JP2007316336A - Near-infrared absorption filter for plasma display panel, method of manufacturing the same and plasma display panel - Google Patents

Near-infrared absorption filter for plasma display panel, method of manufacturing the same and plasma display panel Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress the deterioration of designability in a near-infrared filter for a plasma display panel which has a dispersed body formed by dispersing multiple tungsten oxide fine particles. <P>SOLUTION: In the near-infrared absorption filter formed by dispersing a near-infrared absorption material together with an organic ultraviolet absorbing agent in the dispersed body existing in the near-infrared filter for a plasma display panel, when a wavelength in a peak position of total light reflection in ≤450 nm wavelength range in a case that the organic ultraviolet absorbing agent is not added is expressed by λ(0) and the peak intensity is P(0) and a wavelength in a peak position of total light reflection in ≤450 nm wavelength range in a case that the organic ultraviolet absorbing agent is added is expressed by λ(1) and the peak intensity is P(I), an intensity of total light reflection in wavelength λ(0) is made into P(1)' λ(1)≥λ(0), P(1)≤P(0) and [P(0)-P(1)']/P(0)≥0.05 are satisfied. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル用の光学フィルターであって、プラズマディスプレイ本体からプラズマディスプレイパネル画面前面に向けて放射される近赤外線を吸収するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びにプラズマディスプレイパネルに関するものである。   The present invention relates to an optical filter for a plasma display panel, a near-infrared absorbing filter for a plasma display panel that absorbs near-infrared rays radiated from the plasma display main body toward the front surface of the plasma display panel screen, a manufacturing method thereof, and plasma It relates to a display panel.

近年、ディスプレイの大型化、薄型化に伴い、プラズマディスプレイパネルが注目を集めている。このプラズマディスプレイパネルの一般的構成について図面を参照しながら説明する。図1は、交流型(AC型)のプラズマディスプレイパネルの概略を示す断面図である。図1において、11は、前面ガラス基板(フロントカバープレート)であり、この前面ガラス基板11上に表示電極12が形成されている。更に、この表示電極12が形成されている前面ガラス基板11は、誘電体ガラス層13及び酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層14により覆われている(例えば、特許文献1参照)。また、15は、背面ガラス基板(バックプレート)であり、この背面ガラス基板15上には、アドレス電極16および隔壁17、蛍光体層18が設けられており、19が放電ガスを封入する放電空間となっている。   In recent years, plasma display panels have been attracting attention as the displays have become larger and thinner. A general configuration of the plasma display panel will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an outline of an AC type (AC type) plasma display panel. In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a front glass substrate (front cover plate), and display electrodes 12 are formed on the front glass substrate 11. Further, the front glass substrate 11 on which the display electrodes 12 are formed is covered with a dielectric glass layer 13 and a protective layer 14 made of magnesium oxide (MgO) (see, for example, Patent Document 1). Reference numeral 15 denotes a rear glass substrate (back plate). On the rear glass substrate 15, address electrodes 16, barrier ribs 17, and phosphor layers 18 are provided, and a discharge space 19 encloses a discharge gas. It has become.

そして、プラズマディスプレイパネルの発光原理は、上記放電空間19において、電圧を印加することにより放電させ、放電空間に導入していたキセノンとネオンの混合ガスを励起して真空紫外線を放射させ、これが、赤、緑、青のそれぞれの蛍光体を発光させてカラー表示を可能にさせている。   The light emission principle of the plasma display panel is that the discharge space 19 is discharged by applying a voltage to excite the mixed gas of xenon and neon introduced into the discharge space to emit vacuum ultraviolet rays. Red, green, and blue phosphors emit light to enable color display.

このとき、キセノンガスから真空紫外線以外に近赤外線が発生し、プラズマディスプレイパネル前方に一部が放射される。特に800nm〜1100nmの波長域は、コードレスフォンや家電機器のリモコンの誤動作を引き起こしたり、伝送系光通信に悪影響を及ぼしたりする等の問題が生じている。この問題の解消のため、プラズマディスプレイパネルの前面には、上記誤動作等を防止する目的で、近赤外線の遮蔽加工が施されている。これら近赤外線の遮蔽加工に用いられる近赤外線吸収剤には、ディスプレイの輝度に悪影響を及ぼさないよう可視光線領域(約380nm〜780nm)の光は十分透過し、800nm〜1100nmの近赤外線を遮蔽するような特性が要求される。   At this time, near infrared rays other than vacuum ultraviolet rays are generated from the xenon gas, and a part of the near infrared rays is emitted in front of the plasma display panel. In particular, in the wavelength region of 800 nm to 1100 nm, problems such as malfunction of a cordless phone or a remote control of home appliances or adverse effects on transmission optical communication have occurred. In order to solve this problem, the front surface of the plasma display panel is subjected to a near-infrared shielding process for the purpose of preventing the malfunction and the like. These near-infrared absorbers used in the near-infrared shielding process sufficiently transmit light in the visible light region (about 380 nm to 780 nm) so as not to adversely affect the luminance of the display, and shield near-infrared rays of 800 nm to 1100 nm. Such characteristics are required.

当該要求を満たす手段として、近赤外線の吸収能を有するフィルターがある。そして当該近赤外線の吸収能を有するフィルターとして、(1)燐酸系ガラスに、銅や鉄などの金属イオンを含有したフィルター、(2)屈折率の異なる層を積層し、透過光を干渉させることで特定の波長を透過させる干渉フィルター、(3)共重合体に銅イオンを含有するアクリル系樹脂フィルター、(4)樹脂に色素を分散又は溶解した層を積層したフィルター、(5)金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた積層フィルター、が提案されている。   As a means for satisfying the requirement, there is a filter having a near infrared absorption ability. And as a filter having the near-infrared absorbing ability, (1) a filter containing metal ions such as copper and iron on phosphoric acid glass, and (2) a layer having a different refractive index is laminated to interfere with transmitted light. (3) An acrylic resin filter containing copper ions in the copolymer, (4) A filter in which a layer in which a pigment is dispersed or dissolved is laminated, and (5) a metal thin film layer. There has been proposed a multilayer filter in which one or more layers of a multilayer structure in which is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers are stacked.

これらの中で(4)のフィルターは、加工性、生産性が良好で、光学設計の自由度も比較的大きく、各種の方法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   Among these, the filter (4) has good workability and productivity, and has a relatively large degree of freedom in optical design, and various methods have been proposed (for example, see Patent Document 2).

また、(5)の金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた積層フィルターは、例えば、特許文献3に開示されている。この金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚みの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚みを増やすことが可能である。また、層数および/またはそれぞれの層の厚みを制御することによって可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、および反射色をある範囲で変化させることも可能である。   Further, for example, Patent Document 3 discloses a multilayer filter in which one or more layers of a multilayer structure in which a metal thin film layer (5) is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers is stacked. When the metal thin film layer is thick, the visible light transmittance is low, and when it is thin, the reflection of near infrared light is weak. However, it is possible to increase the visible light transmittance and increase the overall thickness of the metal thin film layer by stacking one or more layers of a laminated structure in which a metal thin film layer of a certain thickness is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers. It is. It is also possible to change the visible light transmittance, visible light reflectance, near-infrared transmittance, transmitted color, and reflected color within a certain range by controlling the number of layers and / or the thickness of each layer. .

一般に、可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストとが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、上記(5)の積層フィルターは、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましいとされている。この積層フィルターは、高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(a)、金属薄膜層(b)の順に、(a)及び(b)を繰り返し単位として2〜4回繰り返して積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層(a)を積層して形成される。金属薄膜層の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適であるとされている。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金、またはこれら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に、金およびパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適であるとされている。   In general, when the visible light reflectance is high, the reflection of a lighting fixture or the like on the screen is increased, the effect of preventing reflection on the surface of the display unit is reduced, and visibility and contrast are reduced. Further, as the reflected color, white, blue, and purple-colored colors that are not conspicuous are preferable. For these reasons, the multilayer filter of the above (5) is preferably a multilayer laminate that is easy to optically design and control. This multilayer filter has a high refractive index transparent thin film layer (a) and a metal thin film layer (b) in order of (a) and (b) 2-4 times on one main surface of the polymer film. It is formed by repeatedly laminating and further laminating at least a high refractive index transparent thin film layer (a) thereon. As a material for the metal thin film layer, silver is considered preferable because it is excellent in conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when multilayered. However, since silver lacks chemical and physical stability and deteriorates due to environmental pollutants, water vapor, heat, light, etc., it is stable to silver, gold, platinum, palladium, copper, indium, tin, etc. An alloy to which one or more metals are added, or an environment-stable metal can also be suitably used. In particular, gold and palladium are considered to be excellent in environmental resistance and optical properties and suitable.

一方、本発明者らは、特許文献4において、日射遮蔽機能を有する微粒子が、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.0<z/y<3.0)で表記されるタングステン酸化物の微粒子、および/または、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Reの内から選択される1種以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.0<z/y≦3.0)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子で構成される日射遮蔽用合わせ構造体を提案している。   On the other hand, the inventors of the present invention described in Patent Document 4 that the fine particles having a solar radiation shielding function are represented by the general formula WyOz (where W is tungsten, O is oxygen, 2.0 <z / y <3.0). Fine particles of tungsten oxide and / or general formula MxWyOz (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh) Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te , Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, one or more elements, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x / y ≦ 1, 2.0 <z / y ≦ 3.0) composed of fine particles of composite tungsten oxide It has proposed a solar radiation shielding for the alignment structures.

さらに、本発明者等は、特許文献5において、プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターとして、近赤外線を吸収する無機材料に注目し、可視光線領域を透過させ近赤外線領域を遮蔽する耐候性の良い無機材料微粒子として、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物の1種類以上の微粒子を用いることによって、波長380nm〜780nm領域の可視領域の線透過率の最高値が50%以上、波長800nm〜1100nm領域における透過率の極小値が30%以下であり、耐候性が良好で、しかも安価に作製できるプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターが得られることを提案している。   Furthermore, in the patent document 5, the present inventors pay attention to an inorganic material that absorbs near-infrared rays as a near-infrared absorption filter for plasma display panels, and has good weather resistance that transmits the visible light region and shields the near-infrared region. By using one or more kinds of fine particles of composite tungsten oxide having an average dispersed particle size of 800 nm or less as the inorganic material fine particles, the maximum value of the linear transmittance in the visible region in the wavelength range of 380 nm to 780 nm is 50% or more, and the wavelength is 800 nm. It has been proposed that a near-infrared absorption filter for a plasma display panel can be obtained which has a minimum transmittance of 30% or less in the region of ˜1100 nm, has good weather resistance, and can be produced at low cost.

特開平5−342991号公報JP-A-5-342991 特開2002−82219号公報JP 2002-82219 A 特許第3706105号Japanese Patent No. 3706105 国際公開第WO2005/087680A1号パンフレットInternational Publication No. WO2005 / 087680A1 Pamphlet 特願平2004−347204号Japanese Patent Application No. 2004-347204

ところで、上述の(1)のような金属イオンを含有したガラスフィルターは、素材がガラスであるため、加工性に問題がある。また、(2)のような光の干渉を利用した多層膜構造のフィルターは、10nm〜数百nmの薄膜を多層に重ねて作製されるため、高精度の均一性が必要となり製造が困難である。また、(3)のようなアクリル系樹脂フィルターでは、銅イオンの近赤外線吸収能が小さい上、樹脂中に含有できる銅イオン量にも限度があるため、アクリル樹脂層を厚くしなければならないという問題点がある。(4)のような色素を用いたフィルターでは近赤外線吸収能に限界があり、耐候性が良くない等の問題がある。また、また、(5)のようなスパッタリング法等の乾式法を用いて、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた積層フィルターを作製する場合には、装置が大掛かりとなり製造コストが割高となる問題があった。   By the way, the glass filter containing metal ions as described in the above (1) has a problem in workability because the material is glass. In addition, the multilayer film structure filter using light interference as described in (2) is manufactured by stacking thin films of 10 nm to several hundreds of nm in multiple layers, which requires high precision uniformity and is difficult to manufacture. is there. In addition, in the acrylic resin filter as in (3), since the near-infrared absorption ability of copper ions is small and the amount of copper ions that can be contained in the resin is limited, the acrylic resin layer must be thickened. There is a problem. A filter using a dye such as (4) has a problem that the near-infrared absorption ability is limited and the weather resistance is not good. In addition, when a dry filter such as a sputtering method such as (5) is used to produce a multilayer filter in which a multilayer structure in which a metal thin film layer is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers is stacked, There is a problem that the apparatus becomes large and the manufacturing cost is high.

また、複合タングステン酸化物微粒子のみで構成された膜を用いた、上記特許文献5の近赤外線吸収フィルターでは、近赤外線吸収フィルターとして高特性を示すが、プラズマディスプレイパネルのように、背景が黒色の部位に使用する場合や、映像が投影されていない時に、画面が青白く見えて、意匠性が低下するという課題があった。   In addition, the near-infrared absorption filter of Patent Document 5 using a film composed only of composite tungsten oxide fine particles shows high characteristics as a near-infrared absorption filter, but the background is black like a plasma display panel. When used for a part or when an image is not projected, there is a problem that the screen looks pale and the design is deteriorated.

本発明の目的は、上述の事情を考慮してなされたものであり、複合タングステン酸化物微粒子で散乱した散乱光を有機紫外線吸収剤によって吸収させて、背景が黒色の部位に使用する場合や、映像が投影されていない時に画面が青白く見えるという課題を解決するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター及びその製造方法、並びに上記近赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することにある。   The object of the present invention has been made in consideration of the above-mentioned circumstances, and the scattered light scattered by the composite tungsten oxide fine particles is absorbed by the organic ultraviolet absorber, and used in a site where the background is black, An object of the present invention is to provide a near-infrared absorption filter for a plasma display panel that solves the problem that the screen looks pale when an image is not projected, a method for manufacturing the same, and a plasma display panel using the near-infrared absorption filter.

即ち、上述の課題を解決するための第1の構成は、
プラズマディスプレイパネルの表面に設けられ、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体を有するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターであって、
上記近赤外線吸収材料は、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子であり、
上記有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の領域に吸収を有する光吸収微粒子であり、
上記有機紫外線吸収剤無添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(0)nm、ピーク強度をP(0)とし、
上記有機紫外線吸収剤添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(1)nm、ピーク強度をP(1)、前記波長λ(0)nmにおける同全光線反射の強度をP(1)’としたとき、
λ(1)≧λ(0)
P(1)≦P(0)
[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05
を満たすことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
That is, the first configuration for solving the above-described problem is:
A near-infrared absorption filter for a plasma display panel, which is provided on the surface of a plasma display panel and has a dispersion in which near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber are dispersed,
The near-infrared absorbing material is a composite tungsten oxide fine particle having an average dispersed particle size of 800 nm or less,
The organic ultraviolet absorber is a light-absorbing fine particle having absorption in a wavelength region of 450 nm or less,
In the near infrared absorption filter for plasma display panel when the organic ultraviolet absorber is not added, the wavelength of the peak position of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less is λ (0) nm, the peak intensity is P (0),
In the near infrared absorption filter for plasma display panel when the organic ultraviolet absorber is added, the wavelength of the peak position of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less is λ (1) nm, the peak intensity is P (1), and the wavelength When the intensity of the total light reflection at λ (0) nm is P (1) ′,
λ (1) ≧ λ (0)
P (1) ≦ P (0)
[P (0) −P (1) ′] / P (0) ≧ 0.05
It is a near-infrared absorption filter for plasma display panels characterized by satisfying.

第2の構成は、
基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
上記基材内もしくは上記被膜内、または、上記基材内と上記被膜内との両方に、上記近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が、分散され分散体となっていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The second configuration is
Having a substrate and a coating formed on one or both sides of the substrate;
The coating film has a resin or transparent oxide material as a binder component,
The mixture of the near-infrared absorbing material particles and the organic ultraviolet absorber is dispersed in the base material or the coating film, or both the base material and the coating film to form a dispersion. The near-infrared absorption filter for plasma display panels described in the first configuration.

第3の構成は、
基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
上記基材内に上記近赤外線吸収材料粒子が分散され且つ上記被膜内に上記有機紫外線吸収剤が分散され分散体となっているか、または、上記基材内に有機紫外線吸収剤が分散され且つ上記被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散され分散体となっていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The third configuration is
Having a substrate and a coating formed on one or both sides of the substrate;
The coating film has a resin or transparent oxide material as a binder component,
The near-infrared absorbing material particles are dispersed in the substrate and the organic ultraviolet absorber is dispersed in the coating to form a dispersion, or the organic ultraviolet absorber is dispersed in the substrate and The near-infrared absorbing filter for a plasma display panel according to the first configuration, wherein the near-infrared absorbing material particles are dispersed in a coating to form a dispersion.

第4の構成は、
プラズマディスプレイパネルの表面に接着層を介して基材が配置され、
上記基材と接着層の少なくとも一方に近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散され分散体となり、または、上記基材に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の一方が、上記接着層に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の他方がそれぞれ分散され分散体となっていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The fourth configuration is
A substrate is disposed on the surface of the plasma display panel via an adhesive layer,
A mixture of near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber is dispersed in at least one of the substrate and the adhesive layer to form a dispersion, or one of the near-infrared absorbing material particles or the organic ultraviolet absorber is dispersed on the substrate. The near-infrared absorbing filter for a plasma display panel according to the first configuration, wherein the other layer of the near-infrared absorbing material particles or the organic ultraviolet absorber is dispersed in the adhesive layer to form a dispersion. is there.

第5の構成は、
プラズマディスプレイパネルの表面に、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散された分散体の被膜が設けられていることを特徴とする第1の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The fifth configuration is
The near-infrared ray for a plasma display panel according to the first configuration, characterized in that a coating film of a dispersion in which a mixture of near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber is dispersed is provided on the surface of the plasma display panel. Absorption filter.

第6の構成は、
上記複合タングステン酸化物微粒子が、一般式MxWO(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x≦1)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子であることを特徴とする第1乃至第5の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The sixth configuration is
The composite tungsten oxide fine particles have the general formula MxWO 3 (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir). Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, one or more elements selected from W, tungsten, O is oxygen, and 0.001 ≦ x ≦ 1) The near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to any one of the first to fifth configurations, wherein the composite tungsten oxide fine particles are formed.

第7の構成は、
上記有機紫外線吸収剤が、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択されたいずれか1種類以上であることを特徴とする第1乃至第6の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The seventh configuration is
1st thru | or 6th structure characterized by the said organic ultraviolet absorber being any one or more selected from the hydroxyphenyl triazine type ultraviolet absorber, the benzotriazole type ultraviolet absorber, and the benzophenone type ultraviolet absorber. The near-infrared absorption filter for plasma display panels in any one of these.

第8の構成は、
上記一般式MxWOで表記される上記複合タングステン酸化物微粒子が、六方晶、または、正方晶、または、立方晶のいずれかの結晶構造を有していることを特徴とする第6または第7の構成に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The eighth configuration is
The composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula MxWO 3 have a hexagonal, tetragonal, or cubic crystal structure. It is a near-infrared absorption filter for plasma display panels as described in said structure.

第9の構成は、
上記M元素が、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snのうちのいずれか1種類以上であることを特徴とする第6乃至第8の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The ninth configuration is
Any of the sixth to eighth configurations, wherein the M element is at least one of Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, and Sn. It is a near-infrared absorption filter for plasma display panels as described in above.

第10の構成は、
上記基材が、プラスチックボード、フィルム、またはガラスで構成されていることを特徴とする第2乃至第9の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The tenth configuration is
The near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to any one of the second to ninth configurations, wherein the substrate is made of a plastic board, a film, or glass.

第11の構成は、
上記バインダー成分が、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、金属アルコキシド、粘着材から選択されたいずれか1種類以上の成分を有することを特徴とする第2乃至第10の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターである。
The eleventh configuration is
The second to tenth aspects, wherein the binder component has one or more components selected from an ultraviolet curable resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a room temperature curable resin, a metal alkoxide, and an adhesive material. It is a near-infrared absorption filter for plasma display panels in any one of composition.

第12の構成は、
プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法であって、
上記近赤外線吸収材料として、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子を所定の媒体に、0.01g/m〜10g/mの濃度で分散して分散体を得る工程と、
波長450nm以下の領域に吸収を有する有機紫外線吸収剤を、上記所定の媒体に、上記近赤外線吸収材料の分散重量の、1/200〜1/40の重量で分散して分散体を得る工程と、を有し、
当該得られた分散体を用いて近赤外線吸収フィルターを製造することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法である。
The twelfth configuration is
A method for producing a near-infrared absorbing filter for a plasma display panel,
As the near-infrared-absorbing material, a step of mean dispersed particle diameter of the following composite tungsten oxide microparticles 800nm on a predetermined medium to obtain a dispersion dispersed in a concentration of 0.01g / m 2 ~10g / m 2 ,
A step of obtaining a dispersion by dispersing an organic ultraviolet absorbent having absorption in a wavelength region of 450 nm or less in the predetermined medium at a weight of 1/200 to 1/40 of the dispersion weight of the near-infrared absorbing material; Have
A near-infrared absorption filter for a plasma display panel is produced using the obtained dispersion to produce a near-infrared absorption filter.

第13の構成は、
第1乃至第11の構成のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
The thirteenth configuration is
A plasma display panel using the near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to any one of the first to eleventh configurations.

本発明に係るプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターによれば、複合タングステン酸化物微粒子で散乱した散乱光を、有機紫外線吸収剤によって吸収させることによって、プラズマディスプレイパネルの背景が黒色の部位に使用したときや、映像が投影されていない時に、画面が青白く見えるという意匠性の低下を抑制することができ、実用性が高い。   According to the near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to the present invention, the scattered light scattered by the composite tungsten oxide fine particles is absorbed by the organic ultraviolet absorber, so that the background of the plasma display panel is used in a black portion. Sometimes, when the image is not projected, it is possible to suppress the deterioration of the design property that the screen looks pale, and the utility is high.

また、当該近赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネルにおいても、上述と同様に、背景が黒色の部位や映像が投影されていない時に、画面が青白く見える意匠性の低下を抑制することができる。   Further, in the plasma display panel using the near-infrared absorption filter, similarly to the above, it is possible to suppress the deterioration of the design that makes the screen appear bluish when no black portion or image is projected on the background.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
複合タングステン酸化物を近赤外線吸収材として適用する場合、工業的に安価で簡便な方法として微粒子分散法が挙げられる。これは、上記複合タングステン酸化物の微粒子を、基材上に形成した被膜内に均一に分散して分散体とし、ここを透過する近赤外線を遮蔽する方法である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
When the composite tungsten oxide is applied as a near-infrared absorbing material, a fine particle dispersion method is an industrially inexpensive and simple method. This is a method in which the fine particles of the composite tungsten oxide are uniformly dispersed in a film formed on a substrate to form a dispersion, and near infrared rays transmitted therethrough are shielded.

上記微粒子分散法でプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを作製するとき、複合タングステン酸化物微粒子の粒子径は800nm以下であることを要し、好ましくは200nm以下、更に好ましくは100nm以下が良い。該微粒子の粒子径が800nm以下であれば、ディスプレイから放射される波長380nm〜780nmの可視光線領域の光が、幾何学散乱若しくはミー散乱により散乱されて曇りガラスのようになることを防止できるため、鮮明な画面表示が得られ好ましい。粒子径が200nm以下、好ましくは、100nm以下になると、上記散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の6乗に反比例して低減するため、散乱が低減し鮮明な画面表示が可能となる。さらに100nm以下になると散乱光は更に少なくなり透明性が良好になる。   When producing a near infrared absorption filter for a plasma display panel by the fine particle dispersion method, the particle diameter of the composite tungsten oxide fine particles needs to be 800 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less. If the particle diameter of the fine particles is 800 nm or less, it is possible to prevent the light in the visible light region having a wavelength of 380 nm to 780 nm emitted from the display from being scattered by geometric scattering or Mie scattering to become a frosted glass. It is preferable that a clear screen display is obtained. When the particle diameter is 200 nm or less, preferably 100 nm or less, the scattering is reduced and a Rayleigh scattering region is obtained. In the Rayleigh scattering region, the scattered light decreases in inverse proportion to the sixth power of the particle diameter, so that the scattering is reduced and a clear screen display is possible. Further, when the thickness is 100 nm or less, the scattered light is further reduced and the transparency is improved.

しかし、上述したように、複合タングステン酸化物微粒子のみが分散した分散体で構成された膜を用いた、上記特許文献5に記載の近赤外線吸収フィルターでは、近赤外線吸収フィルターとして高特性を示すが、プラズマディスプレイパネルのように背景が暗色系になる場合や、もしくは映像が投影されていない時に画面が青白く見えて、意匠性が低下するという問題があった。   However, as described above, the near-infrared absorption filter described in Patent Document 5 using a film composed of a dispersion in which only composite tungsten oxide fine particles are dispersed exhibits high characteristics as a near-infrared absorption filter. However, when the background is dark as in the case of a plasma display panel, or when an image is not projected, the screen looks pale and the design is degraded.

そこで、本発明者らは、上記特許文献に記載の近赤外線吸収フィルターにおいて画面が青白く見えて意匠性が低下する原因を研究した。そして、数十nmレベルの微粒子を分散した膜においても微少な光の散乱が生じ、特に、複合酸化タングステン微粒子分散体の場合、波長350nmから400nmの領域の散乱光が顕著であり、この領域の散乱光が意匠性低下の原因であることに想到した。   Therefore, the present inventors have studied the cause of design deterioration in the near-infrared absorption filter described in the above-mentioned patent document because the screen looks pale. Further, even in a film in which fine particles of several tens of nm level are dispersed, a slight amount of light scattering occurs. Particularly, in the case of a composite tungsten oxide fine particle dispersion, scattered light in a wavelength region of 350 nm to 400 nm is remarkable. I came up with the idea that scattered light is the cause of design deterioration.

そこで、本発明者らはさらに研究を続け、有機紫外線吸収剤のように、可視光領域において、特に波長350nm〜450nmの領域の光を吸収する化合物を、複合酸化タングステン微粒子と同時に分散体中に分散させることで、問題となる青白色の散乱光が抑制されることを見出した。   Therefore, the present inventors continued further research, and in the dispersion, simultaneously with the composite tungsten oxide fine particles, a compound that absorbs light in the visible light region, particularly in the wavelength region of 350 nm to 450 nm, like an organic ultraviolet absorber. It has been found that blue-white scattered light, which is a problem, is suppressed by dispersing.

本発明者らの研究結果を簡単に説明する。
分散体中に分散している複合タングステン酸化物微粒子は、可視光領域の短波長側の光(特に波長370nm程度の光)を散乱する。散乱された光は、二次散乱を繰り返しながら当該分散体中を広がり、この光が青白い散乱光として視認される。この複合タングステン酸化物微粒子の分散体中に、上記有機紫外線吸収剤を併せて添加し分散させると、複合タングステン酸化物微粒子によって散乱された光が有機紫外線吸収剤によって吸収され、分散体中の青白い散乱光が吸収抑制され、背景が暗い状態でも、当該分散体が青白く視認されなくなるのである。
The results of our research will be briefly described.
The composite tungsten oxide fine particles dispersed in the dispersion scatter light on the short wavelength side in the visible light region (particularly light having a wavelength of about 370 nm). The scattered light spreads in the dispersion while repeating secondary scattering, and this light is visually recognized as pale scattered light. When the organic ultraviolet absorbent is added and dispersed in the composite tungsten oxide fine particle dispersion, the light scattered by the composite tungsten oxide fine particles is absorbed by the organic ultraviolet absorbent, and the pale blue color in the dispersion is obtained. Even if the scattered light is suppressed from being absorbed and the background is dark, the dispersion is not visually recognized as pale.

さらに、有機紫外線吸収剤は、それ自体が分子量の小さい化合物であるため、当該有機紫外線吸収剤が添加され分散したことによる散乱光の増加は無い。さらに、当該有機紫外線吸収剤による可視光領域の吸収は、非常に少ないため、分散体中へ、有機紫外線吸収剤が添加されても輝度の低下が殆ど無く有用である。   Furthermore, since the organic ultraviolet absorber itself is a compound having a small molecular weight, there is no increase in scattered light due to the addition and dispersion of the organic ultraviolet absorber. Further, since the absorption in the visible light region by the organic ultraviolet absorber is very small, even if the organic ultraviolet absorber is added to the dispersion, it is useful with almost no decrease in luminance.

以下、本発明の構成要素について詳細に説明する。
(1)複合タングステン酸化物微粒子
本実施形態の近赤外線吸収材料としては複合タングステン酸化物微粒子が用いられる。その中でも、複合タングステン酸化物微粒子として、一般式MxWO(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x≦1)で表記される複合タングステン酸化物微粒子は、Mの添加によりWO構造中に自由電子が生成される。この結果、近赤外線領域に自由電子由来の吸収特性が発現し、波長1000nm付近の近赤外線吸収材料として有効になり好ましい。
Hereafter, the component of this invention is demonstrated in detail.
(1) Composite tungsten oxide fine particles Composite tungsten oxide fine particles are used as the near-infrared absorbing material of the present embodiment. Among them, as the composite tungsten oxide fine particles, the general formula MxWO 3 (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh) Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te , Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, one or more elements, W is tungsten, O is oxygen, 0.001 ≦ x ≦ 1) In the composite tungsten oxide fine particles represented by, free electrons are generated in the WO 3 structure by the addition of M. As a result, absorption characteristics derived from free electrons appear in the near-infrared region, which is effective and preferable as a near-infrared absorbing material having a wavelength of around 1000 nm.

さらに、上記一般式MWOで示される複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、または、正方晶、または、立方晶のいずれかの結晶構造を有していることが、当該微粒子の可視光領域の透過率を向上させ、かつ、近赤外領域の吸収効率を向上させる観点から好ましい。 Further, the composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula M x WO 3 have a hexagonal, tetragonal, or cubic crystal structure. This is preferable from the viewpoint of improving the transmittance of the region and improving the absorption efficiency in the near infrared region.

ここで、当該微粒子の可視光領域の透過率を向上させ、かつ、近赤外領域の吸収効率を向上させる観点から好ましいM元素として、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snの各元素から選択される1種類以上の元素を含むような複合タングステン酸化物微粒子が挙げられる。   Here, Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, and Ca are preferable as M elements from the viewpoint of improving the transmittance of the fine particles in the visible light region and improving the absorption efficiency in the near infrared region. And composite tungsten oxide fine particles containing one or more elements selected from the elements of Sr, Fe, and Sn.

添加されるM元素の添加量Xは、0.001以上、1.0以下が好ましく、更に好ましくは0.33付近が好ましい。これは六方晶の結晶構造から理論的に算出されるXの値が0.33であり、この前後の添加量で好ましい光学特性が得られるからである。典型的な例としてはCs0.33WO、Rb0.33WO、K0.33WO、Ba0.33WOなどを挙げることができるが、Xが上記範囲に収まるものであれば、有用な近赤外線吸収特性を得ることができる。 The addition amount X of M element to be added is preferably 0.001 or more and 1.0 or less, and more preferably around 0.33. This is because the value of X calculated theoretically from the hexagonal crystal structure is 0.33, and preferable optical characteristics can be obtained with addition amounts around this value. Typical examples include Cs 0.33 WO 3 , Rb 0.33 WO 3 , K 0.33 WO 3 , Ba 0.33 WO 3, etc., as long as X falls within the above range. Thus, useful near-infrared absorption characteristics can be obtained.

また、上記複合タングステン酸化物の粒子の表面を、Si、Ti、Zr、Alのいずれか1種類以上の元素を含有する酸化物で被覆すれば、耐候性をより向上させることができ、好ましい。   In addition, it is preferable that the surface of the composite tungsten oxide particles be coated with an oxide containing one or more elements of Si, Ti, Zr, and Al because weather resistance can be further improved.

当該近赤外線吸収材料が分散された分散体を有するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターでは、当該近赤外線吸収材料は、透明性を保持したまま近赤外線の効率良い吸収を行なうことが必要となる。本実施形態の複合タングステン酸化物微粒子を含有する近赤外線吸収成分は、近赤外線領域、特に、波長900〜2200nm付近の光を大きく吸収するため、その透過色調は青色系から緑色系となる物が多い。   In a near-infrared absorbing filter for a plasma display panel having a dispersion in which the near-infrared absorbing material is dispersed, the near-infrared absorbing material needs to efficiently absorb near-infrared while maintaining transparency. The near-infrared absorbing component containing the composite tungsten oxide fine particles of the present embodiment greatly absorbs light in the near-infrared region, particularly in the vicinity of a wavelength of 900 to 2200 nm, so that the transmitted color tone is from blue to green. Many.

複合タングステン酸化物微粒子の含有量は、単位面積あたりの含有量で表現されて、0.01g/m〜10g/mの間で使用されることが好ましい。0.01g/m以上の含有量であれば、効果が十分に現れて十分な近赤外線吸収効果が得られ、10g/m以下であれば十分な可視光線を透過できる。 Content of the composite tungsten oxide fine particles, is expressed by a content per unit area, it is preferably used between 0.01g / m 2 ~10g / m 2 . If the content is 0.01 g / m 2 or more, the effect appears sufficiently and a sufficient near-infrared absorption effect is obtained, and if it is 10 g / m 2 or less, sufficient visible light can be transmitted.

上記複合タングステン酸化物微粒子を近赤外線吸収材料として適用した場合、波長380nm〜780nmにおける可視光線領域の透過率が高く、波長780nm〜1500nmにおける近赤外線領域の透過率が低くなる。波長780nm〜1500nmにおける透過率の低下は、上記複合タングステン酸化物の伝導電子によるプラズモン共鳴に起因した吸収反射が原因である。また、波長380nm〜780nmにおける可視光線領域では、波長1000nm付近の吸収と比較してその吸収量が少ないため、視認性が良好で、ディスプレイ前面に設置しても画面表示を十分鮮明に確認することが可能となる。   When the composite tungsten oxide fine particles are applied as a near-infrared absorbing material, the transmittance in the visible light region at a wavelength of 380 nm to 780 nm is high, and the transmittance in the near-infrared region at a wavelength of 780 nm to 1500 nm is low. The decrease in transmittance at wavelengths of 780 nm to 1500 nm is caused by absorption reflection caused by plasmon resonance due to conduction electrons of the composite tungsten oxide. Also, in the visible light region in the wavelength range of 380 nm to 780 nm, the amount of absorption is small compared to the absorption in the vicinity of the wavelength of 1000 nm, so the visibility is good and the screen display should be confirmed sufficiently clearly even when installed on the front of the display. Is possible.

上記複合タングステン酸化物を近赤外線吸収材として適用する場合、工業的に安価で簡便な方法としての微粒子分散法を用いることが好ましい。これは、上記複合タングステン酸化物の微粒子をフィルター基材内、もしくはフィルター基材上に形成した被膜内に均一に分散させて分散体とすれば、そこを透過する近赤外線を遮蔽することが可能になるからである。   When the composite tungsten oxide is applied as a near-infrared absorbing material, it is preferable to use a fine particle dispersion method as an industrially inexpensive and simple method. If the composite tungsten oxide fine particles are uniformly dispersed in the filter base material or the coating formed on the filter base material to form a dispersion, it is possible to shield the near infrared rays transmitted therethrough. Because it becomes.

上記微粒子分散法でプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを作製するとき、微粒子の粒子径は800nm以下であることを要し、好ましくは200nm以下、更に好ましくは100nm以下がよい。複合タングステン酸化物微粒子の粒子径が800nm以下であれば、ディスプレイから放射される波長380nm〜780nmの可視光線領域の光が、幾何学散乱もしくはミー散乱により散乱されて曇りガラスのようになることを防止できるので、鮮明な画面表示が得られて好ましい。粒子径が200nm以下、好ましくは、200nm以下になると、上記散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の6乗に反比例して低減するため、散乱が低減し鮮明な画面表示が可能となる。さらに100nm以下になると散乱光は非常に少なくなりより好ましい。一方、粒子径が1nm以上であれば、工業的な製造は容易である。   When producing a near-infrared absorption filter for a plasma display panel by the fine particle dispersion method, the fine particles need to have a particle size of 800 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less. If the particle diameter of the composite tungsten oxide fine particles is 800 nm or less, the light in the visible light region having a wavelength of 380 nm to 780 nm emitted from the display is scattered by geometric scattering or Mie scattering to become a frosted glass. This is preferable because a clear screen display can be obtained. When the particle size is 200 nm or less, preferably 200 nm or less, the scattering is reduced and a Rayleigh scattering region is obtained. In the Rayleigh scattering region, the scattered light decreases in inverse proportion to the sixth power of the particle diameter, so that the scattering is reduced and a clear screen display is possible. Further, when the thickness is 100 nm or less, scattered light is very small, which is more preferable. On the other hand, if the particle diameter is 1 nm or more, industrial production is easy.

上記複合タングステン酸化物微粒子を分散する方法は、乾式法、湿式法等各種挙げられるが、特に粒子径が200nm以下の複合タングステン酸化物を分散する場合には湿式法が有効であり、具体的には、ボールミル、サンドミル、媒体攪拌ミル、超音波照射等が挙げられる。また、微粒子分散時に、各種分散剤を添加したり、pHを調整することで200nm以下の、複合タングステン酸化物微粒子を安定して液体中に分散保持することが容易になる。各種分散剤は、使用する溶媒やバインダー等との相性で各種選択可能であり、代表的なものは、シランカップリング剤や各種界面活性剤が挙げられる。   The method for dispersing the composite tungsten oxide fine particles includes various methods such as a dry method and a wet method. In particular, when a composite tungsten oxide having a particle diameter of 200 nm or less is dispersed, the wet method is effective. Examples thereof include a ball mill, a sand mill, a medium stirring mill, and ultrasonic irradiation. In addition, when dispersing the fine particles, it is easy to stably hold the composite tungsten oxide fine particles of 200 nm or less in the liquid by adding various dispersants or adjusting the pH. Various types of dispersants can be selected depending on the compatibility with the solvent and binder used, and typical examples include silane coupling agents and various surfactants.

(2)有機紫外線吸収剤
本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターに用いられる有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の領域に吸収があることが求められる。
(1)にて説明した複合タングステン酸化物微粒子を分散した分散体においては、微小な光の散乱が生じ、特に、発明者等が研究した結果によれば、波長350nmから400nmの領域の散乱光が顕著であり、この領域の散乱光を抑制することが重要である。ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択される1種類以上の光吸収微粒子のように、可視光領域の特に波長350nm〜400nmの領域の光を吸収する材料を、有機紫外線吸収剤として、複合タングステン酸化物微粒子と伴に分散体中に分散させることで、青白色の散乱光を抑制できる。
(2) Organic ultraviolet absorber The organic ultraviolet absorber used for the near-infrared absorption filter for plasma display panels of this embodiment is required to have absorption in a wavelength region of 450 nm or less.
In the dispersion in which the composite tungsten oxide fine particles described in (1) are dispersed, minute light scattering occurs. In particular, according to the results of researches by the inventors, scattered light in the wavelength region of 350 nm to 400 nm. Is remarkable, and it is important to suppress the scattered light in this region. Absorbs light in the visible light region, particularly in the wavelength range of 350 nm to 400 nm, such as one or more light-absorbing fine particles selected from hydroxyphenyltriazine-based UV absorbers, benzotriazole-based UV absorbers, and benzophenone-based UV absorbers By dispersing the material to be used as an organic ultraviolet absorber in the dispersion together with the composite tungsten oxide fine particles, bluish white scattered light can be suppressed.

上記有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の光を吸収するものであれば、特に限定しないが、例えば、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が好ましい。   Although the said organic ultraviolet absorber will not be specifically limited if it absorbs light with a wavelength of 450 nm or less, For example, a hydroxyphenyl triazine type ultraviolet absorber, a benzotriazole type ultraviolet absorber, etc. are preferable.

複合タングステン酸化物微粒子は、可視光領域の短波長側の光を散乱し、散乱された光は分散体中で、二次散乱を繰り返しながら分散体中に広がり、この光が青白色の散乱光として視認される。ここで、複合タングステン酸化物微粒子が分散された分散体中に、上述のような有機紫外線吸収剤を併せて分散させると、複合タングステン酸化物によって散乱された青白色の光が、当該有機紫外線吸収剤によって吸収されて分散体中の青白色の散乱光が抑制され、背景が黒い状態でも、映像が投影されていない状態でも、当該分散体が青白く視認されなくなるものと考えられる。   The composite tungsten oxide fine particles scatter light on the short wavelength side in the visible light region, and the scattered light spreads in the dispersion while repeating secondary scattering, and this light is bluish white scattered light. As visible. Here, when the above-described organic ultraviolet absorber is dispersed together in the dispersion in which the composite tungsten oxide fine particles are dispersed, the bluish white light scattered by the composite tungsten oxide is absorbed by the organic ultraviolet absorber. It is considered that blue-white scattered light in the dispersion is suppressed by being absorbed by the agent, and the dispersion is not visually recognized as white even when the background is black or when an image is not projected.

有機紫外線吸収剤の添加量は、可視光領域の透過率を高く保ったまま、赤外線領域の光を十分に吸収する範囲で適当量加えるが、複合タングステン酸化物200重量部に対して1〜5重量部(複合タングステン酸化物の分散重量の、1/200〜1/40の重量)が適当である。1重量部以上であれば、波長350nmから400nm領域の散乱光の抑制が十分となるため、分散体が青白く視認されることが防止される。また、5重量部以下であれば、紫外線吸収効果を確保しつつ、コストを低減でき好ましい。   The organic ultraviolet absorber is added in an appropriate amount within a range that sufficiently absorbs light in the infrared region while keeping the transmittance in the visible light region high, but is 1 to 5 with respect to 200 parts by weight of the composite tungsten oxide. Part by weight (weight of 1/200 to 1/40 of the dispersion weight of the composite tungsten oxide) is appropriate. If it is 1 part by weight or more, the scattered light in the wavelength region of 350 nm to 400 nm is sufficiently suppressed, and thus the dispersion is prevented from being visually recognized as pale. Moreover, if it is 5 parts weight or less, it can reduce cost, ensuring the ultraviolet absorption effect, and is preferable.

(3)その他の添加剤
近赤外線吸収材としての複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤との混合物中に、色調調整用として、染料や顔料を添加することも好ましい構成である。特に、コントラスト向上に寄与するような色調調整は、プラズマディスプレイの画像品質を向上させるためにも有効な方法である。
(3) Other additives It is also preferable to add a dye or a pigment to adjust the color tone in the mixture of the composite tungsten oxide fine particles as the near infrared absorbing material and the organic ultraviolet absorber. In particular, color tone adjustment that contributes to improving contrast is an effective method for improving the image quality of a plasma display.

また、複合タングステン酸化物微粒子と、有機化合物や金属錯体等の近近赤外線吸収材であるジイモニウム系化合物、アミニウム系化合物、フタロシアニン系化合物、有機金属錯体、シアニン系化合物、アゾ化合物、ポリメチン系化合物、キノン系化合物、ジフェニルメタン系化合物、トリフェニルメタン系化合物等とを併用することも可能である。当該構成を採ることで、有機化合物や金属錯体等を単独で使用する場合よりも耐候性を向上させる効果が得られる。   Also, composite tungsten oxide fine particles and diimonium compounds, aminium compounds, phthalocyanine compounds, organometallic complexes, cyanine compounds, azo compounds, polymethine compounds, which are near-infrared absorbers such as organic compounds and metal complexes, It is also possible to use quinone compounds, diphenylmethane compounds, triphenylmethane compounds and the like in combination. By adopting this configuration, the effect of improving the weather resistance can be obtained as compared with the case where an organic compound or a metal complex is used alone.

(4)プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
次に、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを製造する方法を、以下に具体的に説明する。
(4) Near-infrared absorption filter for plasma display panel Next, the method for producing the near-infrared absorption filter for plasma display panel of the present embodiment will be specifically described below.

本実施形態の近赤外線吸収フィルターは、基材と、この基材の片面もしくは両面に形成された樹脂もしくは透明酸化物材料をバインダー成分とする被膜よりなり、または、基材と、この基材をプラズマディスプレイパネルの前面ガラスに接着する接着剤とからなり、または、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスに直接被覆される被膜からなる。   The near-infrared absorption filter of the present embodiment is composed of a base material and a coating containing a resin or a transparent oxide material formed on one or both sides of the base material as a binder component, or the base material and the base material. It consists of an adhesive that adheres to the front glass of the plasma display panel, or a film that is directly coated on the front glass of the plasma display panel.

(a)基材内に複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
まず、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が液体媒質中に混合分散された近赤外線吸収材の分散液を調製し、かつ、この分散液から溶剤成分を除去して複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤の粉末を得る。尚、原料である複合タングステン酸化物微粒子、有機紫外線吸収剤を液体媒質中に分散させることにより、原料段階で結合されていた微粒子同士が分離され微細な粒子が分散した粉末を得ることが可能となる。但し、原料段階で微粒子の粒子径が微細化されている場合、これらの処理については省略してもよい。
(A) Near-infrared absorption filter for plasma display panel in which composite tungsten oxide fine particles and organic ultraviolet absorber are mixed and dispersed in a substrate First, composite tungsten oxide fine particles and organic ultraviolet absorber are mixed and dispersed in a liquid medium. In addition, a dispersion of the near infrared absorbing material is prepared, and the solvent component is removed from the dispersion to obtain composite tungsten oxide fine particles and an organic ultraviolet absorber powder. It is possible to obtain a powder in which fine particles dispersed in the raw material stage are separated by dispersing the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber, which are raw materials, in a liquid medium. Become. However, when the particle size of the fine particles is miniaturized in the raw material stage, these treatments may be omitted.

そして、複合タングステン酸化物及び有機紫外線吸収剤を、基材を構成する樹脂中にそのまま練り込んで、複合タングステン酸化物及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体であるプラスチックボードやフィルム等の基材を作製することが可能である。ここで、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤等を樹脂に練り込むとき、一般的には樹脂の融点付近の温度(200〜300℃前後)で加熱混合するため、近赤外線吸収材として染料等を適用した場合には耐熱性に劣り、練り込み作業が困難である。しかし、本実施形態においては、熱安定性が高い無機酸化物微粒子の粉末を適用するため、樹脂の融点である200℃〜300℃前後での混合も可能となる。   Then, the composite tungsten oxide and the organic ultraviolet absorber are kneaded as they are in the resin constituting the base material, and a base such as a plastic board or film which is a dispersion in which the composite tungsten oxide and the organic ultraviolet absorber are dispersed. It is possible to produce a material. Here, when the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber are kneaded into the resin, generally, the mixture is heated and mixed at a temperature near the melting point of the resin (about 200 to 300 ° C.). Etc. is inferior in heat resistance and kneading work is difficult. However, in this embodiment, since inorganic oxide fine particle powder having high thermal stability is applied, mixing at around 200 ° C. to 300 ° C., which is the melting point of the resin, is also possible.

更に、樹脂に複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤を混合後ペレット化し、各種方式でフィルムを形成することが可能である。例えば、透明樹脂フィルムは、上記樹脂を公知のTダイ成形、カレンダー成形、圧縮形成などの方法やキャスティング方法で形成することができる。また、基材の厚みについては、目的に応じて10μm〜3mmの範囲のフィルムやボード状のものが望ましい。更に、樹脂に対する近赤外線吸収材の配合量は、基材厚や必要とされる光学特性に応じて任意に設定可能である。   Furthermore, it is possible to form a film by various methods by mixing the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber with the resin and then pelletizing the resin. For example, the transparent resin film can be formed by known methods such as T-die molding, calendar molding, and compression forming, and casting methods. Moreover, about the thickness of a base material, the film and board-shaped thing of the range of 10 micrometers-3 mm are desirable according to the objective. Furthermore, the compounding quantity of the near-infrared absorber with respect to resin can be arbitrarily set according to a base material thickness and the required optical characteristic.

上記樹脂の具体的例としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂等を挙げることができる。これらの中では、特に非晶質のポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ(メタ)アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂が好ましく、非晶質ポリオレフィン系樹脂の中では環状ポリオレフィンが、ポリエステル系樹脂の中では、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。   Specific examples of the resin include polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate ester resin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyarylate resin, and polyethersulfone resin. Etc. Among these, amorphous polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, poly (meth) acrylate resin, polyarylate resin, and polyethersulfone resin are preferable, and among amorphous polyolefin resins Among the polyester resins, the cyclic polyolefin is particularly preferably polyethylene terephthalate.

(b)基材上に形成した被膜内に、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
まず、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が液体媒質中に混合分散された近赤外線吸収材の分散液を調製し、この分散液を(a)で説明したプラスチックボード、プラスチックフィルム、または、ガラス等から成る基材の表面に均一にコートし、かつ、溶媒を蒸発させて複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体である被膜とする。この被膜の膜厚を変えることで近赤外線の吸収効率を調整することが可能である。更に、近赤外線吸収材の分散液内にバインダー成分を配合させ、かつ、バインダー成分を各種選定することで基材への結着性が向上し、フィルター表面における保護機能や本体への粘着の機能付与が可能となる。
(B) Near-infrared absorption filter for plasma display panel in which composite tungsten oxide fine particles and organic ultraviolet absorber are mixed and dispersed in a coating formed on a substrate First, composite tungsten oxide fine particles and organic ultraviolet absorber are liquid A dispersion of a near-infrared absorbing material mixed and dispersed in a medium is prepared, and this dispersion is uniformly coated on the surface of a substrate made of a plastic board, a plastic film, or glass described in (a), Further, the solvent is evaporated to form a coating film which is a dispersion in which the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber are dispersed. It is possible to adjust the near-infrared absorption efficiency by changing the thickness of the coating. Furthermore, the binder component is blended into the dispersion of the near-infrared absorbing material, and by selecting various binder components, the binding property to the substrate is improved, and the protective function on the filter surface and the adhesive function to the main body Granting is possible.

ここで、上記バインダーとしては特に限定されるものではなく、基材や要求特性、構成によって適したものを適宜選択することができる。具体的には、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂、常温硬化樹脂、金属アルコキシド、各種粘着材等を例示することができる。特に、紫外線硬化樹脂を使用した製造工程は生産効率が高く、更にハードコート性も兼ね備えているので、バインダーに紫外線硬化型ハードコート樹脂を使用することで、基材の耐磨耗性付与と近赤外線吸収機能を1層で両立させることが可能となる。   Here, the binder is not particularly limited, and a binder suitable for the substrate, required characteristics, and configuration can be appropriately selected. Specifically, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a room temperature curable resin, a metal alkoxide, various adhesive materials, and the like can be exemplified. In particular, the manufacturing process using UV curable resin has high production efficiency and also has hard coat properties. Therefore, by using UV curable hard coat resin as the binder, the wear resistance of the substrate can be improved. It is possible to make the infrared absorption function compatible with one layer.

尚、有機化合物や金属錯体等の近赤外線吸収材では、紫外線や熱によって分解するので、紫外線硬化樹脂や、高温硬化させるバインダー、溶解性の低いアルコールや水を溶媒として使用することが困難であった。しかし、本実施形態においては、上述したように熱安定性が高い無機酸化物微粒子の粉末を適用しているため、紫外線硬化樹脂の適用や樹脂への練り込みが可能である。紫外線硬化は数秒以下の照射時間で膜を硬化させることが可能であり、生産効率が非常に高いコーティング方法であることから、本実施形態は極めて有用である。   Near-infrared absorbers such as organic compounds and metal complexes are decomposed by ultraviolet rays or heat, and it is difficult to use ultraviolet curable resins, binders that cure at high temperatures, low-solubility alcohol or water as solvents. It was. However, in this embodiment, since the powder of inorganic oxide fine particles having high thermal stability is applied as described above, it is possible to apply an ultraviolet curable resin or knead it into the resin. This embodiment is very useful because UV curing is a coating method that can cure a film with an irradiation time of several seconds or less and has a very high production efficiency.

次に、ガラス基材上に形成される被膜においては、バインダーとしてシリケート等の金属アルコキシドのゾルゲル溶液を用いて均一に塗布し、焼成して金属アルコキシドの加水分解重合物することで、表面強度の強い近赤外線吸収膜の生成が可能となる。   Next, in the film formed on the glass substrate, it is uniformly applied using a sol-gel solution of a metal alkoxide such as silicate as a binder, and is baked to hydrolyze the metal alkoxide, thereby increasing the surface strength. A strong near-infrared absorbing film can be generated.

そして、本実施形態の近赤外線吸収材としての複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤との混合分散液を用いてプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルターを作製する場合、波長380nm〜780nm領域の透過率の最大値が50%以上、波長800nm〜1100nm領域における透過プロファイルの極小値が30%以下であることを要する。波長800nm〜1100nm領域における透過プロファイルの極小値が30%以下であれば、プラズマディスプレイから発生する近赤外線によって電子機器の誤動作が生じなくなり好ましい。また、このとき、波長380nm〜780nm領域の透過率の最大値が50%以上であれば、プラズマディスプレイの輝度を低下させることがなく、画像が暗くならず好ましい。   And when producing the near-infrared filter for plasma display panels using the mixed dispersion liquid of the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber as the near-infrared absorbing material of the present embodiment, the transmittance in the wavelength region of 380 nm to 780 nm. Of the transmission profile in the wavelength region of 800 nm to 1100 nm is required to be 30% or less. If the minimum value of the transmission profile in the wavelength region of 800 nm to 1100 nm is 30% or less, it is preferable that the electronic device does not malfunction due to near infrared rays generated from the plasma display. At this time, if the maximum value of the transmittance in the wavelength region of 380 nm to 780 nm is 50% or more, the luminance of the plasma display is not lowered and the image is not darkened.

(c)基材と、この基材上に形成される被膜とのそれぞれに、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合して分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルター
この近赤外線フィルターは、基材と、この基材上に形成される被膜とのそれぞれに、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤が混合して分散し、分散体となったものである。微粒子の分散方法は、複合タングステン酸化物微粒子及び有機紫外線吸収剤を、基材または被膜のそれぞれに分散させた、上述の分散方法と同様の方法で分散させれば良い。
(c) Near-infrared filter for plasma display panel in which composite tungsten oxide fine particles and organic ultraviolet absorber are mixed and dispersed in each of the base material and the coating film formed on the base material. The composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber are mixed and dispersed in each of the base material and the coating film formed on the base material to form a dispersion. The fine particles may be dispersed by a method similar to the above-described dispersion method in which the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber are dispersed in each of the base material and the coating film.

(d)基材内に近赤外線吸収材料粒子が分散され、該基材上に形成された被膜内に有機紫外線吸収剤が分散されるか、または、基材内に有機紫外線吸収剤が分散され、該基材上に形成された被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散されたプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター
このプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターは、基材と、その基材の片面もしくは両面に形成された樹脂もしくは透明酸化物材料をバインダー成分とする被膜よりなり、1)基材内に近赤外線吸収材料粒子が分散されて分散体となり、該基材上に形成された被膜内に有機紫外線吸収剤が分散されて分散体となるか、または、2)基材内に有機紫外線吸収剤が分散されて分散体となり、該基材上に形成された被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散されて分散体となる形態も可能である。
分散方法は、複合タングステン酸化物微粒子、有機紫外線吸収剤をそれぞれ単独で、上述した方法と同様にして分散させれば良い。
(D) The near-infrared absorbing material particles are dispersed in the substrate, and the organic ultraviolet absorber is dispersed in the coating formed on the substrate, or the organic ultraviolet absorber is dispersed in the substrate. The near-infrared absorbing filter for plasma display panel in which near-infrared absorbing material particles are dispersed in the film formed on the substrate. The near-infrared absorbing filter for plasma display panel comprises a substrate and one side of the substrate or It consists of a coating containing a resin or transparent oxide material formed on both sides as a binder component. 1) Near-infrared absorbing material particles are dispersed in a substrate to form a dispersion, and in the coating formed on the substrate An organic ultraviolet absorber is dispersed to form a dispersion, or 2) an organic ultraviolet absorber is dispersed into a base material to form a dispersion, and near-infrared absorbing material particles are formed in a coating formed on the base material. It is also possible to adopt a form in which is dispersed to form a dispersion.
As the dispersion method, the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber may be dispersed independently in the same manner as described above.

(e)基材と、この基材をプラズマディスプレイパネル前面ガラスに接着する接着層とからなるプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルター
基材としてのプラスチックフィルムやボードをプラズマディスプレイパネル前面ガラスに接着する接着層に対して、本実施形態の近赤外線吸収機能を持たせ、これらの基材及び接着層により、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルターを作製することも可能となる。この場合、これらの基材と接着層の少なくとも一方に近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤が混合して分散された分散体としてもよく、または、基材に近赤外線吸収材料粒子もしくは有機紫外線吸収剤の一方が分散された分散体とし、接着層に近赤外線吸収材料粒子もしくは有機紫外線吸収剤の他方が分散された分散体としてもよい。
(e) Near-infrared filter for plasma display panel comprising a substrate and an adhesive layer for adhering the substrate to the plasma display panel front glass Adhesive layer for adhering a plastic film or board as a substrate to the plasma display panel front glass On the other hand, the near-infrared absorption function of the present embodiment is provided, and the near-infrared filter for the plasma display panel of the present embodiment can be produced by using these base material and adhesive layer. In this case, a dispersion in which near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber are mixed and dispersed in at least one of the base material and the adhesive layer may be used, or near-infrared absorbing material particles or organic ultraviolet light may be mixed in the base material. A dispersion in which one of the absorbers is dispersed may be used, and a dispersion in which the other of the near-infrared absorbing material particles or the organic ultraviolet absorber is dispersed in the adhesive layer may be used.

(f)プラズマディスプレイパネル前面ガラスに被覆される被膜のみによるプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルター
被膜における各種バインダーの選定により、プラズマディスプレイ前面ガラスに、本実施形態の近赤外線吸収材としての複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤との混合分散液を直接塗布し、溶媒を蒸発後、各種最適な硬化方法を用いて上記近赤外線吸収材等が分散された被膜(近赤外線吸収膜)を形成し、近赤外線吸収材粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体とする。これにより、本実施形態のプラズマディスプレイパネル用近赤外線フィルターを作製することも可能である。
(f) Near-infrared filter for plasma display panel only by coating coated on the plasma display panel front glass By selecting various binders in the coating, the composite tungsten oxide as the near-infrared absorbing material of the present embodiment is selected on the plasma display front glass. After directly applying a mixed dispersion of fine particles and an organic ultraviolet absorber, evaporating the solvent, and forming a film (near infrared absorbing film) in which the above-mentioned near infrared absorbing material is dispersed using various optimum curing methods, A dispersion in which near-infrared absorber particles and an organic ultraviolet absorber are dispersed is used. Thereby, it is also possible to produce the near-infrared filter for plasma display panels of this embodiment.

(5)プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの光学特性
上述のような形態を採ったプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターでは、有機紫外線吸収剤無添加時の波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(0)nm、ピーク強度をP(0)とし、有機紫外線吸収剤添加時の波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(1)nm、ピーク強度をP(1)、前記波長λ(0)nmにおける同全光線反射の強度をP(1)’としたとき、
λ(1)≧λ(0)
P(1)≦P(0)
[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05
を満たす。
一方、複合タングステン酸化物微粒子を分散した分散体においては、微小な光の散乱が生じ、特に、複合タングステン酸化物微粒子の分散膜の場合、波長350nmから400nmの領域の散乱光が顕著であるが、上記有機紫外線吸収剤を添加することにより、上記領域の散乱光を吸収することが可能となり、青白い散乱光を抑制できる。
(5) Optical characteristics of near-infrared absorption filter for plasma display panel In the near-infrared absorption filter for plasma display panel adopting the above-mentioned form, the total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less when no organic ultraviolet absorber is added. The wavelength of the peak position is λ (0) nm, the peak intensity is P (0), the wavelength of the peak position of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less when the organic ultraviolet absorber is added is λ (1) nm, and the peak intensity Is P (1), and the intensity of the total light reflection at the wavelength λ (0) nm is P (1) ′,
λ (1) ≧ λ (0)
P (1) ≦ P (0)
[P (0) −P (1) ′] / P (0) ≧ 0.05
Meet.
On the other hand, in the dispersion in which the composite tungsten oxide fine particles are dispersed, minute light scattering occurs. In particular, in the case of the dispersion film of the composite tungsten oxide fine particles, scattered light in the wavelength region of 350 nm to 400 nm is remarkable. By adding the organic ultraviolet absorber, it becomes possible to absorb the scattered light in the region and to suppress pale scattered light.

ここで、青白い散乱光の抑制について、さらに説明する。
本発明者らの研究によれば、近赤外線吸収フィルターにおける青白い散乱光の抑制を定量的に表す方法として、450nm以下の波長領域の全光線反射を用いることができる。即ち、当該青白い散乱光は、波長350nm〜400nmの領域にピークを持つ全光線反射として観測され、そのピーク位置が長波長側にあるほど、また、ピーク強度が小さいほど、目視による青白さが抑制されて感じられることによる。従って、有機紫外線吸収剤無添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射のピーク位置の波長λ(0)nmが、有機紫外線吸収剤添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射のピーク位置の波長λ(1)nmに比べて短波長側にあり、かつ、有機紫外線吸収剤添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射のピーク強度P(1)が有機紫外線吸収剤無添加時の450nm以下の波長領域の全光線反射の強度P(0)に比べて減少していれば、青白さの低減・抑制が実現出来たことになる。
Here, suppression of pale scattered light will be further described.
According to the study by the present inventors, total light reflection in a wavelength region of 450 nm or less can be used as a method for quantitatively expressing the suppression of bluish scattered light in the near infrared absorption filter. In other words, the pale scattered light is observed as total light reflection having a peak in the wavelength region of 350 nm to 400 nm, and as the peak position is on the longer wavelength side and the peak intensity is smaller, the visual paleness is suppressed. By being felt. Therefore, the wavelength λ (0) nm of the total light reflection peak position in the wavelength region of 450 nm or less when the organic ultraviolet absorber is not added is the peak position of the total light reflection in the wavelength region of 450 nm or less when the organic ultraviolet absorber is added. The peak intensity P (1) of total light reflection in the wavelength region of 450 nm or less when the organic ultraviolet absorber is added is shorter than the wavelength λ (1) nm of the organic ultraviolet absorber. If the intensity P (0) of total light reflection in the wavelength region of 450 nm or less is reduced, the bluishness can be reduced / suppressed.

また、本発明者らの研究によれば、本発明のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおいて、450nm以下の波長領域の全光線反射は、有機紫外線吸収剤添加の前後でピーク位置が変化し、有機紫外線吸収剤無添加時のピーク位置の波長λ(0)nmにおける全光線反射の有機紫外線吸収剤添加時の強度P(1)’が小さいほど、目視による青白さが抑制されて感じられる。ここで、有機紫外線吸収剤添加の前後での波長λ(0)における強度変化[P(0)−P(1)’]の値が、P(0)の値の5%より小さいと、目視によって青白さの減少を確認できず、意匠性低下も抑制されないことが判明した。従って、[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05であることが求められる。また、P(1)’が小さいほど散乱光が減少していることになるため、[P(0)−P(1)’]/P(0)の値が大きいほど意匠性低下の抑制効果は高い。しかし、P(1)’を小さくするために有機紫外線吸収剤の添加量を増やしていくと、今度は、コストが嵩んで経済性を悪化させる。加えて、複合タングステン酸化物微粒子や有機紫外線吸収剤を分散させた分散液への有機紫外線吸収剤の添加量が多すぎると、当該分散液を近赤外線吸収膜としたとき、当該近赤外線吸収膜の硬化強度や密着性などに悪影響を与えてしまう。これらのことから、[P(0)−P(1)]/P(0)の値は0.05以上であり、かつ近赤外線吸収フィルターとしての経済性や機能を損なわない範囲において、可能な限り大きいことが望ましい。   Further, according to the study of the present inventors, in the near infrared absorption filter for the plasma display panel of the present invention, the total light reflection in the wavelength region of 450 nm or less has a peak position changed before and after the addition of the organic ultraviolet absorber, The smaller the intensity P (1) ′ when the organic ultraviolet absorber is added for total light reflection at the wavelength λ (0) nm at the peak position when the organic ultraviolet absorber is not added, the less the visual blue and white are felt. Here, when the value of intensity change [P (0) −P (1) ′] at the wavelength λ (0) before and after the addition of the organic ultraviolet absorber is smaller than 5% of the value of P (0), As a result, it was found that the decrease in blueness could not be confirmed, and the deterioration in design was not suppressed. Therefore, it is required that [P (0) −P (1) ′] / P (0) ≧ 0.05. In addition, since the scattered light decreases as P (1) ′ decreases, the effect of suppressing the deterioration of the design property as the value of [P (0) −P (1) ′] / P (0) increases. Is expensive. However, if the amount of the organic ultraviolet absorber added is increased in order to reduce P (1) ', the cost is increased and the economy is deteriorated. In addition, when the amount of the organic ultraviolet absorber added to the dispersion in which the composite tungsten oxide fine particles or the organic ultraviolet absorber are dispersed is too large, when the dispersion is used as a near infrared absorbing film, the near infrared absorbing film This will adversely affect the curing strength and adhesion. Accordingly, the value of [P (0) −P (1)] / P (0) is 0.05 or more, and is possible within a range that does not impair the economy and function as a near infrared absorption filter. It is desirable to be as large as possible.

(6)プラズマディスプレイパネル
上記近赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネルにおいても、上述と同様に、近赤外線吸収フィルターの複合タングステン酸化物微粒子で散乱した散乱光を有機紫外線吸収剤によって吸収させることよって、背景が黒色の部位や映像が投影されていない時に、画面が青白く見える意匠性の低下を抑制することができる。
(6) Plasma display panel Also in the plasma display panel using the near-infrared absorption filter, as described above, the scattered light scattered by the composite tungsten oxide fine particles of the near-infrared absorption filter is absorbed by the organic ultraviolet absorber. When the black background or video is not projected, it is possible to suppress the deterioration of the design that makes the screen appear pale.

以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明は当然のことながらこれらの実施例に限定されるわけではない。
以下の各実施例ではJIS A 5759に準ずる方法で測定を行っている(但し、ガラスに貼付せず測定を行っている)。すなわち、透過率測定は分光光度計(日立製作所U―4000)を使用して、波長300nm〜2600nmの範囲で5nm間隔で測定している。
膜のヘイズ値は、JIS K 7105に基づき測定を行なった。
平均分散粒子径は、動的光散乱法を用いた測定装置[大塚電子株式会社製 ELS−800]により測定した平均値を用いた。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, this invention is not necessarily limited to these Examples.
In each of the following examples, the measurement is performed by a method according to JIS A 5759 (however, the measurement is performed without being attached to glass). That is, the transmittance is measured using a spectrophotometer (Hitachi U-4000) at a wavelength of 300 nm to 2600 nm at intervals of 5 nm.
The haze value of the film was measured based on JIS K 7105.
As the average dispersed particle size, an average value measured by a measuring device [ELS-800 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.] using a dynamic light scattering method was used.

(実施例1)
Cs0.33WO粉末を18.5重量部、4−メチル−2−ペンタノンを63重量部、分散剤を18.5重量部混合し、分散処理を行って分散液Aを作製した。次に、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤とベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の混合物(商品名:TINUVIN5236、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)5重量部を4−メチル−2−ペンタノン45重量部に溶かして有機紫外線吸収剤溶液Bを作製した。A液を100重量部、有機紫外線吸収剤溶液Bを50重量部、ハードコート用紫外線硬化樹脂(固形分100%)を100重量部混合して、赤外線遮蔽材料微粒子分散体液とした。この赤外線遮蔽材料微粒子分散体液を、ガラス基板上にバーコーターを用いて塗布し、成膜した。この成膜を80℃で60秒乾燥し溶剤を蒸発させた後、高圧水銀ランプで硬化させ、複合タングステン酸化物微粒子と有機紫外線吸収剤とが分散された分散体である赤外線遮蔽膜を得た。
この赤外線遮蔽膜の光学特性を測定したところ、可視光透過率は63%、1000nmの透過率は1.4%で、可視光は十分透過しており、かつ、近赤外線は良く遮断していることがわかった。
また、波長450nm以下の領域における全光線反射のピークは、波長400nmで強度が6.0%であり、波長370nmにおける強度は5.3%と低い。このため、後述の比較例1を考慮したとき実施形態の式(1)及び(2)を満たし、このうち、式(1)の値は0.12となり、0.05より大きく、散乱光が吸収されて青白みが抑制されていた。
Example 1
Dispersion A was prepared by mixing 18.5 parts by weight of Cs 0.33 WO 3 powder, 63 parts by weight of 4-methyl-2-pentanone, and 18.5 parts by weight of a dispersant, and performing dispersion treatment. Next, 5 parts by weight of a mixture of a hydroxyphenyl triazine-based UV absorber and a benzotriazole-based UV absorber (trade name: TINUVIN 5236, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is dissolved in 45 parts by weight of 4-methyl-2-pentanone. An organic ultraviolet absorbent solution B was prepared. 100 parts by weight of the liquid A, 50 parts by weight of the organic ultraviolet absorbent solution B, and 100 parts by weight of an ultraviolet curable resin for hard coat (solid content: 100%) were mixed to obtain an infrared shielding material fine particle dispersion liquid. This infrared shielding material fine particle dispersion was applied onto a glass substrate using a bar coater to form a film. This film was dried at 80 ° C. for 60 seconds to evaporate the solvent, and then cured with a high-pressure mercury lamp to obtain an infrared shielding film as a dispersion in which the composite tungsten oxide fine particles and the organic ultraviolet absorber were dispersed. .
When the optical properties of the infrared shielding film were measured, the visible light transmittance was 63%, the transmittance at 1000 nm was 1.4%, visible light was sufficiently transmitted, and near-infrared light was well blocked. I understood it.
Further, the peak of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less has an intensity of 6.0% at a wavelength of 400 nm, and an intensity at a wavelength of 370 nm is as low as 5.3%. Therefore, when considering Comparative Example 1 described later, Expressions (1) and (2) of the embodiment are satisfied, and among these, the value of Expression (1) is 0.12, which is larger than 0.05, and the scattered light is It was absorbed and the paleness was suppressed.

(実施例2)カーボンブラック添加
カーボンブラック粉末を9重量部、分散剤を11.7重量部、トルエンを79.3重量部混合し、分散処理を行って分散液Cを作製した。次に、実施例1で説明したA液を120重量部、有機紫外線吸収剤溶液Bを30.5重量部、C液を2重量部、ハードコート用紫外線硬化樹脂(固形分100%)を61重量部混合して赤外線遮蔽材料微粒子分散体液とし、実施例1と同様の操作により赤外線遮蔽膜を得た。
この赤外線遮蔽膜の光学特性を測定したところ、可視光透過率は56%、1000nmの透過率は3.2%で、可視光は十分透過しており、かつ、近赤外線は良く遮断していることがわかった。
また、波長450nm以下の領域における全光線反射のピークは、波長400nmで強度が5.6%であり、波長370nmにおける強度は5.2%と低い。このため、後述の比較例1を考慮したとき実施形態の式(1)及び(2)を満たし、このうち、式(1)の値は0.13となり、0.05より大きく、散乱光が吸収されて青白みが抑制されていた。
(Example 2) Addition of carbon black 9 parts by weight of carbon black powder, 11.7 parts by weight of a dispersant and 79.3 parts by weight of toluene were mixed and subjected to dispersion treatment to prepare dispersion C. Next, 120 parts by weight of the liquid A described in Example 1, 30.5 parts by weight of the organic ultraviolet absorbent solution B, 2 parts by weight of the liquid C, and 61 curable resin for hard coat (solid content 100%) 61 Part by weight was mixed to obtain an infrared shielding material fine particle dispersion liquid, and an infrared shielding film was obtained in the same manner as in Example 1.
When the optical properties of the infrared shielding film were measured, the visible light transmittance was 56%, the transmittance at 1000 nm was 3.2%, the visible light was sufficiently transmitted, and the near infrared light was well blocked. I understood it.
Further, the peak of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less has an intensity of 5.6% at a wavelength of 400 nm, and an intensity at a wavelength of 370 nm is as low as 5.2%. Therefore, when considering Comparative Example 1 described later, Expressions (1) and (2) of the embodiment are satisfied, and among these, the value of Expression (1) is 0.13, which is larger than 0.05, and the scattered light is It was absorbed and the paleness was suppressed.

(比較例1)
実施例1で説明したA液100重量部と、ハードコート用紫外線硬化樹脂(固形分100%)50重量部とを混合して、赤外線遮蔽材料微粒子分散体液としたほかは、実施例1と同様の操作により赤外線遮蔽膜を得た。
この赤外線遮蔽膜の光学特性を測定したところ、可視光透過率は67%、1000nmの透過率は1.9%で、可視光は十分透過しており、かつ、近赤外線は良く遮断していることがわかった。
しかし、波長450nm以下の領域における全光線反射のピークは、波長が370nmで強度が6.0%と高く、散乱光の吸収が十分でないために顕著な青白みが見られた。
(Comparative Example 1)
The same as Example 1 except that 100 parts by weight of the liquid A described in Example 1 and 50 parts by weight of an ultraviolet curable resin for hard coat (solid content: 100%) were mixed to obtain an infrared shielding material fine particle dispersion liquid. An infrared shielding film was obtained by the above operation.
When the optical properties of the infrared shielding film were measured, the visible light transmittance was 67%, the 1000 nm transmittance was 1.9%, the visible light was sufficiently transmitted, and the near infrared was well blocked. I understood it.
However, the peak of total light reflection in the region of a wavelength of 450 nm or less was as high as 6.0% at a wavelength of 370 nm, and a remarkable bluish tinge was observed because of insufficient absorption of scattered light.

プラズマディスプレイパネルの概略構成を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining schematic structure of a plasma display panel.

符号の説明Explanation of symbols

11 前面ガラス基板
12 表示電極
13 誘電体ガラス層
14 保護層
15 背面ガラス基板
16 アドレス電極
17 隔壁
18 蛍光体層
19 放電空間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Front glass substrate 12 Display electrode 13 Dielectric glass layer 14 Protective layer 15 Back glass substrate 16 Address electrode 17 Partition 18 Phosphor layer 19 Discharge space

Claims (13)

プラズマディスプレイパネルの表面に設けられ、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤が分散された分散体を有するプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターであって、
上記近赤外線吸収材料は、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子であり、
上記有機紫外線吸収剤は、波長450nm以下の領域に吸収を有する光吸収微粒子であり、
上記有機紫外線吸収剤無添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(0)nm、ピーク強度をP(0)とし、
上記有機紫外線吸収剤添加時の上記プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターにおける、波長450nm以下の領域における全光線反射のピーク位置の波長をλ(1)nm、ピーク強度をP(1)、前記波長λ(0)nmにおける同全光線反射の強度をP(1)’としたとき、
λ(1)≧λ(0)
P(1)≦P(0)
[P(0)−P(1)’]/P(0)≧0.05
を満たすことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
A near-infrared absorption filter for a plasma display panel, which is provided on the surface of a plasma display panel and has a dispersion in which near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber are dispersed,
The near-infrared absorbing material is a composite tungsten oxide fine particle having an average dispersed particle size of 800 nm or less,
The organic ultraviolet absorber is a light-absorbing fine particle having absorption in a wavelength region of 450 nm or less,
In the near infrared absorption filter for plasma display panel when the organic ultraviolet absorber is not added, the wavelength of the peak position of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less is λ (0) nm, the peak intensity is P (0),
In the near infrared absorption filter for plasma display panel when the organic ultraviolet absorber is added, the wavelength of the peak position of total light reflection in the region of wavelength 450 nm or less is λ (1) nm, the peak intensity is P (1), and the wavelength When the intensity of the total light reflection at λ (0) nm is P (1) ′,
λ (1) ≧ λ (0)
P (1) ≦ P (0)
[P (0) −P (1) ′] / P (0) ≧ 0.05
A near-infrared absorption filter for plasma display panels characterized by satisfying
基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
上記基材内もしくは上記被膜内、または、上記基材内と上記被膜内との両方に、上記近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が、分散され分散体となっていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
Having a substrate and a coating formed on one or both sides of the substrate;
The coating film has a resin or transparent oxide material as a binder component,
The mixture of the near-infrared absorbing material particles and the organic ultraviolet absorber is dispersed in the base material or the coating film, or both the base material and the coating film to form a dispersion. The near-infrared absorption filter for plasma display panels of Claim 1.
基材と、その基材の片面または両面に形成された被膜とを有し、
上記被膜は、樹脂または透明酸化物材料をバインダー成分とし、
上記基材内に上記近赤外線吸収材料粒子が分散され且つ上記被膜内に上記有機紫外線吸収剤が分散され分散体となっているか、または、上記基材内に有機紫外線吸収剤が分散され且つ上記被膜内に近赤外線吸収材料粒子が分散され分散体となっていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
Having a substrate and a coating formed on one or both sides of the substrate;
The coating film has a resin or transparent oxide material as a binder component,
The near-infrared absorbing material particles are dispersed in the substrate and the organic ultraviolet absorber is dispersed in the coating to form a dispersion, or the organic ultraviolet absorber is dispersed in the substrate and The near-infrared absorbing filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein the near-infrared absorbing material particles are dispersed in the coating to form a dispersion.
プラズマディスプレイパネルの表面に接着層を介して基材が配置され、
上記基材と接着層の少なくとも一方に近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散され分散体となり、または、上記基材に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の一方が、上記接着層に上記近赤外線吸収材料粒子もしくは上記有機紫外線吸収剤の他方がそれぞれ分散され分散体となっていること特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。
A substrate is disposed on the surface of the plasma display panel via an adhesive layer,
A mixture of near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber is dispersed in at least one of the substrate and the adhesive layer to form a dispersion, or one of the near-infrared absorbing material particles or the organic ultraviolet absorber is dispersed on the substrate. 2. The near-infrared absorbing filter for plasma display panel according to claim 1, wherein the near-infrared absorbing material particles or the other of the organic ultraviolet absorbers are dispersed in the adhesive layer to form a dispersion.
プラズマディスプレイパネルの表面に、近赤外線吸収材料粒子及び有機紫外線吸収剤の混合物が分散され分散体の被膜が設けられていること特徴とする請求項1に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。   The near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein the surface of the plasma display panel is provided with a dispersion film in which a mixture of near-infrared absorbing material particles and an organic ultraviolet absorber is dispersed. 上記複合タングステン酸化物微粒子が、一般式MxWO(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x≦1)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。 The composite tungsten oxide fine particles have the general formula MxWO 3 (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir). Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, I, one or more elements selected from W, tungsten, O is oxygen, and 0.001 ≦ x ≦ 1) 6. The near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to claim 1, wherein the filter is a fine particle of composite tungsten oxide. 上記有機紫外線吸収剤が、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤から選択されたいずれか1種類以上であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。   7. The organic UV absorber according to claim 1, wherein the organic UV absorber is at least one selected from hydroxyphenyl triazine-based UV absorbers, benzotriazole-based UV absorbers, and benzophenone-based UV absorbers. A near-infrared absorbing filter for a plasma display panel according to claim 1. 上記一般式MxWOで表記される上記複合タングステン酸化物微粒子は、六方晶、または、正方晶、または、立方晶のいずれかの結晶構造を有していることを特徴とする請求項6または7に記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。 8. The composite tungsten oxide fine particles represented by the general formula MxWO 3 have a crystal structure of any one of hexagonal, tetragonal, and cubic crystals. The near-infrared absorption filter for plasma display panels as described in 2. 上記M元素が、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snのうちの1種類以上を含むことを特徴とする請求項6乃至8のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。   9. The element according to claim 6, wherein the M element includes one or more of Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, and Sn. Near-infrared absorption filter for plasma display panels. 上記基材が、プラスチックボード、フィルム、またはガラスで構成されていることを特徴とする請求項2乃至9のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。   The near-infrared absorption filter for a plasma display panel according to any one of claims 2 to 9, wherein the substrate is made of a plastic board, a film, or glass. 上記バインダー成分が、紫外線硬化樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂、金属アルコキシド、粘着材から選択されたいずれか1種類以上の成分を有することを特徴とする請求項2乃至10のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルター。   11. The binder component according to claim 2, wherein the binder component has one or more components selected from an ultraviolet curable resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a room temperature curable resin, a metal alkoxide, and an adhesive material. The near-infrared absorption filter for plasma display panels in any one. プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法であって、
上記近赤外線吸収材料として、平均分散粒子径が800nm以下の複合タングステン酸化物微粒子を所定の媒体に、0.01g/m〜10g/mの濃度で分散して分散体を得る工程と、
波長450nm以下の領域に吸収を有する有機紫外線吸収剤を、上記所定の媒体に、上記近赤外線吸収材料の分散重量の、1/200〜1/40の重量で分散して分散体を得る工程と、を有し、
当該得られた分散体を用いて近赤外線吸収フィルターを製造することを特徴とするプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターの製造方法。
A method for producing a near-infrared absorbing filter for a plasma display panel,
As the near-infrared-absorbing material, a step of mean dispersed particle diameter of the following composite tungsten oxide microparticles 800nm on a predetermined medium to obtain a dispersion dispersed in a concentration of 0.01g / m 2 ~10g / m 2 ,
A step of obtaining a dispersion by dispersing an organic ultraviolet absorbent having absorption in a wavelength region of 450 nm or less in the predetermined medium at a weight of 1/200 to 1/40 of the dispersion weight of the near-infrared absorbing material; Have
A method for producing a near-infrared absorption filter for a plasma display panel, wherein a near-infrared absorption filter is produced using the obtained dispersion.
請求項1乃至11のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターを用いたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。   A plasma display panel using the near-infrared absorption filter for plasma display panels according to claim 1.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008149974A1 (en) * 2007-06-08 2008-12-11 Bridgestone Corporation Near-infrared-shielding material , laminate including the same, and optical filter for display
JP2009116314A (en) * 2007-10-18 2009-05-28 Nof Corp Hardcoat film for plasma display panel and plasma display panel
JP2009197146A (en) * 2008-02-22 2009-09-03 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Liquid dispersion of fine particles of infrared shielding material, infrared shielding film, infrared shielding optical member and near-infrared ray absorbing filter for plasma display panel
JP2009227860A (en) * 2008-03-24 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd Self-adhesive composition, and near-infrared ray absorption filter using the self-adhesive composition
JP2010010461A (en) * 2008-06-27 2010-01-14 Dainippon Printing Co Ltd Composite filter for display device
JP5328364B2 (en) * 2006-11-17 2013-10-30 リンテック株式会社 Pressure-sensitive adhesive composition for display
JP2015196622A (en) * 2014-04-01 2015-11-09 住友金属鉱山株式会社 Heat ray-shielding film, heat ray-shielding transparent substrate, automobile and building structure

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000191957A (en) * 1998-12-24 2000-07-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Coating liquid for forming film for shielding heat rays and ultraviolet light and film using the same, substrate
JP2003227922A (en) * 2002-02-01 2003-08-15 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Near-infrared ray absorption filter for plasma display panel and dispersion liquid of near-infrared ray absorber used for manufacturing the filter
JP2004059875A (en) * 2002-07-31 2004-02-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Masterbatch containing heat ray shielding ingredient, heat ray shielding transparent resin molding applied with the masterbatch and laminate thereof
WO2005037932A1 (en) * 2003-10-20 2005-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
JP2005187323A (en) * 2003-12-05 2005-07-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Method for producing tungsten oxide fine particle for forming solar radiation shielding material, tungsten oxide fine particle for forming solar radiation shielding material, dispersion for forming solar radiation shielding material, and solar radiation shielding material
JP2005226008A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Dispersion for forming solar radiation-shielding body, and solar radiation-shielding body and method for producing the same
JP2006010759A (en) * 2004-06-22 2006-01-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Near-infrared shielding material fine particle dispersion, near-infrared shielding body, and method for adjusting color tone of visible light passing through the near-infrared shielding material
JP2006018062A (en) * 2004-07-02 2006-01-19 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, polarizing plate, and display device
JP2007311208A (en) * 2006-05-18 2007-11-29 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Near-infrared absorption filter for plasma display panel, its manufacturing method and plasma display panel

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000191957A (en) * 1998-12-24 2000-07-11 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Coating liquid for forming film for shielding heat rays and ultraviolet light and film using the same, substrate
JP2003227922A (en) * 2002-02-01 2003-08-15 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Near-infrared ray absorption filter for plasma display panel and dispersion liquid of near-infrared ray absorber used for manufacturing the filter
JP2004059875A (en) * 2002-07-31 2004-02-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Masterbatch containing heat ray shielding ingredient, heat ray shielding transparent resin molding applied with the masterbatch and laminate thereof
WO2005037932A1 (en) * 2003-10-20 2005-04-28 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Infrared shielding material microparticle dispersion, infrared shield, process for producing infrared shielding material microparticle, and infrared shielding material microparticle
JP2005187323A (en) * 2003-12-05 2005-07-14 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Method for producing tungsten oxide fine particle for forming solar radiation shielding material, tungsten oxide fine particle for forming solar radiation shielding material, dispersion for forming solar radiation shielding material, and solar radiation shielding material
JP2005226008A (en) * 2004-02-13 2005-08-25 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Dispersion for forming solar radiation-shielding body, and solar radiation-shielding body and method for producing the same
JP2006010759A (en) * 2004-06-22 2006-01-12 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Near-infrared shielding material fine particle dispersion, near-infrared shielding body, and method for adjusting color tone of visible light passing through the near-infrared shielding material
JP2006018062A (en) * 2004-07-02 2006-01-19 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, polarizing plate, and display device
JP2007311208A (en) * 2006-05-18 2007-11-29 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Near-infrared absorption filter for plasma display panel, its manufacturing method and plasma display panel

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5328364B2 (en) * 2006-11-17 2013-10-30 リンテック株式会社 Pressure-sensitive adhesive composition for display
WO2008149974A1 (en) * 2007-06-08 2008-12-11 Bridgestone Corporation Near-infrared-shielding material , laminate including the same, and optical filter for display
JP2009116314A (en) * 2007-10-18 2009-05-28 Nof Corp Hardcoat film for plasma display panel and plasma display panel
JP2009197146A (en) * 2008-02-22 2009-09-03 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Liquid dispersion of fine particles of infrared shielding material, infrared shielding film, infrared shielding optical member and near-infrared ray absorbing filter for plasma display panel
JP2009227860A (en) * 2008-03-24 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd Self-adhesive composition, and near-infrared ray absorption filter using the self-adhesive composition
JP2010010461A (en) * 2008-06-27 2010-01-14 Dainippon Printing Co Ltd Composite filter for display device
JP2015196622A (en) * 2014-04-01 2015-11-09 住友金属鉱山株式会社 Heat ray-shielding film, heat ray-shielding transparent substrate, automobile and building structure

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