JP2008032448A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
Semiconductor integrated circuit device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008032448A JP2008032448A JP2006204175A JP2006204175A JP2008032448A JP 2008032448 A JP2008032448 A JP 2008032448A JP 2006204175 A JP2006204175 A JP 2006204175A JP 2006204175 A JP2006204175 A JP 2006204175A JP 2008032448 A JP2008032448 A JP 2008032448A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- switch element
- analog
- semiconductor integrated
- integrated circuit
- circuit device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
本発明は、アナログ回路を内蔵した半導体集積回路装置に関するものであり、内蔵したアナログ回路にバーンイン負荷を与える技術に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device incorporating an analog circuit, and to a technique for applying a burn-in load to the built-in analog circuit.
アナログ回路を内蔵した半導体集積回路装置は、ウェーハレベルでバーンイン試験(以下、ウェーハレベルバーンイン試験という)が行なわれる場合がある。 A semiconductor integrated circuit device incorporating an analog circuit may be subjected to a burn-in test at the wafer level (hereinafter referred to as a wafer level burn-in test).
アナログ回路を内蔵した従来の半導体集積回路装置は、通常は、例えば外部テスタ(ウェーハレベルバーンイン試験装置)によって、外部に設けられているアナログ入力端子から信号波形が入力されて、ウェーハレベルバーンイン試験が行なわれる。 Conventional semiconductor integrated circuit devices with built-in analog circuits are usually subjected to a wafer level burn-in test by inputting a signal waveform from an analog input terminal provided externally by, for example, an external tester (wafer level burn-in test device). Done.
また、別の技術としては、比較的高精度にアナログ回路をテストするために、抵抗素子、容量素子、スイッチ素子、アナログ回路を検査するテスト回路を、半導体集積回路装置内部に構成し、外部テスタを用いることなくアナログ回路を検査するものもある(例えば、特許文献1を参照)。
しかしながら、ウェーハレベルバーンイン試験装置の限界により、1チップあたりに使用できる端子数には上限があるので、チップサイズが小さくなると、1チップあたりに使用できる端子が減る。一方、内蔵されたアナログ回路の数が多いほど、試験に必要な端子が増加してしまう。すなわち、外部のアナログ入力端子より信号波形を入力するのでは、ウェーハレベルバーンイン試験時に必要な端子を割り当てることが困難な場合がある。 However, there is an upper limit on the number of terminals that can be used per chip due to the limitations of the wafer level burn-in test apparatus. Therefore, if the chip size is reduced, the number of terminals that can be used per chip is reduced. On the other hand, as the number of built-in analog circuits increases, the number of terminals required for testing increases. That is, if a signal waveform is input from an external analog input terminal, it may be difficult to assign a necessary terminal during the wafer level burn-in test.
また、試験に必要なテスト端子を削減し、かつ比較的高精度にアナログ回路をテストするために、抵抗素子、容量素子、スイッチ素子、アナログ回路を検査するテスト回路を構成した半導体集積回路装置では、ウェーハレベルバーンイン試験の実現は可能となるが、比較的高精度にアナログ回路をテストするようにテスト回路が構成されているため、チップサイズが増大してしまう。 In addition, in a semiconductor integrated circuit device configured with a test circuit for inspecting a resistor element, a capacitor element, a switch element, and an analog circuit in order to reduce the number of test terminals required for the test and test the analog circuit with relatively high accuracy Although the wafer level burn-in test can be realized, the test circuit is configured to test the analog circuit with relatively high accuracy, so that the chip size increases.
本発明は上記の問題に着目してなされたものであり、チップサイズを増大させることなく、テスト信号入力に必要な入力端子数を削減しつつ、内蔵したアナログ回路が複数あってもウェーハレベルバーンイン試験を実施することが可能な半導体集積回路装置を提供することを目的としている。 The present invention has been made by paying attention to the above-mentioned problem. Even if there are a plurality of built-in analog circuits while reducing the number of input terminals required for test signal input without increasing the chip size, wafer level burn-in is performed. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of performing a test.
前記の課題を解決するため、本発明の一態様は、
第1の電源と第2の電源とが入力されて動作するアナログ回路を内蔵した半導体集積回路装置であって、
前記アナログ回路のアナログ信号用入力端子と前記第1の電源との間に設けられた第1のスイッチ素子と、
前記アナログ回路のアナログ信号用入力端子と前記第2の電源との間に設けられた第2のスイッチ素子と、
前記第1のスイッチ素子及び前記第2のスイッチ素子のオン、オフ動作を制御するスイッチ素子切り替え制御回路とを備え、
前記スイッチ素子切り替え制御回路は、入力されたスイッチ素子切り替え信号に応じ、前記第1のスイッチ素子及び前記第2のスイッチ素子を交互にオンに制御するように構成されていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, one embodiment of the present invention provides:
A semiconductor integrated circuit device including an analog circuit that operates by inputting a first power source and a second power source,
A first switch element provided between an analog signal input terminal of the analog circuit and the first power supply;
A second switch element provided between the analog signal input terminal of the analog circuit and the second power supply;
A switch element switching control circuit for controlling on / off operations of the first switch element and the second switch element;
The switch element switching control circuit is configured to alternately turn on the first switch element and the second switch element in accordance with an input switch element switching signal.
また、本発明の一態様は、
アナログ回路を内蔵した半導体集積回路装置であって、
入力された電圧値切り替え信号に応じ、出力する電圧が可変する電圧回路と、
前記電圧回路の出力と前記アナログ回路のアナログ信号用入力端子との間に設けられたスイッチ素子と、
を備えたことを特徴とする。
One embodiment of the present invention includes
A semiconductor integrated circuit device incorporating an analog circuit,
A voltage circuit that varies a voltage to be output in accordance with an input voltage value switching signal;
A switch element provided between the output of the voltage circuit and the analog signal input terminal of the analog circuit;
It is provided with.
本発明によれば、チップサイズを増大させることなく、テスト信号入力に必要な入力端子数を削減しつつ、内蔵したアナログ回路が複数あってもウェーハレベルバーンイン試験を実施することが可能になる。 According to the present invention, it is possible to carry out a wafer level burn-in test even when there are a plurality of built-in analog circuits while reducing the number of input terminals required for test signal input without increasing the chip size.
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の各実施形態の説明において、一度説明した構成要素と同様の機能を有する構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of each embodiment, components having the same functions as those described once are given the same reference numerals and description thereof is omitted.
《発明の実施形態1》
図1は、本発明の実施形態1に係る半導体集積回路装置100の構成を示すブロック図である。図1に示すように、半導体集積回路装置100は、アナログ回路101、第1のスイッチ素子102、第2のスイッチ素子103、及びスイッチ素子切り替え制御回路104を備えている。半導体集積回路装置100には、外部と接続される端子として、アナログ入力端子AIN、アナロググランド端子AVSS、アナログ電源端子AVDDが設けられている。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated
アナログ回路101は、半導体集積回路装置100に内蔵された、例えば、AD変換器(ADC)などのアナログ回路である。アナログ回路101には、アナログ入力端子AINを介して、アナログ信号が入力され、また、アナログ電源端子AVDDとアナロググランド端子AVSSとを介して、電源が供給されている。
The
第1のスイッチ素子102は、アナログ電源端子AVDDとアナログ入力端子AINとの間に設けられたスイッチ素子である。第1のスイッチ素子102は、スイッチ素子切り替え制御回路104によって、オンオフが制御されるようになっている。本実施形態では、第1のスイッチ素子102は、スイッチ素子切り替え制御回路104から入力された信号が“1”(Hレベルとする)のときにオンになるように構成されている。
The
第2のスイッチ素子103は、アナログ入力端子AINとアナロググランド端子AVSSとの間に設けられたスイッチ素子である。第2のスイッチ素子103も、スイッチ素子切り替え制御回路104によって、オンオフが制御されるようになっている。本実施形態では、第2のスイッチ素子103は、スイッチ素子切り替え制御回路104から入力された信号が“1”のときにオンになるように構成されている。
The
スイッチ素子切り替え制御回路104は、入力されたスイッチ素子切り替え信号DINinに応じ、第1のスイッチ素子102と第2のスイッチ素子103のそれぞれのオンオフを制御するスイッチ素子用切り替え信号を出力するようになっている。また、スイッチ素子切り替え制御回路104には、選択信号SELが入力されており、スイッチ素子用切り替え信号は、選択信号SELに応じて、有効もしくは無効になる。
The switch element
スイッチ素子切り替え制御回路104は、具体的には、インバータ104a、バッファ104b、セレクタ104c、及びセレクタ104dを備えている。
Specifically, the switch element
インバータ104aは、スイッチ素子切り替え信号DINinの論理を反転させて出力するようになっている。また、バッファ104bは、入力されたスイッチ素子切り替え信号DINinを、そのままの論理で出力するようになっている。
The
セレクタ104cは、インバータ104aの出力(第2のスイッチ素子用切り替え信号と呼ぶ)が入力されており、選択信号SELに応じて、第2のスイッチ素子用切り替え信号を第2のスイッチ素子103に出力するか否かが切り替わるようになっている。
The
セレクタ104dは、バッファ104bの出力(第1のスイッチ素子用切り替え信号と呼ぶ)が入力されており、選択信号SELに応じて、第1のスイッチ素子用切り替え信号を第1のスイッチ素子102に出力するか否かが切り替わるようになっている。
The
以上の構成により、スイッチ素子切り替え制御回路104は、第1のスイッチ素子102と第2のスイッチ素子103とが交互に導通状態となるように制御する。
With the above configuration, the switch element
半導体集積回路装置100に対してウェーハレベルバーンイン試験を行なう場合には、まず、第1のスイッチ素子用及び第2のスイッチ素子用切り替え信号が有効になるように、選択信号SELをスイッチ素子切り替え制御回路104に入力する。さらに、スイッチ素子切り替え信号DINinとして、例えば図2に示す波形のスイッチ素子切り替え信号DINinを、半導体集積回路装置100の外部からスイッチ素子切り替え制御回路104に伝送する。これにより、スイッチ素子切り替え信号DINinが、“1”(Hレベルとする)のときに、第1のスイッチ素子102がオンになり、スイッチ素子切り替え信号DINinが、“0”(Lレベルとする)のときに、第2のスイッチ素子103がオンになる。第1のスイッチ素子102が導通時には、第1のスイッチ素子102を介して、アナログ電源端子AVDDよりアナログ回路101に電圧が伝送される。また、第2のスイッチ素子103が導通時には、第2のスイッチ素子103を介して、アナロググランド端子AVSSよりアナログ回路101に電圧が伝送される。
When a wafer level burn-in test is performed on the semiconductor
以上により、スイッチ素子切り替え信号DINinに応じて、図2に示すように、テスト信号AINinを生成することができる。このテスト信号AINinは、アナログ回路101に伝送され、ウェーハレベルバーンイン試験が行なわれる。
As described above, the test signal AINin can be generated according to the switch element switching signal DINin as shown in FIG. This test signal AINin is transmitted to the
上記のように、本実施形態によれば、半導体集積回路装置100内部に設けた比較的簡単なテスト回路で、所定のテスト信号を生成するので、アナログ入力端子AINを使用せずに、アナログ回路101にテスト信号を入力することができる。それゆえ、テスト信号入力に必要な入力端子数を削減することが可能になる。したがって、チップサイズが小さく、複数のアナログ回路101が内蔵されているような場合にも、テスト用に割り当てることが可能な端子の数に制限されることなく、ウェーハレベルバーンイン試験を行なうことが可能になる。しかも、バーンイン負荷を簡素化し、比較的簡単な回路でテスト回路を構成したので、チップサイズの増大も抑えることが可能になる。
As described above, according to the present embodiment, since a predetermined test signal is generated by a relatively simple test circuit provided in the semiconductor
《発明の実施形態2》
図3は、本発明の実施形態2に係る半導体集積回路装置200の構成を示すブロック図である。半導体集積回路装置200は、図3に示すように、実施形態1の半導体集積回路装置100にスイッチ素子切り替え信号生成回路201が追加されて構成されている。
<<
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of the semiconductor integrated
スイッチ素子切り替え信号生成回路201は、クロック信号CKinによって、スイッチ素子切り替え信号DINinを生成するようになっている。また、スイッチ素子切り替え信号生成回路201は、スイッチ素子切り替え信号DINinのパルス幅を可変できるように構成されている。 The switch element switching signal generation circuit 201 generates a switch element switching signal DINin based on the clock signal CKin. The switch element switching signal generation circuit 201 is configured so that the pulse width of the switch element switching signal DINin can be varied.
半導体集積回路装置200に対してウェーハレベルバーンイン試験を行なう場合には、まず、第1のスイッチ素子用及び第2のスイッチ素子用切り替え信号が有効になるように、選択信号SELをスイッチ素子切り替え制御回路104に入力する。
When a wafer level burn-in test is performed on the semiconductor integrated
スイッチ素子切り替え信号生成回路201にクロック信号CKinを伝送すると、スイッチ素子切り替え信号生成回路201は、クロック信号CKinに応じて、例えば図4に示す波形のスイッチ素子切り替え信号DINinを生成する。それにより、スイッチ素子切り替え信号DINinが、“1”のとき、第1のスイッチ素子102がオンになり、スイッチ素子切り替え信号DINinが、“0”のとき、第2のスイッチ素子103がオンになる。第1のスイッチ素子102が導通時には、第1のスイッチ素子102を介して、アナログ電源端子AVDDよりアナログ回路101に電圧が伝送される。また、第2のスイッチ素子103が導通時には、第2のスイッチ素子103を介して、アナロググランド端子AVSSよりアナログ回路101に電圧が伝送される。すなわち、スイッチ素子切り替え信号DINinに応じて、図4に示すように、テスト信号AINinを生成することができる。このテスト信号AINinは、アナログ回路101に伝送され、ウェーハレベルバーンイン試験が行なわれる。
When the clock signal CKin is transmitted to the switch element switching signal generation circuit 201, the switch element switching signal generation circuit 201 generates the switch element switching signal DINin having a waveform shown in FIG. 4, for example, according to the clock signal CKin. Accordingly, when the switch element switching signal DINin is “1”, the
上記のように、本実施形態によれば、スイッチ素子切り替え信号DINinを半導体集積回路装置200の外部から入力しなくても、ウェーハレベルバーンイン試験が可能になる。なお、スイッチ素子切り替え信号DINinの生成には、クロック信号CKinを用いているが、半導体集積回路装置を動作させる場合には、クロック信号を使用することは一般的であり、スイッチ素子切り替え信号生成回路201用のクロック信号は容易に得ることができる。そのため、スイッチ素子切り替え信号DINinは、比較的簡単な回路で生成することが可能である。
As described above, according to the present embodiment, the wafer level burn-in test can be performed without inputting the switch element switching signal DINin from the outside of the semiconductor integrated
《発明の実施形態3》
図5は、本発明の実施形態3に係る半導体集積回路装置300の構成を示すブロック図である。図5に示すように、半導体集積回路装置300は、アナログ回路101、スイッチ素子301、及び電圧回路302を備えている。
<<
FIG. 5 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated
スイッチ素子301は、アナログ入力端子AINと電圧回路302との間に設けられたスイッチ素子である。スイッチ素子301は、選択信号SELが入力されており、この信号によってオンオフが制御される。本実施形態では、スイッチ素子301は、選択信号SELが“1”のときにオンになるように構成されている。
The
電圧回路302は、入力された電圧値切り替え信号DINin_nに応じた電圧を出力するようになっている。本実施形態では、電圧値切り替え信号DINin_nは、0〜3までの値である。電圧回路302は、4段階に出力電圧を可変できるように構成されており、図6に示すように、電圧値切り替え信号DINin_nの値が大きくなる毎に、出力する電圧が高くなるように構成されている。
The
半導体集積回路装置300に対してウェーハレベルバーンイン試験を行なう場合には、まず、スイッチ素子301がオンになるように、選択信号SELをスイッチ素子301に入力する。さらに、例えば図6に示す値の電圧値切り替え信号DINin_nを、半導体集積回路装置100の外部から電圧回路302に伝送する。これにより、図6のように電圧が変化するテスト信号AINinがアナログ回路101に伝送され、ウェーハレベルバーンイン試験が行なわれる。
When performing a wafer level burn-in test on the semiconductor integrated
上記のように、本実施形態においても、やはり、アナログ入力端子AINを使用しなくても、アナログ回路101に所定のテスト信号を入力できるので、テスト信号入力に必要な入力端子数を削減することが可能になる。
As described above, also in the present embodiment, a predetermined test signal can be input to the
《発明の実施形態4》
図7は、本発明の実施形態4に係る半導体集積回路装置400の構成を示すブロック図である。図7に示すように、実施形態3の半導体集積回路装置300に電圧値切り替え信号生成回路401が追加されて構成されている。
<< Embodiment 4 of the Invention >>
FIG. 7 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated
電圧値切り替え信号生成回路401は、クロック信号CKinが入力されており、クロック信号CKinに応じ、電圧値切り替え信号DINin_nを生成するようになっている。具体的には、電圧値切り替え信号生成回路401は、図8に示すように、電圧値切り替え信号DINin_nの値を、クロック信号CKinが立ち上がる毎に1ずつ増加させ、値が“3”になると再び“0”に戻すように構成されている。それにより、図8に示すように電圧が変化するテスト信号AINinが生成される。
The voltage value switching
したがって、本実施形態によれば、電圧値切り替え信号DINin_nを半導体集積回路装置400の外部から入力しなくても、ウェーハレベルバーンイン試験が可能になる。なお、電圧値切り替え信号DINin_nの生成には、クロック信号CKinを用いているが、半導体集積回路装置を動作させる場合には、クロック信号を使用することは一般的であり、電圧値切り替え信号生成回路401用のクロック信号は容易に得ることができる。そのため、スイッチ素子切り替え信号DINinは、比較的簡単な回路で生成することが可能である。
Therefore, according to the present embodiment, the wafer level burn-in test can be performed without inputting the voltage value switching signal DINin_n from the outside of the semiconductor integrated
《発明の実施形態5》
図9は、本発明の実施形態5に係る半導体集積回路装置500の構成を示すブロック図である。実施形態5の半導体集積回路装置は、アナログ回路101からデジタルデータが出力される場合(アナログ回路101が例えばAD変換器である場合)に、そのデジタルデータを、テスト信号の生成に利用する例である。具体的には、半導体集積回路装置500は、半導体集積回路装置300において、アナログ回路101の出力の一部(DOUTin_n)を選択し、DOUTin_nを電圧値切り替え信号DINin_nとして電圧回路302に入力するように構成したものである。すなわち、半導体集積回路装置500では、電圧回路302の出力がアナログ回路101を介して、電圧回路302にフィードバックされている。
<< Embodiment 5 of the Invention >>
FIG. 9 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated
半導体集積回路装置500に対してウェーハレベルバーンイン試験を行なう場合には、まず、スイッチ素子301がオンになるように、選択信号SELをスイッチ素子301に入力する。スイッチ素子301がオンになると、電圧回路302の出力がアナログ回路101に入力され、アナログ回路101はその入力に応じた値のデジタルデータを出力する。アナログ回路101の出力の一部(DOUTin_n)は、電圧回路302に入力される。これにより、電圧回路302の出力する電圧が、例えば図10に示すように変化する。
When performing a wafer level burn-in test on the semiconductor integrated
以上のように、本実施形態によれば、比較的簡単な回路構成で、テスト信号を容易に生成することができる。 As described above, according to the present embodiment, a test signal can be easily generated with a relatively simple circuit configuration.
本発明に係る半導体集積回路装置は、 チップサイズを増大させることなく、テスト信号入力に必要な入力端子数を削減しつつ、内蔵したアナログ回路が複数あってもウェーハレベルバーンイン試験を実施することが可能になるという効果を有し、アナログ回路を内蔵した半導体集積回路装置等として有用である。 The semiconductor integrated circuit device according to the present invention can perform a wafer level burn-in test even when there are a plurality of built-in analog circuits while reducing the number of input terminals necessary for test signal input without increasing the chip size. It has the effect of becoming possible, and is useful as a semiconductor integrated circuit device or the like incorporating an analog circuit.
100 半導体集積回路装置
101 アナログ回路
102 第1のスイッチ素子
103 第2のスイッチ素子
104 スイッチ素子切り替え制御回路
104a インバータ
104b バッファ
104c セレクタ
104d セレクタ
200 半導体集積回路装置
201 スイッチ素子切り替え信号生成回路
300 半導体集積回路装置
301 スイッチ素子
302 電圧回路
400 半導体集積回路装置
401 電圧値切り替え信号生成回路
500 半導体集積回路装置
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記アナログ回路のアナログ信号用入力端子と前記第1の電源との間に設けられた第1のスイッチ素子と、
前記アナログ回路のアナログ信号用入力端子と前記第2の電源との間に設けられた第2のスイッチ素子と、
前記第1のスイッチ素子及び前記第2のスイッチ素子のオン、オフ動作を制御するスイッチ素子切り替え制御回路とを備え、
前記スイッチ素子切り替え制御回路は、入力されたスイッチ素子切り替え信号に応じ、前記第1のスイッチ素子及び前記第2のスイッチ素子を交互にオンに制御するように構成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device including an analog circuit that operates by inputting a first power source and a second power source,
A first switch element provided between an analog signal input terminal of the analog circuit and the first power supply;
A second switch element provided between the analog signal input terminal of the analog circuit and the second power supply;
A switch element switching control circuit for controlling on / off operations of the first switch element and the second switch element;
The switch element switching control circuit is configured to alternately turn on the first switch element and the second switch element in accordance with an input switch element switching signal. Integrated circuit device.
前記スイッチ素子切り替え信号を生成するスイッチ素子切り替え信号生成回路をさらに備え、
前記スイッチ素子切り替え信号生成回路は、生成するスイッチ素子切り替え信号のパルス幅を可変できるように構成され、
前記スイッチ素子切り替え制御回路は、前記スイッチ素子切り替え信号のパルス幅に応じて、前記第1のスイッチ素子及び前記第2のスイッチ素子の導通時間を制御するように構成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 The semiconductor integrated circuit device according to claim 1,
A switching element switching signal generating circuit for generating the switching element switching signal;
The switch element switching signal generation circuit is configured to be able to vary the pulse width of the switch element switching signal to be generated,
The switch element switching control circuit is configured to control a conduction time of the first switch element and the second switch element according to a pulse width of the switch element switching signal. Semiconductor integrated circuit device.
入力された電圧値切り替え信号に応じ、出力する電圧が可変する電圧回路と、
前記電圧回路の出力と前記アナログ回路のアナログ信号用入力端子との間に設けられたスイッチ素子と、
を備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。 A semiconductor integrated circuit device incorporating an analog circuit,
A voltage circuit that varies a voltage to be output in accordance with an input voltage value switching signal;
A switch element provided between the output of the voltage circuit and the analog signal input terminal of the analog circuit;
A semiconductor integrated circuit device comprising:
前記電圧値切り替え信号を生成する電圧値切り替え信号生成回路をさらに備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。 The semiconductor integrated circuit device according to claim 3,
A semiconductor integrated circuit device, further comprising a voltage value switching signal generation circuit for generating the voltage value switching signal.
前記電圧回路は、前記アナログ回路の出力が、前記電圧値切り替え信号としてフィードバックされるように構成されていることを特徴とする半導体集積回路装置。 The semiconductor integrated circuit device according to claim 3,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the voltage circuit is configured such that an output of the analog circuit is fed back as the voltage value switching signal.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006204175A JP2008032448A (en) | 2006-07-27 | 2006-07-27 | Semiconductor integrated circuit device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006204175A JP2008032448A (en) | 2006-07-27 | 2006-07-27 | Semiconductor integrated circuit device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008032448A true JP2008032448A (en) | 2008-02-14 |
Family
ID=39122046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006204175A Pending JP2008032448A (en) | 2006-07-27 | 2006-07-27 | Semiconductor integrated circuit device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008032448A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103105535A (en) * | 2013-03-01 | 2013-05-15 | 哈尔滨工业大学 | Three-phase phase-locked loop method suitable for photovoltaic connected grid low voltage ride-through |
US11808807B2 (en) | 2019-04-23 | 2023-11-07 | Hitachi Astemo, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device and inspection method for semiconductor integrated circuit device |
-
2006
- 2006-07-27 JP JP2006204175A patent/JP2008032448A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103105535A (en) * | 2013-03-01 | 2013-05-15 | 哈尔滨工业大学 | Three-phase phase-locked loop method suitable for photovoltaic connected grid low voltage ride-through |
US11808807B2 (en) | 2019-04-23 | 2023-11-07 | Hitachi Astemo, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device and inspection method for semiconductor integrated circuit device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI531163B (en) | Voltage translator | |
JP5181499B2 (en) | SCAN test circuit and semiconductor integrated circuit | |
JP2003218687A5 (en) | ||
KR20120037053A (en) | Integrated circuit, test operation method thereof, and apparatus having the same | |
JP2008145266A (en) | Device tester | |
JP2007163301A (en) | Burn-in test signal generation circuit and burn-in test method | |
JP2006332456A (en) | Semiconductor device and testing mode setting method | |
JP2008032448A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
JP5088134B2 (en) | Signal measuring device | |
US8294487B2 (en) | Configuration setting device of integrated circuit and the configuration setting method thereof | |
JP4639162B2 (en) | Analog to digital converter | |
JP2008157769A (en) | Optional waveform generator | |
JP4352053B2 (en) | Semiconductor device | |
JP5336559B2 (en) | Test circuit, serial I / F circuit, semiconductor device | |
JP3963158B2 (en) | Semiconductor circuit device and test method thereof | |
JP2009025054A (en) | Circuit and method for inspecting semiconductor | |
JP2006118995A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP2006132992A (en) | Stress impressing method | |
JP3092362B2 (en) | Automatic test equipment for integrated circuits | |
JP6459806B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
JP2010185677A (en) | Device and method for measuring power supply current | |
JP2006208067A (en) | Semiconductor device | |
JP3531577B2 (en) | Semiconductor inspection equipment | |
JP4793184B2 (en) | Voltage generator | |
JP2010093577A (en) | Semiconductor integrated circuit and method for testing the same |