JP2007275807A - Pattern forming method, droplet discharging device and liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、パターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a pattern forming method, a droplet discharge device, and a liquid crystal display device.
一般的に、液晶表示装置の製造工程には、基板に設けられた吐出領域に液晶材料を吐出し、その吐出領域を対向基板で封止する封止工程がある。この封止工程では、液晶材料の吐出容量を安定させるために、液晶材料を複数の液滴にして吐出するインクジェット法が利用されている。 In general, a manufacturing process of a liquid crystal display device includes a sealing process in which a liquid crystal material is discharged to a discharge region provided on a substrate and the discharge region is sealed with a counter substrate. In this sealing process, in order to stabilize the discharge capacity of the liquid crystal material, an ink jet method is used in which the liquid crystal material is discharged as a plurality of droplets.
インクジェット法は、吐出ヘッドに形成する液状体の界面(メニスカス)を強制的に振動させて液滴を形成する。そのため、高粘度の液状体(例えば、液晶材料)を吐出する場合には、予め液状体の流路を加熱し、液状体の粘度を低下させる(例えば、特許文献1)。これによって、液滴の吐出動作が安定して、液滴の吐出容量が均一になる。
上記インクジェット法では、大型のパターンを形成する場合、吐出ヘッドを複数回にわたって改行走査する。つまり、走査ごとに形成するパターンを改行方向に隣接させて接合し、大型のパターンを形成する。 In the ink jet method, when a large pattern is formed, the ejection head is scanned for line feed multiple times. That is, a pattern formed for each scan is adjacently joined in the line feed direction to form a large pattern.
しかしながら、加熱した液晶材料を液滴にして吐出すると、先行して形成したパターンが時間の経過とともに放冷されて増粘する。そのため、先行して形成したパターンが、後続するパターンと均一に接合できなくなる。この結果、各パターンの境界周辺で膜厚が変動し(改行スジを形成し)、パターンの膜厚均一性を損なう問題を招いていた。 However, when the heated liquid crystal material is discharged as droplets, the pattern formed in advance is allowed to cool over time and thicken. For this reason, the pattern formed in advance cannot be bonded to the subsequent pattern uniformly. As a result, the film thickness fluctuates around the boundary of each pattern (a line feed streak is formed), resulting in a problem that the film thickness uniformity of the pattern is impaired.
こうした問題は、液滴を吐出する工程で、常に基板の全体を加熱し、先行して形成したパターンに粘度を保持させることで回避可能と考えられる。しかし、基板の全体を加熱すると、基板が熱膨張し、液滴の着弾精度を低下させる虞があった。また、基板の加熱時間が長くなり、基板に形成された各種部材(例えば、液晶材料を封入するためのシール部材など)を熱的に損傷させる虞があった。 It is considered that such a problem can be avoided by always heating the entire substrate in the step of discharging droplets and maintaining the viscosity in the pattern formed in advance. However, when the entire substrate is heated, the substrate may thermally expand, which may reduce the landing accuracy of the droplets. In addition, the heating time of the substrate becomes long, and various members (for example, a sealing member for enclosing a liquid crystal material) formed on the substrate may be thermally damaged.
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び液晶表示装置を提供することである。 The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to avoid positional deviation of the discharged droplets and thermal damage of the substrate, and to improve the film thickness uniformity of the pattern made of the droplets. It is an object to provide an improved pattern forming method, a droplet discharge device, and a liquid crystal display device.
本発明のパターン形成方法は、液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査し、前記基板に対する前記吐出ヘッドの走査領域に前記液状体からなるパターンし、前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査して、複数の前記パターンを副走査方向に沿って隣接させるようにしたパターン形成方法において、前記主走査するときに、前記走査領域に形成したパターンと、前記走査領域に隣接する先行して形成した他のパターンと、の境界周辺を局所的に加熱するようにした。 According to the pattern forming method of the present invention, a discharge head that discharges a liquid material to a substrate as a droplet is main-scanned relative to the substrate along a main scanning direction, and a scan region of the discharge head with respect to the substrate The liquid pattern is formed, and the discharge head is sub-scanned relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction, so that the plurality of patterns are adjacent to each other along the sub-scanning direction. In the pattern forming method, when the main scanning is performed, the periphery of the boundary between the pattern formed in the scanning region and the other pattern formed in advance adjacent to the scanning region is locally heated. I made it.
本発明のパターン形成方法によれば、走査領域に形成したパターンと、同走査領域に隣接する先行して形成した他のパターンとの境界周辺を局所的に加熱させることができる。
よって、基板全体にわたる温度上昇を回避させるとともに、互いに隣接するパターンの境界周辺を同時に低粘度化させることができる。この結果、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、互いに隣接するパターンを均一に接合させることができる。すなわち、液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。
According to the pattern forming method of the present invention, the periphery of the boundary between the pattern formed in the scanning region and the other pattern formed in advance adjacent to the scanning region can be locally heated.
Therefore, it is possible to avoid a temperature rise over the entire substrate and simultaneously reduce the viscosity around the boundary between adjacent patterns. As a result, it is possible to avoid misalignment of the discharged droplets and thermal damage to the substrate, and to uniformly bond adjacent patterns. That is, the film thickness uniformity of the pattern made of droplets can be improved.
また、このパターン形成方法において、前記主走査するときに、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、前記吐出ヘッドの前記主走査方向の反対側に隣接する前記境界周辺を局所的に加熱するようにしてもよい。 In the pattern forming method, when the main scanning is performed, the heated liquid material is discharged as droplets, and the periphery of the boundary adjacent to the opposite side of the discharge head in the main scanning direction is locally provided. You may make it heat.
このパターン形成方法によれば、加熱した液滴の着弾する境界周辺が、液滴の着弾直後に、局所的に昇温する。この結果、互いに隣接するパターンの境界周辺を、より低い加熱量によって効率的に接合させることができる。 According to this pattern forming method, the temperature around the boundary where the heated droplets land is locally increased immediately after the droplets land. As a result, the vicinity of the boundary between adjacent patterns can be efficiently bonded with a lower heating amount.
また、このパターン形成方法において、前記主走査するときに、前記加熱する領域を主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査するようにしてもよい。
このパターン形成方法によれば、単位時間あたりに加熱する領域を小さくすることができ、加熱する領域の昇温速度及び降温速度を速くすることができる。よって、境界周辺が、より高い精度で加熱される。この結果、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を、より確実に回避させることができ、かつ液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。
In the pattern forming method, when the main scanning is performed, the region to be heated may be main scanned relative to the substrate along the main scanning direction.
According to this pattern forming method, the area to be heated per unit time can be reduced, and the temperature increase rate and temperature decrease rate of the area to be heated can be increased. Therefore, the periphery of the boundary is heated with higher accuracy. As a result, it is possible to more reliably avoid displacement of the ejected droplets and thermal damage to the substrate, and improve the film thickness uniformity of the pattern made of the droplets.
本発明の液滴吐出装置は、液状体を液滴にして基板に吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査する主走査手段と、前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査する副走査手段と、を備えた液滴吐出装置において、主走査方向から見て前記吐出ヘッドの領域から副走査方向の反対側に延びるように形成されて、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主走査方向の反対側で前記基板と対向するように配設され、前記吐出ヘッドとともに前記基板に対して相対的に主走査及び副走査されて、対向する前記基板側の領域を局所的に加熱する加熱手段を備えた。 A droplet discharge apparatus according to the present invention includes a discharge head that discharges a liquid material to a substrate as droplets, a main scanning unit that performs main scanning relative to the substrate along the main scanning direction of the discharge head, A liquid droplet ejection apparatus comprising: a sub-scanning unit that sub-scans the substrate relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction. Formed so as to extend from the region to the opposite side of the sub-scanning direction, and disposed so as to face the substrate on the opposite side of the main scanning direction of the discharge head when viewed from the sub-scanning direction. Heating means for locally heating a region on the side of the substrate that is opposed to the substrate is subjected to main scanning and sub-scanning relative to the substrate.
本発明の液滴吐出装置によれば、基板に着弾した液滴と、同液滴の副走査方向の反対側に先行して着弾した他の液滴と、が局所的に昇温する。よって、基板全体にわたる温度上昇を回避させるとともに、着弾した液滴と、同液滴の副走査方向の反対側に先行して吐出された他の液滴と、が同時に低粘度化される。この結果、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、副走査方向に隣接する各液滴を均一に接合させることができる。すなわち、接合した液滴からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。 According to the droplet discharge device of the present invention, the temperature of the droplets that have landed on the substrate and the other droplets that landed on the opposite side of the droplet in the sub-scanning direction locally rises. Therefore, temperature rise over the entire substrate is avoided, and the viscosity of the landed droplets and other droplets ejected in advance on the opposite side of the droplets in the sub-scanning direction are simultaneously reduced. As a result, it is possible to avoid misalignment of the discharged droplets and thermal damage of the substrate, and to uniformly bond the droplets adjacent in the sub-scanning direction. That is, it is possible to improve the film thickness uniformity of a pattern made of bonded droplets.
また、この液滴吐出装置において、前記吐出ヘッドは、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、前記加熱手段は、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主査走査方向の反対側に隣接してもよい。 Further, in this droplet discharge device, the discharge head discharges the heated liquid as the droplet, and the heating means is on the opposite side of the main scanning direction of the discharge head as viewed from the sub-scanning direction. It may be adjacent.
この液滴吐出装置によれば、加熱した液状体の着弾直後の液滴と、同液滴の副走査方向の反対側に先行して着弾した他の液滴と、が局所的に昇温する。よって、互いに隣接するパターンの境界周辺を、より低い加熱量によって効率的に接合させることができる。 According to this droplet discharge device, the temperature of the droplet immediately after landing of the heated liquid and the other droplets that landed on the opposite side of the droplet in the sub-scanning direction are locally increased. . Therefore, the periphery of the boundary between adjacent patterns can be efficiently bonded with a lower heating amount.
また、この液滴吐出装置において、前記液状体は、赤外領域の光を吸収する液状体であって、前記加熱手段は、赤外領域の光を照射する赤外線ヒータを備えてもよい。
この液滴吐出装置によれば、赤外線ヒータから照射する赤外線によって、先行吐出された各液滴を非接触で加熱させることができる。よって、各液滴に対する加熱を、より高い
精度で制御させることができる。
In this droplet discharge device, the liquid material may be a liquid material that absorbs light in the infrared region, and the heating unit may include an infrared heater that irradiates light in the infrared region.
According to this droplet discharge device, each of the previously discharged droplets can be heated in a non-contact manner by infrared rays emitted from an infrared heater. Therefore, the heating for each droplet can be controlled with higher accuracy.
また、この液滴吐出装置において、前記液状体は、液晶材料であってもよい。
この液滴吐出装置によれば、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を回避させるとともに、液晶材料からなるパターンの膜厚均一性を向上させることができる。
Moreover, in this droplet discharge device, the liquid material may be a liquid crystal material.
According to this droplet discharge apparatus, it is possible to avoid displacement of discharged droplets and thermal damage to the substrate, and to improve the film thickness uniformity of a pattern made of a liquid crystal material.
本発明の液晶表示装置は、上記液滴吐出装置によって吐出された液晶材料を備えた。
本発明の液晶表示装置によれば、膜厚均一性を向上させた液晶材料を備えることができる。
The liquid crystal display device of the present invention includes the liquid crystal material ejected by the droplet ejection device.
According to the liquid crystal display device of the present invention, a liquid crystal material with improved film thickness uniformity can be provided.
以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図9に従って説明する。まず、本発明の液晶表示装置10について説明する。図1は、液晶表示装置10の斜視図であり、図2は、図1のA−A線断面図である。
Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described with reference to FIGS. First, the liquid
図1において、液晶表示装置10は、その下側に、LED11を有した四角板状のバックライト12を備えている。そのバックライト12の上方には、バックライト12と略同じ四角板状に形成され、バックライト12からの光が照射される液晶パネル13が備えられている。
In FIG. 1, the liquid
図2において、液晶パネル13は、互いに対向する素子基板14と対向基板15を備えている。素子基板14と対向基板15は、無色透明のガラス基板であって、紫外線光硬化性樹脂からなる四角枠状のシール材16によって貼り合わされている。素子基板14と対向基板15との間の間隙には、液状体としての液晶材料Fからなる液晶層17が形成されている。液晶層17は、本発明の液滴吐出装置によって形成され、その内部に気泡を混在させたり、その表面を凹凸形状にさせたりすることなく、均一に充填されている。この液晶材料Fは、常温における粘度が50cP〜100cPであって、赤外領域の光を吸収して、その粘度を20cP未満に低下させるものである。
In FIG. 2, the
素子基板14の下面(バックライト12側の側面)には、偏光板や位相差板などからなる光学基板18が貼り合わされている。光学基板18は、バックライト12からの光を直線偏光にして液晶層17に出射する。
An
素子基板14の上面(対向基板15側の側面:素子形成面14a)には、図1に示すように、その一方向(X矢印方向)略全幅にわったって延びる複数の走査線Lxが配列されている。各走査線Lxは、それぞれ素子基板14の一側に形成された走査線駆動回路19に電気的に接続され、走査線駆動回路19の生成する走査信号が所定のタイミングで入力される。また、素子形成面14aには、X矢印方向と直交する他方向(Y矢印方向)略全幅にわたって延びる複数のデータ線Lyが配列されている。各データ線Lyは、それぞれ素子基板14の他側に形成されたデータ線駆動回路21に電気的に接続され、データ線駆動回路21の生成するデータ信号が所定のタイミングで入力される。
On the upper surface of the element substrate 14 (side surface on the
素子形成面14aであって、走査線Lxとデータ線Lyの交差する位置には、対応する走査線Lx及びデータ線Lyに接続されてマトリックス状に配列される複数の画素22が形成されている。各画素22には、それぞれTFTなどの制御素子や、透明導電膜などからなる光透過性の画素電極23が備えられている。各画素22の制御素子は、対応する走査線Lxの線順次走査に基づいて、1本ずつ所定のタイミングで選択されてオン状態になる。各画素電極23には、対応する画素22の制御素子がオン状態になるときに、それぞれ表示データに基づくデータ信号が入力される。
A plurality of
各画素22(各画素電極23)の上側全体には、図2に示すように、配向処理の施された配向膜24が積層されている。配向膜24は、配向性ポリイミドなどの配向性高分子によって形成され、対応する画素電極23の近傍で液晶分子の配向を所定の方向に設定する。
As shown in FIG. 2, an
対向基板15の上面には、光学基板18からの光と直交する直線偏光の光を外方(図2における上方)に出射する偏光板25が貼り合わされている。その対向基板15の下面(電極形成面15a)全体には、各画素電極23と相対向するように形成された光透過性の導電膜からなる対向電極26が積層されている。対向電極26は、データ線駆動回路21に電気的に接続され、データ線駆動回路21の生成する所定の共通電位が入力される。対向電極26の下面全体には、配向処理の施された配向膜27が積層され、対向電極26の近傍で液晶分子の配向を所定の方向に設定する。
A
液晶層17を通過する光の偏光状態は、データ信号が各画素電極23に入力されるときに、各画素電極23と対向電極26との間の電位差に基づいて、画素22ごとに変調される。偏光状態の変調された光は、偏光板25を通過するか否かによって、表示データに基づく画像を液晶パネル13の上側に表示する。
The polarization state of light passing through the
表示される画像は、液晶層17が均一に形成されるため、すなわち各画素電極23と対向電極26との間の距離(セルギャップ)が均一に形成されるため、セルギャップのバラツキに起因した輝度ムラや色ムラなどを来たすことなく、その表示画質を保持する。
In the displayed image, since the
次に、液晶パネル13の製造方法について図3に従って説明する。図3は、液晶パネル13の製造方法を説明する説明図である。
図3において、まず、4枚の対向基板15を切り出し可能にしたマザー基板MAの一側面(配向膜27側の側面:吐出面MAa)に、ディスペンサ装置などを利用してシール材16を形成する。すなわち、吐出面MAaに形成された各対向基板15に対応する領域の外縁に、それぞれ紫外線光硬化性樹脂からなる四角枠状のシール材16を吐出形成する。各シール材16を形成すると、液滴吐出装置としてのインクジェット装置30を利用して、各シール材16で囲まれた領域(各吐出領域S)に、それぞれ複数の液滴Fbを吐出する。そして、吐出領域Sに着弾した各液滴Fbを接合し、所定容量の液晶材料Fからなる液状膜のパターンを各吐出領域S内に形成する。
Next, a method for manufacturing the
In FIG. 3, first, a sealing
各吐出領域Sに液晶材料Fのパターンを形成すると、マザー基板MAを減圧雰囲気内に搬送し、マザー基板MAの吐出面MAa側に、4枚の素子基板14を切出し可能にしたマザー基板MBを貼り合わせる。マザー基板MAにマザー基板MBを貼り合わせると、マザー基板MA及びマザー基板MBを大気開放するとともに、各シール材16に紫外線を照射して硬化し、各吐出領域S内に液晶材料Fを封入する。液晶材料Fを封入すると、マザー基板MA及びマザー基板MBをダイシングして、各液晶パネル13を形成する。本実施形態では、この吐出領域SのY矢印方向の幅が吐出幅WSとして定義される。
When the pattern of the liquid crystal material F is formed in each ejection region S, the mother substrate MA is transported in a reduced-pressure atmosphere, and the mother substrate MB on which the four
次に、液晶材料Fを吐出するためのインクジェット装置30について図4〜図9に従って説明する。図4は、インクジェット装置30を示す斜視図である。
図4において、インクジェット装置30は、直方体形状に形成された基台31を備えている。基台31の上面には、その長手方向(X矢印方向)に沿って延びる一対の案内溝32が形成されている。案内溝32の上方には、案内溝32に沿ってX矢印方向及び反X矢印方向に往動及び復動する主走査手段としての搬送台33が備えられている。本実施形態では、図4において反X矢印方向が主走査方向として定義される。
Next, the
In FIG. 4, the
搬送台33の上面には、各吐出領域Sを上側にしたマザー基板MAを載置する載置部3
4が形成されている。載置部34は、載置された状態のマザー基板MAを搬送台33に対して位置決め固定し、マザー基板MAをX矢印方向及び反X矢印方向に搬送する。
On the upper surface of the transfer table 33, a placement unit 3 for placing a mother substrate MA with each discharge region S facing upward.
4 is formed. The
基台31のY矢印方向両側には、門型に形成されたガイド部材35が基台31を跨ぐように架設されている。ガイド部材35の上側には、Y矢印方向に延びる貯留タンク36が配設されている。貯留タンク36は、液晶材料Fを貯留し、下方に配設される吐出ヘッド40に対して、液晶材料Fを所定の圧力で導出する。
On both sides of the base 31 in the Y arrow direction, guide
ガイド部材35の下側には、そのY矢印方向略全幅にわたって、Y矢印方向に延びる上下一対のガイドレール37が形成されている。一対のガイドレール37には、ガイドレール37に沿ってY矢印方向及び反Y矢印方向に往動及び復動する副走査手段としてのキャリッジ38が取り付けられている。本実施形態では、図4においてY矢印方向が副走査方向として定義される。
A pair of upper and
キャリッジ38の下側には、その反X矢印方向及びX矢印方向に、それぞれ吐出ヘッド40及び加熱手段としての赤外線ヒータ41が搭載されている。図5は、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を下側(マザー基板MA側)から見た斜視図である。図6は、図5のA−A線断面図である。図7及び図8は、マザー基板MAに対する吐出ヘッド40の走査領域を説明するための説明図である。
On the lower side of the
図5において、吐出ヘッド40は、Y矢印方向に延びる直方体形状に形成されている。吐出ヘッド40の下側(マザー基板MA側:図5の上側)には、マザー基板MAと対向するようにノズルプレート42が備えられている。ノズルプレート42は、Y矢印方向に延びる板状に形成されるとともに、そのY矢印方向の幅が、前記吐出幅WSの略半分のサイズで形成されている。本実施形態では、このノズルプレート42のY矢印方向の幅が走査幅WHとして定義される。
In FIG. 5, the
図5及び図6に示すように、ノズルプレート42の下面(図5の上面)には、マザー基板MA側に露出するノズル形成面42aが形成されている。ノズル形成面42aは、マザー基板MAが吐出ヘッド40の直下に位置するときに、ノズル形成面42aと吐出面MAaとの間の距離(プラテンギャップ)を所定の距離(本実施形態では、1mm)にする。ノズル形成面42aには、Y矢印方向略全幅にわたって、複数のノズルNが等間隔に配列形成されている。各ノズルNは、ノズル形成面42aの法線方向に貫通形成されている。本実施形態では、図6において、マザー基板MAの吐出面MAa上の位置であって、各ノズルNの直下に対応する位置が、それぞれ着弾位置Pとして定義される。
As shown in FIGS. 5 and 6, a
この吐出ヘッド40の外周には、ヘッドヒータ43が配設されている。ヘッドヒータ43は、貯留タンク36からの液晶材料Fを所定の温度(本実施形態では60℃)まで加熱し、低粘度化した(本実施形態では、粘度を20cPに低下した)液晶材料Fを吐出ヘッド40に供給する。
A
図6において、各ノズルNの上側には、それぞれ貯留タンク36に連通するキャビティ44が形成されている。キャビティ44は、貯留タンク36からの液晶材料Fを対応するノズルNに供給する。各キャビティ44の上側には、上下方向に振動してキャビティ44内の容積を拡大・縮小可能にする振動板45が貼り付けられている。振動板45の上側には、ノズルNに対応する複数の圧電素子PZが配設されている。各圧電素子PZは、それぞれ上下方向に収縮・伸張して対応する振動板45の領域を上下方向に振動し、対応するノズルNから液晶材料Fの液滴Fbを吐出する。吐出される液滴Fbは、対応するノズルNの反Z矢印方向に沿って飛行して、対応する着弾位置Pに着弾する。この際、吐出ヘッド40は、ヘッドヒータ43が液晶材料Fを低粘度化させる分だけ、その吐出動作を安定
化し、吐出する各液滴Fbの容量を均一化する。また、吐出ヘッド40は、プラテンギャップを所定の距離に維持する分だけ、ノズル形成面42aから吐出する各液滴Fbの着弾精度を維持する。
In FIG. 6,
図7において、吐出ヘッド40は、まず、マザー基板MAがX矢印方向に搬送されるときに、各吐出領域Sの反Y矢印方向側に対向しながら、主走査方向(反X矢印方向)に沿って相対的に走査(主走査)される。すなわち、吐出ヘッド40は、各吐出領域S上の反Y矢印方向側に対して、Y矢印方向の幅が走査幅WHからなる軌跡(第一走査領域SA1)を形成する。
In FIG. 7, when the mother substrate MA is transported in the X arrow direction, the
また、吐出ヘッド40は、各着弾位置Pが吐出領域S(第一走査領域SA1)内に規定された各格子点に位置するときに、各圧電素子PZを収縮・伸張し、対応するノズルNから液晶材料Fの液滴Fbを吐出する。すなわち、吐出ヘッド40は、第一走査領域SA1と吐出領域Sの重畳する領域に、複数の液滴Fbを吐出し、複数の液滴Fbの接合した液晶材料Fの液状膜(第一液状膜LF1)を形成する。各吐出領域S内に形成された第一液状膜LF1の液晶材料Fは、吐出ヘッド40の走査時間の経過とともに放冷されて増粘する。
Further, the
図8において、吐出ヘッド40は、マザー基板MAがX矢印方向に搬送された(第一液状膜LF1を形成した)後に、副走査方向に走査幅WHだけ相対的に走査(副走査)され、その後、再び主走査される。すなわち、吐出ヘッド40は、各吐出領域S上のY矢印方向側で、第一走査領域SA1に隣接する第一走査領域SA1と同じサイズの軌跡(第二走査領域SA2)を形成する。
In FIG. 8, the
また、吐出ヘッド40は、各着弾位置Pが吐出領域S(第二走査領域SA2)内に規定された各格子点に位置するときに、各圧電素子PZを収縮・伸張し、対応するノズルNから液晶材料Fの液滴Fbを吐出する。すなわち、吐出ヘッド40は、第二走査領域SA2と吐出領域Sの重畳する領域に、複数の液滴Fbを吐出し、複数の液滴Fbの接合した液晶材料Fの液状膜(第二液状膜LF2)を形成する。
The
図5に示すように、赤外線ヒータ41は、吐出ヘッド40と略同じサイズの直方体形状に形成されている。赤外線ヒータ41は、Y矢印方向(副走査方向)から見て吐出ヘッド40のX矢印方向(主走査方向の反対側)に配設され、かつ、主走査方向から見て吐出ヘッド40の領域から反Y矢印方向(副走査方向の反対方向)に延びるように形成されている。
As shown in FIG. 5, the
図6に示すように、赤外線ヒータ41は、マザー基板MAと対向する照射面41aを有している。照射面41aは、ノズル形成面42aと同じ高さ位置に配置されている。この照射面41aは、対向するマザー基板MAの領域に、液晶材料F及びマザー基板MAに対して高い吸収率を有した赤外領域の光Lを局所的に照射する。
As shown in FIG. 6, the
図8に示すように、赤外線ヒータ41は、マザー基板MAがX矢印方向に搬送されるときに、第一液状膜LF1と第二液状膜LF2の境界周辺(境界領域JA)に対して主走査方向に沿って相対的に走査される。すなわち、赤外線ヒータ41は、吐出ヘッド40が第二液状膜LF2を形成した直後に、その第二液状膜LF2と第一液状膜LF1と間の境界領域JAを局所的に加熱し、吐出ヘッド40に追従して、その加熱領域を主走査方向に走査する。
As shown in FIG. 8, when the mother substrate MA is transported in the direction of the arrow X, the
そのため、先行して形成した第一液状膜LF1は、隣接する第二液状膜LF2が形成された直後に再び低粘度化する。また、第二液状膜LF2は、対応する液滴Fbが着弾した
直後であって、隣接する第一液状膜LF1の低粘度化と同時に、その増粘を抑制する。この結果、第一液状膜LF1と第二液状膜LF2は、境界領域JAに対応する第一液状膜LF1の粘度を低下させる分だけ、さらには、境界領域JAに対応する第二液状膜LF2の形成直後の粘度を保持する分だけ、互いに均一に接合する。
Therefore, the first liquid film LF1 formed in advance has a low viscosity again immediately after the adjacent second liquid film LF2 is formed. The second liquid film LF2 suppresses the increase in viscosity at the same time as the decrease in the viscosity of the adjacent first liquid film LF1 immediately after the corresponding droplet Fb has landed. As a result, the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 are reduced in the viscosity of the first liquid film LF1 corresponding to the boundary area JA, and further, the second liquid film LF2 corresponding to the boundary area JA. As long as the viscosity immediately after formation is maintained, they are bonded uniformly to each other.
次に、上記のように構成したインクジェット装置30の電気的構成を図9に従って説明する。
図9において、制御装置50は、CPU、RAM、ROMなどを有して、格納された各種データと各種制御プログラムに従って、搬送台33及びキャリッジ38を往復動させるとともに、各圧電素子PZの駆動制御や赤外線ヒータ41の加熱制御を行う。
Next, the electrical configuration of the
In FIG. 9, the
制御装置50には、起動スイッチ、停止スイッチなどの操作スイッチを有した入力装置51が接続されて、各吐出領域Sの位置座標や各吐出領域Sに対する吐出容量が既定形式の吐出データIaとして入力される。制御装置50は、入力装置51からの吐出データIaを受けて、ビットマップデータBMDを生成する。
An
ビットマップデータBMDは、各ビットの値(0あるいは1)に応じて各圧電素子PZのオンあるいはオフを規定するものであって、二次元描画平面(吐出面MAa)上の各位置に液滴Fbを吐出するか否かを規定するデータである。すなわち、ビットマップデータBMDは、各吐出領域Sに規定される各格子点に液滴Fbを吐出させるためのものである。 Bitmap data BMD defines ON or OFF of each piezoelectric element PZ according to the value (0 or 1) of each bit, and droplets are applied to respective positions on the two-dimensional drawing plane (ejection surface MAa). This is data defining whether or not to discharge Fb. That is, the bitmap data BMD is for discharging the droplets Fb to the respective lattice points defined in each discharge region S.
制御装置50には、X軸モータ駆動回路52が接続されて、X軸モータ駆動回路52に対応する駆動制御信号を出力する。X軸モータ駆動回路52は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、搬送台33を往復動させるためのX軸モータMXを正転又は逆転させる。制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介して、マザー基板MAをX矢印方向及び反X矢印方向に搬送する。
An X-axis
制御装置50には、Y軸モータ駆動回路53が接続されて、Y軸モータ駆動回路53に対応する駆動制御信号を出力する。Y軸モータ駆動回路53は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、キャリッジ38を往復動させるためのY軸モータMYを正転又は逆転させる。制御装置50は、Y軸モータ駆動回路53を介して、キャリッジ38を副走査する。
A Y-axis
制御装置50には、マザー基板MAの端縁を検出可能な基板検出装置54が接続されて、基板検出装置54からの検出信号に基づいて、各着弾位置Pに対するマザー基板MAの位置を演算するために利用される。
A
制御装置50には、X軸モータ回転検出器55が接続されて、X軸モータ回転検出器55からの検出信号が入力される。制御装置50は、X軸モータ回転検出器55からの検出信号に基づいて、搬送台33(マザー基板MA)の移動方向及び移動量を演算する。制御装置50は、各着弾位置Pが吐出領域Sの各格子点に位置するたびに、吐出ヘッド駆動回路57に吐出タイミング信号LPを出力する。
The
制御装置50には、Y軸モータ回転検出器56が接続されて、Y軸モータ回転検出器56からの検出信号が入力される。制御装置50は、Y軸モータ回転検出器56からの検出信号に基づいて、キャリッジ38(各ノズルN)のY矢印方向の移動方向及び移動量を演算する。制御装置50は、吐出領域Sの各格子点の主走査経路上に各着弾位置Pを配置する。
The
制御装置50には、吐出ヘッド駆動回路57が接続されて、吐出タイミング信号LPを出力する。制御装置50は、圧電素子PZを駆動するための信号(圧電素子駆動電圧COM)を吐出タイミング信号LPに同期させて吐出ヘッド駆動回路57に出力する。また、制御装置50は、吐出ヘッド40の一回の主走査に対応するビットマップデータBMDに基づいて所定のクロック信号に同期させた吐出制御信号SIを生成し、その吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路57にシリアル転送する。吐出ヘッド駆動回路57は、制御装置50からの吐出制御信号SIを、それぞれ各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレル変換する。吐出ヘッド駆動回路57は、制御装置50からの吐出タイミング信号LPを受けるたびに、シリアル/パラレル変換した吐出制御信号SIに基づいて選択される圧電素子PZに圧電素子駆動電圧COMを供給する。
A discharge
制御装置50には、赤外線ヒータ駆動回路58が接続されて、赤外線ヒータ41を駆動させるためのヒータ駆動信号SLを出力する。赤外線ヒータ駆動回路58は、吐出ヘッド40が主走査される前に、制御装置50からのヒータ駆動信号SLを受けて赤外線ヒータ41による加熱を開始させる。
An infrared
次に、インクジェット装置30を使用して液晶材料Fを吐出させる方法について説明する。
まず、図4に示すように、吐出面MAaが上側になるようにマザー基板MAを搬送台33に載置する。このとき、マザー基板MAは、キャリッジ38よりも反X矢印方向側に配置される。
Next, a method for discharging the liquid crystal material F using the
First, as shown in FIG. 4, the mother substrate MA is placed on the transport table 33 so that the ejection surface MAa is on the upper side. At this time, the mother substrate MA is arranged on the side opposite to the X arrow direction from the
この状態から、吐出データIaが入力装置51から制御装置50に入力され、制御装置50が吐出データIaに基づいたビットマップデータBMDを生成して格納する。次いで、マザー基板MAをX矢印方向に搬送するときに、吐出ヘッド40が第一走査領域SA1を形成するように、制御装置50が、Y軸モータ駆動回路53を介してキャリッジ38を移動し、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41をセットする。さらに、制御装置50が、赤外線ヒータ駆動回路58にヒータ駆動信号SLを出力し、赤外線ヒータ41の加熱を開始する。
From this state, the discharge data Ia is input from the
赤外線ヒータ41の加熱状態が安定すると、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介して吐出ヘッド40の主走査を開始し、同主走査に対応した吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路57に出力する。さらに、制御装置50は、基板検出装置54及びX軸モータ回転検出器55からの検出信号に基づいて、吐出領域Sの各格子点が対応する着弾位置Pに位置するか否かを判断する。すなわち、制御装置50は、吐出領域Sの各格子点が対応する着弾位置Pに位置するたびに、吐出ヘッド駆動回路57に吐出タイミング信号LPを出力する。
When the heating state of the
吐出タイミング信号LPが出力されると、吐出ヘッド駆動回路57が、吐出制御信号SIに基づいて選択される各圧電素子PZに圧電素子駆動電圧COMを供給し、選択されたノズルNから一斉に液滴Fbを吐出させる。この結果、主走査方向に沿う各吐出領域Sには、それぞれ第一走査領域SA1に対応した第一液状膜LF1が形成される。
When the ejection timing signal LP is output, the ejection
次に、第一液状膜LF1が形成されると、制御装置50は、吐出ヘッド40の主走査を終了してマザー基板MAを反X矢印方向に搬送し、再び、マザー基板MAをキャリッジ38の反X矢印方向側に配置する。また、制御装置50は、Y軸モータ駆動回路53を介してキャリッジ38を移動し、マザー基板MAをX矢印方向に搬送するときに、吐出ヘッド40が第二走査領域SA2を形成するように、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を副走査する。
Next, when the first liquid film LF1 is formed, the
次いで、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介して吐出ヘッド40の主走査を再び開始し、同主走査に対応する吐出制御信号SIを吐出ヘッド駆動回路57に出力する。さらに、制御装置50は、吐出領域Sの各格子点が対応する着弾位置Pに位置するたびに、吐出制御信号SIに基づいて選択したノズルNから一斉に液滴Fbを吐出させる。この結果、主走査方向に沿う各吐出領域Sの副走査方向側には、それぞれ第二走査領域SA2に対応した第二液状膜LF2が形成される。
Next, the
この第二液状膜LF2が形成されるとき、赤外線ヒータ41は、先行して形成された第一液状膜LF1と形成直後の第二液状膜LF2との境界領域JAに対して相対的に走査される。詳述すると、赤外線ヒータ41は、境界領域JAを局所的に加熱するとともに、その加熱領域を、吐出ヘッド40に追従させて、主走査方向に相対的に走査する。
When the second liquid film LF2 is formed, the
この結果、第一液状膜LF1は、第二液状膜LF2が形成された直後に、同第二液状膜LF2に対応する境界領域JAを低粘度化する。よって、吐出ヘッド40の形成した第二液状膜LF2は、境界領域JAに対応する第一液状膜LF1を第二液状膜LF2の形成直後に昇温する分だけ、隣接する第一液状膜LF1と均一に接合する。
As a result, the first liquid film LF1 reduces the viscosity of the boundary region JA corresponding to the second liquid film LF2 immediately after the second liquid film LF2 is formed. Accordingly, the second liquid film LF2 formed by the
以後、同様に、制御装置50は、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41のマザー基板MAに対する相対的な主走査と副走査を繰り返す。この際、制御装置50は、吐出ヘッド40を主走査するときに、先行して形成した第一液状膜LF1と形成直後の第二液状膜LF2との境界領域JAを局所的に加熱し、その加熱領域を主走査方向に沿って走査する。この結果、互いに隣接する第一液状膜LF1と第二液状膜LF2とが均一に接合し、膜厚の均一な液晶材料Fの液状膜パターンが各吐出領域Sの全体に形成される。
Thereafter, similarly, the
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
(1)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、主走査方向(反X矢印方向)から見て吐出ヘッド40の領域から副走査方向(Y矢印方向)の反対側に延びるように形成され、かつ、副走査方向から見て吐出ヘッド40の主走査方向の反対側に配設される。そのため、吐出ヘッド40が第二走査領域を形成するときに、第二液状膜LF2と、第二液状膜LF2に隣接する先行して形成した第一液状膜LF1と、の境界領域JAが、吐出ヘッド40に追従して局所的に加熱される。よって、境界領域JAに対応する第一液状膜LF1と、第二液状膜LF2と、を局所的に低粘度化させることができ、マザー基板MAの全体にわたる温度上昇を回避させることができる。
Next, effects of the embodiment configured as described above will be described below.
(1) According to the above embodiment, the
この結果、吐出した液滴Fbの位置ズレやマザー基板MAの熱的損傷を回避させるとともに、互いに隣接する第一液状膜LF1と第二液状膜LF2とを均一に接合させることができる。 As a result, it is possible to avoid misalignment of the discharged droplet Fb and thermal damage to the mother substrate MA, and to uniformly bond the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 adjacent to each other.
(2)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、副走査方向から見て吐出ヘッド40の主走査方向の反対側に隣接する。そのため、吐出ヘッド40が第二走査領域SA2を形成するときに、吐出ヘッド40の主走査方向の反対側に隣接する境界領域JAが順に局所的に加熱される。よって、着弾直後の液滴Fbからなる第二液状膜LF2と、同第二液状膜LF2に隣接する第一液状膜LF1と、を同じタイミングで局所的に加熱させることができる。
(2) According to the above embodiment, the
この結果、互いに隣接する第一液状膜LF1と第二液状膜LF2とを、より効率的に接合させることができる。
(3)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、吐出ヘッド40と同じキャリッジ38に搭載される。そのため、吐出ヘッド40がマザー基板MAに対して相対的に主走査されるときに、赤外線ヒータ41が、その加熱領域を境界領域JAに対して相対的に主走
査することができる。よって、局所的な加熱領域を主走査する分だけ、第一液状膜LF1に対する昇温速度や降温速度を速くさせることができる。
As a result, the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2 adjacent to each other can be bonded more efficiently.
(3) According to the above embodiment, the
この結果、第一液状膜LF1に対する加熱を、より高い精度で制御させることができ、吐出した液滴の位置ズレや基板の熱的損傷を、より確実に回避させることができる。
(4)上記実施形態によれば、赤外線ヒータ41が、対向する境界領域JAに赤外領域の光Lを照射する。そのため、境界領域JAを非接触で加熱させることができる。よって、境界領域JAに対する加熱を、より高い精度で制御させることができる。
As a result, the heating of the first liquid film LF1 can be controlled with higher accuracy, and the positional deviation of the discharged droplets and the thermal damage of the substrate can be avoided more reliably.
(4) According to the said embodiment, the
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、赤外線ヒータ41を、吐出ヘッド40と略同じサイズに具体化した。これに限らず、赤外線ヒータ41を吐出ヘッド40よりも小さくし、先行して形成した第一液状膜LF1と第二液状膜LF2との境界周辺のみを局所的に加熱するようにしてもよい。これによれば、第一液状膜LF1と第二液状膜LF2との接合を、より小さい加熱領域によって均一化させることができる。
・上記実施形態では、2回の主走査によって、液晶材料Fのパターン(第一液状膜LF1及び第二液状膜LF2)を形成する場合について説明した。これに限らず、例えば、3回以上の主走査によって液晶材料Fのパターンを形成する構成にしてもよい。つまり、先行して形成したパターンと走査領域に形成したパターンとの境界周辺を局所的に加熱し、先行して形成したパターンと走査領域に形成したパターンとを接合させる構成であればよい。
・上記実施形態では、マザー基板MAにシール材16を形成し、同マザー基板MAに液晶材料Fの液滴Fbを吐出させる構成にした。これに限らず、例えば、マザー基板MBにシール材16を形成してもよく、さらにはマザー基板MBに液滴Fbを吐出させる構成にしてもよい。
・上記実施形態では、吐出データIaに基づいてビットマップデータBMDを生成する構成にした。これに限らず、予め外部装置で生成したビットマップデータBMDを入力装置51から制御装置50に入力する構成にしてもよい。
・上記実施形態では、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を配置固定し、マザー基板MAを移動させる構成にした。これに限らず、例えば、マザー基板MAを配置固定し、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を移動させるようにしてもよい。つまり、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を主走査方向に沿って基板に対して相対的に主走査する構成であればよい。また、吐出ヘッド40及び赤外線ヒータ41を副走査方向に沿って基板に対して相対的に副走査する構成であればよい。
・上記実施形態では、加熱手段を赤外線ヒータ41に具体化した。これに限らず、例えば、加熱手段を抵抗加熱ヒータに具体化してもよく、局所的な加熱によって液状体を低粘度化させるものであればよい。
・上記実施形態では、50cP〜100cPの液晶材料Fを吐出する場合について説明した。これに限らず、50cP未満の液晶材料Fや100cPよりも高い液晶材料Fを吐出する構成であってもよい。さらには、金属微粒子を含有した金属インクを吐出する構成であってもよい。つまり、本発明の液状体は、局所的な加熱による低粘度化によって接合できる液状体であればよい。
・上記実施形態では、液晶表示装置10をアクティブマトリックス方式の透過型液晶表示装置に具体化した。これに限らず、例えば、液晶表示装置10を、反射透過型液晶表示装置、あるいはパッシブ方式の液晶表示装置に具体化してもよい。すなわち、液晶表示装置は、素子基板14と対向基板15との間に液晶層17を封入するものであればよい。
・上記実施形態では、液晶材料Fを吐出して液晶層17(液晶表示装置10)を製造する構成した。これに限らず、例えば液状体を金属インクに具体化し、液晶表示装置10の各種金属配線などを形成する構成にしてもよい。また、平面状の電子放出素子を備えて、同素子から放出された電子による蛍光物質の発光を利用した電界効果型装置(FEDやSE
D等)の各種金属配線などを形成する構成にしてもよい。すなわち、液状体の液滴によってパターンを形成する構成であればよい。
・上記実施形態では、液滴吐出装置を、インクジェット装置30に具体化した。これに限らず、ディスペンサ装置に具体化してもよく、液状体の液滴を吐出して基板にパターンを形成する装置であればよい。
In addition, you may change the said embodiment as follows.
In the above embodiment, the
In the above embodiment, the case where the pattern of the liquid crystal material F (the first liquid film LF1 and the second liquid film LF2) is formed by two main scans has been described. For example, the pattern of the liquid crystal material F may be formed by three or more main scans. That is, any configuration may be used as long as the periphery of the boundary between the pattern formed in advance and the pattern formed in the scanning region is locally heated to join the pattern formed in advance and the pattern formed in the scanning region.
In the above embodiment, the sealing
In the above embodiment, the bitmap data BMD is generated based on the ejection data Ia. However, the present invention is not limited to this, and the configuration may be such that bitmap data BMD previously generated by an external device is input from the
In the above embodiment, the
In the above embodiment, the heating means is embodied as the
In the above embodiment, the case where the liquid crystal material F of 50 cP to 100 cP is discharged has been described. However, the present invention is not limited to this, and a liquid crystal material F of less than 50 cP or a liquid crystal material F higher than 100 cP may be discharged. Furthermore, the structure which discharges the metal ink containing a metal microparticle may be sufficient. That is, the liquid material of the present invention may be a liquid material that can be bonded by reducing the viscosity by local heating.
In the above embodiment, the liquid
In the above embodiment, the liquid crystal layer 17 (the liquid crystal display device 10) is manufactured by discharging the liquid crystal material F. For example, the liquid material may be embodied in metal ink, and various metal wirings of the liquid
D, etc.) may be formed. In other words, any structure may be used as long as the pattern is formed by liquid droplets.
In the above embodiment, the droplet discharge device is embodied in the
L…光、MA…基板としてのマザー基板、F…液状体としての液晶材料、Fb…液滴、SA1…第一走査領域、SA2…第二走査領域、10…液晶表示装置、17…パターンとしての液晶層、30…液滴吐出装置としてのインクジェット装置、40…吐出ヘッド、41…加熱手段としての赤外線ヒータ。 L ... light, MA ... mother substrate as substrate, F ... liquid crystal material as liquid, Fb ... droplet, SA1 ... first scanning region, SA2 ... second scanning region, 10 ... liquid crystal display device, 17 ... as pattern A liquid crystal layer, 30... An ink jet device as a droplet discharge device, 40... Discharge head, 41.
Claims (8)
前記主走査するときに、前記走査領域に形成したパターンと、前記走査領域に隣接する先行して形成した他のパターンと、の境界周辺を局所的に加熱するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。 A discharge head for discharging the liquid material to the substrate as a droplet is subjected to main scanning relative to the substrate along the main scanning direction, and a pattern made of the liquid material is formed in a scanning region of the discharge head with respect to the substrate. Forming a pattern in which the ejection head is sub-scanned relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction so that a plurality of the patterns are adjacent to each other along the sub-scanning direction. In the method
A pattern in which the periphery of the boundary between a pattern formed in the scanning region and another pattern formed in advance adjacent to the scanning region is locally heated during the main scanning. Forming method.
前記主走査するときに、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、前記吐出ヘッドの主走査方向の反対側に隣接する前記境界周辺を局所的に加熱するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。 In the pattern formation method of Claim 1,
When the main scanning is performed, the heated liquid is discharged as droplets, and the periphery of the boundary adjacent to the opposite side of the discharge head in the main scanning direction is locally heated. Pattern forming method.
前記主走査するときに、前記加熱する領域を主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査するようにしたことを特徴とするパターン形成方法。 In the pattern formation method of Claim 1 or 2,
A pattern forming method, wherein, during the main scanning, the region to be heated is subjected to main scanning relatively to the substrate along a main scanning direction.
前記吐出ヘッドを主走査方向に沿って前記基板に対して相対的に主走査する主走査手段と、
前記吐出ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に沿って前記基板に対して相対的に副走査する副走査手段と、を備えた液滴吐出装置において、
主走査方向から見て前記吐出ヘッドの領域から副走査方向の反対側に延びるように形成されて、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主走査方向の反対側で前記基板と対向するように配設され、前記吐出ヘッドとともに前記基板に対して相対的に主走査及び副走査されて、対向する前記基板側の領域を局所的に加熱する加熱手段を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。 A discharge head for discharging the liquid into droplets onto the substrate;
Main scanning means for performing main scanning relative to the substrate along the main scanning direction of the discharge head;
A sub-scanning means for sub-scanning the sub-scan relative to the substrate along a sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction;
It is formed so as to extend from the region of the ejection head to the opposite side of the sub-scanning direction when viewed from the main scanning direction, and to face the substrate on the opposite side of the main scanning direction of the ejection head when viewed from the sub-scanning direction. A droplet discharge device comprising: a heating unit that is disposed and that is main-scanned and sub-scanned relative to the substrate together with the discharge head to locally heat a region on the opposite substrate side apparatus.
前記吐出ヘッドは、加熱した前記液状体を前記液滴にして吐出し、
前記加熱手段は、副走査方向から見て前記吐出ヘッドの主査走査方向の反対側に隣接することを特徴とする液滴吐出装置。 The droplet discharge device according to claim 4,
The discharge head discharges the heated liquid as the droplets,
The liquid droplet ejection apparatus, wherein the heating means is adjacent to the opposite side of the main scanning direction of the ejection head as viewed from the sub scanning direction.
前記液状体は、赤外領域の光を吸収する液状体であって、
前記加熱手段は、赤外領域の光を照射する赤外線ヒータを備えたことを特徴とする液滴吐出装置。 In the droplet discharge device according to claim 4 or 5,
The liquid is a liquid that absorbs light in the infrared region,
The droplet discharge apparatus according to claim 1, wherein the heating means includes an infrared heater that emits light in an infrared region.
前記液状体は、液晶材料であることを特徴とする液滴吐出装置。 In the droplet discharge device according to any one of claims 4 to 6,
A liquid droplet ejection apparatus, wherein the liquid material is a liquid crystal material.
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