JP2008010373A - 大気圧プラズマ発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電源1は2つの放電電極の間に交流電圧を印加するためのものであり、各放電電極の対向面a,bの間には、放電ギャップGが形成されている。ただし、放電電極に接続する電源1は、直流電源でも、交流電源でも、矩形波電源でもよい。電源に係わるこれらの実施形態は、用途即ち所望のプラズマ処理や被加工物に応じて適当に選択することができる。また、導電体からなる被加工物と放電電極の片方は、電源2を介して接続される。この電源2は、バイアス電圧を印加するためのものである。即ち、この電極2は、本発明のバイアス電圧印加回路を構成するもので、この電源2にも、直流、交流など任意の形態の電源を用いることができる。
【選択図】図1
Description
以上のことから、特許文献2に開示されている当該装置は、製造コスト、小形化、及び適用範囲などの面で、未だ多くの課題を残している。
即ち、本発明の第1の手段は、対向面にて相対峙する2つの放電電極の間に形成された微小隙間からなる放電ギャップにプラズマ原料ガスを注入することにより大気圧下または大気圧近傍下に置かれた導電体からなる被処理物に対してプラズマジェットを噴射する大気圧プラズマ発生装置において、上記の放電電極と被処理物との間にバイアス電圧を印加するバイアス電圧印加回路を設け、上記の2つの放電電極の各対向面を用いて、プラズマジェットを噴射する噴射ノズルの開口部を形成することである。
ただし、上記のバイアス電圧は、直流電圧であっても交流電圧であっても良い。また、放電電極の間に印加する電圧は、交流電圧であることが望ましいが、必ずしもその限りではない。
以上の本発明の手段により、前記の課題を効果的、或いは合理的に解決することができる。
したがって、これらの構成によれば、幅狭の微小隙間から構成すべき放電ギャップを極めて簡潔に形成することができ、よって、従来、複数電極の入れ子構造の中心に配置されていた電極棒等が不要となる。このため、本発明の第1または第4の手段によれば、プラズマ発生機構の構造を極めて簡潔かつ小形に形成することができる。また、上記の構成に従えば、導電体からなる被処理物は直接上記のバイアス電圧印加回路に接続されるので、バイアス電圧を印加するための補助電極を製造する必要がなく、また、被加工物は導電体に制限されるが、噴射ノズルの開口部と補助電極との間の距離に被加工物の大きさが制限される恐れも払拭される。
したがって、本発明によれば、大気圧環境下において十分高密度な大気圧プラズマが発生可能で、かつ、特に導電体の加工に好適な大気圧プラズマ発生装置を従来よりも格段に小形に簡単に構成することができる。
また、電源1と電源2との間で、電源の形態(直流、交流、矩形波、パルス波など)や周波数や位相などは必ずしも揃える必要はなく、これらの条件についても所望のプラズマ処理や被加工物等に応じて適当に設定することができる。
また、噴射ノズルの開口部101から噴射させるプラズマジェットの噴出方向は、特に鉛直方向に限定されることなく任意に設定することができ、上記のプラズマ発生部分と被加工物との配置関係にも特段の制限はない。
また、特にホローカソード放電に寄与する凹部または溝部を形成する場合には、放電ギャップGを構成する放電電極の対向面a,bのガス流方向の長さ(図1のz軸方向の長さ)を1〜10mm程度設けると良い。また、その対向面a,bに形成する凹部または溝部は、例えば幅及び深さを1mm以下、0.5mm程度とすると良い。また、凹部はドット状に形成しても良い。凹部または溝部の形状は、円柱面状、半球面状、角柱面状、角錐状、その他任意に形成することができる。
また、これらのプラズマ原料ガスには、例えば、アンモニア、6フッ化イオウ、3フッ化窒素、フルオロカーボン類、特にC2F4等のフッ素化合物などの所望の反応性ガスを任意に混合しても良い。
更に、これらの反応性ガスなどの反応材は、上記のプラズマ原料ガスとは独立した供給系統によって、直接加工対象に対して吹き付けるなどしてもよい。即ち、反応性ガスなどの反応材は、プラズマ生成前にプラズマ原料ガスに混合しても、プラズマ生成後にプラズマに混合してもよく、また、プラズマやプラズマ原料ガスとは独立かつ並列的に直接被加工面に供給してもよい。
以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説明する。
ただし、本発明の実施形態は、以下に示す個々の実施例に限定されるものではない。
ガス管20の立体形状は、これらの図4−A〜Eに示す様に、ガス流路201を有する直方体の絶縁体をベースとして、その絶縁体に、ガス流路201の矩形の先端口部202よりも更に先端に位置する突出部211を設け、放電電極10Aと放電電極10Bを組み付けるための凹部210A及び凹部210Bを設け、更に、ガスを導入する接続部203を設けた形状になっている。また、図4−C〜Eに示す通り、ガス流路201の形状は、ガスを導入する接続部203付近においては円筒状であるが、テーパ部201tを経由して先端に進むにつれて次第に先端口部202の様な矩形になっている。
一方、電源2によるバイアス電圧を印加しなかった場合には、同一のセラミックスを同一の金属基材の表面から除去することはできなかった。即ち、これらの実験結果より、本発明の有効性を確認することができた。
なお、絶縁パイプの材料としてセラミックスを用い、電極の材料としてステンレスを用いた。また、図6−Bに示す絶縁パイプ30の内径は0.5mm〜1mmである。
本発明の実施形態は、上記の形態に限定されるものではなく、その他にも以下に例示される様な変形を行っても良い。この様な変形や応用によっても、本発明の作用に基づいて本発明の効果を得ることができる。
(変形例1)
例えば、上記の各実施例では、アルゴンガスをプラズマ原料ガスとして用いたが、その他にもプラズマ原料ガスとしては、窒素ガス、任意の希ガス、空気、または任意の混合比によるこれらの混合ガスなどを用いてもよい。
また、所望のプラズマ処理に必要とされる反応性ガスなどは、例えば図7に図示する様に、生成されるプラズマとは独立に、直接被加工面に供給する様にしてもよい。反応性ガスの代表的な例としては、例えば、SF6 ,NF3 ,HN3 などや、フルオロカーボン系の反応性ガスなどを挙げることができる。
101 : 開口部
11 : 溝部
20 : ガス管
30A,30B : ボルト
Claims (5)
- 対向面にて相対峙する2つの放電電極の間に形成された微小隙間からなる放電ギャップにプラズマ原料ガスを注入することにより、大気圧下または大気圧近傍下に置かれた導電体からなる被処理物に対してプラズマジェットを噴射する大気圧プラズマ発生装置であって、
前記放電電極と前記被処理物との間にバイアス電圧を印加するバイアス電圧印加回路を有し、
前記プラズマジェットを噴射する噴射ノズルの開口部は、2つの前記放電電極の各前記対向面を用いて形成されている
ことを特徴とする大気圧プラズマ発生装置。 - 少なくとも一方の前記放電電極は、
前記放電ギャップに面する前記対向面上に、ホローカソード放電に寄与する凹部または溝部を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の大気圧プラズマ発生装置。 - 前記開口部の正面形状は、
目的の被加工物の処理表面上の所望のプラズマ照射領域の形状と合同または相似であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の大気圧プラズマ発生装置。 - 対向面にて相対峙する2つの放電電極の間に形成された微小隙間からなる放電ギャップにプラズマ原料ガスを注入することにより、大気圧下または大気圧近傍下に置かれた導電体からなる被処理物に対してプラズマジェットを噴射する大気圧プラズマ発生装置であって、
前記放電電極と前記被処理物との間にバイアス電圧を印加するバイアス電圧印加回路を有し、
前記微小隙間は、
鋸歯状又はネジ溝状の凹凸部を有する導電性の突起を各前記放電電極に設けることによって形成されている
ことを特徴とする大気圧プラズマ発生装置。 - 2つの前記放電電極の間に高周波電圧を印加する高周波給電回路を有する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の大気圧プラズマ発生装置。
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