JP2008015228A - Liquid crystal device and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device for displaying of high picture quality and wide viewing angle in both of reflection display and transmission display with respect to a transflective liquid crystal device using an in-plain switching mode. <P>SOLUTION: The liquid crystal device is the transflective liquid crystal device using an in-plain switching mode, wherein an alignment direction 151 of an alignment film disposed on a transmission display region T and an alignment direction 152 of an alignment film disposed on a reflection display region R are different from each other and a light shielding layer 60 is disposed so as to superimpose the boundary part of both regions. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to a liquid crystal device and an electronic apparatus.

液晶装置においては、構成されている液晶分子の傾きに方向性があるため、表示素子を見る方向によって表示色やコントラストが変化するなどといった視野角依存性が問題となっている。これを改善する方法としては、液晶層に基板面方向の電界を作用させて液晶分子の配向制御を行う方式(以下、横電界方式と称する。)が知られており、前記電界を生じさせる電極の形態によりIPS(In-Plane Switching)方式、FFS(Fringe-Field Switching)方式等と呼ばれるものが知られている。また最近では、横電界方式による広視野角化を目的として、半透過反射型の液晶装置に横電界方式を適用することが提案されている(例えば特許文献1参照)。
特開2005−196176号公報
In the liquid crystal device, since the tilt of the liquid crystal molecules is directional, there is a problem of viewing angle dependency such as a change in display color and contrast depending on the viewing direction of the display element. As a method for improving this, there is known a method for controlling the alignment of liquid crystal molecules by applying an electric field in the direction of the substrate surface to the liquid crystal layer (hereinafter referred to as a transverse electric field method), and an electrode for generating the electric field. There are known what is called an IPS (In-Plane Switching) system, an FFS (Fringe-Field Switching) system, and the like. Recently, for the purpose of widening the viewing angle by the horizontal electric field method, it has been proposed to apply the horizontal electric field method to a transflective liquid crystal device (see, for example, Patent Document 1).
JP 2005-196176 A

半透過反射型の液晶装置に横電界方式を採用する場合、透過表示領域と反射表示領域とで偏光モードが異なるため、適切な表示を得るために前記両領域の液晶の配向を異ならせ、偏光モードを同じにする必要がある。このような構造は、配向分割と呼ばれる手法を採用することで実現できる。配向分割を行う方法としては、レジストマスクを用いて領域毎に複数回に分けてラビングを行うマスクラビングと呼ばれる方法が従来から知られている。また最近では、ラビングを行わない液晶配向制御技術、とりわけ偏光された光を基板上に設けられた塗膜に照射して液晶配向性を生じさせる光配向法が簡便であることから注目されており、この光配向法を用いた配向分割の方法も検討されている。   When the transflective liquid crystal device adopts the horizontal electric field method, the polarization mode is different between the transmissive display area and the reflective display area. The mode must be the same. Such a structure can be realized by adopting a technique called orientation division. As a method for performing alignment division, a method called mask rubbing in which rubbing is performed in a plurality of times for each region using a resist mask is conventionally known. In recent years, liquid crystal alignment control technology without rubbing, in particular, a photo alignment method that generates liquid crystal alignment by irradiating polarized light onto a coating film provided on a substrate has attracted attention. Also, an alignment dividing method using this photo-alignment method has been studied.

しかしながら、上述の手法により配向分割を行なった場合、その配向処理の境界部の位置、すなわち配向分割用のマスクの位置がずれると、反射表示領域と透過表示領域との境界部で白黒反転が生じ、コントラストの低下を生じる場合がある。また、配向分割を行った場合、それらの領域の境界部では液晶の配向方向が異なることから、両領域の境界部の液晶に配向の乱れが生じ、表示のコントラストを低下させることが問題となっている。   However, when alignment division is performed by the above-described method, if the position of the alignment processing boundary, that is, the position of the alignment division mask is shifted, black and white inversion occurs at the boundary between the reflective display area and the transmissive display area. In some cases, the contrast is lowered. In addition, when the alignment is divided, the alignment direction of the liquid crystal is different at the boundary between these regions. Therefore, the alignment disorder occurs in the liquid crystal at the boundary between the two regions, and the display contrast is lowered. ing.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、液晶の配向を領域毎に異ならせる配向分割の手法を採用した場合に、その境界部での表示の乱れを防止し、高品質且つ高コントラストな表示を実現できる液晶装置及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and in the case of adopting an alignment division method in which the alignment of the liquid crystal is different for each region, the display is prevented from being disturbed at the boundary portion, and has high quality. It is another object of the present invention to provide a liquid crystal device and an electronic apparatus that can realize high-contrast display.

上記の課題を解決するため、本発明の液晶装置は、第1電極及び第2電極が設けられた第1基板と、前記第1基板と対向する第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に挟持され、前記第1電極と前記第2電極との間に生じる電界によって駆動される液晶と、前記第1基板及び前記第2基板の前記液晶側の面に設けられた配向膜と、前記配向膜に設けられ、互いに異なる方向に液晶を配向させる複数の配向領域と、前記互いに配向方向の異なる配向領域同士の境界部と重なるように設けられた遮光層と、を有することを特徴とする。   In order to solve the above problems, a liquid crystal device of the present invention includes a first substrate provided with a first electrode and a second electrode, a second substrate facing the first substrate, the first substrate, and the first substrate. A liquid crystal sandwiched between two substrates and driven by an electric field generated between the first electrode and the second electrode, and provided on the liquid crystal side surface of the first substrate and the second substrate. An alignment film, a plurality of alignment regions that are provided in the alignment film and align liquid crystals in different directions, and a light-shielding layer that is provided so as to overlap a boundary portion between the alignment regions having different alignment directions. It is characterized by that.

この構成によれば、配向領域の境界部に遮光層が設けられているため、各配向領域の配向処理に位置ずれが生じ、その境界部で光漏れが生じても、その光漏れを遮光層によって確実に遮光することができる。また、配向膜内に配向方向の異なる複数の配向領域を設けた場合、その境界部で配向の乱れが生じ、光漏れが生じる場合があるが、そのような光漏れも遮光層で確実に遮光することができる。   According to this configuration, since the light shielding layer is provided at the boundary portion of the alignment region, even if a positional shift occurs in the alignment process of each alignment region and light leakage occurs at the boundary portion, the light leakage is prevented from occurring. Thus, light can be reliably shielded. In addition, when a plurality of alignment regions having different alignment directions are provided in the alignment film, the alignment may be disturbed at the boundary and light leakage may occur. can do.

本発明においては、前記複数の配向領域は、前記配向膜を形成する配向膜材料に光を照射し、前記配向膜材料の分子に再配列又は異方的な化学反応を誘起させる光配向処理により形成されていることによって形成されていることが望ましい。   In the present invention, the plurality of alignment regions are irradiated with light to the alignment film material forming the alignment film, and are subjected to a photo-alignment process that induces rearrangement or anisotropic chemical reaction in the molecules of the alignment film material. It is desirable that it is formed by being formed.

光配向処理とは、光反応性を持つ有機薄膜(配向膜材料)を基板上に形成し、偏向紫外線等の照射により膜内の分子を一方向に配列させて配向機能を持たせる配向処理をいう。この光配向処理は、配向膜材料中の光配向機能を発現させる光配向性基、例えばシンナモイル基、クマリン基、カルコン基、ベンゾフェノン基等の光二量化によるもの、アゾ基等の光異性化によるもの、ポリイミド樹脂等の光分解によるもの等が報告されている。光配向処理は、基板に非接触で配向処理を行なうため、ラビング等の接触式の配向処理に比べて埃の付着や静電気の発生などによるTFTの破損等が生じず、それに伴う表示特性の低下も避けることができる。また、照射する光の偏光方向等を配向領域毎に変えることで容易に配向分割を行なうことができる。   Photo-alignment treatment is an alignment treatment in which an organic thin film (orientation film material) with photoreactivity is formed on a substrate and molecules in the film are aligned in one direction by irradiation with polarized ultraviolet rays or the like to provide an alignment function. Say. This photo-alignment treatment is based on photo-dimerization of photo-alignment groups such as cinnamoyl group, coumarin group, chalcone group, benzophenone group, etc., and photo-isomerization of azo group, etc. that express the photo-alignment function in the alignment film material. There are reports of photodecomposition of polyimide resin and the like. Since the alignment process is performed without contact with the substrate, the optical alignment process does not cause TFT damage due to dust adhesion or generation of static electricity compared to the contact type alignment process such as rubbing, resulting in a decrease in display characteristics. Can also be avoided. Further, the alignment division can be easily performed by changing the polarization direction of the irradiated light for each alignment region.

本発明においては、前記互いに配向方向の異なる配向領域は、それぞれ反射表示を行なう反射表示領域と、透過表示を行なう透過表示領域とに対応しているものとすることができる。   In the present invention, the alignment regions having different alignment directions may correspond to a reflective display region for performing reflective display and a transmissive display region for performing transmissive display, respectively.

この構成によれば、反射表示領域と透過表示領域を備えた半透過反射型の液晶装置においてコントラストの高い画像表示が可能になる。   According to this configuration, it is possible to display an image with high contrast in a transflective liquid crystal device including a reflective display region and a transmissive display region.

なお、本明細書において、「反射表示領域」とは、液晶装置の表示面側から入射する光(外光或いはフロントライトからの光)を利用した表示が可能な領域をいい、「透過表示領域」とは、液晶装置の背面側(前記表示面と反対側)から入射する光(バックライトからの光)を利用した表示が可能な領域をいう。   In this specification, the “reflective display area” refers to an area in which display using light incident from the display surface side of the liquid crystal device (external light or light from the front light) is possible. "" Refers to an area in which display using light (light from a backlight) incident from the back side (the side opposite to the display surface) of the liquid crystal device is possible.

本発明においては、前記第1電極及び前記第2電極は、それぞれ1本又は複数本の帯状電極を備えており、前記第1電極の帯状電極と前記第2電極の帯状電極とは、前記反射表示領域及び前記透過表示領域のそれぞれの領域内で互いに平行に配置されており、前記反射表示領域における前記帯状電極の延在方向と前記透過表示領域における前記帯状電極の延在方向とは、互いに異なる方向であるものとすることができる。   In the present invention, each of the first electrode and the second electrode includes one or a plurality of strip electrodes, and the strip electrode of the first electrode and the strip electrode of the second electrode are the reflection electrodes. The display area and the transmissive display area are arranged in parallel to each other, and the extending direction of the strip electrode in the reflective display area and the extending direction of the strip electrode in the transmissive display area are mutually It can be in different directions.

この構成によれば、透過表示領域における前記電界の方向と反射表示領域における前記電界の方向とを容易に異ならせることができる。前述のように、半透過反射型の液晶装置では、表示光が液晶層を透過する回数が透過表示領域と反射表示領域とで異なるため、適切な表示を得るためには前記両領域の液晶の配向を異ならせる必要がある。本発明では、反射表示領域と透過表示領域とで電界の方向、すなわち液晶の配向方向が異なるため、これを適切に制御することにより、光の変調量を反射表示領域と透過表示領域とで合わせ込むことができる。また、電極形状のみで実現できるため、簡便な工程で安価に製造できるという利点も得られる。   According to this configuration, the direction of the electric field in the transmissive display region and the direction of the electric field in the reflective display region can be easily made different. As described above, in the transflective liquid crystal device, the number of times display light passes through the liquid crystal layer differs between the transmissive display area and the reflective display area. The orientation needs to be different. In the present invention, the direction of the electric field, that is, the alignment direction of the liquid crystal is different between the reflective display area and the transmissive display area. By appropriately controlling this, the amount of light modulation is adjusted between the reflective display area and the transmissive display area. Can be included. Moreover, since it is realizable only with an electrode shape, the advantage that it can manufacture at low cost with a simple process is also acquired.

本発明においては、前記遮光層は前記第2基板上に設けられていることが望ましい。また、遮光層はCr等の金属によって形成されていることが望ましい。   In the present invention, it is desirable that the light shielding layer is provided on the second substrate. The light shielding layer is preferably made of a metal such as Cr.

遮光層を遮光性能の高いCr等の金属によって形成することで、コントラストの高い表示が可能となる。また、遮光層を第2基板上に設けた場合、この遮光層によって第1電極と第2電極との間の電界に歪みが生じることがないので、表示品質に優れた液晶装置が提供される。   By forming the light shielding layer with a metal such as Cr having a high light shielding performance, display with high contrast becomes possible. Further, when the light shielding layer is provided on the second substrate, the light shielding layer does not cause distortion in the electric field between the first electrode and the second electrode, so that a liquid crystal device having excellent display quality is provided. .

本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶装置を備えたことを特徴とする。   An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described liquid crystal device according to the present invention.

この構成によれば、高画質、広視野角の反射表示及び透過表示が可能な表示部を具備した電子機器が提供される。   According to this configuration, it is possible to provide an electronic apparatus including a display unit capable of high image quality, wide viewing angle reflection display and transmission display.

以下、本発明の一実施形態に係る液晶装置について図面を参照して説明する。本実施形態の液晶装置は、液晶に対して基板面方向の電界(横電界)を作用させ、配向を制御することにより画像表示を行う横電界方式のうち、IPS(In-Plane Switching)方式と呼ばれる方式を採用した液晶装置である。なお、各実施形態で参照する図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示している。   Hereinafter, a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The liquid crystal device according to the present embodiment has an IPS (In-Plane Switching) method among horizontal electric field methods in which an electric field (transverse electric field) in the direction of the substrate surface is applied to liquid crystal and image alignment is controlled. This is a liquid crystal device that employs a so-called method. In the drawings referred to in each embodiment, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.

本実施形態の液晶装置は、基板上にカラーフィルタを具備したカラー液晶装置であり、R(赤)、G(緑)、B(青)の各色光を出力する3個のサブ画素で1個の画素を構成するものとなっている。したがって表示を構成する最小単位となる表示領域を「サブ画素領域」と称する。また、一組(R,G,B)のサブ画素から構成される表示領域を「画素領域」と称する。   The liquid crystal device of the present embodiment is a color liquid crystal device having a color filter on a substrate, one for each of three sub-pixels that output R (red), G (green), and B (blue) light. This constitutes the pixel. Therefore, a display area that is a minimum unit constituting the display is referred to as a “sub-pixel area”. A display area composed of a set (R, G, B) of sub-pixels is referred to as a “pixel area”.

図1は、本実施形態の液晶装置を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素領域の回路構成図である。図2は、液晶装置100の任意の1サブ画素領域における平面構成図である。図3は、図2のA−A'線に沿う部分断面構成図である。   FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a plurality of sub-pixel regions formed in a matrix that constitutes the liquid crystal device of the present embodiment. FIG. 2 is a plan configuration diagram in an arbitrary one sub-pixel region of the liquid crystal device 100. FIG. 3 is a partial cross-sectional configuration diagram taken along the line AA ′ in FIG. 2.

図1に示すように、液晶装置100の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素領域には、それぞれ画素電極9と画素電極9をスイッチング制御するためのTFT30とが形成されており、データ線駆動回路101から延びるデータ線6aがTFT30のソースに電気的に接続されている。データ線駆動回路101は、画像信号S1、S2、…、Snをデータ線6aを介して各画素に供給する。前記画像信号S1〜Snはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしても良い。   As shown in FIG. 1, a pixel electrode 9 and a TFT 30 for switching control of the pixel electrode 9 are formed in a plurality of sub-pixel areas formed in a matrix that constitutes an image display area of the liquid crystal device 100. The data line 6 a extending from the data line driving circuit 101 is electrically connected to the source of the TFT 30. The data line driving circuit 101 supplies the image signals S1, S2,..., Sn to each pixel via the data line 6a. The image signals S1 to Sn may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a.

また、TFT30のゲートには、走査線駆動回路102から延びる走査線3aが電気的に接続されており、走査線駆動回路102から所定のタイミングで走査線3aにパルス的に供給される走査信号G1、G2、…、Gmが、この順に線順次でTFT30のゲートに印加されるようになっている。画素電極9は、TFT30のドレインに電気的に接続されている。スイッチング素子であるTFT30が走査信号G1、G2、…、Gmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snが所定のタイミングで画素電極9に書き込まれるようになっている。   Further, the scanning line 3a extending from the scanning line driving circuit 102 is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the scanning signal G1 is supplied from the scanning line driving circuit 102 to the scanning line 3a in a pulse manner at a predetermined timing. , G2,..., Gm are applied to the gate of the TFT 30 in the order of lines in this order. The pixel electrode 9 is electrically connected to the drain of the TFT 30. The TFT 30 serving as a switching element is turned on for a certain period by the input of scanning signals G1, G2,..., Gm, so that the image signals S1, S2,. Writing is performed on the pixel electrode 9.

画素電極9を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、…、Snは、画素電極9と液晶を介して対向する共通電極との間で一定期間保持される。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極9と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70が付与されている。蓄積容量70はTFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。   Image signals S1, S2,..., Sn written to the liquid crystal via the pixel electrode 9 are held for a certain period between the pixel electrode 9 and the common electrode opposed via the liquid crystal. Here, in order to prevent the held image signal from leaking, a storage capacitor 70 is provided in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9 and the common electrode. The storage capacitor 70 is provided between the drain of the TFT 30 and the capacitor line 3b.

次に、図2及び図3を参照して液晶装置100の詳細な構成について説明する。まず、液晶装置100は、図3に示すようにTFTアレイ基板(第1基板)10と対向基板(第2基板)20との間に液晶層50を挟持した構成を備えており、液晶層50は、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向する領域の縁端に沿って設けられた図示略のシール材によって基板10,20間に封止されている。対向基板20の背面側(図示下面側)には、導光板91、反射板92及び光源93を具備したバックライト(照明装置)90が設けられている。   Next, a detailed configuration of the liquid crystal device 100 will be described with reference to FIGS. First, the liquid crystal device 100 has a configuration in which a liquid crystal layer 50 is sandwiched between a TFT array substrate (first substrate) 10 and a counter substrate (second substrate) 20 as shown in FIG. Is sealed between the substrates 10 and 20 by a sealing material (not shown) provided along the edge of the region where the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 face each other. A backlight (illuminating device) 90 including a light guide plate 91, a reflecting plate 92, and a light source 93 is provided on the back side (the lower side in the drawing) of the counter substrate 20.

図2に示すように、液晶装置100のサブ画素領域には、サブ画素領域の長手方向に当たるY軸方向に延びるデータ線6aと、サブ画素領域の短手方向に当たるX軸方向に延びる走査線3a及び容量線3bとが平面視略格子状に配線されており、これらデータ線6a、走査線3a、及び容量線3bに囲まれる平面視略矩形状の領域に、平面視略櫛歯状を成してY軸方向に延びる画素電極(第1電極)9と、この画素電極9と噛み合う平面視略櫛歯状を成してY軸方向に延びる共通電極(第2電極)19とが形成されている。サブ画素領域の外側におけるデータ線6aと走査線3aとの交差部の近傍に当たる図示左上の角部には、TFTアレイ基板10と対向基板20とを所定間隔で離間させて液晶層厚(セルギャップ)を一定に保持するための柱状スペーサ40が立設されている。   As shown in FIG. 2, in the sub-pixel region of the liquid crystal device 100, a data line 6a extending in the Y-axis direction corresponding to the longitudinal direction of the sub-pixel region and a scanning line 3a extending in the X-axis direction corresponding to the short-side direction of the sub-pixel region. And the capacitor line 3b are wired in a substantially lattice shape in a plan view, and a substantially comb-like shape in a plan view is formed in a substantially rectangular region in plan view surrounded by the data line 6a, the scanning line 3a, and the capacitor line 3b. Thus, a pixel electrode (first electrode) 9 extending in the Y-axis direction and a common electrode (second electrode) 19 extending in the Y-axis direction in a substantially comb-like shape in plan view and meshing with the pixel electrode 9 are formed. ing. The TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are spaced apart from each other at a predetermined interval in the upper left corner of the figure, which is in the vicinity of the intersection of the data line 6a and the scanning line 3a outside the sub-pixel region, and the liquid crystal layer thickness (cell gap) Columnar spacers 40 are erected in order to maintain a constant value.

サブ画素領域には、当該サブ画素領域とほぼ同一の平面形状を有するカラーフィルタ22が設けられている。また、サブ画素領域の略半分を占める領域であって、TFT30が設けられた側とは反対側の領域(画素電極9及び共通電極19の延在領域の概略図示下半分の平面領域)には、反射層29が設けられている。反射層29は、アルミニウムや銀などの光反射性の金属膜をパターン形成したものである。図2に示すように、画素電極9及び共通電極19に囲まれた平面領域のうち、反射層29とが平面的に重なる平面領域が当該サブ画素領域の反射表示領域Rであり、残る領域が透過表示領域Tである。反射層29としては、その表面に凹凸を形成して光散乱性を付与したものを用いることが好ましく、かかる構成とすることで反射表示における視認性を向上させることができる。   A color filter 22 having substantially the same planar shape as the sub pixel area is provided in the sub pixel area. In addition, an area that occupies approximately half of the sub-pixel area and that is opposite to the side where the TFT 30 is provided (planar area in the lower half of the extended area of the pixel electrode 9 and the common electrode 19). A reflective layer 29 is provided. The reflective layer 29 is formed by patterning a light reflective metal film such as aluminum or silver. As shown in FIG. 2, among the planar regions surrounded by the pixel electrode 9 and the common electrode 19, the planar region that overlaps with the reflective layer 29 is the reflective display region R of the subpixel region, and the remaining region is This is a transmissive display area T. As the reflective layer 29, it is preferable to use a surface provided with irregularities on the surface thereof to impart light scattering properties. With such a configuration, the visibility in reflective display can be improved.

画素電極9は、データ線6a及び容量線3bに沿って延びる概略L形の基端部9aと、この基端部9aから分岐されてX軸方向に沿って延びる複数本(図示では3本)の帯状電極9cと、帯状電極9cの延在方向に対して斜め方向に延びる複数本(図示では2本)の帯状電極9dと、容量線3b近傍の基端部9aから延出されたコンタクト部9bとを備えて構成されている。画素電極9は、ITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電材料をパターン形成してなる電極部材である。   The pixel electrode 9 has a substantially L-shaped base end portion 9a extending along the data line 6a and the capacitor line 3b, and a plurality (three in the drawing) extending from the base end portion 9a and extending along the X-axis direction. Strip electrode 9c, a plurality (two in the drawing) strip electrode 9d extending in an oblique direction with respect to the extending direction of strip electrode 9c, and a contact portion extending from base end portion 9a in the vicinity of capacitance line 3b 9b. The pixel electrode 9 is an electrode member formed by patterning a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide).

共通電極19は、走査線3aと平面的に重なる位置に形成されてX軸方向に延在する本線部19aと、本線部19aから延出されてサブ画素領域の辺端部に沿うY軸方向に延在する基端部19bと、基端部19bから延出された2本の帯状電極19c及び3本の帯状電極19dとを備えて構成されている。2本の帯状電極19cは、前記画素電極9の帯状電極9cと交互に配置され、これらの帯状電極9cと平行に延びている。一方、3本の帯状電極19dは、図示斜め方向に延びる前記帯状電極9dと交互に配置され、これらの帯状電極9dと平行に延びている。共通電極19も、ITO等の透明導電材料を用いて形成されている。なお、画素電極9及び共通電極19は、上記透明導電材料のほか、クロム等の金属材料を用いて形成することもできる。   The common electrode 19 is formed at a position overlapping the scanning line 3a in a plane and extends in the X-axis direction, and the main line portion 19a extends in the X-axis direction, and extends in the Y-axis direction along the side edge portion of the sub-pixel region. A base end 19b extending from the base end 19b, and two strip electrodes 19c and three strip electrodes 19d extending from the base end 19b. The two strip electrodes 19c are alternately arranged with the strip electrodes 9c of the pixel electrode 9, and extend in parallel to the strip electrodes 9c. On the other hand, the three strip-shaped electrodes 19d are alternately arranged with the strip-shaped electrodes 9d extending in the oblique direction in the figure, and extend in parallel with these strip-shaped electrodes 9d. The common electrode 19 is also formed using a transparent conductive material such as ITO. The pixel electrode 9 and the common electrode 19 can be formed using a metal material such as chromium in addition to the transparent conductive material.

各サブ画素領域では、画素電極9及び共通電極19を構成する帯状電極9c、9d、19c、19dの延在方向が、反射表示領域Rと透過表示領域Tとで異なる方向となっている。すなわち、透過表示領域Tに配置された帯状電極9c、19cが、X軸方向に平行に延びて形成される一方、反射表示領域Rに配置された帯状電極9d、19dは、帯状電極9c、19cと交差する方向(斜め方向)に延びて形成されている。   In each sub-pixel region, the extending directions of the strip electrodes 9c, 9d, 19c, 19d constituting the pixel electrode 9 and the common electrode 19 are different in the reflective display region R and the transmissive display region T. That is, the strip electrodes 9c and 19c disposed in the transmissive display region T are formed to extend in parallel with the X-axis direction, while the strip electrodes 9d and 19d disposed in the reflective display region R are the strip electrodes 9c and 19c. And extending in a direction (diagonal direction) intersecting with.

図2に示すサブ画素領域では、X軸方向に延びる5本の帯状電極9c、9dと、これらの帯状電極9c、9dの間に配置された5本の帯状電極19c、19dとの間に電圧を印加し、それにより生じるXY面方向(基板平面方向)の電界(横電界)により液晶を駆動するようになっている。さらに、画素電極9及び共通電極19が上述した構成とされているので、電圧印加時には透過表示領域Tと反射表示領域Rのそれぞれに異なる方向の横電界が形成されるようになっている。   In the sub-pixel region shown in FIG. 2, a voltage is generated between the five strip electrodes 9c and 9d extending in the X-axis direction and the five strip electrodes 19c and 19d disposed between the strip electrodes 9c and 9d. Is applied, and the liquid crystal is driven by an electric field (lateral electric field) in the XY plane direction (substrate plane direction) generated thereby. Further, since the pixel electrode 9 and the common electrode 19 are configured as described above, lateral electric fields in different directions are formed in the transmissive display region T and the reflective display region R when a voltage is applied.

TFT30は、X軸方向に延びるデータ線6aと、Y軸方向に延びる走査線3aとの交差部近傍に設けられており、走査線3aの平面領域内に部分的に形成された島状のアモルファスシリコン膜からなる半導体層35と、半導体層35と一部平面的に重なって形成されたソース電極6b、及びドレイン電極32とを備えている。走査線3aは半導体層35と平面的に重なる位置でTFT30のゲート電極として機能する。   The TFT 30 is provided near the intersection of the data line 6a extending in the X-axis direction and the scanning line 3a extending in the Y-axis direction, and is an island-like amorphous partly formed in the plane region of the scanning line 3a. A semiconductor layer 35 made of a silicon film, a source electrode 6b formed partially overlapping the semiconductor layer 35 in a plan view, and a drain electrode 32 are provided. The scanning line 3 a functions as a gate electrode of the TFT 30 at a position overlapping the semiconductor layer 35 in plan view.

TFT30のソース電極6bは、データ線6aから分岐されて半導体層35に延びる平面視略逆L形の配線である。ドレイン電極32は、その−Y側の端部においてサブ画素領域辺端に沿って延びる接続配線31aと電気的に接続されており、当該接続配線31aを介して、サブ画素領域の反対側の端縁部に形成された容量電極31と電気的に接続されている。容量電極31は、容量線3bと平面的に重なって形成された平面視略矩形状の導電部材であり、容量電極31上に画素電極9のコンタクト部9bが平面的に重なって配置され、同位置に設けられた画素コンタクトホール45を介して容量電極31と画素電極9とが電気的に接続されている。また、容量電極31と容量線3bとが平面的に重なる領域に、これら容量電極31及び容量線3bを電極とする蓄積容量70が形成されている。   The source electrode 6 b of the TFT 30 is a substantially inverted L-shaped wiring in plan view that branches from the data line 6 a and extends to the semiconductor layer 35. The drain electrode 32 is electrically connected to the connection wiring 31a extending along the side edge of the sub-pixel region at the −Y side end, and the end on the opposite side of the sub-pixel region through the connection wiring 31a. The capacitor electrode 31 formed at the edge is electrically connected. The capacitor electrode 31 is a conductive member having a substantially rectangular shape in a plan view formed so as to overlap with the capacitor line 3b in a plan view, and the contact portion 9b of the pixel electrode 9 is disposed on the capacitor electrode 31 so as to overlap with the plane. The capacitor electrode 31 and the pixel electrode 9 are electrically connected through a pixel contact hole 45 provided at the position. In addition, a storage capacitor 70 having the capacitor electrode 31 and the capacitor line 3b as electrodes is formed in a region where the capacitor electrode 31 and the capacitor line 3b overlap in a plane.

透過表示領域Tと反射表示領域Rとの境界部には、遮光層60が設けられている。遮光層60は、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの境界部と平面視で重なるようにX軸方向に沿って設けられている。図2において遮光層60はX軸に沿ってストライプ状に形成されているが、さらにサブ画素領域の外周部に沿って格子状に形成しても良い。   A light shielding layer 60 is provided at the boundary between the transmissive display region T and the reflective display region R. The light shielding layer 60 is provided along the X-axis direction so as to overlap the boundary portion between the transmissive display region T and the reflective display region R in plan view. In FIG. 2, the light shielding layer 60 is formed in a stripe shape along the X axis, but may be formed in a lattice shape along the outer peripheral portion of the sub-pixel region.

次に、図3に示す断面構造をみると、互いに対向して配置されたTFTアレイ基板10と対向基板20との間に液晶層50が挟持されている。TFTアレイ基板10の外面側(液晶層50と反対側)には、位相差板16と偏光板14とが順に積層されており、対向基板20の外面側には、偏光板24が配設されている。位相差板16は、透過光に対して略1/4波長の位相差を付与するλ/4位相差板である。位相差板16を設けることで、透過表示領域Tと反射表示領域Rのリタデーションを調整でき、これにより、反射表示及び透過表示の表示特性を例えばノーマリーブラックに揃えることができる。   Next, looking at the cross-sectional structure shown in FIG. 3, the liquid crystal layer 50 is sandwiched between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 that are arranged to face each other. A retardation plate 16 and a polarizing plate 14 are sequentially laminated on the outer surface side of the TFT array substrate 10 (on the side opposite to the liquid crystal layer 50), and a polarizing plate 24 is disposed on the outer surface side of the counter substrate 20. ing. The phase difference plate 16 is a λ / 4 phase difference plate that gives a phase difference of approximately ¼ wavelength to transmitted light. By providing the phase difference plate 16, the retardation of the transmissive display area T and the reflective display area R can be adjusted, whereby the display characteristics of the reflective display and the transmissive display can be aligned to, for example, normally black.

TFTアレイ基板10は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板本体10Aを基体としてなり、基板本体10Aの内面側(液晶層50側)には、アルミニウムや銀等の金属膜からなる反射層29がサブ画素領域内で部分的に形成されている。反射層29を覆って、酸化シリコン等の透明絶縁材料からなる第1層間絶縁膜12が形成されている。第1層間絶縁膜12上に、走査線3a及び容量線3bが形成されており、走査線3a及び容量線3bを覆って、酸化シリコン等の透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜11が形成されている。   The TFT array substrate 10 has a translucent substrate body 10A such as glass, quartz, or plastic as a base, and the inner surface side (the liquid crystal layer 50 side) of the substrate body 10A is a reflection made of a metal film such as aluminum or silver. A layer 29 is partially formed in the sub-pixel region. A first interlayer insulating film 12 made of a transparent insulating material such as silicon oxide is formed so as to cover the reflective layer 29. On the first interlayer insulating film 12, a scanning line 3a and a capacitor line 3b are formed, and a gate insulating film 11 made of a transparent insulating material such as silicon oxide is formed to cover the scanning line 3a and the capacitor line 3b. Yes.

ゲート絶縁膜11上に、アモルファスシリコンの半導体層35が形成されており、半導体層35に一部乗り上げるようにしてソース電極6bと、ドレイン電極32とが設けられており、これらソース電極6b及びドレイン電極32と同層の容量線3bと対向する位置に容量電極31が形成されている。ドレイン電極32は、図2に示したように、接続配線31a及び容量電極31と一体に形成されている。半導体層35は、ゲート絶縁膜11を介して走査線3aと対向しており、当該対向領域で走査線3aがTFT30のゲート電極を構成している。容量電極31はこれに対向する容量線3bとともに、ゲート絶縁膜11をその誘電体膜とする蓄積容量70を形成している。   A semiconductor layer 35 made of amorphous silicon is formed on the gate insulating film 11, and a source electrode 6b and a drain electrode 32 are provided so as to partially run over the semiconductor layer 35. The source electrode 6b and the drain electrode A capacitive electrode 31 is formed at a position facing the capacitive line 3 b in the same layer as the electrode 32. As shown in FIG. 2, the drain electrode 32 is formed integrally with the connection wiring 31 a and the capacitor electrode 31. The semiconductor layer 35 is opposed to the scanning line 3 a via the gate insulating film 11, and the scanning line 3 a constitutes the gate electrode of the TFT 30 in the facing region. The capacitor electrode 31 and the capacitor line 3b facing the capacitor electrode 31 form a storage capacitor 70 having the gate insulating film 11 as its dielectric film.

半導体層35、ソース電極6b、ドレイン電極32、及び容量電極31を覆って、酸化シリコン等からなる第2層間絶縁膜13が形成されており、第2層間絶縁膜13上に、ITO等の透明導電材料からなる画素電極9及び共通電極19が形成されている。第2層間絶縁膜13を貫通して容量電極31に達する画素コンタクトホール45が形成されており、この画素コンタクトホール45内に画素電極9のコンタクト部9bが一部埋設されることで、画素電極9と容量電極31とが電気的に接続されている。透過表示領域T及び反射表示領域Rには、帯状電極9c、9dと、帯状電極19c、19dとが交互に配置されており、共通電極19の本線部19aは、半導体層35、ソース電極6b、及びドレイン電極32と第2層間絶縁膜13を介して対向する位置に形成されている。画素電極9及び共通電極19を覆って、配向膜18が形成されている。   A second interlayer insulating film 13 made of silicon oxide or the like is formed so as to cover the semiconductor layer 35, the source electrode 6 b, the drain electrode 32, and the capacitor electrode 31, and a transparent material such as ITO is formed on the second interlayer insulating film 13. A pixel electrode 9 and a common electrode 19 made of a conductive material are formed. A pixel contact hole 45 that reaches the capacitor electrode 31 through the second interlayer insulating film 13 is formed, and a part of the contact portion 9b of the pixel electrode 9 is embedded in the pixel contact hole 45, whereby the pixel electrode 9 and the capacitor electrode 31 are electrically connected. In the transmissive display region T and the reflective display region R, strip electrodes 9c and 9d and strip electrodes 19c and 19d are alternately arranged. The main line portion 19a of the common electrode 19 includes the semiconductor layer 35, the source electrode 6b, And the drain electrode 32 and the second interlayer insulating film 13 so as to face each other. An alignment film 18 is formed so as to cover the pixel electrode 9 and the common electrode 19.

配向膜18は、光反応性を持つ有機薄膜(配向膜材料)を基板上に形成し、偏向紫外線等を照射することにより、膜内の分子を一方向に配列させて配向機能を持たせたものである。この光配向処理としては、配向膜材料中の光配向機能を発現させる光配向性基、例えばシンナモイル基、クマリン基、カルコン基、ベンゾフェノン基等の光二量化によるもの、アゾ基等の光異性化によるもの、ポリイミド樹脂等の光分解によるもの等を用いることができる。また、特開2006−018106号公報、特開2002−250924号公報、特開平11−12242号公報又は特開2005−173548号公報に開示されたように非偏光紫外線を照射することにより配向膜材料の再配列を行う公知の配向膜材料及び光配向処理を用いることもできる。   The alignment film 18 is formed with a photoreactive organic thin film (alignment film material) on a substrate and irradiated with polarized ultraviolet rays, etc., so that molecules in the film are aligned in one direction to have an alignment function. Is. As this photo-alignment treatment, a photo-alignment group that develops a photo-alignment function in the alignment film material, for example, by photodimerization of cinnamoyl group, coumarin group, chalcone group, benzophenone group, etc., by photoisomerization of azo group, etc. And those obtained by photolysis of polyimide resin or the like can be used. Further, as disclosed in JP-A-2006-018106, JP-A-2002-250924, JP-A-11-12242, or JP-A-2005-173548, an alignment film material is irradiated by irradiating non-polarized ultraviolet rays. It is also possible to use a known alignment film material for performing rearrangement and photo-alignment treatment.

図4は、光配向処理装置の一例である偏光露光装置80の概略斜視図である。この偏光露光装置80は、放電容器にキセノンと塩素の混合ガスを封入した棒状の誘電体エキシマ放電ランプ81と、該ランプ81から放射される紫外光を反射する断面が楕円形の樋状集光鏡82と、該ランプ81の発光長と同じかやや長い一辺を持つ長方形状の偏光子83と、露光マスク84とを備えている。ここで、ランプ81は、その長手方向が樋状集光鏡82の長手方向と一致するように配置されており、また断面楕円形状の樋状集光鏡82の第1焦点に位置するように配置されている。また、偏光子83は、その長手方向が、ランプ81の長手方向と一致するように配置されている。また、上記樋状集光鏡82の第2焦点(偏光光が最高照度となる位置)には、被照射物として、TFTアレイ基板10が配置されている。   FIG. 4 is a schematic perspective view of a polarization exposure apparatus 80 which is an example of a photo-alignment processing apparatus. This polarization exposure apparatus 80 includes a rod-shaped dielectric excimer discharge lamp 81 in which a mixed gas of xenon and chlorine is sealed in a discharge vessel, and a bowl-shaped condensing light whose ultraviolet light emitted from the lamp 81 is reflected in an elliptic shape. A mirror 82, a rectangular polarizer 83 having one side that is the same or slightly longer than the light emission length of the lamp 81, and an exposure mask 84 are provided. Here, the lamp 81 is arranged so that its longitudinal direction coincides with the longitudinal direction of the bowl-shaped condenser mirror 82, and is positioned at the first focal point of the bowl-shaped condenser mirror 82 having an elliptical cross section. Has been placed. Further, the polarizer 83 is arranged so that its longitudinal direction coincides with the longitudinal direction of the lamp 81. In addition, a TFT array substrate 10 is disposed as an irradiation object at the second focal point (position where the polarized light has the highest illuminance) of the bowl-shaped condenser mirror 82.

ここで、TFTアレイ基板10の表面には、配向膜材料18Aが形成されている。配向膜材料18Aとしては、例えば、上述した光二量化反応によって分子の配向方向を制御できる材料が用いられる。マスク84及び偏光子83は、それぞれ透過表示領域用と反射表示領域用の2種類が用意される。透過表示領域用のマスク84Tは、TFTアレイ基板10の透過表示領域に光透過部を有するマスクであり、反射表示領域用のマスク84Rは、TFTアレイ基板10の反射表示領域に光透過部を有するマスクである。また、透過表示領域用の偏光子83Tは、Y軸に対して所定の角度の偏光方向を有する光成分のみを透過する偏光子であり、反射表示領域用の偏光子83Rは、透過表示領域用偏光子83Tの偏光方向とは異なる偏光方向を有する光成分のみを透過する偏光子である。   Here, an alignment film material 18 </ b> A is formed on the surface of the TFT array substrate 10. As the alignment film material 18A, for example, a material that can control the alignment direction of molecules by the above-described photodimerization reaction is used. Two types of masks 84 and polarizers 83 are prepared for the transmissive display area and the reflective display area, respectively. The mask 84T for the transmissive display area is a mask having a light transmissive part in the transmissive display area of the TFT array substrate 10, and the mask 84R for the reflective display area has a light transmissive part in the reflective display area of the TFT array substrate 10. It is a mask. The transmissive display region polarizer 83T is a polarizer that transmits only a light component having a polarization direction with a predetermined angle with respect to the Y axis, and the reflective display region polarizer 83R is transmissive display region polarizer. The polarizer 83 transmits only a light component having a polarization direction different from the polarization direction of the polarizer 83T.

この偏光露光装置80では、まず、透過表示領域用マスク83Tを被照明物であるTFTアレイ基板10に対向配置し、その上部に、放電ランプ81、樋状集光鏡82及び透過表示領域用偏光子83Tからなる偏光照明装置85を配置する。そして、偏光照明装置85を図示矢印の方向に走査しながら、偏光照明装置85から放射された偏光紫外線85を透過表示領域用マスク84Tを介してTFTアレイ基板10に照射する。これにより、TFTアレイ基板10の透過表示領域では、配向膜材料18Aの分子が偏光紫外線の偏光方向と垂直な方向に配向する。次に、透過表示領域用マスク84及び透過表示領域用偏光子83Tを反射表示領域用マスク84R及び反射表示領域用偏光子83Rに交換し、同様の方法でTFTアレイ基板10に偏光紫外線を照射する。これにより、TFTアレイ基板10の反射表示領域では、配向膜材料18Aの分子が透過表示領域の配向膜材料18Aの配向方向とは異なる方向に配向する。そして、このように配向した配向膜材料18Aを加熱硬化することにより配向膜18を形成する。このように偏光紫外線の偏光方向を領域毎に異ならせた場合、配向膜18内には、透過表示領域Tと反射表示領域Rで配向方向の異なる配向領域が形成され、それぞれの領域T,Rに適した表示特性が得られるようになる。   In this polarized light exposure apparatus 80, first, a transmissive display area mask 83T is disposed to face the TFT array substrate 10 as an object to be illuminated, and a discharge lamp 81, a bowl-shaped condensing mirror 82, and a transmissive display area polarized light are disposed thereon. A polarization illumination device 85 including a child 83T is disposed. The TFT array substrate 10 is irradiated with the polarized ultraviolet ray 85 radiated from the polarization illumination device 85 through the transmission display area mask 84T while scanning the polarization illumination device 85 in the direction of the arrow shown in the figure. Thereby, in the transmissive display region of the TFT array substrate 10, the molecules of the alignment film material 18A are aligned in a direction perpendicular to the polarization direction of the polarized ultraviolet light. Next, the transmissive display region mask 84 and the transmissive display region polarizer 83T are replaced with the reflective display region mask 84R and the reflective display region polarizer 83R, and the TFT array substrate 10 is irradiated with polarized ultraviolet rays in the same manner. . Thereby, in the reflective display region of the TFT array substrate 10, the molecules of the alignment film material 18A are aligned in a direction different from the alignment direction of the alignment film material 18A in the transmissive display region. Then, the alignment film 18 is formed by heat-curing the alignment film material 18A thus aligned. In this way, when the polarization direction of the polarized ultraviolet light is varied from region to region, in the alignment film 18, alignment regions having different alignment directions are formed in the transmissive display region T and the reflective display region R, and the regions T, R Display characteristics suitable for the camera can be obtained.

図3に戻って、対向基板20の内面側(液晶層50側)には、カラーフィルタ22が設けられている。カラーフィルタ22は、サブ画素領域内で色度の異なる2種類の領域に区画されている構成とすることが好ましい。具体例を挙げると、透過表示領域Tの平面領域に対応して第1の色材領域が設けられ、反射表示領域Rの平面領域に対応して第2の色材領域が設けられており、第1の色材領域の色度が、第2の色材領域の色度より大きいものとされている構成を採用できる。このような構成とすることで、カラーフィルタ22を表示光が1回のみ透過する透過表示領域Tと、2回透過する反射表示領域Rとの間で表示光の色度が異なるのを防止でき、反射表示と透過表示の見映えを揃えて表示品質を向上させることができる。   Returning to FIG. 3, the color filter 22 is provided on the inner surface side (the liquid crystal layer 50 side) of the counter substrate 20. The color filter 22 is preferably configured to be divided into two types of regions having different chromaticities in the sub-pixel region. As a specific example, a first color material region is provided corresponding to the planar region of the transmissive display region T, and a second color material region is provided corresponding to the planar region of the reflective display region R. A configuration in which the chromaticity of the first color material region is larger than the chromaticity of the second color material region can be employed. By adopting such a configuration, it is possible to prevent the chromaticity of the display light from being different between the transmissive display region T where the display light is transmitted only once through the color filter 22 and the reflective display region R where the display light is transmitted twice. The display quality can be improved by aligning the appearance of the reflective display and the transmissive display.

また、カラーフィルタ22上には、さらに透明樹脂材料等からなる平坦化膜を積層することが好ましい。これにより対向基板20表面を平坦化して液晶層50の厚さを均一化することができ、サブ画素領域内で駆動電圧が不均一になりコントラストが低下するのを防止することができる。   Further, it is preferable that a planarizing film made of a transparent resin material or the like is further laminated on the color filter 22. Thereby, the surface of the counter substrate 20 can be flattened to make the thickness of the liquid crystal layer 50 uniform, and it is possible to prevent the drive voltage from becoming non-uniform in the sub-pixel region and lowering the contrast.

カラーフィルタ22上には、遮光層60が積層されている。遮光層60は、遮光性の高いCr等の金属材料で形成されるが、カラーフィルタに設けられるブラックマトリクス(黒色樹脂)で一括して形成することもできる。遮光層60は、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの境界部を覆うようにストライプ状に形成されており、その幅は、例えば6μm〜8μm程度とされている。なお、遮光層60を対向基板上に形成する場合、対向基板の表面に対向電極が存在すると、遮光層をパターニングする際に電池反応が起こり、下地の対向電極を損傷させることがあるが、本実施形態の液晶装置は横電界方式の液晶装置であって対向電極が存在しないので、遮光層60をCr等の金属膜で形成しても、このような問題は生じない。   On the color filter 22, a light shielding layer 60 is laminated. The light shielding layer 60 is formed of a metal material such as Cr having a high light shielding property, but can also be collectively formed of a black matrix (black resin) provided in the color filter. The light shielding layer 60 is formed in a stripe shape so as to cover the boundary between the transmissive display region T and the reflective display region R, and the width thereof is, for example, about 6 μm to 8 μm. When the light shielding layer 60 is formed on the counter substrate, if a counter electrode exists on the surface of the counter substrate, a battery reaction may occur when the light shielding layer is patterned, and the underlying counter electrode may be damaged. Since the liquid crystal device of the embodiment is a horizontal electric field type liquid crystal device and does not have a counter electrode, such a problem does not occur even if the light shielding layer 60 is formed of a metal film such as Cr.

カラーフィルタ22上には、さらに遮光層60を覆って、配向膜28が形成されている。配向膜28は、光反応性を持つ有機薄膜(配向膜材料)を基板上に形成し、偏向紫外線等を照射することにより膜内の分子を一方向に配列させて配向機能を持たせたものである。配向膜28は、図4の偏光露光装置80を用いて、透過表示領域Tと反射表示領域Rとで偏光方向の異なる偏光紫外線を照射されている。そして、これにより、透過表示領域Tと反射表示領域Rとで配向方向の異なる配向領域が形成されている。各領域T,Rにおける配向方向は、配向膜18と同じである。   An alignment film 28 is formed on the color filter 22 so as to cover the light shielding layer 60. The alignment film 28 has a photoreactive organic thin film (alignment film material) formed on a substrate and irradiated with polarized ultraviolet rays to align molecules in the film in one direction so as to have an alignment function. It is. The alignment film 28 is irradiated with polarized ultraviolet rays having different polarization directions in the transmissive display area T and the reflective display area R using the polarization exposure apparatus 80 of FIG. Thus, alignment regions having different alignment directions are formed in the transmissive display region T and the reflective display region R. The alignment direction in each of the regions T and R is the same as that of the alignment film 18.

図5は、透過表示領域T及び反射表示領域Rにおける配向処理の方向と電界の印加方向との関係を示す平面図である。図5(a)は、画素電極9に電圧を印加しない状態(非選択状態)における液晶分子51の配向状態を示すサブ画素領域の概略平面図であり、図5(b)は、画素電極9に電圧を印加した状態(選択状態)における液晶分子51の配向状態を示すサブ画素領域の概略平面図である。   FIG. 5 is a plan view showing the relationship between the orientation processing direction and the electric field application direction in the transmissive display region T and the reflective display region R. FIG. FIG. 5A is a schematic plan view of a sub-pixel region showing the alignment state of the liquid crystal molecules 51 in a state where no voltage is applied to the pixel electrode 9 (non-selection state), and FIG. FIG. 5 is a schematic plan view of a sub-pixel region showing an alignment state of liquid crystal molecules 51 in a state where a voltage is applied to (selected state).

本実施形態の液晶装置における各光学軸の配置は、次のようなものである。すなわち、配向膜18,28は平面視で同一方向に配向処理されており、その配向方向は、透過表示領域TではY軸に対して角度θだけ傾いた方向(符号151)であり、反射表示領域RではY軸と平行な方向(符号152)である。また、TFTアレイ基板10側の偏光板14の透過軸は透過表示領域Tの配向膜18,28の配向方向(Y軸に対して角度θだけ傾いた方向)と直交する方向に配置され、対向基板20側の偏光板24の透過軸は、偏光板14の透過軸と直交する方向(透過表示領域Tの配向膜18,28の配向方向と平行な方向)に配置されている。 The arrangement of the optical axes in the liquid crystal device of the present embodiment is as follows. That is, the alignment films 18 and 28 are subjected to alignment treatment in the same direction in a plan view, the direction of orientation is the angle theta T only a direction inclined with respect to the Y axis in the transmissive display region T (reference numeral 151), the reflection In the display area R, the direction is parallel to the Y axis (reference numeral 152). The transmission axis of the polarizing plate 14 on the TFT array substrate 10 side is arranged in a direction orthogonal to the alignment direction of the alignment films 18 and 28 in the transmission display region T (the direction inclined by the angle θ T with respect to the Y axis). The transmission axis of the polarizing plate 24 on the counter substrate 20 side is arranged in a direction perpendicular to the transmission axis of the polarizing plate 14 (a direction parallel to the alignment direction of the alignment films 18 and 28 in the transmission display region T).

なお、配向方向としては任意の方向を選択することができるが、画素電極9と共通電極19との間に形成される横電界の主方向EFt,EFrと交差する方向(一致しない方向)とする。上記配向方向と横電界方向との関係は、液晶層50のリタデーションや偏光板14,24の光学軸配置に応じて適宜選択することができ、本実施形態の場合は、透過表示領域Tにおける横電界の方向EFtはY軸方向に平行であり、反射表示領域Rにおける横電界の方向EFrはY軸に対して概ね45°傾いた方向である。   Although an arbitrary direction can be selected as the alignment direction, the direction intersects with the main directions EFt and EFr of the lateral electric field formed between the pixel electrode 9 and the common electrode 19 (a direction that does not coincide). . The relationship between the alignment direction and the horizontal electric field direction can be appropriately selected according to the retardation of the liquid crystal layer 50 and the optical axis arrangement of the polarizing plates 14 and 24. In the case of the present embodiment, the horizontal direction in the transmissive display region T is selected. The electric field direction EFt is parallel to the Y-axis direction, and the transverse electric field direction EFr in the reflective display region R is a direction inclined by approximately 45 ° with respect to the Y-axis.

上記構成を具備した液晶装置100は、IPS方式の液晶装置であり、TFT30を介して画素電極9に画像信号(電圧)を印加することで、画素電極9と共通電極19との間に基板面方向の電界を生じさせ、かかる電界によって液晶を駆動し、各サブ画素ごとの透過率/反射率を変化させて画像表示を行うものとなっている。   The liquid crystal device 100 having the above-described configuration is an IPS liquid crystal device, and an image signal (voltage) is applied to the pixel electrode 9 via the TFT 30, whereby the substrate surface is interposed between the pixel electrode 9 and the common electrode 19. An electric field in the direction is generated, the liquid crystal is driven by the electric field, and image display is performed by changing the transmittance / reflectance for each sub-pixel.

次に、液晶装置100の表示動作について説明する。図5(a)に示すように、画素電極9に電圧を印加しない状態では、液晶層50を構成する液晶分子51は、透過表示領域Tでは符号151の方向、反射表示領域Rでは符号152の方向に沿ってそれぞれ配向した状態となっている。先に記載のように液晶層50を挟持して対向する配向膜18,28は平面視で同一方向に配向処理されているので、液晶分子51は基板間で一方向に水平配向している。そして、かかる配向状態の液晶層50に対して画素電極9及び共通電極19を介して電界を作用させると、図5(b)に示すように、透過表示領域Tでは帯状電極9c、19cの幅方向(Y軸方向)に沿う電界EFtが作用し、Y軸方向に沿って液晶分子51が配向する。一方、反射表示領域Rでは、帯状電極9d、19dの延在方向が透過表示領域Tの帯状電極9c、19cとは異なる方向であるため、透過表示領域Tとは異なる方向の電界EFrが形成され、液晶分子51はその方向に沿って配向する。   Next, the display operation of the liquid crystal device 100 will be described. As shown in FIG. 5A, in a state where no voltage is applied to the pixel electrode 9, the liquid crystal molecules 51 constituting the liquid crystal layer 50 are denoted by reference numeral 151 in the transmissive display area T and denoted by reference numeral 152 in the reflective display area R. Each is oriented along the direction. As described above, since the alignment films 18 and 28 facing each other with the liquid crystal layer 50 interposed therebetween are aligned in the same direction in plan view, the liquid crystal molecules 51 are horizontally aligned in one direction between the substrates. When an electric field is applied to the liquid crystal layer 50 in such an alignment state via the pixel electrode 9 and the common electrode 19, the width of the strip electrodes 9c and 19c in the transmissive display region T as shown in FIG. The electric field EFt along the direction (Y-axis direction) acts, and the liquid crystal molecules 51 are aligned along the Y-axis direction. On the other hand, in the reflective display region R, since the extending direction of the strip electrodes 9d and 19d is different from the strip electrodes 9c and 19c of the transmissive display region T, an electric field EFr in a direction different from the transmissive display region T is formed. The liquid crystal molecules 51 are aligned along that direction.

液晶装置100は、このような液晶分子51の配向状態の差異に基づく複屈折性を利用して明暗表示を行うようになっており、さらに透過表示領域Tと反射表示領域Rとで電圧印加時の液晶分子51の動作を異ならせることで、それぞれの領域で適切な透過率/反射率を得られるようにしている。また、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの境界部では、配向の乱れ等により光漏れが生じやすくなることから、その部分の光を遮光層60で遮光し、常に黒表示としている。   The liquid crystal device 100 performs bright and dark display using birefringence based on the difference in the alignment state of the liquid crystal molecules 51, and further, when a voltage is applied between the transmissive display region T and the reflective display region R. By varying the operation of the liquid crystal molecules 51, appropriate transmittance / reflectance can be obtained in each region. Further, since light leakage is likely to occur at the boundary between the transmissive display region T and the reflective display region R due to disorder of orientation or the like, the light in that portion is shielded by the light shielding layer 60, and black display is always performed.

このように本実施形態の液晶装置100では、液晶の初期配向状態と電界の印加方向を透過表示領域Tと反射表示領域Rとで異ならせ、画素電極9に電圧を印加した状態(選択状態)において液晶層50を透過する光に付与される位相差を、透過表示領域Tと反射表示領域Rとで異ならせている。このため、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの光路差に起因する透過表示と反射表示との表示品質の差異を無くすことができ、透過表示と反射表示の双方で高画質な表示を行なうことができる。   As described above, in the liquid crystal device 100 of the present embodiment, the initial alignment state of the liquid crystal and the direction in which the electric field is applied are different between the transmissive display region T and the reflective display region R, and the voltage is applied to the pixel electrode 9 (selected state). The phase difference imparted to the light transmitted through the liquid crystal layer 50 is made different between the transmissive display region T and the reflective display region R. For this reason, the difference in display quality between the transmissive display and the reflective display due to the optical path difference between the transmissive display area T and the reflective display area R can be eliminated, and high-quality display is performed in both the transmissive display and the reflective display. be able to.

また、透過表示領域Tと反射表示領域Rの配向状態の制御を光配向技術を用いて行なっているため、ラビング等の接触式の配向処理を用いる場合に比べて埃の付着や静電気の発生などによるTFTの破損等が生じない。また、照射する光の偏光方向等を配向領域毎に変えることで容易に配向分割を行なうことができる。   In addition, since the alignment state of the transmissive display region T and the reflective display region R is controlled by using the optical alignment technique, dust adhesion, generation of static electricity, and the like compared to the case where contact type alignment processing such as rubbing is used. The TFT is not damaged by this. Further, the alignment division can be easily performed by changing the polarization direction of the irradiated light for each alignment region.

また、透過表示領域Tと反射表示領域Rとで配向処理を異ならせる場合、配向処理に位置ずれが生じ、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの境界部で白黒反転等の表示不良が生じる可能性があるが、本実施形態では、この境界部に遮光層60を設けているため、境界部からの光漏れによるコントラストの低下を確実に防止することができる。また、配向膜内に配向方向の異なる複数の配向領域を設けた場合、その境界部で配向の乱れが生じ、光漏れが生じる場合があるが、そのような光漏れも遮光層60で確実に遮光することができる。   Further, when the alignment processing is made different between the transmissive display region T and the reflective display region R, positional displacement occurs in the alignment processing, and display defects such as black and white inversion occur at the boundary between the transmissive display region T and the reflective display region R. Although there is a possibility, in this embodiment, since the light shielding layer 60 is provided at the boundary portion, it is possible to reliably prevent a decrease in contrast due to light leakage from the boundary portion. In addition, when a plurality of alignment regions having different alignment directions are provided in the alignment film, disorder of alignment may occur at the boundary portion, and light leakage may occur. Can be shielded from light.

また、マルチギャップ構造を採用していないため、透過表示領域Tと反射表示領域Rとの境界部で生じる配向の乱れが少ない。すなわち、サブ画素領域内にマルチギャップ構造を形成した場合、液晶層厚が異なる領域の境界に液晶層厚が連続的に変化する領域が形成されるため、かかる境界領域で液晶分子の配向が乱れて光漏れを生じるという問題があるが、本実施形態の液晶装置100ではこのような問題は生じず、コントラストの高い表示を実現できる。   In addition, since the multi-gap structure is not employed, there is little alignment disorder occurring at the boundary between the transmissive display region T and the reflective display region R. In other words, when a multi-gap structure is formed in the sub-pixel region, a region where the liquid crystal layer thickness continuously changes is formed at the boundary between regions having different liquid crystal layer thicknesses, so that the alignment of liquid crystal molecules is disturbed in the boundary region. However, in the liquid crystal device 100 of this embodiment, such a problem does not occur, and a display with high contrast can be realized.

なお、本実施形態では、液晶に対して概略基板平面方向の電界(横電界)を作用させ、配向を制御することにより画像表示を行う横電界方式のうち、IPS(In-Plane Switching)方式と呼ばれる方式に本発明を適用したが、同じような原理で画像表示を行なう方式として、FFS(Fringe Field Switching)方式と呼ばれる方式に本発明を適用することもできる。   In the present embodiment, an IPS (In-Plane Switching) method is used among horizontal electric field methods in which an image is displayed by applying an electric field (lateral electric field) in a substantially substrate plane direction to liquid crystal and controlling the orientation. Although the present invention is applied to a so-called system, the present invention can also be applied to a system called an FFS (Fringe Field Switching) system as a system for displaying an image on the same principle.

FFS方式は、画素電極と共通電極とを別の層に設け、櫛歯状に形成した画素電極のフリンジ部と共通電極との間で生じる横電界を用いて液晶の配向を制御する方式である。FFS方式では、共通電極をベタ電極とし、画素電極と反射層との間の層に設ける。IPS方式の液晶装置では、画素電極及び共通電極が設けられている基板に反射層を設けると、通常は金属膜により形成される反射層の影響で、画素電極と共通電極との間に形成される電界に歪みを生じる可能性があるが、FFS方式では、共通電極がベタ状の導電膜であるため、画素電極及び共通電極が設けられた基板に反射層を設けたとしても、前記電界に影響することはない。また、電極のパターニングが画素電極のみとなるため、製造が容易になり、歩留まりも向上する。   The FFS method is a method in which the pixel electrode and the common electrode are provided in different layers, and the alignment of the liquid crystal is controlled by using a lateral electric field generated between the fringe portion of the pixel electrode formed in a comb shape and the common electrode. . In the FFS method, the common electrode is a solid electrode and is provided in a layer between the pixel electrode and the reflective layer. In an IPS liquid crystal device, when a reflective layer is provided on a substrate on which a pixel electrode and a common electrode are provided, the reflective layer formed by a metal film is usually formed between the pixel electrode and the common electrode. In the FFS method, since the common electrode is a solid conductive film, even if a reflective layer is provided on the substrate on which the pixel electrode and the common electrode are provided, the electric field There is no impact. Further, since the patterning of the electrodes is only the pixel electrodes, the manufacturing is facilitated and the yield is improved.

また、液晶装置100においては、マルチギャップ構造を採用しない構成としたが、反射表示領域Rに液晶層厚調整層(マルチギャップ構造)を配置し、透過表示領域Tと反射表示領域Rの液晶層厚を異ならせた液晶装置に本発明を適用することもできる。さらに、画素スイッチング素子としてTFT30を用いたが、スイッチング素子としてはTFD(Thin Film Diode)等の2端子型非線形素子を用いることもでき、さらに、画素スイッチング素子を用いない単純マトリクス型液晶装置に本発明を適用することも可能である。   In the liquid crystal device 100, the multi-gap structure is not adopted. However, the liquid crystal layer thickness adjusting layer (multi-gap structure) is arranged in the reflective display region R, and the liquid crystal layers of the transmissive display region T and the reflective display region R are arranged. The present invention can also be applied to liquid crystal devices having different thicknesses. Furthermore, although the TFT 30 is used as the pixel switching element, a two-terminal nonlinear element such as a TFD (Thin Film Diode) can be used as the switching element, and the present invention is applied to a simple matrix type liquid crystal device that does not use the pixel switching element. The invention can also be applied.

また、本実施形態では、液晶の配向を領域毎に異ならせる液晶装置の例として、反射表示領域Rと透過表示領域Tとで配向処理が異なる半透過反射型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明が適用される液晶装置はかかる例に限らず、マルチドメイン構造を有する透過型或いは反射型の液晶装置に本発明を適用することもできる。例えば、TN型の液晶装置において反射表示と透過表示の明視方向を変えたい場合に本発明を適用することができ、これにより、透過表示と反射表示の双方で視認性が高く、コントラスト特性にも優れた液晶装置が提供できる。
[電子機器]
次に、本発明に係る液晶装置を表示部に備えた電子機器について説明する。図6は、この電子機器の一例である携帯電話の斜視構成図である。この携帯電話1300は、本発明の液晶装置を小サイズの表示部1301として備え、複数の操作ボタン1302、受話口1303、及び送話口1304を備えて構成されている。したがって、高輝度、高コントラスト、広視野角の透過表示及び反射表示が可能である。
Further, in the present embodiment, the present invention is applied to a transflective liquid crystal device in which the alignment process is different between the reflective display region R and the transmissive display region T as an example of a liquid crystal device in which the alignment of the liquid crystal varies from region to region. However, the liquid crystal device to which the present invention is applied is not limited to such an example, and the present invention can also be applied to a transmissive or reflective liquid crystal device having a multi-domain structure. For example, in a TN type liquid crystal device, the present invention can be applied when it is desired to change the clear viewing direction of the reflective display and the transmissive display, whereby the visibility is high in both the transmissive display and the reflective display, and the contrast characteristics are improved. In addition, an excellent liquid crystal device can be provided.
[Electronics]
Next, an electronic device provided with a liquid crystal device according to the present invention in a display portion will be described. FIG. 6 is a perspective configuration diagram of a mobile phone which is an example of the electronic apparatus. This cellular phone 1300 includes the liquid crystal device of the present invention as a small-sized display portion 1301, and includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, and a mouthpiece 1304. Therefore, high luminance, high contrast, wide viewing angle transmission display and reflection display are possible.

上記実施の形態の液晶装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、高輝度、高コントラスト、広視野角の透過表示及び反射表示が可能である。   The liquid crystal device of the above embodiment is not limited to the mobile phone, but an electronic book, a personal computer, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, It can be suitably used as an image display means for devices such as calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, touch panels, etc. In any electronic device, high luminance, high contrast, wide viewing angle transmission display And reflective display is possible.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

本発明の一実施形態に係る液晶装置の回路構成図である。It is a circuit block diagram of the liquid crystal device which concerns on one Embodiment of this invention. 同液晶装置の1サブ画素領域の平面構成図である。2 is a plan configuration diagram of one sub-pixel region of the liquid crystal device. FIG. 図2のA−A’線に沿う断面構成図である。FIG. 3 is a cross-sectional configuration diagram taken along line A-A ′ of FIG. 2. 同液晶装置の配向処理に用いる偏光露光装置の一例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows an example of the polarization exposure apparatus used for the alignment process of the liquid crystal device. 同液晶装置の動作説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of operations of the liquid crystal device. 本発明の電子機器の一例を示す斜視構成図である。It is a perspective block diagram which shows an example of the electronic device of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

9…画素電極(第1電極)、9c,9d…帯状電極、10…TFTアレイ基板(第1基板)、18…配向膜、18A…配向膜材料、19…共通電極(第2電極)、19c,19d…帯状電極、20…対向基板(第2基板)、28…配向膜、50…液晶層、51…液晶、60…遮光層、100…液晶装置、1300…携帯電話(電子機器)、EFr,EFt…横電界、R…反射表示領域、T…透過表示領域

DESCRIPTION OF SYMBOLS 9 ... Pixel electrode (first electrode), 9c, 9d ... Strip electrode, 10 ... TFT array substrate (first substrate), 18 ... Alignment film, 18A ... Alignment film material, 19 ... Common electrode (second electrode), 19c , 19d ... strip electrode, 20 ... counter substrate (second substrate), 28 ... alignment film, 50 ... liquid crystal layer, 51 ... liquid crystal, 60 ... light shielding layer, 100 ... liquid crystal device, 1300 ... mobile phone (electronic device), EFr , EFt ... transverse electric field, R ... reflective display area, T ... transmissive display area

Claims (7)

第1電極及び第2電極が設けられた第1基板と、
前記第1基板と対向する第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に挟持され、前記第1電極と前記第2電極との間に生じる電界によって駆動される液晶と、
前記第1基板及び前記第2基板の前記液晶側の面に設けられた配向膜と、
前記配向膜に設けられ、互いに異なる方向に液晶を配向させる複数の配向領域と、
前記互いに配向方向の異なる配向領域同士の境界部と重なるように設けられた遮光層と、を有することを特徴とする液晶装置。
A first substrate provided with a first electrode and a second electrode;
A second substrate facing the first substrate;
A liquid crystal sandwiched between the first substrate and the second substrate and driven by an electric field generated between the first electrode and the second electrode;
An alignment film provided on the liquid crystal side surface of the first substrate and the second substrate;
A plurality of alignment regions provided on the alignment film and aligning liquid crystals in different directions;
A liquid crystal device comprising: a light shielding layer provided so as to overlap a boundary portion between alignment regions having different alignment directions.
前記複数の配向領域は、前記配向膜を形成する配向膜材料に光を照射し、前記配向膜材料の分子に再配列又は異方的な化学反応を誘起させる光配向処理により形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。   The plurality of alignment regions are formed by a photo-alignment process that irradiates light to the alignment film material forming the alignment film and induces rearrangement or anisotropic chemical reaction in the molecules of the alignment film material. The liquid crystal device according to claim 1. 前記互いに配向方向の異なる配向領域は、それぞれ反射表示を行なう反射表示領域と、透過表示を行なう透過表示領域とに対応していることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置。   3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the alignment regions having different alignment directions correspond to a reflective display region for performing reflective display and a transmissive display region for performing transmissive display, respectively. 前記第1電極及び前記第2電極は、それぞれ1本又は複数本の帯状電極を備えており、
前記第1電極の帯状電極と前記第2電極の帯状電極とは、前記反射表示領域及び前記透過表示領域のそれぞれの領域内で互いに平行に配置されており、
前記反射表示領域における前記帯状電極の延在方向と前記透過表示領域における前記帯状電極の延在方向とは、互いに異なる方向であることを特徴とする請求項3に記載の液晶装置。
Each of the first electrode and the second electrode includes one or a plurality of strip electrodes,
The strip electrode of the first electrode and the strip electrode of the second electrode are arranged in parallel with each other in each of the reflective display region and the transmissive display region,
The liquid crystal device according to claim 3, wherein an extending direction of the strip electrode in the reflective display region and an extending direction of the strip electrode in the transmissive display region are different from each other.
前記遮光層は前記第2基板上に設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかの項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein the light shielding layer is provided on the second substrate. 前記遮光層は金属によって形成されていることを特徴とする請求項5に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 5, wherein the light shielding layer is made of metal. 請求項1〜6のいずれかの項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。

An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.

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