JP2007136938A - Lithographic printing plate material, method for preparing lithographic printing plate and method for processing lithographic printing plate - Google Patents

Lithographic printing plate material, method for preparing lithographic printing plate and method for processing lithographic printing plate Download PDF

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JP2007136938A JP2005335840A JP2005335840A JP2007136938A JP 2007136938 A JP2007136938 A JP 2007136938A JP 2005335840 A JP2005335840 A JP 2005335840A JP 2005335840 A JP2005335840 A JP 2005335840A JP 2007136938 A JP2007136938 A JP 2007136938A
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三郎 平岡
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate material having on-machine developing properties, good sensitivity, good scuff resistance, and good handling properties. <P>SOLUTION: In the lithographic printing plate material having an image forming layer comprising a hot-melt particle, at least one compound selected from a polymerizable monomer with an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer, and a polymerization initiator on a hydrophilic substrate, the polymerization starting temperature T1 with at least one compound selected from the polymerizable monomer with the unsaturated ethylene group and the polymerizable prepolymer, and the polymerization initiator is higher than the melting point T2 of the hot-melt particle. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、平版印刷版材料および平版印刷版材料を用いた平版印刷版の作製方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate material and a method for producing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material.

近年、コンピュータの普及に同期して、印刷版技術においても、デジタル画像データを元にコンピュータを介して半導体レーザーを用いてPS版に直接画像入力するCTP技術がプロセスの簡易化、コストの面で注目されてきている。また環境問題の対応、オフィスの少スペース化が進み、現像液による処理を必要としない、いわゆるプロセスレスCTP技術の発展が目覚しい。   In recent years, in synchronization with the spread of computers, CTP technology that directly inputs images to the PS plate using a semiconductor laser via a computer based on digital image data is also used in printing plate technology in terms of process simplification and cost. Has attracted attention. In addition, the progress of so-called processless CTP technology, which does not require processing with a developing solution, is progressing as environmental problems and office space are reduced.

これらの技術の中で、近年実用化に向け、技術の完成度が高いものとして、印刷用親水性支持体上に親水性樹脂により分散された熱溶融性粒子を含有する感熱層が積層された、平版印刷版材料が挙げられる。この技術は感熱層に半導体レーザーなどで画像様露光を行うことで、レーザー照射部分の熱溶融性粒子が融解され、親水性支持体に密着することで固定され、レーザー照射されていない部分は印刷機のインキローラーや湿し水ローラーもしくはブランケットにより除去されることにより現像される、いわゆる印刷機上現像タイプの平版印刷版材料である。(例えば、特許文献1、2を参照)これらの技術によれば、印刷機上現像性と画像強度(耐刷性)は親水性樹脂の含有量に影響され、機上現像性と画像強度のハイバランスでの両立は困難であった。   Among these technologies, for practical use in recent years, a heat-sensitive layer containing hot-melt particles dispersed with a hydrophilic resin was laminated on a hydrophilic support for printing, as the technology was highly complete. And lithographic printing plate materials. In this technology, the heat-sensitive layer is imagewise exposed with a semiconductor laser, etc., and the heat-meltable particles in the laser-irradiated part are melted and fixed by adhering to the hydrophilic support, and the part not irradiated with laser is printed. It is a so-called on-press development type lithographic printing plate material that is developed by being removed by an ink roller, a dampening water roller or a blanket. (For example, see Patent Documents 1 and 2) According to these techniques, the on-press developability and image strength (printing durability) are affected by the hydrophilic resin content, and the on-press developability and image strength It was difficult to achieve high balance.

機上現像性を確保するために熱溶融性粒子を含有する感熱層に有機塩基または無機塩を含有させた平版印刷版材料が開示されている。(例えば、特許文献3、4を参照)これらによれば、露光により画像部塗膜中に残存した有機塩基、無機塩は印刷中に塗膜から排除されるために画像部の強度が維持され、耐刷力の劣化が少なくなるが、画像強度の維持としては不十分であった。また、有機塩基、無機塩が熱溶融性粒子の融着を阻害してしまい、感度が低下してしまう。   A lithographic printing plate material is disclosed in which an organic base or an inorganic salt is contained in a heat-sensitive layer containing heat-meltable particles in order to ensure on-press developability. (For example, refer to Patent Documents 3 and 4) According to these, since the organic base and inorganic salt remaining in the image portion coating film by exposure are excluded from the coating film during printing, the strength of the image portion is maintained. Although the deterioration of the printing durability is reduced, it is insufficient for maintaining the image strength. Moreover, an organic base and an inorganic salt inhibit the fusion | melting of a heat-meltable particle, and a sensitivity will fall.

上述のように、印刷機上現像性を確保するために、現像性を確保するための対策を講じた場合、耐刷性の維持、向上が困難な状態にあった。   As described above, in order to ensure developability on a printing press, when measures are taken to ensure developability, it was difficult to maintain and improve printing durability.

また、耐刷力向上の為、印刷用親水性支持体上に親水性樹脂により分散された熱溶融性粒子を含有する感熱層が積層された、平版印刷版材料であって、感熱層に架橋剤が含有された例が記載されている。(例えば、特許文献5を参照)この例によれば、印刷機上現像性を確保しつつ、画像強度の向上が望めるが、その効果としては十分ではなかった。また、硬化剤の種類によっては感度の低下が見られた。
特許第29388397号公報 特許第293897号公報 特表2004−522625号公報 特表2004−522991号公報 特開平10−128945号公報
Further, in order to improve printing durability, a lithographic printing plate material in which a heat-sensitive layer containing heat-fusible particles dispersed by a hydrophilic resin is laminated on a printing hydrophilic support, which is crosslinked to the heat-sensitive layer Examples containing the agent are described. (For example, see Patent Document 5) According to this example, it is possible to improve the image strength while ensuring developability on a printing press, but the effect is not sufficient. Moreover, the fall of the sensitivity was seen depending on the kind of hardening | curing agent.
Japanese Patent No. 293888397 Japanese Patent No. 293897 Special table 2004-522625 gazette Japanese translation of PCT publication No. 2004-522991 JP-A-10-128945

本発明は上記状況を鑑みてなされた発明であって、本発明の目的は機上現像性を有し感度、耐傷性が良好な、取り扱い性の良い平版印刷版材料およびそれを用いた平版印刷版の作製方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is a lithographic printing plate material having on-machine developability, good sensitivity and scratch resistance, good handleability, and lithographic printing using the same It is to provide a method for producing a plate.

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.親水性支持体上に熱溶融性粒子、不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくも1種の化合物、重合開始剤を含有する画像形成層を有する平版印刷版材料において、該不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及び該重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物と重合開始剤による重合開始温度T1が該熱溶融性粒子の融点T2より高いことを特徴とする平版印刷版材料。   1. A lithographic printing plate material having an image forming layer containing at least one compound selected from a heat-meltable particle, a polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer on a hydrophilic support, and a polymerization initiator The polymerization start temperature T1 by at least one compound selected from the polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group and the polymerizable prepolymer and a polymerization initiator is higher than the melting point T2 of the hot-melt particles. Lithographic printing plate material to do.

2.前記不飽和エチレン基を有するモノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物と重合開始剤による重合開始温度T1と熱溶融性粒子の融点T2の差が10〜50℃以下であることを特徴とする前記1に記載の平版印刷版材料。   2. The difference between the polymerization start temperature T1 by the at least one compound selected from the monomer having an unsaturated ethylene group and the polymerizable prepolymer and the polymerization initiator and the melting point T2 of the hot-melt particles is 10 to 50 ° C. or less. 2. The lithographic printing plate material as described in 1 above.

3.前記不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物が水溶性であることを特徴とする前記1又は2に記載の平版印刷版材料。   3. 3. The lithographic printing plate material as described in 1 or 2 above, wherein at least one compound selected from a polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer is water-soluble.

4.前記熱融性粒子の画像形成層中の含有量が60質量%以下であることを特徴とする前記1〜3の何れか1項に記載の平版印刷版材料。   4). 4. The lithographic printing plate material as described in any one of 1 to 3 above, wherein the content of the heat-fusible particles in the image forming layer is 60% by mass or less.

5.前記1〜4の何れか1項に記載の平版印刷版材料に、不飽和エチレン基を有するモノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物と重合開始剤による重合開始温度T1より高い温度で描画することを特徴とする平版印刷版の作製方法。   5. The lithographic printing plate material according to any one of 1 to 4 above, a temperature higher than a polymerization initiation temperature T1 by at least one compound selected from a monomer having an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer and a polymerization initiator. A method for producing a lithographic printing plate, characterized by drawing with

6.前記5に記載の平版印刷版の作製方法により画像描画した平版印刷版材料を、印刷機のシリンダーに取り付けた後、湿し水、印刷用インキを供給しながら現像することを特徴とする平版印刷版の処理方法。   6). The lithographic printing plate material image-drawn by the method of preparing a lithographic printing plate as described in 5 above is mounted on a cylinder of a printing machine, and then developed while supplying dampening water and printing ink. Plate processing method.

本発明による平版印刷版材料およびそれを用いた平版印刷版の作製方法は、機上現像性を有し感度、耐傷性が良好な、取り扱い性が良く優れた効果を有する。   The lithographic printing plate material according to the present invention and the method for producing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate material have excellent on-machine developability, good sensitivity and scratch resistance, good handleability and excellent effects.

以下、本発明の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

本発明の平版印刷版材料は、親水性支持体上に熱溶融性粒子、不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及びプレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物、重合開始剤を含有する画像形成層を有している。   The lithographic printing plate material of the present invention comprises an image forming layer containing, on a hydrophilic support, at least one compound selected from hot melt particles, a polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group, and a prepolymer, and a polymerization initiator. have.

不飽和エチレン基を有する重合性モノマー/プレポリマー
本発明に用いられる光重合性化合物は、少なくとも活性光で重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノマー/プレポリマーを含有する。
Polymerizable monomer / prepolymer having an unsaturated ethylene group The photopolymerizable compound used in the present invention contains at least a monomer / prepolymer having an ethylenically unsaturated bond that can be polymerized with active light.

光重合性のモノマー/プレポリマーとしては、例えば、2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物、或いはトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合物等を挙げることができる。又エチレン性不飽和結合を有する樹脂は、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸、又はメタアクリル酸を導入し、重合性を付与した、いわゆるプレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。その他の好ましい光重合性化合物としては、特開昭61−6649号、同62−173295号等に記載の化合物、特開2005−41206号(0085)〜(0097)に記載の化合物、「11290の化学商品」化学工業日報社、p.286〜294に記載の化合物、「UV・EB硬化ハンドブック(原料編)」高分子刊行会、p.11〜65に記載の化合物を本発明に好ましく用いることができる。
上記の重合性モノマー/プレポリマーは、印刷機上での現像性を容易にするため、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸、アミノ基もしくはそれらの塩、水酸基、アミド基およびエーテル基などの親水性を有する官能基を修飾させ、水溶性にすることがより好ましい。
Examples of the photopolymerizable monomer / prepolymer include monofunctional acrylic acid esters such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and derivatives thereof, or acrylates thereof such as methacrylate, itaconate, crotonate, Compound substituted for maleate, etc., polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, bisphenol A diacrylate, bifunctional acrylic acid ester such as diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxypivalate and its derivatives or their derivatives Compounds in which acrylate is replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc., or trimethylolpropane tri (meth) a Examples include polyfunctional acrylic esters such as relates, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pyrogallol triacrylate and derivatives thereof, or compounds in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc. . As the resin having an ethylenically unsaturated bond, a so-called prepolymer in which acrylic acid or methacrylic acid is introduced into an oligomer having an appropriate molecular weight to impart polymerizability can be suitably used. Other preferable photopolymerizable compounds include compounds described in JP-A Nos. 61-6649 and 62-173295, compounds described in JP-A-2005-41206 (0085) to (0097), “11290 “Chemical Products”, Chemical Industry Daily, p. Compounds described in 286 to 294, “UV / EB Curing Handbook (raw material)”, Kobunshi Publishing Co., Ltd., p. The compounds described in 11 to 65 can be preferably used in the present invention.
The above polymerizable monomer / prepolymer has hydrophilic properties such as carboxyl group, sulfonic acid group, phosphoric acid, amino group or salts thereof, hydroxyl group, amide group and ether group in order to facilitate developability on a printing press. It is more preferable to modify the functional group having the property to make it water-soluble.

重合開始剤
本発明の重合開始素材は、光及び/または熱によりラジカルを発生させて、前述の光重合化合物の硬化反応を開始させるものである。いわゆる、光重合開始素材または熱重合開始素材であり、本発明においては、光熱変換剤を併用するため、熱により分解してラジカルを発生させる熱重合開始素材が好ましく用いられる。
Polymerization initiator The polymerization initiating material of the present invention generates radicals by light and / or heat, and initiates the curing reaction of the aforementioned photopolymerization compound. In the present invention, a photopolymerization initiating material or a thermal polymerization initiating material is used. In the present invention, since a photothermal conversion agent is used in combination, a thermal polymerization initiating material that decomposes by heat to generate radicals is preferably used.

本発明の重合開始素材として、オニウム塩、ハロゲン原子を有するトリアジン系化合物(特公昭59−1281号、同61−9621号、特開昭60−60104号に記載のトリアジン誘導体等)、鉄アレーン錯体及びビスイミダゾール(特開昭55−127550号、同60−202437号に記載の2,4,5−トリアリールイミダゾール2量体等)が好ましく用いられる。   As a polymerization initiation material of the present invention, an onium salt, a triazine compound having a halogen atom (such as triazine derivatives described in JP-B-59-1281, 61-9621, and JP-A-60-60104), an iron arene complex And bisimidazoles (such as 2,4,5-triarylimidazole dimers described in JP-A Nos. 55-127550 and 60-202437) are preferably used.

オニウム塩としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスソニウム塩、スタンノニウム塩、オキサゾリウム塩等が挙げられるが、好ましくは、下記一般式(I)、(II)、(III)又は(IV)で表される化合物である。   Examples of the onium salt include an iodonium salt, a sulfonium salt, a phossonium salt, a stannonium salt, an oxazolium salt, and the like, preferably represented by the following general formula (I), (II), (III), or (IV) A compound.

Figure 2007136938
Figure 2007136938

一般式(I)、(II)、(III)又は(IV)において、R1〜R4及びR10〜R13は各々、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、R1〜R4及びR10〜R13が各々、互いに結合して環を形成してもよい。R5、R6及びR7は各々、アルキル基又はアリール基を表し、R5〜R7が互いに結合して環を形成してもよい。R8及びR9は各々、アリール基を表し、X-は対アニオンを表す。 In the general formula (I), (II), (III) or (IV), R 1 to R 4 and R 10 to R 13 each represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group, and R 1 to R 4 and R 10 to R 13 may be bonded to each other to form a ring. R 5 , R 6 and R 7 each represents an alkyl group or an aryl group, and R 5 to R 7 may be bonded to each other to form a ring. R8 and R9 each represents an aryl group, and X represents a counter anion.

まず、一般式(I)で表されるホスホニウム塩化合物(以下、本発明のホスホニウム塩と記す)について詳述する。   First, the phosphonium salt compound represented by the general formula (I) (hereinafter referred to as the phosphonium salt of the present invention) will be described in detail.

1〜R4で表される置換基の具体例としては以下の如くである。 Specific examples of the substituent represented by R 1 to R 4 are as follows.

アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)が好ましい。   Alkyl groups include straight-chain and branched alkyl groups such as methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl, stearyl groups and the like. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may be bonded to each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

アリール基としてはフェニル、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネチル基等が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl groups, and examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl groups.

これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としてハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイル基、−COOR基、−OCOR基(Rはアルキル基、アリール基等の有機基)が挙げられる。   These groups may be further substituted, and as a substituent, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an alkyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an amino group (including an alkyl-substituted amino group), an alkoxy group, a carbamoyl group, -COOR group and -OCOR group (R is an organic group such as an alkyl group and an aryl group).

-で表される対アニオンとしては、1価のアニオンであれば特に制約されないが、好ましくはハロゲンイオンであり、更に塩素及び臭素アニオンが発色濃度の点で望ましい。対アニオンの具体例としては、ブロマイド、クロライド、アイオダイド、フルオライド、パークロレート、ベンゾエート、チオシアナート、アセテート、トリフルオロアセテート、ヘキサフルオロホスフェート、ナイトレート、サリシネート等が挙げられる。 The counter anion represented by X is not particularly limited as long as it is a monovalent anion, but is preferably a halogen ion, and chlorine and bromine anions are more desirable in terms of color density. Specific examples of the counter anion include bromide, chloride, iodide, fluoride, perchlorate, benzoate, thiocyanate, acetate, trifluoroacetate, hexafluorophosphate, nitrate, salicinate and the like.

次に、一般式(II)で表されるスルホニウム塩化合物(以下、本発明のスルホニウム塩と記す)について詳述する。   Next, the sulfonium salt compound represented by the general formula (II) (hereinafter referred to as the sulfonium salt of the present invention) will be described in detail.

5〜R7で表される置換基の具体例としては以下の如くである。
アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基が含まれ、メチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル基等が挙げられる。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)が好ましい。
Specific examples of the substituent represented by R 5 to R 7 are as follows.
Alkyl groups include linear and branched alkyl groups, and include methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl, stearyl groups and the like. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may be bonded to each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられる。   Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl.

5〜R7が互いに結合してS+と共に形成する環としては、ベンゾチアチオピリリウム環などが挙げられる。 Examples of the ring formed by combining R 5 to R 7 together with S + include a benzothiathiopyrylium ring.

これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。   These groups may be further substituted, and examples of the substituent include the same groups as those described in the general formula (I).

-で表される対アニオンは、一般式(I)のX-と同義である。
更に、一般式(III)で表されるヨードニウム塩化合物(以下、本発明のヨードニウム塩と記す)について詳述する。
X - counter anion represented by, X of the general Formulas (I) - is synonymous.
Furthermore, the iodonium salt compound represented by the general formula (III) (hereinafter referred to as the iodonium salt of the present invention) will be described in detail.

8及びR9で表されるアリール基としてはフェニル、ナフチル基等が挙げられるが、これらの基は更に置換されていてもよく、置換基としては、前記一般式(I)で述べた基と同様の基が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by R 8 and R 9 include phenyl and naphthyl groups. These groups may be further substituted, and examples of the substituent include the groups described in the general formula (I). The same group is mentioned.

-で表される対アニオンは、一般式(I)のX-と同義である。 X - counter anion represented by, X of the general Formulas (I) - is synonymous.

次に、一般式(IV)で表されるアンモニウム塩化合物(以下、本発明のアンモニウム塩と記す)について詳述する。   Next, the ammonium salt compound represented by the general formula (IV) (hereinafter referred to as the ammonium salt of the present invention) will be described in detail.

10〜R13で表される置換基の具体例としては以下の如くである。
アルキル基としては直鎖、分岐アルキル基が含まれ、例えばメチル、エチル、ブチル、i−ブチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル等が挙げられる。発色濃度の点から炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、特にブチル基が好ましい。これらのアルキル基は互いに結合して環を形成してもよく、シクロアルキル基としては5〜7員環のもの(例えばシクロペンチル、シクロヘキシル基等)が好ましい。
Specific examples of the substituent represented by R 10 to R 13 are as follows.
Alkyl groups include straight-chain and branched alkyl groups such as methyl, ethyl, butyl, i-butyl, hexyl, octyl, stearyl and the like. From the viewpoint of color density, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and a butyl group is particularly preferable. These alkyl groups may be bonded to each other to form a ring, and the cycloalkyl group is preferably a 5- to 7-membered ring (for example, cyclopentyl, cyclohexyl group, etc.).

アリール基としてはフェニル、ナフチル基等が挙げられ、アラルキル基としてはベンジル、フェネチル基等が挙げられる。
これらの基は更に置換されていてもよく、置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アリール基、ヒドロキシル基、アミノ基(アルキル置換アミノ基を含む)、アルコキシ基、カルバモイル基、−COOR基、−OCOR(Rはアルキル基、アリール基等の有機基)が挙げられる。
Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl groups, and examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl groups.
These groups may be further substituted, and as a substituent, a halogen atom, cyano group, nitro group, alkyl group, aryl group, hydroxyl group, amino group (including alkyl-substituted amino group), alkoxy group, carbamoyl group , -COOR group, and -OCOR (wherein R represents an organic group such as an alkyl group or an aryl group).

以下に、本発明に利用可能なオニウム塩の例を挙げるが、これらに限定されない。   Examples of onium salts that can be used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2007136938
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Figure 2007136938
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また、その他の好ましいオニウム塩としては、特公昭55−39162号、特開昭59−14023号並びに「マクロモレキュルス(Macromolecules)」第10巻、第1307頁(1977年)に記載の各種オニウム化合物が挙げられる。   Other preferable onium salts include various oniums described in JP-B-55-39162, JP-A-59-14023, and “Macromolecules”, Vol. 10, page 1307 (1977). Compounds.

本発明のオニウム塩の添加量は、オニウム塩の種類及び使用形態により異なるが、画像形成材料1m2当たり0.2〜5gが好ましい。
鉄アレーン錯体としては下記構造のものが挙げられる。
The addition amount of the onium salt of the present invention is preferably 0.2 to 5 g per 1 m 2 of the image forming material, although it varies depending on the kind of onium salt and the usage form.
Examples of the iron arene complex include the following structures.

Figure 2007136938
Figure 2007136938

尚、式中R1はアルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。
好ましくは化合物(1)−1である。
In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or an alkoxy group.
Preferably it is compound (1) -1.

Figure 2007136938
Figure 2007136938

化合物(1)−1
またビスイミダゾール化合物として下記構造のものを用いることが好ましい。
Compound (1) -1
Moreover, it is preferable to use the thing of the following structure as a bisimidazole compound.

Figure 2007136938
Figure 2007136938

これらの重合開始素材のうち、オニウム塩が特に好ましい。   Of these polymerization starting materials, onium salts are particularly preferred.

これらの重合開始素材は、更なる感度向上を目的として他のラジカル発生剤と併用することができ、併用可能なラジカル発生剤としては、特開昭59−1504号並びに同61−243807号に記載の有機過酸化物、特公昭43−23684号、同44−6413号、同44−6413号、同47−1604号並びに米国特許第3,567,453号に記載のジアゾニウム化合物、米国特許第2,848,328号、同2,852,379号並びに同2,940,853号に記載の有機アジド化合物、特公昭36−22062号、同37−13109号、同38−18015号並びに同45−9610号に記載のオルト−キノンジアジド類、特開昭59−142205号に記載のアゾ化合物、特開平1−54440号、欧州特許第109,851号、同第126,712号、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス(J.Imag.Sci.)」第30巻、第174頁(1986年)に記載のその他の金属アレーン錯体、特願平4−56831号及び同4−89535号に記載の(オキソ)スルホニウム有機ホウ素錯体、特開昭61−151197号に記載のチタノセン類、「コーディネーション・ケミストリー・レビュー(Coordination Chemistry Review)」第84巻、第85〜277頁(1988年)並びに特開平2−182701号に記載のルテニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平3−209477号に記載の4臭化炭素、特開昭59−107344号に記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられる。   These polymerization initiating materials can be used in combination with other radical generators for the purpose of further improving the sensitivity. Examples of radical generators that can be used in combination are described in JP-A Nos. 59-1504 and 61-243807. Organic peroxides described in JP-B Nos. 43-23684, 44-6413, 44-6413, 47-1604 and U.S. Pat. No. 3,567,453, U.S. Pat. , 848,328, 2,852,379 and 2,940,853, JP-B 36-22062, 37-13109, 38-18015, and 45- Ortho-quinonediazides described in 9610, azo compounds described in JP-A-59-142205, JP-A-1-54440, European Patent 109, 51, 126,712, Journal of Imaging Science (J. Imag. Sci.), Volume 30, page 174 (1986), other metal arene complexes, (Oxo) sulfonium organoboron complexes described in JP-A Nos. 4-56831 and 4-89535, titanocenes described in JP-A No. 61-151197, “Coordination Chemistry Review”, Vol. 84, 85-277 (1988) and transition metal complexes containing transition metals such as ruthenium described in JP-A-2-182701, carbon tetrabromide described in JP-A-3-209477, JP-A 59- And the organic halogen compounds described in No. 107344.

本発明において用いられる重合開始剤は、極大吸収波長が400nm以下であることが好ましい。より好ましくは、極大吸収波長が360nm以下であり、最も好ましくは300nm以下である。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。   The polymerization initiator used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength of 400 nm or less. More preferably, the maximum absorption wavelength is 360 nm or less, and most preferably 300 nm or less. By making the absorption wavelength in the ultraviolet region in this way, the lithographic printing plate precursor can be handled under white light.

本発明において、前記不飽和エチレン基を有する重合性モノマーおよび/まはたはプレポリマー、重合開始剤による重合開始温度T1は80℃以上、200℃以下であることが好ましい。80℃未満であると保管中に重合反応が進み、印刷機上での現像性が劣化する傾向にある。また、200℃を超えると、レーザー露光感度の低下、画像耐久性の劣化が見られる。   In the present invention, the polymerization start temperature T1 by the polymerizable monomer and / or prepolymer or polymerization initiator having an unsaturated ethylene group is preferably 80 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. If it is less than 80 ° C., the polymerization reaction proceeds during storage, and the developability on the printing press tends to deteriorate. Moreover, when it exceeds 200 degreeC, the fall of a laser exposure sensitivity and deterioration of image durability will be seen.

重合開始温度は、選択する重合性モノマー、プレポリマーと重合開始剤の組み合わせにより、種々選択できるが、重合開始剤の分解温度により、凡その重合開始温度が調節できる。   The polymerization initiation temperature can be variously selected depending on the selected polymerizable monomer, prepolymer and polymerization initiator combination, but the approximate polymerization initiation temperature can be adjusted by the decomposition temperature of the polymerization initiator.

溶融温度は重合性モノマーおよび/またはプレポリマーと重合開始剤の混合物を示差熱天秤(TG−DTA)分析装置ThermoPlus2(理学電機工業製)を用いて、吸熱温度のピークより求めることが出来る。   The melting temperature can be determined from the peak of the endothermic temperature by using a differential thermal balance (TG-DTA) analyzer ThermoPlus2 (manufactured by Rigaku Denki Kogyo) for a mixture of a polymerizable monomer and / or a prepolymer and a polymerization initiator.

熱溶融性粒子
本発明において、熱溶融性粒子は、熱溶融性物質、熱可塑性樹脂の粒子状物質のことをいう。熱溶融性物質としてはワックス類としては、カルナバワックス、蜜ろう、鯨ろう、木ろう、ホホバ油、ラノリン、オゾケライト、パラフィンワックス、モンタンワックス類、キャンデリンワックス、セレシンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ライスワックスなどの天然ワックス、ポリエチレンワックス、FTワックス、フィッシャートロプシュワックス、モンタンワックス誘導体、パラフィンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワックス誘導体、高級脂肪酸等が挙げられる。
Heat-meltable particle In the present invention, the heat-meltable particle refers to a heat-meltable substance or a particulate material of a thermoplastic resin. As the hot-melt material, the waxes include carnauba wax, beeswax, whale wax, wood wax, jojoba oil, lanolin, ozokerite, paraffin wax, montan wax, candelin wax, ceresin wax, microcrystalline wax, rice wax. And natural waxes such as polyethylene wax, FT wax, Fischer-Tropsch wax, montan wax derivative, paraffin wax derivative, microcrystalline wax derivative, higher fatty acid and the like.

また、熱可塑性樹脂としてはポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、エチレンーブタジエン共重合体等のジエン重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等の合成ゴム類、メチルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、アクリロニトリルなどを構成成分とした(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル類、ポリウレタン類などが挙げられる。   In addition, as thermoplastic resins, synthesis of diene polymers such as polypropylene, polybutadiene, polyisoprene and ethylene-butadiene copolymers, styrene-butadiene copolymers, methyl methacrylate-butadiene copolymers, acrylonitrile-butadiene copolymers, etc. Examples include (meth) acrylic acid ester copolymers, polystyrene, polyvinyl chloride, polyesters, polyurethanes, etc., which contain rubbers, methyl methacrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, acrylonitrile and the like as constituent components.

これらのうち、カルナバワックスや(メタ)アクリル酸エステル−スチレンの共重合体は熱応答性(加熱時の溶融粘度が低い)および室温時の硬度があり、レーザー露光感度、解像度および画像耐久性が優れている。   Among these, carnauba wax and (meth) acrylic acid ester-styrene copolymers have thermal responsiveness (low melt viscosity when heated) and hardness at room temperature, and have laser exposure sensitivity, resolution and image durability. Are better.

熱溶融性物質、熱可塑性樹脂を微粒子化する方法としては、公知の方法を利用でき、化学的手法としては乳化重合法、懸濁重合法、溶液重合法、気相重合法などが挙げられる。物理的手法としては、熱溶融性物質、熱可塑性樹脂を加熱溶融状態にし、界面活性剤、pH調整剤などと共に溶媒中で強攪拌する方法が利用できる。   A known method can be used as a method for making a heat-meltable substance or a thermoplastic resin into fine particles. Examples of chemical methods include emulsion polymerization, suspension polymerization, solution polymerization, and gas phase polymerization. As a physical method, a method in which a heat-meltable substance or a thermoplastic resin is heated and melted and stirred strongly in a solvent together with a surfactant, a pH adjuster, or the like can be used.

熱融着性粒子の平均粒径は、0.02〜2μmであることが好ましく、更に好ましくは0.05〜0.8μmである。この範囲より小さいと、水現像性、印刷機上での湿し水及び/または印刷用インクを用いた現像性が劣化し、この範囲より大きいとレーザー露光感度の低下、画像耐久性の劣化が見られる。   The average particle diameter of the heat-fusible particles is preferably 0.02 to 2 μm, more preferably 0.05 to 0.8 μm. If it is smaller than this range, water developability and developability using dampening water and / or printing ink on the printing press deteriorate, and if it exceeds this range, laser exposure sensitivity and image durability deteriorate. It can be seen.

本発明において、熱溶融性粒子の融点T2は80℃以上、150℃以下であることが好ましい。80℃未満であると熱溶融性微粒子が保管中に徐々に融着が進み、印刷機上での現像性が劣化する傾向にある。また、150℃を超えると、レーザー露光感度の低下、画像耐久性の劣化が見られる。   In the present invention, the melting point T2 of the heat-meltable particles is preferably 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. When the temperature is lower than 80 ° C., the fusion of the heat-meltable fine particles gradually proceeds during storage, and the developability on the printing press tends to deteriorate. On the other hand, when the temperature exceeds 150 ° C., the laser exposure sensitivity is lowered and the image durability is deteriorated.

融点は乾燥した熱溶融性微粒子を示差熱天秤(TG−DTA)分析装置ThermoPlus2(理学電機工業製)を用いて、吸熱温度のピークより求めることが出来る。   The melting point can be determined from the peak of the endothermic temperature by using a differential thermal balance (TG-DTA) analyzer ThermoPlus2 (manufactured by Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd.) for the dried thermomeltable fine particles.

本発明において、熱溶融性粒子の画像形成層中における含有量は60質量%以下であることが好ましい。60質量%を超えると、圧力によって熱溶融性粒子の融着が進み、印刷機上での現像性が劣化したり、地汚れになる傾向がある。   In the present invention, the content of the heat-meltable particles in the image forming layer is preferably 60% by mass or less. If it exceeds 60% by mass, the fusion of the heat-meltable particles proceeds due to the pressure, and the developability on the printing press tends to be deteriorated or background stains tend to occur.

重合性モノマーおよび/またはプレポリマーと重合開始剤による重合開始温度T1と熱 溶融性粒子の融点T2の関係は、重合性モノマーおよび/またはプレポリマーと重合開始剤による重合開始温度T1が熱溶融性粒子の融点T2がよりも高い方が好ましい。この関係は熱溶融性粒子の融着と、重合性モノマーおよび/またはプレポリマーと重合開始剤からなる重合性組成物の重合反応が効率よく進行するのに必要である。この関係から外れると、熱溶融性粒子の融着が、重合成組成物の重合により阻害され、十分な画像強度が得られない。   The relationship between the polymerization start temperature T1 due to the polymerizable monomer and / or prepolymer and polymerization initiator and the melting point T2 of the thermally fusible particles is that the polymerization start temperature T1 due to the polymerizable monomer and / or prepolymer and polymerization initiator is hot meltable. It is preferable that the melting point T2 of the particles is higher. This relationship is necessary for the efficient fusion of the heat-meltable particles and the polymerization reaction of the polymerizable composition comprising the polymerizable monomer and / or prepolymer and the polymerization initiator. If it is out of this relationship, the fusion of the heat-meltable particles is hindered by the polymerization of the polysynthetic composition, and sufficient image strength cannot be obtained.

さらに、T1とT2の差が10〜50℃であることが好ましい。この範囲であると、さらに熱溶融性粒子の融着と、重合性組成物による重合反応の効率が更によく、耐刷力が大幅に向上する。   Furthermore, the difference between T1 and T2 is preferably 10 to 50 ° C. Within this range, the efficiency of the fusion of the heat-meltable particles and the polymerization reaction by the polymerizable composition is further improved, and the printing durability is greatly improved.

光熱変換素材
本発明の画像形成層には電磁波を吸収して熱を発生する変換光熱変換剤素材を含有することが好ましい。光熱変換剤としては赤外線吸収色素、顔料、金属、金属酸化物などが挙げられる。
Photothermal Conversion Material The image forming layer of the present invention preferably contains a converted photothermal conversion material that absorbs electromagnetic waves and generates heat. Examples of the photothermal conversion agent include infrared absorbing dyes, pigments, metals, and metal oxides.

赤外吸収色素としては、一般的な赤外吸収色素であるシアニン系色素、クロコニウム系色素、ポリメチン系色素、アズレニウム系色素、スクワリウム系色素、チオピリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素などの有機化合物、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、アゾ系、チオアミド系、ジチオール系、インドアニリン系の有機金属錯体などが挙げられる。   Examples of infrared absorbing dyes include organic dyes such as cyanine dyes, croconium dyes, polymethine dyes, azurenium dyes, squalium dyes, thiopyrylium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, which are general infrared absorbing dyes. Examples thereof include compounds, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, azo-based, thioamide-based, dithiol-based, and indoaniline-based organometallic complexes.

具体的には、特開昭63−139191号、同64−33547号、特開平1−160683号、同1−280750号、同1−293342号、同2−2074号、同3−26593号、同3−30991号、同3−34891号、同3−36093号、同3−36094号、同3−36095号、同3−42281号、同3−97589号、同3−103476号、同7−43851号、同7−102179号、特開2001−117201の各公報等に記載の化合物が挙げられる。これらは一種または二種以上を組み合わせて用いることができる。   Specifically, JP-A-63-139191, JP-A-64-33547, JP-A-1-160683, JP-A-280750, JP-A-1-293342, JP-A-2-2074, JP-A-3-26593, 3-30991, 3-34891, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, 3-97589, 3-103476, 7 -43851, 7-102179, JP-A-2001-117201, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

顔料としては、カーボン、グラファイト、金属、金属酸化物等が挙げられる。   Examples of the pigment include carbon, graphite, metal, metal oxide and the like.

カーボンとしては特にファーネスブラックやアセチレンブラックの使用が好ましい。粒度(d50)は100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることが更に好ましい。   As carbon, furnace black or acetylene black is particularly preferable. The particle size (d50) is preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

グラファイトとしては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子を使用することができる。   As the graphite, fine particles having a particle size of 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less can be used.

金属としては粒径が0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下の微粒子であれば何れの金属であっても使用することができる。形状としては球状、片状、針状等何れの形状でもよい。特にコロイド状金属微粒子(Ag、Au等)が好ましい。   As the metal, any metal can be used as long as the particle diameter is 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. The shape may be any shape such as a spherical shape, a piece shape, or a needle shape. Colloidal metal fine particles (Ag, Au, etc.) are particularly preferable.

金属酸化物としては、可視光域で黒色を呈している素材または素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材を使用することができる。可視光域で黒色を呈している素材しては、黒色酸化鉄(Fe34)や、前述の二種以上の金属を含有する黒色複合金属酸化物が挙げられる。金属酸化物が二種以上の金属の酸化物からなる黒色複合金属酸化物であることである。具体的には、Al、Ti、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Sb、Baから選ばれる二種以上の金属からなる複合金属酸化物である。これらは特開平8−27393号、同9−25126号、同9−237570号、同9−241529号、同10−231441号の各公報等に開示されている方法により製造することができる。本発明に用いることができる複合金属酸化物としては、特にCu−Cr−Mn系またはCu−Fe−Mn系の複合金属酸化物であることが好ましい。Cu−Cr−Mn系の場合には、6価クロムの溶出を低減させるために、特開平8−27393号公報に開示されている処理を施すことが好ましい。これらの複合金属酸化物は添加量に対する着色、つまり光熱変換効率が良好である。これらの複合金属酸化物は平均1次粒子径が1μm以下であることが好ましく、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲にあることがより好ましい。平均1次粒子径が1μm以下とすることで、添加量に対する光熱変換能がより良好となり、平均1次粒子径が0.01〜0.5μmの範囲とすることで添加量に対する光熱変換能がより良好となる。但し、添加量に対する光熱変換能は粒子の分散度にも大きく影響を受け、分散が良好であるほど良好となる。 As the metal oxide, a material that is black in the visible light region or a material that is conductive or that is a semiconductor can be used. Examples of the material exhibiting black color in the visible light region include black iron oxide (Fe 3 O 4 ) and black mixed metal oxides containing two or more of the aforementioned metals. The metal oxide is a black complex metal oxide composed of two or more kinds of metal oxides. Specifically, it is a composite metal oxide composed of two or more metals selected from Al, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Sb, and Ba. These can be produced by the methods disclosed in JP-A-8-27393, 9-25126, 9-237570, 9-241529, and 10-231441. The composite metal oxide that can be used in the present invention is particularly preferably a Cu-Cr-Mn-based or Cu-Fe-Mn-based composite metal oxide. In the case of a Cu—Cr—Mn system, it is preferable to perform the treatment disclosed in JP-A-8-27393 in order to reduce the elution of hexavalent chromium. These composite metal oxides are colored with respect to the amount added, that is, have good photothermal conversion efficiency. These composite metal oxides preferably have an average primary particle size of 1 μm or less, and more preferably have an average primary particle size in the range of 0.01 to 0.5 μm. When the average primary particle diameter is 1 μm or less, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount becomes better, and when the average primary particle diameter is within the range of 0.01 to 0.5 μm, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is obtained. Better. However, the photothermal conversion ability with respect to the addition amount is greatly affected by the degree of dispersion of the particles, and the better the dispersion, the better.

素材自体が導電性を有するか、半導体であるような素材としては、例えば、SbをドープしたSnO2(ATO)、Snを添加したIn23(ITO)、TiO2、TiO2を還元したTiO(酸化窒化チタン、一般的にはチタンブラック)などが挙げられる。また、これらの金属酸化物で芯材(BaSO4、TiO2、9Al23・2B2O、K2O・nTiO2等)を被覆したものも使用することができる。これらの粒径は0.5μm以下、好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下である。 Examples of materials that have conductivity or are semiconductors include reduced Sb-doped SnO 2 (ATO), Sn-added In 2 O 3 (ITO), TiO 2 , and TiO 2 . Examples thereof include TiO (titanium oxynitride, generally titanium black). Further, it is also possible to use those obtained by coating the core material (BaSO 4, TiO 2, 9Al 2 O 3 · 2B 2 O, K 2 O · nTiO 2 , etc.) in these metal oxides. These particle sizes are 0.5 μm or less, preferably 100 nm or less, and more preferably 50 nm or less.

特に好ましい光熱変換素材の態様としては、前記の赤外吸収色素及び金属酸化物が二種以上の金属の酸化物からなる黒色複合金属酸化物であることである。   A particularly preferable embodiment of the photothermal conversion material is that the infrared absorbing dye and the metal oxide are black complex metal oxides composed of two or more metal oxides.

これらの光熱変換剤の画像形成層中の含有率は1〜20質量%が好ましい。   The content of these photothermal conversion agents in the image forming layer is preferably 1 to 20% by mass.

水溶性樹脂
本発明の画像形成層には皮膜性付与、印刷機上での現像性の制御の為、水溶性樹脂を含有していても良い。本発明利用可能な水溶性樹脂としては、水溶性(コ)ポリマー、例えば、合成ホモ−もしくはコポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリビニルメチルエーテル、又は天然結合剤、例えばゼラチン、多糖類、例えばデキストラン、プルラン、セルロース、アラビアゴム、アルギニン酸、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイドなど公知のものが利用できる。好ましい含有量としては0〜40質量%である。
Water-soluble resin The image forming layer of the present invention may contain a water-soluble resin for imparting film properties and controlling developability on a printing press. Water-soluble resins that can be used in the present invention include water-soluble (co) polymers such as synthetic homo- or copolymers such as polyvinyl alcohol, poly (meth) acrylic acid, poly (meth) acrylamide, and polyhydroxyethyl (meth) acrylate. , Polyvinyl methyl ether, or natural binders such as gelatin, polysaccharides such as dextran, pullulan, cellulose, gum arabic, arginic acid, polyethylene glycol, polyethylene oxide and the like can be used. The preferred content is 0 to 40% by mass.

親水性支持体
次いで、本発明で用いられる親水性支持体について説明する。
Next, the hydrophilic support used in the present invention will be described.

本発明で用いることのできる親水性支持体としては、比重と剛性との関係から、アルミニウムまたはアルミニウム合金(以下アルミニウムともいう)からなるアルミニウム基材が使用される。アルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例えば、珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。アルミニウム基材の厚さとしては、印刷機に取り付け可能であれば特に制限されるものではないが、50〜500μmのものが一般的に取り扱いやすい。   As the hydrophilic support that can be used in the present invention, an aluminum substrate made of aluminum or an aluminum alloy (hereinafter also referred to as aluminum) is used because of the relationship between specific gravity and rigidity. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel, titanium, sodium, iron, and aluminum is used. The thickness of the aluminum substrate is not particularly limited as long as it can be attached to a printing press, but a thickness of 50 to 500 μm is generally easy to handle.

本発明で用いられるアルミニウム基材は、公知の粗面化処理、陽極酸化処理、表面親水化処理のいずれかの処理がなされたもの、すなわち、アルミ砂目であることがより好ましい。アルミ砂目としては、任意の方法によって製造してもかまわないが、本発明で規定する表面形状が得られる製造方法のひとつとして、特開平10−869号公報に開示されている方法を挙げることができる。   The aluminum substrate used in the present invention is more preferably one that has been subjected to any of the known roughening treatment, anodizing treatment, or surface hydrophilization treatment, that is, aluminum grain. The aluminum grain may be produced by any method, but one of the production methods for obtaining the surface shape defined in the present invention is the method disclosed in JP-A-10-869. Can do.

本発明に係るアルミニウム基材は、粗面化(砂目立て処理)するに先立って表面の圧延油を除去するために脱脂処理を施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケシロン、トリエタノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処理等が用いられる。又、脱脂処理には、苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去することができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、アルミニウム基材の表面にはスマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、或いはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施すことが好ましい。   The aluminum substrate according to the present invention is preferably subjected to a degreasing treatment in order to remove the rolling oil on the surface prior to roughening (graining treatment). As the degreasing treatment, a degreasing treatment using a solvent such as trichlene or thinner, an emulsion degreasing treatment using an emulsion such as kesilon or triethanol, or the like is used. In addition, an alkaline aqueous solution such as caustic soda can be used for the degreasing treatment. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, dirt and oxide film that cannot be removed only by the degreasing treatment can be removed. When an alkaline aqueous solution such as caustic soda is used for the degreasing treatment, smut is generated on the surface of the aluminum base material. In this case, it is immersed in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, or a mixed acid thereof. It is preferable to perform a desmut treatment.

粗面化の方法としては、例えば、機械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。用いられる機械的粗面化法は特に限定されるものではないが、ブラシ研磨法、ホーニング研磨法が好ましい。ブラシ研磨法による粗面化は、例えば、直径0.2〜0.8mmのブラシ毛を使用した回転ブラシを回転し、アルミニウム基材表面に、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させたスラリーを供給しながら、ブラシを押し付けて行うことができる。ホーニング研磨による粗面化は、例えば、粒径10〜100μmの火山灰の粒子を水に均一に分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、アルミニウム基材表面に斜めから衝突させて粗面化を行うことができる。又、例えば、アルミニウム基材表面に、粒径10〜100μmの研磨剤粒子を、100〜200μmの間隔で、2.5×103〜10×103個/cm2の密度で存在するように塗布したシートを張り合わせ、圧力をかけてシートの粗面パターンを転写することにより粗面化を行うこともできる。 Examples of the roughening method include a mechanical method and a method of etching by electrolysis. The mechanical roughening method used is not particularly limited, but a brush polishing method and a honing polishing method are preferable. The roughening by the brush polishing method is, for example, by rotating a rotating brush using brush bristles having a diameter of 0.2 to 0.8 mm, and watering, for example, volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm on the surface of the aluminum substrate. While supplying the slurry dispersed uniformly, the brush can be pressed. The roughening by honing polishing is performed by, for example, uniformly dispersing volcanic ash particles having a particle size of 10 to 100 μm in water, injecting the pressure from a nozzle and injecting it obliquely to the surface of the aluminum base material. be able to. Also, for example, abrasive particles having a particle diameter of 10 to 100 μm are present on the surface of the aluminum substrate at a density of 2.5 × 10 3 to 10 × 10 3 particles / cm 2 at intervals of 100 to 200 μm. Roughening can also be performed by laminating the coated sheets and transferring the rough surface pattern of the sheet by applying pressure.

上記の機械的粗面化法で粗面化した後、アルミニウム基材の表面に食い込んだ研磨剤、形成されたアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。アルカリ水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After roughening by the above-mentioned mechanical roughening method, it is preferable to immerse in an aqueous solution of acid or alkali in order to remove the abrasive that has digged into the surface of the aluminum substrate, formed aluminum scraps and the like. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. After the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, it is preferable to carry out a neutralization treatment by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

電気化学的粗面化法も特に限定されるものではないが、酸性電解液中で電気化学的に粗面化を行う方法が好ましい。酸性電解液は、電気化学的粗面化法に通常用いられる酸性電解液を使用することができるが、塩酸系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電気化学的粗面化方法については、例えば、特公昭48−28123号公報、英国特許第896,563号公報、特開昭53−67507号公報に記載されている方法を用いることができる。この粗面化法は、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることが出来るが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。この粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることが出来るが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。 The electrochemical surface roughening method is not particularly limited, but a method of electrochemical surface roughening in an acidic electrolyte is preferable. As the acidic electrolytic solution, an acidic electrolytic solution usually used in an electrochemical surface roughening method can be used, but a hydrochloric acid-based or nitric acid-based electrolytic solution is preferably used. As the electrochemical surface roughening method, for example, methods described in Japanese Patent Publication No. 48-28123, British Patent No. 896,563 and Japanese Patent Laid-Open No. 53-67507 can be used. This roughening method can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 10 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C.

電解液として硝酸系電解液を用いて電気化学的粗面化を行う場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、10〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、20〜100A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における硝酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。電解液には、必要に応じて、硝酸塩、塩化物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、しゅう酸等を加えることができる。 When electrochemical surface roughening is performed using a nitric acid-based electrolyte as the electrolyte, it can be generally performed by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is selected from the range of 10 to 30 volts. Is preferred. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 20 to 100 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 5000 C / dm 2, preferably selected from the range of 100~2000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of nitric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass. If necessary, nitrates, chlorides, amines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, acetic acid, oxalic acid, and the like can be added to the electrolytic solution.

電解液として塩酸系電解液を用いる場合、一般には、1〜50ボルトの範囲の電圧を印加することによって行うことができるが、2〜30ボルトの範囲から選ぶのが好ましい。電流密度は、10〜200A/dm2の範囲を用いることができるが、50〜150A/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気量は、100〜5000c/dm2の範囲を用いることができるが、100〜2000c/dm2、更には200〜1000c/dm2の範囲から選ぶのが好ましい。電気化学的粗面化法を行う温度は、10〜50℃の範囲を用いることができるが、15〜45℃の範囲から選ぶのが好ましい。電解液における塩酸濃度は0.1〜5質量%が好ましい。 When a hydrochloric acid-based electrolyte is used as the electrolyte, it can be generally applied by applying a voltage in the range of 1 to 50 volts, but is preferably selected from the range of 2 to 30 volts. Current density may be in the range of 10 to 200 A / dm 2, preferably selected from the range of 50 to 150 A / dm 2. The quantity of electricity, may be in the range of 100~5000c / dm 2, 100~2000c / dm 2, and more preferably selected from the range of 200~1000c / dm 2. The temperature at which the electrochemical roughening method is performed can be in the range of 10 to 50 ° C, but is preferably selected from the range of 15 to 45 ° C. The concentration of hydrochloric acid in the electrolytic solution is preferably 0.1 to 5% by mass.

上記の電気化学的粗面化法で粗面化した後、表面のアルミニウム屑等を取り除くため、酸又はアルカリの水溶液に浸漬することが好ましい。酸としては、例えば、硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が用いられ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。これらの中でもアルカリの水溶液を用いるのが好ましい。表面のアルミニウムの溶解量としては、0.5〜5g/m2が好ましい。又、アルカリの水溶液で浸漬処理を行った後、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸或いはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。 After the surface is roughened by the electrochemical surface roughening method, it is preferably immersed in an acid or alkali aqueous solution in order to remove aluminum scraps on the surface. Examples of the acid include sulfuric acid, persulfuric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, and the like. Examples of the base include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Among these, it is preferable to use an alkaline aqueous solution. The dissolution amount of aluminum in the support surface, 0.5 to 5 g / m 2 is preferred. In addition, it is preferable that after the immersion treatment with an alkaline aqueous solution, neutralization treatment is performed by immersion in an acid such as phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid or a mixed acid thereof.

機械的粗面化処理法、電気化学的粗面化法はそれぞれ単独で用いて粗面化してもよいし、又、機械的粗面化処理法に次いで電気化学的粗面化法を行って粗面化してもよい。   The mechanical surface roughening method and the electrochemical surface roughening method may each be used alone for roughing, or the mechanical surface roughening method followed by the electrochemical surface roughening method. You may roughen.

粗面化処理の次には、陽極酸化処理を行うことが好ましい。本発明において用いることができる陽極酸化処理の方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。陽極酸化処理を行うことにより、アルミニウム基材上には酸化皮膜が形成される。該陽極酸化処理には、硫酸及び/又は燐酸等を10〜50%の濃度で含む水溶液を電解液として、電流密度1〜10A/dm2で電解する方法が好ましく用いられるが、他に、米国特許第1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国特許第3,511,661号公報に記載されている燐酸を用いて電解する方法、クロム酸、シュウ酸、マロン酸等を一種又は二種以上含む溶液を用いる方法等が挙げられる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化クロム(IV):20gを1Lの水に溶解して作製)に浸積し、酸化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の質量変化測定等から求められる。 Following the roughening treatment, anodizing treatment is preferably performed. There is no restriction | limiting in particular in the method of the anodizing process which can be used in this invention, A well-known method can be used. By performing the anodizing treatment, an oxide film is formed on the aluminum substrate. For the anodizing treatment, a method of electrolyzing an aqueous solution containing sulfuric acid and / or phosphoric acid at a concentration of 10 to 50% as an electrolytic solution at a current density of 1 to 10 A / dm 2 is preferably used. A method of electrolysis at a high current density in sulfuric acid described in Japanese Patent No. 1,412,768, a method of electrolysis using phosphoric acid described in US Pat. No. 3,511,661, chromium Examples thereof include a method using a solution containing one or more acids, oxalic acid, malonic acid and the like. The formed anodic oxidation coating amount is suitably 1 to 50 mg / dm 2 , preferably 10 to 40 mg / dm 2 . The amount of anodic oxidation coating is, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic phosphate solution (85% phosphoric acid solution: 35 ml, prepared by dissolving 20 g of chromium (IV) oxide in 1 L of water) to dissolve the oxide layer, It is obtained from mass change measurement before and after dissolution of the coating on the plate.

陽極酸化処理されたアルミニウム基材は、必要に応じ封孔処理を施してもよい。これら封孔処理は、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等公知の方法を用いて行うことができる。   The anodized aluminum base material may be subjected to sealing treatment as necessary. These sealing treatments can be performed using known methods such as hot water treatment, boiling water treatment, water vapor treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, nitrite treatment, and ammonium acetate treatment.

更に、これらの処理を行った後に、親水化処理として、水溶性の樹脂、例えば、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩(例えばホウ酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。   Further, after these treatments, as a hydrophilization treatment, a water-soluble resin such as polyvinylphosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt ( For example, zinc borate) or a primer coated with a yellow dye, an amine salt or the like is also suitable.

更に、特開平5−304358号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起し得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用いられる。   Further, a sol-gel treated substrate in which a functional group capable of causing an addition reaction by a radical as disclosed in JP-A No. 5-304358 is covalently used.

画像形成層の塗設
本発明において、画像形成層は、通常前記各成分を溶媒に溶かして、前記親水性層上に塗布することにより形成される。ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等をあげることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。また塗布、乾燥後に得られる親水性層上の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、0.1g/m2〜10g/m2の範囲であり、好ましくは0.5g/m2〜5g/m2の範囲である。少なすぎると耐刷性が低下、多すぎると印刷物の細線再現性が悪くなる。塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
Application of Image Forming Layer In the present invention, the image forming layer is usually formed by dissolving the above components in a solvent and applying the solution on the hydrophilic layer. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, it is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The concentration of the above components (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by mass. The coating, the coating amount of the hydrophilic layer obtained after drying (solid content) may be varied depending on the use, in the range of 0.1g / m 2 ~10g / m 2 , preferably 0.5 g / m 2 ~ The range is 5 g / m 2 . If the amount is too small, the printing durability is lowered. Various methods can be used as the coating method, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

製版方法
本発明の平版印刷版にはレーザー光源を用いて露光することが出来る。利用可能なレーザー光源としては半導体レーザー、LED、ヘリウムネオンレーザー、YAGレーザー、炭酸ガスレーザーなどが挙げられる。
Plate Making Method The planographic printing plate of the present invention can be exposed using a laser light source. Available laser light sources include semiconductor lasers, LEDs, helium neon lasers, YAG lasers, carbon dioxide lasers, and the like.

レーザー露光された平版印刷版材料は、そのまま印刷機のシリンダーに取りつけられる。平版印刷版材料には印刷機のローラーを介して湿し水および印刷用インキが供給され、レーザー照射されていない画像形成層部分が湿し水/印刷用インキにより剥離されることにより現像される。   The laser-exposed lithographic printing plate material is directly attached to a cylinder of a printing machine. The lithographic printing plate material is supplied with dampening water and printing ink via a roller of the printing press, and is developed by peeling off the image forming layer portion not irradiated with laser with dampening water / printing ink. .

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

平版印刷版材料1の作製
<親水性支持体>
0.24mmのアルミニウム板を50℃において5g/lの水酸化ナトリウムを含有する水溶液に沈め、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂した。次いで35℃の温度及び1200A/m2の電流密度において交流を用い、4g/lの塩酸、4g/lの硼酸及び5g/lのアルミニウムイオンを含有する水溶液中で電気化学的に研磨し、0.5μmの平均中心線粗さを有する表面トポロジーを形成した。脱イオン水で濯いだ後、次いで300g/lの硫酸を含有する水溶液を用い、60℃において180秒間アルミニウム板をエッチングし、25℃において30秒間脱イオン水で濯いだ。続いて200g/lの硫酸を含有する水溶液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150A/m2の電流密度において約300秒間陽極酸化に供し、3.00g/m2のAl23の陽極酸化フィルムを形成し、次いで脱イオン水で濯ぎ、20g/lの重炭酸ナトリウムを含有する溶液を用い、40℃で30秒間後処理し、続いて脱イオン水を用い、20℃で120秒間濯ぎ、乾燥した。研磨され、陽極酸化されたアルミニウム板を、続いて5%w/wのクエン酸を含有する水溶液に60秒間沈め、2mol/Lの水酸化ナトリウムの水溶液を用いて60秒間、pH7とし、脱イオン水で濯ぎ、25℃で乾燥し、砂目形状を有する印刷用親水性支持体を得た。
Preparation of planographic printing plate material 1 <Hydrophilic support>
A 0.24 mm aluminum plate was submerged in an aqueous solution containing 5 g / l sodium hydroxide at 50 ° C. and degreased by rinsing with deionized water. It is then electrochemically polished in an aqueous solution containing 4 g / l hydrochloric acid, 4 g / l boric acid and 5 g / l aluminum ions using alternating current at a temperature of 35 ° C. and a current density of 1200 A / m 2. A surface topology with an average centerline roughness of 0.5 μm was formed. After rinsing with deionized water, the aluminum plate was then etched using an aqueous solution containing 300 g / l sulfuric acid at 60 ° C. for 180 seconds and rinsed with deionized water at 25 ° C. for 30 seconds. Subsequently, it was subjected to anodization in an aqueous solution containing 200 g / l sulfuric acid at a temperature of 45 ° C., a voltage of about 10 V and a current density of 150 A / m 2 for about 300 seconds, and 3.00 g / m 2 of Al 2 O. 3 anodized film, then rinsed with deionized water, post-treated with a solution containing 20 g / l sodium bicarbonate for 30 seconds at 40 ° C., followed by deionized water at 20 ° C. Rinse for 120 seconds and dry. The polished and anodized aluminum plate is then submerged in an aqueous solution containing 5% w / w citric acid for 60 seconds, adjusted to pH 7 using an aqueous solution of 2 mol / L sodium hydroxide for 60 seconds, and deionized. It was rinsed with water and dried at 25 ° C. to obtain a hydrophilic support for printing having a grain shape.

画像形成層の塗設
以下の組成をペイントシェーカーにより1時間分散し、水系の重合組成物Aを得た。
Application of Image Forming Layer The following composition was dispersed with a paint shaker for 1 hour to obtain an aqueous polymerization composition A.

<重合組成物A>
重合開始剤:4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 5質量部
水溶性モノマー(NKエステルAM−90G;新中村化学製) 10質量部
シリコーン系界面活性剤(FZ−2161;日本ユニカー株式会社) 0.1質量部
純水 34.9質量部
<Polymerization composition A>
Polymerization initiator: 4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 5 parts by mass Water-soluble monomer (NK ester AM-90G; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass Silicone surfactant (FZ-2161; Nippon Unicar Co., Ltd.) ) 0.1 part by mass Pure water 34.9 parts by mass

Figure 2007136938
Figure 2007136938

以下の組成よりなる画像形成層塗布液を作製し、前述の親水性支持体上に塗布し、55℃で3分間乾燥した。塗布された画像形成層は付き量が0.63gであった。   An image forming layer coating solution having the following composition was prepared, applied on the hydrophilic support described above, and dried at 55 ° C. for 3 minutes. The applied image forming layer had a weight of 0.63 g.

<画像形成層塗布液A>
スチレン−アクリロニトリル共重合体のエマルジョン(粒子径60nm、融点102℃、固形分20%) 6.88質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 1.68質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物A(固形分30%) 2.08質量部
純水 14.38質量部
なお、重合組成物Aおよび熱溶融性粒子であるスチレン−アクリロニトリル共重合体のエマルジョンは、各々フィルム上にキャストして乾燥させた後、その乾燥物を示差熱天秤(TG−DTA)分析装置ThermoPlus2(理学電機工業製)を用いて、1℃/minの昇温速度で測定した。重合成組成物Aの重合開始温度T1は158℃、スチレン−アクリロニトリル共重合体の融点T2は102℃だった。
<Image forming layer coating solution A>
Styrene-acrylonitrile copolymer emulsion (particle diameter 60 nm, melting point 102 ° C., solid content 20%) 6.88 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascore E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 1.68 parts by mass Infrared ray Absorbing dye (ADS830WS; manufactured by Nippon Sebel Helgner) 1% aqueous solution 25 parts by mass Polymerizable composition A (solid content 30%) 2.08 parts by mass Pure water 14.38 parts by mass Polymerization composition A and heat melting The emulsion of styrene-acrylonitrile copolymer, which is a conductive particle, was cast on a film and dried, and then the dried product was analyzed using a differential thermal balance (TG-DTA) analyzer ThermoPlus 2 (manufactured by Rigaku Denki Kogyo). The measurement was performed at a temperature increase rate of 1 ° C./min. The polymerization initiation temperature T1 of the polysynthetic composition A was 158 ° C., and the melting point T2 of the styrene-acrylonitrile copolymer was 102 ° C.

次いで、画像形成層上、以下の組成よりなるオーバーコート層塗布液をワイヤーバー#5を用いて塗布し、55℃で3分間乾燥した。これにより親水性支持体上に画像形成層、オーバーコート層が積層された平版印刷版材料を得た。   Next, an overcoat layer coating solution having the following composition was applied on the image forming layer using a wire bar # 5 and dried at 55 ° C. for 3 minutes. As a result, a lithographic printing plate material in which an image forming layer and an overcoat layer were laminated on a hydrophilic support was obtained.

<オーバーコート層塗布液>
ポリビニルアルコール(PVA117:(株)クラレ製) 10質量部
純水 95質量部
平版印刷版材料2の作製
重合性組成物として重合性組成物Aを、画像形成層塗布液として画像形成層塗布液Bを用いて、平版印刷版材料1と同様の方法により作製し、平版印刷版材料2を得た。
<Overcoat layer coating solution>
Polyvinyl alcohol (PVA117: manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 10 parts by mass Pure water 95 parts by mass Production of planographic printing plate material 2 Polymerizable composition A as the polymerizable composition and image forming layer coating liquid B as the image forming layer coating liquid Was used to produce a lithographic printing plate material 2 in the same manner as in the lithographic printing plate material 1.

<画像形成層塗布液B>
ポリメタクリル酸メチルのエマルジョン(粒子径60nm、融点110℃、固形分20%) 6.88質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 1.68質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物A(固形分30) 2.08質量部
純水 14.38質量部
なお、重合組成物Aの重合開始温度T1は158℃、熱溶融性粒子であるポリメタクリル酸メチルの融点は110℃であった。
<Image forming layer coating solution B>
Polymethyl methacrylate emulsion (particle diameter 60 nm, melting point 110 ° C., solid content 20%) 6.88 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascole E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 1.68 parts by mass Infrared absorbing dye 1% aqueous solution of ADS830WS (manufactured by Nippon Sebel Helgner) 25 parts by weight Polymerizable composition A (solid content 30) 2.08 parts by weight Pure water 14.38 parts by weight The polymerization start temperature T1 of the polymerized composition A is The melting point of polymethyl methacrylate which is 158 ° C. and heat-meltable particles was 110 ° C.

平版印刷版材料3の作製
重合性組成物として重合性組成物Bを用い、画像形成層塗布液として画像形成層塗布液Cを用いて、平版印刷版材料1と同様の方法で平版印刷版材料3を得た。
Preparation of lithographic printing plate material 3 A lithographic printing plate material is produced in the same manner as the lithographic printing plate material 1 using the polymerizable composition B as the polymerizable composition and the image forming layer coating solution C as the image forming layer coating solution. 3 was obtained.

<重合組成物B>
重合開始剤(化合物10) 5質量部
水溶性モノマー(NKエステルAM−90G;新中村化学製) 10質量部
シリコーン系界面活性剤(FZ−2161;日本ユニカー株式会社) 0.1質量部
純水 34.9質量部
<画像形成層C>
スチレン−ブチルアクリレート−ポリメタクリル酸メチル共重合体のエマルジョン(粒子径60nm、融点87℃、固形分20%) 6.88質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 1.68質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物B(固形分30%) 2.08質量部
純水 14.38質量部
なお、重合組成物Bの重合開始温度T1は96℃、熱溶融性粒子であるポリメタクリル酸メチルの融点は87℃であった。
<Polymerization composition B>
Polymerization initiator (Compound 10) 5 parts by mass Water-soluble monomer (NK ester AM-90G; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass Silicone surfactant (FZ-2161; Nippon Unicar Co., Ltd.) 0.1 part by mass Pure water 34.9 parts by mass <Image forming layer C>
Styrene-butyl acrylate-polymethyl methacrylate copolymer emulsion (particle diameter 60 nm, melting point 87 ° C., solid content 20%) 6.88 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascore E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 1.68 parts by mass Infrared absorbing pigment (ADS830WS; manufactured by Nippon Sebel Helgner) 1% aqueous solution 25 parts by mass Polymerizable composition B (solid content 30%) 2.08 parts by mass Pure water 14.38 parts by mass Polymerization The polymerization initiation temperature T1 of the composition B was 96 ° C., and the melting point of polymethyl methacrylate, which is a heat-meltable particle, was 87 ° C.

平版印刷版材料4の作製
重合性組成物として重合性組成物Bを用い、画像形成層塗布液として画像形成層塗布液Dを用いて、平版印刷版材料1と同様の方法で平版印刷版材料4を得た。
Preparation of lithographic printing plate material 4 A lithographic printing plate material is produced in the same manner as the lithographic printing plate material 1 using the polymerizable composition B as the polymerizable composition and the image forming layer coating solution D as the image forming layer coating solution. 4 was obtained.

<画像形成層塗布液D>
スチレン−アクリロニトリル共重合体のエマルジョン(粒子径60nm、融点102℃、固形分20%) 6.88質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 1.68質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物B(固形分30%) 2.08質量部
純水 14.38質量部
なお、重合組成物Bの重合開始温度T1は96℃、熱溶融性粒子であるスチレン−アクリロニトリル共重合体の融点は102℃であった。
<Image forming layer coating solution D>
Styrene-acrylonitrile copolymer emulsion (particle diameter 60 nm, melting point 102 ° C., solid content 20%) 6.88 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascore E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 1.68 parts by mass Infrared ray Absorbing dye (ADS830WS; manufactured by Nippon Sebel Helgner) 1% aqueous solution 25 parts by weight Polymerizable composition B (solid content 30%) 2.08 parts by weight Pure water 14.38 parts by weight Initiation of polymerization of polymerization composition B The temperature T1 was 96 ° C., and the melting point of the styrene-acrylonitrile copolymer which is a heat-meltable particle was 102 ° C.

平版印刷版材料5の作製
重合性組成物として重合性組成物Bを用い、画像形成層塗布液として画像形成層塗布液Dを用いて、平版印刷版材料1と同様の方法で平版印刷版材料5を得た。
Preparation of lithographic printing plate material 5 A lithographic printing plate material is produced in the same manner as the lithographic printing plate material 1 using the polymerizable composition B as the polymerizable composition and the image forming layer coating solution D as the image forming layer coating solution. 5 was obtained.

<画像形成層塗布液D>
スチレン−ブチルアクリレート−ポリメタクリル酸メチル共重合体のエマルジョン(粒子径60nm、融点87℃、固形分20%) 6.88質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 1.68質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物A(固形分30%) 2.08質量部
純水 14.38質量部
なお、重合組成物Aの重合開始温度T1は158℃、熱溶融性粒子であるスチレン−ブチルアクリレート−ポリメタクリル酸メチル共重合体の融点は87℃であった。
<Image forming layer coating solution D>
Styrene-butyl acrylate-polymethyl methacrylate copolymer emulsion (particle size 60 nm, melting point 87 ° C., solid content 20%) 6.88 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascore E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 1.68 parts by mass Infrared absorbing dye (ADS830WS; manufactured by Nippon Sebel Helgner) 1% aqueous solution 25 parts by mass Polymerizable composition A (solid content 30%) 2.08 parts by mass Pure water 14.38 parts by mass Polymerization The polymerization initiation temperature T1 of the composition A was 158 ° C., and the melting point of the styrene-butyl acrylate-polymethyl methacrylate copolymer as the heat-meltable particles was 87 ° C.

平版印刷版材料6の作製
画像形成層塗布液に画像形成層塗布液Dを用いた以外は同様の方法により作製し、平版印刷版材料6を得た。
Preparation of lithographic printing plate material 6 A lithographic printing plate material 6 was obtained by the same method except that the image forming layer coating liquid D was used as the image forming layer coating liquid.

<画像形成層D>
ポリメタクリル酸メチルのエマルジョン(粒子径60nm、融点110℃、固形分20%) 9.83質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 0.83質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物A(固形分30%) 0.83質量部
純水 13.96質量部
なお、重合組成物Aの重合開始温度T1は158℃、熱溶融性粒子であるポリメタクリル酸メチルの融点は110℃であった。
<Image forming layer D>
Polymethyl methacrylate emulsion (particle size 60 nm, melting point 110 ° C., solid content 20%) 9.83 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascole E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 0.83 parts by mass Infrared absorbing dye 1% aqueous solution of ADS830WS (manufactured by Nippon Sebel Helgner) 25 parts by weight Polymerizable composition A (solid content 30%) 0.83 parts by weight Pure water 13.96 parts by weight Polymerization start temperature T1 for polymerization composition A Was 158 ° C., and the melting point of polymethyl methacrylate, which is a heat-meltable particle, was 110 ° C.

平版印刷版材料7の作製
画像形成層塗布液に画像形成層塗布液Eを用いた以外は同様の方法により作製し、平版印刷版材料7を得た。
Preparation of lithographic printing plate material 7 A lithographic printing plate material 7 was obtained by the same method except that the image forming layer coating liquid E was used as the image forming layer coating liquid.

<画像形成層E>
スチレン−ブチルアクリレート−ポリメタクリル酸メチル共重合体のエマルジョン(粒子径60nm、融点90℃、固形分20%) 9.83質量部
ポリアクリル酸樹脂(GlascoleE15、固形分15%;Chiba Speciality Chemicals製) 0.83質量部
赤外線吸収色素(ADS830WS;日本シーベルヘルグナー製)の1%水溶液 25質量部
重合性組成物A(固形分30%) 0.83質量部
純水 13.96質量部
なお、重合組成物Aの重合開始温度T1は158℃、熱溶融性粒子であるスチレン−ブチルアクリレート−ポリメタクリル酸メチル共重合体の融点は87℃であった。
<Image forming layer E>
Styrene-butyl acrylate-polymethyl methacrylate copolymer emulsion (particle diameter 60 nm, melting point 90 ° C., solid content 20%) 9.83 parts by mass Polyacrylic acid resin (Glascore E15, solid content 15%; manufactured by Chiba Specialty Chemicals) 0.83 parts by mass A 1% aqueous solution of infrared absorbing dye (ADS830WS; manufactured by Nippon Sebel Helgner) 25 parts by mass Polymerizable composition A (solid content 30%) 0.83 parts by mass Pure water 13.96 parts by mass Polymerization The polymerization initiation temperature T1 of the composition A was 158 ° C., and the melting point of the styrene-butyl acrylate-polymethyl methacrylate copolymer as the heat-meltable particles was 87 ° C.

<平版印刷版の作製と印刷>
得られた平版印刷版材料1〜5に、半導体レーザーが搭載されたプレートセッターにより、発光波長830nmレーザー光線{ビーム径10μm(1/e2)、出力300mW}で、版面のエネルギー強度を400mJ/cm2から100mJ/cm2まで25mJ/cm2おきに、1%網点画像を含む画像を露光した。
<Preparation and printing of planographic printing plates>
The obtained lithographic printing plate materials 1 to 5 were subjected to a plate setter equipped with a semiconductor laser, with an emission wavelength of 830 nm laser beam {beam diameter 10 μm (1 / e 2 ), output 300 mW}, and the plate surface energy intensity of 400 mJ / cm. to 25 mJ / cm 2 every 2 to 100 mJ / cm 2, were exposed images containing 1% halftone dot image.

非接触式の赤外線温度計により、平版印刷版材料表面のレーザー照射部の温度を測定したところ、220℃であることを確認した。   When the temperature of the laser irradiation part on the surface of the planographic printing plate material was measured with a non-contact infrared thermometer, it was confirmed to be 220 ° C.

耐傷性評価のため、平版印刷版の画像がない部分(レーザー光線で照射されていない部分)に爪で擦り傷を入れた。   For evaluation of scratch resistance, a portion of the lithographic printing plate having no image (a portion not irradiated with a laser beam) was scratched with a nail.

平版印刷版材料は、現像処理をしない状態で菊四裁オフセット印刷機LITHRONE20のシリンダーに取り付け、湿し水にアストロマーク3(日研化学研究所株式会社製)の2%水溶液、印刷用インキとしてハイユニティー紅(東洋インキ製造株式会社製)を用いて印刷した。   The lithographic printing plate material is attached to the cylinder of the Lithrone 20 Kikushiki offset printing machine without developing, and is used as a 2% aqueous solution of Astro Mark 3 (manufactured by Nikken Chemical Research Co., Ltd.) in dampening water as a printing ink. Printing was performed using High Unity Red (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.).

<評価>
得られた印刷物上の1%網点画像が再現するエネルギー量を平版印刷版の感度とした。また、そのエネルギー量で再現した1%画像が劣化するまでの印刷枚数を耐刷枚数とした。
<Evaluation>
The amount of energy reproduced by the 1% halftone image on the obtained printed material was defined as the sensitivity of the lithographic printing plate. In addition, the number of printed sheets until the 1% image reproduced with the amount of energy deteriorated was defined as the number of printed sheets.

耐傷性の評価として、爪の擦り傷部分が汚れにならない場合を○、汚れになる場合を×としで確認した。   As evaluation of scratch resistance, the case where the scratched part of the nail did not become dirty was confirmed as ◯, and the case where it became dirty was evaluated as X.

Figure 2007136938
Figure 2007136938

熱溶融性粒子の融点T1と重合成組成物の重合開始温度T2を本発明の範囲にすることで、良好な感度および耐刷性が得られることがわかる。また、熱溶融性粒子の含有量が60%以下であると、耐傷性が良好であることがわかる。   It can be seen that good sensitivity and printing durability can be obtained by setting the melting point T1 of the heat-fusible particles and the polymerization start temperature T2 of the polysynthetic composition within the range of the present invention. Moreover, it turns out that scratch resistance is favorable in content of a heat-meltable particle | grain being 60% or less.

Claims (6)

親水性支持体上に熱溶融性粒子、不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくも1種の化合物、重合開始剤を含有する画像形成層を有する平版印刷版材料において、該不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及び該重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物と重合開始剤による重合開始温度T1が該熱溶融性粒子の融点T2より高いことを特徴とする平版印刷版材料。 A lithographic printing plate material having an image forming layer containing at least one compound selected from a heat-meltable particle, a polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer on a hydrophilic support, and a polymerization initiator The polymerization start temperature T1 by at least one compound selected from the polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group and the polymerizable prepolymer and a polymerization initiator is higher than the melting point T2 of the hot-melt particles. Lithographic printing plate material to do. 前記不飽和エチレン基を有するモノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物と重合開始剤による重合開始温度T1と熱溶融性粒子の融点T2の差が10〜50℃以下であることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版材料。 The difference between the polymerization start temperature T1 by the at least one compound selected from the monomer having an unsaturated ethylene group and the polymerizable prepolymer and the polymerization initiator and the melting point T2 of the hot-melt particles is 10 to 50 ° C. or less. The lithographic printing plate material according to claim 1, wherein the lithographic printing plate material is a lithographic printing plate material. 前記不飽和エチレン基を有する重合性モノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物が水溶性であることを特徴とする請求項1又は2に記載の平版印刷版材料。 The lithographic printing plate material according to claim 1 or 2, wherein at least one compound selected from a polymerizable monomer having an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer is water-soluble. 前記熱融性粒子の画像形成層中の含有量が60質量%以下であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の平版印刷版材料。 The lithographic printing plate material according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the heat-fusible particles in the image forming layer is 60% by mass or less. 請求項1〜4の何れか1項に記載の平版印刷版材料に、不飽和エチレン基を有するモノマー及び重合性プレポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物と重合開始剤による重合開始温度T1より高い温度で描画することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 The lithographic printing plate material according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymerization start temperature T1 is higher than at least one compound selected from a monomer having an unsaturated ethylene group and a polymerizable prepolymer and a polymerization initiator. A method for preparing a lithographic printing plate, characterized by drawing at a temperature. 請求項5に記載の平版印刷版の作製方法により画像描画した平版印刷版材料を、印刷機のシリンダーに取り付けた後、湿し水、印刷用インキを供給しながら現像することを特徴とする平版印刷版の処理方法。 A planographic printing plate material on which an image is drawn by the method of preparing a planographic printing plate according to claim 5 is attached to a cylinder of a printing machine, and then developed while supplying dampening water and printing ink. Processing method for printing plates.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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