JP2007335030A - Magnetic reproducing head - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic reproducing head which can suitably stabilize a magnetization direction of a free layer of a read element by being equipped with a configuration of hard film substrate in which coercive force of the hard film can be heightened more than the hard film substrate of a chrome single layer, and can maintain also the coercive force of the hard film at a part where thickness of the hard film substrate is thin. <P>SOLUTION: The magnetic reproducing head is provided with; a read element 30; an upper shield 44 and a lower shield 32 which hold the read element 30 from the upper and lower sides; a hard film 38 which is prepared between the upper shield 44 and the lower shield 32 and holds the read element 30 from both sides; and a hard film substrate 36 formed between the lower shield 32 and the hard film 38. In this case, the hard film substrate 36 consists of a chrome layer 36a and a chrome-titanium alloy layer 36b. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、リード素子と、リード素子を上下から挟む上部シールドおよび下部シールドと、上部シールドと下部シールドとの間に設けられ、前記リード素子を両側面から挟むハード膜と、前記下部シールドと前記ハード膜との間に形成されたハード膜下地とを備えた磁気再生ヘッドに関する。   The present invention includes a read element, an upper shield and a lower shield that sandwich the read element from above and below, a hard film that sandwiches the read element from both sides, the lower shield, The present invention relates to a magnetic reproducing head including a hard film base formed between the hard film and the hard film.

磁気ディスク等の磁気媒体の再生(読み取り)に使用される従来の磁気再生ヘッドの構成の一例が、特許文献1に開示されている。特許文献1に記載の磁気再生ヘッドの構成を、図9に示す。図9の従来の磁気再生ヘッドは、リード素子(GMR素子)としての軟磁性薄膜13,非磁性導電性薄膜14,および磁気抵抗効果膜15と、ギャップ層122,121を介して前記リード素子を上下から挟む上部シールド112および下部シールド111と、上部シールド112と下部シールド111との間に設けられ、前記リード素子を両側面から挟むハード膜(硬磁性薄膜)26と、下部シールド111とハード膜26との間に形成されたハード膜下地(下地膜)252とを備える。   An example of the configuration of a conventional magnetic reproducing head used for reproducing (reading) a magnetic medium such as a magnetic disk is disclosed in Patent Document 1. The configuration of the magnetic reproducing head described in Patent Document 1 is shown in FIG. The conventional magnetic read head of FIG. 9 includes the soft magnetic thin film 13 as the read element (GMR element), the nonmagnetic conductive thin film 14, the magnetoresistive effect film 15, and the read element via the gap layers 122 and 121. An upper shield 112 and a lower shield 111 sandwiched from above and below, a hard film (hard magnetic thin film) 26 provided between the upper shield 112 and the lower shield 111 and sandwiching the read element from both sides, a lower shield 111 and a hard film 26, and a hard film base (base film) 252 formed therebetween.

特許文献1には、従来より、ハード膜としてはCo−Cr−Pt(コバルト・クロム・白金合金)系等の薄膜が用いられ、また、ハード膜下地(下地膜)としてはCr(クロム)等の非磁性膜が用いられることが記載されている(特許文献1 段落0007,0010,0011)。   In Patent Document 1, a Co—Cr—Pt (cobalt / chromium / platinum alloy) -based thin film is conventionally used as the hard film, and Cr (chromium) or the like is used as the hard film base (underlayer film). It is described that a nonmagnetic film is used (Patent Document 1, paragraphs 0007, 0010, and 0011).

特開2005−63643号公報(段落0007,0010,0011)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-63643 (paragraphs 0007, 0010, 0011)

一般に、ハード膜の保磁力は、ハード膜下地の性質や状態により影響を受けるため、ハード膜下地の構成が従来より種々研究されている。
さて、ハード膜下地の材料としてクロムを採用した場合には、ハード膜の保磁力が不十分であり、リード素子のフリー層の磁化方向を安定化させることが難しく、それがノイズ等の要因となっているという課題がある。
Generally, since the coercive force of a hard film is affected by the properties and conditions of the hard film base, various studies have been made on the configuration of the hard film base.
Now, when chromium is used as the material for the hard film base, the coercive force of the hard film is insufficient, and it is difficult to stabilize the magnetization direction of the free layer of the read element, which causes noise and other factors. There is a problem of becoming.

例えば、厚さが20〜40Å程度のクロムのハード膜下地上に、コバルト・クロム・白金合金から成るハ−ド膜を設けた場合、図10のグラフに示すようにハード膜の保磁力Hcは1300Oe程度となるが、リード素子のフリー層の磁化方向を好適に安定させるためには、好ましくは、ハード膜の保磁力は1500Oe程度以上が望まれている。   For example, when a hard film made of cobalt / chromium / platinum alloy is provided on a chromium hard film base having a thickness of about 20 to 40 mm, the coercive force Hc of the hard film is as shown in the graph of FIG. Although it is about 1300 Oe, in order to suitably stabilize the magnetization direction of the free layer of the read element, the coercive force of the hard film is preferably about 1500 Oe or more.

この点、本願発明者は、ハード膜下地の材料としてクロム・チタン合金を用いると、ハード膜の保磁力を1500Oe程度以上とすることができることを見出した。具体的には、厚さが30〜40Å程度のクロム・チタン合金から成るハード膜下地上に、コバルト・クロム・白金合金から成るハ−ド膜を設けた場合、図10のグラフから分かるとおり、ハード膜の保磁力Hcは1500Oe程度以上となる。   In this regard, the present inventor has found that the coercive force of the hard film can be increased to about 1500 Oe or more when a chromium-titanium alloy is used as the material for the hard film base. Specifically, when a hard film made of cobalt / chromium / platinum alloy is provided on a hard film base made of chromium / titanium alloy having a thickness of about 30 to 40 mm, as can be seen from the graph of FIG. The coercive force Hc of the hard film is about 1500 Oe or more.

さて、図9に示されるように、磁気再生ヘッドにおいて、ハード膜下地252の厚さは、前記リード素子の両側面のテーパ部16上において薄くなる。これは、ハード膜下地252を形成する際に、前記リード素子の上面にレジスト層を形成した上で、下部シールド111(下部ギャップ層121)上および前記リード素子の両側面上に、イオンビームスパッタ法でハード膜下地252を形成するため、レジスト層の脇であってなおかつテーパ状に形成された前記リード素子の両側面には、ハード膜下地252が付きにくいからである。   As shown in FIG. 9, in the magnetic reproducing head, the thickness of the hard film base 252 is thin on the tapered portions 16 on both side surfaces of the read element. This is because when a hard film base 252 is formed, a resist layer is formed on the upper surface of the read element, and then ion beam sputtering is performed on the lower shield 111 (lower gap layer 121) and on both side surfaces of the read element. This is because the hard film base 252 is formed by the above method, and the hard film base 252 is not easily attached to both side surfaces of the read element that is formed on the side of the resist layer and is tapered.

このように、磁気再生ヘッドにおいては、リード素子の側面にハード膜下地を厚く形成することが困難であるため、ハード膜下地の厚さが薄くても、ハード膜の保磁力を維持できることが望まれている。
この点、図10のグラフから分かるとおり、クロムのハード膜下地では厚さが約20Åまで保磁力1300Oe程度を維持できるのに対し、クロム・チタン合金から成るハード膜下地では、その厚さが30Å程度を切るとハード膜の保磁力が1000Oe以下にまで低くなってしまい、したがってリード素子の近傍での保磁力が維持できず、実用が難しいという課題がある。
As described above, in a magnetic read head, it is difficult to form a hard film base thick on the side surface of the read element. Therefore, it is hoped that the coercive force of the hard film can be maintained even if the hard film base is thin. It is rare.
In this regard, as can be seen from the graph of FIG. 10, the chromium hard film substrate can maintain a coercive force of about 1300 Oe up to a thickness of about 20 mm, whereas the hard film substrate made of chromium-titanium alloy has a thickness of 30 mm. If the degree is cut below, the coercive force of the hard film is lowered to 1000 Oe or less, so that the coercive force in the vicinity of the read element cannot be maintained, and there is a problem that practical use is difficult.

本発明は上記課題を解決すべくなされ、その目的とするところは、クロム単層のハード膜下地よりもハード膜の保磁力を高められるとともに、ハード膜下地の厚さが薄い箇所においてもハード膜の保磁力を維持させることができるハード膜下地の構成を備えることで、リード素子のフリー層の磁化方向を好適に安定させることができる磁気再生ヘッドを提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to increase the coercive force of the hard film as compared with the hard film base of a single chromium layer and to form the hard film even in a portion where the thickness of the hard film base is thin. It is an object of the present invention to provide a magnetic reproducing head capable of suitably stabilizing the magnetization direction of the free layer of the read element by providing a hard film base configuration capable of maintaining the coercive force of the magnetic film.

本願発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ハード膜下地の構成を、クロム層と、クロム・チタン合金層との二層構造することにより、クロム単層のハード膜下地よりもハード膜の保磁力を高められるとともに、ハード膜下地の厚さが薄くとも、ハード膜の保磁力を維持させることができることを見出し、本願発明を完成させた。   The inventor of the present application has conducted intensive research to solve the above-mentioned problems, and as a result, the hard film base structure has a two-layer structure of a chromium layer and a chromium-titanium alloy layer, thereby forming a hard film of a single chromium layer. It has been found that the coercive force of the hard film can be increased more than that of the base, and that the coercive force of the hard film can be maintained even when the thickness of the base of the hard film is thin, and the present invention has been completed.

本発明に係る磁気再生ヘッドは、上記課題を解決するため、以下の構成を備える。
すなわち、リード素子と、該リード素子を上下から挟む上部シールドおよび下部シールドと、前記上部シールドと前記下部シールドとの間に設けられ、前記リード素子を両側面から挟むハード膜と、前記下部シールドと前記ハード膜との間に形成されたハード膜下地とを備えた磁気再生ヘッドにおいて、前記ハード膜下地は、クロム層と、クロム・チタン合金層とから成ることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a magnetic reproducing head according to the present invention has the following configuration.
That is, a read element, an upper shield and a lower shield that sandwich the read element from above and below, a hard film that is provided between the upper shield and the lower shield, and sandwiches the read element from both sides, and the lower shield, In the magnetic reproducing head including a hard film base formed between the hard film and the hard film, the hard film base includes a chromium layer and a chromium-titanium alloy layer.

さらに、前記ハード膜は、コバルト・クロム・白金合金から成ることを特徴とする。   Furthermore, the hard film is made of a cobalt / chromium / platinum alloy.

また、前記ハード膜下地は、前記下部シールド側がクロム層であり、前記ハード膜側がクロム・チタン合金層となるよう設けられていることを特徴とする。   Further, the hard film base is provided so that the lower shield side is a chromium layer and the hard film side is a chromium-titanium alloy layer.

また、前記ハード膜下地は、前記下部シールド側がクロム・チタン合金層であり、前記ハード膜側がクロム層となるよう設けられていることを特徴とする。   The hard film base is provided so that the lower shield side is a chromium-titanium alloy layer and the hard film side is a chromium layer.

さらに、前記クロム・チタン合金層の厚さは、18Å以下であることを特徴とする。   Further, the chromium-titanium alloy layer has a thickness of 18 mm or less.

本発明に係る磁気再生ヘッドによれば、クロム単層のハード膜下地よりもハード膜の保磁力を高められるとともに、ハード膜下地の厚さが薄い箇所においてもハード膜の保磁力を維持させることができるハード膜下地の構成を備えることで、リード素子のフリー層の磁化方向を好適に安定させることができる。   According to the magnetic read head of the present invention, the coercive force of the hard film can be increased as compared with the hard film base of a single chromium layer, and the coercive force of the hard film can be maintained even in a portion where the thickness of the hard film base is thin. By providing the configuration of the hard film base that can be used, the magnetization direction of the free layer of the read element can be preferably stabilized.

以下、本発明に係る磁気再生ヘッドを実施するための最良の形態を説明する。   The best mode for carrying out the magnetic reproducing head according to the present invention will be described below.

図1は、本実施例1に係る磁気再生ヘッドの、リード素子としてのGMR素子30近傍の構成を示す部分断面説明図である。図1に示した磁気再生ヘッドは、リード素子としてのGMR素子30と、それぞれ絶縁膜42および絶縁膜34を介してGMR素子30を上下から挟む上部シールド44および下部シールド32と、上部シールド44と下部シールド32との間に設けられ、GMR素子30を両側面から挟む、コバルト・クロム・白金合金から成るハード膜38と、下部シールド32とハード膜38との間に形成されたハード膜下地36と、ハード膜38と上部シールド44側の絶縁膜42との間に形成されたリード端子40とを備える。   FIG. 1 is a partial cross-sectional explanatory view showing a configuration in the vicinity of a GMR element 30 as a read element of the magnetic read head according to the first embodiment. The magnetic read head shown in FIG. 1 includes a GMR element 30 as a read element, an upper shield 44 and a lower shield 32 that sandwich the GMR element 30 from above and below via an insulating film 42 and an insulating film 34, and an upper shield 44, respectively. A hard film 38 made of cobalt / chromium / platinum alloy provided between the lower shield 32 and sandwiching the GMR element 30 from both sides, and a hard film base 36 formed between the lower shield 32 and the hard film 38. And a lead terminal 40 formed between the hard film 38 and the insulating film 42 on the upper shield 44 side.

本実施例1に係る磁気再生ヘッドは、ハード膜下地36の構成に特徴がある。ハード膜下地36は、下層(下部シールド側)がクロムから成るクロム層36a、上層(ハード膜38側)がクロム・チタン合金から成るクロム・チタン合金層36bの、2層構造に構成される。   The magnetic read head according to the first embodiment is characterized by the configuration of the hard film base 36. The hard film base 36 has a two-layer structure in which a lower layer (lower shield side) is a chromium layer 36a made of chromium and an upper layer (hard film 38 side) is a chromium / titanium alloy layer 36b made of chromium / titanium alloy.

本磁気再生ヘッドを製造する際には、下部シールド32および絶縁膜34上にGMR素子30を形成し、GMR素子30の上面にレジスト層(図示せず)を形成した後、下部シールド32(絶縁膜34)上およびGMR素子30の両側面上に、イオンビームスパッタ法でクロム層36a(ハード膜下地36の一層目)を形成し、さらにイオンビームスパッタ法でクロム・チタン合金層36b(ハード膜下地36の二層目)を形成する。
そして、さらにそのハード膜下地36上に、公知の製造方法と同様に、コバルト・クロム・白金合金のハード膜38等を形成する。
In manufacturing the magnetic read head, a GMR element 30 is formed on the lower shield 32 and the insulating film 34, a resist layer (not shown) is formed on the upper surface of the GMR element 30, and then the lower shield 32 (insulating) is formed. A chromium layer 36a (first layer of the hard film base 36) is formed on the film 34) and on both sides of the GMR element 30 by ion beam sputtering, and further, a chromium-titanium alloy layer 36b (hard film) is formed by ion beam sputtering. The second layer of the base 36 is formed.
Further, a hard film 38 of cobalt / chromium / platinum alloy or the like is formed on the hard film base 36 in the same manner as a known manufacturing method.

クロム層36aとクロム・チタン合金層36bとの2層構造のハード膜下地36上に、コバルト・クロム・白金合金のハード膜38を形成した場合の、ハード膜38の保磁力Hcおよび角型比(Mr/Ms)の測定結果を、図2および図3の各グラフに示す。
図2は、ハード膜下地36の厚さ、すなわち、クロム層36aとクロム・チタン合金層36bとの厚さの合計が25Åとなるよう形成し、クロム層36aの厚さX(すなわちクロム・チタン合金層36bの厚さは(25Å−X))と、ハード膜38の保磁力Hc(図2(a))および角型比(Mr/Ms)(図2(b))との関係を測定した結果を示すグラフである。
The coercive force Hc and squareness ratio of the hard film 38 when the hard film 38 of cobalt / chromium / platinum alloy is formed on the hard film base 36 having a two-layer structure of the chromium layer 36a and the chromium / titanium alloy layer 36b. The measurement results of (Mr / Ms) are shown in the graphs of FIGS.
FIG. 2 shows that the thickness of the hard film base 36, that is, the total thickness of the chromium layer 36a and the chromium-titanium alloy layer 36b is 25 mm, and the thickness X of the chromium layer 36a (that is, chromium-titanium). The thickness of the alloy layer 36b is (25Å-X)) and the relationship between the coercive force Hc of the hard film 38 (FIG. 2A) and the squareness ratio (Mr / Ms) (FIG. 2B) is measured. It is a graph which shows the result.

図10に示した通り、ハード膜下地をクロム層の単層とした従来の構成の場合、ハード膜の保磁力は1300Oe程度であり、また、ハード膜下地をクロム・チタン合金層の単層とした場合、その厚さが30Å程度以下ではハード膜の保磁力は1000Oe以下である。
他方、本実施例1に係る磁気再生ヘッドのように、ハード膜下地36をクロム層36aとクロム・チタン合金層36bとの2層構造とすれば、25Åの厚さでも、1600Oe以上のハード膜38の保磁力Hcを得られる(クロム層36aの厚さXを8〜17Åとした場合。図2(a)参照)。また、角型比(Mr/Ms)は、クロム層36aの厚さが11Å以上、より好適には15Å以上で、1に近い理想的な値を得られることが分かる(図2(b)参照)。
As shown in FIG. 10, in the case of the conventional configuration in which the hard film base is a single layer of the chromium layer, the coercive force of the hard film is about 1300 Oe, and the hard film base is a single layer of the chromium-titanium alloy layer. In this case, when the thickness is about 30 mm or less, the coercive force of the hard film is 1000 Oe or less.
On the other hand, if the hard film base 36 has a two-layer structure of the chromium layer 36a and the chromium-titanium alloy layer 36b as in the magnetic reproducing head according to the first embodiment, a hard film of 1600 Oe or more is obtained even at a thickness of 25 mm. A coercive force Hc of 38 can be obtained (when the thickness X of the chromium layer 36a is 8 to 17 mm, see FIG. 2A). The squareness ratio (Mr / Ms) indicates that an ideal value close to 1 can be obtained when the thickness of the chromium layer 36a is 11 mm or more, more preferably 15 mm or more (see FIG. 2B). ).

図3は、ハード膜下地36の厚さ、すなわち、クロム層36aとクロム・チタン合金層36bとの厚さの合計が20Åとなるよう形成し、クロム層36aの厚さX(すなわちクロム・チタン合金層36bの厚さは(20Å−X))と、ハード膜38の保磁力Hc(図3(a))および角型比(Mr/Ms)(図3(b))との関係を測定した結果を示すグラフである。   FIG. 3 shows that the thickness of the hard film base 36, that is, the total thickness of the chromium layer 36a and the chromium-titanium alloy layer 36b is 20 mm, and the thickness X of the chromium layer 36a (that is, chromium-titanium). The thickness of the alloy layer 36b is (20Å-X)), and the relationship between the coercive force Hc of the hard film 38 (FIG. 3A) and the squareness ratio (Mr / Ms) (FIG. 3B) is measured. It is a graph which shows the result.

この場合でも、クロム層36aの厚さが15Å程度のとき、保磁力1600Oe程度、角型比0.9弱程度の好適な結果が得られる。すなわち、ハード膜下地36の厚さを20Åにまで薄くしても、クロム層またはクロムチタン層の単層のハード膜下地と比較して優位性が認められる。   Even in this case, when the thickness of the chromium layer 36a is about 15 mm, a preferable result with a coercive force of about 1600 Oe and a squareness ratio of about 0.9 is obtained. That is, even if the thickness of the hard film base 36 is reduced to 20 mm, an advantage is recognized as compared with a single hard film base of a chromium layer or a chromium titanium layer.

図2および図3から分かるように、ハード膜下地36をクロム層36aとクロム・チタン合金層36bとの2層構造とした本実施例1の構成において、特に、クロム層36aの厚さは11Å以上、より好適には15Å以上とし、また、ハード膜下地36全体の厚さに占めるクロム層36aの厚さの割合は、45%〜75%、より好適には50%〜70%とすると、ハード膜下地36が薄くても好適な保磁力特性および角型比特性が得られる。   As can be seen from FIGS. 2 and 3, in the configuration of the first embodiment in which the hard film base 36 has a two-layer structure of a chromium layer 36a and a chromium-titanium alloy layer 36b, the thickness of the chromium layer 36a is particularly 11 mm. More preferably, the thickness is 15 mm or more, and the ratio of the thickness of the chromium layer 36a in the total thickness of the hard film base 36 is 45% to 75%, more preferably 50% to 70%. Even if the hard film substrate 36 is thin, suitable coercive force characteristics and squareness characteristics can be obtained.

したがって、本実施例1に係る磁気再生ヘッドによれば、従来のクロム層の単層のハード膜下地の構成に比較して、より高いハード膜の保磁力を得られると同時に、GMR素子30の側面の、ハード膜下地36の厚さが薄くなる箇所においても、従来より高いハード膜の保磁力を得られる。   Therefore, according to the magnetic reproducing head according to the first embodiment, it is possible to obtain a higher coercive force of the hard film as compared with the configuration of the conventional hard film base of the chrome layer, and at the same time, Even at the portion of the side surface where the thickness of the hard film substrate 36 is reduced, a higher coercivity of the hard film can be obtained.

なお、本実施例1に係る磁気再生ヘッドのハード膜下地36の構成は、GMR素子30を備えた磁気再生ヘッドだけでなく、いわゆる垂直磁気記録用のリード素子であるTMR素子を備えた磁気再生ヘッドのハード膜下地の構成に応用することももちろん可能である。   The configuration of the hard film base 36 of the magnetic reproducing head according to the first embodiment is not limited to the magnetic reproducing head including the GMR element 30 but also the magnetic reproducing including the TMR element which is a so-called read element for perpendicular magnetic recording. Of course, it can also be applied to the structure of the hard film base of the head.

図4は、垂直磁気記録用のリード素子であるTMR素子50を備え、上記ハード膜下地の構成を応用した磁気再生ヘッドの、TMR素子50近傍の構成を示す部分断面説明図である。図4に示した磁気再生ヘッドは、リード素子としてのTMR素子50と、TMR素子50を上下から挟む上部シールド60および下部シールド52と、下部シールド52上およびTMR素子50の側面上に設けられた絶縁膜54と、絶縁膜54上の、上部シールド60と下部シールド52との間に設けられ、TMR素子50を両側面から挟む、コバルト・クロム・白金合金から成るハード膜58と、下部シールド52(絶縁膜54)とハード膜58との間に形成されたハード膜下地56とを備える。   FIG. 4 is a partial cross-sectional explanatory view showing a configuration in the vicinity of the TMR element 50 of a magnetic reproducing head including the TMR element 50 as a read element for perpendicular magnetic recording and applying the configuration of the hard film base. The magnetic read head shown in FIG. 4 is provided on the TMR element 50 as a read element, the upper shield 60 and the lower shield 52 that sandwich the TMR element 50 from above and below, the lower shield 52, and the side surface of the TMR element 50. An insulating film 54, a hard film 58 made of cobalt / chromium / platinum alloy provided between the upper shield 60 and the lower shield 52 on the insulating film 54 and sandwiching the TMR element 50 from both sides, and the lower shield 52 A hard film base 56 formed between the (insulating film 54) and the hard film 58 is provided.

ハード膜下地56は、下層(下部シールド側)がクロムから成るクロム層56a、上層(ハード膜38側)がクロム・チタン合金から成るクロム・チタン合金層56bの、2層構造に構成され、それらの厚さは、図1のGMR素子30を備えた磁気再生ヘッドと同様に設定される。   The hard film base 56 has a two-layer structure in which the lower layer (lower shield side) is a chromium layer 56a made of chromium and the upper layer (hard film 38 side) is a chromium / titanium alloy layer 56b made of chromium / titanium alloy. The thickness of is set in the same manner as the magnetic reproducing head including the GMR element 30 of FIG.

図4のTMR素子50を備える磁気再生ヘッドにおいても、上記構成のハード膜下地56を備えることにより、従来のクロム層の単層のハード膜下地の構成に比較して、より高いハード膜58の保磁力を得られるとともに、TMR素子50の側面の、ハード膜下地56の厚さが薄くなる箇所においても、従来より高いハード膜58の保磁力を得られる。   Also in the magnetic reproducing head including the TMR element 50 of FIG. 4, the provision of the hard film base 56 having the above configuration makes it possible to provide a hard film 58 having a higher height than that of the conventional single layer hard film base of the chromium layer. A coercive force can be obtained, and a coercive force of the hard film 58 higher than the conventional one can also be obtained at a portion of the side surface of the TMR element 50 where the thickness of the hard film base 56 is reduced.

次に、実施例2に係る磁気再生ヘッドの構成について説明する。図5は、本実施例2に係る磁気再生ヘッドの、リード素子としてのGMR素子30近傍の構成を示す部分断面説明図である。
なお、実施例2において、実施例1と同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
Next, the configuration of the magnetic reproducing head according to the second embodiment will be described. FIG. 5 is a partial cross-sectional explanatory view showing the configuration in the vicinity of the GMR element 30 as a read element of the magnetic read head according to the second embodiment.
Note that the same reference numerals in the second embodiment denote the same parts as in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

本実施例2に係る磁気再生ヘッドは、ハード膜下地62の構成が、実施例1の磁気再生ヘッドと異なっている。ハード膜下地62は、下層(下部シールド側)がクロム・チタン合金から成るクロム・チタン合金層62a、上層(ハード膜38側)がクロムから成るクロム層62bの、2層構造に構成される。   The magnetic reproducing head according to the second embodiment differs from the magnetic reproducing head according to the first embodiment in the configuration of the hard film base 62. The hard film base 62 has a two-layer structure in which a lower layer (lower shield side) is a chromium / titanium alloy layer 62a made of chromium / titanium alloy and an upper layer (hard film 38 side) is a chromium layer 62b made of chromium.

本磁気再生ヘッドを製造する際には、下部シールド32および絶縁膜34上にGMR素子30を形成し、GMR素子30の上面にレジスト層(図示せず)を形成した後、下部シールド32(絶縁膜34)上およびGMR素子30の両側面上に、イオンビームスパッタ法でクロム・チタン合金層62a(ハード膜下地62の一層目)を形成し、さらにイオンビームスパッタ法でクロム層62b(ハード膜下地62の二層目)を形成する。
そして、さらにそのハード膜下地62上に、公知の製造方法と同様に、コバルト・クロム・白金合金のハード膜38等を形成する。
In manufacturing the magnetic read head, a GMR element 30 is formed on the lower shield 32 and the insulating film 34, a resist layer (not shown) is formed on the upper surface of the GMR element 30, and then the lower shield 32 (insulating) is formed. A chromium-titanium alloy layer 62a (first layer of the hard film base 62) is formed by ion beam sputtering on the film 34) and on both sides of the GMR element 30, and further, a chromium layer 62b (hard film) is formed by ion beam sputtering. The second layer of the base 62 is formed.
Further, a hard film 38 of cobalt / chromium / platinum alloy or the like is formed on the hard film base 62 in the same manner as in a known manufacturing method.

クロム・チタン合金層62aとクロム層62bとの2層構造のハード膜下地62上に、コバルト・クロム・白金合金のハード膜38を形成した場合の、ハード膜38の保磁力Hcおよび角型比(Mr/Ms)の測定結果を、図6および図7の各グラフに示す。
図6は、ハード膜下地62の厚さ、すなわち、クロム・チタン合金層62aとクロム層62bとの厚さの合計が25Åとなるよう形成し、クロム・チタン合金層62aの厚さX(すなわちクロム層62bの厚さは(25Å−X))と、ハード膜38の保磁力Hc(図6(a))および角型比(Mr/Ms)(図6(b))との関係を測定した結果を示すグラフである。
The coercive force Hc and squareness ratio of the hard film 38 when the hard film 38 of cobalt / chromium / platinum alloy is formed on the hard film base 62 having a two-layer structure of the chromium / titanium alloy layer 62a and the chromium layer 62b. The measurement results of (Mr / Ms) are shown in the graphs of FIGS.
FIG. 6 shows that the thickness of the hard film base 62, that is, the total thickness of the chromium / titanium alloy layer 62a and the chromium layer 62b is 25 mm, and the thickness X of the chromium / titanium alloy layer 62a (that is, The thickness of the chromium layer 62b is (25Å-X)) and the relationship between the coercive force Hc (FIG. 6A) and the squareness ratio (Mr / Ms) (FIG. 6B) of the hard film 38 is measured. It is a graph which shows the result.

本実施例2に係る磁気再生ヘッドのように、ハード膜下地62をクロム・チタン合金層62aとクロム層62bとの2層構造とすれば、25Åの厚さでも、1400〜1600Oeのハード膜38の保磁力Hcを得られる(クロム・チタン合金層62aの厚さXを18Å以下とした場合。図6(a)参照)。また、角型比(Mr/Ms)は、クロム・チタン合金層62aの厚さが18Å以下で、1に近い理想的な値を得られることが分かる(図6(b)参照)。   If the hard film base 62 has a two-layer structure of the chromium / titanium alloy layer 62a and the chromium layer 62b as in the magnetic reproducing head according to the second embodiment, the hard film 38 of 1400 to 1600 Oe even at a thickness of 25 mm. (When the thickness X of the chromium-titanium alloy layer 62a is 18 mm or less, see FIG. 6A). Further, it can be seen that the squareness ratio (Mr / Ms) can be obtained an ideal value close to 1 when the thickness of the chromium-titanium alloy layer 62a is 18 mm or less (see FIG. 6B).

図7は、ハード膜下地62の厚さ、すなわち、クロム・チタン合金層62aとクロム層62bとの厚さの合計が20Åとなるよう形成し、クロム・チタン合金層62aの厚さX(すなわちクロム層62bの厚さは(20Å−X))と、ハード膜38の保磁力Hc(図7(a))および角型比(Mr/Ms)(図7(b))との関係を測定した結果を示すグラフである。
この場合、クロム・チタン合金層62aの厚さが10Å以下のとき、保磁力1400Oe程度以上、角型比0.8程度以上の結果が得られる。
FIG. 7 shows that the thickness of the hard film base 62, that is, the total thickness of the chromium / titanium alloy layer 62a and the chromium layer 62b is 20 mm, and the thickness X of the chromium / titanium alloy layer 62a (that is, The thickness of the chromium layer 62b is (20Å−X)), and the relationship between the coercive force Hc of the hard film 38 (FIG. 7A) and the squareness ratio (Mr / Ms) (FIG. 7B) is measured. It is a graph which shows the result.
In this case, when the thickness of the chromium-titanium alloy layer 62a is 10 mm or less, a result having a coercive force of about 1400 Oe or more and a squareness ratio of about 0.8 or more is obtained.

図6および図7から分かるように、ハード膜下地62をクロム・チタン合金層62aとクロム層62bとの2層構造とした本実施例2の構成において、特に、ハード膜下地62の厚さが25Åのときクロム・チタン合金層62aの厚さは18Å以下、より好適には18Å程度とするとよい。また、ハード膜下地62全体の厚さに占めるクロム・チタン合金層62aの厚さの割合は、75%以下とすると、ハード膜下地62が薄くても好適な保磁力特性および角型比特性が得られる。   As can be seen from FIGS. 6 and 7, in the configuration of the second embodiment in which the hard film base 62 has a two-layer structure of a chromium / titanium alloy layer 62a and a chromium layer 62b, the thickness of the hard film base 62 is particularly large. When the thickness is 25 mm, the thickness of the chromium-titanium alloy layer 62a is 18 mm or less, more preferably about 18 mm. Further, if the ratio of the thickness of the chromium / titanium alloy layer 62a to the total thickness of the hard film base 62 is 75% or less, even if the hard film base 62 is thin, suitable coercive force characteristics and square ratio characteristics are obtained. can get.

本実施例2に係る磁気再生ヘッドによれば、従来のクロム層の単層のハード膜下地の構成に比較して、より高いハード膜の保磁力を得られると同時に、GMR素子30の側面の、ハード膜下地36の厚さが薄くなる箇所においても、従来より高いハード膜の保磁力を得られる。   According to the magnetic read head according to the second embodiment, a higher coercive force of the hard film can be obtained as compared with the conventional structure of the single layer hard film of the chromium layer, and at the same time, the side surface of the GMR element 30 can be obtained. Even in a portion where the thickness of the hard film substrate 36 is reduced, a higher coercive force of the hard film can be obtained.

なお、本実施例2に係る磁気再生ヘッドのハード膜下地62の構成は、GMR素子30を備えた磁気再生ヘッドだけでなく、いわゆる垂直磁気記録用のリード素子であるTMR素子を備えた磁気再生ヘッドのハード膜下地の構成に応用することももちろん可能である。   The configuration of the hard film base 62 of the magnetic reproducing head according to the second embodiment is not limited to the magnetic reproducing head including the GMR element 30, but also the magnetic reproducing including the TMR element which is a so-called read element for perpendicular magnetic recording. Of course, it can also be applied to the structure of the hard film base of the head.

図8は、垂直磁気記録用のリード素子であるTMR素子50を備え、上記ハード膜下地の構成を応用した磁気再生ヘッドの、TMR素子50近傍の構成を示す部分断面説明図である。
なお、図8の磁気再生ヘッドにおいて、図4の磁気再生ヘッドと同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略する。
FIG. 8 is a partial cross-sectional explanatory view showing a configuration in the vicinity of the TMR element 50 of a magnetic reproducing head including the TMR element 50 which is a read element for perpendicular magnetic recording and applying the configuration of the hard film base.
In the magnetic reproducing head of FIG. 8, the same components as those of the magnetic reproducing head of FIG.

図8に示した磁気再生ヘッドは、リード素子としてのTMR素子50と、TMR素子50を上下から挟む上部シールド60および下部シールド52と、下部シールド52上およびTMR素子50の側面上に設けられた絶縁膜54と、絶縁膜54上の、上部シールド60と下部シールド52との間に設けられ、TMR素子50を両側面から挟む、コバルト・クロム・白金合金から成るハード膜58と、下部シールド52(絶縁膜54)とハード膜58との間に形成されたハード膜下地64とを備える。   The magnetic reproducing head shown in FIG. 8 is provided on the TMR element 50 as a read element, the upper shield 60 and the lower shield 52 that sandwich the TMR element 50 from above and below, the lower shield 52, and the side surface of the TMR element 50. An insulating film 54, a hard film 58 made of cobalt / chromium / platinum alloy provided between the upper shield 60 and the lower shield 52 on the insulating film 54 and sandwiching the TMR element 50 from both sides, and the lower shield 52 A hard film base 64 formed between the (insulating film 54) and the hard film 58 is provided.

ハード膜下地64は、下層(下部シールド側)がクロム・チタン合金から成るクロム・チタン合金層64a、上層(ハード膜38側)がクロムから成るクロム層64bの、2層構造に構成され、それらの厚さは、図4のGMR素子30を備えた磁気再生ヘッドと同様に設定される。   The hard film base 64 has a two-layer structure in which a lower layer (lower shield side) is a chromium / titanium alloy layer 64a made of chromium / titanium alloy, and an upper layer (hard film 38 side) is a chromium layer 64b made of chromium. The thickness of is set in the same manner as the magnetic reproducing head including the GMR element 30 of FIG.

図8のTMR素子50を備える磁気再生ヘッドにおいても、上記構成のハード膜下地64を備えることにより、従来のクロム層の単層のハード膜下地の構成に比較して、より高いハード膜58の保磁力を得られるとともに、TMR素子50の側面の、ハード膜下地64の厚さが薄くなる箇所においても、従来より高いハード膜58の保磁力を得られる。   Also in the magnetic reproducing head including the TMR element 50 of FIG. 8, the provision of the hard film base 64 having the above-described configuration makes it possible to provide a higher hard film 58 than that of the conventional single-layer hard film base of the chromium layer. A coercive force can be obtained, and a coercive force of the hard film 58 higher than that of the conventional hard film 58 can also be obtained at a portion of the side surface of the TMR element 50 where the thickness of the hard film base 64 is reduced.

(付記1)
リード素子と、該リード素子を上下から挟む上部シールドおよび下部シールドと、前記上部シールドと前記下部シールドとの間に設けられ、前記リード素子を両側面から挟むハード膜と、前記下部シールドと前記ハード膜との間に形成されたハード膜下地とを備えた磁気再生ヘッドにおいて、前記ハード膜下地は、クロム層と、クロム・チタン合金層とから成ることを特徴とする磁気再生ヘッド。
(付記2)
前記ハード膜は、コバルト・クロム・白金合金から成ることを特徴とする付記1記載の磁気再生ヘッド。
(付記3)
前記ハード膜下地は、前記下部シールド側がクロム層であり、前記ハード膜側がクロム・チタン合金層となるよう設けられていることを特徴とする付記1または2記載の磁気再生ヘッド。
(付記4)
前記クロム層の厚さは、11Å以上であることを特徴とする付記3記載の磁気再生ヘッド。
(付記5)
前記ハード膜下地の厚さに占める前記クロム層の厚さの割合は、45%〜75%であることを特徴とする付記3または4記載の磁気再生ヘッド。
(付記6)
前記ハード膜下地は、前記下部シールド側がクロム・チタン合金層であり、前記ハード膜側がクロム層となるよう設けられていることを特徴とする付記1または2記載の磁気再生ヘッド。
(付記7)
前記クロム・チタン合金層の厚さは、18Å以下であることを特徴とする付記6記載の磁気再生ヘッド。
(付記8)
前記ハード膜下地の厚さに占める前記クロム・チタン合金層の厚さの割合は、75%以下であることを特徴とする付記6または7記載の磁気再生ヘッド。
(Appendix 1)
A read element; an upper shield and a lower shield that sandwich the read element from above and below; a hard film that is provided between the upper shield and the lower shield; and that sandwiches the read element from both sides; and the lower shield and the hard shield A magnetic reproducing head comprising a hard film substrate formed between the film and the hard film substrate, wherein the hard film substrate comprises a chromium layer and a chromium-titanium alloy layer.
(Appendix 2)
2. The magnetic reproducing head according to claim 1, wherein the hard film is made of cobalt / chromium / platinum alloy.
(Appendix 3)
3. The magnetic reproducing head according to appendix 1 or 2, wherein the hard film base is provided so that the lower shield side is a chromium layer and the hard film side is a chromium-titanium alloy layer.
(Appendix 4)
4. The magnetic read head according to appendix 3, wherein the chromium layer has a thickness of 11 mm or more.
(Appendix 5)
The magnetic reproducing head according to appendix 3 or 4, wherein a ratio of the thickness of the chromium layer to the thickness of the base of the hard film is 45% to 75%.
(Appendix 6)
3. The magnetic reproducing head according to claim 1, wherein the hard film base is provided so that the lower shield side is a chromium-titanium alloy layer and the hard film side is a chromium layer.
(Appendix 7)
The magnetic reproducing head according to appendix 6, wherein the chromium-titanium alloy layer has a thickness of 18 mm or less.
(Appendix 8)
The magnetic read head according to appendix 6 or 7, wherein the ratio of the thickness of the chromium-titanium alloy layer to the thickness of the hard film base is 75% or less.

本発明の実施例1に係る磁気再生ヘッドの部分断面説明図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional explanatory diagram of a magnetic reproducing head according to Example 1 of the invention. ハード膜下地の厚さを25Åに設定した実施例1に係る磁気再生ヘッドにおいて、クロム層の厚さと、ハード膜の保磁力Hc(a)および角型比(Mr/Ms)(b)との関係を測定した結果を示すグラフである。In the magnetic reproducing head according to Example 1 in which the thickness of the hard film base is set to 25 mm, the thickness of the chromium layer, the coercive force Hc (a) of the hard film, and the squareness ratio (Mr / Ms) (b) It is a graph which shows the result of having measured the relationship. ハード膜下地の厚さを20Åに設定した実施例1に係る磁気再生ヘッドにおいて、クロム層の厚さと、ハード膜の保磁力Hc(a)および角型比(Mr/Ms)(b)との関係を測定した結果を示すグラフである。In the magnetic reproducing head according to Example 1 in which the thickness of the hard film base is set to 20 mm, the thickness of the chromium layer, the coercive force Hc (a) of the hard film, and the squareness ratio (Mr / Ms) (b) It is a graph which shows the result of having measured the relationship. 本発明の実施例1に係る磁気再生ヘッドの別の構成例を示す部分断面説明図である。FIG. 6 is a partial cross-sectional explanatory diagram illustrating another configuration example of the magnetic reproducing head according to the first embodiment of the invention. 本発明の実施例2に係る磁気再生ヘッドの部分断面説明図である。FIG. 6 is a partial cross-sectional explanatory diagram of a magnetic reproducing head according to Example 2 of the invention. ハード膜下地の厚さを25Åに設定した実施例2に係る磁気再生ヘッドにおいて、クロム層の厚さと、ハード膜の保磁力Hc(a)および角型比(Mr/Ms)(b)との関係を測定した結果を示すグラフである。In the magnetic read head according to Example 2 in which the thickness of the hard film base is set to 25 mm, the thickness of the chromium layer, the coercive force Hc (a) of the hard film, and the squareness ratio (Mr / Ms) (b) It is a graph which shows the result of having measured the relationship. ハード膜下地の厚さを20Åに設定した実施例2に係る磁気再生ヘッドにおいて、クロム層の厚さと、ハード膜の保磁力Hc(a)および角型比(Mr/Ms)(b)との関係を測定した結果を示すグラフである。In the magnetic reproducing head according to Example 2 in which the thickness of the hard film base is set to 20 mm, the thickness of the chromium layer, the coercive force Hc (a) of the hard film, and the squareness ratio (Mr / Ms) (b) It is a graph which shows the result of having measured the relationship. 本発明の実施例2に係る磁気再生ヘッドの別の構成例を示す部分断面説明図である。It is a fragmentary sectional view showing another structural example of the magnetic reproducing head according to Example 2 of the invention. 従来の磁気再生ヘッドの部分断面説明図である。It is a fragmentary sectional view of a conventional magnetic reproducing head. 従来の磁気再生ヘッドの、ハード膜下地の厚さと、ハード膜の保磁力との関係を測定した結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of having measured the relationship between the thickness of a hard film base | substrate, and the coercive force of a hard film of the conventional magnetic read head.

符号の説明Explanation of symbols

30 GMR素子(リード素子)
32,52 下部シールド
36,56 ハード膜下地
36a,56a クロム層
36b,56b クロム・チタン合金層
38,58 ハード膜
40 リード端子
44,60 上部シールド
50 TMR素子(リード素子)
62,64 ハード膜下地
62a,64a クロム・チタン合金層
62b,64b クロム層
30 GMR element (read element)
32, 52 Lower shield 36, 56 Hard film base 36a, 56a Chromium layer 36b, 56b Chromium / titanium alloy layer 38, 58 Hard film 40 Lead terminal 44, 60 Upper shield 50 TMR element (lead element)
62, 64 Hard film base 62a, 64a Chromium / titanium alloy layer 62b, 64b Chromium layer

Claims (5)

リード素子と、
該リード素子を上下から挟む上部シールドおよび下部シールドと、
前記上部シールドと前記下部シールドとの間に設けられ、前記リード素子を両側面から挟むハード膜と、
前記下部シールドと前記ハード膜との間に形成されたハード膜下地とを備えた磁気再生ヘッドにおいて、
前記ハード膜下地は、クロム層と、クロム・チタン合金層とから成ることを特徴とする磁気再生ヘッド。
A lead element;
An upper shield and a lower shield sandwiching the read element from above and below;
A hard film provided between the upper shield and the lower shield and sandwiching the read element from both side surfaces;
In a magnetic reproducing head comprising a hard film base formed between the lower shield and the hard film,
The magnetic reproducing head according to claim 1, wherein the hard film base comprises a chromium layer and a chromium-titanium alloy layer.
前記ハード膜は、コバルト・クロム・白金合金から成ることを特徴とする請求項1記載の磁気再生ヘッド。   2. The magnetic reproducing head according to claim 1, wherein the hard film is made of cobalt / chromium / platinum alloy. 前記ハード膜下地は、前記下部シールド側がクロム層であり、前記ハード膜側がクロム・チタン合金層となるよう設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の磁気再生ヘッド。   3. The magnetic reproducing head according to claim 1, wherein the hard film base is provided so that the lower shield side is a chromium layer and the hard film side is a chromium-titanium alloy layer. 前記ハード膜下地は、前記下部シールド側がクロム・チタン合金層であり、前記ハード膜側がクロム層となるよう設けられていることを特徴とする請求項1または2記載の磁気再生ヘッド。   3. The magnetic reproducing head according to claim 1, wherein the hard film base is provided so that the lower shield side is a chromium-titanium alloy layer and the hard film side is a chromium layer. 前記クロム・チタン合金層の厚さは、18Å以下であることを特徴とする請求項4記載の磁気再生ヘッド。   5. The magnetic read head according to claim 4, wherein the chromium-titanium alloy layer has a thickness of 18 mm or less.
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