JP2007286607A - Silver salt photothermographic dry imaging material, method for producing the same and image forming method - Google Patents

Silver salt photothermographic dry imaging material, method for producing the same and image forming method Download PDF

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博美 赤堀
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silver salt photothermographic dry imaging material which excels in raw stock preservability (preservability before heat development), achieves high maximum density even by short-time heat development while having low fog, excels also in stability of a silver image after heat development, and ensures good silver tone, a method for producing the same, and an image forming method using the same. <P>SOLUTION: The silver salt photothermographic dry imaging material has a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains, a non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt, a reducing agent for silver ions and a binder resin, wherein the photosensitive layer contains a bisphenol type compound as the reducing agent for silver ions and a resin having a polymerization degree of 700-3,000 as the binder resin. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、銀塩光熱写真ドライイメージング材料(「光熱写真材料」又は「熱現像感光材料」ともいう。)、その製造方法、及びそれを用いた画像形成方法に関する。   The present invention relates to a silver salt photothermographic dry imaging material (also referred to as “photothermographic material” or “photothermographic material”), a production method thereof, and an image forming method using the same.

イメージング(画像形成)材料は、センシトメトリー特性、画質特性、取り扱いの簡便性等の性能はもちろんのこと、近年、安全性、環境保全等を全て満足させることが要望されている。特に、現像処理廃液の海洋投棄が全面的に禁止されたことから、医療や印刷製版の分野でもウェット処理からドライ処理へのニーズの高まりが顕著となってきた。   In recent years, imaging (image forming) materials are required to satisfy not only performance such as sensitometry characteristics, image quality characteristics, and ease of handling, but also safety and environmental preservation. In particular, since the ocean dumping of development processing waste liquid has been completely banned, the need from wet processing to dry processing has become remarkable in the fields of medical treatment and printing plate making.

一方、医療分野では、近年の医療情報のデジタル化により、医療診断用画像はMRI(Magnetic Resonance Imaging)、CT(Computed Tomography)、CR(Computed Radiography)等の手法が主流となり、画像出力には各種方式の医療画像用ドライイメージャーシステムが使用されてきている。また、印刷製版の分野でも、同様なデジタル化とドライ化が進展している。   On the other hand, in the medical field, due to recent digitization of medical information, medical diagnostic images have become mainstream techniques such as MRI (Magnetic Resonance Imaging), CT (Computed Tomography), and CR (Computed Radiography). A dry imager system for medical imaging has been used. Also in the field of printing plate making, similar digitization and drying are progressing.

上記のような社会・市場動向に伴い、レーザ・イメージャーやレーザ・イメージセッターのような効率的な露光が可能で、かつ高解像度で鮮明な画像を形成することができる銀塩光熱写真ドライイメージング材料の重要性が増し、当該材料の一層の改良技術が必要とされてきている。   Silver salt photothermographic dry imaging that enables efficient exposure, such as laser imagers and laser imagesetters, and can produce clear images with high resolution in line with social and market trends as described above The importance of materials has increased, and further improvements in the materials have been required.

ところで、これらの銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、画像形成層(感光性層)中に設置された感光性ハロゲン化銀粒子を光センサーとし、脂肪族カルボン酸銀塩を銀イオンの供給源とし、内蔵された還元剤によって通常80℃以上で熱現像することで画像を形成させ、定着を行わないことを特徴とする(例えば特許文献1、2及び非特許文献1参照)。   By the way, these silver salt photothermographic dry imaging materials use photosensitive silver halide particles installed in an image forming layer (photosensitive layer) as an optical sensor, and use an aliphatic carboxylic acid silver salt as a supply source of silver ions. An image is formed by heat development usually at 80 ° C. or higher with a built-in reducing agent, and fixing is not performed (see, for example, Patent Documents 1 and 2 and Non-Patent Document 1).

しかしながら、銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、脂肪族カルボン酸銀塩、感光性ハロゲン化銀粒子及び還元剤を含有するため、熱現像前の保存期間にカブリが生じ易い。又、露光後、加熱現像するだけで定着を行わないため、脂肪族カルボン酸銀塩及び還元剤等が全部又は一部が残留併存し、長期間の保存において、熱や光により金属銀が感材中において生成し、銀画像の画質が変化し易いという問題がある。   However, since the silver salt photothermographic dry imaging material contains an aliphatic carboxylic acid silver salt, photosensitive silver halide grains and a reducing agent, fog is likely to occur during the storage period before heat development. In addition, after the exposure, only heat development is performed and fixing is not performed. Therefore, all or part of the aliphatic carboxylic acid silver salt and the reducing agent coexist, and metal silver is sensed by heat or light during long-term storage. There is a problem that it is generated in the material and the image quality of the silver image is likely to change.

更に、近年においては、熱現像の迅速化が進んでおり、短時間で高濃度な画像を得ることが求められている。これらを解決する手段として還元剤が有効であるが(例えば特許文献3、4、5参照)、熱現像前の感光材料を長期に保存した場合、及び熱現像後に得られる銀画像を長期に保存した場合にカブリが生じ易いという問題があった。又、形成される画像銀の色調が黄色みを帯びるため、特に医療用途では診断性の低下を引き起こし易く、更なる改善が求められていた。
米国特許第3,152,904号明細書 米国特許第3,487,075号明細書 特開2001−188314号公報 特開2004−4650号公報 特開2004−4767号公報 Dry Silver Photographic Materials,Handbook of Imaging Materials,Marcel Dekker, New York,p.48(1991)
Furthermore, in recent years, rapid thermal development is progressing, and it is required to obtain a high-density image in a short time. A reducing agent is effective as a means for solving these problems (see, for example, Patent Documents 3, 4, and 5). However, when a photosensitive material before heat development is stored for a long time, and a silver image obtained after heat development is stored for a long time. In this case, there is a problem that fog is likely to occur. In addition, since the color tone of the image silver to be formed is yellowish, it is easy to cause a decrease in diagnostics particularly in medical applications, and further improvement has been demanded.
US Pat. No. 3,152,904 US Pat. No. 3,487,075 JP 2001-188314 A JP 2004-4650 A JP 2004-4767 A Dry Silver Photographic Materials, Handbook of Imaging Materials, Marcel Dekker, New York, p. 48 (1991)

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、生保存性(熱現像前の保存性)に優れ、低カブリでありながら、短時間の熱現像でも最高濃度が高く、更に熱現像後における銀画像の安定性にも優れ、かつ銀色調が良好である銀塩光熱写真ドライイメージング材料、その製造方法、及びそれを用いた画像形成方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems, and its solution is excellent in raw storability (storability before heat development), low fog, and high maximum density even in short time heat development. Another object of the present invention is to provide a silver salt photothermographic dry imaging material excellent in the stability of a silver image after heat development and having a good silver tone, a production method thereof, and an image forming method using the same.

本発明の上記課題は下記の手段により解決される。   The above-described problems of the present invention are solved by the following means.

1.感光性ハロゲン化銀粒子、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩、銀イオン還元剤及びバインダー樹脂を含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層が、銀イオン還元剤として下記一般式(1)で表される化合物を含有し、かつバインダー樹脂として重合度が700〜3000の樹脂を含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   1. In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing a photosensitive silver halide grain, a non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt, a silver ion reducing agent and a binder resin, the photosensitive layer has a silver ion reduction A silver salt photothermographic dry imaging material comprising a compound represented by the following general formula (1) as an agent and a resin having a polymerization degree of 700 to 3000 as a binder resin.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

〔式中、R1は水素原子又は置換基を表し、R2及びR3は各々、炭素数1〜8のアルキル基を表す。A1及びA2は各々、ヒドロキシル基又は脱保護されることによりヒドロキシル基を形成し得る基を表し、m及びnは各々1〜5の整数を表す。〕
2.前記一般式(1)において、A1及びA2が共にヒドロキシル基であることを特徴とする前記1に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a substituent, and R 2 and R 3 each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. A 1 and A 2 each represent a hydroxyl group or a group that can be deprotected to form a hydroxyl group, and m and n each represent an integer of 1 to 5. ]
2. 2. The silver salt photothermographic dry imaging material as described in 1 above, wherein in the general formula (1), A 1 and A 2 are both hydroxyl groups.

3.前記一般式(1)において、R2及びR3が共に3級アルキル基であることを特徴とする前記1又は2に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 3. 3. The silver salt photothermographic dry imaging material as described in 1 or 2 above, wherein in the general formula (1), R 2 and R 3 are both tertiary alkyl groups.

4.前記一般式(1)において、m及びnが共に2又は3であることを特徴とする前記1〜3のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   4). In the said General formula (1), m and n are both 2 or 3, The silver salt photothermographic dry imaging material as described in any one of said 1-3 characterized by the above-mentioned.

5.前記バインダー樹脂の重合度が1000〜3000であることを特徴とする前記1〜4のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   5). The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of 1 to 4 above, wherein the degree of polymerization of the binder resin is 1000 to 3000.

6.前記バインダー樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする前記1〜5のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   6). The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of 1 to 5, wherein the binder resin is a polyvinyl acetal resin.

7.前記バインダー樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂であり、かつ、残存アセチル基量が25モル%以下、残存水酸基量が15〜35モル%であることを特徴とする前記1〜6のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   7). The binder resin is a polyvinyl acetal resin, the residual acetyl group amount is 25 mol% or less, and the residual hydroxyl group amount is 15 to 35 mol%. Silver salt photothermographic dry imaging material.

8.下記一般式(2)で表される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とする前記1〜7に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   8). 8. The silver salt photothermographic dry imaging material as described in 1 to 7 above, which contains at least one compound represented by the following general formula (2).

Figure 2007286607
Figure 2007286607

(式中、Zは炭素原子と共に3〜10員の非芳香族環を形成するのに必要な原子群を表し、R21は、水素原子又はアルキル基を表す。R22及びR23は各々水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Qはベンゼン環上に置換可能な基を表し、p及びqは0〜2の整数を表す。又、複数のQは同じでも異なっていても良い。)
9.前記非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の組成が、ベヘン酸銀の比率が70〜99.99モル%であることを特徴とする前記1〜8のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
(In the formula, Z represents a group of atoms necessary to form a 3- to 10-membered non-aromatic ring together with a carbon atom, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 22 and R 23 each represent hydrogen. Represents an atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Q represents a substitutable group on the benzene ring, p and q represent an integer of 0 to 2. Multiple Qs are the same But it may be different.)
9. The silver salt photothermographic image according to any one of 1 to 8 above, wherein the composition of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt is such that the ratio of silver behenate is 70 to 99.99 mol%. Dry imaging material.

10.前記非感光性脂肪族カルボン酸銀塩が、感光性ハロゲン化銀粒子の不存在下で形成された銀塩であることを特徴とする前記1〜9のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。   10. The silver salt photothermal as described in any one of 1 to 9 above, wherein the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt is a silver salt formed in the absence of photosensitive silver halide grains. Photo dry imaging material.

11.前記感光性ハロゲン化銀粒子及び非感光性脂肪族カルボン酸銀塩に由来する総銀量が、塗布銀量として、0.8〜1.5g/m2であることを特徴とする前記1〜10のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 11. The total silver amount derived from the photosensitive silver halide grains and the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt is 0.8 to 1.5 g / m 2 as a coating silver amount, The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of 10.

12.前記1〜11のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を製造することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料の製造方法。   12 The manufacturing method of the silver salt photothermographic dry imaging material characterized by manufacturing the silver salt photothermographic dry imaging material as described in any one of said 1-11.

13.デジタル画像情報に基づく画像形成方法において、前記1〜11のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を用いて銀画像を形成することを特徴とする画像形成方法。   13. 12. An image forming method based on digital image information, wherein a silver image is formed using the silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of 1 to 11 above.

14.デジタル画像情報に基づく画像形成方法において、前記1〜11のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を780〜820nmの波長領域内の波長を有するレーザー光にて露光し、引き続いて110〜150℃の温度において10秒以下の時間で熱現像処理し、銀画像を形成することを特徴とする画像形成方法。   14 In the image forming method based on digital image information, the silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of 1 to 11 above is exposed with a laser beam having a wavelength in a wavelength region of 780 to 820 nm, and subsequently An image forming method, wherein a silver image is formed by heat development at a temperature of 110 to 150 ° C. for 10 seconds or less.

15.前記熱現像処理がスリット現像方式であることを特徴とする前記14に記載の画像形成方法。   15. 15. The image forming method as described in 14 above, wherein the heat development treatment is a slit development method.

本発明の、上記手段により、生保存性(熱現像前の保存性)に優れ、低カブリでありながら、短時間の熱現像でも最高濃度が高く、更に熱現像後における銀画像の安定性にも優れ、かつ銀色調が良好である銀塩光熱写真ドライイメージング材料、その製造方法、及びそれを用いた画像形成方法を提供することができる。   By the above means of the present invention, it has excellent raw storability (storability before heat development), low fog, high density even in short time heat development, and further stability of silver image after heat development. In addition, a silver salt photothermographic dry imaging material having excellent silver color tone, a production method thereof, and an image forming method using the same can be provided.

本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、感光性ハロゲン化銀粒子、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩、銀イオン還元剤及びバインダー樹脂を含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層が、銀イオン還元剤として下記一般式(1)で表される化合物を含有し、かつバインダー樹脂として重合度が700〜3000の樹脂を含有することを特徴とする。この特徴は、請求項1〜15に係る発明に共通する技術的特徴である。   The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is a silver salt photothermographic dry imaging having a photosensitive layer containing photosensitive silver halide grains, a non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt, a silver ion reducing agent and a binder resin. In the material, the photosensitive layer contains a compound represented by the following general formula (1) as a silver ion reducing agent, and contains a resin having a polymerization degree of 700 to 3000 as a binder resin. This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 15.

以下、本発明とその構成要素について詳細な説明をする。   Hereinafter, the present invention and its components will be described in detail.

[非感光性脂肪族カルボン酸銀塩]
本発明に用いる非感光性脂肪族カルボン酸銀塩は、光に対して比較的安定であるが、露光された感光性ハロゲン化銀粒子及び銀イオン還元剤の存在下で、80℃あるいはそれ以上に加熱された場合に銀イオン供給体として機能し、銀画像を形成せしめる銀塩である。非感光性脂肪族カルボン酸銀塩は銀イオン還元剤により還元され得る銀イオンを供給できる任意の脂肪族カルボン酸銀塩であってよい。脂肪族カルボン酸銀塩は、特に(炭素数が10〜30、好ましくは15〜28の)長鎖脂肪族カルボン酸の銀塩が好ましい。脂肪族カルボン酸銀塩の好ましい例としては、リグノセリン酸銀、ベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸銀、エルカ酸銀及びこれらの混合物などを含む。
[Non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt]
The non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt used in the present invention is relatively stable to light, but is 80 ° C. or higher in the presence of exposed photosensitive silver halide grains and a silver ion reducing agent. It is a silver salt that functions as a silver ion supplier when heated to form a silver image. The non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt may be any aliphatic carboxylic acid silver salt that can supply silver ions that can be reduced by a silver ion reducing agent. The aliphatic carboxylic acid silver salt is particularly preferably a silver salt of a long-chain aliphatic carboxylic acid (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms). Preferred examples of the aliphatic carboxylic acid silver salt include silver lignocerate, silver behenate, silver arachidate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate, silver palmitate, erucic acid. Including silver and mixtures thereof.

(調製)
脂肪族カルボン酸銀塩粒子は、水溶性銀化合物と銀と錯形成する化合物を混合することにより得られるが、正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平9−127643号公報に記載されている様なコントロールド・ダブルジェット法等が好ましく用いられる。例えば、脂肪族カルボン酸にアルカリ金属塩(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)を加えて脂肪族カルボン酸アルカリ金属塩(例えば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムなど)の溶液もしくは懸濁液を作製した後に、コントロールド・ダブルジェット法により、硝酸銀などと混合して脂肪族カルボン酸銀塩の結晶を作製する。その際に、脂肪族カルボン酸銀塩の種結晶粒子を混在させてもよい。
(Preparation)
The aliphatic carboxylic acid silver salt particles can be obtained by mixing a water-soluble silver compound and a compound that forms a complex with silver, and are described in the normal mixing method, the back mixing method, the simultaneous mixing method, and JP-A-9-127643. The controlled double jet method as described above is preferably used. For example, a solution or suspension of an aliphatic carboxylic acid alkali metal salt (for example, sodium behenate, sodium arachidate) by adding an alkali metal salt (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) to the aliphatic carboxylic acid After being prepared, crystals of an aliphatic carboxylic acid silver salt are prepared by mixing with silver nitrate or the like by a controlled double jet method. At that time, seed crystal particles of an aliphatic carboxylic acid silver salt may be mixed.

本発明では、脂肪族カルボン酸銀塩の調製は感光性ハロゲン化銀粒子の不存在下で行われることが好ましい。感光性ハロゲン化銀粒子存在下での調製では、カブリ性能との両立から、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の粒径及び粒径分布を本発明の範囲に調整することが困難になる。   In the present invention, the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt is preferably performed in the absence of photosensitive silver halide grains. In the preparation in the presence of light-sensitive silver halide grains, it is difficult to adjust the particle size and particle size distribution of the aliphatic carboxylic acid silver salt particles within the scope of the present invention because of compatibility with fogging performance.

(アルカリ金属塩の種類)
使用できるアルカリ金属塩の種類の例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等がある。これらの内の1種類のアルカリ金属塩、例えば水酸化カリウムを用いることが好ましいが、水酸化ナトリウムと水酸化カリウムを併用することも好ましい。
(Types of alkali metal salts)
Examples of the types of alkali metal salts that can be used include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. Among these, it is preferable to use one kind of alkali metal salt such as potassium hydroxide, but it is also preferable to use sodium hydroxide and potassium hydroxide in combination.

(長鎖脂肪族カルボン酸銀の組成)
本発明においては、脂肪族カルボン酸銀塩は70〜99.99モル%のベヘン酸銀を含有する。更には、70モル%以上99モル%未満のベヘン酸銀を含有することが好ましく、80モル%以上90モル%未満のベヘン酸銀を含有することがより好ましい。又、エルカ酸銀含有率が2モル%以下、より好ましくは1モル%以下、更に好ましくは0.1モル%以下の脂肪族カルボン酸銀塩を用いることが好ましい。
(Composition of long-chain aliphatic silver carboxylate)
In the present invention, the aliphatic carboxylic acid silver salt contains 70 to 99.99 mol% of silver behenate. Furthermore, it is preferable to contain 70 to 99 mol% of silver behenate, and more preferably 80 to 90 mol% of silver behenate. In addition, it is preferable to use an aliphatic carboxylic acid silver salt having a silver erucate content of 2 mol% or less, more preferably 1 mol% or less, and still more preferably 0.1 mol% or less.

(脱塩・脱水)
調製された脂肪族カルボン酸銀塩は、その保存性の観点から、水洗され、その後乾燥されることが好ましい。水洗は、未反応イオン等の除去を主目的に行うが、その後の乾燥工程を考慮して、有機溶剤で行っても構わない。水洗に際しては、50℃以下で行われることが好ましい。更には30℃以下で行うことが好ましい。50℃以上で実施すると、粒径及び粒径分布を本発明の範囲に調整することが困難になる。又、乾燥については、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の相転移温度以下で行うことが好ましい。更には50℃以下で行うことが好ましく、極力低温で行うことが好ましい。相転移温度以上での乾燥では粒径及び粒径分布を本発明の範囲に調整することが困難になる。
(Desalination / Dehydration)
The prepared aliphatic carboxylic acid silver salt is preferably washed with water and then dried from the viewpoint of storage stability. Washing with water is performed mainly for the purpose of removing unreacted ions, but it may be performed with an organic solvent in consideration of the subsequent drying step. The washing with water is preferably performed at 50 ° C. or lower. Furthermore, it is preferable to carry out at 30 degrees C or less. When carried out at 50 ° C. or higher, it is difficult to adjust the particle size and particle size distribution within the scope of the present invention. The drying is preferably performed at a temperature lower than the phase transition temperature of the aliphatic carboxylic acid silver salt particles. Furthermore, it is preferable to carry out at 50 degrees C or less, and it is preferable to carry out at the lowest possible temperature. Drying above the phase transition temperature makes it difficult to adjust the particle size and particle size distribution within the scope of the present invention.

本発明では、脂肪族カルボン酸銀塩の調製は感光性ハロゲン化銀粒子の不存在下で行われることが好ましい。感光性ハロゲン化銀粒子存在下での調製では、カブリ性能との両立から、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の粒径及び粒径分布を本発明の範囲に調整することが困難になる。   In the present invention, the preparation of the aliphatic carboxylic acid silver salt is preferably performed in the absence of photosensitive silver halide grains. In the preparation in the presence of light-sensitive silver halide grains, it is difficult to adjust the particle size and particle size distribution of the aliphatic carboxylic acid silver salt particles within the scope of the present invention because of compatibility with fogging performance.

(脂肪族カルボン酸銀塩の形状と構造)
本発明に用いる脂肪族カルボン酸銀塩の形状としては特に制限はなく、針状、棒状、平板状、鱗片状の何れでもよい。本発明では、鱗片状の脂肪族カルボン酸銀塩及び長軸と短軸の長さの比が5以下の短針状又は直方体状の脂肪族カルボン酸銀塩が好ましく用いられる。
(Shape and structure of aliphatic carboxylic acid silver salt)
The shape of the aliphatic carboxylic acid silver salt used in the present invention is not particularly limited, and may be any of a needle shape, a rod shape, a flat plate shape, and a scale shape. In the present invention, scale-like aliphatic carboxylic acid silver salts and short needle-shaped or cuboid-shaped aliphatic carboxylic acid silver salts having a major axis / minor axis length ratio of 5 or less are preferably used.

尚、本発明における鱗片状の脂肪族カルボン酸銀塩とは、次のように定義する。脂肪族カルボン酸銀塩を電子顕微鏡で観察し、脂肪族カルボン酸銀塩粒子の形状を直方体と近似し、この直方体の辺を一番短い方からa、b、cとした時(cはbと同じであってもよい)、短い方の数値aとbを用いて、次のように計算してxを求める。   In addition, the scale-like aliphatic carboxylic acid silver salt in this invention is defined as follows. When the aliphatic carboxylate silver salt is observed with an electron microscope, the shape of the aliphatic carboxylate silver salt particle is approximated to a rectangular parallelepiped, and the sides of the rectangular parallelepiped are a, b, and c from the shortest side (c is b X) is calculated by using the shorter numerical values a and b as follows.

x=b/a
このようにして200個程度の粒子についてxを求め、その平均値を“x(平均)”とした時、x(平均)≧1.5の関係を満たすものを鱗片状とする。好ましくは30≧x(平均)≧1.5、より好ましくは20≧x(平均)≧2.0である。因みに針状とは1.5>x(平均)≧1である。
x = b / a
In this way, x is obtained for about 200 particles, and when the average value is “x (average)”, those satisfying the relationship of x (average) ≧ 1.5 are regarded as scaly. Preferably, 30 ≧ x (average) ≧ 1.5, more preferably 20 ≧ x (average) ≧ 2.0. Incidentally, the needle shape is 1.5> x (average) ≧ 1.

鱗片状粒子において、aはbとcを辺とする面を主平面とした平板状粒子の厚さとみることができる。aの平均は0.01〜0.23μmが好ましく、0.1〜0.20μmがより好ましい。c/bの平均値は好ましくは1〜6、より好ましくは1.05〜4、更に好ましくは1.1〜3、特に好ましくは1.1〜2である。   In scaly particles, a can be regarded as the thickness of a tabular particle having a main plane with b and c as sides. The average of a is preferably 0.01 to 0.23 μm, and more preferably 0.1 to 0.20 μm. The average value of c / b is preferably 1 to 6, more preferably 1.05 to 4, still more preferably 1.1 to 3, and particularly preferably 1.1 to 2.

本発明に係る脂肪族カルボン酸銀塩は、欧州特許1,168,069 B1号明細書及び特開2002−23303号公報に開示されるようなコア/シェル構造を有する結晶粒子であってもよい。尚、コア/シェル構造にする場合には、コア部又はシェル部の何れかの全部又は一部を長鎖脂肪族カルボン酸銀塩以外の脂肪族カルボン酸銀塩、例えばフタル酸、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール等の有機化合物の銀塩を当該結晶粒子の構成成分として使用してもよい。   The aliphatic carboxylic acid silver salt according to the present invention may be a crystal particle having a core / shell structure as disclosed in European Patent 1,168,069 B1 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-23303. . In the case of a core / shell structure, all or part of either the core portion or the shell portion is an aliphatic carboxylic acid silver salt other than the long-chain aliphatic carboxylic acid silver salt, such as phthalic acid, benzimidazole, Silver salts of organic compounds such as benzotriazole may be used as a constituent of the crystal particles.

(粒径・粒径分布)
本発明に用いる脂肪族カルボン酸銀塩粒子の球相当直径は、0.05〜0.5μmであることが好ましい。より好ましくは0.10〜0.5μmである。又、その粒径分布は単分散であることが好ましい。単分散度は、平均直径の標準偏差で表すことができ、本発明の脂肪族カルボン酸銀塩粒子の標準偏差は0.3以下であることが好ましい。更には、0.2以下であることが好ましい。
(Particle size / particle size distribution)
The spherical equivalent diameter of the aliphatic carboxylic acid silver salt particles used in the present invention is preferably 0.05 to 0.5 μm. More preferably, it is 0.10 to 0.5 μm. The particle size distribution is preferably monodisperse. The monodispersity can be expressed by the standard deviation of the average diameter, and the standard deviation of the aliphatic carboxylic acid silver salt particles of the present invention is preferably 0.3 or less. Furthermore, it is preferable that it is 0.2 or less.

この場合の粒径及び粒径分布の測定は、レーザー回折法、遠心沈降光透過法、X線透過法、電気的検知帯法、遮光法、超音波減衰分光法、画像より算出する方法等、一般的に知られる粒度分布の測定方法により各々求めることができるが、その中でも、微細な粒子に対しては、レーザー回折法、画像より算出する方法が好ましい。更にはレーザー回折法が好ましく、液中に分散した脂肪族カルボン酸銀塩粒子を市販のレーザー回折粒度分布測定装置により測定することができる。粒径及び粒径分布測定方法の具体例を以下に示す。   Measurement of the particle size and particle size distribution in this case is a laser diffraction method, centrifugal sedimentation light transmission method, X-ray transmission method, electrical detection band method, shading method, ultrasonic attenuation spectroscopy, a method of calculating from an image, etc. Although it can each obtain | require with the measuring method of the particle size distribution generally known, the method of calculating from a laser diffraction method and an image is preferable among these. Furthermore, the laser diffraction method is preferable, and the aliphatic carboxylic acid silver salt particles dispersed in the liquid can be measured with a commercially available laser diffraction particle size distribution analyzer. Specific examples of the particle size and particle size distribution measuring method are shown below.

100mlのビーカーに、0.01gの脂肪族カルボン酸銀塩粒子のサンプルを採り、0.1gのノニオン性界面活性剤NS−210(日本油脂社製)、40mlの水を加えた後、室温で超音波分散し、得られた分散液でレーザ回折式粒度分布測定装置SALD−2000(島津製作所社製)により、平均粒子径及び標準偏差を測定することができる。   In a 100 ml beaker, take a sample of 0.01 g of aliphatic carboxylic acid silver salt particles, add 0.1 g of nonionic surfactant NS-210 (manufactured by NOF Corporation), 40 ml of water, and then at room temperature. The average particle size and standard deviation can be measured with a laser diffraction particle size distribution analyzer SALD-2000 (manufactured by Shimadzu Corporation) using the dispersion obtained by ultrasonic dispersion.

(高銀化率銀塩粒子)
本発明に係る脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する乳剤は、銀塩を形成していない遊離脂肪族カルボン酸と脂肪族カルボン酸銀塩の混合物であり、前者の比率が後者に対して低いことが、画像保存性等の観点から好ましい。即ち、本発明に係る当該乳剤は、脂肪族カルボン酸を該脂肪族カルボン酸銀塩粒子に対して3〜10モル%含有することが好ましい。特に好ましくは4〜8モル%含有することである。尚、具体的には、下記の方法にて、全脂肪族カルボン酸量、遊離脂肪族カルボン酸量を、それぞれ求めることにより、脂肪族カルボン酸銀塩量と遊離脂肪族カルボン酸量及びそれぞれの比率又は全脂肪族カルボン酸に対する遊離脂肪族カルボン酸の比率等を計算することができる。
(High silver conversion rate silver salt particles)
The emulsion containing the aliphatic carboxylic acid silver salt grains according to the present invention is a mixture of a free aliphatic carboxylic acid and an aliphatic carboxylic acid silver salt not forming a silver salt, and the ratio of the former is lower than that of the latter. Is preferable from the viewpoint of image storage stability and the like. That is, the emulsion according to the present invention preferably contains an aliphatic carboxylic acid in an amount of 3 to 10 mol% with respect to the aliphatic carboxylic acid silver salt grains. It is particularly preferably 4 to 8 mol%. Specifically, by determining the total aliphatic carboxylic acid amount and the free aliphatic carboxylic acid amount by the following methods, respectively, the aliphatic carboxylic acid silver salt amount and the free aliphatic carboxylic acid amount and the respective amounts The ratio or the ratio of the free aliphatic carboxylic acid to the total aliphatic carboxylic acid can be calculated.

(全脂肪族カルボン酸量(上記の脂肪族カルボン酸銀塩と遊離脂肪族カルボン酸の両方に由来するものの総計)の定量)
(1)試料約10mg(感光材料から剥離する場合は剥離した質量)を正確に秤量し、200mlナス型フラスコに入れる。(2)メタノール15mlと4モル/Lの塩酸3mlを加え、1分間超音波分散する。(3)テフロン(登録商標)製沸石を入れ、60分間リフラックスする。(4)冷却後、冷却管の上からメタノール5mlを加え、冷却管に付着したものをナス型フラスコに洗い入れる(2回)。(5)得られた反応液を酢酸エチル相に抽出する(酢酸エチル100ml、水70mlを加えて分液抽出を2回行う)。(6)常温で酢酸エチル相を30分間真空乾燥する。(7)10mlメスフラスコに内部標準としてベンズアントロン溶液(ベンズアントロン約100mgをトルエンに溶解し、トルエンで100mlに定容する)を1ml入れる。(8)上記(6)の試料をトルエンに溶かして(7)のメスフラスコに入れ、トルエンで定容する。(9)下記測定条件にてガスクロマトグラフィー(GC)測定を行う。装置:HP−5890+HP−ケミステーション、カラム:HP−1(30m×0.32mm×0.25μm(HP製))、注入口:250℃、検出器:280℃、オーブン:250℃一定、キャリアガス:He、ヘッド圧:80kPa
(遊離脂肪族カルボン酸量の定量)
(1)試料約20mgを正確に秤量し、200mlナス型フラスコに入れ、メタノール10mlを加えて25℃にて1分間超音波分散を行う(遊離脂肪族カルボン酸が抽出される)。(2)それを濾過して、濾液を200mlナス型フラスコに入れ、乾固する(遊離脂肪族カルボン酸が分離される)。(3)メタノール15mlと4モル/L塩酸3mlを加え、1分間超音波分散を行う。(4)テフロン(登録商標)製沸石を入れ、60分間リフラックスする。(5)得られた反応液に水60ml、酢酸エチル60mlを加えて、遊離脂肪族カルボン酸のメチルエステル化物を酢酸エチル相に抽出する(分液抽出は2回行う)。(6)酢酸エチル相を乾固し、30分間乾燥する。(7)10mlのメスフラスコにベンズアントロン溶液(上記全脂肪族カルボン酸量の定量に使用したものと同じ)1mlを入れる。(8)上記(6)をトルエンで溶かして(7)のメスフラスコに入れ、トルエンで定容する。(9)上記全脂肪族カルボン酸量の定量と同じ測定条件にてGC測定を行う。
(Quantification of total aliphatic carboxylic acid content (total of those derived from both the above aliphatic carboxylic acid silver salts and free aliphatic carboxylic acids))
(1) About 10 mg of sample (the mass removed when peeling from the photosensitive material) is accurately weighed and placed in a 200 ml eggplant type flask. (2) Add 15 ml of methanol and 3 ml of 4 mol / L hydrochloric acid and ultrasonically disperse for 1 minute. (3) Put a Teflon (registered trademark) zeolite and reflux for 60 minutes. (4) After cooling, add 5 ml of methanol from the top of the cooling tube, and wash the material adhering to the cooling tube into the eggplant-shaped flask (twice). (5) The obtained reaction solution is extracted into the ethyl acetate phase (100 ml of ethyl acetate and 70 ml of water are added and liquid separation extraction is performed twice). (6) The ethyl acetate phase is vacuum dried at room temperature for 30 minutes. (7) 1 ml of a benzanthrone solution (about 100 mg of benzanthrone is dissolved in toluene and fixed to 100 ml with toluene) is added as an internal standard to a 10 ml volumetric flask. (8) The sample of (6) above is dissolved in toluene, placed in the volumetric flask of (7), and fixed with toluene. (9) Perform gas chromatography (GC) measurement under the following measurement conditions. Apparatus: HP-5890 + HP-Chemical station, column: HP-1 (30 m × 0.32 mm × 0.25 μm (manufactured by HP)), inlet: 250 ° C., detector: 280 ° C., oven: 250 ° C., carrier gas : He, head pressure: 80 kPa
(Quantification of free aliphatic carboxylic acid content)
(1) About 20 mg of a sample is accurately weighed, placed in a 200 ml eggplant-shaped flask, 10 ml of methanol is added, and ultrasonic dispersion is performed at 25 ° C. for 1 minute (free aliphatic carboxylic acid is extracted). (2) Filter it, put the filtrate into a 200 ml eggplant type flask and dry to dryness (free aliphatic carboxylic acid is separated). (3) Add 15 ml of methanol and 3 ml of 4 mol / L hydrochloric acid and perform ultrasonic dispersion for 1 minute. (4) Put a Teflon (registered trademark) zeolite and reflux for 60 minutes. (5) 60 ml of water and 60 ml of ethyl acetate are added to the resulting reaction solution, and the methyl esterified product of free aliphatic carboxylic acid is extracted into the ethyl acetate phase (separate extraction is performed twice). (6) The ethyl acetate phase is dried and dried for 30 minutes. (7) Into a 10 ml volumetric flask is placed 1 ml of a benzanthrone solution (the same as that used for quantifying the total aliphatic carboxylic acid amount). (8) Dissolve the above (6) with toluene, put into the volumetric flask of (7), and make a constant volume with toluene. (9) GC measurement is performed under the same measurement conditions as those for determining the total aliphatic carboxylic acid content.

(添加量)
脂肪族カルボン酸銀塩は所望の量で使用できるが、ハロゲン化銀粒子を含めた合計銀量が、塗布銀量として0.8〜1.5g/m2が好ましく、更には1.0〜1.3g/m2の範囲が好ましい。
(Addition amount)
The aliphatic carboxylic acid silver salt can be used in a desired amount, but the total silver amount including the silver halide grains is preferably 0.8 to 1.5 g / m 2 as the coated silver amount, more preferably 1.0 to A range of 1.3 g / m 2 is preferred.

[感光性ハロゲン化銀粒子]
感光性ハロゲン化銀粒子とは、ハロゲン化銀結晶粒子の固有の性質として本来的に光吸収し得て、又は人為的に物理化学的な方法により可視光〜赤外光を吸収し得て、かつ紫外光領域〜赤外光領域の光波長範囲内の何れかの領域の光を吸収した時に、当該ハロゲン化銀結晶内及び/又は結晶表面において物理化学的変化が起こり得るように処理製造されたハロゲン化銀結晶粒子を言う。
[Photosensitive silver halide grains]
Photosensitive silver halide grains can inherently absorb light as an intrinsic property of silver halide crystal grains, or can absorb visible to infrared light by an artificial physicochemical method, In addition, it is processed and manufactured so that physicochemical changes can occur in the silver halide crystal and / or on the crystal surface when light in any region within the light wavelength range of the ultraviolet light region to the infrared light region is absorbed. Refers to silver halide crystal grains.

(調製)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、公知の方法を用いてハロゲン化銀粒子乳剤(ハロゲン化銀乳剤とも言う)として調製することができる。即ち、酸性法、中性法、アンモニア法等の何れでもよく、又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等の何れを用いてもよいが、上記方法の中でも形成条件をコントロールしつつハロゲン化銀粒子を調製する、所謂コントロールド・ダブルジェット法が好ましい。
(Preparation)
The photosensitive silver halide grains according to the present invention can be prepared as a silver halide grain emulsion (also referred to as a silver halide emulsion) using a known method. That is, any of acid method, neutral method, ammonia method, etc. may be used, and as a method of reacting soluble silver salt and soluble halogen salt, any one of one-side mixing method, simultaneous mixing method, combination thereof, etc. may be used. Of these methods, the so-called controlled double jet method in which silver halide grains are prepared while controlling the formation conditions is preferred.

通常、ハロゲン化銀種粒子は、粒子の核形成と粒子成長の2段階に分けられ、一度にこれらを連続的に行う方法でもよく、又、核(種粒子)形成と粒子成長を分離して行う方法でもよい。粒子形成条件であるpAg、pH等をコントロールして粒子形成を行うコントロールド・ダブルジェット法が粒子形状や粒径のコントロールが出来るので好ましい。例えば、核形成と粒子成長を分離して行う方法を実施する場合には、先ず銀塩水溶液とハライド水溶液をゼラチン水溶液中で均一、急速に混合させ、核形成(核形成工程)した後、コントロールされたpAg、pH等の下で銀塩水溶液とハライド水溶液を供給しつつ粒子成長させる粒子成長工程によりハロゲン化銀粒子を調製する。粒子形成後、脱塩工程により、不要な塩類等をヌードル法、フロキュレーション法、限外濾過法、電気透析法等、公知の脱塩法により除くことで所望のハロゲン化銀粒子乳剤を得ることができる。   Usually, silver halide seed grains are divided into two stages, grain nucleation and grain growth, and these may be carried out continuously at once, or nucleation (seed grain) formation and grain growth may be separated. The method of performing may be used. The controlled double jet method in which the particle formation is controlled by controlling the pAg, pH, etc., which are particle formation conditions, is preferable because the particle shape and particle diameter can be controlled. For example, when carrying out a method in which nucleation and grain growth are performed separately, first, a silver salt aqueous solution and a halide aqueous solution are uniformly and rapidly mixed in an aqueous gelatin solution, followed by nucleation (nucleation step), and then control. Silver halide grains are prepared by a grain growth step in which grains are grown while supplying a silver salt aqueous solution and a halide aqueous solution under the pAg, pH and the like. After the grain formation, a desired silver halide grain emulsion is obtained by removing unnecessary salts by a known desalting method such as noodle method, flocculation method, ultrafiltration method, electrodialysis method, etc. be able to.

核形成に用いる銀塩水溶液及びハライド水溶液の濃度は3.5モル/L以下が好ましく、更には0.01〜2.5モル/Lの低濃度域で使用されるのが好ましい。核形成時の銀イオンの添加速度は、反応液1L当たり1.5×10-3〜3.0×10-1モル/分が好ましく、更に好ましくは3.0×10-3〜8.0×10-2モル/分である。 The concentration of the aqueous silver salt solution and aqueous halide solution used for nucleation is preferably 3.5 mol / L or less, and more preferably used in a low concentration range of 0.01 to 2.5 mol / L. The addition rate of silver ions during nucleation is preferably 1.5 × 10 −3 to 3.0 × 10 −1 mol / min, more preferably 3.0 × 10 −3 to 8.0, per liter of the reaction solution. × 10 -2 mol / min.

核形成時のpHは、通常、1.7〜10の範囲に設定できるが、アルカリ側のpHでは形成する核の粒径分布を広げてしまうので、好ましくはpH2〜6である。又、核形成時のpBrは、通常、0.05〜3.0であり、好ましくは1.0〜2.5、より好ましくは1.5〜2.0である。   The pH at the time of nucleation can usually be set in a range of 1.7 to 10, but it is preferably pH 2 to 6 because the particle size distribution of nuclei to be formed is broadened at the pH on the alkali side. Moreover, pBr at the time of nucleation is 0.05-3.0 normally, Preferably it is 1.0-2.5, More preferably, it is 1.5-2.0.

尚、核形成時の温度は、通常、5〜60℃、好ましくは15〜50℃であり、一定の温度であっても、昇温パターン(核形成開始時の温度が25℃で、核形成中徐々に温度を上げ、核形成終了時の温度が40℃の様な場合)や、その逆のパターンであっても、前記温度範囲内で制御するのが好ましい。   The temperature at the time of nucleation is usually 5 to 60 ° C., preferably 15 to 50 ° C. Even if the temperature is constant, the temperature rise pattern (the temperature at the start of nucleation is 25 ° C. It is preferable to control the temperature within the above temperature range even when the temperature is gradually increased and the temperature at the end of nucleation is 40 ° C.) and vice versa.

(形状)
感光性ハロゲン化銀粒子の形状としては、立方体、八面体、14面体粒子、平板状、球状、棒状、ジャガイモ状等を挙げることができるが、これらのうち、特に立方体、八面体、14面体、あるいは平板状のハロゲン化銀粒子が好ましい。
(shape)
Examples of the shape of the photosensitive silver halide grain include a cube, an octahedron, a tetrahedron grain, a plate, a sphere, a rod, and a potato. Among these, a cube, an octahedron, a tetrahedron, Alternatively, tabular silver halide grains are preferred.

平板状ハロゲン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は、好ましくは1.5〜100、より好ましくは2〜50である。これらについては、米国特許5,264,337号、同5,314,798号、同5,320,958号に記載されており、容易に目的の平板状粒子を得ることができる。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ましく用いることができる。   The average aspect ratio when using tabular silver halide grains is preferably 1.5 to 100, more preferably 2 to 50. These are described in US Pat. Nos. 5,264,337, 5,314,798, and 5,320,958, and the desired tabular grains can be easily obtained. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can be preferably used.

感光性ハロゲン化銀粒子外表面の晶癖についても特に制限はないが、ハロゲン化銀粒子表面への増感色素の吸着反応において、晶癖(面)選択性を有する増感色素を使用する場合には、その選択性に適応する晶癖を相対的に高い割合で有するハロゲン化銀粒子を使用することが好ましい。例えば、ミラー指数〔100〕の結晶面に選択的に吸着する増感色素を使用する場合には、ハロゲン化銀粒子外表面において〔100〕面の占める割合が高いことが好ましく、この割合が50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましく、80%以上であることが特に好ましい。尚、ミラー指数〔100〕面の比率は、増感色素の吸着における〔111〕面と〔100〕面との吸着依存性を利用した T.Tani,J.ImagingSci.Technol.,29,165(1985)により求めることができる。   There is no particular restriction on the crystal habit on the outer surface of the photosensitive silver halide grain, but when using a sensitizing dye having crystal habit (plane) selectivity in the adsorption reaction of the sensitizing dye on the surface of the silver halide grain It is preferable to use silver halide grains having a relatively high proportion of crystal habits adapted to the selectivity. For example, when using a sensitizing dye that is selectively adsorbed on the crystal face of the Miller index [100], the proportion of the [100] face on the outer surface of the silver halide grain is preferably high, and this ratio is 50 % Or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The ratio of the Miller index [100] plane is based on the adsorption dependence of the [111] plane and the [100] plane in the adsorption of the sensitizing dye. Tani, J .; ImagingSci. Technol. 29, 165 (1985).

(粒径・粒径分布)
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子の平均粒径は、通常、10〜50nm、好ましくは10〜40nmであり、より好ましくは10〜35nmである。ハロゲン化銀粒子の平均粒径が10nmより小さいと画像濃度が低下したり、光照射画像保存性(熱現像によって得た画像を明室で診断等のために使用したり、明室に保管した場合の保存性)が劣化したりすることがある。又、50nmを超えると画像濃度が低下してしまうことがある。
(Particle size / particle size distribution)
The average particle diameter of the photosensitive silver halide grains used in the present invention is usually 10 to 50 nm, preferably 10 to 40 nm, and more preferably 10 to 35 nm. If the average grain size of the silver halide grains is smaller than 10 nm, the image density decreases, or the light irradiation image storage stability (the image obtained by heat development is used for diagnosis in a bright room or stored in a bright room) Storage stability) may be deteriorated. On the other hand, if it exceeds 50 nm, the image density may decrease.

ここで言う平均粒径とは、ハロゲン化銀粒子乳剤中に含まれているハロゲン化銀粒子が立方体、あるいは八面体のいわゆる正常晶である場合には、ハロゲン化銀粒子の稜の長さを言う。又、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子である場合には、主表面の投影面積と同面積の円像に換算した時の直径を言う。その他、正常晶でない場合、例えば球状粒子、棒状粒子等の場合には、当該ハロゲン化銀粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を粒径として算出する。測定は電子顕微鏡写真を用いて行い、300個の粒子の粒径の測定値を平均することで平均粒径を求める。   The average grain diameter referred to here is the length of the edge of the silver halide grains when the silver halide grains contained in the silver halide grain emulsion are cubic or octahedral so-called normal crystals. To tell. Further, when the silver halide grain is a tabular grain, it means the diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In addition, in the case of non-normal crystals, for example, in the case of spherical particles, rod-shaped particles, etc., the diameter when considering a sphere equivalent to the volume of the silver halide grains is calculated as the particle size. The measurement is performed using an electron micrograph, and the average particle diameter is obtained by averaging the measured values of the particle diameters of 300 particles.

又、本発明においては、平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子とを併用することで、画像濃度の階調を調整することができる他、画像濃度を向上させたり、経時での画像濃度低下を改善(小さく)させたりすることができる。平均粒径が10〜50nmであるハロゲン化銀粒子と平均粒径が55〜100nmであるハロゲン化銀粒子との割合(質量比)は、95:5〜50:50が好ましく、より好ましくは90:10〜60:40である。   In the present invention, the gradation of the image density can be adjusted by using silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm in combination. In addition, it is possible to improve the image density and to improve (reduce) the decrease in image density over time. The ratio (mass ratio) of silver halide grains having an average particle diameter of 10 to 50 nm and silver halide grains having an average particle diameter of 55 to 100 nm is preferably 95: 5 to 50:50, more preferably 90. : 10-60: 40.

尚、上記のように、2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を用いる場合には、当該2種のハロゲ化銀乳剤を混合して、感光性層に含有させてもよい。又、階調調整等のために、感光性層を2層以上の層で構成し、それぞれの層に当該2種の平均粒径のハロゲン化銀粒子乳剤を別個に含有させることも好ましい。   As described above, when two types of silver halide grain emulsions having an average particle diameter are used, the two types of silver halide emulsions may be mixed and contained in the photosensitive layer. In order to adjust the gradation, it is also preferred that the photosensitive layer is composed of two or more layers, and each layer contains the silver halide grain emulsions having the two average grain sizes separately.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子の粒径分布は単分散であることが好ましい。ここで言う単分散とは、下記式で求められる粒径の変動係数が30%以下を言う。好ましくは20%以下であり、更に好ましくは15%以下である。   The particle size distribution of the photosensitive silver halide grains according to the present invention is preferably monodispersed. The monodispersion mentioned here means that the coefficient of variation of the particle diameter obtained by the following formula is 30% or less. Preferably it is 20% or less, More preferably, it is 15% or less.

粒径の変動係数(%) = (粒径の標準偏差/粒径の平均値)×100
(ゼラチン・添加剤)
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子は、該粒子形成時に平均分子量5万以下の低分子量ゼラチンを用いて調製することが好ましく、特にハロゲン化銀粒子の核形成時に用いることが好ましい。低分子量ゼラチンは平均分子量5万以下のものが好ましく、より好ましくは2,000〜40,000であり、特に好ましくは5,000〜25,000である。ゼラチンの平均分子量はゲル濾過クロマトグラフィーで測定することができる。低分子量ゼラチンは、通常用いられる平均分子量10万程度のゼラチン水溶液にゼラチン分解酵素を加えて酵素分解したり、酸又はアルカリを加えて加熱により加水分解したり、大気圧下又は加圧下での加熱により熱分解したり、超音波照射して分解したり、それらの方法を併用したりして得ることができる。ハロゲン化銀粒子の核形成時の分散媒の濃度は5質量%以下が好ましく、0.05〜3.0質量%の低濃度で行うのがより好ましい。
Coefficient of variation of particle size (%) = (standard deviation of particle size / average value of particle size) × 100
(Gelatin / additive)
The photosensitive silver halide grains used in the present invention are preferably prepared using a low molecular weight gelatin having an average molecular weight of 50,000 or less at the time of forming the grains, and particularly preferably used at the time of nucleation of silver halide grains. The low molecular weight gelatin preferably has an average molecular weight of 50,000 or less, more preferably 2,000 to 40,000, and particularly preferably 5,000 to 25,000. The average molecular weight of gelatin can be measured by gel filtration chromatography. Low molecular weight gelatin can be decomposed by adding gelatin-degrading enzyme to a commonly used gelatin aqueous solution with an average molecular weight of about 100,000, hydrolyzing by adding acid or alkali, and heating under atmospheric pressure or pressure. Can be obtained by thermal decomposition, decomposition by ultrasonic irradiation, or a combination of these methods. The concentration of the dispersion medium during the nucleation of the silver halide grains is preferably 5% by mass or less, and more preferably at a low concentration of 0.05 to 3.0% by mass.

本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子は、粒子形成時に下記の一般式で表される化合物を用いることが好ましい。   The photosensitive silver halide grains used in the present invention preferably use a compound represented by the following general formula at the time of grain formation.

YO(CH2CH2O)m(CH(CH3)CH2O)p(CH2CH2O)n
式中、Yは水素原子、−SO3M、又は−CO−B−COOMを表し、Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基又は炭素数5以下のアルキル基にて置換されたアンモニウム基を表し、Bは有機二塩基性酸を形成する鎖状又は環状の基を表す。m及びnは各々0〜50を表し、pは1〜100を表す。
YO (CH 2 CH 2 O) m (CH (CH 3 ) CH 2 O) p (CH 2 CH 2 O) n Y
In the formula, Y represents a hydrogen atom, —SO 3 M, or —CO—B—COOM, and M represents an ammonium group substituted with a hydrogen atom, an alkali metal atom, an ammonium group, or an alkyl group having 5 or less carbon atoms. B represents a chain or cyclic group forming an organic dibasic acid. m and n each represents 0 to 50, and p represents 1 to 100.

上記の一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、通常のハロゲン化銀写真感光材料を製造するに際し、ゼラチン水溶液を製造する工程、ゼラチン溶液に水溶性ハロゲン化物及び水溶性銀塩を添加する工程、乳剤を支持体上に塗布する工程等、乳剤原料を撹拌したり、移動したりする場合の著しい発泡に対する消泡剤として好ましく用いられて来たものであり、消泡剤として用いる技術は、例えば特開昭44−9497号に記載されている。上記ポリエチレンオキシド化合物は、核形成時の消泡剤としても機能する。上記一般式で表されるポリエチレンオキシド化合物は、銀に対して1質量%以下で用いるのが好ましく、より好ましくは0.01〜0.1質量%で用いる。   The polyethylene oxide compound represented by the above general formula is a step of producing a gelatin aqueous solution when producing a normal silver halide photographic light-sensitive material, a step of adding a water-soluble halide and a water-soluble silver salt to the gelatin solution, It has been preferably used as an antifoaming agent for significant foaming when the emulsion raw material is stirred or moved, such as a step of coating an emulsion on a support. This is described in JP-A-44-9497. The polyethylene oxide compound also functions as an antifoaming agent during nucleation. The polyethylene oxide compound represented by the above general formula is preferably used in an amount of 1% by mass or less, more preferably 0.01 to 0.1% by mass with respect to silver.

上記ポリエチレンオキシド化合物は核形成時に存在していればよく、核形成前の分散媒中に予め加えておくのが好ましいが、核形成中に添加してもよいし、核形成時に使用する銀塩水溶液やハライド水溶液に添加して用いてもよい。好ましくは、ハライド水溶液もしくは両方の水溶液に0.01〜2.0質量%で添加して用いられる。又、該化合物は、核形成工程の少なくとも50%に亘る時間で存在せしめるのが好ましく、更に好ましくは70%以上に亘る時間で存在せしめる。上記ポリエチレンオキシド化合物は、粉末で添加しても、メタノール等の溶媒に溶かして添加してもよい。   The polyethylene oxide compound only needs to be present at the time of nucleation, and is preferably added in advance to the dispersion medium before nucleation, but it may be added during nucleation or a silver salt used at the time of nucleation. You may add and use for aqueous solution or halide aqueous solution. Preferably, it is used by adding 0.01 to 2.0% by weight to an aqueous halide solution or both aqueous solutions. Also, the compound is preferably present for at least 50% of the nucleation step, more preferably 70% or more. The polyethylene oxide compound may be added as a powder or dissolved in a solvent such as methanol.

(沃化銀含有量が5〜100モル%のハロゲン化銀粒子)
感光性ハロゲン化銀粒子としては、沃化銀を含有するハロゲン化銀粒子を好ましく使用することができる。ハロゲン組成としては、沃化銀含有量が5〜100モル%であることが好ましい。より好ましくは40〜100モル%、更に好ましくは70〜100モル%であり、特に好ましくは90〜100モル%である。沃化銀含有率がこの範囲であれば、粒子内ハロゲン組成分布が均一であっても、段階的に変化したものでもよく、あるいは連続的に変化したものでもよい。又、内部及び/又は表面に沃化銀含有率が高いコア/シェル構造を有するハロゲン化銀粒子も好ましく用いることができる。構造として好ましいものは2〜5重構造であり、より好ましくは2〜4重構造のコア/シェル粒子である。
(Silver halide grains having a silver iodide content of 5 to 100 mol%)
As the photosensitive silver halide grains, silver halide grains containing silver iodide can be preferably used. As the halogen composition, the silver iodide content is preferably 5 to 100 mol%. More preferably, it is 40-100 mol%, More preferably, it is 70-100 mol%, Most preferably, it is 90-100 mol%. If the silver iodide content is in this range, the intra-grain halogen composition distribution may be uniform, may be changed stepwise, or may be continuously changed. Further, silver halide grains having a core / shell structure having a high silver iodide content inside and / or on the surface can also be preferably used. A preferable structure is a 2- to 5-fold structure, more preferably 2- to 4-fold core / shell particles.

ハロゲン化銀粒子に沃化銀を導入する方法としては、粒子形成中に沃化アルカリ水溶液を添加する方法、微粒子沃化銀、微粒子沃臭化銀、微粒子沃塩化銀、微粒子沃塩臭化銀の中、少なくとも一つの微粒子を添加する方法、特開平5−323487号及び同6−11780号に記載の沃化物イオン放出剤を用いる方法などが好ましい。   As a method for introducing silver iodide into the silver halide grains, a method of adding an alkali iodide aqueous solution during grain formation, fine grain silver iodide, fine grain silver iodobromide, fine grain silver iodochloride, fine grain silver iodochlorobromide Among them, a method of adding at least one fine particle, a method using an iodide ion releasing agent described in JP-A-5-323487 and 6-11780, and the like are preferable.

本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、350〜440nmの間の波長に沃化銀結晶構造に由来する直接遷移吸収を示すことが好ましい。これらハロゲン化銀粒子が直接遷移の光吸収を持っているかどうかは、400〜430nm付近に直接遷移に起因する励起子吸収が見られることで容易に区別することができる。   The photosensitive silver halide grain according to the present invention preferably exhibits direct transition absorption derived from the silver iodide crystal structure at a wavelength between 350 and 440 nm. Whether or not these silver halide grains have light absorption of direct transition can be easily distinguished by the fact that exciton absorption caused by direct transition is observed in the vicinity of 400 to 430 nm.

(熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子)
本発明に係る感光性ハロゲン化銀粒子は、特開2003−270755号、特開2005−106927号に開示される熱変換内部潜像型(熱現像後内部潜像型)ハロゲン化銀粒子、即ち熱現像によって表面潜像型から内部潜像型に変換することにより表面感度が低下するハロゲン化銀粒子であることが好ましい。換言すると、熱現像前の露光では、現像反応(銀イオン還元剤による銀イオンの還元反応)の触媒として機能し得る潜像を該ハロゲン化銀粒子の表面に形成し、熱現像過程経過後の露光では、該ハロゲン化銀粒子の表面より内部に多くの潜像を形成するようになるため、表面における潜像形成が抑制されるハロゲン化銀粒子であることが、感度及び画像保存性上、好ましい。
(Heat conversion internal latent image type silver halide grains)
The photosensitive silver halide grains according to the present invention are heat-converted internal latent image type (internal latent image type after heat development) silver halide grains disclosed in JP-A Nos. 2003-270755 and 2005-106927. Silver halide grains whose surface sensitivity is lowered by converting from the surface latent image type to the internal latent image type by heat development are preferred. In other words, in exposure before heat development, a latent image that can function as a catalyst for a development reaction (reduction reaction of silver ions by a silver ion reducing agent) is formed on the surface of the silver halide grains, In exposure, since many latent images are formed inside the surface of the silver halide grains, it is a silver halide grain that suppresses the formation of latent images on the surface. preferable.

熱変換内部潜像型ハロゲン化銀粒子は、通常の表面潜像型ハロゲン化銀粒子と同様に、銀イオン供給源として機能し得る脂肪族カルボン酸銀塩1モルに対し0.001〜0.7モル、好ましくは0.03〜0.5モルの範囲で使用するのが好ましい。   The heat-converted internal latent image type silver halide grains are 0.001 to 0.001 mol per mol of an aliphatic carboxylic acid silver salt that can function as a silver ion source, as in the case of ordinary surface latent image type silver halide grains. It is preferably used in the range of 7 mol, preferably 0.03 to 0.5 mol.

[ハロゲン化銀粒子両親媒性分散物]
銀塩光熱写真ドライイメージング材料の製造過程においては、写真性能、色調を改良するという観点から、ハロゲン化銀粒子の凝集を防止し、比較的均一にハロゲン化銀粒子を分散させ、最終的に現像銀を所望の形状に制御できるようにすることが好ましい。
[Amphiphilic dispersion of silver halide grains]
In the production process of silver salt photothermographic dry imaging materials, from the viewpoint of improving photographic performance and color tone, silver halide grains are prevented from agglomerating, and silver halide grains are dispersed relatively uniformly and finally developed. It is preferable that silver can be controlled to a desired shape.

凝集防止、均一分散等のために、用いられるゼラチンは、使用条件等に応じて、ゼラチンが有するアミノ基やカルボキシル基などの親水性基を化学修飾し、ゼラチンの特性を改変させたものが好ましい。例えば、ゼラチン分子内のアミノ基の疎水化修飾としては、フェニルカルバモイル化、フタル化、琥珀化、アセチル化、ベンゾイル化、ニトロフェニル化などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。又、これらの置換率は95%以上が好ましく、更に好ましくは99%以上である。又、カルボキシル基の疎水化修飾を組み合わせてもよく、メチルエステル化やアミド化などが挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。カルボキシル基の置換率は50〜90%が好ましく、更に好ましくは70〜90%である。ここで、上記の疎水化修飾の疎水基とは、ゼラチンのアミノ基及び/又はカルボキシル基を置換することによって、疎水性が増す基のことを言う。   In order to prevent aggregation, uniformly disperse, etc., the gelatin used is preferably one in which the properties of the gelatin are altered by chemically modifying the hydrophilic groups such as amino groups and carboxyl groups of the gelatin according to the conditions of use. . For example, examples of the hydrophobic modification of the amino group in the gelatin molecule include phenylcarbamoylation, phthalation, hatching, acetylation, benzoylation, and nitrophenylation, but are not particularly limited thereto. Further, the substitution rate is preferably 95% or more, more preferably 99% or more. In addition, hydrophobic modification of the carboxyl group may be combined, and examples thereof include methyl esterification and amidation, but are not particularly limited thereto. The substitution rate of the carboxyl group is preferably 50 to 90%, more preferably 70 to 90%. Here, the hydrophobic group in the above-mentioned hydrophobization modification refers to a group whose hydrophobicity is increased by substituting the amino group and / or carboxyl group of gelatin.

又、ハロゲン化銀粒子乳剤は、ゼラチンの代わりに又はゼラチンとの併用において、下記のような水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーを使用して調製することも、目的によって好ましい。例えばハロゲン化銀粒子乳剤を有機溶媒系に均一に分散させて塗布するような場合に、特に好ましい。尚、有機溶媒としては、アルコール系、エステル系、ケトン系の化合物が挙げられる。特に、ケトン系有機溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等が好ましい。   It is also preferable depending on the purpose that the silver halide grain emulsion is prepared by using a polymer that dissolves in both water and an organic solvent as described below, instead of gelatin or in combination with gelatin. For example, it is particularly preferred when the silver halide grain emulsion is coated with being uniformly dispersed in an organic solvent system. Examples of the organic solvent include alcohol-based, ester-based, and ketone-based compounds. In particular, ketone organic solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, and diethyl ketone are preferable.

(両親媒性ポリマー)
上記水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、天然ポリマー、合成ポリマー及びコポリマーの何れであってもよい。例えばゼラチン類、ゴム類等を改質して本発明の範疇に属するよう改質したものを用いることもできる。又は、以下の分類に属するポリマーを、凝集防止、均一分散等の目的に適する官能基を導入して用いることが可能である。
(Amphiphilic polymer)
The polymer that is soluble in both the water and the organic solvent may be a natural polymer, a synthetic polymer, or a copolymer. For example, gelatins, rubbers and the like that have been modified to belong to the category of the present invention can be used. Alternatively, polymers belonging to the following classifications can be used by introducing functional groups suitable for the purpose of preventing aggregation and uniform dispersion.

上記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリビニルピロリドン類、カゼイン、澱粉、ポリアクリル酸及びアクリル酸エステル類、ポリメチルメタクリル酸及びメタクリル酸エステル類、ポリ塩化ビニル類、ポリメタクリル酸類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール類(ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール)、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリオレフィン類、セルロースエステル類、ポリアミド類等が挙げられる。これらのポリマーは、数種類がコポリマーとなっていてもよいが、特にアクリル酸、メタクリル酸及びそれらのエステル類のモノマーを共重合したポリマーが好ましい。   Examples of the polymer include polyvinyl alcohols, hydroxyethyl celluloses, cellulose acetates, cellulose acetate butyrates, polyvinyl pyrrolidones, casein, starch, polyacrylic acid and acrylic acid esters, polymethylmethacrylic acid and methacrylic acid esters, Polyvinyl chlorides, polymethacrylic acids, styrene-maleic anhydride copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-butadiene copolymers, polyvinyl acetals (polyvinyl formal and polyvinyl butyral), polyesters, polyurethane Phenoxy resins, polyvinylidene chlorides, polyepoxides, polycarbonates, polyvinyl acetates, polyolefins, cellulose esters, polyamides, etc. It is. Several types of these polymers may be copolymers, and polymers obtained by copolymerizing monomers of acrylic acid, methacrylic acid and esters thereof are particularly preferable.

当該ポリマーは、同一の状態で水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーでもよいが、pHの制御や温度の制御で水や有機溶媒に溶解させたり、不溶化したりできるものも含まれる。例えば、カルボキシル基のような酸性基を有するポリマーは、種類によっては解離状態では親水性となるが、pHを下げ非解離状態にすると親油性となり溶剤に可溶にできる。逆にアミノ基を有するポリマーは、pHを上げると親油性となり、pHを下げるとイオン化し水溶性が上昇する。ノニオン性界面活性剤では曇点の現象が良く知られているが、温度の上昇で親油性になり有機溶媒に可溶となり、温度の低下で親水性、即ち水に溶解できるような性質を有する感温性ポリマー(有名な感温性ポリマーとして、ポリ−N−イソプロピルアクリルアミド及びそのコポリマー等)も本発明に含まれる。完全に溶解しなくともミセルを形成し均一に乳化できればよい。   The polymer may be a polymer that dissolves in both water and an organic solvent in the same state, but includes a polymer that can be dissolved or insolubilized in water or an organic solvent by controlling pH or temperature. For example, although a polymer having an acidic group such as a carboxyl group becomes hydrophilic in a dissociated state depending on the type, it becomes oleophilic and soluble in a solvent when the pH is lowered to a non-dissociated state. Conversely, a polymer having an amino group becomes lipophilic when the pH is raised, and becomes ionized and water-soluble when the pH is lowered. Nonionic surfactants have a well-known cloud point phenomenon, but they become lipophilic and soluble in organic solvents when the temperature rises, and they are hydrophilic, that is, soluble in water when the temperature is lowered. Temperature-sensitive polymers (such as poly-N-isopropylacrylamide and copolymers thereof as well-known temperature-sensitive polymers) are also included in the present invention. It is sufficient that micelles can be formed and uniformly emulsified without being completely dissolved.

本発明においては、各種のモノマーを組み合わせるため、一概にどのモノマーをどの程度用いるのが良いかは述べられないが、親水性のモノマーと疎水性のモノマーを適当な割合で組み合わせることで所望のポリマーが得られることは容易に理解できる。   In the present invention, since various monomers are combined, it is not generally stated which monomer should be used and how much, but a desired polymer can be obtained by combining a hydrophilic monomer and a hydrophobic monomer in an appropriate ratio. Is easily understood.

(ポリマーの溶解度)
前記水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、前記の如きpH等の溶解時の条件の調整により、あるいは未調整でもよいが、水に対して少なくとも1質量%以上(25℃)の溶解度を有し、かつ有機溶剤としてメチルエチルケトンに5質量%以上(25℃)の溶解度を有するものが好ましい。本発明に用いる水と有機溶媒の両方に溶解するポリマーとしては、溶解性の観点から、直鎖のポリマーよりも所謂ブロックポリマー、グラフトポリマー、櫛型ポリマー等が適している。特に櫛型ポリマーは好ましい。
(Polymer solubility)
The polymer that dissolves in both the water and the organic solvent may have a solubility of at least 1% by mass (25 ° C.) with respect to water, although it may be adjusted by adjusting the conditions such as pH as described above or not adjusted. The organic solvent preferably has a solubility of 5% by mass or more (25 ° C.) in methyl ethyl ketone. From the viewpoint of solubility, so-called block polymers, graft polymers, comb polymers, and the like are more suitable as polymers that are soluble in both water and organic solvents used in the present invention. Comb polymers are particularly preferred.

(ポリマーの等電点)
ポリマーの等電点はpH6以下であることが好ましい。等電点が高いポリマーを用いると、後述するように、凝集沈殿法により、ハロゲン化銀粒子の脱塩を行う時、ハロゲン化銀粒子の分解を促進し、写真性能に悪影響を与える。又、溶剤中にハロゲン化銀微粒子を分散する時にもpHを上げないと分散させ難く、カブリの観点から好ましくない。ポリマーの等電点の測定は、例えば等電点電気泳動法や、1%水溶液をカチオン及びアニオン交換樹脂の混床カラムに通した後のpHを測定する。
(Isoelectric point of polymer)
The isoelectric point of the polymer is preferably pH 6 or less. When a polymer having a high isoelectric point is used, as will be described later, when the silver halide grains are desalted by the aggregation precipitation method, the decomposition of the silver halide grains is promoted and the photographic performance is adversely affected. Further, when silver halide fine particles are dispersed in a solvent, it is difficult to disperse unless the pH is raised, which is not preferable from the viewpoint of fogging. The isoelectric point of the polymer is measured, for example, by measuring the pH after isoelectric focusing or passing a 1% aqueous solution through a mixed bed column of cation and anion exchange resin.

ポリマーの等電点を下げるため、各種の酸性基を導入することができる。例としては、カルボキシル基やスルホ基が挙げられる。カルボキシル基の導入には、アクリル酸、メタクリル酸のモノマーを用いる他、メタクリル酸メチル等を含有するポリマーを、一部加水分解して得ることも可能である。スルホ基の導入には、スチレンスルホン酸や2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸をモノマーとして用いる他、各種硫酸化の手法でポリマー作製後に導入することもできる。特にカルボン酸を用いると、未中和の状態で溶媒に対する溶解性が比較的高く、中和ないし半中和にすることで水溶性に性質を変えることができ、特に好ましい。中和はナトリウム塩やカリウム塩で行うこともでき、アンモニアやモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機塩を用いてもよい。イミダゾール類やトリアゾール類、アミドアミン類を用いることもできる。   Various acidic groups can be introduced to lower the isoelectric point of the polymer. Examples include a carboxyl group and a sulfo group. In addition to using monomers of acrylic acid and methacrylic acid for introduction of the carboxyl group, it is also possible to partially obtain a polymer containing methyl methacrylate and the like. In addition to using styrenesulfonic acid or 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid as a monomer, the sulfo group can be introduced after the preparation of the polymer by various sulfation techniques. In particular, when a carboxylic acid is used, the solubility in a solvent is relatively high in an unneutralized state, and the property can be changed to water solubility by neutralization or semi-neutralization, which is particularly preferable. Neutralization can also be performed with a sodium salt or a potassium salt, and organic salts such as ammonia, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine may be used. Imidazoles, triazoles, and amidoamines can also be used.

(櫛型ポリマー)
櫛型ポリマーを製造する場合は、各種の手法を用いることができるが、櫛部(側鎖)に200以上の分子量の側鎖を導入できるモノマーを用いることが望ましい。特にエチレンオキシド、プロピレンオキシド等、ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーを用いることが好ましい。ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーとしては、特に下記一般式で表されるポリオキシアルキレン基を有するものが好ましい。
(Comb polymer)
When manufacturing a comb polymer, various methods can be used, but it is desirable to use a monomer capable of introducing a side chain having a molecular weight of 200 or more into the comb part (side chain). In particular, it is preferable to use a polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer such as ethylene oxide or propylene oxide. As the polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer, those having a polyoxyalkylene group represented by the following general formula are particularly preferable.

−(EO)k−(PO)m−(TO)n−R
式中、Eはエチレン基、Pはプロピレン基、Tはブチレン基を表し、Rは置換基を表す。ブチレン基としてはテトラメチレン、イソブチレン基等を含む。kは1〜300、mは0〜60、nは0〜40の整数を表す。好ましくは、kは1〜200、mは0〜30、nは0〜20である。ただし、櫛型ポリマーとなるためには(k+m+n)≧2であることが好ましい。ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーは、1種類だけを用いても2種類以上を同時に用いても構わない。
-(EO) k- (PO) m- (TO) n- R
In the formula, E represents an ethylene group, P represents a propylene group, T represents a butylene group, and R represents a substituent. Examples of the butylene group include a tetramethylene group and an isobutylene group. k represents an integer of 1 to 300, m represents 0 to 60, and n represents an integer of 0 to 40. Preferably, k is 1 to 200, m is 0 to 30, and n is 0 to 20. However, in order to become a comb polymer, it is preferable that (k + m + n) ≧ 2. The polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer may be used alone or in combination of two or more.

Rで表される置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基などを表し、アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ドデシル等の基が、又、アリール基としてはフェニル、ナフチル等の基が、又、複素環基としてはチエニル、ピリジル等の基が挙げられる。又、これらの基は、更にハロゲン原子、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、ブトキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、ブチルチオ等)、アシル基(アセチル、ベンゾイル等)、アルカンアミド基(アセトアミド、プロピオンアミド等)、アリールアミド基(ベンゾイルアミド等)等によって置換されてもよい。又、これらの置換基が、更にこれらの基により置換されてもよい。   The substituent represented by R represents an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, etc., as the alkyl group, a group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, dodecyl, etc., and as an aryl group Includes groups such as phenyl and naphthyl, and examples of the heterocyclic group include groups such as thienyl and pyridyl. These groups are further halogen atoms, alkoxy groups (methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), alkylthio groups (methylthio, butylthio, etc.), acyl groups (acetyl, benzoyl, etc.), alkanamide groups (acetamide, propionamide, etc.) , An arylamide group (such as benzoylamide) and the like may be substituted. These substituents may be further substituted with these groups.

前記一般式で表されるポリオキシアルキレン基は、これらポリオキシアルキレン基を有するエチレン性不飽和モノマーを用いることでポリマー中に導入できる。これらの基を有するエチレン性不飽和モノマーとしては、例えばポリオキシアルキレンアクリレート(及びメタアクリレート)等があり、これらは市販されているヒドロキシポリ(オキシアルキレン)材料、例えば商品名、プルロニック[Pluronic(旭電化工業社製)]、アデカポリエーテル(旭電化工業社製)、カルボワックス[Carbowax(グリコ・プロダクス社製)]、トリトン[Toriton(ローム・アンド・ハース(Rohm and Hass)社製)]及びP.E.G(第一工業製薬社製)等を、公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ(オキシアルキレン)ジアクリレート等を用いることもできる。   The polyoxyalkylene group represented by the general formula can be introduced into the polymer by using an ethylenically unsaturated monomer having these polyoxyalkylene groups. Examples of ethylenically unsaturated monomers having these groups include polyoxyalkylene acrylates (and methacrylates), which are commercially available hydroxypoly (oxyalkylene) materials such as the trade name Pluronic (Asahi). Denka Kogyo Co., Ltd.), Adeka Polyether (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Carbowax [Carbowax (Glico Products)], Triton [Toriton (Rohm and Hass Co., Ltd.)] and P. E. G (made by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) etc. can be manufactured by making it react with acrylic acid, methacrylic acid, acryl chloride, methacryl chloride, acrylic acid anhydride, etc. by a well-known method. Separately, poly (oxyalkylene) diacrylate produced by a known method can also be used.

又、市販品のモノマーとしては、日本油脂社製のヒドロキシル基末端ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレートとして、ブレンマーPE−90、ブレンマーPE−200、ブレンマーPE−350、ブレンマーAE−90、ブレンマーAE−200、ブレンマーAE−400、ブレンマーPP−1000、ブレンマーPP−500、ブレンマーPP−800、ブレンマーAP−150、ブレンマーAP−400、ブレンマーAP−550、ブレンマーAP−800、ブレンマー50PEP−300、ブレンマー70PEP−350B、ブレンマーAEPシリーズ、ブレンマー55PET−400、ブレンマー30PET−800、ブレンマー55PET−800、ブレンマーAETシリーズ、ブレンマー30PPT−800、ブレンマー50PPT−800、ブレンマー70PPT−800、ブレンマーAPTシリーズ、ブレンマー10PPB−500B、ブレンマー10APB−500B等が挙げられる。同様に、日本油脂社製のアルキル末端ポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレートとして、ブレンマーPME−100、ブレンマーPME−200、ブレンマーPME−400、ブレンマーPME−1000、ブレンマーPME−4000、ブレンマーAME−400、ブレンマー50POEP−800B、ブレンマー50AOEP−800B、ブレンマーPLE−200、ブレンマーALE−200、ブレンマーALE−800、ブレンマーPSE−400、ブレンマーPSE−1300、ブレンマーASEPシリーズ、ブレンマーPKEPシリーズ、ブレンマーAKEPシリーズ、ブレンマーANE−300、ブレンマーANE−1300、ブレンマーPNEPシリーズ、ブレンマーPNPEシリーズ、ブレンマー43ANEP−500、ブレンマー70ANEP−550等;共栄社化学社製のライトエステルMC、ライトエステル130MA、ライトエステル041MA、ライトアクリレートBO−A、ライトアクリレートEC−A、ライトアクリレートMTG−A、ライトアクリレート130A、ライトアクリレートDPM−A、ライトアクリレートP−200A、ライトアクリレートNP−4EA、ライトアクリレートNP−8EA等が挙げられる。   Moreover, as a commercially available monomer, as a hydroxyl group-terminated polyalkylene glycol mono (meth) acrylate manufactured by NOF Corporation, Blemmer PE-90, Blemmer PE-200, Blemmer PE-350, Blemmer AE-90, Blemmer AE- 200, Blemmer AE-400, Blemmer PP-1000, Blemmer PP-500, Blemmer PP-800, Blemmer AP-150, Blemmer AP-400, Blemmer AP-550, Blemmer AP-800, Blemmer 50 PEP-300, Blemmer 70 PEP- 350B, Blemmer AEP series, Blemmer 55PET-400, Blemmer 30PET-800, Blemmer 55PET-800, Blemmer AET series, Blemmer 30PPT-800, Buremer Ma 50PPT-800, Blemmer 70PPT-800, Blemmer APT series, Brenmer 10PPB-500B, and the like Brenmer 10APB-500B. Similarly, as an alkyl terminal polyalkylene glycol mono (meth) acrylate manufactured by NOF Corporation, Blemmer PME-100, Blemmer PME-200, Blemmer PME-400, Blemmer PME-1000, Blemmer PME-4000, Blemmer AME-400, Blemmer 50POEP-800B, Blemmer 50AOEP-800B, Blemmer PLE-200, Blemmer ALE-200, Blemmer ALE-800, Blemmer PSE-400, Blemmer PSE-1300, Blemmer ASE series, Blemmer PKEP series, Blemmer AKEP series, Blemmer AE- 300, Blemmer ANE-1300, Blemmer PNEP series, Blemmer PNPE series, Blemmer 43ANEP 500, Bremer 70ANEP-550, etc .; Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light ester MC, light ester 130MA, light ester 041MA, light acrylate BO-A, light acrylate EC-A, light acrylate MTG-A, light acrylate 130A, light acrylate DPM -A, light acrylate P-200A, light acrylate NP-4EA, light acrylate NP-8EA, and the like.

(グラフトポリマー)
ポリマーとしては、所謂マクロマーを使用したグラフトポリマーを用いることもできる。例えば、“新高分子実験学2、高分子の合成・反応”高分子学会編・共立出版社(1995)に記載されている。又、山下雄也著“マクロモノマーの化学と工業”アイピーシー刊(1989)にも詳しく記載されている。マクロマーの内、有用な分子量は1万〜10万の範囲、好ましい範囲は1万〜5万、特に好ましい範囲は1万〜2万の範囲である。分子量が1万未満では効果を発揮できず、又、10万を超えると主鎖を形成する共重合モノマーとの重合性が悪くなる。具体的には、東亞合成社製:AA−6、AS−6S、AN−6S等を用いることができる。
(Graft polymer)
As the polymer, a graft polymer using a so-called macromer can also be used. For example, it is described in “New Polymer Experimental Science 2, Synthesis and Reaction of Polymers” edited by the Society of Polymer Science, Kyoritsu Shuppansha (1995). It is also described in detail in Yuma Yamashita's “Chemical Monomer Chemistry and Industry” published by IPC (1989). Among the macromers, the useful molecular weight is in the range of 10,000 to 100,000, the preferred range is 10,000 to 50,000, and the particularly preferred range is in the range of 10,000 to 20,000. When the molecular weight is less than 10,000, the effect cannot be exhibited, and when it exceeds 100,000, the polymerizability with the copolymerization monomer forming the main chain is deteriorated. Specifically, Toagosei Co., Ltd. product: AA-6, AS-6S, AN-6S etc. can be used.

尚、本発明が上記具体例によって、何等限定されないことは勿論である。ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和モノマーは、1種類だけを用いても2種類以上を同時に用いても構わない。   Needless to say, the present invention is not limited to the above specific examples. The polyoxyalkylene group-containing ethylenically unsaturated monomer may be used alone or in combination of two or more.

上記モノマーと具体的に反応させる他のモノマーとしては、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、アリルエステル類、アリルオキシエタノール類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、イタコン酸ジアルキル、フマール酸のモノ(又はジ)アルキルエステル類等、その他、クロトン酸、イタコン酸、(メタ)アクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレン等が挙げられる。   Other monomers specifically reacted with the above monomers include (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamides, allyl esters, allyloxyethanols, vinyl ethers, vinyl esters, dialkyl itaconate, fumaric acid And other mono (or di) alkyl esters, crotonic acid, itaconic acid, (meth) acrylonitrile, maleronitrile, styrene, and the like.

具体的な例としては、以下の化合物が挙げられる。   Specific examples include the following compounds.

アクリル酸エステル類:アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、メタクリル酸エステル類:メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等、アクリルアミド類:アクリルアミド、N−アルキルアクリルアミド(アルキル基として炭素数1〜3のもの、例えばメチル、エチル、プロピル)、N,N−ジアルキルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルアクリルアミドなど。又、アルキルオキシアクリルアミドとして、メトキシメチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド等、メタクリルアミド類:メタクリルアミド、N−アルキルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリルアミド、N−2−アセトアミドエチル−N−アセチルメタクリルアミド、メトキシメチルメタアクリルアミド、ブトキシメチルメタアクリルアミド等、アリル化合物:アリルエステル類(酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等)、アリルオキシエタノール等、ビニルエーテル類:アルキルビニルエーテル(ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等)、ビニルエステル類:ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート等、イタコン酸ジアルキル類:イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチル等。フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類:ジブチルフマレート等、その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレン等。   Acrylic acid esters: methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc. Methacrylic acid esters: methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, etc. Acrylamide: Acrylamide, N-alkylacrylamide Those having 1 to 3 carbon atoms as the alkyl group, for example methyl, ethyl, propyl), N, N- dialkyl acrylamide, N- hydroxyethyl -N- methylacrylamide, etc. N-2- acetamidoethyl -N- acetyl acrylamide. Further, as alkyloxyacrylamide, methoxymethylacrylamide, butoxymethylacrylamide, etc., methacrylamides: methacrylamide, N-alkylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide, N-2-acetamidoethyl-N-acetyl Allyl compounds: allyl esters (allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, acetoacetate), such as methacrylamide, methoxymethyl methacrylate, butoxymethyl methacrylate Allyl, allyl lactate, etc.), allyloxyethanol, etc., vinyl ethers: alkyl vinyl ether (hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether) Tellurium, ethylhexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2-ethylbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether , Butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, etc.), vinyl esters: vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl Dichloroacetate, vinyl methoxyacetate Over DOO, vinyl butoxy acetate, vinyl lactate, vinyl -β- phenylbutyrate, vinyl cyclohexylcarboxylate, dialkyl itaconates: dimethyl itaconate, diethyl itaconate, itaconic acid dibutyl. Dialkyl esters or monoalkyl esters of fumaric acid: dibutyl fumarate, etc., crotonic acid, itaconic acid, acrylonitrile, methacrylonitrile, maleilonitrile, styrene, etc.

アミド基や炭素数4〜22の直鎖又は分岐アルキル基、芳香族基、5員環以上の複素環基を導入する場合は、上記のモノマーあるいは、その他のモノマーの中で、これらの官能基を含有するモノマーを選択すればよい。例えば5員環以上の複素環基の導入には、1−ビニルイミダゾールやその誘導体を用いることができる。更に、予めポリマー中にイソシアネート基やエポキシ基を導入しておき、それらを直鎖又は分岐アルキル基、芳香族基、5員環以上の複素環基を含有するアルコール類や、アミン類と反応させることで、ポリマー中に各種の官能基を導入してもよい。イソシアネートやエポキシを導入するには、カレンズMOI(昭和電工社製)やブレンマーG(日本油脂社製)を用いることができる。ウレタン結合を導入することも好ましい。   In the case of introducing an amide group, a linear or branched alkyl group having 4 to 22 carbon atoms, an aromatic group, or a heterocyclic group having 5 or more members, among these monomers or other monomers, these functional groups A monomer containing can be selected. For example, 1-vinylimidazole or a derivative thereof can be used to introduce a heterocyclic group having 5 or more members. Furthermore, an isocyanate group or an epoxy group is previously introduced into the polymer, and these are reacted with an alcohol or an amine containing a linear or branched alkyl group, an aromatic group, or a 5- or more-membered heterocyclic group. Thus, various functional groups may be introduced into the polymer. In order to introduce isocyanate or epoxy, Karenz MOI (manufactured by Showa Denko) or Bremer G (manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd.) can be used. It is also preferable to introduce a urethane bond.

各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと重合開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。カラム濾過、再沈精製、溶媒抽出などによって除去することで、未反応モノマーを除去できる。あるいは、低沸点の未反応モノマーはストリッピングにより除去することが可能である。   Depending on the polymerizability of each monomer, a dropping polymerization method in which a monomer and a polymerization initiator are added dropwise to a reaction vessel is also effective for obtaining a polymer having a uniform composition. Unreacted monomer can be removed by removing it by column filtration, reprecipitation purification, solvent extraction or the like. Alternatively, low-boiling unreacted monomers can be removed by stripping.

(重合開始剤・重合禁止剤)
重合開始剤としては、アゾ系高分子重合開始剤、有機過酸化物を用いることができる。アゾ系高分子重合開始剤としては、日本ヒドラジン工業社製ABN−R(2,2′−アゾビスイソブチロニトリル)、ABN−V(2,2′−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル))、ABN−E(2,2′−アゾビス(2−メチルブチロニトリル))等がある。又、有機過酸化物としては、過酸化ベゾイル、ジメチルエチルケトンパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、日本油脂社製パーテトラA、パーヘキサHC、パーヘキサTMH、パーヘキサC、パーヘキサV、パーヘキサ22、パーヘキサMC、パーブチルH、パークミルH、パークミルP、パーメンタH、パーオクタH、パーブチルC、パーブチルD、パーヘキシルD、パーロイルIB、パーロイル355、パーロイルL、パーロイルS、パーロイルSA、ナイパーBW、ナイパーBMT−K40、ナイパーBMT−T40、ナイパーBMT−M、パーロイルIPP、パーロイルNPP、パーロイルTCP、パーロイルEEP、パーロイルMBP、パーロイルOPP、パーロイルSBP、パークミルND、パーオクタND、パーシクロND、パーヘキシルND、パーブチルND、パーヘキシルPV、パーヘキサ250、パーオクタO、パーヘキシルO、パーブチルO、パーブチルIB、パーブチルL、パーブチル355、パーヘキシルI、パーブチルI、パーブチルE、パーヘキサ25Z、パーヘキサ25MT、パーブチルA、パーヘキシルZ、パーブチルZT、パーブチルZ等が挙げられる。
(Polymerization initiator / polymerization inhibitor)
As the polymerization initiator, an azo polymer polymerization initiator or an organic peroxide can be used. Examples of the azo polymer polymerization initiator include ABN-R (2,2′-azobisisobutyronitrile), ABN-V (2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) manufactured by Nippon Hydrazine Kogyo Co., Ltd. )), ABN-E (2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile)) and the like. Further, as the organic peroxide, bezoyl peroxide, dimethyl ethyl ketone peroxide, lauryl peroxide, Pertetra A, Perhexa HC, Perhexa TMH, Perhexa C, Perhexa V, Perhexa 22, Perhexa MC, Perbutyl H, manufactured by NOF Corporation Parkmill H, Parkmill P, Permenta H, Perocta H, Perbutyl C, Perbutyl D, Perhexyl D, Parroyl IB, Parroyl 355, Parroyl L, Parroyl S, Parroyl SA, Nipper BW, Nipper BMT-K40, Nipper BMT-T40, Nipper BMT-M, Parroyl IPP, Parroyl NPP, Parroyl TCP, Parroyl EEP, Parroyl MBP, Parroyl OPP, Parroyl SBP, Parkmill ND, Parocta ND, Percyclo N Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perhexyl PV, Perhexa 250, Perocta O, Perhexyl O, Perbutyl O, Perbutyl IB, Perbutyl L, Perbutyl 355, Perhexyl I, Perbutyl I, Perbutyl E, Perhexa 25Z, Perhexa 25MT, Perbutyl A, Perhexyl Z, perbutyl ZT, perbutyl Z, etc. are mentioned.

又、重合禁止剤としてはキノン系の禁止剤が用いられ、ハイドロキノン、p−メトキシフェノールが挙げられる。精工化学社製フェノチアジン、メトキノン、ノンフレックスアルバ、MH(メチルハイドロキノン)、TBH(t−ブチルハイドロキノン)、PBQ(p−ベンゾキノン)、トルキノン、TBQ(t−ブチル−p−ベンゾキノン)、2,5−ジフェニル−p−ベンゾキノン等が挙げられる。   As the polymerization inhibitor, a quinone-based inhibitor is used, and examples thereof include hydroquinone and p-methoxyphenol. Seiko Chemical Co., Ltd. phenothiazine, methoquinone, non-flex alba, MH (methyl hydroquinone), TBH (t-butyl hydroquinone), PBQ (p-benzoquinone), tolquinone, TBQ (t-butyl-p-benzoquinone), 2,5- And diphenyl-p-benzoquinone.

(重合溶媒)
重合は、溶媒の存在下又は不存在下の何れでも実施できるが、作業性の点から溶媒存在下の場合の方が好ましい。尚、好ましい溶媒としては、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル等のエステル類、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−オキシプロピオン酸ブチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸ブチル等のモノカルボン酸エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、エチルセロソルブアセテート等のエーテル類、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコール類及びそのエステル類、1,1,1−トリクロルエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族類、更にパーフロロオクタン、パーフロロトリブチルアミン等のフッ素化イナートリキッド類等が挙げられる。
(Polymerization solvent)
The polymerization can be carried out in the presence or absence of a solvent, but is preferably in the presence of a solvent from the viewpoint of workability. Preferred solvents include alcohols such as ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutanol, t-butanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, Esters such as methyl lactate, ethyl lactate and butyl lactate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, butyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, 2- Monocarboxylic acid esters such as ethyl methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, butyl 2-methoxypropionate, polar solvents such as dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, methyl cellosol , Ethers such as cellosolve, butyl cellosolve, butyl carbitol, ethyl cellosolve acetate, propylene glycols such as propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate and the like Fluorination of esters, halogen solvents such as 1,1,1-trichloroethane and chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, aromatics such as benzene, toluene and xylene, and further perfluorooctane and perfluorotributylamine And inert liquids.

以下に、本発明に用いる感光性ハロゲン化銀粒子調製用の両親媒性ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the amphiphilic polymer for preparing photosensitive silver halide grains used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

Figure 2007286607
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[銀イオン還元剤]
本発明においては、感光性層が、銀イオン還元剤として、前記一般式(1)で表される化合物を含有することを要する。
[Silver ion reducing agent]
In the present invention, the photosensitive layer is required to contain the compound represented by the general formula (1) as a silver ion reducing agent.

前記一般式(1)において、R1は水素原子又は置換基を表す。置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。好ましくは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基であり、更に好ましくは、水素原子又はアルキル基である。これらの置換基は、更に置換基を有してもよく、該置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及び複素環アゾ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基、ホスファト基、スルファト基、その他の公知の置換基が挙げられる。 In the general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, and a cyano group. Preferably, they are a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, or an alkenyl group, More preferably, they are a hydrogen atom or an alkyl group. These substituents may further have a substituent, such as an alkyl group, a cycloalkyl group, a halogenated alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, Cyano group, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group, anilino group, acylamino group , Aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl and arylsulfonylamino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group Alkyl and arylsulfinyl groups, alkyl and arylsulfonyl groups, acyl groups, aryloxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, aryl and heterocyclic azo groups, imide groups, silyl groups, hydrazino groups, ureido groups, boronic acid groups, Examples thereof include a phosphato group, a sulfato group, and other known substituents.

2及びR3は各々、炭素数が1〜8のアルキル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、t−ブチル基、t−アミル基、i−プロピル基、i−ブチル基、i−プロピル基、1,1−ジメチルブチル基、1−メチルシクロペンチル基、1−メチルシクロブチル基、1−メチルシクロプロピル基、1−メチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、1−メチルプロピル基、1,1,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−1−メチルプロピル基等が挙げられる。これらのアルキル基は更に置換基を有してもよく、該置換基としては、ヒドロキシル基、シアノ基、メルカプト基、ハロゲン原子、アミノ基、イミド基、シリル基、ヒドラジノ基等が挙げられる。 R 2 and R 3 each represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, amyl group, hexyl group, t-butyl group, t-amyl group, i-propyl group, i-butyl group, i-propyl group, 1, 1-dimethylbutyl group, 1-methylcyclopentyl group, 1-methylcyclobutyl group, 1-methylcyclopropyl group, 1-methylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1-methylpropyl group, 1,1,2 -A trimethylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, etc. are mentioned. These alkyl groups may further have a substituent, and examples of the substituent include a hydroxyl group, a cyano group, a mercapto group, a halogen atom, an amino group, an imide group, a silyl group, and a hydrazino group.

本発明では、R2及びR3が共に3級アルキル基であることが好ましい。t−ブチル基、1,1−ジメチルブチル基又はt−アミル基が好ましく、更に好ましくはt−ブチル基である。 In the present invention, both R 2 and R 3 are preferably tertiary alkyl groups. A t-butyl group, a 1,1-dimethylbutyl group or a t-amyl group is preferable, and a t-butyl group is more preferable.

1及びA2は各々ヒドロキシル基又は脱保護されることによりヒドロキシル基を形成し得る基を表し、好ましくはヒドロキシル基である。脱保護されてヒドロキシル基を形成し得る基とは、酸及び/又は熱の作用により分解・脱離してヒドロキシル基を形成する基が挙げられる。具体的には、エーテル基(メトキシ、t−ブトキシ、アリルオキシ、ベンジルオキシ、トリフェニルメトキシ、トリメチルシリルオキシ等)、ヘミアセタール基(テトラヒドロピラニルオキシ等)、エステル基(アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、p−ニトロベンゾイルオキシ、ホルミルオキシ、トリフルオロアセチルオキシ、ピバロイルオキシ等)、カルボナート基(エトキシカルボニルオキシ、フェノキシカルボニルオキシ、t−ブチルオキシカルボニルオキシ等)、スルホナート基(p−トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等)、カルバモイルオキシ基(フェニルカルバモイルオキシ等)、チオカルボニルオキシ基(ベンジルチオカルボニルオキシ等)、硝酸エステル基、スルフェナート基(2,4−ジニトロベンゼンスルフェニルオキシ等)が挙げられる。m及びnは各々1〜5の整数を表すが、好ましくは2〜4であり、更に好ましくは2又は3である。 A 1 and A 2 each represent a hydroxyl group or a group that can be deprotected to form a hydroxyl group, and is preferably a hydroxyl group. Examples of the group that can be deprotected to form a hydroxyl group include a group that decomposes and leaves by the action of an acid and / or heat to form a hydroxyl group. Specifically, ether groups (methoxy, t-butoxy, allyloxy, benzyloxy, triphenylmethoxy, trimethylsilyloxy, etc.), hemiacetal groups (tetrahydropyranyloxy, etc.), ester groups (acetyloxy, benzoyloxy, p- Nitrobenzoyloxy, formyloxy, trifluoroacetyloxy, pivaloyloxy, etc.), carbonate groups (ethoxycarbonyloxy, phenoxycarbonyloxy, t-butyloxycarbonyloxy, etc.), sulfonate groups (p-toluenesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, etc.) Carbamoyloxy group (phenylcarbamoyloxy etc.), thiocarbonyloxy group (benzylthiocarbonyloxy etc.), nitrate ester group, sulfenate group (2,4-dinitrobe Zen sulfenyl oxy, etc.). m and n each represents an integer of 1 to 5, preferably 2 to 4, and more preferably 2 or 3.

(融点・熱分解温度)
上記に例示した置換基R1、R2、R3、A1及びA2の構造は、ビスフェノール型還元剤の熱的物性ならびに結晶性を決定する因子の一つであり、銀塩光熱写真ドライイメージング材料では銀イオン還元剤の融点、熱分解温度、結晶性が写真性能に大きく相関する。本発明における銀イオン還元剤の融点は80〜250℃、熱分解温度は200℃以上であることが好ましい。現像処理後に感材中に還元剤が残留する銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、結晶性の高い還元剤の方が保存時の物質拡散が抑制されるため、画像保存時の還元反応によるカブリ部分の濃度変動が小さくなることから、還元剤の結晶性は高い方がより好ましい。
(Melting point / Pyrolysis temperature)
The structures of the substituents R 1 , R 2 , R 3 , A 1 and A 2 exemplified above are one of the factors that determine the thermal properties and crystallinity of the bisphenol type reducing agent. In imaging materials, the melting point, thermal decomposition temperature, and crystallinity of the silver ion reducing agent greatly correlate with photographic performance. In the present invention, the silver ion reducing agent preferably has a melting point of 80 to 250 ° C. and a thermal decomposition temperature of 200 ° C. or higher. Silver salt photothermographic dry imaging materials in which the reducing agent remains in the light-sensitive material after development processing are less fogged due to the reduction reaction during image storage because the highly crystalline reducing agent suppresses material diffusion during storage. Therefore, it is more preferable that the crystallinity of the reducing agent is higher.

以下に、一般式(1)で表される還元剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of a reducing agent represented by General formula (1) below is shown, this invention is not limited to these.

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(本発明の銀イオン還元剤と併用できるその他の銀イオン還元剤)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料には、前記一般式(1)で表される化合物とともに、他の異なる化学構造を有する銀イオン還元剤を併せて用いることが好ましい。
(Other silver ion reducing agents that can be used in combination with the silver ion reducing agent of the present invention)
In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, it is preferable to use a silver ion reducing agent having another different chemical structure together with the compound represented by the general formula (1).

(一般式(2)で表される化合物)
本発明においては、前記一般式(1)で表される化合物と前記一般式(2)で表される化合物の少なくとも1種を併用することが、特に好ましい。
(Compound represented by the general formula (2))
In the present invention, it is particularly preferable to use at least one of the compound represented by the general formula (1) and the compound represented by the general formula (2) in combination.

前記一般式(2)において、Zは炭素原子とともに3〜10員の非芳香族環を形成するのに必要な原子群を表すが、該環として具体的に3員環としてはシクロプロピル、アジリジル、オキシラニル、4員環としてはシクロブチル、シクロブテニル、オキセタニル、アゼチジニル、5員環としてはシクロペンチル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、テトラヒドロフラニル、ピロリジニル、テトラヒドロチエニル、6員環としてはシクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジエニル、テトラヒドロピラニル、ピラニル、ピペリジニル、ジオキサニル、テトラヒドロチオピラニル、ノルカラニル、ノルピナニル、ノルボルニル、7員環としてはシクロヘプチル、シクロヘプチニル、シクロヘプタジエニル、8員環としてはシクロオクタニル、シクロオクテニル、シクロオクタジエニル、シクロオクタトリエニル、9員環としてはシクロノナニル、シクロノネニル、シクロノナジエニル、シクロノナトリエニル、10員環としてはシクロデカニル、シクロデケニル、シクロデカジエニル、シクロデカトリエニル等の各基が挙げられる。好ましくは3〜6員環であり、より好ましくは5〜6員環であり、最も好ましくは6員環であり、その中でもヘテロ原子を含まない炭化水素環が好ましい。該環はスピロ原子を通じて他の環とスピロ結合を形成してもよいし、芳香族環を含む他の環と如何様にも縮環してよい。該置換基として具体的には、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、iso−ペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、アルケニル基(例えば、エテニル−2−プロペニル基、3−ブテニル基、1−メチル−3−プロペニル基、3−ペンテニル基、1−メチル−3−ブテニル基等)、シクロアルケニル基(例えば、1−シクロアルケニル基、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、1−プロピニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等)、アルキルカルボニルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基等)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、メチルアミノカルボニルアミノ基等)、アルキルスルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等)、カルバモイル基(例えば、カルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−モルホリノカルボニル基等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、モルフォリノスルファモイル基等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基等)、アルキルアミノ基(例えばアミノ基、N,N−ジメチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、スルホ基、ホスフォノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルホニルアミノカルボニル基、エタンスルホニルアミノカルボニル基等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(例えば、アセトアミドスルホニル基、メトキシアセトアミドスルホニル基等)、アルキニルアミノカルボニル基(例えば、アセトアミドカルボニル基、メトキシアセトアミドカルボニル基等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(例えば、メタンスルフィニルアミノカルボニル基、エタンスルフィニルアミノカルボニル基等)等が挙げられる。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なっていても良い。特に好ましい置換基はアルキル基である。   In the general formula (2), Z represents an atomic group necessary for forming a 3- to 10-membered non-aromatic ring together with a carbon atom. Specific examples of the ring include cyclopropyl and aziridyl. Oxiranyl, 4-membered ring is cyclobutyl, cyclobutenyl, oxetanyl, azetidinyl, 5-membered ring is cyclopentyl, cyclopentenyl, cyclopentadienyl, tetrahydrofuranyl, pyrrolidinyl, tetrahydrothienyl, 6-membered ring is cyclohexyl, cyclohexenyl, cyclohexenyl Sadienyl, tetrahydropyranyl, pyranyl, piperidinyl, dioxanyl, tetrahydrothiopyranyl, norcaranyl, norpinanyl, norbornyl, 7-membered ring is cycloheptyl, cycloheptynyl, cycloheptadienyl, 8-membered ring is cyclo Tantanyl, cyclooctenyl, cyclooctadienyl, cyclooctatrienyl, 9-membered ring is cyclononanyl, cyclononenyl, cyclononadienyl, cyclononatrienyl, 10-membered ring is cyclodecanyl, cyclodecenyl, cyclodecadienyl, cyclodecatrienyl Each group such as enyl is exemplified. Preferably it is a 3-6 membered ring, More preferably, it is a 5-6 membered ring, Most preferably, it is a 6 membered ring, Among these, the hydrocarbon ring which does not contain a hetero atom is preferable. The ring may form a spiro bond with another ring through a spiro atom, or may be condensed in any way with another ring including an aromatic ring. Specific examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, an iso-pentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group, etc.), cycloalkyl group (for example, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), alkenyl group (for example, ethenyl-2-propenyl group, 3-butenyl group, 1-methyl) -3-propenyl group, 3-pentenyl group, 1-methyl-3-butenyl group, etc.), cycloalkenyl group (eg 1-cycloalkenyl group, 2-cycloalkenyl group etc.), alkynyl group (eg ethynyl group, 1-propynyl group etc.), alkoxy group (eg methoxy group, ethoxy group, propoxy group etc.), alkylcarbonyloxy group For example, acetyloxy group etc.), alkylthio group (eg methylthio group, trifluoromethylthio group etc.), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (eg acetylamino group etc.), ureido group (eg methylaminocarbonylamino group etc.) ), Alkylsulfonylamino groups (for example, methanesulfonylamino group, etc.), alkylsulfonyl groups (for example, methanesulfonyl group, trifluoromethanesulfonyl group, etc.), carbamoyl groups (for example, carbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N -Morpholinocarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group, cyano group, alkylsulfone Group (for example, methanesulfonamide group, butanesulfonamide group, etc.), alkylamino group (for example, amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, etc.), sulfo group, phosphono group, sulfite Group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (eg, methanesulfonylaminocarbonyl group, ethanesulfonylaminocarbonyl group, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (eg, acetamidosulfonyl group, methoxyacetamidosulfonyl group, etc.), alkynylaminocarbonyl group (For example, acetamidocarbonyl group, methoxyacetamidocarbonyl group, etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl group (for example, methanesulfinylaminocarbonyl group, ethanesulfinylaminocarbonyl group) Etc.). Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. A particularly preferred substituent is an alkyl group.

21は、水素原子又はアルキル基を表すが、アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、更に好ましくは水素原子である。 R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group and the like. A hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group is preferable, and a hydrogen atom is more preferable.

22及びR23は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は複素環基を表すが、アルキル基として具体的には炭素数1〜10のアルキル基であることが好ましい。具体例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、2−エチル−ヘキシル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。シクロアルキル基として具体的には、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、1−メチルシクロヘキシル基等が挙げられる。好ましくはメチル基、tert−ブチル基、1−メチルシクロヘキシル基であり、もっとも好ましくはメチル基である。アリール基として具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙げられる。複素環基として具体的にはピリジン基、キノリン基、イソキノリン基、イミダゾール基、ピラゾール基、トリアゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、チアジアゾール基、テトラゾール基等の芳香族ヘテロ環基やピペリジノ基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、テトラヒドロピラニル基等の非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても良く、該置換基としては前述の環上の置換基をあげることができる。複数のR22及びR23は同じでも異なっていても良いが、最も好ましくは全てがメチル基の場合である。 R 22 and R 23 represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, 2-ethyl-hexyl group, octyl group, decyl group and the like. Specific examples of the cycloalkyl group include a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a 1-methylcyclohexyl group. A methyl group, a tert-butyl group, and a 1-methylcyclohexyl group are preferable, and a methyl group is most preferable. Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and an anthranyl group. Specific examples of the heterocyclic group include aromatic heterocyclic groups such as pyridine group, quinoline group, isoquinoline group, imidazole group, pyrazole group, triazole group, oxazole group, thiazole group, oxadiazole group, thiadiazole group, and tetrazole group. Non-aromatic heterocyclic groups such as piperidino group, morpholino group, tetrahydrofuryl group, tetrahydrothienyl group and tetrahydropyranyl group can be mentioned. These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include the above-described substituents on the ring. A plurality of R 22 and R 23 may be the same or different, but most preferably all are methyl groups.

Qはベンゼン環上に置換可能な基を表すが、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル基、パーフルオロオクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルキニル基(プロパルギル基等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル基等)、複素環基(ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリル基、スリホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド基、エタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、ウレタン基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、フェニルウレイド基、2−ピリジルウレイド基等)、アシル基(アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘキサノイル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ピリジノイル基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、アミド基(アセトアミド基、プロピオンアミド基、ブタンアミド基、ヘキサンアミド基、ベンズアミド基等)、スルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、アニリノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。又、複数のQは、同じでも異なっていても良い。   Q represents a substitutable group on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Cyclohexyl group, etc.), halogenated alkyl group (trifluoromethyl group, perfluorooctyl group, etc.), cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), alkynyl group (propargyl group, etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group , Aryl groups (such as phenyl groups), heterocyclic groups (pyridyl group, thiazolyl group, oxazolyl group, imidazolyl group, furyl group, pyrrolyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, selenazolyl group, sriphoranyl group, piperidinyl group, pyrazolyl Group, tetrazolyl group, etc.), halogen atom (salt Atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom, etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, cyclopentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group) Etc.), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl group etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide group, ethanesulfonamide group, Butanesulfonamide group, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide group, benzenesulfonamide group, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butyrate) Aminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), urethane group (methylureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, phenylureido group, 2-pyridylureido group, etc.), acyl group (acetyl group, propionyl group, butanoyl group, hexanoyl group, cyclohexanoyl group, benzoyl group, pyridinoyl group, etc.), carbamoyl group (aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylamino) Carbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), amide group ( Acetamide group, propionamide group, butanamide group, hexaneamide group, benzamide group, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), Amino group (amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, anilino group, 2-pyridylamino group, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group, etc. Can be mentioned. These groups may be further substituted with these groups. Further, the plurality of Qs may be the same or different.

p及びqは0〜2の整数を表すが、最も好ましくは、p及びqが共に0の場合である。以下に、一般式(2)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   p and q represent an integer of 0 to 2, but most preferably, p and q are both 0. Although the specific example of a compound represented by General formula (2) below is shown, this invention is not limited to these.

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本発明では、更に米国特許3,589,903号、同4,021,249号明細書、及び特公昭54−36851号、特開昭50−36110号、同50−116023号、同52−84727号公報もしくは特公昭51−35727号公報に記載されたポリフェノール化合物、米国特許3,672,904号明細書に記載されたビスナフトール類、例えば、2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル、6,6′−ジブロモ−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル等、更に、米国特許3,801,321号明細書に記載されるようなスルホンアミドフェノール又はスルホンアミドナフトール類、例えば4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2−ベンゼンスルホンアミドフェノール、2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフェノール、4−ベンゼンスルホンアミドナフトール等も、銀イオン還元剤として用いることができる。   In the present invention, further, U.S. Pat. Nos. 3,589,903 and 4,021,249, and JP-B-54-36851, JP-A-50-36110, JP-A-50-11603, and 52-84727 are used. Or the bisnaphthols described in US Pat. No. 3,672,904, such as 2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl. 6,6′-dibromo-2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl and the like, and sulfonamidophenols or sulfonamidonaphthols as described in US Pat. No. 3,801,321, For example, 4-benzenesulfonamidophenol, 2-benzenesulfonamidophenol, 2,6-dichloro-4-benzenesulfur Down amidophenol, also 4-benzene sulfonamide naphthol, can be used as a silver ion reducing agent.

(添加形態・添加方法)
本発明に用いられる銀イオン還元剤は、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態など、如何なる方法で塗布液に含有せしめ、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に含有させてもよい。
(Addition form / addition method)
The silver ion reducing agent used in the present invention may be contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, or a solid fine particle dispersion form, and may be contained in the silver salt photothermographic dry imaging material.

本発明においては、銀イオン還元剤を塗布直前に感光性ハロゲン化銀粒子及び脂肪族カルボン酸銀塩粒子及び溶媒などから成る感光乳剤溶液に添加混合し、その液を塗布する方法が停滞時間による写真性能変動が小さく、好ましい場合がある。   In the present invention, the silver ion reducing agent is added to and mixed with a photosensitive emulsion solution consisting of photosensitive silver halide grains, aliphatic carboxylic acid silver salt grains, and a solvent immediately before coating, and the liquid coating method depends on the stagnation time. Photographic performance fluctuation is small and may be preferable.

(添加層・添加量)
本発明に用いられる銀イオン還元剤は脂肪族カルボン酸銀塩を含有する感光性層(画像形成層)に含有させることが好ましいが、隣接する非画像形成層に含有させてもよい。
(Addition layer / addition amount)
The silver ion reducing agent used in the present invention is preferably contained in a photosensitive layer (image forming layer) containing an aliphatic carboxylic acid silver salt, but may be contained in an adjacent non-image forming layer.

銀イオン還元剤の添加量は、脂肪族カルボン酸銀塩や還元剤の種類、その他の添加剤によって変化するが、一般的には、脂肪族カルボン酸銀塩1モル当たり0.05〜10モル、好ましくは0.1〜3モルが適当である。   The addition amount of the silver ion reducing agent varies depending on the type of the aliphatic carboxylic acid silver salt, the reducing agent, and other additives, but generally 0.05 to 10 mol per mol of the aliphatic carboxylic acid silver salt. Preferably, 0.1 to 3 mol is appropriate.

[バインダー樹脂]
銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光性層及び非感光性層に種々の目的でバインダー樹脂(以下、「バインダー」、単に「樹脂」とも略記する。)を含有させることができる。
[Binder resin]
In the silver salt photothermographic dry imaging material, a photosensitive resin and a non-photosensitive layer can contain a binder resin (hereinafter, also abbreviated as “binder” or simply “resin”) for various purposes.

本発明に係る感光性層に含まれるバインダー樹脂は、脂肪族カルボン酸銀塩、ハロゲン化銀粒子、銀イオン還元剤、その他の成分を担持し得る樹脂であり、好適に用いられるバインダーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリマーや合成ポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば特開2001−330918号の段落「0069」に記載のものが挙げられる。これらの内、特に好ましい例としてメタクリル酸アルキルエステル類、メタクリル酸芳香族エステル類、スチレン類等が挙げられる。この様な高分子化合物の中でも、アセタール基を持つ高分子化合物を用いることが好ましい。   The binder resin contained in the photosensitive layer according to the present invention is a resin that can carry an aliphatic carboxylic acid silver salt, silver halide grains, a silver ion reducing agent, and other components. Alternatively, it is translucent and generally colorless and includes natural polymers, synthetic polymers and copolymers, and other media for forming a film, such as those described in paragraph “0069” of JP-A No. 2001-330918. Among these, methacrylic acid alkyl esters, methacrylic acid aromatic esters, styrenes and the like are particularly preferred examples. Among such polymer compounds, a polymer compound having an acetal group is preferably used.

アセタール基を持つ高分子化合物でも、アセトアセタール構造を持つポリビニルアセタールであることがより好ましく、例えば米国特許2,358,836号、同3,003,879号、同2,828,204号、英国特許771,155号明細書等に示されるポリビニルアセタールを挙げることができる。本発明に好ましいバインダーはポリビニルアセタール類であり、特に好ましくはポリビニルブチラールであり、感光性層の主バインダーとして用いることが好ましい。ここで言う主バインダーとは、「感光性層の全バインダーの50質量%以上を上記ポリマーが占めている状態」を言う。従って、全バインダーの50質量%未満の範囲で他のポリマーをブレンドして用いてもよい。   Even a high molecular compound having an acetal group is more preferably a polyvinyl acetal having an acetoacetal structure, for example, U.S. Pat. Nos. 2,358,836, 3,003,879, 2,828,204, UK The polyvinyl acetal shown by patent 771,155 specification etc. can be mentioned. Preferred binders for the present invention are polyvinyl acetals, particularly preferably polyvinyl butyral, and is preferably used as the main binder of the photosensitive layer. The main binder mentioned here means “a state in which the polymer occupies 50% by mass or more of the total binder of the photosensitive layer”. Therefore, other polymers may be blended and used within a range of less than 50% by weight of the total binder.

(重合度)
本発明では、バインダー樹脂の重合度は700〜3000が好ましく、より好ましくは1000〜3000の重合度である。700未満であると感光層の強度が劣り、3000を超えると分散性や塗布性が劣る。とりわけ、重合度が1000〜3000であるポリビニルアセタール樹脂であることにより、低カブリでありながら、短時間の熱現像でも高い最高濃度が得られると共に、保存時のカブリ上昇が殆どなくなるという効果が発揮される。
(Degree of polymerization)
In the present invention, the degree of polymerization of the binder resin is preferably 700 to 3000, more preferably 1000 to 3000. When it is less than 700, the strength of the photosensitive layer is inferior, and when it exceeds 3000, dispersibility and applicability are poor. In particular, the polyvinyl acetal resin having a degree of polymerization of 1000 to 3000 has the effect that low fog and high maximum density can be obtained even in short-time heat development, and there is almost no increase in fog during storage. Is done.

(残存アセチル基量)
上記ポリビニルアセタール樹脂は、残存アセチル基量が25モル%以下であることが好ましい。残存アセチル基量が25モル%を超えると銀塩光熱写真ドライイメージング材料同士のくっつき(ブロッキング)が生じたり、画像の鮮鋭性が劣化したりすることがある。より好ましくは15モル%以下である。
(Residual acetyl group content)
The polyvinyl acetal resin preferably has a residual acetyl group content of 25 mol% or less. If the amount of residual acetyl groups exceeds 25 mol%, silver salt photothermographic dry imaging materials may stick to each other (blocking) or the sharpness of the image may deteriorate. More preferably, it is 15 mol% or less.

(残存水酸基量)
上記ポリビニルアセタール樹脂は、残存水酸基量が15〜35モル%であることが好ましい。このような範囲でれば、脂肪族カルボン酸銀塩の分散性が良好で、感度が維持される。また、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の含水量が良好なレベルで維持され、カブリの劣化や保存安定性が悪化したりすることない。より好ましくは、15〜25モル%である。
(Residual hydroxyl group content)
The polyvinyl acetal resin preferably has a residual hydroxyl group content of 15 to 35 mol%. Within such a range, the dispersibility of the aliphatic carboxylic acid silver salt is good and the sensitivity is maintained. In addition, the water content of the silver salt photothermographic dry imaging material is maintained at a good level, and the fog and storage stability are not deteriorated. More preferably, it is 15-25 mol%.

(ガラス転移温度)
バインダー樹脂のガラス転移温度(Tg)について述べる。バインダー樹脂のTgは各層の内部における熱的相転移温度の目安となる値であり、Tgが低すぎると保存時の素材の拡散による写真性能の変動や、熱現像後の濃度変化を促進してしまうため好ましくない。又、Tgが高すぎると乾燥温度や熱現像温度のような高温での樹脂流動性が適性化できず、乾燥時には塗布液溶媒の乾燥速度の低下、熱現像時には画像形成に必要な素材の拡散速度の低下を招くため好ましくない。以上より、本発明に係る感光性層のバインダー樹脂のTgは65〜95℃であることが好ましい。Tgが適性化されることにより、画像形成において十分なカブリ濃度、最高濃度を得ることが出来る点で好ましい。
(Glass-transition temperature)
The glass transition temperature (T g ) of the binder resin will be described. T g of the binder resin is a value which is a measure of the thermal phase transition temperature in the interior of each layer, the variation and the photographic properties due to diffusion of the material during storage and T g is too low, the concentration change after heat development accelerator This is not preferable. Moreover, not possible suitability of the resin fluidity at high temperatures, such as the drying temperature and the heat development temperature T g is too high, reduction in the drying rate of the coating liquid solvent at the time of drying, during thermal development of the material needed for imaging This is not preferable because it causes a decrease in the diffusion rate. From the above, T g of the binder resin in the photosensitive layer according to the present invention is preferably 65 to 95 ° C.. By T g is suitability of sufficient fog density in the image formation is preferable in that it is possible to obtain a maximum density.

上塗り層や下塗り層、特に保護層やバックコート層等の非画像形成層(非感光性層)に対しては、より軟化温度の高いポリマーであるセルロースエステル類、特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等のポリマーが好ましい。尚、必要に応じて、上記のように2種以上のバインダー樹脂を組み合わせて用い得る。   For non-image forming layers (non-photosensitive layers) such as overcoat layers and undercoat layers, especially protective layers and backcoat layers, cellulose esters that are polymers with higher softening temperatures, especially triacetyl cellulose, cellulose acetate butyrate Polymers such as rate are preferred. If necessary, two or more binder resins may be used in combination as described above.

(添加量)
これらのバインダー樹脂は、各層の要素を固定するバインダーとして機能するのに効果的な範囲で用いられる。効果的な範囲は当業者が容易に決定し得る。例えば、感光性層において少なくとも脂肪族カルボン酸銀塩を保持する場合の指標としては、バインダーと脂肪族カルボン酸銀塩との割合は15:1〜1:2(質量比)が好ましく、特に8:1〜1:1の範囲が好ましい。即ち、感光性層のバインダー量が1.5〜6g/m2であることが好ましく、更に好ましくは1.7〜5g/m2である。1.5g/m2未満では未露光部の濃度が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。
(Addition amount)
These binder resins are used in an effective range to function as a binder for fixing the elements of each layer. The effective range can be easily determined by one skilled in the art. For example, as an index for holding at least an aliphatic carboxylic acid silver salt in the photosensitive layer, the ratio of the binder to the aliphatic carboxylic acid silver salt is preferably 15: 1 to 1: 2 (mass ratio), particularly 8 : The range of 1-1: 1 is preferable. That is, it is preferable that the binder amount of the photosensitive layer is a 1.5~6g / m 2, more preferably from 1.7~5g / m 2. If it is less than 1.5 g / m 2 , the density of the unexposed area is significantly increased and may not be used.

[架橋剤]
感光性層には、バインダー同士を橋架け結合によって繋ぐことができる架橋剤を含有させることができる。架橋剤を上記バインダーに対し用いることにより、膜付きが良くなり、現像ムラが少なくなることは知られているが、保存時のカブリ抑制や、熱現像後のプリントアウト銀の生成を抑制する効果もある。
[Crosslinking agent]
The photosensitive layer may contain a cross-linking agent that can link the binders together by bridging bonds. Although it is known that the use of a crosslinking agent for the binder improves film adhesion and development unevenness, it is known that fog is suppressed during storage and printout silver after heat development is suppressed. There is also.

用いられる架橋剤としては、従来、通常の写真感光材料用として使用されている種々の架橋剤、例えば特公昭53−293号公報に記載されるアルデヒド系、エポキシ系、エチレンイミン系、ビニルスルホン系、スルホン酸エステル系、アクリロイル系、カルボジイミド系、シラン化合物系架橋剤が用いられるが、好ましくは、以下に示すイソシアネート系、シラン化合物系、エポキシ系化合物又は酸無水物である。   As the crosslinking agent used, various crosslinking agents conventionally used for ordinary photographic light-sensitive materials, for example, aldehyde-based, epoxy-based, ethyleneimine-based, vinylsulfone-based as described in JP-B-53-293, are used. Sulfonic acid ester-based, acryloyl-based, carbodiimide-based, and silane compound-based cross-linking agents are used, and the following isocyanate-based, silane compound-based, epoxy-based compounds, and acid anhydrides are preferable.

(添加量・添加層・添加方法)
架橋剤は1種のみを用いても2種以上を併用してもよい。その添加量は特に制限はないが、1×10-6〜5×10-2モル/m2の範囲が好ましく、より好ましくは1×10-5〜5×10-3モル/m2の範囲である。又、含まれる構成層のバインダー100質量部に対して0.5〜200質量部であることが好ましく、2〜100質量部がより好ましく、更には3〜50質量部が特に好ましい。
(Addition amount / addition layer / addition method)
A crosslinking agent may use only 1 type or may use 2 or more types together. The addition amount is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 × 10 −6 to 5 × 10 −2 mol / m 2 , more preferably in the range of 1 × 10 −5 to 5 × 10 −3 mol / m 2 . It is. Moreover, it is preferable that it is 0.5-200 mass parts with respect to 100 mass parts of binders of the component layer contained, 2-100 mass parts is more preferable, Furthermore, 3-50 mass parts is especially preferable.

架橋剤は銀塩光熱写真ドライイメージング材料のどの部分に含有されてもよい。例えば支持体中(特に支持体が紙の場合、そのサイズ組成中に含ませることができる)、画像形成層(感光性層)、表面保護層、中間層、アンチハレーション層、下引き層等の支持体の感光性層側の任意の層に添加でき、これらの層の中の1層又は2層以上に添加することができる。画像形成層に添加した場合、架橋反応の進行と現像性の低下を伴う場合は、画像形成層よりも支持体に近い層により多く添加することで現像性を損なうことなく、膜付(接着性)、現像ムラを改良することができる。   The cross-linking agent may be contained in any part of the silver salt photothermographic dry imaging material. For example, in the support (especially when the support is paper, it can be included in the size composition), image forming layer (photosensitive layer), surface protective layer, intermediate layer, antihalation layer, subbing layer, etc. It can be added to any layer on the photosensitive layer side of the support, and can be added to one or more of these layers. When added to the image forming layer, if accompanied by the progress of the crosslinking reaction and the decrease in developability, adding more to the layer closer to the support than the image forming layer, without impairing the developability, with film (adhesiveness) ), Development unevenness can be improved.

本発明に用いられる架橋剤は、バインダー溶液に予め混合した状態で添加してもよく、又、塗布液の調製過程の最後に添加されてもよく、あるいは塗布する直前に添加することもできる。   The cross-linking agent used in the present invention may be added in a state of being premixed in the binder solution, may be added at the end of the preparation process of the coating solution, or may be added immediately before coating.

(イソシアネート系架橋剤)
イソシアネート系架橋剤は、イソシアネート基を少なくとも2個有しているイソシアネート類及びその付加体(アダクト体)であり、具体的には脂肪族ジイソシアネート類、環状基を有する脂肪族ジイソシアネート類、ベンゼンジイソシアネート類、ナフタレンジイソシアネート類、ビフェニルジイソシアネート類、ジフェニルメタンジイソシアネート類、トリフェニルメタンジイソシアネート類、トリイソシアネート類、テトライソシアネート類、これらのイソシアネート類の付加体及びこれらのイソシアネート類と2又は3価のポリアルコール類との付加体等が挙げられる。具体例として、特公昭59−44500号公報に記載されるイソシアネート化合物を利用することができる。
(Isocyanate-based crosslinking agent)
Isocyanate-based crosslinking agents are isocyanates having at least two isocyanate groups and adducts thereof (adducts), specifically, aliphatic diisocyanates, aliphatic diisocyanates having a cyclic group, and benzene diisocyanates. , Naphthalene diisocyanates, biphenyl diisocyanates, diphenylmethane diisocyanates, triphenylmethane diisocyanates, triisocyanates, tetraisocyanates, adducts of these isocyanates and diisocyanates with di- or trivalent polyalcohols Examples include adducts. As a specific example, an isocyanate compound described in JP-B-59-44500 can be used.

尚、イソシアネートとポリアルコールの付加体は、特に層間接着を良くし、層の剥離や画像のズレ及び気泡の発生を防止する能力が高い。   In addition, the adduct of isocyanate and polyalcohol has particularly high ability to improve interlayer adhesion and prevent layer peeling, image shift and bubble generation.

本発明において含有させることができるイソシアネート化合物及びチオイソシアネート化合物は、上記の架橋剤として機能する化合物であることが好ましいが、当該官能基を1個のみ有する化合物であっても良い結果が得られる。   The isocyanate compound and thioisocyanate compound that can be contained in the present invention are preferably compounds that function as the above-mentioned crosslinking agent, but a good result can be obtained even if the compound has only one functional group.

架橋剤として使用できるシラン化合物の例としては、特開2001−264930号公報に開示されている一般式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the silane compound that can be used as the crosslinking agent include compounds represented by general formulas (1) to (3) disclosed in JP-A No. 2001-264930.

架橋剤として使用できるエポキシ化合物としては、エポキシ基を1個以上有するものであればよく、エポキシ基の数、分子量、その他に制限はない。エポキシ基はエーテル結合やイミノ結合を介してグリシジル基として分子内に含有されることが好ましい。又、エポキシ化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマー等の何れであってもよく、分子内に存在するエポキシ基の数は通常1〜10個程度、好ましくは2〜4個である。エポキシ化合物がポリマーである場合は、ホモポリマー、コポリマーの何れでもよく、その数平均分子量Mnの特に好ましい範囲は2,000〜20,000程度である。   The epoxy compound that can be used as a crosslinking agent is not particularly limited as long as it has one or more epoxy groups and the number of epoxy groups, molecular weight, and the like. The epoxy group is preferably contained in the molecule as a glycidyl group via an ether bond or an imino bond. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer, a polymer, etc., and the number of epoxy groups present in the molecule is usually about 1 to 10, preferably 2 to 4. When the epoxy compound is a polymer, it may be either a homopolymer or a copolymer, and the number average molecular weight Mn is particularly preferably in the range of about 2,000 to 20,000.

その他、本発明に用いられる架橋剤としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基と反応できるものであれば好ましく用いることができ、例として、酸無水物、オキサゾリン化合物、カルボジイミド化合物などがある。   In addition, as the crosslinking agent used in the present invention, any crosslinking agent that can react with a hydroxyl group or a carboxyl group can be preferably used. Examples thereof include an acid anhydride, an oxazoline compound, and a carbodiimide compound.

[化学増感、分光増感、強色増感]
感光性ハロゲン化銀粒子には化学増感を施すことができる。例えば特開2001−249428号及び同2001−249426号に記載される方法等により、硫黄、セレン、テルル等のカルコゲンを放出する化合物や金イオンなどの貴金属イオンを放出する貴金属化合物の利用により、感光性ハロゲン化銀粒子又は当該粒子上の分光増感色素の光励起によって生じた電子又は正孔(ホール)を捕獲することができる化学増感中心(化学増感核)を形成付与できる。特に、カルコゲン原子を含有する有機増感剤により化学増感されているのが好ましい。
[Chemical sensitization, spectral sensitization, supersensitization]
The photosensitive silver halide grains can be chemically sensitized. For example, by a method described in JP-A Nos. 2001-249428 and 2001-249426, a compound that releases chalcogen such as sulfur, selenium, and tellurium, and a noble metal compound that releases noble metal ions such as gold ions can be used for photosensitivity. It is possible to form and impart a chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) capable of capturing electrons or holes generated by photoexcitation of the light-sensitive silver halide grains or the spectral sensitizing dye on the grains. In particular, it is preferably chemically sensitized with an organic sensitizer containing a chalcogen atom.

これらカルコゲン原子を含有する有機増感剤は、ハロゲン化銀粒子へ吸着可能な基と不安定カルコゲン原子部位を有する化合物であることが好ましい。これらの有機増感剤としては、特公平5−18091号、特開平4−109240号、同11−218874号、同11−218875号、同11−218876号、同11−194447号公報等に開示される種々の構造を有する有機増感剤を用いることができるが、それらの内、カルコゲン原子が炭素原子又は燐原子と二重結合で結ばれている構造を有する化合物の少なくとも1種であることが好ましい。特に、複素環基を有するチオ尿素誘導体及びトリフェニルホスフィンサルファイド誘導体等が好ましい。化学増感を施す方法としては、従来の湿式処理用のハロゲン化銀感光材料の製造の際に慣用されている種々の化学増感技術に準じた技術が使用できる(T.H.James編“The Theory of the Photographic Process”第4版,Macmillan Publishing Co.,Ltd.(1977)、日本写真学会編“写真工学の基礎(銀塩写真編)”コロナ社(1979)参照)。特に、ハロゲン化銀粒子乳剤に予め化学増感を施し、その後に非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子と混合する場合には、従来の慣用方法により化学増感を施すことができる。   These organic sensitizers containing chalcogen atoms are preferably compounds having groups capable of being adsorbed on silver halide grains and unstable chalcogen atom sites. These organic sensitizers are disclosed in JP-B-5-18091, JP-A-4-109240, JP-A-11-218874, JP-A-11-218875, JP-A-11-218876, JP-A-11-194447, and the like. Organic sensitizers having various structures can be used, and of these, at least one compound having a structure in which a chalcogen atom is bonded to a carbon atom or a phosphorus atom by a double bond Is preferred. In particular, a thiourea derivative having a heterocyclic group and a triphenylphosphine sulfide derivative are preferred. As a method for performing chemical sensitization, techniques according to various chemical sensitization techniques conventionally used in the production of conventional silver halide light-sensitive materials for wet processing can be used (edited by TH James “ The Theory of the Photographic Process, 4th edition, McCillall Publishing Publishing Co., Ltd. (1977), edited by the Japan Photography Society, “Basics of Photographic Engineering (Silver Salt Photography)” Corona (1979)). In particular, when the silver halide grain emulsion is previously chemically sensitized and then mixed with non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt grains, it can be chemically sensitized by a conventional method.

有機増感剤としてのカルコゲン化合物の使用量は、使用するカルコゲン化合物、ハロゲン化銀粒子、化学増感を施す際の反応環境などにより変わるが、ハロゲン化銀1モル当たり、10-8〜10-2モルが好ましく、より好ましくは10-7〜10-3モルを用いる。 The amount of the chalcogen compound used as the organic sensitizer varies depending on the chalcogen compound used, silver halide grains, reaction environment for chemical sensitization, etc., but is 10 −8 to 10 per mol of silver halide. 2 mol is preferred, more preferably 10 −7 to 10 −3 mol.

化学増感を施す際の環境条件としては特に制限はないが、感光性ハロゲン化銀粒子上のカルコゲン化銀又は銀核を消滅あるいは、それらの大きさを減少させ得る化合物の存在下において、又、特に銀核を酸化し得る酸化剤の共存下において、カルコゲン原子を含有する有機増感剤を用いてカルコゲン増感を施すことが好ましい場合がある。この場合の増感条件は、pAgとしては6〜11が好ましく、より好ましくは7〜10であり、pHは4〜10が好ましく、より好ましくは5〜8、又、温度としては30℃以下で増感を施すことが好ましい。   There are no particular restrictions on the environmental conditions for chemical sensitization, but in the presence of a compound capable of eliminating or reducing the size of silver chalcogenide or silver nuclei on the photosensitive silver halide grains. In particular, it may be preferable to perform chalcogen sensitization using an organic sensitizer containing a chalcogen atom in the presence of an oxidizing agent capable of oxidizing silver nuclei. The sensitizing conditions in this case are preferably 6 to 11 as pAg, more preferably 7 to 10, pH 4 to 10 is more preferable, 5 to 8 is more preferable, and temperature is 30 ° C. or less. It is preferable to perform sensitization.

これらの有機増感剤を用いた化学増感は、分光増感色素又はハロゲン化銀粒子に対して吸着性を有するヘテロ原子含有化合物の存在下で行われることが好ましい。ハロゲン化銀粒子に吸着性を有する化合物の存在下で化学増感を行うことで、化学増感中心核の分散化を防ぐことができ、高感度、低カブリを達成できる。分光増感色素については後述するが、ハロゲン化銀粒子に吸着性を有するヘテロ原子含有化合物としては、特開平3−24537号に記載されている含窒素複素環化合物が好ましい例として挙げられる。含窒素複素環化合物において、複素環としては、例えばピラゾール、ピリミジン、1,2,4−トリアゾール、1,2,3−トリアゾール、1,3,4−チアジアゾール、1,2,3−チアジアゾール、1,2,4−チアジアゾール、1,2,5−チアジアゾール、1,2,3,4−テトラゾール、ピリダジン、1,2,3−トリアジン環、これらの環が2〜3個結合した環、例えばトリアゾロトリアゾール、ジアザインデン、トリアザインデン、ペンタザインデン環などを挙げることができる。単環の複素環と芳香族環の縮合した複素環、例えばフタラジン、ベンズイミダゾール、インダゾール、ベンズチアゾール環なども適用できる。   Chemical sensitization using these organic sensitizers is preferably carried out in the presence of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to spectral sensitizing dyes or silver halide grains. By performing chemical sensitization in the presence of a compound having adsorptivity to silver halide grains, dispersion of the chemically sensitized central core can be prevented, and high sensitivity and low fog can be achieved. Although a spectral sensitizing dye will be described later, a nitrogen-containing heterocyclic compound described in JP-A-3-24537 is a preferred example of a heteroatom-containing compound having adsorptivity to silver halide grains. In the nitrogen-containing heterocyclic compound, examples of the heterocyclic ring include pyrazole, pyrimidine, 1,2,4-triazole, 1,2,3-triazole, 1,3,4-thiadiazole, 1,2,3-thiadiazole, 1 , 2,4-thiadiazole, 1,2,5-thiadiazole, 1,2,3,4-tetrazole, pyridazine, 1,2,3-triazine ring, a ring in which two or three of these rings are bonded, for example, tria Examples include zolotriazole, diazaindene, triazaindene, pentazaindene ring and the like. A heterocyclic ring in which a monocyclic heterocyclic ring and an aromatic ring are condensed, for example, phthalazine, benzimidazole, indazole, benzthiazole ring and the like can also be applied.

これらの中で好ましいのはアザインデン環であり、かつ置換基としてヒドロキシル基を有するアザインデン化合物、例えばヒドロキシトリアザインデン、テトラヒドロキシアザインデン、ヒドロキシペンタザインデン化合物等が更に好ましい。   Among these, an azaindene ring is preferable, and an azaindene compound having a hydroxyl group as a substituent, such as a hydroxytriazaindene, tetrahydroxyazaindene, hydroxypentazaindene compound, or the like is more preferable.

複素環にはヒドロキシル基以外の置換基を有してもよい。該置換基としては、例えばアルキル基、置換アルキル基、アルキルチオ基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、シアノ基などを有してもよい。   The heterocyclic ring may have a substituent other than the hydroxyl group. Examples of the substituent include an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkylthio group, an amino group, a hydroxyamino group, an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, and a cyano group. You may have.

これら含窒素複素環化合物の添加量は、ハロゲン化銀粒子の粒径や組成、その他の条件等に応じて広い範囲に亘って変化するが、大凡の量はハロゲン化銀1モル当たり10-6〜1モルの範囲であり、好ましくは10-4〜10-1モルの範囲である。 The addition amount of these nitrogen-containing heterocyclic compounds varies over a wide range depending on the grain size, composition, and other conditions of the silver halide grains, but the approximate amount is 10 -6 per mole of silver halide. It is in the range of ˜1 mol, preferably in the range of 10 −4 to 10 −1 mol.

感光性ハロゲン化銀粒子には、金イオン等の貴金属イオンを放出する化合物を利用して貴金属増感を施すことができる。例えば金増感剤として、塩化金酸塩や有機金化合物が利用できる。尚、特開平11−194447号に開示される金増感技術が参考となる。   The photosensitive silver halide grains can be subjected to noble metal sensitization using a compound that releases noble metal ions such as gold ions. For example, a chloroaurate or an organic gold compound can be used as a gold sensitizer. The gold sensitization technique disclosed in JP-A-11-194447 is useful as a reference.

又、上記の増感法の他、還元増感法等も用いることができ、還元増感の貝体的な化合物として、アスコルビン酸、二酸化チオ尿素、塩化第一錫、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができる。又、乳剤のpHを7以上又はpAgを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感することができる。   In addition to the above sensitization methods, reduction sensitization methods and the like can also be used, and as a shell-like compound for reduction sensitization, ascorbic acid, thiourea dioxide, stannous chloride, hydrazine derivatives, borane compounds, Silane compounds, polyamine compounds, and the like can be used. Further, reduction sensitization can be performed by ripening the emulsion while maintaining the pH at 7 or higher or the pAg at 8.3 or lower.

本発明において、化学増感を施されるハロゲン化銀粒子は、当該脂肪族カルボン酸銀塩の存在しない条件下で形成されたものが好ましいが、肪族カルボン酸銀塩の存在下で形成されたものが併用されてもよい。   In the present invention, the silver halide grains subjected to chemical sensitization are preferably formed under the condition where the aliphatic carboxylic acid silver salt is not present, but are formed in the presence of the aliphatic carboxylic acid silver salt. May be used in combination.

感光性ハロゲン化銀粒子の表面に化学増感を施した場合においては、熱現像過程経過後に該化学増感の効果が実質的に消失することが好ましい。ここで、化学増感の効果が実質的に消失するとは、前記の化学増感技術によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像過程経過後に化学増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。尚、化学増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、化学増感中心(化学増感核)を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば後述するハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の感光性層又は/及び非感光性層に含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、化学増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。   When the surface of the photosensitive silver halide grain is chemically sensitized, it is preferable that the effect of the chemical sensitization substantially disappears after the thermal development process. Here, the chemical sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained by the chemical sensitization technique is 1.1 when the chemical sensitization is not performed after the thermal development process. Say to decrease to less than double. In order to eliminate the chemical sensitization effect in the thermal development process, an oxidant capable of destroying the chemical sensitization center (chemical sensitization nucleus) by an oxidation reaction at the time of thermal development, such as a halogen radical releasing compound described later, etc. It is necessary that an appropriate amount is contained in the photosensitive layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the chemical sensitization effect and the like.

感光性ハロゲン化銀粒子には、分光増感色素を吸着させ分光増感を施すことが好ましい。分光増感色素としてシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。例えば特公平5−42657号、特開昭60−140335号、同63−231437号、同63−259651号、同63−304242号、同63−15245号、米国特許4,639,414号、同4,740,455号、同4,741,966号、同4,751,175号、同4,835,096号明細書等に記載された増感色素が使用できる。   The photosensitive silver halide grain is preferably subjected to spectral sensitization by adsorbing a spectral sensitizing dye. As spectral sensitizing dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, complex cyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, styryl dyes, hemicyanine dyes, oxonol dyes, hemioxonol dyes, and the like can be used. For example, JP-B-5-42657, JP-A-60-140335, 63-231437, 63-259651, 63-304242, 63-15245, U.S. Pat. No. 4,639,414, No. 4,740,455, 4,741,966, 4,751,175, 4,835,096, and the like can be used.

本発明に使用される有用な増感色素は、例えばリサーチ・ディスクロージャー(以下、RDと略す)17643IV−A項(1978年12月23頁)、RD18431X項(1978年8月437頁)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に、各種レーザーイメージャーやスキャナーの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を用いるのが好ましい。例えば、特開平9−34078号、同9−54409号、同9−80679号に記載の化合物が好ましく用いられる。   Useful sensitizing dyes used in the present invention are described in, for example, Research Disclosure (hereinafter abbreviated as RD) 17643IV-A (December 23, 1978), RD18431X (August 1978, 437) or It is described in the cited literature. In particular, it is preferable to use a sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of various laser imagers and scanner light sources. For example, compounds described in JP-A Nos. 9-34078, 9-54409, and 9-80679 are preferably used.

有用なシアニン色素は、例えばチアゾリン核、オキサゾリン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核及びイミダゾール核などの塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシアニン色素で好ましいものは、上記の塩基性核に加えて、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、チアゾリノン核、マロノニトリル核及びピラゾロン核などの酸性核も含む。   Useful cyanine dyes are cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nucleus, oxazoline nucleus, pyrroline nucleus, pyridine nucleus, oxazole nucleus, thiazole nucleus, selenazole nucleus and imidazole nucleus. Useful merocyanine dyes are preferably acidic nuclei such as thiohydantoin nucleus, rhodanine nucleus, oxazolidinedione nucleus, thiazolinedione nucleus, barbituric acid nucleus, thiazolinone nucleus, malononitrile nucleus and pyrazolone nucleus in addition to the above basic nucleus. Including.

本発明においては、特に赤外に分光感度を有する増感色素を用いることもできる。好ましく用いられる赤外分光増感色素としては、例えば米国特許4,536,473号、同4,515,888号、同4,959,294号等に開示される赤外分光増感色素が挙げられる。   In the present invention, a sensitizing dye having spectral sensitivity particularly in the infrared can also be used. Examples of infrared spectral sensitizing dyes preferably used include infrared spectral sensitizing dyes disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,536,473, 4,515,888, and 4,959,294. It is done.

本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、特開2004−309758号に記載されているような下記一般式(SD1)で表される増感色素及び下記一般式(SD2)で表される増感色素の中から少なくとも1種を選び含有することが好ましい。   The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is represented by the following general formula (SD1) and the following general formula (SD2) as described in JP-A No. 2004-309758. It is preferable to contain at least one selected from sensitizing dyes.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

式中、Y1及びY2は各々、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又は−CH=CH−基を表し、L1〜L9は各々メチン基を表す。R1及びR2は各々、脂肪族基を表す。R3及びR4は各々、低級アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基又は複素環基を表す。W1、W2、W3、W4は各々、水素原子、置換基、あるいはW1とW2、W3とW4の間で結合して縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。あるいはR3とW1、R3とW2、R4とW3、R4とW4の間で結合して5又は6員の縮合環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。X1は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンを表し、k1は分子内の電荷を相殺するに必要なイオンの数を表す。m11は0又は1を表し、n11及びn12は各々0、1又は2を表す。ただし、n11とn12は同時に0とはならない。 In the formula, Y 1 and Y 2 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom or a —CH═CH— group, and L 1 to L 9 each represent a methine group. R 1 and R 2 each represents an aliphatic group. R 3 and R 4 each represent a lower alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. W 1 , W 2 , W 3 , and W 4 are each a hydrogen atom, a substituent, or a nonmetallic atom necessary for bonding between W 1 and W 2 , W 3 and W 4 to form a condensed ring. Represents a group. Alternatively, R 3 and W 1 , R 3 and W 2 , R 4 and W 3 , R 4 and W 4 are bonded to form a 5- or 6-membered condensed ring, and a nonmetallic atom group is necessary. . X 1 represents an ion necessary for canceling the charge in the molecule, and k 1 represents the number of ions necessary for canceling the charge in the molecule. m11 represents 0 or 1, and n11 and n12 each represents 0, 1 or 2. However, n11 and n12 are not 0 at the same time.

上記の赤外増感色素は、例えばエフ・エム・ハーマー著:The Chemistry of Heterocyclic Compounds,Vol.18,The Cyanine Dyes and Related Compounds (A.Weissberger Ed.Interscience,New York(1964))に記載の方法によって容易に合成することができる。   The above-mentioned infrared sensitizing dyes are described, for example, by HM Hammer: The Chemistry of Heterocyclic Compounds, Vol. 18, The Cyanine Dies and Related Compounds (A. Weissberger Ed. Interscience, New York (1964)).

これらの赤外増感色素の添加時期はハロゲン化銀粒子調製後の任意の時期でよく、例えば溶剤に添加して、あるいは微粒子状に分散した、いわゆる固体分散状態でハロゲン化銀粒子あるいはハロゲン化銀粒子/脂肪族カルボン酸銀塩粒子を含有する感光性乳剤に添加できる。又、前記のハロゲン化銀粒子に対し吸着性を有するヘテロ原子含有化合物と同様に、化学増感に先立ってハロゲン化銀粒子に添加し吸着させた後、化学増感を施すこともでき、これにより化学増感核の分散化を防ぐことが出来、高感度、低カブリを達成できる。   These infrared sensitizing dyes may be added at any time after the silver halide grains are prepared. For example, they are added to a solvent or dispersed in the form of fine particles, so-called silver halide grains or halogenated grains in a so-called solid dispersion state. It can be added to a photosensitive emulsion containing silver particles / silver aliphatic carboxylic acid salt particles. Similarly to the heteroatom-containing compound having adsorptivity to the silver halide grains, chemical sensitization can be performed after adding and adsorbing to the silver halide grains prior to chemical sensitization. Can prevent dispersion of chemically sensitized nuclei, and can achieve high sensitivity and low fog.

上記の分光増感色素は1種類を単独に用いてもよいが、上述のように、分光増感色素の複数の種類の組合せを用いることが好ましく、そのような増感色素の組合せは、特に強色増感及び感光波長領域の拡大や調整等の目的でしばしば用いられる。   The above spectral sensitizing dyes may be used alone, but as described above, it is preferable to use a combination of a plurality of types of spectral sensitizing dyes. Often used for purposes such as supersensitization and expansion or adjustment of the photosensitive wavelength region.

銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いられる感光性ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する乳剤は、増感色素と共に、それ自身分光増感作用を持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感効果を発現する物質を乳剤中に含ませ、これによりハロゲン化銀粒子が強色増感されてもよい。   Emulsions containing photosensitive silver halide grains and aliphatic carboxylic acid silver salts used in silver salt photothermographic dry imaging materials, together with sensitizing dyes, are substantially free of spectral sensitizing dyes or visible light. In the emulsion, a substance that does not absorb light and exhibits a supersensitizing effect may be included in the emulsion, whereby the silver halide grains may be supersensitized.

有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質は、RD17643(1978年12月発行),23頁IVのJ項、あるいは特公平9−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号、特開平5−341432号公報等に記載されるが、強色増感剤としては、下記で表される複素芳香族メルカプト化合物又はメルカプト誘導体化合物が好ましい。   Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in RD17643 (issued in December, 1978), Section J, page 23, or Japanese Patent Publication No. 9-25500. 43-4933, JP-A-59-19032, JP-A-59-192242, JP-A-5-341432, and the like. Examples of supersensitizers include heteroaromatic mercapto represented by the following. A compound or a mercapto derivative compound is preferred.

Ar−SM
式中、Mは水素原子又はアルカリ金属原子であり、Arは1個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウム、又はテルリウム原子を有する芳香環又は縮合芳香環である。複素芳香環として好ましくは、ベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテルラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ピリジン、プリン、キノリン、又はキナゾリンであるが、他の複素芳香環でもよい。
Ar-SM
In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium, or tellurium atoms. The heteroaromatic ring is preferably benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzotelrazole, imidazole, oxazole, pyrazole, triazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine , Purines, quinolines, or quinazolines, but may be other heteroaromatic rings.

尚、脂肪族カルボン酸銀塩又はハロゲン化銀粒子乳剤の分散物中に含有させた時に実質的に上記のメルカプト化合物を生成するメルカプト誘導体化合物も含まれる。特に下記で表されるメルカプト誘導体化合物が、好ましい例として挙げられる。   In addition, a mercapto derivative compound which substantially forms the above mercapto compound when contained in a dispersion of an aliphatic carboxylic acid silver salt or a silver halide grain emulsion is also included. In particular, mercapto derivative compounds represented below are preferred examples.

Ar−S−S−Ar
式中、Arは上記で表されたメルカプト化合物の場合と同義である。
Ar-SS-Ar
In the formula, Ar has the same meaning as in the case of the mercapto compound represented above.

上記の複素芳香環は、例えばハロゲン原子(塩素、臭素、沃素)、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、アルキル基(炭素数1個以上、好ましくは炭素数1〜4個を有するもの)及びアルコキシ基(炭素数1個以上、好ましくは炭素数1〜4個を有するもの)から成る群から選ばれる置換基を有し得る。   The heteroaromatic ring includes, for example, a halogen atom (chlorine, bromine, iodine), a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, an alkyl group (having one or more carbon atoms, preferably one having 1 to 4 carbon atoms) and alkoxy. It may have a substituent selected from the group consisting of a group (having one or more carbon atoms, preferably one having 1 to 4 carbon atoms).

上記の強色増感剤の他に、特開2001−330918号に開示されるヘテロ原子を有する大環状化合物も強色増感剤として使用できる。   In addition to the above supersensitizers, macrocycles having heteroatoms disclosed in JP-A-2001-330918 can also be used as supersensitizers.

強色増感剤は、脂肪族カルボン酸銀塩及びハロゲン化銀粒子を含む感光性層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルで用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀1モル当たり0.01〜0.5モルである。   The supersensitizer is preferably used in an amount of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in the photosensitive layer containing the aliphatic carboxylic acid silver salt and silver halide grains. Most preferably, it is 0.01-0.5 mol per 1 mol of silver.

本発明においては、感光性ハロゲン化銀粒子の表面に分光増感色素を吸着せしめ分光増感が施されており、かつ熱現像過程経過後に該分光増感効果が実質的に消失することが好ましい。ここで、分光増感効果が実質的に消失するとは、増感色素、強色増感剤等によって得た当該イメージング材料の感度が熱現像経過後に分光増感を施していない場合の感度の1.1倍以下に減少することを言う。   In the present invention, it is preferable that spectral sensitization is performed by adsorbing a spectral sensitizing dye on the surface of photosensitive silver halide grains, and that the spectral sensitization effect substantially disappears after the thermal development process. . Here, the spectral sensitization effect substantially disappears when the sensitivity of the imaging material obtained with a sensitizing dye, supersensitizer, etc. is 1 when the spectral sensitization is not performed after the thermal development. It means to decrease to 1 times or less.

尚、分光増感効果を熱現像過程において消失させるためには、熱現像時に、熱によってハロゲン化銀粒子より脱離し易い分光増感色素を使用する又は/及び分光増感色素を酸化反応によって破壊できる酸化剤、例えば後述するハロゲンラジカル放出性化合物等の適当量を当該イメージング材料の乳剤層又は/及び非感光性層に含有させておくことが必要である。当該酸化剤の含有量については、酸化剤の酸化力、分光増感効果の減少幅等を考慮して調整することが好ましい。   In order to eliminate the spectral sensitization effect in the thermal development process, a spectral sensitizing dye that is easily detached from the silver halide grains by heat is used during thermal development or / and the spectral sensitizing dye is destroyed by an oxidation reaction. It is necessary to contain an appropriate amount of an oxidizing agent that can be formed, for example, a halogen radical releasing compound described later, in the emulsion layer and / or the non-photosensitive layer of the imaging material. The content of the oxidizing agent is preferably adjusted in consideration of the oxidizing power of the oxidizing agent, the reduction range of the spectral sensitization effect, and the like.

[色調調整剤]
次に、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像処理して得られる画像の色調について述べる。
[Color tone adjuster]
Next, the color tone of an image obtained by thermally developing a silver salt photothermographic dry imaging material will be described.

従来のレントゲン写真フィルムのような医療診断用の出力画像の色調に関しては、冷調の画像調子の方が、判読者にとってより的確な診断観察結果が得易いと言われている。ここで冷調な画像調子とは、純黒調もしくは黒画像が青味を帯びた青黒調であることを言う。一方、温調な画像調子とは、黒画像が褐色味を帯びた温黒調であると言われているが、より厳密に定量的な議論ができるように、以下、国際照明委員会(CIE)の推奨する表現法に基づき説明する。   Regarding the color tone of an output image for medical diagnosis such as a conventional X-ray photographic film, it is said that a cold tone image tone is easier for a reader to obtain a more accurate diagnostic observation result. Here, the cool image tone means a pure black tone or a bluish black tone of a black image. On the other hand, it is said that the warm image tone is a warm black tone with a brown image. For the sake of more precise quantitative discussion, the International Lighting Commission (CIE) ), Based on the recommended expression.

色調に関しての用語「より冷調」及び「より温調」は、最低濃度(Dmin)及び光学濃度1.0における色相角habにより表現できる。即ち、色相角habは、国際照明委員会(CIE)が1976年に推奨した知覚的にほぼ均等な歩度を持つ色空間であるL***色空間の色座標a*、b*を用いて次の式によって求める。 The terms “more cold” and “more warm” with respect to the color tone can be expressed by a hue angle hab at a minimum density (D min ) and an optical density of 1.0. That is, the hue angle hab is expressed by the color coordinates a * and b * of the color space L * a * b * color space, which is a color space having a perceptually uniform rate recommended by the International Commission on Illumination (CIE) in 1976. Using the following formula.

(式) hab=tan-1(b*/a*
上記色相角に基づく表現法により検討した結果、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の熱現像後の色調は、色相角habの範囲が180度<hab<270度であることが好ましく、更に好ましくは200度<hab<270度、最も好ましくは220度<hab<260度であることが判った。このことは、特開2002−6463号公報に開示されている。
(Formula) hab = tan −1 (b * / a * )
As a result of examination by the expression method based on the hue angle, the color tone after thermal development of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is preferably such that the range of the hue angle hab is 180 degrees <hab <270 degrees, It was found that preferably 200 degrees <hab <270 degrees, most preferably 220 degrees <hab <260 degrees. This is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-6463.

尚、従来、光学濃度1.0付近でのCIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間におけるu*、v*又はa*、b*を特定の数値に調整することにより、見た目の色調が好ましい診断画像が得られることが知られており、例えば特開2000−29164号に記載されている。 Conventionally, the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or the (L * a * b * ) color space near the optical density of 1.0 is specified as u * , v * or a * , b * . It is known that a diagnostic image having a favorable color tone can be obtained by adjusting the numerical value, and is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-29164.

しかしながら、銀塩光熱写真ドライイメージング材料について更に鋭意検討の結果、CIE 1976(L***)色空間又は(L***)色空間において横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に、様々な写真濃度でのu*、v*又はa*、b*をプロットし、線形回帰直線を作成した際に、その線形回帰直線を特定の範囲に調整することにより、従来の湿式の銀塩感光材料同等以上の診断性を持つことを見出した。以下に好ましい条件範囲について述べる。 However, as a result of further intensive studies on silver salt photothermographic dry imaging materials, the horizontal axis in the CIE 1976 (L * u * v * ) color space or (L * a * b * ) color space is u * or a * , When plotting u * , v * or a * , b * at various photographic densities on a graph with the axis as v * or b * and creating a linear regression line, the linear regression line is specified. It was found that by adjusting to the range, it has a diagnostic property equal to or higher than that of a conventional wet silver salt photosensitive material. A preferable range of conditions is described below.

(1)銀塩光熱写真ドライイメージング材料を熱現像処理後に得られた銀画像の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度について色測し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をu*、縦軸をv*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのu*、v*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のv*値が−5〜5であること、且つ傾き(v*/u*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 (1) A silver salt photothermographic dry imaging material is color-measured for each of the optical densities of 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density of a silver image obtained after heat development, and CIE 1976 (L * u * v * ) The coefficient of determination of the linear regression line created by arranging u * and v * at the above optical densities in two-dimensional coordinates where the horizontal axis of the color space is u * and the vertical axis is v *. Heavy determination) R 2 is preferably 0.998 to 1.000. Furthermore, it is preferable that the v * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (v * / u * ) is 0.7 to 2.5.

(2)又、当該光熱写真ドライイメージング材料の光学濃度0.5、1.0、1.5及び最低光学濃度の各濃度について色測し、CIE 1976(L***)色空間の横軸をa*、縦軸をb*とする2次元座標に、上記各光学濃度でのa*、b*を配置し作成した線形回帰直線の決定係数(重決定)R2が0.998〜1.000であることが好ましい。更に、当該線形回帰直線の縦軸との交点のb*値が−5〜5であること、かつ傾き(b*/a*)が0.7〜2.5であることが好ましい。 (2) The color density of each of the optical densities 0.5, 1.0, 1.5 and the lowest optical density of the photothermographic dry imaging material is measured, and the CIE 1976 (L * a * b * ) color space is measured. The coefficient of determination (multiple determination) R 2 of the linear regression line created by arranging a * and b * at the respective optical densities on two-dimensional coordinates with the horizontal axis a * and the vertical axis b * is 0.998. It is preferably ˜1.000. Furthermore, it is preferable that the b * value of the intersection with the vertical axis of the linear regression line is −5 to 5 and the slope (b * / a * ) is 0.7 to 2.5.

尚、次に、上述の線形回帰直線の作成法、則ちCIE 1976色空間におけるu*、v*およびa*、b*の測定法の一例を説明する。 An example of a method for creating the above-described linear regression line, that is, a method for measuring u * , v * and a * , b * in the CIE 1976 color space will be described next.

熱現像装置を用いて未露光部及び光学濃度0.5、1.0、1.5を含む4段のウエッジ試料を作製する。このようにして作製した、それぞれのウエッジ濃度部を分光色彩計(コニカミノルタ社製:CM−3600d等)で測定し、u*、v*又はa*、b*を算出する。その際の測定条件は光源としてF7光源、視野角を10度として透過測定モードで測定を行う。横軸をu*又はa*、縦軸をv*又はb*としたグラフ上に測定したu*、v*又はa*、b*をプロットし線形回帰直線を求め、決定係数(重決定)R2、切片及び傾きを求める。 A four-stage wedge sample including an unexposed portion and optical densities of 0.5, 1.0, and 1.5 is prepared using a heat development apparatus. Each wedge density part thus produced is measured with a spectrocolorimeter (manufactured by Konica Minolta: CM-3600d, etc.), and u * , v * or a * , b * are calculated. The measurement conditions at that time are F7 light source as the light source, the viewing angle is 10 degrees, and the measurement is performed in the transmission measurement mode. Plot u * , v * or a * , b * measured on a graph with u * or a * on the horizontal axis and v * or b * on the vertical axis to obtain a linear regression line, and the coefficient of determination (multiple determination) Find R 2 , intercept and slope.

次に、上記のような特徴を持つ線形回帰直線を得るための具体的な方法について説明する。   Next, a specific method for obtaining a linear regression line having the above characteristics will be described.

本発明においては、銀イオン還元剤、ハロゲン化銀粒子、脂肪族カルボン酸銀塩及び下記の調色剤等の現像反応過程において、直接的及び間接的に関与する化合物等の添加量の調整により、現像銀形状を最適化して好ましい色調にすることができる。例えば、現像銀形状をデンドライト状にすると青味を帯びる方向になり、フィラメント状にすると黄色味を帯びる方向になる。即ち、このような現像銀形状の性向を考慮して調整できる。   In the present invention, by adjusting the addition amount of a compound or the like directly or indirectly involved in the development reaction process such as silver ion reducing agent, silver halide grains, aliphatic carboxylic acid silver salt and the following toning agent. The developed silver shape can be optimized to obtain a preferable color tone. For example, when the developed silver shape is dendritic, it becomes a bluish direction, and when it is a filament shape, it becomes a yellowish direction. That is, it can be adjusted in consideration of the tendency of the developed silver shape.

従来、調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類が一般的に使用されている。好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号、同4,021,249号等に開示される。   Conventionally, phthalazinone or phthalazine and phthalic acids and phthalic anhydrides are generally used as toning agents. Examples of suitable toning agents are disclosed in RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, 4,021,249, and the like.

このような調色剤の他に、特開平11−288057号、欧州特許1,134,611A2号等に開示されているカプラー、及び以下で詳述するロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。特に、色調の微調整のためにカプラー又はロイコ染料を用いることが好ましい。   In addition to such a toning agent, the color tone is adjusted using couplers disclosed in JP-A-11-288057, European Patent 1,134,611A2, etc., and leuco dyes described in detail below. You can also. In particular, a coupler or leuco dye is preferably used for fine adjustment of the color tone.

銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。ロイコ染料として好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、上記の銀イオン還元剤の酸化体等により酸化されて色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物も有用である。   The silver salt photothermographic dry imaging material can also be adjusted in color tone using a leuco dye as described above. The leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80 to 200 ° C. for about 0.5 to 30 seconds, and is a silver ion reducing agent as described above. Any leuco dye that is oxidized by an oxidant or the like to form a pigment can be used. Also useful are compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state.

本発明に使用するのに適した代表的なロイコ染料は特に限定されないが、例えばビフェノールロイコ染料、フェノールロイコ染料、インドアニリンロイコ染料、アクリル化アジンロイコ染料、フェノキサジンロイコ染料、フェノジアジンロイコ染料及びフェノチアジンロイコ染料等が挙げられる。有用なものは、米国特許3,445,234号、同3,846,136号、同3,994,732号、同4,021,249号、同4,021,250号、同4,022,617号、同4,123,282号、同4,368,247号、同4,461,681号、及び特開昭50−36110号、同59−206831号、特開平5−204087号、同11−231460号、特開2002−169249号、同2002−236334号等に開示されるロイコ染料である。   Representative leuco dyes suitable for use in the present invention are not particularly limited, for example, biphenol leuco dyes, phenol leuco dyes, indoaniline leuco dyes, acrylated azine leuco dyes, phenoxazine leuco dyes, phenodiazine leuco dyes and And phenothiazine leuco dye. US Pat. Nos. 3,445,234, 3,846,136, 3,994,732, 4,021,249, 4,021,250, 4,022 are useful. No. 4,617, No. 4,123,282, No. 4,368,247, No. 4,461,681, and JP-A-50-36110, JP-A-52-206831, JP-A-5-204087, No. 11-231460, JP-A Nos. 2002-169249, 2002-236334, and the like.

所定の色調に調整するために、種々の色のロイコ染料を単独使用又は複数の種類を併用することが好ましい。本発明においては、高活性な銀イオン還元剤を使用することに伴い、その使用量や使用比率によって色調(特に黄色味)が変化したり、微粒子のハロゲン化銀粒子を用いることにより、特に濃度が2.0以上の高濃度部で画像が過度に赤みを帯びたりすることを防止するために、黄色及びシアン色に発色するロイコ染料を併用して、その使用量を調整するのが好ましい。   In order to adjust to a predetermined color tone, it is preferable to use leuco dyes of various colors singly or in combination. In the present invention, with the use of a highly active silver ion reducing agent, the color tone (especially yellowishness) varies depending on the amount and ratio of use, or the use of fine silver halide grains makes it particularly effective. In order to prevent the image from becoming excessively reddish at a high density portion of 2.0 or more, it is preferable to use a leuco dye that develops yellow and cyan colors to adjust the amount of use.

発色濃度は現像銀自身による色調との関係で適切に調整することが好ましい。本発明では、0.01〜0.05の反射光学濃度又は0.005〜0.50の透過光学濃度を有するように発色させ、上記の好ましい色調範囲の画像になるように色調を調整することが好ましい。ロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01〜0.50とするのが好ましく、より好ましくは0.02〜0.30、特に好ましくは0.03〜0.10を有するように発色させるのが好ましい。   The color density is preferably adjusted appropriately in relation to the color tone of the developed silver itself. In the present invention, color is developed so as to have a reflection optical density of 0.01 to 0.05 or a transmission optical density of 0.005 to 0.50, and the color tone is adjusted so that an image in the above preferred color tone range is obtained. Is preferred. The sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of the dye image formed by the leuco dye is preferably 0.01 to 0.50, more preferably 0.02 to 0.30, and particularly preferably 0.03 to 0. It is preferable to develop the color so as to have.

(黄色発色性ロイコ染料)
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記のように、ロイコ染料を使用して色調を調整することもできる。本発明において、黄色発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより360〜450nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの色像形成剤としては、下記一般式(YA)で表される色像形成剤であることが特に好ましい。
(Yellow coloring leuco dye)
The silver salt photothermographic dry imaging material can also be adjusted in color tone using a leuco dye as described above. In the present invention, a color image forming agent whose absorbance at 360 to 450 nm is increased by oxidation is preferably used as the yellow color-forming leuco dye. These color image forming agents are particularly preferably color image forming agents represented by the following general formula (YA).

Figure 2007286607
Figure 2007286607

式中、R11は置換又は無置換のアルキル基を表し、R12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表すが、R11、R12は2−ヒドロキシフェニルメチル基であることはない。R13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表し、R14はベンゼン環に置換可能な置換基を表す。 In the formula, R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group, and R 11 and R 12 are 2-hydroxyphenylmethyl groups. There is nothing. R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group, and R 14 represents a substituent that can be substituted on the benzene ring.

11は置換又は無置換のアルキル基を表すが、R12が水素原子以外の置換基である場合、R11はアルキル基を表す。当該アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、置換基を有してもよい。具体的には、メチル、エチル、ブチル、オクチル、i−プロピル、t−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル、sec−ブチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル等が好ましく、i−プロピルよりも立体的に大きな基(i−プロピル、i−ノニル、t−ブチル、t−アミル、t−オクチル、シクロヘキシル、1−メチル−シクロヘキシル、アダマンチル等)であることが好ましく、その中でも2級又は3級のアルキル基が好ましく、3級アルキル基であるt−ブチル、t−オクチル、t−ペンチル等が特に好ましい。R11が有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、アシル基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基等が挙げられる。 R 11 represents a substituted or unsubstituted alkyl group. When R 12 is a substituent other than a hydrogen atom, R 11 represents an alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms and may have a substituent. Specifically, methyl, ethyl, butyl, octyl, i-propyl, t-butyl, t-octyl, t-pentyl, sec-butyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl and the like are preferred, and steric rather than i-propyl. Is preferably a large group (i-propyl, i-nonyl, t-butyl, t-amyl, t-octyl, cyclohexyl, 1-methyl-cyclohexyl, adamantyl, etc.), and among them, secondary or tertiary An alkyl group is preferable, and tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-octyl, and t-pentyl are particularly preferable. Examples of the substituent that R 11 may have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an amino group, an acyl group, an acylamino group, an alkylthio group, an arylthio group, a sulfonamido group, an acyloxy group, an oxycarbonyl group, and a carbamoyl group. , Sulfamoyl group, sulfonyl group, phosphoryl group and the like.

12は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基又はアシルアミノ基を表す。アルキル基は炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アシルアミノ基は炭素数1〜30のアシルアミノ基が好ましい。この内、アルキル基の説明は前記R11と同様である。アシルアミノ基は無置換でも置換基を有してもよく、具体的にはアセチルアミノ基、アルコキシアセチルアミノ基、アリールオキシアセチルアミノ基等が挙げられる。R12として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基であり、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチルが挙げられる。 R 12 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group or an acylamino group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the acylamino group is preferably an acylamino group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, the description of the alkyl group is the same as R 11 described above. The acylamino group may be unsubstituted or substituted, and specific examples include an acetylamino group, an alkoxyacetylamino group, and an aryloxyacetylamino group. R 12 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, and t-butyl.

13は水素原子又は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基としては炭素数1〜30のアルキル基が好ましく、アルキル基の説明は前記R11と同様である。R13として好ましくは、水素原子又は無置換の炭素数1〜24のアルキル基で、具体的にはメチル、i−プロピル、t−ブチル等が挙げられる。又、R12、R13の何れか一方は水素原子であることが好ましい。 R 13 represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, and the description of the alkyl group is the same as that for R 11 . R 13 is preferably a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group having 1 to 24 carbon atoms, and specific examples include methyl, i-propyl, t-butyl and the like. Further, it is preferable either R 12, R 13 is a hydrogen atom.

14はベンゼン環に置換可能な基を表し、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等)、ハロゲン化アルキル基(トリフルオロメチル、パーフルオロオクチル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルキニル基(プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、フッ素)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド基、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレタン基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されてもよい。 R 14 represents a group capable of substituting on the benzene ring, specifically, an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, cyclohexyl, etc.), halogenated Alkyl groups (trifluoromethyl, perfluorooctyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cyclopentyl, etc.), alkynyl groups (propargyl etc.), glycidyl groups, acrylate groups, methacrylate groups, aryl groups (phenyl etc.), heterocyclic groups ( Pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atom (chlorine, bromine, iodine, fluorine), alkoxy group (methoxy, ethoxy, pro Ruoxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryloxy groups (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl groups (phenyloxycarbonyl) ), Sulfonamide groups (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfonamide, hexanesulfonamide group, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl groups (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, dimethylaminosulfonyl, butylamino) Sulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminos Phonyl etc.), urethane groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido etc.), acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl etc.), Carbamoyl group (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl), amide group (acetamide, propionamide, butanamide, hexaneamide, Benzamide, etc.), sulfonyl groups (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, fluorine Phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, An oxamoyl group can be exemplified. These groups may be further substituted with these groups.

14として好ましいのは、置換又は無置換の炭素数1〜30のアルキル基、炭素数2〜30のオキシカルボニル基であり、炭素数1〜24のアルキル基がより好ましい。アルキル基の置換基としてはアリール基、アミノ基、アルコキシ基、オキシカルボニル基、アシルアミノ基、アシルオキシ基、イミド基、ウレイド基等が挙げられ、アリール基、アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基がより好ましい。これらのアルキル基の置換基は、更にこれらの置換基で置換されてもよい。 R 14 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an oxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 24 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group include an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an oxycarbonyl group, an acylamino group, an acyloxy group, an imide group, and a ureido group, and more preferable examples include an aryl group, an amino group, an oxycarbonyl group, and an alkoxy group. preferable. These alkyl group substituents may be further substituted with these substituents.

次に、一般式(YA)で表される化合物の中でも特に本発明で好ましく用いられる、下記一般式(YB)で表されるビスフェノール化合物について説明する。   Next, the bisphenol compound represented by the following general formula (YB), which is particularly preferably used in the present invention, among the compounds represented by the general formula (YA) will be described.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

式中、Zは−S−又は−C(R21)(R21′)−を表し、R21、R21′は各々、水素原子又は置換基を表す。R21、R21′が表す置換基としては、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、i−ペンチル、2−エチルヘキシル、オクチル、デシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロヘプチル等)、アルケニル基(エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、シクロアルケニル基(1−シクロアルケニル、2−シクロアルケニル基等)、アルキニル基(エチニル、1−プロピニル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロポキシ等)、アルキルカルボニルオキシ基(アセチルオキシ等)、アルキルチオ基(メチルチオ、トリフルオロメチルチオ等)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基)、カルボキシル基、アルキルカルボニルアミノ基(アセチルアミノ等)、ウレイド基(メチルアミノカルボニルアミノ等)、アルキルスルホニルアミノ基(メタンスルホニルアミノ等)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−モルホリノカルボニル等)、スルファモイル基(スルファモイル、N,N−ジメチルスルファモイル、モルホリノスルファモイル等)、トリフルオロメチル基、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アルキルスルホンアミド基(メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド等)、アルキルアミノ基(アミノ、N,N−ジメチルアミノ、N,N−ジエチルアミノ等)、スルホ基、ホスホノ基、サルファイト基、スルフィノ基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基(メタンスルホニルアミノカルボニル、エタンスルホニルアミノカルボニル等)、アルキルカルボニルアミノスルホニル基(アセトアミドスルホニル、メトキシアセトアミドスルホニル等)、アルキニルアミノカルボニル基(アセトアミドカルボニル、メトキシアセトアミドカルボニル等)、アルキルスルフィニルアミノカルボニル基(メタンスルフィニルアミノカルボニル、エタンスルフィニルアミノカルボニル等)等が挙げられる。R21、R21′として好ましくは、水素原子又はアルキル基である。 In the formula, Z represents —S— or —C (R 21 ) (R 21 ′) —, and R 21 and R 21 ′ each represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of substituents represented by R 21 and R 21 ′ include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, i-pentyl, 2-ethylhexyl, octyl, decyl, etc.) Cycloalkyl group (cyclohexyl, cycloheptyl etc.), alkenyl group (ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl etc.), cycloalkenyl group (1-cycloalkenyl, 2-cycloalkenyl group etc.), alkynyl group (ethynyl, 1-propynyl etc.), alkoxy group (methoxy, ethoxy, propoxy etc.), alkylcarbonyloxy group (acetyloxy etc.), alkylthio group (methylthio) , Trifluoromethylthio, etc.), acyl group (acetyl group, benzoy Group), carboxyl group, alkylcarbonylamino group (acetylamino etc.), ureido group (methylaminocarbonylamino etc.), alkylsulfonylamino group (methanesulfonylamino etc.), alkylsulfonyl group (methanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl etc.), Carbamoyl group (carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-morpholinocarbonyl, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl, N, N-dimethylsulfamoyl, morpholinosulfamoyl etc.), trifluoromethyl group, hydroxyl group, nitro group Cyano group, alkylsulfonamide group (methanesulfonamide, butanesulfonamide, etc.), alkylamino group (amino, N, N-dimethylamino, N, N-diethylamino, etc.), sulfo group, phosphono group, sa Rufite group, sulfino group, alkylsulfonylaminocarbonyl group (methanesulfonylaminocarbonyl, ethanesulfonylaminocarbonyl, etc.), alkylcarbonylaminosulfonyl group (acetamidosulfonyl, methoxyacetamidosulfonyl, etc.), alkynylaminocarbonyl group (acetamidocarbonyl, methoxyacetamidocarbonyl) Etc.), alkylsulfinylaminocarbonyl groups (methanesulfinylaminocarbonyl, ethanesulfinylaminocarbonyl, etc.) and the like. R 21 and R 21 ′ are preferably a hydrogen atom or an alkyl group.

22、R23、R22′及びR23′は各々置換基を表すが、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリール基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、スルホニル基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、シアノ基、複素環基等が挙げられる。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ each represent a substituent, for example, halogen atoms such as fluorine, chlorine and bromine, alkyl groups, hydroxyl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups Group, aryl group, cycloalkyl group, alkenyl group, cycloalkenyl group, alkynyl group, amino group, acyl group, acyloxy group, acylamino group, sulfonylamino group, sulfamoyl group, carbamoyl group, sulfonyl group, alkylsulfonyl group, sulfinyl group , A cyano group, a heterocyclic group, and the like.

22、R23、R22′及びR23′として、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基であるが、アルキル基が更に好ましい。アルキル基上の置換基としては、上記の置換基と同様な基が挙げられる。R22、R23、R22′及びR23′として、更に好ましくはt−ブチル、t−ペンチル、t−オクチル、1−メチル−シクロヘキシル等の3級アルキル基である。 R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group or a heterocyclic group, but an alkyl group is more preferable. Examples of the substituent on the alkyl group include the same groups as those described above. R 22 , R 23 , R 22 ′ and R 23 ′ are more preferably tertiary alkyl groups such as t-butyl, t-pentyl, t-octyl and 1-methyl-cyclohexyl.

24及びR24′は各々、水素原子又は置換基を表すが、置換基としては、上記R14の説明で挙げた置換基と同様な基が挙げられる。 R 24 and R 24 ′ each represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent include the same groups as those described in the description of R 14 above.

一般式(YA)及び(YB)で表される化合物としては、例えば特開2002−169249号の段落「0032」〜「0038」に記載の化合物II−1〜II−40、欧州特許1,211,093号の段落「0026」に記載の化合物ITS−1〜ITS−12を挙げることができる。   Examples of the compounds represented by the general formulas (YA) and (YB) include compounds II-1 to II-40 described in paragraphs “0032” to “0038” of JP-A No. 2002-169249, European Patents 1 and 211. , 093, and the compounds ITS-1 to ITS-12 described in paragraph “0026”.

以下に、一般式(YA)及び(YB)で表されるビスフェノール化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the bisphenol compound represented by general formula (YA) and (YB) below is shown, this invention is not limited to these.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

Figure 2007286607
Figure 2007286607

一般式(YA)の化合物(ヒンダードフェノール化合物、一般式(YB)の化合物も含む)の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.01モルであり、好ましくは0.0005〜0.01モル、より好ましくは0.001〜0.008モルである。     The addition amount of the compound of the general formula (YA) (including the hindered phenol compound and the compound of the general formula (YB)) is usually 0.00001 to 0.01 mol, preferably 0.0005, per mol of silver. It is -0.01 mol, More preferably, it is 0.001-0.008 mol.

又、黄色発色性ロイコ染料の銀イオン還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2であることが好ましく、0.005〜0.1であることがより好ましい。   Further, the addition ratio of the yellow color-forming leuco dye to the total of the silver ion reducing agent is preferably 0.001 to 0.2, more preferably 0.005 to 0.1 in terms of molar ratio.

(シアン発色性ロイコ染料)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上記の黄色発色性ロイコ染料のほかに、シアン発色性ロイコ染料も使用して色調を調整することもできる。シアン発色性ロイコ染料としては、好ましくは、約80〜200℃の温度で約0.5〜30秒間加熱した時に、酸化されて着色形態になる何れの無色又は僅かに着色した化合物でよく、銀イオン還元剤の酸化体等により酸化されて色素を形成する何れのロイコ染料を用いることもできる。pH感受性を有し、かつ着色状態に酸化できる化合物も有用である。
(Cyan coloring leuco dye)
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention can also be adjusted in color tone by using a cyan coloring leuco dye in addition to the yellow coloring leuco dye. The cyan chromophoric leuco dye is preferably any colorless or slightly colored compound that is oxidized to a colored form when heated at a temperature of about 80-200 ° C. for about 0.5-30 seconds. Any leuco dye that is oxidized by an oxidant of an ion reducing agent to form a pigment can be used. Also useful are compounds that are pH sensitive and can be oxidized to a colored state.

シアン発色性ロイコ染料として好ましく用いられるのは、酸化されることにより600〜700nmの吸光度が増加する色像形成剤である。これらの化合物としては、例えば特開昭59−206831号(特にλmaxが600〜700nmの範囲内にある化合物)、特開平5−204087号の一般式(I)〜(IV)の化合物(具体的には段落「0032」〜「0037」に記載の(1)〜(18)の化合物)及び特開平11−231460号の一般式4〜7の化合物(具体的には段落「0105」に記載されるNo.1〜No.79の化合物)が挙げられる。 What is preferably used as the cyan color-forming leuco dye is a color image forming agent that increases its absorbance at 600 to 700 nm when oxidized. Examples of these compounds include compounds of general formulas (I) to (IV) disclosed in JP-A-59-206831 (particularly compounds having λ max in the range of 600 to 700 nm) and JP-A-5-204087 (specific examples). Specifically, the compounds of (1) to (18) described in paragraphs “0032” to “0037”) and the compounds of general formulas 4 to 7 in JP-A No. 11-231460 (specifically, described in paragraph “0105”). Compound No. 1 to No. 79).

本発明に好ましく用いられるシアン発色性ロイコ染料は、下記一般式(CLA)、一般式(CLB−I)で表される化合物である。一般式(CLB−I)で表される色像形成剤は発色効率が高く、少量の添加でも色調調整が可能であり、又、画像保存性にも優れている点で特に好ましい。   The cyan color-forming leuco dye preferably used in the present invention is a compound represented by the following general formula (CLA) or general formula (CLB-I). The color image forming agent represented by the general formula (CLB-I) is particularly preferable in that it has high color development efficiency, can be adjusted in color even when added in a small amount, and is excellent in image storage stability.

以下、一般式(CLA)、一般式(CLB−I)の化合物について詳細に説明する。   Hereinafter, the compounds of general formula (CLA) and general formula (CLB-I) will be described in detail.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

式中、R31、R32は水素原子、ハロゲン原子、置換又は無置換の、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、−NHCOR30基(R30はアルキル基、アリール基、複素環基を表す。)であるか、又はR31、R32は互いに連結して脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環又は複素環を形成する基である。A3は−NHCO−基、−CONH−基又は−NHCONH−基を表し、R33は置換又は無置換の、アルキル基、アリール基又は複素環基を表す。又、−A333は水素原子であってもよい。例えば−A333部分は、水素原子を表すか、又はA3は−NHCO−基、−CONH−基もしくは−NHCONH−基を表し、R33は置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。 In the formula, R 31 and R 32 represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, —NHCOR 30 group (R 30 represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group). Or R 31 and R 32 are a group that forms an aliphatic hydrocarbon ring, an aromatic hydrocarbon ring, or a heterocyclic ring by being linked to each other. A 3 represents a —NHCO— group, a —CONH— group or a —NHCONH— group, and R 33 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group. -A 3 R 33 may be a hydrogen atom. For example, the —A 3 R 33 moiety represents a hydrogen atom, or A 3 represents a —NHCO— group, —CONH— group, or —NHCONH— group, and R 33 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group, or Represents a heterocyclic group.

3は水素原子又は−CONHR35基、−COR35基又は−COOR35基(R35は置換又は無置換のアルキル基、アリール基又は複素環基を表す。)を表し、R34は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、カルバモイル基又はニトリル基を表す。R36は−CONHR37基、−COR37基又は−COOR37基(R37は置換又は無置換の、アルキル基、アリール基又は複素環基を表す。)X3は、置換又は無置換の、アリール基、複素環基を表す。 W 3 represents a hydrogen atom or —CONHR 35 group, —COR 35 group or —COOR 35 group (R 35 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group), and R 34 represents a hydrogen atom. Represents a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a carbamoyl group or a nitrile group. R 36 represents —CONHR 37 group, —COR 37 group or —COOR 37 group (R 37 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, aryl group or heterocyclic group) X 3 represents a substituted or unsubstituted group, An aryl group or a heterocyclic group is represented.

一般式(CLA)において、R31、R32で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素、臭素、塩素等が挙げられ、アルキル基としては炭素数が20までのアルキル基(メチル、エチル、ブチル、ドデシル等)が挙げられ、アルケニル基としては炭素数20までのアルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては炭素原子数20までのアルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)が挙げられる。又、−NHCOR30基におけるR30で表されるアルキル基としては、炭素数が20までのアルキル基(メチル、エチル、ブチル、ドデシル等)が挙げられ、アリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素数6〜20の基が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。R33で表されるアルキル基は、好ましくは炭素数20までのアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ブチル、ドデシル等が挙げられ、アリール基は好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。 In the general formula (CLA), examples of the halogen atom represented by R 31 and R 32 include fluorine, bromine, chlorine and the like, and the alkyl group is an alkyl group having up to 20 carbon atoms (methyl, ethyl, butyl). And alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3- Pentenyl, 1-methyl-3-butenyl and the like, and examples of the alkoxy group include alkoxy groups having up to 20 carbon atoms (methoxy, ethoxy and the like). Examples of the alkyl group represented by R 30 in the —NHCOR 30 group include alkyl groups having up to 20 carbon atoms (methyl, ethyl, butyl, dodecyl, etc.), and aryl groups such as phenyl and naphthyl. Examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrrolyl, and the like. The alkyl group represented by R 33 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, butyl, dodecyl, etc., and the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. Examples include phenyl and naphthyl, and examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrrolyl and the like.

3で表される−CONHR35基、−COR35基又は−COOR35基において、R35で表されるアルキル基は、好ましくは炭素数20までのアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ブチル、ドデシル等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20までのアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。 In the -CONHR 35 group, -COR 35 group or -COOR 35 group represented by W 3 , the alkyl group represented by R 35 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, Examples thereof include butyl, dodecyl and the like, and the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl and naphthyl. Examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, Pyrrolyl etc. are mentioned.

34で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、沃素等が挙げられ、アルキル基としては鎖状もしくは環状のアルキル基、例えばメチル、ブチル、ドデシル、シクロヘキシル等が挙げられ、アルケニル基としては炭素数20までのアルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)が挙げられ、アルコキシ基としては、例えばメトキシ、ブトキシ、テトラデシルオキシ等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えばジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル等が挙げられる。又、ニトリル基も好ましい。これらの中でも、水素原子、アルキル基がより好ましい。 Examples of the halogen atom represented by R 34 include fluorine, chlorine, bromine and iodine. Examples of the alkyl group include chain or cyclic alkyl groups such as methyl, butyl, dodecyl and cyclohexyl. Examples of the group include alkenyl groups having up to 20 carbon atoms (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl. Examples of the alkoxy group include methoxy, butoxy, and tetradecyloxy. Examples of the carbamoyl group include diethylcarbamoyl, phenylcarbamoyl, and the like. Nitrile groups are also preferred. Among these, a hydrogen atom and an alkyl group are more preferable.

前記R33とR34は、互いに連結して環構造を形成してもよい。上記の基は更に単一の置換基又は複数の置換基を有することができる。典型的な置換基としては、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、ブチル、ドデシル等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ等)、アルキルスルホンアミド基(メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド等)、アリールスルホンアミド(フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルスルファモイル基(ブチルスルファモイル等)、アリールスルファモイル(フェニルスルファモイル等)、アルキルオキシカルボニル基(メトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、アミノスルホンアミド基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホキシ基、スルホ基、アリールオキシ基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミノカルボニル基等が挙げられる。 R 33 and R 34 may be connected to each other to form a ring structure. The above groups can further have a single substituent or multiple substituents. Typical substituents include halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, etc.), alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, dodecyl, etc.), hydroxyl groups, cyano groups, nitro groups, alkoxy groups (methoxy, ethoxy, etc.) ), Alkylsulfonamide groups (such as methylsulfonamide, octylsulfonamide), arylsulfonamides (such as phenylsulfonamide, naphthylsulfonamide groups), alkylsulfamoyl groups (such as butylsulfamoyl), arylsulfamoyl ( Phenylsulfamoyl etc.), alkyloxycarbonyl group (methoxycarbonyl etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl etc.), aminosulfonamide group, acylamino group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfoxy group, E group, an aryloxy group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, and an amino carbonyl group.

30又はR35は好ましくはフェニル基であり、より好ましくは、ハロゲン原子及びシアノ基を置換基として複数有するフェニル基である。 R 30 or R 35 is preferably a phenyl group, more preferably a phenyl group having a plurality of halogen atoms and cyano groups as substituents.

36で表される−CONHR37基、−COR37基又は−COOR37基において、R37で表されるアルキル基は、好ましく炭素数20までのアルキル基であり、例えばメチル、エチル、ブチル、ドデシル等が挙げられ、アリール基は、好ましくは炭素数6〜20のアリール基であり、例えばフェニル、ナフチル等が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。 In the -CONHR 37 group, -COR 37 group or -COOR 37 group represented by R 36 , the alkyl group represented by R 37 is preferably an alkyl group having up to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl, butyl, Dodecyl and the like are mentioned, and the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, such as phenyl and naphthyl. Examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl and pyrrolyl. Can be mentioned.

37で表される基が有することができる置換基としては一般式(CLA)のR31〜R34の説明において挙げた置換基と同様のものが使用できる。 As the substituent that the group represented by R 37 can have, the same substituents as those described in the description of R 31 to R 34 in formula (CLA) can be used.

3で表されるアリール基としては、フェニル、ナフチルのような炭素数6〜20のアリール基が挙げられ、複素環基としては、例えばチエニル、フリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリル等が挙げられる。X3で表される基が有することができる置換基としては一般式(CLA)のR31〜R34の説明において挙げた置換基と同様のものを挙げることができる。X3で表される基としては、パラ位にアルキルアミノ基(ジエチルアミノ等)を有するアリール基又は複素環基が好ましい。 Examples of the aryl group represented by X 3 include aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl and naphthyl, and examples of the heterocyclic group include thienyl, furyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyrrolyl and the like. Examples of the substituent that the group represented by X 3 can have include the same substituents as those described in the description of R 31 to R 34 in formula (CLA). The group represented by X 3 is preferably an aryl group or heterocyclic group having an alkylamino group (such as diethylamino) at the para position.

これらの基は写真的に有用な基を含んでもよい。   These groups may include photographically useful groups.

以下にシアン発色性ロイコ染料(CLA)の具体例を示すが、本発明で用いられるシアン発色性ロイコ染料はこれらに限定されるものではない。   Specific examples of the cyan color forming leuco dye (CLA) are shown below, but the cyan color forming leuco dye used in the present invention is not limited thereto.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

Figure 2007286607
Figure 2007286607

Figure 2007286607
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次に一般式(CLB−I)で表される化合物について説明する。一般式(CLB−I)で表される化合物は、更に後記一般式(CLB−II)又は(CLB−III)で表される化合物が好ましく、(CLB−III)で表される化合物が最も好ましい。   Next, the compound represented by formula (CLB-I) will be described. The compound represented by the general formula (CLB-I) is preferably a compound represented by the following general formula (CLB-II) or (CLB-III), and most preferably a compound represented by (CLB-III). .

まず一般式(CLB−I)で表される化合物について説明する。   First, the compound represented by formula (CLB-I) will be described.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

式中、R41、R42、R40a及びR40bは各々、水素原子、脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、ハロゲン原子を表す。R43は水素原子、脂肪族基、芳香族基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボキニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基を表す。X41及びX42はベンゼン環上に置換可能な基を表す。m41及びm42は0〜5の整数を表す。m41及びm42が2以上の場合、複数のX41及びX42は同じでも異なってもよい。 In the formula, R 41 , R 42 , R 40a and R 40b each represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, a carbamoyl group, or a halogen atom. R 43 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarboquinyl group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, or a sulfonyl group. X 41 and X 42 represent a substitutable group on the benzene ring. m41 and m42 represent an integer of 0 to 5. When m41 and m42 is 2 or more, plural X 41 and X 42 may be the same or different.

41、R42、R40a及びR40bで表される脂肪族基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の炭化水素基が挙げられる。これらの炭化水素基は炭素数1〜25であることが好ましく、炭素数1〜20であることがより好ましい。炭素数1〜25のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等、シクロアルキル基としてはシクロヘキシル、シクロペンチル基等、アルケニル基としてはエテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等、アルキニル基としてはエチニル、1−プロピニル、プロパルギル等が挙げられる。 Specific examples of the aliphatic group represented by R 41 , R 42 , R 40a and R 40b include hydrocarbon groups such as an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group. These hydrocarbon groups preferably have 1 to 25 carbon atoms, and more preferably 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 25 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl, and cyclohexyl, cycloalkyl groups such as cyclohexyl and cyclopentyl groups, and alkenyl groups such as ethenyl-2. Examples of alkynyl groups include ethynyl, 1-propynyl, propargyl and the like, such as -propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1-methyl-3-butenyl and the like.

41、R42、R40a及びR40bで表される芳香族基の具体例としては、アリール基(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)が挙げられる。 Specific examples of the aromatic group represented by R 41 , R 42 , R 40a and R 40b include aryl groups (phenyl, naphthyl, etc.), heterocyclic groups (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, pyrrolyl, pyrazinyl). , Pyrimidinyl, pyridazinyl, selenazolyl, sriphoranyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl and the like.

アルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ基、t−ブトキシ等が、アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ、ナフチルオキシ等が、アシルアミノ基としては、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等が、スルホンアミド基の具体例としては、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等が、カルバモイル基としては、アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられる。   Specific examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, i-propoxy group, t-butoxy and the like, specific examples of the aryloxy group include phenoxy, naphthyloxy and the like, and the acylamino group includes acetylamino, benzoylamino and the like. However, specific examples of the sulfonamide group include methanesulfonamide, butanesulfonamide, octanesulfonamide, and benzenesulfonamide, and examples of the carbamoyl group include aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, and pentyl. Examples include aminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl and the like.

又、ハロゲン原子としては、塩素、臭素、沃素である。   The halogen atom is chlorine, bromine or iodine.

41及びR42として好ましくは脂肪族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、より好ましくはアルキル基又はアルコキシ基、更に好ましくは2級又は3級アルキル基、アルコキシ基である。 R 41 and R 42 are preferably an aliphatic group, an alkoxy group, an aryloxy group, more preferably an alkyl group or an alkoxy group, still more preferably a secondary or tertiary alkyl group or an alkoxy group.

40a及びR40bとして好ましくは水素原子、脂肪族基、より好ましくは水素原子である。 R 40a and R 40b are preferably a hydrogen atom or an aliphatic group, more preferably a hydrogen atom.

43で表される脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例としては、前記R41、R42で、それぞれ具体例と同じ基が挙げられる。 Examples of the aliphatic group, aromatic group, alkoxy group and aryloxy group represented by R 43 include the same groups as the specific examples for R 41 and R 42 .

43で表されるアシル基の具体例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等が挙げられる。 Specific examples of the acyl group represented by R 43 include acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl and the like.

43で表されるアルコキシカルボニル基の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基等が挙げられる。 Specific examples of the alkoxycarbonyl group represented by R 43 include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonyl group, and the like.

43で表されるアリールオキシカルボニル基の具体例としてはフェノキシカルボニル等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えばアミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等が挙げられ、スルファモイル基としては、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイル等が挙げられ、スルホニル基としては、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、オクチルスルホニル等が挙げられる。 Specific examples of the aryloxycarbonyl group represented by R 43 include phenoxycarbonyl and the like. Examples of the carbamoyl group include aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl. , Phenylaminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl and the like, examples of the sulfamoyl group include methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl and the like, and examples of the sulfonyl group include methylsulfonyl, butylsulfonyl and octyl. And sulfonyl.

43として好ましくは水素原子、アルキル基、アシル基、より好ましくは水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、アシル基である。 R 43 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an acyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an acyl group.

41及びX42で表されるベンゼン環上に置換可能な基としては、具体的には炭素数1〜25のアルキル基(メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルシクロヘキシル等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル、シクロペンチル等)、アルケニル基(ビニル、アリル、ブテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、エテニル−2−プロペニル、3−ブテニル、1−メチル−3−プロペニル、3−ペンテニル、1−メチル−3−ブテニル等)、アルキニル基(エチニル、プロパルギル等)、グリシジル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリール基(フェニル、ナフチル等)、複素環基(ピリジル、チアゾリル、オキサゾリル、イミダゾリル、フリル、ピロリル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、セレナゾリル、スリホラニル、ピペリジニル、ピラゾリル、テトラゾリル等)、ハロゲン原子(塩素、臭素、沃素、フッ素等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ペンチルオキシ、シクロペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ等)、アリールオキシ基(フェノキシ等)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル等)、スルホンアミド基(メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ヘキサンスルホンアミド、シクロヘキサンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド等)、スルファモイル基(アミノスルホニル、メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル、ブチルアミノスルホニル、ヘキシルアミノスルホニル、シクロヘキシルアミノスルホニル、フェニルアミノスルホニル、2−ピリジルアミノスルホニル等)、ウレイド基(メチルウレイド、エチルウレイド、ペンチルウレイド、シクロヘキシルウレイド、フェニルウレイド、2−ピリジルウレイド等)、アシル基(アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘキサノイル、シクロヘキサノイル、ベンゾイル、ピリジノイル等)、カルバモイル基(アミノカルボニル、メチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニル、プロピルアミノカルボニル、ペンチルアミノカルボニル、シクロヘキシルアミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、2−ピリジルアミノカルボニル等)、アミド基(アセトアミド、プロピオンアミド、ブタンアミド、ヘキサンアミド、ベンズアミド等)、スルホニル基(メチルスルホニル、エチルスルホニル、ブチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、フェニルスルホニル、2−ピリジルスルホニル等)、スルホンアミド基(メチルスルホンアミド、オクチルスルホンアミド、フェニルスルホンアミド、ナフチルスルホンアミド等)、アミノ基(アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、アニリノ、2−ピリジルアミノ等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、オキザモイル基等を挙げることができる。又、これらの基は更にこれらの基で置換されていてもよい。 Specific examples of the group that can be substituted on the benzene ring represented by X 41 and X 42 include alkyl groups having 1 to 25 carbon atoms (methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl). Cyclohexyl, etc.), cycloalkyl groups (cyclohexyl, cyclopentyl, etc.), alkenyl groups (vinyl, allyl, butenyl, hexenyl, hexadienyl, ethenyl-2-propenyl, 3-butenyl, 1-methyl-3-propenyl, 3-pentenyl, 1 -Methyl-3-butenyl etc.), alkynyl group (ethynyl, propargyl etc.), glycidyl group, acrylate group, methacrylate group, aryl group (phenyl, naphthyl etc.), heterocyclic group (pyridyl, thiazolyl, oxazolyl, imidazolyl, furyl, Pyrrolyl, pyrazinyl, pyrimidinyl, pyridazinyl, Lenazolyl, sulforanyl, piperidinyl, pyrazolyl, tetrazolyl, etc.), halogen atom (chlorine, bromine, iodine, fluorine, etc.), alkoxy group (methoxy, ethoxy, propyloxy, pentyloxy, cyclopentyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, etc.), aryl Oxy group (phenoxy, etc.), alkoxycarbonyl group (methyloxycarbonyl, ethyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, etc.), aryloxycarbonyl group (phenyloxycarbonyl, etc.), sulfonamide group (methanesulfonamide, ethanesulfonamide, butanesulfone) Amide, hexanesulfonamide, cyclohexanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), sulfamoyl group (aminosulfonyl, methylaminosulfonyl, di-) Tilaminosulfonyl, butylaminosulfonyl, hexylaminosulfonyl, cyclohexylaminosulfonyl, phenylaminosulfonyl, 2-pyridylaminosulfonyl, etc.), ureido groups (methylureido, ethylureido, pentylureido, cyclohexylureido, phenylureido, 2-pyridylureido, etc.) ), Acyl groups (acetyl, propionyl, butanoyl, hexanoyl, cyclohexanoyl, benzoyl, pyridinoyl, etc.), carbamoyl groups (aminocarbonyl, methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, propylaminocarbonyl, pentylaminocarbonyl, cyclohexylaminocarbonyl, phenyl) Aminocarbonyl, 2-pyridylaminocarbonyl, etc.), amide groups (acetamide, propion) Amide, butanamide, hexaneamide, benzamide, etc.), sulfonyl group (methylsulfonyl, ethylsulfonyl, butylsulfonyl, cyclohexylsulfonyl, phenylsulfonyl, 2-pyridylsulfonyl, etc.), sulfonamide group (methylsulfonamide, octylsulfonamide, phenylsulfone) Amide, naphthylsulfonamide, etc.), amino group (amino, ethylamino, dimethylamino, butylamino, cyclopentylamino, anilino, 2-pyridylamino, etc.), cyano group, nitro group, sulfo group, carboxyl group, hydroxyl group, oxamoyl group Etc. Further, these groups may be further substituted with these groups.

41及びX42として好ましくアルコキシ基、アリールオキシ基、カルバモイル基、アミド基、スルホンアミド基、アミノ基、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。 X 41 and X 42 are preferably an alkoxy group, an aryloxy group, a carbamoyl group, an amide group, a sulfonamide group, an amino group, more preferably an alkoxy group or an amino group.

次に、一般式(CLB−I)で表される化合物の内、好ましく用いられる一般式(CLB−II)及び一般式(CLB−III)で表される化合物について述べる。   Next, among the compounds represented by the general formula (CLB-I), the compounds represented by the general formula (CLB-II) and the general formula (CLB-III) which are preferably used will be described.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

式中、R41、R42、R43は、それぞれ上記一般式(CLB−I)のR41、R42、R43と同義である。X43及びX44は各々、脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基又はアリールオキシ基を表す。 Wherein, R 41, R 42, R 43 are each synonymous with R 41, R 42, R 43 in the general formula (CLB-I). X 43 and X 44 each represents an aliphatic group, an aromatic group, an amino group, an alkoxy group or an aryloxy group.

43及びX44で表される脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基の例は、前記一般式(CLB−I)のX41及びX42で表される脂肪族基、芳香族基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基の具体例と同じ基が挙げられる。X43及びX44として好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基であり、更に好ましくはアルコキシ基、アミノ基である。 Examples of the aliphatic group, aromatic group, amino group, alkoxy group and aryloxy group represented by X 43 and X 44 are the aliphatic groups represented by X 41 and X 42 in the general formula (CLB-I). Examples thereof include the same groups as the specific examples of the group, aromatic group, amino group, alkoxy group and aryloxy group. X 43 and X 44 are preferably an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group, more preferably an alkoxy group or an amino group.

44、R45、R46及びR47は各々、水素原子又はアルキル基を表す。該アルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、i−プロピル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル等が挙げられる。これらの基は任意の位置に置換基を有していてもよく、該置換基の例としては前記一般式(CLB−I)における置換基の例として挙げた基が挙げられる。R44、R45、R46及びR47として好ましくは、炭素数1〜10のアルキル基、より好ましくはメチル、エチルである。 R 44 , R 45 , R 46 and R 47 each represent a hydrogen atom or an alkyl group. Specific examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, i-propyl, t-butyl, pentyl, hexyl and the like. These groups may have a substituent at an arbitrary position, and examples of the substituent include the groups exemplified as the substituent in the general formula (CLB-I). R 44 , R 45 , R 46 and R 47 are preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably methyl or ethyl.

一般式(CLB−I)〜(CLB−III)で表される化合物は、従来公知の方法、例えば特公平7−45477号に記載の方法等で容易に合成することができる。以下に、一般式(CLB−I)〜(CLB−III)で表されるロイコ染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   The compounds represented by the general formulas (CLB-I) to (CLB-III) can be easily synthesized by a conventionally known method such as the method described in JP-B-7-45477. Specific examples of the leuco dyes represented by the general formulas (CLB-I) to (CLB-III) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

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シアン発色性ロイコ染料の添加量は、通常、銀1モル当たり0.00001〜0.05モルであり、好ましくは0.0005〜0.02モル、より好ましくは0.001〜0.01モルである。シアン発色性ロイコ染料の銀イオン還元剤の総和に対する添加量比は、モル比で0.001〜0.2が好ましく、0.005〜0.1がより好ましい。   The addition amount of the cyan chromophoric leuco dye is usually 0.00001 to 0.05 mol, preferably 0.0005 to 0.02 mol, more preferably 0.001 to 0.01 mol, per mol of silver. is there. The addition ratio of the cyan color-forming leuco dye to the sum of the silver ion reducing agents is preferably 0.001 to 0.2, more preferably 0.005 to 0.1 in terms of molar ratio.

本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、シアンロイコ染料により形成される色素像の極大吸収波長における最高濃度の総和を0.01〜0.50とするのが好ましく、より好ましくは0.02〜0.30、特に好ましくは0.03〜0.10を有するように発色させることが好ましい。   In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, the sum of the maximum densities at the maximum absorption wavelength of a dye image formed with a cyan leuco dye is preferably 0.01 to 0.50, more preferably 0.02 to 0.02. It is preferable to develop the color so as to have 0.30, particularly preferably 0.03 to 0.10.

本発明においては、上記のシアン発色性ロイコ染料に加えてマゼンタ発色性ロイコ染料又は黄色発色性ロイコ染料を併用することで、更に微妙な色調の調整を可能とすることができる。   In the present invention, in addition to the above-described cyan color-forming leuco dye, a magenta color-forming leuco dye or a yellow color-forming leuco dye can be used in combination to enable further fine color tone adjustment.

前記一般式(YA)、(YB)で表される黄色発色性ロイコ染料及び一般式(CLA)、一般式(CLB−I)〜(CLB−III)のシアン発色性ロイコ染料の添加方法としては、一般式(1)で表される銀イオン還元剤の添加方法と同様な方法で添加することができ、溶液形態、乳化分散形態、固体微粒子分散物形態等、任意の方法で塗布液に含有せしめ、感光材料に含有させてよい。   As a method for adding the yellow color-forming leuco dyes represented by the general formulas (YA) and (YB) and the cyan color-forming leuco dyes represented by the general formulas (CLA) and (CLB-I) to (CLB-III) The silver ion reducing agent represented by the general formula (1) can be added by the same method as described above and contained in the coating solution by any method such as a solution form, an emulsified dispersion form, a solid fine particle dispersion form, etc. It may be included in the light-sensitive material.

一般式(1)の銀イオン還元剤、一般式(YA)、(YB)の黄色発色性ロイコ染料及び一般式(CLA)、一般式(CLB−I)〜(CLB−III)のシアン発色性ロイコ染料は、脂肪族カルボン酸銀塩を含有する感光性層に含有させることが好ましいが、一方を感光性層に、他方を該感光性層に隣接する非感光性層に含有させてもよく、両者を非感光性層に含有させてもよい。又、感光性層が複数層で構成されている場合には、それぞれ別層に含有させてもよい。   Silver ion reducing agent of general formula (1), yellow color-forming leuco dye of general formulas (YA) and (YB), and cyan color-forming properties of general formulas (CLA) and general formulas (CLB-I) to (CLB-III) The leuco dye is preferably contained in the photosensitive layer containing the aliphatic carboxylic acid silver salt, but one may be contained in the photosensitive layer and the other may be contained in the non-photosensitive layer adjacent to the photosensitive layer. Both may be contained in the non-photosensitive layer. When the photosensitive layer is composed of a plurality of layers, they may be contained in separate layers.

[カブリ防止剤、画像安定化剤]
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の何れかの構成層には、熱現像前の保存時におけるカブリ発生を防止するためのカブリ防止剤、及び熱現像後における画像の劣化を防止するための画像安定化剤を含有させておくことが好ましい。以下、本発明に用いることができるカブリ防止剤及び画像安定化剤について説明する。
[Anti-fogging agent, image stabilizer]
In any of the constituent layers of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, an antifoggant for preventing fogging during storage before thermal development, and for preventing image deterioration after thermal development It is preferable to contain an image stabilizer. Hereinafter, an antifoggant and an image stabilizer that can be used in the present invention will be described.

銀イオン還元剤として、主にビスフェノール類やスルホンアミドフェノール類のようなプロトンを持った還元剤が用いられているので、これらの水素を安定化し還元剤を不活性化し、銀イオンを還元する反応を防止できる化合物が含有されることが好ましい。又、生フィルムや画像の保存時に生成する銀原子ないし金属銀(銀クラスター)を酸化漂白できる化合物が含有されることが好ましい。これらの機能を有する化合物の具体例として、例えば特開2003−270755号公報の段落「0096」〜「0128」に記載されるビイミダゾリル化合物、ヨードニウム化合物及びハロゲン原子を活性種として放出できる化合等を挙げることができる。   As silver ion reducing agents, reducing agents with protons such as bisphenols and sulfonamidophenols are mainly used, so these hydrogens are stabilized, the reducing agents are deactivated, and silver ions are reduced. It is preferable that the compound which can prevent is contained. Further, it is preferable that a compound capable of oxidizing and bleaching silver atoms or metallic silver (silver clusters) generated during storage of raw films and images is preferably contained. Specific examples of the compound having these functions include, for example, biimidazolyl compounds, iodonium compounds, and compounds capable of releasing halogen atoms as active species described in paragraphs “0096” to “0128” of JP-A-2003-270755. Can be mentioned.

又、特開2003−91054号公報に開示されるようなハロゲンラジカル放出基を有するモノマーの繰返し単位を少なくとも一つ有するポリマー、特開平6−208192号公報の段落「0013」に記載のビニルスルホン類及び/又はβ−ハロスルホン類、及び特開2005−107496号公報に記載される電子吸引基を有するビニル型抑制剤等の種々なカブリ防止剤及び画像安定化剤等が好ましい具体例として挙げられる。   Further, a polymer having at least one repeating unit of a monomer having a halogen radical releasing group as disclosed in JP-A No. 2003-91054, and vinyl sulfones described in paragraph “0013” of JP-A-6-208192 And / or β-halosulfones, and various antifoggants and image stabilizers such as a vinyl-type inhibitor having an electron-withdrawing group described in JP-A-2005-107496 are preferable examples.

本発明に用いる銀イオン還元剤が芳香族性のヒドロキシル基(−OH)を有する場合、特にビスフェノール類の場合には、これらの基と水素結合を形成することが可能な基を有する非還元性の化合物を併用することが好ましい。本発明で、特に好ましい水素結合性の化合物の具体例としては、例えば特開2002−90937号の段落「0061」〜「0064」に記載の化合物(II−1)〜(II−40)が挙げられる。   When the silver ion reducing agent used in the present invention has an aromatic hydroxyl group (—OH), particularly in the case of bisphenols, non-reducing properties having groups capable of forming hydrogen bonds with these groups. These compounds are preferably used in combination. Specific examples of particularly preferred hydrogen bonding compounds in the present invention include compounds (II-1) to (II-40) described in paragraphs “0061” to “0064” of JP-A-2002-90937. It is done.

又、一方、カブリ防止剤及び画像安定化剤として、ハロゲン原子を活性種として放出できる化合物も多くのものが知られている。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、特開2002−287299号の段落「0264」〜「0271」に記載の一般式(9)の化合物が挙げられる。   On the other hand, many compounds that can release halogen atoms as active species are known as antifoggants and image stabilizers. Specific examples of the compound that generates these active halogen atoms include compounds represented by general formula (9) described in paragraphs “0264” to “0271” of JP-A No. 2002-287299.

これらの化合物の添加量は、当該化合物から放出されるハロゲン原子と銀イオンが反応してハロゲン化銀粒子の生成によるプリントアウト銀の増加が実質的に問題にならない範囲が好ましい。これらの活性ハロゲン原子を生成する化合物の具体例としては、上記特許の他に、特開2002−169249号の段落「0086」〜「0087」に記載される化合物(III−1)〜(III−23)、特開2003−50441号の段落「0031」〜「0034」記載の化合物1−1a〜1−1o、1−2a〜1−2o、段落「0050」〜「0056」記載の化合物2a〜2z、2aa〜2ll、2−1a〜2−1f、特開2003−91054号の段落「0055」〜「0058」記載の化合物4−1〜4−32、段落「0069」〜「0072」記載の化合物5−1〜5−10を挙げることができる。   The addition amount of these compounds is preferably within a range in which the increase in printout silver due to the formation of silver halide grains due to the reaction between the halogen atoms released from the compound and silver ions does not become a problem. Specific examples of compounds that generate these active halogen atoms include, in addition to the above-mentioned patents, compounds (III-1) to (III-) described in paragraphs “0086” to “0087” of JP-A No. 2002-169249. 23), compounds 1-1a to 1-1o and 1-2a to 1-2o described in paragraphs “0031” to “0034” of JP-A-2003-50441, and compounds 2a to 1-20056 described in paragraphs “0050” to “0056” 2z, 2aa to 2ll, 2-1a to 2-1f, compounds 4-1 to 4-32 described in paragraphs “0055” to “0058” of JP-A No. 2003-91054, and paragraphs “0069” to “0072” Examples thereof include compounds 5-1 to 5-10.

本発明で好ましく使用されるカブリ防止剤としては、例えば特開平8−314059号の段落「0012」に記載の化合物例a〜j、特開平7−209797号の段落「0028」に記載のチオスルホネートエステルA〜K、特開昭55−140833号の14頁から記載の化合物例(1)〜(44)、特開2001−13627号の段落「0063」記載の化合物(I−1)〜(I−6)、段落「0066」記載の(C−1)〜(C−3)、特開2002−90937号の段落「0027」記載の化合物(III−1)〜(III−108)、ビニルスルホン類及び/又はβ−ハロスルホン類の化合物として特開平6−208192号の段落「0013」に記載の化合物VS−1〜VS−7、化合物HS−1〜HS−5、スルホニルベンゾトリアゾール化合物として特開2000−330235号に記載のKS−1〜KS−8の化合物、置換されたプロペンニトリル化合物として特表2000−515995号に記載のPR−01〜PR−08、特開2002−207273号の段落「0042」〜「0051」に記載の化合物(1)−1〜(1)−132、を挙げることができる。   Antifoggants preferably used in the present invention include, for example, compound examples a to j described in paragraph “0012” of JP-A-8-314059, and thiosulfonates described in paragraph “0028” of JP-A-7-209797. Esters A to K, compound examples (1) to (44) described from page 14 of JP-A No. 55-140833, and compounds (I-1) to (I) described in paragraph “0063” of JP-A No. 2001-13627 -6), (C-1) to (C-3) described in paragraph “0066”, compounds (III-1) to (III-108) described in paragraph “0027” of JP-A-2002-90937, vinyl sulfone And / or β-halosulfones as compounds VS-1 to VS-7, compounds HS-1 to HS-5 and sulfonylbenzotriazo described in paragraph “0013” of JP-A-6-208192 Compounds KS-1 to KS-8 described in JP-A No. 2000-330235 as substituted compounds, PR-01 to PR-08 described in JP-T 2000-515995 as substituted propene nitrile compounds, JP-A 2002-2002 Examples thereof include compounds (1) -1 to (1) -132 described in paragraphs “0042” to “0051” of No. 207273.

上記カブリ防止剤は、一般に、銀1モルに対して少なくとも0.001モル用いる。通常、その範囲は銀の1モルに対して化合物は0.01〜5モル、好ましくは0.02〜0.6モルである。   The antifoggant is generally used in an amount of at least 0.001 mol per 1 mol of silver. Usually, the range is 0.01 to 5 mol, preferably 0.02 to 0.6 mol, per mol of silver.

尚、上記の化合物の他に、銀塩光熱写真ドライイメージング材料中には、従来カブリ防止剤として知られている各種化合物が含まれてもよく、上記の化合物と同様な反応活性種を生成することができる化合物であっても、カブリ防止機構が異なる化合物であってもよい。例えば米国特許3,589,903号、同4,546,075号、同4,452,885号、特開昭59−57234号、米国特許3,874,946号、同4,756,999号、特開平9−288328号、同9−90550号に記載されている化合物が挙げられる。更に、その他のカブリ防止剤としては、米国特許5,028,523号及び欧州特許600,587号、同605,981号、同631,176号に開示される化合物が挙げられる。   In addition to the above compounds, the silver salt photothermographic dry imaging material may contain various compounds conventionally known as antifoggants, and generate reactive species similar to the above compounds. Even a compound that can be used may be a compound having a different antifogging mechanism. For example, U.S. Pat. Nos. 3,589,903, 4,546,075, 4,452,885, JP-A-59-57234, U.S. Pat. Nos. 3,874,946, 4,756,999. And compounds described in JP-A-9-288328 and JP-A-9-90550. Further, other antifoggants include compounds disclosed in US Pat. No. 5,028,523 and European Patents 600,587, 605,981, and 631,176.

[調色剤]
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は熱現像処理にて写真画像を形成するもので、必要に応じて銀の色調を調整する調色剤(トナー)を、通常、(有機)バインダーマトリックス中に分散した状態で含有していることが好ましい。
[Toning agent]
The silver salt photothermographic dry imaging material forms a photographic image by heat development, and a toning agent (toner) that adjusts the color tone of silver as needed is usually dispersed in an (organic) binder matrix. It is preferable to contain in the state.

本発明に用いられる好適な調色剤の例は、RD17029号、米国特許4,123,282号、同3,994,732号、同3,846,136号及び同4,021,249号に開示されており、例えば以下のものがある。   Examples of suitable toning agents used in the present invention include RD17029, U.S. Pat. Nos. 4,123,282, 3,994,732, 3,846,136, and 4,021,249. For example, there are the following.

イミド類(スクシンイミド、フタルイミド、ナフタールイミド、N−ヒドロキシ−1,8−ナフタールイミド等);メルカプタン類(3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール等);フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩(フタラジノン、4−(1−ナフチル)フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメチルオキシフタラジノン、及び2,3−ジヒドロ−1,4−フタラジンジオン);フタラジンとフタル酸類(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸)の組合せ;フタラジンとマレイン酸無水物、及びフタル酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸又はo−フェニレン酸誘導体及びその無水物(フタル酸、4−メチルフタル酸、4−ニトロフタル酸及びテトラクロロフタル酸無水物等)から選択される少なくとも一つの化合物との組合せ等が挙げられる。特に好ましい調色剤としてはフタラジノン又はフタラジンとフタル酸類、フタル酸無水物類の組合せである。   Imides (succinimide, phthalimide, naphthalimide, N-hydroxy-1,8-naphthalimide, etc.); mercaptans (3-mercapto-1,2,4-triazole, etc.); phthalazinone derivatives or metal salts of these derivatives (phthalazinone, 4- (1-naphthyl) phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethyloxyphthalazinone, and 2,3-dihydro-1,4-phthalazinedione); phthalazine and phthalic acids (eg, phthalic acid) , 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic acid); phthalazine and maleic anhydride, and phthalic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid or o-phenylene acid derivative and anhydride (phthalic acid) 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachloro Combination of at least one compound selected from the barrel anhydride, etc.). Particularly preferred toning agents are combinations of phthalazinone or phthalazine with phthalic acids and phthalic anhydrides.

[染料・顔料]
銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、感光性層を透過する光の量又は波長分布を制御するために感光性層と同じ側及び/又は反対側にフィルター層を形成するか、感光性層に染料又は顔料を含有させることが好ましい。用いられる染料としては、感光材料の感色性に応じて種々の波長領域の光を吸収する公知の化合物が使用できる。例えば銀塩光熱写真ドライイメージング材料を赤外光による画像記録材料とする場合には、特開2001−83655号に開示されるようなチオピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではチオピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)及びピリリウム核を有するスクアリリウム染料(本明細書ではピリリウムスクアリリウム染料と呼ぶ)、又、スクアリリウム染料に類似したチオピリリウムクロコニウム染料、又はピリリウムクロコニウム染料を使用することが好ましい。尚、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシル基は解離していてもよい。以下、これらの染料を便宜的に一括してスクアリリウム染料と呼ぶ。尚、染料としては特開平8−201959号の化合物も好ましい。
[Dye / Pigment]
In silver salt photothermographic dry imaging materials, a filter layer is formed on the same side and / or the opposite side of the photosensitive layer in order to control the amount of light transmitted through the photosensitive layer or the wavelength distribution. It is preferable to contain a dye or a pigment. As the dye used, known compounds that absorb light in various wavelength regions can be used depending on the color sensitivity of the photosensitive material. For example, when a silver salt photothermographic dry imaging material is used as an image recording material by infrared light, a squarylium dye having a thiopyrylium nucleus as disclosed in JP-A-2001-83655 (in this specification, a thiopyrylium squarylium dye). And a squarylium dye having a pyrylium nucleus (referred to herein as a pyrylium squarylium dye), or a thiopyrylium croconium dye similar to a squarylium dye, or a pyrylium croconium dye. The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobuten-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy in the molecular structure. It is a compound having -4,5-dione. Here, the hydroxyl group may be dissociated. Hereinafter, these dyes are collectively referred to as squarylium dyes for convenience. As the dye, a compound described in JP-A-8-201959 is also preferable.

[活性剤・滑り剤]
(フッ素系界面活性剤)
本発明ではレーザーイメージャー(熱現像処理装置)でのフィルム搬送性や環境適性(生体内への蓄積性)を改良するために、下記一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤が好ましく用いられる。
[Activators and slip agents]
(Fluorosurfactant)
In the present invention, in order to improve film transportability and environmental suitability (accumulation in a living body) in a laser imager (heat development processing apparatus), a fluorine-based surfactant represented by the following general formula (SF) is used. Preferably used.

一般式(SF) (Rf−(L)n−)p−(Y)m−(A)q
式中、Rfはフッ素原子を含有する置換基を表し、Lはフッ素原子を有さない2価の連結基を表し、Yはフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基を表し、Aはアニオン基又はその塩を表し、n、mは各々0又は1の整数を表し、pは1〜3の整数を表し、qは1〜3の整数を表す。ただし、qが1の時はnとmは同時に0ではない。
General formula (SF) (R f − (L) n −) p − (Y) m − (A) q
In the formula, R f represents a substituent containing a fluorine atom, L represents a divalent linking group having no fluorine atom, Y represents a (p + q) -valent linking group having no fluorine atom, A represents an anionic group or a salt thereof, n and m each represents an integer of 0 or 1, p represents an integer of 1 to 3, and q represents an integer of 1 to 3. However, when q is 1, n and m are not 0 at the same time.

一般式(SF)において、Rfが表すフッ素原子を含有する置換基としては、例えば炭素数1〜25の弗化アルキル基(トリフロロメチル、トリフロロエチル、パーフロロエチル、パーフロロブチル、パーフロロオクチル、パーフロロドデシル及びパーフロロオクタデシル等)又は弗化アルケニル基(パーフロロプロペニル、パーフロロブテニル、パーフロロノネニル及びパーフロロドデセニル等)等が挙げられる。Rfは炭素数2〜8であることが好ましく、より好ましくは炭素数が2〜6である。又、Rfはフッ素原子数2〜12であることが好ましく、より好ましくはフッ素原子数が3〜12である。 In the general formula (SF), examples of the substituent containing a fluorine atom represented by R f include a fluorinated alkyl group having 1 to 25 carbon atoms (trifluoromethyl, trifluoroethyl, perfluoroethyl, perfluorobutyl, perfluorocarbon, Fluorooctyl, perfluorododecyl, perfluorooctadecyl, etc.) or alkenyl fluoride groups (perfluoropropenyl, perfluorobutenyl, perfluorononenyl, perfluorododecenyl, etc.). R f preferably has 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 6 carbon atoms. R f preferably has 2 to 12 fluorine atoms, more preferably 3 to 12 fluorine atoms.

Lが表すフッ素原子を有さない2価の連結基としては、例えばアルキレン基(メチレン、エチレン、ブチレン等)、アルキレンオキシ基(メチレンオキシ、エチレンオキシ、ブチレンオキシ等)、オキシアルキレン基(オキシメチレン、オキシエチレン、オキシブチレン等)、オキシアルキレンオキシ基(オキシメチレンオキシ、オキシエチレンオキシ、オキシエチレンオキシエチレンオキシ等)、フェニレン基、オキシフェニレン基、フェニルオキシ基、オキシフェニルオキシ基又はこれらの基を組み合わせた基等が挙げられる。   Examples of the divalent linking group having no fluorine atom represented by L include an alkylene group (methylene, ethylene, butylene, etc.), an alkyleneoxy group (methyleneoxy, ethyleneoxy, butyleneoxy, etc.), an oxyalkylene group (oxymethylene). Oxyethylene, oxybutylene, etc.), oxyalkyleneoxy groups (oxymethyleneoxy, oxyethyleneoxy, oxyethyleneoxyethyleneoxy, etc.), phenylene groups, oxyphenylene groups, phenyloxy groups, oxyphenyloxy groups or these groups Examples include a combined group.

Aはアニオン基又はその塩を表すが、例えばカルボキシル基又はその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、スルホ基又はその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、硫酸ハーフエステル基又はその塩(ナトリウム塩、カリウム塩及びリチウム塩)、及び燐酸基又はその塩(ナトリウム塩及びカリウム塩等)等が挙げられる。   A represents an anionic group or a salt thereof. For example, a carboxyl group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), a sulfo group or a salt thereof (sodium salt, potassium salt and lithium salt), a sulfuric acid half ester group or a salt thereof Examples thereof include salts (sodium salt, potassium salt and lithium salt), and phosphoric acid groups or salts thereof (sodium salt, potassium salt and the like).

Yが表すフッ素原子を有さない(p+q)価の連結基としては、例えばフッ素原子を有さない3又は4価の連結基として、窒素原子又は炭素原子を中心にして構成される原子群が挙げられる。nは0又は1の整数を表すが、1であるのが好ましい。   As the (p + q) -valent linking group having no fluorine atom represented by Y, for example, as a trivalent or tetravalent linking group having no fluorine atom, an atomic group composed mainly of a nitrogen atom or a carbon atom is used. Can be mentioned. n represents an integer of 0 or 1, and is preferably 1.

一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は、フッ素原子を導入した炭素数1〜25のアルキル化合物(トリフロロメチル、ペンタフロロエチル、パーフロロブチル、パーフロロオクチル及びパーフロロオクタデシル等を有する化合物)及びアルケニル化合物(パーフロロヘキセニル及びパーフロロノネニル等を有する化合物)と、それぞれフッ素原子を導入していない3〜6価のアルカノール化合物、ヒドロキシル基を3〜4個有する芳香族化合物又はヘテロ化合物との付加反応や縮合反応によって得られた化合物(一部Rf(フッ素)化されたアルカノール化合物)に、更に例えば硫酸エステル化等によりアニオン基(A)を導入することにより得られる。 The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is an alkyl compound having 1 to 25 carbon atoms into which a fluorine atom is introduced (trifluoromethyl, pentafluoroethyl, perfluorobutyl, perfluorooctyl, perfluorooctadecyl, etc. Compound) and alkenyl compounds (compounds having perfluorohexenyl, perfluorononenyl, etc.), 3 to 6 valent alkanol compounds each having no fluorine atom introduced, and aromatic compounds having 3 to 4 hydroxyl groups Alternatively, it is obtained by introducing an anionic group (A) into the compound (partially R f (fluorinated) alkanol compound) obtained by addition reaction or condensation reaction with a hetero compound, for example, by sulfate esterification or the like. .

上記3〜6価のアルカノール化合物としては、グリセリン、ペンタエリスリトール、2−メチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,4−ジヒドロキシ−3−ヒドロキシメチルペンテン、1,2,6−ヘキサントリオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)プロパン、2,2−ビス(ブタノール)−3、脂肪族トリオール、テトラメチロールメタン、D−ソルビトール、キシリトール、D−マンニトール等が挙げられる。又、上記ヒドロキシル基を3〜4個有する芳香族化合物及びヘテロ化合物としては、1,3,5−トリヒドロキシベンゼン(フロログルシン)及び2,4,6−トリヒドロキシピリジン等が挙げられる。   Examples of the 3 to 6-valent alkanol compound include glycerin, pentaerythritol, 2-methyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,4-dihydroxy-3-hydroxymethylpentene, 1,2,6- Hexanetriol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) propane, 2,2-bis (butanol) -3, aliphatic triol, tetramethylolmethane, D-sorbitol, xylitol, D-mannitol and the like can be mentioned. Examples of the aromatic compound and hetero compound having 3 to 4 hydroxyl groups include 1,3,5-trihydroxybenzene (phloroglucin) and 2,4,6-trihydroxypyridine.

以下に、一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の好ましい具体的化合物を示す。   Below, the preferable specific compound of the fluorine-type surfactant represented by general formula (SF) is shown.

Figure 2007286607
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Figure 2007286607
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一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤を塗布液に添加する方法としては、公知の添加法に従って添加することができる。即ち、メタノールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケトンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加することができる。又、サンドミル分散やジェットミル分散、超音波分散やホモジナイザ分散により1μm以下の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することもできる。微粒子分散技術については多くの技術が開示されており、これらに準じて分散することができる。一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤は最外層の保護層に添加することが好ましい。   As a method of adding the fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) to the coating solution, it can be added according to a known addition method. That is, it can be dissolved and added in alcohols such as methanol and ethanol, ketones such as methyl ethyl ketone and acetone, polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. Further, fine particles of 1 μm or less can be dispersed in water or an organic solvent by sand mill dispersion, jet mill dispersion, ultrasonic dispersion or homogenizer dispersion, and added. Many techniques for dispersing fine particles have been disclosed, and the fine particles can be dispersed according to these techniques. The fluorine-based surfactant represented by the general formula (SF) is preferably added to the outermost protective layer.

一般式(SF)で表されるフッ素系界面活性剤の添加量は1m2当たり1×10-8〜1×10-1モルが好ましく、1×10-5〜1×10-2モルが特に好ましい。前者の範囲未満では帯電特性が得られないことがあり、前者の範囲を超えると湿度依存性が大きく、高湿下の保存性が劣化することがある。 The amount of the fluorosurfactant represented by the general formula (SF) is preferably 1 × 10 −8 to 1 × 10 −1 mol per 1 m 2 , particularly 1 × 10 −5 to 1 × 10 −2 mol. preferable. If the range is less than the former range, charging characteristics may not be obtained. If the range exceeds the former range, the humidity dependency is large, and the storage stability under high humidity may be deteriorated.

(表面物性調整剤)
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、塗布、乾燥、加工などの製造工程等における当該感光材料の巻取り、巻返し、搬送の際に種々の装置との接触、又は感光表面とバッキングクコート面との間におけるような感光材料同士の接触によって、好ましからざる影響を受けることが多い。例えば、当該感光材料表面の引掻き傷や滑り傷の発生、現像装置等の中での当該感光材料の搬送性劣化等である。
(Surface property modifier)
The silver salt photothermographic dry imaging material is used for contact with various devices during winding, rewinding, and transporting of the photosensitive material in a manufacturing process such as coating, drying, and processing, or a photosensitive surface and a backing coat surface. Often, it is undesirably affected by contact between photosensitive materials, such as in between. For example, the surface of the photosensitive material may be scratched or slipped, or the transportability of the photosensitive material may be deteriorated in a developing device.

従って、銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、上記の表面の傷や搬送性劣化を防止するために、当該材料の構成層の内の何れかの構成層、特に支持体上の最外層に、潤滑剤、マット剤等を含有させ、当該感光材料の表面物性を調整することが好ましい。   Therefore, in the silver salt photothermographic dry imaging material, in order to prevent the above-described surface scratches and transportability deterioration, any one of the constituent layers of the material, particularly the outermost layer on the support, It is preferable to adjust the surface physical properties of the photosensitive material by containing a lubricant, a matting agent and the like.

本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料においては、支持体上の最外層に平均粒径1〜30μmの有機固体潤滑剤粒子を含有させ、この有機固体潤滑剤粒子が高分子分散剤によって分散されていることが好ましい。又、当該潤滑剤粒子の融点は、熱現像処理温度よりも高いことが好ましく、80℃以上、より好ましくは110℃以上である。   In the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, an organic solid lubricant particle having an average particle diameter of 1 to 30 μm is contained in the outermost layer on the support, and the organic solid lubricant particle is dispersed by a polymer dispersant. It is preferable. The melting point of the lubricant particles is preferably higher than the heat development processing temperature, and is 80 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher.

本発明に用いる有機固体潤滑剤粒子としては、表面のエネルギーを下げる化合物が好ましく、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、及びこれらの共重合体などを粉砕して形成した粒子などが挙げられる。ポリエチレン、ポリプロピレンから成る有機固体潤滑剤粒子の一例としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリプロピレン/ポリエチレン共重合、ポリエチレン(低密度)、ポリエチレン(高密度)、ポリプロピレン等がある。   The organic solid lubricant particles used in the present invention are preferably compounds that lower the surface energy. Examples thereof include particles formed by pulverizing polyethylene, polypropylene, polytetrafluoroethylene, and copolymers thereof. Examples of organic solid lubricant particles made of polyethylene and polypropylene include polytetrafluoroethylene, polypropylene / polyethylene copolymer, polyethylene (low density), polyethylene (high density), and polypropylene.

上記有機固体潤滑剤粒子が、下記一般式(SC1)又は一般式(SC2)で表される化合物であることが好ましい。   The organic solid lubricant particles are preferably a compound represented by the following general formula (SC1) or general formula (SC2).

一般式(SC1) (RSC1p−XSC1−L6−XSC2−(RSC2q
一般式(SC2) (RSC1−COO−)Z-−MZ+
式中、RSC1、RSC2は各々、炭素数6〜60の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基であり、p又はqが2以上である場合、複数のRSC1及びRSC2は互いに同一でも相違してもよい。XSC1、XSC2は各々、窒素原子を含む2価の連結基を示す。L6は置換又は無置換の(p+q)価のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基を示す。MはZ価の金属イオンを示す。
Formula (SC1) (R SC1 ) p -X SC1 -L 6 -X SC2- (R SC2 ) q
Formula (SC2) (R SC1 -COO-) Z- -M Z +
In the formula, R SC1 and R SC2 are each a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or aryl group having 6 to 60 carbon atoms, and when p or q is 2 or more, a plurality of R SC1 And R SC2 may be the same as or different from each other. X SC1 and X SC2 each represent a divalent linking group containing a nitrogen atom. L 6 represents a substituted or unsubstituted (p + q) -valent alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or aryl group. M represents a Z-valent metal ion.

上記一般式(SC1)又は(SC2)で表される化合物において、総炭素数は特に限定されないが、一般的には20以上が好ましく、30以上が更に好ましい。RSC1とRSC2の定義におけるアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシル基、スルホニル基、スルフィニル基、アリール基及びアルキル基等を挙げることができる。これらの基は更に置換基を有してもよく、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アシル基及びアルキル基である。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素原子が好ましい。 In the compound represented by the general formula (SC1) or (SC2), the total number of carbon atoms is not particularly limited, but is generally preferably 20 or more, and more preferably 30 or more. Examples of the substituent that the alkyl group, alkenyl group, aralkyl group or aryl group in the definition of R SC1 and R SC2 may have include a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group. Groups, arylthio groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, amino groups, acylamino groups, sulfonylamino groups, ureido groups, carbamoyl groups, sulfamoyl groups, acyl groups, sulfonyl groups, sulfinyl groups, aryl groups and alkyl groups. be able to. These groups may further have a substituent, and preferred substituents are a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an alkoxycarbonyl group, an acylamino group, a sulfonylamino group, an acyl group, and an alkyl group. . As a halogen atom, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable.

アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基におけるアルキル成分は、後述するRSC2のアルキル基と同じである。アシルアミノ基、スルホニルアミノ基のアミノ基は、N置換アミノ基であってもよく、置換基はアルキル基が好ましい。アシルアミノ基、アシル基のカルボニル基及びスルホニルアミノ基のスルホニル基に結合する基はアルキル基、アリール基であるが、上記アルキル基が好ましい。 The alkyl component in the alkoxy group, alkylthio group, and alkoxycarbonyl group is the same as the alkyl group of R SC2 described later. The amino group of the acylamino group and sulfonylamino group may be an N-substituted amino group, and the substituent is preferably an alkyl group. The groups bonded to the acylamino group, the carbonyl group of the acyl group, and the sulfonyl group of the sulfonylamino group are an alkyl group and an aryl group, and the above alkyl groups are preferable.

SC1及びRSC2は、炭素数6〜60、好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは炭素数10〜30の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基又はアリール基であり、これらアルキル基、アルケニル基、アラルキル基は、直鎖でも分岐鎖でも環状構造を含むものでもよく、これらが混合したものでもよい。好ましいRSC1及びRSC2の例としては、オクチル、t−オクチル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、2−ヘキシルデシル、オクタデシル、Cn2n-1(nは20〜60)、エイコシル、ドコサニル、メリシニル、オクテニル、ミリストレイル、オレイル、エルシル、フェニル、ナフチル、ベンジル、ノニルフェニル、ジペンチルフェニル、シクロヘキシルの各基及びこれらの上記置換基を有する基等を挙げることができる。 R SC1 and R SC2 are substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aralkyl, or aryl groups having 6 to 60 carbon atoms, preferably 6 to 40 carbon atoms, more preferably 10 to 30 carbon atoms. The alkyl group, alkenyl group, and aralkyl group may be linear, branched, or cyclic, or may be a mixture thereof. Examples of preferred R SC1 and R SC2 include octyl, t-octyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, 2 - hexyldecyl, octadecyl, C n H 2n-1 (n is 20 to 60), eicosyl, docosanyl, melinyl, Examples include octenyl, myristolyl, oleyl, erucyl, phenyl, naphthyl, benzyl, nonylphenyl, dipentylphenyl, cyclohexyl groups, and groups having these substituents.

窒素原子を含む2価の連結基XSC1、XSC2として好ましくは、−CON(R3)−、−N(R4)CON(R5)−、−N(R6)COO−である。ここで、R3〜R6は各々、水素原子又は置換基を示す。 The divalent linking groups X SC1 and X SC2 containing a nitrogen atom are preferably —CON (R 3 ) —, —N (R 4 ) CON (R 5 ) —, and —N (R 6 ) COO—. Here, R < 3 > -R < 6 > shows a hydrogen atom or a substituent, respectively.

6は置換もしくは無置換の(p+q)価のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基を示す。これら炭化水素基の炭素数は特に限定されないが、好ましくは1〜60、より好ましくは1〜40、更に好ましくは10〜40である。(p+q)価の炭化水素基における「(p+q)価」とは炭化水素中の(p+q)個の水素原子が除かれて、そこにp個のXSC1基とq個のXSC2基が結合することを示す。p及びqは0〜6の整数を表し、1≦(p+q)≦6であり、好ましくは1≦(p+q)≦4である。又、p及びqが共に1である場合が好ましい。 L 6 represents a substituted or unsubstituted (p + q) -valent alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, or aryl group. Although carbon number of these hydrocarbon groups is not specifically limited, Preferably it is 1-60, More preferably, it is 1-40, More preferably, it is 10-40. The “(p + q) valence” in the (p + q) valent hydrocarbon group means that (p + q) hydrogen atoms in the hydrocarbon are removed, and p X SC1 groups and q X SC2 groups are bonded thereto. Indicates to do. p and q represent an integer of 0 to 6, 1 ≦ (p + q) ≦ 6, and preferably 1 ≦ (p + q) ≦ 4. Moreover, the case where both p and q are 1 is preferable.

上記一般式(SC1)で表される化合物は、合成物でも天然物でもよい。天然物あるいは合成物であっても、天然物の高級脂肪酸やアルコールを原料とした合成化合物は、炭素数の異なるものや直鎖と分岐のものを含み、これらの混合物となるが、これらの混合物を使用することは何等差し支えない。組成の品質安定性の観点からは合成物が好ましい。   The compound represented by the general formula (SC1) may be a synthetic product or a natural product. Even if it is a natural product or a synthetic product, a synthetic compound using a higher fatty acid or alcohol as a raw material includes those having different numbers of carbon atoms and those having a straight chain and a branched chain. There is no problem using it. From the viewpoint of the quality stability of the composition, a synthetic product is preferable.

以下に、好ましい一般式(SC1)または一般式(SC2)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of a compound represented with preferable general formula (SC1) or general formula (SC2) below is shown, this invention is not limited to these.

ラウリン酸アミド、パルチミン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、N−ラウリルラウリン酸アミド、N−パルミチルパルミチン酸アミド、N−ステアリルステアリン酸アミド、N−オレイルオレイン酸アミド、N−ステアリルオレイン酸アミド、N−オレイルステアリン酸アミド、N−ステアリルエルカ酸アミド、N−オレイルパルミチン酸アミド、N−ステアリル−ヒドロキシステアリン酸アミド、N−オレイル−ヒドロキシステアリン酸アミド、メチロールステアリン酸アミド、メチロールベヘン酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、メチレンビスラウリン酸アミド、メチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、エチレンビスカプリル酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスイソステアリン酸アミド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、エチレンビスベヘン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビスベヘン酸アミド、ヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、ブチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、N,N′−ジステアリルアジピン酸アミド、N,N′−ジステアリルセバシン酸アミド、メチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスオレイン酸アミド、エチレンビスエルカ酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、N,N′−ジオレイルアジピン酸アミド、N,N′−ジオレイルセバシン酸アミド、m−キシリレンステアリン酸アミド、N,N′−ジステアリルイソフタル酸アミド、エタノールアミンジステアレート、N−ブチル−N′−ステアリル尿素、N−フェニル−N′−ステアリル尿素、N−ステアリル−N′−ステアリル尿素、キシリレンビスステアリル尿素、トルイレンビスステアリル尿素、ヘキサメチレンビスステアリル尿素、ジフェニルメタンビスステアリル尿素。   Lauric acid amide, palmitic acid amide, stearic acid amide, behenic acid amide, hydroxy stearic acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, ricinoleic acid amide, N-lauryl lauric acid amide, N-palmityl palmitic acid amide, N- Stearyl stearic acid amide, N-oleyl oleic acid amide, N-stearyl oleic acid amide, N-oleyl stearic acid amide, N-stearyl erucic acid amide, N-oleyl palmitic acid amide, N-stearyl-hydroxystearic acid amide, N Oleyl-hydroxystearic acid amide, methylol stearic acid amide, methylol behenic acid amide, methylene bis stearic acid amide, methylene bis lauric acid amide, methylene bis hydroxy stearic acid amide, ethyl Biscaprylic acid amide, ethylene biscapric acid amide, ethylene bislauric acid amide, ethylene bisstearic acid amide, ethylene bisisostearic acid amide, ethylene bishydroxystearic acid amide, ethylene bisbehenic acid amide, hexamethylene bisstearic acid amide, hexamethylene Bisbehenic acid amide, hexamethylene bishydroxystearic acid amide, butylene bishydroxystearic acid amide, N, N'-distearyl adipic acid amide, N, N'-distearyl sebacic acid amide, methylene bisoleic acid amide, ethylenebis Oleic acid amide, ethylene bis erucic acid amide, hexamethylene bis oleic acid amide, N, N′-dioleyl adipic acid amide, N, N′-dioleyl sebacic acid amide, -Xylylene stearamide, N, N'-distearylisophthalamide, ethanolamine distearate, N-butyl-N'-stearyl urea, N-phenyl-N'-stearyl urea, N-stearyl-N ' -Stearyl urea, xylylene bisstearyl urea, toluylene bisstearyl urea, hexamethylene bisstearyl urea, diphenylmethane bisstearyl urea.

有機固体潤滑剤は、予め塗布液中に分散した状態で用いるのが好ましい。有機固体潤滑剤は、名の如く表面が滑り易い性質になっているため、水とも有機溶媒とも親和性は十分に高くないことが多く、分散液の安定性が低いと塗布液中で凝集もしくは沈降などを起こす場合がある。塗布液中での凝集もしくは沈降は、フィルムに加工した際に塗布故障の原因となり好ましくない。分散液の安定性を高める方法としては、表面を改質し静電気的な効果を用いる方法や高分子分散剤による表面吸着層を利用した立体障害の効果を用いる方法などが上げられる。前者は一般的な分散安定化方法であるが、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いるという点から表面改質剤自身の他の性能への影響が懸念されるため、又、水系、非水系のどちらでも効果の発現し易い後者の方法が好ましい。   The organic solid lubricant is preferably used in a state of being dispersed in the coating solution in advance. As the name suggests, the organic solid lubricant has a property that the surface is slippery, and therefore, the affinity between water and the organic solvent is not sufficiently high in many cases. It may cause sedimentation. Aggregation or sedimentation in the coating solution is undesirable because it causes coating failure when processed into a film. Examples of a method for improving the stability of the dispersion include a method of modifying the surface and using an electrostatic effect, and a method of using a steric hindrance effect using a surface adsorbing layer by a polymer dispersant. The former is a general dispersion stabilization method, but there is a concern about the influence on the other performance of the surface modifier itself because it is used for silver salt photothermographic dry imaging materials. In either case, the latter method is preferable because the effect is easily exhibited.

尚、高分子分散剤としては、当該感光材料に用いられているバインダーを利用することができる。具体的には、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等を利用できる。   As the polymer dispersant, a binder used in the photosensitive material can be used. Specifically, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, and the like can be used.

高分子分散剤の量は、被分散物である有機固体潤滑剤粒子に対し1〜200質量%の範囲で用いることが好ましい。分散方法は特に限定されないが、ディゾルバー式、超音波式、圧力式などを用いることができ、発熱しないよう冷却装置が備えられた分散装置で分散処理することが好ましい。   The amount of the polymer dispersant is preferably used in the range of 1 to 200% by mass with respect to the organic solid lubricant particles as a dispersion. A dispersion method is not particularly limited, but a dissolver type, an ultrasonic type, a pressure type, or the like can be used, and it is preferable to perform a dispersion treatment with a dispersion device provided with a cooling device so as not to generate heat.

上記有機固体潤滑剤粒子の平均粒径は、下記方法による分散後の平均粒径を指す。本発明で言う平均粒径を求めるには、潤滑剤粒子を含む分散液を希釈して、カーボン支持膜付きグリッド上に滴下、乾燥させた試料を透過型電子顕微鏡(日本電子社製:2000FX型など)、直接倍率5000倍にて撮影を行った後、スキャナーにてネガをデジタル画像として取り込み、適当な画像処理ソフトを用いて、それぞれの粒径(円相当径)を300個以上測定し、その算術平均より平均粒径を求めることができる。   The average particle diameter of the organic solid lubricant particles refers to the average particle diameter after dispersion by the following method. In order to obtain the average particle size referred to in the present invention, a dispersion liquid containing lubricant particles is diluted, dropped onto a grid with a carbon support film and dried, and a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd .: 2000FX type) is used. Etc.), directly after taking a picture at a magnification of 5000 times, a negative is captured as a digital image by a scanner, and each particle size (equivalent circle diameter) is measured by 300 or more using an appropriate image processing software. The average particle diameter can be obtained from the arithmetic average.

本発明の感光材料においては、支持体上の少なくとも1層が前記一般式(SC1)又は/及び一般式(SC2)で表される化合物を含有し、かつ非イオン性含フッ素界面活性剤とアニオン性含フッ素界面活性剤とを含有することが好ましい。   In the light-sensitive material of the present invention, at least one layer on the support contains the compound represented by the general formula (SC1) and / or the general formula (SC2), and a nonionic fluorine-containing surfactant and an anion. It is preferable to contain a fluorinated surfactant.

用いることのできる非イオン性含フッ素界面活性剤としては特に制限はないが、下記一般式(AIF)で表される化合物が好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as a nonionic fluorine-containing surfactant which can be used, The compound represented with the following general formula (AIF) is preferable.

一般式(AIF) Rf1−(AO)n−Rf2
式中、Rf1及びRf2はフッ素含有脂肪族基を表し、同じでも異なってもよい。AOは少なくとも一つのアルキレンオキシ基を有する2価基を表し、nは1〜30の整数を表す。
Formula (AIF) R f1- (AO) n -R f2
In the formula, R f1 and R f2 represent a fluorine-containing aliphatic group, and may be the same or different. AO represents a divalent group having at least one alkyleneoxy group, and n represents an integer of 1 to 30.

f1及びRf2で表されるフッ素含有脂肪族基としては、直鎖、分岐鎖及び環式、又はこれらの組合せから成る脂肪族基、例えばアルキルシクロ脂肪族基が挙げられる。好ましいフッ素含有脂肪族基としては、それぞれ炭素数1〜20のフルオロアルキル基(−C49、−C817等)、スルホフルオロアルキル基(C715SO3 -、C817SO3 -等)、Cn2n+1SO2N(R1)R2−基(R1は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボキシル基又はアリール基、R2は炭素数1〜20のアルキレン基、アルキレンカルボニル基を表し、nは1〜20の整数を表す。C715SO2N(C25)CH2−、C817SO2N(CH2COOH)CH2CH2CH2−等)で、これらは更に置換基を有してもよい。 Examples of the fluorine-containing aliphatic group represented by R f1 and R f2 include aliphatic groups composed of linear, branched and cyclic groups, or combinations thereof, such as alkylcycloaliphatic groups. Preferred fluorine-containing aliphatic group, each fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms (-C 4 F 9, -C 8 F 17 , etc.), a sulfo fluoroalkyl group (C 7 F 15 SO 3 - , C 8 F 17 SO 3 etc.), C n F 2n + 1 SO 2 N (R 1 ) R 2 — group (R 1 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group, an alkyl carboxyl group or an aryl group, R 2 represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms or an alkylenecarbonyl group, and n represents an integer of 1 to 20. C 7 F 15 SO 2 N (C 2 H 5 ) CH 2 —, C 8 F 17 SO 2 N (CH 2 COOH) CH 2 CH 2 CH 2 — and the like), which may further have a substituent.

AOはエチレンオキシ、プロピレンオキシ、i−プロピレンオキシ等のアルキレンオキシ基を有する基で、末端にアミノ基等の置換基を有してもよい。nは好ましくは5〜15の整数である。   AO is a group having an alkyleneoxy group such as ethyleneoxy, propyleneoxy, i-propyleneoxy, and may have a substituent such as an amino group at the terminal. n is preferably an integer of 5 to 15.

一般式(AIF)で表される非イオン性含フッ素界面活性剤の例としては、下記に具体的化合物を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the nonionic fluorine-containing surfactant represented by the general formula (AIF) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007286607
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又、本発明で用いることのできるアニオン性含フッ素界面活性剤(FA)としては、特に制限はなく、下記に具体的化合物を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Moreover, there is no restriction | limiting in particular as an anionic fluorine-containing surfactant (FA) which can be used by this invention, Although a specific compound is shown below, this invention is not limited to these.

Figure 2007286607
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上記それぞれの含フッ素系界面活性剤の使用量は、一般に感光材料1m2当たり0.01〜1gがよく、10〜500mgが好ましい。より好ましくは50〜300mgである。 The amount of each of the fluorine-containing surfactants used is generally 0.01 to 1 g, preferably 10 to 500 mg per 1 m 2 of the photosensitive material. More preferably, it is 50-300 mg.

含フッ素系界面活性剤としては、上記の他に特開昭60−244945号、同63−306437号、特開平1−24245号に記載のイオン性フッ素系界面活性剤、特開平5−197068号、同5−204115号等に記載のアニオン・カチオン併用のフッ素系界面活性剤を用いることができる。   As fluorine-containing surfactants, in addition to the above, ionic fluorine-based surfactants described in JP-A-60-244945, JP-A-63-306437, JP-A-1-24245, and JP-A-5-197068. Fluorosurfactants used in combination with anions and cations described in JP-A-5-204115 can be used.

該含フッ素系界面活性剤の添加層としては特に限定がなく、どの層にあってもよいが、最表面層に含有されることが好ましい。   The addition layer of the fluorine-containing surfactant is not particularly limited and may be in any layer, but is preferably contained in the outermost surface layer.

[支持体]
銀塩光熱写真ドライイメージング材料に用いる支持体の素材としては、各種高分子材料、ガラス、ウール布、コットン布、紙、金属(アルミニウム等)等が挙げられるが、情報記録材料としての取扱い上は、可撓性のあるシート又はロールに加工できるものが好適である。従って、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料における支持体としては、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、セルローストリアセテートフィルム(TAC)又はポリカーボネート(PC)フィルム等のプラスチックフィルムが好ましく、特に2軸延伸したPETフィルムが特に好ましい。支持体の厚みとしては50〜300μm程度、好ましくは70〜180μmである。
[Support]
Examples of the support material used for the silver salt photothermographic dry imaging material include various polymer materials, glass, wool cloth, cotton cloth, paper, metal (aluminum, etc.), etc. A material that can be processed into a flexible sheet or roll is preferred. Therefore, as a support in the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention, cellulose acetate film, polyester film, polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polyamide film, polyimide film, cellulose triacetate film ( A plastic film such as a TAC) or polycarbonate (PC) film is preferable, and a biaxially stretched PET film is particularly preferable. The thickness of the support is about 50 to 300 μm, preferably 70 to 180 μm.

帯電性を改良するために金属酸化物及び/又は導電性ポリマー等の導電性化合物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの層に含有させてもよいが、好ましくはバッキングクコート層又は感光性層側の表面保護層、下引き層等に含まれる。米国特許5,244,773号のカラム14〜20に記載の導電性化合物等が好ましく用いられる。   In order to improve the charging property, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be included in the constituent layer. These may be contained in any layer, but are preferably contained in the backing coat layer or the surface protective layer on the photosensitive layer side, the undercoat layer, and the like. The conductive compounds described in columns 14 to 20 of US Pat. No. 5,244,773 are preferably used.

中でも、本発明では、バッキングクコート層側の表面保護層に導電性金属酸化物を含有することが好ましい。ここで、導電性金属酸化物とは、結晶性の金属酸化物粒子であり、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は、一般的に導電性が高いので特に好ましく、特に後者はハロゲン化銀粒子乳剤にカブリを与えないので好ましい。金属酸化物の例としてZnO、TiO2、SnO2、Al23、In23、SiO2、MgO、BaO、MoO3、V25等、又はこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、TiO2及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、In等の添加、SnO2に対してはSb、Nb、P、ハロゲン元素等の添加、又TiO2に対してはNb、Ta等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は0.01〜30モル%の範囲が好ましいが、0.1〜10モル%であれば特に好ましい。更に又、微粒子分散性、透明性改良のために、微粒子作製時に珪素化合物を添加してもよい。 Especially, in this invention, it is preferable to contain a conductive metal oxide in the surface protective layer by the side of a backing quark layer. Here, the conductive metal oxide is crystalline metal oxide particles, and those containing oxygen defects and those containing a small amount of hetero atoms forming a donor with respect to the metal oxide used are generally used. In particular, the latter is preferable because it has high conductivity, and the latter is particularly preferable because it does not give fog to the silver halide grain emulsion. Examples of metal oxides are ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , SiO 2 , MgO, BaO, MoO 3 , V 2 O 5, etc., or a composite oxide thereof, especially ZnO, TiO 2 and SnO 2 are preferred. As an example of containing a heteroatom, addition Al, or In respect ZnO, Sb for SnO 2, Nb, P, the addition of such a halogen element, and Nb for TiO 2, Ta etc. Is effective. The amount of these different atoms added is preferably in the range of 0.01 to 30 mol%, but particularly preferably 0.1 to 10 mol%. Furthermore, a silicon compound may be added during the production of fine particles in order to improve fine particle dispersibility and transparency.

本発明に用いられる金属酸化物微粒子は導電性を有しており、その体積抵抗率は107Ω・cm以下、特に105Ω・cm以下である。これらの酸化物については、特開昭56−143431号、同56−120519号、同58−62647号等に記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記載の如く、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状物(酸化チタン等)に上記の金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。 The metal oxide fine particles used in the present invention have electrical conductivity, and the volume resistivity is 10 7 Ω · cm or less, particularly 10 5 Ω · cm or less. These oxides are described in JP-A Nos. 56-143431, 56-120519, and 58-62647. Furthermore, as described in Japanese Examined Patent Publication No. 59-6235, a conductive material in which the above metal oxide is attached to other crystalline metal oxide particles or fibrous materials (such as titanium oxide) may be used. .

導電性金属酸化物の粒子サイズは1μm以下が好ましく、0.5μm以下だと分散後の安定性が良く使用し易い。又、光散乱性をできるだけ小さくするために0.3μm以下の導電性粒子を利用すると、透明感光材料を形成することが可能となり大変好ましい。又、導電性金属酸化物が針状あるいは繊維状の場合は、その長さは30μm以下で直径は1μm以下が好ましく、特に好ましくは長さが10μm以下で直径が0.3μm以下であり、長さ/直径比が3以上である。尚、SnO2としては石原産業社より市販されており、SNS10M、SN−100P、SN−100D、FSS10M等を用いることができる。 The particle size of the conductive metal oxide is preferably 1 μm or less. When the particle size is 0.5 μm or less, the stability after dispersion is good and it is easy to use. In order to make the light scattering property as small as possible, it is very preferable to use conductive particles of 0.3 μm or less because a transparent photosensitive material can be formed. Further, when the conductive metal oxide is needle-like or fibrous, the length is preferably 30 μm or less and the diameter is preferably 1 μm or less, particularly preferably the length is 10 μm or less and the diameter is 0.3 μm or less. The thickness / diameter ratio is 3 or more. SnO 2 is commercially available from Ishihara Sangyo Co., Ltd., and SNS10M, SN-100P, SN-100D, FSS10M and the like can be used.

[層構成]
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、支持体上に少なくとも1層の画像形成層である感光性層を有している。支持体上に感光性層のみを形成してもよいが、感光性層の上に少なくとも1層の非画像形成層を形成することが好ましい。例えば感光性層の上には、感光性層を保護する目的で保護層が設けられるのが好ましく、又、支持体の反対の面には、感光材料間の、又は感光材料を搬送するロールにおける「くっ付き」を防止するために、バックコート層が設けられる。
[Layer structure]
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention has a photosensitive layer which is at least one image forming layer on a support. Although only the photosensitive layer may be formed on the support, it is preferable to form at least one non-image forming layer on the photosensitive layer. For example, a protective layer is preferably provided on the photosensitive layer for the purpose of protecting the photosensitive layer, and the opposite surface of the support is between the photosensitive materials or in a roll for conveying the photosensitive material. In order to prevent “sticking”, a backcoat layer is provided.

尚、階調調整等のために、感光性層を支持体の一方の側に2層以上、又は支持体の両側に1層以上ずつ設置してもよい。   For gradation adjustment or the like, two or more photosensitive layers may be provided on one side of the support or one or more layers on both sides of the support.

[構成層の塗布]
銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、上述した各構成層の素材を溶媒に溶解又は分散させた塗布液を作り、それら塗布液を複数同時に重層塗布した後、加熱処理を行って形成されることが好ましい。ここで「複数同時に重層塗布」とは、各構成層(感光性層、保護層など)の塗布液を調製し、これを支持体へ塗布する際に、各層個別に塗布・乾燥の繰返しをするのではなく、同時に重層塗布を行い、乾燥する工程も同時に行える状態で各構成層を形成することを意味する。即ち、下層中の全溶剤の残存量が70質量%以下、より好ましくは90質量%以下となる前に上層を設けることである。
[Application of component layers]
The silver salt photothermographic dry imaging material can be formed by preparing a coating solution in which the above-described constituent layers are dissolved or dispersed in a solvent, applying a plurality of these coating solutions simultaneously, and then performing a heat treatment. preferable. Here, “multiple simultaneous multi-layer coating” means that a coating solution for each constituent layer (photosensitive layer, protective layer, etc.) is prepared, and when this is coated on a support, the coating and drying are repeated for each layer individually. Instead, it means that the respective constituent layers are formed in such a state that simultaneous multilayer coating and drying can be performed. That is, the upper layer is provided before the remaining amount of the total solvent in the lower layer becomes 70% by mass or less, more preferably 90% by mass or less.

各構成層を複数同時に重層塗布する方法には特に制限はなく、例えばバーコーター法、カーテンコート法、浸漬法、エアーナイフ法、ホッパー塗布法、リバースロール塗布法、グラビア塗布法、エクストリュージョン塗布法等の公知の方法を用いることができる。これらの各種方法の内、より好ましくはスライド塗布法、エクストリュージョン塗布法である。これらの塗布方法は感光性層を有する側について述べたが、バックコート層を設ける際、下引き層と共に塗布する場合についても同様である。銀塩光熱写真ドライイメージング材料における同時重層塗布方法に関しては、特開2000−15173号に詳細な記載がある。   There are no particular restrictions on the method of applying multiple layers of each constituent layer simultaneously, for example, bar coater method, curtain coating method, dipping method, air knife method, hopper coating method, reverse roll coating method, gravure coating method, extrusion coating. A known method such as a method can be used. Of these various methods, the slide coating method and the extrusion coating method are more preferable. These coating methods have been described on the side having the photosensitive layer, but the same applies to the case of coating with the undercoat layer when the backcoat layer is provided. Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-15173 has a detailed description on the simultaneous multilayer coating method in the silver salt photothermographic dry imaging material.

(塗布銀量)
塗布銀量は感光材料の目的に応じた適量を選ぶことが好ましいが、医療用画像を目的とする場合には、0.8〜1.5g/m2が好ましく、1.0〜1.3g/m2がより好ましい。当該塗布銀量の中、ハロゲン化銀粒子に由来するものは、全銀量に対して2〜18%を占めることが好ましく、更には5〜15%が好ましい。又、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子の塗布密度は1×1014〜1×1018個/m2が好ましい。更には1×1015〜1×1017個/m2が好ましい。
(Amount of applied silver)
The silver coating amount is preferably selected in accordance with the purpose of the light-sensitive material, but is preferably 0.8 to 1.5 g / m 2 for the purpose of medical images, and 1.0 to 1.3 g. / M 2 is more preferable. Among the coated silver amount, those derived from silver halide grains preferably occupy 2 to 18%, more preferably 5 to 15%, based on the total silver amount. The coating density of silver halide grains of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter equivalent to sphere) is preferably 1 × 10 14 to 1 × 10 18 particles / m 2 . Furthermore, 1 * 10 < 15 > -1 * 10 < 17 > piece / m < 2 > is preferable.

更に、前記の非感光性長鎖脂肪族カルボン酸銀の塗布密度は、0.01μm以上(球相当換算粒径)のハロゲン化銀粒子1個当たり1×10-17〜1×10-14gが好ましく、1×10-16〜1×10-15gがより好ましい。 Furthermore, the coating density of the non-photosensitive long-chain aliphatic carboxylate is 1 × 10 −17 to 1 × 10 −14 g per silver halide grain of 0.01 μm or more (equivalent particle diameter in terms of sphere). Is preferably 1 × 10 −16 to 1 × 10 −15 g.

上記のような範囲内の条件において塗布した場合には、一定塗布銀量当たりの銀画像の光学最高濃度、即ち銀被覆量(カバーリング・パワー)及び銀画像の色調等の観点から好ましい結果が得られる。   When the coating is performed under the conditions within the above ranges, a preferable result is obtained from the viewpoint of the optical maximum density of the silver image per fixed coating silver amount, that is, the silver coating amount (covering power) and the color tone of the silver image. can get.

本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、現像時に溶剤を5〜1000mg/m2の範囲で含有していることが好ましい。10〜150mg/m2であるように調整することがより好ましい。それにより、高感度、低カブリ、最高濃度の高い銀塩光熱写真ドライイメージング材料となる。溶剤としては、特開2001−264930号公報の段落「0030」に記載のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらの溶剤は、単独又は数種類組み合わせて用いることができる。尚、感光材料中の上記溶剤の含有量は、塗布工程後の乾燥工程等における温度条件等の条件変化によって調整できる。又、当該溶剤の含有量は、含有させた溶剤を検出するために適した条件下におけるガスクロマトグラフィーで測定できる。 The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably contains a solvent in the range of 5 to 1000 mg / m 2 during development. It is more preferable to adjust so that it may be 10-150 mg / m < 2 >. As a result, a silver salt photothermographic dry imaging material with high sensitivity, low fog and high maximum density is obtained. Examples of the solvent include, but are not limited to, those described in JP-A No. 2001-264930, paragraph “0030”. These solvents can be used alone or in combination of several kinds. The content of the solvent in the photosensitive material can be adjusted by changing conditions such as temperature conditions in the drying step after the coating step. The content of the solvent can be measured by gas chromatography under conditions suitable for detecting the contained solvent.

[熱現像処理処理]
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、像様露光後、所望の現像温度で加熱することで画像形成する熱現像処理装置で処理することを特徴とする。
[Heat development processing]
The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention is characterized in that after imagewise exposure, the silver salt photothermographic dry imaging material is processed by a heat development processing apparatus that forms an image by heating at a desired development temperature.

本発明で言うレーザーイメージャー(熱現像処理装置)は、構成としては、フィルムトレイで代表されるフィルム供給装置部、レーザー画像記録装置部、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の全面に均一で安定した熱を供給する熱現像装置部、フィルム供給部からレーザー記録を経て、熱現像により画像形成された銀塩光熱写真ドライイメージング材料を装置外に排出する迄の搬送装置部から構成される。   The laser imager (heat development processing apparatus) referred to in the present invention has a structure that is uniform and stable over the entire surface of a film supply unit represented by a film tray, a laser image recording unit, and a silver salt photothermographic dry imaging material. A heat developing unit for supplying heat and a conveying unit for discharging the silver salt photothermographic dry imaging material formed by heat development through laser recording from the film supply unit to the outside of the apparatus.

(露光レーザー画像記録装置部)
本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料の露光、あるいは本発明の画像形成方法における露光については、目的とする適切な画像を得るために適した光源、露光時間等に関し、種々の条件を採用することができる。
(Exposure laser image recording unit)
Regarding the exposure of the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention or the exposure in the image forming method of the present invention, various conditions are adopted with respect to the light source, exposure time, etc. suitable for obtaining the desired appropriate image. be able to.

本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、画像記録する際にレーザー光線を用いるのが好ましい。又、当該感光材料に付与した感色性に対し適切な光源を用いることが望ましい。   The silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably uses a laser beam when recording an image. It is desirable to use a light source suitable for the color sensitivity imparted to the photosensitive material.

露光に用いるレーザーとしては、一般によく知られている、ルビーレーザー、YAGレーザー、ガラスレーザー等の固体レーザー;He−Neレーザー、Arイオンレーザー、Krイオンレーザー、CO2レーザー、COレーザー、He−Cdレーザー、N2レーザー、エキシマーレーザー等の気体レーザー;InGaPレーザー、AlGaAsレーザー、GaAsPレーザー、InGaAsレーザー、InAsPレーザー、CdSnP2レーザー、GaSbレーザー等の半導体レーザー;化学レーザー、色素レーザー等を用途に合わせて適時選択して使用できるがこれらの中でも、メンテナンスや光源の大きさの問題から、波長が600〜1200nmの半導体レーザーによるレーザー光を用いるのが好ましい。また、当該感光材料を赤外光に感じ得るものとした場合は、赤外光域ならば如何なる光源にも適用可能であるが、レーザーパワーがハイパワーであることや、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を透明にできる等の点から、赤外半導体レーザー(780nm、820nm)がより好ましく用いられる。 As lasers used for exposure, generally well-known solid lasers such as ruby laser, YAG laser, and glass laser; He—Ne laser, Ar ion laser, Kr ion laser, CO 2 laser, CO laser, He—Cd Gas lasers such as laser, N 2 laser, and excimer laser; semiconductor lasers such as InGaP laser, AlGaAs laser, GaAsP laser, InGaAs laser, InAsP laser, CdSnP 2 laser, and GaSb laser; Among them, it is preferable to use laser light from a semiconductor laser having a wavelength of 600 to 1200 nm because of maintenance and the problem of the size of the light source. If the photosensitive material is sensitive to infrared light, it can be applied to any light source as long as it is in the infrared light range. However, the laser power is high, or silver salt photothermographic dry imaging. In view of the ability to make the material transparent, an infrared semiconductor laser (780 nm, 820 nm) is more preferably used.

又、画像形成層中のハレーション染料及び感光性ハロゲン化銀粒子の分光感度分布を調整すれば、本発明の構成を用いた銀塩光熱写真ドライイメージング材料でも青〜紫発光の半導体レーザー(波長350〜440nmにピーク強度を持つもの等)を用いることができる。青〜紫発光の高出力半導体レーザーとしては、日亜化学社製NLHV3000E半導体レーザーを挙げることができる。   Further, if the spectral sensitivity distribution of the halation dye and the photosensitive silver halide grains in the image forming layer is adjusted, even a silver salt photothermographic dry imaging material using the structure of the present invention can emit a blue to violet semiconductor laser (wavelength 350). And the like having a peak intensity at ˜440 nm can be used. Examples of the blue to purple light-emitting high-power semiconductor laser include NLHV3000E semiconductor laser manufactured by Nichia Corporation.

尚、レーザーイメージャーやレーザーイメージセッターで使用されるレーザーにおいて、銀塩光熱写真ドライイメージング材料に走査される時の該材料露光面でのビームスポット径は、一般に短軸径として5〜75μm、長軸径として5〜100μmの範囲であり、レーザー光走査速度は銀塩光熱写真ドライイメージング材料固有のレーザー発振波長における感度とレーザーパワーによって、銀塩光熱写真ドライイメージング材料毎に最適な値に設定することができる。   In the laser used in a laser imager or a laser image setter, the beam spot diameter on the exposed surface of the material when scanned with a silver salt photothermographic dry imaging material is generally 5 to 75 μm as a short axis diameter, and is long. The axial diameter is in the range of 5 to 100 μm, and the laser beam scanning speed is set to an optimum value for each silver salt photothermographic dry imaging material depending on the sensitivity and laser power at the laser oscillation wavelength inherent to the silver salt photothermographic dry imaging material. be able to.

又、本発明の銀塩光熱写真ドライイメージング材料は、好ましくは、光量が1mW/m2以上の高照度の光で短時間露光されることで、その特性を発揮する。ここでの照度とは、熱現像後の感光材料が3.0の光学濃度を得る時の照度を言う。このような高照度で露光を行うと必要な光学濃度を得るために必要な光量(=照度×露光時間)が少なくて済み、高感度システムを設計できる。より好ましくは、その光量は2mW/m2〜50W/m2であり、更に好ましくは10mW/m2〜50W/m2である。上記のような光源であれば、どのようなものでも構わないが、レーザーであることによって好ましく達成できる。 Moreover, the silver salt photothermographic dry imaging material of the present invention preferably exhibits its characteristics when exposed to light with high illuminance with a light amount of 1 mW / m 2 or more for a short time. The illuminance here means the illuminance when the photosensitive material after heat development obtains an optical density of 3.0. When exposure is performed at such high illuminance, the amount of light (= illuminance × exposure time) required to obtain a required optical density is small, and a high sensitivity system can be designed. More preferably, the light quantity is 2 mW / m 2 to 50 W / m 2 , and further preferably 10 mW / m 2 to 50 W / m 2 . Any light source may be used as long as it is as described above, but it can be preferably achieved by using a laser.

露光はレーザー走査露光により行うことが好ましいが、その露光方法には種々の方法が採用できる。例えば第1の好ましい方法として、感光材料の露光面と走査レーザー光の為す角が実質的に垂直になることがないレーザー走査露光機を用いる方法が挙げられる。   The exposure is preferably performed by laser scanning exposure, but various methods can be adopted as the exposure method. For example, as a first preferred method, there is a method using a laser scanning exposure machine in which the angle formed by the exposure surface of the photosensitive material and the scanning laser beam is not substantially perpendicular.

ここで、「実質的に垂直になることがない」とは、レーザー光走査中に最も垂直に近い角度として好ましくは55〜88度、より好ましくは60〜86度、更に好ましくは65〜84度、最も好ましくは70〜82度であることを言う。   Here, “substantially not vertical” is preferably 55 to 88 degrees, more preferably 60 to 86 degrees, and still more preferably 65 to 84 degrees as the angle closest to the vertical during laser beam scanning. , Most preferably 70-82 degrees.

レーザー光が感光材料に走査される時の感光材料露光面でのビームスポット直径は、好ましくは200μm以下、より好ましくは100μm以下である。これは、スポット径が小さい方が、レーザー光入射角度の垂直からの「ずらし角度」を減らせる点で好ましい。尚、ビームスポット直径の下限は10μmである。この様なレーザー走査露光を行うことにより、干渉縞様のムラの発生等の様な反射光に係る画質劣化を減じることができる。   The beam spot diameter on the photosensitive material exposure surface when the photosensitive material is scanned with the laser beam is preferably 200 μm or less, more preferably 100 μm or less. This is preferable in that a smaller spot diameter can reduce the “shift angle” from the vertical of the laser beam incident angle. The lower limit of the beam spot diameter is 10 μm. By performing such laser scanning exposure, it is possible to reduce image quality deterioration related to reflected light such as generation of interference fringe-like unevenness.

又、第2の方法として、露光は縦マルチである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を用いて行うことも好ましい。縦単一モードの走査レーザー光に比べて干渉縞様のムラの発生等の画質劣化が減少する。縦マルチ化するには、合波による戻り光を利用する、高周波重畳を掛ける等の方法がよい。尚、縦マルチとは、露光波長が単一でないことを意味し、通常、露光波長の分布が5nm以上、好ましくは10nm以上になるとよい。露光波長の分布の上限には特に制限はないが、通常60nm程度である。   Further, as a second method, it is also preferable to perform exposure using a laser scanning exposure machine that emits scanning laser light that is a vertical multi. Compared with a single longitudinal mode scanning laser beam, image quality degradation such as generation of interference fringe-like unevenness is reduced. In order to make a vertical multiplex, methods such as using return light by multiplexing and applying high frequency superposition are preferable. Note that the vertical multi means that the exposure wavelength is not single, and the distribution of the exposure wavelength is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more. The upper limit of the exposure wavelength distribution is not particularly limited, but is usually about 60 nm.

更に、第3の態様としては、2本以上のレーザー光を用いて、走査露光により画像を形成することも好ましい。この様な複数本のレーザー光を利用した画像記録方法としては、高解像度化、高速化の要求から1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むレーザープリンタやデジタル複写機の画像書込み手段で使用されている技術であり、例えば特開昭60−166916号等により知られている。これは、光源ユニットから放射されたレーザー光をポリゴンミラーで偏向走査し、fθレンズ等を介して感光体上に結像する方法であり、これはレーザーイメージャー等と原理的に同じレーザー走査光学装置である。   Furthermore, as a third aspect, it is also preferable to form an image by scanning exposure using two or more laser beams. As such an image recording method using a plurality of laser beams, it is used in an image writing means of a laser printer or a digital copying machine for writing an image for each line by one scanning because of a demand for high resolution and high speed. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 60-166916 is known. This is a method in which laser light emitted from a light source unit is deflected and scanned by a polygon mirror and imaged on a photoconductor via an fθ lens or the like. This is in principle the same laser scanning optics as a laser imager or the like. Device.

レーザープリンタやデジタル複写機の画像書込み手段における感光体上へのレーザー光の結像は、1回の走査で複数ラインずつ画像を書き込むという用途から、一つのレーザー光の結像位置から1ライン分ずらして次のレーザー光が結像されている。具体的には、2つの光ビームは、互いに副走査方向に像面上で数10μmオーダーの間隔で近接しており、印字密度が400dpi(dpiとは、1インチ=2.54cm当たりのドット数を表す)で2ビームの副走査方向ピッチは63.5μm、600dpiで42.3μmである。   The image formation of laser light on the photoconductor in the image writing means of laser printers and digital copiers is for the purpose of writing images line by line in one scan, and one line from the image formation position of one laser light. The next laser beam is imaged by shifting. Specifically, the two light beams are close to each other on the image plane in the sub-scanning direction with an interval of the order of several tens of μm, and the printing density is 400 dpi (dpi is the number of dots per inch = 2.54 cm). The sub-scanning direction pitch of the two beams is 63.5 μm, and 42.3 μm at 600 dpi.

この様な、副走査方向に解像度分ずらした方法とは異なり、本発明では同一の場所に2本以上のレーザーを、入射角を変え露光面に集光させ画像形成することが好ましい。この際、通常の1本のレーザー光(波長λ[nm])で書き込む場合の露光面での露光エネルギーがEであり、露光に使用するN本のレーザー光線が同一波長(波長λ[nm])、同一露光エネルギー(En)である場合に、0.9×E≦En×N≦1.1×Eの範囲にすることが好ましい。この様にすることにより、露光面ではエネルギーは確保されるが、それぞれのレーザー光線の画像形成層への反射は、レーザーの露光エネルギーが低いため低減され、惹いては干渉縞の発生が抑えられる。 Unlike the method of shifting the resolution in the sub-scanning direction as described above, in the present invention, it is preferable to form an image by condensing two or more lasers at the same location on the exposure surface while changing the incident angle. In this case, the exposure energy on the exposure surface when writing with one ordinary laser beam (wavelength λ [nm]) is E, and N laser beams used for exposure have the same wavelength (wavelength λ [nm]). In the case of the same exposure energy (E n ), it is preferable that the range is 0.9 × E ≦ E n × N ≦ 1.1 × E. By doing so, energy is secured on the exposure surface, but the reflection of each laser beam to the image forming layer is reduced because the exposure energy of the laser is low, and the occurrence of interference fringes is suppressed.

尚、上述では複数本のレーザー光の波長をλ[nm]と同一のものを使用したが、波長の異なるものを用いてもよい。この場合には、λ[nm]に対して(λ−30)<λ1、λ2、・・・・・λn≦(λ+30)の範囲にするのが好ましい。 In the above description, the wavelength of the plurality of laser beams is the same as that of λ [nm], but those having different wavelengths may be used. In this case, it is preferable that (λ−30) <λ 1 , λ 2 ,... Λ n ≦ (λ + 30) with respect to λ [nm].

(現像処理熱現像装置部)
本発明においては、迅速化の観点から、露光処理と熱現像処理を同時に行う態様に対応する必要がある。露光処理と熱現像処理を同時に行う、即ち、シート感光材料フィルムの一部分を露光しながら、既に露光が為されたシートフィルムの一部分で熱現像が開始されるためには、露光処理を行う露光部と熱現像部の間の距離が0〜50cmであることが好ましく、これにより露光・現像の一連の処理時間が極めて短くなる。この距離の好ましい範囲は3〜40cmであり、より好ましくは5〜30cmである。ここで露光部とは、露光光源からの光が銀塩光熱写真ドライイメージング材料に照射される位置を言い、熱現像部とは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料が熱現像を行うために初めて加熱される位置を言う。
(Development heat development unit)
In the present invention, from the viewpoint of speeding up, it is necessary to correspond to an embodiment in which exposure processing and heat development processing are performed simultaneously. An exposure unit that performs exposure processing in order to perform exposure processing and thermal development processing simultaneously, that is, to start thermal development on a part of a sheet film that has already been exposed while exposing a part of the sheet photosensitive material film. It is preferable that the distance between the heat developing part and the heat developing part is 0 to 50 cm, and this makes a series of processing time of exposure and development extremely short. The preferable range of this distance is 3 to 40 cm, more preferably 5 to 30 cm. Here, the exposure part refers to the position where the light from the exposure light source is irradiated to the silver salt photothermographic dry imaging material, and the thermal development part refers to the first heating for the silver salt photothermographic dry imaging material to perform thermal development. Say the position to be.

尚、感光材料シートフィルムの熱現像部における搬送速度は20〜200mm/秒であり、特に好ましくは30〜150mm/秒である。搬送速度をこの範囲とすることにより、熱現像時の濃度ムラを改良でき、又、処理時間が短縮できるため、緊急時の診断にも対応できて好ましい。   In addition, the conveyance speed in the heat development part of a photosensitive material sheet film is 20-200 mm / sec, Especially preferably, it is 30-150 mm / sec. By setting the conveyance speed within this range, density unevenness during heat development can be improved, and the processing time can be shortened.

(加熱方法)
加熱手段は加熱ドラム、加熱プレート等との接触加熱、輻射等の非接触加熱、何れの手段を用いても構わないが、加熱プレートとの接触加熱が好ましい。接触加熱面は画像形成層(感光性層)側、非画像形成層(非感光性層)側の何れでも構わないが、処理環境に対する安定性から非画像形成層(非感光層)側が接触加熱面であることが好ましい。現像部は独立して温度制御された複数のゾーン及び複数の手段を組み合わせて構成されていることが好ましく、更には、特定の現像温度を維持する保温ゾーンを少なくとも一つ有していることが好ましい。従って、本発明に好ましく使用できる熱現像装置においては、熱現像プロセスを昇温部と保温部とで個別の構成を採用でき、昇温部で加熱部材等の加熱手段とシートフィルムとの密な接触を図り濃度ムラの発生を抑え、保温部では、そのような密な接触を図る必要がなく、昇温部と保温部とで異なる最適な加熱方式を用いることで、濃度ムラのない高画質を維持しながら、熱現像プロセスの迅速化、装置の小型化及びコストダウンが可能な構成にできる。
(Heating method)
Any heating means may be used, such as contact heating with a heating drum or a heating plate, non-contact heating such as radiation, but contact heating with a heating plate is preferred. The contact heating surface can be either the image forming layer (photosensitive layer) side or the non-image forming layer (non-photosensitive layer) side, but the non-image forming layer (non-photosensitive layer) side is contact-heated for stability to the processing environment. A surface is preferred. The developing unit is preferably configured by combining a plurality of independently temperature-controlled zones and a plurality of means, and further has at least one heat retention zone for maintaining a specific developing temperature. preferable. Therefore, in the thermal development apparatus that can be preferably used in the present invention, the thermal development process can adopt a separate configuration for the temperature raising portion and the heat retaining portion, and the heating means such as a heating member and the sheet film are in close contact with each other. It is possible to prevent the occurrence of density unevenness by making contact, and it is not necessary to make such close contact in the heat retaining part, and by using an optimal heating method that is different between the temperature rising part and the heat retaining part, high image quality without density unevenness Thus, the heat development process can be speeded up, the size of the apparatus can be reduced, and the cost can be reduced.

(スリット熱現像方式)
上記熱現像装置において、前記昇温部は、前記銀塩光熱写真ドライイメージング材料のシートフィルムを対向ローラーによりプレートヒータに押圧して接触させながら加熱し、前記保温部は、少なくとも一方にヒータを有するガイド間に形成されたスリット内において前記シートフィルムを加熱する構成にできる。第1ゾーンの昇温部ではシートフィルムを対向ローラーによりプレートヒータに押圧して接触させることで、プレートヒータとシートフィルムとを密に接触させることができる一方、第2ゾーンの保温部では昇温部の対向ローラーによる搬送力でスリット間(ガイド隙間)において加熱(保温)しながら搬送すればよいので、濃度ムラのない高画質を維持しつつ、かつ、搬送系の駆動部品が不要になり、又、スリット寸法の精度もさほど要求されずに、装置の小型化及びコストダウンが可能になる。
(Slit heat development method)
In the above heat development apparatus, the temperature raising unit heats the sheet film of the silver salt photothermographic dry imaging material while pressing the sheet film against a plate heater by a counter roller, and the heat retaining unit has a heater in at least one of them. The sheet film can be heated in a slit formed between the guides. While the sheet heater is pressed against the plate heater by the opposing roller and brought into contact with the plate heater in the first zone, the plate heater and the sheet film can be brought into close contact with each other, while the temperature rise in the second zone is maintained. Since it is only necessary to carry while heating (warming) between the slits (guide gaps) with the conveying force of the opposite roller of the part, while maintaining high image quality without density unevenness, driving parts for the conveyance system become unnecessary, Further, the size of the apparatus can be reduced and the cost can be reduced without requiring much accuracy of the slit size.

この熱現像装置によれば、第1ゾーンで加熱部材等の加熱手段とシートフィルムとの密な接触を確保してシートフィルムの昇温を行うことで濃度ムラの発生を抑え、第2ゾーンでは、前記のような密な接触を図る必要がなく、ガイド隙間でシートフィルムの保温を行うことで濃度ムラのない高画質を維持しながら熱現像プロセスの迅速化、装置の小型化及びコストダウンが可能な構成にできる。ガイド隙間が3mm以下であると、第2ゾーンにおいてシートフィルムの搬送姿勢に関わらず保温性能に影響が少なく、又、固定ガイドと別のガイドとの配置精度がさほど要求されず、両ガイドの加工時の曲率誤差や取付け精度に対する許容量が大となり、大幅に設計の自由度を増す結果となり、装置のコスト削減に寄与できる。   According to this thermal development apparatus, the density of unevenness is suppressed by increasing the temperature of the sheet film by ensuring close contact between the heating means such as a heating member and the sheet film in the first zone, This eliminates the need for close contact as described above, and by keeping the sheet film warm in the guide gaps, it is possible to speed up the heat development process, reduce the size of the apparatus, and reduce costs while maintaining high image quality without uneven density. Possible configuration. When the guide gap is 3 mm or less, there is little effect on the heat retaining performance regardless of the sheet film conveyance posture in the second zone, and the positioning accuracy between the fixed guide and another guide is not so required, and both guides are processed. The tolerance for the curvature error and the mounting accuracy at the time becomes large, resulting in a great increase in design freedom, which can contribute to the cost reduction of the apparatus.

上記熱現像装置において、前記第2ゾーンのガイド間隙が1〜3mmの範囲内であることが好ましい。ガイド隙間が1mm以上であると、シートフィルムの銀塩光熱写真ドライイメージング材料の塗布面(感光性層)がガイド面に触れ難くなり、傷発生の懼れが低下し好ましい。又、ガイド隙間が3mm以下であると、第2ゾーンにおいてシートフィルムの搬送姿勢に関わらず保温性能に影響が少なく、又、固定ガイドと別のガイドとの配置精度がさほど要求されず、両ガイドの加工時の曲率誤差や取付け精度に対する許容量が大となり、大幅に設計の自由度を増す結果となり、装置のコスト減に寄与できる。   In the thermal development apparatus, it is preferable that a guide gap of the second zone is in a range of 1 to 3 mm. When the guide gap is 1 mm or more, the coated surface (photosensitive layer) of the silver salt photothermographic dry imaging material of the sheet film is difficult to touch the guide surface, and the occurrence of scratches is reduced. Also, if the guide gap is 3 mm or less, there is little influence on the heat retention performance regardless of the sheet film conveyance posture in the second zone, and the placement accuracy between the fixed guide and another guide is not required so much. This increases the tolerance for the curvature error and the mounting accuracy during machining, greatly increasing the degree of design freedom, and can contribute to the cost reduction of the apparatus.

上記熱現像装置において、前記第2ゾーンの前記固定ガイドと前記ガイドが略同一の曲率を有することが好ましい。装置小型化等のために第2ゾーンのガイドに曲率を持たせた場合に、ガイド間隙がほぼ一定のガイドを構成できる。   In the heat developing apparatus, it is preferable that the fixed guide and the guide in the second zone have substantially the same curvature. When the curvature of the guide in the second zone is given to reduce the size of the apparatus, a guide with a substantially constant guide gap can be configured.

上記熱現像装置において、前記昇温部及び前記保温部における前記シートフィルムとの係合時間が10秒以下であるように構成することができ、昇温工程と保温工程の期間を短縮でき熱現像プロセスの迅速化が可能になる。   In the above heat development apparatus, the temperature rising portion and the heat retaining portion can be configured such that the engagement time with the sheet film is 10 seconds or less, and the time between the temperature rising step and the heat retaining step can be shortened. The process can be accelerated.

上記熱現像装置において、前記昇温部と前記保温部との間に凹部を設け、前記昇温部からの異物が前記凹部内に入り込むように構成することで、昇温部を搬送される間に、フィルム先端部により集積移動された異物が、保温部に持ち込まれることを防止でき、シートフィルムにジャム、傷、濃度ムラ等が発生することを防止できる。   In the above heat development apparatus, a recess is provided between the temperature raising portion and the heat retaining portion, and foreign matter from the temperature raising portion is configured to enter the recess so that the temperature raising portion is conveyed. In addition, it is possible to prevent foreign matters accumulated and moved by the film leading end from being brought into the heat retaining portion, and to prevent the sheet film from being jammed, scratched, uneven density, or the like.

尚、前記昇温部及び前記保温部は、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層側を開放して前記シートフィルムを加熱するように構成されることが好ましい。又、冷却部においても、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層側を開放して冷却を行うことが好ましい。   In addition, it is preferable that the said temperature rising part and the said heat retention part are comprised so that the photosensitive layer side of silver salt photothermographic dry imaging material may be open | released and the said sheet | seat film may be heated. Also in the cooling section, it is preferable to perform cooling by opening the photosensitive layer side of the silver salt photothermographic dry imaging material.

ただし、保温ゾーンの機構は昇温されたフィルム温度を維持する機構であればよく、上記に制限されるものではない。   However, the mechanism of the heat retaining zone may be a mechanism that maintains the heated film temperature, and is not limited to the above.

(熱現像温度・時間)
熱現像温度は110〜150℃の範囲であることが好ましく、更には115〜135℃の範囲が好ましい。加熱温度が80℃未満では短時間に十分な画像濃度が得られず、又、高温(特に200℃以上)ではバインダーの溶融等によるローラーへの転写や、搬送性、現像機等へも悪影響を及ぼす。加熱することで脂肪族カルボン酸銀塩(酸化剤として機能する)と還元剤との間の酸化還元反応により銀画像を生成する。この反応過程は、外部からの水等の処理液の供給を一切行わないで進行する。熱現像時間は5〜10秒であることが好ましい。
(Heat development temperature / time)
The heat development temperature is preferably in the range of 110 to 150 ° C, and more preferably in the range of 115 to 135 ° C. If the heating temperature is less than 80 ° C., sufficient image density cannot be obtained in a short time, and if the heating temperature is high (particularly 200 ° C. or more), transfer to the roller due to melting of the binder, transportability, developing machine, etc. are also adversely affected. Effect. By heating, a silver image is generated by a redox reaction between the aliphatic carboxylic acid silver salt (which functions as an oxidizing agent) and the reducing agent. This reaction process proceeds without any supply of treatment liquid such as water from the outside. The heat development time is preferably 5 to 10 seconds.

(熱現像直前に70〜100℃に加熱するプレヒートゾーン有する熱現像装置)
本発明は、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を像様露光後、所望の現像温度で加熱する熱現像工程前に70〜100℃に加熱するプレヒートゾーンを有する熱現像装置で処理することで画像形成することが好ましい。更には、90〜100℃に加熱するプレヒートゾーンを有する熱現像装置で処理することが好ましい。プレヒートゾーンの加熱機構に特に制限はないが、コスト、制御性の観点から、加熱プレートとの接触加熱が好ましい。プレヒートゾーンの加熱温度精度は±1℃であることが好ましく、更には±0.5℃であることが好ましい。加熱時間は、その加熱機構により適性値は異なるが、0.5〜7秒の範囲であることが好ましく、更には1〜3秒の範囲であることが好ましい。
(Thermal development apparatus having a preheat zone for heating to 70 to 100 ° C. immediately before thermal development)
The present invention forms an image by processing a silver salt photothermographic dry imaging material with a heat development apparatus having a preheat zone heated to 70 to 100 ° C. after the imagewise exposure and before the heat development step of heating at a desired development temperature. It is preferable to do. Furthermore, it is preferable to process with the heat developing apparatus which has a preheat zone heated to 90-100 degreeC. Although there is no restriction | limiting in particular in the heating mechanism of a preheat zone, From a viewpoint of cost and controllability, contact heating with a heating plate is preferable. The heating temperature accuracy of the preheat zone is preferably ± 1 ° C., more preferably ± 0.5 ° C. Although the suitability value of the heating time varies depending on the heating mechanism, it is preferably in the range of 0.5 to 7 seconds, and more preferably in the range of 1 to 3 seconds.

(熱現像温度に対して10〜20℃低い温度に調整して現像を停止する徐冷ゾーンを有する熱現像装置)
本発明は、銀塩光熱写真ドライイメージング材料を像様露光後、所望の現像温度で加熱後、熱現像温度に対して10〜20℃低い温度に調整して現像を停止する徐冷ゾーンを有する熱現像装置で処理することで画像形成することが好ましい。更には、熱現像温度に対して10〜15℃低い温度に調整して現像を停止する徐冷ゾーンを有する熱現像装置で処理することが好ましい。徐冷ゾーンの機構に特に制限はないが、コスト、制御性の観点から、所望の温度に調整したプレートとの接触冷却が好ましい。徐冷ゾーンの温度精度は±1℃であることが好ましく、更には±0.5℃であることが好ましい。徐冷時間は、現像時間に対して0.25倍以上であることが好ましく、迅速処理の観点を考慮すると0.25〜1.0倍の範囲であることが好ましい。
(Thermal development apparatus having a slow cooling zone in which development is stopped by adjusting to a temperature lower by 10 to 20 ° C. than the thermal development temperature)
The present invention has a slow cooling zone in which a silver salt photothermographic dry imaging material is imagewise exposed, heated at a desired development temperature, and then adjusted to a temperature lower by 10 to 20 ° C. than the thermal development temperature to stop development. It is preferable to form an image by processing with a heat development apparatus. Furthermore, it is preferable to process with a heat development apparatus having a slow cooling zone in which the development is stopped by adjusting the temperature to 10 to 15 ° C. lower than the heat development temperature. The mechanism of the slow cooling zone is not particularly limited, but contact cooling with a plate adjusted to a desired temperature is preferable from the viewpoint of cost and controllability. The temperature accuracy of the slow cooling zone is preferably ± 1 ° C., more preferably ± 0.5 ° C. The slow cooling time is preferably 0.25 or more times the development time, and is preferably in the range of 0.25 to 1.0 times in view of rapid processing.

以下、本発明に用いられる熱現像装置の最良の形態について図面を用いて説明する。   Hereinafter, the best mode of the heat development apparatus used in the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は好ましい実施形態による熱現像装置の要部を概略的に示す側面図である。図1に示すように、好ましい実施の形態の熱現像装置40は、上述と同様のPET等から成るシート状の支持体の一方の側に銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層が塗布されたEC面と、EC面と反対面側の支持体上にバックコート層が塗布されたBC面とを有するフィルムFを、副走査搬送しながら光走査露光部55からのレーザー光LでEC面に潜像を形成し、次に、フィルムFをBC面側から加熱して現像し潜像を可視化し、曲率のある搬送経路を通して装置上方に搬送し排出するものである。   FIG. 1 is a side view schematically showing a main part of a heat development apparatus according to a preferred embodiment. As shown in FIG. 1, the thermal development apparatus 40 according to the preferred embodiment has a photosensitive layer of a silver salt photothermographic dry imaging material coated on one side of a sheet-like support made of PET or the like as described above. The EC surface is irradiated with laser light L from the optical scanning exposure unit 55 while carrying the sub-scanning film F having the EC surface and the BC surface having the back coat layer coated on the support opposite to the EC surface. Then, the latent image is visualized by heating the film F from the BC surface side, and the latent image is visualized, conveyed to the upper part of the apparatus through a curved conveyance path, and discharged.

熱現像装置40は装置筐体40aの底部近傍に設けられ、未使用の多数枚のフィルムFを収納するフィルム収納部45と、フィルム収納部45の最上のフィルムFをピックアップして搬送するピックアップローラー46と、ピックアップローラー46からのフィルムFを搬送する搬送ローラー対47と、搬送ローラー対47からのフィルムFをガイドし搬送方向をほぼ反転させて搬送するように曲面状に構成された曲面ガイド48と、曲面ガイド48からのフィルムFを副走査搬送するための搬送ローラー対49a,49bと、搬送ローラー対49aと49bとの間でフィルムFに画像データに基づいてレーザー光Lを光走査して露光することによりEC面に潜像を形成する光走査露光部55とを備える。   The heat developing device 40 is provided in the vicinity of the bottom of the apparatus housing 40a, and a film storage unit 45 that stores a large number of unused films F, and a pickup roller that picks up and conveys the uppermost film F in the film storage unit 45. 46, a conveyance roller pair 47 for conveying the film F from the pickup roller 46, and a curved surface guide 48 configured to have a curved surface so as to guide and convey the film F from the conveyance roller pair 47 with the conveyance direction substantially reversed. Then, the laser beam L is optically scanned on the film F based on the image data between the conveying roller pair 49a, 49b for conveying the film F from the curved surface guide 48 in the sub-scanning manner, and the conveying roller pair 49a, 49b. And an optical scanning exposure unit 55 that forms a latent image on the EC surface by exposure.

熱現像装置40は、更に潜像の形成されたフィルムFをBC面側から加熱し所定の熱現像温度まで昇温させる昇温部50と、昇温されたフィルムFを加熱して所定の熱現像温度に保温する保温部53と、加熱されたフィルムFをBC面側から冷却する冷却部54と、冷却部54の出口側に配置されてフィルムFの濃度を測定する濃度計56と、濃度計56からのフィルムFを排出する搬送ローラー対57と、搬送ローラー対57で排出されたフィルムFが載置されるように装置筐体40aの上面に傾斜して設けられたフィルム載置部58とを備える。   The thermal developing device 40 further heats the film F on which the latent image is formed from the BC surface side to raise the temperature to a predetermined heat development temperature, and heats the heated film F to a predetermined heat. A heat retaining section 53 that retains the developing temperature, a cooling section 54 that cools the heated film F from the BC surface side, a densitometer 56 that is disposed on the outlet side of the cooling section 54 and measures the density of the film F, and a density A transport roller pair 57 that discharges the film F from the total 56, and a film placement unit 58 that is provided on the upper surface of the apparatus housing 40a so that the film F discharged by the transport roller pair 57 is placed. With.

図1のように、熱現像装置40では、装置筐体40aの底部から上方に向けて、フィルム収納部45、基板部59、搬送ローラー対49a、49b、昇温部50、保温部53(上流側)の順に配置されており、フィルム収納部45が最下方にあり、又、昇温部50、保温部53との間に基板部59があるので熱影響を受け難くなっている。   As shown in FIG. 1, in the thermal development device 40, from the bottom of the device housing 40 a upward, the film storage unit 45, the substrate unit 59, the transport roller pairs 49 a and 49 b, the temperature raising unit 50, and the heat retaining unit 53 (upstream). The film storage portion 45 is at the lowermost position, and since the substrate portion 59 is provided between the temperature raising portion 50 and the heat retaining portion 53, it is not easily affected by heat.

又、副走査搬送の搬送ローラー対49a、49bから昇温部50までの搬送路は比較的短く構成されているので、光走査露光部55によりフィルムFに対し露光が行われながらフィルムFの先端側では昇温部50、保温部53で熱現像加熱が行われる。   Further, since the conveyance path from the pair of conveyance rollers 49a and 49b for the sub-scan conveyance to the temperature raising unit 50 is configured to be relatively short, the front end of the film F is exposed while the film F is exposed by the optical scanning exposure unit 55. On the side, heat development heating is performed by the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53.

昇温部50と保温部53とで加熱部を構成し、フィルムFを熱現像温度まで加熱し熱現像温度に保持する。昇温部50は、フィルムFを上流側で加熱する第1の加熱ゾーン51と、下流側で加熱する第2の加熱ゾーン52とを有する。   The temperature raising part 50 and the heat retaining part 53 constitute a heating part, and the film F is heated to the heat development temperature and maintained at the heat development temperature. The temperature raising unit 50 includes a first heating zone 51 that heats the film F on the upstream side, and a second heating zone 52 that heats the film F on the downstream side.

第1の加熱ゾーン51は、アルミニウム等の金属材料から成り、固定された平面状の加熱ガイド51bと、加熱ガイド51bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等から成る平面状の加熱ヒータ51cと、加熱ガイド51bの固定ガイド面51dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置され、かつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等から成る複数の対向ローラー51aとを有する。   The first heating zone 51 is made of a metal material such as aluminum and has a fixed planar heating guide 51b, and a planar heating heater 51c made of a silicon rubber heater or the like that is in close contact with the back surface of the heating guide 51b. A plurality of opposed rollers 51a made of silicon rubber or the like, which is arranged to maintain a gap narrower than the film thickness so that the film can be pressed against the fixed guide surface 51d of the heating guide 51b and whose surface is more thermally insulating than metal or the like. And have.

第2の加熱ゾーン52は、アルミニウム等の金属材料から成り、固定された平面状の加熱ガイド52bと、加熱ガイド52bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等から成る平面状の加熱ヒータ52cと、加熱ガイド52bの固定ガイド面52dにフィルムを押圧可能にフィルム厚さよりも狭い隙間を維持するように配置され、かつ表面が金属等に比べ熱絶縁性のあるシリコンゴム等から成る複数の対向ローラー52aとを有する。   The second heating zone 52 is made of a metal material such as aluminum, and has a fixed planar heating guide 52b, a planar heating heater 52c made of a silicon rubber heater or the like that is in close contact with the back surface of the heating guide 52b, A plurality of opposing rollers 52a made of silicon rubber or the like, which is arranged to maintain a gap narrower than the film thickness so that the film can be pressed against the fixed guide surface 52d of the heating guide 52b and whose surface is more thermally insulating than metal or the like. And have.

保温部53は、アルミニウム等の金属材料から成り、固定された加熱ガイド53bと、加熱ガイド53bの裏面に密着されたシリコンラバーヒータ等から成る平面状の加熱ヒータ53cと、加熱ガイド53bの表面に構成された固定ガイド面53dに対し所定の隙間(スリット)dを有するように対向して配置された断熱材等から成るガイド部53aとを有する。保温部53は、昇温部50側が第2の加熱ゾーン52と連続して平面的に構成され、途中から装置上方に向けて所定の曲率で曲面状に構成されている。   The heat retaining portion 53 is made of a metal material such as aluminum, and is fixed on the heating guide 53b that is fixed, the planar heating heater 53c that is formed of a silicon rubber heater that is in close contact with the back surface of the heating guide 53b, and the surface of the heating guide 53b. And a guide portion 53a made of a heat insulating material or the like disposed so as to face the fixed guide surface 53d thus configured so as to have a predetermined gap (slit) d. The heat retaining unit 53 is configured in a planar manner on the temperature raising unit 50 side continuously with the second heating zone 52, and is configured in a curved surface with a predetermined curvature from the middle toward the upper part of the apparatus.

昇温部50の第1の加熱ゾーン51では、昇温部50の上流側から搬送ローラー対49a、49bにより搬送されて来たフィルムFが、回転駆動された各対向ローラー51aにより固定ガイド面51dに押圧されることで、BC面が固定ガイド面51dに密に接触して加熱されながら搬送されるようになっている。   In the first heating zone 51 of the temperature raising unit 50, the film F conveyed by the conveyance roller pairs 49a and 49b from the upstream side of the temperature raising unit 50 is fixedly guided by the counter rollers 51a that are rotationally driven. By being pressed, the BC surface comes into close contact with the fixed guide surface 51d and is conveyed while being heated.

第2の加熱ゾーン52でも同様に、第1の加熱ゾーン51から搬送されて来たフィルムFが、回転駆動された各対向ローラー52aにより固定ガイド面52dに押圧されることで、BC面が固定ガイド面51dに密に接触して加熱されながら搬送されるようになっている。   Similarly, in the second heating zone 52, the BC surface is fixed by the film F conveyed from the first heating zone 51 being pressed against the fixed guide surface 52d by the rotationally driven counter rollers 52a. It is conveyed while being in close contact with the guide surface 51d and being heated.

尚、昇温部50の第2の加熱ゾーン52と保温部53との間に上方にV字状に開口した凹部を設けるように構成してもよく、昇温部50からの異物が凹部内に落下することにより、昇温部50からの異物が保温部53に持ち込まれることを防止できる。   It should be noted that a concave portion opened in a V shape may be provided between the second heating zone 52 and the heat retaining portion 53 of the temperature raising portion 50, and foreign matter from the temperature raising portion 50 may be contained in the concave portion. It is possible to prevent foreign matter from the temperature raising unit 50 from being brought into the heat retaining unit 53 by dropping into the heat retaining unit 53.

保温部53では、第2の加熱ゾーン52から搬送されて来たフィルムFが、加熱ガイド53bの固定ガイド面53dとガイド部53aとの間の隙間dにおいて加熱ガイド53bからの熱で加熱(保温)されながら、第2の加熱ゾーン52側の対向ローラー52aの搬送力により隙間dを通過する。この時、フィルムFは、隙間dにおいて水平方向から垂直方向に向きを次第に変えながら搬送され、冷却部54に向かう。   In the heat retaining section 53, the film F conveyed from the second heating zone 52 is heated by the heat from the heating guide 53b in the gap d between the fixed guide surface 53d of the heating guide 53b and the guide section 53a (heat retaining). ) Is passed through the gap d by the conveying force of the opposing roller 52a on the second heating zone 52 side. At this time, the film F is conveyed while gradually changing the direction from the horizontal direction to the vertical direction in the gap d, and heads toward the cooling unit 54.

冷却部54では、保温部53からほぼ垂直方向に搬送されて来たフィルムFを、金属材料等からなる冷却プレート54bの冷却ガイド面54cに対向ローラー54aにより接触させて冷却しながら、垂直方向から次第に斜め方向にフィルムFの向きをフィルム載置部58に変えて搬送するようになっている。尚、冷却プレート54bをフィン付きのヒートシンク構造とすることで冷却効果を増すことができる。冷却プレート54bの一部をフィン付きのヒートシンク構造にしてもよい。   In the cooling unit 54, the film F conveyed from the heat retaining unit 53 in the substantially vertical direction is brought into contact with the cooling guide surface 54c of the cooling plate 54b made of a metal material or the like by the opposing roller 54a and cooled from the vertical direction. The direction of the film F is gradually changed to the film mounting portion 58 and conveyed in an oblique direction. The cooling effect can be increased by making the cooling plate 54b into a heat sink structure with fins. A part of the cooling plate 54b may have a heat sink structure with fins.

冷却部54から出た冷却されたフィルムFは、濃度計56で濃度測定され、搬送ローラー対57により搬送されてフィルム載置部58へと排出される。フィルム載置部58は複数枚のフィルムFを一時的に載置して置くことができる。   The cooled film F coming out of the cooling unit 54 is subjected to density measurement by a densitometer 56, conveyed by a conveyance roller pair 57, and discharged to a film placement unit 58. The film placing unit 58 can temporarily place and place a plurality of films F.

上述のように、図1の熱現像装置40では、フィルムFは、昇温部50及び保温部53においてBC面が加熱状態の固定ガイド面51d、52d、53dに向いており、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層が塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。又、冷却部54では、フィルムFは、BC面が冷却ガイド面54cに接触し冷却され、銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層が塗布されたEC面が開放された状態で搬送される。又、フィルムFは、昇温部50及び保温部53の通過時間が10秒以下となるよう対向ローラー51a、52aにより搬送される。従って、昇温〜保温の加熱時間も10秒以下ということになる。   As described above, in the heat development apparatus 40 of FIG. 1, the film F has a BC surface facing the fixed guide surfaces 51 d, 52 d, and 53 d in the heated state in the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53, and a silver salt photothermographic photograph The EC surface coated with the photosensitive layer of the dry imaging material is conveyed in an open state. In the cooling unit 54, the film F is cooled with the BC surface contacting the cooling guide surface 54c, and the EC surface coated with the photosensitive layer of the silver salt photothermographic dry imaging material is opened. . Moreover, the film F is conveyed by the opposing rollers 51a and 52a so that the passage time of the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53 is 10 seconds or less. Therefore, the heating time from temperature increase to heat retention is also 10 seconds or less.

以上のように、図1の熱現像装置40によれば、均一熱伝達が必要な昇温部50において、加熱ガイド51b、52bと、フィルムFを加熱ガイド51b、52bに押圧する複数の対向ローラー51a、52aとによりフィルムFを固定ガイド面51d、52dに密着させることで接触伝熱を確保しながらフィルムFを搬送するので、フィルム全面が均一に加熱され均一に温度上昇するので、仕上がりフィルムは濃度ムラの発生を抑えた高品質の画像となる。   As described above, according to the heat development apparatus 40 of FIG. 1, the heating guides 51 b and 52 b and the plurality of opposed rollers that press the film F against the heating guides 51 b and 52 b in the temperature raising unit 50 that requires uniform heat transfer. Since the film F is conveyed while ensuring contact heat transfer by bringing the film F into close contact with the fixed guide surfaces 51d and 52d by 51a and 52a, the entire surface of the film is heated uniformly and the temperature rises uniformly. A high quality image with reduced density unevenness.

又、熱現像温度への昇温後は、保温部53で加熱ガイド53bの固定ガイド面53dとガイド部53aとの間の隙間dにフィルムを搬送し、特に固定ガイド面53dに密着させずに隙間dにおいて加熱(固定ガイド面53dに直接接触し伝熱加熱する、及び/又は、周囲の高温空気との接触による伝熱)しても、フィルム温度は現像温度(例えば127℃)に対し所定の範囲内(例えば0.5℃)に収まる。このように、フィルムが隙間dにおいて加熱ガイド53bの壁面又は曲面ガイド53aの壁面のどちらに沿って搬送されても、フィルム温度差は0.5℃未満であり、均一な保温状態が維持できるので、仕上がりフィルムにおける濃度ムラ発生は殆ど生じない。このため、保温部53にローラー等の駆動部品を設ける必要がないので、部品点数削減を達成できる。   In addition, after the temperature is raised to the heat development temperature, the heat retaining portion 53 conveys the film to the gap d between the fixed guide surface 53d of the heating guide 53b and the guide portion 53a, and in particular without closely contacting the fixed guide surface 53d. Even if heating is performed in the gap d (direct heat contact with the fixed guide surface 53d and / or heat transfer by contact with high temperature air around the film), the film temperature is predetermined with respect to the developing temperature (for example, 127 ° C.). Within the range (for example, 0.5 ° C.). Thus, regardless of whether the film is conveyed along the wall surface of the heating guide 53b or the curved surface guide 53a in the gap d, the film temperature difference is less than 0.5 ° C., and a uniform heat retaining state can be maintained. The density unevenness in the finished film hardly occurs. For this reason, since it is not necessary to provide drive parts, such as a roller, in the heat retention part 53, the number of parts reduction can be achieved.

更に、フィルムFの加熱時間が10秒以下で済むので、迅速な熱現像プロセスを実現でき、又、昇温部50から水平方向に延びた保温部53が途中から曲面状になって垂直方向に向くよう構成され、フィルムFは冷却部54でフィルムFの向きをほぼ反転させてフィルム載置部58へと排出されるので、装置レイアウトに応じて冷却部54を所定の曲率とすることで、設置面積の小型化・装置全体の小型化に対応可能となる。   Furthermore, since the heating time of the film F is 10 seconds or less, a rapid heat development process can be realized, and the heat retaining portion 53 extending in the horizontal direction from the temperature raising portion 50 becomes a curved surface in the middle and vertically. Since the film F is discharged to the film mounting unit 58 with the direction of the film F being substantially reversed by the cooling unit 54, the cooling unit 54 has a predetermined curvature according to the apparatus layout. It is possible to cope with downsizing of the installation area and downsizing of the entire device.

従来の大型機ではフィルムを現像温度に昇温した後の、保温機能のみで充分な装置部分にも、昇温部と同一な加熱搬送機構を用いていたため、結果的に不必要な部材を使用してしまっており、部品点数の増加やコストアップを招いていた。又、従来の小型機では昇温時の熱伝達を保障し難いため濃度ムラ発生の問題があり、高画質の保障が困難であった。これに対し、好ましい実施形態によれば、熱現像プロセスを昇温部50と保温部53とで別々に実行することで、かかる問題を何れも解消することができる。   In conventional large machines, after the film has been heated to the developing temperature, the same heating and transport mechanism as the temperature-raising part was used for the part of the equipment that only needs a heat-retaining function. As a result, unnecessary parts were used. This has led to an increase in the number of parts and an increase in cost. Further, since it is difficult to ensure heat transfer at the time of temperature rise in the conventional small machine, there is a problem of density unevenness, and it is difficult to ensure high image quality. On the other hand, according to a preferred embodiment, any of these problems can be solved by separately executing the heat development process in the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53.

又、フィルムFを昇温部50及び保温部53で銀塩光熱写真ドライイメージング材料の感光性層が塗布されたEC面が開放された状態でBC面側から加熱することで、10秒以下の迅速処理で熱現像プロセスを実行する際に、EC面側の開放により、加熱され揮発(蒸発)しようとするフィルムFに含まれる溶媒(水分、有機溶剤等)が最短距離で離散するので、加熱時間(揮発時間)が短くなっても時間短縮の影響を受け難くなると共にさらに、部分的にフィルムFと固定ガイド面51d、52dとの接触性が悪い部分があってもBC面のPETベースによる熱拡散効果により、接触性の良い部分との温度差が緩和され、結果として濃度差が起こり難いので、濃度を安定化均一にすることができ、画質が安定する。尚、一般的に加熱効率を考慮すると、EC面側加熱の方が良いと考えられていたが、フィルムFの支持基体のPETの熱伝導率0.17W/m・℃、PETベースの厚さ170μm前後であることを考慮すると、時間遅れは僅かであり、ヒータ容量アップ等で容易に相殺可能であり、上記の接触ムラを緩和する効果の方が期待できる方が好ましい。   In addition, the film F is heated from the BC surface side in a state where the EC surface coated with the photosensitive layer of the silver salt photothermographic dry imaging material is opened by the temperature raising unit 50 and the heat retaining unit 53 for 10 seconds or less. When the thermal development process is performed by rapid processing, the solvent (moisture, organic solvent, etc.) contained in the film F that is heated and volatilized (evaporates) is dispersed at the shortest distance by opening the EC surface side. Even if the time (volatilization time) is shortened, it becomes difficult to be affected by the shortening of time, and even if there is a part where the contact between the film F and the fixed guide surfaces 51d and 52d is partially poor, it depends on the PET surface of the BC surface. Due to the thermal diffusion effect, the temperature difference from the portion with good contact is alleviated, and as a result, the density difference is unlikely to occur. Therefore, the density can be stabilized and uniform, and the image quality is stabilized. In general, considering the heating efficiency, it was considered that the EC surface side heating was better, but the thermal conductivity of PET of the support base of the film F was 0.17 W / m · ° C., the thickness of the PET base Considering that it is around 170 μm, it is preferable that the time delay is slight and can be easily offset by increasing the heater capacity or the like, and the effect of reducing the contact unevenness can be expected.

更に、保温部53を出て冷却部54に至る間にも、フィルムF中の溶媒(水分、有機溶剤等)は高温であるため揮発(蒸発)しようとしているが、冷却部54でもフィルムFのEC面が開放状態であるので、溶媒(水分、有機溶剤等)がトラップされず、より長い時間、揮発させることになるので、より画質が安定する。このように、迅速処理時には冷却時間も無視できず、加熱時間10秒以下の迅速処理には特に有効となる。   Further, the solvent (water, organic solvent, etc.) in the film F is going to volatilize (evaporate) even after leaving the heat retaining part 53 and reaching the cooling part 54. Since the EC surface is in an open state, the solvent (moisture, organic solvent, etc.) is not trapped and is volatilized for a longer time, so the image quality is more stable. Thus, the cooling time cannot be ignored during the rapid processing, and is particularly effective for the rapid processing with a heating time of 10 seconds or less.

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。尚、特に断りない限り、実施例中の「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, the aspect of this invention is not limited to this. Unless otherwise specified, “part” in the examples represents “part by mass” and “%” represents “mass%”.

〈下引き済み支持体の作製〉
青色染料濃度0.113の2軸延伸済みPETフィルムの両面に10W/m2分の条件でコロナ放電処理を施し、一方の面に下記組成のバックコート面側下引き下層用塗布液を乾燥膜厚0.06μmになるように塗設し140℃で乾燥し、続いて下記組成のバックコート面側下引き上層用塗布液を乾燥膜厚0.2μmになるように塗設した後140℃で乾燥した。又、反対側の面には、下記組成の感光性層側下引き下層用塗布液を乾燥膜厚0.25μmになるように塗設し140℃で乾燥し、続いて下記組成の感光性層側下引き上層用塗布液を乾燥膜厚0.06μmになるように塗設した後140℃で乾燥した。これらを140℃で2分間熱処理し、下引き済み支持体を得た。
<Preparation of underdrawn support>
Corona discharge treatment is performed on both sides of a biaxially stretched PET film having a blue dye concentration of 0.113 under conditions of 10 W / m 2 min. After coating to a thickness of 0.06 μm and drying at 140 ° C., and subsequently coating a backcoat surface side undercoat upper layer coating solution having the following composition to a dry film thickness of 0.2 μm, the temperature is 140 ° C. Dried. On the other side, a photosensitive layer side undercoat coating solution having the following composition is applied to a dry film thickness of 0.25 μm, dried at 140 ° C., and then a photosensitive layer having the following composition. The side subbing upper layer coating solution was applied to a dry film thickness of 0.06 μm and then dried at 140 ° C. These were heat-treated at 140 ° C. for 2 minutes to obtain an underdrawn support.

(バックコート面側下引き下層用塗布液)
スチレン/グリシジルメタクリレート/ブチルアクリレート
(20/20/40)の共重合ポリマーラテックス(固形分30%) 16.0g
スチレン/ブチルアクリレート/ヒドロキシメチルメタクリレート
(25/45/30 )の共重合ポリマーラテックス(固形分30%) 4.0g
酸化錫ゾル(固形分10%,特開平10−059720号記載の方法で合成)
91.0g
下引き層用界面活性剤:
2,4−(C9192−C63−(CH2CH2O)12SO3Na 0.5g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
(Backcoat surface side undercoat lower layer coating solution)
Copolymer polymer latex of styrene / glycidyl methacrylate / butyl acrylate (20/20/40) (solid content 30%) 16.0 g
Copolymer polymer latex of styrene / butyl acrylate / hydroxymethyl methacrylate (25/45/30) (solid content 30%) 4.0 g
Tin oxide sol (solid content 10%, synthesized by the method described in JP-A-10-059720)
91.0g
Surfactant for undercoat layer:
2,4- (C 9 H 19) 2 -C 6 H 3 - (CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na 0.5g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

(バックコート面側下引き上層用塗布液)
バックコート層用変性水性ポリエステル(固形分18%)下記 215.0g
下引き層用界面活性剤:
2,4−(C9192−C63−(CH2CH2O)12SO3Na 0.4g
真球状シリカマット剤(シーホスター KE−P50:日本触媒社製) 0.3g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
(Backcoat surface side undercoat upper layer coating solution)
Modified aqueous polyester for back coat layer (solid content 18%) 215.0g below
Surfactant for undercoat layer:
2,4- (C 9 H 19) 2 -C 6 H 3 - (CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na 0.4g
Spherical silica matting agent (Seahoster KE-P50: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.3 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.

〈バックコート層用変性水性ポリエステルの合成〉
重合用反応容器に、テレフタル酸ジメチル35.4部、イソフタル酸ジメチル33.63部、5−スルホ−イソフタル酸ジメチルナトリウム塩17.92部、エチレングリコール62部、酢酸カルシウム一水塩0.065部、酢酸マンガン四水塩0.022部を投入し、窒素気流下において、170〜220℃でメタノールを溜去しながらエステル交換反応を行った後、燐酸トリメチル0.04部、重縮合触媒とし三酸化アンチモン0.04部及び1,4−シクロヘキサンジカルボン酸6.8部を加え、220〜235℃の反応温度で、ほぼ理論量の水を溜去し、エステル化を行った。その後、更に反応系内を約1時間かけて減圧、昇温し最終的に280℃、133Pa以下で約1時間重縮合を行い、変性水性ポリエステルの前駆体を得た。前駆体の固有粘度は0.33であった。
<Synthesis of modified aqueous polyester for back coat layer>
In a polymerization reactor, 35.4 parts of dimethyl terephthalate, 33.63 parts of dimethyl isophthalate, 17.92 parts of 5-sulfo-isophthalic acid dimethyl sodium salt, 62 parts of ethylene glycol, 0.065 parts of calcium acetate monohydrate Then, 0.022 part of manganese acetate tetrahydrate was added and the ester exchange reaction was carried out while distilling methanol at 170-220 ° C. in a nitrogen stream. Then, 0.04 part of trimethyl phosphate was added as a polycondensation catalyst. 0.04 part of antimony oxide and 6.8 parts of 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid were added, and an approximately theoretical amount of water was distilled off at a reaction temperature of 220 to 235 ° C. for esterification. Thereafter, the reaction system was further depressurized and heated for about 1 hour and finally subjected to polycondensation at 280 ° C. and 133 Pa or less for about 1 hour to obtain a modified aqueous polyester precursor. The intrinsic viscosity of the precursor was 0.33.

攪拌翼、環流冷却管、温度計を付した2Lの三つ口フラスコに、純水850mlを入れ、攪拌翼を回転させながら、150gの上記前駆体を徐々に添加した。室温でこのまま30分間攪拌した後、1.5時間かけて内温が98℃になるように加熱し、この温度で3時間加熱・溶解した。加熱終了後、1時間かけて室温まで冷却し、一夜放置して、固形分濃度15%の前駆体の溶液を調製した。   850 ml of pure water was put into a 2 L three-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, and a thermometer, and 150 g of the precursor was gradually added while rotating the stirring blade. The mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, heated to an internal temperature of 98 ° C. over 1.5 hours, and heated and dissolved at this temperature for 3 hours. After completion of the heating, the mixture was cooled to room temperature over 1 hour and allowed to stand overnight to prepare a precursor solution having a solid concentration of 15%.

攪拌翼、環流冷却管、温度計、滴下ロートを付した3Lの四つ口フラスコに、上記前駆体溶液1900mlを入れ、攪拌翼を回転させながら、内温度を80℃まで加熱した。この中に、過酸化アンモニウムの24%水溶液を6.52ml加え、単量体混合液(メタクリル酸グリシジル28.5g、アクリル酸エチル21.4g、メタクリル酸メチル21.4g)を30分間かけて滴下し、更に3時間反応を続けた。その後、30℃以下まで冷却し、濾過して、固形分濃度18%のバック層用変性水性ポリエステルの溶液を調製した。   1900 ml of the precursor solution was placed in a 3 L four-necked flask equipped with a stirring blade, a reflux condenser, a thermometer, and a dropping funnel, and the internal temperature was heated to 80 ° C. while rotating the stirring blade. Into this, 6.52 ml of a 24% aqueous solution of ammonium peroxide was added, and a monomer mixture (28.5 g of glycidyl methacrylate, 21.4 g of ethyl acrylate, 21.4 g of methyl methacrylate) was dropped over 30 minutes. The reaction was continued for another 3 hours. Then, it cooled to 30 degrees C or less, and filtered, and prepared the solution of the modified | denatured aqueous | water-based polyester for back layers with a solid content concentration of 18%.

(感光性層側下引き下層用塗布液)
スチレン/アセトアセトキシエチルメタクリレート/グリシジルメタクリレート/
ブチルアクリレート(40/40/20/0.5)の共重合ポリマーラテックス
(固形分30%) 70.0g
下引き層用界面活性剤:
2,4−(C9192−C63−(CH2CH2O)12SO3Na 0.3g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、塗布液とした。
(感光性層側下引き上層用塗布液)
感光性層用変性水性ポリエステル(固形分18%)下記 80.0g
下引き層用界面活性剤:
2,4−(C9192−C63−(CH2CH2O)12SO3Na 0.4g
真球状シリカマット剤(シーホスター KE−P50:日本触媒社製) 0.3g
以上に蒸留水を加えて1000mlとし、固形分濃度0.5%の塗布液とした。
(Coating solution for photosensitive layer side undercoat)
Styrene / acetoacetoxyethyl methacrylate / glycidyl methacrylate /
Copolymer polymer latex of butyl acrylate (40/40/20 / 0.5) (solid content 30%) 70.0 g
Surfactant for undercoat layer:
2,4- (C 9 H 19 ) 2 —C 6 H 3 — (CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na 0.3 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution was obtained.
(Photosensitive layer side undercoat upper layer coating solution)
Modified aqueous polyester for photosensitive layer (solid content 18%) 80.0 g below
Surfactant for undercoat layer:
2,4- (C 9 H 19) 2 -C 6 H 3 - (CH 2 CH 2 O) 12 SO 3 Na 0.4g
Spherical silica matting agent (Seahoster KE-P50: manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) 0.3 g
Distilled water was added to make 1000 ml, and a coating solution having a solid content concentration of 0.5% was obtained.

〈感光性層用変性水性ポリエステルの合成〉
前記の変性水性ポリエステルの前駆体溶液を1800ml、単量体混合液組成をスチレン31g、アセトアセトキシエチルメタクリレート31g、グリシジルメタクリレート61g、ブチルアクリレート7.6gとした以外、バックコート層用変性水性ポリエステルと同様にして固形分濃度18%の感光性層用変性水性ポリエステルの溶液を作製した。
<Synthesis of modified aqueous polyester for photosensitive layer>
Similar to the modified aqueous polyester for backcoat layer except that the precursor solution of the modified aqueous polyester was 1800 ml, the monomer mixture composition was 31 g of styrene, 31 g of acetoacetoxyethyl methacrylate, 61 g of glycidyl methacrylate, and 7.6 g of butyl acrylate. Thus, a solution of a modified aqueous polyester for a photosensitive layer having a solid content concentration of 18% was prepared.

〈感光性層用ハロゲン化銀粒子含有及び脂肪族カルボン酸銀塩乳剤の作製〉
〈ハロゲン化銀粒子乳剤の調製〉
(溶液A)
フタル化ゼラチン(フタル化修飾率99%) 66.20g
界面活性剤AO−1(10%メタノール水溶液)下記 10ml
臭化カリウム 0.32g
水で5429mlに仕上げる。
<Preparation of silver halide grain-containing and aliphatic carboxylic acid silver salt emulsion for photosensitive layer>
<Preparation of silver halide grain emulsion>
(Solution A)
Phthalated gelatin (phthalated modification rate 99%) 66.20g
10 ml of surfactant AO-1 (10% aqueous methanol solution) below
Potassium bromide 0.32g
Finish to 5429 ml with water.

AO−1:
HO(CH2CH2O)n(CH(CH3)CH2O)17(CH2CH2O)m
(m+n=5〜7)
(溶液B)
0.67モル/L硝酸銀水溶液 2635ml
(溶液C)
臭化カリウム 51.55g
沃化カリウム 1.47g
水で660mlに仕上げる。
(溶液D)
臭化カリウム 154.90g
沃化カリウム 4.41g
六シアン化鉄(II)カリウム(0.5%溶液) 15ml
六塩化イリジウム酸(III)カリウム(1%溶液) 0.93ml
水で1982mlに仕上げる。
(溶液E)
0.4モル/L臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量
(溶液F)
水酸化カリウム 0.71g
水で20mlに仕上げる
(溶液G)
56%酢酸水溶液 10.0ml
(溶液H)
無水炭酸ナトリウム 1.16g
水で107mlに仕上げる。
AO-1:
HO (CH 2 CH 2 O) n (CH (CH 3) CH 2 O) 17 (CH 2 CH 2 O) m H
(M + n = 5-7)
(Solution B)
0.67 mol / L silver nitrate aqueous solution 2635 ml
(Solution C)
Potassium bromide 51.55g
Potassium iodide 1.47g
Finish to 660 ml with water.
(Solution D)
154.90 g of potassium bromide
4.41 g of potassium iodide
15 ml of iron (II) hexacyanide (0.5% solution)
0.93 ml potassium hexachloroiridate (III) (1% solution)
Finish to 1982 ml with water.
(Solution E)
0.4 mol / L potassium bromide aqueous solution The following silver potential control amount (solution F)
Potassium hydroxide 0.71g
Finish to 20 ml with water (Solution G)
56% aqueous acetic acid solution 10.0ml
(Solution H)
Anhydrous sodium carbonate 1.16g
Finish to 107 ml with water.

特公昭58−58288号に示される混合攪拌機を用いて、溶液Aに溶液Bの1/4量及び溶液Cの全量を温度35℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により4分45秒を要して添加し核形成を行った。1分後、溶液Fの全量を添加した。この間pAgの調整のために溶液Eを用いて適宜行った。6分経過後、溶液Bの3/4量及び溶液Dの全量を、温度35℃、pAg8.09に制御しながら、同時混合法により14分15秒かけて添加した。5分間攪拌した後、30℃に降温し、溶液Gを全量添加し、ハロゲン化銀粒子を沈降させた。沈降部分2000mlを残して上澄み液を取り除き、水を10L加え、攪拌後、再度ハロゲン化銀粒子を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除き、更に水を10L加え、攪拌後、ハロゲン化銀粒子を沈降させた。沈降部分1500mlを残し、上澄み液を取り除いた後、溶液Hを加え、60℃に昇温し、更に100分攪拌した。最後にpHが5.8になるように調整し、銀量1モル当たり1161gになるように水を添加し、感光性ハロゲン化銀粒子乳剤を得た。   Using a mixing stirrer shown in Japanese Patent Publication No. 58-58288, while controlling 1/4 of solution B in solution A and the total amount of solution C to 35 ° C. and pAg of 8.09, 4 minutes 45 Nucleation was performed by adding in seconds. After 1 minute, the entire amount of Solution F was added. During this time, the solution E was used appropriately for the adjustment of pAg. After the elapse of 6 minutes, 3/4 amount of the solution B and the whole amount of the solution D were added over 14 minutes and 15 seconds by the simultaneous mixing method while controlling the temperature at 35 ° C. and pAg 8.09. After stirring for 5 minutes, the temperature was lowered to 30 ° C., the entire amount of Solution G was added, and silver halide grains were allowed to settle. The supernatant was removed leaving 2000 ml of the sedimented portion, 10 L of water was added, and after stirring, silver halide grains were sedimented again. The remaining portion of 1500 ml was left, the supernatant was removed, 10 L of water was further added, and after stirring, silver halide grains were precipitated. After leaving 1500 ml of the sedimented portion and removing the supernatant, solution H was added, the temperature was raised to 60 ° C., and the mixture was further stirred for 100 minutes. Finally, the pH was adjusted to 5.8, and water was added so that the amount was 1161 g per mole of silver to obtain a photosensitive silver halide grain emulsion.

この乳剤粒子は、平均粒径0.043μm、〔100〕面比率92%の単分散立方体沃臭化銀粒子であった。   The emulsion grains were monodisperse cubic silver iodobromide grains having an average grain size of 0.043 μm and a [100] face ratio of 92%.

〈両親媒性分散用ポリマーの調製〉
0.5Lの四つ口セパラブルフラスコに、滴下装置、温度計、窒素ガス導入管、攪拌装置及び還流冷却管を付し、メチルエチルケトン(MEK)50g、ダイアセトンアクリルアミド20g、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日本油脂社製:ブレンマーPME−400)20g、ステアロキシポリエチレングリコールモノメタクリレート(日本油脂社製:ブレンマーPSE−400)20g、更にラウリルパーオキサイド0.12gを仕込み、80℃に加熱した。更にN−i−プロピルアクリルアミド40gをMEK43gに溶解した液をセパラブルフラスコ中に2時間かけて滴下した。その後1時間かけて昇温し、還流状態になった時点で、ラウリルパーオキサイド0.17gをMEK33gに溶解した液をフラスコ中に2時間かけて滴下し、同温度にて更に3時間反応させた。その後、メチルハイドロキノン0.33gをMEK107gに溶解した液を添加し、冷却後、ポリマー濃度30%の両親媒性分散用ポリマー溶液を得た。分子量は、GPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー)によるポリスチレン換算の質量平均分子量で約5.5万であった。続いて、このポリマー溶液を十分量の水に滴下し、上澄みを取り除いてポリマー固形分を取り出した。
<Preparation of amphiphilic polymer for dispersion>
A 0.5 L four-necked separable flask is equipped with a dropping device, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube, a stirring device and a reflux condenser, and 50 g of methyl ethyl ketone (MEK), 20 g of diacetone acrylamide, methoxypolyethylene glycol monomethacrylate ( Nippon Oil & Fat Co., Ltd .: Blenmer PME-400) 20 g, Stearoxy polyethylene glycol monomethacrylate (Nippon Yushi Co., Ltd .: Blenmer PSE-400) 20 g, and further lauryl peroxide 0.12 g were charged and heated to 80 ° C. Further, a solution obtained by dissolving 40 g of Ni-propyl acrylamide in 43 g of MEK was dropped into a separable flask over 2 hours. Thereafter, the temperature was raised over 1 hour, and when the mixture was refluxed, a solution obtained by dissolving 0.17 g of lauryl peroxide in 33 g of MEK was dropped into the flask over 2 hours and reacted at the same temperature for further 3 hours. . Thereafter, a solution obtained by dissolving 0.33 g of methylhydroquinone in 107 g of MEK was added, and after cooling, a polymer solution for amphiphilic dispersion having a polymer concentration of 30% was obtained. The molecular weight was about 55,000 in terms of polystyrene-equivalent mass average molecular weight by GPC (gel permeation chromatography). Subsequently, the polymer solution was dropped into a sufficient amount of water, the supernatant was removed, and the polymer solid content was taken out.

〈ハロゲン化銀粒子乳剤の両親媒性分散物の調製〉
両親媒性分散用ポリマー固形分10gにメタノール67gを加えて45℃で30分攪拌しながら溶解させた。そこに、45℃に調温した前記ハロゲン化銀粒子乳剤25gを2分かけて滴下し、更に30分攪拌した。この液を18℃に降温した後、30分間静置した液は2層に分離する。液の上澄みを除去し、残液にMEK230gを加え、液中の含水率が10%未満になるまで減圧蒸溜した。最後に全量が157gとなるようにMEKを添加し、ハロゲン化銀粒子乳剤の両親媒性分散物を得た。
<Preparation of amphiphilic dispersion of silver halide grain emulsion>
67 g of methanol was added to 10 g of the polymer solid content for amphiphilic dispersion and dissolved at 45 ° C. with stirring for 30 minutes. Thereto, 25 g of the silver halide grain emulsion adjusted to 45 ° C. was added dropwise over 2 minutes, and the mixture was further stirred for 30 minutes. After the temperature of this liquid is lowered to 18 ° C., the liquid left to stand for 30 minutes is separated into two layers. The supernatant of the liquid was removed, 230 g of MEK was added to the remaining liquid, and distilled under reduced pressure until the water content in the liquid became less than 10%. Finally, MEK was added so that the total amount was 157 g, and an amphiphilic dispersion of a silver halide grain emulsion was obtained.

〈粉末脂肪族カルボン酸銀塩の調製〉
特開2000−198757号実施例に記載の混合装置を用いて、脂肪族カルボン酸銀塩を作製した。4,720mlの純水にベヘン酸130.8g、アラキジン酸67.7g、ステアリン酸43.6g、パルミチン酸2.3gを80℃で溶解した。次に1.5モル/Lの水酸化カリウム水溶液540.2mlを添加し濃硝酸6.9mlを加えた後、55℃に冷却して脂肪酸カリウム溶液を得た。上記の脂肪酸カリウム溶液の温度を55℃に保ったまま、純水500mlを添加し5分間攪拌した。
<Preparation of powdered aliphatic carboxylic acid silver salt>
An aliphatic carboxylic acid silver salt was prepared using the mixing apparatus described in Examples of JP-A-2000-198757. In 4,720 ml of pure water, 130.8 g of behenic acid, 67.7 g of arachidic acid, 43.6 g of stearic acid, and 2.3 g of palmitic acid were dissolved at 80 ° C. Next, 540.2 ml of a 1.5 mol / L potassium hydroxide aqueous solution was added and 6.9 ml of concentrated nitric acid was added, followed by cooling to 55 ° C. to obtain a fatty acid potassium solution. While maintaining the temperature of the above fatty acid potassium solution at 55 ° C., 500 ml of pure water was added and stirred for 5 minutes.

次に1モル/Lの硝酸銀水溶液702.6mlを2分間かけて添加し、10分間攪拌し脂肪族カルボン酸銀塩分散物を得た。その後、得られた脂肪族カルボン酸銀塩分散物を水洗容器に移し、脱イオン水を加えて攪拌後、静置させて脂肪族カルボン酸銀塩分散物を浮上分離させ、下方の水溶性塩類を除去した。その後、排水の電導度が2μS/cmになるまで脱イオン水による水洗、排水を繰り返し、遠心脱水を実施した後、得られたケーキ状の脂肪族カルボン酸銀塩を、気流式乾燥機フラッシュジェットドライヤー(セイシン企業社製)を用いて、窒素ガス雰囲気及び乾燥機入り口熱風温度の運転条件により含水率が0.1%になるまで乾燥して乾燥済み粉末脂肪族カルボン酸銀塩を得た。尚、脂肪族カルボン酸銀塩組成物の含水率測定には赤外線水分計を使用した。   Next, 702.6 ml of a 1 mol / L silver nitrate aqueous solution was added over 2 minutes, and the mixture was stirred for 10 minutes to obtain an aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion. Thereafter, the obtained aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion was transferred to a water-washing vessel, deionized water was added and stirred, and then allowed to stand to float and separate the aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion. Was removed. Thereafter, washing with deionized water and drainage were repeated until the electrical conductivity of the drainage reached 2 μS / cm, and centrifugal dehydration was carried out. Using a dryer (manufactured by Seishin Enterprise Co., Ltd.), a dried powdered aliphatic carboxylic acid silver salt was obtained by drying until the water content became 0.1% according to the operating conditions of nitrogen gas atmosphere and dryer inlet hot air temperature. An infrared moisture meter was used to measure the water content of the aliphatic carboxylic acid silver salt composition.

〈脂肪族カルボン酸銀塩分散乳剤液の作製〉
ポリビニルブチラール(積水化学工業社製:エスレックB・BL−SHP)49gをMEK1,300gに溶解し、VMA−GETZMANN社製ディゾルバーDISPERMAT CA−40M型にて攪拌しながら、粉末脂肪族カルボン酸銀塩500gを徐々に添加して十分に混合することにより予備分散液を調製した。粉末脂肪族カルボン酸銀塩を全量添加してからは、1,500rpmで15分攪拌を行った。この予備分散液をポンプを用いてミル内滞留時間が1.2分間となるように、0.5mm径のジルコニアビーズ(東レ社製:トレセラム)を内容積の80%充填したメディア型分散機DISPERMAT SL−C12EX型(VMA−GETZMANN社製)に供給し、ミル周速9m/秒にて分散を行うことにより脂肪族カルボン酸銀塩分散乳剤液を調製した。得られた脂肪族カルボン酸銀塩分散乳剤液の固形分濃度は約27%であった。
<Preparation of aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion emulsion>
49 g of polyvinyl butyral (Sekisui Chemical Co., Ltd .: ESREC B / BL-SHP) dissolved in 1,300 g of MEK and stirred with a dissolver DISPERMAT CA-40M manufactured by VMA-GETZMANN 500 g of powdered aliphatic carboxylic acid silver salt Was added gradually and mixed well to prepare a preliminary dispersion. After the total amount of powdered aliphatic carboxylic acid silver salt was added, stirring was performed at 1,500 rpm for 15 minutes. This pre-dispersed liquid is a media type disperser DISPERMAT filled with 80% of the internal volume of 0.5 mm zirconia beads (Toray Industries, Inc .: Treceram) so that the residence time in the mill is 1.2 minutes using a pump. An aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion emulsion was prepared by supplying to SL-C12EX type (manufactured by VMA-GETZMANN) and dispersing at a mill peripheral speed of 9 m / sec. The solid content concentration of the obtained aliphatic carboxylic acid silver salt dispersion emulsion was about 27%.

得られた脂肪族カルボン酸銀分散液1,670gに前記ハロゲン化銀粒子両親媒性分散物157gを添加し、後述する感光性層塗布液の調製を続いて行った。   157 g of the silver halide grain amphiphilic dispersion was added to 1,670 g of the obtained aliphatic carboxylate dispersion, and the photosensitive layer coating solution described later was subsequently prepared.

〈画像形成感光性層塗布液の調製〉
前記脂肪族カルボン酸銀塩の分散乳剤液1,827g(脂肪族カルボン酸銀分散液1670gに前記ハロゲン化銀粒子両親媒性分散物157gを添加した液)に同量のMEKを加え、撹拌しながら18℃に保温し、ビス(ジメチルアセトアミド)ジブロモブロメート(11%メタノール溶液)1.2gを添加して1時間撹拌した。続いて、臭化カルシウム(11%メタノール溶液)15.1gを添加して30分間撹拌した。更に、赤外増感色素液を添加して1時間撹拌し、その後、温度を13℃まで降温して更に30分間撹拌した。13℃に保温したまま、表1に示すポリビニルアセタール樹脂粉末375gを添加して溶解させた。溶解を確認した後、テトラクロロフタル酸(13%MEK溶液)19.8gを添加し、更に撹拌を続けながら以下の添加物を15分間隔で添加し、感光性層塗布液とした。
<Preparation of image-forming photosensitive layer coating solution>
The same amount of MEK was added to 1,827 g of the aliphatic carboxylic acid salt dispersion emulsion (1670 g of the aliphatic carboxylic acid silver dispersion added with 157 g of the silver halide grain amphiphilic dispersion) and stirred. While maintaining the temperature at 18 ° C., 1.2 g of bis (dimethylacetamide) dibromobromate (11% methanol solution) was added and stirred for 1 hour. Subsequently, 15.1 g of calcium bromide (11% methanol solution) was added and stirred for 30 minutes. Further, an infrared sensitizing dye solution was added and stirred for 1 hour, and then the temperature was lowered to 13 ° C. and further stirred for 30 minutes. While keeping the temperature at 13 ° C., 375 g of polyvinyl acetal resin powder shown in Table 1 was added and dissolved. After confirming dissolution, 19.8 g of tetrachlorophthalic acid (13% MEK solution) was added, and the following additives were added at intervals of 15 minutes while continuing stirring to obtain a photosensitive layer coating solution.

フタラジン 12.4g
DesmodurN3300(モーベイ社製:多官能脂肪族イソシアネート)
17.6g
ロイコ染料−1 1.4g
ロイコ染料−2 0.6g
カブリ防止剤液 下記 180.0g
現像剤(銀イオン還元剤)液 下記 800.0g
〈赤外増感色素液の調製〉
赤外増感色素−1を400mg、赤外増感色素−2を400mg、5−メチル−2−メルカプトベンズイミダゾールを130mg、2−クロロ−安息香酸を21.5g、2−(4−メチルベンゼンスルホニルオキシ)ベンゼンカルボキシレート(増感色素溶解剤)2.5gをMEK135gに溶解し、赤外増感色素液を調製した。
Phthalazine 12.4g
Desmodur N3300 (manufactured by Mobay: polyfunctional aliphatic isocyanate)
17.6g
Leuco dye-1 1.4g
0.6 g of leuco dye-2
Antifoggant solution 180.0g below
Developer (silver ion reducing agent) solution 800.0g below
<Preparation of infrared sensitizing dye solution>
400 mg of infrared sensitizing dye-1, 400 mg of infrared sensitizing dye-2, 130 mg of 5-methyl-2-mercaptobenzimidazole, 21.5 g of 2-chloro-benzoic acid, 2- (4-methylbenzene) 2.5 g of sulfonyloxy) benzenecarboxylate (sensitizing dye solubilizer) was dissolved in 135 g of MEK to prepare an infrared sensitizing dye solution.

〈カブリ防止剤液の調製〉
トリブロモメチルスルホニルピリジン11.6gをMEKに溶解し、180gに仕上げてカブリ防止剤液とした。
<Preparation of antifoggant solution>
11.6 g of tribromomethylsulfonylpyridine was dissolved in MEK and finished to 180 g to obtain an antifoggant solution.

〈現像剤(銀イオン還元剤)液の調製〉
表1に示す銀イオン還元剤を表1に示す量、4−メチルフタル酸9g、染料−A 0.7gをMEKに溶解し、800gに仕上げて現像剤液とした。
<Preparation of developer (silver ion reducing agent) solution>
The silver ion reducing agent shown in Table 1 was dissolved in MEK in the amounts shown in Table 1, 9 g of 4-methylphthalic acid and 0.7 g of Dye-A, and finished to 800 g to obtain a developer solution.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

(表面保護層塗布液の調製)
MEK 1056g
セルロースアセテートプロピオネート
(イーストマンケミカル社製:CAP141−20) 148g
ポリメチルメタクリレート
(ローム・アンド・ハース社製、パラロイドA21) 6g
マット分散液
(分散度10%の平均粒径4μmのシリカ,固形分濃度1.7%) 170g
架橋剤 (CH2=CHSO2CH22CH(OH) 3.6g
ベンゾイミダゾール 2g
フッ素系界面活性剤 C917O(CH2CH2O)23917 5.4g
フッ素系界面活性剤 LiO3S(CF23SO3Li 0.12g
(バックコート層塗布液の調製)
MEK 1350g
セルロースアセテートプロピオネート
(イーストマンケミカル社製:CAP482−20) 121g
染料−A 0.23g
染料−B 0.62g
フッ素系アクリル共重合体
(ダイキン工業社製:オプトフロンFM450) 1.21g
非結晶性飽和共重合ポリエステル(東洋紡績社製:バイロン240P) 18.1g
エチレンジアミンビスステアリン酸アミド 2.0g
界面活性剤 C917O(CH2CH2O)23917 5.21g
界面活性剤 LiO3S(CF23SO3Li 0.81g
〈感光性層、表面保護層、バックコート層の塗設〉
前記下引き済み支持体の感光性層面側下引きの上に、総銀量が1.2g/m2になるように感光性層を、その上にウェット付量が23g/m2になるように表面保護層を重層塗布した。続いて反対側のバックコート層面側下引きの上に、ウェット付量が25g/m2になるようにバックコート層を塗布した。尚、乾燥は各々60℃・15分間行った。両面塗布された試料を搬送しながら79℃で10分熱処理をして銀塩光熱写真ドライイメージング材料を得た。
(Preparation of surface protective layer coating solution)
MEK 1056g
148 g of cellulose acetate propionate (Eastman Chemical Co., Ltd .: CAP141-20)
6 g of polymethyl methacrylate (Rohm and Haas, Paraloid A21)
170 g of mat dispersion (silica having a dispersion degree of 10% and an average particle diameter of 4 μm, solid content concentration of 1.7%)
Crosslinking agent (CH 2 ═CHSO 2 CH 2 ) 2 CH (OH) 3.6 g
Benzimidazole 2g
Fluorine-based surfactant C 9 F 17 O (CH 2 CH 2 O) 23 C 9 F 17 5.4 g
Fluorosurfactant LiO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 Li 0.12 g
(Preparation of backcoat layer coating solution)
MEK 1350g
121 g of cellulose acetate propionate (manufactured by Eastman Chemical Co .: CAP482-20)
Dye-A 0.23g
Dye-B 0.62g
Fluorine-based acrylic copolymer (Daikin Industries, Ltd .: Optoflon FM450) 1.21 g
Amorphous saturated copolyester (Toyobo Co., Ltd .: Byron 240P) 18.1 g
Ethylenediamine bis stearamide 2.0g
Surfactant C 9 F 17 O (CH 2 CH 2 O) 23 C 9 F 17 5.21 g
Surfactant LiO 3 S (CF 2 ) 3 SO 3 Li 0.81 g
<Coating of photosensitive layer, surface protective layer, and back coat layer>
A photosensitive layer is applied on the photosensitive layer surface of the undercoated support so that the total silver amount is 1.2 g / m 2 , and the wet weight is 23 g / m 2. A surface protective layer was applied as a multilayer. Subsequently, a back coat layer was applied on the opposite back coat layer surface side undercoat so that the wet weight was 25 g / m 2 . The drying was performed at 60 ° C. for 15 minutes. A silver salt photothermographic dry imaging material was obtained by heat treatment at 79 ° C. for 10 minutes while conveying the sample coated on both sides.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

Figure 2007286607
Figure 2007286607

〈試料の評価〉
評価は図1に示したレーザーイメージャー(最大50mW 出力の786nm半導体レーザー搭載)にて露光と同時に熱現像(図1の51、52、53を、それぞれ100℃、127℃、127℃を示す温度に設定し、それぞれ2秒、2秒、6秒で合計10秒接触するように搬送)し、得られた画像の評価を濃度計により行った。ここで、「露光と同時に熱現像する」とは、銀塩光熱写真ドライイメージング材料からなる1枚のシート感光材料で、一部が露光されながら、同時に既に露光が為されたシートの一部分で現像が開始されることを意味する。露光部と現像部との距離は12cmで、この時の線速度は30mm/秒であった。又、感光材料供給装置部から画像露光装置部までの搬送速度、画像露光部での搬送速度、熱現像部での搬送速度は、それぞれ30mm/秒で行った。露光は最高出力から1段ごとに露光エネルギー量をlogE=0.05ずつ減じながら階段状に行った。
<Evaluation of sample>
Evaluation is performed simultaneously with exposure by the laser imager shown in FIG. 1 (mounted with a 786 nm semiconductor laser having a maximum output of 50 mW) (temperatures 51, 52 and 53 in FIG. 1 are 100 ° C., 127 ° C. and 127 ° C., respectively). And transported so that they contact each other for 2 seconds, 2 seconds, and 6 seconds for a total of 10 seconds), and the obtained images were evaluated with a densitometer. Here, “thermal development at the same time as exposure” is a sheet photosensitive material made of a silver salt photothermographic dry imaging material, and a portion of the sheet that has been exposed at the same time is developed while being partially exposed. Means that will start. The distance between the exposed part and the developing part was 12 cm, and the linear velocity at this time was 30 mm / second. Further, the conveyance speed from the photosensitive material supply unit to the image exposure unit, the conveyance rate at the image exposure unit, and the conveyance rate at the heat development unit were each 30 mm / second. The exposure was performed stepwise while reducing the amount of exposure energy by logE = 0.05 step by step from the maximum output.

[カブリ濃度、最高濃度]
上記のようにして得られた画像について濃度計(X−Rite社製、カラー透過濃度計310T)を用いて、カブリ濃度(最小濃度)及び最高濃度を測定した。尚、最高濃度は、試料No.1のそれぞれを100とする相対値で表した。
[Fog density, maximum density]
The image obtained as described above was measured for fog density (minimum density) and maximum density using a densitometer (manufactured by X-Rite, color transmission densitometer 310T). The maximum concentration is the sample no. Each of 1 was expressed as a relative value with 100 as the value.

[銀色調]
透過濃度が1.1±0.05となる濃度部を目視で観察し、下記に記載の判定基準に則り銀色調の評価を行った。尚、品質保証上問題のないランクは4以上である。
5・・・純黒調で全く黄色みを感じない
4・・・純黒ではないが、ほとんど黄色みを感じない
3・・・部分的にわずかに黄色みを感じる
2・・・全面にわずかに黄色みを感じる
1・・・一見して黄色みが感じられる
[生試料保存性・画像保存性]
生試料の保存性は未露光の試料を40℃・20日の環境に保存した後のカブリ濃度値を示した。画像保存性は、上記現像済み評価試料を遮光した状態で50℃・5日保存した時の最高濃度部の低下巾を示した。
[Silver tone]
The density part where the transmission density was 1.1 ± 0.05 was visually observed, and the silver tone was evaluated according to the criteria described below. The rank that has no problem in quality assurance is 4 or more.
5 ... Pure black tone and no yellowing 4 ... Not pure black but almost yellowing 3 ... Partially slightly yellowing 2 ... Slightly over the entire surface I feel yellowish at first glance. Yellowishness can be felt at first glance [Raw sample preservation / Image preservation]
The storability of the raw sample showed the fog density value after storing the unexposed sample in an environment of 40 ° C. for 20 days. The image storability showed the range of decrease in the maximum density portion when the developed evaluation sample was stored at 50 ° C. for 5 days in a light-shielded state.

Figure 2007286607
Figure 2007286607

表1に示したように、本発明の構成を用いることにより、カブリ濃度が0.16以下という低カブリでありながら、短時間の熱現像でも感度・最高濃度、銀色調が良好であり、熱現像前の保存時のカブリ上昇が殆どなく、熱現像後における銀画像の安定性に優れる銀塩光熱写真ドライイメージング材料を提供できる。   As shown in Table 1, by using the structure of the present invention, the fog density is low fog of 0.16 or less, and the sensitivity / maximum density and silver tone are good even in short time thermal development, It is possible to provide a silver salt photothermographic dry imaging material that hardly increases fogging during storage before development and is excellent in stability of a silver image after thermal development.

本発明に係る熱現像装置の要部を概略的に示す側面図The side view which shows roughly the principal part of the heat development apparatus which concerns on this invention

符号の説明Explanation of symbols

40a 装置筐体
45 フィルム収納部
46 ピックアップローラー
47 搬送ローラー対
48 曲面ガイド
49a、49b 搬送ローラー
56 濃度計
57 搬送ローラー対
58 フィルム載置部
59 基板部
F 銀塩光熱写真ドライイメージング材料
d 隙間(スリット部)
40a Device housing 45 Film storage unit 46 Pickup roller 47 Conveying roller pair 48 Curved guide 49a, 49b Conveying roller 56 Densitometer 57 Conveying roller pair 58 Film mounting unit 59 Substrate unit F Silver salt photothermographic dry imaging material d Gap (slit Part)

Claims (15)

感光性ハロゲン化銀粒子、非感光性脂肪族カルボン酸銀塩、銀イオン還元剤及びバインダー樹脂を含有する感光性層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光性層が、銀イオン還元剤として下記一般式(1)で表される化合物を含有し、かつバインダー樹脂として重合度が700〜3000の樹脂を含有することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
Figure 2007286607
〔式中、R1は水素原子又は置換基を表し、R2及びR3は各々、炭素数1〜8のアルキル基を表す。A1及びA2は各々、ヒドロキシル基又は脱保護されることによりヒドロキシル基を形成し得る基を表し、m及びnは各々1〜5の整数を表す。〕
In a silver salt photothermographic dry imaging material having a photosensitive layer containing a photosensitive silver halide grain, a non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt, a silver ion reducing agent and a binder resin, the photosensitive layer has a silver ion reduction A silver salt photothermographic dry imaging material comprising a compound represented by the following general formula (1) as an agent and a resin having a polymerization degree of 700 to 3000 as a binder resin.
Figure 2007286607
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a substituent, and R 2 and R 3 each represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. A 1 and A 2 each represent a hydroxyl group or a group that can be deprotected to form a hydroxyl group, and m and n each represent an integer of 1 to 5. ]
前記一般式(1)において、A1及びA2が共にヒドロキシル基であることを特徴とする請求項1に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 2. The silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1, wherein in the general formula (1), A 1 and A 2 are both hydroxyl groups. 前記一般式(1)において、R2及びR3が共に3級アルキル基であることを特徴とする請求項1又は2に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 The silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1 or 2, wherein in the general formula (1), R 2 and R 3 are both tertiary alkyl groups. 前記一般式(1)において、m及びnが共に2又は3であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 In the said General formula (1), m and n are both 2 or 3, The silver salt photothermographic dry imaging material as described in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. 前記バインダー樹脂の重合度が1000〜3000であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of claims 1 to 4, wherein the degree of polymerization of the binder resin is 1000 to 3000. 前記バインダー樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of claims 1 to 5, wherein the binder resin is a polyvinyl acetal resin. 前記バインダー樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂であり、かつ、残存アセチル基量が25モル%以下、残存水酸基量が15〜35モル%であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 The binder resin is a polyvinyl acetal resin, has a residual acetyl group content of 25 mol% or less, and a residual hydroxyl group content of 15 to 35 mol%, according to any one of claims 1 to 6. The silver salt photothermographic dry imaging material described. 下記一般式(2)で表される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1〜7に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。
Figure 2007286607
(式中、Zは炭素原子と共に3〜10員の非芳香族環を形成するのに必要な原子群を表し、R21は、水素原子又はアルキル基を表す。R22及びR23は各々水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Qはベンゼン環上に置換可能な基を表し、p及びqは0〜2の整数を表す。又、複数のQは同じでも異なっていても良い。)
The silver salt photothermographic dry imaging material according to claim 1, comprising at least one compound represented by the following general formula (2).
Figure 2007286607
(In the formula, Z represents a group of atoms necessary to form a 3- to 10-membered non-aromatic ring together with a carbon atom, R 21 represents a hydrogen atom or an alkyl group. R 22 and R 23 each represent hydrogen. Represents an atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, Q represents a substitutable group on the benzene ring, p and q represent an integer of 0 to 2. Multiple Qs are the same But it may be different.)
前記非感光性脂肪族カルボン酸銀塩の組成が、ベヘン酸銀の比率が70〜99.99モル%であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 The composition of the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt is a silver salt photothermal according to any one of claims 1 to 8, wherein the ratio of silver behenate is 70 to 99.99 mol%. Photo dry imaging material. 前記非感光性脂肪族カルボン酸銀塩が、感光性ハロゲン化銀粒子の不存在下で形成された銀塩であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 The silver salt according to any one of claims 1 to 9, wherein the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt is a silver salt formed in the absence of photosensitive silver halide grains. Photothermographic dry imaging material. 前記感光性ハロゲン化銀粒子及び非感光性脂肪族カルボン酸銀塩に由来する総銀量が、塗布銀量として、0.8〜1.5g/m2であることを特徴とする請求項1〜10のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 2. The total silver amount derived from the photosensitive silver halide grains and the non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt is 0.8 to 1.5 g / m 2 as a coating silver amount. The silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of 10 to 10. 請求項1〜11のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を製造することを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料の製造方法。 The manufacturing method of the silver salt photothermographic dry imaging material characterized by manufacturing the silver salt photothermographic dry imaging material as described in any one of Claims 1-11. デジタル画像情報に基づく画像形成方法において、請求項1〜11のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を用いて銀画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 The image forming method based on digital image information WHEREIN: A silver image is formed using the silver salt photothermographic dry imaging material as described in any one of Claims 1-11, The image forming method characterized by the above-mentioned. デジタル画像情報に基づく画像形成方法において、請求項1〜11のいずれか一項に記載の銀塩光熱写真ドライイメージング材料を780〜820nmの波長領域内の波長を有するレーザー光にて露光し、引き続いて110〜150℃の温度において10秒以下の時間で熱現像処理し、銀画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 In the image forming method based on digital image information, the silver salt photothermographic dry imaging material according to any one of claims 1 to 11 is exposed with a laser beam having a wavelength in a wavelength region of 780 to 820 nm, and subsequently. A silver image is formed by heat development at a temperature of 110 to 150 ° C. for 10 seconds or less to form a silver image. 前記熱現像処理がスリット現像方式であることを特徴とする請求項14に記載の画像形成方法。 The image forming method according to claim 14, wherein the heat development processing is a slit development method.
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