JP2007281202A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
【課題】低電源で動作するのに有効な電圧を、複数個の抵抗で分圧する回路を提供する。
【解決手段】ノード1を有し、高電位端子及び低電位端子間の任意の電圧をノード2に出力する電圧出力回路を備えた半導体集積回路であって、一端が高電位端子に他端がノード3に接続された抵抗R1と、一端がノード3に他端がノード2に接続された抵抗R2と、一端がノード2に他端がノード4に接続された抵抗R3と、一端がノード4に他端が低電位端子に接続された抵抗R4と、ゲート端子がノード1にソース端子が高電位端子にドレイン端子がノード3に接続されたP型トランジスタMp1と、ゲート端子がノード1にソース端子が低電位端子にドレイン端子がノード4に接続されたN型トランジスタMn1とを備えた半導体集積回路において、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路の出力電圧を変化させて、低電圧下における動作をも安定なものとする。
【選択図】図1A circuit for dividing a voltage effective for operation with a low power supply by a plurality of resistors is provided.
A semiconductor integrated circuit having a node and having a voltage output circuit for outputting an arbitrary voltage between a high potential terminal and a low potential terminal to a node 2, one end being a high potential terminal and the other end being A resistor R1 connected to the node 3, a resistor R2 having one end connected to the node 3 and the other end connected to the node 2, a resistor R3 having one end connected to the node 2 and the other end connected to the node 4, and one end connected to the node 4 The other end of the resistor R4 is connected to the low potential terminal, the gate terminal is connected to the node 1, the source terminal is connected to the high potential terminal, the drain terminal is connected to the node 3, and the gate terminal is connected to the node 1. In a semiconductor integrated circuit including an N-type transistor Mn1 having a terminal connected to a low potential terminal and a drain terminal connected to the node 4, the output voltage of the circuit that divides the voltage by a plurality of resistors is changed to Movement Also it assumed stable.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、半導体集積回路に関し、特に、半導体集積回路内で使用する電圧を複数個の抵抗で分圧する回路に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a circuit that divides a voltage used in a semiconductor integrated circuit by a plurality of resistors.
従来、半導体集積回路内にて電圧を複数個の抵抗で分圧する回路を含む半導体回路において、この複数の分圧点から、一つ、あるいは複数の出力電圧を選択する際、分圧点と、出力端子に、N型トランジスタ、あるいはP型トランジスタのソース、及びドレインを、それぞれ接続し、ゲートに電源電圧、あるいはグランド電圧を印加し、選択しないときは開放し、また選択するときは短絡するスイッチとして用いていた。 Conventionally, in a semiconductor circuit including a circuit that divides a voltage with a plurality of resistors in a semiconductor integrated circuit, when selecting one or a plurality of output voltages from the plurality of voltage dividing points, a voltage dividing point; A switch that connects the source and drain of an N-type transistor or P-type transistor to the output terminal, applies a power supply voltage or a ground voltage to the gate, opens when not selected, and shorts when selected It was used as.
図10は、従来の、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路の構成図であり、スイッチとして、N型トランジスタを用いた場合の例である。
図10において、Vref端子に印加される電圧を、R1、R2、R3で分圧し、一端がノード1、ノード2にそれぞれ接続され、他端がともにノード3に接続された2つの各N型トランジスタをスイッチとし、SEL0、及びSEL1に、電源電圧、あるいはグランド電圧をそれぞれ印加し、ノード3に出力させる電圧を選択する。
FIG. 10 is a configuration diagram of a conventional circuit for dividing a voltage with a plurality of resistors, and shows an example in which an N-type transistor is used as a switch.
In FIG. 10, two N-type transistors in which the voltage applied to the Vref terminal is divided by R1, R2, and R3, one end is connected to the
図11は、従来の他の、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路の構成図で、スイッチとして、P型トランジスタを用いた場合の例である。
図11において、Vref端子に印加される電圧を、R1、R2、R3で分圧し、一端がノード1、ノード2にそれぞれ接続され、他端がノード3に接続されたP型トランジスタをスイッチとし、SEL0、及びSEL1に、電源電圧、あるいはグランド電圧をそれぞれ印加し、ノード3に出力させる電圧を選択する。
FIG. 11 is a configuration diagram of another conventional circuit for dividing a voltage with a plurality of resistors, and shows an example in which a P-type transistor is used as a switch.
In FIG. 11, the voltage applied to the Vref terminal is divided by R1, R2, and R3, and a P-type transistor having one end connected to
また、図14は、例えば特許文献1に開示された電源探知回路を示す図であり、この電源探知回路では電圧を複数個の抵抗(R21,R22,R23)で分圧する回路を用いている。
従来、半導体集積回路内にて電圧を複数個の抵抗で分圧する回路を使用する際、電源が低電圧の条件下では、従来、スイッチとしていたN型トランジスタが遮断状態のままで、スイッチとしての機能を果たさず、所望の電圧が出力されないという問題があった。 Conventionally, when using a circuit that divides a voltage with a plurality of resistors in a semiconductor integrated circuit, under the condition that the power supply is at a low voltage, the conventional N-type transistor remains in a cut-off state, There is a problem that the desired voltage is not output because the function is not performed.
また、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路を使用する際、選択する出力電圧が、スイッチとして用いているP型トランジスタの閾値電圧(Vt)以下の時には、P型トランジスタが遮断状態のままで、スイッチとしての機能を果たさず、所望の電圧が出力されないという問題があった。 In addition, when using a circuit that divides the voltage with a plurality of resistors, if the output voltage to be selected is lower than the threshold voltage (Vt) of the P-type transistor used as a switch, the P-type transistor remains in the cutoff state. There is a problem that the function as a switch is not performed and a desired voltage is not output.
即ち、例えば、図10に示す従来の、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路を含む半導体集積回路1010において、SEL0、あるいはSEL1に印加する電源電圧が低電圧になると、選択したい分圧点の電位と電位差が小さくなり、スイッチであるN型トランジスタのゲート・ソース間の電位差が、閾値電圧(Vt)より小さくなり、N型トランジスタをスイッチとして動作させることができなくなり、所望の電圧が得られなくなることとなった。
That is, for example, in the semiconductor integrated
また、図11に示す従来の、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路を含む半導体集積回路1020において、選択したい分圧点の電位が低い場合、スイッチであるP型トランジスタのゲート・ソース間の電位差が閾値電圧(Vt)より小さく、P型トランジスタをスイッチとして動作させることができなくなり、所望の電圧が得られなくなることとなった。
Further, in the semiconductor integrated
また図12に示す従来の、可変抵抗とすることのできる抵抗R1、R4を含む複数個の抵抗で、電圧を分圧する回路を含む半導体集積回路1030において、上記抵抗R1あるいはR4が可変抵抗であった場合、もしくは上記抵抗R1及びR4が可変抵抗であった場合、ノード3に任意の電圧を発生させることができるが、電源が低下した場合、あるいは所望の分圧点の電位が低い値である場合、ソース・ゲート電圧間の電位差が閾値電圧(Vt)より小さくなり、N型トランジスタ、もしくはP型トランジスタがスイッチとしての機能を果たさないこととなった。
Further, in the semiconductor
また、図13に示すような従来の、複数個の抵抗(R11,R12,R13,R14,R15)で電圧を分圧する回路を用いた温度検知回路1040(例えば、特許文献2)においては、電源が低電圧になると、N型トランジスタ304は、そのゲート・ソース間の電位差が閾値電圧(Vt)より小さくなるため、スイッチとしての機能を果たさなくなり、所望の電圧が得られなくなることとなった。
Further, in the conventional temperature detection circuit 1040 (for example, Patent Document 2) using a circuit that divides the voltage with a plurality of resistors (R11, R12, R13, R14, R15) as shown in FIG. Since the potential difference between the gate and the source becomes smaller than the threshold voltage (Vt), the N-
また、図14に示すような従来の、電圧を複数個の抵抗(R21,R22,R23)で分圧する回路を用いた電源検知回路1050においては、電源電圧が低電圧になると、N型トランジスタは、そのゲート・ソース間の電位差が閾値電圧(Vt)より小さくなるため、スイッチとしての機能を果たさなくなり、所望の電圧が得られなくなることとなった。
Further, in the power
また、図14に示すような従来の、電圧比較回路を用いる場合、電圧比較回路101の入力端子に、ノイズが混入した場合、比較結果が安定しないという問題があった。 Further, when the conventional voltage comparison circuit as shown in FIG. 14 is used, there is a problem that the comparison result is not stable when noise is mixed in the input terminal of the voltage comparison circuit 101.
この発明は、電圧を複数個の抵抗で分圧しそのいずれかを選択出力する半導体集積回路において、トランジスタをスイッチとして用いた回路では低電源下ではスイッチが動作しない場合があるという問題点に鑑み、低電源で動作するのに有効な電圧を複数個の抵抗で分圧し出力することのできる半導体集積回路を提供することを目的としている。 In the semiconductor integrated circuit that divides a voltage with a plurality of resistors and selectively outputs one of them, a circuit using a transistor as a switch may not operate the switch under a low power supply. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit capable of dividing and outputting a voltage effective for operation with a low power supply by a plurality of resistors.
上記の課題を解決するため、本発明の請求項1にかかる半導体集積回路は、第1の入力ノードを有し、高電位端子と低電位端子間の任意の電圧を、第2のノードに出力する電圧出力回路を備えた半導体集積回路において、一端が高電位端子に、他端が第3のノードに接続された第1の抵抗と、一端が第3のノードに、他端が第2のノードに接続された第2の抵抗と、一端が第2のノードに、他端が第4のノードに接続された第3の抵抗と、一端が第4のノードに、他端が低電位端子に接続された第4の抵抗と、ゲート端子が第1のノードに、ソース端子が高電位端子に、ドレイン端子が第3のノードに、それぞれ接続された第1のP型トランジスタと、ゲート端子が第1のノードに、ソース端子が低電位端子に、ドレイン端子が第4のノードに、それぞれ接続された第1のN型トランジスタと、を備え、前記第1のノードに、電源電圧、あるいはグランド電圧を印加したとき、前記第2のノードに出力される電圧を出力とすることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a semiconductor integrated circuit according to
また、発明の請求項2にかかる半導体集積回路は、請求項1に記載の半導体集積回路において、前記第1の抵抗が、可変抵抗であることを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the first resistor is a variable resistor.
また、発明の請求項3にかかる半導体集積回路は、請求項1記載の半導体集積回路において、前記第4の抵抗が、可変抵抗であることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the fourth resistor is a variable resistor.
また、発明の請求項4にかかる半導体集積回路は、請求項2記載の半導体集積回路において、前記第1の抵抗は、一端が高電位端子に他端が高電位側中間ノードに接続された高電位側第1抵抗と、一端が高電位側中間ノードに他端が第3のノードに接続された高電位側第2抵抗と、ゲート端子は第5のノードに、ソース端子は高電位端子に、ドレイン端子は高電位側中間ノードに接続された第1の補助用P型トランジスタと、ゲート端子は第1のノードに、ソース端子は高電位端子に、ドレイン端子は第3のノードに接続された第1のP型トランジスタと、よりなることを特徴とする。 The semiconductor integrated circuit according to a fourth aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit according to the second aspect, wherein the first resistor has a high end in which one end is connected to a high potential terminal and the other end is connected to a high potential side intermediate node. The first resistor on the potential side, the second resistor on the high potential side having one end connected to the intermediate node on the high potential side and the other node connected to the third node, the gate terminal to the fifth node, and the source terminal to the high potential terminal The drain terminal is connected to the first intermediate node on the high potential side, the gate terminal is connected to the first node, the source terminal is connected to the high potential terminal, and the drain terminal is connected to the third node. And a first P-type transistor.
また、発明の請求項5にかかる半導体集積回路は、請求項3記載の半導体集積回路において、前記第4の抵抗は、一端が低電位端子に、他端が低電位側中間ノードに接続された低電位側第1抵抗と、一端が低電位中間ノードに他端が第4のノードに接続された低電位側第2抵抗と、ゲート端子は第5のノードに、ソース端子は低電位端子に、ドレイン端子は低電位側中間ノードに接続された第1の補助用N型トランジスタと、ゲート端子は第1のノードに、ソース端子は低電位端子に、ドレイン端子は第4のノードに接続された第1のN型トランジスタと、よりなることを特徴とする。 The semiconductor integrated circuit according to a fifth aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit according to the third aspect, wherein one end of the fourth resistor is connected to a low potential terminal and the other end is connected to a low potential side intermediate node. A low-potential side first resistor, a low-potential-side second resistor having one end connected to the low-potential intermediate node and the other end connected to the fourth node, the gate terminal to the fifth node, and the source terminal to the low-potential terminal The drain terminal is connected to the first auxiliary N-type transistor connected to the low potential side intermediate node, the gate terminal is connected to the first node, the source terminal is connected to the low potential terminal, and the drain terminal is connected to the fourth node. And a first N-type transistor.
また、発明の請求項6にかかる半導体集積回路は、請求項1または請求項2または請求項3または請求項4または請求項5のいずれかに記載の半導体集積回路を有し、前記第2のノードの信号と、該半導体集積回路内の第6のノードの信号とが入力され、第7のノードに、前記両信号の比較結果を出力する電圧比較回路を、備えたことを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit according to a sixth aspect of the present invention includes the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the second aspect, the third aspect, the fourth aspect, or the fifth aspect, and the second aspect. A node comparison signal and a sixth node signal in the semiconductor integrated circuit are input, and a seventh node is provided with a voltage comparison circuit that outputs a comparison result of the two signals.
また、発明の請求項7にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路を有し、前記第7のノードと、前記第1の入力ノードとが接続されており、前記第7のノードの比較結果を、前記第1の入力ノードに入力することを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit according to a seventh aspect of the present invention includes the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, wherein the seventh node and the first input node are connected, and the seventh The node comparison result is input to the first input node.
また、発明の請求項8にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路において、前記高電位端子に、温度依存のない電圧が入力され、前記第6のノードに、温度依存のある電圧が入力されることを特徴とする。 According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, a voltage having no temperature dependence is input to the high potential terminal, and the sixth node is temperature dependent. A voltage is input.
また、発明の請求項9にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路において、前記高電位端子に、温度依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、温度依存のない電圧が入力されることを特徴とする。 According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, a temperature-dependent voltage is inputted to the high potential terminal, and the sixth node has no temperature dependence. A voltage is input.
また、発明の請求項10にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路において、前記高電位端子に、温度依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、温度依存のある電圧が入力されることを特徴とする。 According to a tenth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, a temperature-dependent voltage is input to the high potential terminal, and a temperature-dependent voltage is applied to the sixth node. A voltage is input.
また、発明の請求項11にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路において、前記高電位端子に、電源依存のない電圧が入力され、前記第6のノードに、電源依存のある電圧が入力されることを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit according to an eleventh aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, wherein a voltage independent of a power supply is input to the high potential terminal, and the sixth node is dependent on a power supply. A voltage is input.
また、発明の請求項12にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路において、前記高電位端子に、電源依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、電源依存のない電圧が入力されることを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit according to a twelfth aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, wherein a voltage having a power supply dependency is input to the high potential terminal, and the power supply dependency is not supplied to the sixth node. A voltage is input.
また、発明の請求項13にかかる半導体集積回路は、請求項6記載の半導体集積回路において、前記高電位端子に、電源依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、電源依存のある電圧が入力されることを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit according to a thirteenth aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, wherein a voltage dependent on a power supply is input to the high potential terminal, and a power supply dependent is applied to the sixth node. A voltage is input.
請求項1にかかる半導体集積回路は、第1の入力ノードを有し、高電位端子と低電位端子間の任意の電圧を、第2のノードに出力する電圧出力回路を備えた半導体集積回路において、一端が高電位端子に、他端が第3のノードに接続された第1の抵抗と、一端が第3のノードに、他端が第2のノードに接続された第2の抵抗と、一端が第2のノードに、他端が第4のノードに接続された第3の抵抗と、一端が第4のノードに、他端が低電位端子に接続された第4の抵抗と、ゲート端子が第1のノードに、ソース端子が高電位端子に、ドレイン端子が第3のノードに、それぞれ接続された第1のP型トランジスタと、ゲート端子が第1のノードに、ソース端子が低電位端子に、ドレイン端子が第4のノードに、それぞれ接続された第1のN型トランジスタと、を備え、前記第1のノードに、電源電圧、あるいはグランド電圧を印加したとき、前記第2のノードに出力される電圧を出力とする、ものとしたので、低電源の条件下でも、任意の電圧をノード2に出力することができる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit including a voltage output circuit that has a first input node and outputs an arbitrary voltage between a high potential terminal and a low potential terminal to a second node. A first resistor having one end connected to the high potential terminal and the other end connected to the third node; a second resistor having one end connected to the third node and the other end connected to the second node; A third resistor having one end connected to the second node and the other end connected to the fourth node; a fourth resistor having one end connected to the fourth node and the other end connected to the low potential terminal; and a gate The first P-type transistor connected to the first node, the source terminal to the high potential terminal, the drain terminal to the third node, the gate terminal to the first node, and the source terminal to the low node A first N-type transistor having a potential terminal and a drain terminal connected to a fourth node, respectively. And when the power supply voltage or the ground voltage is applied to the first node, the voltage output to the second node is used as an output. Any voltage can be output to the
請求項2にかかる半導体集積回路は、請求項1に記載の半導体集積回路において、前記のうちの第1の抵抗を可変抵抗とすることにより、任意の電圧を第2のノードより得ることができ、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。
A semiconductor integrated circuit according to a second aspect is the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, wherein an arbitrary voltage can be obtained from the second node by using the first resistor as a variable resistor. This has the same effect as the semiconductor integrated circuit of
請求項3にかかる半導体集積回路は、請求項1記載の半導体集積回路において、前記のうちの第4の抵抗を可変抵抗とすることにより、任意の電圧を第2のノードより得ることができ、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。 According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, an arbitrary voltage can be obtained from the second node by using the fourth resistor as a variable resistor. This has the same effect as the semiconductor integrated circuit according to the first aspect.
請求項4にかかる半導体集積回路は、請求項2記載の半導体集積回路において、前記第1の抵抗を可変抵抗にするための手段を提供するものであり、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit according to the second aspect of the present invention, which provides means for making the first resistor variable. Has an effect.
請求項5にかかる半導体集積回路は、請求項3記載の半導体集積回路において、前記第4の抵抗を可変抵抗とするための手段を提供するものであり、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。
A semiconductor integrated circuit according to claim 5 provides means for making the fourth resistor a variable resistor in the semiconductor integrated circuit according to
請求項6にかかる半導体集積回路は、請求項1〜請求項5のいずれかに記載の半導体集積回路を有し、この半導体集積回路より任意の電圧を選択し、他のノードとの電圧を比較する電圧比較回路を、構成するものであり、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。 A semiconductor integrated circuit according to a sixth aspect includes the semiconductor integrated circuit according to any one of the first to fifth aspects, wherein an arbitrary voltage is selected from the semiconductor integrated circuit and a voltage with another node is compared. The voltage comparison circuit is configured to have the same effect as the semiconductor integrated circuit according to the first aspect.
請求項7にかかる半導体集積回路は、請求項6に記載の半導体集積回路を有し、電圧比較回路の入力にノイズなどが混入等した場合でも比較結果を第1のノードに入力することで、請求項1〜5に示す半導体集積回路の出力を変化させ、電圧比較回路の比較結果が安定するようヒステリシスをもたせることができ、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。
A semiconductor integrated circuit according to a seventh aspect includes the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, and even when noise or the like is mixed in the input of the voltage comparison circuit, the comparison result is input to the first node, The output of the semiconductor integrated circuit according to any one of
請求項8〜請求項10にかかる半導体集積回路は、請求項6の電圧比較回路を有し、電圧比較回路のいずれか一つの入力に、温度依存特性を有する電圧を与えることで、あるいは、電圧比較回路の両方の入力に、温度依存特性を有する電圧を与えることで、温度検知回路を実現するものであり、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。
A semiconductor integrated circuit according to any one of claims 8 to 10 includes the voltage comparison circuit according to
請求項11〜請求項13にかかる半導体集積回路は、請求項6の電圧比較回路を有し、電圧比較回路のいずれか一つの入力に、電源依存特性を有する電圧を与えることで、あるいは電圧比較回路の両方の入力に、電源依存特性を有する電圧を与えることで、電源検知回路を実現するものであり、請求項1の半導体集積回路と同様の効果をもつ。
A semiconductor integrated circuit according to any one of claims 11 to 13 includes the voltage comparison circuit according to
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1による半導体集積回路1000の回路構成を示す。
図1に示される半導体集積回路1000において、抵抗R1、抵抗R2、抵抗R3、抵抗R4は、高電位端子Va、低電位端子Vb間の電圧を分圧するものである。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 shows a circuit configuration of a semiconductor integrated
In the semiconductor integrated
Mp1は、ゲート入力をノード1にもち、ソース入力を高電位端子Vaに、ドレイン端子にノード3をもつP型トランジスタであり、Mn1は、ゲート入力をノード1にもち、ソース入力を低電位端子Vbに、ドレイン端子にノード4をもつN型トランジスタであり、ノード1の入力により、ノード2の電圧は変化するものであり、このことを利用して、ノード2の出力(電圧値)を選択することができる。
Mp1 is a P-type transistor having a gate input at
次に、図1に示される本実施の形態1の半導体集積回路1000の動作について説明する。
図1において、第1のノード1に電源電圧を印加した場合、高電位端子とノード3とが短絡される。したがって、高電位端子にVaが、低電位端子にVbが印加されており、ノード2の電位がVcであるとすると、
Next, the operation of the semiconductor integrated
In FIG. 1, when a power supply voltage is applied to the
となる。また、ノード1にグランド電圧を印加した場合、低電位端子とノード4とが短絡される。したがって、高電位端子にVaが、低電位端子にVbが印加されており、ノード2の電位がVcであるとすると、
It becomes. Further, when a ground voltage is applied to the
となる。したがって、ノード1に電源電圧を印加するか、グランド電圧を印加するかによって、これら2つの式によって示される2つの電位のうちのいずれかを選択することができる。
It becomes. Therefore, one of the two potentials represented by these two expressions can be selected depending on whether the power supply voltage is applied to the
また、電源電圧が低下しても、トランジスタMp1のゲート・ソース間の電位差は、電源電圧、あるいはグランド電圧となり、閾値(Vt)以上の電圧を取ることができ、該トランジスタMp1を短絡、あるいは開放させる動作を行うことが可能である。 Even if the power supply voltage decreases, the potential difference between the gate and source of the transistor Mp1 becomes the power supply voltage or the ground voltage, and can take a voltage equal to or higher than the threshold (Vt), and the transistor Mp1 is short-circuited or opened. Can be performed.
また、ノード4の電圧が低い場合でも、トランジスタMn1のゲート・ソース間の電位差は、閾値(Vt)以上の電圧をとることができ、該トランジスタMn1を短絡、あるいは開放させる動作を行うことが可能である。
Even when the voltage at the
このような本実施の形態1による半導体集積回路1000によれば、入力ノードである第1のノード1を有し、高電位端子と低電位端子間の任意の電圧を、上記入力ノードの電圧に応じて第2のノード2に出力する電圧出力回路を構成する半導体集積回路であって、一端が高電位端子に、他端がノード3に接続された抵抗R1と、一端がノード3に、他端がノード2に接続された抵抗R2と、一端がノード2に他端がノード4に接続された抵抗R3と、一端がノード4に、他端が低電位端子に接続された抵抗R4と、ゲート端子はノード1に、ソース端子は高電位端子に、ドレイン端子はノード3に接続されたP型トランジスタMp1と、ゲート端子はノード1に、ソース端子は低電位端子に、ドレイン端子はノード4に接続されたN型トランジスタMn1とを備えることにより、ノード1に電源電圧、あるいはグランド電圧を印加することにより、ノード2に出力される電圧を前述の式1で与えられる電位あるいは式2で与えられる電位に選択する構成の回路を得ることができ、所要の動作を行う電圧出力回路を得ることができる効果がある。
According to the semiconductor integrated
(実施の形態2)
図2は、本発明の実施の形態2による半導体集積回路2000の回路構成を示し、本実施の形態2の回路は、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000において、抵抗R1と、抵抗R4を、可変抵抗としたものである。
(Embodiment 2)
FIG. 2 shows a circuit configuration of a semiconductor integrated
図2に示される本実施の形態2の半導体集積回路2000は、抵抗R1を、一端が高電位端子に他端がノードra1に接続された抵抗ra1と、一端がノードra1に、他端がノード3に接続された抵抗ra2と、ゲート端子はノードs1に、ソース端子は高電位端子に、ドレイン端子はノードra1に接続されたP型トランジスタMpa1とからなる可変抵抗とし、また、抵抗R4を、一端がノード4に、他端がノードrb1に接続された抵抗rb2と、一端がノードrb1に、他端が低電位端子に接続された抵抗rb1と、ゲート端子はノードs1に、ソース端子は低電位端子に、ドレイン端子はノードrb1に接続されたN型トランジスタMnb1とからなる可変抵抗としたものであり、ノードs1、及びノード1により、可変抵抗とした抵抗R1、及び抵抗R4を制御することにより、ノード2の電圧を任意の電圧にすることができることを利用し、ノード2の出力(電圧値)を、任意に選択できるようにしたものである。
The semiconductor integrated
なお、本実施の形態2では、抵抗R1、及び抵抗R4をともに可変抵抗とした場合を説明したが、これは抵抗R1のみを可変抵抗にすることも可能であり、また抵抗R4のみを可変抵抗にすることも可能である。 In the second embodiment, the case where both the resistors R1 and R4 are variable resistors has been described. However, only the resistor R1 can be a variable resistor, and only the resistor R4 can be a variable resistor. It is also possible to make it.
このような本実施の形態2による半導体集積回路2000によれば、電圧を複数個の抵抗で分圧する回路を構成する抵抗R1、抵抗R2、抵抗R3、抵抗R4のうちの抵抗R1、および抵抗R4を可変抵抗とすることにより、第1のノード1への入力信号によって任意の電圧をノード2より得ることができる電圧出力回路を得ることができる。
According to the semiconductor integrated
(実施の形態3)
図3は、本発明の実施の形態3による半導体集積回路3000の回路構成を示す図である。
図3に示される本実施の形態3の半導体集積回路3000において、1003は、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000をそのまま用いたものである。また、ノード5は該半導体集積回路1003内の任意の電圧が現れる第5のノードである。1013は、第2のノード2の電圧と、第5のノード5の電圧との電圧比較結果を得て、それを第6のノード6に出力する電圧比較回路である。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a semiconductor integrated
In the semiconductor integrated
図4(a)は、本実施の形態3の半導体集積回路3000における、各ノードの電圧の関係を示した図であり、aは高電位電位、bは第1のノード1がグランド電位時のノード2の電位、cはノード1が電源電位時のノード2の電位、dはノード5の電位を示している。
FIG. 4A is a diagram showing the voltage relationship between the nodes in the semiconductor integrated
図4(a)の関係図より、ノード1の電位を変化させることにより、ノード5の電位と比較するノード2の電位を変化させることができる。
4A, the potential of the
このような本実施の形態3による半導体集積回路3000によれば、前記実施の形態1の電圧出力回路を構成する半導体集積回路1000において、該集積回路内の任意の電圧のノード5の信号と、上記出力ノード2の信号とを比較する電圧比較回路1013とを設けたので、前記電圧出力回路のノード2の電圧と、該集積回路内の任意のノード5の電圧との比較結果をノード6に出力する電圧比較回路を、得ることができる。
According to such a semiconductor integrated
なお、本実施の形態3では、半導体集積回路1003には、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000を用いたが、この半導体集積回路1003には、図2の実施の形態2の半導体集積回路2000を用いることも可能である。
In the third embodiment, the semiconductor integrated
(実施の形態4)
図5は、本発明の実施の形態4による半導体集積回路4000の回路図である。
図5に示される本実施の形態4の半導体集積回路4000において、1004は、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000をそのまま用いたものである。また、ノード5は該半導体集積回路1004内の任意の電圧が現れる第5のノードである。1014は、第2のノード2の電圧と、第5のノード5の電圧との電圧比較結果を得て、それを第6のノード6に出力する電圧比較回路である。1024は第6のノード6の出力を反転させる反転回路である。
(Embodiment 4)
FIG. 5 is a circuit diagram of a semiconductor integrated
In the semiconductor integrated
本実施の形態4の半導体集積回路4000は、前記電圧比較回路1014の出力を、反転回路1024を経て第1のノード1に入力することにより、第6のノード6の電位にヒステリシスを持たせることができるものである。
In the semiconductor integrated
すなわち、図4(a)及び(b)は、本実施の形態4の半導体集積回路4000における、各ノードの電圧の関係を示した図であり、aは高電位電位、bは第1のノード1が電源電位時の第2のノード2の電位、cは第1のノード1がグラウンド電位時の第2のノード2の電位、dは第5のノード5の電位、eは第6のノード6の電位を示している。
That is, FIGS. 4A and 4B are diagrams showing the relationship of voltages at each node in the semiconductor integrated
今、第1のノード1が電源電位で、電圧比較回路1014において、図4(b)中のbとdとを比較するとき、例えば、bがdより低い値から高い値に変化したときは、電圧比較回路1014の出力ノード6は反転し、ノード1は、電源電位からグランド電位へ変化すると、ノード2は、bからcへ変化する。bとcとは、ノイズによる影響を受けない程度の電位差があるので、ノード2、もしくはノード5にノイズが混入しても、電源電位に変化したノード6の電位eは、グランド電位になることなく安定する。
Now, when the
このような本実施の形態4による半導体集積回路4000によれば、実施の形態3におけるような電圧比較回路を構成する半導体集積回路3000において、前記電圧比較回路1013の出力である第6のノード6の電位を、第1のノード1に入力するようにしたので、第6のノード6の電位に、すなわち、該電圧比較回路の出力に、ヒステリシスを持たせることができる。
According to such a semiconductor integrated
なお、図5に示す本実施の形態4では、半導体集積回路1004を、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000をそのまま用い、電圧比較回路1014の出力はノード1と接続したものとしたが、上記半導体集積回路1004は、図2の実施の形態2の半導体集積回路2000をそのまま用い、電圧比較回路1014の出力を、ノードs1に接続し、該電圧比較回路の出力に、ヒステリシスを持たせるようにすることも可能である。
In the fourth embodiment shown in FIG. 5, the semiconductor integrated
(実施の形態5)
図6は、本発明の実施の形態5による半導体集積回路5000の回路構成を示す図である。
図6に示される本実施の形態5の半導体集積回路5000において、1005は、例えば図1の半導体集積回路であり、1025は、例えば基準電圧回路で、高電位端子は基準電圧で、低電位端子はグランド電位である。第5のノード5は、上記基準電圧回路1025により生成される温度特性を持つ信号の電圧であり、1015は上記実施の形態3における電圧比較回路1013、実施の形態4における電圧比較回路1014と同様の電圧比較回路であり、図6の本実施の形態5においては、ノード2から出力される上記基準電圧を抵抗で分圧された電圧と、ノード5に入力される温度特性を持つ電圧とを比較し、その比較結果電圧を、第6のノード6に出力するものである。
(Embodiment 5)
FIG. 6 is a diagram showing a circuit configuration of a semiconductor integrated
In the semiconductor integrated
図7は、図6の本実施の形態5の半導体集積回路5000における、各ノードの電圧と、回路の温度との関係を示した図であり、aは高電位電位、bは第1のノード1がグランド電位時のノード2の電位、cはノード1が電源電位時のノード2の電位、dはノード5の電位、eは第6のノード6の電位を示している。
FIG. 7 is a diagram showing the relationship between the voltage of each node and the temperature of the circuit in the semiconductor integrated
今、第1のノード1がグランド電位で、回路温度がA[℃]より低いとき、電圧比較回路1015において、図7中のbとdとを比較すると、第6のノード6がグランド電位を示したとする。
When the
その後、回路温度が上昇していき、A[℃]を超えると、図7中のbとdの電位は逆転するため、比較回路1016の出力結果である第6のノード6の電位eは、電源電位となる。これにより、温度はA[℃]と検知される。また、第6のノード6は、第1のノード1と接続されているため、比較回路1016に入力されるbは、cとなり、前記実施の形態4におけると同様に、第6のノード6の電位はグランド電位になることなく安定する。
Thereafter, when the circuit temperature rises and exceeds A [° C.], the potentials b and d in FIG. 7 are reversed, so that the potential e of the
このような本実施の形態5による半導体集積回路5000によれば、上記実施の形態4の半導体集積回路の構成において、電圧比較回路に入力されるノード5の電圧を温度特性を持つものとしたので、上記実施の形態4と同様の効果を奏するとともに、回路温度を検知することができる。
According to the semiconductor integrated
なお、本実施の形態5では、電圧出力回路を構成する半導体集積回路1005は、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000をそのまま用い、電圧比較回路1015に入力される第5のノード5は温度依存性がある電位であり、第2のノード2から出力される電圧は、高電位端子が温度依存性がない電位でこれが分圧されて温度依存性がない電圧であり、また基準電圧回路1025が設けられて、これより上記ノード5の温度依存性のある電圧を出力し、さらに第6のノード6と第1のノード1が接続されて全体の電圧比較回路の出力がヒステリシスを持つものであったが、電圧出力回路を構成する半導体集積回路1005は、図2の実施の形態2の半導体集積回路2000をそのまま用い、また、電圧比較回路1015に入力される第5のノード5の信号は、温度依存性がない電圧であり、出力ノードである第2のノード2は、高電位端子に温度特性をもつ電位を入力して得られる温度特性をもつ分圧電位であっても実現可能であり、また、第5のノード5は、温度特性を持つ電位であって、第2のノード2は、高電位端子に温度特性をもつ電位を入力して得られる温度特性をもつ分圧電位であっても実現可能であり、さらには、ノード6とノード1が接続されることにより得られるヒステリシスをもたない形態のものであってもよく、いずれにおいても、温度検知回路を実現可能である。
In the fifth embodiment, the semiconductor integrated
(実施の形態6)
図8は、本発明の実施の形態6による半導体集積回路6000の回路構成を示す図である。
この図8において、1006は、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000をそのまま用いたものであり、1026は、例えば基準電圧回路であり、高電位端子は基準電圧で、低電位端子はグランド電位であり、第5のノード5は、電源依存特性を持つ電圧(ここでは電源電圧とする)であり、1016は、電圧比較回路であり、これには、第2のノード2の信号、すなわち、基準電圧を抵抗で分圧された電圧と、第5のノード5の信号、すなわち、電源依存特性を持つ電圧と、が入力されるものである。
(Embodiment 6)
FIG. 8 is a diagram showing a circuit configuration of a semiconductor integrated
8,
図9は、図8の本実施の形態6の半導体集積回路6000における、各ノードの電圧と、回路の各電源電圧との関係を示した図であり、図9において、aは高電位電位、bはノード1がグランド電位時のノード2の電位、cはノード1が電源電位時のノード2の電位、dはノード5の電位、eはノード6の電位、である。
FIG. 9 is a diagram showing the relationship between the voltage of each node and the power supply voltage of the circuit in the semiconductor integrated
今、第1のノード1がグランド電位で、回路電源電圧がC[V]のとき、比較回路1016において、図9中のbとdとを比較すると、ノード6がグランド電位を示したとする。その後、回路電源電圧が下降していき、B[V]を下回ると、図9中のbの電位とdの電位は逆転するため、比較回路1016の出力結果ノード6の電位eは、電源電位となる。これにより、電源電圧は、B[V]と検知される。
Assume that when the
また、ノード6はノード1と接続されているため、比較回路1016に入力されるbの電位は、cの電位となり、前記実施の形態4におけると同様に、ノード6の電位eはグランド電位になることなく、安定する。
Further, since the
このような本実施の形態6による半導体集積回路6000によれば、上記実施の形態4の半導体集積回路の構成において、電圧比較回路に入力されるノード5の電圧を電源電位に依存するものとしたので、上記実施の形態4と同様の効果を奏するとともに、回路電源電圧を検知することができる。
According to such a semiconductor integrated
なお、本実施の形態6では、半導体集積回路1006は、図1の実施の形態1の半導体集積回路1000をそのまま用い、1026は、基準電圧回路であり、比較回路1016に入力されるノード5は、電源依存性を持つ電位であり、出力ノードであるノード2は、高電位端子に電源依存性を持たない電位を入力して得られる分圧された電位であり、ノード6とノード1が接続されて全体回路がヒステリシスを持つものとしたが、前記半導体集積回路1006は、図2の実施の形態2の半導体集積回路2000をそのまま用い、また、電圧比較回路1016に入力されるノード5の電位は、電源依存性を持つ電位であり、ノード2は、高電位端子が電源依存性を持つ電位を入力して得られる電源依存性を持つ分圧電位であっても実現可能であり、また、第5のノード5は、電源依存性を持たない電位であり、ノード2は、高電位端子が電源依存性を持つ電位を入力して得られる電源依存性を持つ分圧電位であっても実現可能であり、さらに、ノード6とノード1とが接続されたヒステリシスをもたない形態のものでもよく、いずれにおいても電源検知回路を実現可能である。
In the sixth embodiment, the semiconductor integrated
本発明にかかる半導体集積回路は、低電源下での抵抗分圧による任意の電圧を選択することが可能であり、半導体集積回路内で使用する半導体集積回路として有用である。 The semiconductor integrated circuit according to the present invention can select an arbitrary voltage by resistance voltage division under a low power supply, and is useful as a semiconductor integrated circuit used in the semiconductor integrated circuit.
抵抗R1 抵抗素子
抵抗R2 抵抗素子
抵抗R3 抵抗素子
抵抗R4 抵抗素子
Mp1 P型トランジスタ素子
Mn1 N型トランジスタ素子
抵抗ra1 抵抗素子
抵抗ra2 抵抗素子
抵抗rb1 抵抗素子
抵抗rb2 抵抗素子
Mpa1 P型トランジスタ素子
Mnb1 N型トランジスタ素子
1000 半導体集積回路
2000 半導体集積回路
3000 半導体集積回路
4000 半導体集積回路
5000 半導体集積回路
6000 半導体集積回路
1003 半導体集積回路
1004 半導体集積回路
1005 半導体集積回路
1006 半導体集積回路
1010 半導体集積回路
1020 半導体集積回路
1030 半導体集積回路
1040 温度検知回路
1050 温度検知回路
1013 電圧比較回路
1014 電圧比較回路
1015 電圧比較回路
1016 電圧比較回路
1025 基準電圧回路
1024 反転回路
1026 基準電圧回路
1040 温度検知回路
101 電圧比較回路
304 N型トランジスタ素子
Resistor R1 resistor element resistor R2 resistor element resistor R3 resistor element resistor R4 resistor element Mp1 P-type transistor element Mn1 N-type transistor element resistor ra1 resistor element resistor ra2 resistor element resistor rb1 resistor element resistor rb2 resistor element Mpa1 P-type transistor element Mnb1 N-
Claims (13)
一端が高電位端子に、他端が第3のノードに接続された第1の抵抗と、
一端が第3のノードに、他端が第2のノードに接続された第2の抵抗と、
一端が第2のノードに、他端が第4のノードに接続された第3の抵抗と、
一端が第4のノードに、他端が低電位端子に接続された第4の抵抗と、
ゲート端子が第1のノードに、ソース端子が高電位端子に、ドレイン端子が第3のノードに、それぞれ接続された第1のP型トランジスタと、
ゲート端子が第1のノードに、ソース端子が低電位端子に、ドレイン端子が第4のノードに、それぞれ接続された第1のN型トランジスタと、を備え、
前記第1のノードに、電源電圧、あるいはグランド電圧を印加したとき、前記第2のノードに出力される電圧を出力とする、
ことを特徴とする半導体集積回路。 In a semiconductor integrated circuit including a voltage output circuit having a first input node and outputting an arbitrary voltage between a high potential terminal and a low potential terminal to a second node.
A first resistor having one end connected to a high potential terminal and the other end connected to a third node;
A second resistor having one end connected to the third node and the other end connected to the second node;
A third resistor having one end connected to the second node and the other end connected to the fourth node;
A fourth resistor having one end connected to the fourth node and the other end connected to the low potential terminal;
A first P-type transistor having a gate terminal connected to the first node, a source terminal connected to the high potential terminal, a drain terminal connected to the third node;
A first N-type transistor having a gate terminal connected to the first node, a source terminal connected to the low potential terminal, and a drain terminal connected to the fourth node;
When a power supply voltage or a ground voltage is applied to the first node, a voltage output to the second node is output.
A semiconductor integrated circuit.
前記第1の抵抗が、可変抵抗である、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The first resistor is a variable resistor;
A semiconductor integrated circuit.
前記第4の抵抗が、可変抵抗である、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 1,
The fourth resistor is a variable resistor;
A semiconductor integrated circuit.
前記第1の抵抗は、
一端が高電位端子に他端が高電位側中間ノードに接続された高電位側第1抵抗と、
一端が高電位側中間ノードに他端が第3のノードに接続された高電位側第2抵抗と、
ゲート端子は第5のノードに、ソース端子は高電位端子に、ドレイン端子は高電位側中間ノードに接続された第1の補助用P型トランジスタと、
ゲート端子は第1のノードに、ソース端子は高電位端子に、ドレイン端子は第3のノードに接続された第1のP型トランジスタと、よりなる、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 2.
The first resistor is:
A high potential side first resistor having one end connected to the high potential terminal and the other end connected to the high potential side intermediate node;
A high potential side second resistor having one end connected to the high potential side intermediate node and the other end connected to the third node;
A first auxiliary P-type transistor having a gate terminal connected to the fifth node, a source terminal connected to the high potential terminal, and a drain terminal connected to the high potential side intermediate node;
A gate terminal comprising a first node connected to the first node, a source terminal connected to the high potential terminal, and a drain terminal connected to the third node;
A semiconductor integrated circuit.
前記第4の抵抗は、
一端が低電位端子に、他端が低電位側中間ノードに接続された低電位側第1抵抗と、
一端が低電位側中間ノードに他端が第4のノードに接続された低電位側第2抵抗と、
ゲート端子は第5のノードに、ソース端子は低電位端子に、ドレイン端子は低電位側中間ノードに接続された第1の補助用N型トランジスタと、
ゲート端子は第1のノードに、ソース端子は低電位端子に、ドレイン端子は第4のノードに接続された第1のN型トランジスタと、よりなる、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 3.
The fourth resistor is
A low potential side first resistor having one end connected to the low potential terminal and the other end connected to the low potential side intermediate node;
A low potential side second resistor having one end connected to the low potential side intermediate node and the other end connected to the fourth node;
A first auxiliary N-type transistor having a gate terminal connected to the fifth node, a source terminal connected to the low potential terminal, and a drain terminal connected to the low potential side intermediate node;
A first N-type transistor having a gate terminal connected to the first node, a source terminal connected to the low potential terminal, and a drain terminal connected to the fourth node;
A semiconductor integrated circuit.
前記第2のノードの信号と、該半導体集積回路内の第6のノードの信号とが入力され、第7のノードに、前記両信号の比較結果を出力する電圧比較回路を、備えた、
ことを特徴とする半導体集積回路。 A semiconductor integrated circuit according to claim 1, claim 2, claim 3, claim 4 or claim 5,
A voltage comparison circuit for inputting a signal of the second node and a signal of a sixth node in the semiconductor integrated circuit, and outputting a comparison result of the two signals to a seventh node;
A semiconductor integrated circuit.
前記第7のノードと、前記第1の入力ノードとが接続されており、前記第7のノードの比較結果を、前記第1の入力ノードに入力する、
ことを特徴とする半導体集積回路。 A semiconductor integrated circuit according to claim 6,
The seventh node and the first input node are connected, and the comparison result of the seventh node is input to the first input node;
A semiconductor integrated circuit.
前記高電位端子に、温度依存のない電圧が入力され、前記第6のノードに、温度依存のある電圧が入力される、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
A voltage not dependent on temperature is input to the high potential terminal, and a voltage dependent on temperature is input to the sixth node.
A semiconductor integrated circuit.
前記高電位端子に、温度依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、温度依存のない電圧が入力される、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
A temperature-dependent voltage is input to the high potential terminal, and a temperature-independent voltage is input to the sixth node.
A semiconductor integrated circuit.
前記高電位端子に、温度依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、温度依存のある電圧が入力される、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
A temperature-dependent voltage is input to the high potential terminal, and a temperature-dependent voltage is input to the sixth node.
A semiconductor integrated circuit.
前記高電位端子に、電源依存のない電圧が入力され、前記第6のノードに、電源依存のある電圧が入力される、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
A voltage independent of power supply is input to the high potential terminal, and a voltage dependent of power supply is input to the sixth node.
A semiconductor integrated circuit.
前記高電位端子に、電源依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、電源依存のない電圧が入力される、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
A voltage that is dependent on the power supply is input to the high potential terminal, and a voltage that is not dependent on the power supply is input to the sixth node.
A semiconductor integrated circuit.
前記高電位端子に、電源依存のある電圧が入力され、前記第6のノードに、電源依存のある電圧が入力される、
ことを特徴とする半導体集積回路。 The semiconductor integrated circuit according to claim 6.
A voltage dependent on a power supply is input to the high potential terminal, and a voltage dependent on a power supply is input to the sixth node.
A semiconductor integrated circuit.
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