JP2008048387A - Imaging unit and imaging apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、撮像ユニットおよび撮像装置に関し、特に、撮像センサチップが撮像センサチップを移動させるためのアクチュエート部の上に搭載された撮像ユニットおよび撮像装置に関する。 The present invention relates to an imaging unit and an imaging apparatus, and more particularly, to an imaging unit and an imaging apparatus that are mounted on an actuating unit for moving an imaging sensor chip by an imaging sensor chip.
近年、デジタルカメラやカメラ付き携帯電話等の普及により、カメラモジュールの小型化と高性能化が進み、小型カメラモジュールであっても、AF、ズーム、手ぶれ補正といった高機能が必須となってきている。それに伴い、カメラモジュール内でレンズや撮像素子を移動させるための小型アクチュエータが求められている。さらに、DVD等の記録再生のための光ピックアップ用補正駆動等の用途においても、アクチュエータは小型化の一途を辿っている。 In recent years, with the spread of digital cameras, camera-equipped mobile phones, etc., miniaturization and high performance of camera modules have progressed, and even with small camera modules, high functions such as AF, zoom, and camera shake correction have become essential. . Accordingly, there is a demand for a small actuator for moving a lens and an image sensor in a camera module. In addition, actuators are continually being miniaturized in applications such as optical pickup correction driving for recording and reproduction of DVDs and the like.
近年進歩の著しい小型アクチュエータとしては、例えば圧電素子を駆動源としたリニアアクチュエータ(SIDM:Smooth Impact Drive Mechanism)や、紐状の形状記憶合金(SMA:Shape Memory Alloys)、さらには、高分子アクチュエータといったものがあげられる。 Small actuators that have made remarkable progress in recent years include, for example, linear actuators using a piezoelectric element as a drive source (SIDM: Smooth Impact Drive Mechanism), string-like shape memory alloys (SMA: Shape Memory Alloys), and polymer actuators. Things can be raised.
中でも、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術と呼ばれる集積回路技術を応用した微細加工技術を用いた静電アクチュエータが注目されており、例えば、櫛歯型の静電アクチュエータを用いて撮像素子を移動させることで手振れを補正する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、特許文献1の方法では、撮像センサチップはセンサパッケージ内に実装されており、センサパッケージをフレキシブル基板上に実装し、フレキシブル基板を櫛歯型の静電アクチュエータからなる手振れ補正機構上に搭載する、といった構造になっており、撮像センサチップ、センサパッケージ、フレキシブル基板および静電アクチュエータがそれぞれ別体で作製されているため、静電アクチュエータによって駆動される被駆動物は大きくて重いものとなり、力量を確保するために静電アクチュエータも必然的に大型化せざるをえず、小型カメラモジュールや光ピックアップに組み込むには不適切である。
However, in the method of
また、静電アクチュエータのゴミ対策についても何も示されていないが、櫛歯型の静電アクチュエータにとってはゴミ対策は必須項目であり、静電アクチュエータ部全体を密閉する必要があり、手振れ補正装置がさらに大型化するという問題がある。 Also, nothing is shown about dust countermeasures for electrostatic actuators, but dust countermeasures are an indispensable item for comb-shaped electrostatic actuators, and it is necessary to seal the entire electrostatic actuator section, and a camera shake correction device However, there is a problem that the size is further increased.
一般に、アクチュエータを小型化するためには、次の課題がある。
1)駆動負荷(被駆動体質量、機構の摩擦、電気配線、空気の対流等)の低減。
2)組立の簡略化。
3)ゴミの低減。
以下に、それぞれについて述べる。
In general, there are the following problems in reducing the size of an actuator.
1) Reduction of driving load (driven body mass, mechanism friction, electrical wiring, air convection, etc.).
2) Simplification of assembly.
3) Reduction of garbage.
Each is described below.
1)アクチュエータは、一般的に、自身の体積が小さくなるにつれて発生力が小さくなる。例えば現在実現されている、撮像センサを移動させるタイプの手ぶれ補正機構においては、被駆動体である撮像センサユニットの質量は軽いものでも3g程度あり、それに機構の摩擦やばねによる負荷、また撮像センサからの電気信号を外部に伝達するためのフレキシブル基板の負荷等も合わせると0.1N程度の負荷になるのが一般的である。 1) In general, an actuator generates less force as its volume decreases. For example, in a camera shake correction mechanism of the type that moves the image sensor that is currently realized, the mass of the image sensor unit that is the driven body is about 3 g, even if it is light, and the friction of the mechanism, the load due to the spring, and the image sensor When the load of the flexible substrate for transmitting the electric signal from the outside to the outside is combined, the load is generally about 0.1N.
そして、これらの負荷を駆動するためのアクチュエータの体積は、概ね300mm3とかなり大きなものである。小型カメラユニットや光ピックアップの撮像センサユニット駆動用のアクチュエータとしてはこの大きさは致命的であるため、これらを達成するためには撮像センサユニットの軽量化および低負荷化は必要不可欠である。 The volume of the actuator for driving these loads is as large as about 300 mm 3 . This size is fatal for an actuator for driving an imaging sensor unit of a small camera unit or an optical pickup. Therefore, in order to achieve these, it is essential to reduce the weight and load of the imaging sensor unit.
2)例えば現在実現されている、撮像センサを移動させるタイプの手ぶれ補正機構においては、アクチュエータや補正機構を構成する部品は20点程度あり、これらの部品を接合している部分も同程度存在する。小型カメラユニットや光ピックアップへの搭載を考えると、これらの接合を精度良くしかも短時間に実現することは従来技術の延長では非常に困難であり、改善が必要不可欠である。 2) For example, in a camera shake correction mechanism of a type that moves the image sensor that is currently realized, there are about 20 parts that constitute the actuator and the correction mechanism, and there are about the same parts where these parts are joined. . Considering mounting on a small camera unit or an optical pickup, it is extremely difficult to extend these joints accurately and in a short time by extension of the conventional technology, and improvement is indispensable.
3)上述したように、超小型のアクチュエータとして現在最も一般的に知られているのは静電アクチュエータであるが、例えば上述した櫛歯型の静電アクチュエータは、固定櫛歯と移動櫛歯の間隔が数μm程度と非常に狭いので、動作を保証するためにはミクロンオーダーのゴミの進入を防ぐ密閉構造が必要不可欠である。 3) As described above, an electrostatic actuator is currently most commonly known as an ultra-small actuator. For example, the above-described comb-shaped electrostatic actuator includes a fixed comb tooth and a movable comb tooth. Since the interval is as narrow as about several μm, a sealed structure that prevents entry of dust on the order of microns is indispensable in order to guarantee the operation.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an image pickup unit and an image pickup apparatus that are suitable for incorporation into a small camera module, an optical pickup, etc., are small and light, easy to assemble, and are not affected by dust. The purpose is to do.
本発明の目的は、下記構成により達成することができる。 The object of the present invention can be achieved by the following constitution.
1.撮像センサチップと、
固定基板と移動基板と前記移動基板を前記固定基板に対して移動させるアクチュエータとを含むアクチュエート部とを備えた撮像ユニットにおいて、
前記撮像センサチップは、その裏面の少なくとも一部が前記移動基板に固定されていることを特徴とする撮像ユニット。
1. An imaging sensor chip;
In an imaging unit comprising a fixed substrate, a moving substrate, and an actuator that includes an actuator that moves the moving substrate relative to the fixed substrate.
The imaging unit, wherein at least a part of the back surface of the imaging sensor chip is fixed to the moving substrate.
2.前記移動基板は前記撮像センサチップと同一の主材料からなり、前記撮像センサチップと直接接合技術により固定されていることを特徴とする1に記載の撮像ユニット。 2. 2. The imaging unit according to 1, wherein the movable substrate is made of the same main material as the imaging sensor chip and is fixed to the imaging sensor chip by a direct joining technique.
3.前記主材料は、シリコンであることを特徴とする2に記載の撮像ユニット。 3. 3. The imaging unit according to 2, wherein the main material is silicon.
4.前記アクチュエータは、前記固定基板上に固定された固定櫛と、前記移動基板と一体に形成されて前記固定櫛と入れ子構成をなす移動櫛と、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部とから構成されており、
前記固定櫛と前記移動櫛との間に電界が印加されることで、前記固定櫛と前記移動櫛との間に働く引力により前記移動基板が前記固定基板に対して移動されることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。
4). The actuator includes: a fixed comb fixed on the fixed substrate; a movable comb formed integrally with the movable substrate and nesting with the fixed comb; a beam formed integrally with the movable substrate; A beam fixing part for fixing a part of the beam to the fixed substrate;
When the electric field is applied between the fixed comb and the movable comb, the movable substrate is moved relative to the fixed substrate by an attractive force acting between the fixed comb and the movable comb. The imaging unit according to any one of 1 to 3.
5.前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された圧電体とからなることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。
5. The actuator includes a beam integrally formed with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a piezoelectric body formed on the beam. 4. The imaging unit according to any one of
6.前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された形状記憶合金とからなることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。 6). The actuator includes a beam formed integrally with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a shape memory alloy formed on the beam. The imaging unit according to any one of 1 to 3.
7.前記アクチュエータは、前記移動基板と一体に形成された梁と、前記梁の一部を前記固定基板に固定する梁固定部と、前記梁に形成された高分子アクチュエータとからなることを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。 7). The actuator includes a beam integrally formed with the moving substrate, a beam fixing portion for fixing a part of the beam to the fixed substrate, and a polymer actuator formed on the beam. The imaging unit according to any one of 1 to 3.
8.前記アクチュエータの構成要素の少なくとも一部が、前記撮像センサチップの裏面に配置されていることを特徴とする4乃至7の何れか1項に記載の撮像ユニット。 8). The imaging unit according to any one of 4 to 7, wherein at least a part of the constituent elements of the actuator is disposed on a back surface of the imaging sensor chip.
9.撮像光学系と、
1乃至8の何れか1項に記載の撮像ユニットとを備えたことを特徴とする撮像装置。
9. An imaging optical system;
An image pickup apparatus comprising the image pickup unit according to any one of 1 to 8.
本発明によれば、撮像センサチップを撮像センサチップを移動させるためのアクチュエート部の上に搭載することにより、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。 According to the present invention, by mounting the imaging sensor chip on the actuating part for moving the imaging sensor chip, it is small and light, suitable for incorporation into a small camera module or an optical pickup, and easy to assemble. Thus, it is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are not affected by dust.
以下、図面に基づき本発明の実施の形態を説明するが、本発明は該実施の形態に限られない。なお、図中、同一あるいは同等の部分には同一の番号を付与し、重複する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments. In the drawings, the same or equivalent parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
まず、本発明における撮像装置の一例であるデジタルカメラについて、図1を用いて説明する。図1は、デジタルカメラおよび手振れ補正手段の構成と、手振れ補正の原理とを示す模式図である。 First, a digital camera which is an example of an imaging apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a digital camera and camera shake correction means, and the principle of camera shake correction.
図1に示すように、手振れ補正手段10はデジタルカメラ1に搭載されて用いられる。デジタルカメラ1は、カメラ本体2と、撮影レンズ4等を含む光学系である鏡胴3とから構成される。手振れ補正手段10は、図2以降で詳述するように、CCDなどの撮像センサチップ16が内蔵され、鏡胴3の端に取りつけられる。
As shown in FIG. 1, the camera shake correction means 10 is mounted on the
そして、撮影中にデジタルカメラ1が例えば上下にブレて、鏡胴3に入射する光軸Lが矢印5で示すように上下にずれた場合、ジャイロセンサ等の手振れセンサ20によってブレが検知され、手振れセンサ20の出力に従って、撮像センサチップ16を矢印6に示すように上下に移動させることで光軸Lのずれを補正する。水平方向のブレについても同様である。ここに、手振れ補正手段10は本発明における撮像ユニットとして機能する。
When the
次に、手振れ補正手段10の要部であるアクチュエート部100の第1の実施の形態について、図2乃至図5を用いて説明する。まず、手振れ補正手段10の構成について説明する。図2は、手振れ補正手段10を光軸L側から見た模式図であり、図3は、手振れ補正手段10を図2のA−A’断面で切り取った断面模式図である。
Next, a first embodiment of the
図2および図3において、手振れ補正手段10は、撮像センサチップ16、アクチュエート部100、ダイフレーム205、リードフレーム201、パッケージ203および保護ガラス204等からなる。
2 and 3, the camera shake correction means 10 includes an
本第1の実施の形態においては、アクチュエート部100は、固定基板101、移動基板102および櫛歯型のアクチュエータ110等からなり、アクチュエータ110は、固定基板101に固定された固定櫛104と、移動基板102と一体に形成された移動櫛105、梁103及び梁固定部106等からなり、例えばシリコン(Si)を主材料として上述したMEMS技術により作製される。
In the first embodiment, the
MEMS技術とは、集積回路技術を応用したマイクロマシニング技術を利用してμm単位のマイクロセンサやアクチュエータ及び電気機械的構造物を作製する分野を意味し、マイクロマシニング技術により作製された微細機械は、mm以下のサイズ及びμm以下の精密度を具現することができるとともに、図2に示したように、入れ子構成の櫛歯形状のような複雑な機構を一括した工程で同時に高精度で作製できるため、安価で組立や調整の工程も不要である。 MEMS technology refers to the field of producing microsensors and actuators and electromechanical structures in units of μm using micromachining technology applying integrated circuit technology. Micromachines manufactured by micromachining technology are: In addition to being able to realize a size of less than mm and precision of less than μm, and as shown in FIG. 2, a complicated mechanism such as a nested comb tooth shape can be simultaneously produced with high accuracy at the same time. It is inexpensive and does not require assembly or adjustment processes.
本第1の実施の形態では、例えばシリコン(Si)からなる固定基板101上に犠牲層と呼ばれるシリコンの酸化膜(SiO2)を選択的に積み、その上に、不純物を高濃度にドープされて導電性を持つシリコン(Si)からなる構造層を積み上げ、構造層をエッチングして移動基板102、梁103、固定櫛104、移動櫛105および梁固定部106を同時に作製し、犠牲層エッチングで犠牲層を除去して移動基板102、梁103及び移動櫛105を固定基板101から浮いた状態に形成する。
In the first embodiment, for example, a silicon oxide film (SiO 2 ) called a sacrificial layer is selectively stacked on a fixed
つまり、移動基板102、梁103及び移動櫛105は固定基板101との間に隙間161を有して浮いた状態であり、梁103の中央部に形成された梁固定部106によって固定基板101に固定されている。固定基板101はダイフレーム205に接着剤等により固定されている。
That is, the moving
なお、犠牲層エッチング技術については、例えば[(株)豊田中央研究所「MEMS用犠牲層ドライエッチング技術」http://www.tytlabs.co.jp/japanese/tech/sys_mems.pdf#search=’%E7%8A%A0%E7%89%B2%E5%B1%A4’(平成18年7月18日検索)]等に詳述されている。 The sacrificial layer etching technique is described in, for example, [Toyota Central R & D Co., Ltd. “Sacrificial layer dry etching technique for MEMS” http: // www. tylabs. co. jp / japanes / tech / sys_mems. pdf # search = '% E7% 8A% A0% E7% 89% B2% E5% B1% A4' (searched on July 18, 2006)].
固定櫛104と移動櫛105とは入れ子構成の櫛歯形状になっており、固定櫛104と移動櫛105との間に電界を印加することにより、固定櫛104と移動櫛105との間に発生する引力によって移動櫛105が図2の矢印6の方向に移動する。固定櫛104と移動櫛105とに電界を印加することによる動作については、図5で説明する。
The fixed
撮像センサチップ16はシリコン(Si)を主材料として半導体製造プロセスで作製され、その表面に撮像面16aおよびボンディングパッド16bを備え、上述したMEMS技術により作製されたアクチュエート部100の移動基板102上に搭載され、撮像センサチップ16の撮像面16aの裏面と移動基板102の表面とが例えば直接接合技術により接合されている。
The
直接接合技術とは接着剤を用いない接合方法で、同種材料間の表面間引力を利用した接合方法であり、接合後の強度や歪や傾きの少なさ、接合の簡便性、省スペース等に優れている。本例においては、移動基板102も撮像センサチップ16もシリコンからできていることから、直接接合技術による接合が可能となり上述したメリットを得ることができる。なお、直接接合技術については、例えば[独立行政法人産業技術総合研究所「ウェハ直接接合技術」http://staff.aist.go.jp/takagi.hideki/waferbonding.html(平成18年7月18日検索)]等に詳述されている。
Direct joining technology is a joining method that does not use an adhesive, and is a joining method that uses the attractive force between the surfaces of the same type of material. For strength, strain and inclination after joining, ease of joining, space saving, etc. Are better. In this example, since both the moving
撮像センサチップ16のボンディングパッド16bとリードフレーム201との間には、撮像センサチップ16からの信号をリードフレーム201に伝えるためのボンディングワイヤ202が張られている。また、固定櫛104および移動櫛105とリードフレーム201との間にも、固定櫛104と移動櫛105との間に電界を印加するためにボンディングワイヤ202が張られている。
A
リードフレーム201は図示しない回路基板にはんだ付けされることで、撮像センサチップ16からの画像信号や固定櫛104及び移動櫛105への電界印加のための信号の送受信を可能にしている。
The
ボンディングワイヤ202には、直径数十μm(例えば、25μmあるいは15μm)の金(Au)またはアルミニウム(Al)のワイヤが用いられ、図2および図3に示したのは金(Au)のワイヤの例である。通常は、撮像センサチップ16のボンディングパッド16b側はボールボンドと呼ばれる、熱で溶かされてボール状になった金(Au)のワイヤをボンディングパッド16bに押しつけて接続する方法がとられ、リードフレーム201側はステッチボンドと呼ばれる、超音波をかけながら金(Au)のワイヤをリードフレーム201に擦りつけるようにして接続する方法がとられることが多い。
The
ボンディングワイヤ202は、デジタルカメラ1が図1に示した正立状態にある時に、手振れ補正手段10の上下方向、つまり図2の上下方向に引き出されている。これによって、ボンディングワイヤ202のばね性を利用して、撮像センサチップ16や移動基板102等の移動部分の質量による、撮像センサチップ16の撮像面16aの中心と光軸Lのズレ(所謂センタズレ)を低減することができる。
When the
また、このように撮像センサチップ16の移動方向と垂直方向にボンディングワイヤ202を引き出すことで、撮像センサチップ16の移動方向と同じ方向にボンディングワイヤ202を引き出すよりも、撮像センサチップ16の移動によってボンディングワイヤ202が揺すられることによる歪みの蓄積や金属疲労を低減することができる。
Further, by pulling out the
さらに、撮像センサチップ16が移動した際にボンディングワイヤ202によって発生される負荷を等しくするために、ボンディングワイヤ202が圧縮される側と引張られる側のワイヤのばね性を等しくしている。ボンディングワイヤ202のばね性を等しくするためには、ボンディングワイヤ202の本数、長さ、太さ、引出し角度、あるいはそれらの合成力を等しくすればよい。
Further, in order to equalize the load generated by the
また、手振れ補正動作においては、もちろん撮影レンズ4の画角や撮像素子の画素サイズ等の条件により異なるが、撮像センサチップ16の移動量は幅で数十μmから数百μm程度である。本第1の実施の形態においては、手振れ補正動作に伴って撮像センサチップ16がリードフレーム201に対して矢印6の方向に移動するため、撮像センサチップ16が移動してもボンディングワイヤ202が断線したりボンディングが外れたりしないようにする必要がある。
Further, in the camera shake correction operation, the movement amount of the
そのため、ボンディングワイヤ202を撮像センサチップ16のボンディングパッド16bにボンディングした後、ワイヤの高さ方向のピークが撮像センサチップ16の近くに来るように(例えば図3に示したように、ピークの位置Yが撮像センサチップ16のボンディングパッド16bとリードフレーム201上のボンディング位置との距離Xの半分(X/2)よりも小さくなるように)し、撮像センサチップ16の移動量の最大幅の半分以上弛ませるようにして張ることが望ましい。
Therefore, after bonding the
また、上述したように、撮像センサチップ16の移動を繰り返すことに伴って、ボンディングワイヤ202の疲労による断線やボンディングの外れが発生する可能性がある。特にリードフレーム201側のステッチボンドは、ボンディングパッド16b側のボールボンドに比べてボンディング時の応力による歪みが多く残留していると考えられるため、断線や外れが発生する可能性が高いと考えられる。それを回避するために、図2および図3に示したように、リードフレーム201側のボンディング部にはシリコン樹脂等によるポッティング151を施し、ボンディング部の補強を行うことが望ましい。
Further, as described above, with repeated movement of the
以上に述べた手振れ補正手段10の各構成要素、具体的にはアクチュエート部100、撮像センサチップ16、ダイフレーム205、リードフレーム201、ボンディングワイヤ202は、ダイフレーム205およびリードフレーム201の先端の一部分を除き、全てパッケージ203と保護ガラス204とによって作られる空間に密封されている。手振れ補正手段10の組立は、例えばクリーンルームあるいはクリーンベンチ等の中で行われ、パッケージ203と保護ガラス204とによって作られる空間へのゴミの進入はなく、密封によって、アクチュエート部100や撮像センサチップ16をゴミから保護することができる。
Each component of the camera shake correction means 10 described above, specifically, the
また、密封することで空気の対流もなくなるため、アクチュエート部100に対する空気の対流による負荷のばらつきを低減することもできる。
In addition, since air convection is eliminated by sealing, variation in load due to air convection on the
なお、本例では、図3に示すように、保護ガラス204によって撮像センサチップ16およびアクチュエート部100の密封を保っているが、図4に示すように、保護ガラス204の代わりに撮影レンズ4を構成する各レンズのうち最も撮像センサチップ16に近いレンズ41によって密封を保ってもよい。
In this example, as shown in FIG. 3, the
次に、手振れ補正手段10の動作について説明する。図5は、本第1の実施の形態における静電アクチュエータの駆動方法の一例を示すタイミングチャートである。
Next, the operation of the camera
図2および図5において、矢印6の+側に位置している固定櫛104を+側固定櫛104p、矢印6の−側に位置している固定櫛104を−側固定櫛104mとする。梁固定部106はボンディングによりダイフレーム205と一体に形成されたリードフレーム201に接続され、パッケージ203の外部で接地される。
2 and 5, the fixed
図5のタイミングT1に示すように、+側固定櫛104pに+Eの電界を印加すると、+側固定櫛104pと移動櫛105の間に静電力による引力が発生し、移動櫛105すなわち移動基板102が矢印6の+方向に移動する。この時、梁固定部106で固定基板101に中央部が固定された梁103が撓ることで、梁103が移動基板102の矢印6方向のみへの移動を担保する。つまり、移動基板102は矢印6の+方向に完全に平行移動し、矢印6に垂直な方向には移動しない。
As shown at timing T1 in FIG. 5, when an electric field of + E is applied to the + side fixed
タイミングT2のように+側固定櫛104pに印加される電界を+Eに保持すると、静電力による引力と梁103の撓りによる力とのバランスにより移動基板102は静止する。タイミングT3において、+側固定櫛104pへの電界の印加を停止すると、静電力による引力がなくなり、梁103の復元力により移動基板102は元の位置に復帰する。
When the electric field applied to the + side fixed
次に、タイミングT4において、−側固定櫛104mに+Eの電界を印加すると、−側固定櫛104mと移動櫛105の間に静電力による引力が発生し、移動櫛105すなわち移動基板102が矢印6の−方向に移動する。この時も梁103が撓ることで、梁103が移動基板102の矢印6方向のみへの移動を担保する。
Next, when an electric field of + E is applied to the −side fixed
タイミングT5のように−側固定櫛104mに印加される電界を+Eに保持すると、静電力による引力と梁103の撓りによる力とのバランスにより移動基板102は静止する。タイミングT6において、−側固定櫛104mへの電界の印加を停止すると、静電力による引力がなくなり、梁103の復元力により移動基板102は元の位置に復帰する。
When the electric field applied to the negative
つまり、手振れ補正手段10は、移動基板102を移動させようとする方向の固定櫛に電界を印加することにより、手振れによる画像劣化を補正することができ、電界の印加を停止することで、梁103の復元力により移動基板102が最初の位置に復帰するようになる。
That is, the camera
なお、本第1の実施の形態においては、説明を簡単にするために、移動基板102が矢印6方向(図2の左右方向)のみに移動可能な構成を例示したが、この構成と同等の構成が固定基板101とダイフレーム205との間に配設されることで、移動基板102は矢印6と直交する方向(図2の上下方向)にも移動可能となる。
In the first embodiment, for the sake of simplicity, the configuration in which the
また、本第1の実施の形態においては、移動基板102の撮像センサチップ16の裏面に対向する部分は、全面撮像センサチップ16と接合されているが、接合を部分的にし、撮像センサチップ16の裏面に対向する部分の一部に梁103、固定櫛104および移動櫛105の一部を作製することで、図2に示したよりもさらに光軸L側から見た投影面積を小さくすることが可能である。この考え方をさらに延長して、撮像センサチップ16の裏面にアクチュエート部100を全て作製する例を図6で後述する。
In the first embodiment, the portion of the moving
さらに、本第1の実施の形態においては、アクチュエート部100はシリコン(Si)を主材料としてMEMS技術により作製されるとしたが、これに限るものではなく、例えばプラスティックを微細精密成形したものに蒸着等により導電性加工を施したもの、あるいは導電性プラスティックを微細精密成形したもの等であってもよい。
Further, in the first embodiment, the
以上のように構成された手振れ補正手段10は、デジタルカメラ1に設置された手振れセンサ20によって検出される使用者の手振れなどによるデジタルカメラ1の振動量と速度に応じて、固定櫛104と移動櫛105の間に印加される電界Eが制御されることで移動基板102上に搭載された撮像センサチップ16が移動され、光軸Lのずれが補正される。
The camera shake correction means 10 configured as described above moves with the fixed
上述したように、本第1の実施の形態によれば、MEMS技術でアクチュエート部を作製することで複雑なアクチュエート部を一括した工程で同時に高精度で作製でき、安価で組立や調整の工程も不要となる。また、撮像センサチップをアクチュエート部の上に搭載することにより、パッケージや実装基板等を介することなく撮像センサチップとアクチュエート部とを結合できるために、アクチュエート部を小型化することができ、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。 As described above, according to the first embodiment, it is possible to manufacture a complex actuate part with high accuracy at the same time in a batch process by producing the actuate part by MEMS technology, and at low cost for assembly and adjustment. A process is also unnecessary. In addition, by mounting the imaging sensor chip on the actuating part, the imaging sensor chip and the actuating part can be coupled without using a package or mounting board, so the actuating part can be reduced in size. Therefore, it is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are suitable for incorporation into a small camera module, an optical pickup, and the like, are small and light, are easy to assemble, and are not affected by dust.
さらに、撮像センサチップとアクチュエート部とを同一パッケージ内に密封することでゴミの影響を排除することができ、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。また、アクチュエート部の駆動も電界を印加するだけと簡単であり、制御も容易である。 Furthermore, by sealing the image sensor chip and the actuate part in the same package, it is possible to eliminate the effects of dust, and it is suitable for incorporation into small camera modules and optical pickups. Thus, it is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are not affected by dust. In addition, the actuation of the actuating unit is as simple as applying an electric field, and control is also easy.
加えて、ボンディングワイヤの引き出し方向や、弛ませ方、さらにはボンディング部のポッティングによる補強等の工夫により、撮像センサチップをアクチュエート部の上に搭載し、撮像センサチップとアクチュエート部とを同一パッケージ内に密封して撮像センサチップを移動させることによるボンディングワイヤの断線を防止することができ、信頼性の向上に寄与する。 In addition, the imaging sensor chip is mounted on the actuating part by means of drawing out the bonding wire, loosening, and reinforcement by potting the bonding part. The imaging sensor chip and the actuating part are the same. It is possible to prevent disconnection of the bonding wire caused by moving the imaging sensor chip while being sealed in the package, which contributes to improvement in reliability.
次に、アクチュエート部100の第2の実施の形態について、図6を用いて説明する。図6は、アクチュエート部100の第2の実施の形態の構成を示す模式図で、図6(a)はアクチュエート部100を光軸L側から見た模式図、図6(b)は図6(a)および(c)に示したB−B’断面の模式図、図6(c)は図6(a)の裏面側から見た模式図である。本第2の実施の形態においては、アクチュエート部100は撮像センサチップ16の撮像面16aの裏面側に構成され、アクチュエータ110は、固定櫛504、移動櫛505、梁503および梁固定部506等からなる。
Next, a second embodiment of the
図6(a)、(b)および(c)において、例えばシリコン(Si)を主材料として半導体製造プロセスで作製された撮像センサチップ16の裏面上に犠牲層と呼ばれるシリコンの酸化膜(SiO2)を選択的に積み、その上にシリコン(Si)を主材料とする構造層を積み上げ、構造層をエッチングして移動基板502、梁503、固定櫛504、移動櫛505および梁固定部506を同時に作製し、犠牲層エッチングで犠牲層を除去して移動基板502、梁503及び移動櫛505を撮像センサチップ16の裏面から浮いた状態に形成する。
6A, 6B, and 6C, for example, a silicon oxide film (SiO 2) called a sacrificial layer is formed on the back surface of the
つまり、移動基板502、梁503及び移動櫛505は撮像センサチップ16の裏面との間に隙間561を有して浮いた状態であり、梁503の中央部に形成された梁固定部506によって撮像センサチップ16の裏面に固定されている。また、移動基板502は固定基板501に接着剤等により固着されている。
That is, the moving
なお、図6(b)の断面図においては、図面を見やすくするために、移動基板502、固定櫛504および移動櫛505の断面部のみにハッチングを施してある。
Note that, in the cross-sectional view of FIG. 6B, only the cross-sections of the moving
動作は図5に示したと同様であり、図5の移動基板102を移動基板502に、固定櫛104pおよび104mを固定櫛504pおよび504mに読み替えて、固定櫛504pまたは504mと移動櫛505との間に電界Eが印加されることで固定櫛504pまたは504mと移動櫛505との間に静電力による引力が発生し、固定櫛504pまたは504mと移動櫛505とが引き合うことで、固定櫛504pおよび504mが固定されている撮像センサチップ16と移動櫛505が固定されている固定基板501との位置関係が相対的に移動する。
The operation is the same as that shown in FIG. 5. The moving
図6(c)に示した固定櫛504pまたは504mと移動櫛505の形態は、撮像センサチップ16を図1に示したデジタルカメラ1の上下方向(矢印6の方向)に移動させることを想定した例で、撮像センサチップ16およびアクチュエート部100の質量に抗して撮像センサチップ16を上方向に移動させるための固定櫛504pとそれに対向する移動櫛505の櫛歯の数を、撮像センサチップ16およびアクチュエート部100の質量の作用方向である下方向に撮像センサチップ16を移動させるための固定櫛504mとそれに対向する移動櫛505の櫛歯の数よりも多くしてある。
The configuration of the fixed
本第2の実施の形態の固定基板501を図2に示した第1の実施の形態の移動基板102上に搭載することで、本第2の実施の形態により図2の上下方向の移動を実現し、第1の実施の形態により図2の左右方向の移動を実現することで、撮像センサチップ16を2次元的に移動させることも可能である。
By mounting the fixed
さらに、撮像センサチップ16上あるいは固定基板501上には、上述したアクチュエート部100のみならず、固定基板501に対する撮像センサチップ16の位置を検出する位置センサや、デジタルカメラ1の振れを検出する手振れセンサ20等のセンサ類など、半導体製造プロセスで形成可能な機能を一体的に構成することも可能である。
Further, on the
上述したように、本第2の実施の形態によれば、アクチュエート部を撮像センサチップの裏面上に作製することで、アクチュエート部を第1の実施の形態よりもさらに小型化することが可能であり、また、第1の実施の形態と組み合わせて、あるいは本第2の実施の形態を2階建てにすることで2次元のアクチュエート部を実現することも可能である。また、アクチュエート部の駆動も電界を印加するだけと簡単であり、制御も容易である。さらに、櫛歯の数を負荷に合わせて最適化することで、最適な移動性能を得ることができる。 As described above, according to the second embodiment, the actuate portion can be further downsized than the first embodiment by producing the actuate portion on the back surface of the imaging sensor chip. It is also possible to realize a two-dimensional actuating unit in combination with the first embodiment or by making the second embodiment two-story. In addition, the actuation of the actuating unit is as simple as applying an electric field, and control is also easy. Furthermore, the optimal movement performance can be obtained by optimizing the number of comb teeth according to the load.
次に、アクチュエート部100の第3の実施の形態について図7を用いて説明する。図7はアクチュエート部100の第3の実施の形態の構成を示す模式図で、図7(a)は撮像素子16の撮像面16a側から見た正面図で、図7(b)は図7(a)の矢印C側から見た側面図である。
Next, a third embodiment of the
上述した第1および第2の実施の形態では固定櫛104あるいは504と移動櫛105あるいは505との間に発生する静電力を利用したアクチュエート部を例示したが、アクチュエート部はこれに限るものではなく、MEMS技術で形成可能な他の駆動メカニズムでアクチュエート部100を構成してもよい。ここでは、圧電薄膜の圧電現象を利用したアクチュエート部を例示する。
In the first and second embodiments described above, the actuating part using the electrostatic force generated between the
図7(a)および(b)において、例えばシリコン(Si)を主材料として半導体製造プロセスで作製された撮像センサチップ16は、不純物を高濃度にドープされたシリコン(Si)を主材料とする移動基板302上に搭載され、直接接合技術あるいは接着等の方法により接合されている。移動基板302には2本の足状の梁303が設けられており、移動基板302および梁303は、固定基板301に対して微少な隙間361を隔てて、固定基板301上に梁固定部306で固定されている。
7A and 7B, for example, an
固定基板301は、シリコン(Si)やガラス等からなる。移動基板302の2本の梁303にはそれぞれ圧電薄膜304が形成されている。圧電薄膜を形成する方法に関してはスパッタリング法、CVD法、ゾルゲル法等がある。本第3の実施の形態においては、アクチュエータ110は、梁303、梁固定部306および圧電薄膜304等からなり、圧電薄膜304は、本発明における圧電体として機能する。また、圧電体は圧電薄膜に限るものではなく、通常の単層あるいは多層の圧電アクチュエータであってもよい。
The fixed
図7に示したアクチュエート部100および撮像センサチップ16が、図2乃至図4に示したと同様に、パッケージ203内のダイフレーム205上に実装され、ワイヤボンディングされた後に、パッケージ203と保護ガラス204あるいはレンズ41とで形成される同一空間に密封される。
The
また、圧電薄膜304の表面には電極が形成されている。移動基板302は不純物を高濃度にドープされて導電性を持っており、梁固定部306で接地されている。梁303と圧電薄膜304の間には接着剤等の介在物がないので梁303は圧電薄膜304の共通電極の役割を果たしている。
An electrode is formed on the surface of the piezoelectric
今、図7の矢印6の+側に位置している圧電薄膜304を+側圧電薄膜304p、矢印6の−側に位置している圧電薄膜304を−側圧電薄膜304mとする。+側圧電薄膜304pの電極に負の電圧を印加すると、+側圧電薄膜304pは矢印6に直交する方向に縮むため梁303は図の右側に曲げられ、移動基板302は矢印6の+方向に移動される。この時、梁303が移動基板302の矢印6方向のみへの移動を担保する。+側圧電薄膜304pへの電圧の印加を停止すると、梁303の復元力により移動基板302は元の位置に復帰する。梁303の幅dは数μmから数十μm程度と非常に細いため、圧電薄膜304の駆動力でも十分駆動可能である。
Now, let the piezoelectric
次に、−側圧電薄膜304mに負の電圧を印加すると、−側圧電薄膜304mは矢印6に直交する方向に縮むため梁303は図の左側に曲げられ、移動基板302は矢印6の−方向に移動する。この時も梁303が移動基板302の矢印6方向のみへの移動を担保する。−側圧電薄膜304mへの電圧の印加を停止すると、梁303の復元力により移動基板302は元の位置に復帰する。
Next, when a negative voltage is applied to the negative side piezoelectric
本第3の実施の形態においてはアクチュエート部に圧電薄膜を用いた例を説明したが、圧電薄膜の代わりに、前述した形状記憶合金(SMA)や高分子アクチュエータを用いることも可能である。その場合も、図7の圧電薄膜304の位置に形状記憶合金の薄膜や高分子の薄膜を形成し、電流の印加による加熱(形状記憶合金の場合)や電界の印加による変形(高分子アクチュエータの場合)を、電流あるいは電界を制御することによりアクチュエート部の動作を制御すればよい。
In the third embodiment, the example in which the piezoelectric thin film is used for the actuate portion has been described. However, the shape memory alloy (SMA) or the polymer actuator described above can be used instead of the piezoelectric thin film. Also in this case, a shape memory alloy thin film or a polymer thin film is formed at the position of the piezoelectric
また、本第3の実施の形態においては、移動基板302、梁303および梁固定部306はシリコン(Si)を主材料としてMEMS技術により作製されるとしたが、これに限るものではなく、例えば金属板をエッチング等で加工することにより作製してもよい。
In the third embodiment, the
上述したように、本第3の実施の形態によれば、固定基板301上に梁303を備えた移動基板302を梁固定部306で固定し、梁303上に圧電薄膜304を形成するといった非常に単純な構成で小型のアクチュエート部100を実現でき、アクチュエート部100の駆動も圧電薄膜304に電圧を印加するだけと簡単で、制御もしやすい。
As described above, according to the third embodiment, the moving
以上に述べたように、本発明によれば、撮像センサチップを撮像センサチップを移動させるためのアクチュエート部の上に搭載することにより、小型カメラモジュールや光ピックアップ等への組み込みに適した、小型軽量で、組立が簡単で、ゴミの影響を受けない撮像ユニットおよび撮像装置を提供することができる。 As described above, according to the present invention, by mounting the imaging sensor chip on the actuating portion for moving the imaging sensor chip, it is suitable for incorporation into a small camera module, an optical pickup, etc. It is possible to provide an imaging unit and an imaging apparatus that are small and light, are easy to assemble, and are not affected by dust.
尚、本発明に係る撮像ユニットおよび撮像装置を構成する各構成の細部構成および細部動作に関しては、本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。 It should be noted that the detailed configuration and detailed operation of each component constituting the imaging unit and the imaging apparatus according to the present invention can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention.
1 デジタルカメラ
2 カメラ本体
3 鏡胴
4 撮影レンズ
7 屈曲ミラー
10 手振れ補正手段
16 撮像センサチップ
16a 撮像面
16b ボンディングパッド
20 手振れセンサ
100 アクチュエート部
101 固定基板
102 移動基板
103 梁
104 固定櫛
105 移動櫛
106 梁固定部
110 アクチュエータ
151 ポッティング
201 リードフレーム
202 ボンディングワイヤ
203 パッケージ
204 保護ガラス
205 ダイフレーム
301 固定基板
302 移動基板
303 梁
304 圧電薄膜
306 梁固定部
501 固定基板
502 移動基板
503 梁
504 固定櫛
505 移動櫛
506 梁固定部
DESCRIPTION OF
Claims (9)
固定基板と移動基板と前記移動基板を前記固定基板に対して移動させるアクチュエータとを含むアクチュエート部とを備えた撮像ユニットにおいて、
前記撮像センサチップは、その裏面の少なくとも一部が前記移動基板に固定されていることを特徴とする撮像ユニット。 An imaging sensor chip;
In an imaging unit comprising a fixed substrate, a moving substrate, and an actuator that includes an actuator that moves the moving substrate relative to the fixed substrate.
The imaging unit, wherein at least a part of the back surface of the imaging sensor chip is fixed to the movable substrate.
前記固定櫛と前記移動櫛との間に電界が印加されることで、前記固定櫛と前記移動櫛との間に働く引力により前記移動基板が前記固定基板に対して移動されることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の撮像ユニット。 The actuator includes: a fixed comb fixed on the fixed substrate; a movable comb formed integrally with the movable substrate and nesting with the fixed comb; a beam formed integrally with the movable substrate; A beam fixing part for fixing a part of the beam to the fixed substrate;
When the electric field is applied between the fixed comb and the movable comb, the movable substrate is moved relative to the fixed substrate by an attractive force acting between the fixed comb and the movable comb. The imaging unit according to any one of claims 1 to 3.
請求項1乃至8の何れか1項に記載の撮像ユニットとを備えたことを特徴とする撮像装置。 An imaging optical system;
An imaging apparatus comprising: the imaging unit according to claim 1.
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