JP2007250593A - Device, method and program of making wafer transfer procedure - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ウェーハ移載手順作成装置、ウェーハ移載手順作成方法及びウェーハ移載手順作成プログラムに関し、より詳細には、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するためのウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成装置、ウェーハ移載手順作成方法及びウェーハ移載手順作成プログラムに関する。 The present invention relates to a wafer transfer procedure creation device, a wafer transfer procedure creation method, and a wafer transfer procedure creation program. More specifically, the present invention relates to a wafer transfer procedure for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers. The present invention relates to a wafer transfer procedure creation device, a wafer transfer procedure creation method, and a wafer transfer procedure creation program for generating a loading procedure.
一般に、トランジスタやIC、LSIなどの半導体装置は、半導体ウェーハに対して数十〜数百の工程を実施することにより製造される。このため、半導体工場には多数の製造装置が設置され、ウェーハを搭載したキャリアが製造装置間を搬送されて各製造装置に供給される。また、近年、半導体工場には少量多品種生産が求められることが多い。この場合、製造される品種によって工程の数や順序が異なるため、1台の製造装置を工程の配列が異なる複数の品種が通過することになる。 Generally, semiconductor devices such as transistors, ICs, and LSIs are manufactured by performing tens to hundreds of processes on a semiconductor wafer. For this reason, many manufacturing apparatuses are installed in the semiconductor factory, and a carrier carrying a wafer is transported between the manufacturing apparatuses and supplied to each manufacturing apparatus. In recent years, semiconductor factories are often required to produce small quantities of various products. In this case, since the number and order of the processes differ depending on the types to be manufactured, a plurality of types having different process arrangements pass through one manufacturing apparatus.
半導体装置の製造装置には、キャリアに搭載されたウェーハを1枚ずつ処理する枚葉式の製造装置と、キャリアに搭載された複数枚のウェーハを同時に処理するバッチ式の製造装置とがある。従来は、製品の納期を早めるために、バッチ式の製造装置を使用する場合において、例えば24枚のウェーハが入るキャリアに12枚しかウェーハが入っていなくても、同じ工程を施す他のウェーハの到着を待つことなく、この12枚のウェーハのみを先行して処理していた。しかし、バッチ式の製造装置の稼働能率を向上させるためには、キャリアに目一杯ウェーハを搭載した状態で処理を行うことが好ましい。このため、製造装置間において、ウェーハをあるキャリアから他のキャリアに移載する作業が必要となる。 Semiconductor device manufacturing apparatuses include a single wafer type manufacturing apparatus that processes wafers mounted on a carrier one by one and a batch type manufacturing apparatus that simultaneously processes a plurality of wafers mounted on a carrier. Conventionally, when a batch type manufacturing apparatus is used in order to accelerate the delivery time of a product, for example, even if only 12 wafers are contained in a carrier containing 24 wafers, Only the 12 wafers were processed in advance without waiting for arrival. However, in order to improve the operating efficiency of the batch-type manufacturing apparatus, it is preferable to perform the processing with a full wafer mounted on the carrier. For this reason, the operation | work which transfers a wafer from one carrier to another carrier between manufacturing apparatuses is needed.
近年、半導体工場においては、製造装置、及びこの製造装置間においてキャリアを搬送する搬送装置の多くが自動化され、省人化が図られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、製造装置の稼働能率を上げるためのキャリア間のウェーハの移載は、その都度作業者の指示によって行われている。 In recent years, in a semiconductor factory, many manufacturing apparatuses and transfer apparatuses that transfer carriers between the manufacturing apparatuses have been automated to save labor (for example, see Patent Document 1). However, the transfer of the wafer between the carriers for increasing the operating efficiency of the manufacturing apparatus is performed in accordance with an instruction from the operator each time.
本発明は、キャリアからキャリアへのウェーハの移載を自動的に行うための移載手順を作成できるウェーハ移載手順作成装置、ウェーハ移載手順作成方法及びウェーハ移載手順作成プログラムを提供することを目的とする。 The present invention provides a wafer transfer procedure creation device, a wafer transfer procedure creation method, and a wafer transfer procedure creation program capable of creating a transfer procedure for automatically transferring a wafer from carrier to carrier. With the goal.
本発明の一態様によれば、
複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成装置であって、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、
選択された各キャリアについて、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順を生成し、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順を生成し、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順を生成することを特徴とするウェーハ移載手順作成装置が提供される。
According to one aspect of the invention,
A wafer transfer procedure creating device for generating a transfer procedure of the wafer for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers,
Sequentially selecting one carrier from the plurality of carriers,
For each carrier selected
Based on the comparison result between the current wafer arrangement state and the target wafer arrangement state, if there is a wafer to be evacuated from the one carrier, a first procedure for evacuating the wafer is generated,
Based on the comparison result, a second procedure is generated for moving a wafer to be moved in the one carrier, if any.
On the basis of the comparison result, there is provided a wafer transfer procedure creating apparatus that generates a third procedure for transferring a wafer to be transferred from another carrier to the one carrier, if any.
また、本発明の他の一態様によれば、
複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成するウェーハ移載手順作成方法であって、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択する工程と、
選択された前記一のキャリアについてウェーハの移載手順を生成する工程と、
を備え、
前記ウェーハの移載手順を生成する工程は、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順を生成する工程と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順を生成する工程と、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順を生成する工程と、
を有することを特徴とするウェーハ移載手順作成方法が提供される。
According to another aspect of the present invention,
A wafer transfer procedure creation method for generating a transfer procedure of the wafer for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers,
Sequentially selecting one carrier from the plurality of carriers;
Generating a wafer transfer procedure for the selected one carrier;
With
The step of generating the wafer transfer procedure is as follows:
Generating a first procedure for evacuating any wafer to be evacuated from the one carrier based on a comparison result between the current wafer arrangement state and a target wafer arrangement state;
Generating a second procedure for moving any wafers to be moved within the one carrier based on the comparison result; and
Generating a third procedure for transferring, if any, a wafer to be transferred to the one carrier from another carrier based on the comparison result;
A method for creating a wafer transfer procedure is provided.
更に、本発明の更に他の一態様によれば、
コンピュータに、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態を変更するための前記ウェーハの移載手順を生成させるウェーハ移載手順作成プログラムであって、
前記コンピュータに、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、
選択された各キャリアについて、
前記複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態が記憶されたデータベースから、選択された前記一のキャリアにおける現状のウェーハの配置状態を抽出してメモリに記憶させ、この記憶された前記現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態とを比較する機能と、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順を生成する機能と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順を生成する機能と、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順を生成する機能と、
を実現させることを特徴とするウェーハ移載手順作成プログラムが提供される。
Furthermore, according to yet another aspect of the present invention,
A wafer transfer procedure creation program for causing a computer to generate a transfer procedure of the wafer for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers,
In the computer,
Sequentially selecting one carrier from the plurality of carriers,
For each carrier selected
The current wafer arrangement state in the selected one carrier is extracted from the database storing the arrangement state of the wafers mounted on the plurality of carriers and stored in the memory, and the stored current wafer is stored. A function for comparing the arrangement state of the target and the target wafer arrangement state,
A function for generating a first procedure for evacuating a wafer to be evacuated from the one carrier, based on a comparison result between a current wafer arrangement state and a target wafer arrangement state;
A function for generating a second procedure for moving, if any, a wafer to be moved in the one carrier based on the comparison result;
Based on the comparison result, a function of generating a third procedure for transferring a wafer to be transferred from another carrier to the one carrier, if any,
A wafer transfer procedure creation program characterized by realizing the above is provided.
本発明によれば、キャリアからキャリアへのウェーハの移載を自動的に行うための移載手順を作成することができる。 According to the present invention, it is possible to create a transfer procedure for automatically transferring a wafer from a carrier to a carrier.
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
図1は、本実施形態における汚染制約を例示する模式図であり、
図2は、本実施形態におけるソータの汚染制約を例示する模式図である。
また、図3は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置が設置された半導体工場を例示する俯瞰図であり、
図4は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置の要部構成を例示するブロック図であり、
図5は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法を例示するフローチャート図である。
なお、本実施形態において、「ウェーハ」は、例えばシリコンの単結晶からなるウェーハであり、「キャリア」は、複数枚のウェーハを収納する搬送用の容器であり、「ソータ」は、例えばウェーハの裏面を吸着することによりこのウェーハを保持して、キャリアからキャリアにウェーハを移載するウェーハ移載装置である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic view illustrating the contamination restriction in the present embodiment.
FIG. 2 is a schematic view illustrating the contamination restriction of the sorter in the present embodiment.
FIG. 3 is an overhead view illustrating a semiconductor factory in which the wafer transfer procedure creation device according to the present embodiment is installed.
FIG. 4 is a block diagram illustrating the main configuration of the wafer transfer procedure creation device according to this embodiment.
FIG. 5 is a flowchart illustrating the wafer transfer procedure creation method according to this embodiment.
In this embodiment, the “wafer” is, for example, a wafer made of a single crystal of silicon, the “carrier” is a container for transporting a plurality of wafers, and the “sorter” is, for example, a wafer. This is a wafer transfer device that holds the wafer by sucking the back surface and transfers the wafer from the carrier to the carrier.
先ず、ウェーハ移載手順の作成にあたって遵守しなくてはならないウェーハ、キャリア、ソータの汚染制約について説明する。
図1に例示したように、本実施形態においては、ウェーハ及びキャリアの汚染状態を、例えば6つのカテゴリα(アルファ)、β(ベータ)、γ(ガンマ)、δ(デルタ)、ε(イプシロン)、ζ(ゼータ)に分類する。例えば、ある物質αを使用する処理を行う装置により汚染されたウェーハは、カテゴリαに属するものとする。また、物質αにより汚染されたキャリアも、カテゴリαに属する。
First, contamination restrictions on wafers, carriers, and sorters that must be observed when creating a wafer transfer procedure will be described.
As illustrated in FIG. 1, in this embodiment, the contamination state of the wafer and the carrier is classified into, for example, six categories α (alpha), β (beta), γ (gamma), δ (delta), and ε (epsilon). , Ζ (zeta). For example, a wafer contaminated by an apparatus that performs a process using a certain substance α is assumed to belong to the category α. Carriers contaminated with the substance α also belong to the category α.
図1に示す矢印は、キャリア間においてウェーハの移載が可能な方向を示している。図1に示すように、同一のカテゴリに属するキャリア間において、このカテゴリに属するウェーハを移載することは可能である。例えば、カテゴリαのウェーハを、カテゴリαのキャリアから他のカテゴリαのキャリアに移載することは可能である。 The arrows shown in FIG. 1 indicate directions in which wafers can be transferred between carriers. As shown in FIG. 1, it is possible to transfer wafers belonging to this category between carriers belonging to the same category. For example, a category α wafer can be transferred from a category α carrier to another category α carrier.
これに対して、異なるカテゴリに属するキャリア間におけるウェーハの移載には、一定の制約がある。例えば、カテゴリγに属するウェーハを、カテゴリβのキャリアに移載することはできない。カテゴリβのキャリアが、物質γによって二次汚染されてしまうからである。 On the other hand, there are certain restrictions on the transfer of wafers between carriers belonging to different categories. For example, a wafer belonging to category γ cannot be transferred to a category β carrier. This is because the category β carrier is secondarily contaminated by the substance γ.
しかし、その逆に、カテゴリβに属するウェーハを、カテゴリγのキャリアに移載することは可能である。カテゴリβよりもカテゴリγの方が汚染の度合いが高いため、カテゴリγのキャリアにカテゴリβのウェーハが移載されても、このカテゴリγのキャリアが更に汚染されることはないからである。但し、この場合、カテゴリβのキャリアからカテゴリγのキャリアに移載されたウェーハは、カテゴリγのキャリアによって汚染されるため、以後はカテゴリγに属することになる。このように、あるカテゴリのキャリアに搭載されているウェーハは、このキャリアと同じカテゴリに属することになる。なお、一例を挙げると、カテゴリβはアルミニウム(Al)により汚染された状態であり、カテゴリγは銅(Cu)により汚染された状態である。 However, conversely, it is possible to transfer a wafer belonging to category β to a carrier of category γ. This is because the category γ has a higher degree of contamination than the category β, so even if a category β wafer is transferred to the category γ carrier, the category γ carrier is not further contaminated. However, in this case, since the wafer transferred from the carrier of category β to the carrier of category γ is contaminated by the carrier of category γ, it will belong to category γ thereafter. Thus, a wafer mounted on a carrier of a certain category belongs to the same category as this carrier. As an example, category β is a state contaminated with aluminum (Al), and category γ is a state contaminated with copper (Cu).
上述の如く、カテゴリ間には、汚染の程度によって序列が存在し、一方のカテゴリのキャリアから他方のカテゴリのキャリアへの移載は可能でも、その逆方向の移載は禁止される一方通行の関係が存在する。また、カテゴリαとカテゴリβのように、両方向で移載が可能となる関係も存在する。更に、カテゴリδとカテゴリεのように、両方向で移載が禁止される関係も存在する。なお、ウェーハ及びキャリアは、洗浄工程を経ることにより、汚染の程度がより低いカテゴリに移籍する。 As described above, there is an order between categories depending on the degree of contamination, and even if transfer from one category carrier to another category carrier is possible, the reverse transfer is prohibited. A relationship exists. In addition, there is a relationship that enables transfer in both directions, such as category α and category β. Furthermore, there is a relationship in which transfer is prohibited in both directions, such as category δ and category ε. Note that the wafer and the carrier are transferred to a category having a lower degree of contamination through a cleaning process.
また、ソータのアームがウェーハの裏面に吸着してこのウェーハを保持することにより、このアームとウェーハとの間でも汚染が拡散する。このため、ソータにも図2に例示したような汚染制約が課せられている。ソータは、例えば、カテゴリαを除くカテゴリ、即ち、カテゴリβ、γ、δ、ε、ζに分類される。そして、第1ポートに配置されたキャリアから第2ポートに配置されたキャリアにウェーハを移載する場合、カテゴリβに属するソータは、カテゴリβ又はカテゴリαに属するキャリアから、カテゴリα〜ζのいずれのキャリアにもウェーハを移載することができる。 Further, when the sorter arm is attracted to the back surface of the wafer and held, the contamination is diffused between the arm and the wafer. For this reason, the sorter is also imposed with a contamination restriction as illustrated in FIG. Sorters are classified into categories excluding category α, that is, categories β, γ, δ, ε, and ζ. When the wafer is transferred from the carrier arranged at the first port to the carrier arranged at the second port, the sorter belonging to the category β can select any of the categories α to ζ from the carriers belonging to the category β or the category α. Wafers can also be transferred to other carriers.
また、カテゴリγに属するソータは、カテゴリγ又はカテゴリβのキャリアから、カテゴリγ又はカテゴリζのキャリアにウェーハを移載することができる。更に、カテゴリδに属するソータは、カテゴリδ又はカテゴリβのキャリアから、カテゴリδのキャリアにウェーハを移載することができる。更にまた、カテゴリεに属するソータは、カテゴリε又はカテゴリβのキャリアから、カテゴリεのキャリアにウェーハを移載することができる。更にまた、カテゴリζに属するソータは、カテゴリζのキャリアから、カテゴリζのキャリアのみにウェーハを移載することができる。 A sorter belonging to category γ can transfer a wafer from a carrier of category γ or category β to a carrier of category γ or category ζ. Further, the sorter belonging to category δ can transfer the wafer from the carrier of category δ or category β to the carrier of category δ. Furthermore, a sorter belonging to category ε can transfer a wafer from a carrier of category ε or category β to a carrier of category ε. Furthermore, a sorter belonging to category ζ can transfer a wafer from a carrier of category ζ only to a carrier of category ζ.
このように、ウェーハについては、図1に示す制約を遵守する限り、異なるカテゴリ間の移動が可能である。但し、移動させたウェーハのカテゴリは、移動先のキャリアと同じカテゴリになる。これに対して、キャリア及びソータのカテゴリを変えてしまうと、以後のキャリア及びソータの運用方法が変わってしまうため、キャリア及びソータのカテゴリは固定とし、これらのカテゴリを変更するような移載は許可されない。 In this way, the wafer can be moved between different categories as long as the constraints shown in FIG. 1 are observed. However, the category of the moved wafer is the same category as the destination carrier. On the other hand, if the carrier and sorter categories are changed, the subsequent carrier and sorter operation method will change, so the carrier and sorter categories will be fixed, and transfer to change these categories will not be possible. Not allowed.
このような汚染制約を考慮して、ウェーハをキャリアからキャリアに移載する手順を作成するウェーハ移載手順作成装置について説明する。
図3に例示したように、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置10は、半導体工場100内に設置されている。半導体工場100においては、複数の製造装置11が設置されており、これらの製造装置11間においてキャリアを搬送する搬送装置12が設けられている。搬送装置12は、製造装置11間を結ぶように敷設されたレール13と、このレール13に案内されてキャリアを搬送する複数台のカート14とから構成されている。そして、レール13の軌道上に、搬送装置12に対してキャリアを乗降させると共にキャリアを一時的に保持するストッカ15が設けられており、このストッカ15に隣接してソータ16が設けられており、このソータ16に隣接してウェーハ移載手順作成装置10が配置されている。ウェーハ移載手順作成装置10は、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態(以下、「ウェーハ構成」という)を他の配置状態に変更するためのウェーハの移載手順を生成するものである。そして、この生成された移載手順に基づいて、ソータ16がウェーハの移載を行い、キャリア間でのウェーハの組み替えを自動的に行うようになっている。
A wafer transfer procedure creation apparatus that creates a procedure for transferring a wafer from a carrier to a carrier in consideration of such contamination restrictions will be described.
As illustrated in FIG. 3, the wafer transfer
図4に示すように、ウェーハ移載手順作成装置10においては、入力部1、目標構成決定部2、移載手順決定部3、出力部4及びメモリ5が設けられている。また、ウェーハ移載手順作成装置10は、半導体工場100(図3参照)内に設けられたデータベース21に接続されている。データベース21には、半導体工場100内に存在するキャリアのウェーハ構成が記憶されている。また、データベース21には、図2に示すようなソータの汚染制約の情報も記憶されている。
As shown in FIG. 4, the wafer transfer
入力部1は、次工程が要求するウェーハ構成(以下、「要求ウェーハ構成」ともいう)を入力する部分であり、例えば、キーボード及び表示パネル又はタッチパネルディスプレイ等が設けられている。又は、入力部1は、半導体工場全体の工程管理を行う上位の自動化システムから命令を受け取るインタフェースであってもよい。なお、以下、半導体工場内のデータベース21からウェーハ移載手順作成装置10に提供されるキャリアの現状のウェーハ構成を、「提供ウェーハ構成」という。
The
目標構成決定部2は、図5のステップS2に示す目標構成の決定工程を実行する。目標構成決定部2は、要求ウェーハ構成を含み、提供ウェーハ構成に含まれ要求ウェーハ構成に含まれないウェーハの移載先も含み、且つ、汚染制約を満たすウェーハ構成を、移載の目標とするウェーハ構成(以下、「目標ウェーハ構成」という)として決定するものである。
The target
移載手順決定部3は、ステップS3に示す移載手順の決定工程及びステップS4に示すソータの選定工程を実行する。移載手順決定部3は、提供ウェーハ構成から目標構成決定部2により決定された目標ウェーハ構成に移行するための具体的な移載手順を生成すると共に、これらの移載を行うソータを選定するものである。なお、目標構成決定部2と移載手順決定部3は、コンピュータのCPU(Central Processing Unit:中央処理装置)
により実現できる。
The transfer
Can be realized.
出力部4は、移載手順決定部3により決定された移載手順を出力する部分であり、例えば、ソータに移載命令を出力するインタフェースである。また、作業者に対して移載手順を表示する表示パネルを備えていてもよく、この表示パネルは、入力部1の表示パネルと兼用されていてもよい。
The
メモリ5は、目標構成決定部2及び移載手順決定部3に接続されており、目標構成決定部2及び移載手順決定部3がデータベース21から抽出したデータを一時的に記憶するものである。メモリ5は、例えば、RAM(Random Access Memory:ランダムアクセスメモリ)等の半導体記憶装置により実現することができる。
The
次に、上述の如く構成されたウェーハ移載手順作成装置の動作、即ち、ウェーハ移載手順作成方法について説明する。
図6は、図5に示す目標構成決定工程を示すフローチャート図であり、
図7〜図12は、目標構成決定工程の各段階におけるウェーハ構成を例示する模式図であり、各図の(a)は移載後のウェーハ構成(target)を示し、(b)は移載前のウェーハ構成(before)を示す。
また、図13は、データベース21に記憶されたデータの一部を例示する図である。
Next, the operation of the wafer transfer procedure creation apparatus configured as described above, that is, the wafer transfer procedure creation method will be described.
FIG. 6 is a flowchart showing the target configuration determination step shown in FIG.
FIGS. 7 to 12 are schematic views illustrating the wafer configuration at each stage of the target configuration determination process, where (a) in each drawing shows the wafer configuration (target) after transfer, and (b) shows transfer. The previous wafer configuration is shown.
FIG. 13 is a diagram illustrating a part of data stored in the
なお、1つのキャリアに搭載可能なウェーハ数の標準的には25枚程度であるが、図7〜図12に示す具体例においては、説明及び図示を簡略化するために、1つのキャリアに8枚のウェーハが搭載可能であるものとし、ウェーハを搭載するスロットには、キャリアの一方の端部から他方の端部に向かって、スロット番号p1〜p8を付している。 The standard number of wafers that can be mounted on one carrier is about 25. However, in the specific examples shown in FIGS. 7 to 12, eight carriers are provided for the sake of simplicity of explanation and illustration. It is assumed that a plurality of wafers can be mounted, and slot numbers p1 to p8 are attached to the slots in which the wafers are mounted from one end of the carrier toward the other end.
本実施形態が実施される状況は、例えば、半導体工場100に設置されたある製造装置11において処理を行う際に、ウェーハ構成の組み替えが必要となる場面である。
先ず、図5のステップS1に示すように、作業者が、要求ウェーハ構成を入力部1に入力する。例えば本具体例においては、図7(a)に示すように、要求ウェーハ構成は、カテゴリγに属するキャリアA、及びカテゴリβに属するキャリアBの2つのキャリアからなり、キャリアAのスロットp5〜p8には4枚のウェーハW1が搭載され、キャリアBのスロットp1、p2には2枚のウェーハW2が搭載され、キャリアBのスロットp5、p6には2枚のウェーハW3が搭載された構成とする。なお、4枚のウェーハW1は同一のロットL1に属し、2枚のウェーハW2は他の同一のロットL2に属し、2枚のウェーハW3は更に他の同一のロットL3に属している。
The situation in which the present embodiment is implemented is, for example, a scene where the wafer configuration needs to be rearranged when processing is performed in a certain manufacturing apparatus 11 installed in the
First, as shown in step S <b> 1 of FIG. 5, the worker inputs the requested wafer configuration to the
本具体例においては、説明を簡略化するために、同一ロットに属するウェーハは相互に区別していないが、必要に応じて、同一ロット内において個々のウェーハを区別してもよい。 In this specific example, for simplification of description, wafers belonging to the same lot are not distinguished from each other. However, if necessary, individual wafers may be distinguished within the same lot.
一方、このとき、工場内から、図7(b)に示すウェーハ構成が提供されるものとする。即ち、この提供されたウェーハ構成(提供ウェーハ構成)は、カテゴリγに属するキャリアA、カテゴリβに属するキャリアB、カテゴリβに属するキャリアCの3つのキャリアからなり、キャリアAのスロットp1〜p4にはロットL1に属する4枚のウェーハW1が搭載され、スロットp5〜p8にはロットL4に属する4枚のウェーハW4が搭載され、キャリアBのスロットp1、p2にはロットL2に属する2枚のウェーハW2が搭載され、スロットp3〜p6にはロットL5に属する4枚のウェーハW5が搭載され、キャリアCのスロットp1、p2にはロットL3に属する2枚のウェーハW3が搭載され、スロットp3〜p6にはロットL6に属する4枚のウェーハW6が搭載された構成である。なお、キャリアBのスロットp7、p8及びキャリアCのスロットp7、p8は空きスロットとなっている。そして、この提供ウェーハ構成のデータは、予めデータベース21に記憶されている。図13は、図7(b)に示す提供ウェーハ構成を表すデータを示している。
Meanwhile, at this time, the wafer configuration shown in FIG. 7B is provided from the factory. That is, the provided wafer configuration (provided wafer configuration) includes three carriers: a carrier A belonging to category γ, a carrier B belonging to category β, and a carrier C belonging to category β. In slots p1 to p4 of carrier A, Includes four wafers W1 belonging to the lot L1, four wafers W4 belonging to the lot L4 in slots p5 to p8, and two wafers belonging to the lot L2 in the slots p1 and p2 of the carrier B. W2 is loaded, four wafers W5 belonging to the lot L5 are loaded in the slots p3 to p6, and two wafers W3 belonging to the lot L3 are loaded in the slots p1 and p2 of the carrier C, and the slots p3 to p6 are loaded. Has a configuration in which four wafers W6 belonging to the lot L6 are mounted. The slots p7 and p8 of the carrier B and the slots p7 and p8 of the carrier C are empty slots. The provided wafer configuration data is stored in the
従って、図7(b)に示す提供ウェーハ構成には、図7(a)に示す要求ウェーハ構成には含まれない余剰のウェーハW4、W5、W6(ロットL4、L5、L6)が存在する。従って、図7(b)に示すウェーハ構成から図7(a)に示すウェーハ構成が生成されるようにウェーハを移載すると、ウェーハW4、W5、W6の行き場がなくなってしまう。 Accordingly, in the provided wafer configuration shown in FIG. 7B, there are surplus wafers W4, W5, and W6 (lots L4, L5, and L6) that are not included in the required wafer configuration shown in FIG. 7A. Accordingly, when the wafer is transferred so that the wafer configuration shown in FIG. 7A is generated from the wafer configuration shown in FIG. 7B, the destinations of the wafers W4, W5, and W6 are lost.
そこで、本実施形態においては、図5のステップS2及び図6に示すような目標構成決定工程を実施する。この目標構成決定工程の処理内容を概説すれば、以下のとおりである。
<1>要求ウェーハ構成及び提供ウェーハ構成を認識し(ステップS21、S22)、
<2>提供ウェーハ構成に含まれ要求ウェーハ構成に含まれない余剰のウェーハをピックアップし(ステップS23、S24)、
<3>この余剰のウェーハに対応したキャリアを新たに想定し(ステップS25、S27)、
<4>この新たに想定したキャリアに余剰のウェーハを配置する(ステップS26、S28)。
以下、これらの処理の具体的な実施方法について説明する。なお、以下の工程は、全てコンピュータ内及びコンピュータとデータベースとの間のデータの移動・生成によって仮想的に実施されるものであり、実際にウェーハを移載するわけではない。
Therefore, in the present embodiment, a target configuration determination step as shown in step S2 of FIG. 5 and FIG. 6 is performed. The processing contents of this target configuration determination step are outlined as follows.
<1> Recognize required wafer configuration and provided wafer configuration (steps S21 and S22),
<2> Pick up surplus wafers included in the provided wafer configuration and not included in the required wafer configuration (steps S23 and S24),
<3> Assuming a new carrier corresponding to this surplus wafer (steps S25 and S27),
<4> A surplus wafer is placed on the newly assumed carrier (steps S26 and S28).
Hereinafter, specific implementation methods of these processes will be described. Note that the following steps are all virtually performed by moving and generating data in the computer and between the computer and the database, and do not actually transfer the wafer.
先ず、図6のステップS21に示すように、メモリ5内に移載前及び移載後のウェーハ構成を記憶する記憶領域を確保する。このとき、後述するように、目標構成決定工程においてキャリアが新設される可能性があるため、記憶領域は、図7(a)及び(b)に示すウェーハ構成に対応する大きさよりも大きく確保しておく。
First, as shown in step S <b> 21 of FIG. 6, a memory area for storing the wafer configuration before and after the transfer is secured in the
次に、入力部1から、図7(a)に示す要求ウェーハ構成のデータを読み込み、メモリ5の記憶領域に書き込む。また、データベース21から、図7(b)に示す提供ウェーハ構成のデータを抽出し、メモリ5の記憶領域に書き込む。なお、この提供ウェーハ構成のデータは、図13に例示するようなデータである。これにより、メモリ5の記憶領域に、図7(a)及び(b)に示すウェーハ構成、即ち、初期状態のウェーハ構成を書き込む。このとき、図7(a)に示すウェーハ構成を「targetSlotMap」とし、図7(b)に示すウェーハ構成を「beforeSlotMap」とする。
次に、図6のステップS22及び図8に示すように、「targetSlotMap」及び「beforeSlotMap」に含まれる全てのウェーハを表すデータを取り出す。
Next, the required wafer configuration data shown in FIG. 7A is read from the
Next, as shown in step S <b> 22 of FIG. 6 and FIG. 8, data representing all wafers included in “targetSlotMap” and “beforeSlotMap” is extracted.
次に、ステップS23に示すように、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれていないキャリア(本具体例においてはキャリアC)に搭載されているウェーハのうち、「targetSlotMap」に含まれていないウェーハ(本具体例においてはウェーハW6)を「restLots」とする。 Next, as shown in step S23, among the wafers mounted on the carrier (carrier C in this specific example) that is included in “beforeSlotMap” but not included in “targetSlotMap”, it is included in “targetSlotMap”. An unexisting wafer (wafer W6 in this specific example) is set as “restLots”.
次に、ステップS24及び図9に示すように、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれないウェーハ(ウェーハW4〜W6)から、「restLots」(ウェーハW6)を除いたウェーハ(ウェーハW4、W5)を抽出し、「strayLots」とする。 Next, as shown in step S24 and FIG. 9, wafers (wafers W4, W4, W4, W6) excluding “restLots” (wafers W6) from wafers (wafers W4 to W6) included in “beforeSlotMap” but not included in “targetSlotMap”. W5) is extracted and is set as “strayLots”.
次に、ステップS25及び図10に示すように、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれていないキャリア(キャリアC)に相当するキャリア(キャリアC)を「targetSlotMap」内に新設する。すなわち、メモリ5の記憶領域内に、キャリアCに相当する領域を設定する。キャリアCのカテゴリはカテゴリβであるため、新設するキャリアのカテゴリもカテゴリβとする。
Next, as shown in step S25 and FIG. 10, a carrier (carrier C) corresponding to a carrier (carrier C) that is included in “beforeSlotMap” and not included in “targetSlotMap” is newly established in “targetSlotMap”. That is, an area corresponding to the carrier C is set in the storage area of the
次に、ステップS26及び図11に示すように、「targetSlotMap」内に新設したキャリアCに、「restLots」(ウェーハW6)を配置する。このとき、「targetSlotMap」のキャリアC内におけるウェーハW6を搭載するスロットは、「beforeSlotMap」のキャリアC内においてウェーハW6が搭載されているスロットと同じとする。即ち、キャリアCのスロットp3〜p6に、ウェーハW6を搭載する。 Next, as shown in step S26 and FIG. 11, “restLots” (wafer W6) is placed on the newly established carrier C in “targetSlotMap”. At this time, the slot in which the wafer W6 is loaded in the carrier C of “targetSlotMap” is the same as the slot in which the wafer W6 is loaded in the carrier C of “beforeSlotMap”. That is, the wafer W6 is mounted in the slots p3 to p6 of the carrier C.
次に、ステップS27及び図12に示すように、「strayLots」を構成するロット数(即ち、ウェーハの種類数)と同数のキャリアを、「beforeSlotMap」及び「targetSlotMap」の双方に新設する。本具体例においては、「strayLots」を構成するロットはロットL4(ウェーハW4)及びロットL5(ウェーハW5)の2種類であるため、「beforeSlotMap」及び「targetSlotMap」の双方に、2つのキャリアX1及びX2を設ける。このとき、キャリアX1のカテゴリはウェーハW4と同じカテゴリγとし、キャリアX2のカテゴリはウェーハW5と同じカテゴリβとする。 Next, as shown in step S27 and FIG. 12, the same number of carriers as the number of lots (that is, the number of types of wafers) constituting “strayLots” are newly provided in both “beforeSlotMap” and “targetSlotMap”. In this specific example, since there are two types of lots constituting “straylots”, that is, lot L4 (wafer W4) and lot L5 (wafer W5), both carriers “BeforeSlotMap” and “targetSlotMap” have two carriers X1 and X2 is provided. At this time, the category of the carrier X1 is the same category γ as the wafer W4, and the category of the carrier X2 is the same category β as the wafer W5.
次に、ステップS28に示すように、「targetSlotMap」内のキャリアX1に、「strayLots」であるロットL4(4枚のウェーハW4)を配置し、「targetSlotMap」内のキャリアX2に、「strayLots」であるロットL5(4枚のウェーハW5)を配置する。このとき、各キャリアにおいては、ウェーハをスロット番号が小さいスロットから順に詰める。これにより、図12(a)に示すように、移載の目標となるウェーハ構成(目標ウェーハ構成)が決定される。 Next, as shown in step S28, the lot L4 (four wafers W4) which is “strayLots” is arranged on the carrier X1 in the “targetSlotMap”, and the carrier X2 in “targetSlotMap” is “strayLots”. A certain lot L5 (four wafers W5) is arranged. At this time, in each carrier, the wafers are packed in order from the slot with the smallest slot number. As a result, as shown in FIG. 12A, the wafer configuration (target wafer configuration) to be transferred is determined.
次に、図5のステップS3に示すように、移載手順決定部3において、移載前のウェーハ構成から目標ウェーハ構成を形成するための移載手順を決定する。
図14(a)は目標となるウェーハ構成を示す図であり、(b)は移載前のウェーハ構成を示す図であり、
図15及び図16は、図5に示す移載手順決定工程を示すフローチャート図であり、
図17〜図21は、移載手順決定工程の各段階におけるウェーハ構成を示す図であり、各図の(a)は移載後のウェーハ構成(target)を示し、(b)は移載前のウェーハ構成(before)を示す。
Next, as shown in step S <b> 3 of FIG. 5, the transfer
FIG. 14 (a) is a diagram showing a target wafer configuration, (b) is a diagram showing a wafer configuration before transfer,
15 and 16 are flowcharts showing the transfer procedure determining step shown in FIG.
FIG. 17 to FIG. 21 are diagrams showing the wafer configuration at each stage of the transfer procedure determining step, where (a) in each figure shows the wafer configuration (target) after transfer, and (b) before transfer. The wafer configuration (before) is shown.
ウェーハ及びキャリアの汚染制約については、ステップS2に示す目標構成決定工程において考慮されているため、本工程(移載手順決定工程)においては考慮する必要がない。一方、本工程においては、キャリア間のウェーハの移動をいかに円滑に行うかが重要となる。そこで、本工程においては、説明をわかりやすくするために、前述の目標構成決定工程において説明した具体例に替えて、図14(b)に示すような提供ウェーハ構成を図14(a)に示すような目標ウェーハ構成に再配列する具体例について説明する。 The contamination restriction of the wafer and the carrier is taken into consideration in the target configuration determining process shown in step S2, and therefore need not be considered in this process (transfer procedure determining process). On the other hand, in this step, it is important how smoothly the wafer moves between carriers. Therefore, in this step, in order to make the explanation easy to understand, the provided wafer configuration as shown in FIG. 14B is shown in FIG. 14A instead of the specific example described in the target configuration determination step described above. A specific example of rearrangement to such a target wafer configuration will be described.
即ち、図14(a)に示すように、目標構成決定工程において決定された目標ウェーハ構成は、キャリアAのスロットp1〜p6にロットL11に属する6枚のウェーハW11が搭載され、キャリアBのスロットp1〜p6にロットL12に属する6枚のウェーハW12が搭載され、キャリアCのスロットp1〜p6にロットL13に属する6枚のウェーハW13が搭載されたものとする。一方、図14(b)に示すように、移載前の提供ウェーハ構成は、キャリアA、B、Cのそれぞれのスロットp1、p2にウェーハW12が搭載され、それぞれのスロットp3、p4にウェーハW11が搭載され、それぞれのスロットp5、p6にウェーハW13が搭載されたものとする。 That is, as shown in FIG. 14A, in the target wafer configuration determined in the target configuration determination step, six wafers W11 belonging to the lot L11 are mounted in the slots p1 to p6 of the carrier A, and the slot of the carrier B It is assumed that six wafers W12 belonging to lot L12 are mounted on p1 to p6, and six wafers W13 belonging to lot L13 are mounted on slots p1 to p6 of carrier C. On the other hand, as shown in FIG. 14B, in the provided wafer configuration before transfer, the wafer W12 is mounted in the slots p1 and p2 of the carriers A, B, and C, and the wafer W11 is inserted in the slots p3 and p4. Are mounted, and the wafer W13 is mounted in each of the slots p5 and p6.
移載手順決定工程の処理内容を概説すれば、以下のとおりである。
<1>キャリアを1つ選択し(ステップS32)、
<2>この選択されたキャリアについて、提供ウェーハ構成と目標ウェーハ構成とを比較して、他のキャリアからこのキャリアに移入させる必要があるウェーハ、このキャリア内でスロットを移動させる必要があるウェーハ、このキャリアから他のキャリアに退避させる必要があるウェーハをそれぞれピックアップし(ステップS33〜S35)、
<3>このキャリアから退避させるべきウェーハを退避させ(ステップS36〜S40)、
<4>このキャリア内においてスロットを移動させるべきウェーハを移動させ(ステップS41、S42)、
<5>他のキャリアからこのキャリアに移入させるべきウェーハを移入させる(ステップS43、S44)。
<6>そして、上記<1>〜<5>の手順を全てのキャリアについて繰り返す(ステップS31)。
以下、これらの処理の具体的な実施方法について説明する。なお、以下の工程は、全てコンピュータ内及びコンピュータとデータベース21との間のデータの移動・生成によって実施され、実際にウェーハを移載するわけではない。
The processing contents of the transfer procedure determination step are outlined as follows.
<1> Select one carrier (step S32),
<2> For this selected carrier, the provided wafer configuration and the target wafer configuration are compared, a wafer that needs to be transferred to this carrier from another carrier, a wafer that needs to move a slot within this carrier, Pick up each wafer that needs to be retreated from this carrier to another carrier (steps S33 to S35),
<3> The wafer to be evacuated from the carrier is evacuated (steps S36 to S40),
<4> Move the wafer whose slot is to be moved in this carrier (steps S41 and S42),
<5> A wafer to be transferred from another carrier is transferred (steps S43 and S44).
<6> Then, the above procedures <1> to <5> are repeated for all carriers (step S31).
Hereinafter, specific implementation methods of these processes will be described. The following steps are all performed by moving / generating data in the computer and between the computer and the
先ず、図15のステップS31に示すように、移載が終了していないキャリアが存在するか否かを判断し、存在していればステップS32に進み、存在していなければ移載手順決定工程を終了する。
未移載のキャリアが存在し、ステップS32に進んだ場合は、図17に示すように、移載が終了していないキャリア(本具体例においてはキャリアA、B、C)のうち1つのキャリア(例えば、キャリアA)を選択し、このキャリアを「focusedCarrier」とする。
First, as shown in step S31 of FIG. 15, it is determined whether or not there is a carrier that has not been transferred, and if it exists, the process proceeds to step S32, and if not, a transfer procedure determining step. Exit.
If there is an untransferred carrier and the process proceeds to step S32, as shown in FIG. 17, one of the carriers that have not been transferred (carriers A, B, and C in this specific example). (For example, carrier A) is selected, and this carrier is set to “focusedCarrier”.
次に、ステップS33に示すように、「focusedCarrier」(キャリアA)の現状(移載前)のウェーハ構成を表すデータをデータベース21から抽出し、メモリ5に記憶させる。一方、「focusedCarrier」(キャリアA)の目標ウェーハ構成を表すデータは、前述の目標構成決定工程(図5のステップS2)において作成され、メモリ5に記憶されている。このとき、「focusedCarrier」の現状のウェーハ構成を「beforeFocusedMap」とし、目標ウェーハ構成を「targetFocusedMap」とする。
Next, as shown in step S <b> 33, data representing the current wafer configuration of “focused Carrier” (carrier A) (before transfer) is extracted from the
そして、ステップS34に示すように、「targetFocusedMap」を構成するウェーハのうち、「beforeFocusedMap」に含まれないウェーハを「needWafers」とする。即ち、この「needWafers」は、他のキャリア(キャリアB、C)から移入させなくてはならないウェーハである。本具体例においては、「needWafers」はキャリアB及びCに搭載されている4枚のウェーハW11である。 Then, as shown in step S <b> 34, among the wafers constituting “target FocusedMap”, wafers not included in “before FocusedMap” are set as “need Wafers”. That is, the “need Wafers” are wafers that must be transferred from other carriers (carriers B and C). In this specific example, “needWafers” is four wafers W11 mounted on carriers B and C.
また、「targetFocusedMap」を構成するウェーハのうち、「beforeFocusedMap」に含まれるウェーハであって、キャリア内での移動が必要なウェーハを「needSelfWafers」とする。本具体例においては、「needSelfWafers」はキャリアAに搭載されている2枚のウェーハW11とする。 Further, among the wafers constituting the “target FocusedMap”, wafers included in the “before FocusedMap” and requiring movement within the carrier are referred to as “needSelfWafers”. In this specific example, “needSelfWafers” is two wafers W11 mounted on the carrier A.
更に、「beforeFocusedMap」に含まれるウェーハのうち、「targetFocusedMap」を構成しないウェーハを「evacuateWafers」とする。即ち、この「evacuateWafers」は、「focusedCarrier」から退避させなくてはならないウェーハである。本具体例においては、「evacuateWafers」はキャリアAに搭載されている各2枚のウェーハW12及びW13である。 Furthermore, among the wafers included in “before FocusedMap”, wafers that do not constitute “target FocusedMap” are referred to as “evacuate Wafers”. In other words, this “evacuate Wafers” is a wafer that must be evacuated from “focused Carrier”. In this specific example, “evacuate Wafers” are each two wafers W12 and W13 mounted on the carrier A.
次に、ステップS35に示すように、「needWafers」が搭載されているキャリア(即ち、キャリアB及びC)を「needCarriers」とする。
次に、ステップS36に進み、「evacuateWafers」が存在するか否かを判断し、存在する場合は図16に示すステップS37に進み、存在しない場合はステップS41に進む。
Next, as shown in step S <b> 35, the carriers on which “needWafers” are mounted (that is, carriers B and C) are set to “needCarriers”.
Next, the process proceeds to step S36, and it is determined whether or not “evacuate Wafers” exists. If present, the process proceeds to step S37 shown in FIG. 16, and if not, the process proceeds to step S41.
「evacuateWafers」が存在し、ステップS37に進んだ場合は、データベース21を参照して、全ての「evacuateWafers」を退避させられるキャリアが存在するか否かを判断し、該当するキャリアが存在すればステップS38に進み、存在しなければステップS39に進む。なお、この「evacuateWafers」を退避させるキャリアのカテゴリは、「focusedCarrier」と同一であることが必要である。
If “evacuate Wafers” exists and the process proceeds to step S37, it is determined whether or not there is a carrier that can save all “evacuate Wafers” with reference to the
該当するキャリアが存在し、ステップS38に進んだ場合は、該当するキャリアから1つのキャリアを選択して退避先キャリアとする。このとき、その移載後の構成に前述の「evacuateWafers」が含まれ、この「evacuateWafers」が収納されるべきスロットが空いているキャリアがあれば、このキャリアを選択する。このようなキャリアがなければ、任意のキャリアを選択する。
一方、該当するキャリアが存在せず、ステップS39に進んだ場合は、メモリ5の記憶領域内に「focusedCarrier」と同一カテゴリのキャリアを新設し、これを退避先キャリアとする。
If there is a corresponding carrier and the process proceeds to step S38, one carrier is selected from the corresponding carriers and set as a save destination carrier. At this time, if the above-mentioned “evacuate Wafers” is included in the configuration after the transfer, and there is a carrier in which a slot in which this “evacuate Wafers” is to be stored is available, this carrier is selected. If there is no such carrier, an arbitrary carrier is selected.
On the other hand, when the corresponding carrier does not exist and the process proceeds to step S39, a carrier of the same category as “focused Carrier” is newly established in the storage area of the
本具体例においては、上述の如く、「evacuateWafers」は、キャリアAに搭載されている各2枚のウェーハW12及びW13である。一方、キャリアB及びCにおいては、それぞれ2スロットしか空いておらず、4スロットの空きがあるキャリアは存在しない。従って、全ての「evacuateWafers」を退避させられるキャリアは存在しない。そこで、ステップS39に進み、図18に示すように、「focusedCarrier」(キャリアA)と同一カテゴリのキャリアX1をメモリ5内に生成し、これを退避先キャリアとする。
In this specific example, as described above, “evacuate Wafers” are each two wafers W12 and W13 mounted on the carrier A. On the other hand, carriers B and C each have only two slots, and there are no carriers with four slots available. Accordingly, there is no carrier that can save all “evacuate Wafers”. Therefore, the process proceeds to step S39, and as shown in FIG. 18, a carrier X1 of the same category as “focused Carrier” (carrier A) is generated in the
次に、ステップS38又はステップS39からステップS40に進み、図19に示すように、「evacuateWafers」を退避先キャリアに移載する。このとき、退避先キャリアの移載後の構成に「evacuateWafers」が含まれ、この「evacuateWafers」が収納される予定のスロットが空いていれば、そのスロットに「evacuateWafers」を移載する。そうでなければ、任意のスロットに移載する。この移載を「手順1」とする。
Next, the process proceeds from step S38 or step S39 to step S40, and as shown in FIG. 19, “evacuate Wafers” is transferred to the evacuation destination carrier. At this time, if the “evacuationwafers” is included in the configuration after the transfer of the save destination carrier, and the slot where this “evacuatewafers” is to be stored is empty, “evacuatewafers” is transferred to that slot. Otherwise, transfer to any slot. This transfer is referred to as “
次に、ステップS41に進み、「needSelfWafers」が存在するか否かを判断する。「needSelfWafers」が存在する場合は、ステップS42及び図20に示すように、「focusedCarrier」内で「needSelfWafers」をスロットからスロットに移載する。この移載を「手順2」とする。その後、ステップS43に進む。一方、「needSelfWafers」が存在しない場合は、ステップS41から直接ステップS43に進む。
Next, the process proceeds to step S41, and it is determined whether “needSelfWafers” exists. When “needSelfWafers” exists, “needSelfWafers” is transferred from slot to slot in “focusedCarrier” as shown in step S42 and FIG. This transfer is referred to as “
次に、ステップS43に示すように、「needCarriers」が存在するか否かを判断する。「needCarriers」が存在する場合は、ステップS44に進み、「needCarriers」から1つのキャリアを選択し、このキャリアから「focusedCarrier」の所定のスロットに「needWafers」を移載する。この移載を「手順3」とする。そして、この移載が終了したキャリアは、「needCarriers」から取り除く。その後、ステップS43に戻り、「needWafers」がなくなるまで、ステップS44を繰り返す。
Next, as shown in step S43, it is determined whether or not “needCarriers” exists. If “needCarriers” exists, the process proceeds to step S44, where one carrier is selected from “needCarriers”, and “needWafers” is transferred from this carrier to a predetermined slot of “focusedCarrier”. This transfer is referred to as “
本具体例においては、図21に示すように、「needCarriers」であるキャリアB及びキャリアCに搭載されている「needWafers」であるウェーハW11を、「focusedCarrier」であるキャリアAに移載する。これにより、キャリアAに関する移載が終了する。 In this specific example, as shown in FIG. 21, the carrier B which is “needCarriers” and the wafer W11 which is “needWafers” mounted on the carrier C are transferred to the carrier A which is “focusedCarrier”. Thereby, the transfer concerning the carrier A is completed.
そして、「needWafers」がなくなったら、ステップS43からステップS31に戻る。そして、ステップS31に示すように、移載が終了していないキャリアの有無を判断し、移載が終了していないキャリアがあれば、これを「focusedCarrier」に指定し(ステップS32)、ステップS33〜S44に示す工程を繰り返す。本具体例においては、キャリアB及びCについて、ステップS33〜S44に示す工程を繰り返す。そして、全てのキャリアの移載が終了した時点で、図5のステップS3に示す移載手順決定工程が終了する。これにより、ウェーハの移載手順が作成される。 When “needSafes” disappears, the process returns from step S43 to step S31. Then, as shown in step S31, the presence / absence of a carrier that has not been transferred is determined. If there is a carrier that has not been transferred, this is designated as “focusedCarrier” (step S32), and step S33. Steps shown in S44 are repeated. In this specific example, the steps shown in steps S33 to S44 are repeated for carriers B and C. When the transfer of all carriers is completed, the transfer procedure determining step shown in step S3 of FIG. 5 is completed. Thus, a wafer transfer procedure is created.
次に、図5のステップS4に示すように、前述の各移載手順に関してソータの汚染制約のチェックを行い、各移載手順が汚染制約を満たしていることをチェックすると共に、汚染制約を満たすソータを選定する。具体的には、データベース21に記憶されているソータの汚染制約に関する情報(図2参照)を参照して、ステップS40における「手順1」、ステップS42における「手順2」、ステップS44における「手順3」のそれぞれに対して、使用可能なソータの集合を取得する。そして、取得された集合の積集合を求め、この積集合に含まれるソータを、全移載手順に使用可能なソータとして選定する。なお、積集合が空集合である場合は、汚染制約を遵守しつつ1台のソータによって上述の各手順を実行することが不可能であると判断し、エラーメッセージを出力する。
Next, as shown in step S4 of FIG. 5, the sorter contamination constraint is checked for each transfer procedure described above to check that each transfer procedure satisfies the contamination constraint, and the contamination constraint is satisfied. Select a sorter. Specifically, referring to the information on the contamination restriction of the sorter stored in the database 21 (see FIG. 2), “
次に、ステップS5に示すように、作成された移載手順を出力部4が出力する。例えば、目標構成決定工程(ステップS2)において新たに想定されたキャリアX1及びX2(図13参照)の補充を指示する信号、移載手順決定工程(ステップS3)において作成された移載動作、即ち、「手順1」、「手順2」、「手順3」をキャリアの数だけ繰り返してなる一連の動作を指示する信号、並びに、ソータ選定工程(ステップS4)において選定されたソータを示す信号を、ウェーハの移載を管理するソフトウェアに対して出力する。これにより、このソフトウェアが、要求されたカテゴリに属する空のキャリアを工場内から探してくると共に、選定されたソータの第1ポート及び第2ポートに所定のキャリアを装入し、このキャリアの装入と連動させてソータのアームを駆動することにより、ウェーハの移載を実行する。そして、図3に示すように、ソータ16によりウェーハの組み替えがなされた1組のキャリアは、ストッカ15及び搬送装置12により、後工程を実施する製造装置11に向けて搬送される。また、データベース21に記憶されているウェーハ構成に関するデータを、移載後のウェーハ構成を表すデータに書き替える。
Next, as shown in step S5, the
次に、本実施形態の効果について説明する。
一般に、ウェーハは、それまで経てきた工程によって汚染状態が異なり、また、キャリア及びソータも、それまで扱ってきたウェーハによって汚染状態が異なっている。このため、ウェーハを無制限にソータによってキャリアに移載すると、このウェーハ、ソータ、キャリア間で汚染物質が拡散してしまう。従って、ウェーハの汚染状態に応じて、使用できるソータ及びキャリアに制約(汚染制約)がある。従来は、この汚染制約が存在することにより、キャリア間におけるウェーハの移載の自動化が困難であった。
これに対して、本実施形態においては、ステップS2に示す目標構成決定工程において、要求ウェーハ構成に含まれないウェーハが提供ウェーハ構成中に含まれている場合に、このウェーハと同じカテゴリのキャリアを新設することにより、汚染制約を満たしつつ、全てのウェーハの移載先を確保することができる。
Next, the effect of this embodiment will be described.
In general, the contamination state of a wafer differs depending on the processes that have been performed so far, and the contamination state of the carrier and sorter also differs depending on the wafer that has been handled so far. For this reason, when an unlimited number of wafers are transferred to the carrier by the sorter, contaminants diffuse between the wafer, the sorter, and the carrier. Therefore, there are restrictions on the sorters and carriers that can be used (contamination restrictions) depending on the contamination state of the wafer. Conventionally, the presence of this contamination restriction has made it difficult to automate wafer transfer between carriers.
On the other hand, in the present embodiment, when a wafer not included in the required wafer configuration is included in the provided wafer configuration in the target configuration determination process shown in step S2, a carrier of the same category as this wafer is selected. By newly installing, the transfer destination of all the wafers can be secured while satisfying the contamination restriction.
また、本実施形態においては、ステップS3に示す移載手順決定工程において、キャリアを1つずつ選択し、選択されたキャリアから、目標ウェーハ構成においてこのキャリアに搭載されない予定のウェーハを退避させ(手順1)、このキャリア内においてウェーハの移動を行い(手順2)、その後、他のキャリアからこの選択されたキャリアに必要なウェーハを移入させる(手順3)ように、移載手順を作成している。また、ウェーハを退避させる際に、適当な退避先のキャリアがない場合には、汚染制約を満たすキャリアを新設している。これにより、ウェーハ同士がかち合ったり、ウェーハの行き場がなくなることなく、ウェーハの移載を確実に行うことができる。 Further, in the present embodiment, in the transfer procedure determining step shown in step S3, carriers are selected one by one, and wafers that are not to be mounted on this carrier in the target wafer configuration are retracted from the selected carriers (procedures). 1) The transfer procedure is created so that the wafer is moved in this carrier (procedure 2), and then the necessary wafer is transferred to the selected carrier from another carrier (procedure 3). . In addition, when there is no appropriate retreat destination carrier when retreating the wafer, a new carrier that satisfies the contamination restriction is provided. Thus, the wafers can be reliably transferred without causing the wafers to be in contact with each other or the destination of the wafers to be lost.
更に、本実施形態においては、ステップS4に示すソータの選定工程において、全ての移載手順において汚染制約を満たすソータを選定しているため、1台で全ての手順を実行可能なソータを自動的に選択することができる。
本実施形態によれば、これらの効果により、作業者の指示を要することなく、キャリア間におけるウェーハの移載を自動的に行うことができる。この結果、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置10をその一要素として、半導体工場全体の自動化システムを構築することができる。これにより、製造装置の稼働効率を向上させた半導体工場の自動化を促進することができる。
Further, in the present embodiment, since the sorter satisfying the contamination restriction is selected in all transfer procedures in the sorter selection process shown in step S4, the sorter capable of executing all procedures in one unit is automatically selected. Can be selected.
According to the present embodiment, these effects enable automatic wafer transfer between carriers without requiring an operator's instruction. As a result, an automated system for the entire semiconductor factory can be constructed with the wafer transfer
なお、本実施形態においては、ステップS2に示す目標構成決定工程により目標ウェーハ構成を決定した後、ステップS3に示す移載手順決定工程により移載手順を作成する例を示したが、本発明はこれに限定されず、要求ウェーハ構成が提供ウェーハ構成を構成するウェーハを全て含み、且つ汚染制約を満たしている場合には、要求ウェーハ構成をそのまま目標ウェーハ構成とすることができる。この場合は、目標構成決定工程は不要となる。または、目標ウェーハ構成は、作業者が入力してもよく、予めデータベース21に記憶されていてもよい。これらの場合も、目標構成決定工程は不要となる。なお、これらの場合においても、ステップS4に示すソータの選定工程において、目標ウェーハ構成が汚染制約を満たしているか否かをチェックすることができる。
In the present embodiment, an example in which the transfer procedure is created by the transfer procedure determination process shown in step S3 after the target wafer configuration is determined by the target configuration determination process shown in step S2 is shown. However, the present invention is not limited to this, and when the required wafer configuration includes all the wafers constituting the provided wafer configuration and satisfies the contamination restriction, the required wafer configuration can be directly used as the target wafer configuration. In this case, the target configuration determination step is not necessary. Alternatively, the target wafer configuration may be input by an operator or stored in the
また、本実施形態においては、ステップS4に示すソータの選定工程において、全ての移載手順において汚染制約を満たすソータを選定する例を示したが、本発明はこれに限定されず、全ての移載手順において汚染制約を満たすソータがない場合には、複数のソータを使用して、各移載手順において汚染制約を遵守しつつ、全手順を実行するようにしてもよい。
更に、汚染制約も図1に示す制約に限定されず、実行される工程の内容及び製品に要求される清浄度の程度等に応じて、ユーザーサイドで任意に設定することができる。
更にまた、本発明に係るウェーハ移載手順作成装置は、製造装置間におけるウェーハ構成の組み替えのみならず、製造装置をメンテナンスするためにメンテナンス用のウェーハをキャリアに搭載する際にも利用することができる。
In the present embodiment, the example of selecting a sorter that satisfies the contamination constraint in all transfer procedures in the sorter selection process shown in step S4 has been described. However, the present invention is not limited to this, and all transfer processes are performed. When there is no sorter that satisfies the contamination constraint in the loading procedure, a plurality of sorters may be used to execute the entire procedure while complying with the contamination constraint in each transfer procedure.
Furthermore, the contamination restriction is not limited to the restriction shown in FIG. 1, and can be arbitrarily set on the user side according to the contents of the process to be executed and the degree of cleanliness required for the product.
Furthermore, the wafer transfer procedure creation apparatus according to the present invention can be used not only for rearranging the wafer configuration between manufacturing apparatuses but also for mounting a maintenance wafer on a carrier in order to maintain the manufacturing apparatus. it can.
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
本実施形態は、前述の第1の実施形態を、スロット数が25であるキャリアに適用した例である。また、本実施形態においては、用意されているソータの種類が第1の実施形態よりも制限されている。本実施形態における上記以外の構成は、第1の実施形態と同様である。即ち、本実施形態における汚染制約は、第1の実施形態における汚染制約と同様であり、図1に示す規則に従う。また、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置及びウェーハ移載手順作成方法は、前述の第1の実施形態と同じである。
Next, a second embodiment of the present invention will be described.
The present embodiment is an example in which the first embodiment described above is applied to a carrier having 25 slots. Further, in the present embodiment, the types of sorters prepared are more limited than those in the first embodiment. Configurations other than those described above in the present embodiment are the same as those in the first embodiment. That is, the contamination restriction in the present embodiment is the same as the contamination restriction in the first embodiment, and follows the rules shown in FIG. Further, the wafer transfer procedure creation device and the wafer transfer procedure creation method according to the present embodiment are the same as those in the first embodiment.
図22は、本実施形態におけるソータの種類を示す図であり、
図23〜図27は、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法の各段階におけるウェーハ構成を示す図であり、各図の(a)は移載後のウェーハ構成(target)を示し、(b)は移載前のウェーハ構成(before)を示す。
FIG. 22 is a diagram showing sorter types in the present embodiment.
23 to 27 are diagrams showing a wafer configuration at each stage of the wafer transfer procedure creating method according to the present embodiment, in which (a) in each drawing shows a wafer configuration (target) after transfer, b) shows the wafer configuration (before) before transfer.
図22に示すように、本実施形態においては、4台のソータが設定されている。即ち、ソータNo.1は、カテゴリβに属するキャリアからカテゴリβ又はγに属するキャリアにウェーハを移載することができ、ソータNo.2及びソータNo.3は、カテゴリβのキャリアからカテゴリβのキャリアにウェーハを移載することができ、ソータNo.4は、カテゴリβのキャリアからカテゴリζのキャリアにウェーハを移載することができる。このソータの汚染制約に関する情報は、データベース21に記憶されている。
As shown in FIG. 22, in this embodiment, four sorters are set. That is, the sorter No. 1 can transfer a wafer from a carrier belonging to category β to a carrier belonging to category β or γ. 2 and sorter no. 3 can transfer a wafer from a carrier of category β to a carrier of category β. 4 can transfer a wafer from a carrier of category β to a carrier of category ζ. Information regarding the contamination restriction of the sorter is stored in the
以下、本実施形態に係るウェーハ移載手順作成方法の具体例について説明する。
先ず、図5のステップS1に示すように、入力部1(図4参照)に要求ウェーハ構成を入力する。このとき、図23(a)に示すように、要求ウェーハ構成は、カテゴリβに属するキャリアAとカテゴリγに属するキャリアBの2つのキャリアからなり、キャリアAのスロットp1及びp2にロットL21に属する2枚のウェーハW21が搭載されており、キャリアBのスロットp1〜p20にロットL22に属する20枚のウェーハW22が搭載された構成である。
Hereinafter, a specific example of the wafer transfer procedure creation method according to the present embodiment will be described.
First, as shown in step S1 of FIG. 5, the required wafer configuration is input to the input unit 1 (see FIG. 4). At this time, as shown in FIG. 23A, the required wafer configuration includes two carriers, carrier A belonging to category β and carrier B belonging to category γ, and belongs to lot L21 in slots p1 and p2 of carrier A. Two wafers W21 are mounted, and 20 wafers W22 belonging to the lot L22 are mounted in slots p1 to p20 of the carrier B.
一方、工場内から、図23(b)に示すような提供ウェーハ構成が提供される。図23(b)に示すように、提供ウェーハ構成は、カテゴリβに属するキャリアAとカテゴリγに属するキャリアBの2つのキャリアからなり、キャリアAのスロットp1〜p20にロットL22に属する20枚のウェーハW22が搭載されており、スロットp21及びp22にロットL21に属する2枚のウェーハW21が搭載されており、スロットp23〜p25にロットL23に属する3枚のウェーハW23が搭載されており、キャリアBにはウェーハは搭載されていない。 On the other hand, a provided wafer configuration as shown in FIG. 23B is provided from the factory. As shown in FIG. 23B, the provided wafer configuration includes two carriers, carrier A belonging to category β and carrier B belonging to category γ, and 20 sheets belonging to lot L22 in slots p1 to p20 of carrier A. Wafer W22 is mounted, two wafers W21 belonging to lot L21 are mounted in slots p21 and p22, and three wafers W23 belonging to lot L23 are mounted in slots p23 to p25. There is no wafer mounted on.
次に、図5のステップS2に示すように、目標構成決定工程を実施する。先ず、図6のステップS21に示すように、目標構成決定部2内に記憶領域を確保し、初期状態のウェーハ構成を書き込む。すなわち、入力部1から要求ウェーハ構成のデータを読み込んでメモリ5に記憶させ、データベース21から提供ウェーハ構成のデータを抽出してメモリ5に記憶させる。このとき、図23(a)に示す要求ウェーハ構成を「targetSlotMap」とし、図23(b)に示す提供ウェーハ構成を「beforeSlotMap」とする。
Next, as shown in step S2 of FIG. 5, a target configuration determination step is performed. First, as shown in step S21 of FIG. 6, a storage area is secured in the target
次に、ステップS22に示すように、メモリ5に記憶された「targetSlotMap」及び「beforeSlotMap」から、全てのウェーハのデータを取り出す。本具体例においてこのとき取り出されるデータは、ウェーハW21、W22、W23のデータである。
Next, as shown in step S <b> 22, the data of all the wafers is extracted from “targetSlotMap” and “beforeSlotMap” stored in the
次に、ステップS23に示すように、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれていないキャリアに搭載されているウェーハのうち、「targetSlotMap」に含まれていないウェーハを「restLots」とする。本具体例においては、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれていないキャリアは存在しないため、「restLots」も存在しない。 Next, as shown in step S <b> 23, wafers not included in “targetSlotMap” among wafers mounted on a carrier that is included in “beforeSlotMap” but not included in “targetSlotMap” are set as “restLots”. In this specific example, since there is no carrier that is included in “beforeSlotMap” and not included in “targetSlotMap”, there is also no “restLots”.
次に、ステップS24に示すように、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれないウェーハ(ウェーハW23)から、「restLots」を除いたウェーハを「strayLots」とする。本具体例においては、「strayLots」はウェーハW23である。 Next, as shown in step S24, a wafer obtained by removing “restLots” from a wafer (wafer W23) included in “beforeSlotMap” but not included in “targetSlotMap” is defined as “strayLots”. In this specific example, “strayLots” is the wafer W23.
次に、ステップS25に示すように、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれていないキャリアに相当するキャリアを「targetSlotMap」内に新設する。本具体例においては、「beforeSlotMap」に含まれ「targetSlotMap」に含まれていないキャリアは存在しないため、このステップでは、何もしない。 Next, as shown in step S25, a carrier corresponding to a carrier that is included in “beforeSlotMap” and not included in “targetSlotMap” is newly created in “targetSlotMap”. In this specific example, since there is no carrier that is included in “beforeSlotMap” and not included in “targetSlotMap”, nothing is done in this step.
次に、ステップS26に示すように、ステップS25において新設したキャリアに、「restLots」を配置する。本具体例においては、新設したキャリアも「restLots」も存在しないため、何もしない。 Next, as shown in step S26, “restLots” is arranged on the carrier newly established in step S25. In this specific example, since there is no newly established carrier or “restLots”, nothing is done.
次に、ステップS27及び図24に示すように、「strayLots」を構成するウェーハの種類数(ロット数)と同数のキャリアを、「beforeSlotMap」及び「targetSlotMap」の双方に新設する。本具体例においては、「strayLots」を構成するウェーハはウェーハW23の1種類であるため、「beforeSlotMap」及び「targetSlotMap」の双方に、1つのキャリアXを設ける。すなわち、メモリ5の記憶領域内に、新しいキャリアXに相当する領域を設定する。また、ウェーハW23はキャリアAに収納されており、キャリアAの汚染カテゴリはカテゴリβであるため、キャリアXの汚染カテゴリもカテゴリβとする。
Next, as shown in step S27 and FIG. 24, the same number of carriers as the number of types of wafers (number of lots) constituting “strayLots” are newly established in both “beforeSlotMap” and “targetSlotMap”. In this specific example, since the wafer constituting “strayLots” is one type of wafer W23, one carrier X is provided in both “beforeSlotMap” and “targetSlotMap”. That is, an area corresponding to a new carrier X is set in the storage area of the
次に、ステップS28に示すように、「targetSlotMap」内のキャリアXのスロットp1〜p3に、3枚のウェーハW23を配置する。これにより、図24(a)に示すような目標ウェーハ構成が決定される。 Next, as shown in step S28, three wafers W23 are placed in the slots p1 to p3 of the carrier X in the “targetSlotMap”. Thereby, the target wafer configuration as shown in FIG. 24A is determined.
このように、図5のステップS2に示す目標構成決定工程により目標ウェーハ構成を決定した後、ステップS3に示すように、移載手順決定工程を実施する。先ず、図15のステップS31に進み、未移載のキャリア(キャリアA、B、X)が存在するためステップS32に進み、未移載のキャリアの中からキャリアAを選定して、これを「focusedCarrier」とする。 As described above, after the target wafer configuration is determined by the target configuration determination step shown in step S2 of FIG. 5, the transfer procedure determination step is performed as shown in step S3. First, the process proceeds to step S31 in FIG. 15. Since there are untransferred carriers (carriers A, B, and X), the process proceeds to step S32, and carrier A is selected from the untransferred carriers. “focusedCarrier”.
次に、ステップS33に示すように、「focusedCarrier」(キャリアA)の現状(移載前)のウェーハ構成を表すデータ(「beforeFocusedMap」)をデータベース21から抽出する。このとき、「focusedCarrier」(キャリアA)の目標ウェーハ構成を表すデータ(「targetFocusedMap」)は、前述の目標構成決定工程(ステップS2)により決定され、メモリ5に記憶されている。
Next, as shown in step S <b> 33, data (“before FocusedMap”) representing the current wafer configuration of “focused Carrier” (carrier A) (before transfer) (“before FocusedMap”) is extracted from the
そして、ステップS34に示すように、「targetFocusedMap」を構成するウェーハ(ウェーハW21)のうち、「beforeFocusedMap」に含まれないウェーハを「needWafers」とする。本具体例においては、「needWafers」は存在しない。 Then, as shown in step S <b> 34, among the wafers (wafer W <b> 21) constituting the “target FocusedMap”, wafers not included in the “before FocusedMap” are set as “need Wafers”. In this specific example, “needSafes” does not exist.
また、「targetFocusedMap」を構成するウェーハ(ウェーハW21)のうち、「beforeFocusedMap」に含まれるウェーハであって、キャリア内での移動が必要なウェーハを「needSelfWafers」とする。本具体例においては、「needSelfWafers」をウェーハW21とする。 Further, among the wafers (wafer W21) constituting the “target FocusedMap”, wafers included in the “before FocusedMap” and needing movement within the carrier are referred to as “needSelfWafers”. In this specific example, “needSelfWafers” is set as the wafer W21.
更に、「beforeFocusedMap」に含まれるウェーハ(ウェーハW21、W22、W23)のうち、「targetFocusedMap」を構成しないウェーハを「evacuateWafers」とする。本具体例においては、「evacuateWafers」は20枚のウェーハW22及び3枚のウェーハW23である。 Further, among the wafers (wafers W21, W22, and W23) included in the “before FocusedMap”, wafers that do not constitute the “target FocusedMap” are referred to as “evacuate Wafers”. In this specific example, “evacuate Wafers” are 20 wafers W22 and 3 wafers W23.
次に、ステップS35に示すように、「needWafers」が搭載されているキャリアを「needCarriers」とする。本具体例においては、「needWafers」が存在しないため、「needCarriers」も存在しない。 Next, as shown in step S <b> 35, the carrier on which “needWafers” is mounted is referred to as “needCarriers”. In this specific example, since “needWafers” does not exist, “needCarriers” does not exist.
次に、ステップS36に進み、「evacuateWafers」が存在しているため図16に示すステップS37に進み、データベース21を参照して、全ての「evacuateWafers」(ウェーハW22及びW23)を退避させられるキャリアが存在するか否かを判断する。本具体例においては、カテゴリーβに属するキャリアXにウェーハW22及びW23を退避させることができるため、ステップS38に進み、退避先キャリアとしてキャリアXを選択する。
Next, the process proceeds to step S36, and since “evacuate Wafers” exists, the process proceeds to step S37 shown in FIG. 16, and with reference to the
そして、ステップS40に進み、図25に示すように、「evacuateWafers」(ウェーハW22及びW23)を「focusedCarrier」(キャリアA)から退避先キャリア(キャリアX)に移載する。このとき、図25(a)に示す目標ウェーハ構成(target)のキャリアXに「evacuateWafers」(ウェーハW23)が含まれ、このウェーハW23が収納される予定のスロットp1〜p3が空いているため、このスロットにウェーハW23を移載する。これに伴い、ウェーハW22の移転先は、スロットp4〜p23とする。この移載を「手順1」とする。
In step S40, as shown in FIG. 25, “evacuated Wafers” (wafers W22 and W23) are transferred from “focused Carrier” (carrier A) to the evacuation destination carrier (carrier X). At this time, the carrier X of the target wafer configuration (target) shown in FIG. 25A includes “evacuate Wafers” (wafer W23), and slots p1 to p3 in which the wafer W23 is to be stored are vacant. The wafer W23 is transferred to this slot. Accordingly, the transfer destination of the wafer W22 is set to slots p4 to p23. This transfer is referred to as “
次に、ステップS41に進み、「needSelfWafers」が存在しているためステップS42に進み、図26に示すように、「focusedCarrier」(キャリアA)内で「needSelfWafers」(ウェーハW21)をスロットp21及びp22からスロットp1及びp2に移載する。この移載を「手順2」とする。
次に、ステップS43に進み、「needCarriers」が存在しないため、図15に示すステップS31に戻る。これにより、キャリアAの移載が終了する。
Next, the process proceeds to step S41, and since “needSelfWafers” exists, the process proceeds to step S42, and as shown in FIG. To slots p1 and p2. This transfer is referred to as “
Next, the process proceeds to step S43, and since “needCarriers” does not exist, the process returns to step S31 illustrated in FIG. Thereby, the transfer of the carrier A is completed.
次に、ステップS32に進み、移載が終了していないキャリアBを「focusedCarrier」とする。
次に、ステップS33に示すように、「focusedCarrier」(キャリアB)の現状のウェーハ構成を表すデータ(「beforeFocusedMap」)をデータベース21から抽出する。なお、キャリアBの目標ウェーハ構成を表すデータ(「targetFocusedMap」)は、メモリ5に記憶されている。
Next, the process proceeds to step S32, and the carrier B that has not been transferred is defined as “focusedCarrier”.
Next, as shown in step S <b> 33, data (“before FocusedMap”) representing the current wafer configuration of “focused Carrier” (carrier B) is extracted from the
次に、ステップS34に進み、「needWafers」、「needSelfWafers」、「evacuateWafers」を設定する。上述の如く、「needWafers」は、「targetFocusedMap」を構成するウェーハ(ウェーハW22)のうち、「beforeFocusedMap」に含まれないウェーハであり、本具体例のこの時点ではウェーハW22である。また、「needSelfWafers」は、「targetFocusedMap」を構成するウェーハ(ウェーハW22)のうち、「beforeFocusedMap」に含まれるウェーハであって、キャリア内での移動が必要なウェーハであり、本具体例のこの時点では存在しない。更に、「evacuateWafers」は、「beforeFocusedMap」に含まれるウェーハのうち、「targetFocusedMap」を構成しないウェーハであり、本具体例のこの時点では存在しない。 Next, the process proceeds to step S34, where “need Wafers”, “need Self Wafers”, and “evacuate Wafers” are set. As described above, “needWafers” is a wafer that is not included in “before FocusedMap” among the wafers (wafer W22) constituting “target FocusedMap”, and is wafer W22 at this point in this specific example. In addition, “needSelfWafers” is a wafer included in “before FocusedMap” among the wafers (wafer W22) constituting “target FocusedMap” and needs to be moved within the carrier. Then it does not exist. Further, “evacuate Wafers” is a wafer that does not constitute “target FocusedMap” among the wafers included in “before FocusedMap”, and does not exist at this point of this specific example.
次に、ステップS35に示すように、「needWafers」(ウェーハW22)が搭載されているキャリア(キャリアX)を「needCarriers」とする。
次に、ステップS36に進み、「evacuateWafers」が存在していないため、ステップS41に進み、「needSelfWafers」が存在していないため、ステップS43に進み、「needCarriers」(キャリアX)が存在しているため、ステップS44に進み、図27に示すように、「needCarriers」(キャリアX)から「needWafers」(ウェーハW22)を「focusedCarrier」(キャリアB)のスロットp1〜p20に移載する。この移載を手順3とする。そして、キャリアXを「needCarriers」から外す。
Next, as shown in step S <b> 35, the carrier (carrier X) on which “needWafers” (wafer W <b> 22) is mounted is referred to as “needCarriers”.
Next, the process proceeds to step S36, and since “evacuate Wafers” does not exist, the process proceeds to step S41. Since “needSelfWafers” does not exist, the process proceeds to step S43, and “needCarriers” (carrier X) exists. Therefore, the process proceeds to step S44, and “needCarriers” (carrier X) is transferred from “needCarriers” (carrier X) to slots “p1” to “p20” of “focusedCarrier” (carrier B) as shown in FIG. This transfer is referred to as
次に、ステップS43に戻り、もはや「needCarriers」が存在していないため、ステップS31に戻る。これにより、キャリアBの移載が終了すると共に、キャリアXの移載も終了する。従って、ステップS31において、未移載のキャリアが存在していないため、移載手順決定工程を終了する。 Next, the process returns to step S43, and since “needCarriers” no longer exists, the process returns to step S31. Thereby, the transfer of the carrier B is completed, and the transfer of the carrier X is also completed. Therefore, in step S31, since there is no untransferred carrier, the transfer procedure determining step is terminated.
次に、図5のステップS4に示すように、データベース21に記憶されたソータの汚染制約の情報(図22参照)を参照して、汚染制約を満たすソータを選定する。
ステップS40における「手順1」においては、図24(b)及び図25(b)に示すように、カテゴリβに属するキャリアAからカテゴリβに属するキャリアXにウェーハW22及びW23を移載している。従って、この移載は(β→β)の移載であり、図22より、使用可能なソータの集合は、(No.1、No.2、No.3)である。
ステップS42における「手順2」においては、図25(b)及び図26(b)に示すように、ウェーハW21の移載をカテゴリβに属するキャリアA内で行っている。従って、この移載も(β→β)の移載であり、図22より、使用可能なソータの集合は、(No.1、No.2、No.3)である。
ステップS44に示す「手順3」においては、図26(b)及び図27(b)に示すように、カテゴリβに属するキャリアXからカテゴリγに属するキャリアBにウェーハW22を移載している。従って、この移載は(β→γ)の移載であり、図22より、使用可能なソータの集合は、(No.1)である。
Next, as shown in step S4 of FIG. 5, the sorter that satisfies the contamination restriction is selected with reference to the contamination restriction information (see FIG. 22) of the sorter stored in the
In “
In “
In “
このため、使用可能なソータの集合(No.1、No.2、No.3)、(No.1、No.2、No.3)、(No.1)の積集合は(No.1)である。即ち、上述の手順1〜3は、ソータNo.1を使用すれば、汚染制約を遵守しつつ実行することができる。従って、使用するソータとして、ソータNo.1を選定する。
For this reason, the set of usable sorters (No. 1, No. 2, No. 3), (No. 1, No. 2, No. 3), (No. 1) is (No. 1). ). That is, the above-described
次に、ステップS5に示すように、上述の如く作成された移載手順を出力部4が出力する。即ち、新たに想定されたキャリアX(図24参照)の補充を指示する信号、上述の「手順1」、「手順2」、「手順3」を指示する信号、ソータとして「ソータNo.1」を選定する信号を、ウェーハの移載を管理するソフトウェアに対して出力する。これにより、ソータNo.1がこの移載手順を実行し、ウェーハを移載する。その後、データベース21に記憶されているデータを、移載後のウェーハ構成を表すデータに更新する。
このように、本実施形態においては、スロット数が25のキャリアを用いる場合においても、人手を介さずにウェーハ移載手順を作成することができる。本実施形態における上記以外の効果は、前述の第1の実施形態と同様である。
Next, as shown in step S5, the
Thus, in this embodiment, even when a carrier with 25 slots is used, the wafer transfer procedure can be created without human intervention. The effects of the present embodiment other than those described above are the same as those of the first embodiment described above.
なお、上述の各実施形態に係るウェーハ移載手順作成装置10においては、目標構成決定部2及び移載手順決定部3を設ける例を示したが、これらは1つのプロセッサにより構成してもよい。また、この場合、目標構成決定部2及び移載手順決定部3の機能をプログラムにより実現してもよい。
In the wafer transfer
このようなプログラムは、コンピュータに、複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態(ウェーハ構成)を変更するためのウェーハの移載手順を生成させるウェーハ移載手順作成プログラムである。即ち、このプログラムは、コンピュータに、複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、選択された各キャリアについて、前記複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態が記憶されたデータベースから、選択された一のキャリアにおける現状のウェーハの配置状態(提供ウェーハ構成)を抽出してメモリに記憶させ、この記憶された提供ウェーハ構成と目標とするウェーハの配置状態(目標ウェーハ構成)とを比較する機能と、この比較結果に基づいて、選択された一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順(手順1)を生成する機能と、上述の比較結果に基づいて、この一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順(手順2)を生成する機能と、上述の比較結果に基づいて、他のキャリアから一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順(手順3)を生成する機能と、を実現させるものである。 Such a program is a wafer transfer procedure creation program that causes a computer to generate a wafer transfer procedure for changing the arrangement state (wafer configuration) of wafers mounted on a plurality of carriers. In other words, the program selects one carrier from a plurality of carriers in sequence, and is selected from a database in which the arrangement state of wafers mounted on the plurality of carriers is stored for each selected carrier. A function of extracting the current wafer arrangement state (provided wafer configuration) in one carrier and storing it in a memory, and comparing the stored provided wafer configuration with the target wafer arrangement state (target wafer configuration); Based on the comparison result, if there is a wafer to be evacuated from the selected one carrier, the function for generating the first procedure (procedure 1) for evacuating the wafer and the one result based on the comparison result described above. A function for generating a second procedure (procedure 2) for moving a wafer to be moved in the carrier of the carrier, and the ratio described above Based on the results, it is used for realizing the, and generating a third procedure of transferring it if any wafer to be transferred to one of the carriers (step 3) from other carriers.
また、第1の手順は、例えば、データベースを参照して、退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがあれば、この他のキャリアに退避させるべきウェーハを移載し、退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがなければ、退避させるべきウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアをメモリ内に設け、この新たなキャリアに退避させるべきウェーハを移載する手順とする。これにより、前述の移載手順決定部3の機能を実現することができる。
In addition, the first procedure refers to, for example, a database, and if there is another carrier capable of storing a wafer to be evacuated, the wafer to be evacuated is transferred to the other carrier, and the wafer to be evacuated is transferred. If there is no other carrier that can be stored, a new carrier belonging to the same contamination category as the wafer to be evacuated is provided in the memory, and the procedure for transferring the wafer to be evacuated to this new carrier is adopted. Thereby, the function of the above-mentioned transfer
更に、このプログラムは、例えば、現状のウェーハの配置状態(提供ウェーハ構成)に含まれ、実現することを要求されるウェーハの配置状態(要求ウェーハ構成)には含まれない余剰のウェーハがある場合には、コンピュータに、余剰のウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアをメモリ内に想定し、この新たなキャリアに余剰のウェーハを配置することにより、目標とするウェーハの配置状態(目標ウェーハ構成)を生成する機能をさらに実現させるものとする。これにより、前述の目標構成決定部2の機能を実現することができる。
Furthermore, this program is included in, for example, the current wafer arrangement state (provided wafer configuration), and there are surplus wafers that are not included in the wafer arrangement state (required wafer configuration) required to be realized. In the computer, a new carrier belonging to the same contamination category as the surplus wafer is assumed in the memory, and the surplus wafer is placed on the new carrier, so that the target wafer arrangement state (target wafer configuration) ) Is further realized. Thereby, the function of the above-mentioned target
更にまた、このプログラムは、例えば、コンピュータに、ウェーハ及びキャリアの汚染制約に基づいて、データベースから第1乃至第3の手順を実行可能なソータの集合をそれぞれ取得する機能と、これらの集合の積集合を求めることにより第1乃至第3の手順を全て実行可能なソータを選定する機能と、をさらに実現させるものである。 Furthermore, this program, for example, has the function of obtaining, from a database, a set of sorters that can execute the first to third procedures based on wafer and carrier contamination constraints, and the product of these sets. The function of selecting a sorter that can execute all the first to third procedures by obtaining the set is further realized.
1 入力部、2 目標構成決定部、3 移載手順決定部、4 出力部、5 メモリ、10 ウェーハ移載手順作成装置、11 製造装置、12 搬送装置、13 レール、14 カート、15 ストッカ、16 ソータ、21、データベース、100 半導体工場、A、B、C、X、X1、X2 キャリア、L1〜L6、L11〜L13、L21〜L23 ロット、p1〜p25 スロット、W1〜W6、W11〜W13、W21〜W23 ウェーハ、α、β、γ、δ、ε、ζ カテゴリ
DESCRIPTION OF
Claims (12)
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、
選択された各キャリアについて、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順を生成し、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順を生成し、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順を生成することを特徴とするウェーハ移載手順作成装置。 A wafer transfer procedure creating device for generating a transfer procedure of the wafer for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers,
Sequentially selecting one carrier from the plurality of carriers,
For each carrier selected
Based on the comparison result between the current wafer arrangement state and the target wafer arrangement state, if there is a wafer to be evacuated from the one carrier, a first procedure for evacuating the wafer is generated,
Based on the comparison result, a second procedure is generated for moving a wafer to be moved in the one carrier, if any.
A wafer transfer procedure creating apparatus for generating a third procedure for transferring a wafer to be transferred from another carrier to the one carrier based on the comparison result.
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択する工程と、
選択された前記一のキャリアについてウェーハの移載手順を生成する工程と、
を備え、
前記ウェーハの移載手順を生成する工程は、
現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態との比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順を生成する工程と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順を生成する工程と、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順を生成する工程と、
を有することを特徴とするウェーハ移載手順作成方法。 A wafer transfer procedure creation method for generating a transfer procedure of the wafer for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers,
Sequentially selecting one carrier from the plurality of carriers;
Generating a wafer transfer procedure for the selected one carrier;
With
The step of generating the wafer transfer procedure is as follows:
Generating a first procedure for evacuating any wafer to be evacuated from the one carrier based on a comparison result between the current wafer arrangement state and a target wafer arrangement state;
Generating a second procedure for moving any wafers to be moved within the one carrier based on the comparison result; and
Generating a third procedure for transferring, if any, a wafer to be transferred to the one carrier from another carrier based on the comparison result;
A wafer transfer procedure creation method characterized by comprising:
前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアの有無を判断する工程と、
前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがあれば、この他のキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載し、前記退避させるべきウェーハを収納可能な他のキャリアがなければ、前記退避させるべきウェーハと同じ汚染カテゴリに属する新たなキャリアを設け、この新たなキャリアに前記退避させるべきウェーハを移載する工程と、
を有することを特徴とする請求項5記載のウェーハ移載手順作成方法。 The step of generating the first procedure includes:
Determining the presence or absence of another carrier capable of storing the wafer to be retracted;
If there is another carrier capable of storing the wafer to be retracted, the wafer to be retracted is transferred to the other carrier, and if there is no other carrier capable of storing the wafer to be retracted, the retract is performed. Providing a new carrier belonging to the same contamination category as the wafer to be transferred, and transferring the wafer to be evacuated to the new carrier;
The wafer transfer procedure creating method according to claim 5, wherein:
前記各集合の積集合を求めることにより前記第1乃至第3の手順を全て実行可能なソータを選定する工程と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項5〜7のいずれか1つに記載のウェーハ移載手順作成方法。 Obtaining each set of sorters capable of performing the first to third procedures based on contamination constraints of the wafer and the carrier;
Selecting a sorter capable of executing all of the first to third procedures by obtaining a product set of the sets;
The wafer transfer procedure creating method according to any one of claims 5 to 7, further comprising:
前記コンピュータに、
前記複数のキャリアから順次一のキャリアを選択し、
選択された各キャリアについて、
前記複数のキャリアに搭載されたウェーハの配置状態が記憶されたデータベースから、選択された前記一のキャリアにおける現状のウェーハの配置状態を抽出してメモリに記憶させ、この記憶された前記現状のウェーハの配置状態と目標とするウェーハの配置状態とを比較する機能と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリアから退避させるべきウェーハがあればそれを退避させる第1の手順を生成する機能と、
前記比較結果に基づいて、前記一のキャリア内で移動させるべきウェーハがあればそれを移動させる第2の手順を生成する機能と、
前記比較結果に基づいて、他のキャリアから前記一のキャリアに移入させるべきウェーハがあればそれを移入させる第3の手順を生成する機能と、
を実現させることを特徴とするウェーハ移載手順作成プログラム。 A wafer transfer procedure creation program for causing a computer to generate a transfer procedure of the wafer for changing the arrangement state of wafers mounted on a plurality of carriers,
In the computer,
Sequentially selecting one carrier from the plurality of carriers,
For each carrier selected
The current wafer arrangement state in the selected one carrier is extracted from the database storing the arrangement state of the wafers mounted on the plurality of carriers and stored in the memory, and the stored current wafer is stored. A function for comparing the arrangement state of the target and the target wafer arrangement state,
Based on the comparison result, a function for generating a first procedure for evacuating a wafer to be evacuated from the one carrier, if any,
A function for generating a second procedure for moving, if any, a wafer to be moved in the one carrier based on the comparison result;
Based on the comparison result, a function of generating a third procedure for transferring a wafer to be transferred from another carrier to the one carrier, if any,
A wafer transfer procedure creation program characterized by realizing the above.
前記ウェーハ及び前記キャリアの汚染制約に基づいて、前記データベースから前記第1乃至第3の手順を実行可能なソータの集合をそれぞれ取得する機能と、
前記各集合の積集合を求めることにより前記第1乃至第3の手順を全て実行可能なソータを選定する機能と、
をさらに実現させることを特徴とする請求項9〜11のいずれか1つに記載のウェーハ移載手順作成プログラム。
In the computer,
A function of respectively obtaining a set of sorters capable of executing the first to third procedures from the database based on contamination restrictions of the wafer and the carrier;
A function of selecting a sorter capable of executing all of the first to third procedures by obtaining a product set of the sets;
The wafer transfer procedure creation program according to any one of claims 9 to 11, further comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006068248A JP2007250593A (en) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | Device, method and program of making wafer transfer procedure |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006068248A JP2007250593A (en) | 2006-03-13 | 2006-03-13 | Device, method and program of making wafer transfer procedure |
Publications (1)
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ID=38594605
Family Applications (1)
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007250593A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015182386A1 (en) * | 2014-05-28 | 2015-12-03 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate treatment device and substrate carrying-in position determination method |
-
2006
- 2006-03-13 JP JP2006068248A patent/JP2007250593A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2015182386A1 (en) * | 2014-05-28 | 2015-12-03 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate treatment device and substrate carrying-in position determination method |
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