JP2007235672A - Surface acoustic wave element and manufacturing method therefor - Google Patents

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Fumihiro Shiba
文広 芝
Hiromi Yatsuda
博美 谷津田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface acoustic wave element in which an interdigital electrode or a surface acoustic wave propagation area is surely protected, and a manufacturing method therefor. <P>SOLUTION: The surface acoustic wave element includes the interdigital electrode and the surface acoustic wave propagation area 12 each formed on a piezoelectric substrate 10 wherein a space is formed for housing the interdigital electrode and the surface acoustic wave propagation area 12, and a lid body covering the interdigital electrode and the surface acoustic wave propagation area 12 is provided on the piezoelectric substrate 10, the lid body comprising, for example, a double structure composed of a bridge-like first lid body 14 forming the space for housing the interdigital electrode and the surface acoustic wave propagation area 12 and spread over the interdigital electrode and the surface acoustic wave propagation area 12, a sealing film 16 sealing the first lid body 14, and a second lid body 118 covering the first lid body 14. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば移動体通信機器に搭載されるフィルタなどの弾性表面波デバイスに用いられる弾性表面波素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a surface acoustic wave element used for a surface acoustic wave device such as a filter mounted on a mobile communication device, for example, and a manufacturing method thereof.

一般に、例えば携帯電話機などの移動体通信機器に搭載される弾性表面波フィルタを代表とした弾性表面波デバイスは、圧電基板の表面を伝搬する弾性表面波を利用するため、この弾性表面波の伝搬領域や、弾性表面波を励振する櫛型電極に水分や埃が付着しないように、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域が保護された構成となっている。   In general, a surface acoustic wave device represented by a surface acoustic wave filter mounted on a mobile communication device such as a mobile phone uses a surface acoustic wave that propagates on the surface of a piezoelectric substrate. The comb electrode and the surface acoustic wave propagation region are protected so that moisture and dust do not adhere to the region and the comb electrode that excites the surface acoustic wave.

下記特許文献1には、実装基板に、金属バンプにより、弾性表面波素子をフェイスダウン実装し、このように実装された弾性表面波素子の全体を樹脂フィルムで覆い、実装基板の実装面と樹脂フィルムとを密着させてなる弾性表面波デバイスが記載されている。この弾性表面波デバイスでは、実装基板と弾性表面波素子との間の空間(すなわち、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域が存在する空間)が樹脂フィルムによって封止されることで、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域が保護されている。   In the following Patent Document 1, a surface acoustic wave element is mounted face-down on a mounting board with metal bumps, and the entire surface acoustic wave element mounted in this manner is covered with a resin film. A surface acoustic wave device in which a film is brought into close contact is described. In this surface acoustic wave device, the space between the mounting substrate and the surface acoustic wave element (that is, the space where the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region exist) is sealed with a resin film, so that the comb-shaped The electrode and the surface acoustic wave propagation region are protected.

下記特許文献2には、圧電基板上に少なくとも1つの櫛型電極部からなる機能部分(櫛型電極部などの弾性表面波が伝搬する表面部分)を有する弾性表面波素子において機能部分の周囲に保護部材(機能部分の周囲を囲う側壁のようなもの)を形成し、この機能部分と保護部材とを覆うようにして保護フィルムを圧電基板に接着した上で、この弾性表面波素子を、櫛型電極部を有する面を対向させて実装基板にバンプを介して接合してなる弾性表面波デバイスが記載されている。この弾性表面波デバイスでは、機能部分と保護部材とを覆うようにして保護フィルムを圧電基板に接着して機能部分(櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域に相当)が封止されることで、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域が保護されている。   In the following Patent Document 2, a surface acoustic wave element having a functional portion (a surface portion on which a surface acoustic wave propagates such as a comb-shaped electrode portion) having at least one comb-shaped electrode portion on a piezoelectric substrate is provided around the functional portion. A protective member (such as a sidewall surrounding the periphery of the functional part) is formed, a protective film is bonded to the piezoelectric substrate so as to cover the functional part and the protective member, and the surface acoustic wave element is then combined with the comb. A surface acoustic wave device is described in which a surface having a mold electrode portion is opposed to and bonded to a mounting substrate via a bump. In this surface acoustic wave device, the functional part (corresponding to the comb electrode or the surface acoustic wave propagation region) is sealed by adhering a protective film to the piezoelectric substrate so as to cover the functional part and the protective member. The comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region are protected.

特開2005−184309号公報JP 2005-184309 A 特開2004−153412号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-153212

上記の従来の技術は、いずれも実装基板と弾性表面波素子とを組み合わせた(実装させた)状態で、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域の確実な保護(パッケージング)が実現されている。特許文献1に記載の弾性表面波デバイスでは、実装基板にフェイスダウン実装された弾性表面波素子の全体を樹脂フィルムで覆い、実装基板の実装面と樹脂フィルムとを密着させることで、実装基板と弾性表面波素子との間の空間(すなわち、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域が存在する空間)を樹脂フィルムによって封止し、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域を保護している。   In each of the above conventional techniques, the mounting substrate and the surface acoustic wave element are combined (mounted), and the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region are reliably protected (packaging). Yes. In the surface acoustic wave device described in Patent Document 1, the entire surface acoustic wave element mounted face-down on the mounting substrate is covered with a resin film, and the mounting surface of the mounting substrate and the resin film are brought into close contact with each other. The space between the surface acoustic wave element (that is, the space where the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region exist) is sealed with a resin film to protect the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region. .

また、特許文献2に記載の弾性表面波デバイスでは、機能部分(櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域)と保護部材とを覆うようにして保護フィルムを圧電基板に接着して機能部分を封止することで、機能部分(櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域)を保護している。このとき、保護部材(機能部分の周囲を囲う側壁のようなもの)を保護フィルムで覆っただけでは、この保護フィルムが撓んでしまい、弾性表面波素子の姿勢によっては撓んだ保護フィルムが機能部分に触れてしまうといった事態が生じる虞がある。そこで、特許文献2に記載の弾性表面波デバイスでは、この弾性表面波素子を、弾性表面波素子の下側に位置する実装基板に、くし型電極部を有する面を対向させた状態でバンプを介して接合することで、保護フィルムの撓みによる不都合を解消し、かつ保護フィルムによって機能部分(櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域)を保護している。   Further, in the surface acoustic wave device described in Patent Document 2, a functional film (comb-shaped electrode or surface acoustic wave propagation region) and a protective member are covered so that a protective film is adhered to the piezoelectric substrate to seal the functional part. By stopping, the functional portion (comb electrode or surface acoustic wave propagation region) is protected. At this time, simply covering the protective member (such as the side wall surrounding the functional part) with a protective film will cause the protective film to bend, and depending on the orientation of the surface acoustic wave element, the bent protective film will function. There is a possibility that a situation such as touching a part may occur. Therefore, in the surface acoustic wave device described in Patent Document 2, the surface acoustic wave element is bumped with the mounting substrate positioned below the surface acoustic wave element facing the surface having the comb-shaped electrode portion. Thus, the problem caused by the bending of the protective film is eliminated, and the functional part (comb electrode or surface acoustic wave propagation region) is protected by the protective film.

以上のように、従来では、実装基板と弾性表面波素子とを組み合わせた(実装させた)状態で、弾性表面波デバイスとして、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域の確実な保護(パッケージング)を実現させている。ここで、弾性表面波素子側のみにおいて、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域の確実な保護(パッケージング)を実現できれば、弾性表面波素子のベアチップ供給を行うことが可能となり、実装基板への実装工程が簡易になる等、有利な効果が得られることから、このような弾性表面波素子側のみでの櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域の確実な保護(パッケージング)がなされることは非常に好ましい。   As described above, conventionally, as a surface acoustic wave device in a state where the mounting substrate and the surface acoustic wave element are combined (mounted), reliable protection of the comb-shaped electrode and the propagation area of the surface acoustic wave (packaging) ) Is realized. Here, if reliable protection (packaging) of the comb-shaped electrode and the propagation region of the surface acoustic wave can be realized only on the surface acoustic wave element side, it becomes possible to supply the bare chip of the surface acoustic wave element to the mounting substrate. Since the advantageous effects such as simplification of the mounting process can be obtained, the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region can be reliably protected (packaging) only on the surface acoustic wave element side. It is very preferable.

そこで本発明の目的は、上記従来技術の問題に鑑み、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域が確実に保護(パッケージング)された弾性表面波素子及びその製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a surface acoustic wave element in which a comb-shaped electrode and a surface acoustic wave propagation region are reliably protected (packaged) and a method for manufacturing the same.

上記目的を達成するため、本発明の弾性表面波素子は、圧電基板と、圧電基板上に形成された櫛形電極と、櫛形電極から圧電基板の表面及び表面近傍を伝搬する弾性表面波の伝搬領域と、を有する弾性表面波素子において、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成して、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆う蓋体を圧電基板上に有し、この蓋体により、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を封止したことを特徴とする。   In order to achieve the above object, a surface acoustic wave element according to the present invention includes a piezoelectric substrate, a comb-shaped electrode formed on the piezoelectric substrate, and a surface acoustic wave propagation region that propagates from the comb-shaped electrode to the surface of the piezoelectric substrate and the vicinity of the surface. And forming a space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region on the piezoelectric substrate, and covering the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region on the piezoelectric substrate. This lid is characterized in that the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region are sealed.

ここで、上記構成の弾性表面波素子において、蓋体は、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成して、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部と、ブリッジ状の蓋体部の開口部を封止する封止膜と、を含む構成とすると良い。あるいは、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成して、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の第一の蓋体部と、第一の蓋体部の開口部を封止する封止膜と、封止膜によって封止された第一の蓋体部を覆う第二の蓋体部と、を含む構成とすると良い。   Here, in the surface acoustic wave element having the above-described configuration, the lid forms a space in which the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated, and bridges over the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region. It is good to have a configuration including a lid-shaped lid portion and a sealing film that seals the opening of the bridge-shaped lid body portion. Alternatively, a bridge-shaped first lid body that forms a space in which the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated and covers the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region, and the first lid It is good to set it as the structure containing the sealing film which seals the opening part of a body part, and the 2nd cover body part which covers the 1st cover body part sealed with the sealing film.

また、上記構成の弾性表面波素子において、ブリッジ状の蓋体部の開口部には傾斜面が加工されているのが好適である。   In the surface acoustic wave device having the above-described configuration, it is preferable that an inclined surface is processed in the opening of the bridge-shaped lid.

また、上記構成の弾性表面波素子において、圧電基板上に、蓋体の外部に配置された電極パッドと、電極パッドと櫛型電極とを接続する電極パターンと、が形成され、さらに電極パッド上にはバンプが形成されているのが好適である。   In the surface acoustic wave device having the above-described structure, an electrode pad disposed outside the lid body and an electrode pattern connecting the electrode pad and the comb-shaped electrode are formed on the piezoelectric substrate, and further on the electrode pad It is preferable that bumps are formed on the.

また、本発明の弾性表面波素子の製造方法は、櫛形電極と、櫛形電極から圧電基板の表面及び表面近傍を伝搬する弾性表面波の伝搬領域と、を有する弾性表面波素子が複数形成された圧電基板に対し、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成し、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部を、各弾性表面波素子ごとに個別に形成する蓋体部形成工程と、各弾性表面波素子に形成されたブリッジ状の蓋体部の開口部を封止する封止膜を形成し、各弾性表面波素子における櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を個別に密封する密封工程と、を有することを特徴とする。あるいは、密封工程後に、各弾性表面波素子におけるブリッジ状の蓋体部(第一の蓋体部)を覆う第二の蓋体部を、各弾性表面波素子ごとに個別に形成する工程をさらに有することを特徴とする。   The surface acoustic wave element manufacturing method of the present invention includes a plurality of surface acoustic wave elements each having a comb-shaped electrode and a surface acoustic wave propagation region propagating from the comb-shaped electrode to the surface of the piezoelectric substrate and the vicinity of the surface. Each surface acoustic wave element has a bridge-shaped lid that forms a space in which a comb electrode and a surface acoustic wave propagation region are accommodated, and covers the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region. Forming a sealing body for sealing each of the surface acoustic wave elements, and forming a sealing film for sealing the opening of the bridge-shaped lid body formed on each surface acoustic wave element. And a sealing step of individually sealing the space in which the propagation area of the surface acoustic wave is accommodated. Alternatively, after the sealing step, a step of individually forming a second lid portion covering the bridge-like lid portion (first lid portion) in each surface acoustic wave element for each surface acoustic wave element It is characterized by having.

ここで、上記構成の弾性表面波素子の製造方法において、ブリッジ状の蓋体部を形成する工程は、各弾性表面波素子における櫛型電極および弾性表面波の伝搬領域の上に被さるように、犠牲層を各弾性表面波素子ごとに個別に形成する工程と、各犠牲層の上を跨ぐように樹脂を塗布して硬化させる工程と、犠牲層エッチングにより各犠牲層を除去する工程と、を有し、各犠牲層の除去により、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成し、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部が、各弾性表面波素子ごとに個別に形成されるようにすると良い。また、上記構成の弾性表面波素子の製造方法において、ブリッジ状の蓋体部を形成するための樹脂には、光感光性樹脂を用い、犠牲層には、光感光性樹脂の硬化温度に耐え得る耐熱性を有し、且つ有機溶剤によって除去可能なレジストを用い、有機溶剤を用いて犠牲層エッチングを行うことにより犠牲層を除去するようにすると良い。   Here, in the method of manufacturing the surface acoustic wave element having the above-described configuration, the step of forming the bridge-shaped lid body portion covers the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region in each surface acoustic wave element. A step of individually forming a sacrificial layer for each surface acoustic wave element, a step of applying and curing a resin so as to straddle each sacrificial layer, and a step of removing each sacrificial layer by sacrificial layer etching. Each of the sacrificial layers is removed to form a space in which the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated, and a bridge-shaped lid that covers the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region. It is preferable to form each surface acoustic wave element individually. In the method of manufacturing the surface acoustic wave device having the above-described structure, a photosensitive resin is used as the resin for forming the bridge-shaped lid, and the sacrificial layer can withstand the curing temperature of the photosensitive resin. It is preferable that the sacrificial layer be removed by performing a sacrificial layer etching using an organic solvent using a resist having heat resistance that can be obtained and removed by an organic solvent.

また、上記構成の弾性表面波素子の製造方法において、ブリッジ状の蓋体部の形成工程後、このブリッジ状の蓋体部の開口部に傾斜面を形成する工程を行ってから密封工程を行うようにすると良い。   In the method of manufacturing the surface acoustic wave device having the above-described configuration, after the step of forming the bridge-shaped lid, a step of forming an inclined surface at the opening of the bridge-shaped lid is performed and then the sealing step is performed. It is good to do so.

本発明の弾性表面波素子によれば、弾性表面波素子側のみにおいて、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域の確実な保護(パッケージング)を実現できる。したがって、弾性表面波素子のベアチップ供給を行うことが可能となり、実装基板への実装工程が簡易になる、または、弾性表面波素子の取扱いがし易くなる、等といった有利な効果が得られるようになる。   According to the surface acoustic wave element of the present invention, reliable protection (packaging) of the comb-shaped electrode and the propagation area of the surface acoustic wave can be realized only on the surface acoustic wave element side. Therefore, it becomes possible to supply the bare chip of the surface acoustic wave element, and it is possible to obtain an advantageous effect that the mounting process on the mounting substrate is simplified or the surface acoustic wave element is easily handled. Become.

本発明の実施の形態における弾性表面波素子は、圧電基板10上の櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12を蓋体によって封止した構成を有しており、これにより、実装基板との関係如何にかかわらず、弾性表面波素子側において櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12を確実に保護(パッケージング)している。例えば図5のように、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間を形成した状態でこの櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12を跨いだブリッジ状の蓋体部14の開口部近傍に、この開口部を封止するための封止膜16(例えば金属膜やパッシベーション膜など)を形成することにより、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間を密封し、この封止されたブリッジ状の蓋体部14によって、弾性表面波素子において櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12を確実に保護している。あるいは、図6のように、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間を形成した状態でこの櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12を跨いだブリッジ状の蓋体部(第一の蓋体部)14の開口部近傍に、この開口部を封止するための封止膜16(例えば金属膜やパッシベーション膜など)を形成することにより、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間を密封し、さらにこの外側から第二の蓋体部18で覆うことにより、封止膜16で開口を封止された第一の蓋体部14と第二の蓋体部18との二重構造からなる蓋体を形成し、この二重構造の蓋体によって、弾性表面波素子において櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12を確実に保護している。   The surface acoustic wave element according to the embodiment of the present invention has a configuration in which the comb-shaped electrode on the piezoelectric substrate 10 and the surface acoustic wave propagation region 12 are sealed with a lid. Regardless of the relationship, the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 are reliably protected (packaged) on the surface acoustic wave element side. For example, as shown in FIG. 5, an opening of the bridge-shaped lid portion 14 straddling the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 in a state where a space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 is formed. By forming a sealing film 16 (for example, a metal film or a passivation film) for sealing the opening in the vicinity of the opening, the space in which the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 are accommodated is sealed. The sealed bridge-shaped lid 14 reliably protects the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 in the surface acoustic wave element. Alternatively, as shown in FIG. 6, in a state where a space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 is formed, a bridge-shaped lid portion (first step) straddling the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 is formed. A comb-shaped electrode and a surface acoustic wave propagation region are formed by forming a sealing film 16 (for example, a metal film, a passivation film, etc.) for sealing the opening in the vicinity of the opening of the (one lid) 14. The first lid portion 14 and the second lid body whose opening is sealed with the sealing film 16 are sealed by sealing the space in which 12 is accommodated and further covering the space with the second lid body portion 18 from the outside. A lid having a double structure with the portion 18 is formed, and the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 are reliably protected in the surface acoustic wave element by the double structure.

本実施形態における弾性表面波素子は、次のようにして作製される。まず、図1のように、圧電基板10上には、複数の弾性表面波素子が形成されている。各弾性表面波素子には、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12と、櫛型電極から引き出された電極パターン20および電極パッド30とが形成されている。図1では、説明の便宜上、一例として圧電基板10上に形成された2組の弾性表面波素子を示している。そして本実施形態では、この圧電基板10上に形成されている弾性表面波素子のそれぞれに対し、各櫛型電極および弾性表面波の伝搬領域12を封止する蓋体を作製していく。   The surface acoustic wave element according to this embodiment is manufactured as follows. First, as shown in FIG. 1, a plurality of surface acoustic wave elements are formed on the piezoelectric substrate 10. Each surface acoustic wave element is formed with a comb-shaped electrode and a surface acoustic wave propagation region 12, and an electrode pattern 20 and an electrode pad 30 drawn from the comb-shaped electrode. In FIG. 1, for convenience of explanation, two sets of surface acoustic wave elements formed on the piezoelectric substrate 10 are shown as an example. In this embodiment, for each of the surface acoustic wave elements formed on the piezoelectric substrate 10, a lid for sealing each comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 is produced.

蓋体の作製工程としては、まず、圧電基板10上の櫛型電極および弾性表面波の伝搬領域12の上に犠牲層40を形成する(図2参照)。犠牲層40の形成工程は、圧電基板10の全体に犠牲層を塗布してから、公知のフォトリソグラフィー技術を適用して、余分な犠牲層を除去し、それぞれの弾性表面波素子における櫛型電極および弾性表面波の伝搬領域12に被さるように、図2のように犠牲層40を形成させればよい。ここで、形成した犠牲層40の高さH1は、約1〜10μmとしている。   In the lid manufacturing process, first, the sacrificial layer 40 is formed on the comb-shaped electrode on the piezoelectric substrate 10 and the surface acoustic wave propagation region 12 (see FIG. 2). The sacrificial layer 40 is formed by applying a sacrificial layer to the entire piezoelectric substrate 10 and then applying a known photolithography technique to remove the extra sacrificial layer, and comb electrodes in each surface acoustic wave element. The sacrificial layer 40 may be formed as shown in FIG. 2 so as to cover the surface acoustic wave propagation region 12. Here, the height H1 of the formed sacrificial layer 40 is about 1 to 10 μm.

次に、例えば樹脂を用いて、犠牲層40の上を跨ぐようにディスペンサ等で樹脂を塗布し、この樹脂を硬化させる(図3参照)。この硬化した樹脂が後のブリッジ状の蓋体部14となる。この樹脂の塗布、硬化工程も、圧電基板10の全体に樹脂を塗布してから、露光、ベーク、現像、レジスト除去などといった公知のフォトリソグラフィー技術を適用して、余分な樹脂を除去して、図3のように、各犠牲層40を樹脂体が個別に跨いだ状態にしてから各樹脂体を硬化させればよい。ここで、形成した樹脂体の高さH2(すなわち、ブリッジ状の蓋体部14の高さH2)は、約5〜100μmとしている。   Next, for example, using a resin, the resin is applied with a dispenser or the like so as to straddle the sacrificial layer 40, and the resin is cured (see FIG. 3). This cured resin becomes the bridge-shaped lid portion 14 later. Also in this resin application and curing process, after applying the resin to the entire piezoelectric substrate 10, by applying a known photolithography technique such as exposure, baking, development, resist removal, etc., the excess resin is removed, As shown in FIG. 3, the resin bodies may be cured after the resin bodies are individually straddled over the sacrificial layers 40. Here, the height H2 of the formed resin body (that is, the height H2 of the bridge-shaped lid body portion 14) is about 5 to 100 μm.

そして、このように各犠牲層40を跨ぐ樹脂体が形成された後、犠牲層エッチングを行う。これにより、犠牲層40のみが除去されるため、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間を形成して櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12を覆うように跨いだ状態の樹脂体、すなわちブリッジ状の蓋体部14が、圧電基板10上に形成される(図4参照)。なお、この蓋体部14はブリッジ状の構造であるため、犠牲層40の除去に用いられるエッチング液が、この蓋体部14の内部から外部に抜け易く、エッチング処理が良好にかつ効率良く行える。   And after the resin body which straddles each sacrificial layer 40 is formed in this way, sacrificial layer etching is performed. As a result, only the sacrificial layer 40 is removed, so that a space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 is formed and straddled so as to cover the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12. A resin body, that is, a bridge-shaped lid portion 14 is formed on the piezoelectric substrate 10 (see FIG. 4). Since the lid portion 14 has a bridge-like structure, the etching solution used for removing the sacrificial layer 40 can easily escape from the inside of the lid portion 14 to perform the etching process satisfactorily and efficiently. .

なお、本実施形態では、ブリッジ状の蓋体部14を形成するための樹脂には光感光性樹脂(例えば化学増幅型レジストや永久レジスト)を用い、犠牲層40には、化学増幅型レジストや永久レジストの硬化温度に耐え得る耐熱性を有し、且つ有機溶剤によって除去可能なレジストを用いている。特に、有機溶剤によって除去可能なレジストを犠牲層40として用いたのは、以下の理由がある。弾性波デバイスではアルミニウム製の電極を用いるのが一般的であるが、エッチング液を酸性やアルカリ性のものにしてしまうと、犠牲層エッチング時にアルミニウム製電極と反応してしまい、これにより、弾性波素子の周波数特性が変化してしまう。そこで、エッチング液と電極との反応を回避すべく、犠牲層40には有機溶剤によって除去可能なレジストを用い、有機溶剤を用いてエッチングするのが好適である。   In the present embodiment, a photosensitive resin (for example, a chemically amplified resist or a permanent resist) is used as the resin for forming the bridge-shaped lid portion 14, and a chemically amplified resist or a permanent resist is used for the sacrificial layer 40. A resist having heat resistance that can withstand the curing temperature of the permanent resist and removable by an organic solvent is used. In particular, the reason why the resist that can be removed by the organic solvent is used as the sacrificial layer 40 is as follows. In an acoustic wave device, it is common to use an electrode made of aluminum. However, if the etching solution is made acidic or alkaline, it reacts with the aluminum electrode during the sacrificial layer etching. The frequency characteristics of this will change. Therefore, in order to avoid a reaction between the etchant and the electrode, it is preferable to use a resist that can be removed by an organic solvent for the sacrificial layer 40 and perform the etching using the organic solvent.

また、硬化温度が高温(例えば150℃)である化学増幅型レジストや永久レジストをブリッジ状の蓋体部14の材料として用い、この高温の硬化温度に耐え得る耐熱性を有し且つ有機溶剤によって除去可能なレジストを犠牲層40として用いると、以下のような利点がある。通常のレジストでは、95℃以下での使用が必要であるため、このようなレジストを犠牲層40として用いると、ブリッジ状の蓋体部14を形成する際には95℃以上の温度を加えて樹脂を硬化させることはできず、またもしそれ以上の温度が加わった場合には、櫛型電極の電極指にレジストが付着し、犠牲層除去処理後にもレジスト除去残留物が付着したまま残ってしまうことが懸念される。しかしながら、硬化温度が高温(例えば150℃)である化学増幅型レジストや永久レジストをブリッジ状の蓋体部14の材料として用い、この高温の硬化温度に耐え得る耐熱性を有し且つ有機溶剤によって除去可能なレジストを犠牲層40として用いれば、犠牲層40の形成後に露光、ベーク、現像を行ってから150℃のハードベークによる硬化を行って、犠牲層40を跨ぐブリッジ状の蓋体部14を形成しても、犠牲層40は高温の硬化温度に耐え得る耐熱性を有することから、通常のレジストの場合に生じる問題は解消される。したがって、本実施形態において使用した材料によれば、犠牲層40の除去も確実に行われ、且つ、ブリッジ状の蓋体部14を確実に硬化させることができる。そして、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間(すなわち、高さH1が約1〜10μmの空間)を形成し且つ櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部14を、良好に圧電基板10上に形成することができる。   Further, a chemically amplified resist or permanent resist having a high curing temperature (for example, 150 ° C.) is used as a material for the bridge-shaped lid body portion 14. The use of a removable resist as the sacrificial layer 40 has the following advantages. Since a normal resist needs to be used at 95 ° C. or lower, when such a resist is used as the sacrificial layer 40, a temperature of 95 ° C. or higher is applied when the bridge-shaped lid portion 14 is formed. The resin cannot be cured, and if a higher temperature is applied, the resist will adhere to the electrode fingers of the comb electrode, and the resist removal residue will remain after the sacrificial layer removal treatment. There is a concern that However, a chemically amplified resist or permanent resist having a high curing temperature (for example, 150 ° C.) is used as a material for the bridge-shaped lid portion 14 and has heat resistance that can withstand this high curing temperature, and depending on the organic solvent. If a removable resist is used as the sacrificial layer 40, exposure, baking and development are performed after the sacrificial layer 40 is formed, followed by curing by hard baking at 150 ° C., and the bridge-shaped lid portion 14 straddling the sacrificial layer 40. Even when the sacrificial layer is formed, the sacrificial layer 40 has heat resistance that can withstand a high curing temperature, and thus the problem that occurs in the case of a normal resist is solved. Therefore, according to the material used in the present embodiment, the sacrificial layer 40 can be reliably removed, and the bridge-shaped lid portion 14 can be reliably cured. A space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 (that is, a space having a height H1 of about 1 to 10 μm) is formed and straddles the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12. The bridge-shaped lid portion 14 can be satisfactorily formed on the piezoelectric substrate 10.

こうして、図4のようなブリッジ状の蓋体部14を形成した後、この蓋体部14の開口部を封止するように、膜(封止膜)16を形成して、ブリッジ状の蓋体部14と圧電基板10との間に形成される櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12の収容空間を、封止膜16によって密封する(図5参照)。なお、この工程も、圧電基板10の全体に、例えば公知の蒸着法やスパッタリング法などを用いて膜16を形成してから、露光、ベーク、現像、レジスト除去などといった公知のフォトリソグラフィー技術を適用して、余分な膜16を除去し、第一の蓋体部14のそれぞれに対して図5のように封止膜16が形成された状態にすれば良い。あるいはマスクを用いて、各蓋体部14の開口部近傍にのみ膜16が形成するようにした上で、公知の蒸着法やスパッタリング法などを用いて、各蓋体部14の開口部近傍に封止膜16を形成するようにしても良い。また、図5(c)に示すように、ブリッジ状の蓋体部14の開口部に傾斜面を加工して形成しておくことで、公知の蒸着法やスパッタリング法などを用いて圧電基板10の上方からの蒸着により膜形成を行ったとしても、膜16の形成と共に容易に開口部を封止することが可能となる。なお、封止膜16としては、Ti/Alなどの金属膜、SiOなどの金属酸化膜、あるいはSiNなどのパッシベーション膜などを用いれば良い。 After the bridge-like lid portion 14 as shown in FIG. 4 is formed in this way, a film (sealing film) 16 is formed so as to seal the opening of the lid portion 14, and the bridge-like lid is formed. The accommodation space of the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 formed between the body portion 14 and the piezoelectric substrate 10 is sealed with a sealing film 16 (see FIG. 5). In this process, a known photolithography technique such as exposure, baking, development, resist removal, etc. is applied after the film 16 is formed on the entire piezoelectric substrate 10 by using, for example, a known vapor deposition method or sputtering method. Then, the excess film 16 may be removed, and the sealing film 16 may be formed on each of the first lid portions 14 as shown in FIG. Alternatively, the film 16 is formed only in the vicinity of the opening of each lid body 14 using a mask, and then, in the vicinity of the opening of each lid body 14 using a known vapor deposition method or sputtering method. The sealing film 16 may be formed. Further, as shown in FIG. 5C, the piezoelectric substrate 10 is formed by using a known vapor deposition method, sputtering method, or the like by processing and forming an inclined surface in the opening of the bridge-shaped lid portion 14. Even if the film is formed by vapor deposition from above, the opening can be easily sealed together with the formation of the film 16. As the sealing film 16, a metal film such as Ti / Al, or the like may be used passivation film such as a metal oxide film or SiN, such as SiO 2.

以上のようにして、本実施形態では、圧電基板10上に形成されている複数の弾性表面波素子において、ブリッジ状の蓋体部14を封止膜16で封止した構造の蓋体が、各弾性表面波素子に対して作製される。そして、このような蓋体により、各弾性表面波素子において、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12が確実に保護されることとなる。   As described above, in the present embodiment, in the plurality of surface acoustic wave elements formed on the piezoelectric substrate 10, the lid body having a structure in which the bridge-shaped lid body portion 14 is sealed with the sealing film 16. It is produced for each surface acoustic wave element. With such a lid, the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 are reliably protected in each surface acoustic wave element.

そして、複数の弾性表面波素子が形成された圧電基板10において、各弾性表面波素子に上記のような蓋体が形成された後に、圧電基板10から個々の弾性表面波素子を切り出すことで、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12を蓋体によって確実に保護した弾性表面波素子が製造される。   Then, in the piezoelectric substrate 10 on which a plurality of surface acoustic wave elements are formed, after the above-described lid is formed on each surface acoustic wave element, by cutting out individual surface acoustic wave elements from the piezoelectric substrate 10, A surface acoustic wave element in which the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 are reliably protected by the lid is manufactured.

ここで、各弾性表面波素子に形成された蓋体は、樹脂製のブリッジ状の蓋体部14により、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12の良好な密封性のみならず、外力に対する十分な耐久性をも兼ね備えている。したがって、蓋体を作製した後の弾性表面波素子の取扱いがし易くなるといった利点もある。   Here, the lid formed on each surface acoustic wave element is not only good sealability of the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 but also external force by the resin bridge-like lid 14. It also has sufficient durability. Therefore, there is an advantage that the surface acoustic wave element after the lid is manufactured can be easily handled.

ところで、ブリッジ状の蓋体部14を封止する封止膜16の蒸着性が悪い場合には、良好な密封性は望めない。また、後述のように複数の弾性表面波素子が形成された圧電基板10から個々の弾性表面波素子を切り出す前に、各弾性表面波素子における電極パッド30上に、バンプ下地金属(UBM)50及びバンプ60を形成する場合には、形成時に種々の薬品を使用するため、その薬品によって封止膜16が劣化し、良好な密封性が望めなくなるといった事態が生じ得る。   By the way, when the deposition property of the sealing film 16 that seals the bridge-shaped lid portion 14 is poor, good sealing property cannot be expected. In addition, before the individual surface acoustic wave elements are cut out from the piezoelectric substrate 10 on which a plurality of surface acoustic wave elements are formed as described later, a bump base metal (UBM) 50 is formed on the electrode pad 30 in each surface acoustic wave element. When the bumps 60 are formed, various chemicals are used at the time of formation. Therefore, the sealing film 16 may be deteriorated by the chemicals, and a favorable sealing performance cannot be expected.

そこで、圧電基板10上に形成されている複数の弾性表面波素子において、図5のように各ブリッジ状の蓋体部(第一の蓋体部)14を封止膜16で封止したら、さらにこの封止膜16で封止されたブリッジ状の第一の蓋体部14の全体を覆うように、ディスペンサ等で樹脂を塗布し、この樹脂を硬化させることで、封止膜16で封止された第一の蓋体部14の全体をさらに覆う第二の蓋体部18を形成しても良い(図6参照)。こうして、図6のように、第一の蓋体部14及び第二の蓋体部18の二重構造からなる蓋体を形成できる。この第二の蓋体部18の形成工程も、圧電基板10の全体に樹脂を塗布してから、露光、ベーク、現像、レジスト除去などといった公知のフォトリソグラフィー技術を適用して、余分な樹脂を除去し、封止膜16で封止された第一の蓋体部14の全体をさらに覆う第二の蓋体部18を、第一の蓋体部14のそれぞれに対して形成させればよい。   Therefore, in each of the plurality of surface acoustic wave elements formed on the piezoelectric substrate 10, when each bridge-shaped lid (first lid) 14 is sealed with the sealing film 16 as shown in FIG. Further, a resin is applied with a dispenser or the like so as to cover the entire bridge-shaped first lid portion 14 sealed with the sealing film 16, and the resin is cured, thereby sealing with the sealing film 16. You may form the 2nd cover body part 18 which further covers the whole 1st cover body part 14 stopped (refer FIG. 6). Thus, as shown in FIG. 6, a lid having a double structure of the first lid portion 14 and the second lid portion 18 can be formed. Also in the formation process of the second lid 18, after applying a resin to the entire piezoelectric substrate 10, a known photolithography technique such as exposure, baking, development, resist removal, etc. is applied to remove excess resin. The second lid body portion 18 that is removed and further covers the entire first lid body portion 14 sealed with the sealing film 16 may be formed on each of the first lid body portions 14. .

なお、封止膜16で封止しない状態で第一の蓋体部14を覆うように樹脂を塗布して硬化させ、第二の蓋体部18によって第一の蓋体部14の開口部を塞ごうとすると、この第一の蓋体部14の開口部の高さが約1〜10μmであるために、毛細管現象によって樹脂が開口部から第一の蓋体部14の内部(すなわち、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域12が収容される空間)に浸入してしまうといった事態が生じ得るが、本実施形態では、封止膜16の存在によって、このような事態の発生も回避される。   The resin is applied and cured so as to cover the first lid portion 14 without being sealed with the sealing film 16, and the opening of the first lid portion 14 is opened by the second lid portion 18. If it is going to block, since the height of the opening part of this 1st cover body part 14 is about 1-10 micrometers, resin will become the inside of the 1st cover body part 14 (namely, comb shape) by capillary action. However, in the present embodiment, the presence of the sealing film 16 also prevents such a situation from occurring in the space where the electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 are accommodated. .

以上のように、圧電基板10上に形成されている複数の弾性表面波素子において、第一の蓋体部14及び第二の蓋体部18の二重構造からなる蓋体により、各弾性表面波素子における櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12を確実に保護するようにしても良い。   As described above, in each of the plurality of surface acoustic wave elements formed on the piezoelectric substrate 10, each elastic surface is formed by the lid having the double structure of the first lid 14 and the second lid 18. The comb electrode and the surface acoustic wave propagation region 12 in the wave element may be reliably protected.

またこのとき、各弾性表面波素子に形成された蓋体は、樹脂製の第一の蓋体部14及び第二の蓋体部18が重なる構造を有しているため、上記の実施形態に比して、より外力に対する十分な耐久性をも兼ね備えることとなる。   At this time, the lid formed on each surface acoustic wave element has a structure in which the first lid body portion 14 and the second lid body portion 18 made of resin overlap with each other. In comparison, it also has sufficient durability against external forces.

なお、複数の弾性表面波素子が形成された圧電基板10から個々の弾性表面波素子を切り出す前に、各弾性表面波素子における電極パッド30上に、バンプ下地金属(UBM)50及びバンプ60を形成し、しかる後に圧電基板10から個々の弾性表面波素子を切り出すことで、図7のような構成の弾性表面波素子を複数作製でき、これにより、櫛型電極や弾性表面波の伝搬領域12が蓋体によって確実に保護された弾性表面波素子のベアチップ供給が可能となる。この場合、バンプ下地金属(UBM)50及びバンプ60の形成工程を弾性表面波素子の切り出した後に、切り出された各弾性表面波素子ごとに行っても良い。ここで、図7では、二重構造の蓋体を形成した弾性表面波素子に対してバンプ下地金属(UBM)50及びバンプ60を形成した構成となっているが、封止膜16の性質によっては、図6に示すような構造の蓋体を形成した弾性表面波素子に対してバンプ下地金属(UBM)50及びバンプ60を形成しても良いことは勿論である。   In addition, before cutting out each surface acoustic wave element from the piezoelectric substrate 10 on which a plurality of surface acoustic wave elements are formed, a bump base metal (UBM) 50 and a bump 60 are formed on the electrode pad 30 in each surface acoustic wave element. By forming and then cutting out individual surface acoustic wave elements from the piezoelectric substrate 10, a plurality of surface acoustic wave elements having the structure shown in FIG. 7 can be produced. It is possible to supply a bare chip of a surface acoustic wave element that is reliably protected by a lid. In this case, the step of forming the bump base metal (UBM) 50 and the bump 60 may be performed for each cut out surface acoustic wave element after the surface acoustic wave element is cut out. Here, in FIG. 7, the bump base metal (UBM) 50 and the bump 60 are formed on the surface acoustic wave element in which the lid of the double structure is formed. As a matter of course, the bump base metal (UBM) 50 and the bump 60 may be formed on the surface acoustic wave element in which the lid having the structure shown in FIG. 6 is formed.

圧電基板上に形成される複数の弾性表面波素子の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the several surface acoustic wave element formed on a piezoelectric substrate. 本発明の実施の形態における弾性表面波素子の蓋体を作製する過程を示す図であり、図2(a)は犠牲層を基板上に形成した状態を示す断面図、図2(b)は上面図である。FIGS. 2A and 2B are diagrams illustrating a process of manufacturing a cover for a surface acoustic wave element according to an embodiment of the present invention. FIG. 2A is a cross-sectional view illustrating a state where a sacrificial layer is formed on a substrate, and FIG. It is a top view. 本発明の実施の形態における弾性表面波素子の蓋体を作製する過程を示す図であり、図3(a)は犠牲層上に樹脂を塗布した状態を示す断面図、図3(b)は上面図である。FIGS. 3A and 3B are views showing a process of manufacturing a surface acoustic wave element lid according to an embodiment of the present invention, FIG. 3A is a cross-sectional view showing a state where a resin is applied on a sacrificial layer, and FIG. It is a top view. 本発明の実施の形態における弾性表面波素子の蓋体を作製する過程を示す図であり、犠牲層を除去した状態を示す断面図である。It is a figure which shows the process of producing the cover body of the surface acoustic wave element in embodiment of this invention, and is sectional drawing which shows the state which removed the sacrificial layer. 犠牲層除去後のブリッジ状の蓋体部を封止膜で封止された、本発明の実施の形態における弾性表面波素子の構成を示す図であり、図5(a)は横から見た図、図5(b)はA−A線断面図、図5(c)は他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structure of the surface acoustic wave element in embodiment of this invention which sealed the bridge-shaped cover part after sacrificial layer removal with the sealing film, Fig.5 (a) was seen from the side FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line AA, and FIG. 5C is a diagram illustrating another configuration example. 他の実施の形態における弾性表面波素子の構成を示す図であり、図6(a)は横から見た図、図6(b)はB−B線断面図、図6(c)は他の構成例を示す図である。It is a figure which shows the structure of the surface acoustic wave element in other embodiment, Fig.6 (a) is the figure seen from the side, FIG.6 (b) is a BB sectional drawing, FIG.6 (c) is others It is a figure which shows the example of a structure. 図6の弾性表面波素子にバンプを取り付けた状態を示す図である。It is a figure which shows the state which attached the bump to the surface acoustic wave element of FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 圧電基板、12 櫛型電極および弾性表面波の伝搬領域、14 ブリッジ状の蓋体部(第一の蓋体部)、16 封止膜、18 第二の蓋体部、20 電極パターン、30 電極パッド、40 犠牲層、50 バンプ下地金属、60 バンプ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Piezoelectric substrate, 12 Comb-shaped electrode and surface acoustic wave propagation region, 14 Bridge-shaped lid (first lid), 16 Sealing film, 18 Second lid, 20 Electrode pattern, 30 Electrode pad, 40 sacrificial layer, 50 bump base metal, 60 bump.

Claims (11)

圧電基板と、圧電基板上に形成された櫛形電極と、櫛形電極から圧電基板の表面及び表面近傍を伝搬する弾性表面波の伝搬領域と、を有する弾性表面波素子において、
櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成して、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆う蓋体を圧電基板上に有し、
この蓋体により、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を封止したことを特徴とする弾性表面波素子。
In a surface acoustic wave device having a piezoelectric substrate, a comb electrode formed on the piezoelectric substrate, and a surface acoustic wave propagation region propagating from the comb electrode to the surface of the piezoelectric substrate and the vicinity of the surface,
Forming a space in which the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated, and having a lid on the piezoelectric substrate covering the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region;
A surface acoustic wave element in which a comb electrode and a surface acoustic wave propagation region are sealed by the lid.
請求項1に記載の弾性表面波素子において、
蓋体は、
櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成して、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部と、
ブリッジ状の蓋体部の開口部を封止する封止膜と、
を含むことを特徴とする弾性表面波素子。
The surface acoustic wave device according to claim 1,
The lid is
Forming a space in which the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated, and a bridge-shaped lid portion covering the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region;
A sealing film for sealing the opening of the bridge-shaped lid body;
A surface acoustic wave device comprising:
請求項1に記載の弾性表面波素子において、
蓋体は、
櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成して、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の第一の蓋体部と、
第一の蓋体部の開口部を封止する封止膜と、
封止膜によって封止された第一の蓋体部を覆う第二の蓋体部と、
を含むことを特徴とする弾性表面波素子。
The surface acoustic wave device according to claim 1,
The lid is
A bridge-shaped first lid portion that forms a space in which the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated and covers the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region;
A sealing film for sealing the opening of the first lid,
A second lid portion covering the first lid portion sealed by the sealing film;
A surface acoustic wave device comprising:
請求項2または3に記載の弾性表面波素子において、
ブリッジ状の蓋体部の開口部には傾斜面が加工されていることを特徴とする弾性表面波素子。
The surface acoustic wave device according to claim 2 or 3,
A surface acoustic wave device characterized in that an inclined surface is processed in an opening of a bridge-shaped lid.
請求項1から4のいずれか一つに記載の弾性表面波素子において、
圧電基板上に、蓋体の外部に配置された電極パッドと、電極パッドと櫛型電極とを接続する電極パターンと、が形成され、さらに電極パッド上にはバンプが形成されていることを特徴とする弾性表面波素子。
In the surface acoustic wave device according to any one of claims 1 to 4,
An electrode pad arranged outside the lid, an electrode pattern connecting the electrode pad and the comb-shaped electrode are formed on the piezoelectric substrate, and a bump is formed on the electrode pad. A surface acoustic wave device.
請求項5に記載の弾性表面波素子を、実装基板の実装面にバンプを介して実装してなる弾性表面波デバイス。   A surface acoustic wave device formed by mounting the surface acoustic wave element according to claim 5 on a mounting surface of a mounting substrate via a bump. 櫛形電極と、櫛形電極から圧電基板の表面及び表面近傍を伝搬する弾性表面波の伝搬領域と、を有する弾性表面波素子が複数形成された圧電基板に対し、
櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成し、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部を、各弾性表面波素子ごとに個別に形成する蓋体部形成工程と、
各弾性表面波素子に形成されたブリッジ状の蓋体部の開口部を封止する封止膜を形成し、各弾性表面波素子における櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を個別に密封する密封工程と、
を有することを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
For a piezoelectric substrate on which a plurality of surface acoustic wave elements having a comb-shaped electrode and a surface acoustic wave propagation region propagating from the comb-shaped electrode to the surface of the piezoelectric substrate and the vicinity of the surface are formed,
A space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region is formed, and a bridge-shaped lid that covers the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region is individually formed for each surface acoustic wave element. A lid part forming step,
A sealing film is formed to seal the opening of the bridge-shaped lid portion formed in each surface acoustic wave element, and a space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation area in each surface acoustic wave element is accommodated. A sealing process for individually sealing;
A method for producing a surface acoustic wave device, comprising:
櫛形電極と、櫛形電極から圧電基板の表面及び表面近傍を伝搬する弾性表面波の伝搬領域と、を有する弾性表面波素子が複数形成された圧電基板に対し、
櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成し、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の第一の蓋体部を、各弾性表面波素子ごとに個別に形成する第一蓋体部形成工程と、
各弾性表面波素子に形成された第一の蓋体部の開口部を封止する封止膜を形成し、各弾性表面波素子における櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を個別に密封する密封工程と、
各弾性表面波素子における第一の蓋体部を覆う第二の蓋体部を、各弾性表面波素子ごとに個別に形成する第二蓋体部形成工程と、
を有することを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
For a piezoelectric substrate on which a plurality of surface acoustic wave elements having a comb-shaped electrode and a surface acoustic wave propagation region propagating from the comb-shaped electrode to the surface of the piezoelectric substrate and the vicinity of the surface are formed,
For each surface acoustic wave element, a bridge-shaped first lid that forms a space in which the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region are accommodated and covers the comb electrode and the surface acoustic wave propagation region. A first lid part forming step to be formed individually;
A sealing film that seals the opening of the first lid portion formed in each surface acoustic wave element is formed, and a space in which the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region in each surface acoustic wave element are accommodated A sealing process for individually sealing;
A second lid part forming step for individually forming a second lid part covering the first lid part in each surface acoustic wave element for each surface acoustic wave element;
A method for producing a surface acoustic wave device, comprising:
請求項7または8に記載の弾性表面波素子の製造方法において、
ブリッジ状の蓋体部を形成する工程は、
各弾性表面波素子における櫛型電極および弾性表面波の伝搬領域の上に被さるように、犠牲層を各弾性表面波素子ごとに個別に形成する工程と、
各犠牲層の上を跨ぐように樹脂を塗布して硬化させる工程と、
犠牲層エッチングにより各犠牲層を除去する工程と、
を有し、
各犠牲層の除去により、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域が収容される空間を形成し、櫛形電極及び弾性表面波の伝搬領域を覆うように跨ぐブリッジ状の蓋体部が、各弾性表面波素子ごとに個別に形成される、
ことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
In the manufacturing method of the surface acoustic wave element according to claim 7 or 8,
The step of forming the bridge-shaped lid is as follows:
Forming a sacrificial layer individually for each surface acoustic wave element so as to cover the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region in each surface acoustic wave element;
Applying and curing a resin so as to straddle over each sacrificial layer;
Removing each sacrificial layer by sacrificial layer etching;
Have
By removing each sacrificial layer, a space for accommodating the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region is formed, and a bridge-shaped lid portion covering the comb-shaped electrode and the surface acoustic wave propagation region is provided for each elastic surface. Formed individually for each wave element,
A method of manufacturing a surface acoustic wave device.
請求項9に記載の弾性表面波素子の製造方法において、
ブリッジ状の蓋体部を形成するための樹脂には、光感光性樹脂を用い、
犠牲層には、光感光性樹脂の硬化温度に耐え得る耐熱性を有し、且つ有機溶剤によって除去可能なレジストを用い、
有機溶剤を用いて犠牲層エッチングを行うことにより犠牲層を除去する、
ことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
In the manufacturing method of the surface acoustic wave device according to claim 9,
For the resin for forming the bridge-shaped lid, a photosensitive resin is used,
For the sacrificial layer, a resist having heat resistance that can withstand the curing temperature of the photosensitive resin and removable by an organic solvent is used.
Removing the sacrificial layer by performing sacrificial layer etching using an organic solvent;
A method of manufacturing a surface acoustic wave device.
請求項7から10のいずれか一つに記載の弾性表面波素子の製造方法において、
ブリッジ状の蓋体部の形成工程後、このブリッジ状の蓋体部の開口部に傾斜面を形成する工程を行ってから密封工程を行う、
ことを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。
In the manufacturing method of the surface acoustic wave element according to any one of claims 7 to 10,
After the step of forming the bridge-shaped lid portion, the sealing step is performed after the step of forming the inclined surface in the opening of the bridge-shaped lid portion.
A method of manufacturing a surface acoustic wave device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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