JP2008044827A - Method for producing nanoparticle - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method obtaing nanoparticles which have high crystallinity and are controlled in particle size highly precisely without separating by sizes. <P>SOLUTION: A nanoparticle raw material is charged into a reaction solvent, and is held at a presdetermined heating temperature for a predetermined time, so as to synthesize nanoparticles composed of the nanoparticle raw material (S1, S2). At this time, the particle sizes of the synthesized nanoparticles are controlled in accordance with the holding time at the prescribed temperature. Next, the synthesized nanoparticles are cleaned (S3 to S5). Thereafter, the nanoparticles are dispersed again into the reaction solvent, and holding is performed at a predetermined heating temperature for a predetermined time, so as to promote the crystallization of the nanoparticles (S6, S7). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、ナノ粒子の製造方法に関し、特には光学デバイスにおける発光体として好適に用いられるナノ粒子の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing nanoparticles, and more particularly to a method for producing nanoparticles that are suitably used as a light emitter in an optical device.

ナノ粒子は、粒子サイズによって物理化学特性が大きく変化する物質である。特に半導体ナノ粒子は、その結晶性に依存して高い効率で発光し、その波長が粒子サイズによって変化することが知られている。   Nanoparticles are substances whose physicochemical properties vary greatly with particle size. In particular, it is known that semiconductor nanoparticles emit light with high efficiency depending on their crystallinity, and the wavelength thereof varies depending on the particle size.

このような半導体ナノ粒子の製造方法としては、水溶液中でのコロイド生成を利用する方法が一般的である。この方法においては、粒子サイズを均一化するために、[ビス(2-エチルヘキシル)スルホコハク酸ナトリウム](AOT)を界面活性剤として用いることで有機溶媒中に微小水滴を作り、この微小空間内でナノ粒子を合成している(下記非特許文献1参照)。   As a method for producing such semiconductor nanoparticles, a method utilizing colloid generation in an aqueous solution is common. In this method, in order to make the particle size uniform, [bis (2-ethylhexyl) sulfosuccinate sodium] (AOT) is used as a surfactant to form minute water droplets in an organic solvent. Nanoparticles are synthesized (see Non-Patent Document 1 below).

近年では、反応溶媒としてトリオクチルホスフィンオキサイド(TOPO)を用いる製造方法が提案されている。この方法では、高温での反応にもかかわらず、溶媒であるTOPOそのものがナノ粒子を取り囲む配位子として機能するために、シングルナノメーターオーダーの高品質のナノ粒子を製造することが可能である。   In recent years, a production method using trioctylphosphine oxide (TOPO) as a reaction solvent has been proposed. In this method, since the solvent TOPO itself functions as a ligand surrounding the nanoparticles, despite the reaction at high temperature, it is possible to produce high-quality nanoparticles of the order of a single nanometer. .

例えば、カドミウム(Cd)−セレン(Se)からなるナノ微粒子の製造については、反応溶媒としてTOPOおよびトリオクチルホスフィン(TOP)を用い、Cd原料としてジメチルカドミウム、Se原料としてセレン金属を用い、260℃〜300℃で数十分間加熱することでCdSeナノ粒子を合成する方法が開示されている(下記非特許文献2参照)。   For example, for the production of nanoparticles composed of cadmium (Cd) -selenium (Se), TOPO and trioctylphosphine (TOP) are used as a reaction solvent, dimethylcadmium is used as a Cd raw material, selenium metal is used as a Se raw material, and 260 ° C. A method of synthesizing CdSe nanoparticles by heating at ˜300 ° C. for several tens of minutes has been disclosed (see Non-Patent Document 2 below).

尚、この製造方法は、CdSe等のII-VI族ナノ粒子の合成に限定されず、金属や化合物半導体からなるナノ粒子の一般的な製造方法として用いられている。   In addition, this manufacturing method is not limited to the synthesis | combination of II-VI group nanoparticles, such as CdSe, It is used as a general manufacturing method of the nanoparticle which consists of a metal and a compound semiconductor.

また例えば、インジウム(In)−リン(P)からなるナノ粒子の製造については、反応溶媒としてTOPOおよびTOPを用い、In原料に蓚酸インジウム、フッ化インジウム、または塩化インジウムを用い、P原料にトリメチルシリルホスフィンを用いる。そして、これらを混合した状態で260℃〜300℃で3日間加熱し、InPナノ粒子を合成する方法が開示されている(下記特許文献3参照)。   Also, for example, for the production of nanoparticles composed of indium (In) -phosphorus (P), TOPO and TOP are used as reaction solvents, indium oxalate, indium fluoride, or indium chloride is used as the In raw material, and trimethylsilyl is used as the P raw material. Use phosphine. And the method of synthesize | combining InP nanoparticle by heating at 260 to 300 degreeC for 3 days in the state which mixed these is disclosed (refer the following patent document 3).

またこの他にもInPナノ粒子の製造については、反応溶媒であるTOPOと塩化Inジウムとを混合して100℃に加熱し、これにトリメチルシリルホスフィンを加えて265℃に加熱して数日間保持することで、InPナノ粒子を合成する方法が開示されている(下記特許文献4参照)。   In addition, for the production of InP nanoparticles, TOPO as a reaction solvent and Indium chloride are mixed and heated to 100 ° C., trimethylsilylphosphine is added thereto, heated to 265 ° C. and held for several days. Thus, a method of synthesizing InP nanoparticles has been disclosed (see Patent Document 4 below).

以上のようにTOPOを反応溶媒として用いる方法の他にも、反応溶媒としてオクタデセン、表面修飾剤としてミリスチン酸を用いる方法が開示されている。例えば、InPナノ粒子およびInAs(ヒ素)ナノ粒子の製造については、In原料として酢酸インジウム、P原料としてトリメチルシリルホスフィン(またはAs原料としてトリメチルシリル砒素)を用い、P原料(またはAs原料)以外の原料を溶解した溶液を300℃に過熱し、さらにオクタデセンに溶解したP原料(またはAs原料)を加えることにより、トリメチルシリルホスフィンを加えることで、InPナノ粒子およびInAs(ヒ素)ナノ粒子を合成する方法が開示されている(下記非特許文献5参照)。   As described above, besides the method using TOPO as a reaction solvent, a method using octadecene as a reaction solvent and myristic acid as a surface modifier is disclosed. For example, for the production of InP nanoparticles and InAs (arsenic) nanoparticles, indium acetate is used as the In raw material, trimethylsilylphosphine (or trimethylsilylarsenic as the As raw material) is used, and raw materials other than the P raw material (or As raw material) are used. Disclosed is a method of synthesizing InP nanoparticles and InAs (arsenic) nanoparticles by adding trimethylsilylphosphine by heating the dissolved solution to 300 ° C. and adding P raw material (or As raw material) dissolved in octadecene. (See Non-Patent Document 5 below).

J. Chem. Phys, 121, 10233, 2004, Heesun et alJ. Chem. Phys, 121, 10233, 2004, Heesun et al J. Am. Chem. Soc, 115, 8706, 1993, Murray et alJ. Am. Chem. Soc, 115, 8706, 1993, Murray et al 「J. Phys. Chem. B」102号,1998年,p.9791-9796"J. Phys. Chem. B" No.102, 1998, p.9791-9796 「J. Phys. Chem.」100号,1996年,p.7212-7219"J. Phys. Chem." No.100, 1996, p.7212-7219 「Nano Letters」vol.2,No.9,2002年,p.1027-1030“Nano Letters” vol.2, No.9, 2002, p.1027-1030

ところが、上述したような反応溶媒を用いたナノ粒子の製造方法では、より微細なシングルオーダーのナノ粒子の製造が可能であるものの、粒子サイズのバラツキが大きい。このため、所望の物理化学特性、例えば発光波長を得るためには、ナノ粒子を合成した後に、サイズを分別する処理を施すことが一般的である。   However, the nanoparticle production method using the reaction solvent as described above can produce finer single-order nanoparticles, but has a large variation in particle size. For this reason, in order to obtain a desired physicochemical property, for example, an emission wavelength, it is common to perform a size separation process after the nanoparticles are synthesized.

上記非特許文献5では、粒子サイズのバラツキが小さいナノ粒子が得られるとしている。しかしながら、この製造方法では、反応溶媒に対する粒子原料の希釈倍率が高いため、ナノ粒子の合成収率が低く、工業的に適する製造方法であるとは言い難い。   In the said nonpatent literature 5, it is supposed that the nanoparticle with a small dispersion | variation in particle size will be obtained. However, in this production method, since the dilution ratio of the particle raw material with respect to the reaction solvent is high, the synthesis yield of nanoparticles is low, and it is difficult to say that this is an industrially suitable production method.

そこで本発明は、サイズ分別することなく高精度に粒子サイズが制御された結晶性の高いナノ粒子を得ることが可能な製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a production method capable of obtaining nanoparticles with high crystallinity whose particle size is controlled with high accuracy without size separation.

このような目的を達成するための本発明は、反応溶媒中にナノ粒子原料を導入し、所定の加熱温度にて所定時間保持することによって当該ナノ粒子原料からなるナノ粒子を合成する工程と、反応性溶媒中に前記ナノ粒子を分散させ、所定の加熱温度にて所定時間保持することによって当該ナノ粒子の結晶化を促進する工程とを行うことを特徴としている。   The present invention for achieving such an object includes a step of synthesizing nanoparticles composed of the nanoparticle raw material by introducing the nanoparticle raw material into the reaction solvent and holding it at a predetermined heating temperature for a predetermined time; A step of promoting the crystallization of the nanoparticles by dispersing the nanoparticles in a reactive solvent and holding the nanoparticles at a predetermined heating temperature for a predetermined time.

このような製造方法では、ナノ粒子を合成する工程とは別工程として、ナノ粒子の結晶化を促進する工程が設けられている。これにより、ナノ粒子を合成する工程においては、合成されるナノ粒子の結晶性を考慮せずに、粒子サイズの制御のみを主眼においた条件設定を行うことで、制御性良好に粒子サイズが均一化されたナノ粒子が得られる。ここで、以降に説明する実施例の実験により、この合成においては、加熱温度を低くすることで粒子サイズの均一性が図られ、その加熱温度での保持時間によって粒子サイズが成長することがわかった。このため、低い加熱温度で所定の保持時間の合成を行うことで制御性良好に粒子サイズが均一化されたナノ粒子を、その後の結晶化を促進させる工程において充分に結晶化を進めることができる。   In such a manufacturing method, a step of promoting crystallization of the nanoparticles is provided as a step separate from the step of synthesizing the nanoparticles. As a result, in the process of synthesizing nanoparticles, the particle size is uniform with good controllability by setting the conditions focusing solely on particle size control without considering the crystallinity of the synthesized nanoparticles. Nanoparticles can be obtained. Here, from the experiments of the examples described below, in this synthesis, it is found that the particle size is made uniform by lowering the heating temperature, and the particle size grows by the holding time at the heating temperature. It was. For this reason, by performing synthesis for a predetermined holding time at a low heating temperature, it is possible to sufficiently promote crystallization of nanoparticles having a uniform particle size with good controllability in the subsequent crystallization promotion step. .

以上説明したように本発明によれば、サイズ分別することなく、高精度に粒子サイズが均一化された結晶性の高いナノ粒子を得ることが可能になる。これにより、ナノ粒子の製造工程の削減を図ることができ、また高精度に物理化学特性が制御されたナノ粒子を用いたデバイスの作製が可能になる。   As described above, according to the present invention, it is possible to obtain highly crystalline nanoparticles having a uniform particle size with high accuracy without size separation. Thereby, the manufacturing process of nanoparticles can be reduced, and a device using nanoparticles whose physicochemical properties are controlled with high accuracy can be produced.

以下、本発明を、III−V族化合物半導体からなるナノ粒子の製造に適用した実施の形態を、図1のフローチャートに基づいて説明する。   Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to manufacture of nanoparticles made of a III-V compound semiconductor will be described based on the flowchart of FIG.

先ず、次のステップS1,S2において、ナノ粒子の合成を行う。   First, in the next steps S1 and S2, nanoparticles are synthesized.

ステップS1では、合成のプロセス温度よりも高い沸点を有する反応溶媒を用意し、この反応溶媒中にIII族元素の供給源となるIII族原料を導入して溶解させる。   In step S1, a reaction solvent having a boiling point higher than the synthesis process temperature is prepared, and a group III raw material serving as a group III element supply source is introduced and dissolved in the reaction solvent.

反応溶媒としては、合成されるナノ粒子の表面に配位する配位性有機溶媒が、単一種類または複数種類合わせて用いられる。このような配位性有機溶媒としては、トリオクチルホスフィン(TOP)、トリオクチルホスフィンオキサイド(TOPO)が例示される。   As the reaction solvent, a coordinating organic solvent that coordinates to the surface of the synthesized nanoparticles is used singly or in combination. Examples of such a coordinating organic solvent include trioctylphosphine (TOP) and trioctylphosphine oxide (TOPO).

また、反応溶媒は、配位性を有さない有機溶媒と配位剤とを組み合わせて用いても良い。このうち有機溶媒としては、ヘキサデシルアミン、オクタデセン等が例示される。また、配位剤としては、ミリスチン酸、オレイン酸等のカルボン酸や、チオール類、アミン類があげられる。   Moreover, you may use the reaction solvent combining the organic solvent which does not have coordination property, and a coordinating agent. Among these, examples of the organic solvent include hexadecylamine and octadecene. Examples of the coordinating agent include carboxylic acids such as myristic acid and oleic acid, thiols, and amines.

さらに反応溶媒は、配位性有機溶媒と共に、配位性を有さない有機溶媒と配位剤とを組み合わせて用いても良い。   Further, the reaction solvent may be used in combination with a coordinating organic solvent and an organic solvent having no coordinating property and a coordinating agent.

このような反応性溶媒に導入するIII族原料には、III族元素を含有する無機材料、有機材料、またはIII族元素の単体金属が用いられる。無機材料としては、例えば塩化物、水酸化物、蓚酸塩、硝酸塩、硫酸塩、フッ化物、臭化物、ヨウ化物等が例示される。一方、有機材料としては、カルボン酸塩、金属アルコキシド、アセチルアセトナート塩等が例示される。尚、反応溶媒中には、このようなIII族原料を1種類または複数種類合わせて導入しても良い。   As the group III material to be introduced into such a reactive solvent, an inorganic material, an organic material, or a group III element simple metal containing a group III element is used. Examples of inorganic materials include chlorides, hydroxides, oxalates, nitrates, sulfates, fluorides, bromides, iodides, and the like. On the other hand, examples of the organic material include carboxylate, metal alkoxide, and acetylacetonate salt. In addition, you may introduce | transduce such a III group raw material in a reaction solvent in combination of 1 type or multiple types.

次に、ステップS2では、III族原料を溶解させた反応性溶媒を所定の加熱温度に加熱する。ここでの加熱温度は、次に説明するV族原料を導入した際に、反応溶媒中で結晶核が生成される以上の温度であることとする。また、以降の実施例で示すように、ここでの加熱温度が高いほど、合成されるナノ粒子の粒子サイズにバラツキが生じ易いため、粒子サイズのバラツキ抑制のためにはできるだけ低い加熱温度に設定されることが好ましい。ただし、加熱温度が高いほど粒子の成長速度が高くなるため、ナノ粒子製造のスループットも考慮して加熱温度を設定することとする。以上から、III族原料を溶解させた反応溶媒の加熱温度は、100℃以上250℃以下とする。   Next, in step S2, the reactive solvent in which the group III material is dissolved is heated to a predetermined heating temperature. The heating temperature here is higher than the temperature at which crystal nuclei are generated in the reaction solvent when the group V raw material described below is introduced. Also, as shown in the following examples, the higher the heating temperature here, the more likely the variation in the particle size of the synthesized nanoparticles will be, so in order to suppress the variation in the particle size, set the heating temperature as low as possible It is preferred that However, since the particle growth rate increases as the heating temperature increases, the heating temperature is set in consideration of the throughput of nanoparticle production. From the above, the heating temperature of the reaction solvent in which the group III raw material is dissolved is set to 100 ° C. or more and 250 ° C. or less.

そして、所定の加熱温度に加熱された反応溶媒中に、V族元素の供給源となるV族原料を導入して所定時間保持する。これにより、所定の粒子サイズを有するナノ粒子を合成する。   Then, a group V raw material serving as a supply source of the group V element is introduced into the reaction solvent heated to a predetermined heating temperature and held for a predetermined time. Thereby, nanoparticles having a predetermined particle size are synthesized.

V族原料には、V族元素を含有する無機材料、有機材料、またはV族元素を単体金属が用いられる。無機材料としては、例えば塩化物、水酸化物、硝酸塩、硫酸塩、フッ化物、臭化物、ヨウ化物等が例示される。一方、有機材料としては、カルボン酸塩、金属アルコキシド等が例示される。尚、反応溶媒中には、このようなV族原料を1種類または複数種類合わせて導入しても良い。   As the group V raw material, an inorganic material, an organic material containing a group V element, or a single group metal of a group V element is used. Examples of inorganic materials include chlorides, hydroxides, nitrates, sulfates, fluorides, bromides, iodides, and the like. On the other hand, examples of the organic material include carboxylate and metal alkoxide. In addition, you may introduce | transduce such a V group raw material in a reaction solvent in combination of 1 type or multiple types.

保持時間は、加熱温度を考慮し、ここで合成するナノ粒子の粒子サイズに合わせて設定する。つまり、以降の実施例で説明するように、このステップS2での保持時間が長いほど、ナノ粒子の粒子サイズが成長する。したがって、得たい粒子サイズに合わせて保持時間を設定することが重要である。ただし、加熱温度によって成長速度が異なるため、この加熱温度も考慮して保持時間が設定されることになる。一例として、この保持時間は、典型的には30分以下、好ましくは20分以下、最も好ましくは10分以下とする。   The holding time is set in accordance with the particle size of the nanoparticles synthesized in consideration of the heating temperature. That is, as will be described in the following examples, the longer the retention time in step S2, the larger the particle size of the nanoparticles. Therefore, it is important to set the holding time according to the particle size to be obtained. However, since the growth rate varies depending on the heating temperature, the holding time is set in consideration of this heating temperature. As an example, this retention time is typically 30 minutes or less, preferably 20 minutes or less, and most preferably 10 minutes or less.

尚、所定の保持時間を経過した後には、加熱源を反応容器から取り除くか、または反応溶媒を大量に加えることによって反応溶媒を急冷し、ナノ粒子の合成を停止させる。   After a predetermined holding time has elapsed, the reaction source is rapidly cooled by removing the heating source from the reaction vessel or adding a large amount of the reaction solvent to stop the synthesis of the nanoparticles.

次に、以下のステップS3〜S5において、合成したナノ粒子の洗浄を行う。   Next, in the following steps S3 to S5, the synthesized nanoparticles are washed.

ステップS3では、合成したナノ粒子へメタノールのような極性の低い溶媒中を添加して凝集させ、遠心分離、デカンテーションすることで不純物を除去する。   In step S3, impurities are removed by adding and aggregating the synthesized nanoparticles in a solvent having a low polarity such as methanol, and centrifuging and decanting.

ステップS4では、分離したナノ粒子を、ヘキサンのような溶媒中に導入して分散させる。   In step S4, the separated nanoparticles are introduced and dispersed in a solvent such as hexane.

以上のステップS3およびステップS4とは、不純物が充分に除去されるまで十分な回数を繰り返し行うこととする。   The above steps S3 and S4 are repeated a sufficient number of times until the impurities are sufficiently removed.

その後、ステップS5では、ステップ4で用いた溶媒を除去して洗浄を終了させる。   Thereafter, in step S5, the solvent used in step 4 is removed and the cleaning is terminated.

次に、以下のステップS6,S7において、洗浄したナノ粒子の結晶化を促進させる。   Next, in the following steps S6 and S7, crystallization of the washed nanoparticles is promoted.

ステップS6では、反応溶媒中に洗浄したナノ粒子を分散させる。反応溶媒としては、ステップS1で例示した溶媒の中から適宜選択して用いられ、ステップS1と同様の溶媒を用いて良い。   In step S6, the washed nanoparticles are dispersed in the reaction solvent. The reaction solvent is appropriately selected from the solvents exemplified in Step S1, and the same solvent as in Step S1 may be used.

次にステップS7では、ナノ粒子を分散させた反応溶媒を所定の加熱温度に加熱して所定時間保持する。これにより、合成したナノ粒子の結晶化を促進させる。   Next, in step S7, the reaction solvent in which the nanoparticles are dispersed is heated to a predetermined heating temperature and held for a predetermined time. This promotes crystallization of the synthesized nanoparticles.

この際の加熱温度および保持時間は、合成されたナノ粒子の粒子成長が起こらない温度が選ばれる。つまり、反応溶媒中に余分な原料が存在しない状態であっても、この工程が高温で行なわれると、合成されたナノ粒子が溶解し、この原料を用いて他の粒子が成長する過程が見られるためである。また、粒子サイズが小さいほど、低温で結晶化が起こるため、より低い加熱温度で、充分に結晶化が進められる程度に長い保持時間が設定されることが好ましい。そこでここでは、加熱温度を100℃以上250℃以下の範囲に設定し、ナノ粒子に要求される結晶化の度合いに応じた保持時間(例えば60分〜330分)で保持することとする。尚、先のステップS3〜S5において、ナノ粒子に付着した合成溶媒中の不純物を充分に除去することで、この工程においてのナノ粒子の粒子成長は防止される。   As the heating temperature and holding time at this time, a temperature at which particle growth of the synthesized nanoparticles does not occur is selected. In other words, even when there is no excess raw material in the reaction solvent, when this step is performed at a high temperature, the synthesized nanoparticles are dissolved and other particles are grown using this raw material. Because it is. Further, since the crystallization occurs at a lower temperature as the particle size is smaller, it is preferable to set a holding time that is long enough to allow crystallization to proceed sufficiently at a lower heating temperature. Therefore, here, the heating temperature is set in a range of 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and is held for a holding time (for example, 60 minutes to 330 minutes) corresponding to the degree of crystallization required for the nanoparticles. In the previous steps S3 to S5, the impurities in the synthesis solvent adhering to the nanoparticles are sufficiently removed, so that the particle growth of the nanoparticles in this step is prevented.

以上の後には、結晶化を促進させたナノ粒子を反応溶媒から取り出し、ナノ粒子の製造工程を終了させる。   After the above, the nanoparticle which promoted crystallization is taken out from the reaction solvent, and the nanoparticle production process is terminated.

以上説明した製造方法では、ステップS1,S2のナノ粒子を合成する工程とは別に、ナノ粒子の結晶化を促進するステップS6,S7を設けた。これにより、ナノ粒子を合成する工程(S1,S2)においては、合成されるナノ粒子の結晶性を考慮せずに、粒子サイズの制御のみを主眼において加熱温度および保持時間などの条件設定を行うことができる。つまり、以降に説明する実施例および比較例の実験により、この合成(S1,S2)においては、加熱温度を低くすることで粒子サイズの均一性が図られ、保持時間によって粒子サイズが成長することがわかった。このため、制御性良好に粒子サイズが均一化されたナノ粒子を合成することが可能になる。   In the manufacturing method described above, steps S6 and S7 for promoting crystallization of the nanoparticles are provided separately from the step of synthesizing the nanoparticles in steps S1 and S2. Thereby, in the process (S1, S2) of synthesizing the nanoparticles, conditions such as the heating temperature and the holding time are mainly set only for controlling the particle size without considering the crystallinity of the synthesized nanoparticles. be able to. That is, according to the experiments of Examples and Comparative Examples described below, in this synthesis (S1, S2), the particle size is made uniform by lowering the heating temperature, and the particle size grows with the holding time. I understood. For this reason, it becomes possible to synthesize nanoparticles having a uniform particle size with good controllability.

そして、このような合成を行った後の結晶化を促進させる工程(S6,S7)では、粒子サイズが均一なナノ粒子に対して、充分な結晶化を進めることができる。   And in the process (S6, S7) which accelerates | stimulates crystallization after performing such a synthesis | combination, sufficient crystallization can be advanced with respect to the nanoparticle with uniform particle size.

以上から、サイズ分別を行うことなく、高精度に粒子サイズが制御された結晶性の高いナノ粒子を得ることが可能になる。これにより、ナノ粒子の製造工程の削減を図ることができ、また高精度に物理化学特性が制御されると共に、高い物理特性が充分に発揮されるナノ粒子を用いたデバイスの作製が可能になる。具体的な一例としては、狭い波長領域で強度の高い発光が得られるナノ粒子を用いることで、色再現性に優れた表示装置を実現することができる。また、ナノ粒子の合成においては、反応性溶媒に対する原料の希釈倍率を、非特許文献5に記載された希釈倍率にまで高める必要はない。このため、ナノ粒子の合成収率も高く維持することができ、工業的にも適する製造方法である。   From the above, it is possible to obtain highly crystalline nanoparticles having a particle size controlled with high accuracy without performing size separation. As a result, it is possible to reduce the number of nano-particle manufacturing processes, and it is possible to manufacture a device using nanoparticles that can sufficiently control physicochemical properties and sufficiently exhibit high physical properties. . As a specific example, a display device having excellent color reproducibility can be realized by using nanoparticles that can emit light with high intensity in a narrow wavelength region. Further, in the synthesis of nanoparticles, it is not necessary to increase the dilution ratio of the raw material with respect to the reactive solvent to the dilution ratio described in Non-Patent Document 5. For this reason, the synthesis yield of the nanoparticles can be maintained high, and this is an industrially suitable production method.

尚、以上説明した実施形態においては、III−V族化合物半導体からなるナノ粒子の製造に本発明を適用した構成を説明した。しかしながら本発明は、このようなナノ粒子の製造方法への適用に限定されることはなく、他の化合物半導体からなるナノ粒子の製造、無機材料や導電性材料からなるナノ粒子の製造、3種類以上の原料を用いたナノ粒子の製造、さらには単一元素からなるナノ粒子の製造にも適用可能であり、同様の効果を得ることができる。つまり、何れのナノ粒子の製造においても、ナノ粒子の合成の工程の後に、ナノ粒子の結晶化を促進させる工程を別途設ける手順とする。尚、ナノ粒子の合成工程は、それぞれのナノ粒子を構成する材料によって適する手順とする。これにより、高精度に粒子サイズが制御された結晶性の高いナノ粒子を得ることが可能になる。   In the embodiment described above, the configuration in which the present invention is applied to the production of nanoparticles made of a III-V group compound semiconductor has been described. However, the present invention is not limited to application to such a method for producing nanoparticles, and the production of nanoparticles composed of other compound semiconductors, the production of nanoparticles composed of inorganic materials and conductive materials, The present invention is applicable to the production of nanoparticles using the above raw materials, and further to the production of nanoparticles composed of a single element, and the same effect can be obtained. That is, in the production of any nanoparticle, a procedure for separately promoting a crystallization of the nanoparticle is provided after the nanoparticle synthesis step. It should be noted that the nanoparticle synthesis step is a procedure suitable for the material constituting each nanoparticle. This makes it possible to obtain highly crystalline nanoparticles with particle size controlled with high accuracy.

<実施例1〜3>
以下のようにしてInPナノ粒子を作製した。
<Examples 1-3>
InP nanoparticles were prepared as follows.

先ず、配位性有機溶媒であるTOPOとTOPとを、重量比TOPO:TOP=1:9にて混合し、10mlを3つ口フラスコへ分取した。これにIn原料である塩化インジウム0.6gを導入し、一晩室温で攪拌することで透明溶液を得た(ステップS1)。   First, TOPO and TOP, which are coordinating organic solvents, were mixed at a weight ratio of TOPO: TOP = 1: 9, and 10 ml was dispensed into a three-necked flask. To this, 0.6 g of indium chloride as an In raw material was introduced and stirred overnight at room temperature to obtain a transparent solution (step S1).

この透明溶液を175℃に加熱し、加熱した透明溶液中にP原料であるトリメチルシリルホスフィン0.5mgをシリンジを用いて添加し、7分間保持した。これにより、InPナノ粒子を合成した。また7分間の保持後には、3つ口フラスコから熱源を取り除いた(ステップS2)。   This transparent solution was heated to 175 ° C., and 0.5 mg of trimethylsilylphosphine as a P raw material was added to the heated transparent solution using a syringe and held for 7 minutes. Thereby, InP nanoparticles were synthesized. After holding for 7 minutes, the heat source was removed from the three-necked flask (step S2).

以上までの全ての操作は、アルゴンで不活性化された雰囲気中で行った。   All the operations described above were performed in an atmosphere inactivated with argon.

次に、合成したInPナノ粒子をメタノールで凝集させ、遠心分離の後にデカンテーションし(ステップS3)、ヘキサンに分散させることで溶液中に含まれる不純物を除去した(ステップS4)。この工程を3回繰り返した後、ロータリーエバポレーターを用いてInPナノ粒子からヘキサンを除去した(ステップS5)。   Next, the synthesized InP nanoparticles were aggregated with methanol, decanted after centrifugation (step S3), and dispersed in hexane to remove impurities contained in the solution (step S4). After repeating this process three times, hexane was removed from the InP nanoparticles using a rotary evaporator (step S5).

TOPOとTOPとを重量比TOPO:TOP=1:9にて混合した反応溶媒10ml中に、洗浄したInPナノ粒子を分散させた(ステップS6)。InPナノ粒子を分散させた反応溶媒を3つ口フラスコに移して175℃に加熱した。そして、実施例1では60分、実施例2では150分、実施例3では330分後に、3つ口フラスコから加熱源を取り除いて加熱を終了させた(ステップS7)   The washed InP nanoparticles were dispersed in 10 ml of a reaction solvent in which TOPO and TOP were mixed at a weight ratio of TOPO: TOP = 1: 9 (step S6). The reaction solvent in which InP nanoparticles were dispersed was transferred to a three-necked flask and heated to 175 ° C. Then, after 60 minutes in Example 1, 150 minutes in Example 2, and 330 minutes in Example 3, the heating source was removed from the three-necked flask and the heating was terminated (Step S7).

下記表1に各実施例の温度履歴を示す。

Figure 2008044827
Table 1 below shows the temperature history of each example.
Figure 2008044827

<比較例1>
実施例の製造方法において、ステップS1およびステップS2で合成したInPナノ粒子を、ステップS3〜ステップS5のように洗浄し、結晶化を促進させずにそのままInPナノ粒子として用いた。
<Comparative Example 1>
In the manufacturing method of the example, the InP nanoparticles synthesized in step S1 and step S2 were washed as in steps S3 to S5 and used as InP nanoparticles as they were without promoting crystallization.

<比較例2>
実施例の製造方法において、ステップS2の保持時間を60分に変更して合成したInPナノ粒子を、ステップS3〜ステップS5のように洗浄し、結晶化を促進させずにそのままInPナノ粒子として用いた。
<Comparative example 2>
In the production method of the example, the InP nanoparticles synthesized by changing the holding time in step S2 to 60 minutes are washed as in steps S3 to S5, and used as InP nanoparticles as they are without promoting crystallization. It was.

<比較例3>
実施例の製造方法において、ステップS2の加熱温度を300℃、保持時間を5時間に変更して合成したInPナノ粒子を、ステップS3〜ステップS5のように洗浄し、結晶化を促進させずにそのままInPナノ粒子として用いた。
<Comparative Example 3>
In the manufacturing method of the example, the InP nanoparticles synthesized by changing the heating temperature in step S2 to 300 ° C. and the holding time to 5 hours are washed as in steps S3 to S5 without promoting crystallization. It was used as InP nanoparticles as it was.

上記表1に、比較例1〜3の温度履歴を合わせて示した。   Table 1 also shows the temperature history of Comparative Examples 1 to 3.

<評価結果>
図2には、以上のようにして得られたInPナノ粒子のX線回折スペクトルを測定した結果を示す。図には代表して比較例1で得られたInPナノ粒子のX線回折スペクトルを示している。この図2から、InPナノ粒子においては、InP結晶相が生成していることが確認された。
<Evaluation results>
In FIG. 2, the result of having measured the X-ray-diffraction spectrum of the InP nanoparticle obtained by making it above is shown. In the figure, the X-ray diffraction spectrum of the InP nanoparticles obtained in Comparative Example 1 is representatively shown. From FIG. 2, it was confirmed that an InP crystal phase was generated in the InP nanoparticles.

図3には、実施例3および比較例1で作製したInPナノ粒子について、発光波長に対する発光強度を測定した結果を示す。この図に示すように、合成後に結晶化促進の工程を経た実施例3のInPナノ粒子の発光強度は、結晶化促進の工程を行わない比較例1のInPナノ粒子の発光強度よりも高くなっている。これにより、合成後に結晶化促進の工程を行うことにより、合成されたInPナノ粒子の結晶化が促進される効果が確認された。   FIG. 3 shows the results of measuring the emission intensity with respect to the emission wavelength of the InP nanoparticles prepared in Example 3 and Comparative Example 1. As shown in this figure, the luminescence intensity of the InP nanoparticle of Example 3 that has undergone the crystallization promotion process after synthesis is higher than the luminescence intensity of the InP nanoparticle of Comparative Example 1 that does not perform the crystallization promotion process. ing. This confirmed the effect of promoting the crystallization of the synthesized InP nanoparticles by performing the crystallization promotion step after the synthesis.

図4には、実施例1〜3および比較例1で作製したInPナノ粒子について、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果を示す。この図に示すように、合成後に結晶化促進の工程を経た実施例1〜3のInPナノ粒子の吸収スペクトルは、結晶化促進の工程を行わない比較例1のInPナノ粒子の吸収スペクトルとほぼ同じである。これにより先の図3の結果と合わせれば、合成後の結晶化促進の工程では、InPナノ粒子の粒子サイズは成長せず、InPナノ粒子の結晶化促進のみが行われることが確認された。また、このことから、InPナノ粒子の粒子サイズは、合成工程のみで決定されることが確認された。   In FIG. 4, the result of having measured the ultraviolet visible absorption spectrum about the InP nanoparticle produced in Examples 1-3 and the comparative example 1 is shown. As shown in this figure, the absorption spectra of the InP nanoparticles of Examples 1 to 3 that have undergone the crystallization promotion process after synthesis are almost the same as the absorption spectrum of the InP nanoparticles of Comparative Example 1 that does not perform the crystallization promotion process. The same. Accordingly, in combination with the result of FIG. 3 above, it was confirmed that in the crystallization promotion step after synthesis, the particle size of InP nanoparticles did not grow and only the crystallization promotion of InP nanoparticles was performed. Moreover, from this, it was confirmed that the particle size of InP nanoparticles was determined only by the synthesis step.

図5には、比較例1,3で作製したInPナノ粒子について、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果を示す。この図に示すように、合成工程での加熱温度が175℃である比較例1のInPナノ粒子の吸収スペクトルと比較して、合成工程での加熱温度が300℃である比較例3のInPナノ粒子の吸収スペクトルはなだらかであった。この吸収スペクトルから見積もられる粒子径は、比較例1では3.3nm〜3.7nmであるのに対して、比較例3では2.3nm〜5.7nmである。これにより、合成工程での加熱温度を低くすることで、InPナノ粒子の粒子サイズのバラツキを小さくできることが確認された。   In FIG. 5, the result of having measured the ultraviolet visible absorption spectrum about the InP nanoparticle produced by the comparative examples 1 and 3 is shown. As shown in this figure, the InP nanoparticle of Comparative Example 3 having a heating temperature of 300 ° C. in the synthesis step is compared with the absorption spectrum of the InP nanoparticle of Comparative Example 1 having a heating temperature of 175 ° C. in the synthesis step. The absorption spectrum of the particles was gentle. The particle diameter estimated from this absorption spectrum is 3.3 nm to 3.7 nm in Comparative Example 1, while 2.3 nm to 5.7 nm in Comparative Example 3. Thereby, it was confirmed that variation in the particle size of InP nanoparticles can be reduced by lowering the heating temperature in the synthesis step.

図6には、比較例1,2で作製したInPナノ粒子について、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果を示す。この図に示すように、合成工程においても175℃での保持時間が7分である比較例1のInPナノ粒子の吸収スペクトルと比較して、保持時間が60分である比較例2のInPナノ粒子の吸収スペクトルは長波長側にシフトしていた。これにより、合成に工程においては加熱温度が一定であれば、保持時間を長くすることInPナノ粒子の成長が促進されて粒子サイズ(粒子径)が大きくなり、保持時間によって粒子サイズが制御されることが確認された。   In FIG. 6, the result of having measured the ultraviolet visible absorption spectrum about the InP nanoparticle produced by the comparative examples 1 and 2 is shown. As shown in this figure, the InP nanoparticle of Comparative Example 2 having a retention time of 60 minutes as compared with the absorption spectrum of InP nanoparticles of Comparative Example 1 having a retention time of 7 minutes at 175 ° C. also in the synthesis step. The absorption spectrum of the particles was shifted to the long wavelength side. Accordingly, if the heating temperature is constant in the synthesis process, the holding time is lengthened, the growth of InP nanoparticles is promoted, the particle size (particle diameter) is increased, and the particle size is controlled by the holding time. It was confirmed.

本発明を適用した実施形態の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of embodiment to which this invention is applied. 比較例1で作製したInPナノ粒子のX線回折スペクトルである。2 is an X-ray diffraction spectrum of InP nanoparticles prepared in Comparative Example 1. FIG. 実施例3と比較例1で作製したInPナノ粒子について、発光波長に対する発光強度を測定した結果を示す。The result of having measured the light emission intensity with respect to light emission wavelength about the InP nanoparticle produced in Example 3 and Comparative Example 1 is shown. 実施例1〜3および比較例1で作製したInPナノ粒子について、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果を示す。The result of having measured the ultraviolet visible absorption spectrum about the InP nanoparticles produced in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 is shown. 比較例1,3で作製したInPナノ粒子について、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果を示す。The result of having measured the ultraviolet visible absorption spectrum about the InP nanoparticle produced by the comparative examples 1 and 3 is shown. 比較例1,2で作製したInPナノ粒子について、紫外可視吸収スペクトルを測定した結果を示す。The result of having measured the ultraviolet visible absorption spectrum about the InP nanoparticle produced by the comparative examples 1 and 2 is shown.

Claims (5)

反応溶媒中にナノ粒子原料を導入し、所定の加熱温度にて所定時間保持することによって当該ナノ粒子原料からなるナノ粒子を合成する工程と、
反応性溶媒中に前記ナノ粒子を分散させ、所定の加熱温度にて所定時間保持することによって当該ナノ粒子の結晶化を促進する工程とを行う
ことを特徴とするナノ粒子の製造方法。
Introducing a nanoparticle raw material into a reaction solvent, and synthesizing nanoparticles made of the nanoparticle raw material by holding at a predetermined heating temperature for a predetermined time; and
And a step of promoting the crystallization of the nanoparticles by dispersing the nanoparticles in a reactive solvent and holding the nanoparticles at a predetermined heating temperature for a predetermined time.
請求項1記載のナノ粒子の製造方法において、
前記ナノ粒子を合成する工程における前記所定の加熱温度での保持時間によって、当該ナノ粒子の粒子サイズを制御する
ことを特徴とするナノ粒子の製造方法。
The method for producing nanoparticles according to claim 1, wherein
A method for producing a nanoparticle, comprising controlling a particle size of the nanoparticle according to a holding time at the predetermined heating temperature in the step of synthesizing the nanoparticle.
請求項1記載のナノ粒子の製造方法において、
前記ナノ粒子を合成した後、当該ナノ粒子を洗浄し、次いで当該ナノ粒子の結晶化を促進する工程を行う
ことを特徴とするナノ粒子の洗浄方法。
The method for producing nanoparticles according to claim 1, wherein
After the nanoparticle is synthesized, the nanoparticle is washed, and then a step of promoting crystallization of the nanoparticle is performed.
請求項1記載のナノ粒子の製造方法において、
前記ナノ粒子原料として異なる元素を含有する2種類以上の原料を用いることで、化合物半導体からなるナノ粒子を合成する
ことを特徴とするナノ粒子の製造方法。
The method for producing nanoparticles according to claim 1, wherein
A nanoparticle production method comprising synthesizing nanoparticles made of a compound semiconductor by using two or more kinds of raw materials containing different elements as the nanoparticle raw material.
請求項4記載のナノ粒子の製造方法において、
前記ナノ粒子として、III−V族化合物半導体からなるナノ粒子を合成する
ことを特徴とするナノ粒子の製造方法。
The method for producing nanoparticles according to claim 4, wherein
A nanoparticle production method comprising synthesizing a nanoparticle made of a III-V compound semiconductor as the nanoparticle.
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