JP2007287298A - Optical recording medium and information-recording method - Google Patents

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Kazutoshi Katayama
和俊 片山
Tetsuya Watanabe
哲也 渡辺
Kosuke Watanabe
康介 渡辺
慶太 ▲高▼橋
Keita Takahashi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical recording medium which can excellently record even with a short wavelength laser beam, clarify an optical constant required to a recording layer, in particular, a value of a real part (refractive index) of a complex refractive index and a variation in refractive index before and after recording, and is excellent in recording characteristics. <P>SOLUTION: A second optical recording medium 10B is provided with a second substrate 24, a second write once type recording layer 26 formed on the second substrate 24 and a second light-reflecting layer 30. The second write once type recording layer 26 is irradiated with laser light 46 having a wavelength of 450 nm or shorter to record/reproduce information. In this case, the real part of the complex refractive index of the second write once type recording layer 26 is 1.2-1.5 before the information is recoded to the second write once type recording layer 26 with the laser light 46, and the real part of the complex refractive index of the second write once type recording layer 26 is 1.7-1.9 after the information is recoded to the second write once type recording layer 26 with the laser light 46. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行うのに適したヒートモード型の光記録媒体及び該光記録媒体に対する情報記録方法に関する。   The present invention relates to a heat mode type optical recording medium suitable for recording and / or reproducing information by irradiating a recording layer with laser light, and an information recording method for the optical recording medium.

近時、追記型DVD(いわゆるDVD−R)よりもさらに短波長のレーザ光を用いることによって記録密度を向上させ、より大きな記録容量を備えた光ディスクの開発が進められ、例えば405nmの青色レーザを用いた光記録媒体が提案されている。   Recently, by using a laser beam having a wavelength shorter than that of a write-once DVD (so-called DVD-R), development of an optical disc having a larger recording capacity has been advanced. An optical recording medium used has been proposed.

このような光記録媒体の記録層として用いられる色素には、記録後の反射率が低くなる色素(第1色素という)や、記録後の反射率が高くなる色素(第2色素という)がある。第1色素に対しては、該第1色素の極大吸収ピークλmaxよりも長波側の吸収波長で情報を記録される。また、第2色素に対しては、該第2色素の極大吸収ピークλmaxよりも短波側の吸収波長で情報を記録される。   Examples of the dye used for the recording layer of such an optical recording medium include a dye having a low reflectance after recording (referred to as a first dye) and a dye having a high reflectance after recording (referred to as a second dye). . Information is recorded on the first dye at an absorption wavelength longer than the maximum absorption peak λmax of the first dye. For the second dye, information is recorded at an absorption wavelength shorter than the maximum absorption peak λmax of the second dye.

そして、第1色素を含有する記録層において、良好な記録特性を得るためには、記録前における記録層の複素屈折率の実部(n)を大きくする必要があることが一般に知られている。しかし、405nmで記録再生される光記録媒体において、記録再生波長よりも短波に極大吸収を持つ第1色素では、複素屈折率の実部を大きいものを得るのが困難であり良好な記録特性が得にくいほか、光堅牢性との両立が困難であった。   In order to obtain good recording characteristics in a recording layer containing the first dye, it is generally known that the real part (n) of the complex refractive index of the recording layer before recording needs to be increased. . However, in an optical recording medium recorded / reproduced at 405 nm, it is difficult to obtain a first dye having a maximum absorption at a shorter wavelength than the recording / reproduction wavelength, and it is difficult to obtain a large real part of the complex refractive index. In addition to being difficult to obtain, it was difficult to achieve both light fastness.

一方、第2色素については、現在のところ、該第2色素の極大吸収ピークλmaxよりも短波側の吸収波長で情報を記録するために、記録層に求める光学定数及び記録前後の光学定数の変化が明確になっていない。   On the other hand, for the second dye, at present, in order to record information at an absorption wavelength shorter than the maximum absorption peak λmax of the second dye, the optical constant required for the recording layer and the change in the optical constant before and after recording are recorded. Is not clear.

ところで、光記録媒体に対する短波長による情報の記録については、例えば特許文献1〜6等に開示があるが、光学定数に関する記載はない。   By the way, although the information recording by the short wavelength with respect to an optical recording medium is disclosed, for example in patent documents 1-6, there is no description regarding an optical constant.

特許文献7及び8には、n<1.2、k>0.15(k:複素屈折率の虚部)という記載はあるが、記録前の色素に関する光学定数のみであり、記録前後の変化については、nが大きくなるというのみで具体的な数値の記載はない。また、特許文献7及び8記載の光記録媒体は、0.1mmのカバー層を前提とした構成となっている。   In Patent Documents 7 and 8, there is a description of n <1.2, k> 0.15 (k: imaginary part of complex refractive index), but only an optical constant related to a dye before recording, and changes before and after recording. For, there is no description of specific numerical values, only that n increases. In addition, the optical recording media described in Patent Documents 7 and 8 are configured on the assumption of a cover layer of 0.1 mm.

特許文献9には、記録前の複素屈折率の実部(屈折率nb)が2.3≦nb≦4.0であること、分解による記録後の複素屈折率の実部(屈折率na)と、記録前の複素屈折率の実部(屈折率nb)とが、0.19≦|na−nb|/nb≦0.62に選定されて成ること、分解による記録前の複素屈折率の虚部(吸収係数k)が、0.01≦k<0.1で、且つ、膜厚dが、50nm≦d≦250nmとされたこと、分解による記録前の複素屈折率の虚部(吸収係数k)が、0.01≦k≦0.2で、且つ、膜厚dが、10nm≦d≦50nmとされたことを特徴とする光学記録媒体が記載されている。しかし、この特許文献9記載の光記録媒体も0.1mmのカバー層を前提とした構成となっている。しかも、反射率変調を利用した記録であり、反射層の厚みが20nm以下であること等の特徴があり、位相差変調で信号振幅を得る方式とは根本的に原理が異なっている。   In Patent Document 9, the real part of the complex refractive index before recording (refractive index nb) is 2.3 ≦ nb ≦ 4.0, and the real part of the complex refractive index after recording by decomposition (refractive index na). And the real part (refractive index nb) of the complex refractive index before recording is selected as 0.19 ≦ | na−nb | /nb≦0.62, The imaginary part (absorption coefficient k) is 0.01 ≦ k <0.1 and the film thickness d is 50 nm ≦ d ≦ 250 nm, and the imaginary part (absorption) of the complex refractive index before recording due to decomposition. An optical recording medium is described in which the coefficient k) is 0.01 ≦ k ≦ 0.2 and the film thickness d is 10 nm ≦ d ≦ 50 nm. However, the optical recording medium described in Patent Document 9 is also based on a 0.1 mm cover layer. In addition, recording is performed using reflectance modulation, and the thickness of the reflective layer is 20 nm or less. The principle is fundamentally different from the method of obtaining the signal amplitude by phase difference modulation.

特開2005−293772号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-293772 特開2005−293773号公報JP 2005-293773 A 特開2005−288972号公報JP 2005-288972 A 特開2005−297406号公報JP-A-2005-297406 特開2005−297407号公報JP-A-2005-297407 特開2002−74740号公報JP 2002-74740 A 特開2004−98541号公報JP 2004-98541 A 特開2004−98542号公報JP 2004-98542 A 特開2001−273672号公報JP 2001-273672 A

本発明は、短波長のレーザ光でも良好に記録することができ、記録層に求める光学定数、中でも複素屈折率の実部n(以下、単に屈折率という)の値、及び記録前後での屈折率nの変化を明確にし、記録特性が良好な光記録媒体及び情報記録方法を提供することを目的とする。   The present invention can perform good recording even with a short-wavelength laser beam, and the optical constants required for the recording layer, in particular, the value of the real part n (hereinafter simply referred to as the refractive index) of the complex refractive index, and the refraction before and after recording. It is an object of the present invention to provide an optical recording medium and an information recording method in which a change in the rate n is clarified and recording characteristics are good.

第1の本発明に係る光記録媒体は、基板と、該基板上に形成された記録層と反射層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光記録媒体において、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前における前記記録層の複素屈折率の実部が1.2〜1.5であり、前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後における前記記録層の複素屈折率の実部が1.7〜1.9であることを特徴とする。   An optical recording medium according to a first aspect of the present invention includes a substrate, a recording layer formed on the substrate, and a reflective layer. The recording layer is irradiated with laser light to record and / or record information. Alternatively, in the optical recording medium to be reproduced, the real part of the complex refractive index of the recording layer before recording information on the recording layer by the laser beam is 1.2 to 1.5, and the recording is performed by the laser beam. The real part of the complex refractive index of the recording layer after recording information on the layer is 1.7 to 1.9.

これにより、例えば450nm以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好な光記録媒体を得ることができる。   Thereby, information can be recorded satisfactorily even with a laser beam with a short wavelength of, for example, 450 nm or less, and an optical recording medium with good recording characteristics can be obtained.

そして、第1の本発明において、前記記録層は、前記レーザ光によって情報を記録した後の反射率が、前記情報を記録する前の反射率よりも低くなる光学特性を有するようにしてもよい。   In the first aspect of the present invention, the recording layer may have an optical characteristic that a reflectance after information is recorded by the laser light is lower than a reflectance before the information is recorded. .

また、第1の本発明において、前記記録層は色素化合物を含有し、前記色素化合物は、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物であってもよい。   In the first aspect of the present invention, the recording layer may contain a dye compound, and the dye compound may be a dye compound having trimethine oxonol as an anion and a metal complex as a cation.

この場合、前記色素化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であることが好ましい。   In this case, the dye compound is preferably a compound represented by the following general formula (1).

一般式(1) General formula (1)

Figure 2007287298
Figure 2007287298

一般式(1)中、A、B、C及びDは、AとBのハメットのσp値の合計及びCとDのハメットのσp値の合計がそれぞれ0.6以上となる電子吸引性基であり、AとBもしくはCとDは連結して環を形成していてもよく、Rはメチン炭素上の置換基を表し、m=1、nは0〜2m+1の整数を表し、nが2以上の整数のとき、複数個のRは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Yt+はt価のカチオンを表し、tは1〜10の整数を表す。   In the general formula (1), A, B, C and D are electron withdrawing groups in which the sum of the Hammett σp values of A and B and the sum of the Hammett σp values of C and D are each 0.6 or more. Yes, A and B or C and D may be linked to form a ring, R represents a substituent on the methine carbon, m = 1, n represents an integer of 0 to 2m + 1, and n is 2 In the case of the above integers, a plurality of R may be the same or different from each other, and may be connected to each other to form a ring, Yt + represents a t-valent cation, and t is an integer of 1 to 10 Represents.

また、第1の本発明において、前記基板の溝深さが30〜130nmであることが好ましい。前記基板の溝幅が140〜240nmであることが好ましい。   In the first aspect of the present invention, the groove depth of the substrate is preferably 30 to 130 nm. The groove width of the substrate is preferably 140 to 240 nm.

また、第1の本発明において、前記反射層の厚みが50〜200nmであることが好ましい。これにより、記録前後の反射率の変化がほとんどなくなり、位相差変調を実現することができる。   In the first aspect of the present invention, the reflective layer preferably has a thickness of 50 to 200 nm. Thereby, there is almost no change in reflectance before and after recording, and phase difference modulation can be realized.

また、第1の本発明において、前記レーザ光の波長が405nm、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が0.65、前記基板の端面から前記記録層までの距離が0.6mmに対応したものであってもよい。   In the first aspect of the present invention, the wavelength of the laser beam is 405 nm, the numerical aperture of the objective lens for condensing the laser beam on the recording layer is 0.65, and the distance from the end surface of the substrate to the recording layer is It may correspond to 0.6 mm.

次に、第2の本発明に係る情報記録方法は、上述した第1の本発明に係る光記録媒体に、波長450nm以下のレーザ光を照射して位相差変調方式にて情報を記録することを特徴とする。   Next, in the information recording method according to the second aspect of the present invention, information is recorded by the phase difference modulation method by irradiating the optical recording medium according to the first aspect of the present invention with a laser beam having a wavelength of 450 nm or less. It is characterized by.

これにより、例えば450nm以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好なものとなる。   Thereby, information can be recorded satisfactorily even with a laser beam having a short wavelength of 450 nm or less, for example, and the recording characteristics are good.

以上説明したように、本発明に係る光記録媒体及び情報記録方法によれば、例えば450nm以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好な光記録媒体を得ることができる。   As described above, according to the optical recording medium and the information recording method according to the present invention, an optical recording medium that can record information satisfactorily even with a laser beam having a short wavelength of, for example, 450 nm or less and has good recording characteristics. Obtainable.

以下、本発明に係る光記録媒体及び情報記録方法の実施の形態例を図1〜図4を参照しながら説明する。   Embodiments of an optical recording medium and an information recording method according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

本発明の光記録媒体は、図1に示す第1の様態に係る光記録媒体(以下、単に第1光記録媒体10Aと記す)と、図2に示す第2の様態に係る光記録媒体(以下、単に第2光記録媒体10Bと記す)であることが好ましい。   The optical recording medium of the present invention includes an optical recording medium according to the first aspect shown in FIG. 1 (hereinafter simply referred to as first optical recording medium 10A) and an optical recording medium according to the second aspect shown in FIG. Hereinafter, it is preferably simply referred to as the second optical recording medium 10B).

第1光記録媒体10Aは、図1に示すように、厚さ0.7〜2mmの第1基板12上に、色素を含有する第1追記型記録層14と、厚さ0.01〜0.5mmのカバー層16とをこの順に有する。具体的には、例えば第1基板12上に、第1光反射層18と、第1追記型記録層14と、バリア層20と、第1接着層22と、カバー層16とをこの順に有する。   As shown in FIG. 1, the first optical recording medium 10A has a first write-once recording layer 14 containing a dye on a first substrate 12 having a thickness of 0.7 to 2 mm, and a thickness of 0.01 to 0. And a cover layer 16 of 5 mm in this order. Specifically, for example, the first light reflection layer 18, the first write-once recording layer 14, the barrier layer 20, the first adhesive layer 22, and the cover layer 16 are provided in this order on the first substrate 12. .

第2光記録媒体10Bは、図2に示すように、厚さ0.1〜1.0mmの第2基板24上に、色素を含有する第2追記型記録層26と、厚さ0.1〜1.0mmの保護基板28とをこの順に有する。具体的には、例えば第2基板24上に、第2追記型記録層26と、第2光反射層30と、第2接着層32と、保護基板28とをこの順に有する。   As shown in FIG. 2, the second optical recording medium 10B has a second write-once recording layer 26 containing a dye and a thickness of 0.1 on a second substrate 24 having a thickness of 0.1 to 1.0 mm. And a protective substrate 28 of ˜1.0 mm in this order. Specifically, for example, the second write-once recording layer 26, the second light reflection layer 30, the second adhesive layer 32, and the protective substrate 28 are provided on the second substrate 24 in this order.

第1光記録媒体10Aにおいては、図1に示すように、第1基板12に形成される第1プリグルーブ34のトラックピッチが50〜500nm、溝幅が25〜250nm、溝深さが5〜150nmであることが好ましい。   In the first optical recording medium 10A, as shown in FIG. 1, the track pitch of the first pregroove 34 formed on the first substrate 12 is 50 to 500 nm, the groove width is 25 to 250 nm, and the groove depth is 5 to 5. It is preferable that it is 150 nm.

第2光記録媒体10Bにおいては、図2に示すように、第2基板24に形成される第2プリグルーブ36のトラックピッチが200〜600nm、溝幅が50〜300nm、溝深さが30〜200nmであり、ウォブル振幅が10〜50nmであることが好ましい。   In the second optical recording medium 10B, as shown in FIG. 2, the track pitch of the second pregroove 36 formed on the second substrate 24 is 200 to 600 nm, the groove width is 50 to 300 nm, and the groove depth is 30 to. It is preferably 200 nm and the wobble amplitude is 10 to 50 nm.

第1光記録媒体10Aは、図1に示すように、少なくとも第1基板12と、第1追記型記録層14と、カバー層16とを有する様態であり、先ず、これらに必須の部材について順に説明する。   As shown in FIG. 1, the first optical recording medium 10 </ b> A has at least a first substrate 12, a first write-once recording layer 14, and a cover layer 16. explain.

〔第1光記録媒体10Aの第1基板12〕
図1に示すように、好ましい第1光記録媒体10Aの第1基板12には、トラックピッチ、溝幅(半値幅)、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第1プリグルーブ34(案内溝)が形成されていることが必須である。この第1プリグルーブ34は、CD−RやDVD−Rに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第1光記録媒体10Aを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
[First substrate 12 of first optical recording medium 10A]
As shown in FIG. 1, the first substrate 12 of the preferred first optical recording medium 10A has a shape in which all of the track pitch, groove width (half width), groove depth, and wobble amplitude are in the following ranges. It is essential that the first pregroove 34 (guide groove) is formed. The first pregroove 34 is provided in order to achieve a higher recording density than that of a CD-R or DVD-R. For example, the first optical recording medium 10A corresponds to a blue-violet laser. It is suitable for use as a medium.

第1プリグルーブ34のトラックピッチは、50〜500nmの範囲であることが必須であり、上限値が420nm以下であることが好ましく、370nm以下であることがより好ましく、330nm以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、100nm以上であることが好ましく、200nm以上であることがより好ましく、260nm以上であることがさらに好ましい。   The track pitch of the first pregroove 34 is essential to be in the range of 50 to 500 nm, the upper limit is preferably 420 nm or less, more preferably 370 nm or less, and further preferably 330 nm or less. preferable. Further, the lower limit is preferably 100 nm or more, more preferably 200 nm or more, and further preferably 260 nm or more.

トラックピッチが50nm未満では、第1プリグルーブ34を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、500nmを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。   If the track pitch is less than 50 nm, it is difficult to form the first pregroove 34 accurately, and a problem of crosstalk may occur. If the track pitch exceeds 500 nm, the recording density may decrease. is there.

第1プリグルーブ34のグルーブ40(第1基板12において凹部)での溝幅(半値幅)は、140〜240nmの範囲であり、好ましくは145〜230nmであり、さらに好ましくは150〜220nmである。溝幅が狭すぎると、溝部(グルーブ40)の成形が困難になり、溝幅が広すぎると、溝間部(ランド38)の成形が困難になる。   The groove width (half width) of the first pre-groove 34 in the groove 40 (concave portion in the first substrate 12) is in the range of 140 to 240 nm, preferably 145 to 230 nm, and more preferably 150 to 220 nm. . If the groove width is too narrow, it is difficult to form the groove portion (groove 40), and if the groove width is too wide, it is difficult to form the inter-groove portion (land 38).

第1プリグルーブ34の溝深さは、30〜130nmの範囲であり、好ましくは33〜110nmであり、さらに好ましくは35〜80nmである。溝深さは深すぎると、成形が困難になるという問題があり、溝深さが浅すぎるとトラッキングが不安定になる。   The groove depth of the first pregroove 34 is in the range of 30 to 130 nm, preferably 33 to 110 nm, and more preferably 35 to 80 nm. If the groove depth is too deep, there is a problem that molding becomes difficult. If the groove depth is too shallow, tracking becomes unstable.

また、第1プリグルーブ34の溝傾斜角度は、上限値が80°以下であることが好ましく、70°以下であることがより好ましく、60°以下であることがさらに好ましく、50°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、20°以上であることが好ましく、30°以上であることがより好ましく、40°以上であることがさらに好ましい。   Further, the upper limit of the groove inclination angle of the first pregroove 34 is preferably 80 ° or less, more preferably 70 ° or less, further preferably 60 ° or less, and 50 ° or less. It is particularly preferred. Further, the lower limit value is preferably 20 ° or more, more preferably 30 ° or more, and further preferably 40 ° or more.

第1プリグルーブ34の溝傾斜角度が20°未満では、十分なトラッキングエラー信号振幅が得られないことがあり、80°を超えると、第1基板12の成形(射出成形等)が困難となる。   If the groove inclination angle of the first pre-groove 34 is less than 20 °, sufficient tracking error signal amplitude may not be obtained. If it exceeds 80 °, it is difficult to mold the first substrate 12 (such as injection molding). .

第1光記録媒体10Aにおいて用いられる第1基板12としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。   As the first substrate 12 used in the first optical recording medium 10A, various materials used as substrate materials for conventional optical recording media can be arbitrarily selected and used.

具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。   Specifically, glass; acrylic resin such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resin; amorphous polyolefin; polyester; metal such as aluminum; These may be used together if desired.

上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。   Among the above materials, thermoplastic resins such as amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low price.

これらの樹脂を用いた場合、射出成形を用いて第1基板12を作製することができる。   When these resins are used, the first substrate 12 can be manufactured by injection molding.

また、第1基板12の厚さは、0.7〜2mmの範囲であることを要し、0.9〜1.6mmの範囲であることが好ましく、1.0〜1.3mmとすることがより好ましい。   Moreover, the thickness of the 1st board | substrate 12 needs to be the range of 0.7-2 mm, and it is preferable that it is the range of 0.9-1.6 mm, and shall be 1.0-1.3 mm. Is more preferable.

なお、後述する第1光反射層18が設けられる側の第1基板12の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。   In addition, it is preferable to form an undercoat layer on the surface of the first substrate 12 on the side where the first light reflecting layer 18 described later is provided for the purpose of improving the flatness and the adhesive force.

下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤等の表面改質剤;を挙げることができる。   Examples of the material for the undercoat layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleic anhydride copolymer, polyvinyl alcohol, N-methylol acrylamide, styrene / vinyl toluene copolymer, chlorosulfone. Polymer materials such as chlorinated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, polypropylene, polycarbonate; silane coupling agents And the like.

下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法によって、第1基板12の表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に0.005〜20μmの範囲にあり、好ましくは0.01〜10μmの範囲である。   The undercoat layer is prepared by dissolving or dispersing the above materials in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying this coating solution to the surface of the first substrate 12 by a coating method such as spin coating, dip coating, or extrusion coating. It can be formed by coating. The thickness of the undercoat layer is generally in the range of 0.005 to 20 μm, and preferably in the range of 0.01 to 10 μm.

〔第1光記録媒体10Aの第1追記型記録層14〕
第1光記録媒体10Aの第1追記型記録層14は、レーザ光46によって情報を記録した後の反射率が、情報を記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有する。
[First Write-once Recording Layer 14 of First Optical Recording Medium 10A]
The first write-once recording layer 14 of the first optical recording medium 10A has an optical characteristic that the reflectance after information is recorded by the laser light 46 is higher than the reflectance before information is recorded.

第1追記型記録層14は色素化合物を含有する。この色素化合物は、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物であることが好ましい。   The first write-once recording layer 14 contains a dye compound. This dye compound is preferably a dye compound having trimethine oxonol as an anion and a metal complex as a cation.

この場合、色素化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であることが好ましい。   In this case, the dye compound is preferably a compound represented by the following general formula (1).

一般式(1) General formula (1)

Figure 2007287298
Figure 2007287298

一般式(1)中、A、B、C及びDは、AとBのハメットのσp値の合計及びCとDのハメットのσp値の合計がそれぞれ0.6以上となる電子吸引性基であり、AとBもしくはCとDは連結して環を形成していてもよく、Rはメチン炭素上の置換基を表し、m=1、nは0〜2m+1の整数を表し、nが2以上の整数のとき、複数個のRは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Yt+はt価のカチオンを表し、tは1〜10の整数を表す。   In the general formula (1), A, B, C and D are electron withdrawing groups in which the sum of the Hammett σp values of A and B and the sum of the Hammett σp values of C and D are each 0.6 or more. Yes, A and B or C and D may be linked to form a ring, R represents a substituent on the methine carbon, m = 1, n represents an integer of 0 to 2m + 1, and n is 2 In the case of the above integers, a plurality of R may be the same or different from each other, and may be connected to each other to form a ring, Yt + represents a t-valent cation, and t is an integer of 1 to 10 Represents.

また、好ましい第1光記録媒体10Aの第1追記型記録層14は、色素化合物を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、基板上又は後述する第1光反射層18上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。ここで、第1追記型記録層14は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布液を塗布する工程が複数回行われることになる。   Further, the first write-once recording layer 14 of the preferred first optical recording medium 10A is prepared by dissolving the dye compound in a suitable solvent together with a binder or the like, and then preparing the coating liquid on the substrate or It forms by apply | coating on the 1st light reflection layer 18 mentioned later, forming a coating film, and drying. Here, the first write-once recording layer 14 may be a single layer or a multilayer. In the case of a multilayer structure, the step of applying the coating liquid is performed a plurality of times.

塗布液中の色素の濃度は、一般に0.01〜15質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜10質量%の範囲、より好ましくは0.5〜5質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範囲である。   The concentration of the dye in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5% by mass, most preferably. It is the range of 0.5-3 mass%.

塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;等を挙げることができる。   Examples of the solvent for the coating solution include esters such as butyl acetate, ethyl lactate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane and chloroform; dimethylformamide and the like Amides; Hydrocarbons such as methylcyclohexane; Ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, dioxane; Alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol diacetone alcohol; 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, etc. Fluorinated solvents; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether; That.

上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。   The above solvents can be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the dye used. In the coating solution, various additives such as an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。   Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method.

塗布の際、塗布液の温度は23〜50℃の範囲であることが好ましく、24〜40℃の範囲であることがより好ましく、中でも、25〜35℃の範囲であることが特に好ましい。   At the time of application, the temperature of the coating solution is preferably in the range of 23 to 50 ° C, more preferably in the range of 24 to 40 ° C, and particularly preferably in the range of 25 to 35 ° C.

このようにして形成された第1追記型記録層14の厚さは、グルーブ40(第1基板12において凹部)上で、200nm以下であることが好ましく、150nm以下であることがより好ましく、100nm以下であることがさらに好ましく、70nm以下であることが特に好ましい。下限値としては10nm以上であることが好ましく、15nm以上であることがより好ましく、20nm以上であることがさらに好ましく、25nm以上であることが特に好ましい。   The thickness of the first write-once recording layer 14 formed in this manner is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, and more preferably 100 nm on the groove 40 (concave portion in the first substrate 12). More preferably, it is more preferably 70 nm or less. The lower limit is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, further preferably 20 nm or more, and particularly preferably 25 nm or more.

また、第1追記型記録層14の厚さは、ランド38(第1基板12において凸部)上で、150nm以下であることが好ましく、100nm以下であることがより好ましく、70nm以下であることがさらに好ましい。下限値としては、3nm以上であることが好ましく、5nm以上であることがより好ましく、8nm以上であることがさらに好ましい。   Further, the thickness of the first write-once recording layer 14 is preferably 150 nm or less, more preferably 100 nm or less, and 70 nm or less on the land 38 (convex portion in the first substrate 12). Is more preferable. The lower limit is preferably 3 nm or more, more preferably 5 nm or more, and even more preferably 8 nm or more.

さらに、グルーブ40上の第1追記型記録層14の厚さt1と、ランド38上の第1追記型記録層14の厚さt2との比(t1/t2)は、0.1以上であることが好ましく、0.2以上であることがより好ましく、0.25以上であることがさらに好ましく、0.7以上であることが特に好ましい。上限値としては、1未満であることが好ましく、0.9以下であることがより好ましく、0.85以下であることがさらに好ましく、0.8以下であることが特に好ましい。   Further, the ratio (t1 / t2) between the thickness t1 of the first write-once recording layer 14 on the groove 40 and the thickness t2 of the first write-once recording layer 14 on the land 38 is 0.1 or more. Is preferably 0.2 or more, more preferably 0.25 or more, and particularly preferably 0.7 or more. The upper limit value is preferably less than 1, more preferably 0.9 or less, further preferably 0.85 or less, and particularly preferably 0.8 or less.

塗布液が結合剤を含有する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質;ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子;を挙げることができる。第1追記型記録層14の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素に対して0.01倍量〜50倍量(質量比)の範囲にあり、好ましくは0.1倍量〜5倍量(質量比)の範囲にある。   When the coating solution contains a binder, examples of the binder include natural organic polymer materials such as gelatin, cellulose derivatives, dextran, rosin, and rubber; hydrocarbon resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyisobutylene. , Polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinyl resins such as polyvinyl chloride / polyvinyl acetate copolymer, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, chlorinated polyethylene, epoxy resin, butyral And synthetic organic polymers such as resins, rubber derivatives, and initial condensates of thermosetting resins such as phenol / formaldehyde resins. When a binder is used in combination as the material of the first write-once recording layer 14, the amount of binder used is generally in the range of 0.01 to 50 times (mass ratio) with respect to the dye, preferably It is in the range of 0.1 times to 5 times (mass ratio).

また、第1追記型記録層14には、該第1追記型記録層14の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。   In addition, the first write-once recording layer 14 can contain various anti-fading agents in order to improve the light resistance of the first write-once recording layer 14. As the anti-fading agent, a singlet oxygen quencher is generally used. As the singlet oxygen quencher, those described in publications such as known patent specifications can be used.

その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報及び同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。   Specific examples thereof include JP-A Nos. 58-175893, 59-81194, 60-18387, 60-19586, 60-19587, and 60-35054. 60-36190, 60-36191, 60-44554, 60-44555, 60-44389, 60-44390, 60-54892, JP-A-60-47069, JP-A-63-209995, JP-A-4-25492, JP-B-1-38680, JP-A-6-26028, etc., German Patent 350399, and Nihon Kagaku Listed in the October 1992 issue, page 1141, etc.

前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常0.1〜200質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜180質量%の範囲、さらに好ましくは、3〜160質量%の範囲、特に好ましくは5〜140質量%の範囲である。   The amount of the anti-fading agent such as the singlet oxygen quencher used is usually in the range of 0.1 to 200% by weight, preferably in the range of 0.5 to 180% by weight, based on the amount of the dye. Preferably, it is the range of 3-160 mass%, Most preferably, it is the range of 5-140 mass%.

ここで、色素を含有する第1追記型記録層14の記録前及び記録後の光学特性について説明する。記録前とは、レーザ光46によって第1追記型記録層14に情報を記録する前の段階をいい、記録後とは、レーザ光46によって第1追記型記録層14に情報を記録した後の段階をいう。   Here, optical characteristics before and after recording of the first write-once recording layer 14 containing a dye will be described. “Before recording” means a stage before information is recorded on the first write-once recording layer 14 by the laser light 46, and “after recording” means after recording information on the first write-once recording layer 14 by the laser light 46. A stage.

そして、第1追記型記録層14の光学特性としては、記録前における第1追記型記録層の複素屈折率の実部が1.2〜1.5であり、記録後における第1追記型記録層の複素屈折率の実部が1.7〜1.9であることが好ましい。   As the optical characteristics of the first write-once recording layer 14, the real part of the complex refractive index of the first write-once recording layer before recording is 1.2 to 1.5, and the first write-once recording after recording is performed. The real part of the complex refractive index of the layer is preferably 1.7 to 1.9.

また、第1追記型記録層の記録前における複素屈折率の虚部の下限は0.15以上が好ましく、さらに好ましくは0.17以上であり、上限は0.5以下が好ましく、さらに好ましくは0.4以下である。複素屈折率の虚部が小さすぎると、感度が悪くなる傾向があり、反対に大きすぎると、反射率が低くなりすぎるという問題がある。記録後における複素屈折率の虚部は、0.25以下が好ましく、さらに好ましくは0.2以下である。記録に伴って、屈折率の虚部が大きくなると、信号振幅が減少するため好ましくないほか、再生耐久性も悪くなる場合がある。   Further, the lower limit of the imaginary part of the complex refractive index before recording of the first write-once recording layer is preferably 0.15 or more, more preferably 0.17 or more, and the upper limit is preferably 0.5 or less, more preferably. 0.4 or less. If the imaginary part of the complex index of refraction is too small, the sensitivity tends to deteriorate. On the other hand, if it is too large, the reflectance becomes too low. The imaginary part of the complex refractive index after recording is preferably 0.25 or less, more preferably 0.2 or less. If the imaginary part of the refractive index increases with recording, the signal amplitude decreases, which is not preferable, and the reproduction durability may deteriorate.

このように構成することによって、例えば450nm以下という短波長のレーザ光でも情報を良好に記録することができ、記録特性が良好な光記録媒体を得ることができる。   With this configuration, information can be recorded favorably even with a laser beam having a short wavelength of, for example, 450 nm or less, and an optical recording medium with good recording characteristics can be obtained.

〔第1光記録媒体10Aのカバー層16〕
好ましい第1光記録媒体10Aのカバー層16は、上述した第1追記型記録層14又は後述するバリア層20上に、接着剤や粘着剤等からなる第1接着層22を介して貼り合わされる。
[Cover Layer 16 of First Optical Recording Medium 10A]
The cover layer 16 of the preferred first optical recording medium 10A is bonded to the first write-once recording layer 14 described above or a barrier layer 20 described later via a first adhesive layer 22 made of an adhesive, an adhesive, or the like. .

第1光記録媒体10Aにおいて用いられるカバー層16としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネート又は三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。   The cover layer 16 used in the first optical recording medium 10A is not particularly limited as long as it is a transparent material film, but is not limited to acrylic resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; polyvinyl chloride, vinyl chloride copolymers and the like. It is preferable to use a vinyl chloride resin; an epoxy resin; an amorphous polyolefin; a polyester; cellulose triacetate or the like, and more preferably, polycarbonate or cellulose triacetate is used.

なお、「透明」とは、記録及び再生に用いられる光に対して、透過率80%以上であることを意味する。   Note that “transparent” means that the transmittance is 80% or more with respect to light used for recording and reproduction.

また、カバー層16は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長400nm以下の光をカットするためのUV吸収剤及び/又は500nm以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。   The cover layer 16 may contain various additives as long as the effects of the present invention are not hindered. For example, a UV absorber for cutting light having a wavelength of 400 nm or less and / or a pigment for cutting light having a wavelength of 500 nm or more may be contained.

さらに、カバー層16の表面物性としては、表面粗さが2次元粗さパラメータ及び3次元粗さパラメータのいずれも5nm以下であることが好ましい。   Further, as the surface physical properties of the cover layer 16, it is preferable that the surface roughness is 5 nm or less for both the two-dimensional roughness parameter and the three-dimensional roughness parameter.

また、記録及び再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層16の複屈折は10nm以下であることが好ましい。   Further, from the viewpoint of the concentration of light used for recording and reproduction, the birefringence of the cover layer 16 is preferably 10 nm or less.

カバー層16の厚さは、記録及び再生のために照射されるレーザ光の波長や第1対物レンズ42のNAにより、適宜、規定されるが、第1光記録媒体10Aにおいては、0.01〜0.5mmの範囲内であり、0.05〜0.12mmの範囲であることがより好ましい。   The thickness of the cover layer 16 is appropriately defined by the wavelength of the laser beam irradiated for recording and reproduction and the NA of the first objective lens 42. In the first optical recording medium 10A, the thickness of the cover layer 16 is 0.01. It is in the range of -0.5mm, and it is more preferable that it is the range of 0.05-0.12mm.

また、カバー層16と第1接着層22とを合わせた総厚は、0.09〜0.11mmであることが好ましく、0.095〜0.105mmであることがより好ましい。   The total thickness of the cover layer 16 and the first adhesive layer 22 is preferably 0.09 to 0.11 mm, and more preferably 0.095 to 0.105 mm.

なお、カバー層16の光入射面には、第1光記録媒体10Aの製造時に、光入射面が傷つくことを防止するためのハードコート層44(保護層)が設けられていてもよい。   The light incident surface of the cover layer 16 may be provided with a hard coat layer 44 (protective layer) for preventing the light incident surface from being damaged when the first optical recording medium 10A is manufactured.

第1接着層22に用いられる接着剤としては、例えばUV硬化樹脂、EB硬化樹脂、熱硬化樹脂等を使用することが好ましく、特にUV硬化樹脂を使用することが好ましい。   As the adhesive used for the first adhesive layer 22, for example, a UV curable resin, an EB curable resin, a thermosetting resin, or the like is preferably used, and a UV curable resin is particularly preferably used.

接着剤としてUV硬化樹脂を使用する場合は、該UV硬化樹脂をそのまま、若しくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、ディスペンサからバリア層20の表面に供給してもよい。また、作製される第1光記録媒体10Aの反りを防止するため、第1接着層22を構成するUV硬化樹脂は硬化収縮率の小さいものが好ましい。このようなUV硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業(株)社製の「SD−640」等のUV硬化樹脂を挙げることができる。   When using a UV curable resin as an adhesive, prepare the coating solution by dissolving the UV curable resin as it is or in an appropriate solvent such as methyl ethyl ketone or ethyl acetate, and supply it to the surface of the barrier layer 20 from the dispenser. Also good. Further, in order to prevent warpage of the first optical recording medium 10A to be manufactured, it is preferable that the UV curable resin constituting the first adhesive layer 22 has a small curing shrinkage rate. Examples of such UV curable resins include UV curable resins such as “SD-640” manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.

接着剤は、例えば、バリア層20からなる被貼り合わせ面上に、所定量塗布し、その上に、カバー層16を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層16との間に均一になるように広げた後、硬化させることが好ましい。   For example, a predetermined amount of the adhesive is applied onto the bonding surface including the barrier layer 20, and the cover layer 16 is placed thereon. Then, the adhesive is applied by spin coating to the bonding surface and the cover layer. It is preferable to cure the film after it has been uniformly spread between the two.

このような接着剤からなる第1接着層22の厚さは、0.1〜100μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.5〜50μmの範囲、さらに好ましくは10〜30μmの範囲である。   The thickness of the 1st contact bonding layer 22 which consists of such an adhesive agent has the preferable range of 0.1-100 micrometers, More preferably, it is the range of 0.5-50 micrometers, More preferably, it is the range of 10-30 micrometers.

また、第1接着層22に用いられる粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、2−エチルヘキシルアクリレート、n−ブチルアクリレート等を主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレート等と、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度(Tg)や架橋密度を変えることができる。   In addition, as the pressure-sensitive adhesive used for the first adhesive layer 22, an acrylic, rubber-based, or silicon-based pressure-sensitive adhesive can be used. From the viewpoint of transparency and durability, an acrylic pressure-sensitive adhesive is preferable. . As such an acrylic pressure-sensitive adhesive, 2-ethylhexyl acrylate, n-butyl acrylate and the like are the main components, and in order to improve cohesion, short-chain alkyl acrylates and methacrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate, and methyl methacrylate are used. And acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide derivatives, maleic acid, hydroxylethyl acrylate, glycidyl acrylate, and the like, which can be crosslinking points with the crosslinking agent, are preferably used. The glass transition temperature (Tg) and the crosslinking density can be changed by appropriately adjusting the mixing ratio and type of the main component, the short chain component, and the component for adding a crosslinking point.

上記粘着剤と併用される架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤が挙げられる。かかるイソシアネート系架橋剤としては、トリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシアネート、o−トルイジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート類を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品としては、日本ポリウレタン社製のコロネートL、コロネートHL、コロネート2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミリオネートHTL;武田薬品社製のタケネートD−102、タケネートD−110N、タケネートD−200、タケネートD−202;住友バイエル社製のデスモジュールL、デスモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュールHL;等を挙げることができる。   As a crosslinking agent used together with the said adhesive, an isocyanate type crosslinking agent is mentioned, for example. Such isocyanate-based crosslinking agents include tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5-diisocyanate, o-toluidine isocyanate, isophorone diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, and the like. Isocyanates, products of these isocyanates with polyalcohols, and polyisocyanates formed by condensation of isocyanates can be used. Commercially available products of these isocyanates include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate HTL manufactured by Nippon Polyurethane; Takenate D-102 and Takenate D-110N manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd. , Takenate D-200, Takenate D-202; Death Module L, Death Module IL, Death Module N, Death Module HL;

粘着剤は、バリア層20からなる被貼り合わせ面上に、所定量、均一に塗布し、その上に、カバー層16を載置した後、硬化させてもよいし、予め、カバー層16の片面に、所定量を均一に塗布して粘着剤の塗膜を形成しておき、該塗膜を被貼り合わせ面に貼り合わせ、その後、硬化させてもよい。   The pressure-sensitive adhesive may be uniformly applied in a predetermined amount on the surface to be bonded comprising the barrier layer 20, and the cover layer 16 may be placed thereon and then cured. A predetermined amount may be uniformly applied to one surface to form a pressure-sensitive adhesive coating, and the coating may be bonded to the surface to be bonded, and then cured.

また、カバー層16に、予め、粘着剤層が設けられた市販の粘着フィルムを用いてもよい。   Moreover, you may use the commercially available adhesive film in which the adhesive layer was previously provided for the cover layer 16. FIG.

このような粘着剤からなる第1接着層22の厚さは、0.1〜100μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.5〜50μmの範囲、さらに好ましくは10〜30μmの範囲である。   The thickness of the 1st contact bonding layer 22 which consists of such an adhesive has the preferable range of 0.1-100 micrometers, More preferably, it is the range of 0.5-50 micrometers, More preferably, it is the range of 10-30 micrometers.

〔第1光記録媒体10Aにおけるその他の層〕
好ましい第1光記録媒体10Aは、本発明の効果を損なわない範囲においては、上述の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、第1基板12の裏面(第1追記型記録層14の形成面に対する裏面)に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、第1基板12と第1追記型記録層14との間に設けられる第1光反射層18(後述)、第1追記型記録層14とカバー層16との間に設けられるバリア層20(後述)、第1光反射層18と第1追記型記録層14との間に設けられる界面層等が挙げられる。ここで、レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、及び熱乾燥樹脂等を用いて形成される。
[Other Layers in First Optical Recording Medium 10A]
The preferred first optical recording medium 10A may have other arbitrary layers in addition to the above-described essential layers as long as the effects of the present invention are not impaired. Other optional layers include, for example, a label layer having a desired image formed on the back surface of the first substrate 12 (the back surface with respect to the formation surface of the first write-once recording layer 14), the first substrate 12 and the first layer A first light reflection layer 18 (described later) provided between the first write-once recording layer 14, a barrier layer 20 (described later) provided between the first write-once recording layer 14 and the cover layer 16, and a first light reflection. Examples include an interface layer provided between the layer 18 and the first write-once recording layer 14. Here, the label layer is formed using an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a heat drying resin, or the like.

なお、これら必須及び任意の層は、いずれも単層でもよいし、多層構造を有してもよい。   These essential and optional layers may be a single layer or may have a multilayer structure.

〔第1光記録媒体10Aにおける第1光反射層18〕
第1光記録媒体10Aにおいて、レーザ光に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第1基板12と第1追記型記録層14との間に、第1光反射層18を形成することが好ましい。
[First Light Reflecting Layer 18 in First Optical Recording Medium 10A]
In the first optical recording medium 10 </ b> A, the first light is provided between the first substrate 12 and the first write-once recording layer 14 in order to increase the reflectance with respect to the laser light and to provide the function of improving the recording / reproducing characteristics. It is preferable to form the reflective layer 18.

第1光反射層18は、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質を、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。   The first light reflection layer 18 can be formed on the substrate by vacuum-depositing, sputtering, or ion plating a light-reflecting material having a high reflectance with respect to laser light.

第1光反射層18の層厚は、50〜200nmの範囲とすることが好ましい。なお、前記反射率は、70%以上であることが好ましい。   The layer thickness of the first light reflecting layer 18 is preferably in the range of 50 to 200 nm. The reflectance is preferably 70% or more.

反射率が高い光反射性物質としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは2種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Au、Ag、Alあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Au、Agあるいはこれらの合金である。さらに好ましくはAgを50atm%以上含む金属にて構成されていることである。   As a light reflective material having a high reflectance, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd , Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and other metals and semi-metals or stainless steel. These light reflecting materials may be used alone, or may be used in combination of two or more or as an alloy. Among these, Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel are preferable. Particularly preferred is Au, Ag, Al or an alloy thereof, and most preferred is Au, Ag or an alloy thereof. More preferably, it is made of a metal containing 50 atm% or more of Ag.

〔第1光記録媒体10Aにおけるバリア層20(中間層)〕
第1光記録媒体10Aにおいては、第1追記型記録層14とカバー層16との間にバリア層20を形成することが好ましい。
[Barrier layer 20 (intermediate layer) in first optical recording medium 10A]
In the first optical recording medium 10 </ b> A, it is preferable to form a barrier layer 20 between the first write-once recording layer 14 and the cover layer 16.

バリア層20は、第1追記型記録層14の保存性を高める、第1追記型記録層14とカバー層16との接着性を向上させる、反射率を調整する、熱伝導率を調整する、等のために設けられる。   The barrier layer 20 improves the storability of the first write-once recording layer 14, improves the adhesion between the first write-once recording layer 14 and the cover layer 16, adjusts the reflectance, and adjusts the thermal conductivity. Provided for etc.

バリア層20に用いられる材料としては、記録及び再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に、制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料であり、誘電体であることが好ましい。   The material used for the barrier layer 20 is not particularly limited as long as it is a material that transmits light used for recording and reproduction, and can express the above functions. Is a material with low permeability of gas and moisture, and is preferably a dielectric.

具体的には、Zn、Si、Ti、Te、Sn、Mo、Ge等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、ZnS、MoO2、GeO2、TeO、SiO2、TiO2、ZuO、ZnS−SiO2、SnO2、ZnO−Ga23が好ましく、ZnS−SiO2、SnO2、ZnO−Ga23がより好ましい。 Specifically, materials made of nitrides, oxides, carbides, sulfides such as Zn, Si, Ti, Te, Sn, Mo, Ge are preferable. ZnS, MoO 2 , GeO 2 , TeO, SiO 2 , TiO 2 , ZuO, ZnS—SiO 2 , SnO 2 and ZnO—Ga 2 O 3 are preferable, and ZnS—SiO 2 , SnO 2 and ZnO—Ga 2 O 3 are more preferable.

なお、第1光反射層18の材料としてAg(銀)を含んでいる場合、バリア層20は、S(硫黄)を含まないことが望ましい。S(硫黄)を含むと、第1光反射層18の構成材料である例えばAg(銀)を腐食させるからである。また、バリア層20は、水に腐食しない素材であることが望ましい。水に腐食する素材は、湿熱保存性が悪くなる傾向にあるからである。   In addition, when Ag (silver) is included as a material of the 1st light reflection layer 18, it is desirable that the barrier layer 20 does not contain S (sulfur). This is because if S (sulfur) is included, for example, Ag (silver) that is a constituent material of the first light reflecting layer 18 is corroded. The barrier layer 20 is preferably made of a material that does not corrode with water. This is because materials that corrode water tend to have poor wet heat storage.

また、バリア層20は、真空蒸着、DCスパッタリング、RFスパッタリング、イオンプレーティング等の真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましく、DCスパッタリングを用いることがさらに好ましい。   The barrier layer 20 can be formed by a vacuum film formation method such as vacuum deposition, DC sputtering, RF sputtering, or ion plating. Among these, it is more preferable to use sputtering, and it is more preferable to use DC sputtering.

バリア層20の厚さは、1〜80nm、好ましくは1〜50nm、より好ましくは1.5〜30nmである。薄すぎると膜質が均一でなくなりバリア特性が悪化し、厚すぎると成膜に時間がかかり効率が悪くなる。   The thickness of the barrier layer 20 is 1 to 80 nm, preferably 1 to 50 nm, and more preferably 1.5 to 30 nm. If it is too thin, the film quality will not be uniform and the barrier properties will deteriorate, and if it is too thick, it will take time to form the film and the efficiency will deteriorate.

バリア層20の成膜条件は、以下のとおりである。   The film forming conditions of the barrier layer 20 are as follows.

成膜時の圧力は1E−02〜1E−05torr、レートは0.1〜10nm/sec、ガス流量は1〜50sccm、ガス種類はArである。スパッタ電力は0.2〜4kW、好ましくは0.4〜3kW、さらに好ましくは0.5〜2.5kWである。   The pressure during film formation is 1E-02 to 1E-05 torr, the rate is 0.1 to 10 nm / sec, the gas flow rate is 1 to 50 sccm, and the gas type is Ar. The sputtering power is 0.2 to 4 kW, preferably 0.4 to 3 kW, and more preferably 0.5 to 2.5 kW.

RFスパッタ法により成膜する場合は、そのチューニング(マッチング)を調整して、ターゲットから分離した成膜材料のワーク(第1基板12に第1追記型記録層14及び第1光反射層18が形成された段階のもの)に向かう量(FWD)に対するターゲットから分離した成膜材料がターゲットに向かう量(REF)は、10%以下、好ましくは5%以下、さらに好ましくは2.5%以下である。なお、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。   When the film is formed by the RF sputtering method, the tuning (matching) is adjusted, and the work of the film forming material separated from the target (the first write-once recording layer 14 and the first light reflecting layer 18 are formed on the first substrate 12). The amount (REF) of the film forming material separated from the target toward the target (REF) with respect to the amount (FWD) toward the target) is 10% or less, preferably 5% or less, more preferably 2.5% or less. is there. In the case of oxides and nitrides, these gases may be mixed in a sputtering gas to form a film by reactive sputtering.

DCスパッタ法による成膜の場合は、パルススパッタ法等により瞬間的にターゲットの帯電を除去する手法を組み合わせることが好ましい。なお、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜することがある。   In the case of film formation by the DC sputtering method, it is preferable to combine a method of instantaneously removing the target charge by a pulse sputtering method or the like. In the case of oxides and nitrides, these gases may be mixed in a sputtering gas to form a film by reactive sputtering.

バリア層20の光透過率は50〜99%が好ましく、55〜98%が好ましく、60〜95%がより好ましい。光透過率が低いと記録感度が悪化する、媒体反射率が低くなる等の弊害が生じる。光透過率が高いと、耐光性試験時の保存性が悪くなる傾向にある。バリア層20に用いられる無機物層は、記録再生波長である405mより短い領域では光吸収性が405nmでの吸収より大きく、耐光性試験時に照射される〜350nmの光から色素を保護する働きも有していると推定される。   The light transmittance of the barrier layer 20 is preferably 50 to 99%, preferably 55 to 98%, and more preferably 60 to 95%. If the light transmittance is low, the recording sensitivity is deteriorated and the medium reflectivity is lowered. When the light transmittance is high, the storage stability during the light resistance test tends to be poor. The inorganic layer used for the barrier layer 20 has a light absorption greater than the absorption at 405 nm in a region shorter than the recording / reproducing wavelength of 405 m, and also has a function of protecting the dye from light of ˜350 nm irradiated in the light resistance test. It is estimated that

次に、第2光記録媒体10Bについて説明する。   Next, the second optical recording medium 10B will be described.

ここで、第2光記録媒体10Bは、貼り合わせ型の層構成を有する光記録媒体であり、その代表的な層構成としては、下記の通りである。   Here, the second optical recording medium 10B is an optical recording medium having a laminated type layer structure, and a typical layer structure is as follows.

(1) 第1の層構成は、図2に示すように、第2基板24上に、第2追記型記録層26、第2光反射層30、第2接着層32を順次形成し、第2接着層32上に保護基板28を設ける構成である。 (1) As shown in FIG. 2, the first layer structure is formed by sequentially forming a second write-once recording layer 26, a second light reflecting layer 30, and a second adhesive layer 32 on a second substrate 24. In this configuration, the protective substrate 28 is provided on the two adhesive layers 32.

(2) 第2の層構成は、図示しないが、第2基板24上に、第2追記型記録層26、第2光反射層30、保護層、第2接着層32を順次形成し、第2接着層32上に保護基板28を設ける構成である。 (2) Although the second layer configuration is not shown, a second write-once recording layer 26, a second light reflecting layer 30, a protective layer, and a second adhesive layer 32 are sequentially formed on the second substrate 24. In this configuration, the protective substrate 28 is provided on the two adhesive layers 32.

(3) 第3の層構成は、図示しないが、第2基板24上に、第2追記型記録層26、第2光反射層30、保護層、第2接着層32、保護層を順次形成し、該保護層上に保護基板28を設ける構成である。 (3) Although the third layer configuration is not shown, the second write-once recording layer 26, the second light reflecting layer 30, the protective layer, the second adhesive layer 32, and the protective layer are sequentially formed on the second substrate 24. The protective substrate 28 is provided on the protective layer.

(4) 第4の層構成は、図示しないが、第2基板24上に、第2追記型記録層26、第2光反射層30、保護層、第2接着層32、保護層、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板28を設ける構成である。 (4) Although the fourth layer configuration is not shown, the second write-once recording layer 26, the second light reflection layer 30, the protective layer, the second adhesive layer 32, the protective layer, and the light reflection are formed on the second substrate 24. The layers are sequentially formed, and the protective substrate 28 is provided on the light reflecting layer.

(5) 第5の層構成は、図示しないが、第2基板24上に、第2追記型記録層26、第2光反射層30、第2接着層32、光反射層を順次形成し、該光反射層上に保護基板28を設ける構成である。 (5) Although the fifth layer configuration is not shown, the second write-once recording layer 26, the second light reflecting layer 30, the second adhesive layer 32, and the light reflecting layer are sequentially formed on the second substrate 24. A protective substrate 28 is provided on the light reflecting layer.

なお、上記(1)〜(5)の層構成は単なる例示であり、当該層構成は上述の順番のみでなく、一部を入れ替えてもよいし、一部を省略してもかまわない。また、第2追記型記録層26は、保護基板28側にも形成されていてもよく、その場合、両面からの記録、再生が可能な光記録媒体となる。さらに、各層は1層で構成されても複数層で構成されてもよい。   Note that the layer configurations (1) to (5) are merely examples, and the layer configuration is not limited to the order described above, and a part of the layer configuration may be replaced or a part of the layer configuration may be omitted. The second write-once recording layer 26 may also be formed on the protective substrate 28 side. In this case, the optical recording medium can be recorded and reproduced from both sides. Furthermore, each layer may be composed of one layer or a plurality of layers.

ここでは、第2光記録媒体10Bとして、図2に示すように、第2基板24上に、第2追記型記録層26、第2光反射層30、第2接着層32、保護基板28をこの順に有する構成のものを例にとって、以下にその説明をする。   Here, as the second optical recording medium 10B, as shown in FIG. 2, a second write-once recording layer 26, a second light reflecting layer 30, a second adhesive layer 32, and a protective substrate 28 are provided on a second substrate 24. An example of the configuration having this order will be described below.

〔第2光記録媒体10Bの第2基板24〕
第2光記録媒体10Bにおける第2基板24には、トラックピッチ、溝幅(半値幅)、溝深さ、及びウォブル振幅のいずれもが下記の範囲である形状を有する第2プリグルーブ36(案内溝:グルーブ50、ランド52)が形成されていることが必須である。この第2プリグルーブ36は、CD−RやDVD−Rに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、第2光記録媒体10Bを、青紫色レーザに対応する媒体として使用する場合に好適である。
[Second substrate 24 of second optical recording medium 10B]
The second substrate 24 in the second optical recording medium 10B has a second pregroove 36 (guide) having a shape in which all of the track pitch, groove width (half width), groove depth, and wobble amplitude are in the following ranges. It is essential that grooves: grooves 50 and lands 52) be formed. The second pregroove 36 is provided in order to achieve a higher recording density than that of a CD-R or DVD-R. For example, the second optical recording medium 10B corresponds to a blue-violet laser. It is suitable for use as a medium.

第2プリグルーブ36のトラックピッチは、200〜600nmの範囲であることが必須であり、上限値が500nm以下であることが好ましく、450nm以下であることがより好ましく、430nm以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、300nm以上であることが好ましく、330nm以上であることがより好ましく、370nm以上であることがさらに好ましい。   The track pitch of the second pregroove 36 is essential to be in the range of 200 to 600 nm, the upper limit is preferably 500 nm or less, more preferably 450 nm or less, and further preferably 430 nm or less. preferable. Further, the lower limit is preferably 300 nm or more, more preferably 330 nm or more, and further preferably 370 nm or more.

トラックピッチが200nm未満では、第2プリグルーブ36を正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、600nmを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。   If the track pitch is less than 200 nm, it is difficult to form the second pregroove 36 accurately, and a problem of crosstalk may occur. If the track pitch exceeds 600 nm, the recording density may decrease. is there.

第2プリグルーブ36のグルーブ50(第2基板24において凹部)の溝幅(半値幅)は、50〜300nmの範囲であることが必須であり、上限値が250nm以下であることが好ましく、200nm以下であることがより好ましく、180nm以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、100nm以上であることが好ましく、120nm以上であることがより好ましく、140nm以上であることがさらに好ましい。   The groove width (half-value width) of the groove 50 (recessed portion in the second substrate 24) of the second pregroove 36 is essential to be in the range of 50 to 300 nm, and the upper limit is preferably 250 nm or less, and 200 nm. Or less, more preferably 180 nm or less. Further, the lower limit is preferably 100 nm or more, more preferably 120 nm or more, and further preferably 140 nm or more.

第2プリグルーブ36の溝幅が50nm未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、300nmを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。   If the groove width of the second pregroove 36 is less than 50 nm, the groove may not be sufficiently transferred during molding or the recording error rate may increase. If it exceeds 300 nm, the pits formed during recording spread. As a result, crosstalk may occur or a sufficient degree of modulation may not be obtained.

第2プリグルーブ36の溝深さは、30〜200nmの範囲であることが必須であり、上限値が170nm以下であることが好ましく、140nm以下であることがより好ましく、120nm以下であることがさらに好ましい。また、下限値は、40nm以上であることが好ましく、50nm以上であることがより好ましく、60nm以上であることがさらに好ましい。   The groove depth of the second pregroove 36 is essential to be in the range of 30 to 200 nm, and the upper limit is preferably 170 nm or less, more preferably 140 nm or less, and 120 nm or less. Further preferred. Further, the lower limit value is preferably 40 nm or more, more preferably 50 nm or more, and further preferably 60 nm or more.

第2プリグルーブ36の溝深さが30nm未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、200nmを超えると、反射率が大幅に低下することがある。   If the groove depth of the second pre-groove 36 is less than 30 nm, a sufficient recording modulation degree may not be obtained, and if it exceeds 200 nm, the reflectance may be significantly lowered.

第2光記録媒体10Bにおいて用いられる第2基板24としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができ、具体例及び好ましい例は、第1光記録媒体10Aの第1基板12と同様である。   As the second substrate 24 used in the second optical recording medium 10B, various materials used as the substrate material of the conventional optical recording medium can be arbitrarily selected and used. Specific examples and preferable examples are as follows. This is the same as the first substrate 12 of the first optical recording medium 10A.

また、第2基板24の厚さは、0.1〜1.0mmの範囲であることを要し、0.2〜0.8mmの範囲であることが好ましく、0.3〜0.7mmの範囲であることがより好ましい。   In addition, the thickness of the second substrate 24 needs to be in the range of 0.1 to 1.0 mm, preferably in the range of 0.2 to 0.8 mm, and 0.3 to 0.7 mm. A range is more preferable.

なお、後述する第2追記型記録層26が設けられる側の第2基板24の表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましく、該下塗層の材料、塗布法及び層厚の具体例及び好ましい例は、第1光記録媒体10Aの下塗層と同様である。   An undercoat layer is preferably formed on the surface of the second substrate 24 on the side where the second write-once recording layer 26, which will be described later, is provided, for the purpose of improving the flatness and the adhesive force. Specific examples and preferred examples of the material of the coating layer, the coating method, and the layer thickness are the same as those of the undercoat layer of the first optical recording medium 10A.

〔第2光記録媒体10Bの第2追記型記録層26〕
好ましい第2光記録媒体10Bの第2追記型記録層26に関する詳細な説明は、第1光記録媒体10Aの第1追記型記録層14に関するものと同様である。
[Second Write-once Recording Layer 26 of Second Optical Recording Medium 10B]
The detailed description of the second write-once recording layer 26 of the preferred second optical recording medium 10B is the same as that for the first write-once recording layer 14 of the first optical recording medium 10A.

従って、この第2光記録媒体10Bにおいても、上述した第1光記録媒体10Aと同様に、レーザ光46による繰り返し再生があっても、光吸収率の増加が抑制されることとなる。つまり、第2追記型記録層26の材料である有機色素への添加剤の含有及びレーザ光46の出力を下げることなく、再生耐久性を向上させることができる。   Therefore, also in the second optical recording medium 10B, similarly to the first optical recording medium 10A described above, even if repeated reproduction is performed by the laser light 46, an increase in light absorption rate is suppressed. That is, the reproduction durability can be improved without lowering the content of the additive in the organic dye that is the material of the second write-once recording layer 26 and the output of the laser beam 46.

〔第2光記録媒体10Bの第2光反射層30〕
第2光記録媒体10Bにおいて、レーザ光46に対する反射率を高めたり、記録再生特性を改良する機能を付与するために、第2追記型記録層26上に第2光反射層30を形成することがある。第2光記録媒体10Bの第2光反射層30に関する詳細は、第1光記録媒体10Aの第1光反射層18と同様である。
[Second Light Reflecting Layer 30 of Second Optical Recording Medium 10B]
In the second optical recording medium 10B, the second light reflecting layer 30 is formed on the second write-once recording layer 26 in order to increase the reflectance with respect to the laser light 46 and to provide the function of improving the recording / reproducing characteristics. There is. Details regarding the second light reflecting layer 30 of the second optical recording medium 10B are the same as those of the first light reflecting layer 18 of the first optical recording medium 10A.

〔第2光記録媒体10Bの第2接着層32〕
好ましい第2光記録媒体10Bにおける第2接着層32は、第2光反射層30と、保護基板28との密着性を向上させるために形成される任意の層である。
[Second Adhesive Layer 32 of Second Optical Recording Medium 10B]
The second adhesive layer 32 in the preferred second optical recording medium 10 </ b> B is an arbitrary layer formed in order to improve the adhesion between the second light reflecting layer 30 and the protective substrate 28.

第2接着層32を構成する材料としては、光硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような光硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ社製の「SD−640」、「SD−347」等のUV硬化性樹脂(UV硬化性接着剤)を挙げることができる。また、第2接着層32の厚さは、弾力性を持たせるため、1〜1000μmの範囲が好ましい。   As a material constituting the second adhesive layer 32, a photo-curing resin is preferable, and in particular, a material having a small curing shrinkage rate is preferable in order to prevent the disk from warping. Examples of such a photocurable resin include UV curable resins (UV curable adhesives) such as “SD-640” and “SD-347” manufactured by Dainippon Ink. The thickness of the second adhesive layer 32 is preferably in the range of 1 to 1000 μm in order to provide elasticity.

〔第2光記録媒体10Bの保護基板28〕
好ましい第2光記録媒体10Bにおける保護基板28(ダミー基板)は、上述した第2基板24と同じ材質で、同じ形状のものを使用することができる。保護基板28の厚さとしては、0.1〜1.0mmの範囲であることを要し、0.2〜0.8mmの範囲であることが好ましく、0.3〜0.7mmの範囲であることがより好ましい。
[Protective substrate 28 of second optical recording medium 10B]
As the protective substrate 28 (dummy substrate) in the preferred second optical recording medium 10B, the same material and the same shape as those of the second substrate 24 described above can be used. The thickness of the protective substrate 28 needs to be in the range of 0.1 to 1.0 mm, preferably in the range of 0.2 to 0.8 mm, and in the range of 0.3 to 0.7 mm. More preferably.

〔第2光記録媒体10Bの保護層(図示せず)〕
第2光記録媒体10Bは、その層構成によっては、第2光反射層30や第2追記型記録層26等を物理的及び化学的に保護する目的で保護層が設けられることがある。
[Protective layer (not shown) of second optical recording medium 10B]
Depending on the layer configuration of the second optical recording medium 10B, a protective layer may be provided for the purpose of physically and chemically protecting the second light reflecting layer 30, the second write-once recording layer 26, and the like.

保護層に用いられる材料の例としては、ZnS、ZnS−SiO2、SiO、SiO2、MgF2、SnO2、Si34等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。 Examples of materials used for the protective layer include inorganic substances such as ZnS, ZnS—SiO 2 , SiO, SiO 2 , MgF 2 , SnO 2 , and Si 3 N 4 , thermoplastic resins, thermosetting resins, and UV curable materials. Organic substances such as resins can be mentioned.

保護層は、例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して光反射層上に貼り合わせることにより形成することができる。また、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。   The protective layer can be formed, for example, by bonding a film obtained by plastic extrusion onto the light reflecting layer via an adhesive. Moreover, you may provide by methods, such as vacuum evaporation, sputtering, and application | coating.

また、保護層として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂を用いる場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのまま若しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を塗布し、UV光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚は一般には0.1μm〜1mmの範囲にある。   Further, when a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used as the protective layer, it is also formed by dissolving these in an appropriate solvent to prepare a coating solution, and then applying and drying the coating solution. be able to. In the case of a UV curable resin, it can also be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in a suitable solvent, and then applying the coating solution and curing it by irradiation with UV light. In these coating liquids, various additives such as an antistatic agent, an antioxidant, and a UV absorber may be added according to the purpose. The thickness of the protective layer is generally in the range of 0.1 μm to 1 mm.

〔第2光記録媒体10Bにおけるその他の層〕
第2光記録媒体10Bは、本発明の効果を損なわない範囲において、上述の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。このような他の任意の層の詳細な説明は、第1光記録媒体10Aにおけるその他の層と同様である。
[Other layers in the second optical recording medium 10B]
The second optical recording medium 10B may have other arbitrary layers in addition to the above-mentioned layers as long as the effects of the present invention are not impaired. The detailed description of such other optional layers is the same as the other layers in the first optical recording medium 10A.

<光情報記録方法>
本発明の光情報記録方法は、第1光記録媒体10A又は第2光記録媒体10Bを用いて、例えば、次のように行われる。
<Optical information recording method>
The optical information recording method of the present invention is performed, for example, as follows using the first optical recording medium 10A or the second optical recording medium 10B.

第1光記録媒体10Aにおいては、先ず、第1光記録媒体10Aを定線速度(0.5〜10m/秒)又は定角速度にて回転させながら、カバー層16側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光46を、開口数NAが例えば0.85の第1対物レンズ42を介して照射する。このレーザ光46の照射により、第1追記型記録層14がレーザ光46を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。   In the first optical recording medium 10A, first, recording of a semiconductor laser beam or the like from the cover layer 16 side while rotating the first optical recording medium 10A at a constant linear velocity (0.5 to 10 m / second) or a constant angular velocity. Is irradiated through the first objective lens 42 having a numerical aperture NA of, for example, 0.85. By irradiation with the laser light 46, the first write-once recording layer 14 absorbs the laser light 46 and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits) and its optical characteristics. It is considered that information is recorded by changing.

このとき、第1追記型記録層14に対して、反射率の大きく、且つ、厚みの大きい第1光反射層18をレーザ光46の入射面とは反対側に形成するようにしているため、入射されたレーザ光46はその大半が第1光反射層18の表面で反射されて検出器にもどる。   At this time, the first light reflection layer 18 having a large reflectance and a large thickness with respect to the first write-once recording layer 14 is formed on the side opposite to the incident surface of the laser beam 46. Most of the incident laser light 46 is reflected by the surface of the first light reflection layer 18 and returns to the detector.

第1追記型記録層14のうち、記録されたマーク(ピット情報)と記録されない部分とでは光学定数(複素屈折率)が異なるため、第1光反射層18まで往復する間の光路長が異なってくる。その結果、第1追記型記録層14に記録されたピット情報を位相差変調方式により検出することが可能になる。   Of the first write-once recording layer 14, the recorded mark (pit information) and the non-recorded portion have different optical constants (complex refractive indices), and therefore the optical path length during reciprocation to the first light reflecting layer 18 is different. Come. As a result, the pit information recorded on the first write-once recording layer 14 can be detected by the phase difference modulation method.

同様に、第2光記録媒体10Bにおいては、先ず、第2光記録媒体10Bを定線速度(0.5〜10m/秒)又は定角速度にて回転させながら、第2基板24側から半導体レーザ光等の記録用のレーザ光46を、開口数NAが例えば0.65の第2対物レンズ48を介して照射する。このレーザ光46の照射により、第2追記型記録層26がレーザ光46を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化(例えば、ピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。   Similarly, in the second optical recording medium 10B, first, while rotating the second optical recording medium 10B at a constant linear velocity (0.5 to 10 m / second) or a constant angular velocity, the semiconductor laser is started from the second substrate 24 side. A recording laser beam 46 such as light is irradiated through a second objective lens 48 having a numerical aperture NA of, for example, 0.65. By irradiation with the laser light 46, the second write-once recording layer 26 absorbs the laser light 46 and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits) and its optical characteristics. It is considered that information is recorded by changing.

この第2光記録媒体10Bにおいても、第2追記型記録層26に対して、反射率の大きく、且つ、厚みの大きい第2光反射層30をレーザ光46の入射面とは反対側に形成するようにしているため、入射されたレーザ光46はその大半が第2光反射層30の表面で反射されて検出器にもどる。   Also in the second optical recording medium 10B, the second light reflecting layer 30 having a large reflectance and a large thickness is formed on the side opposite to the incident surface of the laser light 46 with respect to the second write-once recording layer 26. Therefore, most of the incident laser light 46 is reflected by the surface of the second light reflecting layer 30 and returns to the detector.

第2追記型記録層26のうち、記録されたマーク(ピット情報)と記録前の部分とでは光学定数(複素屈折率)が異なるため、第2光反射層30まで往復する間の光路長が異なってくる。その結果、第2追記型記録層26に記録されたピット情報を位相差変調方式により検出することが可能になる。   In the second write-once recording layer 26, the recorded mark (pit information) and the portion before recording have different optical constants (complex refractive index), so the optical path length during reciprocation to the second light reflecting layer 30 is different. Come different. As a result, the pit information recorded on the second write-once recording layer 26 can be detected by the phase difference modulation method.

本実施の形態においては、記録用のレーザ光46として390〜450nmの範囲の発振波長を有する半導体レーザ光が用いられる。好ましい光源としては390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光、中心発振波長850nmの赤外半導体レーザ光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長425nmの青紫色SHGレーザ光を挙げることができる。特に、記録密度の点で390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、第1光記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザ光を基板側あるいは保護層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。   In the present embodiment, a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 390 to 450 nm is used as the recording laser beam 46. As a preferable light source, a blue-violet semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 390 to 415 nm, and a blue-violet SHG having a central oscillation wavelength of 425 nm, which is half the wavelength of an infrared semiconductor laser beam having a central oscillation wavelength of 850 nm using an optical waveguide device. A laser beam can be mentioned. In particular, it is preferable to use a blue-violet semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 390 to 415 nm in terms of recording density. Reproduction of information recorded as described above is performed by irradiating a semiconductor laser beam from the substrate side or the protective layer side while rotating the first optical recording medium at the same constant linear velocity as described above, and detecting the reflected light. Can be done.

以下、代表的に第2光記録媒体10Bと同様の構成を有する実施例1及び2を作製して、それぞれの記録前の屈折率、記録後の屈折率、変調度及びPR(パーシャルレスポンス)のSN値を求めた。   Hereinafter, Examples 1 and 2 having the same configuration as that of the second optical recording medium 10B are typically manufactured, and the refractive index before recording, the refractive index after recording, the modulation degree, and the PR (partial response) are recorded. The SN value was determined.

[モデル計算の実施]
先ず、実施例1及び2に係る光記録媒体に対する諸特性の測定に先立って、2つのモデル計算(第1モデル計算及び第2モデル計算)を行い、記録前における複素屈折率の実部の値として好ましい値を求めた。
[Model calculation]
First, prior to measurement of various characteristics for the optical recording media according to Examples 1 and 2, two model calculations (first model calculation and second model calculation) are performed, and the value of the real part of the complex refractive index before recording is calculated. A preferable value was obtained.

第1モデル計算では、第2光記録媒体10Bにおける第2追記型記録層26のグルーブ50上の厚みを80nm、ランド52上の厚みを60nmとして、第2追記型記録層の屈折率変化に伴う変調度を計算した。   In the first model calculation, the thickness on the groove 50 of the second write-once recording layer 26 in the second optical recording medium 10B is 80 nm, and the thickness on the land 52 is 60 nm, which accompanies a change in the refractive index of the second write-once recording layer. The degree of modulation was calculated.

第2モデル計算では、第2追記型記録層26のグルーブ50上の厚みを40nm、ランド52上の厚みを10nmとして、第2追記型記録層の屈折率変化に伴う変調度を計算した。   In the second model calculation, the thickness of the second write-once recording layer 26 on the groove 50 was 40 nm and the thickness on the land 52 was 10 nm, and the degree of modulation accompanying the change in the refractive index of the second write-once recording layer was calculated.

これら第1モデル計算及び第2モデル計算には、日本アールソフトデザイン社の計算ソフトdiffractMODを用いた。   For the first model calculation and the second model calculation, calculation software diffractMOD of Nippon Softsoft Design Co., Ltd. was used.

また、第1モデル計算及び第2モデル計算では、以下のパラメータを用いた。すなわち、第2プリグルーブ36の溝幅=180nm、第2プリグルーブ36の溝深さ=90nm、第2プリグルーブ36の溝傾斜角=45deg、第2光反射層30の屈折率n=0.215、吸収係数k=1.94、第2光反射層30の厚み=80nm、第2基板24の屈折率n=1.6、吸収係数k=0、計算対象エリア=800nm、分解後の色素の複素屈折率の実部=1.8、虚部=0.1とした。第1モデル計算の結果を図3に示し、第2モデル計算の結果を図4に示す。   In the first model calculation and the second model calculation, the following parameters were used. That is, the groove width of the second pregroove 36 = 180 nm, the groove depth of the second pregroove 36 = 90 nm, the groove inclination angle of the second pregroove 36 = 45 deg, the refractive index n of the second light reflecting layer 30 = 0. 215, absorption coefficient k = 1.94, thickness of the second light reflecting layer 30 = 80 nm, refractive index n = 1.6 of the second substrate 24, absorption coefficient k = 0, calculation object area = 800 nm, decomposed dye The real part of the complex refractive index was 1.8 and the imaginary part was 0.1. The result of the first model calculation is shown in FIG. 3, and the result of the second model calculation is shown in FIG.

いずれの場合も、記録前の複素屈折率の実部が1.2〜1.5の範囲で0.1を超える変調度が得られることが示されている。なお、計算結果で0.1の変調度が得られていれば、実際の第2光記録媒体10Bでも十分な変調度が得られることがわかっている。   In either case, it is shown that a modulation degree exceeding 0.1 is obtained when the real part of the complex refractive index before recording is in the range of 1.2 to 1.5. In addition, it is known that a sufficient modulation factor can be obtained even in the actual second optical recording medium 10B if a modulation factor of 0.1 is obtained in the calculation result.

[実施例1]
(第2基板24の作製)
帝人化成株式会社製のポリカーボネート樹脂(パンライトAD5503)を用いて、射出成形により厚さ0.6mmの第2基板24を成形した。第2基板24の第2プリグルーブ36のトラックピッチは400nm、グルーブ50の半値幅は190nm、溝深さは90nmであった。
[Example 1]
(Production of the second substrate 24)
A second substrate 24 having a thickness of 0.6 mm was molded by injection molding using a polycarbonate resin (Panlite AD5503) manufactured by Teijin Chemicals Limited. The track pitch of the second pregroove 36 of the second substrate 24 was 400 nm, the half width of the groove 50 was 190 nm, and the groove depth was 90 nm.

(第2追記型記録層26の形成)
下記化合物1を2,2,3,3−テトラフロロプロパノール100mlに対し2gの比率になるよう秤量して溶解させた。該溶解液に超音波を2時間照射して色素を溶解させた後、温度23℃、湿度50%の環境下に0.5時間以上静置し、0.2μmのフィルタで濾過して塗布液を得た。この塗布液を、スピンコート法で第2基板24のうち、第2プリグルーブ36が形成された表面上に塗布して、厚さ55nmの第2追記型記録層26を形成した。このとき、色素の複素屈折率の実部は1.34、虚部は0.23であった。
(Formation of the second write-once recording layer 26)
The following compound 1 was weighed and dissolved in a ratio of 2 g to 100 ml of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol. The solution is irradiated with ultrasonic waves for 2 hours to dissolve the dye, then left in an environment at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% for 0.5 hours or more, filtered through a 0.2 μm filter, and then the coating solution Got. This coating solution was applied onto the surface of the second substrate 24 on which the second pregroove 36 was formed by a spin coating method to form a second write-once recording layer 26 having a thickness of 55 nm. At this time, the real part of the complex refractive index of the dye was 1.34, and the imaginary part was 0.23.

Figure 2007287298
Figure 2007287298

その後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、第2基板24を垂直のスタックポールにスペーサで間をあけながら支持し、80℃で1時間保持して行った。   Thereafter, annealing was performed in a clean oven. The annealing process was performed by supporting the second substrate 24 on a vertical stack pole while keeping a gap with a spacer, and holding at 80 ° C. for 1 hour.

(第2光反射層30の形成)
第2追記型記録層26上に、Ag:98.4at%、Nd:0.7at%、Cu:0.9at%からなるターゲットを用いて、真空成膜法により第2光反射層30を100nmの厚みで成膜した。投入電力は2kW、Ar流量は5sccmで行った。
(Formation of the second light reflecting layer 30)
On the second write-once recording layer 26, the second light reflecting layer 30 is formed to 100 nm by a vacuum film forming method using a target of Ag: 98.4 at%, Nd: 0.7 at%, and Cu: 0.9 at%. The film was formed with a thickness of. The input power was 2 kW and the Ar flow rate was 5 sccm.

(保護基板28の貼り合わせ)
第2光反射層30上に、スピンコートにより、紫外線硬化性樹脂(大日本インキ社製 SD640)を滴下、塗布し、その上に、保護基板28を載せた後、3600r.p.m.で回転させて紫外線硬化性樹脂を延展させた後に、紫外線を照射することで、紫外線硬化性樹脂を硬化させて、2枚の基板(第2基板24及び保護基板28)を貼り合わせることで、第2光記録媒体10Bと同様の構成を有する実施例1に係る光記録媒体を得た。
(Lamination of protective substrate 28)
An ultraviolet curable resin (SD640 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) was dropped and applied onto the second light reflecting layer 30 by spin coating, and after the protective substrate 28 was placed thereon, 3600 r. p. m. After spreading the ultraviolet curable resin by rotating the substrate, the ultraviolet curable resin is cured by irradiating with ultraviolet rays, and the two substrates (second substrate 24 and protective substrate 28) are bonded together, An optical recording medium according to Example 1 having the same configuration as that of the second optical recording medium 10B was obtained.

[実施例2]
前記化合物1の代わりに下記化合物2を用いて第2追記型記録層26を形成したこと以外は、実施例1と全く同様な方法で第2光記録媒体10Bと同様の構成を有する実施例2に係る光記録媒体を作製した。記録前の色素の複素屈折率の実部は1.24、虚部は0.4であった。
[Example 2]
Example 2 having the same configuration as the second optical recording medium 10B in the same manner as in Example 1 except that the second write-once recording layer 26 was formed using the following compound 2 instead of the compound 1. An optical recording medium according to the above was produced. The real part of the complex refractive index of the dye before recording was 1.24, and the imaginary part was 0.4.

Figure 2007287298
Figure 2007287298

<評価>
作製した実施例1及び2を、波長:406nm、NA=0.65のレーザ光学系を搭載したDDU−1000(パルステック工業社製)にセットして、クロック周波数64.8MHz、線速6.61m/sにて11T信号(1.122μm長)を4〜10mWの記録パワーで記録し、変調度を測定した。変調度は11T信号記録後の信号振幅を、11T信号の高い方の反射率で除して求めた。
<Evaluation>
The produced Examples 1 and 2 were set in DDU-1000 (manufactured by Pulstec Industrial Co., Ltd.) equipped with a laser optical system having a wavelength of 406 nm and NA = 0.65, and a clock frequency of 64.8 MHz and a linear velocity of 6. An 11T signal (length 1.122 μm) was recorded at 61 m / s with a recording power of 4 to 10 mW, and the degree of modulation was measured. The degree of modulation was obtained by dividing the signal amplitude after 11T signal recording by the higher reflectance of the 11T signal.

また、8−12変調されたランダム信号を記録してPR(パーシャルレスポンス)のSN比(PRSNR)を求めた。記録は、発光波形を最適化して行った。   Further, an 8-12 modulated random signal was recorded, and an SN ratio (PRSNR) of PR (partial response) was obtained. Recording was performed by optimizing the light emission waveform.

そして、実施例1に係る光記録媒体においては、記録前の複素屈折率の実部が1.34、記録後の複素屈折率の実部が1.75、変調度が0.38、PRSNRが25であった。   In the optical recording medium according to Example 1, the real part of the complex refractive index before recording is 1.34, the real part of the complex refractive index after recording is 1.75, the modulation factor is 0.38, and the PRSNR is 25.

一方、実施例2に係る光記録媒体においては、記録前の複素屈折率の実部が1.24、記録後の複素屈折率の実部が1.8、変調度が0.51、PRSNRが23であった。   On the other hand, in the optical recording medium according to Example 2, the real part of the complex refractive index before recording is 1.24, the real part of the complex refractive index after recording is 1.8, the modulation factor is 0.51, and the PRSNR is 23.

このようなことから、記録前の複素屈折率の実部が1.24、1.34と、大きくない色素でも、十分な変調度が得られることが示された。また、記録特性も良好であった。   For this reason, it was shown that a sufficient degree of modulation can be obtained even with a dye that is not so large that the real part of the complex refractive index before recording is 1.24 and 1.34. The recording characteristics were also good.

なお、本発明に係る光記録媒体及び情報記録方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   In addition, the optical recording medium and the information recording method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and it is needless to say that various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

本実施の形態に係る光記録媒体のうち、第1光記録媒体を一部省略して示す断面図である。It is sectional drawing which abbreviate | omits and shows a part of 1st optical recording medium among the optical recording media which concern on this Embodiment. 本実施の形態に係る光記録媒体のうち、第2光記録媒体を一部省略して示す断面図である。It is sectional drawing which abbreviate | omits and shows a part of 2nd optical recording medium among the optical recording media which concern on this Embodiment. 第1モデル計算の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of 1st model calculation. 第1モデル計算の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of 1st model calculation. 実施例1及び2の記録前の屈折率、記録後の屈折率、変調度及びPRSNRを示す表図である。It is a table | surface which shows the refractive index before recording of Examples 1 and 2, the refractive index after recording, a modulation degree, and PRSNR.

符号の説明Explanation of symbols

10A…第1光記録媒体 10B…第2光記録媒体
12…第1基板 14…第1追記型記録層
16…カバー層 18…第1光反射層
20…バリア層 22…第1接着層
24…第2基板 26…第2追記型記録層
28…保護基板 30…第2光反射層
32…第2接着層 44…ハードコート層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10A ... 1st optical recording medium 10B ... 2nd optical recording medium 12 ... 1st board | substrate 14 ... 1st write-once recording layer 16 ... Cover layer 18 ... 1st light reflection layer 20 ... Barrier layer 22 ... 1st adhesive layer 24 ... Second substrate 26 ... Second write-once recording layer 28 ... Protective substrate 30 ... Second light reflecting layer 32 ... Second adhesive layer 44 ... Hard coat layer

Claims (9)

基板と、該基板上に形成された記録層と反射層とを具備し、前記記録層に対してレーザ光を照射することによって情報の記録及び/又は再生を行う光記録媒体において、
前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録する前における前記記録層の複素屈折率の実部が1.2〜1.5であり、
前記レーザ光によって前記記録層に情報を記録した後における前記記録層の複素屈折率の実部が1.7〜1.9であることを特徴とする光記録媒体。
In an optical recording medium comprising a substrate, a recording layer formed on the substrate, and a reflective layer, and recording and / or reproducing information by irradiating the recording layer with laser light,
The real part of the complex refractive index of the recording layer before recording information on the recording layer by the laser light is 1.2 to 1.5,
An optical recording medium, wherein a real part of a complex refractive index of the recording layer after information is recorded on the recording layer by the laser beam is 1.7 to 1.9.
請求項1記載の光記録媒体において、
前記記録層は、前記レーザ光によって情報を記録した後の反射率が、前記情報を記録する前の反射率よりも高くなる光学特性を有することを特徴とする光記録媒体。
The optical recording medium according to claim 1,
The optical recording medium, wherein the recording layer has an optical characteristic that a reflectance after recording information by the laser light is higher than a reflectance before recording the information.
請求項1又は2記載の光記録媒体において、
前記記録層は色素化合物を含有し、
前記色素化合物は、トリメチンオキソノールをアニオンとし、金属錯体をカチオンとする色素化合物であることを特徴とする光記録媒体。
The optical recording medium according to claim 1 or 2,
The recording layer contains a dye compound;
The optical recording medium, wherein the dye compound is a dye compound having trimethine oxonol as an anion and a metal complex as a cation.
請求項3記載の光記録媒体において、
前記色素化合物は、下記一般式(1)で表される化合物であることを特徴とする光記録媒体。
一般式(1)
Figure 2007287298
[一般式(1)中、A、B、C及びDは、AとBのハメットのσp値の合計及びCとDのハメットのσp値の合計がそれぞれ0.6以上となる電子吸引性基であり、AとBもしくはCとDは連結して環を形成していてもよく、Rはメチン炭素上の置換基を表し、m=1、nは0〜2m+1の整数を表し、nが2以上の整数のとき、複数個のRは互いに同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成していてもよく、Yt+はt価のカチオンを表し、tは1〜10の整数を表す。]
The optical recording medium according to claim 3,
The optical recording medium, wherein the dye compound is a compound represented by the following general formula (1).
General formula (1)
Figure 2007287298
[In the general formula (1), A, B, C and D are electron withdrawing groups in which the sum of the Hammett σp values of A and B and the sum of the Hammett σp values of C and D are each 0.6 or more. A and B or C and D may be linked to form a ring, R represents a substituent on the methine carbon, m = 1, n represents an integer of 0 to 2m + 1, and n represents When the integer is 2 or more, a plurality of R may be the same or different from each other, and may be linked to each other to form a ring, Yt + represents a t-valent cation, and t is 1 to 10 Represents an integer. ]
請求項1〜4のいずれか1項に記載の光記録媒体において、
前記基板の溝深さが30〜130nmであることを特徴とする光記録媒体。
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 4,
An optical recording medium, wherein the substrate has a groove depth of 30 to 130 nm.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の光記録媒体において、
前記基板の溝幅が140〜240nmであることを特徴とする光記録媒体。
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 5,
An optical recording medium characterized in that a groove width of the substrate is 140 to 240 nm.
請求項1〜6のいずれか1項に記載の光記録媒体において、
前記反射層の厚みが50〜200nmであることを特徴とする光記録媒体。
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 6,
An optical recording medium, wherein the reflective layer has a thickness of 50 to 200 nm.
請求項1〜7のいずれか1項に記載の光記録媒体において、
前記レーザ光の波長が405nm、前記レーザ光を前記記録層に集光する対物レンズの開口数が0.65、前記基板の端面から前記記録層までの距離が0.6mmに対応したものであることを特徴とする光記録媒体。
The optical recording medium according to any one of claims 1 to 7,
The wavelength of the laser beam corresponds to 405 nm, the numerical aperture of the objective lens for condensing the laser beam on the recording layer is 0.65, and the distance from the end surface of the substrate to the recording layer is 0.6 mm. An optical recording medium characterized by the above.
請求項1〜7のいずれかの1項に記載の光記録媒体に、波長450nm以下のレーザ光を照射して位相差変調方式にて情報を記録することを特徴とする情報記録方法。   An information recording method comprising: irradiating the optical recording medium according to any one of claims 1 to 7 with a laser beam having a wavelength of 450 nm or less to record information by a phase difference modulation method.
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