JP2008012389A - Apparatus for forming rib - Google Patents

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Masanobu Iwashima
正信 岩島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To form a rib highly precisely on a substrate by curing an internal rib forming material by the light made incident into a nozzle part to prevent the clogging of the nozzle part. <P>SOLUTION: An apparatus for forming the rib is constituted so that the rib forming material to be discharged from the nozzle part 51 onto the substrate 9 is irradiated with ultraviolet rays emitted from a light irradiation part 43 to form the rib while moving the nozzle part 51 and the light irradiation part 43 relatively to the substrate 9 along the main surface 91 of the substrate 9. The nozzle part 51 is formed from zirconia capable of transmitting ultraviolet lays and a shielding layer 511 for shielding the ultraviolet rays reaching a flow passage 513 of the rib forming material in the nozzle part 51 is formed on the surface of the nozzle part 51 in the vicinity of a discharge port 512. As a result, the internal rib forming material can be cured by the light made incident into the nozzle part to prevent the clogging of the nozzle part 51 and consequently the rib can be formed highly precisely on the substrate 9. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置に関する。   The present invention relates to a rib forming apparatus for forming a rib on a substrate.

従来より、プラズマ表示装置等の平面表示装置に用いられるガラスの基板上にリブを形成する様々な手法が知られており、例えば、特許文献1では、ペースト状のリブ形成材料を基板上に吐出するノズル部、および、基板上に吐出されたリブ形成材料に紫外線を照射する光照射部を基板の主面に沿って基板に対して相対的に移動することにより、基板上にリブを形成するリブ形成装置が提案されている。   Conventionally, various methods for forming a rib on a glass substrate used in a flat display device such as a plasma display device are known. For example, in Patent Document 1, a paste-like rib forming material is discharged onto a substrate. The rib portion is formed on the substrate by moving the nozzle portion that performs the irradiation and the light irradiation portion that irradiates the rib forming material discharged onto the substrate with ultraviolet rays relative to the substrate along the main surface of the substrate. Rib forming devices have been proposed.

なお、特許文献2では、記録ヘッドからインクの微小液滴を吐出しつつ、記録媒体上に吐出された直後のインクに紫外線を照射して記録媒体上に印刷を行うインクジェットプリンタにおいて、紫外線照射部の照射面に格子状の保護部材を設け、保護部材の鉛直方向に沿う面のうち記録ヘッド側を向く面の紫外線反射率を記録ヘッドとは反対側を向く面の紫外線反射率よりも低くすることにより、記録媒体上へと照射される紫外線の一定の光量を確保しつつ、記録媒体にて反射して記録ヘッドへと入射する紫外線の光量を低減して、記録ヘッドの吐出口が詰まることを防止する手法が開示されている。
特開2002−184303号公報 特開2005−279942号公報
In Patent Document 2, an ultraviolet irradiation unit is used in an ink jet printer that performs printing on a recording medium by irradiating the ink immediately after being ejected onto the recording medium while ejecting fine droplets of ink from the recording head. A lattice-shaped protective member is provided on the irradiation surface of the protective member, and the ultraviolet reflectance of the surface facing the recording head among the surfaces along the vertical direction of the protective member is made lower than the ultraviolet reflectance of the surface facing the recording head. As a result, the amount of ultraviolet light that is reflected by the recording medium and incident on the recording head is reduced while the recording head discharge port is clogged, while ensuring a certain amount of ultraviolet light that is irradiated onto the recording medium. A technique for preventing this is disclosed.
JP 2002-184303 A Japanese Patent Laid-Open No. 2005-279942

ところで、平面表示装置の種類によっては、幅に対する高さの比であるアスペクト比が高く、かつ、微細なリブが必要となる。高アスペクト比の微細なリブをノズル部からのリブ形成材料の吐出により形成するには、同様に微細な吐出口を有するノズル部が必要となり、このようなノズル部を精度よく製造するために、ジルコニアの被加工部材を用いることが考えられる。しかしながら、多くのジルコニアは紫外線をある程度透過するため、光照射部からの紫外線が直接的に、または、基板を透過してステージにて反射することにより間接的にノズル部へと照射されてノズル部内のリブ形成材料が硬化してしまうことがあり、この場合、ノズル部が詰まって基板上にリブを精度よく形成することが困難となる。   By the way, depending on the type of flat display device, an aspect ratio, which is a ratio of height to width, is high, and fine ribs are required. In order to form a high aspect ratio fine rib by discharging a rib forming material from the nozzle portion, a nozzle portion having a fine discharge port is similarly required, and in order to manufacture such a nozzle portion with high accuracy, It is conceivable to use a zirconia workpiece. However, since most zirconia transmits ultraviolet rays to some extent, the ultraviolet rays from the light irradiating part are irradiated directly onto the nozzle part by passing through the substrate and reflecting on the stage, and the inside of the nozzle part. The rib forming material may be hardened, and in this case, the nozzle portion is clogged and it is difficult to accurately form the rib on the substrate.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、ノズル部内に入射する光により内部のリブ形成材料が硬化してノズル部が詰まることを防止することにより、基板上にリブを精度よく形成することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and can accurately form ribs on a substrate by preventing the inner rib-forming material from being hardened by light incident into the nozzle portion and clogging the nozzle portion. It is an object.

請求項1に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、光硬化性を有するリブ形成材料を基板上に吐出する吐出部と、前記吐出部に近接して設けられ、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、前記吐出部および前記光照射部を前記基板に沿う方向に前記基板に対して相対的に移動する移動機構とを備え、前記吐出部が、前記リブ形成材料を吐出する吐出口を有し、前記リブ形成材料を硬化させる波長帯の光の少なくとも一部を透過する材料にて形成されたノズル部と、少なくとも前記ノズル部の前記吐出口近傍の表面に形成され、前記ノズル部内の前記リブ形成材料の流路へと到達する前記波長帯の前記光を遮蔽する遮蔽層とを備える。   The invention according to claim 1 is a rib forming apparatus for forming a rib on a substrate, and is provided in the vicinity of a discharge portion that discharges a photocurable rib forming material onto the substrate, and the discharge portion. A light irradiation unit for irradiating the rib forming material discharged onto the substrate with light, and a moving mechanism for moving the discharge unit and the light irradiation unit relative to the substrate in a direction along the substrate. The nozzle has a discharge port that discharges the rib forming material, and is formed of a material that transmits at least part of light in a wavelength band that cures the rib forming material; A shielding layer that shields the light in the wavelength band that is formed on the surface of the nozzle portion near the discharge port and reaches the flow path of the rib forming material in the nozzle portion.

請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のリブ形成装置であって、前記吐出部が、前記ノズル部の前記光照射部側の主面を覆うとともに、前記波長帯の前記光を遮蔽する遮蔽部材をさらに備える。   Invention of Claim 2 is a rib formation apparatus of Claim 1, Comprising: While the said discharge part covers the main surface at the side of the said light irradiation part of the said nozzle part, the said light of the said wavelength band is covered. A shielding member for shielding is further provided.

請求項3に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、光硬化性を有するリブ形成材料を基板上に吐出する吐出口を有し、前記リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を遮蔽するセラミックスにて形成されたノズル部と、前記ノズル部に近接して設けられ、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う方向に前記基板に対して相対的に移動する移動機構とを備える。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a rib forming apparatus for forming ribs on a substrate, comprising a discharge port for discharging a photocurable rib forming material onto the substrate, and curing the rib forming material. A nozzle part formed of ceramics that shields light in a wavelength band, a light irradiation part that is provided in the vicinity of the nozzle part and that irradiates light onto a rib forming material discharged onto the substrate, and the nozzle part And a moving mechanism that moves the light irradiation unit relative to the substrate in a direction along the substrate.

請求項4に記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記基板が載置される載置面を有するステージをさらに備え、前記基板が前記波長帯の前記光を透過し、前記載置面が前記波長帯の前記光を吸収する。   Invention of Claim 4 is a rib formation apparatus in any one of Claim 1 thru | or 3, Comprising: The stage which has the mounting surface in which the said board | substrate is mounted is further provided, The said board | substrate has the said wavelength band The light is transmitted, and the mounting surface absorbs the light in the wavelength band.

請求項5に記載の発明は、基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、光硬化性を有するリブ形成材料を、前記リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を透過する基板上に吐出口から吐出するノズル部と、前記ノズル部に近接して設けられ、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う方向に前記基板に対して相対的に移動する移動機構と、前記基板が載置され、前記波長帯の前記光を吸収する載置面を有するステージとを備える。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a rib forming apparatus for forming a rib on a substrate, wherein a photocurable rib forming material is applied to a substrate that transmits light in a wavelength band for curing the rib forming material. A nozzle portion that discharges from a discharge port, a light irradiation portion that is provided in the vicinity of the nozzle portion and irradiates light onto a rib forming material discharged onto the substrate, and the nozzle portion and the light irradiation portion are disposed on the substrate. And a stage having a placement surface on which the substrate is placed and which absorbs the light in the wavelength band.

請求項6に記載の発明は、請求項1ないし5のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記ノズル部が、前記基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に前記吐出口から前記リブ形成材料を吐出し、前記吐出口の全体または大部分が形成される前記ノズル部の開口面が、その法線が吐出側にて前記基板と交差するように傾斜している。   A sixth aspect of the present invention is the rib forming apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein the nozzle portion is directed toward the main surface of the substrate and is inclined with respect to the main surface. The rib forming material is discharged from the discharge port, and the opening surface of the nozzle part where the whole or most of the discharge port is formed is inclined so that the normal line intersects the substrate on the discharge side. ing.

請求項7に記載の発明は、請求項1ないし6のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記波長帯の前記光を含む光を出射する光源と、前記光源から前記光照射部を経由して前記基板へと至る光路上に配置され、入射する光のうち少なくとも熱線を遮蔽し、前記波長帯の前記光を透過するフィルタとをさらに備える。   A seventh aspect of the present invention is the rib forming device according to any one of the first to sixth aspects, wherein a light source that emits light including the light in the wavelength band, and the light irradiation unit from the light source. And a filter that is arranged on an optical path that reaches the substrate via, shields at least heat rays of incident light, and transmits the light in the wavelength band.

請求項8に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載のリブ形成装置であって、前記ノズル部が複数の吐出口を備え、前記基板上に形成される複数のリブのピッチが1ミリメートル以下である。   The invention according to claim 8 is the rib forming apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein the nozzle portion includes a plurality of discharge ports, and the pitch of the plurality of ribs formed on the substrate. Is less than 1 millimeter.

請求項9に記載の発明は、請求項8に記載のリブ形成装置であって、前記複数のリブのそれぞれにおいて、前記基板に沿う方向に垂直な断面の幅が200マイクロメートル以下であり、アスペクト比が5以上である。   The invention according to claim 9 is the rib forming apparatus according to claim 8, wherein in each of the plurality of ribs, a width of a cross section perpendicular to the direction along the substrate is 200 micrometers or less. The ratio is 5 or more.

請求項10に記載の発明は、請求項8または9に記載のリブ形成装置であって、前記ノズル部が、ジルコニアにて形成される。   A tenth aspect of the present invention is the rib forming apparatus according to the eighth or ninth aspect, wherein the nozzle portion is formed of zirconia.

本発明によれば、ノズル部内に入射する光により内部のリブ形成材料が硬化してノズル部が詰まることを防止または抑制することにより、基板上にリブを精度よく形成することができる。   According to the present invention, it is possible to accurately form ribs on the substrate by preventing or suppressing clogging of the nozzle portion due to the light incident on the nozzle portion being cured.

また、請求項2の発明では、光照射部側の主面からノズル部内に光が入射してノズル部内にてリブ形成材料が硬化することを防止することができ、請求項4および5の発明では、光照射部からの光がステージにて反射してノズル部に入射することを抑制することができる。   Further, in the invention of claim 2, it is possible to prevent light from entering the nozzle portion from the main surface on the light irradiation portion side and hardening the rib forming material in the nozzle portion, and the inventions of claims 4 and 5 Then, it can suppress that the light from a light irradiation part reflects in a stage, and injects into a nozzle part.

また、請求項6の発明では、アスペクト比の高い状態でリブ形成材料を安定して吐出することができ、請求項7の発明では、ノズル部に照射される熱線により熱が発生してノズル部内にてリブ形成材料が硬化することを防止することができ、請求項10の発明では、高精度なノズル部を容易に作製することができる。   In the invention of claim 6, the rib forming material can be stably discharged in a state with a high aspect ratio. In the invention of claim 7, heat is generated by the heat rays applied to the nozzle portion, and the inside of the nozzle portion. The rib forming material can be prevented from being hardened by the above-described method. In the invention of claim 10, a highly accurate nozzle portion can be easily manufactured.

図1は、本発明の第1の実施の形態に係るリブ形成装置1の構成を示す図である。リブ形成装置1は、プラズマ表示装置や電界放出表示装置(Field Emission Display)等の平面表示装置用のガラス基板(以下、「基板」という。)9上にリブ(平面表示装置の種類によっては、スペーサとも呼ばれる。)のパターンを形成する装置であり、リブが形成された基板9は他の工程を介して平面表示装置の組立部品であるパネルとなる。   FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a rib forming apparatus 1 according to the first embodiment of the present invention. The rib forming apparatus 1 is formed on a glass substrate (hereinafter, referred to as “substrate”) 9 for a flat display device such as a plasma display device or a field emission display (depending on the type of the flat display device). The substrate 9 on which the ribs are formed becomes a panel which is an assembly part of the flat display device through another process.

リブ形成装置1では、基台11上にステージ移動機構2が設けられ、ステージ移動機構2によりステージ20が図1中に示すX方向に移動可能とされる。基台11にはステージ20を跨ぐようにしてフレーム12が固定され、フレーム12にはヘッド移動機構3を介してヘッド部4が取り付けられる。   In the rib forming apparatus 1, the stage moving mechanism 2 is provided on the base 11, and the stage 20 can be moved in the X direction shown in FIG. A frame 12 is fixed to the base 11 so as to straddle the stage 20, and the head portion 4 is attached to the frame 12 via the head moving mechanism 3.

ステージ20の(+Z)側の面(以下、「載置面」という。)201は黒色に着色されており、基板9は載置面201上に載置されて保持される。ステージ移動機構2は、モータ21にボールねじ22が接続され、さらに、ステージ20に固定されたナット23がボールねじ22に取り付けられた構造となっている。ボールねじ22の上方にはガイドレール24が固定され、モータ21が回転すると、ナット23とともにステージ20がガイドレール24に沿ってX方向に滑らかに移動する(すなわち、ヘッド部4が基板9に対して相対的に主走査する。)。   The (+ Z) side surface (hereinafter referred to as “mounting surface”) 201 of the stage 20 is colored in black, and the substrate 9 is mounted and held on the mounting surface 201. The stage moving mechanism 2 has a structure in which a ball screw 22 is connected to a motor 21 and a nut 23 fixed to the stage 20 is attached to the ball screw 22. When the guide rail 24 is fixed above the ball screw 22 and the motor 21 rotates, the stage 20 moves smoothly along the guide rail 24 in the X direction along with the nut 23 (that is, the head portion 4 moves relative to the substrate 9). Relatively main scanning.)

ヘッド移動機構3はフレーム12に支持されたモータ31、モータ31の回転軸に接続されたボールねじ32、および、ボールねじ32に取り付けられたナット33を有し、モータ31が回転することによりナット33が図1中のY方向に移動する。ナット33にはヘッド部4のベース40が取り付けられ、これにより、ヘッド部4がY方向に移動(副走査)可能とされる。ベース40はフレーム12に固定されたガイドレール34に接続され、ガイドレール34により滑らかに案内される。   The head moving mechanism 3 includes a motor 31 supported by the frame 12, a ball screw 32 connected to the rotation shaft of the motor 31, and a nut 33 attached to the ball screw 32. 33 moves in the Y direction in FIG. A base 40 of the head unit 4 is attached to the nut 33, and thus the head unit 4 can move (sub-scan) in the Y direction. The base 40 is connected to a guide rail 34 fixed to the frame 12 and is smoothly guided by the guide rail 34.

ヘッド部4は、基板9上にペースト状のリブ形成材料を吐出する吐出部42、および、基板9に向けて紫外線を出射する光照射部43を有し、吐出部42および光照射部43はベース40に固定される昇降機構41の下部に互いに近接して取り付けられる。リブ形成材料は、紫外線により硬化(架橋反応)が開始する光開始剤や、バインダである樹脂、さらには、ガラスの粉体である低軟化点ガラスフリットを含む。また、吐出部42の下面には、Y方向に配列された複数の吐出口を有するノズルユニット5が着脱可能に取り付けられる。吐出部42には逆止弁441を有する供給管442が取り付けられ、供給管442は分岐しており、一方がポンプ443に接続され、他方が制御弁444を介してリブ形成材料を貯溜するタンク445に接続される。   The head unit 4 includes a discharge unit 42 that discharges a paste-like rib forming material onto the substrate 9, and a light irradiation unit 43 that emits ultraviolet rays toward the substrate 9. The discharge unit 42 and the light irradiation unit 43 include They are attached to the lower part of the lifting mechanism 41 fixed to the base 40 close to each other. The rib forming material includes a photoinitiator that starts curing (crosslinking reaction) by ultraviolet rays, a resin that is a binder, and a low softening point glass frit that is a glass powder. A nozzle unit 5 having a plurality of ejection openings arranged in the Y direction is detachably attached to the lower surface of the ejection section 42. A supply pipe 442 having a check valve 441 is attached to the discharge portion 42, the supply pipe 442 is branched, one is connected to the pump 443, and the other is a tank for storing rib forming material via the control valve 444. 445.

光照射部43は光ファイバ431を介して光源ユニット432に接続される。光源ユニット432は波長300〜700ナノメートル(nm)の光を出射する光源433(例えば、キセノンランプ)、および、300〜400nmの波長帯の光(すなわち、紫外線)のみを透過するフィルタ434を備え、光源433からフィルタ434に入射する光のうち当該波長帯の紫外線のみがフィルタ434を透過し(すなわち、可視光〜近赤外線の光がカットされ)、光ファイバ431により光照射部43へと導かれる。そして、吐出部42の(−X)側において光照射部43から基板9に向かって紫外線が出射され、各吐出口に対応する光のスポットが基板9上に形成される。   The light irradiation unit 43 is connected to the light source unit 432 through the optical fiber 431. The light source unit 432 includes a light source 433 (for example, a xenon lamp) that emits light having a wavelength of 300 to 700 nanometers (nm), and a filter 434 that transmits only light having a wavelength band of 300 to 400 nm (that is, ultraviolet rays). Of the light incident on the filter 434 from the light source 433, only ultraviolet light in the wavelength band passes through the filter 434 (that is, visible to near-infrared light is cut), and is guided to the light irradiation unit 43 by the optical fiber 431. It is burned. Then, ultraviolet rays are emitted from the light irradiation unit 43 toward the substrate 9 on the (−X) side of the discharge unit 42, and light spots corresponding to the respective discharge ports are formed on the substrate 9.

ステージ移動機構2のモータ21、ポンプ443、制御弁444、光源ユニット432、ヘッド移動機構3のモータ31、および、ヘッド部4の昇降機構41は制御部6に接続され、これらの構成が制御部6により制御されることにより、リブ形成装置1による基板9上へのリブの形成が行われる。   The motor 21 of the stage moving mechanism 2, the pump 443, the control valve 444, the light source unit 432, the motor 31 of the head moving mechanism 3, and the lifting mechanism 41 of the head unit 4 are connected to the control unit 6. 6, the rib forming apparatus 1 forms ribs on the substrate 9.

図2はノズルユニット5の先端近傍を拡大して示す図であり、図3はノズルユニット5の複数の吐出口512近傍を示す図である。図3では、後述するノズル部51の開口面514の法線に沿ってノズルユニット5の先端を見た様子を示している。   FIG. 2 is an enlarged view showing the vicinity of the tip of the nozzle unit 5, and FIG. 3 is a view showing the vicinity of the plurality of discharge ports 512 of the nozzle unit 5. FIG. 3 shows a state in which the tip of the nozzle unit 5 is viewed along a normal line of an opening surface 514 of the nozzle unit 51 described later.

図3に示すように、ノズルユニット5は多数の吐出口512がY方向に所定のピッチ(例えば、660マイクロメートル(μm)のピッチ)にて配列されたノズル部51を有する。図3の各吐出口512の縦横比(吐出口のアスペクト比と捉えることもできる。)は、例えば電界放出表示装置のパネル製造用では15〜25とされ、プラズマ表示装置のパネル製造用のノズル部における吐出口のアスペクト比よりも大きい(例えば、約14倍になる)。図2に示すように、ノズル部51の光照射部43側の主面および光照射部43とは反対側の主面(後述する蓋部材53のノズル本体52とは反対側の面、および、ノズル本体52の蓋部材53とは反対側の面)は、それぞれ第1保護部材54および第2保護部材55により覆われており、第1および第2保護部材54,55はステンレス鋼にて形成される。光照射部43は、その光の出射位置が基板9の主面91から15ミリメートル(mm)の高さとなり、かつ、光軸が基板9の主面91に垂直となるように、ノズル部51に近接して配置される。   As shown in FIG. 3, the nozzle unit 5 includes a nozzle unit 51 in which a large number of discharge ports 512 are arranged in the Y direction at a predetermined pitch (for example, a pitch of 660 micrometers (μm)). The aspect ratio of each discharge port 512 in FIG. 3 (which can also be regarded as the aspect ratio of the discharge port) is, for example, 15 to 25 for manufacturing a panel of a field emission display device, and a nozzle for manufacturing a panel of a plasma display device. It is larger than the aspect ratio of the discharge port in the part (for example, about 14 times). As shown in FIG. 2, the main surface of the nozzle unit 51 on the light irradiation unit 43 side and the main surface on the opposite side to the light irradiation unit 43 (the surface on the opposite side of the nozzle body 52 of the lid member 53 described later, and The surface of the nozzle body 52 opposite to the lid member 53) is covered with a first protective member 54 and a second protective member 55, respectively, and the first and second protective members 54, 55 are made of stainless steel. Is done. The light irradiation unit 43 has a nozzle unit 51 so that the light emission position is 15 millimeters (mm) from the main surface 91 of the substrate 9 and the optical axis is perpendicular to the main surface 91 of the substrate 9. Is placed close to.

ノズル部51において各吐出口512へと連続する流路513(図2では、1つの吐出口512および1つの流路513のみに符号を付している。)は、ZX平面に平行かつZ方向に対して傾斜した方向(例えば、45度だけ傾斜した方向)に伸びている。これにより、基板9の主面91に向かうとともに主面91に対して傾斜する吐出方向に吐出口512からリブ形成材料81が吐出される。また、ノズル部51の開口面514(ノズル部51の先端における複数の吐出口512を含む面)も、同様にその法線がZX平面に平行かつZ方向に対して傾斜している。実際には、ノズル部51の流路513は、ノズル本体52に配列形成された多数の溝を板状の蓋部材53にて閉塞することにより形成され、ノズル本体52および蓋部材53は共に、白色のジルコニアを切削加工することにより形成される。   A flow path 513 (in FIG. 2, only one discharge opening 512 and one flow path 513 are denoted by reference numerals) continuous to the respective discharge ports 512 in the nozzle portion 51 is parallel to the ZX plane and in the Z direction. It extends in a direction inclined with respect to (for example, a direction inclined by 45 degrees). As a result, the rib forming material 81 is discharged from the discharge port 512 in the discharge direction toward the main surface 91 of the substrate 9 and inclined with respect to the main surface 91. Similarly, the opening surface 514 of the nozzle portion 51 (the surface including the plurality of discharge ports 512 at the tip of the nozzle portion 51) has its normal line parallel to the ZX plane and inclined with respect to the Z direction. Actually, the flow path 513 of the nozzle portion 51 is formed by closing a large number of grooves arranged in the nozzle body 52 with a plate-like lid member 53, and the nozzle body 52 and the lid member 53 are both It is formed by cutting white zirconia.

ノズル部51の図2中の(−Z)側の部位には、基板9の主面91に平行な対向面515が形成され、リブ形成装置1では、必要に応じて昇降機構41が吐出部42をZ方向に移動することにより、リブの形成時におけるノズル部51の対向面515と基板9の主面91との間の間隙がほぼ一定の微小な幅にて保たれ、ノズル部51が常時、基板9の主面91に近接した状態とされる。ノズル部51では、開口面514および対向面515上に、厚さ1〜2μmのDLC(Diamond Like Carbon)の層511(図2では太線にて示し、図3では平行斜線を付して示す。)がプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法にて形成されている。後述するように、DLCの層511はノズル部51の吐出口512近傍からノズル部51内へと入射する紫外線を遮蔽する役割を果たすため、以下の説明では、DLCの層511を遮蔽層511と呼ぶ。   A facing surface 515 parallel to the main surface 91 of the substrate 9 is formed on the (−Z) side portion of the nozzle portion 51 in FIG. 2. In the rib forming apparatus 1, the lifting mechanism 41 is provided with a discharge portion as necessary. By moving 42 in the Z direction, the gap between the opposed surface 515 of the nozzle portion 51 and the main surface 91 of the substrate 9 at the time of rib formation is maintained at a substantially constant minute width, so that the nozzle portion 51 The state is always close to the main surface 91 of the substrate 9. In the nozzle portion 51, a DLC (Diamond Like Carbon) layer 511 having a thickness of 1 to 2 μm (shown by a thick line in FIG. 2 and parallel oblique lines in FIG. 3) on the opening surface 514 and the opposing surface 515. ) Is formed by a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method. As will be described later, the DLC layer 511 serves to shield the ultraviolet rays that enter the nozzle portion 51 from the vicinity of the discharge port 512 of the nozzle portion 51. Therefore, in the following description, the DLC layer 511 is referred to as the shielding layer 511. Call.

次に、リブ形成装置1がリブを形成する動作について説明を行う。図4はリブ形成装置1が基板9上にリブを形成する動作の流れを示す図である。図1のリブ形成装置1では、まず、外部の搬送機構により基板9が搬入されてステージ20の載置面201上に載置された後(ステップS11)、ステージ移動機構2およびヘッド移動機構3によりノズルユニット5が基板9に対して所定の初期位置に配置される。続いて、光照射部43から紫外線の出射が開始された後(ステップS12)、吐出部42からのリブ形成材料の吐出が開始される(ステップS13)。   Next, the operation | movement in which the rib formation apparatus 1 forms a rib is demonstrated. FIG. 4 is a diagram showing a flow of operations in which the rib forming apparatus 1 forms ribs on the substrate 9. In the rib forming apparatus 1 of FIG. 1, first, after the substrate 9 is loaded by an external transport mechanism and placed on the placement surface 201 of the stage 20 (step S <b> 11), the stage moving mechanism 2 and the head moving mechanism 3. Thus, the nozzle unit 5 is arranged at a predetermined initial position with respect to the substrate 9. Subsequently, after the emission of ultraviolet rays from the light irradiation unit 43 is started (step S12), the discharge of the rib forming material from the discharge unit 42 is started (step S13).

吐出部42からのリブ形成材料の吐出は、図1に示す逆止弁441、ポンプ443および制御弁444により行われる。まず、制御部6の制御により制御弁444が開放された状態でポンプ443が吸引動作を行う。このとき、逆止弁441によりリブ形成材料の逆流が阻止されるため、タンク445からポンプ443へとリブ形成材料が引き込まれる。次に、制御弁444が閉じられ、ポンプ443が押出動作を行う。これにより、吐出部42から連続的にリブ形成材料が吐出される。   The rib forming material is discharged from the discharge portion 42 by the check valve 441, the pump 443, and the control valve 444 shown in FIG. First, the pump 443 performs a suction operation with the control valve 444 being opened under the control of the control unit 6. At this time, since the reverse flow of the rib forming material is prevented by the check valve 441, the rib forming material is drawn from the tank 445 to the pump 443. Next, the control valve 444 is closed and the pump 443 performs an extrusion operation. Thereby, the rib forming material is continuously discharged from the discharge portion 42.

また、リブ形成材料の吐出が開始されるのとほぼ同時に、制御部6がステージ移動機構2のモータ21を駆動制御して、吐出部42の下方にてステージ20を(−X)方向に移動することにより、吐出部42および光照射部43が主面91に沿う(+X)方向に基板9に対して相対移動を開始する(ステップS14)。実際には、図2に示すように、各吐出口512からリブ形成材料81を吐出しつつ、複数の吐出口512がリブ形成材料81の吐出側とは反対の方向(すなわち、(+X)方向)に主面91に沿って基板9に対して相対的に連続して移動することにより、各吐出口512から吐出されたリブ形成材料81が基板9上に順次付着する。   Further, almost simultaneously with the start of the discharge of the rib forming material, the control unit 6 drives and controls the motor 21 of the stage moving mechanism 2 to move the stage 20 in the (−X) direction below the discharge unit 42. By doing so, the discharge part 42 and the light irradiation part 43 start a relative movement with respect to the board | substrate 9 in the (+ X) direction along the main surface 91 (step S14). In practice, as shown in FIG. 2, while the rib forming material 81 is discharged from each discharge port 512, the plurality of discharge ports 512 are in the direction opposite to the discharge side of the rib forming material 81 (ie, the (+ X) direction). ), The rib forming material 81 discharged from each of the discharge ports 512 sequentially adheres to the substrate 9 by sequentially moving relative to the substrate 9 along the main surface 91.

また、基板9上に吐出されたリブ形成材料81には、ノズル部51の基板9に対する相対的な進行方向の後方に配置されている光照射部43により、吐出口512よりも上方の位置から紫外線が照射される。既述のように、リブ形成材料は光開始剤が添加されて光硬化性を有しており、光照射部43からの紫外線の照射により基板9上のリブ形成材料を容易に硬化させることが可能となっている。これにより、ノズルユニット5の相対的な進行方向に伸びる高精細なリブが形成される。   In addition, the rib forming material 81 discharged onto the substrate 9 is placed from a position above the discharge port 512 by the light irradiation unit 43 disposed behind the nozzle portion 51 in the direction of travel relative to the substrate 9. Ultraviolet rays are irradiated. As described above, the rib forming material is added with a photoinitiator and has photocurability, and the rib forming material on the substrate 9 can be easily cured by irradiation of ultraviolet rays from the light irradiation unit 43. It is possible. Thereby, a high-definition rib extending in the relative traveling direction of the nozzle unit 5 is formed.

このとき、光照射部43から基板9の主面91上へと照射された紫外線(正確には、基板9上のリブ形成材料に照射されなかった紫外線)は、基板9を透過してステージ20の載置面201に照射される。既述のように、載置面201は黒色に着色されており、載置面201に照射される紫外線のほとんどが載置面201にて吸収される。また、リブの表面にて反射した紫外線(あるいは、載置面201上にて反射される極僅かな紫外線等)がノズル部51の吐出口512近傍へと照射される場合であっても、図2のノズル部51の開口面514および対向面515には、遮蔽層511が形成されることにより、紫外線が吐出口512の近傍からノズル部51内へと入射することが防止される。実際には、光照射部43の光の出射位置は吐出口512の近傍に配置されるため、光照射部43から出射される紫外線の一部はノズル部51の光照射部43側にも照射されるが、ノズル部51の光照射部43側の主面は光を遮蔽する遮蔽部材である第1保護部材54にて覆われることにより、光照射部43側の主面からノズル部51内に紫外線が入射して、ノズル部51内にてリブ形成材料が硬化することが防止される。   At this time, the ultraviolet rays irradiated to the main surface 91 of the substrate 9 from the light irradiation unit 43 (more precisely, the ultraviolet rays that have not been irradiated to the rib forming material on the substrate 9) are transmitted through the substrate 9 and passed through the stage 20. The mounting surface 201 is irradiated. As described above, the mounting surface 201 is colored black, and most of the ultraviolet rays irradiated on the mounting surface 201 are absorbed by the mounting surface 201. Further, even when the ultraviolet light reflected on the surface of the rib (or the very slight ultraviolet light reflected on the mounting surface 201) is irradiated to the vicinity of the discharge port 512 of the nozzle portion 51, FIG. By forming a shielding layer 511 on the opening surface 514 and the opposing surface 515 of the second nozzle portion 51, ultraviolet rays are prevented from entering the nozzle portion 51 from the vicinity of the ejection port 512. Actually, since the light emission position of the light irradiation unit 43 is disposed in the vicinity of the ejection port 512, a part of the ultraviolet light emitted from the light irradiation unit 43 is also irradiated to the light irradiation unit 43 side of the nozzle unit 51. However, the main surface of the nozzle unit 51 on the light irradiation unit 43 side is covered with a first protective member 54 that is a shielding member that shields light, so that the nozzle unit 51 is exposed to the inside of the nozzle unit 51 from the main surface on the light irradiation unit 43 side. It is possible to prevent the rib forming material from being cured in the nozzle portion 51 by the incidence of ultraviolet rays.

また、リブ形成装置1では、図2に示すように、ノズル部51の開口面514が、その法線が吐出側((−X)側)にて基板9の主面91と交差するように傾斜していることにより、リブのYZ平面に平行な各断面では、(−Z)側から(+Z)側に向かってリブ形成材料を積み重ねるようにしてリブの各部位が形成されることとなる。このように、アスペクト比の高い状態で吐出口512からリブ形成材料が安定して吐出されることにより、高アスペクト比のリブが基板9上に形成される。   Further, in the rib forming apparatus 1, as shown in FIG. 2, the opening surface 514 of the nozzle portion 51 is such that the normal line intersects the main surface 91 of the substrate 9 on the discharge side ((−X) side). By inclining, in each cross section parallel to the YZ plane of the rib, each part of the rib is formed by stacking the rib forming material from the (−Z) side to the (+ Z) side. . As described above, ribs having a high aspect ratio are formed on the substrate 9 by stably discharging the rib forming material from the discharge port 512 in a state where the aspect ratio is high.

図5は、形成途上のリブ8のYZ平面に平行な断面を示す図である。実際には、リブ8の断面のY方向の幅は100μm、Z方向の高さは2mmとなり、基板9上には吐出部42における吐出口512と同じ個数のリブ8が、Y方向に広範囲に亘って吐出口512と同じピッチ660μmにて並んでいる。   FIG. 5 is a view showing a cross section of the rib 8 being formed in parallel with the YZ plane. Actually, the cross section of the rib 8 has a width in the Y direction of 100 μm and a height in the Z direction of 2 mm. On the substrate 9, the same number of ribs 8 as the discharge ports 512 in the discharge section 42 are widely spread in the Y direction. They are arranged at the same pitch 660 μm as the discharge ports 512.

リブ形成材料の吐出が続けられ、基板9上のリブ形成の終点がノズルユニット5の真下に達すると、リブ形成材料の吐出が停止される(ステップS15)。その後、終点近傍のリブ形成材料の硬化を行うために基板9がさらに僅かな距離だけ移動した後停止し(ステップS16)、光照射部43からの紫外線の出射も停止される(ステップS17)。また、リブ形成装置1では、ヘッド部4をY方向に所定の距離だけ移動し、基板9も元の位置へと移動した後、上記ステップS12〜S17を繰り返すことにより、Y方向に関して基板9上の全体に亘って多数のリブを形成することも可能である。   When the rib forming material is continuously discharged and the end point of rib formation on the substrate 9 reaches just below the nozzle unit 5, the discharge of the rib forming material is stopped (step S15). Thereafter, in order to cure the rib forming material in the vicinity of the end point, the substrate 9 is further moved by a slight distance and then stopped (step S16), and the emission of ultraviolet rays from the light irradiation unit 43 is also stopped (step S17). Further, in the rib forming apparatus 1, the head unit 4 is moved by a predetermined distance in the Y direction, and the substrate 9 is also moved to the original position, and then the above steps S12 to S17 are repeated, whereby the substrate 9 is moved in the Y direction. It is also possible to form a large number of ribs throughout.

以上の工程にて形成されたリブは他の工程において焼成され、リブ形成材料中の樹脂分が除去されるとともに、低軟化点ガラスフリットが融着する。そして、適宜、他の必要な工程を経て平面表示装置の組立部品であるパネルが完成する。   The ribs formed in the above steps are baked in other steps to remove the resin content in the rib forming material and fuse the low softening point glass frit. And the panel which is an assembly part of a flat display apparatus is completed suitably through other required processes.

ここで、ステージ20の載置面201における紫外線の吸収について述べる。表1は、ノズル部51の吐出口512に相当する位置における紫外線の照度の測定結果を示している。本照度測定の際には、ステージの載置面が鏡面(正確には、ステンレス鋼の板部材に設けられる鏡面)、着色前の白色の面、および、着色後の黒色の面のそれぞれとされ、光の出射位置を載置面から10mmまたは20mmの高さに配置して主光線が載置面に垂直となるように光照射部43から紫外線が出射され、ノズル部51の吐出口512に相当する位置近傍に配置される照度計にて、載置面からの反射光の照度(表1では、「吐出口における照度」と記している。)が測定された。なお、本照度測定では、照度計の受光面が直径19mmの円とされ、載置面上に照度計を配置して光照射部43からの紫外線を直接測定した際の照度は、194.5mW/cmであった。 Here, absorption of ultraviolet rays on the mounting surface 201 of the stage 20 will be described. Table 1 shows the measurement result of the illuminance of ultraviolet rays at a position corresponding to the discharge port 512 of the nozzle portion 51. In this illuminance measurement, the stage mounting surface is a mirror surface (more precisely, a mirror surface provided on a stainless steel plate member), a white surface before coloring, and a black surface after coloring. The light emission position is set at a height of 10 mm or 20 mm from the mounting surface, and the ultraviolet ray is emitted from the light irradiation unit 43 so that the principal ray is perpendicular to the mounting surface, and the discharge port 512 of the nozzle unit 51 is discharged. The illuminance of the reflected light from the mounting surface (in Table 1, “illuminance at the discharge port”) was measured with an illuminometer arranged in the vicinity of the corresponding position. In this illuminance measurement, the light-receiving surface of the illuminance meter is a circle with a diameter of 19 mm, and the illuminance when the illuminance meter is arranged on the mounting surface and ultraviolet rays from the light irradiation unit 43 are directly measured is 194.5 mW. / Cm 2 .

Figure 2008012389
Figure 2008012389

表1より、光照射部43の光の出射位置を載置面201から10mmおよび20mmのいずれの高さに配置する場合であっても、ノズル部51の吐出口512に相当する位置における照度は、ステージの載置面が白色の面の場合に最も高く、黒色の面の場合に最も低くなる。実際には、黒色の面における照度は、白色の面における照度の約6%となり、鏡面における照度の9〜13%となる。なお、載置面が鏡面の場合では、白色の面の場合に比べて光が散乱しないため、吐出口における照度が低くなっている。以上のように、本実施の形態における黒色に着色された載置面201では、光照射部43からの紫外線の大部分が吸収され、吐出口における照度が低くなることが判る。   From Table 1, the illuminance at the position corresponding to the discharge port 512 of the nozzle unit 51 is equal to the light emission position of the light irradiation unit 43 at any height of 10 mm and 20 mm from the mounting surface 201. It is highest when the stage mounting surface is a white surface, and lowest when it is a black surface. Actually, the illuminance on the black surface is about 6% of the illuminance on the white surface and 9 to 13% of the illuminance on the mirror surface. In the case where the mounting surface is a mirror surface, light is not scattered compared to the case of a white surface, so the illuminance at the discharge port is low. As described above, in the mounting surface 201 colored in black in the present embodiment, it can be seen that most of the ultraviolet rays from the light irradiation unit 43 are absorbed and the illuminance at the discharge port is lowered.

以上に説明したように、図1のリブ形成装置1では、光照射部43から出射されて基板9を透過した紫外線が、基板9が載置されるステージ20の載置面201にて吸収される。これにより、光照射部43からの光がステージ20にて反射してノズル部51に入射することが抑制される。また、リブの表面にて反射した紫外線(あるいは、載置面201上にて反射される極僅かな紫外線等)が、紫外線を透過する材料にて形成されるノズル部51側に向かったとしても、ノズル部51の吐出口512近傍の表面に遮蔽層511が形成されることにより、紫外線がノズル部51内のリブ形成材料の流路513へと到達することが防止される。このように、リブ形成装置1では、載置面201における紫外線の吸収および遮蔽層511における紫外線の遮蔽により、吐出口512の周囲から流路513へと到達する光によりノズル部51内のリブ形成材料が硬化してノズル部51が詰まることを確実に防止することができ、その結果、基板9上にリブを精度よく形成することが実現される。   As described above, in the rib forming apparatus 1 of FIG. 1, the ultraviolet light emitted from the light irradiation unit 43 and transmitted through the substrate 9 is absorbed by the mounting surface 201 of the stage 20 on which the substrate 9 is mounted. The Thereby, the light from the light irradiation unit 43 is suppressed from being reflected by the stage 20 and entering the nozzle unit 51. Further, even if ultraviolet rays reflected on the surface of the rib (or very slight ultraviolet rays reflected on the mounting surface 201) are directed toward the nozzle part 51 formed of a material that transmits ultraviolet rays. By forming the shielding layer 511 on the surface of the nozzle portion 51 in the vicinity of the discharge port 512, the ultraviolet rays are prevented from reaching the rib forming material flow path 513 in the nozzle portion 51. As described above, in the rib forming apparatus 1, the rib formation in the nozzle portion 51 is performed by the light reaching the flow path 513 from the periphery of the discharge port 512 by absorbing the ultraviolet rays on the mounting surface 201 and shielding the ultraviolet rays on the shielding layer 511. It is possible to reliably prevent the material from being hardened and clogging the nozzle portion 51. As a result, it is possible to accurately form the ribs on the substrate 9.

光源ユニット432のフィルタ434では、光源433ら出射される光のうち、紫外線のみを透過し、熱線を含む他の波長帯の光が遮蔽されることにより、ノズル部51に照射される熱線により熱が発生してノズル部51内にてリブ形成材料が硬化することを防止することができ、これにより、基板9上に高精度なリブを安定して形成することが可能となる。   In the filter 434 of the light source unit 432, only the ultraviolet light out of the light emitted from the light source 433 is transmitted and light in other wavelength bands including heat rays is shielded, so that heat is emitted by the heat rays applied to the nozzle portion 51. It is possible to prevent the rib forming material from being hardened in the nozzle portion 51 and to thereby stably form a highly accurate rib on the substrate 9.

ところで、より高アスペクト比のリブを形成する際には、同様に高アスペクト比の吐出口を有するノズル部を用いるとともに、光照射部43からの紫外線の強度をさらに強くする必要があるが、ステージ20の載置面201では、リブ形成材料を硬化させる紫外線が吸収されることにより、ノズル部51へと入射する紫外線の量を抑制してノズル部51が詰まることを防止することができ、基板9上におけるより高アスペクト比のリブの形成が可能となる。   By the way, when forming a rib having a higher aspect ratio, it is necessary to use a nozzle portion having a discharge port having a high aspect ratio, and to further increase the intensity of ultraviolet rays from the light irradiation portion 43. 20 mounting surface 201 absorbs ultraviolet rays that cure the rib forming material, thereby suppressing the amount of ultraviolet rays incident on nozzle portion 51 and preventing nozzle portion 51 from clogging. Higher aspect ratio ribs on 9 can be formed.

なお、ステージ20の載置面201では、黒色の着色以外に、例えば、黒色のフィルム(紙でもよい。)を敷いたり、金属のステージに硬質アルマイト処理を施すことにより紫外線の吸収が実現されてもよく、さらには、ステージ20自体が紫外線を吸収する材料にて形成されてもよい。   In addition to black coloration, for example, a black film (which may be paper) is laid on the mounting surface 201 of the stage 20 or ultraviolet absorptivity is realized by applying a hard alumite treatment to a metal stage. Further, the stage 20 itself may be formed of a material that absorbs ultraviolet rays.

また、リブ形成装置1では、窒化チタン(TiN)、窒化チタンアルミニウム(TiAlN)、炭化チタン(TiC)、窒化クロム(CrN)、炭化ケイ素(SiC)、窒化ケイ素(SiN)、アルミナ(Al)等が遮蔽層としてCVD法やPVD(Physical Vapor Deposition)法により開口面514および対向面515に形成されてもよい。この場合に、紫外線の透過を確実に防止するという観点ではコーティングされる遮蔽層の厚さは0.3μm以上とされることが好ましく、吐出口512から形成されるリブ形成材料に影響を与えないという観点では遮蔽層の厚さは10μm以下とされることが好ましい。なお、CVD法により形成される遮蔽層は、通常、厚さ0.3〜3μmとされる。また、ノズル部51の開口面514および対向面515に黒色の着色剤を塗布する(実際には、着色剤の層が形成される)ことにより、吐出口512近傍へと入射する紫外線の遮蔽が実現されてもよい。 Further, in the rib forming apparatus 1, titanium nitride (TiN), titanium aluminum nitride (TiAlN), titanium carbide (TiC), chromium nitride (CrN), silicon carbide (SiC), silicon nitride (SiN), alumina (Al 2 O) 3 ) etc. may be formed on the opening surface 514 and the facing surface 515 as a shielding layer by a CVD method or a PVD (Physical Vapor Deposition) method. In this case, from the viewpoint of reliably preventing the transmission of ultraviolet rays, the thickness of the shielding layer to be coated is preferably 0.3 μm or more, and does not affect the rib forming material formed from the discharge port 512. From this point of view, the thickness of the shielding layer is preferably 10 μm or less. In addition, the shielding layer formed by CVD method is normally 0.3-3 micrometers in thickness. Further, by applying a black colorant to the opening surface 514 and the opposing surface 515 of the nozzle portion 51 (actually, a colorant layer is formed), the ultraviolet rays incident on the vicinity of the discharge port 512 are blocked. It may be realized.

図6は、本発明の第2の実施の形態に係るリブ形成装置のノズルユニット5aを示す図である。図6のノズルユニット5aでは、ノズル部51aが紫外線を遮蔽する黒色のジルコニアにて形成されるとともに、図2および図3のノズル部51における遮蔽層511が省略される。ノズルユニット5aの他の構成は図2および図3のノズルユニット5と同様であり同符号を付している。   FIG. 6 is a view showing the nozzle unit 5a of the rib forming apparatus according to the second embodiment of the present invention. In the nozzle unit 5a of FIG. 6, the nozzle part 51a is formed of black zirconia that shields ultraviolet rays, and the shielding layer 511 in the nozzle part 51 of FIGS. 2 and 3 is omitted. Other configurations of the nozzle unit 5a are the same as those of the nozzle unit 5 of FIGS. 2 and 3, and are denoted by the same reference numerals.

図6のノズルユニット5aを有するリブ形成装置においても、図1のリブ形成装置と同様の処理が行われる。すなわち、基板9をステージ20の載置面201上に載置した後(図4:ステップS11)、光照射部43からの紫外線の出射および吐出部42からのリブ形成材料の吐出が開始されるとともに(ステップS12,S13)、基板9が移動を開始して基板9の主面91上にリブが形成される(ステップS14)。   Also in the rib forming apparatus having the nozzle unit 5a of FIG. 6, the same processing as that of the rib forming apparatus of FIG. 1 is performed. That is, after the substrate 9 is placed on the placement surface 201 of the stage 20 (FIG. 4: step S11), the emission of ultraviolet rays from the light irradiation unit 43 and the discharge of the rib forming material from the discharge unit 42 are started. At the same time (steps S12 and S13), the substrate 9 starts to move and ribs are formed on the main surface 91 of the substrate 9 (step S14).

このとき、リブの表面にて反射した紫外線(あるいは、載置面201上にて反射される極僅かな紫外線等)がノズル部51の吐出口512近傍へと照射される場合であっても、ノズル部51自体が紫外線を遮蔽する材料にて形成されていることにより、紫外線がノズル部51内へと入射することが防止される。リブ形成装置では、リブ形成材料の吐出が続けられ、基板9上のリブ形成の終点がノズルユニット5の真下に達すると、リブ形成材料の吐出が停止され(ステップS15)、続いて、基板9の移動および光照射部43からの紫外線の出射が停止され(ステップS16,S17)、リブ形成装置による基板9上へのリブ形成動作が終了する。   At this time, even when ultraviolet rays reflected on the surface of the rib (or very slight ultraviolet rays reflected on the mounting surface 201) are irradiated to the vicinity of the discharge port 512 of the nozzle portion 51, Since the nozzle part 51 itself is formed of a material that blocks ultraviolet rays, the ultraviolet rays are prevented from entering the nozzle part 51. In the rib forming apparatus, the discharge of the rib forming material is continued, and when the end point of the rib formation on the substrate 9 reaches just below the nozzle unit 5, the discharge of the rib forming material is stopped (step S15). And the emission of ultraviolet rays from the light irradiation unit 43 are stopped (steps S16 and S17), and the rib forming operation on the substrate 9 by the rib forming apparatus is completed.

以上に説明したように、図6のノズルユニット5aを有するリブ形成装置では、リブ形成材料を硬化させる紫外線を遮蔽する黒色のジルコニアにてノズル部51aが形成される。これにより、ノズル部51内に入射する光により内部のリブ形成材料が硬化してノズル部51が詰まることを防止することができ、基板9上にリブを精度よく形成することができる。なお、ノズル部51aは、紫外線を遮蔽し、かつ、所定の形状精度にてノズル部51aを作製することが可能なものであるならば、他のセラミックスにて形成されてもよい。   As described above, in the rib forming apparatus having the nozzle unit 5a of FIG. 6, the nozzle portion 51a is formed of black zirconia that shields ultraviolet rays that harden the rib forming material. Thereby, it is possible to prevent the inner rib forming material from being hardened by light incident on the nozzle portion 51 and clogging the nozzle portion 51, and the ribs can be formed on the substrate 9 with high accuracy. The nozzle portion 51a may be formed of other ceramics as long as it can shield the ultraviolet rays and can produce the nozzle portion 51a with a predetermined shape accuracy.

以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made.

上記第1および第2の実施の形態では、リブ形成材料が紫外線の照射により硬化するが、リブ形成材料は他の波長帯の光の照射により硬化するものであってもよい。リブ形成装置では、i)リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を透過する材料にてノズル部が形成される場合に当該波長帯の光を遮蔽する遮蔽層が吐出口近傍の表面に形成される、ii)リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を遮蔽するとともにノズル部を精度よく製造することが可能なセラミックスにてノズル部自体が形成される、iii)基板がリブ形成材料を硬化させる波長帯の光を透過する場合に基板が載置されるステージに当該波長帯の光を吸収する載置面が設けられる、の少なくともいずれかが満たされることにより、ノズル部内(吐出口の近傍を含む。)のリブ形成材料が硬化してノズル部が詰まることが防止または抑制され、基板上にリブを精度よく形成することが実現される。なお、リブ形成材料は、低軟化点ガラスフリットを含むものが好ましいが、リブが形成される基板の用途によっては、他の材料を用いることも可能である。   In the first and second embodiments, the rib forming material is cured by irradiation with ultraviolet rays, but the rib forming material may be cured by irradiation with light in other wavelength bands. In the rib forming apparatus, i) when the nozzle portion is formed of a material that transmits light in a wavelength band that cures the rib forming material, a shielding layer that shields light in the wavelength band is formed on the surface in the vicinity of the discharge port. Ii) The nozzle part itself is formed of ceramics capable of shielding the light in the wavelength band for curing the rib forming material and manufacturing the nozzle part with high precision, and iii) The substrate cures the rib forming material. When a stage on which a substrate is placed when transmitting light in the wavelength band is provided with a placement surface that absorbs light in the wavelength band, at least one of the conditions is satisfied, so that the inside of the nozzle portion (the vicinity of the discharge port is In other words, it is possible to prevent or suppress clogging of the nozzle portion due to curing of the rib forming material, and to accurately form the rib on the substrate. The rib forming material preferably includes a low softening point glass frit, but other materials may be used depending on the use of the substrate on which the rib is formed.

上記第1の実施の形態では、白色のジルコニアにて形成されるノズル部51が紫外線の一部(すなわち、紫外線の光量の一部)を透過するため、吐出口512の近傍に遮蔽層511が設けられるが、ノズル部51が紫外線の波長帯のうちの一部の波長帯の光を透過する場合に、同様に、遮蔽層511が設けられてもよい。すなわち、リブ形成材料を硬化させる波長帯の光の少なくとも一部を透過する材料にてノズル部51が形成される場合に、ノズル部51に遮蔽層511が設けられることにより、ノズル部51が詰まることを防止することが可能となる。   In the first embodiment, since the nozzle portion 51 formed of white zirconia transmits part of the ultraviolet rays (that is, part of the amount of ultraviolet rays), the shielding layer 511 is provided in the vicinity of the discharge port 512. Although provided, the shielding layer 511 may be similarly provided when the nozzle portion 51 transmits light in a part of the ultraviolet wavelength band. That is, when the nozzle part 51 is formed of a material that transmits at least part of light in the wavelength band for curing the rib forming material, the nozzle part 51 is clogged by providing the shielding part 511 in the nozzle part 51. This can be prevented.

また、遮蔽層511は必ずしもノズル部51の開口面514の全体に設けられる必要はなく、ノズル部51に1つの吐出口512のみが設けられる場合等には、遮蔽層511は吐出口512の近傍のみに設けられてもよい。リブ形成材料の流路513へと到達する紫外線を遮蔽してノズル部51の詰まりを防止するには、少なくともノズル部51の吐出口512近傍の表面に遮蔽層511が形成されることが必要となる。なお、紫外線を透過しない基板上にリブを形成する際に、ノズル部51の対向面515と基板9の主面91との間が微小な距離にて保たれる場合には、対向面515上の遮蔽層511を省略することも可能である。   In addition, the shielding layer 511 is not necessarily provided on the entire opening surface 514 of the nozzle portion 51, and when only one ejection port 512 is provided in the nozzle portion 51, the shielding layer 511 is in the vicinity of the ejection port 512. May be provided only. In order to prevent the clogging of the nozzle portion 51 by blocking the ultraviolet rays reaching the flow path 513 of the rib forming material, it is necessary to form the shielding layer 511 at least on the surface in the vicinity of the discharge port 512 of the nozzle portion 51. Become. When forming a rib on a substrate that does not transmit ultraviolet light, if the distance between the facing surface 515 of the nozzle portion 51 and the main surface 91 of the substrate 9 is kept at a very small distance, the surface on the facing surface 515 It is also possible to omit the shielding layer 511.

第1保護部材54は、必ずしもステンレス鋼にて形成される板状の部材である必要はなく、遮蔽層511と同様に、紫外線を遮蔽する層(膜状を含む。)として設けられてもよい。   The first protection member 54 is not necessarily a plate-like member formed of stainless steel, and may be provided as a layer (including a film shape) that blocks ultraviolet rays, similarly to the shielding layer 511. .

また、ノズル部51はジルコニア以外の材料にて形成することも可能であり、吐出口の形状やピッチも、表示装置の設計に合わせて必要とされるリブの断面形状およびピッチ(例えば、幅80μm、かつ、高さ500μmであり、ピッチ330μmにて配列されるリブ)に応じて、適宜変更されてよい。ただし、基板9上に形成される複数のリブのピッチが1mm以下(好ましくは、300μm以上)とされ、各リブの基板9の主面91に沿って伸びる方向に垂直な断面の幅が200μm以下(好ましくは、50μm以上)、かつ、アスペクト比が5以上(好ましくは、25以下)とされる場合には、高アスペクト比の微細な吐出口512を微小なピッチにて有するノズル部51が必要となるため、ジルコニアの被加工部材を用いることにより、高精度なノズル部51が容易に作製されることが好ましい。   Further, the nozzle portion 51 can be formed of a material other than zirconia, and the shape and pitch of the discharge ports are the cross-sectional shape and pitch of ribs required for the design of the display device (for example, a width of 80 μm). In addition, the height may be appropriately changed depending on the ribs having a height of 500 μm and a pitch of 330 μm. However, the pitch of the plurality of ribs formed on the substrate 9 is 1 mm or less (preferably 300 μm or more), and the width of the cross section perpendicular to the direction extending along the main surface 91 of the substrate 9 of each rib is 200 μm or less. (Preferably, 50 μm or more) When the aspect ratio is 5 or more (preferably, 25 or less), the nozzle unit 51 having fine discharge ports 512 with a high aspect ratio at a fine pitch is necessary. Therefore, it is preferable that the high-precision nozzle portion 51 is easily manufactured by using a zirconia workpiece.

吐出部42では、吐出口512の全体が形成されるノズル部51,51aの開口面514が、その法線が吐出側にて基板9の主面91と交差するように傾斜していることにより、アスペクト比が高いリブが精度よく形成されるが、リブ形成装置では、ノズル部51,51aにおいて吐出口512の一部を対向面515にまで広げて形成して(図2参照)、アスペクト比が高いリブを形成することも可能である。すなわち、吐出口512の全体または大部分が形成されるノズル部51,51a上の開口面514が、その法線が吐出側にて基板9と交差するように傾斜していればよい。   In the discharge part 42, the opening surface 514 of the nozzle part 51, 51a in which the entire discharge port 512 is formed is inclined so that the normal line intersects the main surface 91 of the substrate 9 on the discharge side. The rib having a high aspect ratio is formed with high accuracy. However, in the rib forming apparatus, a part of the discharge port 512 is extended to the opposing surface 515 in the nozzle portions 51 and 51a (see FIG. 2), and the aspect ratio is set. It is also possible to form a rib having a high height. That is, the opening surface 514 on the nozzle portions 51 and 51a in which the whole or most of the discharge port 512 is formed only needs to be inclined so that the normal line intersects the substrate 9 on the discharge side.

上記第1および第2の実施の形態では、光源ユニット432内に配置されるフィルタ434により光源433からの光のうち紫外線(300〜400nmの波長帯の紫外線に限らず、より短い波長を含む紫外線(例えば200〜400nm)であってもよい。)のみが透過されて光照射部43から出射されるが、ノズル部(または、ノズルユニット)に直接的に、または、リブの表面等を介して間接的に照射される光により熱が発生してノズル部内のリブ形成材料が硬化することを防止するという観点では、リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を透過しつつ少なくとも熱線を遮蔽するフィルタ434が、光源433から光照射部43を経由して基板9へと至る光路上に配置されることが重要となる。   In the first and second embodiments, the filter 434 disposed in the light source unit 432 makes ultraviolet light (not only ultraviolet light in the wavelength band of 300 to 400 nm, but also shorter wavelength) out of light from the light source 433. (For example, it may be 200 to 400 nm), but only is transmitted and emitted from the light irradiation unit 43, but directly to the nozzle unit (or nozzle unit) or through the surface of the rib or the like. A filter that shields at least heat rays while transmitting light in a wavelength band that cures the rib-forming material from the viewpoint of preventing the rib-forming material in the nozzle portion from being cured by heat generated by indirectly irradiated light. It is important that 434 is disposed on the optical path from the light source 433 to the substrate 9 via the light irradiation unit 43.

リブ形成装置1では、ステージ20上の基板9が吐出部42および光照射部43に対してX方向に移動するが、吐出部42および光照射部43を基板9に対してX方向に移動する機構が設けられてもよい。すなわち、リブ形成装置における吐出部42および光照射部43の基板9に対するX方向への相対的な移動は、いかなる機構にて実現されてもよい。   In the rib forming apparatus 1, the substrate 9 on the stage 20 moves in the X direction with respect to the ejection unit 42 and the light irradiation unit 43, but moves the ejection unit 42 and the light irradiation unit 43 in the X direction with respect to the substrate 9. A mechanism may be provided. That is, the relative movement in the X direction of the discharge unit 42 and the light irradiation unit 43 in the rib forming apparatus with respect to the substrate 9 may be realized by any mechanism.

リブ形成装置においてリブが形成される基板は、ガラス以外の材料により形成されるものであってもよい。この場合に、基板がリブ形成材料を硬化させる波長帯の光を透過しない材料(例えば、金属)にて形成される場合には、上記第1および第2の実施の形態において、ステージ20の載置面201の着色が省略されてもよい。   The substrate on which the rib is formed in the rib forming apparatus may be formed of a material other than glass. In this case, when the substrate is formed of a material (for example, metal) that does not transmit light in a wavelength band that cures the rib forming material, the stage 20 is mounted in the first and second embodiments. The coloring of the placement surface 201 may be omitted.

リブ形成装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a rib formation apparatus. ノズルユニットの先端近傍を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows the tip vicinity of a nozzle unit. ノズルユニットの複数の吐出口近傍を示す図である。It is a figure which shows the some discharge outlet vicinity of a nozzle unit. リブ形成装置が基板上にリブを形成する動作の流れを示す図である。It is a figure which shows the flow of operation | movement in which a rib formation apparatus forms a rib on a board | substrate. リブを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a rib. 第2の実施の形態に係るノズルユニットを示す図である。It is a figure which shows the nozzle unit which concerns on 2nd Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

1 リブ形成装置
2 ステージ移動機構
8 リブ
9 基板
20 ステージ
42 吐出部
43 光照射部
51,51a ノズル部
54 保護部材
81 リブ形成材料
91 主面
201 載置面
433 光源
434 フィルタ
511 遮蔽層
512 吐出口
513 流路
514 開口面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rib formation apparatus 2 Stage moving mechanism 8 Rib 9 Substrate 20 Stage 42 Discharge part 43 Light irradiation part 51, 51a Nozzle part 54 Protection member 81 Rib formation material 91 Main surface 201 Placement surface 433 Light source 434 Filter 511 Shielding layer 512 Discharge port 513 Flow path 514 Opening surface

Claims (10)

基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
光硬化性を有するリブ形成材料を基板上に吐出する吐出部と、
前記吐出部に近接して設けられ、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、
前記吐出部および前記光照射部を前記基板に沿う方向に前記基板に対して相対的に移動する移動機構と、
を備え、
前記吐出部が、
前記リブ形成材料を吐出する吐出口を有し、前記リブ形成材料を硬化させる波長帯の光の少なくとも一部を透過する材料にて形成されたノズル部と、
少なくとも前記ノズル部の前記吐出口近傍の表面に形成され、前記ノズル部内の前記リブ形成材料の流路へと到達する前記波長帯の前記光を遮蔽する遮蔽層と、
を備えることを特徴とするリブ形成装置。
A rib forming apparatus for forming a rib on a substrate,
A discharge part that discharges a rib-forming material having photo-curing properties onto the substrate;
A light irradiation unit that is provided in the vicinity of the discharge unit and irradiates light onto the rib forming material discharged onto the substrate;
A moving mechanism for moving the ejection unit and the light irradiation unit relative to the substrate in a direction along the substrate;
With
The discharge part is
A nozzle portion that has a discharge port for discharging the rib forming material and is formed of a material that transmits at least part of light in a wavelength band that cures the rib forming material;
A shielding layer that shields the light in the wavelength band that is formed on at least the surface of the nozzle portion in the vicinity of the discharge port and reaches the flow path of the rib forming material in the nozzle portion;
A rib forming apparatus comprising:
請求項1に記載のリブ形成装置であって、
前記吐出部が、前記ノズル部の前記光照射部側の主面を覆うとともに、前記波長帯の前記光を遮蔽する遮蔽部材をさらに備えることを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to claim 1,
The rib forming apparatus, wherein the discharge unit further includes a shielding member that covers the main surface of the nozzle unit on the light irradiation unit side and shields the light in the wavelength band.
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
光硬化性を有するリブ形成材料を基板上に吐出する吐出口を有し、前記リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を遮蔽するセラミックスにて形成されたノズル部と、
前記ノズル部に近接して設けられ、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、
前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う方向に前記基板に対して相対的に移動する移動機構と、
を備えることを特徴とするリブ形成装置。
A rib forming apparatus for forming a rib on a substrate,
A nozzle portion formed of ceramics that has a discharge port for discharging a photocurable rib forming material onto a substrate and shields light in a wavelength band that cures the rib forming material;
A light irradiation unit that is provided in the vicinity of the nozzle unit and irradiates light onto a rib forming material discharged onto the substrate;
A moving mechanism for moving the nozzle unit and the light irradiation unit relative to the substrate in a direction along the substrate;
A rib forming apparatus comprising:
請求項1ないし3のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記基板が載置される載置面を有するステージをさらに備え、
前記基板が前記波長帯の前記光を透過し、前記載置面が前記波長帯の前記光を吸収することを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to any one of claims 1 to 3,
A stage having a placement surface on which the substrate is placed;
The rib forming apparatus, wherein the substrate transmits the light in the wavelength band, and the mounting surface absorbs the light in the wavelength band.
基板上にリブを形成するリブ形成装置であって、
光硬化性を有するリブ形成材料を、前記リブ形成材料を硬化させる波長帯の光を透過する基板上に吐出口から吐出するノズル部と、
前記ノズル部に近接して設けられ、前記基板上に吐出されたリブ形成材料に光を照射する光照射部と、
前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う方向に前記基板に対して相対的に移動する移動機構と、
前記基板が載置され、前記波長帯の前記光を吸収する載置面を有するステージと、
を備えることを特徴とするリブ形成装置。
A rib forming apparatus for forming a rib on a substrate,
A nozzle part that discharges a rib-forming material having photocurability from a discharge port onto a substrate that transmits light in a wavelength band that cures the rib-forming material;
A light irradiation unit that is provided in the vicinity of the nozzle unit and irradiates light onto a rib forming material discharged onto the substrate;
A moving mechanism for moving the nozzle unit and the light irradiation unit relative to the substrate in a direction along the substrate;
A stage on which the substrate is mounted and having a mounting surface that absorbs the light in the wavelength band;
A rib forming apparatus comprising:
請求項1ないし5のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記ノズル部が、前記基板の主面に向かうとともに前記主面に対して傾斜する吐出方向に前記吐出口から前記リブ形成材料を吐出し、前記吐出口の全体または大部分が形成される前記ノズル部の開口面が、その法線が吐出側にて前記基板と交差するように傾斜していることを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to any one of claims 1 to 5,
The nozzle in which the nozzle portion discharges the rib forming material from the discharge port in a discharge direction that is directed toward the main surface of the substrate and is inclined with respect to the main surface, and the whole or most of the discharge port is formed. The rib forming apparatus is characterized in that the opening surface of the portion is inclined so that the normal line intersects the substrate on the discharge side.
請求項1ないし6のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記波長帯の前記光を含む光を出射する光源と、
前記光源から前記光照射部を経由して前記基板へと至る光路上に配置され、入射する光のうち少なくとも熱線を遮蔽し、前記波長帯の前記光を透過するフィルタと、
をさらに備えることを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to any one of claims 1 to 6,
A light source that emits light including the light in the wavelength band;
A filter disposed on an optical path from the light source via the light irradiation unit to the substrate, shielding at least heat rays among incident light, and transmitting the light in the wavelength band;
The rib forming apparatus further comprising:
請求項1ないし7のいずれかに記載のリブ形成装置であって、
前記ノズル部が複数の吐出口を備え、
前記基板上に形成される複数のリブのピッチが1ミリメートル以下であることを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The nozzle portion includes a plurality of discharge ports;
A rib forming apparatus, wherein a pitch of a plurality of ribs formed on the substrate is 1 mm or less.
請求項8に記載のリブ形成装置であって、
前記複数のリブのそれぞれにおいて、前記基板に沿う方向に垂直な断面の幅が200マイクロメートル以下であり、アスペクト比が5以上であることを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to claim 8, wherein
In each of the plurality of ribs, the rib forming apparatus is characterized in that a cross-sectional width perpendicular to the direction along the substrate is 200 micrometers or less and an aspect ratio is 5 or more.
請求項8または9に記載のリブ形成装置であって、
前記ノズル部が、ジルコニアにて形成されることを特徴とするリブ形成装置。
The rib forming apparatus according to claim 8 or 9, wherein
The said nozzle part is formed with a zirconia, The rib formation apparatus characterized by the above-mentioned.
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