JP2008034871A - ビームデリバリーを備えたレーザリソグラフィー光源 - Google Patents

Abstract

【課題】製造ラインの機械のためのモジュール式高反復速度紫外ガス放電レーザ（4）を提供する。
【解決手段】システムは、製造ライン機械の入口ポートのような望ましい位置にレーザビームを供給するための、取囲まれ且つパージされたビーム経路を含んでいる。好ましい実施形態において、製造ライン機械はリソグラフィー機械（2）であり、二つの別々の放電チャンバが設けられ、その一つは第二の放電チャンバ内で増幅される超狭バンドの送給ビームを生じるマスター発振器の一部である。MOPAシステムは、著しく改善されたビーム品質で、匹敵する単一チャンバレーザシステムの略2倍のパルスエネルギーを出力することができる。パルス伸長器は出力パルス長を二倍以上にし、先行技術のレーザシステムに比較してパルス電力（mJ/ns）の低下をもたらす。この好ましい実施形態は、リソグラフィーシステムの動作寿命期間を通して略一定の照射を与えることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、2002年5月7日に出願された連続番号10/141,216号に基づく優先権を主張するものであり、また2001年12月21に出願された連続番号10/036,676号、2001年12月21に出願された連続番号10/036,727号、2001年11月29日に出願された連続番号10/006,913号、2001年11月14日に出願された連続番号10/000,991号、2001年8月29日に出願された連続番号09/943,343号、2001年5月11日に出願された連続番号09/854,097号、2001年5月3日に出願された連続番号09/848,043号、2001年4月18日に出願された連続番号09/837,150号、2001年4月9日に出願された09/829,475号、および2001年1月29日に出願された連続番号09/771,789号の一部継続出願であり、これらの全部は、出典の明示によりここで開示されているものとして援用する。本発明は,集積回路製造のためのリソグラフィー光源に関し、特に、集積回路製造のためのガス放電リソグラフィーレーザ光源に関する。

電気放電ガスレーザ
電気放電ガスレーザは周知であり、1960年代にレーザが発明された直後から利用可能であった。二つの電極間の高電圧放電がレーザガスを励起させて、ガス利得媒体を生じる。この利得媒体を含む共鳴キャビティーは光を誘導増幅し、光はその後このキャビティーからレーザビームの形で抽出される。このような電気放電ガスレーザの多くは、パルスモードで動作させる。

エキシマレーザ
エキシマレーザは特別なタイプの電気放電ガスレーザであり、それらは1970年代から知られている。集積回路リソグラフィーのために有用なエキシマレーザの説明は、「コンパクトエキシマレーザ」と題する1991年6月11日に発行された米国特許第5,023,884号に記載されている。この特許は出願人の使用者に譲渡されてたものであり、当該特許は出典の明示によりここに開示されたものとする。この'884号特許に記載されたエキシマレーザは、高反復速度のパルスレーザである。

これらのエキシマレーザを集積回路リソグラフィーに使用する場合は、１時間あたり数千個の価値ある集積回路を製造する「連続操業」の集積回路製造ラインにおいて運転されるのが一般的であり、従って、中断時間は非常に高価になる可能性がある。このような理由から、殆どの部品は数分以内に入れ替え可能なモジュールに整理されている。リソグラフィーに使用されるエキシマレーザは、典型的には、ピコメータの数分の１に縮小された出力ビームを有していなければならない。この「線を狭めること（ナローイング）」は、典型的には、線幅ナローイングモジュール（KrFおよびArFレーザのための「線幅ナローイングパッケージ」または「LNP」と呼ばれる）において達成されるが、このLNPはレーザの共鳴キャビティーの裏面を形成する（ライン選択ユニット「LSU」は、Ｆ₂レーザにおける狭いスペクトル帯を選択するために使用される）。LNPは、プリズム、ミラーおよび回折格子を含む鋭敏な光学素子で構成される。'884号特許に記載されたタイプの放電ガスレーザは、電気パルス電力システムを利用して、細長い電極間に電気放電を発生する。このような先行技術のシステムでは、直流電源が、「充電キャパシタ」または「Ｃ₀」と呼ばれるキャパシタバンクを、各パルスの「充電電圧」と呼ばれる予め定められ且つ制御された電圧にまで充電する。これら先行技術のユニットにおいて、充電電圧の大きさは約500〜1000ボルトの範囲であればよい。Ｃ₀が予め定められた電圧に充電された後、ソリッドステートのスイッチが閉じて、Ｃ₀に蓄えられた電気エネルギーが一連の磁気圧縮回路および変圧器を通して流れ、前記電極を横切って約16,000ボルト（以上）の高電圧電位を生じることを可能にし、これは約20〜50 nsだけ持続する放電を生じる。

リソグラフィー光源における主な進歩
'884号特許に記載されているようなエキシマレーザは、1989年から2001年の間に、集積回路リソグラフィーのための主要な光源となった。現在では、これらのレーザが1000台以上、最も近代的な集積回路製造プラントにおいて使用されている。これらのレーザのほぼ全てが、'884号特許に記載されている基本設計上の特徴を有している。

これは：
（１）1秒当り約100〜2500パルスのパルス速度で、電極を横切る電気パルスを与えるための、単一のパルス電力システム；
（２）部分反射ミラー型の出力カプラ、並びにプリズムビーム伸長器、同調ミラーおよび格子からなる線幅ナローイングユニットで構成される単一の共鳴キャビティー；
（３）レーザガス（KrFのためのクリプトン、フッ素およびネオン、またはArFのためのアルゴン、フッ素およびネオン）、二つの細長い電極、およびパルスとパルスの間において放電領域をクリアするために、前記レーザガスを前記二つの電極の間で充分に迅速に循環させるための横流ファン（tangential fan）を含む単一の放電チャンバ；および
（４）パルスエネルギー、エネルギー量および波長をパルス毎に制御するためのフィードバック制御システムを備えた、パルスエネルギー、波長、および出力パルスバンド幅をモニターするビームモニター
である。

1980年〜2001年の間に、レーザの出力電力は徐々に増大し、パルスエネルギー安定性、波長安定性、およびバンド幅についてのビームの品質に対する仕様は一層厳しくなってきた。集積回路の製造において広く使用される普及したリソグラフィーレーザモデルのための動作パラメータは、一例として、8 mJのパルスエネルギー、2,500パルス／秒のパルス速度（約20ワット以下の平均ビーム電力を与える）、0.5 pm半波高全幅値（FWHM）のバンド幅、および+/-0.35％のパルスエネルギー安定性などである。

注入シーディング（Injection Seeding）
ガス放電レーザシステム（エキシマレーザシステムを含む）のバンド幅を縮小するための技術として、狭帯域の「シード」ビームを利得媒体中に注入することが知られている。一部のシステムでは、「マスター発振器」と呼ばれるシードビームを生成するためのレーザが第一の利得媒質中で非常に狭いバンド幅のビームを与え、このビームが第二の利得媒質中でシードビームとして使用されるように設計されている。前記の第二の利得媒質が電力増幅器として機能する場合は、当該システムは、マスター発振器・電力増幅器（MOPA）システムと称される。第二の利得媒質自身が共鳴キャビティー（その中でレーザ振動が起きる）を有している場合は、当該システムは注入シードされた発振器（ISO）システム、またはマスター発振器・電力発振器（MOPO）システムと称され、この場合のシードレーザはマスター発振器と呼ばれ、また下流のシステムは電力発振器と呼ばれる。二つの別々のシステムで構成されるレーザシステムは、匹敵する単一チャンバのレーザシステムよりも実質的により高価で、より大きく、且つ組立ておよび動作がより複雑になる傾向がある。従って、これら二チャンバレーザシステムの商業的応用は限定されてきた。

リソグラフィー機構の光源からの分離
集積回路の製造では、リソグラフィー機構をリソグラフィーレーザ光源から分離して配置するのが一般的である。その距離は、一般的に2〜20メートルである。場合によっては、レーザおよびリソグラフィー機構が別々の部屋に配置される。典型的な例としては、レーザをリソグラフィー機構の一階下の部屋に配置する。レーザビームは、KrFレーザについては波長が約248 nm、ArFレーザについては193 nm、F₂レーザについては157 nmの紫外線である。特に、AeFおよびF₂レーザの波長の短い紫外線は酸素によって吸収される。従って、レーザとリソグラフィーの間のレーザビーム経路を取囲み、この囲み筐体中を、空気よりも遥かにビーム減衰の低い窒素等のガスでパージするのが、周知のプラクティスである。また、この囲み筐体中には、レーザビームをリソグラフィー機構の所望のビーム入口ポートに向け、また断面プロファイルのようなビームに何らかの必要な変更を与えるための、ミラーおよびレンズを含む種々の光学部品も含められる。レーザビームをリソグラフィー機械に届けるための装置は、ビームデリバリーユニット或いは略して「BDU」と呼ばれる。従来は、BDUは、レーザ光源とは別に設計され、供給されるのが一般的だった。

必要なのは、1秒当り約4,000パルス以上の反復速度で動作し、波長、バンド幅、パルスエネルギーおよび断面プロファイルを含めて、リソグラフィー機構が必要とするビーム品質パラメータを有するレーザ光をリソグラフィー機構の入口ポートで与えるための、パルスガス放電レーザのための、より良いレーザの設計である。

本発明は、製造ライン機構のための、モジュール式高反復速度の紫外線ガス放電レーザ光源を提供する。このシステムは、当該製造ライン機構の入口ポートのような所望の位置にレーザビームを供給するための、取囲まれ且つパージされたビーム経路を含んでいる。好ましい実施形態において、当該製造ライン機構はリソグラフィー機構であり、二つの別々の放電チャンバが設けられ、そのうちの一つは、非常に狭いバンドのシードビーム（これは第二の放電チャンバ内で増幅される）を生じるマスター発振器の一部である。このMOPAシステムは、著しく改善されたビーム品質で、匹敵する単一チャンバによるレーザシステムのほぼ二倍のパルスエネルギーを出力できる。パルス伸長器は、出力パルス長を二倍以上にし、先行技術のレーザシステムに比較してパルス電力（mJ/ns）の低下をもたらす。この好ましい実施形態は、光学部品の実質的な劣化にもかかわらず、リソグラフィーシステムのウエハー平面に対して、リソグラフィーシステムの作動寿命期間を通してほぼ一定の照射を与えることができる。

本発明の第一の好ましい実施形態を図１に示す。この実施形態では、ステッパリソグラフィー機2（例えば日本に工場を持つキャノン社およびニコン社、並びにオランダに工場を持つASML社によって供給されるもの）の入口ポートにおいて、193 nmの紫外線レーザビームが提供される。この場合、レーザシステム4の主要部品は、スキャナが設置されるデッキの下に据付けられる。しかし、このレーザシステムはビームデリバリーユニット６を含んでおり、該ユニットは、スキャナの入口ポートにレーザビームを供給するための取囲まれたビーム経路を提供する。

この特別のレーザシステムは、マスター発振器および電力増幅器10を含んでいる、MOPAシステムとして知られるタイプのレーザシステムである。このMOPA構成は、単一のレーザ発振器を使用してレーザ光を与える先行技術から見て、集積回路光源の重要な進歩を示している。マスター発振器および電力増幅器のそれぞれが、先行技術の単一チャンバ・リソグラフィーレーザシステムの放電チャンバに類似した放電チャンバを備えている。これらのチャンバは二つの細長い電極、レーザガス、該ガスを電極および水冷フィン付熱交換機の間で循環させるための横流ファンを含んでいる。マスター発振器は第一のレーザビーム14Aを生じ、この第一のレーザビーム14Aは電力増幅器を2回通過してレーザビーム14Bを生じる。マスター発振器8は、出力カプラ8A及び線幅ナローイングパッケージ8B（両者共に背景技術の項で一般的に説明したものであり、詳細は引用した先行技術特許に記載されている）により形成される共鳴キャビティーを備えている。マスター発振器8のための利得媒質は、マスター発振器放電チャンバ8C内に含まれる50 cm長の二つの電極間において発生する。電力増幅器10は、基本的には放電チャンバであり、この好ましい実施態様では、細長い二つの電極の間に利得媒質を与えるマスター発振器放電チャンバ8Cとほぼ同じであるが、共鳴キャビティーは有していない。このMOPA構成は、波長安定性を最大化し、極めて狭いバンド幅を非常に狭める等、ビーム品質のパラメータが最も良くなるようマスター発振器を設計し、動作させることができる一方、電力増幅器については電力出力が最大化するように設計し、動作させることができる。例えば、出願人であるCymer, Inc.から入手可能な現状における最先端の光源は、1パルス当り5 mJ、4 kHzのArFレーザシステムである。図１に示されたシステムは、ビーム品質が実質的に改善された、パルス当り10 mJ（所望であればそれ以上）かつ4 kHzのArFレーザシステムであり、平均紫外線電力を少なくとも2倍にすることができる。このような理由により、MOPAシステムは、遥かに高い品質及び遥かに高電力を可能にする代表的なレーザ光源である。

パルス伸長器
集積回路スキャナ機械には、製造が困難で、コストが数百万に達する大型のレンズが含まれている。このような高価な光学部品は、無数の高強度紫外線パルスから生じる劣化を受ける。光学的損傷は、レーザパルスの強度（即ち、1 cm²当りの光パワー（エネルギー／時間）または mJ/ns/cm²）の増大に伴って増大することが知られている。このようなレーザからのレーザビームの典型的なパルス長は約20 nsであり、従って5 mJのビームは、約0.25 mJ/nsのパルス電力強度を有するであろう。パルス持続時間を変更せずにパルスエネルギーを10 mJに増大させると、パルスの電力を約0.5 mJ/nsへと倍化する結果となり、これは高価な光学部品の使用可能な寿命期間を顕著に短縮する可能性がある。本出願人は、パルス長を約20 nsから50 ns超まで実質的に増大して、スキャナ光学系の劣化速度を低減することにより、この問題を回避してきた。このパルス伸長は、図１に示したパルス伸長ユニット12を用いて達成される。パルス伸長器12を通るビーム経路を示す拡大図が、図２に示されている。ビームスプリッタ16は、電力増幅器出力ビーム14Bの約60％を、四つの集光ミラー20A，20B，20C，20Dにより形成される遅延経路の中へと反射する。ビーム14Bの各パルスの40％透過部分は、ビーム14Cの、図２Ｂに示した伸長パルス13に対応する第一の隆起13Aになる。この伸長されたビーム14Cは、ビームスプリッタ16によってミラー20Aに向けられ、該ミラーは反射した部分を点22に集光する。次いで、ビームは拡大してミラー20Bから反射され、該ミラーは拡大するビームを平行ビームに変換してそれをミラー20Cに向け、該ミラー20Cはビームを再び点22に集光させる。次いで、このビームはミラー20Dによって反射され、該ミラー20Dはミラー20Bと同様に、拡大するビームを平行ビームに変化させてビームスプリッタ16に戻し、ここでは60％の第一の反射光が、出力ビーム14Cにおける該パルスの第一の透過部分に一致して完全に反射され、図２Ｂに示すようにパルス13における殆どの隆起13Ｂになる。反射されたビームの40％はビームスプリッタ14を透過し、第一の反射ビームの経路を正確に辿り、伸長されたパルス13の追加の小さい隆起を生じる。その結果、約20 nsから約50 nsへとパルス長が伸長された伸長パルス14Cが生じる。この伸長パルス14Cは、図２Ｂに強度 vs.時間としてプロットされており、図２Ａに同様にプロットされている電力増幅器出力パルス14Bの形状と比較することができる。

この実施形態の伸長されたパルス形状は、二つの大きな略等しいピーク13A，13Bと、この最初の二つのピークに続く小さな時間的に減衰するピークを有している。この伸長パルスの形状は、異なるビームスプリッタを使用することによって変更することができる。出願人は、「時間積算平方」パルス長または「TIS」として知られるパラメータによって測定したときに、約60％を反射するビームスプリッタが最大伸長を生じることを決定した。このパラメータの使用は、普通とは異なる形状の電力 vs.時間曲線を有するパルスの、有効パルス持続時間を決定するための技術である。TISは次のように定義される。

ここで、Ｉ(t)は時間の関数としての強度である。

ビームプロファイルおよび分散特性を維持するために、ビームを遅延伝播経路に通すように方向付けるミラーは、一体の倍率焦点望遠鏡として作用すべき結像リレーシステムを形成しなければならない。この理由は、エキシマレーザビームに固有の分散のためである。ビームが結像されることなく遅延経路に向けられれば、ビームスプリッタで再結合されるときに、該ビームは元のビームとは異なる寸法になるであろう。パルス伸長器の結像リレーおよびアフォーカル望遠鏡機能を形成するために、ミラーは、遅延経路の長さによって決定される特定の曲率半径をもたせて設計しなければならない。ミラー20Aと20Dの間の距離は、当該ミラーの湾曲表面における曲率半径に等しく、前記全経路の1/4に等しい。

伸長パルスにおける最初の二つのピークの相対強度は、ビームスプリッタの反射率の設計で変更することができる。また、ビームスプリッタの設計（従ってパルス伸長器の出力TIS）はビーム遅延システムの効率に依存し、従って、出力TISは結像リレーミラーの反射率およびビームスプリッタにおけるロス量の支配も受ける。結像リレーミラーの反射率97％およびビームスプリッタでのロス2％について、最大TIS倍率はビームスプリッタの反射率が63％のときに生じる。

パルス伸長器のアラインメントには、四つの結像リレーミラーのうち二つが調節可能であることを必要とする。二つの調節可能なミラーの夫々は、合計4の自由度を生じる先端／傾斜調節装置を有するであろう。二つの調節可能なミラーは、共焦点設計のために、当該システムの対向端に配置されることが必要である。自己調節パルス伸長器を作製するためには、必要な自由度4の自動調節器およびアラインメントを特徴付けするためのフィードバック情報を提供する診断システムが必要とされる。アラインメント特性を認定するこのような診断システムの設計は、パルス伸長器の近距離磁場および遠距離磁場の出力を結像することができる結合システムを必要とするであろう。二つの平面（近距離磁場および遠距離磁場）での副パルスと元のパルスとの重なりを試験することによって、各副パルスが元のパルスと共線的（co-linear）に伝播する出力を生じるように、ミラーを自動的に調節するために必要な情報が得られるであろう。

リレー光学系
この好ましい実施形態において、マスター発振器8の出力ビーム14Aは、電力増幅器10の2回の通過によって増幅されて、出力ビーム14Bを生じる。これを達成するための光学部品は、三つのモジュールの中に含まれており、出願人はこれを、マスター発振器波面エンジニアリングボックス（MO WEB）24、電力増幅器波面エンジニアリングボックス（PA WEB）26、およびビーム反転器（BR）28と名付けた。これらの三つのモジュールは、線幅ナローイングモジュール8Bおよび出力カプラ8Aと共に、放電チャンバ8Cおよび電力増幅器10の放電チャンバとは独立に、全て単一の縦型光テーブル上に搭載される。音波衝撃およびファン回転によって生じるチャンバ振動は、光学部品から隔離されなければならない。

この実施形態において、マスター発振器線幅ナローイングモジュールおよび出力カプラにおける光学部品は、発明の背景において言及した先行技術のリソグラフィーレーザ光源のものと実質的に同じである。線幅ナローイングモジュールは、三つまたは四つのプリズムビーム拡大器、超高速応答チューニングミラー、およびLitrow構成に配置された格子を含んでいる。出力カプラは、KrFシステムについては出力ビームの20％、ArFシステムについては約30％を反射し、残りを通過させる部分反射ミラーである。マスター発振器8の出力は、線型中心分析モジュールLAM 7においてモニターされ、MO WEB 24の中に通される。このMO WEBは、内部全反射（TIR）プリズムおよび出力ビーム14Aを正確にPA WEBの中に向けるためのアラインメント部品を含んでいる。図３Ａに示すようなTIRプリズムは、典型的には高強度紫外線下で劣化する反射コーティングを必要とせずに、90％以上の効率で、レーザビームを90度回転させることができる。或いは、TIRプリズムの代りに、二重高反射コーティングを備えた第一の表面ミラーを使用することもできるであろう。

PA WEB 26は、図３Ｃ〜Ｆに示すようなTIRプリズム26Aと、レーザビーム14Aを第一の通過電力増幅器利得媒質の中に向けるためのアラインメント部品を含んでいる。或いは、上記のように、高反射コーティングを備えた第一の表面ミラーでTIRプリズムを置換えてもよいであろう。ビーム反転モジュール28は、図３Ｂ〜３Ｄに示した2回反射ビーム反転プリズム26Bを含んでおり、これは図３Ａに示した1回反射プリズムと同様に内部全反射に依存し、従って光学コーティングを必要としない。P-変更されたビームが該プリズムに侵入および退出する面は、反射レーザを最小にして、プリズムを殆ど100％の効率にするために、ブルースターの角度に配向される。

ビーム反転モジュール28における反転の後、部分的に増幅されたビーム14Aは、電力増幅器10の中の利得媒質をもう1回通過し、分光分析モジュール9およびPA WEB 26を通って電力増幅器出力ビーム14Bとして出る。この実施形態において、電力増幅器10を通るビーム14Aの第二の通過は、電力増幅器放電チャンバ内の細長い電極に正確に一致している。1回目の通過は、2回目の通過に対して約6ミリラジアンの角度を辿り、また1回目の経路は、利得媒質の二つの末端間の中間点において利得媒質の中心線と交差する。図３Ｃおよび図３Ｄは、電力増幅器を通るビーム14Aの経路の側面図および頂面図を示している。読者は、ビーム反転プリズム28Aの設計および位置が、図3Bに示した角度βおよび空間オフセットｄに適合しなければならないことに留意すべきである。この実施形態では、β＝6ミリラジアンであり、ｄは5 mmに等しい。

図３Ｅ（側面図）および図３Ｆ（頂面図）は、電力増幅器WEBモジュールにおける光学系の幾つかの重要な追加の特徴を示している。なお、側面図において、PA「に向う」ビームは、PA「から来る」ビームの上に示されている。そのようにしたのは、両方のビームを側面図に示すことができるためである。（実際には両ビームは同じ高さにあり、「から来る」ビームを正しい高さに示せば、「から来る」ビームが「に向う」ビームをブロックするであろう）。図３Ｆに示すように、「から来る」ビームはTIRプリズム26Aの近くを通過し、出口アパーチャ26Cを通過し、二つのビーム拡大プリズム26Dで水平方向に4倍拡大されて、パルス伸長モジュール22（出願人は、光パルス伸長器のための「OPUS」と称する）へと出て行く。出口アパーチャ26C、並びにこのリレー光学系における他のアパーチャは任意事項とみなされるべきものであり、一時的なアラインメント標的によって置換えてもよい。

他のTIRプリズムの考察
MO WEBおよびPA WEBにおけるTIRプリズムは、高フルーエンスのUV放射線に広範に露出されると劣化し易い光学コーティングを有していないので、誘電体被覆された第一の表面ミラーよりも好ましい。TIRプリズムの一つの欠点は、侵入面および出口面において起きる望ましくないフレスネル反射である。193 nmでのフッ化カルシウム材料について、各面は約4％の入力ビームを反射する。入力ビームが当該表面に対して垂直であれば、望ましくない反射が入力ビームの経路に沿って逆向きに広がり、MOに再導入される。これは、MOの安定な動作を妨害する可能性がある。この問題は、TIRプリズムの侵入および出口面を、入射ビームに対して略1度だけ傾斜させることによって回避される。これは、45°−45°−90°TIRプリズムを1°だけ回転させることによって達成することができ、この場合、主要ビームの偏位角度は（1度の回転の向きに応じて）90°から、88°または92°へと変化する。或いは、90°の偏位角および一つの傾斜面は、44°−44°−92°、46°−46°−88°、または44.33°−45.67°−90°の角度を備えたTIRプリズムによって達成することができる。

PA WABにおけるTIRプリズム26Aは、三つの光学面の各エッジに非常に近接して使用される。これらプリズムの光学面は、臨界エッジの1 mm以内まで正確に研磨されなければならない。

MO WEBおよびPA WEBにおけるTIRプリズムは、各々自由度2（2回転、「先端-傾斜」）でのアラインメントが可能であろう。MO WEB TIRプリズムは、主反射ビームが、PA WEBにおける適切な位置に向けられるようにアラインされる。PA WEB TIRプリズムは、主反射ビームが、ビーム反転器における適切な位置に向けられるようにアラインされる。各TIRプリズムは機械的な取付台に固定され、これはシールされたモジュールの外部からの先端傾斜調節を可能にする。

最大反射波面エラーは、透孔アパーチャ（13 mm×21 mm）を横切る633 nmの波の0.20山-谷（即ち、127 nm）として特定される。正確な量は存在する収差に依存するが、遥かに小さいビームを横切る波面エラーは著しく小さいであろう。単純な湾曲が優勢なエラーであれば（一般に研磨された平面の場合にそうであるように）、ビームに導入される最大発散角度エラーは、垂直方向に約0.02 mradであろう（水平方向では遥かに小さい）。

寿命期間に亘る光学コーティングの劣化（特に193 nmにおいて）が問題であり、高反射誘電体コーティングは、部分反射もしくはARコーティングよりもダメージ抵抗性である。また、このミラーの長寿命の目的を補助するのは、MOから来るパルスエネルギーが、PAから来るものよりも遥かに低いという事実である。該ミラーはエッジに極めて近接して使用されるであろうから、コーティングは通常よりもダメージを受け易い可能性がある。エッチの近傍において、表面粗さまたはコーティングの不規則性が存在する可能性があり、これはコーティングの破損の原因となりうる。これら潜在的な問題を回避するために、ミラーのエッジを試験することが望ましい。図３Ｇは間隔の問題を示している。ビームをビーム反転モジュール内の適切な位置に向けるために、方向変換ミラーは自由度２（2回転、「先端-傾斜」）でアラインされるであろう。ミラー取付台は、当該ミラーを必要な精度で整列させるために、シールされたモジュールの外部からアクセス可能な調節装置を含んでいなければならない。

コートされたミラー26Aに対する一つの代替手段は、誘電体被覆ミラーの代りに、コートされないTIRプリズムを使用することである。このような設計は、全寿命期間に亘ってコーティング損傷の問題を排除するであろう。

アラインメント装備
この傾斜した二重通過の幾何学的配列のために、MO WEBおよびビーム反転器から反射するビームは、PAWEBの中に正確に位置決めされる。PA WEB内には、MO WEBミラーおよびビーム反転器を適正にアラインするためのアラインメント装備が設けられる。この装備は、TIRプリズムのエッジを参照する必要があるであろう。好ましくは、これらの装置は、一つはPA WEBへの入口（MO WEBプリズムの整列のための）に、一つは出口（ビーム反転器を整列するため）にあるアパーチャである。これらのアパーチャは、永久的なものであっても、除去可能なものであってもよいであろう。当該システムは、ビーム経路がシールされた磁場の中でアライン可能であるべきである。好ましくは、当該アパーチャに対するビームの位置は、ある種の2-D検出器アレイ（デジタルカメラ）で目視可能にされるであろう。図３Ｆに36で示すように、BATと称されるビーム分析ツール（恐らくは組込まれたアパーチャを備える）を、当該モジュールの中に挿入してもよい。

ビーム拡大プリズム
PAから出て来るときのビームのフルーエンスは、（小さいビーム寸法および高いパルスエネルギーのために）当該システムにおける他の何処よりも高い。このような高いフルーエンスが、コーティングに損傷を生じる可能性のあるOpuSモジュールの光学コーティングに入射するのを回避するために、PA WEBの中にはビーム拡大プリズムが設計される。水平ビーム幅を4倍に拡大することによって、フルーエンスはそれ以前のレベルの1/4に低減される。

ビーム拡大は、図３Ｇに示したように、20°の頂点角を有する一対の同一プリズムを使用して達成される。これらプリズムおよびビーム経路の配向が、図３Ｇに示されている。

これらプリズムはArF等級のフッ化カルシウム製であり、コーティングされていない。各プリズムに対する68.6°の入射角を利用することにより、4.0のアナモルフィックな増倍が達成され、この対の公称偏位角度はゼロである。四つの表面からの合計のフレスネル反射は約12％である。

ビームデリバリーユニット
この好ましい実施形態において、スキャナ機械2のために特定された要件に合致するパルス化されたレーザビームは、当該スキャナの光入力ポートに供給される。図１に38で示したBAMと称するビーム分析モジュールは、当該スキャナの入力ポートに設けられて、入ってくるビームをモニターし、レーザ制御システムにフィードバック信号を与えて、スキャナに与えられた光が望ましい強度、波長、バンド幅であり、且つ線量および波長の安定性等の全ての品質要件に従うことを保証する。波長、バンド幅、およびパルスエネルギーは、本明細書の一部として援用する米国特許出願10/012,002に記載された技術を使用して、ビーム分析モジュールにおける気象学装置によって、4,000 Hz以下のパルス速度でパルス毎にモニターされる。

また、他のビームパラメータも、何れかの望ましい周波数でモニターしてもよい。何故なら、偏光、プロファイル、ビーム寸法およびビームポインティングのような他のパラメータは比較的安定であり、通常は、波長、バンド幅およびパルスエネルギーのパラメータよりも遥かに低い頻度でモニターされるからである。

この特別なBDUは、二つのビームポインティングミラー40Aおよび40Bを含んでおり、その一方または両方を制御して、種々のビームポインティングのための先端補正および傾斜補正を提供してもよい。ビームポインティングはBAMにおいてモニターし、一方または両方のポインティングミラーのポインティングのフィードバック制御を与えればよい。好ましい実施形態では、7ミリ秒未満のポインティング応答を提供するために、圧電ドライバが設けられる。

固定されたエネルギー出力
一般に、利得媒質からシリコンウエハーに至るビーム経路内の全ての光学系は、一般的には各パルスにおける光強度およびパルスの数の関数として、経時的に劣化する。しかし、過去数年に亘る主要な改良のためこの劣化は遅くなり、典型的には数十億個のパルスで測定される。更に、4,000 Hzおよび15％のデューティーファクターでの24時間操業において、リソグラフィーシステムは約3週間で10億個のパルスを累積するであろうから、劣化が著しい。この理由で、一定のビーム品質を維持することは困難な仕事であり得る。過去において、リソグラフィーシステム部品の全寿命期間に亘って一貫したビーム品質を維持するこの努力は、殆どのレーザ制御機能についてのレーザビーム品質が、出力カプラの直ぐ下流のレーザシステム出力で測定されたという事実によって複雑にされてきた。本発明は、スキャナ機械の入力ポートにおいてパルス毎のフィードバック制御を与えることにより、また当該レーザシステムの一部としてビームデリバリーユニットを供給することにより、この問題を大きく緩和するものである。この好ましい実施形態では、ビームデリバリーユニットが上記で述べたMOPAシステムと組合され、エネルギー強度の減少およびビーム品質の実質的な改善を伴って、現在の従来技術のリソグラフィー光源の略2倍のパルスエネルギーを生じる。従って、本発明におけるこの構成は、ステッパ機械のオペレータの要求に合致した照射を提供し、ビーム経路の全長を通して光学部品の実質的な劣化にもかかわらず、リソグラフィーシステムの寿命期間に亘って変化しないビーム品質および強度を備えている。これは、装置寿命の全ての段階において、望ましい公称の特性を与えるように、レーザシステムを意図的に動作させることによって達成することができる。パルスエネルギーを意図的に減少させるための技術には、放電電圧を低下させるがフッ化物濃度のガス圧をも低下させる通常の技術が含まれる。ビーム減衰はもう一つの可能性である。これは、全ての部品が新しいときの装置寿命の初期段階では、レーザは最適品質および最適強度未満での照射を生じるが、品質および強度の値を、リソグラフィーシステムの全寿命期間を通して一定に維持できるように動作させ得ることを意味する。このアプローチは非常に高価なレーザシステムだけでなく、遥かに高価なステッパ機械の有用な寿命をも実質的に増大することができる。図５は、出願人が製作し試験した試作品のMOPAレーザシステムについての、充電電圧 vs.パルスエネルギー出力のプロットである。このチャートは、単に充電電圧を変化させることによって、当該レーザシステムの出力が約7 mJ〜30 mJで変化し得ることを示している。例えば、図５は、公称動作パラメータが15 mJであるとき、当該レーザには、光学系が長い装置寿命に亘って劣化を補償するための多くの過剰容量が存在することを示している。現在の従来技術のレーザシステムの出力が10 mJであるのに比較して、この実施形態におけるMOPAの出力はパルス当り30 mJであり、上記の計画を使用することにより大きな寿命の改善が期待される。

レーザのBDU部分
スキャナの入口ポートにレーザビームを与えるもう一つの利点は、ビームデリバリーユニットが、設計および製造だけでなく、停止時間を最小にし且つシステムの利用可能性を増大させるための事前の予防的な維持についても、今やレーザ供給者が責任を負うようになることである。

種々のレーザBDUスキャナ構成
もう一つの利点は、ビームデリバリーユニットを、リソグラフィー機械に対するレーザの位置に適合するように、レーザシステムの一部として設計できることである。図１は典型的な構成を示しているが、殆どのリソグラフィー設備は独特であり、多くの他の構成が利用されると思われる。種々の可能なレーザ-BDU-スキャナ構成の幾つかが、図４Ａ、図４Ｂおよび図４Ｃに示されている。

偏光の考察
マスター発振器共鳴キャビティーにおいて、二つの窓および三つのプリズムを含む光学部品が、表面を垂直に向けて、発生するレーザビームと共に、ブルースター角に近い幾つかの入射角を与えるように配向される。従って、マスター発振器を出るビーム14Aは強く偏光されており、当該ビームの電場成分の約98％は水平方向にあり、約2％は垂直方向にある。誘電体でコートされたミラーをビーム回転のために45°で使用するときは、これらミラーでＳ偏光が略97％反射されるのに対して、Ｐ偏光は90〜92％しか反射されないので、偏光効果を考慮に入れることが重要である。（Ｐ偏光とは、ビーム方向と、該ビーム方向および光表面の交点で該光表面に直行する線とで定義される平面内にある、光の電場成分を言う。Ｓ偏光とは、当該表面およびＰ偏光に直交する平面内にある光の電気成分の方向を意味する）。従って、方向変換ミラーからの反射を最大にするためには、Ｓ偏光の方向が、入ってくるビームの偏光に対応することが重要である。読者が気付くように、ミラー40Aおよび40Bは両方とも、Ｓ偏光方向が出力ビーム14Cにおける光の約98％の電場方向に対応する水平であるように配向され；従って、これらミラーからの反射は約97％である。図４Ａ、図４Ｂおよび図４Ｃに示されたBDUについてのミラーは、全て、水平に偏向された光の最大反射から適正に配向される。しかし、ミラーは、Ｐ偏光方向が、ビームにおける光の98％の電場方向の向きにあってもよく、その結果、このミラーによる反射は約90〜92％に過ぎないであろう。この場合、出願人の好ましい解決策は、二つのプリズムを利用して、90°のビーム回転を行うことである。この技術は図６に示されている。67.2度（この角度が重要である）の頂点角を持った二つのプリズム52および54は、ｓ偏向した光について入射角を90℃変化させることができる。このビームはブルースター角でプリズムに侵入および退出し、従って水平方向の光の反射は存在しない。垂直方向に偏向したビーム部分は、第一のプリズムによって殆ど反射されるであろう。このレイアウトは、193 nmおよびCaF₂プリズムについて行われる。（248 nmまたは157 nmについては僅かな変更が必要とされるであろう）。コーティングが含まれていないので、このアセンブリーの寿命特性は非常に高い。

水平に偏向した光は、二つのプリズムを通過するので、実質的に全ての電場成分の偏光方向は、図６に矢印53Aおよび53Bで示すように、水平から垂直へと再配向される。この理由で、ビームの電場成分は実質的に全部が垂直であり、ビームに対してｓ偏光した配向が提供され、光の約97％が反射されるようになっている。

ミラーのためのパージシャッタ
BDUの容積は200リットルと大きい可能性があり、高純度のN₂でパージされなければならない。このパージプロセスは、酸素および他の有機物を数ppmレベルにするために、数時間を要するかもしれない。BDUをスキャナに最初に据付ける際は、このパージ時間は許容可能であるが、通常の動作の際には非常に長いと考えられる。図１のミラー40Aのようなミラーがサービスを必要とすると仮定すると、これはBDUからのミラーの除去を伴い、BDUを空気に露出させる可能性がある。従って、簡単なサービス手順（ミラーを置換えること）は、非常に長いパージ手順へと変る。BDUにおけるビーム経路の品質を回復するための長いパージ期間に伴う実質的な遅延を回避するために、図７に示すように、BDUシャッタユニット62が、BDUにおける各ミラーの両側に加えられる。

ここで、BDUの中には幾つかの挿入物が配置され、サービスシャッタは、BDUにおける他の領域を隔離するように挿入されてもよい。これらのシャッタは、通常は動作の最中には挿入されない。例えば、図７に示すように、二つのシャッタは、隔離される必要のあるミラーを取り囲むように配置され、次いでミラー自身が置換えられる。その後、この露出された領域はN₂で数分間パージされる。今回のパージ間隔は、空気に露出される容積がBDUの全量関よりも遥かに小さいという事実に起因して、遥かに短い。好ましくは、このサービスの間中、シャッタ間の領域以外のビーム経路の全ての領域において、パージングが継続される。

ビーム経路パージ
この好ましい実施形態では、レーザチャンバの外側のビーム経路の全ての部分がN₂でパージされるが、二つの例外がある：（１）線幅ナローイングパッケージ、およびレーザチャンバ8CとLNPの間の経路の一部はヘリウムでパージされ、（２）波長およびバンド幅を測定するためのLAM、SAM、およびBAMにおけるエタロン（etalon）チャンバはシールされたチャンバである。図１は、42におけるパージガス供給を示しているが、パージラインは図示されていない。パージされたビーム経路の優れた例は、本明細書の一部として援用する米国特許出願連続番号10/000,991号に詳細に説明されている。この技術には、金属ベローズ、および振動チャンバと敏感なレーザ光学系の間のインターフェースにおける簡易密封真空品質シール、および保守またはサービスのために迅速なモジュール除去を可能にするための、全ての分離されたモジュール間のインターフェースにおける真空品質シールが含まれる。図８Ａ〜図８Ｅは、LAPからスキャナに至るビーム経路内の構成要素を接続するために有用な部品93A、93Bおよび93Cを備えた、好ましい簡易密封ベローズシールユニットの図を示している。図８Ｃおよび図８Ｅに示されたクランプは何れも、部品93Aおよび93Bを、その間にサンドイッチされた錫コートした金属Ｃ形シールと共にクランプするために使用することができる。シールユニットにおけるこれらシールは、好ましくは錫接触層を備えた金属「Ｃ形」シールである。これらシールは紫外線照射の下では劣化せず、またはアウトガス汚染をしない。

ビーム経路モニター
酸素のような吸収物での経路の汚染は、ビーム品質およびパルスエネルギーに実質的に影響する可能性があるので、好ましくは、レーザビーム経路の品質を保証するためにモニターが設けられる。好ましくは、幾つかのパージ経路が設けられるであろう。パージ流をモニターするために流れモニターを使用することができる；しかし、幾つかの供給業者から商業的に入手可能な、O₂モニターのような他のモニターを使用してもよい。もう一つのビーム経路品質モニターには、オハイオ州デイトン市に事務所を有するオーディオプロダクツ（Audio Products）社のような供給業者から入手可能な、エレクトレット電子マイクロホンを利用した音波モニターが含まれる。この型のモニターは、本明細書の一部として援用する米国特許出願10/000,991号に記載されている。好ましい実施形態において、これらのモニターは、シャットダウン後に、ビーム経路の汚染がビーム経路パージで充分に浄化されるまで製造を遅延させるために、リソグラフィーオペレータが使用できる信号を提供するために使用される。

ビームプロファイルのフリッピング
集積回路製造のためには、レーザビームのコヒーレンスは望ましくない。エキシマレーザビームは特徴的に乏しいコヒーレンスを有しており、そのことが、該光源が集積回路製造のために良好である多くの理由のうちの一つである。しかし、ビーム品質の他の側面が益々良くなるに伴って、これらレーザ由来のレーザビームにおける乏しいコヒーレンスは、充分に乏しくなくなるかもしれない。そうなった場合には、コヒーレンス・スクランブラーを加えることができる。それは、ビーム経路内の幾つかの場所に加えることができるであろう。そのための良好な場所は、ビームデリバリーユニット内の何処かであろう。

図９は、ビームプロファイル反転コヒーレンス・スクランブラーの一例を示している。これは、60％ビームスプリッタ60、および三つの最大反射ミラー62，64，66で製造される。この装置は、上記で述べたパルス伸長器と同様、パルスをセグメントに分離する。しかし、この構成では、各セグメントのプロファイルが先のセグメントに対して反転される。図９の例において、入って来るパルス68は下に尖った三角形であらわされる。最初のセグメント、即ち、40％のパルス強度は、68Aで示すように同じプロファイルで通過する。反射された部分は、夫々のミラーでの反射を受け、その60％がビームスプリッタ60から反射され、該セグメントは、プロファイル68Aに対して反転された68Bに示すプロファイルを有する。後続のセグメントがコヒーレンス・スクランブラーを通過するときに、それらのプロファイルは、それぞれ先行するセグメントに対して反転される。従って、当該ビームの正味のプロファイルはスクランブルされ、更に重要なことに、如何なるコヒーレンスもスクランブルされるであろう。読者は、この実施例において、脚部が最初セグメントに続くセグメントの顕著な遅延を与えるのに充分に長くない限り、顕著なパルス伸長は存在しないことに気付くべきである。上記で述べたように、我々は既にパルスを伸長しているから、ここでの脚部は数インチと非常に短いかもしれず、その場合、セグメントは相互に重なる。

ウエハープラズマでのパルスエネルギー検出
本発明の好ましい実施例においては、スキャナにおけるウエハー平面46に、パルスエネルギー検出器44が設けられる。この検出器によるパルスエネルギー信号は、レーザのエネルギー出力を直接制御するフィードバックループにおいて使用すればよい。或いは、該信号は、BAMまたはSAMにおいて測定されるようなパルスエネルギーパラメータを決定する目的で使用してもよく、これらはウエハー面において必要とされる照射を与える。

特別のF₂レーザの特徴
上記の説明は、一般にArFレーザシステムに直接適用されるが、当該特徴の殆ど全ては、当該産業において周知の僅かな修飾を伴って、KrFレーザにも同等に適用される。しかし、本発明のF₂バージョンには幾つかの重要な修飾が必要とされる。これらの変更には、LNPの場所でのラインセレクタ、および／または二つのチャンバの間もしくは電力増幅器の下流でのラインセレクタが含まれる可能性がある。ラインセレクタは、好ましくはプリズムのファミリーである。出力ビームの偏光を改善するために、ビームに関して適正に配向された透明プレートを、チャンバの間に使用することができるであろう。出力ビームのコヒーレンスを低減するために、チャンバの間にディフーザを追加することもできるであろう。

本発明に対して、その範囲を変更することなく、種々の修飾を行うことができる。当業者は、他の多くの可能な変形を理解するであろう。

例えば、ビームデリバリーユニットの利用を含む本発明は、MOPAレーザ構成を使用するものとして説明されるが、米国特許第6,730,261号に記載されているような単一チャンバのレーザシステムを利用することもできるであろう。リソグラフィーのために、ArE、KrF、またはF₂システムを利用することができるであろう。また、本発明は、他の紫外線波長がより適切な、リソグラフィー以外の用途に適用してもよい。ここでの重要な改善は、紫外線レーザ光源を必要とする装置の入力ポートにおいて所望のビーム品質の紫外線レーザビームを供給する装置を、レーザシステムに追加することである。ここで述べた以外の種々のフィードバック制御構成を使用することができるであろう。

読者は、極端に高いパルス速度では、パルスエネルギーに対するフィードバック制御は、直前のパルスを使用して特定のパルスのパルスエネルギーを制御するために、必ずしも充分に速くなくてもよい点を理解すべきである。例えば、特定のパルスについて測定されたパルスエネルギーが、第二または第三の後続パルスの制御に使用される場合に、制御技術を提供することができるであろう。図１に示した以外の他の多くのレーザレイアウト構成を使用することができるであろう。例えば、チャンバは並列で、またはPAと共に底に搭載することができるであろう。また、第二のレーザユニットは、部分反射ミラーのような出力カプラを含めることによって、従属発振器として構成できるであろう。他の変形も可能である。横流ファン以外のファンを使用することもできるであろう。これは、4 kHzよりも遥かに大きな反復速度において必要とされる可能性がある。これらのファンおよび熱交換器は、放電チャンバの外側に配置することができるであろう。

従って、上記の開示は限定的で或ることを意図したものではなく、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲およびその法的均等物によって決定されるべきである。

本発明の第一の好ましい実施形態を示す図である。 パルス伸長器12を通るビーム経路を示す拡大図である。 パルス長が伸長された伸長パルスを示す図である。 パルス長が伸長された伸長パルスを示す図である。 TIRプリズムを示す図である。 2回反射ビーム反転プリズム26Bを示す図である。 2回反射ビーム反転プリズム26Bを示す図である。 2回反射ビーム反転プリズム26Bを示す図である。 電力増幅器WEBモジュールにおける光学系を示す側面図である。 電力増幅器WEBモジュールにおける光学系を示す頂面図である。 ミラーとミラーの間隔の問題を説明するための図である。 レーザ-BDU-スキャナ構成を示す図である。 レーザ-BDU-スキャナ構成を示す図である。 レーザ-BDU-スキャナ構成を示す図である。 試作品のMOPAレーザシステムの充電電圧 vs.パルスエネルギー出力のプロットを示す図である。 偏光方向が水平から垂直へ再配向されることを示した図である。 BDUシャッタユニット62をBDUにおける各ミラーの両側に設けられた様子を示した図である。 簡易密封ベローズシールユニットを示した図である。 簡易密封ベローズシールユニットを示した図である。 簡易密封ベローズシールユニットを示した図である。 簡易密封ベローズシールユニットを示した図である。 簡易密封ベローズシールユニットを示した図である。 ビームプロファイル反転コヒーレンス・スクランブラーの一例を示した図である。

Claims (16)

1. 製造ライン機械のためのレーザモジュール式狭帯域高反復速度の紫外線光源であって：
   Ａ） 下記の1)〜4)を具備する第一のレーザユニットと；
   1) 下記を含む第一の放電チャンバ
   a) 第一のレーザガス、
   b) 第一の放電領域を画定する第一の一対の細長い離間した電極、
   2) 1秒当り2,000パルス以上の範囲の反復速度で動作するときに、各パルスの後、
   次のパルスの前に、実質的に全ての放電生成したイオンを前記第一の放電領
   域から一掃するために、前記第一の放電領域内に前記第一のレーザガスの充
   分なガス速度を生じるためのガス循環手段、
   3) 望ましい範囲内のレーザガス温度を維持するように、前記第一のレーザガスか
   ら熱エネルギーを除去できる第一の熱交換システム、
   4) 前記第一の一対の電極に、約5 mJを越える正確に制御されたパルスエネルギー
   で、1秒当り約2,000パルス以上の速度でレーザパルスを生じるために充分な
   電気パルスを与えるように構成されたパルス電力システム；
   Ｂ） 前記レーザビームの出力ポートから前記製造ライン機械のレーザビーム入力ポートに至るレーザビーム経路を与える、ビーム経路囲い構造を備えたビームデリバリーユニットと；
   Ｃ） 前記二つのチャンバレーザシステムによって発生されたレーザ出力パルスのパルスエネルギー、波長およびバンド幅を測定し、前記レーザ出力パルスをフィードバック制御構成で制御するための、レーザビーム測定および制御システムと；
   Ｄ） 前記ビーム経路囲い構造をパージするためのパージ手段と；
   を具備する紫外線光源
2. 請求項１に記載の光源であって、前記反復速度は4,000 Hz以上であり、前記レーザパルスの速度は4000 Hz以上である光源。
3. 請求項２に記載の光源であって、更に第二の放電チャンバを具備し、前記第一および第二の放電チャンバはMOPA構成で構成されている光源。
4. 請求項３に記載の光源であって、更に、レーザパルス持続時間を増大するためのパルス伸長器を具備する光源。
5. 請求項４に記載の光源であって、前記パルス持続時間が少なくとも2倍増大される光源。
6. 請求項１に記載の光源であって、前記ビームデリバリーユニットは、前記ビーム経路の一部を隔離して、前記ビーム経路の他の部分を実質的に汚染のない状態に維持しながら、光学部品のサービスを可能にするための隔離シャッタユニットを具備する光源。
7. 請求項１に記載の光源であって、更に、プロファイルを反転させるコヒーレンス・スクランブラーを具備する光源。
8. 超狭帯域の二チャンバ式高反復速度ガス放電レーザシステムであって：
   Ａ） 下記の1)〜4)を具備する第一のレーザユニットと；
   1) 下記を含む第一の放電チャンバ；
   a) 第一のレーザガス、
   b) 第一の放電領域を画定する第一の一対の細長い離間した電極、
   2) 1秒当り4,000パルス以上の範囲の反復速度で動作するときに、各パルスの後、
   次のパルスの前に、実質的に全ての放電生成したイオンを前記第一の放電領
   域から一掃するために、前記第一の放電領域内に前記第一のレーザガスの充
   分なガス速度を生じるための第一のファン、
   3) 前記第一のレーザガスから、少なくとも16 kwの熱エネルギーを除去できる第一
   の熱交換システム、
   4) 前記第一の放電チャンバ内で発生された光パルスのスペクトルバンド幅を狭め
   るための、ライン幅ナローイングユニット；
   Ｂ） 下記の1)〜4)を具備する第二の放電チャンバと；
   1) 第二のレーザガス、
   2) 第二の放電領域を画定する第二の一対の細長い離間した電極、
   3) 1秒当り4,000パルス以上の範囲の反復速度で動作するときに、各パルスの後、
   次のパルスの前に、実質的に全ての放電生成したイオンを前記第二の放電領
   域から一掃するために、前記第二の放電領域内に前記第二のレーザガスの充
   分なガス速度を生じるための第二のファン、
   4) 前記第二のレーザガスから、少なくとも16 kwの熱エネルギーを除去できる第二
   の熱交換システム、
   Ｃ） 前記第一の一対の電極および前記第二の一対の電極に、約5 mJを越える正確に制御されたパルスエネルギーで、1秒当り約4,000パルス以上の速度でレーザパルスを生じるために充分な電気パルスを与えるように構成されたパルス電力システムと；
   Ｄ） 前記増幅された出力ビームにおいて、レーザパルス持続時間を増大するためのパルス伸長器と；
   Ｅ） 増幅された出力ビームを発生させるために、前記第一のレーザユニット内で発生されたレーザビームを、前記第二の放電チャンバを通るように方向付けるためのリレー光学系と；
   Ｆ） 前記レーザビームの出力ポートから、前記製造ライン機械のレーザビーム入力ポートに至るレーザビーム経路を与える、ビーム経路囲い構造を備えたビームデリバリーユニットと；
   Ｇ） 前記二つのチャンバレーザシステムによって発生されたレーザ出力パルスのパルスエネルギー、波長およびバンド幅を測定し、前記レーザ出力パルスをフィードバック制御構成で制御するための、レーザビーム測定および制御システムと；
   を具備するレーザシステム。
9. 請求項８に記載のレーザであって、更に、前記ビームデリバリーユニットを窒素でパージするためのパージ手段を具備するレーザ。
10. 請求項８に記載のレーザであって、前記ビームデリバリーユニットは、前記ビーム経路の一部を隔離して、前記ビーム経路の他の部分を実質的に汚染のない状態に維持しながら、光学部品のサービスを可能にするための複数のビーム経路隔離シャッタユニットを具備する光源。
11. 請求項８に記載の光源であって、前記ビームデリバリーユニットは、レーザビームの約97％のｓ偏光反射を与えるように配置されたミラーを具備する光源。
12. 請求項８に記載の光源であって、前記ビームデリバリーユニットは、前記レーザビームの方向を約90°変化させるように構成された二つのプリズムを具備する光源。
13. 請求項８に記載の光源であって、前記組合されたビーム経路は、前記第一のレーザユニットにおいて発生され、前記リレー光学系によって方向付けされ、前記第二のレーザユニットにおいて増幅され、前記パルス伸長器においてパルス伸長され、前記ビームデリバリーユニットによって供給されるレーザビームの組合された経路によって画定され、更に、露出される前記ビーム経路の全ての部分を取囲むためのビーム経路囲み部品を具備する光源。
14. 請求項１３に記載の光源であって、更に、シール構造内に取囲まれていない前記ビーム経路の全ての部分を、一以上のパージガスでパージするためのパージシステムを具備する光源。
15. 請求項８に記載の光源であって、前記リレー光学系は、前記第一のレーザユニットから前記第二の放電チャンバを通る出力パルスの2回の通過を与えるように構成される光源。
16. 請求項８に記載の光源であって、更に、プロファイル反転コヒーレンス・スクランブラーを具備する光源。

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