JP2007283640A - Method for inspecting defect of original printing plate of lithographic printing plate - Google Patents

Method for inspecting defect of original printing plate of lithographic printing plate Download PDF

Info

Publication number
JP2007283640A
JP2007283640A JP2006113684A JP2006113684A JP2007283640A JP 2007283640 A JP2007283640 A JP 2007283640A JP 2006113684 A JP2006113684 A JP 2006113684A JP 2006113684 A JP2006113684 A JP 2006113684A JP 2007283640 A JP2007283640 A JP 2007283640A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
group
lithographic printing
image recording
recording layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006113684A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junji Nakano
順二 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2006113684A priority Critical patent/JP2007283640A/en
Publication of JP2007283640A publication Critical patent/JP2007283640A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for inspecting defect of an original printing plate of a lithographic printing plate which can easily and rapidly detect the defect on manufacturing even on an on-machine type original printing plate of the lithographic printing plate. <P>SOLUTION: The method for inspecting the defect of the original printing plate of the lithographic printing plate which has an image recording layer on a substrate and can be developed on a machine by feeding a printing ink and/or a dampening water, is characterized by having a heating process for heating the original printing plate of the lithographic printing plate, a developing process for developing the heated original printing plate of the lithographic printing plate without mounting it on a printing machine, and a defect detecting process for detecting a part in which the image is not formed on the image recording layer of the developed original printing plate of the lithographic printing plate. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版原版の欠陥検査方法に関し、特に、機上現像型の平版印刷版原版において製造欠陥を容易に検出できる平版印刷版原版の欠陥検査方法に関する。   The present invention relates to a defect inspection method for a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a defect inspection method for a lithographic printing plate precursor that can easily detect manufacturing defects in an on-press development type lithographic printing plate precursor.

平版印刷は、親油性の画像部と親水性の非画像部からなる表面を有する平版印刷版の表面に、湿し水と油性インキとを交互に与え、水と油が互いに反発する性質を利用して、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)とし、親油性の画像部のみにインキを受容させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。   Lithographic printing uses the property that water and oil repel each other by alternately applying dampening water and oil-based ink to the surface of a lithographic printing plate that has a surface consisting of an oleophilic image area and a hydrophilic non-image area. Then, the hydrophilic non-image part is used as a dampening water receiving part (ink non-receptive part), and after ink is received only in the oleophilic image part, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed. It is a method to do.

この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けた感光性の平版印刷版原版が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通して露光した後、画像部となる画像記録層を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性水溶液、有機溶剤などの現像液によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させて非画像部を形成する方法により、製版を行って平版印刷版を得ている。   In order to produce this lithographic printing plate, a photosensitive lithographic printing plate precursor in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer to be an image portion is left, and other unnecessary image recording layers are dissolved with a developer such as an alkaline aqueous solution or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by making a plate by the method of forming the non-image portion by exposing the surface of the hydrophilic support by removing it.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化または簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、前記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing an unnecessary image recording layer with a developer or the like is necessary after exposure. However, such additional wet processing is unnecessary or Simplification is cited as one of the issues. In particular, in recent years, disposal of the waste liquid discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration of the global environment, and thus the demand for solving the above problem has been further strengthened.

これに対応する簡易な製版方法の一つとして、平版印刷版原版の画像記録層の除去を、通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で不要な画像記録層を除去し、平版印刷版を得る機上現像と呼ばれる方法が提案されている。   As one of the simple plate making methods corresponding to this, the image recording layer of the lithographic printing plate precursor can be removed in a normal printing process, and is unnecessary on a printing machine after exposure. A method called on-press development that removes the image recording layer and obtains a lithographic printing plate has been proposed.

機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。   As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in dampening water, an ink solvent, or an emulsion of dampening water and ink , Method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or blankets of a printing press, cohesion of the image recording layer or adhesion between the image recording layer and the support by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket.

なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、平版印刷版原版の不要な画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキおよび/または湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の不要な画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。   In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” refers to using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and bringing a liquid (usually an alkaline developer) into contact therewith. Refers to a step of removing an unnecessary image recording layer of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a liquid (usually printing ink and / or Or a dampening solution) to remove unnecessary image recording layers of the lithographic printing plate precursor and to expose a hydrophilic support surface.

一方、近年、画像情報を、コンピュータを用いて電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザ光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術が普及してきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。   On the other hand, in recent years, digitization technology that electronically processes, stores, and outputs image information using a computer has become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization technology have been put into practical use. It has come to be. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with the light, and directly through the lithographic printing plate Computer-to-plate technology for manufacturing is becoming popular. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述したように、近年、製版作業の簡素化、乾式化および無処理化は、地球環境への配慮とデジタル化への適合化との両面から、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。   As described above, in recent years, the simplification, drying, and no processing of plate making operations have become more desirable than ever in terms of consideration for the global environment and adaptation to digitalization. It is coming.

前記要求を満たす平版印刷版原版として、たとえば、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が提案されている(特許文献1)。特許文献1には、前記平版印刷版原版を赤外線レーザにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水および/またはインキにより機上現像することが可能である旨記載されている。   As a lithographic printing plate precursor satisfying the above requirements, for example, a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is provided on a hydrophilic support has been proposed. (Patent Document 1). In Patent Document 1, the lithographic printing plate precursor is exposed by an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are coalesced by heat to form an image, which is then mounted on a cylinder of a printing press and fountain solution. And / or on-press development with ink.

また、重合反応を利用して耐刷性を改良した平版印刷版原版も提案されている。このような平版印刷版原版としては、親水性支持体上に、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む画像記録層(感熱層)を有する平版印刷版原版がある(特許文献2、3)。また、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する画像記録層(感光層)を設けた平版印刷版原版も提案されている(特許文献4)。
これらの平版印刷版原版は、機上現像型であってネガ型の平版印刷版原版であるが、このような形態の平版印刷版原版においては、機上現像で除去され非画像部になる未露光の画像記録層およびその他の層が出来得る限り無色透明であることが望ましい。未露光部の画像記録層などが強く着色していると、機上現像により除去された着色成分が印刷インキや湿し水に混入することになり、インキ色相の変化や着色した湿し水による印刷物非画像部の薄い着色が起こってしまう。したがって、これらの平版印刷版原版においては、製造後の状態において画像記録層などが無色透明であることが望ましい。
しかしこのように無色に近い画像記録層を有す機上現像型の平版印刷版原版では、製造時の製造故障の検出が極めて困難になってしまう。
従来、平版印刷版原版の製造欠陥検査は次のようにして行われている。
平版印刷版原版の外観で検出可能な欠陥部(色筋、擦り傷、塗布ムラ、ゴミの付着等)に関しては、製造ライン上に装備されている光学式の検査装置により製造時にオンラインで欠陥部を検出、識別し、平版印刷版原版上にこのような欠陥があった場合には、そのエッジ付近にラベルが貼り付けられ、裁断時にラベルを識別して不良品として排除する(特許文献5)。
A lithographic printing plate precursor having improved printing durability using a polymerization reaction has also been proposed. As such a lithographic printing plate precursor, there is a lithographic printing plate precursor having an image recording layer (thermosensitive layer) containing microcapsules encapsulating a polymerizable compound on a hydrophilic support (Patent Documents 2 and 3). A lithographic printing plate precursor having an image recording layer (photosensitive layer) containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator, and a polymerizable compound on a support has also been proposed (Patent Document 4).
These lithographic printing plate precursors are on-press development type and negative type lithographic printing plate precursors. However, in such forms of lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursors that have been removed by on-press development and have not become non-image portions It is desirable that the exposed image recording layer and other layers be colorless and transparent as much as possible. If the image recording layer in the unexposed area is strongly colored, the colored components removed by on-machine development will be mixed into the printing ink or fountain solution, which may be caused by changes in ink hue or colored fountain solution. Light coloring of the non-image area of the printed matter occurs. Therefore, in these lithographic printing plate precursors, it is desirable that the image recording layer and the like be colorless and transparent in a state after production.
However, in the case of the on-press development type lithographic printing plate precursor having an almost colorless image recording layer, it is extremely difficult to detect a manufacturing failure during manufacturing.
Conventionally, a manufacturing defect inspection of a lithographic printing plate precursor has been performed as follows.
For defects (color streaks, scratches, uneven coating, adhesion of dust, etc.) that can be detected by the appearance of the lithographic printing plate precursor, the defects are detected online at the time of production using an optical inspection device equipped on the production line. If such a defect is detected on the planographic printing plate precursor, a label is affixed near the edge of the planographic printing plate precursor, and the label is identified at the time of cutting and excluded as a defective product (Patent Document 5).

一方、外観だけでは検出不可能であるが画像形成能が正常部より劣る欠陥部(下塗り層や保護層のハジキや微細キズ等)においては、オフラインで抜き出しサンプルを用いて実際の使用形態で露光および現像処理を行い、その版上で正常な画像形成が行われない異常部があるかどうかを検査している。
特許2938397号公報 特開2001−277740号公報 特開2001−277742号公報 特開2002−287334号公報 特開2003−232747号公報
On the other hand, in the case of defects that cannot be detected by appearance alone but have poor image-forming ability (such as repellency or fine scratches in the undercoat layer or protective layer), the sample is taken off-line and exposed in actual usage. In addition, the development process is performed, and it is inspected whether there is an abnormal portion on which the normal image formation is not performed.
Japanese Patent No. 2938397 JP 2001-277740 A JP 2001-277742 A JP 2002-287334 A JP 2003-232747 A

従来の平版印刷版原版では現像処理後の検版性付与などのため、原版の画像記録層が充分な色濃度を有しており、前記のような製造欠陥検査が可能であった。   In the conventional lithographic printing plate precursor, the image recording layer of the original plate has a sufficient color density in order to impart plate inspection property after the development process, and the above manufacturing defect inspection is possible.

しかし、機上現像型平版印刷版原版では、色濃度が限りなく薄いことで、色筋や塗布ムラなどを外観で検出することが困難になり、しかも、これらを含めた欠陥を検査するためには、実際の使用と同じレーザ露光した後に、印刷機で機上現像して印刷物上で検査する必要があった。
しかしながら、この方法によると、平版印刷版原版の製造欠陥検査のための時間が長くなってしまい、生産性が落ちてしまうという欠点があった。また、製造直後の版はカールが大きいために、レーザ装置にセットしづらく、短時間に判断を必要とする製造時の検査手段としては、不適であった。
画像記録層の色濃度が薄い分を補うために、旧来のリスフィルムを介して画像露光していたコンベンショナルPS版の露光に用いられる平台露光機に使用しているメタルハライドランプや水銀灯などの活性光源を用いて露光した後、現像処理工程で現像する方法では、版の色濃度が薄いが故に、版が十分に硬化する為には、長時間の露光が必要であり、レーザ露光をして機上現像する検査方法と同様、生産性が落ちてしまう問題があった。
However, in the on-press development type lithographic printing plate precursor, the color density is extremely thin, making it difficult to detect color streaks and coating unevenness in appearance, and to inspect defects including these After the same laser exposure as in actual use, it was necessary to perform on-press development on a printing press and inspect the printed matter.
However, according to this method, there is a disadvantage that the time for inspection for manufacturing defects of the planographic printing plate precursor becomes long and productivity is lowered. Further, since the plate immediately after manufacture has a large curl, it is difficult to set in a laser device, and it is not suitable as an inspection means at the time of manufacture that requires judgment in a short time.
An active light source such as a metal halide lamp or mercury lamp used in a flat table exposure machine used for exposure of conventional PS plates that have been image-exposed through a conventional lithographic film to compensate for the low color density of the image recording layer In the method of developing in the development processing step after exposure using a plate, since the plate has a low color density, a long exposure is necessary for the plate to be sufficiently cured. Similar to the inspection method for top development, there is a problem that productivity is lowered.

また、露光にかかる時間を短縮するために、平台露光機に標準的に装備されている真空引きを利用する手段もあるが、光源と版との間に介在する平台露光機のガラス面の汚れがノイズとして版に露光されるため、検査精度が悪くなる問題があった。   In order to shorten the time required for exposure, there is a means of using a vacuum drawing that is standardly equipped on a flatbed exposure machine, but the glass surface of the flatbed exposure machine that is interposed between the light source and the plate is stained. Is exposed to the plate as noise, and there is a problem that inspection accuracy deteriorates.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、機上現像で除去された成分によってインクの色調が変化したり、湿し水が着色したりすることがないように、画像記録層の色濃度が薄く形成された機上現像型の平版印刷版原版についても、容易かつ迅速に製造欠陥を検出できる平版印刷版原版の欠陥検査方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problem, and image recording is performed so that the color tone of the ink is not changed or the fountain solution is not colored by components removed by on-machine development. An object of the present invention is to provide a defect inspection method for a lithographic printing plate precursor capable of easily and quickly detecting a production defect with respect to an on-press development type lithographic printing plate precursor having a thin layer color density.

請求項1に記載の発明は、支持体上に画像記録層を有し、印刷インキおよび/または湿し水を供給することにより機上現像可能な平版印刷版原版の欠陥検査方法であって、平版印刷版原版を加熱する加熱工程と、加熱した平版印刷版原版を、印刷機に装着することなく現像する現像工程と、現像した平版印刷版原版の画像記録層において画像形成していない部分を検出する欠陥検出工程とを有することを特徴とする平版印刷版原版の欠陥検査方法に関する。   The invention according to claim 1 is a defect inspection method for a lithographic printing plate precursor that has an image recording layer on a support and can be developed on-press by supplying printing ink and / or dampening water, A heating step of heating the lithographic printing plate precursor, a developing step of developing the heated lithographic printing plate precursor without being mounted on a printing machine, and a portion of the developed lithographic printing plate precursor where no image is formed. The present invention relates to a defect inspection method for a lithographic printing plate precursor comprising a defect detection step for detecting.

前記平版印刷版原版の欠陥検査方法においては、平版印刷版原版を印刷機に装着することなく現像しているから、平版印刷版原版を印刷機に装着するための時間が不要である。   In the defect inspection method for the lithographic printing plate precursor, since the lithographic printing plate precursor is developed without being mounted on the printing machine, time for mounting the lithographic printing plate precursor on the printing machine is not required.

また、画像記録層を加熱して硬化させているから、メタルハライドランプや水銀灯などの活性光源で感光させる場合に比較して遥かに短時間に硬化させることができる。したがって、加熱後の平版印刷版原版を現像液で現像することにより、画像記録層の色彩が薄い場合であっても画像記録層の画像形成していない部分を、目視またはCCD素子のような光電素子によって容易に検出できる。   Also, since the image recording layer is heated and cured, it can be cured in a much shorter time than when exposed to an active light source such as a metal halide lamp or a mercury lamp. Therefore, by developing the lithographic printing plate precursor after heating with a developer, even if the color of the image recording layer is thin, a portion of the image recording layer where no image is formed is visually or photoelectrically detected as a CCD element. It can be easily detected by the element.

このように、前記検査方法によれは、機上現像型の平版印刷版原版について、短時間で効果的に製造欠陥を検出することができる。   Thus, according to the inspection method, a manufacturing defect can be detected effectively in a short time with respect to the on-press development type lithographic printing plate precursor.

請求項2に記載の方法は、前記欠陥検出工程では、前記平版印刷版原版の画像記録層において画像形成していない部分を光学的に検出する請求項1に記載の平版印刷版原版の欠陥検査方法に関する。   The method according to claim 2, wherein in the defect detection step, a defect inspection of the lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein a portion of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor that is not image-formed is optically detected. Regarding the method.

前記検査方法によれば、画像形成していない部分を迅速に検出できる。   According to the inspection method, a portion where no image is formed can be detected quickly.

請求項3に記載の発明は、前記加熱工程における平版印刷版原版の加熱温度は160℃〜260℃の範囲であり、加熱時間は40〜150秒である請求項1または2に記載の検査方法に関する。   The invention according to claim 3 is the inspection method according to claim 1 or 2, wherein the heating temperature of the lithographic printing plate precursor in the heating step is in the range of 160 ° C to 260 ° C, and the heating time is 40 to 150 seconds. About.

請求項4に記載の発明は、前記加熱工程における平版印刷版原版の加熱温度が170℃〜250℃の範囲であり、加熱時間は40〜120秒である請求項3に記載の検査方法に関する。   The invention according to claim 4 relates to the inspection method according to claim 3, wherein the heating temperature of the lithographic printing plate precursor in the heating step is in the range of 170 ° C to 250 ° C, and the heating time is 40 to 120 seconds.

前記検査方法においては、前記加熱工程において平版印刷版原版が過熱されて変形することがなく、しかも、画像記録層の正常な部分が現像工程で現像されないように画像記録層を充分に硬化させることができる。   In the inspection method, the lithographic printing plate precursor is not heated and deformed in the heating step, and the image recording layer is sufficiently cured so that normal portions of the image recording layer are not developed in the development step. Can do.

以上説明したように本発明によれば、機上現像で除去された成分による印刷インキ色相変化や湿し水着色が少ない機上現像型の平版印刷版原版においても、容易かつ迅速に製造欠陥を検出できる平版印刷版原版の欠陥検査方法が提供される。   As described above, according to the present invention, even in an on-press development type lithographic printing plate precursor having little change in the hue of printing ink due to components removed by on-press development and fountain solution coloring, manufacturing defects can be easily and quickly performed. Provided is a defect inspection method for a lithographic printing plate precursor that can be detected.

1.製造欠陥の検査方法
以下、本発明の検査方法について説明する。
1. Hereinafter, the inspection method of the present invention will be described.

本発明の欠陥検査方法は、次の3つの工程を含むことが必須である。
(i)平版印刷版原版を加熱する加熱工程、
(ii)加熱済みの該平版印刷版原版を、現像液を用いて現像する現像工程、
(iii)画像形成していない部分を検出する欠陥検出工程。
The defect inspection method of the present invention must include the following three steps.
(I) a heating step of heating the lithographic printing plate precursor,
(Ii) a development step of developing the heated lithographic printing plate precursor using a developer;
(Iii) A defect detection step of detecting a portion where no image is formed.

以下、各工程について説明する。
(1)加熱工程
全層塗布終了後の平版印刷版原版を製造ラインから一部サンプリングし、所望の大きさにカットして、本発明の製造欠陥検査方法に用いる平版印刷版原版を数枚準備する。
Hereinafter, each step will be described.
(1) Heating process A part of the lithographic printing plate precursor after coating of all layers is sampled from the production line, cut into a desired size, and several lithographic printing plate precursors used for the production defect inspection method of the present invention are prepared. To do.

これを所望の温度に設定した加熱機の中を、所定時間をかけて通過させる。熱源としては、検査する。平版印刷版原版の画像記録層が硬化し、画像形成できる熱源であれば、如何なる熱源でもよいが、具体的にはホットプレートなどが使用される。   This is passed through a heater set at a desired temperature over a predetermined time. Inspect as a heat source. Any heat source may be used as long as the image recording layer of the lithographic printing plate precursor is cured and can form an image. Specifically, a hot plate or the like is used.

加熱にかかる温度及び時間は、検査する平版印刷版原版の画像記録層が、現像処理工程で現像されないように十分に硬化すること、及び加熱により平版印刷版原版が変形しないこと、更には、生産性に影響しない時間で処理可能な点から、加熱温度としては、170から250℃が好ましく、190から220℃がより好ましい。また、検査する平版印刷版原版が、加熱炉内に実際に滞在する時間は、加熱温度にもよるが、40〜150秒が好ましく、50〜80秒がより好ましい。加熱温度と加熱時間との組合せは、たとえば加熱温度180〜260℃の範囲においては加熱時間は40秒が好ましく、加熱温度170〜250℃の範囲においては加熱時間は60〜90秒が好ましい。そして加熱温度が170〜240℃の範囲においては加熱時間は120秒〜150秒が、加熱温度が160〜250℃の範囲においては加熱時間は150秒程度が好ましい。
(2)現像工程
上記のようにして加熱した平版印刷版原版を、次に印刷機上以外で、換言すれば印刷機に装着することなく現像する。
本発明の元来、機上現像型の平版印刷版原版であるので、純正に使用される現像液というものはなく、ここで意味する「現像液」とは、検査される平版印刷版原版の未露光部を除去可能であり、かつ上記のようにして露光した画像記録層を適切に残存させることが出来る液全般のことである。
The temperature and time required for heating are determined so that the image recording layer of the lithographic printing plate precursor to be inspected is sufficiently cured so that it is not developed in the development processing step, and that the lithographic printing plate precursor is not deformed by heating. The heating temperature is preferably from 170 to 250 ° C., more preferably from 190 to 220 ° C., from the viewpoint that the treatment can be performed in a time that does not affect the properties. Moreover, although the lithographic printing plate precursor to be inspected actually stays in the heating furnace depends on the heating temperature, it is preferably 40 to 150 seconds, more preferably 50 to 80 seconds. As for the combination of the heating temperature and the heating time, for example, the heating time is preferably 40 seconds in the range of the heating temperature 180 to 260 ° C, and the heating time is preferably 60 to 90 seconds in the range of the heating temperature 170 to 250 ° C. The heating time is preferably 120 seconds to 150 seconds when the heating temperature is in the range of 170 to 240 ° C, and the heating time is preferably about 150 seconds when the heating temperature is in the range of 160 to 250 ° C.
(2) Development step The lithographic printing plate precursor heated as described above is then developed outside the printing press, in other words, without being mounted on the printing press.
Since the present invention is an on-press development type lithographic printing plate precursor, there is no genuine developer, and the term “developer” as used herein means the lithographic printing plate precursor to be inspected. It is a general liquid that can remove an unexposed portion and can appropriately leave the image recording layer exposed as described above.

本発明において用いられる現像液としては安全性の観点から、水または水を主成分とする水溶性有機溶剤の水溶液が好ましい。安全性および引火性等を考慮すると水溶性溶剤の濃度は40重量%未満が望ましい。   The developer used in the present invention is preferably water or an aqueous solution of a water-soluble organic solvent containing water as a main component from the viewpoint of safety. Considering safety and flammability, the concentration of the water-soluble solvent is preferably less than 40% by weight.

前記水溶性有機溶媒としては、たとえば下記の極性溶媒:
・アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、2−エトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール等)、
・ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン等)、
・エステル類(酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールアセテート、ジエチルフタレート等)、
・その他(トリエチルフォスフェート、トリクレジルフォスフェート等)
ならびに、
ヘキサン、ヘプタン、”(商品名)アイソパーE.H.G.”(エッソ化学(株)製)、ガソリン、灯油等のような脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等のような芳香族炭化水素類、およびトリクレンなどのハロゲン化炭化水素に上記の極性溶媒を添加したものなどが挙げられる。なお、志望族炭化水素類や芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素(以下、「炭化水素類等」という。)に前記極性溶媒を添加する場合には、炭化水素類等と極性溶媒との比率は50:50〜0:100(質量比)とすることが好ましい。
Examples of the water-soluble organic solvent include the following polar solvents:
・ Alcohols (methanol, ethanol, propanol, isopropanol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-ethoxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol Monomethyl ether, polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol, tetraethylene glycol, etc.)
-Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.)
・ Esters (ethyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate, diethyl phthalate, etc.),
・ Others (triethyl phosphate, tricresyl phosphate, etc.)
And
Hexane, heptane, “(trade name) Isopar EHG” (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.), aliphatic hydrocarbons such as gasoline and kerosene, and aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene And those obtained by adding the above polar solvent to halogenated hydrocarbons such as trichlene. In addition, when the polar solvent is added to the desired group hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons (hereinafter referred to as “hydrocarbons”), the hydrocarbons and the polar solvent The ratio is preferably 50:50 to 0: 100 (mass ratio).

水、または水を主成分とする水溶性有機溶剤の水溶液には、機上現像型平版印刷版原版の現像性を更に向上させるために界面活性剤や親水性低分子化合物、親水性樹脂等を添加したり、更にはアルカリ剤(例えば、炭酸ナトリウム、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム等)を添加したりしてもよい。   In order to further improve the developability of the on-press development type lithographic printing plate precursor, a surfactant, a hydrophilic low molecular weight compound, a hydrophilic resin, or the like is added to water or an aqueous solution of a water-soluble organic solvent containing water as a main component. An alkali agent (for example, sodium carbonate, diethanolamine, sodium hydroxide, etc.) may be added.

現像液としては、特に従来の平版印刷版の現像処理後のフィニッシャーである種々のガム液や、従来の平版印刷版のアルカリ現像液を適度に希釈した液などが好ましく適用される。
また、クリスタルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッドなどの染料を現像液に加えて、現像と同時に画像部の染色を行うことができる。
As the developer, various gum solutions that are finishers after development processing of a conventional lithographic printing plate, and solutions obtained by appropriately diluting an alkali developer of a conventional lithographic printing plate are preferably applied.
In addition, dyes such as crystal violet, Victoria pure blue, and Astrazone red can be added to the developing solution to dye the image area simultaneously with development.

現像の方法は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッドで版面を擦る方法や、現像液を版面に注いだ後に水中にて現像ブラシで擦る方法など、公知の方法で行うことができる。現像液温は任意の温度で現像できるが、好ましくは10℃〜50℃である。現像処理およびそれに続く水洗、乾燥処理は、自動処理機で行うことが、処理均一性の観点から好ましい。本発明の欠陥検査方法で使用される自動処理機としては、従来の平版印刷版の製版工程で用いられていた公知のものが挙げられる。
(3)欠陥検出工程
最後に、上記のようにして現像した平版印刷版上に画像形成していない部分がないか検出する。
The developing method can be performed by a known method such as a method of rubbing the plate surface with a developing pad containing the developer as described above, or a method of rubbing the developing solution in water after pouring the developer onto the plate surface. . The developer can be developed at an arbitrary temperature, but is preferably 10 ° C to 50 ° C. It is preferable from the viewpoint of processing uniformity that the development processing and subsequent water washing and drying processing are performed by an automatic processor. Examples of the automatic processor used in the defect inspection method of the present invention include known ones used in a conventional lithographic printing plate making process.
(3) Defect detection step Finally, the lithographic printing plate developed as described above is detected for a portion where no image is formed.

画像形成していない部分の検出は、目視で行ってもよいし、特開2003−232747号公報に記載された構造の検査用光源装置で検査面を照射して反射光をCCDラインセンサなどの光検知素子で検出することにより行ってもよい。前記検査用光源装置は、平版印刷版原版に光を照射し、その反射をCCD素子やカメラなどの撮像手段に入射させて欠陥部を検出するための検査用光源装置である。前記検査用光源装置は、端部から受光した光を平版印刷版原版に向けて照射する照射ロッドと、前記照射ロッドの光を集光して平版印刷版原版上で所定の光束密度とするシリンドリカルレンズと、前記照射ロッドの端部に接続され、光源の光を伝播するファイバーケーブルと、光源から照射ロッドへ伝播される光量を機械的に調節する絞りと、前記撮像手段に入射した光量を測定して所定の受光量になるように前記絞りを開閉制御する調光手段とを備える。   The part where the image is not formed may be detected visually, or the inspection surface is irradiated with an inspection light source device having a structure described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-232747, and the reflected light is emitted from a CCD line sensor or the like. You may carry out by detecting with a photon detection element. The inspection light source device is an inspection light source device for irradiating light to a lithographic printing plate precursor and making its reflection enter an imaging means such as a CCD element or a camera to detect a defective portion. The inspection light source device includes: an irradiation rod that irradiates light received from an end toward a planographic printing plate precursor; and a cylindrical beam that collects the light of the irradiation rod to obtain a predetermined light flux density on the planographic printing plate precursor. A lens, a fiber cable connected to the end of the irradiation rod and propagating light from the light source, a diaphragm for mechanically adjusting the amount of light transmitted from the light source to the irradiation rod, and measuring the amount of light incident on the imaging means And a light control means for controlling opening and closing of the diaphragm so as to obtain a predetermined amount of received light.

このようにして実施された検査で製造欠陥が検出された場合は、その情報が製造工程へフィードバックされて、その原因を取り除き得率向上に寄与することになる。
2.平版印刷版原版
以下、本発明の欠陥検査方法の対象になる平版印刷版原版の構成要素および成分について説明する。
(1)画像記録層
前記平版印刷版原版の画像記録層は、湿し水および/または印刷インキにより除去可能である。画像記録層としては、重合を利用する画像形成要素を用いた画像記録層、および疎水性熱可塑性微粒子の熱融着を利用する画像形成要素を用いた画像記録層が挙げられる。
When a manufacturing defect is detected in the inspection performed in this way, the information is fed back to the manufacturing process, and the cause is removed, thereby contributing to an improvement in the yield.
2. The lithographic printing plate precursor The components and components of the lithographic printing plate precursor that are the targets of the defect inspection method of the present invention will be described below.
(1) Image recording layer The image recording layer of the lithographic printing plate precursor can be removed with dampening water and / or printing ink. Examples of the image recording layer include an image recording layer using an image forming element utilizing polymerization and an image recording layer using an image forming element utilizing thermal fusion of hydrophobic thermoplastic fine particles.

重合を利用する画像形成要素としては、(A)赤外線吸収剤Aと(B)重合開始剤Bと(C)重合性化合物とを含有し、赤外線レーザで画像記録が可能であるものか、または、(B)重合開始剤と(C)重合性化合物とを含有し、250nm〜420nmの範囲に感光性があるものが好ましい。   As an image-forming element utilizing polymerization, (A) an infrared absorber A, (B) a polymerization initiator B, and (C) a polymerizable compound that can be recorded with an infrared laser, or And (B) a polymerization initiator and (C) a polymerizable compound, and those having photosensitivity in the range of 250 nm to 420 nm are preferable.

以下、これらの構成成分について説明する。
<赤外線吸収剤A>
本発明の平版印刷版原版を、760〜1200nmの赤外線を発するレーザを光源により画像形成する場合には、通常、赤外線吸収剤を用いることが必須である。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)に電子移動/エネルギー移動する機能を有する。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料である。
Hereinafter, these components will be described.
<Infrared absorber A>
When forming an image of the lithographic printing plate precursor according to the present invention using a light source that emits an infrared ray of 760 to 1200 nm, it is usually essential to use an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared ray into heat and a function of being excited by the infrared ray and transferring electrons / energy to a polymerization initiator (radical generator) described later. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等の公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Examples of preferable dyes include cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, Methine dyes described in JP-A Nos. 58-181690 and 58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent No. And cyanine dyes described in the specification of 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- No. 41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in US It is disclosed in the pentamethine thiopyrylium salt described in Japanese Patent No. 4,283,475, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702. Pyrylium compounds are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

また、本発明の赤外線吸収色素の好ましい他の例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Other preferable examples of the infrared absorbing dye of the present invention include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 as exemplified below.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(I)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (I).

Figure 2007283640
Figure 2007283640

一般式(I)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を表す。 In general formula (I), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

ここで、Phはフェニル基であり、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 Here, Ph is a phenyl group, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, a hetero atom And a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned.

1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。 Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups.

5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。 R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred.

また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(I)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (I) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by formula (I) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. be able to.

また、特に好ましい他の例としてさらに、前記した特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性と画像記録層の良好な均一性が得られる。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the image recording layer coating solution and good uniformity of the image recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used for ink production, toner production or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、変色層に添加してもよいし、さらに別の層を設けそこへ添加してもよい。また、マイクロカプセルに内包させて添加することもできる。   These infrared absorbers may be added to the same layer as other components, may be added to the discoloration layer, or may be added to another layer. Moreover, it can also be included in a microcapsule and added.

添加量としては、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、画像記録層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.2の範囲にあるように添加することが好ましく、より好ましくは、0.4〜1.1の範囲である。この範囲で、画像記録層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と支持体に対する密着性が得られる。   As the addition amount, when a negative lithographic printing plate precursor is prepared, the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the image recording layer is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. It is preferable to add such that it is in a range of 0.4 to 1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the image recording layer, and good film strength of the image area and adhesion to the support can be obtained.

画像記録層の吸光度は、画像記録層に添加する赤外線吸収剤の量と画像記録層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの画像記録層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
<重合開始剤B>
本発明に用いられる重合開始剤としては、光、熱或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できる重合発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができ、本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。本発明に係る熱ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独または2種以上を併用して用いることができる。
The absorbance of the image recording layer can be adjusted by the amount of infrared absorber added to the image recording layer and the thickness of the image recording layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, an image recording layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is set to the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.
<Polymerization initiator B>
The polymerization initiator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the polymerization generator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used, and a radical that is suitably used in the present invention is generated. The compound to be used refers to a compound that initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating a radical by thermal energy. As the thermal radical generator according to the present invention, a known polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types.

ラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。   Examples of the compound that generates radicals include organic halogenated compounds, carbonyl compounds, organic peroxide compounds, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, Examples thereof include oxime ester compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開53−133428号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の公報、M.P.Hutt、"Journal of Heterocyclic Chemistry" 1(No.3)(1970)に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物S−トリアジン化合物が好適である。   Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 53-133428, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62- 58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. The compound as described in Hutt, "Journal of Heterocyclic Chemistry" 1 (No. 3) (1970) is mentioned. Among these, an oxazole compound S-triazine compound substituted with a trihalomethyl group is preferable.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が、s−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体オキサジアゾール環に結合したオキサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジンや下記(1)-1〜(1)-27の化学式で示される化合物等が挙げられる。   More preferably, an oxadiazole derivative in which at least one mono-, di-, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine derivative oxadiazole ring bonded to the s-triazine ring. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (P-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( -Methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p- Tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris ( Tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s- triazine and below (1) -1 (1) -27 shown in the chemical compounds and the like.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化琥珀酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, oxalic acid peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ -Te La- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include the specification of JP-B-6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenylbiimidazole, 2, 2' Bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and the like.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の公報、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、Kunz,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が挙げられる。   Examples of the organoboron compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A 2000-. 131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. Organoboron salts, organoboron sulfonium complexes or organoboron oxosulfonium complexes described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, JP-A-6-175554 JP-A-6-175553 Organoboron iodonium complexes described in JP-A-9-188710, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-348710, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7- Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as 306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特開2003−328465号公報等記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、具体的には、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. Compounds, compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, compounds represented by the following structural formulas may be mentioned.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同第4,069,056号の明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同第390,214号、同第233,567号、同第297,443号、同第297,442号、米国特許第4,933,377号、同第161,811号、同第410,201号、同第339,049号、同第4,760,013号、同第4,734,444号、同第2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同第3,604,580号、同第3,604,581号の明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, US Pat. Nos. 339,049, 410,201, JP -150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297 442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013 No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,604,580, No. 3,604,581 Or a sulfonium salt described in J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から上記オキシムエステル化合物或いはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。   In particular, from the viewpoint of reactivity and stability, the above oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salts are exemplified. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.

本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。   The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2007283640
Figure 2007283640

式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, and sulfonate ion sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21Ar22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 Ar 22 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents have 1 to 12 carbon atoms. Alkyl group, alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, aryl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen Atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon number A 1-12 thioalkyl group and a C1-C12 thioaryl group are mentioned. Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R3233は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。 In the formula (RI-III), R 31 and R 32 R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group, or alkynyl group having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Of these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

本発明に適用し得る重合開始剤の具体例を以下に挙げるがこれらに限定されない。   Specific examples of the polymerization initiator that can be applied to the present invention are listed below, but are not limited thereto.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩がより好ましい。   The polymerization initiator is not limited to the above, but a triazine-based initiator, an organic halogen compound, an oxime ester compound, a diazonium salt, an iodonium salt, and a sulfonium salt are more preferable from the viewpoints of reactivity and stability.

250〜420nmの光を放射する光源を用いて画像様露光を行う平版印刷版原版の画像記録層には、上記の中から選択される重合開始剤と組み合わせて増感剤を用いることによりラジカル発生効率を高めることもできる。   Radical generation by using a sensitizer in combination with a polymerization initiator selected from the above in the image recording layer of a lithographic printing plate precursor that performs imagewise exposure using a light source that emits light of 250 to 420 nm Efficiency can also be increased.

増感剤の具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9、10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアントロンなどを挙げることができる。   Specific examples of the sensitizer include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, and 2-bromo-9-anthrone. 2-ethyl-9-anthrone, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9,10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone, xanthone 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, thioxanthone, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenyl styryl ketone, p- (dimethylamino) phenyl p-methylstyryl ketone, benzophenone, p- (dimethylamino) ) Benzophenone (or Michlerketo) ), P- (diethylamino) benzophenone, and the like benzanthrone.

さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公昭51−48516号公報中に記載されている一般式(II)で表わされる化合物があげられる。   Furthermore, preferred sensitizers in the present invention include compounds represented by the general formula (II) described in Japanese Patent Publication No. 51-48516.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

式中、R14はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表わす。R15はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表わす。 In the formula, R 14 is an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.) or a substituted alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group) Etc.). R 15 represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, etc.) or an aryl group (eg, phenyl group, p-hydroxyphenyl group, naphthyl group, thienyl group, etc.).

2は通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチアゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾールなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メトキシベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールなど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。 Z 2 is a group of nonmetallic atoms necessary for forming a heterocyclic nucleus containing nitrogen, which is usually used in cyanine dyes, such as benzothiazoles (benzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, etc.), naphtho Thiazoles (α-naphthothiazole, β-naphthothiazole, etc.), benzoselenazoles (benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 6-methoxybenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (α-naphthoselenazole) , Β-naphthselenazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, etc.) and naphthoxazoles (α-naphthoxazole, β-naphthoxazole, etc.).

一般式(II)で表わされる化合物の具体例としては、これらZ2、R1415を組み合わせた化学構造を有するものであり、多くのものが公知物質として存在する。従って、これらの公知のものから適宜選択して使用することができる。さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公平5−47095号公報に記載のメロシアニン色素、また下記一般式(III)で示されるケトクマリン系化合物も挙げることができる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (II) are those having a chemical structure combining these Z 2 and R 14 R 15 , and many exist as known substances. Therefore, it can be used by appropriately selecting from these known ones. Furthermore, preferable sensitizers in the present invention include merocyanine dyes described in JP-B-5-47095 and ketocoumarin compounds represented by the following general formula (III).

Figure 2007283640
Figure 2007283640

ここでR16はメチル基、エチル基等のアルキル基を表わす。 Here, R 16 represents an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.

また、本発明に用いられる増感剤としては、特開2001−100412号、特開2003−221517号の各公報に増感色素として記載されている化合物も好適である。   Moreover, as the sensitizer used in the present invention, compounds described as sensitizing dyes in JP-A Nos. 2001-100412 and 2003-221517 are also suitable.

これらの重合開始剤および増感剤は、各々画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。
<重合性化合物C>
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。
These polymerization initiators and sensitizers are each preferably from 0.1 to 50% by weight, more preferably from 0.5 to 30% by weight, particularly preferably 0.8%, based on the total solid content constituting the image recording layer. It can be added at a ratio of ˜20% by mass. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.
<Polymerizable compound C>
The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. It is. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention.

これらの重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体オリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。このようなモノマーその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基などの求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物なども好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基などの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基などの脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテルなどに置き換えた化合物群を使用することも可能である。   These polymerizable compounds have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimer oligomers, or mixtures thereof, and copolymers thereof. Examples of such monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. Preferably, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. Also, addition reaction product, monofunctional or polyfunctional of unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group and monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxy A dehydration condensation reaction product with carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレートなどがある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタンなどがある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis -, and the like [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネートなどがある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネートなどがある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネートなどがある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレートなどがある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するものなども好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミドなどがある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物などが挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compound etc. are mentioned.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の公報に記載される分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )
Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Furthermore, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類などの多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物なども挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomer oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量などの使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。   About these addition polymerizable compounds, the details of the method of use such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.

感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。   From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.

また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤など)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層などの密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。   Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image recording layer. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.

上記重合性化合物は、画像記録層を構成する全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。   The polymerizable compound is used in an amount of preferably 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content constituting the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more.

そのほか、上記重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性などの観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   In addition, the use method of the above-mentioned polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

本発明においては、構成成分A〜Cおよび後述のその他構成成分を画像記録層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。他の一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。更に他の態様として、画像記録層に架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様が挙げられる。該ミクロゲルは、その中および/または表面に該構成成分A〜Cの一部を含有することが出来る。特に重合性化合物Cをその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。   In the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the constituent components A to C and other constituent components described later into the image recording layer. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334. In another embodiment, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or a part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the image recording layer. It is a microcapsule type image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. As still another embodiment, an embodiment in which the image recording layer contains crosslinked resin particles, that is, microgel, can be mentioned. The microgel may contain a part of the components A to C in and / or on the surface thereof. In particular, an embodiment in which a reactive microgel is formed by having the polymerizable compound C on the surface thereof is particularly preferable from the viewpoints of image forming sensitivity and printing durability.

より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型もしくはミクロゲル型画像記録層であることが好ましい。   In order to obtain better on-press developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type or microgel type image recording layer.

画像記録層構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。   As a method for microencapsulating or microgelling the components of the image recording layer, known methods can be applied.

例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by polymer precipitation method, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcino A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose, as shown in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method using monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807 and 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、後述のバインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入しても良い。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into the below-mentioned binder polymer.

一方、ミクロゲルを調製する方法としては、特公昭38−19574号、同42−446号明細書に記載されている界面重合による造粒、特開平5−61214号明細書に記載されているような非水系分散重合による造粒を利用することが可能である。但し、これらの方法に限定されるものではない。   On the other hand, as a method for preparing the microgel, granulation by interfacial polymerization described in JP-B-38-19574 and JP-A-42-446, as described in JP-A-5-61214, etc. It is possible to utilize granulation by non-aqueous dispersion polymerization. However, it is not limited to these methods.

上記界面重合を利用する方法としては、上述した公知のマイクロカプセル製造方法を応用することができる。   As the method using the interfacial polymerization, the known microcapsule production method described above can be applied.

本発明に用いられる好ましいミクロゲルは、界面重合により造粒され3次元架橋を有するものである。このような観点から、使用する素材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。   Preferred microgels used in the present invention are those granulated by interfacial polymerization and having three-dimensional crosslinking. From such a viewpoint, the material to be used is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and polyurea and polyurethane are particularly preferable.

上記のマイクロカプセルやミクロゲルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
<その他の画像記録層成分>
本発明の画像記録層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
<バインダーポリマー>
本発明の画像記録層には、画像記録層の膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。バインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
The average particle size of the microcapsules or microgel is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.
<Other image recording layer components>
The image recording layer of the present invention can further contain various additives as required. These will be described below.
<Binder polymer>
In the image recording layer of the present invention, a binder polymer can be used in order to improve the film strength of the image recording layer. As the binder polymer, any conventionally known polymer can be used without limitation, and a polymer having a film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合などの架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。   The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to give the binder polymer crosslinkability, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.

分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレンなどが挙げられる。   Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 n CR1 =CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 (CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, or an alkoxy group) Alternatively, it represents an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. Can be included).

エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 CH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。 Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).

アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。 Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

本発明においては、上記のバインダーポリマーほか、下記の親水性バインダーポリマーを使用することもできる。親水性バインダーポリマーは、画像記録層への湿し水の浸透性を高めて機上現像性を向上させるほか、前記マイクロカプセルやミクロゲルの分散安定化などに有効である。   In the present invention, in addition to the above binder polymer, the following hydrophilic binder polymers can also be used. The hydrophilic binder polymer is effective for improving the on-press developability by increasing the permeability of the fountain solution into the image recording layer and for stabilizing the dispersion of the microcapsules and microgels.

親水性バインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基などの親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, ammonium groups. And those having a hydrophilic group such as an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類それらの塩、ポリメタクリル酸類それらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテルなどが挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, sodium salt of carboxymethyl cellulose, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acid salts thereof, polymethacrylic acid Acids salts thereof, homopolymer copolymer of hydroxyethyl methacrylate, homopolymer copolymer of hydroxyethyl acrylate, homopolymer copolymer of hydroxypropyl methacrylate, homopolymer copolymer of hydroxypropyl acrylate, homopolymer copolymer of hydroxybutyl methacrylate, hydroxybutyl acrylate Homopolymer copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers Polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinylpyrrolidone, acrylamide homopolymer copolymer, methacrylamide homopolymer polymer, N-methylolacrylamide homopolymer copolymer, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーまたはグラフトポリマーであるのが好ましい。   The binder polymer may be a random polymer, a block polymer, a graft polymer, or the like, but is preferably a random polymer or a graft polymer.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上混合して用いられる。   The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Examples of the solvent used in the synthesis include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.

バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤などの公知の化合物を用いることができる。   As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。   A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのがより好ましく、10〜70質量%であるのがさらに好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。   The content of the binder polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, and further preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. preferable. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.

また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で1/9〜7/3となる量で用いるのが好ましい。
<界面活性剤>
本発明において、画像記録層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.
<Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image recording layer in order to improve the on-surface development property in order to promote on-press developability at the start of printing. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。   The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.

本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。   The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric acid esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号同60−168144号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cationic type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group lipophilic group, perfluoroalkyl group, Nonionic types such as an oligomer containing a hydrophilic group / lipophilic group and a urethane containing a perfluoroalkyl group / lipophilic group can be mentioned. Moreover, the fluorine-type surfactant described in Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。   Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.

界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜7質量%であるのがより好ましい。   The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 7% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<着色剤>
本発明では、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
<Colorant>
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

<焼き出し剤>
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<Bakeout agent>
In the image recording layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafukusin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、画像記録層固形分に対して0.01〜10質量%の割合が好ましい。   The preferred amount of the dye that changes color by acid or radical is preferably 0.01 to 10% by mass relative to the solid content of the image recording layer.

<重合禁止剤>
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中において、(C)重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
<Polymerization inhibitor>
In order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound (C) during production or storage of the image recording layer, it is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to the image recording layer of the present invention.

熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。   Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.

熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。   The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<高級脂肪酸誘導体等>
本発明の画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<Higher fatty acid derivatives, etc.>
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to the image recording layer of the present invention, and the surface of the image recording layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<可塑剤>
本発明の画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
<Plasticizer>
The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.

可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。   Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.

可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。   The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

<無機微粒子>
本発明の画像記録層は、画像部の硬化皮膜強度向上や非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
<Inorganic fine particles>
The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles for the purpose of improving the strength of the cured film in the image area and improving the on-press developability of the non-image area.

無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。   As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.

無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。   The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing. .

上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。   The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.

無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
<親水性低分子化合物>
本発明の画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類、そのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類とその塩、N−フェニルグリシン誘導体などのアミノ酸誘導体、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類とその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類とその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類とその塩等が挙げられる。
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.
<Hydrophilic low molecular weight compound>
The image recording layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of hydrophilic low molecular weight compounds include water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene glycol, ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, amino acid derivatives such as N-phenylglycine derivatives, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and the like Organic phosphonic acids such as salts and phenylphosphonic acids and salts thereof, organic carboxylic acids such as tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids and salts thereof

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is coated by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.

本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。   The image recording layer of the present invention can also be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲内で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。 Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but generally 0.3 to 3.0 g / m 2 is preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.

塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。   Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

(2)支持体
本発明の平版印刷版原版に用いられる支持体は、特に限定されず、寸度的に安定な板状物であればよい。例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上述した金属がラミネートされまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリエステルフィルムおよびアルミニウム板が挙げられる。中でも、寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が好ましい。
(2) Support The support used for the lithographic printing plate precursor according to the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate. For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or deposited. Preferable supports include a polyester film and an aluminum plate. Among these, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is preferable.

アルミニウム板は、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウムもしくはアルミニウム合金の薄膜にプラスチックがラミネートされているものである。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は10質量%以下であるのが好ましい。本発明においては、純アルミニウム板が好ましいが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate is a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, or a plastic laminated on a thin film of aluminum or an aluminum alloy. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is preferably 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is preferable, but completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of refining technology, and therefore may contain a slightly different element. The composition of the aluminum plate is not specified, and a publicly known material can be used as appropriate.

支持体の厚さは0.1〜0.6mmであるのが好ましく、0.15〜0.4mmであるのがより好ましく、0.2〜0.3mmであるのが更に好ましい。   The thickness of the support is preferably from 0.1 to 0.6 mm, more preferably from 0.15 to 0.4 mm, and even more preferably from 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を使用するに先立ち、粗面化処理、陽極酸化処理等の表面処理を施すのが好ましい。表面処理により、親水性の向上および画像記録層と支持体との密着性の確保が容易になる。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための界面活性剤、有機溶剤、アルカリ性水溶液等による脱脂処理が行われる。   Prior to using the aluminum plate, it is preferable to perform a surface treatment such as roughening treatment or anodizing treatment. By the surface treatment, it is easy to improve hydrophilicity and secure adhesion between the image recording layer and the support. Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like for removing rolling oil on the surface is performed as desired.

アルミニウム板表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理(電気化学的に表面を溶解させる粗面化処理)、化学的粗面化処理(化学的に表面を選択溶解させる粗面化処理)が挙げられる。   The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment (surface roughening treatment for dissolving the surface electrochemically), chemical treatment, etc. Surface roughening treatment (roughening treatment that chemically selectively dissolves the surface).

機械的粗面化処理の方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。   As a method for the mechanical surface roughening treatment, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used.

電気化学的粗面化処理の方法としては、例えば、塩酸、硝酸等の酸を含有する電解液中で交流または直流により行う方法が挙げられる。また、特開昭54−63902号公報に記載されているような混合酸を用いる方法も挙げられる。   Examples of the electrochemical surface roughening treatment include a method in which an alternating current or a direct current is used in an electrolytic solution containing an acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Another example is a method using a mixed acid as described in JP-A-54-63902.

粗面化処理されたアルミニウム板は、必要に応じて、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液を用いてアルカリエッチング処理を施され、更に、中和処理された後、所望により、耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施される。   The surface-roughened aluminum plate is subjected to an alkali etching treatment using an aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide or the like, if necessary, further neutralized, and if desired, wear resistant. In order to increase the anodic oxidation treatment.

アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成させる種々の電解質の使用が可能である。一般的には、硫酸、塩酸、シュウ酸、クロム酸またはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。   As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, hydrochloric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化処理の条件は、用いられる電解質により種々変わるので一概に特定することはできないが、一般的には、電解質濃度1〜80質量%溶液、液温5〜70℃、電流密度5〜60A/d m2 、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分であるのが好ましい。形成される陽極酸化皮膜の量は、1.0〜5.0g/m2 であるのが好ましく、1.5〜4.0g/m2 であるのがより好ましい。この範囲で、良好な耐刷性と平版印刷版の非画像部の良好な耐傷性が得られる。 The conditions of anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. In general, however, an electrolyte concentration of 1 to 80% by mass solution, a liquid temperature of 5 to 70 ° C., a current density of 5 to 60 A / d m 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are preferable. The amount of the anodized film formed is preferably from 1.0 to 5.0 g / m 2, and more preferably 1.5 to 4.0 g / m 2. Within this range, good printing durability and good scratch resistance of the non-image area of the lithographic printing plate can be obtained.

本発明で用いられる支持体としては、上記のような表面処理をされ陽極酸化皮膜を有する基板そのままでも良いが、上層との接着性、親水性、汚れ難さ、断熱性などの一層改良のため、必要に応じて、特開2001−253181号公報や特開2001−322365号公報に記載されている陽極酸化皮膜のマイクロポアの拡大処理、マイクロポアの封孔処理、および親水性化合物を含有する水溶液に浸漬する表面親水化処理などを適宜選択して行うことができる。もちろんこれら拡大処理、封孔処理はこれらに記載のものに限られたものではなく従来公知の何れも方法も行うことができる。   As the support used in the present invention, the substrate having the above-mentioned surface treatment and having an anodized film may be used as it is, but for further improvement in adhesion to the upper layer, hydrophilicity, resistance to contamination, heat insulation and the like. If necessary, it contains micropore enlargement treatment, micropore sealing treatment, and hydrophilic compound described in JP-A Nos. 2001-253181 and 2001-322365. A surface hydrophilization treatment immersed in an aqueous solution can be selected as appropriate. Of course, the enlargement process and the sealing process are not limited to those described above, and any conventionally known methods can be performed.

たとえば封孔処理としては、蒸気封孔のほかフッ化ジルコン酸の単独処理、フッ化ナトリウムによる処理、塩化リチウムを添加した蒸気封孔でも可能である。   For example, as the sealing treatment, in addition to the vapor sealing, single treatment with fluorinated zirconate, treatment with sodium fluoride, and vapor sealing with addition of lithium chloride are possible.

本発明に用いられる封孔処理は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができるが、中でも、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理、水蒸気による封孔処理および熱水による封孔処理が好ましい。以下にそれぞれ説明する。   The sealing treatment used in the present invention is not particularly limited, and a conventionally known method can be used. Among them, sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, sealing treatment with water vapor, and sealing with hot water are particularly preferable. Hole treatment is preferred. Each will be described below.

無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。   As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, a metal fluoride is preferably exemplified.

具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。中でも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。   Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate It is done. Among these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, from the viewpoint of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. Further, in terms of stain resistance, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液は、更に、リン酸塩化合物を含有するのが好ましい。リン酸塩化合物を含有すると、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、機上現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   It is preferable that the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound further contains a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that on-machine developability and stain resistance can be improved.

リン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。   Suitable examples of the phosphate compound include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.

具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。   Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, phosphotungstic acid, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Among these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.

無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有するのが好ましい。   The combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound and contains at least sodium dihydrogen phosphate as the phosphate compound. Is preferred.

水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、機上現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, from the viewpoint of improving on-press developability and stain resistance. Further, in terms of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比が、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。   The ratio of each compound in the aqueous solution is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to 2/1. Is more preferable.

また、水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。   The temperature of the aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower.

また、水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。   The aqueous solution preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.

無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The method for sealing with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and examples thereof include an immersion method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.

中でも、浸漬法が好ましい。浸漬法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。   Of these, the dipping method is preferred. When the treatment is performed using the dipping method, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

水蒸気による封孔処理は、例えば、加圧または常圧の水蒸気を連続的にまたは非連続的に、陽極酸化皮膜に接触させる方法が挙げられる。   Examples of the sealing treatment with water vapor include a method in which pressurized or normal pressure water vapor is brought into contact with the anodized film continuously or discontinuously.

水蒸気の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、105℃以下であるのが好ましい。   The temperature of the water vapor is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 105 ° C. or lower.

水蒸気の圧力は、(大気圧−50mmAq)から(大気圧+300mmAq)までの範囲(1.008×105 〜1.043×105 Pa)であるのが好ましい。 The water vapor pressure is preferably in the range (1.008 × 10 5 to 1.043 × 10 5 Pa) from (atmospheric pressure−50 mmAq) to (atmospheric pressure + 300 mmAq).

また、水蒸気を接触させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。   Further, the time for which the water vapor is contacted is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, 100 seconds or shorter, more preferably 20 seconds or shorter.

熱水による封孔処理は、例えば、陽極酸化皮膜を形成させたアルミニウム板を熱水に浸漬させる方法が挙げられる。   Examples of the sealing treatment with hot water include a method in which an aluminum plate on which an anodized film is formed is immersed in hot water.

熱水は、無機塩(例えば、リン酸塩)または有機塩を含有していてもよい。   The hot water may contain an inorganic salt (for example, phosphate) or an organic salt.

熱水の温度は、80℃以上であるのが好ましく、95℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましい。   The temperature of the hot water is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 95 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower.

また、熱水に浸漬させる時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。   Further, the time of immersion in hot water is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 100 seconds or shorter, and even more preferably 20 seconds or shorter.

親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、同第3,280,734号および同第3,902,734号の各明細書に記載されているようなアルカリ金属シリケート法がある。この方法においては、支持体をケイ酸ナトリウム等の水溶液で浸漬処理し、または電解処理する。そのほかに、特公昭36−22063号公報に記載されているフッ化ジルコン酸カリウムで処理する方法、米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号および同第4,689,272号の各明細書に記載されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が挙げられる。   The hydrophilization treatment is described in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734, and 3,902,734. There are such alkali metal silicate methods. In this method, the support is immersed in an aqueous solution such as sodium silicate or electrolytically treated. In addition, the treatment with potassium zirconate fluoride described in JP-B 36-22063, U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461 and 4,689, And a method of treating with polyvinylphosphonic acid as described in each specification of No.272.

本発明の支持体としてポリエステルフィルムなど表面の親水性が不十分な支持体を用いる場合は、親水層を塗布して表面を親水性にすることが望ましい。親水層としては、特開2001−199175号公報に記載の、ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、硼素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウム、鉄、バナジウム、アンチモンおよび遷移金属から選択される少なくとも一つの元素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層や、特開2002−79772号公報に記載の、有機親水性ポリマーを架橋あるいは疑似架橋することにより得られる有機親水性マトリックスを有する親水層や、ポリアルコキシシラン、チタネート、ジルコネートまたはアルミネートの加水分解、縮合反応からなるゾル−ゲル変換により得られる無機親水性マトリックスを有する親水層、あるいは、金属酸化物を含有する表面を有する無機薄膜からなる親水層が好ましい。中でも、珪素の酸化物または水酸化物のコロイドを含有する塗布液を塗布してなる親水層が好ましい。   When using a support having insufficient surface hydrophilicity, such as a polyester film, as the support of the present invention, it is desirable to apply a hydrophilic layer to make the surface hydrophilic. As the hydrophilic layer, at least one element selected from beryllium, magnesium, aluminum, silicon, titanium, boron, germanium, tin, zirconium, iron, vanadium, antimony, and a transition metal described in JP-A-2001-199175 A hydrophilic layer formed by coating a coating solution containing a colloid of oxide or hydroxide, or organic hydrophilicity obtained by crosslinking or pseudo-crosslinking an organic hydrophilic polymer described in JP-A-2002-79772 A hydrophilic layer having a hydrophilic matrix, a hydrophilic layer having an inorganic hydrophilic matrix obtained by sol-gel conversion comprising hydrolysis, condensation reaction of polyalkoxysilane, titanate, zirconate or aluminate, or a metal oxide A hydrophilic layer made of an inorganic thin film having a surface is preferred. Arbitrariness. Among these, a hydrophilic layer formed by applying a coating solution containing a silicon oxide or a hydroxide colloid is preferable.

また、本発明の支持体としてポリエステルフィルム等を用いる場合には、支持体の親水性層側または反対側、あるいは両側に、帯電防止層を設けるのが好ましい。帯電防止層を支持体と親水性層との間に設けた場合には、親水性層との密着性向上にも寄与する。帯電防止層としては、特開2002−79772号公報に記載の、金属酸化物微粒子やマット剤を分散したポリマー層等が使用できる。   Moreover, when using a polyester film etc. as a support body of this invention, it is preferable to provide an antistatic layer in the hydrophilic layer side of a support body, the opposite side, or both sides. In the case where the antistatic layer is provided between the support and the hydrophilic layer, it also contributes to improving the adhesion with the hydrophilic layer. As the antistatic layer, a polymer layer in which metal oxide fine particles or a matting agent are dispersed as described in JP-A-2002-79772 can be used.

支持体は、中心線平均粗さが0.10〜1.2μmであるのが好ましい。この範囲で、画像記録層との良好な密着性、良好な耐刷性と良好な汚れ難さが得られる。   The support preferably has a center line average roughness of 0.10 to 1.2 μm. Within this range, good adhesion to the image recording layer, good printing durability and good stain resistance can be obtained.

また、支持体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.65であるのが好ましい。この範囲で、画像露光時のハレーション防止による良好な画像形成性と現像後の良好な検版性が得られる。   The color density of the support is preferably 0.15 to 0.65 as the reflection density value. Within this range, good image formability by preventing halation during image exposure and good plate inspection after development can be obtained.

(3)バックコート層
支持体に表面処理を施した後または下塗層を形成させた後、必要に応じて、支持体の裏面にバックコートを設けることができる。
(3) Backcoat layer After surface-treating or forming an undercoat layer on the support, a backcoat can be provided on the back surface of the support, if necessary.

バックコートとしては、例えば、特開平5−45885号公報に記載されている有機高分子化合物、特開平6−35174号公報に記載されている有機金属化合物または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好適に挙げられる。中でも、Si(OCH3 4 、Si(OC2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC4 9 4 等のケイ素のアルコキシ化合物を用いるのが、原料が安価で入手しやすい点で好ましい。 Examples of the back coat include hydrolysis and polycondensation of organic polymer compounds described in JP-A-5-45885, organometallic compounds or inorganic metal compounds described in JP-A-6-35174. A coating layer made of a metal oxide obtained in this manner is preferred. Among them, it is inexpensive to use a silicon alkoxy compound such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC 4 H 9 ) 4. It is preferable in terms of easy availability.

(4)下塗層
本発明の平版印刷版原版においては、必要に応じて、画像記録層と支持体との間に下塗層を設けることができる。下塗層は未露光部において、画像記録層の支持体からの剥離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。また、赤外線レーザ露光の場合は、下塗層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。
(4) Undercoat layer In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer can be provided between the image recording layer and the support, if necessary. Since the undercoat layer tends to cause the image recording layer to peel off from the support in the unexposed area, the on-press developability is improved. In addition, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, so that heat generated by exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently, so that high sensitivity can be achieved. There are advantages.

下塗層としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物等が好適に挙げられる。   As the undercoat layer, specifically, a silane coupling agent having an addition polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, JP-A-2-304441. The phosphorus compound etc. which have the ethylenic double bond reactive group of gazette description are mentioned suitably.

最も好ましい下塗層としては、吸着性基を有するモノマー/親水性基を有するモノマー/架橋性基を有するモノマーを共重合した高分子樹脂が挙げられる。   The most preferable undercoat layer includes a polymer resin obtained by copolymerizing a monomer having an adsorbing group / a monomer having a hydrophilic group / a monomer having a crosslinkable group.

高分子下塗りの必須成分は、親水性支持体表面への吸着性基である。親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。   An essential component of the polymer undercoat is an adsorptive group on the surface of the hydrophilic support. The presence or absence of adsorptivity on the surface of the hydrophilic support can be determined by the following method, for example.

試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても0.5mg/m2以上残存する化合物である。 A coating night is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, the support coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the adsorbed amount of the support. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. A compound having a support adsorptivity is a compound that remains in an amount of 0.5 mg / m 2 or more even after the washing treatment as described above.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例えば、水酸基)と、化学結合(例えば、イオン結合、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。吸着性基は、酸基またはカチオン性基が好ましい。   The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, hydroxyl group) existing on the surface of the hydrophilic support and a chemical bond (for example, ionic bond, hydrogen bond). , Coordination bond, bond by intermolecular force). The adsorptive group is preferably an acid group or a cationic group.

酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性水酸基、カルボキシル基、−PO32、−OPO32、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−および−COCH2COCH3を含む。リン酸基(−OPO32、―PO32)が特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。 The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of acid groups include phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 —, and —COCH 2 COCH 3 . A phosphoric acid group (—OPO 3 H 2 , —PO 3 H 2 ) is particularly preferred. These acid groups may be metal salts.

カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。アンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。   The cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. An ammonium group, a phosphonium group and a sulfonium group are preferred, an ammonium group and a phosphonium group are more preferred, and an ammonium group is most preferred.

吸着性基を有するモノマーの特に好ましい例としては、下記式(IV)または(V)で表される化合物が挙げられる。   Particularly preferred examples of the monomer having an adsorptive group include compounds represented by the following formula (IV) or (V).

Figure 2007283640
Figure 2007283640

式(IV)において、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基である。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチル基であることが最も好ましい。R2およびR3は、水素原子であることが特に好ましい。 In the formula (IV), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or a methyl group. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom.

式(IV)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。式(IV)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(―S―)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。   In the formula (IV), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom. In the formula (IV), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (arylene group, substituted arylene group) or divalent Or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—, where R is an aliphatic group, an aromatic group. Or a combination with a heterocyclic group) or carbonyl (—CO—).

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至15がさらに好ましく、1乃至10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基を含む。   The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and most preferably 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。   The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。   The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, hydroxyl groups, oxo groups (═O), thioxo groups (═S), imino groups (═NH), substituted imino groups (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.

Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCH2CH2)n−(nは2以上の整数)を含むことが好ましい。 L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n — (n is an integer of 2 or more).

式(IV)において、Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。また、Yは、炭素原子または窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示すことからZは必須ではない。   In the formula (IV), Z is a functional group adsorbed on the surface of the hydrophilic support. Y is a carbon atom or a nitrogen atom. When Y is a nitrogen atom and L is connected to Y to form a quaternary pyridinium group, Z is not essential because it exhibits adsorptivity itself.

式(V)において、R1、LおよびZは、式(IV)におけるものと同義である。吸着性の官能基については、前述した通りである。 In the formula (V), R 1 , L and Z have the same meanings as in the formula (IV). The adsorptive functional group is as described above.

以下に、式(IV)または(V)で表される代表的な化合物の例を示す。   Examples of typical compounds represented by formula (IV) or (V) are shown below.

Figure 2007283640
Figure 2007283640

本発明に用いることができる下塗り用高分子樹脂の親水性基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等が好適に挙げられる。中でも高親水性を示すスルホン酸基を有するモノマーが好ましい。スルホン酸基を有するモノマーの具体例としては、メタリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、p−スチレンスルホン酸、メタリルスルホン酸、アクリルアミド−t−ブチルスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(3−アクリロイルオキシプロピル)ブチルスルホン酸のナトリウム塩、アミン塩が挙げられる。中でも親水性能および合成の取り扱いから2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。   Examples of the hydrophilic group of the undercoat polymer resin that can be used in the present invention include a hydroxy group, a carboxyl group, a carboxylate group, a hydroxyethyl group, a polyoxyethyl group, a hydroxypropyl group, a polyoxypropyl group, and an amino group. Preferred examples include a group, an aminoethyl group, an aminopropyl group, an ammonium group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. Among them, a monomer having a sulfonic acid group exhibiting high hydrophilicity is preferable. Specific examples of the monomer having a sulfonic acid group include methallyloxybenzenesulfonic acid, allyloxybenzenesulfonic acid, allylsulfonic acid, vinylsulfonic acid, allylsulfonic acid, p-styrenesulfonic acid, methallylsulfonic acid, acrylamide- Examples thereof include t-butyl sulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid, sodium salt of (3-acryloyloxypropyl) butyl sulfonic acid, and amine salt. Among them, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt is preferable from the viewpoint of hydrophilic performance and synthetic handling.

本発明の下塗層用の水溶性高分子樹脂は、架橋性基を有すことが好ましい。架橋性基によって画像部との密着の向上が得られる。下塗層用の高分子樹脂に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、高分子樹脂の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The water-soluble polymer resin for the undercoat layer of the present invention preferably has a crosslinkable group. The crosslinkable group can improve the adhesion with the image area. In order to impart crosslinkability to the polymer resin for the undercoat layer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the side chain of the polymer, or paired with the polar substituent of the polymer resin It can be introduced by forming a salt structure with a compound having a charged substituent and an ethylenically unsaturated bond.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid where the ester or amide residue (R of -COOR or -CONHR) is Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2nCR1=CR23、−(CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2 nNH−CO−O−CH2CR1=CR23、−(CH2 n−O−CO−CR1=CR23、および−(CH2CH2O)2−X(式中、R1〜R3はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1とR2またはR3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an aryl group. Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadi An enyl residue).

エステル残基の具体例としては、−CH2CH=CH2(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C65、−CH2CH2OCOCH=CH−C65、−CH2CH2NHCOO−CH2CH=CH2、および−CH2CH2O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。 Specific examples of the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2, and - CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).

アミド残基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−CH2CH2O−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2CH2OCO−CH=CH2が挙げられる。 Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

下塗層用高分子樹脂の架橋性基を有するモノマーとしては、上記架橋性基を有するアクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドが好適である。   As the monomer having a crosslinkable group of the polymer resin for undercoat layer, an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid having the crosslinkable group is suitable.

下塗層用高分子樹脂中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、および良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the polymer resin for the undercoat layer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol per 1 g of the polymer resin. More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

下塗層用の高分子樹脂は、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The polymer resin for the undercoat layer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1000 or more is preferable. More preferably, it is 250,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

下塗層用の高分子樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。   The polymer resin for the undercoat layer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, etc., but is preferably a random polymer.

本発明の下塗り用高分子樹脂としては、親水性基を有する公知の樹脂を用いることもできる。そのような樹脂の具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニルマレイン酸コポリマー類、スチレンーマレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   As the undercoat polymer resin of the present invention, a known resin having a hydrophilic group can also be used. Specific examples of such resins include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and Salts thereof, polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, hydroxybutyl Homopolymers and copolymers of methacrylates, homopolymers of hydroxybutyl acrylate Copolymers, polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more. Polymers and copolymers, homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin A polyether etc. are mentioned.

下塗り用高分子樹脂は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。   The undercoat polymer resin may be used alone or in combination of two or more.

下塗層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。
(5)保護層
本発明の平版印刷版原版には、酸素遮断性付与、画像記録層での傷等の発生防止、高照度レーザ露光時に生じるアブレーション防止等のために、必要に応じて画像記録層の上に保護層を設けることができる。
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.
(5) Protective layer The lithographic printing plate precursor according to the present invention is provided with an image recording as necessary to impart oxygen barrier properties, prevent scratches in the image recording layer, prevent ablation that occurs during high-illuminance laser exposure, and the like. A protective layer can be provided on the layer.

通常、平版印刷版の露光処理は大気中で実施する。露光処理によって生じる画像記録層中での画像形成反応は、大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物によって阻害され得る。保護層は、この酸素、塩基性物質等の低分子化合物が画像記録層へ混入することを防止し、結果として大気中での画像形成阻害反応を抑制する。従って、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性を低くすることであり、更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものである。このような特性を有する保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特公昭55−49729号公報に記載されている。   Usually, the exposure processing of a lithographic printing plate is carried out in the atmosphere. The image forming reaction in the image recording layer caused by the exposure process can be inhibited by low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere. The protective layer prevents low molecular compounds such as oxygen and basic substances from entering the image recording layer, and as a result, suppresses image formation inhibition reaction in the air. Therefore, the properties desired for the protective layer are to reduce the permeability of low-molecular compounds such as oxygen, and furthermore, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness with the image recording layer is excellent. And it can be easily removed in an on-press development process after exposure. The protective layer having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポリマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セロハン等のポリマー等が挙げられる。これらは、必要に応じて2種以上を併用して用いることもできる。   As a material used for the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified product of polyvinyl acetate, ethylene-vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative, gelatin, starch Examples thereof include water-soluble polymers such as derivatives and gum arabic, and polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, and cellophane. These may be used in combination of two or more as required.

上記材料中で比較的有用な素材としては、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒として塗布可能であり、且つ、印刷時における湿し水により容易に除去されるという観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾールが好ましい。その中でも、ポリビニルアルコール(PVA)は、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。保護層に用い得るポリビニルアルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していてもよい。例えば、カルボキシル基、スルホ基等のアニオンで変性されたアニオン変性部位、アミノ基、アンモニウム基等のカチオンで変性されたカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位等種々の親水性変性部位をランダムに有す各種重合度のポリビニルアルコール、前記のアニオン変性部位、前記のカチオン変性部位、シラノール変性部位、チオール変性部位、更にはアルコキシル変性部位、スルフィド変性部位、ビニルアルコールと各種有機酸とのエステル変性部位、前記アニオン変性部位とアルコール類等とのエステル変性部位、エポキシ変性部位等種々の変性部位をポリマー鎖末端に有す各種重合度のポリビニルアルコール等も好ましく用いられる。   A relatively useful material among the above materials includes water-soluble polymer compounds having excellent crystallinity. Specifically, water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl imidazole, and polyacrylic acid, gelatin, gum arabic, and the like are suitable. Among these, water can be applied as a solvent, and at the time of printing Polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and polyvinyl imidazole are preferable from the viewpoint that they are easily removed by the fountain solution. Among them, polyvinyl alcohol (PVA) gives the best results for basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol that can be used in the protective layer may be partially substituted with esters, ethers, and acetals as long as they contain a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. Similarly, a part may contain other copolymerization components. For example, various hydrophilic modification sites such as anion modification sites modified with anions such as carboxyl groups and sulfo groups, cation modification sites modified with cations such as amino groups and ammonium groups, silanol modification sites, and thiol modification sites are randomly selected. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization, the anion-modified site, the cation-modified site, the silanol-modified site, the thiol-modified site, the alkoxyl-modified site, the sulfide-modified site, and the ester modification of vinyl alcohol and various organic acids. Polyvinyl alcohol having various degrees of polymerization having various modified sites such as a site, an ester-modified site of the anion-modified site and alcohols, an epoxy-modified site, etc. at the polymer chain end is also preferably used.

これら変性ポリビニルアルコールは71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲の化合物が好適に挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。また変性ポリビニルアルコールとしては、アニオン変性部位を有すKL−318、KL−118、KM−618、KM−118、SK−5102、カチオン変性部位を有すC−318、C−118、CM−318、末端チオール変性部位を有すM−205、M−115、末端スルフィド変性部位を有すMP−103、MP−203、MP−102、MP−202、高級脂肪酸とのエステル変性部位を末端に有すHL−12E、HL−1203、その他反応性シラン変性部位を有すR−1130、R−2105、R−2130等が挙げられる。   Suitable examples of the modified polyvinyl alcohol include compounds having a hydrolysis degree of 71 to 100 mol% and a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like. Examples of the modified polyvinyl alcohol include KL-318, KL-118, KM-618, KM-118, SK-5102 having an anion-modified site, C-318, C-118 and CM-318 having a cation-modified site. M-205 and M-115 having terminal thiol modification sites, MP-103, MP-203, MP-102 and MP-202 having terminal sulfide modification sites, and ester modification sites with higher fatty acids HL-12E, HL-1203, and other reactive silane-modified R-1130, R-2105, R-2130, and the like.

また保護層には層状化合物を含有することが好ましい。層状化合物とは薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、下記一般式
A(B,C)2-5410(OH,F,O)2
〔ただし、AはLi,K,Na,Ca,Mg,有機カチオンの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウムなどが挙げられる。
The protective layer preferably contains a layered compound. Is a particle having a thin tabular shape and layered compound, for example, the following general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2
[However, A is any of Li, K, Na, Ca, Mg, organic cation, B and C are any of Fe (II), Fe (III), Mn, Al, Mg, V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.

上記天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母KMg3(AlSi310)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si410)F2等の非膨潤性雲母、およびNaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si410)F2、NaまたはLiテニオライト(Na,Li)Mg2Li(Si410)F2、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si410)F2等の膨潤性雲母等が挙げられる。また合成スメクタイトも有用である。 Examples of the natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and sericite. Further, as the synthetic mica, non-swelling mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Na tetrasilicic mica NaMg 2.5 ( Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2/5 Li Examples thereof include swelling mica such as 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 . Synthetic smectite is also useful.

上記の層状化合物の中でも、合成の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、雲母、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ベントナイト等の膨潤性粘土鉱物類等は、10〜15Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi+、Na+、Ca2+、Mg2+、アミン塩、第4級アンモニウム塩、ホスホニウム塩およびスルホニウム塩等の有機カチオンの陽イオンを吸着している。これらの層状化合物は水により膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベントナイトおよび膨潤性合成雲母はこの傾向が強い。 Of the above layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic layered compound, is particularly useful. That is, swellable clay minerals such as mica, montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite, etc. have a laminated structure composed of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 to 15 mm, and metal atom substitution in the lattice is other than Significantly greater than viscous minerals. As a result, the lattice layer is deficient in positive charge, and in order to compensate for this, the layers such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ , amine salts, quaternary ammonium salts, phosphonium salts and sulfonium salts are used. Adsorbs organic cation cations. These layered compounds swell with water. If shear is applied in this state, it will easily cleave and form a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have this tendency.

層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of the layered compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the better, the better the planar size as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

層状化合物の粒子径は、その平均径が1〜20μm、好ましくは1〜10μm、特に好ましくは2〜5μmである。粒子径が1μmよりも小さいと酸素や水分の透過の抑制が不十分であり、効果を十分に発揮できない。また20μmよりも大きいと塗布液中での分散安定性が不十分であり、安定的な塗布を行うことができない問題が生じる。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   The average particle diameter of the layered compound is 1 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm, particularly preferably 2 to 5 μm. When the particle diameter is smaller than 1 μm, the suppression of permeation of oxygen and moisture is insufficient and the effect cannot be exhibited sufficiently. On the other hand, if it is larger than 20 μm, the dispersion stability in the coating solution is insufficient, resulting in a problem that stable coating cannot be performed. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化による平版印刷版原版における画像形成性の低下もなく保存安定性に優れる。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Deterioration is prevented, and even when stored for a long time under high-humidity conditions, the storage stability of the planographic printing plate precursor does not deteriorate due to changes in humidity, and the storage stability is excellent.

保護層中の無機質層状化合物の含有量は、保護層に使用されるバインダーの量に対し、質量比で5/1〜1/100であることが好ましい。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これら無機質層状化合物の合計量が上記の質量比であることが好ましい。   It is preferable that content of the inorganic stratiform compound in a protective layer is 5/1-1/100 by mass ratio with respect to the quantity of the binder used for a protective layer. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass ratio.

次に、保護層に用いる層状化合物の一般的な分散方法の例について述べる。まず、水100質量部に先に層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。   Next, an example of a general dispersion method of the layered compound used for the protective layer will be described. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable laminar compound mentioned above as a preferred laminar compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen. Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を添加することができる。これら活性剤の添加量は(共)重合体に対して0.1〜100質量%添加することができる。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to provide flexibility. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers can be added. The addition amount of these activators can be added in an amount of 0.1 to 100% by mass with respect to the (co) polymer.

また、画像部との密着性を良化させるため、例えば、特開昭49−70702号公報には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。英国特許出願公開第1303578号明細書には、保護層中にポリフルオロエチレン樹脂粒子を分散させることによって、真空焼き枠を用いる露光時のフィルムと平版印刷版原版との接着を防止できることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。   In order to improve the adhesion to the image area, for example, JP-A-49-70702 discloses an acrylic emulsion, water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass of a copolymer or the like and laminating on an image recording layer. British Patent Application No. 1303578 describes that the dispersion of polyfluoroethylene resin particles in a protective layer can prevent adhesion between a film and a lithographic printing plate precursor during exposure using a vacuum baking frame. ing. Any of these known techniques can be used in the present invention.

更に、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

この保護層塗布液には、塗布性を向上させためのアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤や皮膜の物性改良のため水溶性可塑剤などの公知の添加剤を加えることができる。水溶性の可塑剤としては、例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の(メタ)アクリル系ポリマーを加えることもできる。さらに、この塗布液には、画像記録層との密着性、塗布液の経時安定性を向上するための公知の添加剤を加えてもよい。   This protective layer coating solution includes known anionic surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, fluorosurfactants and water-soluble plasticizers for improving the physical properties of the coating. Additives can be added. Examples of the water-soluble plasticizer include propionamide, cyclohexanediol, glycerin, sorbitol and the like. A water-soluble (meth) acrylic polymer can also be added. Furthermore, a known additive for improving the adhesion with the image recording layer and the temporal stability of the coating solution may be added to the coating solution.

このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた画像記録層の上に塗布し、乾燥することで保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、保護層は、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。   The protective layer coating solution thus prepared is applied onto the image recording layer provided on the support and dried to form the protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples of the protective layer include blade coating, air knife coating, gravure coating, roll coating coating, spray coating, dip coating, and bar coating.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。
(6)製版方法
本発明に用いられる露光光源としては、レーザが好ましい。本発明に用いられるレーザは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照射する固体レーザおよび半導体レーザ、250〜420nmの光を照射する半導体レーザなどが好適に挙げられる。
The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. It is in the range of 02 to 1 g / m 2 .
(6) Plate Making Method The exposure light source used in the present invention is preferably a laser. Although the laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser which irradiate infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm, the semiconductor laser which irradiates light with 250-420 nm, etc. are mentioned suitably.

赤外線レーザに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。250〜420nmの光を照射する半導体レーザにおいては、出力は0.1mW以上であることが好ましい。いずれのレーザにおいても、露光時間を短縮するためマルチビームレーザデバイスを用いるのが好ましい。 Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In a semiconductor laser that emits light of 250 to 420 nm, the output is preferably 0.1 mW or more. In any laser, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.

露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザ露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像様露光される。   The exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing press. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, imagewise exposure is performed after a lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of the printing press.

平版印刷版原版をレーザで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水および/または印刷インキによって、未硬化の画像記録層が除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉し、印刷が開始される。本発明の平版印刷版に用いる印刷インキと湿し水は、平版印刷用に市販されている通常のものでよい。   After exposing the lithographic printing plate precursor imagewise with a laser and supplying printing with dampening water and printing ink without going through a development processing step such as a wet development processing step, in the exposed portion of the image recording layer, The image recording layer cured by exposure forms a printing ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed portion, the uncured image recording layer is removed by the supplied fountain solution and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed at the portion. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area, and printing is started. The printing ink and fountain solution used for the lithographic printing plate of the present invention may be ordinary ones that are commercially available for lithographic printing.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
1.平版印刷版原版(1)の作製
(1)支持体の作製
厚み0.3mmのアルミニウム板(材質1050)の表面の圧延油を除去するため、10質量%アルミン酸ソーダ水溶液を用いて50℃で30秒間、脱脂処理を施した後、毛径0.3mmの束植ナイロンブラシ3本とメジアン径25μmのパミス−水懸濁液(比重1.1g/cm3)を用いアルミ表面を砂目立てして、水でよく洗浄した。この板を45℃の25質量%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに60℃で20質量%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.
1. Preparation of planographic printing plate precursor (1) (1) Preparation of support In order to remove rolling oil on the surface of a 0.3 mm thick aluminum plate (material 1050), a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution is used at 50 ° C. After degreasing for 30 seconds, the aluminum surface was grained using three bundled nylon brushes with a bristle diameter of 0.3 mm and a pumice-water suspension (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) with a median diameter of 25 μm. And washed well with water. This plate was etched by being immersed in a 25 mass% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20 mass% nitric acid at 60 ° C for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .

次に、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃であった。交流電源波形は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2 、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。 Next, an electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and a liquid temperature of 50 ° C. The AC power source waveform is electrochemical roughening treatment using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time ratio TP of 0.8 msec until the current value reaches a peak from zero, a duty ratio of 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave alternating current. Went. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.

硝酸電解における電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量175C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。 The amount of electricity in the nitric acid electrolysis was 175 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. Then, water washing by spraying was performed.

次に、塩酸0.5質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、液温50℃の電解液にて、アルミニウム板が陽極時の電気量50C/dm2の条件で、硝酸電解と同様の方法で、電気化学的な粗面化処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。この板を15質量%硫酸(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)を電解液として電流密度15A/dm2で2.5g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗、乾燥した。 Next, nitric acid electrolysis was performed with an aqueous solution of 0.5% by mass hydrochloric acid (containing 0.5% by mass of aluminum ions) and an electrolytic solution having a liquid temperature of 50 ° C. under the condition of an electric quantity of 50 C / dm 2 when the aluminum plate was the anode. In the same manner as above, an electrochemical surface roughening treatment was performed, followed by washing with water by spraying. After a direct current anodized film of 2.5 g / m 2 of the plate 15 wt% sulfuric acid (containing 0.5 mass% of aluminum ion) at a current density of 15A / dm 2 as the electrolytic solution, washed with water and dried.

その後、非画像部の親水性を確保するため、1.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて70℃で12秒間、シリケート処理を施した。Siの付着量は6mg/m2であった。その後、水洗して、支持体を得た。この基板の中心線平均粗さ(Ra)を直径2μmの針を用いて測定したところ、0.51μmであった。 Then, in order to ensure the hydrophilic property of a non-image part, the silicate process was performed for 12 second at 70 degreeC using the 1.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 6 mg / m 2 . Then, it washed with water and the support body was obtained. The centerline average roughness (Ra) of this substrate was measured using a needle having a diameter of 2 μm and found to be 0.51 μm.

さらに下記下塗り液(1)を乾燥塗布量が8mg/m2になるよう塗布して、以下の実験に用いる支持体を作製した。 Further, the following undercoat liquid (1) was applied so that the dry coating amount was 8 mg / m 2 to prepare a support used in the following experiments.

下塗り液(1)
・下記の下塗り化合物(1) 0.017g
・メタノール 9.00g
・蒸留水 1.00g
Undercoat liquid (1)
・ Undercoat compound (1) below 0.017g
・ Methanol 9.00 g
・ Distilled water 1.00g

Figure 2007283640
Figure 2007283640

(2)画像記録層の形成
上記支持体上に、下記組成の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成した。
(2) Formation of image recording layer The image recording layer coating solution (1) having the following composition was bar-coated on the above support, followed by oven drying at 100 ° C. for 60 seconds to obtain a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . An image recording layer was formed.

画像記録層塗布液(1)は下記感光液(1)およびミクロゲル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。   The image recording layer coating solution (1) was obtained by mixing and stirring the following photosensitive solution (1) and microgel solution (1) immediately before coating.

感光液(1)
・下記のバインダーポリマー(1) 0.162g
・下記の赤外線吸収剤(1) 0.030g
・下記の重合開始剤(1) 0.162g
・重合性化合物(アロニックスM215、東亞合成(株)製) 0.385g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
ミクロゲル液(1)
・下記の通り合成したミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
Photosensitive solution (1)
・ The following binder polymer (1) 0.162 g
・ The following infrared absorber (1) 0.030 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.162 g
・ Polymerizable compound (Aronix M215, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.385 g
-0.044 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g
Microgel solution (1)
-Microgel (1) synthesized as follows: 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

Figure 2007283640
Figure 2007283640

(ミクロゲル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.2μmであった。
(3)保護層の形成
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版(1)を得た。
(Synthesis of microgel (1))
As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, And 0.1 g of Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The solid content concentration of the microgel solution thus obtained was diluted with distilled water so as to be 15% by mass. The average particle size was 0.2 μm.
(3) Formation of Protective Layer After the protective layer coating solution (1) having the following composition was further bar-coated on the image recording layer, it was oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount was 0.15 g / m 2. A lithographic printing plate precursor (1) was obtained.

保護層塗布液(1)
・下記の通り調製した無機粒子分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(ポバールPVA105) 0.03g
・アニオン変性ポリビニルアルコール(ポバールKM118) 0.03g
((株)クラレ製、ケン化度95.5〜98.5モル%)
・ノニオン系界面活性剤 0.01g
(商品名:EMALEX710、日本エマルジョン(株)製)
・イオン交換水 6.0g
(無機粒子分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル社製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザ散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散無機粒子のアスペクト比は100以上であった。
2.平版印刷版原版(2)の作製
上記平版印刷版原版(1)の作製に記載の画像記録層塗布液(1)を下記の画像記録層塗布液(2)に変更した以外は平版印刷版原版(1)の作製と同様にして平版印刷版原版(2)を得た。
Protective layer coating solution (1)
-1.5 g of inorganic particle dispersion (1) prepared as follows
・ Polyvinyl alcohol (Poval PVA105) 0.03g
Anion-modified polyvinyl alcohol (Poval KM118) 0.03g
(Kuraray Co., Ltd., saponification degree: 95.5 to 98.5 mol%)
・ Nonionic surfactant 0.01g
(Product name: EMALEX 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.)
・ Ion-exchanged water 6.0g
(Preparation of inorganic particle dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Co-op Chemical) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed inorganic particles was 100 or more.
2. Preparation of lithographic printing plate precursor (2) A lithographic printing plate precursor except that the image recording layer coating solution (1) described in the preparation of the lithographic printing plate precursor (1) is changed to the image recording layer coating solution (2) shown below. A lithographic printing plate precursor (2) was obtained in the same manner as in (1).

画像記録層塗布液(2)
・上記のバインダーポリマー(1) 0.50g
・下記の赤外線吸収剤(2) 0.05g
・上記の重合開始剤(1) 0.20g
・重合性化合物、アロニックスM−215(東亜合成(株)製) 1.00g
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.10g
・メチルエチルケトン 18.0 g
Image recording layer coating solution (2)
・ 0.50 g of the above binder polymer (1)
・ The following infrared absorber (2) 0.05 g
・ 0.20g of the above polymerization initiator (1)
Polymerizable compound, Aronix M-215 (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) 1.00 g
・ 0.10 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 18.0 g

Figure 2007283640
Figure 2007283640

3.平版印刷版原版(3)の作製
下塗層を有する上記の支持体上に、下記の画像記録層塗布液(3)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.6g/m2の画像記録層を作製した。
3. Preparation of lithographic printing plate precursor (3) The following image recording layer coating solution (3) is bar-coated on the above support having an undercoat layer, then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds, and the dry coating amount An image recording layer of 0.6 g / m 2 was produced.

画像記録層塗布液(3)
・下記の通り製造した高分子微粒子水分散液 33.0g
・下記の赤外吸収剤(3) 1.0g
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 0.5g
・メタノール 16.0g
Image recording layer coating solution (3)
-Polymer fine particle aqueous dispersion prepared as follows: 33.0 g
・ The following infrared absorber (3) 1.0 g
・ Pentaerythritol tetraacrylate 0.5g
・ Methanol 16.0g

Figure 2007283640
Figure 2007283640

(高分子微粒子水分散液の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ蒸留水350mLを加えて内温が80℃となるまで加熱した。分散剤としてドデシル硫酸ナトリウム3.0gを1.5g添加し、更に開始剤として過硫化アンモニウム0.45gを添加し、次いでグリシジルメタクリレート45.0gとスチレン45.0gとの混合物を滴下ロートから約1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、水蒸気蒸留で未反応単量体を除去した。その後冷却しアンモニア水でpH6に調整し、最後に不揮発分が15質量%となるように純水を添加して高分子重合体微粒子水分散液を得た。この高分子重合体微粒子の粒径分布は、粒子径60nmに極大値を有していた。
(Production of polymer fine particle aqueous dispersion)
A stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser is applied to a 1000 ml four-necked flask, and 350 mL of distilled water is added while deoxygenating by introducing nitrogen gas, and the internal temperature becomes 80 ° C. Until heated. Add 1.5 g of sodium dodecyl sulfate as a dispersant, 0.45 g of ammonium persulfide as an initiator, and then add a mixture of 45.0 g of glycidyl methacrylate and 45.0 g of styrene from the dropping funnel to about 1 It was added dropwise over time. After the completion of the dropwise addition, the reaction was continued as it was for 5 hours, and then the unreacted monomer was removed by steam distillation. Thereafter, the mixture was cooled and adjusted to pH 6 with ammonia water, and finally pure water was added so that the non-volatile content was 15% by mass to obtain an aqueous polymer polymer fine particle dispersion. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 60 nm.

ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。   Here, the particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring a total of 5000 fine particle sizes on the photograph, and a logarithmic scale between 0 and the maximum value of the obtained particle size measurement values. And the frequency of appearance of each particle size was plotted and obtained. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.

さらにその上に下記保護層塗布液(2)をバー塗布した後、60℃、120秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.3g/m2の保護層を形成して平版印刷版原版(3)を得た。 Further, the following protective layer coating solution (2) was bar coated thereon, followed by oven drying at 60 ° C. for 120 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.3 g / m 2 to form a lithographic printing plate precursor (3 )

保護層塗布液(2)
・カルボキシメチルセルロース(質量平均分子量2万) 5.0g
・水 50.0g
[実施例1〜3]
得られた平版印刷版原版(1)〜(3)を製造ラインより長尺方向800mmで5枚切り取り、これをWisconsin社製オーブンSPC−34HTS109にて、温度及び時間を変えて加熱した。
これらの加熱済み版を、自動現像機LP−940Hを用いて、FG−1/水=1/20の現像液で処理し、次いで水洗、乾燥することにより、製造欠陥のない正常部は残存し、製造欠陥により画像形成能が劣化している部分は現像除去された現像済みの版を作製した。
Protective layer coating solution (2)
・ Carboxymethylcellulose (mass average molecular weight 20,000) 5.0 g
・ Water 50.0g
[Examples 1 to 3]
The obtained lithographic printing plate precursors (1) to (3) were cut from the production line in the longitudinal direction of 800 mm and heated in an oven SPC-34HTS109 manufactured by Wisconsin at different temperatures and times.
These heated plates are treated with a developing solution of FG-1 / water = 1/20 using an automatic processor LP-940H, then washed with water and dried, so that normal parts free from manufacturing defects remain. Then, a developed plate was prepared by developing and removing the portion where the image forming ability was deteriorated due to a manufacturing defect.

これらの現像済みの版を目視により製造欠陥を問題なく確認出来るレベルの画像形成が行われているか検査した結果を下記表1に示す。尚、本装置の最速加熱時間は40秒のため、本検討においてはこれを最短とした。また、生産性に影響しない上限の時間として、150秒を最長とした。   Table 1 below shows the results of inspecting whether these developed plates were subjected to visual image formation at a level where manufacturing defects could be confirmed without problems. Since the fastest heating time of this apparatus is 40 seconds, this is the shortest in this study. In addition, the maximum time that does not affect productivity is 150 seconds.

〈検査結果指標〉
○ : 欠陥検査が十分可能な画像を形成
※1 : 画像形成が不十分で、加熱後の現像で過現像
※2 : 画像形成は十分だが、加熱により版が変形
<Inspection result index>
○: Image that can be sufficiently inspected for defects * 1: Image formation is insufficient and over-development by development after heating * 2: Image formation is sufficient, but the plate is deformed by heating

Figure 2007283640
Figure 2007283640

[比較例1]
平版印刷版原版(1)を露光及び現像処理することなく、原版そのままの状態で目視に て製造欠陥の検出を行ったところ、この方法では製造欠陥が検出できなかった。更に、そ の平版印刷版原版を赤外線半導体レーザ搭載の富士写真フイルム(株)製Luxel P LATESETTER T−6000IIIにて全面ベタ露光を試みたが、原版のカールが 大きく、本装置に組み込むことが出来なかった。
[Comparative Example 1]
When the lithographic printing plate precursor (1) was subjected to visual detection of production defects without exposure and development, the production defects could not be detected by this method. In addition, we attempted to expose the lithographic printing plate precursor with a Luxel PLATESETTER T-6000III (Fuji Photo Film Co., Ltd.) equipped with an infrared semiconductor laser. However, the original plate has a large curl and can be incorporated into this device. There wasn't.

[比較例2]
平版印刷版原版(1)をコンベンショナルPS版用露光機(アイグラフィックス社製M Q3000LP)にて、大気下でUV露光を100cの条件で全面ベタ露光した以外は、 実施例1〜3と同様の現像処理を行ったが、画像形成が不十分で、製造欠陥を判断出来な かった。
[Comparative Example 2]
Except that the lithographic printing plate precursor (1) was subjected to a solid PS exposure under the condition of 100c under atmospheric conditions using a conventional PS plate exposure machine (MQ3000LP, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), the same as in Examples 1-3 However, it was not possible to judge manufacturing defects because of insufficient image formation.

この方法で、画像欠陥判断可能な画像形成を得るためには、500c以上の露光が必要で あり、この条件では、1枚の版を露光するのに5分以上の時間がかかるため、時間制約が かかる製造欠陥法としては、不適である。
[比較例3]
平版印刷版原版(1)をコンベンショナルPS版用露光機(アイグラフィックス社製MQ3000LP)にて、マットフィルムを介した真空下でのUV露光を100cの条件で全面ベタ露光した以外は、実施例1〜3と同様の現像処理を行った。その結果、製造欠陥を判別できる画像形成は得られたが、露光機ガラス面の汚れ等のノイズで、正確な判定が出来なかった。
In this method, in order to obtain an image formation capable of determining an image defect, exposure of 500 c or more is necessary. Under this condition, it takes time of 5 minutes or more to expose one plate. However, such a manufacturing defect method is not suitable.
[Comparative Example 3]
Example 1 except that the lithographic printing plate precursor (1) was subjected to a solid PS exposure under a condition of 100c under a vacuum through a mat film with a conventional PS plate exposure machine (MQ3000LP manufactured by iGraphics). The same development processing as in 1-3 was performed. As a result, image formation capable of discriminating manufacturing defects was obtained, but accurate determination could not be made due to noise such as contamination on the surface of the exposure machine glass.

表1から分かるように本発明の平版印刷版原版の製造欠陥検査方法によれば、平版印刷版原版の外観だけでは検出不可能な製造欠陥の検査が容易となり、かつ検査時間が格段に早い平版印刷版原版の製造欠陥検査方法を提供可能である。   As can be seen from Table 1, according to the lithographic printing plate precursor manufacturing defect inspection method of the present invention, it is easy to inspect manufacturing defects that cannot be detected only by the appearance of the lithographic printing plate precursor, and the lithographic printing plate has a much faster inspection time. It is possible to provide a manufacturing defect inspection method for a printing plate precursor.

Claims (4)

支持体上に画像記録層を有し、印刷インキおよび/または湿し水を供給することにより機上現像可能な平版印刷版原版の欠陥検査方法であって、
平版印刷版原版を加熱する加熱工程と、
加熱した平版印刷版原版を、印刷機に装着することなく現像する現像工程と、
現像した平版印刷版原版の画像記録層において画像形成していない部分を検出する欠陥検出工程と
を有することを特徴とする平版印刷版原版の欠陥検査方法。
A defect inspection method for a lithographic printing plate precursor having an image recording layer on a support and capable of being developed on-press by supplying printing ink and / or fountain solution,
A heating process for heating the lithographic printing plate precursor;
A development process for developing the heated lithographic printing plate precursor without mounting it in a printing machine;
A defect inspection method for a lithographic printing plate precursor, comprising: a defect detection step for detecting a portion where an image is not formed in an image recording layer of the developed lithographic printing plate precursor.
前記欠陥検出工程では、前記平版印刷版原版の画像記録層において画像形成していない部分を光学的に検出する請求項1に記載の平版印刷版原版の欠陥検査方法。   The defect inspection method for a lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein, in the defect detection step, a portion of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor in which no image is formed is optically detected. 前記加熱工程における平版印刷版原版の加熱温度は160℃〜260℃の範囲であり、加熱時間は40〜150秒である請求項1または2に記載の平版印刷版原版の欠陥検査方法。   The lithographic printing plate precursor defect inspection method according to claim 1 or 2, wherein the heating temperature of the lithographic printing plate precursor in the heating step is in the range of 160 ° C to 260 ° C, and the heating time is 40 to 150 seconds. 前記加熱工程における平版印刷版原版の加熱温度は170℃〜250℃の範囲であり、加熱時間は40〜120秒である請求項3に記載の平版印刷版原版の欠陥検査方法。   The defect inspection method for a lithographic printing plate precursor according to claim 3, wherein the heating temperature of the lithographic printing plate precursor in the heating step is in the range of 170C to 250C, and the heating time is 40 to 120 seconds.
JP2006113684A 2006-04-17 2006-04-17 Method for inspecting defect of original printing plate of lithographic printing plate Pending JP2007283640A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006113684A JP2007283640A (en) 2006-04-17 2006-04-17 Method for inspecting defect of original printing plate of lithographic printing plate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006113684A JP2007283640A (en) 2006-04-17 2006-04-17 Method for inspecting defect of original printing plate of lithographic printing plate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007283640A true JP2007283640A (en) 2007-11-01

Family

ID=38755852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006113684A Pending JP2007283640A (en) 2006-04-17 2006-04-17 Method for inspecting defect of original printing plate of lithographic printing plate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007283640A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5238170B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP4815113B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP5170960B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP5046744B2 (en) Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP2008195018A (en) Original plate of lithographic printing plate and lithographic printing method
JP4585872B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP5170968B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP5238176B2 (en) Negative-type planographic printing plate precursor and planographic printing method using the same
JP2007245648A (en) Lithographic printing form original plate and lithographic printing method
JP4746915B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2007038483A (en) Lithographic printing method and original lithographic printing plate
JP5238179B2 (en) Negative-type planographic printing plate precursor and planographic printing method using the same
JP4881636B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2007090564A (en) Platemaking method of original plate of lithographic printing plate
JP2005262755A (en) Lithographic printing original plate, and lithographic printing method
JP2007052372A (en) Method for setting exposure condition for planographic printing original plate, platemaking method and printing method
JP5150755B2 (en) Planographic printing method
JP5283339B2 (en) Image forming material, image forming method, planographic printing plate precursor and planographic printing method
JP2009241258A (en) Original printing plate for negative type lithographic printing plate and method for lithographic printing using it
JP2007118587A (en) Lithographic printing plate original plate and lithographic printing method
JP2008200891A (en) Original plate of lithographic printing plate and lithographic printing method
JP2007245497A (en) Inspecting method of manufacturing defect of original plate of lithographic printing plate
JP2007052371A (en) Method for setting exposure condition for planographic printing original plate, platemaking method and printing method
JP2006256035A (en) Plate-making method for original plate for planographic printing plate, and planographic printing method
JP4939878B2 (en) Planographic printing plate precursor and planographic printing method