JP2007237350A - Cleaning medium for magnetic recording apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning medium for a magnetic recording apparatus, which achieves high cleaning capability to a magnetic head of a high-density magnetic recording and reproducing apparatus, especially to MR head, reduces abrasion of the head, removes contaminants with moderate cleaning capability, and restores the reproduction output. <P>SOLUTION: In this cleaning medium for the magnetic recording apparatus, a cleaning layer containing inorganic powder made of at least ferromagnetic powder and a binder, is provided on a non-magnetic support. The cleaning medium for the magnetic recording apparatus is characterized in that the surface occupying percentage of a polisher in the cleaning layer surface ranges from 2.0 to 5.0%. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、オーディオ、ビデオ、コンピューター用磁気記録再生装置に使用されている磁気ヘッドもしくは走行系の清浄に利用されるクリーニングテープ等の磁気記録装置用クリーニング媒体に関するものである。   The present invention relates to a magnetic recording device cleaning medium such as a magnetic head used in audio, video, and computer magnetic recording / reproducing devices, or a cleaning tape used for cleaning a running system.

一般にビデオ用、オーディオ用、コンピューター用の磁気記録装置の記録・再生は、磁気ヘッドと磁気テープ等の磁気メディアをお互いに接触させつつ摺動して行われる。この時、磁気ヘッドの表面に磁気テープの削れ粉や装置の周辺の塵埃が付着すると再生出力が低くなり、さらには出力が全く得られなくなる。このように低下した再生出力を回復するために、磁気ヘッドの表面に付着した汚れをクリーニングして再生出力を復元するクリーニングテープ等のクリーニング媒体が用いられる。   In general, recording / reproduction of a magnetic recording apparatus for video, audio, and computer is performed by sliding a magnetic head and a magnetic medium such as a magnetic tape while contacting each other. At this time, if scraping powder of the magnetic tape or dust around the apparatus adheres to the surface of the magnetic head, the reproduction output becomes low, and further no output can be obtained. In order to recover the reproduction output thus reduced, a cleaning medium such as a cleaning tape that cleans dirt adhering to the surface of the magnetic head and restores the reproduction output is used.

一方、磁気記録は年々高密度化が進んでおり、磁気ヘッド先端と磁気テープとの接触の様子を良好にしてやらなければ、十分な記録再生ができないことが多くなってきた。いわゆる、ヘッド当たりを良好に保つために、クリーニングテープは磁気ヘッドの汚れを取るばかりでなく、ある程度ヘッドの形状を整えてやることも必要になってきている。特に、近年は最短記録波長が1μm以下となるような高密度記録を行う磁気記録再生装置の磁気ヘッドも使用され、この磁気ヘッドにおけるギャップ長は0.4μm以下であり、僅かなヘッドの汚れも記録再生性能に支障を来すことになる。   On the other hand, the density of magnetic recording is increasing year by year, and unless the state of contact between the tip of the magnetic head and the magnetic tape is not improved, sufficient recording and reproduction cannot be performed. In order to keep the so-called head contact good, the cleaning tape not only removes dirt from the magnetic head, but also needs to adjust the shape of the head to some extent. In particular, in recent years, a magnetic head of a magnetic recording / reproducing apparatus that performs high-density recording such that the shortest recording wavelength is 1 μm or less is also used, and the gap length in this magnetic head is 0.4 μm or less, and slight head contamination is also caused. This will interfere with the recording / reproduction performance.

また、磁気ヘッドも高密度化に伴い、MRヘッドが用いられるようになってきた。一般に用いられるシールド型MRヘッド素子の高さは数ミクロン以下であり、従来のフェライトヘッドやセンダスト等の金属ヘッドと比べて、ヘッド磨耗量をなるべく少なくしなければならない。   In addition, magnetic heads have come to be used with higher density. The height of a generally used shield type MR head element is several microns or less, and the amount of head wear must be reduced as much as possible as compared with conventional metal heads such as ferrite heads and sendusts.

また、近年、Hi−8やDVCのように、蒸着テープ(MEテープ)とメタル粉テープ(MPテープ)との両方が使用できる磁気記録装置が登場してきている。蒸着テープは剛性の高い金属薄膜が磁気ヘッドと接触するので、この磁気ヘッド先端が鋭くなっていないと良好な接触状態すなわち記録再生特性が得られにくい。さらに、蒸着テープは研磨剤を含まないので、その接触における磁気ヘッドの摩耗が少なく、磁気ヘッドとのなじみ性が低いものである。一方、メタルテープはその磁性層に磁性粉末が結合剤中に含まれているので、磁気ヘッドと柔らかく接触することになり、ヘッド先端の形状によってそれほどテープとのヘッド当たりが変化することはないし、また、摩耗力を有しているので磁気ヘッドとのなじみも良好である。   In recent years, magnetic recording apparatuses that can use both vapor-deposited tape (ME tape) and metal powder tape (MP tape) have appeared, such as Hi-8 and DVC. In the vapor deposition tape, a metal thin film having high rigidity comes into contact with the magnetic head. Therefore, unless the tip of the magnetic head is sharp, it is difficult to obtain a good contact state, that is, recording / reproducing characteristics. Furthermore, since the vapor deposition tape does not contain an abrasive, there is little wear of the magnetic head at the contact, and the compatibility with the magnetic head is low. On the other hand, since the magnetic powder contains magnetic powder in the binder in the metal tape, it will come into soft contact with the magnetic head, and the head contact with the tape will not change so much depending on the shape of the head tip. In addition, since it has an abrasion force, it is well adapted to the magnetic head.

それゆえ、蒸着テープを走行させた後の磁気ヘッドに対してメタルテープを走行させても、ヘッド当たりの変化はそれほど見られないが、その逆に、メタルテープを走行させた後に蒸着テープを走行させると、ヘッド当たりが不調になる場合がある。   Therefore, even if the metal tape is run against the magnetic head after running the vapor-deposited tape, there is not much change per head, but conversely, the vapor-deposited tape is run after running the metal tape. If this is done, the head contact may become unstable.

磁気ヘッドの研磨に使用する研磨テープの先行技術としては、例えば特許文献1(特開昭62−92205号公報)には、非磁性支持体上に、非磁性粉末を含む中間層と、非磁性研磨剤を含む研磨層を順に積層した研磨テープが開示されている。この研磨テープは、2層構成を採用し、中間層の表面性を粗くする一方、上層研磨層の研磨剤粒子径を細かくすることにより、研磨力を維持しつつヘッド傷の発生を防ぐようにしているが、この研磨テープは磁気ヘッドの仕上げ研磨用であって、表面粗さが0.03〜0.3μmであることからも、ヘッド摩耗が多くクリーニングとしての適度の研磨を行うことが困難で、クリーニングテープとしての用途には不適当である。上記と同様の磁気ヘッドの研磨テープが、特許文献2(特開昭62−94270号公報)にも開示されている。これらも2層構成の研磨層を有するが、適度の研磨によって磁気ヘッドに傷を付けることなく良好なクリーニングを行うことは困難で、クリーニング媒体としては適していないものである。   As a prior art of a polishing tape used for polishing a magnetic head, for example, Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-92205) discloses an intermediate layer containing nonmagnetic powder on a nonmagnetic support, and nonmagnetic An abrasive tape in which abrasive layers containing an abrasive are sequentially laminated is disclosed. This polishing tape employs a two-layer structure to roughen the surface properties of the intermediate layer, while reducing the abrasive particle diameter of the upper polishing layer to prevent head scratches while maintaining polishing power. However, this polishing tape is for final polishing of the magnetic head, and since the surface roughness is 0.03 to 0.3 μm, it is difficult to perform appropriate polishing as cleaning with a lot of head wear. Therefore, it is not suitable for use as a cleaning tape. A magnetic tape polishing tape similar to that described above is also disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-94270. These also have a two-layer polishing layer, but it is difficult to perform good cleaning without damaging the magnetic head by appropriate polishing, and is not suitable as a cleaning medium.

そして、MRヘッドはフェライトヘッドやセンダスト等の金属ヘッドと比べて、ヘッド磨耗量をなるべく少なくしなければならないという問題があるが、この問題を解消する有効な手段が望まれていた。
特開昭62−92205号公報 特開昭62−94270号公報
The MR head has a problem that the amount of head wear must be reduced as much as possible as compared with a metal head such as a ferrite head or sendust. However, an effective means for solving this problem has been desired.
JP 62-92205 A JP-A-62-94270

本発明は、高密度磁気記録再生装置等の磁気ヘッド、特にMRヘッドに対するクリーニング力が高く、ヘッド磨耗が少なく、かつ適度のクリーニング力で汚れの除去が行えて再生出力を復元できる磁気記録装置用クリーニング媒体を提供することを課題とするものである。   The present invention is for a magnetic recording apparatus that has a high cleaning power for a magnetic head such as a high-density magnetic recording / reproducing apparatus, particularly an MR head, has little head wear, and can remove dirt with an appropriate cleaning power to restore a reproduced output. It is an object of the present invention to provide a cleaning medium.

本発明は、以下のとおりである。
1)非磁性支持体上に、少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる磁気記録装置用クリーニング媒体において、クリーニング層表面の研磨剤の表面占有率が2.0〜5.0%であることを特徴とする磁気記録装置用クリーニング媒体。
2)前記非磁性支持体の、前記クリーニング層を設けた逆の面に、非磁性のバック層を設けたことを特徴とする上記1)に記載の磁気記録装置用クリーニング媒体。
The present invention is as follows.
1) In a magnetic recording device cleaning medium in which a cleaning layer containing at least an inorganic powder of a ferromagnetic powder and a binder is provided on a nonmagnetic support, the surface occupancy ratio of the polishing agent on the surface of the cleaning layer is 2.0. A cleaning medium for a magnetic recording device, characterized by being -5.0%.
2) The magnetic recording apparatus cleaning medium according to 1) above, wherein a nonmagnetic back layer is provided on the opposite surface of the nonmagnetic support on which the cleaning layer is provided.

本発明は、非磁性支持体上に、少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる磁気記録装置用クリーニング媒体において、クリーニング層表面の研磨剤の表面占有率を特定したので、高密度磁気記録再生装置等の磁気ヘッド、特にMRヘッドに対するクリーニング力が高く、ヘッド磨耗が少なく、かつ適度のクリーニング力で汚れの除去が行えて再生出力を復元できる磁気記録装置用クリーニング媒体を提供することができる。   The present invention specifies the surface occupancy ratio of the abrasive on the surface of the cleaning layer in a cleaning medium for a magnetic recording apparatus in which a cleaning layer containing at least an inorganic powder of a ferromagnetic powder and a binder is provided on a nonmagnetic support. Therefore, cleaning for magnetic recording devices that has high cleaning power for magnetic heads such as high-density magnetic recording / reproducing devices, especially MR heads, less head wear, can remove dirt with an appropriate cleaning force, and can restore reproduced output. A medium can be provided.

本発明のクリーニング媒体の基本構造は、非磁性支持体上に、少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなるものである。好適な形態としては、非磁性支持体の、前記クリーニング層を設けた逆の面に、非磁性のバック層を設けたクリーニング媒体である。また別の好適な形態は、非磁性支持体とクリーニング層との間に、非磁性無機粉末と結合剤とを主成分とする下層塗布層を設けてなるクリーニング媒体である。   The basic structure of the cleaning medium of the present invention is such that a cleaning layer containing at least an inorganic powder of a ferromagnetic powder and a binder is provided on a nonmagnetic support. A preferred embodiment is a cleaning medium in which a nonmagnetic back layer is provided on the opposite surface of the nonmagnetic support provided with the cleaning layer. Another preferred embodiment is a cleaning medium in which a lower coating layer mainly comprising a nonmagnetic inorganic powder and a binder is provided between a nonmagnetic support and a cleaning layer.

本発明でいうクリーニング層表面の研磨剤とは、研磨剤粒子の一部または全部が磁性層表面から露出している粒子であり、上記研磨剤の表面占有率を特定することは、この露出部の大きさや個数を制限することを意味する。なお、クリーニング層表面の研磨剤の表面占有率とは、クリーニング層表面から露出している粒子の露出部をクリーニング層表面に垂直に投影したときの、単位面積あたりの投影面積を指す。この表面占有率は、クリーニング層の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察し、得られたSEM像をコンピュータ解析することにより求めることができる。測定方法の詳細については、例えば特開平9−305959号公報に記載されており、本発明でもその内容を利用することができる。クリーニング層表面における表面占有率は、2.0〜5.0%であり、2.0〜4.0%であるのが好ましく、2.5〜4.0%であるのがとくに好ましい。   The abrasive on the surface of the cleaning layer referred to in the present invention is a particle in which part or all of the abrasive particles are exposed from the surface of the magnetic layer, and specifying the surface occupancy ratio of the abrasive is the exposed portion. It means to limit the size and number of. The surface occupancy ratio of the abrasive on the surface of the cleaning layer refers to a projected area per unit area when an exposed portion of particles exposed from the surface of the cleaning layer is projected perpendicularly onto the surface of the cleaning layer. This surface occupancy can be obtained by observing the surface of the cleaning layer using a scanning electron microscope (SEM) and analyzing the obtained SEM image by computer analysis. Details of the measurement method are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-305959, and the contents can be used in the present invention. The surface occupation ratio on the surface of the cleaning layer is 2.0 to 5.0%, preferably 2.0 to 4.0%, and particularly preferably 2.5 to 4.0%.

上記表面占有率が5.0%を超えると、クリーニング時にヘッド磨耗が大きく、ヘッドをキズを付ける恐れが高くなる。また2.0%未満であると、クリーニング力が低下して汚れを除去することができない。   If the surface occupancy exceeds 5.0%, head wear is large during cleaning, and the risk of scratching the head increases. On the other hand, if it is less than 2.0%, the cleaning power is reduced and the dirt cannot be removed.

上記研磨剤の表面占有率をコントロールする方法としては、使用する研磨剤の一次粒子の平均粒子径及び粒度分布を選択すると共に、クリーニング層形成用塗料中の研磨剤粒子の凝集を極力防止することが重要である。研磨剤の凝集を防ぐ方法の一例としては、研磨剤のみを予め適量の結合剤及び有機溶剤を用いて分散させ、スラリー化させてからクリーニング層形成用塗料とすることが好ましい。
研磨剤の一次粒子の平均粒子径は、0.05〜0.5μmが好ましく、0.1〜0.3μmがさらに好ましい。
研磨剤の含有量は、強磁性粉末100質量部に対して1〜30質量部であることが好ましく、さらに好ましくは1〜20質量部である。
As a method for controlling the surface occupancy rate of the abrasive, the average particle size and particle size distribution of the primary particles of the abrasive to be used should be selected, and aggregation of the abrasive particles in the coating for forming the cleaning layer should be prevented as much as possible. is important. As an example of a method for preventing the agglomeration of the abrasive, it is preferable to disperse the abrasive alone in advance using an appropriate amount of a binder and an organic solvent and form a slurry before forming a coating material for forming a cleaning layer.
The average particle diameter of the primary particles of the abrasive is preferably 0.05 to 0.5 μm, more preferably 0.1 to 0.3 μm.
The content of the abrasive is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ferromagnetic powder.

また本発明ではクリーニング層に潤滑剤として脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを含ませることが好ましい。例えば、脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルとしては以下のものが例示される。脂肪酸アミドとしては炭素数8〜22の脂肪酸アミドが挙げられる。脂肪酸としては、炭素数10〜24の一塩基性脂肪酸、これらの金属塩(Li,Na,K,Cuなど)が挙げられる。脂肪酸エステルとしては、上記炭素数10〜24の一塩基性脂肪酸と炭素数4〜22のアルコールとのエステルが挙げられる。   In the present invention, the cleaning layer preferably contains a fatty acid amide, a fatty acid and a fatty acid ester as a lubricant. For example, the following are illustrated as fatty acid amides, fatty acids and fatty acid esters. Examples of the fatty acid amide include fatty acid amides having 8 to 22 carbon atoms. Examples of the fatty acid include monobasic fatty acids having 10 to 24 carbon atoms and metal salts thereof (Li, Na, K, Cu, etc.). Examples of the fatty acid ester include esters of the above monobasic fatty acid having 10 to 24 carbon atoms and alcohol having 4 to 22 carbon atoms.

上記脂肪酸、そのアミド及びそのエステルに用いられる脂肪酸及び/又はアルコールは、飽和でも不飽和でも、また直鎖でも分岐していてもあるいは脂環式環を有していてもよい。また、脂肪酸及び/又はアルコールは、アルコキシ基を有したものでもよく、あるいはアルキレンオキシド重合物またはそのモノアルキルエーテル化されたものを有したものでもよい。脂肪酸エステルは、1価エステルでも多価エステル、好ましくは1価〜3価エステルでもよく、後者の場合、ヒドロキシル基が残っていてもよい。脂肪酸アミドは、1価アミドでも多価アミドでもよく、後者の場合、カルボキシル基が残っていてもよい。これら脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルは、前記クリーニング層表面の突起分布との関係で最適なものが選定される。脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルの少なくともいずれかは、2種以上のものを組み合わせて用いることもできる。   The fatty acid and / or alcohol used in the fatty acid, its amide and its ester may be saturated or unsaturated, linear or branched, or have an alicyclic ring. The fatty acid and / or alcohol may have an alkoxy group, or may have an alkylene oxide polymer or a monoalkyl etherized product thereof. The fatty acid ester may be a monovalent ester or a polyvalent ester, preferably a monovalent to trivalent ester, and in the latter case, a hydroxyl group may remain. The fatty acid amide may be a monovalent amide or a polyvalent amide. In the latter case, a carboxyl group may remain. Among these fatty acid amides, fatty acids and fatty acid esters, optimum ones are selected in relation to the protrusion distribution on the cleaning layer surface. Two or more of fatty acid amides, fatty acids and fatty acid esters can be used in combination.

これら脂肪酸、脂肪酸エステルの具体例としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等が挙げられる。また、脂肪酸アミドも上記脂肪酸から誘導されるものが挙げられる。   Specific examples of these fatty acids and fatty acid esters include lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, elaidic acid, butyl stearate, octyl stearate, amyl stearate, Examples include isooctyl stearate, octyl myristate, butoxyethyl stearate, anhydrosorbitan monostearate, anhydrosorbitan distearate, anhydrosorbitan tristearate and the like. In addition, fatty acid amides include those derived from the above fatty acids.

クリーニング層への脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルの総使用量は、強磁性粉末100質量部に対して0.1〜10質量部が好ましく、0.5〜5質量部が更に好ましい。脂肪酸アミド、脂肪酸または脂肪酸エステルの各使用量は上記範囲から適宜分配され、最適な範囲が選定される。一般に量の関係では、脂脂肪酸アミド≦脂肪酸≦肪酸エステルとなることが好ましい。   The total amount of fatty acid amide, fatty acid and fatty acid ester used in the cleaning layer is preferably from 0.1 to 10 parts by weight, more preferably from 0.5 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the ferromagnetic powder. Each use amount of fatty acid amide, fatty acid or fatty acid ester is appropriately distributed from the above range, and an optimum range is selected. In general, in terms of quantity, it is preferable that fat fatty acid amide ≦ fatty acid ≦ fatty acid ester.

クリーニング層に混合する無機粉末としては強磁性粉末を含み、この強磁性粉末としては、γ−FeOx(x=1.33〜1.5)、Co変性γ−FeOx(x=1.33〜1.5)、α−FeまたはNiまたはCoを主成分(75%以上)とする強磁性合金粉末、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライトなど公知の強磁性粉末が使用できるが、α−Feを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外に、Al,Si,S,Sc,Ca,Ti,V,Cr,Cu,Y,Mo,Rh,Pd,Ag,Sn,Sb,Te,Ba,Ta,W,Re,Au,Hg,Pb,Bi,La,Ce,Pr,Nd,P,Co,Mn,Zn,Ni,Sr,B,Mgなどの原子を含んでもかまわない。特に、メタル磁性体の場合はAl,Si,Ca,Y,Ba,La,Nd,Co,Ni,Bがα−Fe以外に含まれる元素として重要である。とりわけ、Si,Al,Yが表面処理や焼結防止剤として重要である。CoはFeに対し2〜40質量%含有したものが好ましい。Si,Al,Yは0〜10質量%の間で含まれる。これらの強磁性粉末には後で述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭44−14090号、特公昭45−18372号、特公昭47−22062号、特公昭47−22513号、特公昭46−28466号、特公昭46−38755号、特公昭47−4286号、特公昭47−12422号、特公昭47−17284号、特公昭47−18509号、特公昭47−18573号、特公昭39−10307号、特公昭48−39639号、米国特許3026215号、同3031341号、同3100194号、同3242005号、同3389014号などに記載されている。   The inorganic powder mixed in the cleaning layer includes a ferromagnetic powder. Examples of the ferromagnetic powder include γ-FeOx (x = 1.33 to 1.5), Co-modified γ-FeOx (x = 1.33 to 1). .5), known ferromagnetic powders such as ferromagnetic alloy powder, barium ferrite, strontium ferrite, etc. containing α-Fe or Ni or Co as the main component (75% or more) can be used, but α-Fe is the main component. Ferromagnetic alloy powder is preferred. In addition to predetermined atoms, these ferromagnetic powders include Al, Si, S, Sc, Ca, Ti, V, Cr, Cu, Y, Mo, Rh, Pd, Ag, Sn, Sb, Te, Ba, Ta. , W, Re, Au, Hg, Pb, Bi, La, Ce, Pr, Nd, P, Co, Mn, Zn, Ni, Sr, B, and Mg may be included. In particular, in the case of a metal magnetic material, Al, Si, Ca, Y, Ba, La, Nd, Co, Ni, and B are important as elements contained other than α-Fe. In particular, Si, Al, and Y are important as surface treatments and sintering inhibitors. Co is preferably contained in an amount of 2 to 40% by mass with respect to Fe. Si, Al, and Y are contained between 0 and 10% by mass. These ferromagnetic powders may be previously treated with a dispersant, lubricant, surfactant, antistatic agent, etc., which will be described later. Specifically, Japanese Patent Publication No. 44-14090, Japanese Patent Publication No. 45-18372, Japanese Patent Publication No. 47-22062, Japanese Patent Publication No. 47-22513, Japanese Patent Publication No. Sho 46-28466, Japanese Patent Publication No. Sho 46-38755, Japanese Patent Publication No. 47 -4286, JP-B 47-12422, JP-B 47-17284, JP-B 47-18509, JP-B 47-18573, JP-B 39-10307, JP-B 48-39639, US Patent 3026215 No. 3031341, No. 3100194, No. 322005, No. 3389014, and the like.

上記強磁性粉末の中で強磁性合金微粉末については少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあるいはFe−Co粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。   Among the ferromagnetic powders, the ferromagnetic alloy fine powder may contain a small amount of hydroxide or oxide. What was obtained by the well-known manufacturing method of the ferromagnetic alloy fine powder can be used, and the following method can be mentioned. Method of reducing complex organic acid salt (mainly oxalate) with reducing gas such as hydrogen, method of reducing iron oxide with reducing gas such as hydrogen to obtain Fe or Fe-Co particles, metal carbonyl compound A method of thermal decomposition, a method of reducing by adding a reducing agent such as sodium borohydride, hypophosphite, or hydrazine to an aqueous solution of a ferromagnetic metal, and evaporating the metal in a low-pressure inert gas to form a fine powder. How to get. The ferromagnetic alloy powder obtained in this manner is a known slow oxidation treatment, that is, a method of drying after immersing in an organic solvent, and after immersing in an organic solvent, an oxygen-containing gas is fed to form an oxide film on the surface and then dried. Any of the methods of forming an oxide film on the surface by adjusting the partial pressure of oxygen gas and inert gas without using an organic solvent can be used.

本発明のクリーニング層の強磁性粉末をBET法による比表面積で表せば45〜80m/gであり、好ましくは50〜70m/gである。40m/g以下または80m/g以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明のクリーニング層の強磁性粉末の結晶子サイズは300〜100Åであり、好ましくは250〜100Å、更に好ましくは200〜140Åである。 When the ferromagnetic powder of the cleaning layer of the present invention is expressed by a specific surface area by the BET method, it is 45 to 80 m 2 / g, preferably 50 to 70 m 2 / g. A surface property of 40 m 2 / g or less or 80 m 2 / g or more is not preferred because it is difficult to obtain surface properties. The crystallite size of the ferromagnetic powder of the cleaning layer of the present invention is 300 to 100 mm, preferably 250 to 100 mm, and more preferably 200 to 140 mm.

強磁性粉末の飽和磁化σsは100〜180A・m/kgが好ましく、さらに好ましくは110〜170A・m/kg、更に好ましくは125〜160A・m/kgである。強磁性粉末の抗磁力Hcは500〜3000Oe(≒40〜240kA/m)が好ましい。角型比は0.6〜0.98が好ましく、クリーニング層の磁化量は30〜300mT・μmが好ましい。一方、強磁性粉末の針状比は4〜18が好ましく、更に好ましくは5〜12である。強磁性粉末の含水率は0.01〜2%とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。 The saturation magnetization σs of the ferromagnetic powder is preferably 100 to 180 A · m 2 / kg, more preferably 110 to 170 A · m 2 / kg, and still more preferably 125 to 160 A · m 2 / kg. The coercive force Hc of the ferromagnetic powder is preferably 500 to 3000 Oe (≈40 to 240 kA / m). The squareness ratio is preferably 0.6 to 0.98, and the amount of magnetization of the cleaning layer is preferably 30 to 300 mT · μm. On the other hand, the acicular ratio of the ferromagnetic powder is preferably 4 to 18, more preferably 5 to 12. The moisture content of the ferromagnetic powder is preferably 0.01-2%. It is preferable to optimize the moisture content of the ferromagnetic powder depending on the type of binder.

強磁性粉末のpHは用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲は4〜12であるが、好ましくは6〜10である。強磁性粉末は必要に応じ、Al,Si,Pまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し0.1〜10%であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が100mg/m以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のNa,Ca,Fe,Ni,Srなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、200ppm以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は20容量%以下、さらに好ましくは5容量%以下である。 The pH of the ferromagnetic powder is preferably optimized depending on the combination with the binder used. The range is 4-12, but preferably 6-10. The ferromagnetic powder may be surface-treated with Al, Si, P, or an oxide thereof as required. The amount thereof is 0.1 to 10% with respect to the ferromagnetic powder, and the surface treatment is preferable because the adsorption of a lubricant such as a fatty acid is 100 mg / m 2 or less. The ferromagnetic powder may contain inorganic ions such as soluble Na, Ca, Fe, Ni, and Sr. Although it is preferable that these are essentially not present, if they are 200 ppm or less, they do not particularly affect the characteristics. The ferromagnetic powder preferably has fewer pores, and the value is 20% by volume or less, more preferably 5% by volume or less.

クリーニング層及び下層塗布層に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−100〜150℃、数平均分子量が1,000〜200,000、好ましくは10,000〜100,000、重合度が約50〜1,000程度のものである。   As the binder used for the cleaning layer and the lower coating layer, conventionally known thermoplastic resins, thermosetting resins, reactive resins and mixtures thereof are used. The thermoplastic resin has a glass transition temperature of −100 to 150 ° C., a number average molecular weight of 1,000 to 200,000, preferably 10,000 to 100,000, and a polymerization degree of about 50 to 1,000. Is.

このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層塗布層、または上層クリーニング層に使用することも可能である。   Examples of such include vinyl chloride, vinyl acetate, vinyl alcohol, maleic acid, acrylic acid, acrylic ester, vinylidene chloride, acrylonitrile, methacrylic acid, methacrylic ester, styrene, butadiene, ethylene, vinyl butyral, vinyl acetal, There are polymers or copolymers containing vinyl ether as a constituent unit, polyurethane resins, and various rubber resins. Thermosetting resins or reactive resins include phenolic resins, epoxy resins, polyurethane curable resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins, acrylic reactive resins, formaldehyde resins, silicone resins, epoxy-polyamide resins, polyester resins. And a mixture of an isocyanate prepolymer, a mixture of a polyester polyol and a polyisocyanate, a mixture of a polyurethane and a polyisocyanate, and the like. These resins are described in detail in “Plastic Handbook” published by Asakura Shoten. Moreover, it is also possible to use a known electron beam curable resin for the lower coating layer or the upper cleaning layer.

これらの例とその製造方法については特開昭62−256219号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる少なくとも1種とポリウレタン樹脂の組み合わせ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタンなど公知のものが使用できる。中でも、少なくともポリオールと有機ジイソシアネートを主要原料とした反応生成物であるポリウレタン樹脂からなり、該ポリオール成分として前記ポリウレタン樹脂中に、環状構造を有する短鎖ジオール成分、長鎖ポリエーテルポリオール成分、更に分子量500〜5000の極性基含有長鎖ポリオール成分を含むものが好ましい。   These examples and their production methods are described in detail in JP-A No. 62-256219. The above resins can be used alone or in combination, but preferably at least one selected from vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl acetate vinyl alcohol resin, vinyl chloride vinyl acetate maleic anhydride copolymer. A combination of a seed and a polyurethane resin, or a combination of these with a polyisocyanate can be mentioned. As the structure of the polyurethane resin, known structures such as polyester polyurethane, polyether polyurethane, polyether polyester polyurethane, polycarbonate polyurethane, polyester polycarbonate polyurethane, polycaprolactone polyurethane and polyolefin polyurethane can be used. Among them, it is composed of a polyurethane resin which is a reaction product containing at least a polyol and an organic diisocyanate as main raw materials, and as the polyol component, in the polyurethane resin, a short-chain diol component having a cyclic structure, a long-chain polyether polyol component, and further a molecular weight Those containing 500 to 5,000 polar group-containing long-chain polyol components are preferred.

ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−COOM、−SOM、−OSOM、−P=O(OM)、−O−P=O(OM)(以上につきMは水素原子またはアルカリ金属塩基)、−OH、−NR、−N(Rは炭化水素基)、エポキシ基、−SH、−CN、スルホベタイン、ホスホベタイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は10−1〜10−8モル/gであり、好ましくは10−2〜10−6モル/gである。 For all binding agents indicated herein, if necessary in order to obtain more excellent dispersibility and durability, -COOM, -SO 3 M, -OSO 3 M, -P = O (OM) 2, - O—P═O (OM) 2 (wherein M is a hydrogen atom or an alkali metal base), —OH, —NR 2 , —N + R 3 (R is a hydrocarbon group), epoxy group, —SH, —CN It is preferable to use one in which at least one polar group selected from sulfobetaine, phosphobetaine, carboxybetaine and the like is introduced by copolymerization or addition reaction. The amount of such a polar group is 10 −1 to 10 −8 mol / g, preferably 10 −2 to 10 −6 mol / g.

本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはダウケミカル社製のVAGH,VYHH,VMCH,VAGF,VAGD,VROH,VYES,VYNC,VMCC,XYHL,XYSG,PKHH,PKHJ,PKHC,PKFE、日信化学工業社製のMPR−TA,MPR−TA5,MPR−TAL,MPR−TSN,MPR−TMF,MPR−TS,MPR−TM,MPR−TAO、電気化学社製の1000W,DX80,DX81,DX82,DX83,100FD、日本ゼオン社製のMR−104,MR−105,MR110,MR100,400X−110A、日本ポリウレタン社製のニッポランN2301,N2302,N2304、大日本インキ社製のパンデックスT−5105,T−R3080,T−5201,バーノックD−400,D−210−80,クリスボン6109,7209,東洋紡社製のバイロンUR8200,UR8300,UR8600、大日精化社製のダイフェラミン4020,5020,5100,5300,9020,9022,7020、三菱化学社製のMX5004、三洋化成社製のサンプレンSP−150,TIM−3003,TIM−3005、旭化成社製のサランF310,F210などがあげられる。この中でMR−104,MR110,MPR−TAO,MPR−TA,UR−8200,UR8300,TIM−3005が好ましい。   Specific examples of these binders used in the present invention include VAGH, VYHH, VMCH, VAGF, VAGD, VROH, VYES, VYNC, VMCC, XYHL, XYSG, PKHH, PKHJ, PKHC, PKFE manufactured by Dow Chemical Co. MPR-TA, MPR-TA5, MPR-TAL, MPR-TSN, MPR-TMF, MPR-TS, MPR-TM, MPR-TAO, manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd., 1000W, DX80, DX81 manufactured by Denki Kagaku , DX82, DX83, 100FD, MR-104, MR-105, MR110, MR100, 400X-110A manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., Nipponran N2301, N2302, N2304 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd. 5105, T-R3080, T-5201 Barnock D-400, D-210-80, Crisbon 6109, 7209, Byron UR8200, UR8300, UR8600 manufactured by Toyobo, Daiferamin 4020, 5020, 5100, 5300, 9020, 9022, 7020 manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd., Mitsubishi Chemical MX5004 manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd., Sanprene SP-150, TIM-3003, TIM-3005 manufactured by Sanyo Kasei Co., Ltd., Saran F310, F210 manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., and the like. Among these, MR-104, MR110, MPR-TAO, MPR-TA, UR-8200, UR8300, and TIM-3005 are preferable.

本発明のクリーニング層に用いられる樹脂成分と硬化剤との合計(すなわち結合剤)は強磁性粉末を含む無機粉末に対し、5〜24質量%の範囲、好ましくは8〜22質量%の範囲で用いられる。下層塗布層に用いられる結合剤量は、非磁性無機粉末100質量部に対して、通常15〜40質量部の範囲内にあることが好ましく、さらに好ましくは20〜30質量部である。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は5〜30質量%、ポリウレタン樹脂を用いる場合は2〜20質量%、ポリイソシアネートは2〜20質量%の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。特に、クリーニング層にポリイソシアネートを含まず、下層塗布層にポリイソシアネートを含む構成が望ましい。   The total of the resin component and the curing agent used in the cleaning layer of the present invention (that is, the binder) is in the range of 5 to 24% by mass, preferably in the range of 8 to 22% by mass, with respect to the inorganic powder including the ferromagnetic powder. Used. The amount of the binder used in the lower coating layer is usually preferably in the range of 15 to 40 parts by mass, more preferably 20 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the nonmagnetic inorganic powder. It is preferable to use a combination of 5 to 30% by mass when using a vinyl chloride resin, 2 to 20% by mass when using a polyurethane resin, and 2 to 20% by mass of polyisocyanate. In particular, it is desirable that the cleaning layer contains no polyisocyanate and the lower coating layer contains polyisocyanate.

本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−50〜100℃、破断伸びが100〜2000%、破断応力は0.05〜10Kg/mm(≒0.49〜98MPa)、降伏点は0.05〜10Kg/mm(≒0.49〜98MPa)が好ましい。 In the present invention, when polyurethane is used, the glass transition temperature is −50 to 100 ° C., the elongation at break is 100 to 2000%, the stress at break is 0.05 to 10 kg / mm 2 (≈0.49 to 98 MPa), and the yield point is 0.05 to 10 Kg / mm 2 (≈0.49 to 98 MPa) is preferable.

本発明のクリーニング媒体を二層以上から構成する場合は、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、クリーニング層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層塗布層とクリーニング層とで変えることはもちろん可能であり、公知技術を適用できる。   When the cleaning medium of the present invention is composed of two or more layers, the amount of the binder, the amount of vinyl chloride resin, polyurethane resin, polyisocyanate, or other resin in the binder, and each resin forming the cleaning layer It is of course possible to change the molecular weight, the polar group amount, or the physical properties of the resin described above between the lower coating layer and the cleaning layer as required, and known techniques can be applied.

前記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、4,4‘−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1・5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製のコロネートL、コロネートHL、コロネート2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミリオネートMTL、武田薬品社製のタケネートD−102、タケネートD−110N、タケネートD−200、タケネートD−202、住化バイエル社製のデスモジュールL、デスモジュールIL、デスモジュールN、デスモジュールHL、大日本インキ社製のバーノックD502等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせで下層塗布層、上層クリーニング層共に用いることができる。   Examples of the polyisocyanate include isocyanates such as tolylene diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, naphthylene-1,5 diisocyanate, o-toluidine diisocyanate, isophorone diisocyanate, and triphenylmethane triisocyanate. In addition, products of these isocyanates and polyalcohols, polyisocyanates formed by condensation of isocyanates, and the like can be used. Commercially available product names of these isocyanates include Coronate L, Coronate HL, Coronate 2030, Coronate 2031, Millionate MR, Millionate MTL, Takenate Pharmaceutical's Takenate D-102, Takenate D- 110N, Takenate D-200, Takenate D-202, Sumika Bayer's Death Module L, Death Module IL, Death Module N, Death Module HL, Dainippon Ink's Burnock D502, etc. By utilizing the difference in reactivity, the lower coating layer and the upper cleaning layer can be used in combination of two or more.

本発明のクリーニング層は、カーボンブラックを無機粉末として混合してもよく、このカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は5〜500m/g、DBP吸油量は10〜400ml/100g、粒子径は5mμ〜300mμ、pHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/ccが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、BLACKPEARLS 2000、1300、1000、900、800,700、VULCAN XC−72、旭カーボン社製、#80、#60,#55、#50、#35、三菱化学社製、#2400B、#2300、#5,#900,#950,#970,#1000、#30,#40、#10B、コンロンビアカーボン社製、CONDUCTEX SC、RAVEN 150、50,40,15などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックをクリーニング層用塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。 In the cleaning layer of the present invention, carbon black may be mixed as an inorganic powder. As the carbon black, furnace for rubber, thermal for rubber, black for color, acetylene black and the like can be used. Specific surface area is 5 to 500 m 2 / g, DBP oil absorption is 10 to 400 ml / 100 g, particle diameter is 5 m to 300 mμ, pH is 2 to 10, moisture content is 0.1 to 10%, tap density is 0.1 to 1 g / cc is preferred. Specific examples of carbon black used in the present invention include Cabot Corporation, BLACKPEARLS 2000, 1300, 1000, 900, 800, 700, VULCAN XC-72, Asahi Carbon Corporation, # 80, # 60, # 55, # 50, # 35, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, # 2400B, # 2300, # 5, # 900, # 950, # 970, # 1000, # 30, # 40, # 10B, manufactured by Conlongbia Carbon Co., CONDUCTEX SC, RAVEN 150, 50, 40, 15 and the like. Carbon black may be surface-treated with a dispersant or the like, or may be used after being grafted with a resin, or may be obtained by graphitizing a part of the surface. Further, carbon black may be dispersed in advance with a binder before being added to the cleaning layer coating. These carbon blacks can be used alone or in combination.

カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の5質量%以下で用いることが好ましい。カーボンブラックはクリーニング層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックはクリーニング層、下層塗布層でその種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、pHなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。   When carbon black is used, it is preferably used in an amount of 5% by mass or less based on the amount of the ferromagnetic powder. Carbon black functions to prevent the cleaning layer from being charged, reduce the coefficient of friction, impart light-shielding properties, and improve film strength. These differ depending on the carbon black used. Therefore, these carbon blacks used in the present invention have different types, amounts, and combinations in the cleaning layer and the lower coating layer, and are based on the characteristics described above such as particle size, oil absorption, conductivity, pH, etc. Of course, it is possible to use properly according to the purpose.

クリーニング層に使用される研磨剤としては、α化率90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、モース硬度6以上の公知の材料が単独または組み合わせで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体(研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの)を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が90%以上であれば効果にかわりはない。研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製のAKP−20,AKP−30,AKP−50,HIT−50,HIT−60,HiT−60A,HIT−70A,HIT−80,HIT−80G,HIT−100、日本化学工業社製のG5,G7,S−1、戸田工業社製のTF−100,TF−140などがあげられる。   As an abrasive used in the cleaning layer, α-alumina, β-alumina, silicon carbide, chromium oxide, cerium oxide, α-iron oxide, corundum, artificial diamond, silicon nitride, silicon carbide having an α conversion ratio of 90% or more Known materials having a Mohs hardness of 6 or more, such as titanium carbide, titanium oxide, silicon dioxide, and boron nitride, are used alone or in combination. Further, a composite of these abrasives (a product obtained by surface-treating an abrasive with another abrasive) may be used. These abrasives may contain compounds or elements other than the main component, but the effect is not affected if the main component is 90% or more. Specific examples of the abrasive include AKP-20, AKP-30, AKP-50, HIT-50, HIT-60, HiT-60A, HIT-70A, HIT-80, and HIT-80G manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. HIT-100, G5, G7, S-1 manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd., TF-100, TF-140 manufactured by Toda Industry Co., Ltd., and the like.

これら研磨剤のタップ密度は0.3〜2g/cc、含水率は0.1〜5%、pHは2〜11、比表面積は1〜30m/g、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものがクリーニング性が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤は前述の下層塗布層、上層クリーニング層で種類、量および組み合わせを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。 These abrasives preferably have a tap density of 0.3 to 2 g / cc, a moisture content of 0.1 to 5%, a pH of 2 to 11, and a specific surface area of 1 to 30 m 2 / g. The shape of the abrasive used in the present invention may be any of a needle shape, a spherical shape, and a dice shape, but those having a corner in a part of the shape are preferable because of high cleaning properties. Of course, the abrasive used in the present invention can be used in accordance with the purpose by changing the type, amount and combination of the lower coating layer and the upper cleaning layer.

本発明の下層塗布層またはクリーニング層に使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数12〜22の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)、炭素数12〜22のアルコキシアルコール(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)、炭素数8〜22の脂肪族アミンなどが使用できる。   As the additive used for the lower coating layer or the cleaning layer of the present invention, those having a lubricating effect, an antistatic effect, a dispersing effect, a plasticizing effect and the like are used. Molybdenum disulfide, tungsten disulfide graphite, boron nitride, fluorinated graphite, silicone oil, silicone with polar group, fatty acid-modified silicone, fluorine-containing silicone, fluorine-containing alcohol, fluorine-containing ester, polyolefin, polyglycol, alkyl phosphate ester and Alkali metal salt, alkyl sulfate ester and alkali metal salt thereof, polyphenyl ether, fluorine-containing alkyl sulfate ester and alkali metal salt thereof, monovalent, divalent, trivalent, tetravalent, pentavalent carbon number 12-22 Hexavalent alcohol (which may contain an unsaturated bond or may be branched), alkoxy alcohol having 12 to 22 carbon atoms (which may contain an unsaturated bond or may be branched), carbon number 8 ˜22 aliphatic amines can be used.

また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好ましくは10%以下である。   In addition, nonionic surfactants such as alkylene oxide, glycerin, glycidol, and alkylphenol ethylene oxide adducts, cations such as cyclic amines, ester amides, quaternary ammonium salts, hydantoin derivatives, heterocycles, phosphonium or sulfoniums Surfactants, anionic surfactants containing acidic groups such as carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid, sulfuric acid ester group, phosphoric acid ester group, amino acids, aminosulfonic acids, sulfuric acid or phosphoric acid esters of amino alcohols, alkylbedines Amphoteric surfactants such as molds can also be used. These surfactants are described in detail in “Surfactant Handbook” (published by Sangyo Tosho Co., Ltd.). These lubricants, antistatic agents, and the like are not necessarily 100% pure, and may contain impurities such as isomers, unreacted materials, side reaction products, decomposed products, and oxides in addition to the main components. These impurities are preferably 30% or less, more preferably 10% or less.

本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層塗布層、クリーニング層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層塗布層、クリーニング層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御するか、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御するか、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させるか、潤滑剤の添加量を下層塗布層で多くして潤滑効果を向上させることなどが考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。また、下層塗布層へクリーニング層に添加される前記脂肪酸アミド、脂肪酸及び脂肪酸エステルを添加することも好ましい。   These lubricants and surfactants used in the present invention can be used properly in the lower coating layer and the cleaning layer as needed depending on the type and amount. For example, use fatty acids with different melting points in the lower coating layer and cleaning layer to control bleed out to the surface, or use esters with different boiling points and polarities to control bleed out to the surface, or adjust the amount of surfactant Thus, it is conceivable to improve the stability of coating or increase the amount of lubricant added in the lower coating layer to improve the lubrication effect. Of course, the present invention is not limited to the examples shown here. It is also preferable to add the fatty acid amide, fatty acid and fatty acid ester added to the cleaning layer to the lower coating layer.

また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、塗料製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に無機粉末と混合する場合、無機粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じてクリーニング層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダー処理した後、またはスリット終了後、クリーニング層表面に潤滑剤を塗布することもできる。   Further, all or a part of the additives used in the present invention may be added at any step of the paint production. For example, when mixing with an inorganic powder before the kneading step, adding at a kneading step with an inorganic powder, a binder and a solvent, adding at a dispersing step, adding after dispersing, adding just before coating, etc. . Further, the purpose may be achieved by applying a part or all of the additive simultaneously or sequentially after applying the cleaning layer according to the purpose. Further, depending on the purpose, a lubricant can be applied to the surface of the cleaning layer after calendering or after completion of the slit.

本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製のNAA−102,NAA−415,NAA−312,NAA−160,NAA−180,NAA−174,NAA−175,NAA−222,NAA−34,NAA−35,NAA−171,NAA−122,NAA−142,NAA−160,NAA−173K,ヒマシ硬化脂肪酸,NAA−42,NAA−44,カチオンSA,カチオンMA,カチオンAB,カチオンBB,ナイミーンL−201,ナイミーンL−202,ナイミーンS−202,ノニオンE−208,ノニオンP−208,ノニオンS−207,ノニオンK−204,ノニオンNS−202,ノニオンNS−210,ノニオンHS−206,ノニオンL−2,ノニオンS−2,ノニオンS−4,ノニオンO−2,ノニオンLP−20R,ノニオンPP−40R,ノニオンSP−60R,ノニオンOP−80R,ノニオンOP−85R,ノニオンLT−221,ノニオンST−221,ノニオンOT−221,モノグリMB,ノニオンDS−60,アノンBF,アノンLG,ブチルステアレート,ブチルラウレート,エルカ酸、関東化学社製のオレイン酸、竹本油脂社製のFAL−205,FAL−123、新日本理化社製のエヌジェルブLO,エヌジョルブIPM,サンソサイザ−E4030、信越化学社製のTA−3,KF−96,KF−96L,KF96H,KF410,KF420,KF965,KF54,KF50,KF56,KF907,KF851,X−22−819,X−22−822,KF905,KF700,KF393,KF−857,KF−860,KF−865,X−22−980,KF−101,KF−102,KF−103,X−22−3710,X−22−3715,KF−910,KF−3935、ライオンアーマー社製のアーマイドP,アーマイドC,アーモスリップCP、ライオン油脂社製のデュオミンTDO、日清オイリオ社製のBA−41G、三洋化成社製のプロファン2012E,ニューポールPE61,イオネットMS−400,イオネットMO−200,イオネットDL−200,イオネットDS−300,イオネットDS−1000,イオネットDO−200などが挙げられる。   Examples of these lubricants used in the present invention include NAA-102, NAA-415, NAA-312, NAA-160, NAA-180, NAA-174, NAA-175, NAA- manufactured by NOF Corporation. 222, NAA-34, NAA-35, NAA-171, NAA-122, NAA-142, NAA-160, NAA-173K, castor hardened fatty acid, NAA-42, NAA-44, cation SA, cation MA, cation AB , Cation BB, Nymeen L-201, Nymeen L-202, Nymeen S-202, Nonion E-208, Nonion P-208, Nonion S-207, Nonion K-204, Nonion NS-202, Nonion NS-210, Nonion HS-206, Nonion L-2, Nonion S-2, Nonion S-4, Noni Non-2, Nonion LP-20R, Nonion PP-40R, Nonion SP-60R, Nonion OP-80R, Nonion OP-85R, Nonion LT-221, Nonion ST-221, Nonion OT-221, Monogly MB, Nonion DS -60, anone BF, anone LG, butyl stearate, butyl laurate, erucic acid, oleic acid manufactured by Kanto Chemical Co., FAL-205, FAL-123 manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd. NJolbu IPM, Sunsocizer E4030, TA-3, KF-96, KF-96L, KF96H, KF410, KF420, KF965, KF54, KF56, KF56, KF907, KF851, X-22-819, X-manufactured by Shin-Etsu Chemical 22-822, KF905, KF700, KF39 , KF-857, KF-860, KF-865, X-22-980, KF-101, KF-102, KF-103, X-22-3710, X-22-3715, KF-910, KF-3935 Lion Armor's Armide P, Armide C, Armor slip CP, Lion Oil & Fats Duomin TDO, Nissin Oilio BA-41G, Sanyo Kasei Profan 2012E, New Pole PE61, Ionette MS- 400, Ionette MO-200, Ionet DL-200, Ionet DS-300, Ionet DS-1000, Ionet DO-200, and the like.

本発明の下層塗布層に用いられる非磁性無機粉末は、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機質化合物から選択することができる。   The nonmagnetic inorganic powder used for the lower coating layer of the present invention can be selected from inorganic compounds such as metal oxides, metal carbonates, metal sulfates, metal nitrides, metal carbides, and metal sulfides.

無機化合物としては、例えば、α化率90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組み合わせで使用される。特に好ましいのは、入手の容易さ、コスト、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いことなどから、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。   Examples of the inorganic compound include α-alumina, β-alumina, γ-alumina, θ-alumina, silicon carbide, chromium oxide, cerium oxide, α-iron oxide, goethite, corundum, silicon nitride having an α conversion rate of 90% or more. , Titanium carbide, titanium oxide, silicon dioxide, tin oxide, magnesium oxide, tungsten oxide, zirconium oxide, boron nitride, zinc oxide, calcium carbonate, calcium sulfate, barium sulfate, molybdenum disulfide, etc. are used alone or in combination . Particularly preferred are titanium dioxide, zinc oxide, iron oxide, and barium sulfate because of availability, cost, small particle size distribution, and many means for imparting functions, and more preferred are titanium dioxide and α. It is iron oxide.

これら非磁性無機粉末の粒子サイズは0.005〜2μmが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性無機粉末を組み合わせたり、単独の非磁性無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性無機粉末の粒子サイズは0.01〜0.2μmである。タップ密度は0.05〜2g/ml、好ましくは0.2〜1.5g/mlである。非磁性無機粉末の含水率は0.1〜5質量%、好ましくは0.2〜3質量%、更に好ましくは0.3〜1.5質量%である。非磁性無機粉末のpHは2〜11であるが、pHは5〜10の間が特に好ましい。非磁性無機粉末の比表面積は1〜100m/g、好ましくは5〜70m/g、更に好ましくは10〜65m/gである。非磁性無機粉末の結晶子サイズは0.004〜1μmが好ましく、0.04〜0.1μmが更に好ましい。DBPを用いた吸油量は5〜100ml/100g、好ましくは10〜80ml/100g、更に好ましくは20〜60ml/100gである。比重は1〜12、好ましくは3〜6である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良いが、粒状非磁性無機粉末の場合には平均粒径が0.08μm以下のものを無機粉末全体に対して50質量%以上含むのが望ましく、また、針状非磁性無機粉末の場合には平均長軸長が0.05〜0.3μmで針状比が3〜20のものを無機粉末全体に対して50質量%以上含むのが好適である。 The particle size of these non-magnetic inorganic powders is preferably 0.005 to 2 μm, but if necessary, non-magnetic inorganic powders having different particle sizes may be combined, or a single non-magnetic inorganic powder may have the same particle size distribution. It can also have an effect. The particle size of the nonmagnetic inorganic powder is particularly preferably 0.01 to 0.2 μm. The tap density is 0.05 to 2 g / ml, preferably 0.2 to 1.5 g / ml. The moisture content of the nonmagnetic inorganic powder is 0.1 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, and more preferably 0.3 to 1.5% by mass. The pH of the non-magnetic inorganic powder is 2 to 11, and the pH is particularly preferably between 5 and 10. The specific surface area of the nonmagnetic inorganic powder is 1 to 100 m 2 / g, preferably 5 to 70 m 2 / g, and more preferably 10 to 65 m 2 / g. The crystallite size of the nonmagnetic inorganic powder is preferably 0.004 to 1 μm, and more preferably 0.04 to 0.1 μm. The oil absorption using DBP is 5 to 100 ml / 100 g, preferably 10 to 80 ml / 100 g, and more preferably 20 to 60 ml / 100 g. The specific gravity is 1 to 12, preferably 3 to 6. The shape may be any of a needle shape, a spherical shape, a polyhedral shape, and a plate shape, but in the case of a granular nonmagnetic inorganic powder, an average particle size of 0.08 μm or less is contained in an amount of 50% by mass or more based on the whole inorganic powder. In addition, in the case of acicular nonmagnetic inorganic powder, an average major axis length of 0.05 to 0.3 μm and an acicular ratio of 3 to 20 is contained in an amount of 50% by mass or more based on the whole inorganic powder. Is preferred.

強熱減量は20質量%以下であることが好ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本発明に用いられる上記無機粉末のモース硬度は4以上、10以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネスファクターは0.8〜1.5が好ましく、更に好ましいラフネスファクターは0.9〜1.2である。無機粉末のSA(ステアリン酸)吸着量は1〜20μモル/m、更に好ましくは2〜15μモル/mである。下層塗布層非磁性無機粉末の25℃での水への湿潤熱は200〜600mJ/mの範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。100〜400℃での表面の水分子の量は1〜10個/100Aが適当である。水中での等電点のpHは3〜6の間にあることが好ましい。 The ignition loss is preferably 20% by mass or less, and it is considered most preferable that it does not exist. The Mohs hardness of the inorganic powder used in the present invention is preferably 4 or more and 10 or less. The roughness factor of the powder surface is preferably 0.8 to 1.5, and more preferably 0.9 to 1.2. The SA (stearic acid) adsorption amount of the inorganic powder is 1 to 20 μmol / m 2 , more preferably 2 to 15 μmol / m 2 . The heat of wetting of the lower coating layer nonmagnetic inorganic powder into water at 25 ° C. is preferably in the range of 200 to 600 mJ / m 2 . Moreover, the solvent which exists in the range of this heat of wetting can be used. The amount of water molecules on the surface at 100 to 400 ° C. is suitably 1 to 10 / 100A. The pH of the isoelectric point in water is preferably between 3 and 6.

これらの非磁性無機粉末の表面は、Al、SiO、TiO、ZrO、SnO、Sb、ZnO、Yで表面処理が施されたものが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl、SiO、TiO、ZrOであるが、更に好ましいのはAl、SiO、ZrOである。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。 The surface of these nonmagnetic inorganic powders is preferably a surface treated with Al 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 3 , ZnO, Y 2 O 3 . Particularly preferred for dispersibility are Al 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 and ZrO 2 , but more preferred are Al 2 O 3 , SiO 2 and ZrO 2 . These may be used in combination or may be used alone. Further, a surface-treated layer co-precipitated according to the purpose may be used, or a method of first treating with alumina and then treating the surface layer with silica, or vice versa. The surface treatment layer may be a porous layer depending on the purpose, but it is generally preferable that the surface treatment layer is homogeneous and dense.

本発明の下層塗布層に用いられる非磁性無機粉末の具体的な例としては、昭和電工社製ナノタイト、住友化学社製HIT−100、ZA−G1、戸田工業社製αヘマタイト、DPN−250、DPN−250BX、DPN−245、DPN−270BX、DPN−550BX、石原産業社製酸化チタンTTO−51B、TTO−55A、TTO−55B、TTO−55C、TTO−55S、TTO−55D、SN−100、αヘマタイトE270、E271、E300、チタン工業社製STT−4D、STT−30D、STT−30、STT−65C、テイカ製MT−100S、MT−100T、MT−150W、MT−500B、MT−600B、MT−100F、MT−500HD、堺化学社製FINEX−25、BF−1、BF−10、BF−20、ST−M、同和鉱業社製DEFIC−Y、DEFIC−R、日本アエロジル社製AS2BM、TiO2P25、宇部興産社製100A、500A、チタン工業製Y−LOP及びそれを焼成したものが挙げられる。   Specific examples of the non-magnetic inorganic powder used in the lower coating layer of the present invention include Nanotite manufactured by Showa Denko KK, HIT-100, ZA-G1 manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., α-hematite manufactured by Toda Kogyo Co., DPN-250, DPN-250BX, DPN-245, DPN-270BX, DPN-550BX, Ishihara Sangyo Titanium oxide TTO-51B, TTO-55A, TTO-55B, TTO-55C, TTO-55S, TTO-55D, SN-100, α-hematite E270, E271, E300, STT-4D, STT-30D, STT-30, STT-65C, manufactured by Titanium Industry Co., Ltd., MT-100S, MT-100T, MT-150W, MT-500B, MT-600B, manufactured by Teica MT-100F, MT-500HD, Sakai Chemical's FINEX-25, BF-1, BF-10, BF-20, ST-M, Dowa Mining Co., Ltd. DEFIC-Y, DEFIC-R, Nippon Aerosil Co., Ltd. AS2BM, TiO2P25, Ube Industries Co., Ltd. 100A, 500A, Titanium Industry Y-LOP, and those obtained by firing it It is done.

上記のうち特に好ましい非磁性無機粉末は、α−酸化鉄と二酸化チタンである。α−酸化鉄(ヘマタイト)は、以下のような諸条件の基で得られたものが使用できる。まず、α−Fe粒子粉末は、次の方法により前駆体粒子としての針状ゲータイト粒子を得る。第1の方法としては、第一鉄水溶液に等量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第一鉄コロイドを含む懸濁液をpH11以上にて80℃以下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト粒子を生成させる方法。第2の方法としては、第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるFeCOを含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成させる方法。第3の方法としては、第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のFe2+に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法。第4の方法としては、第一鉄水溶液と等量未満の水酸化アルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気して酸化反応を行うことにより針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる方法等である。なお、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉末の特性向上等のために通常添加されているNi,Zn,P,Si等の異種元素が添加されていても支障はない。 Among the above, particularly preferable nonmagnetic inorganic powders are α-iron oxide and titanium dioxide. As α-iron oxide (hematite), those obtained under the following conditions can be used. First, the α-Fe 2 O 3 particle powder obtains acicular goethite particles as precursor particles by the following method. As a first method, a suspension containing ferrous hydroxide colloid obtained by adding an equal amount or more of an alkali hydroxide aqueous solution to a ferrous aqueous solution is supplied with an oxygen-containing gas at a temperature of pH 11 or more and 80 ° C. or less. A method of generating acicular goethite particles by conducting an oxidation reaction by aeration. As a second method, a goethite having a spindle shape is obtained by performing an oxidation reaction by aerating an oxygen-containing gas to a suspension containing FeCO 3 obtained by reacting a ferrous salt aqueous solution and an alkali carbonate aqueous solution. A method of generating particles. As a third method, an oxygen-containing gas is passed through a ferrous salt aqueous solution containing a ferrous hydroxide colloid obtained by adding less than an equal amount of an alkali hydroxide aqueous solution or an alkali carbonate aqueous solution to a ferrous salt aqueous solution. Then, acicular goethite core particles are generated by performing an oxidation reaction, and then the ferrous salt aqueous solution containing the acicular goethite core particles has an amount equal to or more than Fe 2+ in the ferrous salt aqueous solution. A method of growing the acicular goethite core particles by adding an aqueous alkali hydroxide solution and then venting an oxygen-containing gas. As a fourth method, an oxygen-containing gas is passed through a ferrous salt aqueous solution containing a ferrous hydroxide colloid obtained by adding less than an equivalent amount of an alkali hydroxide or alkali carbonate aqueous solution to the ferrous aqueous solution. For example, acicular goethite core particles are generated by performing an oxidation reaction, and then the acicular goethite core particles are grown in an acidic to neutral region. It should be noted that there is no problem even if different elements such as Ni, Zn, P, and Si that are usually added to improve the characteristics of the particle powder are added during the formation reaction of the goethite particles.

そして、前駆体粒子である前記針状ゲータイト粒子を200〜500℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に350〜800℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして針状α−Fe粒子を得る。なお、脱水または焼き鈍しされる針状ゲータイト粒子が表面にP,Si,B,Zr,Sb等の焼結防止剤が付着していても支障はない。また、350〜800℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−Fe粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態とさせることが好ましいからである。 Then, the acicular goethite particles, which are precursor particles, are dehydrated in a temperature range of 200 to 500 ° C. or, if necessary, are annealed by a heat treatment in a temperature range of 350 to 800 ° C. to form acicular α- Fe 2 O 3 particles are obtained. It should be noted that there is no problem even if the acicular goethite particles to be dehydrated or annealed adhere to the surface with a sintering inhibitor such as P, Si, B, Zr, or Sb. Also, annealing by heat treatment in the temperature range of 350 to 800 ° C. is because the pores generated on the particle surface of the acicular α-Fe 2 O 3 particles obtained by dehydration are annealed, and the electrode of the particles This is because it is preferable that the surface is melted to close the pores to obtain a smooth surface form.

本発明において用いられるα−Fe粒子粉末は前記脱水または焼き鈍しをして得られた針状α−Fe粒子を水溶液中に分散して懸濁液とし、Al化合物を添加しpH調整をして前記α−Fe粒子の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・圧密処理等を施すことにより得られる。用いられるAl化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。この場合のAl化合物添加量はα−Fe粒子粉末に対してAl換算で0.01〜50質量%である。0.01質量%未満である場合には、結合剤樹脂中における分散が不十分であり、50質量%を超える場合には粒子表面に浮遊するAl化合物同士が相互作用するために好ましくない。 In the α-Fe 2 O 3 particle powder used in the present invention, acicular α-Fe 2 O 3 particles obtained by the dehydration or annealing are dispersed in an aqueous solution to form a suspension, and an Al compound is added. After adjusting the pH and coating the surface of the α-Fe 2 O 3 particles with the additive compound, it is obtained by filtration, washing with water, drying, pulverization, and if necessary, deaeration and consolidation. As the Al compound used, aluminum salts such as aluminum acetate, aluminum sulfate, aluminum chloride, and aluminum nitrate, and alkali aluminates such as sodium aluminate can be used. In this case, the addition amount of the Al compound is 0.01 to 50% by mass in terms of Al with respect to the α-Fe 2 O 3 particle powder. When the amount is less than 0.01% by mass, dispersion in the binder resin is insufficient, and when it exceeds 50% by mass, Al compounds floating on the particle surface interact with each other, which is not preferable.

本発明における下層塗布層の非磁性無機粉末においては、Al化合物と共にSi化合物を始めとして、P,Ti,Mn,Ni,Zn,Zr,Sn,Sbから選ばれる化合物の1種または2種以上を用いて被覆することもできる。Al化合物と共に用いるこれらの化合物の添加量はそれぞれα−Fe粒子粉末に対して0.01〜50質量%の範囲である。0.01質量%未満である場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、50質量%を超える場合には、粒子表面以外に浮遊する化合物同士が相互作用をするために好ましくない。 In the non-magnetic inorganic powder of the lower coating layer in the present invention, one or more compounds selected from P, Ti, Mn, Ni, Zn, Zr, Sn, and Sb, as well as an Si compound, are included. It can also be coated. The amount of these compounds used together with the Al compound is in the range of 0.01 to 50% by mass with respect to the α-Fe 2 O 3 particle powder. If it is less than 0.01% by mass, there is almost no effect of improving dispersibility by addition, and if it exceeds 50% by mass, the floating compounds other than the particle surface interact with each other.

また、下層塗布層に使用する二酸化チタンの製法に関しては、以下の通りである。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法がある。硫酸法はイルミナイトの源鉱石を硫酸で蒸解し、Ti,Feなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈澱させる。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径調節剤などを添加した後、80〜1000℃で焼成すれば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。この粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、TiはTiClにFeはFeClとなり、冷却により固体となった酸化鉄は液体のTiClと分離される。得られた粗TiClは精留により精製した後核生成剤を添加し、1000℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸法と同じである。 Moreover, it is as follows regarding the manufacturing method of the titanium dioxide used for a lower layer coating layer. There are mainly a sulfuric acid method and a chlorine method for producing these titanium oxides. In the sulfuric acid method, the source ore of illuminite is digested with sulfuric acid, and Ti, Fe, etc. are extracted as sulfates. Iron sulfate is crystallized and removed, and the remaining titanyl sulfate solution is filtered and purified, followed by thermal hydrolysis to precipitate hydrous titanium oxide. After filtering and washing this, impurities are removed by washing, and after adding a particle size adjusting agent or the like, if it is baked at 80 to 1000 ° C., it becomes crude titanium oxide. The rutile type and the anatase type are classified according to the kind of nucleating agent added at the time of hydrolysis. This crude titanium oxide is prepared by pulverizing, sizing, surface treatment and the like. In the chlorine method, natural or synthetic rutile is used as the raw ore. The ore is chlorinated in a high temperature reduced state, Ti becomes TiCl 4 and Fe becomes FeCl 2 , and the iron oxide that has become solid upon cooling is separated from liquid TiCl 4 . The obtained crude TiCl 4 is purified by rectification and then added with a nucleating agent, and reacted instantaneously with oxygen at a temperature of 1000 ° C. or higher to obtain crude titanium oxide. The finishing method for imparting pigment-like properties to the crude titanium oxide produced in this oxidative decomposition step is the same as the sulfuric acid method.

表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒分級が行われる。その後、微粒スラリーは表面処理槽に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行われる。まず、所定量のAl,Si,Ti,Zr,Sb,Sn,Znなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリーpHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤーで乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕され、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉末にAlCl,SiClの蒸気を通じその後水蒸気を流入してAl,Si表面処理を施すことも可能である。その他の顔料の製法については、G.D.Parfitt and K.S.W.Sing“Characterization of Powder Surfaces”Academic Press,1976を参考にすることができる。 In the surface treatment, after the above titanium oxide material is dry-pulverized, water and a dispersing agent are added, and coarse particle classification is performed by wet pulverization and centrifugal separation. Thereafter, the fine slurry is transferred to a surface treatment tank, where the surface of the metal hydroxide is coated. First, a predetermined amount of an aqueous salt solution such as Al, Si, Ti, Zr, Sb, Sn, and Zn is added, and an acid or alkali is added to neutralize this, and the surface of the titanium oxide particles is coated with the resulting hydrous oxide. To do. Water-soluble salts produced as a by-product are removed by decantation, filtration, and washing. Finally, the slurry pH is adjusted, filtered, and washed with pure water. The washed cake is dried with a spray dryer or a band dryer. Finally, the dried product is pulverized by a jet mill to become a product. Further, it is possible to perform surface treatment of Al and Si by passing the vapor of AlCl 3 and SiCl 4 to the titanium oxide powder as well as the water system and then flowing water vapor. For other pigment production methods, see G.C. D. Parfitt and K.M. S. W. Sing “Characterization of Powder Surfaces” Academic Press, 1976 can be referred to.

上記のような非磁性無機粉末にはカーボンブラックを併用してもよく、このカーボンブラックを下層塗布層に混合させることで、公知の効果である表面電気抵抗Rsを下げて帯電防止効果を得ること、光透過率を小さくすることができると共に、所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。下層塗布層のマイクロビッカース硬度は通常、25〜60kg/mm(≒245〜588MPa)、好ましくはヘッド当たりを調整するために、30〜50kg/mm(≒294〜490MPa)であり、NEC製薄膜硬度計HMA−400を用いて、稜角80度、先端半径0.1μmのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定する。 Carbon black may be used in combination with the non-magnetic inorganic powder as described above. By mixing this carbon black with the lower coating layer, the surface electrical resistance Rs, which is a known effect, is reduced to obtain an antistatic effect. The light transmittance can be reduced, and a desired micro Vickers hardness can be obtained. Micro Vickers hardness is typically the lower coating layer, 25~60kg / mm 2 (≒ 245~588MPa ), preferably in order to adjust the head contact, 30~50kg / mm 2 (≒ 294~490MPa ), manufactured by NEC Using a thin film hardness tester HMA-400, a diamond triangular pyramid needle with a ridge angle of 80 degrees and a tip radius of 0.1 μm is used for the tip of the indenter.

使用できるカーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等があげられる。これらのカーボンブラックの比表面積は100〜500m/g、好ましくは150〜400m/g、DBP吸油量は20〜400ml/100g、好ましくは30〜200ml/100gである。カーボンブラックの一次粒子径は10〜80nm、好ましく10〜50nm、さらに好ましくは10〜40nmである。カーボンブラックのpHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/mlが好ましい。 Examples of usable carbon black include furnace for rubber, thermal for rubber, black for color, acetylene black and the like. The specific surface area of the carbon black is 100 to 500 m 2 / g, preferably 150~400m 2 / g, DBP oil absorption 20 to 400 ml / 100 g, preferably 30 to 200 ml / 100 g. The primary particle diameter of carbon black is 10 to 80 nm, preferably 10 to 50 nm, and more preferably 10 to 40 nm. Carbon black preferably has a pH of 2 to 10, a water content of 0.1 to 10%, and a tap density of 0.1 to 1 g / ml.

本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製のBLACKPEARLS2000,1300,1000,900,800,880,700,VULCAN XC−72、三菱化学社製の#3050B,3150B,3250B,#3750B,#3950B,#950,#650B,#970B,#850B,MA−600,MA−230,#4000,#4010、コンロンビアカーボン社製のCONDUCTEX SC,RAVEN8800,8000,7000,5750,5250,3500,2100,2000,1800,1500,1255,1250、ケッチェン・ブラック・インターナショナル社製のケッチェンブラックECなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。   Specific examples of carbon black used in the present invention include BLACKPEARLS 2000, 1300, 1000, 900, 800, 880, 700, VULCAN XC-72 manufactured by Cabot Corporation, # 3050B, 3150B, 3250B manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. # 3750B, # 3950B, # 950, # 650B, # 970B, # 850B, MA-600, MA-230, # 4000, # 4010, CONDUCTEX SC, RAVEN 8800, 8000, 7000, 5750, 5250, manufactured by Conlonvia Carbon , 3500, 2100, 2000, 1800, 1500, 1255, 1250, and Ketjen Black EC manufactured by Ketjen Black International. Carbon black may be surface-treated with a dispersant or the like, or may be grafted with a resin or may be obtained by graphitizing a part of the surface. Moreover, before adding carbon black to a coating material, you may disperse | distribute with a binder beforehand.

これらのカーボンブラックは前記非磁性無機粉末に対して5〜49質量%の範囲、非磁性層総質量の40%を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合わせで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。   These carbon blacks can be used in the range of 5 to 49% by mass with respect to the nonmagnetic inorganic powder and in a range not exceeding 40% of the total mass of the nonmagnetic layer. These carbon blacks can be used alone or in combination. The carbon black that can be used in the present invention can be referred to, for example, “Carbon Black Handbook” edited by Carbon Black Association.

また、下層塗布層には、有機質粉末を目的に応じて添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭62−18564号、特開昭60−255827号に記されているようなものが使用できる。   Moreover, an organic powder can also be added to the lower coating layer according to the purpose. Examples include acrylic styrene resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, and phthalocyanine pigment, but polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluorinated ethylene resin are also included. Can be used. As the production method, those described in JP-A Nos. 62-18564 and 60-255827 can be used.

その他、下層塗布層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。   In addition, the binder resin, lubricant, dispersant, additive, solvent, dispersion method, etc. of the lower coating layer can be applied to those of the magnetic layer. In particular, with respect to the addition amount and type of binder resin, additive, and dispersant, known techniques relating to the magnetic layer can be applied.

本発明の下層塗布層およびクリーニング層で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好ましくは10%以下である。   The organic solvent used in the lower coating layer and the cleaning layer of the present invention is an arbitrary ratio of ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, isophorone, tetrahydrofuran, methanol, ethanol, propanol, butanol, isobutyl alcohol. , Alcohols such as isopropyl alcohol and methylcyclohexanol, esters such as methyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, isopropyl acetate, ethyl lactate and glycol acetate, glycol ethers such as glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether and dioxane, benzene , Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cresol, chlorobenzene, methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride , Chloroform, ethylene chlorohydrin, chlorobenzene, or dichlorobenzene, N, N- dimethylformamide, those hexane and the like can be used. These organic solvents are not necessarily 100% pure, and may contain impurities such as isomers, unreacted materials, side reaction products, decomposition products, oxides, and moisture in addition to the main components. These impurities are preferably 30% or less, more preferably 10% or less.

本発明で用いる有機溶媒はクリーニング層と下層塗布層でその種類は同じであることが好ましいが、その添加量は変えてもかまわない。下層塗布層に表面張力の高い溶媒(シクロヘキサノン、ジオキサンなど)を用い塗布の安定性を向上するのが好ましく、具体的にはクリーニング層の溶剤組成の算術平均値が下層塗布層の溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が15〜20の溶剤が50質量%以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは8〜11であることが好ましい。   The type of the organic solvent used in the present invention is preferably the same between the cleaning layer and the lower coating layer, but the amount added may be changed. It is preferable to improve the coating stability by using a high surface tension solvent (cyclohexanone, dioxane, etc.) for the lower coating layer. Specifically, the arithmetic average value of the solvent composition of the cleaning layer is the arithmetic of the solvent composition of the lower coating layer. It is important not to be below the average value. In order to improve the dispersibility, it is preferable that the polarity is somewhat strong, and it is preferable that 50% by mass or more of the solvent having a dielectric constant of 15 to 20 is included in the solvent composition. Moreover, it is preferable that a solubility parameter is 8-11.

本発明のクリーニングテープの厚み構成は、非磁性支持体が2.0〜10μmと薄いもので有効である。クリーニング層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の厚みの1/100〜2倍の範囲で用いられる。本発明のクリーニング媒体は、好ましくは、前記クリーニング層の厚みが0.05〜1.0μm、下層塗布層の厚みが0.2〜5.0μm、支持体の厚みが2.0〜10μm、クリーニング媒体(クリーニングテープ)としての全体の厚みが4.0〜15μmである。また、非磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のための接着層を設けてもよい。この接着層の厚みは0.01〜2μm、好ましくは0.02〜0.5μmである。また、非磁性支持体のクリーニング層側とは逆の面にバック層を設けてもかまわない。この厚みは0.1〜2μm、好ましくは0.3〜1.0μmである。これらの接着層、バック層は公知のものが使用できる。   The thickness structure of the cleaning tape of the present invention is effective when the nonmagnetic support is as thin as 2.0 to 10 μm. The total thickness of the cleaning layer and the lower coating layer is used in the range of 1/100 to 2 times the thickness of the nonmagnetic support. In the cleaning medium of the present invention, preferably, the cleaning layer has a thickness of 0.05 to 1.0 μm, the lower coating layer has a thickness of 0.2 to 5.0 μm, and the support has a thickness of 2.0 to 10 μm. The total thickness of the medium (cleaning tape) is 4.0 to 15 μm. Moreover, you may provide the contact bonding layer for an adhesive improvement between a nonmagnetic support body and a lower layer coating layer. The thickness of this adhesive layer is 0.01-2 μm, preferably 0.02-0.5 μm. Further, a back layer may be provided on the surface opposite to the cleaning layer side of the nonmagnetic support. This thickness is 0.1 to 2 μm, preferably 0.3 to 1.0 μm. Known adhesive layers and back layers can be used.

本発明に用いられる非磁性支持体は、マイクロビッカース硬度が75kg/mm(≒735MPa)以上のものであり、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフイルムが使用できる。特に、アラミド樹脂、ポリエチレンナフタレートを用いた高強度非磁性支持体が好ましい。これらの非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても良い。 The non-magnetic support used in the present invention has a micro Vickers hardness of 75 kg / mm 2 (≈735 MPa) or more, and biaxially stretched polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyamide, polyimide, polyamideimide, aromatic Known films such as aromatic polyamides and polybenzoxydazoles can be used. In particular, a high-strength nonmagnetic support using aramid resin or polyethylene naphthalate is preferable. These nonmagnetic supports may be subjected in advance to corona discharge treatment, plasma treatment, easy adhesion treatment, heat treatment, dust removal treatment and the like.

本発明の目的を達成するには、非磁性支持体のクリーニング層を塗布する面の中心線平均表面粗さRaが0.5〜7nmのものを使用することが好ましい。また、これらの非磁性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、1μm以上の粗大突起がないことが好ましい。また支持体表面の粗さ形状の調整は、本発明における突起分布を制御するために利用することもでき、そのために非磁性支持体に添加されるフィラーの大きさと量を適宜選定するとよい。これらのフィラーとしては、Al,Ca,Si,Tiなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るためには、バック層を塗布する面の粗さはクリーニング層を塗布する面の粗さより粗いことが好ましい。バック層塗布面の中心線表面粗さは好ましくは1nm以上、更に好ましくは4nm以上である。クリーニング層塗布面とバック層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構成の支持体を用いても良いし、コーティング層を設けることによって変えても構わない。   In order to achieve the object of the present invention, it is preferable to use a nonmagnetic support having a center line average surface roughness Ra of 0.5 to 7 nm on the surface on which the cleaning layer is applied. These non-magnetic supports preferably have not only a small center line average surface roughness but also no coarse protrusions of 1 μm or more. The adjustment of the roughness shape of the support surface can also be used to control the distribution of protrusions in the present invention. For this purpose, the size and amount of filler added to the nonmagnetic support may be appropriately selected. Examples of these fillers include oxides and carbonates such as Al, Ca, Si, and Ti, which may be crystalline or amorphous, and organic fine powders such as acrylic and melamine. Further, in order to achieve compatibility with running durability, the roughness of the surface on which the back layer is applied is preferably rougher than the roughness of the surface on which the cleaning layer is applied. The center line surface roughness of the back layer application surface is preferably 1 nm or more, more preferably 4 nm or more. When changing the roughness between the cleaning layer application surface and the back layer application surface, a dual-structured support may be used, or may be changed by providing a coating layer.

本発明に用いられる非磁性支持体のテープ走行方向(MD方向)のF−5値は好ましくは10〜50kg/mm(≒98〜490MPa)、テープ幅方向(TD方向)のF−5値は好ましくは10〜30Kg/mm(≒98〜294MPa)であり、テープの長手方向のF−5値がテープ幅方向のF−5値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。また、非磁性支持体のテープ走行方向および幅方向の100℃×30分での熱収縮率は好ましくは3%以下、さらに好ましくは1.5%以下、80℃×30分での熱収縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下である。破断強度は両方向とも5〜100Kg/mm(≒49〜980MPa)、ヤング率は100〜3,000Kg/mm(≒0.98〜29.4GPa)が好ましい。また、900nmでの光透過率は30%以下が好ましく、更に好ましくは3%以下である。 The F-5 value in the tape running direction (MD direction) of the nonmagnetic support used in the present invention is preferably 10 to 50 kg / mm 2 (≈98 to 490 MPa), and the F-5 value in the tape width direction (TD direction). Is preferably 10 to 30 kg / mm 2 (≈98 to 294 MPa), and the F-5 value in the longitudinal direction of the tape is generally higher than the F-5 value in the tape width direction. This is not the case when it is necessary to increase the strength. The heat shrinkage rate of the non-magnetic support in the tape running direction and the width direction at 100 ° C. for 30 minutes is preferably 3% or less, more preferably 1.5% or less, and the heat shrinkage rate at 80 ° C. for 30 minutes. Is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less. The breaking strength is preferably 5 to 100 kg / mm 2 (≈49 to 980 MPa) in both directions, and the Young's modulus is preferably 100 to 3,000 kg / mm 2 (≈0.98 to 29.4 GPa). Further, the light transmittance at 900 nm is preferably 30% or less, and more preferably 3% or less.

本発明のクリーニング媒体の下層塗布層およびクリーニング層の塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ2段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。   The step of producing the coating material for the lower layer coating layer and the cleaning layer of the cleaning medium of the present invention comprises at least a kneading step, a dispersing step, and a mixing step provided before and after these steps. Each process may be divided into two or more stages. All raw materials such as ferromagnetic powder, binder, carbon black, abrasive, antistatic agent, lubricant and solvent used in the present invention may be added at the beginning or during any step. In addition, individual raw materials may be added in two or more steps. For example, polyurethane may be divided and added in a kneading step, a dispersing step, and a mixing step for adjusting the viscosity after dispersion.

本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平1−166338号、特開昭64−79274号に記載されている。また、下層塗布層の非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。   In order to achieve the object of the present invention, it is a matter of course that a conventional known manufacturing technique can be used as a part of the process, but in the kneading process, those having a strong kneading force such as a continuous kneader and a pressure kneader are used. It is preferable to use it. Details of these kneading treatments are described in JP-A-1-166338 and JP-A-64-79274. Moreover, when adjusting the nonmagnetic layer solution of the lower coating layer, it is desirable to use a dispersion medium having a high specific gravity, and zirconia beads are preferred.

重層構成のクリーニング媒体の場合、塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案できる。   In the case of a cleaning medium having a multi-layer structure, the following structure can be proposed as an example of a coating apparatus and method.

1.磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がまだ湿潤状態にある内に、特公平1−46186号、特開昭60−238179号、特開平2−265672号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層クリーニング層を塗布する。 1. Firstly, the lower coating layer is applied by a gravure coating, roll coating, blade coating, extrusion coating device, etc., which are generally used in the application of magnetic paint, and while the lower coating layer is still wet, The upper cleaning layer is applied by a support pressure type extrusion coating apparatus disclosed in Japanese Patent No. 46186, Japanese Patent Laid-Open No. 60-238179, and Japanese Patent Laid-Open No. 2-265672.

2.特開昭63−88080号、特開平2−17971号、特開平2−265672号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗布する。 2. The lower coating layer and the cleaning layer are formed by one coating head having two coating liquid passage slits as disclosed in JP-A-63-88080, JP-A-2-17971, and JP-A-2-265672. Apply almost simultaneously.

3.特開平2−174965号に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により下層塗布層とクリーニング層をほぼ同時に塗布する。 3. The lower layer coating layer and the cleaning layer are coated almost simultaneously by an extrusion coating apparatus with a backup roll disclosed in JP-A-2-174965.

なお、磁性粒子の凝集を防止するため、特開昭62−95174号や特開平1−236968号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断力を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平3−8471号に開示されている数値範囲を満足する必要がある。   In order to prevent agglomeration of magnetic particles, it is desirable to apply a shearing force to the coating solution in the coating head by a method as disclosed in JP-A-62-295174 and JP-A-1-236968. Further, the viscosity of the coating solution needs to satisfy the numerical range disclosed in JP-A-3-8471.

本発明のクリーニング媒体を得るためにクリーニング層の強磁性粉末の配向処理を行っても良い。この配向は、100mT以上の磁力をもつソレノイドと、200mT以上の磁力をもつコバルト磁石を同極対向で併用して行うことが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。   In order to obtain the cleaning medium of the present invention, the ferromagnetic powder in the cleaning layer may be oriented. This orientation is preferably performed by using a solenoid having a magnetic force of 100 mT or more and a cobalt magnet having a magnetic force of 200 mT or more in the same polarity, and further before orientation so that the orientation after drying is the highest. It is preferable to provide an appropriate drying step in advance.

また、非磁性の下層塗布層とクリーニング層を同時重層塗布する以前に、ポリマーを主成分とする接着層を設けることや、コロナ放電、UV照射、EB照射することにより接着性を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。   In addition, prior to simultaneous application of the nonmagnetic lower layer coating layer and the cleaning layer, a known method for improving adhesion by providing an adhesive layer mainly composed of a polymer, corona discharge, UV irradiation, or EB irradiation. Are preferably combined.

さらに、クリーニング層表面の突起分布を調整するためにカレンダー処理を行うことが好ましい。カレンダー処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールを使用することができる。また、金属ロール同志で処理することもできる。処理温度は50〜100℃が好ましく、80〜100℃が更に好ましく、線圧力は100〜500kg/m(≒980〜4900N/m)が好ましく、200〜400kg/m(≒1960〜3920N/m)が更に好ましく、速度は50〜400m/分が好ましく、100〜300m/分が更に好ましい。   Further, it is preferable to perform a calendar process in order to adjust the protrusion distribution on the surface of the cleaning layer. As the calendering roll, a heat-resistant plastic roll such as epoxy, polyimide, polyamide, polyimide amide or the like can be used. Moreover, it can also process with metal rolls. The treatment temperature is preferably 50 to 100 ° C., more preferably 80 to 100 ° C., and the linear pressure is preferably 100 to 500 kg / m (≈980 to 4900 N / m), and 200 to 400 kg / m (≈1960 to 3920 N / m). Is more preferable, and the speed is preferably 50 to 400 m / min, more preferably 100 to 300 m / min.

本発明のクリーニング媒体のクリーニング層面およびその反対面のSUS420Jに対する摩擦係数は、好ましくは0.1〜0.5、さらに好ましくは0.2〜0.3である。表面固有抵抗は好ましくは10〜1012オーム/sq、クリーニング層の0.5%伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは100〜2,000Kg/mm(≒0.98〜19.6GPa)、破断強度は好ましくは1〜30Kg/mm(≒9.8〜294MPa)である。 The friction coefficient with respect to SUS420J of the cleaning layer surface and the opposite surface of the cleaning medium of the present invention is preferably 0.1 to 0.5, more preferably 0.2 to 0.3. The surface resistivity is preferably 10 4 to 10 12 ohm / sq, and the elastic modulus at 0.5% elongation of the cleaning layer is preferably 100 to 2,000 Kg / mm 2 in both the running direction and the width direction (≈0.98 to 19.6 GPa), and the breaking strength is preferably 1 to 30 kg / mm 2 (≈9.8 to 294 MPa).

また、全体としてのクリーニング媒体は、長手(MD)方向のヤング率が300〜1200Kg/mm(≒2.94〜11.76GPa)、幅(TD)方向のヤング率が200〜1200Kg/mm(≒1.96〜11.76GPa)、かつ長手方向ヤング率/幅方向ヤング率が1/2〜2/1である。 The cleaning medium as a whole has a Young's modulus in the longitudinal (MD) direction of 300 to 1200 kg / mm 2 (≈2.94 to 11.76 GPa) and a Young's modulus in the width (TD) direction of 200 to 1200 kg / mm 2. (≈1.96 to 11.76 GPa) and the Young's modulus in the longitudinal direction / Young's modulus in the width direction is 1/2 to 2/1.

さらに、クリーニング媒体の残留伸びは好ましくは0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下、もっとも好ましくは0.1%以下で、0%が理想である。クリーニング層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は50℃以上120℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは0℃〜100℃が好ましい。損失弾性率は1×10〜8×10Paの範囲にあることが好ましく、損失正接は0.2以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障がでやすい。クリーニング層中に含まれる残留溶媒は好ましくは100mg/m以下、さらに好ましくは10mg/m以下であり、上層クリーニング層に含まれる残留溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。空隙率は下層塗布層、クリーニング層とも好ましくは50容量%以下、さらに好ましくは40容量%以下である。 Further, the residual elongation of the cleaning medium is preferably 0.5% or less, and the thermal shrinkage at any temperature of 100 ° C. or less is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, most preferably 0.1%. In the following, 0% is ideal. The glass transition temperature of the cleaning layer (maximum point of loss elastic modulus in dynamic viscoelasticity measurement measured at 110 Hz) is preferably 50 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, and that of the lower coating layer is preferably 0 ° C. to 100 ° C. The loss elastic modulus is preferably in the range of 1 × 10 7 to 8 × 10 8 Pa, and the loss tangent is preferably 0.2 or less. If the loss tangent is too large, adhesion failure is likely to occur. The residual solvent contained in the cleaning layer is preferably 100 mg / m 2 or less, more preferably 10 mg / m 2 or less, and the residual solvent contained in the upper cleaning layer is preferably smaller than the residual solvent contained in the lower coating layer. The porosity is preferably 50% by volume or less, more preferably 40% by volume or less for both the lower coating layer and the cleaning layer.

本発明のクリーニング媒体のクリーニング層の磁気特性は、磁場10kOe{Oe=(1/4π)kA/m}で振動試料型磁束計(VSM)で測定した場合、テープ走行方向の抗磁力Hcは500〜3000Oe(≒40〜240kA/m)である。角型比は0.6〜0.98であり、好ましくは0.80以上であり、さらに好ましくは0.85以上である。テープ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の80%以下となることが好ましい。クリーニング層のSFDは0.6以下であることが好ましく、更に好ましくは0.5以下、理想的には0である。長手方向のレマネンス抗磁力Hrも1800〜3000Oe(≒144〜240kA/m)が好ましい。垂直方向のHc及びHrは1000〜5000Oe(≒80〜400kA/m)であることが好ましい。さらに、クリーニング層の中心線表面粗さRaは1.0〜7.0nmが好ましいが、その値は目的により適宜設定されるべきである。AFMによる評価で求めたRMS表面粗さRRMSは2〜15nmの範囲にあることが好ましい。 The magnetic characteristics of the cleaning layer of the cleaning medium of the present invention are as follows. When measured with a vibrating sample magnetometer (VSM) at a magnetic field of 10 kOe {Oe = (1 / 4π) kA / m}, the coercive force Hc in the tape running direction is 500. -3000 Oe (≈40-240 kA / m). The squareness ratio is 0.6 to 0.98, preferably 0.80 or more, and more preferably 0.85 or more. The squareness ratio in the two directions perpendicular to the tape running direction is preferably 80% or less of the squareness ratio in the running direction. The SFD of the cleaning layer is preferably 0.6 or less, more preferably 0.5 or less, and ideally 0. The remanence coercive force Hr in the longitudinal direction is also preferably 1800 to 3000 Oe (≈144 to 240 kA / m). Hc and Hr in the vertical direction are preferably 1000 to 5000 Oe (≈80 to 400 kA / m). Further, the center line surface roughness Ra of the cleaning layer is preferably 1.0 to 7.0 nm, but the value should be appropriately set depending on the purpose. The RMS surface roughness R RMS obtained by evaluation by AFM is preferably in the range of 2 to 15 nm.

本発明のクリーニング媒体は下層塗布層とクリーニング層を有することができるが、目的に応じ下層塗布層とクリーニング層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、クリーニング層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率をクリーニング層より低くしてクリーニング媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても有効であり、テープ長手方向に対し、直角な方向にテンシライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場合が多い。   The cleaning medium of the present invention can have a lower coating layer and a cleaning layer, but it is easily estimated that these physical properties can be changed between the lower coating layer and the cleaning layer depending on the purpose. For example, the elastic modulus of the cleaning layer is increased to improve running durability, and at the same time, the elastic modulus of the lower coating layer is made lower than that of the cleaning layer to improve the contact of the cleaning medium with the head. It is also effective in the present invention to improve the head contact by changing the method of tensifying the support, and the support tensed in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the tape has better head contact. There are many cases.

以下に、本発明の実施例を示し、本発明を更に詳細に説明する。実施例中の「部」は「質量部」を示す。   Examples of the present invention will be shown below, and the present invention will be described in more detail. “Parts” in the examples represents “parts by mass”.

実施例1
「クリーニング層塗布液」
強磁性金属微粉末 100部
組成 Fe/Co=100/30
Hc 2500Oe(200kA/m)
BET法による比表面積 49m/g
表面処理層 Al、SiO、Y
平均粒子サイズ(長軸径) 0.04μm
平均針状比 7
σs:125 emu/g(125 A・m/kg)
塩化ビニル共重合体 MR110(日本ゼオン社製) 2部
ポリウレタン樹脂 15部
上記にシクロヘキサノン50部を加え60分間混練し、次いで
α−Al(最大粒径0.20μm)分散液A 10部
カ−ボンブラック(平均粒径0.03μm) 0.3部
メチルエチルケトン/トルエン=1/1 220部
Example 1
"Cleaning layer coating solution"
Ferromagnetic metal fine powder 100 parts Composition Fe / Co = 100/30
Hc 2500 Oe (200 kA / m)
Specific surface area by BET method 49m 2 / g
Surface treatment layer Al 2 O 3 , SiO 2 , Y 2 O 3
Average particle size (major axis diameter) 0.04μm
Average needle ratio 7
σs: 125 emu / g (125 A · m 2 / kg)
Vinyl chloride copolymer MR110 (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) 2 parts Polyurethane resin 15 parts Add 50 parts of cyclohexanone and knead for 60 minutes, then α-Al 2 O 3 (maximum particle size 0.20 μm) dispersion A 10 parts Carbon black (average particle size 0.03 μm) 0.3 part Methyl ethyl ketone / toluene = 1/1 220 parts

を加えてサンドミルで180分間分散した。これに And dispersed in a sand mill for 180 minutes. to this

潤滑剤
ブチルステアレート 2部
ステアリン酸 1部
ステアリン酸アミド 1部
溶剤
メチルエチルケトン 60部
ポリイソシアナート(日本ポリウレタン社製コロネートL) 13.5部
Lubricant Butyl stearate 2 parts Stearic acid 1 part Stearic acid amide 1 part Solvent Methyl ethyl ketone 60 parts Polyisocyanate (Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) 13.5 parts

を加え20分攪拌し、0.5μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、塗布液を調整した。 The mixture was stirred for 20 minutes and filtered using a filter having an average pore size of 0.5 μm to prepare a coating solution.

次いで、上記のように得られたクリーニング層形成用塗布液を乾燥後の厚さが0.2μmとなるように非磁性支持体上に塗布、塗布液が未乾状態で磁場配向を行い、さらに乾燥後、クリーニング層の他面にバック層を0.3μm厚で塗布、乾燥し、その後金属ロ−ルとエポキシ樹脂ロ−ルから構成される7段のカレンダ−で処理した後、1/2吋幅にスリットし、本発明のクリーニング媒体を得た。なお、非磁性支持体としては、厚さ6μmのポリエチレンナフタレートを使用した。   Next, the cleaning layer-forming coating solution obtained as described above is coated on a nonmagnetic support so that the thickness after drying is 0.2 μm, and the coating solution is magnetically oriented in an undried state. After drying, a back layer is applied to the other side of the cleaning layer in a thickness of 0.3 μm, dried, and then treated with a seven-stage calendar composed of a metal roll and an epoxy resin roll. The cleaning medium of the present invention was obtained by slitting the ridges. As the nonmagnetic support, polyethylene naphthalate having a thickness of 6 μm was used.

α−Al分散液Aの作成
下記の研磨剤分散液の各成分をアルミナセラミック製ボールミルに入れて20時間混合・分散処理を行って分散液Aを作成した。
α−Al(最大粒径0.20μm) 100部
ポリウレタン樹脂 10部
メチルエチルケトン 60部
Preparation of α-Al 2 O 3 Dispersion A Each component of the following abrasive dispersion was placed in an alumina ceramic ball mill and mixed and dispersed for 20 hours to prepare Dispersion A.
α-Al 2 O 3 (maximum particle size 0.20 μm) 100 parts Polyurethane resin 10 parts Methyl ethyl ketone 60 parts

(バック層形成用塗布液)
混練物1
カ−ボンブラック(キャボット製BP−800) 100部
ニトロセルロース RS1/2 100部
ポリウレタン 日本ポリウレタン製N2301 30部
分散剤 オレイン酸銅 5部
銅フタロシアニン 5部
沈降性硫酸バリウム 5部
メチルエチルケトン 500部
トルエン 500部
(Back layer forming coating solution)
Kneaded material 1
Carbon black (Cabot BP-800) 100 parts Nitrocellulose RS1 / 2 100 parts polyurethane Nippon polyurethane N2301 30 parts Dispersant Copper oleate 5 parts
Copper phthalocyanine 5 parts
Precipitated barium sulfate 5 parts Methyl ethyl ketone 500 parts Toluene 500 parts

上記をロールミルで予備混練した後、   After pre-kneading the above with a roll mill,

混練物2
カーボンブラック 100部
平均粒径 270nm
DBP吸油量 36ml/100g
pH 10.0
BET法による比表面積 8.5m/g
ニトロセルロース 100部
ポリウレタン 日本ポリウレタン製N2301 30部
メチルエチルケトン 300部
トルエン 300部
Kneaded product 2
100 parts of carbon black
Average particle size 270nm
DBP oil absorption 36ml / 100g
pH 10.0
Specific surface area by BET method 8.5m 2 / g
Nitrocellulose 100 parts polyurethane Nippon polyurethane N2301 30 parts Methyl ethyl ketone 300 parts Toluene 300 parts

予備混練した混練物1と混練物2とをサンドグラインダーで分散し、完成後、以下を添加し、バック層用塗布液とした。   Pre-kneaded kneaded material 1 and kneaded material 2 were dispersed with a sand grinder, and after completion, the following was added to obtain a coating solution for a back layer.

ポリエステル樹脂 東洋紡製 バイロン300 5部
ポリイソシアナート 日本ポリウレタン社製コロネートL 5部
Polyester resin Toyobo Byron 300 5 parts Polyisocyanate Nippon Polyurethane Coronate L 5 parts

実施例2〜3
実施例1において、使用したα−Al分散液Aの添加量を以下に変更した以外は実施例1を繰り返した。
実施例2 α−Al分散液A 5部
実施例3 α−Al分散液A 20部
Examples 2-3
In Example 1, Example 1 was repeated except that the amount of α-Al 2 O 3 dispersion A used was changed to the following.
Example 2 α-Al 2 O 3 dispersion A 5 parts Example 3 α-Al 2 O 3 dispersion A 20 parts

実施例4
クリーニング層形成用塗布液、バック層形成用塗布液および非磁性支持体は、実施例1と同じものを使用した。以下の下層塗布層形成用塗布液を作成した。
「下層塗布層形成用塗布液」
非磁性無機粉末 α-Fe(ヘマタイト) 85部
平均粒径 0.13μm
BET法による比表面積 55m/g
表面処理層 AlO、SiO
pH 6.0〜8.5
Example 4
The cleaning layer forming coating solution, the back layer forming coating solution, and the nonmagnetic support were the same as those used in Example 1. The following coating solution for lower layer coating layer formation was created.
"Liquid for forming lower layer coating layer"
Nonmagnetic inorganic powder α-Fe 2 O 3 (hematite) 85 parts Average particle size 0.13 μm
Specific surface area by BET method 55m 2 / g
Surface treatment layer Al 2 O 3 , SiO 2
pH 6.0-8.5

をオ−プニ−ダ-で10分間粉砕し、次いで   For 10 minutes with an opener,

ポリウレタン樹脂 13.5部
シクロヘキサノン 50部
Polyurethane resin 13.5 parts Cyclohexanone 50 parts

を加えて60分間混練し、次いで And knead for 60 minutes, then

メチルエチルケトン/シクロヘキサノン=6/4 200部
を加えて120分間分散し、次いで
Add 200 parts of methyl ethyl ketone / cyclohexanone = 6/4 and disperse for 120 minutes,

ブチルステアレート 4部
ステアリン酸アミド 1部
ステアリン酸 3部
メチルエチルケトン 60部
ポリイソシアナート(日本ポリウレタン社製コロネートL) 5部
Butyl stearate 4 parts Stearic acid amide 1 part Stearic acid 3 parts Methyl ethyl ketone 60 parts Polyisocyanate (Nihon Polyurethane Coronate L) 5 parts

を加え20分間攪拌し、0.5μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、塗布液を調整した。 The mixture was stirred for 20 minutes and filtered using a filter having an average pore size of 0.5 μm to prepare a coating solution.

次いで、上記のように得られた下層塗布層形成用塗布液を乾燥後の厚さが1.4μmとなるように、さらに、その直後にクリ−ニング層形成用塗布液を乾燥後の厚さが0.12μmになるように、支持体上に同時重層塗布した。
その塗布液が未乾燥の状態で乾燥後、クリーニング層の他面に厚さ0.3μmのバック層を塗布、乾燥し、その後、金属ロ−ルとエポキシ樹脂ロ−ルから構成される7段のカレンダ−で処理した後、1/2吋幅に裁断し、本発明のクリーニング媒体を得た。
Next, the thickness of the coating solution for forming the lower layer coating layer obtained as described above is further dried so that the thickness after drying is 1.4 μm. Was simultaneously coated on the support so that the thickness was 0.12 μm.
After the coating liquid is dried in an undried state, a back layer having a thickness of 0.3 μm is applied to the other surface of the cleaning layer, dried, and then formed of a metal roll and an epoxy resin roll. After being processed with the above calender, it was cut into ½ cm width to obtain the cleaning medium of the present invention.

比較例1
実施例1において、α−Al分散液Aの添加量を5部に変更したこと以外は、実施例1を繰り返した。
Comparative Example 1
In Example 1, Example 1 was repeated except that the addition amount of the α-Al 2 O 3 dispersion A was changed to 5 parts.

比較例2〜4
α−Al分散液Aの分散度を変更した各分散液を調製した。すなわち実施例1において、混合・分散処理を下記のように変更して分散液B〜Cを調製した。
分散時間 10時間 分散液B
分散時間 50時間 分散液C
比較例2は上記分散液Bを用い、実施例1を繰り返した。
比較例3は上記分散液Cを用い、実施例1を繰り返した。
Comparative Examples 2-4
Each dispersion having a different degree of dispersion of α-Al 2 O 3 dispersion A was prepared. That is, in Example 1, dispersions B to C were prepared by changing the mixing / dispersing treatment as follows.
Dispersion time 10 hours Dispersion B
Dispersion time 50 hours Dispersion C
In Comparative Example 2, Example 1 was repeated using the above dispersion B.
In Comparative Example 3, Example 1 was repeated using the above dispersion C.

得られた各種クリーニング媒体に対し、下記の測定を行った。測定方法を示す。
ヘッド磨耗:
IBM製LTO(Ultrium)ドライブ(MRヘッド使用)を用い、23℃×70%RHで1時間、当該クリーニングテ−プを走行させ、その前後のMRヘッドのヘッド高さを測定して、10分間当りのヘッド磨耗を算出した。
The following measurements were performed on the various cleaning media obtained. The measurement method is shown.
Head wear:
Using an IBM LTO (Ultramium) drive (using an MR head), the cleaning tape was run for 1 hour at 23 ° C. × 70% RH, and the head height of the MR head before and after that was measured for 10 minutes. The head wear per hit was calculated.

ヘッドクリーニング力:
予め、富士写真フイルム社製LTO Ultrium1 データカートリッジ(型式 LTO FB UL−1 100G E)を用いて、IBM製LTO(Ultrium)ドライブで出力を測定しておく。その後、目詰まりを起こさせることを目的に作成した標準テ−プをそのIBM製LTO(Ultrium)ドライブで走行させ、ストロボでヘッド状態を観察して、ヘッドに汚れが多く付いた時点で走行を止めて出力が皆無であることを確認する。その後、試料の各クリーニングテ−プを1分間走行させた後に、事前に記録した富士写真フイルム社製LTO Ultrium 1 データカートリッジ(型式 LTO FB UL−1 100G E)を用いて出力を測定して、最後に測定した出力と最初に測定した出力との差dBをヘッドクリーニング力の評価とした。
Head cleaning power:
The output is measured in advance using an LTO (Ultra) drive manufactured by IBM using an LTO Ultrium1 data cartridge (model LTO FB UL-1 100GE) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. After that, run the standard tape created for the purpose of causing clogging with the IBM LTO (Ultramium) drive, observe the head condition with the strobe, and run when the head is heavily soiled. Stop and make sure there is no output. Then, after running each cleaning tape of the sample for 1 minute, the output was measured using the LTO Ultrium 1 data cartridge (model LTO FB UL-1 100GE) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. in advance. The difference dB between the last measured output and the first measured output was used as the head cleaning power evaluation.

ヘッド付着物:
ヘッド磨耗を測定した時にヘッドの付着物を顕微鏡観察した。
Head deposits:
When the head wear was measured, the deposits on the head were observed with a microscope.

クリーニング層表面の研磨剤の表面占有率:
走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、クリーニング層表面を倍率10000倍で測定した。電子データとして得られたSEM像をパーソナルコンピュターのフォトレタッチソフトを用いて2値化し、研磨剤の面積分布をヒストグラムとして表し、求めた。
結果を下記表1に示す。
Surface occupancy ratio of abrasive on the cleaning layer surface:
The surface of the cleaning layer was measured at a magnification of 10,000 times using a scanning electron microscope (SEM). The SEM image obtained as electronic data was binarized using the photo retouching software of a personal computer, and the area distribution of the abrasive was represented as a histogram and obtained.
The results are shown in Table 1 below.

Figure 2007237350
Figure 2007237350

上記から分かるように、クリーニング層表面の研磨剤の表面占有率を2.0〜5.0%の範囲にすることにより、ヘッド付着物、ヘッド摩耗、ヘッドクリーニング力がいずれも優れた結果となっていることが分かる。   As can be seen from the above, when the surface occupancy ratio of the abrasive on the surface of the cleaning layer is in the range of 2.0 to 5.0%, the head deposit, head wear, and head cleaning power are all excellent. I understand that

Claims (2)

非磁性支持体上に、少なくとも強磁性粉末による無機粉末と結合剤とを含むクリーニング層を設けてなる磁気記録装置用クリーニング媒体において、クリーニング層表面の研磨剤の表面占有率が2.0〜5.0%であることを特徴とする磁気記録装置用クリーニング媒体。   In a cleaning medium for a magnetic recording apparatus in which a cleaning layer containing at least an inorganic powder of a ferromagnetic powder and a binder is provided on a nonmagnetic support, the surface occupancy ratio of the abrasive on the surface of the cleaning layer is 2.0 to 5 A cleaning medium for a magnetic recording device, characterized by being 0.0%. 前記非磁性支持体の、前記クリーニング層を設けた逆の面に、非磁性のバック層を設けたことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録装置用クリーニング媒体。   The magnetic recording device cleaning medium according to claim 1, wherein a nonmagnetic back layer is provided on an opposite surface of the nonmagnetic support to which the cleaning layer is provided.
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