JP2007230081A - Lithographic printing plate material and lithographic printing method - Google Patents

Lithographic printing plate material and lithographic printing method Download PDF

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JP2007230081A JP2006054678A JP2006054678A JP2007230081A JP 2007230081 A JP2007230081 A JP 2007230081A JP 2006054678 A JP2006054678 A JP 2006054678A JP 2006054678 A JP2006054678 A JP 2006054678A JP 2007230081 A JP2007230081 A JP 2007230081A
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Takeshi Sanpei
武司 三瓶
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate material with proper printability, excellent in stain removal properties, anti-scumming properties and halftone-dot reproducibility, and a lithographic printing method using the lithographic printing plate material. <P>SOLUTION: In this printing plate material which has an image forming function layer provided on an aluminum substrate and which enables development on a printing machine, the image forming function layer contains a photopolymerizable compound and a polymerization initiator; and a layer containing a compound expressed by general formula (1), (2), (3) or (4) is provided on the aluminum substrate side having the image forming function layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は平版印刷版材料および平版印刷方法に関し、特にコンピューター・トゥー・プレート(CTP)方式により画像形成が可能で、印刷機上現像可能な平版印刷版材料、それを用いた平版印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate material and a lithographic printing method, and more particularly to a lithographic printing plate material capable of image formation by a computer-to-plate (CTP) method and developable on a printing press, and a lithographic printing method using the same.

印刷データのデジタル化に伴い、安価で取扱いが容易でPS版と同等の印刷適性を有したCTP(コンピューター・トゥー・プレート)技術が求められている。   With the digitization of print data, there is a need for CTP (computer-to-plate) technology that is inexpensive, easy to handle, and has the same printability as the PS plate.

近年、地球環境への負荷の低減のために、特別な薬剤による現像液処理が不要な、いわゆるプロセスレスCTP印刷版への期待が高まっている。その中でも近年、印刷版材料に画像を形成させた後に薬液で処理することなくそのまま印刷機に装着し、インキまたは湿し水により不要部分、いわゆる非画像部分を除去してすぐに印刷可能なプロセスレス平版印刷版材料(特許文献1参照)を用いた印刷方法が注目を集めるようになっている。   In recent years, in order to reduce the burden on the global environment, there is an increasing expectation for a so-called processless CTP printing plate that does not require a developer treatment with a special chemical. Among them, in recent years, after forming an image on a printing plate material, it can be mounted on a printing machine without being treated with chemicals, and unnecessary parts, so-called non-image parts can be removed with ink or fountain solution and printed immediately. A printing method using a less lithographic printing plate material (see Patent Document 1) has attracted attention.

しかしながら、これらのプロセスレス平版印刷版材料は耐刷性が充分でない場合があるといった課題があった。そしてプロセスレス平版印刷版材料を用いた印刷方法における耐刷性が劣るという課題に対して、例えば、重合性化合物と重合開始剤を使って課題解決しようとする検討がなされてきた(特許文献2参照)。   However, these processless lithographic printing plate materials have a problem that printing durability may not be sufficient. In order to solve the problem of poor printing durability in a printing method using a processless lithographic printing plate material, for example, studies have been made to solve the problem by using a polymerizable compound and a polymerization initiator (Patent Document 2). reference).

しかしながら、一旦非画像部が汚れた時に湿し水を供給しても汚れの回復が劣る、いわゆる汚れ回復性が劣るという問題は、いまだに解決できていない。また、網点品質が十分でなく印刷物の画質が劣ったり、刷り込んでいったときに生ずる非画像部の汚れ、いわゆる地汚れ防止性が劣るという問題もあり、これらの課題を改善した印刷方法が強く求められていた。
特開平4−261539号公報 特開2002−287334号公報
However, the problem that stain recovery is poor even when dampening water is supplied once the non-image area is dirty has not yet been solved. In addition, there is a problem that the halftone dot quality is not sufficient, the printed image quality is inferior, or the non-image area is smeared when imprinted, that is, the so-called anti-stain property is inferior. There was a strong demand.
JP-A-4-261539 JP 2002-287334 A

本発明の目的は、汚れ回復性、地汚れ防止性に優れ印刷適正が良好で、かつ網点再現性に優れる平版印刷版材料およびそれを用いた平版印刷方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate material having excellent stain recovery properties and anti-staining properties, good printing suitability and excellent halftone dot reproducibility, and a lithographic printing method using the same.

本発明の上記目的は、下記構成により達成される。
1.アルミニウム支持体上に画像形成機能層を有する印刷機上現像可能な印刷版材料であって、該画像形成機能層が光重合性化合物及び重合開始剤を含有し、該アルミニウム支持体の該画像形成機能層を有する側に、下記一般式(1)、(2)、(3)または(4)で表される化合物を含有する層を有することを特徴とする平版印刷版材料。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
1. A printing plate material that can be developed on a printing press having an image forming functional layer on an aluminum support, the image forming functional layer containing a photopolymerizable compound and a polymerization initiator, and the image forming of the aluminum support. A lithographic printing plate material comprising a layer containing a compound represented by the following general formula (1), (2), (3) or (4) on the side having a functional layer.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

[式中、A1及びB1は置換基を表す。] [Wherein, A 1 and B 1 represent a substituent. ]

Figure 2007230081
Figure 2007230081

[式中、A2及びB2は置換基を表す。] Wherein, A 2 and B 2 represents a substituent. ]

Figure 2007230081
Figure 2007230081

[式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表す。A3、B3は一般式においてCで示した炭素原子との結合点と該炭素原子を結ぶ線を軸としてその軸の周りに180°回転した場合、もとの基と全く重なることができる基を表す。但し、A3及びB3が有する水酸基の総和は0以上1以下である。] [Wherein R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group. A 3 and B 3 can completely overlap with the original group when rotated 180 ° around the axis connecting the bond point with the carbon atom indicated by C in the general formula and the line connecting the carbon atom. Represents a group. However, the sum of the hydroxyl groups of A 3 and B 3 is 0 or more and 1 or less. ]

Figure 2007230081
Figure 2007230081

[式中、R3、R4は水素原子またはアルキル基を表す。A4、B4は一般式においてCで示した炭素原子との結合点と該炭素原子を結ぶ線を軸としてその軸の周りに180°回転した場合、もとの基と全く重なることができる基を表す。但し、A4及びB4が有する水酸基の総和は0以上1以下である。]
2.前記画像形成機能層が熱溶融性粒子または熱融着性粒子を含有することを特徴とする1に記載の平版印刷版材料。
3.前記アルミニウム支持体が親水性表面を有することを特徴とする1または2に記載の平版印刷版材料。
4.1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版材料を画像露光した後に、印刷機に装着し、湿し水及びインキを該平版印刷版材料の表面に供給して非画像部を除去し、印刷することを特徴とする平版印刷方法。
[Wherein R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group. A 4 and B 4 can completely overlap with the original group when rotated about 180 ° around the axis connecting the bond point with the carbon atom indicated by C in the general formula and the line connecting the carbon atom. Represents a group. However, the sum of the hydroxyl groups A 4 and B 4 have is 0 or more and 1 or less. ]
2. 2. The lithographic printing plate material according to 1, wherein the image-forming functional layer contains heat-fusible particles or heat-fusible particles.
3. The lithographic printing plate material according to 1 or 2, wherein the aluminum support has a hydrophilic surface.
4.1-3 After exposing the lithographic printing plate material according to any one of 1 to 3 to an image, the lithographic printing plate material is mounted on a printing machine, and dampening water and ink are supplied to the surface of the lithographic printing plate material to remove a non-image portion. A lithographic printing method comprising removing and printing.

本発明の上記構成により、汚れ回復性、地汚れ防止性が良好で、印刷適正に優れ、かつ網点再現性に優れる平版印刷版材料およびそれを用いた平版印刷方法が提供できる。   According to the above configuration of the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate material having good stain recovery properties and scumming prevention properties, excellent printing suitability and excellent halftone dot reproducibility, and a lithographic printing method using the same.

本発明は、支持体上に画像形成機能層を有する印刷機上現像可能な印刷版材料であって、該画像形成機能層が光重合性化合物及び重合開始剤を含有し、該アルミニウム支持体の該画像形成機能層を有する側に、上記一般式(1)、(2)、(3)または(4)で表される化合物を含有する層を有することを特徴とする。   The present invention relates to a printing plate material that can be developed on a printing press having an image forming functional layer on a support, the image forming functional layer containing a photopolymerizable compound and a polymerization initiator, and It is characterized by having a layer containing the compound represented by the general formula (1), (2), (3) or (4) on the side having the image forming functional layer.

本発明は特に、画像形成機能層が光重合性化合物を含み、上記特定の色素を光熱変換剤として使用することにより、汚れ回復性、地汚れ防止性が良好で、印刷適正に優れ、かつ網点再現性に優れる平版印刷版材料が提供できる。   In particular, the image-forming functional layer contains a photopolymerizable compound, and by using the specific dye as a photothermal conversion agent, the stain recovery property and the anti-stain property are good, the printing property is excellent, and the network is excellent. A lithographic printing plate material excellent in point reproducibility can be provided.

(一般式(1)、(2)、(3)及び(4)で表される化合物)
先ず一般式(1)で表される化合物について述べる。一般式(1)で表される化合物において、A1、B1は置換基を表すが、A1、B1の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基)、ヘテロ環基を表すが、好ましくはアルケニル基、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基)、ヘテロ環基である。
(Compounds represented by general formulas (1), (2), (3) and (4))
First, the compound represented by the general formula (1) will be described. In the compound represented by the general formula (1), A 1 and B 1 represent substituents. Specific examples of A 1 and B 1 include an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group (for example, A phenyl group, a naphthyl group) and a heterocyclic group, preferably an alkenyl group, an aryl group (for example, a phenyl group, a naphthyl group) and a heterocyclic group.

更に一般式(1)で表される化合物のうち、好ましくは下記の一般式(11)で表される化合物である。   Furthermore, among the compounds represented by the general formula (1), a compound represented by the following general formula (11) is preferable.

Figure 2007230081
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式中、R3、R6、R7及びR10は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のシクロアルキル基、炭素数14までのアリール基、アラルキル基を表し、R4、R5、R8及びR9は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のシクロアルキル基、炭素数14までのアリール基、アラルキル基または−CH2OR11〔R11はアルキルアシル基、−C(=O)R12(R12は炭素数1〜20のアルキル基である。)、−SiR131415(R13、R14及びR15は、それぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基を表す。)または−SO216(R16は炭素数1〜20のアルキル基である。)からなる群より選ばれる。〕を表すか、あるいはR3及びR4、R5及びR6、R7及びR8、R9及びR10、R4及びR5、R8及びR9の少なくとも1つは、互いに結合して5、6または7員環を形成する。 In the formula, R 3 , R 6 , R 7 and R 10 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having up to 14 carbon atoms, or an aralkyl. R 4 , R 5 , R 8 and R 9 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having up to 14 carbon atoms, Aralkyl group or —CH 2 OR 11 [R 11 is an alkylacyl group, —C (═O) R 12 (R 12 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), —SiR 13 R 14 R 15 (R 13 , R 14 and R 15 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.) Or —SO 2 R 16 (R 16 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms). More selected. Or at least one of R 3 and R 4 , R 5 and R 6 , R 7 and R 8 , R 9 and R 10 , R 4 and R 5 , R 8 and R 9 is bonded to each other. Form a 5-, 6- or 7-membered ring.

ここで、「アルキル基」は、純粋な開環及び環状の飽和炭化水素アルキル置換基(例えば、メチル、エチル、プロピル、t−ブチル、シクロヘキシル、アダマンチル、オクタデシル等)のみならず、当業者に既知の置換基(例えば、ヒドロキシル、アルコキシ、ビニル、フェニル、ハロゲン原子(F、Cl、Br、及びI)、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシル、エーテル含有基(例えば、CH3CH2OCH2−))等も有するアルキル置換基を包含するものである。アリール基についても同様である。 Here, the “alkyl group” is known not only to pure ring-opened and cyclic saturated hydrocarbon alkyl substituents (eg, methyl, ethyl, propyl, t-butyl, cyclohexyl, adamantyl, octadecyl, etc.) but also to those skilled in the art. Substituents (eg, hydroxyl, alkoxy, vinyl, phenyl, halogen atoms (F, Cl, Br, and I), cyano, nitro, amino, carboxyl, ether-containing groups (eg, CH 3 CH 2 OCH 2 —)) Etc. are also included. The same applies to the aryl group.

これらの化合物の中、特に好ましいものは、式中、R3、R6、R7及びR10はそれぞれ独立して水素であり、R4、R5、R8及びR9は、それぞれ独立して水素、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜20のシクロアルキル基、アリール基、あるいはR4及びR5並びにR8及びR9は、互いに結合して5、6または7員環を形成しているものである。 Among these compounds, particularly preferred are those in which R 3 , R 6 , R 7 and R 10 are each independently hydrogen, and R 4 , R 5 , R 8 and R 9 are each independently Hydrogen, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, or R 4 and R 5 and R 8 and R 9 are bonded to each other to form a 5-, 6-, or 7-membered ring. It is what forms.

次に一般式(2)で表される化合物について述べる。本発明で係る一般式(2)で表される化合物において、A2、B2は置換基を表すが、A2、B2の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表すが好ましくは、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基である。 Next, the compound represented by the general formula (2) will be described. In the compound represented by the general formula (2) according to the present invention, A 2 and B 2 represent substituents. Specific examples of A 2 and B 2 include an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, and an aryl group. Represents a group or a heterocyclic group, preferably an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

次に一般式(3)及び一般式(4)で表される化合物について述べる。一般式(3)及び一般式(4)で表される化合物において、A3、B3、A4及びB4は一般式上においてCで示した炭素原子との結合点と該炭素原子を結ぶ線を軸としてその軸の周りに180°回転した場合、もとの基と全く重なることができる基を表すが、要件を満たす単環の6員環基が好ましい。A3及びB3が有する水酸基の総和は0以上1以下であり、A4及びB4が有する水酸基の総和も0以上1以下であるが、好ましくは水酸基の総和はいずれも0である。 Next, the compounds represented by general formula (3) and general formula (4) will be described. In the compounds represented by the general formula (3) and the general formula (4), A 3 , B 3 , A 4 and B 4 connect the carbon atom to the bonding point with the carbon atom indicated by C in the general formula. When the line is rotated 180 ° around the axis, it represents a group that can completely overlap the original group, but a monocyclic six-membered ring group that satisfies the requirements is preferred. The sum of the hydroxyl groups of A 3 and B 3 is 0 or more and 1 or less, and the sum of the hydroxyl groups of A 4 and B 4 is 0 or more and 1 or less, but preferably the sum of the hydroxyl groups is 0.

一般式(3)及び(4)で表される化合物は、好ましくは下記一般式(5)及び(6)で表される化合物である。   The compounds represented by the general formulas (3) and (4) are preferably compounds represented by the following general formulas (5) and (6).

Figure 2007230081
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式中、R1〜R4は水素原子またはアルキル基を表す。ZA3、ZB3、ZA4、ZB4は炭素原子と共に6員のヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表す。 Wherein, R 1 to R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl group. ZA 3 , ZB 3 , ZA 4 and ZB 4 represent an atomic group necessary for constructing a 6-membered heterocycle together with the carbon atom.

次に、一般式(5)及び一般式(6)で表される化合物について述べる。式中、ZA3、ZB3、ZA4、ZB4は炭素原子と共に6員のヘテロ環を構築するのに必要な原子群を表すが、構築されるヘテロ環としては環内にヘテロ原子を1つ含有する単環のヘテロ6員環であることが好ましい。ヘテロ原子としては窒素原子、硫黄原子が好ましい。 Next, the compounds represented by general formula (5) and general formula (6) will be described. In the formula, ZA 3 , ZB 3 , ZA 4 , and ZB 4 represent a group of atoms necessary for constructing a 6-membered heterocycle together with a carbon atom. As the constructed heterocycle, 1 heteroatom is included in the ring. It is preferably a monocyclic hetero 6-membered ring. A hetero atom is preferably a nitrogen atom or a sulfur atom.

なお、スクアリリウム核を有する化合物とは、分子構造中に1−シクロブテン−2−ヒドロキシ−4−オンを有する化合物であり、クロコニウム核を有する化合物とは分子構造中に1−シクロペンテン−2−ヒドロキシ−4,5−ジオンを有する化合物である。ここで、ヒドロキシ基は解離していてもよい。   The compound having a squarylium nucleus is a compound having 1-cyclobuten-2-hydroxy-4-one in the molecular structure, and the compound having a croconium nucleus is 1-cyclopentene-2-hydroxy- in the molecular structure. It is a compound having 4,5-dione. Here, the hydroxy group may be dissociated.

本発明においては、スクアリリウム核、クロコニウム核は下記のようにいずれの構造を用いてもよい。   In the present invention, the squarylium nucleus and the croconium nucleus may use any structure as described below.

Figure 2007230081
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本発明においては、一般式(1)、(2)、(3)、(4)に対応する例示化合物は、例えば、(3)−12のようにそれぞれの一般式に応じて通し番号を付して、記載した。   In the present invention, exemplary compounds corresponding to the general formulas (1), (2), (3), and (4) are given serial numbers according to the respective general formulas, for example, (3) -12. It was described.

以下に本発明に用いられる、一般式(11)で表される化合物を例示するが、本発明はこれらの化合物に限定されない。   Although the compound represented by General formula (11) used for this invention below is illustrated, this invention is not limited to these compounds.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

Figure 2007230081
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別の好ましい態様によれば、R5及びR6、並びにR9及びR10は互いに結合して炭素数1〜20のシクロアルキル基を形成し、R4及びR8はアリール基であり、R3及びR7は水素である。好ましい例としては、下記が挙げられる。 According to another preferred embodiment, R 5 and R 6 , and R 9 and R 10 are bonded to each other to form a cycloalkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 4 and R 8 are aryl groups, 3 and R 7 are hydrogen. Preferred examples include the following.

Figure 2007230081
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更に好ましい態様によれば、R5及びR6、並びにR9及びR10は互いに結合してラクタム環を形成し、R4及びR8はアルキル基またはアリール基であり、R3及びR7は水素である。この態様の代表的な化合物を以下に示す。 According to a further preferred embodiment, R 5 and R 6 , and R 9 and R 10 are bonded to each other to form a lactam ring, R 4 and R 8 are alkyl groups or aryl groups, and R 3 and R 7 are Hydrogen. Representative compounds of this embodiment are shown below.

Figure 2007230081
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もう一つの好ましい態様は下記構造の化合物である。   Another preferred embodiment is a compound having the following structure.

Figure 2007230081
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式中、Rは炭素数1〜20、好ましくは4〜20のアルキル基である。例えば、Rとしては、プロピル、ブチル、ペンチル、オクチル、−CH2OCH2CH3、−CH2OCH2CH2OCH3等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 In the formula, R is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 4 to 20 carbon atoms. Examples of R include, but are not limited to, propyl, butyl, pentyl, octyl, —CH 2 OCH 2 CH 3 , —CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 3 and the like.

更にもう一つの好ましい態様は、水素としてのR3、R6、R7及びR10が水素であり、R4、R5、R8及びR9が−CH2OR11(R11は−SiR131415(R13、R14及びR15は、それぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基を表す。)、または−SO216(R16は炭素数1〜20、好ましくは4〜20のアルキル基である。))である。具体的には下記化合物である。 In still another preferred embodiment, R 3 , R 6 , R 7 and R 10 as hydrogen are hydrogen, and R 4 , R 5 , R 8 and R 9 are —CH 2 OR 11 (R 11 is —SiR). 13 R 14 R 15 (R 13 , R 14 and R 15 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) or —SO 2 R 16 (R 16 is preferably 1 to 20 carbon atoms, preferably Is an alkyl group of 4 to 20))). Specifically, it is the following compound.

Figure 2007230081
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これらの化合物の合成法については、いずれも特公表9−509503号公報に記載されている。   The methods for synthesizing these compounds are described in Japanese Patent Publication No. 9-509503.

一般式(1)で表される別の好ましい化合物の例を下記に示す。   The example of another preferable compound represented by General formula (1) is shown below.

Figure 2007230081
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一般式(2)で表される別の好ましい化合物の例を下記に示す。   The example of another preferable compound represented by General formula (2) is shown below.

Figure 2007230081
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Figure 2007230081
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一般式(3)、(4)で表される化合物の例を下記に示す。   Examples of the compounds represented by the general formulas (3) and (4) are shown below.

Figure 2007230081
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Figure 2007230081
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その他の好ましい化合物の例を下記に挙げる。   Examples of other preferable compounds are listed below.

Figure 2007230081
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これらの化合物は、特開2001−117201号公報に記載されている方法により合成ができる。   These compounds can be synthesized by the method described in JP-A No. 2001-117201.

本発明においては、これらの化合物(一般式(1)〜(4)で表される化合物)は光熱変換剤として機能し、これらの化合物を含む層を支持体の画像形成機能層側に有する。   In the present invention, these compounds (compounds represented by the general formulas (1) to (4)) function as a photothermal conversion agent and have a layer containing these compounds on the image forming functional layer side of the support.

これらの化合物を含む層は、画像形成機能層であってもよいし、それ以外の層であってもよい。   The layer containing these compounds may be an image forming functional layer or other layers.

画像形成機能層以外の層としては、画像形成機能層上に設けることができる保護層、アルミニウム支持体上に形成された親水性下下引き層などがあるが、画像形成機能層に隣接する層であることが好ましい。   Examples of layers other than the image forming functional layer include a protective layer that can be provided on the image forming functional layer and a hydrophilic subbing layer formed on the aluminum support, but are adjacent to the image forming functional layer. It is preferable that

本発明においては、光熱変換剤として機能する素材として、本発明に係る化合物以外の赤外吸収色素、顔料などを併用することができる。   In the present invention, infrared absorbing dyes and pigments other than the compound according to the present invention can be used in combination as a material that functions as a photothermal conversion agent.

併用できる顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物が挙げられる。   Examples of the pigment that can be used in combination include carbon, graphite, metal, and metal oxide.

カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。   As carbon, furnace black or acetylene black is particularly preferable. The particle size (d50) is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

グラファイトとしては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。   As the graphite, fine particles having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less can be used.

金属としては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であればいずれの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等いずれの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。   As the metal, any metal can be used as long as the particle diameter is 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. The shape may be any shape such as a spherical shape, a piece shape, or a needle shape. Colloidal metal fine particles (Ag, Au, etc.) are particularly preferable.

金属酸化物としては可視光域で黒色を呈している素材が好ましく、可視光域で黒色を呈している素材としては、酸化チタン及び酸化鉄を主成分とする金属酸化物粒子や、二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。黒色複合金属酸化物としては、具体的には、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sb、Baから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物であり、特にCu−Cr−Mn系またはCu−Fe−Mn系の複合金属酸化物であることが好ましい。これらは特開平8−27393号、同9−25126号、同9−237570号、同9−241529号、同10−231441号の各公報等に開示されている方法により製造することができる。   As the metal oxide, a material exhibiting black in the visible light region is preferable, and as a material exhibiting black in the visible light region, metal oxide particles mainly composed of titanium oxide and iron oxide, or two or more kinds are used. And black composite metal oxides containing these metals. Specifically, the black composite metal oxide is a composite metal oxide composed of two or more metals selected from Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sb, and Ba. In particular, a Cu—Cr—Mn or Cu—Fe—Mn composite metal oxide is preferable. These can be produced by the methods disclosed in JP-A-8-27393, 9-25126, 9-237570, 9-241529, and 10-231441.

金属酸化物として好ましいものは、酸化チタン及び酸化鉄を主成分とする金属酸化物粒子であり、保磁力(HC)が400kA/mの磁場において8kA/m以下である金属酸化物粒子がより好ましい。ここおいて、保磁力(HC)とはマグネットの磁化極性をひっくり返すために加えなければならない逆向きの磁界の大きさのことである。   Preferred metal oxides are metal oxide particles mainly composed of titanium oxide and iron oxide, and more preferably metal oxide particles having a coercive force (HC) of 8 kA / m or less in a magnetic field of 400 kA / m. . Here, the coercive force (HC) is the magnitude of the reverse magnetic field that must be applied in order to flip the magnetizing polarity of the magnet.

この保磁力が大きいと前記粒子を含有する塗布液及び塗布材料においては、粒子同士が再凝集して均一な分散体になりにくくなり、様々な問題を生じやすくなる。保磁力(HC)は磁力計で測定され、例えば、東英工業株式会社製振動試料型磁力計VSM−P7−15型などを用いて測定できる。好ましい金属酸化物粒子の保磁力(HC)は、400kA/mの磁場において8kA/m以下であるが、より好ましくは0A/m以上6.5kA/m以下であり、更に好ましくは0A/m以上5kA/m以下である。   When the coercive force is large, in the coating liquid and coating material containing the particles, the particles are re-aggregated and are not easily formed into a uniform dispersion, and various problems are likely to occur. The coercive force (HC) is measured with a magnetometer, and can be measured using, for example, a vibrating sample magnetometer VSM-P7-15 manufactured by Toei Kogyo Co., Ltd. The coercive force (HC) of the preferred metal oxide particles is 8 kA / m or less in a magnetic field of 400 kA / m, more preferably 0 A / m or more and 6.5 kA / m or less, and even more preferably 0 A / m or more. 5 kA / m or less.

用いられる金属酸化物粒子の具体例としては、特開平1−298028号公報に記載のイルメナイト(FeTiO3)粒子、シュードブルッカイト(Fe2TiO5)粒子、特開平3−2276号公報に記載のシュードブルッカイトとヘマタイト(Fe23)−イルメナイト(FeTiO3)の混合組成を有する粒子、特開2001−253717号公報に記載の第一鉄塩水溶液、加水分解性有機チタン化合物及び乳化剤を含有するエマルジョンを噴霧熱分解溶液として用いて噴霧熱分解法により生成した鉄−チタン複合酸化物粒子、特開2002−129063号公報に記載のルチル型TiO2相の基体をFe2TiO4相で被覆した粒子、または特開2005−68323号公報に記載のFe2TiO4を主成分とする複合酸化物でありTiに対するFe(II)とFe(III)の総量が150〜300原子%でFe(II)とFe(III)の総量に対するFe(II)が0.50以上でありフーバー式マラー法による塗膜のL値が9.0以下である粒子が好ましく用いられる。 Specific examples of the metal oxide particles used include ilmenite (FeTiO 3 ) particles, pseudo brookite (Fe 2 TiO 5 ) particles described in JP-A-1-298028, and pseudolites described in JP-A-3-2276. Particles having a mixed composition of brookite and hematite (Fe 2 O 3 ) -ilmenite (FeTiO 3 ), an aqueous ferrous salt solution described in JP-A No. 2001-253717, an emulsion containing a hydrolyzable organic titanium compound and an emulsifier Iron-titanium composite oxide particles produced by spray pyrolysis using a spray pyrolysis solution, particles in which a rutile TiO 2 phase substrate described in JP-A No. 2002-129063 is coated with an Fe 2 TiO 4 phase or JP be composite oxide composed mainly of Fe 2 TiO 4 according to 2005-68323 JP The total coating amount of Fe (II) and Fe (III) with respect to i is 150 to 300 atomic%, and Fe (II) with respect to the total amount of Fe (II) and Fe (III) is 0.50 or more. Particles having an L value of 9.0 or less are preferably used.

前記金属酸化物粒子は、前記の公開特許公報に記載されている方法で製造される。   The metal oxide particles are produced by the method described in the aforementioned published patent publication.

これらの金属酸化物は平均1次粒子径が1μm以下であることが好ましく、平均1次粒子径が0.01〜0.8μmの範囲にあることがより好ましい。平均1次粒子径が1μm以下とすることで、添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均1次粒子径が0.01〜0.8μmの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。但し、添加量に対する光熱変換能は粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。従って、これらの金属酸化物粒子は層の塗布液に添加する前に、別途公知の方法により分散して、分散液(ペースト)としておくことが好ましい。   These metal oxides preferably have an average primary particle size of 1 μm or less, and more preferably have an average primary particle size in the range of 0.01 to 0.8 μm. When the average primary particle size is 1 μm or less, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount becomes better, and when the average primary particle size is within the range of 0.01 to 0.8 μm, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is obtained. Better. However, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is greatly affected by the degree of dispersion of the particles, and the better the dispersion, the better. Therefore, before adding these metal oxide particles to the coating solution for the layer, it is preferable to disperse them by a known method to prepare a dispersion (paste).

平均1次粒子径が0.01μm未満となると、分散が困難となるため好ましくない。分散には適宜分散剤を使用することができる。分散剤の添加量は金属酸化物粒子に対して0.01〜5質量%が好ましく、0.1〜2質量%がより好ましい。分散剤の種類は特に限定しないが各種の界面活性剤を用いることが好ましい。   An average primary particle size of less than 0.01 μm is not preferable because dispersion becomes difficult. A dispersing agent can be appropriately used for the dispersion. The addition amount of the dispersant is preferably 0.01 to 5% by mass, and more preferably 0.1 to 2% by mass with respect to the metal oxide particles. Although the kind of dispersing agent is not specifically limited, it is preferable to use various surfactants.

併用できる赤外吸収色素としては、シアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。   Infrared absorbing dyes that can be used in combination include cyanine dyes, croconium dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, and other organic compounds, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, azo dyes , Thioamide-based, dithiol-based, and indoaniline-based organometallic complexes.

具体的には、特開昭63−139191号、同64−33547号、特開平1−160683号、同1−280750号、同1−293342号、同2−2074号、同3−26593号、同3−30991号、同3−34891号、同3−36093号、同3−36094号、同3−36095号、同3−42281号、同3−97589号、同3−103476号、同7−43851号、同7−102179号の各公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種または二種以上を組み合わせて用いることができる。   Specifically, JP-A-63-139191, JP-A-64-33547, JP-A-1-160683, JP-A-280750, JP-A-1-293342, JP-A-2-2074, JP-A-3-26593, 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, 3-97589, 3-103476, 7 -43851, 7-102179, and the compounds described in each publication. These can be used alone or in combination of two or more.

特に好ましい光熱変換素材の態様としては、前記本発明に係る化合物と金属酸化物顔料とを組み合わせ用いることが好ましい。   As a particularly preferred embodiment of the photothermal conversion material, it is preferable to use a combination of the compound according to the present invention and a metal oxide pigment.

光熱変換剤の添加量としては、光熱変換剤の合計量としてこれを含む層に対して0.1〜50質量%であり、0.3〜30質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましい。   As addition amount of a photothermal conversion agent, it is 0.1-50 mass% with respect to the layer containing this as a total amount of a photothermal conversion agent, 0.3-30 mass% is preferable, 0.5-20 mass% Is more preferable.

また一般式(1)〜(4)で表される化合物の含有量としては、これを含む層に対して、0.05質量%〜40質量%が好ましく、特に0.5質量%〜10質量%が好ましい。   Moreover, as content of the compound represented by General formula (1)-(4), 0.05 mass%-40 mass% are preferable with respect to the layer containing this, Especially 0.5 mass%-10 mass. % Is preferred.

(画像形成機能層)
本発明における印刷機上現像可能な平版印刷版材料とは、印刷機上現像可能な画像形成機能層を有する印刷版材料である。
(Image forming functional layer)
The lithographic printing plate material that can be developed on a printing press in the present invention is a printing plate material having an image forming functional layer that can be developed on a printing press.

印刷機上現像可能な画像形成層とは、画像露光の後、特別な薬剤による処理を行うことなく、平版印刷機上で湿し水、または湿し水及び印刷インクにより非画像部が除去されて非画像部である親水性層が露出され、印刷可能な印刷版となし得る層である。   An image-forming layer that can be developed on a printing press means that after image exposure, a non-image part is removed by dampening water or dampening water and printing ink on a lithographic printing press without performing treatment with a special agent. Thus, the hydrophilic layer which is a non-image portion is exposed and can be formed into a printable printing plate.

本発明に係る画像形成機能層は、光重合性化合物および重合開始剤を含む。   The image forming functional layer according to the present invention includes a photopolymerizable compound and a polymerization initiator.

(光重合性化合物)
本発明に用いられる光重合性化合物は、少なくとも活性光で重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノマー/プレポリマーである。
(Photopolymerizable compound)
The photopolymerizable compound used in the present invention is a monomer / prepolymer having an ethylenically unsaturated bond that can be polymerized at least with active light.

光重合性のモノマー/プレポリマーとしては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物、或いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物等を挙げることができる。又エチレン性不飽和結合を有する樹脂は、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメタアクリル酸を導入し、重合性を付与した、いわゆるプレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。その他の好ましい光重合性化合物としては、特開昭61−6649号、同62−173295号等に記載の化合物、特開2005−41206号(0085)〜(0097)に記載の化合物、「11290の化学商品」化学工業日報社、p.286〜294に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物を本発明に好ましく用いることができる。   Examples of the photopolymerizable monomer / prepolymer include monofunctional acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and derivatives thereof, or acrylates thereof such as methacrylate, itaconate, crotonate, Compound substituted for maleate, etc., polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, bisphenol A diacrylate, bifunctional acrylic acid ester such as diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate and its derivatives or their derivatives Compounds in which acrylate is replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc., or trimethylolpropane tri (meth) a Examples include polyfunctional acrylic esters such as relates, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pyrogallol triacrylate and derivatives thereof, or compounds in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc. . As the resin having an ethylenically unsaturated bond, a so-called prepolymer in which acrylic acid or methacrylic acid is introduced into an oligomer having an appropriate molecular weight to impart polymerizability can be suitably used. Other preferable photopolymerizable compounds include compounds described in JP-A Nos. 61-6649 and 62-173295, compounds described in JP-A-2005-41206 (0085) to (0097), “11290 “Chemical Products”, Chemical Industry Daily, p. Compounds described in 286 to 294, “UV / EB Curing Handbook (raw material)”, Kobunshi Publishing Co., Ltd., p. The compounds described in 11 to 65 can be preferably used in the present invention.

(重合開始剤)
本発明に係る重合開始剤は、光及び/または熱によりラジカルを発生させて、前述の光重合化合物の硬化反応を開始させるものである。いわゆる、光重合開始素材または熱重合開始素材であり、本発明においては、光熱変換剤を併用するため、熱により分解してラジカルを発生させる熱重合開始剤が好ましく用いられる。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator according to the present invention generates radicals by light and / or heat and initiates the curing reaction of the above-mentioned photopolymerization compound. In the present invention, since a photothermal conversion material is used together, a thermal polymerization initiator that decomposes by heat to generate radicals is preferably used.

本発明に係る重合開始剤として、オニウム塩、ハロゲン原子を有するトリアジン系化合物(特公昭59−1281号、同61−9621号、特開昭60−60104号に記載のトリアジン誘導体等)、鉄アレーン錯体及びビスイミダゾール(特開昭55−127550号、同60−202437号に記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体等)が好ましく用いられる。   Examples of polymerization initiators according to the present invention include onium salts, triazine compounds having a halogen atom (such as triazine derivatives described in JP-B Nos. 59-1281, 61-9621, and JP-A-60-60104), iron arenes Complexes and bisimidazoles (2,4,5-triarylimidazole dimers described in JP-A Nos. 55-127550 and 60-202437, etc.) are preferably used.

オニウム塩としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスソニウム塩、スタンノニウム塩、オキサゾリウム塩等が挙げられるが、好ましくは、下記一般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表される化合物である。   Examples of the onium salt include an iodonium salt, a sulfonium salt, a phossonium salt, a stannonium salt, an oxazolium salt, and the like, preferably represented by the following general formula (I), (II), (III), or (IV) A compound.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

式中、R1〜R4及びR10〜R13は各々、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、R1〜R4及びR10〜R13が各々、互いに結合して環を形成してもよい。R5、R6及びR7は各々、アルキル基又はアリール基を表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成してもよい。R8及びR9は各々、アリール基を表し、X-は対アニオンを表す。 In the formula, R 1 to R 4 and R 10 to R 13 each represent an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group, and R 1 to R 4 and R 10 to R 13 are bonded to each other to form a ring. May be. R 5 , R 6 and R 7 each represents an alkyl group or an aryl group, and R 5 to R 7 may be bonded to each other to form a ring. R 8 and R 9 each represents an aryl group, and X represents a counter anion.

まず、一般式(I)で表されるホスホニウム塩化合物(以下、本発明のホスホニウム塩と記す)について詳述する。   First, the phosphonium salt compound represented by the general formula (I) (hereinafter referred to as the phosphonium salt of the present invention) will be described in detail.

R1〜R4で表される置換基の具体例としては以下の如くである。   Specific examples of the substituent represented by R1 to R4 are as follows.

アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)が好ましい。   Alkyl groups include straight-chain and branched alkyl groups such as methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl, stearyl groups and the like. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may be bonded to each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

アリール基としてはフェニル、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネチル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl groups, and examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl groups.

これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としてハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイル基、−COOR基、−OCOR基(Rはアルキル基、アリール基等の有機基)が挙げられる。   These groups may be further substituted, and as a substituent, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an amino group (including an alkyl-substituted amino group), an alkoxy group, a carbamoyl group, -COOR group and -OCOR group (R is an organic group such as an alkyl group and an aryl group).

-で表される対アニオンとしては、1価のアニオンであれば特に制約されないが、好ましくはハロゲンイオンであり、更に塩素及び臭素アニオンが発色濃度の点で望ましい。対アニオンの具体例としては、ブロマイド、クロライド、アイオダイド、フルオライド、パークロレート、ベンゾエート、チオシアナート、アセテート、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロホスフェート、ナイトレート、サリシネート等が挙げられる。 The counter anion represented by X is not particularly limited as long as it is a monovalent anion, but is preferably a halogen ion, and chlorine and bromine anions are more desirable in terms of color density. Specific examples of the counter anion include bromide, chloride, iodide, fluoride, perchlorate, benzoate, thiocyanate, acetate, trifluoroacetate, hexafluorophosphate, nitrate, salicinate and the like.

次に、一般式(II)で表されるスルホニウム塩化合物(以下、本発明のスルホニウム塩と記す)について詳述する。   Next, the sulfonium salt compound represented by the general formula (II) (hereinafter referred to as the sulfonium salt of the present invention) will be described in detail.

5〜R7で表される置換基の具体例としては以下の如くである。 Specific examples of the substituent represented by R 5 to R 7 are as follows.

アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基が含まれ、メチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)が好ましい。   Alkyl groups include linear and branched alkyl groups, and include methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl, stearyl groups and the like. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may be bonded to each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl.

R5〜R7が互いに結合してS+と共に形成する環としては、ベンゾチアチオピリリウム環などが挙げられる。 Examples of the ring formed by combining R5 to R7 together with S + include a benzothiathiopyrylium ring.

これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。   These groups may be further substituted, and examples of the substituent include the same groups as those described in the general formula (I).

-で表される対アニオンは、一般式(I)のX-と同義である。 X - counter anion represented by, X of the general Formulas (I) - is synonymous.

更に、一般式(III)で表されるヨードニウム塩化合物(以下、本発明のヨードニウム塩と記す)について詳述する。   Furthermore, the iodonium salt compound represented by the general formula (III) (hereinafter referred to as the iodonium salt of the present invention) will be described in detail.

8及びR9で表されるアリール基としてはフェニル、ナフチル基等が挙げられるが、これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by R 8 and R 9 include phenyl and naphthyl groups. These groups may be further substituted, and examples of the substituent include the groups described in the general formula (I). The same group is mentioned.

-で表される対アニオンは、一般式(I)のX-と同義である。 X - counter anion represented by, X of the general Formulas (I) - is synonymous.

次に、一般式(IV)で表されるアンモニウム塩化合物(以下、本発明のアンモニウム塩と記す)について詳述する。   Next, the ammonium salt compound represented by the general formula (IV) (hereinafter referred to as the ammonium salt of the present invention) will be described in detail.

10〜R13で表される置換基の具体例としては以下の如くである。 Specific examples of the substituent represented by R 10 to R 13 are as follows.

アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル等が挙げられる。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)が好ましい。   Alkyl groups include straight-chain and branched alkyl groups such as methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl, stearyl and the like. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may be bonded to each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

アリール基としてはフェニル、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネチル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl groups, and examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl groups.

これらの基は更に置換されていてもよく、置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイル基、−COOR基、−OCOR(Rはアルキル基、アリール基等の有機基)が挙げられる。   These groups may be further substituted, and as a substituent, a halogen atom, cyano group, nitro group, alkyl group, aryl group, hydroxyl group, amino group (including alkyl-substituted amino group), alkoxy group, carbamoyl group , -COOR group, and -OCOR (wherein R represents an organic group such as an alkyl group or an aryl group).

以下に、本発明のオニウム塩の代表的具体例を挙げるが、これらに限定されない。   Although the typical example of the onium salt of this invention is given to the following, it is not limited to these.

Figure 2007230081
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Figure 2007230081
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また、その他の好ましいオニウム塩としては、特公昭55−39162号、特開昭59−14023号並びに「マクロモレキュルス(Macromolecules)」第10巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オニウム化合物が挙げられる。   Other preferable onium salts include various oniums described in JP-B-55-39162, JP-A-59-14023, and “Macromolecules”, Vol. 10, page 1307 (1977). Compounds.

本発明のオニウム塩の添加量は、オニウム塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料1m2当たり0.2〜5gが好ましい。 The addition amount of the onium salt of the present invention is preferably 0.2 to 5 g per 1 m 2 of the image forming material, although it varies depending on the kind of onium salt and the usage form.

鉄アレーン錯体としては下記構造のものが挙げられる。   Examples of the iron arene complex include the following structures.

Figure 2007230081
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尚、式中R1はアルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。 In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or an alkoxy group.

好ましくは化合物QF−4である。   Compound QF-4 is preferred.

化合物QF−4     Compound QF-4

Figure 2007230081
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またビスイミダゾール化合物としては下記構造のものを用いることが好ましい。   Moreover, it is preferable to use the thing of the following structure as a bisimidazole compound.

Figure 2007230081
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これらの重合開始素材のうち、オニウム塩が特に好ましい。   Of these polymerization starting materials, onium salts are particularly preferred.

これらの重合開始素材は、更なる感度向上を目的として他のラジカル発生剤と併用することができ、併用可能なラジカル発生剤としては、特開昭59−1504号並びに同61−243807号に記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号、同44−6413号、同44−6413号、同47−1604号並びに米国特許第3,567,453号に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,848,328号、同2,852,379号並びに同2,940,853号に記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号、同37−13109号、同38−18015号並びに同45−9610号に記載のオルト−キノンジアジド類、特開昭59−142205号に記載のアゾ化合物、特開平1−54440号、欧州特許第109,851号、同第126,712号、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.Imag.Sci.)」第30巻、第174頁(1986年)に記載のその他の金属アレーン錯体、特願平4−56831号及び同4−89535号に記載の(オキソ)スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭61−151197号に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(Coordination Chemistry Review)」第84巻、第85〜277頁(1988年)並びに特開平2−182701号に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号に記載の4臭化炭素、特開昭59−107344号に記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。   These polymerization initiating materials can be used in combination with other radical generators for the purpose of further improving the sensitivity. Examples of radical generators that can be used in combination are described in JP-A Nos. 59-1504 and 61-243807. Organic peroxides described in JP-B Nos. 43-23684, 44-6413, 44-6413, 47-1604 and U.S. Pat. No. 3,567,453, U.S. Pat. , 848,328, 2,852,379 and 2,940,853, JP-B 36-22062, 37-13109, 38-18015, and 45- Ortho-quinonediazides described in 9610, azo compounds described in JP-A-59-142205, JP-A-1-54440, European Patent 109, 51, 126,712, Journal of Imaging Science (J. Imag. Sci.), Volume 30, page 174 (1986), other metal arene complexes, (Oxo) sulfonium organoboron complexes described in JP-A Nos. 4-56831 and 4-89535, titanocenes described in JP-A No. 61-151197, “Coordination Chemistry Review”, Vol. 84, 85-277 (1988) and transition metal complexes containing transition metals such as ruthenium described in JP-A-2-182701, carbon tetrabromide described in JP-A-3-209477, JP-A 59- And the organic halogen compounds described in No. 107344.

本発明において用いられる重合開始素材は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましい。より好ましくは、極大吸収波長が360nm以下であり、最も好ましくは300nm以下である。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The polymerization starting material used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less. More preferably, the maximum absorption wavelength is 360 nm or less, and most preferably 300 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

これらの重合開始素材は、1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。また、これらの重合開始剤は、画像形成機能層の他に別の層を設け、そこにも添加することができる。   These polymerization starting materials may be used alone or in combination of two or more. Further, these polymerization initiators can be added to another layer in addition to the image forming functional layer.

本発明に係る画像形成機能層は、熱溶融性粒子または熱融着性粒子を含有することが好ましい。   The image forming functional layer according to the present invention preferably contains heat-fusible particles or heat-fusible particles.

(熱溶融性粒子)
本発明に係る画像形成機能層に用いることができる熱溶融性粒子とは、熱可塑性素材の中でも特に溶融した際の粘度が低く、一般的にワックスとして分類される素材で形成された粒子である。
(Hot-melting particles)
The heat-meltable particles that can be used in the image-forming functional layer according to the present invention are particles that are formed of a material that has a low viscosity when melted, and is generally classified as a wax, among thermoplastic materials. .

物性としては、保存性、インク着肉性の面から軟化点40℃以上120℃以下、融点60℃以上150℃以下であることが好ましく、軟化点40℃以上100℃以下、融点60℃以上120℃以下であることが更に好ましい。   The physical properties are preferably a softening point of 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, a melting point of 60 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, in view of storage stability and ink inking property, a softening point of 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and a melting point of 60 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. More preferably, it is not higher than ° C.

使用できる素材としては、パラフィン、ポリオレフィン、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワックス、脂肪酸系ワックスが挙げられる。これらは分子量800〜10000程度のものであり、また乳化しやすくするためにこれらのワックスを酸化し、水酸基、エステル基、カルボキシル基、アルデヒド基、ペルオキシド基などの極性基を導入することもできる。更には軟化点を下げたり作業性を向上させたりするためにこれらのワックスに、例えば、ステアロアミド、リノレンアミド、ラウリルアミド、ミリステルアミド、硬化牛脂肪酸アミド、パルミトアミド、オレイン酸アミド、米糖脂肪酸アミド、ヤシ脂肪酸アミドまたはこれらの脂肪酸アミドのメチロール化物、メチレンビスステラロアミド、エチレンビスステラロアミドなどを添加することも可能である。また、クマロン−インデン樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、アクリル樹脂、アイオノマー、これらの樹脂の共重合体も使用することができる。   Examples of materials that can be used include paraffin, polyolefin, polyethylene wax, microcrystalline wax, and fatty acid wax. These have a molecular weight of about 800 to 10,000, and in order to facilitate emulsification, these waxes can be oxidized to introduce polar groups such as a hydroxyl group, an ester group, a carboxyl group, an aldehyde group, and a peroxide group. Furthermore, in order to lower the softening point and improve workability, these waxes are used, for example, stearamide, linolenamide, laurylamide, myristamide, hardened bovine fatty acid amide, palmitoamide, oleic acid amide, rice sugar fatty acid amide. It is also possible to add coconut fatty acid amides or methylolated products of these fatty acid amides, methylene bisstellaramide, ethylene bisstellaramide and the like. Coumarone-indene resin, rosin-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, xylene resin, ketone resin, acrylic resin, ionomer, and copolymers of these resins can also be used.

これらの中でも、ポリエチレン、マイクロクリスタリン、脂肪酸エステル、脂肪酸のいずれかを含有することが好ましい。これらの素材は融点が比較的低く、溶融粘度も低いため、高感度の画像形成を行うことができる。また、これらの素材は潤滑性を有するため、印刷版材料の表面に剪断力が加えられた際のダメージが低減し、擦りキズ等による印刷汚れ耐性が向上する。   Among these, it is preferable to contain any of polyethylene, microcrystalline, fatty acid ester, and fatty acid. Since these materials have a relatively low melting point and a low melt viscosity, high-sensitivity image formation can be performed. Further, since these materials have lubricity, damage when a shearing force is applied to the surface of the printing plate material is reduced, and resistance to printing stains due to scratches or the like is improved.

これらの熱溶融性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は機上現像性の面から0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.05〜3μmである。   These heat-meltable particles are preferably dispersible in water, and the average particle diameter is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 3 μm from the viewpoint of on-press developability. .

これらの熱溶融性粒子を水に分散するには、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤または高分子界面活性剤を用いることが好ましい。これらの化合物を用いることで熱溶融性微粒子の水分散物を安定化でき、且つ故障がない均一な塗布物を得ることができる。   In order to disperse these heat-meltable particles in water, it is preferable to use a nonionic surfactant, an anionic surfactant, a cationic surfactant, or a polymer surfactant. By using these compounds, it is possible to stabilize an aqueous dispersion of heat-meltable fine particles and to obtain a uniform coated product free from failure.

また、熱溶融性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。   Further, the composition of the heat-meltable particles may be continuously changed between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material. As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used.

構成層中での熱溶融性粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%が更に好ましい。   As content of the heat-meltable particle | grains in a structure layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is still more preferable.

(熱融着性粒子)
熱融着性粒子としては、熱可塑性疎水性高分子重合体粒子が挙げられ、該熱可塑性疎水性高分子重合体粒子の軟化温度に特定の上限はないが、温度は高分子重合体微粒子の分解温度より低いことが好ましい。また、高分子重合体の重量平均分子量(Mw)は10,000〜1,000,000の範囲であることが好ましい。
(Heat-bonding particles)
Examples of the heat-fusible particles include thermoplastic hydrophobic polymer particles, and there is no specific upper limit for the softening temperature of the thermoplastic hydrophobic polymer particles. It is preferable that the temperature is lower than the decomposition temperature. Moreover, it is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of a high molecular weight polymer is the range of 10,000-1,000,000.

熱可塑性疎水性高分子重合体粒子を構成する高分子重合体の具体例としては、例えば、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレン−ブタジエン共重合体等のジエン(共)重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体、メチルアクリレート−(N−メチロールアクリルアミド)共重合体、ポリアクリロニトリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−エチレン共重合体等のビニルエステル(共)重合体、酢酸ビニル−(2−エチルヘキシルアクリレート)共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン等及びそれらの共重合体が挙げられる。これらのうち、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸(共)重合体、ビニルエステル(共)重合体、ポリスチレン、合成ゴム類が好ましく用いられる。   Specific examples of the polymer constituting the thermoplastic hydrophobic polymer particles include, for example, diene (co) polymers such as polypropylene, polybutadiene, polyisoprene, and ethylene-butadiene copolymer, and styrene-butadiene. Synthetic rubbers such as copolymer, methyl methacrylate-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate- (2-ethylhexyl acrylate) copolymer, methyl methacrylate-methacrylic acid copolymer, Methyl acrylate- (N-methylolacrylamide) copolymer, (meth) acrylic acid ester such as polyacrylonitrile, (meth) acrylic acid (co) polymer, polyvinyl acetate, vinyl acetate-vinyl propionate copolymer, acetic acid Vinyl-ethylene copolymer weight Vinyl ester (co) polymer such as a body, vinyl acetate - (2-ethylhexyl acrylate) copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and copolymers thereof. Of these, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylic acid (co) polymers, vinyl ester (co) polymers, polystyrene, and synthetic rubbers are preferably used.

熱可塑性疎水性高分子重合体粒子は、乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、気相重合法等、公知のいずれの方法で重合された高分子重合体からなるものでもよい。溶液重合法または気相重合法で重合された高分子重合体を微粒子化する方法としては、高分子重合体の有機溶媒に溶解液を不活性ガス中に噴霧、乾燥して微粒子化する方法、高分子重合体を水に非混和性の有機溶媒に溶解し、この溶液を水または水性媒体に分散、有機溶媒を留去して微粒子化する方法等が挙げられる。   The thermoplastic hydrophobic polymer particles may be made of a polymer polymer polymerized by any known method such as an emulsion polymerization method, a suspension polymerization method, a solution polymerization method, or a gas phase polymerization method. As a method for making a polymer polymer polymerized by a solution polymerization method or a gas phase polymerization method into a fine particle, a solution is sprayed in an inert gas in an organic solvent of the polymer polymer and dried to make a fine particle, Examples include a method in which a high molecular polymer is dissolved in an organic solvent immiscible with water, this solution is dispersed in water or an aqueous medium, and the organic solvent is distilled off to form fine particles.

また熱溶融性粒子、熱融着性粒子はいずれの方法においても、必要に応じ重合あるいは微粒子化の際に分散剤、安定剤として、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリエチレングリコール等の界面活性剤やポリビニルアルコール等の水溶性樹脂を用いてもよい。またトリエチルアミン、トリエタノールアミン等を含有させてもよい。   In any of the methods, the heat-meltable particles and the heat-fusible particles may be used as a dispersant or a stabilizer for polymerization or micronization, if necessary, such as sodium lauryl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, polyethylene glycol, etc. Alternatively, a water-soluble resin such as a surfactant or polyvinyl alcohol may be used. Further, triethylamine, triethanolamine or the like may be contained.

また、熱融着性粒子は水に分散可能であることが好ましく、その平均粒径は機上現像性、解像度の面から0.01〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜3μmである。   The heat-fusible particles are preferably dispersible in water, and the average particle diameter is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.1 to 10 μm from the viewpoint of on-press developability and resolution. 3 μm.

また、熱融着性粒子は内部と表層との組成が連続的に変化していたり、もしくは異なる素材で被覆されていてもよい。被覆方法は公知のマイクロカプセル形成方法、ゾルゲル法等が使用できる。   Further, the composition of the heat fusible particles may be continuously changed between the inside and the surface layer, or may be coated with a different material. As a coating method, a known microcapsule formation method, a sol-gel method, or the like can be used.

構成層中の熱融着性粒子の含有量としては、層全体の1〜90質量%が好ましく、5〜80質量%が更に好ましい。   As content of the heat-fusible particle | grains in a structural layer, 1-90 mass% of the whole layer is preferable, and 5-80 mass% is still more preferable.

(バインダーポリマー)
本発明に係る画像記録形成層は、皮膜特性や機上現像性の向上のため、バインダーポリマーを含有してもよい。バインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
(Binder polymer)
The image recording layer according to the present invention may contain a binder polymer in order to improve film properties and on-press developability. A conventionally well-known thing can be used as a binder polymer without a restriction | limiting, The linear organic polymer which has film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。   The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。   Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHRのR)の少なくとも一部がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, of the ester or amide residues (R of -COOR or -CONHR) Mention may be made of polymers having at least partly ethylenically unsaturated bonds.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2)nCR1=CR23、−(CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2)nNH−CO−O−CH2CR1=CR23、−(CH2)n−O−CO−CR1=CR23および−(CH2CH2O)2−X(式中、R1〜R3はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1とR2またはR3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) nCR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) nCH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) nCH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) nNH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n-O-CO-CR 1 = CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group, or an aryl group. Represents an oxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. .).

エステル残基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C65、−CH2CH2OCOCH=CH−C65、−CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、−CH2CH2OCOCH=CH2、−CH2CH2−NHCOO−CH2CH=CH2および−CH2CH2O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。 Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 C (CH 3 ) ═CH 2 , —CH 2 CH═CH— C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOC (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2, -CH 2 CH 2 -NHCOO (wherein, X represents a dicyclopentadienyl residue.) -CH 2 CH = CH 2 and -CH 2 CH 2 O-X and the like.

アミド残基の具体例としては、−CH2CH=CH2、−CH2CH2−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2CH2−OCO−CH=CH2が挙げられる。 Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、画像形成層未露光部の機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキ及び/又湿し水に対する溶解性又は分散性が高いことが好ましい。   From the viewpoint of improving the on-press developability of the unexposed area of the image forming layer, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.

インキに対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。   In order to improve solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably oleophilic, and in order to improve solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60質量%以上、好ましくは80質量%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60% by mass or more, preferably 80% by mass or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、重量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a weight average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。   The binder polymer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。なかでも、側鎖に架橋性基を有するバインダーポリマーは、ラジカル重合または高分子反応によって容易に合成できる。ラジカル重合に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上混合して用いられる。   The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Especially, the binder polymer which has a crosslinkable group in a side chain can be easily synthesized by radical polymerization or polymer reaction. As the radical polymerization initiator used for radical polymerization, known compounds such as azo initiators and peroxide initiators can be used. Examples of the solvent used in the synthesis include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.

バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。   A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.

バインダーポリマーの含有量は、画像形成機能層の全固形分に対して、10〜90質量%であるのが好ましく、20〜80質量%であるのがより好ましく、30〜70質量%であるのがさらに好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。   The content of the binder polymer is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and 30 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image forming functional layer. Is more preferable. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.

また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で1/9〜7/3となる量で用いるのが好ましい。   Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

(支持体)
次いで、本発明に係るアルミニウム支持体について説明する。本発明で用いることのできるアルミニウム支持体としては、比重と剛性との関係から、アルミニウムまたはアルミニウム合金(以下アルミニウムともいう)からなるアルミニウム基材が使用される。
(Support)
Next, the aluminum support according to the present invention will be described. As the aluminum support that can be used in the present invention, an aluminum substrate made of aluminum or an aluminum alloy (hereinafter also referred to as aluminum) is used from the relationship between specific gravity and rigidity.

アルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。アルミニウム基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限されるものではないが、50〜500μmのものが一般的に取り扱いやすい。   Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum is used. The thickness of the aluminum substrate is not particularly limited as long as it can be attached to a printing press, but a thickness of 50 to 500 μm is generally easy to handle.

本発明で用いられるアルミニウム基材は、公知の粗面化処理、陽極酸化処理、表面親水化処理のいずれかの処理がなされたもの、すなわち、アルミ砂目であることがより好ましい。アルミ砂目としては、任意の方法によって製造してもかまわないが、本発明で規定する表面形状が得られる製造方法のひとつとして、特開平10−869号公報に開示されている方法を挙げることができる。   The aluminum substrate used in the present invention is more preferably one that has been subjected to any of the known roughening treatment, anodizing treatment, or surface hydrophilization treatment, that is, aluminum grain. The aluminum grain may be produced by any method, but one of the production methods for obtaining the surface shape defined in the present invention is the method disclosed in JP-A-10-869. Can do.

アルミニウム基材は、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。   Prior to roughening (graining treatment), the aluminum base material is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface. As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used.

又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、アルミニウム基材の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。   In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the aluminum base material. In this case, it is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof. It is preferable to perform a desmut treatment.

粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、アルミニウム基材表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、アルミニウム基材表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、アルミニウム基材表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis. The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is, for example, by rotating a rotating brush using brush bristles having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and watering, for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm on the surface of the aluminum substrate. While supplying the slurry dispersed uniformly, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm in water, injecting the pressure from a nozzle and injecting it obliquely to the surface of the aluminum base material. be able to. Also, for example, abrasive particles having a particle diameter of 10 to 100 μm are present on the surface of the aluminum substrate at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by laminating the coated sheets and transferring the rough surface pattern of the sheet by applying pressure.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後、アルミニウム基材の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After roughening by the above-mentioned mechanical roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the aluminum substrate, formed aluminum scraps and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−28123号公報、英国特許第896,563号公報、特開昭53−67507号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることが出来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。 The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used in an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896,563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.

電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。 When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is selected from the range of 10 to 30 volts. Is preferred. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2、更には200〜1000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。 When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it can be generally applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 2 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 100~5000c / dm 2, 100~2000c / dm 2, and more preferably selected from the range of 200~1000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughing, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことが好ましい。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、アルミニウム基材上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。 Following the roughening treatment, anodizing treatment is preferably performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the aluminum substrate. For the anodizing treatment, a method of electrolyzing an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% as an electrolytic solution at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used. A method of electrolysis at a high current density in sulfuric acid described in Japanese Patent No. 1,412,768, a method of electrolysis using phosphoric acid described in US Pat. No. 3,511,661, chromium Examples thereof include a method using a solution containing one or more acids, oxalic acid, malonic acid and the like. The formed anodic oxidation coating amount is suitably 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The anodized coating amount is obtained by, for example, immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium (IV) oxide in 1 L of water) to dissolve the oxide film, It is obtained from mass change measurement before and after dissolution of the coating on the plate.

陽極酸化処理されたアルミニウム基材は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized aluminum base material may be subjected to sealing treatment as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.

更に、これらの処理を行った後に、親水化処理として、水溶性の樹脂、例えば、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下引きしたものも好適である。更に、特開平5−304358号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。   Further, after these treatments, as a hydrophilization treatment, a water-soluble resin such as polyvinylphosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt ( For example, zinc borate) or a dye obtained by subtracting yellow dye, amine salt or the like is also suitable. Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A No. 5-304358 is covalently used.

(アルミニウム支持体上の下引き層)
本発明においては、アルミニウム支持体上に、下記一般式(A)で表される化合物を含有する下引き層を有することが好ましい。
(Undercoat layer on aluminum support)
In this invention, it is preferable to have an undercoat layer containing a compound represented by the following general formula (A) on the aluminum support.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基であり;Xは、酸素原子またはイミノであり、Lは、二価の連結基であり、そして、Aは、支持体表面に吸着性のある官能基である。 R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; X is an oxygen atom or imino, and L is a divalent linkage. And A is a functional group that is adsorptive to the support surface.

前記一般式(A)において、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基である。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が1乃至6のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素原子数が1乃至3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。R1およびR2は、水素原子であることが特に好ましい。 In the general formula (A), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or methyl. R 1 and R 2 are particularly preferably a hydrogen atom.

一般式(A)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。   In general formula (A), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom.

一般式(A)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリーレン基、置換アリーレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(−S−)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−)、Rは(脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。   In the general formula (A), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (arylene group, substituted arylene group) or divalent Or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—), and R is an (aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group) or a combination with carbonyl (—CO—).

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至15がさらに好ましく、1乃至10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基が挙げられる。   The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. The number of carbon atoms in the aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and most preferably 1 to 10. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

芳香族基の炭素原子数は、6乃至20が好ましく、6乃至15がさらに好ましく、6乃至10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。   The number of carbon atoms in the aromatic group is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環には他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル、オキソ(=O)、チオオキソ(=S)、イミノ(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基が挙げられる。   The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with other heterocycles, aliphatic rings or aromatic rings. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, hydroxyl, oxo (═O), thiooxo (═S), imino (═NH), substituted imino group (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic group or hetero group. Ring group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.

Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。即ち、Lは、−(OCH2CH2)n−(nは、2以上の整数)を含むことが好ましい。 L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. That, L is, - (OCH 2 CH 2) n- (n is an integer of 2 or more) preferably contains.

一般式(A)において、Aは、支持体表面に吸着性のある官能基であり、例えば、陽極酸化処理または親水化処理を施した支持体上に存在する金属、金属酸化物あるいは水酸基と、イオン結合、水素結合、配位結合あるいは分子間力による結合を引き起こす基でることが好ましく、官能基は酸基もしくはオニウム基が好ましい。   In the general formula (A), A is a functional group having an adsorptivity on the surface of the support, for example, a metal, a metal oxide or a hydroxyl group present on the support subjected to an anodizing treatment or a hydrophilization treatment; It is preferably a group causing an ionic bond, a hydrogen bond, a coordination bond or a bond due to intermolecular force, and the functional group is preferably an acid group or an onium group.

酸基は、酸解離定数(pKa)が7以下であることが好ましい。酸基の例は、フェノール性水酸基(−OH)、カルボン酸基(−COOH)、スルホン酸基(−SO3H)、硫酸エステル基(−OSO3H)、ホスホン酸基(−PO32)、リン酸基(−OPO32)、リン酸アミド基(−NH−PO32)、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−および−COCH2COCH3を含む。カルボン酸基、ホスホン酸基、リン酸基およびリン酸アミド基が好ましい。 The acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less. Examples of acid groups are phenolic hydroxyl groups (—OH), carboxylic acid groups (—COOH), sulfonic acid groups (—SO 3 H), sulfate ester groups (—OSO 3 H), phosphonic acid groups (—PO 3 H). 2 ), phosphoric acid group (—OPO 3 H 2 ), phosphoric acid amide group (—NH—PO 3 H 2 ), —CONHSO 2 —, —SO 2 NHSO 2 — and —COCH 2 COCH 3 . Carboxylic acid groups, phosphonic acid groups, phosphoric acid groups and phosphoric acid amide groups are preferred.

オニウム基は、周期律表第5B族(15族)あるいは第6B族(16族)の原子からなるオニウム基が好ましく、窒素原子、リン原子またはイオウ原子からなるオニウム基がさらに好ましく、窒素原子からなるオニウム基が最も好ましい。   The onium group is preferably an onium group comprising an atom of Group 5B (Group 15) or Group 6B (Group 16) of the periodic table, more preferably an onium group comprising a nitrogen atom, a phosphorus atom or a sulfur atom, and from the nitrogen atom. The onium group is most preferred.

官能基を保護基でブロックすることにより、一般式(A)の化合物を前駆体に転換できる。例えば、官能基が酸基である場合、酸をエステル化することにより、一般式(A)の化合物を前駆体に転換できる。これらの前駆体を用いて下引き層を設けてもよい。   By blocking the functional group with a protecting group, the compound of the general formula (A) can be converted into a precursor. For example, when the functional group is an acid group, the compound of the general formula (A) can be converted into a precursor by esterifying the acid. An undercoat layer may be provided using these precursors.

一般式(A)で表される化合物の例を下記に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the example of a compound represented by general formula (A) is shown below, it is not limited to these.

[A−1]
CH2=C(CH3)COO(C24O)nP=O(OH)2
n=1;
ユニケミカル(株);ホスマーM、
日本化薬(株);カヤマーPM−1、
共栄社油脂(株);ライトエステルP−M、
新中村化学(株);NKエステルSA、
[A−2]
n=2;ユニケミカル(株);ホスマーPE2、
[A−3]
n=4〜5;ユニケミカル(株);ホスマーPE、
[A−4]
n=8;ユニケミカル(株);ホスマーPE8、
[A−5][CH2=C(CH3)COO(C24O)nmP=O(OH)3-m
n=1、m=1と2の混合物;大八化学(株);MR−200、
[A−6]CH2=CHCOO(C24O)nP=O(OH)2
n=1;ユニケミカル(株);ホスマーA、共栄社油脂(株);ライトエステルP−A、
[A−7][CH2=CHCOO(C24O)n]mP=O(OH)3-m
n=1、m=1と2の混合物;大八化学(株);AR−200、
[A−8]CH2=C(CH3)COO(C24O)nP=O(OC492
n=1;大八化学(株);MR−204、
[A−9]CH2=CHCOO(C24O)nP=O(OC492
n=1;大八化学(株);AR−204、
[A−10]CH2=C(CH)COO(C24O)nP=O(OC8172
n=1;大八化学(株);MR−208、
[A−11]CH2=CHCOO(C24O)nP=O(OC8172
n=1;大八化学(株);AR−208、
[A−12]
ユニケミカル(株);ホスマーMH、
[A-1]
CH 2 = C (CH 3) COO (C 2 H 4 O) nP = O (OH) 2
n = 1;
Unichemical Co., Ltd .; Phosmer M,
Nippon Kayaku Co., Ltd .; Kayamar PM-1
Kyoeisha Yushi Co., Ltd .; Light Ester PM
Shin Nakamura Chemical Co., Ltd .; NK Ester SA,
[A-2]
n = 2; Unichemical Co., Ltd .; Phosmer PE2,
[A-3]
n = 4-5; Unichemical Co., Ltd .; Phosmer PE,
[A-4]
n = 8; Unichemical Co., Ltd .; Phosmer PE8,
[A-5] [CH 2 = C (CH 3) COO (C 2 H 4 O) n] m P = O (OH) 3-m
n = 1, a mixture of m = 1 and 2; Daihachi Chemical Co., Ltd .; MR-200,
[A-6] CH 2 = CHCOO (C 2 H 4 O) nP = O (OH) 2
n = 1; Unichemical Co., Ltd .; Phosmer A, Kyoeisha Yushi Co., Ltd .; Light Ester PA,
[A-7] [CH 2 = CHCOO (C 2 H 4 O) n] mP = O (OH) 3-m
n = 1, a mixture of m = 1 and 2; Daihachi Chemical Co., Ltd .; AR-200,
[A-8] CH 2 = C (CH 3) COO (C 2 H 4 O) nP = O (OC 4 H 9) 2
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; MR-204,
[A-9] CH 2 = CHCOO (C 2 H 4 O) nP = O (OC 4 H 9) 2
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; AR-204,
[A-10] CH 2 = C (CH) COO (C 2 H 4 O) nP = O (OC 8 H 17) 2
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; MR-208,
[A-11] CH 2 = CHCOO (C 2 H 4 O) nP = O (OC 8 H 17) 2
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; AR-208,
[A-12]
Unichemical Co., Ltd .; Phosmer MH,

Figure 2007230081
Figure 2007230081

[A−13]CH2=C(CH3)COO(C24O)nP=O(OH)(ONH(CH3224OCOC(CH3)=CH2
n=1;ユニケミカル(株);ホスマーDM、
[A−14]CH2=C(CH3)COO(C24O)nP=O(OH)(ONH(C25224OCOC(CH3)=CH2
n=1;ユニケミカル(株);ホスマーDE、
[A−15]CH2=CHCOO(C24O)nP=O(O−ph)2(ph:ベンゼン環)
n=1;大八化学(株);AR−260、
[A−16]CH2=C(CH)COO(C24O)nP=O(O−ph)2
n=1;大八化学(株);MR−260、
[A−17]CH=CHCOO(C24O)n2P=O(OC49
n=1;大八化学(株);PS−A4、
[A−18][CH2=C(CH3)COO(C24O)n]2P=O(OH)
n=1;大八化学(株);MR−200、日本化薬(株);カヤマーPM−2、日本化薬(株);カヤマーPM−21、
[A−19][CH2=CHCOO(C24O)n]3P=O
n=1;大阪有機(株);ビスコート3PA。
[A-13] CH 2 = C (CH 3) COO (C 2 H 4 O) n P = O (OH) (ONH (CH 3) 2 C 2 H 4 OCOC (CH 3) = CH 2)
n = 1; Unichemical Co., Ltd .; Phosmer DM,
[A-14] CH 2 = C (CH 3) COO (C 2 H 4 O) n P = O (OH) (ONH (C 2 H 5) 2 C 2 H 4 OCOC (CH 3) = CH 2)
n = 1; Unichemical Co., Ltd .; Phosmer DE,
[A-15] CH 2 = CHCOO (C 2 H 4 O) nP = O (O-ph) 2 (ph: benzene ring)
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; AR-260,
[A-16] CH 2 = C (CH) COO (C 2 H 4 O) nP = O (O-ph) 2
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; MR-260,
[A-17] CH = CHCOO (C 2 H 4 O) n 2 P = O (OC 4 H 9)
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; PS-A4,
[A-18] [CH 2 = C (CH 3) COO (C 2 H 4 O) n] 2 P = O (OH)
n = 1; Daihachi Chemical Co., Ltd .; MR-200, Nippon Kayaku Co., Ltd .; Kayamar PM-2, Nippon Kayaku Co., Ltd .; Kayamar PM-21,
[A-19] [CH 2 = CHCOO (C 2 H 4 O) n] 3 P = O
n = 1; Osaka Organic Co., Ltd .; Biscote 3PA.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

Figure 2007230081
Figure 2007230081

Figure 2007230081
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親水性支持体表面への吸着性基が形成される化合物は、ポリマーであってもよい。具体的な例としては、特開2005−313491号報段落番号0049〜段落番号0078に記載されている化合物があげられる。   The compound that forms the adsorptive group on the surface of the hydrophilic support may be a polymer. Specific examples thereof include compounds described in JP-A-2005-313491, paragraph number 0049 to paragraph number 0078.

これらの化合物は複数種を任意の比で混合して用いてもかまわない。この下引き層は、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液を表面処理したアルミニウム支持体上に塗布、乾燥する方法、又は水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、表面処理したアルミニウム支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記化合物の濃度0.005〜10質量%の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。下引き層の乾燥後の被覆量は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。 These compounds may be used in a mixture of plural kinds at an arbitrary ratio. This subbing layer is applied to a surface-treated aluminum support with a solution obtained by dissolving the above compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, and dried, or water or methanol, By immersing the surface-treated aluminum support in a solution in which the above compound is dissolved in an organic solvent such as ethanol or methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof, to adsorb the above compound, and then washing and drying with water or the like. Can be provided. In the former method, a solution of the above compound having a concentration of 0.005 to 10% by mass can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The coating amount after drying of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

(画像露光)
本発明の平版印刷版材料は、画像形成機能層を有する面から画像データに応じて活性光線を照射して画像が形成される。
(Image exposure)
In the lithographic printing plate material of the present invention, an image is formed by irradiating actinic rays according to image data from the surface having the image forming functional layer.

本発明に係る画像露光としては、より具体的には赤外及び/または近赤外領域で発光する、即ち700〜1500nmの波長範囲で発光するレーザーを使用した走査露光が好ましく用いられる。   As the image exposure according to the present invention, scanning exposure using a laser emitting light in the infrared and / or near infrared region, that is, emitting light in a wavelength range of 700 to 1500 nm is more preferably used.

レーザーとしてはガスレーザーを用いてもよいが、近赤外領域で発光する半導体レーザーを使用して、走査露光を行うことが特に好ましい。   A gas laser may be used as the laser, but it is particularly preferable to perform scanning exposure using a semiconductor laser that emits light in the near infrared region.

本発明に用いることができる走査露光に好適な装置としては、半導体レーザーを用いてコンピュータからの画像信号に応じて印刷版材料表面に画像を形成可能な装置であればどのような方式の装置であってもよい。   As an apparatus suitable for scanning exposure that can be used in the present invention, any apparatus can be used as long as it can form an image on the surface of a printing plate material in accordance with an image signal from a computer using a semiconductor laser. There may be.

一般的には、(1)平板状保持機構に保持された印刷版材料に1本もしくは複数本のレーザービームを用いて2次元的な走査を行って印刷版材料全面を露光する方式、(2)固定された円筒状の保持機構の内側に、円筒面に沿って保持された印刷版材料に、円筒内部から1本もしくは複数本のレーザービームを用いて円筒の周方向(主走査方向)に走査しつつ、周方向に直角な方向(副走査方向)に移動させて印刷版材料全面を露光する方式、(3)回転体としての軸を中心に回転する円筒状ドラム表面に保持された印刷版材料に、円筒外部から1本もしくは複数本のレーザービームを用いてドラムの回転によって周方向(主走査方向)に走査しつつ、周方向に直角な方向(副走査方向)に移動させて印刷版材料全面を露光する方式が挙げられる。   In general, (1) a method of exposing the entire surface of the printing plate material by performing two-dimensional scanning using one or a plurality of laser beams on the printing plate material held by the flat plate holding mechanism; ) A printing plate material held along a cylindrical surface inside a fixed cylindrical holding mechanism, and using one or more laser beams from the inside of the cylinder in the circumferential direction of the cylinder (main scanning direction) A method in which the entire surface of the printing plate material is exposed by moving in a direction perpendicular to the circumferential direction (sub-scanning direction) while scanning, and (3) printing held on the surface of a cylindrical drum that rotates about an axis as a rotating body The plate material is printed by moving in the direction perpendicular to the circumferential direction (sub-scanning direction) while scanning in the circumferential direction (main scanning direction) by rotating the drum using one or more laser beams from the outside of the cylinder. A method that exposes the entire plate material That.

本発明に関しては特に(3)の走査露光方式が好ましく、特に印刷装置上で露光を行う装置においては、(3)の露光方式が用いられる。   In the present invention, the scanning exposure method (3) is particularly preferable, and the exposure method (3) is used particularly in an apparatus that performs exposure on a printing apparatus.

このようにして画像形成がなされた平版印刷版材料は、現像処理を行うことなく印刷を行うことができる。画像形成後の平版印刷版材料をそのまま印刷機の版胴に取り付けるか、あるいは平版印刷版材料を印刷機の版胴に取り付けた後に画像形成を行い、版胴を回転させながら水供給ローラー及び/またはインク供給ローラーを平版印刷版材料に接触させることで画像形成層の非画像部を除去することが可能である。   The lithographic printing plate material on which an image has been formed in this way can be printed without being subjected to development processing. The lithographic printing plate material after image formation is directly attached to the plate cylinder of the printing press, or the lithographic printing plate material is attached to the plate cylinder of the printing press and then image formation is performed. Alternatively, the non-image portion of the image forming layer can be removed by bringing the ink supply roller into contact with the planographic printing plate material.

画像形成機能層の非画像部の除去工程としては、PS版を使用した通常の印刷シークエンスで行うことができるものであり、所謂機上現像処理によりなされる工程であることが好ましい態様である。   The step of removing the non-image part of the image forming functional layer can be performed by a normal printing sequence using a PS plate, and is preferably a step performed by so-called on-press development processing.

(インク)
本発明の平版印刷方法に用いることができるインクとしては、平版印刷に使用できるインクであればいずれのインクでもよいが、具体的には、ロジン変性フェノール樹脂と植物油(アマニ油、桐油、大豆油等)、石油系溶剤、顔料、酸化重合触媒(コバルト、マンガン、鉛、鉄、亜鉛等)等の成分よりなる油性インク、及びアクリル系オリゴマー、アクリルモノマー、光重合開始剤、顔料等の成分よりなる紫外線硬化型のUVインク、更に油性インクの性質とUVインクの性質を併せ持つハイブリッドインクが挙げられる。
(ink)
The ink that can be used in the lithographic printing method of the present invention may be any ink that can be used for lithographic printing. Specifically, rosin-modified phenolic resin and vegetable oil (linseed oil, tung oil, soybean oil) Etc.), oil-based inks composed of components such as petroleum solvents, pigments, oxidation polymerization catalysts (cobalt, manganese, lead, iron, zinc, etc.), and components such as acrylic oligomers, acrylic monomers, photopolymerization initiators, pigments, etc. And UV curable UV inks, and hybrid inks having both the properties of oil-based inks and the properties of UV inks.

(湿し水)
本発明に係る湿し水としては、平版印刷に用いられる一般的な湿し水を用いることができる。本発明において使用される湿し水は、アルキレングリコールモノアルキルエーテル化合物を含有することが好ましい。
(Dampening water)
As the fountain solution according to the present invention, a general fountain solution used for lithographic printing can be used. The fountain solution used in the present invention preferably contains an alkylene glycol monoalkyl ether compound.

アルキレングリコールモノアルキルエーテル化合物は、アルキレングリコールとアルキルのモノエーテルであり、湿し水中に溶解して用いられることが好ましい。   The alkylene glycol monoalkyl ether compound is a monoether of alkylene glycol and alkyl, and is preferably used by being dissolved in dampening water.

アルキレングリコールモノアルキルエーテル化合物としては下記一般式(A)の化合物が好ましく用いられる。   As the alkylene glycol monoalkyl ether compound, a compound represented by the following general formula (A) is preferably used.

一般式(A)
11−O−(CH2C(R12)HO)n−H
(式中、R11は炭素原子数1〜6のアルキル基を表し、R12はメチル基または水素原子を表し、nは1〜4の整数を表す。)
一般式(A)の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、テトラエチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングルコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングルコールモノイソプロピルエーテル、トリエチレングルコールモノイソプロピルエーテル、テトラエチレングルコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、トリエチレングリコールモノイソブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノイソブチルエーテル、エチレングリコールモノターシャリブチルエーテル、ジエチレングリコールモノターシャリブチルエーテル、トリエチレングリコールモノターシャリブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノターシャリブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノイソブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノターシャリブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノターシャリブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノターシャリブチルエーテルなどがあげられる。
Formula (A)
R 11 -O- (CH 2 C ( R 12) HO) n -H
(Wherein R 11 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R 12 represents a methyl group or a hydrogen atom, and n represents an integer of 1 to 4)
Specific examples of the general formula (A) include ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, Tetraethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, tetraethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, triethylene glycol Monoisopropyl ether Tetraethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoisobutyl ether, diethylene glycol monoisobutyl ether, triethylene glycol monoisobutyl ether, tetraethylene glycol Monoisobutyl ether, ethylene glycol monotertiary butyl ether, diethylene glycol monotertiary butyl ether, triethylene glycol monotertiary butyl ether, tetraethylene glycol monotertiary butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol mono Chill ether, tripropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, tetrapropylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, tripropylene Glycol monopropyl ether, propylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monoisopropyl ether, tripropylene glycol monoisopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monoisobutyl ether, dipropylene glycol monoiso Examples include butyl ether, tripropylene glycol monoisobutyl ether, propylene glycol monotertiary butyl ether, dipropylene glycol monotertiary butyl ether, and tripropylene glycol monotertiary butyl ether.

上記一般式(A)の化合物は単独でも2種以上組み合わせても使用できる。   The compounds of the general formula (A) can be used alone or in combination of two or more.

湿し水中における上記一般式(A)で示される化合物の含有量は、耐刷性の観点から、0.05〜5質量%が適当であり、好ましくは0.2〜3質量%、より好ましくは0.3〜2質量%である。   The content of the compound represented by the general formula (A) in the fountain solution is suitably 0.05 to 5% by mass, preferably 0.2 to 3% by mass, more preferably from the viewpoint of printing durability. Is 0.3-2 mass%.

湿し水には、アルキレングリコールモノアルキルエーテル化合物以外に、pH調整剤、濡れ性向上のための助剤、水溶性高分子化合物、キレート化剤、防腐剤などを用いることが好ましい。   In addition to the alkylene glycol monoalkyl ether compound, it is preferable to use a pH adjuster, an auxiliary agent for improving wettability, a water-soluble polymer compound, a chelating agent, an antiseptic, and the like for the fountain solution.

pH調整剤としては、水溶性の有機酸、無機酸及びそれらの塩類から選ばれる少なくとも1種が使用できる。これらの化合物は湿し水のpH調整あるいはpH緩衝、平版印刷版支持体の適度なエッチング又は防腐食に効果がある。好ましい有機酸としては、例えばクエン酸、アスコルビン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸、酢酸、グルコン酸、ヒドロキシ酢酸、蓚酸、マロン酸、レブリン酸、スルファニル酸、p−トルエンスルホン酸、リン酸、ホスホン酸、フィチン酸等が挙げられる。   As the pH adjuster, at least one selected from water-soluble organic acids, inorganic acids, and salts thereof can be used. These compounds are effective in adjusting the pH of the fountain solution or buffering the pH and appropriately etching or preventing corrosion of the lithographic printing plate support. Preferred organic acids include, for example, citric acid, ascorbic acid, malic acid, tartaric acid, lactic acid, acetic acid, gluconic acid, hydroxyacetic acid, succinic acid, malonic acid, levulinic acid, sulfanilic acid, p-toluenesulfonic acid, phosphoric acid, phosphonic acid And phytic acid.

無機酸としては例えば硝酸、硫酸が挙げられる。更にこれら有機酸及び/又は無機酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩あるいはアンモニウム塩、有機アミン塩も好適に用いられる。   Examples of inorganic acids include nitric acid and sulfuric acid. Furthermore, alkali metal salts, alkaline earth metal salts or ammonium salts of these organic acids and / or inorganic acids, and organic amine salts are also preferably used.

これらの有機酸、無機酸及びこれらの塩類から1種を単独で使用しても、あるいは2種以上の混合物として使用してもよい。   One of these organic acids, inorganic acids and salts thereof may be used alone, or a mixture of two or more may be used.

これらpH調整剤の湿し水への添加量は有機酸、無機酸及びこれらの塩類を合わせて0.001質量%以上0.1質量%以下の範囲が適当である。0.001質量%以上であると、平版印刷版の支持体であるアルミニウムのエッチング力により印刷時の汚れが良好である。一方、0.1質量%以下であれば、印刷機の錆びの点において好ましい。   The addition amount of these pH adjusting agents to the fountain solution is suitably in the range of 0.001% by mass or more and 0.1% by mass or less in combination of the organic acid, inorganic acid and salts thereof. When it is 0.001% by mass or more, the stain at the time of printing is good due to the etching force of aluminum which is the support of the lithographic printing plate. On the other hand, if it is 0.1 mass% or less, it is preferable at the point of the rust of a printing press.

また湿し水のpHは4.5以上7.5以下が好ましい。この範囲のpHであれば印刷時の汚れの発生が少ない。   The pH of the fountain solution is preferably 4.5 or more and 7.5 or less. If the pH is within this range, the occurrence of smudges during printing is small.

濡れ性向上の助剤として、界面活性剤や他の溶剤を使用することが好ましい。   It is preferable to use a surfactant or other solvent as an aid for improving the wettability.

用いられる界面活性剤としては、アニオン型界面活性剤及び/またはノニオン型界面活性剤が好ましい。   The surfactant used is preferably an anionic surfactant and / or a nonionic surfactant.

アニオン型界面活性剤の例としては、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩類、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩類、石油スルホン酸塩類、硫酸化ひまし油、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル燐酸エステル塩類、スチレン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン−無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。これらの中でもジアルキルスルホ琥珀酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類及びアルキルナフタレンスルホン酸塩類が特に好ましく用いられる。   Examples of anionic surfactants include fatty acid salts, abietates, hydroxyalkanesulfonates, alkanesulfonates, dialkylsulfosuccinates, linear alkylbenzenesulfonates, branched alkylbenzenesulfonates, alkylnaphthalenes Sulfonates, alkylphenoxy polyoxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salts, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salts, petroleum sulfonates, Sulfated castor oil, sulfated beef tallow oil, fatty acid alkyl ester sulfate esters, alkyl sulfate esters, polyoxyethylene alkyl ether sulfate esters, fatty acid monoglyceride sulfate Tell salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether sulfate ester salt, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, polyoxyethylene alkyl ether phosphate ester salt, polyoxyethylene alkylphenyl ether phosphate ester salt, styrene-anhydrous Examples thereof include partial saponification products of maleic acid copolymer, partial saponification products of olefin-maleic anhydride copolymer, and naphthalene sulfonate formalin condensates. Among these, dialkyl sulfosuccinates, alkyl sulfates and alkyl naphthalene sulfonates are particularly preferably used.

ノニオン型界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、蔗糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン類、トリエタノールアミン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー類、トリアルキルアミンオキシド類などが挙げられる。その他、弗素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤も使用することができる。界面活性剤を使用する場合、その含有量は発泡の点を考慮すると、1質量%以下、好ましくは0.001〜0.5質量%が適当である。また、2種以上併用することもできる。   Examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, penta Erythritol fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N, N-bis-2 Hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid esters, polyoxyethylene - polyoxypropylene block polymers, and the like trialkylamine oxides. In addition, fluorine-based surfactants and silicon-based surfactants can also be used. In the case of using a surfactant, the content thereof is 1% by mass or less, preferably 0.001 to 0.5% by mass in consideration of foaming. Two or more kinds can be used in combination.

助剤としてはその他に、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール及びペンタプロピレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ブチレングリコール、ヘキシレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、1−ブトキシ−2−プロパノール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、トリメチロールプロパン、1−位が炭素原子数1〜8のアルキル基で置換された2−ピロリドン誘導体、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール、プロパルギルアルコール(2−プロピン−1−オール)、3−ブチン−1−オール、1−ブチン−3−オール、2−ブチン−1,4−ジオール、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオールなどが挙げられる。   Other auxiliary agents include propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol and pentapropylene glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, butylene glycol, hexylene glycol, 2-ethyl-1,3- Hexanediol, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 1-butoxy-2-propanol, glycerin, diglycerin, polyglycerin, trimethylolpropane, 1-position substituted with an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms 2-pyrrolidone derivatives, 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decyne-4,7-diol, propargyl alcohol (2-propyne-1 -All), 3 Butyn-1-ol, 1-butyne-3-ol, 2-butyne-1,4-diol, such as 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol.

これらの中でも特に3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール及び1−ブトキシ−2−プロパノールが好ましい。   Among these, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol and 1-butoxy-2-propanol are particularly preferable.

これらの溶剤は単独で用いても、2種以上を併用してもよい。一般にこれらの溶剤は、湿し水の全質量に基づいて0.002〜1質量%の範囲で使用するのが適当で、好ましくは0.005〜0.5質量%である。   These solvents may be used alone or in combination of two or more. In general, these solvents are suitably used in the range of 0.002 to 1% by mass, preferably 0.005 to 0.5% by mass, based on the total mass of the fountain solution.

水溶性高分子化合物としては、例えばアラビアガム、澱粉誘導体(例えば、デキストリン、酵素分解デキストリン、ヒドロキシプロピル化酵素分解デキストリン、カルボキシメチル化澱粉、リン酸澱粉、オクテニルコハク化澱粉)、アルギン酸塩、繊維素誘導体(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース)等の天然物及びその変性体、ポリエチレングリコール及びその共重合体、ポリビニルアルコール及びその誘導体、ポリアクリルアミド及びその共重合体、ポリアクリル酸及びその共重合体、ビニルメチルエーテル/無水マレイン酸共重合体、酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体、ポリスチレンスルホン酸及びその共重合体の合成物、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。これらの中でもカルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースは特に好ましい。水溶性高分子化合物の含有量は、湿し水に対して0.001〜0.5質量%が適しており、より好ましくは、0.005〜0.2質量%である。   Examples of water-soluble polymer compounds include gum arabic, starch derivatives (eg, dextrin, enzymatically degraded dextrin, hydroxypropylated enzymatically degraded dextrin, carboxymethylated starch, phosphate starch, octenyl succinated starch), alginates, and fibrin derivatives. (For example, natural products such as carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, methyl cellulose, hydroxyethyl cellulose) and modified products thereof, polyethylene glycol and copolymers thereof, polyvinyl alcohol and derivatives thereof, polyacrylamide and copolymers thereof, polyacrylic acid and derivatives thereof Copolymer, vinyl methyl ether / maleic anhydride copolymer, vinyl acetate / maleic anhydride copolymer, polystyrene sulfonic acid and its composite, polyvinylpyrrolidone And the like. Among these, carboxymethyl cellulose and hydroxyethyl cellulose are particularly preferable. 0.001-0.5 mass% is suitable with respect to dampening water, and, as for content of a water-soluble polymer compound, More preferably, it is 0.005-0.2 mass%.

湿し水にはキレート化剤を添加することが好ましい。好ましいキレート化剤としては例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような有機ホスホン酸類あるいはホスホノアルカントリカルボン酸類を挙げることができる。前記のキレート剤のナトリウム塩あるいはカリウム塩の代わりに、有機アミンの塩も有効である。これらのキレート化剤は使用時の湿し水中に安定に存在し、印刷性を阻害しないものが選ばれる。使用時の湿し水中のキレート化合物の含有量としては、0.0001〜0.5質量%が適当で、好ましくは0.0005〜0.2質量%である。   It is preferable to add a chelating agent to the fountain solution. Preferred chelating agents include, for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid Nitrilotriacetic acid, sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, potassium salt, sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt, sodium salt And organic phosphonic acids and phosphonoalkanetricarboxylic acids. Instead of the sodium salt or potassium salt of the chelating agent, an organic amine salt is also effective. These chelating agents are selected so that they are stably present in the dampening water during use and do not impair the printability. As content of the chelate compound in dampening water at the time of use, 0.0001-0.5 mass% is suitable, Preferably it is 0.0005-0.2 mass%.

防腐剤としては、フェノール又はその誘導体、ホルマリン、イミダゾール誘導体、デヒドロ酢酸ナトリウム、4−イソチアゾリン−3−オン誘導体、ベンズトリアゾール誘導体、アミジン又はグアニジンの誘導体、四級アンモニウム塩類、ピリジン、キノリン又はグアニジンの誘導体、ダイアジン又はトリアゾールの誘導体、オキサゾール又はオキサジンの誘導体、ブロモニトロアルコール系のブロモニトロプロパノール、1,1−ジブロモ−1−ニトロ−2−エタノール、3−ブロモ−3−ニトロペンタン−2,4−ジオール等が挙げられる。好ましい添加量は細菌、カビ、酵母等に対して、安定に効力を発揮する量であって、細菌、カビ、酵母の種類によっても異なるが、湿し水に対し、0.001〜0.5質量%の範囲が好ましく、また種々のカビ、細菌、酵母に対して効力のあるような2種以上の防腐剤を併用することが好ましい。   Preservatives include phenol or derivatives thereof, formalin, imidazole derivatives, sodium dehydroacetate, 4-isothiazolin-3-one derivatives, benztriazole derivatives, amidine or guanidine derivatives, quaternary ammonium salts, pyridine, quinoline or guanidine derivatives. , Derivatives of diazine or triazole, derivatives of oxazole or oxazine, bromonitroalcohol-based bromonitropropanol, 1,1-dibromo-1-nitro-2-ethanol, 3-bromo-3-nitropentane-2,4-diol Etc. A preferable addition amount is an amount that exerts a stable effect on bacteria, molds, yeasts, etc., and varies depending on the types of bacteria, molds, yeasts, etc. The range of mass% is preferable, and it is preferable to use two or more preservatives that are effective against various molds, bacteria and yeasts.

本発明に係る湿し水は、さらに、臭気マスキング剤、着色剤、防錆剤、消泡剤を含んでいてもよい。   The fountain solution according to the present invention may further contain an odor masking agent, a colorant, a rust inhibitor, and an antifoaming agent.

臭気マスキング剤としては、下記一般式(M)で示されるものが好ましく使用できる。   As the odor masking agent, those represented by the following general formula (M) can be preferably used.

一般式(M)
1−COOR2
一般式(M)の化合物において、式中R1は炭素原子数1〜15のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、またはフェニル基である。アルキル基又はアルケニル基の場合、その炭素原子数は好ましくは4〜8である。R1がアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基を表す場合、それらは直鎖でも分岐鎖でもよい。アルケニル基は特に二重結合を1個有するものが適当である。
General formula (M)
R 1 -COOR 2
In the compound of the general formula (M), R 1 is an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, or a phenyl group. In the case of an alkyl group or an alkenyl group, the number of carbon atoms is preferably 4-8. When R 1 represents an alkyl group, an alkenyl group or an aralkyl group, they may be linear or branched. An alkenyl group having one double bond is particularly suitable.

アラルキル基としては、ベンジル基やフェニルエチル基が挙げられる。なお、R1で示されるアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、またはフェニル基の1以上の水素原子が、水酸基又はアセチル基で置換されていてもよい。R2は炭素原子数3〜10のアルキル基、アラルキル基又はフェニル基であって、それらは直鎖でも分岐鎖でもよい。アルキル基の場合、その炭素原子数は好ましくは3個から9個である。アラルキル基としては、ベンジル基やフェニルエチル基が挙げられる。 Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenylethyl group. The alkyl group represented by R 1, an alkenyl group, one or more hydrogen atoms of the aralkyl group or a phenyl group, may be substituted by a hydroxyl group or an acetyl group. R 2 is an alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, an aralkyl group, or a phenyl group, which may be linear or branched. In the case of an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 3 to 9. Examples of the aralkyl group include a benzyl group and a phenylethyl group.

臭気マスキング剤として具体的に、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、2−エチル酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、2−メチル吉草酸、ヘキサン酸(カプロン酸)、4−メチルペンタン酸(イソヘキサン酸)、2−ヘキセン酸、4−ペンテン酸、ヘプタン酸、2−メチルヘプタン酸、オクタン酸(カプリル酸)、ノナン酸、デカン酸(カプリン酸)、2−デセン酸、ラウリン酸又はミリスチン酸のエステルが挙げられる。   Specific examples of odor masking agents include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, 2-ethylbutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, 2-methylvaleric acid, hexanoic acid (caproic acid), 4-methylpentanoic acid (Isohexanoic acid), 2-hexenoic acid, 4-pentenoic acid, heptanoic acid, 2-methylheptanoic acid, octanoic acid (caprylic acid), nonanoic acid, decanoic acid (capric acid), 2-decenoic acid, lauric acid or myristic Examples include esters of acids.

その他、フェニル酢酸ベンジル、アセト酢酸エチルやアセト酢酸2−ヘキシルといったアセト酢酸エステル等もある。中でも好ましいものとして、酢酸n−ペンチル、酢酸イソペンチル、酪酸n−ブチル、酪酸n−ペンチル及び酪酸イソペンチルが挙げられ、特に酪酸n−ブチル、酪酸n−ペンチル及び酪酸イソペンチルが好適である。   In addition, there are acetoacetate esters such as benzyl phenylacetate, ethyl acetoacetate and 2-hexyl acetoacetate. Among them, preferred are n-pentyl acetate, isopentyl acetate, n-butyl butyrate, n-pentyl butyrate and isopentyl butyrate, and n-butyl butyrate, n-pentyl butyrate and isopentyl butyrate are particularly preferable.

これらの臭気マスキング剤の湿し水における含有量は、湿し水の全質量に基づいて0.001〜0.5質量%が適当で、より好ましくは0.002〜0.2質量%である。これらを使用することにより、作業環境をより改善することができる。また。バニリン、エチルバニリン等を併用してもよい。   The content of these odor masking agents in the fountain solution is suitably 0.001 to 0.5% by mass, more preferably 0.002 to 0.2% by mass, based on the total mass of the fountain solution. . By using these, the work environment can be further improved. Also. Vanillin, ethyl vanillin or the like may be used in combination.

着色剤としては、食品用色素等が好ましく使用できる。例えば、黄色色素としてはCINo.19140、15985、赤色色素としてはCINo.16185、45430、16255、45380、45100、紫色色素としてはCINo.42640、青色色素としてはCINo.42090、73015、緑色色素としてはCINo.42095、等が挙げられる。使用する場合の湿し水中の着色剤の含有量としては、0.0001〜0.5質量%が好ましい。   As the colorant, food colorants and the like can be preferably used. For example, CINo. 19140, 15985 and CI No. 16185, 45430, 16255, 45380, 45100, and purple pigments such as CI No. 42640, as a blue pigment, CI No. 42090 and 73015, CINo. 42095, and the like. As content of the coloring agent in the dampening water in the case of using, 0.0001-0.5 mass% is preferable.

防錆剤としては、例えばベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾトリアゾール、チオサリチル酸、ベンゾイミダゾール及びその誘導体等が挙げられる。使用する場合の湿し水中の防錆剤の含有量としては、0.0001〜0.5質量%が好ましい。   Examples of the rust preventive include benzotriazole, 5-methylbenzotriazole, thiosalicylic acid, benzimidazole and derivatives thereof. When used, the content of the rust inhibitor in the fountain solution is preferably 0.0001 to 0.5% by mass.

消泡剤としてはシリコン消泡剤が好ましく、その中で乳化分散型及び可溶化型等いずれも使用することができる。   As the antifoaming agent, a silicon antifoaming agent is preferable, and any of emulsifying dispersion type and solubilizing type can be used.

(印刷機)
本発明の平版印刷方法においては、印刷版材料を装着する版胴、印刷版面上に湿し水を供給する部材、インクを供給する部材を有する公知の平版印刷機を用いることができる。
(Printer)
In the lithographic printing method of the present invention, a known lithographic printing machine having a plate cylinder on which a printing plate material is mounted, a member for supplying dampening water onto the printing plate surface, and a member for supplying ink can be used.

実施例1
<砂目形状をしたアルミ支持体の作製>
厚さ0.24mmのアルミウム板(材質1050、調質:H16)を、65℃に保たれた5%水酸化ナトリウム水溶液に浸せきし1分間の脱脂処理をおこないその後水洗した。
Example 1
<Preparation of grain-shaped aluminum support>
An aluminum plate (material 1050, tempered: H16) having a thickness of 0.24 mm was immersed in a 5% aqueous sodium hydroxide solution maintained at 65 ° C., degreased for 1 minute, and then washed with water.

次に、25℃に保たれた1%塩酸水溶液中で、40℃、電流20アンペア、20秒(400A・sec/dm2)、カーボン電極で電解研磨処理し砂目立てした。水洗後、続いて、カセイソーダ水溶液2質量%液で60℃、60秒浸せき処理(デスマット処理)をおこなった。 Next, in an aqueous 1% hydrochloric acid solution maintained at 25 ° C., electrolytic polishing was performed with a carbon electrode at 40 ° C., a current of 20 amperes, and 20 seconds (400 A · sec / dm 2 ), and grained. After washing with water, subsequently, an immersion treatment (desmut treatment) was performed at 60 ° C. for 60 seconds with a 2% by weight aqueous caustic soda solution.

続いて、陽極酸化処理を下記条件で行った。   Subsequently, anodization was performed under the following conditions.

処理浴は硫酸水溶液30質量%
電流密度2A/dm2・処理温度は40℃
処理時間は60秒
続いて、80℃の熱水で、30秒浸せき処理を行い。40℃の温風で乾燥し、砂目形状をしたアルミ支持体を得た。製造された親水性基材を表面粗さ計(WYKO社製RSTPLUS)で測定し、Raは0.34μmであった。
Treatment bath is 30% by mass of sulfuric acid aqueous solution
Current density 2A / dm 2・ Processing temperature is 40 ℃
The treatment time is 60 seconds, followed by immersion for 30 seconds in hot water at 80 ° C. It was dried with 40 ° C. warm air to obtain a grained aluminum support. The produced hydrophilic substrate was measured with a surface roughness meter (RSTPLUS manufactured by WYKO), and Ra was 0.34 μm.

<平版印刷版材料1の作製>
得られた砂目形状をしたアルミ支持体に、下記組成の下引き層塗布液(1)を、液量7.5ml/m2となるバーを用いて塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥した。
<Preparation of planographic printing plate material 1>
An undercoat layer coating solution (1) having the following composition was applied to the obtained aluminum support having a grain shape using a bar having a liquid volume of 7.5 ml / m 2, and then at 80 ° C. for 10 seconds. Oven dried.

(下引き層塗布液(1))
水 15g
メタノール 135g
例示化合物[A−21] 0.8g
次に、下記組成の画像形成機能層塗布液(1)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、画像形成機能層を形成して平版印刷版材料1を得た。
(Undercoat layer coating solution (1))
15g of water
Methanol 135g
Illustrative compound [A-21] 0.8 g
Next, an image-forming functional layer coating solution (1) having the following composition was bar-coated and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image-forming functional layer, whereby a lithographic printing plate material 1 was obtained.

(画像形成機能層塗布液(1))
赤外線吸収染料(下記表1に示す構造) 0.05g
重合開始剤(例示化合物QF−4) 0.2g
下記のバインダーポリマー(1)(平均分子量8万) 0.5g
重合性化合物(イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート)(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315) 1.0g
疎水化前駆体:熱可塑性微粒子マイクロクリスタリンワックスエマルジョンA206(岐阜セラック社製、平均粒子径0.5μm、軟化点65℃、融点108℃、140℃での溶融粘度8cps、固形分40%) 0.8g
ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.02g
下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
メチルエチルケトン 18.0g
(Image forming functional layer coating solution (1))
Infrared absorbing dye (structure shown in Table 1 below) 0.05 g
Polymerization initiator (Exemplary Compound QF-4) 0.2 g
The following binder polymer (1) (average molecular weight 80,000) 0.5 g
Polymerizable compound (isocyanuric acid EO-modified triacrylate) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315) 1.0 g
Hydrophobic precursor: Thermoplastic fine particle microcrystalline wax emulsion A206 (manufactured by Gifu Shellac Co., Ltd., average particle size 0.5 μm, softening point 65 ° C., melting point 108 ° C., melt viscosity 8 ° cps at 140 ° C., solid content 40%) 8g
Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonate 0.02g
0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
Methyl ethyl ketone 18.0g

Figure 2007230081
Figure 2007230081

<平版印刷版材料2の作製>
実施例1で作製した支持体上に、下記組成の下引き層塗布液(2)を、液量7.5ml/m2となるバーを用いて塗布した後、80℃、10秒でオーブン乾燥した。
<Preparation of planographic printing plate material 2>
An undercoat layer coating solution (2) having the following composition was coated on the support prepared in Example 1 using a bar having a liquid volume of 7.5 ml / m 2 and then oven-dried at 80 ° C. for 10 seconds. did.

(下引き層塗布液(2))
水 15g
メタノール 135g
例示化合物[A−27] 0.8g
次に、下引き層を塗布した支持体上に、下記組成の画像形成機能層塗布液(2)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し画像形成機能層を形成した。なお画像形成機能層塗布液(2)は、A成分とB成分を塗布直前に混合し撹拌することにより得た。
(Undercoat layer coating solution (2))
15g of water
Methanol 135g
Illustrative compound [A-27] 0.8 g
Next, an image-forming functional layer coating solution (2) having the following composition was bar-coated on the support on which the undercoat layer was applied, and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds to form an image-forming functional layer. The image forming functional layer coating solution (2) was obtained by mixing and stirring the A component and the B component immediately before coating.

(画像形成機能層塗布液(2))
<A成分>
プロピレングリコールモノメチルエーテル 50g
メチルエチルケトン 10g
重合性化合物(イソシアヌール酸のエチレンオキサイド3モル付加物のトリアクリレート(東亞合成(株)製アロニックスM−315)) 1.2g
平均分子量8万の下記バインダーポリマー(2) 0.5g
疎水化前駆体:熱可塑性微粒子マイクロクリスタリンワックスエマルジョンA206(岐阜セラック社製、平均粒子径0.5μm、軟化点65℃、融点108℃、140℃での溶融粘度8cps.固形分40%) 0.8g
前記フッ素系界面活性剤(1) 0.1g
<B成分>
マイクロカプセル分散液(下記により調製) (固形分換算で)5g
マイクロカプセル分散液の調製
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、赤外線吸収染料(下記表1に示す構造)0.35g、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン(山本化成製ODB)1g、重合開始剤(例示化合物QS−16)0.6g及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル18gに溶解した。
(Image forming functional layer coating solution (2))
<A component>
50g propylene glycol monomethyl ether
Methyl ethyl ketone 10g
Polymeric compound (triacrylate of ethylene oxide 3-mole adduct of isocyanuric acid (Aronix M-315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.)) 1.2 g
0.5 g of the following binder polymer (2) having an average molecular weight of 80,000
Hydrophobic precursor: Thermoplastic fine particle microcrystalline wax emulsion A206 (manufactured by Gifu Shellac Co., Ltd., average particle size 0.5 μm, softening point 65 ° C., melting point 108 ° C., melt viscosity 8 ° cps at 140 ° C., solid content 40%) 8g
0.1 g of the fluorosurfactant (1)
<B component>
Microcapsule dispersion (prepared as follows) (in terms of solid content) 5 g
Preparation of microcapsule dispersion As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemicals, Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, infrared absorbing dye (structure shown in Table 1 below) 0.35 g, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane (ODB manufactured by Yamamoto Kasei), polymerization An initiator (Exemplary Compound QS-16) 0.6 g and Piionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.1 g were dissolved in ethyl acetate 18 g.

水相成分としてポリビニルアルコールPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.25μmであった。   As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 15% by mass. The average particle size was 0.25 μm.

マイクロカプセル液2.640gと水2.425gとを混合して、マイクロカプセル分散液を調製した。   2.640 g of microcapsule liquid and 2.425 g of water were mixed to prepare a microcapsule dispersion.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

さらにその上に下記組成の保護層塗布液1をバー塗布した後、65℃、30秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.3g/m2の保護層を形成した後に40℃で24時間エージング処理を行い、平版印刷版材料2を得た。 Further, a protective layer coating solution 1 having the following composition was bar coated thereon, followed by oven drying at 65 ° C. for 30 seconds to form a protective layer having a dry coating amount of 0.3 g / m 2 and then aging at 40 ° C. for 24 hours. The lithographic printing plate material 2 was obtained by processing.

(保護層塗布液(1))
ポリアクリル酸ナトリウム水溶液 15質量部
(商品名:アクアリックDL522、株式会社日本触媒、平均分子量17万固形分30.5%:水溶性樹脂)ブロックイソシアネートWB−700 40質量部
二糖類トレハロース粉体(林原商事社製商品名トレハ、融点97℃)の水溶液、
固形分10質量% 35質量部
青色色素(商品名:青色2号、キリヤ化学株式会社製) 2質量部
マット剤:平均粒径8μmの単分散シリカ粒子 3質量部
マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ粒子 5質量部
〈印刷物の作製〉
作製した平版印刷版材料に半導体レーザー光源(発光波長830nm、スポット寸法10μm、解像度は走査方向、副走査方向ともに2000dpi(dpiとは、2.54cm当たりのドットの数を表す))を用い、画像データに基づき版面上に置けるエネルギー量を150mJ/cm2として画像露光した。露光した画像はベタ画像と1〜99%の網点画像とを含むものである。
(Protective layer coating solution (1))
Sodium polyacrylate aqueous solution 15 parts by mass (trade name: Aqualic DL522, Nippon Shokubai Co., Ltd., average molecular weight 170,000 solids 30.5%: water-soluble resin) Block isocyanate WB-700 40 parts by mass Disaccharide trehalose powder ( Hayashibara Shoji brand name Treha, melting point 97 ° C),
Solid content 10% by weight 35 parts by weight Blue pigment (trade name: Blue No. 2, manufactured by Kiriya Chemical Co., Ltd.) 2 parts by weight Matting agent: Monodispersed silica particles having an average particle size of 8 μm 3 parts by weight Matting agent: Average particle size 3. 5 μm monodispersed silica particles of 5 μm <Preparation of printed matter>
A semiconductor laser light source (emission wavelength: 830 nm, spot size: 10 μm, resolution: 2000 dpi in both the scanning direction and the sub-scanning direction (dpi represents the number of dots per 2.54 cm)) is used for the produced lithographic printing plate material. Based on the data, the amount of energy that can be placed on the plate surface was 150 mJ / cm 2 and image exposure was performed. The exposed image includes a solid image and a 1 to 99% halftone dot image.

露光された平版印刷版材料は、三菱重工業(株)製DAIYA1F−1印刷機のシリンダーに固定し、シリンダーを回転させた状態で水着けローラーをオンにして、版面上に下記の湿し水1をシリンダーが2回転する間供給し、次いで水着けローラーをオンした状態で、インキ着けローラーをオンにして、大日本インキ化学(株)製フュージョンG ST紅N(大豆油インキ)をシリンダーが2回転する間供給し、続いて、水付けローラー、インキ着けローラーをオンした状態で給紙を開始し、印刷を始めた。   The exposed lithographic printing plate material is fixed to a cylinder of a DAIYA1F-1 printing machine manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd., and a dampening solution 1 is applied on the plate surface by turning on a swim roller while the cylinder is rotated. Is supplied for 2 rotations of the cylinder, and then the ink application roller is turned on while the water application roller is turned ON, and the cylinder 2 supplies Fusion G ST Crimson N (soybean oil ink) manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. The paper was fed while rotating, and then the paper feeding was started with the watering roller and the ink form roller turned on, and printing was started.

湿し水1
プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル 1.0kg
1,2−プロパンジオール 0.5kg
3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール 0.5kg
ペルフルオロオクタンスルホン酸 0.1kg
エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸 0.8kg
エチレノイサイド・プロピレンオキサイド・コポリマー 0.1kg
グリセリン 0.1kg
硝酸アンモニウム 0.02kg
カルボキシメチルセルロース 0.01kg
リン酸第1アンモニウム 0.4kg
クエン酸第2アンモニウム 0.01kg
酢酸ナトリウム 0.01kg
2,3−ブロモ−2−ニトロエタノール 0.002kg
2−メチル−5−クロロ−4−イソチアゾリン−3−オン 0.002kg
純水で希釈して10リットルに仕上げた。
Dampening water 1
Propylene glycol mono-n-butyl ether 1.0kg
1,2-propanediol 0.5kg
3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol 0.5 kg
Perfluorooctane sulfonic acid 0.1kg
Ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid 0.8kg
Ethylenoside propylene oxide copolymer 0.1kg
Glycerin 0.1kg
Ammonium nitrate 0.02kg
Carboxymethylcellulose 0.01kg
Primary ammonium phosphate 0.4kg
0.01kg of diammonium citrate
Sodium acetate 0.01kg
2,3-Bromo-2-nitroethanol 0.002kg
2-Methyl-5-chloro-4-isothiazolin-3-one 0.002 kg
Diluted with pure water to 10 liters.

〈印刷物の評価方法〉
《汚れ回復性の評価》
露光した印刷版試料をコート紙に1000枚印刷した。その後、インキローラーのみをニップして、全面にインキを付着した状態で通常の印刷(インキローラーと水ローラーの両方をニップ)を行った。その際、印刷物における非画線部の汚れがなくなった枚数を測定し、汚れ回復性の指標とした。枚数が少ない方が良い。
<Evaluation method of printed matter>
<Evaluation of dirt recovery property>
1000 sheets of the exposed printing plate sample were printed on coated paper. Thereafter, normal printing (nip of both the ink roller and the water roller) was performed with only the ink roller nipped and the ink adhered to the entire surface. At that time, the number of non-imaged areas in the printed material where the stains disappeared was measured and used as an index for stain recovery. A smaller number is better.

《網点品質(印刷物の画質)の評価》
コート紙で5000枚印刷後に、2%網点画像の品質を100倍ルーペで目視観察することにより印刷物の画質をランク分けし網点品質を評価し、このランクを網点再現性の指標とした。ランク5はフリンジのない高品質な網点であり、品質が劣るにつれてランクを落としていった。ランク3未満は使用に耐えない画質である。
<< Evaluation of halftone dot quality (image quality of printed matter) >>
After printing 5000 sheets on coated paper, the image quality of the printed matter is ranked by visually observing the quality of the 2% halftone image with a 100 × magnifier, and the halftone quality is evaluated, and this rank is used as an index of halftone dot reproducibility. . Rank 5 is a high-quality halftone dot with no fringes, and the rank was lowered as quality deteriorated. Below rank 3, the image quality is unusable.

《地汚れ防止性》
コート紙で5000枚印刷後に、印刷物を目視で観察し、非画像部の地汚れの有無を確認した。ランク5は地汚れが全く観察されない状態であり、地汚れが見えるにつれてランクを落としていった。ランク3未満は使用に耐えない地汚れがある。
<Prevention of dirt>
After printing 5,000 sheets of coated paper, the printed matter was visually observed to confirm the presence or absence of background stains in the non-image area. Rank 5 is a state in which no dirt is observed, and the rank is lowered as the dirt is seen. Below rank 3, there is dirt that cannot be used.

結果を表1に示す。表1から本発明の平版印刷版材料は、汚れ回復性、地汚れ防止性が良好で、印刷適正に優れ、かつ網点再現性に優れることが分かる。   The results are shown in Table 1. It can be seen from Table 1 that the lithographic printing plate material of the present invention has excellent stain recovery and anti-stain properties, excellent printability, and excellent dot reproducibility.

Figure 2007230081
Figure 2007230081

Figure 2007230081
Figure 2007230081

Claims (4)

アルミニウム支持体上に画像形成機能層を有する印刷機上現像可能な印刷版材料であって、該画像形成機能層が光重合性化合物及び重合開始剤を含有し、該アルミニウム支持体の該画像形成機能層を有する側に、下記一般式(1)、(2)、(3)または(4)で表される化合物を含有する層を有することを特徴とする平版印刷版材料。
Figure 2007230081
[式中、A1及びB1は置換基を表す。]
Figure 2007230081
[式中、A2及びB2は置換基を表す。]
Figure 2007230081
[式中、R1、R2は水素原子またはアルキル基を表す。A3、B3は一般式においてCで示した炭素原子との結合点と該炭素原子を結ぶ線を軸としてその軸の周りに180°回転した場合、もとの基と全く重なることができる基を表す。但し、A3及びB3が有する水酸基の総和は0以上1以下である。]
Figure 2007230081
[式中、R3、R4は水素原子またはアルキル基を表す。A4、B4は一般式においてCで示した炭素原子との結合点と該炭素原子を結ぶ線を軸としてその軸の周りに180°回転した場合、もとの基と全く重なることができる基を表す。但し、A4及びB4が有する水酸基の総和は0以上1以下である。]
A printing plate material that can be developed on a printing press having an image forming functional layer on an aluminum support, the image forming functional layer containing a photopolymerizable compound and a polymerization initiator, and the image forming of the aluminum support. A lithographic printing plate material comprising a layer containing a compound represented by the following general formula (1), (2), (3) or (4) on the side having a functional layer.
Figure 2007230081
[Wherein, A 1 and B 1 represent a substituent. ]
Figure 2007230081
Wherein, A 2 and B 2 represents a substituent. ]
Figure 2007230081
[Wherein R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group. A 3 and B 3 can completely overlap with the original group when rotated 180 ° around the axis connecting the bond point with the carbon atom indicated by C in the general formula and the line connecting the carbon atom. Represents a group. However, the sum of the hydroxyl groups of A 3 and B 3 is 0 or more and 1 or less. ]
Figure 2007230081
[Wherein R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or an alkyl group. A 4 and B 4 can completely overlap with the original group when rotated about 180 ° around the axis connecting the bond point with the carbon atom indicated by C in the general formula and the line connecting the carbon atom. Represents a group. However, the sum of the hydroxyl groups A 4 and B 4 have is 0 or more and 1 or less. ]
前記画像形成機能層が熱溶融性粒子または熱融着性粒子を含有することを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版材料。 The lithographic printing plate material according to claim 1, wherein the image-forming functional layer contains heat-fusible particles or heat-fusible particles. 前記アルミニウム支持体が親水性表面を有することを特徴とする請求項1または2に記載の平版印刷版材料。 The lithographic printing plate material according to claim 1 or 2, wherein the aluminum support has a hydrophilic surface. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の平版印刷版材料を画像露光した後に、印刷機に装着し、湿し水及びインキを該平版印刷版材料の表面に供給して非画像部を除去し、印刷することを特徴とする平版印刷方法。 After the lithographic printing plate material according to any one of claims 1 to 3 is image-exposed, the lithographic printing plate material is mounted on a printing machine, and a dampening solution and ink are supplied to the surface of the lithographic printing plate material to form a non-image portion. A lithographic printing method comprising removing and printing.
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