JP2007506136A - Color filter direct drawing system and direct drawing method - Google Patents

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Abstract

写真感光性を与えられた面にわたってレーザビームを走査することを含む、感光性を与えられた面上のストライプパターンのレーザ直接描画システム及びレーザ直接描画方法。ストライプパターンは、パルスレーザを使用し、且つ、ストライプの領域を追加して露光するようにパルスの送出を同期させることによって露光される。或いは、レーザは、回転されるパネルにわたって走査され、平行移動速度、走査速度、及び回転角度が、各ストライプを連続して露光し、且つ、ストライプ間の領域の露光を回避するように調整される。  A laser direct writing system and method for direct writing of a stripe pattern on a photosensitized surface, comprising scanning a laser beam over the photosensitized surface. The stripe pattern is exposed by using a pulsed laser and synchronizing the pulse delivery to expose additional stripe regions. Alternatively, the laser is scanned across the rotated panel and the translation speed, scan speed, and rotation angle are adjusted to sequentially expose each stripe and avoid exposure of the area between the stripes. .

Description

この出願は、2003年9月22日に出願された米国仮特許出願第60/503,887号の利益を主張するものであり、この米国仮特許出願の記載内容全体を参照目的で本願明細書中に盛り込まれているものとする。   This application claims the benefit of US Provisional Patent Application No. 60 / 503,887 filed on Sep. 22, 2003, the entire contents of which are hereby incorporated by reference. It is assumed that it is included inside.

本発明は、感光面にパターンを直接描画するためのシステム及び方法に関し、より詳細には、フラットパネルディスプレイの基板上にカラーフィルタパターンを直接描画することに関する。   The present invention relates to a system and method for directly drawing a pattern on a photosensitive surface, and more particularly to directly drawing a color filter pattern on a substrate of a flat panel display.

TFT(薄膜トランジスタ)ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイは、通常、カラーフィルタを使用してカラー画像を表示する。カラーフィルタは、通常、3原色のそれぞれ1つを含む。3原色は、通常、赤、緑、及び青である。カラーフィルタは、通常はストライプパターンである一定のパターンで配置される。各カラーフィルタは、パネル上のすべてではなく一部のピクセルに重なる。カラー画像は、カラーフィルタの属性である位置及び色に従って光を選択されたピクセルに通すことによって、ディスプレイ上に形成される。   A flat panel display such as a TFT (thin film transistor) display usually displays a color image using a color filter. A color filter typically includes one of each of the three primary colors. The three primary colors are usually red, green, and blue. The color filters are usually arranged in a certain pattern which is a stripe pattern. Each color filter overlaps some but not all pixels on the panel. A color image is formed on the display by passing light through selected pixels according to the position and color that are attributes of the color filter.

従来、フラットパネルディスプレイ上にカラーフィルタを形成するのに、フォトリソグラフィープロセスが使用されていた。適切に着色された感光フィルタ材が、通常はストライプパターンである所望のフィルタパターンで選択的に露光されて現像される。フィルタ材の露光されない部分は除去され、それによって、所望の位置にのみカラーフィルタが残される。感光フィルタ材のどの部分が露光されるかを画定するのにマスクが使用される。   Traditionally, photolithographic processes have been used to form color filters on flat panel displays. An appropriately colored photosensitive filter material is selectively exposed and developed with a desired filter pattern, usually a stripe pattern. Unexposed portions of the filter material are removed, thereby leaving the color filter only at the desired location. A mask is used to define which portions of the photosensitive filter material are exposed.

本発明は、フラットパネルディスプレイ上にカラーフィルタを形成するための改良されたシステム及び方法を提供しようとするものである。   The present invention seeks to provide an improved system and method for forming color filters on flat panel displays.

本発明は、さらに、感光材を選択可能に露光するレーザ直接描画システム及びレーザ直接描画方法、詳細にはデジタルシステム及びデジタル方法を利用して、ストリップパターンを形成しようとするものである。ストリップパターンには、フラットパネルディスプレイ上のカラーフィルタが含まれるが、これに限定されるものではない。   The present invention further intends to form a strip pattern by using a laser direct drawing system and a laser direct drawing method, in particular, a digital system and a digital method for selectively exposing a photosensitive material. The strip pattern includes, but is not limited to, a color filter on a flat panel display.

本発明の包括的な一態様によれば、レーザ直接描画システムは、感光材のストライプの部分を露光するレーザのエネルギー利用を最適化するように適切に設定される。最適化は、パルスレーザを使用する場合に、露光されるストリップの位置にパルスを送出するタイミングを調整することによって達成される。レーザ電力を最適化するための別の方法は、走査中の搬送を考慮して、走査されるパネルの走査装置に対する向きを合わせ、レーザをオン及びオフに変調することなく各ストリップを連続して走査できるようにすることである。ストライプの向き、走査速度、及び露光されるパネルと走査装置との間の相互の相対搬送速度は、第1のストライプの走査の完了時に、レーザビームが戻されて、露光される次のストリップを走査するように調整される。露光されない中間部分は、自動的にスキップされる。   In accordance with a comprehensive aspect of the present invention, the laser direct writing system is suitably set up to optimize the energy utilization of the laser that exposes portions of the strip of photosensitive material. Optimization is achieved by adjusting the timing of delivering pulses to the exposed strip position when using a pulsed laser. Another method for optimizing the laser power is to orient each strip in succession without modulating the laser on and off, taking into account transport during scanning, orienting the panel being scanned to the scanning device. It is to be able to scan. The orientation of the stripe, the scanning speed, and the relative transport speed between the exposed panel and the scanning device are such that upon completion of scanning of the first stripe, the laser beam is returned to the next strip to be exposed. Adjusted to scan. Intermediate portions that are not exposed are automatically skipped.

本発明の別の包括的な態様によれば、レーザ直接描画システムは、走査方向にビームを走査する走査装置と、交差走査方向に走査ビームを偏向する偏向器とを含む。交差走査方向における偏向は、露光されるパネルの搬送と調整されて、交差走査方向における搬送を補償する。適切な偏向器には、音響光学偏向器が含まれる。この音響光学偏向器では、レーザビームは、変調器の音波の周波数の関数として偏向される。   In accordance with another general aspect of the present invention, a laser direct writing system includes a scanning device that scans a beam in the scanning direction and a deflector that deflects the scanning beam in a cross-scan direction. The deflection in the cross-scan direction is coordinated with the transport of the exposed panel to compensate for the transport in the cross-scan direction. Suitable deflectors include acousto-optic deflectors. In this acousto-optic deflector, the laser beam is deflected as a function of the frequency of the acoustic wave of the modulator.

したがって、本発明の一実施の形態により、感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム及び方法が提供され、当該システム及び方法は、レーザビームを出力するレーザビーム光源と、パネルを支持する支持面であって、パネルは、パネル上に形成されるパターン要素の配列を備え、パネルは、さらに、パターンに重なる感光材を含む、支持面と、感光性を与えられた面にわたる走査経路に沿った複数の通過でレーザビームを走査して感光材の部分を露光する走査装置と、パネル及び走査装置が互いに対して一定の位置にある場合に、パネル上のパターン要素の並びが走査経路と交差するように、パネルと走査装置との間の相互の角度方向を提供する回転装置と、を備える。   Therefore, according to an embodiment of the present invention, a system and method for drawing a pattern on a surface to which photosensitivity has been imparted are provided. The system and method includes a laser beam light source that outputs a laser beam, a panel, and a method. A supporting surface, wherein the panel comprises an array of pattern elements formed on the panel, the panel further comprising a photosensitive material overlying the pattern and scanning over the photosensitive surface. A scanning device that scans a laser beam in multiple passes along a path to expose a portion of a photosensitive material, and when the panel and scanning device are at a fixed position relative to each other, the array of pattern elements on the panel scans A rotating device that provides a mutual angular orientation between the panel and the scanning device to intersect the path.

さまざまな実施の形態は、以下の追加された特徴及び代替的な特徴の1つ又は2つ以上を含む。   Various embodiments include one or more of the following added features and alternative features.

搬送装置は交差走査方向において、走査装置とパネルとの間の相互の相対平行移動を提供するように動作し、交差走査方向は走査経路と交差する。   The transport device operates in the cross-scan direction to provide mutual relative translation between the scan device and the panel, where the cross-scan direction intersects the scan path.

交差走査方向は、走査経路に対して横方向である。   The cross scan direction is transverse to the scan path.

パネル回転装置は、パターン要素の並びが、相互の相対平行移動の間、有効な走査経路と平行になるように、パネルを位置合わせする。   The panel rotation device aligns the panels so that the array of pattern elements is parallel to the effective scanning path during the relative translation of each other.

パネル回転装置は、レーザビームの各通過の期間中、レーザビームが、パターン要素の単一の並びのパターン要素に重なる、感光性を与えられた面の部分を露光するように、パネルを回転させる。   The panel rotator rotates the panel so that during each pass of the laser beam, the laser beam exposes a portion of the light-sensitive surface that overlaps a single array of pattern elements. .

相互の相対平行移動の速度は、レーザビームの各通過において、パターン要素の後続の並びのパターン要素に重なる、感光性を与えられた面の部分が露光されるように、走査の速度と調整される。   The speed of the relative translation of each other is adjusted with the speed of the scan so that in each pass of the laser beam, the part of the light-sensitive surface that overlaps the pattern elements in the subsequent sequence of pattern elements is exposed. The

レーザビーム光源は、多数の時間的に分離されたレーザパルスによって規定されるパルスレーザビームを出力し、各パルスは、感光性を与えられた面の重なる部分を露光する。或いは、レーザビームは連続波レーザビームである。   The laser beam light source outputs a pulsed laser beam defined by a number of temporally separated laser pulses, each pulse exposing an overlapping portion of the surface to which photosensitivity is imparted. Alternatively, the laser beam is a continuous wave laser beam.

回転装置は、パネルを走査装置に対して回転させる。或いは、走査装置は、パネルを支持する支持構造体に対して回転される。   The rotating device rotates the panel with respect to the scanning device. Alternatively, the scanning device is rotated relative to the support structure that supports the panel.

したがって、本発明の別の実施の形態によれば、感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステムが提供され、当該システムは、一連の時間的に分離されたレーザパルスによって規定されるレーザビームを出力するレーザビーム光源と、感光性を与えられた面にわたって走査方向にレーザビームを走査する走査装置と、を備え、走査すること及び一連のレーザパルスは、描画されるパターンの走査方向における不連続な位置に各レーザパルスを送出するように同期される。   Thus, according to another embodiment of the present invention, a system for drawing a pattern on a photosensitized surface is provided, the system being defined by a series of temporally separated laser pulses. A laser beam source that outputs a laser beam and a scanning device that scans the laser beam in a scanning direction over a surface to which photosensitivity has been imparted, and scanning and a series of laser pulses scan a pattern to be drawn Synchronized to deliver each laser pulse to discrete locations in the direction.

さまざまな実施の形態は、以下の追加された特徴及び代替的な特徴の1つ又は2つ以上を含む。   Various embodiments include one or more of the following added features and alternative features.

レーザビーム光源は、Qスイッチパルスレーザである。   The laser beam light source is a Q switch pulse laser.

走査装置は、回転ポリゴンである。   The scanning device is a rotating polygon.

搬送装置は、走査装置と感光性を与えられた面との間の相互の相対平行移動を提供する。   The transport device provides a relative translation between each other between the scanning device and the photosensitized surface.

システムコントローラは、レーザビームを規定するパルスのパルスレート、相互の相対平行移動の速度、及び走査の速度の少なくとも1つを制御する。   The system controller controls at least one of the pulse rate of the pulses defining the laser beam, the relative translational speed, and the scanning speed.

走査装置は、露光される第1の並びへ第1の走査におけるパルスを送出し、露光される第1の並びに連続した、露光される第2の並びへ第2の走査におけるパルスを送出するように動作する。   The scanning device sends a pulse in the first scan to the first array to be exposed, and sends a pulse in the second scan to the first and consecutive second exposed sequences to be exposed. To work.

走査装置は、領域を追加して露光するように各パルスを送出して、ストライプを形成する。   The scanning device sends out each pulse so as to add and expose a region to form a stripe.

描画されるパターンは、フラットパネルディスプレイ上のカラーフィルタのストライプのパターンを含む。   The drawn pattern includes a stripe pattern of color filters on a flat panel display.

したがって、本発明のさらに別の実施の形態によれば、感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム及び方法が提供され、当該システム及び方法は、レーザビームを出力するレーザビーム光源と、感光性を与えられた面にわたって走査方向にレーザビームを走査する走査装置と、走査方向に対して横方向の交差走査方向において、走査装置と感光性を与えられた面との間の相互の相対平行移動を提供する搬送装置と、レーザビームが走査方向に走査されるにつれて、相互の相対平行移動と同期して、交差走査方向にレーザビームを偏向するレーザビーム偏向器と、を備える。   Thus, according to yet another embodiment of the present invention, there is provided a system and method for drawing a pattern on a photosensitized surface, the system and method comprising a laser beam light source that outputs a laser beam. And a scanning device that scans a laser beam in a scanning direction across a surface to which photosensitivity is imparted, and a scanning device and a surface to which photosensitivity is applied And a laser beam deflector for deflecting the laser beam in the cross-scan direction in synchronization with the relative translation as the laser beam is scanned in the scan direction.

本発明は、図面及び以下の詳細な説明から、より十分に理解され認識されるであろう。   The present invention will be understood and appreciated more fully from the drawings and the following detailed description.

図1を参照する。図1は、本発明の一実施の形態による、感光材にストリップパターンを露光するためのシステム10の一部簡略化された描画部分ブロック図である。本明細書で説明するシステム及び方法は、フラットパネルディスプレイの一部であるカラーフィルタのストリップを製造するのに特に適している。ただし、適切な感光材におけるストリップパターンの露光も考慮される。   Please refer to FIG. FIG. 1 is a partially simplified drawing partial block diagram of a system 10 for exposing a strip pattern to a photosensitive material in accordance with an embodiment of the present invention. The systems and methods described herein are particularly suitable for producing strips of color filters that are part of a flat panel display. However, strip pattern exposure on an appropriate photosensitive material is also considered.

簡潔に言えば、フラットパネルディスプレイは、ピクセルの配列を含む。カラーフィルタは、それらのピクセルのそれぞれに関連付けられる。光をそれらのピクセルから選択的に出力することによって、画像がパネルに表示される。各ピクセルは、その位置及び色に従って選択される。   Briefly, a flat panel display includes an array of pixels. A color filter is associated with each of those pixels. By selectively outputting light from those pixels, an image is displayed on the panel. Each pixel is selected according to its position and color.

通常、カラーフィルタは、ストリップ状に配置され、各カラーフィルタのストリップは、ディスプレイパネル12上のピクセルの行(又は列)に重なる。フィルタは、着色された感光材を適切に露光することによって製造される。   Typically, the color filters are arranged in strips, and each color filter strip overlaps a row (or column) of pixels on the display panel 12. The filter is manufactured by appropriately exposing a colored photosensitive material.

この発明の一実施の形態によれば、感光材を露光するのに、レーザ直接描画技術が使用される。この発明は、たとえば、走査型レーザ直接描画機器を適切に適合させることによって実施することができる。この走査型レーザ直接描画機器は、イスラエルのヤッファ(Yavne)のオーボテック(Orbotech)社から市販されているDP(商標)シリーズのレーザ直接描画システム等である。   According to one embodiment of the invention, a laser direct drawing technique is used to expose the photosensitive material. The present invention can be implemented, for example, by appropriately adapting a scanning laser direct drawing apparatus. This scanning laser direct drawing apparatus is a DP (trademark) series laser direct drawing system commercially available from Orbotech, Inc. of Yavne, Israel.

図1に見られるように、この発明の一実施の形態によれば、システム10は、パルスレーザビーム22を出力するパルスレーザ20を含む。パルスレーザビーム22は、連続ビームではなく、時間的に分離された一連のレーザパルス24によって規定される。パルスレーザビームを提供するための適切なレーザは、たとえば、Qスイッチダイオード励起固体レーザを含む。このQスイッチダイオード励起固体レーザは、米国カリフォルニア州のコーヒーレント(Coherent)社及びスペクトラ(Spectra)社を含むいくつかのレーザ製造業者のいずれからも市販されている。   As seen in FIG. 1, according to one embodiment of the present invention, the system 10 includes a pulsed laser 20 that outputs a pulsed laser beam 22. The pulsed laser beam 22 is defined by a series of laser pulses 24 that are separated in time rather than a continuous beam. Suitable lasers for providing a pulsed laser beam include, for example, Q-switched diode pumped solid state lasers. This Q-switched diode pumped solid state laser is commercially available from any of several laser manufacturers, including Coherent and Spectra, California, USA.

レーザパルス24は、適切な前置走査光学装置26を通って、複数の反射面30を有する回転ポリゴン等の走査装置28に当たるように方向付けられる。前置走査光学装置26は、通常、複数のレンズ(図示せず)を含む。これらのレンズは、レーザビーム22を適切に成形して、その結果、各レーザパルス24が、パネル12上において所望のサイズ及び形状を有するスポットを露光するように選択される。走査装置は、各レーザパルスをパネル12上の異なる位置へ送出することに留意されたい。レーザパルス24の各経路は破線によって示されている。   The laser pulse 24 is directed through a suitable pre-scan optical device 26 to strike a scanning device 28 such as a rotating polygon having a plurality of reflective surfaces 30. The pre-scanning optical device 26 usually includes a plurality of lenses (not shown). These lenses are selected to appropriately shape the laser beam 22 so that each laser pulse 24 exposes a spot having a desired size and shape on the panel 12. Note that the scanning device delivers each laser pulse to a different location on the panel 12. Each path of the laser pulse 24 is indicated by a broken line.

走査装置28のポリゴンが、矢印32の方向(走査方向)に回転するにつれて、ビーム22は、ポリゴンの反射面30の1つに当たる。このポリゴンの反射面30の1つは、ビームを走査光学装置34に通す。通常、走査光学装置34は、f−θ走査レンズ及び他の光学素子(図示せず)を含む。ポリゴンが回転するにつれて、ビーム22は、矢印36によって示された走査方向の走査経路に沿って走査される。   As the polygon of the scanning device 28 rotates in the direction of the arrow 32 (scanning direction), the beam 22 strikes one of the reflective surfaces 30 of the polygon. One of the polygonal reflective surfaces 30 passes the beam through the scanning optics 34. Typically, the scanning optical device 34 includes an f-θ scanning lens and other optical elements (not shown). As the polygon rotates, the beam 22 is scanned along a scanning path in the scanning direction indicated by arrow 36.

露光されるパターンに対応するパターンデータ40が、システムコントローラ42に供給される。システムコントローラ42は、走査装置28のポリゴンの回転速度、パネル12の走査装置28に対する相互の平行移動、及びレーザパルス24の生成を管理するクロックの1つ又は2つ以上を制御する。図1は、平行移動装置(translator)が矢印46の方向(交差走査方向)にパネル12を移動させる一方、走査装置28が静止していることを示しているが、実際のシステム設計は、パネル12が静止している一方、走査装置28が移動されるようにすることもできる。   Pattern data 40 corresponding to the pattern to be exposed is supplied to the system controller 42. The system controller 42 controls one or more of the clocks that govern the rotational speed of the polygons of the scanning device 28, the translation of the panel 12 relative to the scanning device 28, and the generation of laser pulses 24. 1 shows that the translator moves the panel 12 in the direction of the arrow 46 (cross-scan direction) while the scanner 28 is stationary, the actual system design is It is also possible for the scanning device 28 to be moved while the 12 is stationary.

図1では、パルス発生器50によって出力されるタイミング信号48が示されている。これらのタイミング信号は、レーザビーム22のレーザパルス24に対応する。この発明の一実施の形態によれば、レーザパルス24は、走査装置28のポリゴンの回転と同期され、その結果、各レーザパルス24は、パネル12上の感光材の別の部分を露光し、それによって、露光領域60が形成される。レーザパルス24間の時間的分離が走査装置28の連続回転と組み合わされることによって、露光領域60のそれぞれは、他の露光領域60と相互に不連続になる。パルスビームに本来備わっているオン−オフ変調、すなわち、ビームが「オフ」である時のパルス間の時間が、或る露光領域60から次の露光領域へビーム22を移動させるのに利用される。   In FIG. 1, a timing signal 48 output by the pulse generator 50 is shown. These timing signals correspond to the laser pulse 24 of the laser beam 22. According to one embodiment of the present invention, the laser pulses 24 are synchronized with the polygon rotation of the scanning device 28 so that each laser pulse 24 exposes another portion of the photosensitive material on the panel 12; Thereby, an exposure region 60 is formed. By combining the temporal separation between the laser pulses 24 with the continuous rotation of the scanning device 28, each of the exposure areas 60 is discontinuous with the other exposure areas 60. The inherent on-off modulation of the pulsed beam, ie the time between pulses when the beam is “off” is used to move the beam 22 from one exposure area 60 to the next. .

走査経路が完了する、すなわち、レーザビーム22が、走査されるスワスの終端に到達すると、走査装置28のポリゴンの次の反射面が所定の位置に回転されて、レーザビーム22が走査経路の始点へ瞬時に戻される。走査されるスワスは、パネル12の全幅とすることができるが、全幅である必要はない。レーザビーム22は、走査経路に沿って再度走査される。たとえば、パネル搬送装置44によって提供される、パネル12と走査装置28との間の相互の相対平行移動のために、前の走査位置に隣接した、パネル12上の新たな位置が次に走査される。したがって、各走査経路は、前の走査経路と連続し、それによって、各露光領域60に一部分が追加生成され、露光領域は交差走査方向のストリップとして伸びることに留意されたい。   When the scanning path is complete, i.e., when the laser beam 22 reaches the end of the swath to be scanned, the next reflective surface of the polygon of the scanning device 28 is rotated to a predetermined position so that the laser beam 22 is at the start of the scanning path. Return to the moment. The scanned swath can be the full width of panel 12, but need not be full width. The laser beam 22 is scanned again along the scanning path. For example, due to the relative translation between the panel 12 and the scanning device 28 provided by the panel transport device 44, a new position on the panel 12 adjacent to the previous scanning position is then scanned. The Thus, it should be noted that each scan path is continuous with the previous scan path, thereby creating an additional portion of each exposure area 60 that extends as a strip in the cross-scan direction.

次に図2を参照する。図2は、本発明の別の実施の形態による、感光材にストリップパターンを露光するためのシステム110の一部簡略化された描画部分ブロック図である。感光材は、フラットパネルディスプレイ等のパネル112上にカラーフィルタを製造するのに適した、染色されたフィルタ材を含む。この染色されたフィルタ材は、通常、パネル112上にすでに形成されたピクセルパターン113上に敷設される。システム110及びシステム10は、共に、不連続なストリップのパターンを露光するためのレーザ直接描画装置を最適に利用するように構成されるが、システム10が各ストリップの領域を追加しながら露光する一方、システム110は各ストリップを連続的に露光する。   Reference is now made to FIG. FIG. 2 is a partially simplified drawing partial block diagram of a system 110 for exposing a strip pattern to a photosensitive material according to another embodiment of the present invention. The photosensitive material includes a dyed filter material suitable for manufacturing a color filter on a panel 112 such as a flat panel display. This dyed filter material is usually laid on a pixel pattern 113 already formed on the panel 112. Both system 110 and system 10 are configured to optimally utilize a laser direct writing apparatus for exposing a pattern of discontinuous strips, while system 10 exposes while adding an area for each strip. The system 110 continuously exposes each strip.

図2に見られるように、システム110は、レーザビーム122を出力するレーザ120を含む。レーザビーム122は、連続波レーザビームとすることもできるし、パルスレーザビームとすることもできる。パルスレーザビームは、たとえば、米国カリフォルニア州のコヒーレント社及びスペクトル社を含むいくつかのレーザ製造業者のいずれからも市販されているようなQスイッチダイオード励起固体レーザによって提供される。この発明の一実施の形態によれば、パルスレーザが使用される場合、後述するように、システム設計(スポットサイズ、走査速度、及び相互の平行移動速度)は、連続したストリップの露光を確保するために、パルスのそれぞれによって露光されるスポットが少なくとも1つの他のスポットに相互に重なるようにされる必要がある。   As seen in FIG. 2, the system 110 includes a laser 120 that outputs a laser beam 122. The laser beam 122 can be a continuous wave laser beam or a pulsed laser beam. The pulsed laser beam is provided by a Q-switched diode-pumped solid state laser, such as that commercially available from any of several laser manufacturers including, for example, Coherent and Spectrum in California. According to one embodiment of the present invention, when a pulsed laser is used, the system design (spot size, scanning speed, and mutual translation speed) ensures continuous strip exposure, as described below. In order to do this, the spots exposed by each of the pulses need to overlap each other with at least one other spot.

レーザビーム122は、適切な事前走査光学装置126を通って、複数の反射面130を有する回転ポリゴン等の走査装置128に当たるように方向付けられる。前置走査光学装置126は、通常、複数のレンズ(図示せず)を含む。これらのレンズは、レーザビーム122を適切に成形して、パネル112上に連続したストリップを露光するように選択される。   The laser beam 122 is directed through a suitable prescan optical device 126 to impinge a scanning device 128 such as a rotating polygon having a plurality of reflective surfaces 130. The pre-scanning optical device 126 typically includes a plurality of lenses (not shown). These lenses are selected to properly shape the laser beam 122 to expose a continuous strip on the panel 112.

走査装置128のポリゴンが、矢印32の方向(走査方向)に回転するにつれて、ビーム122は、ポリゴンの反射面130の1つに当たる。このポリゴンの反射面130の1つは、ビームを走査光学装置134に通す。通常、走査光学装置134は、f−θ走査レンズ及び他の光学素子(図示せず)を含む。ポリゴンが回転するにつれて、ビーム122は、矢印136によって示された名目的な走査方向の走査経路に沿って走査される。   As the polygon of scanning device 128 rotates in the direction of arrow 32 (scanning direction), beam 122 strikes one of the polygonal reflective surfaces 130. One of the polygonal reflecting surfaces 130 passes the beam through the scanning optical device 134. The scanning optical device 134 typically includes an f-θ scanning lens and other optical elements (not shown). As the polygon rotates, the beam 122 is scanned along a scan path in the nominal scan direction indicated by arrow 136.

走査中、パネル112及び走査装置128は、たとえば搬送装置144によって、矢印146により示された交差走査方向に相互に相対的に平行移動される。走査中の相互の相対平行移動のために、実際の走査方向は、矢印148によって示されるように、わずかに斜めになることに留意されたい。   During scanning, panel 112 and scanning device 128 are translated relative to each other in the cross-scan direction indicated by arrow 146, for example, by transport device 144. Note that due to the relative translation of each other during the scan, the actual scan direction is slightly skewed, as indicated by arrow 148.

回転装置150が、走査中にパネル112と走査装置128との間の相互の角度オフセットを確立することが本実施の形態の一特徴である。したがって、パネル112及び走査装置128の相互の相対平行移動がない場合には、パターン113のパターン要素の並びは、名目的な走査方向136に対応する軸と交差する。パネル112と走査装置128との間の相互の相対平行移動を導入すると、実際の走査方向は、パターン要素113の並びの向きと一致し、それによって、領域160の連続した露光が容易になる。   It is a feature of this embodiment that the rotation device 150 establishes a mutual angular offset between the panel 112 and the scanning device 128 during scanning. Therefore, when there is no relative translation between the panel 112 and the scanning device 128, the arrangement of the pattern elements of the pattern 113 intersects the axis corresponding to the nominal scanning direction 136. Introducing mutual relative translation between panel 112 and scanning device 128, the actual scanning direction matches the orientation of the pattern elements 113, thereby facilitating continuous exposure of region 160.

図2では、露光されるパターンに対応するパターンデータ140が、システムコントローラ142に供給されることが分かる。システムコントローラ142は、走査装置128のポリゴンの回転速度、パネル112の走査装置128に対する相互の平行移動、及びパネル112の走査装置128に対する回転の向きの1つ又は2つ以上を制御する。   In FIG. 2, it can be seen that the pattern data 140 corresponding to the pattern to be exposed is supplied to the system controller 142. The system controller 142 controls one or more of the polygon rotation speed of the scanning device 128, the mutual translation of the panel 112 relative to the scanning device 128, and the direction of rotation of the panel 112 relative to the scanning device 128.

図2は、平行移動装置144が矢印146の方向(交差走査方向)にパネル112を移動させる一方、走査装置128が静止していることを示しているが、実際のシステム設計は、パネル112が静止している一方、走査装置128が移動されるようにすることもできる。たとえば、パネル112がエアクッションで支持されると同時に、平行移動装置は、パネル112を直接移動させるように動作することができる。又は、平行移動装置は、パネル112を支持する支持台を移動させるように動作することもできる。   FIG. 2 shows that the translation device 144 moves the panel 112 in the direction of the arrow 146 (cross-scan direction) while the scanning device 128 is stationary, but the actual system design is that the panel 112 is While still, the scanning device 128 may be moved. For example, at the same time that the panel 112 is supported by an air cushion, the translation device can operate to move the panel 112 directly. Alternatively, the translation device can also operate to move the support that supports the panel 112.

さらに、図2は、パネル112を回転させるように動作する回転装置150を概略的に示しているが、この発明の一実施の形態によれば、回転装置150は、パネル112又はパネル112を支持する支持台(図示せず)を直接動作させることもできるし、パネル112が静止して保持されている間に、走査装置128をパネル112に対して回転させることもできることに留意されたい。回転装置は、パネルがシステム128にすでに配置されている場合には直ちに動作することもできるし、たとえば、ピックアンドプレース型のローダの一部としてパネルをシステム110に配置する前にパネル112を回転させることもできる。   Further, although FIG. 2 schematically illustrates a rotating device 150 that operates to rotate the panel 112, the rotating device 150 supports the panel 112 or the panel 112 according to one embodiment of the present invention. Note that the supporting platform (not shown) can be operated directly, or the scanning device 128 can be rotated relative to the panel 112 while the panel 112 is held stationary. The rotating device can operate immediately if the panel is already placed in the system 128, for example, rotating the panel 112 before placing the panel in the system 110 as part of a pick and place loader. It can also be made.

走査経路が完了する、すなわち、レーザビーム122が、走査されるスワスの終端に到達すると、走査装置128のポリゴンの次の反射面が所定の位置に回転されて、レーザビーム122が走査経路の始点へ瞬時に戻されるようにシステム110は構成されている。システムコントローラ142は、各走査経路が露光されるストライプ領域160に対応し、且つ、ストライプの間の領域をスキップするように、パネル112及び走査装置128の適切な相対角度方向を、平行移動速度及び走査速度と共に求める。   When the scanning path is complete, that is, when the laser beam 122 reaches the end of the swath to be scanned, the next reflective surface of the polygon of the scanning device 128 is rotated to a predetermined position so that the laser beam 122 is at the start of the scanning path. System 110 is configured to return instantly to The system controller 142 determines the appropriate relative angular orientation of the panel 112 and the scanning device 128, the translation speed, and the stripe region 160 so that each scan path corresponds to the exposed stripe region 160 and skips the region between the stripes. Obtained along with scanning speed.

次に図3を参照する。図3は、本発明の別の実施の形態による、感光材にストリップパターンを露光するためのシステム210の一部簡略化された描画部分ブロック図である。感光材は、フラットパネルディスプレイ等のパネル112上にカラーフィルタを製造するのに適した、染色されたフィルタ材を含む。この染色されたフィルタ材は、パネル112上にすでに形成されたピクセルパターン113上に敷設される。   Reference is now made to FIG. FIG. 3 is a partially simplified drawing partial block diagram of a system 210 for exposing a strip pattern to a photosensitive material in accordance with another embodiment of the present invention. The photosensitive material includes a dyed filter material suitable for manufacturing a color filter on a panel 112 such as a flat panel display. The dyed filter material is laid on a pixel pattern 113 already formed on the panel 112.

図3に見られる実施の形態では、システム210は、追加されたオプションの交差走査偏向器370を含むことを除いて、すべての点でシステム110と同一である。この交差走査偏向器370は、システム制御142と通信して、ビーム122を交差走査方向に偏向させるように動作する。したがって、この発明の一実施の形態によれば、システム制御142は、さらに、ビーム122の偏向角を制御して、パネル112と走査装置128との間の相互の相対平行移動を補償する。偏向器370によって提供される補償は、図2について上述したようなパネル112と走査装置128との間の相互の相対回転を確立することに加えて行うこともできるし、それに代えて行うこともできる。   In the embodiment seen in FIG. 3, system 210 is identical in all respects to system 110 except that it includes an optional cross-scan deflector 370 added. The cross scan deflector 370 communicates with the system control 142 and operates to deflect the beam 122 in the cross scan direction. Thus, according to one embodiment of the present invention, the system control 142 further controls the deflection angle of the beam 122 to compensate for the relative translation between each other between the panel 112 and the scanning device 128. The compensation provided by deflector 370 can be performed in addition to or in place of establishing mutual relative rotation between panel 112 and scanning device 128 as described above with respect to FIG. it can.

偏向器370は、オプションとして、音波を使用してレーザビーム122を偏向させる音響光学偏向器である。偏向量は、当該技術分野で知られているように、偏向器370の音波の周波数を変更することによって制御される。   The deflector 370 is an acousto-optic deflector that optionally deflects the laser beam 122 using sound waves. The deflection amount is controlled by changing the frequency of the sound wave of the deflector 370, as is known in the art.

本発明は、以上詳細に図示して説明した内容に限定されるものでないことは当業者にとって理解されよう。逆に、本発明は、上記説明を読むと当業者には思いつき、且つ、従来技術にはない本発明の変更及び変形を含む。   It will be appreciated by persons skilled in the art that the present invention is not limited to what has been particularly shown and described hereinabove. On the contrary, the present invention is conceivable to those skilled in the art after reading the above description, and includes modifications and variations of the present invention which are not present in the prior art.

本発明の一実施の形態による、感光材にストリップパターンを露光するためのシステムの一部簡略化された描画部分ブロック図である。FIG. 2 is a partially simplified drawing partial block diagram of a system for exposing a strip pattern to a photosensitive material according to an embodiment of the present invention. 本発明の別の実施の形態による、感光材にストリップパターンを露光するためのシステムの一部簡略化された描画部分ブロック図である。FIG. 6 is a partially simplified drawing partial block diagram of a system for exposing a strip pattern to a photosensitive material according to another embodiment of the present invention. 本発明のさらに別の実施の形態による、感光材にストリップパターンを露光するためのシステムの一部簡略化された描画部分ブロック図である。FIG. 7 is a partially simplified drawing partial block diagram of a system for exposing a strip pattern to a photosensitive material according to still another embodiment of the present invention.

Claims (46)

感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステムであって、
レーザビームを出力するレーザビーム光源と、
パターン要素配列と、パターン上に重なる感光材とを含むパネルを支持するための支持面と、
前記感光性を与えられた面にわたる走査経路に沿った複数の通過で前記レーザビームを走査して前記感光材の一部を露光する走査装置と、
前記パネル及び前記走査装置が互いに対して一定の位置にある場合に、前記パネル上のパターン要素の並びが前記走査経路と交差するように、前記パネルと前記走査装置との間の相互の角度方向を提供して回転する回転装置と、
を備えることを特徴とする感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。
A system for drawing a pattern on a photosensitized surface,
A laser beam light source for outputting a laser beam;
A support surface for supporting a panel including a pattern element array and a photosensitive material overlapping the pattern;
A scanning device that exposes a portion of the photosensitive material by scanning the laser beam in multiple passes along a scanning path across the surface to which the photosensitivity is imparted;
A mutual angular direction between the panel and the scanning device such that when the panel and the scanning device are at a fixed position relative to each other, the arrangement of pattern elements on the panel intersects the scanning path. Providing a rotating device to rotate,
A system for drawing a pattern on a surface provided with photosensitivity.
交差走査方向において、前記走査装置と前記パネルとの間の相互の相対平行移動を提供するように動作する搬送装置をさらに備え、前記交差走査方向は前記走査経路と交差することを特徴とする請求項1に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The apparatus further comprises a transport device that operates to provide mutual relative translation between the scanning device and the panel in a cross-scan direction, the cross-scan direction intersecting the scan path. A system for drawing a pattern on a surface provided with photosensitivity according to Item 1. 前記交差走査方向は、前記走査経路に対して横方向であることを特徴とする請求項2に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   3. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 2, wherein the cross scanning direction is a horizontal direction with respect to the scanning path. 前記パネル回転装置は、パターン要素の並びが、前記相互の相対平行移動の間、前記走査経路と平行になるように、前記パネルを位置合わせするよう動作することを特徴とする請求項2に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The panel rotation device operates to align the panel so that an arrangement of pattern elements is parallel to the scanning path during the relative translation of the pattern elements. A system for drawing a pattern on the surface given the photosensitivity. 前記パネル回転装置は、前記レーザビームの各通過の期間中、前記レーザビームが、パターン要素の単一の並びの前記パターン要素に重なる、前記感光性を与えられた面の一部を露光するように、前記パネルを回転させることを特徴とする請求項1に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The panel rotating device exposes a portion of the photosensitized surface where the laser beam overlaps the pattern elements in a single row of pattern elements during each pass of the laser beam. 2. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 1, wherein the panel is rotated. 前記走査装置と前記パネルとの間の相互の相対平行移動を提供するように動作する搬送装置、をさらに備えることを特徴とする請求項5に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   6. A pattern is drawn on a photosensitized surface according to claim 5, further comprising a transport device that operates to provide mutual relative translation between the scanning device and the panel. System to do. 前記相互の相対平行移動の速度は、前記レーザビームの各通過において、パターン要素の後続の並びの前記パターン要素に重なる、前記感光性を与えられた面の一部が露光されるように、走査の速度と調整されることを特徴とする請求項6に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The speed of the relative translation of each other is such that, in each pass of the laser beam, a part of the photosensitized surface that overlaps the pattern elements in a subsequent row of pattern elements is exposed. The system for drawing a pattern on a light-sensitive surface according to claim 6, wherein the system is adjusted to a speed of the pattern. 前記パターン要素の後続の並びは、パターン要素の少なくとも1つの中間の並びの分だけ、前のパターン要素の並びから離されることを特徴とする請求項7に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   8. The photosensitized surface of claim 7, wherein the subsequent array of pattern elements is separated from the previous array of pattern elements by at least one intermediate array of pattern elements. A system for drawing patterns. 前記レーザビーム光源は、多数の時間的に分離されたレーザパルスによって規定されるパルスレーザビームを出力することを特徴とする請求項1に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   2. The laser beam light source outputs a pulsed laser beam defined by a number of temporally separated laser pulses to draw a pattern on a photosensitized surface according to claim 1. System. 各パルスは、前記感光性を与えられた面の一部を露光することを特徴とする請求項9に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   10. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 9, wherein each pulse exposes a portion of the photosensitized surface. 前記感光性を与えられた面の少なくとも2つの部分は相互に重なることを特徴とする請求項10に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   11. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 10, wherein at least two portions of the photosensitized surface overlap each other. 前記レーザビーム光源は、連続波レーザビームを出力することを特徴とする請求項1に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   2. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 1, wherein the laser beam light source outputs a continuous wave laser beam. 前記回転装置は、前記走査装置に対して前記パネルを回転させるように動作することを特徴とする請求項1に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 1, wherein the rotating device operates to rotate the panel with respect to the scanning device. 前記回転装置は、前記パネルを支持する支持構造体に対して前記走査装置を回転させるように動作することを特徴とする請求項1に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   2. The method of claim 1, wherein the rotating device operates to rotate the scanning device relative to a support structure that supports the panel. System. 感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法であって、
レーザビームを出力し、
パターン要素配列と、パターン上に重なる感光材とを含むパネルを支持し、
前記感光性を与えられた面にわたる走査経路に沿った複数の通過で前記レーザビームを走査し、それによって、前記感光材の部分を露光走査し、及び
前記パネル及び前記走査装置が互いに対して一定の位置にある場合に、前記パネル上のパターン要素の並びが前記走査経路と交差するように、前記パネルと前記走査装置との間の相互の角度方向を提供する各ステップを含むことを特徴とする感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。
A method for drawing a pattern on a surface given photosensitivity,
Outputs a laser beam,
Supporting a panel comprising a pattern element array and a photosensitive material overlying the pattern,
Scanning the laser beam in multiple passes along a scanning path across the photosensitived surface, thereby exposing and scanning a portion of the photosensitive material, and the panel and the scanning device are constant relative to each other Including a step of providing a mutual angular direction between the panel and the scanning device such that an array of pattern elements on the panel intersects the scanning path when the position is A method for drawing a pattern on a photosensitized surface.
交差走査方向における前記走査装置と前記パネルとの間の相互の相対平行移動を提供するステップをさらに含み、前記交差走査方向は前記走査経路と交差することを特徴とする請求項15に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   The photosensitive according to claim 15, further comprising providing a relative translation between the scanning device and the panel in a cross-scan direction, the cross-scan direction intersecting the scan path. A method for drawing a pattern on a given surface. 前記交差走査方向は、前記走査経路に対して横方向であることを特徴とする請求項16に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   17. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 16, wherein the cross-scan direction is a horizontal direction with respect to the scan path. 前記相互の角度方向を提供するステップは、パターン要素の並びが、前記相互の相対平行移動の間、実際の走査経路と平行になるように前記パネルを位置合わせすることを含むことを特徴とする請求項16に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   Providing the mutual angular orientation includes aligning the panels such that an array of pattern elements is parallel to an actual scanning path during the relative translation of the mutual. 17. A method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 16. 相互の角度方向を提供するステップは、前記レーザビームの各通過の期間中、前記レーザビームが、パターン要素の単一の並びの前記パターン要素に重なる前記感光性を与えられた面の一部を露光するように、前記パネルを位置合わせするステップを含むことを特徴とする請求項15に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   Providing a mutual angular orientation includes: during each pass of the laser beam, a portion of the photosensitive surface over which the laser beam overlaps the pattern elements in a single array of pattern elements. 16. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 15, comprising the step of aligning the panel to expose. 前記走査装置と前記パネルとの間の相互の相対平行移動を提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   20. The method for drawing a pattern on a light-sensitive surface as claimed in claim 19, further comprising the step of providing a relative translation between the scanning device and the panel. 前記レーザビームの各通過において、パターン要素の後続の並びの前記パターン要素に重なる、前記感光性を与えられた面の一部が露光されるように、前記相互の相対平行移動の速度及び走査の速度を調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   In each pass of the laser beam, the relative translational speed and scanning speed of each other are such that a part of the photosensitized surface that overlaps the pattern elements in a subsequent sequence of pattern elements is exposed. 21. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 20, further comprising adjusting a speed. 前記パターン要素の後続の並びは、パターン要素の少なくとも1つの中間の並びの分だけ、前のパターン要素の並びから離されることを特徴とする請求項21に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   24. The photosensitized surface of claim 21, wherein the subsequent array of pattern elements is separated from the previous array of pattern elements by at least one intermediate array of pattern elements. A method for drawing patterns. パルスレーザビームを出力するステップでは、パルスレーザビームを出力することを特徴とする請求項15に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   16. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 15, wherein the step of outputting a pulsed laser beam outputs a pulsed laser beam. 各パルスは、前記感光性を与えられた面の一部を露光することを特徴とする請求項23に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   24. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface as claimed in claim 23, wherein each pulse exposes a portion of the photosensitized surface. 前記感光性を与えられた面の少なくとも2つの部分は相互に重なることを特徴とする請求項24に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   25. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 24, wherein at least two portions of the photosensitized surface overlap each other. レーザビームを出力するステップでは、連続波レーザビームを出力することを特徴とする請求項15に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   16. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 15, wherein the step of outputting the laser beam outputs a continuous wave laser beam. 前記回転装置は、前記走査装置に対して前記パネルを回転させるように動作することを特徴とする請求項15に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   16. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 15, wherein the rotating device operates to rotate the panel relative to the scanning device. 前記回転装置は、前記パネルを支持する支持構造体に対して前記走査装置を回転させるように動作することを特徴とする請求項15に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   16. The method of claim 15, wherein the rotating device operates to rotate the scanning device relative to a support structure that supports the panel. the method of. 感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステムであって、
一連の時間的に分離されたレーザパルスによって規定されるレーザビームを出力するレーザビーム光源と、
前記感光性を与えられた面にわたって走査方向に前記レーザビームを走査する走査装置と、
を備え、
前記走査すること及び前記一連のレーザパルスは、描画されるパターンの前記走査方向における不連続な位置に各レーザパルスを送出するように同期されることを特徴とする感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。
A system for drawing a pattern on a photosensitized surface,
A laser beam light source that outputs a laser beam defined by a series of temporally separated laser pulses;
A scanning device that scans the laser beam in a scanning direction over the surface provided with photosensitivity;
With
The scanning and the series of laser pulses are synchronized on a photosensitized surface characterized in that each laser pulse is synchronized to a discontinuous position in the scanning direction of the pattern to be drawn. A system for drawing patterns.
前記レーザビーム光源は、Qスイッチパルスレーザを備えることを特徴とする請求項29に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   30. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 29, wherein the laser beam light source comprises a Q-switch pulse laser. 前記走査装置は、回転ポリゴンを備えることを特徴とする請求項29に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   30. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 29, wherein the scanning device comprises a rotating polygon. 前記走査装置と前記感光性を与えられた面との間の相互の相対平行移動を提供する搬送装置をさらに備えることを特徴とする請求項29に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   30. The pattern on a photosensitized surface of claim 29, further comprising a transport device that provides a relative translation between the scanning device and the photosensitized surface. A system for drawing. 前記レーザビームを規定するパルスのパルスレート、前記相互の相対平行移動の速度、及び走査の速度の少なくとも1つを制御するシステムコントローラ、をさらに備えることを特徴とする請求項32に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The photosensitivity of claim 32, further comprising a system controller that controls at least one of a pulse rate of pulses defining the laser beam, a speed of relative translation relative to each other, and a speed of scanning. A system for drawing a pattern on a given surface. 前記走査装置は、露光される第1の並びへ第1の走査におけるパルスを送出し、前記露光される第1の並びに連続した、露光される第2の並びへ第2の走査におけるパルスを送出するように動作することを特徴とする請求項32に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   The scanning device sends a pulse in a first scan to the first sequence to be exposed, and sends a pulse in the second scan to the first sequence to be exposed and a second sequence to be exposed. 33. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 32, wherein the pattern is drawn on the surface. 前記走査装置は、領域を追加して露光するように各パルスを送出して、ストライプを形成することを特徴とする請求項34に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   35. The apparatus for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 34, wherein said scanning device sends out each pulse so as to add a region for exposure to form a stripe. system. 前記描画されるパターンは、フラットパネルディスプレイ上のカラーフィルタのストライプのパターンを含むことを特徴とする請求項29に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   30. The system for drawing a pattern on a light-sensitive surface according to claim 29, wherein the drawn pattern includes a color filter stripe pattern on a flat panel display. 感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法であって、
一連の時間的に分離されたレーザパルスによって規定されるレーザビームを出力し、
前記感光性を与えられた面にわたって走査方向に前記レーザビームを走査し、及び
前記走査し、前記一連のレーザパルスを同期するステップによって描画されるパターンの前記走査方向における不連続な位置に各レーザパルスを送出し、同期させることを特徴とする感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。
A method for drawing a pattern on a surface given photosensitivity,
Output a laser beam defined by a series of temporally separated laser pulses;
Each laser at a discontinuous position in the scanning direction of a pattern drawn by scanning the laser beam in a scanning direction across the photosensitized surface, and scanning and synchronizing the series of laser pulses. A method for drawing a pattern on a photosensitized surface, characterized in that a pulse is transmitted and synchronized.
前記レーザビームを出力するステップでは、Qスイッチパルスレーザからレーザビームを出力することを特徴とする請求項37に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。   38. The system for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 37, wherein in the step of outputting the laser beam, a laser beam is output from a Q switch pulse laser. 前記走査するステップでは、回転ポリゴンから前記レーザを反射することを特徴とする請求項37に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   38. The method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 37, wherein in the scanning step, the laser is reflected from a rotating polygon. 走査装置と前記感光性を与えられた面との間の相互の相対平行移動を提供するステップをさらに含むことを特徴とする請求項37に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   38. The method of claim 37, further comprising providing a relative translation between each other between a scanning device and the photosensitized surface. Way for. 前記レーザビームを規定するパルスのパルスレート、前記相互の相対平行移動の速度、及び走査の速度の少なくとも1つを制御するステップをさらに含むことを特徴とする請求項40に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   41. The method of claim 40, further comprising controlling at least one of a pulse rate of pulses defining the laser beam, a speed of the relative translation relative to each other, and a speed of scanning. A method for drawing a pattern on a given surface. 前記走査するステップでは、露光される第1の並びへ第1の走査におけるパルスを送出し、前記露光される第1の並びに連続した露光される第2の並びへ第2の走査におけるパルスを送出することを特徴とする請求項40に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   In the scanning step, a pulse in the first scan is sent to the first row to be exposed, and a pulse in the second scan is sent to the first row to be exposed and the second row to be continuously exposed. 41. A method for drawing a pattern on a photosensitized surface according to claim 40. 前記走査するステップでは、領域を追加して露光する各パルスを送出し、それによって、ストライプを形成する、送出するステップを含むことを特徴とする請求項42に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   43. The photosensitized surface of claim 42, wherein the step of scanning includes the step of delivering each pulse to be exposed with additional regions, thereby forming a stripe. A method for drawing a pattern. 前記描画されるパターンは、フラットパネルディスプレイ上のカラーフィルタのストライプのパターンを含むことを特徴とする請求項37に記載の感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。   38. The method for drawing a pattern on a light-sensitive surface according to claim 37, wherein the drawn pattern includes a color filter stripe pattern on a flat panel display. 感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステムであって、
レーザビームを出力するレーザビーム光源と、
感光性を与えられた面にわたって走査方向に前記レーザビームを走査する走査装置と、
前記走査方向に対して横方向の交差走査方向において、前記走査装置と前記感光性を与えられた面との間の相互の相対平行移動を提供する搬送装置と、
前記レーザビームが前記走査方向に走査されるにつれて、前記相互の相対平行移動と同期して、前記交差走査方向に前記レーザビームを偏向するレーザビーム偏向器と、
を備えることを特徴とする感光性を与えられた面にパターンを描画するためのシステム。
A system for drawing a pattern on a photosensitized surface,
A laser beam light source for outputting a laser beam;
A scanning device for scanning the laser beam in a scanning direction over a surface provided with photosensitivity;
A transport device that provides relative translation between the scanning device and the photosensitized surface in a cross-scan direction transverse to the scan direction;
A laser beam deflector for deflecting the laser beam in the cross-scan direction in synchronization with the relative translation as the laser beam is scanned in the scan direction;
A system for drawing a pattern on a surface provided with photosensitivity.
感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法であって、
レーザビームを出力し、
感光性を与えられた面にわたって走査方向に前記レーザビームを走査し、
前記走査方向に対して横方向の交差走査方向において、前記走査装置と前記感光性を与えられた面との間の相互の相対平行移動を提供し、
前記レーザビームが前記走査方向に走査されるにつれて、前記相互の相対平行移動と同期して、前記交差走査方向に前記レーザビームを偏向する各ステップを含むことを特徴とする感光性を与えられた面にパターンを描画するための方法。
A method for drawing a pattern on a surface given photosensitivity,
Outputs a laser beam,
Scanning the laser beam in a scanning direction over a surface provided with photosensitivity,
Providing mutual relative translation between the scanning device and the photosensitive surface in a cross-scan direction transverse to the scan direction;
As the laser beam is scanned in the scanning direction, each step includes deflecting the laser beam in the cross-scanning direction in synchronism with the relative translation of each other. A method for drawing a pattern on a surface.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011089867A1 (en) * 2010-01-22 2011-07-28 パナソニック株式会社 Rendering device and rendering method
CN102645809A (en) * 2011-02-22 2012-08-22 元太科技工业股份有限公司 Manufacturing method of color electrophoretic display device
US8808486B2 (en) 2010-06-01 2014-08-19 E Ink Holdings Inc. Method for manufacturing color electrophoretic display device
JP2019023764A (en) * 2014-04-01 2019-02-14 株式会社ニコン Substrate treatment method

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10149390B2 (en) 2012-08-27 2018-12-04 Mycronic AB Maskless writing of a workpiece using a plurality of exposures having different focal planes using multiple DMDs
WO2014140047A2 (en) * 2013-03-12 2014-09-18 Micronic Mydata AB Method and device for writing photomasks with reduced mura errors

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07288276A (en) * 1994-02-22 1995-10-31 Nikon Corp Apparatus for positioning wafer
JPH08236419A (en) * 1995-02-24 1996-09-13 Nikon Corp Positioning method
WO2002054837A2 (en) * 2001-01-04 2002-07-11 Laser Imaging Systems Gmbh & Co. Kg Direct pattern writer
US6552779B2 (en) * 2000-05-25 2003-04-22 Ball Semiconductor, Inc. Flying image of a maskless exposure system

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6624433B2 (en) * 1994-02-22 2003-09-23 Nikon Corporation Method and apparatus for positioning substrate and the like
US5853924A (en) * 1994-12-26 1998-12-29 Alps Electric Co., Ltd. Method of manufacturing color filters
SE9800665D0 (en) * 1998-03-02 1998-03-02 Micronic Laser Systems Ab Improved method for projection printing using a micromirror SLM
US6560248B1 (en) * 2000-06-08 2003-05-06 Mania Barco Nv System, method and article of manufacture for improved laser direct imaging a printed circuit board utilizing a mode locked laser and scophony operation

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07288276A (en) * 1994-02-22 1995-10-31 Nikon Corp Apparatus for positioning wafer
JPH08236419A (en) * 1995-02-24 1996-09-13 Nikon Corp Positioning method
US6552779B2 (en) * 2000-05-25 2003-04-22 Ball Semiconductor, Inc. Flying image of a maskless exposure system
WO2002054837A2 (en) * 2001-01-04 2002-07-11 Laser Imaging Systems Gmbh & Co. Kg Direct pattern writer

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011089867A1 (en) * 2010-01-22 2011-07-28 パナソニック株式会社 Rendering device and rendering method
US8808486B2 (en) 2010-06-01 2014-08-19 E Ink Holdings Inc. Method for manufacturing color electrophoretic display device
CN102645809A (en) * 2011-02-22 2012-08-22 元太科技工业股份有限公司 Manufacturing method of color electrophoretic display device
JP2019023764A (en) * 2014-04-01 2019-02-14 株式会社ニコン Substrate treatment method

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