JP2008048387A - Imaging unit and imaging apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imaging unit which is suitable for incorporation into a small camera module or an optical pickup etc. , small and lightweight, easily assembled and hardly influenced by dust, and to provide an imaging apparatus. <P>SOLUTION: An imaging sensor chip is mounted on an actuator for moving the imaging sensor chip. Thus, the imaging unit and the imaging apparatus can be provided which are suitable for incorporation into a small camera module or an optical pickup etc., small and lightweight, easily assembled and hardly influenced by dust. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、撮像ユニットおよび撮像装置に関し、特に、撮像センサチップが撮像センサチップを移動させるためのアクチュエート部の上に搭載された撮像ユニットおよび撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging unit and an imaging apparatus, and more particularly, to an imaging unit and an imaging apparatus that are mounted on an actuating unit for moving an imaging sensor chip by an imaging sensor chip.

近年、デジタルカメラやカメラ付き携帯電話等の普及により、カメラモジュールの小型化と高性能化が進み、小型カメラモジュールであっても、AF、ズーム、手ぶれ補正といった高機能が必須となってきている。それに伴い、カメラモジュール内でレンズや撮像素子を移動させるための小型アクチュエータが求められている。さらに、DVD等の記録再生のための光ピックアップ用補正駆動等の用途においても、アクチュエータは小型化の一途を辿っている。   In recent years, with the spread of digital cameras, camera-equipped mobile phones, etc., miniaturization and high performance of camera modules have progressed, and even with small camera modules, high functions such as AF, zoom, and camera shake correction have become essential. . Accordingly, there is a demand for a small actuator for moving a lens and an image sensor in a camera module. In addition, actuators are continually being miniaturized in applications such as optical pickup correction driving for recording and reproduction of DVDs and the like.

近年進歩の著しい小型アクチュエータとしては、例えば圧電素子を駆動源としたリニアアクチュエータ(SIDM:Smooth Impact Drive Mechanism)や、紐状の形状記憶合金(SMA:Shape Memory Alloys)、さらには、高分子アクチュエータといったものがあげられる。   Small actuators that have made remarkable progress in recent years include, for example, linear actuators using a piezoelectric element as a drive source (SIDM: Smooth Impact Drive Mechanism), string-like shape memory alloys (SMA: Shape Memory Alloys), and polymer actuators. Things can be raised.

中でも、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術と呼ばれる集積回路技術を応用した微細加工技術を用いた静電アクチュエータが注目されており、例えば、櫛歯型の静電アクチュエータを用いて撮像素子を移動させることで手振れを補正する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
特開2006−133730号公報
In particular, electrostatic actuators using microfabrication technology applying integrated circuit technology called MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology have attracted attention. For example, an image sensor is moved using a comb-shaped electrostatic actuator. Thus, a method of correcting camera shake has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
JP 2006-133730 A

しかしながら、特許文献1の方法では、撮像センサチップはセンサパッケージ内に実装されており、センサパッケージをフレキシブル基板上に実装し、フレキシブル基板を櫛歯型の静電アクチュエータからなる手振れ補正機構上に搭載する、といった構造になっており、撮像センサチップ、センサパッケージ、フレキシブル基板および静電アクチュエータがそれぞれ別体で作製されているため、静電アクチュエータによって駆動される被駆動物は大きくて重いものとなり、力量を確保するために静電アクチュエータも必然的に大型化せざるをえず、小型カメラモジュールや光ピックアップに組み込むには不適切である。   However, in the method of Patent Document 1, the imaging sensor chip is mounted in a sensor package, the sensor package is mounted on a flexible substrate, and the flexible substrate is mounted on a camera shake correction mechanism including a comb-shaped electrostatic actuator. Since the imaging sensor chip, sensor package, flexible substrate and electrostatic actuator are manufactured separately, the driven object driven by the electrostatic actuator becomes large and heavy, In order to ensure the strength, the electrostatic actuator must be increased in size, which is inappropriate for incorporation into a small camera module or an optical pickup.

また、静電アクチュエータのゴミ対策についても何も示されていないが、櫛歯型の静電アクチュエータにとってはゴミ対策は必須項目であり、静電アクチュエータ部全体を密閉する必要があり、手振れ補正装置がさらに大型化するという問題がある。   Also, nothing is shown about dust countermeasures for electrostatic actuators, but dust countermeasures are an indispensable item for comb-shaped electrostatic actuators, and it is necessary to seal the entire electrostatic actuator section, and a camera shake correction device However, there is a problem that the size is further increased.

一般に、アクチュエータを小型化するためには、次の課題がある。
1)駆動負荷(被駆動体質量、機構の摩擦、電気配線、空気の対流等)の低減。
2)組立の簡略化。
3)ゴミの低減。
以下に、それぞれについて述べる。
In general, there are the following problems in reducing the size of an actuator.
1) Reduction of driving load (driven body mass, mechanism friction, electrical wiring, air convection, etc.).
2) Simplification of assembly.
3) Reduction of garbage.
Each is described below.

1)アクチュエータは、一般的に、自身の体積が小さくなるにつれて発生力が小さくなる。例えば現在実現されている、撮像センサを移動させるタイプの手ぶれ補正機構においては、被駆動体である撮像センサユニットの質量は軽いものでも3g程度あり、それに機構の摩擦やばねによる負荷、また撮像センサからの電気信号を外部に伝達するためのフレキシブル基板の負荷等も合わせると0.1N程度の負荷になるのが一般的である。   1) In general, an actuator generates less force as its volume decreases. For example, in a camera shake correction mechanism of the type that moves the image sensor that is currently realized, the mass of the image sensor unit that is the driven body is about 3 g, even if it is light, and the friction of the mechanism, the load due to the spring, and the image sensor When the load of the flexible substrate for transmitting the electric signal from the outside to the outside is combined, the load is generally about 0.1N.

そして、これらの負荷を駆動するためのアクチュエータの体積は、概ね300mm3とかなり大きなものである。小型カメラユニットや光ピックアップの撮像センサユニット駆動用のアクチュエータとしてはこの大きさは致命的であるため、これらを達成するためには撮像センサユニットの軽量化および低負荷化は必要不可欠である。 The volume of the actuator for driving these loads is as large as about 300 mm 3 . This size is fatal for an actuator for driving an imaging sensor unit of a small camera unit or an optical pickup. Therefore, in order to achieve these, it is essential to reduce the weight and load of the imaging sensor unit.

2)例えば現在実現されている、撮像センサを移動させるタイプの手ぶれ補正機構においては、アクチュエータや補正機構を構成する部品は20点程度あり、これらの部品を接合している部分も同程度存在する。小型カメラユニットや光ピックアップへの搭載を考えると、これらの接合を精度良くしかも短時間に実現することは従来技術の延長では非常に困難であり、改善が必要不可欠である。   2) For example, in a camera shake correction mechanism of a type that moves the image sensor that is currently realized, there are about 20 parts that constitute the actuator and the correction mechanism, and there are about the same parts where these parts are joined. . Considering mounting on a small camera unit or an optical pickup, it is extremely difficult to extend these joints accurately and in a short time by extension of the conventional technology, and improvement is indispensable.

3)上述したように、超小型のアクチュエータとして現在最も一般的に知られているのは静電アクチュエータであるが、例えば上述した櫛歯型の静電アクチュエータは、固定櫛歯と移動櫛歯の間隔が数μm程度と非常に狭いので、動作を保証するためにはミクロンオーダーのゴミの進入を防ぐ密閉構造が必要不可欠である。   3) As described above, an electrostatic actuator is currently most commonly known as an ultra-small actuator. For example, the above-described comb-shaped electrostatic actuator includes a fixed comb tooth and a movable comb tooth. Since the interval is as narrow as about several μm, a sealed structure that prevents entry of dust on the order of microns is indispensable in order to guarantee the operation.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an image pickup unit and an image pickup apparatus that are suitable for incorporation into a small camera module, an optical pickup, etc., are small and light, easy to assemble, and are not affected by dust. The purpose is to do.

本発明の目的は、下記構成により達成することができる。   The object of the present invention can be achieved by the following constitution.

1.撮像センサチップと、
固定基板と移動基板と前記移動基板を前記固定基板に対して移動させるアクチュエータとを含むアクチュエート部とを備えた撮像ユニットにおいて、
前記撮像センサチップは、その裏面の少なくとも一部が前記移動基板に固定されていることを特徴とする撮像ユニット。
1. An imaging sensor chip;
In an imaging unit comprising a fixed substrate, a moving substrate, and an actuator that includes an actuator that moves the moving substrate relative to the fixed substrate.
The imaging unit, wherein at least a part of the back surface of the imaging sensor chip is fixed to the moving substrate.

2.前記移動基板は前記撮像センサチップと同一の主材料からなり、前記撮像センサチップと直接接合技術により固定されていることを特徴とする1に記載の撮像ユニット。   2. 2. The imaging unit according to 1, wherein the movable substrate is made of the same main material as the imaging sensor chip and is fixed to the imaging sensor chip by a direct joining technique.

3.前記主材料は、シリコンであることを特徴とする2に記載の撮像ユニット。   3. 3. The imaging unit according to 2, wherein the main material is silicon.

4.前記アクチュエータは、前記固定基板上に固定された固定櫛と、前記移動基板と一体に形成されて前記固定櫛と入れ子構成をなす移動櫛と、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部とから構成されており、
前記固定櫛と前記移動櫛との間に電界が印加されることで、前記固定櫛と前記移動櫛との間に働く引力により前記移動基板が前記固定基板に対して移動されることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。
4). The actuator includes: a fixed comb fixed on the fixed substrate; a movable comb formed integrally with the movable substrate and nesting with the fixed comb; a beam formed integrally with the movable substrate; A beam fixing part for fixing a part of the beam to the fixed substrate;
When the electric field is applied between the fixed comb and the movable comb, the movable substrate is moved relative to the fixed substrate by an attractive force acting between the fixed comb and the movable comb. The imaging unit according to any one of 1 to 3.

5.前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された圧電体とからなることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。   5. The actuator includes a beam integrally formed with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a piezoelectric body formed on the beam. 4. The imaging unit according to any one of items 1 to 3.

6.前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された形状記憶合金とからなることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。   6). The actuator includes a beam formed integrally with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a shape memory alloy formed on the beam. The imaging unit according to any one of 1 to 3.

7.前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された高分子アクチュエータとからなることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。   7). The actuator includes a beam integrally formed with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a polymer actuator formed on the beam. The imaging unit according to any one of 1 to 3.

8.前記アクチュエータの構成要素の少なくとも一部が、前記撮像センサチップの裏面に配置されていることを特徴とする4乃至7の何れか1項に記載の撮像ユニット。   8). The imaging unit according to any one of 4 to 7, wherein at least a part of the constituent elements of the actuator is disposed on a back surface of the imaging sensor chip.

9.撮像光学系と、
1乃至8の何れか1項に記載の撮像ユニットとを備えたことを特徴とする撮像装置。
9. An imaging optical system;
An image pickup apparatus comprising the image pickup unit according to any one of 1 to 8.

本発明によれば、撮像センサチップを撮像センサチップを移動させるためのアクチュエート部の上に搭載することにより、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。   According to the present invention, by mounting the imaging sensor chip on the actuating part for moving the imaging sensor chip, it is small and light, suitable for incorporation into a small camera module or an optical pickup, and easy to assemble. Thus, it is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are not affected by dust.

以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明するが、本発明は該実施の形態に限られない。なお、図中、同一あるいは同等の部分には同一の番号を付与し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments. In the drawings, the same or equivalent parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

まず、本発明における撮像装置の一例であるデジタルカメラについて、図1を用いて説明する。図1は、デジタルカメラおよび手振れ補正手段の構成と、手振れ補正の原理とを示す模式図である。   First, a digital camera which is an example of an imaging apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a digital camera and camera shake correction means, and the principle of camera shake correction.

図1に示すように、手振れ補正手段10はデジタルカメラ1に搭載されて用いられる。デジタルカメラ1は、カメラ本体2と、撮影レンズ4等を含む光学系である鏡胴3とから構成される。手振れ補正手段10は、図2以降で詳述するように、CCDなどの撮像センサチップ16が内蔵され、鏡胴3の端に取りつけられる。   As shown in FIG. 1, the camera shake correction means 10 is mounted on the digital camera 1 and used. The digital camera 1 includes a camera body 2 and a lens barrel 3 that is an optical system including a photographing lens 4 and the like. As will be described in detail with reference to FIG. 2 and subsequent figures, the camera shake correction means 10 incorporates an image sensor chip 16 such as a CCD and is attached to the end of the lens barrel 3.

そして、撮影中にデジタルカメラ1が例えば上下にブレて、鏡胴3に入射する光軸Lが矢印5で示すように上下にずれた場合、ジャイロセンサ等の手振れセンサ20によってブレが検知され、手振れセンサ20の出力に従って、撮像センサチップ16を矢印6に示すように上下に移動させることで光軸Lのずれを補正する。水平方向のブレについても同様である。ここに、手振れ補正手段10は本発明における撮像ユニットとして機能する。   When the digital camera 1 is shaken up and down during shooting and the optical axis L incident on the lens barrel 3 is shifted up and down as shown by an arrow 5, the shake is detected by a camera shake sensor 20 such as a gyro sensor, The shift of the optical axis L is corrected by moving the imaging sensor chip 16 up and down as indicated by the arrow 6 in accordance with the output of the camera shake sensor 20. The same applies to the blur in the horizontal direction. Here, the camera shake correction means 10 functions as an imaging unit in the present invention.

次に、手振れ補正手段10の要部であるアクチュエート部100の第1の実施の形態について、図2乃至図5を用いて説明する。まず、手振れ補正手段10の構成について説明する。図2は、手振れ補正手段10を光軸L側から見た模式図であり、図3は、手振れ補正手段10を図2のA−A’断面で切り取った断面模式図である。   Next, a first embodiment of the actuating unit 100, which is a main part of the camera shake correction unit 10, will be described with reference to FIGS. First, the configuration of the camera shake correction unit 10 will be described. 2 is a schematic diagram of the camera shake correction unit 10 as viewed from the optical axis L side, and FIG. 3 is a cross-sectional schematic diagram of the camera shake correction unit 10 taken along the A-A ′ section of FIG. 2.

図2および図3において、手振れ補正手段10は、撮像センサチップ16、アクチュエート部100、ダイフレーム205、リードフレーム201、パッケージ203および保護ガラス204等からなる。   2 and 3, the camera shake correction means 10 includes an imaging sensor chip 16, an actuating unit 100, a die frame 205, a lead frame 201, a package 203, a protective glass 204, and the like.

本第1の実施の形態においては、アクチュエート部100は、固定基板101、移動基板102および櫛歯型のアクチュエータ110等からなり、アクチュエータ110は、固定基板101に固定された固定櫛104と、移動基板102と一体に形成された移動櫛105、梁103及び梁固定部106等からなり、例えばシリコン(Si)を主材料として上述したMEMS技術により作製される。   In the first embodiment, the actuator unit 100 includes a fixed substrate 101, a moving substrate 102, a comb-shaped actuator 110, and the like. The actuator 110 includes a fixed comb 104 fixed to the fixed substrate 101, The movable substrate 102 includes a moving comb 105, a beam 103, a beam fixing portion 106, and the like, which are integrally formed with the moving substrate 102, and is manufactured by the above-described MEMS technology using silicon (Si) as a main material.

MEMS技術とは、集積回路技術を応用したマイクロマシニング技術を利用してμm単位のマイクロセンサやアクチュエータ及び電気機械的構造物を作製する分野を意味し、マイクロマシニング技術により作製された微細機械は、mm以下のサイズ及びμm以下の精密度を具現することができるとともに、図2に示したように、入れ子構成の櫛歯形状のような複雑な機構を一括した工程で同時に高精度で作製できるため、安価で組立や調整の工程も不要である。   MEMS technology refers to the field of producing microsensors and actuators and electromechanical structures in units of μm using micromachining technology applying integrated circuit technology. Micromachines manufactured by micromachining technology are: In addition to being able to realize a size of less than mm and precision of less than μm, and as shown in FIG. 2, a complicated mechanism such as a nested comb tooth shape can be simultaneously produced with high accuracy at the same time. It is inexpensive and does not require assembly or adjustment processes.

本第1の実施の形態では、例えばシリコン(Si)からなる固定基板101上に犠牲層と呼ばれるシリコンの酸化膜(SiO2)を選択的に積み、その上に、不純物を高濃度にドープされて導電性を持つシリコン(Si)からなる構造層を積み上げ、構造層をエッチングして移動基板102、梁103、固定櫛104、移動櫛105および梁固定部106を同時に作製し、犠牲層エッチングで犠牲層を除去して移動基板102、梁103及び移動櫛105を固定基板101から浮いた状態に形成する。 In the first embodiment, for example, a silicon oxide film (SiO 2 ) called a sacrificial layer is selectively stacked on a fixed substrate 101 made of, for example, silicon (Si), and an impurity is doped at a high concentration thereon. The structure layer made of conductive silicon (Si) is stacked, the structure layer is etched, and the moving substrate 102, the beam 103, the fixed comb 104, the moving comb 105, and the beam fixing portion 106 are simultaneously manufactured. The sacrificial layer is removed, and the moving substrate 102, the beam 103, and the moving comb 105 are formed in a state of floating from the fixed substrate 101.

つまり、移動基板102、梁103及び移動櫛105は固定基板101との間に隙間161を有して浮いた状態であり、梁103の中央部に形成された梁固定部106によって固定基板101に固定されている。固定基板101はダイフレーム205に接着剤等により固定されている。   That is, the moving substrate 102, the beam 103, and the moving comb 105 are in a floating state with a gap 161 between the moving substrate 102 and the fixed substrate 101, and are fixed to the fixed substrate 101 by the beam fixing portion 106 formed at the center of the beam 103. It is fixed. The fixed substrate 101 is fixed to the die frame 205 with an adhesive or the like.

なお、犠牲層エッチング技術については、例えば[(株)豊田中央研究所「MEMS用犠牲層ドライエッチング技術」http://www.tytlabs.co.jp/japanese/tech/sys_mems.pdf#search=’%E7%8A%A0%E7%89%B2%E5%B1%A4’(平成18年7月18日検索)]等に詳述されている。   The sacrificial layer etching technique is described in, for example, [Toyota Central R & D Co., Ltd. “Sacrificial layer dry etching technique for MEMS” http: // www. tylabs. co. jp / japanes / tech / sys_mems. pdf # search = '% E7% 8A% A0% E7% 89% B2% E5% B1% A4' (searched on July 18, 2006)].

固定櫛104と移動櫛105とは入れ子構成の櫛歯形状になっており、固定櫛104と移動櫛105との間に電界を印加することにより、固定櫛104と移動櫛105との間に発生する引力によって移動櫛105が図2の矢印6の方向に移動する。固定櫛104と移動櫛105とに電界を印加することによる動作については、図5で説明する。   The fixed comb 104 and the movable comb 105 have a nested comb-teeth shape, and are generated between the fixed comb 104 and the movable comb 105 by applying an electric field between the fixed comb 104 and the movable comb 105. The moving comb 105 moves in the direction of arrow 6 in FIG. The operation by applying an electric field to the fixed comb 104 and the moving comb 105 will be described with reference to FIG.

撮像センサチップ16はシリコン(Si)を主材料として半導体製造プロセスで作製され、その表面に撮像面16aおよびボンディングパッド16bを備え、上述したMEMS技術により作製されたアクチュエート部100の移動基板102上に搭載され、撮像センサチップ16の撮像面16aの裏面と移動基板102の表面とが例えば直接接合技術により接合されている。   The imaging sensor chip 16 is manufactured by a semiconductor manufacturing process using silicon (Si) as a main material. The imaging sensor chip 16 includes an imaging surface 16a and a bonding pad 16b on the surface thereof, and is on the moving substrate 102 of the actuating unit 100 manufactured by the above-described MEMS technology. The back surface of the imaging surface 16a of the imaging sensor chip 16 and the front surface of the movable substrate 102 are bonded by, for example, a direct bonding technique.

直接接合技術とは接着剤を用いない接合方法で、同種材料間の表面間引力を利用した接合方法であり、接合後の強度や歪や傾きの少なさ、接合の簡便性、省スペース等に優れている。本例においては、移動基板102も撮像センサチップ16もシリコンからできていることから、直接接合技術による接合が可能となり上述したメリットを得ることができる。なお、直接接合技術については、例えば[独立行政法人産業技術総合研究所「ウェハ直接接合技術」http://staff.aist.go.jp/takagi.hideki/waferbonding.html(平成18年7月18日検索)]等に詳述されている。   Direct joining technology is a joining method that does not use an adhesive, and is a joining method that uses the attractive force between the surfaces of the same type of material. For strength, strain and inclination after joining, ease of joining, space saving, etc. Are better. In this example, since both the moving substrate 102 and the imaging sensor chip 16 are made of silicon, bonding by a direct bonding technique is possible, and the above-described advantages can be obtained. As for the direct bonding technology, for example, [National Institute of Advanced Industrial Science and Technology “Wafer Direct Bonding Technology” http: // stuff. aist. go. jp / takagi. hideki / waferbonding. html (searched on July 18, 2006)] and the like.

撮像センサチップ16のボンディングパッド16bとリードフレーム201との間には、撮像センサチップ16からの信号をリードフレーム201に伝えるためのボンディングワイヤ202が張られている。また、固定櫛104および移動櫛105とリードフレーム201との間にも、固定櫛104と移動櫛105との間に電界を印加するためにボンディングワイヤ202が張られている。   A bonding wire 202 for transmitting a signal from the imaging sensor chip 16 to the lead frame 201 is stretched between the bonding pad 16 b of the imaging sensor chip 16 and the lead frame 201. Also, a bonding wire 202 is stretched between the fixed comb 104 and the moving comb 105 and the lead frame 201 in order to apply an electric field between the fixed comb 104 and the moving comb 105.

リードフレーム201は図示しない回路基板にはんだ付けされることで、撮像センサチップ16からの画像信号や固定櫛104及び移動櫛105への電界印加のための信号の送受信を可能にしている。   The lead frame 201 is soldered to a circuit board (not shown), so that an image signal from the imaging sensor chip 16 and a signal for applying an electric field to the fixed comb 104 and the moving comb 105 can be transmitted and received.

ボンディングワイヤ202には、直径数十μm(例えば、25μmあるいは15μm)の金(Au)またはアルミニウム(Al)のワイヤが用いられ、図2および図3に示したのは金(Au)のワイヤの例である。通常は、撮像センサチップ16のボンディングパッド16b側はボールボンドと呼ばれる、熱で溶かされてボール状になった金(Au)のワイヤをボンディングパッド16bに押しつけて接続する方法がとられ、リードフレーム201側はステッチボンドと呼ばれる、超音波をかけながら金(Au)のワイヤをリードフレーム201に擦りつけるようにして接続する方法がとられることが多い。   The bonding wire 202 is a gold (Au) or aluminum (Al) wire having a diameter of several tens of μm (for example, 25 μm or 15 μm). FIGS. 2 and 3 show a gold (Au) wire. It is an example. Usually, the bonding pad 16b side of the image sensor chip 16 is called a ball bond, and a method is adopted in which a gold (Au) wire that has been melted by heat to form a ball is pressed against the bonding pad 16b and connected. The 201 side is often referred to as a stitch bond, in which a connection is made by rubbing a gold (Au) wire against the lead frame 201 while applying ultrasonic waves.

ボンディングワイヤ202は、デジタルカメラ1が図1に示した正立状態にある時に、手振れ補正手段10の上下方向、つまり図2の上下方向に引き出されている。これによって、ボンディングワイヤ202のばね性を利用して、撮像センサチップ16や移動基板102等の移動部分の質量による、撮像センサチップ16の撮像面16aの中心と光軸Lのズレ(所謂センタズレ)を低減することができる。   When the digital camera 1 is in the upright state shown in FIG. 1, the bonding wire 202 is drawn out in the vertical direction of the camera shake correction means 10, that is, in the vertical direction in FIG. Accordingly, the center of the imaging surface 16a of the imaging sensor chip 16 and the optical axis L due to the mass of the moving part such as the imaging sensor chip 16 and the moving substrate 102 using the spring property of the bonding wire 202 (so-called center deviation). Can be reduced.

また、このように撮像センサチップ16の移動方向と垂直方向にボンディングワイヤ202を引き出すことで、撮像センサチップ16の移動方向と同じ方向にボンディングワイヤ202を引き出すよりも、撮像センサチップ16の移動によってボンディングワイヤ202が揺すられることによる歪みの蓄積や金属疲労を低減することができる。   Further, by pulling out the bonding wire 202 in the direction perpendicular to the moving direction of the image sensor chip 16 in this way, it is possible to move the image sensor chip 16 by moving the bonding wire 202 in the same direction as the moving direction of the image sensor chip 16. Accumulation of strain and metal fatigue due to shaking of the bonding wire 202 can be reduced.

さらに、撮像センサチップ16が移動した際にボンディングワイヤ202によって発生される負荷を等しくするために、ボンディングワイヤ202が圧縮される側と引張られる側のワイヤのばね性を等しくしている。ボンディングワイヤ202のばね性を等しくするためには、ボンディングワイヤ202の本数、長さ、太さ、引出し角度、あるいはそれらの合成力を等しくすればよい。   Further, in order to equalize the load generated by the bonding wire 202 when the imaging sensor chip 16 moves, the spring property of the wire on the side where the bonding wire 202 is compressed and the side where it is pulled is made equal. In order to make the spring properties of the bonding wires 202 equal, the number, length, thickness, drawing angle of the bonding wires 202, or their combined force may be made equal.

また、手振れ補正動作においては、もちろん撮影レンズ4の画角や撮像素子の画素サイズ等の条件により異なるが、撮像センサチップ16の移動量は幅で数十μmから数百μm程度である。本第1の実施の形態においては、手振れ補正動作に伴って撮像センサチップ16がリードフレーム201に対して矢印6の方向に移動するため、撮像センサチップ16が移動してもボンディングワイヤ202が断線したりボンディングが外れたりしないようにする必要がある。   Further, in the camera shake correction operation, the movement amount of the image sensor chip 16 is about several tens μm to several hundred μm in width, although it naturally depends on conditions such as the angle of view of the photographing lens 4 and the pixel size of the image sensor. In the first embodiment, since the imaging sensor chip 16 moves in the direction of the arrow 6 with respect to the lead frame 201 in accordance with the camera shake correction operation, the bonding wire 202 is disconnected even if the imaging sensor chip 16 moves. It is necessary to prevent the bonding or disconnection.

そのため、ボンディングワイヤ202を撮像センサチップ16のボンディングパッド16bにボンディングした後、ワイヤの高さ方向のピークが撮像センサチップ16の近くに来るように(例えば図3に示したように、ピークの位置Yが撮像センサチップ16のボンディングパッド16bとリードフレーム201上のボンディング位置との距離Xの半分(X/2)よりも小さくなるように)し、撮像センサチップ16の移動量の最大幅の半分以上弛ませるようにして張ることが望ましい。   Therefore, after bonding the bonding wire 202 to the bonding pad 16b of the imaging sensor chip 16, the peak in the height direction of the wire comes close to the imaging sensor chip 16 (for example, as shown in FIG. Y is set to be smaller than half (X / 2) of the distance X between the bonding pad 16b of the image sensor chip 16 and the bonding position on the lead frame 201), and is half the maximum width of the movement amount of the image sensor chip 16. It is desirable to stretch it so that it is loosened.

また、上述したように、撮像センサチップ16の移動を繰り返すことに伴って、ボンディングワイヤ202の疲労による断線やボンディングの外れが発生する可能性がある。特にリードフレーム201側のステッチボンドは、ボンディングパッド16b側のボールボンドに比べてボンディング時の応力による歪みが多く残留していると考えられるため、断線や外れが発生する可能性が高いと考えられる。それを回避するために、図2および図3に示したように、リードフレーム201側のボンディング部にはシリコン樹脂等によるポッティング151を施し、ボンディング部の補強を行うことが望ましい。   Further, as described above, with repeated movement of the imaging sensor chip 16, disconnection due to fatigue of the bonding wire 202 or disconnection of bonding may occur. In particular, it is considered that the stitch bond on the lead frame 201 side has more distortion due to stress at the time of bonding than the ball bond on the bonding pad 16b side, so that there is a high possibility of disconnection or disconnection. . In order to avoid this, as shown in FIG. 2 and FIG. 3, it is desirable to reinforce the bonding portion by applying potting 151 with silicon resin or the like to the bonding portion on the lead frame 201 side.

以上に述べた手振れ補正手段10の各構成要素、具体的にはアクチュエート部100、撮像センサチップ16、ダイフレーム205、リードフレーム201、ボンディングワイヤ202は、ダイフレーム205およびリードフレーム201の先端の一部分を除き、全てパッケージ203と保護ガラス204とによって作られる空間に密封されている。手振れ補正手段10の組立は、例えばクリーンルームあるいはクリーンベンチ等の中で行われ、パッケージ203と保護ガラス204とによって作られる空間へのゴミの進入はなく、密封によって、アクチュエート部100や撮像センサチップ16をゴミから保護することができる。   Each component of the camera shake correction means 10 described above, specifically, the actuating unit 100, the imaging sensor chip 16, the die frame 205, the lead frame 201, and the bonding wire 202 are arranged at the tip of the die frame 205 and the lead frame 201. All but one part are sealed in a space created by the package 203 and the protective glass 204. The camera shake correction means 10 is assembled in a clean room or a clean bench, for example, and dust does not enter the space formed by the package 203 and the protective glass 204, and the actuator 100 and the image sensor chip are sealed by sealing. 16 can be protected from dust.

また、密封することで空気の対流もなくなるため、アクチュエート部100に対する空気の対流による負荷のばらつきを低減することもできる。   In addition, since air convection is eliminated by sealing, variation in load due to air convection on the actuating unit 100 can be reduced.

なお、本例では、図3に示すように、保護ガラス204によって撮像センサチップ16およびアクチュエート部100の密封を保っているが、図4に示すように、保護ガラス204の代わりに撮影レンズ4を構成する各レンズのうち最も撮像センサチップ16に近いレンズ41によって密封を保ってもよい。   In this example, as shown in FIG. 3, the image sensor chip 16 and the actuating unit 100 are kept sealed by the protective glass 204, but as shown in FIG. 4, the photographing lens 4 is used instead of the protective glass 204. The lens 41 may be sealed by the lens 41 closest to the imaging sensor chip 16.

次に、手振れ補正手段10の動作について説明する。図5は、本第1の実施の形態における静電アクチュエータの駆動方法の一例を示すタイミングチャートである。   Next, the operation of the camera shake correction unit 10 will be described. FIG. 5 is a timing chart showing an example of a driving method of the electrostatic actuator according to the first embodiment.

図2および図5において、矢印6の+側に位置している固定櫛104を+側固定櫛104p、矢印6の−側に位置している固定櫛104を−側固定櫛104mとする。梁固定部106はボンディングによりダイフレーム205と一体に形成されたリードフレーム201に接続され、パッケージ203の外部で接地される。   2 and 5, the fixed comb 104 positioned on the + side of the arrow 6 is defined as a + side fixed comb 104p, and the fixed comb 104 positioned on the − side of the arrow 6 is defined as a − side fixed comb 104m. The beam fixing portion 106 is connected to a lead frame 201 formed integrally with the die frame 205 by bonding, and is grounded outside the package 203.

図5のタイミングT1に示すように、+側固定櫛104pに+Eの電界を印加すると、+側固定櫛104pと移動櫛105の間に静電力による引力が発生し、移動櫛105すなわち移動基板102が矢印6の+方向に移動する。この時、梁固定部106で固定基板101に中央部が固定された梁103が撓ることで、梁103が移動基板102の矢印6方向のみへの移動を担保する。つまり、移動基板102は矢印6の+方向に完全に平行移動し、矢印6に垂直な方向には移動しない。   As shown at timing T1 in FIG. 5, when an electric field of + E is applied to the + side fixed comb 104p, an attractive force is generated between the + side fixed comb 104p and the moving comb 105, and the moving comb 105, that is, the moving substrate 102, is generated. Moves in the + direction of arrow 6. At this time, the beam 103 whose center portion is fixed to the fixed substrate 101 is bent by the beam fixing portion 106, so that the beam 103 ensures movement of the moving substrate 102 only in the direction of the arrow 6. That is, the moving substrate 102 completely translates in the + direction of the arrow 6 and does not move in the direction perpendicular to the arrow 6.

タイミングT2のように+側固定櫛104pに印加される電界を+Eに保持すると、静電力による引力と梁103の撓りによる力とのバランスにより移動基板102は静止する。タイミングT3において、+側固定櫛104pへの電界の印加を停止すると、静電力による引力がなくなり、梁103の復元力により移動基板102は元の位置に復帰する。   When the electric field applied to the + side fixed comb 104p is held at + E as at the timing T2, the moving substrate 102 stops due to the balance between the attractive force due to the electrostatic force and the force due to the bending of the beam 103. When the application of the electric field to the + side fixed comb 104p is stopped at timing T3, the attractive force due to the electrostatic force disappears, and the moving substrate 102 returns to the original position by the restoring force of the beam 103.

次に、タイミングT4において、−側固定櫛104mに+Eの電界を印加すると、−側固定櫛104mと移動櫛105の間に静電力による引力が発生し、移動櫛105すなわち移動基板102が矢印6の−方向に移動する。この時も梁103が撓ることで、梁103が移動基板102の矢印6方向のみへの移動を担保する。   Next, when an electric field of + E is applied to the −side fixed comb 104m at timing T4, an attractive force is generated between the −side fixed comb 104m and the moving comb 105, and the moving comb 105, that is, the moving substrate 102 is moved to the arrow 6 position. Move in the negative direction. Also at this time, the beam 103 is bent, so that the beam 103 ensures movement of the moving substrate 102 only in the direction of the arrow 6.

タイミングT5のように−側固定櫛104mに印加される電界を+Eに保持すると、静電力による引力と梁103の撓りによる力とのバランスにより移動基板102は静止する。タイミングT6において、−側固定櫛104mへの電界の印加を停止すると、静電力による引力がなくなり、梁103の復元力により移動基板102は元の位置に復帰する。   When the electric field applied to the negative fixed comb 104m is held at + E as at the timing T5, the moving substrate 102 stops due to the balance between the attractive force due to the electrostatic force and the force due to the bending of the beam 103. At time T6, when the application of the electric field to the negative fixed comb 104m is stopped, the attractive force due to the electrostatic force disappears, and the moving substrate 102 returns to the original position by the restoring force of the beam 103.

つまり、手振れ補正手段10は、移動基板102を移動させようとする方向の固定櫛に電界を印加することにより、手振れによる画像劣化を補正することができ、電界の印加を停止することで、梁103の復元力により移動基板102が最初の位置に復帰するようになる。   That is, the camera shake correction unit 10 can correct image degradation due to camera shake by applying an electric field to a fixed comb in a direction in which the moving substrate 102 is to be moved, and can stop the beam application by stopping the application of the electric field. The moving substrate 102 returns to the initial position by the restoring force 103.

なお、本第1の実施の形態においては、説明を簡単にするために、移動基板102が矢印6方向(図2の左右方向)のみに移動可能な構成を例示したが、この構成と同等の構成が固定基板101とダイフレーム205との間に配設されることで、移動基板102は矢印6と直交する方向(図2の上下方向)にも移動可能となる。   In the first embodiment, for the sake of simplicity, the configuration in which the movable substrate 102 is movable only in the direction of the arrow 6 (the left-right direction in FIG. 2) is illustrated, but this configuration is equivalent to this configuration. By disposing the configuration between the fixed substrate 101 and the die frame 205, the movable substrate 102 can also move in a direction perpendicular to the arrow 6 (vertical direction in FIG. 2).

また、本第1の実施の形態においては、移動基板102の撮像センサチップ16の裏面に対向する部分は、全面撮像センサチップ16と接合されているが、接合を部分的にし、撮像センサチップ16の裏面に対向する部分の一部に梁103、固定櫛104および移動櫛105の一部を作製することで、図2に示したよりもさらに光軸L側から見た投影面積を小さくすることが可能である。この考え方をさらに延長して、撮像センサチップ16の裏面にアクチュエート部100を全て作製する例を図6で後述する。   In the first embodiment, the portion of the moving substrate 102 that faces the back surface of the imaging sensor chip 16 is bonded to the entire surface imaging sensor chip 16. The projection area viewed from the optical axis L side can be made smaller than that shown in FIG. 2 by producing the beam 103, the fixed comb 104, and a part of the moving comb 105 in a part of the part facing the back surface of Is possible. An example in which this idea is further extended and all the actuating portions 100 are formed on the back surface of the imaging sensor chip 16 will be described later with reference to FIG.

さらに、本第1の実施の形態においては、アクチュエート部100はシリコン(Si)を主材料としてMEMS技術により作製されるとしたが、これに限るものではなく、例えばプラスティックを微細精密成形したものに蒸着等により導電性加工を施したもの、あるいは導電性プラスティックを微細精密成形したもの等であってもよい。   Further, in the first embodiment, the actuate unit 100 is manufactured by MEMS technology using silicon (Si) as a main material. However, the present invention is not limited to this. It may be the one that has been subjected to conductive processing by vapor deposition or the like, or the one in which a conductive plastic is finely molded.

以上のように構成された手振れ補正手段10は、デジタルカメラ1に設置された手振れセンサ20によって検出される使用者の手振れなどによるデジタルカメラ1の振動量と速度に応じて、固定櫛104と移動櫛105の間に印加される電界Eが制御されることで移動基板102上に搭載された撮像センサチップ16が移動され、光軸Lのずれが補正される。   The camera shake correction means 10 configured as described above moves with the fixed comb 104 in accordance with the vibration amount and speed of the digital camera 1 due to a user's camera shake detected by the camera shake sensor 20 installed in the digital camera 1. By controlling the electric field E applied between the combs 105, the imaging sensor chip 16 mounted on the moving substrate 102 is moved, and the deviation of the optical axis L is corrected.

上述したように、本第1の実施の形態によれば、MEMS技術でアクチュエート部を作製することで複雑なアクチュエート部を一括した工程で同時に高精度で作製でき、安価で組立や調整の工程も不要となる。また、撮像センサチップをアクチュエート部の上に搭載することにより、パッケージや実装基板等を介することなく撮像センサチップとアクチュエート部とを結合できるために、アクチュエート部を小型化することができ、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。   As described above, according to the first embodiment, it is possible to manufacture a complex actuate part with high accuracy at the same time in a batch process by producing the actuate part by MEMS technology, and at low cost for assembly and adjustment. A process is also unnecessary. In addition, by mounting the imaging sensor chip on the actuating part, the imaging sensor chip and the actuating part can be coupled without using a package or mounting board, so the actuating part can be reduced in size. Therefore, it is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are suitable for incorporation into a small camera module, an optical pickup, and the like, are small and light, are easy to assemble, and are not affected by dust.

さらに、撮像センサチップとアクチュエート部とを同一パッケージ内に密封することでゴミの影響を排除することができ、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。また、アクチュエート部の駆動も電界を印加するだけと簡単であり、制御も容易である。   Furthermore, by sealing the image sensor chip and the actuate part in the same package, it is possible to eliminate the effects of dust, and it is suitable for incorporation into small camera modules and optical pickups. Thus, it is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are not affected by dust. In addition, the actuation of the actuating unit is as simple as applying an electric field, and control is also easy.

加えて、ボンディングワイヤの引き出し方向や、弛ませ方、さらにはボンディング部のポッティングによる補強等の工夫により、撮像センサチップをアクチュエート部の上に搭載し、撮像センサチップとアクチュエート部とを同一パッケージ内に密封して撮像センサチップを移動させることによるボンディングワイヤの断線を防止することができ、信頼性の向上に寄与する。   In addition, the imaging sensor chip is mounted on the actuating part by means of drawing out the bonding wire, loosening, and reinforcement by potting the bonding part. The imaging sensor chip and the actuating part are the same. It is possible to prevent disconnection of the bonding wire caused by moving the imaging sensor chip while being sealed in the package, which contributes to improvement in reliability.

次に、アクチュエート部100の第2の実施の形態について、図6を用いて説明する。図6は、アクチュエート部100の第2の実施の形態の構成を示す模式図で、図6(a)はアクチュエート部100を光軸L側から見た模式図、図6(b)は図6(a)および(c)に示したB−B’断面の模式図、図6(c)は図6(a)の裏面側から見た模式図である。本第2の実施の形態においては、アクチュエート部100は撮像センサチップ16の撮像面16aの裏面側に構成され、アクチュエータ110は、固定櫛504、移動櫛505、梁503および梁固定部506等からなる。   Next, a second embodiment of the actuate unit 100 will be described with reference to FIG. 6A and 6B are schematic views showing the configuration of the actuate unit 100 according to the second embodiment. FIG. 6A is a schematic view of the actuate unit 100 viewed from the optical axis L side, and FIG. 6A and 6C are schematic views of the BB ′ cross section, and FIG. 6C is a schematic view seen from the back side of FIG. 6A. In the second embodiment, the actuating unit 100 is configured on the back side of the imaging surface 16a of the imaging sensor chip 16, and the actuator 110 includes a fixed comb 504, a moving comb 505, a beam 503, a beam fixing unit 506, and the like. Consists of.

図6(a)、(b)および(c)において、例えばシリコン(Si)を主材料として半導体製造プロセスで作製された撮像センサチップ16の裏面上に犠牲層と呼ばれるシリコンの酸化膜(SiO2)を選択的に積み、その上にシリコン(Si)を主材料とする構造層を積み上げ、構造層をエッチングして移動基板502、梁503、固定櫛504、移動櫛505および梁固定部506を同時に作製し、犠牲層エッチングで犠牲層を除去して移動基板502、梁503及び移動櫛505を撮像センサチップ16の裏面から浮いた状態に形成する。 6A, 6B, and 6C, for example, a silicon oxide film (SiO 2) called a sacrificial layer is formed on the back surface of the image sensor chip 16 manufactured by a semiconductor manufacturing process using, for example, silicon (Si) as a main material. ) Are selectively stacked, and a structure layer mainly composed of silicon (Si) is stacked thereon, and the structure layer is etched to form a moving substrate 502, a beam 503, a fixed comb 504, a moving comb 505, and a beam fixing portion 506. At the same time, the sacrificial layer is removed by sacrificial layer etching, and the moving substrate 502, the beam 503, and the moving comb 505 are formed so as to float from the back surface of the imaging sensor chip 16.

つまり、移動基板502、梁503及び移動櫛505は撮像センサチップ16の裏面との間に隙間561を有して浮いた状態であり、梁503の中央部に形成された梁固定部506によって撮像センサチップ16の裏面に固定されている。また、移動基板502は固定基板501に接着剤等により固着されている。   That is, the moving substrate 502, the beam 503, and the moving comb 505 are in a floating state with a gap 561 between the back surface of the imaging sensor chip 16 and are imaged by the beam fixing portion 506 formed at the center of the beam 503. It is fixed to the back surface of the sensor chip 16. The moving substrate 502 is fixed to the fixed substrate 501 with an adhesive or the like.

なお、図6(b)の断面図においては、図面を見やすくするために、移動基板502、固定櫛504および移動櫛505の断面部のみにハッチングを施してある。   Note that, in the cross-sectional view of FIG. 6B, only the cross-sections of the moving substrate 502, the fixed comb 504, and the moving comb 505 are hatched for easy viewing of the drawing.

動作は図5に示したと同様であり、図5の移動基板102を移動基板502に、固定櫛104pおよび104mを固定櫛504pおよび504mに読み替えて、固定櫛504pまたは504mと移動櫛505との間に電界Eが印加されることで固定櫛504pまたは504mと移動櫛505との間に静電力による引力が発生し、固定櫛504pまたは504mと移動櫛505とが引き合うことで、固定櫛504pおよび504mが固定されている撮像センサチップ16と移動櫛505が固定されている固定基板501との位置関係が相対的に移動する。   The operation is the same as that shown in FIG. 5. The moving substrate 102 in FIG. 5 is read as the moving substrate 502, the fixed combs 104 p and 104 m are read as the fixed combs 504 p and 504 m, and the fixed comb 504 p or 504 m and the moving comb 505 are read. When an electric field E is applied to the fixed comb 504p or 504m and the moving comb 505, an attractive force is generated between the fixed comb 504p or 504m and the moving comb 505, and the fixed comb 504p or 504m and the moving comb 505 attract each other. The positional relationship between the imaging sensor chip 16 to which the moving comb 505 is fixed and the fixed substrate 501 to which the moving comb 505 is fixed relatively moves.

図6(c)に示した固定櫛504pまたは504mと移動櫛505の形態は、撮像センサチップ16を図1に示したデジタルカメラ1の上下方向(矢印6の方向)に移動させることを想定した例で、撮像センサチップ16およびアクチュエート部100の質量に抗して撮像センサチップ16を上方向に移動させるための固定櫛504pとそれに対向する移動櫛505の櫛歯の数を、撮像センサチップ16およびアクチュエート部100の質量の作用方向である下方向に撮像センサチップ16を移動させるための固定櫛504mとそれに対向する移動櫛505の櫛歯の数よりも多くしてある。   The configuration of the fixed comb 504p or 504m and the moving comb 505 shown in FIG. 6C assumes that the imaging sensor chip 16 is moved in the vertical direction (direction of arrow 6) of the digital camera 1 shown in FIG. In the example, the number of comb teeth of the fixed comb 504p for moving the imaging sensor chip 16 upward against the mass of the imaging sensor chip 16 and the actuating unit 100 and the moving comb 505 opposed thereto is calculated. 16 and the number of comb teeth of the fixed comb 504m for moving the imaging sensor chip 16 in the downward direction, which is the action direction of the mass of the actuating unit 100, and the moving comb 505 opposed thereto.

本第2の実施の形態の固定基板501を図2に示した第1の実施の形態の移動基板102上に搭載することで、本第2の実施の形態により図2の上下方向の移動を実現し、第1の実施の形態により図2の左右方向の移動を実現することで、撮像センサチップ16を2次元的に移動させることも可能である。   By mounting the fixed substrate 501 of the second embodiment on the moving substrate 102 of the first embodiment shown in FIG. 2, the vertical movement of FIG. 2 can be achieved according to the second embodiment. The imaging sensor chip 16 can be moved two-dimensionally by realizing and moving in the left-right direction in FIG. 2 according to the first embodiment.

さらに、撮像センサチップ16上あるいは固定基板501上には、上述したアクチュエート部100のみならず、固定基板501に対する撮像センサチップ16の位置を検出する位置センサや、デジタルカメラ1の振れを検出する手振れセンサ20等のセンサ類など、半導体製造プロセスで形成可能な機能を一体的に構成することも可能である。   Further, on the image sensor chip 16 or the fixed substrate 501, not only the above-described actuating unit 100 but also a position sensor for detecting the position of the image sensor chip 16 relative to the fixed substrate 501, or a shake of the digital camera 1 is detected. It is also possible to integrally configure functions that can be formed in the semiconductor manufacturing process, such as sensors such as the shake sensor 20.

上述したように、本第2の実施の形態によれば、アクチュエート部を撮像センサチップの裏面上に作製することで、アクチュエート部を第1の実施の形態よりもさらに小型化することが可能であり、また、第1の実施の形態と組み合わせて、あるいは本第2の実施の形態を2階建てにすることで2次元のアクチュエート部を実現することも可能である。また、アクチュエート部の駆動も電界を印加するだけと簡単であり、制御も容易である。さらに、櫛歯の数を負荷に合わせて最適化することで、最適な移動性能を得ることができる。   As described above, according to the second embodiment, the actuate portion can be further downsized than the first embodiment by producing the actuate portion on the back surface of the imaging sensor chip. It is also possible to realize a two-dimensional actuating unit in combination with the first embodiment or by making the second embodiment two-story. In addition, the actuation of the actuating unit is as simple as applying an electric field, and control is also easy. Furthermore, the optimal movement performance can be obtained by optimizing the number of comb teeth according to the load.

次に、アクチュエート部100の第3の実施の形態について図7を用いて説明する。図7はアクチュエート部100の第3の実施の形態の構成を示す模式図で、図7(a)は撮像素子16の撮像面16a側から見た正面図で、図7(b)は図7(a)の矢印C側から見た側面図である。   Next, a third embodiment of the actuate unit 100 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic view showing the configuration of the actuate unit 100 according to the third embodiment. FIG. 7A is a front view of the image pickup device 16 as viewed from the image pickup surface 16a side, and FIG. It is the side view seen from the arrow C side of 7 (a).

上述した第1および第2の実施の形態では固定櫛104あるいは504と移動櫛105あるいは505との間に発生する静電力を利用したアクチュエート部を例示したが、アクチュエート部はこれに限るものではなく、MEMS技術で形成可能な他の駆動メカニズムでアクチュエート部100を構成してもよい。ここでは、圧電薄膜の圧電現象を利用したアクチュエート部を例示する。   In the first and second embodiments described above, the actuating part using the electrostatic force generated between the fixed comb 104 or 504 and the moving comb 105 or 505 is illustrated, but the actuating part is not limited to this. Instead, the actuating unit 100 may be configured by another driving mechanism that can be formed by the MEMS technology. Here, an actuating portion using the piezoelectric phenomenon of the piezoelectric thin film is illustrated.

図7(a)および(b)において、例えばシリコン(Si)を主材料として半導体製造プロセスで作製された撮像センサチップ16は、不純物を高濃度にドープされたシリコン(Si)を主材料とする移動基板302上に搭載され、直接接合技術あるいは接着等の方法により接合されている。移動基板302には2本の足状の梁303が設けられており、移動基板302および梁303は、固定基板301に対して微少な隙間361を隔てて、固定基板301上に梁固定部306で固定されている。   7A and 7B, for example, an image sensor chip 16 manufactured by a semiconductor manufacturing process using silicon (Si) as a main material has silicon (Si) doped with impurities at a high concentration as a main material. It is mounted on the moving substrate 302 and bonded by a direct bonding technique or a method such as adhesion. The moving substrate 302 is provided with two leg-shaped beams 303, and the moving substrate 302 and the beam 303 are separated from the fixed substrate 301 by a minute gap 361 and the beam fixing portion 306 is provided on the fixed substrate 301. It is fixed with.

固定基板301は、シリコン(Si)やガラス等からなる。移動基板302の2本の梁303にはそれぞれ圧電薄膜304が形成されている。圧電薄膜を形成する方法に関してはスパッタリング法、CVD法、ゾルゲル法等がある。本第3の実施の形態においては、アクチュエータ110は、梁303、梁固定部306および圧電薄膜304等からなり、圧電薄膜304は、本発明における圧電体として機能する。また、圧電体は圧電薄膜に限るものではなく、通常の単層あるいは多層の圧電アクチュエータであってもよい。   The fixed substrate 301 is made of silicon (Si), glass, or the like. A piezoelectric thin film 304 is formed on each of the two beams 303 of the moving substrate 302. As a method for forming the piezoelectric thin film, there are a sputtering method, a CVD method, a sol-gel method, and the like. In the third embodiment, the actuator 110 includes a beam 303, a beam fixing portion 306, a piezoelectric thin film 304, and the like, and the piezoelectric thin film 304 functions as a piezoelectric body in the present invention. The piezoelectric body is not limited to a piezoelectric thin film, and may be a normal single layer or multilayer piezoelectric actuator.

図7に示したアクチュエート部100および撮像センサチップ16が、図2乃至図4に示したと同様に、パッケージ203内のダイフレーム205上に実装され、ワイヤボンディングされた後に、パッケージ203と保護ガラス204あるいはレンズ41とで形成される同一空間に密封される。   The actuator unit 100 and the image sensor chip 16 shown in FIG. 7 are mounted on the die frame 205 in the package 203 and wire-bonded in the same manner as shown in FIGS. 204 or the lens 41 is sealed in the same space.

また、圧電薄膜304の表面には電極が形成されている。移動基板302は不純物を高濃度にドープされて導電性を持っており、梁固定部306で接地されている。梁303と圧電薄膜304の間には接着剤等の介在物がないので梁303は圧電薄膜304の共通電極の役割を果たしている。   An electrode is formed on the surface of the piezoelectric thin film 304. The moving substrate 302 is highly doped with impurities and has conductivity, and is grounded by a beam fixing portion 306. Since there are no inclusions such as an adhesive between the beam 303 and the piezoelectric thin film 304, the beam 303 serves as a common electrode of the piezoelectric thin film 304.

今、図7の矢印6の+側に位置している圧電薄膜304を+側圧電薄膜304p、矢印6の−側に位置している圧電薄膜304を−側圧電薄膜304mとする。+側圧電薄膜304pの電極に負の電圧を印加すると、+側圧電薄膜304pは矢印6に直交する方向に縮むため梁303は図の右側に曲げられ、移動基板302は矢印6の+方向に移動される。この時、梁303が移動基板302の矢印6方向のみへの移動を担保する。+側圧電薄膜304pへの電圧の印加を停止すると、梁303の復元力により移動基板302は元の位置に復帰する。梁303の幅dは数μmから数十μm程度と非常に細いため、圧電薄膜304の駆動力でも十分駆動可能である。   Now, let the piezoelectric thin film 304 located on the + side of the arrow 6 in FIG. 7 be the + side piezoelectric thin film 304p, and the piezoelectric thin film 304 located on the − side of the arrow 6 be the − side piezoelectric thin film 304m. When a negative voltage is applied to the electrode of the + side piezoelectric thin film 304p, the + side piezoelectric thin film 304p contracts in a direction orthogonal to the arrow 6 so that the beam 303 is bent to the right in the figure, and the moving substrate 302 is moved in the + direction of the arrow 6 Moved. At this time, the beam 303 ensures movement of the moving substrate 302 only in the direction of the arrow 6. When the application of voltage to the + side piezoelectric thin film 304p is stopped, the movable substrate 302 returns to the original position by the restoring force of the beam 303. Since the width d of the beam 303 is very thin, about several μm to several tens of μm, it can be sufficiently driven by the driving force of the piezoelectric thin film 304.

次に、−側圧電薄膜304mに負の電圧を印加すると、−側圧電薄膜304mは矢印6に直交する方向に縮むため梁303は図の左側に曲げられ、移動基板302は矢印6の−方向に移動する。この時も梁303が移動基板302の矢印6方向のみへの移動を担保する。−側圧電薄膜304mへの電圧の印加を停止すると、梁303の復元力により移動基板302は元の位置に復帰する。   Next, when a negative voltage is applied to the negative side piezoelectric thin film 304m, the negative side piezoelectric thin film 304m contracts in a direction perpendicular to the arrow 6, so that the beam 303 is bent to the left in the figure, and the moving substrate 302 is moved in the negative direction of the arrow 6. Move to. Also at this time, the beam 303 ensures the movement of the moving substrate 302 in the direction of arrow 6 only. When the application of the voltage to the negative side piezoelectric thin film 304m is stopped, the moving substrate 302 returns to the original position by the restoring force of the beam 303.

本第3の実施の形態においてはアクチュエート部に圧電薄膜を用いた例を説明したが、圧電薄膜の代わりに、前述した形状記憶合金(SMA)や高分子アクチュエータを用いることも可能である。その場合も、図7の圧電薄膜304の位置に形状記憶合金の薄膜や高分子の薄膜を形成し、電流の印加による加熱(形状記憶合金の場合)や電界の印加による変形(高分子アクチュエータの場合)を、電流あるいは電界を制御することによりアクチュエート部の動作を制御すればよい。   In the third embodiment, the example in which the piezoelectric thin film is used for the actuate portion has been described. However, the shape memory alloy (SMA) or the polymer actuator described above can be used instead of the piezoelectric thin film. Also in this case, a shape memory alloy thin film or a polymer thin film is formed at the position of the piezoelectric thin film 304 in FIG. 7, and heating by applying an electric current (in the case of shape memory alloy) or deformation by applying an electric field (polymer actuator In this case, the operation of the actuating unit may be controlled by controlling the current or electric field.

また、本第3の実施の形態においては、移動基板302、梁303および梁固定部306はシリコン(Si)を主材料としてMEMS技術により作製されるとしたが、これに限るものではなく、例えば金属板をエッチング等で加工することにより作製してもよい。   In the third embodiment, the movable substrate 302, the beam 303, and the beam fixing portion 306 are manufactured by MEMS technology using silicon (Si) as a main material. However, the present invention is not limited to this. You may produce by processing a metal plate by an etching etc.

上述したように、本第3の実施の形態によれば、固定基板301上に梁303を備えた移動基板302を梁固定部306で固定し、梁303上に圧電薄膜304を形成するといった非常に単純な構成で小型のアクチュエート部100を実現でき、アクチュエート部100の駆動も圧電薄膜304に電圧を印加するだけと簡単で、制御もしやすい。   As described above, according to the third embodiment, the moving substrate 302 including the beam 303 on the fixed substrate 301 is fixed by the beam fixing unit 306, and the piezoelectric thin film 304 is formed on the beam 303. In addition, the small actuating part 100 can be realized with a simple configuration, and the actuating part 100 can be driven simply by applying a voltage to the piezoelectric thin film 304 and can be controlled easily.

以上に述べたように、本発明によれば、撮像センサチップを撮像センサチップを移動させるためのアクチュエート部の上に搭載することにより、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。   As described above, according to the present invention, by mounting the imaging sensor chip on the actuating portion for moving the imaging sensor chip, it is suitable for incorporation into a small camera module, an optical pickup, etc. It is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are small and light, are easy to assemble, and are not affected by dust.

尚、本発明に係る撮像ユニットおよび撮像装置を構成する各構成の細部構成および細部動作に関しては、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。   It should be noted that the detailed configuration and detailed operation of each component constituting the imaging unit and the imaging apparatus according to the present invention can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.

デジタルカメラおよび手振れ補正手段の構成と、手振れ補正の原理とを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of a digital camera and camera shake correction means, and the principle of camera shake correction. 手振れ補正手段を光軸側から見た模式図である。It is the schematic diagram which looked at the camera shake correction means from the optical axis side. 手振れ補正手段を図2のA−A’断面で切り取った断面模式図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the camera shake correction unit taken along the A-A ′ cross section of FIG. 2. 手振れ補正手段を図2のA−A’断面で切り取った断面模式図の別の例である。It is another example of the cross-sectional schematic diagram which cut the camera shake correction | amendment means in the A-A 'cross section of FIG. アクチュエート部の第1の実施の形態における静電アクチュエータの駆動方法の一例を示すタイミングチャートである。It is a timing chart which shows an example of the drive method of the electrostatic actuator in 1st Embodiment of an actuate part. アクチュエート部の第2の実施の形態の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of 2nd Embodiment of an actuate part. アクチュエート部の第3の実施の形態の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of 3rd Embodiment of an actuate part.

符号の説明Explanation of symbols

1 デジタルカメラ
2 カメラ本体
3 鏡胴
4 撮影レンズ
7 屈曲ミラー
10 手振れ補正手段
16 撮像センサチップ
16a 撮像面
16b ボンディングパッド
20 手振れセンサ
100 アクチュエート部
101 固定基板
102 移動基板
103 梁
104 固定櫛
105 移動櫛
106 梁固定部
110 アクチュエータ
151 ポッティング
201 リードフレーム
202 ボンディングワイヤ
203 パッケージ
204 保護ガラス
205 ダイフレーム
301 固定基板
302 移動基板
303 梁
304 圧電薄膜
306 梁固定部
501 固定基板
502 移動基板
503 梁
504 固定櫛
505 移動櫛
506 梁固定部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Digital camera 2 Camera body 3 Lens barrel 4 Shooting lens 7 Bending mirror 10 Camera shake correction means 16 Imaging sensor chip 16a Imaging surface 16b Bonding pad 20 Camera shake sensor 100 Actuate part 101 Fixed substrate 102 Moving substrate 103 Beam 104 Fixed comb 105 Moving comb 106 Beam fixing portion 110 Actuator 151 Potting 201 Lead frame 202 Bonding wire 203 Package 204 Protective glass 205 Die frame 301 Fixed substrate 302 Moving substrate 303 Beam 304 Piezoelectric thin film 306 Beam fixing portion 501 Fixed substrate 502 Moving substrate 503 Beam 504 Fixed comb 505 Movement Comb 506 Beam fixing part

Claims (9)

撮像センサチップと、
固定基板と移動基板と前記移動基板を前記固定基板に対して移動させるアクチュエータとを含むアクチュエート部とを備えた撮像ユニットにおいて、
前記撮像センサチップは、その裏面の少なくとも一部が前記移動基板に固定されていることを特徴とする撮像ユニット。
An imaging sensor chip;
In an imaging unit comprising a fixed substrate, a moving substrate, and an actuator that includes an actuator that moves the moving substrate relative to the fixed substrate.
The imaging unit, wherein at least a part of the back surface of the imaging sensor chip is fixed to the movable substrate.
前記移動基板は前記撮像センサチップと同一の主材料からなり、前記撮像センサチップと直接接合技術により固定されていることを特徴とする請求項1に記載の撮像ユニット。 The imaging unit according to claim 1, wherein the moving substrate is made of the same main material as the imaging sensor chip and is fixed to the imaging sensor chip by a direct joining technique. 前記主材料は、シリコンであることを特徴とする請求項2に記載の撮像ユニット。 The imaging unit according to claim 2, wherein the main material is silicon. 前記アクチュエータは、前記固定基板上に固定された固定櫛と、前記移動基板と一体に形成されて前記固定櫛と入れ子構成をなす移動櫛と、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部とから構成されており、
前記固定櫛と前記移動櫛との間に電界が印加されることで、前記固定櫛と前記移動櫛との間に働く引力により前記移動基板が前記固定基板に対して移動されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。
The actuator includes: a fixed comb fixed on the fixed substrate; a movable comb formed integrally with the movable substrate and nesting with the fixed comb; a beam formed integrally with the movable substrate; A beam fixing part for fixing a part of the beam to the fixed substrate;
When the electric field is applied between the fixed comb and the movable comb, the movable substrate is moved relative to the fixed substrate by an attractive force acting between the fixed comb and the movable comb. The imaging unit according to any one of claims 1 to 3.
前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された圧電体とからなることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。 The actuator includes a beam integrally formed with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a piezoelectric body formed on the beam. Item 4. The imaging unit according to any one of Items 1 to 3. 前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された形状記憶合金とからなることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。 The actuator includes a beam integrally formed with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a shape memory alloy formed on the beam. The imaging unit according to claim 1. 前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された高分子アクチュエータとからなることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。 The actuator includes a beam formed integrally with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a polymer actuator formed on the beam. The imaging unit according to claim 1. 前記アクチュエータの構成要素の少なくとも一部が、前記撮像センサチップの裏面に配置されていることを特徴とする請求項4乃至7の何れか1項に記載の撮像ユニット。 The imaging unit according to any one of claims 4 to 7, wherein at least a part of the constituent elements of the actuator is disposed on a back surface of the imaging sensor chip. 撮像光学系と、
請求項1乃至8の何れか1項に記載の撮像ユニットとを備えたことを特徴とする撮像装置。
An imaging optical system;
An imaging apparatus comprising: the imaging unit according to claim 1.
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