JP2007271504A - Scintillator panel, planar detector and imaging apparatus - Google Patents

Scintillator panel, planar detector and imaging apparatus Download PDF

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Atsuya Yoshida
篤也 吉田
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    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16Measuring radiation intensity
    • G01T1/20Measuring radiation intensity with scintillation detectors
    • G01T1/2002Optical details, e.g. reflecting or diffusing layers

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scintillator panel 21 that prevents contrast from lowering at peripheral sections. <P>SOLUTION: A scintillator layer 26 is formed on a glass substrate 22. A reflecting film 24 is formed between the glass substrate 22 and the scintillator layer 26, and constitutes a reflecting plane 23 on the glass substrate 22. A protective film 25 is formed, in a region other than the peripheral section 26 of the scintillator layer 26 on the reflecting film 24. In the reflecting plane 23, the reflectivity in a region, corresponding to the peripheral section 26a of the scintillator layer 26, is lower than the reflectivity in regions other than the peripheral section 26a. Stray light that causes reduction in the contrast in sections with low reflectivity in the peripheral section on the reflection plane 23, is absorbed, and the contrast is inhibited from being lowered in the peripheral sections. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、放射線を可視光に変換するシンチレータパネル、平面検出器および撮影装置に関する。   The present invention relates to a scintillator panel, a flat panel detector, and an imaging device that convert radiation into visible light.

従来、平面検出器(以下FPDと称する)や撮影装置は、医療用や工業用非破壊検査などに用いられ、被写体を透過したX線像を可視光画像や電気的な画像信号に変換するのに使用されている。   Conventionally, a flat panel detector (hereinafter referred to as FPD) and an imaging apparatus are used for medical and industrial nondestructive inspection, and convert an X-ray image transmitted through a subject into a visible light image or an electrical image signal. Is used.

図7には、FPDに使用されるシンチレータパネルの例を示す。このシンチレータパネル1は、例えばガラス基板などの放射線透過性の基板2上に反射面3の機能を持たせた反射膜4および保護膜5を形成し、その保護膜5上にTlドープのCsI(以下単にCsIと記す)の柱状結晶にて構成されるシンチレータ層6を形成し、さらにシンチレータ層6を覆って防湿層7を形成した構成が基本である。   FIG. 7 shows an example of a scintillator panel used for FPD. In this scintillator panel 1, a reflective film 4 and a protective film 5 having a function of a reflective surface 3 are formed on a radiation transmissive substrate 2 such as a glass substrate, and a Tl-doped CsI ( The scintillator layer 6 composed of columnar crystals (hereinafter simply referred to as CsI) is formed, and the scintillator layer 6 is further covered to form a moisture-proof layer 7.

反射面3の加工方法は、基板2が例えばガラスやグラファイトのようにそのままでは反射面3としての機能が低い場合に、例えばアルミニウムをスパッタ法で成膜した反射膜4を形成することとし、基板2の表面状態により反射膜4の成膜に先駆けて基板2の表面を鏡面研磨加工することもある。あるいは、アルミニウムやベリリウムのような金属材料を基板2として用いる場合、それらの素材が本来持っている反射能力を利用して、材料の圧延加工を終了したそのままの状態に対して、脱脂処理、化学研磨法、超音波洗浄法といった通常の洗浄法を施すのみで反射面3とすることもあれば、それらの素材を鏡面研磨、もしくは反射膜の塗布を行うことにより、反射面3とすることもある。   The processing method of the reflecting surface 3 is to form the reflecting film 4 formed by sputtering, for example, aluminum when the function of the reflecting surface 3 is low as it is, for example, glass or graphite. Depending on the surface condition of 2, the surface of the substrate 2 may be mirror-polished prior to the formation of the reflective film 4. Alternatively, when a metal material such as aluminum or beryllium is used as the substrate 2, a degreasing treatment, a chemistry is performed on the raw material after the rolling process of the material is completed by utilizing a reflection ability inherent to the material. The reflective surface 3 may be formed only by performing a normal cleaning method such as a polishing method or an ultrasonic cleaning method, or the reflective surface 3 may be formed by mirror polishing or applying a reflective film to those materials. is there.

シンチレータ層6を放射線変換膜として用いるFPDは、間接変換式FPDと呼ばれる。この間接変換式FPDには、図8に示されるような、シンチレータパネル1を複数の受光素子8が1次元あるいは2次元状に配列されているイメージセンサ9に貼り合わせた貼り合わせ式FPDと、図9に示されるような、シンチレータ層6を直接、イメージセンサ9に蒸着する直接蒸着式FPDと、の2種類の代表的な形態がある。   An FPD that uses the scintillator layer 6 as a radiation conversion film is called an indirect conversion FPD. In this indirect conversion type FPD, as shown in FIG. 8, a scintillator panel 1 is bonded to an image sensor 9 in which a plurality of light receiving elements 8 are arranged one-dimensionally or two-dimensionally; As shown in FIG. 9, there are two typical forms of direct vapor deposition type FPD in which the scintillator layer 6 is directly vapor deposited on the image sensor 9.

貼り合わせ式FPDは、イメージセンサ9にシンチレータパネル1を貼り合わせた構造である。   The bonding type FPD has a structure in which the scintillator panel 1 is bonded to the image sensor 9.

直接蒸着式FPDは、イメージセンサ9上にシンチレータ層6、保護膜10、反射面11の機能を持たせた反射膜12、防湿膜13を順次積層した構造が代表的である。シンチレータ層6の表面は必要に応じ表面研磨を行い、さらに保護膜10としてポリパラキシリレンのような有機膜を選択することにより、表面の平滑さを向上させることにより、反射膜12の反射率を向上させることも可能である。反射膜12は、例えばシンチレータパネル1の場合と同様、アルミニウムのスパッタ膜を用いる。   The direct vapor deposition type FPD typically has a structure in which a scintillator layer 6, a protective film 10, a reflective film 12 having a function of a reflective surface 11, and a moisture-proof film 13 are sequentially laminated on the image sensor 9. The surface of the scintillator layer 6 is subjected to surface polishing if necessary, and further, by selecting an organic film such as polyparaxylylene as the protective film 10, the surface smoothness is improved, thereby the reflectance of the reflective film 12 is improved. It is also possible to improve. As the reflective film 12, for example, a sputtered aluminum film is used as in the case of the scintillator panel 1.

このような構成以外には、シンチレータパネル1とCCDカメラ系とを対向させた構成の撮影装置(以下CCD−DRと称する)がある。この場合も、シンチレータパネル1の構成は、基本的には貼り合わせ式FPDに使用するシンチレータパネル1と構成の違いはない。   In addition to such a configuration, there is an imaging device (hereinafter referred to as CCD-DR) having a configuration in which the scintillator panel 1 and the CCD camera system are opposed to each other. Also in this case, the configuration of the scintillator panel 1 is basically the same as the configuration of the scintillator panel 1 used for the bonded FPD.

これらシンチレータパネル1および直接蒸着式FPDで使用するシンチレータ層6の反射膜4,12には、シンチレータ層6と反射膜4,12との間に、保護膜5,10を塗布するのが一般的である。保護膜5,10には、反射膜4,12の化学的安定性と、反射面3,11(または反射膜4,12)の反射率を高める機能がある。直接蒸着式FPDに対しても、積層の順番から反射膜12の後に防湿膜13を塗布すれば、その防湿膜13が反射膜12に対する化学的な安定化の機能があるものの、反射膜12をより鏡面に近づけるために、シンチレータ層6に反射膜12を直接成膜することはせずに、間に有機膜などの保護膜10で平滑化することは既に知られている(例えば、特許文献1参照)。   A protective film 5, 10 is generally applied between the scintillator layer 6 and the reflective films 4, 12 on the scintillator panel 1 and the reflective films 4, 12 of the scintillator layer 6 used in the direct vapor deposition type FPD. It is. The protective films 5 and 10 have a function of increasing the chemical stability of the reflective films 4 and 12 and the reflectance of the reflective surfaces 3 and 11 (or the reflective films 4 and 12). Even for direct vapor deposition type FPD, if the moisture-proof film 13 is applied after the reflective film 12 in the order of lamination, the moisture-proof film 13 has a function of chemically stabilizing the reflective film 12, but the reflective film 12 In order to make it closer to a mirror surface, it is already known that the reflective film 12 is not directly formed on the scintillator layer 6 but is smoothed with a protective film 10 such as an organic film in between (for example, Patent Documents). 1).

イメージセンサ9やCCDカメラ系とシンチレータパネル1とを組み合わせて、FPDやCCD−DRを作成する場合、シンチレータパネル1の発光面の大きさは、通常、イメージセンサ9やCCDカメラの受光面に相当する部分より、大きくなるように設計される。これは、CsIを真空蒸着する際、基板2もしくはイメージセンサ9を保持する治具の端部付近に位置するシンチレータ層6の周辺部6aが、CsI蒸気の入射に対して少し影になるために、膜厚が薄くなり、結果的にテーパー状となるためである。シンチレータ層6のテーパー状の部分は、膜厚が漸次変化することに起因して、放射線を入射させたときに輝度分布を生じさせてしまい、結果的に撮影、診断用の画像としては使えない。   When the image sensor 9 or CCD camera system and the scintillator panel 1 are combined to create an FPD or CCD-DR, the size of the light emitting surface of the scintillator panel 1 is usually equivalent to the light receiving surface of the image sensor 9 or CCD camera. It is designed to be larger than the part to be. This is because the peripheral portion 6a of the scintillator layer 6 located in the vicinity of the end of the jig holding the substrate 2 or the image sensor 9 becomes slightly shaded against the incidence of CsI vapor when CsI is vacuum-deposited. This is because the film thickness is reduced, resulting in a taper shape. The tapered portion of the scintillator layer 6 causes a luminance distribution when radiation is incident due to the gradual change in film thickness, and as a result cannot be used as an image for imaging or diagnosis. .

したがって、FPDのイメージセンサ9の有効エリア14や、CCD−DRのカメラ系のシンチレータパネル1上のCCD受光部に相当する有効エリア(概ね図7の部分15)には、シンチレータ層6のテーパー部分が差し掛からないように設計するために、結果的に撮影装置の有効エリアより外側にもシンチレータ層6を付着させることになる。
特許第3126715号公報(第3−4頁、図1−2)
Therefore, the effective area 14 of the FPD image sensor 9 and the effective area corresponding to the CCD light receiving portion on the scintillator panel 1 of the CCD-DR camera system (generally, the portion 15 in FIG. 7) have a tapered portion of the scintillator layer 6. As a result, the scintillator layer 6 is attached to the outside of the effective area of the photographing apparatus.
Japanese Patent No. 3126715 (page 3-4, Fig. 1-2)

しかしながら、シンチレータ層6の周辺部6aは、FPDやCCD−DRにおいて被写体を透過した放射線を入射させたときの不必要な発光をもたらし、FPDやCCD−DRの有効エリアの周辺部のコントラストを低下させる問題がある。   However, the peripheral portion 6a of the scintillator layer 6 causes unnecessary light emission when radiation transmitted through the subject is incident on the FPD or CCD-DR, and reduces the contrast of the peripheral portion of the effective area of the FPD or CCD-DR. There is a problem to make.

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、周辺部でのコントラストの低下を防止できるシンチレータパネル、平面検出器および撮影装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a scintillator panel, a flat panel detector, and an imaging device that can prevent a decrease in contrast at the peripheral portion.

本発明のシンチレータパネルは、反射面を有する基板と、この基板の反射面上に形成されたシンチレータ層とを具備し、前記反射面は、前記シンチレータ層の周辺部に対応する領域の反射率がその周辺部以外に対応する領域の反射率より低いものである。   The scintillator panel of the present invention comprises a substrate having a reflecting surface and a scintillator layer formed on the reflecting surface of the substrate, and the reflecting surface has a reflectance in a region corresponding to a peripheral portion of the scintillator layer. The reflectance is lower than that of the corresponding region other than the peripheral portion.

また、本発明の平面検出器は、複数の受光素子が配列されたイメージセンサと、このイメージセンサに組み合わされた前記シンチレータパネルとを具備しているものである。   Further, the flat detector of the present invention includes an image sensor in which a plurality of light receiving elements are arranged, and the scintillator panel combined with the image sensor.

また、本発明の撮影装置は、前記シンチレータパネルと、このシンチレータパネルに対向されるカメラとを具備しているものである。   The photographing apparatus of the present invention includes the scintillator panel and a camera facing the scintillator panel.

また、本発明の平面検出器は、複数の受光素子が配列されたイメージセンサと、このイメージセンサ上に形成されたシンチレータ層と、このシンチレータ層上に形成された反射面とを具備し、前記反射面は、前記シンチレータ層の周辺部に対応する領域の反射率がその周辺部以外に対応する領域の反射率より低いものである。   Further, the flat detector of the present invention comprises an image sensor in which a plurality of light receiving elements are arranged, a scintillator layer formed on the image sensor, and a reflective surface formed on the scintillator layer, The reflection surface has a lower reflectance in a region corresponding to the peripheral portion of the scintillator layer than in a region corresponding to the portion other than the peripheral portion.

本発明のシンチレータパネルによれば、シンチレータ層の周辺部に対応する領域の反射面の反射率をその周辺部以外に対応する領域の反射面の反射率より低くしたため、その反射面の反射率の低い部分で、コントラストの低下の原因となる迷光を吸収し、周辺部でのコントラストの低下を抑えることができる。   According to the scintillator panel of the present invention, the reflectance of the reflecting surface in the region corresponding to the peripheral portion of the scintillator layer is made lower than the reflectance of the reflecting surface in the region corresponding to other than the peripheral portion. It is possible to absorb stray light that causes a decrease in contrast at a low portion and suppress a decrease in contrast at the peripheral portion.

また、本発明の平面検出器および撮影装置によれば、前記シンチレータパネルを用いることにより、コントラスト特性を向上できる。   Further, according to the flat detector and the photographing apparatus of the present invention, the contrast characteristic can be improved by using the scintillator panel.

また、本発明の平面検出器によれば、イメージセンサ上に形成されたシンチレータ層の周辺部に対応する領域の反射面の反射率をその周辺部以外に対応する領域の反射面の反射率より低くしたため、その反射面の反射率の低い部分で、コントラストの低下の原因となる迷光を吸収し、周辺部でのコントラストの低下を抑え、コントラクト特性を向上できる。   Further, according to the flat detector of the present invention, the reflectance of the reflective surface in the region corresponding to the peripheral portion of the scintillator layer formed on the image sensor is determined from the reflectance of the reflective surface in the region corresponding to other than the peripheral portion. Since it is lowered, stray light that causes a decrease in contrast is absorbed in a portion having a low reflectance of the reflecting surface, and a decrease in contrast in the peripheral portion can be suppressed to improve contract characteristics.

以下、本発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1ないし図3に第1の実施の形態を示し、図1はシンチレータパネルの断面図、図2はシンチレータパネルの正面図、図3はシンチレータパネルを用いた貼り合わせ式の平面検出器の断面図である。   1 to 3 show a first embodiment, FIG. 1 is a cross-sectional view of a scintillator panel, FIG. 2 is a front view of the scintillator panel, and FIG. 3 is a cross-section of a bonded flat detector using the scintillator panel. FIG.

図1および図2に示すように、シンチレータパネル21は、放射線透過性の基板としてのガラス基板22上に、反射面23の機能を持たせるアルミニウムのスパッタ膜などで構成される反射膜24、この反射膜24上で反射膜24の周辺部以外の中央域に酸化ケイ素(SiO)のスパッタ膜で構成される保護膜25が塗布され、これら反射膜24および保護膜25上にTlをドープしたCsI(以下単にCsIと称する)が真空蒸着法で成膜されたシンチレータ層26が形成され、反射膜24およびシンチレータ層26を含むガラス基板22の表面側全体を覆うようにポリパラキシリレンをCVD法で塗布された防湿膜27が形成されている。 As shown in FIG. 1 and FIG. 2, a scintillator panel 21 includes a reflective film 24 made of an aluminum sputtered film having a function of a reflective surface 23 on a glass substrate 22 as a radiation transmissive substrate, A protective film 25 made of a sputtered film of silicon oxide (SiO 2 ) is applied on the reflective film 24 in the central region other than the peripheral part of the reflective film 24, and Tl is doped on the reflective film 24 and the protective film 25. A scintillator layer 26 in which CsI (hereinafter simply referred to as CsI) is formed by vacuum deposition is formed, and polyparaxylylene is CVD-coated so as to cover the entire surface side of the glass substrate 22 including the reflective film 24 and the scintillator layer 26. A moisture-proof film 27 applied by the method is formed.

シンチレータ層26は、CsIを真空蒸着法で成膜した場合、ガラス基板22を保持する治具の立ち上がり部により、CsI蒸気の入射に対して陰になる効果で、シンチレータ層26の周辺部26aはテーパー状になる。本例では、シンチレータ層26の周辺部26aつまりテーパー部の領域と、シンチレータ層26が保護膜25の周辺部で反射膜24に直接接触している領域とは、略同じである。   The scintillator layer 26 has an effect of being shaded against the incidence of CsI vapor by the rising portion of the jig that holds the glass substrate 22 when the CsI is formed by vacuum vapor deposition. Tapered. In this example, the peripheral portion 26a of the scintillator layer 26, that is, the region of the tapered portion, and the region where the scintillator layer 26 is in direct contact with the reflective film 24 at the peripheral portion of the protective film 25 are substantially the same.

保護膜25としてポリパラキシリレンのような有機膜を選択することにより、表面の平滑さが向上することにより、反射膜24の反射率を向上させることができる。そのため、シンチレータ層26を反射膜24上に直接接触して形成した部分では、間に保護膜25を挟んだ部分より、シンチレータ層26の膜厚が同じ場合でも、シンチレータ層26の反射膜24と反対の方向に放出される発光量が約30%低下する。   By selecting an organic film such as polyparaxylylene as the protective film 25, the surface smoothness is improved, whereby the reflectance of the reflective film 24 can be improved. Therefore, in the part where the scintillator layer 26 is formed in direct contact with the reflective film 24, even if the film thickness of the scintillator layer 26 is the same as the part where the protective film 25 is sandwiched between the reflective film 24 of the scintillator layer 26, The amount of light emitted in the opposite direction is reduced by about 30%.

したがって、シンチレータパネル21は、シンチレータ層26の周辺部26aに相当する周辺部領域28で発光した光の方が反射膜24に吸収される確率が、その周辺部領域28より内側の中央部領域29で発光した光よりも確率が高いことになり、結果的に周辺部領域28で発生した迷光を吸収することになる。   Therefore, the scintillator panel 21 has a probability that the light emitted from the peripheral region 28 corresponding to the peripheral portion 26a of the scintillator layer 26 is absorbed by the reflective film 24, and the central region 29 inside the peripheral region 28. Thus, the probability is higher than the light emitted at, and as a result, stray light generated in the peripheral region 28 is absorbed.

このように、被写体を透過したX線の像を構成するのに寄与しないシンチレータ層26の周辺部26aに対応する反射面23の反射率を、その周辺部26a以外に対応する領域の反射面23の反射率より低くしたため、その反射面23の反射率の低い部分で、コントラストの低下の原因となる迷光を吸収し、シンチレータパネル21の周辺部でのコントラストの低下を抑えることができる。   As described above, the reflectance of the reflecting surface 23 corresponding to the peripheral portion 26a of the scintillator layer 26 that does not contribute to the construction of the X-ray image transmitted through the subject is set to the reflecting surface 23 of the region corresponding to the portion other than the peripheral portion 26a. Therefore, stray light that causes a decrease in contrast can be absorbed by the low reflectance portion of the reflecting surface 23, and a decrease in contrast in the peripheral portion of the scintillator panel 21 can be suppressed.

反射面23のうち、保護膜25を塗布しない部分の反射率は、塗布した部分よりも反射率が低く、結果的に所望の反射率を得ることができる。しかも、この方法によると、反射面23の周辺部の反射率を落とすために、光吸収膜を塗布するなど、新たな工程を追加することなく目的を実現することができ、結果的にコスト抑制につながる。   Of the reflecting surface 23, the reflectance of the portion where the protective film 25 is not applied is lower than that of the applied portion, and as a result, a desired reflectance can be obtained. Moreover, according to this method, the objective can be realized without adding a new process such as applying a light absorption film in order to reduce the reflectance of the peripheral portion of the reflecting surface 23, resulting in cost reduction. Leads to.

次に、図3に示すように、貼り合わせ式の平面検出器31は、シンチレータパネル21とイメージセンサ32とを貼り合わせて構成されている。   Next, as shown in FIG. 3, the bonding type flat detector 31 is configured by bonding a scintillator panel 21 and an image sensor 32.

イメージセンサ32は、ガラス基板33上に、マトリクス状に配置されたフォトダイオードなどの複数の受光素子34、これら受光素子34からの電気信号を選択的に取り出すスイッチング素子などが形成されている。イメージセンサ32の表面には平坦化層35が形成されている。   The image sensor 32 is formed on a glass substrate 33 with a plurality of light receiving elements 34 such as photodiodes arranged in a matrix, and a switching element that selectively extracts an electric signal from the light receiving elements 34. A planarizing layer 35 is formed on the surface of the image sensor 32.

イメージセンサ32の受光素子34が配置された有効エリア36と、シンチレータパネル21の中央部領域29つまりシンチレータ層26の周辺部26aより内側の領域とが一致するように形成されている。   The effective area 36 where the light receiving element 34 of the image sensor 32 is disposed and the central region 29 of the scintillator panel 21, that is, the region inside the peripheral portion 26a of the scintillator layer 26 are formed to coincide with each other.

このように、平面検出器31は、周辺部でのコントラストの低下を抑えたシンチレータパネル21を用いているので、有効エリア36の周辺部でのコントラスト特性を向上できる。   Thus, since the flat detector 31 uses the scintillator panel 21 in which the decrease in contrast in the peripheral portion is suppressed, the contrast characteristics in the peripheral portion of the effective area 36 can be improved.

次に、図4に第2の実施の形態を示し、図4はシンチレータパネルの断面図である。   Next, FIG. 4 shows a second embodiment, and FIG. 4 is a sectional view of the scintillator panel.

シンチレータパネル21としては、シンチレータ層26の周辺部26aつまりテーパー部の領域において、反射膜24とシンチレータ層26との間に、グラファイトのスパッタ膜などの光吸収膜38が形成されている。   In the scintillator panel 21, a light absorption film 38 such as a sputtered graphite film is formed between the reflective film 24 and the scintillator layer 26 in the peripheral portion 26a of the scintillator layer 26, that is, in the tapered region.

この光吸収膜38を形成することにより、シンチレータパネル21の周辺部領域28で発生した迷光をより確実に吸収することができ、コントラストの低下をより抑えることができる。   By forming the light absorbing film 38, stray light generated in the peripheral region 28 of the scintillator panel 21 can be more reliably absorbed, and a decrease in contrast can be further suppressed.

なお、保護膜25は必ずしも無くても、コントラスト向上の効果は得られるが、有効エリア部の放射線に対する感度を考慮すると、保護膜25もあった方がより好ましい。   Even if the protective film 25 is not necessarily provided, the effect of improving the contrast can be obtained, but it is more preferable to have the protective film 25 in consideration of the sensitivity of the effective area to the radiation.

次に、図5に第3の実施の形態を示し、図5はシンチレータパネルの断面図である。   Next, FIG. 5 shows a third embodiment, and FIG. 5 is a sectional view of the scintillator panel.

第2の実施の形態のシンチレータパネル21において、シンチレータ層26の周辺部26aつまりテーパー部の領域の表面に、グラファイトのスパッタ膜などの光吸収膜39が形成されている。   In the scintillator panel 21 of the second embodiment, a light absorption film 39 such as a sputtered graphite film is formed on the surface of the peripheral portion 26a of the scintillator layer 26, that is, the tapered portion region.

この光吸収膜38と光吸収膜39との両方を形成することにより、シンチレータパネル21の周辺部領域28で発生した迷光をより確実に吸収することができ、コントラストの低下をより抑えることができる。   By forming both the light absorption film 38 and the light absorption film 39, stray light generated in the peripheral region 28 of the scintillator panel 21 can be more reliably absorbed, and a decrease in contrast can be further suppressed. .

また、上述したシンチレータパネル21は、シンチレータパネル21にCCDカメラなどのカメラを対向させた撮影装置(CCD−DR)にも適用できる。この撮影装置の場合にも、周辺部でのコントラストの低下を抑えたシンチレータパネル21を用いているので、カメラの有効エリアの周辺部でのコントラスト特性を向上できる。   The scintillator panel 21 described above can also be applied to a photographing device (CCD-DR) in which a scintillator panel 21 is opposed to a camera such as a CCD camera. Also in the case of this photographing apparatus, since the scintillator panel 21 that suppresses the decrease in contrast in the peripheral portion is used, the contrast characteristics in the peripheral portion of the effective area of the camera can be improved.

次に、図6に第4の実施の形態を示し、図6は平面検出器の断面図である。   Next, FIG. 6 shows a fourth embodiment, and FIG. 6 is a sectional view of a flat detector.

平面検出器41は、直接蒸着式平面検出器であり、イメージセンサ42を備えている。このイメージセンサ42は、ガラス基板43上に、マトリクス状に配置されたフォトダイオードなどの複数の受光素子44、これら受光素子44からの電気信号を選択的に取り出すスイッチング素子などが形成されている。イメージセンサ42の表面には平坦化層45が形成されている。   The flat detector 41 is a direct vapor deposition type flat detector and includes an image sensor 42. In the image sensor 42, a plurality of light receiving elements 44 such as photodiodes arranged in a matrix and a switching element for selectively extracting an electric signal from the light receiving elements 44 are formed on a glass substrate 43. A planarizing layer 45 is formed on the surface of the image sensor 42.

イメージセンサ42の上に、CsIで構成されるシンチレータ層46が真空蒸着法で成膜されている。シンチレータ層46は、CsIを真空蒸着法で成膜した場合、イメージセンサ42を保持する治具の立ち上がり部により、CsI蒸気の入射に対して陰になる効果で、シンチレータ層46の周辺部46aはテーパー状になる。本例では、シンチレータ層46の周辺部46aつまりテーパー部の領域より内側の領域と、イメージセンサ42の受光素子44が配置された有効エリア47とは、略同じである。   A scintillator layer 46 made of CsI is formed on the image sensor 42 by a vacuum deposition method. The scintillator layer 46 has the effect of being shaded against the incidence of CsI vapor by the rising portion of the jig that holds the image sensor 42 when the CsI is formed by vacuum deposition, and the peripheral portion 46a of the scintillator layer 46 is Tapered. In this example, the peripheral area 46a of the scintillator layer 46, that is, the area inside the area of the tapered portion, and the effective area 47 where the light receiving element 44 of the image sensor 42 is disposed are substantially the same.

シンチレータ層46の周辺部46aつまりテーパー部の領域より内側の領域であって、イメージセンサ42の受光素子44が配置された有効エリア47に対応した領域に、SiOのスパッタ膜で構成される保護膜48が形成されている。 A protection composed of a sputtered film of SiO 2 in a region corresponding to the effective area 47 where the light receiving element 44 of the image sensor 42 is disposed, which is a region inside the peripheral portion 46a of the scintillator layer 46, that is, a region of the tapered portion. A film 48 is formed.

シンチレータ層46および保護膜48を含むイメージセンサ42の表面全体を覆って、反射面49を構成するアルミニウムのスパッタ膜で構成される反射膜50、ポリパラキシリレンをCVD法で積層した防湿膜51が順次積層されている。   Covering the entire surface of the image sensor 42 including the scintillator layer 46 and the protective film 48, a reflective film 50 made of an aluminum sputtered film constituting the reflective surface 49, and a moisture-proof film 51 in which polyparaxylylene is laminated by a CVD method Are sequentially stacked.

このような平面検出器41の場合、被写体を透過したX線像が図6の上方から入射してきた場合、シンチレータ層46のCsIの周辺部46aで発光した光は、周辺部46aの反射膜50とシンチレータ層46が接触した界面で光が吸収され、無駄な迷光が吸収されるので、コントラストの低下が抑えられる。   In the case of such a flat detector 41, when an X-ray image transmitted through the subject is incident from above in FIG. 6, the light emitted from the peripheral portion 46a of the CsI of the scintillator layer 46 is reflected by the reflection film 50 of the peripheral portion 46a. Since the light is absorbed at the interface where the scintillator layer 46 is in contact, and the useless stray light is absorbed, the decrease in contrast can be suppressed.

反射面49のうち、保護膜48を塗布しない部分の反射率は、塗布した部分よりも反射率が低く、結果的に所望の反射率を得ることができる。しかも、この方法によると、反射面49の周辺部の反射率を落とすために、光吸収膜を塗布するなど、新たな工程を追加することなく目的を実現することができ、結果的にコスト抑制につながる。   Of the reflecting surface 49, the reflectance of the portion where the protective film 48 is not applied is lower than that of the coated portion, and as a result, a desired reflectance can be obtained. Moreover, according to this method, the purpose can be realized without adding a new process such as applying a light absorption film in order to reduce the reflectance of the peripheral portion of the reflection surface 49, resulting in cost reduction. Leads to.

なお、この平面検出器41の場合も、シンチレータ層46のテーパー部に対応して光吸収層を塗布してもよい。   In the case of the flat detector 41, a light absorption layer may be applied corresponding to the tapered portion of the scintillator layer 46.

また、前記シンチレータパネル21において、反射面23は、ガラス基板22上の反射膜24に限らず、アルミニウム、ベリリウム、チタンといった金属を主成分とする基板の材料の圧延加工を終了したそのままの状態も含まれるし、それらの基板材に対して、脱脂処理、化学研磨法、超音波洗浄法といった通常の洗浄法を施すのみで反射面23とすることもあれば、それらの基板材を鏡面研磨することも含まれる。また、金属を主成分とする基板以外にも、ガラス、炭素繊維、ガラス状カーボン、プラスチック類の基板材の上に、金属反射膜を塗布したものも、反射面23に含まれる。   Further, in the scintillator panel 21, the reflecting surface 23 is not limited to the reflecting film 24 on the glass substrate 22, but may be in a state in which the rolling process of the substrate material mainly composed of a metal such as aluminum, beryllium, or titanium is finished. In addition, these substrate materials may be made into a reflective surface 23 only by performing a normal cleaning method such as a degreasing process, a chemical polishing method, or an ultrasonic cleaning method, or those substrate materials are mirror-polished. It is also included. In addition to the substrate mainly composed of metal, the reflecting surface 23 includes a substrate made of glass, carbon fiber, glassy carbon, or plastic and coated with a metal reflecting film.

また、直接蒸着式の平面検出器41において、反射膜50は、Al以外に、Ag、Au、Pd、Cr等のスパッタもしくはその他のプロセスで成膜された薄膜も含まれる。   In the direct vapor deposition type flat panel detector 41, the reflective film 50 includes not only Al but also a thin film formed by sputtering or other processes such as Ag, Au, Pd, and Cr.

また、本発明で規定した反射面23,49とは、表面の反射能力を特に規定したものではなく、素材表面と、全ての材料に反射膜24,50を塗布した表面とを包括的に表現した語句であると同時に、完全に反射率が0とは言えない全ての表面が含まれる。したがって、反射膜24,50を平面検出器31や撮影装置の有効エリア以外の部分には塗布しない構成も、シンチレータパネル21においてガラス状カーボンのように反射率の低い基板に反射膜24を塗布する構成も、本発明に含まれる。   In addition, the reflecting surfaces 23 and 49 defined in the present invention do not particularly define the reflecting ability of the surface, but comprehensively represent the surface of the material and the surface where the reflecting films 24 and 50 are applied to all materials. In addition, all surfaces that have a reflectance that is not completely zero are included. Therefore, the configuration in which the reflection films 24 and 50 are not applied to portions other than the effective area of the flat detector 31 or the imaging apparatus is also applied to the substrate having a low reflectance such as glassy carbon in the scintillator panel 21. The configuration is also included in the present invention.

また、シンチレータ層26,46には、CsI以外に、ガドリニウム硫酸化物(通称GOS)、タングステン酸カルシウム、ヨウ化ナトリウム(NaI)等を主成分としたものも含まれる。   Further, the scintillator layers 26 and 46 include not only CsI but also those containing gadolinium sulfate (commonly called GOS), calcium tungstate, sodium iodide (NaI) or the like as main components.

また、保護膜25,48には、SiO以外に、LiF、MgO、SiN、SiNO、TiO、CaF、MgF等の材料も含まれる。 Further, the protective film 25, 48 is, in addition to SiO 2, LiF, MgO, SiN , SiNO, also included materials TiO 2, CaF 2, MgF 2 or the like.

また、防湿膜27,51には、ポリパラキシリレン以外に、ポリイミド、ポリ尿素、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアゾメチン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビリニデン、ポリアミド系合成繊維、塩化ビリニデン−演歌ビニル共重合体、ポリオレフィン、エポキシ系樹脂、ポリアクリレート、軟質エポキシといった高分子材料、もしくはそれらと、SiO、SiNO、In、Si、SiC、Alといった薄膜で可視光に対して透明な無機膜との多層膜なども含まれる。 In addition to polyparaxylylene, the moisture-proof films 27 and 51 include polyimide, polyurea, polyamide, polyurethane, polyazomethine, nitrocellulose, cellulose acetate, polycarbonate, polyester, polyvinylidene chloride, polyamide synthetic fiber, and vinylidene chloride. - Enka vinyl copolymer, polyolefin, epoxy resins, polyacrylates, thin polymeric material such as a soft epoxy or a thereof, such as SiO 2, SiNO, In 2 O 3, Si 3 N 4, SiC, Al 2 O 3 And a multilayer film with an inorganic film transparent to visible light.

本発明の第1の実施の形態を示すシンチレータパネルの断面図である。It is sectional drawing of the scintillator panel which shows the 1st Embodiment of this invention. 同上シンチレータパネルの正面図である。It is a front view of a scintillator panel same as the above. 同上シンチレータパネルを用いた貼り合わせ式の平面検出器の断面図である。It is sectional drawing of the bonding type | formula flat detector using a scintillator panel same as the above. 本発明の第2の実施の形態を示すシンチレータパネルの断面図である。It is sectional drawing of the scintillator panel which shows the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態を示すシンチレータパネルの断面図である。It is sectional drawing of the scintillator panel which shows the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施の形態を示す直接蒸着式の平面検出器の断面図である。It is sectional drawing of the direct vapor deposition type flat detector which shows the 4th Embodiment of this invention. 従来のシンチレータパネルの断面図である。It is sectional drawing of the conventional scintillator panel. 従来の貼り合わせ式の平面検出器の断面図である。It is sectional drawing of the conventional bonding type | formula flat detector. 従来の直接蒸着式の平面検出器の断面図である。It is sectional drawing of the conventional direct vapor deposition type flat detector.

符号の説明Explanation of symbols

21 シンチレータパネル
22 基板としてのガラス基板
23 反射面
24 反射膜
25 保護膜
26 シンチレータ層
26a 周辺部
31 平面検出器
32 イメージセンサ
36 有効エリア
41 平面検出器
42 イメージセンサ
46 シンチレータ層
46a 周辺部
47 有効エリア
48 保護膜
49 反射面
50 反射膜
21 Scintillator panel
22 Glass substrate as substrate
23 Reflective surface
24 Reflective film
25 Protective film
26 Scintillator layer
26a peripheral part
31 Flat detector
32 Image sensor
36 Effective area
41 Planar detector
42 Image sensor
46 Scintillator layer
46a peripheral
47 Effective area
48 Protective film
49 Reflecting surface
50 Reflective film

Claims (9)

反射面を有する基板と、
この基板の反射面上に形成されたシンチレータ層とを具備し、
前記反射面は、前記シンチレータ層の周辺部に対応する領域の反射率がその周辺部以外に対応する領域の反射率より低い
ことを特徴とするシンチレータパネル。
A substrate having a reflective surface;
A scintillator layer formed on the reflective surface of the substrate,
The scintillator panel according to claim 1, wherein the reflective surface has a reflectance of a region corresponding to a peripheral portion of the scintillator layer lower than a reflectance of a region corresponding to a portion other than the peripheral portion.
基板上に形成された反射面を構成する反射膜と、
この反射膜上でシンチレータ層の周辺部以外の領域に形成された保護膜とを具備している
ことを特徴とする請求項1記載のシンチレータパネル。
A reflective film constituting a reflective surface formed on the substrate;
The scintillator panel according to claim 1, further comprising: a protective film formed in a region other than a peripheral portion of the scintillator layer on the reflective film.
複数の受光素子が配列されたイメージセンサと、
このイメージセンサに組み合わされた請求項1または2記載のシンチレータパネルと
を具備していることを特徴とする平面検出器。
An image sensor in which a plurality of light receiving elements are arranged;
A flat detector comprising: the scintillator panel according to claim 1 combined with the image sensor.
シンチレータ層の周辺部の領域は、イメージセンサの有効エリア外に対応する
ことを特徴とする請求項3記載の平面検出器。
The flat detector according to claim 3, wherein a region around the scintillator layer corresponds to an area outside the effective area of the image sensor.
請求項1または2記載のシンチレータパネルと、
このシンチレータパネルに対向されるカメラと
を具備していることを特徴とする撮影装置。
A scintillator panel according to claim 1 or 2,
And a camera facing the scintillator panel.
シンチレータ層の周辺部の領域は、カメラの有効エリア外に対応する
ことを特徴とする請求項5記載の撮影装置。
The imaging device according to claim 5, wherein a region around the scintillator layer corresponds to an area outside the effective area of the camera.
複数の受光素子が配列されたイメージセンサと、
このイメージセンサ上に形成されたシンチレータ層と、
このシンチレータ層上に形成された反射面とを具備し、
前記反射面は、前記シンチレータ層の周辺部に対応する領域の反射率がその周辺部以外に対応する領域の反射率より低い
ことを特徴とする平面検出器。
An image sensor in which a plurality of light receiving elements are arranged;
A scintillator layer formed on the image sensor;
A reflective surface formed on the scintillator layer,
The flat surface detector, wherein the reflective surface has a lower reflectance of a region corresponding to a peripheral portion of the scintillator layer than a reflectance of a region corresponding to a portion other than the peripheral portion.
シンチレータ層上の周辺部以外の領域に形成された保護膜、およびシンチレータ層上および保護膜上に形成された反射面を構成する反射膜を有している
ことを特徴とする請求項7記載のシンチレータパネル。
The protective film formed in a region other than the peripheral portion on the scintillator layer, and the reflective film constituting the reflective surface formed on the scintillator layer and the protective film. Scintillator panel.
シンチレータ層の周辺部の領域は、イメージセンサの有効エリア外に対応する
ことを特徴とする請求項7または8記載の平面検出器。
The flat detector according to claim 7 or 8, wherein a region in a peripheral portion of the scintillator layer corresponds to an area outside the effective area of the image sensor.
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