JP2007286165A - Optical filter - Google Patents

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Hiromi Minami
裕巳 南
Tomoyuki Okamura
友之 岡村
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Mitsui Chemicals Inc
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Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter which does not deteriorate an adhesive material layer to contact with an oxide involving zinc when using a conductive stacked body containing the oxide of zinc. <P>SOLUTION: By forming a thin film layer containing at least one of periodical table fifth group or sixth group elements between the conductive stacked body in which a high-refractive index thin film layer is stacked on a metal thin film layer containing silver or silver alloy and a layer containing the oxide of zinc further is disposed thereon, and the adhesive material layer, the optical filter which suppresses the deterioration of the adhesive material layer and has high reliability with respect to environmental resistance can be provided. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学的安定性に優れる光学フィルターに関する。   The present invention relates to an optical filter having excellent optical stability.

光エレクトロニクス関連部品、機器は日々著しく進歩している。中でも画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン受像機に加えて、コンピューターモニター装置用など急速に発展してきている。商用としてだけでなく、一般家庭への普及台数も急激に増加しており、利用場所も多様化してきている。これら発展とともに、特にディスプレイの大型化、薄型化、高画質に対する市場要求は高まる一方である。   Optoelectronics components and equipment are making significant progress every day. In particular, displays for displaying images have been rapidly developed for computer monitor devices in addition to conventional television receivers. In addition to commercial use, the number of popular homes has increased rapidly, and the places of use have also diversified. Along with these developments, market demands for display enlargement, thinning, and high image quality are increasing.

上記の要求を満たすディスプレイとして、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、リアプロジェクション等、いわゆるフラットパネルディスプレイが著しい発展を遂げている。中でも、プラズマディスプレイパネルは、大型・高画質・薄型のディスプレイとして中心的存在であり、プラズマディスプレイパネル市場の成長が期待されている。   As displays satisfying the above requirements, so-called flat panel displays such as plasma display panels, liquid crystal displays, electroluminescence displays, rear projections, etc. have undergone remarkable development. Among them, the plasma display panel is a centerpiece as a large-sized, high-quality and thin display, and the plasma display panel market is expected to grow.

プラズマディスプレイパネルの発光原理上、強度の電磁波と近赤外線が外部に放出される。プラズマディスプレイパネルを使用する上で、強度の電磁波および近赤外線の遮蔽が必要不可欠である。従来、その強度な電磁波を遮蔽する為に、低抵抗で透明な、電磁波遮蔽機能を有した光学フィルターが利用されている(例えば、特許文献1参照)。光学フィルターには、透明導電性薄膜を使用した光学フィルター、電磁波遮蔽能がより高い導電性メッシュを使用した光学フィルター等が利用されている。電磁波遮蔽能力は、光学フィルターの表面抵抗率が低いほど優れる傾向がある。   Due to the light emission principle of plasma display panels, strong electromagnetic waves and near infrared rays are emitted to the outside. In order to use a plasma display panel, it is essential to shield strong electromagnetic waves and near infrared rays. Conventionally, in order to shield the strong electromagnetic wave, a low-resistance and transparent optical filter having an electromagnetic wave shielding function has been used (for example, see Patent Document 1). As the optical filter, an optical filter using a transparent conductive thin film, an optical filter using a conductive mesh having higher electromagnetic wave shielding ability, and the like are used. The electromagnetic wave shielding ability tends to be better as the surface resistivity of the optical filter is lower.

特に透明導電性薄膜を使用した光学フィルターは、低価格であり、また、プラズマディスプレイパネルから放出される電磁波と近赤外線を同時にカットすることが可能である為、非常に好ましく利用されている。透明導電性薄膜とは、透明であるにも関わらず導電性を有する薄膜である。代表例として、インジウムとスズの酸化物(ITO)からなる薄膜が挙げられ、その用途は幅広い。しかし、インジウムは非常に稀少な物質であることから、価格が不安定であり、その為、インジウムに替わる材料を使用した透明導電性薄膜の開発が望まれている。   In particular, an optical filter using a transparent conductive thin film is very preferably used because it is inexpensive and can simultaneously cut electromagnetic waves and near infrared rays emitted from a plasma display panel. A transparent conductive thin film is a thin film having conductivity despite being transparent. A typical example is a thin film made of an oxide of indium and tin (ITO), and its application is wide. However, since indium is a very rare substance, its price is unstable. Therefore, development of a transparent conductive thin film using a material replacing indium is desired.

また、従来から酸化亜鉛を含む材料が、インジウム、ITOの代替物質として期待されており、一部で既に利用されている。しかし、酸化亜鉛は両性酸化物であるため反応性が高く、多くの物質と相互作用(反応)を起こす傾向がある。そのため、酸化亜鉛を用いた光学フィルターでは、特に高温下、及び、高温高湿環境下で酸化亜鉛層と接着材層の間で反応が起こり、光学フィルターの光線透過率の低下や、変色などが生じることがあった。
特許3004222号公報
Conventionally, materials containing zinc oxide are expected as substitutes for indium and ITO, and some of them are already used. However, since zinc oxide is an amphoteric oxide, it is highly reactive and tends to interact (react) with many substances. Therefore, in an optical filter using zinc oxide, a reaction occurs between the zinc oxide layer and the adhesive layer particularly at high temperatures and in a high temperature and high humidity environment, resulting in a decrease in light transmittance or discoloration of the optical filter. It sometimes occurred.
Japanese Patent No. 3004222

従って、本発明が解決しようとする課題は、亜鉛の酸化物を含む透明導電性薄膜を用いた場合に、特に接着材層の性質の変化が少ない、信頼性に優れる光学フィルターを提供することである。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide an optical filter excellent in reliability, particularly when there is little change in the properties of the adhesive layer when a transparent conductive thin film containing zinc oxide is used. is there.

本発明の課題を解決する為に、本発明者らは鋭意検討した。その結果、酸化亜鉛を用いても信頼性に優れる光学フィルターを提供する為には、亜鉛の酸化物を含む透明導電性薄膜と接触して形成する部材の間に周期表第5族または第6族の元素を少なくとも1つ含む薄膜層を形成することにより、その上に形成する材料の性質の変化を抑制した光学フィルターを提供できることを見出し、本発明を完成した。   In order to solve the problems of the present invention, the present inventors have intensively studied. As a result, in order to provide an optical filter having excellent reliability even when zinc oxide is used, a periodic table group 5 or 6 is formed between members formed in contact with a transparent conductive thin film containing zinc oxide. It has been found that by forming a thin film layer containing at least one group element, it is possible to provide an optical filter that suppresses changes in the properties of the material formed thereon, and the present invention has been completed.

即ち、第一の発明は、
(1)少なくとも透明基材(A)上に、高屈折率薄膜層(a)と、銀または銀合金を含む金属薄膜層(b)とが、(a)/(b)を構成単位として1単位以上形成され、さらにその上に亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(c)が積層され、さらに該亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(c)上に周期表の第5族または第6族の元素を少なくとも1つ含む薄膜層(d)が形成された導電性積層体と、該薄膜層(d)上に該薄膜層(d)と接触するように形成された接着材層(B)を有することを特徴とする光学フィルターである。
(2)(a)/(b)を構成単位として1単位以上7単位以下形成された光学フィルターであることが、好ましい態様である。
(3)薄膜層(d)がタンタルまたはニオブから選ばれた元素を少なくとも1つ含んでいる光学フィルターであることが、接着材層の変質防止、光学フィルターの光学特性、電気特性の点で好ましい態様である。
That is, the first invention is
(1) On at least the transparent substrate (A), the high refractive index thin film layer (a) and the metal thin film layer (b) containing silver or a silver alloy are 1 with (a) / (b) as the structural unit. A high-refractive-index thin film layer (c) formed of at least a unit and further containing zinc oxide is laminated thereon, and the fifth index of the periodic table is further formed on the high-refractive-index thin film layer (c) containing the zinc oxide. A conductive laminate in which a thin film layer (d) containing at least one group or group 6 element is formed, and an adhesive formed on the thin film layer (d) so as to be in contact with the thin film layer (d) It is an optical filter characterized by having a material layer (B).
(2) It is a preferred embodiment that the optical filter is formed from 1 unit to 7 units with (a) / (b) as structural units.
(3) It is preferable that the thin film layer (d) is an optical filter containing at least one element selected from tantalum or niobium in terms of prevention of alteration of the adhesive layer, optical characteristics and electrical characteristics of the optical filter. It is an aspect.

第二の発明は、
(4)プラズマディスプレイパネル用に使用することを目的とした前記の光学フィルターである。
The second invention is
(4) The above-mentioned optical filter intended for use for a plasma display panel.

本発明の光学フィルターは、亜鉛の酸化物を含む材料を使用した導電性積層体に貼り合わせる部材の接着材層の変質を抑制することができるので、併用する材料を制限することなく用いることが可能である光学フィルターを作製することがでる。つまり、導電性積層体が有する高い耐久性、部材の安定した価格とともに、併用する部材同士の機能の相乗効果により、各部材の機能を最大限に利用した、高耐久・高画質・生産性に優れた光学フィルターを提供することができる。   Since the optical filter of the present invention can suppress deterioration of the adhesive layer of a member to be bonded to a conductive laminate using a material containing zinc oxide, it can be used without limiting the material used in combination. It is possible to make an optical filter that is possible. In other words, high durability, high image quality, and productivity that make the most of each member's functions are achieved through the synergistic effect of the functions of the members used together, along with the high durability of the conductive laminate and the stable price of the members. An excellent optical filter can be provided.

本発明における光学フィルターは、透明基材(A)上に形成された亜鉛の酸化物を含む材料を使用した導電性積層体上に周期表第5族または第6族の元素を少なくとも含む薄膜層(d)を有し、薄膜層(d)上に接着材層(B)が形成されていることを特徴とする。   The optical filter in the present invention is a thin film layer containing at least a Group 5 or Group 6 element on a conductive laminate using a material containing a zinc oxide formed on a transparent substrate (A). (D), and the adhesive layer (B) is formed on the thin film layer (d).

本発明の光学フィルターを構成する透明基材(A)は、主にフィルム状及び板状であり、透明性に優れ、用途に応じた十分な機械的強度を有するものが好ましい。ここで言うところの透明性に優れるとは、使用される状態での厚さにおいて、可視光透過率が40%以上であることを意味する(測定法:JIS R3106)。透明基材(A)として例えば、高分子フィルムまたは高分子板、ガラス板が好ましく使用される。本発明においては、上記のような公知の透明基材を制限なく用いることができる。   The transparent substrate (A) constituting the optical filter of the present invention is preferably a film and a plate, is excellent in transparency, and has a sufficient mechanical strength depending on the application. The term “excellent transparency” as used herein means that the visible light transmittance is 40% or more in the thickness in a used state (measurement method: JIS R3106). For example, a polymer film, a polymer plate, or a glass plate is preferably used as the transparent substrate (A). In the present invention, a known transparent substrate as described above can be used without limitation.

本発明の光学フィルターを構成する導電性積層体は、高屈折率薄膜層(a)と銀または銀合金からなる金属薄膜層(b)が、(a)/(b)を構成単位として1単位以上形成され、さらにその上に亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(c)、周期表周期表の第5族または第6族の元素を少なくとも1つ含む薄膜層(d)が形成された導電性積層体であることを特徴とする。   In the conductive laminate constituting the optical filter of the present invention, the high-refractive-index thin film layer (a) and the metal thin film layer (b) made of silver or a silver alloy are 1 unit with (a) / (b) as a structural unit. A high refractive index thin film layer (c) containing zinc oxide and a thin film layer (d) containing at least one group 5 or 6 element of the periodic table are formed thereon. It is characterized by being a conductive laminate.

本発明の光学フィルターにおける高屈折率薄膜層(a)に好適に用いることができる材料を例示すると、インジウムとスズとの酸化物(略称:ITO)、カドミウムとスズとの酸化物(略称:CTO)、亜鉛とスズの酸化物、亜鉛とガリウムの酸化物、インジウムとセリウムとの酸化物、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、亜鉛とアルミニウムとの酸化物(略称:AZO)、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化スズ、酸化ランタン、酸化シリコン、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化セシウム、酸化チタン、酸化ビスマス等である。また、透明高屈折率硫化物を用いても良い。具体的に例示すると、硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン等があげられる。高屈折率薄膜層の材料としては、中でも、ITO、酸化チタン、酸化亜鉛、AZOが特に好ましい。ITO及びAZOは、導電性を持つ上、可視光線領域における屈折率が2.0程度と高く、さらに可視光線領域の光をほとんど吸収しないため、好ましく使用される。また、酸化亜鉛を含む材料を使用することにより、ITOを利用した導電性積層体よりも材料としてコスト面・耐久性の面から安定した光学フィルターを供給することが可能となる。高屈折率薄膜層は、少なくとも上述の導電性物質を含んでいれば、その製膜性、生産性、耐久性等の理由でその他物質との複合体であっても、または、その他物質が添加されていても構わない。   Examples of materials that can be suitably used for the high refractive index thin film layer (a) in the optical filter of the present invention include oxides of indium and tin (abbreviation: ITO), oxides of cadmium and tin (abbreviation: CTO). ), Zinc and tin oxide, zinc and gallium oxide, indium and cerium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, zinc and aluminum oxide (abbreviation: AZO), magnesium oxide, thorium oxide, oxidation Examples thereof include tin, lanthanum oxide, silicon oxide, indium oxide, niobium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, cesium oxide, titanium oxide, and bismuth oxide. A transparent high refractive index sulfide may be used. Specific examples include zinc sulfide, cadmium sulfide, antimony sulfide and the like. As materials for the high refractive index thin film layer, ITO, titanium oxide, zinc oxide, and AZO are particularly preferable. ITO and AZO are preferably used because they have electrical conductivity and have a high refractive index of about 2.0 in the visible light region, and hardly absorb light in the visible light region. Moreover, by using a material containing zinc oxide, it becomes possible to supply an optical filter that is more stable in terms of cost and durability than a conductive laminate using ITO. As long as the high refractive index thin film layer contains at least the above-described conductive material, it may be a composite with other materials for reasons such as film forming property, productivity, and durability, or other materials may be added. It does not matter.

本発明の光学フィルターに使用する高屈折率薄膜層(a)は、全ての層が同じ材料である必要はなく、各高屈折率薄膜層(a)が全く異なる材料、または、一部が異なる材料というように、複数の材料を同時に使用しても構わない。また、高屈折率薄膜層(a)は後述する酸化亜鉛を含む高屈折率薄膜層(c)と同じ材料でも構わない。   The high refractive index thin film layer (a) used in the optical filter of the present invention does not need to be made of the same material for all layers, and each high refractive index thin film layer (a) is completely different or partly different. A plurality of materials, such as materials, may be used simultaneously. The high refractive index thin film layer (a) may be the same material as the high refractive index thin film layer (c) containing zinc oxide described later.

金属薄膜層(b)は、銀または銀合金を含むことが好ましい。銀合金としては、安定性を高くする為に銀と金、銀と銅、又は銀とパラジウム又は銀と白金等の合金を用いても良い。高屈折率薄膜層(a)と同様に、銀または銀合金を含んでいれば、その他物質との複合体であっても、その他物質が添加されていても構わない。その他の物質としては、ニオブ、スズ、インジウム、ビスマス、チタンなどが挙げられるが、公知のドーパント材を使用することができる。   The metal thin film layer (b) preferably contains silver or a silver alloy. As the silver alloy, an alloy such as silver and gold, silver and copper, silver and palladium, or silver and platinum may be used in order to increase stability. Similarly to the high refractive index thin film layer (a), as long as it contains silver or a silver alloy, it may be a composite with other substances or other substances may be added. Examples of other substances include niobium, tin, indium, bismuth, and titanium, but known dopant materials can be used.

酸化亜鉛を含む高屈折率薄膜層(c)は、少なくとも導電性物質である亜鉛の酸化物を含んでいれば、その他物質との複合体であっても、その他物質が添加されていても構わない。その他の物質としては、ガリウム、アルミニウム、スズ、インジウム、マグネシウムハフニウム、チタン、ジルコニウムなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。   The high-refractive-index thin film layer (c) containing zinc oxide may be a complex with other substances or may be added with other substances as long as it contains at least zinc oxide which is a conductive substance. Absent. Examples of other substances include, but are not limited to, gallium, aluminum, tin, indium, magnesium hafnium, titanium, and zirconium.

薄膜層(d)に使用される元素は、周期表第5族または第6族の元素であれば、得られる光学フィルターの光学特性、電気特性に合わせて特に制限なく用いることができる。周期表第5族または第6族の中から選ばれた元素を少なくとも1つ以上含んでいれば、金属、酸化物、窒化物、または、その混合物を薄膜層(d)に使用することができる。特に、タンタル、または、ニオブを含む材料が好ましい。   As long as the element used for the thin film layer (d) is an element of Group 5 or Group 6 of the periodic table, it can be used without particular limitation in accordance with the optical characteristics and electrical characteristics of the obtained optical filter. A metal, oxide, nitride, or a mixture thereof can be used for the thin film layer (d) as long as it contains at least one element selected from Group 5 or Group 6 of the periodic table. . In particular, a material containing tantalum or niobium is preferable.

本発明の薄膜層(d)に使用した周期表第5族または第6族の元素は、電子親和力が高く安定した元素であり、耐食性に優れている。その為、導電性積層体上に周期表第5族または第6族から選ばれた元素を含む層を形成することによって、反応性の高い亜鉛の酸化物の貼り合わせた部材の接着材層(B)の変化を抑制することが可能となる。その為、接着材の種類を考慮することなく、接着機能に優れた部材の中から最適な部材を選ぶことが可能となる。   The elements of Group 5 or Group 6 of the periodic table used for the thin film layer (d) of the present invention are stable elements having high electron affinity and excellent corrosion resistance. Therefore, by forming a layer containing an element selected from Group 5 or Group 6 of the periodic table on the conductive laminate, an adhesive layer of a member bonded with a highly reactive zinc oxide ( It becomes possible to suppress the change of B). For this reason, it is possible to select an optimal member from among members having excellent bonding functions without considering the type of adhesive.

高屈折率薄膜層(a)、金属薄膜層(b)、亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(c)、薄膜層(d)の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法の他、公知のあらゆる方法を採用することができる。中でも、真空成膜法、特にはスパッタリング法を好ましく利用できる。複数の方法を利用して層を形成しても構わない。   The high refractive index thin film layer (a), the metal thin film layer (b), the high refractive index thin film layer (c) containing zinc oxide, and the thin film layer (d) can be formed by sputtering, vacuum deposition, ion In addition to vacuum film forming methods such as a plating method and an ion beam assist method, any known method can be adopted. Among these, a vacuum film forming method, particularly a sputtering method can be preferably used. A layer may be formed using a plurality of methods.

(a)(b)(c)(d)各層の間、及び、表面に様々な機能を有する機能層を有していても構わない。機能層を例示すると、密着改善層、ガスバリア層、耐環境性向上のための層などが挙げられる。   (A) (b) (c) (d) You may have a functional layer which has various functions between each layer and the surface. Examples of the functional layer include an adhesion improving layer, a gas barrier layer, and a layer for improving environmental resistance.

導電性積層体の各層の積層数、膜厚については目的とする電気特性、光学特性に合わせて決定する。導電性積層体の積層数としては、高屈折率薄膜層(a)と金属薄膜層(b)との積層数が多いほど導電性と光透過性のバランスの観点からは好ましいが、コスト、品質安定性を考慮すると、(a)/(b)の構成単位が1単位以上、7単位以下であることが好ましい。(a)層、(b)層、(c)層の層数の合計は、好ましくは11層以下、より好ましくは9層以下である。   The number of layers and the film thickness of each layer of the conductive laminate are determined in accordance with the intended electrical characteristics and optical characteristics. As the number of layers of the conductive laminate, the larger the number of layers of the high refractive index thin film layer (a) and the metal thin film layer (b), the better from the viewpoint of the balance between conductivity and light transmittance, but the cost and quality In consideration of stability, the structural unit (a) / (b) is preferably 1 unit or more and 7 units or less. The total number of layers (a), (b) and (c) is preferably 11 or less, more preferably 9 or less.

薄膜層(d)の膜厚は、用いる元素、酸化物などの状態によって決定するが、好ましくは1nmから20nmである。   The film thickness of the thin film layer (d) is determined by the state of the element used, oxide, etc., but is preferably 1 nm to 20 nm.

本発明の光学フィルターは、少なくとも透明基材(A)/亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(a)と銀または銀合金からなる金属薄膜層(b)とからなり、薄膜層(d)が形成された導電性積層体/接着材層(B)の構成をもつフィルターであれば、本発明の光学フィルターに、他の機能を有する層を複数形成してもよい、他の機能を有する層を例示すると、調色層、導電層、接着材層、衝撃緩和層、電極層、反射防止層、防眩層、防汚層、ハードコート層、アンチニュートンリング層、紫外線吸収層等が挙げられる。これらの層は複数の機能を同時に有していても構わない。他の機能を有する層は、本発明の光学フィルターに直接形成してもよいし、他の機能を有する基材を本発明の光学フィルターに積層してもよい。   The optical filter of the present invention comprises a high refractive index thin film layer (a) containing at least a transparent substrate (A) / zinc oxide and a metal thin film layer (b) made of silver or a silver alloy. If the filter has a configuration of a conductive laminate / adhesive layer (B) formed with a plurality of layers having other functions, the optical filter of the present invention may have other functions. Examples of the layers include toning layers, conductive layers, adhesive layers, impact mitigation layers, electrode layers, antireflection layers, antiglare layers, antifouling layers, hard coat layers, anti-Newton ring layers, ultraviolet absorption layers, and the like. Can be mentioned. These layers may have a plurality of functions at the same time. The layer having other functions may be directly formed on the optical filter of the present invention, or a substrate having other functions may be laminated on the optical filter of the present invention.

上記の調色層としては、色素を含有した層が挙げられる。色素は、目的に応じた色調を実現できれば、染料または顔料に限定せず使用することができる。本発明においては、染料、顔料の区別なく色素と記載する。染料や顔料を具体的に例示すると、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポリフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系、スクアリリウム系、シアニン系、オキソノール系の化合物、カーボンブラックなどが挙げられる。所望の光学特性に応じて、光学特性を調整するために前記色素以外の可視光領域、近赤外線領域、紫外線領域に吸収を有する色素を併用しても構わない。また、これに制限されるものではなく、2種類以上の色素を同時に併用しても構わない。また、調色層を2層以上同時に有しても、または、調色層とみなせる層が2層以上同時に存在していても構わない。   Examples of the toning layer include a layer containing a pigment. The dye can be used without being limited to a dye or a pigment as long as it can achieve a color tone according to the purpose. In the present invention, it is described as a pigment without distinction between a dye and a pigment. Specific examples of dyes and pigments include anthraquinone, phthalocyanine, methine, azomethine, oxazine, azo, styryl, coumarin, porphyrin, dibenzofuranone, diketopyrrolopyrrole, rhodamine, Examples include xanthene-based, pyromethene-based, squarylium-based, cyanine-based, oxonol-based compounds, and carbon black. In order to adjust the optical characteristics according to desired optical characteristics, a dye having absorption in the visible light region, near-infrared region, and ultraviolet region other than the dye may be used in combination. Moreover, it is not restricted to this, You may use together 2 or more types of pigment | dyes simultaneously. Further, two or more toning layers may be simultaneously provided, or two or more layers that can be regarded as toning layers may be present at the same time.

調色層を形成する方法としては、あらゆる公知の技術を用いることが出来る。具体的に例示すると、色素を(1)高分子成形体等の透明基材へ含有させる、(2)透明基材表面に塗布する、(3)接着材中に含有させる方法などが挙げられる。色素を含有させる方法としては、色素が均一に分布するのであれば公知のあらゆる技術を用いて構わない。   Any known technique can be used as the method of forming the toning layer. Specific examples include (1) a method of incorporating a dye into a transparent substrate such as a polymer molded body, (2) applying to a transparent substrate surface, and (3) a method of incorporating it into an adhesive. Any known technique may be used as a method for containing the dye as long as the dye is uniformly distributed.

(1)色素を高分子成形体に含有させる方法を具体的に例示すると、色素と混ぜ合わせるベース樹脂の種類によって加工温度等の条件が異なるが、通常は、色素をベース樹脂の粉体あるいはペレットに添加し、樹脂の溶融温度を考慮しながら150℃から350℃に加熱、溶融させ、好ましくは混練した後、成形してプラスチックシート、プラスチック粒子を作製する方法が挙げられる。成形を容易にするなどの目的で可塑剤等の添加剤を加えても構わない。   (1) Specific examples of the method of incorporating a dye into a polymer molded body include conditions such as processing temperature depending on the type of base resin mixed with the dye, but usually the dye is a base resin powder or pellet. And a method of heating and melting from 150 ° C. to 350 ° C. in consideration of the melting temperature of the resin, and preferably kneading and molding to produce a plastic sheet and plastic particles. An additive such as a plasticizer may be added for the purpose of facilitating molding.

その他の方法としては、キャスティングによる方法がある。キャスティング方法では、樹脂または、樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂液に色素を添加、溶解させ、必要に応じて可塑剤や重合開始剤、酸化防止剤等を加え、必要とする面状態を有する金型へ流し込み、溶剤揮発、乾燥、または、重合、溶剤揮発、乾燥させることにより高分子成形体を得ることができる。色素の添加量は、色素の吸収係数、高分子成形体の厚み、目的とする透過特性によって異なるが、通常、ベース樹脂成形体の1重量ppmから20質量パーセントである。   There is a casting method as another method. In the casting method, a dye is added to and dissolved in a resin solution in which a resin or resin monomer is dissolved in an organic solvent, and a plasticizer, a polymerization initiator, an antioxidant, etc. are added as necessary, and the required surface state The polymer molded body can be obtained by pouring into a metal mold having a solvent and volatilizing, drying, or polymerizing, solvent volatilizing and drying. The addition amount of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the polymer molded article, and the desired transmission characteristics, but is usually 1 ppm to 20 mass percent of the base resin molded article.

(2)の色素を高分子成形体またはガラス表面に塗布する方法を具体的に例示する。色素をバインダー樹脂および有機系溶剤に溶解させて塗料としたもの、または、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕(粒径50nmから500nm)したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料としたものを、バーコーター、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、あるいは、スプレーなどの従来公知のコーティング方法により塗布、乾燥させる方法が挙げられる。色素の濃度としては、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の光学特性により異なるが、バインダー樹脂に対して、1質量ppmから30質量パーセントである。塗料中には酸化防止剤等を加えても構わない。また、コーティング面を保護することを目的として保護層を設けても構わない。   Specific examples of the method of applying the pigment (2) to the polymer molded body or the glass surface are shown below. A paint prepared by dissolving a dye in a binder resin and an organic solvent, or a finely pulverized dye (particle size 50 nm to 500 nm) dispersed in an uncolored acrylic emulsion paint to obtain an acrylic emulsion aqueous paint. Examples thereof include a method of applying and drying a product by a conventionally known coating method such as a bar coater, a blade coater, a spin coater, a reverse coater, a die coater, or a spray. The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the coating, and the target optical characteristics, but is 1 ppm by mass to 30% by mass with respect to the binder resin. An antioxidant or the like may be added to the paint. A protective layer may be provided for the purpose of protecting the coating surface.

(3)色素を接着材中に含有させる方法を具体的に例示する。接着材としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂などのシート状、液状の接着材が挙げられる。これら接着材に色素を添加して色素入り粘着材とする。色素の添加量としては、色素の吸収係数、接着材の厚み、目的とする光学特性により異なるが、通常、ベース接着材の1ppmから30質量パーセントである。   (3) A method of incorporating a pigment into the adhesive is specifically exemplified. Adhesive materials include acrylic resin, silicone resin, urethane resin, polyvinyl butyral resin, ethylene-vinyl acetate resin, polyvinyl ether resin, saturated amorphous polyester, melamine resin, etc. Is mentioned. A pigment is added to these adhesives to obtain a pigmented adhesive. The addition amount of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the adhesive, and the desired optical characteristics, but is usually 1 ppm to 30 mass percent of the base adhesive.

接着材の形成方法は、直接基材に接着剤を塗布して形成する、または、離型フィルムで挟んだ接着材の片方の離型フィルムを剥離して、基材に貼り合わせる方法が挙げられる。接着材の塗布方法としては、一般にバーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法などにより塗布されるが、これに限定されるものではない。接着材の厚みは、特に制限はないが、0.5μmから50μm、好ましくは、1μmから30μmである。   Examples of the method for forming an adhesive include a method in which an adhesive is directly applied to a substrate, or a method in which one release film of an adhesive sandwiched between release films is peeled off and bonded to a substrate. . Generally, the adhesive is applied by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a roll coating method or the like, but is not limited thereto. The thickness of the adhesive is not particularly limited, but is 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 30 μm.

上記の接着材は、フィルムとフィルム、フィルムとガラスなど各種の貼り合わせにも用いることができ、色素を含有させる方法としては好ましい形態の1つである。   The adhesive can be used for various types of bonding such as a film and a film and a film and a glass, and is one of the preferred forms as a method of containing a pigment.

色素は耐光性に乏しいものもあり、光学フィルターとして使用した場合、装置自体の光や外光の紫外線、可視光線による変質が問題になることがある。この場合、紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過させない部材(層)や、色素の変質を引き起こす波長の光を吸収する色素を含む部材や透過させない部材を併用することによって、色素の変質を低減することができる。これらの部材は、色素を含む層よりも紫外線や可視光線が入射する側に使用すると良い。この他にも公知の光遮断技術を用いることができる。   Some dyes have poor light resistance, and when used as an optical filter, deterioration due to light of the device itself, ultraviolet light of external light, or visible light may become a problem. In this case, the deterioration of the dye is reduced by using in combination with a member containing an ultraviolet absorber, a member (layer) that does not transmit ultraviolet light, a member that includes a dye that absorbs light of a wavelength that causes the dye to change, or a member that does not transmit the light. can do. These members are preferably used on the side on which ultraviolet rays or visible rays are incident rather than the layer containing the dye. In addition, a known light blocking technique can be used.

光に加えて熱や湿度、これらの複合した環境においても同様である。色素が変質すると光学フィルター自体の透過特性が変化し、色調が変化することがある。また、近赤外線カット能が変化することもある。そのため、耐高温性、耐湿熱性を有した色素はより好ましく用いることができる。さらに、色素を利用する場合、媒体や塗膜中に分散させる為に、溶媒への溶解性や分散性も重要となる為、溶解性、分散性が良い色素は好ましく用いることができる。   The same applies to a combination of light, heat and humidity, and a combination of these. When the dye is altered, the transmission characteristics of the optical filter itself may change, and the color tone may change. Moreover, the near-infrared cutting ability may change. Therefore, a dye having high temperature resistance and wet heat resistance can be used more preferably. Furthermore, when using a pigment | dye, in order to disperse | distribute it in a medium or a coating film, since the solubility and dispersibility to a solvent are also important, the pigment | dye with good solubility and dispersibility can be used preferably.

本発明の光学フィルターはプラズマディスプレイパネル用に好ましく使用できる。プラズマディスプレイパネルに使用する時の好ましい形態を例示すると、
(i)光学フィルターを構成する少なくとも1つ以上の部材に色素を含有する構成
(ii)調色層を含む構成
が挙げられる。但し、プラズマディスプレイパネル用に用いられる本発明の光学フィルターには、従来公知のあらゆる手法を適用することができ、上記(i)、(ii)に限定されるものではない。
The optical filter of the present invention can be preferably used for a plasma display panel. An example of a preferred form when used in a plasma display panel is as follows:
(I) The structure containing a pigment | dye in the at least 1 or more member which comprises an optical filter (ii) The structure containing a toning layer is mentioned. However, any conventionally known method can be applied to the optical filter of the present invention used for a plasma display panel, and is not limited to the above (i) and (ii).

本発明のプラズマディスプレイパネル用光学フィルターを構成する部材に付与される機能としては、具体的にハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性、紫外線カット性、近赤外線カット能、色調調整機能、アンチニュートンリング層、後述する導電性メッシュの平坦化処理機能など公知の性能のうち、少なくとも1つ以上の機能が挙げられるが、付与する機能はこれに限定されるものではない。光学フィルターに付与する機能や構成は目的に合わせて適宜設計する。特に、紫外線カット能を有する層は光学フィルターのディスプレイに近い側ではなく、人側に配置することが好ましい。また、上記機能を有するものであれば、塗布膜、フィルム、接着材層、及び、その複合体等の任意の形態をとることができ、形成方法としては、特に限定されるものではなく、公知のあらゆる技術を用いることができる。また、機能を有する層は、2層以上形成してもよく、複数の機能を1つの層が有しても良い。また、各層の貼り合わせに使用する接着材層には、ディスプレイとしての色調を調整する機能をはじめとする上記の機能を付与しても構わない。   Specifically, the functions imparted to the members constituting the optical filter for the plasma display panel of the present invention include hard coat properties, antireflection properties, antiglare properties, antistatic properties, antifouling properties, gas barrier properties, and ultraviolet cut properties. At least one or more of known functions such as a near infrared ray cutting ability, a color tone adjustment function, an anti-Newton ring layer, and a conductive mesh flattening function to be described later may be mentioned, but the function to be given is limited to this. Is not to be done. The function and configuration to be given to the optical filter are appropriately designed according to the purpose. In particular, it is preferable that the layer having the ability to cut ultraviolet rays is disposed on the human side, not on the side close to the display of the optical filter. Moreover, as long as it has the said function, it can take arbitrary forms, such as a coating film, a film, an adhesive material layer, and its composite body, As a formation method, it is not specifically limited, Well-known Any technology can be used. Two or more layers having a function may be formed, or one layer may have a plurality of functions. Moreover, you may provide said function including the function to adjust the color tone as a display to the adhesive material layer used for bonding of each layer.

本発明のプラズマディスプレイパネル用光学フィルターは、少なくとも電磁波シールド機能および近赤外線遮蔽機能を有していることが好ましい。これは、プラズマディスプレイパネル等の表示装置は、その構造や動作原理上、漏洩電磁波や、近赤外線を発生することがあり、これらの遮蔽が必要なためである。   The optical filter for a plasma display panel of the present invention preferably has at least an electromagnetic shielding function and a near infrared shielding function. This is because a display device such as a plasma display panel may generate leakage electromagnetic waves or near infrared rays due to its structure and operation principle, and these must be shielded.

通常、電磁波を遮蔽するためには、ディスプレイの表面を導電性の高い導電物で覆うことが多い。上記導電物が電磁波を吸収し、これを電荷として逃がすことで電磁波シールド能が発現する。プラズマディスプレイパネル用光学フィルターに導電層を設けることで、電磁波を遮蔽することができる。   Usually, in order to shield electromagnetic waves, the surface of a display is often covered with a highly conductive material. The conductive material absorbs an electromagnetic wave and releases it as an electric charge, thereby exhibiting an electromagnetic wave shielding ability. Electromagnetic waves can be shielded by providing a conductive layer on the optical filter for a plasma display panel.

プラズマディスプレイパネルの電磁波遮蔽に必要な導電性は、要求される電磁波規格やプラズマディスプレイパネルからの放射強度にもよるが、導電層の表面抵抗率が10Ω/□以下であることが好ましく、より好ましくは3Ω/□である。民生用途等で要求される厳しい電磁波規格の場合は、1.5Ω/□以下であることが好ましく、より好ましくは、1.0Ω/□以下である。   The conductivity necessary for shielding the electromagnetic wave of the plasma display panel depends on the required electromagnetic wave standard and the radiation intensity from the plasma display panel, but the surface resistivity of the conductive layer is preferably 10Ω / □ or less, more preferably. Is 3Ω / □. In the case of strict electromagnetic wave standards required for consumer use, it is preferably 1.5Ω / □ or less, and more preferably 1.0Ω / □ or less.

プラズマディスプレイパネルから発生する近赤外線を遮蔽するためには、光学フィルターの透過率を、波長800〜1000nmの近赤外線波長領域において、20%以下にすることが好ましい。   In order to shield near infrared rays generated from the plasma display panel, it is preferable that the transmittance of the optical filter is 20% or less in the near infrared wavelength region having a wavelength of 800 to 1000 nm.

本発明の導電性積層体は、導電性メッシュ層よりも低コストな上、金属薄膜層を構成する金属の自由電子によって近赤外線を反射する特性を有するため、電磁波シールド機能と同時に近赤外線遮断機能を併せ持つという特徴がある。本発明においては、導電層として導電性積層体を好ましく使用した。   The conductive laminate of the present invention is less expensive than the conductive mesh layer and has the property of reflecting near infrared rays by the free electrons of the metal constituting the metal thin film layer. It has the feature of having both. In the present invention, a conductive laminate is preferably used as the conductive layer.

以上のことから、本発明のプラズマディスプレイパネル用光学フィルターをプラズマディスプレイパネルの前面に配設することにより、電磁波遮蔽、近赤外線カットの他、ディスプレイとしてより優れた画像を提供することが可能となる。   From the above, by disposing the optical filter for a plasma display panel of the present invention on the front surface of the plasma display panel, it is possible to provide a better image as a display in addition to shielding electromagnetic waves and cutting near infrared rays. .

本発明を実施例により具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって限定されるものではない。
[実施例1]
透明基材としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム[帝人デュポン株式会社製、テトロンフィルム、厚さ:75μm]を使用し、透明基材の一方の面上に直流マグネトロンスパッタリング法を使用して、亜鉛および錫の酸化物層、銀層、薄膜層(d)としてタンタルを、PET/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:35nm]/銀層[膜厚:10nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:90nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:90nm]/銀層[膜厚:10nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:35nm]/タンタル[膜厚:5nm]の順に積層して導電性積層体を形成した。亜鉛および錫の酸化物層の形成には、ターゲットとしてZnSnターゲット[ベカルト社製、Zn:Sn=95:5(重量比)]、スパッタリングガスとして、アルゴン・酸素ガスの混合ガス[全圧:266mPa、酸素分圧:133mPa]を使用した。銀層の形成には、ターゲットとして銀を使用し、スパッタリングガスとしてアルゴンガス[全圧:266mPa]を使用した。薄膜層(d)にはタンタルターゲット[株式会社高純度化学研究所製]、スパッタリングガスとしてアルゴンガス[全圧:266mPa]を使用した。上記により形成した導電性積層体の薄膜層(d)の上に、ポリエチレンフィルム[三井化学株式会社製、厚さ:50μm]上に接着材層[厚さ:3μm]を有する保護フィルムを貼り合わせた。
厚さ3mmの熱処理ガラスの一方の面上に、透明なアクリル系接着材を介して保護フィルムを貼り合わせた透明基材および導電性積層体からなるフィルムを、透明基材側が接着材となるように貼り合わせた。
さらに、導電性積層体に貼り合わせた保護フィルムを剥離して、透明な接着材が付帯した反射防止フィルム[日本油脂株式会社製、厚さ:105μm]を導電性積層体上に貼り合わせて光学フィルターを作製した。
The present invention will be specifically described with reference to examples. The present invention is not limited to the following examples.
[Example 1]
Using a polyethylene terephthalate (PET) film [manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., Tetron film, thickness: 75 μm] as a transparent substrate, using a direct current magnetron sputtering method on one side of the transparent substrate, zinc and tin Tantalum as the oxide layer, silver layer, thin film layer (d), PET / zinc and tin oxide layer [film thickness: 35 nm] / silver layer [film thickness: 10 nm] / zinc and tin oxide layer [ Film thickness: 90 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 90 nm] / silver layer [film thickness: 10 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 35 nm ] / Tantalum [film thickness: 5 nm] in this order to form a conductive laminate. For forming the oxide layer of zinc and tin, a ZnSn target [manufactured by Bekaert, Zn: Sn = 95: 5 (weight ratio)] and a mixed gas of argon and oxygen gas as sputtering gas [total pressure: 266 mPa , Oxygen partial pressure: 133 mPa] was used. For forming the silver layer, silver was used as a target, and argon gas [total pressure: 266 mPa] was used as a sputtering gas. For the thin film layer (d), a tantalum target [manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.] and argon gas [total pressure: 266 mPa] as a sputtering gas were used. A protective film having an adhesive layer [thickness: 3 μm] is laminated on a polyethylene film [Mitsui Chemicals, Inc., thickness: 50 μm] on the thin film layer (d) of the conductive laminate formed as described above. It was.
A transparent base material in which a protective film is bonded to one side of a heat treated glass having a thickness of 3 mm via a transparent acrylic adhesive and a conductive laminate, so that the transparent base becomes the adhesive. Pasted together.
Further, the protective film bonded to the conductive laminate is peeled off, and an antireflection film [manufactured by Nippon Oil & Fats Co., Ltd., thickness: 105 μm] attached with a transparent adhesive is bonded onto the conductive laminate to optically A filter was produced.

[実施例2]
積層構造をPET/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:30nm]/銀層[膜厚:8nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:8nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:30nm]/タンタル[膜厚:5nm]となるように導電性積層体を形成したこと以外は実施例1と同様に光学フィルターを作製した。
[Example 2]
The laminated structure is PET / zinc and tin oxide layer [film thickness: 30 nm] / silver layer [film thickness: 8 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm]. / Zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 8 nm] / zinc and tin An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive laminate was formed so that the oxide layer [film thickness: 30 nm] / tantalum [film thickness: 5 nm] was formed.

[実施例3]
薄膜層(d)としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット[株式会社ニラコ製]を使用したこと以外は、実施例1と同様に光学フィルターを作製した。
[Example 3]
An optical filter was produced in the same manner as in Example 1 except that niobium was used as the thin film layer (d) and a niobium target [manufactured by Nilaco Corporation] was used as the target.

[実施例4]
薄膜層(d)としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット[株式会社ニラコ製]を使用したこと以外は、実施例2と同様に光学フィルターを作製した。
[Example 4]
An optical filter was produced in the same manner as in Example 2 except that niobium was used as the thin film layer (d) and a niobium target [manufactured by Nilaco Corporation] was used as the target.

[実施例5]
透明基材としてポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム[帝人デュポン株式会社製、テトロンフィルム、厚さ:75μm]を使用し、透明基材の一方の面上に直流マグネトロンスパッタリング法を使用して、亜鉛および錫の酸化物層、銀層、薄膜層(d)としてタンタルを、PET/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:35nm]/銀層[膜厚:10nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:90nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:90nm]/銀層[膜厚:10nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:35nm]/酸化タンタル[膜厚:10nm]の順に積層して導電性積層体を形成した。亜鉛および錫の酸化物層の形成には、ターゲットとしてZnSnターゲット[ベカルト社製、Zn:Sn=95:5(重量比)]、スパッタリングガスとして、アルゴン・酸素ガスの混合ガス[全圧:266mPa、酸素分圧:133mPa]を使用した。銀層の形成には、ターゲットとして銀を使用し、スパッタリングガスとしてアルゴンガス[全圧:266mPa]を使用した。薄膜層(d)にはタンタルターゲット[株式会社高純度化学研究所製]、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素ガスの混合ガス[全圧:266mPa、酸素分圧:133mPa]を使用した。上記により形成した導電性積層体の上に、ポリエチレンフィルム[三井化学株式会社製、厚さ:50μm]上に接着材層[厚さ:3μm]を有する保護フィルムを貼り合わせた。貼り合わせ時の面圧は、0.3MPaであった。
[Example 5]
Using a polyethylene terephthalate (PET) film [manufactured by Teijin DuPont Co., Ltd., Tetron film, thickness: 75 μm] as a transparent substrate, using a direct current magnetron sputtering method on one side of the transparent substrate, zinc and tin Tantalum as the oxide layer, silver layer, thin film layer (d), PET / zinc and tin oxide layer [film thickness: 35 nm] / silver layer [film thickness: 10 nm] / zinc and tin oxide layer [ Film thickness: 90 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 90 nm] / silver layer [film thickness: 10 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 35 nm ] / Tantalum oxide [film thickness: 10 nm] in this order to form a conductive laminate. For forming the oxide layer of zinc and tin, a ZnSn target [manufactured by Bekaert, Zn: Sn = 95: 5 (weight ratio)] and a mixed gas of argon and oxygen gas as sputtering gas [total pressure: 266 mPa , Oxygen partial pressure: 133 mPa] was used. For forming the silver layer, silver was used as a target, and argon gas [total pressure: 266 mPa] was used as a sputtering gas. For the thin film layer (d), a tantalum target [manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.] and a mixed gas of argon and oxygen gas [total pressure: 266 mPa, oxygen partial pressure: 133 mPa] were used as the sputtering gas. A protective film having an adhesive layer [thickness: 3 μm] on a polyethylene film [Mitsui Chemicals, Inc., thickness: 50 μm] was bonded onto the conductive laminate formed as described above. The surface pressure at the time of bonding was 0.3 MPa.

[実施例6]
積層構造をPET/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:30nm]/銀層[膜厚:8nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:8nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:30nm]/酸化タンタル[膜厚:10nm]となるように導電性積層体を形成したこと以外は実施例5と同様に作製した。
[Example 6]
The laminated structure is PET / zinc and tin oxide layer [film thickness: 30 nm] / silver layer [film thickness: 8 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm]. / Zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 8 nm] / zinc and tin The oxide layer [film thickness: 30 nm] / tantalum oxide [film thickness: 10 nm] was prepared in the same manner as in Example 5 except that the conductive laminate was formed.

[実施例7]
薄膜層(d)としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット[株式会社ニラコ製]を使用し、酸化タンタルの代わりに酸化ニオブを形成したこと以外は実施例5と同様に作製した。
[Example 7]
It was produced in the same manner as in Example 5 except that niobium was used as the thin film layer (d), a niobium target [manufactured by Nilaco Corporation] was used as a target, and niobium oxide was formed instead of tantalum oxide.

[実施例8]
薄膜層(d)としてニオブを使用し、ターゲットにニオブターゲット[株式会社ニラコ製]を使用し、酸化タンタルの代わりに酸化ニオブを形成したこと以外は実施例6と同様に作製した。
[Example 8]
It was produced in the same manner as in Example 6 except that niobium was used as the thin film layer (d), a niobium target [manufactured by Nilaco Corporation] was used as a target, and niobium oxide was formed instead of tantalum oxide.

[比較例1]
構成を、PET/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:35nm]/銀層[膜厚:10nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:90nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:90nm]/銀層[膜厚:10nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:35nm]とし、薄膜層(d)を形成しなかったこと以外は実施例1と同様に作製した。
[Comparative Example 1]
PET / zinc and tin oxide layer [film thickness: 35 nm] / silver layer [film thickness: 10 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 90 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / Zinc and tin oxide layer [film thickness: 90 nm] / silver layer [film thickness: 10 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 35 nm] and no thin film layer (d) was formed Other than this, the same production as in Example 1 was performed.

[比較例2]
構成を、PET/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:30nm]/銀層[膜厚:8nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:15nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:80nm]/銀層[膜厚:8nm]/亜鉛および錫の酸化物層[膜厚:30nm]とし、薄膜層(d)を形成しなかったこと以外は実施例2と同様に作製した。
作製した光学フィルターに対して、恒温恒湿槽[楠本化成株式会社製、FX2200]を用いて60℃・90%RHの高温高湿の環境試験を実施した。作製した光学フィルターを該条件下で250時間保持し、250時間後の光学フィルターの光線透過率を分光光度計で測定し[測定法:JIS R3106](測定機器:株式会社日立製作所製分光光度計、U−3400)、試験前の波長400nm、650nmにおける光線透過率と比較した。環境試験前後で、光線透過率の変化ができるだけ少ないことが、光学フィルターとして使用する上で好ましい。
[Comparative Example 2]
PET / zinc and tin oxide layer [film thickness: 30 nm] / silver layer [film thickness: 8 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / Zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 15 nm] / zinc and tin oxide layer [film thickness: 80 nm] / silver layer [film thickness: 8 nm] / zinc and tin The oxide layer [film thickness: 30 nm] was prepared in the same manner as in Example 2 except that the thin film layer (d) was not formed.
The produced optical filter was subjected to a high-temperature and high-humidity environmental test of 60 ° C. and 90% RH using a thermo-hygrostat [Enomoto Kasei Co., Ltd., FX2200]. The produced optical filter is held for 250 hours under these conditions, and the light transmittance of the optical filter after 250 hours is measured with a spectrophotometer [Measuring method: JIS R3106] (measuring instrument: spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd.) , U-3400), and the light transmittance at wavelengths of 400 nm and 650 nm before the test. It is preferable to use the optical filter as little as possible before and after the environmental test.

環境試験前後の光線透過率の変化量絶対値を表1に示す。なお、ここでいうところの光線透過率の変化量とは、(各波長位置における環境試験後の光線透過率[%])と(各波長位置における環境試験前の光線透過率[%])の差のことである。その結果、薄膜層(d)を形成した本発明の光学フィルターは、光線透過率の変化量絶対値が薄膜層(d)を持たない光学フィルターよりも小さく、変質を抑制していた。   Table 1 shows the absolute value of the change in light transmittance before and after the environmental test. Note that the amount of change in light transmittance here is (light transmittance after environmental test at each wavelength position [%]) and (light transmittance before environmental test at each wavelength position [%]). It is a difference. As a result, the optical filter of the present invention in which the thin film layer (d) was formed had an absolute value of change in light transmittance that was smaller than that of the optical filter without the thin film layer (d), and suppressed deterioration.

Figure 2007286165
Figure 2007286165

[実施例9]
色素を含有した接着材を使用して反射防止(AR)フィルムを導電性積層体上に貼り合わせた以外は、実施例6と同様に作製した。
色素を含有した接着材は、酢酸エチルとトルエンの混合溶剤(比率50:50質量%)に、テトラアザポルフィリン化合物、アントラキノン化合物、キノフタロン化合物、カーボンブラックを分散・溶解させ、乾燥したとき、樹脂中の色素濃度がそれぞれ、1000(wt)ppm、800(wt)ppm、300(wt)ppm、4000(wt)ppmになるように、アクリル系粘着材用の色素入り希釈剤を作製した。次に、アクリル系粘着剤(ブチルアクリレートおよびアクリル酸の共重合体(商品名、DBボンド、ダイアボンド工業株式会社製))と色素入り希釈剤を80:20質量%で混合し、バーコーター法によりポリエチレンテレフタレートフィルムおよびシリコーン離型層からなる離型フィルムの離型層上に連続的に塗工し、乾燥させた。その後、別の離型フィルムを塗工面に貼り合わせ、異なる離型力を有した離型フィルムを両面に有する膜厚25μmの色素入り粘着材を作製し、上記ARフィルムの貼り合わせに使用した。貼り合わせる際は、片面の離型フィルムを剥離して導電性積層体上に貼り合わせた後、もう片方の離型フィルムを剥離してARフィルムを貼り合わせ、プラズマディスプレイパネル用の光学フィルターを作製した。
作製した導電性積層体の表面抵抗率は1.5Ω/□であり、プラズマディスプレイパネル用光学フィルターとしての近赤外線波長領域における光線透過率は、800〜1000nmにわたって20%以下であり、特に820nm、850nm、950nmにおける光線透過率はそれぞれ、3.8%、2.4%、0.7%であった。表面抵抗率は、渦電流式で測定した(測定使用機器:HEHIGHTON Electronics,Inc.、Contactless Measurement System)。
また、環境試験後も透過率に大きな変化は見受けられず、本発明の光学フィルターは、耐久性・特性面からもプラズマディスプレイパネル用として十分に適した特性を有していることを確認した。
[Example 9]
It was produced in the same manner as in Example 6 except that an antireflection (AR) film was bonded onto the conductive laminate using an adhesive containing a pigment.
When the adhesive containing the pigment is dispersed and dissolved in tetraazaporphyrin compound, anthraquinone compound, quinophthalone compound, and carbon black in a mixed solvent of ethyl acetate and toluene (ratio 50: 50% by mass), and dried, The pigment-containing diluent for the acrylic pressure-sensitive adhesive material was prepared so that the dye concentrations of 1000 (wt) ppm, 800 (wt) ppm, 300 (wt) ppm, and 4000 (wt) ppm, respectively. Next, an acrylic pressure-sensitive adhesive (a copolymer of butyl acrylate and acrylic acid (trade name, DB bond, manufactured by Diabond Kogyo Co., Ltd.)) and a dye-containing diluent are mixed at 80: 20% by mass, and the bar coater method is used. Was continuously coated on a release layer of a release film comprising a polyethylene terephthalate film and a silicone release layer, and dried. Thereafter, another release film was bonded to the coated surface to prepare a 25 μm-thick pigmented adhesive material having release films having different release forces on both sides, and used for bonding the AR film. When bonding, peel off the release film on one side and paste it on the conductive laminate, then peel off the other release film and paste the AR film to produce an optical filter for the plasma display panel. did.
The surface resistivity of the produced conductive laminate is 1.5Ω / □, and the light transmittance in the near-infrared wavelength region as an optical filter for a plasma display panel is 20% or less over 800 to 1000 nm, particularly 820 nm, The light transmittances at 850 nm and 950 nm were 3.8%, 2.4% and 0.7%, respectively. The surface resistivity was measured by an eddy current method (measurement equipment: HEHIGHTON Electronics, Inc., Contactless Measurement System).
In addition, no significant change was observed in the transmittance even after the environmental test, and it was confirmed that the optical filter of the present invention had sufficiently suitable characteristics for plasma display panels from the viewpoint of durability and characteristics.

本発明は、導電性を有する薄膜が用いられるあらゆる光学部材に用いることができる。特定の元素を含む薄膜層を、亜鉛の酸化物を含む導電性積層体の表面に形成することにより、該導電性積層体上に設ける接着材層の変質を防ぐことにより、導電性積層体がもつ機能と貼り合わせる部材が持つ機能を活かした、耐久性・特性面で優れた光学フィルターを提供することが可能となり、産業上の利用価値は高い。   The present invention can be used for any optical member in which a conductive thin film is used. By forming a thin film layer containing a specific element on the surface of a conductive laminate containing zinc oxide, the conductive laminate can be prevented from deteriorating the adhesive layer provided on the conductive laminate. It is possible to provide an optical filter that is superior in terms of durability and characteristics, taking advantage of the function of the member to be bonded and the function of the member to be bonded, and its industrial utility value is high.

Claims (4)

少なくとも透明基材(A)上に、高屈折率薄膜層(a)と、銀または銀合金を含む金属薄膜層(b)とが、(a)/(b)を構成単位として1単位以上形成され、さらにその上に亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(c)が積層され、さらに該亜鉛の酸化物を含む高屈折率薄膜層(c)上に周期表の第5族または第6族の元素を少なくとも1つ含む薄膜層(d)が形成された導電性積層体と、該薄膜層(d)上に該薄膜層(d)と接触するように形成された接着材層(B)を有することを特徴とする光学フィルター。 At least one unit of high refractive index thin film layer (a) and metal thin film layer (b) containing silver or silver alloy is formed on (a) / (b) on at least the transparent substrate (A). Further, a high refractive index thin film layer (c) containing zinc oxide is further laminated thereon, and the high refractive index thin film layer (c) containing zinc oxide is further laminated on Group 5 or Group 5 of the periodic table. A conductive laminate in which a thin film layer (d) containing at least one group 6 element is formed, and an adhesive layer formed on the thin film layer (d) so as to be in contact with the thin film layer (d) ( An optical filter comprising B). 前記(a)/(b)の構成単位が1単位以上、7単位以下形成されたことを特徴とする、請求項1に記載の光学フィルター。 2. The optical filter according to claim 1, wherein the structural unit of (a) / (b) is formed in a range of 1 unit to 7 units. 薄膜層(d)がタンタルまたはニオブから選ばれた元素を少なくとも1つ含んでいることを特徴とする請求項1または2に記載の光学フィルター。 The optical filter according to claim 1 or 2, wherein the thin film layer (d) contains at least one element selected from tantalum or niobium. プラズマディスプレイパネル用であることを特徴とする請求項1乃至3に記載の光学フィルター。


4. The optical filter according to claim 1, wherein the optical filter is used for a plasma display panel.


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