JP2008050203A - Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method - Google Patents

Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP2008050203A
JP2008050203A JP2006227984A JP2006227984A JP2008050203A JP 2008050203 A JP2008050203 A JP 2008050203A JP 2006227984 A JP2006227984 A JP 2006227984A JP 2006227984 A JP2006227984 A JP 2006227984A JP 2008050203 A JP2008050203 A JP 2008050203A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
optical fiber
dehydration
optical
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006227984A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taiichiro Yamashita
泰一郎 山下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Electric Industries Ltd filed Critical Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority to JP2006227984A priority Critical patent/JP2008050203A/en
Publication of JP2008050203A publication Critical patent/JP2008050203A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass dehydration method by which occurrence of structural defects is suppressed. <P>SOLUTION: Dehydration of quartz-based glass is carried out under a condition that the reaction progresses to the right side of formula (1) and the left side of formula (2). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラス脱水方法、そのガラス脱水方法を用いた光学ガラス製造方法、及びその光学ガラス製造方法を用いた光ファイバ製造方法に関する。   The present invention relates to a glass dehydrating method, an optical glass manufacturing method using the glass dehydrating method, and an optical fiber manufacturing method using the optical glass manufacturing method.

加水分解反応を用いて製造される多孔質ガラスには水分が多く含まれる為、そのまま焼結すると、水分又はOH基を含んだ光学ガラスが形成される。光学ガラス中の水分及びOH基は吸収損失を与える。例えば、水分又はOH基を含む光学ガラスによって形成された光ファイバは、通信波長域において吸収損失を有する。   Since porous glass produced using a hydrolysis reaction contains a large amount of moisture, when it is sintered as it is, an optical glass containing moisture or OH groups is formed. Moisture and OH groups in the optical glass give absorption loss. For example, an optical fiber formed of optical glass containing moisture or OH groups has an absorption loss in the communication wavelength region.

そこで、塩素系ガスを添加した不活性ガス雰囲気中において多孔質ガラスを加熱処理することにより、多孔質ガラスを脱水する方法がある(下記特許文献1参照)。
特開平5−24873号公報
Therefore, there is a method of dehydrating the porous glass by heat-treating the porous glass in an inert gas atmosphere to which a chlorine-based gas is added (see Patent Document 1 below).
Japanese Patent Laid-Open No. 5-24873

しかし、上記特許文献1に記載の脱水方法では、有毒な塩素ガスを使用可能な設備環境を整え維持しなければならず、そのためのコストがかかる。   However, in the dehydration method described in Patent Document 1, it is necessary to prepare and maintain an equipment environment in which toxic chlorine gas can be used, and this requires costs.

本発明は、塩素を使用するための設備を整え維持するコストのかからないガラス脱水方法、光学ガラス製造方法、及び光ファイバ製造方法を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide a glass dehydration method, an optical glass manufacturing method, and an optical fiber manufacturing method that are not costly to arrange and maintain equipment for using chlorine.

本発明のガラス脱水方法は、化学反応式(1)

Figure 2008050203

の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(2)
Figure 2008050203

の左辺に反応が進む条件下で石英系ガラスの脱水を行うことを特徴とする。 The glass dehydration method of the present invention comprises a chemical reaction formula (1)
Figure 2008050203

The reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (2)
Figure 2008050203

The silica glass is dehydrated under the condition that the reaction proceeds to the left side of the glass.

本発明のガラス脱水方法では、化学反応式(1)の右辺に反応が進む条件下において処理をする。よって、石英系ガラスに物理的に付着しているHOがHとOとに分解される反応が進むと共に、石英系ガラスの主成分であるSiOに化学的に結合していたOH基が除去される。すなわち、塩素を用いずに石英系ガラスの脱水処理を行うことができる。従って、構造欠陥の発生を抑制して石英系ガラスを脱水することができる。また、化学反応式(2)の左辺に反応が進む条件下で処理するので、SiOの還元反応が起こるのを抑制して石英系ガラスの状態を保つことができる。 In the glass dehydration method of the present invention, the treatment is performed under the condition that the reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (1). Therefore, the reaction in which H 2 O physically attached to the quartz-based glass is decomposed into H 2 and O 2 proceeds and chemically bonded to SiO 2 which is the main component of the quartz-based glass. The OH group is removed. That is, it is possible to perform dehydration treatment of the quartz glass without using chlorine. Accordingly, it is possible to dehydrate the quartz glass while suppressing the occurrence of structural defects. Further, since the process under conditions that the reaction proceeds to the left side of the chemical equation (2), it is possible to suppress the reduction of SiO 2 occurs maintain the state of the silica-based glass.

本発明の光学ガラス製造方法は、化学反応式(1)の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(2)の左辺に反応が進む条件下で多孔質ガラスの脱水を行う脱水工程と、脱水工程の後に多孔質ガラスを焼結して光学ガラスを製造する焼結工程と、を含むことを特徴とする。   The optical glass production method of the present invention includes a dehydration step of dehydrating the porous glass under conditions where the reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (1) and the reaction proceeds to the left side of the chemical reaction formula (2); And a sintering step of producing an optical glass by sintering the porous glass after the dehydration step.

本発明の光学ガラス製造方法では、脱水工程において化学反応式(1)の右辺に反応が進む条件下において処理をする。よって、多孔質ガラスに物理的に付着しているHOがHとOとに分解される反応が進むと共に、多孔質ガラスの主成分であるSiOに化学的に結合していたOH基が除去される。すなわち、塩素を用いずに多孔質ガラスの脱水処理を行うことができる。従って、構造欠陥の発生を抑制して多孔質ガラスを脱水することができる。また、化学反応式(2)の左辺に反応が進む条件下で処理するので、SiOの還元反応が起こるのを抑制して多孔質ガラスの状態を保つことができる。また、このようにして脱水処理した多孔質ガラスを焼結して光学ガラスを製造するので、構造欠陥の発生を抑制して光学ガラスを製造することができる。 In the optical glass manufacturing method of this invention, it processes on the conditions which reaction advances to the right side of Chemical Reaction Formula (1) in a dehydration process. Therefore, a reaction in which H 2 O physically attached to the porous glass is decomposed into H 2 and O 2 proceeds and chemically bonded to SiO 2 which is the main component of the porous glass. The OH group is removed. That is, the porous glass can be dehydrated without using chlorine. Therefore, the porous glass can be dehydrated while suppressing the occurrence of structural defects. Further, since the process under conditions that the reaction proceeds to the left side of the chemical equation (2), it is possible to suppress the reduction of SiO 2 occurs maintain the state of the porous glass. Moreover, since the optical glass is manufactured by sintering the porous glass thus dehydrated, the optical glass can be manufactured while suppressing the occurrence of structural defects.

また、上記光学ガラスは、光ファイバ母材であることも好ましい。このようにすることにより、構造欠陥の発生を抑制して光ファイバ母材を形成することができる。   The optical glass is also preferably an optical fiber preform. By doing in this way, generation | occurrence | production of a structural defect can be suppressed and an optical fiber preform | base_material can be formed.

本発明の光ファイバ製造方法は、化学反応式(1)の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(2)の左辺に反応が進む条件下で多孔質ガラスの脱水を行う脱水工程と、脱水工程の後に多孔質ガラスを焼結して光ファイバ母材を形成する焼結工程と、光ファイバ母材を線引きして光ファイバを製造する線引工程と、を含むことを特徴とする。   The optical fiber manufacturing method of the present invention includes a dehydration step of dehydrating the porous glass under a condition that the reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (1) and the reaction proceeds to the left side of the chemical reaction formula (2); It includes a sintering step in which porous glass is sintered after the dehydration step to form an optical fiber preform, and a drawing step in which the optical fiber preform is drawn to produce an optical fiber.

本発明の光ファイバ製造方法では、脱水工程において化学反応式(1)の右辺に反応が進む条件下において処理をする。よって、多孔質ガラスに物理的に付着しているHOがHとOとに分解される反応が進むと共に、多孔質ガラスの主成分であるSiOに化学的に結合していたOH基が除去される。すなわち、塩素を用いずに多孔質ガラスの脱水処理を行うことができる。従って、構造欠陥の発生を抑制して多孔質ガラスを脱水することができる。また、化学反応式(2)の左辺に反応が進む条件下で処理するので、SiOの還元反応が起こるのを抑制して多孔質ガラスの状態を保つことができる。このようにして脱水処理した多孔質ガラスを焼結して光ファイバ母材を形成し、線引きして光ファイバを製造するので、構造欠陥の発生を抑制して光ファイバを製造することができる。 In the optical fiber manufacturing method of the present invention, the dehydration process is performed under conditions where the reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (1). Therefore, a reaction in which H 2 O physically attached to the porous glass is decomposed into H 2 and O 2 proceeds and chemically bonded to SiO 2 which is the main component of the porous glass. The OH group is removed. That is, the porous glass can be dehydrated without using chlorine. Therefore, the porous glass can be dehydrated while suppressing the occurrence of structural defects. Further, since the process under conditions that the reaction proceeds to the left side of the chemical equation (2), it is possible to suppress the reduction of SiO 2 occurs maintain the state of the porous glass. Since the porous glass thus dehydrated is sintered to form an optical fiber preform, and the optical fiber is manufactured by drawing, the optical fiber can be manufactured while suppressing the occurrence of structural defects.

本発明によれば、塩素を使用するための設備を整え維持するコストのかからないガラス脱水方法、光学ガラス製造方法、及び光ファイバ製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method which do not require the cost which arranges and maintains the installation for using chlorine can be provided.

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素に同一の符号を付し、重複する説明を省略する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are assigned to the same elements, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、本実施形態に係る光ファイバ製造方法を説明するフローチャートである。本実施形態に係る光ファイバ製造方法は、本発明のガラス脱水方法及び光学ガラス製造方法を用いて光ファイバを製造する方法である。   FIG. 1 is a flowchart for explaining an optical fiber manufacturing method according to this embodiment. The optical fiber manufacturing method according to the present embodiment is a method of manufacturing an optical fiber using the glass dehydration method and the optical glass manufacturing method of the present invention.

まず、形成工程S1において、多孔質ガラスが形成される。多孔質ガラスは、例えばOVD法により形成され、SiCl4を加水分解してSiO2微粒子を生成し、生成したSiO2微粒子を棒状の基材に堆積させて形成する。次に、脱水工程S2において形成した多孔質ガラスを脱水処理する。続いて、焼結工程S3において、脱水処理された多孔質ガラスを例えば1650℃〜1800℃程度の温度にて焼結し、光ファイバ母材を形成する。その後、線引工程S4において、形成された光ファイバ母材を線引きして光ファイバを形成する。 First, in the forming step S1, porous glass is formed. Porous glass is formed, for example, by OVD method, SiO 2 fine particles to produce the a SiCl 4 was hydrolyzed, the resulting SiO 2 particles are deposited on the rod-shaped base material formed. Next, the porous glass formed in the dehydration step S2 is dehydrated. Subsequently, in the sintering step S3, the dehydrated porous glass is sintered at a temperature of about 1650 ° C. to 1800 ° C., for example, to form an optical fiber preform. Thereafter, in the drawing step S4, the formed optical fiber preform is drawn to form an optical fiber.

続いて、脱水工程S2について詳細に説明する。図2は、脱水工程S2において用いる極低酸素脱水装置の構成図である。極低酸素脱水装置10は、酸素分圧の低い低酸素ガスを生成する低酸素装置11と、バルブ12を介して低酸素装置11と接続された低酸素室13とを備えている。   Subsequently, the dehydration step S2 will be described in detail. FIG. 2 is a configuration diagram of the ultra-low oxygen dehydration apparatus used in the dehydration step S2. The extremely low oxygen dehydration apparatus 10 includes a low oxygen apparatus 11 that generates a low oxygen gas having a low oxygen partial pressure, and a low oxygen chamber 13 that is connected to the low oxygen apparatus 11 via a valve 12.

矢印Yに示すように、低酸素装置11において生成された低酸素ガスは低酸素室13に供給され、低酸素室13にて脱水処理が行われ、低酸素室13から排気ガスが排気される。極低酸素脱水装置10は、低酸素室13へ供給される供給ガスの酸素分圧を測定する酸素センサ14と、低酸素室13から排気される排気ガスの酸素分圧を測定する酸素センサ15とを更に備える。また、低酸素室13には、低酸素室13内の温度を測定する温度センサ16が設置されている。   As indicated by an arrow Y, the low oxygen gas generated in the low oxygen device 11 is supplied to the low oxygen chamber 13, dehydration is performed in the low oxygen chamber 13, and exhaust gas is exhausted from the low oxygen chamber 13. . The ultra-low oxygen dehydration apparatus 10 includes an oxygen sensor 14 that measures an oxygen partial pressure of a supply gas supplied to the low oxygen chamber 13 and an oxygen sensor 15 that measures an oxygen partial pressure of exhaust gas exhausted from the low oxygen chamber 13. And further comprising. The low oxygen chamber 13 is provided with a temperature sensor 16 for measuring the temperature in the low oxygen chamber 13.

低酸素装置11は、He,Ne,Ar,Xe等の希ガス又は窒素ガス中の酸素分圧を下げる酸素ポンプを備えて、酸素分圧が低い低酸素ガスを生成する。酸素ポンプについては、例えば、特開2005−331339号公報及び特開2004−250283号公報に記載された酸素ポンプを用いることができる。   The low oxygen device 11 includes an oxygen pump that lowers the oxygen partial pressure in a rare gas such as He, Ne, Ar, or Xe or nitrogen gas, and generates a low oxygen gas having a low oxygen partial pressure. As the oxygen pump, for example, the oxygen pumps described in JP-A-2005-331339 and JP-A-2004-250283 can be used.

低酸素室13は、酸素センサ14,15及び温度センサ16の出力する酸素分圧値及び温度に基づいて、所定の温度範囲及び所定の酸素分圧雰囲気に設定される。所定の温度範囲及び所定の酸素分圧雰囲気とは、図3の領域Aに示す範囲である。   The low oxygen chamber 13 is set to a predetermined temperature range and a predetermined oxygen partial pressure atmosphere based on the oxygen partial pressure values and temperatures output from the oxygen sensors 14 and 15 and the temperature sensor 16. The predetermined temperature range and the predetermined oxygen partial pressure atmosphere are ranges shown in a region A of FIG.

図3は、H2O/SiO2熱力学的状態図である。図3の曲線21は、化学反応式(3)に示す化学反応の熱力学的な平衡条件を示す。図3の曲線22は、化学反応式(4)に示す化学反応の熱力学的な平衡条件を示す。

Figure 2008050203

Figure 2008050203
FIG. 3 is a H 2 O / SiO 2 thermodynamic state diagram. A curve 21 in FIG. 3 shows a thermodynamic equilibrium condition of the chemical reaction shown in the chemical reaction formula (3). A curve 22 in FIG. 3 shows a thermodynamic equilibrium condition of the chemical reaction shown in the chemical reaction formula (4).
Figure 2008050203

Figure 2008050203

領域Aは、化学反応式(3)で示される化学反応の平衡条件より少なくとも高温側又は酸素分圧が低圧側、且つ、化学反応式(4)で示される化学反応の平衡条件より少なくとも低温側又は酸素分圧が高圧側の領域である。脱水工程S2では、上記所定の温度範囲及び所定の酸素分圧雰囲気に設定された低酸素室13に多孔質ガラスを置いて、極低酸素分圧雰囲気下で脱水処理が行われる。すなわち、脱水工程S2は、化学反応式(3)の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(4)の左辺に反応が進む条件下で行われる。   Region A is at least a higher temperature side or a lower oxygen partial pressure side than the equilibrium condition of the chemical reaction represented by the chemical reaction formula (3), and at least a lower temperature side than the equilibrium condition of the chemical reaction represented by the chemical reaction formula (4). Alternatively, the oxygen partial pressure is a region on the high pressure side. In the dehydration step S2, the porous glass is placed in the low oxygen chamber 13 set to the predetermined temperature range and the predetermined oxygen partial pressure atmosphere, and the dehydration process is performed in an extremely low oxygen partial pressure atmosphere. That is, the dehydration step S2 is performed under conditions where the reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (3) and the reaction proceeds to the left side of the chemical reaction formula (4).

このように、本実施形態の脱水工程S2では、化学反応式(3)の右辺に反応が進む条件下において処理をする。よって、多孔質ガラスに物理的に付着しているHOがHとOとに分解される反応が進むと共に、多孔質ガラスの主成分であるSiOに化学的に結合していたOH基が除去される。すなわち、塩素を用いずに多孔質ガラスの脱水処理を行うことができる。従って、構造欠陥の発生を抑制して多孔質ガラスを脱水することができる。また、化学反応式(4)の左辺に反応が進む条件下で処理するので、SiOの還元反応が起こるのを抑制して多孔質ガラスの状態を保つことができる。 As described above, in the dehydration step S2 of the present embodiment, the process is performed under the condition that the reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (3). Therefore, a reaction in which H 2 O physically attached to the porous glass is decomposed into H 2 and O 2 proceeds and chemically bonded to SiO 2 which is the main component of the porous glass. The OH group is removed. That is, the porous glass can be dehydrated without using chlorine. Therefore, the porous glass can be dehydrated while suppressing the occurrence of structural defects. Further, since the process under conditions that the reaction proceeds to the left side of the chemical equation (4), it is possible to suppress the reduction of SiO 2 occurs maintain the state of the porous glass.

また、上記脱水処理は、多孔質ガラスが焼結されない温度とすることが好ましい。すなわち、領域Aは、温度が1400℃以下であることが好ましい。言い換えれば、領域Aは、酸素分圧が10−30〜10−10であることが好ましい。この場合、1400℃以下の温度で多孔質ガラスの脱水処理を行うことにより、多孔質ガラスの焼結を行う前に脱水処理することができる。 The dehydration treatment is preferably performed at a temperature at which the porous glass is not sintered. That is, the region A preferably has a temperature of 1400 ° C. or lower. In other words, the region A preferably has an oxygen partial pressure of 10 −30 to 10 −10 . In this case, by performing dehydration treatment of the porous glass at a temperature of 1400 ° C. or lower, the dehydration treatment can be performed before the porous glass is sintered.

以上のように、構造欠陥の発生を抑制して多孔質ガラスを脱水した後に、多孔質ガラスを焼結するので、構造欠陥の発生を抑制して光ファイバ母材を形成することができる。更に、構造欠陥の発生を抑制して形成した光ファイバ母材を線引きして光ファイバを製造するので、構造欠陥の発生を抑制して光ファイバを製造することができる。   As described above, since the porous glass is sintered after the porous glass is dehydrated while suppressing the occurrence of structural defects, the optical fiber preform can be formed while suppressing the generation of structural defects. Furthermore, since an optical fiber is manufactured by drawing an optical fiber preform formed by suppressing the occurrence of structural defects, it is possible to manufacture an optical fiber while suppressing the occurrence of structural defects.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、極低酸素脱水装置10は、図3の領域Aに示す条件を満たす低酸素室を構成するものならば、上記構成に限られない。例えば、密閉された低酸素室から酸素ポンプによって低酸素室内の酸素を外に出すことにより、図3の領域Aに示す条件を満たすような酸素分圧に設定してもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, the ultra-low oxygen dehydration apparatus 10 is not limited to the above configuration as long as it constitutes a low oxygen chamber that satisfies the conditions shown in the region A of FIG. For example, the oxygen partial pressure may be set so as to satisfy the conditions shown in the region A of FIG. 3 by letting out oxygen in the low oxygen chamber from the sealed low oxygen chamber by an oxygen pump.

また、上記実施形態では、多孔質ガラスを脱水処理したが、多孔質ガラスに限られない。例えば、焼結された光学ガラスを脱水処理してもよい。例えば、焼結されたガラス塊、ガラス棒、又はガラス管を上記領域Aに示す条件下で脱水処理してもよい。この場合、ガラス塊、ガラス棒、又はガラス管の表面に物理的に付着したH2Oを主に除去することができる。その場合の脱水処理時の温度条件は、領域Aに示す条件を満たすと共に、光学ガラスの融点以下に設定することとなる。 Moreover, in the said embodiment, although the porous glass was dehydrated, it is not restricted to porous glass. For example, the sintered optical glass may be dehydrated. For example, a sintered glass lump, a glass rod, or a glass tube may be dehydrated under the conditions shown in the region A. In this case, H 2 O physically attached to the surface of the glass block, glass rod, or glass tube can be mainly removed. In this case, the temperature condition during the dehydration process satisfies the condition shown in the region A and is set to be equal to or lower than the melting point of the optical glass.

また、脱水工程S2の後、低酸素室13内に多孔質ガラスを置いた状態で、低酸素室13を焼結温度まで上昇させて多孔質ガラスの焼結を行ってもよい。このようにすることにより、より確実に多孔質ガラスを脱水した状態で多孔質ガラスを焼結することができる。   Further, after the dehydration step S2, the porous glass may be sintered by raising the low oxygen chamber 13 to a sintering temperature in a state where the porous glass is placed in the low oxygen chamber 13. By doing in this way, a porous glass can be sintered more reliably in the state which dehydrated the porous glass.

本実施形態に係る光ファイバの製造方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the manufacturing method of the optical fiber which concerns on this embodiment. 脱水工程において用いる脱水装置の構成図である。It is a block diagram of the dehydration apparatus used in a dehydration process. 2O/SiO2熱力学的状態図である。A H 2 O / SiO 2 thermodynamic phase diagram.

符号の説明Explanation of symbols

10…極低酸素脱水装置、11…低酸素装置、12…バルブ、13…低酸素室、14,15…酸素センサ、16…温度センサ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Extremely low oxygen dehydration device, 11 ... Low oxygen device, 12 ... Valve, 13 ... Low oxygen chamber, 14, 15 ... Oxygen sensor, 16 ... Temperature sensor

Claims (4)

化学反応式(1)
Figure 2008050203

の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(2)
Figure 2008050203

の左辺に反応が進む条件下で石英系ガラスの脱水を行うことを特徴とするガラス脱水方法。
Chemical reaction formula (1)
Figure 2008050203

The reaction proceeds to the right side of the chemical reaction formula (2)
Figure 2008050203

A glass dehydration method comprising dehydrating quartz glass under a condition in which the reaction proceeds to the left side of the glass.
化学反応式(3)
Figure 2008050203

の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(4)
Figure 2008050203

の左辺に反応が進む条件下で多孔質ガラスの脱水を行う脱水工程と、
前記脱水工程の後に前記多孔質ガラスを焼結して光学ガラスを製造する焼結工程と、
を含むことを特徴とする光学ガラス製造方法。
Chemical reaction formula (3)
Figure 2008050203

The reaction proceeds to the right side of and the chemical reaction formula (4)
Figure 2008050203

A dehydration step of dehydrating the porous glass under conditions where the reaction proceeds to the left side of
A sintering step of producing optical glass by sintering the porous glass after the dehydration step;
An optical glass manufacturing method comprising:
前記光学ガラスは、光ファイバ母材であることを特徴とする請求項2に記載の光学ガラス製造方法。   The optical glass manufacturing method according to claim 2, wherein the optical glass is an optical fiber preform. 化学反応式(5)
Figure 2008050203

の右辺に反応が進み、且つ、化学反応式(6)
Figure 2008050203

の左辺に反応が進む条件下で多孔質ガラスの脱水を行う脱水工程と、
前記脱水工程の後に前記多孔質ガラスを焼結して光ファイバ母材を形成する焼結工程と、
前記光ファイバ母材を線引きして光ファイバを製造する線引工程と、
を含むことを特徴とする光ファイバ製造方法。
Chemical reaction formula (5)
Figure 2008050203

The reaction proceeds to the right side of and the chemical reaction formula (6)
Figure 2008050203

A dehydration step of dehydrating the porous glass under conditions where the reaction proceeds to the left side of
A sintering step of forming the optical fiber preform by sintering the porous glass after the dehydration step;
A drawing step of drawing an optical fiber by drawing the optical fiber preform;
An optical fiber manufacturing method comprising:
JP2006227984A 2006-08-24 2006-08-24 Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method Pending JP2008050203A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006227984A JP2008050203A (en) 2006-08-24 2006-08-24 Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006227984A JP2008050203A (en) 2006-08-24 2006-08-24 Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008050203A true JP2008050203A (en) 2008-03-06

Family

ID=39234590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006227984A Pending JP2008050203A (en) 2006-08-24 2006-08-24 Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008050203A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK2813477T3 (en) METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL FIBER PREFORM, OPTICAL FIBER PREFORM, AND OPTICAL FIBER
JPH04300219A (en) Production of quartz glass doped with rare-earth element
JP2549615B2 (en) Sintering method of glass preform for optical fiber
JP4879019B2 (en) Method of manufacturing optical fiber and its preform
JP2007269527A (en) Method for manufacturing optical fiber perform and method for determining dehydration condition of porous glass preform
CN112805252B (en) Method for manufacturing halogen-doped silica preform for optical fiber
JP2008050203A (en) Glass dehydration method, optical glass manufacturing method, and optical fiber manufacturing method
JP2004002106A (en) Low loss optical fiber preform and its manufacturing method
JP5076432B2 (en) Optical fiber preform manufacturing method
CN1894169A (en) Method for making low-attenuation optical-guide fiber
JP2005154264A (en) Optical fiber preform and its manufacturing method
US20060242998A1 (en) Preform consolidation process
JP2006199550A (en) Method for producing rare earth-added optical fiber preform and rare earth-added optical fiber
JP2677871B2 (en) Manufacturing method of quartz-based doped glass
JP2006131453A (en) Method for manufacturing glass preform
JP2005181414A (en) Method for manufacturing optical fiber
JP5607325B2 (en) Rare earth element-doped optical fiber preform manufacturing method
JP2003192357A (en) Method and apparatus for heat treatment for base material of porous glass
JP5400851B2 (en) Rare earth doped optical fiber
JP2019214489A (en) Production method of porous glass fine particle, and production method of optical fiber preform
JP4513403B2 (en) Optical fiber preform manufacturing method, optical fiber, and optical fiber manufacturing method
JP2004238277A (en) Method of manufacturing optical fiber preform, optical fiber preform and optical fiber
JP2006327858A (en) Method of treating quartz glass base material and method of manufacturing optical fiber preform
JP2003300736A (en) Method for manufacturing glass preform
JP5624911B2 (en) Dehydration sintering furnace and dehydration sintering method for vitrifying porous preform for optical fiber