JP2007323995A - Ultraviolet light emitting device - Google Patents
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Description
本発明は、始動補助手段としての光エネルギー放射手段を備えた紫外光放射装置に係わり、より詳細には、紫外光を照射することによりLCD基板もしくは半導体ウェハ等の洗浄もしくは表面改質を行うため、または紫外光を照射することにより乾癬治療、特に、波長308nmの光を使用して乾癬治療を施すために使用される紫外光放射装置に関する。 The present invention relates to an ultraviolet light emitting device having a light energy emitting means as a starting auxiliary means, and more specifically, for cleaning or surface modification of an LCD substrate or a semiconductor wafer by irradiating ultraviolet light. Or an ultraviolet light emitting device used for treating psoriasis by irradiating ultraviolet light, in particular, psoriasis treatment using light having a wavelength of 308 nm.
従来、紫外線と活性酸素種であるオゾン(O3)とを組み合わせた洗浄方法として、UV/O3洗浄法が広く利用されている。この洗浄法は、例えば、LCD基板または半導体ウェハの表面に紫外線を照射して、表面に付着した有機化合物等の分子結合を切断することにより、付着した有機化合物等の不純物を除去するものである。近年、このUV/O3洗浄法に使用する光源として、従来から使用されていた波長185nmおよび254nmの紫外線を放射する低圧水銀ランプに代えて、例えば、キセノンガスを発光物質として使用し、波長172nmの真空紫外光を放射する、洗浄能力において低圧水銀ランプを上回るエキシマランプが使用されるようになっている。 Conventionally, a UV / O 3 cleaning method has been widely used as a cleaning method combining ultraviolet rays and ozone (O 3 ), which is an active oxygen species. In this cleaning method, for example, the surface of an LCD substrate or a semiconductor wafer is irradiated with ultraviolet rays, and molecular bonds such as organic compounds adhering to the surface are cut to remove impurities such as adhering organic compounds. . In recent years, as a light source used in this UV / O 3 cleaning method, for example, xenon gas is used as a luminescent substance instead of a low-pressure mercury lamp that emits ultraviolet rays having wavelengths of 185 nm and 254 nm, which has been conventionally used, and a wavelength of 172 nm Excimer lamps that emit vacuum ultraviolet light and that have a cleaning capability that exceeds that of low-pressure mercury lamps are being used.
しかし、このようなエキシマランプは、点灯時よりも始動時に高い電圧が必要とされ、特に暗黒状態や長時間の休止状態後の始動が困難である。始動性を改善するためには、単純にはエキシマランプに対して高電圧を印加すればよい。しかしながら、エキシマランプに高電圧を印加するためには、より耐圧性の高い点灯用トランスが必要となり、その結果、点灯用トランスが大型化し、重量およびコストの面で好ましくない。また、高電圧を印加することは、安全性の面からも好ましくない。そのため、可能な限り低電圧でエキシマランプを始動させることが要請される。 However, such an excimer lamp requires a higher voltage at the start than at the time of lighting, and is particularly difficult to start after a dark state or a prolonged rest state. In order to improve the startability, a high voltage is simply applied to the excimer lamp. However, in order to apply a high voltage to the excimer lamp, a lighting transformer with higher pressure resistance is required. As a result, the lighting transformer becomes large, which is not preferable in terms of weight and cost. Also, applying a high voltage is not preferable from the viewpoint of safety. Therefore, it is required to start the excimer lamp with the lowest possible voltage.
特許文献1には、エキシマランプの始動性を改善したエキシマランプ装置の一例が記載されている。この装置は、放電空間に封入された放電用ガスに紫外光を照射した状態で、エキシマランプに電圧を印加することにより、エキシマランプを点灯するものである。
図9は、特許文献1に記載されているエキシマランプ装置の長手方向の断面図である。
同図に示すように、このエキシマランプ90は、エキシマ光を透過する石英ガラス等の誘電体材料からなる放電容器91を備えている。放電容器91は、外側管92と外側管92の内側に外側管92と同軸上に配置された内側管93とを備えた2重管構造である。放電容器91の内部空間Sには、放電用ガスとして、例えば、キセノンガスが封入されている。外側管92の外周面には外側電極94が設けられ、内側管93の内周面には内側電極95が設けられている。エキシマランプ用高周波電源96が外側電極94および内側電極95に接続されている。エキシマランプ90の上方には、放電用ガスに紫外光を照射するための紫外発光体97が設けられている。この紫外発光体97から発せられる紫外光を内部空間Sに封入された放電用ガスに照射した状態で、前記誘電体材料を介して対向する外側電極94と内側電極95間に高周波電圧を印加することにより、エキシマ光が放射される。上記のエキシマランプ装置によれば、始動時に紫外発光体97からの紫外光が放電用ガスに照射されることにより、紫外光を放電用ガスに照射しない場合に比して始動電圧を下げることが可能であるとされている。
FIG. 9 is a longitudinal sectional view of the excimer lamp device described in
As shown in the figure, the
しかしながら、本発明者らは、後述する実験結果に示すように、引用文献1に示すようなエキシマランプ装置によってもなお、始動性の改善が十分でなく、始動時に高電圧を印加する必要が生じることを確認している。
さらに、上記のエキシマランプ装置によれば、図9に示すように、エキシマランプ90が点灯した後に、紫外発光体97に向けて、エキシマランプ90から放射強度の強い紫外光が放射されるため、紫外発光体97が強力な紫外光に曝されるため劣化し、紫外発光体97が短寿命化するおそれがあった。
However, as shown in the experimental results to be described later, the present inventors still have insufficient improvement in startability even with the excimer lamp device as shown in the cited
Furthermore, according to the above excimer lamp device, as shown in FIG. 9, after the
本発明の目的は、上記の問題点に鑑み、エキシマランプの始動時の印加電圧を下げることを可能にするとともに、放電用ガスに光エネルギーを照射するための光エネルギー放射手段の劣化を防止することを可能にした紫外光放射装置を提供することにある。 In view of the above problems, an object of the present invention is to make it possible to lower the applied voltage at the start of an excimer lamp and to prevent deterioration of light energy emitting means for irradiating light energy to a discharge gas. An object of the present invention is to provide an ultraviolet light emitting device that makes it possible.
本発明は、上記の課題を解決するために、次のような手段を採用した。
第1の手段は、内部空間に放電用ガスが封入された誘電体材料からなる放電容器と、前記誘電体材料を介して配置された一対の電極とを備えるエキシマランプを備える紫外光放射装置において、前記放電容器は、内部空間における放電ギャップが不均一となるよう形成され、前記放電ギャップが最短となる易放電空間に対し、光エネルギーを照射するための光エネルギー放射手段が設けられていることを特徴とする紫外光放射装置である。
第2の手段は、第1の手段において、前記易放電空間は、前記内部空間に向けて隆起する凸部を前記放電容器に設けることによって形成されることを特徴とする紫外光放射装置である。
第3の手段は、第1の手段において、前記放電容器は、外側管と外側管の内側に外側管の長手方向に対して平行に配置された内側管とを備える2重管構造を有し、前記内側管の中心軸が前記外側管の中心軸に対して偏芯するように配置されていることを特徴とする紫外光放射装置である。
第4の手段は、第1の手段において、前記エキシマランプから放射された光を光出射方向へ反射する反射鏡が前記エキシマランプの長手方向に沿って設けられ、前記光エネルギー放射手段は、前記反射鏡の外部に配置され、前記易放電空間に対して、光エネルギーを照射することを特徴とする紫外光放射装置である。
第5の手段は、第4の手段において、前記光エネルギー放射手段は、前記エキシマランプの軸方向から前記易放電空間に対して、光エネルギーを照射することを特徴とする紫外光放射装置である。
第6の手段は、第4の手段または第5の手段において、前記易放電空間を覆うとともにアパーチャー部を有する遮光カバーを設け、前記光エネルギー放射手段は、前記アパーチャー部を介して、前記易放電空間に対して、光エネルギーを照射することを特徴とする紫外光放射装置である。
第7の手段は、第1の手段ないし第6の手段のいずれか1つの手段において、前記光エネルギー放射手段が、400nm以下の紫外光を発する半導体素子であることを特徴とする紫外光放射装置である。
第8の手段は、第1の手段において、前記放電用ガスには、ハロゲンガスが含まれることを特徴とする紫外光放射装置である。
第9の手段、第8の手段において、前記放電用ガスが、キセノン(Xe)ガスと塩素(Cl2)ガスの混合ガスであることを特徴とする紫外光放射装置である。
The present invention employs the following means in order to solve the above problems.
A first means is an ultraviolet light emitting device including an excimer lamp including a discharge vessel made of a dielectric material in which a discharge gas is sealed in an internal space, and a pair of electrodes disposed via the dielectric material. The discharge vessel is formed so that the discharge gap in the inner space is non-uniform, and light energy emitting means for irradiating light energy to the easy discharge space where the discharge gap is the shortest is provided. Is an ultraviolet light emitting device characterized by
A second means is the ultraviolet light emitting device according to the first means, wherein the easy discharge space is formed by providing a convex portion protruding toward the internal space in the discharge vessel. .
According to a third means, in the first means, the discharge vessel has a double tube structure including an outer tube and an inner tube disposed inside the outer tube and parallel to the longitudinal direction of the outer tube. The ultraviolet light emitting device is arranged such that a central axis of the inner tube is eccentric with respect to a central axis of the outer tube.
According to a fourth means, in the first means, a reflecting mirror for reflecting the light emitted from the excimer lamp in a light emitting direction is provided along a longitudinal direction of the excimer lamp, and the light energy emitting means is It is an ultraviolet light emitting device which is arranged outside a reflecting mirror and irradiates light energy to the easy discharge space.
A fifth means is the ultraviolet light emitting apparatus according to the fourth means, wherein the light energy radiating means irradiates the easy discharge space with light energy from an axial direction of the excimer lamp. .
A sixth means is the fourth means or the fifth means, wherein a light-shielding cover that covers the easy discharge space and has an aperture portion is provided, and the light energy radiating means is connected to the easy discharge via the aperture portion. An ultraviolet light emitting device is characterized by irradiating light with light energy.
A seventh means is the ultraviolet light emitting device according to any one of the first means to the sixth means, wherein the light energy emitting means is a semiconductor element emitting ultraviolet light of 400 nm or less. It is.
An eighth means is the ultraviolet light emitting device according to the first means, wherein the discharge gas contains a halogen gas.
In the ninth means and the eighth means, the ultraviolet light emitting device is characterized in that the discharge gas is a mixed gas of xenon (Xe) gas and chlorine (Cl 2 ) gas.
請求項1に記載の発明によれば、放電ギャップが最短となる易放電空間に光エネルギー放射手段から発せられた紫外光を照射することにより、エキシマランプの始動に要する印加電圧を低減させることができる。
請求項2に記載の発明によれば、放電容器に内部空間に向けて隆起する凸部を形成することにより、容易に放電ギャップが最短となる易放電空間を形成することができる。
請求項3に記載の発明によれば、内側管の中心軸が外側管の中心軸に対して偏芯するように配置することにより、容易に放電ギャップが最短となる易放電空間を形成することができる。
請求項4に記載の発明によれば、光エネルギー放射手段が、反射鏡の外部に設けられ、反射鏡の外部から易放電空間に対して光エネルギーを照射するので、光エネルギー放射手段が劣化されず、長寿命化を図ることができる。また、反射鏡により光出射方向へ反射された紫外光が光エネルギー放射手段によって遮られることがないため、照度分布の均一化を図ることができる。また、光エネルギー放射手段が、反射鏡の外部に設けられるので、エキシマランプの点灯時における反射鏡内の高温下にないため、高温による光エネルギー放射手段の劣化を防止することができる。
請求項5に記載の発明によれば、光エネルギー放射手段は、反射鏡の外部に設けられ、かつエキシマランプの軸方向から易放電空間に対して光エネルギーを照射するので、より一層光エネルギー放射手段が劣化されず、長寿命化を図ることができる。また、反射鏡により光出射方向へ反射された紫外光が光エネルギー放射手段によって遮られることがないため、照度分布の均一化を図ることができる。また、光エネルギー放射手段が、反射鏡の外部に設けられるので、エキシマランプの点灯時における反射鏡内の高温下にないため、高温による光エネルギー放射手段の劣化を防止することができる。
請求項6に記載の発明によれば、アパーチャー部が設けられた遮光カバーを備えることにより、光エネルギー放射手段から発した光が、易放電空間以外の放電空間に照射されず、易放電空間にのみ照射される。そのため、内部空間において初期電子を効率良く生成することができ、エキシマランプの始動に要する印加電圧を低減することができる。また、アパーチャー部が設けられた遮光カバーを備えることにより、光エネルギー放射手段が劣化され難く、光エネルギー放射手段の長寿命化を図ることができる。
請求項7に記載の発明によれば、400nm以下の紫外光を発する半導体素子を使用することにより、エキシマランプの始動に要する印加電圧を効果的に低減することができる。
請求項8に記載の発明によれば、ハロゲンガスを含む放電ガスを用いた場合であっても、時間の経過によりハロゲンガスが消滅することがなく、所望の波長の光を放射することができる。
請求項9に記載の発明によれば、乾癬治療に有効な波長308nmの光を放射させることができる。
According to the first aspect of the present invention, the applied voltage required for starting the excimer lamp can be reduced by irradiating the easy discharge space with the shortest discharge gap with the ultraviolet light emitted from the light energy emitting means. it can.
According to the second aspect of the present invention, an easy discharge space in which the discharge gap is the shortest can be easily formed by forming the convex portion protruding toward the internal space in the discharge vessel.
According to the third aspect of the present invention, by arranging the central axis of the inner tube so as to be eccentric with respect to the central axis of the outer tube, an easily discharge space in which the discharge gap is minimized is easily formed. Can do.
According to the invention of
According to the fifth aspect of the present invention, the light energy radiating means is provided outside the reflecting mirror, and irradiates light energy to the easy discharge space from the axial direction of the excimer lamp. The means is not deteriorated and the life can be extended. Further, since the ultraviolet light reflected in the light emitting direction by the reflecting mirror is not blocked by the light energy emitting means, the illuminance distribution can be made uniform. Further, since the light energy emitting means is provided outside the reflecting mirror, it is not under the high temperature in the reflecting mirror when the excimer lamp is turned on, so that the deterioration of the light energy emitting means due to the high temperature can be prevented.
According to the invention described in claim 6, by providing the light shielding cover provided with the aperture portion, the light emitted from the light energy radiating means is not irradiated to the discharge space other than the easy discharge space, and the easy discharge space is not irradiated. Only irradiated. Therefore, initial electrons can be efficiently generated in the internal space, and the applied voltage required for starting the excimer lamp can be reduced. In addition, by providing the light shielding cover provided with the aperture portion, the light energy radiating means is hardly deteriorated, and the life of the light energy radiating means can be extended.
According to the seventh aspect of the present invention, the voltage applied to start the excimer lamp can be effectively reduced by using a semiconductor element that emits ultraviolet light of 400 nm or less.
According to the invention described in claim 8, even when a discharge gas containing a halogen gas is used, the halogen gas does not disappear over time, and light having a desired wavelength can be emitted. .
According to the ninth aspect of the present invention, it is possible to emit light having a wavelength of 308 nm that is effective for treating psoriasis.
本発明の第1の実施形態を図1および図2を用いて説明する。
図1(a)は、本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図、図1(b)は、図1(a)に示すA−A’線から見た断面図である。
これの図に示すように、この紫外光放射装置は、エキシマランプ1、遮光カバー2、反射鏡3、紫外光発光ダイオード4、点灯電源5を備えている。
エキシマランプ1は、エキシマ光を透過する、例えば、合成石英ガラス等の誘電体材料からなる放電容器10を備えている。放電容器10は、外側管11と内側管12が同軸に配置され中空2重円筒管構造を有し、ラッパ上に広げられた内側管12の両端を外側管11の両端に溶着することによって形成される。
A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
1A is a cross-sectional view in the longitudinal direction of the ultraviolet light emitting device according to the invention of the present embodiment, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA ′ shown in FIG. is there.
As shown in the drawing, this ultraviolet light emitting device includes an
The
エキシマランプ1の中空円筒状の内部空間Sには、放電用ガスとしてキセノンガス(Xe)ガスと塩素(Cl2)ガスの混合ガスが封入されている。XeとCl2の混合ガスの封入量は、5kPa〜100kPaの範囲であって、例えば、20kPaである。内部空間Sにおいて、エキシマランプが点灯していないときにはXeとCl2はそれぞれ単独で存在している。エキシマランプを点灯させるとXeガスとCl2ガスの混合ガスの一部が結合してキセノンクロライド(XeCl)エキシマを生成し、乾癬の治療に有効である、波長が308nmのエキシマ光を放出する。放電用ガスとして、キセノン、クリプトン、アルゴン、塩化クリプトン、塩化キセノン等を組み合わせて使用すると、波長126nm〜308nmの紫外光が放射される。
The hollow cylindrical internal space S of the
外側管11の外周面には、外側管11の外周面に沿って円筒状に形成されたメッシュ状の外側電極13が配置されている。内側管12の内周面には、内側管12の内周面に沿って円筒状に形成された内側電極14が配置されている。外側電極13および内側電極14はそれぞれ錫メッキ銅線およびアルミニウムやステンレスから構成されている。
On the outer peripheral surface of the
外側管11の一部に、本発明の特徴点の1つである内部空間Sに向けて隆起する凸部11Aが設けられている。ここで、内部空間Sのうち、凸部11Aと内側管12の内部空間側の面12Aとの間の内部空間を易放電空間SAとし、それ以外の内部空間を放電空間SBとする。易放電空間SAとは、内部空間Sにおいて、凸部11Aと内側管12の内部空間側の面12Aとの離間距離が最短になる箇所をいう。
放電空間SBにおける放電ギャップG1は3mm〜10mmの範囲であって、例えば、5mmである。これに対し、易放電空間SAにおける放電ギャップG2は0.1mm〜2mmの範囲であって、例えば、0.5mmである。
なお、易放電空間SAを形成する方法としては、内部空間Sに向けて隆起する凸部11Aを外側管11に設けることに限られない。すなわち、内部空間Sに向けて隆起する凸部を内側管12に設けるようにしてもよい。
A
The discharge gap G1 in the discharge space S B is in the range of 3 mm to 10 mm, for example, 5 mm. In contrast, the discharge gap G2 in the easy discharge space S A in the range of 0.1 mm to 2 mm, for example, 0.5 mm.
As a method of forming an easy discharge space S A, not limited to the provision of the
反射鏡3は、図1(b)に示すように、エキシマランプ1の中心軸と直交する方向における断面が略台形状であって、長手方向および光出射方向が開放された構成であり、光出射方向の開口部36が、例えば、石英ガラス等からなる光出射窓31によって塞がれている。反射鏡3の反射面は、例えば、アルミニウム等の紫外光を反射する材料で構成されている。
反射鏡3は、エキシマランプ1の長手方向に沿って、エキシマランプ1の長手方向の大部分を覆うように配置され、エキシマランプ1の一端は、反射鏡3の側面32に設けられた開口部37から突出し、エキシマランプ1の他端は、反射鏡3の側面33に設けられた開口部38から突出している。
As shown in FIG. 1B, the reflecting
The reflecting
エキシマランプ1は、外側管11に設けられた凸部11Aが覆われるよう反射鏡3の開口部38から突出する端部が、遮光カバー2に嵌め込まれている。遮光カバー2は反射鏡3の側面に、例えば、螺子止めによって固定されている。すなわち、エキシマランプ1は遮光カバー2に固定されることにより、反射鏡3内にて支持される。
遮光カバー2には紫外光発光ダイオード4から放射された紫外光が透過するアパーチャー部21が設けられ、このアパーチャー部21の下方側の開口部21Aが、エキシマランプ1の外側管11に設けられた凸部11Aの直下に位置する易放電空間SAに対向している。
遮光カバー2は、例えば、アルミニウム等の導電性材料からなり、側面が開口した断面がコの字状の箱状体であって、エキシマランプ1の外側電極13と接触することにより外側電極13と導通しており、点灯電源5のグランド側に繋がる給電線51が接続されている。遮光カバー2の側面22に設けられた開口部23から、内側電極14と点灯電源5の高電圧側に繋がる給電線52が遮光カバー2の外部に導出されている。
図1(a)に示すように、遮光カバー2は、紫外光発光ダイオード4から発せられる紫外光を易放電空間SAにのみ効率良く照射することに加え、外部電極13と導通することにより、外部電極13への給電の役割を果たしている。
In the
The
The
As shown in FIG. 1 (a), the light-shielding
光エネルギー放射手段としての紫外光発光ダイオード4は、光出射側に集光レンズが設けられ、波長400nm以下の紫外光を発する。紫外光発光ダイオード4は、その光出射面4Aがアパーチャー部21の上方側の開口部21Bに対向するよう、遮光カバー2の上面2Aに螺子止めされた固定用冶具41に固定されている。
紫外光発光ダイオード4は、エキシマランプ1の始動時のみ発光していればよいので、所定時間発光した後(エキシマランプ1が点灯した後)は消灯するように制御される。例えば、紫外光発光ダイオード4には制御器42が接続され、紫外光発光ダイオード4が所定時間点灯した後に、制御器42から紫外光発光ダイオード4に対して消灯信号が送信されて消灯するよう制御される。
なお、光エネルギー放射手段としては、紫外光を発するものであればよく、紫外光発光ダイオード4に代えて、放電ランプやレーザーダイオード等を使用することもできる。また、波長選択素子と併用するのであれば、ハロゲンランプ等を使用することもできる。
The ultraviolet
Since the ultraviolet light-emitting
Any light energy emitting means may be used as long as it emits ultraviolet light, and a discharge lamp, a laser diode, or the like can be used instead of the ultraviolet
本実施形態の紫外光放射装置は、易放電空間SAに封入された放電用ガスに対し、紫外光発光ダイオード4から発せられた紫外光が照射された状態で、点灯電源5より、例えば、周波数50kHz〜100kHz、6kV〜10kVの高周波電圧を遮光カバー2および内側電極14間に印加することにより、エキシマランプ1から波長126〜308nmの紫外光が放射される。
Ultraviolet light emitting device of the present embodiment, with respect to the discharge gas sealed in the easily discharge space S A, in a state in which the ultraviolet light emitted from the ultraviolet
本実施形態の紫外光放射装置によれば、以下のような効果が期待される。
易放電空間SAに紫外光発光ダイオード4から発せられた紫外光を照射することにより、エキシマランプ1の始動に要する印加電圧を低減させることができる。その理由は、以下のように考えられる。
すなわち、易放電空間SAに封入された放電用ガスに紫外光を照射することにより、内部空間Sに初期放電に必要な初期電子が発生し、また易放電空間SAの放電ギャップG2は、放電空間SBの放電ギャップG1に比して短いため、絶縁破壊を生じやすい。そのため、エキシマランプ1の始動に要する印加電圧を低減することができ、エキシマランプ1を効率良く点灯させることができる。この点は以下の実験により確認されている。
According to the ultraviolet light radiation device of the present embodiment, the following effects are expected.
By irradiating ultraviolet light emitted from the ultraviolet
That is, by irradiating ultraviolet light to the discharge gas sealed in the easily discharge space S A, initial electrons are generated required initial discharge in the interior space S, also discharge gap G2 of the easy discharge space S A is shorter than the discharge gap G1 of the discharge space S B, prone to breakdown. Therefore, the applied voltage required for starting the
本実施形態の発明の効果を確認するために行った実験について以下に説明する。
実施例として、図1に示す構成に従い、以下の寸法を有するエキシマランプを作製した。
放電容器10:全長150mm、外径40mm
放電ギャップG1:5mm
放電ギャップG2:0.5mm
このエキシマランプの易放電空間SAに対し、波長375nmの紫外光を照射し、始動に要する印加電圧の値を測定した。
また、比較例1として、実施例と同様のエキシマランプを作製し、紫外光を照射しない状態で、始動に要する印加電圧の値を測定した。
た。
また、比較例2として、凸部11Aを有しないことの他は上記実施例と同様の寸法を有するエキシマランプを作製し、エキシマランプの放電空間の任意の箇所に対し、波長375nmの紫外光を照射した状態で、始動に要する印加電圧の値を測定した。
An experiment conducted for confirming the effect of the invention of the present embodiment will be described below.
As an example, an excimer lamp having the following dimensions was manufactured according to the configuration shown in FIG.
Discharge vessel 10: total length 150 mm, outer diameter 40 mm
Discharge gap G1: 5 mm
Discharge gap G2: 0.5mm
To easily discharge space S A of the excimer lamp, and irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 375 nm, it was measured the value of the applied voltage required for the start-up.
Further, as Comparative Example 1, an excimer lamp similar to that of the example was manufactured, and the value of the applied voltage required for starting was measured in a state where ultraviolet light was not irradiated.
It was.
Further, as Comparative Example 2, an excimer lamp having the same dimensions as in the above embodiment except that the
上記の実験により次のような結果が得られた。すなわち、比較例1のエキシマランプ(凸部あり、紫外光照射なし)によれば、始動に8kVの印加電圧を要した。比較例2のエキシマランプ(凸部なし、紫外光照射あり)によれば、始動に6.5kVの印加電圧を要した。これに対し、実施例のエキシマランプ(凸部あり、紫外光照射あり)によれば、始動に要する印加電圧を4.4kVに低減することができた。
以上のごとく、実施例のエキシマランプによれば、始動に要する印加電圧を大幅に低減できることが確認された。
The following results were obtained by the above experiment. That is, according to the excimer lamp of Comparative Example 1 (with a convex portion and no ultraviolet light irradiation), an applied voltage of 8 kV was required for starting. According to the excimer lamp of Comparative Example 2 (no protrusion, with ultraviolet light irradiation), an applied voltage of 6.5 kV was required for starting. On the other hand, according to the excimer lamp of the example (with protrusions and with ultraviolet light irradiation), the applied voltage required for starting could be reduced to 4.4 kV.
As described above, according to the excimer lamp of the example, it was confirmed that the applied voltage required for starting can be significantly reduced.
さらに、本実施形態の紫外光放射装置によれば、上記の効果の他に以下に示すような効果(ア)〜(キ)を有する。 Furthermore, according to the ultraviolet light emission device of the present embodiment, the following effects (a) to (g) are provided in addition to the above effects.
(ア)アパーチャー部21が設けられた遮光カバー2を備えることにより、紫外光発光ダイオード4から発した紫外光が、易放電空間SA以外の放電空間SBに照射されず、易放電空間SAにのみ照射される。そのため、内部空間Sにおいて初期電子を効率良く生成することができ、エキシマランプの始動に要する印加電圧を低減することができる。
By providing the light shielding cover 2 (A)
(イ)アパーチャー部21が設けられた遮光カバー2を備えることにより、紫外光発光ダイオード4が劣化することがなく、紫外光発光ダイオード4を長寿命化することができる。
その理由を以下に説明する。すなわち、エキシマ光の放射強度は、放電ギャップの大きさに依存し、一般に放電ギャップが長ければエキシマ光の放射強度も大きくなる。上記の実験結果に示すように、放電空間SBにおける放電ギャップG1は、易放電空間SAにおける放電ギャップG2よりも長いため放電空間SBから放射されるエキシマ光の放射強度は、易放電空間SAから放射されるエキシマ光の放射強度よりも大きくなる。
従って、遮光カバー2を設けない場合には、放電空間SBから放射される強力な紫外光に紫外光発光ダイオード4が曝されるされることによって、紫外光発光ダイオード4が劣化して短寿命化する。それに対して、本実施形態の紫外光放射装置によれば、紫外光発光ダイオード4は、その光出射面4Aが遮光カバー2のアパーチャー部21を介して易放電空間SAに対向しており、易放電空間SAからは放射強度の低い紫外光しか放射されず、また、放電空間SBから放射される強力な紫外光が遮光カバー2によって遮られ紫外光発光ダイオード4に直接照射されることがない。そのため、光出射面4Aが強力な紫外光に曝されることがなく、紫外光発光ダイオード4が劣化することによる短寿命化を防止することができる。
(A) By providing the
The reason will be described below. That is, the radiation intensity of excimer light depends on the size of the discharge gap. Generally, the longer the discharge gap, the greater the radiation intensity of excimer light. As shown in the above experimental results, the discharge gap G1 in the discharge space S B, the radiation intensity of the excimer light emitted from the long since the discharge space S B than the discharge gap G2 in the easy discharge space S A is easily discharge space It is larger than the radiation intensity of the excimer light emitted from the S a.
Thus, the case without the
(ウ)エキシマランプ1の外側電極13および内側電極14は、遮光カバー2および反射鏡3で覆われて外部に露出することがなく、エキシマランプ1の内側電極14が点灯電源5の高電圧側に接続され、遮光カバー2が点灯電源5のグランド側に接続されていることから、使用者が素手で遮光カバー2に触れたとしても感電のおそれがなく、装置の取り扱いが容易となる利点を有する。
(C) The
(エ)紫外光発光ダイオード4が反射鏡3の外部に取付けられた遮光カバー2に固定されているため、以下の利点がある。すなわち、紫外光発光ダイオード4を反射鏡3の内部に配置すると、エキシマランプ1から放射され反射鏡3により光出射方向に反射された紫外光の一部が、紫外光発光ダイオード4によって遮られるため、反射鏡3に設けられた光出射窓31から放射される紫外光の照度分布が不均一となるという不具合が生じる。それに対して、本実施形態の紫外光放射装置によれば、紫外光発光ダイオード4が反射鏡3の外部に取付けられた遮光カバー2に取付けられていることから、反射鏡3により光出射方向へ反射された紫外光が紫外光発光ダイオード4によって遮られることがないため、照度分布を均一化することができる。
(D) Since the ultraviolet
(オ)エキシマランプ1の点灯時には反射鏡3の内部が高温になるが、紫外光発光ダイオード4が反射鏡3の外部に取付けられた遮光カバー2に固定されているため、高温の影響により紫外光発光ダイオード4が劣化することによる短寿命化のおそれがない。
(E) When the
(カ)紫外光発光ダイオード4からは、波長400nm以下の紫外光が放射されるので、エキシマランプ1の始動に要する印加電圧を低減することができる。その理由を以下に説明する。
図1の構成に従い、先の実施例の寸法で作成されたエキシマランプに対して、発光ダイオードを用いて波長365nm、375nm、400nm、470nm、590nmのそれぞれの波長の光を照射させた状態において、エキシマランプを始動させるのに要する印加電圧の値を測定した。測定は、エキシマランプを暗黒状態に24時間以上放置した後に行った。詳細には、エキシマランプの消灯後、暗黒状態に24時間以上放置した後に、波長365nmの光を照射した状態で始動に要する印加電圧の値を測定した。その後、再度エキシマランプを暗黒状態に24時間以上放置した後に、波長375nmの光を照射した状態で始動に要する印加電圧の値を測定した。このような作業を繰り返して残りの全ての波長の光照射時における始動に要する印加電圧の値を測定した。
図2は、上記の測定結果を示すグラフであり、横軸は発光ダイオードの波長(nm)、縦軸は始動に要した印加電圧である。なお、このグラフは、波長375nmで測定した印加電圧の値を1として、その他の波長で測定した印加電圧の値を規格化している。
同図に示すように、波長365nm、375nm、400nmの光を照射した場合は、印加電圧の値はほぼ同じであったが、波長470nm、590nmの光を照射した場合は、始動に高い印加電圧を要することが明らかである。以上の結果から、エキシマランプの始動時に波長400nm以下の光を照射することにより、始動に要する印加電圧を低減できることが確認された。
(F) Since ultraviolet light having a wavelength of 400 nm or less is emitted from the ultraviolet
According to the configuration of FIG. 1, the excimer lamp created with the dimensions of the previous embodiment is irradiated with light having wavelengths of 365 nm, 375 nm, 400 nm, 470 nm, and 590 nm using a light emitting diode. The value of the applied voltage required to start the excimer lamp was measured. The measurement was performed after leaving the excimer lamp in a dark state for 24 hours or more. Specifically, after the excimer lamp was extinguished, it was allowed to stand in a dark state for 24 hours or more, and then the value of the applied voltage required for starting was measured in the state of irradiation with light having a wavelength of 365 nm. Thereafter, the excimer lamp was again left in the dark state for 24 hours or more, and then the value of the applied voltage required for starting was measured in a state where light having a wavelength of 375 nm was irradiated. Such an operation was repeated, and the value of the applied voltage required for starting at the time of light irradiation of all remaining wavelengths was measured.
FIG. 2 is a graph showing the above measurement results, where the horizontal axis represents the wavelength (nm) of the light emitting diode and the vertical axis represents the applied voltage required for starting. In this graph, the value of the applied voltage measured at a wavelength of 375 nm is set to 1, and the values of the applied voltage measured at other wavelengths are normalized.
As shown in the figure, when light with wavelengths of 365 nm, 375 nm, and 400 nm was irradiated, the value of the applied voltage was almost the same, but when light with wavelengths of 470 nm and 590 nm were irradiated, a high applied voltage for starting It is clear that it requires. From the above results, it was confirmed that the applied voltage required for starting can be reduced by irradiating light having a wavelength of 400 nm or less when starting the excimer lamp.
(キ)前記したように、放電容器内には乾癬治療に有効な波長308nmの光を放射させるためXeとCl2の混合ガスが封入されており、本発明はこのようなエキシマランプにおいて特に有用である。その理由を以下に説明する。
例えば、特許文献2には、エキシマランプの始動性を改善するために、放電容器内の放電空間に、白金、金等の金属導体を配置することが示されている。しかしながら、XeとCl2の混合ガスが封入されたエキシマランプにおいてこの技術を適用した場合には、時間の経過とともに金属導体とCl2とが反応することによってCl2が減少してやがてCl2が消滅することによりエキシマランプ点灯時にXeClエキシマが形成されなくなる結果、乾癬治療に必要な波長308nmの光が放射されなくなる、という不具合がある。そのため、XeとCl2の混合ガスを放電用ガスとするエキシマランプにおいては、放電容器内に金属導体を配置する方法ではなく、本発明のように放電ギャップが最短となる易放電空間に光エネルギーを照射する構成を採用すれば、Cl2の消滅が生じることがないことにより波長308nmの光が放射されなくなる心配がないものでありながら、始動性を改善することができる。このような点で、本発明はXeとCl2の混合ガスを放電用ガスとするエキシマランプにおいて特に有効である。
また、本発明は、上記と同様の理由から、Cl2等のハロゲンガスを含む混合ガスが封入されたエキシマランプにおいても、ハロゲンガスが消滅する心配がなく所望の波長の光を放射することができるため有効である。
(G) As described above, a mixed gas of Xe and Cl 2 is enclosed in the discharge vessel to emit light having a wavelength of 308 nm effective for treating psoriasis, and the present invention is particularly useful in such an excimer lamp. It is. The reason will be described below.
For example,
In addition, for the same reason as described above, the present invention can emit light having a desired wavelength without concern that the halogen gas will disappear even in an excimer lamp in which a mixed gas containing a halogen gas such as Cl 2 is sealed. It is effective because it can.
次に、本発明の第2の実施形態を図3を用いて説明する。
図3は本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図である。
同図に示すように、エキシマランプ1の一端に遮光カバー2’が設けられている点では、図1に示した紫外光放射装置と同様であるが、遮光カバー2’の側面22’に、エキシマランプ1の中心軸と平行な方向にアパーチャー部21’が形成されている点で相違する。アパーチャー部21’のエキシマランプ1側の開口部21A’は易放電空間SAに対向して配置され、紫外光発光ダイオード4の光出射面4Aはアパーチャー部21’の外方側の開口部21B’に対向して配置されている。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the ultraviolet light emitting device according to the invention of this embodiment.
As shown in the figure, the
すなわち、本実施形態の紫外光放射装置によれば、紫外光発光ダイオード4から発した紫外光をエキシマランプ1の側方から易放電空間SAに照射することにより、内部空間Sに初期電子が生成され、始動に要する印加電圧が低減される。
さらに、本実施形態の紫外光放射装置によれば、上述した第1の実施形態の紫外光放射装置における効果(ア)〜(キ)に加え、アパーチャー部21’の外方側の開口部21B’からは、紫外光が殆ど放射されないため、第1の実施形態の紫外光放射装置よりもより一層紫外光発光ダイオード4の短寿命化を防止することができる。
That is, according to the ultraviolet light emitting device of the present embodiment, by irradiating ultraviolet light emitted from the ultraviolet
Furthermore, according to the ultraviolet light emitting device of the present embodiment, in addition to the effects (a) to (g) in the ultraviolet light emitting device of the first embodiment described above, the
次に、本発明の第3の実施形態を図4を用いて説明する。
図4は本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図である。
第1および第2の実施形態の発明に係る紫外光放射装置においては、それぞれ図1および図3に示すように、エキシマランプ1の一端に遮光カバー2(2’)を設け、遮光カバー2(2’)に紫外光発光ダイオード4を固定する場合について説明したが、本実施形態の紫外光放射装置のように、遮光カバー2(2’)を設けない構成としてもよい。
図4において、反射鏡3’の上面3A’には、エキシマランプ1の外側管11に設けられた凸部11Aに対応する開口部34’が設けられている。紫外光発光ダイオード4は、開口部34’の近傍に、例えば、螺子止めにより固定された固定用冶具41に支持され、紫外光発光ダイオード4の光出射面4Aが易放電空間SAに対向している。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 4 is a longitudinal sectional view of the ultraviolet light emitting apparatus according to the invention of this embodiment.
In the ultraviolet light emission device according to the invention of the first and second embodiments, as shown in FIGS. 1 and 3, respectively, a light shielding cover 2 (2 ′) is provided at one end of the
In FIG. 4, an
次に、本発明の第4の実施形態を図5を用いて説明する。
図5は本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図である。
本実施形態の紫外光放射装置も、第3の実施形態の紫外光放射装置と同様に、遮光カバーを設けない構成である。
図5において、紫外光発光ダイオード4は、反射鏡3’の側面33’に、例えば、螺子止めにより固定された固定用冶具41’に支持されて、エキシマランプ1の側方側に配置され、紫外光発光ダイオード4の出射面4Aが易放電空間SAに対向している。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 5 is a longitudinal sectional view of the ultraviolet light emitting device according to the invention of this embodiment.
Similarly to the ultraviolet light emission apparatus of the third embodiment, the ultraviolet light emission apparatus of the present embodiment has a configuration in which no light shielding cover is provided.
In FIG. 5, the ultraviolet
次に、本発明の第5の実施形態を図6を用いて説明する。
図6は本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図である。
同図において、エキシマランプ1’の内側管12’と外側管11’は、同軸上にはなく、内側管12’が外側管11’に対して偏芯して配置されている。内側管12’と外側管11’間の上側の内部空間Sが易放電空間SAとなり、内側管12’と外側管11’間の下側の内部空間Sが放電空間SBとなる。
放電空間SBにおける放電ギャップG1は4mm〜19.5mmの範囲であって、例えば、8mmである。また、易放電空間SAにおける放電ギャップG2は0.5mm〜9mmの範囲であって、例えば、2mmである。
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view in the longitudinal direction of the ultraviolet light emission apparatus according to the invention of this embodiment.
In this figure, the
Discharge gap G1 in the discharge space S B is in the range of 4Mm~19.5Mm, for example, 8 mm. Further, the discharge gap G2 in the easy discharge space S A in the range of 0.5Mm~9mm, for example, 2 mm.
本実施形態の紫外光放射装置によれば、紫外光発光ダイオード4から発した紫外光を、易放電空間SAに存在する放電用ガスに照射した状態で、不図示の点灯電源により外側電極13および内側電極14間に高周波電圧を印加することによりエキシマランプ1’が点灯し、波長308nmの紫外光が放射される。
According to the ultraviolet light emitting device of the present embodiment, the ultraviolet light emitted from the ultraviolet
次に、本発明の第6の実施形態を図7を用いて説明する。
図7は本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図である。
同図において、エキシマランプ1”の内側管12”と外側管11”は、同軸上にはなく、内側管12”が外側管11”に対して偏芯して配置され、さらに、上側の外側管11”の一部に内部空間Sに向けて隆起する凸部11A”が設けられている。凸部11A”と内側管12”の内部空間側の面12A”との間の内部空間Sが易放電空間SAとなる。
下側の放電空間SBにおける放電ギャップG1は4mm〜19.5mmの範囲であって、例えば、8mmである。また、上側の放電空間SCにおける放電ギャップG2は0.5mm〜9mmの範囲であって、例えば、2mmである。また、易放電空間SAにおける放電ギャップG3は0.1mm〜2mmの範囲であって、例えば、0.5mmである。
Next, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 7 is a longitudinal sectional view of the ultraviolet light emitting apparatus according to the invention of this embodiment.
In the figure, the
It discharges gap G1 in the discharge space S B of the lower range from 4Mm~19.5Mm, for example, 8 mm. Further, the discharge gap G2 in the upper of the discharge space S C in the range of 0.5Mm~9mm, for example, 2 mm. The discharge gap G3 in the easy discharge space S A is in the range of 0.1 mm to 2 mm, for example, 0.5 mm.
本実施形態の紫外光放射装置によれば、紫外光発光ダイオード4から発した紫外光を、易放電空間SAに存在する放電用ガスに照射した状態で、不図示の点灯電源により外側電極13および内側電極14間に高周波電圧を印加することにより、エキシマランプ1”が点灯し、波長308nmの紫外光が放射される。
According to the ultraviolet light emitting device of the present embodiment, the ultraviolet light emitted from the ultraviolet
次に、本発明の第7の実施形態を図8を用いて説明する。
図8は本実施形態の発明に係る紫外光放射装置の長手方向の断面図である。
同図において、エキシマランプ80は、全体が管状の放電容器81から構成されており、放電容器81は、放電用ガスが封入された円筒状の発光部82と発光部82の両端を気密する扁平な封止部83とから形成されている。放電容器81は、エキシマ光を透過させる合成石英ガラス等の誘電体材料から構成され、その内部空間Sには、コイル状の内側電極84が放電容器81の中心軸上を伸びるように配置され、放電容器81の外面には外側電極85が密着するように配置されている。内側電極84の両端は、封止部83においてそれぞれ金属箔86に接合され、金属箔86には、封止部83から外部に突出する外部リード87が接合されている。
内側電極84は、タングステン等からなる線材をコイル状に巻回して形成されたコイル状電極であり、内側電極84の周囲には、これを覆うように誘電体材料からなる内側管88が設けられ、内側管88の中に内側電極84が挿入されている。内側管88は、例えば、合成石英ガラスから構成されており、内側電極84の少なくとも外側電極85との間で放電を行う部位の外表面に覆われていて、その端部は外側電極85の端部を超えて伸びている。内側管88は、放電安定性を高めるためのものであって、その端部が封止部83には埋設されていない。
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
FIG. 8 is a longitudinal sectional view of the ultraviolet light emitting device according to the invention of this embodiment.
In the figure, an
The
発光部82の内部空間Sには、放電用ガスとして、例えば、キセノンガスが封入されているが、先の各実施形態における2重円筒管構造のエキシマランプと同様の放電用ガスを使用することができる。ただし、内部電極84が放電容器81中の放電用ガスに曝されるので、内部電極84とハロゲンガスが反応することでハロゲンガスが時間の経過とともに消滅して所望の波長の光が放射されなくなることを回避するため、希ガス単体の放電用ガスを使用することが好ましい。
放電容器81の発光部82の端部に、内部空間Sに向けて隆起する凸部82Aが形成されている。凸部82Aと内側管88の内部空間側の面88Aとの間の内部空間Sが易放電空間SAとなる。
放電空間SBにおける放電ギャップG1は3mm〜10mmの範囲であって、例えば、5mmである。また、易放電空間SAにおける放電ギャップG2は0.1mm〜2mmの範囲であって、例えば、0.5mmである。
なお、易放電空間SAを形成する方法としては、内部空間Sに向けて隆起する凸部82Aを発光部82に設けることに限られず、内部空間Sに向けて隆起する凸部を内側管88に設けるようにしてもよい。
For example, xenon gas is enclosed in the internal space S of the
A
The discharge gap G1 in the discharge space S B is in the range of 3 mm to 10 mm, for example, 5 mm. Further, the discharge gap G2 in the easy discharge space S A in the range of 0.1 mm to 2 mm, for example, 0.5 mm.
As a method of forming an easy discharge space S A, not limited to the provision of the
本実施形態の紫外光放射装置によれば、紫外光発光ダイオード4から発した紫外光を、易放電空間SAに存在する放電用ガスに照射した状態で、不図示の点灯電源により外側電極85および内側電極84間に高周波電圧を印加することにより、エキシマランプ80が点灯し、波長172nmの紫外光が放射される。
According to the ultraviolet light emitting device of the present embodiment, the ultraviolet light emitted from the ultraviolet
1 エキシマランプ
2 遮光カバー
2A 上面
21 アパーチャー部
21A 開口部
21B 開口部
22 側面
23 開口部
3 反射鏡
31 光出射窓
32 側面
33 側面
36 開口部
37 開口部
38 開口部
4 紫外光発光ダイオード
4A 光出射面
41 固定用冶具
42 制御器
5 点灯電源
51 給電線
52 給電線
10 放電容器
11 外側管
11A 凸部
12 内側管
12A 内側管12の内部空間S側の面
13 外側電極
14 内側電極
1’ エキシマランプ
10’放電容器
11’ 外側管
12’ 内側管
2’ 遮光カバー
21’ アパーチャー部
21A’ 開口部
21B’ 開口部
22’
3’反射鏡
3A’上面
33’ 側面
34’ 開口部
41’ 固定用冶具
10”放電容器
11” 外側管
11A” 凸部
12” 内側管
12A” 内側管12”の内部空間S側の面
80 エキシマランプ
81 放電容器
82 発光部
82A 凸部
83 封止部
84 内側電極
85 外側電極
86 金属箔
87 外部リード
88 内側管
88A 面
S 内部空間
SA 易放電空間
SB 放電空間
SC 放電空間
G1 放電ギャップ
G2 放電ギャップ
1
41
21 '
3 'reflecting
S internal space
S A easy discharge space S B discharge space
S C discharge space G1 discharge gap G2 discharge gap
Claims (9)
前記放電容器は、内部空間における放電ギャップが不均一となるよう形成され、前記放電ギャップが最短となる易放電空間に対し、光エネルギーを照射するための光エネルギー放射手段が設けられていることを特徴とする紫外光放射装置。 In an ultraviolet light emitting device including an excimer lamp including a discharge vessel made of a dielectric material in which a discharge gas is sealed in an internal space, and a pair of electrodes disposed via the dielectric material,
The discharge vessel is formed so that a discharge gap in an internal space is non-uniform, and light energy emitting means for irradiating light energy to an easy discharge space in which the discharge gap is shortest is provided. A featured ultraviolet light radiation device.
9. The ultraviolet light emitting device according to claim 8, wherein the discharge gas is a mixed gas of xenon (Xe) gas and chlorine (Cl 2 ) gas.
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010179240A (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Ushio Inc | Light irradiation unit |
WO2012124505A1 (en) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | ユーヴィックス株式会社 | Excimer lamp |
JP2017068944A (en) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社オーク製作所 | Excimer lamp device |
JP2018055965A (en) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 株式会社オーク製作所 | Discharge lamp and discharge lamp device |
WO2021025063A1 (en) * | 2019-08-05 | 2021-02-11 | ウシオ電機株式会社 | Uv irradiation apparatus |
JP6896919B1 (en) * | 2020-08-03 | 2021-06-30 | 株式会社クォークテクノロジー | Sterilization lamp |
WO2022038837A1 (en) * | 2020-08-20 | 2022-02-24 | 株式会社島津製作所 | Inspection device |
JP7087754B2 (en) | 2018-07-17 | 2022-06-21 | ウシオ電機株式会社 | Ozone generator and processing system with ozone generator |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08180840A (en) * | 1994-12-22 | 1996-07-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Electrodeless discharge lamp device |
JPH10275601A (en) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Toshiba Lighting & Technol Corp | Dielectric barrier discharge lamp and dielectric barrier discharge lamp device |
JPH11283578A (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Toshiba Lighting & Technology Corp | Discharge lamp and discharge lamp device |
JP2003100256A (en) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Toshiba Lighting & Technology Corp | High pressure metallic vapor discharge lamp and luminaire |
JP2004171889A (en) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Ushio Inc | Excimer light source device |
JP2004227820A (en) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Iwasaki Electric Co Ltd | Discharge lamp |
JP2005230373A (en) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Fujitsu General Ltd | Ultraviolet lamp unit |
JP2006040867A (en) * | 2004-06-23 | 2006-02-09 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | Excimer lamp apparatus |
JP2007173090A (en) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Ushio Inc | Ultraviolet light source system |
-
2006
- 2006-06-01 JP JP2006153719A patent/JP4811135B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08180840A (en) * | 1994-12-22 | 1996-07-12 | Matsushita Electric Works Ltd | Electrodeless discharge lamp device |
JPH10275601A (en) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Toshiba Lighting & Technol Corp | Dielectric barrier discharge lamp and dielectric barrier discharge lamp device |
JPH11283578A (en) * | 1998-03-27 | 1999-10-15 | Toshiba Lighting & Technology Corp | Discharge lamp and discharge lamp device |
JP2003100256A (en) * | 2001-09-25 | 2003-04-04 | Toshiba Lighting & Technology Corp | High pressure metallic vapor discharge lamp and luminaire |
JP2004171889A (en) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Ushio Inc | Excimer light source device |
JP2004227820A (en) * | 2003-01-21 | 2004-08-12 | Iwasaki Electric Co Ltd | Discharge lamp |
JP2005230373A (en) * | 2004-02-23 | 2005-09-02 | Fujitsu General Ltd | Ultraviolet lamp unit |
JP2006040867A (en) * | 2004-06-23 | 2006-02-09 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | Excimer lamp apparatus |
JP2007173090A (en) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Ushio Inc | Ultraviolet light source system |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010179240A (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Ushio Inc | Light irradiation unit |
WO2012124505A1 (en) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | ユーヴィックス株式会社 | Excimer lamp |
CN103229273A (en) * | 2011-03-15 | 2013-07-31 | 优维克斯股份有限公司 | Excimer lamp |
JP2017068944A (en) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | 株式会社オーク製作所 | Excimer lamp device |
JP2018055965A (en) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | 株式会社オーク製作所 | Discharge lamp and discharge lamp device |
JP7087754B2 (en) | 2018-07-17 | 2022-06-21 | ウシオ電機株式会社 | Ozone generator and processing system with ozone generator |
JP7020591B2 (en) | 2019-08-05 | 2022-02-16 | ウシオ電機株式会社 | Ultraviolet irradiation device |
WO2021025063A1 (en) * | 2019-08-05 | 2021-02-11 | ウシオ電機株式会社 | Uv irradiation apparatus |
WO2021025064A1 (en) * | 2019-08-05 | 2021-02-11 | ウシオ電機株式会社 | Light irradiation device |
JPWO2021025063A1 (en) * | 2019-08-05 | 2021-10-21 | ウシオ電機株式会社 | Ultraviolet irradiation device |
JP6912684B1 (en) * | 2020-08-03 | 2021-08-04 | 株式会社クォークテクノロジー | Sterilization lamp |
JP2022028605A (en) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 株式会社クォークテクノロジー | Sterilization lamp |
JP2022028381A (en) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 株式会社クォークテクノロジー | Sterilization lamp |
JP6896919B1 (en) * | 2020-08-03 | 2021-06-30 | 株式会社クォークテクノロジー | Sterilization lamp |
WO2022038837A1 (en) * | 2020-08-20 | 2022-02-24 | 株式会社島津製作所 | Inspection device |
CN115916692A (en) * | 2020-08-20 | 2023-04-04 | 株式会社岛津制作所 | Inspection apparatus |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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