JP2007275807A - Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device - Google Patents

Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2007275807A
JP2007275807A JP2006106960A JP2006106960A JP2007275807A JP 2007275807 A JP2007275807 A JP 2007275807A JP 2006106960 A JP2006106960 A JP 2006106960A JP 2006106960 A JP2006106960 A JP 2006106960A JP 2007275807 A JP2007275807 A JP 2007275807A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning direction
main scanning
substrate
liquid
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006106960A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Osamu Kasuga
治 春日
Yuji Iwata
裕二 岩田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2006106960A priority Critical patent/JP2007275807A/en
Publication of JP2007275807A publication Critical patent/JP2007275807A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method and a droplet discharging device capable of avoiding positional deviation of a discharged droplet and thermal damage of a substrate and improving film thickness uniformity of a pattern made from droplets, and to provide a liquid crystal display device using liquid crystal discharged by the droplet discharging device. <P>SOLUTION: An infrared ray heater 41 is formed so as to be extended from a region of a discharging head 40 to the opposite side of a sub scanning direction (Y-arrow direction) when viewed from a main scanning direction (anti X-arrow direction) and is disposed in the main scanning direction of the discharging head 40 when viewed from the sub scanning direction. Accordingly, when the discharging head 40 forms a second scanning region, the boundary region JA between a second liquid film LF2 and a first liquid film LF1 which is precedingly formed adjacently to the second liquid film LF2 is locally heated while following the discharging head 40. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、パターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a pattern forming method, a droplet discharge device, and a liquid crystal display device.

一般的に、液晶表示装置の製造工程には、基板に設けられた吐出領域に液晶材料を吐出し、その吐出領域を対向基板で封止する封止工程がある。この封止工程では、液晶材料の吐出容量を安定させるために、液晶材料を複数の液滴にして吐出するインクジェット法が利用されている。   In general, a manufacturing process of a liquid crystal display device includes a sealing process in which a liquid crystal material is discharged to a discharge region provided on a substrate and the discharge region is sealed with a counter substrate. In this sealing process, in order to stabilize the discharge capacity of the liquid crystal material, an ink jet method is used in which the liquid crystal material is discharged as a plurality of droplets.

インクジェット法は、吐出ヘッドに形成する液状体の界面(メニスカス)を強制的に振動させて液滴を形成する。そのため、高粘度の液状体(例えば、液晶材料)を吐出する場合には、予め液状体の流路を加熱し、液状体の粘度を低下させる(例えば、特許文献1)。これによって、液滴の吐出動作が安定して、液滴の吐出容量が均一になる。
特開2004−347695号公報
In the ink jet method, a liquid material interface (meniscus) formed on a discharge head is forcibly vibrated to form droplets. Therefore, when discharging a highly viscous liquid (for example, liquid crystal material), the flow path of the liquid is heated in advance to reduce the viscosity of the liquid (for example, Patent Document 1). As a result, the droplet discharge operation is stabilized and the droplet discharge capacity becomes uniform.
JP 2004-347695 A

上記インクジェット法では、大型のパターンを形成する場合、吐出ヘッドを複数回にわたって改行走査する。つまり、走査ごとに形成するパターンを改行方向に隣接させて接合し、大型のパターンを形成する。   In the ink jet method, when a large pattern is formed, the ejection head is scanned for line feed multiple times. That is, a pattern formed for each scan is adjacently joined in the line feed direction to form a large pattern.

しかしながら、加熱した液晶材料を液滴にして吐出すると、先行して形成したパターンが時間の経過とともに放冷されて増粘する。そのため、先行して形成したパターンが、後続するパターンと均一に接合できなくなる。この結果、各パターンの境界周辺で膜厚が変動し(改行スジを形成し)、パターンの膜厚均一性を損なう問題を招いていた。   However, when the heated liquid crystal material is discharged as droplets, the pattern formed in advance is allowed to cool over time and thicken. For this reason, the pattern formed in advance cannot be bonded to the subsequent pattern uniformly. As a result, the film thickness fluctuates around the boundary of each pattern (a line feed streak is formed), resulting in a problem that the film thickness uniformity of the pattern is impaired.

こうした問題は、液滴を吐出する工程で、常に基板の全体を加熱し、先行して形成したパターンに粘度を保持させることで回避可能と考えられる。しかし、基板の全体を加熱すると、基板が熱膨張し、液滴の着弾精度を低下させる虞があった。また、基板の加熱時間が長くなり、基板に形成された各種部材(例えば、液晶材料を封入するためのシール部材など)を熱的に損傷させる虞があった。   It is considered that such a problem can be avoided by always heating the entire substrate in the step of discharging droplets and maintaining the viscosity in the pattern formed in advance. However, when the entire substrate is heated, the substrate may thermally expand, which may reduce the landing accuracy of the droplets. In addition, the heating time of the substrate becomes long, and various members (for example, a sealing member for enclosing a liquid crystal material) formed on the substrate may be thermally damaged.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供することである。   The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to avoid positional deviation of the discharged droplets and thermal damage of the substrate, and to improve the film thickness uniformity of the pattern made of the droplets. It is an object to provide an improved pattern forming method, a droplet discharge device, and a liquid crystal display device.

本発明のパターン形成方法は、液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査し、前記基板に対する前記吐出ヘッドの走査領域に前記液状体からなるパターンし、前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査して、複数の前記パターンを副走査方向に沿って隣接させるようにしたパターン形成方法において、前記主走査するときに、前記走査領域に形成したパターンと、前記走査領域に隣接する先行して形成した他のパターンと、の境界周辺を局所的に加熱するようにした。   According to the pattern forming method of the present invention, a discharge head that discharges a liquid material to a substrate as a droplet is main-scanned relative to the substrate along a main scanning direction, and a scan region of the discharge head with respect to the substrate The liquid pattern is formed, and the discharge head is sub-scanned relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction, so that the plurality of patterns are adjacent to each other along the sub-scanning direction. In the pattern forming method, when the main scanning is performed, the periphery of the boundary between the pattern formed in the scanning region and the other pattern formed in advance adjacent to the scanning region is locally heated. I made it.

本発明のパターン形成方法によれば、走査領域に形成したパターンと、同走査領域に隣接する先行して形成した他のパターンとの境界周辺を局所的に加熱させることができる。
よって、基板全体にわたる温度上昇を回避させるとともに、互いに隣接するパターンの境界周辺を同時に低粘度化させることができる。この結果、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、互いに隣接するパターンを均一に接合させることができる。すなわち、液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。
According to the pattern forming method of the present invention, the periphery of the boundary between the pattern formed in the scanning region and the other pattern formed in advance adjacent to the scanning region can be locally heated.
Therefore, it is possible to avoid a temperature rise over the entire substrate and simultaneously reduce the viscosity around the boundary between adjacent patterns. As a result, it is possible to avoid misalignment of the discharged droplets and thermal damage to the substrate, and to uniformly bond adjacent patterns. That is, the film thickness uniformity of the pattern made of droplets can be improved.

また、このパターン形成方法において、前記主走査するときに、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、前記吐出ヘッドの前記主走査方向の反対側に隣接する前記境界周辺を局所的に加熱するようにしてもよい。   In the pattern forming method, when the main scanning is performed, the heated liquid material is discharged as droplets, and the periphery of the boundary adjacent to the opposite side of the discharge head in the main scanning direction is locally provided. You may make it heat.

このパターン形成方法によれば、加熱した液滴の着弾する境界周辺が、液滴の着弾直後に、局所的に昇温する。この結果、互いに隣接するパターンの境界周辺を、より低い加熱量によって効率的に接合させることができる。   According to this pattern forming method, the temperature around the boundary where the heated droplets land is locally increased immediately after the droplets land. As a result, the vicinity of the boundary between adjacent patterns can be efficiently bonded with a lower heating amount.

また、このパターン形成方法において、前記主走査するときに、前記加熱する領域を主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、単位時間あたりに加熱する領域を小さくすることができ、加熱する領域の昇温速度及び降温速度を速くすることができる。よって、境界周辺が、より高い精度で加熱される。この結果、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を、より確実に回避させることができ、かつ液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。
In the pattern forming method, when the main scanning is performed, the region to be heated may be main scanned relative to the substrate along the main scanning direction.
According to this pattern forming method, the area to be heated per unit time can be reduced, and the temperature increase rate and temperature decrease rate of the area to be heated can be increased. Therefore, the periphery of the boundary is heated with higher accuracy. As a result, it is possible to more reliably avoid displacement of the ejected droplets and thermal damage to the substrate, and improve the film thickness uniformity of the pattern made of the droplets.

本発明の液滴吐出装置は、液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査する主走査手段と、前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査する副走査手段と、を備えた液滴吐出装置において、主走査方向から見て前記吐出ヘッドの領域から副走査方向の反対側に延びるように形成されて、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主走査方向の反対側で前記基板と対向するように配設され、前記吐出ヘッドとともに前記基板に対して相対的に主走査及び副走査されて、対向する前記基板側の領域を局所的に加熱する加熱手段を備えた。   A droplet discharge apparatus according to the present invention includes a discharge head that discharges a liquid material to a substrate as droplets, a main scanning unit that performs main scanning relative to the substrate along the main scanning direction of the discharge head, A liquid droplet ejection apparatus comprising: a sub-scanning unit that sub-scans the substrate relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction. Formed so as to extend from the region to the opposite side of the sub-scanning direction, and disposed so as to face the substrate on the opposite side of the main scanning direction of the discharge head when viewed from the sub-scanning direction. Heating means for locally heating a region on the side of the substrate that is opposed to the substrate is subjected to main scanning and sub-scanning relative to the substrate.

本発明の液滴吐出装置によれば、基板に着弾した液滴と、同液滴の副走査方向の反対側に先行して着弾した他の液滴と、が局所的に昇温する。よって、基板全体にわたる温度上昇を回避させるとともに、着弾した液滴と、同液滴の副走査方向の反対側に先行して吐出された他の液滴と、が同時に低粘度化される。この結果、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、副走査方向に隣接する各液滴を均一に接合させることができる。すなわち、接合した液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。   According to the droplet discharge device of the present invention, the temperature of the droplets that have landed on the substrate and the other droplets that landed on the opposite side of the droplet in the sub-scanning direction locally rises. Therefore, temperature rise over the entire substrate is avoided, and the viscosity of the landed droplets and other droplets ejected in advance on the opposite side of the droplets in the sub-scanning direction are simultaneously reduced. As a result, it is possible to avoid misalignment of the discharged droplets and thermal damage of the substrate, and to uniformly bond the droplets adjacent in the sub-scanning direction. That is, it is possible to improve the film thickness uniformity of a pattern made of bonded droplets.

また、この液滴吐出装置において、前記吐出ヘッドは、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、前記加熱手段は、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主査走査方向の反対側に隣接してもよい。   Further, in this droplet discharge device, the discharge head discharges the heated liquid as the droplet, and the heating means is on the opposite side of the main scanning direction of the discharge head as viewed from the sub-scanning direction. It may be adjacent.

この液滴吐出装置によれば、加熱した液状体の着弾直後の液滴と、同液滴の副走査方向の反対側に先行して着弾した他の液滴と、が局所的に昇温する。よって、互いに隣接するパターンの境界周辺を、より低い加熱量によって効率的に接合させることができる。   According to this droplet discharge device, the temperature of the droplet immediately after landing of the heated liquid and the other droplets that landed on the opposite side of the droplet in the sub-scanning direction are locally increased. . Therefore, the periphery of the boundary between adjacent patterns can be efficiently bonded with a lower heating amount.

また、この液滴吐出装置において、前記液状体は、赤外領域の光を吸収する液状体であって、前記加熱手段は、赤外領域の光を照射する赤外線ヒータを備えてもよい。
この液滴吐出装置によれば、赤外線ヒータから照射する赤外線によって、先行吐出された各液滴を非接触で加熱させることができる。よって、各液滴に対する加熱を、より高い
精度で制御させることができる。
In this droplet discharge device, the liquid material may be a liquid material that absorbs light in the infrared region, and the heating unit may include an infrared heater that irradiates light in the infrared region.
According to this droplet discharge device, each of the previously discharged droplets can be heated in a non-contact manner by infrared rays emitted from an infrared heater. Therefore, the heating for each droplet can be controlled with higher accuracy.

また、この液滴吐出装置において、前記液状体は、液晶材料であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、液晶材料からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。
Moreover, in this droplet discharge device, the liquid material may be a liquid crystal material.
According to this droplet discharge apparatus, it is possible to avoid displacement of discharged droplets and thermal damage to the substrate, and to improve the film thickness uniformity of a pattern made of a liquid crystal material.

本発明の液晶表示装置は、上記液滴吐出装置によって吐出された液晶材料を備えた。
本発明の液晶表示装置によれば、膜厚均一性を向上させた液晶材料を備えることができる。
The liquid crystal display device of the present invention includes the liquid crystal material ejected by the droplet ejection device.
According to the liquid crystal display device of the present invention, a liquid crystal material with improved film thickness uniformity can be provided.

以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図9に従って説明する。まず、本発明の液晶表示装置10について説明する。図1は、液晶表示装置10の斜視図であり、図2は、図1のA−A線断面図である。   Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIGS. First, the liquid crystal display device 10 of the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view of the liquid crystal display device 10, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.

図1において、液晶表示装置10は、その下側に、LED11を有した四角板状のバックライト12を備えている。そのバックライト12の上方には、バックライト12と略同じ四角板状に形成され、バックライト12からの光が照射される液晶パネル13が備えられている。   In FIG. 1, the liquid crystal display device 10 includes a square plate-like backlight 12 having LEDs 11 on the lower side thereof. Above the backlight 12, there is provided a liquid crystal panel 13 that is formed in a substantially the same square plate shape as the backlight 12 and is irradiated with light from the backlight 12.

図2において、液晶パネル13は、互いに対向する素子基板14と対向基板15を備えている。素子基板14と対向基板15は、無色透明のガラス基板であって、紫外線光硬化性樹脂からなる四角枠状のシール材16によって貼り合わされている。素子基板14と対向基板15との間の間隙には、液状体としての液晶材料Fからなる液晶層17が形成されている。液晶層17は、本発明の液滴吐出装置によって形成され、その内部に気泡を混在させたり、その表面を凹凸形状にさせたりすることなく、均一に充填されている。この液晶材料Fは、常温における粘度が50cP〜100cPであって、赤外領域の光を吸収して、その粘度を20cP未満に低下させるものである。   In FIG. 2, the liquid crystal panel 13 includes an element substrate 14 and a counter substrate 15 that face each other. The element substrate 14 and the counter substrate 15 are colorless and transparent glass substrates, and are bonded together by a rectangular frame-shaped sealing material 16 made of an ultraviolet light curable resin. A liquid crystal layer 17 made of a liquid crystal material F as a liquid is formed in the gap between the element substrate 14 and the counter substrate 15. The liquid crystal layer 17 is formed by the droplet discharge device of the present invention, and is uniformly filled without mixing bubbles or making the surface uneven. The liquid crystal material F has a viscosity at room temperature of 50 cP to 100 cP, absorbs light in the infrared region, and lowers the viscosity to less than 20 cP.

素子基板14の下面(バックライト12側の側面)には、偏光板や位相差板などからなる光学基板18が貼り合わされている。光学基板18は、バックライト12からの光を直線偏光にして液晶層17に出射する。   An optical substrate 18 made of a polarizing plate, a retardation plate, or the like is bonded to the lower surface (side surface on the backlight 12 side) of the element substrate 14. The optical substrate 18 converts the light from the backlight 12 into linearly polarized light and emits it to the liquid crystal layer 17.

素子基板14の上面(対向基板15側の側面:素子形成面14a)には、図1に示すように、その一方向(X矢印方向)略全幅にわったって延びる複数の走査線Lxが配列されている。各走査線Lxは、それぞれ素子基板14の一側に形成された走査線駆動回路19に電気的に接続され、走査線駆動回路19の生成する走査信号が所定のタイミングで入力される。また、素子形成面14aには、X矢印方向と直交する他方向(Y矢印方向)略全幅にわたって延びる複数のデータ線Lyが配列されている。各データ線Lyは、それぞれ素子基板14の他側に形成されたデータ線駆動回路21に電気的に接続され、データ線駆動回路21の生成するデータ信号が所定のタイミングで入力される。   On the upper surface of the element substrate 14 (side surface on the counter substrate 15 side: element formation surface 14a), as shown in FIG. ing. Each scanning line Lx is electrically connected to a scanning line driving circuit 19 formed on one side of the element substrate 14, and a scanning signal generated by the scanning line driving circuit 19 is input at a predetermined timing. A plurality of data lines Ly extending in the other direction (Y arrow direction) orthogonal to the X arrow direction are arranged on the element formation surface 14a. Each data line Ly is electrically connected to a data line driving circuit 21 formed on the other side of the element substrate 14, and a data signal generated by the data line driving circuit 21 is input at a predetermined timing.

素子形成面14aであって、走査線Lxとデータ線Lyの交差する位置には、対応する走査線Lx及びデータ線Lyに接続されてマトリックス状に配列される複数の画素22が形成されている。各画素22には、それぞれTFTなどの制御素子や、透明導電膜などからなる光透過性の画素電極23が備えられている。各画素22の制御素子は、対応する走査線Lxの線順次走査に基づいて、1本ずつ所定のタイミングで選択されてオン状態になる。各画素電極23には、対応する画素22の制御素子がオン状態になるときに、それぞれ表示データに基づくデータ信号が入力される。   A plurality of pixels 22 connected to the corresponding scanning lines Lx and data lines Ly and arranged in a matrix are formed on the element formation surface 14a at positions where the scanning lines Lx and the data lines Ly intersect. . Each pixel 22 includes a control element such as a TFT and a light transmissive pixel electrode 23 made of a transparent conductive film. The control elements of each pixel 22 are selected one by one at a predetermined timing and turned on based on the line sequential scanning of the corresponding scanning line Lx. A data signal based on display data is input to each pixel electrode 23 when the control element of the corresponding pixel 22 is turned on.

各画素22(各画素電極23)の上側全体には、図2に示すように、配向処理の施された配向膜24が積層されている。配向膜24は、配向性ポリイミドなどの配向性高分子によって形成され、対応する画素電極23の近傍で液晶分子の配向を所定の方向に設定する。   As shown in FIG. 2, an alignment film 24 subjected to an alignment process is stacked on the entire upper side of each pixel 22 (each pixel electrode 23). The alignment film 24 is formed of an alignment polymer such as alignment polyimide, and sets the alignment of liquid crystal molecules in a predetermined direction in the vicinity of the corresponding pixel electrode 23.

対向基板15の上面には、光学基板18からの光と直交する直線偏光の光を外方(図2における上方)に出射する偏光板25が貼り合わされている。その対向基板15の下面(電極形成面15a)全体には、各画素電極23と相対向するように形成された光透過性の導電膜からなる対向電極26が積層されている。対向電極26は、データ線駆動回路21に電気的に接続され、データ線駆動回路21の生成する所定の共通電位が入力される。対向電極26の下面全体には、配向処理の施された配向膜27が積層され、対向電極26の近傍で液晶分子の配向を所定の方向に設定する。   A polarizing plate 25 that emits linearly polarized light orthogonal to the light from the optical substrate 18 outward (upward in FIG. 2) is attached to the upper surface of the counter substrate 15. On the entire lower surface (electrode forming surface 15a) of the counter substrate 15, a counter electrode 26 made of a light-transmitting conductive film formed so as to face each pixel electrode 23 is laminated. The counter electrode 26 is electrically connected to the data line driving circuit 21 and receives a predetermined common potential generated by the data line driving circuit 21. An alignment film 27 that has been subjected to alignment treatment is laminated on the entire lower surface of the counter electrode 26, and the alignment of liquid crystal molecules is set in a predetermined direction in the vicinity of the counter electrode 26.

液晶層17を通過する光の偏光状態は、データ信号が各画素電極23に入力されるときに、各画素電極23と対向電極26との間の電位差に基づいて、画素22ごとに変調される。偏光状態の変調された光は、偏光板25を通過するか否かによって、表示データに基づく画像を液晶パネル13の上側に表示する。   The polarization state of light passing through the liquid crystal layer 17 is modulated for each pixel 22 based on a potential difference between each pixel electrode 23 and the counter electrode 26 when a data signal is input to each pixel electrode 23. . The modulated light in the polarization state displays an image based on the display data on the upper side of the liquid crystal panel 13 depending on whether or not it passes through the polarizing plate 25.

表示される画像は、液晶層17が均一に形成されるため、すなわち各画素電極23と対向電極26との間の距離(セルギャップ)が均一に形成されるため、セルギャップのバラツキに起因した輝度ムラや色ムラなどを来たすことなく、その表示画質を保持する。   In the displayed image, since the liquid crystal layer 17 is formed uniformly, that is, the distance (cell gap) between each pixel electrode 23 and the counter electrode 26 is formed uniformly, this is caused by variations in the cell gap. The display image quality is maintained without causing brightness unevenness or color unevenness.

次に、液晶パネル13の製造方法について図3に従って説明する。図3は、液晶パネル13の製造方法を説明する説明図である。
図3において、まず、4枚の対向基板15を切り出し可能にしたマザー基板MAの一側面(配向膜27側の側面:吐出面MAa)に、ディスペンサ装置などを利用してシール材16を形成する。すなわち、吐出面MAaに形成された各対向基板15に対応する領域の外縁に、それぞれ紫外線光硬化性樹脂からなる四角枠状のシール材16を吐出形成する。各シール材16を形成すると、液滴吐出装置としてのインクジェット装置30を利用して、各シール材16で囲まれた領域(各吐出領域S)に、それぞれ複数の液滴Fbを吐出する。そして、吐出領域Sに着弾した各液滴Fbを接合し、所定容量の液晶材料Fからなる液状膜のパターンを各吐出領域S内に形成する。
Next, a method for manufacturing the liquid crystal panel 13 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a method of manufacturing the liquid crystal panel 13.
In FIG. 3, first, a sealing material 16 is formed on one side surface (side surface on the alignment film 27 side: ejection surface MAa) of the mother substrate MA from which the four counter substrates 15 can be cut out using a dispenser device or the like. . That is, a rectangular frame-shaped sealing material 16 made of an ultraviolet light curable resin is discharged and formed on the outer edge of a region corresponding to each counter substrate 15 formed on the discharge surface MAa. When each sealing material 16 is formed, a plurality of liquid droplets Fb are ejected to regions (each ejection region S) surrounded by each sealing material 16 using an inkjet device 30 as a droplet ejection device. Then, the droplets Fb that have landed on the discharge regions S are joined together, and a liquid film pattern made of a predetermined volume of the liquid crystal material F is formed in each discharge region S.

各吐出領域Sに液晶材料Fのパターンを形成すると、マザー基板MAを減圧雰囲気内に搬送し、マザー基板MAの吐出面MAa側に、4枚の素子基板14を切出し可能にしたマザー基板MBを貼り合わせる。マザー基板MAにマザー基板MBを貼り合わせると、マザー基板MA及びマザー基板MBを大気開放するとともに、各シール材16に紫外線を照射して硬化し、各吐出領域S内に液晶材料Fを封入する。液晶材料Fを封入すると、マザー基板MA及びマザー基板MBをダイシングして、各液晶パネル13を形成する。本実施形態では、この吐出領域SのY矢印方向の幅が吐出幅WSとして定義される。   When the pattern of the liquid crystal material F is formed in each ejection region S, the mother substrate MA is transported in a reduced-pressure atmosphere, and the mother substrate MB on which the four element substrates 14 can be cut out on the ejection surface MAa side of the mother substrate MA. to paste together. When the mother substrate MB is bonded to the mother substrate MA, the mother substrate MA and the mother substrate MB are opened to the atmosphere, and each sealing material 16 is irradiated with ultraviolet rays and cured, and the liquid crystal material F is sealed in each discharge region S. . When the liquid crystal material F is sealed, the mother substrate MA and the mother substrate MB are diced to form each liquid crystal panel 13. In the present embodiment, the width in the Y arrow direction of the discharge region S is defined as the discharge width WS.

次に、液晶材料Fを吐出するためのインクジェット装置30について図4〜図9に従って説明する。図4は、インクジェット装置30を示す斜視図である。
図4において、インクジェット装置30は、直方体形状に形成された基台31を備えている。基台31の上面には、その長手方向(X矢印方向)に沿って延びる一対の案内溝32が形成されている。案内溝32の上方には、案内溝32に沿ってX矢印方向及び反X矢印方向に往動及び復動する主走査手段としての搬送台33が備えられている。本実施形態では、図4において反X矢印方向が主走査方向として定義される。
Next, the ink jet apparatus 30 for discharging the liquid crystal material F will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a perspective view showing the inkjet device 30.
In FIG. 4, the ink jet apparatus 30 includes a base 31 formed in a rectangular parallelepiped shape. A pair of guide grooves 32 extending along the longitudinal direction (X arrow direction) is formed on the upper surface of the base 31. Above the guide groove 32, a transport table 33 is provided as main scanning means that moves forward and backward along the guide groove 32 in the X arrow direction and the counter X arrow direction. In the present embodiment, the anti-X arrow direction in FIG. 4 is defined as the main scanning direction.

搬送台33の上面には、各吐出領域Sを上側にしたマザー基板MAを載置する載置部3
4が形成されている。載置部34は、載置された状態のマザー基板MAを搬送台33に対して位置決め固定し、マザー基板MAをX矢印方向及び反X矢印方向に搬送する。
On the upper surface of the transfer table 33, a placement unit 3 for placing a mother substrate MA with each discharge region S facing upward.
4 is formed. The placement unit 34 positions and fixes the placed mother substrate MA with respect to the transport base 33, and transports the mother substrate MA in the X arrow direction and the counter X arrow direction.

基台31のY矢印方向両側には、門型に形成されたガイド部材35が基台31を跨ぐように架設されている。ガイド部材35の上側には、Y矢印方向に延びる貯留タンク36が配設されている。貯留タンク36は、液晶材料Fを貯留し、下方に配設される吐出ヘッド40に対して、液晶材料Fを所定の圧力で導出する。   On both sides of the base 31 in the Y arrow direction, guide members 35 formed in a gate shape are installed so as to straddle the base 31. A storage tank 36 that extends in the direction of the arrow Y is disposed on the upper side of the guide member 35. The storage tank 36 stores the liquid crystal material F and guides the liquid crystal material F to the discharge head 40 disposed below at a predetermined pressure.

ガイド部材35の下側には、そのY矢印方向略全幅にわたって、Y矢印方向に延びる上下一対のガイドレール37が形成されている。一対のガイドレール37には、ガイドレール37に沿ってY矢印方向及び反Y矢印方向に往動及び復動する副走査手段としてのキャリッジ38が取り付けられている。本実施形態では、図4においてY矢印方向が副走査方向として定義される。   A pair of upper and lower guide rails 37 extending in the Y arrow direction is formed on the lower side of the guide member 35 over substantially the entire width in the Y arrow direction. A carriage 38 is attached to the pair of guide rails 37 as sub-scanning means that moves forward and backward along the guide rails 37 in the directions of the Y arrow and the anti-Y arrow. In the present embodiment, the Y arrow direction in FIG. 4 is defined as the sub-scanning direction.

キャリッジ38の下側には、その反X矢印方向及びX矢印方向に、それぞれ吐出ヘッド40及び加熱手段としての赤外線ヒータ41が搭載されている。図5は、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を下側(マザー基板MA側)から見た斜視図である。図6は、図5のA−A線断面図である。図7及び図8は、マザー基板MAに対する吐出ヘッド40の走査領域を説明するための説明図である。   On the lower side of the carriage 38, an ejection head 40 and an infrared heater 41 as a heating means are mounted in the anti-X arrow direction and the X arrow direction, respectively. FIG. 5 is a perspective view of the ejection head 40 and the infrared heater 41 as viewed from the lower side (mother substrate MA side). 6 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 7 and 8 are explanatory diagrams for explaining the scanning region of the ejection head 40 with respect to the mother substrate MA.

図5において、吐出ヘッド40は、Y矢印方向に延びる直方体形状に形成されている。吐出ヘッド40の下側(マザー基板MA側:図5の上側)には、マザー基板MAと対向するようにノズルプレート42が備えられている。ノズルプレート42は、Y矢印方向に延びる板状に形成されるとともに、そのY矢印方向の幅が、前記吐出幅WSの略半分のサイズで形成されている。本実施形態では、このノズルプレート42のY矢印方向の幅が走査幅WHとして定義される。   In FIG. 5, the ejection head 40 is formed in a rectangular parallelepiped shape extending in the Y arrow direction. A nozzle plate 42 is provided below the discharge head 40 (on the mother substrate MA side: the upper side in FIG. 5) so as to face the mother substrate MA. The nozzle plate 42 is formed in a plate shape extending in the Y arrow direction, and the width in the Y arrow direction is approximately half the size of the ejection width WS. In the present embodiment, the width of the nozzle plate 42 in the Y arrow direction is defined as the scanning width WH.

図5及び図6に示すように、ノズルプレート42の下面(図5の上面)には、マザー基板MA側に露出するノズル形成面42aが形成されている。ノズル形成面42aは、マザー基板MAが吐出ヘッド40の直下に位置するときに、ノズル形成面42aと吐出面MAaとの間の距離(プラテンギャップ)を所定の距離(本実施形態では、1mm)にする。ノズル形成面42aには、Y矢印方向略全幅にわたって、複数のノズルNが等間隔に配列形成されている。各ノズルNは、ノズル形成面42aの法線方向に貫通形成されている。本実施形態では、図6において、マザー基板MAの吐出面MAa上の位置であって、各ノズルNの直下に対応する位置が、それぞれ着弾位置Pとして定義される。   As shown in FIGS. 5 and 6, a nozzle forming surface 42a exposed to the mother substrate MA side is formed on the lower surface of the nozzle plate 42 (upper surface in FIG. 5). When the mother substrate MA is located immediately below the ejection head 40, the nozzle formation surface 42a has a predetermined distance (1 mm in the present embodiment) between the nozzle formation surface 42a and the ejection surface MAa. To. A plurality of nozzles N are arranged on the nozzle forming surface 42a at equal intervals over substantially the entire width in the Y arrow direction. Each nozzle N is formed to penetrate in the normal direction of the nozzle forming surface 42a. In the present embodiment, in FIG. 6, positions on the ejection surface MAa of the mother substrate MA that correspond to the positions immediately below the nozzles N are defined as landing positions P, respectively.

この吐出ヘッド40の外周には、ヘッドヒータ43が配設されている。ヘッドヒータ43は、貯留タンク36からの液晶材料Fを所定の温度(本実施形態では60℃)まで加熱し、低粘度化した(本実施形態では、粘度を20cPに低下した)液晶材料Fを吐出ヘッド40に供給する。   A head heater 43 is disposed on the outer periphery of the discharge head 40. The head heater 43 heats the liquid crystal material F from the storage tank 36 to a predetermined temperature (60 ° C. in the present embodiment) to reduce the viscosity (in this embodiment, the viscosity is reduced to 20 cP). Supply to the discharge head 40.

図6において、各ノズルNの上側には、それぞれ貯留タンク36に連通するキャビティ44が形成されている。キャビティ44は、貯留タンク36からの液晶材料Fを対応するノズルNに供給する。各キャビティ44の上側には、上下方向に振動してキャビティ44内の容積を拡大・縮小可能にする振動板45が貼り付けられている。振動板45の上側には、ノズルNに対応する複数の圧電素子PZが配設されている。各圧電素子PZは、それぞれ上下方向に収縮・伸張して対応する振動板45の領域を上下方向に振動し、対応するノズルNから液晶材料Fの液滴Fbを吐出する。吐出される液滴Fbは、対応するノズルNの反Z矢印方向に沿って飛行して、対応する着弾位置Pに着弾する。この際、吐出ヘッド40は、ヘッドヒータ43が液晶材料Fを低粘度化させる分だけ、その吐出動作を安定
化し、吐出する各液滴Fbの容量を均一化する。また、吐出ヘッド40は、プラテンギャップを所定の距離に維持する分だけ、ノズル形成面42aから吐出する各液滴Fbの着弾精度を維持する。
In FIG. 6, cavities 44 communicating with the storage tanks 36 are formed above the nozzles N, respectively. The cavity 44 supplies the liquid crystal material F from the storage tank 36 to the corresponding nozzle N. A vibration plate 45 is attached to the upper side of each cavity 44 to vibrate in the vertical direction so that the volume in the cavity 44 can be enlarged or reduced. A plurality of piezoelectric elements PZ corresponding to the nozzles N are disposed on the upper side of the vibration plate 45. Each piezoelectric element PZ contracts and expands in the vertical direction, vibrates the corresponding region of the diaphragm 45 in the vertical direction, and discharges the droplet Fb of the liquid crystal material F from the corresponding nozzle N. The ejected droplet Fb flies along the anti-Z arrow direction of the corresponding nozzle N and lands on the corresponding landing position P. At this time, the discharge head 40 stabilizes the discharge operation by the amount that the head heater 43 reduces the viscosity of the liquid crystal material F, and uniformizes the volume of each droplet Fb to be discharged. Further, the ejection head 40 maintains the landing accuracy of each droplet Fb ejected from the nozzle forming surface 42a as much as the platen gap is maintained at a predetermined distance.

図7において、吐出ヘッド40は、まず、マザー基板MAがX矢印方向に搬送されるときに、各吐出領域Sの反Y矢印方向側に対向しながら、主走査方向(反X矢印方向)に沿って相対的に走査(主走査)される。すなわち、吐出ヘッド40は、各吐出領域S上の反Y矢印方向側に対して、Y矢印方向の幅が走査幅WHからなる軌跡(第一走査領域SA1)を形成する。   In FIG. 7, when the mother substrate MA is transported in the X arrow direction, the ejection head 40 first faces in the main scanning direction (anti-X arrow direction) while facing the opposite Y arrow direction side of each ejection region S. A relatively scan (main scan) is performed. That is, the ejection head 40 forms a trajectory (first scanning area SA1) in which the width in the Y arrow direction is the scanning width WH with respect to the opposite Y arrow direction side on each ejection area S.

また、吐出ヘッド40は、各着弾位置Pが吐出領域S(第一走査領域SA1)内に規定された各格子点に位置するときに、各圧電素子PZを収縮・伸張し、対応するノズルNから液晶材料Fの液滴Fbを吐出する。すなわち、吐出ヘッド40は、第一走査領域SA1と吐出領域Sの重畳する領域に、複数の液滴Fbを吐出し、複数の液滴Fbの接合した液晶材料Fの液状膜(第一液状膜LF1)を形成する。各吐出領域S内に形成された第一液状膜LF1の液晶材料Fは、吐出ヘッド40の走査時間の経過とともに放冷されて増粘する。   Further, the ejection head 40 contracts and expands each piezoelectric element PZ when each landing position P is positioned at each lattice point defined in the ejection area S (first scanning area SA1), and the corresponding nozzle N From the liquid crystal material F. That is, the ejection head 40 ejects a plurality of droplets Fb to a region where the first scanning region SA1 and the ejection region S overlap, and a liquid film (first liquid film) of the liquid crystal material F joined by the plurality of droplets Fb. LF1). The liquid crystal material F of the first liquid film LF1 formed in each ejection region S is allowed to cool and thicken as the scanning time of the ejection head 40 elapses.

図8において、吐出ヘッド40は、マザー基板MAがX矢印方向に搬送された(第一液状膜LF1を形成した)後に、副走査方向に走査幅WHだけ相対的に走査(副走査)され、その後、再び主走査される。すなわち、吐出ヘッド40は、各吐出領域S上のY矢印方向側で、第一走査領域SA1に隣接する第一走査領域SA1と同じサイズの軌跡(第二走査領域SA2)を形成する。   In FIG. 8, the ejection head 40 is relatively scanned (sub-scanned) by the scanning width WH in the sub-scanning direction after the mother substrate MA is conveyed in the direction of the arrow X (forming the first liquid film LF1). Thereafter, the main scanning is performed again. That is, the ejection head 40 forms a locus (second scanning area SA2) having the same size as the first scanning area SA1 adjacent to the first scanning area SA1 on the Y arrow direction side on each ejection area S.

また、吐出ヘッド40は、各着弾位置Pが吐出領域S(第二走査領域SA2)内に規定された各格子点に位置するときに、各圧電素子PZを収縮・伸張し、対応するノズルNから液晶材料Fの液滴Fbを吐出する。すなわち、吐出ヘッド40は、第二走査領域SA2と吐出領域Sの重畳する領域に、複数の液滴Fbを吐出し、複数の液滴Fbの接合した液晶材料Fの液状膜(第二液状膜LF2)を形成する。   The ejection head 40 contracts and expands each piezoelectric element PZ when each landing position P is located at each lattice point defined in the ejection area S (second scanning area SA2), and the corresponding nozzle N. From the liquid crystal material F. That is, the ejection head 40 ejects a plurality of droplets Fb to a region where the second scanning region SA2 and the ejection region S overlap, and a liquid film (second liquid film) of the liquid crystal material F joined by the plurality of droplets Fb. LF2).

図5に示すように、赤外線ヒータ41は、吐出ヘッド40と略同じサイズの直方体形状に形成されている。赤外線ヒータ41は、Y矢印方向(副走査方向)から見て吐出ヘッド40のX矢印方向(主走査方向の反対側)に配設され、かつ、主走査方向から見て吐出ヘッド40の領域から反Y矢印方向(副走査方向の反対方向)に延びるように形成されている。   As shown in FIG. 5, the infrared heater 41 is formed in a rectangular parallelepiped shape that is substantially the same size as the ejection head 40. The infrared heater 41 is disposed in the X arrow direction (opposite to the main scanning direction) of the ejection head 40 as viewed from the Y arrow direction (sub-scanning direction), and from the region of the ejection head 40 as viewed from the main scanning direction. It is formed to extend in the anti-Y arrow direction (the direction opposite to the sub-scanning direction).

図6に示すように、赤外線ヒータ41は、マザー基板MAと対向する照射面41aを有している。照射面41aは、ノズル形成面42aと同じ高さ位置に配置されている。この照射面41aは、対向するマザー基板MAの領域に、液晶材料F及びマザー基板MAに対して高い吸収率を有した赤外領域の光Lを局所的に照射する。   As shown in FIG. 6, the infrared heater 41 has an irradiation surface 41a facing the mother substrate MA. The irradiation surface 41a is disposed at the same height as the nozzle formation surface 42a. The irradiation surface 41a locally irradiates the region of the mother substrate MA facing the light L in the infrared region having a high absorption rate with respect to the liquid crystal material F and the mother substrate MA.

図8に示すように、赤外線ヒータ41は、マザー基板MAがX矢印方向に搬送されるときに、第一液状膜LF1と第二液状膜LF2の境界周辺(境界領域JA)に対して主走査方向に沿って相対的に走査される。すなわち、赤外線ヒータ41は、吐出ヘッド40が第二液状膜LF2を形成した直後に、その第二液状膜LF2と第一液状膜LF1と間の境界領域JAを局所的に加熱し、吐出ヘッド40に追従して、その加熱領域を主走査方向に走査する。   As shown in FIG. 8, when the mother substrate MA is transported in the direction of the arrow X, the infrared heater 41 performs main scanning with respect to the vicinity of the boundary (boundary area JA) between the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2. It is scanned relatively along the direction. That is, the infrared heater 41 locally heats the boundary area JA between the second liquid film LF2 and the first liquid film LF1 immediately after the discharge head 40 forms the second liquid film LF2, and the discharge head 40 Following this, the heated area is scanned in the main scanning direction.

そのため、先行して形成した第一液状膜LF1は、隣接する第二液状膜LF2が形成された直後に再び低粘度化する。また、第二液状膜LF2は、対応する液滴Fbが着弾した
直後であって、隣接する第一液状膜LF1の低粘度化と同時に、その増粘を抑制する。この結果、第一液状膜LF1と第二液状膜LF2は、境界領域JAに対応する第一液状膜LF1の粘度を低下させる分だけ、さらには、境界領域JAに対応する第二液状膜LF2の形成直後の粘度を保持する分だけ、互いに均一に接合する。
Therefore, the first liquid film LF1 formed in advance has a low viscosity again immediately after the adjacent second liquid film LF2 is formed. The second liquid film LF2 suppresses the increase in viscosity at the same time as the decrease in the viscosity of the adjacent first liquid film LF1 immediately after the corresponding droplet Fb has landed. As a result, the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 are reduced in the viscosity of the first liquid film LF1 corresponding to the boundary area JA, and further, the second liquid film LF2 corresponding to the boundary area JA. As long as the viscosity immediately after formation is maintained, they are bonded uniformly to each other.

次に、上記のように構成したインクジェット装置30の電気的構成を図9に従って説明する。
図9において、制御装置50は、CPU、RAM、ROMなどを有して、格納された各種データと各種制御プログラムに従って、搬送台33及びキャリッジ38を往復動させるとともに、各圧電素子PZの駆動制御や赤外線ヒータ41の加熱制御を行う。
Next, the electrical configuration of the inkjet apparatus 30 configured as described above will be described with reference to FIG.
In FIG. 9, the control device 50 includes a CPU, a RAM, a ROM, and the like, reciprocates the carriage 33 and the carriage 38 according to various stored data and various control programs, and controls the driving of each piezoelectric element PZ. And heating control of the infrared heater 41 is performed.

制御装置50には、起動スイッチ、停止スイッチなどの操作スイッチを有した入力装置51が接続されて、各吐出領域Sの位置座標や各吐出領域Sに対する吐出容量が既定形式の吐出データIaとして入力される。制御装置50は、入力装置51からの吐出データIaを受けて、ビットマップデータBMDを生成する。   An input device 51 having operation switches such as a start switch and a stop switch is connected to the control device 50, and the position coordinates of each discharge region S and the discharge capacity for each discharge region S are input as discharge data Ia in a predetermined format. Is done. The control device 50 receives the ejection data Ia from the input device 51 and generates bitmap data BMD.

ビットマップデータBMDは、各ビットの値(0あるいは1)に応じて各圧電素子PZのオンあるいはオフを規定するものであって、二次元描画平面(吐出面MAa)上の各位置に液滴Fbを吐出するか否かを規定するデータである。すなわち、ビットマップデータBMDは、各吐出領域Sに規定される各格子点に液滴Fbを吐出させるためのものである。   Bitmap data BMD defines ON or OFF of each piezoelectric element PZ according to the value (0 or 1) of each bit, and droplets are applied to respective positions on the two-dimensional drawing plane (ejection surface MAa). This is data defining whether or not to discharge Fb. That is, the bitmap data BMD is for discharging the droplets Fb to the respective lattice points defined in each discharge region S.

制御装置50には、X軸モータ駆動回路52が接続されて、X軸モータ駆動回路52に対応する駆動制御信号を出力する。X軸モータ駆動回路52は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、搬送台33を往復動させるためのX軸モータMXを正転又は逆転させる。制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介して、マザー基板MAをX矢印方向及び反X矢印方向に搬送する。   An X-axis motor drive circuit 52 is connected to the control device 50 and outputs a drive control signal corresponding to the X-axis motor drive circuit 52. In response to the drive control signal from the control device 50, the X-axis motor drive circuit 52 rotates the X-axis motor MX for reciprocating the transport table 33 in the forward or reverse direction. The control device 50 conveys the mother board MA in the X arrow direction and the counter X arrow direction via the X-axis motor drive circuit 52.

制御装置50には、Y軸モータ駆動回路53が接続されて、Y軸モータ駆動回路53に対応する駆動制御信号を出力する。Y軸モータ駆動回路53は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、キャリッジ38を往復動させるためのY軸モータMYを正転又は逆転させる。制御装置50は、Y軸モータ駆動回路53を介して、キャリッジ38を副走査する。   A Y-axis motor drive circuit 53 is connected to the control device 50 and outputs a drive control signal corresponding to the Y-axis motor drive circuit 53. In response to the drive control signal from the control device 50, the Y-axis motor drive circuit 53 rotates the Y-axis motor MY for reciprocating the carriage 38 in the forward or reverse direction. The control device 50 performs sub-scanning on the carriage 38 via the Y-axis motor drive circuit 53.

制御装置50には、マザー基板MAの端縁を検出可能な基板検出装置54が接続されて、基板検出装置54からの検出信号に基づいて、各着弾位置Pに対するマザー基板MAの位置を演算するために利用される。   A substrate detection device 54 capable of detecting the edge of the mother substrate MA is connected to the control device 50, and the position of the mother substrate MA with respect to each landing position P is calculated based on a detection signal from the substrate detection device 54. Used for.

制御装置50には、X軸モータ回転検出器55が接続されて、X軸モータ回転検出器55からの検出信号が入力される。制御装置50は、X軸モータ回転検出器55からの検出信号に基づいて、搬送台33(マザー基板MA)の移動方向及び移動量を演算する。制御装置50は、各着弾位置Pが吐出領域Sの各格子点に位置するたびに、吐出ヘッド駆動回路57に吐出タイミング信号LPを出力する。   The control device 50 is connected to an X-axis motor rotation detector 55 and receives a detection signal from the X-axis motor rotation detector 55. Based on the detection signal from the X-axis motor rotation detector 55, the control device 50 calculates the movement direction and the movement amount of the transport table 33 (mother substrate MA). The control device 50 outputs a discharge timing signal LP to the discharge head drive circuit 57 every time each landing position P is positioned at each grid point of the discharge region S.

制御装置50には、Y軸モータ回転検出器56が接続されて、Y軸モータ回転検出器56からの検出信号が入力される。制御装置50は、Y軸モータ回転検出器56からの検出信号に基づいて、キャリッジ38(各ノズルN)のY矢印方向の移動方向及び移動量を演算する。制御装置50は、吐出領域Sの各格子点の主走査経路上に各着弾位置Pを配置する。   The control device 50 is connected to a Y-axis motor rotation detector 56 and receives a detection signal from the Y-axis motor rotation detector 56. The control device 50 calculates the movement direction and movement amount of the carriage 38 (each nozzle N) in the Y arrow direction based on the detection signal from the Y-axis motor rotation detector 56. The control device 50 arranges each landing position P on the main scanning path of each lattice point of the ejection region S.

制御装置50には、吐出ヘッド駆動回路57が接続されて、吐出タイミング信号LPを出力する。制御装置50は、圧電素子PZを駆動するための信号(圧電素子駆動電圧COM)を吐出タイミング信号LPに同期させて吐出ヘッド駆動回路57に出力する。また、制御装置50は、吐出ヘッド40の一回の主走査に対応するビットマップデータBMDに基づいて所定のクロック信号に同期させた吐出制御信号SIを生成し、その吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路57にシリアル転送する。吐出ヘッド駆動回路57は、制御装置50からの吐出制御信号SIを、それぞれ各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレル変換する。吐出ヘッド駆動回路57は、制御装置50からの吐出タイミング信号LPを受けるたびに、シリアル/パラレル変換した吐出制御信号SIに基づいて選択される圧電素子PZに圧電素子駆動電圧COMを供給する。   A discharge head drive circuit 57 is connected to the control device 50 and outputs a discharge timing signal LP. The control device 50 outputs a signal (piezoelectric element drive voltage COM) for driving the piezoelectric element PZ to the ejection head drive circuit 57 in synchronization with the ejection timing signal LP. The control device 50 generates a discharge control signal SI synchronized with a predetermined clock signal based on the bitmap data BMD corresponding to one main scan of the discharge head 40, and uses the discharge control signal SI as the discharge head. Serial transfer to the drive circuit 57 is performed. The ejection head drive circuit 57 sequentially converts the ejection control signal SI from the control device 50 into serial / parallel conversion corresponding to each piezoelectric element PZ. Each time the ejection head drive circuit 57 receives the ejection timing signal LP from the control device 50, the ejection head drive circuit 57 supplies the piezoelectric element drive voltage COM to the piezoelectric element PZ selected based on the ejection control signal SI subjected to serial / parallel conversion.

制御装置50には、赤外線ヒータ駆動回路58が接続されて、赤外線ヒータ41を駆動させるためのヒータ駆動信号SLを出力する。赤外線ヒータ駆動回路58は、吐出ヘッド40が主走査される前に、制御装置50からのヒータ駆動信号SLを受けて赤外線ヒータ41による加熱を開始させる。   An infrared heater drive circuit 58 is connected to the control device 50 and outputs a heater drive signal SL for driving the infrared heater 41. The infrared heater drive circuit 58 receives the heater drive signal SL from the control device 50 and starts heating by the infrared heater 41 before the ejection head 40 is main-scanned.

次に、インクジェット装置30を使用して液晶材料Fを吐出させる方法について説明する。
まず、図4に示すように、吐出面MAaが上側になるようにマザー基板MAを搬送台33に載置する。このとき、マザー基板MAは、キャリッジ38よりも反X矢印方向側に配置される。
Next, a method for discharging the liquid crystal material F using the inkjet device 30 will be described.
First, as shown in FIG. 4, the mother substrate MA is placed on the transport table 33 so that the ejection surface MAa is on the upper side. At this time, the mother substrate MA is arranged on the side opposite to the X arrow direction from the carriage 38.

この状態から、吐出データIaが入力装置51から制御装置50に入力され、制御装置50が吐出データIaに基づいたビットマップデータBMDを生成して格納する。次いで、マザー基板MAをX矢印方向に搬送するときに、吐出ヘッド40が第一走査領域SA1を形成するように、制御装置50が、Y軸モータ駆動回路53を介してキャリッジ38を移動し、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41をセットする。さらに、制御装置50が、赤外線ヒータ駆動回路58にヒータ駆動信号SLを出力し、赤外線ヒータ41の加熱を開始する。   From this state, the discharge data Ia is input from the input device 51 to the control device 50, and the control device 50 generates and stores bitmap data BMD based on the discharge data Ia. Next, when the mother substrate MA is transported in the X arrow direction, the control device 50 moves the carriage 38 via the Y-axis motor drive circuit 53 so that the ejection head 40 forms the first scanning region SA1. The discharge head 40 and the infrared heater 41 are set. Further, the control device 50 outputs a heater drive signal SL to the infrared heater drive circuit 58 and starts heating the infrared heater 41.

赤外線ヒータ41の加熱状態が安定すると、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介して吐出ヘッド40の主走査を開始し、同主走査に対応した吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路57に出力する。さらに、制御装置50は、基板検出装置54及びX軸モータ回転検出器55からの検出信号に基づいて、吐出領域Sの各格子点が対応する着弾位置Pに位置するか否かを判断する。すなわち、制御装置50は、吐出領域Sの各格子点が対応する着弾位置Pに位置するたびに、吐出ヘッド駆動回路57に吐出タイミング信号LPを出力する。   When the heating state of the infrared heater 41 is stabilized, the control device 50 starts main scanning of the discharge head 40 via the X-axis motor drive circuit 52, and outputs a discharge control signal SI corresponding to the main scan to the discharge head drive circuit 57. Output to. Further, the control device 50 determines whether or not each lattice point of the ejection region S is located at the corresponding landing position P based on detection signals from the substrate detection device 54 and the X-axis motor rotation detector 55. That is, the control device 50 outputs the ejection timing signal LP to the ejection head drive circuit 57 every time each grid point of the ejection area S is located at the corresponding landing position P.

吐出タイミング信号LPが出力されると、吐出ヘッド駆動回路57が、吐出制御信号SIに基づいて選択される各圧電素子PZに圧電素子駆動電圧COMを供給し、選択されたノズルNから一斉に液滴Fbを吐出させる。この結果、主走査方向に沿う各吐出領域Sには、それぞれ第一走査領域SA1に対応した第一液状膜LF1が形成される。   When the ejection timing signal LP is output, the ejection head drive circuit 57 supplies the piezoelectric element drive voltage COM to each piezoelectric element PZ selected based on the ejection control signal SI, and the liquid is simultaneously supplied from the selected nozzles N. The droplet Fb is discharged. As a result, the first liquid film LF1 corresponding to the first scanning region SA1 is formed in each ejection region S along the main scanning direction.

次に、第一液状膜LF1が形成されると、制御装置50は、吐出ヘッド40の主走査を終了してマザー基板MAを反X矢印方向に搬送し、再び、マザー基板MAをキャリッジ38の反X矢印方向側に配置する。また、制御装置50は、Y軸モータ駆動回路53を介してキャリッジ38を移動し、マザー基板MAをX矢印方向に搬送するときに、吐出ヘッド40が第二走査領域SA2を形成するように、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を副走査する。   Next, when the first liquid film LF1 is formed, the control device 50 ends the main scanning of the ejection head 40, transports the mother substrate MA in the direction of the anti-X arrow, and again moves the mother substrate MA to the carriage 38. It arranges on the anti-X arrow direction side. Further, when the controller 50 moves the carriage 38 via the Y-axis motor drive circuit 53 and transports the mother substrate MA in the X arrow direction, the ejection head 40 forms the second scanning region SA2. The ejection head 40 and the infrared heater 41 are sub-scanned.

次いで、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介して吐出ヘッド40の主走査を再び開始し、同主走査に対応する吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路57に出力する。さらに、制御装置50は、吐出領域Sの各格子点が対応する着弾位置Pに位置するたびに、吐出制御信号SIに基づいて選択したノズルNから一斉に液滴Fbを吐出させる。この結果、主走査方向に沿う各吐出領域Sの副走査方向側には、それぞれ第二走査領域SA2に対応した第二液状膜LF2が形成される。   Next, the control device 50 starts the main scanning of the ejection head 40 again via the X-axis motor driving circuit 52 and outputs the ejection control signal SI corresponding to the main scanning to the ejection head driving circuit 57. Further, the control device 50 causes the droplets Fb to be ejected simultaneously from the nozzles N selected based on the ejection control signal SI every time each lattice point of the ejection region S is located at the corresponding landing position P. As a result, the second liquid film LF2 corresponding to the second scanning area SA2 is formed on the sub-scanning direction side of each ejection area S along the main scanning direction.

この第二液状膜LF2が形成されるとき、赤外線ヒータ41は、先行して形成された第一液状膜LF1と形成直後の第二液状膜LF2との境界領域JAに対して相対的に走査される。詳述すると、赤外線ヒータ41は、境界領域JAを局所的に加熱するとともに、その加熱領域を、吐出ヘッド40に追従させて、主走査方向に相対的に走査する。   When the second liquid film LF2 is formed, the infrared heater 41 is scanned relative to the boundary area JA between the first liquid film LF1 formed in advance and the second liquid film LF2 just formed. The More specifically, the infrared heater 41 locally heats the boundary area JA, and causes the heating area to follow the ejection head 40 and relatively scan in the main scanning direction.

この結果、第一液状膜LF1は、第二液状膜LF2が形成された直後に、同第二液状膜LF2に対応する境界領域JAを低粘度化する。よって、吐出ヘッド40の形成した第二液状膜LF2は、境界領域JAに対応する第一液状膜LF1を第二液状膜LF2の形成直後に昇温する分だけ、隣接する第一液状膜LF1と均一に接合する。   As a result, the first liquid film LF1 reduces the viscosity of the boundary region JA corresponding to the second liquid film LF2 immediately after the second liquid film LF2 is formed. Accordingly, the second liquid film LF2 formed by the ejection head 40 is adjacent to the adjacent first liquid film LF1 by the amount that the first liquid film LF1 corresponding to the boundary region JA is heated immediately after the formation of the second liquid film LF2. Bond evenly.

以後、同様に、制御装置50は、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41のマザー基板MAに対する相対的な主走査と副走査を繰り返す。この際、制御装置50は、吐出ヘッド40を主走査するときに、先行して形成した第一液状膜LF1と形成直後の第二液状膜LF2との境界領域JAを局所的に加熱し、その加熱領域を主走査方向に沿って走査する。この結果、互いに隣接する第一液状膜LF1と第二液状膜LF2とが均一に接合し、膜厚の均一な液晶材料Fの液状膜パターンが各吐出領域Sの全体に形成される。   Thereafter, similarly, the control device 50 repeats relative main scanning and sub-scanning of the ejection head 40 and the infrared heater 41 with respect to the mother substrate MA. At this time, the controller 50 locally heats the boundary area JA between the first liquid film LF1 formed in advance and the second liquid film LF2 just formed when the ejection head 40 is main-scanned, The heating area is scanned along the main scanning direction. As a result, the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 that are adjacent to each other are uniformly bonded, and a liquid film pattern of the liquid crystal material F having a uniform film thickness is formed in each discharge region S.

次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
(1)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、主走査方向(反X矢印方向)から見て吐出ヘッド40の領域から副走査方向(Y矢印方向)の反対側に延びるように形成され、かつ、副走査方向から見て吐出ヘッド40の主走査方向の反対側に配設される。そのため、吐出ヘッド40が第二走査領域を形成するときに、第二液状膜LF2と、第二液状膜LF2に隣接する先行して形成した第一液状膜LF1と、の境界領域JAが、吐出ヘッド40に追従して局所的に加熱される。よって、境界領域JAに対応する第一液状膜LF1と、第二液状膜LF2と、を局所的に低粘度化させることができ、マザー基板MAの全体にわたる温度上昇を回避させることができる。
Next, effects of the embodiment configured as described above will be described below.
(1) According to the above embodiment, the infrared heater 41 is formed to extend from the region of the ejection head 40 to the opposite side of the sub-scanning direction (Y arrow direction) when viewed from the main scanning direction (counter-X arrow direction). And it is arrange | positioned on the opposite side of the main scanning direction of the discharge head 40 seeing from the sub scanning direction. Therefore, when the discharge head 40 forms the second scanning region, the boundary region JA between the second liquid film LF2 and the first liquid film LF1 formed in advance adjacent to the second liquid film LF2 is discharged. Following the head 40, it is heated locally. Therefore, the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 corresponding to the boundary region JA can be locally reduced in viscosity, and the temperature increase over the entire mother substrate MA can be avoided.

この結果、吐出した液滴Fbの位置ズレやマザー基板MAの熱的損傷を回避させるとともに、互いに隣接する第一液状膜LF1と第二液状膜LF2とを均一に接合させることができる。   As a result, it is possible to avoid misalignment of the discharged droplet Fb and thermal damage to the mother substrate MA, and to uniformly bond the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 adjacent to each other.

(2)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、副走査方向から見て吐出ヘッド40の主走査方向の反対側に隣接する。そのため、吐出ヘッド40が第二走査領域SA2を形成するときに、吐出ヘッド40の主走査方向の反対側に隣接する境界領域JAが順に局所的に加熱される。よって、着弾直後の液滴Fbからなる第二液状膜LF2と、同第二液状膜LF2に隣接する第一液状膜LF1と、を同じタイミングで局所的に加熱させることができる。   (2) According to the above embodiment, the infrared heater 41 is adjacent to the opposite side of the main scanning direction of the ejection head 40 when viewed from the sub-scanning direction. Therefore, when the ejection head 40 forms the second scanning area SA2, the boundary area JA adjacent to the opposite side of the ejection head 40 in the main scanning direction is sequentially heated locally. Therefore, the second liquid film LF2 composed of the droplets Fb immediately after landing and the first liquid film LF1 adjacent to the second liquid film LF2 can be locally heated at the same timing.

この結果、互いに隣接する第一液状膜LF1と第二液状膜LF2とを、より効率的に接合させることができる。
(3)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、吐出ヘッド40と同じキャリッジ38に搭載される。そのため、吐出ヘッド40がマザー基板MAに対して相対的に主走査されるときに、赤外線ヒータ41が、その加熱領域を境界領域JAに対して相対的に主走
査することができる。よって、局所的な加熱領域を主走査する分だけ、第一液状膜LF1に対する昇温速度や降温速度を速くさせることができる。
As a result, the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 adjacent to each other can be bonded more efficiently.
(3) According to the above embodiment, the infrared heater 41 is mounted on the same carriage 38 as the ejection head 40. Therefore, when the ejection head 40 is main-scanned relatively to the mother substrate MA, the infrared heater 41 can perform main-scanning of the heating area relative to the boundary area JA. Therefore, the temperature increase rate and the temperature decrease rate for the first liquid film LF1 can be increased by the amount of main scanning of the local heating region.

この結果、第一液状膜LF1に対する加熱を、より高い精度で制御させることができ、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を、より確実に回避させることができる。
(4)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、対向する境界領域JAに赤外領域の光Lを照射する。そのため、境界領域JAを非接触で加熱させることができる。よって、境界領域JAに対する加熱を、より高い精度で制御させることができる。
As a result, the heating of the first liquid film LF1 can be controlled with higher accuracy, and the positional deviation of the discharged droplets and the thermal damage of the substrate can be avoided more reliably.
(4) According to the said embodiment, the infrared heater 41 irradiates the light L of an infrared region to the boundary region JA which opposes. Therefore, the boundary area JA can be heated without contact. Therefore, it is possible to control the heating of the boundary area JA with higher accuracy.

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、赤外線ヒータ41を、吐出ヘッド40と略同じサイズに具体化した。これに限らず、赤外線ヒータ41を吐出ヘッド40よりも小さくし、先行して形成した第一液状膜LF1と第二液状膜LF2との境界周辺のみを局所的に加熱するようにしてもよい。これによれば、第一液状膜LF1と第二液状膜LF2との接合を、より小さい加熱領域によって均一化させることができる。
・上記実施形態では、2回の主走査によって、液晶材料Fのパターン(第一液状膜LF1及び第二液状膜LF2)を形成する場合について説明した。これに限らず、例えば、3回以上の主走査によって液晶材料Fのパターンを形成する構成にしてもよい。つまり、先行して形成したパターンと走査領域に形成したパターンとの境界周辺を局所的に加熱し、先行して形成したパターンと走査領域に形成したパターンとを接合させる構成であればよい。
・上記実施形態では、マザー基板MAにシール材16を形成し、同マザー基板MAに液晶材料Fの液滴Fbを吐出させる構成にした。これに限らず、例えば、マザー基板MBにシール材16を形成してもよく、さらにはマザー基板MBに液滴Fbを吐出させる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、吐出データIaに基づいてビットマップデータBMDを生成する構成にした。これに限らず、予め外部装置で生成したビットマップデータBMDを入力装置51から制御装置50に入力する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を配置固定し、マザー基板MAを移動させる構成にした。これに限らず、例えば、マザー基板MAを配置固定し、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を移動させるようにしてもよい。つまり、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を主走査方向に沿って基板に対して相対的に主走査する構成であればよい。また、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を副走査方向に沿って基板に対して相対的に副走査する構成であればよい。
・上記実施形態では、加熱手段を赤外線ヒータ41に具体化した。これに限らず、例えば、加熱手段を抵抗加熱ヒータに具体化してもよく、局所的な加熱によって液状体を低粘度化させるものであればよい。
・上記実施形態では、50cP〜100cPの液晶材料Fを吐出する場合について説明した。これに限らず、50cP未満の液晶材料Fや100cPよりも高い液晶材料Fを吐出する構成であってもよい。さらには、金属微粒子を含有した金属インクを吐出する構成であってもよい。つまり、本発明の液状体は、局所的な加熱による低粘度化によって接合できる液状体であればよい。
・上記実施形態では、液晶表示装置10をアクティブマトリックス方式の透過型液晶表示装置に具体化した。これに限らず、例えば、液晶表示装置10を、反射透過型液晶表示装置、あるいはパッシブ方式の液晶表示装置に具体化してもよい。すなわち、液晶表示装置は、素子基板14と対向基板15との間に液晶層17を封入するものであればよい。
・上記実施形態では、液晶材料Fを吐出して液晶層17(液晶表示装置10)を製造する構成した。これに限らず、例えば液状体を金属インクに具体化し、液晶表示装置10の各種金属配線などを形成する構成にしてもよい。また、平面状の電子放出素子を備えて、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置(FEDやSE
D等)の各種金属配線などを形成する構成にしてもよい。すなわち、液状体の液滴によってパターンを形成する構成であればよい。
・上記実施形態では、液滴吐出装置を、インクジェット装置30に具体化した。これに限らず、ディスペンサ装置に具体化してもよく、液状体の液滴を吐出して基板にパターンを形成する装置であればよい。
In addition, you may change the said embodiment as follows.
In the above embodiment, the infrared heater 41 is embodied to have substantially the same size as the ejection head 40. However, the present invention is not limited to this, and the infrared heater 41 may be made smaller than the discharge head 40 and only the vicinity of the boundary between the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 formed in advance may be locally heated. According to this, the joining of the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 can be made uniform by a smaller heating region.
In the above embodiment, the case where the pattern of the liquid crystal material F (the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2) is formed by two main scans has been described. For example, the pattern of the liquid crystal material F may be formed by three or more main scans. That is, any configuration may be used as long as the periphery of the boundary between the pattern formed in advance and the pattern formed in the scanning region is locally heated to join the pattern formed in advance and the pattern formed in the scanning region.
In the above embodiment, the sealing material 16 is formed on the mother substrate MA, and the droplet Fb of the liquid crystal material F is discharged onto the mother substrate MA. For example, the sealing material 16 may be formed on the mother substrate MB, and the droplet Fb may be discharged onto the mother substrate MB.
In the above embodiment, the bitmap data BMD is generated based on the ejection data Ia. However, the present invention is not limited to this, and the configuration may be such that bitmap data BMD previously generated by an external device is input from the input device 51 to the control device 50.
In the above embodiment, the ejection head 40 and the infrared heater 41 are arranged and fixed, and the mother substrate MA is moved. For example, the mother substrate MA may be arranged and fixed, and the ejection head 40 and the infrared heater 41 may be moved. That is, it is sufficient if the ejection head 40 and the infrared heater 41 are configured to perform main scanning relative to the substrate along the main scanning direction. The discharge head 40 and the infrared heater 41 may be configured to perform sub-scanning relative to the substrate along the sub-scanning direction.
In the above embodiment, the heating means is embodied as the infrared heater 41. For example, the heating means may be embodied as a resistance heater, and any means may be used as long as the viscosity of the liquid is reduced by local heating.
In the above embodiment, the case where the liquid crystal material F of 50 cP to 100 cP is discharged has been described. However, the present invention is not limited to this, and a liquid crystal material F of less than 50 cP or a liquid crystal material F higher than 100 cP may be discharged. Furthermore, the structure which discharges the metal ink containing a metal microparticle may be sufficient. That is, the liquid material of the present invention may be a liquid material that can be bonded by reducing the viscosity by local heating.
In the above embodiment, the liquid crystal display device 10 is embodied as an active matrix transmissive liquid crystal display device. For example, the liquid crystal display device 10 may be embodied as a reflection / transmission liquid crystal display device or a passive liquid crystal display device. That is, the liquid crystal display device only needs to enclose the liquid crystal layer 17 between the element substrate 14 and the counter substrate 15.
In the above embodiment, the liquid crystal layer 17 (the liquid crystal display device 10) is manufactured by discharging the liquid crystal material F. For example, the liquid material may be embodied in metal ink, and various metal wirings of the liquid crystal display device 10 may be formed. In addition, a field effect device (FED or SE) that includes a flat electron-emitting device and uses light emission of a fluorescent material by electrons emitted from the device.
D, etc.) may be formed. In other words, any structure may be used as long as the pattern is formed by liquid droplets.
In the above embodiment, the droplet discharge device is embodied in the inkjet device 30. However, the present invention is not limited to this, and may be embodied in a dispenser device as long as the device forms a pattern on a substrate by discharging liquid droplets.

本実施形態の液晶表示装置の斜視図。The perspective view of the liquid crystal display device of this embodiment. 同じく、液晶表示装置の断面図。Similarly, sectional drawing of a liquid crystal display device. 同じく、液晶表示装置の製造方法を説明する説明図。Similarly, explanatory drawing explaining the manufacturing method of a liquid crystal display. 同じく、液滴吐出装置の斜視図。Similarly, the perspective view of a droplet discharge device. 同じく、吐出ヘッドの斜視図。Similarly, the perspective view of an ejection head. 同じく、吐出ヘッドの側断面図。Similarly, the sectional side view of an ejection head. 同じく、吐出ヘッドの走査領域を説明するための説明図。Similarly, an explanatory view for explaining a scanning region of the ejection head. FIG. 同じく、吐出ヘッドの走査領域を説明するための説明図。Similarly, an explanatory view for explaining a scanning region of the ejection head. FIG. 同じく、液滴吐出装置の電気的構成を説明するための電気ブロック回路図。Similarly, the electric block circuit diagram for demonstrating the electrical structure of a droplet discharge apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

L…光、MA…基板としてのマザー基板、F…液状体としての液晶材料、Fb…液滴、SA1…第一走査領域、SA2…第二走査領域、10…液晶表示装置、17…パターンとしての液晶層、30…液滴吐出装置としてのインクジェット装置、40…吐出ヘッド、41…加熱手段としての赤外線ヒータ。   L ... light, MA ... mother substrate as substrate, F ... liquid crystal material as liquid, Fb ... droplet, SA1 ... first scanning region, SA2 ... second scanning region, 10 ... liquid crystal display device, 17 ... as pattern A liquid crystal layer, 30... An ink jet device as a droplet discharge device, 40... Discharge head, 41.

Claims (8)

液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査して、前記基板に対する前記吐出ヘッドの走査領域に前記液状体からなるパターンを形成し、前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査して、複数の前記パターンを副走査方向に沿って隣接させるようにしたパターン形成方法において、
前記主走査するときに、前記走査領域に形成したパターンと、前記走査領域に隣接する先行して形成した他のパターンと、の境界周辺を局所的に加熱するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
A discharge head for discharging the liquid material to the substrate as a droplet is subjected to main scanning relative to the substrate along the main scanning direction, and a pattern made of the liquid material is formed in a scanning region of the discharge head with respect to the substrate. Forming a pattern in which the ejection head is sub-scanned relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction so that a plurality of the patterns are adjacent to each other along the sub-scanning direction. In the method
A pattern in which the periphery of the boundary between a pattern formed in the scanning region and another pattern formed in advance adjacent to the scanning region is locally heated during the main scanning. Forming method.
請求項1に記載のパターン形成方法において、
前記主走査するときに、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、前記吐出ヘッドの主走査方向の反対側に隣接する前記境界周辺を局所的に加熱するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
In the pattern formation method of Claim 1,
When the main scanning is performed, the heated liquid is discharged as droplets, and the periphery of the boundary adjacent to the opposite side of the discharge head in the main scanning direction is locally heated. Pattern forming method.
請求項1又は2に記載のパターン形成方法において、
前記主走査するときに、前記加熱する領域を主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。
In the pattern formation method of Claim 1 or 2,
A pattern forming method, wherein, during the main scanning, the region to be heated is subjected to main scanning relatively to the substrate along a main scanning direction.
液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドと、
前記吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査する主走査手段と、
前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査する副走査手段と、を備えた液滴吐出装置において、
主走査方向から見て前記吐出ヘッドの領域から副走査方向の反対側に延びるように形成されて、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主走査方向の反対側で前記基板と対向するように配設され、前記吐出ヘッドとともに前記基板に対して相対的に主走査及び副走査されて、対向する前記基板側の領域を局所的に加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
A discharge head for discharging the liquid into droplets onto the substrate;
Main scanning means for performing main scanning relative to the substrate along the main scanning direction of the discharge head;
A sub-scanning means for sub-scanning the sub-scan relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction;
It is formed so as to extend from the region of the ejection head to the opposite side of the sub-scanning direction when viewed from the main scanning direction, and to face the substrate on the opposite side of the main scanning direction of the ejection head when viewed from the sub-scanning direction. A droplet discharge device comprising: a heating unit that is disposed and that is main-scanned and sub-scanned relative to the substrate together with the discharge head to locally heat a region on the opposite substrate side apparatus.
請求項4に記載の液滴吐出装置において、
前記吐出ヘッドは、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、
前記加熱手段は、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主査走査方向の反対側に隣接することを特徴とする液滴吐出装置。
The droplet discharge device according to claim 4,
The discharge head discharges the heated liquid as the droplets,
The liquid droplet ejection apparatus, wherein the heating means is adjacent to the opposite side of the main scanning direction of the ejection head as viewed from the sub scanning direction.
請求項4又は5に記載の液滴吐出装置において、
前記液状体は、赤外領域の光を吸収する液状体であって、
前記加熱手段は、赤外領域の光を照射する赤外線ヒータを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to claim 4 or 5,
The liquid is a liquid that absorbs light in the infrared region,
The droplet discharge apparatus according to claim 1, wherein the heating means includes an infrared heater that emits light in an infrared region.
請求項4〜6のいずれか1つに記載の液滴吐出装置において、
前記液状体は、液晶材料であることを特徴とする液滴吐出装置。
In the droplet discharge device according to any one of claims 4 to 6,
A liquid droplet ejection apparatus, wherein the liquid material is a liquid crystal material.
請求項7に記載の液滴吐出装置によって吐出された液晶材料を備えた液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising a liquid crystal material discharged by the droplet discharge device according to claim 7.
JP2006106960A 2006-04-07 2006-04-07 Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device Pending JP2007275807A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006106960A JP2007275807A (en) 2006-04-07 2006-04-07 Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006106960A JP2007275807A (en) 2006-04-07 2006-04-07 Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007275807A true JP2007275807A (en) 2007-10-25

Family

ID=38677863

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006106960A Pending JP2007275807A (en) 2006-04-07 2006-04-07 Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007275807A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4341582B2 (en) Droplet discharge device
WO2006126512A1 (en) Liquid drop discharge device, electrooptic panel, and electronic apparatus
JP2008176009A (en) Pattern formation method
JP4470945B2 (en) Film forming method and alignment film forming method
JP4702287B2 (en) Droplet ejection device, functional film forming method, liquid crystal alignment film forming device, and liquid crystal alignment film forming method for liquid crystal display device
JP4293042B2 (en) Drawing method using liquid droplet ejection apparatus, liquid droplet ejection apparatus, and electro-optical device manufacturing method
JP2006320808A (en) Liquid drop delivery apparatus, production method for liquid crystal display apparatus and liquid crystal display apparatus
JP2007275808A (en) Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device
JP2007275807A (en) Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device
JP2007275806A (en) Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device
JP2007275805A (en) Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device
JP2006159703A (en) Picture drawing method using liquid droplet discharging device, liquid droplet discharging device, method for manufacturing electrooptical device, electrooptical device and electron equipment
JP2007232866A (en) Pattern forming method, liquid drop discharging device, and liquid crystal display device
JP2013094742A (en) Drawing method
JP2008287062A (en) Method for manufacturing liquid crystal panel
JP2007275809A (en) Liquid drop discharge device and liquid crystal display device
JP2008229527A (en) Liquid drop discharge head and liquid drop discharge device
JP2007275810A (en) Liquid droplet discharge device and liquid crystal display device
JP2007232867A (en) Pattern-forming method, liquid drop discharge device, and liquid crystal display
JP2008152214A (en) Liquid crystal panel
JP2009072729A (en) Liquid droplet drying method of liquid droplet discharge apparatus and liquid droplet discharge apparatus
JP2004272087A (en) Method for manufacturing electrooptical device, electrooptical device and electronic appliance
JP2007229572A (en) Method for forming pattern, liquid drop discharge device and liquid crystal display device
JP2008229479A (en) Liquid droplet discharge method and manufacturing method of liquid crystal panel
JP2008100162A (en) Thin film forming method, droplet discharge device and electro-optic device