obtain polyamic acid. In addition, the preparation density | concentration of the aliphatic diamine compound and aliphatic tetracarboxylic dianhydride in this reaction solution was 30 weight% with respect to all the reaction liquids.

(3−2)ポリアミド酸のイミド化
上記溶液にDMFを11.1g加えた後、さらにイミド化触媒としてピリジン12.5g(イミド化促進剤/ポリアミド酸中アミド基のモル比=2.0)と無水酢酸9.7g(脱水剤/ポリアアミド酸中アミド基のモル比=1.2)を添加して攪拌し、室温で4時間攪拌を行った。
(3-2) Imidization of polyamic acid After adding 11.1 g of DMF to the above solution, 12.5 g of pyridine as an imidization catalyst (molar ratio of imidization accelerator / amide group in polyamic acid = 2.0) And 9.7 g of acetic anhydride (dehydrating agent / molar ratio of amide groups in polyamic acid = 1.2) were added and stirred, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours.

(3−3)ポリイミド樹脂の抽出
200回転以上に撹拌翼で撹拌したポリイミド樹脂溶液中に、滴下漏斗から300mLの2−プロピルアルコールを、ポリイミド樹脂溶液中に滴下した。滴下後、攪拌翼を100回転に下げ、20分攪拌した。攪拌後、回転を止めこの樹脂固形分を静沈した後、溶媒をろ過した。さらに、残った樹脂固形成分を2−プロピルアルコール300mLで洗浄を5回実施した後に、真空乾燥装置で100℃に加熱乾燥して、ポリイミド樹脂として取り出した。
(3-3) Extraction of polyimide resin 300 mL of 2-propyl alcohol was dropped into the polyimide resin solution from the dropping funnel into the polyimide resin solution stirred with a stirring blade for 200 revolutions or more. After dropping, the stirring blade was lowered to 100 revolutions and stirred for 20 minutes. After stirring, the rotation was stopped and the resin solid content was allowed to settle, and then the solvent was filtered. Further, the remaining resin solid component was washed five times with 300 mL of 2-propyl alcohol, and then dried by heating to 100 ° C. with a vacuum dryer, and taken out as a polyimide resin.

(評価方法)
(位相差値の波長分散)
得られたポリイミド樹脂をシクロペンタノンに溶解してポリイミド樹脂が15重量%含有されているポリイミド樹脂溶液を作製し、マツナミカバーグラス(35×50mm)上に均一な膜厚を持ったポリイミド樹脂溶液膜として塗布した後、130℃で60分間乾燥させた。
このコーティングしたサンプルは実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
(Evaluation methods)
(Chromatic dispersion of retardation value)
The obtained polyimide resin is dissolved in cyclopentanone to prepare a polyimide resin solution containing 15% by weight of the polyimide resin, and the polyimide resin solution having a uniform film thickness on a pineapple cover glass (35 × 50 mm). After coating as a film, it was dried at 130 ° C. for 60 minutes.
The coated sample was evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

(複屈折)
実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
(Birefringence)
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

(分子量)
実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
(Molecular weight)
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

(実施例4)
ジアミンとして、4,4´−ジアミノジシクロヘキシルメタン(DCHM)1.60g(7.6ミリモル)、TFMB9.76g(30.5ミリモル)を用い、酸二無水物として、BTA−H0.97g(3.9ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.70g(34.3ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を116時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
Example 4
As the diamine, 1.60 g (7.6 mmol) of 4,4′-diaminodicyclohexylmethane (DCHM) and 9.76 g (30.5 mmol) of TFMB were used, and 0.97 g (3. 9 mmol), and DMCBDA 7.70 g (34.3 mmol) synthesized in Synthesis Example 1 was used, and the polyamic acid was formed (stirred) for 116 hours. Evaluation was performed in the same manner as in Example 3. The evaluation results are shown in Table 2.

(実施例5)
ジアミンとして、TFMB11.71g(36.6ミリモル)を用い、酸二無水物として、BTA−H0.92g(3.7ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.39g(33.0ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を293時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
(Example 5)
11.71 g (36.6 mmol) of TFMB was used as the diamine, 0.92 g (3.7 mmol) of BTA-H was used as the acid dianhydride, and 7.39 g (33.0 mmol) of DMCBDA synthesized in Synthesis Example 1 was used. This was produced in the same manner as in Example 3 except that the formation time (stirring) of the polyamic acid was changed to 293 hours. Evaluation was performed in the same manner as in Example 3. The evaluation results are shown in Table 2.

(実施例6)
ジアミンとして、TFMB9.80(30.6ミリモル)、4,4´−ジアミノジフェニルエーテル(ODA)1.53g(7.6ミリモル)を用い、酸二無水物として、BTA−H0.97g(3.9ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.73g(34.5ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を146時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。
(Example 6)
TFMB9.80 (30.6 mmol) and 4,4′-diaminodiphenyl ether (ODA) 1.53 g (7.6 mmol) were used as the diamine, and BTA-H 0.97 g (3.9) was used as the acid dianhydride. Mmol) and 7.73 g (34.5 mmol) of DMCBDA synthesized in Synthesis Example 1 were used and the production (stirring) time of polyamic acid was changed to 146 hours. Evaluation was performed in the same manner as in Example 3. The evaluation results are shown in Table 2.

(実施例7)
ジアミンとして、TFMB9.69g(30.3ミリモル)、ODA1.52g(7.6ミリモル)を用い、酸二無水物として、3,3´,4,4´−ビシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物(H−BPDA)1.16g(3.8ミリモル)、合成例1で合成したDMCBDA7.63g(34.1ミリモル)を用い、ポリアミド酸の形成(攪拌)時間を130時間にした以外は、実施例3と同様にして製造した。実施例3と同様の方法で評価を行い、複屈折は0.056となった。
(Example 7)
As diamine, 9.69 g (30.3 mmol) of TFMB and 1.52 g (7.6 mmol) of ODA were used, and 3,3 ′, 4,4′-bicyclohexyltetracarboxylic dianhydride ( Example 1 except that 1.16 g (3.8 mmol) of H-BPDA) and 7.63 g (34.1 mmol) of DMCBDA synthesized in Synthesis Example 1 were used and the polyamic acid formation (stirring) time was 130 hours. 3 was produced in the same manner as in No. 3. Evaluation was performed in the same manner as in Example 3, and the birefringence was 0.056.

(比較例1)
ジアミンの割合をCHDA:TFMB=0.0%:100.0%として、TFMB16.44(51.3ミリモル)、TDA15.41(51.3)を用いること以外は実施例1と同様にして製造した。
(Comparative Example 1)
Manufactured in the same manner as in Example 1 except that the ratio of diamine is CHDA: TFMB = 0.0%: 100.0% and TFMB 16.44 (51.3 mmol) and TDA 15.41 (51.3) are used. did.

実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。   Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

(比較例2)
ジアミンの割合をCHDA:TFMB=100.0%:0.0%として、CHDA9.05g(79.3ミリモル)を用い、重合用溶媒として脱水したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)55.24gとβ−ピコリン14.77g(158.5ミリモル)を仕込み攪拌した後、この溶液に、TDA23.80g(79.3ミリモル)を加え、25℃の水温下で攪拌した。それを、室温で6時間攪拌し、ポリアミド酸を得た。以下の操作は、実施例1の同様にして製造した。
(Comparative Example 2)
The ratio of diamine was CHDA: TFMB = 100.0%: 0.0%, CHDA 9.05 g (79.3 mmol) was used, and dehydrated N, N-dimethylformamide (DMF) 55.24 g was used as a solvent for polymerization. 14.77 g (158.5 mmol) of β-picoline was added and stirred, and then 23.80 g (79.3 mmol) of TDA was added to the solution, followed by stirring at a water temperature of 25 ° C. It was stirred at room temperature for 6 hours to obtain polyamic acid. The following operations were carried out in the same manner as in Example 1.

実施例1と同様の方法で評価を行った。評価結果を表2に記載する。   Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 2.

(比較例3)
酸二無水物として2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン酸二無水物(6FDA)、ジアミンとしてTFMBを用い、実施例1と同様の評価を行った。
(Comparative Example 3)
Evaluation similar to Example 1 was performed using 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropanoic acid dianhydride (6FDA) as the acid dianhydride and TFMB as the diamine.

Figure 2008050567
Figure 2008050567

レターデーション値(Re(λ))の測定方法Method of measuring retardation value (Re (λ))

Claims (18)

下記数式1且つ、下記数式2を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂層。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式1
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式2
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nx で表される値である。)
The polyimide resin layer characterized by satisfy | filling following Numerical formula 1 and following Numerical formula 2.
1.00 ≦ Re (450) / Re (550) ≦ 1.05: Formula 1
(Re (λ) is a layer formed by using a polyimide resin with the horizontal plane as the reference plane, and is inclined with respect to the reference plane by 40 ° about the fast axis of the layer, while the wavelength λnm (In-plane retardation (nm) in a plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the layer is formed, measured by irradiating measurement light from the direction perpendicular to the reference plane.)
0.010 ≦ Δn ≦ 0.060: Formula 2
(Here, birefringence (Δn) is the refractive index in the plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the polyimide layer is formed in the same manner as described above, nx and ny, and the refractive index in the direction perpendicular to this plane is nz. In this case, Δn = [(nx + ny) / 2] −nx.)
下記一般式(0)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項1記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Qは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているQの炭素が脂肪族炭素である。またPは2価の芳香族基又は脂肪族基である。)
The polyimide resin layer according to claim 1, comprising a unit represented by the following general formula (0).
Figure 2008050567
(Q includes a ring in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of Q to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon. P is a divalent aromatic group or aliphatic carbon. A group.)
下記一般式(1)で表されるユニット、及び/又は、下記一般式(2)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項1又は2記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
Figure 2008050567
(ここでRは、炭素数が1〜20である炭化水素からなり、イミド基が結合している炭素が、脂肪族炭素であり、Rはイミド基が結合している炭素が芳香族炭素である炭化水素である。)
The polyimide resin layer according to claim 1 or 2, wherein the polyimide resin layer is formed by containing a unit represented by the following general formula (1) and / or a unit represented by the following general formula (2). .
Figure 2008050567
Figure 2008050567
(Here, R 1 is composed of a hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms, the carbon to which the imide group is bonded is aliphatic carbon, and R 2 is the carbon to which the imide group is bonded is aromatic. It is a hydrocarbon that is carbon.)
一般式(2)が、下記一般式(4)であることを特徴とする、請求項3記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
The polyimide resin layer according to claim 3, wherein the general formula (2) is the following general formula (4).
Figure 2008050567
一般式(1)で表されるユニットのモル分率をA、一般式(2)で表されるユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.10≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.90
が成り立つ(但し、0.6≦A+B≦1.0)ことを特徴とする請求項3または4に記載のポリイミド樹脂層。
When the mole fraction of the unit represented by the general formula (1) is represented as A and the mole fraction of the unit represented by the general formula (2) is represented as B,
0.10 ≦ A ≦ 0.50
and,
0.50 ≦ B ≦ 0.90
5 (provided that 0.6 ≦ A + B ≦ 1.0). 5. The polyimide resin layer according to claim 3, wherein:
一般式(1)で表されるユニットにおいて、Rが一般式群(5)で表される群から選ばれる1以上の構造であることを特徴とする請求項3〜5のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(但し、式中のXは、O、SO、CH、C(CH、C(CFから選ばれる置換基であり、式中のYはそれぞれ独立して、H、F、Cl、Br,CF、CCl、CBrから選ばれる置換基である。)
6. The unit represented by the general formula (1), wherein R 1 is one or more structures selected from the group represented by the general formula group (5). The polyimide resin layer described in 1.
Figure 2008050567
(Wherein, X is a substituent selected from O, SO 2 , CH 2 , C (CH 3 ) 2 , C (CF 3 ) 2 , and Y in the formula is independently H, This is a substituent selected from F, Cl, Br, CF 3 , CCl 3 and CBr 3. )
一般式(1)で表されるユニットにおいて、Rが一般式(6)で表される構造であることを特徴とする請求項3〜6のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
In the unit represented by the general formula (1), the polyimide resin layer according to any one of claims 3-6, wherein R 1 is a structure represented by the general formula (6).
Figure 2008050567
一般式(1)で表されるユニットのモル分率をA、一般式(2)で表されるユニットのモル分率をBとして表した時に、
0.15≦A≦0.50
且つ、
0.50≦B≦0.85
が成り立つ(但し、0.65≦A+B≦1.0)ことを特徴とする請求項7に記載のポリイミド樹脂層。
When the mole fraction of the unit represented by the general formula (1) is represented as A and the mole fraction of the unit represented by the general formula (2) is represented as B,
0.15 ≦ A ≦ 0.50
and,
0.50 ≦ B ≦ 0.85
The polyimide resin layer according to claim 7, wherein: 0.65 ≦ A + B ≦ 1.0.
下記一般式(7)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする請求項1または2記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Rは、シクロブタンの炭素に結合しており、それぞれ独立した炭素数1〜12の脂肪族基又は芳香族基である。Cは、2価の芳香族基又は脂肪族基を表す。)
The polyimide resin layer according to claim 1, wherein the polyimide resin layer is formed by containing a unit represented by the following general formula (7).
Figure 2008050567
(R is bonded to the carbon of cyclobutane and is an independent aliphatic group or aromatic group having 1 to 12 carbon atoms. C represents a divalent aromatic group or aliphatic group.)
さらに、下記一般式(8)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする請求項9記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
(Dは、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているDの炭素が脂肪族炭素である。ただし、置換または無置換のシクロブタン残基を除く。Cは前記に同じ。)
The polyimide resin layer according to claim 9, further comprising a unit represented by the following general formula (8).
Figure 2008050567
(D includes a cyclic group in which more than half of the carbons forming the ring are aliphatic carbons, and the carbon of D to which the carbonyl carbon is bonded is an aliphatic carbon, provided that a substituted or unsubstituted cyclobutane residue. (C is the same as above.)
一般式(7)で表されるユニットにおいて、Rがメチル基であることを特徴とする、請求項9または10記載のポリイミド樹脂層。   The polyimide resin layer according to claim 9 or 10, wherein in the unit represented by the general formula (7), R is a methyl group. 下記一般式(9)で表されるユニットと、下記一般式群(10)で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項10又は11記載のポリイミド樹脂層。
Figure 2008050567
Figure 2008050567
(Cは、2価の芳香族基又は脂肪族基を表す。)
The polyimide resin layer according to claim 10 or 11, wherein the polyimide resin layer is formed by containing a unit represented by the following general formula (9) and a unit represented by the following general formula group (10).
Figure 2008050567
Figure 2008050567
(C represents a divalent aromatic group or an aliphatic group.)
厚さが1μm以上、40μm未満であることを特徴とする請求項1〜12のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層。   Thickness is 1 micrometer or more and less than 40 micrometers, The polyimide resin layer of any one of Claims 1-12 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜13の何れか1項に記載のポリイミド樹脂層と、プラスティックフィルム基盤からなることを特徴とする、積層体。   A laminate comprising the polyimide resin layer according to any one of claims 1 to 13 and a plastic film substrate. 請求項14に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を塗布、乾燥して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。   A method for producing a laminate, wherein the laminate according to claim 14 is formed by applying and drying a polyimide resin layer on a plastic film substrate. 請求項14に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を転写して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。   A method for producing a laminate, wherein the laminate according to claim 14 is formed by transferring a polyimide resin layer on a plastic film substrate. 請求項1〜16のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂層又は積層体を含有して形成されることを特徴とする、光学補償部材。   An optical compensation member comprising the polyimide resin layer or laminate according to any one of claims 1 to 16. ポリイミド樹脂の固形成分濃度が25重量%であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、90℃で20分間乾燥後、さらに、200℃で20分間乾燥させて形成した膜厚11.9μmのコーティング層が、下記数式3且つ、下記数式4を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
1.00≦Re(450)/Re(550)≦1.05 :数式3
(Re(λ)は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として40°傾けた配置とし、一方で波長λnmの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の面内レターデーション(nm)を表す。)
0.010≦△n≦0.060 :数式4
(ここで複屈折(△n)は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し40°傾いた平面内の屈折率をnx、nyとし、この面に対して垂直方向の屈折率をnzとした場合、△n=[(nx+ny)/2]−nx で表される値である。)
A dimethylformamide solution having a polyimide resin solid component concentration of 25% by weight was applied on a glass substrate, dried at 90 ° C. for 20 minutes, and further dried at 200 ° C. for 20 minutes. The polyimide resin characterized by satisfying the following mathematical formula 3 and the following mathematical formula 4.
1.00 ≦ Re (450) / Re (550) ≦ 1.05: Formula 3
(Re (λ) is a layer formed by using a polyimide resin with the horizontal plane as the reference plane, and is inclined with respect to the reference plane by 40 ° about the fast axis of the layer, while the wavelength λnm (In-plane retardation (nm) in a plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the layer is formed, measured by irradiating measurement light from the direction perpendicular to the reference plane.)
0.010 ≦ Δn ≦ 0.060: Formula 4
(Here, birefringence (Δn) is the refractive index in the plane inclined by 40 ° with respect to the plane on which the polyimide layer is formed in the same manner as described above, nx and ny, and the refractive index in the direction perpendicular to this plane is nz. In this case, Δn = [(nx + ny) / 2] −nx.)
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