JP2007279705A - Translucent liquid crystal display device - Google Patents

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Yasuhiro Aiki
康弘 相木
Shinichi Morishima
慎一 森嶌
Wakahiko Kaneko
若彦 金子
Ichiro Amimori
一郎 網盛
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a translucent liquid crystal display device which can be made thin and has satisfactory display characteristics. <P>SOLUTION: The translucent liquid crystal display device has at least one layer of optically anisotropic layers 11 and 17 each containing a layer formed by polymerizing a polymerizable composition containing a disk-like liquid crystalline compound or a bar-like liquid crystalline compound. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射領域と透過領域とを有する半透過型液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a transflective liquid crystal display device having a reflective region and a transmissive region.

近年、携帯電話や携帯音楽プレイヤー、Personal Digital Assistant(PDA)等のモバイル用電子機器向け表示装置の用途に、屋外での視認性が高く、低消費電力化が可能な半透過型液晶表示装置が注目されている。この液晶表示装置は、外部からの入射光を反射板で反射させて表示を行う反射部と、バックライトからの光をスイッチングして表示を行う透過部とを一つの画素内に設けたものであり、強烈な太陽光下でも視認性が高く、暗い屋内でも鮮やかな表示が可能で、必要のないときはバックライトを切ることで消費電力を節約できるため、透過型液晶表示装置に比べて長時間駆動が可能になるといった利点がある。   In recent years, transflective liquid crystal display devices with high outdoor visibility and low power consumption have been used for display devices for mobile electronic devices such as mobile phones, portable music players, and personal digital assistants (PDAs). Attention has been paid. This liquid crystal display device is provided with a reflection portion that performs display by reflecting incident light from the outside with a reflector and a transmission portion that performs display by switching light from a backlight. High visibility even in intense sunlight, vivid display is possible even in dark indoors, and power consumption can be saved by turning off the backlight when it is not needed, so it is longer than transmissive liquid crystal display devices There is an advantage that time driving becomes possible.

半透過型の液晶表示装置の基本的な構成は、例えば下記特許文献1及び2に開示されている。
従来の半透過型の液晶表示装置は、一般的には、一対の液晶セル用基板の一方の対向面に、反射率の高い材料により形成された反射電極と、透過率の高い材料により形成された透明電極とを有し、他方の基板の対向面に対向電極を有し、反射電極及び透明電極と対向電極との間に、液晶材料からなる液晶層を備えている。反射電極及び透明電極を有する基板の対向面と反対側の表面には、λ/4板と、λ/2板と、偏光板とがこの順で積層されている。
The basic configuration of a transflective liquid crystal display device is disclosed in, for example, Patent Documents 1 and 2 below.
Conventional transflective liquid crystal display devices are generally formed on one opposing surface of a pair of liquid crystal cell substrates with a reflective electrode formed of a highly reflective material and a highly transparent material. A transparent electrode, a counter electrode on the opposite surface of the other substrate, and a liquid crystal layer made of a liquid crystal material between the reflective electrode and the transparent electrode and the counter electrode. A λ / 4 plate, a λ / 2 plate, and a polarizing plate are laminated in this order on the surface opposite to the facing surface of the substrate having the reflective electrode and the transparent electrode.

このように、半透過型液晶表示装置は、反射型液晶表示装置や透過型液晶表示に比べて位相差層の使用枚数が多く、コストが上昇することや、セルの厚みが増大する等の不都合がある。また、用いられるλ/4板やλ/2板が可視光全域において性能を満足しないがために、色味つきが生じる等、視野角特性について問題がある。
特許文献3には、半透過型液晶表示装置の視野角を拡大することを目的として、1枚の高分子配向フィルムからなる位相差フィルムで、波長(λ)450nm、550nm及び650nmにおけるリターデーション値Re(λ)が、Re(450)<Re(550)<Re(650)および0.2≦Re(λ)/λ≦0.3を満たす位相差フィルムからなる第1の光学異方性素子、及び光学的に正の一軸性を示す液晶性高分子物質より形成され、液晶状態において形成したネマチックハイブリッド配向を固定化した液晶フィルムである第2の光学異方性素子を、半透過反射型液晶表示素子に使用することが提案されている。
また、特許文献4には、広い波長領域でλ/4またはλ/2等を達成可能な積層位相差フィルムとして、(A)厚みが20μm以上70μm以下である正の屈折率異方性を有しフィルム面内に光軸を有するフィルムと、(B)フィルム(A)の片面上にあり、屈折率異方性を有し層面の法線方向に光軸を有する層とからなり、0≦R(550)≦300nm、R(λ1)/R(λ2)<1、及び10≦Rth(550)≦400nm(式中、R(550)は波長550nmにおけるフィルムの面内位相差、R(λ1)、R(λ2)は、ぞれぞれの波長λ1(nm)、λ2(nm)(400nm<λ1<λ2<780nm)におけるフィルムの面内位相差、さらにRth(550)は波長550nmにおける層の面内に垂直方向位相差値を示す)を満足する積層位相差フィルムが提案されている。特許文献4の実施例では、かかる積層位相差フィルムを半透過型液晶表示装置に用いて、視野角特性の改善を確認している。
特開2000−29010号公報 特開2000−35570号公報 特開2004−125830号公報 特開2006−284703号公報
As described above, the transflective liquid crystal display device uses a larger number of retardation layers than the reflective liquid crystal display device and the transmissive liquid crystal display, which increases the cost and increases the thickness of the cell. There is. Further, since the λ / 4 plate and λ / 2 plate used do not satisfy the performance in the entire visible light range, there is a problem with respect to viewing angle characteristics such as coloring.
Patent Document 3 discloses a retardation film composed of a single polymer alignment film for the purpose of expanding the viewing angle of a transflective liquid crystal display device, and retardation values at wavelengths (λ) of 450 nm, 550 nm, and 650 nm. First optical anisotropic element comprising a retardation film in which Re (λ) satisfies Re (450) <Re (550) <Re (650) and 0.2 ≦ Re (λ) /λ≦0.3 And a second optically anisotropic element, which is a liquid crystal film formed of a liquid crystalline polymer material exhibiting optically positive uniaxiality and in which a nematic hybrid alignment formed in a liquid crystal state is fixed, is a transflective type It has been proposed to be used for a liquid crystal display element.
Patent Document 4 discloses (A) a positive refractive index anisotropy having a thickness of 20 μm or more and 70 μm or less as a laminated retardation film capable of achieving λ / 4 or λ / 2 in a wide wavelength region. A film having an optical axis in the plane of the film, and (B) a layer on one side of the film (A), having a refractive index anisotropy and having an optical axis in the normal direction of the layer surface, and 0 ≦ R (550) ≦ 300 nm, R (λ1) / R (λ2) <1, and 10 ≦ Rth (550) ≦ 400 nm (where R (550) is the in-plane retardation of the film at a wavelength of 550 nm, R (λ1 ), R (λ2) is the in-plane retardation of the film at the respective wavelengths λ1 (nm) and λ2 (nm) (400 nm <λ1 <λ2 <780 nm), and Rth (550) is the layer at the wavelength of 550 nm. Satisfy vertical phase difference value in the plane of Laminated retardation film is proposed that. In the example of Patent Document 4, improvement of viewing angle characteristics is confirmed using such a laminated retardation film in a transflective liquid crystal display device.
JP 2000-29010 A JP 2000-35570 A JP 2004-125830 A JP 2006-284703 A

特許文献3及び4では、所定の光学特性を得るためにポリカーボネートの延伸フィルムを使用しているが、所定の光学特性を満足するためには、ポリカーボネートフィルムにはある程度の厚み(数十μmオーダー)が必要である。一方、半透過型液晶表示装置の用途である携帯電話等については、さらに薄型化に対する要請がある。   In Patent Documents 3 and 4, a stretched polycarbonate film is used to obtain predetermined optical characteristics. However, in order to satisfy the predetermined optical characteristics, the polycarbonate film has a certain thickness (in the order of several tens of μm). is required. On the other hand, there is a demand for further thinning of cellular phones and the like that are used for transflective liquid crystal display devices.

本発明は、このような問題点を解決するものであり、薄型化が可能であり、且つ表示特性の良好な半透過型液晶表示装置を提供することを課題とする。   The present invention solves such problems, and an object of the present invention is to provide a transflective liquid crystal display device that can be thinned and has good display characteristics.

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
[1] 下記一般式(I)もしくは(II)で表される化合物を含有する、又は下記一般式(I)もしくは(II)で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層を少なくとも一層有することを特徴とする半透過型液晶表示装置:

Figure 2007279705
式中、L1及びL2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し;A1及びA2は各々独立に、−O−、−NR−(Rは水素原子又は置換基を表す)、−S−及び−CO−からなる群から選ばれる基を表し;R1、R2、及びR3は各々独立に置換基を表し;Xは第14〜16族の非金属原子を表し、ただし、Xには水素原子又は置換基が結合してもよく;nは0〜2の整数を表す; Means for solving the above-mentioned problems are as follows.
[1] A compound containing a compound represented by the following general formula (I) or (II) or a polymer containing a repeating unit derived from a compound represented by the following general formula (I) or (II) A transflective liquid crystal display device comprising at least one optically anisotropic layer:
Figure 2007279705
In the formula, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group; A 1 and A 2 each independently represent —O—, —NR— (R represents a hydrogen atom or a substituent). ), -S- and -CO-; R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a substituent; X represents a nonmetallic atom of Groups 14-16 Provided that a hydrogen atom or a substituent may be bonded to X; n represents an integer of 0 to 2;

Figure 2007279705
式中、MG1及びMG2はそれぞれ独立に、2〜8個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく;MG1及びMG2を構成する環状基の1つは、L11及びL12で置換され;R11、R12、R13、及びR14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり;L11及びL12はそれぞれ独立に、液晶コア部MG1及びMG2に置換する連結基であり、下記式(II)−LA又は式(II)−LBで表され;
Figure 2007279705
In the formula, MG 1 and MG 2 are each independently a liquid crystal core part that induces the expression of a liquid crystal phase composed of 2 to 8 cyclic groups, and the cyclic group constituting the liquid crystal core part is an aromatic group Any of a ring, an aliphatic ring, and a heterocyclic ring; one of the cyclic groups constituting MG 1 and MG 2 is substituted with L 11 and L 12 ; R 11 , R 12 , R 13 , and R 14 Are flexible substituents, dipole action groups, and hydrogen bonding groups that induce the expression of the liquid crystal phase substituted in the molecular long axis direction of the liquid crystal core; L 11 and L 12 are each independently , A linking group substituted for the liquid crystal core parts MG 1 and MG 2 , represented by the following formula (II) -LA or formula (II) -LB;

Figure 2007279705
Figure 2007279705
式中、*はMG1を構成する環状基に置換する位置を表し;#はP1と連結する位置を表し;A11、A13及びA14はそれぞれ独立に、―O−、−NH−、−S−、−CH2−、−CO−、−SO−、又は−SO2−を表し;A12は−CH=又は−N=を表し;L11及びL12の双方が式(II)−LAで表される基の場合、置換基P1は単結合、又は−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し;L11及びL12の一方が、式(II)−LBで表される基で、他方が式(II)−LAで表される基の場合、置換基P1は、*=CH−P11−#、又は*=N−P11−#で表され(*は式(II)−LBで表される基との連結位置を表し、#は式(II)−LAで表される基との連結位置を表す);P11は単結合、又は−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し;L11及びL12の双方が式(II)−LBで表される基の場合、置換基P1は、二重結合、=CH−P11−CH=、=N−P11−CH=、=N−P11−N=を表し;P11は上記P11と同義である。
Figure 2007279705
Figure 2007279705
In the formula, * represents a position substituted with the cyclic group constituting MG 1 ; # represents a position linked to P 1 ; A 11 , A 13 and A 14 are each independently —O—, —NH—. , -S-, -CH 2- , -CO-, -SO-, or -SO 2- ; A 12 represents -CH = or -N =; both L 11 and L 12 are represented by the formula (II ) In the case of a group represented by -LA, the substituent P 1 is a single bond or a divalent group selected from the group consisting of -CH = CH-, -C≡C-, 1,4-phenylene and combinations thereof. In the case where one of L 11 and L 12 is a group represented by the formula (II) -LB and the other is a group represented by the formula (II) -LA, the substituent P 1 is represented by * = CH-P 11 - #, or * = N-P 11 - represented by # (* represents a linking position between the groups of the formula (II) -LB, # in formula (II) -LA Group represented Represents the coupling position); P 11 is a single bond, or a -CH = CH -, - C≡C-, represents a 1,4-phenylene and a divalent linking group selected from the combination; L 11 and L 12 Are both groups represented by the formula (II) -LB, the substituent P 1 is a double bond, ═CH—P 11 —CH═, ═N—P 11 —CH═, ═N—P 11. -N =; P 11 has the same meaning as P 11 above.

[2] さらに、少なくとも一層の視野角補償層を有することを特徴とする[1]の半透過型液晶表示装置。
[3] 前記光学異方性層が、可視光の波長領域において、波長450nmで測定した位相差△nd(450nm)と、波長550nmで測定した位相差△nd(550nm)と、波長650nmで測定した位相差△nd(650nm)とが、△nd(450nm)<△nd(550nm)<△nd(650nm)を満たすことを特徴とする[1]又は[2]の半透過型液晶表示装置。
[4] 前記光学異方性層が、λ/4板であることを特徴とする[1]〜[3]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[5] 前記光学異方性層が、1軸もしくは2軸性であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[6] 前記光学異方性層が、異常光線の光学軸を、面内方向に有するか、面に垂直な方向に有する層であることを特徴とする[1]〜[5]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[7] 一対の透明基板と、該一対の基板間に配置される液晶層とを有し、前記一対の透明基板の一方の表面上に反射層を有し、且つ該透明基板の前記反射層を有する表面に対して反対の表面上に前記視野角補償層を有することを特徴とする[1]〜[6]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[8] 前記視野角補償層が、円盤状液晶性化合物又は棒状液晶性化合物を含有する重合性組成物を重合して形成された層を有することを特徴とする[1]〜[7]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[9] 液晶モードがECB、TN、IPS、VA、又はOCBモードであることを特徴とする[1]〜[8]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[10] 前記光学異方性層が、転写材料から転写された層であることを特徴とする[1]〜[9]のいずれかの半透過型液晶表示装置。
[2] The transflective liquid crystal display device according to [1], further comprising at least one viewing angle compensation layer.
[3] The optically anisotropic layer has a phase difference Δnd (450 nm) measured at a wavelength of 450 nm, a phase difference Δnd (550 nm) measured at a wavelength of 550 nm, and a wavelength of 650 nm in the visible light wavelength region. The transflective liquid crystal display device of [1] or [2], wherein the phase difference Δnd (650 nm) satisfies Δnd (450 nm) <Δnd (550 nm) <Δnd (650 nm).
[4] The transflective liquid crystal display device according to any one of [1] to [3], wherein the optically anisotropic layer is a λ / 4 plate.
[5] The transflective liquid crystal display device according to any one of [1] to [4], wherein the optically anisotropic layer is uniaxial or biaxial.
[6] Any one of [1] to [5], wherein the optically anisotropic layer has an optical axis of extraordinary light in an in-plane direction or in a direction perpendicular to the plane. Transflective liquid crystal display device.
[7] A pair of transparent substrates, a liquid crystal layer disposed between the pair of substrates, a reflective layer on one surface of the pair of transparent substrates, and the reflective layer of the transparent substrate The transflective liquid crystal display device according to any one of [1] to [6], wherein the viewing angle compensation layer is provided on a surface opposite to the surface having a surface.
[8] The [1] to [7], wherein the viewing angle compensation layer has a layer formed by polymerizing a polymerizable composition containing a discotic liquid crystalline compound or a rod-shaped liquid crystalline compound. Any transflective liquid crystal display device.
[9] The transflective liquid crystal display device according to any one of [1] to [8], wherein the liquid crystal mode is an ECB, TN, IPS, VA, or OCB mode.
[10] The transflective liquid crystal display device according to any one of [1] to [9], wherein the optically anisotropic layer is a layer transferred from a transfer material.

本発明によれば、薄型化が可能であり、且つ表示特性の良好な半透過型液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a transflective liquid crystal display device which can be thinned and has good display characteristics.

発明の実施の形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、本発明を適用した液晶表示装置及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
また本明細書において、Reレターデーション値は、以下に基づき算出するものとする。Re(λ)は波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Re(λ)は平行ニコル法により、波長λnmの光を光学異方性層の法線方向に入射させて測定される。本明細書におけるλは、R、G、Bに対してそれぞれ611±5nm、545±5nm、435±5nmを指し、特に色に関する記載がなければ545±5nm又は590±5nmを指す。
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±5°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、4°未満であることが好ましく、3°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±5%以内の差であることを意味する。さらに、Reが実質的に0でないとは、Reが5nm以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域の任意の波長を指す。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が400〜700nmの光のことをいう。
Hereinafter, a liquid crystal display device to which the present invention is applied and a manufacturing method thereof will be described in detail with reference to the drawings.
In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
In this specification, the Re retardation value is calculated based on the following. Re (λ) represents in-plane retardation and retardation in the thickness direction at the wavelength λ. Re (λ) is measured by the parallel Nicol method, in which light having a wavelength of λ nm is incident in the normal direction of the optically anisotropic layer. In the present specification, λ refers to 611 ± 5 nm, 545 ± 5 nm, 435 ± 5 nm for R, G, and B, respectively, and refers to 545 ± 5 nm or 590 ± 5 nm unless otherwise specified.
In this specification, “substantially” for the angle means that the error from the exact angle is within a range of less than ± 5 °. Furthermore, the error from the exact angle is preferably less than 4 °, more preferably less than 3 °. With regard to retardation, “substantially” means that the retardation is within ± 5%. Furthermore, Re is not substantially 0 means that Re is 5 nm or more. In addition, the measurement wavelength of the refractive index indicates an arbitrary wavelength in the visible light region unless otherwise specified. In the present specification, “visible light” refers to light having a wavelength of 400 to 700 nm.

[半透過型液晶表示装置]
本発明の半透過型液晶表示装置の一実施形態の概略断面図を図1に示す。
図1に示す半透過型液晶表示装置は、対向する2枚の透明基板12及び16と、該2枚の透明基板に挟まれた液晶材料からなる液晶層14とを有する液晶セルLC;液晶セルLCを挟んで配置された一対の偏光板10及び18;ならびに液晶セルLCと偏光板10及び18とのそれぞれの間に、光学異方性層11及び17を有する。図中省略したが、背面側偏光板18の背面には、バックライトが配置されている。また、図1の半透過型液晶表示装置には、透過領域と反射領域があり、透過領域には、透明基板16の対向面上に、ITOなどの透明導電膜からなる透過電極15aが、反射領域には、アルミや銀などを使った反射率の高い材料により形成された反射電極15bが形成されている。また、対向配置された基板12の対向面には、透過電極15aと同様、ITO等の透明導電膜からなる対向電極13が形成されている。また図中省略したが、基板12と対向電極13との間には、RGBもしくはRGBWカラーフィルタが配置され、また対向電極13と液晶層14との間には、液晶層14中の液晶分子の配向を制御する配向層が形成されている。
[Transflective liquid crystal display]
A schematic cross-sectional view of one embodiment of a transflective liquid crystal display device of the present invention is shown in FIG.
The transflective liquid crystal display device shown in FIG. 1 includes a liquid crystal cell LC having two transparent substrates 12 and 16 facing each other and a liquid crystal layer 14 made of a liquid crystal material sandwiched between the two transparent substrates; The optically anisotropic layers 11 and 17 are provided between the pair of polarizing plates 10 and 18 disposed across the LC; and between the liquid crystal cell LC and the polarizing plates 10 and 18, respectively. Although omitted in the drawing, a backlight is disposed on the back surface of the back-side polarizing plate 18. Further, the transflective liquid crystal display device of FIG. 1 has a transmissive region and a reflective region. In the transmissive region, a transmissive electrode 15 a made of a transparent conductive film such as ITO is reflected on the opposite surface of the transparent substrate 16. In the region, a reflective electrode 15b made of a highly reflective material using aluminum, silver, or the like is formed. Further, a counter electrode 13 made of a transparent conductive film such as ITO is formed on the counter surface of the substrate 12 disposed so as to be the same as the transmissive electrode 15a. Although not shown in the drawing, an RGB or RGBW color filter is disposed between the substrate 12 and the counter electrode 13, and between the counter electrode 13 and the liquid crystal layer 14, liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 14 are disposed. An alignment layer for controlling the alignment is formed.

一対の偏光板10及び18は、その透過軸を直交にして配置されている。偏光板10及び18の透過軸は、液晶セルLCの液晶層14の遅相軸に対してそれぞれ、所定の角度をなすように設定される。好ましい角度は、液晶セルLCのモードによって異なる。   The pair of polarizing plates 10 and 18 are arranged with their transmission axes orthogonal. The transmission axes of the polarizing plates 10 and 18 are set so as to form a predetermined angle with respect to the slow axis of the liquid crystal layer 14 of the liquid crystal cell LC. The preferred angle varies depending on the mode of the liquid crystal cell LC.

液晶セルLCの表示モードについては特に制限されず、透過型液晶表示素子で用いられているTNモードであってもよい。液晶セルLCがTNモードであると、透過表示時に高いコントラストを得ることができる。さらに、視野角特性に優れたIPSモード、VAモード、応答速度に優れるOCBモードの液晶セルも使用可能である。   The display mode of the liquid crystal cell LC is not particularly limited, and may be a TN mode used in a transmissive liquid crystal display element. When the liquid crystal cell LC is in the TN mode, high contrast can be obtained during transmissive display. Furthermore, IPS mode, VA mode, and OCB mode liquid crystal cells having excellent viewing angle characteristics can be used.

光学異方性層11及び17は、後述する所定の式(I)もしくは(II)で表される化合物を含有する、又は式(I)もしくは(II)で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する層である。
そもそも半透過型液晶表示装置で、色相変化が生じる主原因は、位相差板などの光学異方性物質のもつレターデーションの波長分散特性にある。レターデーションの波長分散特性は、通常、波長が長くなるほどレターデーションが小さくなるもので、例えば、半透過型液晶表示装置でλ/4板は、直線偏光と円偏光を変換する機能を担うが、波長G(550nm)におけるレターデーションがλ/4の137.5nmのものを使った場合、波長R(600nm)に対してはそれより小さく、逆に波長B(450nm)に対してはそれよりも大きくなってしまう。この問題を解決するため、本実施形態では、面内レターデーションが逆波長分散特性(面内レターデーションが、可視光域の光に対して、波長が長波長であるほど大きくなる特性)をもつ所定の光学異方性物質を用いて形成された、λ/4板として機能する光学異方性層11及び17を用いている。
The optically anisotropic layers 11 and 17 contain a compound represented by a predetermined formula (I) or (II) described later, or are repeatedly derived from a compound represented by the formula (I) or (II) It is a layer containing a polymer containing units.
In the first place, the main cause of the hue change in the transflective liquid crystal display device is the retardation wavelength dispersion characteristic of an optically anisotropic material such as a retardation plate. The wavelength dispersion characteristic of retardation is usually such that the retardation becomes smaller as the wavelength becomes longer. When the wavelength G (550 nm) retardation is 137.5 nm with λ / 4, it is smaller for the wavelength R (600 nm) and conversely for the wavelength B (450 nm). It gets bigger. In order to solve this problem, in this embodiment, the in-plane retardation has reverse wavelength dispersion characteristics (the in-plane retardation has a characteristic that the longer the wavelength, the larger the wavelength with respect to light in the visible light range). Optical anisotropic layers 11 and 17 that function as λ / 4 plates and are formed using a predetermined optical anisotropic material are used.

液晶モードがECBモードの場合、このλ/4層は正の1軸性A−Plateとすることが望ましい。液晶モードがTNの場合も同様に適用できる。TNの場合、円盤状液晶性化合物をハイブリッド配向させることによって形成したものが、さらに望ましい。
また、液晶モードがVAの場合は、負のC−plateあるいは、そのA−Plateとの複合体、IPSモードの場合は、2軸A−Plateとすることが望ましい。
When the liquid crystal mode is the ECB mode, the λ / 4 layer is preferably a positive uniaxial A-Plate. The same applies when the liquid crystal mode is TN. In the case of TN, those formed by hybrid alignment of discotic liquid crystalline compounds are more desirable.
Further, when the liquid crystal mode is VA, it is desirable to use a negative C-plate or a complex with the A-Plate, and when the liquid crystal mode is IPS mode, the biaxial A-Plate is desirable.

なお、光学異方性層11及び17は、偏光板12及び18の保護フィルム上に一体的に形成されていてもよい。また、液晶セルLCの基板12及び16の内側もしくは外側の表面に、形成されていてもよい。光学異方性層11及び17の形成には、後述する転写材料が有用である。   The optically anisotropic layers 11 and 17 may be integrally formed on the protective films of the polarizing plates 12 and 18. Further, it may be formed on the inner or outer surface of the substrates 12 and 16 of the liquid crystal cell LC. For the formation of the optically anisotropic layers 11 and 17, a transfer material described later is useful.

図2に、本発明の半透過型液晶表示装置の他の態様の断面模式図を示した。図2中、図1と同一の部材には同一の番号を付し、詳細な説明は省略する。
図2の半透過型液晶表示装置は、偏光板18と光学異方性層17との間に、さらに光学補償層19を有する。光学補償層19は、液晶表示装置のモードに応じて、種々の性能の位相差フィルム等から選択することができる。例えば、TN又はECBモードの半透過型液晶表示装置の態様では、光学補償層19は、円盤状液晶組成物をハイブリッド配向状態で硬化させて形成した光学異方性層から選択されるのが好ましい。また、VAモードの半透過型液晶表示装置の態様では、光学補償層19は、負のC−プレートから選択されるのが好ましい。
FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of another embodiment of the transflective liquid crystal display device of the present invention. 2, the same members as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
The transflective liquid crystal display device of FIG. 2 further includes an optical compensation layer 19 between the polarizing plate 18 and the optically anisotropic layer 17. The optical compensation layer 19 can be selected from retardation films having various performances according to the mode of the liquid crystal display device. For example, in the TN or ECB mode transflective liquid crystal display device, the optical compensation layer 19 is preferably selected from an optically anisotropic layer formed by curing a disc-like liquid crystal composition in a hybrid alignment state. . In the embodiment of the VA mode transflective liquid crystal display device, the optical compensation layer 19 is preferably selected from a negative C-plate.

本発明の半透過型液晶表示装置は、上記図1及び2に示した構成に限定されず、従来公知の種々のモードの半透過型液晶表示装置の構成を利用することができる。   The transflective liquid crystal display device of the present invention is not limited to the configuration shown in FIGS. 1 and 2, and the configurations of conventionally known transflective liquid crystal display devices in various modes can be used.

以下に、本発明の半透過型液晶表示装置に用いられる光学異方性層について、作製に用いられる材料、作製方法等を詳細に説明する。
[光学異方性層]
本発明でいう光学異方性層は、位相差を測定したときにReが実質的に0でない入射方向が一つでもある、即ち等方性でない光学特性を有していれば特に限定はないが、光学特性を制御しやすいなどの観点から、少なくとも一種の液晶性化合物を含有する液晶層に紫外線を照射することで硬化させて形成された層であることが望ましい。
Hereinafter, materials used for production, production methods, and the like of the optically anisotropic layer used in the transflective liquid crystal display device of the present invention will be described in detail.
[Optically anisotropic layer]
The optically anisotropic layer referred to in the present invention is not particularly limited as long as it has at least one incident direction in which Re is not substantially 0 when the phase difference is measured, that is, has optical characteristics that are not isotropic. However, from the viewpoint of easy control of optical characteristics, it is desirable that the liquid crystal layer containing at least one liquid crystal compound is cured by irradiating it with ultraviolet rays.

[液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層]
前記光学異方性層は、上記の様に、液晶表示装置の視野角を補償する光学異方性層として機能する。光学異方性層単独で充分な光学補償能を有する態様はもちろん、他の層(例えば、光学補償層や偏光板の保護フィルム)との組み合わせで光学補償に必要とされる光学特性を満足する態様も本発明でいう範囲に含まれる。
[Optically Anisotropic Layer Consisting of Composition Containing Liquid Crystalline Compound]
As described above, the optically anisotropic layer functions as an optically anisotropic layer for compensating the viewing angle of the liquid crystal display device. Of course, the optically anisotropic layer alone has a sufficient optical compensation capability, and satisfies the optical characteristics required for optical compensation in combination with other layers (for example, an optical compensation layer or a protective film for a polarizing plate). Embodiments are also included in the scope of the present invention.

前記光学異方性層は、少なくとも一つの液晶性化合物を含有する組成物から形成されることが好ましい。一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が100以上のものを指す(高分子物理・相転移ダイナミクス,土井 正男 著,2頁,岩波書店,1992)。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いるのが好ましい。2種以上の棒状液晶性化合物、2種以上の円盤状液晶性化合物、又は棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶性化合物又は円盤状液晶性化合物を用いて形成するのがより好ましく、混合物の場合少なくとも1つは1液晶分子中の反応性基が2以上あることがさらに好ましい。液晶性化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも1つが2以上の反応性基を有していることが好ましい。前記光学異方性層の厚さは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜10μmであることがさらに好ましい。   The optically anisotropic layer is preferably formed from a composition containing at least one liquid crystalline compound. In general, liquid crystal compounds can be classified into a rod-shaped type and a disk-shaped type based on their shapes. In addition, there are low and high molecular types, respectively. Polymer generally refers to a polymer having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer Physics / Phase Transition Dynamics, Masao Doi, 2 pages, Iwanami Shoten, 1992). In the present invention, any liquid crystal compound can be used, but a rod-like liquid crystal compound or a disk-like liquid crystal compound is preferably used. Two or more kinds of rod-like liquid crystalline compounds, two or more kinds of disc-like liquid crystalline compounds, or a mixture of a rod-like liquid crystalline compound and a disk-like liquid crystalline compound may be used. It is more preferable to use a rod-like liquid crystal compound or a disk-like liquid crystal compound having a reactive group, since at least one of the reactive groups in one liquid crystal molecule can be formed. Is more preferably 2 or more. The liquid crystalline compound may be a mixture of two or more, and in that case, at least one preferably has two or more reactive groups. The thickness of the optically anisotropic layer is preferably 0.1 to 20 μm, and more preferably 0.5 to 10 μm.

液晶化合物は通常、下記式(0)で表されるΔnの波長分散性を持たない。
式(0): Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0
式(0)を満足するΔnの波長分散性を発現させるためには、少なくとも2種類の吸収波長と遷移モーメントの方向を調整する必要がある。Δnは異常光の屈折率から常光の屈折率を差し引いた値であるため、異常光の屈折率の波長分散性よりも、常光の波長分散性が、より右肩下がり(右を長波長側、左を短波長側とおいたときのΔnの傾き)であれば、その差し引いた値は、式(0)を満足する。屈折率の波長分散性は、Lorentz−Lorenzの式で表されているように、物質の吸収に密接な関係があるため、常光の波長分散性をより右肩下がりにするためには、常光方向の吸収波長をより長波化できれば、式(0)を満たす分子を設計することができる。
The liquid crystal compound usually does not have Δn wavelength dispersion represented by the following formula (0).
Formula (0): Δn (450 nm) / Δn (550 nm) <1.0
In order to develop the wavelength dispersion of Δn that satisfies the formula (0), it is necessary to adjust at least two types of absorption wavelengths and the direction of transition moment. Since Δn is a value obtained by subtracting the refractive index of ordinary light from the refractive index of extraordinary light, the wavelength dispersion of ordinary light is lower than the wavelength dispersion of the refractive index of extraordinary light (the right is the longer wavelength side, If the left is on the short wavelength side, the subtracted value satisfies the equation (0). The wavelength dispersion of the refractive index is closely related to the absorption of the substance as represented by the Lorentz-Lorenz equation. Therefore, in order to make the wavelength dispersion of ordinary light more downward, it is the normal light direction. If the absorption wavelength of can be made longer, a molecule satisfying the formula (0) can be designed.

常光の方向は、例えば棒状液晶では分子の幅方向であり、そのような分子の幅方向の吸収遷移波長を長波化することは非常に困難なことである。吸収の遷移を長波化するためには、通常π共役系を広げることにより達成することが可能であるが、そのような方法を用いようとすると、分子の幅を広げることになり、液晶性は消失してしまうからである。
このような液晶性の低下を防ぐためには、William N. Thurms らが報告(Liquid Crystals、25巻、149頁、1998年)している2つの棒状液晶を側方方向でつないだ骨格を用いることが可能である。この骨格は、2つの棒状液晶をエチニル基で連結するため、棒状液晶を構成するベンゼン環のπ共役系がエチニル基のπ結合と共役した形(トラン骨格)となるため、液晶性を損なわずに分子の幅方向の吸収波長を長波化することができる。しかし、このトラン骨格は、分子の長軸方向(光軸方向)に対して、約60°しか傾いていないため、換言すれば吸収の遷移方向が約60°しか傾いていないため、常光方向の吸収波長だけでなく、異常光方向の吸収波長も長波化するため、結果として波長分散性にはほとんど寄与しない。
The direction of ordinary light is, for example, the width direction of molecules in a rod-like liquid crystal, and it is very difficult to lengthen the absorption transition wavelength in the width direction of such molecules. In order to lengthen the absorption transition, it is usually possible to widen the π-conjugated system. However, if such a method is used, the width of the molecule is widened, and the liquid crystallinity is It will disappear.
In order to prevent such a decrease in liquid crystallinity, William N. It is possible to use a skeleton in which two rod-like liquid crystals reported by Thurms et al. (Liquid Crystals, 25, 149, 1998) are connected in the lateral direction. Since this skeleton connects two rod-shaped liquid crystals with an ethynyl group, the π-conjugated system of the benzene ring constituting the rod-shaped liquid crystal is conjugated with the π bond of the ethynyl group (trans skeleton), so the liquid crystallinity is not impaired. In addition, the absorption wavelength in the width direction of the molecule can be lengthened. However, since this Tran skeleton is inclined only about 60 ° with respect to the major axis direction (optical axis direction) of the molecule, in other words, the absorption transition direction is inclined only about 60 °, Not only the absorption wavelength but also the absorption wavelength in the extraordinary light direction is lengthened, and as a result, hardly contributes to wavelength dispersion.

常光の波長分散性のみをより右肩下がりにするためには、分子の長軸方向(光軸方向)に対して、好ましくは、吸収の遷移方向が70〜90°さらに好ましくは、80〜90°傾いている必要があることがわかった。傾き角が90°に近くなるほど、異常光方向の吸収がなくなるため、常光の波長分散性のみを右肩下がりにすることができ好ましい。
以上のように、異常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移よりも、常光の屈折率に主に寄与する吸収の遷移の方が長波長であり、且つ常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向(光軸方向)に対して、70〜90°傾いている分子が好ましい。常光に主に寄与する吸収の遷移方向が分子の長軸方向(光軸方向)に対して、70〜90°傾けるためには、6員環と奇数員環(3員環、5員環、7員環、9員環等)が縮環した部分構造を有することが好ましいことが分かった。
In order to make only the wavelength dispersion of ordinary light more downward, the absorption transition direction is preferably 70 to 90 °, more preferably 80 to 90 with respect to the major axis direction (optical axis direction) of the molecule. It turned out that it needs to be tilted. The closer the tilt angle is to 90 °, the more the absorption in the extraordinary light direction is eliminated. Therefore, it is preferable that only the wavelength dispersion of ordinary light can be lowered.
As described above, the absorption transition mainly contributing to the refractive index of ordinary light has a longer wavelength than the absorption transition mainly contributing to the refractive index of extraordinary light, and the absorption mainly contributing to ordinary light. Molecules whose transition direction is inclined by 70 to 90 ° with respect to the major axis direction (optical axis direction) of the molecule are preferred. In order for the transition direction of absorption mainly contributing to ordinary light to tilt 70 to 90 ° with respect to the long axis direction (optical axis direction) of the molecule, a 6-membered ring and an odd-membered ring (3-membered ring, 5-membered ring, It has been found that a 7-membered ring, a 9-membered ring, etc.) preferably has a condensed partial structure.

具体的には、下記一般式(I)又は後述する一般式(II)で表される液晶化合物が挙げられる。下記の所定の化合物を用いることで、可視光の波長領域において、波長450nmで測定した位相差△nd(450nm)と、波長550nmで測定した位相差△nd(550nm)と、波長650nmで測定した位相差△nd(650nm)とが、△nd(450nm)<△nd(550nm)<△nd(650nm)を満たす光学異方性層を容易に、しかも薄層で形成することができる。これらの液晶性化合物は、添加剤として光学異方性層中に単分子構造のまま含有されていてもよいし、これらの液晶性化合物が重合性基を有する場合は、これらの液晶性化合物から誘導される繰り返し単位を有する高分子の状態で、前記光学異方性層中に含有されていてもよい。   Specifically, a liquid crystal compound represented by the following general formula (I) or a general formula (II) described later can be given. By using the following predetermined compound, in the wavelength region of visible light, the phase difference Δnd (450 nm) measured at a wavelength of 450 nm, the phase difference Δnd (550 nm) measured at a wavelength of 550 nm, and a wavelength of 650 nm were measured. An optically anisotropic layer satisfying Δnd (450 nm) <Δnd (550 nm) <Δnd (650 nm) with a phase difference Δnd (650 nm) can be easily formed as a thin layer. These liquid crystalline compounds may be contained in the optically anisotropic layer as additives as a monomolecular structure, and when these liquid crystalline compounds have a polymerizable group, from these liquid crystalline compounds You may contain in the said optically anisotropic layer in the state of the polymer | macromolecule which has a repeating unit induced | guided | derived.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

式中、L1及びL2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。A1及びA2は各々独立に、−O−、−NR−(Rは水素原子又は置換基を表す。)、−S−及び−CO−からなる群から選ばれる基を表す。R1、R2、及びR3は各々独立に置換基を表す。Xは第14〜16族の非金属原子を表す(ただし、Xには水素原子又は置換基が結合してもよい)。nは0〜2の整数を表す。 In the formula, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group. A 1 and A 2 each independently represent a group selected from the group consisting of —O—, —NR— (R represents a hydrogen atom or a substituent), —S—, and —CO—. R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a substituent. X represents a nonmetal atom of Groups 14 to 16 (provided that a hydrogen atom or a substituent may be bonded to X). n represents an integer of 0 to 2.

特に下記一般式(I')で表される液晶化合物が好ましい。   In particular, a liquid crystal compound represented by the following general formula (I ′) is preferable.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

一般式(I')中、L1及びL2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表す。A1及びA2は各々独立に、−O−、−NR−(Rは水素原子又は置換基を表す。)、−S−及び−CO−からなる群から選ばれる基を表す。R1、R2、R3、R4及びR5は各々独立に置換基を表す。nは0〜2の整数を表す。 In general formula (I ′), L 1 and L 2 each independently represents a single bond or a divalent linking group. A 1 and A 2 each independently represent a group selected from the group consisting of —O—, —NR— (R represents a hydrogen atom or a substituent), —S—, and —CO—. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each independently represents a substituent. n represents an integer of 0 to 2.

一般式(I)又は(I')において、L1及びL2が表す二価の連結基としては、好ましくは下記の例が挙げられる。 In the general formula (I) or (I ′), the divalent linking group represented by L 1 and L 2 preferably includes the following examples.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

さらに好ましくは−O−、−COO−、−OCO−である。   More preferred are -O-, -COO-, and -OCO-.

一般式(I)又は(I')において、R1は置換基であり、複数存在する場合は同じでも異なっていてもよく、環を形成してもよい。置換基の例としては下記のものが適用できる。 In general formula (I) or (I ′), R 1 is a substituent, and when there are a plurality of R 1 s , they may be the same or different and may form a ring. The following can be applied as examples of the substituent.

ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルキル基(好ましくは炭素数1〜30のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基)、シクロアルキル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基)、ビシクロアルキル基(好ましくは、炭素数5〜30の置換又は無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5〜30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル基)、   A halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom), an alkyl group (preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a tert- Butyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group), cycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as cyclohexyl group, cyclopentyl group, 4-n-dodecylcyclohexyl) Group), a bicycloalkyl group (preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a bicycloalkane having 5 to 30 carbon atoms. Bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl group, bicyclo [2,2,2] octan-3-yl group),

アルケニル基(好ましくは炭素数2〜30の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基)、シクロアルケニル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換又は無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3〜30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、2−シクロペンテン−1−イル、2−シクロヘキセン−1−イル基)、ビシクロアルケニル基(置換又は無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5〜30の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル基)、アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基)、 An alkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as a vinyl group or an allyl group), a cycloalkenyl group (preferably a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having 3 to 30 carbon atoms, That is, it is a monovalent group in which one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms is removed, for example, a 2-cyclopenten-1-yl, 2-cyclohexen-1-yl group), a bicycloalkenyl group (substituted or substituted). An unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group in which one hydrogen atom of a bicycloalkene having one double bond is removed. Bicyclo [2,2,1] hept-2-en-1-yl group, bicyclo [2,2,2] oct-2-en-4-yl group), alkini Group (preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as ethynyl group, propargyl group),

アリール基(好ましくは炭素数6〜30の置換又は無置換のアリール基、例えばフェニル基、p−トリル基、ナフチル基)、ヘテロ環基(好ましくは5又は6員の置換又は無置換の、芳香族又は非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは、炭素数3〜30の5又は6員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基)、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、tert−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基)、アリールオキシ基(好ましくは、炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−tert−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基)、 An aryl group (preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group), a heterocyclic group (preferably a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted, aromatic A monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from an aromatic or non-aromatic heterocyclic compound, and more preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group having 3 to 30 carbon atoms. 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-pyrimidinyl group, 2-benzothiazolyl group), cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group (preferably substituted or unsubstituted having 1 to 30 carbon atoms) Alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, tert-butoxy group, n-octyloxy group, 2-methoxyethoxy group), aryloxy group (preferably Or a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-tert-butylphenoxy group, 3-nitrophenoxy group, 2-tetradecanoylaminophenoxy. Group),

シリルオキシ基(好ましくは、炭素数3〜20のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基)、ヘテロ環オキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基)、アシルオキシ基(好ましくはホルミルオキシ基、炭素数2〜30の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ基)、カルバモイルオキシ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基)、アルコキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基)、アリールオキシカルボニルオキシ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基)、 A silyloxy group (preferably a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, such as trimethylsilyloxy group or tert-butyldimethylsilyloxy group), a heterocyclic oxy group (preferably a substituted or unsubstituted heterocycle having 2 to 30 carbon atoms) Ring oxy group, 1-phenyltetrazole-5-oxy group, 2-tetrahydropyranyloxy group), acyloxy group (preferably formyloxy group, substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, carbon number 6-30 substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy groups such as formyloxy group, acetyloxy group, pivaloyloxy group, stearoyloxy group, benzoyloxy group, p-methoxyphenylcarbonyloxy group), carbamoyloxy group (preferably , C1-C30 substitution or non-position Carbamoyloxy group, for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N, N-di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyl An oxy group), an alkoxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, a tert-butoxycarbonyloxy group, and an n-octylcarbonyloxy group. Group), an aryloxycarbonyloxy group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyloxy group, p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, pn- Hexadecyl oxy phenoxycarbonyl group),

アミノ基(好ましくは、アミノ基、炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキルアミノ基、炭素数6〜30の置換又は無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、N−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基)、アミノカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ基)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは、炭素数7〜30の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基)、 An amino group (preferably an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted anilino group having 6 to 30 carbon atoms, such as an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group; , Anilino group, N-methyl-anilino group, diphenylamino group), acylamino group (preferably formylamino group, substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted 6 to 30 carbon atoms, or Unsubstituted arylcarbonylamino group, for example, formylamino group, acetylamino group, pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group), aminocarbonylamino group (preferably substituted or unsubstituted amino having 1 to 30 carbon atoms) Carbonylamino group, for example, carbamoylamino group, N, N-dimethylaminocarbonyl Mino group, N, N-diethylaminocarbonylamino group, morpholinocarbonylamino group), alkoxycarbonylamino group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino Group, tert-butoxycarbonylamino group, n-octadecyloxycarbonylamino group, N-methyl-methoxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino group (preferably substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl having 7 to 30 carbon atoms) Amino groups such as phenoxycarbonylamino group, p-chlorophenoxycarbonylamino group, mn-octyloxyphenoxycarbonylamino group),

スルファモイルアミノ基(好ましくは、炭素数0〜30の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ基)、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスルホニルアミノ基)、メルカプト基、アルキルチオ基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基)、ヘテロ環チオ基(好ましくは炭素数2〜30の置換又は無置換のヘテロ環チオ基、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基)、 Sulfamoylamino group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, such as sulfamoylamino group, N, N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn-octylamino Sulfonylamino groups), alkyl and arylsulfonylamino groups (preferably substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino groups having 1 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted arylsulfonylamino groups having 6 to 30 carbon atoms, such as methylsulfonyl An amino group, a butylsulfonylamino group, a phenylsulfonylamino group, a 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, a p-methylphenylsulfonylamino group, a mercapto group, and an alkylthio group (preferably a substituent having 1 to 30 carbon atoms) Or an unsubstituted alkylthio group such as a methylthio group Ethylthio group, n-hexadecylthio group), arylthio group (preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 30 carbon atoms, for example, phenylthio group, p-chlorophenylthio group, m-methoxyphenylthio group), heterocyclic thio A group (preferably a substituted or unsubstituted heterocyclic thio group having 2 to 30 carbon atoms, such as 2-benzothiazolylthio group, 1-phenyltetrazol-5-ylthio group),

スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜30の置換又は無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N'−フェニルカルバモイル)スルファモイル基)、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、p−メチルフェニルスルフィニル基)、アルキル及びアリールスルホニル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、p−メチルフェニルスルホニル基)、 Sulfamoyl group (preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms such as N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group N-acetylsulfamoyl group, N-benzoylsulfamoyl group, N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group), sulfo group, alkyl and arylsulfinyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms substituted or An unsubstituted alkylsulfinyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a phenylsulfinyl group, a p-methylphenylsulfinyl group), an alkyl and an arylsulfonyl group ( Preferably, the substitution having 1 to 30 carbon atoms or An unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, a p-methylphenylsulfonyl group),

アシル基(好ましくはホルミル基、炭素数2〜30の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7〜30の置換又は無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは、炭素数7〜30の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、o−クロロフェノキシカルボニル基、m−ニトロフェノキシカルボニル基、p−tert−ブチルフェノキシカルボニル基)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基)、カルバモイル基(好ましくは、炭素数1〜30の置換又は無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル基、N−(メチルスルホニル)カルバモイル基)、 An acyl group (preferably a formyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as an acetyl group or a pivaloylbenzoyl group), Aryloxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group, o-chlorophenoxycarbonyl group, m-nitrophenoxycarbonyl group, p-tert-butylphenoxy Carbonyl group), alkoxycarbonyl group (preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, n-octadecyloxycarbonyl group), carbamoyl Group (preferred Is a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, such as a carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-di-n-octylcarbamoyl group, N- ( Methylsulfonyl) carbamoyl group),

アリール及びヘテロ環アゾ基(好ましくは炭素数6〜30の置換又は無置換のアリールアゾ基、炭素数3〜30の置換又は無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、p−クロロフェニルアゾ基、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ基)、イミド基(好ましくは、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基)、ホスフィノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基)、ホスフィニル基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基)、ホスフィニルオキシ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基)、ホスフィニルアミノ基(好ましくは、炭素数2〜30の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜30の置換又は無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基)を表わす。 Aryl and heterocyclic azo groups (preferably substituted or unsubstituted arylazo groups having 6 to 30 carbon atoms, substituted or unsubstituted heterocyclic azo groups having 3 to 30 carbon atoms, such as phenylazo group, p-chlorophenylazo group, 5-ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo group), imide group (preferably N-succinimide group, N-phthalimide group), phosphino group (preferably substituted or non-substituted having 2 to 30 carbon atoms) Substituted phosphino groups such as dimethylphosphino group, diphenylphosphino group, methylphenoxyphosphino group), phosphinyl groups (preferably substituted or unsubstituted phosphinyl groups having 2 to 30 carbon atoms such as phosphinyl group, dioctyl Oxyphosphinyl group, diethoxyphosphinyl group), phosphinyloxy group (preferably carbon A substituted or unsubstituted phosphinyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as a diphenoxyphosphinyloxy group or a dioctyloxyphosphinyloxy group, or a phosphinylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms) A substituted or unsubstituted phosphinylamino group such as a dimethoxyphosphinylamino group or a dimethylaminophosphinylamino group, a silyl group (preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as , Trimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, phenyldimethylsilyl group).

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、p−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。   Among the above substituents, those having a hydrogen atom may be substituted with the above groups after removing this. Examples of such functional groups include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group. Examples thereof include a methylsulfonylaminocarbonyl group, a p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl group, an acetylaminosulfonyl group, and a benzoylaminosulfonyl group.

1は好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環
基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。
R 1 is preferably a halogen atom, alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, hydroxyl group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, cyano group, amino group, more preferably A halogen atom, an alkyl group, a cyano group, and an alkoxy group.

2、R3は各々独立に置換基を表す。例としては上記R1の例があげられる。好ましく
は置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは4位に置換基を有するベンゼン環、4位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
R 2 and R 3 each independently represents a substituent. An example of R 1 is given as an example. Preferred are a substituted or unsubstituted benzene ring and a substituted or unsubstituted cyclohexane ring. More preferred are a benzene ring having a substituent and a cyclohexane ring having a substituent, and more preferred are a benzene ring having a substituent at the 4-position and a cyclohexane ring having a substituent at the 4-position.

4、R5は各々独立に置換基を表す。例としては上記R1の例があげられる。好ましく
は、ハメットの置換基定数σp値が0より大きい電子吸引性の置換基であることが好ましく、σp値が0〜1.5の電子吸引性の置換基を有していることがさらに好ましい。このような置換基としてはトリフルオロメチル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。また、R4とR5とが結合して環を形成してもよい。
なお、ハメットの置換基定数のσp、σmに関しては、例えば、稲本直樹著「ハメット則−構造と反応性−」(丸善)、日本化学会編「新実験化学講座14 有機化合物の合成と反応V」2605頁(丸善)、仲谷忠雄著「理論有機化学解説」217頁(東京化学同人)、ケミカル レビュー,91巻,165〜195頁(1991年)等の成書に詳しく解説されている。
R 4 and R 5 each independently represents a substituent. An example of R 1 is given as an example. Preferably, the Hammett substituent constant σp value is preferably an electron-withdrawing substituent greater than 0, and more preferably has an electron-withdrawing substituent having a σp value of 0 to 1.5. . Examples of such a substituent include a trifluoromethyl group, a cyano group, a carbonyl group, and a nitro group. R4 and R5 may be bonded to form a ring.
As for Hammett's substituent constants σp and σm, for example, Naoki Inamoto's “Hammett's Rule-Structure and Reactivity” (Maruzen), edited by the Chemical Society of Japan, “New Experimental Chemistry Course 14 Synthesis and Reaction of Organic Compounds V” 2605 (Maruzen), Tadao Nakatani “Theoretical Organic Chemistry” 217 (Tokyo Kagaku Dojin), Chemical Review, 91, 165-195 (1991).

1及びA2は各々独立に、−O−、−NR−(Rは水素原子又は置換基)、−S−及び−CO−からなる群から選ばれる基を表す。好ましくは−O−、−NR−(Rは置換基を表し、例としては上記R1の例が挙げられる。)又は−S−である。 A 1 and A 2 each independently represent a group selected from the group consisting of —O—, —NR— (wherein R is a hydrogen atom or a substituent), —S—, and —CO—. Preferred are —O—, —NR— (R represents a substituent, and examples of R 1 are given as examples) or —S—.

Xは第14〜16族の非金属原子を表す。ただし、Xには水素原子又は置換基が結合してもよい。Xは=O、=S、=NR、=C(R)Rが好ましい(ここでRは置換基を表し、例としては上記R1の例が挙げられる。)。
nは0〜2の整数を表し、好ましくは0、1である。
X represents a nonmetallic atom belonging to Groups 14-16. However, a hydrogen atom or a substituent may be bonded to X. X is preferably ═O, ═S, ═NR, ═C (R) R (wherein R represents a substituent, and examples of R 1 are given as examples).
n represents an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1.

前記一般式(I)又は(I')で表される化合物が、重合性基を有していると、光学異方性層の光学特性が熱等によって変動しないので、好ましい。重合性基としては、後述する一般式(III)で表される化合物が有する置換基Qの例示と同様である。なお、前記一般式(I)又は(I')で表される化合物は、例えば、R2及び/又はR3の置換基として重合性基を有していてもよい。 When the compound represented by the general formula (I) or (I ′) has a polymerizable group, it is preferable because the optical properties of the optically anisotropic layer are not changed by heat or the like. As a polymeric group, it is the same as that of illustration of the substituent Q which the compound represented with general formula (III) mentioned later has. The compound represented by the general formula (I) or (I ') may, for example, may have a polymerizable group as a substituent for R 2 and / or R 3.

以下に、一般式(I)又は(I')で表される化合物の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。下記化合物に関しては、指定のない限り括弧( )内の数字にて例示化合物(X)と示す。   Specific examples of the compound represented by the general formula (I) or (I ′) are shown below, but the present invention is not limited to the following specific examples. Regarding the following compounds, unless otherwise specified, the number in parentheses () indicates the exemplified compound (X).

Figure 2007279705
Figure 2007279705

Figure 2007279705
Figure 2007279705

Figure 2007279705
Figure 2007279705

Figure 2007279705
Figure 2007279705

Figure 2007279705
Figure 2007279705

一般式(I)又は(I')で表される化合物の合成は、既知の方法を参照して行うことができる。例えば、例示化合物(1)は、下記スキームに従って合成することができる。   The synthesis of the compound represented by the general formula (I) or (I ′) can be performed with reference to known methods. For example, exemplary compound (1) can be synthesized according to the following scheme.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

前記スキーム中、化合物(1−A)から化合物(1−D)までの合成は、"Journal of Chemical Crystallography"(1997);27(9);p.515−526.に記載の方法を参照して行うことができる。
さらに、前記スキームに示したように、化合物(1−E)のテトラヒドロフラン溶液に、メタンスルホン酸クロライドを加え、N,N−ジイソプロピルエチルアミンを滴下し攪拌した後、N,N−ジイソプロピルエチルアミンを加え、化合物(1−D)のテトラヒドロフラン溶液を滴下し、その後、N,N−ジメチルアミノピリジン(DMAP)のテトラヒドロフラン溶液を滴下することで、例示化合物(1)を得ることができる。
In the scheme, the synthesis from the compound (1-A) to the compound (1-D) is described in “Journal of Chemical Crystallography” (1997); 27 (9); p. 515-526. It can be performed with reference to the method described in 1.
Further, as shown in the above scheme, methanesulfonic acid chloride was added to a tetrahydrofuran solution of the compound (1-E), N, N-diisopropylethylamine was added dropwise and stirred, and then N, N-diisopropylethylamine was added. Exemplary solution (1) can be obtained by adding dropwise a tetrahydrofuran solution of compound (1-D) and then adding a tetrahydrofuran solution of N, N-dimethylaminopyridine (DMAP).

また、前記光学異方性層の形成には、下記一般式(II)で表される化合物を用いるのも好ましい。   For the formation of the optically anisotropic layer, it is also preferable to use a compound represented by the following general formula (II).

Figure 2007279705
式中、MG1及びMG2はそれぞれ独立に、2〜8個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく;MG1及びMG2を構成する環状基の1つは、L11及びL12で置換され;R11、R12、R13、及びR14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり;L11及びL12はそれぞれ独立に、液晶コア部MG1及びMG2に置換する連結基であり、下記式(II)−LA又は式(II)−LBで表され;
Figure 2007279705
In the formula, MG 1 and MG 2 are each independently a liquid crystal core part that induces the expression of a liquid crystal phase composed of 2 to 8 cyclic groups, and the cyclic group constituting the liquid crystal core part is an aromatic group Any of a ring, an aliphatic ring, and a heterocyclic ring; one of the cyclic groups constituting MG 1 and MG 2 is substituted with L 11 and L 12 ; R 11 , R 12 , R 13 , and R 14 Are flexible substituents, dipole action groups, and hydrogen bonding groups that induce the expression of the liquid crystal phase substituted in the molecular long axis direction of the liquid crystal core; L 11 and L 12 are each independently , A linking group substituted for the liquid crystal core parts MG 1 and MG 2 , represented by the following formula (II) -LA or formula (II) -LB;

Figure 2007279705
Figure 2007279705

Figure 2007279705
式中、*はMG1を構成する環状基に置換する位置を表し;#はP1と連結する位置を表し;A11、A13及びA14はそれぞれ独立に、―O−、−NH−、−S−、−CH2−、−CO−、−SO−、又は−SO2−を表し;A12は−CH=又は−N=を表し;L11及びL12の双方が式(II)−LAで表される基の場合、置換基P1は単結合、又は−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し;L11及びL12の一方が、式(II)−LBで表される基で、他方が式(II)−LAで表される基の場合、置換基P1は、*=CH−P11−#、又は*=N−P11−#で表され(*は式(II)−LBで表される基との連結位置を表し、#は式(II)−LAで表される基との連結位置を表す);P11は単結合、又は−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し;L11及びL12の双方が式(II)−LBで表される基の場合、置換基P1は、二重結合、=CH−P11−CH=、=N−P11−CH=、=N−P11−N=を表し;P11は上記P11と同義である。
Figure 2007279705
In the formula, * represents a position substituted with the cyclic group constituting MG 1 ; # represents a position linked to P 1 ; A 11 , A 13 and A 14 are each independently —O—, —NH—. , -S-, -CH 2- , -CO-, -SO-, or -SO 2- ; A 12 represents -CH = or -N =; both L 11 and L 12 are represented by the formula (II ) In the case of a group represented by -LA, the substituent P 1 is a single bond or a divalent group selected from the group consisting of -CH = CH-, -C≡C-, 1,4-phenylene and combinations thereof. In the case where one of L 11 and L 12 is a group represented by the formula (II) -LB and the other is a group represented by the formula (II) -LA, the substituent P 1 is represented by * = CH-P 11 - #, or * = N-P 11 - represented by # (* represents a linking position between the groups of the formula (II) -LB, # in formula (II) -LA Group represented Represents the coupling position); P 11 is a single bond, or a -CH = CH -, - C≡C-, represents a 1,4-phenylene and a divalent linking group selected from the combination; L 11 and L 12 Are both groups represented by the formula (II) -LB, the substituent P 1 is a double bond, ═CH—P 11 —CH═, ═N—P 11 —CH═, ═N—P 11. -N =; P 11 has the same meaning as P 11 above.

前記一般式(II)で表される化合物については、特開2005−289980号公報の[0026]〜[0083]詳細な説明があり、またその例示化合物も同公報の[0085]〜[0098]に例示があり、それらを使用することができる。   The compound represented by the general formula (II) has detailed descriptions [0026] to [0083] of JP-A-2005-289980, and exemplary compounds thereof are also [0085] to [0098] of the same publication. Can be used.

前記一般式(I)又は(II)で表される化合物とともに、順波長分散特性を持つ棒状又は円盤状の液晶性化合物を、光学異方性層の形成に用いてもよい。
順波長分散特性をもつ、棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の反応性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式(VI)で表される棒状液晶性化合物である。
Along with the compound represented by the general formula (I) or (II), a rod-like or discotic liquid crystalline compound having a forward wavelength dispersion characteristic may be used for forming the optically anisotropic layer.
Examples of rod-like liquid crystalline compounds having forward wavelength dispersion characteristics include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, and cyano-substituted phenylpyrimidines. , Alkoxy-substituted phenylpyrimidines, phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used. Not only the above low-molecular liquid crystalline compounds but also high-molecular liquid crystalline compounds can be used. The polymer liquid crystalline compound is a polymer compound obtained by polymerizing a rod-like liquid crystalline compound having a low molecular reactive group. The rod-like liquid crystalline compound having a low-molecular reactive group that is particularly preferably used is a rod-like liquid crystalline compound represented by the following general formula (VI).

一般式(VI):Q61−L61−A61−L63−M−L64−A62−L62−Q62
式中、Q61及びQ62はそれぞれ独立に、反応性基であり、L61、L62、L63及びL64はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、L63及びL64の少なくとも一方は、−O−CO−O−が好ましい。A61及びA62はそれぞれ独立に、炭素原子数2〜20のスペーサ基を表す。Mはメソゲン基を表す。
Formula (VI): Q 61 -L 61 -A 61 -L 63 -ML 64 -A 62 -L 62 -Q 62
Wherein each Q 61 and Q 62 are each independently a reactive group, the L 61, L 62, L 63 and L 64 each represent a single bond or a divalent linking group, L 63 and At least one of L 64 is preferably —O—CO—O—. A 61 and A 62 each independently represent a spacer group having 2 to 20 carbon atoms. M represents a mesogenic group.

以下に、上記一般式(VI)で表される反応性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Q61及びQ62は、それぞれ独立に、反応性基である。反応性基の重合反応は、付加重合(開環重合を含む)又は縮合重合であることが好ましい。換言すれば、反応性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な反応性基であることが好ましい。以下に反応性基の例を示す。 Hereinafter, the rod-like liquid crystal compound having a reactive group represented by the general formula (VI) will be described in more detail. In the formula, Q 61 and Q 62 are each independently a reactive group. The polymerization reaction of the reactive group is preferably addition polymerization (including ring-opening polymerization) or condensation polymerization. In other words, the reactive group is preferably a reactive group capable of an addition polymerization reaction or a condensation polymerization reaction. Examples of reactive groups are shown below.

Figure 2007279705
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61、L62、L63及びL64で表される二価の連結基としては、−O−、−S−、−CO−、−NR62−、−CO−O−、−O−CO−O−、−CO−NR62−、−NR62−CO−、−O−CO−、−O−CO−NR62−、−NR62−CO−O−、及びNR62−CO−NR62−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記R62は炭素原子数が1〜7のアルキル基又は水素原子である。この場合、L63及びL64の少なくとも一方は、−O−CO−O−(カーボネート基)である。前記式(VI)中、Q61−L61及びQ62−L62−は、CH2=CH−CO−O−、CH2=C(CH3)−CO−O−及びCH2=C(Cl)−CO−O−CO−O−が好ましく、CH2=CH−CO−O−が最も好ましい。 Examples of the divalent linking group represented by L 61 , L 62 , L 63 and L 64 include —O—, —S—, —CO—, —NR 62 —, —CO—O—, —O—CO. —O—, —CO—NR 62 —, —NR 62 —CO—, —O—CO—, —O—CO—NR 62 —, —NR 62 —CO—O—, and NR 62 —CO—NR 62 A divalent linking group selected from the group consisting of-is preferred. R 62 is an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a hydrogen atom. In this case, at least one of L 63 and L 64 is —O—CO—O— (carbonate group). In the formula (VI), Q 61 -L 61 and Q 62 -L 62 -are CH 2 ═CH—CO—O—, CH 2 ═C (CH 3 ) —CO—O—, and CH 2 ═C ( Cl) -CO-O-CO- O- are preferable, CH 2 = CH-CO- O- is most preferable.

61及びA62は、炭素原子数2〜20を有するスペーサ基を表す。炭素原子数2〜12のアルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素)、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。 A 61 and A 62 represent a spacer group having 2 to 20 carbon atoms. An alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, an alkenylene group, and an alkynylene group are preferable, and an alkylene group is particularly preferable. The spacer group is preferably chain-like and may contain oxygen atoms or sulfur atoms that are not adjacent to each other. The spacer group may have a substituent and may be substituted with a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine), a cyano group, a methyl group, or an ethyl group.

Mで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式(VII)で表される基が好ましい。
一般式(VII):−(−W61−L65n−W62
式中、W61及びW62は各々独立して、二価の環状アルキレン基もしくは環状アルケニレン基、二価のアリール基又は二価のヘテロ環基を表し、L65は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式(VI)中、L61〜L64で表される基の具体例、−CH2−O−、及び−O−CH2−が挙げられる。nは1、2又は3を表す。
Examples of the mesogenic group represented by M include all known mesogenic groups. In particular, a group represented by the following general formula (VII) is preferable.
Formula (VII): - (- W 61 -L 65) n -W 62 -
In the formula, each of W 61 and W 62 independently represents a divalent cyclic alkylene group or a cyclic alkenylene group, a divalent aryl group or a divalent heterocyclic group, and L 65 represents a single bond or a linking group. Specific examples of the linking group include specific examples of groups represented by L 61 to L 64 in the formula (VI), —CH 2 —O—, and —O—CH 2 —. n represents 1, 2 or 3.

61及びW62としては、1,4−シクロヘキサンジイル、1,4−フェニレン、ピリミジン−2,5−ジイル、ピリジン−2,5ジイル、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジイル、1,3,4−オキサジアゾール−2,5−ジイル、ナフタレン−2,6−ジイル、ナフタレン−1,5−ジイル、チオフェン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイルが挙げられる。1,4−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。W1及びW2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、シアノ基、炭素原子数1〜10のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基など)、炭素原子数1〜10のアルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基など)、炭素原子数1〜10のアシル基(ホルミル基、アセチル基など)、炭素原子数1〜10のアルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など)、炭素原子数1〜10のアシルオキシ基(アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など)、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。 As W 61 and W 62 , 1,4-cyclohexanediyl, 1,4-phenylene, pyrimidine-2,5-diyl, pyridine-2,5-diyl, 1,3,4-thiadiazole-2,5-diyl, 1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl, naphthalene-2,6-diyl, naphthalene-1,5-diyl, thiophene-2,5-diyl, pyridazine-3,6-diyl . In the case of 1,4-cyclohexanediyl, there are trans isomers and cis isomers, but either isomer may be used, and a mixture in any proportion may be used. More preferably, it is a trans form. W 1 and W 2 may each have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine), a cyano group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), and an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. (Methoxy group, ethoxy group, etc.), C1-10 acyl group (formyl group, acetyl group, etc.), C1-10 alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), carbon atom Examples thereof include an acyloxy group having 1 to 10 (acetyloxy group, propionyloxy group, etc.), nitro group, trifluoromethyl group, difluoromethyl group and the like.

前記一般式(VII)で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。   Preferred examples of the basic skeleton of the mesogen group represented by the general formula (VII) are shown below. These may be substituted with the above substituents.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

以下に、前記一般式(VI)で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、一般式(VI)で表される化合物は、特表平11−513019号公報に記載の方法で合成することができる。   Examples of the compound represented by the general formula (VI) are shown below, but the present invention is not limited thereto. The compound represented by the general formula (VI) can be synthesized by the method described in JP-T-11-513019.

Figure 2007279705
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Figure 2007279705
Figure 2007279705

Figure 2007279705
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順波長分散特性をもつ液晶性化合物の他の態様として、ディスコティック液晶性化合物が挙げられる。前記光学異方性層は、モノマー等の低分子量の液晶性ディスコティック化合物の層又は重合性の液晶性ディスコティック化合物の重合(硬化)により得られるポリマーの層であってもよい。前記ディスコティック(円盤状)化合物の例としては、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physicslett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。上記ディスコティック(円盤状)化合物は、一般的にこれらを分子中心の円盤状の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等の基(L)が放射線状に置換された構造であり、液晶性を示し、一般的にディスコティック液晶とよばれるものが含まれる。ただし、このような分子の集合体が一様に配向した場合は負の一軸性を示すが、この記載に限定されるものではない。また、本発明において、円盤状化合物から形成したとは、最終的にできた物が前記化合物である必要はなく、例えば、前記低分子ディスコティック液晶が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失ったものも含まれる。   Another embodiment of the liquid crystalline compound having forward wavelength dispersion characteristics is a discotic liquid crystalline compound. The optically anisotropic layer may be a layer of a low molecular weight liquid crystal discotic compound such as a monomer or a polymer layer obtained by polymerization (curing) of a polymerizable liquid crystal discotic compound. Examples of the discotic (discotic) compound include C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives described in C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 122, 141 (1985), Physicslett, A, 78, 82 (1990); Kohne et al., Angew. Chem. 96, page 70 (1984) and the cyclohexane derivatives described in J. Am. M.M. Lehn et al. Chem. Commun. , 1794 (1985), J. Am. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc. 116, page 2655 (1994), and azacrown-based and phenylacetylene-based macrocycles. The above discotic (discotic) compounds generally have a discotic nucleus at the center of the molecule, and groups (L) such as linear alkyl groups, alkoxy groups, and substituted benzoyloxy groups are substituted in a radial pattern. In other words, it has liquid crystallinity and generally includes a so-called discotic liquid crystal. However, when such an aggregate of molecules is uniformly oriented, it exhibits negative uniaxiality, but is not limited to this description. Further, in the present invention, it is not necessary that the final product is formed from a discotic compound, for example, the low molecular discotic liquid crystal has a group that reacts with heat, light, or the like. As a result, it may be polymerized or cross-linked by reaction with heat, light, etc., to have a high molecular weight and lose liquid crystallinity.

下記一般式(VIII)で表わされるディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましい。
一般式(VIII): D(−L−P)n
式中、Dは円盤状コアであり、Lは二価の連結基であり、Pは重合性基であり、nは4〜12の整数である。
It is preferable to use a discotic liquid crystalline compound represented by the following general formula (VIII).
Formula (VIII): D (-LP) n
In the formula, D is a discotic core, L is a divalent linking group, P is a polymerizable group, and n is an integer of 4 to 12.

前記式(VIII)中、円盤状コア(D)、二価の連結基(L)及び重合性基(P)の好ましい具体例は、それぞれ、特開2001−4837号公報に記載の(D1)〜(D15)、(L1)〜(L25)、(P1)〜(P18)が挙げられ、同公報に記載される円盤状コア(D)、二価の連結基(L)及び重合性基(P)に関する内容をここに好ましく適用することができる。   In the formula (VIII), preferred specific examples of the discotic core (D), the divalent linking group (L), and the polymerizable group (P) are (D1) described in JP-A No. 2001-4837, respectively. To (D15), (L1) to (L25), (P1) to (P18), and the disk-shaped core (D), divalent linking group (L) and polymerizable group ( The contents regarding P) can be preferably applied here.

上記ディスコティック化合物の好ましい例を下記に示す。   Preferred examples of the discotic compound are shown below.

Figure 2007279705
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Figure 2007279705
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光学異方性層は、前記一般式(I)又は(II)で表される化合物、及び所望により他の液晶性化合物を含有する組成物(例えば塗布液)を、後述する配向層の表面に塗布し、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を熱又は電離放射線の照射により固定することで作製された層であるのが好ましい。液晶性化合物として、反応性基を有する棒状液晶性化合物を用いる場合、二軸性を発現させるためにはコレステリック配向もしくは傾斜角が厚み方向に徐々に変化しながらねじれたハイブリッドコレステリック配向を、偏光照射によって歪ませることが必要である。偏光照射によって配向を歪ませる方法としては、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法(EP1389199 A1)や分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法(特開2002−6138号公報)が挙げられる。   The optically anisotropic layer contains a compound (for example, a coating solution) containing the compound represented by the general formula (I) or (II) and, if desired, another liquid crystal compound on the surface of the alignment layer described later. It is preferably a layer prepared by coating and making the alignment state exhibiting a desired liquid crystal phase, and then fixing the alignment state by irradiation with heat or ionizing radiation. When a rod-like liquid crystal compound having a reactive group is used as the liquid crystal compound, polarized light is applied to the cholesteric alignment or the twisted hybrid cholesteric alignment while the inclination angle gradually changes in the thickness direction in order to develop biaxiality. It is necessary to distort by. As a method for distorting the alignment by irradiation with polarized light, a method using a dichroic liquid crystalline polymerization initiator (EP1389199 A1) or a method using a rod-like liquid crystalline compound having a photoalignable functional group such as a cinnamoyl group in the molecule (special feature). No. 2002-6138).

前記光学異方性層は、一般式(I)又は(II)で表される化合物を、液晶のダイレクタが一方向に揃うように配向させることにより作製してもよい。このような配向は、ラビング配向層もしくは光配向層上にカイラル性のない液晶層を配向させる方法、磁場もしくは電場で配向させる方法、延伸やせん断のような外力を与えて配向させる方法などによって実現できる。   The optically anisotropic layer may be prepared by aligning the compound represented by the general formula (I) or (II) so that the directors of the liquid crystal are aligned in one direction. Such alignment is realized by a method of aligning a non-chiral liquid crystal layer on a rubbing alignment layer or photo-alignment layer, a method of aligning by a magnetic field or an electric field, a method of aligning by applying an external force such as stretching or shearing, etc. it can.

前記一般式(I)又は(II)で表される液晶性化合物は、層中において、水平配向、垂直配向、傾斜配向、及びねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよいが、水平配向、垂直配向、ねじれ配向が好ましく、水平配向が最も好ましい。水平配向については、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が10度未満の配向を意味するものとする。   The liquid crystalline compound represented by the general formula (I) or (II) may be fixed in any orientation state of horizontal orientation, vertical orientation, tilt orientation, and twist orientation in the layer. Orientation, vertical orientation, and twist orientation are preferred, and horizontal orientation is most preferred. The horizontal alignment is not required to be strictly parallel, and in this specification, it means an alignment having an inclination angle of less than 10 degrees with the horizontal plane.

液晶性化合物からなる光学異方性層を2層以上積層する場合、液晶性化合物の組み合わせについては特に限定されず、全て一般式(I)で表される液晶性化合物を利用して形成した層の積層体、全て一般式(II)で表される液晶性化合物を利用して形成した層の積層体、前記一般式(I)の化合物と一般式(II)の化合物とをそれぞれ利用して形成した層の積層体のいずれであってもよい。また、その他、円盤状液晶性化合物を利用して形成した層、及び/又は棒状性液晶性化合物を利用して形成した層との積層体であってもよい。また、各層の配向状態の組み合わせも特に限定されず、同じ配向状態の光学異方性層を積層してもよいし、異なる配向状態の光学異方性層を積層してもよい。   When two or more optically anisotropic layers made of a liquid crystalline compound are laminated, the combination of the liquid crystalline compounds is not particularly limited, and the layers are all formed using the liquid crystalline compound represented by the general formula (I). A laminate of layers formed using a liquid crystalline compound represented by the general formula (II), a compound of the general formula (I) and a compound of the general formula (II), respectively. Any of the laminates of the formed layers may be used. In addition, it may be a laminate of a layer formed using a discotic liquid crystalline compound and / or a layer formed using a rod-shaped liquid crystalline compound. The combination of the alignment states of the layers is not particularly limited, and optically anisotropic layers having the same alignment state may be stacked, or optically anisotropic layers having different alignment states may be stacked.

光学異方性層は、液晶性化合物及び下記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、後述する所定の配向層の上に塗布することで形成することが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。   The optically anisotropic layer is preferably formed by applying a coating liquid containing a liquid crystalline compound and the following polymerization initiator and other additives onto a predetermined alignment layer described later. As a solvent used for preparing the coating solution, an organic solvent is preferably used. Examples of organic solvents include amides (eg, N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg, dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (eg, pyridine), hydrocarbons (eg, benzene, hexane), alkyl halides (eg, , Chloroform, dichloromethane), esters (eg, methyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone), ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Alkyl halides and ketones are preferred. Two or more organic solvents may be used in combination.

[液晶性化合物の配向状態の固定化]
配向させた液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましい。固定化は、

液晶性化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許第2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジン及びフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載)及びオキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書記載)が含まれる。
[Fixation of alignment state of liquid crystalline compounds]
The aligned liquid crystalline compound is preferably fixed while maintaining the alignment state. Immobilization

It is preferable to carry out by a polymerization reaction of a reactive group introduced into the liquid crystal compound. The polymerization reaction includes a thermal polymerization reaction using a thermal polymerization initiator and a photopolymerization reaction using a photopolymerization initiator, and a photopolymerization reaction is more preferable. Examples of the photopolymerization initiator include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ether (described in US Pat. No. 2,448,828), α-hydrocarbon substituted aromatics. Group acyloin compounds (described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), combinations of triarylimidazole dimers and p-aminophenyl ketone (US patents) No. 3549367), acridine and phenazine compounds (JP-A-60-105667, US Pat. No. 4,239,850) and oxadiazole compounds (US Pat. No. 4,221,970).

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2〜10J/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。 It is preferable that the usage-amount of a photoinitiator is 0.01-20 mass% of solid content of a coating liquid, and it is more preferable that it is 0.5-5 mass%. Light irradiation for the polymerization of the liquid crystalline compound is preferably performed using ultraviolet rays. The irradiation energy is preferably 20mJ / cm 2 ~10J / cm 2 , further preferably 100 to 800 mJ / cm 2. In order to accelerate the photopolymerization reaction, light irradiation may be performed under a nitrogen atmosphere or under heating conditions.

前記光学異方性層の形成用組成物中に、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、液晶性化合物の分子を実質的に水平配向させることができる。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶性化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が10度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は0〜5度が好ましく、0〜3度がより好ましく、0〜2度がさらに好ましく、0〜1度が最も好ましい。
以下、下記一般式(1)〜(3)について、順に説明する。
By containing at least one compound represented by the following general formulas (1) to (3) in the composition for forming the optically anisotropic layer, the molecules of the liquid crystalline compound are substantially horizontally aligned. be able to. In the present specification, “horizontal alignment” means that in the case of a rod-like liquid crystal, the molecular long axis and the horizontal plane of the transparent support are parallel, and in the case of a disc-like liquid crystal, the circle of the core of the disc-like liquid crystal compound is used. The horizontal plane of the board and the transparent support is said to be parallel, but it is not required to be strictly parallel, and in this specification, the inclination angle formed by the horizontal plane is less than 10 degrees. And The inclination angle is preferably 0 to 5 degrees, more preferably 0 to 3 degrees, further preferably 0 to 2 degrees, and most preferably 0 to 1 degree.
Hereinafter, the following general formulas (1) to (3) will be described in order.

Figure 2007279705
式中、R1、R2及びR3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、X1、X2及びX3は単結合又は二価の連結基を表す。R1〜R3で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基(中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい)、アリール基(中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい)、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。X1、X2及びX3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−CO−、―NRa−(Raは炭素原子数が1〜5のアルキル基又は水素原子)、−O−、−S−、−SO−、−SO2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−CO−、−NRa−、−O−、−S−及び−SO2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、2〜12であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、6〜10であることが好ましい。
Figure 2007279705
In the formula, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and X 1 , X 2 and X 3 each represent a single bond or a divalent linking group. The substituent represented by each of R 1 to R 3 is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group (more preferably an unsubstituted alkyl group or a fluorine-substituted alkyl group), an aryl group (particularly a fluorine-substituted alkyl). An aryl group having a group is preferred), a substituted or unsubstituted amino group, an alkoxy group, an alkylthio group, and a halogen atom. The divalent linking groups represented by X 1 , X 2 and X 3 are each an alkylene group, an alkenylene group, a divalent aromatic group, a divalent heterocyclic residue, —CO—, —NR a — ( R a is a divalent linking group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a hydrogen atom), —O—, —S—, —SO—, —SO 2 — and combinations thereof. Preferably there is. The divalent linking group is selected from the group consisting of an alkylene group, a phenylene group, —CO—, —NR a —, —O—, —S—, and —SO 2 —. It is more preferable that the divalent linking group is a combination of at least two groups. The alkylene group preferably has 1 to 12 carbon atoms. The alkenylene group preferably has 2 to 12 carbon atoms. The number of carbon atoms of the divalent aromatic group is preferably 6-10.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

式中、Rは置換基を表し、mは0〜5の整数を表す。mが2以上の整数を表す場合、複数個のRは同一でも異なっていてもよい。Rとして好ましい置換基は、R1、R2、及びR3で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。mは、好ましくは1〜3の整数を表し、特に好ましくは2又は3である。 In the formula, R represents a substituent, and m represents an integer of 0 to 5. When m represents an integer greater than or equal to 2, several R may be same or different. Preferred substituents for R are the same as those recited as preferred ranges for the substituents represented by R 1 , R 2 , and R 3 . m preferably represents an integer of 1 to 3, particularly preferably 2 or 3.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

式中、R4、R5、R6、R7、R8及びR9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。R4、R5、R6、R7、R8及びR9でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式(I)におけるR1、R2及びR3で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開2005−99248号公報の段落番号[0092]〜[0096]に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。 In the formula, R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. The substituents represented by R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are each preferably a substituent represented by R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I). It is listed as a thing. As the horizontal alignment agent used in the present invention, the compounds described in paragraphs [0092] to [0096] of JP-A-2005-99248 can be used, and the synthesis method of these compounds is also described in the specification. ing.

前記一般式(1)〜(3)で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の質量の0.01〜20質量%が好ましく、0.01〜10質量%がより好ましく、0.02〜1質量%が特に好ましい。なお、前記一般式(1)〜(3)にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。   The amount of the compound represented by the general formulas (1) to (3) is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass based on the mass of the liquid crystal compound. 02-1 mass% is especially preferable. In addition, the compounds represented by the general formulas (1) to (3) may be used alone or in combination of two or more.

[配向層]
上記した様に、前記光学異方性層の形成には、配向層を利用してもよい。配向層は、一般に透明支持体上又は該透明支持体に塗設された下塗層上に設けられる。配向層は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理された層、無機化合物の斜方蒸着層、及びマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド及びステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法(LB膜)により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。
[Alignment layer]
As described above, an alignment layer may be used to form the optically anisotropic layer. The alignment layer is generally provided on a transparent support or an undercoat layer coated on the transparent support. The alignment layer functions so as to define the alignment direction of the liquid crystal compound provided thereon. The orientation layer may be any layer as long as it can impart orientation to the optically anisotropic layer. Preferred examples of the alignment layer include a layer subjected to a rubbing treatment of an organic compound (preferably a polymer), an oblique deposition layer of an inorganic compound, and a layer having a microgroove, and ω-tricosanoic acid, dioctadecylmethylammonium chloride and stearyl Examples thereof include a cumulative film formed by Langmuir-Blodgett method (LB film) such as methyl acid, or a layer in which a dielectric is oriented by applying an electric field or a magnetic field.

配向層用の有機化合物の例としては、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸/メタクリル酸共重合体、スチレン/マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、スチレン/ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリイミド、ポリスチレン、スチレン誘導体のポリマー、ゼラチン、ポリビルアルコール及びアルキル基(炭素原子数6以上が好ましい)を有するアルキル変性ポリビルアルコールを挙げることができる。   Examples of organic compounds for the alignment layer include polymethyl methacrylate, acrylic acid / methacrylic acid copolymer, styrene / maleimide copolymer, polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide), styrene / vinyltoluene copolymer. , Polymers such as chlorosulfonated polyethylene, nitrocellulose, polyvinyl chloride, chlorinated polyolefin, polyester, polyimide, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polyethylene, polypropylene and polycarbonate, and Examples of the compound include a silane coupling agent. Examples of preferred polymers include polyimide, polystyrene, polymers of styrene derivatives, gelatin, polyvinyl alcohol, and alkyl-modified polyvinyl alcohol having an alkyl group (preferably having 6 or more carbon atoms).

配向層の形成には、ポリマーを使用するのが好ましい。利用可能なポリマーの種類は、液晶性化合物の配向(特に平均傾斜角)に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー(通常の配向用ポリマー)を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セル又は光学補償シートについて種々の文献に記載がある。例えば、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸もしくはポリアクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニルピロリドン、セルロースもしくは変性セルロース等が好ましく用いられる。配向層用素材には液晶性化合物の反応性基と反応できる官能基を有してもよい。反応性基は、側鎖に反応性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては特開平9−152509号公報に記載されており、酸クロライドやカレンズMOI(昭和電工(株)製)を用いて側鎖にアクリル基を導入した変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向層の厚さは0.01〜5μmであることが好ましく、0.05〜2μmであることがさらに好ましい。配向層は酸素遮断膜としての機能を有していてもよい。   A polymer is preferably used for forming the alignment layer. The type of polymer that can be used can be determined according to the orientation (particularly the average tilt angle) of the liquid crystal compound. For example, in order to align the liquid crystalline compound horizontally, a polymer that does not decrease the surface energy of the alignment layer (ordinary alignment polymer) is used. Specific types of polymers are described in various documents about liquid crystal cells or optical compensation sheets. For example, polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol, a copolymer with polyacrylic acid or polyacrylate, polyvinyl pyrrolidone, cellulose, or modified cellulose are preferably used. The alignment layer material may have a functional group capable of reacting with the reactive group of the liquid crystal compound. The reactive group can be introduced by introducing a repeating unit having a reactive group in the side chain or as a substituent of a cyclic group. It is more preferable to use an alignment layer that forms a chemical bond with the liquid crystal compound at the interface. Such an alignment layer is described in JP-A-9-152509, and acid chloride or Karenz MOI (manufactured by Showa Denko KK). The modified polyvinyl alcohol in which an acrylic group is introduced into the side chain by using The thickness of the alignment layer is preferably 0.01 to 5 μm, and more preferably 0.05 to 2 μm. The alignment layer may have a function as an oxygen blocking film.

また、LCDの配向層として広く用いられているポリイミド膜(好ましくはフッ素原子含有ポリイミド)も有機配向層として好ましい。これはポリアミック酸(例えば、日立化成工業(株)製のLQ/LXシリーズ、日産化学(株)製のSEシリーズ等)を支持体面に塗布し、100〜300℃で0.5〜1時間焼成した後、ラビングすることにより得られる。   A polyimide film (preferably fluorine atom-containing polyimide) widely used as an alignment layer for LCD is also preferable as the organic alignment layer. This is a polyamic acid (for example, LQ / LX series manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., SE series manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., etc.) is applied to the support surface and baked at 100 to 300 ° C. for 0.5 to 1 hour. And then obtained by rubbing.

また、前記ラビング処理は、LCDの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を利用することができる。即ち、配向層の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。   Moreover, the rubbing process can utilize a processing method widely adopted as a liquid crystal alignment process of LCD. That is, a method of obtaining the orientation by rubbing the surface of the orientation layer in a certain direction using paper, gauze, felt, rubber, nylon, polyester fiber or the like can be used. In general, it is carried out by rubbing several times using a cloth in which fibers having a uniform length and thickness are flocked on average.

また、無機斜方蒸着膜の蒸着物質としては、SiO2を代表とし、TiO2、ZnO2等の金属酸化物、あるいやMgF2等のフッ化物、さらにAu、Al、等の金属が挙げられる。尚、金属酸化物は、高誘電率のものであれば斜方蒸着物質として用いることができ、上記に限定されるものではない。無機斜方蒸着膜は、蒸着装置を用いて形成することができる。フィルム(支持体)を固定して蒸着するか、あるいは長尺フィルムを移動させて連続的に蒸着することにより無機斜方蒸着膜を形成することができる。 Moreover, as a vapor deposition material for the inorganic oblique vapor deposition film, SiO 2 is representative, and metal oxides such as TiO 2 and ZnO 2 , fluorides such as MgF 2 , and metals such as Au and Al are also exemplified. . The metal oxide can be used as an oblique deposition material as long as it has a high dielectric constant, and is not limited to the above. The inorganic oblique deposition film can be formed using a deposition apparatus. An inorganic oblique vapor deposition film can be formed by fixing the film (support) and performing vapor deposition, or moving the long film and performing continuous vapor deposition.

前記光学異方性層の厚みについては特に制限されないが、薄型化の観点からは、0.1〜20μmであるのが好ましく、0.1〜10μmであるのがより好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular about the thickness of the said optically anisotropic layer, From a viewpoint of thickness reduction, it is preferable that it is 0.1-20 micrometers, and it is more preferable that it is 0.1-10 micrometers.

前記光学異方性層は、塗布法によって、例えば、偏光板用保護フィルム等の表面に、直接形成してもよい。また、以下に説明する転写材料を用いて形成してもよい。即ち、本発明の半透過型液晶表示装置の製造方法の一例として、前記光学異方性層を、転写材料から転写して形成することを含む方法が挙げられる。転写材料を用いて光学異方性層を形成することにより、工程数を軽減して、簡易な方法で良好な表示特性の半透過型液晶表示装置を作製することができる。   The optically anisotropic layer may be directly formed on the surface of a protective film for a polarizing plate, for example, by a coating method. Moreover, you may form using the transfer material demonstrated below. That is, as an example of the method for producing a transflective liquid crystal display device of the present invention, there is a method including forming the optically anisotropic layer by transferring it from a transfer material. By forming an optically anisotropic layer using a transfer material, the number of steps can be reduced, and a transflective liquid crystal display device with good display characteristics can be manufactured by a simple method.

以下、前記光学異方性層を、液晶表示装置内に形成するのに有用な転写材料について説明する。
[転写材料]
本発明に使用可能な転写材料は、図3(a)に示す通り、支持体51と、前記一般式(I)もしくは(II)で表される化合物を含有する、又は前記一般式(I)もしくは(II)で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層52とを少なくとも有する。図3(a)に示す通り、さらに、少なくとも一層の感光性樹脂層53を有しているのが好ましい。感光性樹脂層は、パターニング等の工程を経ない場合であっても、光学異方性層の転写を容易にし、有用である。また、例えば、図3(c)に示す様に、支持体51と光学異方性層52との間には、転写時に相手基板側の凹凸を吸収するためのクッション性のような力学特性コントロールあるいは凹凸追従性付与のための層54を有していてもよいし、また、図3(d)に示す様に、光学異方性層52中の液晶性分子の配向を制御するための配向層として機能する層55が配置されてもよいし、さらに図3(e)に示す様に双方の層を有していてもよい。また、図3(f)に示す様に、感光性樹脂層の表面保護などの目的から、最表面に剥離可能な保護層56を設けてもよい。
Hereinafter, a transfer material useful for forming the optically anisotropic layer in a liquid crystal display device will be described.
[Transfer material]
The transfer material usable in the present invention contains a support 51 and a compound represented by the general formula (I) or (II) as shown in FIG. 3A, or the general formula (I). Or it has at least the optically anisotropic layer 52 containing the polymer containing the repeating unit induced | guided | derived from the compound represented by (II). As shown in FIG. 3A, it is preferable that at least one photosensitive resin layer 53 is further provided. The photosensitive resin layer is useful because it facilitates transfer of the optically anisotropic layer even when it is not subjected to a process such as patterning. Further, for example, as shown in FIG. 3C, between the support 51 and the optically anisotropic layer 52, mechanical property control such as cushioning for absorbing irregularities on the counterpart substrate side during transfer is performed. Alternatively, it may have a layer 54 for imparting unevenness follow-up, and as shown in FIG. 3 (d), an orientation for controlling the orientation of liquid crystalline molecules in the optically anisotropic layer 52. A layer 55 that functions as a layer may be disposed, or both layers may be provided as shown in FIG. Moreover, as shown in FIG.3 (f), you may provide the protective layer 56 which can peel on the outermost surface for the objectives, such as surface protection of the photosensitive resin layer.

[支持体]
本発明でいう転写材料に用いられる支持体は、透明でも不透明でもよく特に限定はない。支持体を構成するポリマーの例には、セルロースエステル(例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート)、ポリオレフィン(例、ノルボルネン系ポリマー)、ポリ(メタ)アクリル酸エステル(例、ポリメチルメタクリレート)、ポリカーボネート、ポリエステル及びポリスルホン、ノルボルネン系ポリマーが含まれる。製造工程において光学特性を検査する目的には、透明支持体は透明で低複屈折の材料が好ましく、低複屈折性の観点からはセルロースエステル及びノルボルネン系が好ましい。市販のノルボルネン系ポリマーとしては、アートン(JSR(株)製)、ゼオネックス、ゼオノア(以上、日本ゼオン(株)製)などを用いることができる。また安価なポリカーボネートやポリエチレンテレフタレート等も好ましく用いられる。
[Support]
The support used for the transfer material in the present invention may be transparent or opaque and is not particularly limited. Examples of the polymer constituting the support include cellulose ester (eg, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate), polyolefin (eg, norbornene polymer), poly (Meth) acrylic acid ester (eg, polymethyl methacrylate), polycarbonate, polyester and polysulfone, and norbornene-based polymer are included. For the purpose of inspecting optical properties in the production process, the transparent support is preferably a transparent and low birefringent material, and cellulose ester and norbornene are preferred from the viewpoint of low birefringence. As a commercially available norbornene-based polymer, Arton (manufactured by JSR Co., Ltd.), Zeonex, Zeonore (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), or the like can be used. Inexpensive polycarbonate, polyethylene terephthalate and the like are also preferably used.

[光学異方性層]
転写材料が有する光学異方性層については、液晶表示装置内に形成される光学異方性層と同様である。但し、転写材料が有する光学異方性層は、光学補償能に充分な光学特性を満足している必要はなく、例えば、転写される過程において実施される露光工程を通じて、光学特性が発現又は変化して、最終的に光学補償に必要な光学特性を示すものであってもよい。
[Optically anisotropic layer]
The optically anisotropic layer included in the transfer material is the same as the optically anisotropic layer formed in the liquid crystal display device. However, the optically anisotropic layer included in the transfer material does not need to satisfy the optical characteristics sufficient for the optical compensation ability. Then, it may finally exhibit optical characteristics necessary for optical compensation.

[感光性樹脂層]
前記転写材料は、感光性樹脂層を有しているのが好ましい。前記感光性樹脂層は、感光性樹脂組成物よりなり、前記感光性樹脂層は、少なくとも(1)アルカリ可溶性樹脂と、(2)モノマー又はオリゴマーと、(3)光重合開始剤又は光重合開始剤系と、を含む樹脂組成物から形成するのが好ましい。
[Photosensitive resin layer]
The transfer material preferably has a photosensitive resin layer. The photosensitive resin layer is made of a photosensitive resin composition, and the photosensitive resin layer includes at least (1) an alkali-soluble resin, (2) a monomer or an oligomer, and (3) a photopolymerization initiator or photopolymerization start. It is preferable to form from the resin composition containing an agent system.

(1)アルカリ可溶性樹脂
前記アルカリ可溶性樹脂(以下、単に「バインダ」ということがある。)としては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭59−53836号公報及び特開昭59−71048号公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等を挙げることができる。また側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げることができ、またこの他にも、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用することができる。また、特に好ましい例として、米国特許第4139391号明細書に記載のベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸との共重合体や、ベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダポリマーは、単独で用いてもよく、或いは通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用してもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は20〜50質量%が一般的であり、25〜45質量%が好ましい。
(1) Alkali-soluble resin The alkali-soluble resin (hereinafter sometimes simply referred to as “binder”) is preferably a polymer having a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in the side chain. Examples thereof include JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-57-36. A methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, a partially esterified maleic acid copolymer as described in JP-A-59-71048 Etc. Moreover, the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain can also be mentioned, In addition to this, what added the cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can also be used preferably. Further, as particularly preferred examples, copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Pat. No. 4,139,391, benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid and other monomers And a multi-component copolymer. The binder polymer having these polar groups may be used alone or in the form of a composition used in combination with a normal film-forming polymer, and the content relative to the total solid content of the colored resin composition 20-50 mass% is common, and 25-45 mass% is preferable.

(2)モノマー又はオリゴマー
前記感光性樹脂層に使用されるモノマー又はオリゴマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を2個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーであることが好ましい。そのようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上の化合物を挙げることができる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート及びフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後(メタ)アクリレート化したもの等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
(2) Monomer or oligomer The monomer or oligomer used in the photosensitive resin layer is preferably a monomer or oligomer that has two or more ethylenically unsaturated double bonds and undergoes addition polymerization by light irradiation. . Examples of such monomers and oligomers include compounds having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure. Examples include monofunctional acrylates and monofunctional methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) ) Acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexane All di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin tri (meth) acrylate; multifunctional such as trimethylolpropane and glycerin Polyfunctional acrylates and polyfunctional methacrylates such as those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to alcohol and then (meth) acrylated can be mentioned.

更に特公昭48−41708号公報、特公昭50−6034号公報及び特開昭51−37193号公報に記載されているウレタンアクリレート類;特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報及び特公昭52−30490号公報に記載されているポリエステルアクリレート類;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
これらの中で、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが好ましい。
また、この他、特開平11−133600号公報に記載の「重合性化合物B」も好適なものとして挙げることができる。
これらのモノマー又はオリゴマーは、単独でも、2種類以上を混合して用いてもよく、着色樹脂組成物の全固形分に対する含有量は5〜50質量%が一般的であり、10〜40質量%が好ましい。
Further, urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-B-50-6034 and JP-A-51-37193; JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 And polyester acrylates described in Japanese Patent Publication No. 52-30490; polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid.
Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are preferable.
In addition, “polymerizable compound B” described in JP-A-11-133600 can also be mentioned as a preferable example.
These monomers or oligomers may be used alone or in admixture of two or more. The content of the colored resin composition with respect to the total solid content is generally 5 to 50% by mass, and 10 to 40% by mass. Is preferred.

(3)光重合開始剤又は光重合開始剤系
前記感光性樹脂層に使用される光重合開始剤又は光重合開始剤系としては、米国特許第2367660号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第2448828号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第2722512号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3046127号明細書及び同第2951758号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第3549367号明細書に記載のトリアリールイミダゾール2量体とp−アミノケトンの組み合わせ、特公昭51−48516号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−s−トリアジン化合物、米国特許第4239850号明細書に記載されているトリハロメチル−トリアジン化合物、米国特許第4212976号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等を挙げることができる。特に、トリハロメチル−s−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリールイミダゾール2量体が好ましい。
また、この他、特開平11−133600号公報に記載の「重合開始剤C」も好適なものとしてあげることができる。
これらの光重合開始剤又は光重合開始剤系は、単独でも、2種類以上を混合して用いてもよいが、特に2種類以上を用いることが好ましい。少なくとも2種の光重合開始剤を用いると、表示特性、特に表示のムラが少なくできる。
着色樹脂組成物の全固形分に対する光重合開始剤又は光重合開始剤系の含有量は、0.5〜20質量%が一般的であり、1〜15質量%が好ましい。
(3) Photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system As the photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system used in the photosensitive resin layer, a vicinal poly disclosed in US Pat. No. 2,367,660 is used. Ketaldonyl compounds, acyloin ether compounds described in US Pat. No. 2,448,828, aromatic acyloin compounds substituted with α-hydrocarbons described in US Pat. No. 2,722,512, US Pat. No. 3,046,127 And a polynuclear quinone compound described in U.S. Pat. No. 2,951,758, a combination of a triarylimidazole dimer described in US Pat. No. 3,549,367 and a p-aminoketone, and a benzoic compound described in JP-B-51-48516 Thiazole compounds and trihalomethyl-s-triazine compounds, US Pat. No. 4,239,850 The listed trihalomethyl - triazine compound include a trihalomethyl oxadiazole compounds described in U.S. Pat. No. 4,212,976. In particular, trihalomethyl-s-triazine, trihalomethyloxadiazole, and triarylimidazole dimer are preferable.
In addition, “polymerization initiator C” described in JP-A-11-133600 can also be mentioned as a preferable example.
These photopolymerization initiators or photopolymerization initiator systems may be used singly or as a mixture of two or more, but it is particularly preferable to use two or more. When at least two kinds of photopolymerization initiators are used, display characteristics, particularly display unevenness, can be reduced.
The content of the photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system with respect to the total solid content of the colored resin composition is generally 0.5 to 20% by mass, and preferably 1 to 15% by mass.

[その他の層]
転写材料の、支持体と光学異方性層の間には、力学特性や凹凸追従性をコントロールするために熱可塑性樹脂層を形成することが好ましい。熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平5−72724号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーVicat法(具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、N−アルコキシメチル化ナイロン、N−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
[Other layers]
It is preferable to form a thermoplastic resin layer between the support and the optically anisotropic layer of the transfer material in order to control the mechanical properties and the unevenness followability. As the component used for the thermoplastic resin layer, organic polymer substances described in JP-A-5-72724 are preferable, and the polymer softening point according to the Viker Vicat method (specifically, the American Material Testing Method ASTM D1 ASTM D1235). It is particularly preferable that the softening point by the measurement method is selected from organic polymer substances having a temperature of about 80 ° C. or less. Specifically, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene copolymers such as ethylene and vinyl acetate or saponified products thereof, ethylene and acrylic acid esters or saponified products thereof, polyvinyl chloride, vinyl chloride and vinyl acetate and saponified products thereof. Vinyl chloride copolymer such as fluoride, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride copolymer, polystyrene, styrene copolymer such as styrene and (meth) acrylic acid ester or saponified product thereof, polyvinyl toluene, vinyl toluene and (meta ) Vinyl toluene copolymer such as acrylic ester or saponified product thereof, poly (meth) acrylic ester, (meth) acrylic ester copolymer such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, vinyl acetate copolymer Combined nylon, copolymer nylon, N-alkoxyme Le nylon, and organic polymeric polyamide resins such as N- dimethylamino nylon.

転写材料においては、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を設けることが好ましい。該中間層としては、特開平5−72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。   In the transfer material, it is preferable to provide an intermediate layer for the purpose of preventing mixing of components during application of a plurality of application layers and during storage after application. As the intermediate layer, it is preferable to use an oxygen-blocking film having an oxygen-blocking function, which is described as “separation layer” in JP-A-5-72724. This reduces the time load and improves productivity. The oxygen barrier film is preferably one that exhibits low oxygen permeability and is dispersed or dissolved in water or an aqueous alkali solution, and can be appropriately selected from known ones. Among these, a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable.

前記熱可塑性樹脂層や前記中間層を、前記配向層と兼用することもできる。特に前記中間層に好ましく用いられるポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンは配向層としても有効であり、中間層と配向層を1層にすることが好ましい。   The thermoplastic resin layer and the intermediate layer can also be used as the alignment layer. In particular, polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone preferably used for the intermediate layer are also effective as an alignment layer, and it is preferable that the intermediate layer and the alignment layer are made into one layer.

樹脂層の上には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護する為に薄い保護フィルムを設けることが好ましい。保護フィルムは仮支持体と同じか又は類似の材料からなってもよいが、樹脂層から容易に分離されねばならない。保護フィルム材料としては例えばシリコン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフルオロエチレンシートが適当である。   A thin protective film is preferably provided on the resin layer in order to protect it from contamination and damage during storage. The protective film may be made of the same or similar material as the temporary support, but must be easily separated from the resin layer. As the protective film material, for example, silicon paper, polyolefin or polytetrafluoroethylene sheet is suitable.

光学異方性層及び感光性樹脂層、及び所望により形成される配向層、熱可塑性樹脂層及び中間層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許第2681294号明細書)により、塗布により形成することができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許第2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。   The optically anisotropic layer and the photosensitive resin layer, and the orientation layer, the thermoplastic resin layer, and the intermediate layer, which are formed as required, are dip coat method, air knife coat method, curtain coat method, roller coat method, wire bar. It can be formed by coating by a coating method, a gravure coating method or an extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). Two or more layers may be applied simultaneously. The simultaneous application method is described in US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).

[転写材料を用いた光学異方性層の形成方法]
本発明でいう転写材料を基板上に転写する方法については特に制限されず、基板上に上記光学異方性層及び感光性樹脂層を同時に転写できれば特に方法は限定されない。例えば、フィルム状に形成した本発明でいう転写材料を、感光性樹脂層面を基板表面側にして、ラミネータを用いて加熱及び/又は加圧したローラー又は平板で圧着又は加熱圧着して、貼り付けることができる。具体的には、特開平7−110575号公報、特開平11−77942号公報、特開2000−334836号公報、特開2002−148794号公報に記載のラミネータ及びラミネート方法が挙げられるが、低異物の観点で、特開平7−110575号公報に記載の方法を用いるのが好ましい。その後、支持体は剥離してもよく、剥離によって露出した光学異方性層表面に、他の層、例えば電極層等を形成してもよい。
[Method of forming optically anisotropic layer using transfer material]
The method for transferring the transfer material on the substrate in the present invention is not particularly limited, and the method is not particularly limited as long as the optically anisotropic layer and the photosensitive resin layer can be simultaneously transferred onto the substrate. For example, the transfer material referred to in the present invention formed in the form of a film is pasted with the photosensitive resin layer surface being the substrate surface side, and is pressure-bonded or heat-pressed with a roller or flat plate heated and / or pressurized using a laminator. be able to. Specific examples include laminators and laminating methods described in JP-A-7-110575, JP-A-11-77942, JP-A-2000-334836, and JP-A-2002-148794. From this point of view, it is preferable to use the method described in JP-A-7-110575. Thereafter, the support may be peeled off, and another layer such as an electrode layer may be formed on the surface of the optically anisotropic layer exposed by peeling.

転写材料を転写する被転写材料である基板については、特に制限されない。例えば、透明基板が用いられ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、或いは、プラスチックフィルム等を挙げることができる。被転写材料はまた透明支持体上にベタの光学異方性層等の層が設けられたものであってもよい。また、被転写材料は、予めカップリング処理を施しておくことにより、感光性樹脂層との密着を良好にすることができる。該カップリング処理としては、特開2000−39033号公報記載の方法が好適に用いられる。尚、特に限定されるわけではないが、基板の膜厚としては、700〜1200μmが一般的に好ましい。
光学異方性層の上に粘着層を設けるのではなく、被転写材料の上に粘着層を設けておいてもよい。
There is no particular limitation on the substrate that is a transfer material to which the transfer material is transferred. For example, a soda glass plate having a silicon oxide film on the surface, a known glass plate such as a low expansion glass, a non-alkali glass, a quartz glass plate, or a plastic film can be used. The material to be transferred may be one in which a layer such as a solid optically anisotropic layer is provided on a transparent support. Moreover, the material to be transferred can be well adhered to the photosensitive resin layer by performing a coupling treatment in advance. As the coupling treatment, a method described in JP 2000-39033 A is preferably used. In addition, although it does not necessarily limit, as a film thickness of a board | substrate, 700-1200 micrometers is generally preferable.
Instead of providing an adhesive layer on the optically anisotropic layer, an adhesive layer may be provided on the material to be transferred.

[その他の構成部材]
本発明の半透過型液晶表示装置が有する、反射層を含む反射領域、透過領域、カラーフィルタ層、及び光学補償層は、従来公知の種々の方法で形成することができる。前記カラーフィルタ層又は光学補償層についても、転写材料を利用して形成してもよい。また、カラーフィルタの製造においては、特開平11−248921号公報、特許3255107号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。また、光学補償層は、前記一般式(VI)で表される棒状液晶性化合物、又は前記一般式(VIII)で表される円盤状液晶性化合物を含有する重合性組成物を、配向膜等の表面に塗布して、液晶性分子を配向させた後、該配向状態に重合により固定して形成するのが好ましい。前記重合性組成物中に用いられる材料、固定化方法、塗布液の調製、配向膜についての具体例は、前記光学異方性層の形成時に用いられる材料及び方法と同様である。
[Other components]
The reflective region including the reflective layer, the transmissive region, the color filter layer, and the optical compensation layer of the transflective liquid crystal display device of the present invention can be formed by various conventionally known methods. The color filter layer or the optical compensation layer may also be formed using a transfer material. In the production of a color filter, as described in JP-A Nos. 11-248921 and 3255107, a base is formed by overlapping colored resin compositions forming a color filter, and a transparent electrode is formed thereon. It is preferable from the viewpoint of cost reduction that the spacers are formed by overlapping the protrusions for split orientation if necessary. In addition, the optical compensation layer may be formed of a polymerizable composition containing the rod-like liquid crystalline compound represented by the general formula (VI) or the discotic liquid crystalline compound represented by the general formula (VIII), an alignment film, or the like. It is preferable that the liquid crystal molecules are aligned and then fixed to the alignment state by polymerization. Specific examples of the material used in the polymerizable composition, the immobilization method, the preparation of the coating solution, and the alignment film are the same as the material and method used in forming the optically anisotropic layer.

[その他の製造方法]
前記光学異方性層を装置内に設ける方法としては、転写材料を用いる以外に次の方法が挙げられる。光学異方性層を設置したい基板上に配向膜を塗布、ラビング後、重合性液晶を含有する塗布、加熱、露光し、光学異方性層を設置する方法、又はガラス基板上に配向膜を塗布、ラビング後、重合性液晶を含有する塗布、加熱、露光し、光学異方性層を形成した後、該光学異方性層を粘着剤あるいは接着剤を介して被転写材料に転写する方法が挙げられる。
[Other manufacturing methods]
Examples of the method for providing the optically anisotropic layer in the apparatus include the following methods in addition to using a transfer material. Applying an alignment film on the substrate on which the optically anisotropic layer is to be placed, rubbing, coating with a polymerizable liquid crystal, heating, exposing, and placing the optically anisotropic layer, or forming an alignment film on the glass substrate Method of coating, rubbing, coating containing polymerizable liquid crystal, heating, exposing to form an optically anisotropic layer, and then transferring the optically anisotropic layer to a material to be transferred via an adhesive or adhesive Is mentioned.

以下に、転写材料を使った液晶表示装置の作製方法について具体例を説明する。以下の例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明でいう趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明でいう範囲は以下の具体例に制限されるものではない。   A specific example of a method for manufacturing a liquid crystal display device using a transfer material will be described below. The materials, reagents, substance amounts and ratios, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention is not limited to the following specific examples.

<実施例1>
(熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1の調製)
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液CU−1として用いた。
──────────────────────────────────――
熱可塑性樹脂層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────――
メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/30/10/5、重量平均分子量=10万、Tg≒70℃) 5.89
スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=65/35、重量平均分子量=1万、Tg≒100℃) 13.74
BPE−500(新中村化学工業(株)製) 9.20
メガファックF−780−F(大日本インキ化学工業(株)社製) 0.55
メタノール 11.22
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 6.43
メチルエチルケトン 52.97
──────────────────────────────────――
<Example 1>
(Preparation of coating liquid CU-1 for thermoplastic resin layer)
The following composition was prepared and filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, and used as a coating liquid CU-1 for alignment layer.
──────────────────────────────────――
Coating liquid composition for thermoplastic resin layer (%)
──────────────────────────────────――
Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 55/30/10/5, weight average molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.) 5.89
Styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 65/35, weight average molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.) 13.74
BPE-500 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 9.20
Megafuck F-780-F (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.55
Methanol 11.22
Propylene glycol monomethyl ether acetate 6.43
Methyl ethyl ketone 52.97
──────────────────────────────────――

(中間層/配向層用塗布液AL−1の調製)
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、中間層/配向層用塗布液AL−1として用いた。
──────────────────────────────────――
中間層/配向層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール(PVA205、クラレ(株)製) 3.21
ポリビニルピロリドン(Luvitec K30、BASF社製) 1.48
蒸留水 52.1
メタノール 43.21
──────────────────────────────────――
(Preparation of coating liquid AL-1 for intermediate layer / alignment layer)
The following composition was prepared, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, and used as the intermediate layer / alignment layer coating solution AL-1.
──────────────────────────────────――
Coating solution composition for intermediate layer / alignment layer (%)
──────────────────────────────────――
Polyvinyl alcohol (PVA205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 3.21
Polyvinylpyrrolidone (Luvitec K30, manufactured by BASF) 1.48
Distilled water 52.1
Methanol 43.21
──────────────────────────────────――

(配向層用塗布液AL−2の調製)
下記の組成物を調製し、孔径30μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液AL−1として用いた。変性ポリビニルアルコールは特開平9−152509号公報記載のものを用いた。
───────────────────────────────────
配向層用塗布液組成 (質量%)
─────────────────────────────────――
変性ポリビニルアルコールAL−1−1 4.01
水 72.89
メタノール 22.83
グルタルアルデヒド(架橋剤) 0.20
クエン酸 0.008
クエン酸モノエチルエステル 0.029
クエン酸ジエチルエステル 0.027
クエン酸トリエチルエステル 0.006
───────────────────────────────────
(Preparation of coating liquid AL-2 for alignment layer)
The following composition was prepared, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, and used as an alignment layer coating liquid AL-1. As the modified polyvinyl alcohol, one described in JP-A-9-152509 was used.
───────────────────────────────────
Coating liquid composition for alignment layer (mass%)
─────────────────────────────────――
Modified polyvinyl alcohol AL-1-1 4.01
Water 72.89
Methanol 22.83
Glutaraldehyde (crosslinking agent) 0.20
Citric acid 0.008
Citric acid monoethyl ester 0.029
Citric acid diethyl ester 0.027
Citric acid triethyl ester 0.006
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Figure 2007279705
Figure 2007279705

(光学異方性層用塗布液LC−Xの調製)
下記の組成物を調製後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液LC−Xとして用いた。
──────────────────────────────────――

光学異方性層用塗布液組成(%)
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LC−X−1 19.16
光重合開始剤
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.57
増感剤(カヤキュアDETX、日本化薬(株)製) 0.19
LC−X−2 0.08
クロロホルム 80.0
──────────────────────────────────――
(Preparation of coating liquid LC-X for optically anisotropic layer)
After preparing the following composition, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm and used as a coating liquid LC-X for an optically anisotropic layer.
──────────────────────────────────――

Coating composition for optically anisotropic layer (%)
──────────────────────────────────――
LC-X-1 19.16
Photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.57
Sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.19
LC-X-2 0.08
Chloroform 80.0
──────────────────────────────────――

Figure 2007279705
Figure 2007279705

(光学異方性層用塗布液LC−1の調製)
下記の組成物を調製後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液LC−1として用いた。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────――
棒状液晶(Paliocolor LC242,BASFジャパン)28.38
水平配向剤(LC−1−1) 0.10
光重合開始剤(LC−1−2) 1.90
メチルエチルケトン 68.00
──────────────────────────────────――
水平配向剤(LC−1−1)はTetrahedron Lett.誌、第43巻、6793頁(2002)に記載の方法準じて合成した。光重合開始剤(LC−1−2)はEP1388538A1,page 21に記載の方法により合成した。
(Preparation of coating liquid LC-1 for optically anisotropic layer)
After preparing the following composition, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm and used as a coating liquid LC-1 for an optically anisotropic layer.
──────────────────────────────────――
Coating composition for optically anisotropic layer (%)
──────────────────────────────────――
Bar-shaped liquid crystal (Paliocolor LC242, BASF Japan) 28.38
Horizontal alignment agent (LC-1-1) 0.10
Photopolymerization initiator (LC-1-2) 1.90
Methyl ethyl ketone 68.00
──────────────────────────────────――
The horizontal alignment agent (LC-1-1) was obtained from Tetrahedron Lett. Synthesized according to the method described in Journal, Vol. 43, page 6793 (2002). The photopolymerization initiator (LC-1-2) was synthesized by the method described in EP1388538A1, page 21.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

(光学補償層用塗布液LC−2の調製)
下記の組成物を調製後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学補償層用塗布液LC−2を調製した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成(%)
──────────────────────────────────――
例示化合物TE−8(R:8、m=4) 32.43
エチレングリコール変性トリメチロールプロパントリアクリレート
(V#360、大阪有機化学工業(株)製) 3.60
セルロースアセテートブチレート
(CAB531−1、イーストマンケミカル社製) 0.72
光重合開始剤
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.08
増感剤(カヤキュアDETX、日本化薬(株)製) 0.36
メチルエチルケトン 61.81
──────────────────────────────────――
(Preparation of coating liquid LC-2 for optical compensation layer)
After preparing the following composition, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare an optical compensation layer coating liquid LC-2.
──────────────────────────────────――
Coating composition for optically anisotropic layer (%)
──────────────────────────────────――
Exemplary Compound TE-8 (R: 8, m = 4) 32.43
Ethylene glycol modified trimethylolpropane triacrylate (V # 360, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 3.60
Cellulose acetate butyrate (CAB531-1, manufactured by Eastman Chemical Co.) 0.72
Photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.08
Sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.36
Methyl ethyl ketone 61.81
──────────────────────────────────――

(感光性樹脂層用塗布液PP−1の調製)
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、感光性樹脂層用塗布液PP−1として用いた。
──────────────────────────────────――
感光性樹脂層用塗布液PP−1組成(質量%)
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=72/28モル比のランダム共重合物
(重量平均分子量3.7万) 5.0
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=78/22モル比のランダム共重合物
(重量平均分子量4.0万) 2.45
KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製) 3.2
ラジカル重合開始剤
(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.75
増感剤(カヤキュアDETX、日本化薬(株)製) 0.25
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 27.0
メチルエチルケトン 53.0
シクロヘキサノン 9.2
メガファックF−176PF(大日本インキ化学工業(株)製) 0.05
──────────────────────────────────――
(Preparation of coating liquid PP-1 for photosensitive resin layer)
After preparing the following composition, it filtered with the polypropylene filter with the hole diameter of 0.2 micrometer, and used as coating liquid PP-1 for photosensitive resin layers.
──────────────────────────────────――
Composition of coating liquid PP-1 for photosensitive resin layer (mass%)
──────────────────────────────────――
Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio (weight average molecular weight 37,000) 5.0
Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 molar ratio (weight average molecular weight 40,000) 2.45
KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 3.2
Radical polymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.75
Sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.25
Propylene glycol monomethyl ether acetate 27.0
Methyl ethyl ketone 53.0
Cyclohexanone 9.2
Megafuck F-176PF (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) 0.05
──────────────────────────────────――

(感光性樹脂層用塗布液PP−K1の調製)
下記の組成物を調製後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、感光性樹脂層用塗布液PP−K1として用いた。調整方法は、まずK顔料分散物、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度24℃(±2℃)で混合して150rpm10分間攪拌し、次いで、表に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ1、ハイドロキノンモノメチルエーテル、DPHA溶液、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシカルボニルメチル)−3−ブロモフェニル]−s−トリアジン、メガファックF−176PFをはかり取り、温度25℃(±2℃)でこの順に添加して、温度40℃(±2℃)で150rpm30分間攪拌することによって得られた。
──────────────────────────────────――
感光性樹脂層用塗布液PP−K1組成(質量%)
──────────────────────────────────――
K顔料分散物 25.0
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA) 8.0
メチルエチルケトン 53.494
バインダ1 9.1
DPHA溶液 4.2
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[4−(N,N−ジエトキシカルボニルメチル)−3−プロモフェニル]−s−トリアジン 0.160
ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.002
メガファックF−176PF(大日本インキ(株)製) 0.044

──────────────────────────────────――
(Preparation of coating solution PP-K1 for photosensitive resin layer)
After the following composition was prepared, it was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm and used as a coating solution PP-K1 for the photosensitive resin layer. The adjustment method is as follows. First, K pigment dispersion and propylene glycol monomethyl ether acetate are weighed, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), stirred at 150 rpm for 10 minutes, and then methyl ethyl ketone, binder 1 and hydroquinone in the amounts shown in the table. Weigh out monomethyl ether, DPHA solution, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonylmethyl) -3-bromophenyl] -s-triazine, MegaFac F-176PF And in this order at a temperature of 25 ° C. (± 2 ° C.) and stirred at 150 rpm for 30 minutes at a temperature of 40 ° C. (± 2 ° C.).
──────────────────────────────────――
Composition for coating liquid PP-K1 for photosensitive resin layer (mass%)
──────────────────────────────────――
K pigment dispersion 25.0
Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 8.0
Methyl ethyl ketone 53.494
Binder 1 9.1
DPHA solution 4.2
2,4-Bis (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonylmethyl) -3-promophenyl] -s-triazine 0.160
Hydroquinone monomethyl ether 0.002
Megafuck F-176PF (Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.044

──────────────────────────────────――

上記表中の組成物は以下の通りである。
[K顔料分散物組成]
──────────────────────────────────――
K顔料分散物組成(%)
──────────────────────────────────――
カーボンブラック(デグッサ社製、Special Black 250)
13.1
5−[3−オキソ−2−[4−[3,5−ビス(3−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル)フェニル]アミノカルボニル]フェニルアゾ]−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン
0.65
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=72/28モル比のランダム共重合物
(重量平均分子量3.7万) 6.72
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 79.53
──────────────────────────────────――
The compositions in the above table are as follows.
[K pigment dispersion composition]
──────────────────────────────────――
K pigment dispersion composition (%)
──────────────────────────────────――
Carbon black (Degussa, Special Black 250)
13.1
5- [3-oxo-2- [4- [3,5-bis (3-diethylaminopropylaminocarbonyl) phenyl] aminocarbonyl] phenylazo] -butyroylaminobenzimidazolone
0.65
Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio (weight average molecular weight 37,000) 6.72
Propylene glycol monomethyl ether acetate 79.53
──────────────────────────────────――

──────────────────────────────────――
バインダ1組成(%)
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=78/22モル比のランダム共重合物
(重量平均分子量4万) 27.0
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 73.0
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
Binder 1 composition (%)
──────────────────────────────────――
Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 molar ratio (weight average molecular weight 40,000) 27.0
Propylene glycol monomethyl ether acetate 73.0
──────────────────────────────────――

──────────────────────────────────――
DPHA溶液組成(%)
──────────────────────────────────――
KAYARAD DPHA(日本化薬(株)製) 76.0
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 24.0
──────────────────────────────────――
──────────────────────────────────――
DPHA solution composition (%)
──────────────────────────────────――
KAYARAD DPHA (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 76.0
Propylene glycol monomethyl ether acetate 24.0
──────────────────────────────────――

(ブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料の作製)
厚さ75μmのロール状ポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1を塗布、乾燥させた。次に、中間層/配向層用塗布液AL−1を塗布、乾燥させた。更に、感光性樹脂組成物PP−K1を塗布、乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が14.6μmの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が1.6μmの中間層と、乾燥膜厚が2.3μmの感光性樹脂層を設け、保護フィルム(厚さ12μmポリプロピレンフィルム)を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層(酸素遮断膜)とブラック(K)の感光性樹脂層とが一体となったブラックマトリクス用感光性樹脂転写材料K−1を作製した。
(Preparation of photosensitive resin transfer material for black matrix)
On the roll-shaped polyethylene terephthalate film temporary support body of thickness 75micrometer, the coating liquid CU-1 for thermoplastic resin layers was apply | coated and dried using the slit-shaped nozzle. Next, the intermediate layer / alignment layer coating solution AL-1 was applied and dried. Furthermore, the photosensitive resin composition PP-K1 was applied and dried, and a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a dry layer were dried on the temporary support. A photosensitive resin layer having a film thickness of 2.3 μm was provided, and a protective film (polypropylene film having a thickness of 12 μm) was pressure-bonded. In this way, a photosensitive resin transfer material K-1 for black matrix in which the temporary support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), and the black (K) photosensitive resin layer were integrated was produced.

[実施例1]
(感光性樹脂転写材料の作製)
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液AL−1を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は14.6μm、配向層は1.6μmであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液LC−Xを#5.5のワイヤーバーコータで塗布し、平面照射型遠赤外線ヒータ(16φ、長さ500mm、0.7kW)で照射しながら125℃3分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した後、空気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の紫外線を照射して光学異方性層を固定化して、厚さ1.9μmの光学異方性層を形成した。
最後に、感光性樹脂組成物PP−1を塗布、乾燥させて0.7μm厚の感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂転写材料RET−1を作製した。
[Example 1]
(Production of photosensitive resin transfer material)
On a polyethylene terephthalate roll film temporary support having a thickness of 75 μm, the coating liquid CU-1 for thermoplastic resin layer was applied and dried using a slit nozzle. Next, the alignment layer coating liquid AL-1 was applied and dried. The film thickness of the thermoplastic resin layer was 14.6 μm, and the alignment layer was 1.6 μm. Subsequently, after rubbing the formed alignment layer, the coating liquid LC-X for optically anisotropic layer was applied thereon with a wire bar coater of # 5.5, and a flat irradiation type far infrared heater (16φ, long After heating and aging at 125 ° C. for 3 minutes while irradiating at 500 mm, 0.7 kW), a layer having a uniform liquid crystal phase is formed, and then an air-cooled metal halide lamp (I Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm in the air. The optically anisotropic layer was fixed by irradiating ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 to form an optically anisotropic layer having a thickness of 1.9 μm.
Finally, the photosensitive resin composition PP-1 was applied and dried to form a photosensitive resin layer having a thickness of 0.7 μm, thereby producing a photosensitive resin transfer material RET-1.

[参考例1]
(感光性樹脂転写材料の作製)
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートロールフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1を塗布、乾燥させた。次に、配向層用塗布液AL−1を塗布、乾燥させた。熱可塑性樹脂層の膜厚は14.6μm、配向層は1.6μmであった。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液LC−1を#3のワイヤーバーコータで塗布し、膜面温度が95℃2分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した。さらに熟成後直ちにこの層に対して、空気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の紫外線を照射して光学異方性層を固定化して、厚さ0.9μmの光学異方性層を形成した。最後に、感光性樹脂組成物PP−1を塗布、乾燥させて1.7μmの感光性樹脂層を形成し、感光性樹脂転写材料RET−2を作製した。
[Reference Example 1]
(Production of photosensitive resin transfer material)
On a polyethylene terephthalate roll film temporary support having a thickness of 75 μm, the coating liquid CU-1 for thermoplastic resin layer was applied and dried using a slit nozzle. Next, the alignment layer coating liquid AL-1 was applied and dried. The film thickness of the thermoplastic resin layer was 14.6 μm, and the alignment layer was 1.6 μm. Subsequently, after rubbing the formed alignment layer, the coating liquid LC-1 for optically anisotropic layer is applied thereon with a # 3 wire bar coater, and the film surface temperature is 95 ° C. for 2 minutes by heating and aging. And a layer having a uniform liquid crystal phase was formed. Further, immediately after aging, this layer was irradiated with ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 400 mJ / cm 2 using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of 160 W / cm in the air. Thus, the optically anisotropic layer was fixed to form an optically anisotropic layer having a thickness of 0.9 μm. Finally, the photosensitive resin composition PP-1 was applied and dried to form a 1.7 μm photosensitive resin layer, thereby producing a photosensitive resin transfer material RET-2.

(位相差測定)
上記実施例1及び参考例1で作製した転写材料のそれぞれを、透明ガラス基板上に転写し、フィルム仮支持体を剥離した後、400mJ/cm2の紫外線を照射し、200℃のオーブンで大気雰囲気中、1時間のベーク処理を行った。室温まで放冷して、位相差板を作製した。それをファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける正面レターデーションReを測定した。R、G、Bそれぞれに対応する波長λとして、650nm、550nm、450nmのレターデーションを測定した。位相差測定結果を以下の表1に示す。
(Phase difference measurement)
Each of the transfer material prepared in Example 1 and Reference Example 1, was transferred to a transparent glass substrate, after removing the film temporary support was irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm 2, air at 200 ° C. in an oven Bake treatment was performed for 1 hour in the atmosphere. The film was allowed to cool to room temperature to prepare a retardation plate. The front retardation Re at an arbitrary wavelength λ was measured by a parallel Nicol method using a fiber spectrometer. Retardations of 650 nm, 550 nm, and 450 nm were measured as wavelengths λ corresponding to R, G, and B, respectively. The phase difference measurement results are shown in Table 1 below.

Figure 2007279705
実施例1の転写材料から形成した光学異方性層は、Re(450)<Re(550)<Re(659)を満足し、ほぼそれぞれの波長に対してλ/4板になっていることが確認できた。
Figure 2007279705
The optically anisotropic layer formed from the transfer material of Example 1 satisfies Re (450) <Re (550) <Re (659), and is a λ / 4 plate for each wavelength. Was confirmed.

[実施例2]
(半透過型LCD1の作製)
実施例2では、図2に示した液晶表示装置1と光学的な構成が同じとされたフルカラーのパネルを作製した。
まず、次の方法により半透過用カラーフィルタ1を作製した。
−ブラック(K)画像の形成−
無アルカリガラス基板を、25℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液(N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.3%水溶液、商品名:KBM−603、信越化学)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で100℃2分加熱した。
前記感光性樹脂転写材料K−1の保護フィルムを剥離後、ラミネータ((株)日立インダストリイズ製(LamicII型))を用い、前記100℃で2分間加熱した基板に、ゴムローラー温度130℃、線圧100N/cm、搬送速度0.4m/分でラミネートした。
保護フィルムを剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(USHIO電機株式会社製UX−1000SM)で、基板とマスク(画像パターンを有す石英露光マスク)をセットした状態で、露光マスクのパターン面と該感光性樹脂層の間の距離を200μmに設定し、露光量70mJ/cm2でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液(2.5%のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名:T−PD1、富士フイルム(株)製)にて30℃50秒、フラットノズル圧力0.04MPaでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
引き続き炭酸Na系現像液(0.06mol/Lの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、1%のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名:T−CD1、富士フイルム(株)製)を用い、コーン型ノズル圧力0.15MPaでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き洗浄剤(燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名:T−SD1、富士フイルム(株)製)を用い、コーン型ノズル圧力0.02MPaでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック(K)の画像を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で500mJ/cm2の光でポスト露光後、220℃、15分熱処理した。
このKの画像を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置により100℃2分加熱した。
[Example 2]
(Production of transflective LCD 1)
In Example 2, a full-color panel having the same optical configuration as that of the liquid crystal display device 1 shown in FIG. 2 was produced.
First, a transflective color filter 1 was produced by the following method.
-Formation of black (K) image-
The alkali-free glass substrate was washed with a rotating brush having nylon hair while spraying a glass detergent solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds by showering, and after washing with pure water shower, silane coupling solution (N-β (aminoethyl)) A 0.3% aqueous solution of γ-aminopropyltrimethoxysilane, trade name: KBM-603, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds with a shower and washed with pure water. This substrate was heated at 100 ° C. for 2 minutes by a substrate preheating apparatus.
After peeling off the protective film of the photosensitive resin transfer material K-1, a substrate heated at 100 ° C. for 2 minutes using a laminator (manufactured by Hitachi Industries (Lamic II type)), a rubber roller temperature of 130 ° C. Lamination was performed at a linear pressure of 100 N / cm and a conveyance speed of 0.4 m / min.
After peeling off the protective film, with the proximity type exposure machine (UXH-1000SM manufactured by USHIO ELECTRIC CO., LTD.) Having an ultra-high pressure mercury lamp, the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) are set and the exposure mask The distance between the pattern surface and the photosensitive resin layer was set to 200 μm, and pattern exposure was performed with an exposure amount of 70 mJ / cm 2 .
Next, with a triethanolamine developer (2.5% triethanolamine-containing, nonionic surfactant-containing, polypropylene-based antifoaming agent, trade name: T-PD1, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), 30 Shower development was performed at 50 ° C. for 50 seconds and a flat nozzle pressure of 0.04 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the oxygen barrier film.
Subsequently, sodium carbonate developer (0.06 mol / L sodium bicarbonate, sodium carbonate of the same concentration, 1% sodium dibutylnaphthalenesulfonate, anionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer contained, trade name: T- Using CD1, manufactured by Fuji Film Co., Ltd., shower development was performed at a cone type nozzle pressure of 0.15 MPa, and the photosensitive resin layer was developed to obtain a patterned pixel.
Subsequently, using a detergent (containing phosphate, silicate, nonionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer, trade name: T-SD1, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), a cone type nozzle pressure of 0.02 MPa Residue removal was performed with a rotating brush having nylon bristles to obtain a black (K) image. Thereafter, the substrate was further post-exposed with light of 500 mJ / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp from the resin layer side, and then heat treated at 220 ° C. for 15 minutes.
The substrate on which the K image was formed was washed again with a brush as described above, and after pure water shower washing, the substrate was heated at 100 ° C. for 2 minutes without using a silane coupling solution.

−レッド(R)グリーン(G)ブルー(B)画素の形成−
FUJIFILM RESEARCH & DEVELOPMENT No.44(1999)の25頁に記載のトランサーシステム(富士フイルム(株)製)を用い、上記ブラックマトリクスを形成した基板上の、RGB画素部に相当する部分に、R、G、Bのカラーフィルタ層を形成した。各色層の厚さは、それぞれ、1.8μm、だった。
-Formation of Red (R) Green (G) Blue (B) Pixels-
FUJIFILM RESEARCH & DEVELOPMENT No. 44 (1999), page 25, using the transer system (manufactured by FUJIFILM Corporation), R, G, B color filters on the portion corresponding to the RGB pixel portion on the substrate on which the black matrix is formed A layer was formed. The thickness of each color layer was 1.8 μm.

(透明電極の形成)
上で作製したカラーフィルタ1の上に、厚さ1000ÅのITO透明電極膜を真空スパッタリング法により形成した。
成膜:真空チャンバー内で10-5Pa程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を240度に加熱、10-1Paのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からITOを飛ばし、1000Åの厚さになるまで堆積させた。
フォトリソグラフ:スピンコート法により、フォトレジスト(東京応化製)を2μmの厚さに均一にコートした。100℃のベーク炉でプリベークを行った後、露光装置で所望のパターンのフォトマスクを使ってパターンを焼きこんだ。露光量と露光時間は設備の最適条件を適宜選んで決定した。露光後の基板を現像液(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド含有:東京応化製)で現像後、120℃のベーク炉でポストベークを行い、残留溶剤を飛ばして形を固定した。次にITOのエッチング液(塩化第2鉄含有:関東化学製)を揺動するシャワーヘッドで吹きかけながらエッチングを行い、ITO膜が十分溶けきったのを確認して、純水シャワーでエッチング液を洗い落とし、乾燥エアーを使った高圧エアナイフで水を切って乾燥させた。次にレジストを剥離した。レジスト剥離液(2−アミノエタノール、NMP含有:東京応化製)をシャワーヘッドで吹きかけながら、ロールブラシをかけてレジストを剥離した。剥離液は、温水シャワーとエアナイフで流して飛ばした。
(Formation of transparent electrode)
On the color filter 1 produced above, an ITO transparent electrode film having a thickness of 1000 mm was formed by vacuum sputtering.
Film formation: After evacuating to about 10 -5 Pa in a vacuum chamber, the substrate is heated to 240 degrees with a heater, plasma discharge is performed in an argon gas atmosphere of 10 -1 Pa, and ITO is blown off from the target surface. , Deposited to a thickness of 1000 mm.
Photolithograph: A photoresist (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was uniformly coated to a thickness of 2 μm by spin coating. After pre-baking in a 100 ° C. baking oven, a pattern was baked using a photomask having a desired pattern in an exposure apparatus. The exposure amount and the exposure time were determined by appropriately selecting the optimum equipment conditions. The exposed substrate was developed with a developer (containing tetramethylammonium hydroxide: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) and post-baked in a baking oven at 120 ° C. to remove the residual solvent and fix the shape. Next, etching is performed while spraying an ITO etchant (containing ferric chloride: manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) with a swinging shower head, confirming that the ITO film has been sufficiently dissolved, and then removing the etchant with a pure water shower. Washed off and dried with a high-pressure air knife using dry air. Next, the resist was peeled off. While spraying a resist stripping solution (containing 2-aminoethanol and NMP: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) with a shower head, the resist was stripped by applying a roll brush. The stripping solution was swept away with a hot water shower and an air knife.

(配向層の形成)
さらにその上にポリイミドの配向膜を設けた。配向材はJSR製ポリイミドAL1254を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に塗布した。塗布後、80℃の雰囲気で15分プリベークを行い、さらに200℃で60分焼成を行った。その結果、膜厚で約0.5umの配向層を得た。この配向膜をラビング装置により配向処理を行った。ラビング布はコットン、回転数500rpm、押しこみ深さ0.3mmとした。
(Formation of alignment layer)
Further, a polyimide alignment film was provided thereon. The alignment material used was polyimide SR1254 made by JSR, and was applied to the region where the pixel electrodes were arranged by roll coating. After coating, prebaking was performed in an atmosphere at 80 ° C. for 15 minutes, and baking was further performed at 200 ° C. for 60 minutes. As a result, an alignment layer having a thickness of about 0.5 μm was obtained. This alignment film was subjected to alignment treatment by a rubbing apparatus. The rubbing cloth was cotton, the rotation speed was 500 rpm, and the indentation depth was 0.3 mm.

(対向側基板)
カラーフィルタ基板と実質的に同じ材質、サイズのガラス基板を準備した。
(Opposite side substrate)
A glass substrate having substantially the same material and size as the color filter substrate was prepared.

(反射パターンの形成)
洗浄:
25℃に調整した純水をシャワーにより吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、乾燥エアーを使ったエアナイフで水を切って乾燥させた。
成膜:
真空スパッタ成膜装置で行った。真空チャンバー内で10-4Pa程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を200度に加熱、10-1Paのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からALを飛ばし、1000Åの厚さになるまで堆積させた。
フォトリソグラフ:
スピンコート法により、フォトレジスト(東京応化製)を2μmの厚さに均一にコートした。100℃のベーク炉でプリベークを行った後、露光装置で所望のパターンのフォトマスクを使ってパターンを焼きこんだ。露光後の基板を現像液(テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド含有:東京応化製)で現像後、120℃のベーク炉でポストベークを行い、残留溶剤を飛ばして形を固定した。次にALのエッチング液(燐酸含有:関東化学製)を揺動するシャワーヘッドで吹きかけながらエッチングを行い、膜が十分溶けきったのを確認して、純水シャワーでエッチング液を洗い落とし、乾燥エアーを使った高圧エアナイフで水を切って乾燥させた。次にレジストを剥離した。レジスト剥離液(2−アミノエタノール、NMP含有:東京応化製)をシャワーヘッドで吹きかけながら、ロールブラシをかけてレジストを剥離した。剥離液は、温水シャワーとエアナイフで流して飛ばした。
(Reflection pattern formation)
Washing:
While pure water adjusted to 25 ° C. was sprayed with a shower, it was washed with a rotating brush having nylon bristles, and dried with an air knife using dry air.
Film formation:
This was performed with a vacuum sputtering film forming apparatus. After evacuating to about 10 -4 Pa in a vacuum chamber, the substrate is heated to 200 degrees with a heater, plasma discharge is performed in an argon gas atmosphere of 10 -1 Pa, and AL is blown off from the target surface. Deposited to thickness.
Photolithograph:
A photoresist (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was uniformly coated to a thickness of 2 μm by spin coating. After pre-baking in a 100 ° C. baking oven, a pattern was baked using a photomask having a desired pattern in an exposure apparatus. The exposed substrate was developed with a developer (containing tetramethylammonium hydroxide: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) and post-baked in a baking oven at 120 ° C. to remove the residual solvent and fix the shape. Next, perform etching while spraying with an AL etching solution (containing phosphoric acid: manufactured by Kanto Chemical) with a swinging shower head, confirm that the film has dissolved completely, wash off the etching solution with a pure water shower, and dry air. The water was dried with a high-pressure air knife using, and dried. Next, the resist was peeled off. While spraying a resist stripping solution (containing 2-aminoethanol and NMP: manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) with a shower head, the resist was stripped by applying a roll brush. The stripping solution was swept away with a hot water shower and an air knife.

(透明電極の形成)
反射層が形成された基板の表面に、ITO透明導電膜を真空スパッタ法で形成した。真空チャンバー内で10-5Pa程度まで真空引きしてから、ヒータで基板を200度に加熱、10-1Paのアルゴンガス雰囲気でプラズマ放電をたてて、ターゲット表面からITOを飛ばし、1000Åの厚さになるまで堆積させた。
(Formation of transparent electrode)
An ITO transparent conductive film was formed by vacuum sputtering on the surface of the substrate on which the reflective layer was formed. After evacuating to about 10 -5 Pa in a vacuum chamber, the substrate is heated to 200 degrees with a heater, plasma discharge is performed in an argon gas atmosphere of 10 -1 Pa, and ITO is blown off from the target surface. Deposited to thickness.

(突起用感光性転写材料の作製)
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体上に熱可塑性樹脂層用塗布液CU−1を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が15μmの熱可塑性樹脂層を設けた。
次に、前記熱可塑性樹脂層上に中間層/配向層用塗布液AL−1を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μmの中間層を設けた。
前記中間層上に、下記の処方からなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が2.5μmの液晶配向制御用突起用感光性樹脂層を設けた。
───────────────────────────────────────
突起用塗布液組成(%)
───────────────────────────────────────
FH−2413F(富士フイルムエレクトロマテリアルズ(株)製)53.3
メチルエチルケトン 46.66
メガファックF−176PF 0.04
───────────────────────────────────────
更に、前記感光性樹脂層表面に厚さ12μmのポリプロピレン製のフィルムをカバーフィルムとして貼り付け、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層、カバーフィルムがこの順に積層された転写材料を作製した。
(Preparation of photosensitive transfer material for protrusions)
A thermoplastic resin layer coating solution CU-1 was applied on a 75 μm thick polyethylene terephthalate film temporary support and dried to provide a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 15 μm.
Next, the intermediate layer / alignment layer coating solution AL-1 was applied on the thermoplastic resin layer and dried to provide an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm.
On the said intermediate | middle layer, the coating liquid which consists of the following prescription was apply | coated and dried, and the photosensitive resin layer for liquid crystal orientation control protrusions with a dry film thickness of 2.5 micrometers was provided.
───────────────────────────────────────
Protrusion coating composition (%)
───────────────────────────────────────
FH-2413F (Fuji Film Electromaterials Co., Ltd.) 53.3
Methyl ethyl ketone 46.66
Mega Fuck F-176PF 0.04
───────────────────────────────────────
Further, a 12 μm-thick polypropylene film is attached to the surface of the photosensitive resin layer as a cover film, and a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, a photosensitive resin layer, and a cover film are laminated in this order on the temporary support. A transfer material was prepared.

(突起の形成)
上で作製した突起用転写材料からカバーフィルムを剥がし、その感光性樹脂層の表面と前記対向基板の透明電極膜を設けた側の表面とを重ね合わせ、ラミネータ((株)日立インダストリイズ製(LamicII型))を用いて、線圧100N/cm、温度130℃、搬送速度2.2m/分の条件下で貼り合わせた。その後、転写材料の仮支持体のみを熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、除去した。この状態では、カラーフィルタ側基板上に、感光性樹脂層、中間層、熱可塑性樹脂層がこの順に積層されている。
次に、最外層である熱可塑性樹脂層の上方に、フォトマスクが感光性樹脂層の表面から100μmの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー70mJ/cm2でプロキシミティー露光した。その後、1%トリエタノールアミン水溶液を、シャワー式現像装置にて30℃で30秒間基板に噴霧して、熱可塑性樹脂層及び中間層を溶解除去した。この段階では、感光性樹脂層は実質的に現像されていなかった。
続いて、0.085mol/Lの炭酸ナトリウムと0.085mol/Lの炭酸水素ナトリウムと1%のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム水溶液を、シャワー式現像装置にて33℃30秒間基板に噴霧しながら現像し、感光性樹脂層の不要部(未硬化部)を現像除去した。すると、カラーフィルタ側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる突起が形成された。次いで、該突起が形成されたカラーフィルタ側基板を240℃下で50分ベークすることにより、カラーフィルタ側基板上に、高さ2.5μm、縦断面形状が蒲鉾様の液晶配向制御用突起を形成することができた。
(Forming protrusions)
The cover film is peeled off from the projection transfer material produced above, and the surface of the photosensitive resin layer and the surface of the counter substrate on which the transparent electrode film is provided are overlaid, and a laminator (manufactured by Hitachi Industries, Ltd.) (Lamic II type)) was used for bonding under conditions of a linear pressure of 100 N / cm, a temperature of 130 ° C., and a conveying speed of 2.2 m / min. Thereafter, only the temporary support of the transfer material was peeled and removed at the interface with the thermoplastic resin layer. In this state, the photosensitive resin layer, the intermediate layer, and the thermoplastic resin layer are laminated in this order on the color filter side substrate.
Next, a proximity exposure machine is placed above the outermost thermoplastic resin layer so that the photomask is at a distance of 100 μm from the surface of the photosensitive resin layer, and an ultrahigh pressure mercury lamp is passed through the photomask. Proximity exposure was performed at an irradiation energy of 70 mJ / cm 2 . Thereafter, a 1% triethanolamine aqueous solution was sprayed onto the substrate at 30 ° C. for 30 seconds with a shower type developing device to dissolve and remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer. At this stage, the photosensitive resin layer was not substantially developed.
Subsequently, 0.085 mol / L sodium carbonate, 0.085 mol / L sodium hydrogen carbonate, and 1% sodium dibutylnaphthalenesulfonate aqueous solution were developed while spraying onto the substrate at 33 ° C. for 30 seconds using a shower type developing device. Then, unnecessary portions (uncured portions) of the photosensitive resin layer were developed and removed. Then, a protrusion made of a photosensitive resin layer patterned into a desired shape was formed on the color filter side substrate. Next, the color filter side substrate on which the protrusions are formed is baked at 240 ° C. for 50 minutes, so that the liquid crystal alignment control protrusions having a height of 2.5 μm and a vertical cross-sectional shape are formed on the color filter side substrate. Could be formed.

(対向側配向層の形成)
透明導電層の上にはカラーフィルタ基板と同様にポリイミド配向層を形成した。配向材はJSR製ポリイミドAL1254を使用し、ロールコート法で画素電極が配置されている領域に選択的に塗布した。塗布後、80℃の雰囲気で15分プリベークを行い、さらに200℃で60分焼成を行った。その結果、膜厚で約0.5umの配向層を得た。この配向膜をラビング装置により配向処理を行った。ラビング布はコットン、回転数500rpm、押しこみ深さ0.3mmの条件とした。ラビング方向は、カラーフィルタ基板の配向方向に対してアンチパラレル方向になるように設定した。
(Formation of facing side alignment layer)
A polyimide alignment layer was formed on the transparent conductive layer in the same manner as the color filter substrate. The alignment material used was polyimide SR1254 made by JSR, and was selectively applied to the region where the pixel electrodes were arranged by a roll coating method. After coating, prebaking was performed in an atmosphere at 80 ° C. for 15 minutes, and baking was further performed at 200 ° C. for 60 minutes. As a result, an alignment layer having a thickness of about 0.5 μm was obtained. This alignment film was subjected to alignment treatment by a rubbing apparatus. The rubbing cloth was made of cotton, a rotation speed of 500 rpm, and an indentation depth of 0.3 mm. The rubbing direction was set to be an anti-parallel direction with respect to the orientation direction of the color filter substrate.

(シールパターンの形成)
対向基板の周囲にシールパターンを形成した。粒子径6.8umのシールスペーサを1.0wt%含有したエポキシ樹脂(日産化学製ストラクトボンドXN−21S)をシールディスペンサ装置で表示領域を囲む所定の領域に液晶の注入口に相当する部分を開いた形で印刷した。これを80℃で30分仮焼きした。
(Seal pattern formation)
A seal pattern was formed around the counter substrate. An epoxy resin containing 1.0 wt% of a seal spacer with a particle diameter of 6.8 μm (Strectbond XN-21S manufactured by Nissan Chemical Industries) is opened with a seal dispenser device in a predetermined area surrounding the display area corresponding to the liquid crystal injection port. I printed it in the form. This was calcined at 80 ° C. for 30 minutes.

(重ね合わせ)
カラーフィルタ基板1と対向基板が正しい位置で重なるように調整した。その状態で0.03MPaの圧力をかけながら、貼り合わされたガラス基板を180℃、60分で熱処理し、シール剤を硬化させ、2枚のガラス基板の積層体を得た。焼成にはバルーンタイプの装置を使用した。
(Overlapping)
The color filter substrate 1 and the counter substrate were adjusted so as to overlap at a correct position. In this state, while applying a pressure of 0.03 MPa, the bonded glass substrate was heat-treated at 180 ° C. for 60 minutes to cure the sealing agent, thereby obtaining a laminate of two glass substrates. A balloon type device was used for firing.

(液晶注入)
このガラス基板積層体に液晶注入装置を使って液晶材を注入した。液晶材は屈折率異方性0.55の棒状ネマチック液晶で、これを液晶皿に入れ、基板積層体とともに真空チャンバー内で10-1Paの真空下で60分保持して脱気した。十分真空に引いた後、シールに設けた注入口の部分を液晶に浸すようにした上で大気圧に戻して180分保持して、ガラス基板の間隙に液晶を満たした。その後、注入装置から基板積層体を取り出し、注入口の部分をUV硬化性のエポキシ接着剤を塗布・硬化して、ECBモードの液晶セルを得た。
(Liquid crystal injection)
A liquid crystal material was injected into the glass substrate laminate using a liquid crystal injection device. In the rod-like nematic liquid crystal of the liquid crystal material refractive index anisotropy 0.55, placed in a liquid crystal dish, and degassed and held 60 minutes under a vacuum of 10 -1 Pa with a vacuum chamber together with the substrate stack. After sufficiently evacuating the vacuum, the portion of the inlet provided in the seal was immersed in the liquid crystal and then returned to atmospheric pressure and held for 180 minutes to fill the gap between the glass substrates with the liquid crystal. Thereafter, the substrate laminate was taken out from the injection device, and a UV curable epoxy adhesive was applied to the injection port portion and cured to obtain an ECB mode liquid crystal cell.

[光学異方性層つき偏光板の作製]
次に、実施例1で作製した転写材料RET−1を、偏光板上に前記感光性樹脂転写材料K−1と同様の工程で転写し、感光性樹脂層の表面から100μmの距離となるようにプロキシミティー露光機を配置し超高圧水銀灯により照射エネルギー100mJ/cm2で露光した。次に、トリエタノールアミン系現像液(2.5%のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名:T−PD1、富士フイルム(株)製)にて30℃50秒、フラットノズル圧力0.04MPaでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で500mJ/cm2の光でポスト露光した。この基板を220℃で50分ベークして、目的の光学異方性層付き偏光板Aが得られた。
[Preparation of polarizing plate with optically anisotropic layer]
Next, the transfer material RET-1 produced in Example 1 is transferred onto the polarizing plate in the same process as the photosensitive resin transfer material K-1, so that the distance from the surface of the photosensitive resin layer is 100 μm. A proximity exposure machine was placed on the surface, and exposure was performed with an ultrahigh pressure mercury lamp at an irradiation energy of 100 mJ / cm 2 . Next, with a triethanolamine developer (2.5% triethanolamine-containing, nonionic surfactant-containing, polypropylene-based antifoaming agent, trade name: T-PD1, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), 30 Shower development was performed at 50 ° C. for 50 seconds and a flat nozzle pressure of 0.04 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the oxygen barrier film.
Thereafter, the substrate was further post-exposed with 500 mJ / cm 2 of light from the resin layer side with an ultrahigh pressure mercury lamp. This substrate was baked at 220 ° C. for 50 minutes to obtain the intended polarizing plate A with an optically anisotropic layer.

(偏光板貼り付け)
この液晶セルの背面側に、残留レターデーション補償用のフィルムとして、位相差38nmの1軸性位相差フィルムを、遅相軸が液晶の配向方向と直交する方向に貼り付け、さらに両面に、偏光板Aを偏光板吸収軸が液晶の配向方向と直交する配置で貼り付けて液晶パネルを得た。
(透過部レターデーション測定)
この液晶セルの透過領域におけるレターデーションを大塚電子製光学材料検査装置(RETS−100)で、電圧無印加の状態でのレターデーション測定を測定したところ、ほぼ265nmであった。
(Polarizing plate pasting)
On the back side of this liquid crystal cell, a uniaxial retardation film having a retardation of 38 nm is attached as a residual retardation compensation film in a direction in which the slow axis is perpendicular to the alignment direction of the liquid crystal, and further polarized light is applied to both surfaces. A plate A was attached in such a manner that the polarizing plate absorption axis was orthogonal to the alignment direction of the liquid crystal to obtain a liquid crystal panel.
(Transmission part retardation measurement)
Retardation in the transmission region of the liquid crystal cell was measured with a Otsuka Electronics optical material inspection device (RETS-100) to measure retardation in a state in which no voltage was applied.

(実施例3:半透過LCD2の作製)
実施例3では、透過部の光学補償板として、支持体上に円盤状液晶性化合物をハイブリッド配向させて、これを重合した透過部用光学補償板を作製し、パネル背面側基板と偏光板の間に配置した。この実施例では、透過部の光学特性に優れると言う効果が期待できる。
(透過部用光学補償板の作製)
《セルロースエステルフィルムの片面ケン化処理》
市販のセルロースアセテートフィルムであるフジタックTD80UF(富士フイルム(株)製、Re=3nm、Rth=50nm)を温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を40℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて14ml/m2で塗布した。そして、110℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター((株)ノリタケカンパニー製)の下に10秒滞留させた後に、同じバーコーターを用いて純水を3ml/m2塗布した。この時のフィルム温度は40℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後、70℃の乾燥ゾーンに2秒滞留させて乾燥した。
────────────────────────────―
アルカリ溶液組成 質量%
────────────────────────────―
水酸化カリウム 4.7
水 14.7
イソプロパノール 64.8
プロピレングリコール 14.8
界面活性剤(SF−1) 1.0
────────────────────────────―
(Example 3: Production of transflective LCD 2)
In Example 3, as the optical compensator for the transmissive part, a disc-shaped liquid crystalline compound was hybrid-aligned on the support, and an optical compensator for the transmissive part obtained by polymerizing this was produced, and between the panel back side substrate and the polarizing plate. Arranged. In this embodiment, an effect that the optical characteristics of the transmission part are excellent can be expected.
(Preparation of optical compensator for transmission part)
《One-sided saponification treatment of cellulose ester film》
A commercially available cellulose acetate film, Fujitac TD80UF (Fuji Film Co., Ltd., Re = 3 nm, Rth = 50 nm) was passed through a dielectric heating roll at a temperature of 60 ° C., and the film surface temperature was raised to 40 ° C. An alkaline solution having the composition shown below was applied at 14 ml / m 2 using a bar coater. Then, after retaining for 10 seconds under a steam far infrared heater (manufactured by Noritake Co., Ltd.) heated to 110 ° C., 3 ml / m 2 of pure water was applied using the same bar coater. The film temperature at this time was 40 degreeC. Next, washing with a fountain coater and draining with an air knife were repeated three times, and then the sample was retained in a drying zone at 70 ° C. for 2 seconds and dried.
─────────────────────────────
Alkaline solution composition
─────────────────────────────
Potassium hydroxide 4.7
Water 14.7
Isopropanol 64.8
Propylene glycol 14.8
Surfactant (SF-1) 1.0
─────────────────────────────

Figure 2007279705
Figure 2007279705

前述の通りに片面ケン化した透明支持体上に配向層用塗布液AL−2を#14のワイヤーバーコータで塗布し、60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥して厚さ1.0μmの配向層を形成した。続いて、形成した配向層をラビング処理した後、その上に光学異方性層用塗布液LC−2を#5のワイヤーバーコータで塗布し、125℃3分間加熱乾燥熟成して均一な液晶相を有する層を形成した後、空気下にて160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して光学異方性層を固定化して、厚さ3.1μmの光学異方性層を形成し、透過部用の光学補償板を作製した。なお、光学異方性層中において円盤状液晶性化合物がハイブリッド配向状態に固定されていたことを確認した。 As described above, the alignment layer coating liquid AL-2 is applied to the transparent support that has been saponified on one side with a # 14 wire bar coater, 60 seconds with warm air at 60 ° C., and 150 seconds with warm air at 90 ° C. By drying, an alignment layer having a thickness of 1.0 μm was formed. Subsequently, after rubbing the formed alignment layer, the coating liquid LC-2 for optically anisotropic layer is coated thereon with a # 5 wire bar coater, and heated and dried at 125 ° C. for 3 minutes to form a uniform liquid crystal. After forming a layer having a phase, ultraviolet rays having an illuminance of 400 mW / cm 2 and an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 were irradiated using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) in the air. Then, the optically anisotropic layer was fixed to form an optically anisotropic layer having a thickness of 3.1 μm, and an optical compensator for the transmission part was produced. It was confirmed that the discotic liquid crystalline compound was fixed in a hybrid alignment state in the optically anisotropic layer.

実施例2と同様の手順でブラック(K)画像の形成及びレッド(R)グリーン(G)ブルー(B)画素とカラーフィルタ基板を形成した。
さらに、実施例2と同様の手順で、透明電極の形成、突起用感光性転写材料の作製、突起の形成、対向側配向層の形成、シールパターンの形成、重ね合わせ、液晶注入までを行った。
A black (K) image was formed and red (R) green (G) blue (B) pixels and a color filter substrate were formed in the same procedure as in Example 2.
Further, in the same procedure as in Example 2, formation of a transparent electrode, production of a photosensitive transfer material for protrusions, formation of protrusions, formation of an opposing alignment layer, formation of a seal pattern, overlay, and liquid crystal injection were performed. .

(透過部補償層の形成)
上記基板背面側に、前記透過部用光学補償板を、光学異方性層を上記基板面に向け、粘着剤を貼り付けた。この時、前記光学補償板のラビング方向と、前記基板のラビング方向は、アンチパラレルとなるようにした。さらに液晶セルの両面に、偏光板Aを偏光板吸収軸が液晶の配向方向と直交する配置で貼り付けて液晶パネルを得た。
(Formation of transmission part compensation layer)
On the back side of the substrate, the optical compensator for the transmission part was attached, and the pressure-sensitive adhesive was pasted with the optically anisotropic layer facing the substrate surface. At this time, the rubbing direction of the optical compensator and the rubbing direction of the substrate were antiparallel. Further, a polarizing plate A was attached to both surfaces of the liquid crystal cell in an arrangement in which the polarizing plate absorption axis was orthogonal to the alignment direction of the liquid crystal to obtain a liquid crystal panel.

(参考例2:比較用半透過LCDの作製)
比較例2でも、液晶表示装置と光学的な構成が同じとされたフルカラーのパネルを作製した。但し、比較のため、参考例1で作製した転写材料RET−2を用いて光学異方性層付き偏光板Bを形成した。
(偏光板貼り付け)
この液晶セルの背面側に、残留レターデーション補償用のフィルムとして、位相差38nmの1軸性位相差フィルムを、遅相軸が液晶の配向方向と直交する方向に貼り付けた。そのさらに両側に光学異方性層つき偏光板B貼り付けて、比較用半透過液晶パネルを得た。
(透過部レターデーション測定)
この液晶セルの透過領域におけるレターデーションを実施例2と同様に測定したところ、ほぼ267nmであった。
Reference Example 2: Production of comparative transflective LCD
Also in Comparative Example 2, a full-color panel having the same optical configuration as that of the liquid crystal display device was produced. However, for comparison, a polarizing plate B with an optically anisotropic layer was formed using the transfer material RET-2 prepared in Reference Example 1.
(Polarizing plate pasting)
On the back side of the liquid crystal cell, a uniaxial retardation film having a retardation of 38 nm was attached as a residual retardation compensation film in a direction in which the slow axis was orthogonal to the alignment direction of the liquid crystal. Further, a polarizing plate B with an optically anisotropic layer was pasted on both sides to obtain a comparative transflective liquid crystal panel.
(Transmission part retardation measurement)
When the retardation in the transmission region of this liquid crystal cell was measured in the same manner as in Example 2, it was approximately 267 nm.

(半透過型LCDのコントラスト評価)
実施例2、3及び参考例2で作製した半透過型LCDのそれぞれを、暗室内に置き、C光源から取り出した平行光を、パネル面に対して5°傾けた方向から入射させ、パネルを白表示(電圧0V)、黒表示(電圧3V)における反射光強度を、輝度計(TOPCOM製 BM5)により測定し、コントラスト値を求めた。さらに正面方向(法線方向)から目視観察した際の色見を合わせて観察した。結果を表2に示す。
(Contrast evaluation of transflective LCD)
Each of the transflective LCDs produced in Examples 2 and 3 and Reference Example 2 was placed in a dark room, and parallel light extracted from the C light source was incident from a direction inclined by 5 ° with respect to the panel surface. The reflected light intensity in white display (voltage 0 V) and black display (voltage 3 V) was measured with a luminance meter (BM5 manufactured by TOPCOM) to obtain a contrast value. Furthermore, the color observation when visually observed from the front direction (normal direction) was also observed. The results are shown in Table 2.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

またこの時の黒表示状態における反射輝度スペクトルを図4に示す。実施例2及び3のLCDは、参考例2のLCDと比較して漏れ光が少なくなっていることが確認できた。   In addition, FIG. 4 shows the reflection luminance spectrum in the black display state at this time. It was confirmed that the LCDs of Examples 2 and 3 had less leakage light than the LCD of Reference Example 2.

また、実施例2及び3のLCDについて、透過部分のコントラスト視野角特性を測定した。
それぞれのLCDを暗室内に置き、C光源をバックライトとして背面から入射させ、パネルを白表示(電圧0V)及び黒表示(電圧3V)させ、それぞれの表示時の透過光を視野角−コントラスト特性測定装置(ELDIM製 EZ−Contrast)により測定した。実施例2のLCDの結果を図5に、実施例3のLCDの結果を図6に示す。円盤状液晶化合物を使った透過部補償層を利用した実施例3の液晶表示装置は、実施例2に比べてより良好な視野角コントラスト特性を示すことが確認できた。
Further, for the LCDs of Examples 2 and 3, the contrast viewing angle characteristics of the transmissive part were measured.
Each LCD is placed in a dark room, C light source is incident from the back as a backlight, the panel is displayed in white (voltage 0V) and black (voltage 3V), and the transmitted light at each display is viewed angle-contrast characteristics It measured with the measuring apparatus (EZ-Contrast made from ELDIM). The result of the LCD of Example 2 is shown in FIG. 5, and the result of the LCD of Example 3 is shown in FIG. It was confirmed that the liquid crystal display device of Example 3 using the transmission part compensation layer using a discotic liquid crystal compound showed better viewing angle contrast characteristics than Example 2.

[実施例4(半透過型VAモード液晶表示装置)]
実施例1の光学異方性層用塗布液LC−1の棒状液晶を、上記例示化合物(110)で表される棒状液晶に、メチルエチルケトンをクロロホルムに変更し、光学異方性層用塗布液LC−3とした。
特開2006−284703号公報の実施例1に記載の縦一軸延伸フィルム(該公報の[0086]に記載の縦一軸延伸フィルム)のかわりに、塗布液LC−3を用いて作製した光学異方性膜Cを用い、それ以外は同様にして実験を行った。その結果、光学異方性膜Cを含む半透過型VAモード液晶表示装置の光漏れが大幅に低減され、カラーシフトもほとんど無いことが分かった。
特開2006−284703号公報の実施例1に記載の膜厚50μmの縦一軸延伸フィルムに対して、光学異方性膜Cは1.9μmであり、大幅に薄膜化することができる。
以下に、塗布液LC−3を用いて作製された光学異方性膜の光学特性を示す。参考のため、参考例で使用した塗布液LC−1の光学特性も併せて示す。
[Example 4 (transflective VA mode liquid crystal display device)]
The rod-like liquid crystal of the coating liquid LC-1 for optically anisotropic layer of Example 1 is changed to the rod-like liquid crystal represented by the above exemplary compound (110), methylethylketone is changed to chloroform, and coating liquid LC for optically anisotropic layer is obtained. -3.
Optical anisotropic produced using coating liquid LC-3 instead of the longitudinal uniaxially stretched film described in Example 1 of JP-A-2006-284703 (the longitudinally uniaxially stretched film described in [0086] of the publication) The experiment was conducted in the same manner except that the conductive film C was used. As a result, it was found that the light leakage of the transflective VA mode liquid crystal display device including the optically anisotropic film C is greatly reduced and there is almost no color shift.
The optically anisotropic film C is 1.9 μm compared to the longitudinally uniaxially stretched film having a thickness of 50 μm described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-284703, and can be greatly thinned.
Below, the optical characteristic of the optical anisotropic film produced using coating liquid LC-3 is shown. For reference, the optical characteristics of the coating liquid LC-1 used in the reference example are also shown.

Figure 2007279705
Figure 2007279705

[実施例5(半透過型TNモード液晶表示装置)]
特開2004−125830号公報の実施例1に記載の第一の光学異方素子として、塗布液LC−3を用いて作製した光学異方性膜Cを用いた以外は、同様の実験を行った。光学異方性膜Cを含む半透過型TN液晶表示装置の光漏れが大幅に低減され、カラーシフトもほとんど無いことが分かった。
Example 5 (Transflective TN Mode Liquid Crystal Display Device)
The same experiment was performed except that the optically anisotropic film C produced using the coating liquid LC-3 was used as the first optical anisotropic element described in Example 1 of JP-A-2004-125830. It was. It has been found that the light leakage of the transflective TN liquid crystal display device including the optically anisotropic film C is greatly reduced and there is almost no color shift.

本発明の半透過型液晶表示装置の一実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of one Embodiment of the transflective liquid crystal display device of this invention. 本発明の半透過型液晶表示装置の他の実施形態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of other embodiment of the transflective liquid crystal display device of this invention. 本発明の半透過型液晶表示装置の作製に使用可能な転写材料のいくつかの例の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of some examples of the transfer material which can be used for preparation of the transflective liquid crystal display device of this invention. 実施例2、3及び参考例2で作製した半透過型液晶表示装置の黒表示時の反射スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the reflection spectrum at the time of black display of the transflective liquid crystal display device produced in Example 2, 3 and Reference Example 2. FIG. 実施例2で作製した半透過型液晶表示装置の透過部のコントラスト視野角特性を示す図である。6 is a diagram showing contrast viewing angle characteristics of a transmission part of a transflective liquid crystal display device manufactured in Example 2. FIG. 実施例3で作製した半透過型液晶表示装置の透過部のコントラスト視野角特性を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing contrast viewing angle characteristics of a transmissive portion of a transflective liquid crystal display device manufactured in Example 3.

符号の説明Explanation of symbols

10 偏光板
11 光学異方性層
12 液晶セル基板
13 対向電極
14 液晶層
15a 透過電極
15b 反射電極
16 液晶セル基板
17 光学異方性層
18 偏光板
19 光学補償層
51 仮支持体
52 光学異方性層
53 感光性樹脂層
54 力学特性制御層
55 配向制御層
56 保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Polarizing plate 11 Optical anisotropic layer 12 Liquid crystal cell substrate 13 Counter electrode 14 Liquid crystal layer 15a Transmission electrode 15b Reflective electrode 16 Liquid crystal cell substrate 17 Optical anisotropic layer 18 Polarizing plate 19 Optical compensation layer 51 Temporary support 52 Optical anisotropic Layer 53 photosensitive resin layer 54 mechanical property control layer 55 orientation control layer 56 protective layer

Claims (10)

下記一般式(I)もしくは(II)で表される化合物を含有する、又は下記一般式(I)もしくは(II)で表される化合物から誘導される繰り返し単位を含むポリマーを含有する光学異方性層を少なくとも一層有することを特徴とする半透過型液晶表示装置:
Figure 2007279705
式中、L1及びL2は各々独立に単結合又は二価の連結基を表し;A1及びA2は各々独立に、−O−、−NR−(Rは水素原子又は置換基を表す)、−S−及び−CO−からなる群から選ばれる基を表し;R1、R2、及びR3は各々独立に置換基を表し;Xは第14〜16族の非金属原子を表し、ただし、Xには水素原子又は置換基が結合してもよく;nは0〜2の整数を表す;
Figure 2007279705
式中、MG1及びMG2はそれぞれ独立に、2〜8個の環状基から構成される液晶相の発現を誘起する液晶コア部であり、液晶コア部を構成する環状基としては、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよく;MG1及びMG2を構成する環状基の1つは、L11及びL12で置換され;R11、R12、R13、及びR14はそれぞれ液晶コア部の分子長軸方向に置換している液晶相の発現を誘起する柔軟性のある置換基、双極子作用基及び水素結合性基であり;L11及びL12はそれぞれ独立に、液晶コア部MG1及びMG2に置換する連結基であり、下記式(II)−LA又は式(II)−LBで表され;
Figure 2007279705
Figure 2007279705
式中、*はMG1を構成する環状基に置換する位置を表し;#はP1と連結する位置を表し;A11、A13及びA14はそれぞれ独立に、―O−、−NH−、−S−、−CH2−、−CO−、−SO−、又は−SO2−を表し;A12は−CH=又は−N=を表し;L11及びL12の双方が式(II)−LAで表される基の場合、置換基P1は単結合、又は−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し;L11及びL12の一方が、式(II)−LBで表される基で、他方が式(II)−LAで表される基の場合、置換基P1は、*=CH−P11−#、又は*=N−P11−#で表され(*は式(II)−LBで表される基との連結位置を表し、#は式(II)−LAで表される基との連結位置を表す);P11は単結合、又は−CH=CH−、−C≡C−、1,4−フェニレン及びこの組み合わせから選ばれる二価の連結基を表し;L11及びL12の双方が式(II)−LBで表される基の場合、置換基P1は、二重結合、=CH−P11−CH=、=N−P11−CH=、=N−P11−N=を表し;P11は上記P11と同義である。
Optical anisotropy containing a compound represented by the following general formula (I) or (II) or a polymer containing a repeating unit derived from a compound represented by the following general formula (I) or (II) A transflective liquid crystal display device comprising at least one conductive layer:
Figure 2007279705
In the formula, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group; A 1 and A 2 each independently represent —O—, —NR— (R represents a hydrogen atom or a substituent). ), -S- and -CO-; R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a substituent; X represents a nonmetallic atom of Groups 14-16 Provided that a hydrogen atom or a substituent may be bonded to X; n represents an integer of 0 to 2;
Figure 2007279705
In the formula, MG 1 and MG 2 are each independently a liquid crystal core part that induces the expression of a liquid crystal phase composed of 2 to 8 cyclic groups, and the cyclic group constituting the liquid crystal core part is an aromatic group Any of a ring, an aliphatic ring, and a heterocyclic ring; one of the cyclic groups constituting MG 1 and MG 2 is substituted with L 11 and L 12 ; R 11 , R 12 , R 13 , and R 14 Are flexible substituents, dipole action groups, and hydrogen bonding groups that induce the expression of the liquid crystal phase substituted in the molecular long axis direction of the liquid crystal core; L 11 and L 12 are each independently , A linking group substituted for the liquid crystal core parts MG 1 and MG 2 , represented by the following formula (II) -LA or formula (II) -LB;
Figure 2007279705
Figure 2007279705
In the formula, * represents a position substituted with the cyclic group constituting MG 1 ; # represents a position linked to P 1 ; A 11 , A 13 and A 14 are each independently —O—, —NH—. , -S-, -CH 2- , -CO-, -SO-, or -SO 2- ; A 12 represents -CH = or -N =; both L 11 and L 12 are represented by the formula (II ) In the case of a group represented by -LA, the substituent P 1 is a single bond or a divalent group selected from the group consisting of -CH = CH-, -C≡C-, 1,4-phenylene and combinations thereof. In the case where one of L 11 and L 12 is a group represented by the formula (II) -LB and the other is a group represented by the formula (II) -LA, the substituent P 1 is represented by * = CH-P 11 - #, or * = N-P 11 - represented by # (* represents a linking position between the groups of the formula (II) -LB, # in formula (II) -LA Group represented Represents the coupling position); P 11 is a single bond, or a -CH = CH -, - C≡C-, represents a 1,4-phenylene and a divalent linking group selected from the combination; L 11 and L 12 Are both groups represented by the formula (II) -LB, the substituent P 1 is a double bond, ═CH—P 11 —CH═, ═N—P 11 —CH═, ═N—P 11. -N =; P 11 has the same meaning as P 11 above.
さらに、少なくとも一層の視野角補償層を有することを特徴とする請求項1に記載の半透過型液晶表示装置。 The transflective liquid crystal display device according to claim 1, further comprising at least one viewing angle compensation layer. 前記光学異方性層が、可視光の波長領域において、波長450nmで測定した位相差△nd(450nm)と、波長550nmで測定した位相差△nd(550nm)と、波長650nmで測定した位相差△nd(650nm)とが、△nd(450nm)<△nd(550nm)<△nd(650nm)を満たすことを特徴とする請求項1又は2に記載の半透過型液晶表示装置。 The optically anisotropic layer has a phase difference Δnd (450 nm) measured at a wavelength of 450 nm, a phase difference Δnd (550 nm) measured at a wavelength of 550 nm, and a phase difference measured at a wavelength of 650 nm in the visible light wavelength region. The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein Δnd (650 nm) satisfies Δnd (450 nm) <Δnd (550 nm) <Δnd (650 nm). 前記光学異方性層が、λ/4板であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the optically anisotropic layer is a λ / 4 plate. 前記光学異方性層が、1軸もしくは2軸性であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 The transflective liquid crystal display device according to any one of claims 1 to 4, wherein the optically anisotropic layer is uniaxial or biaxial. 前記光学異方性層が、異常光線の光学軸を、面内方向に有するか、面に垂直な方向に有する層であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 The optically anisotropic layer is a layer having an optical axis of extraordinary light in an in-plane direction or in a direction perpendicular to the surface. Transflective liquid crystal display device. 一対の透明基板と、該一対の基板間に配置される液晶層とを有し、前記一対の透明基板の一方の表面上に反射層を有し、且つ該透明基板の前記反射層を有する表面に対して反対の表面上に前記視野角補償層を有することを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 A surface having a pair of transparent substrates and a liquid crystal layer disposed between the pair of substrates, having a reflective layer on one surface of the pair of transparent substrates, and having the reflective layer of the transparent substrate The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the viewing angle compensation layer is provided on a surface opposite to the surface. 前記視野角補償層が、円盤状液晶性化合物又は棒状液晶性化合物を含有する重合性組成物を重合して形成された層を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 The said viewing angle compensation layer has a layer formed by superposing | polymerizing the polymeric composition containing a disk shaped liquid crystalline compound or a rod-shaped liquid crystalline compound, The any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned. The transflective liquid crystal display device described. 液晶モードがECB、TN、IPS、VA、又はOCBモードであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 9. The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal mode is an ECB, TN, IPS, VA, or OCB mode. 前記光学異方性層が、転写材料から転写された層であることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の半透過型液晶表示装置。 The transflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the optically anisotropic layer is a layer transferred from a transfer material.
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