JP2007329908A - Dielectric substrate, waveguide tube, and transmission line transition device - Google Patents

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晶久 藤田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dielectric substrate capable of forming a waveguide tube with excellent characteristics at low cost, the waveguide tube constituted using the dielectric substrate, and a transmission line transition device. <P>SOLUTION: A dielectric substrate 1 is a double coated substrate having thickness (d) with conductor layers 3, 5 constituted of conductive materials formed on both sides thereof, and a rectangular hole H, having the same inner diameter as the waveguide tube is formed in a central portion thereof. Furthermore, on the dielectric substrate 1, a plurality of vias 7 conducting the conductor layers 3, 5 are formed at fixed intervals W at positions away from an endface 9 to form an inner wall of the hole H thereon just by a fixed distance (via shift amount) δ. In such a case, when an intra-substrate wavelength within the dielectric substrate 1 in a frequency (f) of a transmission signal is defined as λg, it is set δ=λg/2, W≤λg/4. Since the end face 9 of the dielectric substrate 1 to be the inner walls of the waveguide tube is separated from the grounded vias 7 just by λg/2, on the dielectric substrate 1 thus constituted, the end face can be handled as virtually short-circuited. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、導波管を形成する誘電体基板、その誘電体基板を用いて構成された導波管、及び伝送線路変換器に関する。   The present invention relates to a dielectric substrate forming a waveguide, a waveguide configured using the dielectric substrate, and a transmission line converter.

従来より、孔が形成された誘電体基板を積層して導波管を構成する技術が知られている。
そして、通常、このような誘電体基板では、導波管の内壁を形成する端面に、導体膜を形成することが行われている(例えば、特許文献1参照。)。
2. Description of the Related Art Conventionally, a technique for forming a waveguide by stacking dielectric substrates having holes formed therein is known.
Usually, in such a dielectric substrate, a conductor film is formed on the end face forming the inner wall of the waveguide (see, for example, Patent Document 1).

また、端面を金属塗装する代わりに、孔を囲うようにして複数のビア(Via)を狭間隔で配置して、このビアを導波管の内壁とすることも行われている(例えば、特許文献2参照。)。
特許3347626号公報 特開2001−196815号公報
Also, instead of metallizing the end face, a plurality of vias (Via) are arranged at narrow intervals so as to surround the hole, and these vias are used as the inner wall of the waveguide (for example, patents). Reference 2).
Japanese Patent No. 3347626 JP 2001-196815 A

ところで、端面に導体膜を形成する前者では、誘電体基板の製造時(焼成前)に、導体膜となるべき位置に導電性インクをプリントすることになるが、図8に示すように、幅の狭い端面ではインクの持つ表面張力などにより、インク(ひいては導体膜)の厚さを一定とすることが困難であり、導波管の特性劣化につながるという問題があった。   By the way, in the former in which the conductor film is formed on the end face, the conductive ink is printed at the position to be the conductor film at the time of manufacturing the dielectric substrate (before firing), but as shown in FIG. On the narrow end face, there is a problem that it is difficult to make the thickness of the ink (and consequently the conductor film) constant due to the surface tension of the ink, which leads to deterioration of the characteristics of the waveguide.

また、端面に導体膜を形成するには、誘電体基板における通常のパターン形成とは別の工程が必要となるため、導波管形状が制約されたり、コスト高の要因となるという問題もあった。   In addition, the formation of the conductor film on the end face requires a process different from the normal pattern formation on the dielectric substrate, so that there is a problem that the shape of the waveguide is restricted or the cost is increased. It was.

一方、ビアによりを導波管の内壁を形成する後者では、誘電体基板の強度上、孔の端面かあらある程度(例えば、0.5mm程度)離した位置にビアを形成しなければならないため、ビアの位置を導波管の内壁に一致させることができず、導波管の特性を劣化させてしまうという問題があった。   On the other hand, in the latter case in which the inner wall of the waveguide is formed by a via, the via must be formed at a position away from the end face of the hole to some extent (for example, about 0.5 mm) due to the strength of the dielectric substrate. There was a problem that the position of the via could not coincide with the inner wall of the waveguide, which deteriorated the characteristics of the waveguide.

本発明は、上記問題点を解決するために、低コストで特性の優れた導波管の形成が可能な誘電体基板、その誘電体基板を用いて構成された導波管、及び伝送線路変換器を提供することを目的とする。   In order to solve the above problems, the present invention provides a dielectric substrate capable of forming a waveguide having excellent characteristics at low cost, a waveguide configured using the dielectric substrate, and transmission line conversion The purpose is to provide a vessel.

上記目的を達成するためになされた請求項1に記載の発明は、導波管として使用される孔を有する誘電体基板であって、前記導波管の内壁を形成する前記孔の端面を囲い、且つ前記端面が仮想的な短絡面となる位置に配置された複数のビアからなる第1包囲部を設けたことを特徴とする。   In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is a dielectric substrate having a hole used as a waveguide, and surrounds an end face of the hole forming an inner wall of the waveguide. And the 1st surrounding part which consists of a some via | veer arrange | positioned in the position where the said end surface becomes a virtual short circuit surface is provided, It is characterized by the above-mentioned.

このように構成された本発明の誘電体基板では、端面に導電膜を設けることなく、ビアを配置することにより導波管を形成しているため、誘電体基板における一般的なデザインルールでの製造が可能であり、低コストで導波管を形成することができる。   In the dielectric substrate of the present invention configured as described above, a waveguide is formed by arranging a via without providing a conductive film on the end face. Manufacturing is possible, and a waveguide can be formed at low cost.

しかも、ビアは、端面の位置が仮想的な短絡面となるような位置、即ち、端面から離れて位置に設けられているため、誘電体基板の強度を低下させることなく、低損失な導波管を実現することができる。   In addition, since the via is provided at a position where the end surface is a virtual short-circuited surface, that is, away from the end surface, the via can be guided in a low loss without reducing the strength of the dielectric substrate. A tube can be realized.

そして、具体的には、請求項2に記載のように、導波管を伝搬させる電磁波の基板内波長をλgとして、第1包囲部を形成するビアは、端面からn×λg/2(但し、nは正整数)の距離に位置していればよい。   Specifically, as described in claim 2, when the in-substrate wavelength of the electromagnetic wave propagating through the waveguide is λg, the via forming the first surrounding portion is n × λg / 2 from the end face (however, , N is a positive integer).

但し、ビアを設ける位置は、正確にn×λg/2である必要はなく、±20%程度の範囲内でずれていてもよい。
なお、第1包囲部を形成するビアの間からの電磁波の漏洩を効率良く阻止するには、請求項3に記載のように、第1包囲部を形成するビアの配置間隔がλg/4以下であることが望ましい。
However, the position where the via is provided need not be exactly n × λg / 2, and may be shifted within a range of about ± 20%.
In order to efficiently prevent leakage of electromagnetic waves from between vias forming the first surrounding portion, the arrangement interval of vias forming the first surrounding portion is λg / 4 or less as described in claim 3. It is desirable that

また、本発明の誘電体基板には、請求項4に記載のように、第1包囲部を囲う位置に配置された複数のビアからなる第2包囲部を設けてもよい。
この場合、第1包囲部および第2包囲部が、二重に電磁波の漏洩が阻止されるため、この誘電体基板によって形成される導波管の伝送効率を向上させることができる。
Moreover, the dielectric substrate of the present invention may be provided with a second surrounding portion including a plurality of vias arranged at a position surrounding the first surrounding portion, as described in claim 4.
In this case, since the first surrounding portion and the second surrounding portion doubly prevent leakage of electromagnetic waves, the transmission efficiency of the waveguide formed by this dielectric substrate can be improved.

なお、第2包囲部を形成するビアの間からの電磁波の漏洩を効率良く阻止するには、請求項5に記載のように、第2包囲部を形成するビアの配置間隔がλg/4以下であることが望ましい。   In order to efficiently prevent leakage of electromagnetic waves from between the vias forming the second surrounding portion, the arrangement interval of the vias forming the second surrounding portion is λg / 4 or less as described in claim 5. It is desirable that

更に、第1包囲部から漏洩した電磁波を第2包囲部にて効率良く漏洩を阻止するには、請求項6に記載のように、第1包囲部と前記第2包囲部との間隔がλg/2以下であることが望ましい。   Furthermore, in order to efficiently prevent leakage of electromagnetic waves leaking from the first surrounding portion at the second surrounding portion, the distance between the first surrounding portion and the second surrounding portion is λg as described in claim 6. / 2 or less is desirable.

次に、請求項7に記載の導波管は、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板を、複数積層することで形成されていることを特徴とする。つまり、個々に製造された誘電体基板を、後から一体化することで導波管となるため、任意の長さの導波管を簡単に得ることができる。   Next, a waveguide according to a seventh aspect is characterized by being formed by laminating a plurality of dielectric substrates according to any one of the first to sixth aspects. In other words, since the individually manufactured dielectric substrates are integrated later to form a waveguide, a waveguide having an arbitrary length can be easily obtained.

そして、この場合、ビア(第1包囲部を形成するビア及び第2包囲部を形成するビアのいずれも)は、請求項8に記載のように、積層された複数の誘電体基板を、一直線に貫通するように形成されていることが望ましい。   In this case, the via (both forming the first surrounding portion and the via forming the second surrounding portion) is formed by aligning the plurality of stacked dielectric substrates in a straight line as described in claim 8. It is desirable that it is formed so as to penetrate through.

次に、請求項9に記載の伝送路変換器は、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板を、一又は複数積層した構造を有する導波管形成部と、導波管形成部が形成する導波管の一端を塞ぐように該導波管形成部に積層されると共に、電磁波を伝送する平面線路、及び前記導波管の開口内に位置し前記平面線路と電磁的に結合されたアンテナパターンが形成された誘電体基板からなる変換部とを備えることを特徴とする。   Next, a transmission line converter according to a ninth aspect includes a waveguide forming portion having a structure in which one or a plurality of dielectric substrates according to the first to sixth aspects are laminated, and a waveguide. A planar line that is laminated on the waveguide forming part so as to block one end of the waveguide formed by the tube forming part, and transmits an electromagnetic wave, and the planar line and the electromagnetic wave that are located in the opening of the waveguide. And a conversion unit made of a dielectric substrate on which antenna patterns coupled to each other are formed.

なお、これら導波管や伝送線路変換器の導波管形成部は、個々に製造された請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板を、後から一体化することで構成されたものであってもよいし、多層の誘電体基板を構成する各層が、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板と同様の構造を有するように構成されたものであってもよい。   In addition, the waveguide formation part of these waveguides and a transmission line converter is comprised by integrating the dielectric substrate in any one of Claim 1 thru | or 6 manufactured later later. And each layer constituting the multilayer dielectric substrate is configured to have the same structure as the dielectric substrate according to any one of claims 1 to 6. There may be.

このように構成された本発明の導波管や伝送線路変換器によれば、製造ばらつきの小さい均一な特性を実現することができる。
なお、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板、ひいては請求項9に記載の伝送線路変換器における導波管形成部は、図2(b)に示すように、基板厚を変更しても、導波管としての特性(伝送損失)が大きく変動することがない。このため、請求項9に記載の伝送線路変換器によれば、変換部を設計する際に、誘電体基板の厚さを任意に選択することができ、設計の自由度を増すことができる。
According to the waveguide and transmission line converter of the present invention configured as described above, uniform characteristics with small manufacturing variations can be realized.
In addition, the dielectric substrate according to any one of claims 1 to 6, and thus the waveguide forming portion in the transmission line converter according to claim 9 has a substrate thickness as shown in FIG. Even if this is changed, the characteristics (transmission loss) as a waveguide do not fluctuate greatly. For this reason, according to the transmission line converter of Claim 9, when designing a conversion part, the thickness of a dielectric substrate can be selected arbitrarily and the freedom degree of design can be increased.

また、本発明の伝送路変換器は、請求項10に記載のように、変換部には、導波管の開口に対向する部分を囲う位置に、複数のビアからなる第3包囲部が設けられていることが望ましい。   In the transmission line converter according to the present invention, the conversion unit is provided with a third surrounding portion including a plurality of vias at a position surrounding the portion facing the opening of the waveguide. It is desirable that

これにより、変換部からの電磁波の漏洩を阻止することができ、導波管の伝送効率をより向上させることができる。
更に、第3包囲部を形成するビアは、請求項11に記載のように、導波管の内壁の延長線上に配置されていることが望ましい。
Thereby, the leakage of the electromagnetic wave from a conversion part can be prevented, and the transmission efficiency of a waveguide can be improved more.
Further, the via forming the third surrounding portion is preferably arranged on an extension of the inner wall of the waveguide.

即ち、変換部には、孔を形成する端面が存在せず、導波管の内壁の延長線上にビアを形成しても基板の強度が低下するといった問題が生じることがない。つまり、第3包囲部を形成するビアによって、端面に相当する位置を直に接地することができるため、電磁波の漏洩をより効率良く阻止することができる。   That is, the conversion portion does not have an end face for forming a hole, and even if a via is formed on the extension line of the inner wall of the waveguide, there is no problem that the strength of the substrate is lowered. That is, since the position corresponding to the end face can be directly grounded by the via forming the third surrounding portion, leakage of electromagnetic waves can be more efficiently prevented.

以下に本発明の実施形態を図面と共に説明する。
[第1実施形態]
図1は、(a)が本発明が適用された第1実施形態の誘電体基板1の構成を示す平面図、(b)がそのA−A断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[First Embodiment]
FIG. 1A is a plan view showing a configuration of a dielectric substrate 1 according to a first embodiment to which the present invention is applied, and FIG.

図1に示すように、本実施形態の誘電体基板1は、その両面に導電性材料(例えば金属薄膜等)からなる導体層3,5(グランドパターンや信号線パターン等)が形成された厚さd(本実施形態ではd=100μm)の両面基板であり、その中心部分には、所定周波数帯(本実施形態では75〜110GHz帯)の電磁波の伝送に使用される導波管と同じ内径(本実施形態では2.54mm×1.27mm)を有する矩形状の孔Hが形成されている。なお、図1では、図面を見易くするために、基板の厚さ方向の長さを誇張して(実際より大きく)示している。   As shown in FIG. 1, the dielectric substrate 1 of this embodiment has a thickness in which conductor layers 3 and 5 (a ground pattern, a signal line pattern, etc.) made of a conductive material (eg, a metal thin film) are formed on both sides thereof. It is a double-sided substrate having a thickness d (d = 100 μm in this embodiment), and has the same inner diameter as a waveguide used for transmission of electromagnetic waves in a predetermined frequency band (75 to 110 GHz band in this embodiment). A rectangular hole H having (in this embodiment, 2.54 mm × 1.27 mm) is formed. In FIG. 1, the length in the thickness direction of the substrate is exaggerated (larger than actual) for easy understanding of the drawing.

また、誘電体基板1には、孔Hの内壁を形成する端面9から一定距離(ビアシフト量)δだけ離れた位置に、導体層3,5を導通させる複数のビア(Via)7が、一定間隔Wで形成されている。以下、このビア7群を第1包囲部と称する。   In addition, the dielectric substrate 1 has a plurality of vias (Via) 7 for conducting the conductor layers 3 and 5 at a position away from the end face 9 forming the inner wall of the hole H by a certain distance (via shift amount) δ. They are formed at intervals W. Hereinafter, the via 7 group is referred to as a first surrounding portion.

但し、伝送信号の周波数fにおける誘電体基板1内での基板内波長をλgとして、δ=λg/2、W≦λg/4に設定されている。具体的には、本実施形態では、f=76.5GHzとして、δ=0.65mm、W=0.4mmに設定されている。   However, assuming that the wavelength in the substrate in the dielectric substrate 1 at the frequency f of the transmission signal is λg, δ = λg / 2 and W ≦ λg / 4 are set. Specifically, in this embodiment, f = 76.5 GHz, and δ = 0.65 mm and W = 0.4 mm are set.

このように構成された誘電体基板1は、端面9に導体層を形成する必要がないため、誘電体基板の一般的なデザインルールにて製造することができ、低コストで導波管を形成することができる。   The thus configured dielectric substrate 1 does not require a conductor layer to be formed on the end face 9, and therefore can be manufactured according to the general design rules of the dielectric substrate, thereby forming a waveguide at a low cost. can do.

また、誘電体基板1は、ビア7と導通する導体層3,5を接地することで、孔Hを導波管として用いることができる。しかも、導波管(孔H)の内壁を形成する誘電体基板1の端面9は、接地されたビア7からλg/2だけ離れているため、仮想的に短絡しているものとして扱うことができ、また、第1包囲部を形成するビア7同士の間隔が、ビア7の間からの電磁波の漏洩を効率良く抑止することのできるλg/4以下に設定されているため、損失の小さい導波管を形成することができる。   Moreover, the dielectric substrate 1 can use the hole H as a waveguide by grounding the conductor layers 3 and 5 that are electrically connected to the via 7. Moreover, since the end face 9 of the dielectric substrate 1 forming the inner wall of the waveguide (hole H) is separated from the grounded via 7 by λg / 2, it can be treated as being virtually short-circuited. In addition, since the interval between the vias 7 forming the first surrounding portion is set to λg / 4 or less that can efficiently suppress the leakage of electromagnetic waves from between the vias 7, A wave tube can be formed.

ここで、図2(a)は、誘電体基板1により構成される導波管の透過特性S21を、ビアシフト量δを変化(50μm〜1mm)させて、シミュレーションにより求めた結果を示すグラフである。図から明らかなように、λg/2(=0.65mm)付近では、損失が小さくなっていることがわかる。   Here, FIG. 2A is a graph showing a result obtained by simulation of the transmission characteristic S21 of the waveguide constituted by the dielectric substrate 1 while changing the via shift amount δ (50 μm to 1 mm). . As is apparent from the figure, the loss is small in the vicinity of λg / 2 (= 0.65 mm).

また、図2(b)は、誘電体基板1により構成させる導波管の透過特性S21を、基板厚dを変化(100μm〜500μm)させて、シミュレーションにより求めた結果を示すグラフである。なお、ここでは、基板厚d=100μmの時に最適な特性が得られるように設計されたものを基準として、基板厚dのみを変化させている。図から明らかなように、基板厚を5倍に変化させても、損失の増加は0.05dB以下であり、基板厚dを変化させても損失がほとんど変化しないことがわかる。   FIG. 2B is a graph showing the results obtained by simulation of the transmission characteristic S21 of the waveguide constituted by the dielectric substrate 1 while changing the substrate thickness d (100 μm to 500 μm). Here, only the substrate thickness d is changed on the basis of what is designed to obtain optimum characteristics when the substrate thickness d = 100 μm. As can be seen from the figure, even when the substrate thickness is changed by a factor of 5, the increase in loss is 0.05 dB or less, and the loss hardly changes even when the substrate thickness d is changed.

なお、本実施形態では、1層の両面基板からなる誘電体基板1に本発明を適用した例を示したが、図3に示すように、多層(図では3層)の誘電体基板10に本発明を適用してもよい。この場合、誘電体基板10を構成する各層が、上述の誘電体基板1と同様の構造を有するように製造すればよい。   In the present embodiment, an example in which the present invention is applied to the dielectric substrate 1 composed of a single-sided double-sided substrate has been shown. However, as shown in FIG. The present invention may be applied. In this case, what is necessary is just to manufacture so that each layer which comprises the dielectric substrate 10 may have the structure similar to the above-mentioned dielectric substrate 1. FIG.

また、多層の誘電体基板10を形成する場合、初めから多層基板となるように作製してもよいし、個々に作製された一層の誘電体基板1を、後から一体化することで多層基板とするようにしてもよい。特に、初めから多層基板となるように作製する場合、その作製を容易にするために、ビア7は各層を一直線に貫通するように構成されていることが望ましい。   Further, when the multilayer dielectric substrate 10 is formed, the multilayer dielectric substrate 10 may be formed from the beginning to be a multilayer substrate, or a single layer of the dielectric substrate 1 manufactured individually may be integrated later to form the multilayer substrate. You may make it. In particular, when the multilayer substrate is manufactured from the beginning, it is desirable that the via 7 is configured to penetrate each layer in a straight line in order to facilitate the manufacturing.

また、図9に示す誘電体基板1aのように、第1包囲部を形成するビア7を更に包囲する位置(ビア7よりγ(≦λg/2)だけ外周側に離れた位置)に、導体層3,5を導通させる複数のビア8が、ビア7と同じ一定間隔Wで形成されている。但し、図9において、(a)は平面図、(b)はそのA−A断面図を示す。また、以下では、ビア8群を第2包囲部と称する。   Further, as in the dielectric substrate 1a shown in FIG. 9, the conductor is placed at a position that further surrounds the via 7 forming the first surrounding portion (a position separated from the via 7 by γ (≦ λg / 2) to the outer peripheral side). A plurality of vias 8 for conducting the layers 3 and 5 are formed at the same constant interval W as the vias 7. 9A is a plan view, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along line AA. Hereinafter, the via 8 group is referred to as a second surrounding portion.

なお、ここでは、ビア8同士の間隔をビア7同士の間隔と同じWとしたが、λg/4以下であればビア7同士の間隔とは異なる大きさに設定してもよい。また、図9(a)では、ビア7,8の縦位置および横位置が一致するように配置されているが、これらがずれた位置となるように配置されていてもよい。
[第2実施形態]
次に、図4は、(a)が本発明が適用された第2実施形態の伝送線路変換器20の全体構成を示す斜視図、(b)がそのB−B断面図である。
Here, the interval between the vias 8 is set to the same W as the interval between the vias 7, but may be set to a size different from the interval between the vias 7 as long as it is λg / 4 or less. In FIG. 9A, the vias 7 and 8 are arranged so that the vertical positions and the horizontal positions coincide with each other, but they may be arranged so as to be shifted from each other.
[Second Embodiment]
Next, FIG. 4A is a perspective view showing the overall configuration of the transmission line converter 20 of the second embodiment to which the present invention is applied, and FIG. 4B is a sectional view taken along line BB.

図4に示すように、伝送線路変換器20は、三層の誘電体層P1〜P3と、これら三つの誘電体層P1〜P3を挟むように形成された四層のパターン層L1〜L4とを有する多層基板からなる。   As shown in FIG. 4, the transmission line converter 20 includes three dielectric layers P1 to P3 and four pattern layers L1 to L4 formed so as to sandwich the three dielectric layers P1 to P3. It consists of a multilayer substrate having

なお、以下では、誘電体層P1、及びその両面に形成されたパターン層L1,L2を変換部20aと称し、誘電体層P2,P3、及びその両面及び間に形成されたパターン層L2〜L4を導波管形成部20bと称するものとする。   In the following, the dielectric layer P1 and the pattern layers L1 and L2 formed on both surfaces thereof are referred to as a conversion unit 20a, and the dielectric layers P2 and P3 and the pattern layers L2 to L4 formed between and both surfaces thereof. Is referred to as a waveguide forming portion 20b.

そして、伝送線路変換器20には、導波管形成部20bの中心部分を貫通し、変換部20aを底面とする矩形状のざぐり21が形成されている。また、導波管形成部20bには、変換部20a側とは反対側の面(即ち、パターン層L4の形成面)に、このざぐり21と連通する導波管Gが固定されている。なお、ざぐり21は、導波管Gと同じ内径を有するように構成されている。   The transmission line converter 20 is formed with a rectangular counterbore 21 that penetrates the central portion of the waveguide forming portion 20b and has the conversion portion 20a as a bottom surface. Further, a waveguide G communicating with the counterbore 21 is fixed to the waveguide forming portion 20b on the surface opposite to the conversion portion 20a side (that is, the formation surface of the pattern layer L4). The counterbore 21 is configured to have the same inner diameter as the waveguide G.

具体的には、本実施形態では、周波数f=76.5GHzの高周波信号を伝送するものとして、75〜110GHz帯の電磁波の伝送に使用する内径が2.54mm×1.27mmの導波管Gを用いている。   Specifically, in this embodiment, a waveguide G having an inner diameter of 2.54 mm × 1.27 mm used for transmission of electromagnetic waves in the 75 to 110 GHz band is assumed to transmit a high-frequency signal having a frequency f = 76.5 GHz. Is used.

そして、導波管形成部20bには、ざぐり21により形成された誘電体層P2,P3の端面から、予め設定されたビアシフト量δだけ離れた位置に、誘電体層P2,P3を貫通し、パターン層L2,L3,L4を互いに導通させる複数のビア23が、ざぐり21による開口を囲うように設けられている。以下では、このビア23群を第1包囲部と称する。   The waveguide forming portion 20b penetrates the dielectric layers P2 and P3 at a position away from the end faces of the dielectric layers P2 and P3 formed by the counterbore 21 by a preset via shift amount δ, A plurality of vias 23 for connecting the pattern layers L2, L3, and L4 to each other are provided so as to surround the opening formed by the counterbore 21. Hereinafter, the via 23 group is referred to as a first surrounding portion.

また、第1包囲部を形成するビア23の外側の位置(上記誘電体層P2,P3の端面から更に離れた位置)には、ビア23と同様に、誘電体層P2,P3を貫通し、パターン層L2,L3,L4を互いに導通させる複数のビア24が、第1包囲部を囲うように設けられている。以下では、このビア24群を第2包囲部と称する。   Further, in the same way as the via 23, the dielectric layer P2 and P3 are penetrated to the outer position of the via 23 forming the first surrounding portion (position further away from the end faces of the dielectric layers P2 and P3). A plurality of vias 24 for connecting the pattern layers L2, L3, and L4 to each other are provided so as to surround the first surrounding portion. Hereinafter, the via 24 group is referred to as a second surrounding portion.

更に、変換部20aには、誘電体層P1を貫通し、パターン層L1,L2を互いに導通させる複数のビア25が、ざぐり21による開口と対向した部分を囲い、且つ、第1包囲部を形成するビア23よりざぐり21の端面に近い位置に設けられてる。以下では、このビア25群を第3包囲部と称する。   Further, in the conversion portion 20a, a plurality of vias 25 penetrating the dielectric layer P1 and electrically connecting the pattern layers L1 and L2 surround a portion facing the opening by the counterbore 21 and form a first surrounding portion. It is provided at a position closer to the end face of the counterbore 21 than the via 23 to be used. Hereinafter, the via 25 group is referred to as a third surrounding portion.

なお、第1包囲部を形成するビア23同士、及び第2包囲部を形成するビア24同士、第3包囲部を形成するビア25同士の間隔は、導波管Gにて伝送する電磁波の基板内波長をλgとして、いずれも一定間隔W(≦λg/4)に設定されている。また、ビア23の位置を規定するビアシフト量δは、nを正整数として、n×λg/2に設定されるものであり、本実施形態では、n=1として、δ=0.65mmに設定されている。更に、第1包囲部を形成するビア23の列と、第2包囲部を形成するビア24の列との間隔は、λg/2以下に設定されている。   The intervals between the vias 23 forming the first surrounding portion, the vias 24 forming the second surrounding portion, and the vias 25 forming the third surrounding portion are the substrates of the electromagnetic wave transmitted through the waveguide G. The inner wavelength is set to λg, and both are set to a constant interval W (≦ λg / 4). The via shift amount δ defining the position of the via 23 is set to n × λg / 2 where n is a positive integer. In this embodiment, n = 1 and δ = 0.65 mm. Has been. Further, the interval between the row of vias 23 forming the first surrounding portion and the row of vias 24 forming the second surrounding portion is set to λg / 2 or less.

ここで、図5は、各パターン層L1〜L4の形状を示す説明図である。
図5に示すように、誘電体層P3の導波管Gが固定される側の面に形成されるパターン層L4は、ざぐり21による開口を除いた全面を覆うグランドパターンGP4からなり、誘電体層P2,P3の間に形成されるパターン層L3は、ビア23より内側以外の全体を覆うグランドパターンGP3からなる。
Here, FIG. 5 is explanatory drawing which shows the shape of each pattern layer L1-L4.
As shown in FIG. 5, the pattern layer L4 formed on the surface of the dielectric layer P3 on the side to which the waveguide G is fixed is composed of a ground pattern GP4 that covers the entire surface excluding the opening due to the counterbore 21, and The pattern layer L3 formed between the layers P2 and P3 is composed of a ground pattern GP3 that covers the whole other than the inside of the via 23.

また、誘電体層P1,P2の間、即ち変換部20aと導波管形成部20bとの間に形成されるパターン層L2は、パターン層L4と同様に、ざぐり21による開口を除く全面を覆うグランドパターンGP2と、ざぐり21の底面となる部分に位置する矩形状のアンテナパターンAPとからなる。   Further, the pattern layer L2 formed between the dielectric layers P1 and P2, that is, between the conversion portion 20a and the waveguide forming portion 20b, covers the entire surface excluding the opening due to the counterbore 21, similarly to the pattern layer L4. It consists of a ground pattern GP2 and a rectangular antenna pattern AP located at the bottom of the counterbore 21.

更に、誘電体層P1の外側を向いた面に形成されるパターン層L1は、高周波信号を伝送し、一端がパターン層L2のアンテナパターンAPと対向するように配線された平面線路(ストリップ線路,マイクロストリップ線路,コプレナー線路等)SPと、この平面線路SPとは非接触となり、且つ、ざぐり21による開口に相当する領域を塞ぐように配置されたグランドパターンGP1とからなる。そして、第3包囲部を形成するビア25は、パターン層L1のグランドパターンGP1のみを、パターン層L2のグランドパターンGP2と導通させるように形成されている。尚、平面線路SPとアンテナパターンAPはビア等で導通されていても良い。   Furthermore, the pattern layer L1 formed on the surface facing the outer side of the dielectric layer P1 transmits a high-frequency signal, and is a planar line (strip line, wired) so that one end faces the antenna pattern AP of the pattern layer L2. The microstrip line, the coplanar line, etc.) SP and the planar line SP are non-contact, and the ground pattern GP1 is arranged so as to close the region corresponding to the opening by the counterbore 21. The via 25 forming the third surrounding portion is formed so that only the ground pattern GP1 of the pattern layer L1 is electrically connected to the ground pattern GP2 of the pattern layer L2. The planar line SP and the antenna pattern AP may be electrically connected by vias or the like.

つまり、伝送線路変換器20において、導波管形成部20bは、第1実施形態の変形例として説明した誘電体基板1aを2層積層したものと同様の構造を有しており、伝送線路変換器20に固定される導波管Gと一体の導波管を形成するように構成されている。   That is, in the transmission line converter 20, the waveguide forming portion 20b has the same structure as that obtained by stacking the two dielectric substrates 1a described as the modification of the first embodiment. A waveguide integrated with the waveguide G fixed to the vessel 20 is formed.

また、変換部20aは、導波管形成部20bが形成する導波管の一端を塞ぎ、平面線路SPと電磁的に結合されたアンテナパターンAPが導波管の開口内に位置するように構成されている。なお、アンテナパターンAPの形状,位置,大きさは、伝送する高周波信号(電磁波)の周波数f、誘電体層P1の厚さd等に基づいて、変換損失が最小となる最適な値に設計される。   Further, the conversion unit 20a is configured so as to block one end of the waveguide formed by the waveguide forming unit 20b, and the antenna pattern AP electromagnetically coupled to the planar line SP is positioned within the opening of the waveguide. Has been. The shape, position, and size of the antenna pattern AP are designed to be optimum values that minimize the conversion loss based on the frequency f of the high-frequency signal (electromagnetic wave) to be transmitted, the thickness d of the dielectric layer P1, and the like. The

このように構成された伝送線路変換器20では、ざぐり21により形成された誘電体層P2,P3の端面(即ち、導波管形成部20bが形成する導波管の内壁)から、ビアシフト量δ(=λg/2)だけ離れた位置に、第1包囲部を形成する接地された複数のビア23が配置され、上記端面が仮想的な短絡面となるようにされている共に、第1包囲部を包囲する位置に、第2包囲部を形成する接地された複数のビア24が配置され、第1包囲部と第2包囲部とで二重に電磁波の漏洩を防止するようにされている。   In the transmission line converter 20 configured as described above, the via shift amount δ from the end faces of the dielectric layers P2 and P3 formed by the counterbore 21 (that is, the inner wall of the waveguide formed by the waveguide forming portion 20b). A plurality of grounded vias 23 forming a first surrounding portion are arranged at positions separated by (= λg / 2), and the end face is formed as a virtual short-circuited surface. A plurality of grounded vias 24 that form a second surrounding portion are disposed at a position surrounding the portion, and the first surrounding portion and the second surrounding portion doubly prevent leakage of electromagnetic waves. .

従って、伝送路変換器20によれば、導波管形成部20bが形成する導波管の損失を小さく抑えることができ、当該伝送線路変換器20の変換効率を向上させることができる。
また、伝送路変換器20では、変換部20aにも、ざぐり21による開口(即ち、導波管形成部20bが形成する導波管)と対向する部分を囲う位置に、第3包囲部を形成する接地されたビア25が配置されているため、この変換部20aからの電磁波の漏洩を防止することができる。
Therefore, according to the transmission line converter 20, the loss of the waveguide formed by the waveguide forming part 20b can be suppressed to be small, and the conversion efficiency of the transmission line converter 20 can be improved.
In the transmission line converter 20, the third surrounding portion is also formed in the conversion portion 20 a at a position surrounding the portion facing the opening by the counterbore 21 (that is, the waveguide formed by the waveguide forming portion 20 b). Since the grounded via 25 is disposed, leakage of electromagnetic waves from the converter 20a can be prevented.

しかも、変換部20aにはざぐり21が形成されていないため、第3包囲部を形成するビア25を、上記端面にどれだけ接近させても基板の強度を劣化させてしまうといった問題が生じることがなく、第1包囲部を形成するビア23より上記端面に接近させて配置することがでる。その結果、第1包囲部と比較して、より効率よく電磁波の漏洩を防止することができる。   Moreover, since the counterbore 21 is not formed in the conversion portion 20a, there is a problem that the strength of the substrate is deteriorated no matter how close the via 25 forming the third surrounding portion is to the end face. Instead, it can be arranged closer to the end face than the via 23 forming the first surrounding portion. As a result, it is possible to prevent leakage of electromagnetic waves more efficiently than the first surrounding portion.

なお、導波管形成部20bが形成する導波管の特性は、第1実施形態において説明したように、各誘電体層P1〜P3の厚さdを変えても大きく変化することがないため、変換部20aを設計する際に、誘電体層P1〜P3の厚さを任意に選択することができ、設計の自由度を増すことができる。
[第3実施形態]
次に、第3実施形態について説明する。
Note that the characteristics of the waveguide formed by the waveguide forming portion 20b do not change greatly even if the thickness d of each of the dielectric layers P1 to P3 is changed as described in the first embodiment. In designing the conversion unit 20a, the thicknesses of the dielectric layers P1 to P3 can be arbitrarily selected, and the degree of design freedom can be increased.
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment will be described.

図6は、(a)が第3実施形態の伝送線路変換器30の全体構成を示す斜視図、(b)がそのC−C断面図である。
本実施形態の伝送線路変換器30は、第2実施形態の伝送線路変換器20と同様に、変換部30aと導波管形成部30bとからなる。但し、導波管形成部30bについては、第2実施形態の導波管形成部30bと全く同様の構成であるため、ここでは説明を省略し、構成の相違する変換部30aを中心に説明する。
6A is a perspective view showing the overall configuration of the transmission line converter 30 according to the third embodiment, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG.
Similar to the transmission line converter 20 of the second embodiment, the transmission line converter 30 of the present embodiment includes a conversion unit 30a and a waveguide forming unit 30b. However, since the waveguide forming portion 30b has the same configuration as that of the waveguide forming portion 30b of the second embodiment, description thereof will be omitted here, and description will be made focusing on the conversion portion 30a having a different configuration. .

図6に示すように、変換部30aは、誘電体層P1とその両面に形成されたパターン層L1,L2からなる。
このうち、パターン層L2は、ざぐり21の底面となる部分を除く全体に形成されたグランドパターンGP2からなり、即ち、第2実施形態の場合と比較して、アンテナパターンAPが省略されたものとなっている。
As shown in FIG. 6, the conversion unit 30a includes a dielectric layer P1 and pattern layers L1 and L2 formed on both surfaces thereof.
Of these, the pattern layer L2 is composed of the ground pattern GP2 formed on the entire surface except for the bottom portion of the counterbore 21, that is, the antenna pattern AP is omitted as compared with the case of the second embodiment. It has become.

一方、パターン層L1は、一端がざぐり21の底面の中央に相当する部位に位置するように配線された平面線路SPと、平面線路SPと非接触となり、且つざぐり21の底面に対応する部位の周囲を覆うように形成されたグランドパターンGP1とからなる。   On the other hand, the pattern layer L <b> 1 has a planar line SP that is wired so that one end is located at a part corresponding to the center of the bottom surface of the counterbore 21, a non-contact with the plane line SP, and a part corresponding to the bottom surface of the counterbore 21. The ground pattern GP1 is formed so as to cover the periphery.

そして、変換部30aには、誘電体層P1を貫通し、パターン層L1のグランドパターンGP1と、パターン層L2のグランドパターンGP2とを互いに導通させる複数のビア25が、ざぐり21による開口(即ち、導波管形成部30bが形成する導波管)と対向する部分を囲い、且つ、ざぐり21により形成された誘電体層P2,P3の端面(即ち、導波管の端面)の延長線上に位置するように設けられてる。以下では、このビア25群を第3包囲部と称する。   A plurality of vias 25 that penetrate the dielectric layer P1 and connect the ground pattern GP1 of the pattern layer L1 and the ground pattern GP2 of the pattern layer L2 to each other are formed in the conversion unit 30a. The portion of the dielectric layers P2 and P3 formed by the counterbore 21 is positioned on an extension line that surrounds the portion facing the waveguide formed by the waveguide forming portion 30b. It is provided to do. Hereinafter, the via 25 group is referred to as a third surrounding portion.

また、グランドパターンGP1には、導波管の端部を短絡する短絡用導波管GTが固定されている。但し、平面線路SPは、短絡用導波管GTの短絡端から伝送信号の導波管内波長の1/4だけ離れた箇所に位置するように構成されている。但し、正確に1/4である必要はなく、±20%程度の範囲内でずれていてもよい。   In addition, a short-circuiting waveguide GT that short-circuits the end of the waveguide is fixed to the ground pattern GP1. However, the planar line SP is configured to be located at a position separated from the short-circuited end of the short-circuiting waveguide GT by ¼ of the wavelength in the waveguide of the transmission signal. However, it does not need to be exactly 1/4, and may be shifted within a range of about ± 20%.

このように構成された本実施形態の伝送線路変換器30は、変換部30aの構成が異なるだけで、第2実施形態の伝送線路変換器20と同様の構成を得ることができる。
また、伝送路変換器30では、第3包囲部を形成するビア25が、上記端面の延長線上に位置するように配置されているため、変換部30aでの電磁波の漏洩を最大限に抑えることができる。
[他の実施形態]
以上、本発明のいくつかの実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において様々な態様にて実施することが可能である。
The transmission line converter 30 of the present embodiment configured as described above can obtain the same configuration as that of the transmission line converter 20 of the second embodiment, except that the configuration of the conversion unit 30a is different.
Further, in the transmission line converter 30, the via 25 forming the third surrounding portion is disposed so as to be located on the extension line of the end face, so that electromagnetic wave leakage at the conversion portion 30 a is suppressed to the maximum. Can do.
[Other Embodiments]
As mentioned above, although several embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, In the range which does not deviate from the summary of this invention, it is possible to implement in various aspects. .

例えば、上記実施形態では、ビアシフト量をδ=λg/2に設定しているが、これに限るものではなく、λg/2の整数倍であればよい。また、ビアシフト量δは、必ずしも正確にδ=n×λg/2である必要はなく、±20%程度の範囲内でずれていてもよい。   For example, in the above embodiment, the via shift amount is set to δ = λg / 2, but the present invention is not limited to this and may be an integral multiple of λg / 2. Further, the via shift amount δ is not necessarily exactly δ = n × λg / 2, and may be shifted within a range of about ± 20%.

また、上記第2及び第3実施形態では、変換部20a,30aが一つの誘電体層P1で構成されているが、図7に示すように、複数の誘電体層P11,P12で構成されていてもよい(なお、図では第2実施形態の変形例を示す)。   Further, in the second and third embodiments, the conversion units 20a and 30a are configured by one dielectric layer P1, but as illustrated in FIG. 7, the conversion units 20a and 30a are configured by a plurality of dielectric layers P11 and P12. (The figure shows a modification of the second embodiment).

また、第2及び第3実施形態では、導波管形成部20b,30bが、二つの誘電体層P2,P3で構成されているが、一つ又は三つ以上の誘電体層で構成されていてもよい。
また、図7に示すように、変換部20aに設けられた第3包囲部を形成するビア25を、導波管形成部20bに設けられた第1及び第2包囲部を形成するビア23,24と同様に、二重に形成してもよい。更に、この場合、二重のビア25の双方ともを、ビア23よりざぐり21に近い内側の位置(即ち、導波管形成部20bが形成する導波管の端面からλg/2以下の位置)に形成することが望ましい。また特に、内側のビア25は、端面の延長線上に位置するように形成することが望ましい。
In the second and third embodiments, the waveguide forming portions 20b and 30b are constituted by two dielectric layers P2 and P3, but are constituted by one or three or more dielectric layers. May be.
Further, as shown in FIG. 7, vias 25 forming the third surrounding portion provided in the conversion portion 20a are replaced with vias 23 forming the first and second surrounding portions provided in the waveguide forming portion 20b. Similarly to 24, it may be formed double. Furthermore, in this case, both of the double vias 25 are positioned closer to the counterbore 21 than the vias 23 (that is, positions of λg / 2 or less from the end face of the waveguide formed by the waveguide forming portion 20b). It is desirable to form. In particular, it is desirable to form the inner via 25 so as to be located on the extended line of the end face.

(a)が第1実施形態の誘電体基板の構成を示す平面図、(b)がそのA−A断面を示す断面図。(A) is a top view which shows the structure of the dielectric substrate of 1st Embodiment, (b) is sectional drawing which shows the AA cross section. 誘電体基板が形成する導波管の透過特性をシミュレーションにより求めた結果を示すグラフであり、(a)がビアシフト量δを変化させた場合、(b)が基板厚dを変化させた場合である。It is a graph which shows the result of having calculated | required the transmission characteristic of the waveguide which a dielectric material substrate forms by simulation, (a) is a case where the amount of via shifts (delta) is changed, (b) is a case where the board thickness d is changed. is there. 第1実施形態の誘電体基板を積層した構造を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure which laminated | stacked the dielectric substrate of 1st Embodiment. (a)が第2実施形態の伝送線路変換器の構成を示す斜視図、(b)がそのB−B断面を示す断面図。(A) is a perspective view which shows the structure of the transmission line converter of 2nd Embodiment, (b) is sectional drawing which shows the BB cross section. 各パターン層の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of each pattern layer. (a)が第3実施形態の伝送線路変換器の構成を示す斜視図、(b)がそのC−C断面を示す断面図。(A) is a perspective view which shows the structure of the transmission line converter of 3rd Embodiment, (b) is sectional drawing which shows the CC cross section. 第2実施形態の伝送線路変換器の変形例の構成を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of the modification of the transmission line converter of 2nd Embodiment. 従来技術の構成、及び問題点を示す説明図。Explanatory drawing which shows the structure of a prior art, and a problem. (a)が第1実施形態の変形例の誘電体基板の構成を示す平面図、(b)がそのA−A断面を示す断面図。(A) is a top view which shows the structure of the dielectric substrate of the modification of 1st Embodiment, (b) is sectional drawing which shows the AA cross section.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a,10…誘電体基板、3,5…導体層、7,8,23,24,25…ビア、9…端面、20,30…伝送線路変換器、20a,30a…変換部、20b,30b…導波管形成部、21…ざぐり、H…孔、G…導波管、GT…短絡用導波管、AP…アンテナパターン、GP1〜GP4…グランドパターン、SP…平面線路、L1〜L4…パターン層、P1〜P3,P11,P12…誘電体層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a, 10 ... Dielectric board | substrate, 3, 5 ... Conductor layer, 7, 8, 23, 24, 25 ... Via, 9 ... End face, 20, 30 ... Transmission line converter, 20a, 30a ... Conversion part, 20b 30b ... waveguide forming part, 21 ... borehole, H ... hole, G ... waveguide, GT ... waveguide for short circuit, AP ... antenna pattern, GP1 to GP4 ... ground pattern, SP ... planar line, L1 L4 ... pattern layer, P1-P3, P11, P12 ... dielectric layer.

Claims (11)

導波管として使用される孔を有する誘電体基板であって、
前記導波管の内壁を形成する前記孔の端面を囲い、且つ前記端面が仮想的な短絡面となる位置に配置された複数のビアからなる第1包囲部を設けたことを特徴とする誘電体基板。
A dielectric substrate having a hole used as a waveguide,
A dielectric comprising: a first surrounding portion including a plurality of vias which surrounds an end face of the hole forming the inner wall of the waveguide and is disposed at a position where the end face is a virtual short-circuit surface. Body substrate.
前記導波管を伝搬させる電磁波の基板内波長をλgとして、
前記第1包囲部を形成するビアは、前記端面からn×λg/2(但し、nは正整数)の距離に位置することを特徴とする請求項1に記載の誘電体基板。
The wavelength in the substrate of the electromagnetic wave propagating through the waveguide is λg,
2. The dielectric substrate according to claim 1, wherein the via forming the first surrounding portion is located at a distance of n × λg / 2 (where n is a positive integer) from the end face.
前記導波管を伝搬させる電磁波の基板内波長をλgとして、
前記第1包囲部を形成するビアの配置間隔がλg/4以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の誘電体基板。
The wavelength in the substrate of the electromagnetic wave propagating through the waveguide is λg,
The dielectric substrate according to claim 1, wherein an arrangement interval of vias forming the first surrounding portion is λg / 4 or less.
前記第1包囲部を囲う位置に配置された複数のビアからなる第2包囲部を設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の誘電体基板。   4. The dielectric substrate according to claim 1, further comprising a second surrounding portion including a plurality of vias arranged at a position surrounding the first surrounding portion. 5. 前記導波管を伝搬させる電磁波の基板内波長をλgとして、
前記第2包囲部を形成するビアの配置間隔がλg/4以下であることを特徴とする請求項4に記載の誘電体基板。
The wavelength in the substrate of the electromagnetic wave propagating through the waveguide is λg,
The dielectric substrate according to claim 4, wherein an interval between vias forming the second surrounding portion is λg / 4 or less.
前記導波管を伝搬させる電磁波の基板内波長をλgとして、
前記第1包囲部と前記第2包囲部との間隔がλg/2以下であることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の誘電体基板。
The wavelength in the substrate of the electromagnetic wave propagating through the waveguide is λg,
6. The dielectric substrate according to claim 4, wherein an interval between the first surrounding portion and the second surrounding portion is λg / 2 or less.
請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板を、複数積層してなることを特徴とする導波管。   A waveguide comprising a plurality of the dielectric substrates according to claim 1 laminated together. 前記ビアは、積層された複数の前記誘電体基板を、一直線に貫通するように形成されていることを特徴とする請求項7に記載の導波管。   The waveguide according to claim 7, wherein the via is formed so as to penetrate the plurality of stacked dielectric substrates in a straight line. 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の誘電体基板を、一又は複数積層した構造を有する導波管形成部と、
前記導波管形成部が形成する導波管の一端を塞ぐように該導波管形成部に積層されると共に、電磁波を伝送する平面線路、及び前記導波管の開口内に位置し前記平面線路と電磁的に結合されたアンテナパターンが形成された誘電体基板からなる変換部と、
を備えることを特徴とする伝送線路変換器。
A waveguide forming part having a structure in which one or a plurality of the dielectric substrates according to claim 1 are laminated;
A planar line that is laminated on the waveguide forming part so as to block one end of the waveguide formed by the waveguide forming part, and transmits an electromagnetic wave, and the plane located in the opening of the waveguide A conversion unit comprising a dielectric substrate on which an antenna pattern electromagnetically coupled to the line is formed;
A transmission line converter comprising:
前記変換部には、前記導波管の開口に対向する部分を囲う位置に、複数のビアからなる第3包囲部を設けたことを特徴とする請求項9に記載の伝送路変換器。   The transmission line converter according to claim 9, wherein the converter is provided with a third surrounding portion including a plurality of vias at a position surrounding a portion facing the opening of the waveguide. 前記第3包囲部を形成するビアは、前記導波管の内壁の延長線上に配置されていることを特徴とする請求項10に記載の伝送路変換器。   The transmission line converter according to claim 10, wherein the via forming the third surrounding portion is disposed on an extension line of the inner wall of the waveguide.
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